JP2003106773A - マイクロ波連続加熱装置 - Google Patents

マイクロ波連続加熱装置

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JP2003106773A
JP2003106773A JP2001294694A JP2001294694A JP2003106773A JP 2003106773 A JP2003106773 A JP 2003106773A JP 2001294694 A JP2001294694 A JP 2001294694A JP 2001294694 A JP2001294694 A JP 2001294694A JP 2003106773 A JP2003106773 A JP 2003106773A
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tank
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heating tank
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Tomio Minobe
富男 美濃部
Koji Mikami
浩司 三上
Hiroki Kato
広己 加藤
Shoichi Goto
章一 後藤
Satoshi Ishikawa
諭史 石川
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Micro Denshi Co Ltd
Denso Corp
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Micro Denshi Co Ltd
Denso Corp
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    • B28B11/24—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for curing, setting or hardening
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 被加熱物の大きさや長さが変化しても１台の
装置で対応することができ、且つ、マイクロ波電力の漏
洩を防止しつつ、マイクロ波電力の連続照射により効率
よく加熱処理を行うことができるマイクロ波連続加熱装
置を提供する。 【解決手段】 マイクロ波連続加熱装置は前後に開口部
１１ａ、１１ｂを有する加熱槽１１と、被加熱物２１を
載せて加熱槽１１内を通過させる搬送装置１５とを備
え、加熱槽１１内を通過中の被加熱物２１にマイクロ波
電力を照射して加熱処理を行う。加熱槽１１の前後には
それぞれ被加熱物２１を通すマイクロ波吸収槽１３、１
４が連設される。また、複数個の金属製の反射板２２が
互いに前後に間隔をあけて搬送装置１５により搬送さ
れ、被加熱物２１は互いに隣接する２つの反射板２２の
間に配置される。反射板２２は、少なくとも加熱槽１１
がマイクロ波電力を照射している間、両マイクロ波吸収
槽１３、１４内にそれぞれ１つ以上位置するように搬送
装置上に配置される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、加熱槽に被加熱物
を連続的に通し、この加熱槽内で被加熱物にマイクロ波
電力を照射して加熱処理を施すマイクロ波連続加熱装置
に関し、更に詳しくは、被加熱物が加熱槽に搬入され搬
出される際にマイクロ波電力の照射を断続させる必要が
なく且つマイクロ波電力の漏洩を防止できる他、被加熱
物へのマイクロ波電力の均一照射によって加熱物の品質
向上を実現するためのマイクロ波連続加熱装置に係る。
【０００２】
【従来の技術】一般に、マイクロ波連続加熱装置の加熱
槽には被加熱物搬入用の開口部と搬出用の開口部とが設
けられており、両開口部よりマイクロ波電力が外部に漏
れ出ることのないように様々な工夫が施されている。
【０００３】マイクロ波電力の外部漏洩を防止する最も
一般的な方法は、上記開口部にマイクロ波吸収タイプの
フィルタを取りつけることである。このタイプの漏洩防
止構造は、マイクロ波電力を反射する性質の金属材でフ
ィルタカバーを作り、その内側（マイクロ波が有り被加
熱物が通過する側）を、マイクロ波電力を非常に良く吸
収する材質（例えば、カーボン・フエライト・炭化ケイ
素）製のタイルで覆ったり、或いは、マイクロ波吸収力
の少ない材質、たとえば、テフロン（登録商標）・ポリ
エチレン・ポリプロピレン製のチューブや容器内にマイ
クロ波吸収力の大きい液体を流し、マイクロ波吸収体ゾ
ーン（吸収槽）を形成し、マイクロ波電力を外部へ出さ
ないようにするものである。
【０００４】しかし、この種のマイクロ波フィルターが
効果的に機能するためには、その開口寸法がマイクロ波
電力の１波長よりも小さな寸法である必要がある。
【０００５】たとえば、使用するマイクロ波電力の周波
数が２４５０ＭＨｚの場合、その１波長は約１２０ｍｍ
であるから、フィルターの開口部寸法は、１／２波長以
下（６０ｍｍ以下）下であることが望ましい。
【０００６】したがって、使用するマイクロ波電力の１
波長以上の開口を必要とする大きな被加熱物を通過させ
る必要がある場合、マイクロ波フィルタでマイクロ波電
力の漏洩を防止するためには、マイクロ波フィルターの
長さを非常に長くする必要があるが、設置スペース上の
問題や生産性等の観点からその実現が困難な場合が多
い。
【０００７】そこで、上記の問題を解決するため、マイ
クロ波フィルタに代えて、マイクロ波電力を遮断する開
閉可能なシャツターを加熱槽の開口部に取り付けてなる
マイクロ波連続加熱装置が既に開発されている。
【０００８】この連続加熱装置は、加熱槽の前後に前予
備室と後予備室を設けると共に、各々の予備室の仕切壁
に設けた開口部にシャッターを備えた構成となってい
る。
【０００９】すなわち、シャッタ−が加熱槽の入口側に
２個、出口側に２個備えられ、被加熱物が搬送装置に載
せられて前予備室から入り加熱槽を通って後予備室から
搬出される一連の搬送工程の中で被加熱物の接近によっ
てシャッタを開くようになっている。
【００１０】この際、入口側及び出口側のそれぞれ２個
のシャッターは、一方が開いているときは他方が閉じる
ように動作し、マイクロ波電力の外部漏洩を遮断する。
したがって、マイクロ波電力の出力を中断させないで連
続照射が可能になっている。
【００１１】このように加熱槽の前後の開口部にそれぞ
れ２つのシャッターを備えた連続加熱装置おいては、上
記各予備室の仕切壁に形成した開口部の寸法より小さい
被加熱物であれば加熱処理することができ、マイクロ波
フィルタを使用した連続加熱装置に比べると汎用性が高
いという利点がある。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、開口部
にシャッターを備えた上記連続加熱装置には次のような
問題点がある。すなわち、この種の連続加熱装置は、シ
ャッターの開閉を被加熱物の流れに連動させなければな
らず、また、入口側と出口側に設けた各々２個のシャッ
ターは共にどちらか一方を開放し他方を閉成しておかな
ければならない。
【００１３】このため、被加熱物の搬送ピッチ間隔を全
て同じにしておく必要があり、且つ、この間隔は少なく
とも被加熱物１個分より大きくしておく必要がある。ま
た、被加熱物の搬送方向の寸法はどれも同じにしなけれ
ばならないという制約がある。
【００１４】ところが、被加熱物の搬送ピッチ間隔が大
きいと、加熱槽内においてマイクロ波加熱効率が悪くな
り、無駄の多い装置となってしまい、また、マイクロ波
加熱効率を高めるために加熱槽の長さを長くすると装置
全体が大型化するという問題が生ずる。
【００１５】また、被加熱物の搬送方向の寸法、すなわ
ち、搬送ピッチによって装置構造が決まるため、被加熱
物の上記寸法が決められた長さより長くなると、その長
さに合わせた加熱装置が別途必要となり、また、被加熱
物の上記寸法が短くなった場合は、被加熱物の間隔が更
に大きくなってしまうので、無駄の多い装置となる。
【００１６】一方、２つのシャッターを用いる場合に被
加熱物を小さなピッチ間隔で搬送できるようにするため
に、２つのシャッターのうちの一方を被加熱物の搬送方
向に沿って往復移動させる方法が本出願人により提案さ
れている（特開平８−２６４２７６号参照）。
【００１７】しかしながら、この方法の場合、一方のシ
ャッターを被加熱物の搬送方向に沿って往復移動させる
必要があるため、構造が複雑化するとともに、２つのシ
ャッターの動作制御が煩雑化するという難点がある。
【００１８】また、被加熱物の長さ寸法や搬送ピッチ等
に応じてシャッターの往復動ストロークや動作タイミン
グ等を調整する必要があるため、汎用性の点に難点があ
る。
【００１９】このように、特開平８−２６４２７６号公
報のマイクロ波連続加熱装置では、ワ−クに伴って移
動、および、開閉するシャッタを用いてマイクロ波漏洩
を防止しているため、加熱処理の高速化や乾燥効率の向
上といった近年の動向、すなわち、被加熱物の搬送速度
の高速化や被加熱物搬送時のピッチの短縮に対しては、
シャッタ開閉速度や移動速度の高速化がネックになり対
応が困難となる。
【００２０】一方、セラミック成形体の乾燥装置におい
て乾燥治具を乾燥させ、乾燥時の変形を低減するものが
特開２００１−１９５３３号や特公平６−４５１３１号
公報によって開示されている。すなわち、セラミック成
形体の側面全域を覆う治具を設けて成形体各部の乾燥を
均一化したり、乾燥時の変形を抑制している。
【００２１】しかしながら、近年ではセラミック成形体
などの成形体の大形化や薄形化が進んだことから、特
に、マイクロ波乾燥においては、成形体の側面全域を覆
うことが逆にマイクロ波の効率の低下や不均一化を招く
ようになった。この結果、特に大きな成形体（被加熱
物）の乾燥ではその傾向が顕著になり、乾燥時間の増加
や品質悪化の原因となっている。
【００２２】本発明は上記した実情にかんがみ、被加熱
物の大きさや長さが変化しても１台の装置で対応するこ
とができ、しかも、ほとんど間隔を開けない送りピッチ
で被加熱物を搬送して加熱処理することができ、また、
マイクロ波の漏洩を確実に防止してマイクロ波電力の連
続照射により効率よく加熱処理を行うことができるマイ
クロ波連続加熱装置を提供することを目的とする。
【００２３】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明では、第１発明として、前後に開口部を有す
る加熱槽と、被加熱物を載せて加熱槽内を通過させる搬
送装置とを備え、加熱槽内を通過中の被加熱物にマイク
ロ波電力を照射して加熱処理を行うマイクロ波連続加熱
装置において、加熱槽の前後にそれぞれ連設させて被加
熱物を通すマイクロ波吸収槽と、互いに前後に間隔をあ
けて搬送装置により搬送される複数個の金属製の反射板
とを備え、被加熱物は互いに隣接する２つの反射板の間
に配置され、反射板は、少なくとも加熱槽がマイクロ波
電力を照射している間、両マイクロ波吸収槽の通路内に
それぞれ１つ以上位置するように搬送装置上に配置され
ることを特徴とするマイクロ波連続加熱装置を提案す
る。
【００２４】上記構成を有するマイクロ波連続加熱装置
においては、処理すべき複数個の被加熱物をそれぞれ互
いに隣接する２つの反射板の間に配置して順次加熱槽内
に送り込み、加熱槽内を通過させながらマイクロ波電力
による加熱処理を行うことができる。
【００２５】しかも、反射板は、少なくとも加熱槽内で
マイクロ波電力が照射されている間、前後の両マイクロ
波吸収槽の通路内にそれぞれ１つ以上位置するように搬
送装置上に配置されるので、被加熱物のサイズが加熱槽
内で使用されるマイクロ波電力の波長より大きなもので
あっても、マイクロ波吸収槽とその内部に位置している
反射板とによりマイクロ波電力を効果的に反射及び吸収
し消滅させることができる。
【００２６】したがって、マイクロ波電力の照射をオン
・オフさせる断続運転の必要がなく、マイクロ波電力の
連続照射により被加熱物を能率的に加熱処理することが
できる。
【００２７】また、被加熱物の間隔を最小限にした送り
ピッチで搬送する場合であっても、マイクロ波吸収槽内
でマイクロ波電力の漏洩を防止しつつ支障なく被加熱物
を搬送でき、且つ、マイクロ波電力の連続照射を行うこ
とができるので、加熱槽の長さ寸法及びその前後に設け
られたマイクロ波吸収槽の長さ寸法を最小限にして装置
全体を小型化することができる。
【００２８】特に、被加熱物間の無駄な空きスペースを
最小限にすることができるので、加熱槽に多くの被加熱
物を収納することができ、マイクロ波電力による加熱効
率を向上させて加熱処理コストを下げることが可能とな
る。
【００２９】また、本発明は、第２発明として、第１発
明の構成に加え、被加熱物及び反射板が加熱槽の前方の
マイクロ波吸収槽の入口付近で搬送装置上に供給され且
つ加熱槽の後方のマイクロ波吸収槽の出口付近で搬送装
置上から取り除かれる構成としたマイクロ波連続加熱装
置を提案する。
【００３０】この第２発明のマイクロ波連続加熱装置に
おいては、搬送装置による被加熱物及び反射板の搬送距
離を必要最小限の長さとすることができるので、搬送装
置の負荷をより一層軽減することができる。
【００３１】さらに本発明は、第３発明として、上記第
２発明の構成に加え、反射板が、被加熱物を載置するこ
とができる治具の前端又は後端、或いは、前端と後端と
において該治具と一体化されているマイクロ波連続加熱
装置を提案する。
【００３２】この第３発明のマイクロ波連続加熱装置に
おいては、反射板と治具とが一体化されているので、被
加熱物を治具上に載置することにより、被加熱物と反射
板との間隔を容易に所定の間隔に保つことができるとと
もに、治具を介して被加熱物と反射板とを一緒に搬送装
置上に供給したり搬送装置上から取り除いたりできるの
で、作業効率が向上する。
【００３３】さらに本発明は、第４発明として、上記第
３発明の構成に加え、被加熱物を載置した治具の前方及
び後方にそれぞれ被加熱物を載置していない複数個の空
の治具を配置され搬送される構成としたマイクロ波連続
加熱装置を提案する。
【００３４】この第４発明のマイクロ波連続加熱装置に
おいては、反射板と一体化された治具に被加熱物を載置
して搬送できるとともに、この治具を有効活用して、少
なくとも加熱槽内でマイクロ波電力が照射されている
間、前後の両マイクロ波吸収槽の通路内にそれぞれ１つ
以上の反射板を位置させておく状態を容易に実現するこ
とができる。
【００３５】さらに本発明は、第５発明として、前後に
開口部を有する加熱槽と、被加熱物を載せて加熱槽内を
通過させる搬送装置とを備え、加熱槽内を通過中の被加
熱物にマイクロ波電力を照射して加熱処理を行うマイク
ロ波連続加熱装置において、加熱槽の前後にそれぞれ連
設されたマイクロ波吸収槽と、加熱槽の前後の開口部に
それぞれ設けられた金属製のシャッターと、加熱槽の前
方のマイクロ波吸収槽の入口付近から加熱槽の後方のマ
イクロ波吸収槽の出口付近までの搬送区間において被加
熱物と列をなして搬送装置により搬送される複数個の金
属製の反射板とを備え、前後の両シャッターはそれぞれ
列の先頭の被加熱物又は反射板が該シャッターの付近に
到達したとき開動し且つ列の最後の反射板又は被加熱物
が該シャッターを通過したとき閉動するように構成され
ていることを特徴とするマイクロ波連続加熱装置を提案
する。
【００３６】この第５発明のマイクロ波連続加熱装置に
おいては、加熱槽の前方に位置するマイクロ波吸収槽の
入口付近から加熱槽の後方に位置するマイクロ波吸収槽
の出口付近までの搬送区間において複数個の金属製の反
射板が被加熱物と列をなして搬送装置により搬送される
とともに、加熱槽の前後の開口部に設けられた金属製の
シャッターのそれぞれは、列の先頭の被加熱物又は反射
板が該シャッターの付近に到達したとき開動し且つ列の
最後の反射板又は被加熱物が該シャッターを通過したと
き閉動するように構成されているので、シャッターが閉
じているときは該シャッターにより加熱槽からのマイク
ロ波電力の漏洩を遮断することができる。
【００３７】一方、シャッターが開いているときは、マ
イクロ波吸収槽の通路内に反射板が位置していることに
より、加熱槽の前後の開口部を通過する被加熱物のサイ
ズが加熱槽内で使用されるマイクロ波電力の波長より大
きなものであっても、マイクロ波吸収槽とその中に位置
している反射板とによりマイクロ波電力を効果的に反射
及び吸収し消滅させることができる。
【００３８】したがって、マイクロ波電力の照射をオン
・オフさせる断続運転の必要がなく、マイクロ波電力の
連続照射により被加熱物を能率的に加熱処理することが
できる。
【００３９】また、被加熱物の間隔を最小限にした送り
ピッチで搬送する場合であっても、マイクロ波吸収槽内
でマイクロ波電力の漏洩を防止しつつ支障なく被加熱物
を搬送でき、且つ、マイクロ波電力の連続照射を行うこ
とができるので、加熱槽の長さ寸法及びその前後に設け
られたマイクロ波吸収槽の長さ寸法を最小限にして装置
全体を小型化することが可能となる。
【００４０】また、被加熱物間の無駄な空きスペースを
最小限にすることができるので、加熱槽に多くの被加熱
物を収納できることとなり、マイクロ波電力による加熱
効率を向上させて加熱処理コストを下げることが可能と
なる。
【００４１】さらに、複数個の被加熱物を搬送する場合
に多数の反射板を空送りさせる必要がないので、被加熱
物を加熱処理する際に必要な反射板の搬送個数を最小限
にすることができる。したがって、搬送装置の負荷を軽
減することができるとともに、加熱処理の能率を高める
ことができる。
【００４２】さらに、被加熱物及び反射板は加熱槽の前
方のマイクロ波吸収槽の入口付近で搬送装置上に供給し
且つ加熱槽の後方のマイクロ波吸収槽の出口付近で搬送
装置上から取り除けばよいので、搬送装置による被加熱
物及び反射板の搬送距離を必要最小限の長さとすること
ができ、搬送装置の負荷を軽減することができる。
【００４３】さらに本発明は、第６発明として、上記第
５発明の構成に加え、反射板が被加熱物を載置すること
ができる治具の前端又は後端、或いは、前端と後端とに
おいて該治具と一体化されているマイクロ波連続加熱装
置を提案する。
【００４４】この第６発明のマイクロ波連続加熱装置に
おいては、反射板と治具とが一体化されているので、被
加熱物を治具上に載置することにより、被加熱物と反射
板との間隔を容易に所定の間隔に保つことができるとと
もに、治具を介して被加熱物と反射板とを一緒に搬送装
置上に供給したり搬送装置上から取り除いたりできるの
で、作業効率が向上する。
【００４５】さらに本発明は、第７発明として、上記第
１又は第５発明の構成に加え、搬送装置が循環形搬送体
を有し、反射板は互いに間隔をあけて循環形搬送体の全
周区間にわたり該循環形搬送体上に配設されているマイ
クロ波連続加熱装置を提案する。
【００４６】この第７発明のマイクロ波連続加熱装置に
おいては、反射板が互いに間隔をあけて循環形搬送体と
ともに循環しているので、反射板を搬送装置上に供給し
たり取り除いたりする作業を省略することができ、必要
時に互いに隣接する２つの反射板の間に被加熱物を配置
するだけで容易に搬送できる。
【００４７】また、少なくとも加熱槽内でマイクロ波電
力が照射されている間、両マイクロ波吸収槽内にそれぞ
れ１つ以上の反射板を位置させておく状態を容易に実現
することができる。
【００４８】さらに本発明は、第８発明として、上記第
１から第７発明までのいずれか１つの構成に加え、反射
板が僅かな隙間を介してマイクロ波吸収槽内を通過し得
る形状寸法を有し、且つ、マイクロ波吸収槽の内面がマ
イクロ波吸収体により覆われているマイクロ波連続加熱
装置を提案する。
【００４９】この第８発明のマイクロ波連続加熱装置に
おいては、被加熱物が使用マイクロ波の１波長よりも大
きなサイズのものであっても、反射板がマイクロ波吸収
槽内を移動する間、加熱槽からマイクロ波吸収槽内に漏
れ出すマイクロ波電力の大半を反射することができる。
【００５０】さらに、反射板とマイクロ波吸収体との間
の僅かな隙間を通過したしマイクロ波電力もマイクロ波
吸収体により効果的に吸収し減衰させ消滅させることが
できる。したがって、マイクロ波吸収槽を最小限の長さ
寸法にすることができるので、装置全体を小型化するこ
とができる。
【００５１】さらに、本発明は、第９発明として、上記
した第１から第８発明のいずれか１つの構成に加え、反
射板は、被加熱物に向かってくの字断面形状或いは湾曲
断面形状に曲げ形成されていることを特徴とするマイク
ロ波連続加熱装置を提案する。
【００５２】この第９発明のマイクロ波連続加熱装置に
おいては、反射板がくの字断面形状或いは湾曲断面形状
に曲げ形成してあるので、この反射板によってマイクロ
波電力の漏洩が防止される一方、そのマイクロ波電力の
反射が被加熱物に作用し、被加熱物の均一な加熱に寄与
する。
【００５３】さらに、本発明は、第１０発明として、上
記した第１から第８発明のいずれか１つの構成に加え、
反射板は、平板状の第１の反射板と、被加熱物に向かっ
てくの字断面形状或いは湾曲断面形状に曲げ形成された
第２の反射板との２板構成となっていることを特徴とす
るマイクロ波連続加熱装置を提案する。
【００５４】この第１０発明のマイクロ波連続加熱装置
においては、平板状の第１の反射板によってマイクロ波
電力の漏洩を防止し、曲げ形成した第２の反射板によっ
てマイクロ波電力を被加熱物に向かって反射させ、被加
熱物の均一加熱に寄与するようになっている。
【００５５】さらに本発明は、第１１発明として、上記
した第１〜第１０発明のいずれか１つの構成に加え、セ
ラミック成形体を被加熱物として連続加熱することを特
徴とするマイクロ波連続加熱装置を提案する。
【００５６】この第１１発明は、セラミック成形体、例
えば、セラミックハニカム体を乾燥させる乾燥装置とし
て構成したマイクロ波連続加熱装置である。
【００５７】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態について
図面に沿って説明する。図１から図４までは本発明の第
１実施形態を示したものである。図１はマイクロ波連続
加熱装置の概略縦断正面図、図２は図１に示す連続加熱
装置の図１中２−２線に沿った断面図、図３は図１に示
す連続加熱装置のコンベアと、該コンベア上に供給され
る治具及び反射板の縦断面図、図４（ａ）、（ｂ）は図
１に示す連続加熱装置の使用方法を示す説明図である。
【００５８】このマイクロ波連続加熱装置は図１に示す
ように、搬入側及び搬出側にそれぞれ開口部１１ａ、１
１ｂを形成した加熱槽１１を有しており、加熱槽１１の
上部には複数個のマイクロ波発振機１２が設けてあり、
マイクロ波発振機１２は導波管１２ａを介して加熱槽１
１内にマイクロ波電力を伝送するようになっている。
【００５９】加熱槽１１の前後にはそれぞれ内部に通路
１３ａ、１４ａを有するマイクロ波吸収槽１３、１４が
連設されており、これらマイクロ波吸収槽１３，１４と
加熱槽１１は、通路１３ａ、１４ａが加熱槽１１を介し
て一直線上に並ぶように架台１０上に取り付けられてい
る。
【００６０】全体的に符号１５で示す搬送装置は、駆動
モータ１６で図１中時計方向に回転駆動される循環形搬
送体としての搬送ベルト１７を備えており、この搬送ベ
ルト１７は、加熱槽１１の前方に位置するマイクロ波吸
収槽１３の入口１３ｂ付近から加熱槽１１の後方に位置
するマイクロ波吸収槽１４の出口１４ｂ付近までの区間
において直線的に配設されている。搬送ベルト１７は、
例えばテフロンコート・グラスウール又はポリアミド等
のマイクロ波電力を吸収しにくい材料で構成することが
望ましい。
【００６１】図２に示すように、加熱槽１１の前方、す
なわち、入口側のマイクロ波吸収槽１３は、外周が金属
製のカバー１８で構成されており、その内側は、マイク
ロ波電力を非常に良く吸収する材料、例えばカーボン、
フエライト、炭化ケイ素等からなるマイクロ波吸収体１
９で内張りされている。
【００６２】また、マイクロ波吸収槽１３の内底部に
は、上記搬送ベルト１７の下面を支える受けロラー２０
が前後に間隔をあけて配設されている。
【００６３】以上の構成により、マイクロ波吸収槽１３
の通路１３ａはそのほぼ全周にわたりマイクロ波吸収体
１９で覆われたものとなっている。また、マイクロ波吸
収槽１３の通路１３ａは断面略四角形としてある。
【００６４】なお、図示及び詳細な説明は省略するが、
マイクロ波吸収槽１４の通路１４ａもマイクロ波吸収槽
１３の通路１３ａと同様の構成を有しており、マイクロ
波吸収槽１４の通路１４ａはマイクロ波吸収体１９によ
りほぼ全周にわたり覆われている。
【００６５】図１に示すように、符号２１で示す被加熱
物と、金属製の反射板２２は、加熱槽１１の前方、すな
わち、入口側のマイクロ波吸収槽１３の入口１３ｂ付近
で後述する治具２３を介して搬送ベルト１７上に供給さ
れるようになっている。
【００６６】また、加熱槽１１の後方、すなわち、出口
側のマイクロ波吸収槽１４の出口１４ｂ付近で治具２３
とともに搬送ベルト１７上から取り除かれるものとなっ
ている。
【００６７】なお、反射板２２は僅かな隙間を介してマ
イクロ波吸収槽１３，１４の通路１３ａ、１４ａをほぼ
塞ぎながら通過し得るように、その形状寸法が設定され
ている。
【００６８】図２及び図３に示すように、治具２３は被
加熱物２１を載置するための金属製の台座２４を備えて
おり、この実施形態では、台座２４の搬送方向後端に反
射板２２の下端部がねじ２５により取り付けられて一体
化されている。
【００６９】台座２４にはマイクロ波電力の通りを良く
するために大きな開口２４ａが形成されており、開口２
４ａには、マイクロ波電力が貫通し易い材料、例えば、
シリコン樹脂、マイカ入り樹脂、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン樹脂等からなる透過板２６が装着されている。
【００７０】また、透過板２６は吸湿性や透湿性の高
い、例えば、多孔質状のものであれば、被加熱物２１の
下面の乾燥を促すこともできる。
【００７１】したがって、この治具２３を使用すれば、
被加熱物２１に対し加熱槽１１内で金属製の台座２４の
影響なしに良好なマイクロ波加熱を行うことができる。
【００７２】なお、反射板２２は治具２３の搬送方向前
端に設けてもよく、また、反射板２２は治具２３の前端
と後端にそれぞれ設けてもよい。さらに、反射板２２は
治具２３の台座２４と一体に形成してもよい。
【００７３】図２及び図３に示すように、この実施形態
においては、搬送ベルト１７上で治具２３が位置ずれを
生じることがある。
【００７４】したがって、搬送ベルト１７の幅方向に位
置ずれする治具２３の位置ずれ防止機構を設けたり、ま
た、搬送ベルト１７上にはその全周にわたり、例えば、
複数個の位置決め用凸部２７を前後に一定間隔をあけて
２列状態で設け、一方、治具２３における台座２４の下
面には、凸部２７と嵌合する凹部２４ｂを設けることが
望ましい。
【００７５】上記構成を有する連続加熱装置において
は、治具２３と一体となった複数個の反射板２２が互い
に前後に間隔をあけて搬送ベルト１７により次々と搬送
される。
【００７６】また、被加熱物２１は治具２３上に載置さ
れて搬送ベルト１７上に供給されることにより、互いに
隣接する２つの反射板２２、２２の間に配置されて搬送
ベルト１７により次々と搬送される。
【００７７】さらに、反射板２２は、少なくとも加熱槽
１１内においてマイクロ波発振機１２によりマイクロ波
電力が照射されている間、両マイクロ波吸収槽１３、１
４の通路１３ａ、１４ａ内にそれぞれ少なくとも１つ、
望ましくは複数個の反射板２２が位置するように搬送ベ
ルト１７上に供給される。
【００７８】係る構成により、加熱槽１１から漏れ出る
マイクロ波電力をマイクロ波吸収槽１３、１４とその内
部に位置している反射板２２とにより反射及び吸収し消
滅させることができる。
【００７９】図４を参照して更に詳しく説明すると、こ
の実施形態においては、マイクロ波加熱処理を開始する
とき、被加熱物２１を載せた治具２３を搬送ベルト１７
上に供給する前に、被加熱物２１を載せていない空状態
の複数個の治具２３を反射板２２とともに搬送ベルト１
７上に供給し、次々と搬送させる。
【００８０】そして、空の治具２３を所要数送り込んだ
後、被加熱物２１を載せた治具２３を搬送ベルト１７上
に供給し、次々と搬送させる。そして、図４（ａ）に示
すように、少なくとも先頭の空の治具２３（好ましくは
先頭から複数個の空の治具）が反射板２２と共に加熱槽
１１の後方、すなわち、出口側のマイクロ波吸収槽１４
の通路１４ａ内に入った後にマイクロ波発振機１２を起
動させる。
【００８１】このとき、加熱槽１１内に位置する治具２
３には被加熱物２１が搭載されておらず、被加熱物２１
を載せた治具２３が加熱槽１１内に入った直後にマイク
ロ波発振機１２を起動させるように空の治具２３の供給
個数を予め決めておく。
【００８２】これにより、加熱槽１１の出口側開口部１
１ｂ等にシャッター等を設ける必要なく、マイクロ波加
熱処理の運転開始時におけるマイクロ波電力の漏洩を確
実に防止することができる。
【００８３】また、最後に加熱処理させる被加熱物２１
を載せた治具２３を搬送ベルト１７上に載せた後、所要
数の空の治具２３を搬送ベルト１７上に供給して次々と
搬送させる。
【００８４】その場合、図４（ｂ）に示すように、最後
の被加熱物２１を載せた治具２３が反射板２２とともに
加熱槽１１の後方、すなわち、出口側のマイクロ波吸収
槽１４の通路１４ａ内に入ったときに、少なくとも最後
の空の治具２３（好ましくは複数個の治具）が加熱槽１
１の前方、すなわち、入口側のマイクロ波吸収槽１３の
通路１３ａ内に残っている状態となるように、空の治具
２３の供給個数を予め決めておく。
【００８５】また、最後の被加熱物２１を載せた治具２
３が反射板２２とともに加熱槽１１を出る直前、すなわ
ち、少なくとも最後の空の治具２３（好ましくは複数個
の治具）が加熱槽１１の前方、すなわち、入口側のマイ
クロ波吸収槽１３の通路１３ａ内に残っている状態で、
マイクロ波発振機１２の作動を停止させ、加熱槽１１内
におけるマイクロ波電力の照射を停止させる。
【００８６】これにより、加熱槽１１の開口部１１ａ、
１１ｂ等にシャッター等を設ける必要なく、マイクロ波
加熱処理の運転終了時におけるマイクロ波電力の漏洩を
確実に防止することができる。
【００８７】治具２３に載せられた被加熱物２１は、加
熱槽１１内を通過する間にマイクロ波エネルギーを受け
て加熱処理される。この場合、反射板２２と被加熱物２
１との間隔を１／４波長程度（使用マイクロ波電力の周
波数が２４５０ＭＨｚのときは約３０ｍｍ程度）離すこ
とにより、金属製反射板２２の影響なく良好な加熱を行
うことができる。
【００８８】一方、加熱槽１１の開口部１１ａ、１１ｂ
は常時開放されているので、マイクロ波電力は加熱槽１
１の開口部１１ａ、１１ｂからマイクロ波吸収槽１３、
１４の通路１３ａ、１４ａ内へと漏れるが、マイクロ波
吸収槽１３、１４内に位置している反射板２２がマイク
ロ波電力を反射して遮蔽する役割を果たし、その反射板
２２の周囲とマイクロ波吸収体１９との間隙から漏れる
マイクロ波は吸収体１９に吸収され減衰する。
【００８９】こうして、マイクロ波吸収槽１３、１４内
にある反射板２２の枚数分だけマイクロ波電力の反射と
減衰が繰り返えされて、マイクロ波電力の外部漏洩が防
止される。
【００９０】上記のマイクロ波吸収槽１３、１４と反射
板２２を用いたマイクロ波漏洩防止構造によれば、加熱
槽１１の前後の開口部１１ａ、１１ｂを通過する被加熱
物２１のサイズが加熱槽１１内で使用されるマイクロ波
電力の一波長より大きなものであっても、確実にマイク
ロ波電力の漏洩を防止することができる。
【００９１】したがって、マイクロ波電力の照射をオン
・オフさせる断続運転の必要がなく、マイクロ波電力の
連続照射により被加熱物２１を能率的に加熱処理するこ
とができる。
【００９２】また、被加熱物２１の間隔を最小限にした
送りピッチで搬送する場合であっても、マイクロ波吸収
槽１３、１４の通路１３ａ、１４ａ内でマイクロ波電力
の漏洩を防止しつつ支障なく被加熱物２１を搬送でき、
且つ、マイクロ波電力の連続照射を行うことができるの
で、加熱槽１１の長さ寸法及びその前後に設けられたマ
イクロ波吸収槽１３、１４の長さ寸法を最小限にして装
置全体を小型化することができる。
【００９３】また、被加熱物２１間の無駄な空きスペー
スを最小限にすることができるので、加熱槽１１に多く
の被加熱物２１を収納できることとなり、マイクロ波電
力による加熱効率を向上させて加熱処理コストを下げる
ことが可能となる。
【００９４】さらに、この実施形態においては、被加熱
物２１及び反射板２２が加熱槽１１の前方のマイクロ波
吸収槽１３の入口１３ｂ付近で搬送ベルト１７上に供給
され、また、加熱槽１１の後方のマイクロ波吸収槽１４
の出口１４ｂ付近で搬送ベルト１７上から取り除かれる
構成としているので、搬送ベルトによる被加熱物２１及
び反射板２２の搬送距離を必要最小限の長さとすること
ができ、搬送ベルト１７の負荷を軽減することができ
る。
【００９５】さらに、この実施形態においては、反射板
２２を治具２３と一体化させているので、被加熱物２１
を治具２３上に載置することにより、被加熱物２１と反
射板２２との間隔を容易に所定の間隔に保つことができ
る。
【００９６】また、治具２３を介して被加熱物２１と反
射板２２とを一緒に搬送ベルト１７上に供給したり搬送
ベルト１７上から取り除いたりできるので、作業効率が
向上する。
【００９７】さらに、この実施形態においては、被加熱
物２１を載置した治具２３の前方及び後方にそれぞれ被
加熱物２１を載置していない複数個の空の治具２３を配
置し一緒に搬送するよう構成しているので、治具２３を
有効活用して、少なくとも加熱槽１１内でマイクロ波電
力が照射されている間、両マイクロ波吸収槽１３、１４
の通路１３ａ、１４ａ内にそれぞれ少なくとも１つの反
射板２２を位置させておく状態を容易に実現することが
できる。
【００９８】図５及び図６は本発明の第２実施形態を示
したものである。これらの図において上記第１実施形態
と同様の構成要素には同一の参照符号が付してある。
【００９９】図５に示すように、この第２実施形態にお
いては、加熱槽１１の前後の開口部１１ａ、１１ｂの箇
所にそれぞれマイクロ波電力を遮断する金属製のシャッ
ター２８、２９が設けられており、両シャッター２８、
２９はそれぞれエアーシリンダ３０、３１に連動されて
上下に開閉動する構造になっている。
【０１００】この第２実施形態の連続加熱装置において
も、金属製の反射板２２がマイクロ波吸収槽１３、１４
の中に位置しているときは、上記第１実施形態と同様
に、加熱槽１１内から外部へのマイクロ波電力の漏洩を
防止することができる。
【０１０１】一方、この第２実施形態の連続加熱装置に
おいては、図６（ａ）に示すように、加熱処理の開始時
に両シャッター２８、２９が加熱槽１１の前後の開口部
１１ａ、１１ｂを閉じている状態でマイクロ波発振機１
２がマイクロ波電力の発振出力を開始する。
【０１０２】そして、被加熱物２１が反射板２２と一体
化された治具２３に搭載されてマイクロ波吸収槽１３内
に送り込まれ、入口側のシャッター２８の近くに到達す
ると、近接センサー（図示せず）の働きにより、図６
（ｂ）に示すように、シャッター２８が開き、被加熱物
２１は加熱槽１１へ順次入室を開始する。
【０１０３】このとき、マイクロ波発振機１２は被加熱
物量に見合うエネルギ量に制御され、被加熱物２１は加
熱槽１１に最大に充満された時に予め設定された最高出
力に達する。
【０１０４】この時、加熱槽１１の出口側のシャッター
２９はまだ閉じた状態にあり、出口側のマイクロ波吸収
槽１４へはできる限りマイクロ波電力を漏らさないよう
にしている。
【０１０５】その後、最初の被加熱物２１を載せた治具
２３が出口側のシャッター２９に接近すると、図６
（ｃ）に示すように、近接センサー（図示せず）の信号
によりシャッター２９が開き、被加熱物２１を載せた治
具２３を出口側のマイクロ波吸収槽１４へ送り出すとと
もに、マイクロ波吸収槽１４内を治具２３と一体化され
た反射板２２で満たすことにより、マイクロ波電力の漏
洩を防止するとともに、マイクロ波電力がマイクロ波吸
槽１４内を過剰に加熱しないように配慮している。
【０１０６】逆にマイクロ波加熱作業を終了させる時
は、最後の被加熱物２１を載せた治具２３が入口側のシ
ャッター２８を通過したことを近接センサー（図示せ
ず）の信号により確認したら、図６（ｄ）に示すよう
に、シャッター２８を閉じる。
【０１０７】そして被加熱物２１の減量に応じてマイク
ロ波電力の出力も減少させる。そして、最後の被加熱物
２１を載せた治具２３が出口側のシャッター２９を通過
したことを近接センサー（図示せず）の信号により確認
したら、図６（ｅ）に示すように、直ちにシャッター２
９を閉じ、またマイクロ波電力の出力を停止させて加熱
を終了させる。
【０１０８】上記構成を有する第２実施形態のマイクロ
波連続加熱装置においては、加熱槽１１の前方に位置す
るマイクロ波吸収槽１３の入口１３ｂ付近から加熱槽１
１の後方に位置するマイクロ波吸収槽１４の出口１４ｂ
付近までの搬送区間において複数個の反射板２２を前後
に間隔をあけて搬送装置１５により搬送させながら、処
理すべき複数個の被加熱物２１をそれぞれ互いに隣接す
る２つの反射板２２の間に配置して順次加熱槽１１内に
送り込み、加熱槽１１内を通過させながらマイクロ波電
力による加熱処理を行うことができる。
【０１０９】しかも、加熱槽１１の前後の開口部１１
ａ、１１ｂに設けられた各々のシャッター２８、２９
は、列をなした先頭の被加熱物２１（又は反射板２２）
が該シャッター２８、２９の付近に到達したとき開動し
且つ列の最後の反射板２２（又は被加熱物２１）が該シ
ャッター２８，２９を通過したとき閉動するように構成
されているので、シャッター２８，２９が閉じていると
きは該シャッター２８，２９により加熱槽１１からのマ
イクロ波電力の漏洩を遮断することができる。
【０１１０】一方、シャッター２８、２９が開いている
ときは、マイクロ波吸収槽１３、１４の通路内１３ａ、
１４ａにそれぞれ反射板２２が位置していることによ
り、マイクロ波吸収槽１３、１４内でマイクロ波電力を
確実に吸収し消滅させることができる。
【０１１１】したがって、マイクロ波電力の照射をオン
・オフさせる断続運転の必要がなく、マイクロ波電力の
連続照射により被加熱物２１を能率的に加熱処理するこ
とができる。
【０１１２】また、被加熱物２１の間隔を最小限にした
送りピッチで搬送する場合であっても、マイクロ波吸収
槽１３、１４の通路１３ａ、１４ａ内でマイクロ波電力
の漏洩を防止しつつ支障なく被加熱物２１を搬送でき、
且つ、マイクロ波電力の連続照射を行うことができるの
で、加熱槽１１の長さ寸法及びその前後に設けられたマ
イクロ波吸収槽１３、１４の長さ寸法を最小限にして装
置全体を小型化することができる。
【０１１３】また、被加熱物２１間の無駄な空きスペー
スを最小限にすることができるので、加熱槽１１に多く
の被加熱物２１を収納できることとなり、マイクロ波電
力による加熱効率を向上させて加熱処理コストを下げる
ことが可能となる。
【０１１４】さらに、複数個の被加熱物２１を搬送する
場合に多数の反射板２２を空送りさせる必要がないの
で、被加熱物２１を加熱処理する際に必要な反射板２２
の搬送個数を最小限にすることができる。したがって、
搬送装置の負荷を軽減することができるとともに、加熱
処理の能率を高めることができる。
【０１１５】さらに、被加熱物２１及び反射板２２は加
熱槽１１の前方のマイクロ波吸収槽１３の入口１３ｂ付
近で搬送ベルト１７上に供給し、また、加熱槽１１の後
方のマイクロ波吸収槽１４の出口１４ｂ付近で搬送ベル
ト１７上から取り除けばよいので、搬送ベルト１７によ
る被加熱物２１及び反射板２２の搬送距離を必要最小限
の長さとすることができ、搬送装置の負荷を軽減するこ
とができる。
【０１１６】なお、上記第２実施形態の連続加熱装置に
おいては、最初の被加熱物２１を載せた先頭の治具２３
が出口側のシャッタ−２９に接近して該シャッタ−２９
が開いた時点から、この最初の治具２３と一体のマイク
ロ波反射板２２が該シャッタ−２９を通過し、出口側の
マイクロ波吸収槽１４の通路１４ａ内に入るまでの間、
加熱槽１１内のマイクロ波電力がマイクロ波吸収槽１４
の通路１４ａ内に漏れ出る可能性があるが、該シャッタ
−２９が開いた後、すぐに最初の治具２３と一体のマイ
クロ波反射板２２が出口側のマイクロ波吸収槽１４の通
路１４ａ内に入るので、マイクロ波反射板電力の漏洩は
僅かなものとなる。
【０１１７】出口側のシャッタ−２９が開くときにマイ
クロ波電力が加熱槽１１内からマイクロ波吸収槽１４の
通路１４ａ内へと漏洩する量をより少なくするために、
最初の被加熱物２１を載せた治具２３の手前に被加熱物
を載せていない空の治具２３を置き、この空の治具２３
と一体のマイクロ波反射板２２がシャッタ−２９に接近
したときにシャッタ−２９を開けるようにしてもよい。
【０１１８】一方、出口側のシャッタ−２９が開くとき
にマイクロ波電力が外部に漏洩することを確実に防止す
るために、出口側マイクロ波吸収槽１４の通路１４ａの
出口１４ｂの箇所に追加のシャッタ−（図示省略）を設
けてもよい。
【０１１９】この追加のシャッタ−は、出口側のシャッ
タ−２９が開くときは閉じており、最初の被加熱物２１
を載せた治具２３がマイクロ波吸収槽１４の通路１４ａ
内に入って該追加のシャッタ−に接近したときに開くと
共に、最後の被加熱物２１を載せた治具２３がマイクロ
波吸収槽１４の出口１４ｂを通過した後に閉じられるよ
うに構成される。
【０１２０】上記追加のシャッタ−を設けたとしても、
この追加のシャッタ−は上記シャッタ−２８、２９と同
様に、頻繁に開閉動作させる必要がないので、動作制御
が簡単であり、また、摩耗などによるトラブルを心配す
ることなく信頼性を確保することができる。
【０１２１】図７は本発明の第３実施形態を示したもの
である。この第３実施形態においては、金属製の反射板
２２が被加熱物２１を搭載する治具２３とは別体に構成
され、互いに間隔をあけて循環形搬送体である搬送ベル
ト１７の全周区間にわたり該搬送ベルト１７上に配設さ
れている。
【０１２２】図示は省略されているが、上記第１実施形
態及び第２実施形態と同様に、搬送ベルト１７の搬送経
路上に加熱槽１１及びその前後のマイクロ波吸収槽１
３、１４が設置される。この第３実施形態の構成は上記
第１実施形態の構成の変形例として用いることができ
る。
【０１２３】上記の第３実施形態の場合、反射板２２が
互いに間隔をあけて搬送ベルト１７とともに循環してい
るので、反射板２２を搬送装置１５上に供給したり取り
除いたりする作業を省略することができ、必要時に互い
に隣接する２つの反射板２２の間に被加熱物２１を治具
２３を介して配置して容易に搬送することができる。
【０１２４】また、少なくとも加熱槽１１内でマイクロ
波電力が照射されている間、加熱槽１１の前後のマイク
ロ波吸収槽１３，１４の通路内にそれぞれ少なくとも１
つの反射板２２を位置させる状態を容易に実現すること
ができる。
【０１２５】図８（Ａ）、（Ｂ）は、上記したマイクロ
波連続加熱装置によってセラミック成形体としてのセラ
ミックハニカム体を乾燥させる一実施例を示す。この場
合、セラミックハニカム体４０は上記した治具２３に載
せた後、搬送ベルト１７に供給して加熱槽１１内を順次
通過させ、上記したところにしたがいマイクロ波電力に
よって加熱することによって、セラミックハニカム体４
０を連続的に乾燥させることができる。
【０１２６】このように実施する場合、反射板２２の材
質はマイクロ波電力を反射するものであれば特に限定さ
れないが、水分や熱に対して発錆しないＳＵＳ（ステン
レス）やアルミニウム等がより適している。
【０１２７】また、反射板２２の大きさは、セラミック
ハニカム体４０の最大寸法と同等以上で、加熱槽１１の
開口部１１ａ、１１ｂの寸法に極力近いほど設備の開口
面積を少なくすることができ、マイクロ波電力の漏洩防
止に有利となる。
【０１２８】さらに、本実施例のように、電気絶縁性の
スペ−サ４１を治具２３に設ければ、マイクロ波電力の
照射中に治具同士が接触したときに発生することがある
スパ−クを防止することができる。
【０１２９】なお、反射板２２に加えて加熱槽１１にマ
イクロ波吸収体を設けることにより、マイクロ波電力の
漏洩防止にさらに有利となる。
【０１３０】図９（Ａ）、（Ｂ）は、折り曲げ形成した
反射板２２Ａを設けた実施例である。この反射板２２Ａ
は、上記した反射板２２と同様にマイクロ波電力の漏洩
防止の他に、被加熱物へのマイクロ波電力の反射を行な
う。
【０１３１】本実施例では、反射板２２Ａをセラミック
ハニカム体４０に向かってくの字の断面形状に折り曲げ
形成してあることから、この反射板２２Ａによって反射
されたマイクロ波電力がセラミックハニカム体４０に照
射され、セラミックハニカム体４０が均一加熱によって
乾燥されるようになる。
【０１３２】なお、反射板２２Ａの仕様（形状、折り曲
げ角度、折り曲げ位置等）は、セラミック成形体の大き
さ、形状、その他乾燥度合いの差に合せて適度に定める
ことによって、マイクロ波電力の均一照射が可能にな
り、セラミックハニカム体４０の寸法精度等において品
質向上を計ることができる。
【０１３３】図１０は、平板状の反射板２２ａと折り曲
げ形成した反射板２２ｂとを備えた実施例である。本実
施例では、反射板２２ａが上記した反射板２２と同様に
マイクロ波電力の漏洩を防止し、反射板２２ｂが上記し
た反射板２２Ａと同様にセラミックハニカム体４０に向
かってマイクロ波電力を反射する。なお、反射板２２ｂ
の形状は上記した反射板２２Ａと同様にセラミック成形
体の形状等に対応させて変えることができる。
【０１３４】セラミックハニカム体（セラミック成形
体）４０は、自動車用触媒担体セラミックハニカム、デ
ィ−ゼルパティキュレ−ト捕集用セラミックフィルタ、
燃料電池セルなどの成形品として広く知られているが、
このセラミックハニカム体４０は、水分等を添加した粘
土状のセラミック原料をスクリュ−式、ピストン式の押
出し成形機により所定形状の金型によって押出し、図１
１（Ａ）、（Ｂ）に示すような内部に多数の貫通孔を有
する円柱状のハニカム体として形成する。
【０１３５】なお、図１１（Ａ）はセラミックハニカム
体４０の斜視図、図１１（Ｂ）は同ハニカム体４０の部
分的な拡大平面図を示し、４０ａは外周スキン部、４０
ｂはセル、４０ｃはセル壁を示す。
【０１３６】押出し成形されたセラミックハニカム体４
０の体積はおよそ５００ｃｃ〜１５０００ｃｃと大型で
全体質量の１０％〜３０％の多量の水分を含むこと、セ
ル壁４０ｃは０．０２５ｍｍ〜０．４ｍｍと極めて薄く
強度が弱いことから、一般に知られているような熱風乾
燥では、内外の乾燥速度差によって生ずる乾燥収縮時の
部分的な寸法差により、乾燥割れが発生するという問題
があった。
【０１３７】また、従来のマイクロ波乾燥設備を用いて
乾燥する場合は、セラミックハニカム体４０の容積や水
分量によりバッチ乾燥となり、また、大形であることか
ら二重シャッタを備えるマイクロ波乾燥設備を使用する
ことになる。
【０１３８】このため、ワ−クの同期等も含めタクトタ
イムの遅い連続乾燥となり、非常に生産性の悪いものと
なっていたが、上記したところから分かるように、本発
明のマイクロ波連続加熱装置によれば、セラミックハニ
カム体４０であっても効率的に連続乾燥することができ
る。
【０１３９】以上、実施形態につき説明したが、その他
の実施形態としては、例えば、搬送装置１５は水平面上
で循環する循環形搬送体を備えていてもよい。
【０１４０】また、上記実施形態では、搬送装置１５と
してベルトコンベヤを用いているが、これに限定され
ず、例えば、ローラーコンべア方式、或いは、固定搬送
台上に供給した被加熱物載置用の治具をエアーシリンダ
などで一定のピッチで押し治具２３を間欠的に移動させ
るプッシャー方式のものであってもよい。
【０１４１】上記実施形態においては治具２３を介して
被加熱物２１を搬送装置１５に載せているが、治具２３
を省略してもよい。また、治具２３と反射板２２とは別
体に構成して個別に搬送装置上に載置してもよい。さら
に、治具２３はその全体をマイクロ波透過材で形成した
ものであってもよい。
【０１４２】
【発明の効果】上記した通り、本発明は、加熱槽の前後
にそれぞれ被加熱物を通すマイクロ波吸収槽を連設し、
複数個の金属製の反射板を搬送装置により搬送しなが
ら、被加熱物を互いに隣接する２つの反射板の間に配置
して反射板と一緒に搬送するように構成し、且つ、少な
くとも加熱槽内にマイクロ波電力を照射している間、前
後の両マイクロ波吸収槽内にそれぞれ１つ以上位置する
ように反射板を搬送装置上に配置したものとなっている
から、加熱槽の前後の開口部が使用マイクロ波電力の１
波長以上の大きな寸法であっても、金属製の反射板と被
加熱物を適正量配備することにより、マイクロ波吸収槽
内で比較的容易にマイクロ波電力の漏洩を防止すること
ができる。
【０１４３】したがって、１波長以上の大きな開口寸法
でもマイクロ波電力の出力を断続させず連続照射できる
マイクロ波連続加熱装置を簡単に実現できる。
【０１４４】また、被加熱物間の間隔を最小限にした送
りピッチで被加熱物を搬送できるため、加熱槽とその前
後に設けられたマイクロ波吸収槽の長さ寸法を最小にし
て、加熱効率のアップ化と装置のコストダウン化を図る
と共に、設置スペースをコンパクトにすることができ
る。
【０１４５】一方、加熱槽の前後の開口部の箇所に金属
製のシャッターを備えた本発明においては、上記効果を
奏するとともに、被加熱物が加熱槽に入室する始動時及
び最後の被加熱物が加熱槽より搬出する終了時に、各々
のシャッターが開閉動作し吸収槽のマイクロ波吸収体を
過加熱させないようにして、熱劣化や破損等を防止し、
長寿命化を図ることができる。
【０１４６】また、シャッターの作動は始動時と終了時
とに行ない非常に少ない開閉動作となるので、摩耗など
によるトラブルを心配することなく信頼性を確保するこ
とができる。
【０１４７】さらに、本発明では、曲げ形成した反射板
を備えることによって、この反射板がマイクロ波電力の
漏洩防止の他に、被加熱物に向かってマイクロ波電力を
反射するため、被加熱物の均一加熱化に有利である。
【０１４８】また、マイクロ波電力の漏洩防止作用の反
射板と共に被加熱物へのマイクロ波反射作用の今一つの
反射板を設ければ、漏洩防止と被加熱物の均一加熱化に
一層有利となる。
【０１４９】そして、本発明は、マイクロ波電力の漏洩
防止の他に、被加熱物の均一な加熱化を計ることができ
ることから、セラミック成形体を乾燥させる乾燥装置と
して有利なマイクロ波連続加熱装置となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態を示すマイクロ波連続加熱
装置の概略縦断正面図である。
【図２】図１に示す連続加熱装置の図１中２−２線に沿
った断面図である。
【図３】図１に示す連続加熱装置のコンベアと、該コン
ベア上に供給される治具及び反射板の縦断面図である。
【図４】図４（ａ）、（ｂ）はそれぞれ図１に示す装置
の使用方法を示す説明図である。
【図５】本発明の他の実施形態を示すマイクロ波連続加
熱装置の概略縦断正面図である。
【図６】図６（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）
はそれぞれ図５に示す連続加熱装置の使用方法を示す説
明図である。
【図７】本発明の第３実施形態を示すマイクロ波連続加
熱装置の要部概略図である。
【図８】セラミックハニカム体を加熱乾燥する実施例を
示し、図８（Ａ）は治具にセラミックハニカム体を載せ
た状態を示す正面図、図８（Ｂ）はその平面図である。
【図９】折り曲げ形成した反射板を備えた実施例を示
し、図９（Ａ）は図８（Ａ）同様の正面図、図９（Ｂ）
はその平面図である。
【図１０】平板状の第１の反射板と折り曲げ形成した第
２の反射板とを備えた実施例を示し、図１０（Ａ）は図
８（Ａ）同様の正面図、図１０（Ｂ）はその平面図であ
る。
【図１１】図１１（Ａ）はセラミックハニカム体の斜視
図、図１１（Ｂ）は同ハニカム体の部分的な拡大平面図
である。
【符号の説明】
１１ 加熱槽 １１ａ、１１ｂ 開口部 １２ マイクロ波発振機 １３、１４ マイクロ波吸収槽 １３ａ、１４ａ 通路 １３ｂ 入口 １４ｂ 出口 １５ 搬送装置 １７ 搬送ベルト １９ マイクロ波吸収体 ２１ 被加熱物 ２２ 金属製の反射板 ２２Ａ 折り曲げ形成した反射板 ２２ａ 第１の反射板 ２２ｂ 第２の反射板 ２３ 治具 ２４ 台座 ２４ａ 開口 ２４ｂ 凹部 ２６ 透過板 ２７ 凸部 ２８、２９ シャッター ３０、３１ エアーシリンダ ４０ セラミックハニカム体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｆ２７Ｂ 9/38 Ｆ２７Ｂ 9/39 9/39 Ｆ２７Ｄ 3/12 Ｓ Ｆ２７Ｄ 3/12 11/12 11/12 Ｈ０５Ｂ 6/64 Ｄ Ｈ０５Ｂ 6/64 Ｈ Ｃ０４Ｂ 35/64 Ｆ (72)発明者 三上 浩司 埼玉県新座市野火止４丁目18番３号 ミク ロ電子株式会社内 (72)発明者 加藤 広己 愛知県刈谷市昭和町１丁目１番地 株式会 社デンソ−内 (72)発明者 後藤 章一 愛知県刈谷市昭和町１丁目１番地 株式会 社デンソ−内 (72)発明者 石川 諭史 愛知県刈谷市昭和町１丁目１番地 株式会 社デンソ−内 Ｆターム(参考） 3K090 AA02 AA20 EA03 4K050 AA01 BA07 CA00 CD07 CF01 CF11 CG08 4K055 AA05 HA02 HA11 4K063 AA00 AA12 BA04 CA01 CA04 CA06 FA82

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 前後に開口部を有する加熱槽と、被加熱
    物を載せて加熱槽内を通過させる搬送装置とを備え、加
    熱槽内を通過中の被加熱物にマイクロ波電力を照射して
    加熱処理を行うマイクロ波連続加熱装置において、 加熱槽の前後にそれぞれ連設させて被加熱物を通すマイ
    クロ波吸収槽と、 互いに前後に間隔をあけて搬送装置により搬送される複
    数個の金属製の反射板とを備え、 被加熱物は互いに隣接する２つの反射板の間に配置さ
    れ、反射板は、少なくとも加熱槽がマイクロ波電力を照
    射している間、両マイクロ波吸収槽内にそれぞれ１つ以
    上位置するように搬送装置上に配置されることを特徴と
    するマイクロ波連続加熱装置。
  2. 【請求項２】 被加熱物及び反射板は加熱槽の前方のマ
    イクロ波吸収槽の入口付近で搬送装置上に供給され且つ
    加熱槽の後方のマイクロ波吸収槽の出口付近で搬送装置
    上から取り除かれることを特徴とする請求項１記載のマ
    イクロ波連続加熱装置。
  3. 【請求項３】 反射板は、被加熱物を載置することがで
    きる治具の前端又は後端、或いは、前端と後端とにおい
    て該治具と一体化されていることを特徴とする請求項２
    記載のマイクロ波連続加熱装置。
  4. 【請求項４】 被加熱物を載置した治具の前方及び後方
    にそれぞれ被加熱物を載置していない複数個の空の治具
    を配置し搬送するようにしたことを特徴とする請求項３
    記載のマイクロ波連続加熱装置。
  5. 【請求項５】 前後に開口部を有する加熱槽と、被加熱
    物を載せて加熱槽内を通過させる搬送装置とを備え、加
    熱槽内を通過中の被加熱物にマイクロ波電力を照射して
    加熱処理を行うマイクロ波連続加熱装置において、 加熱槽の前後にそれぞれ連設されて被加熱物を通すマイ
    クロ波吸収槽と、 加熱槽の前後の開口部にそれぞれ設けられたシャッター
    と、 加熱槽の前方のマイクロ波吸収槽の入口付近から加熱槽
    の後方のマイクロ波吸収槽の出口付近までの搬送区間に
    おいて被加熱物と列をなして搬送される複数個の反射板
    とを備え、 前後の両シャッターはそれぞれ列の先頭の被加熱物又は
    反射板が該シャッターの付近に到達したとき開動し且つ
    列の最後の反射板又は被加熱物が該シャッターを通過し
    たとき閉動するように構成されていることを特徴とする
    マイクロ波連続加熱装置。
  6. 【請求項６】 反射板は、被加熱物を載置することがで
    きる治具の前端又は後端、或いは、前端と後端とにおい
    て該治具と一体化されていることを特徴とする請求項５
    記載のマイクロ波連続加熱装置。
  7. 【請求項７】 搬送装置は循環形搬送体を有し、反射板
    は互いに間隔をあけて循環形搬送体の全周区間にわたり
    該循環形搬送体上に配設されていることを特徴とする請
    求項１又は５に記載のマイクロ波連続加熱装置。
  8. 【請求項８】 反射板は、僅かな隙間を介してマイクロ
    波吸収槽内を通過し得る形状寸法を有し、マイクロ波吸
    収槽の内面がマイクロ波吸収体により覆われていること
    を特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１つに記
    載のマイクロ波連続加熱装置。
  9. 【請求項９】 反射板は、被加熱物に向かってくの字断
    面形状或いは湾曲断面形状に曲げ形成されていることを
    特徴とする請求項１〜８のいずれか１つに記載したマイ
    クロ波連続加熱装置。
  10. 【請求項１０】 反射板は、平板状の第１の反射板と、
    被加熱物に向かってくの字断面形状或いは湾曲断面形状
    に曲げ形成された第２の反射板との２板構成となってい
    ることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１つに記載
    したマイクロ波連続加熱装置。
  11. 【請求項１１】 セラミック成形体を被加熱物として連
    続加熱することを特徴とする請求項１〜１０のいずれか
    １つに記載のマイクロ波連続加熱装置。
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