JP2002189141A - Method for manufacturing optical waveguide and optical waveguide - Google Patents
Method for manufacturing optical waveguide and optical waveguideInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は光導波路及びその製
造方法に関し、更に詳しくは、クラッド領域とコア領域
との間の屈折率差が、曲がり部において直線部よりも大
きく設定されている光導波路及びその製造方法に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical waveguide and a method for manufacturing the same, and more particularly, to an optical waveguide in which a refractive index difference between a cladding region and a core region is set to be larger at a curved portion than at a straight portion. And its manufacturing method.
【０００２】[0002]
【従来の技術】代表的な光導波路である平面型光導波路
は、シリコン等の基板上に下部クラッド層、コア層及び
上部クラッド層を形成して得られる。平面型光導波路の
低損失化のためには、コア層とクラッド層の屈折率差を
大きくしてコア層での光閉じ込めを強くすることが必要
である。特に、コア層のパターンに曲がり部がある場合
には、この曲がり部で横方向に光が放射して漏れること
による損失、いわゆる曲げ損失（bending loss）が大き
くなるため、コア層とクラッド層の屈折率差を大きくす
ることが要求される。2. Description of the Related Art A planar optical waveguide, which is a typical optical waveguide, is obtained by forming a lower cladding layer, a core layer and an upper cladding layer on a substrate such as silicon. In order to reduce the loss of the planar optical waveguide, it is necessary to increase the difference in the refractive index between the core layer and the cladding layer to increase the light confinement in the core layer. In particular, in the case where the core layer pattern has a bent portion, a loss due to light radiating in the lateral direction and leaking at the bent portion, that is, a so-called bending loss (bending loss) increases. It is required to increase the refractive index difference.
【０００３】導波路の曲げ損失を低減するため、従来は
導波路全体にわたってコア層とクラッド層の屈折率差を
大きくすることが行われていた。しかしこの方法では、
次のような問題がある。第１に、コア層とクラッド層の
屈折率差を大きくすると、導波路端面に光ファイバ等を
結合する際に、クラッド層からコア層に結合する成分が
少なくなるため、結合損失が大きくなる。この結合損失
の問題に対処するためには、例えば導波路に接続される
先端部に球を取り付けた先球ファイバ等を用いることが
必要となり、これは製造上のトレランスを小さくする。
第２に、コア層とクラッド層の屈折率差を大きくする
と、コア層とクラッド層の界面の荒れに起因する導波損
が大きくなり、また偏波依存性が導波路断面形状に対し
て敏感になる。特に、平面型の光導波路回路（ＰＬＣ）
をより高集積化するために導波路の曲がり部の半径を小
さくした場合には、これらの問題がより大きくなる。[0003] In order to reduce the bending loss of the waveguide, conventionally, the refractive index difference between the core layer and the cladding layer has been increased over the entire waveguide. But with this method,
There are the following problems. First, when the refractive index difference between the core layer and the cladding layer is increased, when coupling the optical fiber or the like to the end face of the waveguide, the component that couples from the cladding layer to the core layer decreases, so that the coupling loss increases. In order to cope with the problem of the coupling loss, it is necessary to use, for example, a spherical fiber having a sphere attached to a tip portion connected to the waveguide, which reduces manufacturing tolerance.
Second, when the refractive index difference between the core layer and the cladding layer is increased, the waveguide loss due to the roughness of the interface between the core layer and the cladding layer increases, and the polarization dependence is sensitive to the waveguide cross-sectional shape. become. In particular, a planar optical waveguide circuit (PLC)
If the radius of the bent portion of the waveguide is reduced in order to achieve higher integration, these problems become more serious.
【０００４】上記のような問題を解決する発明として、
基板と、この基板上に形成された下部クラッド層と、こ
の下部クラッド層上に直線部と曲がり部をもってパター
ン形成されたコア層と、このコア層を覆って形成された
上部クラッド層とを有し、前記下部クラッド層及び上部
クラッド層の少なくとも一方と前記コア層との間の屈折
率差が、前記コア層の曲がり部において直線部よりも大
きく設定されていることを特徴とする平面型光導波路が
既に提案されている（特開平１１−３４４６３０号公
報）。そして、上記提案においては、曲がり部とクラッ
ド層との屈折率差を大きくする手段の一つとして、曲が
り部に紫外線照射を行うことが記載されていた。高圧水
素雰囲気に曝した後で紫外線照射を実施することにより
屈折率を上昇させるこの技術は、光ファイバブラッググ
レーティングの製造などに利用されている。[0004] As an invention for solving the above problems,
It has a substrate, a lower cladding layer formed on the substrate, a core layer patterned on the lower cladding layer with straight and curved portions, and an upper cladding layer formed over the core layer. And a refractive index difference between at least one of the lower cladding layer and the upper cladding layer and the core layer is set to be larger than a straight portion at a bent portion of the core layer. A wave path has already been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 11-344630). In the above proposal, as one of means for increasing the refractive index difference between the bent portion and the cladding layer, it is described that the bent portion is irradiated with ultraviolet rays. This technique of increasing the refractive index by irradiating ultraviolet rays after exposure to a high-pressure hydrogen atmosphere has been used in the production of optical fiber Bragg gratings and the like.
【０００５】他方、波長８００ｎｍなどの、ガラスの固
有吸収波長以外の波長のレーザー光をパルス幅１ｐｓ以
下の超短パルスに圧縮することでピークパワーを大きく
し、集光照射することでガラス材料の屈折率を上昇させ
る技術が特開平９−３１１２３７号公報、「超短パルス
レーザーにより永続的な誘起構造をつくる」（HiraoAct
ive Glass NEWS Final(Aug.1999),pp5-14)などに開示さ
れている。On the other hand, the peak power is increased by compressing a laser beam having a wavelength other than the intrinsic absorption wavelength of glass, such as 800 nm, into an ultrashort pulse having a pulse width of 1 ps or less. Japanese Patent Laid-Open No. 9-31237 discloses a technique for increasing the refractive index, "Creating a permanent induced structure with an ultrashort pulse laser" (HiraoAct
ive Glass NEWS Final (Aug. 1999), pp5-14).
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記特開平１
１−３４４６３０号公報に記載の紫外線照射による方法
では、特性の経年劣化が生じることが知られている。ま
た、上記特開平９−３１１２３７号公報等では、超短パ
ルスレーザー光の集光照射で光導波路を作製する技術が
開示されているが、これらはまだ開発途上にある技術で
あり、光学特性の面で従来の製法による光導波路モジュ
ールを凌駕するには至っていない。本発明は、上記事情
に鑑み、ファイバとの結合損や界面荒れによる導波損，
偏波依存性等を大きくすることなく、曲げ損失を効果的
に低減し、かつ製作も容易な光導波路とその製造方法を
提供することを課題としている。However, Japanese Patent Application Laid-Open No.
It is known that the method using ultraviolet irradiation described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-344630 causes deterioration of characteristics over time. Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-31237 and the like disclose techniques for producing an optical waveguide by converging and irradiating an ultrashort pulsed laser beam. However, these techniques are still under development, and are not yet developed. In terms of surface, it has not surpassed the conventional optical waveguide module. The present invention has been made in view of the above circumstances, and has described a waveguide loss due to a coupling loss with a fiber or a roughened interface.
It is an object of the present invention to provide an optical waveguide which can effectively reduce bending loss without increasing polarization dependence and the like and is easy to manufacture, and a method of manufacturing the same.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため、クラッド領域内に直線部と曲がり部と
を有するコア領域を形成するコア領域形成工程と、形成
されたコア領域の曲がり部にパルス幅１ｐｓ以下のレー
ザー光の集光照射をする屈折率変化工程とを有すること
を特徴とする光導波路の製造方法を提供する。Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the present inventors have proposed a core region forming step of forming a core region having a straight portion and a bent portion in a cladding region, And a refractive index changing step of converging and irradiating a laser beam having a pulse width of 1 ps or less to a bent portion of the optical waveguide.
【０００８】本発明においては、パルス幅１ｐｓ以下の
レーザー光を用いている。このように、非常に狭いパル
ス幅とすると、パルスレーザーのピーク出力を大きくす
ることができ、レーザ光の集光点において屈折率を変化
させうるピークパワーを確保できる。この条件下では、
ガラスの固有吸収波長以外の波長をもつパルスレーザで
あっても、集光点においてガラスの光誘起反応により屈
折率を変化させることができる。また、ガラスの固有吸
収波長に一致する波長をもつパルスレーザであっても、
吸収が弱いので、集光点における１０5 Ｗ／ｃｍ2 以上
のピークパワー強度が確保され、光誘起反応により屈折
率を変化させることができる。このように、ガラスの固
有吸収波長との関係に係わらず、光誘起反応を生じさせ
ることができるので、コア領域のガラス組成に関係な
く、曲がり部の屈折率を大きくさせることができる。In the present invention, laser light having a pulse width of 1 ps or less is used. As described above, when the pulse width is extremely narrow, the peak output of the pulse laser can be increased, and the peak power that can change the refractive index at the focal point of the laser beam can be secured. Under these conditions,
Even with a pulsed laser having a wavelength other than the intrinsic absorption wavelength of glass, the refractive index can be changed by the photo-induced reaction of the glass at the focal point. In addition, even if the pulse laser has a wavelength that matches the intrinsic absorption wavelength of glass,
Since the absorption is weak, a peak power intensity of 10 5 W / cm 2 or more at the converging point is secured, and the refractive index can be changed by a photo-induced reaction. As described above, since the photo-induced reaction can be generated regardless of the relationship with the intrinsic absorption wavelength of the glass, the refractive index of the bent portion can be increased regardless of the glass composition of the core region.
【０００９】コア領域及びクラッド領域の材質として
は、ＳｉＯ2ガラスに、ボロン、ゲルマニウム等をドー
プしたものが主に用いられる。この他、コア材料とクラ
ッド材料との間に適切な屈折率差を与えることができ、
超短パルスレーザー光の集光照射により光誘起構造が生
起され屈折率が上昇するものであれば、ＳｉＯ2ガラス
以外の酸化物ガラス、ハロゲン化物ガラス、硫化物ガラ
ス、カルコゲナイドガラス等を用いても良い。As a material for the core region and the cladding region, a material obtained by doping boron, germanium, or the like into SiO 2 glass is mainly used. In addition, an appropriate refractive index difference can be given between the core material and the cladding material,
As long as the light-induced structure is generated by the focused irradiation of the ultrashort pulse laser light and the refractive index increases, oxide glass other than SiO 2 glass, halide glass, sulfide glass, chalcogenide glass, or the like can be used. good.
【００１０】本発明においては、レーザー光の繰り返し
周波数が１０ｋＨｚ以上、更に好ましくは１００ＫＨｚ
以上であることが望ましい。この場合、繰返し周期が速
いことから、コア領域の曲がり部を連続的に走査するこ
とにより、曲がり部に連続的な屈折率変化を生じさせる
ことができる。すなわち、曲がり部における屈折率変化
を連続的に達成する上では、パルス間隔を狭く、換言す
れば繰返し周期を速くし、第１パルスと第２パルスが可
能な限り同時に照射される必要がある。繰返し周波数が
小さいとレーザ光が離散的に照射され、曲がり部におけ
る連続的な屈折率変化が得られない。In the present invention, the repetition frequency of the laser beam is 10 kHz or more, more preferably 100 kHz.
It is desirable that this is the case. In this case, since the repetition period is fast, by continuously scanning the bent portion of the core region, it is possible to cause a continuous change in the refractive index at the bent portion. That is, in order to continuously achieve the change in the refractive index in the bent portion, it is necessary to narrow the pulse interval, in other words, to increase the repetition period, and to irradiate the first pulse and the second pulse as simultaneously as possible. If the repetition frequency is small, laser light is radiated discretely, and a continuous change in the refractive index at the bent portion cannot be obtained.
【００１１】本発明においては、前記コア領域形成工程
に特に限定はないが、例えば、基板上に下部クラッド領
域を形成する工程と、前記下部クラッド領域上に直線部
と曲がり部とを有するコア領域をパターン形成する工程
と、前記コア領域を覆うように上部クラッド領域を形成
する工程とを有する工程とすることができる。これによ
り、通常のパターン形成工程を利用して、簡便に光導波
路を製造することができる。In the present invention, the core region forming step is not particularly limited. For example, a step of forming a lower cladding region on a substrate and a core region having a straight portion and a bent portion on the lower cladding region And a step of forming an upper cladding region so as to cover the core region. This makes it possible to easily manufacture the optical waveguide using the ordinary pattern forming process.
【００１２】本発明者らは、また、クラッド領域と、こ
のクラッド領域内に直線部と曲がり部とを有するコア領
域とを備え、前記コア領域の曲がり部が前記直線部より
も大きい屈折率を有する光導波路であって、上記何れか
の製造方法によって製造されたことを特徴とする光導波
路を提供する。本発明によれば、ファイバとの結合損や
界面荒れによる導波損，偏波依存性等を大きくすること
なく、曲げ損失を効果的に低減し、かつ製作も容易な光
導波路とすることができる。The present inventors further comprise a cladding region and a core region having a straight portion and a bent portion in the cladding region, wherein the bent portion of the core region has a higher refractive index than the straight portion. An optical waveguide, comprising: an optical waveguide manufactured by any one of the above manufacturing methods. According to the present invention, it is possible to provide an optical waveguide that can effectively reduce bending loss and can be easily manufactured without increasing waveguide loss and polarization dependence due to fiber coupling loss and interface roughness. it can.
【００１３】[0013]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、この発明
の実施形態を説明する。図１はこの発明の一実施形態に
よる石英系平面型光導波路の斜視図であり、図２はその
導波方向の断面図である。この平面型導波路は、シリコ
ン基板１にＳｉＯ2からなる下部クラッド層２、コア層
３及び上部クラッド層４を積層して作られている。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view of a quartz-based planar optical waveguide according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view in the waveguide direction. The planar waveguide is lower clad layer 2 made of SiO 2 on the silicon substrate 1 is made by laminating a core layer 3 and the upper clad layer 4.
【００１４】コア層３（コア領域）は、端面形状を矩形
として、直線部３ａ，３ｂと曲がり部３ｃを有するパタ
ーンに加工されている。クラッド領域を構成する下部ク
ラッド層２及び上部クラッド層４に対して、コア層３の
屈折率は相対的に大きく、これによりコア層３への光閉
じ込めが行われる。この実施形態においては、コア層３
の曲がり部３ｃは、直線部３ａ、３ｂよりも屈折率が大
きく設定されている。また、下部クラッド層２及び上部
クラッド層４の屈折率は、全体として一様である。従っ
て、コア層３の曲がり部３ｃとこれにのクラッド層との
屈折率差は、直線部３ａ、３ｂとこれらのクラッド層と
の屈折率差よりも大きい。The core layer 3 (core region) has a rectangular end face and is processed into a pattern having straight portions 3a and 3b and bent portions 3c. The refractive index of the core layer 3 is relatively larger than that of the lower cladding layer 2 and the upper cladding layer 4 constituting the cladding region, and thus light is confined in the core layer 3. In this embodiment, the core layer 3
The bent portion 3c is set to have a larger refractive index than the straight portions 3a and 3b. The refractive indices of the lower cladding layer 2 and the upper cladding layer 4 are uniform as a whole. Therefore, the refractive index difference between the bent portion 3c of the core layer 3 and the clad layer therewith is larger than the refractive index difference between the straight portions 3a and 3b and these clad layers.
【００１５】コア層３及びクラッド層２，４の屈折率
は、例えばＳｉＯ2膜堆積時のドーピングにより暫定的
に制御される。この場合、屈折率を下げるには、堆積す
るＳｉＯ2にボロン（Ｂ）等をドープすればよく、屈折
率を上げるには、堆積するＳｉＯ2にゲルマニウム（Ｇ
ｅ）等をドープすればよい。The refractive indices of the core layer 3 and the cladding layers 2 and 4 are tentatively controlled by, for example, doping when depositing a SiO 2 film. In this case, the lower the refractive index, may be doped SiO 2 boron (B) or the like is deposited, to raise the refractive index, germanium SiO 2 is deposited (G
e) or the like may be doped.
【００１６】コア層３の曲がり部３ｃにおける屈折率
は、パルス幅１ｐｓ以下のレーザー光の集光照射を受け
てさらに高くなっている。つまり、光誘起屈折率変化を
起こすエネルギー量をもつレーザ光をコア層３の内部に
集光し、その集光点を相対移動させ、連続した屈折率増
大領域を曲がり部３ｃに形成することにより製造され
る。The refractive index of the bent portion 3c of the core layer 3 is further increased by the irradiation of the laser beam having a pulse width of 1 ps or less. That is, a laser beam having an energy amount that causes a photoinduced refractive index change is focused inside the core layer 3, the focused point is relatively moved, and a continuous refractive index increasing region is formed in the bent portion 3c. Manufactured.
【００１７】この実施形態による平面型光導波路の製造
工程を、図３〜図６を参照して説明する。図３に示すよ
うに、シリコン基板１に、火炎堆積法（ＦＨＤ法）によ
り下部クラッド層２、及びコア層３０を順次堆積形成す
る。この膜堆積工程でのドーピング制御により、下部ク
ラッド層２に比べてコア層３０の屈折率を高く設定す
る。The manufacturing process of the planar optical waveguide according to this embodiment will be described with reference to FIGS. As shown in FIG. 3, a lower cladding layer 2 and a core layer 30 are sequentially formed on a silicon substrate 1 by a flame deposition method (FHD method). By controlling the doping in this film deposition step, the refractive index of the core layer 30 is set higher than that of the lower cladding layer 2.
【００１８】次に、全面堆積されたコア層３０をリソグ
ラフィ工程と反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）工程に
より、図４に示すように、直線部３ａ，３ｂと曲がり部
３ｃを持つコア層３としてパターニングする。コア層３
は、断面が矩形で幅が６μｍ、曲がり部３ｃの曲率半径
を１０ｍｍとした。Next, as shown in FIG. 4, the core layer 30 deposited on the entire surface is patterned as a core layer 3 having straight portions 3a, 3b and bent portions 3c by a lithography process and a reactive ion etching (RIE) process. I do. Core layer 3
Has a rectangular cross section, a width of 6 μm, and a radius of curvature of the bent portion 3c of 10 mm.
【００１９】次に、図５に示すように、ＦＨＤ法により
第２の上部クラッド層４を堆積し、導波路の仮製品１０
とする。第２の上部クラッド層４の屈折率は下部クラッ
ド層２の屈折率と同じとした。Next, as shown in FIG. 5, a second upper cladding layer 4 is deposited by the FHD method, and
And The refractive index of the second upper cladding layer 4 was the same as the refractive index of the lower cladding layer 2.
【００２０】次に、図６に示すようにパルスレーザ光２
０をレンズ４０で集光して、仮製品１０の曲がり部３ｃ
に照射する。この場合、レーザ光としては、コア層３の
種類によっても異なるが、光誘起屈折率変化を起こすた
めに、集光点における１０5 Ｗ／ｃｍ2 以上のピークパ
ワー強度をもつことが好ましい。ピークパワー強度は、
１パルス当りの出力エネルギー（Ｊ）／パルス幅（秒）
の比で表されるピーク出力（Ｗ）を照射単位面積当りで
表した値である。ピークパワー強度が１０5 Ｗ／ｃｍ2
に満たないと有効な光誘起屈折率変化が得られない。ピ
ークパワー強度が高いほど光誘起屈折率変化が促進さ
れ、屈折率変化が容易になされる。しかし、過度に大き
なエネルギー量のレーザ光を実用的に得ることは困難で
ある。そこで、パルス幅を１ｐｓ以下とすることにより
ピーク出力を高くしたパルスレーザの使用が採用され
る。そして、レンズ４０の集光点を曲がり部３ｃに沿っ
て、図中矢印で示すように相対移動させることにより、
曲がり部３ｃの屈折率を直線部３ａ、３ｂよりも大きく
する。Next, as shown in FIG.
0 is condensed by the lens 40, and the bent part 3c of the temporary product 10 is
Irradiation. In this case, the laser beam preferably has a peak power intensity of 10 5 W / cm 2 or more at the focal point in order to cause a photo-induced refractive index change, though it varies depending on the type of the core layer 3. The peak power intensity is
Output energy per pulse (J) / pulse width (second)
The peak output (W) represented by the ratio is expressed per irradiation unit area. Peak power intensity of 10 5 W / cm 2
If less than the above, an effective photo-induced refractive index change cannot be obtained. The higher the peak power intensity, the more the photo-induced refractive index change is promoted, and the change in the refractive index is made easier. However, it is difficult to practically obtain a laser beam having an excessively large energy amount. Therefore, use of a pulse laser whose peak output is increased by setting the pulse width to 1 ps or less is adopted. Then, the focal point of the lens 40 is relatively moved along the curved portion 3c as shown by the arrow in the figure,
The refractive index of the bent portion 3c is made larger than that of the straight portions 3a and 3b.
【００２１】以上述べたように、本実施形態において
は、コア領域を形成した後にパルス幅１ｐｓ以下のレー
ザー光の集光照射によって曲がり部の屈折率を増大させ
る手順を用いる。そのため、クラッド層とコア層の間の
屈折率差を、曲がり部において選択的に大きくした光導
波路を、容易に製造することができる。As described above, in this embodiment, a procedure is used in which the refractive index of the bent portion is increased by converging and irradiating a laser beam having a pulse width of 1 ps or less after forming the core region. Therefore, it is possible to easily manufacture an optical waveguide in which the refractive index difference between the cladding layer and the core layer is selectively increased at the bent portion.
【００２２】[0022]
【発明の効果】以上述べたようにこの発明によれば、コ
ア領域に曲がり部を有する光導波路において、クラッド
層とコア層の間の屈折率差を、曲がり部で選択的に大き
くすることにより、光ファイバ等との結合損失を大きく
することなく、また界面荒れによる導波損や偏波依存性
を大きくするこなく、曲がり損失を低減することができ
る。また、本発明によれば製作も容易であり、実用上の
価値が高いものである。As described above, according to the present invention, in an optical waveguide having a bent portion in the core region, the refractive index difference between the cladding layer and the core layer is selectively increased at the bent portion. In addition, the bending loss can be reduced without increasing the coupling loss with the optical fiber or the like, and without increasing the waveguide loss and polarization dependence due to the interface roughness. Further, according to the present invention, the production is easy and the practical value is high.
【図１】 本発明の実施形態に係る光導波路の斜視図で
ある。FIG. 1 is a perspective view of an optical waveguide according to an embodiment of the present invention.
【図２】 本発明の実施形態に係る光導波路の断面図で
ある。FIG. 2 is a cross-sectional view of the optical waveguide according to the embodiment of the present invention.
【図３】 本発明の実施形態に係る光導波路について製
造工程を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing a manufacturing process for the optical waveguide according to the embodiment of the present invention.
【図４】 本発明の実施形態に係る光導波路について製
造工程を示す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing a manufacturing process for the optical waveguide according to the embodiment of the present invention.
【図５】 本発明の実施形態に係る光導波路について製
造工程を示す斜視図である。FIG. 5 is a perspective view showing a manufacturing process for the optical waveguide according to the embodiment of the present invention.
【図６】 本発明の実施形態に係る光導波路について製
造工程を示す説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram showing a manufacturing process for the optical waveguide according to the embodiment of the present invention.
１・・・シリコン基板、２・・・下部クラッド層、３・
・・コア層、３ａ・・・直線部、３ｂ・・・直線部、３
ｃ・・・曲がり部、４・・・上部クラッド層DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Silicon substrate, 2 ... Lower cladding layer, 3
..Core layer, 3a: straight portion, 3b: straight portion, 3
c: bent portion, 4: upper cladding layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 細谷 英行 千葉県佐倉市六崎1440番地 株式会社フジ クラ佐倉事業所内 Ｆターム(参考） 2H047 KA04 KA12 PA11 QA04 RA08 TA36 TA44 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Hideyuki Hosoya 1440, Misaki, Sakura City, Chiba Prefecture Fujikura Co., Ltd. Sakura Office F-term (reference) 2H047 KA04 KA12 KA12 PA11 QA04 RA08 TA36 TA44
Claims (3)
有するコア領域を形成するコア領域形成工程と、形成さ
れたコア領域の曲がり部にパルス幅１ｐｓ以下のレーザ
ー光の集光照射をする屈折率変化工程とを有することを
特徴とする光導波路の製造方法。1. A core region forming step of forming a core region having a straight line portion and a bent portion in a cladding region, and converging and irradiation of a laser beam having a pulse width of 1 ps or less to the bent portion of the formed core region. A method for manufacturing an optical waveguide, comprising: a step of changing a refractive index.
ｚ以上であることを特徴とする請求項１に記載の光導波
路の製造方法。2. The laser beam has a repetition frequency of 10 kHz.
The method of claim 1, wherein z is not less than z.
直線部と曲がり部とを有するコア領域とを備え、前記コ
ア領域の曲がり部が前記直線部よりも大きい屈折率を有
する光導波路であって、請求項１又は請求項２に記載の
製造方法によって製造されたことを特徴とする光導波
路。3. An optical waveguide comprising: a clad region; and a core region having a straight portion and a bent portion in the clad region, wherein the bent portion of the core region has a larger refractive index than the straight portion. An optical waveguide manufactured by the manufacturing method according to claim 1.
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|---|---|
| JP2002189141A true JP2002189141A (en) | 2002-07-05 |
Family
ID=18854157
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000387170A Pending JP2002189141A (en) | 2000-12-20 | 2000-12-20 | Method for manufacturing optical waveguide and optical waveguide |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002189141A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100373193C (en) * | 2005-10-18 | 2008-03-05 | 电子科技大学 | S shaped erbium ytterbium codoped phosphate high gain optical waveguide, waveguide laser and optical waveguide amplifier |
| CN112305678A (en) * | 2019-08-02 | 2021-02-02 | 住友电气工业株式会社 | Optical connector |
-
2000
- 2000-12-20 JP JP2000387170A patent/JP2002189141A/en active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100373193C (en) * | 2005-10-18 | 2008-03-05 | 电子科技大学 | S shaped erbium ytterbium codoped phosphate high gain optical waveguide, waveguide laser and optical waveguide amplifier |
| CN112305678A (en) * | 2019-08-02 | 2021-02-02 | 住友电气工业株式会社 | Optical connector |
| CN112305678B (en) * | 2019-08-02 | 2024-02-23 | 住友电气工业株式会社 | Optical connector |
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|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070529 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090406 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A02 | Decision of refusal |
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