JP2002110423A - Common mode choke coil - Google Patents

Common mode choke coil

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JP2002110423A
JP2002110423A JP2000296936A JP2000296936A JP2002110423A JP 2002110423 A JP2002110423 A JP 2002110423A JP 2000296936 A JP2000296936 A JP 2000296936A JP 2000296936 A JP2000296936 A JP 2000296936A JP 2002110423 A JP2002110423 A JP 2002110423A
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JP
Japan
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conductor line
common mode
conductor
mode choke
line
Prior art date
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Pending
Application number
JP2000296936A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yukihiko Yashima
幸彦 八島
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Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a common mode choke coil which can be increased in magnetic coupling, can be reduced in height, and has a high breakdown voltage. SOLUTION: This common mode choke coil is formed on a support substrate 1, and the main body 3 of the coil is held between magnetic layers 2. The main body 3 is provided with a first conductor line 6 which is formed in spiral shape, a second conductor line 7 which is also formed in spiral shape at a prescribed interval from the first line 6, and an insulator 8 covering the first and second lines 6 and 7.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電気回路素子とし
て用いられるコモンモードチョークコイルに関し、特
に、例えば、プリント配線基板、セラミック基板等の母
基板に設けられるコモンモードチョークコイルに関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a common mode choke coil used as an electric circuit element, and more particularly to a common mode choke coil provided on a mother board such as a printed wiring board and a ceramic board.

【0002】[0002]

【従来技術】従来、コモンモードチョークコイルとして
は巻線型、積層型が知られている。巻線型コモンモード
チョークコイルは、フェライトなどの磁気コアに二本の
絶縁被覆導線を巻回し、それを樹脂で固定または全体を
モールドするものである。
2. Description of the Related Art Conventionally, a winding type and a laminated type are known as common mode choke coils. The wire-wound common mode choke coil is formed by winding two insulated conductors around a magnetic core such as ferrite and fixing it with resin or molding the whole.

【0003】積層型コモンモードチョークコイルとして
は、粉末をペースト化し、印刷積層法やシート積層法に
より、磁性体中に第1導体線路と第2導体線路を設け、
同時焼成するものである。
As a laminated common mode choke coil, a powder is pasted, a first conductor line and a second conductor line are provided in a magnetic material by a printing lamination method or a sheet lamination method.
They are fired simultaneously.

【0004】さらに、コモンモードチョークコイルとし
て、特開2000−49013号公報に開示されるよう
なものが知られている。
Further, a common mode choke coil as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-49013 is known.

【0005】この公報に開示されたコモンモードチョー
クコイルは、図6に示すように、絶縁基板51と、該絶
縁基板51上に形成された複数の絶縁樹脂層53、絶縁
基板51から数えて1層目と2層目の絶縁樹脂層53間
にスパイラル状に形成された第1導体線路55と、2層
目と3層目の絶縁樹脂層53間にスパイラル状に形成さ
れた第2導体線路57とを具備して形成されている。
As shown in FIG. 6, the common mode choke coil disclosed in this publication includes an insulating substrate 51, a plurality of insulating resin layers 53 formed on the insulating substrate 51, and one counting from the insulating substrate 51. A first conductor line 55 formed in a spiral between the second and third insulating resin layers 53 and a second conductor line formed in a spiral between the second and third insulating resin layers 53 57.

【0006】このようなコモンモードチョークコイルで
は、2本の導体に同相電流が流れる場合は、磁束は足し
あわされインピーダンスが大きくなる。逆に、2本の導
体に逆相電流が流れる場合は、磁束は打ち消されインピ
ーダンスはほとんど発生しない。このように、コモンモ
ードチョークコイルは、同相電流が流れにくく、逆相電
流は流れやすいというフィルター機能を持つ電子部品で
あり、ノイズ対策部品用途で使われている。
In such a common mode choke coil, when an in-phase current flows through two conductors, the magnetic flux is added and the impedance increases. Conversely, when opposite-phase currents flow in the two conductors, the magnetic flux is canceled out and almost no impedance is generated. As described above, the common mode choke coil is an electronic component having a filter function that a common-mode current is unlikely to flow and a reverse-phase current is likely to flow, and is used for noise suppression components.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】このようなコモンモー
ドチョークコイルが使われる情報通信機器分野では、部
品の小型、軽量化の要求があるが、上記従来の巻線型コ
モンモードチョークコイルではその構造のため小型化に
不適である。
In the field of information and communication equipment in which such a common mode choke coil is used, there is a demand for smaller and lighter parts. This is not suitable for miniaturization.

【0008】また、積層型コモンモードチョークコイル
は小型化に適しているが、積層の位置ずれにより特性
値、特にインダクタンスのばらつきが大きいという欠点
がある。このように2つの導体線路(コイル)のインダ
クタンス差が大きくなるとノーマルモードインピーダン
スが大きくなり、コモンモード電流のみならず通過させ
るべきノーマルモード電流も減衰させてしまうという問
題が生じる。
[0008] The multilayer common mode choke coil is suitable for miniaturization, but has a drawback that characteristic values, particularly inductance, are largely varied due to misalignment of the multilayer. As described above, when the inductance difference between the two conductor lines (coils) increases, the normal mode impedance increases, causing a problem that not only the common mode current but also the normal mode current to be passed is attenuated.

【0009】さらに、特開2000−49013号公報
に開示されたコモンモードチョークコイルの場合、巻線
型に比べ小型化にも適しており、1つの導体線路に着目
すると1回のパターニングで作製しているためインダク
タンスのばらつきが小さいという特徴があるものの、2
つの導体線路間の絶縁樹脂層により絶縁されているた
め、絶縁樹脂層の厚みを大きくしなければならないが、
この厚みが大きくなると2つの導体線路の磁気結合が小
さくなり、コモンモードインピーダンスが小さくなると
いう問題が生じる。逆に導体線路間の磁気結合を大きく
するために、2つの導体線路間の絶縁樹脂層を薄くする
と、耐絶縁性が低下するという問題があった。
Furthermore, the common mode choke coil disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-49013 is more suitable for miniaturization than a wound type. When focusing on one conductor line, it is manufactured by one patterning. Although there is a characteristic that the variation in inductance is small,
Since the insulating resin layer between the two conductor lines is insulated, the thickness of the insulating resin layer must be increased,
When the thickness is increased, the magnetic coupling between the two conductor lines is reduced, causing a problem that the common mode impedance is reduced. Conversely, if the insulating resin layer between the two conductor lines is made thinner in order to increase the magnetic coupling between the conductor lines, there is a problem that the insulation resistance is reduced.

【0010】本発明は、磁気結合を大きくできるととも
に、低背化できる耐電圧の高いコモンモードチョークコ
イルを提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a common mode choke coil having a high withstand voltage capable of increasing the magnetic coupling and reducing the height.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明のコモンモードチ
ョークコイルは、支持基板上に形成され、磁性体層でコ
イル本体を挟持してなるコモンモードチョークコイルで
あって、前記コイル本体が、スパイラル状に形成された
第1導体線路、および該第1導体線路と所定間隔をおい
て沿うようにスパイラル状に形成された第2導体線路
と、前記第1導体線路および前記第2導体線路を被覆す
る絶縁体とを具備してなるものである。
A common mode choke coil according to the present invention is a common mode choke coil formed on a support substrate and having a coil body sandwiched between magnetic layers, wherein the coil body has a spiral shape. A first conductor line formed in a shape, a second conductor line formed in a spiral shape so as to extend along the first conductor line at a predetermined interval, and covering the first conductor line and the second conductor line And an insulator.

【0012】このようなコモンモードチョークコイルに
よれば、例えば、スパッタ法により、導体線路を形成す
る場合、予め2つの導体線路を成膜するためのマスクを
用いて同一平面上に第1導体線路および第2導体線路が
同時に形成されるため、2つの導体線路間に絶縁するた
めの絶縁体を形成しなくても、絶縁がとれる構造のた
め、万一、絶縁体の一部に欠陥があったとしても優れた
耐電圧を維持することができる。
According to such a common mode choke coil, for example, when a conductor line is formed by a sputtering method, the first conductor line is formed on the same plane using a mask for previously forming two conductor lines. Since the second conductor line and the second conductor line are formed at the same time, the insulation can be obtained without forming an insulator for insulation between the two conductor lines. Even if it is, an excellent withstand voltage can be maintained.

【0013】また、上記のように耐電圧に優れているた
め、第1導体線路と第2導体線路の2つの導体線路を隣
設して設けることができ、これにより、2つの導体線路
間の磁界は互いに打ち消されるが、線路間以外の磁界は
強め合うため、磁気結合を大きくすることができる。
In addition, because of the excellent withstand voltage as described above, two conductor lines, that is, a first conductor line and a second conductor line, can be provided adjacent to each other. Although the magnetic fields cancel each other out, the magnetic fields other than between the lines strengthen each other, so that the magnetic coupling can be increased.

【0014】さらに、コイル本体が磁性体層で挟持され
ているため、2つの導体線路間の磁気結合を更に高め、
コモンモードチョークコイルを小型にすることができ
る。さらにまた、2つの導体線路を同一平面上に形成す
るため、低背化できる。
Furthermore, since the coil body is sandwiched between the magnetic layers, the magnetic coupling between the two conductor lines is further enhanced,
The size of the common mode choke coil can be reduced. Furthermore, since the two conductor lines are formed on the same plane, the height can be reduced.

【0015】また、本発明のコモンモードチョークコイ
ルでは、第1導体線路の横断面を逆台形形状、第2導体
線路の横断面を長方形状または台形形状とし、前記第2
導体線路の厚みが前記第1導体線路よりも薄いことを特
徴とする。
In the common mode choke coil according to the present invention, the first conductor line has an inverted trapezoidal cross section, and the second conductor line has a rectangular or trapezoidal cross section.
The thickness of the conductor line is smaller than that of the first conductor line.

【0016】このような構成によれば、横断面が逆台形
形状の第1導体線路間に、横断面が長方形状、または台
形形状で厚みが薄い第2導体線路を配置するため、第1
導体線路間を狭めて、第1導体線路と第2導体線路を近
接して形成でき、例えば、第1導体線路と第2導体線路
との距離を、絶縁性を損なうことなく支持基板の上方か
ら見て1μm以下とすることができ、磁気結合をさらに
大きくできるとともに、さらに小型化できる。
According to this structure, the second conductor line having a rectangular or trapezoidal cross section and a small thickness is disposed between the first conductor lines having an inverted trapezoidal cross section.
By narrowing the distance between the conductor lines, the first conductor line and the second conductor line can be formed close to each other. For example, the distance between the first conductor line and the second conductor line can be increased from above the support substrate without impairing the insulation. 1 μm or less, and the magnetic coupling can be further increased and the size can be further reduced.

【0017】さらにまた、本発明では、第1導体線路を
形成する導体粒子の直径が、前記第1導体線路の表面か
ら支持基板に向けて次第に小さくなることが望ましい。
これは、1μm以下の間隔を有する導体線路を絶縁性を
損なうことなく作製することができる。
Further, in the present invention, it is preferable that the diameter of the conductive particles forming the first conductive line gradually decreases from the surface of the first conductive line toward the support substrate.
This makes it possible to produce conductor lines having an interval of 1 μm or less without impairing the insulation.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】図1は本発明のコモンモードチョ
ークコイルの断面図を示すもので、このコモンモードチ
ョークコイルは、支持基板1上に形成され、磁性体層2
でコイル本体3を挟持して構成されている。
FIG. 1 is a sectional view of a common mode choke coil according to the present invention. This common mode choke coil is formed on a support substrate 1 and has a magnetic layer 2 formed thereon.
And is configured to sandwich the coil body 3.

【0019】コイル本体3は、図1乃至図3に示すよう
に、スパイラル状に形成された第1導体線路6、および
該第1導体線路6と所定間隔をおいて沿うようにスパイ
ラル状に形成された第2導体線路7と、第1導体線路6
および第2導体線路7をそれぞれ被覆する絶縁体8とか
ら構成されている。
As shown in FIGS. 1 to 3, the coil main body 3 has a first conductor line 6 formed in a spiral shape, and a spiral shape formed along the first conductor line 6 at a predetermined interval. The second conductor line 7 and the first conductor line 6
And an insulator 8 covering each of the second conductor lines 7.

【0020】即ち、第1導体線路6と第2導体線路7
は、平行に形成された状態でスパイラル状に形成されて
いる。尚、第1導体線路6に斜線を引いて表した。
That is, the first conductor line 6 and the second conductor line 7
Are formed in a spiral shape while being formed in parallel. Note that the first conductor line 6 is shown by diagonal lines.

【0021】図2は本発明のコモンモードチョークコイ
ルを模式的に示したものである。図中の太実線は第1導
体線路6、太鎖線は第2導体線路7を示す。細実線は第
1導体線路6の引き出し線、細鎖線は第2導体線路7の
引き出し線である。なお、図では示さないが、引き出し
線は、支持基板1に形成されたビアホール導体を経由
し、第1、第2導体線路6、7と電気的に接触せずに交
差している。
FIG. 2 schematically shows a common mode choke coil according to the present invention. In the figure, a thick solid line indicates the first conductor line 6, and a thick chain line indicates the second conductor line 7. A thin solid line is a lead line of the first conductor line 6, and a thin chain line is a lead line of the second conductor line 7. Although not shown in the drawing, the lead lines cross via the via-hole conductors formed in the support substrate 1 without being in electrical contact with the first and second conductor lines 6 and 7.

【0022】支持基板1としては絶縁性を有するもので
あれば何れでも良いが、特にAl23が好適であり、軟
磁性を示すフェライト、ガラス、シリコンなども適用で
きる。
As the supporting substrate 1, any material having an insulating property may be used, but Al 2 O 3 is particularly preferable, and ferrite, glass, silicon or the like exhibiting soft magnetism can also be applied.

【0023】第1導体線路6は写真製版技術、スパッタ
リング等の成膜技術により作製される。成膜方法として
は、スパッタリング以外にも真空蒸着、メッキ法も適用
することができる。
The first conductor line 6 is formed by a photolithography technique, a film forming technique such as sputtering. As a film formation method, a vacuum evaporation and plating method can be applied other than the sputtering.

【0024】第1導体線路6、第2導体線路7の導体材
料としては、AuあるいはCuが好適であるが、Al、
Agなども適用できる。第1導体線路6を逆台形形状と
するという点から、Auをスッパタ法で形成することが
望ましい。
The conductor material of the first conductor line 6 and the second conductor line 7 is preferably Au or Cu,
Ag or the like can also be applied. From the viewpoint that the first conductor line 6 has an inverted trapezoidal shape, it is desirable to form Au by the sputtering method.

【0025】第1導体線路6の最大幅は5〜50μm、
厚みt1は2〜20μmが、エッチング後に逆台形形状
になるため、また、小型でQ値が大きくなるという理由
から望ましく、第2導体線路7の最大幅は5〜70μ
m、厚みt2は1〜15μmが、第1導体線路6との電
気的接触を回避するという理由から望ましい。
The maximum width of the first conductor line 6 is 5 to 50 μm,
The thickness t 1 is preferably 2 to 20 μm because the inverted trapezoidal shape is formed after etching, and because the size and the Q value are large, the maximum width of the second conductor line 7 is 5 to 70 μm.
m and a thickness t 2 of 1 to 15 μm are desirable because electrical contact with the first conductor line 6 is avoided.

【0026】そして、図3に示すように、第1導体線路
6の横断面が、支持基板1側の辺の長さが表面の辺の長
さよりも短くされた四角形状(逆台形形状)とされ、第
2導体線路7の横断面が長方形状とされており、横断面
が逆台形形状の第1導体線路6間に、横断面が長方形状
の第2導体線路7が配置されている。即ち、第2導体線
路7は、第1導体線路6間に形成された断面が台形状の
空間内に収容されている。第1導体線路6の自己インダ
クタンスと第2導体線路7の自己インダクタンスが等し
くなるように線路が設計されている。
As shown in FIG. 3, the cross section of the first conductor line 6 has a rectangular shape (an inverted trapezoidal shape) in which the length of the side on the support substrate 1 side is shorter than the length of the side of the surface. The second conductor line 7 has a rectangular cross section, and the second conductor line 7 having a rectangular cross section is disposed between the first conductor lines 6 having an inverted trapezoidal cross section. That is, the second conductor line 7 is housed in a trapezoidal space having a cross section formed between the first conductor lines 6. The line is designed so that the self-inductance of the first conductor line 6 and the self-inductance of the second conductor line 7 are equal.

【0027】このようなコモンモードチョークコイルで
は、2つの線路6、7は同一平面上にあり、かつ、互い
に挟まれた構造であるため、2つの導体線路6、7間の
磁界は互いに打ち消されるが、線路6、7間以外の磁界
は強め合うため、磁気結合を大きくすることができる。
また、もともと絶縁体8がなくても絶縁がとれる構造の
ため、万一、絶縁体8の一部に欠陥があったとしても優
れた耐電圧を維持することができる。
In such a common mode choke coil, the two lines 6 and 7 are on the same plane and have a structure sandwiched between each other, so that the magnetic field between the two conductor lines 6 and 7 is canceled each other. However, since the magnetic fields other than between the lines 6 and 7 reinforce each other, the magnetic coupling can be increased.
In addition, since the structure can be insulated without the insulator 8, excellent withstand voltage can be maintained even if a part of the insulator 8 has a defect.

【0028】磁性体層2は、写真製版技術、スパッタリ
ング等の成膜技術により作製される。成膜方法として
は、スパッタリング以外にも真空蒸着、メッキ法も適用
することができる。このように磁性体層2を形成する
と、より磁気結合が強まるためコモンモードインピーダ
ンスを大きくすることができる。
The magnetic layer 2 is manufactured by a photolithography technique or a film forming technique such as sputtering. As a film formation method, a vacuum evaporation and plating method can be applied other than the sputtering. When the magnetic layer 2 is formed in this way, the common mode impedance can be increased because the magnetic coupling is further strengthened.

【0029】磁性体層2の厚みは、1〜10μmとされ
FeNi、FeSiAl、Co系アモルファス、軟磁性
フェライトなどの材料から構成されている。
The thickness of the magnetic layer 2 is 1 to 10 μm, and is made of a material such as FeNi, FeSiAl, Co-based amorphous, and soft magnetic ferrite.

【0030】第1導体線路6のテーパ角θは、第1導体
線路6と第2導体線路7の電気的接触を回避すると同時
に、第1導体線路6の形状を安定に保つという理由から
60〜80°であることが望ましい。
The taper angle θ of the first conductor line 6 is set to 60 to prevent electrical contact between the first conductor line 6 and the second conductor line 7 and to keep the shape of the first conductor line 6 stable. Preferably, it is 80 °.

【0031】また、第1導体線路6の厚みt1に対し
て、第2導体線路7の厚みt2が薄く形成されており、
特に、第2導体線路7の厚みt2が、第1導体線路6の
厚みt1の70%以下であることが望ましい。第2導体
線路7の厚みt2を、厚みt1の70%以下とすることに
より、第1導体線路6と第2導体線路7との導通を確実
に防止できるとともに、第1導体線路6と第2導体線路
7との間に絶縁体8を確実に充填できる。尚、絶縁体8
は、SiO2、Si34、Al23、ポリイミド、ベン
ゾシクロロブテン(BCB)材料から構成されている。
The thickness t 2 of the second conductor line 7 is smaller than the thickness t 1 of the first conductor line 6.
In particular, it is desirable that the thickness t 2 of the second conductor line 7 is 70% or less of the thickness t 1 of the first conductor line 6. By setting the thickness t 2 of the second conductor line 7 to 70% or less of the thickness t 1 , conduction between the first conductor line 6 and the second conductor line 7 can be reliably prevented, and the first conductor line 6 The insulator 8 can be reliably filled between the second conductor line 7 and the second conductor line 7. The insulator 8
Is made of SiO 2 , Si 3 N 4 , Al 2 O 3 , polyimide, and benzocyclolobutene (BCB) material.

【0032】さらに、本発明では、第1導体線路6と第
2導体線路7の距離Lは、支持基板1の上方から見て1
μm以下であることが望ましく、特には0.5μmが望
ましい。これは、第1導体線路6と第2導体線路7の距
離を小さくすることで小型化できると同時に、性能係数
Q値を大きくすることができるからである。
Further, in the present invention, the distance L between the first conductor line 6 and the second conductor line 7 is 1 when viewed from above the support substrate 1.
μm or less, particularly 0.5 μm. This is because by reducing the distance between the first conductor line 6 and the second conductor line 7, the size can be reduced, and at the same time, the Q factor can be increased.

【0033】また、本発明では、図3(c)に示すよう
に、第1導体線路6を形成する導体粒子9の直径は、表
面の導体粒子9が支持基板1側より大きくされ、具体的
には第1導体線路6の表面から支持基板1に向けて次第
に小さくなっている。このように導体粒子9の直径を、
支持基板1に向けて次第に小さくすることにより、スパ
ッタリング法により形成された第1導体線路6を、エッ
チングにより横断面が逆台形形状に容易に形成できる。
尚、図3(c)の第1導体線路6の支持基板1側は、空
白となっているが、これは微粒であるため記載が困難で
あったため、記載を省略した。
In the present invention, as shown in FIG. 3C, the diameter of the conductive particles 9 forming the first conductive line 6 is larger than that of the support particles 1 on the surface of the support particles 1. Is gradually reduced from the surface of the first conductor line 6 toward the support substrate 1. Thus, the diameter of the conductive particles 9 is
By gradually reducing the size toward the support substrate 1, the first conductor line 6 formed by the sputtering method can be easily formed into an inverted trapezoidal cross section by etching.
Although the first conductive line 6 in FIG. 3C has a blank on the support substrate 1 side, the description is omitted because it is difficult to describe because it is fine.

【0034】尚、図4に示すように、第2導体線路17
の横断面を台形形状としても良い。この場合には、第1
導体線路6と第2導体線路17の距離を膜厚方向にわた
ってほぼ均等に小さくでき、またより広い第2導体線路
17の断面積が得られるため、インダクタのQ値を大き
くできる。このような台形形状の線路は直進性以外の飛
来成分を有する成膜方法、例えば、スパッタ成膜するこ
とにより作製できる。
It should be noted that, as shown in FIG.
May have a trapezoidal cross section. In this case, the first
Since the distance between the conductor line 6 and the second conductor line 17 can be reduced almost uniformly in the film thickness direction and a wider cross-sectional area of the second conductor line 17 can be obtained, the Q value of the inductor can be increased. Such a trapezoidal line can be manufactured by a film formation method having a flying component other than the straightness, for example, by sputtering film formation.

【0035】図4に示すようなコモンモードチョークコ
イルでは、第1導体線路6と第2導体線路17の距離を
膜厚方向にわたってほぼ均等に小さくできるため、2つ
の線路6、17間の磁気結合を高くすることができると
ともに、小型にすることができる。
In a common mode choke coil as shown in FIG. 4, the distance between the first conductor line 6 and the second conductor line 17 can be reduced almost uniformly in the film thickness direction. Can be increased and the size can be reduced.

【0036】さらに、磁性体層の代わりに軟磁性基板を
使用しても良い。また、メッキ法を使って第1導体線路
と第2導体線路を同時に形成することもできる。この場
合には、工程が簡略化され生産性高く作製することがで
きる。
Further, a soft magnetic substrate may be used instead of the magnetic layer. Further, the first conductor line and the second conductor line can be simultaneously formed using a plating method. In this case, the process can be simplified and the product can be manufactured with high productivity.

【0037】本発明のコモンモードチョークコイルの製
法について説明する。先ず、支持基板1上に、写真製版
技術、スパッタリング等の成膜技術により、磁性体層2
を形成する。この磁性体層2上に、同じく、写真製版技
術、スパッタリング等の成膜技術により、絶縁体8を形
成する。この絶縁体8の上に、スパッタ法にて、図5
(a)に示すように、第1導体線路6を形成する2〜2
0μmのAu膜14を形成し、そのAu膜14の上面に
Ti膜15を0.02〜0.1μm成膜する。
A method for manufacturing the common mode choke coil of the present invention will be described. First, the magnetic layer 2 is formed on the support substrate 1 by a photolithography technique or a film forming technique such as sputtering.
To form Similarly, an insulator 8 is formed on the magnetic material layer 2 by a photolithography technique or a film forming technique such as sputtering. As shown in FIG.
As shown in FIG.
An Au film 14 having a thickness of 0 μm is formed, and a Ti film 15 is formed on the Au film 14 in a thickness of 0.02 to 0.1 μm.

【0038】次に図5(b)に示すようにポジ型フォト
レジスト16をTi膜15上に形成し、パターンを形成
する。
Next, as shown in FIG. 5B, a positive photoresist 16 is formed on the Ti film 15 to form a pattern.

【0039】次に図5(c)に示すように、例えば、T
i膜15の一部をHF系水溶液、Au膜14の一部をK
CN水溶液を使って絶縁体8が露出するまで湿式エッチ
ングし、横断面が逆台形形状(逆テーパ状)の第1導体
線路6を形成する。
Next, as shown in FIG.
A part of the i film 15 is HF based aqueous solution, and a part of the Au film 14 is K
The first conductor line 6 having an inverted trapezoidal shape (an inverted tapered shape) is formed by wet etching using a CN aqueous solution until the insulator 8 is exposed.

【0040】エッチング後に第1導体線路6が逆テーパ
になる条件としては、Au膜14の堆積方向に向かって
結晶粒が小さくなること、即ち、Au膜14表面から支
持基板1にむけて結晶粒が小さくなることが必要であ
る。
The condition for the first conductor line 6 to have a reverse taper after etching is that the crystal grains become smaller in the direction in which the Au film 14 is deposited, that is, the crystal grains from the surface of the Au film 14 to the support substrate 1. Needs to be small.

【0041】本実施例では、Au膜14堆積直後(基板
表面)の結晶粒子の直径は0.01〜0.1μm程度で
あり、膜表面の結晶粒子の直径は0.5〜2.0μm程
度とすることが望ましい。このように膜厚方向でAu膜
14の結晶粒子の直径を変化させる成膜条件として、成
膜中の基板温度を100〜300℃とし、スパッタによ
る成膜速度を0.2〜0.6μm/mとすることが望ま
しい。なお、結晶粒の大きさにより、テーパ角θを変え
ることができる。
In this embodiment, the diameter of the crystal grains immediately after the deposition of the Au film 14 (substrate surface) is about 0.01 to 0.1 μm, and the diameter of the crystal grains on the film surface is about 0.5 to 2.0 μm. It is desirable that As described above, as the film forming conditions for changing the diameter of the crystal grains of the Au film 14 in the film thickness direction, the substrate temperature during film formation is 100 to 300 ° C., and the film forming rate by sputtering is 0.2 to 0.6 μm / m is desirable. Note that the taper angle θ can be changed depending on the size of the crystal grains.

【0042】次に、図5(d)に示すように、ポジ型フ
ォトレジスト16を除去する。次に、レジストを全面に
塗布した後、第1導体線路6を露出させるようにレジス
トをパターニングする。その後、図5(e)に示すよう
に、Auを蒸着法で1.0〜3.5μm成膜し、第1導
体線路6の上面および第1導体線路6間の磁性体層2上
にAu膜19を形成する。磁性体層2上に形成されたA
u膜19は断面が長方形状となり、第2導体線路7とな
る。
Next, as shown in FIG. 5D, the positive photoresist 16 is removed. Next, after a resist is applied to the entire surface, the resist is patterned so as to expose the first conductor line 6. Thereafter, as shown in FIG. 5E, Au is formed to a thickness of 1.0 to 3.5 μm by a vapor deposition method, and Au is formed on the upper surface of the first conductor line 6 and on the magnetic layer 2 between the first conductor lines 6. A film 19 is formed. A formed on the magnetic layer 2
The u film 19 has a rectangular cross section and serves as the second conductor line 7.

【0043】第2導体線路7は、スパッタリング、蒸着
法により作製される。スパッタリングで第2導体線路7
を作製すると断面が台形形状、蒸着法で作製すると断面
が長方形形状の線路を作製できる。第1導体線路6が逆
テーパーになっているため、支持基板1上から見て第1
導体線路6と第2導体線路7の距離は、近接することに
なる。
The second conductor line 7 is manufactured by a sputtering or vapor deposition method. Second conductor line 7 by sputtering
When manufactured, a line having a trapezoidal cross section can be formed, and when manufactured by vapor deposition, a line having a rectangular cross section can be manufactured. Since the first conductor line 6 has an inverse taper, the first conductor line 6
The distance between the conductor line 6 and the second conductor line 7 is short.

【0044】この後、Ti膜15をHF系水溶液でエッ
チングする。Ti膜15のエッチングが終了すると、そ
れまでTi膜15の上に堆積していたAuがリフトオフ
され、図5(f)に示すように、導体線路6、7が形成
される。このようにTi膜15は、リフトオフを目的と
しているため、Ti膜に限ることはない。例えば、誘電
体であるSiO2でも実施することができる。
Thereafter, the Ti film 15 is etched with an HF aqueous solution. When the etching of the Ti film 15 is completed, the Au deposited on the Ti film 15 is lifted off, and the conductor lines 6 and 7 are formed as shown in FIG. Since the Ti film 15 is intended for lift-off as described above, it is not limited to the Ti film. For example, the present invention can be implemented with SiO 2 which is a dielectric.

【0045】この後、導体線路6、7の間、および導体
線路6、7上に絶縁体8を、スパッタリング、蒸着法に
より形成し、絶縁体8上に、上記と同様にして磁性体層
2を形成し、本発明のコモンモードチョークコイルを得
る。
Thereafter, an insulator 8 is formed between the conductor lines 6 and 7 and on the conductor lines 6 and 7 by sputtering or vapor deposition, and the magnetic layer 2 is formed on the insulator 8 in the same manner as described above. To obtain the common mode choke coil of the present invention.

【0046】以上のように構成されたコモンモードチョ
ークコイルでは、2つの導体線路6、7が、導通しない
ように同一平面上に同時に形成されるため、2つの導体
線路6、7間に絶縁するための絶縁体8を形成しなくて
も、絶縁がとれる構造のため、万一、絶縁体8の一部に
欠陥があったとしても優れた耐電圧を維持することがで
き、これにより第1導体線路6と第2導体線路7の2つ
の導体線路6、7を隣設して設けることができ、2つの
導体線路6、7界は互いに打ち消されるが、線路6、7
の磁界は強め合うため、磁気結合を大きくすることがで
きる。
In the common mode choke coil configured as described above, the two conductor lines 6 and 7 are simultaneously formed on the same plane so as not to conduct, so that they are insulated between the two conductor lines 6 and 7. Even if a part of the insulator 8 has a defect, an excellent withstand voltage can be maintained even if a part of the insulator 8 is defective. The two conductor lines 6, 7 of the conductor line 6 and the second conductor line 7 can be provided adjacent to each other, and the fields of the two conductor lines 6, 7 cancel each other.
Magnetic fields can be strengthened, so that the magnetic coupling can be increased.

【0047】また、コイル本体3が磁性体層2で挟持さ
れているため、2つの導体線路6、7間の磁気結合を更
に高め、コモンモードチョークコイルを小型にすること
ができ、さらにまた、2つの導体線路6、7を同一平面
上に形成するため、低背化できる。
Further, since the coil body 3 is sandwiched between the magnetic layers 2, the magnetic coupling between the two conductor lines 6 and 7 can be further increased, and the size of the common mode choke coil can be reduced. Since the two conductor lines 6 and 7 are formed on the same plane, the height can be reduced.

【0048】[0048]

【発明の効果】本発明のコモンモードチョークコイルで
は、同一平面上に第1導体線路および第2導体線路が導
通しないように同時に形成されるため、2つの導体線路
間に絶縁するための絶縁体を形成しなくても、絶縁がと
れる構造のため、万一、絶縁体の一部に欠陥があったと
しても優れた耐電圧を維持することができ、このように
耐電圧に優れているため、第1導体線路と第2導体線路
の2つの導体線路を隣設して設けることができ、2つの
導体線路間の磁界は互いに打ち消されるが、線路間以外
の磁界は強め合うため、磁気結合を大きくすることがで
き、さらに、コイル本体が磁性体層で挟持されているた
め、2つの導体線路間の磁気結合を高め、小型化でき、
さらにまた、2つの導体線路を同一平面上に形成するた
め、低背化できる。
According to the common mode choke coil of the present invention, since the first conductor line and the second conductor line are formed simultaneously on the same plane so as not to conduct, an insulator for insulating between the two conductor lines is provided. Even without forming, because of the structure that can be insulated, excellent withstand voltage can be maintained even if there is a defect in part of the insulator. The two conductor lines, the first conductor line and the second conductor line, can be provided adjacent to each other, and the magnetic fields between the two conductor lines cancel each other out. In addition, since the coil body is sandwiched between the magnetic layers, the magnetic coupling between the two conductor lines can be increased and the size can be reduced.
Furthermore, since the two conductor lines are formed on the same plane, the height can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のコモンモードチョークコイルを示す断
面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a common mode choke coil of the present invention.

【図2】第1導体線路と第2導体線路を説明するための
模式図である。
FIG. 2 is a schematic diagram illustrating a first conductor line and a second conductor line.

【図3】本発明のコモンモードチョークコイルを示すも
ので、(a)は横断面図、(b)は(a)の縦断面図、
(c)は第1導体線路の断面を拡大して示す断面図であ
る。
3A and 3B show a common mode choke coil according to the present invention, wherein FIG. 3A is a transverse sectional view, FIG. 3B is a longitudinal sectional view of FIG.
(C) is an enlarged cross-sectional view showing a cross section of the first conductor line.

【図4】第1導体線路間に、横断面が台形形状の第2導
体線路を形成した例を示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example in which a second conductor line having a trapezoidal cross section is formed between the first conductor lines.

【図5】本発明のコモンモードチョークコイルの製法を
示す工程図である。
FIG. 5 is a process chart showing a method for manufacturing a common mode choke coil according to the present invention.

【図6】従来のコモンモードチョークコイルを示す断面
図である。
FIG. 6 is a sectional view showing a conventional common mode choke coil.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・支持基板 2・・・磁性体層 3・・・コイル本体 6・・・第1導体線路 7、17・・・第2導体線路 8・・・絶縁体 9・・・導体粒子 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Support substrate 2 ... Magnetic layer 3 ... Coil body 6 ... 1st conductor line 7, 17 ... 2nd conductor line 8 ... Insulator 9 ... Conductor particle

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】支持基板上に形成され、磁性体層でコイル
本体を挟持してなるコモンモードチョークコイルであっ
て、前記コイル本体が、スパイラル状に形成された第1
導体線路、および該第1導体線路と所定間隔をおいて沿
うようにスパイラル状に形成された第2導体線路と、前
記第1導体線路および前記第2導体線路を被覆する絶縁
体とを具備してなることを特徴とするコモンモードチョ
ークコイル。
1. A common mode choke coil formed on a supporting substrate and having a coil body sandwiched between magnetic layers, wherein the coil body is formed in a first spiral shape.
A conductor line, a second conductor line spirally formed along the first conductor line at a predetermined interval, and an insulator covering the first conductor line and the second conductor line. A common mode choke coil characterized by:
【請求項2】第1導体線路の横断面を逆台形形状、第2
導体線路の横断面を長方形状または台形形状とし、前記
第2導体線路の厚みが前記第1導体線路よりも薄いこと
を特徴とする請求項1記載のコモンモードチョークコイ
ル。
2. A cross section of the first conductor line having an inverted trapezoidal shape.
2. The common mode choke coil according to claim 1, wherein the cross section of the conductor line is rectangular or trapezoidal, and the thickness of the second conductor line is smaller than that of the first conductor line.
【請求項3】第1導体線路を形成する導体粒子の直径
が、前記第1導体線路の表面から支持基板に向けて次第
に小さくなることを特徴とする請求項1または2記載の
コモンモードチョークコイル。
3. The common mode choke coil according to claim 1, wherein the diameter of the conductive particles forming the first conductive line gradually decreases from the surface of the first conductive line toward the support substrate. .
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7283028B2 (en) 2003-08-07 2007-10-16 Tdk Corporation Coil component
US7307503B2 (en) 2004-07-01 2007-12-11 Tdk Corporation Thin film coil, method of manufacturing the same, coil structure, and method of manufacturing the same
KR101408505B1 (en) * 2012-11-07 2014-06-17 삼성전기주식회사 Common mode filter and manufacturing method thereof
US20140225700A1 (en) * 2013-02-08 2014-08-14 Qualcomm Incorporated Substrate-less discrete coupled inductor structure
CN104752018A (en) * 2013-12-31 2015-07-01 三星电机株式会社 Common mode filter

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7283028B2 (en) 2003-08-07 2007-10-16 Tdk Corporation Coil component
US7307503B2 (en) 2004-07-01 2007-12-11 Tdk Corporation Thin film coil, method of manufacturing the same, coil structure, and method of manufacturing the same
KR101408505B1 (en) * 2012-11-07 2014-06-17 삼성전기주식회사 Common mode filter and manufacturing method thereof
US8928451B2 (en) 2012-11-07 2015-01-06 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Common mode filter and method of manufacturing the same
US20140225700A1 (en) * 2013-02-08 2014-08-14 Qualcomm Incorporated Substrate-less discrete coupled inductor structure
US10115661B2 (en) * 2013-02-08 2018-10-30 Qualcomm Incorporated Substrate-less discrete coupled inductor structure
CN104752018A (en) * 2013-12-31 2015-07-01 三星电机株式会社 Common mode filter
KR20150079133A (en) * 2013-12-31 2015-07-08 삼성전기주식회사 Common mode filter
KR101973412B1 (en) * 2013-12-31 2019-09-02 삼성전기주식회사 Common mode filter

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