JP2002053580A - Method for manufacturing tricyclic compound - Google Patents

Method for manufacturing tricyclic compound

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JP2002053580A
JP2002053580A JP2000241112A JP2000241112A JP2002053580A JP 2002053580 A JP2002053580 A JP 2002053580A JP 2000241112 A JP2000241112 A JP 2000241112A JP 2000241112 A JP2000241112 A JP 2000241112A JP 2002053580 A JP2002053580 A JP 2002053580A
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JP
Japan
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compound
general formula
unsubstituted
salt
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JP2000241112A
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Japanese (ja)
Inventor
Eiichiro Imai
栄一郎 今井
Takashi Mimura
孝 三村
Tetsuo Matsushita
哲雄 松下
Shinichiro Mori
慎一郎 毛利
Takehiro Ogasa
剛裕 小笠
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KH Neochem Co Ltd
Original Assignee
Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method capable of manufacturing a compound expressed by general formula (VIII) useful as a treating agent for anischuria easily in high yield and suitable for manufacturing it on an industrial scale, and to provide an intermediate to be used in the manufacturing method. SOLUTION: The method for manufacturing a compound expressed by general formula (VIII) comprises a process for manufacturing a compound expressed by general formula (IV) by subjecting a compound expressed by general formula (III) or a salt of the compound to Friedel-Crafts reaction. In the formulae, X is H or a lower alkyl group; Y is H, a lower alkyl group or the like; and R1 is a halogen atom or nitro.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、尿失禁治療薬とし
て有用な下記の一般式(VIII)で表される化合物[以
下、一般式(VIII)で表される化合物を化合物(VIII)
と表現することもある。他の式番号の化合物についても
同様に表現することもある]の製造法およびその中間体
に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a compound represented by the following general formula (VIII) useful as a therapeutic agent for urinary incontinence [hereinafter, a compound represented by the general formula (VIII) is converted to a compound (VIII)
Sometimes it is expressed. The same applies to compounds of other formula numbers.] And intermediates thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】化合物(VIII)BACKGROUND OF THE INVENTION Compound (VIII)

【0003】[0003]

【化27】 Embedded image

【0004】[式中、Xは水素原子、置換もしくは非置
換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルコキ
シまたはハロゲン原子を表し、Yは水素原子、置換もし
くは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級
アルケニル、トリフルオロメチル、置換もしくは非置換
の低級アルコキシ、アミノ、置換もしくは非置換のモノ
低級アルキル置換アミノ、置換もしくは非置換のジ低級
アルキル置換アミノ、置換もしくは非置換のアリール、
置換もしくは非置換のヘテロアリール、置換もしくは非
置換のアラルキルアミノ、置換もしくは非置換のアリー
ルアミノ、置換もしくは非置換の脂環式複素環基または
一般式(A)
[Wherein, X represents a hydrogen atom, substituted or unsubstituted lower alkyl, substituted or unsubstituted lower alkoxy or halogen atom, and Y represents a hydrogen atom, substituted or unsubstituted lower alkyl, substituted or unsubstituted. Lower alkenyl, trifluoromethyl, substituted or unsubstituted lower alkoxy, amino, substituted or unsubstituted mono-lower alkyl-substituted amino, substituted or unsubstituted di-lower alkyl-substituted amino, substituted or unsubstituted aryl,
Substituted or unsubstituted heteroaryl, substituted or unsubstituted aralkylamino, substituted or unsubstituted arylamino, substituted or unsubstituted alicyclic heterocyclic group or general formula (A)

【0005】[0005]

【化28】 Embedded image

【0006】(式中、nは0または1であり、P1およびP2
は、同一または異なって水素原子、置換もしくは非置換
の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキ
ル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置
換のアラルキルまたはトリフルオロメチルを表すか、 P
1およびP2が一緒になってシクロアルキルを形成しても
よく、Qはヒドロキシ、置換もしくは非置換の低級アル
コキシ、アミノまたはハロゲン原子を表す)で表される
基を表す]については、WO98/46587に尿失禁治療薬とし
ての用途が開示されている。WO98/46587に開示される化
合物(VIII)の製造法は以下の通りである。
Wherein n is 0 or 1, and P 1 and P 2
Is the same or different and represents a hydrogen atom, substituted or unsubstituted lower alkyl, substituted or unsubstituted cycloalkyl, substituted or unsubstituted aryl, substituted or unsubstituted aralkyl or trifluoromethyl,
1 and P 2 may together form a cycloalkyl, and Q represents a group represented by hydroxy, substituted or unsubstituted lower alkoxy, amino or halogen atom). 46587 discloses its use as a therapeutic agent for urinary incontinence. The production method of compound (VIII) disclosed in WO98 / 46587 is as follows.

【0007】[0007]

【化29】 Embedded image

【0008】(式中、XおよびYはそれぞれ前記と同義で
ある) 原料化合物(X)は公知の方法に従い、3-メチルチオフ
ェン-2-カルボン酸メチルエステルを、ラジカル開始剤
およびブロモ化剤の存在下、加熱することにより製造さ
れる。化合物(XI)は、化合物(X)と市販の化合物(I
X)とを、塩基の存在下、反応させることにより製造さ
れる。
(Wherein X and Y have the same meanings as described above) The starting compound (X) can be prepared by a known method by converting 3-methylthiophene-2-carboxylic acid methyl ester to a radical initiator and a brominating agent. Produced by heating in the presence. Compound (XI) is compound (X) and commercially available compound (I
And X) in the presence of a base.

【0009】化合物(XII)は、化合物(XI)とアセチ
ル化剤とを、塩基の存在下、反応させることにより製造
される。化合物(XIII)は、化合物(XII)を、塩基の
存在下、加水分解した後得られるカルボン酸を、無水ト
リフルオロ酢酸で処理することにより酸無水物とし、次
いで、該酸無水物を単離することなくルイス酸の存在
下、閉環することにより製造される。
Compound (XII) is produced by reacting compound (XI) with an acetylating agent in the presence of a base. Compound (XIII) is obtained by hydrolyzing compound (XII) in the presence of a base, and then treating the carboxylic acid obtained with trifluoroacetic anhydride to form an acid anhydride, and then isolating the acid anhydride. The compound is produced by ring closure in the presence of a Lewis acid without performing the reaction.

【0010】化合物(VII)は、化合物(XIII)を濃塩
酸等の存在下、加熱することにより製造される。さらに
化合物(VIII)は、化合物(VII)と化合物(XXI)とを反
応させた後、酸化することにより製造することができ
る。しかしながら、前記の製造法では、チオフェン環に
メトキシカルボニル基を有する中間体[化合物(XII)]
を閉環することにより、化合物(XIII)を製造している
ため、位置異性体[化合物(XIV)]が副生し、各々の収
率は化合物(XIII)が28%、化合物(XIV)が37%と、そ
の位置選択性は低く、またシリカゲルクロマトグラフィ
ーを使用した精製工程が多いこと等から該製造法は工業
的製造法としては、実用上、満足されるものではない。
Compound (VII) is produced by heating compound (XIII) in the presence of concentrated hydrochloric acid or the like. Further, compound (VIII) can be produced by reacting compound (VII) with compound (XXI) and then oxidizing the compound. However, in the above-mentioned production method, an intermediate having a methoxycarbonyl group on the thiophene ring [compound (XII)]
The compound (XIII) is produced by closing the ring, so that the positional isomer [compound (XIV)] is produced as a by-product, and the yields of the compound (XIII) are 28% and the compound (XIV) is 37%. %, Its regioselectivity is low, and there are many purification steps using silica gel chromatography, etc., so that this production method is not practically satisfactory as an industrial production method.

【0011】[0011]

【化30】 Embedded image

【0012】(式中、Xは前記と同義である)(Wherein, X is as defined above)

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、尿失
禁治療薬として有用な化合物(VIII)を収率よく、簡易
に製造することのできる工業的な製造に適した製造法お
よび該製造法に使用される中間体を提供することにあ
る。
DISCLOSURE OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a process suitable for industrial production, which can easily produce a compound (VIII) useful as a therapeutic agent for urinary incontinence in a high yield and the production process. It is to provide an intermediate used in the method.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明は、以下の[1]
〜[9]を提供する。 [1]一般式(VIII)
The present invention provides the following [1].
To [9] are provided. [1] General formula (VIII)

【0015】[0015]

【化31】 Embedded image

【0016】(式中、XおよびYはそれぞれ前記と同義で
ある)で表される化合物を製造する製造法において、一
般式(III)
Wherein X and Y have the same meanings as defined above, respectively.

【0017】[0017]

【化32】 Embedded image

【0018】(式中、R1はハロゲン原子またはニトロを
表し、Xは前記と同義である)で表される化合物または
その塩をフリーデル−クラフツ(Friedel-Crafts)反応
に付し、一般式(IV)
(Wherein R 1 represents a halogen atom or nitro, and X has the same meaning as described above) or a salt thereof, which is subjected to a Friedel-Crafts reaction to obtain a compound represented by the general formula (IV)

【0019】[0019]

【化33】 Embedded image

【0020】(式中、R1およびXはそれぞれ前記と同義
である)で表される化合物を製造する工程を含むことを
特徴とする製造法。 [2]一般式(I)
(Wherein, R 1 and X have the same meanings as described above), respectively. [2] General formula (I)

【0021】[0021]

【化34】 Embedded image

【0022】(式中、R1aはハロゲン原子を表し、Xは前
記と同義である)で表される化合物またはその塩と一般
式(II)
(Wherein R 1a represents a halogen atom and X has the same meaning as described above) or a salt thereof and a compound of the general formula (II)

【0023】[0023]

【化35】 Embedded image

【0024】(式中、R2はハロゲン原子、低級アルキル
スルホニルオキシまたは置換もしくは非置換のアリール
スルホニルオキシを表す)で表される化合物とを反応さ
せ、得られる一般式(IIIa)
Wherein R 2 represents a halogen atom, a lower alkylsulfonyloxy or a substituted or unsubstituted arylsulfonyloxy, and the compound represented by the general formula (IIIa)

【0025】[0025]

【化36】 Embedded image

【0026】(式中、R1aおよびXはそれぞれ前記と同義
である)で表される化合物またはその塩をフリーデル−
クラフツ(Friedel-Crafts)反応に付し、さらに得られ
る一般式(IVa)
(Wherein R 1a and X are as defined above) or a salt thereof,
General formula (IVa) further obtained by a Friedel-Crafts reaction

【0027】[0027]

【化37】 Embedded image

【0028】(式中、R1aおよびXはそれぞれ前記と同義
である)で表される化合物と一般式(V)
Wherein R 1a and X have the same meanings as defined above, respectively, and a compound represented by the general formula (V):

【0029】[0029]

【化38】 Embedded image

【0030】(式中、R3およびR4は同一または異なっ
て、水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、シ
クロアルキル、ビシクロアルキル、置換もしくは非置換
の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルカノ
イル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非
置換のヘテロアリール、置換もしくは非置換のアラルキ
ル、置換もしくは非置換のヘテロアリールアルキル、置
換もしくは非置換のベンゾシクロアルケニルまたは置換
もしくは非置換の脂環式複素環基を表す)で表される化
合物とを反応させ、一般式(VI)
(Wherein R 3 and R 4 are the same or different and each represents a hydrogen atom, substituted or unsubstituted lower alkyl, cycloalkyl, bicycloalkyl, substituted or unsubstituted lower alkenyl, substituted or unsubstituted lower alkanoyl) Substituted or unsubstituted aryl, substituted or unsubstituted heteroaryl, substituted or unsubstituted aralkyl, substituted or unsubstituted heteroarylalkyl, substituted or unsubstituted benzocycloalkenyl, or substituted or unsubstituted cycloaliphatic hetero A compound represented by the general formula (VI)

【0031】[0031]

【化39】 Embedded image

【0032】(式中、R3、R4およびXはそれぞれ前記と
同義である)で表される化合物を製造する工程を含む上
記[1]記載の製造法。 [3]一般式(VIa)
(1) wherein R 3 , R 4 and X have the same meanings as defined above, respectively. [3] General formula (VIa)

【0033】[0033]

【化40】 Embedded image

【0034】(式中、R3aおよびR4aはそれぞれR3および
R4の定義中、いずれか一方が水素原子でない基を表し、
Xは前記と同義である)で表される化合物を脱保護し、
一般式(VII)
Wherein R 3a and R 4a are each R 3 and
In the definition of R 4 , one of them represents a group that is not a hydrogen atom,
X has the same meaning as described above),
General formula (VII)

【0035】[0035]

【化41】 Embedded image

【0036】(式中、Xは前記と同義である)で表され
る化合物を製造する工程を含む上記[2]記載の製造
法。 [4]一般式(XVI)
The method according to the above [2], comprising a step of producing a compound represented by the formula: wherein X is as defined above. [4] General formula (XVI)

【0037】[0037]

【化42】 Embedded image

【0038】(式中、Xは前記と同義である)で表され
る化合物またはその塩と亜硝酸エステルまたは亜硝酸塩
とを反応させ、ジアゾニウム誘導体またはその塩を得
て、該ジアゾニウム誘導体またはその塩を(1)キサン
トゲン酸またはその塩と反応させ、下記一般式(XVII)
で表される化合物中、R5がC(S)OC25である化合
物またはその塩とし、さらにこれを塩基で処理するか、
(2)チオウレアと反応させ、下記一般式(XVII)で表
される化合物中、R5がC(NH)NH2である化合物ま
たはその塩とし、さらにこれを塩基で処理するか、また
は(3)硫化アルカリ金属と反応させて、下記一般式
(XVII)で表される化合物中、R5が水素原子である化合
物またはその塩を得て、
(Wherein X is as defined above) or a salt thereof and a nitrite or a nitrite to obtain a diazonium derivative or a salt thereof, and the diazonium derivative or a salt thereof is obtained. Is reacted with (1) xanthogenic acid or a salt thereof to obtain a compound represented by the following general formula (XVII)
Wherein R 5 is C (S) OC 2 H 5 , or a salt thereof, which is further treated with a base,
(2) reacting with thiourea to obtain a compound represented by the following general formula (XVII), wherein R 5 is C (NH) NH 2 , or a salt thereof, and treating this with a base, or (3) A) reacting with an alkali metal sulfide to obtain a compound represented by the following general formula (XVII), wherein R 5 is a hydrogen atom, or a salt thereof;

【0039】[0039]

【化43】 Embedded image

【0040】[式中、R5はC(S)OC25、C(N
H)NH2または水素原子を表し、Xは前記と同義であ
る]この化合物と一般式(II)
Wherein R 5 is C (S) OC 2 H 5 , C (N
H) NH 2 or a hydrogen atom, and X has the same meaning as described above.]

【0041】[0041]

【化44】 Embedded image

【0042】(式中、R2は、前記と同義である)で表さ
れる化合物とを反応させ、一般式(IIIb)
(Wherein R 2 has the same meaning as described above), and the compound represented by the general formula (IIIb)

【0043】[0043]

【化45】 Embedded image

【0044】(式中、Xは前記と同義である)で表され
る化合物またはその塩を得て、さらにこの化合物をフリ
ーデル−クラフツ(Friedel-Crafts)反応に付し、一般
式(IVb)
(Wherein X is as defined above) or a salt thereof, and this compound is subjected to a Friedel-Crafts reaction to obtain a compound of the general formula (IVb)

【0045】[0045]

【化46】 Embedded image

【0046】(式中、Xは前記と同義である)で表され
る化合物を得て、この化合物を還元し、一般式(VII)
Wherein X is as defined above, and this compound is reduced to give a compound of the general formula (VII)

【0047】[0047]

【化47】 Embedded image

【0048】(式中、Xは前記と同義である)で表され
る化合物を製造する工程を含む上記[1]記載の製造
法。 [5]一般式(VII)
[0048] The production method according to the above [1], comprising a step of producing a compound represented by the formula (wherein X has the same meaning as described above). [5] General formula (VII)

【0049】[0049]

【化48】 Embedded image

【0050】(式中、Xは前記と同義である)で表され
る化合物を製造する製造法において、一般式(III)
Wherein X is as defined above, the compound represented by the general formula (III)

【0051】[0051]

【化49】 Embedded image

【0052】(式中、R1およびXはそれぞれ前記と同義
である)で表される化合物またはその塩をフリーデル−
クラフツ(Friedel-Crafts)反応に付し、一般式(IV)
Wherein R 1 and X are as defined above, or a salt thereof,
Following the Friedel-Crafts reaction, the general formula (IV)

【0053】[0053]

【化50】 Embedded image

【0054】(式中、R1およびXはそれぞれ前記と同義
である)で表される化合物を製造する工程を含むことを
特徴とする製造法。 [6] 一般式(III)
(Wherein, R 1 and X have the same meanings as described above), respectively. [6] General formula (III)

【0055】[0055]

【化51】 Embedded image

【0056】(式中、R1およびXはそれぞれ前記と同義
である)で表される化合物またはその塩をフリーデル−
クラフツ(Friedel-Crafts)反応に付すことを特徴とす
る、一般式(IV)
Wherein R 1 and X are as defined above, or a salt thereof,
General formula (IV) characterized by subjecting to a Friedel-Crafts reaction

【0057】[0057]

【化52】 Embedded image

【0058】(式中、R1およびXはそれぞれ前記と同義
である)で表される化合物の製造法。 [7]一般式(III)
(Wherein R 1 and X are as defined above). [7] General formula (III)

【0059】[0059]

【化53】 Embedded image

【0060】(式中、R1およびXはそれぞれ前記と同義
である)で表される化合物またはその塩。 [8]一般式(IV)
(Wherein R 1 and X are as defined above) or a salt thereof. [8] General formula (IV)

【0061】[0061]

【化54】 Embedded image

【0062】(式中、R1およびXはそれぞれ前記と同義
である)で表される化合物。
(Wherein R 1 and X are as defined above).

【0063】[9]一般式(XVIIa)[9] Formula (XVIIa)

【化55】 (式中、Xは前記と同義である)で表される化合物。Embedded image (Wherein, X has the same meaning as described above).

【発明の実施の形態】以下、本発明の製造法について詳
細に説明する。一般式の各基の定義において、低級アル
キル、低級アルコキシ、モノ低級アルキル置換アミノ、
ジ低級アルキル置換アミノおよび低級アルキルスルホニ
ルオキシの低級アルキル部分としては、直鎖または分岐
状の炭素数1〜8の、例えば、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、
tert-ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチ
ル、sec-ペンチル、tert-ペンチル、ヘキシル、イソヘ
キシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル等が包含さ
れる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the production method of the present invention will be described in detail. In the definition of each group of the general formula, lower alkyl, lower alkoxy, mono-lower alkyl-substituted amino,
Examples of the lower alkyl moiety of the di-lower alkyl-substituted amino and lower alkylsulfonyloxy include linear or branched C 1 to C 8, for example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl,
tert-butyl, pentyl, isopentyl, neopentyl, sec-pentyl, tert-pentyl, hexyl, isohexyl, heptyl, octyl, isooctyl and the like.

【0064】シクロアルキルとしては、炭素数3〜8の、
例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル
等が包含される。ビシクロアルキルとしては、炭素数7
〜10の、例えばビシクロ[2.2.1]ヘプチル、ビシクロ[2.
2.2]オクチル、ビシクロ[3.3.1]ノニル等が包含され
る。
As the cycloalkyl, those having 3 to 8 carbon atoms,
For example, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl and the like are included. Bicycloalkyl has 7 carbon atoms
~ 10, for example, bicyclo [2.2.1] heptyl, bicyclo [2.
2.2] octyl, bicyclo [3.3.1] nonyl and the like.

【0065】低級アルケニルとしては、直鎖または分岐
状の炭素数2〜6の、例えばビニル、アリル、プロペニ
ル、メタクリル、ブテニル、クロチル、ペンテニル、ヘ
キセニル等が包含される。低級アルカノイルとしては、
炭素数1〜8の、例えばホルミル、アセチル、プロピオニ
ル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロイル、
ヘキサノイル、ヘプタノイル、オクタノイル等が包含さ
れる。
The lower alkenyl includes straight-chain or branched C2-C6, for example, vinyl, allyl, propenyl, methacryl, butenyl, crotyl, pentenyl, hexenyl and the like. As lower alkanoyl,
Having 1 to 8 carbon atoms, for example, formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, pivaloyl,
Hexanoyl, heptanoyl, octanoyl and the like are included.

【0066】アリール、アリールアミノおよびアリール
スルホニルオキシのアリール部分としては、フェニル、
ナフチル等が包含される。ヘテロアリールとしては、窒
素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくと
も1個の原子を含む5員または6員の単環性芳香族複素
環基、3〜8員の環が縮合した二環または三環性で窒素
原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも
1個の原子を含む縮環性芳香族複素環基等があげられ、
より具体的には、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニ
ル、ピリダジニル、キノリニル、イソキノリニル、フタ
ラジニル、キナゾリニル、キノキサリニル、ナフチリジ
ニル、シンノリニル、チエニル、フリル、ピロリル、イ
ミダゾリル、ピラゾリル、オキサゾリル、チアゾリル、
トリアゾリル、テトラゾリル、ベンゾチエニル、ベンゾ
フリル、インドリル、インダゾリル、ベンズイミダゾリ
ル、ベンゾトリアゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾ
チアゾリル、プリニル等が包含される。
The aryl moiety of aryl, arylamino and arylsulfonyloxy includes phenyl,
Naphthyl and the like. As the heteroaryl, a 5- or 6-membered monocyclic aromatic heterocyclic group containing at least one atom selected from a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, a 3- or 8-membered fused two-ring or A tricyclic, condensed aromatic heterocyclic group containing at least one atom selected from a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, and the like;
More specifically, pyridyl, pyrazinyl, pyrimidinyl, pyridazinyl, quinolinyl, isoquinolinyl, phthalazinyl, quinazolinyl, quinoxalinyl, naphthyridinyl, cinnolinyl, thienyl, furyl, pyrrolyl, imidazolyl, pyrazolyl, oxazolyl, thiazolyl,
Includes triazolyl, tetrazolyl, benzothienyl, benzofuryl, indolyl, indazolyl, benzimidazolyl, benzotriazolyl, benzoxazolyl, benzothiazolyl, purinyl, and the like.

【0067】アラルキルおよびアラルキルアミノのアラ
ルキル部分としては、炭素数7〜15の、例えばベンジ
ル、フェネチル、ベンズヒドリル、ナフチルメチル等が
包含される。ヘテロアリールアルキルにおけるアルキレ
ン部分は前記低級アルキルから水素原子を1つ除いた基
を表し、ヘテロアリール部分は前記ヘテロアリールと同
義である。
The aralkyl portion of aralkyl and aralkylamino includes, for example, benzyl, phenethyl, benzhydryl, naphthylmethyl and the like having 7 to 15 carbon atoms. The alkylene moiety in the heteroarylalkyl represents a group in which one hydrogen atom has been removed from the lower alkyl, and the heteroaryl moiety has the same meaning as the heteroaryl.

【0068】ベンゾシクロアルケニルとしては、炭素数
8〜12の、例えばベンゾシクロブテニル、インダニル、
ベンゾシクロヘキセニル、ベンゾシクロオクテニル等が
包含される。脂環式複素環基としては、窒素原子、酸素
原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも1個の原子
を含む5員または6員の単環性脂環式複素環基、3〜8
員の環が縮合した二環または三環性で窒素原子、酸素原
子および硫黄原子から選ばれる少なくとも1個の原子を
含む縮環性脂環式複素環基等があげられ、より具体的に
はピロリジニル、ピペリジノ、ピペラジニル、ピペリジ
ニル、モルホリノ、チオモルホリノ、ホモピペリジノ、
ホモピペラジニル、テトラヒドロピリジニル、テトラヒ
ドロキノリニル、テトラヒドロイソキノリニル、テトラ
ヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、ジヒドロベン
ゾフラニル、モルホリニル、チオモルホリニル等が包含
される。
As benzocycloalkenyl, the number of carbon atoms
8-12, for example benzocyclobutenyl, indanyl,
Benzocyclohexenyl, benzocyclooctenyl and the like are included. As the alicyclic heterocyclic group, a 5- or 6-membered monocyclic alicyclic heterocyclic group containing at least one atom selected from a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, 3 to 8
A condensed alicyclic heterocyclic group containing at least one atom selected from a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, which is a condensed bicyclic or tricyclic fused ring, and more specifically, Pyrrolidinyl, piperidino, piperazinyl, piperidinyl, morpholino, thiomorpholino, homopiperidino,
Homopiperazinyl, tetrahydropyridinyl, tetrahydroquinolinyl, tetrahydroisoquinolinyl, tetrahydrofuranyl, tetrahydropyranyl, dihydrobenzofuranyl, morpholinyl, thiomorpholinyl and the like are included.

【0069】ハロゲン原子は、フッ素、塩素、臭素、ヨ
ウ素の各原子を意味する。置換低級アルキル、置換低級
アルコキシ、置換モノ低級アルキル置換アミノ、置換ジ
低級アルキル置換アミノ、置換シクロアルキル、置換低
級アルケニルおよび置換低級アルカノイルにおける置換
基としては、同一または異なって置換数1〜3の、ヒド
ロキシ、低級アルコキシ、アリール、低級アルコキシカ
ルボニル、低級アルカノイル等があげられる。置換位置
は、特に限定されない。ここで、アリールおよび低級ア
ルカノイルとしては、それぞれ前記と同様のものがあげ
られ、低級アルコキシおよび低級アルコキシカルボニル
の低級アルキル部分としては、前記低級アルキルであげ
たものと同様のものがあげられる。
The halogen atom means each atom of fluorine, chlorine, bromine and iodine. As the substituents in the substituted lower alkyl, substituted lower alkoxy, substituted mono-lower alkyl-substituted amino, substituted di-lower alkyl-substituted amino, substituted cycloalkyl, substituted lower alkenyl and substituted lower alkanoyl, the same or different substituents 1 to 3, Examples include hydroxy, lower alkoxy, aryl, lower alkoxycarbonyl, lower alkanoyl and the like. The substitution position is not particularly limited. Here, the aryl and the lower alkanoyl are the same as those described above, respectively, and the lower alkyl portion of the lower alkoxy and the lower alkoxycarbonyl are the same as those described above for the lower alkyl.

【0070】置換アリール、置換アリールアミノ、置換
アラルキル、置換アラルキルアミノ、置換ヘテロアリー
ル、置換ヘテロアリールアルキル、置換ベンゾシクロア
ルケニル、置換脂環式複素環基および置換アリールスル
ホニルオキシにおける置換基としては、同一または異な
って置換数1〜3の、ヒドロキシ、低級アルキル、低級
アルコキシ、アリール、アラルキル、低級アルコキシカ
ルボニル、低級アルカノイル等があげられる。置換位置
は、特に限定されない。ここで、低級アルキル、アリー
ル、アラルキルおよび低級アルカノイルとしては、前記
と同様のものがあげられ、低級アルコキシおよび低級ア
ルコキシカルボニルの低級アルキル部分としては、前記
低級アルキルであげたものと同様のものがあげられる。
The substituted aryl, substituted arylamino, substituted aralkyl, substituted aralkylamino, substituted heteroaryl, substituted heteroarylalkyl, substituted benzocycloalkenyl, substituted alicyclic heterocyclic group and substituted arylsulfonyloxy have the same substituents. Alternatively, there may be mentioned, for example, hydroxy, lower alkyl, lower alkoxy, aryl, aralkyl, lower alkoxycarbonyl, lower alkanoyl and the like having 1 to 3 substituents. The substitution position is not particularly limited. Here, as the lower alkyl, aryl, aralkyl and lower alkanoyl, the same as those described above can be mentioned, and as the lower alkyl part of the lower alkoxy and lower alkoxycarbonyl, the same as those described above for the lower alkyl can be mentioned. Can be

【0071】また、硫化アルカリ金属におけるアルカリ
金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等があ
げられる。また、化合物(I)、化合物(III)、化合物(XV
I)、化合物(XVII)、化合物(XVI)のジアゾニウム誘導体
[後述する化合物(XIX)]またはキサントゲン酸の塩と
しては、例えば、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム
塩、マグネシウム塩、カルシウム塩、バリウム塩等のア
ルカリ金属またはアルカリ土類金属塩、アンモニウム、
テトラメチルアンモニウム等のアンモニウム塩、モルホ
リン塩、ピペリジン塩等の有機アミン付加塩等が包含さ
れる。
Examples of the alkali metal in the alkali metal sulfide include lithium, sodium, potassium and the like. Compound (I), compound (III), compound (XV
Examples of the diazonium derivative [I], the compound (XVII), the compound (XVI) [the compound (XIX) described below] or a salt of xanthogenic acid include, for example, lithium salt, sodium salt, potassium salt, magnesium salt, calcium salt, barium salt Alkali metal or alkaline earth metal salts, such as ammonium, etc.
Examples include ammonium salts such as tetramethylammonium, and organic amine addition salts such as morpholine salts and piperidine salts.

【0072】亜硝酸エステルとしては、例えば、亜硝酸
メチル、亜硝酸エチル、亜硝酸プロピル、亜硝酸イソプ
ロピル、亜硝酸ブチル、亜硝酸イソブチル、亜硝酸イソ
アミル等があげられ、また、亜硝酸塩としては、例え
ば、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム等があげられ
る。また、R3およびR4が、置換もしくは非置換のアラル
キルと水素原子の組み合わせであるのが好ましい。
Examples of the nitrite include methyl nitrite, ethyl nitrite, propyl nitrite, isopropyl nitrite, butyl nitrite, isobutyl nitrite, isoamyl nitrite, and the like. For example, sodium nitrite, potassium nitrite and the like can be mentioned. Further, it is preferable that R 3 and R 4 are a combination of a substituted or unsubstituted aralkyl and a hydrogen atom.

【0073】本発明の製造法において、化合物(VII)
は、以下の工程A−1〜4、工程B1〜4により製造す
ることができる。さらに化合物(VIII)は、化合物(VI
I)を工程5および6により処理することにより製造す
ることができる。 工程A−1
In the production method of the present invention, compound (VII)
Can be produced by the following steps A-1 to B4 and steps B1 to B4. Further, compound (VIII) is compound (VI)
It can be produced by treating I) according to steps 5 and 6. Step A-1

【0074】[0074]

【化56】 Embedded image

【0075】(式中、R1a、R2、R3、R4およびXはそれぞ
れ前記と同義である) 化合物(IIIa)またはその塩は、化合物(I)またはそ
の塩と当量から過剰量の化合物(II)を、無溶媒中、ま
たは溶媒中で、必要に応じて塩基の存在下に反応させる
ことにより製造することができる。通常、反応は、0℃
〜用いる溶媒の沸点の間の温度で行うのが好ましい。塩
基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等があげられ、その使用量は、化合物(I)またはそ
の塩に対して1〜20当量であるのが好ましい。
(Wherein R 1a , R 2 , R 3 , R 4 and X have the same meanings as described above). The compound (IIIa) or a salt thereof is an equivalent to an excess amount of the compound (I) or a salt thereof. Compound (II) can be produced by reacting compound (II) without a solvent or in a solvent, if necessary, in the presence of a base. Usually, the reaction is at 0 ° C
It is preferably carried out at a temperature between the boiling point of the solvent used. Examples of the base include sodium hydroxide, potassium hydroxide and the like, and the use amount thereof is preferably 1 to 20 equivalents relative to compound (I) or a salt thereof.

【0076】溶媒としては、反応において不活性であれ
ば特に限定されないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキ
サン等の脂肪族炭化水素系溶媒、トルエン等の芳香族炭
化水素系溶媒、アセトニトリル等の非芳香族系有機溶
剤、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタ
ン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル
系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、エチレンジク
ロリド等のハロゲン化炭化水素系溶媒またはこれらの混
合溶媒等を用いることができる。その使用量は、化合物
(I)またはその塩に対して1〜100倍量(容量)である
のが好ましい。
The solvent is not particularly limited as long as it is inert in the reaction. Examples thereof include aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane and cyclohexane, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, and non-aromatic solvents such as acetonitrile. Organic solvents, ether solvents such as dioxane, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, and ethylene glycol dimethyl ether; halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane, chloroform, and ethylene dichloride; and mixed solvents thereof can be used. The amount of use is preferably 1 to 100 times (volume) the compound (I) or a salt thereof.

【0077】原料となる化合物(I)またはその塩は、
公知の方法(特開平3-255064号公報、特開平3-173863号
公報等)に準じて合成することができる。また、化合物
(I)のジスルフィド体である一般式(XVa)
Compound (I) or a salt thereof as a starting material is
It can be synthesized according to a known method (JP-A-3-255064, JP-A-3-173863, etc.). In addition, the compound represented by the general formula (XVa) which is a disulfide compound of the compound (I)

【0078】[0078]

【化57】 Embedded image

【0079】(式中、R1aおよびXはそれぞれ前記と同義
である)で表される化合物を公知の方法[Synthetic Co
mmun., 16, 819(1986)等]に準じて、還元した反応液を
精製せずに、そのまま、工程1の原料として使用しても
よい。この還元反応は、通常、反応溶媒中、還元剤の存
在下、0℃〜用いる溶媒の沸点の間の温度で行う。ここ
で、還元剤としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム
等があげられ、その使用量は好ましくは化合物(XVa)
に対して1〜10当量、より好ましくは1〜4当量である。
また、溶媒としては、反応において不活性であれば特に
限定はされないが、例えば、水、水酸化リチウム、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ水溶液、ヘ
キサン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒、ト
ルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトニトリル等の
非芳香族系有機溶剤、メタノール、エタノール、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、エチレ
ングリコールジメチルエーテル等の親水性溶媒、ジクロ
ロメタン、クロロホルム、エチレンジクロリド等のハロ
ゲン化炭化水素系溶媒またはこれらの混合溶媒等があげ
られる。その使用量は、化合物(XVa)に対して1〜100
倍量(容量)であるのが好ましい。化合物(XVa)は、
公知の方法[Farmaco. Ed. Sci., 22 (12), 989 (1967)
等]に準じて製造することができる。
(Wherein R 1a and X are the same as defined above) by a known method [Synthetic Co.
mmun., 16 , 819 (1986), etc.], and the reduced reaction solution may be used as it is as a raw material in Step 1 without purification. This reduction reaction is usually performed in a reaction solvent in the presence of a reducing agent at a temperature between 0 ° C. and the boiling point of the solvent used. Here, examples of the reducing agent include sodium borohydride and the like, and the amount of the reducing agent is preferably the compound (XVa)
1 to 10 equivalents, more preferably 1 to 4 equivalents.
The solvent is not particularly limited as long as it is inert in the reaction. For example, water, an alkaline aqueous solution such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, or potassium hydroxide, or an aliphatic hydrocarbon solvent such as hexane or cyclohexane. , Aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, non-aromatic organic solvents such as acetonitrile, hydrophilic solvents such as methanol, ethanol, dioxane, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, and ethylene glycol dimethyl ether; halogens such as dichloromethane, chloroform, and ethylene dichloride. Or a mixed solvent thereof. The amount used is 1 to 100 relative to the compound (XVa).
It is preferable that the amount is twice (volume). Compound (XVa) is
Known methods [Farmaco. Ed. Sci., 22 (12), 989 (1967)
Etc.].

【0080】化合物(II)は、3-チオフェンメタノール
より公知の方法[J. Am. Chem. Soc., 72, 1655(1950)
等]に準じて、製造することができる。3-チオフェンメ
タノールは、市販品として入手することができる。 工程A−2 化合物(IVa)は、化合物(IIIa)またはその塩を、公
知の方法(特開平2-91040号公報等)に準じて、フリー
デル−クラフツ(Friedel-Crafts)反応に付すことによ
り、製造することができる。この反応は、化合物(III
a)またはその塩に対して当量もしくは過剰量の酸無水
物を用いて、無溶媒中、もしくは溶媒中で、必要に応じ
てルイス酸の存在下に行うことができる。通常、反応
は、-15℃〜用いる溶媒の沸点の間の温度で行う。酸無
水物としては、無水トリフルオロ酢酸、無水酢酸等があ
げられる。その使用量は、化合物(IIIa)またはその塩
に対して1〜20当量であるのが好ましい。また、ルイス
酸としては、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体等が
あげられる。その使用量は、化合物(IIIa)またはその
塩に対して0.1〜1当量であるのが好ましい。溶媒として
は、反応において不活性であれば特に限定されないが、
例えば、トルエン、ジクロロメタン、エチレンジクロリ
ド、テトラクロロエタン、テトラヒドロフラン、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等またはこれら
の混合溶媒等を用いることができる。その使用量は、化
合物(IIIa)またはその塩に対して1〜100倍量(容量)
であるのが好ましい。 工程A−3 化合物(VI)は、化合物(IVa)を公知の方法[Liebigs
Ann. Chem., 481(1989)、Chem. Abstr., 54, 349(196
0)等]に準じて、化合物(V)と反応させることにより
製造することができる。この反応は、化合物(IVa)に
対して当量から過剰量の化合物(V)を用いて、無溶媒
中または溶媒中で、必要に応じて触媒存在下で行う。触
媒としては、銅、銅粉末、塩化第一銅、塩化第二銅、酢
酸第二銅等があげられる。その使用量は、溶媒の種類、
反応温度等の条件により特に限定されないが、好ましく
は化合物(IVa)に対して0.01〜1当量である。通常、反
応は、0℃〜用いる溶媒の沸点の間の温度で行うが、溶
媒の沸点以上の温度で行う場合は、加圧条件下で行う。
溶媒としては、反応において不活性であれば特に限定さ
れないが、例えば、トルエン、ジクロロメタン、エチレ
ンジクロリド、テトラクロロエタン、テトラヒドロフラ
ン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等ま
たはこれらの混合溶媒等があげられる。その使用量は、
化合物(IVa)に対して1〜100倍量(容量)であるのが
好ましい。
Compound (II) was prepared from 3-thiophene methanol by a known method [J. Am. Chem. Soc., 72 , 1655 (1950)].
Etc.]. 3-thiophene methanol can be obtained as a commercial product. Step A-2 Compound (IVa) is obtained by subjecting compound (IIIa) or a salt thereof to a Friedel-Crafts reaction according to a known method (JP-A-2-91040, etc.). , Can be manufactured. This reaction is carried out with the compound (III
The reaction can be carried out without solvent or in a solvent, if necessary, in the presence of a Lewis acid, using an equivalent or excess amount of an acid anhydride relative to a) or a salt thereof. Usually, the reaction is carried out at a temperature between -15 ° C and the boiling point of the solvent used. Examples of the acid anhydride include trifluoroacetic anhydride, acetic anhydride and the like. The amount of use is preferably 1 to 20 equivalents relative to compound (IIIa) or a salt thereof. Examples of the Lewis acid include boron trifluoride diethyl ether complex. The amount of use is preferably 0.1 to 1 equivalent relative to compound (IIIa) or a salt thereof. The solvent is not particularly limited as long as it is inert in the reaction,
For example, toluene, dichloromethane, ethylene dichloride, tetrachloroethane, tetrahydrofuran, dimethylformamide, dimethylsulfoxide and the like, or a mixed solvent thereof can be used. The amount used is 1 to 100 times (volume) the amount of compound (IIIa) or a salt thereof.
It is preferred that Step A-3 Compound (VI) can be prepared by subjecting compound (IVa) to a known method [Liebigs
Ann. Chem., 481 (1989), Chem. Abstr., 54 , 349 (196
0) etc.] to react with compound (V). This reaction is carried out using an equivalent to an excess amount of compound (V) with respect to compound (IVa), in the absence of a solvent or in a solvent, if necessary, in the presence of a catalyst. Examples of the catalyst include copper, copper powder, cuprous chloride, cupric chloride, cupric acetate and the like. The amount used depends on the type of solvent,
Although it is not particularly limited by conditions such as the reaction temperature, it is preferably 0.01 to 1 equivalent based on compound (IVa). Usually, the reaction is carried out at a temperature between 0 ° C. and the boiling point of the solvent to be used.
The solvent is not particularly limited as long as it is inert in the reaction, and examples thereof include toluene, dichloromethane, ethylene dichloride, tetrachloroethane, tetrahydrofuran, dimethylformamide, dimethylsulfoxide and the like, and a mixed solvent thereof. Its usage is
The amount is preferably 1 to 100 times (volume) the amount of the compound (IVa).

【0081】反応後に反応液に親水性溶媒および水を添
加することにより、化合物(VI)を析出させることがで
きるため、抽出等の煩雑な操作なしに高収率、高品質で
化合物(VI)を製造することができる。この場合の親水
性溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノー
ル等のアルコール系溶媒、アセトン、エチルメチルケト
ン等のケトン系溶媒またはアセトニトリル等あるいはこ
れらの混合溶媒等を用いることができる。その使用量
は、化合物(VI)に対して1〜100倍量(容量)であるの
が好ましい。
The compound (VI) can be precipitated by adding a hydrophilic solvent and water to the reaction solution after the reaction, so that the compound (VI) can be obtained in high yield and high quality without complicated operations such as extraction. Can be manufactured. As the hydrophilic solvent in this case, an alcohol solvent such as methanol, ethanol, and propanol, a ketone solvent such as acetone and ethyl methyl ketone, acetonitrile, and a mixed solvent thereof can be used. The amount of use is preferably 1 to 100 times (volume) the compound (VI).

【0082】化合物(VI)の中でR3およびR4のいずれか一
方が水素原子でない化合物(VIa)を得た場合には、さら
に工程A−4を行うことにより、化合物(VII)を製造す
ることができる。また、化合物(VI)の中でR3およびR4
ともに水素原子である化合物[化合物(VII)]を得た場
合には、工程A−4は必要なく、次の工程は工程5とな
る。 工程A−4
When the compound (VIa) in which either R 3 or R 4 is not a hydrogen atom is obtained from the compound (VI), the compound (VII) is produced by further performing the step A-4. can do. When a compound [Compound (VII)] in which both R 3 and R 4 are hydrogen atoms in Compound (VI) is obtained, Step A-4 is not necessary, and the next step is Step 5. . Step A-4

【0083】[0083]

【化58】 Embedded image

【0084】(式中、R3a、R4aおよびXはそれぞれ前記
と同義である) 化合物(VII)は、化合物(VIa)を公知の方法[J. Che
m. Soc., Perkin Trans. 1, 2053(1992)、J. Org. Che
m., 60, 6656(1995)等]に準じて、脱保護することによ
り、製造することができる。この脱保護は、化合物(VI
a)に対して当量〜過剰量の酸または酸化剤を用いて、
無溶媒中、または溶媒中で、必要に応じて水の存在下で
行う。通常、反応は、0℃〜用いる溶媒の沸点の間の温
度で行う。酸としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸、
酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフル
オロメタンスルホン酸等の有機酸があげられる。その使
用量は、化合物(VIa)に対して1〜100倍量(容量)で
あるのが好ましい。酸化剤としては、2,3-ジクロロ-5,6
-ジシアノ-1,4-ベンゾキノン、硝酸第二セリウムアンモ
ニウム、二酸化マンガン等を用いることができる。その
使用量は、化合物(VIa)に対して1〜50当量であるのが
好ましい。溶媒としては、反応において不活性であれば
特に限定されないが、例えば、酢酸エチル、アセトニト
リル、メタノール、エタノール、トルエン、ジクロロメ
タン、エチレンジクロリド、テトラクロロエタン、テト
ラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド等またはこれらの混合溶媒等を用いることがで
きる。その使用量は、化合物(VIa)に対して1〜100倍
量(容量)であるのが好ましい。また、R3aまたはR4a
置換もしくは非置換のアラルキルの場合には、公知の方
法[Tetrahedron Lett., 28, 515 (1987)等]に準じ
て、Pd−C等を用いた接触還元等を行うことにより脱
保護することもできる。また、R3aまたはR4aが置換もし
くは非置換の低級アルカノイルの場合には、公知の方法
[J. Org. Chem., 43,3711 (1978)等]に準じて、ヒド
ラジン処理を行うことにより脱保護することもできる
(ただし、R3aまたはR4aがホルミルの場合には、Pd−
C等を用いた接触還元等によっても脱保護が可能であ
る)。 工程B−1
(Wherein R 3a , R 4a and X have the same meanings as described above). Compound (VII) can be prepared by a known method [J. Che.
m. Soc., Perkin Trans. 1 , 2053 (1992), J. Org.
m., 60 , 6656 (1995), etc.]. This deprotection is achieved by the compound (VI
Using an equivalent or excess amount of acid or oxidizing agent relative to a),
The reaction is carried out without solvent or in a solvent, if necessary, in the presence of water. Usually, the reaction is carried out at a temperature between 0 ° C. and the boiling point of the solvent used. Examples of the acid include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and nitric acid,
Organic acids such as acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, and trifluoromethanesulfonic acid. The amount of use is preferably 1 to 100 times (volume) the amount of the compound (VIa). As the oxidizing agent, 2,3-dichloro-5,6
-Dicyano-1,4-benzoquinone, ceric ammonium nitrate, manganese dioxide and the like can be used. The amount of use is preferably 1 to 50 equivalents to compound (VIa). The solvent is not particularly limited as long as it is inert in the reaction.For example, ethyl acetate, acetonitrile, methanol, ethanol, toluene, dichloromethane, ethylene dichloride, tetrachloroethane, tetrahydrofuran, dimethylformamide, dimethylsulfoxide and the like or a mixed solvent thereof are used. Etc. can be used. The amount of use is preferably 1 to 100 times (volume) the amount of the compound (VIa). When R 3a or R 4a is a substituted or unsubstituted aralkyl, catalytic reduction using Pd-C or the like may be performed according to a known method [Tetrahedron Lett., 28 , 515 (1987), etc.]. By doing so, deprotection can also be performed. When R 3a or R 4a is a substituted or unsubstituted lower alkanoyl, dehydration is performed by hydrazine treatment according to a known method [J. Org. Chem., 43 , 3711 (1978) and the like]. It can also be protected (provided that Pd- when R 3a or R 4a is formyl)
Deprotection is also possible by catalytic reduction using C or the like). Step B-1

【0085】[0085]

【化59】 Embedded image

【0086】[式中、R5aはC(S)OC25またはC
(NH)NH2を表し、Z-はアニオン種を表し、Xは前記
と同義である] Z-としては、1価または多価のアニオン種があげられ、
好ましくは1価のアニオン種、例えば、塩化物イオン、
臭化物イオン、ヨウ化物イオンまたはテトラフルオロホ
ウ素イオン等があげられる。
Wherein R 5a is C (S) OC 2 H 5 or C
(NH) NH 2 , Z represents an anionic species, and X has the same meaning as described above.] Examples of Z include monovalent or polyvalent anionic species,
Preferably monovalent anionic species, such as chloride ions,
Bromide ion, iodide ion, tetrafluoroboron ion and the like can be mentioned.

【0087】化合物(XVI)またはその塩を亜硝酸エス
テルまたは亜硝酸塩と反応させ、ジアゾニウム誘導体ま
たはその塩を得て、該ジアゾニウム誘導体またはその塩
を(1)キサントゲン酸またはその塩と反応させ、化合
物(XVIIb)またはその塩とし、さらにこれを塩基で処
理するか、(2)チオウレアと反応させ、化合物(XVII
c)またはその塩とし、さらにこれを塩基で処理する
か、または(3)硫化アルカリ金属を反応させることに
より、化合物(XVIIa)またはその塩を製造することが
できる。
The compound (XVI) or a salt thereof is reacted with a nitrite or a nitrite to obtain a diazonium derivative or a salt thereof, and the diazonium derivative or a salt thereof is reacted with (1) xanthogenic acid or a salt thereof to give a compound (XVIIb) or a salt thereof, which is further treated with a base or (2) reacted with thiourea to give a compound (XVIIb)
Compound (XVIIa) or a salt thereof can be produced by treating c) or a salt thereof and treating it with a base or (3) reacting with an alkali metal sulfide.

【0088】原料となる化合物(XVI)またはその塩
は、公知の方法[J. Am. Chem. Soc., 27, 649(1905)]に
準じて製造することができる。化合物(XVI)のジアゾ
化反応は、公知の方法(化学大事典、4巻、16〜17
頁、共立出版、1997年9月20日発行等)に準じて
行うことができる(工程B−1−1)。
The starting compound (XVI) or a salt thereof can be produced according to a known method [J. Am. Chem. Soc., 27 , 649 (1905)]. The diazotization reaction of the compound (XVI) can be performed by a known method (Chemical Encyclopedia, Vol. 4, 16-17).
Page, Kyoritsu Shuppan, September 20, 1997, etc.) (Step B-1-1).

【0089】例えば、化合物(XIX)またはその塩は化
合物(XVI)またはその塩を酸性条件下、必要ならば反
応溶媒中、亜硝酸エステルまたは亜硝酸塩と、-15℃〜
室温の間の温度で反応させることにより製造することが
できる。亜硝酸エステルまたは亜硝酸塩の使用量は、化
合物(XVI)またはその塩に対して好ましくは1〜10当
量、より好ましくは1〜2当量である。溶媒としては、反
応において不活性であれば特に限定されないが、例え
ば、ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶
媒、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトニトリ
ル等の非芳香族系有機溶剤、ジオキサン、テトラヒドロ
フラン、ジメトキシエタン、エチレングリコールジメチ
ルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロ
ロホルム、エチレンジクロリド等のハロゲン化炭化水素
系溶媒またはこれらの混合溶媒等があげられる。溶媒の
使用量は、化合物(XVI)またはその塩に対して、1〜10
0倍量(容量)であるのが好ましい。
For example, compound (XIX) or a salt thereof can be prepared by reacting compound (XVI) or a salt thereof with a nitrite or a nitrite in a reaction solvent, if necessary, at -15 ° C.
It can be produced by reacting at a temperature between room temperature. The amount of the nitrite or nitrite to be used is preferably 1 to 10 equivalents, more preferably 1 to 2 equivalents, relative to compound (XVI) or a salt thereof. The solvent is not particularly limited as long as it is inert in the reaction.For example, hexane, an aliphatic hydrocarbon solvent such as cyclohexane, an aromatic hydrocarbon solvent such as toluene, a non-aromatic organic solvent such as acetonitrile, Examples thereof include ether solvents such as dioxane, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, and ethylene glycol dimethyl ether; halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane, chloroform, and ethylene dichloride; and mixed solvents thereof. The amount of the solvent to be used is 1 to 10 based on compound (XVI) or a salt thereof.
It is preferably 0 times (capacity).

【0090】前記のようにして得られた化合物(XIX)
またはその塩は、単離または精製しなくてもよく、化合
物(XIX)またはその塩を製造した反応液をそのまま、
次の工程に用いることができる。化合物(XIX)または
その塩とキサントゲン酸またはその塩、チオウレアある
いは硫化アルカリ金属との反応は、溶媒中、公知の方法
[Tetrahedron Letters,35, 7549(1994)等]に準じて行う
ことができる(工程B−1−2)。この場合、反応は0
℃〜用いる溶媒の沸点の間の温度で行う。キサントゲン
酸またはその塩、チオウレアあるいは硫化アルカリ金属
の使用量は、化合物(XIX)またはその塩に対して好ま
しくは1〜10当量、より好ましくは1〜2当量である。溶
媒としては前記の工程B−1−1に使用されるものと同
様のものがあげられ、その使用量は、化合物(XIX)ま
たはその塩に対して、1〜100倍量(容量)であるのが好
ましい。
Compound (XIX) obtained as described above
Or a salt thereof may not be isolated or purified, and the compound (XIX) or a reaction solution for producing the salt thereof may be used as it is.
It can be used for the next step. The reaction of compound (XIX) or a salt thereof with xanthogenic acid or a salt thereof, thiourea or an alkali metal sulfide can be carried out by a known method in a solvent.
[Tetrahedron Letters, 35 , 7549 (1994), etc.] (Step B-1-2). In this case, the response is 0
It is carried out at a temperature between ° C. and the boiling point of the solvent used. The amount of xanthic acid or a salt thereof, thiourea or alkali metal sulfide to be used is preferably 1 to 10 equivalents, more preferably 1 to 2 equivalents, relative to compound (XIX) or a salt thereof. As the solvent, those similar to those used in the above-mentioned Step B-1-1 can be mentioned, and the used amount thereof is 1 to 100 times (volume) based on the compound (XIX) or a salt thereof. Is preferred.

【0091】化合物(XVIIb)または(XVIIc)あるいは
それらの塩を得た場合、化合物(XVIIb)または(XVII
c)あるいはそれらの塩を溶媒の存在または非存在下、0
℃〜用いる溶媒の沸点の間の温度で塩基で処理すること
により化合物(XVIIa)またはその塩を製造することが
できる(工程B−1−3)。塩基としては、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等があげられ、
その使用量は化合物(XVIIb)または(XVIIc)あるいは
それらの塩に対して1〜20当量であるのが好ましい。溶
媒としては前記の工程B−1−1に使用されるものと同
様のものがあげられる。その使用量は、化合物(XVII
b)または(XVIIc)あるいはそれらの塩に対して、1〜1
00倍量(容量)であるのが好ましい。
When the compound (XVIIb) or (XVIIc) or a salt thereof is obtained, the compound (XVIIb) or (XVIIb)
c) or their salts in the presence or absence of a solvent
The compound (XVIIa) or a salt thereof can be produced by treating with a base at a temperature between ℃ and the boiling point of the solvent used (Step B-1-3). Examples of the base include sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate and the like,
The amount used is preferably 1 to 20 equivalents relative to compound (XVIIb) or (XVIIc) or a salt thereof. As the solvent, those similar to the one used in the above-mentioned step B-1-1 can be mentioned. The amount of the compound (XVII
b) or (XVIIc) or a salt thereof, 1-1
It is preferably 00 times (capacity).

【0092】また、化合物(XVIIa)またはその塩の製
造において、一般式(XVb)
In the production of the compound (XVIIa) or a salt thereof, the compound represented by the general formula (XVb)

【0093】[0093]

【化60】 Embedded image

【0094】(式中、Xは前記と同義である)で表され
る化合物が副生する場合があるが、この化合物は、前記
の工程A−1で説明した方法と同様にして、還元反応を
行うことによって、化合物(XVIIa)またはその塩にす
ることができる。 工程B−2
In some cases, a compound represented by the formula (wherein X has the same meaning as described above) is produced as a by-product, and this compound is subjected to a reduction reaction in the same manner as described in the above-mentioned step A-1. To give compound (XVIIa) or a salt thereof. Step B-2

【0095】[0095]

【化61】 Embedded image

【0096】(式中、R2およびXはそれぞれ前記と同義
である) 化合物(IIIb)またはその塩は、化合物(XVIIa)また
はその塩と化合物(II)を反応させることにより、製造
することができる。化合物(XVIIa)またはその塩と化
合物(II)との反応は、前記の工程A−1で説明した方
法と同様にして行うことができる。 工程B−3
(Wherein R 2 and X have the same meanings as described above). Compound (IIIb) or a salt thereof can be produced by reacting compound (XVIIa) or a salt thereof with compound (II). it can. The reaction between compound (XVIIa) or a salt thereof and compound (II) can be carried out in the same manner as in the method described in the aforementioned step A-1. Step B-3

【0097】[0097]

【化62】 Embedded image

【0098】(式中、Xは前記と同義である) 化合物(IVb)は、化合物(IIIb)またはその塩をフリ
ーデル−クラフツ(Friedel-Crafts)反応に付すことに
より、製造することができる。このフリーデル−クラフ
ツ(Friedel-Crafts)反応は、前記の工程A−2で説明
した方法と同様にして行うことができる。 工程B−4
Wherein X is as defined above. Compound (IVb) can be produced by subjecting compound (IIIb) or a salt thereof to a Friedel-Crafts reaction. This Friedel-Crafts reaction can be performed in the same manner as in the method described in the above step A-2. Step B-4

【0099】[0099]

【化63】 Embedded image

【0100】(式中、Xは前記と同義である) 化合物(VII)は、化合物(IVb)を公知の方法[Org. Sy
n. Coll. Vol.II., 130, (1943)等]に準じて、溶媒中、
室温〜用いる溶媒の沸点の間の温度で還元剤で処理する
ことにより、製造することができる。還元剤としては、
塩化第一スズ・2水和物、鉄等があげられ、その使用量
は化合物(IVb)に対して、1〜10当量であるのが好まし
い。溶媒としては前記の工程B−1−1に使用されるも
のと同様のものがあげられる。その使用量は、化合物
(IVb)に対して1〜100倍量(容量)であるのが好まし
い。また、前記の還元反応は、公知の方法[Org. Syn. C
oll.Vol.V., 829, (1973)等]に準じて、Pd-C等を用いた
接触還元も適用することができる。
(Wherein X is as defined above) Compound (VII) was prepared by a known method [Org.
n. Coll. Vol.II., 130, (1943) etc.]
It can be produced by treating with a reducing agent at a temperature between room temperature and the boiling point of the solvent used. As a reducing agent,
Stannous chloride dihydrate, iron and the like can be mentioned, and the use amount thereof is preferably 1 to 10 equivalents to compound (IVb). As the solvent, those similar to the one used in the above-mentioned step B-1-1 can be mentioned. The amount of use is preferably 1 to 100 times (volume) the amount of the compound (IVb). The reduction reaction can be performed by a known method [Org. Syn. C.
oll. Vol. V., 829, (1973) etc.], and catalytic reduction using Pd-C or the like can also be applied.

【0101】工程A−4またはB−4で得られた化合物
(VII)を原料として、公知の方法(WO98/46587等)に
準じて、尿失禁治療薬として有用な化合物(VIII)を製
造できる(以下、工程5、6)。 工程5
Using compound (VII) obtained in step A-4 or B-4 as a starting material, compound (VIII) useful as a therapeutic agent for urinary incontinence can be produced according to a known method (eg, WO98 / 46587). (Hereinafter, steps 5 and 6). Step 5

【0102】[0102]

【化64】 Embedded image

【0103】(式中、XおよびYはそれぞれ前記と同義で
ある) 化合物(XX)は、公知の方法[J. Med. Chem. 39, 304(1
996)等]に準じて、化合物(XXI)をテトラヒドロフラン
等の不活性溶媒中、0〜25℃の間の温度でクロロ蟻酸フ
ェニルまたはクロロ蟻酸p−ニトロフェニルで対応する
カーボネート体に導いた後に、同温度で化合物(VII)
と反応させることにより製造することができる。また、
本発明の製造法において、化合物(XXI)が3,3,3-トリフ
ルオロ-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン酸であるのが好
ましい。
(Wherein X and Y are as defined above) Compound (XX) can be prepared by a known method [J. Med. Chem. 39 , 304 (1)
996) etc.], after introducing compound (XXI) into the corresponding carbonate with phenyl chloroformate or p-nitrophenyl chloroformate in an inert solvent such as tetrahydrofuran at a temperature between 0 and 25 ° C. Compound (VII) at the same temperature
Can be produced by reacting Also,
In the production method of the present invention, it is preferable that compound (XXI) is 3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-methylpropanoic acid.

【0104】工程6 化合物(VIII)は、化合物(XX)を2 当量以上のメタクロロ
過安息香酸もしくはマグネシウムモノペルオキシフタル
酸・6水和物等の酸化剤の存在下、ジクロロメタン、ク
ロロホルム、エチレンジクロリド、1,1,2,2-テトラクロ
ロエタン等の不活性溶媒中、0 ℃〜用いた溶媒の沸点の
間の温度の間の温度で1 〜24時間処理することにより製
造することができる。
Step 6 Compound (VIII) is prepared by converting compound (XX) into dichloromethane, chloroform, ethylene dichloride, in the presence of two or more equivalents of an oxidizing agent such as metachloroperbenzoic acid or magnesium monoperoxyphthalic acid hexahydrate. It can be prepared by treating in an inert solvent such as 1,1,2,2-tetrachloroethane at a temperature between 0 ° C. and a temperature between the boiling points of the solvents used for 1 to 24 hours.

【0105】本発明の製造法において、各工程で得られ
る中間体は、特に精製や単離をせずに、次の工程に付す
ことも可能である。以下に、実施例により本発明をさら
に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら
限定されるものではない。
In the production method of the present invention, the intermediate obtained in each step can be subjected to the next step without particular purification or isolation. Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

【0106】[0106]

【実施例】各化合物の物理化学データは次の機器類によ
って測定した。1 H-NMR : 日本ブルカー AC 300 (300 MHz) MS : 日立M-80B
EXAMPLES The physicochemical data of each compound was measured by the following instruments. 1 H-NMR: Nippon Bruker AC 300 (300 MHz) MS: Hitachi M-80B

【0107】実施例1 (1)2-フルオロ-6-(3-チエニルメチルチオ)安息香酸 3-チオフェンメタノール69.3g(607mmol)をトルエン80
0mLに溶解し、氷冷下、塩化チオニル79.1g(631mmol)
を滴下し1時間室温で撹拌した。これに、2.27mol/Lの水
酸化ナトリウム水溶液を加え洗浄し、3-クロロメチルチ
オフェンのトルエン溶液を調製した。また、2-フルオロ
-6-メルカプト安息香酸80.0g(465mmol)に水800mLおよ
び水酸化ナトリウム46.5g(1160mmol)を加えて溶解
し、40℃で1時間撹拌した。この溶液に先に調製した3-
クロロメチルチオフェンのトルエン溶液を加えて2時間
撹拌後、反応液を分液しトルエン層を除去した。水層を
濃塩酸60mLで酸性(pH 1)にし、トルエン/酢酸エチル
=2/1混合溶媒800mLで抽出分液した。有機層を400mLま
で減圧濃縮し、トルエン400mLを添加し再び400mLまで減
圧濃縮した後、加熱、冷却晶析し、析出した固体をろ取
することにより2-フルオロ-6-(3-チエニルメチルチオ)
安息香酸111g(収率89%)を得た。1 H-NMR (300 MHz、CDCl3) δ(ppm): 4.17 (2H,
s), 5.2-5.9 (1H, brs), 6.98 (1H, ddd, J = 8.2, 1.0
Hz, JH-F = 9.6 Hz), 7.07 (1H, dd, J = 5.0, 1.3 H
z), 7.10 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.11 (1H, dd, J = 3.
0, 1.3 Hz), 7.26 (1H, dd, J = 5.0, 3.0 Hz), 7.32
(1H, ddd, J = 8.2, 8.2 Hz, JH-F = 5.7 Hz).MS (EI)
m/z = 268 (M+).
Example 1 (1) 2-Fluoro-6- (3-thienylmethylthio) benzoic acid 3-thiophene methanol 69.3 g (607 mmol) was added to toluene 80
Dissolve in 0 mL, and under ice-cooling, 79.1 g (631 mmol) of thionyl chloride
Was added dropwise and stirred at room temperature for 1 hour. To this, a 2.27 mol / L aqueous solution of sodium hydroxide was added and washed to prepare a toluene solution of 3-chloromethylthiophene. Also, 2-fluoro
800 mL of water and 46.5 g (1160 mmol) of sodium hydroxide were added to and dissolved in 80.0 g (465 mmol) of -6-mercaptobenzoic acid, and the mixture was stirred at 40 ° C for 1 hour. To this solution, the previously prepared 3-
After adding a toluene solution of chloromethylthiophene and stirring for 2 hours, the reaction solution was separated and the toluene layer was removed. The aqueous layer was made acidic (pH 1) with 60 mL of concentrated hydrochloric acid, and extracted and separated with 800 mL of a mixed solvent of toluene / ethyl acetate = 2/1. The organic layer was concentrated under reduced pressure to 400 mL, 400 mL of toluene was added, and the mixture was again concentrated under reduced pressure to 400 mL, and then heated, cooled, and crystallized.
111 g (89% yield) of benzoic acid was obtained. 1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 4.17 (2H,
s), 5.2-5.9 (1H, brs), 6.98 (1H, ddd, J = 8.2, 1.0
Hz, J HF = 9.6 Hz), 7.07 (1H, dd, J = 5.0, 1.3 H
z), 7.10 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.11 (1H, dd, J = 3.
0, 1.3 Hz), 7.26 (1H, dd, J = 5.0, 3.0 Hz), 7.32
(1H, ddd, J = 8.2, 8.2 Hz, J HF = 5.7 Hz) .MS (EI)
m / z = 268 (M + ).

【0108】(2)9-フルオロ-4,10-ジヒドロチエノ
[3,2-c][1]ベンゾチエピン-10-オン 2-フルオロ-6-(3-チエニルメチルチオ)安息香酸150g(5
59mmol)をトルエン870mLに溶解し、氷冷下、無水トリ
フルオロ酢酸141g(671mmol)を滴下し、1時間撹拌し
た。その後、40℃に加温して1時間撹拌した。反応液を
水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次
洗浄した。有機層を300mLまで減圧濃縮し、得られた有
機層を加熱後、イソプロピルアルコール600mLを添加、
冷却晶析し、析出した固体をろ取することにより、9-フ
ルオロ-4,10-ジヒドロチエノ[3,2-c][1]ベンゾチエピン
-10-オン121g(収率85%)を得た。1 H-NMR (300 MHz、CDCl3) δ(ppm): 3.98 (2H,
s), 6.95 (1H, d, J = 5.0Hz), 7.14 (1H, ddd, J = 7.
8, 1.2 Hz, JH-F = 10.0 Hz), 7.36 (1H, ddd, J= 7.8,
7.8 Hz, JH-F = 5.3 Hz), 7.44 (1H, dd, J = 7.8, 1.
2 Hz), 7.57 (1H,d, J = 5.0 Hz). MS (EI) m/z = 250 (M+).
(2) 9-fluoro-4,10-dihydrothieno
[3,2-c] [1] benzothiepin-10-one 150 g of 2-fluoro-6- (3-thienylmethylthio) benzoic acid (5
59 mmol) was dissolved in 870 mL of toluene, and 141 g (671 mmol) of trifluoroacetic anhydride was added dropwise under ice cooling, followed by stirring for 1 hour. Thereafter, the mixture was heated to 40 ° C. and stirred for 1 hour. The reaction solution was washed sequentially with water, a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, and saturated saline. The organic layer was concentrated under reduced pressure to 300 mL, and after heating the obtained organic layer, 600 mL of isopropyl alcohol was added,
After cooling and crystallization, the precipitated solid is collected by filtration to give 9-fluoro-4,10-dihydrothieno [3,2-c] [1] benzothiepin.
121 g of -10-one (85% yield) was obtained. 1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 3.98 (2H,
s), 6.95 (1H, d, J = 5.0Hz), 7.14 (1H, ddd, J = 7.
8, 1.2 Hz, J HF = 10.0 Hz), 7.36 (1H, ddd, J = 7.8,
7.8 Hz, J HF = 5.3 Hz), 7.44 (1H, dd, J = 7.8, 1.
2 Hz), 7.57 (1H, d, J = 5.0 Hz). MS (EI) m / z = 250 (M + ).

【0109】(3)9-ベンジルアミノ-4,10-ジヒドロチ
エノ[3,2-c][1]ベンゾチエピン-10-オン 9-フルオロ-4,10-ジヒドロチエノ[3,2-c][1]ベンゾチエ
ピン-10-オン400g(1600mmol)にベンジルアミン1200mL
を加え、80℃で6時間加熱撹拌した。反応液にエタノー
ル4000mLおよび水4000mLを順次滴下して晶析し、析出し
た固体をろ取することにより、9-ベンジルアミノ-4,10-
ジヒドロチエノ[3,2-c][1]ベンゾチエピン-10-オン518g
(収率96%)を得た。1 H-NMR (300 MHz、CDCl3) δ(ppm): 3.93 (2H,
s), 4.43 (2H, d, J = 5.5Hz), 6.68 (1H, dd, J = 8.
5, 1.1 Hz), 6.90 (1H, dd, J = 7.3, 1.1 Hz), 6.91
(1H, d, J = 5.1 Hz), 7.12 (1H, dd, J = 8.5, 7.3 H
z), 7.2-7.4 (5H, m),7.50 (1H, d, J = 5.1 Hz), 8.33
(1H, brs).MS (EI) m/z = 337 (M+).
(3) 9-benzylamino-4,10-dihydrothieno [3,2-c] [1] benzothiepin-10-one 9-fluoro-4,10-dihydrothieno [3,2-c] [1] Benzoamine 1200 mL in 400 g (1600 mmol) of benzothiepin-10-one
Was added and the mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 6 hours. The reaction solution was crystallized by dropwise addition of 4000 mL of ethanol and 4000 mL of water sequentially, and the precipitated solid was collected by filtration to obtain 9-benzylamino-4,10-.
518 g of dihydrothieno [3,2-c] [1] benzothiepin-10-one
(96% yield). 1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 3.93 (2H,
s), 4.43 (2H, d, J = 5.5Hz), 6.68 (1H, dd, J = 8.
5, 1.1 Hz), 6.90 (1H, dd, J = 7.3, 1.1 Hz), 6.91
(1H, d, J = 5.1 Hz), 7.12 (1H, dd, J = 8.5, 7.3 H
z), 7.2-7.4 (5H, m), 7.50 (1H, d, J = 5.1 Hz), 8.33
(1H, brs) .MS (EI) m / z = 337 (M + ).

【0110】(4)9-アミノ-4,10-ジヒドロチエノ[3,2
-c][1]ベンゾチエピン-10-オン 9-ベンジルアミノ-4,10-ジヒドロチエノ[3,2-c][1]ベン
ゾチエピン-10-オン100g(296mmol)に酢酸エチル2000m
Lを加え、45℃で加熱撹拌した。この溶液に2,3-ジクロ
ロ-5,6-ジシアノ-1,4-ベンゾキノン69.3g(296mmol)の
酢酸エチル溶液を添加し、同温度で2時間加熱撹拌し
た。反応液を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナ
トリウム水溶液で順次洗浄した。有機層を活性炭により
脱色処理した後、500mLまで減圧濃縮し、エタノール500
mLを添加、加熱後、冷却晶析し、析出した固体をろ取す
ることにより9-アミノ-4,10-ジヒドロチエノ[3,2-c][1]
ベンゾチエピン-10-オン64g(収率87%)を得た。1 H-NMR (300 MHz、CDCl3) δ(ppm): 3.93 (2H,
s), 5.70 (2H, brs), 6.68(1H, dd, J = 8.2, 1.3 Hz),
6.92 (1H, d, J = 5.1 Hz), 6.95 (1H, dd, J =7.4,
1.3 Hz), 7.10 (1H, dd, J = 8.2, 7.4 Hz), 7.51 (1H,
d, J = 5.1 Hz).MS (EI) m/z = 247 (M+).
(4) 9-amino-4,10-dihydrothieno [3,2
-c] [1] benzothiepin-10-one 9-benzylamino-4,10-dihydrothieno [3,2-c] [1] benzothiepin-10-one 100 g (296 mmol) in ethyl acetate 2000m
L was added and the mixture was heated and stirred at 45 ° C. To this solution was added a solution of 69.3 g (296 mmol) of 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone in ethyl acetate, and the mixture was heated and stirred at the same temperature for 2 hours. The reaction solution was washed sequentially with an aqueous sodium hydrogen sulfite solution and an aqueous sodium hydrogen carbonate solution. After decolorizing the organic layer with activated carbon, the solution was concentrated under reduced pressure to 500 mL, and ethanol 500
After adding and heating, the mixture was cooled and crystallized, and the precipitated solid was collected by filtration to give 9-amino-4,10-dihydrothieno [3,2-c] [1].
64 g of benzothiepin-10-one (87% yield) was obtained. 1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 3.93 (2H,
s), 5.70 (2H, brs), 6.68 (1H, dd, J = 8.2, 1.3 Hz),
6.92 (1H, d, J = 5.1 Hz), 6.95 (1H, dd, J = 7.4,
1.3 Hz), 7.10 (1H, dd, J = 8.2, 7.4 Hz), 7.51 (1H,
d, J = 5.1 Hz) .MS (EI) m / z = 247 (M + ).

【0111】(5)(S)-(+)-9-(3,3,3-トリフルオロ-2-
ヒドロキシ-2-メチルプロパノイルアミノ)-4,10-ジヒド
ロチエノ[3,2-c][1]ベンゾチエピン-10-オン (S)-(+)-3,3,3-トリフルオロ-2-ヒドロキシ-2-メチルプ
ロパン酸(0.79 g, 5.0mmol)をジメチルアセトアミド(10
ml) に溶解し、-15 ℃で塩化チオニル(0.36ml, 5.0 mm
ol) を加え、-15 〜-5℃で1 時間撹拌した。この反応液
に、9-アミノ-4,10-ジヒドロチエノ[3,2-c][1]ベンゾチ
エピン-10-オン(0.62 g, 2.5 mmol)を加え、室温で一夜
撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた油状の残渣
を酢酸エチル(50 ml) に溶解し、有機層を5%炭酸水素ナ
トリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マ
グネシウム上で乾燥した。乾燥剤をろ別後、有機層を減
圧下濃縮し、得られた油状の残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー (ヘキサン/酢酸エチル=5/1) で精製
し、さらにヘキサンでトリチュレートすることにより、
(S)-(+)-9-(3,3,3-トリフルオロ-2-ヒドロキシ-2-メチ
ルプロパノイルアミノ)-4,10-ジヒドロチエノ[3,2-c]
[1]ベンゾチエピン-10-オンを得た(0.60 g,63%) 。1 H-NMR (300 MHz、DMSO-d6) δ(ppm): 1.72 (s, 3H),
3.98 (s, 2H), 4.22 (br, 1H), 6.97 (d, 1H, J = 5.0
Hz), 7.43 (t, 1H, J = 8.0 Hz), 7.51 (d, 1H,J = 8.0
Hz), 7.62 (d, 1H, J = 5.0 Hz), 8.29 (d, 1H, J =
8.0 Hz), 10.62 (br, 1H).
(5) (S)-(+)-9- (3,3,3-trifluoro-2-
(Hydroxy-2-methylpropanoylamino) -4,10-dihydrothieno [3,2-c] [1] benzothiepin-10-one (S)-(+)-3,3,3-trifluoro-2-hydroxy 2-Methylpropanoic acid (0.79 g, 5.0 mmol) was added to dimethylacetamide (10
dissolved in thionyl chloride (0.36 ml, 5.0 mm
ol), and the mixture was stirred at -15 to -5 ° C for 1 hour. To this reaction solution, 9-amino-4,10-dihydrothieno [3,2-c] [1] benzothiepin-10-one (0.62 g, 2.5 mmol) was added, and the mixture was stirred at room temperature overnight. The reaction solution was concentrated under reduced pressure, the resulting oily residue was dissolved in ethyl acetate (50 ml), and the organic layer was washed successively with a 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution and brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. . After filtering off the drying agent, the organic layer was concentrated under reduced pressure, and the obtained oily residue was purified by silica gel column chromatography (hexane / ethyl acetate = 5/1), and further triturated with hexane to obtain a residue.
(S)-(+)-9- (3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-methylpropanoylamino) -4,10-dihydrothieno [3,2-c]
[1] Benzothiepin-10-one was obtained (0.60 g, 63%). 1 H-NMR (300 MHz, DMSO-d 6 ) δ (ppm): 1.72 (s, 3H),
3.98 (s, 2H), 4.22 (br, 1H), 6.97 (d, 1H, J = 5.0
Hz), 7.43 (t, 1H, J = 8.0 Hz), 7.51 (d, 1H, J = 8.0
Hz), 7.62 (d, 1H, J = 5.0 Hz), 8.29 (d, 1H, J =
8.0 Hz), 10.62 (br, 1H).

【0112】(6)(S)-(+)-5,5-ジオキソ-9-(3,3,3-ト
リフルオロ-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパノイルアミ
ノ)-4,10-ジヒドロチエノ[3,2-c][1]ベンゾチエピン-10
-オン (S)-(+)-9-(3,3,3-トリフルオロ-2-ヒドロキシ-2-メチ
ルプロパノイルアミノ)-4,10-ジヒドロチエノ[3,2-c]
[1]ベンゾチエピン-10-オン(0.3 g, 0.77 mmol)をジク
ロロメタン(30 ml)に溶解し、氷冷下、メタクロロ過安
息香酸(0.67 g, 3.5当量)を加え、室温で3 時間撹拌し
た。反応終了後、反応液を5%亜硫酸ナトリウム水溶液、
5%炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。乾燥剤をろ別
後、有機層を減圧下濃縮し、得られた油状の残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル
=3/1)で精製し、さらにイソプロピルエーテルでトリチ
ュレートすることにより、(S)-(+)-5,5-ジオキソ-9-(3,
3,3-トリフルオロ-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパノイル
アミノ)-4,10-ジヒドロチエノ[3,2-c][1]ベンゾチエピ
ン-10-オンを得た(0.21 g,64%)。1 H-NMR (300 MHz、CDCl3) δ(ppm): 1.74 (s, 3H), 4.
68 (s, 2H), 7.03 (d, 1H, J = 5.1 Hz), 7.74 (d, 1H,
J = 5.1 Hz), 7.76 (d, 1H, J = 8.3 Hz), 7.97-8.03
(m, 2H), 8.67 (d, 1H, J = 8.3 Hz), 10.80 (br, 1H).
(6) (S)-(+)-5,5-dioxo-9- (3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-methylpropanoylamino) -4,10-dihydrothieno [ 3,2-c] [1] benzothiepin-10
-One (S)-(+)-9- (3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-methylpropanoylamino) -4,10-dihydrothieno [3,2-c]
[1] Benzothiepin-10-one (0.3 g, 0.77 mmol) was dissolved in dichloromethane (30 ml), and meta-chloroperbenzoic acid (0.67 g, 3.5 equivalents) was added under ice-cooling, followed by stirring at room temperature for 3 hours. After the completion of the reaction, the reaction solution was 5% aqueous sodium sulfite,
The extract was washed sequentially with a 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated saline, and dried over anhydrous magnesium sulfate. After filtering off the drying agent, the organic layer was concentrated under reduced pressure, and the obtained oily residue was subjected to silica gel column chromatography (hexane / ethyl acetate).
= 3/1) and further triturated with isopropyl ether to give (S)-(+)-5,5-dioxo-9- (3,
3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-methylpropanoylamino) -4,10-dihydrothieno [3,2-c] [1] benzothiepin-10-one was obtained (0.21 g, 64%). 1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 1.74 (s, 3H), 4.
68 (s, 2H), 7.03 (d, 1H, J = 5.1 Hz), 7.74 (d, 1H,
J = 5.1 Hz), 7.76 (d, 1H, J = 8.3 Hz), 7.97-8.03
(m, 2H), 8.67 (d, 1H, J = 8.3 Hz), 10.80 (br, 1H).

【0113】実施例2 (1)2-(エトキシチオカルボニルチオ)-6-ニトロ安
息香酸 6-ニトロアントラニル酸5.46g(30.0mmol)を、水27.3m
Lと10mol/L水酸化ナトリウム水溶液3.15mLの混合溶液に
溶解し、亜硝酸ナトリウム2.24g(31.5mmol)を加えて
氷冷した。この溶液を氷冷した水5.0mLと12mol/L塩酸2.
84mLの混合溶液中に0〜5℃を維持しながらゆっくり滴下
し、ジアゾニウム塩を調製した。また、別の容器でキサ
ントゲン酸カリウム5.29g(33.0mmol)を水15mLに溶解
しジクロロメタン60mLを加え、調製したジアゾニウム塩
を室温で撹拌しながら滴下した。滴下終了後の反応液を
12mol/L塩酸でpH 3に調整し、ジクロロメタン60mLを加
えて分液操作を行った。水層を酢酸エチルで再度抽出
し、酢酸エチル層を先のジクロロメタン層と合併後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。この濃縮残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム
/酢酸エチル=1/1)で精製し、2-(エトキシチオカル
ボニルチオ)-6-ニトロ安息香酸2.50g(収率29%)を得
た。1 H-NMR(300 MHz、CDCl3) δ(ppm):1.33 (3H, t, J
= 7.1 Hz), 4.61 (2H,q, J = 7.1 Hz), 6.14 (1H, br
s), 7.70 (1H, dd, J = 8.4, 7.7 Hz), 7.95 (1H, dd,
J = 7.7, 1.1 Hz), 8.34 (1H, dd, J = 8.4, 1.1 Hz) MS (EI) m/z = 287 (M+)
Example 2 (1) 2- (ethoxythiocarbonylthio) -6-nitrobenzoic acid 6.46 g (30.0 mmol) of 6-nitroanthranilic acid was added to 27.3 m 2 of water.
L and a solution of 3.15 mL of a 10 mol / L aqueous sodium hydroxide solution were dissolved, and 2.24 g (31.5 mmol) of sodium nitrite was added thereto, followed by cooling with ice. This solution was ice-cooled with 5.0 mL of water and 12 mol / L hydrochloric acid 2.
The diazonium salt was prepared by slowly adding dropwise to 84 mL of the mixed solution while maintaining 0 to 5 ° C. In another container, 5.29 g (33.0 mmol) of potassium xanthate was dissolved in 15 mL of water, 60 mL of dichloromethane was added, and the prepared diazonium salt was added dropwise with stirring at room temperature. After the completion of dropping,
The pH was adjusted to 3 with 12 mol / L hydrochloric acid, and 60 mL of dichloromethane was added to carry out a liquid separation operation. The aqueous layer was extracted again with ethyl acetate, and the ethyl acetate layer was combined with the dichloromethane layer, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated. The concentrated residue is subjected to silica gel column chromatography (chloroform
/ Ethyl acetate = 1/1) to give 2.50 g (29% yield) of 2- (ethoxythiocarbonylthio) -6-nitrobenzoic acid. 1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 1.33 (3H, t, J
= 7.1 Hz), 4.61 (2H, q, J = 7.1 Hz), 6.14 (1H, br
s), 7.70 (1H, dd, J = 8.4, 7.7 Hz), 7.95 (1H, dd,
J = 7.7, 1.1 Hz), 8.34 (1H, dd, J = 8.4, 1.1 Hz) MS (EI) m / z = 287 (M + )

【0114】(2)2-メルカプト-6-ニトロ安息香酸 2-(エトキシチオカルボニルチオ)-6-ニトロ安息香酸1
00mg(0.35mmol)をエタノールに溶解し、水酸化カリウ
ム91.9mg(1.39mmol)を加え、室温で2時間撹拌した。
反応液を1mol/L塩酸で酸性(pH 1)にした後、酢酸エチ
ルで抽出し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチ
ルを濃縮後、残渣をテトラヒドロフラン2mL、メタノー
ル0.5mLに溶解し、氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム15.
9mg(0.42mmol)を加え、室温で1時間撹拌した。その
後、1mol/L塩酸で酸性(pH 1)にした後、酢酸エチルを
加えて分液し酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。この酢酸エチル層を濃縮し、2-メルカプト-6-
ニトロ安息香酸31.3mg(収率45%)を得た。1 H-NMR (300 MHz、CDCl3) δ(ppm): 4.16 (1H,
s), 6.13 (1H, brs), 6.73(1H, dd, J = 8.0, 7.7 Hz),
7.70 (1H, dd, J = 7.7, 1.0 Hz), 7.92 (1H, dd, J =
8.0, 1.0 Hz) MS (EI) m/z = 199 (M+)
(2) 2-mercapto-6-nitrobenzoic acid 2- (ethoxythiocarbonylthio) -6-nitrobenzoic acid 1
00 mg (0.35 mmol) was dissolved in ethanol, 91.9 mg (1.39 mmol) of potassium hydroxide was added, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours.
The reaction solution was acidified (pH 1) with 1 mol / L hydrochloric acid, extracted with ethyl acetate, and dried over anhydrous magnesium sulfate. After concentrating the ethyl acetate, the residue was dissolved in tetrahydrofuran (2 mL) and methanol (0.5 mL), and cooled with ice under sodium borohydride 15.
9 mg (0.42 mmol) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Thereafter, the mixture was made acidic (pH 1) with 1 mol / L hydrochloric acid, and ethyl acetate was added thereto to carry out liquid separation. The ethyl acetate layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. The ethyl acetate layer was concentrated to give 2-mercapto-6-
31.3 mg (yield 45%) of nitrobenzoic acid were obtained. 1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 4.16 (1H,
s), 6.13 (1H, brs), 6.73 (1H, dd, J = 8.0, 7.7 Hz),
7.70 (1H, dd, J = 7.7, 1.0 Hz), 7.92 (1H, dd, J =
8.0, 1.0 Hz) MS (EI) m / z = 199 (M + )

【0115】(3)2-ニトロ-6-(3-チエニルメチルチ
オ)安息香酸 2-(エトキシチオカルボニルチオ)-6-ニトロ安息香酸3
00mg(1.04mmol)をエタノール3mLに溶解し、水酸化カ
リウム276mg(4.06mmol)を加えて室温で1時間撹拌し
た。反応液を1mol/L塩酸で酸性(pH 1)にした後、ジク
ロロメタンを加えて分液し有機層を濃縮した。濃縮残渣
をテトラヒドロフラン10mL、メタノール2.5mLに溶解
し、水素化ホウ素ナトリウム78.7mg(2.08mmol)を加え
て、1時間撹拌した。また、別の容器で3-チオフェンメ
タノール143mg(1.25mmol)をジクロロメタン1.2mLに溶
解し、氷冷下、塩化チオニル0.12mL(1.56mmol)を滴下
し30分間室温で撹拌した。反応後、水を加えて分液し、
さらに有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽
和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した。このジクロロ
メタン溶液を先の反応液に加えて1時間撹拌後、反応液
を6mol/L塩酸で酸性(pH1)にし、さらにジクロロメタ
ンを加え分液した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥後濃縮し、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(ヘキサン/酢酸エチル=7/3)で精製して、
2-ニトロ-6-(3-チエニルメチルチオ)安息香酸188mg(収
率61%)を得た。1 H-NMR (300 MHz、CDCl3) δ(ppm): 4.17 (2H,
s), 5.30 (1H, brs), 7.00(1H, dd, J = 3.0, 1.3 Hz),
7.05 (1H, dd, J = 5.0, 1.3 Hz), 7.27 (1H, dd, J =
5.0, 3.0 Hz), 7.43 (1H, t, J = 8.0 Hz), 7.52 (1H,
dd, J = 8.0, 1.2Hz), 8.08 (1H, dd, J = 8.0, 1.2 H
z) MS (EI) m/z = 295 (M+)
(3) 2-Nitro-6- (3-thienylmethylthio) benzoic acid 2- (ethoxythiocarbonylthio) -6-nitrobenzoic acid 3
00 mg (1.04 mmol) was dissolved in 3 mL of ethanol, 276 mg (4.06 mmol) of potassium hydroxide was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. After the reaction solution was acidified (pH 1) with 1 mol / L hydrochloric acid, dichloromethane was added thereto for liquid separation, and the organic layer was concentrated. The concentrated residue was dissolved in 10 mL of tetrahydrofuran and 2.5 mL of methanol, 78.7 mg (2.08 mmol) of sodium borohydride was added, and the mixture was stirred for 1 hour. In another container, 143 mg (1.25 mmol) of 3-thiophene methanol was dissolved in 1.2 mL of dichloromethane, and 0.12 mL (1.56 mmol) of thionyl chloride was added dropwise under ice cooling, followed by stirring at room temperature for 30 minutes. After the reaction, water is added and the mixture is separated.
Further, the organic layer was sequentially washed with a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate and a saturated aqueous solution of sodium chloride. This dichloromethane solution was added to the previous reaction solution, and the mixture was stirred for 1 hour. After that, the reaction solution was acidified (pH 1) with 6 mol / L hydrochloric acid, and further dichloromethane was added to separate the mixture. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated, and the concentrated residue was purified by silica gel column chromatography (hexane / ethyl acetate = 7/3).
188 mg (61% yield) of 2-nitro-6- (3-thienylmethylthio) benzoic acid were obtained. 1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 4.17 (2H,
s), 5.30 (1H, brs), 7.00 (1H, dd, J = 3.0, 1.3 Hz),
7.05 (1H, dd, J = 5.0, 1.3 Hz), 7.27 (1H, dd, J =
5.0, 3.0 Hz), 7.43 (1H, t, J = 8.0 Hz), 7.52 (1H,
dd, J = 8.0, 1.2Hz), 8.08 (1H, dd, J = 8.0, 1.2 H
z) MS (EI) m / z = 295 (M + )

【0116】(4)9-ニトロ-4,10-ジヒドロチエノ[3,2
-c][1]ベンゾチエピン-10-オン 2-ニトロ-6-(3-チエニルメチルチオ)安息香酸50.0mg
(0.174mmol)をジクロロメタン1mLに溶解し、氷冷下、
無水トリフルオロ酢酸0.041mL(0.291mmol)を加えて3.
5時間室温で撹拌した。再度氷冷下、無水トリフルオロ
酢酸0.041mL(0.291mmol)を加えて1時間室温で撹拌し
た後、氷冷下、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体2m
gを加えて10分間撹拌した。反応液にジクロロメタンと
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて分液し、有機層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮し、9-ニトロ-4,1
0-ジヒドロチエノ[3,2-c][1]ベンゾチエピン-10-オン 4
2.4mg(収率90%)を得た。1 H-NMR (300 MHz、CDCl3) δ(ppm): 4.08 (2H,
s), 7.00 (1H, d, J = 5.0Hz), 7.48 (1H, dd, J = 8.
2, 7.8 Hz), 7.65 (1H, d, J = 5.0 Hz), 7.81 (1H, d
d, J = 8.2, 1.2 Hz), 7.83 (1H, dd, J = 7.8, 1.2 H
z) MS (EI) m/z = 277 (M+)
(4) 9-nitro-4,10-dihydrothieno [3,2
-c] [1] Benzothiepin-10-one 2-nitro-6- (3-thienylmethylthio) benzoic acid 50.0mg
(0.174 mmol) was dissolved in 1 mL of dichloromethane,
0.041 mL (0.291 mmol) of trifluoroacetic anhydride was added and 3.
Stirred at room temperature for 5 hours. Under ice cooling again, trifluoroacetic anhydride (0.041 mL, 0.291 mmol) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Then, under ice cooling, boron trifluoride diethyl ether complex 2m
g was added and stirred for 10 minutes. Dichloromethane and a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate were added to the reaction solution, and the mixture was separated.The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated, and 9-nitro-4,1 was added.
0-dihydrothieno [3,2-c] [1] benzothiepin-10-one 4
2.4 mg (90% yield) were obtained. 1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 4.08 (2H,
s), 7.00 (1H, d, J = 5.0Hz), 7.48 (1H, dd, J = 8.
2, 7.8 Hz), 7.65 (1H, d, J = 5.0 Hz), 7.81 (1H, d
d, J = 8.2, 1.2 Hz), 7.83 (1H, dd, J = 7.8, 1.2 H
z) MS (EI) m / z = 277 (M + )

【0117】(5)9-ニトロ-4,10-ジヒドロチエノ[3,2
-c][1]ベンゾチエピン-10-オン 6-ニトロアントラニル酸1.82g(10.0mmol)を水12.8mL
と12mol/L塩酸1.8mLの混合溶液に溶解し、亜硝酸ナトリ
ウム水溶液[亜硝酸ナトリウム747mg(10.5mmol) / 水
3.6mL]を、0〜5℃を維持しながらゆっくり滴下後30分間
撹拌し、ジアゾニウム塩を調製した。また、別の容器で
キサントゲン酸カリウム2.26g(12.0mmol)、炭酸カリ
ウム4.23g(30.6mmol)を水9mLに溶解し、50℃まで昇温
した後、先に調製したジアゾニウム塩を滴下した。その
後、さらに80℃まで昇温し、2時間反応後、2-メルカプ
ト-6-ニトロ安息香酸溶液を調製した。また、別の容器
で3-チオフェンメタノール1.41mL(15.0mmol)をトルエ
ン18mLに溶解し、氷冷下、塩化チオニル1.38mL(18.0mm
oL)を滴下後、30分間撹拌し、水18mLと飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液18mLで順次洗浄し、3-クロロメチルチオ
フェンのトルエン溶液を調製した。このトルエン溶液
を、先に調製した2-メルカプト-6-ニトロ安息香酸溶液
に添加し、40℃で3時間反応した。この反応液を分液
後、水層を12mol/L塩酸8mLでpH 1〜2に調整した後、酢
酸エチル60mLで抽出した。この抽出液を濃縮乾固し、残
渣にトルエン18mLを加え、2-ニトロ-6-(3-チエニルメチ
ルチオ)安息香酸のトルエン懸濁液とした。この懸濁液
に無水トリフルオロ酢酸1.95mL(13.8mmol)を加え、50
℃で1時間撹拌し、析出した固体をろ取、乾燥し、9-ニ
トロ-4,10-ジヒドロチエノ[3,2-c][1]ベンゾチエピン-1
0-オン1.59g[収率57% 6-ニトロアントラニル酸基準]を
得た。
(5) 9-nitro-4,10-dihydrothieno [3,2
-c] [1] benzothiepin-10-one 1.82 g (10.0 mmol) of 6-nitroanthranilic acid in 12.8 mL of water
And a solution of 12 mol / L hydrochloric acid (1.8 mL) dissolved in sodium nitrite aqueous solution [747 mg (10.5 mmol) of sodium nitrite / water
3.6 mL] was slowly added dropwise while maintaining 0 to 5 ° C., followed by stirring for 30 minutes to prepare a diazonium salt. In a separate container, 2.26 g (12.0 mmol) of potassium xanthate and 4.23 g (30.6 mmol) of potassium carbonate were dissolved in 9 mL of water, the temperature was raised to 50 ° C., and the diazonium salt prepared above was added dropwise. Thereafter, the temperature was further raised to 80 ° C., and after reacting for 2 hours, a 2-mercapto-6-nitrobenzoic acid solution was prepared. In another container, 1.41 mL (15.0 mmol) of 3-thiophene methanol was dissolved in 18 mL of toluene, and 1.38 mL of thionyl chloride (18.0 mm
oL) was added dropwise, followed by stirring for 30 minutes, followed by sequential washing with 18 mL of water and 18 mL of a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution to prepare a toluene solution of 3-chloromethylthiophene. This toluene solution was added to the previously prepared 2-mercapto-6-nitrobenzoic acid solution and reacted at 40 ° C. for 3 hours. After liquid separation of the reaction solution, the aqueous layer was adjusted to pH 1 to 2 with 8 mL of 12 mol / L hydrochloric acid, and then extracted with 60 mL of ethyl acetate. The extract was concentrated to dryness, and 18 mL of toluene was added to the residue to prepare a suspension of 2-nitro-6- (3-thienylmethylthio) benzoic acid in toluene. To this suspension was added 1.95 mL (13.8 mmol) of trifluoroacetic anhydride,
The resulting solid was collected by filtration, dried, and 9-nitro-4,10-dihydrothieno [3,2-c] [1] benzothiepin-1.
1.59 g of 0-one [57% yield based on 6-nitroanthranilic acid] was obtained.

【0118】前記の(1)〜(4)または(5)で得ら
れた9-ニトロ-4,10-ジヒドロチエノ[3,2-c][1]ベンゾチ
エピン-10-オンを、以下(6)のように処理し、9-アミ
ノ-4,10-ジヒドロチエノ[3,2-c][1]ベンゾチエピン-10-
オンを得た。
The 9-nitro-4,10-dihydrothieno [3,2-c] [1] benzothiepin-10-one obtained in the above (1) to (4) or (5) is replaced with the following (6) 9-amino-4,10-dihydrothieno [3,2-c] [1] benzothiepin-10-
Got on.

【0119】(6)9-アミノ-4,10-ジヒドロチエノ[3,2
-c][1]ベンゾチエピン-10-オン 塩化第一スズ・2水和物16.3mg(0.072mmol)をエタノー
ル0.5mL、12mol/L塩酸0.5mLに溶解し、室温で9-ニトロ-
4,10-ジヒドロチエノ[3,2-c][1]ベンゾチエピン-10-オ
ン5mg(0.018mmol)を加えて1時間撹拌後、100℃まで温
度を上昇させ、さらに1時間撹拌した。室温まで冷却後
0.5mol/L水酸化ナトリウム水溶液でpHを9付近に調整
し、酢酸エチルを加えて分液した。有機層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後濃縮し、9-アミノ-4,10-ジヒドロチ
エノ[3,2-c][1]ベンゾチエピン-10-オン4mg(収率90%)
を得た。得られた9-アミノ-4,10-ジヒドロチエノ[3,2-
c][1]ベンゾチエピン-10-オンを実施例1の(5)およ
び(6)と同様に処理することにより、(S)-(+)-5,5-ジ
オキソ-9-(3,3,3-トリフルオロ-2-ヒドロキシ-2-メチル
プロパノイルアミノ)-4,10-ジヒドロチエノ[3,2-c][1]
ベンゾチエピン-10-オンを製造することができる。
(6) 9-amino-4,10-dihydrothieno [3,2
-c] [1] Benzothiepin-10-one 16.3 mg (0.072 mmol) of stannous chloride dihydrate was dissolved in 0.5 mL of ethanol and 0.5 mL of 12 mol / L hydrochloric acid, and 9-nitro-
After adding 5 mg (0.018 mmol) of 4,10-dihydrothieno [3,2-c] [1] benzothiepin-10-one and stirring for 1 hour, the temperature was raised to 100 ° C., and the mixture was further stirred for 1 hour. After cooling to room temperature
The pH was adjusted to around 9 with a 0.5 mol / L aqueous sodium hydroxide solution, and ethyl acetate was added to carry out liquid separation. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated, and 9-amino-4,10-dihydrothieno [3,2-c] [1] benzothiepin-10-one 4 mg (90% yield)
I got The obtained 9-amino-4,10-dihydrothieno [3,2-
c] [1] Benzothiepin-10-one was treated in the same manner as (5) and (6) of Example 1 to give (S)-(+)-5,5-dioxo-9- (3,3 , 3-Trifluoro-2-hydroxy-2-methylpropanoylamino) -4,10-dihydrothieno [3,2-c] [1]
Benzothiepin-10-one can be produced.

【0120】[0120]

【発明の効果】本発明により、尿失禁治療薬として有用
な化合物(VIII)を収率よく、簡易に製造することので
きる工業的な製造に適した製造法および該製造法に使用
される中間体が提供される。
INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, a production method suitable for industrial production in which compound (VIII) useful as a therapeutic agent for urinary incontinence can be easily produced in good yield and an intermediate used in the production method A body is provided.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 毛利 慎一郎 大阪府堺市高須町一丁目1番53号協和醗酵 工業株式会社堺研究所内 (72)発明者 小笠 剛裕 静岡県駿東郡長泉町下土狩1188協和醗酵工 業株式会社医薬総合研究所内 Fターム(参考) 4C071 AA01 AA07 BB01 CC22 EE13 FF26 HH08 JJ01 KK01 KK11 LL01 4H039 CA42 CA71 CG20 CG90  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Shinichiro Mohri 1-53-1, Takasu-cho, Sakai City, Osaka Prefecture Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Fermentation Industry Co., Ltd. Pharmaceutical Research Institute F term (reference) 4C071 AA01 AA07 BB01 CC22 EE13 FF26 HH08 JJ01 KK01 KK11 LL01 4H039 CA42 CA71 CG20 CG90

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式(VIII) 【化1】 [式中、Xは水素原子、置換もしくは非置換の低級アル
キル、置換もしくは非置換の低級アルコキシまたはハロ
ゲン原子を表し、Yは水素原子、置換もしくは非置換の
低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、
トリフルオロメチル、置換もしくは非置換の低級アルコ
キシ、アミノ、置換もしくは非置換のモノ低級アルキル
置換アミノ、置換もしくは非置換のジ低級アルキル置換
アミノ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは
非置換のヘテロアリール、置換もしくは非置換のアラル
キルアミノ、置換もしくは非置換のアリールアミノ、置
換もしくは非置換の脂環式複素環基または一般式(A) 【化2】 (式中、nは0または1であり、P1およびP2は、同一また
は異なって水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキ
ル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしく
は非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル
またはトリフルオロメチルを表すか、P1およびP2が一緒
になってシクロアルキルを形成してもよく、Qはヒドロ
キシ、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、アミノま
たはハロゲン原子を表す)で表される基を表す]で表さ
れる化合物を製造する製造法において、一般式(III) 【化3】 (式中、R1はハロゲン原子またはニトロを表し、Xは前記
と同義である)で表される化合物またはその塩をフリー
デル−クラフツ(Friedel-Crafts)反応に付し、一般式
(IV) 【化4】 (式中、R1およびXはそれぞれ前記と同義である)で表
される化合物を製造する工程を含むことを特徴とする製
造法。
1. A compound of the general formula (VIII) [In the formula, X represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted lower alkyl, a substituted or unsubstituted lower alkoxy or a halogen atom, and Y represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted lower alkyl, a substituted or unsubstituted lower alkenyl. ,
Trifluoromethyl, substituted or unsubstituted lower alkoxy, amino, substituted or unsubstituted mono-lower alkyl-substituted amino, substituted or unsubstituted di-lower alkyl-substituted amino, substituted or unsubstituted aryl, substituted or unsubstituted heteroaryl A substituted or unsubstituted aralkylamino, a substituted or unsubstituted arylamino, a substituted or unsubstituted alicyclic heterocyclic group, or a compound represented by the general formula (A): (In the formula, n is 0 or 1, P 1 and P 2 are the same or different and are a hydrogen atom, substituted or unsubstituted lower alkyl, substituted or unsubstituted cycloalkyl, substituted or unsubstituted aryl, substituted Or represents unsubstituted aralkyl or trifluoromethyl, or P 1 and P 2 may together form cycloalkyl, and Q represents hydroxy, substituted or unsubstituted lower alkoxy, amino or halogen atom Represents a group represented by formula (I)), wherein the compound represented by the general formula (III): Wherein R 1 represents a halogen atom or nitro, and X has the same meaning as defined above, or a salt thereof, which is subjected to a Friedel-Crafts reaction to obtain a compound represented by the general formula (IV) Embedded image Wherein R 1 and X have the same meanings as defined above, respectively.
【請求項2】 一般式(I) 【化5】 (式中、R1aはハロゲン原子を表し、Xは前記と同義であ
る)で表される化合物またはその塩と一般式(II) 【化6】 (式中、R2はハロゲン原子、低級アルキルスルホニルオ
キシまたは置換もしくは非置換のアリールスルホニルオ
キシを表す)で表される化合物とを反応させ、得られる
一般式(IIIa) 【化7】 (式中、R1aおよびXはそれぞれ前記と同義である)で表
される化合物またはその塩をフリーデル−クラフツ(Fr
iedel-Crafts)反応に付し、さらに得られる一般式(IV
a) 【化8】 (式中、R1aおよびXはそれぞれ前記と同義である)で表
される化合物と一般式(V) 【化9】 (式中、R3およびR4は同一または異なって、水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、シクロアルキル、
ビシクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニ
ル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もし
くは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロア
リール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしく
は非置換のヘテロアリールアルキル、置換もしくは非置
換のベンゾシクロアルケニルまたは置換もしくは非置換
の脂環式複素環基を表す)で表される化合物とを反応さ
せ、一般式(VI) 【化10】 (式中、R3、R4およびXはそれぞれ前記と同義である)
で表される化合物を製造する工程を含む請求項1記載の
製造法。
2. A compound of the general formula (I) (Wherein R 1a represents a halogen atom, and X has the same meaning as described above) or a salt thereof, and a compound represented by the general formula (II): Wherein R 2 represents a halogen atom, a lower alkylsulfonyloxy or a substituted or unsubstituted arylsulfonyloxy, and reacted with a compound represented by the following general formula (IIIa): (Wherein R 1a and X have the same meanings as described above) or a salt thereof, respectively, according to Friedel-Crafts (Fr.
iedel-Crafts) reaction, and the resulting general formula (IV
a) embedded image (Wherein R 1a and X have the same meanings as described above), respectively, and a compound represented by the general formula (V): (Wherein, R 3 and R 4 are the same or different and each represents a hydrogen atom,
Substituted or unsubstituted lower alkyl, cycloalkyl,
Bicycloalkyl, substituted or unsubstituted lower alkenyl, substituted or unsubstituted lower alkanoyl, substituted or unsubstituted aryl, substituted or unsubstituted heteroaryl, substituted or unsubstituted aralkyl, substituted or unsubstituted heteroarylalkyl, (Represented by a substituted or unsubstituted benzocycloalkenyl or a substituted or unsubstituted alicyclic heterocyclic group), (Wherein, R 3 , R 4 and X are as defined above)
The method according to claim 1, comprising a step of producing a compound represented by the formula:
【請求項3】 一般式(VIa) 【化11】 (式中、R3aおよびR4aはそれぞれR3およびR4の定義中、
いずれか一方が水素原子でない基を表し、Xは前記と同
義である)で表される化合物を脱保護し、一般式(VI
I) 【化12】 (式中、Xは前記と同義である)で表される化合物を製
造する工程を含む請求項2記載の製造法。
3. A compound of the general formula (VIa) (Wherein R 3a and R 4a are each defined as R 3 and R 4 ,
One of which represents a group which is not a hydrogen atom, X is as defined above, and the compound represented by the general formula (VI
I) The production method according to claim 2, comprising a step of producing a compound represented by the formula (wherein, X has the same meaning as described above).
【請求項4】 一般式(XVI) 【化13】 (式中、Xは前記と同義である)で表される化合物また
はその塩と亜硝酸エステルまたは亜硝酸塩とを反応さ
せ、ジアゾニウム誘導体またはその塩を得て、該ジアゾ
ニウム誘導体またはその塩を(1)キサントゲン酸また
はその塩と反応させ、下記一般式(XVII)で表される化
合物中、R5がC(S)OC25である化合物またはその
塩とし、さらにこれを塩基で処理するか、(2)チオウ
レアと反応させ、下記一般式(XVII)で表される化合物
中、R5がC(NH)NH2である化合物またはその塩と
し、さらにこれを塩基で処理するか、または(3)硫化
アルカリ金属と反応させて、下記一般式(XVII)で表さ
れる化合物中、R5が水素原子である化合物またはその塩
を得て、 【化14】 [式中、R5はC(S)OC25、C(NH)NH2また
は水素原子を表し、Xは前記と同義である]この化合物
と一般式(II) 【化15】 (式中、R2は、前記と同義である)で表される化合物と
を反応させ、一般式(IIIb) 【化16】 (式中、Xは前記と同義である)で表される化合物また
はその塩を得て、さらにこの化合物をフリーデル−クラ
フツ(Friedel-Crafts)反応に付し、一般式(IVb) 【化17】 (式中、Xは前記と同義である)で表される化合物を得
て、この化合物を還元し、一般式(VII) 【化18】 (式中、Xは前記と同義である)で表される化合物を製
造する工程を含む請求項1記載の製造法。
4. A compound of the general formula (XVI) (Wherein X is as defined above) or a salt thereof and a nitrite or a nitrite to obtain a diazonium derivative or a salt thereof. ) Reacting with xanthogenic acid or a salt thereof to obtain a compound represented by the following general formula (XVII) wherein R 5 is C (S) OC 2 H 5 or a salt thereof, and further treating the compound with a base , (2) reacting with thiourea to obtain a compound represented by the following general formula (XVII), wherein R 5 is C (NH) NH 2 , or a salt thereof, which is further treated with a base, or 3) reacting with an alkali metal sulfide to obtain a compound represented by the following formula (XVII), wherein R 5 is a hydrogen atom, or a salt thereof; [In the formula, R 5 represents C (S) OC 2 H 5 , C (NH) NH 2 or a hydrogen atom, and X has the same meaning as described above.] This compound is represented by the general formula (II): (Wherein R 2 has the same meaning as described above), and reacted with a compound represented by the general formula (IIIb): (Wherein X is as defined above) or a salt thereof, and this compound is subjected to a Friedel-Crafts reaction to obtain a compound represented by the general formula (IVb). ] Wherein X is as defined above, and this compound is reduced to give a compound of the general formula (VII) The production method according to claim 1, comprising a step of producing a compound represented by the formula (wherein, X has the same meaning as described above).
【請求項5】 一般式(VII) 【化19】 (式中、Xは前記と同義である)で表される化合物を製
造する製造法において、一般式(III) 【化20】 (式中、R1およびXはそれぞれ前記と同義である)で表
される化合物またはその塩をフリーデル−クラフツ(Fr
iedel-Crafts)反応に付し、一般式(IV) 【化21】 (式中、R1およびXはそれぞれ前記と同義である)で表
される化合物を製造する工程を含むことを特徴とする製
造法。
5. A compound of the formula (VII) (Wherein X has the same meaning as described above) in a process for producing a compound represented by the following general formula (III): (Wherein R 1 and X have the same meanings as described above) or a salt thereof, respectively, by Friedel-Crafts (Fr.
iedel-Crafts) to give a compound of the general formula (IV) Wherein R 1 and X have the same meanings as defined above, respectively.
【請求項6】 一般式(III) 【化22】 (式中、R1およびXはそれぞれ前記と同義である)で表
される化合物またはその塩をフリーデル−クラフツ(Fr
iedel-Crafts)反応に付すことを特徴とする、一般式
(IV) 【化23】 (式中、R1およびXはそれぞれ前記と同義である)で表
される化合物の製造法。
6. A compound of the general formula (III) (Wherein R 1 and X have the same meanings as described above) or a salt thereof, respectively, by Friedel-Crafts (Fr.
iedel-Crafts), characterized by the general formula (IV): (Wherein, R 1 and X have the same meanings as described above), respectively.
【請求項7】 一般式(III) 【化24】 (式中、R1およびXはそれぞれ前記と同義である)で表
される化合物またはその塩。
7. A compound of the general formula (III) (Wherein, R 1 and X have the same meanings as described above), or a salt thereof.
【請求項8】 一般式(IV) 【化25】 (式中、R1およびXは前記と同義である)で表される化
合物。
8. A compound of the general formula (IV) (Wherein R 1 and X have the same meanings as described above).
【請求項9】 一般式(XVIIa) 【化26】 (式中、Xは前記と同義である)で表される化合物。9. A compound of the general formula (XVIIa) (Wherein, X has the same meaning as described above).
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005056561A1 (en) * 2003-12-11 2005-06-23 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Microcrystal and medicinal preparation containing the same
WO2006013965A1 (en) * 2004-08-06 2006-02-09 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Process for producing tricyclic sulfone
WO2008050853A1 (en) * 2006-10-26 2008-05-02 Kyowa Hakko Kirin Co., Ltd. Therapeutic agents for irritable bowel syndrome
WO2022207665A1 (en) 2021-03-31 2022-10-06 Syngenta Crop Protection Ag Microbiocidal quinoline/quinoxaline benzothiazine derivatives

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