JP2002008444A - Conductive paste - Google Patents

Conductive paste

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JP2002008444A
JP2002008444A JP2000192884A JP2000192884A JP2002008444A JP 2002008444 A JP2002008444 A JP 2002008444A JP 2000192884 A JP2000192884 A JP 2000192884A JP 2000192884 A JP2000192884 A JP 2000192884A JP 2002008444 A JP2002008444 A JP 2002008444A
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Japan
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powder
conductive
conductive paste
silver
spherical
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JP2000192884A
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Japanese (ja)
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Junichi Kikuchi
純一 菊池
秀次 ▲桑▼島
Hideji Kuwajima
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Resonac Corp
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Hitachi Chemical Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an conductive paste which has a high quality in electronic conductivity, workability, and reliability. SOLUTION: An electric conductive paste contains conductive powder, binder, and solvent, and the conductive powder contains dissolved spherical or semi- spherical conductive powder and dissolved fish-scale like conductive powder, and the ratio of dissolved spherical or semi-spherical conductive powder and dissolved fish-scale like conductive powder is in weight proportion of 40:60-95:5.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、スルーホール配線
板のスルーホールに埋め込んで使用される導電ペースト
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a conductive paste used by being embedded in a through-hole of a through-hole wiring board.

【0002】[0002]

【従来の技術】印刷配線板上に導電回路を形成する方法
の1つに、電子材料、1994年10月号の42〜46頁に記載さ
れているように、導電ペーストを用いる方法がある。特
に導電粉として銀粉を用いた導電ペーストは、導電性が
良好なことから印刷配線基板、電子部品等の配線導体や
電極となる導電層の形成に使用されている。
2. Description of the Related Art As one method of forming a conductive circuit on a printed wiring board, there is a method of using a conductive paste as described in Electronic Materials, pp. 42-46 of October 1994. In particular, a conductive paste using silver powder as the conductive powder is used for forming a conductive layer to be a wiring conductor or an electrode of a printed wiring board, an electronic component or the like because of its good conductivity.

【0003】導電ペーストを用いる方法は、導電粉をバ
インダに分散させ、ペースト状にした導電ペーストを基
板の表面に塗布又はスルーホールに充填して図1に示す
ような導電層を形成する方法がある。図1において1は
導電ペーストである。また、印刷配線板のスルーホール
に導体層を形成する他の手段としては、図2に示すよう
にスルーホール内壁に銅めっき2を施して導電層を形成
する方法がある。
A method of using a conductive paste is to form a conductive layer as shown in FIG. 1 by dispersing a conductive powder in a binder, applying a paste of the conductive paste to the surface of the substrate or filling the through holes. is there. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a conductive paste. As another means for forming a conductive layer in a through hole of a printed wiring board, there is a method of forming a conductive layer by applying copper plating 2 to an inner wall of the through hole as shown in FIG.

【0004】しかしながら、導電ペーストを用いてスル
ーホール内壁に導電層を形成する場合、溶剤を多量に含
む導電ペーストを用いてスルーホール内を充填すると、
溶剤の乾燥によってスルーホール内に空隙を生じること
が避けられない。また、図2に示す方法によっても空隙
を生じることが避けられない。そのため図3に示すよう
にスルーホール上に絶縁層6を形成し、さらにジャンパ
ー導電ペースト7でジャンパー導電層を形成するような
多層回路は、スルーホール内の空隙をなくし、信頼性の
高い導電層を形成するためには、穴埋め導電ペースト4
を用いてスルーホールを埋めなくてはならないという欠
点があった。なお図3において3は基材、5は銅箔及び
8はオーバーコート層である。
However, when a conductive layer is formed on the inner wall of a through hole using a conductive paste, the inside of the through hole is filled with a conductive paste containing a large amount of a solvent.
It is inevitable that voids are generated in the through holes due to drying of the solvent. In addition, it is inevitable that voids are generated by the method shown in FIG. Therefore, as shown in FIG. 3, a multilayer circuit in which an insulating layer 6 is formed on a through-hole and a jumper conductive layer is further formed with a jumper conductive paste 7 eliminates voids in the through-hole and provides a highly reliable conductive layer. In order to form a conductive paste,
There is a drawback that the through-hole must be filled by using. In FIG. 3, 3 is a substrate, 5 is a copper foil, and 8 is an overcoat layer.

【0005】また、図3に示すような多層回路を形成し
た場合、スルーホール内を埋めた導電ペースト4とジャ
ンパー導電ペースト7間の絶縁抵抗及びマイグレーショ
ンが問題となってくる。銀粉を用いた導電ペーストは導
電性は良好であるが、高温多湿の雰囲気下で電解が印可
されるとマイグレーションが生じ短絡するという欠点が
生じる。そのため銀粉を用いた穴埋め導電ペーストでス
ルーホール内を埋めた場合、この導電ペースト4とジャ
ンパー導電ペースト7間の絶縁抵抗が低下及びマイグレ
ーションが発生する可能性がある。
When a multilayer circuit as shown in FIG. 3 is formed, the insulation resistance and the migration between the conductive paste 4 filling the through holes and the jumper conductive paste 7 pose a problem. A conductive paste using silver powder has good conductivity, but has a disadvantage that when electrolysis is applied in a high-temperature and high-humidity atmosphere, migration occurs and a short circuit occurs. Therefore, when the inside of the through-hole is filled with a filling conductive paste using silver powder, insulation resistance between the conductive paste 4 and the jumper conductive paste 7 may be reduced and migration may occur.

【0006】上記の方法に変えて図4に示すようにスル
ーホールを埋めた導電ペースト4上に蓋めっき9を施せ
ば、絶縁抵抗の低下及びマイグレーションの発生を防ぐ
ことができるが、工程が増えコストも高くなるので好ま
しくない。
If the cover plating 9 is applied to the conductive paste 4 in which the through-holes are filled as shown in FIG. 4 instead of the above method, a decrease in insulation resistance and the occurrence of migration can be prevented, but the number of steps is increased. It is not preferable because the cost increases.

【0007】さらに、図5に示すように、銅めっき2を
施してスルーホール内壁に導電層を形成し、空隙を樹脂
10で埋め込む方法もあるが、この方法においても工程
数が多くなるためコストが高くなるという欠点がある。
Further, as shown in FIG. 5, there is a method in which a conductive layer is formed on the inner wall of a through hole by applying copper plating 2 and a void is filled with a resin 10. However, this method also requires a large number of steps, so that the cost is increased. However, there is a disadvantage that the cost is high.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】請求項1記載の発明
は、導電性、作業性及び信頼性に優れる導電ペーストを
提供するものである。請求項2記載の発明は、マイグレ
ーション性及び信頼性に優れる導電ペーストを提供する
ものである。請求項3記載の発明は、請求項1記載の発
明のうち、特に導電性の向上効果に優れる導電ペースト
を提供するものである。請求項4記載の発明は、請求項
1記載の発明のうち、特に導電性及び信頼性の向上効果
に優れる導電ペーストを提供するものである。請求項5
記載の発明は、請求項1記載の発明うち、特に導電性及
び作業性の向上効果に優れる導電ペーストを提供するも
のである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a conductive paste excellent in conductivity, workability and reliability. The second aspect of the present invention provides a conductive paste having excellent migration properties and reliability. The third aspect of the present invention provides a conductive paste which is particularly excellent in the effect of improving conductivity among the first aspect of the present invention. A fourth aspect of the present invention provides the conductive paste according to the first aspect of the invention, which is particularly excellent in the effect of improving conductivity and reliability. Claim 5
The invention described above provides a conductive paste which is particularly excellent in the effect of improving conductivity and workability among the inventions described in claim 1.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、導電粉、バイ
ンダ及び溶剤を含む導電ペーストにおいて、導電粉が解
粒された球状又は略球状導電粉及び解粒された鱗片状導
電粉を含み、かつ解粒された球状又は略球状導電粉と解
粒された鱗片状導電粉の割合が、重量比で球状又は略球
状導電粉:鱗片状導電粉が40:60〜95:5である
導電ペーストに関する。また、本発明は、解粒された球
状又は略球状導電粉及び解粒された鱗片状導電粉が、銅
粉又は銅合金粉の一部を露出して表面が大略銀で被覆さ
れた銀被覆銅粉若しくは銀被覆銅合金粉である導電ペー
ストに関する。
According to the present invention, there is provided a conductive paste containing a conductive powder, a binder, and a solvent, wherein the conductive powder includes a spherical or substantially spherical conductive powder in which the conductive powder is pulverized, and a flake-like conductive powder in which the conductive powder is pulverized; A conductive paste in which the ratio of the crushed spherical or substantially spherical conductive powder to the crushed flaky conductive powder is 40:60 to 95: 5 by weight ratio of spherical or substantially spherical conductive powder: flaky conductive powder. About. In addition, the present invention provides a silver coating in which the pulverized spherical or substantially spherical conductive powder and the pulverized flaky conductive powder expose a part of the copper powder or the copper alloy powder and the surface is substantially coated with silver. The present invention relates to a conductive paste that is copper powder or silver-coated copper alloy powder.

【0010】また、本発明は、バインダの主成分がエポ
キシ樹脂、フェノール樹脂及びその硬化剤を含み、エポ
キシ樹脂とフェノール樹脂の割合が、重量比でエポキシ
樹脂:フェノール樹脂が10:90〜90:10である
導電ペーストに関する。また、本発明は、導電粉とバイ
ンダの割合が、重量比で導電粉:バインダが83:17
〜95:5である導電ペーストに関する。さらに、本発
明は、溶剤が1種又は2種以上の混合溶剤であり、溶剤
の含有量が導電ペーストに対し2〜10重量%である導
電ペーストに関する。
Further, in the present invention, the main component of the binder includes an epoxy resin, a phenol resin and a curing agent thereof, and the ratio of the epoxy resin to the phenol resin is 10:90 to 90:90 by weight. 10 relating to the conductive paste. Further, according to the present invention, the ratio of the conductive powder to the binder is 83:17 by weight ratio of the conductive powder: the binder.
9595: 5. Furthermore, the present invention relates to a conductive paste in which the solvent is one kind or a mixed solvent of two or more kinds, and the content of the solvent is 2 to 10% by weight based on the conductive paste.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本発明に用いられる導電粉として
は、銀、銅、ニッケル、亜鉛、スズ、鉛等の金属粉又は
これらの合金粉を用いることができるが、特に銅粉又は
銅合金粉の一部を露出して表面が大略銀で被覆された銀
被覆銅粉又は銀被覆銅合金粉を用いれば、絶縁抵抗の低
下及びマイグレーションの発生を防止できるので好まし
い。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION As the conductive powder used in the present invention, metal powder such as silver, copper, nickel, zinc, tin and lead or an alloy powder thereof can be used. It is preferable to use silver-coated copper powder or silver-coated copper alloy powder whose surface is substantially covered with silver by exposing a part of the powder, because it is possible to prevent a decrease in insulation resistance and to prevent migration.

【0012】本発明における導電粉は、スルーホール内
に高い割合で充填させるため解粒した導電粉を用いるこ
とが必要である。導電粉を解粒させる方法については特
に制限はないが、例えば凝集している導電粉及び直径が
0.5mmのジルコニアボール1kgをボールミル容器内
に投入し、2時間程度回転させることにより解粒するこ
とができる。
In the present invention, it is necessary to use conductive powder that has been pulverized in order to fill the through holes at a high ratio. The method for pulverizing the conductive powder is not particularly limited. For example, agglomeration of the conductive powder and 1 kg of zirconia balls having a diameter of 0.5 mm in a ball mill container and rotating for about 2 hours is performed. be able to.

【0013】導電粉は、球状又は略球状導電粉及び鱗片
状導電粉を組み合わせた複合導電粉を用いることが必要
とされる。導電粉が球状又は略球状のみの場合、鱗片状
導電粉に比べてスルーホール内への導電粉の充填率が高
く、また導電ペーストの粘度も低くなり、この点におい
て好ましいが、反面熱衝撃試験などの信頼性試験後の抵
抗変化率が高くなるという欠点がある。これは熱ストレ
スに伴う基材の伸縮により、導電ペースト内の導電粉同
士が接触したり離れたりする現象が、顕著なため導通抵
抗が高くなり、抵抗変化率が高くなるものと考えられ
る。そのため球状又は略球状導電粉のみを使用した導電
ペーストは信頼性の点で好ましくない。
As the conductive powder, it is necessary to use a composite conductive powder obtained by combining a spherical or substantially spherical conductive powder and a flaky conductive powder. When the conductive powder is spherical or substantially spherical only, the filling rate of the conductive powder into the through holes is higher than that of the flaky conductive powder, and the viscosity of the conductive paste is also lower. However, there is a disadvantage that the resistance change rate after the reliability test becomes high. It is considered that the phenomenon that the conductive powders in the conductive paste come into contact with or separate from each other due to expansion and contraction of the base material due to thermal stress is remarkable, so that the conduction resistance increases and the resistance change rate increases. Therefore, a conductive paste using only spherical or substantially spherical conductive powder is not preferable in terms of reliability.

【0014】一方、導電粉が鱗片状のみの場合、球状又
は略球状導電粉に比べてスルーホール内への充填率が低
く、また導電ペーストの粘度は高くなるという欠点があ
る。そのため鱗片状導電粉のみを使用した導電ペースト
は導電性及び作業性の点で好ましくない。しかし熱衝撃
試験などの信頼性試験後の抵抗変化率は低いという長所
がある。
On the other hand, when the conductive powder is only in the form of scale, there are disadvantages that the filling rate in the through hole is lower and the viscosity of the conductive paste is higher than that of spherical or substantially spherical conductive powder. Therefore, a conductive paste using only flaky conductive powder is not preferable in terms of conductivity and workability. However, there is an advantage that the rate of change in resistance after a reliability test such as a thermal shock test is low.

【0015】本発明で用いられる球状又は略球状導電粉
及び鱗片状導電粉は上記に示すような関係があり、この
ような関係から球状又は略球状導電粉と鱗片状導電粉を
併用して用いれば、両導電粉の欠点を補うことが可能と
なり、前記の欠点を解消した導電ペーストを得ることが
できる。
The spherical or substantially spherical conductive powder and the flaky conductive powder used in the present invention have the above-mentioned relationship. From such a relationship, the spherical or substantially spherical conductive powder and the flaky conductive powder are used in combination. If this is the case, it is possible to make up for the drawbacks of both conductive powders, and it is possible to obtain a conductive paste that has solved the above drawbacks.

【0016】球状又は略球状導電粉及び鱗片状導電粉の
割合は、重量比で球状又は略球状導電粉:鱗片状導電粉
が40:60〜95:5、好ましくは50:50〜9
5:5の範囲とされ、球状又は略球状導電粉が40重量
%未満であると、導電ペーストの粘度が高くなり、印刷
作業性が悪くなり、球状又は略球状導電粉が95重量%
を超えると導電性にバラツキが生じ易くなり、接続信頼
性が悪くなる。
The ratio of the spherical or substantially spherical conductive powder and the scale-like conductive powder is 40:60 to 95: 5, preferably 50:50 to 9 by weight.
When the ratio is 5: 5 and the spherical or substantially spherical conductive powder is less than 40% by weight, the viscosity of the conductive paste is increased, the printing workability is deteriorated, and the spherical or substantially spherical conductive powder is 95% by weight.
If it exceeds, the conductivity tends to vary, and the connection reliability deteriorates.

【0017】導電ペーストにおいて、鱗片状導電粉を使
用した導電ペーストは縦方向と横方向がランダムであ
り、スルーホール導通抵抗及び信頼性試験後の抵抗変化
率のバラツキが大きいが、上記に示す割合で球状又は略
球状導電粉及び鱗片状導電粉を組み合わせた複合導電粉
は、スルーホール導通抵抗及び信頼性試験後の抵抗変化
率が小さくバラツキも少なくなる。即ち、球状又は略球
状導電粉の間に鱗片状導電粉が、配向がランダムであり
ながらも、図6のように存在するため導通抵抗及び信頼
性が向上するものと考えられる。なお図6において11
は球状又は略球状導電粉及び12は鱗片状導電粉であ
る。
In the conductive paste, the conductive paste using the flaky conductive powder has a random vertical and horizontal direction, and has a large variation in the through-hole conduction resistance and the resistance change rate after the reliability test. The composite conductive powder obtained by combining the spherical or substantially spherical conductive powder and the flaky conductive powder has a small through-hole conduction resistance and a small rate of change in resistance after a reliability test. That is, it is considered that the scale-like conductive powder is present between the spherical or substantially spherical conductive powders as shown in FIG. 6 even though the orientation is random, thereby improving the conduction resistance and the reliability. In FIG. 6, 11
Is a spherical or substantially spherical conductive powder, and 12 is a scaly conductive powder.

【0018】本発明において、導電粉として銅粉又は銅
合金粉の一部を露出して表面が大略銀で被覆された銀被
覆銅粉又は銀被覆銅合金粉を用いる場合は、必要に応じ
て銀粉を併用しても差し支えない。銀粉を併用して用い
る場合その割合は、重量比で複合導電粉:銀粉が30:
70〜100未満:0を超える範囲が好ましく、50:
50〜100未満:0の範囲であることがさらに好まし
い。
In the present invention, when a silver-coated copper powder or a silver-coated copper alloy powder whose surface is substantially covered with silver by exposing a part of the copper powder or the copper alloy powder is used as the conductive powder, if necessary, Silver powder can be used in combination. When silver powder is used in combination, the ratio is 30: composite conductive powder: silver powder in weight ratio.
A range from 70 to less than 100: more than 0 is preferable, and 50:
More preferably, it is in the range of 50 to less than 100: 0.

【0019】銅粉又は銅合金粉は、アトマイズ法で作製
された粉体を用いることが好ましく、その粒径は小さい
ほど好ましく、例えば平均粒径が1〜20μmの粉体が
好ましく、1〜10μmの粉体を用いれば、表面に銀を
被覆した後、扁平状に加工しても導電粉中に均一に分散
させ易いのでさらに好ましい。
As the copper powder or copper alloy powder, powder produced by an atomizing method is preferably used, and the smaller the particle size, the more preferable. For example, a powder having an average particle size of 1 to 20 μm is preferable, and 1 to 10 μm The use of the powder is more preferable because even if the surface is coated with silver and then flattened, it can be easily dispersed uniformly in the conductive powder.

【0020】銅粉又は銅合金粉の表面に銀を被覆するに
は、置換めっき、電気めっき、無電解めっき等の方法が
あり、銅粉又は銅合金粉と銀の付着力が高いこと及びラ
ンニングコストが安価であることから、置換めっきで被
覆することが好ましい。銅粉又は銅合金粉の表面への銀
の被覆量は、耐マイグレーション性、コスト、導電性向
上等の点から銅粉又は銅合金粉に対して5〜25重量%
の範囲が好ましく、10〜23重量%の範囲がさらに好
ましい。また、銅粉又は銅合金粉の露出面積は、マイグ
レーション性、導電性等の点から10〜60%の範囲が
好ましく、25〜55%の範囲がさらに好ましい。
There are methods such as displacement plating, electroplating, and electroless plating for coating the surface of the copper powder or copper alloy powder with silver, and the copper powder or copper alloy powder has high adhesion to silver and running. Since the cost is low, it is preferable to cover with displacement plating. The amount of silver coating on the surface of the copper powder or copper alloy powder is 5 to 25% by weight based on the copper powder or copper alloy powder from the viewpoints of migration resistance, cost, and improvement in conductivity.
Is more preferable, and the range of 10 to 23% by weight is more preferable. Further, the exposed area of the copper powder or copper alloy powder is preferably in the range of 10 to 60%, more preferably 25 to 55%, from the viewpoints of migration property, conductivity and the like.

【0021】本発明における略球状導電粉としては、ア
スペクト比が1〜1.5及び長径の平均粒径が1〜20
μmの導電粉を用いることが好ましく、アスペクト比が
1〜1.3及び長径の平均粒径が1〜10μmの導電粉
を用いることがさらに好ましい。なお上記でいう平均粒
径は、レーザー散乱型粒度分布測定装置により測定する
ことができる。本発明においては、前記装置としてマス
ターサイザー(マルバン社製)を用いて測定した。
The substantially spherical conductive powder according to the present invention has an aspect ratio of 1 to 1.5 and an average long particle diameter of 1 to 20.
It is preferable to use conductive powder of μm, and it is more preferable to use conductive powder having an aspect ratio of 1 to 1.3 and a long diameter having an average particle diameter of 1 to 10 μm. The average particle size mentioned above can be measured by a laser scattering type particle size distribution measuring device. In the present invention, the measurement was performed using a master sizer (manufactured by Malvern) as the device.

【0022】本発明におけるアスペクト比とは、導電粉
の粒子の長径と短径の比率(長径/短径)をいう。本発
明においては、粘度の低い硬化性樹脂中に導電粉の粒子
をよく混合し、静置して粒子を沈降させるとともにその
まま樹脂を硬化させ、得られた硬化物を垂直方向に切断
し、その切断面に現れる粒子の形状を電子顕微鏡で拡大
して観察し、少なくとも100の粒子について一つ一つ
の粒子の長径/短径を求め、それらの平均値をもってア
スペクト比とする。
The aspect ratio in the present invention refers to the ratio of the major axis to the minor axis (major axis / minor axis) of the conductive powder particles. In the present invention, the particles of the conductive powder are mixed well in the curable resin having a low viscosity, and the resin is cured while allowing the particles to settle by standing, and the obtained cured product is cut in the vertical direction. The shape of the particles appearing on the cut surface is observed under magnification with an electron microscope, and the major axis / minor axis of each particle is obtained for at least 100 particles, and the average value thereof is defined as the aspect ratio.

【0023】ここで、短径とは、前記切断面に現れる粒
子について、その粒子の外側に接する二つの平行線の組
み合わせ粒子を挟むように選択し、それらの組み合わせ
のうち最短間隔になる二つの平行線の距離である。一
方、長径とは、前記短径を決する平行線に直角方向の二
つの平行線であって、粒子の外側に接する二つの平行線
の組み合わせのうち、最長間隔になる二つの平行線の距
離である。これらの四つの線で形成される長方形は、粒
子がちょうどその中に納まる大きさとなる。なお、本発
明において行った具体的方法については後述する。
Here, the minor axis is selected so that a particle appearing on the cut surface is sandwiched by a combination of two parallel lines in contact with the outside of the particle, and two of the combinations having the shortest interval are selected. The distance between the parallel lines. On the other hand, the major axis is the two parallel lines perpendicular to the parallel line that determines the minor axis, and is the distance between the two parallel lines that are the longest among the combinations of the two parallel lines that contact the outside of the particle. is there. The rectangle formed by these four lines is sized to fit the particle exactly inside it. The specific method used in the present invention will be described later.

【0024】本発明において、バインダの主成分は、エ
ポキシ樹脂、フェノール樹脂及びその硬化剤を混合して
使用することが好ましい。エポキシ樹脂は銅箔との接着
性が良好であるが、導電性はフェノール樹脂よりも劣
り、一方、フェノール樹脂は導電性が良好であるが、銅
箔との接着性がエポキシ樹脂よりも劣る。そのため両樹
脂を混合して使用することが好ましい。
In the present invention, the main component of the binder is preferably a mixture of an epoxy resin, a phenol resin and a curing agent thereof. Epoxy resins have good adhesion to copper foil, but have poorer conductivity than phenolic resins, while phenolic resins have better conductivity, but have poorer adhesion to copper foil than epoxy resins. Therefore, it is preferable to use both resins in combination.

【0025】フェノール樹脂はノボラック型、レゾール
型等公知の物でよく、エポキシ樹脂とフェノール樹脂の
配合割合は、重量比でエポキシ樹脂:フェノール樹脂が
10:90〜90:10の範囲であることが好ましく、
10:90〜60:40の範囲であることがさらに好ま
しい。エポキシ樹脂の配合割合が10重量%未満の場
合、銅箔との接着性が低下する傾向があり、エポキシ樹
脂の配合割合が90重量%を超える場合、導電性が低下
する傾向がある。
The phenol resin may be a known one such as a novolak type or a resol type, and the mixing ratio of the epoxy resin and the phenol resin is such that the weight ratio of epoxy resin: phenol resin is in the range of 10:90 to 90:10. Preferably
More preferably, it is in the range of 10:90 to 60:40. When the compounding ratio of the epoxy resin is less than 10% by weight, the adhesion to the copper foil tends to decrease, and when the compounding ratio of the epoxy resin exceeds 90% by weight, the conductivity tends to decrease.

【0026】エポキシ樹脂は常温で液状のものが好まし
い。常温で結晶化するものは液状物と混合することで結
晶化を回避できる。本発明における常温で液状エポキシ
樹脂とは、例えば常温で固形のものでも常温で液状のエ
ポキシ樹脂と混合することで常温で安定して液状となる
ものも含む。なお本発明において常温とは温度が約25
℃を示すものを意味する。
The epoxy resin is preferably liquid at room temperature. Those that crystallize at room temperature can avoid crystallization by mixing with a liquid. The epoxy resin that is liquid at ordinary temperature in the present invention includes, for example, a resin that is solid at ordinary temperature and becomes liquid at ordinary temperature by mixing with an epoxy resin that is liquid at ordinary temperature. In the present invention, normal temperature means a temperature of about 25
Means ° C.

【0027】エポキシ樹脂は公知のものが用いられ、分
子量中にエポキシ基を2個以上含有する化合物、例えば
ビスフェノールA、ビスフェノールAD、ビスフェノー
ルF、ノボラック、クレゾールノボラック類とエピクロ
ルヒドリンとの反応により得られるポリグリシジルエー
テル、ジヒドロキシナフタレンジグリシジルエーテル、
ブタンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグ
リコールジグリシジルエーテル等の脂肪族エポキシ樹脂
やジグリシジルヒダントイン等の複素環式エポキシ、ビ
ニルシクロヘキセンジオキサイド、ジシクロペンタンジ
エンジオキサイド、アリサイクリックジエポキシアジペ
イトのような脂環式エポキシ樹脂が挙げられる。
As the epoxy resin, a known epoxy resin is used, and a compound containing two or more epoxy groups in the molecular weight, for example, bisphenol A, bisphenol AD, bisphenol F, novolak, cresol novolaks and polychlorophenol obtained by reaction with epichlorohydrin. Glycidyl ether, dihydroxynaphthalenediglycidyl ether,
Aliphatic epoxy resins such as butanediol diglycidyl ether and neopentyl glycol diglycidyl ether; heterocyclic epoxies such as diglycidyl hydantoin; vinylcyclohexene dioxide; dicyclopentanedienedoxide; and alicyclic diepoxy adipate Alicyclic epoxy resins.

【0028】必要に応じて可撓性付与剤が用いられる。
可撓性付与剤は公知の物でよく、分子量中にエポキシ基
を1個だけ有する化合物、例えばn−ブチルグリシジル
エーテル、バーサティック酸グリシジルエステル、スチ
レンオキサイド、エチルヘキシルグリシジルエーテル、
フェニルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエー
テル、ブチルフェニルグリシジルエーテル等のような通
常のエポキシ樹脂が挙げられる。これらのエポキシ樹脂
及び可撓性付与剤は、単独または2種以上を混合して用
いることができる。
If necessary, a flexibility-imparting agent is used.
The flexibility-imparting agent may be a known one, and a compound having only one epoxy group in its molecular weight, for example, n-butyl glycidyl ether, glycidyl versatate, styrene oxide, ethylhexyl glycidyl ether,
Usual epoxy resins such as phenyl glycidyl ether, cresyl glycidyl ether, butyl phenyl glycidyl ether and the like can be mentioned. These epoxy resins and flexibility-imparting agents can be used alone or in combination of two or more.

【0029】バインダに添加される硬化剤としては、例
えばメンセンジアミン、イソフオロンジアミン、メタフ
ェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミ
ノジフェニルスルホン、メチレンジアニリン等のアミン
類、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリ
ット酸、無水コハク酸、テトラヒドロ無水フタル酸等の
酸無水物、イミダゾール、ジシアンジアミド等の化合物
系硬化剤、ポリアミド樹脂、尿素樹脂等の樹脂系硬化剤
が用いられるが、必要に応じて、潜在性アミン硬化剤等
の硬化剤と併用して用いてもよく、また3級アミン、イ
ミダゾール類、トリフェニルホスフィン、テトラフェニ
ルホスフェニルボレート等といった一般にエポキシ樹脂
とフェノール樹脂との硬化促進剤として知られている化
合物を添加してもよい。
Examples of the curing agent added to the binder include amines such as mensendiamine, isophoronediamine, metaphenylenediamine, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, methylenedianiline, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, Pyromellitic anhydride, succinic anhydride, acid anhydrides such as tetrahydrophthalic anhydride, imidazole, compound-based curing agents such as dicyandiamide, polyamide resins, and resin-based curing agents such as urea resins are used. It may be used in combination with a curing agent such as a latent amine curing agent, and is generally known as a curing accelerator for an epoxy resin and a phenol resin such as a tertiary amine, imidazoles, triphenylphosphine, and tetraphenylphosphenyl borate. Even if the compound is added There.

【0030】これらの硬化剤の含有量は、導電ペースト
の硬化物のガラス転移点(Tg)の点でエポキシ樹脂1
00重量部に対して0.1〜20重量部の範囲であるこ
とが好ましく、1〜10重量部の範囲であることがさら
に好ましい。
The content of these curing agents depends on the glass transition point (Tg) of the cured product of the conductive paste.
It is preferably in the range of 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 1 to 10 parts by weight, based on 00 parts by weight.

【0031】本発明に用いられるバインダには、上記の
材料以外に必要に応じてチキソ剤、カップリング剤、消
泡剤、粉末表面処理剤、沈降防止剤等を添加して均一に
混合して得られる。必要に応じて添加されるチキソ剤、
カップリング剤、消泡剤、粉末表面処理剤、沈降防止剤
等の含有量は、導電ペーストに対して0.01〜1重量
%の範囲であることが好ましく、0.03〜0.5重量
%の範囲であることがさらに好ましい。
To the binder used in the present invention, a thixo agent, a coupling agent, an antifoaming agent, a powder surface treating agent, an anti-settling agent, etc. are added, if necessary, in addition to the above-mentioned materials, followed by uniform mixing. can get. Thixotropic agents added as needed,
The content of the coupling agent, the defoaming agent, the powder surface treating agent, the anti-settling agent and the like is preferably in the range of 0.01 to 1% by weight based on the conductive paste, and is preferably 0.03 to 0.5% by weight. % Is more preferable.

【0032】導電粉とバインダの配合割合は、導電ペー
ストの固形分に対して、重量比で導電粉:バインダが8
3:17〜95:5の範囲であることが好ましく、8
5:15〜93:7の範囲であることがさらに好まし
い。導電粉の割合が83重量%未満であると、導電性が
低下する傾向があり、導電粉の割合が95重量%を超え
ると、粘度、接着力、導電ペーストの強度が低下し、信
頼性が劣る傾向がある。
The mixing ratio of the conductive powder and the binder is such that the conductive powder: binder has a weight ratio of 8 to the solid content of the conductive paste.
It is preferably in the range of 3:17 to 95: 5, and 8
More preferably, it is in the range of 5:15 to 93: 7. When the proportion of the conductive powder is less than 83% by weight, the conductivity tends to decrease, and when the proportion of the conductive powder exceeds 95% by weight, the viscosity, the adhesive strength, and the strength of the conductive paste decrease, and the reliability decreases. Tends to be inferior.

【0033】一般的に穴埋め用の導電ペーストは、スル
ーホール内にボイドの発生は好ましくないので、溶剤を
含まない無溶剤型が用いられるが、溶剤を含有させるこ
とにより導電性が向上しバラツキも少なくなるので好ま
しい。
Generally, a conductive paste for filling holes is of a non-solvent type containing no solvent because voids are not preferably generated in through holes. However, the inclusion of a solvent improves conductivity and reduces dispersion. This is preferable because it reduces the number of the components.

【0034】溶剤を含有している導電ペーストは、溶剤
を含有していない導電ペーストより、印刷塗布したとき
と熱処理を行い硬化させた後の導電ペーストの体積減少
量が溶剤を含んでいるだけ大きい。また、熱処理を行う
過程で溶剤を含有している導電ペーストの方が、導電ペ
ーストの粘度が大きく低下し、導電ペーストに含まれて
いる導電粉が導電体層内で緻密になる。これらの要因の
ために、溶剤を含有している導電ペーストは溶剤を含有
していない導電ペーストよりも導電性が良好になりバラ
ツキも少なくなると考えられる。
The conductive paste containing a solvent has a larger volume reduction than the conductive paste containing no solvent when printed and coated and after heat treatment and hardening, as much as the solvent contains the solvent. . In the heat treatment process, the viscosity of the conductive paste containing the solvent is significantly reduced in the conductive paste containing the solvent, and the conductive powder contained in the conductive paste becomes dense in the conductive layer. Due to these factors, it is considered that the conductive paste containing the solvent has better conductivity and less variation than the conductive paste containing no solvent.

【0035】使用される溶剤は、熱処理の導電ペースト
の粘度低下が大きい溶剤が好ましく、酢酸ブチルの蒸発
速度を100とした場合、含有させる溶剤の蒸発速度が
0を含まず28以下の範囲であり、沸点が150〜26
0℃の範囲である溶剤、例えばジプロピレングリコール
メチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールブチルエーテル、ジプロピ
レングリコールイソプロピルメチルエーテル、ジプロピ
レングリコールイソプロピルエチルエーテル、トリプロ
ピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコー
ルターシャリーブチルエーテル、プロピレングリコール
エチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチル
エーテルアセテート、エチレングリコールブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールメチルエーテル、トリエチレ
ングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールエ
チルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、ジ
エチレングリコールブチルエーテル、3−メチル−3−
メトキシブタノール、3−メチル−3−メトキシブチル
エーテル、乳酸エチル、乳酸ブチルなどが挙げられる。
The solvent to be used is preferably a solvent which greatly reduces the viscosity of the conductive paste in the heat treatment. When the evaporation rate of butyl acetate is 100, the evaporation rate of the solvent to be contained is in the range of 28 or less without including 0. , Boiling point 150-26
Solvents in the range of 0 ° C., for example, dipropylene glycol methyl ether, dipropylene glycol ethyl ether, dipropylene glycol butyl ether, dipropylene glycol isopropyl methyl ether, dipropylene glycol isopropyl ethyl ether, tripropylene glycol methyl ether, propylene glycol tertiary Butyl ether, propylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol butyl ether, diethylene glycol methyl ether, triethylene glycol methyl ether, diethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol butyl ether, diethylene glycol butyl ether, 3-methyl-3-
Examples include methoxybutanol, 3-methyl-3-methoxybutyl ether, ethyl lactate, butyl lactate and the like.

【0036】含有させる溶剤は1種又は必要に応じて2
種以上の溶剤を混合した溶剤を使用し、溶剤の含有量は
導電性及び作業性から導電ペーストに対して1〜10重
量%の範囲が好ましく、1.5〜7.5重量%の範囲が
さらに好ましい。
The solvent to be contained is one kind or, if necessary, two kinds.
A solvent in which at least one kind of solvent is mixed is used, and the content of the solvent is preferably in the range of 1 to 10% by weight, and more preferably in the range of 1.5 to 7.5% by weight based on the conductivity and workability. More preferred.

【0037】本発明の導電ペーストは、上記のバイン
ダ、導電粉及び必要に応じて添加されるチキソ剤、カッ
プリング剤、消泡剤、粉末表面処理剤、沈降防止剤等と
共に、らいかい機、ニーダー、三本ロール等で均一に混
合、分散して得ることができる。
The conductive paste of the present invention may be used together with the binder, conductive powder and, if necessary, a thixotropic agent, a coupling agent, a defoaming agent, a powder surface treating agent, an anti-settling agent, etc. It can be obtained by uniformly mixing and dispersing with a kneader, three rolls or the like.

【0038】[0038]

【実施例】以下本発明を実施例により説明する。The present invention will be described below with reference to examples.

【0039】実施例1 フェノール樹脂(鐘紡(株)製、商品名ベルパールS−8
90)40重量部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂
(油化シェルエポキシ(株)製、商品名エポコート82
7)60重量部及び2−フェニル−4−メチル−イミダ
ゾール(四国化成(株)製、キュアゾール2P4MZ)5
重量部を加えて均一に混合し、バインダとした。なおエ
ポキシ樹脂とフェノール樹脂の割合は、重量比でエポキ
シ樹脂:フェノール樹脂が60:40であった。
Example 1 Phenol resin (manufactured by Kanebo Co., Ltd., trade name Bellpearl S-8)
90) 40 parts by weight, bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd., trade name: Epocoat 82)
7) 60 parts by weight and 2-phenyl-4-methyl-imidazole (Curesol 2P4MZ, manufactured by Shikoku Chemicals) 5
The parts by weight were added and mixed uniformly to obtain a binder. The ratio of the epoxy resin to the phenol resin was 60:40 in the weight ratio of epoxy resin: phenol resin.

【0040】次にアトマイズ法で作製した平均粒径が
5.1μmの球状銅粉(日本アトマイズ加工(株)製、商
品名SFR−Cu)を希塩酸及び純水で洗浄した後、水
1リットルあたりAgCN80g及びNaCN75gを
含むめっき溶液で球状銅粉に対して銀の量が18重量%
になるように置換めっきを行い、水洗、乾燥して銀めっ
き銅粉(銀被覆銅粉)を得た。得られた銀めっき銅粉の
粒子を5個取り出し、走査型オージェ電子分光分析装置
で定量分析して銅粉の露出面積について調べたところ1
2〜28%の範囲で平均が21%であった。
Next, spherical copper powder (trade name: SFR-Cu, manufactured by Nippon Atomize Processing Co., Ltd.) having an average particle size of 5.1 μm produced by an atomizing method was washed with dilute hydrochloric acid and pure water. 18% by weight of silver based on spherical copper powder in a plating solution containing 80 g of AgCN and 75 g of NaCN
, And washed with water and dried to obtain silver-plated copper powder (silver-coated copper powder). Five particles of the obtained silver-plated copper powder were taken out and quantitatively analyzed by a scanning Auger electron spectrometer to examine the exposed area of the copper powder.
The average was 21% in the range of 2-28%.

【0041】この後、2リットルのボールミル容器内に
上記で得た銀めっき銅粉750g及び直径が5mmのジル
コニアボール3kgを投入し、40分間回転させて、アス
ペクト比が平均1.3及び長径の平均粒径が5.5μm
の略球状銀被覆銅粉を得た。一方、2リットルのボール
ミル容器内に上記で得た銀めっき銅粉400g及び直径
が10mmのジルコニアボール3kgを投入し、3時間回転
させて、アスペクト比が平均6.1及び長径の平均粒径
が7.5μmの鱗片状銀被覆銅粉を得た。
Thereafter, 750 g of the silver-plated copper powder obtained above and 3 kg of zirconia balls having a diameter of 5 mm were put into a 2 liter ball mill container, and the mixture was rotated for 40 minutes. Average particle size is 5.5 μm
Was obtained. On the other hand, 400 g of the silver-plated copper powder obtained above and 3 kg of zirconia balls having a diameter of 10 mm were put into a 2 liter ball mill container, and rotated for 3 hours. A 7.5 μm flaky silver-coated copper powder was obtained.

【0042】上記で得たバインダ50gに、直径が0.
5mmのジルコニアボール1kgをボールミル容器内に投入
し、2時間回転して解粒処理を行った上記の略球状銀被
覆銅粉330g、上記と同様の方法で解粒処理を行った
上記の鱗片状銀被覆銅粉120g及び溶剤として3−メ
チル−3−メトキシブタノール((株)クラレ製、商品名
ソルフィット)30重量部を加えて撹拌らいかい機及び
三本ロールで均一に混合、分散して導電ペーストを得
た。
To 50 g of the binder obtained above, a diameter of 0.1 g was added.
1 kg of 5 mm zirconia balls are put into a ball mill container, and 330 g of the above-mentioned roughly spherical silver-coated copper powder which has been rotated for 2 hours and crushed, and the flakes which have been crushed by the same method as above. 120 g of silver-coated copper powder and 30 parts by weight of 3-methyl-3-methoxybutanol (manufactured by Kuraray Co., Ltd., Solfit) as a solvent were added, and the mixture was uniformly mixed and dispersed with a stirrer and a three-roll mill. A conductive paste was obtained.

【0043】なお、略球状銀被覆銅粉と鱗片状銀被覆銅
粉の割合は、重量比で略球状銀被覆銅粉:鱗片状銀被覆
銅粉が73:27、銀被覆銅粉と銀粉の割合は、重量比
で銀被覆銅粉:銀粉が100:0、導電粉とバインダの
割合は、重量比で導電粉:バインダが90:10及び溶
剤の含有量は導電ペーストに対して5.7重量%であっ
た。
The weight ratio of the substantially spherical silver-coated copper powder to the flaky silver-coated copper powder is 73:27 in terms of the weight ratio of approximately spherical silver-coated copper powder: scale-like silver-coated copper powder, and 73:27 for the silver-coated copper powder and silver powder. The weight ratio is 100: 0 of silver-coated copper powder: silver powder, the ratio of conductive powder to binder is 90:10 of conductive powder: binder by weight ratio, and the content of solvent is 5.7 with respect to the conductive paste. % By weight.

【0044】次に、上記で得た導電ペーストを用いて、
図7に示す厚さが1.0mmのガラスエポキシ銅張り積層
板(日立化成工業(株)製、商品名MCL−E−670)
13に直径が0.5mmのスルーホール14を形成し、こ
のスルーホール14に導電ペーストを充填すると共にス
ルーホール14間を印刷して配線板Aを作製した。
Next, using the conductive paste obtained above,
A glass epoxy copper clad laminate having a thickness of 1.0 mm shown in FIG. 7 (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name: MCL-E-670)
13, a through hole 14 having a diameter of 0.5 mm was formed, and the through hole 14 was filled with a conductive paste and printed between the through holes 14 to produce a wiring board A.

【0045】一方、図8に示すように前記と同様のガラ
スエポキシ銅張り積層板13の銅箔をエッチングにより
除去した面に、上記で得た導電ペーストを用いて回路1
5を形成し、その上に熱硬化性無臭性ソルダーレジスト
(太陽インキ(株)製、商品名S−40)を用いてアンダ
ーコート材層16を形成し、その上面に耐マイグレーシ
ョン性ジャンパー導電ペースト(日立化成工業(株)製、
商品名MP−200C)を用いてジャンパー回路17を
形成し、さらにアンダーコート材層16の上面及びジャ
ンパー回路17の周囲に前記と同様のソルダーレジスト
を用いてオーバーコート材層18形成し、回路15とジ
ャンパー回路17を交差する配線板Bを得た。
On the other hand, as shown in FIG. 8, on the surface of the same glass epoxy copper-clad laminate 13 from which the copper foil was removed by etching, a circuit 1 was formed using the conductive paste obtained above.
5, an undercoat material layer 16 is formed thereon using a thermosetting odorless solder resist (manufactured by Taiyo Ink Co., Ltd., trade name: S-40), and a migration-resistant jumper conductive paste is formed on the upper surface thereof. (Hitachi Chemical Industries, Ltd.
A jumper circuit 17 is formed using the trade name MP-200C), and an overcoat material layer 18 is formed on the upper surface of the undercoat material layer 16 and around the jumper circuit 17 using the same solder resist as described above. And a wiring board B crossing the jumper circuit 17 was obtained.

【0046】この後、上記の配線板A及びBを、それぞ
れ80℃で1時間乾燥した後、165℃で1時間の加熱
処理を行って配線板A′及びB′を得た。得られた配線
板A′と配線板B′の初期特性を評価した。その結果、
配線板A′におけるスルーホール1穴あたりの抵抗値は
最大が187mΩ/穴、最小が169mΩ/穴及び平均
が172mΩ/穴であった。また配線板B′の回路15
とジャンパー回路17間に直流50Vの電圧を印加して
絶縁抵抗を測定したところ108Ω以上であった。
Thereafter, each of the wiring boards A and B was dried at 80 ° C. for 1 hour, and then subjected to a heat treatment at 165 ° C. for 1 hour to obtain wiring boards A ′ and B ′. The initial characteristics of the obtained wiring boards A 'and B' were evaluated. as a result,
The maximum resistance value per through hole in the wiring board A 'was 187 mΩ / hole, the minimum was 169 mΩ / hole, and the average was 172 mΩ / hole. Circuit 15 of wiring board B '
When a voltage of 50 V DC was applied between the circuit and the jumper circuit 17, the insulation resistance was measured and found to be 10 8 Ω or more.

【0047】また、配線板A′について冷熱衝撃試験を
実施した結果、抵抗変化率は67%であった。一方、配
線板B′について湿中負荷試験を実施した結果、絶縁抵
抗は108Ω以上であった。なお冷熱衝撃試験条件は1
25℃30分〜−65℃30分を100サイクル及び湿
中負荷試験は40℃90%RH中で回路15とジャンパ
ー回路17間に直流50Vの電圧を印加して1000時
間保持した。
Further, as a result of performing a thermal shock test on wiring board A ', the rate of change in resistance was 67%. On the other hand, as a result of performing a moisture and medium load test on the wiring board B ′, the insulation resistance was 10 8 Ω or more. The thermal shock test condition was 1
100 cycles of 25 ° C. for 30 minutes to −65 ° C. for 30 minutes and a load test under a humidity and humidity condition of 40 ° C. and 90% RH applied a voltage of 50 V DC between the circuit 15 and the jumper circuit 17 for 1000 hours.

【0048】なお、本実施例におけるアスペクト比の具
体的測定法を以下に示す。低粘度のエポキシ樹脂(ビュ
ーラー社製)の主剤(No.10−8130)8gと硬化
剤(No.10−8132)2gを混合し、ここへ導電粉
2gを混合して良く分散させ、そのまま30℃で真空脱
泡した後、10時間30℃で静置して粒子を沈降させ硬
化させた。その後、得られた硬化物を垂直方向に切断
し、切断面を電子顕微鏡で1000倍に拡大して切断面
に現れた150個の粒子について長径/短径を求め、そ
れらの平均値をもって、アスペクト比とした。
The specific method of measuring the aspect ratio in this embodiment is described below. 8 g of a base material (No. 10-8130) of a low-viscosity epoxy resin (manufactured by Buehler) and 2 g of a curing agent (No. 10-8132) are mixed, and 2 g of conductive powder is mixed and dispersed well, and the mixture is left as it is. After defoaming in vacuo at 10 ° C., the particles were allowed to stand at 30 ° C. for 10 hours to settle and harden the particles. Thereafter, the obtained cured product was cut in the vertical direction, the cut surface was magnified 1000 times with an electron microscope, and the long diameter / short diameter of 150 particles that appeared on the cut surface was obtained. Ratio.

【0049】実施例2 実施例1で得たバインダ60gに実施例1の解粒処理を
行った略球状銀被覆銅粉220g、実施例1の解粒処理
を行った鱗片状銀被覆銅粉220g及び溶剤として3−
メチル−3−メトキシブタノール35重量部を加えて撹
拌らいかい機及び三本ロールで均一に混合、分散して導
電ペーストを得た。
Example 2 220 g of substantially spherical silver-coated copper powder obtained by subjecting 60 g of the binder obtained in Example 1 to the pulverization treatment of Example 1 and 220 g of flake-shaped silver-coated copper powder subjected to the pulverization treatment of Example 1 And as a solvent 3-
35 parts by weight of methyl-3-methoxybutanol was added, and the mixture was uniformly mixed and dispersed with a stirrer and a three-roll mill to obtain a conductive paste.

【0050】なお、略球状銀被覆銅粉と鱗片状銀被覆銅
粉の割合は、重量比で略球状銀被覆銅粉:鱗片状銀被覆
銅粉が50:50、導電粉とバインダ割合は、重量比で
導電粉:バインダが88:12及び溶剤の含有量は導電
ペーストに対して6.5重量%であった。
The weight ratio of the substantially spherical silver-coated copper powder to the flaky silver-coated copper powder is 50:50, and the ratio of the substantially spherical silver-coated copper powder to the flaky silver-coated copper powder is 50:50. The conductive powder: binder was 88:12 in weight ratio, and the content of the solvent was 6.5% by weight based on the conductive paste.

【0051】次に、実施例1と同様の工程を経て配線板
を作製し、得られた配線板の特性を評価した。その結
果、図7に相当する配線板においては、スルーホール1
穴あたりの抵抗値は最大が201mΩ/穴、最小が18
8mΩ/穴及び平均が195mΩ/穴であった。一方、
図8に相当する配線板の回路とジャンパー回路間に直流
50Vの電圧を印加して絶縁抵抗を測定したところ10
8Ω以上であった。
Next, a wiring board was manufactured through the same steps as in Example 1, and the characteristics of the obtained wiring board were evaluated. As a result, in the wiring board corresponding to FIG.
Maximum resistance per hole is 201 mΩ / hole, minimum is 18
8 mΩ / hole and the average was 195 mΩ / hole. on the other hand,
When a voltage of 50 V DC was applied between the circuit of the wiring board corresponding to FIG. 8 and the jumper circuit, the insulation resistance was measured.
It was 8 Ω or more.

【0052】また、実施例1と同様の方法で図7に相当
する配線板の冷熱衝撃試験を実施した結果、抵抗変化率
は82%であった。一方、実施例1と同様の方法で図8
に相当する配線板の湿中負荷試験を実施した結果、絶縁
抵抗は108Ω以上であった。
Further, as a result of performing a thermal shock test on the wiring board corresponding to FIG. 7 in the same manner as in Example 1, the resistance change rate was 82%. On the other hand, FIG.
As a result of conducting a wet and medium load test of the wiring board corresponding to the above, the insulation resistance was 10 8 Ω or more.

【0053】実施例3 実施例1で得たバインダ50gに実施例1の解粒処理を
行った略球状銀被覆銅粉270g、実施例1と同様の方
法で解粒処理を行った平均粒径が7.8μmの鱗片状銀
粉(ディーエムシースクエアー・ジャパン(株)製、商品
名SF−69)180g及び溶剤として3−メチル−3
−メトキシブタノール30重量部を加えて撹拌らいかい
機及び三本ロールで均一に混合、分散して導電ペースト
を得た。
Example 3 50 g of the binder obtained in Example 1 was subjected to the crushing treatment of Example 1 and 270 g of substantially spherical silver-coated copper powder was obtained, and the average particle size was subjected to crushing treatment in the same manner as in Example 1. 180 g of 7.8 μm flaky silver powder (manufactured by DMC Square Japan Co., Ltd., trade name SF-69) and 3-methyl-3 as a solvent
30 parts by weight of -methoxybutanol was added, and the mixture was uniformly mixed and dispersed with a stirrer and a three-roll mill to obtain a conductive paste.

【0054】なお、略球状銀被覆銅粉と鱗片状銀粉の割
合は、略球状銀被覆銅粉:鱗片状銀粉が60:40、銀
被覆銅粉と銀粉の割合は、重量比で銀被覆銅粉:銀粉が
60:40、導電粉とバインダの割合は、導電粉:バイ
ンダが90:10及び溶剤の含有量は導電ペーストに対
して5.7重量%であった。
The ratio of the substantially spherical silver-coated copper powder to the flaky silver powder is 60:40 for the roughly spherical silver-coated copper powder: scale-like silver powder, and the ratio of the silver-coated copper powder to the silver powder is the weight ratio of silver-coated copper powder. The ratio of the powder: silver powder was 60:40, the ratio of the conductive powder to the binder was 90:10, and the content of the solvent was 5.7% by weight based on the conductive paste.

【0055】次に実施例1と同様の工程を経て配線板を
作製し、得られた配線板の特性を評価した。その結果、
図7に相当する配線板においては、スルーホール1穴あ
たりの抵抗値は最大が171mΩ/穴、最小が134m
Ω/穴及び平均が143mΩ/穴であった。一方、図8
に相当する配線板の回路とジャンパー回路間に直流50
Vの電圧を印加して絶縁抵抗を測定したところ108Ω
以上であった。
Next, a wiring board was manufactured through the same steps as in Example 1, and the characteristics of the obtained wiring board were evaluated. as a result,
In the wiring board corresponding to FIG. 7, the maximum resistance value per through hole is 171 mΩ / hole, and the minimum resistance value is 134 m.
Ω / hole and the average was 143 mΩ / hole. On the other hand, FIG.
DC 50 between the circuit of the wiring board and the jumper circuit corresponding to
When a voltage of V was applied and the insulation resistance was measured, it was 10 8 Ω
That was all.

【0056】また、実施例1と同様の方法で図7に相当
する配線板の冷熱衝撃試験を実施した結果、抵抗変化率
は70%であった。一方、実施例1と同様の方法で図8
に相当する配線板の湿中負荷試験を実施した結果、絶縁
抵抗は108Ω以上であった。
Further, as a result of performing a thermal shock test on the wiring board corresponding to FIG. 7 in the same manner as in Example 1, the resistance change rate was 70%. On the other hand, FIG.
As a result of conducting a wet and medium load test of the wiring board corresponding to the above, the insulation resistance was 10 8 Ω or more.

【0057】比較例1 実施例1で得たバインダ50gに実施例1の解粒処理を
行った略球状銀被覆銅粉450g及び溶剤として3−メ
チル−3−メトキシブタノール30重量部を加えて撹拌
らいかい機及び三本ロールで均一に混合、分散して導電
ペーストを得た。
Comparative Example 1 To 50 g of the binder obtained in Example 1, 450 g of the roughly spherical silver-coated copper powder subjected to the pulverization treatment of Example 1 and 30 parts by weight of 3-methyl-3-methoxybutanol as a solvent were added and stirred. The mixture was uniformly mixed and dispersed with a grinder and a three-roll mill to obtain a conductive paste.

【0058】なお、略球状銀被覆銅粉と鱗片状銀被覆銅
粉の割合は、重量比で略球状銀被覆銅粉:鱗片状銀被覆
銅粉が100:0、銀被覆銅粉と銀粉の割合は、重量比
で銀被覆銅粉:銀粉が100:0、導電粉とバインダの
割合は、重量比で導電粉:バインダが90:10及び溶
剤の含有量は、導電ペーストに対して5.7重量%であ
った。
The weight ratio of the substantially spherical silver-coated copper powder to the flaky silver-coated copper powder is 100: 0 in the weight ratio of the substantially spherical silver-coated copper powder: the flaky silver-coated copper powder, and the ratio of the silver-coated copper powder to the silver powder. The ratio was 100: 0 in weight of silver-coated copper powder: silver powder, the ratio of conductive powder to binder was 90:10 in weight ratio of conductive powder: binder, and the content of solvent was 5. 7% by weight.

【0059】次に、実施例1と同様の工程を経て配線板
を作製し、得られた配線板の特性を評価した。その結
果、図7に相当する配線板においては、スルーホール1
穴あたりの抵抗値は最大が262mΩ/穴、最小が17
1mΩ/穴及び平均が188mΩ/穴でバラツキが大き
くなった。一方、図8に相当する配線板の回路とジャン
パー回路間に直流50Vの電圧を印加して絶縁抵抗を測
定したところ108Ω以上であった。
Next, a wiring board was manufactured through the same steps as in Example 1, and the characteristics of the obtained wiring board were evaluated. As a result, in the wiring board corresponding to FIG.
The maximum resistance per hole is 262 mΩ / hole and the minimum is 17
The dispersion was large at 1 mΩ / hole and the average was 188 mΩ / hole. On the other hand, when a voltage of DC 50 V was applied between the circuit of the wiring board corresponding to FIG. 8 and the jumper circuit, and the insulation resistance was measured, it was 10 8 Ω or more.

【0060】また、実施例1と同様の方法で図7に相当
する配線板の冷熱衝撃試験を実施した結果、抵抗変化率
は10サイクルで587%、100サイクルで測定不可
能となった。一方、実施例1と同様の方法で図8に相当
する配線板の湿中負荷試験を実施した結果、絶縁抵抗は
108Ω以上であった。
Further, as a result of performing a thermal shock test on the wiring board corresponding to FIG. 7 in the same manner as in Example 1, the rate of change in resistance was 587% in 10 cycles, and became unmeasurable in 100 cycles. On the other hand, the wiring board corresponding to FIG. 8 was subjected to a wet and medium load test in the same manner as in Example 1, and as a result, the insulation resistance was 10 8 Ω or more.

【0061】比較例2 実施例1で得たバインダ50gに実施例1の解粒処理を
行った鱗片状銀被覆銅粉450g及び溶剤として3−メ
チル−3−メトキシブタノール30重量部を加えて撹拌
らいかい機及び三本ロールで均一に混合、分散して導電
ペーストを得た。
Comparative Example 2 To 50 g of the binder obtained in Example 1, 450 g of flaky silver-coated copper powder subjected to the pulverization treatment of Example 1 and 30 parts by weight of 3-methyl-3-methoxybutanol as a solvent were added and stirred. The mixture was uniformly mixed and dispersed with a grinder and a three-roll mill to obtain a conductive paste.

【0062】なお、略球状銀被覆銅粉と鱗片状銀被覆銅
粉の割合は、重量比で略球状銀被覆銅粉:鱗片状銀被覆
銅粉が0:100、銀被覆銅粉と銀粉の割合は、重量比
で銀被覆銅粉:銀粉が100:0、導電粉とバインダの
割合は、重量比で導電粉:バインダが90:10及び溶
剤の含有量は、導電ペーストに対して5.7重量%であ
った。
The weight ratio of the substantially spherical silver-coated copper powder to the flaky silver-coated copper powder is 0: 100 for the substantially spherical silver-coated copper powder: scale-like silver-coated copper powder, and 0: 100 for the silver-coated copper powder and the silver powder. The ratio was 100: 0 in weight of silver-coated copper powder: silver powder, the ratio of conductive powder to binder was 90:10 in weight ratio of conductive powder: binder, and the content of solvent was 5. 7% by weight.

【0063】次に、実施例1と同様の工程を経て配線板
を作製し、得られた配線板の特性を評価した。その結
果、図7に相当する配線板においては、スルーホール1
穴あたりの抵抗値は最大が279mΩ/穴、最小が14
6mΩ/穴及び平均が220mΩ/穴でバラツキが大き
くなった。一方、図8に相当する配線板の回路とジャン
パー回路間に直流50Vの電圧を印加して絶縁抵抗を測
定したところ108Ω以上であった。
Next, a wiring board was manufactured through the same steps as in Example 1, and the characteristics of the obtained wiring board were evaluated. As a result, in the wiring board corresponding to FIG.
The maximum resistance per hole is 279 mΩ / hole and the minimum is 14
The dispersion was large at 6 mΩ / hole and the average was 220 mΩ / hole. On the other hand, when a voltage of DC 50 V was applied between the circuit of the wiring board corresponding to FIG. 8 and the jumper circuit, and the insulation resistance was measured, it was 10 8 Ω or more.

【0064】また、実施例1と同様の方法で図7に相当
する配線板の冷熱衝撃試験を実施した結果、抵抗変化率
は10サイクルで312%、100サイクルで測定不可
能となった。一方、実施例1と同様の方法で図8に相当
する配線板の湿中負荷試験を実施した結果、絶縁抵抗は
108Ω以上であった。
Further, as a result of performing a thermal shock test on the wiring board corresponding to FIG. 7 in the same manner as in Example 1, the rate of change in resistance was 312% at 10 cycles, and became unmeasurable at 100 cycles. On the other hand, the wiring board corresponding to FIG. 8 was subjected to a wet and medium load test in the same manner as in Example 1, and as a result, the insulation resistance was 10 8 Ω or more.

【0065】参考例1 実施例1で得たバインダ50gに実施例1の解粒処理を
行った略球状銀被覆銅粉50g、実施例1と同様の方法
で解粒処理を行った平均粒径が4.2μmの略球状銀粉
(ディーエムシースクエアー・ジャパン(株)製、商品名
SFC20−ED)280g、解粒処理を行っていない
実施例3で用いた鱗片状銀粉120g及び溶剤として3
−メチル−3−メトキシブタノール30重量部を加えて
撹拌らいかい機及び三本ロールで均一に混合、分散して
導電ペーストを得た。
REFERENCE EXAMPLE 1 50 g of the binder obtained in Example 1 was subjected to the crushing treatment of Example 1 and 50 g of substantially spherical silver-coated copper powder, and the average particle size was subjected to crushing treatment in the same manner as in Example 1. 280 g of approximately spherical silver powder (manufactured by DMC Square Japan Co., Ltd., trade name: SFC20-ED) having a particle size of 4.2 μm, 120 g of flaky silver powder used in Example 3 which had not been pulverized, and 3 as a solvent.
-Methyl-3-methoxybutanol (30 parts by weight) was added, and the mixture was uniformly mixed and dispersed with a stirrer and a three-roll mill to obtain a conductive paste.

【0066】なお、略球状銀被覆銅粉及び略球状銀粉と
鱗片状銀粉の割合は、重量比で略球状銀被覆銅粉:鱗片
状銀粉が73:27、銀被覆銅粉と銀粉の割合は、重量
比で銀被覆銅粉:銀粉が11:89、導電粉とバインダ
の割合は、重量比で導電粉:バインダが90:10及び
溶剤の含有量は、導電ペーストに対して5.7重量%で
あった。
The ratio of the substantially spherical silver-coated copper powder and the ratio of the substantially spherical silver powder to the flaky silver powder is 73:27 by weight, and the ratio of the substantially spherical silver-coated copper powder to the flaky silver powder is 73:27. The weight ratio of silver-coated copper powder: silver powder is 11:89, the ratio of conductive powder to binder is 90:10 by weight of conductive powder: binder, and the content of solvent is 5.7% by weight of the conductive paste. %Met.

【0067】次に、実施例1と同様の工程を経て配線板
を作製し、得られた配線板の特性を評価した。その結
果、図7に相当する配線板においては、スルーホール1
穴あたりの抵抗値は最大が117mΩ/穴、最小が10
2mΩ/穴及び平均が109mΩ/穴であった。一方、
図8に相当する配線板の回路とジャンパー回路間に直流
50Vの電圧を印加して絶縁抵抗を測定したところ10
8Ω以上であった。
Next, a wiring board was manufactured through the same steps as in Example 1, and the characteristics of the obtained wiring board were evaluated. As a result, in the wiring board corresponding to FIG.
The maximum resistance value per hole is 117 mΩ / hole, and the minimum value is 10
The average was 2 mΩ / hole and the average was 109 mΩ / hole. on the other hand,
When a voltage of 50 V DC was applied between the circuit of the wiring board corresponding to FIG. 8 and the jumper circuit, the insulation resistance was measured.
It was 8 Ω or more.

【0068】また、実施例1と同様の方法で図7に相当
する配線板の冷熱衝撃試験を実施した結果、抵抗変化率
は66%であった。一方、実施例1と同様の方法で図8
に相当する配線板の湿中負荷試験を実施した結果、18
9時間でマイグレーションが発生した。
A wiring board corresponding to FIG. 7 was subjected to a thermal shock test in the same manner as in Example 1, and as a result, the rate of change in resistance was 66%. On the other hand, FIG.
As a result of performing a moisture load test on a wiring board corresponding to
Migration occurred in 9 hours.

【0069】[0069]

【発明の効果】請求項1記載の導電ペーストは、導電
性、作業性及び信頼性に優れる。請求項2記載の導電ペ
ーストは、請求項1記載の導電ペーストの効果を奏し、
さらにマイグレーション性及び信頼性に優れる。請求項
3記載の導電ペーストは、請求項1又は2記載の導電ペ
ーストの効果を奏し、特に導電性の向上効果に優れる。
請求項4記載の導電ペーストは、請求項1、2又は3記
載の導電ペーストの効果を奏し、特に導電性及び信頼性
の向上効果に優れる。請求項5記載の導電ペーストは、
請求項1、2、3又は4記載の導電ペーストの効果を奏
し、特に導電性及び作業性の向上効果に優れる。
The conductive paste according to the first aspect has excellent conductivity, workability and reliability. The conductive paste according to claim 2 has the effect of the conductive paste according to claim 1,
Furthermore, it is excellent in migration property and reliability. The conductive paste according to the third aspect has the effects of the conductive paste according to the first or second aspect, and is particularly excellent in improving the conductivity.
The conductive paste according to the fourth aspect has the effects of the conductive paste according to the first, second, or third aspect, and is particularly excellent in improving the conductivity and reliability. The conductive paste according to claim 5,
The effect of the conductive paste according to the first, second, third or fourth aspect is exhibited, and particularly, the effect of improving conductivity and workability is excellent.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】スルーホールを導電ペーストで接続した状態を
示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a state in which through holes are connected by a conductive paste.

【図2】スルーホールを銅めっきで接続した状態を示す
断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state in which through holes are connected by copper plating.

【図3】多層配線板の断面図である。FIG. 3 is a sectional view of a multilayer wiring board.

【図4】スルーホールを埋めた導電ペースト上に蓋めっ
きを施した状態を示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state in which a lid plating is applied to a conductive paste filling a through hole.

【図5】スルーホールをめっきで接続し、かつスルーホ
ールの空隙に樹脂を埋め込んだ状態を示す断面図であ
る。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a state in which the through holes are connected by plating and a resin is embedded in the voids of the through holes.

【図6】球状又は略球状導電粉と鱗片状導電粉のスルー
ホール内での接触状態を示す概略である。
FIG. 6 is a schematic diagram showing a state of contact between a spherical or substantially spherical conductive powder and a flaky conductive powder in a through hole.

【図7】ガラスエポキシ銅張り積層板に形成したスルー
ホールに導電ペーストを充填すると共にスルーホール間
を印刷して接続した状態を示す配線板の平面図である。
FIG. 7 is a plan view of the wiring board showing a state where conductive paste is filled in through holes formed in the glass epoxy copper clad laminate and printed and connected between the through holes.

【図8】ガラスエポキシ銅張り積層版に導電ペーストを
用いて回路を形成し、その上面にアンダーコート材層、
ジャンパー回路及びオーバーコート材層を形成した状態
を示す配線板の断面図である。
FIG. 8: A circuit is formed using a conductive paste on a glass epoxy copper-clad laminate, and an undercoat material layer is formed on the upper surface of the circuit.
It is sectional drawing of the wiring board which shows the state in which the jumper circuit and the overcoat material layer were formed.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 導電ペースト 2 銅めっき 3 基材 4 導電ペースト 5 銅箔 6 絶縁層 7 ジャンパー導電ペースト 8 オーバーコート層 9 蓋めっき 10 樹脂 11 球状又は略球状導電粉 12 鱗片状導電粉 13 ガラスエポキシ銅張り積層板 14 スルーホール 15 回路 16 アンダーコート材層 17 ジャンパー回路 18 オーバーコート材層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Conductive paste 2 Copper plating 3 Base material 4 Conductive paste 5 Copper foil 6 Insulating layer 7 Jumper conductive paste 8 Overcoat layer 9 Lid plating 10 Resin 11 Spherical or substantially spherical conductive powder 12 Scaly conductive powder 13 Glass epoxy copper clad laminate 14 through hole 15 circuit 16 undercoat material layer 17 jumper circuit 18 overcoat material layer

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 導電粉、バインダ及び溶剤を含む導電ペ
ーストにおいて、導電粉が解粒された球状又は略球状導
電粉及び解粒された鱗片状導電粉を含み、かつ解粒され
た球状又は略球状導電粉と解粒された鱗片状導電粉の割
合が、重量比で球状又は略球状導電粉:鱗片状導電粉が
40:60〜95:5である導電ペースト。
1. A conductive paste containing a conductive powder, a binder, and a solvent, wherein the conductive powder contains a pulverized spherical or substantially spherical conductive powder and a pulverized flaky conductive powder, and the pulverized spherical or substantially spherical powder. A conductive paste in which the ratio of the spherical conductive powder to the flaked conductive powder is 40:60 to 95: 5 by weight in a ratio of spherical or substantially spherical conductive powder: scale conductive powder.
【請求項2】 解粒された球状又は略球状導電粉及び解
粒された鱗片状導電粉が、銅粉又は銅合金粉の一部を露
出して表面が大略銀で被覆された銀被覆銅粉若しくは銀
被覆銅合金粉である請求項1記載の導電ペースト。
2. A silver-coated copper powder, wherein the pulverized spherical or substantially spherical conductive powder and the pulverized flaky conductive powder expose a part of the copper powder or the copper alloy powder and have a surface substantially coated with silver. The conductive paste according to claim 1, which is a powder or a silver-coated copper alloy powder.
【請求項3】 バインダの主成分がエポキシ樹脂、フェ
ノール樹脂及びその硬化剤を含み、エポキシ樹脂とフェ
ノール樹脂の割合が、重量比でエポキシ樹脂:フェノー
ル樹脂が10:90〜90:10である請求項1又は2
記載の導電ペースト。
3. The main component of the binder includes an epoxy resin, a phenolic resin and a curing agent thereof, and the ratio of the epoxy resin to the phenolic resin is 10:90 to 90:10 by weight in a ratio of epoxy resin: phenolic resin. Item 1 or 2
The conductive paste as described in the above.
【請求項4】 導電粉とバインダの割合が、重量比で導
電粉:バインダが83:17〜95:5である請求項
1、2又は3記載の導電ペースト。
4. The conductive paste according to claim 1, wherein the ratio of the conductive powder to the binder is 83:17 to 95: 5 by weight in a ratio of conductive powder: binder.
【請求項5】 溶剤が、1種又は2種以上の混合溶剤で
あり、溶剤の含有量が導電ペーストに対し2〜10重量
%である請求項1、2、3又は4記載の導電ペースト。
5. The conductive paste according to claim 1, wherein the solvent is one or a mixture of two or more solvents, and the content of the solvent is 2 to 10% by weight based on the conductive paste.
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