JP2001351521A - 画像表示装置の製造方法および製造装置 - Google Patents
画像表示装置の製造方法および製造装置Info
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- JP2001351521A JP2001351521A JP2000170524A JP2000170524A JP2001351521A JP 2001351521 A JP2001351521 A JP 2001351521A JP 2000170524 A JP2000170524 A JP 2000170524A JP 2000170524 A JP2000170524 A JP 2000170524A JP 2001351521 A JP2001351521 A JP 2001351521A
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- rear substrate
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- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】熱による電子放出素子の劣化を防止し、高品位
な画像を表示可能な画像表示装置を製造できる画像表示
装置の製造方法および製造装置を提供することにある。 【解決手段】 フリットガラスを介して側壁18と背面
基板12とを接触させ所定の位置関係に配置する。この
背面基板の電子放出素子形成領域Aよりも背面基板の周
辺部の封着部が高温となるように側壁および背面基板を
加熱し、フリットガラスにより側壁と背面基板とを封着
する。背面基板の電子放出素子形成領域の加熱温度を電
子放出素子の耐熱温度以下とし、背面基板の周辺部の加
熱温度をフリットガラスの焼成温度以上に設定する。
な画像を表示可能な画像表示装置を製造できる画像表示
装置の製造方法および製造装置を提供することにある。 【解決手段】 フリットガラスを介して側壁18と背面
基板12とを接触させ所定の位置関係に配置する。この
背面基板の電子放出素子形成領域Aよりも背面基板の周
辺部の封着部が高温となるように側壁および背面基板を
加熱し、フリットガラスにより側壁と背面基板とを封着
する。背面基板の電子放出素子形成領域の加熱温度を電
子放出素子の耐熱温度以下とし、背面基板の周辺部の加
熱温度をフリットガラスの焼成温度以上に設定する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、多数の電子放出素
子を有する画像表示装置の製造方法および製造装置に関
し、特に、平坦な画像表示装置における外囲器の製造方
法および製造装置に関する。
子を有する画像表示装置の製造方法および製造装置に関
し、特に、平坦な画像表示装置における外囲器の製造方
法および製造装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、高品位放送用あるいはこれに伴う
高解像度の画像表示装置が望まれており、そのスクリー
ン表示性能については一段と厳しい要望がなされてい
る。これらの要望を達成するためには、スクリーン面の
平坦化、高解像度化が必須であり、同時に軽量化、薄型
化も図らねばならない。
高解像度の画像表示装置が望まれており、そのスクリー
ン表示性能については一段と厳しい要望がなされてい
る。これらの要望を達成するためには、スクリーン面の
平坦化、高解像度化が必須であり、同時に軽量化、薄型
化も図らねばならない。
【0003】従来、上記要望を達成する画像表示装置と
して、多数の電子放出素子から放出される電子ビームを
蛍光体スクリーンに照射して蛍光体スクリーンを発光さ
せることにより画像を形成する表示装置が知られてい
る。この画像表示装置によれば、前面基板と背面基板と
が側壁を介して対向配置されている。背面基板上には、
複数の表面伝導型の電子放出素子がマトリックス状に配
置されている。各電子放出素子は、薄膜からなる一対の
素子電極と電子放出部とで構成されている。また、前面
基板には、電子放出素子から放出された電子が衝突する
ことで発光する蛍光体からなる蛍光膜とこの蛍光膜を覆
ったメタルバックとが形成されている。
して、多数の電子放出素子から放出される電子ビームを
蛍光体スクリーンに照射して蛍光体スクリーンを発光さ
せることにより画像を形成する表示装置が知られてい
る。この画像表示装置によれば、前面基板と背面基板と
が側壁を介して対向配置されている。背面基板上には、
複数の表面伝導型の電子放出素子がマトリックス状に配
置されている。各電子放出素子は、薄膜からなる一対の
素子電極と電子放出部とで構成されている。また、前面
基板には、電子放出素子から放出された電子が衝突する
ことで発光する蛍光体からなる蛍光膜とこの蛍光膜を覆
ったメタルバックとが形成されている。
【0004】背面基板に配置された電子放出素子は高真
空中で安定して動作するため、前面基板、側壁、および
背面基板とで構成される外囲器内は、高真空に保たれな
ければならない。そこで、一般に、背面基板と側壁との
封着、および前面基板と側壁との封着にはフリットガラ
スが用いられている。この場合、背面基板、前面基板、
および側壁の封着部に流動性のあるフリットガラスを塗
布した後、各封着部を所定位置で接触させた状態でこれ
らを電気炉等に配置する。そして、背面基板、前面基
板、および側壁の全体をフリットガラスの融点以上の温
度に加熱して封着する。フリットガラスによる封着が終
了した後、外囲器全体を排気しながらベーキングで脱ガ
スを十分行い、更に、ゲッター処理を行った後、最後に
排気管を封じる。
空中で安定して動作するため、前面基板、側壁、および
背面基板とで構成される外囲器内は、高真空に保たれな
ければならない。そこで、一般に、背面基板と側壁との
封着、および前面基板と側壁との封着にはフリットガラ
スが用いられている。この場合、背面基板、前面基板、
および側壁の封着部に流動性のあるフリットガラスを塗
布した後、各封着部を所定位置で接触させた状態でこれ
らを電気炉等に配置する。そして、背面基板、前面基
板、および側壁の全体をフリットガラスの融点以上の温
度に加熱して封着する。フリットガラスによる封着が終
了した後、外囲器全体を排気しながらベーキングで脱ガ
スを十分行い、更に、ゲッター処理を行った後、最後に
排気管を封じる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】前述したような構造を
有する平面型の画像表示装置では、その封着工程におい
て、背面基板、前面基板、および側壁の全体をフリット
ガラスの融点以上の高温に加熱して封着を行っている。
そして、この封着温度は、背面基板に配置された電子放
出素子の耐熱性の観点からできる限り低いことが好まし
い。
有する平面型の画像表示装置では、その封着工程におい
て、背面基板、前面基板、および側壁の全体をフリット
ガラスの融点以上の高温に加熱して封着を行っている。
そして、この封着温度は、背面基板に配置された電子放
出素子の耐熱性の観点からできる限り低いことが好まし
い。
【0006】しかしながら、現状では、低融点フリット
ガラスと称されるものでも必要焼成温度は410〜45
0℃であるのに対して、電子放出素子の耐熱温度は43
0℃程度であり耐熱性は低い。つまり、電子放出素子
は、封着工程において少なからず熱の影響を受け、電子
放出特性が劣化してしまう。そのため、高品位画像を得
ることが困難となる。
ガラスと称されるものでも必要焼成温度は410〜45
0℃であるのに対して、電子放出素子の耐熱温度は43
0℃程度であり耐熱性は低い。つまり、電子放出素子
は、封着工程において少なからず熱の影響を受け、電子
放出特性が劣化してしまう。そのため、高品位画像を得
ることが困難となる。
【0007】更に、近年では、環境への影響低減が重要
であり、鉛等の有害物質は排除する必要があるが、一般
的な低融点フリットガラスはその母材がPbO−B2O
3であり鉛を多く含んでいることから、その使用は好ま
しくない。しかしながら、無鉛フリットガラスでは必要
焼成温度が500℃以上となり、前述の電子放出素子の
耐熱温度をはるかに上回るため所望の高品位画像を得る
ことが不可能となる。
であり、鉛等の有害物質は排除する必要があるが、一般
的な低融点フリットガラスはその母材がPbO−B2O
3であり鉛を多く含んでいることから、その使用は好ま
しくない。しかしながら、無鉛フリットガラスでは必要
焼成温度が500℃以上となり、前述の電子放出素子の
耐熱温度をはるかに上回るため所望の高品位画像を得る
ことが不可能となる。
【0008】一方、平面型の画像表示装置では、外囲器
内部の真空度を高く保つ必要がある。しかしながら、従
来の排気工程では、基板の一角に排気管を設けて外囲器
の排気を行っており、外囲器の前面基板と背面基板との
間隔が2mm程度と狭いことから、非常に排気効率が悪
く十分な真空度を得ることができない。
内部の真空度を高く保つ必要がある。しかしながら、従
来の排気工程では、基板の一角に排気管を設けて外囲器
の排気を行っており、外囲器の前面基板と背面基板との
間隔が2mm程度と狭いことから、非常に排気効率が悪
く十分な真空度を得ることができない。
【0009】この問題点を解決する方法として、真空槽
内で外囲器の各部材を低融点材料を用いて封着すると同
時に外囲器を排気する方法が考えられる。この場合、電
子放出素子は活性化済みであるため耐熱温度は350℃
程度となり、これ以下の融点を持つ材料、例えばインジ
ウムあるいはインジウム合金等、を用いて封着する。こ
の方法では、排気効率も良く超高真空を保った外囲器が
得られ、また、電子放出素子の熱による劣化もなくすこ
とが可能となる。
内で外囲器の各部材を低融点材料を用いて封着すると同
時に外囲器を排気する方法が考えられる。この場合、電
子放出素子は活性化済みであるため耐熱温度は350℃
程度となり、これ以下の融点を持つ材料、例えばインジ
ウムあるいはインジウム合金等、を用いて封着する。こ
の方法では、排気効率も良く超高真空を保った外囲器が
得られ、また、電子放出素子の熱による劣化もなくすこ
とが可能となる。
【0010】しかしながら、高真空槽内で背面基板、前
面基板、および側壁の全部材を高精度に位置決めし、更
に、各部材の封着面に充填された低融点材料の融点以上
の温度で高精度を保ったまま各部材を組み合わすのは非
常に困難であり、また、製造装置の構成も非常に大掛か
りとなり実用的でない。
面基板、および側壁の全部材を高精度に位置決めし、更
に、各部材の封着面に充填された低融点材料の融点以上
の温度で高精度を保ったまま各部材を組み合わすのは非
常に困難であり、また、製造装置の構成も非常に大掛か
りとなり実用的でない。
【0011】本発明は、このような課題に対処するため
になされたもので、その目的は、封着工程での電子放出
素子の劣化が無く画像品位の向上した画像表示装置を製
造することが可能な画像表示装置の製造方法および製造
装置を提供することにある。
になされたもので、その目的は、封着工程での電子放出
素子の劣化が無く画像品位の向上した画像表示装置を製
造することが可能な画像表示装置の製造方法および製造
装置を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明に係る画像表示装置の製造方法は、所定の
隙間を置いて対向配置されているとともに、枠状の側壁
を介して周縁部同士が接合された背面基板および前面基
板を有した外囲器と、上記背面基板の内面上に形成され
た多数の電子放出素子と、上記前面基板の内面上に形成
され上記電子放出素子から放出された電子により励起さ
れて発光する蛍光体層を有した蛍光体スクリーンと、を
備えた画像表示装置の製造方法において、接着材を介し
て上記側壁と背面基板とを接触させ、上記側壁および背
面基板を所定の位置関係に配置し、上記背面基板の中央
部よりも上記背面基板の周辺部の方が高温となるように
上記側壁および背面基板を加熱して、上記接着材により
上記側壁および背面板を封着することを特徴としてい
る。
め、この発明に係る画像表示装置の製造方法は、所定の
隙間を置いて対向配置されているとともに、枠状の側壁
を介して周縁部同士が接合された背面基板および前面基
板を有した外囲器と、上記背面基板の内面上に形成され
た多数の電子放出素子と、上記前面基板の内面上に形成
され上記電子放出素子から放出された電子により励起さ
れて発光する蛍光体層を有した蛍光体スクリーンと、を
備えた画像表示装置の製造方法において、接着材を介し
て上記側壁と背面基板とを接触させ、上記側壁および背
面基板を所定の位置関係に配置し、上記背面基板の中央
部よりも上記背面基板の周辺部の方が高温となるように
上記側壁および背面基板を加熱して、上記接着材により
上記側壁および背面板を封着することを特徴としてい
る。
【0013】また、この発明に係る画像表示装置の製造
装置は、所定の隙間を置いて対向配置されているととも
に、枠状の側壁を介して周縁部同士が接合された背面基
板および前面基板を有した外囲器と、上記背面基板の内
面上に形成された多数の電子放出素子と、上記前面基板
の内面上に形成され上記電子放出素子から放出された電
子により励起されて発光する蛍光体層を有した蛍光体ス
クリーンと、を備えた画像表示装置を製造する製造装置
において、接着材を介して互いに接触しているとともに
所定の位置関係に配置された側壁および背面基板につい
て、上記背面基板の中央部よりも上記背面基板の周辺部
の方が高温となるように上記側壁および背面基板を加熱
し、上記接着材により上記側壁と背面基板とを封着する
加熱装置を備えていることを特徴としている。
装置は、所定の隙間を置いて対向配置されているととも
に、枠状の側壁を介して周縁部同士が接合された背面基
板および前面基板を有した外囲器と、上記背面基板の内
面上に形成された多数の電子放出素子と、上記前面基板
の内面上に形成され上記電子放出素子から放出された電
子により励起されて発光する蛍光体層を有した蛍光体ス
クリーンと、を備えた画像表示装置を製造する製造装置
において、接着材を介して互いに接触しているとともに
所定の位置関係に配置された側壁および背面基板につい
て、上記背面基板の中央部よりも上記背面基板の周辺部
の方が高温となるように上記側壁および背面基板を加熱
し、上記接着材により上記側壁と背面基板とを封着する
加熱装置を備えていることを特徴としている。
【0014】更に、上記製造装置において、上記加熱装
置は、上記側壁および背面基板の全体を第1温度に加熱
する基板全面加熱装置と、上記背面基板の周辺部および
側壁を局所的に、上記第1温度よりも高い第2温度に加
熱する局所加熱装置と、を備えていることを特徴として
いる。
置は、上記側壁および背面基板の全体を第1温度に加熱
する基板全面加熱装置と、上記背面基板の周辺部および
側壁を局所的に、上記第1温度よりも高い第2温度に加
熱する局所加熱装置と、を備えていることを特徴として
いる。
【0015】上記のように構成されたこの発明の製造方
法および製造装置によれば、背面基板の中央部よりも周
縁部の加熱温度を高くし、上記側壁および背面基板を接
着材によって封着することで、電子放出素子の熱による
劣化を抑制しつつ背面基板と側壁を封着することができ
る。その後、前面基板を上記側壁に封着するとともに、
形成された外囲器内を排気することにより、比較的容易
に高精度な外囲器を形成でき、熱による電子放出素子の
劣化がなく画像品位の高い画像表示装置を得ることがで
きる。
法および製造装置によれば、背面基板の中央部よりも周
縁部の加熱温度を高くし、上記側壁および背面基板を接
着材によって封着することで、電子放出素子の熱による
劣化を抑制しつつ背面基板と側壁を封着することができ
る。その後、前面基板を上記側壁に封着するとともに、
形成された外囲器内を排気することにより、比較的容易
に高精度な外囲器を形成でき、熱による電子放出素子の
劣化がなく画像品位の高い画像表示装置を得ることがで
きる。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら、この
発明の実施の形態に係る画像表示装置の製造方法および
製造装置ついて詳細に説明する。まず、本製造方法およ
び製造装置によって製造される画像表示装置として、フ
ィールドエミッションディスプレイ(以下、FEDと称
する)の構成について説明する。
発明の実施の形態に係る画像表示装置の製造方法および
製造装置ついて詳細に説明する。まず、本製造方法およ
び製造装置によって製造される画像表示装置として、フ
ィールドエミッションディスプレイ(以下、FEDと称
する)の構成について説明する。
【0017】図1および図2に示すように、このFED
は、それぞれ矩形状のガラスからなる前面基板11およ
び背面基板12を備え、これらの基板は所定の隙間を置
いて対向配置されている。そして、前面基板11および
背面基板12は、ガラスからなる矩形枠状の側壁18を
介して周縁部同志が接合され、偏平な矩形状の外囲器1
0を構成している。そして、外囲器10の内部は真空排
気され、高い真空度に維持されている。
は、それぞれ矩形状のガラスからなる前面基板11およ
び背面基板12を備え、これらの基板は所定の隙間を置
いて対向配置されている。そして、前面基板11および
背面基板12は、ガラスからなる矩形枠状の側壁18を
介して周縁部同志が接合され、偏平な矩形状の外囲器1
0を構成している。そして、外囲器10の内部は真空排
気され、高い真空度に維持されている。
【0018】前面基板11の内面上には蛍光体スクリー
ン16が形成されている。この蛍光体スクリーン16
は、赤、青、緑のストライプ状の蛍光体層、および非発
光部としてのストライプ状の黒色着色層を並べて構成さ
れている。また、蛍光体スクリーン16に重ねて、アル
ミ膜等かなるメタルバック19が形成されている。
ン16が形成されている。この蛍光体スクリーン16
は、赤、青、緑のストライプ状の蛍光体層、および非発
光部としてのストライプ状の黒色着色層を並べて構成さ
れている。また、蛍光体スクリーン16に重ねて、アル
ミ膜等かなるメタルバック19が形成されている。
【0019】背面基板12の内面上には、蛍光体層を励
起する電子源として、それぞれ電子を放出する多数の電
子放出素子20が設けられている。これらの電子放出素
子20は、画素毎に対応して複数列および複数行に配列
されている。各電子放出素子20は、図示しない電子放
出部、この電子放出部に電圧を印加する一対の素子電極
等で構成されている。また、背面基板12上には、電子
放出素子20に電圧を印加するための図示しない多数本
の配線がマトリック状に設けられている。
起する電子源として、それぞれ電子を放出する多数の電
子放出素子20が設けられている。これらの電子放出素
子20は、画素毎に対応して複数列および複数行に配列
されている。各電子放出素子20は、図示しない電子放
出部、この電子放出部に電圧を印加する一対の素子電極
等で構成されている。また、背面基板12上には、電子
放出素子20に電圧を印加するための図示しない多数本
の配線がマトリック状に設けられている。
【0020】なお、前面基板11と背面基板12との間
には、これら基板間の間隔を保持するための図示しない
多数のスペーサ、放電制御用の電極板等が配設されてい
る。
には、これら基板間の間隔を保持するための図示しない
多数のスペーサ、放電制御用の電極板等が配設されてい
る。
【0021】次に、上記構成のFEDの製造方法および
製造装置について説明する。まず、前面基板11、背面
基板12、および側壁18を用意する。この場合、予め
前面基板11上に蛍光体スクリーン16およびメタルバ
ック19を形成しておくとともに、背面基板12上に電
子放出素子20を形成しておく。前面基板11への蛍光
体スクリーンやメタルバックの形成方法、および背面基
板への電子放出素子の形成方法等は、従来と同一である
ためその詳細な説明を省略する。
製造装置について説明する。まず、前面基板11、背面
基板12、および側壁18を用意する。この場合、予め
前面基板11上に蛍光体スクリーン16およびメタルバ
ック19を形成しておくとともに、背面基板12上に電
子放出素子20を形成しておく。前面基板11への蛍光
体スクリーンやメタルバックの形成方法、および背面基
板への電子放出素子の形成方法等は、従来と同一である
ためその詳細な説明を省略する。
【0022】次に、図3に示すように、背面基板12の
内面の内、電子放出素子20が形成された形成領域Aの
外側、つまり、背面基板12の周縁部、および側壁18
の接合面に、あるいは、いずれか一方に、接着材として
のフリットガラス24を塗布する。このフリットガラス
24は、ニトロセルロース等のバインダーで粘度を調整
した有機溶剤と混合してぺースト状にすることで容易に
塗布できる。
内面の内、電子放出素子20が形成された形成領域Aの
外側、つまり、背面基板12の周縁部、および側壁18
の接合面に、あるいは、いずれか一方に、接着材として
のフリットガラス24を塗布する。このフリットガラス
24は、ニトロセルロース等のバインダーで粘度を調整
した有機溶剤と混合してぺースト状にすることで容易に
塗布できる。
【0023】続いて、図4および図5に示すように、適
当な治具等により背面基板12および側壁18を互いに
位置合わせした後、製造装置の基板全面加熱装置として
機能するホットプレート30上に設置する。この際、背
面基板12の外面がホットプレート30の表面上に接触
した状態で、背面基板を配置する。
当な治具等により背面基板12および側壁18を互いに
位置合わせした後、製造装置の基板全面加熱装置として
機能するホットプレート30上に設置する。この際、背
面基板12の外面がホットプレート30の表面上に接触
した状態で、背面基板を配置する。
【0024】ホットプレート30は、背面基板12の全
面を均一な温度分布に加熱するように複数の加熱源32
を内部に有し、また、複数箇所に設けられた図示しない
温度センサーによって温度制御される。加熱源32とし
ては、電気ヒーターやランプヒーター等種々の熱源を利
用することができる。
面を均一な温度分布に加熱するように複数の加熱源32
を内部に有し、また、複数箇所に設けられた図示しない
温度センサーによって温度制御される。加熱源32とし
ては、電気ヒーターやランプヒーター等種々の熱源を利
用することができる。
【0025】そして、ホットプレート30により、背面
基板12全体を約350℃程度(第1温度)まで加熱す
る。この時、背面基板12の上方に、電子放出素子20
の形成領域Aと対向して矩形状の反射板34を所定の間
隔を置いて配置し、ホットプレート30側からの熱を背
面基板12側へ反射する。これにより、加熱時、背面基
板12の両面を均一に加熱して温度差を無くし、両面の
温度差に起因する背面基板12のそり、および極端な場
合の基板破損を防止することができる。なお、この時点
で背面基板12の温度は約350℃程度であり、フリッ
トガラス24の焼成温度(約450℃)以下となってい
る。そのため、フリットガラス24は焼成されない。
基板12全体を約350℃程度(第1温度)まで加熱す
る。この時、背面基板12の上方に、電子放出素子20
の形成領域Aと対向して矩形状の反射板34を所定の間
隔を置いて配置し、ホットプレート30側からの熱を背
面基板12側へ反射する。これにより、加熱時、背面基
板12の両面を均一に加熱して温度差を無くし、両面の
温度差に起因する背面基板12のそり、および極端な場
合の基板破損を防止することができる。なお、この時点
で背面基板12の温度は約350℃程度であり、フリッ
トガラス24の焼成温度(約450℃)以下となってい
る。そのため、フリットガラス24は焼成されない。
【0026】次に、背面基板12の電子放出素子20の
形成領域Aの外側、つまり、背面基板の周縁部と、側壁
18と、フリットガラス24とを、その上方に設置され
た4つのハロゲンヒータ36により約450℃程度(第
2温度)に加熱し、フリットガラスを焼成する。これに
より、背面基板12と側壁18とを封着し、背面基板−
側壁アセンブリ40を形成する。
形成領域Aの外側、つまり、背面基板の周縁部と、側壁
18と、フリットガラス24とを、その上方に設置され
た4つのハロゲンヒータ36により約450℃程度(第
2温度)に加熱し、フリットガラスを焼成する。これに
より、背面基板12と側壁18とを封着し、背面基板−
側壁アセンブリ40を形成する。
【0027】ここで、4つのハロゲンヒータ36は、製
造装置の局所加熱装置として機能し、それぞれ背面基板
12の4辺の斜め上方に配置されている。そして、4つ
のハロゲンヒータ36は、これらハロゲンヒータからの
熱放射が、背面基板12の周縁部、側壁18、およびフ
リットガラス24の部分にのみ局所的に作用するよう
に、所望の寸法、配置に設定されている。なお、図4に
おいては、2つのハロゲンヒータのみを図示している。
造装置の局所加熱装置として機能し、それぞれ背面基板
12の4辺の斜め上方に配置されている。そして、4つ
のハロゲンヒータ36は、これらハロゲンヒータからの
熱放射が、背面基板12の周縁部、側壁18、およびフ
リットガラス24の部分にのみ局所的に作用するよう
に、所望の寸法、配置に設定されている。なお、図4に
おいては、2つのハロゲンヒータのみを図示している。
【0028】このようなハロゲンヒータ36によって加
熱した場合、背面基板12の周縁部、側壁18、および
フリットガラス24は約450℃程度まで加熱される
が、背面基板12の中央部、すなわち、電子放出素子2
0の形成領域Aは、電子放出素子の耐熱温度(約430
℃)以下の約350℃に保持される。従って、熱による
電子放出素子20の特性劣化を生じることなく、フリッ
トガラス24を焼成し背面基板12と側壁18とを封着
することができる。なお、背面基板12に引張り応力が
作用しないように、背面基板中央部の加熱温度(第1温
度)と周辺部の加熱温度(第2温度)との温度差は、約
50〜100℃に設定されていることが望ましい。
熱した場合、背面基板12の周縁部、側壁18、および
フリットガラス24は約450℃程度まで加熱される
が、背面基板12の中央部、すなわち、電子放出素子2
0の形成領域Aは、電子放出素子の耐熱温度(約430
℃)以下の約350℃に保持される。従って、熱による
電子放出素子20の特性劣化を生じることなく、フリッ
トガラス24を焼成し背面基板12と側壁18とを封着
することができる。なお、背面基板12に引張り応力が
作用しないように、背面基板中央部の加熱温度(第1温
度)と周辺部の加熱温度(第2温度)との温度差は、約
50〜100℃に設定されていることが望ましい。
【0029】ハロゲンヒータ36により加熱された部材
からの熱伝導によってその周辺の温度が上昇することも
考えられるが、影響を受ける範囲は狭く、電子放出素子
形成領域A端部での温度上昇はほとんど無い。実際に実
験した例では、サイズ900×580mmの背面基板1
2、側壁18と電子放出素子形成領域Aとの間隔が約2
0mmのものを、ホットプレート30により350℃に
加熱し、その後、ハロゲンヒータ36により側壁18を
450℃まで加熱した。この場合でも、電子放出素子形
成領域Aの端部の温度は約355℃であり、ほとんど影
響を受けないことが分かった。
からの熱伝導によってその周辺の温度が上昇することも
考えられるが、影響を受ける範囲は狭く、電子放出素子
形成領域A端部での温度上昇はほとんど無い。実際に実
験した例では、サイズ900×580mmの背面基板1
2、側壁18と電子放出素子形成領域Aとの間隔が約2
0mmのものを、ホットプレート30により350℃に
加熱し、その後、ハロゲンヒータ36により側壁18を
450℃まで加熱した。この場合でも、電子放出素子形
成領域Aの端部の温度は約355℃であり、ほとんど影
響を受けないことが分かった。
【0030】局所加熱装置の加熱源としては、ランプヒ
ータの他、電気ヒータ等種々の熱源を利用することがで
きる。ランプヒータの場合は、集光型のランプユニット
を用いることにより、光エネルギーを無駄なく利用で
き、低電力化が図れるという利点もある。
ータの他、電気ヒータ等種々の熱源を利用することがで
きる。ランプヒータの場合は、集光型のランプユニット
を用いることにより、光エネルギーを無駄なく利用で
き、低電力化が図れるという利点もある。
【0031】上述した背面基板および側壁の封着後、背
面基板−側壁アセンブリ40に前面基板11を封着す
る。この場合、図示しない真空槽内で低融点材料を用い
て前面基板11を封着すると同時に外囲器を排気する方
法によって、封着と排気を一括して行なう。
面基板−側壁アセンブリ40に前面基板11を封着す
る。この場合、図示しない真空槽内で低融点材料を用い
て前面基板11を封着すると同時に外囲器を排気する方
法によって、封着と排気を一括して行なう。
【0032】まず、予め封着面で外周部に低融点材料か
らなる接着材が塗布された前面基板11と、背面基板−
側壁アセンブリ40とを真空槽に導入する。ここで低融
点材料は、背面基板−側壁アセンブリ40の側壁18に
塗布しても良く、また両方に設置しても良い。
らなる接着材が塗布された前面基板11と、背面基板−
側壁アセンブリ40とを真空槽に導入する。ここで低融
点材料は、背面基板−側壁アセンブリ40の側壁18に
塗布しても良く、また両方に設置しても良い。
【0033】次に、真空槽内を排気し、真空槽の真空度
が105Pa以下となった時点で、前面基板11と背面
基板−側壁アセンブリ10とをベーキングし十分に脱ガ
スを行なう。続いて、真空層内の温度を200℃程度に
加熱し低融点材料を溶かした状態で、前面基板11と背
面基板−側壁アセンブリ40の側壁18とを接触させ、
これらを所定の位置関係に配置する。その後、低融点材
料を除冷して前面基板11と側壁12とを封着すること
により、外囲器10が形成される。
が105Pa以下となった時点で、前面基板11と背面
基板−側壁アセンブリ10とをベーキングし十分に脱ガ
スを行なう。続いて、真空層内の温度を200℃程度に
加熱し低融点材料を溶かした状態で、前面基板11と背
面基板−側壁アセンブリ40の側壁18とを接触させ、
これらを所定の位置関係に配置する。その後、低融点材
料を除冷して前面基板11と側壁12とを封着すること
により、外囲器10が形成される。
【0034】真空槽内での組み立てでは、前面基板12
と背面基板−側壁アセンブリ40との2者の位置合わせ
精度のみを調整すれば良く、比較的容易に高精度な組み
立てが可能となる。
と背面基板−側壁アセンブリ40との2者の位置合わせ
精度のみを調整すれば良く、比較的容易に高精度な組み
立てが可能となる。
【0035】以上のように構成されたFEDの製造方法
および製造装置によれば、背面基板12の電子放出素子
形成領域Aよりも背面基板の周縁部、つまり、封着部を
高温に加熱することにより、フリットガラス24を介し
て側壁18を背面基板に封着している。そのため、熱に
よる電子放出素子20の劣化を生じることなく背面基板
12と側壁2とを封着することができる。その後、真空
槽内で前面基板11を低融点材料を用いて封着するとと
ともに外囲器を排気することで、排気効率も良く超高真
空を維持した外囲器を比較的容易にかつ高精度に製造す
ることができる。これにより、高品位な画像を表示可能
なFEDを製造することができる。
および製造装置によれば、背面基板12の電子放出素子
形成領域Aよりも背面基板の周縁部、つまり、封着部を
高温に加熱することにより、フリットガラス24を介し
て側壁18を背面基板に封着している。そのため、熱に
よる電子放出素子20の劣化を生じることなく背面基板
12と側壁2とを封着することができる。その後、真空
槽内で前面基板11を低融点材料を用いて封着するとと
ともに外囲器を排気することで、排気効率も良く超高真
空を維持した外囲器を比較的容易にかつ高精度に製造す
ることができる。これにより、高品位な画像を表示可能
なFEDを製造することができる。
【0036】なお、この発明は上述した実施の形態に限
定されることなく、この発明の範囲内で種々変形可能で
ある。例えば、この発明は、FEDに限らず、他の画像
表示装置にも適用することもできる。また、上述した実
施の形態では、前面基板11と背面基板−側壁アセンブ
リ40とを真空槽内で低融点材料を用いて封着する構成
としたが、これに限らず、前面基板11と背面基板−側
壁アセンブリ40との封着も、前述した基板全面加熱装
置および局所加熱装置を有した製造装置によって行なう
こともできる。つまり、この場合においても、背面基板
12の中央部より周辺部の加熱温度を高くし、熱による
電子放出素子の劣化を抑制しつつ、前面基板11と側壁
18とをフリットガラスを介して封着することができ
る。さらに背面基板、側壁、および前面基板を同時にフ
リットガラスを介して封着してもよい。
定されることなく、この発明の範囲内で種々変形可能で
ある。例えば、この発明は、FEDに限らず、他の画像
表示装置にも適用することもできる。また、上述した実
施の形態では、前面基板11と背面基板−側壁アセンブ
リ40とを真空槽内で低融点材料を用いて封着する構成
としたが、これに限らず、前面基板11と背面基板−側
壁アセンブリ40との封着も、前述した基板全面加熱装
置および局所加熱装置を有した製造装置によって行なう
こともできる。つまり、この場合においても、背面基板
12の中央部より周辺部の加熱温度を高くし、熱による
電子放出素子の劣化を抑制しつつ、前面基板11と側壁
18とをフリットガラスを介して封着することができ
る。さらに背面基板、側壁、および前面基板を同時にフ
リットガラスを介して封着してもよい。
【0037】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、背面基板の中央部よりも周辺部を高い温度で加熱し
て、側壁と背面基板とを封着することにより、熱による
電子放出素子の劣化を防止し、画像品位の向上した画像
表示装置を製造可能な画像表示装置の製造方法および製
造装置を提供することができる。
ば、背面基板の中央部よりも周辺部を高い温度で加熱し
て、側壁と背面基板とを封着することにより、熱による
電子放出素子の劣化を防止し、画像品位の向上した画像
表示装置を製造可能な画像表示装置の製造方法および製
造装置を提供することができる。
【図1】画像表示装置としてのFEDを示す斜視図。
【図2】図1の線A−Aに沿った断面図。
【図3】上記FEDの背面基板および側壁を示す分解斜
視図。
視図。
【図4】この発明の実施の形態に係る製造装置、および
製造方法の封着工程を示す斜視図。
製造方法の封着工程を示す斜視図。
【図5】上記製造装置および封着工程を示す側面図。
10…外囲器 11…前面基板 12…背面基板 16…蛍光体スクリーン 18…側壁 20…電子放出素子 30…ホットプレート 36…ハロゲンヒータ
Claims (8)
- 【請求項1】所定の隙間を置いて対向配置されていると
ともに、枠状の側壁を介して周縁部同士が接合された背
面基板および前面基板を有した外囲器と、上記背面基板
の内面上に形成された多数の電子放出素子と、上記前面
基板の内面上に形成され上記電子放出素子から放出され
た電子により励起されて発光する蛍光体層を有した蛍光
体スクリーンと、を備えた画像表示装置の製造方法にお
いて、 接着材を介して上記側壁と背面基板とを接触させ、上記
側壁および背面基板を所定の位置関係に配置し、 上記背面基板の中央部よりも上記背面基板の周辺部の方
が高温となるように上記側壁および背面基板を加熱し、
上記接着材により上記側壁と背面基板とを封着すること
を特徴とする画像表示装置の製造方法。 - 【請求項2】上記背面基板の中央部は、上記電子放出素
子の形成領域内であり、上記背面基板の周辺部は、上記
電子放出素子の形成領域外であることを特徴とする請求
項1に記載の画像表示装置の製造方法。 - 【請求項3】上記背面基板全体を第1温度に加熱した
後、上記背面基板の周辺部および側壁を局所的に、上記
第1温度よりも高い第2温度に加熱することを特徴とす
る請求項1又は2に記載の画像表示装置の製造方法。 - 【請求項4】上記背面基板中央部の加熱温度と周辺部の
加熱温度との差を約50ないし100℃とすることを特
徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の画像
表示装置の製造方法。 - 【請求項5】上記接着材としてフリットガラスを用い、
上記背面基板の中央部の加熱温度を350℃以下とし、
上記背面基板の周辺部の加熱温度を400℃以上とする
ことを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記
載の画像表示装置の製造方法。 - 【請求項6】上記封着された背面基板および側壁を真空
槽内に配置し、上記真空槽内を所定の真空度に維持した
状態で、低融点材料を用いて上記前面基板を上記側壁に
封着することを特徴とする請求項1ないし5のいずれか
1項に記載の画像表示装置の製造方法。 - 【請求項7】所定の隙間を置いて対向配置されていると
ともに、枠状の側壁を介して周縁部同士が接合された背
面基板および前面基板を有した外囲器と、上記背面基板
の内面上に形成された多数の電子放出素子と、上記前面
基板の内面上に形成され上記電子放出素子から放出され
た電子により励起されて発光する蛍光体層を有した蛍光
体スクリーンと、を備えた画像表示装置を製造する製造
装置において、 接着材を介して互いに接触しているとともに所定の位置
関係に配置された側壁および背面基板について、上記背
面基板の中央部よりも上記背面基板の周辺部の方が高温
となるように上記側壁および背面基板を加熱し、上記接
着材により上記側壁と背面基板とを封着する加熱装置を
備えていることを特徴とする画像表示装置の製造装置。 - 【請求項8】上記加熱装置は、上記側壁および背面基板
の全体を第1温度に加熱する基板全面加熱装置と、上記
背面基板の周辺部および側壁を局所的に、上記第1温度
よりも高い第2温度に加熱する局所加熱装置と、を備え
ていることを特徴とする請求項7に記載の画像表示装置
の製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000170524A JP2001351521A (ja) | 2000-06-07 | 2000-06-07 | 画像表示装置の製造方法および製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000170524A JP2001351521A (ja) | 2000-06-07 | 2000-06-07 | 画像表示装置の製造方法および製造装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001351521A true JP2001351521A (ja) | 2001-12-21 |
Family
ID=18673227
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000170524A Pending JP2001351521A (ja) | 2000-06-07 | 2000-06-07 | 画像表示装置の製造方法および製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001351521A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7407423B2 (en) | 2003-04-16 | 2008-08-05 | Corning Incorporated | Glass package that is hermetically sealed with a frit and method of fabrication |
WO2010138830A1 (en) * | 2009-05-28 | 2010-12-02 | Corning Incorporated | Method of forming an organic light emitting diode device |
US8257541B2 (en) | 2004-08-24 | 2012-09-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Manufacturing method and manufacturing apparatus of envelope |
CN104466028A (zh) * | 2013-09-18 | 2015-03-25 | 群创光电股份有限公司 | 显示面板的封装方法及封装结构 |
-
2000
- 2000-06-07 JP JP2000170524A patent/JP2001351521A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7407423B2 (en) | 2003-04-16 | 2008-08-05 | Corning Incorporated | Glass package that is hermetically sealed with a frit and method of fabrication |
US8063560B2 (en) | 2003-04-16 | 2011-11-22 | Corning Incorporated | Glass package that is hermetically sealed with a frit and method of fabrication |
US8257541B2 (en) | 2004-08-24 | 2012-09-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Manufacturing method and manufacturing apparatus of envelope |
WO2010138830A1 (en) * | 2009-05-28 | 2010-12-02 | Corning Incorporated | Method of forming an organic light emitting diode device |
CN104466028A (zh) * | 2013-09-18 | 2015-03-25 | 群创光电股份有限公司 | 显示面板的封装方法及封装结构 |
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