JP2001296410A - Reflecting sheet - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、反射型液晶表示装
置に用いられる反射シートに関する。さらに詳しくは、
携帯電話、PHS、電子手帳、携帯情報端末、電子計算
機、各種操作パネルなどの反射型液晶表示装置に用いら
れる反射シートに関する。The present invention relates to a reflection sheet used for a reflection type liquid crystal display device. For more information,
The present invention relates to a reflection sheet used for a reflection type liquid crystal display device such as a mobile phone, a PHS, an electronic organizer, a portable information terminal, an electronic calculator, and various operation panels.
【0002】[0002]
【従来の技術】液晶表示装置は、これまでのCRTディ
スプレイに比べ、薄型であり省スペース化できる、低電
圧で作動する、消費電力が少なく省エネルギー化でき
る、などの特徴から中小型機器のディスプレイを中心に
広く用いられている。なかでも、反射型液晶は、常にバ
ックライトを用いる透過型液晶表示装置に比べ低消費電
力であることから、携帯電話、PHS、電子手帳、携帯
情報端末、電子計算機、各種操作パネルなどに使用され
ている。現在、主として用いられている白黒表示の反射
型液晶表示装置は、人側より、偏光板、液晶表示パネ
ル、偏光板、反射シートの構成で構成されるている。ま
た、今後増加すると考えられる反射型カラー液晶表示装
置では、上記部材に加え、カラーフィルターが用られる
ことが考えられる。また、反射型カラー液晶表示装置で
は、反射体側の偏光板がないものや、偏光板が全くない
ものも考案されている。2. Description of the Related Art Liquid crystal display devices are small and space-saving, operate at a low voltage, consume little power and can save energy, and are used to display small and medium-sized devices as compared with conventional CRT displays. Widely used in the center. Above all, reflective liquid crystal has lower power consumption than transmissive liquid crystal display devices that always use a backlight, so it is used for mobile phones, PHS, electronic organizers, personal digital assistants, electronic calculators, and various operation panels. ing. At present, a reflection type liquid crystal display device for black and white display, which is mainly used, is composed of a polarizing plate, a liquid crystal display panel, a polarizing plate, and a reflecting sheet from the human side. In a reflective type color liquid crystal display device which is expected to increase in the future, a color filter may be used in addition to the above members. In addition, in the reflection type color liquid crystal display device, a device without a polarizing plate on the reflector side or a device without any polarizing plate has been devised.
【0003】理想的な液晶表示とは、明るく、そしてど
こから見ても同様な表示品質が得られるものであり、私
たちが普段使用している本などの印刷物の様なものであ
るといわれている。よって、反射型液晶表示装置に用い
られる反射シートも、紙のように四方八方に均一に光を
拡散する反射シート(ペーパーホワイトタイプ)が好ま
しいと考えられる。しかしながら、液晶表示装置では、
一般に先述した構成であるため、入射光は偏光板→液晶
表示パネル→偏光板を通過し、反射シートに到達した
後、反射シートにより反射された光は再度、偏光板→液
晶表示パネル→偏光板を通過し外部へ到達するため、入
射光に対して、反射光の光量は、光損失を考慮すると3
分の1以下に落ち、暗くなってしまうという問題点があ
った。また、カラー反射型液晶表示装置においては、カ
ラーフィルターも用いられるため、さらに反射光が減少
することが考えられる。したがって、均一に光を拡散す
る反射シートを液晶表示装置に用いると、実際は暗くな
り使用できない。[0003] An ideal liquid crystal display is a display which is bright and has a similar display quality from any point of view, and is said to be a printed matter such as a book which we usually use. I have. Therefore, it is considered that a reflection sheet (paper white type) that uniformly diffuses light in all directions like paper is also preferable for the reflection sheet used in the reflection type liquid crystal display device. However, in a liquid crystal display device,
Generally, because of the configuration described above, the incident light passes through the polarizing plate → the liquid crystal display panel → the polarizing plate, and after reaching the reflecting sheet, the light reflected by the reflecting sheet is again polarized light → the liquid crystal display panel → the polarizing plate. , And reaches the outside, the amount of reflected light with respect to the incident light becomes 3 in consideration of light loss.
There was a problem that it fell to less than one-half and became dark. Further, in the color reflection type liquid crystal display device, since a color filter is also used, the reflected light may be further reduced. Therefore, if a reflection sheet that uniformly diffuses light is used in a liquid crystal display device, it becomes darker and cannot be used.
【0004】現状では、金属光沢をもつ正反射成分の大
きい反射シートを用い、ある範囲に光を集中することに
よって明るい表示を実現している。しかしながら、この
ような正反射成分の大きな反射シートでは、光の入射角
と見る角度(受光角)が一致する場合は非常に明るいも
のの、見る角度(受光角)がずれると一気に暗くなって
しまう、つまり視野角が狭いという欠点がある。視野角
を広げるには拡散成分を増やす必要があるが、拡散成分
を増やすことは、折角集中させた光を広げることになり
全体的に暗くなってしまうという問題がある。この視野
角を広げるためには、反射体の反射特性(光の集中と分
散)を制御することが必要であり、これまで多くの検討
がなされてきた。反射体の反射特性を制御する方法とし
ては、反射面(金属薄膜層)を形成する基材(高分子フ
ィルム)を凹凸化する方法が一般的である。At present, a bright display is realized by concentrating light in a certain range by using a reflection sheet having a metallic reflection and a large specular reflection component. However, such a reflection sheet having a large specular reflection component is very bright when the incident angle of light and the viewing angle (reception angle) match, but becomes dark at a stretch when the viewing angle (reception angle) deviates. That is, there is a disadvantage that the viewing angle is narrow. To widen the viewing angle, it is necessary to increase the diffusion component. However, increasing the diffusion component increases the intensity of the concentrated light, resulting in a problem that the entire image becomes dark. In order to widen the viewing angle, it is necessary to control the reflection characteristics (concentration and dispersion of light) of the reflector, and many studies have been made so far. As a method of controlling the reflection characteristics of the reflector, a method of making a substrate (polymer film) forming a reflection surface (metal thin film layer) uneven is generally used.
【0005】凹凸化方法としては、(1)高分子フィル
ム表面にエンボス加工を施し凹凸構造を形成した後、表
面を溶剤で処理して滑らかにする方法、(2)高分子フ
ィルム表面にSiO2 などの粒子を高圧空気とともに吹
き付けるサンドブラスト方法、(3)エッチング法など
の化学的方法、などが挙げられる。しかしながら、
(1)、(2)の方法では、機械的物理的方法によりフ
ィルム表面に凹凸形状を形成する方式のため、フィルム
の材質の選択の幅が狭く、また、厚みもある程度厚くし
なければならないという欠点がある。また、(2)の方
法では硬いサンド(SiO2 )の形状が不均一なことか
ら、得られる凹凸形状も激しく、かつ、不均一に粗れて
おり、アルカリ溶液処理などで表面の一部を溶解して
も、この粗れを十分に均一化することができず、得られ
る凹凸構造が非常に不均一になるという欠点がある。さ
らにまた、(3)のような化学的方法においても、フィ
ルムの材質の選択がシビアであり、また、処理後の洗浄
乾燥が大変であるという欠点がある。[0005] As roughening method, (1) forming an uneven structure embossed on the polymer film surface, a method of smoothing by treating the surface with a solvent, SiO 2 in (2) a polymer film surface And (3) a chemical method such as an etching method. However,
In the methods (1) and (2), since the uneven shape is formed on the film surface by a mechanical and physical method, the width of the selection of the material of the film must be narrow and the thickness must be increased to some extent. There are drawbacks. In the method ( 2 ), since the shape of the hard sand (SiO 2 ) is not uniform, the resulting uneven shape is also severe and unevenly rough. Even if it dissolves, there is a drawback that the roughness cannot be made sufficiently uniform and the resulting uneven structure becomes very uneven. Furthermore, even in the chemical method as in (3), there is a drawback that the selection of the material of the film is severe, and the washing and drying after the treatment are difficult.
【0006】現状では、これらの方法では、凹凸層の成
形方法自体に欠点があり、また、出来た凹凸層において
も依然として狭い視野角の範囲に光が集中するため、明
るさ(輝度)が等しい理想的な反射特性は得られていな
い。よって、より高拡散で理想的な反射特性を得るため
には、これまでよりもさらに制御された凹凸表面を用い
る必要があった。At present, these methods have drawbacks in the method of forming the concavo-convex layer itself, and even in the formed concavo-convex layer, the light (luminance) is equal because light is still concentrated in a narrow viewing angle range. The ideal reflection characteristics have not been obtained. Therefore, in order to obtain an ideal reflection characteristic with higher diffusion, it is necessary to use a more controlled uneven surface than before.
【0007】一方、反射層に用いられる金属によって
も、その反射率は大きく左右される。例えば、一般的に
用いられる金属層として、銀及びアルミニウムを例にと
り比較すれば、銀を使用した場合、その反射率は90%
以上、アルミニウムを用いた場合は85%と以上となっ
ており、銀を用いる方が高反射率を得ることができる。
しかしながら、近年の液晶表示装置の普及に伴い、その
用途も多様化し、より過酷な使用条件での要求も高まっ
ており、長時間の耐久性が要求されている。一般的な実
装信頼性に関しては、中耐久条件として、60℃×90
%RH×500hrでの耐久性が求められているが、反
射層に銀のみを用いた場合、上記の中耐久条件におい
て、表面に多数の凝集点が発生し、見た目が悪くなると
共に、反射率の低下を招くという欠点がある。[0007] On the other hand, the reflectivity greatly depends on the metal used for the reflective layer. For example, comparing silver and aluminum as examples of commonly used metal layers, when silver is used, the reflectance is 90%.
As described above, the value is 85% or more when aluminum is used, and higher reflectance can be obtained by using silver.
However, with the spread of liquid crystal display devices in recent years, their uses have been diversified, demands under severer use conditions have increased, and long-term durability has been required. Regarding general mounting reliability, 60 ° C. × 90
% RH × 500 hr is required. However, when only silver is used for the reflective layer, a large number of aggregation points are generated on the surface under the above-mentioned medium durability conditions, and the appearance is deteriorated, and the reflectance is reduced. Has the drawback of causing a decrease in
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の課題
を解決するためになされるものであり、反射型液晶表示
装置に用いた際に、従来よりも明るいペーパーホワイト
タイプで、高耐久性をもつ反射シートを提供することを
目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and is a paper white type which is brighter than the conventional one when used in a reflection type liquid crystal display device, and has high durability. It is an object to provide a reflection sheet having
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するために、凹凸構造及び反射層の構成につい
て鋭意検討した結果、驚くべきことに、高分子フィルム
に、その重量がある特定の重量範囲になるように微細粒
子及びバインダーを塗布することにより形成された凹凸
層の上に、下地層、銀を主体とする金属層、珪素酸化物
層の3層を順に構成することにより、上記の課題を解決
出来ることを見いだし、本発明を完成するに到った。Means for Solving the Problems In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have conducted intensive studies on the structure of the concave-convex structure and the reflection layer. As a result, surprisingly, the weight of the polymer film was reduced. A three-layer structure of an underlayer, a metal layer mainly composed of silver, and a silicon oxide layer is formed in order on an uneven layer formed by applying fine particles and a binder so as to have a specific weight range. As a result, they have found that the above problems can be solved, and have completed the present invention.
【0010】すなわち、本発明は、 高分子フィルム
(A)、主として粒子層からなる凹凸層(B)、下地層
(C)、銀を主体とする金属層(D)、珪素酸化物層
(E)をABCDEの構成順に有する反射シートであっ
て、(E)層側から測定した波長550nmにおける該
反射シートの反射率が85〜99%であることを特徴と
する反射シート、 凹凸層(B)が、平均粒径1μm以上、15μm以
下である微細粒子、および、バインダーにより形成さ
れ、かつ、該微細粒子が凹凸層の体積に対し5〜52体
積%の割合になるように配合され、かつ、該凹凸層の乾
燥重量(g/cm2)が下記式(1)の条件を満足する
ものであることを特徴とする前記に記載の反射シー
ト、に関するものである。 式(1):0.75×2r×102 /〔p/a+(10
0−p)/b〕≦乾燥重量(g/cm2 )≦2.5×2
r×102 /〔p/a+(100−p)/b〕 〔但し、p=100/〔1+(100/v―1)×b/
a〕であり、rは使用した微細粒子の半径の平均値(c
m)、pは凹凸層中の微細粒子の割合(重量%)、vは
凹凸層中の微細粒子の割合(体積%)、aは用いた微細
粒子の密度(g/cm3 )、bは用いたバインダーの密
度(g/cm3 )を表す。〕また、本発明は、 微細
粒子が、アクリル系粒子であることを特徴とする前記
に記載の反射シート、 バインダーが、アクリル系樹脂であることを特徴と
する前記またはに記載の反射シート、 下地層(C)が、金、銅、ニッケル、鉄、コバル
ト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロム、イ
ンジウム、マンガン、チタン、もしくは、パラジウムか
らなる厚さ5〜50nmの金属層、または、酸化アルミ
ニウムが0〜5重量%ドープされた酸化亜鉛、または、
インジウムとスズの酸化物(ITO)からなる厚さ1〜
20nmの透明酸化物層であることを特徴とする前記
〜のいずれかに記載の反射シート、 銀を主体とする金属層(D)の厚みが、70〜40
0nmであることを特徴とする前記〜のいずれかに
記載の反射シート、 珪素酸化物層(E)の厚みが、1〜50nmである
ことを特徴とする前記〜のいずれかに記載の反射シ
ート、に関するものである。That is, the present invention relates to a polymer film (A), a concavo-convex layer (B) mainly composed of a particle layer, an underlayer (C), a metal layer mainly composed of silver (D), and a silicon oxide layer (E). And (E) a reflectance sheet having a reflectance of 85 to 99% at a wavelength of 550 nm measured from the layer side, and the uneven layer (B). Are formed of a binder and a fine particle having an average particle diameter of 1 μm or more and 15 μm or less, and are blended so that the fine particle has a ratio of 5 to 52% by volume with respect to the volume of the uneven layer, and The reflective sheet according to the above, wherein the dry weight (g / cm 2 ) of the uneven layer satisfies the condition of the following formula (1). Formula (1): 0.75 × 2r × 10 2 / [p / a + (10
0-p) / b] ≦ dry weight (g / cm 2 ) ≦ 2.5 × 2
r × 10 2 / [p / a + (100−p) / b] [However, p = 100 / [1+ (100 / v−1) × b /
a], and r is the average value of the radii of the fine particles used (c
m), p is the ratio of fine particles in the uneven layer (% by weight), v is the ratio of fine particles in the uneven layer (volume%), a is the density of the used fine particles (g / cm 3 ), b is It represents the density (g / cm 3 ) of the binder used. The present invention also provides the reflective sheet according to the above, wherein the fine particles are acrylic particles, the reflective sheet according to the above, wherein the binder is an acrylic resin, The formation layer (C) is a metal layer having a thickness of 5 to 50 nm made of gold, copper, nickel, iron, cobalt, tungsten, molybdenum, tantalum, chromium, indium, manganese, titanium, or palladium, or aluminum oxide of 0%. ~ 5 wt% doped zinc oxide, or
Indium and tin oxide (ITO)
The reflective sheet according to any one of the above-described items, which is a transparent oxide layer having a thickness of 20 nm, wherein the metal layer (D) mainly composed of silver has a thickness of 70 to 40.
The reflective sheet according to any one of the above, wherein the thickness is 0 nm, and the thickness of the silicon oxide layer (E) is 1 to 50 nm. It is about.
【0011】[0011]
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の反射シートは、高分子フィルム(A)上に、主
として、特定の平均粒径により構成される微細粒子(以
下、フィラーとも言う)を特定の割合でバインダーに配
合し乾燥重量がある特定の重量になるように塗布して凹
凸構造を有する層(B)を形成した後、該凹凸層上に、
主として酸化物または金属単体層からなる下地層
(C)、銀を主体とする金属層(D)、珪素酸化物層
(E)を順に形成した反射シートである。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The reflective sheet of the present invention is characterized in that fine particles (hereinafter, also referred to as filler) mainly composed of a specific average particle size are blended in a binder at a specific ratio on a polymer film (A), and a specific dry weight is obtained. After forming a layer (B) having a concavo-convex structure by applying so as to have a weight of
This is a reflection sheet in which a base layer (C) mainly composed of an oxide or a single metal layer, a metal layer (D) mainly composed of silver, and a silicon oxide layer (E) are sequentially formed.
【0012】本発明の反射シートにおいて、基材として
使用される高分子フィルムとしては、例えば、ポリエチ
レンテレフタラート(PET)、ポリエチレンナフタレ
ートなどのポリエステル類、ビスフェノールA系ポリカ
ーボネートなどのポリカーボネート類、ポリエチレン、
ポリプロピレンなどのポリオレフィン類、セルロースト
リアセテートなどのセルロース誘導体類、ポリ塩化ビニ
リデンなどのビニル系樹脂、ポリイミド類、ポリアミド
類、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン系樹脂、ポリ
アリレート系樹脂、フッ素系樹脂などの各種プラスチッ
クからなるフィルムが挙げられるが、必ずしもこれらに
限定されるものではなく、ある程度ガラス転移点が高
く、平滑な表面をもつものであれば使用できる。なかで
も、ポリエチレンテレフタラートが好ましい。使用され
る高分子フィルムの厚みは、特に限定されるものではな
いが、通常は10〜400μm程度、好ましくは10〜
200μm程度、さらに好ましくは25〜100μm程
度である。In the reflection sheet of the present invention, the polymer film used as the base material includes, for example, polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate, polycarbonates such as bisphenol A-based polycarbonate, polyethylene,
Polyolefins such as polypropylene, cellulose derivatives such as cellulose triacetate, vinyl resins such as polyvinylidene chloride, polyimides, polyamides, polyethersulfone, polysulfone resins, polyarylate resins, and various plastics such as fluororesins. Examples of the film include, but are not limited to, films having a high glass transition point and a smooth surface to some extent. Among them, polyethylene terephthalate is preferred. The thickness of the polymer film used is not particularly limited, but is usually about 10 to 400 μm, preferably 10 to 400 μm.
It is about 200 μm, more preferably about 25-100 μm.
【0013】本発明において、高分子フィルム上に形成
される凹凸層(B)は、主として、フィラーとなる微細
粒子及びバインダーにより形成される。フィラーとなる
微細粒子としては、例えば、アクリル、ポリスチレン、
ビニルベンゼン、ポリメタクリル酸メチル、スチレンメ
タクリレート、スチレンアクリレート、スチレンブタジ
エン等の高分子(有機)粒子をはじめ、シリカ、アルミ
ナ、チタニア、ジルコニア、酸化鉛(鉛白)、酸化亜鉛
(亜鉛華)、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、硫酸バリ
ウム、チタン酸カリウム、ケイ酸ソーダなどからなる無
機微粒子や、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウ
ム、酸化アンチモンなどの導電性透明微粒子などを用い
ることができるが、必ずしもこれらに限定されるもので
はない。なかでも、アクリル樹脂が好ましい。In the present invention, the concavo-convex layer (B) formed on the polymer film is formed mainly of fine particles serving as a filler and a binder. As fine particles serving as a filler, for example, acrylic, polystyrene,
Including polymer (organic) particles such as vinylbenzene, polymethyl methacrylate, styrene methacrylate, styrene acrylate, styrene butadiene, silica, alumina, titania, zirconia, lead oxide (lead white), zinc oxide (zinc white), and carbonic acid Inorganic fine particles such as calcium, barium carbonate, barium sulfate, potassium titanate, and sodium silicate, and conductive transparent fine particles such as tin oxide, indium oxide, cadmium oxide, and antimony oxide can be used. It is not limited. Among them, an acrylic resin is preferable.
【0014】高分子からなる微細粒子の調製方法として
は、乳化重合法、懸濁重合法、分散重合法などが挙げら
れる。なかでも、乳化重合法が最も一般的であるが、近
年、分散重合も盛んに行われている。どの重合法におい
ても、生成する高分子は分散媒に難溶であり、分散媒と
高分子間の表面張力により粒子化する。高分子粒子は、
粒子表面に結合又は吸着している保護コロイドによって
安定化され、さらに粒子内架橋によっても安定化され
る。これらの方法の中でも特に、分散重合法を用いた場
合、サブミクロンから数十ミクロンまでの広い範囲の粒
子が得られる特徴がある。The method for preparing the fine particles composed of a polymer includes an emulsion polymerization method, a suspension polymerization method and a dispersion polymerization method. Among them, the emulsion polymerization method is the most common, but in recent years, dispersion polymerization has been actively performed. In any polymerization method, the produced polymer is hardly soluble in the dispersion medium, and is formed into particles by the surface tension between the dispersion medium and the polymer. Polymer particles are
It is stabilized by a protective colloid bonded or adsorbed to the particle surface, and further stabilized by intra-particle crosslinking. Among these methods, in particular, when a dispersion polymerization method is used, there is a feature that particles in a wide range from submicron to several tens of microns can be obtained.
【0015】高分子フィルムの表面に所望の粗さを得る
ためのフィラーとなる微細粒子の平均粒子径は1〜15
μmであり、好ましくは2〜10μmであり、さらに好
ましくは3〜8μmである。平均粒子径が1μm未満で
は、粒子の埋没で凹凸構造の表面が形成しにくくなり、
また、15μmを越えると凹凸構造の起伏が大きくな
り、きめの粗い反射シートとなる。なお、微細粒子の粒
径分布は小さい方が好ましい。粒径の標準偏差の平均粒
径に対する割合は50%以下が好ましく、より好ましく
は30%以下で、さらに好ましくは20%以下である。
粒径分布が上記の割合を大きく超えると、制御された凹
凸構造を得ることが難しくなる。The average particle size of the fine particles serving as a filler for obtaining the desired roughness on the surface of the polymer film is 1 to 15
μm, preferably 2 to 10 μm, and more preferably 3 to 8 μm. If the average particle diameter is less than 1 μm, it becomes difficult to form the surface of the concavo-convex structure by burying the particles,
On the other hand, if it exceeds 15 μm, the undulation of the uneven structure becomes large, and the reflection sheet becomes coarse. It is preferable that the particle size distribution of the fine particles is small. The ratio of the standard deviation of the particle size to the average particle size is preferably 50% or less, more preferably 30% or less, and even more preferably 20% or less.
If the particle size distribution greatly exceeds the above ratio, it is difficult to obtain a controlled uneven structure.
【0016】本発明において、バインダーとして用いら
れるものとしては、例えば、ポリメタクリル酸メチルな
どのアクリル樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリメ
タアクリルニトリル樹脂、エチルシリケートより得られ
る重合体などの珪素樹脂、フッ素系樹脂、ポリエステル
系樹脂、ポリスチレン樹脂、アセテート系樹脂、ポリエ
ーテルサルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ
アミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹
脂、ポリウレタン系樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エ
ポキシ樹脂や、これらの混合物などが挙げられるが、必
ずしもこれらに限定されるものではない。これらは高分
子フィルム及び粒子との密着性を考慮して選択され、な
かでも、アクリル系樹脂が好ましい。In the present invention, as a binder used, for example, an acrylic resin such as polymethyl methacrylate, a polyacrylonitrile resin, a polymethacrylonitrile resin, a silicon resin such as a polymer obtained from ethylsilicate, a fluorine resin Resin, polyester resin, polystyrene resin, acetate resin, polyether sulfone resin, polycarbonate resin, polyamide resin, polyimide resin, polyolefin resin, polyurethane resin, urea resin, melamine resin, epoxy resin, These include mixtures, but are not necessarily limited to these. These are selected in consideration of the adhesion to the polymer film and the particles, and among them, acrylic resins are preferable.
【0017】また、本発明において凹凸層は、フィラー
である微細粒子及びバインダーを、高分子フィルム上に
塗布することで形成される。塗布する際、フィラーであ
る微細粒子をバインダー中に分散させるための溶媒とし
ては、トルエン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、イ
ソプロピルアルコールなどが好ましく用いられる。これ
らは塗布作業時に一般的に用いられる溶媒であり、これ
ら以外でも基材高分子フィルムやフィラー微細粒子に影
響を与えない溶媒であれば、問題なく使用できる。ま
た、塗布溶液には、必要に応じて、ぬれ剤や増粘剤、分
散剤、消泡剤などの添加剤が加えられることもある。In the present invention, the concavo-convex layer is formed by applying fine particles as a filler and a binder on a polymer film. At the time of coating, as a solvent for dispersing fine particles as a filler in a binder, toluene, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, isopropyl alcohol, and the like are preferably used. These are solvents generally used at the time of the coating operation, and any other solvent that does not affect the base polymer film or the filler fine particles can be used without any problem. Further, additives such as a wetting agent, a thickener, a dispersant, and an antifoaming agent may be added to the coating solution as needed.
【0018】フィラーとなる微細粒子の配合割合として
は、塗工溶液における固形分(フィラー+バインダー)
中のフィラーの体積%で表され、通常、固形分100体
積%に対し5体積%以上、52体積%以下が好ましく、
より好ましくは10体積%以上、45体積%以下、さら
に好ましくは、20体積%以上、40体積%以下であ
る。フィラーの使用量が5体積%以下の場合、十分な光
拡散性を得ることが出来ず、52体積%を越えると複屈
折により十分な反射光が得られなくなる。The mixing ratio of the fine particles serving as the filler is determined by the solid content (filler + binder) in the coating solution.
It is represented by the volume% of the filler therein, and is usually preferably 5% by volume or more and 52% by volume or less based on 100% by volume of the solid content,
More preferably, it is 10% by volume or more and 45% by volume or less, and still more preferably 20% by volume or more and 40% by volume or less. When the used amount of the filler is 5% by volume or less, sufficient light diffusibility cannot be obtained, and when it exceeds 52% by volume, sufficient reflected light cannot be obtained due to birefringence.
【0019】本発明の反射シートの製造に際して、高分
子からなる微細粒子を、バインダー中に溶剤を用いて分
散させた溶液を塗工する際は、分散溶液を調合後、4時
間、好ましくは12時間、さらに好ましくは24時間お
いた後に、塗工することが好ましい。高分子からなる微
細粒子は溶剤の影響を受け、数時間の間、経時で膨潤す
るため、分散溶液調合後、すぐに塗工を行うと、微細粒
子の粒径が経時で変化するため、凹凸構造が不均一にな
ると共に、分散溶液の粘度も経時で変化するため、塗工
条件の調整が困難になることがある。In the production of the reflection sheet of the present invention, when applying a solution in which fine particles made of a polymer are dispersed in a binder using a solvent, 4 hours after mixing the dispersion solution, preferably 12 hours It is preferable to apply the coating after leaving for an hour, more preferably 24 hours. Since the fine particles made of a polymer are affected by the solvent and swell with the lapse of time for several hours, if the coating is performed immediately after preparing the dispersion solution, the particle size of the fine particles changes with the lapse of time. Since the structure becomes uneven and the viscosity of the dispersion solution changes with time, it may be difficult to adjust the coating conditions.
【0020】本発明の反射シートは、高分子フィルム上
に、前記の主としてバインダーと微細粒子からなる組成
物を特定重量塗布して得られる凹凸層を有することを特
徴とする。高分子フィルム上に形成される凹凸層の重量
は、乾燥重量(g/cm2 )が下記式(1)の条件を満
たすものである。 式(1):0.75×2r×102 /(p/a+(10
0−p)/b)≦乾燥重量(g/cm2 )≦2.5×2
r×102 /(p/a+(100−p)/b)好ましく
は、下記式(2)の条件であり、 式(2):0.75×2r×102 /(p/a+(10
0−p)/b)≦乾燥重量(g/cm2 )≦2.0×2
r×102 /(p/a+(100−p)/b)より好ま
しくは、下記式(3)の条件である。 式(3):0.75×2r×102 /(p/a+(10
0−p)/b)≦乾燥重量(g/cm2 )≦1.5×2
r×102 /(p/a+(100−p)/b) 凹凸層の重量が、式(1)の左辺の値より少なくなると
凹凸層を形成するための粒子の数が少なすぎ、高分子フ
ィルム上に所望の凹凸構造を得ることが出来ない。ま
た、凹凸層の重量が(1)式の右辺の値より大きくなる
と粒子の数が多くなりすぎて、制御された凹凸構造を作
ることが難しくなる。The reflection sheet of the present invention is characterized in that the reflection sheet has a concavo-convex layer obtained by applying a specific weight of the composition mainly composed of the binder and the fine particles on a polymer film. The weight of the uneven layer formed on the polymer film is such that the dry weight (g / cm 2 ) satisfies the condition of the following formula (1). Formula (1): 0.75 × 2r × 10 2 / (p / a + (10
0-p) / b) ≦ dry weight (g / cm 2 ) ≦ 2.5 × 2
r × 10 2 / (p / a + (100−p) / b) Preferably, the condition of the following formula (2) is satisfied. Formula (2): 0.75 × 2r × 10 2 / (p / a + (10
0-p) / b) ≦ dry weight (g / cm 2 ) ≦ 2.0 × 2
r × 10 2 / (p / a + (100−p) / b) More preferably, the condition of the following formula (3) is satisfied. Formula (3): 0.75 × 2r × 10 2 / (p / a + (10
0-p) / b) ≦ dry weight (g / cm 2 ) ≦ 1.5 × 2
r × 10 2 / (p / a + (100−p) / b) If the weight of the uneven layer is smaller than the value on the left side of the formula (1), the number of particles for forming the uneven layer is too small, and The desired uneven structure cannot be obtained on the film. On the other hand, if the weight of the uneven layer is larger than the value on the right side of the expression (1), the number of particles becomes too large, and it becomes difficult to form a controlled uneven structure.
【0021】本発明でいう重量とは、乾燥後(ドライ)
重量を表す。乾燥前(ウェット)での重量(塗布量)
は、コーティングに用いるグラビヤ版やメイヤーバーの
番手を選ぶの上で有用であるが、実測が困難であること
が多い。そこで、実際には乾燥後の膜厚や、乾燥後の塗
布重量を測定し評価することが多い。しかしながら、粒
子層は凹凸層になっているため、必ずしも塗布量と膜厚
が一致しない。よって、乾燥後(ドライ)の重量で評価
を行うことが好ましいと考えられる。ドライ重量の測定
方法としては、例えば、凹凸層表面の微細粒子及びバイ
ンダーを溶解する溶剤により丁寧にふき取り、剥がれた
凹凸層及び溶剤を乾燥させ、溶剤を蒸発させることによ
り容易に計量することができる。In the present invention, the weight refers to after drying (dry)
Indicates weight. Weight (application amount) before drying (wet)
Is useful in selecting the number of gravure plates or Meyer bars used for coating, but is often difficult to measure. Therefore, in practice, the film thickness after drying and the coating weight after drying are often measured and evaluated. However, since the particle layer is an uneven layer, the coating amount and the film thickness do not always match. Therefore, it is considered preferable to carry out the evaluation based on the weight after drying (dry). As a method for measuring the dry weight, for example, it can be easily weighed by carefully wiping with a solvent that dissolves the fine particles and the binder on the surface of the uneven layer, drying the peeled uneven layer and the solvent, and evaporating the solvent. .
【0022】本発明で基材高分子フィルム上に微細粒子
による凹凸層を形成する方法としては、種々の溶液塗工
法が思考されるが、その際の塗布量(g/cm2 )はウ
ェット重量で制御される。塗工液中の固形分の重量%を
Nで示した場合、ウェット重量とドライ重量の間には実
質的に、 ウェット重量(g/cm2 )=ドライ重量(g/c
m2 )/N×100 の関係がある。よって、式(1)は式(4)と表すこと
ができる。 式(4):0.75×2r/N×104 /(p/a+
(100−p)/b)≦塗布量≦2.5×2r/N×1
04 /(p/a+(100−p)/b) 但し、ウェット重量は、前述したとおり、塗布方法や、
乾燥条件により、最終的な乾燥重量と整合性がとれない
場合が多々あるため、あくまでも塗工中の目安の値と
し、評価はドライ重量で行う。In the present invention, as a method of forming a concavo-convex layer by fine particles on a base polymer film, various solution coating methods are considered, and the coating amount (g / cm 2 ) at that time is determined by the wet weight. Is controlled by When the weight% of solids in the coating liquid is indicated by N, the wet weight (g / cm 2 ) = the dry weight (g / c) is substantially between the wet weight and the dry weight.
m 2 ) / N × 100. Therefore, equation (1) can be expressed as equation (4). Formula (4): 0.75 × 2r / N × 10 4 / (p / a +
(100-p) / b) ≦ application amount ≦ 2.5 × 2r / N × 1
0 4 / (p / a + (100−p) / b) However, as described above, the wet weight is determined by the coating method,
In many cases, consistency with the final dry weight cannot be obtained depending on the drying conditions. Therefore, the value is only a reference value during coating, and the evaluation is performed based on the dry weight.
【0023】以下に、本発明における凹凸層を形成する
方法について説明する。はじめに、ロールコータについ
て説明する。ロールコータとは、メタリングロールとア
プリケータロールとバックアップロールの3本で構成さ
れ、メタリングロールの配置される位置により、正回転
ロールコータとリバースロールコータに分けられる。メ
タリングロールの役目はアプリケータロール上に、塗工
剤を正確に一定量保持させることであり、アプリケータ
ロール上に存在する塗工剤の量は、アプリケータロール
とメタリングロールとのニップ幅及び、相対的表面速度
で調整される。実際の操作では、アプリケータロールと
メタリングロールはそれぞれ独立に速度をコントロール
する。このことは広範囲の塗工剤を取り扱う場合に特に
重要であり、大部分の塗工剤では、メタリングニップに
おける相対速度の関係を正しく調整することによって、
極めて平滑な外観の塗膜を得ることが出来る。正回転ロ
ールコータにおいては、メタリングロールとアプリケー
タロールの周速を等速にするとロール間ニップの出口で
塗液が分裂する際に、液が上下に引っ張られ、分裂模様
を生じるため、アプリケータロールの方をより速く回転
させる。一般的には、メタリングロールとアプリケータ
ロールの間隔は少し離して計量の一部を受け持たせてい
る。この間隙が離れすぎるとリング状のパターンを生じ
るという欠点がある。Hereinafter, a method for forming the uneven layer according to the present invention will be described. First, the roll coater will be described. The roll coater is composed of three, a metering roll, an applicator roll, and a backup roll, and is divided into a forward rotation roll coater and a reverse roll coater according to the position where the metalling roll is arranged. The role of the metering roll is to maintain a precise and constant amount of coating agent on the applicator roll, and the amount of coating agent present on the applicator roll depends on the nip between the applicator roll and the metering roll. The width and the relative surface speed are adjusted. In actual operation, the applicator roll and the metering roll each control the speed independently. This is especially important when dealing with a wide range of coatings, and for most coatings, by properly adjusting the relative velocity relationship at the metalling nip,
A coating film having an extremely smooth appearance can be obtained. In the case of a forward rotation roll coater, if the peripheral speed of the metering roll and the applicator roll is made equal, when the coating liquid splits at the exit of the nip between the rolls, the liquid is pulled up and down, causing a split pattern. Rotate the tallon faster. In general, the spacing between the metering roll and the applicator roll is slightly spaced to take part of the metering. If this gap is too far, there is a disadvantage that a ring-shaped pattern is generated.
【0024】ロールコータにおいてアプリケータロール
が逆回転しながら塗工するのがリバースロールコータで
ある。リバースロールコータにおいて、塗膜厚さは互い
に接するロール間の間隙の大きさ、各ロールの周速比、
塗工液の粘度、固形分濃度などにより決定される。この
コータの長所は、(1)広い粘度範囲にわたって塗布が
可能である、(2)走行中に塗膜厚さを調整できる、
(3)塗膜厚さを大幅に変えることが出来る、(4)支
持体の表面に沿った塗膜表面が形成され、ミクロにみて
塗膜厚さが均一である、(5)ピックアップロールを共
有するため溶剤の損失が少ないこと、などが挙げられ
る。In a roll coater, a reverse roll coater performs coating while the applicator roll rotates in the reverse direction. In a reverse roll coater, the coating thickness is determined by the size of the gap between the rolls in contact with each other, the peripheral speed ratio of each roll,
It is determined by the viscosity of the coating solution, the solid content concentration, and the like. The advantages of this coater are (1) coating is possible over a wide viscosity range, (2) coating thickness can be adjusted during running,
(3) The thickness of the coating film can be greatly changed. (4) The coating film surface is formed along the surface of the support, and the coating film thickness is uniform microscopically. A small loss of solvent due to sharing.
【0025】しかしながら、一方で、(1)メタリング
ロールの速度が速すぎると、アプリケータロール上に計
量された塗工剤に粗い波状模様ができ、この模様はフィ
ルム表面に移動したとき同じ模様として現れてしまう、
(2)メタリングロールを理想的速度より遅くすると、
アプリケータロール上に計量された塗工剤に同心円の隆
起が生じる、(3)塗工剤槽内でのかき混ぜ効果が強く
泡が発生しやすい、(4)アプリケーションロールによ
るホンピング作用が強くなり、オーバーフローを防ぐた
め塗工剤溜めを深くする必要がある、(5)エッジドク
タの取り付けが困難であり、バックアップロールに段を
付ける必要がある、(6)ポンピング作用による塗工剤
の飛散問題から、塗工速度に制限がある、などの欠点も
ある。However, on the other hand, (1) if the speed of the metering roll is too high, a rough wavy pattern is formed on the coating agent weighed on the applicator roll, and this pattern becomes the same pattern when moved to the film surface. Will appear as
(2) If the speed of the metering roll is lower than the ideal speed,
Concentric bulges occur in the coating agent measured on the applicator roll, (3) a strong stirring effect in the coating agent tank is likely to generate bubbles, and (4) homing action by the application roll becomes strong. It is necessary to make the coating agent reservoir deep to prevent overflow, (5) it is difficult to attach the edge doctor, and it is necessary to make a step on the backup roll, and (6) the problem of scattering of the coating agent due to the pumping action. There are also drawbacks such as a limitation on the coating speed.
【0026】グラビアコータ法は、グラビアロール、バ
ックアップロール、アジャストロールで構成され、液槽
の中に浸かっているグラビアロールは、表面に凹凸の彫
刻加工が施されており、その凸部に付着した塗工液をド
クタブレードでかき落とし、凹部で塗工液を計量して支
持体に転移させる方法であり、塗工量の調整はグラビア
セルの形状、深さ、メッシュ、塗工液の固形分濃度など
により行う。グラビアセルから被塗物への塗工剤の転移
に影響を与える因子は、粘度と表面張力である。セルの
形状には、ピラミット型、格子型、斜線型であり、ピラ
ミット型<格子型<斜線型の順に塗工量が大きくなる。
この方法の長所は、運転技術を要さずに、幅広でも塗工
厚さが均一で、薄膜コーティング出来ることにある。一
方で、(1)塗工剤の転移率は浅いセルでは極めて少な
く約50%が最大である、(2)塗工剤の転移機構より
深いセルでは塗工剤のメニスカスはセルの中心が凹み、
セルの壁に沿って塗工剤が付着した形をしているため、
被塗物に塗工した後の塗膜には中心が抜けてドーナツ状
の環として現れる、などの短所も挙げられる。The gravure coater method is composed of a gravure roll, a backup roll, and an adjustment roll. The gravure roll immersed in a liquid tank has an uneven engraving on its surface and adheres to the convex portion. The coating liquid is scraped off with a doctor blade, the coating liquid is measured in the recesses and transferred to the support.The coating amount is adjusted by adjusting the shape, depth, mesh, and solid concentration of the coating liquid. It is performed by such as. Factors affecting the transfer of the coating agent from the gravure cell to the substrate are viscosity and surface tension. The cell shape is a pyramid type, a lattice type, or a diagonal line type, and the coating amount increases in the order of pyramid type <lattice type <diagonal line type.
The advantage of this method is that the coating thickness is uniform even when it is wide, and a thin film coating can be performed without any operation technique. On the other hand, (1) the transfer rate of the coating agent is extremely small in a shallow cell and is about 50% at the maximum. (2) In a cell deeper than the transfer mechanism of the coating agent, the meniscus of the coating agent is concave at the center of the cell. ,
Because the coating is applied along the cell walls,
There are also disadvantages such as that the coated film after being applied to the object to be coated has a center that comes off and appears as a donut-shaped ring.
【0027】ロッドコータ法は、正回転のアプリケータ
ロールで支持体に塗工液を転移してから、外径6〜10
mmくらいのロッドの周りに0.1〜0.8mmぐらい
の太さのピアノ線またはステンレス線を密に巻いたもの
で、過剰の塗液を削り落として計量する方式であり、こ
の方式では、ロッド上の支持体の張力を一定に保つこと
が安定した塗工量を得るために重要である。したがっ
て、支持体の幅方向に張力の差があると左右の塗工量に
差ができる。ロッド前後の押さえローラー間は距離的に
出来るだけ近づけ、この部分での支持体のシワやたるみ
を発生させないようにしないと、走行方向に筋が生じる
という欠点がある。In the rod coater method, the coating liquid is transferred to the support with a forward rotating applicator roll, and then the outer diameter is 6 to 10 mm.
It is a system in which a piano wire or stainless steel wire with a thickness of about 0.1 to 0.8 mm is densely wound around a rod of about mm, and the excess coating liquid is scraped off and weighed.In this method, It is important to keep the tension of the support on the rod constant to obtain a stable coating amount. Therefore, if there is a difference in tension in the width direction of the support, there is a difference between the left and right coating amounts. If the distance between the pressing rollers before and after the rod is as short as possible in order to prevent wrinkles and sagging of the support at this portion, there is a drawback that a streak occurs in the running direction.
【0028】ブレードコータ法は、パンにバターを塗る
ときの様に、ブレードによって塗工剤を計量し、平坦化
する方法である。塗工量に影響を与える因子としては、
ブレードの厚さ、ブレードの圧力、ブレードの切線との
角度、ブレードの圧着部の長さ、ブレードの斜角、塗工
剤の粘弾性、塗工速度などである。また、バックアップ
ロールの上部に垂直にナイフを設置し、ロールによって
搬送される支持体とナイフエッジとの間隙により塗工厚
さを計量するナイフコータでは、塗工量の決定要因とし
ては、支持体とナイフエッジの間隙、塗工速度、塗工剤
粘度、塗工液溜めの支持体への圧力、ナイフエッジの形
状などが挙げられる。The blade coater method is a method in which a coating agent is measured and flattened by a blade, as in the case of buttering bread. Factors affecting the coating amount include:
The information includes the thickness of the blade, the pressure of the blade, the angle to the cutting line of the blade, the length of the crimped portion of the blade, the oblique angle of the blade, the viscoelasticity of the coating agent, and the coating speed. Also, in a knife coater in which a knife is installed vertically on the upper part of the backup roll and the coating thickness is measured by the gap between the support conveyed by the roll and the knife edge, the determinants of the coating amount are: Examples include the gap between the knife edges, the coating speed, the viscosity of the coating agent, the pressure on the support of the coating liquid reservoir, and the shape of the knife edge.
【0029】ダイコート(押し出し)法とは、ホッパー
などに溜められた溶液を、ポンプ圧力によりダイから押
し出しフィルム表面に塗布する方法である。ダイコート
法では通常供給された塗布液のすべてが再循環すること
なくフィルム上に塗布される。よって塗布量はポンプ送
出量とラインスピードによって決定される。また、非常
に低い粘度の塗布液を用いる場合は、幅方向で十分なダ
イ内部圧が得られず、塗工量が不均一になる場合がある
が、その際にはフィード部分のオリフィスギャップを狭
くすることによりダイ内部圧を均一とすることで対応す
る。また、ダイの先端部分は計量ブレードとして用いら
れ、幅方向の塗布量の均一性を高めている。例えば、先
端部分を唇状に丸めたダイコート法は、リップコート法
とも呼ばれているが、塗布量の均一性のみならず良好な
塗布面を得るにはこのようにダイの先端部分に工夫を凝
らしたものが好ましく用いられる。ダイコート(押し出
し)法の長所としては、高速塗工、高生産性、塗工厚さ
の均一性、広範囲に塗装が出来る、などが挙げられ、短
所としては、生産量が少ないときには、スタート時や幅
変更時のロスがやや多くなることなどがある。上記の他
にも種々の塗布方法が考えられるが、本発明の要求を満
たす塗工法としては、塗工時のゲル化によるブツの発生
も考慮すると、ダイコート法が、中でもリップコート法
の使用が好ましい。The die coating (extrusion) method is a method in which a solution stored in a hopper or the like is extruded from a die by a pump pressure and applied to a film surface. In the die coating method, all of the supplied coating liquid is usually coated on the film without recirculation. Therefore, the application amount is determined by the pump delivery amount and the line speed. In addition, when a coating liquid having a very low viscosity is used, a sufficient die internal pressure cannot be obtained in the width direction, and the coating amount may be non-uniform. This is addressed by making the internal pressure of the die uniform by making it narrower. The tip of the die is used as a measuring blade to increase the uniformity of the coating amount in the width direction. For example, the die coating method in which the tip is rounded in a lip shape is also called a lip coating method.However, in order to obtain a good coating surface as well as a uniform coating amount, it is necessary to devise the tip of the die in this way. Elaborate ones are preferably used. The advantages of the die coating (extrusion) method include high-speed coating, high productivity, uniform coating thickness, and the ability to apply a wide range of coatings. Loss when changing the width may be slightly increased. In addition to the above, various coating methods are conceivable, but as a coating method that satisfies the requirements of the present invention, in consideration of the occurrence of bumps due to gelation during coating, the die coating method is used, and the use of the lip coating method is particularly preferable. preferable.
【0030】本発明の反射シートにおいて、反射層は凹
凸層上に形成される3層からなるものである。凹凸層側
からの第1層は下地層(C)、第2層は銀を主体とする
金属層(D)、第3層は珪素酸化物層(E)である。第
1層である下地層(C)には、金、銅、ニッケル、鉄、
コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロ
ム、インジウム、マンガン、チタン、パラジウムなどの
金属単体、または、酸化アルミニウムが0〜5重量%ド
ープされた酸化亜鉛もしくはインジウムとスズの酸化物
(ITO)などの透明酸化物が好ましく用いられる。第
2層である銀を主体とする金属層(D)は、基本的には
銀単体であることが望ましいが、その性能に害を及ぼさ
ない程度の金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングス
テン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、マ
ンガン、チタン、パラジウムなどの金属不純物が含まれ
ても良い。第3層である珪素酸化物層(E)には、通
常、一般的な珪素酸化物である二酸化珪素を用いること
が好ましいが、酸素の数が必ずしも2で有る必要はな
く、例えば、1.8であるという場合でもなんら問題な
い。In the reflection sheet of the present invention, the reflection layer comprises three layers formed on the uneven layer. The first layer from the uneven layer side is a base layer (C), the second layer is a metal layer (D) mainly composed of silver, and the third layer is a silicon oxide layer (E). The underlayer (C) as the first layer includes gold, copper, nickel, iron,
Metal such as cobalt, tungsten, molybdenum, tantalum, chromium, indium, manganese, titanium, palladium, etc., or transparent such as zinc oxide or indium and tin oxide (ITO) doped with 0 to 5% by weight of aluminum oxide Oxides are preferably used. It is desirable that the second metal layer (D) mainly composed of silver is basically composed of silver alone, but gold, copper, nickel, iron, cobalt, tungsten which does not adversely affect its performance. , Molybdenum, tantalum, chromium, indium, manganese, titanium, palladium and other metal impurities. For the silicon oxide layer (E) which is the third layer, it is usually preferable to use silicon dioxide which is a general silicon oxide. However, the number of oxygen does not necessarily need to be two. There is no problem even if it is 8.
【0031】金属薄膜層の形成法としては、湿式法及び
乾式法がある。湿式法とはメッキ法の総称であり、溶液
から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例を
あげるとすれば、銀鏡反応などがある。一方、乾式法と
は、真空成膜法の総称であり、具体的に例示するとすれ
ば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着
法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真
空蒸着法、スパッタ法などがある。とりわけ、本発明に
は連続的に成膜するロール・ツー・ロール方式が可能な
真空成膜法が好ましく用いられる。As a method of forming the metal thin film layer, there are a wet method and a dry method. The wet method is a general term for the plating method, and is a method of depositing a metal from a solution to form a film. A specific example is a silver mirror reaction. On the other hand, the dry method is a general term for a vacuum film forming method, and specific examples thereof include a resistance heating type vacuum deposition method, an electron beam heating type vacuum deposition method, an ion plating method, and an ion beam assisted vacuum deposition method. And a sputtering method. In particular, in the present invention, a vacuum film forming method capable of a roll-to-roll method for continuously forming a film is preferably used.
【0032】真空蒸着法では、金属の原材料を電子ビー
ム、抵抗加熱、誘導加熱などで溶融させ、蒸気圧を上昇
させ、好ましくは13.3mPa(0.1mTorr)
以下で基材表面に蒸発させる。この際に、アルゴンなど
のガスを13.3mPa以上導入させ、高周波もしくは
直流のグロー放電を起こしても良い。In the vacuum deposition method, a raw material of a metal is melted by electron beam, resistance heating, induction heating, or the like, and the vapor pressure is increased, and preferably 13.3 mPa (0.1 mTorr).
It is evaporated on the substrate surface below. At this time, a gas such as argon may be introduced at 13.3 mPa or more to cause high frequency or direct current glow discharge.
【0033】スパッタ法には、DCマグネトロンスパッ
タ法、RFマグネトロンスパッタ法、イオンビームスパ
ッタ法、ECRスパッタ法、コンベンショナルRFスパ
ッタ法、コンベンショナルDCスパッタ法などを使用し
うる。スパッタ法においては、原材料は金属の板状のタ
ーゲットを用いればよく、スパッタガスにはヘリウム、
ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなどを使用し
うるが、好ましくはアルゴンが用いられる。ガスの純度
は99%以上が好ましいが、より好ましくは99.5%
以上である。As a sputtering method, a DC magnetron sputtering method, an RF magnetron sputtering method, an ion beam sputtering method, an ECR sputtering method, a conventional RF sputtering method, a conventional DC sputtering method, or the like can be used. In the sputtering method, a metal plate-shaped target may be used as a raw material, and helium,
Neon, argon, krypton, xenon and the like may be used, but preferably argon is used. The purity of the gas is preferably 99% or more, more preferably 99.5%.
That is all.
【0034】また透明酸化膜の形成には、真空成膜法が
好ましく用いられる。主として、スパッタ法が用いら
れ、スパッタガスにはヘリウム、ネオン、アルゴン、ク
リプトン、キセノン等を使用し、場合によっては酸素ガ
スを用いることもある。For forming the transparent oxide film, a vacuum film forming method is preferably used. A sputtering method is mainly used, and helium, neon, argon, krypton, xenon, or the like is used as a sputtering gas, and in some cases, an oxygen gas is used.
【0035】基材高分子フィルム上に形成する薄膜の厚
さは、反射シートとした際に光線透過率が1%未満にな
るように考慮して決められる。第1層である下地層にお
いて、金属層を用いた場合、その厚みは、5〜50nm
が好ましく、より好ましくは5〜30nmである。層の
厚みが5nmより薄い場合は、所望のバリヤー効果が得
られず、第2層の銀を主体とする層に凝集を発生させ
る。また、50nmより厚くしてもその効果に変化が無
いばかりか、資源を有効に利用するという観点からも好
ましくない。また、透明酸化物を用いた場合、該層の厚
みは、1〜20nmが好ましく、さらに好ましくは、5
〜10nmである。層の厚みが1nmより薄い場合は、
所望のバリヤー効果が得られず、第2層の銀を主体とす
る層に凝集を発生させる。The thickness of the thin film formed on the base polymer film is determined in consideration of a light transmittance of less than 1% when the reflection sheet is used. In the case where a metal layer is used as the first underlayer, the thickness is 5 to 50 nm.
Is more preferable, and more preferably 5 to 30 nm. If the thickness of the layer is smaller than 5 nm, the desired barrier effect cannot be obtained, and the silver-based layer of the second layer causes aggregation. Further, even if the thickness is more than 50 nm, not only the effect is not changed but also it is not preferable from the viewpoint of effective use of resources. When a transparent oxide is used, the thickness of the layer is preferably 1 to 20 nm, more preferably 5 to 20 nm.
〜1010 nm. If the thickness of the layer is less than 1 nm,
The desired barrier effect cannot be obtained, and aggregation occurs in the silver-based layer of the second layer.
【0036】第2層である銀を主体とする層の厚みは、
70〜400nmが好ましく、より好ましくは100〜
300nm、さらに好ましくは150〜250nmであ
る。層の厚みが70nmより薄い場合は、十分な金属層
の形成が出来ていないため、所望の反射率を得ることが
出来ない。400nmよりも厚くしてもその効果に変化
が無いばかりか、資源を有効に利用するという観点から
も好ましくない。The thickness of the second layer, which is mainly composed of silver, is
70 to 400 nm is preferable, and more preferably 100 to 400 nm.
It is 300 nm, more preferably 150 to 250 nm. If the thickness of the layer is smaller than 70 nm, a desired reflectance cannot be obtained because a sufficient metal layer cannot be formed. Even if the thickness is more than 400 nm, the effect is not changed, and it is not preferable from the viewpoint of effectively using resources.
【0037】第3層である珪素酸化物層の厚みは、1〜
10nmが好ましく、より好ましくは1〜7nm、さら
に好ましくは1〜5nmである。層の厚みが1nmより
薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られず、第2層の
銀を主体とする層に凝集を発生させる。10nmより厚
くしてもその効果に変化が無いばかりか、資源を有効に
利用するという観点からも好ましくない。The thickness of the silicon oxide layer as the third layer is from 1 to
It is preferably 10 nm, more preferably 1 to 7 nm, and still more preferably 1 to 5 nm. When the thickness of the layer is smaller than 1 nm, the desired barrier effect cannot be obtained, and the silver-based layer of the second layer causes aggregation. If the thickness is more than 10 nm, the effect is not changed, and it is not preferable from the viewpoint of effective use of resources.
【0038】前記各層の膜厚の測定方法としては、触針
粗さ計、繰り返し反射干渉計、マイクロバランス、水晶
振動子法などを用いる方法があり、特に水晶振動子法で
は成膜中に膜厚が測定可能であるため所望の膜厚を得る
のに適している。また、前もって成膜の条件を定めてお
き、試料基材上に成膜を行い、成膜時間と膜厚の関係を
調べた上で、成膜時間により膜厚を制御する方法もあ
る。As a method for measuring the film thickness of each layer, there are a method using a stylus roughness meter, a repetitive reflection interferometer, a microbalance, a crystal oscillator method, and the like. Since the thickness can be measured, it is suitable for obtaining a desired film thickness. There is also a method in which the conditions for film formation are determined in advance, a film is formed on a sample substrate, the relationship between the film formation time and the film thickness is examined, and the film thickness is controlled by the film formation time.
【0039】上記のように形成した反射シートを、第3
層側から反射率を測定すると、波長550nmにおい
て、通常85〜99%であり、好ましくは90〜99%
である。反射率が85%より低いと、反射型液晶表示装
置に組み込んだ際に、表示面が暗くなり好ましくない。
ここでは、反射率の上限を99%としたが、反射率は高
いほど好ましく、さらに高屈折率と低屈折率の薄膜を交
互に積層して増反射膜を形成するなどして99%を超え
る反射率を実現することはコストとの兼ね合いもあるが
性能的には非常に好ましいといえる。The reflecting sheet formed as described above is
When the reflectance is measured from the layer side, at a wavelength of 550 nm, it is usually 85 to 99%, preferably 90 to 99%.
It is. If the reflectance is lower than 85%, the display surface becomes dark when incorporated in a reflection type liquid crystal display device, which is not preferable.
Here, the upper limit of the reflectivity is set to 99%. However, the reflectivity is preferably as high as possible. The reflectivity is more than 99%, for example, by alternately laminating thin films having a high refractive index and a low refractive index to form an enhanced reflection film. Achieving the reflectance has a trade-off with cost, but it is very preferable in terms of performance.
【0040】また、金属薄膜層の酸化及び硫化等の腐食
防止のためや、取り扱い性の向上のために、第3層の上
にさらに保護シートを設けることは、本発明の反射シー
トの信頼性を向上させる意味から好ましい。保護シート
としては、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂及びウ
レタン系樹脂などの透明樹脂が、また、酸化珪素、フッ
化マグネシウム、窒化珪素などの透明無機薄膜が用いら
れる。保護層は粘着剤により、金属薄膜層上にラミネー
トされる。粘着剤としては、アクリル系樹脂、ウレタン
系樹脂、エポキシ系樹脂など透明性を有しているもので
あれば問題なく使用される。Further, providing a protective sheet on the third layer for the purpose of preventing corrosion such as oxidation and sulfidation of the metal thin film layer and for improving the handleability can improve the reliability of the reflection sheet of the present invention. It is preferable from the viewpoint of improving. As the protective sheet, a transparent resin such as a polyester resin, an acrylic resin, and a urethane resin, and a transparent inorganic thin film such as silicon oxide, magnesium fluoride, and silicon nitride are used. The protective layer is laminated on the metal thin film layer with an adhesive. As the pressure-sensitive adhesive, any material having transparency, such as an acrylic resin, a urethane resin, or an epoxy resin, can be used without any problem.
【0041】[0041]
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。The present invention will be described below in detail with reference to examples.
【0042】実施例1 平均粒子が5μmであるアクリル系樹脂〔根上工業
(株)製、品名:アートパール〕と、バインダーとして
アクリル系樹脂〔三井化学(株)製、品名:アルマテッ
クスE269〕(共に密度1.2g/cm3 )を、トル
エンとエチルメチルケトンからなる溶剤を用いて、固形
分比35%、固形分中の粒子の割合を37.0体積%と
した溶液を調合した。粘度は38cpsであった。これ
らの物性値を前記式(1)に代入することにより、塗布
重量範囲を計算したところ、4.5(g/m2 )≦乾燥
重量(g/m2 )≦10.8(g/m2 )、となったた
め、ドライ塗布量が8.5g/m2 となるようにポンプ
圧力とラインスピードを調整し、厚さ50μmのポリエ
チレンテレフタラート(PET)フィルムの上に、リッ
プコート法にて塗布を行った。この際、ブツによる筋は
観察されず、良好な塗布面が得られた。得られたシート
に、下地層(C)〔第1層ともいう〕として、DCマグ
ネトロンスパッタ法で、2%のAl2 O3 がドープされ
た酸化亜鉛(純度99.9%)をターゲットとし、純度
99.5%のアルゴンをスパッタガスとして、酸化亜鉛
を膜厚5nmになるように形成した。続いて、このシー
トをスパッタ装置から取り出すことなく、同様に、金属
層(D)〔第2層ともいう〕として、DCマグネトロン
スパッタ法で、純度99.9%の銀をターゲットとし、
純度99.5%のアルゴンをスパッタガスとして銀を膜
厚200nmになるように成形した。続いて、このシー
トをスパッタ装置からと取り出すことなく、硅素酸化物
層(E)〔第3層ともいう〕として、RFマグネトロン
スパッタ法にて、純度99.9%のSiO2 をターゲッ
トとし、純度99.5%のアルゴンをスパッタガスとし
て、SiO2 を膜厚5nmになるように成形した。得ら
れたシートに、保護層をラミネートした後、日立自記分
光光度計(型式U―3400)に150φの積分球を設
置し、550nmにおける全反射率、拡散反射率測定を
行ったところ、反射率95.9%、拡散反射率87.3
%を得た。測定後の反射シートを、恒温恒湿槽に入れ、
60℃、90%RHの湿熱条件で500時間放置した。
500時間経過後、シートを取り出して表面を観察した
ところ、金属の凝集は見られず、色も白いままだった。
再度、分光光度計により、全反射率、拡散反射率を測定
した結果、反射率が95.5%、拡散反射率が87.4
%と、湿熱前とほとんどかわらず、光学特性の劣化も見
られなかった。Example 1 An acrylic resin having an average particle size of 5 μm [manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd., product name: Art Pearl], and an acrylic resin as a binder [manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., product name: Armatex E269] ( A solution having a density of 1.2 g / cm 3 ) and a solvent having a solid content ratio of 35% and a particle ratio of 37.0% by volume in the solid content was prepared using a solvent composed of toluene and ethyl methyl ketone. The viscosity was 38 cps. The coating weight range was calculated by substituting these physical property values into the above formula (1). As a result, 4.5 (g / m 2 ) ≦ dry weight (g / m 2 ) ≦ 10.8 (g / m 2 ) 2 ), the pump pressure and line speed were adjusted so that the dry coating amount was 8.5 g / m 2, and a 50 μm-thick polyethylene terephthalate (PET) film was applied by lip coating. Application was performed. At this time, no streaks due to bumps were observed, and a good coated surface was obtained. On the obtained sheet, as a base layer (C) (also referred to as a first layer), zinc oxide doped with 2% Al 2 O 3 (purity: 99.9%) was used as a target by DC magnetron sputtering, Using argon having a purity of 99.5% as a sputtering gas, zinc oxide was formed to a thickness of 5 nm. Subsequently, without removing the sheet from the sputtering apparatus, similarly, as a metal layer (D) (also referred to as a second layer), a target having a purity of 99.9% silver was obtained by DC magnetron sputtering.
Silver was formed to a thickness of 200 nm using argon having a purity of 99.5% as a sputtering gas. Subsequently, without removing the sheet from the sputtering apparatus, a silicon oxide layer (E) (also referred to as a third layer) was formed by RF magnetron sputtering using SiO 2 having a purity of 99.9% as a target. SiO 2 was formed to a thickness of 5 nm using 99.5% argon as a sputtering gas. After laminating a protective layer on the obtained sheet, a 150φ integrating sphere was placed on a Hitachi automatic recording spectrophotometer (model U-3400), and the total reflectance and diffuse reflectance at 550 nm were measured. 95.9%, diffuse reflectance 87.3
%. Put the reflective sheet after measurement in a thermo-hygrostat,
It was left for 500 hours under the condition of wet heat of 60 ° C. and 90% RH.
After a lapse of 500 hours, the sheet was taken out and the surface was observed. As a result, no metal aggregation was observed and the color remained white.
The total reflectance and the diffuse reflectance were measured again by the spectrophotometer. As a result, the reflectance was 95.5% and the diffuse reflectance was 87.4.
%, Almost the same as before the wet heat, and no deterioration of the optical characteristics was observed.
【0043】実施例2 実施例1において、固形分中の粒子の割合を45. 0体
積%としたこと以外は、実施例1に準じて溶液を調合し
た。粘度は50cpsであった。これらの物性値を前記
式(1)に代入することにより、塗布重量範囲を計算し
たところ、4.5(g/m2 )≦乾燥重量(g/m2 )
≦10.8(g/m2 )、となったため、ドライ塗布量
が9.0g/m2 となるようにポンプ圧力とラインスピ
ードを調整し、厚さ50μmのポリエチレンテレフタラ
ート(PET)フィルムの上に、リップコート法にて塗
布を行った。この際、ブツによる筋は観察されず、良好
な塗布面が得られた。得られたシートに、実施例1と同
様にスパッタを行った。このシートに、保護層をラミネ
ートした後、日立自記分光光度計(型式U―3400)
に150φの積分球を設置し、550nmにおける全反
射率、拡散反射率測定を行ったところ、反射率94.7
%、拡散反射率86.9%を得た。測定後の反射シート
を、恒温恒湿槽に入れ、60℃、90%RHの湿熱条件
で500時間放置した。500時間経過後、シートを取
り出して表面を観察したところ、金属の凝集は見られ
ず、色も白いままだった。再度、分光光度計により、全
反射率、拡散反射率を測定した結果、反射率が94.5
%、拡散反射率が87.0%と湿熱前とほとんどかわら
ず、光学特性の劣化も見られなかった。Example 2 A solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that the ratio of the particles in the solid content was changed to 45.0% by volume. The viscosity was 50 cps. The coating weight range was calculated by substituting these physical property values into the above formula (1). As a result, 4.5 (g / m 2 ) ≦ dry weight (g / m 2 )
≦ 10.8 (g / m 2 ), so the pump pressure and line speed were adjusted so that the dry coating amount was 9.0 g / m 2, and a 50 μm-thick polyethylene terephthalate (PET) film was The coating was performed by a lip coating method. At this time, no streaks due to bumps were observed, and a good coated surface was obtained. The obtained sheet was sputtered in the same manner as in Example 1. After laminating a protective layer on this sheet, Hitachi Automated Recording Spectrophotometer (Model U-3400)
And a total reflectance and a diffuse reflectance at 550 nm were measured. The reflectance was 94.7.
% And a diffuse reflectance of 86.9%. The reflection sheet after the measurement was placed in a thermo-hygrostat, and left for 500 hours under the condition of 60 ° C. and 90% RH. After a lapse of 500 hours, the sheet was taken out and the surface was observed. As a result, no metal aggregation was observed and the color remained white. The total reflectance and the diffuse reflectance were measured again by the spectrophotometer, and as a result, the reflectance was 94.5.
%, And the diffuse reflectance was 87.0%, almost the same as before wet heat, and no deterioration in optical characteristics was observed.
【0044】実施例3 実施例1において、ドライ塗布量を10.5g/m2 と
したこと以外は、実施例1に準じて反射シートを作製し
た。得られたたシートに、保護層をラミネートした後、
日立自記分光光度計(型式U―3400)に150φの
積分球を設置し、550nmにおける全反射率、拡散反
射率測定を行ったところ、反射率94.2%、拡散反射
率86.4%を得た。測定後の反射シートを、恒温恒湿
槽に入れ、60℃、90%RHの湿熱条件で500時間
放置した。500時間経過後、シートを取り出して表面
を観察したところ、金属の凝集は見られず、色も白いま
まだった。再度、分光光度計により、全反射率、拡散反
射率を測定した結果、反射率が94.0%、拡散反射率
が86.7%と湿熱前とほとんどかわらず、光学特性の
劣化も見られなかった。Example 3 A reflection sheet was prepared in the same manner as in Example 1, except that the dry coating amount was 10.5 g / m 2 . After laminating the protective layer on the obtained sheet,
A 150φ integrating sphere was installed on a Hitachi self-recording spectrophotometer (model U-3400), and total reflectance and diffuse reflectance at 550 nm were measured. The reflectance was 94.2% and the diffuse reflectance was 86.4%. Obtained. The reflection sheet after the measurement was placed in a thermo-hygrostat, and left for 500 hours under the condition of 60 ° C. and 90% RH. After a lapse of 500 hours, the sheet was taken out and the surface was observed. As a result, no metal aggregation was observed and the color remained white. The total reflectance and diffuse reflectance were measured again by a spectrophotometer. As a result, the reflectance was 94.0%, the diffuse reflectance was 86.7%, almost the same as before wet heat, and deterioration of optical characteristics was also observed. Did not.
【0045】実施例4 実施例1において、2%のAl2 O3 がドープされた酸
化亜鉛の膜厚を20nm、銀の膜厚を300nm、Si
O2 の膜厚を10nmとした以外は、実施例1に準じ
て、反射シートを作製した。得られたシートに、保護層
をラミネートした後、日立自記分光光度計(型式U―3
400)に150φの積分球を設置し、550nmにお
ける全反射率、拡散反射率測定を行ったところ、反射率
95.2%、拡散反射率86.7%を得た。測定後の反
射シートを、恒温恒湿槽に入れ、60℃、90%RHの
湿熱条件で500時間放置した。500時間経過後、シ
ートを取り出して表面を観察したところ、金属の凝集は
見られず、色も白いままだった。再度、分光光度計によ
り、全反射率、拡散反射率を測定した結果、反射率が9
5.4%、拡散反射率が86.6%と湿熱前とほとんど
かわらず、光学特性の劣化も見られなかった。Example 4 In Example 1, the thickness of zinc oxide doped with 2% Al 2 O 3 was 20 nm, the thickness of silver was 300 nm, and
A reflection sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that the thickness of O 2 was changed to 10 nm. After laminating a protective layer on the obtained sheet, a Hitachi automatic recording spectrophotometer (model U-3)
An integrating sphere of 150φ was set in 400), and the total reflectance and diffuse reflectance at 550 nm were measured. As a result, a reflectance of 95.2% and a diffuse reflectance of 86.7% were obtained. The reflection sheet after the measurement was placed in a thermo-hygrostat, and left for 500 hours under the condition of 60 ° C. and 90% RH. After a lapse of 500 hours, the sheet was taken out and the surface was observed. As a result, no metal aggregation was observed and the color remained white. The total reflectance and the diffuse reflectance were measured again by the spectrophotometer, and as a result, the reflectance was 9
At 5.4%, the diffuse reflectance was 86.6%, almost the same as before wet heat, and no deterioration in optical characteristics was observed.
【0046】実施例5 実施例1において、2%のAl2 O3 がドープされた酸
化亜鉛の膜厚を3nm、銀の膜厚を100nm、SiO
2 の膜厚を3nmとした以外は、実施例1に準じて、反
射シートを作製した。得られたシートに、保護層をラミ
ネートした後、日立自記分光光度計(型式U―340
0)に150φの積分球を設置し、550nmにおける
全反射率、拡散反射率測定を行ったところ、反射率9
4.9%、拡散反射率85.8%を得た。測定後の反射
シートを、恒温恒湿槽に入れ、60℃、90%RHの湿
熱条件で500時間放置した。500時間経過後、シー
トを取り出して表面を観察したところ、金属の凝集は見
られず、色も白いままだった。再度、分光光度計によ
り、全反射率、拡散反射率を測定した結果、反射率が9
5.2%、拡散反射率が84.6%と湿熱前とほとんど
かわらず、光学特性の劣化も見られなかった。Example 5 In Example 1, the thickness of zinc oxide doped with 2% Al 2 O 3 was 3 nm, the thickness of silver was 100 nm,
A reflection sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the film thickness of 2 was 3 nm. After laminating a protective layer on the obtained sheet, a Hitachi automatic recording spectrophotometer (model U-340) was used.
0), an integrating sphere of 150φ was installed, and the total reflectance and diffuse reflectance at 550 nm were measured.
4.9% and a diffuse reflectance of 85.8% were obtained. The reflection sheet after the measurement was placed in a thermo-hygrostat, and left for 500 hours under the condition of 60 ° C. and 90% RH. After a lapse of 500 hours, the sheet was taken out and the surface was observed. As a result, no metal aggregation was observed and the color remained white. The total reflectance and the diffuse reflectance were measured again by the spectrophotometer, and as a result, the reflectance was 9
5.2%, the diffuse reflectance was 84.6%, almost the same as before wet heat, and no deterioration in optical characteristics was observed.
【0047】実施例6 実施例1において、第1層として、チタン(純度99.
9%)を膜厚10nmになるようにスパッタした以外
は、実施例1に準じて、反射シートを作製した。得られ
たシートに、保護層をラミネートした後、日立自記分光
光度計(型式U―3400)に150φの積分球を設置
し、550nmにおける全反射率、拡散反射率測定を行
ったところ、反射率95.6%、拡散反射率86.7%
を得た。測定後の反射シートを、恒温恒湿槽に入れ、6
0℃、90%RHの湿熱条件で500時間放置した。5
00時間経過後、シートを取り出して表面を観察したと
ころ、金属の凝集は見られず、色も白いままだった。再
度、分光光度計により、全反射率、拡散反射率を測定し
た結果、反射率が95.3%、拡散反射率が85.9%
と湿熱前とほとんどかわらず、光学特性の劣化も見られ
なかった。Example 6 In Example 1, titanium (purity: 99.000) was used as the first layer.
(9%) was sputtered so as to have a film thickness of 10 nm, and a reflective sheet was produced in the same manner as in Example 1. After laminating a protective layer on the obtained sheet, a 150φ integrating sphere was placed on a Hitachi automatic recording spectrophotometer (model U-3400), and the total reflectance and diffuse reflectance at 550 nm were measured. 95.6%, diffuse reflectance 86.7%
I got Place the reflective sheet after measurement in a thermo-hygrostat,
It was left for 500 hours under the condition of 0 ° C. and 90% RH. 5
After a lapse of 00 hours, the sheet was taken out and the surface was observed. As a result, no metal aggregation was observed and the color remained white. The total reflectance and the diffuse reflectance were measured again by the spectrophotometer. As a result, the reflectance was 95.3% and the diffuse reflectance was 85.9%.
As before, almost no change in the optical characteristics was observed.
【0048】実施例7 実施例1において、第1層として、クロム(純度99.
9%)を膜厚10nmになるようにスパッタした以外
は、実施例1に準じて、反射シートを作製した。得られ
たシートに、保護層をラミネートした後、日立自記分光
光度計(型式U―3400)に150φの積分球を設置
し、550nmにおける全反射率、拡散反射率測定を行
ったところ、反射率95.2%、拡散反射率85.9%
を得た。測定後の反射シートを、恒温恒湿槽に入れ、6
0℃、90%RHの湿熱条件で500時間放置した。5
00時間経過後、シートを取り出して表面を観察したと
ころ、金属の凝集は見られず、色も白いままだった。再
度、分光光度計により、全反射率、拡散反射率を測定し
た結果、反射率が94.9%、拡散反射率が86.2%
と湿熱前とほとんどかわらず、光学特性の劣化も見られ
なかった。Example 7 In Example 1, chromium (purity 99.
(9%) was sputtered so as to have a film thickness of 10 nm, and a reflective sheet was produced in the same manner as in Example 1. After laminating a protective layer on the obtained sheet, a 150φ integrating sphere was placed on a Hitachi automatic recording spectrophotometer (model U-3400), and the total reflectance and diffuse reflectance at 550 nm were measured. 95.2%, diffuse reflectance 85.9%
I got Place the reflective sheet after measurement in a thermo-hygrostat,
The sample was left for 500 hours under the moist heat condition of 0 ° C. and 90% RH. 5
After a lapse of 00 hours, the sheet was taken out and the surface was observed. As a result, no metal aggregation was observed and the color remained white. The total reflectance and the diffuse reflectance were measured again by the spectrophotometer. As a result, the reflectance was 94.9% and the diffuse reflectance was 86.2%.
As before, almost no change in the optical characteristics was observed.
【0049】比較例1 実施例1において、第2層として、Al(純度99.9
%)をスパッタしたこと以外は、実施例1に準じて、反
射シートを作製した。得られたシートに保護層をラミネ
ートした後、日立自記分光光度計(型式U―3400)
に150φの積分球を設置し、550nmにおける全反
射率、拡散反射率測定を行った。測定後のサンプルを、
恒温恒湿槽に入れ、60℃、90%RHの湿熱条件で5
00時間放置した。500時間経過後、シートを取り出
して、表面観察、反射率及び拡散反射率の測定を行っ
た。結果を(表1)に示した。Comparative Example 1 In Example 1, Al (purity 99.9) was used as the second layer.
%) Was produced in the same manner as in Example 1 except that sputtering was performed. After laminating a protective layer on the obtained sheet, Hitachi Automated Spectrophotometer (Model U-3400)
And an integrating sphere having a diameter of 150 mm was installed, and total reflectance and diffuse reflectance at 550 nm were measured. After the measurement,
Put in a thermo-hygrostat at 60 ° C and 90% RH for 5 hours.
It was left for 00 hours. After a lapse of 500 hours, the sheet was taken out, and the surface was observed, and the reflectance and the diffuse reflectance were measured. The results are shown in (Table 1).
【0050】比較例2 実施例1において、第1層として2%のAl2 O3 がド
ープされた酸化亜鉛(純度99.9%)をスパッタしな
いこと以外は、実施例1に準じて、反射シートを作製し
た。得られたシートに保護層をラミネートした後、日立
自記分光光度計(型式U―3400)に150φの積分
球を設置し、550nmにおける全反射率、拡散反射率
測定を行った。測定後のサンプルを、恒温恒湿槽に入
れ、60℃、90%RHの湿熱条件で500時間放置し
た。500時間経過後、シートを取り出して、表面観
察、反射率及び拡散反射率の測定を行った。結果を(表
1)に示した。COMPARATIVE EXAMPLE 2 In Example 1, reflection was performed in the same manner as in Example 1 except that zinc oxide doped with 2% Al 2 O 3 (purity: 99.9%) was not sputtered as the first layer. A sheet was prepared. After laminating a protective layer on the obtained sheet, a 150φ integrating sphere was placed on a Hitachi automatic recording spectrophotometer (model U-3400), and the total reflectance and diffuse reflectance at 550 nm were measured. The sample after the measurement was placed in a thermo-hygrostat, and left for 500 hours under the condition of 60 ° C. and 90% RH. After a lapse of 500 hours, the sheet was taken out, and the surface was observed, and the reflectance and the diffuse reflectance were measured. The results are shown in (Table 1).
【0051】比較例3 実施例1において、第3層としてSiO2 をスパッタし
ないこと以外は、実施例1に準じて、反射シートを作製
した。得られたシートに保護層をラミネートした後、日
立自記分光光度計(型式U―3400)に150φの積
分球を設置し、550nmにおける全反射率、拡散反射
率測定を行った。測定後のサンプルを、恒温恒湿槽に入
れ、60℃、90%RHの湿熱条件で500時間放置し
た。500時間経過後、シートを取り出して、表面観
察、反射率及び拡散反射率の測定を行った。結果を(表
1)に示した。Comparative Example 3 A reflective sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that SiO 2 was not sputtered as the third layer. After laminating a protective layer on the obtained sheet, a 150φ integrating sphere was placed on a Hitachi automatic recording spectrophotometer (model U-3400), and the total reflectance and diffuse reflectance at 550 nm were measured. The sample after the measurement was placed in a thermo-hygrostat, and left for 500 hours under the condition of 60 ° C. and 90% RH. After a lapse of 500 hours, the sheet was taken out, and the surface was observed, and the reflectance and the diffuse reflectance were measured. The results are shown in (Table 1).
【0052】比較例4 実施例1において、PETフィルム上に塗布する量を、
3g/m2 とする以外は実施例1に準じて、反射シート
を作製した。得られたシートに保護層をラミネートした
後、日立自記分光光度計(型式U―3400)に150
φの積分球を設置し、550nmにおける全反射率、拡
散反射率測定を行った。測定後のサンプルを、恒温恒湿
槽に入れ、60℃、90%RHの湿熱条件で500時間
放置した。500時間経過後、シートを取り出して、表
面観察、反射率及び拡散反射率の測定を行った。結果を
(表1)に示した。Comparative Example 4 In Example 1, the amount applied on the PET film was
A reflection sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the reflection sheet was 3 g / m 2 . After laminating a protective layer on the obtained sheet, the sheet was passed through a Hitachi automatic recording spectrophotometer (model U-3400).
An integrating sphere of φ was installed, and total reflectance and diffuse reflectance at 550 nm were measured. The sample after the measurement was placed in a thermo-hygrostat, and left for 500 hours under the condition of 60 ° C. and 90% RH. After a lapse of 500 hours, the sheet was taken out, and the surface was observed, and the reflectance and the diffuse reflectance were measured. The results are shown in (Table 1).
【0053】比較例5 実施例1において、PETフィルム上に塗布する量を、
15g/m2 とする以外は実施例1に準じて、反射シー
トを作製した。出来たシートに保護層をラミネートした
後、日立自記分光光度計(型式U―3400)に150
φの積分球を設置し、550nmにおける全反射率、拡
散反射率測定を行った。測定後のサンプルを、恒温恒湿
槽に入れ、60℃、90%RHの湿熱条件で500時間
放置した。500時間経過後、シートを取り出して、表
面観察、反射率及び拡散反射率の測定を行った。結果を
(表1)に示した。Comparative Example 5 In Example 1, the amount applied on the PET film was
A reflection sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the reflection sheet was 15 g / m 2 . After laminating the protective layer on the resulting sheet, it was placed on a Hitachi autograph spectrophotometer (model U-3400) for 150
An integrating sphere of φ was installed, and total reflectance and diffuse reflectance at 550 nm were measured. The sample after the measurement was placed in a thermo-hygrostat, and left for 500 hours under the condition of 60 ° C. and 90% RH. After a lapse of 500 hours, the sheet was taken out, and the surface was observed, and the reflectance and the diffuse reflectance were measured. The results are shown in (Table 1).
【0054】比較例6 実施例1において、塗布溶液調合時に、固形分中の粒子
の割合を2体積%とした溶液を調合したこと以外は、実
施例1に準じて反射シートを作製した。得られたシート
に保護層をラミネートした後、日立自記分光光度計(型
式U―3400)に150φの積分球を設置し、550
nmにおける全反射率、拡散反射率測定を行った。測定
後のサンプルを、恒温恒湿槽に入れ、60℃、90%R
Hの湿熱条件で500時間放置した。500時間経過
後、シートを取り出して、表面観察、反射率及び拡散反
射率の測定を行った。結果を(表1)に示した。Comparative Example 6 A reflection sheet was prepared in the same manner as in Example 1, except that a solution was prepared in which the proportion of particles in the solid content was 2% by volume during the preparation of the coating solution. After laminating a protective layer on the obtained sheet, an integrating sphere of 150φ was set on a Hitachi automatic recording spectrophotometer (model U-3400) and 550
The total reflectance and diffuse reflectance in nm were measured. Place the sample after measurement in a thermo-hygrostat, 60 ° C, 90% R
It was left for 500 hours under the wet heat condition of H. After a lapse of 500 hours, the sheet was taken out, and the surface was observed, and the reflectance and the diffuse reflectance were measured. The results are shown in (Table 1).
【0055】比較例7 実施例1において、塗布溶液調合時に、固形分中の粒子
の割合を70体積%とした溶液を調合したこと以外は、
実施例1に準じて反射シートを作製した。得られたシー
トに保護層をラミネートした後、日立自記分光光度計
(型式U―3400)に150φの積分球を設置し、5
50nmにおける全反射率、拡散反射率測定を行った。
測定後のサンプルを、恒温恒湿槽に入れ、60℃、90
%RHの湿熱条件で500時間放置した。500時間経
過後、シートを取り出して、表面観察、反射率及び拡散
反射率の測定を行った。結果を(表1)に示した。Comparative Example 7 The procedure of Example 1 was repeated, except that, at the time of preparing the coating solution, a solution in which the proportion of particles in the solid content was 70% by volume was prepared.
A reflection sheet was manufactured according to Example 1. After laminating a protective layer on the obtained sheet, an integrating sphere of 150φ was set on a Hitachi automatic recording spectrophotometer (model U-3400), and 5
The total reflectance and diffuse reflectance at 50 nm were measured.
The sample after measurement is placed in a thermo-hygrostat at 60 ° C. and 90 ° C.
% RH for 500 hours. After a lapse of 500 hours, the sheet was taken out, and the surface was observed, and the reflectance and the diffuse reflectance were measured. The results are shown in (Table 1).
【0056】比較例8 実施例1において、第1層にチタン(純度99.9%)
を膜厚3nmになるようにスパッタしたこと以外は、実
施例1に準じて、反射シートを作製した。得られたシー
トに保護層をラミネートした後、日立自記分光光度計
(型式U―3400)に150φの積分球を設置し、5
50nmにおける全反射率、拡散反射率測定を行った。
測定後のサンプルを、恒温恒湿槽に入れ、60℃、90
%RHの湿熱条件で500時間放置した。500時間経
過後、シートを取り出して、表面観察、反射率及び拡散
反射率の測定を行った。結果を(表1)に示した。Comparative Example 8 In Example 1, the first layer was made of titanium (purity 99.9%).
Was produced in the same manner as in Example 1 except that the film was sputtered to a film thickness of 3 nm. After laminating a protective layer on the obtained sheet, an integrating sphere of 150φ was set on a Hitachi automatic recording spectrophotometer (model U-3400), and 5
The total reflectance and diffuse reflectance at 50 nm were measured.
The sample after measurement is placed in a thermo-hygrostat at 60 ° C. and 90 ° C.
% RH for 500 hours. After a lapse of 500 hours, the sheet was taken out, and the surface was observed, and the reflectance and the diffuse reflectance were measured. The results are shown in (Table 1).
【0057】比較例9 実施例1において、第1層にクロム(純度99.9%)
を膜厚3nmになるようにスパッタしたこと以外は、実
施例1に準じて、反射シートを作製した。得られたシー
トに保護層をラミネートした後、日立自記分光光度計
(型式U―3400)に150φの積分球を設置し、5
50nmにおける全反射率、拡散反射率測定を行った。
測定後のサンプルを、恒温恒湿槽に入れ、60℃、90
%RHの湿熱条件で500時間放置した。500時間経
過後、シートを取り出して、表面観察、反射率及び拡散
反射率の測定を行った。結果を(表1)に示した。Comparative Example 9 In Example 1, the first layer was made of chromium (purity 99.9%).
Was produced in the same manner as in Example 1 except that the film was sputtered to a film thickness of 3 nm. After laminating a protective layer on the obtained sheet, an integrating sphere of 150φ was set on a Hitachi automatic recording spectrophotometer (model U-3400), and 5
The total reflectance and diffuse reflectance at 50 nm were measured.
The sample after measurement is placed in a thermo-hygrostat at 60 ° C. and 90 ° C.
% RH for 500 hours. After a lapse of 500 hours, the sheet was taken out, and the surface was observed, and the reflectance and the diffuse reflectance were measured. The results are shown in (Table 1).
【0058】[0058]
【表1】 [Table 1]
【0059】[0059]
【発明の効果】本発明の反射シートは、反射型液晶表示
装置に用いた場合、非常に優れた耐久性を有し、湿熱条
件下においても反射率の低下が見られず、また、表面色
の変化もないことから、反射型液晶の表示能力を向上さ
せることが可能であり、本発明の工業的意義は大きい。The reflective sheet of the present invention, when used in a reflective liquid crystal display device, has very excellent durability, does not show a decrease in reflectance even under moist heat conditions, and has a low surface color. Since there is no change, the display capability of the reflection type liquid crystal can be improved, and the present invention has great industrial significance.
Claims (7)
からなる凹凸層(B)、下地層(C)、銀を主体とする
金属層(D)、珪素酸化物層(E)をABCDEの構成
順に有する反射シートであって、(E)層側から測定し
た波長550nmにおける該反射シートの反射率が85
〜99%であることを特徴とする反射シート。1. A polymer film (A), a concavo-convex layer (B) mainly composed of a particle layer, a base layer (C), a metal layer mainly composed of silver (D), and a silicon oxide layer (E) are made of ABCDE. A reflective sheet having a constitutional order, wherein the reflectivity of the reflective sheet at a wavelength of 550 nm measured from the (E) layer side is 85.
The reflective sheet is characterized by being about 99% or less.
15μm以下である微細粒子、および、バインダーによ
り形成され、かつ、該微細粒子が凹凸層の体積に対し5
〜52体積%の割合になるように配合され、かつ、該凹
凸層の乾燥重量(g/cm2 )が下記式(1)の条件を
満足するものであることを特徴とする請求項1記載の反
射シート。 式(1):0.75×2r×102 /〔p/a+(10
0−p)/b〕≦乾燥重量(g/cm2 )≦2.5×2
r×102 /〔p/a+(100−p)/b〕 〔但し、p=100/〔1+(100/v―1)×b/
a〕であり、rは使用した微細粒子の半径の平均値(c
m)、pは凹凸層中の微細粒子の割合(重量%)、vは
凹凸層中の微細粒子の割合(体積%)、aは用いた微細
粒子の密度(g/cm3 )、bは用いたバインダーの密
度(g/cm3 )を表す。〕2. An uneven layer (B) having an average particle size of 1 μm or more,
Fine particles having a size of 15 μm or less and a binder, and the fine particles have a volume of 5
2. The composition according to claim 1, wherein the composition is blended so as to have a proportion of about 52% by volume, and the dry weight (g / cm 2 ) of the uneven layer satisfies the condition of the following formula (1). Reflective sheet. Formula (1): 0.75 × 2r × 10 2 / [p / a + (10
0-p) / b] ≦ dry weight (g / cm 2 ) ≦ 2.5 × 2
r × 10 2 / [p / a + (100−p) / b] [However, p = 100 / [1+ (100 / v−1) × b /
a], and r is the average value of the radii of the fine particles used (c
m), p is the ratio of fine particles in the uneven layer (% by weight), v is the ratio of fine particles in the uneven layer (volume%), a is the density of the used fine particles (g / cm 3 ), b is It represents the density (g / cm 3 ) of the binder used. ]
を特徴とする請求項2に記載の反射シート。3. The reflection sheet according to claim 2, wherein the fine particles are acrylic particles.
とを特徴とする請求項2または3に記載の反射シート。4. The reflection sheet according to claim 2, wherein the binder is an acrylic resin.
鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、
クロム、インジウム、マンガン、チタン、もしくは、パ
ラジウムからなる厚さ5〜50nmの金属層、または、
酸化アルミニウムが0〜5重量%ドープされた酸化亜
鉛、または、インジウムとスズの酸化物(ITO)から
なる厚さ1〜20nmの透明酸化物層であることを特徴
とする請求項1〜4のいずれかに記載の反射シート。5. An underlayer (C) comprising gold, copper, nickel,
Iron, cobalt, tungsten, molybdenum, tantalum,
Chromium, indium, manganese, titanium, or palladium 5 to 50 nm thick metal layer, or
5. The transparent oxide layer of zinc oxide doped with 0 to 5% by weight of aluminum oxide or an oxide of indium and tin (ITO) with a thickness of 1 to 20 nm. The reflection sheet according to any one of the above.
70〜400nmであることを特徴とする請求項1〜5
のいずれかに記載の反射シート。6. The thickness of the metal layer (D) mainly composed of silver is:
The thickness is 70 to 400 nm.
The reflection sheet according to any one of the above.
nmであることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに
記載の反射シート。7. The silicon oxide layer (E) has a thickness of 1 to 50.
The reflective sheet according to any one of claims 1 to 6, wherein
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000112192A JP2001296410A (en) | 2000-04-13 | 2000-04-13 | Reflecting sheet |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000112192A JP2001296410A (en) | 2000-04-13 | 2000-04-13 | Reflecting sheet |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001296410A true JP2001296410A (en) | 2001-10-26 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2000112192A Withdrawn JP2001296410A (en) | 2000-04-13 | 2000-04-13 | Reflecting sheet |
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JP (1) | JP2001296410A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008233894A (en) * | 2007-02-20 | 2008-10-02 | Kobe Steel Ltd | Reflective film laminate |
-
2000
- 2000-04-13 JP JP2000112192A patent/JP2001296410A/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
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JP2008233894A (en) * | 2007-02-20 | 2008-10-02 | Kobe Steel Ltd | Reflective film laminate |
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