JP2001277730A - Image forming method and image forming material - Google Patents

Image forming method and image forming material

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JP2001277730A
JP2001277730A JP2000091994A JP2000091994A JP2001277730A JP 2001277730 A JP2001277730 A JP 2001277730A JP 2000091994 A JP2000091994 A JP 2000091994A JP 2000091994 A JP2000091994 A JP 2000091994A JP 2001277730 A JP2001277730 A JP 2001277730A
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JP
Japan
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group
image forming
ring
substituent
compound
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Application number
JP2000091994A
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Japanese (ja)
Inventor
Atsuhiro Okawa
敦裕 大川
Tatsuhiko Obayashi
達彦 大林
Seiya Sakurai
靖也 桜井
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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  • Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an image forming method and an image forming material, wherein coloring matter having absorption in a wavelength region of 360-700 nm only by irradiation with laser beams, a change in concentration of >=3.0 is generated to a specific absorption wavelength in the wavelength region by generation of the coloring matter, and the image is high sensitive and excellent in storage stability, and further a haze is low even by drawing with a high output laser, and a good face shape is given. SOLUTION: In an image forming method, a coloring matter having an absorption in a specific wavelength range within a range of 360-700 nm is generated only by applying laser beam of energy of 1-700 mJ/cm2 or less to an image forming material containing coloring matter absorbing the laser beam on a base material, and a change in concentration of >=3.0 is generated.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はレーザー照射のみで
画像形成を完結させる画像形成方法に関するものであ
る。本発明は酸による発色(または消色)反応を利用し
た画像形成材料に関するものである。本発明は、熱の作
用によって酸を発生する酸発生剤と、酸との反応によっ
て吸収変化を生じる化合物を含有する発色層を有し、高
感度で保存性の良好な画像形成材料に関するものであ
る。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to an image forming method for completing image formation only by laser irradiation. TECHNICAL FIELD The present invention relates to an image forming material utilizing a coloring (or decoloring) reaction with an acid. The present invention relates to an image forming material having an acid generator that generates an acid by the action of heat and a coloring layer containing a compound that undergoes an absorption change by a reaction with the acid, and having high sensitivity and good storage stability. is there.

【0002】[0002]

【従来の技術】画像形成方法に関しては数多くの方式が
提案されており、その概要が有機エレクトロニクス材料
研究会(ぶんしん出版)編「イメージング用有機材料」
(1997年)等にまとめられているが、最もシンプル
なシステムは光照射もしくは加熱のみで画像形成を完結
するシステムであり、画質の点も考慮するとレーザー光
の照射のみで画像形成を完結するシステムが究極の形態
であると考えられる。しかしながらレーザー光の照射の
みでの画像形成は極めて短時間での画像形成反応を構築
する必要があり、保存性との両立を図る必要があるため
極めて難度の高い技術を必要とし、これまで有用な提案
はなされていない。米国特許5858583号にはレー
ザー光の照射のみでの画像形成システムが提案されてい
るが、750mJ /cmのパワーのレーザー光照射
で、しかも反射感材においても濃度1.9の発色しか達
成できていない。
2. Description of the Related Art Numerous methods have been proposed for an image forming method. The outline of the method is described in "Organic Materials for Imaging" edited by Organic Electronics Materials Research Group (Bunshin Publishing).
(1997), the simplest system is a system that completes image formation only by light irradiation or heating, and in consideration of image quality, a system that completes image formation only by laser light irradiation. Is considered to be the ultimate form. However, image formation only by laser light irradiation requires the construction of an image formation reaction in a very short time, and requires extremely difficult technology because it is necessary to achieve compatibility with storage stability. No proposal has been made. Although U.S. Patent No. 5858583 has been proposed an image forming system in only the irradiated laser light, laser light irradiation power of 750 mJ / cm 2, yet also only be achieved coloring density 1.9 in the reflection-sensitive material Not.

【0003】またスルホン酸エステルを酸発生剤として
利用したレーザー光の照射のみでの画像形成方法が欧州
特許第905、656号に開示されているが、発色濃度
及び画像形成材料の保存性の観点からはいずれも不充分
であり、とりわけ、この方法では高出力レーザーを用い
た際には画像記録媒体の表面が一部熱破壊(いわゆるア
ブレーション)し、ヘイズが高くなり、地汚れなどを引
き起こすので、反応温度を高めることには制約がある。
その結果、反応活性と保存安定性の両立すなわち記録材
料としての識別性は、レーザー光を用いた記録方式にお
いても不十分であり、実用的な両立性を備えた画像記録
方法及び材料の開発が依然として画像技術分野の課題と
なっている。
[0003] An image forming method using only a laser beam using a sulfonic acid ester as an acid generator is disclosed in European Patent No. 905,656, but from the viewpoint of color density and storage stability of the image forming material. However, this method is inadequate, and in particular, when using a high-power laser, the surface of the image recording medium is partially destroyed by heat (so-called ablation), the haze is increased, and background contamination is caused. However, there are restrictions on raising the reaction temperature.
As a result, the compatibility between the reaction activity and the storage stability, that is, the discriminability as a recording material is not sufficient even in a recording method using a laser beam, and the development of a practical compatible image recording method and material has been required. It is still an issue in the field of imaging technology.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の背景
からなされたもので、その第一の目的は、レーザー光の
照射のみで360〜700nmの波長域に吸収を持つ色
素を生成し、該色素の生成により360〜700nmの
波長域の特定の吸収波長に濃度3.0以上の濃度変化を
生じることが可能な画像形成方法を提供することであ
る。本発明の第二の目的は、高感度で保存安定性に優れ
た新規な画像形成方法ならびに画像形成材料を提供する
ことにある。本発明の第三の目的は、高出力レーザーを
用いて画像形成を行った際にもヘイズが低く、良好な面
状を与える画像形成方法ならびに画像形成材料を提供す
ることである。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above background, and a first object of the present invention is to produce a dye having an absorption in a wavelength range of 360 to 700 nm only by irradiation with a laser beam, An object of the present invention is to provide an image forming method capable of causing a density change of a density of 3.0 or more at a specific absorption wavelength in a wavelength range of 360 to 700 nm by generation of the dye. A second object of the present invention is to provide a novel image forming method and an image forming material having high sensitivity and excellent storage stability. A third object of the present invention is to provide an image forming method and an image forming material which have a low haze even when an image is formed by using a high-power laser and provide a good surface state.

【0005】[0005]

【発明を解決するための手段】本発明者たちは、熱の作
用によって敏感に酸を発生し、その酸をトリガーとして
色素を形成することができて、しかも保存環境において
は安定であって熱分解しない化合物が課題解決のかぎと
なると考えて、鋭意検討を重ねた結果、発明の課題を達
成するに至った。すなわち、本発明は、以下の1〜9項
によって達成できた。
Means for Solving the Problems The present inventors can generate an acid sensitively by the action of heat, and form a dye by using the acid as a trigger. The inventor thought that a compound that does not decompose would be the key to solving the problem, and as a result of intensive studies, came to achieve the object of the invention. That is, the present invention has been achieved by the following items 1 to 9.

【0006】1.レーザー光の照射により該照射部分に
色素を生成する画像形成方法において、支持体上に該レ
ーザー光を吸収する色素を含有する画像形成材料に対し
て1から700mJ /cmのエネルギーのレーザーを
照射するのみで360〜700nmの波長域に吸収を有
する色素を生成し、生成した色素により360〜700
nmの波長域の特定の波長で濃度3.0以上の濃度変化
を生じることを特徴とする画像形成方法。
[0006] 1. In an image forming method in which a dye is formed in an irradiated portion by laser light irradiation, a laser having an energy of 1 to 700 mJ / cm 2 is irradiated on an image forming material containing a dye that absorbs the laser light on a support. A dye having an absorption in the wavelength range of 360 to 700 nm is generated only by performing
An image forming method, wherein a density change of 3.0 or more occurs at a specific wavelength in a wavelength range of nm.

【0007】2.レーザー光を吸収する色素が赤外線吸
収色素であることを特徴とする上記1に記載の画像形成
方法。
[0007] 2. 2. The image forming method according to the above item 1, wherein the dye that absorbs laser light is an infrared absorbing dye.

【0008】3.画像形成材料が支持体上に熱の作用に
より酸を発生する酸発生剤と、酸の作用による分子内も
しくは分子間反応により360〜700nmの波長域の
特定の波長で濃度3.0以上の濃度変化を生じる化合物
と、赤外線吸収色素とを含有することを特徴とする上記
1又は2に記載の画像形成方法。
[0008] 3. An image forming material, on a support, an acid generator that generates an acid by the action of heat, and a density of 3.0 or more at a specific wavelength in a wavelength range of 360 to 700 nm by an intramolecular or intermolecular reaction by the action of the acid. 3. The image forming method according to the above item 1 or 2, further comprising a compound causing a change and an infrared absorbing dye.

【0009】4.酸発生剤が下記一般式(I)もしくは
一般式(II)で表される化合物であることを特徴とする
上記3に記載の画像形成方法。
4. 4. The image forming method according to the above item 3, wherein the acid generator is a compound represented by the following formula (I) or (II).

【0010】[0010]

【化6】 Embedded image

【0011】上記一般式(I)において、R1 はアルキ
ル基、アリール基もしくはヘテロ環基を表わす。R2
びR3はそれぞれ独立にアルキル基もしくはアリール基
を表わすが、 R2とR3が同時にアリール基である事は
ない。 またR2とR3が結合して環を形成しても良い。
In the general formula (I), R 1 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group. R 2 and R 3 each independently represent an alkyl group or an aryl group, but R 2 and R 3 are not simultaneously an aryl group. R 2 and R 3 may combine to form a ring.

【0012】[0012]

【化7】 Embedded image

【0013】上記一般式(II)において、R31 はアルキ
ル基、アリール基もしくはヘテロ環基を表わす。R32
置換基を表わす。 R33及びR34はそれぞれ独立に水素
原子もしくは置換基を表わす。X1は環を形成するのに
必要な原子団を表わす。 R32、R33もしくはR34はX1
と結合して環を形成しても良い。
In the general formula (II), R 31 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group. R 32 represents a substituent. R 33 and R 34 independently represent a hydrogen atom or a substituent. X 1 represents an atomic group necessary for forming a ring. R 32 , R 33 or R 34 is X 1
To form a ring.

【0014】5.酸の作用により分子内もしくは分子間
反応を引き起こし360〜700nmの波長域の特定の
波長で濃度3.0以上の濃度変化を生じる化合物が、下
記一般式(III)〜(V)のいずれかで表わされる化合物
であることを特徴とする上記3又は4に記載の画像形成
方法。
5. A compound that causes an intramolecular or intermolecular reaction by the action of an acid and causes a concentration change of 3.0 or more at a specific wavelength in a wavelength range of 360 to 700 nm is represented by any of the following general formulas (III) to (V). 5. The image forming method as described in 3 or 4 above, which is a compound represented by the formula:

【0015】[0015]

【化8】 Embedded image

【0016】上記一般式(III)において、X2はN
(R58)、O、またはSを表し、Y1は N−C−X2
ともに環状構造を形成するのに必要な原子団を表し、A
1はC(R59)またはNを表し、R51〜R59は水素原子
または置換基を表し、それぞれ同じであっても異なって
いても良く、 R54、R55、R56およびR57は互いに結
合して縮合環を形成しても良く、 B1はアリール基、ヘ
テロ環基、アルケニル基、アルキニル基、アリールアミ
ノ基またはヘテロ環アミノ基を表す。
In the above general formula (III), X 2 is N
(R 58 ), O or S; Y 1 represents an atomic group necessary for forming a cyclic structure together with NC—X 2 ;
1 represents C (R 59 ) or N; R 51 to R 59 represent a hydrogen atom or a substituent, which may be the same or different, and R 54 , R 55 , R 56 and R 57 are B 1 may combine with each other to form a condensed ring, and B 1 represents an aryl group, a heterocyclic group, an alkenyl group, an alkynyl group, an arylamino group or a heterocyclic amino group.

【0017】[0017]

【化9】 Embedded image

【0018】上記一般式(IV)において、Ar1およびA
2はアリール基、ヘテロ環基、アルケニル基またはア
ルキニル基を表し、同じであっても異なっていても良
く、R71は水素原子または置換基を表し、Y2は芳香族
炭化水素環あるいはヘテロ環を表し、X3はO、Sまた
はN(R72)を表し、R72は水素原子または置換基を表
す。
In the above general formula (IV), Ar 1 and A
r 2 represents an aryl group, a heterocyclic group, an alkenyl group or an alkynyl group, which may be the same or different; R 71 represents a hydrogen atom or a substituent; Y 2 represents an aromatic hydrocarbon ring or a heterocyclic group; X 3 represents O, S or N (R 72 ), and R 72 represents a hydrogen atom or a substituent.

【0019】[0019]

【化10】 Embedded image

【0020】上記一般式(V)において、Ar3およびAr
4はアリール基、ヘテロ環基、アルケニル基またはアル
キニル基を表し、同じであっても異なっていても良く、
1は芳香族炭化水素環あるいはヘテロ環を表し、 A2
O、SまたはN(R73)を表し、R73は水素原子または
置換基を表す。
In the above general formula (V), Ar 3 and Ar
4 represents an aryl group, a heterocyclic group, an alkenyl group or an alkynyl group, which may be the same or different,
Z 1 represents an aromatic hydrocarbon ring or a hetero ring, A 2 represents O, S or N (R 73 ), and R 73 represents a hydrogen atom or a substituent.

【0021】6. 画像形成材料が下記一般式(VI)で示
されるポリマーを含有することを特徴とする上記1から
5のいすれか1項に記載の画像形成方法。 一般式(VI) −(A)x−(B)y−(C)z− 上記一般式(VI)において、Aは、酸発生剤モノマーの重
合によって得られる繰り返し単位を表し、Bは酸の作用
により360〜700nmの波長域の特定の波長で濃度
3.0以上の濃度変化を生じる部分構造を有する少なく
とも1種類以上のビニルモノマーの重合によって得られ
る繰り返し単位を表し、CはAおよびBと共重合可能な
少なくとも1種類以上のビニルモノマーの重合によって
得られる繰り返し単位を表す。x、yおよびzはモル%
を表し、それぞれ1≦x≦100、0≦y≦99、0≦
z≦99、x+y+z=100を表す。
6. The image forming method according to any one of the above items 1 to 5, wherein the image forming material contains a polymer represented by the following general formula (VI). Formula (VI)-(A) x- (B) y- (C) z -In the above formula (VI), A represents a repeating unit obtained by polymerization of an acid generator monomer, and B represents an acid Represents a repeating unit obtained by polymerization of at least one kind of vinyl monomer having a partial structure which causes a concentration change of 3.0 or more at a specific wavelength in a wavelength range of 360 to 700 nm by action, wherein C is A and B Represents a repeating unit obtained by polymerization of at least one or more copolymerizable vinyl monomers. x, y and z are mol%
And 1 ≦ x ≦ 100, 0 ≦ y ≦ 99, 0 ≦
It represents z ≦ 99, x + y + z = 100.

【0022】7.透過性支持体上に透過型画像を形成す
ることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載
の画像形成方法。
7. The image forming method according to claim 1, wherein a transmission type image is formed on a transmission support.

【0023】8.画像形成層中に銀化合物またはその塩
を含有しないことを特徴とする請求項1〜7記載の画像
形成方法。
8. The image forming method according to claim 1, wherein the image forming layer does not contain a silver compound or a salt thereof.

【0024】9.請求項1〜8のいずれか1項に記載の
方法で画像が形成されることを特徴とする画像形成材
料。
9. An image forming material, on which an image is formed by the method according to claim 1.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳しく述べ
る。はじめに、本発明に関わる二種類の色素について付
言しておく。以下の本明細書においては、「赤外線など
の画像書き込み用のレーザー光を吸収する色素」と、
「レーザー光の照射によって生成する360から700
nmの波長範囲に吸収域を有する色素」が記述される。
以下の本発明の説明の中では、これらを「レーザー光を
吸収する色素」及び「360から700nmの波長範囲
に吸収域を有する色素」と区別して述べるが、前後関係
からいずれを指すかが明瞭な場合には、それぞれを単に
「色素」と呼ぶこともある。本発明の画像形成はレーザ
ー照射のみで360から700nmの波長範囲の特定の
領域で3.0以上の発色を達成するものである。この発
色濃度は対象とする商品により必要濃度が異なり、製版
フィルムのような用途では濃度が3.5以上であること
が好ましく、さらに好ましくは4.0以上である。しか
し、画像形成の目的では発色濃度が20以上である必要
はない。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail. First, two types of dyes according to the present invention will be additionally described. In the following specification, `` a dye that absorbs laser light for image writing such as infrared light '',
"360 to 700 generated by laser light irradiation
Dyes having an absorption band in the wavelength range of nm are described.
In the following description of the present invention, these are distinguished from each other as “dye that absorbs laser light” and “dye having an absorption range in a wavelength range of 360 to 700 nm”. In such cases, each may be simply referred to as a “dye”. The image formation of the present invention achieves color development of 3.0 or more in a specific region in a wavelength range of 360 to 700 nm only by laser irradiation. The required color density varies depending on the target product, and the density is preferably 3.5 or more, more preferably 4.0 or more in applications such as plate making films. However, the color density need not be 20 or more for the purpose of image formation.

【0026】レーザー光としては種々のものを用いるこ
とができ、レーザー光を照射する画像形成材料には該レ
ーザー光を吸収する色素を含有させる必要がある。レー
ザー光源としては、エキシマレーザー、アルゴンレーザ
ー、ヘリウムネオンレーザー、半導体レーザー、ガラス
(YAG)レーザー、炭酸ガスレーザー、色素レーザー
等があるが、ヘリウムネオンレーザー、半導体レーザー
およびガラスレーザーが本発明に有用なレーザー光源で
ある。その中でも装置が小型で安価なことから、半導体
レーザーが特に有用である。半導体レーザーの発振波長
は通常、670〜830nmであり、したがって、本発
明に用いる感光材料には、該近赤外に吸収を持つ色素が
用いられる。近赤外吸収色素としては、シアニン色素、
スクアリリウム色素、メロシアニン色素、オキソノール
色素、フタロシアニン色素等が用いられる。その具体例
としては、例えば米国特許第4,973,572号、同
第4,948,777号、同第4,950,640号、
同第4,950,639号、同第4,948,776
号、4948,778、同第4,942,141号、同
第4,952,552号、同第5,036,040号お
よび同第4,912,083号明細書に記載されている
物質が挙げられる。
Various types of laser light can be used, and it is necessary that the image forming material irradiated with the laser light contains a dye that absorbs the laser light. Examples of the laser light source include an excimer laser, an argon laser, a helium neon laser, a semiconductor laser, a glass (YAG) laser, a carbon dioxide laser, and a dye laser. It is a laser light source. Among them, a semiconductor laser is particularly useful because the device is small and inexpensive. The oscillation wavelength of a semiconductor laser is usually 670 to 830 nm, and therefore, a dye having absorption in the near infrared is used for the photosensitive material used in the present invention. As near-infrared absorbing dyes, cyanine dyes,
Squarylium dyes, merocyanine dyes, oxonol dyes, phthalocyanine dyes and the like are used. Specific examples thereof include, for example, U.S. Pat. Nos. 4,973,572, 4,948,777, and 4,950,640.
Nos. 4,950,639 and 4,948,776
Nos. 4,948,778, 4,942,141, 4,952,552, 5,036,040 and 4,912,083. No.

【0027】本発明の画像形成方法において画像形成材
料への書き込みに用いられるレーザー光の照射強度は、
1から700mJ/cm2であるが、好ましくは10か
ら600mJ/cm2であり、より好ましくは20から
500mJ/cm2である。照射強度が1mJ/cm2
満で発色するようであれば画像形成材料が自然光でかぶ
ったりして保存性が悪くなるという弊害が生じる。ま
た、レーザー光の照射強度が700mJ/cm2を超え
るとレーザーの書き込み速度が遅い、レーザーに伴うハ
ード要素のコストが高い、画像面にヘイズが生じ易い、
画像形成層が熱飛散することがある、などの弊害が生じ
る。
In the image forming method of the present invention, the irradiation intensity of the laser beam used for writing on the image forming material is
Is 700 mJ / cm 2 from 1, but is preferably 600 mJ / cm 2 to 10, more preferably from 500 mJ / cm 2 from 20. If the irradiation intensity is less than 1 mJ / cm 2 , the image forming material may be covered with natural light and the storage stability may be deteriorated. Further, when the irradiation intensity of the laser light exceeds 700 mJ / cm 2 , the writing speed of the laser is slow, the cost of the hard element accompanying the laser is high, and the haze is easily generated on the image surface.
There are adverse effects such as heat scattering of the image forming layer.

【0028】次に酸発生剤について説明する。酸発生剤
としてはレーザー照射により強酸を発生するものが好ま
しく、その中でもスルホン酸を発生するものが好まし
い。スルホン酸を発生する酸発生剤としては、例えば有
機エレクトロニクス材料研究会編、”イメージング用有
機材料”ぶんしん出版社刊(1997)に数多く記載さ
れているが、その中でもスルホン酸の2級アルキルエス
テルが好ましく、更に好ましくは下記一般式(I)もし
くは一般式(II)で表わされるものである。一般式
(I)において、R1はアルキル基(メチル基、エチル
基、n−プロピル基、イソプロピル基、t−ブチル基、
n−オクチル基、ドデシル基、シクロプロピル基、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基、 [0,1,3]ビシクロヘ
キシル基、[1,2,2]ビシクロヘプチル基、[1,1,3]ビシク
ロヘプチル基等)、アリール基(フェニル基、ナフチル
基等)もしくはヘテロ環基(フリル基、チエニル基、ピ
リミジニル基、ベンゾチアゾリル基等)を表わす。これ
らのうちで好ましくはアルキル基もしくはアリール基で
あり、特に好ましくはアリール基である。これらの基
は、置換基を除いて炭素数が1〜18であり、好ましく
は1〜12である。
Next, the acid generator will be described. As the acid generator, those which generate a strong acid by laser irradiation are preferable, and among them, those which generate a sulfonic acid are preferable. Many acid generators that generate sulfonic acid are described in, for example, “Organic Materials for Imaging”, edited by Organic Electronics Materials Research Group, published by Bunshin Publishing Company (1997). Among them, secondary alkyl esters of sulfonic acid are among them. And more preferably those represented by the following general formula (I) or general formula (II). In the general formula (I), R 1 is an alkyl group (methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, t-butyl group,
n-octyl group, dodecyl group, cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, [0,1,3] bicyclohexyl group, [1,2,2] bicycloheptyl group, [1,1,3] bicycloheptyl group Etc.), an aryl group (phenyl group, naphthyl group, etc.) or a heterocyclic group (furyl group, thienyl group, pyrimidinyl group, benzothiazolyl group, etc.). Of these, an alkyl group or an aryl group is preferred, and an aryl group is particularly preferred. These groups have 1 to 18 carbon atoms, and preferably 1 to 12 carbon atoms, excluding a substituent.

【0029】また、これらの基は、更に置換基を有して
いても良く、置換基としては置換可能なものであればい
ずれの置換基であってもよく、好ましい置換基として
は、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素及びヨウ素)、
アルキル基(具体例は前記と同じで、シクロアルキル
基、ビシクロアルキル基を含む)、アルケニル基(ビニ
ル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル
基、2−シクロペンテン−1−イル基等)、アルキニル
基(エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエ
チニル基等)、アリール基(具体例は前述と同じ)、ヘ
テロ環基(具体例は前述と同じ)、シアノ基、ヒドロキ
シル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基(メ
トキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、t−ブトキ
シ基、n−オクチルオキシ基等)、アリールオキシ基
(フェノキシ基、ナフトキシ基等)、シリルオキシ基
(トリメチルシリルオキシ基、t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ基等)、ヘテロ環オキシ基(ピリジルオキシ
基、2−テトラヒドロピラニルオキシ基等)、アシルオ
キシ基(ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロ
イルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキ
シ基等)、カルバモイルオキシ基( N,N−ジメチル
カルバモイルオキシ基、 モルホリノカルボニルオキシ
基、N,N−ジ−n−オクチルアミノカルボニルオキシ
基、N−n−オクチルカルバモイルオキシ基等)、アル
コキシカルボニルオキシ基(メトキシカルボニルオキシ
基、エトキシカルボニルオキシ基、t−ブトキシカルボ
ニルオキシ基、n−オクチルカルボニルオキシ基等)、
アリールオキシカルボニルオキシ基(フェノキシカルボ
ニルオキシ基等)、
Further, these groups may further have a substituent, and any substituent may be used as long as it can be substituted, and a preferable substituent is a halogen atom. (Fluorine, chlorine, bromine and iodine),
Alkyl group (specific examples are the same as above, including cycloalkyl group and bicycloalkyl group), alkenyl group (vinyl group, allyl group, prenyl group, geranyl group, oleyl group, 2-cyclopenten-1-yl group, etc.) , Alkynyl group (ethynyl group, propargyl group, trimethylsilylethynyl group, etc.), aryl group (specific examples are as described above), heterocyclic group (specific examples are as described above), cyano group, hydroxyl group, nitro group, carboxyl group , An alkoxy group (methoxy group, ethoxy group, isopropoxy group, t-butoxy group, n-octyloxy group, etc.), an aryloxy group (phenoxy group, naphthoxy group, etc.), a silyloxy group (trimethylsilyloxy group, t-butyldimethyl group) Silyloxy group, etc.), heterocyclic oxy group (pyridyloxy group, 2-tetrahydropyrani Oxy group, etc.), acyloxy group (formyloxy group, acetyloxy group, pivaloyloxy group, stearoyloxy group, benzoyloxy group, etc.), carbamoyloxy group (N, N-dimethylcarbamoyloxy group, morpholinocarbonyloxy group, N, N -Di-n-octylaminocarbonyloxy group, Nn-octylcarbamoyloxy group, etc., alkoxycarbonyloxy group (methoxycarbonyloxy group, ethoxycarbonyloxy group, t-butoxycarbonyloxy group, n-octylcarbonyloxy group etc),
An aryloxycarbonyloxy group (such as a phenoxycarbonyloxy group),

【0030】さらに、アミノ基(アニリノ基をも含み、
アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリ
ノ基、N-メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基
等)、アシルアミノ基(アセチルアミノ基、ピバロイル
アミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、
3,4,5−トリ−n−オクチルオキシフェニルカルボ
ニルアミノ基等)、カルバモイルアミノ基(カルバモイ
ルアミノ基、N,N−ジメチルアミノカルボニルアミノ
基、N,N−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モル
ホリノカルボニルアミノ基等)、アルコキシカルボニル
アミノ基(メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカル
ボニルアミノ基、t−ブトキシカルボニルアミノ、n−
オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、N−メチルー
メトキシカルボニルアミノ等)、アリールオキシカルボ
ニルアミノ基(フェノキシカルボニルアミノ基等)、ス
ルファモイルアミノ基(スルファモイルアミノ基、N,
N−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、N−n−オク
チルアミノスルホニルアミノ等基)、アルキル及びアリ
ールスルホニルアミノ基(メチルスルホニルアミノ基、
ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ
基等)、
Further, an amino group (including an anilino group,
Amino group, methylamino group, dimethylamino group, anilino group, N-methyl-anilino group, diphenylamino group, etc., acylamino group (acetylamino group, pivaloylamino group, lauroylamino group, benzoylamino group,
3,4,5-tri-n-octyloxyphenylcarbonylamino group, etc., carbamoylamino group (carbamoylamino group, N, N-dimethylaminocarbonylamino group, N, N-diethylaminocarbonylamino group, morpholinocarbonylamino group Etc.), alkoxycarbonylamino group (methoxycarbonylamino group, ethoxycarbonylamino group, t-butoxycarbonylamino, n-
Octadecyloxycarbonylamino group, N-methyl-methoxycarbonylamino, etc.), aryloxycarbonylamino group (phenoxycarbonylamino group, etc.), sulfamoylamino group (sulfamoylamino group, N,
N-dimethylaminosulfonylamino group, Nn-octylaminosulfonylamino group, etc., alkyl and arylsulfonylamino groups (methylsulfonylamino group,
Butylsulfonylamino group, phenylsulfonylamino group, etc.),

【0031】さらに、メルカプト基、アルキルチオ基
(メチルチオ基、エチルチオ基、n−ヘキサデシルチオ
基等)、アリールチオ基(フェニルチオ基等)、ヘテロ
環チオ基(2−ベンゾチアゾリルチオ基、1−フェニル
テトラゾール−5−イルチオ基等)、スルファモイル基
( N−エチルスルファモイル基、N−(3−ドデシル
オキシプロピル)スルファモイル基、N,N−ジメチル
スルファモイル基、N−アセチルスルファモイル基、N
−ベンゾイルスルファモイル基、N−(N“−フェニル
カルバモイル)スルファモイル基等)、スルホ基、アル
キル及びアリールスルフィニル基(メチルスルフィニル
基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基
等)、アルキル及びアリールスルホニル基(メチルスル
ホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基
等)、アシル基(アセチル基、ピバロイル基、2−クロ
ロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基等)、ア
リールオキシカルボニル基(フェノキシカルボニル
等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル
基、n−オクタデシルオキシカルボニル基等)、カルバ
モイル基(カルバモイル基、N−メチルカルバモイル、
N,N−ジメチルカルバモイル基、N,N−ジ−n−オ
クチルカルバモイル、N−(メチルスルホニル)カルバ
モイル基等)、イミド基(N−スクシンイミド基、N−
フタルイミド基等)、ホスフィノ基(ジメチルホスフィ
ノ基、ジフェニルホスフィノ基等)、ホスフィニル基、
ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル
基(トリメチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル
基、フェニルジメチルシリル基等)が例として挙げられ
る。R1の置換基として最も好ましくはアルキル基であ
る。R1の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限
定されるものではない。
Furthermore, mercapto groups, alkylthio groups (methylthio group, ethylthio group, n-hexadecylthio group, etc.), arylthio groups (phenylthio group, etc.), heterocyclic thio groups (2-benzothiazolylthio group, 1-phenyltetrazole- 5-ylthio group, etc.), sulfamoyl group (N-ethylsulfamoyl group, N- (3-dodecyloxypropyl) sulfamoyl group, N, N-dimethylsulfamoyl group, N-acetylsulfamoyl group, N
-Benzoylsulfamoyl group, N- (N "-phenylcarbamoyl) sulfamoyl group, etc., sulfo group, alkyl and arylsulfinyl group (methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, phenylsulfinyl group, etc.), alkyl and arylsulfonyl group ( Methylsulfonyl, ethylsulfonyl, phenylsulfonyl, etc.), acyl (acetyl, pivaloyl, 2-chloroacetyl, stearoyl, benzoyl, etc.), aryloxycarbonyl (phenoxycarbonyl, etc.), alkoxycarbonyl (Methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, t-butoxycarbonyl group, n-octadecyloxycarbonyl group, etc.), carbamoyl group (carbamoyl group, N-methylcarbamoyl,
N, N-dimethylcarbamoyl group, N, N-di-n-octylcarbamoyl group, N- (methylsulfonyl) carbamoyl group, etc., imide group (N-succinimide group, N-
Phthalimido group), phosphino group (dimethylphosphino group, diphenylphosphino group, etc.), phosphinyl group,
Examples include a phosphinyloxy group, a phosphinylamino group, and a silyl group (such as a trimethylsilyl group, a t-butyldimethylsilyl group, and a phenyldimethylsilyl group). Most preferably, R 1 is an alkyl group. Specific examples of R 1 are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0032】[0032]

【化11】 Embedded image

【0033】[0033]

【化12】 Embedded image

【0034】[0034]

【化13】 Embedded image

【0035】置換基R2及びR3はそれぞれ独立にアルキ
ル基もしくはアリール基を表わすが、 R2とR3が同時
にアリール基である事はない。アルキル基とアリール基
の例はR1で挙げたものと同じであり、さらに置換基を
有していても良く、好ましい置換基はR1の説明で挙げ
たものである。 またR2とR3のうち少なくとも一方は
重合性の不飽和基を有しても良く、重合性不飽和基とし
てはビニル基が好ましい。またR2とR3が結合して環を
形成しても良い。そのような例としては種々のものが挙
げられるが、その好ましい形態が一般式(VII)で表わ
されるものである。
The substituents R 2 and R 3 each independently represent an alkyl group or an aryl group, but R 2 and R 3 are not simultaneously an aryl group. Examples of the alkyl group and the aryl group are the same as those described for R 1 , and may further have a substituent. Preferred substituents are those described for R 1 . At least one of R 2 and R 3 may have a polymerizable unsaturated group, and a vinyl group is preferable as the polymerizable unsaturated group. R 2 and R 3 may combine to form a ring. Although various examples are given as such examples, preferred forms are those represented by the general formula (VII).

【0036】[0036]

【化14】 Embedded image

【0037】一般式( VII )において、 R1は一般式
(I)と同義である。X4はCとともに環を形成するの
に必要な原子団を表わす。X4はCとともに環を形成
し、環の大きさとして好ましくは3ないし8が好まし
く、更に好ましくは5または6であり、特に好ましくは
6である。X4は非金属原子団である事が好ましく、更
に好ましくは−C(R4)(R5)−、−C(=Y3
−、−N(R6)−、−O−、−S−であり、特に好ま
しくは−C(R4)(R5)−である。ここでR4、R5
6は水素原子もしくは置換基を表わし、置換基として
の好ましい例はR1の説明で挙げたものと同じである。
4、R5もしくはR6が分子内に複数存在する場合、そ
れらは同じであっても異なっていても良く、またいずれ
か2つもしくはそれ以上のものが結合して環を形成して
も良い。Y3は、=O、=S、もしくは=N−R6を表わ
し、 R6は前述のものと同じである。また一般式( VII
)で表わされる化合物は、後で述べるようにポリマー
化することにより更に優れた性能を示す。そのための重
合性不飽和基を有するモノマーとして好ましくは、下記
一般式( VIII )で表わされる化合物である。
In the general formula (VII), R1Is the general formula
It is synonymous with (I). XFourForms a ring with C
Represents an atomic group required for XFourForms a ring with C
And the ring size is preferably 3 to 8.
And more preferably 5 or 6, particularly preferably
6. XFourIs preferably a non-metallic atomic group.
Is preferably -C (RFour) (RFive)-, -C (= YThree)
-, -N (R6)-, -O-, -S-, and particularly preferred.
Or -C (RFour) (RFive)-. Where RFour, RFive,
R 6Represents a hydrogen atom or a substituent, and
A preferred example of R is1Is the same as that described in the description.
RFour, RFiveOr R6If there is more than one in the molecule,
They may be the same or different, and
Or two or more are linked to form a ring
Is also good. YThreeIs = O, = S, or = N-R6Represents
Then R6Is the same as described above. The general formula (VII
 The compound represented by) is a polymer as described later.
By performing the conversion, more excellent performance is exhibited. Heavy for that
Preferably as a monomer having a compatible unsaturated group, the following
It is a compound represented by the general formula (VIII).

【0038】[0038]

【化15】 Embedded image

【0039】式中、R1は一般式(I)と同義である。
7は水素原子もしくはアルキル基を表わし、アルキル
基はさらに置換基を有していても良く、アルキル基およ
び置換基の具体例はR1の具体例で挙げたものである。
7として好ましくは水素原子もしくはメチル基であ
る。以下に一般式(I)、一般式(VII)もしくは一般
式(VIII)で表わされる化合物の具体例を示すが、本発
明はこれらに限定されるものではない。なお、化合物に
よってはcis-体とtrans-体等の異性体が存在するものも
あるが、これらを混合物として用いる場合も本発明に含
まれる。
In the formula, R 1 has the same meaning as in formula (I).
R 7 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and the alkyl group may further have a substituent. Specific examples of the alkyl group and the substituent are those described in the specific examples of R 1 .
R 7 is preferably a hydrogen atom or a methyl group. Hereinafter, specific examples of the compound represented by Formula (I), Formula (VII) or Formula (VIII) are shown, but the present invention is not limited thereto. Some compounds have isomers such as cis- and trans-forms, and the case where these are used as a mixture is also included in the present invention.

【0040】[0040]

【化16】 Embedded image

【0041】[0041]

【化17】 Embedded image

【0042】[0042]

【化18】 Embedded image

【0043】[0043]

【化19】 Embedded image

【0044】[0044]

【化20】 Embedded image

【0045】一般式(II)において、R31は一般式
(I)のR1と同義である。一般式(II)において置換
基R32は置換基を表わし、置換基としてはR1の説明で
記したものが挙げられる。 R32として好ましくはアル
キル基、ハロゲン原子もしくはアルコキシ基であり、さ
らに好ましくはアルキル基である。 R33およびR34
それぞれ独立に水素原子もしくは置換基を表わし、置換
基としてはR 1の説明で記したものが挙げられる。 R33
およびR34として好ましくは水素原子、アルキル基、ハ
ロゲン原子もしくはアルコキシ基であり、さらに好まし
くは水素原子もしくはアルキル基である。またR33とR
34のうちの少なくとも1つは置換基であることが好まし
い。X1は環を形成するのに必要な原子団を表わす。環
の大きさとして好ましくは3ないし8が好ましく、更に
好ましくは5または6であり、特に好ましくは6であ
る。X1は非金属原子団である事が好ましく、更に好ま
しくは−C(R35)(R36)−、−C(=Y4)−、−
N(R37)−、−O−、−S−であり、特に好ましくは
−C(R35)(R36)−である。ここでR35、R36、R
37は水素原子もしくは置換基を表わし、置換基としての
好ましい例はR1の説明で挙げたものと同じである。 R
35、R36もしくはR37が分子内に複数存在する場合、そ
れらは同じであっても異なっていても良く、またいずれ
か2つもしくはそれ以上のものが結合して環を形成して
も良い。Yは、=O、=S、もしくは=N− R37を表
わし、R37は前述のものと同じである。 R32、R33
しくはR34は、X1と結合して環を形成しても良い。ま
たR31〜R34のうち少なくとも一つが重合性の不飽和基
を有していることが好ましく、重合性不飽和基としては
ビニル基が好ましい。
In the general formula (II), R31Is the general formula
R of (I)1Is synonymous with Substitution in general formula (II)
Group R32Represents a substituent, and the substituent is R1In the description
Described. R32Preferably as al
A kill group, a halogen atom or an alkoxy group;
More preferably, it is an alkyl group. R33And R34Is
Each independently represents a hydrogen atom or a substituent;
The group is R 1Described in the description. R33
And R34Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group,
A halogen atom or an alkoxy group, more preferably
Or a hydrogen atom or an alkyl group. Also R33And R
34Preferably, at least one of is a substituent
No. X1Represents an atomic group necessary for forming a ring. ring
The size of is preferably 3 to 8, more preferably
It is preferably 5 or 6, particularly preferably 6.
You. X1Is preferably a non-metallic atomic group, more preferably
Or -C (R35) (R36)-, -C (= YFour)-,-
N (R37)-, -O-, -S-, and particularly preferably
-C (R35) (R36)-. Where R35, R36, R
37Represents a hydrogen atom or a substituent;
A preferred example is R1Is the same as that described in the description. R
35, R36Or R37If there is more than one in the molecule,
They may be the same or different, and
Or two or more are linked to form a ring
Is also good. Y is = O, = S, or = N-R37The table
I, R37Is the same as described above. R32, R33Also
Or R34Is X1To form a ring. Ma
R31~ R34At least one of which is a polymerizable unsaturated group
It is preferable to have a polymerizable unsaturated group
Vinyl groups are preferred.

【0046】また一般式(II)で表わされる化合物の
中でさらに好ましくは、下記一般式(IX)で表わされる
化合物である。
Further, among the compounds represented by the general formula (II), more preferred are the compounds represented by the following general formula (IX).

【0047】[0047]

【化21】 Embedded image

【0048】一般式(II)において、R31〜R34は一般
式(II)と同義である。R38およびR40は水素原子もし
くは置換基(具体例はR1の説明で挙げたもの)を表わ
し、好ましくは水素原子もしくはアルキル基であり、さ
らに好ましくは水素原子である。R39は水素原子もしく
は置換基(具体例はR1の説明で挙げたもの)を表わ
し、好ましくはハメットのσm値が0以上のものであ
り、さらに好ましくは水素原子もしくはアシルオキシ基
である。さらに一般式( IX )で表わされる化合物はい
ずれかの部位に重合性の不飽和基を有していることが好
ましく、重合性基としてはビニル基が好ましい。
In the general formula (II), R 31 to R 34 have the same meaning as in the general formula (II). R 38 and R 40 represent a hydrogen atom or a substituent (specific examples are those described in the description of R 1 ), preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and more preferably a hydrogen atom. R 39 represents a hydrogen atom or a substituent (specific examples are those described in the description of R 1 ), and preferably has a Hammett σm value of 0 or more, and more preferably a hydrogen atom or an acyloxy group. Further, the compound represented by the formula (IX) preferably has a polymerizable unsaturated group at any position, and a vinyl group is preferable as the polymerizable group.

【0049】以下に一般式(II)および( IX )で表わ
される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定
されるものではない。また化合物によってはcis-体とtr
ans-体等の異性体が存在するものもあるが、以下の記載
はそれら異性体の構造を特定するものではなく、また異
性体の混合物として利用する場合も含まれる。
Specific examples of the compounds represented by formulas (II) and (IX) are shown below, but the present invention is not limited thereto. In some compounds, cis-form and tr
There are some isomers such as ans-isomers, but the following description does not specify the structure of these isomers, and includes the case where the isomers are used as a mixture of isomers.

【0050】[0050]

【化22】 Embedded image

【0051】[0051]

【化23】 Embedded image

【0052】[0052]

【化24】 Embedded image

【0053】[0053]

【化25】 Embedded image

【0054】[0054]

【化26】 Embedded image

【0055】またこれらの酸発生剤の添加量は吸収変化
を伴う化合物の種類によっても異なるが、一般に後述す
る酸の作用により360nm〜700nmの波長域に吸収変
化を伴う化合物に対して0.001〜20当量の範囲で
あることが好ましく、特に好ましくは0.01〜5当量
の場合である。
The amount of these acid generators varies depending on the type of the compound having a change in absorption, but is generally 0.001 to the compound having a change in absorption in the wavelength range of 360 to 700 nm due to the action of an acid described later. The range is preferably from 20 to 20 equivalents, particularly preferably from 0.01 to 5 equivalents.

【0056】次に酸の作用により分子内もしくは分子間
反応を起こし360〜700nmの波長域の特定の波長
で濃度3.0以上の濃度変化を生じる化合物について説
明する。このような吸収変化を伴う化合物は単一の化合
物であってもよいし、2成分以上で構成されていてもよ
い。例えば、(a)ディールスアルダー反応によって前記
領域に消色画像を形成する化合物の組み合わせ(例え
ば、9,10−ジスチリルアントラセンと無水マレイン
酸の組み合わせ、あるいはテトラフェニルシクロペンタ
ジエンとアクリル酸エステルの組み合わせ等)、(b)レ
トロディールスアルダー反応によって前記領域に発色画
像を形成する化合物(例えば9,10−ジスチリルアン
トラセンと無水マレイン酸の付加体、ジフェニルイソベ
ンゾフランとアクリルアミドの付加体等)、(c)βー水
素離脱によって共役系が拡張され前記領域に発色画像を
形成する化合物(例えば1ーアセトキシー1,2−ジア
リ−ルエタン、1ースルホキシー1,2−ジアリ−ルエ
タン等)、(d)脱水縮合によって前記領域に発色画像を
形成するアルデヒドと活性メチレン化合物の組み合わせ
(例えば写真用4等量マゼンタカプラー(ピラゾロン誘
導体)とpーメトキシシンナムアルデヒド等)あるいは
(e)酸の作用で分解または離脱が促進される置換基によ
って置換されたアミノ基もしくは水酸基を分子内に有
し、該置換基が外れることによって前記吸収域における
吸収が変化する化合物等が挙げられる。
Next, a compound which causes an intramolecular or intermolecular reaction by the action of an acid and causes a concentration change of 3.0 or more at a specific wavelength in a wavelength range of 360 to 700 nm will be described. The compound having such an absorption change may be a single compound or may be composed of two or more components. For example, (a) a combination of compounds forming a decolored image in the area by the Diels-Alder reaction (for example, a combination of 9,10-distyrylanthracene and maleic anhydride, or a combination of tetraphenylcyclopentadiene and acrylate) ), (B) a compound that forms a color image in the region by the retro Diels-Alder reaction (for example, an adduct of 9,10-distyrylanthracene and maleic anhydride, an adduct of diphenylisobenzofuran and acrylamide, etc.), (c) a compound (for example, 1-acetoxy-1,2-diaryleethane, 1-sulfoxy-1,2-diaryleethane, etc.) that expands a conjugated system by β-hydrogen elimination to form a color image in the region, Aldehyde and Active Methyle That Form a Colored Image in the Area The compounds of the combination (e.g., photographic 4 equivalents magenta coupler (pyrazolone derivative) and p-methoxycarbonylpyrrolidine cinnamaldehyde, etc.) or
(e) Compounds having an amino group or a hydroxyl group substituted by a substituent whose decomposition or elimination is promoted by the action of an acid in the molecule, and a compound or the like in which the absorption in the absorption region changes due to the removal of the substituent. Can be

【0057】アミノ基の置換基が酸の作用によって分解
もしくは離脱することにより吸収が変化する化合物にお
けるアミノ基の置換基としてはアルコキシカルボニル基
(例えばtーブトキシカルボニル基、シクロヘキシルオ
キシカルボニル基、2ー(2ーメチル)ブトキシカルボ
ニル基、2ー(2ーフェニル)プロピルオキシカルボニ
ル基、2ークロロエトキシカルボニル基等)、アシル基
(例えばアセチル基、ベンゾイル基、2ーニトロベンゾ
イル基、4ークロロベンゾイル基、1ーナフトイル基
等)もしくはホルミル基等が好ましい例として挙げられ
るが本発明では保存安定性と熱感度の観点からβ位に水
素原子を有するアルコキシカルボニル基が特に有用であ
る。
As the substituent of the amino group in the compound in which the absorption is changed by decomposition or elimination of the substituent of the amino group by the action of an acid, an alkoxycarbonyl group (for example, t-butoxycarbonyl group, cyclohexyloxycarbonyl group, 2- (2-methyl) butoxycarbonyl group, 2- (2-phenyl) propyloxycarbonyl group, 2-chloroethoxycarbonyl group, etc.), acyl group (for example, acetyl group, benzoyl group, 2-nitrobenzoyl group, 4-chlorobenzoyl group, Preferred examples thereof include a 1-naphthoyl group) and a formyl group. In the present invention, an alkoxycarbonyl group having a hydrogen atom at the β-position is particularly useful from the viewpoint of storage stability and heat sensitivity.

【0058】このような化合物としては、例えば米国特
許第4,602,263号、第4,826,976号等
に記載例があり、本発明の熱酸発生剤および酸増殖剤と
組み合わせることにより、より高感度で保存性に優れた
感熱形成材料を提供することができる。
Examples of such a compound are described in, for example, US Pat. Nos. 4,602,263 and 4,826,976, and can be obtained by combining with a thermal acid generator and an acid multiplying agent of the present invention. Thus, a heat-sensitive material having higher sensitivity and excellent storage stability can be provided.

【0059】水酸基の置換基が酸の作用によって分解も
しくは離脱することにより吸収が変化する化合物におけ
る水酸基の置換基としては、β位に水素原子を有する2
級もしくは3級のアルコキシカルボニル基(例えばtー
ブトキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル
基、1ーフェニルエトキシカルボニル基、1,1ージフ
ェニルエトキシカルボニル基、2ーシクロヘキセンオキ
シカルボニル基等)、シリル基(例えばトリメチルシリ
ル基、トリエチルシリル基、tーブチルジメチルシリル
基、tーブチルジフェニルシリル基、フェニルジメチル
シリル基等)、アルコキシメチル基(例えばメトキシメ
チル基、エトキシメチル基、1ーメトキシエチル基、1
ーフェノキシエチル基、2ー(2ーメトキシプロピル)
基等)およびβ位に水素原子を有する2級もしくは3級
のアルキル基(例えばテトラヒドロピラニル基、テトラ
ヒドロフラニル基、4,5−ジヒドロ−2−メチルフラ
ン−5−イル基、tーブチル基、2ーシクロヘキセニル
基等)が好ましい例として挙げられるが、本発明では特
にβ位に水素原子を有する2級もしくは3級のアルコキ
シカルボニル基が好ましい。水酸基の置換基の分解によ
って吸収が変化する化合物としては米国特許第5,24
3,052号あるいは特開平9−25360号等に記載
例がある。
As the substituent of the hydroxyl group in the compound whose absorption changes when the substituent of the hydroxyl group is decomposed or eliminated by the action of an acid, the hydroxyl group has a hydrogen atom at the β-position.
Secondary or tertiary alkoxycarbonyl group (for example, t-butoxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, 1-phenylethoxycarbonyl group, 1,1-diphenylethoxycarbonyl group, 2-cyclohexeneoxycarbonyl group, etc.), silyl group (for example, Trimethylsilyl group, triethylsilyl group, t-butyldimethylsilyl group, t-butyldiphenylsilyl group, phenyldimethylsilyl group, etc.), alkoxymethyl group (for example, methoxymethyl group, ethoxymethyl group, 1-methoxyethyl group,
-Phenoxyethyl group, 2- (2-methoxypropyl)
A secondary or tertiary alkyl group having a hydrogen atom at the β-position (eg, a tetrahydropyranyl group, a tetrahydrofuranyl group, a 4,5-dihydro-2-methylfuran-5-yl group, a t-butyl group, A 2-cyclohexenyl group) is a preferable example, but in the present invention, a secondary or tertiary alkoxycarbonyl group having a hydrogen atom at the β-position is particularly preferable. Compounds whose absorption is changed by decomposition of a hydroxyl group substituent are described in US Pat.
Examples are described in JP-A-3,052 or JP-A-9-25360.

【0060】また酸との接触により瞬時に発色する塩基
性のロイコ染料等の色素前駆体やその組み合わせも該画
像形成材料において使用することができる。そのような
化合物の例としては有機エレクトロニクス材料研究会
編、”イメージング用有機材料”ぶんしん出版社刊(1
997)、に記載されている化合物およびそこに記載さ
れている引用文献記載の化合物等が挙げられる。以下に
酸の作用により360〜700nmの吸収域に変化を生じ
る化合物の具体例を示すが本発明はこれらに限定される
ものではない。
Dye precursors such as basic leuco dyes which instantaneously develop color upon contact with an acid, and combinations thereof can also be used in the image forming material. Examples of such compounds include “Organic Materials for Imaging”, edited by the Society of Organic Electronics Materials, published by Bunshin Publishing Company (1
997), and the compounds described in the references cited therein. Hereinafter, specific examples of the compound which changes the absorption range of 360 to 700 nm by the action of an acid will be shown, but the present invention is not limited thereto.

【0061】本発明で用いる好ましい化合物としては、
一般式(III)〜(V)で表わされるものである。本発明
の一般式(III)で表わされるロイコ色素においてR51
〜R57は水素原子または置換基を表し、これらはそれぞ
れ同じであっても異なっていても良い。
Preferred compounds used in the present invention include:
They are represented by the general formulas (III) to (V). In the leuco dye represented by the general formula (III) of the present invention, R 51
To R 57 represent a hydrogen atom or a substituent, which may be the same or different.

【0062】置換基の例としては、一般式(I)のR1
で示したものが挙げられる。R54、R55、R56またはR57
置換基を表す場合、隣接する2つの基は互いに結合して
縮合環を形成しても良い。縮合環を形成する場合の例と
しては、ナフタレン環、アントラセン環、べンゾフラン
環、べンゾチオフェン環等が例として挙げられる。
Examples of the substituent include R 1 of the general formula (I)
Are shown. When R 54 , R 55 , R 56 or R 57 represents a substituent, two adjacent groups may be bonded to each other to form a condensed ring. Examples of the case where a condensed ring is formed include a naphthalene ring, an anthracene ring, a benzofuran ring and a benzothiophene ring.

【0063】一般式(III)においてR51およびR52とし
て好ましくはアルキル基である。
In formula (III), R 51 and R 52 are preferably alkyl groups.

【0064】一般式(III)においてX2はN(R58)、O
またはSを表し、R58は水素原子または置換基を表し、R
58が置換基を表す場合の例としてはR51〜R57が置換基を
表す場合の例として前記したものが挙げられる。X2とし
て特に好ましくはOである。
In the general formula (III), X 2 represents N (R 58 ), O
Or S, R 58 represents a hydrogen atom or a substituent,
Examples in which 58 represents a substituent include those described above as examples in which R 51 to R 57 represent a substituent. X 2 is particularly preferably O.

【0065】一般式(III)においてY1はN−C−X2とと
もに環状構造を形成するのに必要な原子団を表し、好ま
しくは5員または6員環を形成するのに必要な原子団であ
る。環骨格を構成するのに必要なYの構成原子の例とし
ては、炭素原子、窒素原子、硫黄原子、珪素原子あるい
はリン原子が挙げられ、これらの原子は水素原子または
必要な置換基を有していてもよく、複数の置換が可能な
場合はそれぞれの置換基は異なっていても同一であって
も良く、置換基同士が互いに結合してさらに環を形成し
ても良い。
In the general formula (III), Y 1 represents an atomic group necessary for forming a cyclic structure together with NC—X 2 , preferably an atomic group necessary for forming a 5- or 6-membered ring. It is. Examples of the constituent atoms of Y necessary to constitute the ring skeleton include a carbon atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, a silicon atom and a phosphorus atom, and these atoms have a hydrogen atom or a necessary substituent. When a plurality of substitutions are possible, the respective substituents may be different or the same, and the substituents may be bonded to each other to further form a ring.

【0066】またY1を構成する原子が置換基を有する場
合の置換基の例としては、=O(Y1の骨格原子とともに
カルボニル基、スルホニル基等を形成する)、=S(Y1
の骨格原子とともにチオカルボニル基等を形成する)、
=N−R60( R60は水素原子または置換基を表す。置換基
の例としてはR51〜R57が置換基を表す場合の例として前
記したものが挙げられる)、あるいは、 R51〜R57が置
換基を表す場合の例として前記したものが挙げられる。
Examples of the substituent when the atom constituting Y 1 has a substituent include 置換 O (forming a carbonyl group, a sulfonyl group and the like together with the skeleton atom of Y 1 ), and 、 S (Y 1
Forms a thiocarbonyl group with the skeletal atom of
= N-R 60 (R 60 is as an example of. Substituents represent a hydrogen atom or a substituent include those described above as examples of the case where R 51 to R 57 represents a substituent), or, R 51 ~ Examples of the case where R 57 represents a substituent include those described above.

【0067】Yの好ましい形態は、−C(R61)(R62)−
あるいは−C(=O)−で表される2価の基が任意の組
み合わせで連結して形成される2価の連結基である
(R11、 R1 2は水素原子または置換基を表し、同じであ
っても異なっていてもよく、 R61とR 62もしくは分子内
に複数存在する R61とR62が互いに結合して環を形成し
ても良い。 R61、 R62の例としてはR51〜R57が置換基を
表す場合の例として前記したものが挙げられる。)。例
えば−CH2 CH2−、− CH2 CH2 CH2−、−CH(CH3)CH2
−、 −CH2C(=O)−、−C(=O) CH2−、−CH2 CH
2C(=O)−、−C(=O) CH2CH2−、−CH=CH−等
が例として挙げられる。これらの中でもY1の好ましい形
態は−[C(R61)(R62)]2−である。
A preferred form of Y is -C (R61) (R62)-
Alternatively, a divalent group represented by —C (= O) — is an arbitrary group
It is a divalent linking group formed by combining
(R11, R1 TwoRepresents a hydrogen atom or a substituent, and is the same
Or different, R61And R 62Or intramolecular
Multiple occurrences of R61And R62Are linked together to form a ring
May be. R61, R62An example of R51~ R57Is a substituent
Examples of such a case include those described above. ). An example
For example -CHTwo CHTwo−, − CHTwo CHTwo CHTwo-, -CH (CHThree) CHTwo
−, −CHTwoC (= O)-, -C (= O) CHTwo-, -CHTwo CH
TwoC (= O)-, -C (= O) CHTwoCHTwo-, -CH = CH-, etc.
Is given as an example. Y among these1Preferred form of
The state is-[C (R61) (R62)]Two-.

【0068】一般式(III)においてA1はC(R59)また
はNを表し、R59は水素原子または置換基を表す。 R59
置換基を表す場合、置換基の例としてはR51〜R57が置換
基を表す場合の例として前記したものが挙げられる。A1
として特に好ましい形態はCHである。
In the general formula (III), A 1 represents C (R 59 ) or N, and R 59 represents a hydrogen atom or a substituent. When R 59 represents a substituent, examples of the substituent include those described above as examples when R 51 to R 57 represent a substituent. A 1
A particularly preferred form for is CH.

【0069】B1はアリール基、ヘテロ環基、アルケニル
基、アルキニル基、アリ−ルアミノ基またはヘテロ環ア
ミノ基を表す。これらの例としてはR1〜R7が置換基を表
す場合の例として前記したものが挙げられる。またこれ
らの基は置換可能な位置に置換基を有していても良く、
置換基の例としてはR51〜R57が置換基を表す場合の例と
して前記したものが挙げられる。またこれらの置換基
は、異なる2つの基が互いに結合して縮合環を形成して
いても良く、またR59とともに環を形成していても良
い。B1として好ましい形態はアリール基またはヘテロ環
基である。
B 1 represents an aryl group, a heterocyclic group, an alkenyl group, an alkynyl group, an arylamino group or a heterocyclic amino group. Examples of these include those described above as examples where R 1 to R 7 represent a substituent. These groups may have a substituent at a substitutable position,
Examples of the substituent include those described above as examples when R 51 to R 57 represent a substituent. These substituents may be bonded to form a condensed ring by combining two different groups each other and may form a ring with R 59. Preferred forms for B 1 are an aryl group or a heterocyclic group.

【0070】本発明の一般式(III)で表される化合物
の中でも特に好ましい形態は一般式(X)で表されるも
のである。
Among the compounds represented by the general formula (III) of the present invention, a particularly preferred embodiment is the one represented by the general formula (X).

【0071】[0071]

【化27】 Embedded image

【0072】一般式(X)においてR51〜R57は一般式
(III)と同じ意味を表し、D1はアリール基またはヘテ
ロ環基を表す。D1で表されるアリール基またはヘテロ環
基の例としてはR51〜R57が置換基を表す場合の例の中
で前記したものが挙げられる。一般式(III)または
(X)で表される化合物は、前記 R51〜R62の内置換可
能な位置に導入された重合性基(アクリル基、メタクリ
ル基、4−ビニルフェニル基等)が複数連結して形成さ
れるポリマーであってもよい。以下に本発明で有用な一
般式(III)または(X)で表される化合物の具体例を示
すが本発明はこれらに限定されるものではない。なおこ
れらの化合物は、特開昭51−34885号、同51−44127号、
同56−149489号等に記載の方法に準じて、例えば、芳香
族あるいは複素環アルデヒド化合物のアルデヒド基、ニ
トロソ化合物のニトロソ基とインドレニン核の2位の活
性メチル基またはメチレン基との脱水縮合反応により合
成することができる。なお以下、本発明のポリマー材料
においてnまたはmで表される値はポリマー組成のモル
百分率を表す。
In the general formula (X), R 51 to R 57 have the same meaning as in the general formula (III), and D 1 represents an aryl group or a heterocyclic group. Examples of the aryl group or heterocyclic group represented by D 1 include those described above in the example of the case where R 51 to R 57 represents a substituent. The compound represented by the general formula (III) or (X) has a polymerizable group (acrylic group, methacrylic group, 4-vinylphenyl group, etc.) introduced into a substitutable position of R 51 to R 62. It may be a polymer formed by linking a plurality. Hereinafter, specific examples of the compound represented by formula (III) or (X) useful in the present invention are shown, but the present invention is not limited thereto. These compounds are described in JP-A-51-34885, JP-A-51-44127,
According to the method described in JP-A-56-149489, for example, dehydration condensation of an aldehyde group of an aromatic or heterocyclic aldehyde compound, a nitroso group of a nitroso compound with an active methyl group or methylene group at the 2-position of the indolenine nucleus It can be synthesized by a reaction. Hereinafter, in the polymer material of the present invention, the value represented by n or m indicates the mole percentage of the polymer composition.

【0073】[0073]

【化28】 Embedded image

【0074】[0074]

【化29】 Embedded image

【0075】[0075]

【化30】 Embedded image

【0076】[0076]

【化31】 Embedded image

【0077】[0077]

【化32】 Embedded image

【0078】[0078]

【化33】 Embedded image

【0079】[0079]

【化34】 Embedded image

【0080】[0080]

【化35】 Embedded image

【0081】[0081]

【化36】 Embedded image

【0082】本発明の一般式(IV)で表されるロイコ色
素においてR71は水素原子または置換基を表す。
In the leuco dye represented by formula (IV) of the present invention, R 71 represents a hydrogen atom or a substituent.

【0083】置換基の例としては、一般式(I)のR1
で示したものが挙げられる。置換基の中で好ましくはア
ルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、
カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ
基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基(アニ
リノ基を含む)、アシルアミノ基、アミノカルボニルア
ミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキ
シカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、ヘテロ環チオ基またはシリル基であり、特に好まし
くはアルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アミノ基
(アニリノ基を含む)、アシルアミノ基、アミノカルボ
ニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリー
ルオキシカルボニルアミノ基である。上記の官能基の中
で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に上記
の基で置換されていても良い。
Examples of the substituent include R 1 of the general formula (I)
Are shown. Among the substituents, preferably an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, a silyloxy group, a heterocyclic oxy group,
Carbamoyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy, amino group (including anilino group), acylamino group, aminocarbonylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, alkylthio group, arylthio group, heterocycle A thio group or a silyl group, particularly preferably an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an amino group (including an anilino group), an acylamino group, an aminocarbonylamino group, An alkoxycarbonylamino group and an aryloxycarbonylamino group. Among the above functional groups, those having a hydrogen atom may be removed, and further substituted with the above group.

【0084】一般式(IV)において、Ar1およびAr2
はアリール基、ヘテロ環基、アルケニル基またはアルキ
ニル基を表し、同じであっても異なっていても良く、こ
れらの例としては、それぞれ置換基R71の説明の中で上
記したものが挙げられ、またこれらの基はさらに置換可
能な位置に置換基を有していても良く、置換基の例とし
てはR71が置換基を表す場合の例として上記したものが
挙げられる。
In the general formula (IV), Ar 1 and Ar 2
Represents an aryl group, a heterocyclic group, an alkenyl group or an alkynyl group, which may be the same or different, and examples thereof include those described above in the description of the substituent R 71 ; Further, these groups may further have a substituent at a substitutable position, and examples of the substituent include those described above when R 71 represents a substituent.

【0085】Ar1およびAr2が複数の置換基を有する
場合、これらは互いに結合して縮合環を形成しても良
く、 Ar1およびAr2が連結して環を形成しても良
い。 Ar1に導入された置換基同士またはAr2に導入
された置換基同士が互いに結合して縮合環を形成する場
合の例としては、ジュロリジン環、ナフタレン環、アン
トラセン環、べンゾフラン環、べンゾチオフェン環等が
挙げられ、 Ar1およびAr 2が連結して環を形成する
場合の例としては、9H−キサンテン環、10−アルキ
ルー9,10−ジヒドロアクリジン環、9H−チオキサ
ンテン環、1−アルキル−4H−クロメノ[2,3−
C]ピラゾール環、11H−ベンゾ[b]チエノ[2,
3−b]クロメン環、6−アルキル−5−オキソ−5,
6−ジヒドロ−12H−クロメノ[2,3−C]イソキ
ノリン環、4H−クロメン環、2H−クロメン環または
フルオレン環等が挙げられる。
Ar1And ArTwoHas multiple substituents
In these cases, these may be combined with each other to form a condensed ring.
Ar1And ArTwoMay be linked to form a ring
No. Ar1Substituents introduced into each other or ArTwoIntroduced in
Where the substituted substituents combine with each other to form a fused ring
Examples of the case include a julolidine ring, a naphthalene ring,
Toracene ring, benzofuran ring, benzothiophene ring, etc.
Ar1And Ar TwoLink to form a ring
Examples of the case include a 9H-xanthene ring and a 10-alkyl
Rou 9,10-dihydroacridine ring, 9H-thioxa
Ring, 1-alkyl-4H-chromeno [2,3-
C] pyrazole ring, 11H-benzo [b] thieno [2,
3-b] Chromene ring, 6-alkyl-5-oxo-5,
6-dihydro-12H-chromeno [2,3-C] isoki
Norin ring, 4H-chromene ring, 2H-chromene ring or
And a fluorene ring.

【0086】Ar1およびAr2として好ましくは、アリ
ール基またはヘテロ環基であり、特に好ましくは、 A
1およびAr2のうち少なくとも一方が電子供与性のア
リール基(例えば、p−ジメチルアミノフェニル基、p
−ジュロリジル基、p−メトキシフェニル基等)または
1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−6−イル基、
3,3−ジメチルインドリン−5−イル基、3,4−メ
チレンジオキシフェニル基、1,2−ジメチル−5−ベ
ンゾイミダゾリル基、10−エチルフェノキサジンー3
−イル基、9−エチルカルバゾール−3−イル基、ジベ
ンゾフラン−3−イル基、ジベンゾチオフェン−3−イ
ル基、キノリン−8−イル基、1,2−ジメチルインド
ール−3−イル基、エチルインダゾールー3−イル基、
ベンゾ[b]−フラン−3−イル基、ベンゾ[b]−チオ
フェン−3−イル基、1−エチルピロール−3−イル
基、3−フリル基、3−チエニル基、2−チアゾリル
基、2−ベンゾオキサゾリル基、2−ピリジル基または
4−キノリル基から選ばれるヘテロ環基の場合、または
Ar1およびAr2の少なくとも一方が電子供与性基を置
換基として有し、Ar1およびAr2が連結して上記した
縮合環を形成する場合である。
Ar 1 and Ar 2 are preferably an aryl group or a heterocyclic group, and particularly preferably A
At least one of r 1 and Ar 2 has an electron donating aryl group (for example, a p-dimethylaminophenyl group, p
-Julolidyl group, p-methoxyphenyl group, etc.) or 1,2,3,4-tetrahydroquinolin-6-yl group,
3,3-dimethylindoline-5-yl group, 3,4-methylenedioxyphenyl group, 1,2-dimethyl-5-benzimidazolyl group, 10-ethylphenoxazine-3
-Yl group, 9-ethylcarbazol-3-yl group, dibenzofuran-3-yl group, dibenzothiophen-3-yl group, quinolin-8-yl group, 1,2-dimethylindol-3-yl group, ethylindazole -3-yl group,
Benzo [b] -furan-3-yl group, benzo [b] -thiophen-3-yl group, 1-ethylpyrrole-3-yl group, 3-furyl group, 3-thienyl group, 2-thiazolyl group, 2 -In the case of a heterocyclic group selected from a benzoxazolyl group, a 2-pyridyl group and a 4-quinolyl group, or at least one of Ar 1 and Ar 2 has an electron-donating group as a substituent, and Ar 1 and Ar Two are linked to form the above fused ring.

【0087】Y2は芳香族炭化水素環(例えばベンゼン
環、ナフタレン環、アントラセン環等)あるいはヘテロ
環(例えば、ピリジン環、ピリミジン環、インドール
環、フラン環、チアジン環等)を表しこれらの環は置換
可能な位置が、置換基によって置換されていても良く、
例としては上記R1が置換基を表す場合の例として説明
したものを挙げることができる。Y2の好ましい形態は
芳香族炭化水素環であり、特に好ましくはベンゼン環で
ある。
Y 2 represents an aromatic hydrocarbon ring (eg, benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, etc.) or a hetero ring (eg, pyridine ring, pyrimidine ring, indole ring, furan ring, thiazine ring, etc.). May be substituted at a substitutable position with a substituent,
Examples thereof include those described as examples in the case where R 1 represents a substituent. A preferred form of Y 2 is an aromatic hydrocarbon ring, particularly preferably a benzene ring.

【0088】X3はO、SまたはN(R72)を表し、 R
72は水素原子または置換基を表し、R72が置換基を表す
場合の例としては上記R71が置換基を表す場合の例とし
て説明したものを挙げることができる。X3として好ま
しくはOまたはSである。
X 3 represents O, S or N (R 72 );
72 represents a hydrogen atom or a substituent, and examples of the case where R 72 represents a substituent include those described as examples when R 71 represents a substituent. X 3 is preferably O or S.

【0089】一般式(IV)および以下に説明する一般式
(V)で表される化合物は、置換可能な位置に導入され
た重合性基(アクリル基、メタクリル基、4−ビニルフ
ェニル基等)が複数連結して形成されるポリマーであっ
てもよい。この際ポリマーの分子量は千〜100万の範
囲にあることが好ましく、特に好ましくは2千〜30万
の範囲にある場合である。この場合単独重合体であって
もよいし、他のモノマーとの共重合体であっても良い。
The compounds represented by the general formula (IV) and the general formula (V) described below have a polymerizable group (acryl group, methacryl group, 4-vinylphenyl group, etc.) introduced at a substitutable position. May be a polymer formed by connecting a plurality of groups. In this case, the molecular weight of the polymer is preferably in the range of 1,000 to 1,000,000, and particularly preferably in the range of 2,000 to 300,000. In this case, it may be a homopolymer or a copolymer with another monomer.

【0090】一般式(IV)で表される化合物は、例えば
ミヒラーヒドロール類とアリールアミン類とから合成さ
れる、オルト位にアミノ基を有するトリアリールメタン
誘導体に対して、酸ハライド類あるいはイソシアナート
類等を作用させた後、二酸化鉛、二酸化マンガンあるい
はクロラニル等の酸化剤を用いて酸化することにより合
成することができ、特開昭57−47697号、同61-17573
号、同63−251278号等に詳しく記載されている。
The compound represented by the general formula (IV) can be used, for example, in the form of an acid halide or a triarylmethane derivative having an amino group at the ortho position synthesized from Michlerhydrols and arylamines. It can be synthesized by reacting isocyanates and the like and then oxidizing with an oxidizing agent such as lead dioxide, manganese dioxide or chloranil.
And Nos. 63-251278.

【0091】以下に本発明で有用な一般式(IV)で表さ
れる化合物の具体例を示すが本発明はこれらに限定され
るものではない。なお以下、本発明のポリマー材料にお
いてnまたはmで表される値はポリマー組成のモル百分
率を表す。
Specific examples of the compound represented by formula (IV) useful in the present invention are shown below, but the present invention is not limited to these. Hereinafter, in the polymer material of the present invention, the value represented by n or m indicates the mole percentage of the polymer composition.

【0092】[0092]

【化37】 Embedded image

【0093】[0093]

【化38】 Embedded image

【0094】[0094]

【化39】 Embedded image

【0095】[0095]

【化40】 Embedded image

【0096】[0096]

【化41】 Embedded image

【0097】[0097]

【化42】 Embedded image

【0098】[0098]

【化43】 Embedded image

【0099】[0099]

【化44】 Embedded image

【0100】[0100]

【化45】 Embedded image

【0101】[0101]

【化46】 Embedded image

【0102】[0102]

【化47】 Embedded image

【0103】[0103]

【化48】 Embedded image

【0104】[0104]

【化49】 Embedded image

【0105】[0105]

【化50】 Embedded image

【0106】[0106]

【化51】 Embedded image

【0107】次に、一般式(V)について説明する。A
3およびAr4はアリール基、ヘテロ環基、アルケニル
基またはアルキニル基を表し、同じであっても異なって
いても良く、これらは前述した一般式(IV)におけるA
1およびAr2と同じ意味を表す。
Next, the general formula (V) will be described. A
r 3 and Ar 4 represent an aryl group, a heterocyclic group, an alkenyl group or an alkynyl group, which may be the same or different, and are the same as those of the above-mentioned general formula (IV).
It has the same meaning as r 1 and Ar 2 .

【0108】Z1は芳香族炭化水素環あるいはヘテロ環
を表し、これらは前述した一般式(IV)におけるY2と同
じ意味を表す。A2はO、SまたはN(R73)を表し、R
73は水素原子または置換基を表し、 R7 3が置換基を表
す場合の例としてはR71が置換基を表す場合の例として
説明したものが挙げられる。A2として好ましくはSであ
る。本発明の一般式(V)で表される化合物は特開昭58
−17036号に記載の方法によって合成することができ
る。以下に本発明で有用な一般式(V)で表される化合
物の具体例を示すが本発明はこれらに限定されるもので
はない。
Z 1 represents an aromatic hydrocarbon ring or a hetero ring, which has the same meaning as Y 2 in the aforementioned general formula (IV). A 2 represents O, S or N (R 73 );
73 represents a hydrogen atom or a substituent, as an example of a case in which R 7 3 represents a substituent include those described as examples in the case where R 71 represents a substituent. A 2 is preferably S. The compound represented by formula (V) of the present invention is disclosed in
The compound can be synthesized by the method described in -17036. Hereinafter, specific examples of the compound represented by formula (V) useful in the present invention will be shown, but the present invention is not limited thereto.

【0109】[0109]

【化52】 Embedded image

【0110】[0110]

【化53】 Embedded image

【0111】[0111]

【化54】 Embedded image

【0112】[0112]

【化55】 Embedded image

【0113】[0113]

【化56】 Embedded image

【0114】[0114]

【化57】 Embedded image

【0115】域に変化を生じる化合物を支持体上に塗布
して作製される。この際、これらのいずれかがポリマー
である場合、あるいは塗布性の良いアモルファスである
場合を除き、通常はバインダ−を共存させる。バインダ
ーを使用しなくてもよい場合は、膜厚を薄くし易く、切
れの良い画像が得られるという利点がある。またバイン
ダーを用いる場合には、ゼラチン、カゼイン、デンプン
類、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセ
ルロース、ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミ
ド、エチレン−無水マレイン酸コポリマー等の水溶性バ
インダー、およびポリビニルブチラール、トリアセチル
セルロース、ポリスチレン、アクリル酸メチル−ブタジ
エンコポリマー、アクリロニトリル−ブタジエンコポリ
マー等の水不溶性バインダーのいずれも用いることがで
きる。一方、酸発生剤もしくは酸の作用により360〜
700nmの波長域に変化を生じる化合物のいずれかも
しくは双方(共重合を含む)がポリマーである場合には
バインダーを添加する必要は特に無い。その場合には色
相が変化する該化合物のごく近傍に酸が発生するという
意味で高感度化が期待できる。またポリマー化により分
子の拡散を制御することにより画像の解像性、保存性を
改良できる可能性がある。これらの特性は、特にグラフ
ィックアーツフィルムのような高画質が要求される用途
に好ましい。そのような化合物として好ましい形態は一
般式(VI)で表わされるものである。
It is prepared by applying a compound which changes the area on a support. At this time, a binder is usually coexisted, unless one of these is a polymer or an amorphous having good coatability. When the binder does not need to be used, there is an advantage that the film thickness can be easily reduced and a sharp image can be obtained. When a binder is used, gelatin, casein, starches, hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, polyvinyl alcohol, polyacrylamide, a water-soluble binder such as ethylene-maleic anhydride copolymer, and polyvinyl butyral, triacetyl cellulose, polystyrene, acrylic Any water-insoluble binder such as a methyl acid-butadiene copolymer and an acrylonitrile-butadiene copolymer can be used. On the other hand, by the action of an acid generator or an acid,
When one or both of the compounds (including copolymerization) that cause a change in the wavelength region of 700 nm are polymers, it is not particularly necessary to add a binder. In that case, high sensitivity can be expected in the sense that an acid is generated very near the compound whose hue changes. Controlling the diffusion of molecules by polymerization may improve the resolution and storage of images. These characteristics are particularly preferable for applications requiring high image quality, such as graphic arts films. A preferred form as such a compound is represented by the general formula (VI).

【0116】一般式(VI)について説明する。一般式
(VI)においてAは酸発生剤モノマーの重合によって得
られる繰り返し単位を表し、好ましい例としては一般式
(I)、(II)、もしくは(VII)〜(IX)で表わされ
る化合物の中で重合性の不飽和基を有するものを挙げら
れる。その具体例は一般式(I)、(II)、もしくは
(VII)〜(IX)の化合物例として挙げた中で重合性の
不飽和基を有するものが該当する。一般式(VI)におい
てBは酸の作用により360〜700nmの波長域の特
定の波長で濃度3.0以上の濃度変化を生じる部分構造
を有する少なくとも1種類以上のビニルモノマーの重合
によって得られる繰り返し単位を表わし、好ましい例と
しては一般式(III)〜(V)、(X)で表わされる化
合物の中で重合性の不飽和基を有するものである。その
具体例は一般式(III)〜(V)、(X)の化合物例と
して挙げた中で重合性の不飽和基を有するものが該当す
る。なお、360〜700nmの波長域の特定の波長で
の濃度3.0以上の濃度変化は、1種類の色素で達成し
ても、複数の色素の生成により達成しても良い。さらに
ポリマー中の発色剤であるBと、別途画像形成材料中に
添加した他の発色剤との複数の色素の生成で濃度3.0
以上の発色を達成しても良い。一般式(VI)における
Cは、AおよびBとともに共重合体を形成することが可
能な少なくとも1種類以上のビニルモノマーの重合によ
って得られる繰り返し単位を表し、極性、ガラス転位温
度等を調節することにより保存安定性、発色活性等をコ
ントロールすることができる。このようなビニルモノマ
ーは2種類以上を組み合わせても良い。好ましい例とし
ては、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ア
クリルアミド、スチレン、ビニルエーテル等が挙げられ
る。以下にCを形成するモノマーの具体例を示すが本発
明はこれらに限定されるものではない。
The general formula (VI) will be described. In the general formula (VI), A represents a repeating unit obtained by polymerization of an acid generator monomer, and preferred examples thereof include compounds represented by the general formulas (I), (II), or (VII) to (IX). And those having a polymerizable unsaturated group. Specific examples thereof include those having a polymerizable unsaturated group among the compound examples of the general formula (I), (II) or (VII) to (IX). In the general formula (VI), B is a repetition obtained by polymerization of at least one or more vinyl monomers having a partial structure that causes a concentration change of 3.0 or more at a specific wavelength in a wavelength range of 360 to 700 nm by the action of an acid. A preferred example is a compound having a polymerizable unsaturated group among the compounds represented by formulas (III) to (V) and (X). Specific examples thereof include those having a polymerizable unsaturated group among the compound examples of the general formulas (III) to (V) and (X). In addition, the density change of the density of 3.0 or more at a specific wavelength in the wavelength range of 360 to 700 nm may be achieved by one type of dye or by generation of a plurality of dyes. Further, the formation of a plurality of dyes with B, which is a color former in the polymer, and another color former separately added to the image forming material, has a density of 3.0.
The above coloring may be achieved. C in the general formula (VI) represents a repeating unit obtained by polymerization of at least one kind of vinyl monomer capable of forming a copolymer together with A and B, and controls polarity, glass transition temperature and the like. Thus, storage stability, coloring activity and the like can be controlled. Such vinyl monomers may be used in combination of two or more. Preferred examples include acrylate, methacrylate, acrylamide, styrene, vinyl ether and the like. Specific examples of the monomer forming C are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0117】[0117]

【化58】 Embedded image

【0118】[0118]

【化59】 Embedded image

【0119】[0119]

【化60】 Embedded image

【0120】[0120]

【化61】 Embedded image

【0121】一般式(VI)におけるx、y、zは各組
成のモル%を表す。x、y、zはそれぞれ1≦x≦10
0、0≦y≦99、0≦z≦99でありx+y+z=1
00である。一般式(VI)で表されるポリマーの分子
量は千〜100万の範囲にあることが好ましく、特に好
ましくは2千〜10万の範囲にある場合である。また該
ポリマーはホモポリマー、ランダム共重合体、交互共重
合体、ブロック共重合体等いずれの形態であってもかま
わないが、合成的に容易なホモポリマー、ランダム共重
合体が一般的である。以下に一般式(VI)で表される
ポリマーにおけるA、B、Cを形成するモノマーおよび
x、y、zの好ましい組み合わせを示すが本発明はこれ
らに限定されるものではない。
In the general formula (VI), x, y, and z represent mol% of each composition. x, y, z are each 1 ≦ x ≦ 10
0, 0 ≦ y ≦ 99, 0 ≦ z ≦ 99, and x + y + z = 1
00. The molecular weight of the polymer represented by the general formula (VI) is preferably in the range of 1,000 to 1,000,000, and particularly preferably in the range of 2,000 to 100,000. The polymer may be in any form such as a homopolymer, a random copolymer, an alternating copolymer, and a block copolymer, but a homopolymer and a random copolymer, which are synthetically easy, are generally used. . Preferred combinations of monomers forming A, B, and C and x, y, and z in the polymer represented by the general formula (VI) are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0122】[0122]

【表1】 [Table 1]

【0123】本発明のポリマーの合成は種々の重合方
法、例えば溶液重合、沈澱重合、懸濁重合、塊状重合、
乳化重合によって行なうことができる。また、重合の開
始方法はラジカル開始剤を用いる方法、光または放射線
を照射する方法等がある。これらの重合方法、重合の開
始方法は、例えば鶴田禎二「高分子合成方法」改定版
(日刊工業新聞社刊、1971)や大津隆行、木下雅悦
共著「高分子合成の実験法」化学同人、昭和47年刊、
124〜154頁に記載されている。
The polymer of the present invention can be synthesized by various polymerization methods such as solution polymerization, precipitation polymerization, suspension polymerization, bulk polymerization,
It can be carried out by emulsion polymerization. The method of initiating polymerization includes a method using a radical initiator, a method of irradiating light or radiation, and the like. These polymerization methods and the method of initiating the polymerization are described in, for example, T. Tsuruta, “Polymer Synthesis Method” Revised Edition (Nikkan Kogyo Shimbun, 1971), Takatsu Otsu, Masayoshi Kinoshita, “Experimental Method of Polymer Synthesis” Published in 1972,
It is described on pages 124-154.

【0124】上記重合方法のうち、特にラジカル開始剤
を用いた溶液重合法が好ましい。溶液重合法で用いられ
る溶剤は、例えば酢酸エチル、メタノール、エタノー
ル、1ープロパノール、2ープロパノール、1ーブタノ
ール、アセトン、ジオキサン、N,Nージメチルホルム
アミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ベンゼン、ト
ルエン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホル
ム、ジクロロエタンのような種々の有機溶剤を単独ある
いは2種以上の混合物でも良いし、水との混合溶媒とし
ても良い。重合温度は生成するポリマーの分子量、開始
剤の種類などと関連して設定する必要があり、種々の温
度で重合可能であるが、通常30〜100℃の範囲で重
合を行なう。本発明では30〜90℃の温度範囲で重合
を行なうことが好ましい。
Of the above polymerization methods, a solution polymerization method using a radical initiator is particularly preferred. Solvents used in the solution polymerization method include, for example, ethyl acetate, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, acetone, dioxane, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, benzene, toluene, acetonitrile, Various organic solvents such as methylene chloride, chloroform and dichloroethane may be used alone or as a mixture of two or more thereof, or may be used as a mixed solvent with water. The polymerization temperature needs to be set in relation to the molecular weight of the polymer to be produced, the type of initiator, and the like. Polymerization can be performed at various temperatures, but usually the polymerization is carried out in the range of 30 to 100 ° C. In the present invention, it is preferable to carry out the polymerization in a temperature range of 30 to 90C.

【0125】重合に用いられるラジカル開始剤として
は、例えば、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、
2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリ
ル)、2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)ジ
ハイドロクロライド、4,4’−アゾビス(4−シアノ
ペンタノイックアシッド)のようなアゾ系開始剤や、ベ
ンゾイルパーオキサイド、tーブチルハイドロパーオキ
サイド、過硫酸カリウム(例えば、亜硫酸水素ナトリウ
ムと組み合わせてレドックス開始剤として用いても良
い)のようなペルオキシド系開始剤が好ましい。本発明
では半減期が10時間になる温度が70℃以下の開始剤
(例えば2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロ
ニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,
4−ジメチルバレロニトリル)、ジメチル2,2’−ア
ゾビス(2−メチルプロピオネ−ト)、2,2’−アゾ
ビス[2−(3,4,5,6−テトラヒドロプロパン)
ジハイドロクロライド]等が特に好ましい。重合開始剤
の使用量はモノマーの重合性や必要とする重合体の分子
量に応じて調節することが可能であるが、単量体に対し
て0.01〜5.0mol%の範囲が好ましい。
Examples of the radical initiator used in the polymerization include 2,2′-azobisisobutyronitrile,
Such as 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis (2-amidinopropane) dihydrochloride, and 4,4'-azobis (4-cyanopentanoic acid) Preferred are azo-based initiators and peroxide-based initiators such as benzoyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, and potassium persulfate (for example, redox initiators may be used in combination with sodium bisulfite). In the present invention, the initiator (for example, 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile)) or 2,2'-azobis (4-methoxy-2,
4-dimethylvaleronitrile), dimethyl 2,2'-azobis (2-methylpropionate), 2,2'-azobis [2- (3,4,5,6-tetrahydropropane)
Dihydrochloride] and the like are particularly preferred. The amount of the polymerization initiator used can be adjusted according to the polymerizability of the monomer and the required molecular weight of the polymer, but is preferably in the range of 0.01 to 5.0 mol% based on the monomer.

【0126】一般式(VI)で表わされるポリマーの合
成においてはA、BおよびCを形成するモノマーを混合
して最初に反応容器に入れておき、開始剤を投入しても
よいし、これらのモノマーを重合溶媒に滴下する過程を
経て重合を行なってもよい。
In the synthesis of the polymer represented by the general formula (VI), monomers forming A, B and C are mixed and put into a reaction vessel first, and then an initiator may be added. The polymerization may be performed through a process of dropping the monomer into the polymerization solvent.

【0127】本発明の一般式(VI)で表わされるポリ
マーは、熱もしくは酸の作用により酸を発生する機能を
有する部分構造と、酸の作用により360〜700nm
の波長域に変化を生じる部分構造を合わせ持つポリマー
である。このようなポリマーとしては、両者の機能を合
わせ持つ単一モノマーの重合体もありうるが、合成的な
観点から前記一般式(VI)で示される構造が一般的で
ある。本発明の画像形成材料は一般的に一般式(VI)
で表されるポリマーを支持体上に塗布して作製される。
本発明のポリマ−が熱によって酸を発生する機能も合わ
せ持つ場合は、熱の作用のみで単独で吸収に変化が生じ
るため、感熱形成材料として使用した場合に、感度や画
像の切れが優れている。また本発明の画像形成材料では
いわゆるバインダーを使用しなくても良いため、膜厚を
薄くすることができ、切れの良い像が得られ、またアブ
レーションが起こりにくいという利点がある。ただし一
般式(VI)で表わされるポリマーを用いる際、必要で
あるならばバインダーを併用しても良く、その具体例と
しては前述のものが挙げられる。
The polymer represented by the general formula (VI) of the present invention has a partial structure having a function of generating an acid by the action of heat or an acid, and a polymer having a function of 360 to 700 nm by the action of an acid.
It is a polymer having a partial structure that causes a change in the wavelength range. As such a polymer, a polymer of a single monomer having both functions can be used, but the structure represented by the general formula (VI) is generally used from a synthetic viewpoint. The image forming material of the present invention generally has the general formula (VI)
It is prepared by coating a polymer represented by the formula (1) on a support.
When the polymer of the present invention also has a function of generating an acid by heat, the absorption alone changes due to the action of heat alone, so that when the polymer is used as a heat-sensitive material, the sensitivity and the sharpness of the image are excellent. I have. Further, the image forming material of the present invention does not require the use of a so-called binder, and thus has the advantages that the film thickness can be reduced, a sharp image can be obtained, and abrasion hardly occurs. However, when the polymer represented by the general formula (VI) is used, a binder may be used together if necessary, and specific examples thereof include those described above.

【0128】本発明では、該画像形成材料の保存安定性
を高める目的で少量の塩基を添加したり、感度を高める
目的で光または熱の作用によって酸を発生する化合物を
別途添加したり、必要に応じて顔料、酸化防止剤、ステ
ィッキング防止剤等種々の添加剤を添加することもでき
る。また、画像形成層を保護するためにオーバーコート
層を設けたり、支持体の裏面にバックコート層を設けて
も良い。なお、画像形成層と支持体との間に単層あるい
は複数層の顔料あるいは樹脂からなるアンダーコート層
を設けるなど、感熱形成材料における種々の公知技術を
用いることもできる。
In the present invention, a small amount of a base may be added for the purpose of enhancing the storage stability of the image forming material, or a compound capable of generating an acid by the action of light or heat may be added for the purpose of enhancing the sensitivity. Various additives such as a pigment, an antioxidant, and an anti-sticking agent can be added according to the requirements. Further, an overcoat layer may be provided to protect the image forming layer, or a backcoat layer may be provided on the back surface of the support. Various known techniques for heat-sensitive materials can be used, such as providing a single layer or a plurality of layers of an undercoat layer made of pigment or resin between the image forming layer and the support.

【0129】塩基を添加する場合には有機塩基が好まし
く、例えばグアニジン誘導体(例えば1,3−ジフェニ
ルグアニジン、1,3−ジメチルグアニジン、1,3−
ジブチルグアニジン、1ーベンジルグアニジン、1,
1,3,3−テトラメチルグアニジン等)、アニリン誘
導体(例えばアニリン、p−t−ブチルアニリン、N,
N−ジメチルアニリン、N,N−ジブチルアニリン、ト
リフェニルアミン等)、アルキルアミン誘導体(例えば
トリブチルアミン、オクチルアミン、ラウリルアミン、
ベンジルアミン、ジベンジルアミン等)、およびヘテロ
環化合物(例えばN,N’−ジメチルアミノピリジン、
1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセ
ン、トリフェニルイミダゾール、ルチジン、2ーピコリ
ン等)が好ましい例として挙げられる。これらの塩基は
一般式(1)のAで表される組成に対して1〜50mo
l%添加することが好ましく、特に好ましくは5〜20
mol%添加する場合である。
When a base is added, an organic base is preferred. For example, a guanidine derivative (eg, 1,3-diphenylguanidine, 1,3-dimethylguanidine, 1,3-
Dibutylguanidine, 1-benzylguanidine, 1,
1,3,3-tetramethylguanidine, etc.), aniline derivatives (eg, aniline, pt-butylaniline, N,
N-dimethylaniline, N, N-dibutylaniline, triphenylamine, etc.), alkylamine derivatives (for example, tributylamine, octylamine, laurylamine,
Benzylamine, dibenzylamine and the like, and heterocyclic compounds (eg, N, N′-dimethylaminopyridine,
Preferred examples include 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene, triphenylimidazole, lutidine, and 2-picoline. These bases are 1 to 50 mo with respect to the composition represented by A in the general formula (1).
1%, particularly preferably 5 to 20%.
mol% is added.

【0130】本発明の画像形成材料をフォトンモード方
式の画像形成材料として利用する場合には光の作用によ
り酸を発生する化合物の添加が必須となる。一方、ヒー
トモード方式の画像形成材料として利用する場合には、
更に高感度化する事を目的として別途酸発生剤を添加し
ても良い。公知の酸発生剤としては、有機エレクトロニ
クス材料研究会編、”イメージング用有機材料”ぶんし
ん出版社刊(1997)37頁〜91頁、に記載されて
いる化合物およびそこに記載されている引用文献記載の
化合物等が挙げられる。また、ここに記載されている光
酸発生剤の多くは熱酸発生剤としても機能するものであ
る。顔料を添加する場合には、ケイソウ土、タルク、カ
オリン、焼成カオリン、酸化チタン、酸化ケイ素、炭酸
マグネシウム、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、
尿素ーホルマリン樹脂等が例として挙げられる。その他
の添加剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾ
ール系等の紫外線吸収剤、ステアリン酸亜鉛、ステアリ
ン酸カルシウム等の高級脂肪酸金属塩からなるヘッド摩
耗およびスティッキング防止剤、パラフィン、酸化パラ
フィン、ポリエチレン、酸化ポリエチレン、カスターワ
ックス等のワックス類等が挙げられ必要に応じて添加す
ることができる。
When the image forming material of the present invention is used as a photon mode type image forming material, it is essential to add a compound which generates an acid by the action of light. On the other hand, when using as a heat mode type image forming material,
An acid generator may be separately added for the purpose of further increasing the sensitivity. Examples of known acid generators include compounds described in “Organic Materials for Imaging” edited by Organic Electronics Materials Research Society, published by Bunshin Publishing Company (1997), pp. 37-91, and references cited therein. And the like. Many of the photoacid generators described herein also function as thermal acid generators. When adding a pigment, diatomaceous earth, talc, kaolin, calcined kaolin, titanium oxide, silicon oxide, magnesium carbonate, calcium carbonate, aluminum hydroxide,
Urea-formalin resin and the like are exemplified. Other additives include benzophenone-based, benzotriazole-based ultraviolet absorbers, zinc stearate, head abrasion and sticking inhibitors composed of higher fatty acid metal salts such as calcium stearate, paraffin, paraffin oxide, polyethylene, polyethylene oxide, Waxes such as caster wax and the like can be mentioned, and can be added as needed.

【0131】本発明の画像形成剤に用いられる支持体と
しては、上質紙、バライタ紙、コート紙、キャストコー
ト紙、合成紙等の紙類、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,
6−ナフチレンジカルボキシレ−ト、ポリアリーレン、
ポリイミド、ポリカーボネート、トリアセチルセルロー
ス等のポリマーフィルム、ガラス、金属箔、不織布等を
挙げることができる。本発明の画像形成材料を利用して
透過型の画像、例えばOHP用フィルムや製版用フィル
ム等の用途に供する場合には、透明な支持体が用いられ
る。また、製版フィルム用には、熱膨張率が小さく寸度
安定性が良好で、かつ、PS版の感光域に吸収を持たな
い支持体が選ばれる。
As the support used in the image forming agent of the present invention, papers such as high quality paper, baryta paper, coated paper, cast coated paper, synthetic paper, polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polyethylene-2,
6-naphthylenedicarboxylate, polyarylene,
Examples thereof include polymer films such as polyimide, polycarbonate, and triacetyl cellulose, glass, metal foil, and nonwoven fabric. When the image forming material of the present invention is used for a transmission type image such as a film for OHP or a film for plate making, a transparent support is used. For a plate making film, a support having a small coefficient of thermal expansion and good dimensional stability and having no absorption in the photosensitive region of the PS plate is selected.

【0132】以下に本発明の化合物の合成法を示すが、
本発明はこれらに限定されるものではない。 (合成例1) 例示化合物(A−1)の合成
The method for synthesizing the compound of the present invention is shown below.
The present invention is not limited to these. (Synthesis Example 1) Synthesis of Exemplified Compound (A-1)

【0133】[0133]

【化62】 Embedded image

【0134】原料化合物1b(100mmol)をN、N−
ジメチルアセトアミド(50ml)中に溶かし、反応器
を7℃に冷却した。その溶液に原料化合物1a(100
mmol)を10分かけて滴下し、その後6時間反応させ
た。酢酸エチル(200ml)と水(200ml)を加
えて攪拌した後、静置して水層を分離した。更に有機層
を1mol/lの塩酸水(100ml)で3回洗浄し、硫
酸マグネシウム上で乾燥して濃縮した。得られた油状物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:酢酸
エチル/ヘキサン=1/4→1/1)にて精製し、中間
体1cを61%の収率で得た。次に原料化合物1d(5
0mmol)をピリジン(30ml)に溶かし、7℃に冷却
した。その溶液に中間体1c(50mmol)を加え、8時
間攪拌した。その後、水(3ml)を加え30分攪拌し
た後、酢酸エチル(100ml)と水(200ml)を
加えて攪拌したのち、静置して水層を分離した。更に有
機層を1mol/lの塩酸水(100ml)で3回洗浄
し、硫酸マグネシウム上で乾燥して濃縮した。得られた
油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出
液:酢酸エチル/ヘキサン=1/4→1/1)にて精製
し、例示化合物(A−1)をcis体とtrans体の混合物と
して72%の収率で得た。またcis体とtrans体はシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:酢酸エチル/
ヘキサン=1/4→1/1)で分離可能であり、それら
を分離して各々の分解温度を調べたところ、cis体は1
92℃、trans体は184℃であった。
Starting compound 1b (100 mmol) was converted to N, N-
Dissolved in dimethylacetamide (50 ml) and cooled the reactor to 7 ° C. The raw material compound 1a (100
mmol) was added dropwise over 10 minutes, followed by a reaction for 6 hours. After adding ethyl acetate (200 ml) and water (200 ml) and stirring, the mixture was allowed to stand and an aqueous layer was separated. Further, the organic layer was washed three times with 1 mol / l hydrochloric acid aqueous solution (100 ml), dried over magnesium sulfate and concentrated. The obtained oil was purified by silica gel column chromatography (eluent: ethyl acetate / hexane = 1/4 → 1/1) to obtain Intermediate 1c in a yield of 61%. Next, the starting compound 1d (5
0 mmol) was dissolved in pyridine (30 ml) and cooled to 7 ° C. Intermediate 1c (50 mmol) was added to the solution, and the mixture was stirred for 8 hours. Then, water (3 ml) was added, and the mixture was stirred for 30 minutes. Ethyl acetate (100 ml) and water (200 ml) were added, and the mixture was stirred and left still to separate an aqueous layer. Further, the organic layer was washed three times with 1 mol / l hydrochloric acid aqueous solution (100 ml), dried over magnesium sulfate and concentrated. The obtained oil was purified by silica gel column chromatography (eluent: ethyl acetate / hexane = 1/4 → 1/1) to give Exemplified Compound (A-1) as a mixture of cis- and trans-forms at 72%. In a yield of The cis-form and trans-form are obtained by silica gel column chromatography (eluent: ethyl acetate /
Hexane = 1/4 → 1/1), and when they were separated and their decomposition temperatures were examined, the cis form was found to be 1
The temperature was 92 ° C and the trans form was 184 ° C.

【0135】(合成例2) 例示化合物(A−2)の合
(Synthesis Example 2) Synthesis of Exemplified Compound (A-2)

【0136】[0136]

【化63】 Embedded image

【0137】原料化合物2a(100mmol)をピリジン
(40ml)中に溶かし、反応器を7℃に冷却した。そ
こに原料化合物2b(100mmol)を10分かけて滴下
し、その後2時間反応させ、その後室温で更に5時間反
応させた。その後、水(4ml)を加え30分攪拌した
後、酢酸エチル(150ml)と水(200ml)を加
えて攪拌したのち、静置して水層を分離した。更に有機
層を1mol/lの塩酸水(100ml)で3回洗浄した
のち、硫酸マグネシウム上で乾燥によって濃縮した。得
られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(溶出液:酢酸エチル/クロロホルム=1/8→1/
1)にて精製し、中間体2cを76%の収率で得た。次
に中間体2c(50mmol)をN、N−ジメチルアセトア
ミド(60ml)中に溶かし、反応器を7℃に冷却し
た。そこに原料化合物2d(50mmol)を10分かけて
滴下し、その後室温で8時間反応させた。酢酸エチル
(200ml)と水(200ml)を加えて攪拌した
後、静置して水層を分離した。更に有機層を1mol/l
の塩酸水(100ml)で3回洗浄し、硫酸マグネシウ
ム上で乾燥、濃縮した。得られた油状物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(溶出液:酢酸エチル/ヘキサ
ン=1/4→1/1)にて精製し、例示化合物(A−
2)をcis体とtrans体の混合物として78%の収率で得
た。該化合物のtrans体の分解温度は189℃であっ
た。
The starting compound 2a (100 mmol) was dissolved in pyridine (40 ml), and the reactor was cooled to 7 ° C. Thereto, the starting compound 2b (100 mmol) was added dropwise over 10 minutes, and then reacted for 2 hours, and then reacted at room temperature for another 5 hours. Thereafter, water (4 ml) was added, and the mixture was stirred for 30 minutes. Ethyl acetate (150 ml) and water (200 ml) were added, and the mixture was stirred and left still to separate an aqueous layer. The organic layer was further washed with 1 mol / l aqueous hydrochloric acid (100 ml) three times, and then concentrated by drying over magnesium sulfate. The obtained oil is subjected to silica gel column chromatography (eluent: ethyl acetate / chloroform = 1/8 → 1 /
Purification was performed in 1) to obtain an intermediate 2c in a yield of 76%. Then intermediate 2c (50 mmol) was dissolved in N, N-dimethylacetamide (60 ml) and the reactor was cooled to 7 ° C. Thereto, 2d (50 mmol) of the starting compound was added dropwise over 10 minutes, and then reacted at room temperature for 8 hours. After adding ethyl acetate (200 ml) and water (200 ml) and stirring, the mixture was allowed to stand and an aqueous layer was separated. 1 mol / l of organic layer
Was washed three times with aqueous hydrochloric acid (100 ml), dried over magnesium sulfate and concentrated. The obtained oil was purified by silica gel column chromatography (eluent: ethyl acetate / hexane = 1/4 → 1/1) to give the exemplified compound (A-
2) was obtained in a 78% yield as a mixture of cis and trans forms. The decomposition temperature of the trans form of the compound was 189 ° C.

【0138】(合成例3) 例示化合物(A−3)の合
成 原料化合物2aの代わりに等モルの2,4−キシリルス
ルホニルクロライドを用いた以外は、例示化合物(2)
の合成と同様の操作によって例示化合物(Aー3)を、
cis体とtrans体の混合物として得た。混合物の分解温度
は181℃であった。
(Synthesis Example 3) Synthesis of Exemplified Compound (A-3) Exemplified compound (2) except that equimolar amount of 2,4-xylylsulfonyl chloride was used in place of starting compound 2a.
By the same operation as in the synthesis of Compound (A-3),
Obtained as a mixture of cis and trans forms. The decomposition temperature of the mixture was 181 ° C.

【0139】(合成例4) 例示化合物(A−22)の
合成 原料化合物2aの代わりに等モルのp−トリルスルホニ
ルクロライドを用い、原料化合物2dの代わりに等モル
のアクリルクロライドを用いた以外は、例示化合物
(2)の合成と同様の操作によって例示化合物(Aー2
2)を、cis体とtrans体の混合物として得た。 cis体の
分解温度は182℃、 trans体の分解温度は173℃で
あった。
(Synthesis Example 4) Synthesis of Exemplified Compound (A-22) Except that raw material compound 2a was replaced with equimolar p-tolylsulfonyl chloride and raw material compound 2d was replaced with equimolar acryl chloride. By the same operation as in the synthesis of Exemplified Compound (2), Exemplified Compound (A-2)
2) was obtained as a mixture of a cis form and a trans form. The decomposition temperature of the cis form was 182 ° C, and the decomposition temperature of the trans form was 173 ° C.

【0140】(合成例5) 例示化合物(A−13)の
合成 原料化合物2aの代わりに等モルのp−トリルスルホニ
ルクロライドを用い、原料化合物2bの代わりに等モル
の4−{2−(4−ヒドロキシーシクロヘキシル)プロ
ピル}シクロヘキサノールを用いた以外は、例示化合物
(2)の合成と同様の操作によって例示化合物(Aー1
3)を、cis体とtrans体の混合物として得た。混合物の
分解温度を測定したが、きれいな分解ピークは得られな
かった。
(Synthesis Example 5) Synthesis of Exemplified Compound (A-13) An equimolar p-tolylsulfonyl chloride was used in place of the starting compound 2a, and an equimolar 4- {2- (4) was used in place of the starting compound 2b. -Hydroxy-cyclohexyl) propyl @ cyclohexanol was used, and the compound (A-1) was prepared in the same manner as in the synthesis of the compound (2).
3) was obtained as a mixture of a cis form and a trans form. The decomposition temperature of the mixture was measured, but no clean decomposition peak was obtained.

【0141】(合成例6) 例示化合物(A−29)の
合成
Synthesis Example 6 Synthesis of Exemplified Compound (A-29)

【0142】[0142]

【化64】 Embedded image

【0143】原料化合物29a(100mmol)をピリジ
ン(50ml)中に溶かし、反応器を7℃に冷却した。
この溶液に原料化合物29b(100mmol)を10分間
かけて添加し、更に室温で6時間反応させた。その後、
水(3ml)を加え30分攪拌した後、酢酸エチル(1
00ml)と水(200ml)を加えて攪拌したのち静
置して水層を分離した。更に有機層を1mol/lの塩酸
水(100ml)で3回洗浄し、硫酸マグネシウム上で
乾燥して濃縮した。得られた油状物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(溶出液:酢酸エチル/ヘキサン=
1/5)にて精製し、例示化合物( A−29)を異性
体の混合物として78%の収率で得た。このものの分解
温度は145℃であった。
The starting compound 29a (100 mmol) was dissolved in pyridine (50 ml), and the reactor was cooled to 7 ° C.
To this solution, the starting compound 29b (100 mmol) was added over 10 minutes, and further reacted at room temperature for 6 hours. afterwards,
After adding water (3 ml) and stirring for 30 minutes, ethyl acetate (1 ml) was added.
(00 ml) and water (200 ml), and the mixture was stirred and allowed to stand to separate an aqueous layer. Further, the organic layer was washed three times with 1 mol / l hydrochloric acid aqueous solution (100 ml), dried over magnesium sulfate and concentrated. The obtained oil is subjected to silica gel column chromatography (eluent: ethyl acetate / hexane =
1/5) to give Exemplified Compound (A-29) as a mixture of isomers in a yield of 78%. Its decomposition temperature was 145 ° C.

【0144】(合成例7) 例示化合物(A−35)の
合成 原料化合物29aを等モルの4−ビニルスルホニルクロ
ライドに置き換えた以外は、例示化合物( A−29)
の合成と同様の反応にて例示化合物(A−35)を合成
した。該化合物の分解温度は142℃であった。
(Synthesis Example 7) Synthesis of Exemplified Compound (A-35) Except that the starting compound 29a was replaced with an equimolar amount of 4-vinylsulfonyl chloride, the exemplified compound (A-29)
Compound (A-35) was synthesized by the same reaction as in the synthesis of Compound (A). The decomposition temperature of the compound was 142 ° C.

【0145】(合成例8) 例示化合物(P−1)の合
成 例示化合物(A−1)(50mmol)をトルエン(22m
l)に溶かし、窒素雰囲気下40℃に加熱した。この溶
液に2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメ
チルバレロニトリル)(0.125g)のメチルエチル
ケトン(3ml)溶液を加えて2時間反応させた後、さ
らに2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメ
チルバレロニトリル)(0.125g)のメチルエチル
ケトン(3ml)溶液を加えた。2時間反応させた後、
反応液をヘキサン(1200ml)中にあけ、析出した
ものを濾取、乾燥することにより例示化合物(P−1)
を89%の収率で得た。質量平均分子量8.5万、分解
温度は172℃であった。
(Synthesis Example 8) Synthesis of Exemplified Compound (P-1) Exemplified Compound (A-1) (50 mmol) was added to toluene (22 m
1) and heated to 40 ° C. under a nitrogen atmosphere. To this solution was added a solution of 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile) (0.125 g) in methyl ethyl ketone (3 ml), and the mixture was reacted for 2 hours. A solution of (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile) (0.125 g) in methyl ethyl ketone (3 ml) was added. After reacting for 2 hours,
The reaction mixture was poured into hexane (1200 ml), and the precipitate was collected by filtration and dried to give Exemplified Compound (P-1).
Was obtained in 89% yield. The weight average molecular weight was 85,000 and the decomposition temperature was 172 ° C.

【0146】(合成例9) 例示化合物(P−2)の合
成 出発原料の例示化合物(A−1)を等モルの(A−2)
に置き換えた以外は、例示化合物(P−1)の合成と同
様の反応にて例示化合物(P−2)を合成した。質量平
均分子量12万、分解温度は187℃であった。
(Synthesis Example 9) Synthesis of Exemplified Compound (P-2) An equimolar amount of (A-2)
Except having replaced with, Exemplified compound (P-2) was synthesized by the same reaction as the synthesis of Exemplified compound (P-1). The weight average molecular weight was 120,000 and the decomposition temperature was 187 ° C.

【0147】(合成例10) 例示化合物(P−3)の
合成 出発原料の例示化合物(A−1)を等モルの(A−3)
に置き換えた以外は、例示化合物(P−1)の合成と同
様の反応にて例示化合物(P−3)を合成した。質量平
均分子量10万、分解温度は174℃であった。
(Synthesis Example 10) Synthesis of Exemplified Compound (P-3) The starting compound, Exemplified Compound (A-1) was equimolar to (A-3)
Except having replaced with, Exemplified compound (P-3) was synthesized by the same reaction as the synthesis of Exemplified compound (P-1). The weight average molecular weight was 100,000, and the decomposition temperature was 174 ° C.

【0148】(合成例11) 例示化合物(P−6)の
合成 例示化合物A−2(7.5mmol)と例示化合物B−41
(2.5mmol)をトルエン(4.4ml)とメチルエチ
ルケトン(2ml)、塩化メチレン(4ml)中に溶か
し、窒素雰囲気下40℃に加熱した。そこに2,2’−
アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニト
リル)(0.025g)のメチルエチルケトン(0.6
ml)溶液を加えて2時間反応させた後、さらに2,
2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレ
ロニトリル)(0.025g)のメチルエチルケトン
(0.6ml)溶液と塩化メチレン(2ml)を加え
た。2時間反応させた後、反応液をヘキサン(400m
l)中にあけ、析出物を濾取して乾燥することにより例
示化合物(P−6)を53%の収率で得た。質量平均分
子量4.5万であった。又、分解温度は188度Cであ
った。
(Synthesis Example 11) Synthesis of Exemplified Compound (P-6) Exemplified Compound A-2 (7.5 mmol) and Exemplified Compound B-41
(2.5 mmol) was dissolved in toluene (4.4 ml), methyl ethyl ketone (2 ml) and methylene chloride (4 ml) and heated to 40 ° C. under a nitrogen atmosphere. There, 2,2'-
Azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile) (0.025 g) in methyl ethyl ketone (0.6
ml) and react for 2 hours.
A solution of 2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile) (0.025 g) in methyl ethyl ketone (0.6 ml) and methylene chloride (2 ml) were added. After reacting for 2 hours, hexane (400 m
1), the precipitate was collected by filtration and dried to give Exemplified Compound (P-6) in a yield of 53%. The weight average molecular weight was 45,000. The decomposition temperature was 188 ° C.

【0149】[0149]

【実施例】以下に実施例を掲げ本発明の化合物の有用性
を更に詳しく説明するが、本発明はこれらに限定される
ものではない。 (実施例1) <画像形成材料試料の作成>表2に示すように本発明に
かかわる化合物組成(試料1から6)と比較用の化合物
組成(試料7,8)をそれぞれクロロホルムに溶解して
塗布液を調製し、厚み175μmのポリエチレンテレフ
タレートフィルム上に塗布した(塗布量は表2に記
載)。このフィルム上に下記組成の保護層塗布液を塗布
し、画像形成材料1〜8を作成した。
The following examples illustrate the usefulness of the compounds of the present invention in more detail, but the present invention is not limited thereto. (Example 1) <Preparation of image forming material sample> As shown in Table 2, the compound composition according to the present invention (samples 1 to 6) and the compound composition for comparison (samples 7 and 8) were each dissolved in chloroform. A coating solution was prepared and coated on a 175 μm-thick polyethylene terephthalate film (the coating amount is described in Table 2). The protective layer coating solution having the following composition was applied on this film to prepare image forming materials 1 to 8.

【0150】<保護層塗布液の調製>クラレ株式会社製
のクラレポバールPVA−110を4重量%、日本エマ
ルジョン社製のエマレックス710を0.1質量%含有
する水溶液を調製し、保護層の固形分量が1.0g/m
2になるように塗布した。
<Preparation of Coating Solution for Protective Layer> An aqueous solution containing 4% by weight of Kuraray Povar PVA-110 manufactured by Kuraray Co., Ltd. and 0.1% by mass of Emarex 710 manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd. was prepared. The solid content is 1.0 g / m
2 was applied.

【0151】<画像形成の処理及び評価試験> 画像書き込み用の露光:レーザー光装置(Spectra Diod
e Labs No.SDL-2430、波長範囲:800〜830nm)
を2本合波して、140mWの出力にして、画像書き込
み用レーザー光とした。このレーザー光を用いて、ビー
ム系20μm、試料上のレーザーエネルギー密度は48
0mJ/cm2に設定した。作製した画像形成材料に対
して前記レーザー露光条件で保護層側から走査露光を行
なった。 画像形成能の試験:作製した画像形成材料1〜8(表
2)に対してレーザー露光を行い、生成色素の最大吸収
波長である360〜700nmにおける発色濃度の測定を
行った(表3)。なお、濃度の測定は島津製作所製のUV
-2500PCにより行った(以下も同じ)。 保存安定性:画像形成材料1〜8の各試料を45℃で非
調湿条件(ドライと呼ぶ)と45℃で湿度70%RHの条
件とで、それぞれ7日間放置したのち、各試料の測定波
長410nm(発色濃度の測定と同じ波長)でのかぶり濃
度の増加を調べた。
<Image Forming Processing and Evaluation Test> Exposure for Writing Image: Laser Light Apparatus (Spectra Diod)
e Labs No.SDL-2430, wavelength range: 800 to 830 nm)
Were combined to give an output of 140 mW to obtain an image writing laser beam. Using this laser light, a beam system of 20 μm and a laser energy density on the sample of 48
It was set to 0 mJ / cm2. Scanning exposure was performed on the produced image forming material from the protective layer side under the above laser exposure conditions. Test of image forming ability: The produced image forming materials 1 to 8 (Table 2) were subjected to laser exposure, and the color density at 360 to 700 nm, which is the maximum absorption wavelength of the formed dye, was measured (Table 3). The concentration was measured using a UV manufactured by Shimadzu Corporation.
Performed with -2500PC (same below). Storage stability: Each sample of the image forming materials 1 to 8 was left for 7 days at 45 ° C. in a non-humidity condition (referred to as dry) and a condition of 45 ° C. and a humidity of 70% RH, and then each sample was measured. The increase in fog density at a wavelength of 410 nm (the same wavelength as the color density measurement) was examined.

【0152】<試験の結果> 試験結果:表4には、本発明にかかわる化合物を用いた
各画像形成材料試料(試料1から6)は比較試料7,8
と比較していずれもカブリ濃度が低く保存性に優れてい
ることが示された。また、表3には本発明の試料1から
6がいずれも発色濃度も高いことを示している。これら
の結果から、本発明の画像形成材料は、発色性と保存安
定性に優れた、かつ画像領域と非画像領域との識別能も
高い有用な画像形成材料であることが示された。更にレ
ーザー書き込み後の形成材料をみると、本発明の1〜6
の試料はヘイズがほとんど見られなかったのに対し、比
較試料の7,8はヘイズが高く、この点においても本発
明の有用性は明らかであった。さらに露光条件として、
ビーム径20μmにして、試料上のレーザーエネルギー
密度は700mJ/cm2に設定した場合でも、画像形
成層の熱破壊(アブレーション)によるヘイズは生じな
かった。
<Results of Test> Test results: Table 4 shows that each of the image forming material samples (samples 1 to 6) using the compounds according to the present invention were comparative samples 7 and 8.
In each case, it was shown that the fog concentration was low and the storage stability was excellent. Table 3 also shows that all of the samples 1 to 6 of the present invention have high color density. From these results, it was shown that the image forming material of the present invention is a useful image forming material having excellent color developability and storage stability, and having high discrimination ability between an image area and a non-image area. Looking further at the forming material after laser writing, 1-6
The sample No. showed almost no haze, while the comparative samples Nos. 7 and 8 had a high haze, and the usefulness of the present invention was apparent also in this regard. Furthermore, as exposure conditions,
Even when the beam diameter was set to 20 μm and the laser energy density on the sample was set to 700 mJ / cm 2, haze due to thermal destruction (ablation) of the image forming layer did not occur.

【0153】[0153]

【表2】 [Table 2]

【0154】[0154]

【表3】 [Table 3]

【0155】[0155]

【表4】 [Table 4]

【0156】[0156]

【化65】 Embedded image

【0157】[0157]

【化66】 Embedded image

【0158】(実施例2)本発明の酸発生剤をロイコ色
素と共重合させた場合にも優れた性能を発現できる事を
以下に示す。表5に示す化合物をクロロホルムに溶解
し、厚み175μmのポリエチレンテレフタレートフィ
ルム上に塗布した(塗布量も表5に記載)。このフィル
ム上に実施例1記載の保護層塗布液を保護層の固形分量
が1.0g/m2になるように塗布し、画像形成材料9
〜12を作成した。作成した形成材料9〜12の画像形
成材料に対してレーザー光の露光を行い生成色素の最大
吸収波長(360〜700nm)における発色濃度の測定
を行った(表6)。さらに作成した画像形成材料7〜1
0のフレッシュサンプルを45℃、ドライと45℃、湿
度70%RHの条件下、7日間放置し、各サンプルのかぶ
り濃度の増加(発色濃度の測定と同じ波長で測定)を調
べた(表7)。本発明にかかわる化合物を用いた画像形
成材料は、いずれもカブリ濃度が低く保存性に優れてい
るとともに発色濃度も高く、本発明の画像形成材料が発
明の目的を達していることが示された。
(Example 2) It is shown below that excellent performance can be exhibited even when the acid generator of the present invention is copolymerized with a leuco dye. The compounds shown in Table 5 were dissolved in chloroform and coated on a 175 μm-thick polyethylene terephthalate film (the coating amount is also described in Table 5). The protective layer coating solution described in Example 1 was applied on this film so that the solid content of the protective layer was 1.0 g / m 2, and the image forming material 9 was obtained.
~ 12 were created. The image forming materials of the formed forming materials 9 to 12 were exposed to laser light, and the color density at the maximum absorption wavelength (360 to 700 nm) of the formed dye was measured (Table 6). Further prepared image forming materials 7-1
A fresh sample of No. 0 was allowed to stand for 7 days under conditions of 45 ° C., dry and 45 ° C., and humidity of 70% RH, and the increase in fog density (measured at the same wavelength as the color density measurement) of each sample was examined (Table 7). ). All of the image forming materials using the compound according to the present invention have low fog density, excellent storage stability, and high color density, indicating that the image forming material of the present invention has achieved the object of the invention. .

【0159】[0159]

【化67】 Embedded image

【0160】[0160]

【表5】 [Table 5]

【0161】[0161]

【表6】 [Table 6]

【0162】[0162]

【表7】 [Table 7]

【0163】[0163]

【発明の効果】支持体上にレーザー光を吸収する色素を
含有する画像形成材料に1から700mJ/cm2の範
囲のレーザー光を照射して360から700nmの吸収
光波長域の色素を生成する画像形成方法及び画像形成材
料は、発色濃度が3以上の高い画像を形成し、しかも保
存中のかぶりの増加も少なく。かつ熱破壊によるヘイズ
も少ない優れた画像形成材料と画像形成方法を提供す
る。
According to the present invention, an image is formed by irradiating a laser light in the range of 1 to 700 mJ / cm <2> to an image forming material containing a dye absorbing laser light on a support to form a dye in an absorption light wavelength range of 360 to 700 nm. The forming method and the image forming material form an image having a high color density of 3 or more, and the increase in fog during storage is small. Provided are an excellent image forming material and an image forming method which have less haze due to thermal destruction.

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08F 20/00 C08F 20/38 20/38 26/06 26/06 C08J 7/04 CERZ C08J 7/04 CER G03F 7/004 503Z G03F 7/004 503 507 507 511 511 C08L 101:00 // C08L 101:00 B41M 5/18 102Z (72)発明者 桜井 靖也 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA01 AA11 AB09 AC08 AD03 BE00 CC11 CC14 DA19 2H026 AA07 AA24 BB48 DD02 DD42 DD45 DD48 DD53 4F006 AA02 AA12 AA35 AA36 AA39 AB16 AB24 AB65 AB66 BA00 CA01 DA04 4J100 AB00R AB02R AB04R AB07P AB07R AE02R AE09R AG08R AL03R AL08P AL08R AM15R AM17R AM19R AM21R AQ15Q BA02P BA03Q BA03R BA04Q BA04R BA08Q BA15Q BA15R BA31Q BA34Q BA41Q BA56P BA58Q BB01P BB01Q BC04P BC04R BC12P BC26P BC43P BC43Q BC43R BC49Q BC49R BC53Q BC58Q BC65Q BC83Q CA01 CA04 CA05 JA38 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (Reference) C08F 20/00 C08F 20/38 20/38 26/06 26/06 C08J 7/04 CERZ C08J 7/04 CER G03F 7 / 004 503Z G03F 7/004 503 507 507 511 511 C08L 101: 00 // C08L 101: 00 B41M 5/18 102Z (72) Inventor Yasuya Sakurai 210 Nakanuma, Minamiashigara-shi, Kanagawa Prefecture Fuji Photo Film Co., Ltd. F-term ( 2H025 AA01 AA11 AB09 AC08 AD03 BE00 CC11 CC14 DA19 2H026 AA07 AA24 BB48 DD02 DD42 DD45 DD48 DD53 4F006 AA02 AA12 AA35 AA36 AA39 AB16 AB24 AB65 AB66 BA00 CA01 DA04 4J100 AB00R AB02R AB04R AB07 AM07 AL08A AQ15Q BA02P BA03Q BA03R BA04Q BA04R BA08Q BA15Q BA15R BA31Q BA34Q BA41Q BA56P BA58Q BB01P BB01Q BC04P BC04R BC12P BC26P BC43P BC43Q BC43R BC49Q BC49R BC53Q BC58Q BC65Q BC83Q CA01 CA04 CA05

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レーザー光照射により該照射部分に色素
を生成する画像形成方法において、支持体上に該レーザ
ー光を吸収する色素を含有する画像形成材料に対して1
から700mJ /cm以下のエネルギーのレーザーを
照射するのみで360〜700nmの波長域に吸収を有
する色素を生成し、生成した色素により360〜700
nmの波長域の特定の波長で濃度3.0以上の濃度変化
を生じることを特徴とする画像形成方法。
1. An image forming method in which a dye is formed on an irradiated portion by laser light irradiation, wherein an image forming material containing a dye absorbing the laser light on a support is used.
Irradiates a laser having an energy of 700 mJ / cm 2 or less to generate a dye having an absorption in a wavelength range of 360 to 700 nm.
An image forming method, wherein a density change of 3.0 or more occurs at a specific wavelength in a wavelength range of nm.
【請求項2】 レーザー光を吸収する色素が赤外線吸収
色素であることを特徴とする請求項1記載の画像形成方
法。
2. The image forming method according to claim 1, wherein the dye that absorbs laser light is an infrared absorbing dye.
【請求項3】 画像形成材料が支持体上に熱の作用によ
り酸を発生する酸発生剤と、酸の作用による分子内もし
くは分子間反応により360〜700nmの波長域の特
定の波長で濃度3.0以上の濃度変化を生じる化合物
と、赤外線吸収色素とを含有することを特徴とする請求
項1または2に記載の画像形成方法。
3. An image forming material comprising: an acid generator which generates an acid on a support by the action of heat; and a concentration of 3 at a specific wavelength in a wavelength range of 360 to 700 nm by an intramolecular or intermolecular reaction by the action of an acid. The image forming method according to claim 1, further comprising a compound that causes a change in density of 0.0 or more and an infrared absorbing dye.
【請求項4】 酸発生剤が下記一般式(I)もしくは一
般式(II)で表される化合物であることを特徴とする請
求項3記載の画像形成方法。 【化1】 (式中、R1 はアルキル基、アリール基もしくはヘテロ
環基を表わす。R2及びR3はそれぞれ独立にアルキル基
もしくはアリール基を表わすが、 R2とR3が同時にア
リール基であることはない。 またR2とR3は互いに結
合して環を形成しても良い。) 【化2】 (式中、R31 はアルキル基、アリール基もしくはヘテ
ロ環基を表わす。R32は置換基を表わす。 R33及びR
34はそれぞれ独立に水素原子もしくは置換基を表わす。
1は環を形成するのに必要な原子団を表わす。 R32
33もしくはR 34はX1と結合して環を形成しても良
い。)
4. The method according to claim 1, wherein the acid generator has the following general formula (I):
A compound represented by the general formula (II):
The image forming method according to claim 3. Embedded image(Where R1 Is an alkyl group, an aryl group or a hetero group
Represents a ring group. RTwoAnd RThreeAre each independently an alkyl group
Or an aryl group,TwoAnd RThreeAre simultaneously
It is not reel-based. Also RTwoAnd RThreeAre connected to each other
They may combine to form a ring. )(Where R31 Is an alkyl group, an aryl group or
Represents a ring group. R32Represents a substituent. R33And R
34Each independently represents a hydrogen atom or a substituent.
X1Represents an atomic group necessary for forming a ring. R32,
R33Or R 34Is X1May be combined with to form a ring
No. )
【請求項5】 酸の作用による分子内もしくは分子間反
応により360〜700nmの波長域の特定の波長で濃
度3.0以上の濃度変化を生じる化合物が、下記一般式
(III)〜(V)のいずれかで表わされる化合物であるこ
とを特徴とする請求項3又は4に記載の画像形成方法。 【化3】 (式中、X2はN(R58)、O、またはSを表し、Y1
N−C−X2とともに環状構造を形成するのに必要な原
子団を表し、A1はC(R59)またはNを表し、R51
59は水素原子または置換基を表し、それぞれ同じであ
っても異なっていても良く、R54、R55、R56およびR
57は互いに結合して縮合環を形成しても良く、 B1はア
リール基、ヘテロ環基、アルケニル基、アルキニル基、
アリールアミノ基またはヘテロ環アミノ基を表す。) 【化4】 (式中、Ar1およびAr2はアリール基、ヘテロ環基、
アルケニル基またはアルキニル基を表し、同じであって
も異なっていても良く、R71は水素原子または置換基を
表し、Y2は芳香族炭化水素環あるいはヘテロ環を表
し、X3はO、SまたはN(R72)を表し、R72は水素
原子または置換基を表す。) 【化5】 ( Ar3およびAr4はアリール基、ヘテロ環基、アル
ケニル基またはアルキニル基を表し、同じであっても異
なっていても良く、Z1は芳香族炭化水素環あるいはヘ
テロ環を表し、 A2はO、SまたはN(R73)を表し、
73は水素原子または置換基を表す。)
5. A compound which causes a concentration change of 3.0 or more at a specific wavelength in a wavelength range of 360 to 700 nm by an intramolecular or intermolecular reaction by the action of an acid, has the following general formulas (III) to (V): The image forming method according to claim 3, wherein the compound is a compound represented by any of the following. Embedded image (Wherein, X 2 represents N (R 58 ), O, or S, Y 1 represents an atomic group necessary for forming a cyclic structure together with N—C—X 2 , and A 1 represents C (R 59) or an N, R 51 ~
R 59 represents a hydrogen atom or a substituent, which may be the same or different, and R 54 , R 55 , R 56 and R
57 may combine with each other to form a condensed ring, and B 1 is an aryl group, a heterocyclic group, an alkenyl group, an alkynyl group,
Represents an arylamino group or a heterocyclic amino group. ) (Wherein, Ar 1 and Ar 2 are an aryl group, a heterocyclic group,
Represents an alkenyl group or an alkynyl group, which may be the same or different, R 71 represents a hydrogen atom or a substituent, Y 2 represents an aromatic hydrocarbon ring or a hetero ring, and X 3 represents O, S Or N (R 72 ), wherein R 72 represents a hydrogen atom or a substituent. ) (Ar 3 and Ar 4 represent an aryl group, a heterocyclic group, an alkenyl group or an alkynyl group, which may be the same or different, Z 1 represents an aromatic hydrocarbon ring or a hetero ring, and A 2 represents Represents O, S or N (R 73 );
R 73 represents a hydrogen atom or a substituent. )
【請求項6】 画像形成材料が下記一般式(VI)で示さ
れるポリマーを含有することを特徴とする請求項1〜5
のいずれか1項に記載の画像形成方法。 一般式(VI) −(A)x−(B)y−(C)z− (式中、Aは、酸発生剤モノマーの重合によって得られ
る繰り返し単位を表し、Bは酸の作用により360〜7
00nmの波長域の特定の波長で濃度3.0以上の濃度
変化を生じる部分構造を有する少なくとも1種類以上の
ビニルモノマーの重合によって得られる繰り返し単位を
表し、CはAおよびBと共重合可能な少なくとも1種類
以上のビニルモノマーの重合によって得られる繰り返し
単位を表す。x、yおよびzはモル%を表し、それぞれ
1≦x≦100、0≦y≦99、0≦z≦99、x+y
+z=100を表す。)
6. The image forming material contains a polymer represented by the following general formula (VI).
The image forming method according to any one of the above items. Formula (VI)-(A) x- (B) y- (C) z- (wherein A represents a repeating unit obtained by polymerization of an acid generator monomer, and B represents 360 to 360 due to the action of an acid. 7
Represents a repeating unit obtained by polymerization of at least one or more vinyl monomers having a partial structure that causes a concentration change of 3.0 or more at a specific wavelength in a wavelength range of 00 nm, and C is copolymerizable with A and B Represents a repeating unit obtained by polymerization of at least one or more vinyl monomers. x, y and z represent mol%, and 1 ≦ x ≦ 100, 0 ≦ y ≦ 99, 0 ≦ z ≦ 99, and x + y, respectively.
+ Z = 100. )
【請求項7】 透過性支持体上に透過型画像を形成する
ことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の
画像形成方法。
7. The image forming method according to claim 1, wherein a transmission type image is formed on a transmission support.
【請求項8】 画像形成層中に銀化合物またはその塩を
含有しないことを特徴とする請求項1〜7記載の画像形
成方法。
8. The image forming method according to claim 1, wherein the image forming layer does not contain a silver compound or a salt thereof.
【請求項9】 請求項1〜8のいずれか1項に記載の方
法で画像が形成されることを特徴とする画像形成材料。
9. An image forming material on which an image is formed by the method according to claim 1.
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