JP2001265408A - Device and method for controlling temperature of heat system plant - Google Patents
Device and method for controlling temperature of heat system plantInfo
- Publication number
- JP2001265408A JP2001265408A JP2000080878A JP2000080878A JP2001265408A JP 2001265408 A JP2001265408 A JP 2001265408A JP 2000080878 A JP2000080878 A JP 2000080878A JP 2000080878 A JP2000080878 A JP 2000080878A JP 2001265408 A JP2001265408 A JP 2001265408A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- control
- operation amount
- reference model
- unit
- target
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C48/00—Extrusion moulding, i.e. expressing the moulding material through a die or nozzle which imparts the desired form; Apparatus therefor
- B29C48/25—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C48/88—Thermal treatment of the stream of extruded material, e.g. cooling
- B29C48/918—Thermal treatment of the stream of extruded material, e.g. cooling characterized by differential heating or cooling
- B29C48/9185—Thermal treatment of the stream of extruded material, e.g. cooling characterized by differential heating or cooling in the direction of the stream of the material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C48/00—Extrusion moulding, i.e. expressing the moulding material through a die or nozzle which imparts the desired form; Apparatus therefor
- B29C48/25—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C48/92—Measuring, controlling or regulating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C2948/00—Indexing scheme relating to extrusion moulding
- B29C2948/92—Measuring, controlling or regulating
- B29C2948/92504—Controlled parameter
- B29C2948/92704—Temperature
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C2948/00—Indexing scheme relating to extrusion moulding
- B29C2948/92—Measuring, controlling or regulating
- B29C2948/92819—Location or phase of control
- B29C2948/92857—Extrusion unit
- B29C2948/92876—Feeding, melting, plasticising or pumping zones, e.g. the melt itself
- B29C2948/92895—Barrel or housing
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Extrusion Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Feedback Control In General (AREA)
- Control Of Temperature (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、熱系プラントにお
いて制御対象の温度を予め設定された目標値に整定させ
るための温度制御装置及び温度制御方法に関し、特に、
ワインドアップを生じることなく短時間で前記目標値に
整定させることができる熱系プラントの温度制御装置及
びその温度制御方法を提供することを目的とする。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a temperature control device and a temperature control method for stabilizing the temperature of a control target in a thermal plant to a preset target value.
It is an object of the present invention to provide a temperature control device for a thermal plant and a temperature control method thereof, which can settle to the target value in a short time without causing windup.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に、化学反応炉や各種電気炉、成形
機、ゴミ処理プラント、熱処理炉及び発電プラント等の
熱系プラントにおいては、制御対象を予め設定された目
標値に整定させるために温度制御が行われている。例え
ば、加熱シリンダ内で溶融・混練した樹脂や金属などの
材料をダイに供給し、前記ダイから押し出し又は前記ダ
イ内に射出して所望形状の製品を成形する成形機におい
ては、前記加熱シリンダから前記ダイに至るまでの工程
の途中で、溶融した前記材料の温度の制御を行ってい
る。2. Description of the Related Art Generally, in a thermal system plant such as a chemical reaction furnace, various electric furnaces, a molding machine, a refuse treatment plant, a heat treatment furnace, and a power generation plant, a temperature for controlling a control target to a predetermined target value is set. Control is being performed. For example, in a molding machine that supplies a material such as resin or metal melted and kneaded in a heating cylinder to a die and extrudes from the die or injects it into the die to form a product having a desired shape, In the course of the process up to the die, the temperature of the molten material is controlled.
【0003】図12は、成形機の一例にかかり、溶融樹
脂を押し出して所定形状に成形する押出成形機の構成を
説明するための概略図である。押出成形機1は、樹脂を
溶融するシリンダ10と、所望形状の製品を押し出すた
めの押出口21が形成されたダイ20と、シリンダ10
内の溶融樹脂をダイ20に向けて送り出す押出機構30
と、シリンダ10を外側から加熱するためにシリンダ1
0の外周に設けられた加熱手段であるバンドヒータ4
1,42,43と、シリンダ10内に材料(樹脂)を供
給する材料供給部であるホッパ50とを有する。FIG. 12 is a schematic view for explaining an example of an extruder for extruding a molten resin into a predetermined shape by extruding a molten resin. The extruder 1 includes a cylinder 10 for melting a resin, a die 20 having an extrusion opening 21 for extruding a product having a desired shape, and a cylinder 10.
Extrusion mechanism 30 that feeds molten resin from inside toward die 20
And the cylinder 1 to heat the cylinder 10 from the outside.
Band heater 4 which is a heating means provided on the outer periphery of
1, 42, and 43, and a hopper 50 that is a material supply unit that supplies a material (resin) into the cylinder 10.
【0004】シリンダ10は、筒状の3つのバレル1
1,12,13を直列に連結してなり、各バレル11,
12,13ごとに加熱手段であるバンドヒータ41,4
2,43が巻き付けられている。加熱シリンダは、シリ
ンダ10(バレル11,12,13)とバンドヒータ4
1,42,43とで構成される。The cylinder 10 has three cylindrical barrels 1.
1, 12, 13 are connected in series, and each barrel 11,
Band heaters 41 and 4 serving as heating means for each of 12 and 13
2,43 are wound. The heating cylinder comprises a cylinder 10 (barrels 11, 12, 13) and a band heater 4
1, 42, and 43.
【0005】押出機構30は、バレル11,12,13
を貫通して設けられたスクリュー31と、このスクリュ
ー31を回転させるモータ32と、スクリュー31とモ
ータ32との間に介在する減速手段としてのギヤボック
ス33とから構成される。この押出成形機30は二軸ス
クリュータイプであり、二本のスクリュー31(他方の
ものは図に表れない)がシリンダ10内に並設され、モ
ータ32の駆動によって各スクリュー31が互いに逆方
向又は正方向に回転するようになっている。そして、シ
リンダ10内の溶融樹脂は、モータ32の駆動によるス
クリュー31の回転によってダイ20に送り出され、ダ
イ20の押出口21から所定の断面形状で押し出され
る。The extruding mechanism 30 includes barrels 11, 12, 13
, A screw 32 that rotates the screw 31, and a gear box 33 that serves as a speed reducing means interposed between the screw 31 and the motor 32. The extruder 30 is of a twin screw type, in which two screws 31 (the other one is not shown in the drawing) are arranged in the cylinder 10, and each screw 31 is driven in the opposite direction or by the driving of a motor 32. It rotates in the forward direction. Then, the molten resin in the cylinder 10 is sent out to the die 20 by the rotation of the screw 31 driven by the motor 32, and is extruded from the extrusion port 21 of the die 20 in a predetermined sectional shape.
【0006】上記した複数個(図12で示す例では3
個)のバレル11,12,13、各バレル11,12,
13ごとに設けられたバンドヒータ41,42,43
は、シリンダ10内の溶融樹脂の温度を制御する温度制
御系を構成している。そして、一般には、これらは各バ
レル11,12,13ごとに異なる温度設定値を有する
独立のものとして取り扱われ、各バレル11,12,1
3ごとに1ループ制御が行われている。The above plurality (3 in the example shown in FIG. 12)
) Barrels 11, 12, 13, each barrel 11, 12,
13, band heaters 41, 42, 43 provided for each
Constitutes a temperature control system for controlling the temperature of the molten resin in the cylinder 10. In general, these are handled as independent ones having different temperature set values for each of the barrels 11, 12, and 13.
One loop control is performed for every three.
【0007】ところで、休日や点検・修理などにより、
押出成形機1の稼働を長時間停止させた後に稼働を再開
する場合、シリンダ10内の樹脂の温度を速やかに所望
の温度に制御して安定させることが望まれる。従来、こ
のような制御を目的として、構成が簡単で操作も容易な
PID制御が一般的に用いられている。PID制御にお
いては、押出成形機1の稼働開始とともにPID制御に
よる操作量を最大にしてシリンダ10の加熱ヒータ4
1,42,43の温度を急激に上昇させ、シリンダ10
の温度が所定温度まで上昇したところで、前記PID制
御による操作量を徐々に制限していく。[0007] By the way, due to holidays, inspections and repairs,
When the operation of the extruder 1 is restarted after being stopped for a long time, it is desired that the temperature of the resin in the cylinder 10 be quickly controlled to a desired temperature and stabilized. Conventionally, PID control, which has a simple configuration and is easy to operate, has been generally used for such control. In the PID control, when the operation of the extruder 1 is started, the operation amount by the PID control is maximized, and the heater 4 of the cylinder 10 is heated.
1, 42, 43, the cylinder 10
When the temperature rises to a predetermined temperature, the operation amount by the PID control is gradually limited.
【0008】しかし、上記したようなPID制御におい
ては、操作量の減少を徐々に収束させながら長時間にわ
たって制御する必要があり、その間、シリンダ10の温
度は、前記目標の温度を境として振動しながら収束した
り、オーバシュートを引き起こす。そのため、操作量を
最適にしながら、目標の設定温度に収束させるための制
御は、熟練者の勘と経験に頼っているのが現状である。
また、PID制御においては、外乱や、成形機が設置さ
れる場所や季節、稼働条件、システム変更などによって
生じるモデル変動が、制御性能に大きな影響を与え、こ
のような要因が作用する場合には長時間を経過しても、
温度が目標値に整定しないという問題がある。However, in the above-described PID control, it is necessary to control the operation amount for a long time while gradually reducing the decrease in the operation amount. During that time, the temperature of the cylinder 10 oscillates around the target temperature. While converging or causing overshoot. Therefore, at present, control for converging to the target set temperature while optimizing the operation amount depends on the intuition and experience of a skilled person.
Further, in PID control, when a disturbance or a model change caused by a place or a season in which a molding machine is installed, an operating condition, a system change, or the like has a great influence on the control performance, and such a factor acts, Even after a long time,
There is a problem that the temperature does not settle to the target value.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記状況にか
んがみてなされたもので、制御目標にワインドアップを
生じることなく迅速に整定させることができ、かつ、熟
練者の勘や経験に頼らず簡単に温度制御を行うことがで
きる熱系プラントの温度制御装置及びその温度制御方法
を提供すること、及び、外乱やモデル変動を生じさせる
要因が作用しても、これら要因による影響を抑制しなが
ら短時間で目標値に整定させることができる熱系プラン
トの温度制御装置及びその温度制御方法を提供すること
を目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and allows a control target to be quickly set without causing windup, and without depending on the intuition and experience of a skilled person. To provide a temperature control device and a temperature control method for a thermal plant that can easily perform temperature control, and to suppress the influence of these factors even when factors causing disturbances and model variations act. It is an object of the present invention to provide a temperature control device for a thermal plant and a temperature control method thereof, which can settle to a target value in a short time.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1に記載の発明は、溶融材料を所定形状の製
品に成形する熱系プラントの温度制御装置において、目
標値と前記成形機における制御対象から出力された出力
値との偏差に応じた所定の操作量を出力し、前記制御対
象の温度を制御するPID制御部と、このPID制御部
とは別に設けられ、前記制御対象を操作するための操作
量を出力する操作量付加部と、規範モデルを有するとと
もに、この規範モデルからむだ時間要素を取り除くむだ
時間除去手段を有する規範モデル部と、前記操作量付加
部から出力された操作量を前記制御対象入力する側と、
前記PID制御部からの操作量を入力する側との間で回
路を選択的に切り換える第1の切換部とを有し、前記規
範モデル部は、むだ時間除去手段によってむだ時間要素
が除去された前記規範モデルの出力を測定し、この測定
結果が予め定められた目標値に到達したときに前記第1
の切換部を操作して、前記操作量付加部から前記制御対
象への操作量の入力を遮断する構成としてある。According to a first aspect of the present invention, there is provided a temperature control apparatus for a thermal plant for forming a molten material into a product having a predetermined shape. A PID control unit that outputs a predetermined amount of operation corresponding to a deviation from an output value output from a control target in the machine, and controls a temperature of the control target; and a PID control unit that is provided separately from the PID control unit, A reference value model unit having a reference value model and a dead time removing unit that removes a dead time element from the reference model; and A side for inputting the manipulated variable to the control object,
A first switching unit for selectively switching a circuit between a side for inputting an operation amount from the PID control unit and a dead time element in the reference model unit, the dead time component being removed by a dead time removing unit The output of the reference model is measured, and when the measurement result reaches a predetermined target value, the first
Is operated to interrupt the input of the operation amount from the operation amount adding unit to the control target.
【0011】この構成によれば、熱系プラントの稼働開
始とともに、第1の切換部を操作して操作量付加部から
任意の操作量を制御対象に対して付加する。同時に、同
じ操作量を規範モデル部に入力する。これにより、加熱
温度等の制御対象が、前記操作量に応じて急速に目標値
に向かう。制御対象にむだ時間が含まれていると、むだ
時間分の過剰な熱供給により、オーバーシュートを生じ
る。そこで、これを回避するために、規範モデルからむ
だ時間を取り除き、むだ時間を取り除いた時刻で操作量
の切り換えを行う。すなわち、むだ時間を取り除いた時
刻で第1の切換手段を切り換えて操作量付加部を制御系
から切り離し、PID制御部に基づいて制御を行う。こ
のようにして、制御目標にワインドアップを生じること
なく、短時間で到達することができる。According to this configuration, at the same time as the start of operation of the thermal plant, the first switching unit is operated to add an arbitrary operation amount from the operation amount adding unit to the control target. At the same time, the same operation amount is input to the reference model unit. Thus, the control target such as the heating temperature rapidly moves to the target value according to the operation amount. If a dead time is included in the control target, overshoot occurs due to excessive heat supply for the dead time. Therefore, in order to avoid this, the dead time is removed from the reference model, and the operation amount is switched at the time at which the dead time is removed. That is, the first switching means is switched at a time after the dead time is removed to disconnect the operation amount adding unit from the control system, and control is performed based on the PID control unit. In this way, the control target can be reached in a short time without causing windup.
【0012】請求項2に記載の発明は、前記規範モデル
部の規範モデルの同定が完了していない場合に、オンラ
インによって前記規範モデルの同定を行う規範モデルオ
ンライン同定手段を設けた構成としてある。この構成に
よれば、規範モデルのパラメータ同定とそれに基づくコ
ントローラのパラメータ調整をオンラインで同時に実行
することができる。According to a second aspect of the present invention, a reference model online identification means for identifying the reference model online when the identification of the reference model in the reference model unit is not completed is provided. According to this configuration, the parameter identification of the reference model and the parameter adjustment of the controller based on the parameter identification can be simultaneously performed online.
【0013】請求項3に記載の発明は、前記操作量付加
部からの操作量を前記規範モデル部に入力する側と、制
御部からの制御結果を入力する側との間で回路を選択的
に切り換える第2の切換部を設けるとともに、外乱が作
用したときに、この外乱による影響を抑制する外乱オブ
ザーバ部を設けた構成としてある。According to a third aspect of the present invention, a circuit is selectively provided between a side for inputting an operation amount from the operation amount adding section to the reference model section and a side for inputting a control result from the control section. And a disturbance observer for suppressing the influence of the disturbance when the disturbance acts.
【0014】また、請求項4に記載するように、前記外
乱オブザーバ部を前記規範モデル部とレギュレータとか
ら構成し、前記外乱に加えて前記規範モデルのモデル変
動を生じさせる要因が作用したときに、この要因による
影響を前記外乱オブザーバで抑制するようにしてもよ
い。この構成によれば、外乱やモデル変動による影響を
抑制して、前記制御対象を前記規範モデルに迅速に追随
させることが可能になる。前記外乱オブザーバ部は、請
求項5に記載するように、H∞外乱オブザーバ又はμ設
計外乱オブザーバを含んでいるとよい。 According to a fourth aspect of the present invention, the disturbance observer unit includes the reference model unit and a regulator, and when a factor that causes a model change of the reference model acts in addition to the disturbance. Alternatively, the influence of this factor may be suppressed by the disturbance observer. According to this configuration, it is possible to suppress the influence of disturbance and model fluctuation, and to cause the control target to quickly follow the reference model. The disturbance observer unit, as claimed in claim 5, may contain H ∞ disturbance observer or μ design the disturbance observer.
【0015】請求項6に記載の発明は、前記操作量付加
部から入力される操作量が、前記制御対象に入力するこ
とのできる操作量の最大値である構成としてある。前記
操作量付加部から入力する操作量は任意であるが、制御
対象に入力することのできる操作量を最大とすること
で、制御目標値に最も速やかに達することができる。According to a sixth aspect of the present invention, the operation amount input from the operation amount adding unit is a maximum value of the operation amount that can be input to the control target. The operation amount input from the operation amount adding unit is arbitrary, but by maximizing the operation amount that can be input to the control target, the control target value can be reached most quickly.
【0016】請求項7に記載の発明は、前記制御対象に
非干渉化を適用するための状態フィードバック部を設け
た構成としてある。この構成によれば、制御対象におい
て、例えば熱干渉等の問題を除去して、非干渉化を行う
ことができる。According to a seventh aspect of the present invention, a state feedback unit for applying decoupling to the controlled object is provided. According to this configuration, it is possible to eliminate the problem of, for example, thermal interference in the control target, and to perform decoupling.
【0017】請求項8に記載の発明は、制御対象の温度
を目標値に整定させるための熱系プラントの温度制御方
法において、目標値と前記成形機における制御対象から
出力された出力値との偏差に応じた所定の操作量をPI
D制御によって出力し、前記制御対象の温度を制御し、
前記制御対象を操作するための操作量を、同定済みの規
範モデル及び前記制御対象に加え、前記規範モデルから
むだ時間を取り除き、むだ時間が除去された前記規範モ
デルの出力を測定し、この測定結果が予め定められた目
標値に到達したときに、前記操作量の前記制御対象への
入力を遮断し、前記PID制御に基づいて前記制御対象
を制御する方法である。According to an eighth aspect of the present invention, there is provided a temperature control method of a thermal plant for stabilizing a temperature of a control target to a target value, wherein a target value and an output value output from the control target in the molding machine are compared. The predetermined operation amount corresponding to the deviation
Output by D control to control the temperature of the control object,
The amount of operation for operating the control target is added to the identified reference model and the control target, dead time is removed from the reference model, and the output of the reference model from which dead time is removed is measured. When the result reaches a predetermined target value, the input of the operation amount to the control target is cut off, and the control target is controlled based on the PID control.
【0018】この方法によれば、制御目標にワインドア
ップを生じることなく、迅速に到達させることができ
る。前記操作量は、請求項9に記載するように、操作可
能な最大の操作量とするとよい。According to this method, the control target can be quickly reached without winding up. The operation amount may be a maximum operation amount that can be operated, as described in claim 9.
【0019】また、請求項10に記載するように、制御
系に外乱又は前記規範モデルのモデル変動を生じさせる
要因が生じたときに、外乱オブザーバによりこれら要因
による影響を抑制するとよい。これにより、外乱やモデ
ル変動のような要因が作用しても、これら要因による影
響を取り除いて、短時間で目標値に到達することができ
る。As described in claim 10, when a disturbance or a factor causing a model variation of the reference model occurs in the control system, a disturbance observer may suppress the influence of the factor. As a result, even if factors such as disturbances and model variations act, it is possible to reach the target value in a short time by removing the effects of these factors.
【0020】なお、上記した本発明のPID制御は、1
自由度系又は2自由度系のいずれであってもよい。制御
対象等に応じて、1自由度系又は2自由度系のいずれか
を適宜に選択するとよい。It should be noted that the above-described PID control of the invention
Any of a two-degree-of-freedom system and a two-degree-of-freedom system may be used. One of the one-degree-of-freedom system and the two-degree-of-freedom system may be appropriately selected according to the control target or the like.
【0021】[0021]
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施形態
を、図面にしたがって詳細に説明する。図1は、本発明
の第1の実施形態にかかる温度制御装置の制御ブロック
図である。なお、以下の実施形態では、熱系プラントの
温度制御として、図12に示した押出成形機のシリンダ
10の温度制御を例に挙げて説明するが、本発明はこの
ような押出成形機及びシリンダに限らず、温度制御の必
要なあらゆる分野に適用が可能である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a control block diagram of the temperature control device according to the first embodiment of the present invention. In the following embodiment, the temperature control of the cylinder 10 of the extruder shown in FIG. 12 will be described as an example of the temperature control of the thermal system plant. However, the present invention is not limited to this, and can be applied to any field that requires temperature control.
【0022】本発明の制御装置はPID制御(比例微分
積分制御)を前提とし、図1に示すようにPID制御部
100を有している。このPID制御部100は、目標
値(Ref)と制御対象Pから出力された出力値(y)と
の偏差(制御信号)に応じて、操作量(U)を出力し、
バレル11,12,13の温度を制御する。PIDパラ
メータは、例えばリターンスイッチやコントロールパネ
ル等を用いることによって、稼働中はいつでも変更でき
るように構成するのが好ましい。なお、このPID制御
部100には、PIDパラメータのオートチューニング
機構又はセルフチューニング機構を付加してもよい。ま
た、図中仮想線で示すように、測定可能な外乱及び操作
量の変化に対して偏差を予測し、操作量を決定するフィ
ードフォワード制御部105をこのPID制御部100
に付加し、PID制御部を2自由度系とすることも可能
である。フィードフォワード制御部105をこのPID
制御部100に付加する場合には、フィードフォワード
KFFは、目標値追随性を考慮して、以下の式により決定
することができる。The control device of the present invention is based on PID control (proportional differential integration control) and has a PID control unit 100 as shown in FIG. The PID control unit 100 outputs an operation amount (U) according to a deviation (control signal) between a target value (Ref) and an output value (y) output from the control target P,
The temperatures of the barrels 11, 12, 13 are controlled. It is preferable that the PID parameter can be changed at any time during operation by using, for example, a return switch or a control panel. The PID control unit 100 may be provided with an automatic tuning mechanism for PID parameters or a self-tuning mechanism. Further, as shown by a virtual line in the figure, a feedforward control unit 105 that predicts a deviation with respect to a measurable disturbance and a change in the operation amount and determines the operation amount is replaced by the PID control unit 100
And the PID control unit may be a two-degree-of-freedom system. The feed forward control unit 105 uses this PID
When added to the control unit 100, the feed forward K FF can be determined by the following formula in consideration of the target value followability.
【0023】[0023]
【数1】 (Equation 1)
【0024】ここで、Hzrは目標値から操作量への伝
達関数で、この伝達関数Hzrをなるべく広い周波数帯
域で1にすると良い。Here, H zr is a transfer function from the target value to the manipulated variable, and it is preferable to set this transfer function H zr to 1 in a frequency band as wide as possible.
【0025】この実施形態におけるシリンダ10は、上
記したように制御温度の異なる3つのバレル11,1
2,13からなっている。これらバレル11,12,1
3の制御温度がそれぞれ異なる場合には、隣接するバレ
ル11とバレル12及びバレル12とバレル13間で互
いに熱干渉が生じる。The cylinder 10 in this embodiment has three barrels 11, 1 having different control temperatures as described above.
It consists of 2,13. These barrels 11, 12, 1
If the three control temperatures are different, thermal interference occurs between the adjacent barrels 11 and 12 and between the barrel 12 and the barrel 13.
【0026】そのため、この場合には、状態フィードバ
ックHを導入したクロスコントローラ150に制御対象
Pの出力結果を入力して、バレル11〜13の非干渉化
を行う。Therefore, in this case, the output result of the control target P is input to the cross controller 150 into which the state feedback H is introduced, and the barrels 11 to 13 are made non-interfering.
【0027】一方、バレル11,12,13の制御温度
が同一である場合のように、シリンダ10が干渉系を構
成しないような場合には、制御対象Pの出力をクロスコ
ントローラ150に入力して非干渉化を適用する必要は
ない。したがって、制御目標が干渉系か非干渉系かを判
断して自動的に、あるいは、作業者の判断によって手動
で制御対象Pの出力をクロスコントローラ150に入力
できるようするスイッチを、制御対象Pと非干渉部15
0の間に設けるとよい。On the other hand, when the cylinders 10 do not form an interference system, such as when the control temperatures of the barrels 11, 12, and 13 are the same, the output of the control target P is input to the cross controller 150. There is no need to apply decoupling. Therefore, a switch that enables the output of the control target P to be input to the cross controller 150 automatically by determining whether the control target is an interference system or a non-interference system, or manually by an operator, is referred to as a control target P. Non-interference part 15
It is good to provide between 0.
【0028】PID制御部100と制御対象Pとの間に
は、規範モデル部120が設けられ、この規範モデル部
120と制御対象Pとに、制御対象Pに入力することの
できる操作量の最大値(飽和値:Umax)を入力する操
作量付加部110が設けられる。操作量付加部110と
制御対象Pとの間には、第1の切換部としてのスイッチ
130が設けられ、PID制御部100側と操作量付加
部110側との間で入力回路を切り換えることができる
ようになっている。A reference model unit 120 is provided between the PID control unit 100 and the control target P, and the reference model unit 120 and the control target P have the maximum operation amount that can be input to the control target P. An operation amount adding unit 110 for inputting a value (saturation value: Umax) is provided. A switch 130 as a first switching unit is provided between the operation amount adding unit 110 and the control target P, and can switch an input circuit between the PID control unit 100 and the operation amount adding unit 110. I can do it.
【0029】また、この実施形態では、規範モデル部1
20と操作量付加部110との間に第2の切換部として
のスイッチ140が設けられている。このスイッチ14
0は、後述する規範モデル部120の切換操作手段の作
用によって、スイッチ130の切換のタイミングと同期
するタイミングで、スイッチングが行われるようになっ
ている。そして、このスイッチングにより、スイッチ1
40は、規範モデル部120から操作量付加部110を
切り離し可能にしている。In this embodiment, the reference model unit 1
A switch 140 as a second switching unit is provided between the control unit 20 and the operation amount adding unit 110. This switch 14
In the case of 0, switching is performed at a timing synchronized with the switching timing of the switch 130 by the operation of the switching operation means of the reference model unit 120 described later. And, by this switching, the switch 1
Numeral 40 enables the operation amount adding unit 110 to be separated from the reference model unit 120.
【0030】これらスイッチ130,140は、手動で
も操作可能にして、作業者が任意に切換を行うことがで
きるようにすることが好ましい。このようにすること
で、操作量付加部110及び規範モデル部120を制御
系から切り離して、通常のPID制御によって制御を行
うことが可能である。It is preferable that the switches 130 and 140 can be manually operated so that the operator can arbitrarily switch the switches. By doing so, it is possible to separate the operation amount adding unit 110 and the reference model unit 120 from the control system and perform control by normal PID control.
【0031】規範モデル部120は、オンライン同定さ
れたパラメータからなる規範モデルPm又は、予めシス
テム同定を行った公称値からなる規範モデルPmを有し
ている。この規範モデルPmには、むだ時間要素e-Ls
が含まれる。Gmは、規範モデルPmからむだ時間要素
e-Lsを除去した残りの部分である。規範モデル部12
0には、規範モデルPmからむだ時間要素e-Lsを除去
するむだ時間除去手段120aと、むだ時間を除去した
所定の時刻tswで第1の切換部13の切換操作を行う図
示しない切換操作手段とが設けられる。以下、時刻tsw
の決定手順について説明する。The reference model unit 120 has a reference model Pm consisting of parameters identified online or a reference model Pm consisting of nominal values for which system identification has been performed in advance. This reference model Pm has a dead time element e -Ls
Is included. Gm is the remaining part obtained by removing the dead time element e- Ls from the reference model Pm. Normative model part 12
0, a dead time removing means 120a for removing the dead time element e- Ls from the reference model Pm, and a switching operation means (not shown) for performing the switching operation of the first switching unit 13 at a predetermined time tsw at which the dead time is removed. Are provided. Hereinafter, the time tsw
Will be described.
【0032】制御対象Pは大きなむだ時間Lを含む。し
たがって、制御対象Pが目標値に達した時点で操作量の
切り換えを行うと、オーバーシュートを生じることにな
る。むだ時間Lを含む制御対象Pが目標値まで必要とす
る入力熱量Uinは次式で表される。The control object P includes a large dead time L. Therefore, if the operation amount is switched when the control target P reaches the target value, an overshoot occurs. The input heat amount U in required by the control target P including the dead time L up to the target value is expressed by the following equation.
【0033】[0033]
【数2】 (Equation 2)
【0034】ここで、t1は、むだ時間Lのない制御対
象Pが目標値に達する時間を表している。むだ時間L分
の過剰な熱供給によるオーバーシュートを回避するため
には、時刻t1より前の時刻tswにて操作量の切り換え
を行うとよい。しかしながら、実際の制御対象の応答か
らこの時刻tswを予測することはできない。そこで、規
範モデル部120のむだ時間除去手段120aを用い、
ブロック線図上でむだ時間要素e-Lsを分離する。この
ようにすれば、むだ時間要素e- Lsを含まない規範モデ
ルの出力ygを得ることができ、この出力ygが目標値に
達した時刻から、第1の切換部13の切り換えに最適な
時刻tswを得ることができる。Here, t1 represents the time when the controlled object P without the dead time L reaches the target value. In order to avoid overshoot due to excessive heat supply for the dead time L, it is preferable to switch the operation amount at time tsw before time t1. However, the time tsw cannot be predicted from the response of the actual control target. Therefore, using the dead time removing means 120a of the reference model unit 120,
Separate the dead time element e -Ls on the block diagram. In this way, it is possible to obtain the output yg of the reference model that does not include the dead time element e - Ls, and from the time when the output yg reaches the target value, the optimum time for switching the first switching unit 13 tsw can be obtained.
【0035】今、一次遅れ+むだ時間系の制御対象P0
(s)=K0/(T0S+1)・e(-L0s)を考える。こ
のときのステップ応答は、Now, the control target P 0 of the first-order lag + dead time system
(S) = K 0 / (T 0S +1) · e (−L0s) is considered. The step response at this time is
【0036】[0036]
【数3】 (Equation 3)
【0037】但し、0<L0<T0,目標入力ref=y0
=K0u0である。ここで、0<ya<ybかつ0<L0<
tyaが成立するとき、t=0、y=0でref=ybに対
するステップ入力Ub(操作量の飽和値 Umax)を印加
すると、Where 0 <L 0 <T 0 , target input ref = y 0
= K 0 u 0 . Here, 0 <ya <yb and 0 <L 0 <
When t ya is established, when a step input Ub (a saturation value Umax of the operation amount) for ref = yb is applied at t = 0 and y = 0,
【0038】[0038]
【数4】 (Equation 4)
【0039】になる時刻tyaが唯一存在する。この時刻t
yaを計算すると、There is only one time t ya . This time t
When you calculate ya ,
【0040】[0040]
【数5】 (Equation 5)
【0041】を得る。以上を考慮して、第3式に示した
ように、スイッチを切り換えるので、切換のタイミング
tswは、Is obtained. In consideration of the above, as shown in the third equation, the switch is switched, so that the switching timing tsw is
【0042】[0042]
【数6】 (Equation 6)
【0043】と決まり。したがって、このタイミングで
ステップ入力Uaに切り換えると、目標値yaに速く整定
できる。このタイミングの時刻が、第1の切換部13を
切り換えるべき時刻tswである。上記した規範モデルP
mは予め同定されている必要があるが、同定されていな
い場合には、オンラインを介して同定を行うことが可能
である。Is determined. Therefore, by switching to the step input Ua at this timing, it is possible to quickly settle to the target value ya. The time of this timing is the time tsw at which the first switching unit 13 should be switched. The reference model P mentioned above
m needs to be identified in advance, but if it has not been identified, it can be identified online.
【0044】図2に、この実施形態における制御装置の
制御の手順を、フローチャートで示す。押出成形機1の
稼働開始(ステップS1)と同時に、制御装置は、各入
力関係の非干渉化が必要かどうかを判断する(ステップ
S2)。シリンダ10の各バレル11,12,13の制
御温度が異なる場合のように、制御目標が干渉系である
と判断した場合には、制御目標Pの出力を非干渉部15
0に入力して、非干渉化を適用する(ステップS3)。FIG. 2 is a flowchart showing a control procedure of the control device in this embodiment. At the same time as the start of the operation of the extruder 1 (step S1), the control device determines whether or not each input relationship needs to be made non-interfering (step S2). When it is determined that the control target is an interference system, such as when the control temperatures of the barrels 11, 12, and 13 of the cylinder 10 are different, the output of the control target P is output to the non-interference unit 15
Input 0 to apply decoupling (step S3).
【0045】次に、本発明による制御を適用するかどう
かを判断し、適用しない場合には、スイッチ130及び
スイッチ140をともに切り換えて、操作量付加部11
0及び規範モデル部120を制御系から切り離す(ステ
ップS4)。これにより、PID制御のみによる制御が
可能になる(ステップS11)。Next, it is determined whether or not the control according to the present invention is to be applied. If not, the switch 130 and the switch 140 are both switched so that the operation amount adding section 11
0 and the reference model unit 120 are disconnected from the control system (step S4). As a result, control using only the PID control becomes possible (step S11).
【0046】本発明の制御を適用する場合には、スイッ
チ130,140を操作して、操作量付加部110と制
御対象P及び操作量付加部110と規範モデル部120
を接続状態にし、飽和操作量Umaxを制御対象Pと規範
モデル部120に適用する(ステップS5)。このと
き、規範モデル部120の規範モデルPmが同定済みか
どうかが判断され(ステップS6)、同定が完了してい
なければ、オンラインを使って規範モデルPmの同定を
行う(ステップS7)。When the control of the present invention is applied, the switches 130 and 140 are operated to operate the operation amount adding unit 110, the control object P, the operation amount adding unit 110, and the reference model unit 120.
Is connected, and the saturation operation amount Umax is applied to the control target P and the reference model unit 120 (step S5). At this time, it is determined whether or not the reference model Pm of the reference model unit 120 has been identified (step S6). If the identification has not been completed, the reference model Pm is identified using online (step S7).
【0047】次いで、むだ時間要素e-LSを取り除いた
規範モデルPmの出力をオンラインで測定し(ステップ
S8)、この測定値が予め決定された目標値に到達した
かどうかが判断される(ステップS9)。目標値に到達
していなければ、継続して操作量Umaxが規範モデル部
120及び制御対象Pに入力され(ステップS5)、ス
テップS6〜S9の手順が繰り返される。Next, the output of the reference model Pm from which the dead time element e- LS has been removed is measured online (step S8), and it is determined whether or not the measured value has reached a predetermined target value (step S8). S9). If the target value has not been reached, the operation amount Umax is continuously input to the reference model unit 120 and the control target P (step S5), and the procedure of steps S6 to S9 is repeated.
【0048】目標値に到達すれば、規範モデル部120
の切換操作手段が切換指令をスイッチ130及びスイッ
チ140に出力し、操作量付加部110及び規範モデル
部120が制御系から切り離される(ステップS1
0)。これにより、以後、制御目標PはPID制御によ
って制御される(ステップS11)。When the target value is reached, the reference model unit 120
Outputs the switching command to the switch 130 and the switch 140, and the operation amount adding unit 110 and the reference model unit 120 are disconnected from the control system (step S1).
0). Thereby, the control target P is thereafter controlled by the PID control (step S11).
【0049】次に、本発明の第2の実施形態を図3にし
たがって説明する。この実施形態では、外乱及びモデル
変動を生じさせる要因が作用した場合に、これらの影響
を抑制するための外乱オブザーバ部260を有してい
る。PID制御部100、操作量付加部110等他の部
位については第1の実施形態と同じであるので、同一の
符号を付して詳しい説明は省略する。外乱オブザーバ部
260は、規範モデルPmとレギュレータKOBとから
構成される。この外乱オブザーバ部260は、公知のH
∞制御理論又はμ設計法に基づくものであるのが好まし
い。第1の実施形態と同様に、規範モデルPmからはむ
だ時間要素e−Lsが取り除かれる。 Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In this embodiment, when a factor that causes disturbance and model variation acts, a disturbance observer unit 260 is provided to suppress the influence of these factors. Other parts such as the PID control unit 100 and the operation amount adding unit 110 are the same as those in the first embodiment, and therefore, are denoted by the same reference numerals, and detailed description is omitted. Disturbance observer unit 260 is composed of a reference model Pm and the regulator K OB. This disturbance observer 260 is a known H
∞ Preferably based on control theory or μ design method. As in the first embodiment, the dead time element e- Ls is removed from the reference model Pm.
【0050】この実施形態では、規範モデルPmの出力
と制御目標Pの出力との偏差が求められ、この偏差をレ
ギュレータKOBが補正する。第1の実施形態と同様の
手順で得られた時刻tsw(式6)のタイミングでスイッ
チ130を切り換えてステップ入力Uaに切り換える
と、目標値yaに速く整定できるが、このとき、出力yg
は実際の制御対象より早く目標値に到達する。[0050] In this embodiment, the deviation is determined between the output of the output and the control target P of the reference model Pm, the deviation regulator K OB is corrected. When the switch 130 is switched to the step input Ua at the timing of the time tsw (Equation 6) obtained in the same procedure as in the first embodiment, the target value ya can be settled quickly.
Reaches the target value earlier than the actual control target.
【0051】そこで、規範モデルPmと制御対象Pの出
力差をKOBが補正することによって、実際の制御対象
Pを規範モデルPmに追従させることができる。制御対
象Pを規範モデルPmに追従させた後は、レギュレータ
KOBはH∞外乱オブザーバの役割を果たすことにな
る。[0051] Therefore, the output difference of the reference model Pm and the control object P by K OB is corrected, can be made to follow the actual controlled object P to the reference model Pm. After causing the control target P to follow the reference model Pm, the regulator K OB plays the role of a H∞ disturbance observer.
【0052】次に、この第2の実施形態における制御装
置の制御手順を、図4のフローチャートにしたがって説
明する。なお、図2のフローチャートと同一のステップ
については、同一の符号を付して詳しい説明は省略す
る。この実施形態の制御装置では、規範モデルPmが目
標値に達してスイッチ130,140が切り換えられ、
操作量付加部110が制御系から切り離されるととも
に、規範モデルPmにPID制御部100の出力が入力
される。これにより、外乱オブザーバ部260が、PI
D制御部100の補償器の積分項と、規範モデルPmの
出力と制御目標Pの出力との差を補正し、目標値整定が
完了する(ステップS10′)。以後、PID制御に外
乱オブザーバが加味されて制御が行われる(ステップS
11′)。Next, the control procedure of the control device according to the second embodiment will be described with reference to the flowchart of FIG. Note that the same steps as those in the flowchart of FIG. 2 are denoted by the same reference numerals, and detailed description is omitted. In the control device of this embodiment, the reference model Pm reaches the target value, and the switches 130 and 140 are switched.
The operation amount adding unit 110 is disconnected from the control system, and the output of the PID control unit 100 is input to the reference model Pm. As a result, the disturbance observer 260
The integral term of the compensator of the D control unit 100 and the difference between the output of the reference model Pm and the output of the control target P are corrected, and the target value setting is completed (step S10 '). Thereafter, the control is performed with the disturbance observer added to the PID control (Step S).
11 ').
【0053】[実験結果]本発明の発明者らは、本発明
の制御装置における目標整定能を、アンチワインドアッ
プ非干渉化PID制御系の制御装置の目標整定能と比較
して検討した。以下、その検討結果について説明する。
まず、アンチワインドアップ制御の特徴について簡単に
説明する。アンチワインドアップ制御とは、ワインドア
ップ現象問題を解決するための制御理論で、制御器がP
IあるいはPIDのように構成が簡単で、積分項だけを
他の項から分離して実現できる場合には、直接積分項の
状態のみを操作することにより、ワインドアップ現象を
抑圧できるという特徴を有している。[Experimental Results] The inventors of the present invention examined the target setting ability of the control device of the present invention in comparison with the target setting ability of the control device of the anti-windup decoupling PID control system. Hereinafter, the results of the study will be described.
First, the features of the anti-windup control will be briefly described. Anti-windup control is a control theory for solving the windup phenomenon problem.
In the case where the configuration is simple such as I or PID and only the integral term can be separated from other terms, the windup phenomenon can be suppressed by directly operating only the state of the integral term. are doing.
【0054】アンチワインドアップ制御を非干渉化PI
D制御装置に適用したブロック図を図5(a)に示す。
この制御系では、制御対象PとPID制御器300の間
に飽和特性(リミッタ制限)320が設けられ、この飽
和特性320で、飽和量を超えた入力(操作量)Urと
リミッタにより抑制された入力Uの差を直接PID制御
器300の積分項(1/S)にフィードバックすること
によって、ワインドアップを抑えている。制御対象Pに
はクロスコントローラ350が接続され、状態フィード
バックによる非干渉化が適用されている。押出成形機の
ようなプラントの制御においては、現場技術者の判断に
る比例帯の調整によって、前記補償器の比例動作を決定
している。発明者らは、まず、上記したアンチワインド
アップ制御における適正な比例帯の限界を求めた。Non-interference PI for anti-windup control
FIG. 5A shows a block diagram applied to the D control device.
In this control system, a saturation characteristic (limiter limit) 320 is provided between the control target P and the PID controller 300, and the input (operation amount) Ur exceeding the saturation amount is suppressed by the saturation characteristic 320 by the limiter. Windup is suppressed by directly feeding back the difference of the input U to the integral term (1 / S) of the PID controller 300. A cross controller 350 is connected to the control target P, and decoupling by state feedback is applied. In the control of a plant such as an extruder, the proportional operation of the compensator is determined by adjusting a proportional band determined by a field engineer. The inventors first obtained an appropriate limit of the proportional band in the anti-windup control described above.
【0055】最初に、アンチワインドアップを施さない
一般のPID制御と非干渉化PID制御に関して検討す
る。この場合、シミュレーションから、比例帯は17%
まで狭くすることができた。しかし、それ以上に比例帯
を狭くした場合、システムは不安定となった。比例帯を
17%からさらに狭くすればするほどオーバーシュート
は大きくなり、目標値整定時間は長くなった。First, general PID control without anti-windup and decoupling PID control will be discussed. In this case, the simulation shows that the proportional band is 17%
Could be narrowed down. However, if the proportional band was narrowed further, the system became unstable. The narrower the proportional band from 17%, the greater the overshoot and the longer the target value settling time.
【0056】図5(b)に、比例帯が17%の場合のP
ID制御と非干渉化PID制御シミュレーション結果を
示す。この表からわかるように、比例帯が17%のとき
に比例帯の調整限界を示し、オーバーシュートは生じて
おらずシステムは安定している。目標値の±1℃以内に
整定する時間は、非干渉化PID制御の場合45分であ
る。これに対して、PID制御の場合は、バレル11〜
13間に熱干渉が存在するため、8時間が経過しても目
標値に整定することはできなかった。以下では熱干渉問
題を解決するために非干渉化を施した非干渉化PID制
御のみに限定して検討を行う。FIG. 5 (b) shows the case where the proportional band is 17%.
The ID control and the decoupling PID control simulation result are shown. As can be seen from the table, when the proportional band is 17%, the adjustment limit of the proportional band is indicated, and no overshoot occurs and the system is stable. The settling time within ± 1 ° C. of the target value is 45 minutes in the case of non-interacting PID control. On the other hand, in the case of PID control, barrels 11 to 11
Because of the presence of thermal interference between the two, the target value could not be settled even after 8 hours. In the following, the study will be limited to only the decoupling PID control which has been decoupling in order to solve the thermal interference problem.
【0057】アンチワインドアップ制御を非干渉化PI
D制御に適用し、比例帯の調整限界がどこまで狭くでき
るか、シミュレーションを行った。アンチワインドアッ
プを適用した場合のシミュレーション結果を図6に示
す。図5の非干渉化PID制御の場合、比例帯は17%
までしか狭くできなかった。これは、操作量が飽和状態
となり、PID制御器300の積分項が過剰に誤差情報
を積算してしまうため、オーバシュートを引き起こして
しまうからである。アンチワインドアップ制御の適用に
よって、比例帯は5%まで狭くすることができた。この
ときバレル11,12,13は、目標値の±1℃以内
に、それぞれ17分・19分・22分で目標値整定を完
了する。Anti-windup control is decoupling PI
A simulation was performed to find out how narrow the adjustment limit of the proportional band can be applied to D control. FIG. 6 shows a simulation result when anti-windup is applied. In the case of the decoupling PID control of FIG. 5, the proportional band is 17%.
I couldn't narrow it down to nothing. This is because the operation amount becomes saturated and the integral term of the PID controller 300 excessively accumulates error information, thereby causing overshoot. By applying anti-windup control, the proportional band could be reduced to 5%. At this time, the barrels 11, 12, and 13 complete the target value setting within 17 minutes, 19 minutes, and 22 minutes, respectively, within ± 1 ° C. of the target value.
【0058】本発明の制御によるシミュレーション結果
を図7に示す。図7に関しては、バレル11,12,1
3は、それぞれ22・18・20分で、目標値の±1℃
以内で目標値整定を完了する。これより目標値整定に関
しては、アンチワインドアップ制御と本発明の制御方法
は同様な立ち上がり時間を得ていることがわかる。FIG. 7 shows a simulation result by the control of the present invention. Referring to FIG. 7, barrels 11, 12, 1
3 is 22.18.20 minutes, ± 1 ° C of target value
Complete the target value setting within. From this, it can be seen that with regard to the target value setting, the anti-windup control and the control method of the present invention obtain similar rise times.
【0059】[モデル変動の影響の検討]例えば熱系の
プラントは,装置が設置される場所・季節・操業条件・
システム変更などによってモデル変動を起こし,制御性
能に大きく影響を及ぼす。そこで、発明者らは、システ
ム同定から得られた各パラメータ変動の最大値・最小値
を用いて、モデルの最大変動を表す最大値プラント・最
小値プラントを作成し,モデル変動の影響を受けた場合
の各制御系の応答結果を解析した。[Examination of the effects of model variation] For example, in a thermal system plant, the location where the equipment is installed, the season, the operating conditions,
Model changes occur due to system changes, etc., which greatly affect control performance. Therefore, the inventors created a maximum value plant / minimum value plant representing the maximum variation of the model using the maximum value / minimum value of each parameter variation obtained from the system identification, and were affected by the model variation. The response results of each control system in the case were analyzed.
【0060】図8と図9に、各パラメータ変動に対する
アンチワインドアップ制御と本発明の制御方法における
時間応答のシミュレーション結果を示す。アンチワイン
ドアップ非干渉化PID制御の場合、モデル変動の影響
を受けて目標値に整定できないケースが出てくる。特
に、最大値プラントの時間応答は、図8に示すように、
5℃以上の定常偏差を残している。これに対して本発明
の場合は、図9に示すように、すべてのバレル11〜1
3において、目標値の±1℃以内に整定している。この
ことから本発明は、アンチワインドアップ制御に比べ、
モデル変動が起ころうとも目標値整定を必ず得ることが
できるという利点がある。FIGS. 8 and 9 show simulation results of time response in the anti-windup control for each parameter variation and the control method of the present invention. In the case of anti-windup decoupling PID control, there are cases where the target value cannot be settled due to the influence of the model fluctuation. In particular, the time response of the maximum value plant, as shown in FIG.
A steady-state error of 5 ° C. or more remains. On the other hand, in the case of the present invention, as shown in FIG.
In 3, the temperature is set within ± 1 ° C. of the target value. From this, the present invention, compared to the anti-windup control,
There is an advantage that a target value setting can always be obtained even if model fluctuation occurs.
【0061】また、本発明は、立ち上がり時間が速く、
同時にロバストな制御系を構成することが分かる。これ
により、外的要因を受けやすくモデル変動が起こりやす
い熱系プラントにおいては、ロバストな系を持つ本発明
の制御装置及び制御方法の方が適していると考えられ
る。Also, according to the present invention, the rise time is short,
At the same time, it can be seen that a robust control system is configured. Accordingly, it is considered that the control apparatus and the control method of the present invention having a robust system are more suitable for a thermal system plant that is easily affected by external factors and model fluctuations are likely to occur.
【0062】比例帯を狭めること(比例ゲインを上げる
こと)は、ハードフェア(機械)自身に対して大きな負
担を与える。同時に、ゲインが高いと制御系の感度が高
まり、さまざまな雑音や外乱等に影響しやすい。このた
め,実際現場にて使用される比例動作は適当な比例帯幅
を使用する。代表的な例では,産業用ロボットハンドに
おいてゲインを高く設定して作業を行わせると、ハンド
に振動が伴いながら動作する。機械自身の仕様(スペッ
ク)に対し、仕様の限界点で動作させることは好ましく
ない。比例帯を狭め速応性を向上させることと、ハード
フェアへの負担の2点はトレードオフの関係にあると言
ってよい。Narrowing the proportional band (increase of the proportional gain) imposes a heavy burden on the hardware (machine) itself. At the same time, if the gain is high, the sensitivity of the control system increases, and it is likely to affect various noises and disturbances. For this reason, the proportional operation actually used in the field uses an appropriate proportional bandwidth. In a typical example, when an industrial robot hand is operated with a high gain set, the hand operates with vibration. It is not preferable to operate at the limit of the specification with respect to the specification (specification) of the machine itself. It can be said that there is a trade-off between the narrowing of the proportional band to improve the quick response and the burden on the hardware fair.
【0063】アンチワインドアップ制御と本発明の制御
方法は、共に同様の短い時間で目標値に立ち上がる。し
かし,アンチワインドアップ制御では比例帯は5%であ
り、本発明の制御方法では50%である。本発明の制御
方法の方が、装置自身に余裕を持たせていることから、
装置に負担を与えずとも、希望する早い目標値整定が得
られる長所が得られる。The anti-windup control and the control method of the present invention both rise to the target value in a similar short time. However, the proportional band is 5% in the anti-windup control, and 50% in the control method of the present invention. Since the control method of the present invention allows the device itself a margin,
The advantage that a desired quick target value setting can be obtained without imposing a burden on the device is obtained.
【0064】シミュレーションの確認のため、テスト機
において実験を行った。まず、アンチワインドアップ制
御実験結果を図10に示す。操作量の飽和特性を考慮す
るため、比例帯は5%とした。非干渉化PIDアンチワ
インドアップ制御の結果、バレル11,12,13の目
標値の±1%以内にする時間は、それぞれ約26・27
・25分であり、早い目標値整定が得られている。An experiment was performed on a test machine to confirm the simulation. First, FIG. 10 shows the results of the anti-windup control experiment. To take into account the saturation characteristics of the manipulated variable, the proportional band was set to 5%. As a result of the non-interfering PID anti-windup control, the time for keeping the target values of the barrels 11, 12, and 13 within ± 1% is about 26.27, respectively.
・ It is 25 minutes, and fast target value setting is obtained.
【0065】しかし、比例帯が5%であり機械自身に負
担がかかっていること、また、シミュレーションから得
られているようにモデル変動が生じたときに目標値整定
が得られない場合がある。本実験は基礎加熱実験のため
大きなモデル変動を仮定できないことから、図8の公称
値プラントに対する結果に近い形となっている。実機へ
適用する際は、システムの安全のため稼動方法に細心の
注意が必要であることがわかる。However, the proportional band is 5%, which imposes a load on the machine itself, and the target value may not be set when the model changes as obtained from the simulation. Since this experiment cannot assume a large model variation due to the basic heating experiment, the result is close to the result for the nominal value plant in FIG. It can be seen that when applied to an actual machine, careful attention is required to the operation method for the safety of the system.
【0066】図11に、テスト機における本発明の制御
方法実験結果を示す。比例帯は50%とした。本発明の
制御方法においてバレル11,12,13における目標
値の±1℃以内に整定する時間は、それぞれ約32・3
8・45分である。また,定常状態においても安定して
いる。比較のために、装置自身の余裕を残した比例帯5
0%における非干渉化PID制御についても同様の実験
を行った。これを、図11のグラフで点線で示す。バレ
ル11,12,13のすべて2時間後においても目標値
の±1℃以内に整定しない。これにより、現在使用され
ているPID補償器のみで構成される制御系では2時間
の整定時間を要することが分かった。FIG. 11 shows an experimental result of the control method of the present invention in a test machine. The proportional band was set to 50%. In the control method of the present invention, the settling time within ± 1 ° C. of the target value in the barrels 11, 12, and 13 is about 32.3 times, respectively.
8.45 minutes. It is also stable in a steady state. For comparison, a proportional band 5 with a margin for the device itself was used.
A similar experiment was performed for non-interfering PID control at 0%. This is indicated by the dotted line in the graph of FIG. Even after all of the barrels 11, 12, and 13 after 2 hours, the set value is not set within ± 1 ° C. of the target value. As a result, it has been found that a settling time of 2 hours is required for a control system including only the PID compensator currently used.
【0067】本発明の好適な実施形態について説明した
が、本発明は上記の実施形態により何ら限定されるもの
ではない。例えば、上記の実施形態は、熱系プラントと
して溶融樹脂の押出成形を例に挙げて説明したが、本発
明は押出成形に限らず射出成形にも適用が可能で、樹脂
に限らず金属の押出や射出成形にも適用が可能である。
また、制御対象の温度を目標値に整定させる必要のある
他の熱系プラントにも本発明を適用することが可能であ
る。さらに、シリンダの温度制御を例に挙げて説明した
が、本発明は温度制御を行う必要のある他の部位にも適
用が可能である。Although the preferred embodiments of the present invention have been described, the present invention is not limited to the above embodiments. For example, the above embodiment has been described by taking as an example the extrusion molding of a molten resin as a thermal plant, but the present invention is applicable not only to extrusion molding but also to injection molding. And injection molding.
Further, the present invention can be applied to other thermal plants that need to set the temperature of the control target to the target value. Furthermore, the temperature control of the cylinder has been described as an example, but the present invention can be applied to other parts that require temperature control.
【0068】[0068]
【発明の効果】本発明によれば、成形機の稼働開始とと
もに、ワインドアップを生じることなく、迅速に制御目
標に到達することのできる制御装置及び制御方法を得る
ことができる。また、PID制御を基本としているの
で、熟練した作業者でなくても、また、制御に関する専
門的な知識のない作業者であっても簡単に操作を行うこ
とが可能である。さらに、従来のPID制御系に簡単な
改良を加えるだけで、本発明を適用することが可能であ
り、低廉なコストで実施することができる。さらに、シ
ステムに変更があっても、簡単に対応することが可能で
ある。また、機械的余裕を有し早い目標値整定が得ら
れ、同時に定常状態において安定した制御性能が得られ
る。さらに、本発明は、アンチワインドアップ制御より
優れたロバスト性を得ることができ、モデル変動が起こ
ろうとも安定した温度制御を行える。According to the present invention, it is possible to obtain a control device and a control method that can quickly reach a control target without causing windup when the molding machine starts operating. Further, since the PID control is basically used, it is possible to easily perform the operation even if the operator is not a skilled worker, or even if the worker has no specialized knowledge about the control. Furthermore, the present invention can be applied by simply adding a simple improvement to the conventional PID control system, and can be implemented at low cost. Further, even if there is a change in the system, it is possible to easily cope with the change. In addition, a fast target value setting with a mechanical margin can be obtained, and at the same time, stable control performance in a steady state can be obtained. Further, the present invention can obtain more robustness than anti-windup control, and can perform stable temperature control even if model fluctuation occurs.
【図1】本発明の第1の実施形態にかかる温度制御装置
の制御ブロック図である。FIG. 1 is a control block diagram of a temperature control device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の第1の実施形態にかかり、温度制御装
置の制御手順を説明するフローチャートである。FIG. 2 is a flowchart illustrating a control procedure of a temperature control device according to the first embodiment of the present invention.
【図3】本発明の第2の実施形態にかかる温度制御装置
の制御ブロック図である。FIG. 3 is a control block diagram of a temperature control device according to a second embodiment of the present invention.
【図4】本発明の第1の実施形態にかかり、温度制御装
置の制御手順を説明するフローチャートである。FIG. 4 is a flowchart illustrating a control procedure of a temperature control device according to the first embodiment of the present invention.
【図5】本発明の方法の作用を説明するための図で、
(a)は比較対照であるアンチワインドアップ非干渉化
PID制御系のブロック図、(b)はPID制御と非干
渉化PID制御のシミュレーション結果を示すグラフで
ある。FIG. 5 is a diagram for explaining the operation of the method of the present invention.
(A) is a block diagram of an anti-windup decoupling PID control system which is a control, and (b) is a graph showing simulation results of PID control and decoupling PID control.
【図6】アンチワインドアップ制御を非干渉化PID制
御に適用したシミュレーション結果を示すグラフであ
る。FIG. 6 is a graph showing a simulation result in which anti-windup control is applied to decoupling PID control.
【図7】本発明の方法によるシミュレーション結果を示
すグラフである。FIG. 7 is a graph showing a simulation result by the method of the present invention.
【図8】モデル変動が生じた場合のアンチワインドアッ
プ非干渉化PID制御系のシミュレーション結果を示す
グラフである。FIG. 8 is a graph showing a simulation result of an anti-windup decoupling PID control system when a model variation occurs.
【図9】図8と同様の場合における本発明の制御装置の
シミュレーション結果である。FIG. 9 is a simulation result of the control device of the present invention in the same case as in FIG. 8;
【図10】アンチワインドアップ非干渉化PID制御系
の実験結果を示すグラフである。FIG. 10 is a graph showing experimental results of an anti-windup decoupling PID control system.
【図11】本発明の実験結果を示すグラフである。FIG. 11 is a graph showing experimental results of the present invention.
【図12】成形機の一例にかかり、押出成形機の構成を
説明する概略図である。FIG. 12 is a schematic view illustrating an example of a molding machine and illustrating a configuration of an extrusion molding machine.
1 押出成形機(成形機) 10 シリンダ 11〜13 バレル 20 ダイ 21 押出口 30 押出機構 41〜43 ヒータベルト 50 ホッパ 100 PID制御部 110 操作量付加部 120 規範モデル部 130 スイッチ(第1の切換手段) 140 スイッチ(第2の切換手段) 50 非干渉制御部 260 外乱オブザーバ部 320 飽和特性 Pm 規範モデル e-Ls むだ時間要素 L むだ時間 KOB レギュレータ U 操作量 Umax 操作量の最大値(飽和値)DESCRIPTION OF REFERENCE NUMERALS 1 Extrusion molding machine (molding machine) 10 Cylinder 11 to 13 Barrel 20 Die 21 Extrusion port 30 Extrusion mechanism 41 to 43 Heater belt 50 Hopper 100 PID control unit 110 Operation amount addition unit 120 Reference model unit 130 Switch (first switching means) 140 switch (second switching means) 50 non-interference controller 260 disturbance observer 320 saturation characteristic Pm reference model e- Ls dead time element L dead time K OB regulator U operation amount Umax Maximum value of operation amount (saturation value)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G05B 13/02 G05B 13/02 C G05D 23/19 G05D 23/19 J (72)発明者 小野垣 仁 東京都府中市四谷2−53 富士見荘1−1 (72)発明者 若林 栄次 神奈川県川崎市幸区神明町1丁目80番地 株式会社池貝内 (72)発明者 岩谷 征 神奈川県川崎市幸区神明町1丁目80番地 株式会社池貝内 Fターム(参考) 4F207 AR06 KM01 5H004 GA02 GA03 GA17 GB02 HA01 HB01 JB22 KA52 KA66 KA71 KA72 KB02 KB04 KB06 KB13 KB32 KC18 KC34 KC46 LA01 LA03 LB05 5H323 AA01 BB04 CA06 CB02 CB42 KK05 KK10 LL01 LL02 LL05 9A001 BB02 BB06 GG03 HH32 HH34 JJ48 KK54 LL09 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G05B 13/02 G05B 13/02 C G05D 23/19 G05D 23/19 J (72) Inventor Hitoshi Onogaki Tokyo 2-53 Yotsuya, Fuchu-shi, 1-1 Fujimi-so 1-1 (72) Inventor Eiji Wakabayashi 1-80 Shinmei-cho, Saiwai-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture Ikekainai Co., Ltd. 1-chome No. 80 Ikegai Corporation F-term (reference) 4F207 AR06 KM01 5H004 GA02 GA03 GA17 GB02 HA01 HB01 JB22 KA52 KA66 KA71 KA72 KB02 KB04 KB06 KB13 KB32 KC18 KC34 KC46 LA01 LA03 LB05 5H323 AA01 BB04 CB04 KK04 CB04 CB04 9A001 BB02 BB06 GG03 HH32 HH34 JJ48 KK54 LL09
Claims (11)
めの熱系プラントの温度制御装置において、 目標値と前記熱系プラントにおける制御対象から出力さ
れた出力値との偏差に応じた所定の操作量を出力し、前
記制御対象の温度を制御するPID制御部と、 このPID制御とは別に設けられ、前記制御対象を操作
するための操作量を出力する操作量付加部と、 規範モデルを有するとともに、この規範モデルからむだ
時間要素を取り除くむだ時間除去手段を有する規範モデ
ル部と、 前記操作量付加部から出力された操作量を前記制御対象
に入力する側と、前記PID制御部からの操作量を入力
する側との間で回路を選択的に切り換える第1の切換部
とを有し、 前記規範モデル部は、前記むだ時間除去手段によって前
記むだ時間要素が除去された前記規範モデルの出力を測
定し、この測定結果が予め定められた目標値に到達した
ときに前記第1の切換部を操作して、前記操作量付加部
から前記制御対象への操作量の入力を遮断すること、 を特徴とする熱系プラントの温度制御装置。1. A temperature control device for a thermal plant for stabilizing a temperature of a control target to a target value, wherein a predetermined value corresponding to a deviation between the target value and an output value output from the control target in the thermal plant. A PID control unit that outputs an operation amount and controls the temperature of the control object; an operation amount addition unit that is provided separately from the PID control and that outputs an operation amount for operating the control object; A reference model unit having a dead time removing unit for removing a dead time element from the reference model; a side for inputting the operation amount output from the operation amount adding unit to the control target; A first switching section for selectively switching a circuit between the circuit and the input side of the operation amount, wherein the reference model section has the dead time component removed by the dead time removing means. The output of the reference model is measured, and when the measurement result reaches a predetermined target value, the first switching unit is operated to control the operation amount from the operation amount adding unit to the control target. Shutting off the input; a temperature control device for a thermal plant.
完了していない場合に、オンラインによって前記規範モ
デルの同定を行う規範モデルオンライン同定手段を設け
たことを特徴とする請求項1に記載の熱系プラントの温
度制御装置。2. The reference model on-line identification unit according to claim 1, further comprising a reference model online identification unit that identifies the reference model online when identification of the reference model in the reference model unit is not completed. Temperature control equipment for thermal plants.
範モデル部に入力する側と、前記PID制御部からの制
御結果を入力する側との間で回路を選択的に切り換える
第2の切換部を設けるとともに、外乱が作用したとき
に、この外乱による影響を抑制する外乱オブザーバ部を
設けたことを特徴とする請求項1又は2に記載の熱系プ
ラントの温度制御装置。3. A circuit for selectively switching a circuit between a side for inputting an operation amount from the operation amount adding section to the reference model section and a side for inputting a control result from the PID control section. The temperature control device for a thermal plant according to claim 1 or 2, further comprising a switching unit, and a disturbance observer unit that suppresses the influence of the disturbance when the disturbance acts.
部とレギュレータとから構成し、前記外乱に加えて前記
規範モデルのモデル変動を生じさせる要因が作用したと
きに、この要因による影響を前記レギュレータで補正す
るようにしたことを特徴とする請求項3に記載の熱系プ
ラントの温度制御装置。4. The disturbance observer unit comprises the reference model unit and a regulator, and when a factor that causes a model variation of the reference model acts in addition to the disturbance, the influence of this factor is reduced by the regulator. 4. The temperature control device for a thermal plant according to claim 3, wherein the temperature control is corrected.
はμ制御理論に基づくものであることを特徴とする請求
項4に記載の熱系プラントの温度制御装置。5. The temperature control device according to claim 4, wherein the disturbance observer is based on H∞ control theory or μ control theory.
を、前記制御対象に入力することのできる最大の操作量
としたことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載
の熱系プラントの温度制御装置。6. The thermal system according to claim 1, wherein the operation amount input from the operation amount adding unit is a maximum operation amount that can be input to the control target. Plant temperature control device.
に、前記制御対象に非干渉化部を設けたことを特徴とす
る請求項1〜6のいずれかに記載の熱系プラントの温度
制御装置。7. The temperature of a thermal plant according to claim 1, wherein a decoupling unit is provided on the control target in order to apply decoupling to the control target. Control device.
めの熱系プラントの温度制御方法において、 目標値と前記熱系プラントにおける制御対象から出力さ
れた出力値との偏差に応じた所定の操作量をPID制御
によって出力し、前記制御対象の温度を制御し、 前記制御対象を操作するための操作量を、同定済みの規
範モデル及び前記制御対象に加え、 前記規範モデルからむだ時間を取り除き、 むだ時間が除去された前記規範モデルの出力を測定し、
この測定結果が予め定められた目標値に到達したとき
に、前記操作量の前記制御対象への入力を遮断し、前記
PID制御に基づいて前記制御対象を制御すること、 を特徴とする熱系プラントの温度制御方法。8. A method for controlling a temperature of a thermal plant for stabilizing a temperature of a control target to a target value, wherein the predetermined value corresponding to a deviation between the target value and an output value output from the control target in the thermal plant. An operation amount is output by PID control, a temperature of the control object is controlled, an operation amount for operating the control object is added to the identified reference model and the control object, and a dead time is removed from the reference model. Measuring the output of the reference model with dead time removed,
When the measurement result reaches a predetermined target value, the input of the operation amount to the control target is cut off, and the control target is controlled based on the PID control. Plant temperature control method.
ことのできる操作量の最大値であることを特徴とする請
求項8に記載の熱系プラントの温度制御方法。9. The temperature control method for a thermal plant according to claim 8, wherein the operation amount is a maximum value of an operation amount that can be input to the control target.
デル変動を生じさせる要因が生じたときに、外乱オブザ
ーバによりこれら要因による影響を抑制することを特徴
とする請求項8又は9に記載の熱系プラントの温度制御
方法。10. The heat according to claim 8, wherein when a disturbance or a factor causing a model variation of the reference model occurs in the control system, a disturbance observer suppresses the influence of the factor. System plant temperature control method.
又はμ制御理論に基づくものであることを特徴とする請
求項10に記載の熱系プラントの温度制御方法。Wherein said disturbance observer, the temperature control method of the thermal system plant according to claim 10, characterized in that is based on the H ∞ control theory or μ control theory.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000080878A JP2001265408A (en) | 2000-03-22 | 2000-03-22 | Device and method for controlling temperature of heat system plant |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000080878A JP2001265408A (en) | 2000-03-22 | 2000-03-22 | Device and method for controlling temperature of heat system plant |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001265408A true JP2001265408A (en) | 2001-09-28 |
Family
ID=18597908
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000080878A Pending JP2001265408A (en) | 2000-03-22 | 2000-03-22 | Device and method for controlling temperature of heat system plant |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001265408A (en) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1321836A1 (en) * | 2001-11-30 | 2003-06-25 | Omron Corporation | Controller, temperature controller and heat processor using same |
CN100340933C (en) * | 2004-06-15 | 2007-10-03 | 袁璞 | Control and control system for continuous chemical reactor production |
CN101893296A (en) * | 2009-05-22 | 2010-11-24 | 富士电机系统株式会社 | Accurate temperature adjusting system and control device thereof |
CN103713521A (en) * | 2013-12-31 | 2014-04-09 | 广州市香港科大霍英东研究院 | 2D controller design method for interval time lag in injection modeling process |
WO2014084098A1 (en) * | 2012-11-30 | 2014-06-05 | 富士電機株式会社 | Control device design method and control device |
JP5655957B2 (en) * | 2011-11-22 | 2015-01-21 | トヨタ自動車株式会社 | Feedback control system |
JP2017167813A (en) * | 2016-03-16 | 2017-09-21 | 株式会社Kelk | Temperature controller of semiconductor wafer, and temperature control method of semiconductor wafer |
US20220266680A1 (en) * | 2021-02-22 | 2022-08-25 | Ford Global Technologies, Llc | Method and system for vehicle cooling systems |
-
2000
- 2000-03-22 JP JP2000080878A patent/JP2001265408A/en active Pending
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1321836A1 (en) * | 2001-11-30 | 2003-06-25 | Omron Corporation | Controller, temperature controller and heat processor using same |
US6688532B2 (en) | 2001-11-30 | 2004-02-10 | Omron Corporation | Controller, temperature controller and heat processor using same |
CN100340933C (en) * | 2004-06-15 | 2007-10-03 | 袁璞 | Control and control system for continuous chemical reactor production |
CN101893296A (en) * | 2009-05-22 | 2010-11-24 | 富士电机系统株式会社 | Accurate temperature adjusting system and control device thereof |
KR101270568B1 (en) | 2009-05-22 | 2013-06-03 | 후지 덴키 가부시키가이샤 | Precision temperature-adjustment system and its control device |
CN101893296B (en) * | 2009-05-22 | 2013-07-03 | 富士电机株式会社 | Accurate temperature adjusting system and control device thereof |
JP5655957B2 (en) * | 2011-11-22 | 2015-01-21 | トヨタ自動車株式会社 | Feedback control system |
US9228528B2 (en) | 2011-11-22 | 2016-01-05 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Feedback control system |
WO2014084098A1 (en) * | 2012-11-30 | 2014-06-05 | 富士電機株式会社 | Control device design method and control device |
JP5817940B2 (en) * | 2012-11-30 | 2015-11-18 | 富士電機株式会社 | Control device design method and control device |
EP2927757A4 (en) * | 2012-11-30 | 2016-08-31 | Fuji Electric Co Ltd | Control device design method and control device |
JPWO2014084098A1 (en) * | 2012-11-30 | 2017-01-05 | 富士電機株式会社 | Control device design method and control device |
US10409229B2 (en) | 2012-11-30 | 2019-09-10 | Fuji Electric Co., Ltd. | Method of control device and control device |
CN103713521A (en) * | 2013-12-31 | 2014-04-09 | 广州市香港科大霍英东研究院 | 2D controller design method for interval time lag in injection modeling process |
CN103713521B (en) * | 2013-12-31 | 2017-01-11 | 广州市香港科大霍英东研究院 | 2D controller design method for interval time lag in injection modeling process |
JP2017167813A (en) * | 2016-03-16 | 2017-09-21 | 株式会社Kelk | Temperature controller of semiconductor wafer, and temperature control method of semiconductor wafer |
US20220266680A1 (en) * | 2021-02-22 | 2022-08-25 | Ford Global Technologies, Llc | Method and system for vehicle cooling systems |
US11548372B2 (en) * | 2021-02-22 | 2023-01-10 | Ford Global Technologies, Llc | Method and system for vehicle cooling systems |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100511670B1 (en) | Control Device, Temperature Controller, and Heat Treatment Device | |
Zheng et al. | An energy saving, factory-validated disturbance decoupling control design for extrusion processes | |
EP2636504B1 (en) | Kneading/extruding equipment and control method thereof | |
JPH03164224A (en) | Apparatus for controlling heating temperature | |
JP2001527231A (en) | Prediction method of overshoot in control system response | |
JPS635401A (en) | Proportional control method for program temperature regulator | |
JP2001265408A (en) | Device and method for controlling temperature of heat system plant | |
US4804505A (en) | Method of operating a screw extruder and screw extruders for carrying out said methods | |
JPH08506441A (en) | Regulator for particularly nonlinear time-varying processes | |
JPS63242333A (en) | Control apparatus for kneader | |
US6920362B2 (en) | Control apparatus | |
JPH11305805A (en) | Process control method and electronic device manufacture using the same | |
JPH026118A (en) | Method and device for controlling resin pressure of extrusion molding equipment | |
JP2018112956A (en) | Controller, method for control, and control program | |
JP2004240815A (en) | Process control method | |
JPH09155953A (en) | Method for controlling operation of extrusion molding machine | |
JP4403606B2 (en) | Optical fiber drawing method and drawing apparatus | |
JPH0566851B2 (en) | ||
CN218512847U (en) | Quick high-precision temperature control device | |
JPS62204917A (en) | Nozzle temperature regulating device for molder | |
RU2335010C1 (en) | Method of electrical heating device control | |
Roy et al. | Fractional-order controller for automatic voltage regulator | |
RU2656751C1 (en) | Device for temperature control of the temperature controlling air of the ascent unit | |
EP3644149A1 (en) | Control apparatus for industrial machine, control system for industrial machine, and method for controlling industrial machine | |
SU1130396A1 (en) | Device for controlling thermal conditions of autoclave with external electric heating |