JP2001264991A - Original plate of planographic printing plate - Google Patents
Original plate of planographic printing plateInfo
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- JP2001264991A JP2001264991A JP2000073858A JP2000073858A JP2001264991A JP 2001264991 A JP2001264991 A JP 2001264991A JP 2000073858 A JP2000073858 A JP 2000073858A JP 2000073858 A JP2000073858 A JP 2000073858A JP 2001264991 A JP2001264991 A JP 2001264991A
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は赤外線レーザで書き
込み可能な平版印刷版原版に関し、詳しくは、記録層の
密着性に優れ、非画像部の汚れが発生し難いネガ型の記
録層を有する平版印刷版原版に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lithographic printing plate precursor that can be written with an infrared laser, and more particularly, to a lithographic printing plate having a negative recording layer which has excellent adhesion of a recording layer and is less likely to cause stains in a non-image area. Regarding the printing plate.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年におけるレーザーの発展は目ざまし
く、特に、近赤外線から赤外線領域に発光領域を持つ個
体レーザーや半導体レーザーでは、高出力・小型化が進
んでいる。したがって、コンピュータ等のディジタルデ
ータから直接製版する際の露光光源として、これらのレ
ーザーは非常に有用である。前述の赤外線領域に発光領
域を持つ赤外線レーザーを露光光源として使用する、赤
外線レーザ用ネガ型平版印刷版材料は、赤外線吸収剤
と、光又は熱によりラジカルを発生する重合開始剤と、
重合性化合物とを含む感光層を有する平版印刷版材料で
ある。2. Description of the Related Art In recent years, the development of lasers has been remarkable, and in particular, solid lasers and semiconductor lasers having a light emitting region in the near infrared to infrared region have been increasing in output and miniaturization. Therefore, these lasers are very useful as an exposure light source when making a plate directly from digital data of a computer or the like. Using an infrared laser having an emission region in the infrared region as an exposure light source, a negative type lithographic printing plate material for an infrared laser, an infrared absorber, and a polymerization initiator that generates radicals by light or heat,
A lithographic printing plate material having a photosensitive layer containing a polymerizable compound.
【0003】通常、このようなネガ型の画像記録材料
は、光又は熱により発生したラジカルを開始剤として重
合反応を生起させ、露光部の記録層を硬化させて画像部
を形成する記録方式を利用している。このようなネガ型
の画像形成材料は、赤外線レーザ照射のエネルギーによ
り記録層の可溶化を起こさせるポジ型に比較して画像形
成性が低く、重合による硬化反応を促進させて強固な画
像部を形成するため、現像工程前に加熱処理を行うのが
一般的である。このような光又は熱による重合系の記録
層を有する印刷版としては、特開平8−108621
号、特開平9−34110号の各公報に記載されるよう
な光重合性或いは熱重合性組成物を感光層として用いる
技術が知られている。これらの感光層は高感度画像形成
性に優れているものの、陽極酸化(AD)処理、或いは
さらにAD処理後にケイ酸ソーダで親水化処理されたア
ルミニウム基板を用いており、AD処理されたアルミ基
板を支持体として用いた場合には感光層が支持体に吸着
し、両者の密着性に優れるため、画像部には問題がない
が、非画像部が現像液で完全には除去されず、印刷時、
現像不良の残膜に起因する非画像部の汚れが発生し易い
という問題があった。一方、支持体として、AD処理後
ケイ酸ソーダで処理された基板を用いた場合、感光層と
支持体との界面における密着性が低く、このため、現像
時に画像部の感光層も現像液で損傷したり、画像が流れ
てしまい、画像形成されないという問題があった。Usually, such a negative type image recording material employs a recording system in which a polymerization reaction is caused by using a radical generated by light or heat as an initiator, and a recording layer in an exposed portion is cured to form an image portion. We are using. Such a negative type image forming material has a lower image forming property than a positive type in which the recording layer is solubilized by the energy of infrared laser irradiation, and promotes a curing reaction by polymerization to form a strong image portion. In general, a heat treatment is performed before the development step in order to form. A printing plate having such a light- or heat-polymerized recording layer is disclosed in JP-A-8-108621.
And a technique using a photopolymerizable or thermopolymerizable composition as a photosensitive layer as described in JP-A-9-34110. Although these photosensitive layers are excellent in high-sensitivity image forming properties, they use anodized (AD) treatment or an aluminum substrate that has been subjected to AD treatment and then hydrophilized with sodium silicate. When used as a support, the photosensitive layer is adsorbed to the support and the adhesion between the two is excellent, so that there is no problem in the image area, but the non-image area is not completely removed by the developer, and the printing is not performed. Time,
There has been a problem that stains in the non-image area easily occur due to the residual film of poor development. On the other hand, when a substrate treated with sodium silicate after AD treatment is used as the support, the adhesion at the interface between the photosensitive layer and the support is low. There has been a problem that the image is damaged or the image flows and the image is not formed.
【0004】このような問題点を解決すべく、例えば、
特開平10−69092号公報には、p−ビニル安息香
酸などの特定の構造単位を含有する高分子化合物を含む
中間層を設けた平版印刷版が提案されているが、この平
版印刷版はポジ型の感光層を有するものであり、また、
耐刷性能に優れるものの、汚れの発生防止という観点か
らは十分ではなく、例えば親水性に優れた支持体との組
合せにおいてのみ双方の効果が発揮されるものであっ
た。In order to solve such a problem, for example,
JP-A-10-69092 proposes a lithographic printing plate provided with an intermediate layer containing a polymer compound containing a specific structural unit such as p-vinylbenzoic acid. Having a photosensitive layer of the type
Although the printing durability was excellent, it was not sufficient from the viewpoint of preventing generation of stains. For example, both effects were exhibited only in combination with a support having excellent hydrophilicity.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題点を
考慮してなされたものであり、本発明の目的は、画像部
においては、基板と感光層との密着性に優れ、非画像部
では現像不良による汚れが発生し難い、耐刷性に優れ
た、ネガ型の平版印刷版原版を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in consideration of the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide an image portion having excellent adhesion between a substrate and a photosensitive layer, and a non-image portion. Accordingly, an object of the present invention is to provide a negative type lithographic printing plate precursor which is less likely to be stained by poor development and has excellent printing durability.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
の結果、アルミニウム支持体上に特定の中間層を設ける
ことにより、非画像部の残色防止及び感光層と支持体と
の密着性向上を達成することを見出し本発明を完成し
た。即ち、本発明の平版印刷版原版は、ヒートモード対
応の平版印刷版原版であって、陽極酸化処理が施された
アルミニウム支持体上に、酸基とオニウム基を有する重
合体を含有する中間層と、I)赤外線吸収剤、II)熱重
合開始剤、III)重合性の不飽和基を有する化合物、及
び、IV)水不溶性且つアルカリ水溶液可溶性のバインダ
ーを含有する感光層とを順次設けてなることを特徴とす
る。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventors have found that by providing a specific intermediate layer on an aluminum support, it is possible to prevent the residual color in the non-image portion and to make the photosensitive layer adhere to the support. It has been found that the improvement of the performance is achieved, and the present invention has been completed. That is, the lithographic printing plate precursor of the present invention is a lithographic printing plate precursor that is compatible with a heat mode, and has an intermediate layer containing a polymer having an acid group and an onium group on an anodized aluminum support. And I) an infrared absorber, II) a thermal polymerization initiator, III) a compound having a polymerizable unsaturated group, and IV) a photosensitive layer containing a water-insoluble and aqueous alkali-soluble binder. It is characterized by the following.
【0007】なお、本発明において「ヒートモード対
応」とは、ヒートモード露光による記録が可能であるこ
とを意味する。本発明におけるヒートモード露光の定義
について詳述する。Hans−Joachim Tim
pe,IS&Ts NIP 15:1999 Inte
rnational Conference on D
igital Printing Technolog
ies.P.209に記載されているように、感光体材
料において光吸収物質(例えば色素)を光励起させ、化
学的或いは物理的変化を経て、画像を形成するその光吸
収物質の光励起から化学的或いは物理的変化までのプロ
セスには大きく分けて二つのモードが存在することが知
られている。1つは光励起された光吸収物質が感光材料
中の他の反応物質と何らかの光化学的相互作用(例え
ば、エネルギー移動、電子移動)をすることで失活し、
その結果として活性化した反応物質が上述の画像形成に
必要な化学的或いは物理変化を引き起こすいわゆるフォ
トンモードであり、もう1つは光励起された光吸収物質
が熱を発生し失活し、その熱を利用して反応物質が上述
の画像形成に必要な化学的或いは物理変化を引き起こす
いわゆるヒートモードである。その他、物質が局所的に
集まった光のエネルギーにより爆発的に飛び散るアブレ
ーションや1分子が多数の光子を一度に吸収する多光子
吸収など特殊なモードもあるがここでは省略する。上述
の各モードを利用した露光プロセスをフォントモード露
光及びヒートモード露光と呼ぶ。フォントモード露光と
ヒートモード露光の技術的な違いは目的とする反応のエ
ネルギー量に対し露光する数個の光子のエネルギー量を
加算して使用できるかどうかである。例えばn個の光子
を用いて、ある反応を起こすことを考える。フォントモ
ード露光では光化学的相互作用を利用しているため、量
子のエネルギー及び運動量保存則の要請により1光子の
エネルギーを足し併せて使用することができない。つま
り、何らかの反応を起こすためには「1光子のエネルギ
ー量≧反応のエネルギー量」の関係が必要である。一
方、ヒートモード露光では光励起後に熱を発生し、光エ
ネルギーを熱に変換し利用するためエネルギー量の足し
併せが可能となる。そのため、「n個の光子のエネルギ
ー量≧反応のエネルギー量」の関係があれが十分とな
る。但し、このエネルギー量加算には熱拡散による制約
を受ける。即ち、今注目している露光部分(反応点)か
ら熱拡散により熱が逃げるまでに次の光励起−失活過程
が起こり熱が発生すれば、熱は確実に蓄積加算し、その
部分の温度上昇につながる。しかし、次の熱の発生が遅
い場合には熱が逃げて蓄積されない。つまり、ヒートモ
ード露光では同じ全露光エネルギー量であっても高エネ
ルギー量の光を短い時間照射した場合と低エネルギー量
の光を長い時間照射した場合とでは結果が異なり、短時
間の方が熱の蓄積に有利になる。In the present invention, "corresponding to the heat mode" means that recording by heat mode exposure is possible. The definition of the heat mode exposure in the present invention will be described in detail. Hans-Joachim Tim
pe, IS & Ts NIP 15: 1999 Inte
rational Conference on D
digital printing technology
ies. P. As described in 209, a photoabsorbing substance (for example, a dye) is photoexcited in a photoreceptor material, and undergoes a chemical or physical change to form a chemical or physical change from the photoexcitation of the photoabsorbing substance forming an image. It is known that there are roughly two modes in the above processes. One is that the photo-excited light-absorbing substance deactivates due to some photochemical interaction (eg, energy transfer, electron transfer) with other reactants in the photosensitive material,
As a result, a so-called photon mode in which the activated reactant causes a chemical or physical change required for the above-described image formation, and the other is that the photoexcited light absorbing substance generates heat and deactivates, and the heat is lost. This is a so-called heat mode in which a reactant causes a chemical or physical change required for image formation by utilizing the above-mentioned method. In addition, there are special modes such as ablation in which substances are explosively scattered by the energy of light locally collected and multiphoton absorption in which one molecule absorbs many photons at a time, but these modes are omitted here. The exposure process using each of the above modes is called a font mode exposure and a heat mode exposure. The technical difference between the font mode exposure and the heat mode exposure is whether or not the energy amount of several photons to be exposed can be added to the energy amount of the target reaction. For example, consider a case where a certain reaction occurs using n photons. In the font mode exposure, photochemical interaction is used, so that the energy of one photon cannot be added and used due to the requirement of the law of conservation of quantum energy and momentum. That is, in order to cause a certain reaction, the relationship of “energy amount of one photon ≧ energy amount of reaction” is necessary. On the other hand, in heat mode exposure, heat is generated after light excitation, and light energy is converted into heat and used, so that the amount of energy can be added. Therefore, the relationship “energy amount of n photons ≧ energy amount of reaction” is sufficient. However, this energy addition is restricted by thermal diffusion. In other words, if the next photoexcitation-deactivation process occurs and heat is generated before heat escapes from the exposed portion (reaction point) of interest by thermal diffusion, the heat is reliably accumulated and added, and the temperature rises in that portion. Leads to. However, when the next heat is generated slowly, the heat escapes and is not accumulated. In other words, in the heat mode exposure, even if the total exposure energy is the same, the result is different between the case where the high energy light is irradiated for a short time and the case where the low energy light is irradiated for a long time. It becomes advantageous for accumulation of.
【0008】無論、フォントモード露光では後続反応種
の拡散の影響で似た様な現象が起こる場合もあるが基本
的には、このようなことは起こらない。即ち、感光材料
の特性として見た場合、フォントモードでは露光パワー
密度(w/cm2)(=単位時間当たりのエネルギー密
度)に対し感光材料の固有感度(画像形成に必要な反応
のためのエネルギー量)は一定となるが、ヒートモード
では露光パワー密度に対し感光材料の固有感度が上昇す
ることになる。従って、実際に画像記録材料として実用
上、必要な生産性を維持できる程度の露光時間を固定す
ると、各モードを比較した場合、フォントモード露光で
は通常は約0.1mJ/cm2程度の高感度化が達成で
きるもののどんな少ない露光量でも反応が起こるため、
未露光部での低露光カブリの問題が生じ易い。これに対
し、ヒートモード露光ではある一定以上の露光量でない
と反応が起こらず、また感光材料の熱安定性との関係か
ら通常は50mJ/cm2程度が必要となるが、低露光
カブリの問題が回避される。そして、事実上ヒートモー
ド露光では感光材料の版面での露光パワー密度が500
0w/cm2以上が必要であり、好ましくは10000
w/cm2以上が必要となる。但し、ここでは詳しく述
べなかったが5.0×105/cm2以上の高パワー密度
レーザーを利用するとアブレーションが起こり、光源を
汚す等の問題から好ましくない。Of course, in the font mode exposure, a similar phenomenon may occur due to the influence of the diffusion of the subsequent reactive species, but basically, this does not occur. That is, in terms of the characteristics of the photosensitive material, in the font mode, the intrinsic sensitivity of the photosensitive material (energy for reaction required for image formation) versus exposure power density (w / cm 2 ) (= energy density per unit time). Amount) is constant, but in the heat mode, the intrinsic sensitivity of the photosensitive material increases with respect to the exposure power density. Therefore, when the exposure time is fixed so that the productivity necessary for practical use as an image recording material can be maintained, a high sensitivity of about 0.1 mJ / cm 2 is usually obtained in the font mode exposure when comparing the modes. Reaction can be achieved at any low exposure, although
The problem of low-exposure fog is likely to occur in the unexposed area. On the other hand, in the heat mode exposure, a reaction does not occur unless the exposure amount exceeds a certain value, and usually about 50 mJ / cm 2 is required in relation to the thermal stability of the photosensitive material. Is avoided. In fact, in heat mode exposure, the exposure power density on the plate surface of the photosensitive material is 500
0 w / cm 2 or more, preferably 10,000
w / cm 2 or more is required. However, although not described in detail here, when a high power density laser of 5.0 × 10 5 / cm 2 or more is used, ablation occurs, which is not preferable because of problems such as soiling the light source.
【0009】本発明の作用は明確ではないが、酸基と、
オニウム塩を有する重合体を含む中間層を設けること
で、非画像部では中間層を形成する重合体に親水性のオ
ニウム基を有するため、アルカリ現像液に対して浸透性
が向上し、残膜しにくくなる。一方、画像部では中間層
に含まれる酸基が陽極酸化処理されたアルミ基板上の酸
化アルミニウムと相互作用すること、オニウム基が感光
層のアルカリ可溶性基と相互作用して密着性が向上する
こと、重合系であるために上層が速やかに硬化して現像
液の浸透が遅くなり、画像部における相互作用が保持さ
れやすいこと、等により耐刷性が向上するものと考えら
れる。また、AD処理後にケイ酸ソーダで親水化処理さ
れたアルミ基板を用いた場合には、非画像部では中間層
を形成する重合体に酸基を有するため、アルカリ現像液
に対して浸透性が向上し、残膜しにくくなる。画像部で
は、ケイ酸ソーダで処理されたアルミニウム基板と感光
層との間で、オニウム塩は、感光層中のアルカリ可溶性
基、及び、基板上のSiOH基と水素結合や静電相互作
用などの相互作用を示し、支持体上に直接感光層を設け
た場合に比べ両者の密着性が著しく向上するため、非画
像部の汚れ防止と画像形成性、画像部の支持体との密着
性向上が達成されるものと考えられる。また、ヒートモ
ードであるため、露光部は露光により発熱し、その熱の
より酸基と酸化アルミニウムとの相互作用、オニウム塩
とSiOH基との相互作用が強化される。さらに、本発
明に係る感光層は熱重合組成物からなり、赤外線レーザ
の露光により表層の露光部から硬化が開始されるため、
表面からの現像液の浸透が効果的に抑制されアルミニウ
ム支持体近傍における現像作用が抑制されることも、画
像部の密着性に有用であると考えられる。本発明におい
ては、いずれの支持体を用いるかは、感光層の組成、現
像液の種類等により好適なものを選択できる。Although the function of the present invention is not clear,
By providing an intermediate layer containing a polymer having an onium salt, the polymer forming the intermediate layer has a hydrophilic onium group in the non-image area, so that the permeability to an alkali developing solution is improved, and the remaining film is removed. It becomes difficult to do. On the other hand, in the image area, the acid groups contained in the intermediate layer interact with the aluminum oxide on the anodized aluminum substrate, and the onium groups interact with the alkali-soluble groups in the photosensitive layer to improve adhesion. It is considered that the printing durability is improved by the fact that the upper layer is rapidly cured due to the polymerization system, the penetration of the developer is slowed down, and the interaction in the image area is easily maintained. In addition, when an aluminum substrate that has been hydrophilized with sodium silicate after the AD treatment is used, the polymer forming the intermediate layer has an acid group in the non-image area, and thus has a permeability to an alkali developing solution. And the remaining film is hardly formed. In the image area, between the aluminum substrate treated with sodium silicate and the photosensitive layer, the onium salt reacts with alkali-soluble groups in the photosensitive layer and SiOH groups on the substrate, such as hydrogen bonding and electrostatic interaction. It shows interaction and significantly improves the adhesion between the two, as compared with the case where the photosensitive layer is directly provided on the support. It is expected to be achieved. Further, since the heat mode is used, the exposed portion generates heat due to the exposure, and the interaction between the acid group and the aluminum oxide and the interaction between the onium salt and the SiOH group are enhanced by the heat. Furthermore, the photosensitive layer according to the present invention is made of a thermopolymerizable composition, and curing is started from an exposed portion of a surface layer by exposure to an infrared laser,
It is considered that the fact that the penetration of the developer from the surface is effectively suppressed and the developing action in the vicinity of the aluminum support is suppressed is also useful for the adhesion of the image area. In the present invention, a suitable support can be selected depending on the composition of the photosensitive layer, the type of the developer, and the like.
【0010】[0010]
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の平版印刷版原版の感光層は、I)赤外線吸収
剤、II)熱重合開始剤、III)重合性の不飽和基を有す
る化合物、及び、IV)水不溶性且つアルカリ水溶液可溶
性のバインダーを含有するが、赤外線レーザの照射によ
り、I)赤外線吸収剤が発熱し、赤外線レーザの光或い
はI)赤外線吸収剤が発生した熱により、II)熱重合開
始剤が反応してラジカルを発生し、III)重合性の不飽
和基を有する化合物の硬化反応を促進する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention comprises I) an infrared absorber, II) a thermal polymerization initiator, III) a compound having a polymerizable unsaturated group, and IV) a water-insoluble and aqueous alkali-soluble binder. Irradiation of the infrared laser causes the I) infrared absorber to generate heat, and the light of the infrared laser or I) heat generated by the infrared absorber reacts with the II) thermal polymerization initiator to generate radicals. III) Accelerate the curing reaction of the compound having a polymerizable unsaturated group.
【0011】(中間層)以下、本発明の平版印刷版用原
版における中間層に含有される重合体について詳しく説
明する。本発明にかかる中間層に含有される重合体は、
酸基とオニウム基を有する重合体であり、少なくとも酸
基を有するモノマーとオニウム基を有するモノマーとを
重合して得られる化合物である。ここで、酸基として
は、酸解離指数(pKa)が7以下の酸基が好ましく、
より好ましくは−COOH,−SO3 H,−OSO
3 H,−PO3 H2 ,−OPO3 H2 ,−CONHSO
2 ,−SO2 NHSO2−であり、特に好ましくは−C
OOHである。また、オニウム基として好ましいもの
は、周期律表第V族あるいは第IV族の原子からなるオ
ニウム基であり、より好ましくは窒素原子、リン原子あ
るいはイオウ原子からなるオニウム基であり、特に好ま
しくは窒素原子からなるオニウム基である。(Intermediate layer) The lithographic printing plate precursor of the present invention is described below.
Detailed explanation of the polymer contained in the intermediate layer of the plate
I will tell. The polymer contained in the intermediate layer according to the present invention,
A polymer having an acid group and an onium group, at least an acid
Group-containing monomer and an onium group-containing monomer
It is a compound obtained by polymerization. Here, as an acid group
Is preferably an acid group having an acid dissociation index (pKa) of 7 or less,
More preferably -COOH, -SOThreeH, -OSO
ThreeH, -POThreeHTwo, -OPOThreeHTwo, -CONHSO
Two, -SOTwoNHSOTwoAnd particularly preferably -C
OOH. Also preferred as onium groups
Is an atom consisting of an atom of Group V or Group IV of the periodic table
Group, more preferably a nitrogen atom or a phosphorus atom.
Or an onium group consisting of a sulfur atom,
Or an onium group consisting of a nitrogen atom.
【0012】本発明に係る重合体の中でも、この重合体
の主鎖構造がアクリル樹脂やメタクリル樹脂やポリスチ
レンのようなビニル系ポリマー、ウレタン樹脂、ポリエ
ステルあるいはポリアミドである化合物が好ましい。よ
り好ましくは、この重合体の主鎖構造がアクリル樹脂や
メタクリル樹脂やポリスチレンのようなビニル系ポリマ
ーであり、特に好ましくは、酸基を有するモノマーが下
記の一般式(1)あるいは一般式(2)で表される化合
物であり、オニウム基を有するモノマーが後記の一般式
(3)、一般式(4)あるいは一般式(5)で表される
化合物であることを特徴とする重合体化合物である。Among the polymers according to the present invention, compounds whose main chain structure is a vinyl polymer such as an acrylic resin, a methacrylic resin or polystyrene, a urethane resin, a polyester or a polyamide are preferred. More preferably, the main chain structure of this polymer is a vinyl polymer such as an acrylic resin, a methacrylic resin, or polystyrene, and particularly preferably, the monomer having an acid group is represented by the following general formula (1) or (2 Wherein the monomer having an onium group is a compound represented by the following general formula (3), (4) or (5): is there.
【0013】[0013]
【化1】 Embedded image
【0014】式中、Aは2価の連結基を表す。Bは芳香
族基あるいは置換芳香族基を表す。D及びEはそれぞれ
独立して2価の連結基を表す。Gは3価の連結基を表
す。X及びX′はそれぞれ独立してpKaが7以下の酸
基あるいはそのアルカリ金属塩あるいはアンモニウム塩
を表す。R1 は水素原子、アルキル基またはハロゲン原
子を表す。a,b,d,eはそれぞれ独立して0または
1を表す。tは1〜3の整数である。酸基を有するモノ
マーの中でより好ましくは、Aは−COO−または−C
ONH−を表し、Bはフェニレン基あるいは置換フェニ
レン基を表し、その置換基は水酸基、ハロゲン原子ある
いはアルキル基である。D及びEはそれぞれ独立してア
ルキレン基あるいは分子式がCn H2nO、Cn H2nSあ
るいはCn H2n+1Nで表される2価の連結基を表す。G
は分子式がCn H2n-1、Cn H2n-1O、Cn H 2n-1Sあ
るいはCn H2nNで表される3価の連結基を表す。但
し、ここで、nは1〜12の整数を表す。X及びX′は
それぞれ独立してカルボン酸、スルホン酸、ホスホン
酸、硫酸モノエステルあるいは燐酸モノエステルを表
す。R1 は水素原子またはアルキル基を表す。a,b,
d,eはそれぞれ独立して0または1を表すが、aとb
は同時に0ではない。In the formula, A represents a divalent linking group. B is aromatic
Represents an aromatic group or a substituted aromatic group. D and E are respectively
Independently represents a divalent linking group. G represents a trivalent linking group
You. X and X 'are each independently an acid having a pKa of 7 or less.
Group or its alkali metal salt or ammonium salt
Represents R1Is a hydrogen atom, alkyl group or halogen atom
Represents a child. a, b, d, and e are each independently 0 or
Represents 1. t is an integer of 1 to 3. Mono with acid group
More preferably, A is -COO- or -C
Represents ONH-, and B represents a phenylene group or a substituted phenyl group.
Represents a ren group, the substituents of which are a hydroxyl group and a halogen atom
Or an alkyl group. D and E are each independently
When the alkylene group or molecular formula is CnH2nO, CnH2nS
Or CnH2n + 1Represents a divalent linking group represented by N. G
Has the molecular formula CnH2n-1, CnH2n-1O, CnH 2n-1S
Or CnH2nRepresents a trivalent linking group represented by N. However
Here, n represents an integer of 1 to 12. X and X '
Each independently carboxylic acid, sulfonic acid, phosphone
Shows acid, sulfuric acid monoester or phosphoric acid monoester.
You. R1Represents a hydrogen atom or an alkyl group. a, b,
d and e each independently represent 0 or 1, but a and b
Are not simultaneously 0.
【0015】酸基を有するモノマーの中で特に好ましく
は一般式(1)で示す化合物であり、Bはフェニレン基
あるいは置換フェニレン基を表し、その置換基は水酸基
であるいは炭素数1〜3のアルキル基である。D及びE
はそれぞれ独立して炭素数1〜2のアルキレン基あるい
は酸素原子で連結した炭素数1〜2のアルキレン基を表
す。R1 は水素原子またはアルキル基を表す。Xはカル
ボン酸基を表す。aは0であり、bは1である。Among the monomers having an acid group, a compound represented by the general formula (1) is particularly preferred, wherein B represents a phenylene group or a substituted phenylene group, and the substituent is a hydroxyl group or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Group. D and E
Each independently represents an alkylene group having 1 to 2 carbon atoms or an alkylene group having 1 to 2 carbon atoms linked by an oxygen atom. R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group. X represents a carboxylic acid group. a is 0 and b is 1.
【0016】酸基を有するモノマーの具体例を以下に示
す。ただし、本発明はこの具体例に限定されるものでは
ない。 (酸基を有するモノマーの具体例)アクリル酸、メタク
リル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、イタコン酸、マ
レイン酸、無水マレイン酸Specific examples of the monomer having an acid group are shown below. However, the present invention is not limited to this specific example. (Specific examples of monomers having an acid group) acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, itaconic acid, maleic acid, maleic anhydride
【0017】[0017]
【化2】 Embedded image
【0018】[0018]
【化3】 Embedded image
【0019】[0019]
【化4】 Embedded image
【0020】次に、オニウム基を有するモノマーであ
る、下記一般式(3)、(4)、(5)で表されるポリ
マーについて説明する。Next, the polymers represented by the following general formulas (3), (4) and (5), which are monomers having an onium group, will be described.
【0021】[0021]
【化5】 Embedded image
【0022】式中、Jは2価の連結基を表す。Kは芳香
族基あるいは置換芳香族基を表す。Mはそれぞれ独立し
て2価の連結基を表す。Y1 は周期率表第V族の原子を
表し、Y2 は周期率表第VI族の原子を表す。Z- は対ア
ニオンを表す。R2 は水素原子、アルキル基またはハロ
ゲン原子を表す。R3 ,R4 ,R5 ,R7 はそれぞれ独
立して水素原子あるいは場合によっては置換基が結合し
てもよいアルキル基、芳香族基、アラルキル基を表し、
R6 はアルキリジン基あるいは置換アルキリジンを表す
が、R3 とR4 あるいはR6 とR7 はそれぞれ結合して
環を形成してもよい。j,k,mはそれぞれ独立して0
または1を表す。uは1〜3の整数を表す。オニウム基
を有するモノマーの中でより好ましくは、Jは−COO
−または−CONH−を表し、Kはフェニレン基あるい
は置換フェニレン基を表し、その置換基は水酸基、ハロ
ゲン原子あるいはアルキル基である。Mはアルキレン基
あるいは−Cn H2nO−、−Cn H2nS−あるいは−C
n H2n+1N−で表される2価の連結基を表す。但し、こ
こで、nは1〜12の整数を表す。Y1 は窒素原子また
はリン原子を表し、Y2 はイオウ原子を表す。Z-はハ
ロゲンイオン、PF6 - 、BF4 - あるいはR8 SO3
- を表す。R2 は水素原子またはアルキル基を表す。R
3 ,R4 ,R5 ,R7 はそれぞれ独立して水素原子ある
いは場合によっては置換基が結合してもよい炭素数1〜
10のアルキル基、芳香族基、アラルキル基を表し、R
6 は炭素数1〜10のアルキリジン基あるいは置換アル
キリジンを表すが、R3 とR4 あるいはR6 とR7 はそ
れぞれ結合して環を形成してもよい。j,k,mはそれ
ぞれ独立して0または1を表すが、jとkは同時に0で
はない。R8 は置換基が結合してもよい炭素数1〜10
のアルキル基、芳香族基、アラルキル基を表す。In the formula, J represents a divalent linking group. K is aromatic
Represents an aromatic group or a substituted aromatic group. M are independent
Represents a divalent linking group. Y1Represents an atom of group V in the periodic table
Represents, YTwoRepresents an atom belonging to Group VI of the periodic table. Z-Is a
Represents a nonion. RTwoIs a hydrogen atom, an alkyl group or a halo
Represents a gen atom. RThree, RFour, RFive, R7Is German
A hydrogen atom or, in some cases, a substituent
May represent an alkyl group, an aromatic group, an aralkyl group,
R6Represents an alkylidyne group or substituted alkylidyne
Is RThreeAnd RFourOr R6And R7Are combined
A ring may be formed. j, k, and m are each independently 0
Or represents 1. u represents an integer of 1 to 3. Onium group
More preferably, J is -COO among the monomers having
-Or -CONH-, wherein K is a phenylene group or
Represents a substituted phenylene group, and the substituent is a hydroxyl group, a halo
Gen atom or alkyl group. M is an alkylene group
Or -CnH2nO-, -CnH2nS- or -C
nH2n + 1It represents a divalent linking group represented by N-. However, this
Here, n represents an integer of 1 to 12. Y1Is a nitrogen atom or
Represents a phosphorus atom;TwoRepresents a sulfur atom. Z-ha
Rogen ion, PF6 - , BFFour -Or R8SOThree
-Represents RTwoRepresents a hydrogen atom or an alkyl group. R
Three, RFour, RFive, R7Are each independently a hydrogen atom
Alternatively, in some cases, the substituent may have a carbon number of 1 to 1.
10 represents an alkyl group, an aromatic group, or an aralkyl group;
6Represents an alkylidine group having 1 to 10 carbon atoms or a substituted alkyl group;
Represents kyridine, but RThreeAnd RFourOr R6And R7Haso
Each may combine to form a ring. j, k, m are
Each independently represents 0 or 1, but j and k are 0 at the same time.
There is no. R8Is a group having 1 to 10 carbon atoms to which a substituent may be bonded.
Represents an alkyl group, an aromatic group, or an aralkyl group.
【0023】オニウム基を有するモノマーの中で特に好
ましくは、Kはフェニレン基あるいは置換フェニレン基
を表し、その置換基は水素原子あるいは炭素数1〜3の
アルキル基である。Mは炭素数1〜2のアルキレン基あ
るいは酸素原子で連結した炭素数1〜2のアルキレン基
を表す。Z- は塩素イオンあるいはR8 SO3 - を表
す。R2 は水素原子あるいはメチル基を表す。jは0で
あり、kは1である。R 8 は炭素数1〜3のアルキル基
を表す。Particularly preferred among monomers having an onium group are
Preferably, K is a phenylene group or a substituted phenylene group
Represents a hydrogen atom or a group having 1 to 3 carbon atoms.
It is an alkyl group. M is an alkylene group having 1 to 2 carbon atoms
Or an alkylene group having 1 to 2 carbon atoms linked by an oxygen atom
Represents Z-Is chlorine ion or R8SOThree -The table
You. RTwoRepresents a hydrogen atom or a methyl group. j is 0
And k is 1. R 8Is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms
Represents
【0024】オニウム基を有するモノマーの具体例を以
下に示す。ただし、本発明はこの具体例に限定されるも
のではない。 (オニウム基を有するモノマーの具体例)Specific examples of the monomer having an onium group are shown below. However, the present invention is not limited to this specific example. (Specific examples of monomers having an onium group)
【0025】[0025]
【化6】 Embedded image
【0026】[0026]
【化7】 Embedded image
【0027】[0027]
【化8】 Embedded image
【0028】また、酸基を有するモノマーは1種類ある
いは2種類以上組み合わせて用いても良く、また、オニ
ウム基を有するモノマーも1種類あるいは2種類以上組
み合わせて用いても良い。更に、当該発明に係る重合体
は、モノマーあるいは組成比あるいは分子量の異なるも
のを2種類以上混合して用いてもよい。この際、酸基を
有するモノマーを重合成分として有する重合体は、酸基
を有するモノマーを1モル%以上、好ましくは5モル%
以上含み、オニウム基を有するモノマーを重合成分とし
て有する重合体は、オニウム基を有するモノマーを1モ
ル%以上、好ましくは5モル%以上含むことが望まし
い。The monomers having an acid group may be used alone or in combination of two or more. The monomers having an onium group may be used alone or in combination of two or more. Further, the polymer according to the present invention may be a mixture of two or more monomers or those having different composition ratios or molecular weights. At this time, the polymer having a monomer having an acid group as a polymerization component contains 1% by mole or more, preferably 5% by mole of a monomer having an acid group.
It is desirable that the polymer containing a monomer having an onium group as a polymerization component contains 1% by mole or more, preferably 5% by mole or more of a monomer having an onium group.
【0029】更に、これらの重合体は、以下の(1)〜
(14)に示す重合性モノマーから選ばれる少なくとも
1種を共重合成分として含んでいてもよい。 (1)N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド
またはN−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、o−、m−またはp−ヒドロキシスチレン、o−ま
たはm−ブロモ−p−ヒドロキシスチレン、o−または
m−クロル−p−ヒドロキシスチレン、o−、m−また
はp−ヒドロキシフェニルアクリレートまたはメタクリ
レート等の芳香族水酸基を有するアクリルアミド類、メ
タクリルアミド類、アクリル酸エステル類、メタクリル
酸エステル類およびビドロキシスチレン類、 (2)アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マ
レイン酸およびそのハーフエステル、イタコン酸、無水
イタコン酸およびそのハーフエステルなどの不飽和カル
ボン酸、Further, these polymers are represented by the following (1) to
At least one selected from the polymerizable monomers shown in (14) may be contained as a copolymer component. (1) N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide or N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-, m- or p-hydroxystyrene, o- or m-bromo-p-hydroxystyrene, o- or Acrylamides, methacrylamides, acrylic esters, methacrylic esters and hydroxystyrenes having an aromatic hydroxyl group such as m-chloro-p-hydroxystyrene, o-, m- or p-hydroxyphenyl acrylate or methacrylate (2) unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, maleic anhydride and its half ester, itaconic acid, itaconic anhydride and its half ester,
【0030】(3)N−(o−アミノスルホニルフェニ
ル)アクリルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェ
ニル)アクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフ
ェニル)アクリルアミド、N−〔1−(3−アミノスル
ホニル)ナフチル〕アクリルアミド、N−(2−アミノ
スルホニルエチル)アクリルアミドなどのアクリルアミ
ド類、N−(o−アミノスルホニルフェニル)メタクリ
ルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)メタ
クリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)
メタクリルアミド、N−〔1−(3−アミノスルホニ
ル)ナフチル〕メタクリルアミド、N−(2−アミノス
ルホニルエチル)メタクリルアミドなどのメタクリルア
ミド類、また、o−アミノスルホニルフェニルアクリレ
ート、m−アミノスルホニルフェニルアクリレート、p
−アミノスルホニルフェニルアクリレート、1−(3−
アミノスルホニルフェニルナフチル)アクリレートなど
のアクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド、
o−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−ア
ミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−アミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、1−(3−アミノス
ルホニルフェニルナフチル)メタクリレートなどのメタ
クリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド、(3) N- (o-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- (m-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- [1- (3-aminosulfonyl) Naphthyl] acrylamide, acrylamides such as N- (2-aminosulfonylethyl) acrylamide, N- (o-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (m-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonyl) Phenyl)
Methacrylamides such as methacrylamide, N- [1- (3-aminosulfonyl) naphthyl] methacrylamide, N- (2-aminosulfonylethyl) methacrylamide, and o-aminosulfonylphenyl acrylate and m-aminosulfonylphenyl Acrylate, p
-Aminosulfonylphenyl acrylate, 1- (3-
Unsaturated sulfonamides such as acrylates such as aminosulfonylphenylnaphthyl) acrylate;
unsaturated sulfonamides such as methacrylates such as o-aminosulfonylphenyl methacrylate, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, p-aminosulfonylphenyl methacrylate, 1- (3-aminosulfonylphenylnaphthyl) methacrylate;
【0031】(4)トシルアクリルアミドのように置換
基があってもよいフェニルスルホニルアクリルアミド、
およびトシルメタクリルアミドのような置換基があって
もよいフェニルスルホニルメタクリルアミド。 (5)脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類およ
びメタクリル酸エステル類、例えば、2−ヒドロキシエ
チルアクリレートまたは2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート、 (6)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリ
ル酸オクチル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジ
ル、アクリル酸−2−クロロエチル、アクリル酸4−ヒ
ドロキシブチル、グリシジルアクリレート、N−ジメチ
ルアミノエチルアクリレートなどの(置換)アクリル酸
エステル、(4) phenylsulfonylacrylamide which may have a substituent such as tosylacrylamide;
And phenylsulfonyl methacrylamide which may have a substituent such as tosyl methacrylamide. (5) Acrylic esters and methacrylic esters having an aliphatic hydroxyl group, for example, 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate, (6) methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate , Amyl acrylate, hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, octyl acrylate, phenyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, glycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl acrylate, etc. (Substituted) acrylates,
【0032】(7)メタクリル酸メチル、メタクリル酸
エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、
メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリ
ル酸シクロヘキシル、メタクリル酸オクチル、メタクリ
ル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−
2−クロロエチル、メタクリル酸4−ヒドロキシブチ
ル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチルアミノエ
チルメタクリレートなどの(置換)メタクリル酸エステ
ル、(7) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate,
Amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, octyl methacrylate, phenyl methacrylate, benzyl methacrylate, methacrylic acid
(Substituted) methacrylates such as 2-chloroethyl, 4-hydroxybutyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N-dimethylaminoethyl methacrylate,
【0033】(8)アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメ
タクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−エチ
ルメタクリルアミド、N−ヘキシルアクリルアミド、N
−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアク
リルアミド、N−シクロヘキシルメタクリルアミド、N
−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−ヒドロキシエ
チルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N
−フェニルメタクリルアミド、N−ベンジルアクリルア
ミド、N−ベンジルメタクリルアミド、N−ニトロフェ
ニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルメタクリルア
ミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミドおよび
N−エチル−N−フェニルメタクリルアミドなどのアク
リルアミドもしくはメタクリルアミド、 (9)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテルなどのビニルエー
テル類、(8) Acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-methylolmethacrylamide, N-ethylacrylamide, N-ethylmethacrylamide, N-hexylacrylamide, N
-Hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-cyclohexyl methacrylamide, N
-Hydroxyethylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N
Acrylamides such as -phenylmethacrylamide, N-benzylacrylamide, N-benzylmethacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N-nitrophenylmethacrylamide, N-ethyl-N-phenylacrylamide and N-ethyl-N-phenylmethacrylamide Or methacrylamide, (9) vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether;
【0034】(10)ビニルアセテート、ビニルクロロ
アセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニルなどの
ビニルエステル類、 (11)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレンなどのスチレン類、 (12)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プ
ロピルビニルケトン、フェニルビニルケトンなどのビニ
ルケトン類、 (13)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
エン、イソプレンなどのオレフィン類、 (14)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾー
ル、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリルなど。(10) vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate, and vinyl benzoate; (11) styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, chloromethylstyrene, and (12) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone; (13) olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, and isoprene; (14) N-vinyl pyrrolidone, N-vinyl carbazole; 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.
【0035】なお、ここで使用する重合体には酸基を有
するモノマーを1モル%以上、好ましくは5モル%以上
含み、オニウム基を有するモノマーを1モル%以上、好
ましくは5モル%以上含むことが望ましい。さらに、酸
基を有するモノマーが20モル%以上含まれると、アル
カリ現像時の溶解除去性が一層良好になり、オニウム基
を有するモノマーが1モル%以上含まれると酸基との相
乗効果により密着性が一層向上される。The polymer used here contains at least 1 mol%, preferably at least 5 mol%, of a monomer having an acid group, and contains at least 1 mol%, preferably, at least 5 mol% of a monomer having an onium group. It is desirable. Furthermore, when the monomer having an acid group is contained in an amount of 20 mol% or more, the dissolving and removing property during alkali development is further improved, and when the monomer containing an onium group is contained in an amount of 1 mol% or more, adhesion is achieved due to a synergistic effect with the acid group. The performance is further improved.
【0036】また、酸基を有する構成成分は1種類ある
いは2種類以上組み合わせても良く、また、オニウム基
を有するモノマーも1種類あるいは2種類以上組み合わ
せても良い。更に、当該発明に係る重合体は、モノマー
あるいは組成比あるいは分子量の異なるものを2種類以
上混合して用いてもよい。次に、当該発明に用いられる
重合体の代表的な例を以下に示す。なお、ポリマー構造
の組成比はモル百分率を表す。The components having an acid group may be used alone or in combination of two or more, and the monomers having an onium group may be used alone or in combination of two or more. Further, the polymer according to the present invention may be a mixture of two or more monomers or those having different composition ratios or molecular weights. Next, typical examples of the polymer used in the present invention are shown below. The composition ratio of the polymer structure represents a mole percentage.
【0037】[0037]
【化9】 Embedded image
【0038】[0038]
【化10】 Embedded image
【0039】[0039]
【化11】 Embedded image
【0040】[0040]
【化12】 Embedded image
【0041】[0041]
【化13】 Embedded image
【0042】[0042]
【化14】 Embedded image
【0043】[0043]
【化15】 Embedded image
【0044】[0044]
【化16】 Embedded image
【0045】本発明に係る重合体は、一般にはラジカル
連鎖重合法を用いて製造することができる(“Textbook
of Polymer Science" 3rd ed,(1984)F.W.Billmeyer,A
Wiley-Interscience Publication参照)。The polymer according to the present invention can be generally produced by a radical chain polymerization method (“Textbook”).
of Polymer Science "3rd ed, (1984) FW Billmeyer, A
Wiley-Interscience Publication).
【0046】本発明に係る重合体の分子量は広範囲であ
ってもよいが、光散乱法を用いて測定したとき、重合平
均分子量(Mw)が500〜2,000,000である
ことが好ましく、1,000〜600,000の範囲で
あることがさらに好ましい。また、NMR測定における
末端基と側鎖官能基との積分強度より算出される数平均
分子量(Mn)が300〜500,000であることが
好ましく、500〜100,000の範囲であることが
さらに好ましい。分子量が上記の範囲よりも小さいと、
基板との密着力が弱くなり、耐刷性の劣化が生じる。一
方、分子量が上記の範囲を超えて高くなると、支持体へ
の密着力が強くなりすぎ、非画像部の感光層の現像不良
に夜残膜が発生する虞がある。また、この重合体中に含
まれる未反応モノマー量は広範囲であってもよいが、2
0重量%以下であることが好ましく、10重量%以下で
あることがさらに好ましい。The molecular weight of the polymer according to the present invention may be in a wide range, but it is preferable that the polymer has a polymerization average molecular weight (Mw) of 500 to 2,000,000 as measured by a light scattering method. More preferably, it is in the range of 1,000 to 600,000. Further, the number average molecular weight (Mn) calculated from the integrated intensity of the terminal group and the side chain functional group in NMR measurement is preferably from 300 to 500,000, more preferably from 500 to 100,000. preferable. If the molecular weight is smaller than the above range,
The adhesion to the substrate becomes weak, and the printing durability deteriorates. On the other hand, when the molecular weight is higher than the above range, the adhesive strength to the support becomes too strong, and there is a possibility that a residual film may occur due to poor development of the photosensitive layer in the non-image area. The amount of unreacted monomer contained in the polymer may be wide,
It is preferably at most 0% by weight, more preferably at most 10% by weight.
【0047】上記範囲の分子量を有する重合体は、対応
する単量体を共重合する際に、重合開始剤及び連鎖移動
剤を併用し、添加量を調整することより得ることができ
る。なお、連鎖移動剤とは、重合反応において連鎖移動
反応により、反応の活性点を移動させる物質のことを示
し、その移動反応の起こり易さは、連鎖移動定数Csで
表される。本発明で用いられる連鎖移動剤の連鎖移動定
数Cs×104 (60℃)は、0.01以上であること
が好ましく、0.1以上であることがより好ましく、1
以上であることが特に好ましい。重合開始剤としては、
ラジカル重合の際に一般によく用いられる過酸化物、ア
ゾ化合物、レドックス開始剤をそのまま利用することが
できる。これらの中でアゾ化合物が特に好ましい。The polymer having a molecular weight within the above range can be obtained by adjusting the amount of the polymerization initiator and the chain transfer agent used together when the corresponding monomer is copolymerized. Note that a chain transfer agent refers to a substance that moves an active site of a reaction by a chain transfer reaction in a polymerization reaction, and the likelihood of occurrence of the transfer reaction is represented by a chain transfer constant Cs. The chain transfer constant Cs × 10 4 (60 ° C.) of the chain transfer agent used in the present invention is preferably 0.01 or more, more preferably 0.1 or more, and 1 or more.
It is particularly preferable that the above is satisfied. As the polymerization initiator,
A peroxide, an azo compound, and a redox initiator that are commonly used in radical polymerization can be used as they are. Of these, azo compounds are particularly preferred.
【0048】連鎖移動剤の具体例としては、四塩化炭
素、四臭化炭素等のハロゲン化合物、イソプロピルアル
コール、イソブチルアルコール等のアルコール類、2−
メチル−1−ブテン、2、4−ジフェニル−4−メチル
−1−ペンテン等のオレフィン類、エタンチオール、ブ
タンチオール、ドデカンチオール、メルカプトエタノー
ル、メルカプトプロパノール、メルカプトプロピオン酸
メチル、メルカプトプロピオン酸エチル、メルカプトプ
ロピオン酸、チオグリコール酸、エチルジスルフィド、
sec−ブチルジスルフィド、2−ヒドロキシエチルジ
スルフィド、チオサルチル酸、チオフェノール、チオク
レゾール、ベンジルメルカプタン、フェネチルメルカプ
タン等の含イオウ化合物等が挙げられるが、これらに限
定されるものではない。Specific examples of the chain transfer agent include halogen compounds such as carbon tetrachloride and carbon tetrabromide; alcohols such as isopropyl alcohol and isobutyl alcohol;
Olefins such as methyl-1-butene, 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene, ethanethiol, butanethiol, dodecanethiol, mercaptoethanol, mercaptopropanol, methyl mercaptopropionate, ethyl mercaptopropionate, mercapto Propionic acid, thioglycolic acid, ethyl disulfide,
Examples thereof include, but are not limited to, sulfur-containing compounds such as sec-butyl disulfide, 2-hydroxyethyl disulfide, thiosalicylic acid, thiophenol, thiocresol, benzyl mercaptan, and phenethyl mercaptan.
【0049】より好ましくは、エタンチオール、ブタン
チオール、ドデカンチオール、メルカプトエタノール、
メルカプトプロパノール、メルカプトプロピオン酸メチ
ル、メルカプトプロピオン酸エチル、メルカプトプロピ
オン酸、チオグリコール酸、エチルジスルフィド、se
c−ブチルジスルフィド、2−ヒドロキシエチルジスル
フィド、チオサルチル酸、チオフェノール、チオクレゾ
ール、ベンジルメルカプタン、フェネチルメルカプタン
であり、特に好ましくは、エタンチオール、ブタンチオ
ール、ドデカンチオール、メルカプトエタノール、メル
カプトプロパノール、メルカプトプロピオン酸メチル、
メルカプトプロピオン酸エチル、メルカプトプロピオン
酸、チオグリコール酸、エチルジスルフィド、sec−
ブチルジスルフィド、2−ヒドロキシエチルジスルフィ
ドである。More preferably, ethanethiol, butanethiol, dodecanethiol, mercaptoethanol,
Mercaptopropanol, methyl mercaptopropionate, ethyl mercaptopropionate, mercaptopropionic acid, thioglycolic acid, ethyl disulfide, se
c-butyl disulfide, 2-hydroxyethyl disulfide, thiosalicylic acid, thiophenol, thiocresol, benzyl mercaptan, and phenethyl mercaptan, and particularly preferably ethanethiol, butanethiol, dodecanethiol, mercaptoethanol, mercaptopropanol, and mercaptopropionic acid Methyl,
Ethyl mercaptopropionate, mercaptopropionic acid, thioglycolic acid, ethyl disulfide, sec-
Butyl disulfide and 2-hydroxyethyl disulfide.
【0050】また、この重合体中に含まれる未反応モノ
マー量は広範囲であってもよいが、20wt%以下であ
ることが好ましく、また10wt%以下であることが更
に好ましい。The amount of unreacted monomer contained in the polymer may be wide, but is preferably 20 wt% or less, and more preferably 10 wt% or less.
【0051】次に、本発明に係る重合体の合成例を示
す。 〔合成例1〕重合体(No.1)の合成 p−ビニル安息香酸[北興化学工業(株)製]50.4
g、トリエチル(p−ビニルベンジル)アンモニウムク
ロリド15.2g、メルカプトエタノール1.9gおよ
びメタノール153.1gを2リットルの3口フラスコ
に取り、窒素気流下撹拌しながら、加熱し60℃に保っ
た。この溶液に2,2´−アゾビス(イソ酪酸)ジメチ
ル2.8gを加え、そのまま30分間撹拌を続けた。そ
の後、この反応液に、p−ビニル安息香酸201.5
g、トリエチル(p−ビニルベンジル)アンモニウムク
ロリド60.9g、メルカプトエタノール7.5gおよ
び2,2´−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル11.1g
をメタノール612.3gに溶解させた溶液を2時間か
けて滴下した。滴下終了後、温度を65℃に上げ、窒素
気流下10時間撹拌を続けた。反応終了後、室温まで放
冷すると、この反応液の収量は1132gであり、その
固形分濃度は30.5wt%であった。更に、得られた
生成物の数平均分子量(Mn )を13C−NMRスペクト
ルより求めた結果、その値は2100であった。Next, a synthesis example of the polymer according to the present invention will be described. [Synthesis Example 1] Synthesis of polymer (No. 1) p-vinylbenzoic acid [manufactured by Hokko Chemical Industry Co., Ltd.] 50.4
g, triethyl (p-vinylbenzyl) ammonium chloride (15.2 g), mercaptoethanol (1.9 g) and methanol (153.1 g) were placed in a 2-liter three-necked flask, and heated to 60 ° C. while stirring under a nitrogen stream. To this solution, 2.8 g of dimethyl 2,2'-azobis (isobutyrate) was added, and stirring was continued for 30 minutes. Thereafter, 201.5 p-vinylbenzoic acid was added to the reaction solution.
g, triethyl (p-vinylbenzyl) ammonium chloride 60.9 g, mercaptoethanol 7.5 g and dimethyl 2,2'-azobis (isobutyrate) 11.1 g
Was dissolved in 612.3 g of methanol over 2 hours. After completion of the dropwise addition, the temperature was raised to 65 ° C., and stirring was continued for 10 hours under a nitrogen stream. After completion of the reaction, the reaction solution was allowed to cool to room temperature, and the yield of the reaction solution was 1132 g, and the solid concentration was 30.5 wt%. Further, the number average molecular weight (Mn) of the obtained product was determined from the 13 C-NMR spectrum to find that the value was 2100.
【0052】〔合成例2〕重合体(No.2)の合成 トリエチル(p−ビニルベンジル)アンモニウムクロリ
ドの代わりに、トリエチル(ビニルベンジル)アンモニ
ウムクロリドのm/p体(2/1)混合物を、更に、メ
ルカプトエタノールの代わりにメルカプトプロピオン酸
エチルを用いること以外は合成例1と同様の操作を行
い、数平均分子量(Mn )4,800の重合体を得た。[Synthesis Example 2] Synthesis of Polymer (No. 2) Instead of triethyl (p-vinylbenzyl) ammonium chloride, an m / p (2/1) mixture of triethyl (vinylbenzyl) ammonium chloride was used. Further, the same operation as in Synthesis Example 1 was carried out except that ethyl mercaptopropionate was used instead of mercaptoethanol, to obtain a polymer having a number average molecular weight (Mn) of 4,800.
【0053】〔合成例3〕重合体(No.25)の合成 p−ビニル安息香酸[北興化学工業(株)製]146.
9g(0.99mol)、ビニルベンジルトリメチルア
ンモニウムクロリド44.2g(0.21mol)およ
び2−メトキシエタノール446gを1Lの3口フラス
コに取り、窒素気流下撹拌しながら、加熱し75℃に保
った。次に2,2−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル2,
76g(12mmol)を加え、撹拌を続けた。2時間
後、2,2−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル2,76g
(12mmol)を追加した。更に、2時間後、2,2
−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル2.76g(12mm
ol)を追加した。2時間撹拌した後、室温まで放冷し
た。この反応液を撹拌下12Lの酢酸エチル中に注い
だ。析出する固体を濾取し、乾燥した。その収量は18
9.5gであった。得られた固体は光散乱法で分子量測
定を行った結果、重量平均分子量(Mw)は3.2万で
あった。[Synthesis Example 3] Synthesis of polymer (No. 25) p-vinylbenzoic acid [Hokuko Chemical Co., Ltd.] 146.
9 g (0.99 mol), 44.2 g (0.21 mol) of vinylbenzyltrimethylammonium chloride and 446 g of 2-methoxyethanol were placed in a 1 L three-necked flask, and heated to 75 ° C. while stirring under a nitrogen stream. Next, dimethyl 2,2-azobis (isobutyrate) 2,
76 g (12 mmol) were added and stirring continued. After 2 hours, 2,76 g of dimethyl 2,2-azobis (isobutyrate)
(12 mmol) was added. After another two hours,
2.76 g of dimethyl azobis (isobutyrate) (12 mm
ol) was added. After stirring for 2 hours, the mixture was allowed to cool to room temperature. This reaction solution was poured into 12 L of ethyl acetate with stirring. The precipitated solid was collected by filtration and dried. The yield is 18
It was 9.5 g. As a result of measuring the molecular weight of the obtained solid by a light scattering method, the weight average molecular weight (Mw) was 32,000.
【0054】本発明に係る他の重合体も同様の方法で合
成される。The other polymers according to the invention are synthesized in a similar manner.
【0055】また、本発明の感光性平版印刷版における
中間層には、前記重合体に加え下記一般式(6)で示さ
れる化合物を添加することもできる。 一般式(6)Further, in addition to the polymer, a compound represented by the following general formula (6) can be added to the intermediate layer in the photosensitive lithographic printing plate of the present invention. General formula (6)
【0056】[0056]
【化17】 Embedded image
【0057】(式中、R1 は炭素数6〜14のアリーレ
ン基を表し、m、nは独立して1から3の整数を表
す。) 上記一般式(6)で示される化合物について、以下に説
明する。R1 で表わされるアリーレン基の炭素数は6〜
14が好ましく、6〜10がさらに好ましい。R1 で表
わされるアリーレン基として具体的には、フェニレン
基、ナフチル基、アンスリル基、フェナスリル基等が挙
げられる。R1 で表わされるアリーレン基は炭素数1〜
10のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭
素数2〜10のアルキニル基、炭素数6〜10のアリー
ル基、カルボン酸エステル基、アルコキシ基、フェノキ
シ基、スルホン酸エステル基、ホスホン酸エステル基、
スルホニルアミド基、ニトロ基、ニトリル基、アミノ
基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、エチレンオキサイド
基、プロピレンオキサイド基、トリエチルアンモニウム
クロライド基等で置換されていてもよい。(Wherein, R 1 represents an arylene group having 6 to 14 carbon atoms, and m and n each independently represent an integer of 1 to 3.) For the compound represented by the above general formula (6), Will be described. The carbon number of the arylene group represented by R 1 is 6 to
14 is preferable, and 6 to 10 are more preferable. Specific examples of the arylene group represented by R 1 include a phenylene group, a naphthyl group, an anthryl group, and a phenathril group. The arylene group represented by R 1 has 1 to 1 carbon atoms.
10 alkyl groups, alkenyl groups having 2 to 10 carbon atoms, alkynyl groups having 2 to 10 carbon atoms, aryl groups having 6 to 10 carbon atoms, carboxylic acid ester groups, alkoxy groups, phenoxy groups, sulfonic acid ester groups, phosphonic acid Ester group,
It may be substituted with a sulfonylamide group, a nitro group, a nitrile group, an amino group, a hydroxy group, a halogen atom, an ethylene oxide group, a propylene oxide group, a triethylammonium chloride group, or the like.
【0058】一般式(6)で示される化合物の具体的な
例としては、例えば、3−ヒドロキシ安息香酸、4−ヒ
ドロキシ安息香酸、サリチル酸、1−ヒドロキシー2−
ナフトエ酸、2−ヒドロキシー1−ナフトエ酸、2−ヒ
ドロシキー3−ナフトエ酸、2,4−ジヒドロキシ安息
香酸、10−ヒドロキシ−9−アントラセンカルボン酸
などが挙げられる。但し、上記の具体例に限定されるも
のではなく、また、一般式(6)で示される化合物を1
種類または2種類以上混合して用いてもよい。Specific examples of the compound represented by the general formula (6) include, for example, 3-hydroxybenzoic acid, 4-hydroxybenzoic acid, salicylic acid, 1-hydroxy-2-
Examples include naphthoic acid, 2-hydroxy-1-naphthoic acid, 2-hydroshiki 3-naphthoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, and 10-hydroxy-9-anthracene carboxylic acid. However, the present invention is not limited to the above specific examples, and the compound represented by the general formula (6)
They may be used alone or in combination of two or more.
【0059】本発明に係る上記重合体と、必要に応じて
添加される上記一般式(6)で示される化合物を含む中
間層は、後述する親水化処理を施したアルミニウム支持
体上に種々の方法により塗布して設けられる。The intermediate layer containing the polymer according to the present invention and the compound represented by the general formula (6), which is optionally added, is formed on an aluminum support which has been subjected to a hydrophilization treatment described later. It is provided by being applied by a method.
【0060】この中間層は次の方法で設けることができ
る。メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなど
の有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤あるいはこれらの
有機溶剤と水との混合溶剤に本発明に係る重合体および
必要に応じて添加される一般式(6)で示される化合物
を溶解させた溶液をアルミニウム支持体上に塗布、乾燥
して設ける塗布方法。あるいはメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれら
の混合溶剤あるいはこれらの有機溶剤と水との混合溶剤
に、本発明に係る重合体および必要に応じて添加される
一般式(6)で示される化合物を溶解させた溶液に、ア
ルミニウム支持体を浸漬し、しかる後、水洗あるいは空
気などによって洗浄、乾燥して中間層を設ける塗布方法
を挙げることができる。This intermediate layer can be provided by the following method. The polymer according to the present invention and the compound represented by the general formula (6) which is added to an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone or the like or a mixed solvent thereof or a mixed solvent of these organic solvents and water are added, if necessary. A coating method in which a dissolved solution is applied on an aluminum support and dried. Alternatively, the polymer according to the present invention and an organic solvent such as methanol, ethanol, and methyl ethyl ketone, or a mixed solvent thereof, or a mixed solvent of these organic solvents and water are represented by the general formula (6) which is added as necessary. A coating method in which an aluminum support is immersed in a solution in which a compound is dissolved, and then washed with water or air and the like and dried to form an intermediate layer can be used.
【0061】前者の方法では、上記化合物合計で0.0
05〜10重量%の濃度の溶液を種々の方法で塗布でき
る。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗
布、カーテン塗布などいずれの方法を用いてもよい。ま
た、後者の方法では、溶液の濃度は0.005〜20重
量%、好ましくは0.01%〜10重量%であり、浸漬
温度0℃〜70℃、好ましくは5〜60℃であり、浸漬
時間は0.1秒〜5分、好ましくは0.5秒〜120秒
である。In the former method, the total of the above compounds is 0.0
A solution having a concentration of 05 to 10% by weight can be applied in various ways. For example, any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, and curtain coating may be used. In the latter method, the concentration of the solution is 0.005 to 20% by weight, preferably 0.01% to 10% by weight, and the immersion temperature is 0 ° C to 70 ° C, preferably 5 to 60 ° C. The time is 0.1 seconds to 5 minutes, preferably 0.5 seconds to 120 seconds.
【0062】上記の溶液は、アンモニア、トリエチルア
ミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン
酸、硫酸、硝酸などの無機酸、ニトロベンゼンスルホン
酸、ナフタレンスルホン酸などの有機スルホン酸、フェ
ニルホスホン酸などの有機ホスホン酸、安息香酸、クマ
ル酸、リンゴ酸などの有機カルボン酸など種々有機酸性
物質、ナフタレンスルホニルクロライド、ベンゼンスル
ホニルクロライドなどの有機クロライド等によりpHを
調整し、pH=0〜12、より好ましくはpH=0〜6
の範囲で使用することもできる。また、感光性平版印刷
版の調子再現性改良のために紫外光や可視光、赤外光な
どを吸収する物質を添加することもできる。The above solution may be a basic substance such as ammonia, triethylamine or potassium hydroxide, an inorganic acid such as hydrochloric acid, phosphoric acid, sulfuric acid or nitric acid, an organic sulfonic acid such as nitrobenzenesulfonic acid or naphthalenesulfonic acid, or phenylphosphonic acid. The pH is adjusted with various organic acidic substances such as organic phosphonic acids such as acids, benzoic acid, coumaric acid, and organic carboxylic acids such as malic acid, and organic chlorides such as naphthalene sulfonyl chloride and benzenesulfonyl chloride. More preferably, pH = 0 to 6
Can also be used. Further, in order to improve the tone reproducibility of the photosensitive lithographic printing plate, a substance absorbing ultraviolet light, visible light, infrared light or the like can be added.
【0063】本発明の中間層を構成する化合物の乾燥後
の被覆量は、合計で1〜100mg/m 2 が適当であり、好
ましくは2〜70mg/m2 である。上記被覆量が1mg/m2
よりも少ないと十分な効果が得られない。また100mg
/m2 よりも多くても同様である。After drying the compound constituting the intermediate layer of the present invention
Coating amount is 1 to 100 mg / m TwoIs appropriate and good
Preferably 2 to 70 mg / mTwoIt is. The above coating amount is 1mg / mTwo
If it is less than this, a sufficient effect cannot be obtained. Also 100mg
/ mTwoThe same applies to more than that.
【0064】(感光層)次に、本発明の平版印刷版原版
において画像形成機能を有する感光層について説明す
る。感光層を構成する組成物は、I)赤外線吸収剤、I
I)熱又は光重合開始剤、III)重合性の不飽和基を有す
る化合物、及び、IV)水不溶性且つアルカリ水溶液可溶
性のバインダーを含有する熱(光)重合性組成物であ
る。本発明に用いることのできる熱重合性組成物として
は、例えば、特開平8−108621号、特開平9−3
4110号、特開平7−306528号の各公報に記載
されるような感光、感熱性画像記録層を構成する組成物
が挙げられる。(Photosensitive Layer) Next, the photosensitive layer having an image forming function in the lithographic printing plate precursor according to the invention will be described. The composition constituting the photosensitive layer includes: I) an infrared absorber;
A heat (photo) polymerizable composition containing I) a heat or photopolymerization initiator, III) a compound having a polymerizable unsaturated group, and IV) a water-insoluble and aqueous alkali-soluble binder. Examples of the thermopolymerizable composition that can be used in the present invention include, for example, JP-A-8-108621 and JP-A-9-3.
No. 4,110, JP-A-7-306528, and compositions constituting a photosensitive and heat-sensitive image recording layer.
【0065】I)赤外線吸収剤 感光層に含まれる赤外線吸収剤は、赤外線レーザの照射
により熱を発生する光熱変換機能を有する物質である。
本発明において使用される赤外線吸収剤は、波長760
nmから1200nmに吸収極大を有する染料又は顔料
であることが好ましい。I) Infrared absorber The infrared absorber contained in the photosensitive layer is a substance having a photothermal conversion function of generating heat by irradiation with an infrared laser.
The infrared absorbent used in the present invention has a wavelength of 760.
It is preferable that the dye or the pigment has an absorption maximum in the range from nm to 1200 nm.
【0066】染料としては、市販の染料及び例えば「染
料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシ
アニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メ
チン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリ
ウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。As the dye, commercially available dyes and known dyes described in literatures such as “Dye Handbook” (edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, Japan, 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and metal thiolate complexes Is mentioned.
【0067】好ましい染料としては、例えば、特開昭5
8−125246号、特開昭59−84356号、特開
昭59−202829号、特開昭60−78787号等
に記載されているシアニン染料、特開昭58−1736
96号、特開昭58−181690号、特開昭58−1
94595号等に記載されているメチン染料、特開昭5
8−112793号、特開昭58−224793号、特
開昭59−48187号、特開昭59−73996号、
特開昭60−52940号、特開昭60−63744号
等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−1
12792号等に記載されているスクワリリウム色素、
英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げ
ることができる。Preferred dyes include, for example, those described in
Cyanine dyes described in JP-A-8-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, etc .;
No. 96, JP-A-58-181690, JP-A-58-1
No. 94595, etc., methine dyes described in
8-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996,
Naphthoquinone dyes described in JP-A-60-52940 and JP-A-60-63744;
Squarylium dyes described in No. 12792, etc.,
Cyanine dyes described in British Patent 434,875 and the like can be mentioned.
【0068】また、米国特許第5,156,938号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第3,881,924号記載の置換されたアリールベ
ンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645
号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同
58−220143号、同59−41363号、同59
−84248号、同59−84249号、同59−14
6063号、同59−146061号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載
のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13
514号、同5−19702号に開示されているピリリ
ウム化合物も好ましく用いられる。Further, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) described in US Pat. No. 3,881,924 is also preferable. Pyrylium salt, JP-A-57-142645
No. (U.S. Pat. No. 4,327,169) described in JP-A-58-181051, JP-A-58-220143, JP-A-59-41363, and JP-A-59-41363.
Nos. -84248, 59-84249, 59-14
Nos. 6063 and 59-146061, pyranyl compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, pentamethinethiopyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,283,475, and the like. Fairness 5-13
Pyrylium compounds disclosed in JP-A-514 and JP-A-5-19702 are also preferably used.
【0069】また、染料として好ましい別の例として米
国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、
(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げるこ
とができる。As another preferred example of the dye, US Pat. No. 4,756,993 discloses a compound represented by the formula (I):
Near-infrared absorbing dyes described as (II) can be mentioned.
【0070】これらの染料のうち特に好ましいものとし
ては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム
塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。さらに、シ
アニン色素が好ましく、特に下記一般式(I)で示され
るシアニン色素が最も好ましい。Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and nickel thiolate complexes. Further, a cyanine dye is preferable, and a cyanine dye represented by the following general formula (I) is most preferable.
【0071】[0071]
【化18】 Embedded image
【0072】一般式(I)中、X1は、ハロゲン原子、
またはX2−L1を示す。ここで、X2は酸素原子また
は、硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭
化水素基を示す。R1およびR2は、それぞれ独立に、炭
素原子数1〜12の炭化水素基を示す。感光層塗布液の
保存安定性から、R1およびR2は、炭素原子数2個以上
の炭化水素基であることが好ましく、さらに、R1とR2
とは互いに結合し、5員環または6員環を形成している
ことが特に好ましい。In the general formula (I), X 1 is a halogen atom,
Or an X 2 -L 1. Here, X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the viewpoint of storage stability of a photosensitive layer coating liquid, R 1 and R 2 are preferably a hydrocarbon group having two or more carbon atoms, further, R 1 and R 2
And particularly preferably combine with each other to form a 5- or 6-membered ring.
【0073】Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっ
ていても良く、置換基を有していても良い芳香族炭化水
素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベン
ゼン環およびナフタレン環が挙げられる。また、好まし
い置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素
基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ
基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっ
ていても良く、硫黄原子または炭素原子数12個以下の
ジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同
じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い
炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置
換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、
カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R
7およびR8は、それぞれ同じでも異なっていても良く、
水素原子または炭素原子数12個以下の炭化水素基を示
す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。ま
た、Z1-は、対アニオンを示す。ただし、R1〜R8のい
ずれかにスルホ基が置換されている場合は、Z1-は必要
ない。好ましいZ1-は、感光層塗布液の保存安定性か
ら、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロ
ボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、
およびスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩
素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、お
よびアリールスルホン酸イオンである。Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Preferred examples of the substituent include a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms, a halogen atom, and an alkoxy group having 12 or less carbon atoms. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different, and represent a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms,
Examples include a carboxyl group and a sulfo group. R 5 , R 6 , R
7 and R 8 may be the same or different,
It represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the viewpoint of availability of raw materials, a hydrogen atom is preferable. Z 1- represents a counter anion. However, when any of R 1 to R 8 is substituted with a sulfo group, Z 1- is not required. Preferred Z 1− is, from the storage stability of the photosensitive layer coating solution, a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion,
And sulfonate ions, particularly preferably perchlorate ion, hexafluorophosphate ion and arylsulfonate ion.
【0074】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(I)で示されるシアニン色素の具体例として
は、特願平11−310623号明細書の段落番号[0
017]〜[0019]に記載されたものを挙げること
ができる。In the present invention, specific examples of the cyanine dye represented by the general formula (I) which can be suitably used include paragraph [0] of Japanese Patent Application No. 11-310623.
017] to [0019].
【0075】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、
「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年
刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年
刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)
に記載されている顔料が利用できる。The pigment used in the present invention includes:
Commercial Pigment and Color Index (CI) Handbook,
"Latest Pigment Handbook" (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977), "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986), "Printing Ink Technology" CMC Publishing, 1984)
Can be used.
【0076】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックで
ある。The types of pigments include black pigment, yellow pigment, orange pigment, brown pigment, red pigment, purple pigment,
Blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, metal powder pigment, etc.
Polymer-bound dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensation azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments,
Perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, dyeing lake pigments,
Azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like can be used.
Preferred among these pigments is carbon black.
【0077】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. Examples of the surface treatment include a method of surface coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a method of bonding a reactive substance (eg, a silane coupling agent, an epoxy compound, a polyisocyanate, etc.) to the pigment surface. Can be considered. The above surface treatment methods are described in "Properties and Applications of Metallic Soap" (Koshobo),
It is described in "Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).
【0078】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の画像感光層塗布液中での安定性
の点で好ましくなく、また、10μmを越えると画像感
光層の均一性の点で好ましくない。The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm.
Is preferably within the range. Pigment particle size 0.01μ
If it is less than m, the dispersion is not preferred in terms of stability in the coating solution of the image-sensitive layer.
【0079】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1
986年刊)に記載されている。As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. For details, refer to “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1
986).
【0080】これらの赤外線吸収剤は、他の成分と同一
の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加して
もよいが、ネガ型画像形成材料を作成した際に、感光層
の波長760nm〜1200nmの範囲における吸収極
大での光学濃度が、0.1〜3.0の間にあることが好
ましい。この範囲をはずれた場合、感度が低くなる傾向
がある。光学濃度は前記赤外線吸収剤の添加量と記録層
の厚みとにより決定されるため、所定の光学濃度は両者
の条件を制御することにより得られる。記録層の光学濃
度は常法により測定することができる。測定方法として
は、例えば、透明、或いは白色の支持体上に、乾燥後の
塗布量が平版印刷版として必要な範囲において適宜決定
された厚みの記録層を形成し、透過型の光学濃度計で測
定する方法、アルミニウム等の反射性の支持体上に記録
層を形成し、反射濃度を測定する方法等が挙げられる。These infrared absorbers may be added to the same layer as other components, or may be added to a separate layer provided. However, when a negative type image forming material is prepared, The optical density of the photosensitive layer at the absorption maximum in the wavelength range of 760 nm to 1200 nm is preferably between 0.1 and 3.0. Outside of this range, sensitivity tends to decrease. Since the optical density is determined by the amount of the infrared absorbing agent added and the thickness of the recording layer, a predetermined optical density can be obtained by controlling both conditions. The optical density of the recording layer can be measured by a conventional method. As a measuring method, for example, on a transparent or white support, a coating layer after drying is formed to a recording layer having a thickness appropriately determined in a range necessary for a lithographic printing plate, and a transmission type optical densitometer is used. Examples include a method of measuring, a method of forming a recording layer on a reflective support such as aluminum, and measuring a reflection density.
【0081】II)重合開始剤 重合開始剤は前記I)赤外線吸収剤と組み合わせて用
い、赤外線レーザを照射した際にその光又は熱或いはそ
の双方のエネルギーによりラジカルを発生し、 III)重合性の不飽和基を有する化合物の重合を開始、
促進させる化合物を指す。本発明に係る重合開始剤とし
ては、公知の光重合開始剤、熱重合開始剤などを選択し
て使用することができ、例えば、オニウム塩、トリハロ
メチル基を有するトリアジン化合物、過酸化物、アゾ系
重合開始剤、アジド化合物、キノンジアジドなどが挙げ
られるが、オニウム塩が高感度であり、好ましい。本発
明において重合開始剤として好適に用い得るオニウム塩
について説明する。好ましいオニウム塩としては、ヨー
ドニウム塩、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩が挙げら
れる。本発明において、これらのオニウム塩は酸発生剤
ではなく、ラジカル重合の開始剤として機能する。本発
明において好適に用いられるオニウム塩は、下記一般式
(III)〜(V)で表されるオニウム塩である。II) Polymerization Initiator The polymerization initiator is used in combination with the above-mentioned I) infrared absorber, and when irradiated with an infrared laser, a radical is generated by the light or heat or both energies. Initiate polymerization of a compound having an unsaturated group,
Refers to a compound that promotes. As the polymerization initiator according to the present invention, known photopolymerization initiators, thermal polymerization initiators and the like can be selected and used, for example, onium salts, triazine compounds having a trihalomethyl group, peroxides, azo compounds. Examples thereof include a system polymerization initiator, an azide compound, and a quinonediazide, and an onium salt is preferable because of its high sensitivity. The onium salt that can be suitably used as a polymerization initiator in the present invention will be described. Preferred onium salts include iodonium salts, diazonium salts, and sulfonium salts. In the present invention, these onium salts function not as acid generators but as radical polymerization initiators. Onium salts suitably used in the present invention are onium salts represented by the following general formulas (III) to (V).
【0082】[0082]
【化19】 Embedded image
【0083】式(III)中、Ar11とAr12は、それぞ
れ独立に、置換基を有していても良い炭素原子数20個
以下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を有
する場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニ
トロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子
数12個以下のアルコキシ基、または炭素原子数12個
以下のアリールオキシ基が挙げられる。Z11-はハロゲ
ンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイ
オン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびスル
ホン酸イオンからなる群より選択される対イオンを表
し、好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォ
スフェートイオン、およびアリールスルホン酸イオンで
ある。In the formula (III), Ar 11 and Ar 12 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. When the aryl group has a substituent, preferred substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or a 12 or less carbon atom. Aryloxy groups. Z 11- represents a counter ion selected from the group consisting of a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, and is preferably a perchlorate ion or a hexafluorophosphate. And arylsulfonate ions.
【0084】式(IV)中、Ar21は、置換基を有してい
ても良い炭素原子数20個以下のアリール基を示す。好
ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素
原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下
のアルコキシ基、炭素原子数12個以下のアリールオキ
シ基、炭素原子数12個以下のアルキルアミノ基、炭素
原子数12個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数1
2個以下のアリールアミノ基または、炭素原子数12個
以下のジアリールアミノ基が挙げられる。Z21 -はZ11-
と同義の対イオンを表す。In the formula (IV), Ar 21 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, an aryloxy group having 12 or less carbon atoms, and a 12 or less carbon atom. Alkylamino group, dialkylamino group having 12 or less carbon atoms, 1 carbon atom
An arylamino group having 2 or less or a diarylamino group having 12 or less carbon atoms is exemplified. Z 21 - is Z 11-
Represents a counter ion having the same meaning as
【0085】式(V)中、R31、R32及びR33は、それ
ぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していて
も良い炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ま
しい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原
子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下の
アルコキシ基、または炭素原子数12個以下のアリール
オキシ基が挙げられる。Z31-はZ11-と同義の対イオン
を表す。In the formula (V), R 31 , R 32 and R 33 may be the same or different and represent a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, and an aryloxy group having 12 or less carbon atoms. Z 31- represents a counter ion having the same meaning as Z 11- .
【0086】本発明において、ラジカル発生剤として好
適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、
特願平11−310623号明細書の段落番号[003
0]〜[0033]に記載されたものを挙げることがで
きる。In the present invention, specific examples of onium salts that can be suitably used as a radical generator include:
Paragraph number [003 of Japanese Patent Application No. 11-310623]
0] to [0033].
【0087】また、特開平9−34110号公報の段落
番号[0012]〜[0050]に記載の一般式(I)
〜(IV)で表されるオニウム塩、特開平8−10862
1公報の段落番号[0016]に記載の熱重合開始剤な
どの公知の重合開始剤も好ましく用いられる。本発明に
おいて用いられるラジカル発生剤は、極大吸収波長が4
00nm以下であることが好ましく、さらに360nm
以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外
線領域にすることにより、画像形成材料の取り扱いを白
灯下で実施することができる。The general formula (I) described in paragraphs [0012] to [0050] of JP-A-9-34110
-Onium salts represented by formulas (IV) to (IV):
Known polymerization initiators such as the thermal polymerization initiator described in Paragraph No. [0016] of JP-A-1 (1998) are also preferably used. The radical generator used in the present invention has a maximum absorption wavelength of 4
00 nm or less, preferably 360 nm
The following is preferred. By setting the absorption wavelength in the ultraviolet region, the image forming material can be handled under a white light.
【0088】III)重合性の不飽和基を有する化合物 本発明に使用される重合性の不飽和基を有する化合物
は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有す
る付加重合性化合物であり、好ましくは、末端エチレン
性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくはま2個以上
有する化合物から選ばれる。この様な化合物群は当該産
業分野において広く知られるものであり、本発明におい
てはこれらを特に限定無く用いることができる。これら
は、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、
3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならび
にそれらの共重合体などの化学的形態をもつものを包含
する。モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽
和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イ
タコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸な
ど)や、そのエステル類、アミド類があげられ、好まし
くは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物
とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化
合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基
や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する
不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能もしくは
多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、
単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応
物等も好適に使用される。III) Compound Having a Polymerizable Unsaturated Group The compound having a polymerizable unsaturated group used in the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, Preferably, it is selected from compounds having at least one, and preferably at least two, terminal ethylenically unsaturated bonds. Such compounds are widely known in the industrial field, and they can be used in the present invention without any particular limitation. These are, for example, monomers, prepolymers, ie dimers,
Includes those having chemical forms such as trimers and oligomers, or mixtures thereof, and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) and esters and amides thereof, and are preferred. As the ester, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound and an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyamine compound are used. Further, an unsaturated carboxylic acid ester having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group or a mercapto group, an addition reaction product of an amide with a monofunctional or polyfunctional isocyanate, an epoxy,
A dehydration condensation product with a monofunctional or polyfunctional carboxylic acid is also preferably used.
【0089】また、イソシアナト基や、エポキシ基、等
の親電子性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステ
ル、アミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、
アミン類、チオール類との付加反応物、ハロゲン基や、
トシルオキシ基、等の脱離性置換基を有する、不飽和カ
ルボン酸エステル、アミド類と単官能もしくは多官能の
アルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も
好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボ
ン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニル
エーテル等に置き換えた化合物群を使用する事も可能で
ある。Also, unsaturated carboxylic acid esters, amides and monofunctional or polyfunctional alcohols having an electrophilic substituent such as an isocyanato group or an epoxy group,
Amines, addition products with thiols, halogen groups,
Substitution products of unsaturated carboxylic esters and amides having a leaving substituent such as a tosyloxy group with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines and thiols are also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds in which unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like is substituted for the above unsaturated carboxylic acid.
【0090】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレー卜、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテト
ラアクリレート、ソルビト一ルペンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオ
キシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。Specific examples of the ester monomer of the aliphatic polyhydric alcohol compound and the unsaturated carboxylic acid include acrylates such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, and 1,3.
-Butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol Tetraacrylate, SO Bito one Le pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer.
【0091】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔p―(3−メタクリ
ルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキ
シ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。Examples of the methacrylate include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, and 1,3-butanediol. Dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3- Methacryloxy-2-hi Rokishipuropokishi) phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.
【0092】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。Examples of itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate,
There are 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate, sorbitol tetritaconate and the like.
【0093】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロ
トン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソク
ロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネー
ト、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。The crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate,
Sorbitol tetradicrotonate and the like. Examples of the isocrotonic acid ester include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.
【0094】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。The maleic acid ester includes ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, sorbitol tetramaleate and the like.
【0095】その他のエステルの例として、例えば、特
公昭46−27926、特公昭51−47334、特開
昭57−196231記載の脂肪族アルコール系エステ
ル類や、特開昭59−5240、特開昭59−524
1、特開平2−226149記載の芳香族系骨格を有す
るもの、特開平1−165613記載のアミノ基を含有
するもの等も好適に用いられる。さらに、前述のエステ
ルモノマーは混合物としても使用することができる。Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-46-27926, JP-B-51-47334, and JP-A-57-196231, and JP-A-59-5240 and JP-A-59-5240. 59-524
1, those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used. Further, the above-mentioned ester monomers can be used as a mixture.
【0096】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例と
しては、特公昭54−21726記載のシクロへキシレ
ン構造を有すものをあげる事ができる。Specific examples of the amide monomer of the aliphatic polyamine compound and the unsaturated carboxylic acid include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6- Hexamethylene bis-methacrylamide,
Examples include diethylenetriaminetrisacrylamide, xylylenebisacrylamide, xylylenebismethacrylamide, and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.
【0097】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭4
8−41708号公報中に記載されている1分子に2個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記一般式(2)で示される水酸基を含有する
ビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合
性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げら
れる。A urethane-based addition-polymerizable compound produced by an addition reaction between an isocyanate and a hydroxyl group is also suitable.
JP-A-8-41708 discloses a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups per molecule, to which a hydroxyl-containing vinyl monomer represented by the following general formula (2) is added. Examples include vinyl urethane compounds containing two or more polymerizable vinyl groups.
【0098】[0098]
【化20】 Embedded image
【0099】一般式(2)中、RおよびR’はHあるい
はCH3を示す。また、特開昭51−37193号、特
公平2−32293号、特公平2−16765号に記載
されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭5
8−49860号、特公昭56−17654号、特公昭
62−39417、特公昭62−39418号記載のエ
チレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好
適である。In the general formula (2), R and R ′ represent H or CH3. Also, urethane acrylates described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293 and JP-B-2-16765, and
Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-A-8-49860, JP-B-56-17654, JP-B-62-39417, and JP-B-62-39418 are also suitable.
【0100】さらに、特開昭63−277653,特開
昭63−260909号、特開平1−105238号に
記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有
する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常
に感光スピードに優れた感光性組成物を得ることができ
る。Further, by using addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277563, JP-A-63-260909 and JP-A-1-105238. Can obtain a photosensitive composition having a very high photosensitive speed.
【0101】その他の例としては、特開昭48−641
83号、特公昭49−43191号、特公昭52−30
490号、各公報に記載されているようなポリエステル
アクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を
反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレートをあげることができる。また、
特公昭46−43946号、特公平1−40337号、
特公平1−40336号記載の特定の不飽和化合物や、
特開平2−25493号記載のビニルホスホン酸系化合
物等もあげることができる。また、ある場合には、特開
昭61−22048号記載のペルフルオロアルキル基を
含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会
誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1
984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして
紹介されているものも使用することができる。As another example, see JP-A-48-641.
No. 83, JP-B-49-43191, JP-B-52-30
No. 490, polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid as described in each publication. Also,
JP-B-46-43946, JP-B-1-40337,
Specific unsaturated compounds described in JP-B-1-40336,
Vinyl phosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493 can also be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Further, the Journal of the Adhesion Society of Japan vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1
984) as photocurable monomers and oligomers.
【0102】これらの、付加重合性化合物について、ど
の様な構造を用いるか、単独で使用するか併用するか、
添加量はどうかといった、使用方法の詳細は、最終的な
感材の性能設計にあわせて、任意に設定できる。例えば
次のような観点から選択される。感光スピードの点では
1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多
くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわ
ち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のもの
が良く、さらに、異なる官能数・異なる重合性基(例え
ばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレ
ン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用す
ることで、感光性と、強度を両方を調節する方法も有効
である。大きな分子量の化合物や、疎水性の高い化合物
は感光スピードや、膜強度に優れる反面、現像スピード
や現像液中での析出といった点で好ましく無い場合があ
る。Regarding these addition polymerizable compounds, what kind of structure is used, whether they are used alone or in combination,
Details of the method of use, such as the amount of addition, can be arbitrarily set in accordance with the final performance design of the light-sensitive material. For example, it is selected from the following viewpoints. From the viewpoint of the photosensitive speed, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or more functional structure is preferable. In order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, those having three or more functional groups are preferable, and further, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylates, methacrylates, styrene compounds, vinyl ethers) It is also effective to adjust both the photosensitivity and the intensity by using the compound (1) in combination. A compound having a large molecular weight or a compound having a high hydrophobicity is excellent in photosensitive speed and film strength, but may not be preferable in terms of developing speed and precipitation in a developing solution.
【0103】また、感光性組成物中の他の成分(例えば
バインダーポリマー、開始剤、着色剤等)との相溶性、
分散性に対しても、付加重合化合物の選択・使用法は重
要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種
以上の併用により相溶性を向上させうる事がある。ま
た、平版印刷版用原版とする場合、後述の支持体、オー
バーコート層等の密着性を向上せしめる目的で特定の構
造を選択することもあり得る。感光性組成物中の付加重
合性化合物の配合比に関しては、多い方が感度的に有利
であるが、多すぎる場合には、好ましく無い相分離が生
じたり、感光性組成物の粘着性による製造工程上の問題
(例えば、感材成分の転写、粘着に由来する製造不良)
や、平版印刷版用原版とした場合、現像液からの析出が
生じる等の問題を生じうる。これらの観点から、好まし
い配合比は、多くの場合、組成物全成分に対して5〜8
0重量%、好ましくは25〜75重量%である。また、
これらは単独で用いても2種以上併用してもよい。その
ほか、付加重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合
阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着
性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択
でき、さらに場合によっては下塗り、上塗りといった層
構成・塗布方法も実施しうる。Further, compatibility with other components (eg, binder polymer, initiator, colorant, etc.) in the photosensitive composition,
The selection and use of the addition polymerization compound is also an important factor for the dispersibility. For example, the use of a low-purity compound or the combination of two or more compounds may improve the compatibility. In the case of a lithographic printing plate precursor, a specific structure may be selected for the purpose of improving the adhesion of a support, an overcoat layer, and the like described below. Regarding the compounding ratio of the addition polymerizable compound in the photosensitive composition, the larger the proportion, the more advantageous in sensitivity. Process problems (for example, improper production due to transfer of photosensitive material components or adhesion)
In the case of a lithographic printing plate precursor, problems such as precipitation from a developing solution may occur. From these viewpoints, the preferred compounding ratio is often 5 to 8 based on all components of the composition.
0% by weight, preferably 25 to 75% by weight. Also,
These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the method of using the addition polymerizable compound can be arbitrarily selected from the viewpoints of the degree of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging property, refractive index change, surface tackiness, etc. Depending on the case, a layer structure and a coating method such as undercoating and overcoating may be performed.
【0104】IV)水不溶性且つアルカリ水溶液可溶性の
バインダー 本発明の平版印刷版原版においては、感光層にさらにバ
インダーポリマーを使用することが好ましい。バインダ
ーとしては線状有機高分子重合体を含有させることが好
ましい。このような「線状有機高分子重合体」として
は、どれを使用しても構わない。好ましくは水現像ある
いは弱アルカリ水現像を可能とする水あるいは弱アルカ
リ水可溶性または膨潤性である線状有機高分子重合体が
選択される。線状有機高分子重合体は、組成物の皮膜形
成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水あるいは有機
溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用される。例え
ば、水可溶性有機高分子重合体を用いると水現像が可能
になる。このような線状有機高分子重合体としては、側
鎖にカルボン酸基を有する付加重合体、例えば特開昭5
9−44615号、特公昭54−34327号、特公昭
58−12577号、特公昭54−25957号、特開
昭54−92723号、特開昭59−53836号、特
開昭59−71048号に記載されているもの、すなわ
ち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタ
コン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重
合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。ま
た同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘
導体がある。この他に水酸基を有する付加重合体に環状
酸無水物を付加させたものなどが有用である。IV) Binder Insoluble in Water and Soluble in Alkaline Aqueous Solution In the lithographic printing plate precursor according to the invention, it is preferable to further use a binder polymer in the photosensitive layer. It is preferable to contain a linear organic high molecular polymer as the binder. Any of such “linear organic high molecular polymers” may be used. Preferably, a water- or weakly alkaline water-soluble or swellable linear organic high molecular polymer that enables water development or weakly alkaline water development is selected. The linear organic high molecular polymer is selected and used not only as a film forming agent of the composition but also as a water, weakly alkaline water or organic solvent developing agent. For example, when a water-soluble organic high molecular polymer is used, water development becomes possible. Examples of such a linear organic high molecular polymer include an addition polymer having a carboxylic acid group in a side chain, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No.
Nos. 9-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12577, JP-B-54-25957, JP-A-54-92723, JP-A-59-53836, and JP-A-59-71048. Those described, that is, methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, partially esterified maleic acid copolymer, and the like. Similarly, there is an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid group in the side chain. In addition, those obtained by adding a cyclic acid anhydride to an addition polymer having a hydroxyl group are useful.
【0105】特にこれらの中で〔ベンジル(メタ)アク
リレート/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の
付加重合性ビニルモノマー〕共重合体および〔アリル
(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必要に応
じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体は、
膜強度、感度、現像性のバランスに優れており、好適で
ある。In particular, among these, [benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / if necessary, other addition-polymerizable vinyl monomers] copolymer and [allyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / Other addition-polymerizable vinyl monomers as needed) copolymer,
It is suitable because it has an excellent balance of film strength, sensitivity and developability.
【0106】また、特公平7−12004号、特公平7
−120041号、特公平7−120042号、特公平
8−12424号、特開昭63−287944号、特開
昭63−287947号、特開平1−271741号、
特願平10−116232号等に記載される、酸基を含
有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度
に優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。
また、特開平11−171907記載のアミド基を有す
るバインダーは優れた現像性と膜強度をあわせもち、好
適である。Further, Japanese Patent Publication No. 7-12004, Japanese Patent Publication No.
JP-A-120041, JP-B-7-120042, JP-B-8-12424, JP-A-63-287944, JP-A-63-287947, JP-A-1-271174,
The urethane-based binder polymer containing an acid group described in Japanese Patent Application No. 10-116232 is very excellent in strength, and therefore is advantageous in terms of printing durability and low exposure suitability.
Further, a binder having an amide group described in JP-A-11-171907 is suitable because it has excellent developability and film strength.
【0107】さらにこの他に水溶性線状有機高分子とし
て、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等
が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアル
コール可溶性ナイロンや2,2−ビス−(4−ヒドロキ
シフェニル)―プロパンとエピクロロヒドリンのポリエ
ーテル等も有用である。これらの線状有機高分子重合体
は全組成物中に任意な量を混和させることができる。し
かし90重量%を超える場合には形成される画像強度等
の点で好ましい結果を与えない。好ましくは30〜85
重量%である。また光重合可能なエチレン性不飽和二重
結合を有する化合物と線状有機高分子重合体は、重量比
で1/9〜7/3の範囲とするのが好ましい。Further, as the water-soluble linear organic polymer, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide and the like are useful. In order to increase the strength of the cured film, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, and the like are also useful. These linear organic high molecular polymers can be incorporated in any amount in the entire composition. However, if it exceeds 90% by weight, no favorable result is obtained in view of the strength of the formed image and the like. Preferably 30 to 85
% By weight. The weight ratio of the photopolymerizable compound having an ethylenically unsaturated double bond and the linear organic high molecular polymer is preferably in the range of 1/9 to 7/3.
【0108】本発明のバインダーポリマーは実質的に水
に不溶でアルカリ水溶液に可溶なものが用いられる。こ
のため、現像液として、環境上好ましくない有機溶剤を
用いないかもしくは非常に少ない使用量に制限できる。
このようなバインダーポリマーの酸価(ポリマーlgあ
たりの酸含率を化学等量数で表したもの)と分子量は画
像強度と現像性の観点から適宜選択される。好ましい酸
価は、0.4〜3.Omeq/gであり好ましい分子量
は3000から50万の範囲で、より好ましくは、酸価
が0.6〜2.0分子量が1万から30万の範囲であ
る。The binder polymer of the present invention is substantially insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution. For this reason, an organic solvent which is not environmentally unfavorable is not used or the amount used is extremely small as a developer.
The acid value (the acid content per gram of the polymer expressed by a chemical equivalent number) and the molecular weight of such a binder polymer are appropriately selected from the viewpoint of image strength and developability. Preferred acid values are 0.4-3. The molecular weight is Omeq / g, and the preferred molecular weight is in the range of 3,000 to 500,000, and more preferably the acid value is in the range of 0.6 to 2.0, and the molecular weight is in the range of 10,000 to 300,000.
【0109】(V)その他の成分 本発明の感光性組成物には、さらにその用途、製造方法
等に適したその他の成分を適宜添加することができる。
以下、好ましい添加剤に関し例示する。 (V−1)共増感剤 ある種の添加剤(以後、共増感剤という)を用いること
で、感度をさらに向上させる事ができる。これらの作用
機構は、明確ではないが、多くは次のような化学プロセ
スに基づくものと考えられる。即ち、熱重合開始剤によ
り開始される光反応、と、それに引き続く付加重合反応
の過程で生じる様々な中間活性種(ラジカル、カチオ
ン)と、共増感剤が反応し、新たな活性ラジカルを生成
するものと推定される。これらは、大きくは、(a)還
元されて活性ラジカルを生成しうるもの、(b)酸化さ
れて活性ラジカルを生成しうるもの、(C)活性の低い
ラジカルと反応し、より活性の高いラジカルに変換する
か、もしくは連鎖移動剤として作用するもの、に分類で
きるが、個々の化合物がこれらのどれに属するかに関し
ては、通説がない場合も多い。(V) Other Components The photosensitive composition of the present invention may further contain other components suitable for its use, production method and the like.
Hereinafter, preferred additives will be exemplified. (V-1) Co-sensitizer The sensitivity can be further improved by using a certain additive (hereinafter referred to as a co-sensitizer). Although their mechanism of action is not clear, most are thought to be based on the following chemical processes. That is, a co-sensitizer reacts with a photoreaction initiated by a thermal polymerization initiator and various intermediate active species (radicals, cations) generated during the subsequent addition polymerization reaction to generate a new active radical. It is estimated that These are roughly (a) those that can be reduced to produce active radicals, (b) those that can be oxidized to produce active radicals, and (C) those that react with less active radicals and are more active radicals. Or acting as a chain transfer agent, but it is often unconventional as to which of these compounds an individual compound belongs to.
【0110】(a)還元されて活性ラジカルを生成する
化合物 炭素−ハロゲン結合結合を有する化合物:還元的に炭素
−ハロゲン結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考
えられる。具体的には、例えば、トリハロメチル−s−
トリアジン類や、トリハロメチルオキサジアゾール類等
が好適に使用できる。窒素−窒素結合を有する化合物:
還元的に窒素−窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発生
すると考えられる。具体的にはヘキサアリールビイミダ
ゾール類等が好適に使用される。 酸素一酸素結合を有する化合物:還元的に酸素−酸素結
合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具
体的には、例えば、有機過酸化物類等が好適に使用され
る。 オニウム化合物:還元的に炭素−ヘテロ結合や、酸素−
窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられ
る。具体的には例えば、ジアリールヨードニウム塩類、
トリアリールスルホニウム塩類、N−アルコキシピリジ
ニウム(アジニウム)塩類等が好適に使用される。 フエロセン、鉄アレーン錯体類:還元的に活性ラジカル
を生成しうる。(A) Compound which generates an active radical by being reduced Compound having a carbon-halogen bond: It is considered that a carbon-halogen bond is reductively cleaved to generate an active radical. Specifically, for example, trihalomethyl-s-
Triazines, trihalomethyloxadiazoles and the like can be suitably used. Compounds having a nitrogen-nitrogen bond:
It is considered that the nitrogen-nitrogen bond is reductively cleaved to generate an active radical. Specifically, hexaarylbiimidazoles and the like are preferably used. Compound having an oxygen-oxygen bond: It is considered that an oxygen-oxygen bond is reductively cleaved to generate an active radical. Specifically, for example, organic peroxides and the like are preferably used. Onium compounds: carbon-hetero bond or oxygen-
It is thought that the nitrogen bond is cleaved to generate an active radical. Specifically, for example, diaryliodonium salts,
Triarylsulfonium salts, N-alkoxypyridinium (azinium) salts and the like are preferably used. Ferrocene, iron arene complexes: can generate active radicals reductively.
【0111】(b)酸化されて活性ラジカルを生成する
化合物 アルキルアート錯体:酸化的に炭素−ヘテロ結合が解裂
し、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には
例えば、トリアリールアルキルボレート類が好適に使用
される。 アルキルアミン化合物:酸化により窒素に隣接した炭素
上のC−X結合が解裂し、活性ラジカルを生成するもの
と考えられる。Xとしては、水素原子、カルボキシル
基、トリメチルシリル基、ベンジル基等が好適である。
具体的には、例えば、エタノールアミン類、N−フェニ
ルグリシン類、N−トリメチルシリルメチルアニリン類
等があげられる。 含硫黄、含錫化合物:上述のアミン類の窒素原子を硫黄
原子、錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活
性ラジカルを生成しうる。また、S−S結合を有する化
合物もS−S解裂による増感が知られる。(B) Compound which is oxidized to generate an active radical Alkyl ate complex: It is considered that a carbon-hetero bond is oxidatively cleaved to generate an active radical. Specifically, for example, triarylalkyl borates are preferably used. Alkylamine compound: It is considered that the CX bond on carbon adjacent to nitrogen is cleaved by oxidation to generate an active radical. X is preferably a hydrogen atom, a carboxyl group, a trimethylsilyl group, a benzyl group, or the like.
Specific examples include ethanolamines, N-phenylglycines, N-trimethylsilylmethylanilines and the like. Sulfur-containing and tin-containing compounds: The above-mentioned amines in which the nitrogen atom is replaced with a sulfur atom or a tin atom can generate an active radical by the same action. Compounds having an SS bond are also known to be sensitized by SS cleavage.
【0112】α−置換メチルカルボニル化合物:酸化に
より、カルボニル−α炭素間の結合解裂により、活性ラ
ジカルを生成しうる。また、カルボニルをオキシムエー
テルに変換したものも同様の作用を示す。具体的には、
2−アルキル−1−[4−(アルキルチオ)フェニル]
−2−モルフォリノプロノン−1類、並びに、これら
と、ヒドロキシアミン類とを反応したのち、N−OHを
エーテル化したオキシムエーテル類をあげる事ができ
る。 スルフィン酸塩類:還元的に活性ラジカルを生成しう
る。具体的は、アリールスルフィン駿ナトリウム等をあ
げる事ができる。Α-Substituted methylcarbonyl compound: An active radical can be generated by the cleavage of carbonyl-α carbon bond by oxidation. In addition, those obtained by converting carbonyl to oxime ether also show the same action. In particular,
2-alkyl-1- [4- (alkylthio) phenyl]
-2-Morpholinopronones-1 and oxime ethers obtained by reacting these with hydroxyamines and then etherifying N-OH. Sulfinates: Active radicals can be generated reductively. Specific examples include sodium arylsulfin and the like.
【0113】(c)ラジカルと反応し高活性ラジカルに
変換、もしくは連鎖移動剤として作用する化合物:例え
ば、分子内にSH、PH、SiH、GeHを有する化合
物群が用いられる。これらは、低活性のラジカル種に水
素供与して、ラジカルを生成するか、もしくは、酸化さ
れた後、脱プロトンする事によりラジカルを生成しう
る。具体的には、例えば、2−メルカプトベンズイミダ
ゾール類等があげられる。(C) Compounds which react with radicals to convert them into highly active radicals or act as chain transfer agents: For example, compounds having SH, PH, SiH, GeH in the molecule are used. These can generate a radical by donating hydrogen to a low-activity radical species, or can generate a radical by being oxidized and then deprotonated. Specific examples include 2-mercaptobenzimidazoles.
【0114】これらの共増感剤のより具体的な例は、例
えば、特開昭9−236913号公報中に、感度向上を
目的とした添加剤として、多く記載されており、それら
を本発明においても適用することができる。これらの共
増感剤は、単独でまたは2種以上併用して用いることが
できる。使用量はエチレン性不飽和二重結合を有する化
合物100重量部に対し0.05〜100重量部、好ま
しくは1〜80重量部、さらに好ましくは3〜50重量
部の範囲が適当である。Many more specific examples of these co-sensitizers are described in, for example, JP-A-9-236913 as additives for the purpose of improving sensitivity. Can also be applied. These co-sensitizers can be used alone or in combination of two or more. The amount is suitably in the range of 0.05 to 100 parts by weight, preferably 1 to 80 parts by weight, more preferably 3 to 50 parts by weight, per 100 parts by weight of the compound having an ethylenically unsaturated double bond.
【0115】(V−2)重合禁止剤 また、本発明においては以上の基本成分の他に感光性組
成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレ
ン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な熱重合を阻
止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望ま
しい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、p
−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾー
ル、ピロガロール、t―ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−
6−t―ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒ
ドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。熱重合
防止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約0.01
重量%〜約5重量%が好ましい。また必要に応じて、酸
素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸
アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、平版印
刷版用原版とする場合、支持体等への塗布後の乾燥の過
程でその感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸
誘導体の添加量は、全組成物の約0.5重量%〜約10
重量%が好ましい。(V-2) Polymerization Inhibitor In the present invention, in addition to the above basic components, there is no need for a compound having an ethylenically unsaturated double bond which can be polymerized during the production or storage of the photosensitive composition. It is desirable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor to prevent the thermal polymerization. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p
-Methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4- Methyl-
6-t-butylphenol), cerium N-nitrosophenylhydroxyamine, and the like. The amount of the thermal polymerization inhibitor added is about 0.01 to the weight of the whole composition.
% By weight to about 5% by weight is preferred. In addition, if necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide is added to prevent polymerization inhibition by oxygen, and when used as a lithographic printing plate precursor, after application to a support or the like, During the drying process, it may be unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer. The amount of the higher fatty acid derivative to be added ranges from about 0.5% by weight to about 10% by weight of the total composition.
% By weight is preferred.
【0116】(V−3)着色剤等 さらに、本発明の感光性組成物を平版印刷版用原版に用
いる場合、その感光層の着色を目的として染料もしくは
顔料を添加してもよい。これにより、印刷版としての、
製版後の視認性や、画像濃度測定機適性といったいわゆ
る検版性を向上させる事ができる。着色剤としては、多
くの染料は光重合系感光層の感度の低下を生じるので、
着色剤としては、特に顔料の使用が好ましい。具体例と
しては例えばフタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カー
ボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレ
ット、クリスタルバイオレット、アゾ系染料、アントラ
キノン系染料、シアニン系染料などの染料がある。染料
および顔料の添加量は全組成物の約0.5重量%〜約5
重量%が好ましい。(V-3) Colorant, etc. When the photosensitive composition of the present invention is used for a lithographic printing plate precursor, a dye or pigment may be added for the purpose of coloring the photosensitive layer. As a result, as a printing plate,
It is possible to improve so-called plate inspection properties such as visibility after plate making and suitability for an image density measuring device. As a coloring agent, since many dyes cause a decrease in the sensitivity of the photopolymerizable photosensitive layer,
As the colorant, use of a pigment is particularly preferable. Specific examples include pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, and titanium oxide, and dyes such as ethyl violet, crystal violet, azo dyes, anthraquinone dyes, and cyanine dyes. Dyes and pigments may be added in an amount of about 0.5% to about 5% by weight of the total composition.
% By weight is preferred.
【0117】(V−4)その他の添加剤 さらに、本発明の感光性組成物を平版印刷版用原版に用
いる場合、硬化皮膜の物性を改良するために無機充填剤
や、その他可塑剤、感光層表面のインク着肉性を向上さ
せうる感脂化剤等の公知の添加剤を加えてもよい。(V-4) Other Additives When the photosensitive composition of the present invention is used for a lithographic printing plate precursor, an inorganic filler, other plasticizers, and a photosensitive agent are used to improve the physical properties of the cured film. A known additive such as a sensitizer that can improve the ink inking property of the layer surface may be added.
【0118】可塑剤としては例えばジオクチルフタレー
ト、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジ
カプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリク
レジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチル
セバケート、トリアセチルグリセリン等があり、結合剤
を使用した場合、エチレン性不飽和二重結合を有する化
合物と結合剤との合計重量に対し10重量%以下添加す
ることができる。Examples of the plasticizer include dioctyl phthalate, didodecyl phthalate, triethylene glycol dicaprylate, dimethyl glycol phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl adipate, dibutyl sebacate, triacetyl glycerin and the like. A binder was used. In this case, it can be added in an amount of 10% by weight or less based on the total weight of the compound having an ethylenically unsaturated double bond and the binder.
【0119】また、後述する膜強度(耐刷性)向上を目
的とした、現像後の加熱・露光の効果を強化するため
の、UV開始剤や、熟架橋剤等の添加もできる。その
他、感光層と支持体との密着性向上や、未露光感光層の
現像除去性を高めるための添加剤、中間層を設ける事を
可能である。例えば、ジアゾニウム構造を有する化合物
や、ホスホン化合物、等、基板と比較的強い相互作用を
有する化合物の添加や下塗りにより、密着性が向上し、
耐刷性を高める事が可能であり、一方ポリアクリル酸
や、ポリスルホン酸のような親水性ポリマーの添加や下
塗りにより、非画像部の現像性が向上し、汚れ性の向上
が可能となる。Further, a UV initiator, a mature crosslinking agent, etc. can be added to enhance the effect of heating and exposure after development for the purpose of improving the film strength (printing durability) described later. In addition, it is possible to provide an additive and an intermediate layer for improving the adhesion between the photosensitive layer and the support and for improving the development and removability of the unexposed photosensitive layer. For example, a compound having a diazonium structure or a phosphone compound, such as a compound having a relatively strong interaction with the substrate or an undercoat, the adhesion is improved,
The printing durability can be increased, while the addition or undercoating of a hydrophilic polymer such as polyacrylic acid or polysulfonic acid improves the developability of the non-image area and improves the stain resistance.
【0120】平版印刷版を提供するために、本発明の感
光性組成物を支持体上に塗布する際には、種々の有機溶
剤に溶かして使用に供される。ここで使用する溶媒とし
ては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロ
フラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレ
ングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチル
エーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジア
セトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルア
セテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト、3−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタ
ノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレング
リコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエ
チルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、3−メトキシプロピルアセテート、N,
N―ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ
―ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがあ
る。これらの溶媒は、単独あるいは混合して使用するこ
とができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃度は、2
〜50重量%が適当である。When the photosensitive composition of the present invention is applied on a support to provide a lithographic printing plate, it is used after being dissolved in various organic solvents. As the solvent used here, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, Acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, Ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N,
N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ
-Butyrolactone, methyl lactate, ethyl lactate, etc. These solvents can be used alone or as a mixture. The concentration of the solid content in the coating solution is 2
~ 50% by weight is suitable.
【0121】前記感光層の支持体への塗布量は、感光層
の感度、現像性、露光膜の強度・耐刷性等の影響を考慮
し、用途に応じ適宜選択することが望ましい。塗布量が
少なすぎる場合には、耐刷性が十分でなくなる。一方多
すぎる場合には、感度が下がり、露光に時間がかかる
上、現像処理にもより長い時間を要するため好ましくな
い。本発明の平版印刷版原版における塗布量は、一般的
には、乾燥後の重量で約0.lg/m2〜約10g/m2
の範囲が適当である。より好ましくは0.5〜5g/m
2である。The amount of the photosensitive layer to be applied to the support is desirably appropriately selected depending on the application in consideration of the effects of the sensitivity and developability of the photosensitive layer and the strength and printing durability of the exposed film. When the coating amount is too small, the printing durability becomes insufficient. On the other hand, if the amount is too large, the sensitivity is lowered, and it takes a long time for exposure, and a longer time is required for the developing process, which is not preferable. The coating amount of the lithographic printing plate precursor according to the invention is generally about 0. lg / m 2 to about 10 g / m 2
Is appropriate. More preferably 0.5 to 5 g / m
2
【0122】「保護層」本発明の平版印刷版原版は、通
常、露光を大気中で行うため、光重合性組成物の層の上
に、さらに、保護層を設ける事が好ましい。保護層は、
感光層中で露光により生じる画像形成反応を阻害する大
気中に存在する酸素や塩基性物質等の低分子化合物の感
光層への混入を防止し、大気中での露光を可能とする。
従って、この様な保護層に望まれる特性は、酸素等の低
分子化合物の透過性が低いことであり、さらに、露光に
用いる光の透過性が良好で、感光層との密着性に優れ、
かつ、露光後の現像工程で容易に除去できる事が望まし
い。"Protective Layer" The lithographic printing plate precursor according to the invention is usually provided with a protective layer on the photopolymerizable composition layer, since exposure is usually performed in the air. The protective layer is
The present invention prevents low-molecular compounds such as oxygen and basic substances present in the atmosphere that inhibit an image forming reaction caused by exposure in the photosensitive layer from being mixed into the photosensitive layer, thereby enabling exposure in the atmosphere.
Therefore, the desired properties of such a protective layer is that the permeability of low molecular compounds such as oxygen is low, and further, the transparency of light used for exposure is good, and the adhesion with the photosensitive layer is excellent.
In addition, it is desirable that it can be easily removed in a developing step after exposure.
【0123】このような、保護層に関する工夫が従来よ
りなされており、米国特許第3、458、311号、特
開昭55−49729号に詳しく記載されている。保護
層に使用できる材料としては例えば、比較的、結晶性に
優れた水溶性高分子化合物を用いる事がよく、具体的に
は、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、酸
性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリ
ル酸などのような水溶性ポリマーが知られていが、これ
らのうち、ポリビニルアルコールを主成分として用いる
事が、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にも
っとも良好な結果を与える。保護層に使用するポリビニ
ルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するた
めの、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一
部がエステル、エーテル、およびアセタールで置換され
ていても良い。また、同様に一部が他の共重合成分を有
していても良い。Such a device for the protective layer has been conventionally devised, and is described in detail in US Pat. No. 3,458,311 and JP-A-55-49729. As a material that can be used for the protective layer, for example, a water-soluble polymer compound having relatively excellent crystallinity is preferably used, and specifically, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, and polystyrene. Although water-soluble polymers such as acrylic acid are known, use of polyvinyl alcohol as a main component gives the best results in terms of basic properties such as oxygen barrier properties and development removability. The polyvinyl alcohol used for the protective layer may be partially substituted with an ester, an ether, or an acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for obtaining necessary oxygen barrier properties and water solubility. Similarly, a part thereof may have another copolymer component.
【0124】ポリビニルアルコールの具体例としては7
1〜100%加水分解され、分子量が300から240
0の範囲のものをあげる事ができる。具体的には、株式
会社クラレ製のPVA−105、PVA−110、PV
A−117、PVA−117H、PVA−120、PV
A−124、PVA−124H、PVA一CS、PVA
―CST、PVA一HC、PVA−203、PVA−2
04、PVA−205、PVA−210、PVA−21
7、PVA−220、PVA−224、PVA−217
EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−
224E、PVA−405、PVA−420、PVA−
613、L−8等があげられる。Specific examples of polyvinyl alcohol include 7
1-100% hydrolyzed, molecular weight 300-240
A range of 0 can be given. Specifically, Kuraray's PVA-105, PVA-110, PVA
A-117, PVA-117H, PVA-120, PV
A-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA
-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-2
04, PVA-205, PVA-210, PVA-21
7, PVA-220, PVA-224, PVA-217
EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-
224E, PVA-405, PVA-420, PVA-
613 and L-8.
【0125】保護層の成分(PVAの選択、添加剤の使
用)、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性の他、カブ
リ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。一般には
使用するPVAの加水分解率が高い程(保護層中の未置
換ビニルアルコール単位含率が高い程)、膜厚が厚い程
酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。しかし
ながら、極端に酸素遮断性を高めると、製造時・生保存
時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不
要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じ
る。また、画像部との密着性や、耐傷性も版の取り扱い
上極めて重要である。即ち、水溶性ポリマーからなる親
水性の層を新油性の重合層に積層すると、接着力不足に
よる膜剥離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害
により膜硬化不良などの欠陥を引き起こす。The components of the protective layer (selection of PVA, use of additives), coating amount, etc. are selected in consideration of fogging properties, adhesion and scratch resistance in addition to oxygen barrier properties and development removal properties. Generally, the higher the hydrolysis rate of the PVA used (the higher the content of unsubstituted vinyl alcohol units in the protective layer) and the thicker the film thickness, the higher the oxygen barrier properties, which is advantageous in terms of sensitivity. However, when the oxygen barrier property is extremely increased, there arises a problem that an unnecessary polymerization reaction occurs at the time of production or raw storage, and that unnecessary fogging and thickening of an image occur at the time of image exposure. Further, the adhesion to the image area and the scratch resistance are also extremely important in handling the plate. That is, when a hydrophilic layer made of a water-soluble polymer is laminated on a lipophilic polymer layer, film peeling due to insufficient adhesive force tends to occur, and the peeled portion causes defects such as poor film curing due to inhibition of oxygen polymerization.
【0126】これに対し、これら2層間の接着性を改す
べく種々の提案がなされている。たとえば米国特許第2
92、501号、米国特許第44、563号には、主に
ポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、ア
クリル系エマルジヨンまたは水不溶性ビニルピロリドン
−ビニルアセテート共重合体などを20〜60重量%混
合し、重合層の上に積層することにより、十分な接着性
が得られることが記載されている。本発明における保護
層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用する
事ができる。このような保護層の塗布方法については、
例えば米国特許第3,458,311号、特開昭55−
49729号に詳しく記載されている。On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesiveness between these two layers. For example, US Patent No. 2
No. 92,501 and U.S. Pat. No. 44,563, an acrylic emulsion or a water-insoluble vinylpyrrolidone-vinyl acetate copolymer or the like is mixed in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol in an amount of 20 to 60% by weight. It is described that sufficient adhesiveness can be obtained by laminating on a polymer layer. Any of these known techniques can be applied to the protective layer in the present invention. Regarding the method of applying such a protective layer,
For example, U.S. Pat. No. 3,458,311;
No. 49729.
【0127】さらに、保護層に他の機能を付与する事も
できる。例えば、露光に使う波長の光の透過性に優れ、
かつ露光に関わらない波長の光を効率良く吸収しうる、
着色剤(水溶性染料等)の添加により、感度低下を起こ
すことなく、セーフライト適性をさらに高める事ができ
る。Further, other functions can be imparted to the protective layer. For example, it excels in the transmission of light of the wavelength used for exposure,
And can efficiently absorb light of a wavelength not related to exposure,
By adding a coloring agent (such as a water-soluble dye), the suitability for safelight can be further increased without lowering the sensitivity.
【0128】(支持体)本発明の平版印刷版原版に使用
される支持体としては、寸度的に安定な板状物であれば
特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック(例えば、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラ
ミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜
鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セ
ルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロ
ース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ
ビニルアセタール等)等が挙げられる。これらは、樹脂
フィルムや金属板などの単一成分のシートであっても、
2以上の材料の積層体であってもよく、例えば、上記の
ごとき金属がラミネート、若しくは蒸着された紙やプラ
スチックフィルム、異種のプラスチックフィルム同志の
積層シート等が含まれる。(Support) The support used in the lithographic printing plate precursor according to the invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate-like material. For example, paper, plastic (for example,
Paper, metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate) laminated with polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc. Cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.). These are single component sheets such as resin films and metal plates,
The laminate may be a laminate of two or more materials, for example, such as the above-described metal-laminated or vapor-deposited paper or plastic film, or a laminated sheet of different types of plastic films.
【0129】前記支持体としては、ポリエステルフィル
ム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定
性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ま
しい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及び
アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板
であり、更にアルミニウムがラミネート若しくは蒸着さ
れたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金
に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マ
グネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタ
ン等がある。合金中の異元素の含有量は高々10重量%
以下である。本発明において特に好適なアルミニウム
は、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウ
ムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を
含有するものでもよい。このように本発明に適用される
アルミニウム板は、その組成が特定されるものではな
く、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に
利用することができる。前記アルミニウム板の厚みは、
およそ0.1〜0.6mm程度、好ましくは0.15〜
0.4mm、特に好ましくは0.2〜0.3mmであ
る。As the support, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate which has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% by weight
It is as follows. Particularly preferred aluminum in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate,
About 0.1 to 0.6 mm, preferably 0.15 to
It is 0.4 mm, particularly preferably 0.2 to 0.3 mm.
【0130】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤又はアルカリ水溶液等による脱脂処理が
行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々
の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する
方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学
的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的
方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト
研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができ
る。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸
電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、
特開昭54−63902号公報に開示されているように
両者を組み合わせた方法も利用することができる。この
様に粗面化されたアルミニウム板は、所望により、アル
カリエッチング処理、中和処理を経て、表面の保水性や
耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施すことができ
る。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質
としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使
用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸
或いはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃
度は電解質の種類によって適宜決められる。Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent, or an aqueous alkaline solution for removing rolling oil on the surface is performed. The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. It is performed by the method of causing. Known mechanical methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used as the mechanical method. In addition, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Also,
As disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can also be used. The aluminum plate thus roughened can be subjected to an anodic oxidation treatment through alkali etching treatment and neutralization treatment, if desired, in order to increase the water retention and abrasion resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used, and generally, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.
【0131】陽極酸化の処理条件は、用いる電解質によ
り種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電
解質の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、
電流密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解
時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化
皮膜の量は1.0g/m2 以上が好適であるが、より好
ましくは2.0〜6.0g/m2 の範囲である。陽極酸
化被膜が1.0g/m2 未満であると耐刷性が不十分で
あったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなっ
て、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷
汚れ」が生じ易くなる。尚、このような陽極酸化処理は
平板印刷版の支持体の印刷に用いる面に施されるが、電
気力線の裏回りにより、裏面にも0.01〜3g/m2
の陽極酸化被膜が形成されるのが一般的である。The anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte to be used and cannot be specified unconditionally. However, in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70.degree.
Current density 5 to 60 A / dm 2, voltage 1 to 100 V, which is an electrolyzing time of 10 seconds to 5 minutes. The amount of the anodized film is suitably 1.0 g / m 2 or more, but more preferably in the range of 2.0 to 6.0 g / m 2. When the anodic oxide coating is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient, and the non-image area of the lithographic printing plate is easily damaged, and the ink adheres to the damaged area during printing. "Scratch dirt" is likely to occur. Although such anodizing treatment is performed on a surface used for printing of the support of lithographic printing plates, the back around the electric lines of force, 0.01 to 3 g / m 2 on the back surface
Is generally formed.
【0132】支持体表面の親水化処理は、上記陽極酸化
処理の後に施されるものであり、従来より知られている
処理法が用いられる。このような親水化処理としては、
米国特許第2,714,066号、同第3,181,4
61号、第3,280,734号及び第3,902,7
34号公報に開示されているようなアルカリ金属珪酸塩
(例えば、珪酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法
においては、支持体が珪酸ナトリウム水溶液で浸漬処理
されるか、又は電解処理される。他に特公昭36−22
063号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウ
ム及び米国特許第3,276,868号、同第4,15
3,461号、同第4,689,272号公報に開示さ
れているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等
が用いられる。これらの中で、本発明において特に好ま
しい親水化処理は珪酸塩処理である。珪酸塩処理につい
て、以下に説明する。The hydrophilic treatment of the support surface is performed after the above-described anodic oxidation treatment, and a conventionally known treatment method is used. As such a hydrophilic treatment,
U.S. Pat. Nos. 2,714,066 and 3,181,4
No. 61, No. 3,280,734 and No. 3,902,7
There is an alkali metal silicate (for example, an aqueous solution of sodium silicate) disclosed in Japanese Patent No. 34-34. In this method, the support is immersed in an aqueous solution of sodium silicate or electrolytically treated. In addition, Japanese Patent Publication No. 36-22
No. 063, and potassium fluoride zirconate disclosed in U.S. Pat. Nos. 3,276,868 and 4,15.
For example, a method of treating with polyvinyl phosphonic acid as disclosed in JP-A-3,461 and JP-A-4,689,272 is used. Among these, a particularly preferred hydrophilic treatment in the present invention is a silicate treatment. The silicate treatment will be described below.
【0133】上述の如き処理を施したアルミニウム板の
陽極酸化皮膜を、アルカリ金属珪酸塩が0.1〜30重
量%、好ましくは0.5〜10重量%であり、25℃で
のpHが10〜13である水溶液に、例えば15〜80
℃で0.5〜120秒浸漬する。アルカリ金属珪酸塩水
溶液のpHが10より低いと液はゲル化し13.0より
高いと酸化皮膜が溶解されてしまう。本発明に用いられ
るアルカリ金属珪酸塩としては、珪酸ナトリウム、珪酸
カリウム、珪酸リチウムなどが使用される。アルカリ金
属珪酸塩水溶液のpHを高くするために使用される水酸
化物としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化リチウムなどがある。なお、上記の処理液にアルカリ
土類金属塩もしくは第IVB族金属塩を配合してもよい。
アルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ス
トロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのよう
な硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、燐酸塩、酢酸塩、蓚酸
塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第IVB族
金属塩として、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チ
タンカリウム、蓚酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨ
ウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウ
ム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムなど
を挙げることができる。アルカリ土類金属塩もしくは、
第IVB族金属塩は単独又は2以上組み合わせて使用する
ことができる。これらの金属塩の好ましい範囲は0.0
1〜10重量%であり、更に好ましい範囲は0.05〜
5.0重量%である。珪酸塩処理により、アルミニウム
板表面上の親水性が一層改善されるため、印刷の際、イ
ンクが非画像部に付着しにくくなり、汚れ性能が向上す
る。The anodic oxide film of the aluminum plate treated as described above was coated with an alkali metal silicate in an amount of 0.1 to 30% by weight, preferably 0.5 to 10% by weight, and a pH at 25 ° C. of 10 to 10% by weight. Aqueous solution, for example, 15 to 80
Soak at 0.5C for 0.5-120 seconds. If the pH of the alkali metal silicate aqueous solution is lower than 10, the solution will gel, and if it is higher than 13.0, the oxide film will be dissolved. As the alkali metal silicate used in the present invention, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate and the like are used. Hydroxides used to increase the pH of the aqueous alkali metal silicate solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide. In addition, an alkaline earth metal salt or a Group IVB metal salt may be added to the above-mentioned processing solution.
Alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate and barium nitrate, and water-soluble salts such as sulfates, hydrochlorides, phosphates, acetates, oxalates and borates. No. Group IVB metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium titanium fluoride, titanium potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride, zirconium tetrachloride and the like. Can be. Alkaline earth metal salt or
The Group IVB metal salts can be used alone or in combination of two or more. The preferred range of these metal salts is 0.0
1 to 10% by weight, more preferably 0.05 to 10% by weight.
5.0% by weight. Since the silicate treatment further improves the hydrophilicity on the aluminum plate surface, the ink hardly adheres to the non-image area during printing, and the stain performance is improved.
【0134】支持体の裏面には、必要に応じてバックコ
ートが設けられる。かかるバックコートとしては、特開
平5−45885号公報記載の有機高分子化合物および
特開平6−35174号公報記載の有機または無機金属
化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化
物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの被覆
層のうち、Si(OCH3 )4 、Si(OC
2 H5 )4 、Si(OC3 H7 )4 、Si(OC
4 H9 )4 などの珪素のアルコキシ化合物が安価で入手
し易く、それから与られる金属酸化物の被覆層が耐現像
性に優れており特に好ましい。On the back surface of the support, a back coat is provided if necessary. Examples of the back coat include a coating comprising a metal oxide obtained by hydrolyzing and polycondensing an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174. Layers are preferably used. Among these coating layers, Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC
2 H 5) 4, Si ( OC 3 H 7) 4, Si (OC
Alkoxy compounds of silicon such as 4 H 9 ) 4 are inexpensive and readily available, and a coating layer of a metal oxide provided therefrom is particularly preferred because of its excellent development resistance.
【0135】(露光)以上のようにして、本発明の平版
印刷版原版を作成することができる。この平版印刷版原
版は、波長760nmから1200nmの赤外線を放射
する固体レーザ及び半導体レーザにより画像露光され
る。本発明においては、レーザ照射後すぐに現像処理を
行っても良いが、レーザ照射工程と現像工程の間に加熱
処理を行ってもよい。加熱処理の条件は、80℃〜15
0℃の範囲内で10秒〜5分間行うことが好ましい。こ
の加熱処理により、レーザ照射時、記録に必要なレーザ
エネルギーを減少させることができる。(Exposure) As described above, the planographic printing plate precursor of the invention can be prepared. This lithographic printing plate precursor is image-exposed by a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared light having a wavelength of 760 nm to 1200 nm. In the present invention, the developing treatment may be performed immediately after the laser irradiation, or the heat treatment may be performed between the laser irradiation step and the developing step. The conditions of the heat treatment are 80 ° C to 15 ° C.
It is preferable to carry out for 10 seconds to 5 minutes within the range of 0 ° C. By this heat treatment, the laser energy required for recording at the time of laser irradiation can be reduced.
【0136】(現像液)本発明の感光性組成物を用いた
感光材料を画像形成材料として使用する際には、通常、
画像露光したのち、現像液で感光層の未露光部を除去
し、画像を得る。これらの光重合性組成物を平版印刷版
の作成に使用する際の好ましい現像液としては、特公昭
57−7427号に記載されているような現像液が挙げ
られ、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸
ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモ
ニウム、第二リン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウ
ム、重炭酸ナトリウム、アンモニア水などのような無機
アルカリ剤やモノエタノールアミンまたはジエタノール
アミンなどのような有機アルカリ剤の水溶液が適当であ
る。このようなアルカリ溶液の濃度が0.1〜10重量
%、好ましくは0.5〜5重量%になるように添加され
る。(Developer) When a photosensitive material using the photosensitive composition of the present invention is used as an image forming material, it is usually
After image exposure, an unexposed portion of the photosensitive layer is removed with a developer to obtain an image. Preferred developers when these photopolymerizable compositions are used for preparing a lithographic printing plate include those described in JP-B-57-7427, such as sodium silicate and potassium silicate. Like sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, tribasic sodium phosphate, dibasic sodium phosphate, tribasic ammonium phosphate, dibasic ammonium phosphate, sodium metasilicate, sodium bicarbonate, aqueous ammonia, etc. An aqueous solution of a suitable inorganic alkali agent or an organic alkali agent such as monoethanolamine or diethanolamine is suitable. The alkaline solution is added so that the concentration of the alkaline solution is 0.1 to 10% by weight, preferably 0.5 to 5% by weight.
【0137】また、このようなアルカリ性水溶液には、
必要に応じて界面活性剤やベンジルアルコール、2−フ
ェノキシエタノール、2−ブトキシエタノールのような
有機溶媒を少量含むことができる。例えば、米国特許第
3375171号および同第3615480号に記載さ
れているものを挙げることができる。さらに、特開昭5
0−26601号、同58−54341号、特公昭56
−39464号、同56−42860号の各公報に記載
されている現像液も優れている。Also, such an alkaline aqueous solution includes:
If necessary, a small amount of a surfactant or an organic solvent such as benzyl alcohol, 2-phenoxyethanol or 2-butoxyethanol can be contained. For example, those described in U.S. Pat. Nos. 3,375,171 and 3,615,480 can be mentioned. Further, Japanese Unexamined Patent Publication No.
Nos. 0-26601, 58-54341, Tokubo Sho56
The developers described in JP-A-39464 and JP-A-56-42860 are also excellent.
【0138】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61
−2518号、同55−28062号、特開昭62−3
1859号、同61−159655号の各公報に記載さ
れているような整面液で処理することが好ましい。その
方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂
綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たした
バット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コー
ターによる塗布などが適用される。また、塗布した後で
スクィージ、あるいは、スクィージローラーで、その塗
布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing step after coating with a desensitizing gum if desired. Is subjected to a burning process. When burning a lithographic printing plate, before burning,
No. 2518, No. 55-28062, JP-A-62-3
It is preferable to treat with a surface-regulating liquid as described in JP-A Nos. 1859 and 61-159655. As the method, a method of applying the printing solution on a lithographic printing plate with a sponge or absorbent cotton impregnated with the surface conditioning solution, or immersing the printing plate in a vat filled with the surface conditioning solution, Application by an automatic coater or the like is applied. Further, it is more preferable to make the amount of the coating uniform with a squeegee or a squeegee roller after the coating.
【0139】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれ
ている処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合
物等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きな
どのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。こ
の様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印
刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。The lithographic printing plate that has been subjected to the burning treatment can be subjected to a conventional treatment such as washing with water or gumming if necessary. When a liquid is used, a so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted. The lithographic printing plate obtained by such a process is set on an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.
【0140】[0140]
【実施例】以下、本発明の実施例を説明するが、本発明
はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。EXAMPLES Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.
【0141】(実施例1〜5、比較例1〜3) [基板の作製]厚み0.3mmのアルミニウム板(材質
1050)をトリクロロエチレンで洗浄して脱脂した
後、ナイロンブラシと400メッシュのパミス−水懸濁
液を用いこの表面を砂目立てし、水でよく洗浄した。こ
の板を45℃の25%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間
浸漬してエッチングを行い、水洗後、更に20%硝酸に
20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエ
ッチング量は約3g/m2であった。次にこの板を7%
硫酸を電解液として電流密度15A/dm2 で3g/m
2 の直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗し、乾燥して基
板〔A〕を作製した。基板[A]を珪酸ナトリウム 2
重量%水溶液で25℃で15秒処理し、水洗して基板
[B]を作製した。(Examples 1 to 5, Comparative Examples 1 to 3) [Preparation of Substrate] An aluminum plate (material 1050) having a thickness of 0.3 mm was washed and degreased with trichlorethylene, and then a nylon brush and a 400 mesh pumice were used. The surface was grained with a water suspension and washed well with water. This plate was immersed in a 25% aqueous solution of sodium hydroxide at 45 ° C. for 9 seconds to perform etching, washed with water, further immersed in 20% nitric acid for 20 seconds, and washed with water. At this time, the etching amount of the grained surface was about 3 g / m 2 . Then this board is 7%
At a current density of 15A / dm 2 sulfuric acid as electrolyte 3 g / m
After the DC anodic oxide coating of No. 2 was provided, the substrate was washed with water and dried to prepare a substrate [A]. Substrate [A] is sodium silicate 2
The substrate was treated with a 15% by weight aqueous solution at 25 ° C. for 15 seconds and washed with water to prepare a substrate [B].
【0142】[中間層の形成]上述の様に作製された基
板[A]又は[B]上に、下記の本発明にかかる重合体
(表1の重合体)を含む溶液を塗布した後80℃で15
秒間乾燥し、中間層を設けた。乾燥後の被覆量は、15
mg/m2であった。[Formation of Intermediate Layer] A solution containing the following polymer according to the present invention (the polymer shown in Table 1) was applied onto the substrate [A] or [B] prepared as described above, and then coated. 15 at ℃
After drying for 2 seconds, an intermediate layer was provided. The coating amount after drying is 15
mg / m 2 .
【0143】(中間層塗布液) 表1記載の重合体 0.3g メタノール 100g 水 1g(Intermediate layer coating solution) Polymer shown in Table 1 0.3 g Methanol 100 g Water 1 g
【0144】[0144]
【表1】 [Table 1]
【0145】上述の様に作成された基板上に以下の感光
層塗布液を塗布量が1.5g/m2となるように塗布し
た。The following photosensitive layer coating solution was applied onto the substrate prepared as described above so that the coating amount was 1.5 g / m 2 .
【0146】 (感光層塗布液) ・ペンタエリスリトールテトラアクリレート 1.5g ・アリルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(83/17) 2.0g ・赤外線吸収剤DX−1(下記構造) 0.1g ・重合開始剤SX−1(下記構造) 0.2g ・フッ素系ノニオン界面活性剤(メガファックF−177、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.02g ・ビクトリアピュアブルー 0.04g ・メチルエチルケトン 10g ・メタノール 7g ・2−メトキシ−1−プロパノール 10g(Coating solution of photosensitive layer) 1.5 g of pentaerythritol tetraacrylate 2.0 g of allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (83/17) 0.1 g of infrared absorbent DX-1 (the following structure) 0.1 g Polymerization Initiator SX-1 (the following structure) 0.2 g-Fluorinated nonionic surfactant (Megafac F-177, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.02 g-Victoria Pure Blue 0.04 g-Methyl ethyl ketone 10 g- 7 g of methanol 10 g of 2-methoxy-1-propanol
【0147】比較のため、基板[A]上に中間層を設け
ていない基板を作製し、該基板上に感光層形成用塗布液
1及び2を塗布量が1.8g/m2 になるよう塗布し、
平版印刷版用原版を得た(比較例1)。更に比較のた
め、基板[B]上に中間層を設けていない基板を作製
し、感光層塗布液を塗布量が1.5g/m2 になるよう
塗布し、平版印刷版原版を得た(比較例2)。更に、基
板[B]上に特開平10−69092号公報に記載の重
合体である、以下に示すP−1を含有する溶液を塗布し
た後80℃で15秒間乾燥し、中間層を設けた。乾燥後
の被覆量は、20mg/m2であった。その後、この基板上
に感光層塗布液を塗布量が20mg/m2 になるよう塗布
し、平版印刷版原版を得た(比較例3)。For comparison, a substrate having no intermediate layer was prepared on the substrate [A], and the photosensitive layer-forming coating solutions 1 and 2 were coated on the substrate so that the coating amount was 1.8 g / m 2. Apply,
A lithographic printing plate precursor was obtained (Comparative Example 1). Further, for comparison, a substrate having no intermediate layer was prepared on the substrate [B], and a photosensitive layer coating solution was applied so that the coating amount was 1.5 g / m 2 to obtain a lithographic printing plate precursor ( Comparative Example 2). Furthermore, a solution containing the polymer P-1 shown below, which is described in JP-A-10-69092, was applied onto the substrate [B], and dried at 80 ° C. for 15 seconds to form an intermediate layer. . The coating amount after drying was 20 mg / m 2 . Thereafter, a photosensitive layer coating solution was applied onto the substrate so that the coating amount was 20 mg / m 2 , to obtain a lithographic printing plate precursor (Comparative Example 3).
【0148】[0148]
【化21】 Embedded image
【0149】(実施例6〜10、比較例4、5)前記実
施例1と同様の基板[A]又は[B]上に、実施例1で
用いた重合体に代えて、下記表2に記載の重合体を用い
て中間層を形成した他は実施例1と同様にして中間層を
形成した基板を得た。(Examples 6 to 10 and Comparative Examples 4 and 5) On the same substrate [A] or [B] as in Example 1, instead of the polymer used in Example 1, the following Table 2 was used. A substrate having an intermediate layer formed thereon was obtained in the same manner as in Example 1 except that an intermediate layer was formed using the polymer described.
【0150】[0150]
【表2】 [Table 2]
【0151】該中間層上に、以下の感光層塗布液2を塗
布量が1.5g/m2となるように塗布して平版印刷版
原版を得た。The following photosensitive layer coating solution 2 was applied onto the intermediate layer so that the coating amount was 1.5 g / m 2 , to obtain a lithographic printing plate precursor.
【0152】 (感光層塗布液2) ・バインダーポリマー(ヒドロキシエチルメタクリレート/ メチルメタクリレート/ブチルアクリレート/アクリル酸 共重合体(30/50/5/15)) 50重量部 ・モノマー:重合性化合物(ジペンタエリスリトール ヘキサクリレート) 50重量部 ・赤外線吸収剤IR−5(下記構造) 10重量部 ・重合開始剤A−1(下記構造) 5重量部 ・オニウム塩QN−1(下記構造) 5重量部 ・メチルエチルケトン 400重量部(Photosensitive Layer Coating Solution 2) 50 parts by weight of binder polymer (hydroxyethyl methacrylate / methyl methacrylate / butyl acrylate / acrylic acid copolymer (30/50/5/15)) monomer: polymerizable compound (di 50 parts by weight of pentaerythritol hexaacrylate) 10 parts by weight of infrared absorber IR-5 (the following structure) 5 parts by weight of polymerization initiator A-1 (the following structure) 5 parts by weight of onium salt QN-1 (the following structure)・ 400 parts by weight of methyl ethyl ketone
【0153】[0153]
【化22】 Embedded image
【0154】比較のため、実施例1で作成した基板
[A]及び基板[B]上に中間層を設けていない基板を
作製し、その後、この基板上に感光層塗布液2を塗布量
が1.5g/m2 になるよう塗布し、平版印刷版原版を
得た(比較例4、5)。For comparison, a substrate having no intermediate layer was prepared on the substrate [A] and the substrate [B] prepared in Example 1, and then the photosensitive layer coating liquid 2 was coated on this substrate in a coating amount. The composition was applied to 1.5 g / m 2 to obtain a lithographic printing plate precursor (Comparative Examples 4 and 5).
【0155】(実施例11、12)前記実施例1と同様
の基板[A]又は[B]上に、実施例1で用いた重合体
に代えて、下記表3に記載の重合体を用いて中間層を形
成した他は実施例1と同様にして中間層を形成した基板
を得た。(Examples 11 and 12) On the same substrate [A] or [B] as in Example 1, instead of the polymer used in Example 1, a polymer shown in Table 3 below was used. A substrate having an intermediate layer formed thereon was obtained in the same manner as in Example 1 except that the intermediate layer was formed.
【0156】[0156]
【表3】 [Table 3]
【0157】該中間層上に、以下の感光層塗布液3を塗
布量が1.5g/m2となるように塗布して平版印刷版
原版を得た。 (感光層塗布液3) ・バインダーポリマー(メチルメタクリレート/メタクリル酸 共重合体(80/20)Mw=25,000) 0.75g ・重合性化合物(ジペンタエリスリトールヘキサクリレート、 DPHA、日本化薬(株)製) 0.74g ・赤外線吸収剤(カーボンブラック分散物 カーボンブラック含有量33重量%) 1.21g ・重合開始剤(ベンゾイルパーオキサイド) 0.1g ・メチルエチルケトン 7.19gThe following photosensitive layer coating solution 3 was applied on the intermediate layer so that the coating amount was 1.5 g / m 2 , to obtain a lithographic printing plate precursor. (Photosensitive layer coating liquid 3)-Binder polymer (methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (80/20) Mw = 25,000) 0.75 g-Polymerizable compound (dipentaerythritol hexaacrylate, DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.) )) 0.74 g ・ Infrared absorber (carbon black dispersion, carbon black content 33% by weight) 1.21 g ・ Polymerization initiator (benzoyl peroxide) 0.1 g ・ Methyl ethyl ketone 7.19 g
【0158】(実施例13〜15、比較例6、7)前記
実施例1と同様の基板[B]上に、実施例1で用いた重
合体に代えて、下記表4に記載の重合体を用いて中間層
を形成した他は実施例1と同様にして中間層を形成した
基板を得た。(Examples 13 to 15, Comparative Examples 6 and 7) On the same substrate [B] as in Example 1, instead of the polymer used in Example 1, the polymers shown in Table 4 below were used. A substrate on which an intermediate layer was formed was obtained in the same manner as in Example 1 except that an intermediate layer was formed by using the above method.
【0159】[0159]
【表4】 [Table 4]
【0160】該中間層上に、以下の感光層塗布液4を塗
布量が1.5g/m2となるように塗布して平版印刷版
原版を得た。On the intermediate layer, the following photosensitive layer coating solution 4 was applied so that the coating amount was 1.5 g / m 2 to obtain a lithographic printing plate precursor.
【0161】 (感光層塗布液4) ・バインダーポリマー(アリルアクリレート/メタクリル酸/N− イソプロピルアミド共重合体(67/13/20)) 2.0g ・モノマー:重合性化合物(ジペンタエリスリトール ヘキサクリレート) 1.0g ・赤外線吸収剤DX−1(上記構造) 0.1g ・重合開始剤SX−2(下記構造) 0.2g ・フッ素系ノニオン界面活性剤(メガファックF−177、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.02g ・ビクトリアピュアブルー 0.04g ・メタノール 10g ・メチルエチルケトン 15g(Photosensitive Layer Coating Solution 4) Binder polymer (allyl acrylate / methacrylic acid / N-isopropylamide copolymer (67/13/20)) 2.0 g Monomer: Polymerizable compound (dipentaerythritol hexacryl) Rate) 1.0 g ・ Infrared absorber DX-1 (the above structure) 0.1 g ・ Polymerization initiator SX-2 (the following structure) 0.2 g ・ Fluorine nonionic surfactant (MegaFac F-177, Dainippon Ink) 0.02 g ・ Victoria Pure Blue 0.04 g ・ Methanol 10 g ・ Methyl ethyl ketone 15 g
【0162】[0162]
【化23】 Embedded image
【0163】比較のため、実施例1で用いた基板[A]
及び、基板[B]上に中間層を設けていない基板を作製
し、感光層塗布液4を塗布量が1.5g/m2 になるよ
う塗布し、平版印刷版原版を得た(比較例6、7)。For comparison, the substrate [A] used in Example 1 was used.
Further, a substrate having no intermediate layer was prepared on the substrate [B], and the photosensitive layer coating solution 4 was applied so that the coating amount was 1.5 g / m 2 to obtain a lithographic printing plate precursor (Comparative Example). 6, 7).
【0164】現像処理工程において基板[B]を用いた
版の現像に使用されるアルカリ現像処理液は、富士写真
フイルム(株)製、現像液DN−3L(1:2で水希釈
を行ったもの)を用いた。また、基板[A]を用いた版
の現像には、富士写真フイルム(株)製現像液DP−4
(1:8の比率で水希釈を行ったもの)を用いた。In the developing step, an alkali developing solution used for developing a plate using the substrate [B] was a developing solution DN-3L (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., diluted with water at 1: 2). ) Was used. Further, the development of the plate using the substrate [A] includes a developing solution DP-4 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
(Water-diluted at a ratio of 1: 8) was used.
【0165】得られた平版印刷版原版をクレオ社プレー
トセッターTrendsetter3244を用いて、
露光条件:回転数を115rpm、出力65Wで露光し
た後、前記のように調製した現像液及びリンス液FR−
3(1:7)を紫紺だ自動現像機(富士写真フイルム
(株)製:PSプロセッサー900VR)を用いて現像
し、以下の評価を行った。結果を表5に示す。Using the obtained lithographic printing plate precursor, a Cresor plate setter Trendsetter 3244 was used.
Exposure conditions: After exposure at a rotation speed of 115 rpm and an output of 65 W, the developing solution and the rinsing solution FR-
3 (1: 7) was developed using a purple-blue automatic developing machine (PS Processor 900VR, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.), and the following evaluation was performed. Table 5 shows the results.
【0166】(非画像部の残色)未露光部に残色がある
か現像後、平版印刷版用原版をハイデル製印刷機SOR
−Mに装着し、50枚印刷した際、未露光部にインキの
汚れがあるか目視で確認し、以下のように評価した。 〇:インキの汚れなし。 ×:インキで汚れる。(Remaining Color of Non-Image Area) After developing the unexposed area for the remaining color, the lithographic printing plate precursor was transferred to a Heidel printing machine SOR.
When the sheet was attached to -M and 50 sheets were printed, it was visually confirmed whether or not the ink was stained in the unexposed area, and evaluated as follows. 〇: No ink stain. ×: Stained with ink.
【0167】(密着性試験)密着性は印刷機としてロー
ランド社製R201を使用し、インキとして大日本イン
キ社製GEOS−G(N)を使用した。印刷開始から5
000枚目に富士写真フイルム(株)製PSプレートク
リーナーCL−2を印刷用スポンジにしみこませ、網点
部を拭き、版面のインキを洗浄した。その後、100,
000枚印刷を行い、印刷物における網点の版飛びの有
無を目視で観察し、以下の基準により評価した。 〇:版飛びなし ×:版飛び(Adhesion test) Adhesion was measured by using R201 manufactured by Roland as a printing machine and GEOS-G (N) manufactured by Dainippon Ink and Chemicals as an ink. 5 from the start of printing
On the 000 th sheet, PS plate cleaner CL-2 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was soaked into a printing sponge, halftone dots were wiped off, and the ink on the plate surface was washed. Then, 100,
After printing 000 sheets, the presence or absence of halftone dot skipping in the printed matter was visually observed and evaluated according to the following criteria. 〇: No version skip ×: Version skip
【0168】(耐刷性評価)印刷機として、ローランド
社製R201印刷機を使用し、インキとして大日本イン
キ社製GEOS−G(N)を使用して上質紙に印刷し
た。得られた印刷物のベタ画像部を観察し、本来インキ
が付着する画像部がかすれはじめた枚数をカウントし
た。枚数が多いほど耐刷性が良好であることを表わす。
これらの結果を表5に併記する。(Evaluation of Printing Durability) Printing was performed on high quality paper using an R201 printing machine manufactured by Roland as a printing machine and using GEOS-G (N) manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd. as an ink. The solid image area of the obtained printed matter was observed, and the number of sheets where the image area to which ink originally adhered began to fade was counted. The greater the number, the better the printing durability.
Table 5 also shows these results.
【0169】[0169]
【表5】 [Table 5]
【0170】表5の結果より、本発明の平版印刷版用原
版は、非画像部のアルカリ現像液に対する溶解性が高く
て、現像不良に起因する非画像部汚れの発生も無く、画
像部の感光層の密着性、耐刷性能にも優れていることが
わかる。一方、中間層を設けていない比較例1、4、6
の平版印刷版原版は耐刷性に優れるが、非画像の溶解性
に劣り非画像部に汚れが発生しやすく、珪酸塩処理した
基板上に直接感光層を設けた比較例2、5、7は耐刷性
に劣ることがわかった。また、特開平10−69092
号公報に記載の重合体による中間層を設けた比較例3は
耐刷性に若干の改良は見られるものの、非画像部汚れに
問題があることがわかった。From the results shown in Table 5, the lithographic printing plate precursor according to the present invention has high solubility in the non-image portion of the alkali developing solution, has no non-image portion stain due to poor development, and has no image portion. It can be seen that the photosensitive layer has excellent adhesion and printing durability. On the other hand, Comparative Examples 1, 4, and 6 without the intermediate layer
The lithographic printing plate precursors of the above are excellent in printing durability, but inferior in solubility of non-images, easily cause stains in non-image areas, and Comparative Examples 2, 5, and 7 in which a photosensitive layer is directly provided on a silicate-treated substrate. Was inferior in printing durability. Also, JP-A-10-69092
In Comparative Example 3 provided with an intermediate layer made of a polymer described in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H08-187, it was found that although the printing durability was slightly improved, there was a problem in non-image area staining.
【0171】(実施例16〜20、比較例8〜10)前
記実施例1〜5、比較例1〜3で得られた平版印刷版原
版の感光層上にポリビニルアルコール(ケン化度:98
モル%、重合度:550)の3重量%水溶液を乾燥後の
塗布量が2g/m2となるように塗布し、100℃で1
分間乾燥して感光層上に保護層を設けた平版印刷版原版
を得て、それぞれ実施例16〜20、比較例8〜10と
した。得られた平版印刷版原版を上記実施例1〜5、比
較例1〜3と同様の条件で、露光、現像して平版印刷版
を製版し、同様に非画像部の残色と画像部の密着性及び
耐刷性を評価した。結果を下記表6に示す。(Examples 16 to 20, Comparative Examples 8 to 10) Polyvinyl alcohol (degree of saponification: 98) was formed on the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor obtained in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3.
Mol%, polymerization degree: 550) in an amount of 2 g / m 2 after drying.
After drying for 5 minutes, a lithographic printing plate precursor having a protective layer provided on the photosensitive layer was obtained, and Examples 16 to 20 and Comparative Examples 8 to 10, respectively. The resulting lithographic printing plate precursor was exposed and developed under the same conditions as in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 to make a lithographic printing plate. The adhesion and printing durability were evaluated. The results are shown in Table 6 below.
【0172】[0172]
【表6】 [Table 6]
【0173】表6の結果より、感光層の上に保護層を設
けた場合においても、保護層を有しない実施例1〜5と
同様の傾向が見られ、本発明の平版印刷版用原版は、非
画像部のアルカリ現像液に対する溶解性が高くて、現像
不良に起因する非画像部汚れの発生も無く、画像部の感
光層の密着性、耐刷性能にも優れているが、中間層を設
けていない比較例8の平版印刷版原版は耐刷性に優れる
が、非画像の溶解性に劣り、珪酸塩処理した基板上に直
接感光層を設けた比較例9は耐刷性に劣ることがわかっ
た。また、特開平10−69092号公報に記載の重合
体による中間層を設けた比較例10は保護層を設けた場
合にも、非画像部汚れに問題があることがわかる。From the results shown in Table 6, when the protective layer was provided on the photosensitive layer, the same tendency as in Examples 1 to 5 having no protective layer was observed. , The non-image area has high solubility in an alkali developing solution, there is no occurrence of non-image area contamination due to poor development, and the adhesiveness of the photosensitive layer in the image area and the printing durability are excellent. The lithographic printing plate precursor of Comparative Example 8, which was not provided with, was excellent in printing durability, but inferior in non-image solubility, and Comparative Example 9, in which a photosensitive layer was directly provided on a silicate-treated substrate, was inferior in printing durability. I understand. Further, it can be seen that Comparative Example 10 in which an intermediate layer made of a polymer described in JP-A-10-69092 is provided also has a problem of non-image area stain even when a protective layer is provided.
【0174】[0174]
【発明の効果】本発明のネガ型平版印刷版原版は、赤外
線レーザにより書き込みが可能であり、画像部において
は、基板と感光層とも密着性に優れ、非画像部では現像
不良による汚れが発生し難い、画像再現性、耐刷性に優
れるという効果を奏する。The negative type lithographic printing plate precursor according to the present invention can be written with an infrared laser, has excellent adhesion to the substrate and the photosensitive layer in the image area, and has stains due to poor development in the non-image area. This is advantageous in that it is difficult to perform printing and has excellent image reproducibility and printing durability.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 國田 一人 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA04 AA12 AA14 AB03 AC08 AD01 BC13 BC31 CA00 CB42 CC11 DA36 DA40 2H096 AA06 BA05 CA03 CA05 EA04 EA23 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Kazuto Kunida 4000 Kawajiri, Yoshida-cho, Haibara-gun, Shizuoka Pref. AA06 BA05 CA03 CA05 EA04 EA23
Claims (1)
持体上に、酸基とオニウム基を有する重合体を含有する
中間層と、I)赤外線吸収剤、II)重合開始剤、III)
重合性の不飽和基を有する化合物、及び、IV)水不溶性
且つアルカリ水溶液可溶性のバインダーを含有する感光
層とを順次設けてなることを特徴とするヒートモード対
応平版印刷版原版。1. An intermediate layer containing a polymer having an acid group and an onium group on an anodized aluminum support, I) an infrared absorber, II) a polymerization initiator, and III)
A lithographic printing plate precursor adapted for a heat mode, comprising: a compound having a polymerizable unsaturated group; and IV) a photosensitive layer containing a water-insoluble and aqueous alkali-soluble binder.
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