JP2001126609A - Electron emission device and fluorescent display - Google Patents
Electron emission device and fluorescent displayInfo
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- Cold Cathode And The Manufacture (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、電子を放出する電
子放出素子及びこれを用いた蛍光発光型表示器に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electron-emitting device that emits electrons and a fluorescent display using the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来から、電界の作用によって電子を放
出する電界電子放出素子は、熱エネルギを利用する電子
源(熱電子放出素子)に比べ、省エネルギで長寿命化が
可能など、優れた点が多いため、スピント(Spindt)型
電子放出素子等の電子放出素子が表示装置等の用途に研
究開発が行われている。現在、このような電子放出素子
の材料としては、Si等の半導体、W、Mo等の金属が
知られている。電界電子放出素子は電子放出効率を向上
させる必要性から、その先端に電界を集中させるため、
前記半導体や金属をコーン形状等にしてその先端を鋭利
に形成し、これを電子放出用のエミッタとして使用して
いる。2. Description of the Related Art Conventionally, a field electron emission element which emits electrons by the action of an electric field is superior to an electron source utilizing thermal energy (thermoelectron emission element) in that it can save energy and have a longer life. Due to the large number of points, electron-emitting devices such as Spindt-type electron-emitting devices are being researched and developed for applications such as display devices. At present, semiconductors such as Si and metals such as W and Mo are known as materials for such electron-emitting devices. Since the field emission device needs to improve the electron emission efficiency, it concentrates the electric field at its tip.
The semiconductor or metal is formed in a cone shape or the like, and the tip is formed sharp, and this is used as an emitter for electron emission.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記ス
ピント型蒸着エミッタの場合、Mo等の電子放出材料の
先端を均一に鋭利に形成することは容易ではなく、製造
装置が高価になり、廉価に製造することが困難であると
いう問題があった。また、エミッタとゲート電極間を極
力サブミクロン以下に接近させて形成した方が低電圧駆
動で高効率な電子放出能力を得ることができるが、エミ
ッタとゲート電極間で短絡が生じる恐れがあるため、低
電圧で高効率な電子放出素子を形成するには、製造時の
精度管理が容易ではないという問題があった。However, in the case of the Spindt-type vapor deposition emitter, it is not easy to form the tip of an electron-emitting material such as Mo uniformly and sharply, so that the manufacturing apparatus becomes expensive and the manufacturing cost becomes low. There was a problem that it was difficult to do. If the emitter and the gate electrode are formed as close as possible to submicron or less, the electron emission ability can be obtained with low voltage driving and high efficiency, but a short circuit may occur between the emitter and the gate electrode. In order to form a high-efficiency electron-emitting device at a low voltage, there has been a problem that accuracy control during manufacturing is not easy.
【0004】本発明は、廉価に製造可能で又、低電圧駆
動可能で高効率な電子放出能力を容易に得ることが可能
な電子放出素子を提供することを課題としている。ま
た、本発明は、廉価に製造可能で又、低電圧駆動可能で
高効率な発光表示が可能な蛍光発光型表示器を提供する
ことを課題としている。An object of the present invention is to provide an electron-emitting device which can be manufactured at low cost, can be driven at a low voltage, and can easily obtain a highly efficient electron-emitting capability. Another object of the present invention is to provide a fluorescent light-emitting display device that can be manufactured at low cost, can be driven at a low voltage, and can perform light-emitting display with high efficiency.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明の電子放出素子
は、絶縁基板と、前記絶縁基板上に配設された第1の電
極と、前記第1の電極の上方に離間して配設された第2
の電極と、前記第1の電極と第2の電極の間に配設さ
れ、中央部が周辺部よりも厚く形成された金属層と、前
記金属層上に形成されカーボンナノチューブ及びカーボ
ンナノファイバのうちの少なくとも一方を含む炭素材料
から成るエミッタとを備えて成ることを特徴としてい
る。第1の電極と第2の電極との間に電圧を印加する
と、金属層上に形成されたエミッタから電子が放出され
る。According to the present invention, there is provided an electron-emitting device having an insulating substrate, a first electrode provided on the insulating substrate, and a distance above the first electrode. The second
And a metal layer disposed between the first electrode and the second electrode and having a central portion formed thicker than a peripheral portion; and a carbon nanotube and a carbon nanofiber formed on the metal layer. And an emitter made of a carbon material containing at least one of them. When a voltage is applied between the first electrode and the second electrode, electrons are emitted from the emitter formed on the metal layer.
【0006】ここで、前記第1の電極と前記第2の電極
との間に配設された絶縁層と、前記第2の電極及び前記
絶縁層に形成された開口部とを備えて成り、前記金属層
は前記開口部内に配設されるように構成してもよい。ま
た、前記第1の電極と前記絶縁層との間に配設されると
共に前記開口部から露出するように形成された抵抗層を
備え、前記金属層は前記抵抗層に接するように配設され
て成り、前記金属層上に前記エミッタが形成されるよう
に構成してもよい。Here, the semiconductor device comprises: an insulating layer provided between the first electrode and the second electrode; and an opening formed in the second electrode and the insulating layer. The metal layer may be configured to be disposed in the opening. A resistive layer disposed between the first electrode and the insulating layer and formed so as to be exposed from the opening; and the metal layer is disposed so as to be in contact with the resistive layer. And the emitter may be formed on the metal layer.
【0007】さらに、前記カーボンナノチューブ及びカ
ーボンナノファイバは、前記絶縁基板に対して所定方向
に配向するように前記金属層上に形成してもよい。さら
にまた、前記金属層の中央部及び周辺部に、カーボンナ
ノチューブ及びカーボンナノファイバの少なくとも一方
が形成されるように構成してもよい。また、前記金属層
は、Fe、Ni、Co、Yの中の少なくとも一つを含む
材料によって形成するように構成してもよい。[0007] The carbon nanotubes and carbon nanofibers may be formed on the metal layer so as to be oriented in a predetermined direction with respect to the insulating substrate. Furthermore, at least one of a carbon nanotube and a carbon nanofiber may be formed at a central portion and a peripheral portion of the metal layer. The metal layer may be formed of a material containing at least one of Fe, Ni, Co, and Y.
【0008】また、本発明の蛍光発光型表示器は、電子
放出素子と蛍光体が被着されたアノード電極とを真空気
密容器内に配設し、前記電子放出素子から放出される電
子を前記蛍光体に射突させることにより発光表示を行う
蛍光発光型表示器において、前記電子放出素子として、
前述したいずれかの電子放出素子を使用したことを特徴
としている。これにより、低電圧で効率の良い発光表示
が行われる。Further, in the fluorescent light emitting display according to the present invention, the electron-emitting device and the anode electrode on which the phosphor is attached are disposed in a vacuum-tight container, and the electrons emitted from the electron-emitting device are emitted by the electron-emitting device. In a fluorescent light-emitting display device that performs light-emitting display by colliding with a phosphor, as the electron-emitting device,
A feature is that any one of the above-described electron-emitting devices is used. Thereby, efficient light-emitting display is performed at a low voltage.
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】図1は、本発明の第1の実施の形
態に係る電子放出素子の製造工程を示す側断面図、図2
は本発明の第1の実施の形態に係る電子放出素子の側断
面図、図3は図2の部分拡大側断面図である。以下、図
1乃至図3を用いて、本発明の第1の実施の形態につき
説明する。FIG. 1 is a side sectional view showing a manufacturing process of an electron-emitting device according to a first embodiment of the present invention.
3 is a side sectional view of the electron-emitting device according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a partially enlarged side sectional view of FIG. Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
【0010】本第1の実施の形態に係る電子放出素子の
製造方法を説明すると、図1において、先ず、絶縁基板
であるガラス基板100上に、第1の電極としてのカソ
ード電極101(例えばNbより成る電極)を形成し、
次に、抵抗層102(例えばアモルファスSiよりなる
層)を形成する。ここで、抵抗層102は、後述するよ
うに、電子放出量の安定化や、ゲート電極104とカー
ボンナノチューブ107が短絡した際の過電流防止を図
るためのものである。したがって、エミッタ材料自体の
抵抗によって安定化が実現できる場合や、複数のエミッ
タから同時に電子放出を得ることにより安定化を図るこ
とが可能な場合等は、抵抗層102は省略することがで
きる。A method of manufacturing an electron-emitting device according to the first embodiment will be described. Referring to FIG. 1, first, a cathode electrode 101 (for example, Nb) as a first electrode is formed on a glass substrate 100 which is an insulating substrate. An electrode comprising
Next, a resistance layer 102 (for example, a layer made of amorphous Si) is formed. Here, as described later, the resistance layer 102 is for stabilizing the amount of emitted electrons and preventing overcurrent when the gate electrode 104 and the carbon nanotube 107 are short-circuited. Therefore, when stabilization can be realized by the resistance of the emitter material itself, or when stabilization can be achieved by simultaneously obtaining electron emission from a plurality of emitters, the resistance layer 102 can be omitted.
【0011】次に、絶縁層103(例えばSiO2より
成る層)及び第2の電極としてのゲート電極104(例
えばNbより成る電極)を積層形成する。次に、ドライ
エッチング又はウェットエッチング等の方法により、パ
ターニング処理を行い、絶縁層103及びゲート電極1
04にミクロンオーダの開口部108を形成し、抵抗層
102を露出させる。開口部108は、円筒形の凹部状
に形成される。尚、このとき、カソード電極101とゲ
ート電極104はマトリクス状に配設される。Next, an insulating layer 103 (for example, a layer made of SiO 2 ) and a gate electrode 104 (for example, an electrode made of Nb) as a second electrode are formed by lamination. Next, patterning is performed by a method such as dry etching or wet etching to form the insulating layer 103 and the gate electrode 1.
An opening 108 on the order of microns is formed in the substrate 04 to expose the resistance layer 102. The opening 108 is formed in a cylindrical concave shape. At this time, the cathode electrode 101 and the gate electrode 104 are arranged in a matrix.
【0012】次に、ゲート電極104上にAlから成る
リフトオフ膜105を、斜め蒸着等により開口部108
の上部を縮小した状態に形成する。その後、スパッタ、
EB蒸着、抵抗加熱蒸着あるいはアーク放電蒸着等を行
うことにより、リフトオフ膜105の上から基板100
に対して垂直方向に、開口部108内の抵抗層102上
に、金属層106を、その中央部の厚みが約数十nm程
度になるように形成する。このとき、金属層106は、
その中央部が周辺部よりも厚く形成される。尚、金属層
106の材料としては、カーボンナノチューブを生成す
るための触媒機能を有する鉄系金属(例えば、Fe、N
i、Co)あるいはY、又はこれらの中の少なくとも一
つを含む材料が、後述するように、カーボンナノチュー
ブやカーボンナノファイバを成長させる上で適してい
る。Next, a lift-off film 105 made of Al is formed on the gate electrode 104 by oblique deposition or the like.
Is formed in a reduced state. Then spatter,
By performing EB evaporation, resistance heating evaporation, arc discharge evaporation, or the like, the substrate 100
A metal layer 106 is formed on the resistance layer 102 in the opening 108 in a direction perpendicular to the opening so that the thickness of the metal layer 106 at the center is about several tens nm. At this time, the metal layer 106
The central part is formed thicker than the peripheral part. In addition, as a material of the metal layer 106, an iron-based metal (for example, Fe, N
i, Co), Y, or a material containing at least one of them is suitable for growing carbon nanotubes and carbon nanofibers, as described later.
【0013】この状態で、金属層106表面上に線状の
カーボンナノチューブ107を形成する。金属層106
上にカーボンナノチューブ107を形成する方法として
は、CVD(Chemical Vapor Depotision)法あるいは
PVD(Physical Vapor Depotision)法等の各種の方
法が使用できるが、プラズマCVD法やアークプラズマ
法が、より適している。CVDの場合、原料ガスとし
て、メタン、エタン、アセチレン、エチレン等の低分子
炭化水素を使用し、単純に電気炉で加熱分解する又は熱
フィラメントによって加熱分解する、あるいは、直流プ
ラズマやRF(Radio Frequency)プラズマ、マグネト
ロンプラズマ、ECR(Electron Cyclotron Resonanc
e;電子サイクロトロン共鳴)等の各種プラズマ中で分
解させ、金属層106表面上に線状のカーボンナノチュ
ーブ107を形成する。尚、プラズマを使用した場合に
は、熱分解で得られるよりも更に低分子のラジカル分子
を生成し、反応性を向上、制御することができる。In this state, a linear carbon nanotube 107 is formed on the surface of the metal layer 106. Metal layer 106
As a method of forming the carbon nanotubes 107 thereon, various methods such as a CVD (Chemical Vapor Depotision) method or a PVD (Physical Vapor Depotision) method can be used, and a plasma CVD method and an arc plasma method are more suitable. . In the case of CVD, low-molecular-weight hydrocarbons such as methane, ethane, acetylene, and ethylene are used as raw material gases and are simply thermally decomposed in an electric furnace or by a hot filament, or are subjected to DC plasma or RF (Radio Frequency). ) Plasma, magnetron plasma, ECR (Electron Cyclotron Resonanc)
e; electron cyclotron resonance) to form a linear carbon nanotube 107 on the surface of the metal layer 106. When plasma is used, radical molecules having a lower molecular weight than those obtained by thermal decomposition are generated, and the reactivity can be improved and controlled.
【0014】また、必要に応じて、ガラス基板100、
カソード電極101、抵抗層102、絶縁層103、ゲ
ート電極104、リフトオフ膜105が積層形成された
状態で、レーザ照射、ランプ加熱又は基板抵抗加熱によ
り、500度C以下の温度範囲で加熱処理することによ
り、カーボンナノチューブ107の生成条件を制御す
る。カーボンナノチューブの原料としては、前述したC
VDの場合には低分子炭化水素ガスを使用したが、フェ
ロセン(Fe(C5H5)2)やその他のメタロセン
(M(C5H5)2;M=V、Cr、Fe、Co、N
i、Ru、Os)をガス化させたものを利用してもよ
い。If necessary, a glass substrate 100,
In a state where the cathode electrode 101, the resistive layer 102, the insulating layer 103, the gate electrode 104, and the lift-off film 105 are stacked, heat treatment is performed by laser irradiation, lamp heating, or substrate resistance heating in a temperature range of 500 ° C. or less. Thereby, the conditions for forming the carbon nanotubes 107 are controlled. As a raw material of the carbon nanotube, the C
In the case of VD, a low molecular hydrocarbon gas was used, but ferrocene (Fe (C 5 H 5 ) 2 ) and other metallocenes (M (C 5 H 5 ) 2 ; M = V, Cr, Fe, Co, N
(i, Ru, Os) may be used.
【0015】このとき、カーボンナノチューブ107
は、金属層106上のみならずリフトオフ膜105上に
も形成される。その後、リフトオフ膜105を剥離除去
することにより、図2に示すように、金属層106及び
カーボンナノチューブ107から成るエミッタ201を
有する電子放出素子が完成する。At this time, the carbon nanotube 107
Is formed not only on the metal layer 106 but also on the lift-off film 105. Thereafter, the lift-off film 105 is peeled off to complete the electron-emitting device having the emitter 201 including the metal layer 106 and the carbon nanotube 107 as shown in FIG.
【0016】図3に、図2の部分拡大側断面図を示すよ
うに、ゲート電極104及び絶縁層103によって囲ま
れた円筒状開口部108内の抵抗層102上にエミッタ
201が形成されている。薄膜の金属層106は、その
中央部が周辺部よりも厚い金属層106が形成され、金
属層106上にカーボンナノチューブ107の所定割合
以上(例えば、少なくとも1%以上)が、ガラス基板1
00に対して所定方向(例えば、ガラス基板100に対
して垂直方向あるいは所定の角度をもった方向)に配向
するように被着形成されている。また、絶縁層103上
にはゲート電極104が形成されている。FIG. 3 shows a partially enlarged side sectional view of FIG. 2, in which an emitter 201 is formed on a resistance layer 102 in a cylindrical opening 108 surrounded by a gate electrode 104 and an insulating layer 103. . As for the thin metal layer 106, a metal layer 106 having a center portion thicker than a peripheral portion is formed, and a predetermined ratio (for example, at least 1% or more) of the carbon nanotubes 107 is formed on the metal layer 106.
It is formed so as to be oriented in a predetermined direction with respect to 00 (for example, a direction perpendicular to the glass substrate 100 or a direction having a predetermined angle). Further, a gate electrode 104 is formed over the insulating layer 103.
【0017】金属層106は中央部が厚く周辺部が薄い
ため、金属層106の中央部には太くて長いカーボンナ
ノチューブ301が形成され、周辺部には細くて短いカ
ーボンナノチューブ302が形成されている。即ち、カ
ーボンナノチューブ107は、金属層106の中央部及
び周辺部に形成されており、その形態は、所謂ツリー状
に、金属層106の周辺にいくにしたがって短くなるよ
うに形成されており、特に、絶縁層103近傍にはカー
ボンナノチューブ107は形成されない。尚、ガラス基
板100に対して所定角度をもってカーボンナノチュー
ブを形成させるために、カーボンナノチューブ生成時に
ガラス基板100に対して所定強度、所定方向の電界を
印加するようにしてもよい。Since the metal layer 106 has a thick central portion and a thin peripheral portion, a thick and long carbon nanotube 301 is formed at the central portion of the metal layer 106, and a thin and short carbon nanotube 302 is formed at the peripheral portion. . That is, the carbon nanotubes 107 are formed in the central part and the peripheral part of the metal layer 106, and the form thereof is formed in a so-called tree shape so as to become shorter toward the periphery of the metal layer 106. The carbon nanotube 107 is not formed near the insulating layer 103. In order to form the carbon nanotubes at a predetermined angle with respect to the glass substrate 100, an electric field having a predetermined strength and a predetermined direction may be applied to the glass substrate 100 when the carbon nanotubes are generated.
【0018】以上のようにして、金属層106とゲート
電極104間の距離を所定量確保しておけば、金属層1
06周辺部のカーボンナノチューブ302がゲート電極
104と短絡する恐れが小さくなるため、製造が容易に
なる。また、金属層106中央部のカーボンナノチュー
ブ301をゲート電極104に近接して形成することが
可能になると共に、カーボンナノチューブ301が主と
して電界放出に寄与するため、低電圧で高効率な電界放
出を得ることが可能になる。As described above, if a predetermined distance between the metal layer 106 and the gate electrode 104 is secured, the metal layer 1
Since the possibility that the carbon nanotubes 302 in the area around 06 short-circuits with the gate electrode 104 is reduced, the production becomes easy. In addition, the carbon nanotube 301 at the center of the metal layer 106 can be formed close to the gate electrode 104, and the carbon nanotube 301 mainly contributes to the field emission. It becomes possible.
【0019】上記のように形成された電子放出素子にお
いては、カソード電極101とゲート電極104との間
に電圧を印加することにより、エミッタ201を形成す
るカーボンナノチューブ107から電子が放出される。
このとき、前述したように、金属層106中央部のカー
ボンナノチューブ301から主として電子放出が行われ
る。したがって、放出される電子の方向性、均一性、エ
ネルギー幅の比較的揃った電子放出アレイを形成するこ
とが可能になる。In the electron-emitting device formed as described above, when a voltage is applied between the cathode electrode 101 and the gate electrode 104, electrons are emitted from the carbon nanotube 107 forming the emitter 201.
At this time, as described above, electrons are mainly emitted from the carbon nanotube 301 at the center of the metal layer 106. Therefore, it is possible to form an electron emission array having relatively uniform directionality, uniformity and energy width of emitted electrons.
【0020】また、複数のエミッタ201を形成すると
共に、マトリクス状に配設したカソード電極101とゲ
ート電極104に選択的に電圧を印加して駆動すること
により、所望のエミッタ201から電子を放出するよう
に駆動することが可能であり、表示装置をはじめとして
各種電子機器の電子放出素子として利用することができ
る。尚、前記実施の形態においては、抵抗層102を使
用したため、エミッタ201(具体的には金属層10
6)は抵抗層102に直接被着形成したが、電子放出の
安定化や短絡防止時の過電流防止が特に必要でない場合
には、抵抗層102を省略することが可能であり、この
場合には、金属層106はカソード電極101に接して
被着形成されることになる。Further, by forming a plurality of emitters 201 and selectively driving a cathode electrode 101 and a gate electrode 104 arranged in a matrix by applying a voltage, electrons are emitted from a desired emitter 201. It can be driven as described above, and can be used as an electron-emitting device of various electronic devices including a display device. In the embodiment, since the resistance layer 102 is used, the emitter 201 (specifically, the metal layer 10
6) is formed directly on the resistive layer 102. However, when it is not particularly necessary to stabilize electron emission and prevent overcurrent when preventing short circuit, the resistive layer 102 can be omitted. In other words, the metal layer 106 is formed in contact with the cathode electrode 101.
【0021】次に、以上のように構成された電子放出素
子を使用して、蛍光発光型表示器を形成する。図4は、
本発明の実施の形態に係る蛍光発光型表示器の一部切欠
き側面図であり、前述した構成の電子放出素子を使用し
た蛍光発光型表示器の例である。尚、図4において、図
1乃至図3と同一部分には同一符号を付している。図4
において、蛍光発光型表示器は、硼珪酸ガラスによって
形成され背面基板を構成する絶縁基板としてのガラス基
板100、硼珪酸ガラスによって形成された透光性の前
面基板を構成する絶縁基板としてのガラス基板401、
及び、ガラス基板100、401の周囲を封着するシー
ルガラス404とによって構成された真空気密容器を備
えている。Next, a fluorescent display is formed by using the electron-emitting device configured as described above. FIG.
FIG. 2 is a partially cutaway side view of the fluorescent light emitting display according to the embodiment of the present invention, which is an example of the fluorescent light emitting display using the electron-emitting device having the above-described configuration. In FIG. 4, the same parts as those in FIGS. 1 to 3 are denoted by the same reference numerals. FIG.
In the fluorescent light-emitting display device, a glass substrate 100 as an insulating substrate formed of borosilicate glass and constituting a rear substrate, and a glass substrate as an insulating substrate constituting a translucent front substrate formed of borosilicate glass 401,
Further, a vacuum airtight container constituted by a seal glass 404 for sealing around the glass substrates 100 and 401 is provided.
【0022】また、前述したように、ガラス基板100
の内面上には、カソード電極101、抵抗層102、絶
縁層103、ゲート電極104が積層被着されている。
また、抵抗層102の内面上でゲート電極104間の開
口部108内には、抵抗層102に連続して形成された
エミッタ201が積層被着されている。一方、ガラス基
板401の内面上には、アノード電極402及びアノー
ド電極402に被着された蛍光体403が積層配設され
ている。As described above, the glass substrate 100
, A cathode electrode 101, a resistance layer 102, an insulating layer 103, and a gate electrode 104 are laminated and adhered.
Further, on the inner surface of the resistive layer 102, an emitter 201 formed continuously with the resistive layer 102 is laminated and deposited in the opening 108 between the gate electrodes 104. On the other hand, on the inner surface of the glass substrate 401, an anode electrode 402 and a phosphor 403 attached to the anode electrode 402 are stacked and arranged.
【0023】尚、文字やグラフィック等を表示する形式
の蛍光発光型表示器の場合には、カソード電極101、
アノード電極402及びゲート電極104は、各々、マ
トリクス状に形成する、あるいは、特定の電極をベタ状
に形成して他の電極をマトリクス状に形成する等、適宜
目的に応じたパターンに形成する。また、大画面表示装
置の画素用発光素子として使用する蛍光発光型表示器の
場合にも、前記各電極のパターンを適宜選定して形成す
る。In the case of a fluorescent light-emitting display of a type for displaying characters, graphics, etc., the cathode electrode 101,
The anode electrode 402 and the gate electrode 104 are formed in a pattern suitable for the purpose, such as forming them in a matrix shape, or forming a specific electrode in a solid shape and forming other electrodes in a matrix shape. Also, in the case of a fluorescent light emitting display used as a light emitting element for a pixel of a large screen display device, the pattern of each electrode is appropriately selected and formed.
【0024】上記構成の蛍光発光型表示器において、カ
ソード電極101、ゲート電極104及びアノード電極
402に所定電圧の駆動信号を供給することにより蛍光
体403が発光し、各電極の形成パターンや駆動信号に
応じて、文字やグラフィック等の発光表示、あるいは発
光素子としての発光表示を行わせることができる。この
とき、エミッタ201の表面に露出したカーボンナノチ
ューブのうち、主として、金属層の中央部に形成された
カーボンナノチューブに電界集中が生じるため、主に該
カーボンナノチューブから電子が放出される。これによ
り、低電圧駆動が可能になるとともに、高輝度で高品位
な発光表示を得ることが可能になる。In the fluorescent light-emitting display device having the above-described structure, the fluorescent material 403 emits light by supplying a driving signal of a predetermined voltage to the cathode electrode 101, the gate electrode 104, and the anode electrode 402, and the formation pattern and the driving signal of each electrode are formed. Accordingly, light-emitting display such as characters and graphics or light-emitting display as a light-emitting element can be performed. At this time, among the carbon nanotubes exposed on the surface of the emitter 201, an electric field is concentrated mainly on the carbon nanotube formed at the central portion of the metal layer, and thus electrons are mainly emitted from the carbon nanotube. This enables low-voltage driving and high-luminance, high-quality light-emitting display.
【0025】図5は、本発明の第2の実施の形態に係る
電子放出素子の部分拡大側断面図であり、図1乃至図4
と同一部分には同一符号を付している。図5において、
絶縁基板であるガラス基板100上には、第1の電極と
してのカソード電極101(例えばAlより成る電
極)、絶縁層103(例えばガラスより成る層)、第2
の電極としてのゲート電極104(例えばAgより成る
電極)が積層配設されている。絶縁層103及びゲート
電極104間には開口部108が形成されており、カソ
ード電極101上の開口部108内には、前述した金属
(例えば、Fe、Ni、Co、Y)より成る金属層10
6の膜及びツリー状のカーボンナノチューブ107が積
層配設されたエミッタ201が被着形成されている。FIG. 5 is a partially enlarged side sectional view of an electron-emitting device according to a second embodiment of the present invention, and FIGS.
The same reference numerals are given to the same parts as. In FIG.
On a glass substrate 100 which is an insulating substrate, a cathode electrode 101 (for example, an electrode made of Al) as a first electrode, an insulating layer 103 (for example, a layer made of glass),
The gate electrode 104 (for example, an electrode made of Ag) is laminated. An opening 108 is formed between the insulating layer 103 and the gate electrode 104. In the opening 108 on the cathode electrode 101, the metal layer 10 made of the above-described metal (for example, Fe, Ni, Co, Y) is formed.
An emitter 201 in which a film 6 and a tree-shaped carbon nanotube 107 are laminated is formed.
【0026】金属層106は、その中央部が周辺部に比
べて厚く形成されており、金属層106の中央部には太
くて長いカーボンナノチューブ301が形成されると共
に金属層106の周辺部には細くて短いカーボンナノチ
ューブ302が形成されている。即ち、前記第1の実施
の形態と同様に、カーボンナノチューブ107は、金属
層106の周辺にいくにしたがって短くなるように形成
されており、特に、絶縁層103近傍の周辺にはカーボ
ンナノチューブ107は形成されていない。The metal layer 106 is formed so that its central portion is thicker than its peripheral portion. A thick and long carbon nanotube 301 is formed at the central portion of the metal layer 106, and the peripheral portion of the metal layer 106 is formed at the peripheral portion. Thin and short carbon nanotubes 302 are formed. That is, as in the first embodiment, the carbon nanotubes 107 are formed so as to become shorter as they go closer to the periphery of the metal layer 106. In particular, the carbon nanotubes 107 are formed around the vicinity of the insulating layer 103. Not formed.
【0027】本第2の実施の形態に係る電子放出素子の
製造方法を説明すると、先ず、ガラス基板100上に、
スパッタリング等によってAl薄膜を形成し、フォトリ
ソ法で所定パターンにパターニングしてカソード電極1
01を形成する。その上から、絶縁性ガラスをスクリー
ン印刷によって所定パターンに印刷して絶縁層103を
形成すると共に開口部108を形成する。例えば、約3
0μmの膜厚に印刷すると共に、直径が約50μmの開
口部108を形成する。A method for manufacturing an electron-emitting device according to the second embodiment will be described.
An Al thin film is formed by sputtering or the like, and is patterned into a predetermined pattern by a photolithography method to form a cathode electrode 1.
01 is formed. From above, an insulating glass is printed in a predetermined pattern by screen printing to form the insulating layer 103 and the opening 108. For example, about 3
Printing is performed to a film thickness of 0 μm, and an opening 108 having a diameter of about 50 μm is formed.
【0028】次に、絶縁層103上に、Agペーストを
スクリーン印刷してゲート電極104を形成する。次
に、Fe−Ni微粒子(例えば粒径が約80nm)を分
散させたインクを用いて、インクジェット法で開口部1
08内にFe−Ni粒子より成る金属層106を形成す
る。このとき、表面張力によって、金属層106の中央
部は周辺部に比べて厚く形成される。Next, a gate electrode 104 is formed on the insulating layer 103 by screen printing of an Ag paste. Next, using an ink in which Fe—Ni fine particles (for example, a particle diameter is about 80 nm) is dispersed, the opening 1 is formed by an inkjet method.
08, a metal layer 106 made of Fe—Ni particles is formed. At this time, the central part of the metal layer 106 is formed thicker than the peripheral part due to surface tension.
【0029】その後、プラズマCVD法やアークプラズ
マ法等を用いて前記第1の実施の形態と同様の方法によ
り、金属層106上にカーボンナノチューブ107を形
成することにより、金属層106上には、ガラス基板1
00に対して所定方向(垂直方向又は所定角度方向)に
配向したツリー状のカーボンナノチューブの束が形成さ
れる。即ち、金属層106の中央部には太くて長いカー
ボンナノチューブ301が形成され、周辺部へいくに従
って細くて短いカーボンナノチューブ302が形成され
る。これにより、ガラス基板100上に、カソード電極
101、絶縁層103、ゲート電極104が積層形成さ
れると共に、絶縁層及びゲート電極間の開口部108内
のカソード電極上にエミッタ201が配設された電子放
出素子が完成する。Thereafter, carbon nanotubes 107 are formed on the metal layer 106 by a method similar to that of the first embodiment using a plasma CVD method, an arc plasma method, or the like. Glass substrate 1
A bundle of tree-shaped carbon nanotubes oriented in a predetermined direction (vertical direction or predetermined angle direction) with respect to 00 is formed. That is, a thick and long carbon nanotube 301 is formed at the center of the metal layer 106, and a thin and short carbon nanotube 302 is formed toward the periphery. As a result, the cathode electrode 101, the insulating layer 103, and the gate electrode 104 were formed on the glass substrate 100, and the emitter 201 was provided on the cathode electrode in the opening 108 between the insulating layer and the gate electrode. The electron-emitting device is completed.
【0030】本第2の実施の形態においても、前記第1
の実施の形態と同様の効果を奏することができる。尚、
金属層106の材料としては、前記第1の実施の形態と
同様に、カーボンナノチューブを生成するための触媒機
能を有する鉄系金属(例えば、Fe、Ni、Co)ある
いはY、又はこれらの中の少なくとも一つを含む材料が
適している。また、第1の実施の形態と同様に、カソー
ド電極101と金属層106との間に、電子放出の安定
化や過電流防止のために抵抗層(図示せず)を形成する
ようにしてもよい。Also in the second embodiment, the first
The same effect as that of the embodiment can be obtained. still,
As the material of the metal layer 106, similarly to the first embodiment, an iron-based metal (for example, Fe, Ni, Co) or Y having a catalytic function for generating carbon nanotubes, or Y among these, Materials containing at least one are suitable. Further, similarly to the first embodiment, a resistance layer (not shown) may be formed between the cathode electrode 101 and the metal layer 106 to stabilize electron emission and prevent overcurrent. Good.
【0031】また、前記各実施の形態においては、エミ
ッタ201を形成する炭素材料として、カーボンナノチ
ューブの例で説明したが、カーボンナノファイバについ
ても、カーボンナノチューブと同様の工程により生成可
能であり、カーボンナノチューブと同様に前記電子放出
素子や蛍光発光型表示器に適用することが可能である。
即ち、前記各実施の形態において、エミッタ201の材
料として、カーボンナノチューブ107及びカーボンナ
ノファイバのうちの少なくとも一方を含む炭素材料を使
用することが可能である。In each of the above embodiments, the carbon material forming the emitter 201 has been described using carbon nanotubes as an example. However, carbon nanofibers can be produced by the same process as carbon nanotubes. Like the nanotubes, the present invention can be applied to the electron-emitting device and the fluorescent display.
That is, in each of the above embodiments, it is possible to use a carbon material containing at least one of the carbon nanotube 107 and the carbon nanofiber as the material of the emitter 201.
【0032】以上述べたように、前記各実施の形態に係
る電子放出素子は、ガラス基板100と、ガラス基板1
00上に配設されたカソード電極101(第1の電極)
と、カソード電極101の上方に離間して配設されたゲ
ート電極104(第2の電極)と、カソード電極101
とゲート電極104の間に配設され、中央部が周辺部よ
りも厚く形成された金属層106と、金属層106上に
形成されたカーボンナノチューブ107及びカーボンナ
ノファイバのうちの少なくとも一方を含む炭素材料から
成るエミッタ201とを備えて成ることを特徴としてい
る。したがって、エミッタ201とゲート電極104を
近接して形成した場合にも、エミッタ201とゲート電
極104との間で短絡の生じる恐れを低減できるため、
製造が容易になり又、製造時の歩留まりが向上して廉価
に製造することが可能になるとともに、低電圧駆動で高
効率な電子放出が可能になる。As described above, the electron-emitting device according to each of the above embodiments includes the glass substrate 100 and the glass substrate 1.
Cathode electrode 101 (first electrode)
A gate electrode 104 (second electrode) spaced apart above the cathode electrode 101;
A metal layer 106 disposed between the metal layer 106 and the gate electrode 104 and having a central portion thicker than the peripheral portion, and carbon containing at least one of a carbon nanotube 107 and a carbon nanofiber formed on the metal layer 106. And an emitter 201 made of a material. Therefore, even when the emitter 201 and the gate electrode 104 are formed close to each other, the possibility that a short circuit occurs between the emitter 201 and the gate electrode 104 can be reduced.
Manufacturing is facilitated, the manufacturing yield is improved, manufacturing can be performed at low cost, and high-efficiency electron emission can be performed at low voltage.
【0033】ここで、前記各実施の形態に係る電子放出
素子は、カソード電極101とゲート電極104との間
に配設された絶縁層103と、ゲート電極104及び絶
縁層103に形成された開口部108とを備えて成り、
金属層106は開口部108内に配設されている。ま
た、カソード電極101と絶縁層103との間に配設さ
れると共に開口部108から露出するように形成された
抵抗層102を備え、金属層106は抵抗層102に接
するように配設されて成り、金属層106上にカーボン
ナノチューブ107及びカーボンナノファイバのうちの
少なくとも一方を含む炭素材料から成るエミッタ201
が形成されている。したがって、薄型で微少なエミッタ
201を多数有する電子放出素子を容易に構成できると
ともに、抵抗層102の存在により、エミッタ201と
ゲート電極104が短絡した場合でも過電流の発生を防
止でき又、電子放出特性の均一化、安定化を図ることが
可能になる。Here, the electron-emitting device according to each of the above embodiments has an insulating layer 103 provided between the cathode electrode 101 and the gate electrode 104, and an opening formed in the gate electrode 104 and the insulating layer 103. And a unit 108,
The metal layer 106 is provided in the opening 108. Further, a resistance layer 102 is provided between the cathode electrode 101 and the insulating layer 103 and formed so as to be exposed from the opening 108. The metal layer 106 is provided so as to be in contact with the resistance layer 102. And an emitter 201 made of a carbon material containing at least one of the carbon nanotubes 107 and the carbon nanofibers on the metal layer 106.
Are formed. Therefore, an electron-emitting device having a large number of thin and small emitters 201 can be easily configured, and the presence of the resistance layer 102 can prevent the occurrence of overcurrent even when the emitter 201 and the gate electrode 104 are short-circuited. Characteristics can be made uniform and stable.
【0034】また、カーボンナノチューブ107及び前
記カーボンナノファイバは、ガラス基板100の水平方
向に対して所定方向(垂直方向又は所定角度傾斜した方
向)に配向した状態で形成することにより、その先端に
電界集中が起こるため、低電圧で効率の良い電子放出を
行うことが可能になる。また、金属層106の周辺部及
び中央部に、カーボンナノチューブ107及び前記カー
ボンナノファイバのうちの少なくとも一方を形成し、絶
縁層103近傍にはこれらを形成しないようにすること
により、エミッタ201とゲート電極104間の短絡の
発生を防止することができる。The carbon nanotubes 107 and the carbon nanofibers are formed in a state of being oriented in a predetermined direction (vertical direction or a direction inclined at a predetermined angle) with respect to the horizontal direction of the glass substrate 100, so that an electric field is applied to the tip thereof. Since concentration occurs, efficient electron emission can be performed at a low voltage. In addition, at least one of the carbon nanotube 107 and the carbon nanofiber is formed in the peripheral portion and the central portion of the metal layer 106, and is not formed in the vicinity of the insulating layer 103, so that the emitter 201 and the gate are formed. The occurrence of a short circuit between the electrodes 104 can be prevented.
【0035】特に、周辺部に形成されたカーボンナノチ
ューブ302及びカーボンナノファイバを、中央部に形
成されたカーボンナノチューブ301及びカーボンナノ
ファイバよりも短く形成することにより、エミッタ20
1とゲート電極104間の短絡を、より効果的に防止す
ることが可能になると共に、カーボンナノチューブ30
1及びカーボンナノファイバから効率よく電子を放出さ
せることが可能になる。尚、カーボンナノチューブ10
7やカーボンナノファイバは、熱生成法、熱フィラメン
トCVD法、プラズマCVD法又はアークプラズマ法に
よって金属層106上に形成することができる。これに
より、廉価で効率良く、カーボンナノチューブ107や
カーボンナノファイバが金属層106上に形成される。In particular, by forming the carbon nanotubes 302 and carbon nanofibers formed in the peripheral portion shorter than the carbon nanotubes 301 and carbon nanofibers formed in the central portion, the emitter 20
1 and the gate electrode 104 can be more effectively prevented, and the carbon nanotube 30
1 and the carbon nanofibers can efficiently emit electrons. The carbon nanotube 10
7 and carbon nanofibers can be formed on the metal layer 106 by a heat generation method, a hot filament CVD method, a plasma CVD method, or an arc plasma method. As a result, the carbon nanotubes 107 and the carbon nanofibers are formed on the metal layer 106 efficiently and inexpensively.
【0036】さらに、金属層106の材料として、カー
ボンナノチューブやカーボンナノファイバ生成用の触媒
金属、特にFe、Ni、Co、Y又はこれらの中の少な
くとも一つを含む材料を使用することにより、効率よく
カーボンナノチューブ107やカーボンナノファイバを
生成することが可能になり、廉価にして高効率の電子放
出素子を形成することが可能になる。Further, by using a catalyst metal for forming carbon nanotubes or carbon nanofibers, particularly Fe, Ni, Co, Y or a material containing at least one of these as a material of the metal layer 106, the efficiency is improved. The carbon nanotubes 107 and the carbon nanofibers can be produced well, and an inexpensive and highly efficient electron-emitting device can be formed.
【0037】また、カソード電極101とゲート電極1
04をマトリクス状に配設することによりマトリクス駆
動型の各種画像表示装置に適した電子放出素子を構成す
ることがで又、カソード電極101、ゲート電極10
4、エミッタ201の形状や配置を種々に設定すること
により、文字や固定パターンの表示用、あるいは大画面
の画素用の電子放出素子等を構成することが可能にな
る。The cathode electrode 101 and the gate electrode 1
By arranging the cathode electrodes 101 and the gate electrodes 10 in a matrix, it is possible to form electron-emitting devices suitable for various matrix-driven image display devices.
4. By variously setting the shape and arrangement of the emitter 201, it becomes possible to configure an electron-emitting device for displaying characters and fixed patterns, or for a large-screen pixel.
【0038】また、電子放出素子と蛍光体403が被着
されたアノード電極402とを真空気密容器内に配設
し、前記電子放出素子から放出される電子を蛍光体40
3に射突させることにより発光表示を行う蛍光発光型表
示器において、前記電子放出素子として、前述した電子
放出素子を使用することにより、低電圧駆動が可能にな
るとともに、高輝度で高品位な発光表示を得ることが可
能になる。Further, the electron-emitting device and the anode 402 on which the phosphor 403 is attached are disposed in a vacuum-tight container, and electrons emitted from the electron-emitting device are emitted from the phosphor 40.
In the fluorescent light-emitting display device that emits light by projecting the light onto the electron-emitting device 3, by using the above-described electron-emitting device as the electron-emitting device, low-voltage driving becomes possible, and high brightness and high quality are achieved. Light-emitting display can be obtained.
【0039】[0039]
【実施例】図6は、本発明の実施例に係る電子放出素子
の電子放出特性を示す図であり、横軸がカソード電極−
ゲート電極間電圧Vg(V)、縦軸は放出した電子の量
に対応するエミッション電流Ia(任意単位:AU(Ar
bitrary Unit))を示してしている。また、図6におい
て、曲線Aは前記第1の実施の形態に係る構成の電子放
出素子の特性、曲線Bは前記第2の実施の形態に係る構
成の電子放出素子の特性、曲線Cは従来のスピント型電
子放出素子の特性を示している。FIG. 6 is a diagram showing the electron emission characteristics of an electron-emitting device according to an embodiment of the present invention.
The gate electrode voltage Vg (V), and the vertical axis represents an emission current Ia (arbitrary unit: AU (Ar) corresponding to the amount of emitted electrons
bitrary Unit)). In FIG. 6, a curve A is a characteristic of the electron-emitting device having the configuration according to the first embodiment, a curve B is a characteristic of the electron-emitting device having the configuration according to the second embodiment, and a curve C is a conventional one. 3 shows the characteristics of the Spindt-type electron-emitting device.
【0040】図6から明らかなように、前記第2の実施
の形態に係る構成の電子放出素子は、スピント型電子放
出素子よりも低い電圧で電子放出が可能であり又、大き
な電子放出量が得られる。また、前記第1の実施の形態
に係る構成の電子放出素子は、前記第2の実施の形態に
係る構成の電子放出素子よりも低い電圧で電子放出が可
能であり又、電子放出量も大きい。As is clear from FIG. 6, the electron-emitting device having the structure according to the second embodiment can emit electrons at a lower voltage than the Spindt-type electron-emitting device, and has a large electron emission amount. can get. Further, the electron-emitting device having the structure according to the first embodiment can emit electrons at a lower voltage than the electron-emitting device having the structure according to the second embodiment, and has a large electron emission amount. .
【0041】[0041]
【発明の効果】本発明によれば、廉価に製造可能で又、
低電圧駆動可能で高効率な電子放出素子を提供すること
が可能である。また、本発明によれば、廉価に製造可能
で又、低電圧駆動可能で高効率な発光表示が可能な蛍光
発光型表示器を提供することが可能である。According to the present invention, it can be manufactured at low cost and
It is possible to provide a highly efficient electron-emitting device that can be driven at a low voltage. Further, according to the present invention, it is possible to provide a fluorescent light-emitting display device which can be manufactured at low cost, can be driven at a low voltage, and can perform light-emitting display with high efficiency.
【図1】本発明の第1の実施の形態に係る電子放出素子
の製造過程を示す側断面図である。FIG. 1 is a side sectional view showing a manufacturing process of an electron-emitting device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の第1の実施の形態に係る電子放出素子
の側断面図である。FIG. 2 is a side sectional view of the electron-emitting device according to the first embodiment of the present invention.
【図3】本発明の第1の実施の形態に係る電子放出素子
の部分拡大側断面図である。FIG. 3 is a partially enlarged side sectional view of the electron-emitting device according to the first embodiment of the present invention.
【図4】本発明の実施の形態に係る蛍光発光型表示器の
一部切欠き側面図である。FIG. 4 is a partially cutaway side view of the fluorescent light emitting display according to the embodiment of the present invention.
【図5】本発明の第2の実施例に係る電子放出素子の部
分拡大側断面図である。FIG. 5 is a partially enlarged side sectional view of an electron-emitting device according to a second embodiment of the present invention.
【図6】本発明の実施例に係る電子放出素子の電子放出
特性図である。FIG. 6 is an electron emission characteristic diagram of the electron emission device according to the example of the present invention.
100、401・・・真空気密容器を構成する絶縁基板
としてのガラス基板 101・・・第1の電極としてのカソード電極 102・・・抵抗層 103・・・絶縁層 104・・・第2の電極としてのゲート電極 105・・・リフトオフ膜 106・・・金属層 107、301、302・・・カーボンナノチューブ 108・・・開口部 402・・・アノード電極 403・・・蛍光体 404・・・真空気密容器を構成するシールガラス100, 401: Glass substrate as an insulating substrate constituting a vacuum-tight container 101: Cathode electrode as a first electrode 102: Resistive layer 103: Insulating layer 104: Second electrode Gate electrode 105: Lift-off film 106: Metal layer 107, 301, 302: Carbon nanotube 108: Opening 402: Anode electrode 403: Phosphor 404: Vacuum tightness Seal glass that constitutes the container
Claims (7)
た第1の電極と、前記第1の電極の上方に離間して配設
された第2の電極と、前記第1の電極と第2の電極の間
に配設され、中央部が周辺部よりも厚く形成された金属
層と、前記金属層上に形成されカーボンナノチューブ及
びカーボンナノファイバのうちの少なくとも一方を含む
炭素材料から成るエミッタとを備えて成ることを特徴と
する電子放出素子。An insulating substrate; a first electrode disposed on the insulating substrate; a second electrode disposed above and separated from the first electrode; and the first electrode. And a metal layer disposed between the second electrode and a central portion formed to be thicker than the peripheral portion, and a carbon material formed on the metal layer and containing at least one of a carbon nanotube and a carbon nanofiber. And an emitter comprising:
に配設された絶縁層と、前記第2の電極及び前記絶縁層
に形成された開口部とを備えて成り、前記金属層は前記
開口部内に配設されていることを特徴とする請求項1記
載の電子放出素子。2. An electronic device comprising: an insulating layer disposed between the first electrode and the second electrode; and an opening formed in the second electrode and the insulating layer. The electron-emitting device according to claim 1, wherein a metal layer is provided in the opening.
設されると共に前記開口部から露出するように形成され
た抵抗層を備え、前記金属層は前記抵抗層に接するよう
に配設されて成り、前記金属層上に前記エミッタが形成
されていることを特徴とする請求項2記載の電子放出素
子。A resistive layer disposed between the first electrode and the insulating layer and formed so as to be exposed from the opening, wherein the metal layer is in contact with the resistive layer. 3. The electron-emitting device according to claim 2, wherein the emitter is formed on the metal layer.
ナノファイバは、前記絶縁基板に対して所定方向に配向
していることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一
に記載の電子放出素子。4. The electron-emitting device according to claim 1, wherein the carbon nanotubes and the carbon nanofibers are oriented in a predetermined direction with respect to the insulating substrate.
ボンナノチューブ及びカーボンナノファイバのうちの少
なくとも一方が形成されていることを特徴とする請求項
1乃至4のいずれか一に記載の電子放出素子。5. The electron according to claim 1, wherein at least one of a carbon nanotube and a carbon nanofiber is formed in a central portion and a peripheral portion of the metal layer. Emission element.
中の少なくとも一つを含む材料によって形成されている
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一に記載の
電子放出素子。6. The electron emission device according to claim 1, wherein the metal layer is formed of a material containing at least one of Fe, Ni, Co, and Y. element.
ード電極とを真空気密容器内に配設し、前記電子放出素
子から放出される電子を前記蛍光体に射突させることに
より発光表示を行う蛍光発光型表示器において、前記電
子放出素子として、請求項1乃至6のいずれか一に記載
の電子放出素子を使用したことを特徴とする蛍光発光型
表示器。7. A light-emitting display by disposing an electron-emitting device and an anode electrode on which a phosphor is attached in a vacuum-tight container, and causing electrons emitted from the electron-emitting device to strike the phosphor. 7. A fluorescent display device according to claim 1, wherein the electron-emitting device according to claim 1 is used as the electron-emitting device.
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---|---|---|---|
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