JP2001064237A - アクリル酸誘導体、その用途およびその製造中間体 - Google Patents
アクリル酸誘導体、その用途およびその製造中間体Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】優れた植物病害防除効力を有する化合物を提供
すること。 【解決手段】一般式 化1 【化1】 [式中、Wは酸素原子またはCH2基を表わし、XはC
R4基または窒素原子を表わし、YはCR5基または窒素
原子を表わし、R1、R2およびR3は同一または相異な
り、水素原子、ハロゲン原子等を表わし、R4、R5、R
6、R7およびR8は同一または相異なり、水素原子等を
表わす。]で示されるアクリル酸誘導体およびそれを有
効成分として含有する農園芸用殺菌剤。
すること。 【解決手段】一般式 化1 【化1】 [式中、Wは酸素原子またはCH2基を表わし、XはC
R4基または窒素原子を表わし、YはCR5基または窒素
原子を表わし、R1、R2およびR3は同一または相異な
り、水素原子、ハロゲン原子等を表わし、R4、R5、R
6、R7およびR8は同一または相異なり、水素原子等を
表わす。]で示されるアクリル酸誘導体およびそれを有
効成分として含有する農園芸用殺菌剤。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はアクリル酸誘導体及
びその用途に関する。
びその用途に関する。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】本発明は優れた植物病
害防除効力を有する化合物を提供することを課題とす
る。
害防除効力を有する化合物を提供することを課題とす
る。
【0003】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
した結果、後記一般式 化3で示されるアクリル酸誘導
体が優れた植物病害防除効力を有することを見出し、本
発明に至った。即ち、本発明は、一般式 化3
した結果、後記一般式 化3で示されるアクリル酸誘導
体が優れた植物病害防除効力を有することを見出し、本
発明に至った。即ち、本発明は、一般式 化3
【化3】 {式中、 Wは酸素原子またはCH2基を表わし、XはC
R4基または窒素原子を表わし、YはCR5基または窒素
原子を表わし、R1、R2およびR3は同一または相異な
り、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ア
ミノ基、水酸基、置換されていてもよいC1〜C10ア
ルキル基、置換されていてもよいC2〜C10アルケニ
ル基、置換されていてもよいC2〜C10アルキニル
基、置換されていてもよいC3〜C10シクロアルキル
基、置換されていてもよいC5〜C10シクロアルケニ
ル基、置換されていてもよいC6〜C10アリール基、
置換されていてもよいC1〜C9ヘテロアリール基、置
換されていてもよいC1〜C6アルコキシ基、置換され
ていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいC1
〜C9ヘテロアリールオキシ基、置換されていてもよい
C2〜C6アルコキシカルボニル基、置換されていても
よいC1〜C6アルキルチオ基または置換されていても
よいC3〜C30トリアルキルシリル基を表わし、
R4、R5、R6、R7およびR8は同一または相異なり、
水素原子、ハロゲン原子、C1〜C4アルキル基、C1
〜C4ハロアルキル基またはC1〜C4アルコキシ基を
表わす。}で示されるアクリル酸誘導体(以下、本発明
化合物と記す。)及びそれを有効成分として含有する農
園芸用殺菌剤を提供する。
R4基または窒素原子を表わし、YはCR5基または窒素
原子を表わし、R1、R2およびR3は同一または相異な
り、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ア
ミノ基、水酸基、置換されていてもよいC1〜C10ア
ルキル基、置換されていてもよいC2〜C10アルケニ
ル基、置換されていてもよいC2〜C10アルキニル
基、置換されていてもよいC3〜C10シクロアルキル
基、置換されていてもよいC5〜C10シクロアルケニ
ル基、置換されていてもよいC6〜C10アリール基、
置換されていてもよいC1〜C9ヘテロアリール基、置
換されていてもよいC1〜C6アルコキシ基、置換され
ていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいC1
〜C9ヘテロアリールオキシ基、置換されていてもよい
C2〜C6アルコキシカルボニル基、置換されていても
よいC1〜C6アルキルチオ基または置換されていても
よいC3〜C30トリアルキルシリル基を表わし、
R4、R5、R6、R7およびR8は同一または相異なり、
水素原子、ハロゲン原子、C1〜C4アルキル基、C1
〜C4ハロアルキル基またはC1〜C4アルコキシ基を
表わす。}で示されるアクリル酸誘導体(以下、本発明
化合物と記す。)及びそれを有効成分として含有する農
園芸用殺菌剤を提供する。
【0004】本発明はさらに、本発明化合物の製造中間
体として有用な、一般式 化4
体として有用な、一般式 化4
【化4】 [式中、A1はB(OH)2基、B(OR9)2基またはS
nR10 3基を表わし、R9 はC1〜C10アルキル基を表
わすか、2つのR9で−CH2CH2−基または−C(C
H3)2C(CH3)2−基を表し、R10はC1〜C10ア
ルキル基を表わし、Wは酸素原子またはCH2基を表わ
し、XはCR4基または窒素原子を表わし、YはCR5基
または窒素原子を表わし、R6、R7およびR8は同一ま
たは相異なり、水素原子、ハロゲン原子、C1〜C4ア
ルキル基、C1〜C4ハロアルキル基またはC1〜C4
アルコキシ基を表わす。]で示される化合物をも提供す
る。
nR10 3基を表わし、R9 はC1〜C10アルキル基を表
わすか、2つのR9で−CH2CH2−基または−C(C
H3)2C(CH3)2−基を表し、R10はC1〜C10ア
ルキル基を表わし、Wは酸素原子またはCH2基を表わ
し、XはCR4基または窒素原子を表わし、YはCR5基
または窒素原子を表わし、R6、R7およびR8は同一ま
たは相異なり、水素原子、ハロゲン原子、C1〜C4ア
ルキル基、C1〜C4ハロアルキル基またはC1〜C4
アルコキシ基を表わす。]で示される化合物をも提供す
る。
【発明の実施の形態】本発明において、R1、R2および
R3で示されるハロゲン原子としては塩素原子、臭素原
子、フッ素原子または沃素原子があげられ、R1、R2お
よびR3で示される置換されていてもよいC1〜C10
アルキル基におけるC1〜C10アルキル基としては、
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、1−メチルプロピル基、
ペンチル基、1−メチルブチル基、1−エチルブチル
基、2−メチルブチル基、3−メチルブチル基、2,2
−ジメチルプロピル基、1,2−ジメチルプロピル基、
1,1−ジメチルプロピル基、ヘキシル基、1−メチル
ペンチル基、1−エチルペンチル基、3,3−ジメチル
ブチル基、ヘプチル基、3,7−ジメチルオクチル基等
があげられ、R1、R2およびR3で示される置換されて
いてもよいC2〜C10アルケニル基におけるC2〜C
10アルケニル基としては、例えばビニル基、アリル
基、1−メチル−2−プロペニル基、2−メチル−2−
プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、3
−メチル−2−ブテニル基等があげられ、R1、R2およ
びR3で示される置換されていてもよいC2〜C10ア
ルキニル基におけるC2〜C10アルキニル基として
は、例えばエチニル基、プロパルギル基、1−メチル−
2−プロピニル基、2−ブチニル基等があげられ、
R1、R2およびR35で示される置換されていてもよいC
3〜C10シクロアルキル基におけるC3〜C10シク
ロアルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基等があげられ、R1、
R2およびR3で示される置換されていてもよいC5〜C
10シクロアルケニル基におけるC5〜C10シクロア
ルケニル基としては、例えばシクロペンテニル基、シク
ロヘキセニル基等があげられ、R1、R2およびR3で示
される置換されていてもよいC6〜C10アリ−ル基に
おけるC6〜C10アリ−ル基としては、フェニル基、
α−ナフチル基、β−ナフチル基等があげられ、R1、
R2およびR3で示される置換されていてもよいC1〜C
9ヘテロアリール基におけるC1〜C9ヘテロアリール
基としては、例えば2−ピリジル基、3−ピリジル基、
4−ピリジル基、2−ピリミジニル基、4−ピリミジニ
ル基、2−チエニル基、3−チエニル基、2−フリル
基、3−フリル基、ピロール−1−イル基、1−ピラゾ
リル基、3−ピラゾリル基、4−ピラゾリル基、2−チ
アゾリル基、4−チアゾリル基、5−チアゾリル基、2
−オキサゾリル基、5−オキサゾリル基、2−イミダゾ
リル基、3−(1,2,4−トリアゾリル)基、2−ベ
ンゾチエニル基、3−ベンゾチエニル基、ベンゾチアゾ
ール−2−イル基、2−キノリニル基等があげられ、R
1、R2およびR3で示される置換されていてもよいC1
〜C6アルコキシ基におけるC1〜C6アルコキシ基と
しては、例えばメトキシ基、エトキシ基、t−ブトキシ
基等があげられ、R1、R2およびR3で示される置換さ
れていてもよいC1〜C9ヘテロアリールオキシ基にお
けるC1〜C9ヘテロアリールオキシ基としては、2−
ピリジルオキシ基、2−(5−トリフルオロメチル)ピ
リジルオキシ基、3−ピリジルオキシ基、4−ピリジル
オキシ、2−ピリミジルオキシ基、4−ピリミジルオキ
シ基、5−ピリミジルオキシ、3−チエニルオキシ基等
があげられ、R1、R2およびR3で示される置換されて
いてもよいC2〜C6アルコキシカルボニル基における
C2〜C6アルコキシカルボニル基としては、例えばメ
トキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等があげら
れ、R1、R2およびR3で示される置換されていてもよ
いC1〜C6アルキルチオ基におけるC1〜C6アルキ
ルチオ基としては、例えばメチルチオ基、エチルチオ基
等があげられ、R1、R2およびR3で示される置換され
ていてもよいC3〜C30トリアルキルシリル基におけ
るC3〜C30トリアルキルシリル基としては、例えば
トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、t−ブチル
ジメチルシリル基等があげられ、
R3で示されるハロゲン原子としては塩素原子、臭素原
子、フッ素原子または沃素原子があげられ、R1、R2お
よびR3で示される置換されていてもよいC1〜C10
アルキル基におけるC1〜C10アルキル基としては、
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、1−メチルプロピル基、
ペンチル基、1−メチルブチル基、1−エチルブチル
基、2−メチルブチル基、3−メチルブチル基、2,2
−ジメチルプロピル基、1,2−ジメチルプロピル基、
1,1−ジメチルプロピル基、ヘキシル基、1−メチル
ペンチル基、1−エチルペンチル基、3,3−ジメチル
ブチル基、ヘプチル基、3,7−ジメチルオクチル基等
があげられ、R1、R2およびR3で示される置換されて
いてもよいC2〜C10アルケニル基におけるC2〜C
10アルケニル基としては、例えばビニル基、アリル
基、1−メチル−2−プロペニル基、2−メチル−2−
プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、3
−メチル−2−ブテニル基等があげられ、R1、R2およ
びR3で示される置換されていてもよいC2〜C10ア
ルキニル基におけるC2〜C10アルキニル基として
は、例えばエチニル基、プロパルギル基、1−メチル−
2−プロピニル基、2−ブチニル基等があげられ、
R1、R2およびR35で示される置換されていてもよいC
3〜C10シクロアルキル基におけるC3〜C10シク
ロアルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基等があげられ、R1、
R2およびR3で示される置換されていてもよいC5〜C
10シクロアルケニル基におけるC5〜C10シクロア
ルケニル基としては、例えばシクロペンテニル基、シク
ロヘキセニル基等があげられ、R1、R2およびR3で示
される置換されていてもよいC6〜C10アリ−ル基に
おけるC6〜C10アリ−ル基としては、フェニル基、
α−ナフチル基、β−ナフチル基等があげられ、R1、
R2およびR3で示される置換されていてもよいC1〜C
9ヘテロアリール基におけるC1〜C9ヘテロアリール
基としては、例えば2−ピリジル基、3−ピリジル基、
4−ピリジル基、2−ピリミジニル基、4−ピリミジニ
ル基、2−チエニル基、3−チエニル基、2−フリル
基、3−フリル基、ピロール−1−イル基、1−ピラゾ
リル基、3−ピラゾリル基、4−ピラゾリル基、2−チ
アゾリル基、4−チアゾリル基、5−チアゾリル基、2
−オキサゾリル基、5−オキサゾリル基、2−イミダゾ
リル基、3−(1,2,4−トリアゾリル)基、2−ベ
ンゾチエニル基、3−ベンゾチエニル基、ベンゾチアゾ
ール−2−イル基、2−キノリニル基等があげられ、R
1、R2およびR3で示される置換されていてもよいC1
〜C6アルコキシ基におけるC1〜C6アルコキシ基と
しては、例えばメトキシ基、エトキシ基、t−ブトキシ
基等があげられ、R1、R2およびR3で示される置換さ
れていてもよいC1〜C9ヘテロアリールオキシ基にお
けるC1〜C9ヘテロアリールオキシ基としては、2−
ピリジルオキシ基、2−(5−トリフルオロメチル)ピ
リジルオキシ基、3−ピリジルオキシ基、4−ピリジル
オキシ、2−ピリミジルオキシ基、4−ピリミジルオキ
シ基、5−ピリミジルオキシ、3−チエニルオキシ基等
があげられ、R1、R2およびR3で示される置換されて
いてもよいC2〜C6アルコキシカルボニル基における
C2〜C6アルコキシカルボニル基としては、例えばメ
トキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等があげら
れ、R1、R2およびR3で示される置換されていてもよ
いC1〜C6アルキルチオ基におけるC1〜C6アルキ
ルチオ基としては、例えばメチルチオ基、エチルチオ基
等があげられ、R1、R2およびR3で示される置換され
ていてもよいC3〜C30トリアルキルシリル基におけ
るC3〜C30トリアルキルシリル基としては、例えば
トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、t−ブチル
ジメチルシリル基等があげられ、
【0005】また、R1、R2およびR3で示される、置
換されていてもよいC1〜C10アルキル基、置換され
ていてもよいC2〜C10アルケニル基、置換されてい
てもよいC2〜C10アルキニル基、置換されていても
よいC3〜C10シクロアルキル基、置換されていても
よいC5〜C10シクロアルケニル基、置換されていて
もよいC6〜C10アリール基、置換されていてもよい
C1〜C9ヘテロアリール基、置換されていてもよいC
1〜C6アルコキシ基、置換されていてもよいフェノキ
シ基、置換されていてもよいC1〜C9ヘテロアリール
オキシ基、C2〜C6アルコキシカルボニル基、置換さ
れていてもよいC1〜C6アルキルチオ基および置換さ
れていてもよいC3〜C30トリアルキルシリル基にお
ける置換基としては、例えば、ハロゲン原子〔塩素原
子、臭素原子、フッ素原子、沃素原子〕、C1〜C10
アルキル基〔例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、1−メチル
プロピル基、ペンチル基、1−メチルブチル基、1−エ
チルブチル基、2−メチルブチル基、3−メチルブチル
基、2,2−ジメチルプロピル基、1,2−ジメチルプ
ロピル基、1,1−ジメチルプロピル基、ヘキシル基、
1−メチルペンチル基、1−エチルペンチル基、3,3
−ジメチルブチル基、ヘプチル基、3,7−ジメチルオ
クチル基等〕、C3〜C20トリアルキルシリル基〔例
えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基等〕 C1〜C10ハロアルキル基〔例えばトリフルオロメチ
ル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、1,1,
2,2−テトラフルオロエチル基等〕、C3〜C10シ
クロアルキル基〔例えばシクロプロピル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基等〕、C1〜C10アルコキ
シ基〔例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ
基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブト
キシ基、イソブトキシ基、n−ペンチルオキシ基等〕、
C1〜C10ハロアルコキシ基〔例えばトリフルオロメ
トキシ基、ジフルオロメトキシ基、ブロモジフルオロメ
トキシ基、クロロジフルオロメトキシ基、フルオロメト
キシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、1,
1,2,2−テトラフルオロエトキシ基等〕、C1〜C
10アルキルチオ基〔例えばメチルチオ基、エチルチオ
基、n−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、イソブチ
ルチオ基、sec−ブチルチオ基、n−ペンチルチオ
基、n−ヘキシルチオ基等〕、C1〜C10ハロアルキ
ルチオ基〔例えばトリフルオロメチルチオ基、ジフルオ
ロメチルチオ基、ブロモジフルオロメチルチオ基、クロ
ロジフルオロメチルチオ基、フルオロメチルチオ基、
2,2,2−トリフルオロエチルチオ基、1,1,2,
2−テトラフルオロエチルチオ基等〕、C2〜C10ア
ルコキシカルボニル基〔メトキシカルボニル基、エトキ
シカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、イソプ
ロポキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基、イ
ソブトキシカルボニル基、sec−ブトキシカルボニル
基、n−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオ
キシカルボニル基等〕、フェニル基、ピリジル基、ピリ
ミジル基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、ピリジン
−2−イルオキシ基{ここで、該フェニル基、ピリジル
基、ピリミジル基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基お
よびピリジン−2−イルオキシ基の各々は、ハロゲン原
子(例えば塩素原子等)、C1〜C6アルキル基(例え
ば、メチル基、エチル基等)、C1〜C6アルコキシ基
(例えば、メトキシ基、エトキシ基等)、トリフルオロ
メチル基及びシアノ基からなる群より選ばれる1種以上
の基で置換されていてもよい。}、水酸基、シアノ基、
ニトロ基等があげられ、置換されていてもよいC6〜C
10アリール基および置換されていてもよいC1〜C9
ヘテロアリール基における置換基としては、更にメチレ
ンジオキシ基、ジフルオロメチレンジオキシ基{ここで
該メチレンジオキシ基およびジフルオロメチレンジオキ
シ基の各々は、アリール基上の隣接する二つの炭素原子
に置換する。}もあげられる。
換されていてもよいC1〜C10アルキル基、置換され
ていてもよいC2〜C10アルケニル基、置換されてい
てもよいC2〜C10アルキニル基、置換されていても
よいC3〜C10シクロアルキル基、置換されていても
よいC5〜C10シクロアルケニル基、置換されていて
もよいC6〜C10アリール基、置換されていてもよい
C1〜C9ヘテロアリール基、置換されていてもよいC
1〜C6アルコキシ基、置換されていてもよいフェノキ
シ基、置換されていてもよいC1〜C9ヘテロアリール
オキシ基、C2〜C6アルコキシカルボニル基、置換さ
れていてもよいC1〜C6アルキルチオ基および置換さ
れていてもよいC3〜C30トリアルキルシリル基にお
ける置換基としては、例えば、ハロゲン原子〔塩素原
子、臭素原子、フッ素原子、沃素原子〕、C1〜C10
アルキル基〔例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、1−メチル
プロピル基、ペンチル基、1−メチルブチル基、1−エ
チルブチル基、2−メチルブチル基、3−メチルブチル
基、2,2−ジメチルプロピル基、1,2−ジメチルプ
ロピル基、1,1−ジメチルプロピル基、ヘキシル基、
1−メチルペンチル基、1−エチルペンチル基、3,3
−ジメチルブチル基、ヘプチル基、3,7−ジメチルオ
クチル基等〕、C3〜C20トリアルキルシリル基〔例
えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基等〕 C1〜C10ハロアルキル基〔例えばトリフルオロメチ
ル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、1,1,
2,2−テトラフルオロエチル基等〕、C3〜C10シ
クロアルキル基〔例えばシクロプロピル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基等〕、C1〜C10アルコキ
シ基〔例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ
基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブト
キシ基、イソブトキシ基、n−ペンチルオキシ基等〕、
C1〜C10ハロアルコキシ基〔例えばトリフルオロメ
トキシ基、ジフルオロメトキシ基、ブロモジフルオロメ
トキシ基、クロロジフルオロメトキシ基、フルオロメト
キシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、1,
1,2,2−テトラフルオロエトキシ基等〕、C1〜C
10アルキルチオ基〔例えばメチルチオ基、エチルチオ
基、n−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、イソブチ
ルチオ基、sec−ブチルチオ基、n−ペンチルチオ
基、n−ヘキシルチオ基等〕、C1〜C10ハロアルキ
ルチオ基〔例えばトリフルオロメチルチオ基、ジフルオ
ロメチルチオ基、ブロモジフルオロメチルチオ基、クロ
ロジフルオロメチルチオ基、フルオロメチルチオ基、
2,2,2−トリフルオロエチルチオ基、1,1,2,
2−テトラフルオロエチルチオ基等〕、C2〜C10ア
ルコキシカルボニル基〔メトキシカルボニル基、エトキ
シカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、イソプ
ロポキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基、イ
ソブトキシカルボニル基、sec−ブトキシカルボニル
基、n−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオ
キシカルボニル基等〕、フェニル基、ピリジル基、ピリ
ミジル基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、ピリジン
−2−イルオキシ基{ここで、該フェニル基、ピリジル
基、ピリミジル基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基お
よびピリジン−2−イルオキシ基の各々は、ハロゲン原
子(例えば塩素原子等)、C1〜C6アルキル基(例え
ば、メチル基、エチル基等)、C1〜C6アルコキシ基
(例えば、メトキシ基、エトキシ基等)、トリフルオロ
メチル基及びシアノ基からなる群より選ばれる1種以上
の基で置換されていてもよい。}、水酸基、シアノ基、
ニトロ基等があげられ、置換されていてもよいC6〜C
10アリール基および置換されていてもよいC1〜C9
ヘテロアリール基における置換基としては、更にメチレ
ンジオキシ基、ジフルオロメチレンジオキシ基{ここで
該メチレンジオキシ基およびジフルオロメチレンジオキ
シ基の各々は、アリール基上の隣接する二つの炭素原子
に置換する。}もあげられる。
【0006】R4、R5、R6、R7およびR8で示される
ハロゲン原子としては塩素原子、臭素原子、フッ素原子
または沃素原子があげられ、R4、R5、R6、R7および
R8で示されるC1〜C4アルキル基としては、例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基、イソブチル基、1−メチルプロピル基等があげ
られ、R4、R5、R6、R7およびR8で示されるC1〜
C4ハロアルキル基としては、例えばフルオロメチル
基、トリフルオロメチル基、トリクロルメチル基、クロ
ルジフルオロメチル等があげられ、R4、R5、R6、R7
およびR8で示されるC1〜C4アルコキシ基として
は、例えばメトキシ基、エトキシ基等があげられる。R
9で示されるC1〜C10アルキル基としては、例えば
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、1−メチルプロピル基等
があげられる。R10で示されるC1〜C10アルキル基
としては、例えば例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、1−メ
チルプロピル基等があげられる。
ハロゲン原子としては塩素原子、臭素原子、フッ素原子
または沃素原子があげられ、R4、R5、R6、R7および
R8で示されるC1〜C4アルキル基としては、例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基、イソブチル基、1−メチルプロピル基等があげ
られ、R4、R5、R6、R7およびR8で示されるC1〜
C4ハロアルキル基としては、例えばフルオロメチル
基、トリフルオロメチル基、トリクロルメチル基、クロ
ルジフルオロメチル等があげられ、R4、R5、R6、R7
およびR8で示されるC1〜C4アルコキシ基として
は、例えばメトキシ基、エトキシ基等があげられる。R
9で示されるC1〜C10アルキル基としては、例えば
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、1−メチルプロピル基等
があげられる。R10で示されるC1〜C10アルキル基
としては、例えば例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、1−メ
チルプロピル基等があげられる。
【0007】本発明化合物にはジオキシプロペン酸部分
のC=C結合に基づく(E)及び(Z)の異性体が存在
するが、その各々及びその混合物が本発明に含まれる。
中でも、農業用殺菌剤効力の点では、一般式 化3にお
けるWが酸素原子である本発明化合物については該C=
C結合に基づく(Z)異性体の化合物または(Z)異性
体を多く含有する幾何異性体混合物が好ましく、一般式
化3におけるWがCH2基である本発明化合物につい
ては該C=C結合に基づく(E)異性体の化合物または
(E)異性体を多く含有する幾何異性体混合物が好まし
い。(ここで用いた(E)及び(Z)という用語は、広
く幾何異性体を示すのに使用されているカーン−インゴ
ールド−プレローグ則により定義されるものである。)
のC=C結合に基づく(E)及び(Z)の異性体が存在
するが、その各々及びその混合物が本発明に含まれる。
中でも、農業用殺菌剤効力の点では、一般式 化3にお
けるWが酸素原子である本発明化合物については該C=
C結合に基づく(Z)異性体の化合物または(Z)異性
体を多く含有する幾何異性体混合物が好ましく、一般式
化3におけるWがCH2基である本発明化合物につい
ては該C=C結合に基づく(E)異性体の化合物または
(E)異性体を多く含有する幾何異性体混合物が好まし
い。(ここで用いた(E)及び(Z)という用語は、広
く幾何異性体を示すのに使用されているカーン−インゴ
ールド−プレローグ則により定義されるものである。)
【0008】本発明化合物のうち、植物病害防除効力の
点でより好ましい化合物の例として、メチル 3−メト
キシ−2−(2−メチル−5−フェニルフェノキシ)−
2−プロペノエートがあげられる。
点でより好ましい化合物の例として、メチル 3−メト
キシ−2−(2−メチル−5−フェニルフェノキシ)−
2−プロペノエートがあげられる。
【0009】本発明化合物は例えば、下記[製造法A]、
[製造法B]または[製造法C]にしたがって製造すること
ができる。XまたはYの内容によっては、例えば[製造
法D]にしたがって製造することもできる。これらの製
造法においては必要に応じ官能基を反応から保護するた
めに保護基を用いることができる。
[製造法B]または[製造法C]にしたがって製造すること
ができる。XまたはYの内容によっては、例えば[製造
法D]にしたがって製造することもできる。これらの製
造法においては必要に応じ官能基を反応から保護するた
めに保護基を用いることができる。
【0010】[製造法A]一般式〔I〕で示される化合物
と一般式CH3−L1で示される化合物とを塩基の存在下
に反応させるか、または一般式N2CH−L3で示される
化合物とを反応させる本発明化合物の製造法。
と一般式CH3−L1で示される化合物とを塩基の存在下
に反応させるか、または一般式N2CH−L3で示される
化合物とを反応させる本発明化合物の製造法。
【化5】 {式中、L1は塩素原子、臭素原子、沃素原子、p−ト
ルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ
基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等の脱離基
を表し、L3はトリメチルシリル基等のトリアルキルシ
リル基を表し、W、X、Y、R1、R2、R3、R6、R7
およびR8は前記と同じ意味を表わす。}スキーム 化
5の工程5の反応において、反応温度は通常0〜100
℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲で
あり、一般式CH3−L1で示される化合物のモル比は、
一般式〔I〕で示される化合物に対して通常1〜10の
範囲である。該反応で用いられる塩基のモル比は、一般
式〔I〕で示される化合物に対して通常1〜10の範囲
である。塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム炭酸カルシ
ウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類、カリウム−t
−ブトキシド、ナトリウムメトキド、ナトリウムエトキ
シド等のアルカリ金属アルコキシド類、ピリジン、トリ
エチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、アニリン
等の有機塩基類、あるいは、これらの混合物があげられ
る。該反応は通常、溶媒中にて行われる。溶媒として
は、例えば1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、
エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、t−ブチルメチ
ルエ−テル等のエ−テル溶媒、n−ヘキサン、n−ヘプ
タン等の脂肪族炭化水素溶媒、トルエン等の芳香族炭化
水素溶媒、モノクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素
溶媒、ピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジメチル
アニリン等の有機塩基溶媒、酢酸ブチル、酢酸エチル等
のエステル溶媒、アセトニトリル等のニトリル溶媒、
N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、水等あるいはそれらの混合物があげられる。反応終
了後の反応液は有機溶媒抽出、濃縮等の通常の後処理を
行い、目的化合物を得ることができる。必要ならば再結
晶、蒸留、クロマトグラフィ−等により精製して、目的
化合物を単離することができる。
ルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ
基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等の脱離基
を表し、L3はトリメチルシリル基等のトリアルキルシ
リル基を表し、W、X、Y、R1、R2、R3、R6、R7
およびR8は前記と同じ意味を表わす。}スキーム 化
5の工程5の反応において、反応温度は通常0〜100
℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲で
あり、一般式CH3−L1で示される化合物のモル比は、
一般式〔I〕で示される化合物に対して通常1〜10の
範囲である。該反応で用いられる塩基のモル比は、一般
式〔I〕で示される化合物に対して通常1〜10の範囲
である。塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム炭酸カルシ
ウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類、カリウム−t
−ブトキシド、ナトリウムメトキド、ナトリウムエトキ
シド等のアルカリ金属アルコキシド類、ピリジン、トリ
エチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、アニリン
等の有機塩基類、あるいは、これらの混合物があげられ
る。該反応は通常、溶媒中にて行われる。溶媒として
は、例えば1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、
エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、t−ブチルメチ
ルエ−テル等のエ−テル溶媒、n−ヘキサン、n−ヘプ
タン等の脂肪族炭化水素溶媒、トルエン等の芳香族炭化
水素溶媒、モノクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素
溶媒、ピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジメチル
アニリン等の有機塩基溶媒、酢酸ブチル、酢酸エチル等
のエステル溶媒、アセトニトリル等のニトリル溶媒、
N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、水等あるいはそれらの混合物があげられる。反応終
了後の反応液は有機溶媒抽出、濃縮等の通常の後処理を
行い、目的化合物を得ることができる。必要ならば再結
晶、蒸留、クロマトグラフィ−等により精製して、目的
化合物を単離することができる。
【0011】スキーム 化5の工程5’の反応におい
て、一般式〔I〕で示される化合物と一般式N2CH−
L3で示される化合物とを反応させる場合の反応温度は
通常−20〜50℃の範囲であり、反応時間は通常0.
1〜24時間の範囲であり、一般式N2CH−L3で示さ
れる化合物のモル比は、一般式〔I〕で示される化合物
に対して通常1〜10の範囲である。該反応は通常、溶
媒中にて行われる。溶媒としては、例えば1,4−ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメ
チルエ−テル、t−ブチルメチルエ−テル等のエ−テル
溶媒、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素
溶媒、トルエン等の芳香族炭化水素溶媒、モノクロロベ
ンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒、ピリジン、トリエ
チルアミン、N,N−ジメチルアニリン等の有機塩基溶
媒、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル溶媒、アセト
ニトリル等のニトリル溶媒、N,N−ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド等あるいはそれらの混合物
があげられる。反応終了後の反応液は有機溶媒抽出、濃
縮等の通常の後処理を行い、目的化合物を得ることがで
きる。必要ならば再結晶、蒸留、クロマトグラフィ−等
により精製して、目的化合物を単離することができる。
て、一般式〔I〕で示される化合物と一般式N2CH−
L3で示される化合物とを反応させる場合の反応温度は
通常−20〜50℃の範囲であり、反応時間は通常0.
1〜24時間の範囲であり、一般式N2CH−L3で示さ
れる化合物のモル比は、一般式〔I〕で示される化合物
に対して通常1〜10の範囲である。該反応は通常、溶
媒中にて行われる。溶媒としては、例えば1,4−ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメ
チルエ−テル、t−ブチルメチルエ−テル等のエ−テル
溶媒、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素
溶媒、トルエン等の芳香族炭化水素溶媒、モノクロロベ
ンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒、ピリジン、トリエ
チルアミン、N,N−ジメチルアニリン等の有機塩基溶
媒、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル溶媒、アセト
ニトリル等のニトリル溶媒、N,N−ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド等あるいはそれらの混合物
があげられる。反応終了後の反応液は有機溶媒抽出、濃
縮等の通常の後処理を行い、目的化合物を得ることがで
きる。必要ならば再結晶、蒸留、クロマトグラフィ−等
により精製して、目的化合物を単離することができる。
【0012】[製造法B]一般式〔II〕で示される化合
物と一般式〔III〕で示される化合物とを、触媒の存
在下に反応させる本発明化合物の製造法。
物と一般式〔III〕で示される化合物とを、触媒の存
在下に反応させる本発明化合物の製造法。
【化6】 {式中、A2はB(OH)2基、B(OR9)2基またはS
nR10 3基を表わし、L2 は塩素原子、臭素原子、沃素原
子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等の脱離基
を表し、W、X、Y、R1、R2、R3、R4、R5、R6、
R7、R8、R9およびR10は前記と同じ意味を表わ
す。} スキーム 化6の工程6の反応において、反応温度は通
常20〜120℃の範囲であり、反応時間は通常1〜2
4時間の範囲であり、一般式〔III〕で示される化合
物のモル比は、一般式〔II〕で示される化合物に対し
て通常1〜5の範囲である。該反応で用いられる触媒の
モル比は、一般式〔II〕で示される化合物に対して通
常0.001〜0.1の範囲である。触媒としては、例
えば酢酸パラジウム(II)、テトラキス(トリフェニ
ルフォスフィン)パラジウム(0)、{1,1’−ビス
(ジフェニルフォスフィノ)フェロセン}ジクロロパラ
ジウム(II)塩化メチレン錯体、ビス−(トリフェニ
ルフォスフィン)パラジウム(II)ジクロライド等の
パラジウム触媒があげられる。該反応は必要に応じて塩
基(例えば、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、炭酸カリ
ウム、燐酸三カリウム、重曹等の無機塩基)や相関移動
触媒(例えば、テトラブチルアンモニウムブロマイド、
ベンジルトリエチルアンモニウムブロマイド等の4級ア
ンモニウム塩)の存在下に行うこともある。また、一般
式〔III〕で示される化合物においてA2がSnR10 3
基である場合は、必要に応じて酸化銅(II)、酸化銀
(II)の存在下に行うこともある。該反応は通常、溶
媒中にて行われる。溶媒としては、例えばメタノ−ル、
エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソプロパノ
−ル等のアルコ−ル溶媒、1,4−ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、
t−ブチルメチルエ−テル等のエ−テル溶媒、n−ヘキ
サン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒、トルエン
等の芳香族炭化水素溶媒、アセトニトリル等のニトリル
溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、水等あるいはそれらの混合物があげられる。該
反応は、より具体的には例えば、J.Org,Che
m.,1997,62,7170−7173に記載の方
法、J.Org.Chem.,1995,60,750
8−7510に記載の方法またはAngew.Che
m.Int.Ed.Engl.,1986,25,50
8−524に記載の方法等に準じて行なう。反応終了後
の反応液は有機溶媒抽出、濃縮等の通常の後処理を行
い、目的化合物を得ることができる。必要ならば再結
晶、蒸留、クロマトグラフィ−等により精製して、目的
化合物を単離することができる。
nR10 3基を表わし、L2 は塩素原子、臭素原子、沃素原
子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等の脱離基
を表し、W、X、Y、R1、R2、R3、R4、R5、R6、
R7、R8、R9およびR10は前記と同じ意味を表わ
す。} スキーム 化6の工程6の反応において、反応温度は通
常20〜120℃の範囲であり、反応時間は通常1〜2
4時間の範囲であり、一般式〔III〕で示される化合
物のモル比は、一般式〔II〕で示される化合物に対し
て通常1〜5の範囲である。該反応で用いられる触媒の
モル比は、一般式〔II〕で示される化合物に対して通
常0.001〜0.1の範囲である。触媒としては、例
えば酢酸パラジウム(II)、テトラキス(トリフェニ
ルフォスフィン)パラジウム(0)、{1,1’−ビス
(ジフェニルフォスフィノ)フェロセン}ジクロロパラ
ジウム(II)塩化メチレン錯体、ビス−(トリフェニ
ルフォスフィン)パラジウム(II)ジクロライド等の
パラジウム触媒があげられる。該反応は必要に応じて塩
基(例えば、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、炭酸カリ
ウム、燐酸三カリウム、重曹等の無機塩基)や相関移動
触媒(例えば、テトラブチルアンモニウムブロマイド、
ベンジルトリエチルアンモニウムブロマイド等の4級ア
ンモニウム塩)の存在下に行うこともある。また、一般
式〔III〕で示される化合物においてA2がSnR10 3
基である場合は、必要に応じて酸化銅(II)、酸化銀
(II)の存在下に行うこともある。該反応は通常、溶
媒中にて行われる。溶媒としては、例えばメタノ−ル、
エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソプロパノ
−ル等のアルコ−ル溶媒、1,4−ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、
t−ブチルメチルエ−テル等のエ−テル溶媒、n−ヘキ
サン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒、トルエン
等の芳香族炭化水素溶媒、アセトニトリル等のニトリル
溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、水等あるいはそれらの混合物があげられる。該
反応は、より具体的には例えば、J.Org,Che
m.,1997,62,7170−7173に記載の方
法、J.Org.Chem.,1995,60,750
8−7510に記載の方法またはAngew.Che
m.Int.Ed.Engl.,1986,25,50
8−524に記載の方法等に準じて行なう。反応終了後
の反応液は有機溶媒抽出、濃縮等の通常の後処理を行
い、目的化合物を得ることができる。必要ならば再結
晶、蒸留、クロマトグラフィ−等により精製して、目的
化合物を単離することができる。
【0013】一般式〔I〕および〔II〕においてWが
酸素原子である化合物は、例えば下記のスキーム 化7
またはスキーム 化8で示される方法にしたがって製造
することができる。
酸素原子である化合物は、例えば下記のスキーム 化7
またはスキーム 化8で示される方法にしたがって製造
することができる。
【化7】 {式中、L1、L2、X、Y、R1、R2、R3、R6、R7
およびR8は前記と同じ意味を表わす。}
およびR8は前記と同じ意味を表わす。}
【化8】 {式中、L1、L2、X、Y、R1、R2、R3、R6、R7
およびR8は前記と同じ意味を表わす。} また、一般式〔I〕および〔II〕において、WがCH
2基である化合物は、例えば下記のスキーム 化9で示
される方法にしたがって製造することができる。
およびR8は前記と同じ意味を表わす。} また、一般式〔I〕および〔II〕において、WがCH
2基である化合物は、例えば下記のスキーム 化9で示
される方法にしたがって製造することができる。
【化9】 {式中、L1、L2、L3、X、Y、R1、R2、R3、
R6、R7およびR8は前記と同じ意味を表わす。}
R6、R7およびR8は前記と同じ意味を表わす。}
【0014】スキーム 化7の工程7lおよびスキーム
化9の工程9eの反応において、一般式〔XVI〕で
示される化合物または一般式〔XXX〕で示される化合
物と一般式CH3−L1で示される化合物とを、塩基の存
在下に反応させる場合は、反応温度は通常0〜100℃
の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲であ
り、一般式CH3−L1で示される化合物のモル比は、一
般式〔XVI〕で示される化合物または一般式〔XX
X〕で示される化合物に対して通常1〜10の範囲であ
る。該反応は塩基の存在下で行われ、塩基のモル比は、
一般式〔XVI〕で示される化合物または一般式〔XX
X〕で示される化合物に対して通常1〜10の範囲であ
る。塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム炭酸カルシウ
ム、水素化ナトリウム等の無機塩基、カリウム−t−ブ
トキシド、ナトリウムメトキド、ナトリウムエトキシド
等のアルカリ金属アルコキシド類、ピリジン、トリエチ
ルアミン、エチルジイソプロピルアミン、アニリン等の
有機塩基、あるいは、これらの混合物があげられる。該
反応は通常、溶媒中にて行われ、溶媒としては例えば
1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレング
リコ−ルジメチルエ−テル、t−ブチルメチルエ−テル
等のエ−テル溶媒、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂
肪族炭化水素溶媒、トルエン等の芳香族炭化水素溶媒、
モノクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒、ピリ
ジン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン等
の有機塩基溶媒、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル
溶媒、アセトニトリル等のニトリル溶媒、N,N−ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、水等あるい
はそれらの混合物があげられる。反応終了後の反応液は
有機溶媒抽出、濃縮等の通常の後処理を行い、目的化合
物を得ることができる。必要ならば再結晶、蒸留、クロ
マトグラフィ−等により精製して、目的化合物を単離す
ることができる。
化9の工程9eの反応において、一般式〔XVI〕で
示される化合物または一般式〔XXX〕で示される化合
物と一般式CH3−L1で示される化合物とを、塩基の存
在下に反応させる場合は、反応温度は通常0〜100℃
の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲であ
り、一般式CH3−L1で示される化合物のモル比は、一
般式〔XVI〕で示される化合物または一般式〔XX
X〕で示される化合物に対して通常1〜10の範囲であ
る。該反応は塩基の存在下で行われ、塩基のモル比は、
一般式〔XVI〕で示される化合物または一般式〔XX
X〕で示される化合物に対して通常1〜10の範囲であ
る。塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム炭酸カルシウ
ム、水素化ナトリウム等の無機塩基、カリウム−t−ブ
トキシド、ナトリウムメトキド、ナトリウムエトキシド
等のアルカリ金属アルコキシド類、ピリジン、トリエチ
ルアミン、エチルジイソプロピルアミン、アニリン等の
有機塩基、あるいは、これらの混合物があげられる。該
反応は通常、溶媒中にて行われ、溶媒としては例えば
1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレング
リコ−ルジメチルエ−テル、t−ブチルメチルエ−テル
等のエ−テル溶媒、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂
肪族炭化水素溶媒、トルエン等の芳香族炭化水素溶媒、
モノクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒、ピリ
ジン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン等
の有機塩基溶媒、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル
溶媒、アセトニトリル等のニトリル溶媒、N,N−ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、水等あるい
はそれらの混合物があげられる。反応終了後の反応液は
有機溶媒抽出、濃縮等の通常の後処理を行い、目的化合
物を得ることができる。必要ならば再結晶、蒸留、クロ
マトグラフィ−等により精製して、目的化合物を単離す
ることができる。
【0015】スキーム 化7の工程7lおよびスキーム
化9の工程9e反応において、一般式〔XVI〕で示
される化合物または一般式〔XXX〕で示される化合物
と一般式N2CH−L3で示される化合物とを反応させる
場合の反応温度は通常−20〜50℃の範囲であり、反
応時間は通常0.1〜24時間の範囲であり、一般式N
2CH−L3で示される化合物のモル比は、一般式〔XV
I〕で示される化合物または一般式〔XXX〕で示され
る化合物に対して通常1〜10の範囲である。該反応は
通常、溶媒中にて行われる。溶媒としては、例えば1,
4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ
−ルジメチルエ−テル、t−ブチルメチルエ−テル等の
エ−テル溶媒、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族
炭化水素溶媒、トルエン等の芳香族炭化水素溶媒、モノ
クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒、ピリジ
ン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン等の
有機塩基溶媒、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル溶
媒、アセトニトリル等のニトリル溶媒、N,N−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等あるいはそれ
らの混合物があげられる。反応終了後の反応液は有機溶
媒抽出、濃縮等の通常の後処理を行い、目的化合物を得
ることができる。必要ならば再結晶、蒸留、クロマトグ
ラフィ−等により精製して、目的化合物を単離すること
ができる。
化9の工程9e反応において、一般式〔XVI〕で示
される化合物または一般式〔XXX〕で示される化合物
と一般式N2CH−L3で示される化合物とを反応させる
場合の反応温度は通常−20〜50℃の範囲であり、反
応時間は通常0.1〜24時間の範囲であり、一般式N
2CH−L3で示される化合物のモル比は、一般式〔XV
I〕で示される化合物または一般式〔XXX〕で示され
る化合物に対して通常1〜10の範囲である。該反応は
通常、溶媒中にて行われる。溶媒としては、例えば1,
4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ
−ルジメチルエ−テル、t−ブチルメチルエ−テル等の
エ−テル溶媒、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族
炭化水素溶媒、トルエン等の芳香族炭化水素溶媒、モノ
クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒、ピリジ
ン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン等の
有機塩基溶媒、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル溶
媒、アセトニトリル等のニトリル溶媒、N,N−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等あるいはそれ
らの混合物があげられる。反応終了後の反応液は有機溶
媒抽出、濃縮等の通常の後処理を行い、目的化合物を得
ることができる。必要ならば再結晶、蒸留、クロマトグ
ラフィ−等により精製して、目的化合物を単離すること
ができる。
【0016】スキーム 化7の工程7j、スキーム 化
8の工程8fおよびスキーム 化9の工程9cの反応に
おいて、反応温度は通常0〜80℃の範囲であり、反応
時間は通常1〜24時間の範囲であり、反応に供される
HCOOCH3のモル比は、一般式〔XV 〕で示される
化合物、一般式〔IX〕で示される化合物または一般式
〔XXIX〕で示される化合物に対して通常1〜100
の範囲である。該反応は通常塩基の存在下に行われ、塩
基としては、例えば水素化ナトリウム、水素化カリウム
等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエト
キシド、カリウム−t−ブトキシド等のアルカリ金属ア
ルコキシド、ナトリウムアミド、リチウムアミド、リチ
ウムジイソプロピルアミド、ナトリウムヘキサメチルジ
シラジド、リチウムヘキサメチルジシラジド等のアルカ
リ金属アミドおよびこれらの混合物があげられる。該反
応は必要に応じて、溶媒中にて行われ、溶媒としては例
えば1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレ
ングリコ−ルジメチルエ−テル、t−ブチルメチルエ−
テル等のエ−テル溶媒、n−ヘキサン、n−ヘプタン等
の脂肪族炭化水素溶媒、トルエン等の芳香族炭化水素溶
媒、モノクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒、
ピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリ
ン等の有機塩基溶媒、アセトニトリル等のニトリル溶
媒、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、N,N−ジメチル−2−イミダゾリドン、スルホ
ラン等あるいはそれらの混合物があげられる。反応終了
後の反応液は希塩酸などの酸性水溶液で処理した後、有
機溶媒抽出、濃縮等の通常の後処理を行い、目的化合物
を得ることができる。必要ならば再結晶、クロマトグラ
フィ−等により精製して、目的化合物を単離することが
できる。
8の工程8fおよびスキーム 化9の工程9cの反応に
おいて、反応温度は通常0〜80℃の範囲であり、反応
時間は通常1〜24時間の範囲であり、反応に供される
HCOOCH3のモル比は、一般式〔XV 〕で示される
化合物、一般式〔IX〕で示される化合物または一般式
〔XXIX〕で示される化合物に対して通常1〜100
の範囲である。該反応は通常塩基の存在下に行われ、塩
基としては、例えば水素化ナトリウム、水素化カリウム
等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエト
キシド、カリウム−t−ブトキシド等のアルカリ金属ア
ルコキシド、ナトリウムアミド、リチウムアミド、リチ
ウムジイソプロピルアミド、ナトリウムヘキサメチルジ
シラジド、リチウムヘキサメチルジシラジド等のアルカ
リ金属アミドおよびこれらの混合物があげられる。該反
応は必要に応じて、溶媒中にて行われ、溶媒としては例
えば1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレ
ングリコ−ルジメチルエ−テル、t−ブチルメチルエ−
テル等のエ−テル溶媒、n−ヘキサン、n−ヘプタン等
の脂肪族炭化水素溶媒、トルエン等の芳香族炭化水素溶
媒、モノクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒、
ピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリ
ン等の有機塩基溶媒、アセトニトリル等のニトリル溶
媒、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、N,N−ジメチル−2−イミダゾリドン、スルホ
ラン等あるいはそれらの混合物があげられる。反応終了
後の反応液は希塩酸などの酸性水溶液で処理した後、有
機溶媒抽出、濃縮等の通常の後処理を行い、目的化合物
を得ることができる。必要ならば再結晶、クロマトグラ
フィ−等により精製して、目的化合物を単離することが
できる。
【0017】スキーム 化7の工程7gおよびスキーム
化8の8dの反応において、反応温度は通常0〜80
℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲で
あり、一般式L1CH2COOCH3で示される化合物の
モル比は、一般式〔XII〕で示される化合物または一
般式〔VIII〕で示される化合物に対して通常1〜5
の範囲である。該反応は通常塩基の存在下で行われ、塩
基のモル比は一般式L1CH2COOCH3で示される化
合物に対して通常1〜10の範囲である。塩基として
は、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カ
リウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の無機塩
基、カリウム−t−ブトキシド、ナトリウムメトキド、
ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、
ピリジン、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルア
ミン、N,N−ジメチルアニリン等の有機塩基、あるい
は、これらの混合物があげられる。該反応は必要に応じ
て溶媒中で行われ、溶媒としては例えば1,4−ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチ
ルエ−テル、t−ブチルメチルエ−テル等のエ−テル溶
媒、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶
媒、トルエン等の芳香族炭化水素溶媒、モノクロロベン
ゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒、ピリジン、トリエチ
ルアミン、N,N−ジメチルアニリン等の有機塩基溶
媒、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル溶媒、アセト
ニトリル等のニトリル溶媒、N,N−ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、水等あるいはそれらの混
合物があげられる。反応終了後の反応液は有機溶媒抽
出、濃縮等の通常の後処理を行い、目的化合物を得るこ
とができる。必要ならば再結晶、蒸留、クロマトグラフ
ィ−等により精製して、目的化合物を単離することがで
きる。
化8の8dの反応において、反応温度は通常0〜80
℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲で
あり、一般式L1CH2COOCH3で示される化合物の
モル比は、一般式〔XII〕で示される化合物または一
般式〔VIII〕で示される化合物に対して通常1〜5
の範囲である。該反応は通常塩基の存在下で行われ、塩
基のモル比は一般式L1CH2COOCH3で示される化
合物に対して通常1〜10の範囲である。塩基として
は、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カ
リウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の無機塩
基、カリウム−t−ブトキシド、ナトリウムメトキド、
ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、
ピリジン、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルア
ミン、N,N−ジメチルアニリン等の有機塩基、あるい
は、これらの混合物があげられる。該反応は必要に応じ
て溶媒中で行われ、溶媒としては例えば1,4−ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチ
ルエ−テル、t−ブチルメチルエ−テル等のエ−テル溶
媒、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶
媒、トルエン等の芳香族炭化水素溶媒、モノクロロベン
ゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒、ピリジン、トリエチ
ルアミン、N,N−ジメチルアニリン等の有機塩基溶
媒、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル溶媒、アセト
ニトリル等のニトリル溶媒、N,N−ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、水等あるいはそれらの混
合物があげられる。反応終了後の反応液は有機溶媒抽
出、濃縮等の通常の後処理を行い、目的化合物を得るこ
とができる。必要ならば再結晶、蒸留、クロマトグラフ
ィ−等により精製して、目的化合物を単離することがで
きる。
【0018】スキーム 化7の工程7k、スキーム 化
8の工程8a、工程8c、工程8eおよびスキーム 化
9の工程9dの反応において、反応温度は通常20〜1
20℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範
囲であり、一般式〔III〕で示される化合物のモル比
は、一般式〔XVI〕で示される化合物、一般式〔V
I〕で示される化合物、一般式〔XII〕で示される化
合物、一般式〔XV〕で示される化合物または一般式
〔XXX〕で示される化合物に対して通常1〜5の範囲
である。該反応は触媒(例えば、酢酸パラジウム(I
I)、テトラキス(トリフェニルフォスフィン)パラジ
ウム(0)、{1,1’−ビス(ジフェニルフォスフィ
ノ)フェロセン}ジクロロパラジウム(II)塩化メチ
レン錯体、ビス−(トリフェニルフォスフィン)パラジ
ウム(II)ジクロライド等のパラジウム触媒等)の存
在下で行われ、触媒のモル比は一般式〔III〕で示され
る化合物に対して通常0.001〜0.1の範囲であ
る。該反応は必要に応じて塩基(例えば、酢酸ナトリウ
ム、酢酸カリウム、炭酸カリウム、燐酸三カリウム、重
曹などの無機塩基)や相関移動触媒(例えば、テトラブ
チルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリエチルアン
モニウムブロマイド等の4級アンモニウム塩)の存在下
に行うこともある。また、一般式〔III〕で示される
化合物において、A2がSnR10 3基である場合は、必要
に応じて酸化銅(II)、酸化銀(II)の存在下に反
応を行うこともある。該反応は通常、溶媒中にて行われ
る。溶媒としては、例えばメタノ−ル、エタノ−ル、イ
ソプロパノ−ル等のアルコ−ル溶媒、1,4−ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチル
エ−テル、t−ブチルメチルエ−テル等のエ−テル溶
媒、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶
媒、トルエン等の芳香族炭化水素溶媒、アセトニトリル
等のニトリル溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、水等あるいはそれらの混合物があ
げられる。反応終了後の反応液は有機溶媒抽出、濃縮等
の通常の後処理を行い、目的化合物を得ることができ
る。必要ならば再結晶、蒸留、クロマトグラフィ−等に
より精製して、目的化合物を単離することができる。
8の工程8a、工程8c、工程8eおよびスキーム 化
9の工程9dの反応において、反応温度は通常20〜1
20℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範
囲であり、一般式〔III〕で示される化合物のモル比
は、一般式〔XVI〕で示される化合物、一般式〔V
I〕で示される化合物、一般式〔XII〕で示される化
合物、一般式〔XV〕で示される化合物または一般式
〔XXX〕で示される化合物に対して通常1〜5の範囲
である。該反応は触媒(例えば、酢酸パラジウム(I
I)、テトラキス(トリフェニルフォスフィン)パラジ
ウム(0)、{1,1’−ビス(ジフェニルフォスフィ
ノ)フェロセン}ジクロロパラジウム(II)塩化メチ
レン錯体、ビス−(トリフェニルフォスフィン)パラジ
ウム(II)ジクロライド等のパラジウム触媒等)の存
在下で行われ、触媒のモル比は一般式〔III〕で示され
る化合物に対して通常0.001〜0.1の範囲であ
る。該反応は必要に応じて塩基(例えば、酢酸ナトリウ
ム、酢酸カリウム、炭酸カリウム、燐酸三カリウム、重
曹などの無機塩基)や相関移動触媒(例えば、テトラブ
チルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリエチルアン
モニウムブロマイド等の4級アンモニウム塩)の存在下
に行うこともある。また、一般式〔III〕で示される
化合物において、A2がSnR10 3基である場合は、必要
に応じて酸化銅(II)、酸化銀(II)の存在下に反
応を行うこともある。該反応は通常、溶媒中にて行われ
る。溶媒としては、例えばメタノ−ル、エタノ−ル、イ
ソプロパノ−ル等のアルコ−ル溶媒、1,4−ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチル
エ−テル、t−ブチルメチルエ−テル等のエ−テル溶
媒、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶
媒、トルエン等の芳香族炭化水素溶媒、アセトニトリル
等のニトリル溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、水等あるいはそれらの混合物があ
げられる。反応終了後の反応液は有機溶媒抽出、濃縮等
の通常の後処理を行い、目的化合物を得ることができ
る。必要ならば再結晶、蒸留、クロマトグラフィ−等に
より精製して、目的化合物を単離することができる。
【0019】スキーム 化9の工程9aの反応におい
て、反応温度は通常20〜120℃の範囲であり、反応
時間は通常1〜24時間の範囲であり、マロン酸ジメチ
ルのモル比は一般式〔XXVII〕で示される化合物に
対して、通常1〜3の範囲である。該反応は通常塩基の
存在下で行われ、塩基のモル比は一般式〔XXVII〕
で示される化合物に対して通常1〜10の範囲である。
塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム
等の無機塩基、カリウム−t−ブトキシド、ナトリウム
メトキド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アル
コキシド、ピリジン、トリエチルアミン、エチルジイソ
プロピルアミン、N,N−ジメチルアニリン等の有機塩
基、あるいは、これらの混合物があげられる。該反応は
必要に応じて溶媒中で行われ、溶媒としては例えば1,
4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ
−ルジメチルエ−テル、t−ブチルメチルエ−テル等の
エ−テル溶媒、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族
炭化水素溶媒、トルエン等の芳香族炭化水素溶媒、モノ
クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒、ピリジ
ン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン等の
有機塩基溶媒、メタノール、エタノール等のアルコール
系溶媒、アセトニトリル等のニトリル溶媒、N,N−ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、水等ある
いはそれらの混合物があげられる。反応終了後の反応液
は有機溶媒抽出、濃縮等の通常の後処理を行い、目的化
合物を得ることができる。必要ならば再結晶、蒸留、ク
ロマトグラフィ−等により精製して、目的化合物を単離
することができる。尚、一般式〔XXVII〕で示され
る化合物は、例えば特開平11−217579号公報に
記載の製造法に準じて製造することができる。
て、反応温度は通常20〜120℃の範囲であり、反応
時間は通常1〜24時間の範囲であり、マロン酸ジメチ
ルのモル比は一般式〔XXVII〕で示される化合物に
対して、通常1〜3の範囲である。該反応は通常塩基の
存在下で行われ、塩基のモル比は一般式〔XXVII〕
で示される化合物に対して通常1〜10の範囲である。
塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム
等の無機塩基、カリウム−t−ブトキシド、ナトリウム
メトキド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アル
コキシド、ピリジン、トリエチルアミン、エチルジイソ
プロピルアミン、N,N−ジメチルアニリン等の有機塩
基、あるいは、これらの混合物があげられる。該反応は
必要に応じて溶媒中で行われ、溶媒としては例えば1,
4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ
−ルジメチルエ−テル、t−ブチルメチルエ−テル等の
エ−テル溶媒、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族
炭化水素溶媒、トルエン等の芳香族炭化水素溶媒、モノ
クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒、ピリジ
ン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン等の
有機塩基溶媒、メタノール、エタノール等のアルコール
系溶媒、アセトニトリル等のニトリル溶媒、N,N−ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、水等ある
いはそれらの混合物があげられる。反応終了後の反応液
は有機溶媒抽出、濃縮等の通常の後処理を行い、目的化
合物を得ることができる。必要ならば再結晶、蒸留、ク
ロマトグラフィ−等により精製して、目的化合物を単離
することができる。尚、一般式〔XXVII〕で示され
る化合物は、例えば特開平11−217579号公報に
記載の製造法に準じて製造することができる。
【0020】スキーム 化9の工程9bの反応におい
て、反応温度は80〜250℃の範囲であり、反応時間
は通常1〜24時間の範囲である。該反応は必要に応じ
て塩化リチウム、臭化リチウム等の無機塩の存在下に行
うことがある。該反応は必要に応じて溶媒中で行われ、
溶媒としては例えば1,4−ジオキサン、トリグライ
ム、テトラグライム等のエ−テル溶媒、n−オクタン等
の脂肪族炭化水素溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素溶媒、モノクロロベンゼン、ジクロルベンゼン
等のハロゲン化炭化水素溶媒、ピリジン、N,N−ジメ
チルアニリン等の有機塩基溶媒、N,N−ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリド
ン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンあるいは
それらの混合物があげられる。反応終了後の反応液は有
機溶媒抽出、濃縮等の通常の後処理を行い、目的化合物
を得ることができる。必要ならば再結晶、蒸留、クロマ
トグラフィ−等により精製して、目的化合物を単離する
ことができる。
て、反応温度は80〜250℃の範囲であり、反応時間
は通常1〜24時間の範囲である。該反応は必要に応じ
て塩化リチウム、臭化リチウム等の無機塩の存在下に行
うことがある。該反応は必要に応じて溶媒中で行われ、
溶媒としては例えば1,4−ジオキサン、トリグライ
ム、テトラグライム等のエ−テル溶媒、n−オクタン等
の脂肪族炭化水素溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素溶媒、モノクロロベンゼン、ジクロルベンゼン
等のハロゲン化炭化水素溶媒、ピリジン、N,N−ジメ
チルアニリン等の有機塩基溶媒、N,N−ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリド
ン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンあるいは
それらの混合物があげられる。反応終了後の反応液は有
機溶媒抽出、濃縮等の通常の後処理を行い、目的化合物
を得ることができる。必要ならば再結晶、蒸留、クロマ
トグラフィ−等により精製して、目的化合物を単離する
ことができる。
【0021】一般式〔III〕で示される化合物は、例
えば下記のスキーム 化10で示される方法で製造する
ことができる。
えば下記のスキーム 化10で示される方法で製造する
ことができる。
【化10】 {式中、A2、L1、X、Y、R1、R2およびR3は前記
と同じ意味を表す。} スキーム 化10の工程10の反応は、例えば溶媒(例
えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等)中にて
一般式〔XVII〕で示される化合物と金属(例えばマ
グネシウム、リチウムなど)とを反応させて得られる有
機金属化合物とホウ酸エステル(例えばホウ酸トリメチ
ル、ホウ酸トリエチル等)とを反応させる方法(より具
体的には、例えば、J.Am.Chem.Soc.,1
958,80,4291−4293に記載の方法に準じ
て行なう。)や、溶媒(ジメチルスルホキシド、N,N
−ジメチルホルムアミド等)中にて塩基(例えば、酢酸
カリウム等の無機塩基等)および触媒(例えば、{1,
1’−ビス(ジフェニルフォスフィノ)フェロセン}ジ
クロロパラジウム(II)塩化メチレン錯体等)の存在
下に一般式〔XVII〕で示される化合物とビス(ピナ
コレート)ジボロンとを反応させる方法(より具体的に
は、例えば、J.Org.Chem.,1995,6
0,7508−7510に記載の方法に準じて行な
う。)や、溶媒(トルエン等)中にて触媒(例えば、テ
トラキス(トリフェニルフォスフィン)パラジウム
(0)等)の存在下に一般式〔XVII〕で示される化
合物とR10 3SnSnR10 3(例えば、Bu3SnSnB
u3等)とを反応させる方法(より具体的には、例え
ば、Chem.Letters,1981,829−8
30に記載の方法に準じて行なう。)等により行うこと
ができる。反応終了後の反応液は有機溶媒抽出、濃縮等
の通常の後処理を行い、目的化合物を得ることができ
る。必要ならば再結晶、蒸留、クロマトグラフィ−等に
より精製して、目的化合物を単離することができる。
と同じ意味を表す。} スキーム 化10の工程10の反応は、例えば溶媒(例
えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等)中にて
一般式〔XVII〕で示される化合物と金属(例えばマ
グネシウム、リチウムなど)とを反応させて得られる有
機金属化合物とホウ酸エステル(例えばホウ酸トリメチ
ル、ホウ酸トリエチル等)とを反応させる方法(より具
体的には、例えば、J.Am.Chem.Soc.,1
958,80,4291−4293に記載の方法に準じ
て行なう。)や、溶媒(ジメチルスルホキシド、N,N
−ジメチルホルムアミド等)中にて塩基(例えば、酢酸
カリウム等の無機塩基等)および触媒(例えば、{1,
1’−ビス(ジフェニルフォスフィノ)フェロセン}ジ
クロロパラジウム(II)塩化メチレン錯体等)の存在
下に一般式〔XVII〕で示される化合物とビス(ピナ
コレート)ジボロンとを反応させる方法(より具体的に
は、例えば、J.Org.Chem.,1995,6
0,7508−7510に記載の方法に準じて行な
う。)や、溶媒(トルエン等)中にて触媒(例えば、テ
トラキス(トリフェニルフォスフィン)パラジウム
(0)等)の存在下に一般式〔XVII〕で示される化
合物とR10 3SnSnR10 3(例えば、Bu3SnSnB
u3等)とを反応させる方法(より具体的には、例え
ば、Chem.Letters,1981,829−8
30に記載の方法に準じて行なう。)等により行うこと
ができる。反応終了後の反応液は有機溶媒抽出、濃縮等
の通常の後処理を行い、目的化合物を得ることができ
る。必要ならば再結晶、蒸留、クロマトグラフィ−等に
より精製して、目的化合物を単離することができる。
【0022】一般式〔VIII〕で示される化合物の
中、XおよびYが窒素原子である化合物は例えば、下記
のスキーム 化11で示される方法にしたがって製造す
ることもできる。
中、XおよびYが窒素原子である化合物は例えば、下記
のスキーム 化11で示される方法にしたがって製造す
ることもできる。
【化11】 {式中、R1、R2、R3、R6、R7およびR8は前記と同
じ意味を表わす。}
じ意味を表わす。}
【0023】[製造法C]一般式〔XX〕で示される化合
物と一般式〔XXI〕で示される化合物とを、触媒の存
在下に反応させる本発明化合物の製造法。
物と一般式〔XXI〕で示される化合物とを、触媒の存
在下に反応させる本発明化合物の製造法。
【化12】 {式中、A1、L1、W、X、Y、R1、R2、R3、R6、
R7、R8、R9およびR1 0は前記と同じ意味を表す。} スキーム 化12の工程12の反応において、反応温度
は通常20〜120℃の範囲であり、反応時間は通常1
〜24時間の範囲であり、〔XXI〕の〔XX〕に対す
るモル比は通常1〜5の範囲である。該反応で用いられ
る触媒のモル比は、一般式〔XX〕で示される化合物に
対して通常0.001〜0.1の範囲である。触媒とし
ては、例えば酢酸パラジウム(II)、テトラキス(ト
リフェニルフォスフィン)パラジウム(0)、{1,
1’−ビス(ジフェニルフォスフィノ)フェロセン}ジ
クロロパラジウム(II)塩化メチレン錯体およびビス
−(トリフェニルフォスフィン)パラジウム(II)ジ
クロライド等のパラジウム触媒等があげられる。該反応
は必要に応じて塩基(例えば、酢酸ナトリウム、酢酸カ
リウム、炭酸カリウム、燐酸3カリウムおよび重曹など
の無機塩基)や相関移動触媒(例えば、テトラブチルア
ンモニウムブロマイドおよびベンジルトリエチルアンモ
ニウムブロマイドなどの4級アンモニウム塩)の存在下
に行うこともある。また、一般式〔XX〕で示される化
合物において、A1がSnR10 3基である場合は、必要に
応じて酸化銅(II)、酸化銀(II)の存在下に行う
こともある。該反応は通常、溶媒中にて行われる。溶媒
としては、例えばメタノ−ル、エタノ−ル、イソプロパ
ノ−ル等のアルコ−ル溶媒、1,4−ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テ
ル、t−ブチルメチルエ−テル等のエ−テル溶媒、n−
ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒、トル
エン等の芳香族炭化水素溶媒、アセトニトリル等のニト
リル溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド、水等あるいはそれらの混合物)中、触媒の
存在下に行なう。該反応は、より具体的には例えば、
J.Org,Chem.,1997,62,7170−
7173に記載の方法、J.Org.Chem.,19
95,60,7508−7510に記載の方法またはA
ngew.Chem.Int.Ed.Engl.,19
86,25,508−524に記載の方法などに準じて
行なう。反応終了後の反応液は有機溶媒抽出、濃縮等の
通常の後処理を行い、目的化合物を得ることができる。
必要ならば再結晶、蒸留、クロマトグラフィ−等により
精製して、目的化合物を単離することができる。
R7、R8、R9およびR1 0は前記と同じ意味を表す。} スキーム 化12の工程12の反応において、反応温度
は通常20〜120℃の範囲であり、反応時間は通常1
〜24時間の範囲であり、〔XXI〕の〔XX〕に対す
るモル比は通常1〜5の範囲である。該反応で用いられ
る触媒のモル比は、一般式〔XX〕で示される化合物に
対して通常0.001〜0.1の範囲である。触媒とし
ては、例えば酢酸パラジウム(II)、テトラキス(ト
リフェニルフォスフィン)パラジウム(0)、{1,
1’−ビス(ジフェニルフォスフィノ)フェロセン}ジ
クロロパラジウム(II)塩化メチレン錯体およびビス
−(トリフェニルフォスフィン)パラジウム(II)ジ
クロライド等のパラジウム触媒等があげられる。該反応
は必要に応じて塩基(例えば、酢酸ナトリウム、酢酸カ
リウム、炭酸カリウム、燐酸3カリウムおよび重曹など
の無機塩基)や相関移動触媒(例えば、テトラブチルア
ンモニウムブロマイドおよびベンジルトリエチルアンモ
ニウムブロマイドなどの4級アンモニウム塩)の存在下
に行うこともある。また、一般式〔XX〕で示される化
合物において、A1がSnR10 3基である場合は、必要に
応じて酸化銅(II)、酸化銀(II)の存在下に行う
こともある。該反応は通常、溶媒中にて行われる。溶媒
としては、例えばメタノ−ル、エタノ−ル、イソプロパ
ノ−ル等のアルコ−ル溶媒、1,4−ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テ
ル、t−ブチルメチルエ−テル等のエ−テル溶媒、n−
ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒、トル
エン等の芳香族炭化水素溶媒、アセトニトリル等のニト
リル溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド、水等あるいはそれらの混合物)中、触媒の
存在下に行なう。該反応は、より具体的には例えば、
J.Org,Chem.,1997,62,7170−
7173に記載の方法、J.Org.Chem.,19
95,60,7508−7510に記載の方法またはA
ngew.Chem.Int.Ed.Engl.,19
86,25,508−524に記載の方法などに準じて
行なう。反応終了後の反応液は有機溶媒抽出、濃縮等の
通常の後処理を行い、目的化合物を得ることができる。
必要ならば再結晶、蒸留、クロマトグラフィ−等により
精製して、目的化合物を単離することができる。
【0024】一般式〔XX〕で示される化合物は例え
ば、下記のスキーム 化13で示される方法で製造する
ことができる。
ば、下記のスキーム 化13で示される方法で製造する
ことができる。
【化13】 {式中、A1、L1、W、X、Y、R6、R7およびR8は
前記と同じ意味を表す。} スキーム 化13の工程13の反応において、反応温度
は通常20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1
〜24時間の範囲であり、A1−A1の〔XXII〕に対
するモル比は通常1〜5の範囲である。該反応は、例え
ば溶媒(ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホル
ムアミド等)中にて塩基(例えば、酢酸カリウム等の無
機塩基等)および触媒(例えば、{1,1’−ビス(ジ
フェニルフォスフィノ)フェロセン}ジクロロパラジウ
ム(II)塩化メチレン錯体等)の存在下に一般式〔XX
II〕で示される化合物とビス(ピナコレート)ジボロン
等とを反応させる方法(より具体的には、例えば、J.
Org.Chem.,1995,60,7508−75
10に記載の方法に準じて行なう。)や、溶媒(トルエ
ンなど)中にて触媒(例えば、テトラキス(トリフェニ
ルフォスフィン)パラジウム(0)等)の存在下に一般
式〔XXII〕で示される化合物とR10 3SnSnR10 3(例
えば、Bu3SnSnBu3等)とを反応させる方法(よ
り具体的には、例えば、Chem.Letters,1
981,829−830に記載の方法に準じて行な
う。)等により行なうことができる。反応終了後の反応
液は有機溶媒抽出、濃縮等の通常の後処理を行い、目的
化合物を得ることができる。必要ならば再結晶、蒸留、
クロマトグラフィ−等により精製して、目的化合物を単
離することができる。
前記と同じ意味を表す。} スキーム 化13の工程13の反応において、反応温度
は通常20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1
〜24時間の範囲であり、A1−A1の〔XXII〕に対
するモル比は通常1〜5の範囲である。該反応は、例え
ば溶媒(ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホル
ムアミド等)中にて塩基(例えば、酢酸カリウム等の無
機塩基等)および触媒(例えば、{1,1’−ビス(ジ
フェニルフォスフィノ)フェロセン}ジクロロパラジウ
ム(II)塩化メチレン錯体等)の存在下に一般式〔XX
II〕で示される化合物とビス(ピナコレート)ジボロン
等とを反応させる方法(より具体的には、例えば、J.
Org.Chem.,1995,60,7508−75
10に記載の方法に準じて行なう。)や、溶媒(トルエ
ンなど)中にて触媒(例えば、テトラキス(トリフェニ
ルフォスフィン)パラジウム(0)等)の存在下に一般
式〔XXII〕で示される化合物とR10 3SnSnR10 3(例
えば、Bu3SnSnBu3等)とを反応させる方法(よ
り具体的には、例えば、Chem.Letters,1
981,829−830に記載の方法に準じて行な
う。)等により行なうことができる。反応終了後の反応
液は有機溶媒抽出、濃縮等の通常の後処理を行い、目的
化合物を得ることができる。必要ならば再結晶、蒸留、
クロマトグラフィ−等により精製して、目的化合物を単
離することができる。
【0025】[製造法D]本発明化合物の中、一般式 化
3におけるXおよびYが窒素原子である化合物は例え
ば、下記のスキーム 化14で示される方法で製造する
こともできる。
3におけるXおよびYが窒素原子である化合物は例え
ば、下記のスキーム 化14で示される方法で製造する
こともできる。
【化14】 〔式中、W、X、Y、R1、R2、R3、R6、R7および
R8は前記と同じ意味を表す。〕
R8は前記と同じ意味を表す。〕
【0026】一般式〔XXIII〕においてWが酸素原
子である化合物は、例えば下記のスキーム 化15で示
される方法にしたがって製造することもできる。
子である化合物は、例えば下記のスキーム 化15で示
される方法にしたがって製造することもできる。
【化15】 {式中、L1、R6、R7およびR8は前記と同じ意味を表
わす。}
わす。}
【0027】本発明化合物を農園芸用殺菌剤の有効成分
として用いる場合、他の何らの成分も加えずそのまま用
いてもよいが、通常は固体担体、液体担体、界面活性
剤、その他の製剤用補助剤と混合して、乳剤、水和剤、
顆粒水和剤、エマルション製剤、フロアブル製剤、粉
剤、粒剤等に製剤して用いる。これらの製剤には有効成
分として本発明化合物を、重量比で通常、0.1〜90
%含有する。かかる製剤化の際に用いられる、固体担体
としては、例えばカオリンクレ−、アッタパルジャイト
クレ−、ベントナイト、モンモリロナイト、酸性白土、
パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物
質、トウモロコシ穂軸粉、クルミ殻粉等の天然有機物、
尿素等の合成有機物、炭酸カルシウム、硫酸アンモニウ
ム等の塩類、合成含水酸化珪素等の合成無機物等からな
る微粉末あるいは粒状物等があげられ、液体担体として
は、例えばキシレン、アルキルベンゼン、メチルナフタ
レン等の芳香族炭化水素類、イソプロパノ−ル、エチレ
ングリコ−ル、プロピレングリコール、セロソルブ等の
アルコ−ル類、アセトン、シクロヘキサノン、イソホロ
ン等のケトン類、ダイズ油、綿実油等の植物油、石油系
脂肪族炭化水素、エステル類、ジメチルスルホキシド、
アセトニトリル、水等があげられる。界面活性剤として
は、例えばアルキル硫酸エステル塩、アルキル(アリ−
ル)スルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリ
オキシエチレンアルキルアリ−ルエ−テルリン酸エステ
ル塩、リグニンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸ホ
ルマリン縮合物等の陰イオン界面活性剤、ポリオキシエ
チレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレン
アルキルポリオキシプロピレンブロックコポリマ−、ソ
ルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤等があ
げられる。製剤用補助剤としては、例えばポリビニルア
ルコ−ル、ポリビニルピロリドン等の水溶性高分子、ア
ラビアガム、アルギン酸およびその塩、CMC(カルボ
キシメチルセルロ−ス)、ザンサンガム、等の多糖類、
アルミニウムマグネシウムシリケート、アルミナゾル等
の無機物、防腐剤、着色剤、PAP(酸性リン酸イソプ
ロピル)、BHT等の安定化剤等があげられる。本発明
化合物の施用方法としては、具体的には茎葉散布、土壌
処理、種子消毒等があげられ、さらに、通常、当業者が
利用するどのような施用方法にても用いることができ
る。
として用いる場合、他の何らの成分も加えずそのまま用
いてもよいが、通常は固体担体、液体担体、界面活性
剤、その他の製剤用補助剤と混合して、乳剤、水和剤、
顆粒水和剤、エマルション製剤、フロアブル製剤、粉
剤、粒剤等に製剤して用いる。これらの製剤には有効成
分として本発明化合物を、重量比で通常、0.1〜90
%含有する。かかる製剤化の際に用いられる、固体担体
としては、例えばカオリンクレ−、アッタパルジャイト
クレ−、ベントナイト、モンモリロナイト、酸性白土、
パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物
質、トウモロコシ穂軸粉、クルミ殻粉等の天然有機物、
尿素等の合成有機物、炭酸カルシウム、硫酸アンモニウ
ム等の塩類、合成含水酸化珪素等の合成無機物等からな
る微粉末あるいは粒状物等があげられ、液体担体として
は、例えばキシレン、アルキルベンゼン、メチルナフタ
レン等の芳香族炭化水素類、イソプロパノ−ル、エチレ
ングリコ−ル、プロピレングリコール、セロソルブ等の
アルコ−ル類、アセトン、シクロヘキサノン、イソホロ
ン等のケトン類、ダイズ油、綿実油等の植物油、石油系
脂肪族炭化水素、エステル類、ジメチルスルホキシド、
アセトニトリル、水等があげられる。界面活性剤として
は、例えばアルキル硫酸エステル塩、アルキル(アリ−
ル)スルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリ
オキシエチレンアルキルアリ−ルエ−テルリン酸エステ
ル塩、リグニンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸ホ
ルマリン縮合物等の陰イオン界面活性剤、ポリオキシエ
チレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレン
アルキルポリオキシプロピレンブロックコポリマ−、ソ
ルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤等があ
げられる。製剤用補助剤としては、例えばポリビニルア
ルコ−ル、ポリビニルピロリドン等の水溶性高分子、ア
ラビアガム、アルギン酸およびその塩、CMC(カルボ
キシメチルセルロ−ス)、ザンサンガム、等の多糖類、
アルミニウムマグネシウムシリケート、アルミナゾル等
の無機物、防腐剤、着色剤、PAP(酸性リン酸イソプ
ロピル)、BHT等の安定化剤等があげられる。本発明
化合物の施用方法としては、具体的には茎葉散布、土壌
処理、種子消毒等があげられ、さらに、通常、当業者が
利用するどのような施用方法にても用いることができ
る。
【0028】本発明化合物を農園芸用殺菌剤の有効成分
として用いる場合、その有効成分の施用量は、対象植物
(作物等)の種類、対象病害の種類、病害の発生程度、
製剤形態、施用方法、施用時期、気象条件等によって変
化し得るが、1ア−ルあたり通常0.01〜50g、好
ましくは0.05〜10gである。乳剤、水和剤、懸濁
剤等を水で希釈して施用する場合、その施用濃度は、
0.0001〜3%、好ましくは0.0005〜1%で
あり、粉剤、粒剤等はなんら希釈することなくそのまま
施用する。
として用いる場合、その有効成分の施用量は、対象植物
(作物等)の種類、対象病害の種類、病害の発生程度、
製剤形態、施用方法、施用時期、気象条件等によって変
化し得るが、1ア−ルあたり通常0.01〜50g、好
ましくは0.05〜10gである。乳剤、水和剤、懸濁
剤等を水で希釈して施用する場合、その施用濃度は、
0.0001〜3%、好ましくは0.0005〜1%で
あり、粉剤、粒剤等はなんら希釈することなくそのまま
施用する。
【0029】本発明化合物は、畑地、水田、果樹園、茶
園、牧草地、芝生地等の農園芸用殺菌剤として用いるこ
とができ、他の農園芸用殺菌剤と混合して用いることに
より、殺菌効力の増強をも期待できる。混合し得る他の
農園芸用殺菌剤としては、たとえば、プロピコナゾ−
ル、トリアジメノ−ル、プロクロラズ、ペンコナゾ−
ル、テブコナゾ−ル、フルシラゾ−ル、ジニコナゾ−
ル、ブロムコナゾ−ル、エポキシコナゾ−ル、ジフェノ
コナゾ−ル、シプロコナゾ−ル、メトコナゾ−ル、トリ
フルミゾ−ル、テトラコナゾ−ル、マイクロブタニル、
フェンブコナゾ−ル、ヘキサコナゾ−ル、フルキンコナ
ゾ−ル、トリティコナゾ−ル、ビテルタノ−ル、イマザ
リル及びフルトリアホ−ル等のアゾ−ル系殺菌化合物、
フェンプロピモルフ、トリデモルフ及びフェンプロピジ
ン等の環状アミン系殺菌化合物、カルベンダジム、ベノ
ミル、チアベンダゾ−ル、チオファネ−トメチル等のベ
ンズイミダゾ−ル系殺菌化合物、プロシミドン、シプロ
ディニル、ピリメタニル、ジエトフェンカルブ、チウラ
ム、フルアジナム、マンコゼブ、イプロジオン、ビンク
ロゾリン、クロロタロニル、キャプタン、メパニピリ
ム、フェンピクロニル、フルジオキソニル、ジクロフル
アニド、フォルペット、クレソキシムメチル、アゾキシ
ストロビン、トリフロキシストロビン、ピコキシストロ
ビン、N−メチル−α−メトキシイミノ−2−〔(2,
5−ジメチルフェノキシ)メチル〕フェニルアセトアミ
ド、スピロキサミン、キノキシフェン、フェンヘキサミ
ド、ファモキサドン、フェナミドン(RP−40721
3)、イプロヴァリカルブ等があげられる。
園、牧草地、芝生地等の農園芸用殺菌剤として用いるこ
とができ、他の農園芸用殺菌剤と混合して用いることに
より、殺菌効力の増強をも期待できる。混合し得る他の
農園芸用殺菌剤としては、たとえば、プロピコナゾ−
ル、トリアジメノ−ル、プロクロラズ、ペンコナゾ−
ル、テブコナゾ−ル、フルシラゾ−ル、ジニコナゾ−
ル、ブロムコナゾ−ル、エポキシコナゾ−ル、ジフェノ
コナゾ−ル、シプロコナゾ−ル、メトコナゾ−ル、トリ
フルミゾ−ル、テトラコナゾ−ル、マイクロブタニル、
フェンブコナゾ−ル、ヘキサコナゾ−ル、フルキンコナ
ゾ−ル、トリティコナゾ−ル、ビテルタノ−ル、イマザ
リル及びフルトリアホ−ル等のアゾ−ル系殺菌化合物、
フェンプロピモルフ、トリデモルフ及びフェンプロピジ
ン等の環状アミン系殺菌化合物、カルベンダジム、ベノ
ミル、チアベンダゾ−ル、チオファネ−トメチル等のベ
ンズイミダゾ−ル系殺菌化合物、プロシミドン、シプロ
ディニル、ピリメタニル、ジエトフェンカルブ、チウラ
ム、フルアジナム、マンコゼブ、イプロジオン、ビンク
ロゾリン、クロロタロニル、キャプタン、メパニピリ
ム、フェンピクロニル、フルジオキソニル、ジクロフル
アニド、フォルペット、クレソキシムメチル、アゾキシ
ストロビン、トリフロキシストロビン、ピコキシストロ
ビン、N−メチル−α−メトキシイミノ−2−〔(2,
5−ジメチルフェノキシ)メチル〕フェニルアセトアミ
ド、スピロキサミン、キノキシフェン、フェンヘキサミ
ド、ファモキサドン、フェナミドン(RP−40721
3)、イプロヴァリカルブ等があげられる。
【0030】本発明化合物は、他の農園芸用殺虫剤、殺
ダニ剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤、肥料と混
用または併用することもできる。かかる殺虫剤及び/ま
たは殺ダニ剤及び/または殺線虫剤としては、例えばフ
ェニトロチオン〔O,O−ジメチル O−(3−メチル
−4−ニトロフェニル)ホスホロチオエ−ト〕、フェニ
チオン〔O,O−ジメチル O−(3−メチル−4−
(メチルチオ)フェニル)ホスホロチオエ−ト〕、ダイ
アジノン〔O,O−ジエチル O−2−イソプロピル−
6−メチルピリミジン−4−イルホスホロチオエ−
ト〕、クロルピリホス〔O,O−ジエチル O−3,
5,6−トリクロロ−2−ピリジルホスホロチオエ−
ト〕、アセフェ−ト〔O,S−ジメチルアセチルホスホ
ラミドチオエ−ト〕、メチダチオン〔S−2,3−ジヒ
ドロ−5−メトキシ−2−オキソ−1,3,4−チアジ
アゾ−ル−3−イルメチル O,O−ジメチルホスホロ
ジチオエ−ト〕、ジスルホトン〔O,O−ジエチル S
−2−エチルチオエチルホスホロチオエ−ト〕、DDV
P〔2,2−ジクロロビニルジメチルホスフェ−ト〕、
スルプロホス〔O−エチル O−4−(メチルチオ)フ
ェニル S−プロピルホスホロジチオエ−ト〕、シアノ
ホス〔O−4−シアノフェニル O,O−ジメチルホス
ホロチオエ−ト〕、ジオキサベンゾホス〔2−メトキシ
−4H−1,3,2−ベンゾジオキサホスフィニン−2
−スルフィド〕、ジメトエ−ト〔O,O−ジメチル S
−(N−メチルカルバモイルメチル)ジチオホスフェ−
ト〕、フェントエ−ト〔エチル 2−ジメトキシホスフ
ィノチオイルチオ(フェニル)アセテ−ト〕、マラチオ
ン〔ジエチル(ジメトキシホスフィノチオイルチオ)サ
クシネ−ト〕、トリクロルホン〔ジメチル 2,2,2
−トリクロロ−1−ヒドロキシエチルホスホネ−ト〕、
アジンホスメチル〔S−3,4−ジヒドロ−4−オキソ
−1,2,3−ベンゾトリアジン−3−イルメチル
O,O−ジメチルホスホロジチオエ−ト〕、モノクロト
ホス〔ジメチル(E)−1−メチル−2−(メチルカル
バモイル)ビニルホスフェ−ト〕、エチオン〔O,O,
O’,O’−テトラエチル S,S’−メチレンビス
(ホスホロジチオエ−ト)〕、ホスチアゼ−ト〔N−
(O−メチル−S−sec−ブチル)ホスホリルチアゾリ
ジン−2−オン〕等の有機リン系化合物、BPMC〔2
−sec−ブチルフェニルメチルカルバメ−ト〕、ベンフ
ラカルブ〔エチル N−(2,3−ジヒドロ−2,2−
ジメチルベンゾフラン−7−イルオキシカルボニル(メ
チル)アミノチオ〕−N−イソプロピル−β−アラニネ
−ト〕、プロポキスル〔2−イソプロポキシフェニル
N−メチルカルバメ−ト〕、カルボスルファン〔2,3
−ジヒドロ−2,2−ジメチル−7−ベンゾ〔b〕フラ
ニル N−ジブチルアミノチオ−N−メチルカ−バメ−
ト〕、カルバリル〔1−ナフチル N−メチルカ−バメ
−ト〕、メソミル〔S−メチル−N−〔(メチルカルバ
モイル)オキシ〕チオアセトイミデ−ト〕、エチオフェ
ンカルブ〔2−(エチルチオメチル)フェニルメチルカ
−バメ−ト〕、アルジカルブ〔2−メチル−2−(メチ
ルチオ)プロピオンアルデヒド O−メチルカルバモイ
ルオキシム〕、オキサミル〔N,N−ジメチル−2−メ
チルカルバモイルオキシイミノ−2−(メチルチオ)ア
セタミド〕、フェノチオカルブ〔S−4−フェノキシブ
チル−N,N−ジメチルチオカ−バメ−ト等のカ−バメ
−ト系化合物、エトフェンプロックス〔2−(4−エト
キシフェニル)−2−メチルプロピル−3−フェノキシ
ベンジルエ−テル〕、フェンバレレ−ト〔(RS)−α
−シアノ−3−フェノキシベンジル (RS)−2−
(4−クロロフェニル)−3−メチルブチレ−ト〕、エ
スフェンバレレ−ト〔(S)−α−シアノ−3−フェノ
キシベンジル (S)−2−(4−クロロフェニル)−
3−メチルブチレ−ト〕、フェンプロパトリン〔(R
S)−α−シアノ−3−フェノキシベンジル 2,2,
3,3−テトラメチルシクロプロパンカルボキシレ−
ト〕、シペルメトリン〔(RS)−α−シアノ−3−フ
ェノキシベンジル (1RS,3RS)−3−(2,2
−ジクロロビニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボキシレ−ト〕、ペルメトリン〔3−フェノキシベ
ンジル(1RS,3RS)−3−(2,2−ジクロロビ
ニル)−2,2−メチルシクロプロパンカルボキシレ−
ト〕、シハロトリン〔(RS)−α−シアノ−3−フェ
ノキシベンジル (Z)−(1RS,3RS)−3−
(2−クロロ−3,3,3−トリフロオロプロペニル)
−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボキシレ−
ト〕、デルタメトリン〔(S)−α−シアノ−m−フェ
ノキシベンジル (1R,3R)−3−(2,2−ジブ
ロモビニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボ
キシレ−ト〕、シクロプロスリン〔(RS)−α−シア
ノ−3−フェノキシベンジル (RS)−2,2−ジク
ロロ−1−(4−エトキシフェニル)シクロプロパンカ
ルボキシレ−ト〕、フルバリネ−ト〔α−シアノ−3−
フェノキシベンジル N−(2−クロロ−α,α,α−
トリフルオロ−p−トリル)−D−バリネ−ト〕、ビフ
ェンスリン〔2−メチルビフェニル−3−イルメチル
(Z)−(1RS)−cis−3−(2−クロロ−3,
3,3−トリフルオロプロプ−1−エニル)−2,2−
ジメチルシクロプロパンカルボキシラ−ト〕、アクリナ
スリン〔(1R−{1α(S*),3α(Z)}〕−
2,2−ジメチル−3−〔3−オキソ−3−(2,2,
2−トリフルオロ−1−(トリフルオロメチル)エトキ
シ−1−プロペニル〕シクロプロパンカルボン酸シアノ
(3−フェノキシフェノル)メチルエステル)〕、2−
メチル−2−(4−ブロモジフルオロメトキシフェニ
ル)プロピル(3−フェノキシベンジル)エ−テル、ト
ラロメスリン〔(S)−α−シアノ−3−フェノキシベ
ンジル (1R)−シス−3−(1,2,2,2−テト
ラブロモエチル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカ
ルボキシレート〕、シラフルオフェン〔〔4−エトキシ
フェニル(3−(4−フルオロ−3−フェノキシフェニ
ル)プロピル)ジメチルシラン〕等のピレスロイド化合
物、ブプロフェジン(2−t−ブチルイミノ−3−イソ
プロピル−5−フェニル−1,3,5−トリアジアジナ
ン−4−オン)等のチアジアジン誘導体、ニトロイミダ
ゾリジン誘導体、カルタップ(S,S’−(2−ジメチ
ルアミノトリメチレン)ビス(チオカ−バメ−ト)〕、
チオシクラム〔N,N−ジメチル−1,2,3−トリチ
アン−5−イルアミン〕、ベンスルタップ〔S,S’−
2−ジメチルアミノトリメチレン ジ(ベンゼンチオサ
ルフォネ−ト)〕等のネライストキシン誘導体、N−シ
アノ−N’−メチル−N’−(6−クロロ−3−ピリジ
ルメチル)アセトアミジン等のN−シアノアミジン誘導
体、エンドスルファン〔6,7,8,9,10,10−
ヘキサクロロ−1,5,5a,6,9,9a−ヘキサヒ
ドロ−6,9−メタノ−2,4,3−ベンゾジオキサチ
エピンオキサイド〕、gamma−BHC(1,2,
3,4,5,6−ヘキサクロロシクロヘキサン〕、1,
1−ビス(クロロフェニル)−2,2,2−トリクロロ
エタノ−ル等の塩素化炭化水素化合物、クロルフルアズ
ロン〔1−(3,5−ジクロロ−4−(3−クロロ−5
−トリフルオロメチルピリジン−2−イルオキシ)フェ
ニル)−3−(2,6−ジフルオロベンゾイル)ウレ
ア〕、テフルベンズロン〔1−(3,5−ジクロロ−
2,4−ジフルオロフェニル)−3−(2,6−ジフル
オロベンゾイル)ウレア〕、フルフェノクスロン〔1−
(4−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノキ
シ)−2−フルオロフェニル)−3−(2,6−ジフル
オロベンゾイル)ウレア〕等のベンゾイルフェニルウレ
ア系化合物、アミトラズ〔N,N’〔(メチルイミノ)
ジメチリジン〕ジ−2,4−キシリジン〕、クロルジメ
ホルム〔N’−(4−クロロ−2−メチルフェニル)−
N,N−ジメチルメタニミダミド〕等のホルムアミジン
誘導体、ジアフェンチウロン〔N−(2,6−ジイソプ
ロピル−4−フェノキシフェニル)−N’−t−ブチル
カルボジイミド〕等のチオ尿素誘導体、フェニルピラゾ
−ル系化合物、テブフェノジド〔N−t−ブチル−N’
−(4−エチルベンゾイル)−3,5−ジメチルベンゾ
ヒドラジド〕、4−ブロモ−2−(4−クロロフェニ
ル)−1−エトキシメチル−5−トリフルオロメチルピ
ロ−ル−3−カルボニトリル、ブロモプロピレ−ト〔イ
ソプロピル 4,4’−ジブロモベンジレ−ト〕、テト
ラジホン〔4−クロロフェニル 2,4,5−トリクロ
ロフェニルスルホン〕、キノメチオネ−ト〔S,S−6
−メチルキノキサリン−2,3−ジイルジチオカルボネ
−ト〕、プロパルゲイト〔2−(4−t−ブチルフェノ
キシ)シクロヘキシル プロプ−2−イルスルファイ
ト〕、フェンブタティン オキシド〔ビス〔トリス(2
−メチル−2−フェニルプロピル)ティン〕オキシ
ド〕、ヘキシチアゾクス〔(4RS,5RS)−5−
(4−クロロフェニル)−N−クロロヘキシル−4−メ
チル−2−オキソ−1,3−チアゾリジン−3−カルボ
キサミド〕、クロフェンテジン〔3,6−ビス(2−ク
ロロフェニル)−1,2,4,5−テトラジン、ピリダ
チオベン〔2−t−ブチル−5−(4−t−ブチルベン
ジルチオ)−4−クロロピリダジン−3(2H)−オ
ン〕,フェンピロキシメ−ト〔t−ブチル(E)−4−
〔(1,3−ジメチル−5−フェノキシピラゾ−ル−4
−イル)メチレンアミノオキシメチル〕ベンゾエ−
ト〕、テブフェンピラド〔N−4−t−ブチルベンジ
ル)−4−クロロ−3−エチル−1−メチル−5−ピラ
ゾ−ルカルボキサミド〕、ポリナクチンコンプレックス
〔テトラナクチン、ジナクチン、トリナクチン〕、ミル
ベメクチン、アベルメクチン、イバ−メクチン、アザジ
ラクチン〔AZAD〕、ピリミジフェン〔5−クロロ−
N−〔2−{4−(2−エトキシエチル)−2,3−ジ
メチルフェノキシ}エチル〕−6−エチルピリミジン−
4−アミン、ピメトロジン〔2,3,4,5−テトラヒ
ドロ−3−オキソ−4−〔(ピリジン−3−イル)−メ
チレンアミノ〕−6−メチル−1,2,4−トリアジン
等があげられる。
ダニ剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤、肥料と混
用または併用することもできる。かかる殺虫剤及び/ま
たは殺ダニ剤及び/または殺線虫剤としては、例えばフ
ェニトロチオン〔O,O−ジメチル O−(3−メチル
−4−ニトロフェニル)ホスホロチオエ−ト〕、フェニ
チオン〔O,O−ジメチル O−(3−メチル−4−
(メチルチオ)フェニル)ホスホロチオエ−ト〕、ダイ
アジノン〔O,O−ジエチル O−2−イソプロピル−
6−メチルピリミジン−4−イルホスホロチオエ−
ト〕、クロルピリホス〔O,O−ジエチル O−3,
5,6−トリクロロ−2−ピリジルホスホロチオエ−
ト〕、アセフェ−ト〔O,S−ジメチルアセチルホスホ
ラミドチオエ−ト〕、メチダチオン〔S−2,3−ジヒ
ドロ−5−メトキシ−2−オキソ−1,3,4−チアジ
アゾ−ル−3−イルメチル O,O−ジメチルホスホロ
ジチオエ−ト〕、ジスルホトン〔O,O−ジエチル S
−2−エチルチオエチルホスホロチオエ−ト〕、DDV
P〔2,2−ジクロロビニルジメチルホスフェ−ト〕、
スルプロホス〔O−エチル O−4−(メチルチオ)フ
ェニル S−プロピルホスホロジチオエ−ト〕、シアノ
ホス〔O−4−シアノフェニル O,O−ジメチルホス
ホロチオエ−ト〕、ジオキサベンゾホス〔2−メトキシ
−4H−1,3,2−ベンゾジオキサホスフィニン−2
−スルフィド〕、ジメトエ−ト〔O,O−ジメチル S
−(N−メチルカルバモイルメチル)ジチオホスフェ−
ト〕、フェントエ−ト〔エチル 2−ジメトキシホスフ
ィノチオイルチオ(フェニル)アセテ−ト〕、マラチオ
ン〔ジエチル(ジメトキシホスフィノチオイルチオ)サ
クシネ−ト〕、トリクロルホン〔ジメチル 2,2,2
−トリクロロ−1−ヒドロキシエチルホスホネ−ト〕、
アジンホスメチル〔S−3,4−ジヒドロ−4−オキソ
−1,2,3−ベンゾトリアジン−3−イルメチル
O,O−ジメチルホスホロジチオエ−ト〕、モノクロト
ホス〔ジメチル(E)−1−メチル−2−(メチルカル
バモイル)ビニルホスフェ−ト〕、エチオン〔O,O,
O’,O’−テトラエチル S,S’−メチレンビス
(ホスホロジチオエ−ト)〕、ホスチアゼ−ト〔N−
(O−メチル−S−sec−ブチル)ホスホリルチアゾリ
ジン−2−オン〕等の有機リン系化合物、BPMC〔2
−sec−ブチルフェニルメチルカルバメ−ト〕、ベンフ
ラカルブ〔エチル N−(2,3−ジヒドロ−2,2−
ジメチルベンゾフラン−7−イルオキシカルボニル(メ
チル)アミノチオ〕−N−イソプロピル−β−アラニネ
−ト〕、プロポキスル〔2−イソプロポキシフェニル
N−メチルカルバメ−ト〕、カルボスルファン〔2,3
−ジヒドロ−2,2−ジメチル−7−ベンゾ〔b〕フラ
ニル N−ジブチルアミノチオ−N−メチルカ−バメ−
ト〕、カルバリル〔1−ナフチル N−メチルカ−バメ
−ト〕、メソミル〔S−メチル−N−〔(メチルカルバ
モイル)オキシ〕チオアセトイミデ−ト〕、エチオフェ
ンカルブ〔2−(エチルチオメチル)フェニルメチルカ
−バメ−ト〕、アルジカルブ〔2−メチル−2−(メチ
ルチオ)プロピオンアルデヒド O−メチルカルバモイ
ルオキシム〕、オキサミル〔N,N−ジメチル−2−メ
チルカルバモイルオキシイミノ−2−(メチルチオ)ア
セタミド〕、フェノチオカルブ〔S−4−フェノキシブ
チル−N,N−ジメチルチオカ−バメ−ト等のカ−バメ
−ト系化合物、エトフェンプロックス〔2−(4−エト
キシフェニル)−2−メチルプロピル−3−フェノキシ
ベンジルエ−テル〕、フェンバレレ−ト〔(RS)−α
−シアノ−3−フェノキシベンジル (RS)−2−
(4−クロロフェニル)−3−メチルブチレ−ト〕、エ
スフェンバレレ−ト〔(S)−α−シアノ−3−フェノ
キシベンジル (S)−2−(4−クロロフェニル)−
3−メチルブチレ−ト〕、フェンプロパトリン〔(R
S)−α−シアノ−3−フェノキシベンジル 2,2,
3,3−テトラメチルシクロプロパンカルボキシレ−
ト〕、シペルメトリン〔(RS)−α−シアノ−3−フ
ェノキシベンジル (1RS,3RS)−3−(2,2
−ジクロロビニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボキシレ−ト〕、ペルメトリン〔3−フェノキシベ
ンジル(1RS,3RS)−3−(2,2−ジクロロビ
ニル)−2,2−メチルシクロプロパンカルボキシレ−
ト〕、シハロトリン〔(RS)−α−シアノ−3−フェ
ノキシベンジル (Z)−(1RS,3RS)−3−
(2−クロロ−3,3,3−トリフロオロプロペニル)
−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボキシレ−
ト〕、デルタメトリン〔(S)−α−シアノ−m−フェ
ノキシベンジル (1R,3R)−3−(2,2−ジブ
ロモビニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボ
キシレ−ト〕、シクロプロスリン〔(RS)−α−シア
ノ−3−フェノキシベンジル (RS)−2,2−ジク
ロロ−1−(4−エトキシフェニル)シクロプロパンカ
ルボキシレ−ト〕、フルバリネ−ト〔α−シアノ−3−
フェノキシベンジル N−(2−クロロ−α,α,α−
トリフルオロ−p−トリル)−D−バリネ−ト〕、ビフ
ェンスリン〔2−メチルビフェニル−3−イルメチル
(Z)−(1RS)−cis−3−(2−クロロ−3,
3,3−トリフルオロプロプ−1−エニル)−2,2−
ジメチルシクロプロパンカルボキシラ−ト〕、アクリナ
スリン〔(1R−{1α(S*),3α(Z)}〕−
2,2−ジメチル−3−〔3−オキソ−3−(2,2,
2−トリフルオロ−1−(トリフルオロメチル)エトキ
シ−1−プロペニル〕シクロプロパンカルボン酸シアノ
(3−フェノキシフェノル)メチルエステル)〕、2−
メチル−2−(4−ブロモジフルオロメトキシフェニ
ル)プロピル(3−フェノキシベンジル)エ−テル、ト
ラロメスリン〔(S)−α−シアノ−3−フェノキシベ
ンジル (1R)−シス−3−(1,2,2,2−テト
ラブロモエチル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカ
ルボキシレート〕、シラフルオフェン〔〔4−エトキシ
フェニル(3−(4−フルオロ−3−フェノキシフェニ
ル)プロピル)ジメチルシラン〕等のピレスロイド化合
物、ブプロフェジン(2−t−ブチルイミノ−3−イソ
プロピル−5−フェニル−1,3,5−トリアジアジナ
ン−4−オン)等のチアジアジン誘導体、ニトロイミダ
ゾリジン誘導体、カルタップ(S,S’−(2−ジメチ
ルアミノトリメチレン)ビス(チオカ−バメ−ト)〕、
チオシクラム〔N,N−ジメチル−1,2,3−トリチ
アン−5−イルアミン〕、ベンスルタップ〔S,S’−
2−ジメチルアミノトリメチレン ジ(ベンゼンチオサ
ルフォネ−ト)〕等のネライストキシン誘導体、N−シ
アノ−N’−メチル−N’−(6−クロロ−3−ピリジ
ルメチル)アセトアミジン等のN−シアノアミジン誘導
体、エンドスルファン〔6,7,8,9,10,10−
ヘキサクロロ−1,5,5a,6,9,9a−ヘキサヒ
ドロ−6,9−メタノ−2,4,3−ベンゾジオキサチ
エピンオキサイド〕、gamma−BHC(1,2,
3,4,5,6−ヘキサクロロシクロヘキサン〕、1,
1−ビス(クロロフェニル)−2,2,2−トリクロロ
エタノ−ル等の塩素化炭化水素化合物、クロルフルアズ
ロン〔1−(3,5−ジクロロ−4−(3−クロロ−5
−トリフルオロメチルピリジン−2−イルオキシ)フェ
ニル)−3−(2,6−ジフルオロベンゾイル)ウレ
ア〕、テフルベンズロン〔1−(3,5−ジクロロ−
2,4−ジフルオロフェニル)−3−(2,6−ジフル
オロベンゾイル)ウレア〕、フルフェノクスロン〔1−
(4−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノキ
シ)−2−フルオロフェニル)−3−(2,6−ジフル
オロベンゾイル)ウレア〕等のベンゾイルフェニルウレ
ア系化合物、アミトラズ〔N,N’〔(メチルイミノ)
ジメチリジン〕ジ−2,4−キシリジン〕、クロルジメ
ホルム〔N’−(4−クロロ−2−メチルフェニル)−
N,N−ジメチルメタニミダミド〕等のホルムアミジン
誘導体、ジアフェンチウロン〔N−(2,6−ジイソプ
ロピル−4−フェノキシフェニル)−N’−t−ブチル
カルボジイミド〕等のチオ尿素誘導体、フェニルピラゾ
−ル系化合物、テブフェノジド〔N−t−ブチル−N’
−(4−エチルベンゾイル)−3,5−ジメチルベンゾ
ヒドラジド〕、4−ブロモ−2−(4−クロロフェニ
ル)−1−エトキシメチル−5−トリフルオロメチルピ
ロ−ル−3−カルボニトリル、ブロモプロピレ−ト〔イ
ソプロピル 4,4’−ジブロモベンジレ−ト〕、テト
ラジホン〔4−クロロフェニル 2,4,5−トリクロ
ロフェニルスルホン〕、キノメチオネ−ト〔S,S−6
−メチルキノキサリン−2,3−ジイルジチオカルボネ
−ト〕、プロパルゲイト〔2−(4−t−ブチルフェノ
キシ)シクロヘキシル プロプ−2−イルスルファイ
ト〕、フェンブタティン オキシド〔ビス〔トリス(2
−メチル−2−フェニルプロピル)ティン〕オキシ
ド〕、ヘキシチアゾクス〔(4RS,5RS)−5−
(4−クロロフェニル)−N−クロロヘキシル−4−メ
チル−2−オキソ−1,3−チアゾリジン−3−カルボ
キサミド〕、クロフェンテジン〔3,6−ビス(2−ク
ロロフェニル)−1,2,4,5−テトラジン、ピリダ
チオベン〔2−t−ブチル−5−(4−t−ブチルベン
ジルチオ)−4−クロロピリダジン−3(2H)−オ
ン〕,フェンピロキシメ−ト〔t−ブチル(E)−4−
〔(1,3−ジメチル−5−フェノキシピラゾ−ル−4
−イル)メチレンアミノオキシメチル〕ベンゾエ−
ト〕、テブフェンピラド〔N−4−t−ブチルベンジ
ル)−4−クロロ−3−エチル−1−メチル−5−ピラ
ゾ−ルカルボキサミド〕、ポリナクチンコンプレックス
〔テトラナクチン、ジナクチン、トリナクチン〕、ミル
ベメクチン、アベルメクチン、イバ−メクチン、アザジ
ラクチン〔AZAD〕、ピリミジフェン〔5−クロロ−
N−〔2−{4−(2−エトキシエチル)−2,3−ジ
メチルフェノキシ}エチル〕−6−エチルピリミジン−
4−アミン、ピメトロジン〔2,3,4,5−テトラヒ
ドロ−3−オキソ−4−〔(ピリジン−3−イル)−メ
チレンアミノ〕−6−メチル−1,2,4−トリアジン
等があげられる。
【0031】本発明化合物により防除することができる
植物病害としては例えば以下のような病害をあげること
ができる。イネのいもち病(Pyricularia oryzae)、ご
ま葉枯病(Cochliobolus miyabeanus)、紋枯病(Rhizoc
tonia solani)、ムギ類のうどんこ病(Erysiphe grami
nis)、赤かび病(Gibberella zeae)、さび病(Puccinia
striiformis, P. graminis, P. recondita, P. horde
i)、雪腐病(Typhula sp.,Micronectriella nivalis)、
裸黒穂病 (Ustilago tritici, U.nuda)、なまぐさ黒穂
病 (Tilletia caries)、眼紋病(Pseudocercosporella
herpotrichoides)、雲形病(Rhynchosporium secalis)
、葉枯病(Septoria tritici)、ふ枯病(Leptosphaer
ia nodorum)、カンキツ類の黒点病(Diaporthe citr
i)、そうか病(Elsinoe fawcetti) 、果実腐敗病 (Peni
cillium digitatum, P. italicum) 、リンゴのモニリア
病 (Sclerotinia mali) 、腐らん病 (Valsa mali) 、う
どんこ病(Podosphaera leucotricha)、斑点落葉病(Al
ternaria mali)、黒星病(Venturia inaequalis)、ナシ
の黒星病(Venturia nashicola, V. pirina)、黒斑病
(Alternaria kikuchiana)、赤星病(Gymnosporangium
haraeanum)、モモの灰星病(Sclerotinia cinerea)、黒
星病(Cladosporium carpophilum)、フォモプシス腐敗
病(Phomopsis sp.)、ブドウの黒とう病(Elsinoe ampe
lina) 、晩腐病(Glomerella cingulata) 、うどんこ病
(Uncinula necator) 、さび病 (Phakopsora ampelopsi
dis)、ブラックロット病(Guignardia bidwellii) 、べ
と病(Plasmopara viticola)、カキの炭そ病(Gloeospo
rium kaki)、落葉病 (Cercospora kaki, Mycosphaerell
a nawae)、ウリ類の炭そ病(Colletotrichum lagenariu
m)、うどんこ病(Sphaerotheca fuliginea) 、つる枯病
(Mycosphaerella melonis) 、つる割病 (Fusarium oxy
sporum) 、べと病 (Pseudoperonospora cubensis) 、疫
病(Phytophthora sp.) 、苗立枯病 (Pythium sp.)、ト
マトの輪紋病(Alternaria solani)、葉かび病 (Clados
porium fulvum)、疫病(Phytophthora infestans) 、ナ
スの褐紋病(Phomopsis vexans) 、うどんこ病(Erysip
he cichoracearum)、アブラナ科野菜の黒斑病(Alterna
ria japonica)、白斑病(Cercosporella brassicae)、
ネギのさび病(Puccinia allii) 、ダイズの紫斑病(Ce
rcospora kikuchii)、黒とう病(Elsinoe glycines) 、
黒点病 (Diaporthe phaseolorum var. sojae)、インゲ
ンの炭そ病(Colletotrichum lindemthianum) 、ラッカ
セイの黒渋病(Cercospora personata)、褐斑病(Cerco
spora arachidicola)、エンドウのうどんこ病(Erysiph
e pisi)、ジャガイモの夏疫病(Alternaria solani)、
疫病(Phytophthora infestans) 、イチゴのうどんこ病
(Sphaerotheca humuli)、チャの網もち病(Exobasidiu
m reticulatum)、白星病(Elsinoe leucospila) 、タバ
コの赤星病(Alternaria longipes)、うどんこ病(Erys
iphe cichoracearum) 、炭そ病(Colletotrichum tabac
um) 、べと病(Peronospora tabacina) 、疫病(Phytop
hthora nicotianae)、テンサイの褐斑病(Cercospora b
eticola)、バラの黒星病(Diplocarpon rosae)、うどん
こ病(Sphaerotheca pannosa) 、キクの褐班病 (Septor
ia chrysanthemi−indici) 、白さび病(Puccinia hori
ana) 、種々の作物の灰色かび病(Botrytis cinerea)
、菌核病(Sclerotinia sclerotiorum) 等
植物病害としては例えば以下のような病害をあげること
ができる。イネのいもち病(Pyricularia oryzae)、ご
ま葉枯病(Cochliobolus miyabeanus)、紋枯病(Rhizoc
tonia solani)、ムギ類のうどんこ病(Erysiphe grami
nis)、赤かび病(Gibberella zeae)、さび病(Puccinia
striiformis, P. graminis, P. recondita, P. horde
i)、雪腐病(Typhula sp.,Micronectriella nivalis)、
裸黒穂病 (Ustilago tritici, U.nuda)、なまぐさ黒穂
病 (Tilletia caries)、眼紋病(Pseudocercosporella
herpotrichoides)、雲形病(Rhynchosporium secalis)
、葉枯病(Septoria tritici)、ふ枯病(Leptosphaer
ia nodorum)、カンキツ類の黒点病(Diaporthe citr
i)、そうか病(Elsinoe fawcetti) 、果実腐敗病 (Peni
cillium digitatum, P. italicum) 、リンゴのモニリア
病 (Sclerotinia mali) 、腐らん病 (Valsa mali) 、う
どんこ病(Podosphaera leucotricha)、斑点落葉病(Al
ternaria mali)、黒星病(Venturia inaequalis)、ナシ
の黒星病(Venturia nashicola, V. pirina)、黒斑病
(Alternaria kikuchiana)、赤星病(Gymnosporangium
haraeanum)、モモの灰星病(Sclerotinia cinerea)、黒
星病(Cladosporium carpophilum)、フォモプシス腐敗
病(Phomopsis sp.)、ブドウの黒とう病(Elsinoe ampe
lina) 、晩腐病(Glomerella cingulata) 、うどんこ病
(Uncinula necator) 、さび病 (Phakopsora ampelopsi
dis)、ブラックロット病(Guignardia bidwellii) 、べ
と病(Plasmopara viticola)、カキの炭そ病(Gloeospo
rium kaki)、落葉病 (Cercospora kaki, Mycosphaerell
a nawae)、ウリ類の炭そ病(Colletotrichum lagenariu
m)、うどんこ病(Sphaerotheca fuliginea) 、つる枯病
(Mycosphaerella melonis) 、つる割病 (Fusarium oxy
sporum) 、べと病 (Pseudoperonospora cubensis) 、疫
病(Phytophthora sp.) 、苗立枯病 (Pythium sp.)、ト
マトの輪紋病(Alternaria solani)、葉かび病 (Clados
porium fulvum)、疫病(Phytophthora infestans) 、ナ
スの褐紋病(Phomopsis vexans) 、うどんこ病(Erysip
he cichoracearum)、アブラナ科野菜の黒斑病(Alterna
ria japonica)、白斑病(Cercosporella brassicae)、
ネギのさび病(Puccinia allii) 、ダイズの紫斑病(Ce
rcospora kikuchii)、黒とう病(Elsinoe glycines) 、
黒点病 (Diaporthe phaseolorum var. sojae)、インゲ
ンの炭そ病(Colletotrichum lindemthianum) 、ラッカ
セイの黒渋病(Cercospora personata)、褐斑病(Cerco
spora arachidicola)、エンドウのうどんこ病(Erysiph
e pisi)、ジャガイモの夏疫病(Alternaria solani)、
疫病(Phytophthora infestans) 、イチゴのうどんこ病
(Sphaerotheca humuli)、チャの網もち病(Exobasidiu
m reticulatum)、白星病(Elsinoe leucospila) 、タバ
コの赤星病(Alternaria longipes)、うどんこ病(Erys
iphe cichoracearum) 、炭そ病(Colletotrichum tabac
um) 、べと病(Peronospora tabacina) 、疫病(Phytop
hthora nicotianae)、テンサイの褐斑病(Cercospora b
eticola)、バラの黒星病(Diplocarpon rosae)、うどん
こ病(Sphaerotheca pannosa) 、キクの褐班病 (Septor
ia chrysanthemi−indici) 、白さび病(Puccinia hori
ana) 、種々の作物の灰色かび病(Botrytis cinerea)
、菌核病(Sclerotinia sclerotiorum) 等
【0032】
【実施例】以下、本発明を製造例、製剤例及び試験例等
によりさらに詳しく説明するが、本発明は、これらの例
のみに限定されるものではない。まず、本発明化合物の
製造例および本発明化合物の製造中間体の製造例を、製
造例および参考製造例にて示す。尚、本発明化合物の番
号は後記表1〜表12に記載の化合物番号である。
によりさらに詳しく説明するが、本発明は、これらの例
のみに限定されるものではない。まず、本発明化合物の
製造例および本発明化合物の製造中間体の製造例を、製
造例および参考製造例にて示す。尚、本発明化合物の番
号は後記表1〜表12に記載の化合物番号である。
【0033】製造例1 メチル 2−(5−ヨード−2−メチルフェノキシ)−
3−メトキシ−2−プロペノエート300mg(0.8
62mmol)、フェニルボロン酸126mg(1.0
3mmol)、臭化テトラ−n−ブチルアンモニウム2
78mg(0.862mmol)、炭酸カリウム276
mg(2.15mmol)、酢酸パラジウム(II)1
9.3mg(0.086mmol)および水3mlを混
合し、70℃にて1時間攪拌した。混合物を室温まで冷
却後、t−ブチルメチルエーテルで希釈、水洗、乾燥
(硫酸ナトリウム)した後、減圧下において濃縮した。
析出した結晶をn−ヘキサンで洗浄し、メチル 3−メ
トキシ−2−(2−メチル−5−フェニルフェノキシ)
−2−プロペノエート(本発明化合物1−1)350m
gを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):6.92−7.52(9H,m)、3.88
(3H,s)、3.71(3H,s)、2.39(3
H,s)
3−メトキシ−2−プロペノエート300mg(0.8
62mmol)、フェニルボロン酸126mg(1.0
3mmol)、臭化テトラ−n−ブチルアンモニウム2
78mg(0.862mmol)、炭酸カリウム276
mg(2.15mmol)、酢酸パラジウム(II)1
9.3mg(0.086mmol)および水3mlを混
合し、70℃にて1時間攪拌した。混合物を室温まで冷
却後、t−ブチルメチルエーテルで希釈、水洗、乾燥
(硫酸ナトリウム)した後、減圧下において濃縮した。
析出した結晶をn−ヘキサンで洗浄し、メチル 3−メ
トキシ−2−(2−メチル−5−フェニルフェノキシ)
−2−プロペノエート(本発明化合物1−1)350m
gを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):6.92−7.52(9H,m)、3.88
(3H,s)、3.71(3H,s)、2.39(3
H,s)
【0034】製造例2 メチル 2−(5−ヨード−2−メチルフェノキシ)−
3−メトキシ−2−プロペノエート300mg(0.8
62mmol)、3−フェニルフェニルボロン酸205
mg(1.03mmol)、臭化テトラ−n−ブチルア
ンモニウム278mg(0.862mmol)、炭酸カ
リウム276mg(2.15mmol)、酢酸パラジウ
ム(II)19.3mg(0.086mmol)および
水3mlを混合後、70℃にて1時間攪拌した。混合物
を室温まで冷却後、酢酸エチルで希釈、水洗、乾燥(硫
酸ナトリウム)した後、減圧下において濃縮した。析出
した結晶をn−ヘキサンで洗浄し、メチル 3−メトキ
シ−2−{2−メチル−5−(3−フェニルフェニル)
フェノキシ}−2−プロペノエート(本発明化合物1−
23)234mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):6.50−7.49(13H,m)、3.88
(3H,s)、3.71(3H,s)、2.40(3
H,s)
3−メトキシ−2−プロペノエート300mg(0.8
62mmol)、3−フェニルフェニルボロン酸205
mg(1.03mmol)、臭化テトラ−n−ブチルア
ンモニウム278mg(0.862mmol)、炭酸カ
リウム276mg(2.15mmol)、酢酸パラジウ
ム(II)19.3mg(0.086mmol)および
水3mlを混合後、70℃にて1時間攪拌した。混合物
を室温まで冷却後、酢酸エチルで希釈、水洗、乾燥(硫
酸ナトリウム)した後、減圧下において濃縮した。析出
した結晶をn−ヘキサンで洗浄し、メチル 3−メトキ
シ−2−{2−メチル−5−(3−フェニルフェニル)
フェノキシ}−2−プロペノエート(本発明化合物1−
23)234mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):6.50−7.49(13H,m)、3.88
(3H,s)、3.71(3H,s)、2.40(3
H,s)
【0035】製造例3 メチル 2−(5−ヨード−2−メチルフェノキシ)−
3−メトキシ−2−プロペノエート300mg(0.8
62mmol)、4−フルオロフェニルボロン酸180
mg(1.29mmol)、臭化テトラ−n−ブチルア
ンモニウム416mg(1.29mmol)、炭酸カリ
ウム298mg(2.15mmol)、酢酸パラジウム
(II)38.7mg(0.172mmol)および水
3mlを混合後、70℃にて30分攪拌した。混合物を
室温まで冷却後、t−ブチルメチルエーテルで希釈、水
洗、乾燥(硫酸ナトリウム)した後、減圧下において濃
縮した。析出した結晶をn−ヘキサンで洗浄し、メチル
3−メトキシ−2−{2−メチル−5−(4−フルオ
ロフェニル)フェノキシ}−2−プロペノエート(本発
明化合物1−36)187mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.42−7.47(2H,m)、7.31
(1H,s)、7.19(1H,m)、7.05〜7.
11(3H,m)、6.86(1H,d,J=1.7H
z)、3.88(3H,s)、3.71(3H,s)、
2.38(3H,s)
3−メトキシ−2−プロペノエート300mg(0.8
62mmol)、4−フルオロフェニルボロン酸180
mg(1.29mmol)、臭化テトラ−n−ブチルア
ンモニウム416mg(1.29mmol)、炭酸カリ
ウム298mg(2.15mmol)、酢酸パラジウム
(II)38.7mg(0.172mmol)および水
3mlを混合後、70℃にて30分攪拌した。混合物を
室温まで冷却後、t−ブチルメチルエーテルで希釈、水
洗、乾燥(硫酸ナトリウム)した後、減圧下において濃
縮した。析出した結晶をn−ヘキサンで洗浄し、メチル
3−メトキシ−2−{2−メチル−5−(4−フルオ
ロフェニル)フェノキシ}−2−プロペノエート(本発
明化合物1−36)187mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.42−7.47(2H,m)、7.31
(1H,s)、7.19(1H,m)、7.05〜7.
11(3H,m)、6.86(1H,d,J=1.7H
z)、3.88(3H,s)、3.71(3H,s)、
2.38(3H,s)
【0036】製造例4 メチル 2−(5−ヨード−2−メチルフェノキシ)−
3−メトキシ−2−プロペノエート300mg(0.8
62mmol)、4−メチルフェニルボロン酸177m
g(1.30mmol)、臭化テトラ−n−ブチルアン
モニウム416mg(1.29mmol)、炭酸カリウ
ム298mg(2.15mmol)、酢酸パラジウム
(II)38.7mg(0.17mmol)および水3
mlを混合後、70℃にて1時間攪拌した。混合物を室
温まで冷却後、酢酸エチルで希釈、水洗、乾燥(硫酸ナ
トリウム)した後、減圧下において濃縮した。析出した
結晶をn−ヘキサンで洗浄し、メチル 3−メトキシ−
2−{2−メチル−5−(4−メチルフェニル)フェノ
キシ}−2−プロペノエート(本発明化合物1−40)
206mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.40(2H,d,J=1.7Hz)、
7.33(1H,s)、7.19−7.22(3H,
m)、7.12(1H,m)、6.91(1H,d,J
=1.42Hz)、3.87(3H,s)、3.71
(3H,s)、2.38(6H,s)
3−メトキシ−2−プロペノエート300mg(0.8
62mmol)、4−メチルフェニルボロン酸177m
g(1.30mmol)、臭化テトラ−n−ブチルアン
モニウム416mg(1.29mmol)、炭酸カリウ
ム298mg(2.15mmol)、酢酸パラジウム
(II)38.7mg(0.17mmol)および水3
mlを混合後、70℃にて1時間攪拌した。混合物を室
温まで冷却後、酢酸エチルで希釈、水洗、乾燥(硫酸ナ
トリウム)した後、減圧下において濃縮した。析出した
結晶をn−ヘキサンで洗浄し、メチル 3−メトキシ−
2−{2−メチル−5−(4−メチルフェニル)フェノ
キシ}−2−プロペノエート(本発明化合物1−40)
206mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.40(2H,d,J=1.7Hz)、
7.33(1H,s)、7.19−7.22(3H,
m)、7.12(1H,m)、6.91(1H,d,J
=1.42Hz)、3.87(3H,s)、3.71
(3H,s)、2.38(6H,s)
【0037】製造例5 メチル 2−(5−ブロム−2−メチルフェノキシ)−
3−メトキシ−2−プロペノエート300mg(0.9
46mmol)、3,5−ジフルオロフェニルボロン酸
194mg(1.23mmol)、臭化テトラ−n−ブ
チルアンモニウム360mg(1.12mmol)、炭
酸カリウム327mg(2.37mmol)、酢酸パラ
ジウム(II)21mg(0.094mmol)および
水3mlを混合した。混合物を80℃にて5時間攪拌
し、室温まで冷却後、酢酸エチルとセライトを加え、濾
過した。該ろ液を水洗、乾燥(硫酸ナトリウム)した
後、減圧下において濃縮した。残渣をシリカゲル分取薄
層クロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=
2:1で展開)に付し、メチル 2−{2−メチル−5
−(3,5−ジフルオロフェニル)フェノキシ}−3−
メトキシ−2−プロペノエート(本発明化合物1−1
1)141mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.36(1H,s)、7.22〜7.33
(1H,m)、7.09(1H,dd,J=7.8,
1.9Hz)、6.99〜7.02(2H,m)、6.
86(1H,d,J=1.5Hz)、6.72〜6.7
5(1H,m)、3.90(3H,s)、3.72(3
H,s)、2.39(3H,s)
3−メトキシ−2−プロペノエート300mg(0.9
46mmol)、3,5−ジフルオロフェニルボロン酸
194mg(1.23mmol)、臭化テトラ−n−ブ
チルアンモニウム360mg(1.12mmol)、炭
酸カリウム327mg(2.37mmol)、酢酸パラ
ジウム(II)21mg(0.094mmol)および
水3mlを混合した。混合物を80℃にて5時間攪拌
し、室温まで冷却後、酢酸エチルとセライトを加え、濾
過した。該ろ液を水洗、乾燥(硫酸ナトリウム)した
後、減圧下において濃縮した。残渣をシリカゲル分取薄
層クロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=
2:1で展開)に付し、メチル 2−{2−メチル−5
−(3,5−ジフルオロフェニル)フェノキシ}−3−
メトキシ−2−プロペノエート(本発明化合物1−1
1)141mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.36(1H,s)、7.22〜7.33
(1H,m)、7.09(1H,dd,J=7.8,
1.9Hz)、6.99〜7.02(2H,m)、6.
86(1H,d,J=1.5Hz)、6.72〜6.7
5(1H,m)、3.90(3H,s)、3.72(3
H,s)、2.39(3H,s)
【0038】製造例6 メチル 2−(5−ブロム−2−メチルフェノキシ)−
3−メトキシ−2−プロペノエート300mg(0.9
46mmol)、3−トリフルオロメチルフェニルボロ
ン酸224mg(1.18mmol)、臭化テトラ−n
−ブチルアンモニウム360mg(1.12mmo
l)、炭酸カリウム327mg(2.37mmol)、
酢酸パラジウム(II)21mg(0.094mmo
l)および水3mlを混合後、80℃にて6時間攪拌し
た。混合物を室温まで冷却後、酢酸エチルとセライトを
加え、濾過した。該ろ液を水洗、乾燥(硫酸ナトリウ
ム)した後、減圧下において濃縮した。析出した結晶を
n−ヘキサンで洗浄し、メチル 2−{2−メチル−5
−(3−トリフルオロメチルフェニル)フェノキシ}−
3−メトキシ−2−プロペノエート(本発明化合物1−
13)182mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.51〜7.73(4H,m)、7.36
(1H,s)、7.24〜7.26(1H,m)、7.
13(1H,dd,J=7.6,1.8Hz)、6.9
0(1H,d,J=1.8Hz)、3.90(3H,
s)、3.72(3H,s)、2.40(3H,s)
3−メトキシ−2−プロペノエート300mg(0.9
46mmol)、3−トリフルオロメチルフェニルボロ
ン酸224mg(1.18mmol)、臭化テトラ−n
−ブチルアンモニウム360mg(1.12mmo
l)、炭酸カリウム327mg(2.37mmol)、
酢酸パラジウム(II)21mg(0.094mmo
l)および水3mlを混合後、80℃にて6時間攪拌し
た。混合物を室温まで冷却後、酢酸エチルとセライトを
加え、濾過した。該ろ液を水洗、乾燥(硫酸ナトリウ
ム)した後、減圧下において濃縮した。析出した結晶を
n−ヘキサンで洗浄し、メチル 2−{2−メチル−5
−(3−トリフルオロメチルフェニル)フェノキシ}−
3−メトキシ−2−プロペノエート(本発明化合物1−
13)182mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.51〜7.73(4H,m)、7.36
(1H,s)、7.24〜7.26(1H,m)、7.
13(1H,dd,J=7.6,1.8Hz)、6.9
0(1H,d,J=1.8Hz)、3.90(3H,
s)、3.72(3H,s)、2.40(3H,s)
【0039】製造例7 製造例6と同様の方法で下記の目的物を得た。 メチル 2−{2−メチル−5−(3−フルオロフェニ
ル)フェノキシ}−3−メトキシ−2−プロペノエート
(本発明化合物1−2)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):6.8−7.4(8H,m)、3.89(3
H,s)、3.72(3H,s)、2.39(3H,
s)
ル)フェノキシ}−3−メトキシ−2−プロペノエート
(本発明化合物1−2)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):6.8−7.4(8H,m)、3.89(3
H,s)、3.72(3H,s)、2.39(3H,
s)
【0040】製造例8 メチル 3−メトキシ−2−(2−メチル−5−ブロム
−ベンジル)アクリル酸421mg(1.42mmo
l)、フェニルボロン酸225mg(1.85mmo
l)、燐酸三カリウム水和物1.5g(7.1mmo
l)、{1,1’−ビス(ジフェニルフォスフィノ)フ
ェロセン}ジクロロパラジウム(II)塩化メチレン錯
体58mg(0.071mmol)、酢酸パラジウム
(II)16mg(0.071mmol)およびエチレ
ングリコ−ルジメチルエ−テル6mlを混合後、83℃
にて1時間攪拌した。混合物を室温まで冷却し、酢酸エ
チルおよびセライトを加え、濾過した。該ろ液を減圧下
において溶媒を留去し、残渣をシリカゲル分取薄層クロ
マトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=2:1で
展開)に付し、メチル 3−メトキシ−2−(2−メチ
ル−5−フェニルベンジル)アクリル酸(本発明化合物
2−1)410mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.2−7.6(9H,m)、3.85(3
H,s)、3.67(3H,s)、3.61(2H,
s)、2.39(3H,s)
−ベンジル)アクリル酸421mg(1.42mmo
l)、フェニルボロン酸225mg(1.85mmo
l)、燐酸三カリウム水和物1.5g(7.1mmo
l)、{1,1’−ビス(ジフェニルフォスフィノ)フ
ェロセン}ジクロロパラジウム(II)塩化メチレン錯
体58mg(0.071mmol)、酢酸パラジウム
(II)16mg(0.071mmol)およびエチレ
ングリコ−ルジメチルエ−テル6mlを混合後、83℃
にて1時間攪拌した。混合物を室温まで冷却し、酢酸エ
チルおよびセライトを加え、濾過した。該ろ液を減圧下
において溶媒を留去し、残渣をシリカゲル分取薄層クロ
マトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=2:1で
展開)に付し、メチル 3−メトキシ−2−(2−メチ
ル−5−フェニルベンジル)アクリル酸(本発明化合物
2−1)410mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.2−7.6(9H,m)、3.85(3
H,s)、3.67(3H,s)、3.61(2H,
s)、2.39(3H,s)
【0041】製造例9 メチル 2−(5−ヨード−2−メチルフェノキシ)−
3−メトキシ−2−プロペノエート200mg(0.5
74mmol)、4,4,5,5−テトラメチル−2−
{3−(4−ピリミジル)}フェニル−1,3,2−ジ
オキソボロラン162mg(0.574mmol)、燐
酸3カリウム水和物610mg(2.87mmol)、
{1,1’−ビス(ジフェニルフォスフィノ)フェロセ
ン}ジクロロパラジウム(II)塩化メチレン錯体23
mg(0.03mmol)、酢酸パラジウム(II)6
mg(0.03mmol)およびエチレングリコ−ルジ
メチルエ−テル3mlを混合後、83℃にて1.5時間
攪拌した。混合物を室温まで冷却後、飽和食塩水を加
え、酢酸エチルにて抽出した。該有機層を乾燥(硫酸ナ
トリウム)した後、減圧下において濃縮した。残渣をシ
リカゲル分取薄層クロマトグラフィー(n−ヘキサン:
酢酸エチル=1:1で展開)に付し、メチル 3−メト
キシ−2−[2−メチル−5−{3−(4−ピリミジニ
ル)フェニル}フェノキシ]−2−プロペノエート(本
発明化合物1−32)128mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):9.28(1H,s)、8.78(1H,
d,J=5.1Hz)、8.23(1H,t,J=1.
9Hz)、8.2(1H,m)、7.74(1H,dd,
J=5.0Hz,J=1.3Hz)、7.62(1H,
m)、7.54(1H,t,J=7.7Hz)、7.34
(1H,s)、7.21−7.25(2H,m)、6.
97(1H,d,J=1.7Hz)、3.89(3H,
s)、3.72(3H,s)、2.41(3H,s)
3−メトキシ−2−プロペノエート200mg(0.5
74mmol)、4,4,5,5−テトラメチル−2−
{3−(4−ピリミジル)}フェニル−1,3,2−ジ
オキソボロラン162mg(0.574mmol)、燐
酸3カリウム水和物610mg(2.87mmol)、
{1,1’−ビス(ジフェニルフォスフィノ)フェロセ
ン}ジクロロパラジウム(II)塩化メチレン錯体23
mg(0.03mmol)、酢酸パラジウム(II)6
mg(0.03mmol)およびエチレングリコ−ルジ
メチルエ−テル3mlを混合後、83℃にて1.5時間
攪拌した。混合物を室温まで冷却後、飽和食塩水を加
え、酢酸エチルにて抽出した。該有機層を乾燥(硫酸ナ
トリウム)した後、減圧下において濃縮した。残渣をシ
リカゲル分取薄層クロマトグラフィー(n−ヘキサン:
酢酸エチル=1:1で展開)に付し、メチル 3−メト
キシ−2−[2−メチル−5−{3−(4−ピリミジニ
ル)フェニル}フェノキシ]−2−プロペノエート(本
発明化合物1−32)128mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):9.28(1H,s)、8.78(1H,
d,J=5.1Hz)、8.23(1H,t,J=1.
9Hz)、8.2(1H,m)、7.74(1H,dd,
J=5.0Hz,J=1.3Hz)、7.62(1H,
m)、7.54(1H,t,J=7.7Hz)、7.34
(1H,s)、7.21−7.25(2H,m)、6.
97(1H,d,J=1.7Hz)、3.89(3H,
s)、3.72(3H,s)、2.41(3H,s)
【0042】製造例10 メチル 2−{2−メチル−5−(4,4,5,5−テ
トラメチル−1,3,2−ジオキソボロラン−2−イ
ル)フェノキシ}−3−メトキシ−2−プロペノエート
200mg(0.574mmol)、2−ブロムピリミ
ジン128mg(0.805mmol)、燐酸三カリウ
ム水和物855mg(4.03mmol)、{1,1’
−ビス(ジフェニルフォスフィノ)フェロセン}ジクロ
ロパラジウム(II)塩化メチレン錯体33mg(0.
040mmol)、酢酸パラジウム(II)9mg
(0.04mmol)およびエチレングリコ−ルジメチ
ルエ−テル3mlを混合後、83℃にて4時間攪拌し
た。混合物を室温まで冷却後、減圧下において溶媒を留
去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(n−ヘキサン:酢酸エチル=2:8から0:10で溶
出)に付し、メチル 3−メトキシ−2−{2−メチル
−5−(2−ピリミジニル)フェノキシ}−2−プロペ
ノエート(本発明化合物1−51)102mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.74(2H,d,J=4.5Hz)、
8.02(1H,dd,J=7.8Hz、1.6H
z)、7.83(1H,d,J=1.7Hz)、7.3
8(1H,s)、7.28(1H,s)、7.12(1
H,t,J=1.5)、3.88(3H,s)、3.7
0(3H,s)、2.42(3H,s)
トラメチル−1,3,2−ジオキソボロラン−2−イ
ル)フェノキシ}−3−メトキシ−2−プロペノエート
200mg(0.574mmol)、2−ブロムピリミ
ジン128mg(0.805mmol)、燐酸三カリウ
ム水和物855mg(4.03mmol)、{1,1’
−ビス(ジフェニルフォスフィノ)フェロセン}ジクロ
ロパラジウム(II)塩化メチレン錯体33mg(0.
040mmol)、酢酸パラジウム(II)9mg
(0.04mmol)およびエチレングリコ−ルジメチ
ルエ−テル3mlを混合後、83℃にて4時間攪拌し
た。混合物を室温まで冷却後、減圧下において溶媒を留
去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(n−ヘキサン:酢酸エチル=2:8から0:10で溶
出)に付し、メチル 3−メトキシ−2−{2−メチル
−5−(2−ピリミジニル)フェノキシ}−2−プロペ
ノエート(本発明化合物1−51)102mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.74(2H,d,J=4.5Hz)、
8.02(1H,dd,J=7.8Hz、1.6H
z)、7.83(1H,d,J=1.7Hz)、7.3
8(1H,s)、7.28(1H,s)、7.12(1
H,t,J=1.5)、3.88(3H,s)、3.7
0(3H,s)、2.42(3H,s)
【0043】製造例11 メチル 2−{2−メチル−5−(4,4,5,5−テ
トラメチル−1,3,2−ジオキソボロラン−2−イ
ル)フェノキシ}−3−メトキシ−2−プロペノエート
200mg(0.574mmol)、2−クロロ−5−
トリフルオロメチルピリジン156mg(0.859m
mol)、燐酸三カリウム水和物610mg(2.87
mmol)、{1,1’−ビス(ジフェニルフォスフィ
ノ)フェロセン}ジクロロパラジウム(II)塩化メチ
レン錯体23.5mg(0.029mmol)、酢酸パ
ラジウム(II)6.4mg(0.029mmol)お
よびエチレングリコ−ルジメチルエ−テル3mlを混合
後、83℃にて6時間攪拌した。混合物を室温まで冷却
し、酢酸エチルおよびセライトを加え、濾過した。該ろ
液を減圧下において溶媒を留去し、残渣をシリカゲル分
取薄層クロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル
=2:1で展開)に付し、メチル 2−[2−メチル−
5−{5−(トリフルオロメチル)−2−ピリジル}フ
ェノキシ]−3−メトキシ−2−プロペノエート(本発
明化合物1−92)213mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.9(1H,s)、7.9(1H,d
d)、7.7(1H,d)、7.6(1H,dd)、7.
46(1H,d,J=1.7Hz)、7.37(1H,
s)、7.28(1H,s)、3.89(3H,s)、
3.71(3H,s)、2.42(3H,s)
トラメチル−1,3,2−ジオキソボロラン−2−イ
ル)フェノキシ}−3−メトキシ−2−プロペノエート
200mg(0.574mmol)、2−クロロ−5−
トリフルオロメチルピリジン156mg(0.859m
mol)、燐酸三カリウム水和物610mg(2.87
mmol)、{1,1’−ビス(ジフェニルフォスフィ
ノ)フェロセン}ジクロロパラジウム(II)塩化メチ
レン錯体23.5mg(0.029mmol)、酢酸パ
ラジウム(II)6.4mg(0.029mmol)お
よびエチレングリコ−ルジメチルエ−テル3mlを混合
後、83℃にて6時間攪拌した。混合物を室温まで冷却
し、酢酸エチルおよびセライトを加え、濾過した。該ろ
液を減圧下において溶媒を留去し、残渣をシリカゲル分
取薄層クロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル
=2:1で展開)に付し、メチル 2−[2−メチル−
5−{5−(トリフルオロメチル)−2−ピリジル}フ
ェノキシ]−3−メトキシ−2−プロペノエート(本発
明化合物1−92)213mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.9(1H,s)、7.9(1H,d
d)、7.7(1H,d)、7.6(1H,dd)、7.
46(1H,d,J=1.7Hz)、7.37(1H,
s)、7.28(1H,s)、3.89(3H,s)、
3.71(3H,s)、2.42(3H,s)
【0044】製造例12 メチル 2−{2−メチル−5−(4,4,5,5−テ
トラメチル−1,3,2−ジオキソボロラン−2−イ
ル)フェノキシ}−3−メトキシ−2−プロペノエート
200mg(0.574mmol)、2−クロロ−6−
トリフルオロメチルピリジン156mg(0.859m
mol)、燐酸三カリウム水和物610mg(2.87
mmol)、{1,1’−ビス(ジフェニルフォスフィ
ノ)フェロセン}ジクロロパラジウム(II)塩化メチ
レン錯体23.5mg(0.029mmol)、酢酸パ
ラジウム(II)6.4mg(0.029mmol)お
よびエチレングリコ−ルジメチルエ−テル3mlを混合
後、83℃にて4時間攪拌した。混合物を冷却後、酢酸
エチルおよびセライトを加え、濾過した。該ろ液を減圧
下において溶媒を留去し、残渣をシリカゲル分取薄層ク
ロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=2:1
で展開)に付し、メチル 2−[2−メチル−5−{6
−(トリフルオロメチル)−2−ピリジル}フェノキ
シ]−3−メトキシ−2−プロペノエート(本発明化合
物1−91)136mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.87〜7.82(2H,m)、7.56
(2H,dt)、7.48(1H,d,J=2.1H
z)、7.39(1H,s)、7.28〜7.25(1
H,m)、3.91(3H,s)、3.72(3H,
s)、2.42(3H,s)
トラメチル−1,3,2−ジオキソボロラン−2−イ
ル)フェノキシ}−3−メトキシ−2−プロペノエート
200mg(0.574mmol)、2−クロロ−6−
トリフルオロメチルピリジン156mg(0.859m
mol)、燐酸三カリウム水和物610mg(2.87
mmol)、{1,1’−ビス(ジフェニルフォスフィ
ノ)フェロセン}ジクロロパラジウム(II)塩化メチ
レン錯体23.5mg(0.029mmol)、酢酸パ
ラジウム(II)6.4mg(0.029mmol)お
よびエチレングリコ−ルジメチルエ−テル3mlを混合
後、83℃にて4時間攪拌した。混合物を冷却後、酢酸
エチルおよびセライトを加え、濾過した。該ろ液を減圧
下において溶媒を留去し、残渣をシリカゲル分取薄層ク
ロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=2:1
で展開)に付し、メチル 2−[2−メチル−5−{6
−(トリフルオロメチル)−2−ピリジル}フェノキ
シ]−3−メトキシ−2−プロペノエート(本発明化合
物1−91)136mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.87〜7.82(2H,m)、7.56
(2H,dt)、7.48(1H,d,J=2.1H
z)、7.39(1H,s)、7.28〜7.25(1
H,m)、3.91(3H,s)、3.72(3H,
s)、2.42(3H,s)
【0045】製造例13 メチル 2−{2−メチル−5−(4,4,5,5−テ
トラメチル−1,3,2−ジオキソボロラン−2−イ
ル)フェノキシ}−3−メトキシ−2−プロペノエート
200mg(0.574mmol)、3−ブロモ−1−
(4−ピリミジニルメトキシ)ベンゼン153mg
(0.577mmol)、燐酸三カリウム水和物610
mg(2.87mmol)、{1,1’−ビス(ジフェ
ニルフォスフィノ)フェロセン}ジクロロパラジウム
(II)塩化メチレン錯体23.5mg(0.029m
mol)、酢酸パラジウム(II)6.4mg(0.0
29mmol)およびエチレングリコ−ルジメチルエ−
テル3mlを混合し、83℃にて5時間攪拌した。混合
物を室温まで冷却後、酢酸エチルおよびセライトを加
え、濾過した。該ろ液を減圧下において溶媒を留去し、
残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィー(n−ヘ
キサン:酢酸エチル=1:1で展開)に付し、メチル
2−[2−メチル−5−{3−(4−ピリミジニルメト
キシ)フェノキシ}−3−メトキシ−2−プロペノエー
ト(本発明化合物1−27)140mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):9.2(1H,s)、8.7(1H,d)、
7.6(1H,d)、7.1〜7.4(6H,m)、6.
9(2H,m)、5.2(2H,s)、3.89(3
H,s)、3.72(3H,s)、2.4(3H,s)
トラメチル−1,3,2−ジオキソボロラン−2−イ
ル)フェノキシ}−3−メトキシ−2−プロペノエート
200mg(0.574mmol)、3−ブロモ−1−
(4−ピリミジニルメトキシ)ベンゼン153mg
(0.577mmol)、燐酸三カリウム水和物610
mg(2.87mmol)、{1,1’−ビス(ジフェ
ニルフォスフィノ)フェロセン}ジクロロパラジウム
(II)塩化メチレン錯体23.5mg(0.029m
mol)、酢酸パラジウム(II)6.4mg(0.0
29mmol)およびエチレングリコ−ルジメチルエ−
テル3mlを混合し、83℃にて5時間攪拌した。混合
物を室温まで冷却後、酢酸エチルおよびセライトを加
え、濾過した。該ろ液を減圧下において溶媒を留去し、
残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィー(n−ヘ
キサン:酢酸エチル=1:1で展開)に付し、メチル
2−[2−メチル−5−{3−(4−ピリミジニルメト
キシ)フェノキシ}−3−メトキシ−2−プロペノエー
ト(本発明化合物1−27)140mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):9.2(1H,s)、8.7(1H,d)、
7.6(1H,d)、7.1〜7.4(6H,m)、6.
9(2H,m)、5.2(2H,s)、3.89(3
H,s)、3.72(3H,s)、2.4(3H,s)
【0046】製造例14〜26 製造例13と同様の方法で下記の目的物を得た。 メチル 2−{2−メチル−5−(3−ベンジロキシフ
ェニル)フェノキシ}−3−メトキシ−2−プロペノエ
ート(本発明化合物1−25)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):6.9−7.5(13H,m)、5.1(2
H,s)、3.9(3H,s)、3.7(3H,s)、
2.4(3H,s)
ェニル)フェノキシ}−3−メトキシ−2−プロペノエ
ート(本発明化合物1−25)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):6.9−7.5(13H,m)、5.1(2
H,s)、3.9(3H,s)、3.7(3H,s)、
2.4(3H,s)
【0047】メチル 3−メトキシ−2−{2−メチル
−5−(3−メチルフェニル)フェノキシ}−2−プロ
ペノエート(本発明化合物1−6)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.34(1H、s)、7.26−7.30
(3H,m)、7.21(1H,d、J=7.7Hz)、
7.11−7.14(m,2H)、6.91(d,1
H,J=1.1Hz)3.88(3H,s)、3.71
(3H,s)、2.40(3H,s)、2.38(3
H,s)
−5−(3−メチルフェニル)フェノキシ}−2−プロ
ペノエート(本発明化合物1−6)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.34(1H、s)、7.26−7.30
(3H,m)、7.21(1H,d、J=7.7Hz)、
7.11−7.14(m,2H)、6.91(d,1
H,J=1.1Hz)3.88(3H,s)、3.71
(3H,s)、2.40(3H,s)、2.38(3
H,s)
【0048】メチル 3−メトキシ−2−{2−メチル
−5−(3−メトキシフェニル)フェノキシ}−2−プ
ロペノエート(本発明化合物1−16)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.04−7.36(6H,m)、6.85
−6.92(2H,m)、3.88(3H,s)、3.
85(3H,s)、3.58(3H,s)、2.14(3
H,s)
−5−(3−メトキシフェニル)フェノキシ}−2−プ
ロペノエート(本発明化合物1−16)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.04−7.36(6H,m)、6.85
−6.92(2H,m)、3.88(3H,s)、3.
85(3H,s)、3.58(3H,s)、2.14(3
H,s)
【0049】メチル 3−メトキシ−2−{2−メチル
−5−(2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ
ル)フェノキシ}−2−プロペノエート(本発明化合物
1−45)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.26−7.33(2H,m)、7.0
(1H,m)、6.75(1H,m)、3.87(3
H,s)、3.71(3H,s)、2.41(3H,s)
−5−(2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ
ル)フェノキシ}−2−プロペノエート(本発明化合物
1−45)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.26−7.33(2H,m)、7.0
(1H,m)、6.75(1H,m)、3.87(3
H,s)、3.71(3H,s)、2.41(3H,s)
【0050】メチル 2−{2−メチル−5−(4−メ
チル−2−ピリミジニル)フェノキシ}−3−メトキシ
−2−プロペノエート(本発明化合物1−59)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.59(1H,d,J=5.0Hz)、
8.02(1H,dd,J=7.8、1.5Hz)、
7.82(1H,d,J=1.4Hz)、7.38(1
H,s)、7.26(1H,d,J=7.7Hz)、
7.00(1H,d,J=5.0Hz)、3.88(3
H,s)、3.70(3H,s)、2.55(3H,
s)、2.42(3H,s)
チル−2−ピリミジニル)フェノキシ}−3−メトキシ
−2−プロペノエート(本発明化合物1−59)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.59(1H,d,J=5.0Hz)、
8.02(1H,dd,J=7.8、1.5Hz)、
7.82(1H,d,J=1.4Hz)、7.38(1
H,s)、7.26(1H,d,J=7.7Hz)、
7.00(1H,d,J=5.0Hz)、3.88(3
H,s)、3.70(3H,s)、2.55(3H,
s)、2.42(3H,s)
【0051】メチル 2−{2−メチル−5−(4−n
−ブチル−2−ピリミジニル)フェノキシ}−3−メト
キシ−2−プロペノエート(本発明化合物1−111)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.59(1H,d,J=5.1Hz )、
8.0(1H,dd)、7.9(1H,d)、7.3
(2H,m)、6.96(1H,d,J=5.1H
z)、3.89(3H,s)、3.70(3H,s)、
2.78(3H,t,J=7.8Hz)、2.42(3
H,s)、1.7−1.8(2H,m)、1.3−1.
5(2H,m)、0.96(3H,t,J=7.3H
z)
−ブチル−2−ピリミジニル)フェノキシ}−3−メト
キシ−2−プロペノエート(本発明化合物1−111)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.59(1H,d,J=5.1Hz )、
8.0(1H,dd)、7.9(1H,d)、7.3
(2H,m)、6.96(1H,d,J=5.1H
z)、3.89(3H,s)、3.70(3H,s)、
2.78(3H,t,J=7.8Hz)、2.42(3
H,s)、1.7−1.8(2H,m)、1.3−1.
5(2H,m)、0.96(3H,t,J=7.3H
z)
【0052】メチル 2−{2−メチル−5−(4−s
ec−ブチル−2−ピリミジニル)フェノキシ}−3−
メトキシ−2−プロペノエート(本発明化合物1−11
2)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.61(1H,d,J=5.0Hz )、
8.06(1H,dd,J=7.8Hz)、7.86
(1H,d,J=1.3Hz)、7.38(1H,
s)、7.26(1H,d,J=7.7Hz )、6.
96(1H,d,J=5.1Hz)、3.89(3H,
s)、3.71(3H,s)、2.7−2.9(1H,
m)、2.42(3H,s)、1.6−1.9(3H,
m)、1.3(3H,d,J=1.3Hz)、0.88
(3H,t,J=7.5Hz)
ec−ブチル−2−ピリミジニル)フェノキシ}−3−
メトキシ−2−プロペノエート(本発明化合物1−11
2)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.61(1H,d,J=5.0Hz )、
8.06(1H,dd,J=7.8Hz)、7.86
(1H,d,J=1.3Hz)、7.38(1H,
s)、7.26(1H,d,J=7.7Hz )、6.
96(1H,d,J=5.1Hz)、3.89(3H,
s)、3.71(3H,s)、2.7−2.9(1H,
m)、2.42(3H,s)、1.6−1.9(3H,
m)、1.3(3H,d,J=1.3Hz)、0.88
(3H,t,J=7.5Hz)
【0053】メチル 2−{2−メチル−5−(4−ト
リフルオロメチル−2−ピリミジニル)フェノキシ}−
3−メトキシ−2−プロペノエート(本発明化合物1−
68)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.98(1H,d,J=5.0Hz )、
8.09(1H,dd,J=7.8、1.7Hz)、
7.85(1H,d,J=1.4Hz)、7.44(1
H,d,J=5.0Hz)、7.40(1H,s)、
7.29(1H,d,J=7.9Hz )、3.90
(3H,s)、3.72(3H,s)、2.44(3H,
s)
リフルオロメチル−2−ピリミジニル)フェノキシ}−
3−メトキシ−2−プロペノエート(本発明化合物1−
68)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.98(1H,d,J=5.0Hz )、
8.09(1H,dd,J=7.8、1.7Hz)、
7.85(1H,d,J=1.4Hz)、7.44(1
H,d,J=5.0Hz)、7.40(1H,s)、
7.29(1H,d,J=7.9Hz )、3.90
(3H,s)、3.72(3H,s)、2.44(3H,
s)
【0054】メチル 2−{2−メチル−5−(4−メ
トキシ−2−ピリミジニル)フェノキシ}−3−メトキ
シ−2−プロペノエート(本発明化合物1−69)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.45(1H,d,J=5.7Hz )、
8.02(1H,dd,J=7.8、1.4Hz)、
7.82(1H,d,J=1.6Hz)、7.37(1
H,s)、7.31(1H,d,J=7.8Hz )、
6.58(1H,d,J=5.8Hz)、4.05(3
H,s)、3.88(3H,s)、3.70(3H,
s)、2.42(3H,s)
トキシ−2−ピリミジニル)フェノキシ}−3−メトキ
シ−2−プロペノエート(本発明化合物1−69)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.45(1H,d,J=5.7Hz )、
8.02(1H,dd,J=7.8、1.4Hz)、
7.82(1H,d,J=1.6Hz)、7.37(1
H,s)、7.31(1H,d,J=7.8Hz )、
6.58(1H,d,J=5.8Hz)、4.05(3
H,s)、3.88(3H,s)、3.70(3H,
s)、2.42(3H,s)
【0055】メチル 2−{2−メチル−5−(4,6
−ジメチル−2−ピリミジニル)フェノキシ}−3−メ
トキシ−2−プロペノエート(本発明化合物1−62)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.0(1H,d )、7.8(1H,d)、
7.38(1H,s)、7.2(1H,d)、6.87
(1H,s)、3.89(3H,s)、3.70(3
H,s )、2.50(6H,s)2.41(3H,s)
−ジメチル−2−ピリミジニル)フェノキシ}−3−メ
トキシ−2−プロペノエート(本発明化合物1−62)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.0(1H,d )、7.8(1H,d)、
7.38(1H,s)、7.2(1H,d)、6.87
(1H,s)、3.89(3H,s)、3.70(3
H,s )、2.50(6H,s)2.41(3H,s)
【0056】メチル 2−{2−メチル−5−(6−フ
ェノキシ−2−ピリジル)フェノキシ}−3−メトキシ
−2−プロペノエート(本発明化合物1−73)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.69(1H,t,J=7.7Hz )、
7.16−7.46(10H,m)、6.77(1H,
dd,J=8.0、0.5Hz )、3.75(3H,
s)、3.69(3H,s)、2.36(3H,s)
ェノキシ−2−ピリジル)フェノキシ}−3−メトキシ
−2−プロペノエート(本発明化合物1−73)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.69(1H,t,J=7.7Hz )、
7.16−7.46(10H,m)、6.77(1H,
dd,J=8.0、0.5Hz )、3.75(3H,
s)、3.69(3H,s)、2.36(3H,s)
【0057】メチル 2−{2−メチル−5−(6−ベ
ンジロキシ−2−ピリジル)フェノキシ}−3−メトキ
シ−2−プロペノエート(本発明化合1−72)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.24−7.63(11H,m)、6.7
0(1H,d,J=8.0Hz )、3.84(3H,
s)、3.70(3H,s)、2.40(3H,s)
ンジロキシ−2−ピリジル)フェノキシ}−3−メトキ
シ−2−プロペノエート(本発明化合1−72)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.24−7.63(11H,m)、6.7
0(1H,d,J=8.0Hz )、3.84(3H,
s)、3.70(3H,s)、2.40(3H,s)
【0058】メチル 2−{2−メチル−5−(6−メ
チル−2−ピリジル)フェノキシ}−3−メトキシ−2
−プロペノエート(本発明化合物1−86)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.52−7.61(2H,m)、7.34
−7.42(3H,m)、7.23(1H,d,J=
7.9Hz )、7.05(1H,d,J=7.5Hz
)、3.89(3H,s)、3.70(3H,s)、
2.39(3H,s)、2.04(3H,s)
チル−2−ピリジル)フェノキシ}−3−メトキシ−2
−プロペノエート(本発明化合物1−86)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.52−7.61(2H,m)、7.34
−7.42(3H,m)、7.23(1H,d,J=
7.9Hz )、7.05(1H,d,J=7.5Hz
)、3.89(3H,s)、3.70(3H,s)、
2.39(3H,s)、2.04(3H,s)
【0059】製造例27 メチル 2−{2−メチル−5−(4,4,5,5−テ
トラメチル−1,3,2−ジオキソボロラン−2−イ
ル)フェノキシ}−3−メトキシ−2−プロペノエート
200mg(0.574mmol)、2−クロロ−4−
エチルピリミジン82mg(0.575mmol)、燐
酸三カリウム水和物610mg(2.87mmol)、
{1,1’−ビス(ジフェニルフォスフィノ)フェロセ
ン}ジクロロパラジウム(II)塩化メチレン錯体23
mg(0.029mmol)およびエチレングリコ−ル
ジメチルエ−テル3mlを混合し、83℃にて3時間攪
拌した。混合物を室温まで冷却後、酢酸エチルおよびセ
ライトを加え、濾過した。該ろ液を減圧下において溶媒
を留去し、残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィ
ー(n−ヘキサン:酢酸エチル=1:1で展開)に付
し、メチル 2−{2−メチル−5−(4−エチル−2
−ピリミジニル)フェノキシ}−3−メトキシ−2−プ
ロペノエート(本発明化合物1−64)159mgを得
た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.4(1H,d, )、8.0(1H,d
d)、7.8(1H,d)、7.4(1H,s)、7.
3(1H,d)、7.0(1H,d)、3.89(3
H,s)、3.70(3H,s)、2.8(2H,q)、
2.42(3H,t)、1.35(3H,t)
トラメチル−1,3,2−ジオキソボロラン−2−イ
ル)フェノキシ}−3−メトキシ−2−プロペノエート
200mg(0.574mmol)、2−クロロ−4−
エチルピリミジン82mg(0.575mmol)、燐
酸三カリウム水和物610mg(2.87mmol)、
{1,1’−ビス(ジフェニルフォスフィノ)フェロセ
ン}ジクロロパラジウム(II)塩化メチレン錯体23
mg(0.029mmol)およびエチレングリコ−ル
ジメチルエ−テル3mlを混合し、83℃にて3時間攪
拌した。混合物を室温まで冷却後、酢酸エチルおよびセ
ライトを加え、濾過した。該ろ液を減圧下において溶媒
を留去し、残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィ
ー(n−ヘキサン:酢酸エチル=1:1で展開)に付
し、メチル 2−{2−メチル−5−(4−エチル−2
−ピリミジニル)フェノキシ}−3−メトキシ−2−プ
ロペノエート(本発明化合物1−64)159mgを得
た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.4(1H,d, )、8.0(1H,d
d)、7.8(1H,d)、7.4(1H,s)、7.
3(1H,d)、7.0(1H,d)、3.89(3
H,s)、3.70(3H,s)、2.8(2H,q)、
2.42(3H,t)、1.35(3H,t)
【0060】製造例28〜33 製造例27と同様の方法で下記の目的物を得た。 メチル 2−{2−メチル−5−(4−n−プロピル−
2−ピリミジニル)フェノキシ}−3−メトキシ−2−
プロペノエート(本発明化合物1−66)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.60(1H,d,J=5.3Hz )、
8.04(1H,dd,J=7.8、1.4Hz)、
7.84(1H,d,J=1.3Hz)、7.37(1
H,s)、7.26(1H,d,J=7.4Hz )、
6.97(1H,d,J=5.0Hz )、3.88
(3H,s)、3.70(3H,s)、2.76(2H,
t,J=7.2Hz)、2.42(3H,s)、1.7
8−1.86(2H,m)、1.01(3H,t,J=
7.2Hz)
2−ピリミジニル)フェノキシ}−3−メトキシ−2−
プロペノエート(本発明化合物1−66)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.60(1H,d,J=5.3Hz )、
8.04(1H,dd,J=7.8、1.4Hz)、
7.84(1H,d,J=1.3Hz)、7.37(1
H,s)、7.26(1H,d,J=7.4Hz )、
6.97(1H,d,J=5.0Hz )、3.88
(3H,s)、3.70(3H,s)、2.76(2H,
t,J=7.2Hz)、2.42(3H,s)、1.7
8−1.86(2H,m)、1.01(3H,t,J=
7.2Hz)
【0061】メチル 2−{2−メチル−5−(4−n
−プロピルオキシ−2−ピリミジニル)フェノキシ}−
3−メトキシ−2−プロペノエート(本発明化合物1−
113)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.44(1H,d,J=5.7Hz )、
7.99(1H,dd,J=7.8、1.4Hz)、
7.81(1H,d,J=1.3Hz)、7.36(1
H,s)、7.2(1H,d)、6.55(1H,d,
J=5.7Hz )、4.42(3H,t,6.5H
z)、3.88(3H,s)、3.70(3H,s)、
2.42(3H,s)、1.81−1.88(2H,
m)、1.05(3H,t,J=7.6Hz)
−プロピルオキシ−2−ピリミジニル)フェノキシ}−
3−メトキシ−2−プロペノエート(本発明化合物1−
113)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.44(1H,d,J=5.7Hz )、
7.99(1H,dd,J=7.8、1.4Hz)、
7.81(1H,d,J=1.3Hz)、7.36(1
H,s)、7.2(1H,d)、6.55(1H,d,
J=5.7Hz )、4.42(3H,t,6.5H
z)、3.88(3H,s)、3.70(3H,s)、
2.42(3H,s)、1.81−1.88(2H,
m)、1.05(3H,t,J=7.6Hz)
【0062】メチル 2−{2−メチル−5−(4−シ
アノ−2−ピリミジニル)フェノキシ}−3−メトキシ
−2−プロペノエート(本発明化合物1−115)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.93(1H,d,J=4.9Hz )、
8.05(1H,dd,J=7.8Hz)、7.81
(1H,d,J=1.7Hz)、7.40−7.43
(2H,m)、7.85(1H,d,J=7.8Hz
)、3.91(3H,s)、3.72(3H,s)、
2.43(3H,s)
アノ−2−ピリミジニル)フェノキシ}−3−メトキシ
−2−プロペノエート(本発明化合物1−115)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.93(1H,d,J=4.9Hz )、
8.05(1H,dd,J=7.8Hz)、7.81
(1H,d,J=1.7Hz)、7.40−7.43
(2H,m)、7.85(1H,d,J=7.8Hz
)、3.91(3H,s)、3.72(3H,s)、
2.43(3H,s)
【0063】メチル 2−{2−メチル−5−(6−ク
ロロ−2−ピリジル)フェノキシ}−3−メトキシ−2
−プロペノエート(本発明化合物1−82)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.64(1H,t,J=7.8Hz )、
7.54(2H,d,J=7.7Hz)、7.36(2
H,m)、7.22−2.26(2H,m)、3.90
(3H,s)、3.71(3H,s)、2.40(3H,
s)
ロロ−2−ピリジル)フェノキシ}−3−メトキシ−2
−プロペノエート(本発明化合物1−82)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.64(1H,t,J=7.8Hz )、
7.54(2H,d,J=7.7Hz)、7.36(2
H,m)、7.22−2.26(2H,m)、3.90
(3H,s)、3.71(3H,s)、2.40(3H,
s)
【0064】メチル 2−{2−メチル−5−(6−メ
トキシ−2−ピリジル)フェノキシ}−3−メトキシ−
2−プロペノエート(本発明化合物1−94)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.10−7.61(6H,m)、6.64
(1H,dd,J=8.6、0.6Hz)、4.00
(3H,s)、3.88(3H,s)、3.71(3H,
s)、2.40(3H,s)
トキシ−2−ピリジル)フェノキシ}−3−メトキシ−
2−プロペノエート(本発明化合物1−94)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.10−7.61(6H,m)、6.64
(1H,dd,J=8.6、0.6Hz)、4.00
(3H,s)、3.88(3H,s)、3.71(3H,
s)、2.40(3H,s)
【0065】メチル 2−{2−メチル−5−(6−メ
チルチオ−2−ピリジル)フェノキシ}−3−メトキシ
−2−プロペノエート(本発明化合物1−114)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.46−7.56(3H,m)、7.12
−7.36(3Hm)、7.08(1H,d,J=7.
8Hz)、3.88(3H,s)、3.71(3H,
s)、2.62(3H,s)、2.40(3H,s)
チルチオ−2−ピリジル)フェノキシ}−3−メトキシ
−2−プロペノエート(本発明化合物1−114)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.46−7.56(3H,m)、7.12
−7.36(3Hm)、7.08(1H,d,J=7.
8Hz)、3.88(3H,s)、3.71(3H,
s)、2.62(3H,s)、2.40(3H,s)
【0066】製造例34 メチル 3−メトキシ−2−{2−メチル−5−(4,
4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキソボロ
ラン−2−イル)−ベンジル}アクリル酸200mg
(0.578mmol)、2−ブロモクロロベンゼン1
44mg(0.752mmol)、燐酸三カリウム水和
物613mg(2.9mmol)、{1,1’−ビス
(ジフェニルフォスフィノ)フェロセン}ジクロロパラ
ジウム(II)塩化メチレン錯体24mg(0.029
mmol)およびエチレングリコ−ルジメチルエ−テル
3mlを混合後、83℃にて3時間攪拌した。混合物を
室温まで冷却し、酢酸エチルを加え、濾過した。該ろ液
を減圧下において溶媒を留去し、残渣をシリカゲル分取
薄層クロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=
2:1で展開)に付し、メチル 3−メトキシ−2−
{2−メチル−5−(3−クロロフェニル)ベンジル}
アクリル酸(本発明化合物2−3)126mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.5(2H,m)、7.2−7.5(5
H,m)、3.87(3H,s)、2−68(3H,
s)、3.61(2H,s)、2.39(3H,s)
4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキソボロ
ラン−2−イル)−ベンジル}アクリル酸200mg
(0.578mmol)、2−ブロモクロロベンゼン1
44mg(0.752mmol)、燐酸三カリウム水和
物613mg(2.9mmol)、{1,1’−ビス
(ジフェニルフォスフィノ)フェロセン}ジクロロパラ
ジウム(II)塩化メチレン錯体24mg(0.029
mmol)およびエチレングリコ−ルジメチルエ−テル
3mlを混合後、83℃にて3時間攪拌した。混合物を
室温まで冷却し、酢酸エチルを加え、濾過した。該ろ液
を減圧下において溶媒を留去し、残渣をシリカゲル分取
薄層クロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=
2:1で展開)に付し、メチル 3−メトキシ−2−
{2−メチル−5−(3−クロロフェニル)ベンジル}
アクリル酸(本発明化合物2−3)126mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.5(2H,m)、7.2−7.5(5
H,m)、3.87(3H,s)、2−68(3H,
s)、3.61(2H,s)、2.39(3H,s)
【0067】製造例35〜41 製造例27と同様の方法で下記の目的物を得た。 メチル 3−メトキシ−2−{2−メチル−5−(4−
クロロフェニル)ベンジル}アクリル酸(本発明化合物
2−37)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.16−7.49(8H,m)、3.85
(3H,s)、3.67(3H,s)、3.60(2H,
s)、2.39(3H,s)
クロロフェニル)ベンジル}アクリル酸(本発明化合物
2−37)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.16−7.49(8H,m)、3.85
(3H,s)、3.67(3H,s)、3.60(2H,
s)、2.39(3H,s)
【0068】メチル 3−メトキシ−2−{2−メチル
−5−(4−トリフルオロメチル−2−ピリミジニル)
ベンジル}アクリル酸(本発明化合物2−68)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.98(1H,d,J=4.9Hz )、
8.31(1H,d,J=1.1Hz)、8.19(1
H,dd,J=7.9Hz)、7.52(1H,s)、
7.43(1H,d,J=4.9Hz )、7.2(1
H,s)、3.89(3H,s)、2−68(3H,
s)、3.64(2H,s)、2.44(3H,s)
−5−(4−トリフルオロメチル−2−ピリミジニル)
ベンジル}アクリル酸(本発明化合物2−68)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.98(1H,d,J=4.9Hz )、
8.31(1H,d,J=1.1Hz)、8.19(1
H,dd,J=7.9Hz)、7.52(1H,s)、
7.43(1H,d,J=4.9Hz )、7.2(1
H,s)、3.89(3H,s)、2−68(3H,
s)、3.64(2H,s)、2.44(3H,s)
【0069】メチル 3−メトキシ−2−{2−メチル
−5−(6−メチル−2−ピリジル)ベンジル}アクリ
ル酸(本発明化合物2−86)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.70−7.72(2H,m)、7.58
(1H,t、J=7.7Hz)、7.48(1H,
s)、7.43(1H,d,J=7.9Hz)、7.2
0(1H,d,J=8.3Hz)、7.03(1H,
d,J=7.5Hz)、3.86(3H,s)、3.6
6(3H,s)、3.62(2H,s)、2.59(3
H,s)、2.39(3H,s)
−5−(6−メチル−2−ピリジル)ベンジル}アクリ
ル酸(本発明化合物2−86)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.70−7.72(2H,m)、7.58
(1H,t、J=7.7Hz)、7.48(1H,
s)、7.43(1H,d,J=7.9Hz)、7.2
0(1H,d,J=8.3Hz)、7.03(1H,
d,J=7.5Hz)、3.86(3H,s)、3.6
6(3H,s)、3.62(2H,s)、2.59(3
H,s)、2.39(3H,s)
【0070】メチル 3−メトキシ−2−{2−メチル
−5−(6−トリフルオロメチル−2−ピリジル)ベン
ジル}アクリル酸(本発明化合物2−91)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.82−7.87(3H,m)、7.76
( 1H,dd,J=7.8、1.8Hz)、7.53
−7.55(1H,m)、7.50(1H,s)、7.
23(1H,d,J=7.9Hz)、3.89(3H,
s)、2−68(3H,s)、3.63(2H,s)、
2.42(3H,s)
−5−(6−トリフルオロメチル−2−ピリジル)ベン
ジル}アクリル酸(本発明化合物2−91)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.82−7.87(3H,m)、7.76
( 1H,dd,J=7.8、1.8Hz)、7.53
−7.55(1H,m)、7.50(1H,s)、7.
23(1H,d,J=7.9Hz)、3.89(3H,
s)、2−68(3H,s)、3.63(2H,s)、
2.42(3H,s)
【0071】メチル 3−メトキシ−2−{2−メチル
−5−(6−クロロ−2−ピリジル)ベンジル}アクリ
ル酸(本発明化合物2−82)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.67−7.74(2H,m)、7.65
( 1H,t,J=7.7)、7.56(1H,d,J
=7.6Hz)、7.50(1H,s)、7.18−
7.22(2H,m)、3.88(3H,s)、3.6
7(3H,s)、3.62(2H,s)、2.40(3
H,s)
−5−(6−クロロ−2−ピリジル)ベンジル}アクリ
ル酸(本発明化合物2−82)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.67−7.74(2H,m)、7.65
( 1H,t,J=7.7)、7.56(1H,d,J
=7.6Hz)、7.50(1H,s)、7.18−
7.22(2H,m)、3.88(3H,s)、3.6
7(3H,s)、3.62(2H,s)、2.40(3
H,s)
【0072】メチル 3−メトキシ−2−{2−メチル
−5−(6−メトキシ−2−ピリジル)ベンジル}アク
リル酸(本発明化合物2−94)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.74−7.80(2H,m)、7.58
( 1H,t,J=8.0)、7.50(1H,s)、
7.18−7.27(2H,m)、6.63(1H、
d、J=8.2Hz)、4.02(3H,s)、3.8
5(3H,s)、6.67(2H,s)、3.62(3
H,s)、2.40(3H,s)
−5−(6−メトキシ−2−ピリジル)ベンジル}アク
リル酸(本発明化合物2−94)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.74−7.80(2H,m)、7.58
( 1H,t,J=8.0)、7.50(1H,s)、
7.18−7.27(2H,m)、6.63(1H、
d、J=8.2Hz)、4.02(3H,s)、3.8
5(3H,s)、6.67(2H,s)、3.62(3
H,s)、2.40(3H,s)
【0073】メチル 3−メトキシ−2−{2−メチル
−5−(5−クロロ−2−ピリジル)ベンジル}アクリ
ル酸(本発明化合物2−83)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.6(1H,m)、7.58−7.71(
4H,m)、7.49(1H,s)、7.18−7.2
7(2H,m)、7.21(1H、d、J=8.4H
z)、3.86(3H,s)、3.66(3H,s)、
6.62(2H,s)、2.40(3H,s)
−5−(5−クロロ−2−ピリジル)ベンジル}アクリ
ル酸(本発明化合物2−83)1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.6(1H,m)、7.58−7.71(
4H,m)、7.49(1H,s)、7.18−7.2
7(2H,m)、7.21(1H、d、J=8.4H
z)、3.86(3H,s)、3.66(3H,s)、
6.62(2H,s)、2.40(3H,s)
【0074】製造例42 メチル 2−(5−ブロム−2−メチルフェノキシ)−
3−メトキシ−2−プロペノエート200mg(0.6
31mmol)、2−(トリメチル錫)ピリジン229
mg(0.947mmol)、ビス−(トリフェニルフ
ォスフィン)パラジウム(II)ジクロライド22mg
(0.031mmol)、酸化銅(II)50mg
(0.629mmol)およびエチレングリコ−ルジメ
チルエ−テル3mlを混合後、80℃にて6時間攪拌し
た。混合物を室温まで冷却後、酢酸エチルで希釈、水
洗、乾燥(硫酸ナトリウム)した後、減圧下において濃
縮した。残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィー
(n−ヘキサン:酢酸エチル=2:1で展開)に付し、
メチル 2−{2−メチル−5−(2−ピリジル)フェ
ノキシ]−3−メトキシ−2−プロペノエート(本発明
化合物1−78)141mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.64〜8.65(1H,m)、7.64〜
7.71(2H,m)、7.52(1H,dd,J=
7.8Hz,1.7Hz)、7.36〜7.40(2
H,m)、7.16〜7.26(2H,m)、3.88
(3H,s)、3.70(3H,s)、2.40(3
H,s)
3−メトキシ−2−プロペノエート200mg(0.6
31mmol)、2−(トリメチル錫)ピリジン229
mg(0.947mmol)、ビス−(トリフェニルフ
ォスフィン)パラジウム(II)ジクロライド22mg
(0.031mmol)、酸化銅(II)50mg
(0.629mmol)およびエチレングリコ−ルジメ
チルエ−テル3mlを混合後、80℃にて6時間攪拌し
た。混合物を室温まで冷却後、酢酸エチルで希釈、水
洗、乾燥(硫酸ナトリウム)した後、減圧下において濃
縮した。残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィー
(n−ヘキサン:酢酸エチル=2:1で展開)に付し、
メチル 2−{2−メチル−5−(2−ピリジル)フェ
ノキシ]−3−メトキシ−2−プロペノエート(本発明
化合物1−78)141mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):8.64〜8.65(1H,m)、7.64〜
7.71(2H,m)、7.52(1H,dd,J=
7.8Hz,1.7Hz)、7.36〜7.40(2
H,m)、7.16〜7.26(2H,m)、3.88
(3H,s)、3.70(3H,s)、2.40(3
H,s)
【0075】中間体製造例1 メチル 2−(5−ブロム−2−メチルフェノキシ)−
3−メトキシ−2−プロペノエート2.00g(6.3
1mmol)、ビス(ピナコレート)ジボロン1.92
g(7.56mmol)、{1,1’−ビス(ジフェニ
ルフォスフィノ)フェロセン}ジクロロパラジウム(I
I)塩化メチレン錯体0.26g(0.318mmo
l)、酢酸カリウム1.86g(19.0mmol)お
よびジメチルスルホキサイド(50ml)を混合後、8
0℃にて8時間攪拌した。混合物を室温まで冷却し、水
を加え、酢酸エチルで抽出した。該有機層を水洗、飽和
食塩水洗浄、乾燥(無水硫酸ナトリウム)した後、減圧
下にて濃縮した。析出した結晶をn−ヘキサンで洗浄
し、メチル 2−{2−メチル−5−(4,4,5,5
−テトラメチル−1,3,2−ジオキソボロラン−2−
イル)フェノキシ}−3−メトキシ−2−プロペノエー
ト2.00gを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.4(1H,d)、7.3(1H,s)、
7.2(1H,d)、7.1(1H,s)、3.86
(3H,s)、3.69(3H,s)、2.38(3
H,s)、1.31(12H,s) 中間体製造例2 メチル 3−メトキシ−2−{2−メチル−5−ブロム
−ベンジル}アクリル酸2.00g(6.31mmo
l)、ビス(ピナコレート)ジボロン2.22g(8.
74mmol)、{1,1’−ビス(ジフェニルフォス
フィノ)フェロセン}ジクロロパラジウム(II)塩化
メチレン錯体0.27g(0.331mmol)、酢酸
カリウム1.96g(20.0mmol)およびジメチ
ルスルホキサイド(40ml)を混合後、80℃にて8
時間攪拌した。混合物を室温まで冷却し、セライトで濾
過し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。該有機層を水
洗、飽和食塩水洗浄、乾燥(無水硫酸ナトリウム)した
後、減圧下にて濃縮した。残査をt−ブチルメチルエ−
テルより結晶化し、メチル 3−メトキシ−2−{2−
メチル−5−(4,4,5,5−テトラメチル−1,
3,2−ジオキソボロラン−2−イル)ベンジル}アク
リル酸790mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.50−7.54(2H,m)、7.46
(1H,s)、7.11(1H,d,J=7.4H
z)、3.84(3H,s)、3.65(3H,s)、
3.56(2H,s)、2.35(3H,s)1.31
(12H,s)
3−メトキシ−2−プロペノエート2.00g(6.3
1mmol)、ビス(ピナコレート)ジボロン1.92
g(7.56mmol)、{1,1’−ビス(ジフェニ
ルフォスフィノ)フェロセン}ジクロロパラジウム(I
I)塩化メチレン錯体0.26g(0.318mmo
l)、酢酸カリウム1.86g(19.0mmol)お
よびジメチルスルホキサイド(50ml)を混合後、8
0℃にて8時間攪拌した。混合物を室温まで冷却し、水
を加え、酢酸エチルで抽出した。該有機層を水洗、飽和
食塩水洗浄、乾燥(無水硫酸ナトリウム)した後、減圧
下にて濃縮した。析出した結晶をn−ヘキサンで洗浄
し、メチル 2−{2−メチル−5−(4,4,5,5
−テトラメチル−1,3,2−ジオキソボロラン−2−
イル)フェノキシ}−3−メトキシ−2−プロペノエー
ト2.00gを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.4(1H,d)、7.3(1H,s)、
7.2(1H,d)、7.1(1H,s)、3.86
(3H,s)、3.69(3H,s)、2.38(3
H,s)、1.31(12H,s) 中間体製造例2 メチル 3−メトキシ−2−{2−メチル−5−ブロム
−ベンジル}アクリル酸2.00g(6.31mmo
l)、ビス(ピナコレート)ジボロン2.22g(8.
74mmol)、{1,1’−ビス(ジフェニルフォス
フィノ)フェロセン}ジクロロパラジウム(II)塩化
メチレン錯体0.27g(0.331mmol)、酢酸
カリウム1.96g(20.0mmol)およびジメチ
ルスルホキサイド(40ml)を混合後、80℃にて8
時間攪拌した。混合物を室温まで冷却し、セライトで濾
過し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。該有機層を水
洗、飽和食塩水洗浄、乾燥(無水硫酸ナトリウム)した
後、減圧下にて濃縮した。残査をt−ブチルメチルエ−
テルより結晶化し、メチル 3−メトキシ−2−{2−
メチル−5−(4,4,5,5−テトラメチル−1,
3,2−ジオキソボロラン−2−イル)ベンジル}アク
リル酸790mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.50−7.54(2H,m)、7.46
(1H,s)、7.11(1H,d,J=7.4H
z)、3.84(3H,s)、3.65(3H,s)、
3.56(2H,s)、2.35(3H,s)1.31
(12H,s)
【0076】参考製造例1 5−アミノ−2−メチルフェノール20.39g(0.
166mol)、48%臭化水素酸(127ml)およ
び水157mlの混合物を0℃に冷却し、これに亜硝酸
ナトリウム11.42g(0.166mol)/水35
mlを液温が5℃以下を保つように滴下した。得られた
ジアゾニウム塩の反応液を臭化銅(I)を48%臭化水
素酸98mlの混合物に0℃で滴下した。混合液を徐々
に100℃まで昇温し、100℃で30分攪拌した後、
冷却し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を水洗、飽和
食塩水で洗浄、乾燥(無水硫酸ナトリウム)後、濃縮
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−
ヘキサン:酢酸エチル=95:5から75:15で溶
出)に付し、5−ブロム−2−メチルフェノール12.
98gを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):6.97(2H,s)、6.94(1H,
s)、4.97(1H,s)、2.19(3H,s)
166mol)、48%臭化水素酸(127ml)およ
び水157mlの混合物を0℃に冷却し、これに亜硝酸
ナトリウム11.42g(0.166mol)/水35
mlを液温が5℃以下を保つように滴下した。得られた
ジアゾニウム塩の反応液を臭化銅(I)を48%臭化水
素酸98mlの混合物に0℃で滴下した。混合液を徐々
に100℃まで昇温し、100℃で30分攪拌した後、
冷却し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を水洗、飽和
食塩水で洗浄、乾燥(無水硫酸ナトリウム)後、濃縮
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−
ヘキサン:酢酸エチル=95:5から75:15で溶
出)に付し、5−ブロム−2−メチルフェノール12.
98gを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):6.97(2H,s)、6.94(1H,
s)、4.97(1H,s)、2.19(3H,s)
【0077】参考製造例2 5−ブロム−2−メチルフェノール12.98g(6
9.4mmol)、ブロム酢酸メチル11.68g(7
6.3mmol)、炭酸カリウム12.47g(90.
2mol)およびN,N−ジメチルホルムアミド150
mlの混合物を室温で3時間攪拌した後、水を加え、酢
酸エチルで抽出した。該有機層を水、飽和重曹水および
飽和食塩水で順次洗浄し、乾燥(無水硫酸ナトリウム)
後、濃縮し、メチル 2−(5−ブロム−2−メチルフ
ェノキシ)アセテート18.77gを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.02(2H,s)、6.83(1H,d,
J=0.8Hz)、4.63(2H,s)、3.81
(3H,s)、2.23(3H,s)
9.4mmol)、ブロム酢酸メチル11.68g(7
6.3mmol)、炭酸カリウム12.47g(90.
2mol)およびN,N−ジメチルホルムアミド150
mlの混合物を室温で3時間攪拌した後、水を加え、酢
酸エチルで抽出した。該有機層を水、飽和重曹水および
飽和食塩水で順次洗浄し、乾燥(無水硫酸ナトリウム)
後、濃縮し、メチル 2−(5−ブロム−2−メチルフ
ェノキシ)アセテート18.77gを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.02(2H,s)、6.83(1H,d,
J=0.8Hz)、4.63(2H,s)、3.81
(3H,s)、2.23(3H,s)
【0078】参考製造例3 メチル 2−(5−ブロム−2−メチルフェノキシ)ア
セテート18.4g(71.0mmol)、蟻酸メチル
42.64g(710mmol)およびエチレングリコ
−ルジメチルエ−テル36mlの混合物を、40分間か
けて0℃に冷却した30%水素化カリウム(20.89
g、156mmol)およびエチレングリコ−ルジメチ
ルエ−テル185mlの混合物に滴下した。得られた混
合物を室温に昇温し、3時間攪拌後、飽和塩化アンモニ
ウム水溶液に注加し、5%塩酸水溶液でpH4に調節し
た後、酢酸エチルで抽出した。該有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄し、乾燥(無水硫酸ナトリウム)後、
濃縮し、粗メチル 2−(5−ブロム−2−メチルフェ
ノキシ)−3−ヒドロキシ−2−プロペノエートを得
た。上記反応にて得られた粗メチル 2−(5−ブロム
−2−メチルフェノキシ)−3−ヒドロキシ−2−プロ
ペノエート、沃化メチル15.12g(107mmo
l)、炭酸カリウム16.68g(121mol)およ
びN,N−ジメチルホルムアミド200mlの混合物を
室温で6時間攪拌した後、水を加え、酢酸エチルで抽出
した。該有機層を2%塩酸水溶液、水、飽和重曹水およ
び飽和食塩水で順次洗浄し、乾燥(無水硫酸ナトリウ
ム)後、濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=100:0〜5
0:50で溶出)に付し、メチル 2−(5−ブロム−
2−メチルフェノキシ)−3−メトキシ−2−プロペノ
エート10.08gを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.31(1H,s)、7.0(2H,m)、
3.88(3H,s)、3.72(3H,s)、2.2
8(3H,s)
セテート18.4g(71.0mmol)、蟻酸メチル
42.64g(710mmol)およびエチレングリコ
−ルジメチルエ−テル36mlの混合物を、40分間か
けて0℃に冷却した30%水素化カリウム(20.89
g、156mmol)およびエチレングリコ−ルジメチ
ルエ−テル185mlの混合物に滴下した。得られた混
合物を室温に昇温し、3時間攪拌後、飽和塩化アンモニ
ウム水溶液に注加し、5%塩酸水溶液でpH4に調節し
た後、酢酸エチルで抽出した。該有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄し、乾燥(無水硫酸ナトリウム)後、
濃縮し、粗メチル 2−(5−ブロム−2−メチルフェ
ノキシ)−3−ヒドロキシ−2−プロペノエートを得
た。上記反応にて得られた粗メチル 2−(5−ブロム
−2−メチルフェノキシ)−3−ヒドロキシ−2−プロ
ペノエート、沃化メチル15.12g(107mmo
l)、炭酸カリウム16.68g(121mol)およ
びN,N−ジメチルホルムアミド200mlの混合物を
室温で6時間攪拌した後、水を加え、酢酸エチルで抽出
した。該有機層を2%塩酸水溶液、水、飽和重曹水およ
び飽和食塩水で順次洗浄し、乾燥(無水硫酸ナトリウ
ム)後、濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=100:0〜5
0:50で溶出)に付し、メチル 2−(5−ブロム−
2−メチルフェノキシ)−3−メトキシ−2−プロペノ
エート10.08gを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.31(1H,s)、7.0(2H,m)、
3.88(3H,s)、3.72(3H,s)、2.2
8(3H,s)
【0079】参考製造例4−1 5−ヨード−2−メチルアニリン10.0g(42.9
mol)、濃硫酸(5ml)および水(15ml)の混
合物を−10℃に冷却し、これに亜硝酸ナトリウム3.
0g(43.5mol)/水4mlおよび水15mlを
液温が−3℃以下を保つように滴下した。得られたジア
ゾニウム塩の反応液を硫酸銅(II)5水和物8.0g
(32.0mml)、10%硫酸55mlおよびトルエ
ン37mlの混合物に75℃で滴下した。混合物を75
℃で2時間攪拌した後、冷却し、t−ブチルメチルエー
テルで抽出した。該有機層を濃縮し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し、5−ヨード−2−メ
チルフェノール7.33gを得た。 参考製造例4−2 5−ヨード−2−メチルフェノール20.48g(8
7.5mmol)、ブロム酢酸メチル9.1ml(9
6.1mmol)、炭酸カリウム14.5g(105m
ol)およびN,N−ジメチルホルムアミド175ml
の混合物を室温で一晩攪拌し、水を加え酢酸エチルで抽
出した。該有機層を水、飽和重曹水および飽和食塩水で
順次洗浄し、乾燥(無水硫酸ナトリウム)後、濃縮し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、メ
チル 2−(5−ヨード−2−メチルフェノキシ)アセ
テート15.76gを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.23(1H,dd,J=7.8,1.6H
z)、6.98(1H,d,J=1.3Hz)、6.8
8(1H,d,J=7.5Hz)、4.62(2H,
s)、3.81(3H,s)、2.23(3H,s)
mol)、濃硫酸(5ml)および水(15ml)の混
合物を−10℃に冷却し、これに亜硝酸ナトリウム3.
0g(43.5mol)/水4mlおよび水15mlを
液温が−3℃以下を保つように滴下した。得られたジア
ゾニウム塩の反応液を硫酸銅(II)5水和物8.0g
(32.0mml)、10%硫酸55mlおよびトルエ
ン37mlの混合物に75℃で滴下した。混合物を75
℃で2時間攪拌した後、冷却し、t−ブチルメチルエー
テルで抽出した。該有機層を濃縮し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し、5−ヨード−2−メ
チルフェノール7.33gを得た。 参考製造例4−2 5−ヨード−2−メチルフェノール20.48g(8
7.5mmol)、ブロム酢酸メチル9.1ml(9
6.1mmol)、炭酸カリウム14.5g(105m
ol)およびN,N−ジメチルホルムアミド175ml
の混合物を室温で一晩攪拌し、水を加え酢酸エチルで抽
出した。該有機層を水、飽和重曹水および飽和食塩水で
順次洗浄し、乾燥(無水硫酸ナトリウム)後、濃縮し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、メ
チル 2−(5−ヨード−2−メチルフェノキシ)アセ
テート15.76gを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.23(1H,dd,J=7.8,1.6H
z)、6.98(1H,d,J=1.3Hz)、6.8
8(1H,d,J=7.5Hz)、4.62(2H,
s)、3.81(3H,s)、2.23(3H,s)
【0080】参考製造例5 メチル 2−(5−ヨード−2−メチルフェノキシ)ア
セテートより、参考製造例2および参考製造例3と同様
の方法で、メチル 2−(5−ヨード−2−メチルフェ
ノキシ)−3−メトキシ−2−プロペノエートを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.32(1H,s)、7.23(1H,dd,
J=7.8,1.6Hz)、6.99(1H,d,J=
1.6Hz)、6.88(1H,dd,J=7.7,
0.6Hz)、3.88(3H,s)、3.72(3
H,s)、2.29(3H,s)
セテートより、参考製造例2および参考製造例3と同様
の方法で、メチル 2−(5−ヨード−2−メチルフェ
ノキシ)−3−メトキシ−2−プロペノエートを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.32(1H,s)、7.23(1H,dd,
J=7.8,1.6Hz)、6.99(1H,d,J=
1.6Hz)、6.88(1H,dd,J=7.7,
0.6Hz)、3.88(3H,s)、3.72(3
H,s)、2.29(3H,s)
【0081】参考製造例6 3−ブロムアセトフェノン9.0g(59.9mmo
l)、N,N’,N”−メチリデントリスホルムアミド
17.1g(118mmol)、p−トルエンスルホン
酸0.57g(3.0mmol)およびホルムアミド2
7gの混合物を、160℃で2時間攪拌後、冷却し、5
%苛性ソーダ水溶液に注加し、5%塩酸水で溶液でpH
4に調節した後、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽
和塩化アンモニウム水および飽和食塩水で順次洗浄し、
乾燥(無水硫酸ナトリウム)後、濃縮し、得られた固体
を再結晶(エタノール:水=1:2より)し、4−(3
−ブロモフェノキシ)ピリミジン2.49gを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):9.29(1H,d,J=0.9Hz)、
8.81(1H,d,J=5.4Hz)、8.28(1
H,t,J=1.7Hz)、8.01(1H,d,J=
7.8Hz)、7.71(1H,dd,J=5.1,
1.2Hz)、7.7(1H,dd)、7.40(1
H,t,J=7.8Hz) 4−(3−ブロモフェノキシ)ピリミジン0.70g
(6.31mmol)、ビス(ピナコレート)ジボロン
0.91g(3.9mmol)、{1,1’−ビス(ジ
フェニルフォスフィノ)フェロセン}ジクロロパラジウ
ム(II)塩化メチレン錯体0.121g(0.149
mmol)、酢酸カリウム0.88g(9.0mmo
l)およびジメチルスルホキシド(2ml)を混合し、
80℃にて4時間攪拌した。混合物を室温まで冷却後、
水を加え、酢酸エチルで抽出した。該有機層を水洗、飽
和食塩水にて洗浄、乾燥(無水硫酸ナトリウム)した
後、減圧下にて濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し、4,4,5,5−テトラメチル
−2−{3−(4−ピリミジル)フェニル}−1,3,
2−ジオキソボロラン520mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):9.3(1H,s)、8.8(1H,d)、
8.5(1H,s)、8.2(1H,d)、8.0(1
H,d)、7.8(1H,d)、7.5(1H,t)、
1.37(12H,s)
l)、N,N’,N”−メチリデントリスホルムアミド
17.1g(118mmol)、p−トルエンスルホン
酸0.57g(3.0mmol)およびホルムアミド2
7gの混合物を、160℃で2時間攪拌後、冷却し、5
%苛性ソーダ水溶液に注加し、5%塩酸水で溶液でpH
4に調節した後、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽
和塩化アンモニウム水および飽和食塩水で順次洗浄し、
乾燥(無水硫酸ナトリウム)後、濃縮し、得られた固体
を再結晶(エタノール:水=1:2より)し、4−(3
−ブロモフェノキシ)ピリミジン2.49gを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):9.29(1H,d,J=0.9Hz)、
8.81(1H,d,J=5.4Hz)、8.28(1
H,t,J=1.7Hz)、8.01(1H,d,J=
7.8Hz)、7.71(1H,dd,J=5.1,
1.2Hz)、7.7(1H,dd)、7.40(1
H,t,J=7.8Hz) 4−(3−ブロモフェノキシ)ピリミジン0.70g
(6.31mmol)、ビス(ピナコレート)ジボロン
0.91g(3.9mmol)、{1,1’−ビス(ジ
フェニルフォスフィノ)フェロセン}ジクロロパラジウ
ム(II)塩化メチレン錯体0.121g(0.149
mmol)、酢酸カリウム0.88g(9.0mmo
l)およびジメチルスルホキシド(2ml)を混合し、
80℃にて4時間攪拌した。混合物を室温まで冷却後、
水を加え、酢酸エチルで抽出した。該有機層を水洗、飽
和食塩水にて洗浄、乾燥(無水硫酸ナトリウム)した
後、減圧下にて濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し、4,4,5,5−テトラメチル
−2−{3−(4−ピリミジル)フェニル}−1,3,
2−ジオキソボロラン520mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):9.3(1H,s)、8.8(1H,d)、
8.5(1H,s)、8.2(1H,d)、8.0(1
H,d)、7.8(1H,d)、7.5(1H,t)、
1.37(12H,s)
【0082】参考製造例7 4−メチルピリミジン5.0g(53.1mmol)、
N−ブロムスクシムイミド11.34g(63.7mm
ol)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサンカルボニ
トリル)0.65g(2.7mmol)および四塩化炭
素100mlの混合物を、76℃で8時間攪拌した。混
合物を冷却後、不溶物を濾別した。濾液を濃縮後、残渣
と酢酸エチルを混合し、水および飽和食塩水で順次洗浄
し、乾燥(無水硫酸ナトリウム)後、濃縮した。得られ
た残渣、3−ブロムフェノール1.24g(7.17m
mol)、炭酸カリウム1.5g(10.9mmol)
およびN,N−ジメチルホルムアミド(30ml)を混
合し、60℃にて8時間攪拌した。混合物を室温まで冷
却後、水を加え、t−ブチルメチルエーテルで抽出、水
洗、飽和食塩水洗浄、乾燥(無水硫酸ナトリウム)した
後、減圧下にて濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し、3−ブロモ−1−(4−ピリミ
ジニル)メトキシベンゼン268mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):9.20(1H,s)、8.76(1H,
d,J=5.1Hz)、7.54(1H,d,J=4.
8Hz)、7.13〜7.18(3H,m)、6.88
〜6.92(1H,m,J=4.8Hz)、5.15
(2H,s)
N−ブロムスクシムイミド11.34g(63.7mm
ol)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサンカルボニ
トリル)0.65g(2.7mmol)および四塩化炭
素100mlの混合物を、76℃で8時間攪拌した。混
合物を冷却後、不溶物を濾別した。濾液を濃縮後、残渣
と酢酸エチルを混合し、水および飽和食塩水で順次洗浄
し、乾燥(無水硫酸ナトリウム)後、濃縮した。得られ
た残渣、3−ブロムフェノール1.24g(7.17m
mol)、炭酸カリウム1.5g(10.9mmol)
およびN,N−ジメチルホルムアミド(30ml)を混
合し、60℃にて8時間攪拌した。混合物を室温まで冷
却後、水を加え、t−ブチルメチルエーテルで抽出、水
洗、飽和食塩水洗浄、乾燥(無水硫酸ナトリウム)した
後、減圧下にて濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し、3−ブロモ−1−(4−ピリミ
ジニル)メトキシベンゼン268mgを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):9.20(1H,s)、8.76(1H,
d,J=5.1Hz)、7.54(1H,d,J=4.
8Hz)、7.13〜7.18(3H,m)、6.88
〜6.92(1H,m,J=4.8Hz)、5.15
(2H,s)
【0083】参考製造例8 (1)特開平11−217579号公報記載の方法に準
じて製造した2−メチル−5−ブロムベンジルブロマド
30.0g(0.114mol)、ジメチルマロン酸1
5.77g(0.119mol)、95%ナトリウムメ
トキシド6.45g(0.113mol)およびメタノ
ール300mlの混合物を65℃で4時間攪拌後、冷却
し、溶媒を留去した。得られた残差をメチルt−ブチル
エーテルで抽出した。得られた水層を5%塩酸水溶液で
pH4に調節した後、酢酸エチルで抽出した。該有機層
を5%塩酸水、水および飽和食塩水で順次洗浄し、乾燥
(無水硫酸ナトリウム)後、濃縮し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル
=100:0〜0:100で溶出)に付し、ジメチル2
−(2−メチル−5−ブロム−ベンジル)マロン酸1
7.21gを得た。 (2)得られたジメチル 2−(2−メチル−5−ブロ
ム−ベンジル)マロン酸17.21g(54.6mmo
l)、塩化リチウム4.63g(103mmol)、水
2.2mlおよびジメチルスルホキシド150mlの混
合物を165℃で3時間時間攪拌した後、酢酸および水
を加え、濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=100:0〜0:
100で溶出)に付し、3−{2−メチル−5−ブロム
−フェニル}プロピオン酸メチル6.68gを得た。 (3)得られた、3−{2−メチル−5−ブロム−フェ
ニル}プロピオン酸メチル6.89g(26.0mmo
l)、蟻酸メチル15.6g(260mmol)および
エチレングリコ−ルジメチルエ−テル15mlの混合物
を、00分間かけて−8℃以下に冷却した30%水素化
カリウム(7.64g、57.1mmol)およびエチ
レングリコ−ルジメチルエ−テル67mlの混合物に滴
下した。得られた混合物を室温に昇温し、3時間攪拌
後、水に注加し、メチルt−ブチルエーテルで抽出し
た。得られた水層を5%塩酸水溶液でpH4に調節した
後、酢酸エチルで抽出した。該有機層を水および飽和食
塩水で順次洗浄し、乾燥(無水硫酸ナトリウム)後、濃
縮し、粗メチル 3−ヒドロキシ−2−{2−メチル−
5−ブロム−ベンジル}アクリル酸6.1gを得た。 (4)得られた粗メチル 3−ヒドロキシ−2−{2−
メチル−5−ブロム−ベンジル}アクリル酸6.1g
(21mmol)、トリメチルシリルジアゾメタン2M
ヘキサン溶液21ml(42mmol)およびジメトキ
シエタン40mlの混合物を室温で一晩時間攪拌した
後、酢酸および水を加え、濃縮し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=
100:0〜0:100で溶出)に付し、メチル 3−
メトキシ−2−{2−メチル−5−ブロム−ベンジル}
アクリル酸5.36gを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.49(1H,s)、7.2(2H,m)、
6.97(1H,d,J=8.6Hz)、3.86(3
H,s)、2−68(3H,s)、3.50(2H,
m)、2.28(3H,s)
じて製造した2−メチル−5−ブロムベンジルブロマド
30.0g(0.114mol)、ジメチルマロン酸1
5.77g(0.119mol)、95%ナトリウムメ
トキシド6.45g(0.113mol)およびメタノ
ール300mlの混合物を65℃で4時間攪拌後、冷却
し、溶媒を留去した。得られた残差をメチルt−ブチル
エーテルで抽出した。得られた水層を5%塩酸水溶液で
pH4に調節した後、酢酸エチルで抽出した。該有機層
を5%塩酸水、水および飽和食塩水で順次洗浄し、乾燥
(無水硫酸ナトリウム)後、濃縮し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル
=100:0〜0:100で溶出)に付し、ジメチル2
−(2−メチル−5−ブロム−ベンジル)マロン酸1
7.21gを得た。 (2)得られたジメチル 2−(2−メチル−5−ブロ
ム−ベンジル)マロン酸17.21g(54.6mmo
l)、塩化リチウム4.63g(103mmol)、水
2.2mlおよびジメチルスルホキシド150mlの混
合物を165℃で3時間時間攪拌した後、酢酸および水
を加え、濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=100:0〜0:
100で溶出)に付し、3−{2−メチル−5−ブロム
−フェニル}プロピオン酸メチル6.68gを得た。 (3)得られた、3−{2−メチル−5−ブロム−フェ
ニル}プロピオン酸メチル6.89g(26.0mmo
l)、蟻酸メチル15.6g(260mmol)および
エチレングリコ−ルジメチルエ−テル15mlの混合物
を、00分間かけて−8℃以下に冷却した30%水素化
カリウム(7.64g、57.1mmol)およびエチ
レングリコ−ルジメチルエ−テル67mlの混合物に滴
下した。得られた混合物を室温に昇温し、3時間攪拌
後、水に注加し、メチルt−ブチルエーテルで抽出し
た。得られた水層を5%塩酸水溶液でpH4に調節した
後、酢酸エチルで抽出した。該有機層を水および飽和食
塩水で順次洗浄し、乾燥(無水硫酸ナトリウム)後、濃
縮し、粗メチル 3−ヒドロキシ−2−{2−メチル−
5−ブロム−ベンジル}アクリル酸6.1gを得た。 (4)得られた粗メチル 3−ヒドロキシ−2−{2−
メチル−5−ブロム−ベンジル}アクリル酸6.1g
(21mmol)、トリメチルシリルジアゾメタン2M
ヘキサン溶液21ml(42mmol)およびジメトキ
シエタン40mlの混合物を室温で一晩時間攪拌した
後、酢酸および水を加え、濃縮し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=
100:0〜0:100で溶出)に付し、メチル 3−
メトキシ−2−{2−メチル−5−ブロム−ベンジル}
アクリル酸5.36gを得た。1 H−NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):7.49(1H,s)、7.2(2H,m)、
6.97(1H,d,J=8.6Hz)、3.86(3
H,s)、2−68(3H,s)、3.50(2H,
m)、2.28(3H,s)
【0084】次に本発明化合物の例を化合物番号と共に
表1〜表12に示す。 一般式 化16
表1〜表12に示す。 一般式 化16
【化16】 で示される化合物。
【表1】
【0085】
【表2】
【0086】
【表3】
【0087】
【表4】
【表5】
【0088】
【表6】
【0089】一般式 化17
【化17】 で示される化合物。
【表7】
【0090】
【表8】
【0091】
【表9】
【0092】
【表10】
【表11】
【0093】
【表12】
【0094】尚、上記の表において、Meはメチル基
を、Etはエチル基を、Prはプロピル基を、Buはブ
チル基を、Phはフェニル基を、Pyはピリジル基を、
Bnはベンジル基を意味する。また、n−はノルマル−
を、i−はイソ−を、sec−はセカンダリーを、t−
はターシャリーの意味を表わす。
を、Etはエチル基を、Prはプロピル基を、Buはブ
チル基を、Phはフェニル基を、Pyはピリジル基を、
Bnはベンジル基を意味する。また、n−はノルマル−
を、i−はイソ−を、sec−はセカンダリーを、t−
はターシャリーの意味を表わす。
【0095】次に製剤例を示す。なお、部は重量部を表
わし、本発明化合物は前記表1〜12に記載の番号で示
す。 製剤例1 本発明化合物1−1〜1−131および2−1〜2−1
28の各々50部、リグニンスルホン酸カルシウム3
部、ラウリル硫酸ナトリウム2部及び合成含水酸化珪素
45部をよく粉砕混合することにより、各々の水和剤を
得る。 製剤例2 本発明化合物1−1〜1−131および2−1〜2−1
28の各々20部とソルビタントリオレエ−ト1.5部
とを、ポリビニルアルコ−ル2部を含む水溶液28.5
部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中に、キ
サンタンガム0.05部及びアルミニウムマグネシウム
シリケ−ト0.1部を含む水溶液40部を加え、さらに
プロピレングリコ−ル10部を加えて攪拌混合し各々の
フロアブル製剤を得る。 製剤例3 本発明化合物1−1〜1−131および2−1〜2−1
28各々2部、カオリンクレ−88部及びタルク10部
をよく粉砕混合することにより、各々の粉剤を得る。 製剤例4 本発明化合物1−1〜1−131および2−1〜2−1
28の各々5部、ポリオキシエチレンスチリルフェニル
エ−テル14部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウ
ム6部及びキシレン75部をよく混合することにより、
各々の乳剤を得る。 製剤例5 本発明化合物1−1〜1−131および2−1〜2−1
28の各々2部、合成含水酸化珪素1部、リグニンスル
ホン酸カルシウム2部、ベントナイト30部及びカオリ
ンクレ−65部をよく粉砕混合し、水を加えてよく練り
合せた後、造粒乾燥することにより、各々の粒剤を得
る。 製剤例6 本発明化合物1−1〜1−131および2−1〜2−1
28の各々10部、ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ルサルフェートアンモニウム塩50部を含むホワイトカ
ーボン35部、及び水55部を混合し、湿式粉砕法で微
粉砕することにより、各々のフロアブル製剤を得る。
わし、本発明化合物は前記表1〜12に記載の番号で示
す。 製剤例1 本発明化合物1−1〜1−131および2−1〜2−1
28の各々50部、リグニンスルホン酸カルシウム3
部、ラウリル硫酸ナトリウム2部及び合成含水酸化珪素
45部をよく粉砕混合することにより、各々の水和剤を
得る。 製剤例2 本発明化合物1−1〜1−131および2−1〜2−1
28の各々20部とソルビタントリオレエ−ト1.5部
とを、ポリビニルアルコ−ル2部を含む水溶液28.5
部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中に、キ
サンタンガム0.05部及びアルミニウムマグネシウム
シリケ−ト0.1部を含む水溶液40部を加え、さらに
プロピレングリコ−ル10部を加えて攪拌混合し各々の
フロアブル製剤を得る。 製剤例3 本発明化合物1−1〜1−131および2−1〜2−1
28各々2部、カオリンクレ−88部及びタルク10部
をよく粉砕混合することにより、各々の粉剤を得る。 製剤例4 本発明化合物1−1〜1−131および2−1〜2−1
28の各々5部、ポリオキシエチレンスチリルフェニル
エ−テル14部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウ
ム6部及びキシレン75部をよく混合することにより、
各々の乳剤を得る。 製剤例5 本発明化合物1−1〜1−131および2−1〜2−1
28の各々2部、合成含水酸化珪素1部、リグニンスル
ホン酸カルシウム2部、ベントナイト30部及びカオリ
ンクレ−65部をよく粉砕混合し、水を加えてよく練り
合せた後、造粒乾燥することにより、各々の粒剤を得
る。 製剤例6 本発明化合物1−1〜1−131および2−1〜2−1
28の各々10部、ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ルサルフェートアンモニウム塩50部を含むホワイトカ
ーボン35部、及び水55部を混合し、湿式粉砕法で微
粉砕することにより、各々のフロアブル製剤を得る。
【0096】次に、本発明化合物が農園芸用殺菌剤とし
て有用であることを試験例で示す。なお、本発明化合物
は表1〜表12に記載の番号で示す。本発明化合物の防
除効果は、調査時の供試植物上の病斑の面積を肉眼観察
し、無処理区の病斑の面積と本発明化合物処理区の病斑
の面積を比較することにより評価した。
て有用であることを試験例で示す。なお、本発明化合物
は表1〜表12に記載の番号で示す。本発明化合物の防
除効果は、調査時の供試植物上の病斑の面積を肉眼観察
し、無処理区の病斑の面積と本発明化合物処理区の病斑
の面積を比較することにより評価した。
【0097】試験例1:イネいもち病防除試験(予防効
果) プラスチックポットに砂壌土を詰め、イネ(日本晴)を
播種し、温室内で20日間生育させた。その後、本発明
化合物 1−1、1−23、1−36、1−40、1−
11、1−13、1−2、2−1、1−32、1−5
1、1−92、1−91、1−27、1−25、1−
6、1−16、1−45、1−59、1−111、1−
112、1−68、1−69、1−62、1−73、1
−72、1−86、1−64、1−66、1−113、
1−115、1−82、1−94、1−114、2−8
6、2−91、2−82、2−94、2−83および1
−78の各々を製剤例6に準じてフロアブル製剤とした
後、水で所定濃度(500ppm;但し、本発明化合物1−4
5、2−86、2−82、2−94及び2−83は200p
pm)に希釈し、それを、そのイネ葉面に充分付着するよ
うに茎葉散布した。散布後、植物を風乾し、いもち病菌
の懸濁液を噴霧接種した。接種後28℃、多湿下に6日
間置いた後、防除効果を調査した。その結果、本発明化
合物1−1、1−23、1−36、1−40、1−1
1、1−13、1−2、2−1、1−32、1−51、
1−92、1−91、1−27、1−25、1−6、1
−16、1−45、1−59、1−111、1−11
2、1−68、1−69、1−62、1−73、1−7
2、1−86、1−64、1−66、1−113、1−
115、1−82、1−94、1−114、2−86、
2−91、2−82、2−94、2−83および1−7
8処理区の植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積の
10%以下であった。
果) プラスチックポットに砂壌土を詰め、イネ(日本晴)を
播種し、温室内で20日間生育させた。その後、本発明
化合物 1−1、1−23、1−36、1−40、1−
11、1−13、1−2、2−1、1−32、1−5
1、1−92、1−91、1−27、1−25、1−
6、1−16、1−45、1−59、1−111、1−
112、1−68、1−69、1−62、1−73、1
−72、1−86、1−64、1−66、1−113、
1−115、1−82、1−94、1−114、2−8
6、2−91、2−82、2−94、2−83および1
−78の各々を製剤例6に準じてフロアブル製剤とした
後、水で所定濃度(500ppm;但し、本発明化合物1−4
5、2−86、2−82、2−94及び2−83は200p
pm)に希釈し、それを、そのイネ葉面に充分付着するよ
うに茎葉散布した。散布後、植物を風乾し、いもち病菌
の懸濁液を噴霧接種した。接種後28℃、多湿下に6日
間置いた後、防除効果を調査した。その結果、本発明化
合物1−1、1−23、1−36、1−40、1−1
1、1−13、1−2、2−1、1−32、1−51、
1−92、1−91、1−27、1−25、1−6、1
−16、1−45、1−59、1−111、1−11
2、1−68、1−69、1−62、1−73、1−7
2、1−86、1−64、1−66、1−113、1−
115、1−82、1−94、1−114、2−86、
2−91、2−82、2−94、2−83および1−7
8処理区の植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積の
10%以下であった。
【0098】試験例2:コムギうどんこ病防除試験(治
療効果) プラスチックポットに砂壌土を詰め、コムギ(農林73
号)を播種し、温室内で10日間生育させた。第2葉が展
開したそのコムギの幼苗にコムギうどんこ病菌胞子をふ
りかけ接種した。接種後、23℃の温室に2日間置いた。
本発明化合物1−1、1−23、1−36、1−40お
よび1−32の各々を製剤例6に準じてフロアブル製剤
とした後、水で所定濃度(500ppm)に希釈し、それを、
うどんこ病菌が接種されているコムギ葉面に充分付着す
るように茎葉散布した。散布後さらに照明下に7日間置
いた後、防除効果を調査した。その結果、本発明化合物
1−1、1−23、1−36、1−40および1−32
処理区の植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積の1
0%以下であった。
療効果) プラスチックポットに砂壌土を詰め、コムギ(農林73
号)を播種し、温室内で10日間生育させた。第2葉が展
開したそのコムギの幼苗にコムギうどんこ病菌胞子をふ
りかけ接種した。接種後、23℃の温室に2日間置いた。
本発明化合物1−1、1−23、1−36、1−40お
よび1−32の各々を製剤例6に準じてフロアブル製剤
とした後、水で所定濃度(500ppm)に希釈し、それを、
うどんこ病菌が接種されているコムギ葉面に充分付着す
るように茎葉散布した。散布後さらに照明下に7日間置
いた後、防除効果を調査した。その結果、本発明化合物
1−1、1−23、1−36、1−40および1−32
処理区の植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積の1
0%以下であった。
【0099】試験例3:コムギうどんこ病防除試験(予
防効果) プラスチックポットに砂壌土を詰め、コムギ(農林73
号)を播種し、温室内で10日間生育させた。本発明化
合物1−11、1−13、1−2、2−1、1−51、
1−92、1−91、1−27、1−25、1−6、1
−16、1−59、1−111、1−112、1−6
8、1−69、1−62、1−73、1−72、1−8
6、1−64、1−66、1−113、1−115、1
−82、1−94、1−114、2−3、2−37、2
−68、2−86、2−91、2−82、2−94、2
−83および1−78を製剤例6に準じてフロアブル剤
とした後、水で所定濃度(500ppm;但し、本発明化合物
2−86、2−82、2−94及び2−83は200ppm)
に希釈し、それを、第2葉が展開したそのコムギの幼苗
のコムギ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布
後植物を風乾し、1日後にコムギうどんこ病菌胞子をふ
りかけ接種した。接種後、23℃照明下に7日間置いた
後、防除効果を調査した。その結果、本発明化合物1−
11、1−13、1−2、2−1、1−51、1−9
2、1−91、1−27、1−25、1−6、1−1
6、1−59、1−111、1−112、1−68、1
−69、1−62、1−73、1−72、1−86、1
−64、1−66、1−113、1−115、1−8
2、1−94、1−114、2−3、2−37、2−6
8、2−86、2−91、2−82、2−94、2−8
3および1−78を処理区の植物上の病斑面積は、無処
理区の病斑面積の10%以下であった。
防効果) プラスチックポットに砂壌土を詰め、コムギ(農林73
号)を播種し、温室内で10日間生育させた。本発明化
合物1−11、1−13、1−2、2−1、1−51、
1−92、1−91、1−27、1−25、1−6、1
−16、1−59、1−111、1−112、1−6
8、1−69、1−62、1−73、1−72、1−8
6、1−64、1−66、1−113、1−115、1
−82、1−94、1−114、2−3、2−37、2
−68、2−86、2−91、2−82、2−94、2
−83および1−78を製剤例6に準じてフロアブル剤
とした後、水で所定濃度(500ppm;但し、本発明化合物
2−86、2−82、2−94及び2−83は200ppm)
に希釈し、それを、第2葉が展開したそのコムギの幼苗
のコムギ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布
後植物を風乾し、1日後にコムギうどんこ病菌胞子をふ
りかけ接種した。接種後、23℃照明下に7日間置いた
後、防除効果を調査した。その結果、本発明化合物1−
11、1−13、1−2、2−1、1−51、1−9
2、1−91、1−27、1−25、1−6、1−1
6、1−59、1−111、1−112、1−68、1
−69、1−62、1−73、1−72、1−86、1
−64、1−66、1−113、1−115、1−8
2、1−94、1−114、2−3、2−37、2−6
8、2−86、2−91、2−82、2−94、2−8
3および1−78を処理区の植物上の病斑面積は、無処
理区の病斑面積の10%以下であった。
【0100】試験例4:コムギ赤さび病防除試験(予防
効果) プラスチックポットに砂壌土を詰め、コムギ(農林73
号)を播種し、温室内で10日間生育させた。本発明化
合物1−1、1−23、1−36、1−40、1−1
1、1−13、1−2、2−1、1−32、1−51、
1−92、1−91、1−27、1−25、1−6、1
−16、1−45、1−59、1−111、1−11
2、1−68、1−69、1−62、1−73、1−7
2、1−86、1−64、1−66、1−113、1−
115、1−82、1−94、1−114、2−3、2
−37、2−68、2−86、2−91、2−82、2
−94、2−83および1−78の各々を製剤例6に準
じてフロアブル製剤とした後、水で所定濃度(500ppm;
但し、本発明化合物1−45、2−86、2−82、2
−94及び2−83は200ppm)に希釈し、それを、その
コムギ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後
植物を風乾し、コムギ赤さび病菌の胞子を接種した。接
種後はじめは23℃、暗黒多湿下に1日置き、さらに照明
下に6日間置いた後、防除効果を調査した。その結果、
本発明化合物1−1、1−23、1−36、1−40、
1−11、1−13、1−2、2−1、1−32、1−
51、1−92、1−91、1−27、1−25、1−
6、1−16、1−45、1−59、1−111、1−
112、1−68、1−69、1−62、1−73、1
−72、1−86、1−64、1−66、1−113、
1−115、1−82、1−94、1−114、2−
3、2−37、2−68、2−86、2−91、2−8
2、2−94、2−83および1−78処理区の植物上
の病斑面積は、無処理区の病斑面積の10%以下であっ
た。
効果) プラスチックポットに砂壌土を詰め、コムギ(農林73
号)を播種し、温室内で10日間生育させた。本発明化
合物1−1、1−23、1−36、1−40、1−1
1、1−13、1−2、2−1、1−32、1−51、
1−92、1−91、1−27、1−25、1−6、1
−16、1−45、1−59、1−111、1−11
2、1−68、1−69、1−62、1−73、1−7
2、1−86、1−64、1−66、1−113、1−
115、1−82、1−94、1−114、2−3、2
−37、2−68、2−86、2−91、2−82、2
−94、2−83および1−78の各々を製剤例6に準
じてフロアブル製剤とした後、水で所定濃度(500ppm;
但し、本発明化合物1−45、2−86、2−82、2
−94及び2−83は200ppm)に希釈し、それを、その
コムギ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後
植物を風乾し、コムギ赤さび病菌の胞子を接種した。接
種後はじめは23℃、暗黒多湿下に1日置き、さらに照明
下に6日間置いた後、防除効果を調査した。その結果、
本発明化合物1−1、1−23、1−36、1−40、
1−11、1−13、1−2、2−1、1−32、1−
51、1−92、1−91、1−27、1−25、1−
6、1−16、1−45、1−59、1−111、1−
112、1−68、1−69、1−62、1−73、1
−72、1−86、1−64、1−66、1−113、
1−115、1−82、1−94、1−114、2−
3、2−37、2−68、2−86、2−91、2−8
2、2−94、2−83および1−78処理区の植物上
の病斑面積は、無処理区の病斑面積の10%以下であっ
た。
【0101】試験例5:コムギふ枯れ病防除試験(予防
効果) プラスチックポットに砂壌土を詰め、コムギ(農林73
号)を播種し、温室内で10日間生育させた。本発明化合
物1−1、1−23、1−36、1−40、1−32、
1−51、1−92、1−91、1−27、1−45、
1−66、1−113、1−94、1−114、2−9
1、2−82、2−94、2−83および1−78の各
々を製剤例6に準じてフロアブル製剤とした後、水で所
定濃度(500ppm;但し、本発明化合物1−45、2−8
2、2−94及び2−83は200ppm)に希釈し、それ
を、そのコムギ葉面に充分付着するように茎葉散布し
た。散布後植物を風乾し、コムギふ枯れ病菌の胞子懸濁
液を噴霧接種した。接種後はじめは15℃、暗黒多湿下
に4日置き、さらに照明下に7日間置いた後、防除効果
を調査した。その結果、本発明化合物1−1、1−2
3、1−36、1−40、1−32、1−51、1−9
2、1−91、1−27、1−45、1−66、1−1
13、1−94、1−114、2−91、2−82、2
−94、2−83および1−78処理区の植物上の病斑
面積は、無処理区の病斑面積の10%以下であった。
効果) プラスチックポットに砂壌土を詰め、コムギ(農林73
号)を播種し、温室内で10日間生育させた。本発明化合
物1−1、1−23、1−36、1−40、1−32、
1−51、1−92、1−91、1−27、1−45、
1−66、1−113、1−94、1−114、2−9
1、2−82、2−94、2−83および1−78の各
々を製剤例6に準じてフロアブル製剤とした後、水で所
定濃度(500ppm;但し、本発明化合物1−45、2−8
2、2−94及び2−83は200ppm)に希釈し、それ
を、そのコムギ葉面に充分付着するように茎葉散布し
た。散布後植物を風乾し、コムギふ枯れ病菌の胞子懸濁
液を噴霧接種した。接種後はじめは15℃、暗黒多湿下
に4日置き、さらに照明下に7日間置いた後、防除効果
を調査した。その結果、本発明化合物1−1、1−2
3、1−36、1−40、1−32、1−51、1−9
2、1−91、1−27、1−45、1−66、1−1
13、1−94、1−114、2−91、2−82、2
−94、2−83および1−78処理区の植物上の病斑
面積は、無処理区の病斑面積の10%以下であった。
【0102】試験例6:コムギ眼紋病防除試験(予防効
果) プラスチックポットに砂壌土を詰め、コムギ(農林73
号)を播種し、温室内で10日間生育させた。本発明化
合物1−1、1−23、1−11、1−13、1−2、
1−32、1−6、1−59、1−111、1−11
2、1−68、1−69、1−62、1−86、1−6
4、1−113、2−68および2−91を製剤例6に
準じてフロアブル製剤とした後、各々を水で希釈し所定
濃度(500ppm)にし、それを、そのコムギ葉面に充分付
着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、コム
ギ眼紋病菌の胞子含有マッシュポテト培地を株元に接種
した。接種後はじめは15℃、暗黒多湿下に7日置き、
さらに照明下に4日間置いた後、防除効果を調査した。
その結果、本発明化合物1−1、1−23、1−11、
1−13、1−2、1−32、1−6、1−59、1−
111、1−112、1−68、1−69、1−62、
1−86、1−64、1−113、2−68および2−
91処理区の植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積
の10%以下であった。
果) プラスチックポットに砂壌土を詰め、コムギ(農林73
号)を播種し、温室内で10日間生育させた。本発明化
合物1−1、1−23、1−11、1−13、1−2、
1−32、1−6、1−59、1−111、1−11
2、1−68、1−69、1−62、1−86、1−6
4、1−113、2−68および2−91を製剤例6に
準じてフロアブル製剤とした後、各々を水で希釈し所定
濃度(500ppm)にし、それを、そのコムギ葉面に充分付
着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、コム
ギ眼紋病菌の胞子含有マッシュポテト培地を株元に接種
した。接種後はじめは15℃、暗黒多湿下に7日置き、
さらに照明下に4日間置いた後、防除効果を調査した。
その結果、本発明化合物1−1、1−23、1−11、
1−13、1−2、1−32、1−6、1−59、1−
111、1−112、1−68、1−69、1−62、
1−86、1−64、1−113、2−68および2−
91処理区の植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積
の10%以下であった。
【0103】試験例7:ブドウべと病防除効果試験(予
防効果) プラスチックポットに砂壌土を詰め、ブドウ(ベリ−
A)を播種し、温室内で40日間生育させた。本発明化合
物 1−1、1−23、1−36、1−40、1−1
3、2−1、1−32、1−51、1−92、1−9
1、1−27、1−25、1−6、1−16、1−4
5、1−59、1−111、1−112、1−68、1
−69、1−62、1−73、1−72、1−86、1
−64、1−66、1−113、1−115、1−8
2、1−94、1−114、2−3、2−37、2−6
8、2−86、2−91、2−82、2−94、2−8
3および1−78の各々を製剤例6に準じてフロアブル
製剤とした後、水で所定濃度(200ppm)に希釈し、それ
を、そのブドウ葉面に充分付着するように茎葉散布し
た。散布後植物を風乾し、ブドウべと病の遊走子嚢懸濁
液を噴霧接種した。接種後はじめは23℃、多湿下に1
日置き、さらに温室内で6日間置いた後、防除効果を調
査した。その結果、本発明化合物1−1、1−23、1
−36、1−40、1−13、2−1、1−32、1−
51、1−92、1−91、1−27、1−25、1−
6、1−16、1−45、1−59、1−111、1−
112、1−68、1−69、1−62、1−73、1
−72、1−86、1−64、1−66、1−113、
1−115、1−82、1−94、1−114、2−
3、2−37、2−68、2−86、2−91、2−8
2、2−94、2−83および1−78処理区の植物上
の病斑面積は、無処理区の病斑面積の10%以下であっ
た。
防効果) プラスチックポットに砂壌土を詰め、ブドウ(ベリ−
A)を播種し、温室内で40日間生育させた。本発明化合
物 1−1、1−23、1−36、1−40、1−1
3、2−1、1−32、1−51、1−92、1−9
1、1−27、1−25、1−6、1−16、1−4
5、1−59、1−111、1−112、1−68、1
−69、1−62、1−73、1−72、1−86、1
−64、1−66、1−113、1−115、1−8
2、1−94、1−114、2−3、2−37、2−6
8、2−86、2−91、2−82、2−94、2−8
3および1−78の各々を製剤例6に準じてフロアブル
製剤とした後、水で所定濃度(200ppm)に希釈し、それ
を、そのブドウ葉面に充分付着するように茎葉散布し
た。散布後植物を風乾し、ブドウべと病の遊走子嚢懸濁
液を噴霧接種した。接種後はじめは23℃、多湿下に1
日置き、さらに温室内で6日間置いた後、防除効果を調
査した。その結果、本発明化合物1−1、1−23、1
−36、1−40、1−13、2−1、1−32、1−
51、1−92、1−91、1−27、1−25、1−
6、1−16、1−45、1−59、1−111、1−
112、1−68、1−69、1−62、1−73、1
−72、1−86、1−64、1−66、1−113、
1−115、1−82、1−94、1−114、2−
3、2−37、2−68、2−86、2−91、2−8
2、2−94、2−83および1−78処理区の植物上
の病斑面積は、無処理区の病斑面積の10%以下であっ
た。
【0104】試験例8:キュウリうどんこ病防除効果試
験(予防効果) プラスチックポットに砂壌土を詰め、キュウリ(相模半
白)を播種し、温室内で12日間生育させた。本発明化
合物1−1、1−23、1−36、1−40、1−1
1、1−13、1−2、2−1、1−32、1−51、
1−92、1−91、1−25、1−6、1−16、1
−59、1−111、1−112、1−68、1−6
9、1−62、1−73、1−72および1−86の各
々を製剤例6に準じてフロアブル製剤とした後、水で希
釈し所定濃度(500ppm)にし、それを、そのキュウリ葉
面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風
乾し、キュウリうどんこ病菌の胞子を接種した。接種後
23℃下に12日置いた後、防除効果を調査した。その
結果、本発明化合物1−1、1−23、1−36、1−
40、1−11、1−13、1−2、2−1、1−3
2、1−51、1−92、1−91、1−25、1−
6、1−16、1−59、1−111、1−112、1
−68、1−69、1−62、1−73、1−72およ
び1−86処理区の植物上の病斑面積は、無処理区の病
斑面積の10%以下であった。
験(予防効果) プラスチックポットに砂壌土を詰め、キュウリ(相模半
白)を播種し、温室内で12日間生育させた。本発明化
合物1−1、1−23、1−36、1−40、1−1
1、1−13、1−2、2−1、1−32、1−51、
1−92、1−91、1−25、1−6、1−16、1
−59、1−111、1−112、1−68、1−6
9、1−62、1−73、1−72および1−86の各
々を製剤例6に準じてフロアブル製剤とした後、水で希
釈し所定濃度(500ppm)にし、それを、そのキュウリ葉
面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風
乾し、キュウリうどんこ病菌の胞子を接種した。接種後
23℃下に12日置いた後、防除効果を調査した。その
結果、本発明化合物1−1、1−23、1−36、1−
40、1−11、1−13、1−2、2−1、1−3
2、1−51、1−92、1−91、1−25、1−
6、1−16、1−59、1−111、1−112、1
−68、1−69、1−62、1−73、1−72およ
び1−86処理区の植物上の病斑面積は、無処理区の病
斑面積の10%以下であった。
【0105】
【発明の効果】本発明化合物は、優れた植物病害防除効
力を有する。
力を有する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) A01N 43/54 A01N 43/54 B C07D 213/24 C07D 213/24 213/26 213/26 213/30 213/30 213/32 213/32 213/55 213/55 213/61 213/61 213/64 213/64 213/84 213/84 Z 239/26 239/26 239/28 239/28 239/30 239/30 239/34 239/34 239/38 239/38 239/46 239/46 239/52 239/52 Fターム(参考) 4C055 AA01 BA01 BA02 BA03 BA06 BA13 BA16 BA39 BA42 BA47 BA59 BB02 BB04 BB11 CA01 CA02 CA06 CA13 CA16 CA39 CB11 DA01 DA06 DA13 DA16 DA39 DB11 4H006 AA01 AA03 AB03 BJ50 BM30 BN30 4H011 AA01 BA01 BB06 BB09 BC01 BC07 BC18 BC19 BC20 DA02 DA15 DA16 DD03 DH02 DH14
Claims (14)
- 【請求項1】一般式 化1 【化1】 [式中、Wは酸素原子またはCH2基を表わし、XはC
R4基または窒素原子を表わし、YはCR5基または窒素
原子を表わし、R1、R2およびR3は同一または相異な
り、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ア
ミノ基、水酸基、置換されていてもよいC1〜C10ア
ルキル基、置換されていてもよいC2〜C10アルケニ
ル基、置換されていてもよいC2〜C10アルキニル
基、置換されていてもよいC3〜C10シクロアルキル
基、置換されていてもよいC5〜C10シクロアルケニ
ル基、置換されていてもよいC6〜C10アリール基、
置換されていてもよいC1〜C9ヘテロアリール基、置
換されていてもよいC1〜C6アルコキシ基、置換され
ていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいC1
〜C9ヘテロアリールオキシ基、置換されていてもよい
C2〜C6アルコキシカルボニル基、置換されていても
よいC1〜C6アルキルチオ基または置換されていても
よいC3〜C30トリアルキルシリル基を表わし、
R4、R5、R6、R7およびR8は同一または相異なり、
水素原子、ハロゲン原子、C1〜C4アルキル基、C1
〜C4ハロアルキル基またはC1〜C4アルコキシ基を
表わす。]で示されるアクリル酸誘導体。 - 【請求項2】上記一般式 化1で示されるアクリル酸誘
導体におけるWが酸素原子である請求項1に記載のアク
リル酸誘導体。 - 【請求項3】上記一般式 化1で示されるアクリル酸誘
導体におけるWがCH2基である請求項1に記載のアク
リル酸誘導体。 - 【請求項4】上記一般式 化1で示されるアクリル酸誘
導体におけるR1、R2およびR3において、置換されて
いてもよいC1〜C10アルキル基、置換されていても
よいC2〜C10アルケニル基、置換されていてもよい
C2〜C10アルキニル基、置換されていてもよいC3
〜C10シクロアルキル基、置換されていてもよいC5
〜C10シクロアルケニル基、置換されていてもよいC
1〜C6アルコキシ基、置換されていてもよいフェノキ
シ基、置換されていてもよいC1〜C9ヘテロアリール
オキシ基、C2〜C6アルコキシカルボニル基、置換さ
れていてもよいC1〜C6アルキルチオ基、置換されて
いてもよいC3〜C30トリアルキルシリル基における
各置換基が、同一または相異なり、下記A群より選ばれ
る1種以上の基であり、置換されていてもよいC6〜C
10アリール基または置換されていてもよいC1〜C9
ヘテロアリール基における各置換基が、同一または相異
なり、下記A群およびB群からなる群より選ばれる1種
以上の基である請求項1〜3のいずれかに記載のアクリ
ル酸誘導体。 A群{ハロゲン原子、C1〜C10アルキル基、C3〜
C20トリアルキルシリル基、C1〜C10ハロアルキ
ル基、C3〜C10シクロアルキル基、C3〜C10シ
クロアルケニル基、C1〜C10アルコキシ基、C1〜
C10ハロアルコキシ基、C1〜C10アルキルチオ
基、C1〜C10ハロアルキルチオ基、C2〜C10ア
ルコキシカルボニル基、フェニル基、ピリジル基、ピリ
ミジル基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、ピリジン
−2−イルオキシ基(ここで、該フェニル基、ピリジル
基、ピリミジル基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基お
よびピリジン−2−イルオキシ基の各々は、ハロゲン原
子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、
トリフルオロメチル基及びシアノ基からなる群より選ば
れる1種以上の基で置換されていてもよい。)、アミノ
基、水酸基、シアノ基及びニトロ基} B群{メチレンジオキシ基およびジフルオロメチレンジ
オキシ基(該メチレンジオキシ基およびジフルオロメチ
レンジオキシ基の各々は、アリール部位における隣接す
る二つの炭素原子に結合する。)} - 【請求項5】上記一般式 化1で示されるアクリル酸誘
導体におけるR1、R2およびR3のうちの少なくともい
ずれか一つが水素原子である請求項1〜4のいずれかに
記載のアクリル酸誘導体。 - 【請求項6】上記一般式 化1で示されるアクリル酸誘
導体におけるR1、R2およびR3のうちの少なくともい
ずれか二つが水素原子である請求項1〜4のいずれかに
記載のアクリル酸誘導体。 - 【請求項7】上記一般式 化1で示されるアクリル酸誘
導体におけるR6、R7およびR8が水素原子である請求
項1〜4のいずれかに記載のアクリル酸誘導体。 - 【請求項8】上記一般式 化1において、XおよびYが
CH基である請求項1〜7のいずれかに記載のアクリル
酸誘導体。 - 【請求項9】上記一般式 化1において、XおよびYが
窒素原子である請求項1〜7のいずれかに記載のアクリ
ル酸誘導体。 - 【請求項10】上記一般式 化1において、Xが窒素原
子であり、YがCH基である請求項1〜7のいずれかに
記載のアクリル酸誘導体。 - 【請求項11】請求項1〜10のいずれかに記載のアク
リル酸誘導体を有効成分として含有することを特徴とす
る農園芸用殺菌剤。 - 【請求項12】一般式 化2 【化2】 [式中、A1はB(OH)2基、B(OR9)2基またはS
nR10 3基を表わし、R9 はC1〜C10アルキル基を表
わすか、2つのR9で−CH2CH2−基または−C(C
H3)2C(CH3)2−基を表し、R10はC1〜C10ア
ルキル基を表わし、Wは酸素原子またはCH2基を表わ
し、XはCR4基または窒素原子を表わし、YはCR5基
または窒素原子を表わし、R6、R7およびR8は同一ま
たは相異なり、水素原子、ハロゲン原子、C1〜C4ア
ルキル基、C1〜C4ハロアルキル基またはC1〜C4
アルコキシ基を表わす。]で示される化合物。 - 【請求項13】上記一般式 化2で示される化合物にお
けるWが酸素原子である請求項12に記載の化合物。 - 【請求項14】上記一般式 化2で示される化合物にお
けるWがCH2基である請求項12に記載の化合物。
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JP11-179874 | 1999-06-25 | ||
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020027214A1 (ja) * | 2018-07-31 | 2020-02-06 | 住友化学株式会社 | Qo阻害剤に対して耐性を有するダイズさび病菌の防除方法 |
WO2020262648A1 (ja) * | 2019-06-28 | 2020-12-30 | 住友化学株式会社 | アクリル酸エステル誘導体、その用途及びその製造中間体 |
CN112789265A (zh) * | 2018-10-18 | 2021-05-11 | 先正达农作物保护股份公司 | 杀微生物的化合物 |
WO2021153782A1 (ja) * | 2020-01-31 | 2021-08-05 | 住友化学株式会社 | QoI殺菌剤に対して耐性を有するダイズさび病菌の防除方法 |
-
2000
- 2000-06-23 JP JP2000189119A patent/JP2001064237A/ja active Pending
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020027214A1 (ja) * | 2018-07-31 | 2020-02-06 | 住友化学株式会社 | Qo阻害剤に対して耐性を有するダイズさび病菌の防除方法 |
CN112512321A (zh) * | 2018-07-31 | 2021-03-16 | 住友化学株式会社 | 对Qo抑制剂具有耐性的大豆锈病菌的防除方法 |
JPWO2020027214A1 (ja) * | 2018-07-31 | 2021-08-02 | 住友化学株式会社 | Qo阻害剤に対して耐性を有するダイズさび病菌の防除方法 |
JP7394765B2 (ja) | 2018-07-31 | 2023-12-08 | 住友化学株式会社 | Qo阻害剤に対して耐性を有するダイズさび病菌の防除方法 |
US11849728B2 (en) | 2018-07-31 | 2023-12-26 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for controlling soybean rust fungus having resistance against Qo site inhibitor |
CN112789265A (zh) * | 2018-10-18 | 2021-05-11 | 先正达农作物保护股份公司 | 杀微生物的化合物 |
CN112789265B (zh) * | 2018-10-18 | 2024-03-08 | 先正达农作物保护股份公司 | 杀微生物的化合物 |
WO2020262648A1 (ja) * | 2019-06-28 | 2020-12-30 | 住友化学株式会社 | アクリル酸エステル誘導体、その用途及びその製造中間体 |
US12082581B2 (en) | 2019-06-28 | 2024-09-10 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Acrylate derivative, use and production intermediate compound of the same |
WO2021153782A1 (ja) * | 2020-01-31 | 2021-08-05 | 住友化学株式会社 | QoI殺菌剤に対して耐性を有するダイズさび病菌の防除方法 |
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