JP2000057946A - ディスプレイ用蛍光面の形成方法 - Google Patents
ディスプレイ用蛍光面の形成方法Info
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- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/10—Screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored
- H01J29/18—Luminescent screens
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- H01J29/327—Black matrix materials
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- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/22—Applying luminescent coatings
- H01J9/227—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 蛍光膜が均一で、各色蛍光膜とＢＭ層との境
界線がシャープで、蛍光膜やＢＭ層に欠落がなく、所望
の蛍光膜パターンを忠実に再現できると共に、混色のな
い高精細度な蛍光面を備えたディスプレイ用蛍光面の形
成方法を提供しようとするものである。 【解決手段】 基板上に少なくともブラックマトリック
ス層及び蛍光膜を有する蛍光面の形成方法において、最
初にフォトリソグラフィー法で基板上にブラックマトリ
ックス層を形成した後に、蛍光膜に対応して作製された
製版を用いて印刷法で蛍光体含有インク組成物を塗布し
て蛍光膜を形成することを特徴とするディスプレイ用蛍
光面の形成方法である。
界線がシャープで、蛍光膜やＢＭ層に欠落がなく、所望
の蛍光膜パターンを忠実に再現できると共に、混色のな
い高精細度な蛍光面を備えたディスプレイ用蛍光面の形
成方法を提供しようとするものである。 【解決手段】 基板上に少なくともブラックマトリック
ス層及び蛍光膜を有する蛍光面の形成方法において、最
初にフォトリソグラフィー法で基板上にブラックマトリ
ックス層を形成した後に、蛍光膜に対応して作製された
製版を用いて印刷法で蛍光体含有インク組成物を塗布し
て蛍光膜を形成することを特徴とするディスプレイ用蛍
光面の形成方法である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、表示装置（ディス
プレイ）用の蛍光面の形成方法に関する。詳しくは、印
刷法を用いたフィールドエミッションディスプレイ（Ｆ
ＥＤ）、電場発光型ディスプレイ（ＥＬＤ）、平面型の
陰極線管（フラットＣＲＴ）等の平面型ディスプレイ
（ＦＰＤ）用の蛍光面の形成方法の改良に関する。
プレイ）用の蛍光面の形成方法に関する。詳しくは、印
刷法を用いたフィールドエミッションディスプレイ（Ｆ
ＥＤ）、電場発光型ディスプレイ（ＥＬＤ）、平面型の
陰極線管（フラットＣＲＴ）等の平面型ディスプレイ
（ＦＰＤ）用の蛍光面の形成方法の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、陰極線管（ＣＲＴ）等のディス
プレイの蛍光面はフォトリソグラフィー法により形成さ
れる。まず、蛍光体とＰＶＡ等水溶性高分子に重クロム
酸アンモニウムを添加した感光性樹脂を含有する蛍光体
塗布スラリー、即ち蛍光体含有フォトレジストスラリー
をガラスなどからなるフェースプレート上の所定の位置
に塗布し、これに光を照射して感光性樹脂を硬化させ
（露光工程）、次いで塗布面を水洗して未露光部の前記
スラリーを洗い流して（現像工程）蛍光面を形成してい
る。
プレイの蛍光面はフォトリソグラフィー法により形成さ
れる。まず、蛍光体とＰＶＡ等水溶性高分子に重クロム
酸アンモニウムを添加した感光性樹脂を含有する蛍光体
塗布スラリー、即ち蛍光体含有フォトレジストスラリー
をガラスなどからなるフェースプレート上の所定の位置
に塗布し、これに光を照射して感光性樹脂を硬化させ
（露光工程）、次いで塗布面を水洗して未露光部の前記
スラリーを洗い流して（現像工程）蛍光面を形成してい
る。
【０００３】そして、カラーディスプレイは、上記工程
を３回繰り返して赤色、青色、緑色の３色蛍光体からな
る蛍光膜、及び光吸収層（ブラックマトリックス、「Ｂ
Ｍ」という）の４種類の膜をフェースプレートの所定の
位置に形成する。このＢＭ層は画像のコントラストを高
めるために各色蛍光膜の周囲（間隙）に光吸収物質を充
填して形成する。各色蛍光膜は、通常、発光色の異なる
３種類の蛍光体からなり、その形状はドット状、矩形状
又はストライプ状である。そして、ＢＭ層は、ドット
状、矩形状又はストライプ状の蛍光膜の隙間全体を埋め
尽くすように形成される。
を３回繰り返して赤色、青色、緑色の３色蛍光体からな
る蛍光膜、及び光吸収層（ブラックマトリックス、「Ｂ
Ｍ」という）の４種類の膜をフェースプレートの所定の
位置に形成する。このＢＭ層は画像のコントラストを高
めるために各色蛍光膜の周囲（間隙）に光吸収物質を充
填して形成する。各色蛍光膜は、通常、発光色の異なる
３種類の蛍光体からなり、その形状はドット状、矩形状
又はストライプ状である。そして、ＢＭ層は、ドット
状、矩形状又はストライプ状の蛍光膜の隙間全体を埋め
尽くすように形成される。
【０００４】これに対し、ＦＥＤ、ＥＬＤ等の平面型デ
ィスプレイ用の蛍光面は、蛍光面が平面状であるため印
刷法で蛍光面を形成することができる。即ち、バインダ
ー樹脂に蛍光体を分散させてペースト状蛍光体含有イン
ク組成物を調製し、版を用いてスクリーン印刷法で所定
のパターンに前記インク組成物を基板上に印刷塗布して
蛍光膜を形成するのが一般的である。
ィスプレイ用の蛍光面は、蛍光面が平面状であるため印
刷法で蛍光面を形成することができる。即ち、バインダ
ー樹脂に蛍光体を分散させてペースト状蛍光体含有イン
ク組成物を調製し、版を用いてスクリーン印刷法で所定
のパターンに前記インク組成物を基板上に印刷塗布して
蛍光膜を形成するのが一般的である。
【０００５】このように印刷法でディスプレイの蛍光面
を形成する方法は、フォトリソグラフィー法が有する現
像工程（洗浄、除去工程）を必要としないため、膜形成
設備を簡略化でき、蛍光体のロスが非常少ないという利
点がある。しかし、印刷法でＢＭ層を形成すると、ＢＭ
層にスジやムラが生じ易すく、ＢＭのエッジ部の切れが
悪く、ＢＭ層の輪郭部の直線性が劣り、ひいては蛍光面
の膜の均一性及び精細度が低下する。また、特にＢＭ層
においては微少の塵埃等の異物が混入した場合、膜質低
下の欠陥が生じ易いという欠点があり、それらの改善が
望まれていた。
を形成する方法は、フォトリソグラフィー法が有する現
像工程（洗浄、除去工程）を必要としないため、膜形成
設備を簡略化でき、蛍光体のロスが非常少ないという利
点がある。しかし、印刷法でＢＭ層を形成すると、ＢＭ
層にスジやムラが生じ易すく、ＢＭのエッジ部の切れが
悪く、ＢＭ層の輪郭部の直線性が劣り、ひいては蛍光面
の膜の均一性及び精細度が低下する。また、特にＢＭ層
においては微少の塵埃等の異物が混入した場合、膜質低
下の欠陥が生じ易いという欠点があり、それらの改善が
望まれていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は、上
記の欠点を解消し、蛍光膜が均一で、各色蛍光膜とＢＭ
層との境界線がシャープで、蛍光膜やＢＭ層に欠落がな
く、所望の蛍光膜パターンを忠実に再現できると共に、
混色のない高精細度な蛍光面を備えたディスプレイ用蛍
光面の形成方法を提供しようとするものである。
記の欠点を解消し、蛍光膜が均一で、各色蛍光膜とＢＭ
層との境界線がシャープで、蛍光膜やＢＭ層に欠落がな
く、所望の蛍光膜パターンを忠実に再現できると共に、
混色のない高精細度な蛍光面を備えたディスプレイ用蛍
光面の形成方法を提供しようとするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、カラーデ
ィスプレイ用の蛍光面を形成する際、最初にＢＭ層だけ
をフォトリソグラフィー法で形成し、その後、蛍光膜を
印刷法で形成することにより、蛍光膜及びＢＭ層にスジ
やムラがなく、エッジの切れが良好で、均一かつ高精細
な蛍光面が得られることを見い出し、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明の構成は次のとおりである。
ィスプレイ用の蛍光面を形成する際、最初にＢＭ層だけ
をフォトリソグラフィー法で形成し、その後、蛍光膜を
印刷法で形成することにより、蛍光膜及びＢＭ層にスジ
やムラがなく、エッジの切れが良好で、均一かつ高精細
な蛍光面が得られることを見い出し、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明の構成は次のとおりである。
【０００８】(1) 基板上に少なくともブラックマトリッ
クス（ＢＭ）層及び蛍光膜を有する蛍光面の形成方法に
おいて、最初にフォトリソグラフィー法で基板上にブラ
ックマトリックス（ＢＭ）層を形成した後に、蛍光膜に
対応して製版された版を用いて印刷法で蛍光体含有イン
ク組成物を塗布して蛍光膜を形成することを特徴とする
ディスプレイ用蛍光面の形成方法。 (2) 前記基板が平面状透明板であることを特徴とする前
記(1) 記載のディスプレイ用蛍光面の形成方法。
クス（ＢＭ）層及び蛍光膜を有する蛍光面の形成方法に
おいて、最初にフォトリソグラフィー法で基板上にブラ
ックマトリックス（ＢＭ）層を形成した後に、蛍光膜に
対応して製版された版を用いて印刷法で蛍光体含有イン
ク組成物を塗布して蛍光膜を形成することを特徴とする
ディスプレイ用蛍光面の形成方法。 (2) 前記基板が平面状透明板であることを特徴とする前
記(1) 記載のディスプレイ用蛍光面の形成方法。
【０００９】(3) 前記ブラックマトリックス層を有する
基板上に前記蛍光膜を形成する際に、前記蛍光体含有イ
ンク組成物を、前記ブラックマトリックス層の開口部及
び該開口部に隣接する前記ブラックマトリックス層の一
部に重畳させて塗布することを特徴とする前記(1) 又は
(2) 記載のディスプレイ用蛍光面の形成方法。 (4) 前記重畳塗布部の幅を１０μｍ以上とすることを特
徴とする前記(3) 記載のディスプレイ用蛍光面の形成方
法。
基板上に前記蛍光膜を形成する際に、前記蛍光体含有イ
ンク組成物を、前記ブラックマトリックス層の開口部及
び該開口部に隣接する前記ブラックマトリックス層の一
部に重畳させて塗布することを特徴とする前記(1) 又は
(2) 記載のディスプレイ用蛍光面の形成方法。 (4) 前記重畳塗布部の幅を１０μｍ以上とすることを特
徴とする前記(3) 記載のディスプレイ用蛍光面の形成方
法。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の方法により３色蛍
光膜を有するディスプレイ用蛍光面を形成する手順を図
１により詳述する。図１ａは、ガラス等の平面状透明基
板１の上にフォトレジスト膜２を形成した状態を示した
ものである。まず、水中にポリビニルアルコール（ＰＶ
Ａ）と光重合触媒の重クロム酸アンモニウムを添加し混
合してフォトレジストスラリーを調製し、蛍光面を形成
しようとする基板上１に上記のフォトレジストスラリー
塗布してフォトレジスト膜２を形成する。
光膜を有するディスプレイ用蛍光面を形成する手順を図
１により詳述する。図１ａは、ガラス等の平面状透明基
板１の上にフォトレジスト膜２を形成した状態を示した
ものである。まず、水中にポリビニルアルコール（ＰＶ
Ａ）と光重合触媒の重クロム酸アンモニウムを添加し混
合してフォトレジストスラリーを調製し、蛍光面を形成
しようとする基板上１に上記のフォトレジストスラリー
塗布してフォトレジスト膜２を形成する。
【００１１】図１ｂは、３色の蛍光膜パターンのマスク
（シャドーマスク）３を通して、３色の蛍光膜Ｂ、Ｇ、
Ｒが形成されるべき部分ｂ、ｇ、ｒに紫外線を照射して
その部分のフォトレジスト膜２を硬化する状況を示した
図である。図１ｃは、未硬化のフォトレジスト膜２を水
で洗い流して各色の蛍光膜Ｂ、Ｇ、Ｒが形成されるべき
場所ｂ、ｇ、ｒに硬化したフォトレジスト膜４を形成し
た図である。なお、図１ｂ及び図１ｃがいわゆる現像処
理工程である。
（シャドーマスク）３を通して、３色の蛍光膜Ｂ、Ｇ、
Ｒが形成されるべき部分ｂ、ｇ、ｒに紫外線を照射して
その部分のフォトレジスト膜２を硬化する状況を示した
図である。図１ｃは、未硬化のフォトレジスト膜２を水
で洗い流して各色の蛍光膜Ｂ、Ｇ、Ｒが形成されるべき
場所ｂ、ｇ、ｒに硬化したフォトレジスト膜４を形成し
た図である。なお、図１ｂ及び図１ｃがいわゆる現像処
理工程である。
【００１２】図１ｄは、黒鉛粉末等の光吸収物質を水中
に懸濁させたスラリー５を基板１全面に塗布した図であ
る。図１ｅは、過酸化水素水フォトレジスト層剥離液を
用いて再度現像することにより、各色の蛍光膜Ｂ、Ｇ、
Ｒが形成されるべき位置ｂ、ｇ、ｒに形成されている硬
化したフォトレジスト４のみを剥離して、基板１上の各
蛍光膜Ｂ，Ｇ、Ｒが形成されるべき位置ｂ、ｇ、ｒ以外
の場所にＢＭ層Ｃを形成した図である。
に懸濁させたスラリー５を基板１全面に塗布した図であ
る。図１ｅは、過酸化水素水フォトレジスト層剥離液を
用いて再度現像することにより、各色の蛍光膜Ｂ、Ｇ、
Ｒが形成されるべき位置ｂ、ｇ、ｒに形成されている硬
化したフォトレジスト４のみを剥離して、基板１上の各
蛍光膜Ｂ，Ｇ、Ｒが形成されるべき位置ｂ、ｇ、ｒ以外
の場所にＢＭ層Ｃを形成した図である。
【００１３】ＢＭ層Ｃは、後に形成される蛍光膜Ｂ、
Ｇ、Ｒがストライプ状である場合にはＢＭ層Ｃもストラ
イプ形状とし、その幅がほぼ２０〜２００μｍのストラ
イプ状とする。また、後に形成する各蛍光膜Ｂ、Ｇ、Ｒ
がドット状又は長方形の矩形状である場合には、ＢＭ層
Ｃは蛍光膜が形成されるべき場所ｂ、ｇ、ｒを除く蛍光
面の全面を覆う形状とする。このようにして得られたＢ
Ｍ層Ｃは、フォトリソグラフィー法で形成されるため、
そのエッジがシャープで欠落部分や塗りムラのない精細
な層を形成することができる。
Ｇ、Ｒがストライプ状である場合にはＢＭ層Ｃもストラ
イプ形状とし、その幅がほぼ２０〜２００μｍのストラ
イプ状とする。また、後に形成する各蛍光膜Ｂ、Ｇ、Ｒ
がドット状又は長方形の矩形状である場合には、ＢＭ層
Ｃは蛍光膜が形成されるべき場所ｂ、ｇ、ｒを除く蛍光
面の全面を覆う形状とする。このようにして得られたＢ
Ｍ層Ｃは、フォトリソグラフィー法で形成されるため、
そのエッジがシャープで欠落部分や塗りムラのない精細
な層を形成することができる。
【００１４】次に、基板１上のＢＭ層Ｃが形成されてい
ない部分ｂ、ｇ、ｒにスクリーン印刷法によって３色の
蛍光膜Ｂ、Ｇ、Ｒを順次形成して行く。蛍光膜Ｂ、Ｇ、
Ｒは、まず、３色の各蛍光体をそれぞれエチルセルロー
ス等のバインダー樹脂に分散させて混練して蛍光体含有
インク組成物Ｉｂ、Ｉｇ、Ｉｒを調製する。各蛍光膜
Ｂ、Ｇ、Ｒの所望のパターンに製版された３枚の版Ｓ
ｂ、Ｓｇ、Ｓｒを使用し、３色の蛍光膜Ｂ、Ｇ、Ｒが形
成されるべき各所定の位置ｂ、ｇ、ｒに塗布されるよう
に印刷位置を調整して、３色の各蛍光体含有インク組成
物Ｉｂ、Ｉｇ、Ｉｒを色毎に３回に分けて順次スクリー
ン印刷して塗布し、乾燥する（図１ｆ、ｇ、ｈ）。この
ようにして、基板１上にＢＭ層Ｃ及び３色の蛍光膜Ｂ、
Ｇ、Ｒを備えた蛍光面を得る（図１ｉ）。
ない部分ｂ、ｇ、ｒにスクリーン印刷法によって３色の
蛍光膜Ｂ、Ｇ、Ｒを順次形成して行く。蛍光膜Ｂ、Ｇ、
Ｒは、まず、３色の各蛍光体をそれぞれエチルセルロー
ス等のバインダー樹脂に分散させて混練して蛍光体含有
インク組成物Ｉｂ、Ｉｇ、Ｉｒを調製する。各蛍光膜
Ｂ、Ｇ、Ｒの所望のパターンに製版された３枚の版Ｓ
ｂ、Ｓｇ、Ｓｒを使用し、３色の蛍光膜Ｂ、Ｇ、Ｒが形
成されるべき各所定の位置ｂ、ｇ、ｒに塗布されるよう
に印刷位置を調整して、３色の各蛍光体含有インク組成
物Ｉｂ、Ｉｇ、Ｉｒを色毎に３回に分けて順次スクリー
ン印刷して塗布し、乾燥する（図１ｆ、ｇ、ｈ）。この
ようにして、基板１上にＢＭ層Ｃ及び３色の蛍光膜Ｂ、
Ｇ、Ｒを備えた蛍光面を得る（図１ｉ）。
【００１５】この時に用いられるスクリーン印刷用の版
Ｓｂ、Ｓｇ、Ｓｒは、主としてステンレス製メッシュを
版材とし、所望のパターンに製版したものである。蛍光
膜パターンの製版Ｓｂ、Ｓｇ、Ｓｒは、当然のことなが
ら、その各蛍光膜の形状もＢＭ層Ｃの開口部形状に合わ
せたドット状、矩形状又はストライプ状の蛍光膜を印刷
できるような蛍光膜パターンに対応したものである。
Ｓｂ、Ｓｇ、Ｓｒは、主としてステンレス製メッシュを
版材とし、所望のパターンに製版したものである。蛍光
膜パターンの製版Ｓｂ、Ｓｇ、Ｓｒは、当然のことなが
ら、その各蛍光膜の形状もＢＭ層Ｃの開口部形状に合わ
せたドット状、矩形状又はストライプ状の蛍光膜を印刷
できるような蛍光膜パターンに対応したものである。
【００１６】上記の製版Ｓｂ、Ｓｇ、Ｓｒを用いて、Ｂ
Ｍ層Ｃを有する基板１上に所定の色の蛍光体含有インク
組成物Ｉｂ、Ｉｇ、Ｉｒをそれぞれ別々に印刷塗布す
る。その際、各インク組成物Ｉｂ、Ｉｇ、Ｉｒは、図２
ａに示すように、蛍光膜を形成すべきＢＭ層Ｃの開口部
分ｂ、ｇ、ｒに充填するとともに、該開口部分ｂ、ｇ、
ｒの周囲のＢＭ層Ｃの周辺部表面Ｃｅにも重畳して塗布
することが好ましい。そのためには、この重畳塗布する
ＢＭ層Ｃの周辺部表面Ｃｅの幅（ｔ）だけ、ＢＭ層Ｃの
開口部分ｂ、ｇ、ｒより大きな開口部を有する製版Ｓ
ｂ、Ｓｇ、Ｓｒを用いる。
Ｍ層Ｃを有する基板１上に所定の色の蛍光体含有インク
組成物Ｉｂ、Ｉｇ、Ｉｒをそれぞれ別々に印刷塗布す
る。その際、各インク組成物Ｉｂ、Ｉｇ、Ｉｒは、図２
ａに示すように、蛍光膜を形成すべきＢＭ層Ｃの開口部
分ｂ、ｇ、ｒに充填するとともに、該開口部分ｂ、ｇ、
ｒの周囲のＢＭ層Ｃの周辺部表面Ｃｅにも重畳して塗布
することが好ましい。そのためには、この重畳塗布する
ＢＭ層Ｃの周辺部表面Ｃｅの幅（ｔ）だけ、ＢＭ層Ｃの
開口部分ｂ、ｇ、ｒより大きな開口部を有する製版Ｓ
ｂ、Ｓｇ、Ｓｒを用いる。
【００１７】図２ｂは、かかる版Ｓｂ、Ｓｇ、Ｓｒを用
いて蛍光膜パターンを印刷塗布した側から観察した平面
図である。蛍光膜パターンの輪郭部Ｅは、ＢＭ層Ｃの開
口部分ｂ、ｇ、ｒの外側に位置するように各蛍光体含有
インク組成物Ｉｂ、Ｉｇ、Ｉｒを印刷塗布する。このよ
うにして得た基板１は、ＢＭ層Ｃがフォトリソグラフィ
ー法で形成されているため、ＢＭ層Ｃの開口部周囲がシ
ャープであり、その結果、ＢＭ層Ｃの開口部を通して観
察される蛍光膜Ｂ、Ｇ、Ｒの輪郭部はシャープになり、
仮に蛍光膜の周囲に欠落やエッジ切れがあってもＢＭ層
Ｃとの重畳部分で覆われるため、それらは観察されず、
極めて良質の蛍光面を得ることができる。
いて蛍光膜パターンを印刷塗布した側から観察した平面
図である。蛍光膜パターンの輪郭部Ｅは、ＢＭ層Ｃの開
口部分ｂ、ｇ、ｒの外側に位置するように各蛍光体含有
インク組成物Ｉｂ、Ｉｇ、Ｉｒを印刷塗布する。このよ
うにして得た基板１は、ＢＭ層Ｃがフォトリソグラフィ
ー法で形成されているため、ＢＭ層Ｃの開口部周囲がシ
ャープであり、その結果、ＢＭ層Ｃの開口部を通して観
察される蛍光膜Ｂ、Ｇ、Ｒの輪郭部はシャープになり、
仮に蛍光膜の周囲に欠落やエッジ切れがあってもＢＭ層
Ｃとの重畳部分で覆われるため、それらは観察されず、
極めて良質の蛍光面を得ることができる。
【００１８】図３は、ストライプ状の各蛍光膜Ｂ、Ｇ、
Ｒ及びＢＭ層Ｃを全て印刷法によって形成した従来の蛍
光面を模式的に図示したものであり、図４は、本発明の
方法により、フォトリソグラフィー法でＢＭ層Ｃを形成
した後に、印刷法で蛍光膜Ｂ、Ｇ、Ｒを形成した蛍光面
を模式的に図示したものである。
Ｒ及びＢＭ層Ｃを全て印刷法によって形成した従来の蛍
光面を模式的に図示したものであり、図４は、本発明の
方法により、フォトリソグラフィー法でＢＭ層Ｃを形成
した後に、印刷法で蛍光膜Ｂ、Ｇ、Ｒを形成した蛍光面
を模式的に図示したものである。
【００１９】図３ａ及び図４ａはともに基板１を蛍光膜
パターン塗布側から観察した図であり、図３ｂ及び図４
ｂは基板１を図３ａ及び図４ａとは反対側から観察した
図である。特に、図３ｂと図４ｂを対比すると明らかな
ように、ＢＭ層Ｃをフォトリソグラフィー法で形成した
本発明の蛍光膜（図４ｂ）の方が、蛍光膜Ｂ，Ｇ，Ｒ及
びＢＭ層Ｃを全て従来の印刷法で形成した蛍光膜（図３
ｂ）より、ＢＭ層Ｃの開口部を通して観察される各蛍光
膜Ｂ、Ｇ、Ｒの輪郭部即ち境界線がはっきりしており、
エッジ部のシャープな蛍光面が得られる。
パターン塗布側から観察した図であり、図３ｂ及び図４
ｂは基板１を図３ａ及び図４ａとは反対側から観察した
図である。特に、図３ｂと図４ｂを対比すると明らかな
ように、ＢＭ層Ｃをフォトリソグラフィー法で形成した
本発明の蛍光膜（図４ｂ）の方が、蛍光膜Ｂ，Ｇ，Ｒ及
びＢＭ層Ｃを全て従来の印刷法で形成した蛍光膜（図３
ｂ）より、ＢＭ層Ｃの開口部を通して観察される各蛍光
膜Ｂ、Ｇ、Ｒの輪郭部即ち境界線がはっきりしており、
エッジ部のシャープな蛍光面が得られる。
【００２０】なお、本発明において、各色蛍光体含有イ
ンク組成物Ｉｂ、Ｉｇ、Ｉｒを印刷塗布するときに、各
色蛍光体含有インク組成物Ｉｂ、Ｉｇ、Ｉｒを重畳塗布
するＢＭ層Ｃの端縁部表面Ｃｅの幅（ｔ）は１０μｍ以
上確保することが重要であるが、隣接する別の色の蛍光
膜と重ならない距離を確保する必要はある。
ンク組成物Ｉｂ、Ｉｇ、Ｉｒを印刷塗布するときに、各
色蛍光体含有インク組成物Ｉｂ、Ｉｇ、Ｉｒを重畳塗布
するＢＭ層Ｃの端縁部表面Ｃｅの幅（ｔ）は１０μｍ以
上確保することが重要であるが、隣接する別の色の蛍光
膜と重ならない距離を確保する必要はある。
【００２１】本発明の蛍光面の形成に用いる蛍光体は、
従来のディスプレイ用蛍光面に用いる蛍光体と変わると
ころはなく、例えば赤色蛍光体としてＹ2 Ｏ2 Ｓ：Ｅ
ｕ、青色蛍光体としてＺｎＳ：Ａｇ、緑色蛍光体として
ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ等、高低速電子線励起により発光し
得る蛍光体であれば特に制限はない。この場合、画像の
コントラストを高めるために、蛍光体の発光色と同じ体
色を有する顔料を表面に付着させた顔料付蛍光体を用い
ても良い。
従来のディスプレイ用蛍光面に用いる蛍光体と変わると
ころはなく、例えば赤色蛍光体としてＹ2 Ｏ2 Ｓ：Ｅ
ｕ、青色蛍光体としてＺｎＳ：Ａｇ、緑色蛍光体として
ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ等、高低速電子線励起により発光し
得る蛍光体であれば特に制限はない。この場合、画像の
コントラストを高めるために、蛍光体の発光色と同じ体
色を有する顔料を表面に付着させた顔料付蛍光体を用い
ても良い。
【００２２】本発明の方法によれば、印刷法で蛍光膜
Ｂ、Ｇ、Ｒ及びＢＭ層Ｃ全てを形成した従来の蛍光面に
比べて、蛍光膜Ｂ、Ｇ、ＲとＢＭ層Ｃとの輪郭部が鮮明
で高精細な画像が得られ、また、印刷法によりＢＭ層を
形成する場合と違って、ＢＭ層Ｃのスジ、ムラが少な
く、異物による膜の欠陥の少ない良好な蛍光面が得られ
る。また、フォトリソグラフィー法で蛍光膜を形成する
場合と比べ、蛍光膜形成のための設備や工程を簡略化す
ることができ、蛍光面形成中の蛍光体のロスをほとんど
なくなくすことができ、さらに特定色の蛍光膜中に他色
蛍光体が混入するクロスコンタミネーションを防止でき
るという利点がある。
Ｂ、Ｇ、Ｒ及びＢＭ層Ｃ全てを形成した従来の蛍光面に
比べて、蛍光膜Ｂ、Ｇ、ＲとＢＭ層Ｃとの輪郭部が鮮明
で高精細な画像が得られ、また、印刷法によりＢＭ層を
形成する場合と違って、ＢＭ層Ｃのスジ、ムラが少な
く、異物による膜の欠陥の少ない良好な蛍光面が得られ
る。また、フォトリソグラフィー法で蛍光膜を形成する
場合と比べ、蛍光膜形成のための設備や工程を簡略化す
ることができ、蛍光面形成中の蛍光体のロスをほとんど
なくなくすことができ、さらに特定色の蛍光膜中に他色
蛍光体が混入するクロスコンタミネーションを防止でき
るという利点がある。
【００２３】
【実施例】以下、図１を用いて実施例により本発明を説
明する。 （実施例）まず、ＰＶＡと重クロム酸アンモニウムとを
水中に溶解させてなる感光性樹脂スラリーを、厚さ３ｍ
ｍの平板状ガラス板１上の全面に塗布し、乾燥して感光
性樹脂層（ホトレジスト層）２を形成した（図１ａ）。
次いで、ストライプ状に開口した特定パターンの金属メ
ッシュ状シャドーマスク３を通して紫外線を照射した
（図１ｂ）後、水でガラス板を洗浄し、紫外線の照射を
受けていない未硬化の部分のフォトレジスト層２を除去
し、後に蛍光膜を形成すべき部分ｂ、ｇ、ｒにフォトレ
ジスト層４を形成した（図１ｃ）。
明する。 （実施例）まず、ＰＶＡと重クロム酸アンモニウムとを
水中に溶解させてなる感光性樹脂スラリーを、厚さ３ｍ
ｍの平板状ガラス板１上の全面に塗布し、乾燥して感光
性樹脂層（ホトレジスト層）２を形成した（図１ａ）。
次いで、ストライプ状に開口した特定パターンの金属メ
ッシュ状シャドーマスク３を通して紫外線を照射した
（図１ｂ）後、水でガラス板を洗浄し、紫外線の照射を
受けていない未硬化の部分のフォトレジスト層２を除去
し、後に蛍光膜を形成すべき部分ｂ、ｇ、ｒにフォトレ
ジスト層４を形成した（図１ｃ）。
【００２４】フォトレジスト層４を有する平板ガラス１
上に、膠質黒鉛を水中に懸濁させた黒鉛スラリーを全面
に塗布して乾燥させ、一旦全面に黒鉛層５を形成してか
ら（図１ｄ）、黒鉛層５の全体を希過酸化水素水で洗浄
することによって、先に硬化させたフォトレジスト層４
だけを剥離して、幅１２０μｍのストライプ状のＢＭ層
Ｃを３５０μｍピッチで作成した（図１ｅ）。
上に、膠質黒鉛を水中に懸濁させた黒鉛スラリーを全面
に塗布して乾燥させ、一旦全面に黒鉛層５を形成してか
ら（図１ｄ）、黒鉛層５の全体を希過酸化水素水で洗浄
することによって、先に硬化させたフォトレジスト層４
だけを剥離して、幅１２０μｍのストライプ状のＢＭ層
Ｃを３５０μｍピッチで作成した（図１ｅ）。
【００２５】他方、１００重量部の青色蛍光体（Ｚｎ
Ｓ：Ａｇ）蛍光体、１０重量部のエチルセルロース及び
６０重量部のターピオネールからなる混合組成物を３本
ロールミルで混合して、５００００ｃｐに調整した青色
蛍光体（ＺｎＳ：Ａｇ）含有インク組成物のペーストを
製造した。次に、ストライプ幅２５０μｍ、ピッチ１０
５０μｍのスクリーン印刷用の製版を用い、上記の青色
蛍光体（ＺｎＳ：Ａｇ）含有インク組成物をスクリーン
印刷法でガラス板１上に印刷塗布し、１３０℃で３０分
間乾燥させて青色蛍光膜Ｂを形成した。同様にして、緑
色蛍光体（ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ）含有インク組成物及び
赤色蛍光体（Ｙ2 Ｏ2 Ｓ：Ｅｕ）含有インク組成物をそ
れぞれ用い、スクリーン印刷法でガラス基板１上に緑色
蛍光膜Ｇ及び赤色蛍光膜Ｒを順次形成して３色の蛍光面
を製造した。
Ｓ：Ａｇ）蛍光体、１０重量部のエチルセルロース及び
６０重量部のターピオネールからなる混合組成物を３本
ロールミルで混合して、５００００ｃｐに調整した青色
蛍光体（ＺｎＳ：Ａｇ）含有インク組成物のペーストを
製造した。次に、ストライプ幅２５０μｍ、ピッチ１０
５０μｍのスクリーン印刷用の製版を用い、上記の青色
蛍光体（ＺｎＳ：Ａｇ）含有インク組成物をスクリーン
印刷法でガラス板１上に印刷塗布し、１３０℃で３０分
間乾燥させて青色蛍光膜Ｂを形成した。同様にして、緑
色蛍光体（ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ）含有インク組成物及び
赤色蛍光体（Ｙ2 Ｏ2 Ｓ：Ｅｕ）含有インク組成物をそ
れぞれ用い、スクリーン印刷法でガラス基板１上に緑色
蛍光膜Ｇ及び赤色蛍光膜Ｒを順次形成して３色の蛍光面
を製造した。
【００２６】（比較例）ストライプ幅１２０μｍ、ピッ
チ３５０μｍのスクリーン印刷用の製版を用い、黒鉛粉
末１００重量部に対してエチルセルロース２０重量部、
ターピオネール１５０重量部の混合液を３本ロールミル
を用いて分散処理し、その粘度を１０００００ｃｐに調
整した黒鉛ペーストを作成し、スクリーン印刷法によ
り、幅１２０μｍのストライプ状のＢＭ層Ｃをガラス基
板上に作成した以外は、実施例と同様にして青、緑、赤
各色の蛍光膜を印刷法によって形成して、比較例の蛍光
面を製造した。
チ３５０μｍのスクリーン印刷用の製版を用い、黒鉛粉
末１００重量部に対してエチルセルロース２０重量部、
ターピオネール１５０重量部の混合液を３本ロールミル
を用いて分散処理し、その粘度を１０００００ｃｐに調
整した黒鉛ペーストを作成し、スクリーン印刷法によ
り、幅１２０μｍのストライプ状のＢＭ層Ｃをガラス基
板上に作成した以外は、実施例と同様にして青、緑、赤
各色の蛍光膜を印刷法によって形成して、比較例の蛍光
面を製造した。
【００２７】このようにして得た実施例及び比較例の各
蛍光面を比較したところ、蛍光膜塗布面とは逆の面から
基板１を観察したところ、実施例の蛍光面では、ＢＭ層
の開口部を通して観察される蛍光膜の輪郭部即ちＢＭ層
と蛍光膜との境界線がシャープであり、蛍光膜の外観も
非常に優れていた。しかし、比較例の蛍光面ではＢＭ層
にスジやムラ及び異物による膜面の隆起、黒鉛の局所的
集合等の欠陥が発生し、上記境界線がジグザグであり、
外観にも問題があった。
蛍光面を比較したところ、蛍光膜塗布面とは逆の面から
基板１を観察したところ、実施例の蛍光面では、ＢＭ層
の開口部を通して観察される蛍光膜の輪郭部即ちＢＭ層
と蛍光膜との境界線がシャープであり、蛍光膜の外観も
非常に優れていた。しかし、比較例の蛍光面ではＢＭ層
にスジやムラ及び異物による膜面の隆起、黒鉛の局所的
集合等の欠陥が発生し、上記境界線がジグザグであり、
外観にも問題があった。
【００２８】また、上記と同様に、実施例の蛍光面及び
比較例の蛍光面をそれぞれ各８０枚を作製し、目視観察
したところ、得られた各蛍光面のＢＭ層内にスジ、ム
ラ、微量の塵埃等異物の混入による局部的黒化、膜面の
局部的な隆起等の外観不良の数を計測して比較したとこ
ろ、実施例で５枚あったのに対し、比較例では４８枚あ
り、実施例の方が蛍光面の不良品発生率が著しく低く抑
えることができた。
比較例の蛍光面をそれぞれ各８０枚を作製し、目視観察
したところ、得られた各蛍光面のＢＭ層内にスジ、ム
ラ、微量の塵埃等異物の混入による局部的黒化、膜面の
局部的な隆起等の外観不良の数を計測して比較したとこ
ろ、実施例で５枚あったのに対し、比較例では４８枚あ
り、実施例の方が蛍光面の不良品発生率が著しく低く抑
えることができた。
【００２９】
【発明の効果】本発明は、上記の構成を採用することに
より、各蛍光膜のエッジがシャープで均一かつ高精細な
蛍光面を形成することができ、しかも、かかる蛍光面を
比較的簡便な形成設備で形成することができ、形成時の
不良品率も大幅に抑制することが可能になった。
より、各蛍光膜のエッジがシャープで均一かつ高精細な
蛍光面を形成することができ、しかも、かかる蛍光面を
比較的簡便な形成設備で形成することができ、形成時の
不良品率も大幅に抑制することが可能になった。
【図１】図１は本発明の一実施例による３色蛍光面の形
成方法を説明するための図である。
成方法を説明するための図である。
【図２】図２は本発明の方法で形成されたＢＭ層の開口
部と、蛍光膜パターンの輪郭部との関係を示した図であ
る。
部と、蛍光膜パターンの輪郭部との関係を示した図であ
る。
【図３】図３は従来の形成方法で得たＢＭ層Ｃと蛍光膜
Ｂ，Ｇ，Ｒとの関係を示した拡大図である。
Ｂ，Ｇ，Ｒとの関係を示した拡大図である。
【図４】図４は本発明の形成方法で得たＢＭ層Ｃと蛍光
膜Ｂ，Ｇ，Ｒとの関係を示した拡大図である。
膜Ｂ，Ｇ，Ｒとの関係を示した拡大図である。
Claims (4)
- 【請求項１】 基板上に少なくともブラックマトリック
ス層及び蛍光膜を有する蛍光面の形成方法において、最
初にフォトリソグラフィー法で基板上にブラックマトリ
ックス層を形成した後に、蛍光膜に対応して製版された
版を用いて印刷法で蛍光体含有インク組成物を塗布して
蛍光膜を形成することを特徴とするディスプレイ用蛍光
面の形成方法。 - 【請求項２】 前記基板が平面状透明板であることを特
徴とする請求項１記載のディスプレイ用蛍光面の形成方
法。 - 【請求項３】 前記ブラックマトリックス層を有する基
板上に前記蛍光膜を形成する際に、前記蛍光体含有イン
ク組成物を、前記ブラックマトリックス層の開口部及び
該開口部に隣接する前記ブラックマトリックス層の一部
に重畳させて塗布することを特徴とする請求項１又は２
記載のディスプレイ用蛍光面の形成方法。 - 【請求項４】 前記重畳塗布部の幅を１０μｍ以上とす
ることを特徴とする請求項３記載のディスプレイ用蛍光
面の形成方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10226433A JP2000057946A (ja) | 1998-08-11 | 1998-08-11 | ディスプレイ用蛍光面の形成方法 |
| TW088113577A TW430846B (en) | 1998-08-11 | 1999-08-09 | Process for forming a phosphor screen for display |
| KR1019990032727A KR100766509B1 (ko) | 1998-08-11 | 1999-08-10 | 디스플레이용 형광면의 형성방법 |
| US09/371,009 US20010046553A1 (en) | 1998-08-11 | 1999-08-10 | Process for forming a phosphor screen for display |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10226433A JP2000057946A (ja) | 1998-08-11 | 1998-08-11 | ディスプレイ用蛍光面の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000057946A true JP2000057946A (ja) | 2000-02-25 |
Family
ID=16845047
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10226433A Pending JP2000057946A (ja) | 1998-08-11 | 1998-08-11 | ディスプレイ用蛍光面の形成方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20010046553A1 (ja) |
| JP (1) | JP2000057946A (ja) |
| KR (1) | KR100766509B1 (ja) |
| TW (1) | TW430846B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006070550A1 (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | 表示装置の製造方法 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100442293B1 (ko) * | 2001-12-27 | 2004-07-30 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 패턴 형성방법 |
| CN100405524C (zh) * | 2004-06-02 | 2008-07-23 | 清华大学 | 双面场发射显示器 |
| US7955875B2 (en) * | 2008-09-26 | 2011-06-07 | Cree, Inc. | Forming light emitting devices including custom wavelength conversion structures |
| KR101253586B1 (ko) * | 2010-08-25 | 2013-04-11 | 삼성전자주식회사 | 형광체 필름, 이의 제조방법, 형광층 도포 방법, 발광소자 패키지의 제조방법 및 발광소자 패키지 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3318906B2 (ja) * | 1994-03-23 | 2002-08-26 | ソニー株式会社 | 陰極線管の蛍光面作製方法、装置および陰極線管 |
-
1998
- 1998-08-11 JP JP10226433A patent/JP2000057946A/ja active Pending
-
1999
- 1999-08-09 TW TW088113577A patent/TW430846B/zh not_active IP Right Cessation
- 1999-08-10 US US09/371,009 patent/US20010046553A1/en not_active Abandoned
- 1999-08-10 KR KR1019990032727A patent/KR100766509B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006070550A1 (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | 表示装置の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100766509B1 (ko) | 2007-10-12 |
| TW430846B (en) | 2001-04-21 |
| US20010046553A1 (en) | 2001-11-29 |
| KR20000017222A (ko) | 2000-03-25 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050622 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070406 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070612 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20070926 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20071016 |