JP2000049195A - 電子部品用部材の製造方法 - Google Patents
電子部品用部材の製造方法Info
- Publication number
- JP2000049195A JP2000049195A JP10216848A JP21684898A JP2000049195A JP 2000049195 A JP2000049195 A JP 2000049195A JP 10216848 A JP10216848 A JP 10216848A JP 21684898 A JP21684898 A JP 21684898A JP 2000049195 A JP2000049195 A JP 2000049195A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polyimide film
- mask
- patterned
- laminated
- electronic component
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 低コストで高品質のものが得られる電子部品
用部材の製造方法を提供する。 【解決手段】 ポリイミドフィルム1の両面に積層した
金属箔2,3の上にそれぞれ対してレジストパターン
4,5を形成し、両方の金属箔2,3をエッチング液に
て同時にエッチング処理した後、レジストパターン4,
5を剥離してから、片方の金属箔3をマスクに利用して
プラズマエッチングすることでポリイミドフィルム1を
パターニングし、しかる後にマスクに使用した金属箔3
を除去することで、パターニングされたポリイミドフィ
ルム1とパターニングされた金属箔2との積層体8であ
る電子部品用部材を得る。製版が一回でよいので低コス
トで製造でき、しかもポリイミドフィルムのパターンと
金属箔のパターンとが良好な位置精度を持って積層され
た高品質のものを得ることができる。
用部材の製造方法を提供する。 【解決手段】 ポリイミドフィルム1の両面に積層した
金属箔2,3の上にそれぞれ対してレジストパターン
4,5を形成し、両方の金属箔2,3をエッチング液に
て同時にエッチング処理した後、レジストパターン4,
5を剥離してから、片方の金属箔3をマスクに利用して
プラズマエッチングすることでポリイミドフィルム1を
パターニングし、しかる後にマスクに使用した金属箔3
を除去することで、パターニングされたポリイミドフィ
ルム1とパターニングされた金属箔2との積層体8であ
る電子部品用部材を得る。製版が一回でよいので低コス
トで製造でき、しかもポリイミドフィルムのパターンと
金属箔のパターンとが良好な位置精度を持って積層され
た高品質のものを得ることができる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体パッケージ
部品、半導体実装部品、電気的試験部品等を構成するの
に用いられる電子部品用部材の製造方法に関するもので
ある。
部品、半導体実装部品、電気的試験部品等を構成するの
に用いられる電子部品用部材の製造方法に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の電子部品用部材の一つと
して、それぞれに所定形状の加工が施された金属箔とポ
リイミドフィルムの積層体がある。このような積層体
は、例えばTAB( Tape Automated Bonding )の製造
工程に見られるように次のような手順で製造されてい
る。(1)まず、接着剤付きのポリイミドフィルムに金
型を用いてスプロケット及びデバイスホール等の孔明け
加工を行う。(2)次に、加工済みのポリイミドフィル
ムに銅箔をラミネータにより積層する。(3)次いで、
ポリイミドフィルムが積層された銅箔に対してフォトレ
ジストをコーティングし、絵柄の形成されたパターンを
用いて露光及び現像の処理を行い、銅箔上にレジストパ
ターンを形成する。(4)さらに、ポリイミドフィルム
の開口部に耐エッチング性のある樹脂をコーティング
し、塩化鉄、塩化銅等のエッチャントで銅箔をエッチン
グする。(5)最後に、フォトレジストを剥離してポリ
イミドフィルムと銅箔の積層体を得る。
して、それぞれに所定形状の加工が施された金属箔とポ
リイミドフィルムの積層体がある。このような積層体
は、例えばTAB( Tape Automated Bonding )の製造
工程に見られるように次のような手順で製造されてい
る。(1)まず、接着剤付きのポリイミドフィルムに金
型を用いてスプロケット及びデバイスホール等の孔明け
加工を行う。(2)次に、加工済みのポリイミドフィル
ムに銅箔をラミネータにより積層する。(3)次いで、
ポリイミドフィルムが積層された銅箔に対してフォトレ
ジストをコーティングし、絵柄の形成されたパターンを
用いて露光及び現像の処理を行い、銅箔上にレジストパ
ターンを形成する。(4)さらに、ポリイミドフィルム
の開口部に耐エッチング性のある樹脂をコーティング
し、塩化鉄、塩化銅等のエッチャントで銅箔をエッチン
グする。(5)最後に、フォトレジストを剥離してポリ
イミドフィルムと銅箔の積層体を得る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記した如き従来の製
造方法によると、ポリイミドフィルムに金型で孔明けを
行うので、例えば0.5mm以下の微細孔やスリットを
形成する場合に、バリが生じたりエッジ形状が整わなか
ったりして、品質よく加工を行うことができないという
問題点がある。さらに、金型のメンテナンスに手間がか
かる上に、低コスト加工を行うのが難しいという問題点
もある。また、金属箔をポリイミドフィルムとラミネー
トする際に膨張したり収縮するので、積層体に内部応力
が発生し、最終製品にひずみが生じてしまうと言った問
題点もある。さらに、金属箔のパターニングは、ポリイ
ミドフィルムに加工された孔にアライメントして行わな
ければならず、位置合わせ精度が必要になるという問題
点もある。
造方法によると、ポリイミドフィルムに金型で孔明けを
行うので、例えば0.5mm以下の微細孔やスリットを
形成する場合に、バリが生じたりエッジ形状が整わなか
ったりして、品質よく加工を行うことができないという
問題点がある。さらに、金型のメンテナンスに手間がか
かる上に、低コスト加工を行うのが難しいという問題点
もある。また、金属箔をポリイミドフィルムとラミネー
トする際に膨張したり収縮するので、積層体に内部応力
が発生し、最終製品にひずみが生じてしまうと言った問
題点もある。さらに、金属箔のパターニングは、ポリイ
ミドフィルムに加工された孔にアライメントして行わな
ければならず、位置合わせ精度が必要になるという問題
点もある。
【0004】本発明は、上記のような問題点に鑑みてな
されたものであり、その目的とするところは、低コスト
で高品質のものが得られる電子部品用部材の製造方法を
提供することにある。
されたものであり、その目的とするところは、低コスト
で高品質のものが得られる電子部品用部材の製造方法を
提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
ために、本発明の電子部品用部材の製造方法は、ポリイ
ミドフィルムの両面に積層した金属箔の上にそれぞれレ
ジストパターンを形成し、両方の金属箔をエッチング液
にてエッチング処理した後、レジストパターンを剥離し
てから、片方の金属箔をマスクに利用して片面からのみ
プラズマエッチング処理することでポリイミドフィルム
をパターニングし、しかる後にマスクに使用した金属箔
を除去することを特徴とするものである。
ために、本発明の電子部品用部材の製造方法は、ポリイ
ミドフィルムの両面に積層した金属箔の上にそれぞれレ
ジストパターンを形成し、両方の金属箔をエッチング液
にてエッチング処理した後、レジストパターンを剥離し
てから、片方の金属箔をマスクに利用して片面からのみ
プラズマエッチング処理することでポリイミドフィルム
をパターニングし、しかる後にマスクに使用した金属箔
を除去することを特徴とするものである。
【0006】
【発明の実施の形態】図1は本発明に係る電子部品用部
材の製造方法の工程図であり、以下、この図面を参照し
て本発明の実施の形態について説明する。
材の製造方法の工程図であり、以下、この図面を参照し
て本発明の実施の形態について説明する。
【0007】まず、図1(a)に示すように、ポリイミ
ドフィルム1の両面にそれぞれ金属箔2,3を積層して
なる基板を準備する。この基板に所定の前処理を施して
から両面にフォトレジスト層を形成し、所定の絵柄が形
成してあるフォトマスクを介しての露光処理とそれに続
く現像処理により両面のフォトレジスト層をパターニン
グして、図1(b)に示すように各金属箔2,3の上に
レジストパターン4,5を形成する。続いて、図1
(c)に示すように、エッチング液にて両面の金属箔
2,3をエッチングする。この場合、両面の金属箔2,
3を同時にエッチングしてもよいし、順番にエッチング
しても構わない。同時にエッチングすれば工程を1つ減
らせる利点がある。また、微細な加工が必要な場合には
順番にエッチングする方が有利である。このようにエッ
チング処理を終えた後、図1(d)に示すようにレジス
トパターン4,5を剥離する。続いて、図1(e)に示
すように、基板を反転させた状態でステージ6の上に載
置し、プラズマエッチング7により金属箔3の方から、
すなわち銅箔をマスクに利用してポリイミドフィルム1
を加工する。最後に、ポリイミドフィルム1のエッチン
グを行った面の金属箔3を溶解除去し、図1(f)に示
すような、パターニングされたポリイミドフィルム1と
パターニングされた金属箔2との積層体8である電子部
品用部材を得る。これにより、金属箔とポリイミドフィ
ルムとがそれらのパターンが良好な位置精度を持って積
層された電子部品用部材が製造される。
ドフィルム1の両面にそれぞれ金属箔2,3を積層して
なる基板を準備する。この基板に所定の前処理を施して
から両面にフォトレジスト層を形成し、所定の絵柄が形
成してあるフォトマスクを介しての露光処理とそれに続
く現像処理により両面のフォトレジスト層をパターニン
グして、図1(b)に示すように各金属箔2,3の上に
レジストパターン4,5を形成する。続いて、図1
(c)に示すように、エッチング液にて両面の金属箔
2,3をエッチングする。この場合、両面の金属箔2,
3を同時にエッチングしてもよいし、順番にエッチング
しても構わない。同時にエッチングすれば工程を1つ減
らせる利点がある。また、微細な加工が必要な場合には
順番にエッチングする方が有利である。このようにエッ
チング処理を終えた後、図1(d)に示すようにレジス
トパターン4,5を剥離する。続いて、図1(e)に示
すように、基板を反転させた状態でステージ6の上に載
置し、プラズマエッチング7により金属箔3の方から、
すなわち銅箔をマスクに利用してポリイミドフィルム1
を加工する。最後に、ポリイミドフィルム1のエッチン
グを行った面の金属箔3を溶解除去し、図1(f)に示
すような、パターニングされたポリイミドフィルム1と
パターニングされた金属箔2との積層体8である電子部
品用部材を得る。これにより、金属箔とポリイミドフィ
ルムとがそれらのパターンが良好な位置精度を持って積
層された電子部品用部材が製造される。
【0008】上記のような積層体8において、ポリイミ
ドフィルム1と金属箔2に形成するパターンは、孔やス
リットなど用途に応じて所望の形状を採用すればよい。
ドフィルム1と金属箔2に形成するパターンは、孔やス
リットなど用途に応じて所望の形状を採用すればよい。
【0009】また、用途に応じて、上記のようにして得
られた積層体8の金属箔2に金メッキを施して多層構造
にしてもよい。
られた積層体8の金属箔2に金メッキを施して多層構造
にしてもよい。
【0010】
【実施例】次に、本発明の実施例について説明する。
【0011】まず、厚さ18μmのポリイミドフィルム
の両面にそれぞれ厚さ18μmの銅箔と厚さ20μmの
ステンレスを積層してなる3層構造の基板を準備した。
そして、この基板に対して脱脂処理を行ってから、ネガ
型の液体レジスト(JSR製「THB37」)を塗布す
ることで両面にフォトレジスト層を形成した。次いで、
所定のパターンが形成されたマスクを介して高圧水銀灯
でレジスト層を露光した後、所定の現像液で現像して両
面にそれぞれ所定形状のレジストパターンを形成した。
の両面にそれぞれ厚さ18μmの銅箔と厚さ20μmの
ステンレスを積層してなる3層構造の基板を準備した。
そして、この基板に対して脱脂処理を行ってから、ネガ
型の液体レジスト(JSR製「THB37」)を塗布す
ることで両面にフォトレジスト層を形成した。次いで、
所定のパターンが形成されたマスクを介して高圧水銀灯
でレジスト層を露光した後、所定の現像液で現像して両
面にそれぞれ所定形状のレジストパターンを形成した。
【0012】次に、エッチング液に塩化鉄を使用して両
面の銅箔とステンレスを同時にエッチングした後、所定
の剥離液を用いてレジストパターンを剥離した。続い
て、基板のステンレス側を下にして当該基板をステージ
の上に載置し、銅箔をマスクに利用してプラズマエッチ
ングによりポリイミドフィルムを加工した。最後に、銅
箔を溶解除去して、パターニングされたポリイミドフィ
ルムとパターニングされたステンレスとが積層された所
望の電子部品用部材を得た。
面の銅箔とステンレスを同時にエッチングした後、所定
の剥離液を用いてレジストパターンを剥離した。続い
て、基板のステンレス側を下にして当該基板をステージ
の上に載置し、銅箔をマスクに利用してプラズマエッチ
ングによりポリイミドフィルムを加工した。最後に、銅
箔を溶解除去して、パターニングされたポリイミドフィ
ルムとパターニングされたステンレスとが積層された所
望の電子部品用部材を得た。
【0013】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の電子部品
用部材の製造方法は、ポリイミドフィルムの両面に積層
した金属箔の上にそれぞれレジストパターンを形成し、
両方の金属箔をエッチング液にてエッチング処理するよ
うにし、ポリイミドフィルムはパターニングされた片方
の金属箔をマスクに利用したプラズマエッチング処理に
てパターニングするようにしたので、一回の製版にて金
属箔のエッチングとポリイミドフィルムのエッチングと
を行うことができることから、低コストで製造すること
ができ、しかもポリイミドフィルムのパターンと金属箔
のパターンとが良好な位置精度を持って積層された状態
になるので、高品質のものを得ることができる。
用部材の製造方法は、ポリイミドフィルムの両面に積層
した金属箔の上にそれぞれレジストパターンを形成し、
両方の金属箔をエッチング液にてエッチング処理するよ
うにし、ポリイミドフィルムはパターニングされた片方
の金属箔をマスクに利用したプラズマエッチング処理に
てパターニングするようにしたので、一回の製版にて金
属箔のエッチングとポリイミドフィルムのエッチングと
を行うことができることから、低コストで製造すること
ができ、しかもポリイミドフィルムのパターンと金属箔
のパターンとが良好な位置精度を持って積層された状態
になるので、高品質のものを得ることができる。
【図1】本発明に係る電子部品用部材の製造方法の工程
図である。
図である。
1 ポリイミドフィルム 2,3 金属箔 4,5 レジストパターン 6 ステージ 7 プラズマエッチング 8 積層体
フロントページの続き (72)発明者 芹澤 徹 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 関口 毅 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 Fターム(参考) 4M105 CC04 CC48
Claims (3)
- 【請求項1】 ポリイミドフィルムの両面に積層した金
属箔の上にそれぞれレジストパターンを形成し、両方の
金属箔をエッチング液にてエッチング処理した後、レジ
ストパターンを剥離してから、片方の金属箔をマスクに
利用して片面からのみプラズマエッチング処理すること
でポリイミドフィルムをパターニングし、しかる後にマ
スクに使用した金属箔を除去することを特徴とする電子
部品用部材の製造方法。 - 【請求項2】 ポリイミドフィルムの両面の金属箔に異
種類の金属箔を使用した請求項1に記載の電子部品用部
材の製造方法。 - 【請求項3】 異種類の金属箔が銅箔とステンレスであ
る請求項2に記載の電子部品用部材の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10216848A JP2000049195A (ja) | 1998-07-31 | 1998-07-31 | 電子部品用部材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10216848A JP2000049195A (ja) | 1998-07-31 | 1998-07-31 | 電子部品用部材の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000049195A true JP2000049195A (ja) | 2000-02-18 |
Family
ID=16694861
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10216848A Pending JP2000049195A (ja) | 1998-07-31 | 1998-07-31 | 電子部品用部材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000049195A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6750148B2 (en) | 2000-07-07 | 2004-06-15 | Dainippon Printing Co., Ltd. | Method of manufacturing wireless suspension blank |
US6942817B2 (en) | 2000-03-24 | 2005-09-13 | Dainippon Printing Co., Ltd. | Method of manufacturing wireless suspension blank |
-
1998
- 1998-07-31 JP JP10216848A patent/JP2000049195A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6942817B2 (en) | 2000-03-24 | 2005-09-13 | Dainippon Printing Co., Ltd. | Method of manufacturing wireless suspension blank |
US6750148B2 (en) | 2000-07-07 | 2004-06-15 | Dainippon Printing Co., Ltd. | Method of manufacturing wireless suspension blank |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7454832B2 (en) | Method of forming metal plate pattern and circuit board | |
KR100688826B1 (ko) | 리지드-플렉시블 인쇄회로기판 제조방법 | |
US20070017090A1 (en) | Method of forming metal plate pattern and circuit board | |
JP2000208901A (ja) | フレキシブル膜の両面に微細構造体層を形成する回路基板の製造方法 | |
US4106187A (en) | Curved rigid printed circuit boards | |
KR20010051541A (ko) | 범프 부착 배선회로기판의 제조방법 및 범프 형성방법 | |
JPH07263837A (ja) | 両面配線基板の製造法 | |
JP2000049195A (ja) | 電子部品用部材の製造方法 | |
JP2016049703A (ja) | 印刷用マスク及びその製造方法 | |
JPH09300840A (ja) | スクリーンマスクの製造方法 | |
JP2787228B2 (ja) | 可撓性回路基板の製造法 | |
JP4252227B2 (ja) | 両面可撓性回路基板の製造法 | |
KR100332886B1 (ko) | 반도체칩 실장용 플랙스형 인쇄회로기판 제조방법 | |
JP2000340926A (ja) | 金属・プラスチックハイブリッド構造印刷版の製造方法 | |
JP2003158158A (ja) | 両面配線tabテープキャリアの製造方法 | |
JP2775584B2 (ja) | 配線基板の製造法 | |
JPH06252529A (ja) | プリント配線板の製造方法 | |
JPH06177277A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2012214858A (ja) | パターン形成方法 | |
JPH04354153A (ja) | リードフレームの製造方法 | |
JPH0537124A (ja) | プリント配線板の製造方法 | |
JPH06340984A (ja) | 超薄形金属板におけるフォトエッチング加工法 | |
JPH0818200A (ja) | プリント配線板の製造方法 | |
JPH02119298A (ja) | 半導体素子搭載用多層印刷配線板の製造方法 | |
JPH0645760A (ja) | 多層基板およびその製造方法 |