JP2000047414A - Photoconductive image pickup member - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、広くは撮像部材に
関し、更に詳しくは、アルキルトリアルコキシシラン、
アルキルトリハロシラン、アルキルアシルオキシシラン
およびアミノアルキルトリアルコキシシランなどのアル
コキシシリル、アシルオキシシリルまたはハロシリル化
合物と熱架橋性アルコキシシリル、アシルオキシシリル
またはハロシリル官能化電子輸送ポリマーとの架橋から
得られる架橋された電子輸送ポリマーを含む耐溶剤性ホ
ール遮断層であって、好ましくは支持基板に接触してお
り、支持基板と光発生層との間に配置され、開示を本願
に引用して全体的に援用する米国特許第5,482,8
11号の光発生顔料、特にタイプVヒドロキシガリウム
フタロシアニンを含んでもよいホール遮断層を備える改
善された多層撮像部材に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates generally to imaging members, and more particularly to alkyltrialkoxysilanes,
Crosslinked electron transport resulting from crosslinking an alkoxysilyl, acyloxysilyl or halosilyl compound such as an alkyltrihalosilane, alkylacyloxysilane and aminoalkyltrialkoxysilane with a thermally crosslinkable alkoxysilyl, acyloxysilyl or halosilyl functionalized electron transport polymer. U.S. Pat. No. 5,482,8
No. 11 relates to an improved multilayer imaging member with a hole blocking layer that may include a photogenerating pigment, particularly Type V hydroxygallium phthalocyanine.
【0002】[0002]
【発明が解決しようとする課題】実施の形態における本
発明の撮像部材は、優れた繰返し/環境安定性と独立の
層放電を示し、長時間にわたり性能に実質的に悪い変化
がなく、耐溶剤性遮断層を撮像部材にもたらし、例え
ば、浸漬被覆またはスロット被覆などの種々の被覆技術
によって支持基板上に容易に被覆することができる好適
な厚みを有するホール遮断層を可能にする。前述の光応
答すなわち光導電撮像部材は、ホール輸送層と基板上に
被覆された遮断層との間に光発生層が配置される時、負
に帯電させることが可能である。撮像のプロセス、特に
ディジタルを含む電子写真撮像およびプリンティングの
プロセスも本発明に包含される。更に詳しくは、層状の
光導電撮像部材は、例えば、電子写真撮像プロセス、特
にゼログラフィ撮像およびプリンティングのプロセスを
含む公知の異なった多くの撮像およびプリンティング
の、適切な電荷極性のトナー組成物によって帯電された
潜像を可視化させるプロセスに対して選択することがで
きる。本願において示した撮像部材は、実施の形態にお
いて、例えば、約550〜約900ナノメートル、特に
約650〜約850ナノメートルの波長領域で高感度で
あるため、ダイオードレーザを光源として選択すること
ができる。更に、本発明の撮像部材は、好ましくは、幾
つかのカラープリンティングをシングルパスで達成する
ことができるカラー電子写真用途に有用である。SUMMARY OF THE INVENTION The imaging member of the present invention, in its preferred embodiment, exhibits excellent repetition / environmental stability and independent layer discharge, has substantially no adverse change in performance over time, and is resistant to solvents. An insulating barrier layer is provided to the imaging member, allowing for a hole barrier layer of suitable thickness that can be easily coated on a supporting substrate by various coating techniques such as, for example, dip coating or slot coating. The photoresponsive or photoconductive imaging member described above can be negatively charged when the photogenerating layer is located between the hole transport layer and the blocking layer coated on the substrate. Imaging processes, particularly electrophotographic imaging and printing processes, including digital, are also encompassed by the present invention. More specifically, the layered photoconductive imaging member is charged with a toner composition of appropriate charge polarity for many different known imaging and printing processes, including, for example, electrophotographic imaging processes, particularly xerographic imaging and printing processes. Can be selected for the process of visualizing the rendered latent image. In the embodiment, the imaging member described in the present application has high sensitivity in a wavelength region of, for example, about 550 to about 900 nanometers, particularly about 650 to about 850 nanometers. it can. Further, the imaging members of the present invention are preferably useful in color electrophotographic applications where some color printing can be achieved in a single pass.
【0003】本発明のもう一つの特徴は、近赤外線に対
して感光性を有する改善された層状の光応答撮像部材の
提供に関する。[0003] Another aspect of the present invention relates to the provision of an improved layered photoresponsive imaging member that is sensitive to near infrared radiation.
【0004】本発明のなおもう一つの特徴は、可視光に
対して感光性を有する改善された層状の、改善された被
覆特性を有する光応答撮像部材であって、その中で、電
荷輸送分子は光発生層に拡散しないか、もしくは電荷輸
送分子の光発生層への最小拡散が存在する光応答撮像部
材を提供することである。[0004] Yet another feature of the present invention is a photoresponsive imaging member having improved layered, improved coating properties that is sensitive to visible light, wherein the charge transporting molecule is therein. Is to provide a photoresponsive imaging member that does not diffuse into the photogenerating layer or has minimal diffusion of charge transport molecules into the photogenerating layer.
【0005】更に、本発明のもう一つの特徴は、耐久性
で且つ耐溶剤性のホール遮断層を備える層状の光応答撮
像部材の提供に関する。Yet another feature of the present invention relates to the provision of a layered photoresponsive imaging member having a durable and solvent resistant hole blocking layer.
【0006】本発明の更なる特徴において、高度に架橋
された遮断ポリマー層とタイプVヒドロキシガリウムフ
タロシアニンの光発生顔料とを含む撮像部材が提供され
る。In a further aspect of the present invention, there is provided an imaging member comprising a highly crosslinked barrier polymer layer and a photogenerating pigment of type V hydroxygallium phthalocyanine.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明の態様は、支持基
板と、前記基板上にあって以下の式の架橋されたポリマ
ーを含むホール遮断層と、光発生層と、電荷輸送層と、
を備える光導電撮像部材に関する。SUMMARY OF THE INVENTION An aspect of the present invention comprises a support substrate, a hole blocking layer on the substrate containing a crosslinked polymer of the formula: a photogenerating layer, a charge transport layer,
A photoconductive imaging member comprising:
【0008】[0008]
【化4】 式中、Eは電子輸送成分であり、A、BおよびCは、例
えば、適切な二価結合を含むポリマーバックボーンのセ
グメントを表し、x、yおよびzは、繰返しモノマー単
位のモル分率であり、ここでx+y+zは約1に等し
い。本発明の更なる態様では、式中、xは約0〜約0.
95であり、yは約0.01〜約0.50であり、zは
約0.01〜約0.50である光導電撮像部材である。Embedded image Where E is the electron transport moiety, A, B and C represent, for example, segments of the polymer backbone containing suitable divalent bonds, and x, y and z are the mole fraction of repeating monomer units , Where x + y + z is equal to about 1. In a further aspect of the invention, wherein x is from about 0 to about 0.
95, wherein y is from about 0.01 to about 0.50 and z is from about 0.01 to about 0.50.
【0009】他の態様では、(I)の2つの二価結合
は、アリーレン(−Ar−)、アルキレンアリール(−
R'−Ar−)、アルキレンオキシカルボニル(−R'−
O−CO−)、アリーレンオキシカルボニル(−Ar−
O−CO−)、アルキレンアリールオキシカルボニル
(−R'−Ar−O−CO−)、アリーレンアルコキシ
カルボニル(−Ar−R'−O−CO−)およびカルボ
ニルオキシアルキレンアミノカルボニル(−CO−O−
R'−NR''−CO−)からなる群から独立に選択され
る光導電撮像部材である(式中、Arは約6〜約24炭
素原子を含み、R'は約1〜約10炭素原子を含み、
R''は水素またはアルキルである。)。In another embodiment, the two divalent bonds of (I) are arylene (-Ar-), alkylenearyl (-
R'-Ar-), alkyleneoxycarbonyl (-R'-
O-CO-), aryleneoxycarbonyl (-Ar-
O-CO-), alkylenearyloxycarbonyl (-R'-Ar-O-CO-), arylenealkoxycarbonyl (-Ar-R'-O-CO-) and carbonyloxyalkyleneaminocarbonyl (-CO-O-
R'-NR "-CO-) is a photoconductive imaging member independently selected from the group consisting of: wherein Ar comprises from about 6 to about 24 carbon atoms, and R 'comprises from about 1 to about 10 carbon atoms. Containing atoms,
R ″ is hydrogen or alkyl. ).
【0010】他の態様では、オルガノシラン(II)は、
メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、メ
チルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、
エチレントリクロロシラン、エチルトリメトキシシラ
ン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキ
シシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシランおよ
び3−アミノプロピルトリエトキシシランからなる群か
ら選択される光導電撮像部材である。In another embodiment, the organosilane (II) is
Methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane,
Selected from the group consisting of ethylenetrichlorosilane, ethyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, propyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane and 3-aminopropyltriethoxysilane It is a photoconductive imaging member.
【0011】他の態様では、ホール遮断層は、オルガノ
シラン(II)と電子輸送ポリマー(III)との架橋から
製作される光導電撮像部材である。In another embodiment, the hole blocking layer is a photoconductive imaging member made from a crosslink of an organosilane (II) and an electron transport polymer (III).
【0012】[0012]
【化5】 式中、R4、R5およびR6は水素およびアルキルであ
り、Xは、塩化物、臭化物またはヨウ化物のようなハロ
ゲン、シアノ、約1〜約10炭素原子のアルコキシおよ
び約2〜約10炭素原子のアシルオキシからなる群から
選択され、Jは、約2〜約10炭素原子のアルキレンオ
キシカルボニル、約6〜約15炭素原子のアリーレン、
約7〜約15炭素原子のアルキレンアリール、約7〜約
15炭素原子のアリーレンオキシカルボニルおよび約8
〜約25炭素原子のアルキレンアリールオキシカルボニ
ルからなる群から選択され、Fは、約6〜約15炭素原
子のアリーレン、約7〜約15炭素原子のアリーレンア
ルキルおよび約2〜約10炭素原子のカルボニルオキシ
アルキレンなどであり、Gは、塩化物などのハロゲン化
物、シアノ、約6〜約15炭素原子のアリール、約2〜
約15炭素原子のアルコキシカルボニルまたは約7〜約
15炭素原子のアリールオキシカルボニルであり、x、
yおよびzはポリマーの繰返し単位のモル分率であり、
ここでxは約0〜約0.95の範囲であり、yは約0.
01〜約0.50の範囲であり、zは約0.01〜約
0.50の範囲であり、ここでx+y+zは約1に等し
い。Embedded image Wherein R 4 , R 5 and R 6 are hydrogen and alkyl, X is halogen such as chloride, bromide or iodide, cyano, alkoxy of about 1 to about 10 carbon atoms and about 2 to about 10 Selected from the group consisting of acyloxy of carbon atoms, J is alkyleneoxycarbonyl of about 2 to about 10 carbon atoms, arylene of about 6 to about 15 carbon atoms,
Alkylenearyl of about 7 to about 15 carbon atoms, aryleneoxycarbonyl of about 7 to about 15 carbon atoms and about 8
Selected from the group consisting of alkylenearyloxycarbonyl of from about 25 to about 25 carbon atoms, wherein F is arylene of from about 6 to about 15 carbon atoms, arylenealkyl of about 7 to about 15 carbon atoms, and carbonyl of about 2 to about 10 carbon atoms. G is a halide such as chloride, cyano, aryl of about 6 to about 15 carbon atoms,
An alkoxycarbonyl of about 15 carbon atoms or an aryloxycarbonyl of about 7 to about 15 carbon atoms, x,
y and z are the mole fraction of repeating units of the polymer;
Where x ranges from about 0 to about 0.95, and y is about 0.
Z ranges from about 0.01 to about 0.50, where x + y + z equals about 1.
【0013】本発明のなお更なる態様は、式中、Gは約
2〜約10炭素原子のアルコキシカルボニルであり、X
は約1〜約5炭素原子のアルコキシであり、Fは約7〜
約15炭素原子のアルキレンアリールである光導電撮像
部材である。A still further aspect of the invention is a compound of the formula wherein G is an alkoxycarbonyl of from about 2 to about 10 carbon atoms;
Is alkoxy of about 1 to about 5 carbon atoms and F is about 7 to about 5 carbon atoms.
A photoconductive imaging member that is an alkylene aryl of about 15 carbon atoms.
【0014】他の態様では、式中、Gはメトキシカルボ
ニルであり、Xはメトキシまたはエトキシのようなアル
コキシであり、Fはメチレンフェニルである光導電撮像
部材である。In another embodiment, the photoconductive imaging member wherein G is methoxycarbonyl, X is alkoxy such as methoxy or ethoxy, and F is methylenephenyl.
【0015】他の態様では、ホール遮断層は約0.1〜
約5マイクロメートルの厚さである光導電撮像部材であ
る。In another embodiment, the hole blocking layer is between about 0.1 and 0.1.
A photoconductive imaging member that is about 5 micrometers thick.
【0016】他の態様では、ホール遮断層は約1〜約5
マイクロメートルの厚さである光導電撮像部材である。In another embodiment, the hole blocking layer comprises from about 1 to about 5
A photoconductive imaging member having a thickness of micrometers.
【0017】他の態様では、ポリマー(III)は本願に
示した式(III−a)〜(III−h)のポリマーからなる
群から選択される光導電撮像部材である。In another embodiment, the polymer (III) is a photoconductive imaging member selected from the group consisting of the polymers of formulas (III-a) through (III-h) shown herein.
【0018】また他の態様では、オルガノシロキサン
(II)は、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロ
シラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキ
シシラン、エチルトリクロロシラン、エチルトリメトキ
シシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリエト
キシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリ
エトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラ
ンおよび3−アミノプロピルトリエトキシシランなどの
アルキルハロシラン、アルキルアルコキシシランおよび
アミノアルキルシランなどからなる群から選択される光
導電撮像部材である。In another embodiment, the organosiloxane (II) is methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrichlorosilane, ethyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, methyltriethoxysilane. Photoconductive selected from the group consisting of alkylhalosilanes such as silane, ethyltriethoxysilane, propyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane and 3-aminopropyltriethoxysilane, alkylalkoxysilanes and aminoalkylsilanes It is an imaging member.
【0019】また他の態様では、オルガノシロキサン
(II)は、3−アミノプロピルトリメトキシシランまた
は3−アミノプロピルトリエトキシシランである光導電
撮像部材である。In yet another embodiment, the organosiloxane (II) is a photoconductive imaging member wherein the organosiloxane (II) is 3-aminopropyltrimethoxysilane or 3-aminopropyltriethoxysilane.
【0020】他の態様では、支持基板、本願に示した式
の架橋されたポリマーホール遮断層、接着剤層、光発生
層および電荷輸送層の順に備える光導電撮像部材であ
る。In another embodiment, there is a photoconductive imaging member comprising a support substrate, a crosslinked polymer hole blocking layer of the formula shown herein, an adhesive layer, a photogenerating layer, and a charge transport layer in that order.
【0021】また他の態様では、接着剤層は約50,0
00〜約100,000、好ましくは約70,000の
Mwおよび好ましくは約35,000のMnを有するポリ
エステルを含む光導電撮像部材である。In still another embodiment, the adhesive layer is about 50,0.
00 to about 100,000, a photoconductive imaging member comprising preferably from about 70,000 M w and preferably of a polyester with about 35,000 M n.
【0022】また他の態様では、支持基板は導電金属基
板を含む光導電撮像部材である。In yet another aspect, the support substrate is a photoconductive imaging member including a conductive metal substrate.
【0023】また他の態様では、導電基板は、アルミニ
ウム、アルミ化ポリエチレンテレフタレートまたはチタ
ン化マイラー(MYLAR)(登録商標)である光導電
撮像部材である。In yet another aspect, the conductive substrate is a photoconductive imaging member that is aluminum, aluminized polyethylene terephthalate, or titanized Mylar (MYLAR).
【0024】また他の態様では、前記光発生剤層が約
0.05〜約10マイクロメートルの厚みを有する光導
電撮像部材である。In yet another embodiment, the photogenerating agent layer is a photoconductive imaging member having a thickness of about 0.05 to about 10 micrometers.
【0025】また他の態様では、輸送層が約10〜約5
0マイクロメートルの厚みを有する光導電撮像部材であ
る。In still another embodiment, the transport layer is between about 10 and about 5
It is a photoconductive imaging member having a thickness of 0 micrometers.
【0026】また他の態様では、光発生層は、約5重量
%〜約95重量%の量で樹脂結合剤中に分散された光発
生顔料を含む光導電撮像部材である。In yet another embodiment, the photogenerating layer is a photoconductive imaging member comprising a photogenerating pigment dispersed in a resin binder in an amount from about 5% to about 95% by weight.
【0027】また他の態様では、、樹脂結合剤は、ポリ
エステル類、ポリビニルブチラール類、ポリカーボネー
ト類、ポリスチレン−b−ポリビニルピリジンおよびポ
リビニルホルマール類からなる群から選択される光導電
撮像部材である。In yet another embodiment, the resin binder is a photoconductive imaging member selected from the group consisting of polyesters, polyvinyl butyrals, polycarbonates, polystyrene-b-polyvinylpyridine, and polyvinyl formals.
【0028】また他の態様では、電荷輸送層はアリール
アミン分子を含む光導電撮像部材である。In yet another embodiment, the charge transport layer is a photoconductive imaging member containing arylamine molecules.
【0029】他の態様では、前記アリールアミンは以下
の式のものであり、アリールアミンは高度に絶縁性で透
明な樹脂結合剤中に分散される光導電撮像部材である。In another embodiment, the arylamine is of the formula: wherein the arylamine is a photoconductive imaging member dispersed in a highly insulating and transparent resin binder.
【0030】[0030]
【化6】 式中、Xはアルキルおよびハロゲンからなる群から選択
される。Embedded image Wherein X is selected from the group consisting of alkyl and halogen.
【0031】更に、本発明の他の態様では、アリールア
ミンアルキルが、約1〜約10炭素原子を含む光導電撮
像部材である。In yet another aspect of the invention, the arylamine alkyl is a photoconductive imaging member containing from about 1 to about 10 carbon atoms.
【0032】また他の態様では、アリールアミンアルキ
ルは、約1〜約5炭素原子を含む光導電撮像部材であ
る。In yet another embodiment, the arylamine alkyl is a photoconductive imaging member containing from about 1 to about 5 carbon atoms.
【0033】また他の態様では、アリールアミンアルキ
ルはメチルであり、ハロゲンは塩素であると共に、樹脂
結合剤はポリカーボネート類およびポリスチレン類から
なる群から選択される光導電撮像部材である。In yet another embodiment, the arylamine alkyl is methyl, the halogen is chlorine, and the resin binder is a photoconductive imaging member selected from the group consisting of polycarbonates and polystyrenes.
【0034】また他の態様では、アリールアミンは、
N,N'−ジフェニル−N,N−ビス(3−メチルフェ
ニル)−1,1'−ビフェニル−4,4'−ジアミンであ
る光導電撮像部材である。In another embodiment, the arylamine is
A photoconductive imaging member which is N, N'-diphenyl-N, N-bis (3-methylphenyl) -1,1'-biphenyl-4,4'-diamine.
【0035】他の態様では、好ましくは約70,000
のMwおよび約25,000〜約50,000、好まし
くは約35,000のMnを有するポリエステルの接着
剤層を更に備える光導電撮像部材である。In another embodiment, preferably about 70,000
The M w and about 25,000 to about 50,000, and preferably further comprises photoconductive imaging member an adhesive layer of a polyester having about 35,000 M n.
【0036】他の態様では、光発生層は金属フタロシア
ニンまたは無金属フタロシアニンを含む光導電撮像部材
にである。In another embodiment, the photogenerating layer is a photoconductive imaging member comprising a metal phthalocyanine or a metal-free phthalocyanine.
【0037】また他の態様では、光発生層はチタニルフ
タロシアニン類、ペリレン類またはヒドロキシガリウム
フタロシアニン類を含む光導電撮像部材である。In another embodiment, the photogenerating layer is a photoconductive imaging member containing titanyl phthalocyanines, perylenes or hydroxygallium phthalocyanines.
【0038】また他の態様では、光発生層はタイプVヒ
ドロキシガリウムフタロシアニンを含む光導電撮像部材
に関する。In yet another aspect, the photogenerating layer relates to a photoconductive imaging member comprising type V hydroxygallium phthalocyanine.
【0039】本発明のなお更なる態様は、撮像部材上に
静電潜像を発生させる工程と、潜像画像を現像する工程
と、現像された静電画像を適する基板に転写する工程
と、を含む撮像の方法に関する。A still further aspect of the present invention includes a step of generating an electrostatic latent image on the imaging member, a step of developing the latent image, a step of transferring the developed electrostatic image to a suitable substrate, And an imaging method including:
【0040】また他の態様では、カルボン酸およびアミ
ンからなる群から選択される触媒の存在下でポリマー
(I)とオルガノシラン(II)との架橋が達成される光
導電撮像部材である。In still another embodiment, there is provided a photoconductive imaging member in which crosslinking between polymer (I) and organosilane (II) is achieved in the presence of a catalyst selected from the group consisting of carboxylic acids and amines.
【0041】また他の態様では、酢酸またはアルキルア
ミンが触媒として選択される光導電撮像部材である。In yet another embodiment, the photoconductive imaging member is one wherein acetic acid or an alkylamine is selected as the catalyst.
【0042】他の態様では、ポリマーはホール遮断層と
して選択され、以下の電子輸送ポリマー(I)とオルガ
ノシラン(II)との混合物の反応から架橋によって生成
される撮像部材に関する。In another embodiment, the polymer is selected as a hole blocking layer and relates to an imaging member produced by crosslinking from the following reaction of a mixture of an electron transport polymer (I) with an organosilane (II).
【0043】[0043]
【化7】 式中、Eは電子輸送成分であり、A、BおよびCはポリ
マーセグメントを表し、Xは、塩化物、臭化物、ヨウ化
物、シアノ、アルコキシおよびアシルオキシからなる群
から選択され、x、yおよびzは、繰返しモノマー単位
のモル分率であり、ここでx+y+zは約1に等しい。
Rはアルキルまたはアリールであり、R1、R2およびR
3は、アルキル、アリール、アルコキシ、アリールオキ
シ、アシルオキシ、ハロゲン化物、シアノおよびアミノ
からなる群から独立に選択される。但し、R1、R2およ
びR3の2つは、アルコキシ、アリールオキシ、アシル
オキシおよびハロゲン化物からなる群から独立に選択さ
れることを条件とする。Embedded image Wherein E is an electron transport moiety, A, B and C represent polymer segments, X is selected from the group consisting of chloride, bromide, iodide, cyano, alkoxy and acyloxy; x, y and z Is the mole fraction of repeating monomer units, where x + y + z is equal to about 1.
R is alkyl or aryl; R 1 , R 2 and R
3 is independently selected from the group consisting of alkyl, aryl, alkoxy, aryloxy, acyloxy, halide, cyano and amino. Provided that two of R 1 , R 2 and R 3 are independently selected from the group consisting of alkoxy, aryloxy, acyloxy and halide.
【0044】更に、本発明の態様は、以下の式の架橋さ
れたポリマーに関する。Further, an embodiment of the present invention relates to a crosslinked polymer of the formula
【0045】[0045]
【化8】 式中、Eは電子輸送成分であり、A、BおよびCはポリ
マーバックボーンのセグメントを表し、x、yおよびz
は、繰返しモノマー単位のモル分率を表し、ここでx+
y+zは約1に等しい。Embedded image Where E is the electron transport moiety, A, B and C represent segments of the polymer backbone, x, y and z
Represents the mole fraction of repeating monomer units, where x +
y + z is equal to about 1.
【0046】本発明のなお更なる態様は、以下の電子輸
送ポリマー(I)とオルガノシラン(II)との混合物の
架橋によって調製されるポリマーに関する。A still further aspect of the present invention relates to a polymer prepared by crosslinking a mixture of the following electron transport polymer (I) and organosilane (II).
【0047】[0047]
【化9】 式中、Eは電子輸送成分であり、A、BおよびCは、シ
リル官能基(SiX3)と電子輸送成分(E)をポリマ
ーバックボーンに連結または結合させる適切な二価結合
を含むポリマーバックボーンのセグメントを表し、X
は、塩化物、臭化物、ヨウ化物、シアノ、例えば、約1
〜約5炭素原子のアルコキシ、例えば、約2〜約6炭素
原子のアシルオキシ、例えば、約6〜約10炭素原子の
アリールオキシからなる群から選択され、x、yおよび
zは、繰返しモノマー単位のモル分率であり、ここでx
+y+zは約1に等しい。Rはアルキル、置換アルキ
ル、アリールまたは置換アリールであり、その置換基は
ハロゲン、アルコキシ、アリールオキシおよびアミノな
どである。R1、R2およびR3は、アルキル、アリー
ル、アルコキシ、アリールオキシ、アシルオキシ、ハロ
ゲン化物、シアノおよびアミノからなる群から独立に選
択される。但し、R1、R2およびR3の2つは、アルコ
キシ、アリールオキシ、アシルオキシおよびハロゲン化
物からなる群から独立に選択されることを条件とする。Embedded image Where E is the electron transport component and A, B and C are the polymer backbone containing a suitable divalent bond that connects or binds the silyl functionality (SiX 3 ) and the electron transport component (E) to the polymer backbone. Represents a segment, X
Is chloride, bromide, iodide, cyano, for example, about 1
Selected from the group consisting of alkoxy of from about 5 to about 5 carbon atoms, for example, acyloxy of about 2 to about 6 carbon atoms, for example, aryloxy of about 6 to about 10 carbon atoms, wherein x, y, and z are Mole fraction, where x
+ Y + z is equal to about 1. R is alkyl, substituted alkyl, aryl or substituted aryl, whose substituents include halogen, alkoxy, aryloxy and amino. R 1 , R 2 and R 3 are independently selected from the group consisting of alkyl, aryl, alkoxy, aryloxy, acyloxy, halide, cyano and amino. Provided that two of R 1 , R 2 and R 3 are independently selected from the group consisting of alkoxy, aryloxy, acyloxy and halide.
【0048】本発明のなお更なる態様は、架橋されたシ
ロキサンポリマー遮断層を備える撮像部材に関する。[0048] Still a further aspect of the invention relates to an imaging member comprising a crosslinked siloxane polymer barrier layer.
【0049】また他の態様では、支持基板と、架橋され
たポリマー遮断層と、遮断層の上にある、例えば、ヒド
ロキシガリウムフタロシアニンの光発生層と電荷輸送層
とを備える撮像部材に関する。In another aspect, the invention relates to an imaging member comprising a support substrate, a cross-linked polymer barrier layer, and a photogenerating layer of, for example, hydroxygallium phthalocyanine, and a charge transport layer overlying the barrier layer.
【0050】[0050]
【発明の実施の形態】実施の形態1.以下のシリル官能
化電子輸送ポリマー(I)と(II)によって表されるオ
ルガノシロキサンとの架橋から得られる架橋されたポリ
マーを以下の式(VII)によって概念的に表わし、この
式(VII)で表されたポリマーを含むホール遮断層は、
本発明に対して重要である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiment 1 The crosslinked polymer obtained from the crosslinking of the organosiloxanes represented by the following silyl-functionalized electron transport polymers (I) and (II) is conceptually represented by the following formula (VII), where The hole blocking layer comprising the represented polymer,
Important for the present invention.
【0051】[0051]
【化10】 式中、Eは電子輸送成分であり、A、BおよびCは、シ
リル官能基(SiX3)と電子輸送成分(E)をポリマ
ーバックボーンに連結させる適切な二価結合を含むポリ
マーバックボーンの繰返し構造単位を表し、Xは、塩化
物、臭化物、ヨウ化物、シアノ、約12〜約5炭素原子
の、好ましくは5のアルコキシ、約2〜約6炭素原子の
アシルオキシ、約6〜約10炭素原子のアリールオキシ
からなる群から選択され、x、yおよびzは、繰返しモ
ノマー単位のモル分率であって、x+y+zは約1に等
しい。Rはアルキル、置換アルキル、アリールまたは置
換アリール基であり、その置換基は、好ましくは、ハロ
ゲン原子、アルコキシ、アリールオキシおよびアミノ官
能基などである。R1、R2およびR3は、アルキル、ア
リール、アルコキシ、アリールオキシ、アシルオキシ、
ハロゲン化物、シアノおよびアミノなどからなる群から
独立に選択される。但し、R1、R2およびR3の例えば
2つは、アルコキシ、アリールオキシ、アシルオキシま
たはハロゲン化物官能基であることを条件とする。Embedded image Wherein E is an electron transport component, and A, B and C are the repeating structure of the polymer backbone containing a silyl functional group (SiX 3 ) and a suitable divalent bond connecting the electron transport component (E) to the polymer backbone. X represents chloride, bromide, iodide, cyano, about 12 to about 5 carbon atoms, preferably 5 alkoxy, about 2 to about 6 carbon atom acyloxy, about 6 to about 10 carbon atom Is selected from the group consisting of aryloxy, where x, y and z are mole fractions of repeating monomer units, where x + y + z is equal to about 1. R is an alkyl, substituted alkyl, aryl or substituted aryl group, which substituents are preferably halogen atoms, alkoxy, aryloxy and amino functional groups. R 1 , R 2 and R 3 are alkyl, aryl, alkoxy, aryloxy, acyloxy,
It is independently selected from the group consisting of halides, cyano and amino. However, provided that, for example, two of R 1 , R 2 and R 3 are alkoxy, aryloxy, acyloxy or halide functional groups.
【0052】二価結合の説明に役立つ例には、アリーレ
ン(−Ar−)、アルキレンアリール(−R'−Ar
−)、アルキレンオキシカルボニル(−R'−O−CO
−)、アリーレンオキシカルボニル(−Ar−O−CO
−)、アルキレンアリールオキシカルボニル(−R'−
Ar−O−CO−)、アリーレンアルコキシカルボニル
(−Ar−R'−O−CO−)およびカルボニルオキシ
アルキレンアミノカルボニル(−CO−O−R'−N
R''−CO−)などが挙げられ、ここでArは、好まし
くは約6〜約24炭素原子を含み、R'は、好ましくは
約1〜約10炭素原子を含み、R''は水素原子または約
1〜約5炭素原子を含むアルキル基である。Illustrative examples of divalent bonds include arylene (-Ar-), alkylenearyl (-R'-Ar
-), Alkyleneoxycarbonyl (-R'-O-CO
-), Aryleneoxycarbonyl (-Ar-O-CO
-), Alkylenearyloxycarbonyl (-R'-
Ar-O-CO-), arylenealkoxycarbonyl (-Ar-R'-O-CO-) and carbonyloxyalkyleneaminocarbonyl (-CO-O-R'-N
R ''-CO-) and the like, where Ar preferably contains about 6 to about 24 carbon atoms, R 'preferably contains about 1 to about 10 carbon atoms, and R''is hydrogen Atoms or alkyl groups containing about 1 to about 5 carbon atoms.
【0053】本発明の遮断層を製作するために有用なオ
ルガノシラン(II)の例は、メチルトリクロロシラン、
ジメチルジクロロシラン、メチルトリメトキシシラン、
メチルトリエトキシシラン、エチレントリクロロシラ
ン、エチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシ
ラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシ
シラン、プロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロ
ピルトリメトキシシランおよび3−アミノプロピルトリ
エトキシシランなどのアルキルシラン、アルコキシシラ
ンおよびアミノシランである。Examples of organosilanes (II) useful for making the barrier layer of the present invention include methyltrichlorosilane,
Dimethyldichlorosilane, methyltrimethoxysilane,
Such as methyltriethoxysilane, ethylenetrichlorosilane, ethyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, propyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane and 3-aminopropyltriethoxysilane Alkyl silane, alkoxy silane and amino silane.
【0054】本発明のホール遮断層の製作の際に利用さ
れるシリル官能化電子輸送ポリマーは、好ましくは、以
下の式(III)によって表される。The silyl-functionalized electron transporting polymer utilized in making the hole blocking layer of the present invention is preferably represented by the following formula (III):
【0055】[0055]
【化11】 式中、R4、R5およびR6は、水素原子および例えば、
約1〜約3炭素原子のアルキル基から独立に選択され、
Xは、塩化物、臭化物、ヨウ化物、シアノ、約1〜約2
5炭素原子のアルコキシおよび約2〜約10炭素原子の
アシルオキシからなる群から選択され、Jは、約2〜約
10炭素原子のアルキレンオキシカルボニル、6〜約1
5炭素原子のアリーレン、約7〜約15炭素原子のアル
キレンアリール、約7〜約15炭素原子のアリーレンオ
キシカルボニルおよび約8〜約25炭素原子のアルキレ
ンアリールオキシカルボニルからなる群から選択され、
Fは、約6〜約15炭素原子のアリーレン、約7〜約1
5炭素原子のアリーレンアルキルおよび約2〜約10炭
素原子のカルボニルオキシアルキレンなどであり、G
は、塩化物、シアノ、約6〜約15炭素原子のアリー
ル、2〜約15炭素原子のアルコキシカルボニルおよび
7〜約15炭素原子のアリールオキシカルボニルなどで
あり、x、yおよびzはポリマーの繰返し単位のモル分
率であり、ここでxは約0〜約0.95、好ましくは約
0.05〜約0.75の範囲の数であり、yは約0.0
1〜約0.50、好ましくは約0.02〜約0.15の
範囲であり、zは約0.01〜約0.50、好ましくは
約0.05〜約0.25の範囲であって、x+y+zの
合計は約1に等しい。Embedded image Wherein R 4 , R 5 and R 6 are hydrogen and
Independently selected from alkyl groups of about 1 to about 3 carbon atoms;
X is chloride, bromide, iodide, cyano, about 1 to about 2
J is selected from the group consisting of alkoxy of 5 carbon atoms and acyloxy of about 2 to about 10 carbon atoms, wherein J is alkyleneoxycarbonyl of about 2 to about 10 carbon atoms, 6 to about 1
Selected from the group consisting of 5 carbon atom arylene, about 7 to about 15 carbon atom alkylenearyl, about 7 to about 15 carbon atom aryleneoxycarbonyl and about 8 to about 25 carbon atom alkylenearyloxycarbonyl,
F is an arylene of about 6 to about 15 carbon atoms, about 7 to about 1
Arylenealkyl of 5 carbon atoms and carbonyloxyalkylene of about 2 to about 10 carbon atoms;
Is chloride, cyano, aryl of about 6 to about 15 carbon atoms, alkoxycarbonyl of 2 to about 15 carbon atoms, aryloxycarbonyl of 7 to about 15 carbon atoms, and the like, where x, y and z are Is the mole fraction of the unit, where x is a number ranging from about 0 to about 0.95, preferably from about 0.05 to about 0.75, and y is about 0.0
Z ranges from about 0.01 to about 0.50, preferably from about 0.05 to about 0.25. Thus, the sum of x + y + z is equal to about 1.
【0056】実施の形態2.本発明の実施の形態におい
て、本発明のホール遮断層の製作の際に利用されるポリ
マー(III)は、好ましくは、以下のポリマー(III−
a)〜ポリマー(III−h)からなる群から選択され
る。Embodiment 2 In the embodiment of the present invention, the polymer (III) used for producing the hole blocking layer of the present invention is preferably the following polymer (III-
a) to a polymer (III-h).
【0057】[0057]
【化12】 Embedded image
【化13】 Embedded image
【化14】 Embedded image
【化15】 Embedded image
【化16】 本発明のポリマー(III)は、以下の機構1によるフリ
ーラジカル重合によって調製することができる。詳しく
は、このポリマーは、過酸化ベンゾイルや2,2'−ア
ゾビス(2−メチルプロパンニトリル)などの適するラ
ジカル開始剤の存在下で、ビニルモノマー(IV)、
(V)および(VI)の混合物の重合によって調製するこ
とができる。重合は、一般に、約40℃〜約120℃の
間の温度においてトルエン、ベンゼン、テトラヒドロフ
ランまたはクロロホルムなどの不活性溶媒中で達成され
る。ポリマー(III)に対する特定の調製手順は次の通
りである。有効なモル当量のモノマー(IV)、(V)お
よび(VI)の混合物およびトルエンなどの溶媒を先ず反
応器に投入する。室温〜約70℃の範囲の温度で約5〜
30分にわたり混合物を攪拌する。その後、過酸化ベン
ゾイルなどの開始剤を添加し、約50〜約100℃で適
する時間、例えば、5〜24時間にわたり混合物を加熱
して、重合を終了させる。重合後、反応混合物をトルエ
ンなどの溶媒で希釈し、ヘキサンに注いで、ポリマー生
成物を沈殿させる。後者を濾過によって集め、真空で乾
燥してポリマー(III)を得る。ゲル透過クロマトグラ
フィ−(GPC)、ならびにIRおよびNMR分光分析
法などのその他の関連分光技術によってポリマー(II
I)を同定する。Embedded image The polymer (III) of the present invention can be prepared by free radical polymerization according to the following mechanism 1. Specifically, this polymer is prepared by reacting a vinyl monomer (IV), in the presence of a suitable radical initiator such as benzoyl peroxide or 2,2′-azobis (2-methylpropanenitrile),
It can be prepared by polymerization of a mixture of (V) and (VI). Polymerization is generally accomplished in an inert solvent such as toluene, benzene, tetrahydrofuran or chloroform at a temperature between about 40C and about 120C. The specific preparation procedure for polymer (III) is as follows. An effective molar equivalent of the mixture of monomers (IV), (V) and (VI) and a solvent such as toluene are first charged to the reactor. About 5 to about 70 ° C
Stir the mixture for 30 minutes. Thereafter, an initiator such as benzoyl peroxide is added and the mixture is heated at about 50 to about 100 ° C. for a suitable period of time, for example, 5 to 24 hours to terminate the polymerization. After polymerization, the reaction mixture is diluted with a solvent such as toluene and poured into hexane to precipitate the polymer product. The latter is collected by filtration and dried in vacuo to give polymer (III). Polymers (II) are analyzed by gel permeation chromatography (GPC) and other related spectroscopic techniques such as IR and NMR spectroscopy.
I).
【0058】[0058]
【化17】 ポリマー(III)の調製のために選択されるモノマー(I
V)の例として、メチルアクリレート、エチルアクリレ
ート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、メ
チルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピル
メタクリレート、ブチルメタクリレート、フェニルアク
リレートおよびフェニルメタクリレートなどのアクリル
酸およびメタクリル酸エステルが挙げられる。モノマー
(V)の例として、3−アクリルオキシプロピルトリメ
トキシシラン、3−メタクリルオキシプロピルトリメト
キシシラン、3−アクリルオキシプロピルトリエトキシ
シラン、3−メタクリルオキシプロピルトリエトキシシ
ラン、3−アクリルオキシエチルトリメトキシシラン、
3−メタクリルオキシエチルトリメトキシシラン、3−
メタクリルオキシプロピルジメチルエトキシシラン、ア
リルトリメトキシシランおよびアリルトリエトキシシラ
ンなどが挙げられる。ビニルモノマー(VI)の例として
(以下に示す)、p−ビニルベンジル−9−ジシアノメ
チレンフルオレン−4−カルボキシレート(1)、p−
イソプロペニルベンジル−9−ジシアノメチレンフルオ
レン−4−カルボキシレート(2)、p−ビニルベンジ
ル−9−ジシアノメチレンフルオレン−2−カルボキシ
レート(3)、メタクリロイルオキシエチル−9−ジシ
アノメチレンフルオレン−4−カルボキシレート
(4)、アクリロイルオキシエチル−9−ジシアノメチ
レンフルオレン−4−カルボキシレート(5)、メタク
リロイルオキシエチル−9−ジシアノメチレンフルオレ
ン−2−カルボキシレート(6)、アクリロイルオキシ
エチル−9−ジシアノメチレンフルオレン−2−カルボ
キシレート(7)およびメタクリロイルオキシプロピル
−9−ジシアノメチレンフルオレン−4−カルボキシレ
ート(8)などが挙げられる。x、yおよびzは、それ
ぞれ(IV)、(V)および(VI)のモル当量またはポリ
マー(III)の繰返し単位のモル分率を表し、xは約0
〜約0.50の範囲であり、yは約0.01〜約0.5
0の範囲であり、zは約0.01〜約0.50の範囲で
ある。但し、x+y+zは約1に等しいものとする。Embedded image The monomers selected for the preparation of the polymer (III) (I
Examples of V) include acrylic and methacrylic esters such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, phenyl acrylate and phenyl methacrylate. Examples of the monomer (V) include 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxyethyltrimethoxysilane Methoxysilane,
3-methacryloxyethyltrimethoxysilane, 3-
Examples include methacryloxypropyldimethylethoxysilane, allyltrimethoxysilane, allyltriethoxysilane, and the like. Examples of the vinyl monomer (VI) (shown below) include p-vinylbenzyl-9-dicyanomethylenefluorene-4-carboxylate (1),
Isopropenylbenzyl-9-dicyanomethylenefluorene-4-carboxylate (2), p-vinylbenzyl-9-dicyanomethylenefluorene-2-carboxylate (3), methacryloyloxyethyl-9-dicyanomethylenefluorene-4-carboxylate Rate (4), acryloyloxyethyl-9-dicyanomethylenefluorene-4-carboxylate (5), methacryloyloxyethyl-9-dicyanomethylenefluorene-2-carboxylate (6), acryloyloxyethyl-9-dicyanomethylenefluorene -2-carboxylate (7) and methacryloyloxypropyl-9-dicyanomethylenefluorene-4-carboxylate (8). x, y and z represent the molar equivalent of (IV), (V) and (VI) or the molar fraction of the repeating unit of polymer (III), respectively, where x is about 0
And y ranges from about 0.01 to about 0.50.
0 and z ranges from about 0.01 to about 0.50. However, x + y + z is assumed to be equal to about 1.
【0059】[0059]
【化18】 Embedded image
【化19】 実施の形態3.本発明の実施の形態において、本発明の
ホール遮断層の製作は、適する溶媒中にポリマー(II
I)とオルガノシラン(II)とを含有する溶液を支持基
板上に被覆することを含む。被覆された層は、その後熱
により乾燥され、高温で硬化される。硬化または架橋
は、一般に、約15分〜約2時間などの適する時間にわ
たり、例えば、約40℃〜約200℃、好ましくは約8
0℃〜約150℃で達成することができる。以下の機構
2で示した架橋方法は、オルガノシラン(II)およびポ
リマー(III)のシリル基を加水分解してヒドロキシシ
リル官能基とし、その後の縮合によってシロキサン(S
i−O−Si)結合を形成することを含む。加水分解を
生じさせて架橋反応を起こすために、例えば、約1〜約
15重量%の多少の水が被覆剤溶液中に存在することが
重要である。被覆溶媒中に存在する、例えば、溶媒の約
0.01重量%などの微量の水は、必要な加水分解反応
を誘発するのに、しばしば十分でありうる。また、特に
被覆溶媒がテトラヒドロフラン、メタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの水混合性のものである場
合、水を添加することができる。更に、被覆された遮断
層の硬化または架橋は、架橋反応を生じさせるために、
熱処理前または熱処理中に、湿っぽい雰囲気にさらすこ
とによる給湿によって起きるように誘導することもでき
る。Embedded image Embodiment 3 FIG. In an embodiment of the present invention, the fabrication of the hole blocking layer of the present invention is performed by polymerizing the polymer (II
Coating a solution containing I) and an organosilane (II) on a supporting substrate. The coated layer is subsequently dried by heat and cured at an elevated temperature. Curing or crosslinking is generally for a suitable period of time, such as from about 15 minutes to about 2 hours, for example, from about 40 ° C to about 200 ° C, preferably about 8 ° C.
It can be achieved at 0 ° C to about 150 ° C. The cross-linking method shown in mechanism 2 below hydrolyzes the silyl groups of the organosilane (II) and the polymer (III) to a hydroxysilyl functional group, and the siloxane (S)
i-O-Si) bonds. It is important that about 1 to about 15% by weight of some water be present in the coating solution, for example, to cause hydrolysis and cross-linking reactions. Trace amounts of water present in the coating solvent, such as, for example, about 0.01% by weight of the solvent, can often be sufficient to trigger the required hydrolysis reaction. Water can be added, especially when the coating solvent is a water-miscible solvent such as tetrahydrofuran, methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or the like. Further, the curing or crosslinking of the coated barrier layer causes a crosslinking reaction to occur,
It can also be induced to occur by humidification by exposure to a humid atmosphere before or during the heat treatment.
【0060】[0060]
【化20】 本発明の撮像部材のために選択される基板層の説明に役
立つ例は、不透明または実質的に透明であることが可能
であり、必要な機械的特性を有する適するあらゆる材料
を含むことができる。従って、基板は、市販のポリマ
ー、マイラー(MYLAR)(登録商標)、チタン含有
マイラー(登録商標)などの無機または有機高分子材料
を含む絶縁材料の層と、酸化インジウム錫などの半導電
表面層またはその上に配置されたアルミニウムを有する
有機または無機材料、もしくはアルミニウム、クロム、
ニッケルまたは真鍮などを含む導電材料の層と、を含む
ことができる。基板は、可撓性、シームレスまたは硬質
であってもよく、多く基板は、例えば、プレート、円筒
ドラム、スクロールおよびエンドレス可撓性ベルトなど
の多数の異なった多くの構成を有してもよい。一つの実
施の形態において、基板はシームレス可撓性ベルトの形
態をとっている。状況によって、特に基板が、例えば、
マクロロン(MAKROLON)(登録商標)として市
販されているポリカーボネート材料などの可撓性有機高
分子材料、耐カール層である時、基板の裏面に被覆する
ことが望ましいことがある。Embedded image Illustrative examples of substrate layers selected for the imaging members of the present invention can be opaque or substantially transparent and can include any suitable material having the required mechanical properties. Thus, the substrate comprises a layer of an insulating material comprising an inorganic or organic polymeric material, such as a commercially available polymer, MYLAR®, titanium-containing Mylar®, and a semiconductive surface layer, such as indium tin oxide. Or an organic or inorganic material having aluminum disposed thereon, or aluminum, chromium,
And a layer of a conductive material including nickel or brass. The substrate may be flexible, seamless or rigid, and many substrates may have many different configurations, such as, for example, plates, cylindrical drums, scrolls, and endless flexible belts. In one embodiment, the substrate is in the form of a seamless flexible belt. Depending on the situation, especially the substrate, for example,
When it is a flexible organic polymer material such as a polycarbonate material commercially available as MAKROLON (registered trademark) or a curl-resistant layer, it may be desirable to coat the back surface of the substrate.
【0061】基板層の厚さは、経済的配慮を含む多くの
要素に依存し、従って、この層は、例えば、3,000
マイクロメートルを超える実質的な厚さ、または部材に
悪い影響を及ぼさないかぎり最小の厚さのものであって
もよい。一つの実施の形態において、この層の厚さは約
75マイクロメートル〜約300マイクロメートルであ
る。The thickness of the substrate layer depends on a number of factors, including economic considerations, so that this layer may be, for example, 3,000
It may have a substantial thickness greater than micrometers, or a minimum thickness without adversely affecting the member. In one embodiment, the thickness of this layer is from about 75 micrometers to about 300 micrometers.
【0062】好ましくはヒドロキシガリウムフタロシア
ニンタイプVを含む光発生層は、実施の形態において、
例えば、約50重量%のタイプVと約50重量%のポリ
スチレン/ポリビニルピリジンのような樹脂結合剤とを
含む。光発生層は、金属フタロシアニン、無金属フタロ
シアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、ペリレ
ン、特にビス(ベンズイミダゾ)ペリレンおよびチタニ
ルフタロシアニンなどの公知の光発生顔料、更に詳しく
は、バンダイルフタロシアニン、タイプVヒドロキシガ
リウムフタロシアニン、およびセレニウム、特に三方晶
セレニウムなどの無機成分を含有することができる。光
発生顔料は、電荷輸送層のために選択される樹脂結合剤
に類似の樹脂結合剤中に分散することができ、あるい
は、樹脂結合剤を必要としない。一般に、光発生剤層の
厚さは、その他の層の厚さおよび光発生層内に含まれる
光発生剤材料の量を含む多くの要素に依存する。従っ
て、この層は、例えば、約0.05マイクロメートル〜
約10マイクロメートルの厚さ、更に詳しくは、例え
ば、光発生剤組成物が約30〜約75体積%の量で存在
する時、約0.25マイクロメートル〜約2マイクロメ
ートルの厚みであることが可能である。実施の形態にお
ける層の最大厚さは、感光性、電気的特性および機械的
配慮などの要素に主として依存する。例えば、約1〜約
50、更に具体的に約1〜約10重量%の種々の適する
量で存在する光発生層の結合剤樹脂は、ポリ(ビニルブ
チラール)、ポリ(ビニルカルバゾール)、ポリエステ
ル類、ポリカーボネート類、ポリ(塩化ビニル)、ポリ
アクリレート類およびメタクリレート類、塩化ビニルと
酢酸ビニルとのコポリマー、フェノール樹脂類、ポリウ
レタン類、ポリ(ビニルアルコール)、ポリアクリロニ
トリルおよびポリスチレンなどの公知の多くのポリマー
から選択することができる。本発明の実施の形態におい
て、機器の以前に被覆されたその他の層を実質的に乱さ
ず、悪い影響を及ぼさない被覆溶媒を選択することが望
ましい。光発生剤層に対する被覆溶媒として用いるため
に選択することができる溶媒の例は、ケトン類、アルコ
ール類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化脂肪族炭化水素
類、エーテル類、アミン類、アミド類およびエステル類
などである。特定の例は、シクロヘキサノン、アセト
ン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、ブ
タノール、アミルアルコール、トルエン、キシレン、ク
ロロベンゼン、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレ
ン、トリクロロエチレン、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジエチルエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、酢酸ブチル、酢酸エチルおよび酢酸
メトキシエチルなどである。The photogenerating layer, preferably comprising hydroxygallium phthalocyanine type V, in an embodiment
For example, it comprises about 50% by weight of Type V and about 50% by weight of a resin binder such as polystyrene / polyvinylpyridine. The photogenerating layer is a known photogenerating pigment such as metal phthalocyanine, metal-free phthalocyanine, hydroxygallium phthalocyanine, perylene, particularly bis (benzimidazo) perylene and titanyl phthalocyanine, more specifically, bandaiyl phthalocyanine, type V hydroxygallium phthalocyanine, And inorganic components such as selenium, especially trigonal selenium. The photogenerating pigment can be dispersed in a resin binder similar to the resin binder selected for the charge transport layer, or does not require a resin binder. In general, the thickness of the photogenerator layer depends on many factors, including the thickness of the other layers and the amount of photogenerator material contained within the photogenerating layer. Thus, this layer may be, for example, from about 0.05 micrometers to
Having a thickness of about 10 micrometers, more particularly about 0.25 micrometers to about 2 micrometers when the photogenerator composition is present in an amount of about 30 to about 75% by volume; Is possible. The maximum thickness of the layers in embodiments depends primarily on factors such as photosensitivity, electrical properties, and mechanical considerations. For example, the binder resin of the photogenerating layer, present in various suitable amounts from about 1 to about 50, more specifically from about 1 to about 10% by weight, may be poly (vinyl butyral), poly (vinyl carbazole), polyesters, etc. Many known polymers such as, polycarbonates, poly (vinyl chloride), polyacrylates and methacrylates, copolymers of vinyl chloride and vinyl acetate, phenolic resins, polyurethanes, poly (vinyl alcohol), polyacrylonitrile and polystyrene You can choose from. In embodiments of the present invention, it is desirable to select a coating solvent that does not substantially disturb or adversely affect other previously coated layers of the device. Examples of solvents that can be selected for use as coating solvents for the photogenerating agent layer are ketones, alcohols, aromatic hydrocarbons, halogenated aliphatic hydrocarbons, ethers, amines, amides and Esters and the like. Specific examples include cyclohexanone, acetone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, butanol, amyl alcohol, toluene, xylene, chlorobenzene, carbon tetrachloride, chloroform, methylene chloride, trichloroethylene, tetrahydrofuran, dioxane, diethyl ether, dimethylformamide, dimethylacetamide, Butyl acetate, ethyl acetate and methoxyethyl acetate.
【0063】本発明の実施の形態における光発生剤層の
被覆は、噴霧法、浸漬法、ワイアバー法によって達成す
ることができ、光発生剤層の最終乾燥厚さは、例えば、
約40℃〜約150℃で、例えば、約15〜約90分に
わたり乾燥後、例えば、約0.01〜約30マイクロメ
ートル、好ましくは約0.1〜約15マイクロメートル
である。The coating of the photogenerating agent layer according to the embodiment of the present invention can be achieved by a spraying method, a dipping method, or a wire bar method.
After drying at about 40 ° C. to about 150 ° C., for example, for about 15 to about 90 minutes, for example, about 0.01 to about 30 micrometers, preferably about 0.1 to about 15 micrometers.
【0064】光発生剤層のために選択できる高分子結合
剤材料の例としては、本願に示した通りであり、米国特
許第3,121,006号に開示されたポリマーを含
む。一般に、光発生剤層に利用されるポリマー結合剤の
有効量は、光発生剤層の約0〜約95重量%、好ましく
は約25〜約60重量%の範囲である。Examples of polymeric binder materials that can be selected for the photogenerating agent layer are as set forth herein and include the polymers disclosed in US Pat. No. 3,121,006. Generally, an effective amount of the polymeric binder utilized in the photogenerator layer will range from about 0 to about 95%, preferably from about 25 to about 60%, by weight of the photogenerator layer.
【0065】ホール遮断層に通常接触している任意の接
着剤として、ポリエステル類、ポリアミド類、ポリ(ビ
ニルブチラール)、ポリ(ビニルアルコール)、ポリウ
レタンおよびポリポリアクリロニトリルを含む種々の公
知の物質を選択することができる。この層は、例えば、
約0.001マイクロメートル〜約1マイクロメートル
の厚さのものである。任意に、この層は、適する有効量
の、例えば、約1〜約10重量%の導電および非導電粒
子、例えば、酸化亜鉛、二酸化チタン、窒化珪素および
カーボンブラックなどを含有することで、例えば、本発
明の実施の形態において、必要な電気的特性および光学
的特性をもたらすことができる。As the optional adhesive normally in contact with the hole blocking layer, various known materials are selected, including polyesters, polyamides, poly (vinyl butyral), poly (vinyl alcohol), polyurethane and polypolyacrylonitrile. be able to. This layer, for example,
It has a thickness of about 0.001 micrometer to about 1 micrometer. Optionally, the layer contains a suitable effective amount, for example, from about 1 to about 10% by weight of conductive and non-conductive particles, such as zinc oxide, titanium dioxide, silicon nitride, and carbon black, for example, Embodiments of the present invention can provide the required electrical and optical properties.
【0066】一般に約5マイクロメートル〜約75マイ
クロメートルの厚さ、好ましくは約10マイクロメート
ル〜約40マイクロメートルの厚さであるホール輸送層
のために選択されるアリールアミンには、高度に絶縁性
を有し透明なポリマー結合剤中に分散された以下の式の
分子が挙げられる。The arylamines selected for the hole transport layer, which are generally about 5 micrometers to about 75 micrometers thick, preferably about 10 micrometers to about 40 micrometers thick, have highly insulating properties. And molecules dispersed in a transparent polymeric binder having the following formula:
【0067】[0067]
【化21】 式中、Xはアルキル基、ハロゲンまたはその混合成分で
あり、特にClおよびCH3からなる群から選択される
置換基である。Embedded image In the formula, X is an alkyl group, a halogen or a mixed component thereof, particularly a substituent selected from the group consisting of Cl and CH 3 .
【0068】特定のアリールアミンの例は、N,N'−
ジフェニル−N,N'−ビス(アルキルフェニル)−
1,1−ビフェニル−4,4'−ジアミン(但し、アル
キルは、メチル、エチル、プロピル、ブチルおよびヘキ
シルなどからなる群から選択される)およびN,N'−
ジフェニル−N,N'−ビス(3−ハロフェニル)−
1,1'−ビフェニル−4,4'−ジアミン (但し、ハ
ロ置換基は、好ましくはクロロ置換基である)である。
公知のその他の電荷輸送層分子を選択することができ
る。例えば、米国特許第4,921,773号および第
4,464,450号を参照すること。これらの特許は
本願に引用して援用する。Examples of specific arylamines are N, N'-
Diphenyl-N, N'-bis (alkylphenyl)-
1,1-biphenyl-4,4′-diamine (where alkyl is selected from the group consisting of methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl and the like) and N, N′-
Diphenyl-N, N'-bis (3-halophenyl)-
1,1′-biphenyl-4,4′-diamine (where the halo substituent is preferably a chloro substituent).
Other known charge transport layer molecules can be selected. See, for example, U.S. Patent Nos. 4,921,773 and 4,464,450. These patents are incorporated herein by reference.
【0069】輸送層のための高度に絶縁性を有し透明な
ポリマー結合剤材料の例として、米国特許第3,12
1,006号に記載されたものなどの成分が含まれる。
ポリマー結合剤材料の特定の例には、ポリカーボネート
類、アクリレートポリマー類、ビニルポリマー類、セル
ロースポリマー類、ポリエステル類、ポリシロキサン
類、ポリアミド類、ポリウレタン類およびエポキシ類、
ならびにそれらのブロック、ランダムまたは交互コポリ
マー類が挙げられる。電気的に不活性の好ましい結合剤
は、約20,000〜約100,000の分子量を有す
るポリカーボネート樹脂を含み、約50,000〜約1
00,000の分子量が特に好ましい。一般に、輸送層
は、約10〜約75重量%の電荷輸送材料、好ましくは
約35%〜約50%のこの材料を含有する。As an example of a highly insulating and transparent polymeric binder material for the transport layer, see US Pat.
Ingredients such as those described in No. 1,006 are included.
Specific examples of polymeric binder materials include polycarbonates, acrylate polymers, vinyl polymers, cellulose polymers, polyesters, polysiloxanes, polyamides, polyurethanes and epoxies,
And their block, random or alternating copolymers. Preferred electrically inert binders include polycarbonate resins having a molecular weight of about 20,000 to about 100,000, and from about 50,000 to about 1
A molecular weight of 00,000 is particularly preferred. Generally, the transport layer contains about 10% to about 75% by weight of the charge transport material, preferably about 35% to about 50%.
【0070】本願において示した光応答機器による撮像
およびプリンティングの方法も、本発明の範囲内に包含
される。これらの方法は、一般に、撮像部材上に静電潜
像を形成し、その後、例えば、熱可塑性樹脂、顔料など
の着色剤、帯電添加剤および表面添加剤を含むトナー組
成物で画像を現像し、その後、画像を適する基板に転写
し、画像を基板に永久的に定着させることを含む。米国
特許第4,560,635号、第4,298,697
号、および第4,338,390号を参照すること。機
器がプリンティングモードで用いられる環境において、
撮像方法は、レーザー機器または画像バーで露光ステッ
プを達成できること以外は同じステップを含む。The method of imaging and printing by the photoresponsive device described in the present application is also included in the scope of the present invention. These methods generally form an electrostatic latent image on an imaging member and then develop the image with a toner composition including, for example, a thermoplastic, a colorant such as a pigment, a charging additive and a surface additive. And then transferring the image to a suitable substrate and permanently fixing the image to the substrate. U.S. Pat. Nos. 4,560,635 and 4,298,697
No. 4,338,390. In an environment where the device is used in printing mode,
The imaging method includes the same steps except that the exposure step can be accomplished with laser equipment or an image bar.
【0071】[0071]
【実施例】実施例I. ポリマー(x=0.94、y=0.01およびz=0.
05のIII−a)の合成:60.0グラムの9−ジシア
ノンメチレンフルオレン−4−カルボン酸、700ミリ
リットルのN,N−ジメチルホルムアミド、67.1グ
ラムの塩化4−ビニルベンジル、および37.0グラム
の炭酸水素ナトリウムを1リットルの丸底フラスコに添
加し、得られた混合物を40℃で48時間にわたり攪拌
した。激しく攪拌しながら1,500ミリリットルの蒸
留水にその混合物を注ぎ、1,000ミリリットルのジ
クロロメタンで得られた水性混合物を抽出した。有機層
を分離し、それを1,500ミリリットルの蒸留水で更
に洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。その
後、回転エバポレータによって有機溶媒を除去し、ジク
ロロメタンとメタノールとの混合物(2:1体積比)か
ら残留物を再結晶化させて、濾過および48時間にわた
る真空乾燥後にビニルベンジル−9−ジシアノメチレン
フルオレン−4−カルボキシレートを得た。 Embodiment I. Polymers (x = 0.94, y = 0.01 and z = 0.
Synthesis of III-a) of 05: 60.0 grams of 9-dicyanone methylenefluorene-4-carboxylic acid, 700 milliliters of N, N-dimethylformamide, 67.1 grams of 4-vinylbenzyl chloride, and 37. 0 grams of sodium bicarbonate was added to a 1 liter round bottom flask and the resulting mixture was stirred at 40 ° C. for 48 hours. The mixture was poured into 1,500 ml of distilled water with vigorous stirring, and the resulting aqueous mixture was extracted with 1,000 ml of dichloromethane. The organic layer was separated, which was further washed with 1,500 ml of distilled water and dried over anhydrous magnesium sulfate. The organic solvent is then removed by rotary evaporation, the residue is recrystallized from a mixture of dichloromethane and methanol (2: 1 by volume) and, after filtration and drying in vacuo for 48 hours, vinylbenzyl-9-dicyanomethylenefluorene. -4-carboxylate was obtained.
【0072】1H−NMR(CDCl3):δ5.30
(d,J=10.5Hz、1H)、5.43(s、2
H)、5.79(d,J=17.5Hz、1H)、6.
73(d,J=10.5Hz、2H)、7.31〜7.
48(m,7.45における一重項で重なる、7H)、
7.88(d,J=7.9Hz、1H)、8.07
(d,7.9Hz、1H)、8.45(d,J=7.8
Hz、1H)、8.59(d,J=7.9Hz、1H) IR(KBr):2224(CN)、1735(C=
O)cm-1 1 H-NMR (CDCl 3 ): δ5.30
(D, J = 10.5 Hz, 1H), 5.43 (s, 2
H), 5.79 (d, J = 17.5 Hz, 1H), 6.
73 (d, J = 10.5 Hz, 2H), 7.31-7.
48 (m, overlapping at singlet at 7.45, 7H),
7.88 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 8.07
(D, 7.9 Hz, 1H), 8.45 (d, J = 7.8)
Hz, 1H), 8.59 (d, J = 7.9 Hz, 1H) IR (KBr): 2224 (CN), 1735 (C =
O) cm -1
【0073】7.90グラムの上記で得たビニルベンジ
ル−9−ジシアノメチレンフルオレン−4−カルボキシ
レート、42.77グラムのメチルメタクリレート、
1.12グラムの3−(トリメトキシシリル)プロピル
メタクリレートおよび400ミリリットルのトルエンを
1リットルの三つ口丸底フラスコに窒素雰囲気のもとで
添加した。得られた混合物を約50℃で10分にわたり
攪拌し、その後、0.427グラムの過酸化ベンゾイル
開始剤を添加した。その後、混合物は90℃、24時間
攪拌した。全体にわたって室温、約25℃において1,
100ミリリットルのトルエンで得られたポリマー溶液
を希釈し、その後、攪拌しながら6,000ミリリット
ルのヘキサンに注いで、ポリマー生成物を沈殿させた。
固体生成物、ポリマー(III−a)を濾過によって集
め、室温で24時間にわたり真空乾燥して、44.21
グラム(85.4%)のポリマー(III−a)を得た。
そのポリマーは、GPCで測定して59,463のMw
および24,389のMn、2,223(CN)および
1,736(C=O)cm-1のIR(フィルム)吸収を
示した。7.90 grams of the vinylbenzyl-9-dicyanomethylenefluorene-4-carboxylate obtained above, 42.77 grams of methyl methacrylate,
1.12 grams of 3- (trimethoxysilyl) propyl methacrylate and 400 milliliters of toluene were added to a one-liter three-necked round bottom flask under a nitrogen atmosphere. The resulting mixture was stirred at about 50 ° C. for 10 minutes, after which 0.427 grams of benzoyl peroxide initiator was added. Thereafter, the mixture was stirred at 90 ° C. for 24 hours. At room temperature, about 25 ° C,
The resulting polymer solution was diluted with 100 milliliters of toluene and then poured into 6,000 milliliters of hexane with stirring to precipitate the polymer product.
The solid product, polymer (III-a), was collected by filtration and dried in vacuo at room temperature for 24 hours to give 44.21.
Grams (85.4%) of polymer (III-a) were obtained.
The polymer had a M w of 59,463 as measured by GPC.
And an IR (film) absorption of 24,389, Mn , 2,223 (CN) and 1,736 (C = O) cm -1 .
【0074】実施例II. ポリマー(x=0.88、y=0.07およびz=0.
05のIII−a)の合成:4.01グラムのビニルベン
ジル−9−ジシアノメチレンフルオレン−4−カルボキ
シレート、20.16グラムのメチルメタクリレート、
4.00グラムの3−(トリメトキシシリル)プロピル
メタクリレートおよび80ミリリットルのトルエンを利
用したこと以外は、実施例Iの手順によってポリマーを
調製した。収量は25.0グラムであった(88.7パ
ーセント)。Embodiment II. Polymers (x = 0.88, y = 0.07 and z = 0.
Synthesis of III-a) of 05: 4.01 grams of vinylbenzyl-9-dicyanomethylenefluorene-4-carboxylate, 20.16 grams of methyl methacrylate,
The polymer was prepared according to the procedure of Example I except that 4.00 grams of 3- (trimethoxysilyl) propyl methacrylate and 80 milliliters of toluene were utilized. The yield was 25.0 grams (88.7 percent).
【0075】そのポリマーは、GPCで測定して13
2,914のMwおよび41,367のMn、2,220
(CN)および1,736(C=O)cm-1のIR(フ
ィルム)吸収を示した。The polymer has a molecular weight of 13 as measured by GPC.
2,914 of M w and 41,367 of M n, 2,220
It exhibited IR (film) absorption of (CN) and 1,736 (C = O) cm -1 .
【0076】実施例III.本発明の遮断層を組み込んだ
例としての光応答撮像機器を次の通り製作した。Embodiment III. A photoresponsive imaging device as an example incorporating the barrier layer of the present invention was manufactured as follows.
【0077】実施例Iのポリマー(III−a)0.75
グラムおよび3−アミノプロピルトリメトキシシラン
0.75グラムの50:50(体積比で)トルエン/テ
トラヒドロフラン5ミリリットル混合物溶液から、引張
棒技術によってホール遮断層を75マイクロメートル厚
みのチタン化マイラー(登録商標)基板上に被覆した。
120℃で1時間にわたる乾燥後、約2〜2.5マイク
ロメートルの厚みの式VIIに包含される遮断層(HB
L)を得た。2重量%のデュポン(DuPont)49
Kポリエステルのジクロロメタン溶液から製作された
0.05マイクロメートル厚みの接着剤層を遮断層の上
に被覆した。その後、ヒドロキシガリウムフタロシアニ
ンタイプV(0.46グラム)およびポリスチレン−b
−ポリビニルピリジンブロックコポリマー(0.48グ
ラム)の20グラムトルエン分散液から、0.2マイク
ロメートルの光発生層を接着剤層の上に被覆し、引き続
いて、100℃で10分にわたり乾燥した。その後、
N,N'−ジフェニル−N,N−ビス(3−メチルフェ
ニル)−1,1'−ビフェニル−4,4'−ジアミン
(2.64グラム)およびポリカーボネート(3.5グ
ラム)の40グラムジクロロメタン溶液から、25マイ
クロメートルの電荷輸送層(CTL)を光発生層の上に
被覆した。The polymer of Example I (III-a) 0.75
From a solution of 5 grams of a 50:50 (by volume) toluene / tetrahydrofuran mixture of 0.75 grams of 0.75 grams of 3-aminopropyltrimethoxysilane and 75 milliliters of 3-aminopropyltrimethoxysilane, a 75 micrometer thick titanated Mylar.RTM. ) Coated on substrate.
After drying for 1 hour at 120 ° C., a barrier layer (HB
L) was obtained. 2% by weight DuPont 49
A 0.05 micrometer thick adhesive layer made from a solution of K polyester in dichloromethane was coated over the barrier layer. Then, hydroxygallium phthalocyanine type V (0.46 grams) and polystyrene-b
-From a 20 gram toluene dispersion of polyvinyl pyridine block copolymer (0.48 gram), a 0.2 micron photogenerating layer was coated over the adhesive layer and subsequently dried at 100 ° C for 10 minutes. afterwards,
40 grams dichloromethane of N, N'-diphenyl-N, N-bis (3-methylphenyl) -1,1'-biphenyl-4,4'-diamine (2.64 grams) and polycarbonate (3.5 grams) From the solution, a 25 micrometer charge transport layer (CTL) was coated over the photogenerating layer.
【0078】遮断層がない対照機器も同様の方法で製作
した。A control device without a barrier layer was made in a similar manner.
【0079】電位計に装着された静電容量式結合プロー
ブによって測定した表面電位が約〜800ボルトの初期
値V0に達するまで、コロナ放電源によって静電気的に
撮像部材の表面を帯電させることを本願に示したように
含む公知の手段によって、撮像部材の電子写真用の電気
特性を測定することができる。0.5秒にわたり暗がり
に静置後、帯電された部材は、暗現像電位Vddpの表面
電位に達した。その後、XBO150ワット電球を有す
るフィルタ付のキセノンランプからの光に各部材を露光
させて、表面電位をバックグラウンド電位Vbg値に低下
させる光放射を誘発させる。光放射の百分率を100×
(Vddp−Vbg)/Vddpとして計算した。ランプの前に
置かれたフィルタのタイプ別に、露光された光の必要な
波長およびエネルギーを測定した。狭帯域フィルタを用
いて、単色光感光性を測定した。Until the surface potential measured by the capacitive coupling probe attached to the electrometer reaches the initial value V 0 of about 800 volts, the surface of the imaging member is electrostatically charged by the corona discharge power source. By the known means including as shown in the present application, the electrophotographic electrical characteristics of the imaging member can be measured. After standing in the dark for 0.5 seconds, the charged member reached a surface potential of dark development potential V ddp . Thereafter, each member is exposed to light from a xenon lamp with a filter having an XBO 150 watt bulb to induce light emission that reduces the surface potential to a background potential V bg value. 100 × percentage of light emission
It was calculated as (V ddp -V bg ) / V ddp . The required wavelength and energy of the exposed light was measured for each type of filter placed in front of the lamp. Monochromatic photosensitivity was measured using a narrow band filter.
【0080】以下の表は、これらの機器の電気的性能を
要約しており、本発明のホール遮断層(HBL)による
電荷注入の有効な遮断を示している。具体的には、暗現
像電位(Vddp)、半放射露光エネルギー(E1/2)およ
び残留電圧が対照機器と本発明の機器に対して似ている
一方で、暗減衰(dark decay)は光発生層へ
のホール注入に関連した暗導電率を測定するものである
が、本発明の機器の暗減衰は、対照機器のそれよりも大
幅に低い。The following table summarizes the electrical performance of these devices and shows the effective blocking of charge injection by the hole blocking layer (HBL) of the present invention. Specifically, while the dark development potential (V ddp ), half-irradiation exposure energy (E 1/2 ), and residual voltage are similar for the control device and the device of the present invention, the dark decay is Although it measures the dark conductivity associated with hole injection into the photogenerating layer, the dark decay of the device of the present invention is significantly lower than that of the control device.
【0081】[0081]
【表1】 実施例IV.HBLの厚みを2.5マイクロメートルに代
えて約5マイクロメートルに増加させたこと以外は実施
例IIIの手順に従って、本発明のホール遮断層を有する
もう一つの光応答撮像機器を製作した。実施例Iのポリ
マー(III−a)1.0グラムおよび3−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン1.0グラムの5ミリリットルト
ルエン溶液から、遮断層を製作した。以下の表はこの機
器の電気的性能を要約している。[Table 1] Example IV. Another photoresponsive imaging device having a hole blocking layer of the present invention was made according to the procedure of Example III except that the thickness of the HBL was increased to about 5 micrometers instead of 2.5 micrometers. A barrier layer was prepared from a solution of 1.0 gram of the polymer of Example I (III-a) and 1.0 gram of 3-aminopropyltrimethoxysilane in 5 milliliters of toluene. The following table summarizes the electrical performance of this device.
【0082】[0082]
【表2】 実施例V.実施例IIIの手順に従って、実施例IIのポリ
マーIII−aから得られたホール遮断層を有する光応答
撮像機器を製作した。HBLの厚みは約1.0〜1.5
マイクロメートルであり、実施例IIのポリマー(III−
a)0.25グラムおよび3−アミノプロピルトリメト
キシシラン0.25グラムの5ミリリットルトルエン溶
液から、遮断層を製作した。以下の表はこの機器の電気
的性能を要約している。[Table 2] Example V. According to the procedure of Example III, a photoresponsive imaging device having a hole blocking layer obtained from the polymer III-a of Example II was manufactured. HBL thickness is about 1.0-1.5
Micrometer and the polymer of Example II (III-
a) A barrier layer was made from a solution of 0.25 grams and 0.25 grams of 3-aminopropyltrimethoxysilane in 5 milliliters of toluene. The following table summarizes the electrical performance of this device.
【0083】[0083]
【表3】 実施例VI.HBLの厚みを1.0〜1.5マイクロメー
トルに代えて約1.5〜2.0マイクロメートルとした
こと以外は実施例Vの手順に従って、実施例IIのポリマ
ーIII−aから得られたホール遮断層を有するもう一つ
の光応答撮像機器を製作した。以下の表はこの機器の電
気的性能を要約している。[Table 3] Embodiment VI. Obtained from polymer III-a of Example II according to the procedure of Example V, except that the thickness of the HBL was about 1.5-2.0 micrometers instead of 1.0-1.5 micrometers. Another photoresponsive imaging device with a hole blocking layer was fabricated. The following table summarizes the electrical performance of this device.
【0084】[0084]
【表4】 [Table 4]
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ピング リュー カナダ オンタリオ州 ミッシソーガ ミ ッシソーガ ロード ノース #12−3349 (72)発明者 チャン−クォー シャオ カナダ オンタリオ州 ミッシソーガ ガ ースウッド ロード 3106 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Ping Liu Mississauga Mississauga Road North # 12-3349, Ontario, Canada (72) Inventor Chang-Quao Xiao, Mississauga Gaswood Road, Ontario, Canada 3106
Claims (3)
の式の架橋されたポリマーを含むホール遮断層と、光発
生層と、電荷輸送層と、を備えることを特徴とする光導
電撮像部材。 【化1】 (式中、Eは電子輸送成分であり、A、BおよびCは、
適切な二価結合を含むポリマーバックボーンのセグメン
トを表し、x、yおよびzは、繰返しモノマー単位のモ
ル分率であり、ここでx+y+zは約1に等しい。)1. A photoconductive layer comprising: a supporting substrate; a hole blocking layer on the substrate, comprising a crosslinked polymer of the formula: a photogenerating layer; and a charge transport layer. Imaging member. Embedded image Wherein E is an electron transport component, and A, B and C are
Represents segments of the polymer backbone containing suitable divalent bonds, where x, y and z are mole fractions of repeating monomer units, where x + y + z equals about 1. )
電子輸送ポリマー(I)とオルガノシラン(II)との混
合物の反応から、架橋が達成されることを特徴とする光
導電撮像部材。 【化2】 (式中、Eは電子輸送成分であり、A、BおよびCはポ
リマーセグメントを表し、Xは、塩化物、臭化物、ヨウ
化物、シアノ、アルコキシ、アシルオキシからなる群か
ら選択され、x、yおよびzは、繰返しモノマー単位の
モル分率であり、ここでx+y+zは約1に等しい。R
はアルキルまたはアリールであり、R1、R2およびR3
は、アルキル、アリール、アルコキシ、アリールオキ
シ、アシルオキシ、ハロゲン化物、シアノおよびアミノ
からなる群から独立に選択される。但し、R1、R2およ
びR3の2つは、アルコキシ、アリールオキシ、アシル
オキシおよびハロゲン化物からなる群から独立に選択さ
れることを条件とする。)2. The member according to claim 1, wherein crosslinking is achieved by the following reaction of a mixture of the electron transport polymer (I) and the organosilane (II). Element. Embedded image (Where E is an electron transport component, A, B and C represent polymer segments, X is selected from the group consisting of chloride, bromide, iodide, cyano, alkoxy, acyloxy, x, y and z is the mole fraction of repeating monomer units, where x + y + z is equal to about 1. R
Is alkyl or aryl; R 1 , R 2 and R 3
Is independently selected from the group consisting of alkyl, aryl, alkoxy, aryloxy, acyloxy, halide, cyano and amino. Provided that two of R 1 , R 2 and R 3 are independently selected from the group consisting of alkoxy, aryloxy, acyloxy and halide. )
リマーバックボーンのセグメントを表し、x、yおよび
zは、繰返しモノマー単位のモル分率を表し、ここでx
+y+zは約1に等しい。)3. A crosslinked polymer of the formula: Embedded image Where E is the electron transport component, A, B and C represent segments of the polymer backbone, x, y and z represent the molar fraction of repeating monomer units, where x
+ Y + z is equal to about 1. )
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