DE9407103U1 - Verbindungsanordnung für Multilayer-Schaltungen - Google Patents
Verbindungsanordnung für Multilayer-SchaltungenInfo
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Description
WoIfE. Sajda, Dipl.-Phys., München
Dr. Johannes Bohnenberger, Dipl.-Ing., München Volkmar Kruspig, Dipl.-Ing., München
Dr. Claus Reinländer, Dipl.-Ing., München Dr. R. Kockläuner, Dipl.-Chem., München
Hans Meissner, Dipl.-Ing. (bis 1980), Bremen
Erich Bolte, Dipl.-Ing., Bremen Meissner,Bolte & Partner · Postfach 860624 ■ D-81633 München _. ,..„,..„ „. . T „
Friedrich Moller, Dipl.-Ing., Bremen
Andus Elektronic GmbH Leiterplattentechnik Görlitzer Straße 52
10997 Berlin
Ihr Zeichen
Your ref.
Your ref.
Unser Zeichen Our ref.
M/AEG-012-DE
Dr. Peter Schade, München (Ohr) Dr. Frank Dettmann, Bremen
Michael Grau (Notar), Berlin
ANSCHRIFT - ADDRESS:
Widenmayerstraße 48
D-80538 München Telefon: (089) 222631
Postfach/P.O.Box 860624 Telex: 5213222 epo d
D-81633 München Telefax: (0 89) 2217 21
Datum
Date
Date
28. April 1994 KR/ab
Verbindungsanordnung für Multilayer-Schaltungen
Die Erfindung betrifft eine Verbindungsanordnung für Multilayer-Schaltungen
gemäß dem Oberbegriff des Schutzanspruches 1 bzw. 2.
Aufgrund der verstärkten Anwendung oberflächenmontierbarer
Bauelemente und einer höheren Integrationsrate auf Baubaugruppenebene ist es bei der Fertigung elektronischer Baugruppen
auf der Basis gedruckter Schaltungen erforderlich, in rationeller Weise mehrlagige Leiterplatten, sogenannte Multilayer
herstellen zu können, welche fertigungstechnisch leicht realisierbare und hinsichtlich der Lebensdauer qualitcitiv hochwertige,
innere Verbindungen aufweisen.
-2-
Es ist bekannt, daß die begrenzten Außenflächen der verwendeten Schaltungspads eine Verlegung der elektrischen Verbindungen
in das Innere viellagig aufgebauter Multilayer erfordern. 5
Der Stand der Technik bei der Ausbildung derartiger vertikaler
Kontakte, die Verbindungen zwischen einer oder mehreren Ebenen herstellen ist dadurch gekennzeichnet, daß selbige durch eine
Durchgangsbohrung oder eine Sacklochbohrung erfolgen, welche anschließend metallisiert wird. Mit der Metallisierung kann
dann gleichzeitig eine Ankontaktierung der entstehenden Hülse mit der jeweiligen Signal- bzw. Leiterebene realisiert werden.
Besonders kritisch ist die Ausbildung von sogenannten Sackloch-Multilayern,
welche auf einem Lötauge der ersten oder der zweiten Innenlage enden. Die hierfür notwendigen Sacklochbohrungen
müssen sehr präzise und mit hoher Produktivität mit entsprechenden Tiefentoleranzen hergestellt werden, was in der
Serienfertigung erhebliche technologische Probleme nach sich zieht.
Aus der DE-PS 38 43 528 ist es bekannt, eine Innenlage für Sackloch-Multilayer dadurch herzustellen, daß dünne hochduktile
Kupferfolien gegen eine mit erhabenen Flächen im gewünschten Kontaktmuster versehene Fläche geprägt und die entstehenden
Prägedrucke mit einem wärmeaushärtenden Harz ausgefüllt werden. Das sich dann ausbildende Laminat mit erhabenen
Stellen kann als erste Innenlage in einem Sackloch-Multilayer verwendet werden. Da in einem derart ausgebildeten Multilayer
das anzubohrende Lötauge dicht unter der Oberfläche liegt, verringert sich die Gefahr einer Kontaktierung mit einer darunterliegenden
Innenlage. Unabhängig von der erweiterten Tiefentoleranz ist als nachfolgender technologischer Schritt neben
dem Bohren eine Verbindungs- bzw. Kontaktmetallisierung erforderlich. Dabei ist die vorstehend beschriebene Lösung
insbesondere für sehr kleine, im Zuge der Miniaturisierung wünschenswerte innere Kontakte und Verbindungen, verfahrenstechnisch
aufwendig und technologisch schwer beherrschbar. Zusätzlich wirkt sich eine Lochwandmetallisierung als Lei-
-3-
tungsdiskontinuität negativ auf die zu übertragende Signalform
aus.
Aus dem deutschen Gebrauchsmuster G 91 02 817.5 ist eine innenliegende
Verbindung zum Aufbau von Multilayer-Schaltungen bekannt, wobei auf einem Trägermaterial Signalnetze bzw. Leiterebenen
entsprechend der Schaltungsstruktur angeordnet sind.
Bei der dort gezeigten Lösung werden an den Enden des lateralen,
entsprechend der Schaltungsstruktur auf einem Trägermaterial realisierten Signalnetzes an der Stelle, wo innere Verbindungen
schaltungstechnisch erforderlich sind, hervorstehende, halbkugel- pyramiden- oder pyramidenstumpfförmige Hügel
durch galvanisches Aufwachsen oder mittels Differenzätzung aus einer stärkeren Metallfolie oder -schicht ausgebildet.
Mindestens zwei mit gegenüberliegenden Hügeln versehene Signalebenen müssen dann zueinander positioniert werden, wobei
zwischen den Signalebenen vorvernetzte Epoxid-Klebefolien, sogenannte Prepregs, eingebracht sind. Diese werden dann mittels
eines Druck-Temperatur-Zeitprozesses verpreßt. Hierbei werden die Epoxid-Klebefolien durchstoßen, wobei sich gleichzeitig
ein Kontakt zwischen den sich gegenüberliegenden Hügeln ausbildet. Hierdurch entsteht ein Multilayer, der innere Verbindüngen
aufweist, ohne daß ein Bohren mit nachträglichem Ausbilden eines galvanischen Kontaktes erforderlich ist. Der
Nachteil einer derartigen Anordnung besteht jedoch darin, daß die gegenüberliegenden Hügel exakt positioniert sein müssen
und daß eine Kontaktierung zu außenliegenden Leitbahnen bzw. Signalebenen nicht möglich ist.
Es ist daher Aufgabe der Erfindung, eine Verbindungsanordnung für Multilayer-Schaltungen vorzuschlagen, welche es gestattet,
in einfacher Weise auf Sacklochbohrungen zu verzichten und eine Kontaktierung von einem innenliegenden Kern zu außenliegenden
Leitbahnen mit geringem technologischem Aufwand vorzunehmen .
-4-
Die Lösung der Aufgabe der Erfindung erfolgt mit den Merkmalen
der Schutzansprüche 1 und 2, wobei die Unteransprüche mindestens zweckmäßige Ausgestaltungen und Weiterbildungen des
Grundgedankens der Erfindung zeigen.
5
5
Dieser Grundgedanke der Erfindung besteht darin, auf einem innenliegenden Kern an entsprechenden Kontaktierungsstellen,
z. B. galvanisch, speziell geformte Hügel aufzuwachsen, wobei diese Hügel dann bei der Laminierung eine Isolationsschicht
hin zu einer darüberliegenden Leitschicht durchstoßen und die Leitschicht an vorgesehenen Stellen kontaktieren.
Alternativ kann die äußere, über der Isolierschicht befindliche Leitschicht an den Kontaktstellen freigeätzt oder auch
vollständig entfernt werden, um mit einem darauffolgenden Schritt eine stromlose Ankontaktierung zwischen dem Hügel und
dem umgebenden, freigeätzten Bereich der äußeren Leitschicht bzw. weiteren inneren Leitschichten vorzunehmen.
Die Erfindung soll nunmehr anhand eines Ausführungsbeispieles und unter Zuhilfenahme einer Figur näher erläutert werden.
Die Figur zeigt hierbei einen Querschnitt durch eine viellagige,
mit einer innenliegenden Durchkontaktierung versehenen Multilayer-Struktur..
Der innenliegende Kern 1 ist beim gezeigten Ausführungsbeispiel als Bilayer gefertigt, d. h. er weist zweiseitg vorhandene
Leitbahnen auf, die mit Durchkontaktierungen 2 versehen bzw. verbunden sind..
Auf diesem innenliecjenden Kern 1 ist dann beispielsweise chemisch
Kupfer und Mattkupfer zur Schaffung einer Verbindung nach außen für die erforderliche galvanische Metallisierung
bzw. Hügelausbildung abgeschieden. Nachdem ein Photoresist aufgebracht wurde, erfolgt ein Photodruck der auszubildenden
Hügelkontaktflächen..
fr
Im Ergebnis der galvanischen Abscheidung ergeben sich die vorerwähnten
Hügel 3. Das Mattkupfer, welches zur galvanischen Abscheidung der Hügel 3 erforderlich war, wird anschließend
entfernt.
5
5
Im Ergebnis der vorstehend geschilderten Schritte sind Hügel 3 mit einer vorzugsweise halbkugel-, Pyramiden- oder pyramidenstumpf
förmigen Form entstanden.
Nunmehr wird der Multilayer mit einer Kupferfolie und einem isolierenden Träger verpreßt. Die Kupferfolie besitzt beispielsweise
eine Dicke von 5 &mgr;&idiagr;&eegr; und die Dicke des Isolierträgers
beträgt 70 &mgr;&tgr;&agr;. Der Isolierträger bzw. die Isolierschicht
4, welche gleichzeitig als Laminatklebefolie dient, wird beim Verpressen von den Hügeln 3 durchstoßen, wobei diese in Kontakt
mit der darüberliegenden Leitbahn 5 bzw. Kupferfolie treten.
In einer weiteren Ausführungsform wird nach dem Laminieren bzw. Pressen des Multilayers mittels Photodruck eine Hügelkontaktstelle
auf den außenliegenden Leitschichten 5 ausgebildet und es werden Öffnungen hin zu den Hügeln 3, beispielsweise
mit einem Durchmesser mit mindestens 100 &mgr;&idiagr;&eegr; ausgebildet. Dann
wird gegebenenfalls eine stromlose und galvanische Abscheidung vorgenommen, welche gleichzeitig eine elektrische Verbindung
zwischen den Hügeln 3, den Leitschichten 5 und weiteren, innenliegenden Leitschichten sichert.
Mit der erfindungsgemäßen Anordnung können innenliegende Verbindungen
ausgehend von einem innenliegenden durchkontaktierten Bilayer zu äußeren Leitschichten oder Signalebenen realisiert
werden, wobei es nicht mehr erforderlich ist, mittels Bohren Sacklöcher einzubringen. Damit wird die Gefahr der Beschädigung
des Bilayers bzw. des innenliegenden Kerns beim Ausbilden ansonsten erforderlicher Sacklochbohrungen vollständig
beseitigt.
Die Kontakthügel bzw. Bumps besitzen beispielsweise einen
Durchmesser von im wesentlichen 0,2 mm und eine Höhe von
> 50 &mgr;&idiagr;&eegr;. Mit der vorgeschlagenen Verbindungsanordnung wurden vierlagige
Multilayer mit ca. 1000 Kontaktübergangsstellen zwisehen dem Kern und den äußeren Leitschichten gefertigt.
Alles in allem kann mit der neuartigen Verbindungsanordnung von Multilayerschaltungen in effektiver Weise unter Nutzung
ohnehin erforderlicher Laminierschritte eine elektrische Kontaktierung
von einem zweiseitig mit Leitbahnen oder Leitschichten versehenen und Durchkontaktierung aufweisenden Kern
hin zu darüber befindlichen bzw. äußeren Leitschichten erfolgen, ohne daß ein aufwendiges und qualitätseinschränkendes
Sacklochbohren notwendig wird.
• ·
Claims (5)
1. Verbindungsanordnung für Multilayerschaltungen, wobei auf einem innenliegenden Kern an notwendigen elektrischen Verbindungsstellen
durch galvanisches Aufwachsen oder durch Differenzätzung aus einer stärkeren Metallfolie hervorstehende
halbkugel-, pyramiden-, pyramidenstumpfförmige oder dergleichen Hügel ausgebildet sind,
dadurch gekennzeichnet, daß zur Kontaktierung des innenliegenden Kerns (1) hin zu äußeren Leitschichten (5) der Multilayerschaltung mittels Laminieren mindestens eine Isolierschicht (4) und eine Leitschicht (5) vorgesehen ist, wobei die Hügel (3) die Isolierschicht (4) durchstoßen und eine elektrische Verbindung mit
dadurch gekennzeichnet, daß zur Kontaktierung des innenliegenden Kerns (1) hin zu äußeren Leitschichten (5) der Multilayerschaltung mittels Laminieren mindestens eine Isolierschicht (4) und eine Leitschicht (5) vorgesehen ist, wobei die Hügel (3) die Isolierschicht (4) durchstoßen und eine elektrische Verbindung mit
-2-
der über der Isolierschicht (4) befindlichen Leitschicht (5) eingehen.
2. Verbindungsanordnung für Multilayerschaltungen, wobei auf einem innenliegenden Kern an notwendigen elektrischen Verbindungsstellen
durch galvanisches Aufwachsen oder durch Differenzätzung aus einer stärkeren Metallfolie hervorstehende
halbkugel-, pyramiden, pyramidenstumpfförmige oder dergleichen
Hügel ausgebildet sind,
dadurch gekennzeichnet, daß zur Kontaktierung des innenliegenden Kerns (1) hin zu
äußeren Leitschichten (5) der Multilayerschaltung mittels Laminieren mindestens eine Isolierschicht (4) und eine Leitschicht
(5) vorgesehen ist, wobei die Stellen der außenliegenden Leitschicht (5) im Bereich der Hügel (3) freigeätzt und
zur elektrischen Kontaktierung mit der Leitschicht (5) eine Verbindungsschicht im Bereich zwischen Hügel (3) und Leitschicht
(5) vorgesehen ist.
3. Verbindungsanordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Verbindungsschicht chemisch abgeschieden ist.
4. Verbindungsanordnung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Multilayerschaltung mindestens vierlagig ausgebildet ist.
5. Verbindungsanordnung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Hügel (3) eine Durchmesser von im wesentlichen < 0,2 mm und eine Höhe von im wesentlichen
> 50 &mgr;&pgr;&igr; aufweisen.
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US5600103A (en) * | 1993-04-16 | 1997-02-04 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Circuit devices and fabrication method of the same |
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