DE2944237A1 - Lichtempfindliche masse und sie enthaltendes lichtempfindliches material - Google Patents

Lichtempfindliche masse und sie enthaltendes lichtempfindliches material

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DE2944237A1 DE19792944237 DE2944237A DE2944237A1 DE 2944237 A1 DE2944237 A1 DE 2944237A1 DE 19792944237 DE19792944237 DE 19792944237 DE 2944237 A DE2944237 A DE 2944237A DE 2944237 A1 DE2944237 A1 DE 2944237A1
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Description

Die Erfindung betrifft lichtempfindliche Massen (Zusammensetzungen), die sich für die Herstellung von lithographischen Druckplatten, Buchstabendruckplatten (Buchdruckplatten), IC-Schaltungen oder Photomasken eignen; sie betrifft insbesondere lichtempfindliche Massen (Zusammensetzungen), die eine solche Zusammensetzung haben, daß unmittelbar nach der Belichtung als Folge der Verwendung von Kombinationen bestimmter o-Naphthochinondiazid-Verbindungen und bestimihter organischer Farbstoffe in den Massen (Zusammensetzungen) sichtbare Bilder erhalten werden können.
Es ist bekannt, als lichtempfindliche Massen (Zusammensetzungen), die Photoresistmaterialien bilden, Ester- oder Amidverbindungen der o-Naphthochinondiazidosulfonsäure zu verwenden. Wegen ihrer extrem guten Wirksamkeit werden diese Verbindungen in großem Umfange in technischem Maßstabe für die Herstellung von lithographischen Druckplatten, insbesondere sogenannten vorsensibilisierten Platten (nachfolgend abgekürzt als "PS-Platten" bezeichnet) verwendet, die bestehen aus einem Träger und einer Schicht aus einer lichtempfindlichen Masse (Zusammensetzung), die darauf aufgebracht worden
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-Jt- 5
ist, oder sie werden in großem Umfange in der Industrie als Photoresistmaterialien für Buchstabendruckplatten (Buchdruckplatten), IC-Schaltungen, Photomasken oder gedruckte Schaltungen verwendet. Die diese Verbindungen enthaltenden lichtempfindlichen Massen haben jedoch die nachfolgend angegebenen Nachteile.
Die Verbindungen, die gelb gefärbt sind, bleichen beim Belichten aus und werden zu einer farblosen blaßgelben Photolysekomponente. Beim Belichten unter einer gelben Sicherheitslampe kann daher der Operator nach dem Belichten nicht unterscheiden zwischen belichteten Bereichen und unbelichteten Bereichen. Aus diesem Grunde tritt im Verlaufe der Belichtung eine Fehlbehandlung, wie z.B. eine Mehrfachbelichtung, auf, die als "Mehrfachbearbeitung" bezeichnet wird, bei der ein Original auf einen Teil der Platte gelegt und belichtet und danach wieder auf einen anderen Teil der Platte gelegt wird, oder es wird eine Operation durchgeführt, bei der ein unerwünschtes Bild durch Belichtung entfernt wird.
Ls wurden bereits einige Versuche unternommen, unmittelbar nach der Belichtung der lichtempfindlichen Massen sichtbare Bilder zu erzeugen, um die oben erwähnten Nachteile zu beseitigen. Zu solchen Versuchen zur Erzeugung eines sichtbaren Bildes gehören beispielsweise die Verwendung von reduzierbaren Salzen verschiedener Typen im Gemisch mit Diazoverbindungen, wie in den US-Patentschriften 2 066 913 und 2 618 555 beschrieben, die Verwendung von lichtempfindlichen Diazosubstanzen in Kombination mit Säure-Base-Indikatoren, wie in der japanischen Patentpublikation Nr. 2 203/1965 beschrieben, die Verwendung von Kombinationen aus Diazoharzen und Merocyaninfarbstoffen, wie in der japanischen Patentpublikation Nr. 3 041/1974 beschrieben, die Verwendung von homogen pulverisierten
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organischen Färbemitteln, die bei einem pH-Wert von 2,5 bis 6,6 ihre Farbe ändern können, wie in der japanischen Patentpublikation Nr. 21 093/1965 beschrieben, die Verwendung von Estern oder Amiden von o-Naphthochinondiazidosulfonsäure, o-Naphthochinondiazido-4-sulfonsäurehalogenid und einer salzbildenden organischen Verbindung, als ein Farbstoff, wie in der japanischen Offenlegungsschrift Nr. 36 209/1975 beschrieben, und die Verwendung von photolöslichen Massen (Zusammensetzungen) aus o-Naphthochinondiazid-Verbindungen, Novolakharzen und cyclischen Säureanhydriden, o-Naphthochinondiazido-4-sulfonsäurehalogenid und einem organischen Farbstoff, der bei der Wechselwirkung mit einem Photolyseprodukt des o-Naphthochinondiazido-4-suIfonsäurehalogenids seine Farbe ändern kann.
Die auf diese Weise durch Belichtung erzielten verbesserten sichtbaren Bilder weisen jedoch noch keinen ausreichenden Kontrast für die weitere praktische Handhabung unter einer gelben Sicherheitslampe auf und die erzielte Verbesserung reicht nicht aus, um den oben 'genannten Belichtungsvorgang ohne Störungen durchfuhren zu können. Selbst dort, wo ein ausreichender Kontrast erzielt wird, wird ein nachteiliger Einfluß auf die Empfindlichkeit oder Entwickelbarkeit ausgeübt oder wenn die Massen (Zusammensetzungen) über einen längeren Zeitraum hinweg gelagert werden, können keine Bilder mit einem ausreichenden Kontrast erhalten werden, so daß diese Massen bisher nicht so verbessert werden konnten, daß sie zufriedenstellende Eigenschaften aufweisen.
Ziel der vorliegenden Erfindung ist es daher, lichtempfindliche Massen bzw. Zusammensetzungen anzugeben, bei denen die oben genannten Nachteile des Standes der Technik eliminiert worden sind, so daß unmittelbar nach der Belichtung sichtbare Bilder mit einem ausrei-
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-Je-
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chenden Kontrast erhalten werden können, deren Eigenschaften sich auch nach langer Lagerung nicht ändern und wobei kein nachteiliger Einfluß ausgeübt wird auf die den lichtempfindlichen Massen eigenen Eigenschaften, die erforderlich sind, wie z.B. die Empfindlichkeit, die Entwickelbarkeit und dgl.
Nach umfangreichen Untersuchungen wurde nun gefunden, daß dieses Ziel erfindungsgemäß erreicht werden kann mit einer lichtempfindlichen Masse bzw. Zusammensetzung, die eine o-Naphthochinondiazid-Verbindung der nachfolgend angegebenen allgemeinen Formel enthält (nachfolgend als "erfindungsgemäß verwendete o-Naphthochinondiazid-Verbindung" bezeichnet):
worin bedeuten:
X eine Oxygruppe (-0-) oder Iminogruppe (=NH ), Y einen Elektronen anziehenden Substituenten und η eine ganze Zahl von 1 bis 5.
Die oben genannten erfindungsgemäß verwendeten o-Naphthochinondiazidverbindungen sind dadurch charakterisiert, daß sie in ihrer Molekülstruktur mindestens einen Elektronen anziehenden Substituenten,
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-JS -
g ΙIH 4 ? 3 7
in der oben genannten allgemeinen Formel durch Y repräsentiert, aufweisen, wobei die Gegenwart dieses Substituenten zu der guten Qualität des nach der Belichtung erhaltenen sichtbaren Bildes, die erfindungsgemäß angestrebt wird, stark beiträgt. Das heißt, bei Verwendung irgendeiner Verbindung, die keinen Substituenten, wie er oben angegeben ist, aufweist oder Substituenten aufweist, die Elektronen abgebende Gruppen darstellen, wird kein sichtbares Bild erhalten oder dann, wenn mehr oder weniger sichtbare Bilder erhalten werden, sind sie praktisch wertlos, während dann, wenn o-Naphthochinondiazid-Verbindungen mit Elektronen anziehenden Substituenten verwendet werden, sichtbare Bilder erhalten werden können, die einen für die Durchführung der oben genannten Operation ohne Schwierigkeiten ausreichenden befriedigenden Kontrast ergeben. Ein bevorzugtes Beispiel für den Elektronen anziehenden Substituenten ist ein Fluor-, Chlor- oder Bromatotn, eine Nitro-, Cyano-, Vinyl-, Carbamoyl-, -COOR1-, -COR^- oder -SO„R„-Gruppe, worin R., R_ und R_ einzeln jeweils darstellen eine niedere Alkylgruppe ;(z.B. Methyl, Äthyl, Propyl, Butyl, t-Butyl), Arylgruppe (z.B. Phenyl, Naphthyl) oder Aralkylgruppe (z.B. Benzyl), wobei die niedere Alkylgruppe vorzugsweise 1 bis 4 Kohlenstoffatome und die Aryl- und Aralkylgruppen jeweils 6 bis 10 Kohlenstoffatome aufweisen.
Diese Elektronen anziehenden Substituenten können in irgendeiner der o-, m- und p-Positionen angeordnet sein, bei Verwendung einer Verbindung, welche die Substituenten in der o- oder p-Position aufweist, ist jedoch der erzielbare Effekt im allgemeinen größer als der Effekt, der erzielbar ist bei Verwendung einer Verbindung, welche die Substituenten in der m-Position aufweist, und die Anzahl der Substituenten, die sich hier auf 1 bis 3 beläuft, kann bevorzugt sein, wobei jedoch der Effekt, der erzielbar ist durch Verwendung einer disubstituierten oder trisubstituierten Verbindung,größer ist als
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-4t -
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bei Verwendung einer monosubstituierten Verbindung. Ein besonders bevorzugtes Beispiel fUr einen Elektronen anziehenden Substituentt ist eine Nitro- oder Cyanogruppe.
Die Naphthochinon-Ringe bzw. -Kerne der o-Naphthochinondiazid-Verbindungen können einen Substituenten aufweisen.
Typische Beispiele für erfindungsgemäß verwendete o-Naphthochinondiazid-Verbindungen sind nachfolgend angegeben, die Erfindung ist jedoch keineswegs darauf beschränkt, sondern die Erfindung umfaßt auch die Verwendung von Verbindungen mit variierenden Kombinationen in bezug auf die Art, Anzahl und Substitutionsposition der ausgewählten Elektronen anziehenden Gruppen und der ausgewählten verbindenden Gruppe X.
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N,
so. I c
NO.
(2)
so,
..U2
so. I c O
Cl
so. I '
SO0
I 2
CN
(6)
SO, I £ O
CH=CH.
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(9)
-■8
O
No
(Ö)
so,
COOCH-
SO-
I '
C=O
(10)
SO.
COIiH.
SO.
NO.
(11)
SO.
ei X ei
Cl
030020/0788 (12)
N.
SO0 I 2 0 Cl X .Cl
NO.
OWöiNAL INSPECTED
(13)
(14)
(15)
COOCII2-/ Λ
i)ie erfindungsgemüß verwendete o-Naphthochinondiazid-Verbindung kann nach einem ähnlichen Verfahren hergestellt werden wie das nachfolgend beschriebene, an sich bekannte allgemeine Verfahren der Synthese der bekannten o-Naphthochinondiazid-Verbindungen.
Das heißt, die erfindungsgemäß verwendeten o-Naphthochinondiazid-Verbindungen können leicht hergestellt werden durch Auflösen von Naphthochinon(i , 2)diazido(2)-4-sulfonylchlorid und Phenolen oder Anilinen mit den oben genannten Elektronen anziehenden Substituenten in Dioxan oder Tetrahydrofuran und anschließendes Zutropfen einer wäßrigen Lösung eines Alkali, wie Natriumcarbonat
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oder Kaliumcarbonat.
Die auf diese V.'ciso hergestellten und erfindungsgemüß verwendeten o-üophthochinondiazid-Verbinduncjen sind gegen Lagerung über einen längeren Zeitraum hinweg beständig und sie weisen keine unerwünschten Eigenschaften für lichtempfindliche Substanzen, beispielsweise keine Hygroskopizität auf und sie neigen nicht zur Zersetzung, wenn sie im Dunkeln aufbewahrt werden.
Zur Herstellung einer Jichtempfindlichen Masse (Zusammensetzung) wird die o-Naphthochinondiazid-Verbindung erfindungsgemäß in Kombination mit einem organischen Farbstoff verwendet, der seine Farbe ändern kann, wenn die lichtempfindliche Masse (Zusammensetzung) belichtet wird. Die Farbänderung umfaßt ein Ausbleichen der Farbe oder eine Änderung der Farbtönung und dgl. Man nimmt an, daß der organische Farbstoff seine Farbe durch eine Wechselwirkung (z.B. eine schwache chemische Reaktion) mit einem Photolyseprodukt der ö-Maphthochinondiazid-Verbindung, das bei der belichtung entsteht, ändert.
Zu verwendbaren organischen Farbstoffen gehören Triphenylmethanfarbstoffe, beispielsweise basische Triphenylmethanfarbstoffe, wie Victoria Pure Blue COM (hergestellt von der Firma Hodogaya
Kagaku K.K.), Patent Pure Blue (hergestellt von der Firma Sumitomo
Mikuni Kagaku K.K.), Sudan Blue II (hergestellt von der Firma BASF), Kristallviolett, Malachitgrün, Fuchsin und dgl., sowie saure Triphenylmethanfarbstoffe, wie Gresol Red, Thymol Blue und dgl., und außerdem gehören dazu öllösliche Farbstoffe, wie Oil Blue #603 und Oil Red 5B (beide hergestellt von der Firma
Orient Kagaku Kogyo K.K.) und dgl. Unter den oben genannten organischen
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Farbstoffen sind die basischen Triplienylmethonfarbstoffe besonders bevorzugt. Einige dieser Farbstoffe sind aus den oben genannten Literaturstellen bereits bekannt. Die oben genannten Farbstoffe können entweder einzeln oder, falls erforderlich, in Form einer Mise llung davon verwendet werden.
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf lichtempfindliche Massen bzw. Zusammensetzungen, die mindestens eine der erfindungsgnmüß verwendeten o-Naphthochinondiazid-Verbindungen und gegebenenfaJls mindestens einen der oben genannten organischen Farbstoffe enthalten. In die erfindungsgemcißen lichtempfindlichen Massen bzw. Zusammensetzungen (nachfolgend der Einfachheit halber stets als "lichtempfindliche Massen" bezeichnet) können jedoch auch andere Substanzen verschiedener Arten zum Zwecke der Verbesserung der FiJmbildungseigenschaften, der mechanischen Festigkeit und der photographischen Qualität (Eigenschaften) eingearbeitet werden. Die erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Massen können beispielsweise als lichtempfindliche Substanz die an sich bekannten otJoplithochinondiazid—Verbindungen enthalten. FUr den oben angegebenen Zweck bevorzugt verwendete bekannte o-Naphthochinondiazid-Verbindungen sind Ester von Naphthochinon(l,2)diazido(?)sulfonsüurechlorid mit Phenol- oder Kresolformaldehydharzen. Zu anderen brauchbaren, an sich bekannten o-Nophthochinondiazid-Verbindungen gehören diejenigen, wie sie beispielsweise in den japanischen Patentpublikationen Nr. 5 083/1975, 5 084/1975, 483/1976, 24 641/1975, 34 934/1977, 34 932/1977 und 36 008/1977 beschrieben sind. In die lichtempfindlichen Massen können außerdem nicht-lichtempfindliche Harze eingearbeitet werden zur Verbesserung der Filmbildungseigenschaften, der mechanischen Festigkeit, der Geständigkeit gegenüber Chemikalien und dgl.
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Zu Heispielen für niclit-lichtempfindliche Harze, die mit Erfolg für diesen Zweck, entweder einzeln oder in Form einer Kombination, "erwendet werden können, gehören beispielsweise alkalilösliche Harze, v/ie Phenol- oder Formaldehydnovolakharze, m-Kresolformaldehydnovolakharze, m-Xylenolf ormaldehydnovolakharze, Schellack, Collophonium (Rosin), Polyacrylsäure, Polymethacrylsäure, Methacrylsäure/Methylmetha crylat-Copolymere, Methacrylsäure/Styrol-Copolymere, Poly-p-hydroxystyrol, Copolymere, die p-Hydroxymethacrylanilidderivate enthalten, wie in der japanischen Patentpublikation Nr. 3^· 931/1977 beschrieben, und Copolymere, die p-Hydroxymethacrylatderivateenthalten, wie in der japanischen Patentpublikation Nr. 41 052/1977 beschrieben.
Außer den oben genannten Zusätzen können in die erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Massen auch noch verschiedene andere Zusätze für verschiedene Zwecke eingearbeitet werden. So können die lichtempfindlichen Massen beispielsweise zur Verbesserung ihrer Üeschichtungseigenschaften Zusätze enthalten, wie z.H. Cellulosealkylester, oberflächenaktive Mittel vom Äthylenoxid-Typ und oberflächenaktive Mittel vom Fluor enthaltenden Typ (wie z.B. FC-430 und FC-431, hergestellt von der Firma Minesota Mining and Manufacturing Co., Ltd.), und außerdem können sie zur Verbesserung der physikalischen Eigenschaften der resultierenden Überzüge aus der lichtempfindlichen Masse beispielsweise Weichmacher, wie Dibutylphthalat, Butylglykolat, Trikresylphosphat, Dioctyladipat und dgl., enthalten.
In der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Masse, welche die oben genannten Komponenten enthält, bestehen keine speziellen Beschränkungen in bezug auf das Mischungsverhältnis dieser Komponenten.
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Die erfindungsgemüß verwendete o-Naphthochinondiazid-Verbindung der oben angegebenen allgemeinen Formel wird jedoch in einer Menge von 0,1 bis 70, vorzugsweise von 1 bis 40 Gew.-/'f bezogen auf das Gesamtgewicht der lichtempfindlichen Masse, verwendet, der organische Farbstoff, der durch Wechselwirkung mit einem Photolyseprodukt der o-Naphthochinondiazid-Verbindung seine Farbtönung ändern kann, wird in einer Menge von 0,1 bis 20, vorzugsweise von 0,5 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der lichtempfindlichen flosse verwendet und die Zusätze werden in einer Menge von 0,01 bis 20, vorzugsweise von 0,05 bis 10 Gew.-°J, bezogen auf das Gesamtgewicht der lichtempfindlichen Masse, verwendet, wobei die Menge dieser Zusätze in Abhängigkeit von der Art der verwendeten Zusätze im allgemeinen variieren kann.
Die erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Massen werden nach dem Aufbringen in Form einer Schicht auf einen geeigneten Träger, wie z.B. eine Aluminiumplatte, eine Zinkplatte, eine Kupferplatte, einen Kunststoffilm, auf Papier und auf laminierte Platten, wie z.U.' Bimetalle, Trimetalle, Kupferfolien fur gedruckte Schaltungen, Kunststoffolien, mit Chromoxid bedampfte Glasplatten und dgl. für die verschiedensten Zwecke verwendet. In einer Beschichtungsflüssigkeit, die zum Aufbringen der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Masse in Form einer Schicht auf einen Träger verwendet wird, beträgt. die Konzentration der Gesamtfeststoffe der Ceschichtungsmasse zweckmäßig 1 bis 50 Gew.-^, bezogen auf ein organisches Lösungsmittel in der BeschichtungsflUssigkeit. Bei den organischen Lösungsmitteln, die zweckmäßig einzeln oder in Form einer Mischung in der Beschichtungsf lüssigkeit verwendet werden, handelt es sich beispielsweise um Methylcellosolve, Äthylcellosolve, Dioxan, Aceton, γ-Butyrolacton, Tetrachloräthan, Tetrahydrofuran, Dimethylsulfoxid, Dimethylformamid,
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Methylcellosolveacetat und Athylcellosolveacetat.
Dei der Verwendung der auf diese Weise erhaltenen lichtempfindlichen Materialien kann jedes beliebige Verfahren, das üblicherweise für Materialien dieser Art angewendet wird, angewendet werden. So wird beispielsweise ein transparentes Original, das ein Strichbild, ein Punktbild oder dgl. trägt, mit einer lichtempfindlichen Oberfläche des Materials in innigen Kontakt gebracht, danach belichtet und mit einer wäßrigen Alkalilösung entwickelt, wobei man ein Reliefbild vom positiven Typ, bezogen auf das Original, erhält. Zu bevorzugt verwendeten Lichtquellen für die Belichtung gehören eine Quecksilberlampe, eine Metallhalogenidlampe, eine Xenonlampe, eine Kohlelichtbogenlampe und dgl. Zu für die Entwicklung verwendbaren wäßrigen Alkalilösungen gehören eine wäßrige Lösung von Natriumhydroxid, Küliumhydroxid, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Natriumsilikat, Natriummetasilikat, Dinatriumhydrogenphosphat, Trinatriumhydrogenphosphat und dgl. Eine Konzentration der wäßrigen Alkaliilösung, die in diesem Falle verwendet wird, beträgt im allgemeinen C, 1 'bis 10 Gew.-"', wobei jedoch die Konzentration in Abhängigkeit von der Art der verwendeten lichtempfindlichen Masse und des verwendeten Alkali variieren kann. Um die Entwicklung zu beschleunigen und eine ungleichmäßige Entwicklung zu verhindern, kann in die wäßrige Alkalilösung eine geringe Menge eines oberflächenaktiven Mittels, eines mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmittels und ähnlicher Zusätze, die für diese Zwecke geeignet sind, eingearbeitet werden.
Die Erfindung wird durch die folgenden Beispiele näher erläutert, ohne jedoch darauf beschränkt zu sein.
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[Beispiel 1
Auf cine 0,2'1 mm dicke Aluminiumfolie, die unter Anwendung eines nürstenpoliervcrfahrens gekörnt (aufgerauht) worden war, v/urde mittels einer Rotationsbeschichtungsvorrichtung eine lichtempfindliche Flüssigkeit mit der nachfolgend angegebenen Zusammensetzung in Form einer Schicht aufgebracht und dann 3 Minuten lang bei 110 C getrocknet zur Herstellung einer Druckplatte für die Lithographie.
Zusammensetzung der lichtempfindlichen Flüssigkeit:
Γ Ja ρ lit hoc hi η on -(1, ?)diaziclo(2)-4-sulfonsciure-2,Ί-dinitrophenylester (beispielhafte Verbindung 10) 1,4 g
m-Kresolformaldehydnovolakharz ((V-707, hergestellt von der Firma Gunei Kagaku K.K.) 7,6 g
Kondensat von Nnphthochinon-(i,2)diazido-(2)-5-sulfonsäurc?chlorid mit m-Kresolformaldehydnovolak harz (Kondensationsrate 25 Mol-yS) 5,0 g
Victoria l'ure ülue ROH (hergestellt von der : Firma Hodogaya Kagaku K.K.) C.I. Nr. 42595 0,1 g
Trikresylphosphat 0,14 g
ÄthylceJlosolve 100 g
Mach dem Trocknen hatte die auf diese Weise auf die Aluminiumfolie aufgebrachte lichtempfindliche Schicht ein Gewicht von 2,78 g/m
Die auf diese Weise erhaltene lichtempfindliche Druckplatte für die Lithographie wurde in innigen Kontakt gebracht mit der lichtempfindlichen Schicht einer positiven Kopie einer Halbtonphotographie und einem Stufenknil für die Gestimmung der tmpfindlichkeit und danach 70 Sekunden lang in einem Abstand von 1 m mittels einer 0 Kl'-MetaJ lhalogeniü'lampe belichtet. Unmittelbar nach der Celichtung
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blich der Farbstoff in dem belichteten Abschnitt der lichtempfindlichen Schicht aus und es war ein deutlicher Unterschied der Farbtönung zwischen den belichteten und unbelichteten Abschnitten festzustellen. Das dabei erhaltene sichtbare Bild war so, daß selbst Registermarkierungen der Kopie festgestellt werden konnten.
Danach wurde die belichtete Druckplatte 45 Sekunden lang bei 25 C mit einer 4 ^igen wäßrigen Natriummetasilikatlösung einer Schalencntwicklung unterworfen, danach wurde der durch die Belichtung ausgebleichte Abschnitt entfernt, nachdem er aufgelöst worden war, und man erhielt ein blaues positives Reliefbild mit einer ausgezeichneten Affinität gegenüber Druckerfarbe. Nachdem eine Offsetpresse, auf der die so hergestellte Druckplatte befestigt worden war, in Bewegung gesetzt worden war, erhielt man Druckkopien, die ein vorteilhaftes Bild darauf trugen.
Außerdem wurde das erfindungsgemäße Beispiel in bezug auf die 'Qualität des unmittelbar nach der Delichtung erhaltenen sichtbaren Bildes und des sichtbaren Bildes, das nach dem Ablauf einer bestimmten Zeitspanne nach der Delichtung erhalten worden war, und in bezug auf die Stabilität der Empfindlichkeit der lichtempfindlichen Druckplatte zum Zeitpunkt der Herstellung und nach der Lagerung unter bestimmten Bedingungen verglichen mit Vergleichsbeispielen, die von dem System des erfindungsgemäßen Beispiels verschiedene Systeme aufwiesen, wobei die in den folgenden Tabellen I und II angegebenen Ergebnisse erhalten wurden, und mit Vergleichsbeispielen, die (1) das gleiche System wie in dem erfindungsgemäßen Beispiel, jedoch ohne Zugabe der erfindungsgemäß verwendeten o-Naphthochinondiazid-Verbindung (Vergleichsbeispiel 1 ), (2) das gleiche System wie in dem erfindungsgemäßen Beispiel, jedoch
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29Λ/.237
unter Verwendung einer o-Naphthochinondiazid-Verbindung mit einer Elektronen abgebenden Gruppe anstelle der erfindungsgemäß verwendeten o-Naphthocbinondiazid-Verbindung (Vergleichsbeispiel 2) und (3) das gleiche System wie in dem erfindungsgemäßen Beispiel, jedoch unter Verwendung von Naphthochinon-(i,2)diazido(2)-4-sulfonsäurechlorid anstelle der erfindungsgemäß verwendeten o-Haphthochinondiazid-Verbindung aufwiesen.
Die Qualitäten der nach der Dclichtung erhaltenen sichtbaren Bilder wurden miteinander verglichen durch Messung der Reflexionsdichten (unter Verwendung eines Gelbfilters) der belichteten und unbelichteten Abschnitte und durch visuelle Betrachtung der Bilder unter einer gelben Lampe, und die Empfindlichkeiten der lichtempfindlichen Platten wurden miteinander verglichen durch Messung der Belichtungszeit, die erforderlich war, um die dritte Stufe eines Stufenkeils Nr. 2, hergestellt von der Firma Eastman Kodak Co., unter den gleichen Dclichtungsbedingungen wie in dem erfindungsgemäßen Beispiel vollständig klar zu machen.
Vergleichsbeispiel 1
Das Heispiel 1 wurde wiederholt, wobei diesmal jedoch der lichtempfindlichen Flüssigkeit die beispielhafte Verbindung 10 nicht zugesetzt wurde.
Vergleichsbeispiel 2
Das Beispiel 1 wurde wiederholt, wobei diesmal jedoch der Naphthochinon(i,2)diazido(2)-4-sulfonsäure-2,4-dimethylphenylester der nachfolgend angegebenen Formel anstelle der beispielhaften Verbindung
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ZA
10 in der gleichen Menge in der lichtempfindlichen Flüssigkeit verwendet wurde.
CII
Vcrgleichsbeispicl 3
Das Ueispiel 1 wurde wiederholt, wobei diesmal Naphthochinon(i,2)· diazido(?)-4-sulfonsäurechlorid (beschrieben in der japanischen Offenlegungsschrift Nr. 36209/1975) anstelle der beispielhaften Verbindung 10 in der gleichen Menge in der lichtempfindlichen Flüssigkeit verwendet wurde.
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Tabelle I Qualitätsvergleich zwischen den nach der Belichtung erhaltenen sichtbaren Eildern und Vergleich der Legerungsbeständigkeit zwischen den lichtempfindlichen Messen noch der Lcgerung ■ · ■ ·
unmittelbar nech der Herstellung
Dichte
durch vi
vorgeschriebene Zusammen- , Γ! Γ" .' ~~~ durch visuel- belich- unbelich- , , n
, oelichte- unoelicnte- . ,_ . sueile Be-
setzuna η - - . .
Tage lang in eine^ trockenen 6 Tage lang in einen Hydrother-o-
Therrost.-ten bei 55"1C und ? % ce- steten bei 40°C unH 80 " celacert Lichte lagert - Dichte
durch visuelle
ter Teil ter Teil
Ie Betrachtung teter teter
festgestellter Teil Teil
unterschied
Testgesteil-
^i
ter Teil teter
Teil
g
ter l'ntersc^iec
festgestellter Unterschied
beisnieJ
Vergleichsbeisp. Ί
Vergleichsbeisp. 2
Vergleichsbeisp. 3
0.50
0.75 0.47
0.75
0.75
0.77
χ X
O. 55 C .7^
O. 71 0 .73
O. 7^ 0 .75
O. 57 0 .65
0.53
0.73
0.7-
0.67
0.74
0.69
O X X X
Semerkuneen:
Das Ergebnis der visuellen Feststellung eines Unterschieds in bezug auf die Dichte zwischen den belichteten und unbelichteten Teilen des nach der Belichtung gebildeten Bildes wird dargestellt durch das Zeichen (j , wobei ein klarer Unterschied festgestellt wurde, durch das Zeichen Λ , N> wobei ein nicht so klarer Unterschied festgestellt wurde, und das Zeichen X, wobei der Unter- S schied nicht deutlich war. r-^
Tabelle II Empfindlichkeitsvergleich zwischen den lichtempfindlichen Massen nach der Lagerung
vorgeschriebene unmittelbar 6 Tage lang bei 55°C und 2 y, 6 Tage lang bei 40°C und CO Z
Zusammensetzung nach der rierstel- in einem trockenen Thermo- in einem Hydrothermostaten ge-
staten gelagert Deispiel 76 see. 76 see.
ο Vergleichsbeispiel 1 59 see. 64 see. 64 see.
o " 2 70 see. 76 see. 76 see.
Deispiel ^ sispiel 2 70 sec.
Vsrgleichsb 3 59 sec.
70 sec.
Il 91 sec.
108 see. 128 see
Die in der Tabelle angegebene Zeit stellt die Belichtungszeit dar, die erforderlich ist zur Klärung der dritten Stufe des Stufenkeils beim Bestrahlen mit Licht aus einer 2 KW-Hetallhalogenidlampe in einem Abstand von I m.
Wie πυ? der vorstehenden TdLk;.1.Ie 1 hervorgeht, wurde; in dem Vergleichsheispiel 1, in dem ί eine crf indungsgemüß verwendete C-'!nplithocliinondiaz.i d-Vcrbi ndung verwendet wurde, sowie in dem Voigleichsbeispiel /, in dem statt dessen eine ο-Nap lit ho chi nondi π 7i d-V'erbi ndung nit Llektronen abgebenden Substi tuenten verwendet wurde, kein Unterschied in bezug αυΓ die Pichte zwischen den belichteten und unbelichteten Teilen des erhaltenen F3ildcs bcobric.htot oder dieser war, wenn überhaupt ein Unterschied vorlag, πehr gering und der Unterschied konnte unter einer gelben Imrpe praktisch nicht festgestellt werden, Bei einem anderen sichtbaren HiIdsystem (Vergleichsbeispiel 3), in dem statt dessen die Naphthochinone 1 , /)diazido(^)-1I-Su 1 fonsäure verwendet wurde, wurde einerseits mindestens bei der lichtempfindlichen I1 lotto vor dem Lagern ein sichtbare? bild erhalten, nach der Lagerung der Platte bei hoher Temperatur und hoher Feuchtigkeit wurde jedoch kein praktisch brauchbares sichtbares Bild erhalten, da die Qualität der gelagerten Platte deutlich verschlechtert war, ynd darüber hinaus trat auch eine Verschlechterung der Impfindlichkcii: nuf, \;nv. η us der Tn he 11·.: II zu ersehen ist.
Jm Cegensaiz dazu konnte in dem Beispiel 1, in dem die erfindungsgomüOe lichtempfindliche Masse verwendet wurde, sowohl vor als chicIi nach der Lagerung ein sichtbares Bild mit einer ausreichenden l)i c bt e«li f f erenz und einen ausreichenden kontrast erhalten werden und es tiat praktisch keine Verschlechterung der Lmpfindliclikeii auf.
In den Beispielen 3 und 4 erhielt man scharfe auskopierte Bilder, wenn man die auf ähnliche Weise wie in Beispiel 1 hergestellten lichtempfindlichen Materialion belichtete, und die lichtempfindlichen Materialien wiesen, wie gefunden wurde, im Vergleich zu dem-
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jcnigon des Ueispielr. 1 eine vorteilho fte Lagerbestcindigkei t nuf. Die Beispiele 3 und 4 werden nachfolgend beschrieben, wobei jedoch nur auf die jeweils verwendeten lichtempfindlichen Flüssigkeiten bezug genommen wird.
Hei spiel 2
Zusammensetzung dor lichtempfindlichen Flüssigkeit:
N(iphthochinon( 1, ?)di«zido(2)-4-su 1 fönsaure-7,6-chlor-4-nitrophonylester (beispielhafte Verbindung 1?) 5,9 g
m-Kresolformaldehydnovolakharz (MP-707, hergestellt von der Firm« Gunei Kagaku K.Ki) 9,0 g
Krir-tallviolott 0,7 g
Athylcellulose 0,15 g
!!ethyl co llor.olvo 100 g
Hai spiel 3
Zusammensetzung der lichtempfindlichen I lüssigkeit:
N'<iphthochinon( 1 , '>)diazido(2)-4-su 1 fonsüurep-cyono[> hony ]<:r, t(;r (beispielhafte Verbindung 5) 0,5 g
ni- und p-Kreso loomi r.chf orma ldohj'dnovo lak fiurz
(N'-7()3, hergestellt von der Firma Gunei
Kagaku K.K.)' 11,13 g
Kondensat (Kondensci t i onsrate : 33 Mol-"··) von
fJaphthochinon-( 1, 2)diazido(2)-5-sul fonsäure-
chloricl mit I'lienol f oruiuldehydnovolakharz /(7 g
Patent Pure Hlue (liergestellt von dc;r Firma
Mikuni Kagaku K.K.) 0,'M', g
Dibutylphtha Int Q,? g
Λ thy Ice 1 loso] veacetcit 100 g
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Zuccinimense tzung dor Ii.chtemp Ti nc! Lichen flüssigkeit:
Iluphtfiochi non( 1 , ") Ji ι: ri. c!o(;1)-'l-r.uJ Γ on sou rop-ni trocm i Lid (Leir.pie 1 h.i Γ Lo Verbindung 13)
kondeivii t von f '.ipliHiocI) i non ( 1 , " )cli nri CIo(^)-H-Tii.1 four.''in!··.!(:!ι]or id πύ t I'o 1 yliydrocliinonmonoriolhy litcryJci tlin 1.-T (l^oncltMir.a t ions rci to ' (' ιΊοΙ-,', I'or.clir ii'bon in der jciprin i.schon I r; [. η t; [ η 11 > 1 il.c t ion fir. Γ>·Ι?Π·1/1
riiymolb ltiu liyc loin.'Xfinon llethy lcol Joso lvo
0,2 g
O, 1 g 50 g 50 g
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Claims (10)

T 52 037 Anmelder: KONISHIROKU PHOTO INDUSTRY CO., LTD. No. 26-2, Nishishinjuku 1-chome, Shinjuku-ku Tokyo, Japan Patentansprüche
1. Lichtempfindliche Masse (Zusammensetzung), dadurch g e k e η η zeichnet , daß sie enthält mindestens eine o-Naphthochinon-
diazid-Verbindung der allgemeinen Formel
worin bedeuten:
X eine Oxy- oder Iminogruppe, Y einen Elektronen anziehenden Substituenten und η eine ganze Zahl von 1 bis
2. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß in der allgemeinen Formel Y ausgewählt wird aus der Gruppe Fluor, Chlor, Brom, Nitro, Cyano, Vinyl, Carbamoyl, -COOR., -COR. oder -SO_R_, worin R,, R« und R~ einzeln jeweils eine niedere Alkyl-, Aryl- oder Aralkylgruppe darstellen.
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29'./, ?37
3. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß in der allgemeinen Formel Y eine Nitro- oder Cyanogruppe bedeutet.
4. Lichtempfindliche Masse nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß in der allgemeinen Formel η eine ganze Zahl von 1 bis 3 bedeutet.
5. Lichtempfindliche Masse nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß in der allgemeinen Formel η die Zahl 2 bedeutet.
6. Lichtempfindliche Masse nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß sie außerdem mindestens einen organischen Farbstoff enthält, der seine Farbe ändern kann, wenn die lichtempfindliche Masse belichtet wird.
7. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei dem organischen Farbstoff um einen Triphenylmethanfarbstoff handelt.
8. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei dem organischen Farbstoff um einen basischen Triphenylmethanfarbstoff handelt.
9. Lichtempfindliche Masse nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die o-Naphthochinondiazid-Verbindung dargestellt wird durch die Formel
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oder
NO,
10. Lichtempfindliches Material, gekennzeichnet durch einen Träger und eine darauf aufgebrachte lichtempfindliche Masse (Zusammensetzung), insbesondere eine solche nach einem der Ansprüche 1 bis 9, die mindestens eine o-Naphthochinondiazid-Verbindung der in Anspruch 1 angegebenen allgemeinen Formel sowie gegebenenfalls mindestens einen organischen Farbstoff enthält, der seine Farbe ändern kann, wenn die lichtempfindliche Masse belichtet wird.
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GB (1) GB2038801B (de)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2503399A1 (fr) * 1981-04-01 1982-10-08 Fuji Photo Film Co Ltd Composition photosensible procurant une image visible par exposition
EP0078980A1 (de) * 1981-11-09 1983-05-18 Hoechst Aktiengesellschaft Lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial
EP0421667A1 (de) * 1989-10-02 1991-04-10 Nippon Zeon Co., Ltd. Positive Fotolackzusammensetzung
EP0443533A2 (de) * 1990-02-20 1991-08-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive arbeitende Photolackzusammensetzung
EP0614120A1 (de) * 1993-03-05 1994-09-07 Morton International, Inc. Photochemischer Säurebildner für mikroelektronische Photoresists
EP0614121A1 (de) * 1993-03-05 1994-09-07 Morton International, Inc. Im fernen UV-empfindlicher Photolack, widerstandsfähig gegen den Zerfall des latenten Bildes
USRE35787E (en) * 1987-07-30 1998-05-05 Kensey Nash Corporation Stone destroying catheter and method of use

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3144499A1 (de) * 1981-11-09 1983-05-19 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
US4596763A (en) * 1984-10-01 1986-06-24 American Hoechst Corporation Positive photoresist processing with mid U-V range exposure
US4672021A (en) * 1985-06-03 1987-06-09 Fairmount Chemical Company Contrast enhancement layer composition with naphthoquinone diazide, indicator dye and polymeric binder
JPS62123444A (ja) 1985-08-07 1987-06-04 Japan Synthetic Rubber Co Ltd ポジ型感放射線性樹脂組成物
US4758497A (en) * 1985-08-22 1988-07-19 Polychrome Corporation Photosensitive naphthoquinone diazide sulfonyl ester compounds for the fabrication of lithographic plates and photosensitive sheet construction with the compounds
JPS63161449A (ja) * 1986-12-24 1988-07-05 Sumitomo Chem Co Ltd 高コントラストなフオトレジスト組成物
US5182183A (en) * 1987-03-12 1993-01-26 Mitsubishi Kasei Corporation Positive photosensitive planographic printing plates containing specific high-molecular weight compound and photosensitive ester of O-napthoquinonediazidosulfonic acid with polyhydroxybenzophenone
JP2623309B2 (ja) * 1988-02-22 1997-06-25 ユーシービー ソシエテ アノニム レジストパターンを得る方法
JPH0816779B2 (ja) * 1988-12-02 1996-02-21 富士写真フイルム株式会社 新規な感光性化合物及びそれを用いたフオトレジストの形成方法
EP0468531B2 (de) * 1990-07-27 1997-11-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. 2-Diazo-1,2-chinonverbindungen und Reproduktionsmaterialien, die diese Verbindungen enthalten
US5206110A (en) * 1991-02-04 1993-04-27 Ocg Microelectronic Materials, Inc. Negative-working radiation-sensitive mixtures containing cyclized rubber polymer and contrast enhancing azo dye
US5250392A (en) * 1991-02-04 1993-10-05 Ocg Microelectronic Materials, Inc. Process of developing a negative-working radiation-sensitive photoresist containing cyclized rubber polymer and contrast enhancing azo dye
JP3290316B2 (ja) 1994-11-18 2002-06-10 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
US5665522A (en) * 1995-05-02 1997-09-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Visible image dyes for positive-acting no-process printing plates
DE69941227D1 (de) 1998-04-06 2009-09-17 Fujifilm Corp Photoempfindliche Harzzusammensetzung
EP1619023B1 (de) 2004-07-20 2008-06-11 FUJIFILM Corporation Bilderzeugendes Material
JP4890403B2 (ja) 2007-09-27 2012-03-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2009085984A (ja) 2007-09-27 2009-04-23 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
JP5164640B2 (ja) 2008-04-02 2013-03-21 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2010237435A (ja) 2009-03-31 2010-10-21 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
EP2481603A4 (de) 2009-09-24 2015-11-18 Fujifilm Corp Lithografische originaldruckplatte
JP5490168B2 (ja) 2012-03-23 2014-05-14 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5512730B2 (ja) 2012-03-30 2014-06-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
RU2552461C1 (ru) * 2014-04-24 2015-06-10 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского" Способ формирования фоторезистной маски позитивного типа (варианты)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1195166B (de) * 1959-09-04 1965-06-16 Kalle Ag Auf Metallunterlagen haftende, aetzfaehige Kopierschichten
DE1522496A1 (de) * 1966-02-12 1969-09-11 Kalle Ag Lichtreprographische Kopiermasse und damit beschichtetes Kopiermaterial
DE2331377A1 (de) * 1973-06-20 1975-01-16 Kalle Ag Lichtempfindliche kopierschicht

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3046121A (en) * 1949-07-23 1962-07-24 Azoplate Corp Process for the manufacture of printing plates and light-sensitive material suttablefor use therein

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1195166B (de) * 1959-09-04 1965-06-16 Kalle Ag Auf Metallunterlagen haftende, aetzfaehige Kopierschichten
DE1522496A1 (de) * 1966-02-12 1969-09-11 Kalle Ag Lichtreprographische Kopiermasse und damit beschichtetes Kopiermaterial
DE2331377A1 (de) * 1973-06-20 1975-01-16 Kalle Ag Lichtempfindliche kopierschicht

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
H.Staab, Einführung in die theoretische organische Chemie, Verlag Chemie, Wein- heim 1959, S.560-563 *

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2503399A1 (fr) * 1981-04-01 1982-10-08 Fuji Photo Film Co Ltd Composition photosensible procurant une image visible par exposition
EP0078980A1 (de) * 1981-11-09 1983-05-18 Hoechst Aktiengesellschaft Lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial
USRE35787E (en) * 1987-07-30 1998-05-05 Kensey Nash Corporation Stone destroying catheter and method of use
EP0421667A1 (de) * 1989-10-02 1991-04-10 Nippon Zeon Co., Ltd. Positive Fotolackzusammensetzung
EP0443533A2 (de) * 1990-02-20 1991-08-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive arbeitende Photolackzusammensetzung
EP0443533A3 (en) * 1990-02-20 1991-12-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive photoresist composition
EP0614120A1 (de) * 1993-03-05 1994-09-07 Morton International, Inc. Photochemischer Säurebildner für mikroelektronische Photoresists
EP0614121A1 (de) * 1993-03-05 1994-09-07 Morton International, Inc. Im fernen UV-empfindlicher Photolack, widerstandsfähig gegen den Zerfall des latenten Bildes

Also Published As

Publication number Publication date
GB2038801B (en) 1983-04-13
US4467025A (en) 1984-08-21
JPS5562444A (en) 1980-05-10
DE2944237C2 (de) 1984-03-29
JPS576572B2 (de) 1982-02-05
GB2038801A (en) 1980-07-30

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