DE19649851C2 - Vorrichtung zur Übersprechdämpfung integrierter Fototransistoren - Google Patents
Vorrichtung zur Übersprechdämpfung integrierter FototransistorenInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung mit einer
Mehrzahl nebeneinander in Spalten und Zeilen angeordneter
Fototransistoren auf einem gemeinsamen Chip, zur Bildaufnahme
mit integrierter Signalvorverarbeitung, deren Emitter-,
Basis- und Kollektorgebiete einfallender Strahlung im Bereich
zwischen 400 . . . . 1100 nm ausgesetzt sind, die hinsichtlich
ihrer räumlichen Hell-Dunkel-Verteilung ausgewertet werden
soll.
Bei einer Schwarz-Weiß-Bildaufnahme geht es prinzipiell darum,
eine bestimmte räumliche Hell-Dunkel-Verteilung in eine
entsprechende elektronische Verteilung umzuformen. Hierzu
dienen die in Spalten und Zeilen angeordneten
Fototransistoren, die je nach dem, ob ein Bildpunkt hell oder
dunkel ist, leiten oder sperren. Die Präzision der
elektronischen Verteilung hängt davon ab, ob benachbarte
Fototransistoren aufgrund ihrer Nähe zueinander sich
gegenseitig beeinflussen können. Die Praxis hat gezeigt, daß
es nicht selten vorkommt, daß Ladungsträger aus dem Bereich
eines bestrahlten Fototransistors in den Bereich eines
benachbarten, aber nicht bestrahlten Fototransistors gelangen
und diesen veranlassen, leitend zu werden, was jedoch von der
vorliegenden Schwarz-Weiß-Verteilung abweicht.
Es ist ein Feld von Fototransistoren mit zusätzlichen
Metallisierungen zwischen den Transistoren bekannt (US-PS 3 838 276).
Darin sind die Fototransistoren in Spalten mit
gemeinsamen Kollektoren angeordnet. Diese Spalten sind durch
Diffusionsgebiete getrennt. In diese Spalten sind für jeden
Transistor eigene Basis- und Emittergebiete eindiffundiert.
Die Emitter sind kontaktiert und zu Zeilen miteinander
verbunden. Um das Übersprechen zwischen den Transistoren zu
vermindern, werden die Emitter nicht in der Mitte, sondern von
der Seite her kontaktiert; zusätzlich werden die Basisgebiete
damit vor Lichteinfall geschützt. Es sind jedoch keine
Maßnahmen vorgesehen, um das durch Diffusion hervorgerufene
Übersprechen zu reduzieren.
Es ist ein Photodiodenarray bekannt (DE 44 42 853 A1), bei
welchem zwischen aktiven Photodioden Absaugdioden, also nicht
steuerbare Elemente angeordnet sind.
Die vorliegende Erfindung beschäftigt sich mit dem Problem,
die gegenseitige Beeinflussung benachbarter Fototransistoren
zu beseitigen.
Erreicht wird dies bei einer Ausführungsform nach der Erfin
dung dadurch, dass zwischen benachbarten Fototransistoren
gegenüber der einfallenden Strahlung abgedeckte Guardtran
sistoren angeordnet sind, bei denen über die Basis-Emitter-
Strecke ein Strom eingeprägt wird, der als Kollektorstrom
durch das Substrat in den jeweils nächstgelegenen
Substratkontakt fließt und ein abschirmendes Feld zwischen den
der Strahlung ausgesetzten Fototransistoren aufbaut.
Die Erfindung wird nachstehend anhand der Zeichnung
beispielsweise erläutert.
Die einzige Figur der Zeichnung zeigt eine Querschnittsansicht
durch eine Vorrichtung gemäß der Erfindung mit Guard-
Transistoren.
Die gezeigte Ausführungsform bietet eine Möglichkeit, das
Übersprechen zwischen benachbarten Fototransistoren zu
dämpfen, und zwar erfolgt die Isolation durch die Einspeisung
eines Stromes zwischen den Transistoren. Dieser Strom ruft ein
Driftfeld hervor, das die diffundierenden Ladungsträger aus
ihrer Diffusionsrichtung ablenkt.
Die Fototransistoren 10 und 12 werden in Vorwärtsrichtung
betrieben. Zusätzlich ist zwischen den Fototransistoren 10 und
12 noch ein Guardtransistor 11 gelegt. Dieser wird, wie auch
die Fototransistoren 10 und 12, als vertikaler bipolarer
Transistor hergestellt, jedoch anders beschaltet. Über die
Basis-Emitter-Strecke wird ein Strom eingeprägt, der als
Kollektorstrom durch das Substrat in den nächstgelegenen
Substratkontakt fließt. Durch den Widerstand des Substrates
baut sich unter den Fototransistoren ein elektrisches Feld
auf, welches verhindert, daß im Substrat generierte
Ladungsträger in die Basis-Kollektor-Sperrschichten der
Fototransistoren 10 und 12 eindiffundieren und dort einen
Fotostrom hervorrufen können.
Claims (1)
1. Vorrichtung mit einer Mehrzahl nebeneinander in Spalten und
Zeilen angeordneter Fototransistoren auf einem gemeinsamen
Chip, zur Bildaufnahme mit integrierter Signalvorverarbeitung,
deren Emitter-, Basis- und Kollektorgebiete einfallender
Strahlung im Bereich zwischen 400 . . . . 1100 nm ausgesetzt
sind, die hinsichtlich ihrer räumlichen Hell-Dunkel-Verteilung
ausgewertet werden soll, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen
benachbarten Fototransistoren gegenüber der einfallenden
Strahlung abgedeckte Guardtransistoren angeordnet sind, bei
denen über die Basis-Emitter-Strecke ein Strom eingeprägt
wird, der als Kollektorstrom durch das Substrat in den jeweils
nächstgelegenen Substratkontakt fließt und ein abschirmendes
Feld zwischen den der Strahlung ausgesetzten Fototransistoren
aufbaut.
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ID=7779192
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3838276A (en) * | 1973-06-29 | 1974-09-24 | Westinghouse Electric Corp | Phototransistor array having reduced crosstalk |
GB2192488A (en) * | 1986-07-11 | 1988-01-13 | Canon Kk | Photoelectric conversion apparatus |
US4903103A (en) * | 1987-10-30 | 1990-02-20 | Hamamatsu Photonics Kabushiki Kaisha | Semiconductor photodiode device |
DE4442853A1 (de) * | 1994-12-01 | 1995-10-26 | Siemens Ag | Photodiodenarray |
-
1996
- 1996-12-02 DE DE19649851A patent/DE19649851C2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
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---|---|---|---|---|
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DE4442853A1 (de) * | 1994-12-01 | 1995-10-26 | Siemens Ag | Photodiodenarray |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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DE19649851A1 (de) | 1997-06-12 |
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