DE10324839B4 - mass spectrometry - Google Patents
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Abstract
Massenspektrometer mit einer Ionenführung (1a, 1b, 1c), wobei die Ionenführung (1a, 1b, 1c) einen Stapel aus mehreren parallelen Plattenelektroden (2) aufweist, wobei die Plattenelektroden (2) derart ausgebildet sind, dass gekrümmte oder auf andere Weise nicht lineare Kanäle in jeder Plattenelektrode (2) zur Ionenführung bereitgestellt werden und die Plattenelektroden (2) parallel zur Ebene der Ionenbewegung angeordnet sind, und die Ionenführung (1a, 1b, 1c) mindestens einen Eingang zum Empfangen von Ionen entlang einer ersten Achse sowie mindestens einen Ausgang, aus dem Ionen von der Ionenführung (1a, 1b, 1c) entlang einer zweiten Achse austreten, aufweist.mass spectrometry with an ion guide (1a, 1b, 1c), wherein the ion guide (1a, 1b, 1c) a stack of a plurality of parallel plate electrodes (2), wherein the plate electrodes (2) are formed are that curved or otherwise non-linear channels in each plate electrode (2) provided for ion guide and the plate electrodes (2) are parallel to the plane of ion motion are arranged, and the ion guide (1a, 1b, 1c) at least one input for receiving ions along a first axis and at least one output from which ions from the ion guide (1a, 1b, 1c) emerge along a second axis.
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Massenspektrometer mit einer Ionenführung sowie ein Verfahren zum Betrieb eines solchen Massenspektrometers.The The present invention relates to a mass spectrometer having a ion guide and a method of operating such a mass spectrometer.
Mehrpol-Stabsatz-HF-Ionenführungen sind bekannt und werden zum Transportieren von Ionen bei verhältnismäßig niedrigen Drücken (beispielsweise < 10–4 mbar), bei denen Ionenkollisionen mit Hintergrundgasmolekülen unwahrscheinlich sind, und auch zum Transportieren von Ionen bei mittleren Drücken (beispielsweise 10–4 – 10 mbar), bei denen Ionen-Molekül-Kollisionen erwartet werden können, verwendet. Mehrpol-Stabsatz-HF-Ionenführungen werden bei mittleren Drücken für einen weiten Anwendungsbereich verwendet. Mehrpol-Stabsatz-HF-Ionenführungen werden beispielsweise als Kollisionszellen, bei denen Ionen-Molekül-Kollisionen beabsichtigt sind, um eine Ionenfragmentation herbeizuführen, und als Reaktionszellen, bei denen Ionen-Molekül-Kollisionen beabsichtigt sind, um Ionen-Molekül-Reaktionen zu erzeugen, verwendet. Mehrpol-Stabsatz-HF-Ionenführungen werden auch als Kühlvorrichtungen verwendet, bei denen Ionen-Molekül-Kollisionen zu einem Ausgleich der Ionen- und Gasmolekültemperaturen oder ihrer kinetischen Energien führen. Bekannte Mehrpol-Stabsatz-HF-Ionenführungen weisen eine gerade Mittelachse mit einem einzigen Ioneneingang und einem einzigen Ionenausgang auf.Multipole rod-set RF ion guides are known and are used to transport ions at relatively low pressures (eg, <10 -4 mbar) where ion collisions with background gas molecules are unlikely, and also to transport ions at medium pressures (e.g., 10 -4 - 10 mbar) at which ion-molecule collisions can be expected. Multipole rod set RF ion guides are used at medium pressures for a wide range of applications. Multipole rod set RF ion guides are used, for example, as collision cells in which ion-molecule collisions are intended to cause ion fragmentation, and as reaction cells in which ion-molecule collisions are intended to produce ion-molecule reactions. used. Multipole rod-set RF ion guides are also used as cooling devices in which ion-molecule collisions result in compensation for ion and gas molecule temperatures or their kinetic energies. Known multipole rod set RF ion guides have a straight central axis with a single ion input and a single ion output.
Ein
Massenspektrometer mit einer Einrichtung zum Fokussieren und Führen der
Ionen ist aus der WO 02/43105 A1 bekannt. Diese Einrichtung besteht
aus parallel angeordneten Plattenelektroden, die senkrecht zur Ionenbewegung
angeordnet sind. Die Ionenbewegung erfolgt durch Aperturen oder
Aussparungen in den Plattenelektroden hindurch. Zur Realisierung
komplexer, insbesondere krummliniger Ionenwege müssen bei einer derartigen Einrichtung
die Aperturen in den Plattenelektroden und/oder die Positionen der
einzelnen Plattenelektroden verändert
werden. Dies ist mit erhöhtem
Aufwand verbunden. Ähnliche
Einrichtungen zur Ionenführung
sind aus den Druckschriften
Die
Es ist erwünscht, ein Massenspektrometer mit einer verbesserten und leichter herzustellenden HF-Ionenführung, insbesondere für krummlinige Ionenwege, bereitzustellen.It is desired a mass spectrometer with an improved and easier to manufacture RF ion guide, especially for curvilinear ion pathways.
Diese Aufgabe wird durch ein Massenspektrometer gemäß Patentanspruch 1 gelöst. Vorteilhafte Verfahren zum Betrieb eines solchen Massenspektrometers sind in den Ansprüchen 45 bis 73 angegeben.These The object is achieved by a mass spectrometer according to claim 1. advantageous Methods for operating such a mass spectrometer are in the claims 45 to 73 indicated.
Gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ein Massenspektrometer mit einer Ionenführung vorgesehen. Die Ionenführung weist mehrere Plattenelektroden und einen Eingang zum Empfangen von Ionen entlang einer ersten Achse und einen Ausgang, aus dem Ionen von der Ionenführung entlang einer zweiten Achse austreten, auf. Die zweite Achse steht unter einem Winkel θ zur ersten Achse, wobei θ > 0° ist. Zwischen der Eingangsöffnung und der Ausgangsöffnung der Ionenführung ist ein Ionenführungsbereich bereitgestellt. Gemäß der bevorzugten Ausführungsform beträgt der Winkel θ vorzugsweise < 10°, 10 – 20°, 20 – 30°, 30 – 40°, 40 – 50°, 50 – 60°, 60 – 70°, 70 – 80°, 80 – 90°, 90 – 100°, 100 – 110°, 110 – 120°, 120 – 130°, 130 – 140°, 140 – 150°, 150 – 160°, 160 – 170° oder 170 – 180°. Es werden auch Winkel > 180° erwogen, wobei die Ionenführung einen spiralförmigen Ionenführungsbereich aufweist. Ein Winkel von 0° entspricht einem Zustand, in dem die zweite Achse zur ersten Achse parallel ist. Ein Winkel von 180° entspricht einer Ausführungsform, bei der ein U-förmiger Ionenführungsbereich innerhalb der Ionenführung bereitgestellt wurde, so daß in die Ionenführung eintretende Ionen um 180° umgelenkt werden, bevor sie in der entgegengesetzten Richtung, zu der die Ionen in die Ionenführung eingetreten sind, aus der Ionenführung austreten.According to one Aspect of the present invention is a mass spectrometer with an ion guide provided. The ion guide has a plurality of plate electrodes and an input for receiving of ions along a first axis and an exit from the Ions from the ion guide emerge along a second axis, on. The second axis is stationary at an angle θ to first axis, where θ> 0 °. Between the entrance opening and the exit opening the ion guide is an ion guide region provided. According to the preferred embodiment is the angle θ is preferably <10 °, 10-20 °, 20-30 °, 30-40 °, 40-50 °, 50-60 °, 60-70 °, 70-80 °, 80-90 °, 90 ° 100 °, 100-110 °, 110-120 °, 120-130 °, 130-140 °, 140-150 °, 150-160 °, 160-170 ° or 170-180 °. It will also considered angles> 180 °, the ion guide a spiral Ion guide region having. An angle of 0 ° corresponds a condition in which the second axis is parallel to the first axis is. An angle of 180 ° corresponds an embodiment, at a U-shaped ion guide region within the ion guide was provided so that in the ion guide Incoming ions deflected by 180 ° before going in the opposite direction to which the Ions into the ion guide have occurred from the ion guide escape.
In einer anderen Hinsicht sieht die vorliegende Erfindung ein Massenspektrometer vor, das eine Ionenführung mit mehreren Plattenelektroden, einem Eingang zum Empfangen von Ionen entlang einer ersten Achse und einem Ausgang, aus dem Ionen entlang einer zweiten Achse austreten, aufweist. Die Ionenführung weist weiter einen gekrümmten Ionenführungsbereich zwischen dem Eingang und dem Ausgang auf. Der gekrümmte Ionenführungsbereich weist vorzugsweise einen einzigen zusammenhängenden, vorzugsweise glatt zusammenhängenden Ionenführungsbereich auf, durch den Ionen vom Eingang zum Ausgang geführt werden. Gemäß der bevorzugten Ausführungsform ist der Ionenführungsbereich im wesentlichen "S"-förmig und/oder weist einen einzigen Beugungspunkt auf. Gemäß dieser speziellen Ausführungsform sollte der Ausdruck "gekrümmter Ionenführungsbereich" nicht als ein labyrinthartiger Ionenführungsbereich oder ein labyrinthartiger Ionenführungsbereich mit einem oder mehreren toten Enden ausgelegt werden. Die erste Achse kann im wesentlichen parallel zur zweiten Achse verlaufen und vorzugsweise seitlich gegenüber dieser versetzt sein.In another aspect, the present invention provides a mass spectrometer comprising an ion guide having a plurality of plate electrodes, an input for receiving ions along a first axis, and an exit from which ions exit along a second axis. The ion guide further has a curved ion guide region between the input and the output. The curved ion guide region preferably has a single contiguous, preferably smoothly contiguous ion guide region, through which ions are conducted from the entrance to the exit. In the preferred embodiment, the ion guide region is substantially "S" shaped and / or has a single diffraction point. According to this particular embodiment, the term "curved ion guide region" should not be construed as a labyrinthine ion guide region or a labyrinthine ion guide region having one or more dead ends. The first axis can extend substantially parallel to the second axis and preferably laterally offset from this.
In einer anderen Hinsicht sieht die vorliegende Erfindung ein Massenspektrometer vor, das eine Ionenführung mit mehreren Plattenelektroden, einem Eingang zum Empfangen von Ionen entlang einer ersten Achse, einem gekrümmten Ionenführungsbereich und einem Ausgang, aus dem Ionen austreten, aufweist. Bei dieser Ionenführung ist die zweite Achse koaxial mit der ersten Achse.In In another aspect, the present invention provides a mass spectrometer ago, that an ion guide with several plate electrodes, one input for receiving Ions along a first axis, a curved ion guide region and an exit from which ions exit. At this ion guide the second axis is coaxial with the first axis.
Eine Ionenführung mit einem gekrümmten Ionenführungsbereich und einer koaxialen ersten und zweiten Achse bietet einen längeren Ionenführungsbereich, ohne daß es erforderlich wäre, daß der Abstand zwischen dem Ionenführungseingang und dem Ionenführungsausgang vergrößert ist. Dies ist besonders vorteilhaft, wenn die Ionenführung als eine Kollisions-, Fragmentations- oder Reaktionszelle verwendet wird, weil die vergrößerte Weglänge durch das Gas dazu führt, daß die Wahrscheinlichkeit erhöht ist, daß Kollisionen, Fragmentationen oder Reaktionen auftreten. Gemäß der bevorzugten Ausführungsform weist die Ionenführung weiter eine Vor richtung in der Art einer Prallfläche, einer Platte oder einer Elektrode auf, die zumindest teilweise außerhalb des Ionenführungsbereichs angeordnet ist, um neutrale Teilchen oder Photonen zu blockieren, die direkt vom Eingang der Ionenführung zu ihrem Ausgang laufen.A ion guide with a curved Ion guide region and a coaxial first and second axis provides a longer ion guide area, without it would be required that the Distance between the ion guide input and the ion guide output is enlarged. This is particularly advantageous when the ion guide is used as a collision, Fragmentation or reaction cell is used because the increased path length through the gas causes that the Increased probability is that collisions, Fragmentations or reactions occur. According to the preferred embodiment Removes the ion guide an on direction in the manner of a baffle, a plate or a Electrode on, at least partially outside the ion guide region is arranged to block neutral particles or photons, the directly from the entrance of the ion guide to their exit.
Gemäß einem anderen Aspekt sieht die vorliegende Erfindung ein Massenspektrometer vor, das eine erste Ionenführung mit mehreren Plattenelektroden, einem Eingang zum Empfangen von Ionen und einem Ausgang, aus dem Ionen austreten, aufweist. Das Massenspektrometer weist weiter eine zweite Ionenführung mit mehreren Plattenelektroden, einem Eingang zum Empfangen von Ionen und einem Ausgang, aus dem Ionen austreten, auf.According to one In another aspect, the present invention provides a mass spectrometer ago, that a first ion guide with several plate electrodes, one input for receiving Ions and an exit from which ions emerge. The Mass spectrometer also has a second ion guide a plurality of plate electrodes, an input for receiving ions and an exit from which ions exit.
Gemäß der bevorzugten Ausführungsform weist das Massenspektrometer weiter eine dritte Ionenführung mit mehreren Plattenelektroden, einem Eingang zum Empfangen von Ionen und einem Ausgang, aus dem Ionen austreten, auf. Das Massenspektrometer kann auch eine vierte Ionenführung mit mehreren Plattenelektroden, einem Eingang zum Empfangen von Ionen und einem Ausgang, aus dem Ionen austreten, aufweisen. Gemäß anderen Ausführungsformen können fünf, sechs, sieben, acht, neun, zehn oder mehr als zehn Ionenführungen bereitgestellt sein.According to the preferred embodiment the mass spectrometer further includes a third ion guide a plurality of plate electrodes, an input for receiving ions and an exit from which ions exit. The mass spectrometer can also do a fourth ion guide with several plate electrodes, one input for receiving Ions and an exit from which ions emerge. According to others embodiments can five, six, seven, eight, nine, ten or more than ten ion guides be provided.
In einem Betriebsmodus können die erste Ionenführung und die zweite Ionenführung bei der Verwendung auf verschiedenen Gleichspannungspotentialen gehalten werden, so daß aus der ersten Ionenführung austretende Ionen in die zweite Ionenführung gedrängt werden. Die zweite und die dritte Ionenführung können bei der Verwendung auf verschiedenen Gleichspannungspotentialen gehalten werden, so daß aus der zweiten Ionenführung austretende Ionen in die dritte Ionenführung gedrängt werden. Die dritte und die vierte Ionenführung können auch bei der Verwendung auf verschiedenen Gleichspannungspotentialen gehalten werden, so daß aus der dritten Ionenführung austretende Ionen in die vierte Ionenführung gedrängt werden. Es werden auch Ausführungsformen erwogen, bei denen Ionen aus der ersten in die zweite Ionenführung und/oder aus der zweiten in die dritte Ionenführung und/oder aus der dritten in die vierte Ionenführung und/oder aus der vierten Ionenführung gedrängt werden.In an operating mode the first ion guide and the second ion guide when used on different DC potentials be held so that out the first ion guide emerging Ions into the second ion guide packed become. The second and the third ion guide may be in use different DC potentials are kept, so that from the second ion guide leaking ions are forced into the third ion guide. The third and the fourth ion guide can also when used on different DC potentials be held so that out the third ion guide leaking ions are forced into the fourth ion guide. It will too embodiments in which ions from the first to the second ion guide and / or from the second to the third ion guide and / or from the third in the fourth ion guide and / or from the fourth ion guide packed become.
In einem anderen oder weiteren Betriebsmodus kann die zweite Ionenführung auf einem von demjenigen der ersten Ionenführung verschiedenen Gleichspannungspotential gehalten werden, so daß Ionen in der ersten Ionenführung eingefangen werden. Die dritte Ionenführung kann auf einem von demjenigen der zweiten Ionenführung verschiedenen Gleichspannungspotential gehalten werden, so daß Ionen in der zweiten Ionenführung eingefangen werden. Die vierte Ionenführung kann auf einem von demjenigen der dritten Ionenführung verschiedenen Gleichspannungspotential gehalten werden, so daß Ionen in der dritten Ionenführung eingefangen werden. Es werden auch Ausführungsformen erwogen, bei denen beispielsweise Ionen in der ersten, der zweiten und der dritten Ionenführung oder in der zweiten und der dritten Ionenführung eingefangen werden.In another or further operating mode, the second ion guide on a DC potential different from that of the first ion guide be held so that ions in the first ion guide be captured. The third ion guide can be on one of the one the second ion guide be held different DC potential, so that ions in the second ion guide be captured. The fourth ion guide can be on one of the one the third ion guide different DC potential are held so that ions trapped in the third ion guide become. There are also embodiments in which, for example, ions in the first, the second and the third ion guide or captured in the second and third ion guides.
Es ist auch zu verstehen, daß die vorstehend erörterten Ausführungsformen, die das Drängen von Ionen aus einer Ionenführung betreffen, mit vorstehend erörterten Ausführungsformen kombiniert werden können, die das Einfangen von Ionen innerhalb einer Ionenführung betreffen.It is also to be understood that the discussed above Embodiments, the urge of ions from an ion guide as discussed above embodiments can be combined which concern the trapping of ions within an ion guide.
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform kann entweder die erste und/oder die zweite und/oder die dritte und/oder die vierte Ionenführung Ionenspeicherbereiche aufweisen. In einem ersten Betriebsmodus können diese Ionenspeicherbereiche Ionen durch eine einzige Öffnung empfangen, und in einem zweiten Betriebsmodus wird ermöglicht, daß Ionen durch dieselbe Öffnung aus dem Ionenspeicherbereich austreten.According to one preferred embodiment can be either the first and / or the second and / or the third and / or the fourth ion guide Have ion storage areas. In a first operating mode these can Ion storage areas receive ions through a single opening, and in one second operating mode is enabled that ions through the same opening emerge from the ion storage area.
In einer anderen Hinsicht sieht die vorliegende Erfindung ein Massenspektrometer vor, das eine Ionenführung mit mehreren Plattenelektroden, zwei oder mehr Eingängen zum Empfangen von Ionen und einem oder mehreren Ausgängen, aus denen Ionen austreten, aufweist.In In another aspect, the present invention provides a mass spectrometer ago, that an ion guide with multiple plate electrodes, two or more inputs to the Receiving ions and one or more outputs from which ions exit, having.
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform weist die Ionenführung vorzugsweise zwei Eingänge zum Empfangen von Ionen und einen Ausgang, aus dem Ionen austreten, auf. Gemäß einer anderen Ausführungsform weist die Ionenführung drei Eingänge zum Empfangen von Ionen und einen Ausgang, aus dem Ionen austreten, auf. Die Plattenelektroden können eine beliebige Form aufweisen, so daß Ionenstrahlen unter einem beliebigen Winkel oder aus einer beliebigen Richtung von der Ionenführung empfangen werden können oder unter einem beliebigen Winkel oder in einer beliebigen Richtung aus der Ionenführung austreten können.According to one preferred embodiment has the ion guide preferably two entrances for receiving ions and an exit from which ions emerge, on. According to one another embodiment has the ion guide three entrances for receiving ions and an exit from which ions emerge, on. The plate electrodes can have any shape such that ion beams under any one Angle or from any direction received by the ion guide can be or at any angle or in any direction from the ion guide can escape.
Es werden weitere Ausführungsformen erwogen, bei denen 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10 oder mehr als 10 Ioneneingänge bereitgestellt sind und bei denen 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10 oder mehr als 10 Ionenausgänge bereitgestellt sind. Beispielsweise kann die Ionenführung drei Eingänge und drei Ausgänge aufweisen.It become further embodiments where 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10 or more than 10 are considered ion inputs 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10 or more than 10 ion outputs are. For example, the ion guide three inputs and three outputs exhibit.
Vorzugsweise weist das Massenspektrometer weiter wenigstens zwei gleiche oder verschiedene Ionenquellen auf. Die Ionenquellen sind vorzugsweise wenigstens eine von einer Elektrospray-Ionenquelle ("ESI-Ionenquelle"), einer chemischen Atmosphärendruckionisations-Ionenquelle ("APCI-Ionenquelle"), einer Atmosphärendruck-Photoionisations-Ionenquelle ("APPI-Ionenquelle"), einer matrixunterstützten Laserdesorptionsionisations-Ionenquelle ("MALDI-Ionenquelle"), einer Laserdesorptionsionisations-Ionenquelle ("LDI-Ionenquelle"), einer induktiv gekoppelten Plasmaionenquelle ("ICP-Ionenquelle"), einer Elektronenstoß-Ionenquelle ("EI-Ionenquelle"), einer chemischen Ionisations-Ionenquelle ("CI-Ionenquelle"), einer Ionenquelle mit schnellem Atombeschuß ("FAB-Ionenquelle") und einer Flüssigkeits-Sekundärionen-Massenspektrometrie-Ionenquelle ("LSIMS-Ionenquelle").Preferably the mass spectrometer further has at least two equal or different ion sources. The ion sources are preferably at least one of an electrospray ion source ("ESI ion source"), a chemical Atmosphärendruckionisations ion source ("APCI ion source"), an atmospheric pressure photoionization ion source ("APPI ion source"), a matrix-assisted laser desorption ionization ion source ("MALDI ion source"), a laser desorption ionization ion source ("LDI ion source"), an inductive one coupled plasma ion source ("ICP ion source"), an electron impact ion source ("EI ion source"), a chemical ion Ionization ion source ("CI ion source"), an ion source with fast atom bombardment ("FAB ion source") and a liquid secondary ion mass spectrometry ion source ( "LSIMS") ion source.
Es werden Ausführungsformen erwogen, bei denen beispielsweise zwei Ionenquellen bereitgestellt sind. Eine Ionenquelle kann eine kontinuierliche Ionenquelle in der Art einer APCI- oder Elektrospray-Ionenquelle sein, und die andere Ionenquelle kann eine gepulste Ionenquelle in der Art einer MALDI-Ionenquelle sein.It become embodiments in which, for example, two ion sources are provided. An ion source may be a continuous ion source in the art an APCI or electrospray ion source, and the other ion source may be a pulsed ion source, such as a MALDI ion source.
Es werden auch Ausführungsformen erwogen, bei denen mehr als zwei Ionenquellen bereitgestellt sind. Gemäß einer Ausführungsform können beispielsweise wenigstens 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 oder 10 APCI-Ionenquellen, Elektrospray-Ionenquellen oder eine der anderen vorstehend erwähnten Ionenquellen bereitgestellt sein. Die bevorzugte Ionenführung kann es ermöglichen, daß Ionen von einer oder mehreren ausgewählten Ionenquellen als Probe entnommen und dann massenanalysiert werden.It also become embodiments in which more than two ion sources are provided. According to one embodiment can for example at least 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 or 10 APCI ion sources, Electrospray ion sources or any of the other ion sources mentioned above. The preferred ion guide can make it possible that ions from one or more selected ion sources taken as a sample and then mass analyzed.
In einer anderen Hinsicht sieht die vorliegende Erfindung ein Massenspektrometer vor, das eine Ionenführung mit mehreren Plattenelektroden, einem oder mehreren Eingängen zum Empfangen von Ionen und zwei oder mehr Ausgängen, aus denen Ionen austreten, aufweist.In In another aspect, the present invention provides a mass spectrometer ago, that an ion guide with several plate electrodes, one or more inputs to the Receiving ions and two or more outputs from which ions emerge, having.
Gemäß der bevorzugten Ausführungsform weist die Ionenführung einen Eingang zum Empfangen von Ionen und zwei Ausgänge, aus denen Ionen austreten, auf. Gemäß einer anderen Ausführungsform wird der in einen Eingang der Ionenführung eintretende Ionenstrahl in drei oder mehr Strahlen aufgeteilt, wobei der dritte Strahl über einen dritten Ausgang aus der Ionenführung austritt. Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform weist die Ionenführung zwei Eingänge zum Empfangen von Ionen und zwei Ausgänge, aus denen Ionen austreten, auf. Das Massenspektrometer kann weiter wenigstens zwei Ionenquellen aufweisen. Ein in einen Eingang der Ionenführung eintretender Ionenstrahl kann in zwei oder mehr Strahlen aufgeteilt werden, wobei ein erster Strahl über einen ersten Ausgang aus der Ionenführung austritt und ein zweiter Strahl über einen zweiten Ausgang austritt. Vorzugsweise werden die in einen Eingang der Ionenführung eintretenden Ionen durch eine oder mehrere Elektroden, die neben dem Eingang angeordnet sind, eine oder mehrere Elektroden, die innerhalb der Ionenführung angeordnet sind, oder eine oder mehrere Elektroden, die neben einem Ausgang der Ionenführung angeordnet sind, in zwei oder mehr Strahlen aufgeteilt.According to the preferred embodiment has the ion guide an input for receiving ions and two outputs, off which ions emerge on. According to one another embodiment becomes the ion beam entering an entrance of the ion guide divided into three or more beams, the third beam via a third exit from the ion guide exit. According to one another preferred embodiment has the ion guide two entrances for receiving ions and two outlets from which ions emerge, on. The mass spectrometer may further comprise at least two ion sources exhibit. An ion beam entering an entrance of the ion guide can be divided into two or more beams, with a first Beam over a first exit from the ion guide emerges and a second Beam over one second exit exits. Preferably, those are in an entrance the ion guide entering ions through one or more electrodes next to arranged at the entrance, one or more electrodes inside the ion guide are arranged, or one or more electrodes next to an output the ion guide are arranged, divided into two or more beams.
Ein in die Ionenführung eintretender Ionenstrahl kann in einem gewünschten Verhältnis in zwei oder mehr Strahlen aufgeteilt werden. Vorzugsweise weist wenigstens ein Strahl einen Prozentsatz der in die Ionenführung eintretenden Ionen auf, der 0 – 10 %, 10 – 20 %, 20 – 30 %, 30 – 40 %, 40 – 50 %, 50 – 60 %, 60 – 70 %, 70 – 80 %, 80 – 90 % oder größer als 90 % ist.One in the ion guide entering ion beam can in a desired ratio in two or more beams are split. Preferably, at least a ray on a percentage of ions entering the ion guide, the 0-10 %, 10 - 20 %, 20 - 30 %, 30 - 40 %, 40 - 50 %, 50 - 60 %, 60 - 70%, 70-80 %, 80 - 90 % or greater than 90% is.
Gemäß der bevorzugten Ausführungsform ist wenigstens ein Teil eines in die Ionenführung eintretenden Ionenstrahls zu oder zwischen einem von mehreren Ausgängen umschaltbar. Wenigstens eine Elektrode kann neben einem oder mehreren der Ausgänge angeordnet werden, um entweder zu bewirken, daß Ionen über diesen Ausgang aus der Ionenführung austreten, oder um im wesentlichen zu verhindern, daß Ionen über diesen Ausgang aus der Ionenführung austreten. Eine oder mehrere Elektroden können neben dem Eingang oder innerhalb der Ionenführung bereitgestellt sein. Gemäß einer Ausführungsform kann ein Ionenstrahl zwischen Ausgängen umgeschaltet werden, indem ein blockierendes Gleichspannungspotential an eine neben einem Ausgang der Ionenführung angeordnete Elektrode angelegt und dann davon entfernt wird.In the preferred embodiment, at least a portion of an ion beam entering the ion guide is switchable to or between one of a plurality of outputs. At least one electrode may be placed adjacent one or more of the outputs to either cause ions to exit the ion guide via this exit, or to substantially prevent ions from exiting the ion guide via that exit. One or more electrodes may be provided adjacent to the entrance or within the ion guide. In one embodiment, an ion beam may be switched between outputs by applying a blocking DC potential to an electrode adjacent an exit of the ion guide and then removing it.
Das Massenspektrometer kann weiter einen ersten Ionendetektor, der angeordnet ist, um aus einem ersten Ausgang austretende Ionen zu empfangen, und einen zweiten Ionendetektor, der angeordnet ist, um aus einem zweiten Ionenausgang austretende Ionen zu empfangen, aufweisen. Das Massenspektrometer kann weiter einen ersten Massenanalysator, der angeordnet ist, um aus dem ersten Ausgang austretende Ionen zu empfangen, und einen zweiten Massenanalysator, der angeordnet ist, um aus dem zweiten Ionenausgang austretende Ionen zu empfangen, aufweisen.The Mass spectrometer may further include a first ion detector, which is arranged is to receive ions emerging from a first exit, and a second ion detector arranged to be one of second ion output to receive exiting ions have. The mass spectrometer may further include a first mass analyzer, which is arranged to exit from the first exit ions to receive, and a second mass analyzer, which arranged is to receive ions emerging from the second ion exit, exhibit.
Das Massenspektrometer kann einen oder mehrere Massenanalysatoren, die angeordnet sind, um über wenigstens einen ersten Ausgang aus der Ionenführung austretende Ionen zu empfangen, und einen oder mehrere Ionendetektoren, die angeordnet sind, um über wenigstens einen zweiten Ionenausgang aus der Ionenführung austretende Ionen zu empfangen, aufweisen.The Mass spectrometer may include one or more mass analyzers are arranged to over at least one first exit from the ion guide leaking ions receive, and one or more ion detectors arranged are about to over at least one second ion exit emerging from the ion guide To receive ions.
Gemäß einer anderen Ausführungsform weist das Massenspektrometer eine erste und/oder eine zweite Ionenspeichervorrichtung auf, die jeweils mehrere Plattenelektroden aufweisen. In einem ersten Betriebsmodus tritt ein Ionenstrahl über eine Öffnung in eine Ionenspeichervorrichtung ein, und in einem zweiten Betriebsmodus tritt ein Ionenstrahl über dieselbe Öffnung aus der Ionenspeichervorrichtung aus.According to one another embodiment For example, the mass spectrometer includes a first and / or a second ion storage device each having a plurality of plate electrodes. In a first In operation mode, an ion beam enters an ion storage device via an opening and, in a second mode of operation, an ion beam exits through the same aperture of the ion storage device.
Es wird auch eine Ausführungsform erwogen, bei der die Ionenführung zwei Ausgänge aufweist, wobei eine Ionenspeichervorrichtung stromabwärts eines Ausgangs angeordnet ist und ein Massenanalysator stromabwärts des anderen Ausgangs angeordnet ist.It also becomes an embodiment considered, in which the ion guide two outputs wherein an ion storage device is downstream of a Output is arranged and a mass analyzer downstream of the other output is arranged.
In einer anderen Hinsicht sieht die vorliegende Erfindung ein Massenspektrometer mit einer Ionenführung vor, die mehrere Plattenelektroden, einen oder mehrere Eingänge zum Empfangen von Ionen und einen oder mehrere Ausgänge, aus denen Ionen austreten, aufweist. In einem ersten Betriebsmodus tritt ein Ionenstrahl über eine erste Öffnung in die Ionenführung ein und über eine zweite Öffnung aus der Ionenführung aus, und in einem zweiten Betriebsmodus tritt ein Ionenstrahl über die zweite Öffnung in die Ionenführung ein.In In another aspect, the present invention provides a mass spectrometer with an ion guide before, the multiple plate electrodes, one or more inputs to the Receiving ions and one or more outlets from which ions emerge, having. In a first mode of operation, an ion beam passes over one first opening in the ion guide one and over a second opening from the ion guide out, and in a second mode of operation, an ion beam passes over the second opening into the ion guide.
Gemäß der bevorzugten Ausführungsform tritt ein Ionenstrahl in dem zweiten Betriebsmodus über die erste Öffnung aus der Ionenführung aus. Alternativ kann der Ionenstrahl in einem zweiten Betriebsmodus über eine von der ersten und der zweiten Öffnung verschiedene dritte Öffnung aus der Ionenführung austreten.According to the preferred embodiment In the second mode of operation, an ion beam exits via the first opening the ion guide out. Alternatively, the ion beam in a second mode of operation via a from the first and the second opening different third opening from the ion guide escape.
In einer weiteren Hinsicht sieht die vorliegende Erfindung ein Massenspektrometer mit einer Ionenspeichervorrichtung vor, die mehrere Plattenelektroden aufweist, wobei in einem ersten Betriebsmodus ein Ionenstrahl über eine Öffnung in die Ionenspeichervorrichtung eintritt und in einem zweiten Betriebsmodus ein Ionenstrahl über dieselbe Öffnung aus der Ionenspeichervorrichtung austritt.In In another aspect, the present invention provides a mass spectrometer with an ion storage device comprising a plurality of plate electrodes wherein, in a first mode of operation, an ion beam passes through an aperture in the ion storage device enters and in a second mode of operation an ion beam over the same opening exits the ion storage device.
Es werden andere Ausführungsformen erwogen, bei denen die Ionenspeichervorrichtung zwei Öffnungen aufweist, nämlich eine erste Öffnung zum Empfangen von Ionen und eine zweite Öffnung, aus der Ionen die Ionenspeichervorrichtung verlassen.It become other embodiments in which the ion storage device has two openings has, namely a first opening for receiving ions and a second opening, from which ions the ion storage device leave.
In einer anderen Hinsicht sieht die vorliegende Erfindung ein Massenspektrometer mit einer Ionenführung vor, die mehrere Plattenelektroden, einen Eingang zum Empfangen von Ionen und einen Ausgang, aus dem Ionen austreten, aufweist. Der Eingang hat ein erstes Querschnittsprofil und eine erste Querschnittsfläche, und der Ausgang hat ein zweites Querschnittsprofil und eine zweite Querschnittsfläche. Das erste Querschnittsprofil ist von dem zweiten Querschnittsprofil verschieden, und/oder die erste Querschnittsfläche ist von der zweiten Querschnittsfläche verschieden.In In another aspect, the present invention provides a mass spectrometer with an ion guide before, the multiple plate electrodes, an input for receiving of ions and an exit from which ions exit. The entrance has a first cross-sectional profile and a first cross-sectional area, and the outlet has a second cross-sectional profile and a second cross-sectional area. The first cross-sectional profile is of the second cross-sectional profile different, and / or the first cross-sectional area is different from the second cross-sectional area.
Das erste und/oder das zweite Querschnittsprofil können im wesentlichen kreisförmig, oval, rechteckig oder quadratisch sein. Ein von der Ionenführung empfangener Ionenstrahl hat ein drittes Querschnittsprofil und eine dritte Querschnittsfläche. Vorzugsweise sind das erste Querschnittsprofil und/oder die erste Querschnittsfläche im wesentlichen gleich dem dritten Querschnittsprofil und/oder der dritten Querschnittsfläche. Das Massenspektrometer kann weiter stromabwärts der Ionenführung eine ionenoptische Vorrichtung mit einem viertem Querschnittsprofil und einer vierten Querschnittsfläche aufweisen. Das zweite Querschnittsprofil und/oder die zweite Querschnittsfläche können im wesentlichen dem vierten Querschnittsprofil und/oder der vierten Querschnittsfläche gleichen. Die ionenoptische Vorrichtung kann eine Ionenführung oder einen Quadrupol-Massenfilter/Analysator mit im wesentlichen kreisförmigen Querschnittsprofilen aufweisen. Die Ionenführung kann einen Quadrupol-, Hexapol-, Oktopol-Stabsatz oder einen Stabsatz höherer Ordnung, einen Ionentunnel mit mehreren Elektroden, die Öffnungen im wesentlichen der gleichen Größe aufweisen, oder einen Ionentrichter mit mehreren Elektroden, die zunehmend kleinere Öffnungen haben, aufweisen. Die ionenoptische Vorrichtung kann einen Querbeschleunigungs-Flugzeit-Massenanalysator oder einen Magnetsektoranalysator mit im wesentlichen quadratischen oder rechteckigen Querschnittsprofilen aufweisen.The first and / or the second cross-sectional profile may be substantially circular, oval, rectangular or square. An ion beam received from the ion guide has a third cross-sectional profile and a third cross-sectional area. Preferably, the first cross-sectional profile and / or the first cross-sectional area are substantially equal to the third cross-sectional profile and / or the third cross-sectional area. The mass spectrometer may further include an ion optical device having a fourth cross-sectional profile and a fourth cross-sectional area downstream of the ion guide. The second cross-sectional profile and / or the second cross-sectional area may be substantially the same as the fourth cross-sectional profile and / or the fourth cross-sectional area. The ion optical device may include an ion guide or a quadrupole mass filter / analyzer having substantially circular cross-sectional profiles. The ion guide may comprise a quadrupole, hexapole, octopole rod set or higher order rod set, a multi-electrode ion tunnel having openings of substantially the same size, or an ion funnel having a plurality of electrodes having progressively smaller openings. The ion optical device may include a lateral acceleration time-of-flight mass analyzer or a magnetic sector analyzer having substantially square or rectangular cross-sectional profiles.
Gemäß anderen Ausführungsformen kann die ionenoptische Vorrichtung einen Fourier-Transformations-Ionenzyklotronresonanz-Massenanalysator ("FTICR-Massenanalysator") mit einem im wesentlichen kreisförmigen Querschnittsprofil, eine zweidimensionale (lineare) Quadrupol-Ionenfalle mit einem im wesentlichen kreisförmigen Querschnittsprofil oder eine dreidimensionale (Paul-) Quadrupol-Ionenfalle mit einem im wesentlichen kreisförmigen Querschnittsprofil aufweisen.According to others embodiments For example, the ion optical device may include a Fourier transform ion cyclotron resonance mass analyzer ("FTICR mass analyzer") having a substantially circular cross-sectional profile, a two-dimensional (linear) quadrupole ion trap with an im essential circular Cross-sectional profile or a three-dimensional (Paul) quadrupole ion trap with a substantially circular Have cross-sectional profile.
Vorstehend wurden die "Querschnittsfläche" und das "Querschnittsprofil" erwähnt. Wenngleich diese die physikalische Querschnittsfläche und das Profil einer Vorrichtung oder eines Ionenstrahls einschließen sollen, sollten die Begriffe auch als den praktischen Akzeptanzbereich oder das Profil der Vorrichtung oder des Ionenstrahls analog der numerischen Apertur einer optischen Vorrichtung einschließend verstanden werden.above the "cross-sectional area" and the "cross-sectional profile" were mentioned. Although these are the physical cross-sectional area and the profile of a device or an ion beam, the terms should also as the practical acceptance range or profile of the device or the ion beam analogous to the numerical aperture of an optical Including device be understood.
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform weist der Ionenführungsbereich zwischen wenigstens einem der Eingänge und der Ausgänge der Ionenführung eine Länge auf, die sich in der Größe und/oder der Form ändert. Der Ionenführungsbereich kann auch eine Länge, eine Breite oder eine Höhe aufweisen, die in der Größe zunehmend abnimmt oder deren Form sich stetig ändert.According to one preferred embodiment indicates the ion guide area between at least one of the inputs and the outputs of ion guide a length on that are in size and / or the shape changes. The ion guide area can also be a length, a width or a height which are increasing in size decreases or whose shape is constantly changing.
Vorzugsweise weist die Ionenführung weiter einen zweiten Eingang zum Empfangen von Ionen und/oder einen zweiten Ausgang, über den Ionen aus der Ionenführung austreten, auf, wobei der zweite Eingang ein fünftes Querschnittsprofil und eine fünfte Querschnittsfläche aufweist und der zweite Ausgang ein sechstes Querschnittsprofil und eine sechste Querschnittsfläche aufweist, wobei das fünfte Querschnittsprofil von dem sechsten Querschnittsprofil verschieden ist und/oder die fünfte Querschnittsfläche von der sechsten Querschnittsfläche verschieden ist.Preferably has the ion guide further a second input for receiving ions and / or a second exit, over the ions from the ion guide emerge, with the second input a fifth cross-sectional profile and a fifth Cross sectional area and the second output has a sixth cross-sectional profile and a sixth cross-sectional area having the fifth Cross-sectional profile different from the sixth cross-sectional profile is and / or the fifth Cross sectional area from the sixth cross-sectional area is different.
Vorzugsweise sind das erste Querschnittsprofil und die erste Querschnittsfläche und/oder das zweite Querschnittsprofil und die zweite Querschnittsfläche und/oder das fünfte Querschnittsprofil und die fünfte Querschnittsfläche und/oder das sechste Querschnittsprofil und die sechste Querschnittsfläche verschieden.Preferably are the first cross-sectional profile and the first cross-sectional area and / or the second cross-sectional profile and the second cross-sectional area and / or the fifth Cross-sectional profile and the fifth cross-sectional area and / or the sixth cross-sectional profile and the sixth cross-sectional area are different.
Gemäß den vorstehend beschriebenen Ausführungsformen können wenigstens 50 %, 60 %, 70 %, 80 %, 90 % oder 95 % der Plattenelektroden im wesentlichen parallel sein. Gemäß der bevorzugten Ausführungsform sind die Plattenelektroden in einer ersten (beispielsweise horizontalen) Ebene angeordnet, und die Ionenführung ist gleichermaßen in der ersten (beispielsweise horizontalen) Ebene gekrümmt. Es werden jedoch auch Ausführungsformen erwogen, bei denen die Plattenelektroden nicht flach, sondern gebogen sind. Bei diesen Ausführungsformen können die Platten zunächst in einer ersten (beispielsweise horizontalen) Ebene angeordnet werden, die Plattenelektroden werden jedoch dann in einer zweiten orthogonalen (beispielsweise vertikalen) Ebene gebogen. Gemäß dieser Ausführungsform können die Plattenelektroden daher vielmehr wie ein Periskop wirken und Ionen von einer (vertikalen) Ebene zu einer anderen übertragen.According to the above described embodiments can at least 50%, 60%, 70%, 80%, 90% or 95% of the plate electrodes to be essentially parallel. According to the preferred embodiment are the plate electrodes in a first (for example, horizontal) Plane arranged, and the ion guide is alike curved in the first (eg horizontal) plane. It but also become embodiments in which the plate electrodes are not flat but bent are. In these embodiments can the plates first be arranged in a first (for example, horizontal) plane, however, the plate electrodes then become in a second orthogonal (for example, vertical) plane bent. According to this embodiment can the plate electrodes therefore act rather like a periscope and Transfer ions from one (vertical) plane to another.
Die Plattenelektroden sind vorzugsweise im wesentlichen in gleichen Abständen voneinander angeordnet. Gemäß weniger bevorzugten Ausführungsformen kann sich der Abstand zwischen den Elektroden jedoch entlang der Ionenführung ändern. Beispielsweise kann der Abstand zwischen den Elektroden zunehmend abnehmen (ansteigen), so daß Ionen trichterartig von einer verhältnismäßig großen (kleinen) Eingangsöffnung zu einer verhältnismäßig kleinen (großen) Ausgangsöffnung befördert werden. Es werden andere Ausführungsformen erwogen, bei denen sich der Abstand zwischen den Elektroden entlang der Ionenführung nichtlinear ändert.The Plate electrodes are preferably substantially the same intervals arranged from each other. According to less preferred embodiments However, the distance between the electrodes may be along the Change the ion guide. For example the distance between the electrodes can increasingly decrease (increase), so that ions funnel-shaped from a relatively large (small) entrance opening to a relatively small (huge) output port promoted become. There will be other embodiments considered, in which the distance between the electrodes along the ion guide changes nonlinearly.
Die mehreren Plattenelektroden umfassen vorzugsweise 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20 oder mehr als 20 Plattenelektroden. Die Plattenelektroden der bevorzugten Ionenführung können eine Dicke von kleiner oder gleich 5 mm, kleiner oder gleich 4,5 mm, kleiner oder gleich 4 mm, kleiner oder gleich 3,5 mm, kleiner oder gleich 3 mm, kleiner oder gleich 2,5 mm, kleiner oder gleich 2 mm, kleiner oder gleich 1,5 mm, kleiner oder gleich 1 mm, kleiner oder gleich 0,8 mm, kleiner oder gleich 0,6 mm, kleiner oder gleich 0,4 mm, kleiner oder gleich 0,2 mm, kleiner oder gleich 0,1 mm oder kleiner oder gleich 0,25 mm aufweisen.The plurality of plate electrodes preferably include 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, or more than 20 plate electrodes. The plate electrodes of the preferred ion guide may have a thickness of less than or equal to 5 mm, less than or equal to 4.5 mm, less than or equal to 4 mm, less than or equal to 3.5 mm, less than or equal to 3 mm, less than or equal to 2.5 mm less than or equal to 2 mm, less than or equal to 1.5 mm, less than or equal to 1 mm, less than or equal to 0.8 mm, less than or equal to 0.6 mm, less than or equal to 0.4 mm, less than or equal to 0, 2 mm, less than or equal to 0.1 mm or less than or equal to 0.25 mm exhibit.
Gemäß einer Ausführungsform können die Plattenelektroden durch Aufbringen einer leitenden Farbe oder einer anderen Substanz auf einem Substrat gebildet werden. Bei diesen Ausführungsformen beträgt die typische Dicke der aufgebrachten leitenden Schicht (Elektrodenschicht) in etwa 250 μm (0, 25 mm).According to one embodiment can the plate electrodes by applying a conductive paint or of another substance are formed on a substrate. In these embodiments is the typical thickness of the applied conductive layer (electrode layer) in about 250 microns (0, 25 mm).
Die Plattenelektroden der bevorzugten Ionenführung können um einen Abstand von kleiner oder gleich 5 mm, kleiner oder gleich 4,5 mm, kleiner oder gleich 4 mm, kleiner oder gleich 3,5 mm, kleiner oder gleich 3 mm, kleiner oder gleich 2,5 mm, kleiner oder gleich 2 mm, kleiner oder gleich 1,5 mm, kleiner oder gleich 1 mm, kleiner oder gleich 0,8 mm, kleiner oder gleich 0,6 mm, kleiner oder gleich 0,4 mm, kleiner oder gleich 0,2 mm, kleiner oder gleich 0,1 mm oder kleiner oder gleich 0,25 mm voneinander beabstandet sein.The Plate electrodes of the preferred ion guide can be spaced a smaller distance or equal to 5 mm, less than or equal to 4.5 mm, less than or equal to 4 mm, less than or equal to 3.5 mm, less than or equal to 3 mm, smaller or equal to 2.5 mm, less than or equal to 2 mm, less than or equal to 1.5 mm, less than or equal to 1 mm, less than or equal to 0.8 mm, smaller or equal to 0.6 mm, less than or equal to 0.4 mm, less than or equal to 0.2 mm, less than or equal to 0.1 mm or less than or equal to 0.25 mm apart.
Gemäß der bevorzugten Ausführungsform wird den Plattenelektroden Wechsel- oder HF-Spannung zugeführt. Benachbarten Plattenelektroden können entgegengesetzte Phasen der Wechsel- oder HF-Spannung zugeführt werden. Die Wechsel- oder HF-Spannung hat vorzugsweise eine Frequenz von < 100 kHz, 100 – 200 kHz, 200 – 300 kHz, 300 – 400 kHz, 400 – 500 kHz, 0,5 – 1,0 MHz, 1,0 – 1,5 MHz, 1,5 – 2,0 MHz, 2,0 – 2,5 MHz, 2,5 – 3,0 MHz, 3,0 – 3,5 MHz, 3,5 – 4,0 MHz, 4,0 – 4,5 MHz, 4,5 – 5,0 MHz, 5,0 – 5,5 MHz, 5,5 – 6,0 MHz, 6,0 – 6,5 MHz, 6,5 – 7,0 MHz, 7,0 – 7,5 MHz, 7,5 – 8,0 MHz, 8,0 – 8,5 MHz, 8,5 – 9,0 MHz, 9,0 – 9,5 MHz, 9,5 – 10,0 MHz oder > 10,0 MHz.According to the preferred embodiment AC or RF voltage is applied to the plate electrodes. neighboring Plate electrodes can opposite phases of the AC or RF voltage can be supplied. The change or HF voltage preferably has a frequency of <100 kHz, 100-200 kHz, 200-300 kHz, 300 - 400 kHz, 400 - 500 kHz, 0.5 - 1.0 MHz, 1.0 - 1.5 MHz, 1.5 - 2.0 MHz, 2.0 - 2.5 MHz, 2.5 - 3.0 MHz, 3.0 - 3.5 MHz, 3.5 - 4.0 MHz, 4.0 - 4.5 MHz, 4.5 - 5.0 MHz, 5.0 - 5.5 MHz, 5.5 - 6.0 MHz, 6.0 - 6.5 MHz, 6.5 - 7.0 MHz, 7.0 - 7.5 MHz, 7.5 - 8.0 MHz, 8.0 - 8.5 MHz, 8.5 - 9.0 MHz, 9.0 - 9.5 MHz, 9.5-10.0 MHz or> 10.0 MHz.
Die Wechsel- oder HF-Spannung beträgt vorzugsweise < 50 V von Spitze zu Spitze, 50 – 100 V von Spitze zu Spitze, 100 – 150 V von Spitze zu Spitze, 150 – 200 V von Spitze zu Spitze, 200 – 250 V von Spitze zu Spitze, 250 – 300 V von Spitze zu Spitze, 300 – 350 V von Spitze zu Spitze, 350 – 400 V von Spitze zu Spitze, 400 – 450 V von Spitze zu Spitze, 450 – 500 V von Spitze zu Spitze oder > 500 V von Spitze zu Spitze.The AC or RF voltage is preferably <50 V from tip to tip, 50 - 100 V from tip to tip, 100 - 150 V from tip to tip, 150-200 V from tip to tip, 200 - 250 V from tip to tip, 250 - 300 V from tip to tip, 300 - 350 V from tip to tip, 350 - 400 V from tip to tip, 400 - 450 V from tip to tip, 450 - 500 V from tip to tip or> 500 V from tip to tip.
Vorzugsweise wird die Ionenführung bei der Verwendung auf einem Druck gehalten, der aus der folgenden Gruppe ausgewählt ist: (i) größer oder gleich 0,0001 mbar, (ii) größer oder gleich 0,0005 mbar, (iii) größer oder gleich 0,001 mbar, (iv) größer oder gleich 0,005 mbar, (v) größer oder gleich 0,01 mbar, (vi) größer oder gleich 0,05 mbar, (vii) größer oder gleich 0,1 mbar, (viii) größer oder gleich 0,5 mbar, (ix) größer oder gleich 1 mbar, (x) größer oder gleich 5 mbar und (xi) größer oder gleich 10 mbar.Preferably becomes the ion guide kept in use at a pressure that is from the following Group selected is: (i) greater or equal to 0.0001 mbar, (ii) greater than or equal to equal to 0.0005 mbar, (iii) greater or less equal to 0.001 mbar, (iv) greater or equal to 0.005 mbar, (v) greater or less equal to 0.01 mbar, (vi) greater than or equal to equal to 0.05 mbar, (vii) larger or equal to 0.1 mbar, (viii) greater or equal to 0.5 mbar, (ix) greater than or equal to 1 mbar, (x) larger or equal to 5 mbar and (xi) greater or equal to 10 mbar.
Vorzugsweise wird die Ionenführung bei der Verwendung auf einem Druck gehalten, der aus der folgenden Gruppe ausgewählt ist: (i) kleiner oder gleich 10 mbar, (ii) kleiner oder gleich 5 mbar, (iii) kleiner oder gleich 1 mbar, (iv) kleiner oder gleich 0,5 mbar, (v) kleiner oder gleich 0,1 mbar, (vi) kleiner oder gleich 0,05 mbar, (vii) kleiner oder gleich 0,01 mbar, (viii) kleiner oder gleich 0,005 mbar, (ix) kleiner oder gleich 0,001 mbar, (x) kleiner oder gleich 0,0005 mbar und (xi) kleiner oder gleich 0,0001 mbar.Preferably becomes the ion guide kept in use at a pressure that is from the following Group selected is: (i) less than or equal to 10 mbar, (ii) less than or equal to 5 mbar, (iii) less than or equal to 1 mbar, (iv) less than or equal to 0.5 mbar, (v) less than or equal to 0.1 mbar, (vi) less than or equal to 0.05 mbar, (vii) less than or equal to 0.01 mbar, (viii) smaller or equal to 0.005 mbar, (ix) less than or equal to 0.001 mbar, (x) smaller or equal to 0.0005 mbar and (xi) less than or equal to 0.0001 mbar.
Vorzugsweise wird die Ionenführung bei der Verwendung auf einem Druck gehalten, der aus der folgenden Gruppe ausgewählt ist: (i) zwischen 0,0001 und 10 mbar, (ii) zwischen 0,0001 und 1 mbar, (iii) zwischen 0,0001 und 0,1 mbar, (iv) zwischen 0,0001 und 0,01 mbar, (v) zwischen 0,0001 und 0,001 mbar, (vi) zwischen 0,001 und 10 mbar, (vii) zwischen 0,001 und 1 mbar, (viii) zwischen 0,001 und 0,1 mbar, (ix) zwischen 0,001 und 0,01 mbar, (x) zwischen 0,01 und 10 mbar, (xi) zwischen 0,01 und 1 mbar, (xii) zwischen 0,01 und 0,1 mbar, (xiii) zwischen 0,1 und 10 mbar, (xiv) zwischen 0,1 und 1 mbar und (xv) zwischen 1 und 10 mbar.Preferably becomes the ion guide kept in use at a pressure that is from the following Group selected is: (i) between 0.0001 and 10 mbar, (ii) between 0.0001 and 1 mbar, (iii) between 0.0001 and 0.1 mbar, (iv) between 0.0001 and 0.01 mbar, (v) between 0.0001 and 0.001 mbar, (vi) between 0.001 and 10 mbar, (vii) between 0.001 and 1 mbar, (viii) between 0.001 and 0.1 mbar, (ix) between 0.001 and 0.01 mbar, (x) between 0.01 and 10 mbar, (xi) between 0.01 and 1 mbar, (xii) between 0.01 and 0.1 mbar, (xiii) between 0.1 and 10 mbar, (xiv) between 0.1 and 1 mbar and (xv) between 1 and 10 mbar.
Vorzugsweise wird die Ionenführung bei der Verwendung auf einem Druck gehalten, der aus der folgenden Gruppe ausgewählt ist: (i) größer oder gleich 1 × 10–7 mbar, (ii) größer oder gleich 5 × 10–7 mbar, (iii) größer oder gleich 1 × 10–6 mbar, (iv) größer oder gleich 5 × 10–6 mbar, (v) größer oder gleich 1 × 10–5 mbar und (vi) größer oder gleich 5 × 10–5 mbar.Preferably, in use, the ion guide is maintained at a pressure selected from the group consisting of: (i) greater than or equal to 1 × 10 -7 mbar, (ii) greater than or equal to 5 × 10 -7 mbar, (iii) greater or equal to 1 × 10 -6 mbar, (iv) greater than or equal to 5 × 10 -6 mbar, (v) greater than or equal to 1 × 10 -5 mbar and (vi) greater than or equal to 5 × 10 -5 mbar.
Vorzugsweise wird die Ionenführung bei der Verwendung auf einem Druck gehalten, der aus der folgenden Gruppe ausgewählt ist: (i) kleiner oder gleich 1 × 10–4 mbar, (ii) kleiner oder gleich 5 × 10–5 mbar, (iii) kleiner oder gleich 1 × 10–5 mbar, (iv) kleiner oder gleich 5 × 10–6 mbar, (v) kleiner oder gleich 1 × 10–6 mbar, (vi) kleiner oder gleich 5 × 10–7 mbar und (vii) kleiner oder gleich 1 × 10–7 mbar.Preferably, in use, the ion guide is maintained at a pressure selected from the following group: (i) less than or equal to 1 × 10 -4 mbar, (ii) less than or equal to 5 × 10 -5 mbar, (iii) smaller or equal to 1 × 10 -5 mbar, (iv) less than or equal to 5 × 10 -6 mbar, (v) less than or equal to 1 × 10 -6 mbar, (vi) less than or equal to 5 × 10 -7 mbar and (vii ) is less than or equal to 1 × 10 -7 mbar.
Vorzugsweise wird die Ionenführung bei der Verwendung auf einem Druck gehalten, der aus der folgenden Gruppe ausgewählt ist: (i) zwischen 1 × 10–7 und 1 × 10–4 mbar, (ii) zwischen 1 × 10–7 und 5 × 10–5 mbar, (iii) zwischen 1 × 10–7 und 1 × 10–5 mbar, (iv) zwischen 1 × 10–7 und 5 × 10–6 mbar, (v) zwischen 1 × 10–7 und 1 × 10–6 mbar, (vi) zwischen 1 × 10–7 und 5 × 10–7 mbar, (vii) zwischen 5 × 10–7 und 1 × 10–4 mbar, (viii) zwischen 5 × 10–7 und 5 × 10–5 mbar, (ix) zwischen 5 × 10–7 und 1 × 10–5 mbar, (×) zwischen 5 × 10–7 und 5 × 10–6 mbar, (xi) zwischen 5 × 10–7 und 1 × 10–6 mbar, (xii) zwischen 1 × 10–6 und 1 × 10–4 mbar, (xiii) zwischen 1 × 10–6 und 5 × 10–5 mbar, (xiv) zwischen 1 × 10–6 und 1 × 10–5 mbar, (xv) zwischen 1 × 10–6 und 5 × 10–6 mbar, (xvi) zwischen 5 × 10–6 und 1 × 10–4 mbar, (xvii) zwischen 5 × 10–6 und 5 × 10–5 mbar, (xviii) zwischen 5 × 10–6 und 1 × 10–5 mbar, (xix) zwischen 1 × 10–5 und 1 × 10–4 mbar, (xx) zwischen 1 × 10–5 und 5 × 10–5 mbar und (xxi) zwischen 5 × 10–5 und 1 × 10–4 mbar.Preferably, in use, the ion guide is maintained at a pressure selected from the following group: (i) between 1 x 10 -7 and 1 x 10 -4 mbar, (ii) between 1 x 10 -7 and 5 x 10 -5 mbar, (iii) is between 1 x 10 -7 and 1 x 10 -5 mbar, (iv) between 1 × 10 -7 and 5 × 10 -6 mbar, (v) between 1 × 10 -7 to 1 × 10 -6 mbar, (vi) between 1 × 10 -7 and 5 × 10 -7 mbar, (vii) between 5 × 10 -7 and 1 × 10 -4 mbar, (viii) between 5 × 10 -7 and 5 × 10 -5 mbar, (ix) between 5 × 10 -7 and 1 × 10 -5 mbar, (×) between 5 × 10 -7 and 5 × 10 -6 mbar, (xi) between 5 × 10 -7 and 1 × 10 -6 mbar, (xii) between 1 × 10 -6 and 1 × 10 -4 mbar, (xiii) between 1 × 10 -6 and 5 x 10 -5 mbar, (xiv) between 1 x 10 -6 and 1 x 10 -5 mbar, (xv) between 1 x 10 -6 and 5 x 10 -6 mbar, (xvi) between 5 x 10 -6 and 1 x 10 -4 mbar, (xvii) is between 5 × 10 -6 and 5 × 10 -5 mbar, (xviii) is between 5 × 10 -6 and 1 × 10 -5 mbar, (xix) is between 1 x 10 - 5 and 1 × 10 -4 mbar, (xx) between 1 × 10 -5 and 5 × 10 -5 mbar and (xxi) between 5 × 10 -5 and 1 × 10 -4 mbar.
Die Ionenführung weist vorzugsweise weiter eine auf einer ersten Seite der Ionenführung angeordnete erste äußere (beispielsweise oberste/obere) Plattenelektrode und eine auf einer zweiten Seite der Ionenführung angeordnete zweite (beispielsweise unterste/untere) äußere Plattenelektrode auf. Gemäß weniger bevorzugten Ausführungsformen kann keine obere oder untere Plattenelektrode bereitgestellt sein. Bei diesen Ausführungsformen kann durch Wechselspannungs- oder HF-Einschluß, der durch andere Mittel, wie eine benachbarte Stabsatzanordnung bereitgestellt wird, verhindert werden, daß Ionen aus dem Oberteil oder dem Unterteil der Ionenführung austreten.The ion guide preferably further comprises a first outer (for example top / top) plate electrode and one on a second side the ion guide arranged second (for example, lowest / lower) outer plate electrode on. According to less preferred embodiments no upper or lower plate electrode can be provided. In these embodiments may be due to AC or RF confinement caused by other means, how an adjacent set of rod assemblies is provided prevents be that ions emerge from the upper part or the lower part of the ion guide.
Gemäß einer anderen Ausführungsform können die von der Mitte der Ionenführung fernen Plattenelektroden auf ständig zunehmenden positiven oder negativen Gleichspannungspotentialen gehalten werden, so daß Ionen, die sich vom Mittelbereich der Ionenführung fortbewegen, zunehmend zur Mitte der Ionenführung zurückgedrängt werden. Gemäß dieser Ausführungsform können keine äußeren Plattenelektroden bereitgestellt sein, die die Ionenführung einschließen.According to one another embodiment can from the center of the ion guide distant plate electrodes on constantly increasing positive or negative DC potentials be held so that ions, increasingly moving away from the central region of the ion guide to the middle of the ion guide be pushed back. According to this embodiment can no external plate electrodes be provided, which include the ion guide.
Es kann dafür gesorgt werden, daß die erste äußere Plattenelektrode und/oder die zweite äußere Plattenelektrode auf eine Gleich-Vorspannung in bezug auf die mittlere Spannung der Plattenelektroden, an die eine Wechsel- oder HF-Spannung angelegt ist, vorgespannt werden.It can do that be taken care of that first outer plate electrode and / or the second outer plate electrode to a DC bias with respect to the mean voltage of Plate electrodes to which an AC or RF voltage is applied to be biased.
Diese Vorspannung ist vorzugsweise kleiner als –10 V, –9 bis –8 V, –8 bis –7 V, –7 bis –6 V, –6 bis –5 V, –5 bis –4 V, –4 bis –3 V, –3 bis –2 V, –2 bis –1 V, –1 bis 0 V, 0 bis 1 V, 1 bis 2 V, 2 bis 3 V, 3 bis 4 V, 4 bis 5 V, 5 bis 6 V, 6 bis 7 V, 7 bis 8 V, 8 bis 9 V, 9 bis 10 V oder mehr als 10 V.These Bias voltage is preferably less than -10 V, -9 to -8 V, -8 to -7 V, -7 to -6 V, -6 to -5 V, -5 to -4 V, -4 to -3 V , -3 to -2 V, -2 to -1 V, -1 to 0 V, 0 to 1 V, 1 to 2V, 2 to 3V, 3 to 4V, 4 to 5V, 5 to 6V, 6 to 7V, 7 to 8V, 8 to 9V, 9 to 10V or more than 10V.
Gemäß einer Ausführungsform wird der oberen und/oder der unteren Platte, also den äußeren Elektroden, eine reine Gleichspannung zugeführt (d.h. an sie ist keine Wechsel- oder HF-Spannung angelegt). Gemäß einer anderen Ausführungsform wird der oberen und/oder der unteren Platte eine reine Wechsel- oder HF-Spannung zugeführt (d.h. die Platten werden nicht mit einer Gleichspannung in bezog auf die anderen Plattenelektroden vorgespannt). Gemäß einer weiteren Ausführungsform wird der oberen und/oder der unteren Platte sowohl eine Gleichspannung als auch eine Wechsel- oder HF-Spannung zugeführt (d.h. die äußeren Elektroden sind in bezog auf die anderen Elektroden durch eine Gleichspannung vorgespannt, und ihnen wird auch eine Wechsel- oder HF-Spannung zugeführt).According to one embodiment is the upper and / or lower plate, so the outer electrodes, fed a pure DC voltage (i.e., there is no change or HF voltage applied). According to one another embodiment the upper and / or the lower plate is a pure change or RF voltage supplied (i.e., the plates are not referenced with a DC voltage biased to the other plate electrodes). According to one another embodiment For example, the upper and / or lower plate becomes both a DC voltage as well as an AC or RF voltage (i.e., the outer electrodes are in relation to the other electrodes by a DC voltage biased, and they will also have an AC or RF voltage fed).
Gemäß den vorstehend beschriebenen Ausführungsformen kann die Ionenführung weiter eine in der oberen und/oder der unteren Platte angeordnete Öffnung aufweisen. Die Öffnung kann verwendet werden, um zu ermöglichen, daß Ionen und/oder ein Gas und/oder ein Laserstrahl in die Ionenführung eintreten und/oder aus dieser austreten.According to the above described embodiments can the ion guide further comprise an opening disposed in the upper and / or the lower plate. The opening can be used to enable that ions and / or a gas and / or a laser beam enter the ion guide and / or emerge from this.
Gemäß einer Ausführungsform werden eine oder mehrere der Plattenelektroden bei der Verwendung auf einem von demjenigen der anderen Plattenelektroden verschiedenen Gleichspannungspotential gehalten, so daß innerhalb der Ionenführung mehrere diskrete Ionenführungsbereiche gebildet sind. Beispielsweise können eine oder mehrere der Plattenelektroden zur Mitte des Stapels der Plattenelektroden hin auf einem Gleichspannungspotential gehalten werden, so daß sie einen Potentialwall bilden. Gemäß einer solchen Anordnung können dann zwei parallele und sich in Längsrichtung erstreckende Ionenführungsbereiche innerhalb der Ionenführung gebildet werden, wobei beispielsweise ein oberer Ionenführungsbereich und ein unterer Ionenführungsbereich gebildet wird. Gemäß anderen Ausführungsformen können mehr als zwei parallele Ionenführungsbereiche gebildet werden.According to one embodiment become one or more of the plate electrodes in use one different from that of the other plate electrodes Held DC potential, so that within the ion guide more discrete ion guide areas are formed. For example, you can one or more of the plate electrodes to the center of the stack of Plate electrodes held at a DC potential so they form a potential wall. According to one such arrangement can then two parallel and longitudinally extending ion guide regions within the ion guide are formed, for example, an upper ion guide region and a lower ion guide area is formed. According to others embodiments can formed more than two parallel ion guide regions become.
Gemäß einer anderen Ausführungsform werden mehrere Plattenelektroden auf erheblich verschiedenen Gleichspannungspotentialen gehalten. Gemäß diesen Ausführungsformen kann zwischen den Platten ein Gleichspannungs-Potentialprofil aufrechterhalten werden. Beispielsweise kann zwischen den Plattenelektroden ein V-förmiges Gleichspannungs-Potentialprofil aufrechterhalten werden, so daß Ionen zum Mittelbereich der Ionenführung hin gedrängt werden. Gemäß dieser Ausführungsform brauchen obere und untere Plattenelektroden, die die Ionenführung wirksam einschließen, möglicherweise nicht bereitgestellt werden, so daß die Ionenführung vom Oberteil und vom Unterteil her im wesentlichen offen erscheinen kann.According to one another embodiment become multiple plate electrodes at significantly different DC potentials held. According to these embodiments can maintain a DC potential profile between the plates become. For example, between the plate electrodes, a V-shaped DC potential profile be maintained so that ions to the central region of the ion guide pushed become. According to this embodiment need upper and lower plate electrodes, which make the ion guide effective lock in, possibly are not provided, so that the ion guide of Upper part and appear from the lower part substantially open can.
Vorzugsweise weist die Ionenführung einen ersten äußeren Abschnitt, einen zweiten äußeren Abschnitt und einen Zwischenabschnitt zwischen dem ersten und dem zweiten äußeren Abschnitt auf, wobei das Gleichspannungspotential, auf dem die Plattenelektroden gehalten werden, im ersten und/oder im zweiten äußeren Abschnitt in bezug auf den Zwischenabschnitt erhöht ist, so daß Ionen zu einem Mittelbereich der Ionenführung zurückgerichtet werden.Preferably, the ion guide has a first outer portion, a second outer Ab and an intermediate portion between the first and second outer portions, wherein the DC potential at which the plate electrodes are held is increased in the first and / or second outer portions with respect to the intermediate portion so that ions become a central region of the ion guide be returned.
Es werden weitere Ausführungsformen erwogen, bei denen sich die an die Plattenelektroden angelegten Gleichspannungspotentiale zeitlich ändern können. Vorzugsweise sind an die Plattenelektroden ein oder mehrere transiente Gleichspannungspotentiale oder eine oder mehrere Gleichspannungspotential-Wellenformen angelegt. Dies kann vorzugsweise bewirken, daß Ionen von einem Bereich (beispielsweise einem oberen Bereich) der Ionenführung zu einem anderen Bereich (beispielsweise einem unteren Bereich) der Ionenführung gedrängt werden.It become further embodiments contemplated in which the applied to the plate electrodes DC voltage potentials can change over time. Preferably are on the plate electrodes have one or more transient DC potentials or one or more DC potential waveforms applied. This may preferably cause ions from a region (e.g. an upper portion) of the ion guide to another area (for example, a lower area) the ion guide packed become.
Gemäß einer
anderen Ausgestaltung, die nicht Gegenstand vorliegender Anmeldung
ist, ist ein Massenspektrometer mit einer Ionenführung vorgesehen, wobei die
Ionenführung
aufweist:
mehrere Elektrodenschichten und
mehrere Isolatorschichten,
die zwischen den Elektrodenschichten eingestreut oder verschachtelt
sind.According to another embodiment, which is not part of the present application, a mass spectrometer with an ion guide is provided, wherein the ion guide comprises:
several electrode layers and
multiple insulator layers interspersed or interleaved between the electrode layers.
Vorzugsweise sind wenigstens 10 %, 20 %, 30 %, 40 %, 50 60 %, 70 %, 80 %, 90 % oder 95 % der Elektrodenschichten auf den Isolatorschichten angeordnet oder darauf abgeschieden.Preferably are at least 10%, 20%, 30%, 40%, 50 60%, 70%, 80%, 90 % or 95% of the electrode layers are arranged on the insulator layers or deposited on it.
Gemäß einer
anderen Ausgestaltung, die nicht Gegenstand vorliegender Anmeldung
ist, ist ein Massenspektrometer mit einer Wechselspannungs- oder
HF-Ionenführung
vorgesehen, wobei die Ionenführung aufweist:
mehrere
Elektroden und
mehrere Isolatoren, die zwischen den Elektroden
eingestreut bzw. eingefügt
oder verschachtelt sind,
wobei die Elektroden auf den Isolatoren
angebracht oder darauf abgeschieden sind.According to another embodiment, which is not part of the present application, a mass spectrometer with an AC or RF ion guide is provided, wherein the ion guide comprises:
several electrodes and
a plurality of insulators interspersed between the electrodes, inserted or interleaved,
wherein the electrodes are mounted on or deposited on the insulators.
Vorzugsweise weist die Ionenführung einen Ioneneingang und einen Ionenausgang auf, wobei im wesentlichen verhindert wird, daß Gasmoleküle innerhalb der Ionenführung an anderer Stelle als durch den Ioneneingang oder den Ionenausgang aus der Ionenführung austreten. Es kann eine Gasöffnung zum Einleiten von Gas in die Ionenführung bereitgestellt sein, es kann jedoch vorzugsweise im wesentlichen verhindert werden, daß Gas über diese Gasöffnung aus der Ionenführung austritt.Preferably has the ion guide an ion input and an ion output, wherein substantially prevents gas molecules within the ion guide elsewhere than through the ion input or the ion output from the ion guide escape. It can be a gas opening be provided for introducing gas into the ion guide, however, it may be preferable to substantially prevent gas from passing therethrough gas opening from the ion guide exit.
In einer weiteren nicht zur vorliegenden Anmeldung gehörenden Ausgestaltung ist ein Massenspektrometer mit einer ersten Ionenführung, einer Gaskollisions-/Reaktionszelle und einer zweiten Ionenführung vorgesehen. Die zweite Ionenführung weist mehrere Plattenelektroden, einen Eingang zum Empfangen von Ionen, einen Ionenführungsbereich, der durch die Ionenführung verläuft, und einen Ausgang, aus dem Ionen austreten, auf. Es gibt vorzugsweise keine direkte Sichtlinie vom Eingang zum Ausgang der zweiten Ionenführung.In another embodiment not belonging to the present application is a mass spectrometer with a first ion guide, a Gaskollisions- / reaction cell and a second ion guide. The second ion guide has a plurality of plate electrodes, an input for receiving ions, an ion guide region, through the ion guide runs, and an exit from which ions exit. There are preferably no direct line of sight from the entrance to the exit of the second ion guide.
Gemäß der bevorzugten Ausführungsform umfaßt das Massenspektrometer weiter eine Elektrospray-Ionenquelle ("ESI-Ionenquelle"), eine chemische Atmosphärendruckionisations-Ionenquelle ("APCI-Ionenquelle"), eine Atmosphärendruck-Photoionisations-Ionenquelle ("APPI-Ionenquelle"), eine matrixunterstützte Laserdesorptionsionisations-Ionenquelle ("MALDI-Ionenquelle"), eine Laserdesorptionsionisations-Ionenquelle ("LDI-Ionenquelle"), eine induktiv gekoppelte Plasmaionenquelle ("ICP-Ionenquelle"), eine Elektronenstoß-Ionenquelle ("EI-Ionenquelle"), eine chemische Ionisations-Ionenquelle ("CI-Ionenquelle"), eine Ionenquelle mit schnellem Atombeschuß ("FAB-Ionenquelle") oder eine Flüssigkeits-Sekundärionen-Massenspektrometrie-Ionenquelle ("LSIMS-Ionenquelle").According to the preferred embodiment comprises the mass spectrometer further an electrospray ion source ("ESI ion source"), a chemical Atmospheric pressure ionization ion source ("APCI ion source"), an atmospheric pressure photoionization ion source ("APPI ion source"), a matrix-assisted laser desorption ionization ion source ("MALDI ion source"), a laser desorption ionization ion source ("LDI ion source"), an inductive coupled plasma ion source ("ICP ion source"), an electron impact ion source ("EI ion source"), a chemical Ionization ion source ("CI ion source"), an ion source with fast atom bombardment ("FAB ion source") or a liquid secondary ion mass spectrometry ion source ( "LSIMS") ion source.
Das Massenspektrometer kann auch einen stromabwärts der zweiten Ionenführung angeordneten Massenanalysator aufweisen. Der Massenanalysator kann einen Flugzeit-Massenanalysator, einen Quadrupol-Massenanalysator, einen Fourier-Transformations-Ionenzyklotronresonanz-Massenanalysator ("FTICR-Massenanalysator") eine zweidimensionale (lineare) Quadrupol-Ionenfalle, eine dreidimensionale (Paul-) Quadrupol-Ionenfalle oder einen Magnetsektor-Massenanalysator aufweisen.The Mass spectrometers may also include a mass analyzer located downstream of the second ion guide. The mass analyzer may include a Time of Flight mass analyzer, a quadrupole mass analyzer, a Fourier transform ion cyclotron resonance mass analyzer ("FTICR mass analyzer") is a two-dimensional (linear) quadrupole ion trap, a three-dimensional (Paul) quadrupole ion trap or a magnetic sector mass analyzer exhibit.
Ionenführungen gemäß der bevorzugten Ausführungsform können vorteilhafterweise einen Ionenführungsbereich mit wenigstens einem gekrümmten oder nichtlinearen Abschnitt aufweisen, und sie können mehr als einen Ioneneingang und/oder Ionenausgang aufweisen. Es wäre sehr schwierig und übermäßig kostspielig, zu versuchen, gleichwertige Ionenführungen aus herkömmlichen Mehrpol-Stabsatz-HF-Ionenführungen herzustellen und aufzubauen.ion guides according to the preferred embodiment can advantageously an ion guide region with at least one curved one or nonlinear section, and they may more than have an ion input and / or ion output. It would be very difficult and overly expensive, too try equivalent ion guides from conventional Multipole rod set RF ion guides manufacture and build.
Die Ionenführung gemäß der bevorzugten Ausführungsform ist aus einer Reihe geformter Platten oder Plattenelektroden aufgebaut. Die Platten müssen nicht gerade sein, und sie können mehr als einen Ioneneingang und/oder Ionenausgang aufweisen. Die bevorzugten Ionenführungen sind verhältnismäßig einfach herzustellen und sie sind erheblich kostengünstiger als herkömmliche Mehrpol-Stabsatz-Ionenführungen. Es können auch leicht Ionenführungen mit komplizierten Formen hergestellt werden. Beispielsweise können mehrere identische Platten mit komplizierten Formen leicht und kostengünstig durch Druckschneiden oder Stanzen, photochemisches Ätzen, Laserschneiden, Drahterosion, Funkenerosion usw. aus dünnen Abschnitten aus Metallblech hergestellt werden. Weiterhin können die Platten in einer Baugruppe oder einer Mehrfachanordnung gestapelt werden, wobei die Platten beabstandet und isoliert sind und wobei alternierende Platten elektrisch miteinander verbunden sind, so daß benachbarte Platten um 180° außer Phase miteinander gehalten werden.The ion guide according to the preferred embodiment is constructed of a series of shaped plates or plate electrodes. The plates need not be straight, and you can have more than one ion input and / or ion output. The preferred ion guides are relatively easy They are considerably cheaper than conventional ones Multipole rod set ion guides. It can also easy ion guides be made with complicated shapes. For example, several identical ones Plates with complicated shapes easily and inexpensively through Pressure cutting or punching, photochemical etching, laser cutting, wire erosion, Spark erosion, etc. from thin Sections are made of sheet metal. Furthermore, the Plates stacked in an assembly or multiple array with the plates spaced and insulated, and with alternating ones Plates are electrically connected together, so that adjacent Plates out of phase by 180 ° held together.
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform ist die HF-Ionenführung aus einer Reihe geformter Platten aufgebaut, die in einem Stapel angeordnet sind, wobei geeignete Gleichspannungspotentiale an eine oberste oder obere Plattenelektrode und an eine unterste oder untere flache Plattenelektrode angelegt sind. Dies ist eine besonders einfache und kostengünstige Art des Aufbauens einer komplexen HF-Ionenführung. Die oberste und die unterste Platte können mit einer an sie angelegten Wechsel- oder HF-Spannung oder einer Kombination von Wechsel- oder HF- und Gleichspannungen betrieben werden.According to one preferred embodiment is the RF ion guide off constructed of a series of shaped plates arranged in a stack are, with suitable DC potentials to a supreme or upper plate electrode and to a lower or lower flat Plate electrode are applied. This is a very simple one and cost-effective Type of building a complex RF ion guide. The top and the bottom plate can with an AC or RF voltage applied thereto or a combination of AC or DC and DC voltages are operated.
Gemäß der bevorzugten Ausführungsform können die Platten mit einem Eingang und einem Ausgang hergestellt werden, die nicht ausgerichtet sind, so daß es keine Sichtlinie durch die Ionenführung gibt, so daß neutrale Teilchen, große Teilchen oder Tröpfchen oder Strahlung, wie sichtbares Licht oder UV-Licht nicht gerade durch die Ionenführung hindurchlaufen.According to the preferred embodiment can the plates are manufactured with an input and an output, which are not aligned so that there is no line of sight through the ion guide gives, so that neutral Particles, big Particles or droplets or radiation, such as visible light or UV light just not through the ion guide pass.
Gemäß einem
weiteren nicht zur vorliegenden Anmeldung gehörenden Aspekt ist ein Verfahren
zur Massenspektrometrie vorgesehen, welches die folgenden Schritte
aufweist:
Erzeugen von Ionen von einer Atmosphärendruck-Ionenquelle
und
Führen
der Ionen durch eine Ionenführung,
wobei die Ionenführung
mehrere Plattenelektroden, einen Eingang zum Empfangen von Ionen
und einen Ausgang, über
den Ionen aus der Ionenführung
austreten, aufweist, wobei ein Ionenführungskanal in den Plattenelektroden
ausgebildet ist und im wesentlichen über die Länge der Ionenführung verläuft und
wobei die Plattenelektroden in der Ebene der Ionenbewegung angeordnet
sind.According to a further aspect not belonging to the present application, a method for mass spectrometry is provided which comprises the following steps:
Generating ions from an atmospheric pressure ion source and
Guiding the ions through an ion guide, the ion guide comprising a plurality of plate electrodes, an input for receiving ions, and an exit through which ions exit the ion guide, wherein an ion guide channel is formed in the plate electrodes and extends substantially the length of the ion guide and wherein the plate electrodes are arranged in the plane of ion movement.
Gemäß einem anderen nicht zur vorliegenden Anmeldung gehörenden Aspekt ist ein Verfahren zum Herstellen einer Ionenführung für ein Massenspektrometer vorgesehen, bei dem mehrere Elektroden mit mehreren Isolatoren eingestreut oder verschachtelt angeordnet werden, um eine Ionenführung mit mehreren an den Isolatoren angeordneten Elektroden zu bilden, so daß ein Ionenführungsstapel gebildet wird.According to one Another aspect not belonging to the present application is a method for producing an ion guide for a Mass spectrometer provided in which multiple electrodes with multiple Insulators interspersed or nested to be arranged an ion guide with a plurality of electrodes arranged on the insulators, so that one Ion guide stack is formed.
Gemäß einem anderen nicht zur vorliegenden Anmeldung gehörenden Aspekt ist ein Verfahren zum Herstellen einer Ionenführung für ein Massenspektrometer vorgesehen, bei dem mehrere Elektrodenschichten auf mehreren Isolatorschichten abgeschieden werden, um einen Ionenführungsstapel mit mehreren auf den Isolatorschichten angeordneten Elektrodenschichten zu bilden.According to one Another aspect not belonging to the present application is a method for producing an ion guide for a Mass spectrometer provided, in which several electrode layers on a plurality of insulator layers are deposited to an ion guide stack with a plurality of electrode layers arranged on the insulator layers to build.
Der in der vorliegenden Anmeldung verwendete Begriff "Plattenelektrode" sollte breit ausgelegt werden. Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform weisen die Plattenelektroden dünne Metallbleche auf. Gemäß anderen Ausführungsformen können die Plattenelektroden jedoch Drahtnetze oder -gitter aufweisen und daher Öffnungen haben. Der Begriff soll auch Elektroden einschließen, die auf ein Substrat in der Art eines Isolators aufgebracht worden sind.Of the The term "plate electrode" as used in the present application should be interpreted broadly become. According to one preferred embodiment the plate electrodes are thin Metal sheets on. According to others embodiments can however, the plate electrodes have wire nets or grids and therefore openings to have. The term is also meant to include electrodes that have been applied to a substrate in the manner of an insulator.
Gemäß der Erfindung sind die die Ionenführung bildenden Elektroden im Gegensatz zu einer Ionentunnel- oder Ionentrichter-Ionenführung, bei der die Ringelektroden in einer Ebene senkrecht zur Ionenbewegungsrichtung angeordnet sind, in der Ebene der Ionenbewegung angeordnet.According to the invention are the ion guide forming electrodes as opposed to an ion tunnel or ion funnel ion guide the ring electrodes in a plane perpendicular to the ion movement direction are arranged, arranged in the plane of ion movement.
Die vorstehend beschriebenen Ionenführungen können entweder als eine Ionenführung an sich verwendet werden, oder sie können eine Fragmentations-, Kollisions-, Reaktions- oder Kollisions-Kühlzelle bilden.The ion guides described above can either as an ion guide can be used per se, or they can be a fragmentation, Collision, reaction or collision cooling cell form.
Verschiedene Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung werden nun nur als Beispiel mit Bezug auf die anliegende Zeichnung beschrieben, in der:Various embodiments The present invention will now be described by way of example only with reference to FIG the attached drawing, in which:
Es werden einige verschiedene Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung beschrieben. Ein gemeinsames Merkmal der verschiedenen Ausführungsformen besteht jedoch darin, daß eine Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung bereitgestellt ist, die mehrere Plattenelektroden aufweist. Die Plattenelektroden sind vorzugsweise verhältnismäßig dünn und können aus Metallblechen bestehen. Alternativ können die Plattenelektroden aus einer nichtleitenden Platte, beispielsweise aus Glas oder Keramik, bestehen, die dann zumindest teilweise mit einer elektrisch leitenden Beschichtung überzogen wird. Die Glas- oder Keramikplatte kann in der gleichen Weise wie die Metallbleche geformt sein, um einen Ionenführungsbereich bereitzustellen.It be some different embodiments of the present invention. A common feature the various embodiments is, however, that a AC or RF ion guide is provided, which has a plurality of plate electrodes. The Plate electrodes are preferably relatively thin and may be made of metal sheets. Alternatively you can the plate electrodes from a non-conductive plate, for example made of glass or ceramic, which then at least partially with an electrically conductive coating is coated. The glass or Ceramic plate can be shaped in the same way as the metal plates be an ion guide area provide.
Die Glas- oder Keramikplatten sind vorzugsweise zusammenhängend, und Bereiche ihrer Oberfläche können mit einer leitenden Beschichtung beschichtet sein, um geformte Elektroden zum Führen der Ionen bereitzustellen.The Glass or ceramic plates are preferably contiguous, and Areas of their surface can with a conductive coating to be molded electrodes to lead to provide the ions.
Die bevorzugten Plattenelektroden unterscheiden sich von herkömmlichen Stabsatz-Elektroden, die ein kreisförmiges Querschnittsprofil aufweisen und deren Länge normalerweise viel größer ist als ihre Breite. Dagegen weisen die Plattenelektroden, die die Ionenführung gemäß der bevor zugten Ausführungsform bilden, vorzugsweise ein rechteckiges Querschnittsprofil auf, und die Breite der Elektroden kann mit der Länge der Elektroden vergleichbar sein (oder sogar größer sein als diese).The preferred plate electrodes differ from conventional ones Rod set electrodes having a circular cross-sectional profile and their length usually much bigger as their width. In contrast, the plate electrodes which guide the ion guide according to the before embodiment form, preferably a rectangular cross-sectional profile, and The width of the electrodes can be compared with the length of the electrodes to be (or even bigger as this).
Die
bevorzugte Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung
Nachdem
die grundlegende Anordnung der Ionenführung
Eine
erste Hauptausführungsform
der vorliegenden Erfindung wird nun mit Bezug auf die
Die
Ionenführung
Eine
zweite Hauptausführungsform
der vorliegenden Erfindung wird nun mit Bezug auf die
Bei
der in
Eine
dritte Hauptausführungsform
der vorliegenden Erfindung wird nun mit Bezug auf die
Die
Die
Ionenführung
Bei
der in
Eine
Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung
Eine
vierte Hauptausführungsform
der vorliegenden Erfindung wird nun mit Bezug auf die
Alternativ
kann eine solche Ionenführung
Alternativ
kann eine solche Ionenführung
Die
in
Alle
der in den
Es
werden Ausführungsformen
erwogen, bei denen die Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung
Es
werden Ausführungsformen
erwogen, bei denen die Wechselspannungs- oder HF-Ionenführung
Es
werden Ionenführungen
Die
Ionen können
dazu veranlaßt
bzw. darin unterstützt
werden, sich durch eine bestimmte Öffnung
Es
werden andere Ausführungsformen
erwogen, bei denen die Form und die Größe jeder Öffnung oder jedes Ionenwegs
von denjenigen der anderen verschieden sein kann. Solche Wechselspannungs-
oder HF-Ionenführungen
In
den
ICP-Ionenquellen
erzeugen gewöhnlich
ein hohes Maß an
schnellen neutralen Atomen und Molekülen und einen intensiven Strahl
sichtbarer Strahlung und UV-Strahlung. Die Kollisions-/Reaktionszelle
Das
Ionensignal für
Uranionen (m/z 238) wurde unter Verwendung der in
In
den
Die
Transmission atomarer Ionen für
Beryllium, Kobalt, Indium und Uran für die drei verschiedenen in den
Es
ist aus der vorstehenden Tabelle der relativen Empfindlichkeitsmessungen
für die
vier Elemente ersichtlich, daß es
vorteilhaft ist, an die Platten
Wenngleich die vorliegende Erfindung mit Bezug auf bevorzugte Ausführungsformen beschrieben worden ist, werden Fachleute verstehen, daß verschiedene Änderungen an der Form und den Einzelheiten vorgenommen werden können, ohne von dem in den anliegenden Ansprüchen dargelegten Schutzumfang der Erfindung abzuweichen.Although the present invention with reference to preferred embodiments Those skilled in the art will understand that various changes are made can be made on the form and the details, without from that in the appended claims to depart from the scope of the invention.
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