CN102671542A - 一种脱碳陶瓷膜过滤机过滤系统 - Google Patents

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朱有保
张勤
周明
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Abstract

一种脱碳陶瓷膜过滤机过滤系统,涉及化工设备技术领域,其特征在于:所述的过滤系统由贫液槽及陶瓷膜过滤机构成,所述的贫液槽出液口通过滤泵与陶瓷膜过滤机连接,所述陶瓷膜过滤机出液端通过管道连接到贫液槽进液口。本发明既解决了因富液过滤影响脱碳净化气的问题,又大大增加了陶瓷膜过滤机的过滤量,运行稳定,效果明显,使NHD溶剂的纯度和净化度得到有效保证和提高,从而有效地延长了脱碳氨冷器的运行周期;更重要的是为脱碳工艺长周期稳定运行和节能降耗打好坚实的基础,提供了有力的保障。

Description

一种脱碳陶瓷膜过滤机过滤系统
技术领域
本发明涉及化工设备技术领域,具体涉及一种脱碳陶瓷膜过滤机过滤系统。
背景技术
脱碳工艺为聚乙烯二醇二甲醚,简称“NHD”。在合成氨生产净化中是一个关键环节:其溶剂中杂质是通过陶瓷过滤来完成的,其中水与硫是通过高温脱水来实现的,在运行中要保证溶剂中水含量≤2.2%,残硫与残碳越低越好,这样才能确保净化达标。在传统的过滤系统中是富液过滤工艺与富液脱水工艺,即从真解段下来的溶液中残碳较高,过滤后与脱水后的溶液进入贫液贮槽进行循环利用,因而造成贫液中残碳升高,从而降低了溶剂的脱碳效果,造成脱碳净化气中CO2升高,致使生产效率降低。为了保证脱碳净化气达标,过滤量要求小于3m3/h。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于提供一种成本低,可反复使用的一种脱碳陶瓷膜过滤机过滤系统。
本发明所要解决的技术问题采用以下技术方案来实现:
一种脱碳陶瓷膜过滤机过滤系统,其特征在于:所述的过滤系统由贫液槽及陶瓷膜过滤机构成,所述的贫液槽出液口通过滤泵与陶瓷膜过滤机连接,所述陶瓷膜过滤机出液端通过管道连接到贫液槽进液口,即过滤液由贫液槽经过滤泵加压经陶瓷膜过滤机,然后返回到贫液槽。
所述的陶瓷膜过滤机选用GL陶瓷膜过滤机。
本发明的有益效果是:本发明既解决了因富液过滤影响脱碳净化气的问题,又大大增加了陶瓷膜过滤机的过滤量,运行稳定,效果明显,使NHD溶剂的纯度和净化度得到有效保证和提高,从而有效地延长了脱碳氨冷器的运行周期;更重要的是为脱碳工艺长周期稳定运行和节能降耗打好坚实的基础,提供了有力的保障。
附图说明
图1为本发明系统原理图。
具体实施方式
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本发明。
如图1所示,一种脱碳陶瓷膜过滤机过滤系统,过滤系统由贫液槽及GL陶瓷膜过滤机构成,贫液槽出液口通过滤泵与GL陶瓷膜过滤机连接,GL陶瓷膜过滤机出液端通过管道连接到贫液槽进液口,即过滤液由贫液槽经过滤泵加压经GL陶瓷膜过滤机过滤,然后返回到贫液槽。
本发明既解决了因富液过滤影响脱碳净化气的问题,又大大增加了GL陶瓷膜过滤机的过滤量:由原来的5m3/h增大到15m3/h。由于溶剂过滤能力的增加,从而有效地保证并提高了溶剂的纯度和净化度,贫液中残碳由技改前3.0左右降至2.2左右,明显增强了NHD的脱碳效果;18机负荷,脱碳泵流量由技改前410m3/h左右减至360-370m3/h;脱碳泵电流由原61A降至58A,减少2-3个电流左右,每小时节电20kw·h左右,每天节电480度左右,氨冷温度由原10-11℃降至8-9℃,从而大大减轻了冰机的负荷;脱碳净化气中CO2由技改前0.5%降至0.3-0.4%,使甲醇的产品质量有所提升,由三级品升至二极品。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (2)

1.一种脱碳陶瓷膜过滤机过滤系统,其特征在于:所述的过滤系统由贫液槽及陶瓷膜过滤机构成,所述的贫液槽出液口通过滤泵与陶瓷膜过滤机连接,所述陶瓷膜过滤机出液端通过管道连接到贫液槽进液口。
2.根据权利要求1所述的一种脱碳陶瓷膜过滤机过滤系统,其特征在于:所述的陶瓷膜过滤机选用GL陶瓷膜过滤机。
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Title
张涛 等: "GL陶瓷膜超滤机在NHD气体净化工艺的应用", 《化肥设计》, vol. 46, no. 4, 31 August 2008 (2008-08-31), pages 57 - 59 *

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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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