WO2023167001A1 - 研磨ヘッドおよび研磨装置 - Google Patents

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WO2023167001A1
WO2023167001A1 PCT/JP2023/005452 JP2023005452W WO2023167001A1 WO 2023167001 A1 WO2023167001 A1 WO 2023167001A1 JP 2023005452 W JP2023005452 W JP 2023005452W WO 2023167001 A1 WO2023167001 A1 WO 2023167001A1
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WO
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pressing member
polishing
pressing
wafer
groove
Prior art date
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PCT/JP2023/005452
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English (en)
French (fr)
Inventor
誠 柏木
真於 藤澤
Original Assignee
株式会社荏原製作所
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Publication date
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B21/00Machines or devices using grinding or polishing belts; Accessories therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B21/00Machines or devices using grinding or polishing belts; Accessories therefor
    • B24B21/04Machines or devices using grinding or polishing belts; Accessories therefor for grinding plane surfaces
    • B24B21/06Machines or devices using grinding or polishing belts; Accessories therefor for grinding plane surfaces involving members with limited contact area pressing the belt against the work, e.g. shoes sweeping across the whole area to be ground
    • B24B21/08Pressure shoes; Pressure members, e.g. backing belts
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • H01L21/304Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting

Definitions

  • the present invention relates to a polishing head for pressing a polishing tape against a substrate such as a wafer.
  • the present invention also relates to a polishing apparatus for polishing a substrate with such a polishing head.
  • Foreign matter such as fine particles and dust as described above may also adhere to the back surface (non-device surface) of the wafer. If such foreign matter adheres to the back surface of the wafer, the wafer moves away from the stage reference plane of the exposure apparatus, causing the wafer front surface to tilt with respect to the stage reference plane, resulting in deviations in patterning and focal length. becomes. In order to prevent such problems, it is necessary to remove the foreign matter adhering to the back surface of the wafer.
  • FIG. 21 is a top view of a conventional polishing apparatus
  • FIG. 22 is a side view of the conventional polishing apparatus shown in FIG.
  • the polishing apparatus rotates the wafer W by rotating the rollers 500 themselves while holding the peripheral portion of the wafer W with a plurality of rollers 500 .
  • the polishing tape 502 is arranged on the back side of the wafer W. As shown in FIG. The polishing tape 502 advances in the direction indicated by the arrow Z.
  • a plurality of polishing heads 505 are arranged in the diameter direction of the wafer W, and the rear surface of the wafer W is polished by pressing the polishing tape 502 against the rear surface of the wafer W with these polishing heads 505 .
  • the polishing tape 502 pressed against the back surface of the wafer W can remove foreign matter from the back surface of the wafer W.
  • FIG. 23 is a perspective view of the polishing head 505.
  • the polishing head 505 has a pressing ring 512 that presses the polishing tape 502 against the back surface of the wafer W.
  • the pressing ring 512 is made of an elastic material such as silicone rubber.
  • the pressure ring 512 is fitted into the pressure ring holder 513 under tension. The pressing ring 512 pushes the polishing tape 502 toward the wafer W, and the polishing tape 502 can polish the wafer W by receiving the pressing force from the pressing ring 512 .
  • the pressing ring 512 has elasticity, when the pressing ring 512 is stretched and hung on the pressing ring holder 513, it is slightly deformed as indicated by the dotted line in FIG. Due to this deformation of the pressing ring 512, the actual effective polishing range PR2 becomes smaller than the target effective polishing range PR1. As a result, the polishing tape 502 may not polish the target area of the wafer W uniformly.
  • the present invention provides a polishing head capable of uniformly pressing a polishing tape against a substrate such as a wafer with a pressing member.
  • the present invention also provides a polishing apparatus equipped with such a polishing head.
  • a polishing head for polishing a substrate comprises: a pressing member for pressing a polishing tape against the substrate; a pressing member holder for holding the pressing member;
  • the pressing member has a rod shape having both ends, and the pressing member is fitted into a groove formed in the pressing surface of the pressing member holder. is provided.
  • the sidewalls of the groove are parallel to each other.
  • the groove has a first portion having a first width smaller than the width of the pressing member and a second portion having a second width larger than the first width, and the pressing member sandwiched between the first parts.
  • the first portion includes a spacer arranged on at least one side of the pressing member.
  • the spacer is a plate material that can be attached to and detached from the pressing member holder.
  • the pressing member holder has a protruding portion protruding toward the inside of the groove, and the spacer comprises the protruding portion.
  • the polishing head further includes pressing member stoppers arranged at both ends of the pressing member.
  • a polishing apparatus that includes a substrate holding part that holds a substrate, and the above polishing head.
  • the pressing member is rod-shaped with both ends, no tension is generated in the pressing member in its longitudinal direction when the pressing member is attached to the pressing member holder. Therefore, the pressing member is not substantially deformed, it is possible to polish the target effective polishing area, and the polishing tape can be uniformly pressed against the substrate.
  • the portion of the pressing member held by the narrow first portion is larger than the portion of the pressing member held by the wide second portion. , not easy to deform when the polishing tape is pressed against the substrate.
  • the polishing tape can polish the substrate at a high polishing rate by receiving a pressing force from the portion of the pressing member held by the first portion.
  • the position and length of the first portion allows for adjustment of the polishing rate distribution, resulting in a uniform polishing profile.
  • FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a polishing head for polishing a wafer by pressing a polishing tape, which is an example of a polishing tool, against the surface of a wafer, which is an example of a substrate;
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of the polishing head shown in FIG. 1;
  • FIG. FIG. 5 is a diagram showing a state in which the pressing member and the pressing member stopper are removed from the pressing member holder;
  • FIG. 10 is a top view of one embodiment of a groove;
  • FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 4;
  • FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line BB of FIG. 4;
  • FIG. 11 is a top view showing one embodiment of a pressing member fitted in a groove;
  • FIG. 8 is a cross-sectional view taken along line CC of FIG. 7;
  • FIG. 8 is a cross-sectional view taken along line DD of FIG. 7;
  • FIG. 10A is a diagram showing an example of a polishing profile when using a polishing head without a groove first portion.
  • FIG. 10B shows an example of a polishing profile using the polishing head of FIG. 7 with the first portion of the groove.
  • FIG. 4 is a top view of an embodiment of a polishing head with spacers located on only one side of the pressing member;
  • Fig. 10 shows another embodiment of the first and second parts of the groove;
  • FIG. 11 illustrates yet another embodiment of the first and second portions of the groove;
  • FIG. 10A is a diagram showing an example of a polishing profile when using a polishing head without a groove first portion.
  • FIG. 10B shows an example of a polishing profile using
  • FIG. 10 is a top view of an embodiment of a polishing head with two grooves and two pressing members;
  • FIG. 11 is a top view showing another embodiment of grooves;
  • FIG. 16 is a cross-sectional view taken along line EE of FIG. 15;
  • FIG. 16 is a cross-sectional view taken along line FF of FIG. 15;
  • FIG. 19 is a top view of the polishing apparatus shown in FIG. 18;
  • FIG. 10 is a top view of one embodiment of a polishing head with curved grooves and pressing members; It is a top view of a conventional polishing apparatus.
  • FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a polishing head 10 for polishing a wafer W by pressing a polishing tape 2, which is an example of a polishing tool, against the surface of a wafer W, which is an example of a substrate
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of the polishing head 10 shown in FIG. 1;
  • the polishing head 10 of this embodiment is arranged below the wafer W and the polishing tape 2, and is arranged so as to press the polishing tape 2 against the back surface of the wafer W from its back side.
  • the polishing head 10 includes a pressing member 12 as a pressing member for pressing the polishing tape 2 against the wafer W, and the pressing member 12 is moved in a predetermined pressing direction indicated by an arrow CL to apply a pressing force to the pressing member 12. and a housing 18 in which the actuator 15 is arranged.
  • the actuator 15 includes a movable shaft 16 connected to the pressing member 12 and a diaphragm 25 forming a pressure chamber 20 between the end of the movable shaft 16 and the housing 18 .
  • the movable shaft 16 and the partition membrane 25 are arranged inside the housing 18 .
  • the polishing head 10 further includes a pressing member holder 30 that holds the pressing member 12 .
  • the pressing member holder 30 is connected to the movable shaft 16 and is movable together with the movable shaft 16 .
  • the pressing member holder 30 has a groove 50 on its pressing surface 30 a , and the pressing member 12 is fitted in the groove 50 .
  • the pressing member holder 30 has inclined surfaces 30b and 30c that slope outward from both sides of the pressing surface 30a.
  • the movable shaft 16 is movable in its axial direction within the housing 18, and the movable shaft 16 can raise the pressing member 12 in the pressing direction indicated by the arrow CL.
  • the pressing member 12 faces the back side of the polishing tape 2 .
  • the pressing member 12 contacts the back side of the polishing tape 2 .
  • the pressing member 12 presses the polishing surface of the polishing tape 2 against the rear surface of the wafer W to polish the rear surface of the wafer W with the polishing tape 2 .
  • the back side of the polishing tape 2 is supported by the pressing member 12 .
  • the back side of the polishing tape 2 is the surface opposite to the polishing surface having abrasive grains.
  • the polishing tape 2 is fed in its longitudinal direction at a predetermined speed.
  • the movable shaft 16 is composed of a ball spline shaft.
  • a ball spline nut 32 is arranged in the housing 18 , and the movable shaft 16 is supported by the ball spline nut 32 so as to be movable in the axial direction of the movable shaft 16 .
  • movable shaft 16 may be movably supported on the inner surface of housing 18 .
  • the housing 18 includes a housing main body 18A having a space inside which the movable shaft 16 is accommodated, and a lid 18B closing the space.
  • the lid 18B is detachably fixed to the housing body 18A with screws (not shown).
  • the actuator 15 that generates a pressing force for pressing the polishing tape 2 against the wafer W includes the movable shaft 16 and the partition membrane 25 .
  • the partition membrane 25 is in contact with the end (lower end) of the movable shaft 16, and the edge of the partition membrane 25 is sandwiched between the housing main body 18A and the lid 18B.
  • the partition membrane 25 is only in contact with the movable shaft 16 and is not fixed to the movable shaft 16 .
  • the partition membrane 25 is made of a flexible material. Examples of materials forming the partition membrane 25 include chloroprene rubber, fluororubber, and silicone rubber.
  • the pressure chamber 20 communicates with a compressed gas supply line (not shown), and compressed gas (for example, compressed air) is supplied into the pressure chamber 20 from the compressed gas supply line.
  • the polishing head 10 may further include a distance sensor that measures the relative movement distance of the movable shaft 16 with respect to the housing 18 .
  • the pressure chamber 20 is opened to the atmosphere.
  • a skirt 38 is fixed to the pressing member holder 30 .
  • the skirt 38 extends downwardly from the pressure member holder 30 and surrounds the upper portion of the housing 18 .
  • the skirt 38 is cylindrical in this embodiment, it may have other shapes as long as it can surround the upper portion of the housing 18 .
  • the skirt 38 can prevent liquid such as pure water used for polishing the wafer W from entering the housing 18 .
  • the pressing member 12 has a bar shape with both ends 12a, and the pressing member 12 is detachably held by a pressing member holder 30. As shown in FIG. In this embodiment, the pressing member 12 extends obliquely and linearly with respect to the traveling direction Z of the polishing tape 2 .
  • the pressing member 12 is made of an elastic material. Examples of materials forming the pressing member 12 include rubber such as fluororubber, silicone rubber, and ethylene propylene diene rubber.
  • the cross section of the pressing member 12 has a circular shape.
  • the pressing member 12 is not limited to this embodiment, and may have other shapes or be made of other materials.
  • a plurality of pressing members 12 for pressing the polishing tape 2 against the wafer W may be provided.
  • the pressing member 12 may have a curved shape instead of a straight shape.
  • the polishing head 10 of this embodiment includes two pressing member stoppers 45 arranged at both ends of the pressing member 12 . These pressing member stoppers 45 are detachably fixed to the pressing member holder 30 by screws 46 .
  • the pressing member stopper 45 is made of a hard material such as resin or metal.
  • the pressing member stopper 45 has a function of positioning the pressing member 12 in the longitudinal direction of the pressing member 12 .
  • the polishing tape 2 is fed at a predetermined speed in the longitudinal direction of the polishing tape 2 as indicated by the arrow Z.
  • the pressing member 12 of the present embodiment extends obliquely with respect to the longitudinal direction (advancing direction Z) of the polishing tape 2 .
  • the pressing member 12 presses the polishing tape 2 against the wafer W from its rear side.
  • FIG. 3 is a diagram showing a state in which the pressing member 12 and the pressing member stopper 45 are removed from the pressing member holder 30.
  • FIG. A pressing surface (an upper surface in this embodiment) 30a of the pressing member holder 30 has a groove 50 in which the pressing member 12 is fitted.
  • the groove 50 may be the same length as the pressing member 12 or longer than the pressing member 12 .
  • the length of the groove 50 is the same as the length of the pressing member 12 .
  • the term “same” includes not only completely the same but also substantially the same within the scope of common general technical knowledge.
  • the pressing member 12 is attached to the pressing member holder 30 by being fitted into the groove 50 .
  • the pressing member 12 is not fixed to the pressing member holder 30 with an adhesive or the like, and can be removed from the pressing member holder 30 as shown in FIG.
  • the pressing member 12 since the pressing member 12 has a rod shape having both ends 12a, tension is generated in the pressing member 12 in its longitudinal direction when the pressing member 12 is attached to the pressing member holder 30. do not. Therefore, the pressing member 12 is not substantially deformed, and the polishing tape 2 can be pressed against the wafer W uniformly.
  • FIG. 4 is a top view showing one embodiment of the groove 50
  • FIG. 5 is a cross-sectional view along line AA in FIG. 4
  • FIG. 6 is a cross-sectional view along line BB in FIG.
  • the groove 50 is formed in the pressing surface 30a of the pressing member holder 30 and extends from one side surface of the pressing member holder 30 to the other side surface.
  • the groove 50 is composed of two side walls 51 formed on the pressing surface 30a of the pressing member holder 30 and a bottom surface 52 positioned between the side walls 51. 51 are flat and parallel to each other.
  • the cross section of the groove 50 of this embodiment is rectangular. If the side walls 51 of the groove 50 are parallel to each other, the bottom surface 52 of the groove 50 need not be flat.
  • the groove 50 has a first portion 50A having a first width D1 smaller than the width of the pressing member 12 and a second portion 50B having a second width D2 larger than the first width D1.
  • the first portion 50A is located in the center of the pressing member 12, and the second portions 50B are located at both ends of the pressing member 12. As shown in FIG. The first portion 50A is located between the two second portions 50B.
  • the first portion 50A includes spacers 55 arranged on both sides of the pressing member 12. As shown in FIG. Both side walls 51 forming the first portion 50A are formed of spacers 55. As shown in FIG.
  • the spacer 55 of this embodiment is composed of a plate material (for example, a shim) detachably attached to the pressing member holder 30 . These spacers 55 constitute the first portion 50A of the groove 50 and are in contact with both sides of the pressing member 12 . The position, thickness and length of spacer 55 can be changed. Therefore, the position, width and length of the first portion 50A of the groove 50 can also be changed.
  • the spacer 55 is made of resin, metal, or the like.
  • both side walls 51 forming the second portion 50B are formed from the surface of the pressing member holder 30.
  • the width D2 of the second portion 50B of the groove 50 is larger than the width D1 of the first portion 50A of the groove 50 shown in FIG.
  • FIG. 7 is a top view showing one embodiment of the pressing member 12 fitted in the groove 50
  • FIG. 8 is a cross-sectional view taken along line CC of FIG. 7
  • FIG. 9 is a cross-sectional view taken along line DD of FIG. is.
  • a width D1 of the first portion 50A of the groove 50 is smaller than the width of the pressing member 12 before being fitted into the groove 50 . Therefore, the pressing member 12 made of an elastic material is sandwiched between the first portions 50A of the grooves 50 and held by the first portions 50A.
  • the width D2 of the second portion 50B of the groove 50 is slightly larger than the width of the pressing member 12 before being fitted into the groove 50 . Therefore, the pressing member 12 is not held by the second portion 50B.
  • the width D2 of the second portion 50B may be the same as or smaller than the width of the pressing member 12. good.
  • the portion of the pressing member 12 held by the narrow first portion 50A is not the same as the portion of the pressing member 12 held by the wide second portion 50B.
  • the polishing tape 2 can polish the wafer W at a high polishing rate by receiving a pressing force from the portion of the pressing member 12 held by the first portion 50A.
  • the position and length of the first portion 50A makes it possible to adjust the polishing rate distribution, and as a result, a uniform polishing profile can be achieved.
  • FIG. 10A shows an example of a polishing profile when using the polishing head 10 without the first portion 50A of the groove 50
  • FIG. 10B shows the polishing head 10 of FIG. 7 with the first portion 50A of the groove 50
  • the polishing rate of the region corresponding to the center of the pressing member 12 is lower than the polishing rate of the regions corresponding to both ends of the pressing member 12 .
  • the polishing rate is substantially uniform over the entire length of the pressing member 12 .
  • the spacers 55 are located on both sides of the pressing member 12, but in one embodiment, the spacers 55 are positioned on the pressing member 12 as shown in FIG. It may be arranged only on one side. Even in this case, the width of the first portion 50A of the groove 50 is smaller than the width of the pressing member 12 and smaller than the width of the second portion 50B of the groove 50 . Since the pressing member 12 is sandwiched by the first portion 50A of the groove 50, the portion of the pressing member 12 held by the narrow first portion 50A is the portion of the pressing member 12 held by the wide second portion 50B. When the polishing tape 2 is pressed against the wafer W, it is difficult to deform compared to .
  • FIG. 12 and 13 are diagrams showing other embodiments of the first portion 50A and the second portion 50B of the groove 50.
  • FIG. 12 the second portion 50B of the groove 50 is located in the center of the pressing member 12 and the two first portions 50A of the groove 50 are located at opposite ends of the pressing member 12 .
  • the spacers 55 forming the first portion 50A are in contact with both ends of the pressing member 12 .
  • the first portion 50A and the second portion 50B of the groove 50 are located at opposite ends of the pressing member 12.
  • the spacer 55 forming the first portion 50A of the groove 50 is in contact with one end of the pressing member 12, and the second portion 50B of the groove 50 is positioned at the other end of the pressing member 12. As shown in FIG.
  • the polishing head 10 may include two grooves 50 and two pressing members 12 fitted in the grooves 50, respectively. Since the configuration of each groove 50 and each pressing member 12 is the same as the embodiment described with reference to FIGS. 4 to 9, redundant description thereof will be omitted. The modifications described with reference to FIGS. 11 to 13 are also applicable to this embodiment shown in FIG.
  • FIG. 15 is a top view showing another embodiment of the groove 50
  • FIG. 16 is a cross-sectional view taken along line EE in FIG.
  • FIG. 17 is a cross-sectional view along line FF in FIG.
  • the spacer 55 forming the first portion 50A of the groove 50 is made up of a protruding portion of the pressing member holder 30 that protrudes toward the inside of the groove 50 .
  • the relationship between the width D1 of the first portion 50A, the width of the pressing member 12, and the width D2 of the second portion 50B is the same as in the embodiment described with reference to FIGS. Description is omitted.
  • the modifications described with reference to FIGS. 11 to 13 are also applicable to the present embodiment shown in FIGS. 15 to 17.
  • FIG. 11 to 13 are also applicable to the present embodiment shown in FIGS. 15 to 17.
  • FIG. 11 to 13 are also applicable to the present embodiment shown in FIGS. 15 to 17.
  • FIG. 11 to 13 are also applicable to the present embodiment shown in FIGS. 15 to 17.
  • FIG. 18 is a side view showing one embodiment of a polishing apparatus
  • FIG. 19 is a top view of the polishing apparatus shown in FIG.
  • the polishing apparatus shown in FIGS. 18 and 19 includes a substrate holding portion 70 that holds and rotates a wafer W, and polishing tapes 2A and 2B that are brought into contact with the first surface 5a of the wafer W held by the substrate holding portion 70.
  • a mechanism 72A and a polishing tape supply mechanism 72B for supplying the polishing tape 2B to the polishing heads 10C and 10D and recovering the polishing tape 2B from the polishing heads 10C and 10D are provided.
  • Polishing heads 10A and 10C have the same configuration as polishing head 10 described with reference to FIG. 14, and polishing heads 10B and 10D have the same configuration as polishing head 10 described with reference to FIG. there is Polishing tapes 2A and 2B have the same configuration.
  • the first surface 5a of the wafer W is the back surface of the wafer W on which no devices are formed or devices are not planned to be formed, that is, the non-device surface.
  • a second side 5b of the wafer W, opposite the first side 5a, is the side on which the devices are or are to be formed, ie the device side.
  • the wafer W is horizontally supported by the substrate holder 70 with the first surface 5a facing downward.
  • the substrate holding unit 70 includes a plurality of rollers 75A, 75B, 75C, and 75D that can contact the peripheral edge of the wafer W, and a roller rotating device (not shown) for rotating the rollers 75A to 75D at the same speed.
  • a roller rotating device not shown for rotating the rollers 75A to 75D at the same speed.
  • rollers 75A-75D are provided, but five or more rollers may be provided.
  • the polishing heads 10A and 10B are supported by a supporting member 78A, and the polishing heads 10C and 10D are supported by a supporting member 78B.
  • a plurality of polishing heads 10A to 10D are arranged below the wafer W held by the substrate holding part . These polishing heads 10A to 10D are arranged in the diameter direction of the wafer W. As shown in FIG. Although four polishing heads 10A to 10D are provided in this embodiment, the number of polishing heads is not limited to this embodiment. In one embodiment, a single polishing head may be provided.
  • the polishing tape supply mechanism 72A includes a tape unwinding reel 81 to which one end of the polishing tape 2A is connected, a tape take-up reel 82 to which the other end of the polishing tape 2A is connected, and a plurality of reels for guiding the advancing direction of the polishing tape 2A. of guide rollers 83 are provided. Tape take-up reel 81 and tape take-up reel 82 are coupled to reel motors 86 and 87, respectively.
  • the polishing tape 2A is fed from the tape take-up reel 81 to the tape take-up reel 82 via the polishing heads 10A and 10B.
  • the polishing tape 2A is supplied above the polishing heads 10A and 10B so that the polishing surface 3a of the polishing tape 2A faces the first surface 5a of the wafer W.
  • the reel motor 86 can apply tension to the polishing tape 2A by applying a predetermined torque to the tape supply reel 81 .
  • the reel motor 87 is controlled to feed the polishing tape 2A at a constant speed.
  • the feeding speed of the polishing tape 2A can be changed by changing the rotation speed of the tape take-up reel 82.
  • the polishing apparatus may include a tape feeding device that feeds the polishing tape 2A in its longitudinal direction, separately from the tape supply reel 81, the tape take-up reel 82, and the reel motors 86, 87.
  • the positions of tape take-up reel 81 and tape take-up reel 82 may be reversed.
  • the wafer W is polished as follows.
  • the wafer W is rotated by rotating these rollers 75A to 75D while holding the peripheral portion of the wafer W with a plurality of rollers 75A to 75D.
  • the polishing tapes 2A and 2B are fed to the polishing heads 10A to 10D by the polishing tape supply mechanisms 72A and 72B, the pressing members 12 of the polishing heads 10A to 10D press the polishing tapes 2A and 2B against the first surface 5a of the wafer W.
  • the first surface 5a of the wafer W is polished by using the
  • the pressing member 12 and the groove 50 described above are applied to a polishing head for polishing the back surface of the wafer. It can also be applied to the head.
  • the pressing member 12 and groove 50 may be curved along the edge of the wafer W, as shown in FIG. While pressing the polishing tape 2 against the edge of the wafer W by the pressing member 12 , the polishing head 10 moves outward in the radial direction of the wafer W as indicated by the arrow X. As shown in FIG. Movement of the polishing head 10 in the direction X is achieved by a polishing head moving mechanism (not shown).
  • the present invention can be used for a polishing head for pressing a polishing tape against a substrate such as a wafer. Also, the present invention can be used in a polishing apparatus for polishing a substrate with such a polishing head.

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Abstract

本発明は、ウェーハなどの基板に研磨テープを押し付けるための研磨ヘッドに関するものである。また、本発明はそのような研磨ヘッドで基板を研磨するための研磨装置に関するものである。基板(W)を研磨するための研磨ヘッド(10)は、研磨テープ(2)を基板(W)に対して押し付ける押圧部材(12)と、押圧部材(12)を保持する押圧部材ホルダ(30)と、押圧部材ホルダ(30)に連結され、押圧部材(12)に押圧力を付与するアクチュエータ(15)を備える。押圧部材(12)は、両端(12a)を有する棒形状であり、押圧部材(12)は、押圧部材ホルダ(30)の押圧面(30a)に形成されている溝(50)に嵌合している。

Description

研磨ヘッドおよび研磨装置
 本発明は、ウェーハなどの基板に研磨テープを押し付けるための研磨ヘッドに関する。また、本発明はそのような研磨ヘッドで基板を研磨するための研磨装置に関する。
 近年、メモリー回路、ロジック回路、イメージセンサ(例えばCMOSセンサー)などのデバイスは、より高集積化されつつある。これらのデバイスを形成する工程においては、微粒子や塵埃などの異物がデバイスに付着することがある。デバイスに付着した異物は、配線間の短絡や回路の不具合を引き起こしてしまう。したがって、デバイスの信頼性を向上させるために、デバイスが形成されたウェーハを洗浄して、ウェーハ上の異物を除去することが必要とされる。
 ウェーハの裏面(非デバイス面)にも、上述したような微粒子や粉塵などの異物が付着することがある。このような異物がウェーハの裏面に付着すると、ウェーハが露光装置のステージ基準面から離間することでウェーハ表面がステージ基準面に対して傾き、結果として、パターニングのずれや焦点距離のずれが生じることとなる。このような問題を防止するために、ウェーハの裏面に付着した異物を除去することが必要とされる。
 そこで、図21に示すように、ウェーハの裏面を研磨テープで研磨する研磨装置が使用されている。図21は、従来の研磨装置の上面図であり、図22は図21に示す従来の研磨装置の側面図である。研磨装置は、複数のローラー500によりウェーハWの周縁部を保持しながら、これらローラー500自身が回転することで、ウェーハWを回転させる。研磨テープ502は、ウェーハWの裏面側に配置されている。研磨テープ502は、矢印Zで示す方向に進行する。
 複数の研磨ヘッド505はウェーハWの直径方向に配列されており、これらの研磨ヘッド505で研磨テープ502をウェーハWの裏面に対して押し付けることにより、ウェーハWの裏面を研磨する。ウェーハWの裏面に押し付けられた研磨テープ502は、ウェーハWの裏面から異物を除去することができる。
 図23は、研磨ヘッド505の斜視図である。図23に示すように、研磨ヘッド505は、研磨テープ502をウェーハWの裏面に押し付ける押圧リング512を有している。押圧リング512は、シリコーンゴムなどの弾性材料から構成されている。押圧リング512は、テンションが加えられた状態で押圧リングホルダ513に嵌め込まれている。押圧リング512は、研磨テープ502をウェーハWに向かって押し上げ、研磨テープ502は、押圧リング512からの押圧力を受けてウェーハWを研磨することができる。
特開2021-122895号公報
 しかしながら、押圧リング512は、弾性を有しているために、押圧リング512を引き伸ばして押圧リングホルダ513に掛けるとき、図24の点線で示すように、やや変形する。この押圧リング512の変形のため、目標の有効研磨範囲PR1に比べて、実際の有効研磨範囲PR2が小さくなってしまう。結果として、研磨テープ502はウェーハWの目標領域を均一に研磨できないことがあった。
 そこで、本発明は、押圧部材で研磨テープをウェーハなどの基板に対して均一に押し付けることができる研磨ヘッドを提供する。また、本発明は、そのような研磨ヘッドを備えた研磨装置を提供する。
 一態様では、基板を研磨するための研磨ヘッドであって、研磨テープを基板に対して押し付ける押圧部材と、前記押圧部材を保持する押圧部材ホルダと、前記押圧部材ホルダに連結され、前記押圧部材に押圧力を付与するアクチュエータを備え、前記押圧部材は、両端を有する棒形状であり、前記押圧部材は、前記押圧部材ホルダの押圧面に形成されている溝に嵌合している、研磨ヘッドが提供される。
 一態様では、前記溝の両側壁は、互いに平行である。
 一態様では、前記溝は、前記押圧部材の幅よりも小さい第1幅を有する第1部分と、前記第1幅よりも大きい第2幅を有する第2部分を有し、前記押圧部材は前記第1部分に挟まれている。
 一態様では、前記第1部分は、前記押圧部材の少なくとも一方側に配置されたスペーサを含む。
 一態様では、前記スペーサは、前記押圧部材ホルダに着脱可能な板材である。
 一態様では、前記押圧部材ホルダは、前記溝の内側に向かって突出する突出部を有しており、前記スペーサは前記突出部から構成されている。
 一態様では、前記研磨ヘッドは、前記押圧部材の両端に配置された押圧部材ストッパをさらに備えている。
 一態様では、基板を保持する基板保持部と、上記研磨ヘッドを備えている、研磨装置が提供される。
 本発明によれば、押圧部材は両端を有する棒形状であるので、押圧部材を押圧部材ホルダに取り付けるときに、押圧部材にはその長手方向にテンションが発生しない。したがって、押圧部材は実質的に変形せず、目標の有効研磨範囲を研磨することを可能とし、研磨テープを基板に対して均一に押し付けることができる。
 また、押圧部材は溝の第1部分に挟まれているので、幅の狭い第1部分に保持された押圧部材の部位は、幅の広い第2部分に保持された押圧部材の部位に比べて、研磨テープを基板に押し付けたときに変形しにくい。結果として、研磨テープは、第1部分に保持された押圧部材の部位からの押付力を受けて、高い研磨レートで基板を研磨することができる。さらに、第1部分の位置および長さにより、研磨レートの分布を調整することが可能となり、結果として、均一な研磨プロファイルを達成することができる。
研磨具の一例である研磨テープを基板の一例であるウェーハの表面に押し付けてウェーハを研磨するための研磨ヘッドの一実施形態を示す斜視図である。 図1に示す研磨ヘッドの断面図である。 押圧部材および押圧部材ストッパを押圧部材ホルダから取り外した状態を示す図である。 溝の一実施形態を示す上面図である。 図4のA-A線断面図である。 図4のB-B線断面図である。 溝に嵌め込まれた押圧部材の一実施形態を示す上面図である。 図7のC-C線断面図である。 図7のD-D線断面図である。 図10Aは、溝の第1部分がない研磨ヘッドを用いた場合の研磨プロファイルの一例を示す図である。 図10Bは、溝の第1部分がある図7の研磨ヘッドを用いた場合の研磨プロファイルの一例を示す図である。 スペーサが押圧部材の一方側にのみ配置された研磨ヘッドの一実施形態を示す上面図である。 溝の第1部分と第2部分の他の実施形態を示す図である。 溝の第1部分と第2部分のさらに他の実施形態を示す図である。 2つの溝および2つの押圧部材を備えた研磨ヘッドの一実施形態を示す上面図である。 溝の他の実施形態を示す上面図である。 図15のE-E線断面図である。 図15のF-F線断面図である。 研磨装置の一実施形態を示す側面図である。 図18に示す研磨装置の上面図である。 湾曲した溝および押圧部材を備えた研磨ヘッドの一実施形態を示す上面図である。 従来の研磨装置の上面図である。 図21に示す従来の研磨装置の側面図である。 従来の研磨ヘッドの斜視図である。 押圧リングが変形する様子を説明する図である。
 以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。図1は、研磨具の一例である研磨テープ2を基板の一例であるウェーハWの表面に押し付けてウェーハWを研磨するための研磨ヘッド10の一実施形態を示す斜視図であり、図2は、図1に示す研磨ヘッド10の断面図である。本実施形態の研磨ヘッド10は、ウェーハWおよび研磨テープ2の下方に配置されており、研磨テープ2をその裏側からウェーハWの裏面に対して押圧するように配置されている。
 研磨ヘッド10は、研磨テープ2をウェーハWに対して押し付けるための押圧部材としての押圧部材12と、押圧部材12を矢印CLで示す所定の押圧方向に移動させ、押圧部材12に押圧力を付与するアクチュエータ15と、アクチュエータ15が内部に配置されたハウジング18を備えている。アクチュエータ15は、押圧部材12に連結された可動軸16と、可動軸16の端部とハウジング18との間に圧力室20を形成する隔壁膜(ダイヤフラム)25とを備えている。可動軸16および隔壁膜25は、ハウジング18内に配置されている。
 研磨ヘッド10は、押圧部材12を保持する押圧部材ホルダ30をさらに備えている。押圧部材ホルダ30は、可動軸16に連結されており、可動軸16と一体に移動可能である。押圧部材ホルダ30は、その押圧面30aに溝50を有しており、押圧部材12は溝50に嵌め込まれている。押圧部材ホルダ30は、押圧面30aの両側から外側に向かって下方に傾斜する傾斜面30b,30cを有する。
 図2に示すように、可動軸16は、その軸方向にハウジング18内で移動可能となっており、可動軸16は、押圧部材12を矢印CLに示す押圧方向に上昇させることができる。押圧部材12は研磨テープ2の裏側に対向している。可動軸16が押圧部材12を矢印CLに示す押圧方向に上昇させると、押圧部材12は、研磨テープ2の裏側に接触する。押圧部材12は研磨テープ2の研磨面をウェーハWの裏面に押し付けてウェーハWの裏面を研磨テープ2で研磨する。ウェーハWの研磨中、研磨テープ2の裏側は、押圧部材12によって支持される。研磨テープ2の裏側は、砥粒を有する研磨面とは反対側の面である。ウェーハWの研磨中、研磨テープ2はその長手方向に所定の速度で送られる。
 本実施形態では、可動軸16はボールスプライン軸から構成されている。ハウジング18内にはボールスプラインナット32が配置されており、可動軸16はボールスプラインナット32により可動軸16の軸方向に移動可能に支持されている。一実施形態では、可動軸16は、ハウジング18の内面に移動可能に支持されてもよい。
 ハウジング18は、可動軸16が収容される空間が内部に形成されたハウジング本体18Aと、上記空間を塞ぐ蓋18Bとを備えている。蓋18Bはねじ(図示せず)によりハウジング本体18Aに着脱可能に固定されている。研磨テープ2をウェーハWに対して押圧するための押圧力を発生するアクチュエータ15は、可動軸16および隔壁膜25を含む。隔壁膜25は、可動軸16の端部(下端)に接触しており、隔壁膜25の縁は、ハウジング本体18Aと蓋18Bとの間に挟まれている。隔壁膜25は可動軸16に接触しているのみであり、可動軸16に固定されていない。
 隔壁膜25は、柔軟な材料から形成されている。隔壁膜25を構成する材料の例としては、クロロプレンゴム、フッ素ゴム、シリコーンゴムが挙げられる。圧力室20は、圧縮気体供給ライン(図示せず)に連通しており、圧縮気体供給ラインから圧縮気体(例えば圧縮空気)が圧力室20内に供給されるようになっている。
 ウェーハWを研磨するときは、圧縮空気などの圧縮気体は圧力室20内に供給される。圧力室20内の圧縮気体の圧力は、隔壁膜25を介して可動軸16の端部(下端)に作用し、可動軸16、押圧部材ホルダ30、および押圧部材12を上昇させる。研磨ヘッド10は、可動軸16のハウジング18に対する相対的な移動距離を測定する距離センサをさらに備えてもよい。ウェーハWの研磨を終了させるときは、圧力室20は大気開放され、その結果、可動軸16の自重および研磨テープ2の張力により可動軸16および押圧部材12が下降する。
 押圧部材ホルダ30にはスカート38が固定されている。このスカート38は押圧部材ホルダ30から下方に延び、ハウジング18の上部を囲んでいる。本実施形態ではスカート38は円筒状であるが、ハウジング18の上部を囲むことができるのであれば、他の形状であってもよい。スカート38は、ウェーハWの研磨に使用される純水などの液体がハウジング18内に侵入することを防ぐことができる。
 図1に示すように、押圧部材12は、両端12aを有する棒形状を有しており、押圧部材12は取り外し可能に押圧部材ホルダ30に保持されている。本実施形態では、押圧部材12は、研磨テープ2の進行方向Zに対して斜めにかつ直線状に延びている。
 押圧部材12は、弾性材料から形成されている。押圧部材12を構成する材料の例としては、フッ素ゴム、シリコーンゴム、エチレンプロピレンジエンゴムなどのゴムが挙げられる。押圧部材12の断面は、円形の形状を有している。ただし、押圧部材12は、本実施形態に限られず、他の形状を有してもよく、あるいは他の材料から構成されてもよい。例えば、研磨テープ2をウェーハWに押し付けるための複数の押圧部材12が設けられてもよい。他の例では、押圧部材12は、直線状に延びる形状に代えて、湾曲した形状であってもよい。
 本実施形態の研磨ヘッド10は、押圧部材12の両端に配置された2つの押圧部材ストッパ45を備えている。これら押圧部材ストッパ45は、押圧部材ホルダ30にねじ46により取り外し可能に固定されている。押圧部材ストッパ45は、樹脂または金属などの硬質の材料から構成されている。押圧部材ストッパ45は、押圧部材12の長手方向における押圧部材12の位置決めをする機能を有する。
 図1に示すように、ウェーハWの研磨中は、研磨テープ2は矢印Zで示すように、研磨テープ2の長手方向に所定の速度で送られる。本実施形態の押圧部材12は、研磨テープ2の長手方向(進行方向Z)に対して斜めに延びている。ウェーハWを研磨するときは、押圧部材12は研磨テープ2をその裏側からウェーハWに対して押し付ける。
 図3は、押圧部材12および押圧部材ストッパ45を押圧部材ホルダ30から取り外した状態を示す図である。押圧部材ホルダ30の押圧面(本実施形態では上面)30aは、押圧部材12が嵌合する溝50を有している。溝50は、押圧部材12と同じ長さか、あるいは押圧部材12よりも長い。本実施形態では、溝50の長さは、押圧部材12の長さと同じである。本明細書において、「同じ」とは完全に同じであることのみならず、技術常識の範囲内で実質的に同じであることを含む。
 押圧部材12は、溝50に嵌合されることで押圧部材ホルダ30に取り付けられる。押圧部材12は、接着剤などで押圧部材ホルダ30に固定されていなく、図3に示すように、押圧部材ホルダ30から取り外し可能である。
 本実施形態によれば、押圧部材12はその両端12aを有する棒形状を有しているので、押圧部材12を押圧部材ホルダ30に取り付けるときに、押圧部材12にはその長手方向にテンションが発生しない。したがって、押圧部材12は実質的に変形せず、研磨テープ2をウェーハWに対して均一に押し付けることができる。
 図4は溝50の一実施形態を示す上面図であり、図5は図4のA-A線断面図であり、図6は図4のB-B線断面図である。溝50は、押圧部材ホルダ30の押圧面30aに形成されており、押圧部材ホルダ30の一側面から他側面まで延びている。図5および図6に示すように、溝50は、押圧部材ホルダ30の押圧面30aに形成された2つの側壁51と、これら側壁51の間に位置する底面52から構成されており、両側壁51は平坦であり、互いに平行である。本実施形態の溝50の断面は、矩形状である。溝50の両側壁51が互いに平行であれば、溝50の底面52は平坦でなくてもよい。
 溝50は、押圧部材12の幅よりも小さい第1幅D1を有する第1部分50Aと、第1幅D1よりも大きい第2幅D2を有する第2部分50Bを有する。第1部分50Aは、押圧部材12の中央に位置し、第2部分50Bは押圧部材12の両端に位置している。第1部分50Aは、2つの第2部分50Bの間に位置している。
 図5に示すように、第1部分50Aは、押圧部材12の両側に配置されたスペーサ55を含む。第1部分50Aを構成する両側壁51は、スペーサ55から構成されている。本実施形態のスペーサ55は、押圧部材ホルダ30に着脱可能に取り付けられた板材(例えばシム)から構成されている。これらスペーサ55は、溝50の第1部分50Aを構成し、押圧部材12の両側に接触している。スペーサ55の位置、厚さ、長さは変更可能である。したがって、溝50の第1部分50Aの位置、幅、長さも変更可能である。スペーサ55は、樹脂または金属などから構成されている。
 図6に示すように、第2部分50Bを構成する両側壁51は、押圧部材ホルダ30の表面から構成されている。溝50の第2部分50Bの幅D2は、図5に示す溝50の第1部分50Aの幅D1よりも大きい。
 図7は溝50に嵌め込まれた押圧部材12の一実施形態を示す上面図であり、図8は図7のC-C線断面図であり、図9は図7のD-D線断面図である。溝50の第1部分50Aの幅D1は、溝50に嵌め込まれる前の押圧部材12の幅よりも小さい。したがって、弾性材料から構成される押圧部材12は、溝50の第1部分50Aに挟まれ、第1部分50Aによって保持される。一方、溝50の第2部分50Bの幅D2は、溝50に嵌め込まれる前の押圧部材12の幅よりわずかに大きい。したがって、押圧部材12は第2部分50Bには保持されない。ただし、第2部分50Bの幅D2が第1部分50Aの幅D1よりも大きければ、第2部分50Bの幅D2は押圧部材12の幅と同じか、または押圧部材12の幅よりも小さくてもよい。
 押圧部材12は溝50の第1部分50Aに挟まれているので、幅の狭い第1部分50Aに保持された押圧部材12の部位は、幅の広い第2部分50Bに保持された押圧部材12の部位に比べて、研磨テープ2をウェーハWに押し付けたときに変形しにくい。結果として、研磨テープ2は、第1部分50Aに保持された押圧部材12の部位からの押付力を受けて、高い研磨レートでウェーハWを研磨することができる。さらに、第1部分50Aの位置および長さにより、研磨レートの分布を調整することが可能となり、結果として、均一な研磨プロファイルを達成することができる。
 図10Aは、溝50の第1部分50Aがない研磨ヘッド10を用いた場合の研磨プロファイルの一例を示す図であり、図10Bは、溝50の第1部分50Aがある図7の研磨ヘッド10を用いた場合の研磨プロファイルの一例を示す図である。図10Aに示すように、押圧部材12の中央に対応する領域の研磨レートは、押圧部材12の両端に対応する領域の研磨レートよりも低い。これに対し、図10Bに示す研磨プロファイルでは、押圧部材12の全長に亘って研磨レートはほぼ均一である。このように、幅の狭い第1部分50Aを構成するスペーサ55を研磨レートが低い領域に配置することで、均一な研磨レートを達成することができる。
 図4乃至図9を参照して説明した実施形態では、スペーサ55は押圧部材12の両側に配置されているが、一実施形態では、図11に示すように、スペーサ55は、押圧部材12の一方側にのみ配置されてもよい。この場合でも、溝50の第1部分50Aの幅は、押圧部材12の幅よりも小さく、かつ溝50の第2部分50Bの幅よりも小さい。押圧部材12は溝50の第1部分50Aに挟まれるので、幅の狭い第1部分50Aに保持された押圧部材12の部位は、幅の広い第2部分50Bに保持された押圧部材12の部位に比べて、研磨テープ2をウェーハWに押し付けたときに変形しにくい。
 図12および図13は、溝50の第1部分50Aと第2部分50Bの他の実施形態を示す図である。図12に示す実施形態では、溝50の第2部分50Bは押圧部材12の中央に位置し、溝50の2つの第1部分50Aは押圧部材12の両端に位置している。第1部分50Aを構成するスペーサ55は押圧部材12の両端に接触している。図13に示す実施形態では、溝50の第1部分50Aおよび第2部分50Bは、押圧部材12の両端に位置している。すなわち、溝50の第1部分50Aを構成するスペーサ55は、押圧部材12の一端に接触し、溝50の第2部分50Bは押圧部材12の他端に位置している。
 図14に示すように、研磨ヘッド10は、2つの溝50、およびこれら溝50にそれぞれ嵌め込まれた2つの押圧部材12を備えてもよい。各溝50および各押圧部材12の構成は、図4乃至図9を参照して説明した実施形態と同じであるので、その重複する説明を省略する。図11乃至図13を参照して説明した変形例は、図14に示す本実施形態にも適用可能である。
 図15は溝50の他の実施形態を示す上面図であり、図16は図15のE-E線断面図であり、図17は図15のF-F線断面図である。特に説明しない本実施形態の構成は、図4乃至図9を参照して説明した実施形態と同じであるので、その重複する説明を省略する。この実施形態では、溝50の第1部分50Aを構成するスペーサ55は、溝50の内側に向かって突出する、押圧部材ホルダ30の突出部から構成されている。第1部分50Aの幅D1と、押圧部材12の幅と、第2部分50Bの幅D2との関係は、図4乃至図9を参照して説明した実施形態と同じであるので、その重複する説明を省略する。図11乃至図13を参照して説明した変形例は、図15乃至図17に示す本実施形態にも適用可能である。
 図18は、研磨装置の一実施形態を示す側面図であり、図19は、図18に示す研磨装置の上面図である。図18および図19に示す研磨装置は、ウェーハWを保持し、回転させる基板保持部70と、研磨テープ2A,2Bを、基板保持部70に保持されたウェーハWの第1の面5aに接触させてウェーハWの第1の面5aを研磨する複数の研磨ヘッド10A~10Dと、研磨テープ2Aを研磨ヘッド10A,10Bに供給し、研磨ヘッド10A,10Bから研磨テープ2を回収する研磨テープ供給機構72Aと、研磨テープ2Bを研磨ヘッド10C,10Dに供給し、研磨ヘッド10C,10Dから研磨テープ2Bを回収する研磨テープ供給機構72Bを備えている。
 研磨ヘッド10A,10Cは、図14を参照して説明した研磨ヘッド10と同じ構成を有し、研磨ヘッド10B,10Dは、図7を参照して説明した研磨ヘッド10と同じ構成を有している。研磨テープ2A,2Bは、同じ構成を有している。
 本実施形態では、ウェーハWの第1の面5aは、デバイスが形成されていない、またはデバイスが形成される予定がないウェーハWの裏面、すなわち非デバイス面である。第1の面5aとは反対側のウェーハWの第2の面5bは、デバイスが形成されている、またはデバイスが形成される予定である面、すなわちデバイス面である。本実施形態では、ウェーハWは、その第1の面5aが下向きの状態で、基板保持部70に水平に支持される。
 基板保持部70は、ウェーハWの周縁部に接触可能な複数のローラー75A,75B,75C,75Dと、ローラー75A~75Dを同じ速度で回転させるためのローラー回転装置(図示せず)を備えている。本実施形態では、4つのローラー75A~75Dが設けられているが、5つまたはそれよりも多いローラーが設けられてもよい。
 研磨ヘッド10A,10Bは、支持部材78Aに支持され、研磨ヘッド10C,10Dは、支持部材78Bに支持されている。複数の研磨ヘッド10A~10Dは、基板保持部70に保持されているウェーハWの下側に配置されている。これら研磨ヘッド10A~10Dは、ウェーハWの直径方向に配列されている。本実施形態では、4つの研磨ヘッド10A~10Dが設けられているが、研磨ヘッドの数は本実施形態に限られない。一実施形態では、単一の研磨ヘッドが設けられてもよい。
 研磨テープ供給機構72A,72Bは、同じ構成を有しているので、以下研磨テープ供給機構72Aについて説明する。研磨テープ供給機構72Aは、研磨テープ2Aの一端が接続されたテープ巻き出しリール81と、研磨テープ2Aの他端が接続されたテープ巻き取りリール82と、研磨テープ2Aの進行方向を案内する複数のガイドローラー83を備えている。テープ巻き出しリール81およびテープ巻き取りリール82は、リールモータ86,87にそれぞれ連結されている。
 テープ巻き取りリール82を矢印で示す方向に回転させることにより、研磨テープ2Aはテープ巻き出しリール81から研磨ヘッド10A,10Bを経由してテープ巻き取りリール82に送られる。研磨テープ2Aは、研磨テープ2Aの研磨面3aがウェーハWの第1の面5aを向くように研磨ヘッド10A,10Bの上方に供給される。リールモータ86は、所定のトルクをテープ巻き出しリール81に与えることにより、研磨テープ2Aにテンションをかけることができる。リールモータ87は、研磨テープ2Aを一定速度で送るように制御される。研磨テープ2Aを送る速度は、テープ巻き取りリール82の回転速度を変化させることによって変更できる。
 一実施形態では、研磨装置は、テープ巻き出しリール81、テープ巻き取りリール82、およびリールモータ86,87とは別に、研磨テープ2Aをその長手方向に送るテープ送り装置を備えてもよい。さらに他の実施形態では、テープ巻き出しリール81とテープ巻き取りリール82の位置は、逆に配置されてもよい。
 ウェーハWは次のようにして研磨される。複数のローラー75A~75DでウェーハWの周縁部を保持しながら、これらローラー75A~75Dを回転させることで、ウェーハWを回転させる。研磨テープ供給機構72A,72Bにより研磨テープ2A,2Bを研磨ヘッド10A~10Dに送りながら、研磨ヘッド10A~10Dの押圧部材12は、研磨テープ2A,2BをウェーハWの第1の面5aに押し付けてウェーハWの第1の面5aを研磨する。
 上述した押圧部材12および溝50の実施形態は、ウェーハの裏面を研磨する研磨ヘッドに適用されているが、上述した押圧部材12および溝50の実施形態はウェーハのエッジ部を研磨するための研磨ヘッドにも適用可能である。例えば、図20に示すように、押圧部材12および溝50は、ウェーハWのエッジ部に沿って湾曲してもよい。押圧部材12により研磨テープ2をウェーハWのエッジ部に押し付けながら、研磨ヘッド10は、矢印Xで示すように、ウェーハWの半径方向外側に向かって移動する。研磨ヘッド10の方向Xへの移動は、図示しない研磨ヘッド移動機構によって達成される。
 上述した実施形態は、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が本発明を実施できることを目的として記載されたものである。上記実施形態の種々の変形例は、当業者であれば当然になしうることであり、本発明の技術的思想は他の実施形態にも適用しうる。したがって、本発明は、記載された実施形態に限定されることはなく、特許請求の範囲によって定義される技術的思想に従った最も広い範囲に解釈されるものである。
 本発明は、ウェーハなどの基板に研磨テープを押し付けるための研磨ヘッドに利用可能である。また、本発明はそのような研磨ヘッドで基板を研磨するための研磨装置に利用可能である。
 W   ウェーハ
 2,2A,2B   研磨テープ
 5a   第1の面
 5b   第2の面
10,10A~10D   研磨ヘッド
12   押圧部材
15   アクチュエータ
16   可動軸
18   ハウジング
18A  ハウジング本体
18B  蓋
20   圧力室
25   隔壁膜
30   押圧部材ホルダ
30a  押圧面
30b,30c  傾斜面
32   ボールスプラインナット
38   スカート
45   押圧部材ストッパ
46   ねじ
50   溝
50A  第1部分
50B  第2部分
51   側壁
52   底面
55   スペーサ
70   基板保持部
72A,72B   研磨テープ供給機構
78A,78B   支持部材
81   テープ巻き出しリール
82   テープ巻き取りリール
83   ガイドローラー
86,87   リールモータ
D1   第1幅
D2   第2幅

Claims (8)

  1.  基板を研磨するための研磨ヘッドであって、
     研磨テープを基板に対して押し付ける押圧部材と、
     前記押圧部材を保持する押圧部材ホルダと、
     前記押圧部材ホルダに連結され、前記押圧部材に押圧力を付与するアクチュエータを備え、
     前記押圧部材は、両端を有する棒形状であり、
     前記押圧部材は、前記押圧部材ホルダの押圧面に形成されている溝に嵌合している、研磨ヘッド。
  2.  前記溝の両側壁は、互いに平行である、請求項1に記載の研磨ヘッド。
  3.  前記溝は、前記押圧部材の幅よりも小さい第1幅を有する第1部分と、前記第1幅よりも大きい第2幅を有する第2部分を有し、前記押圧部材は前記第1部分に挟まれている、請求項1または2に記載の研磨ヘッド。
  4.  前記第1部分は、前記押圧部材の少なくとも一方側に配置されたスペーサを含む、請求項3に記載の研磨ヘッド。
  5.  前記スペーサは、前記押圧部材ホルダに着脱可能な板材である、請求項4に記載の研磨ヘッド。
  6.  前記押圧部材ホルダは、前記溝の内側に向かって突出する突出部を有しており、前記スペーサは前記突出部から構成されている、請求項4に記載の研磨ヘッド。
  7.  前記押圧部材の両端に配置された押圧部材ストッパをさらに備えている、請求項1乃至6のいずれか一項に記載の研磨ヘッド。
  8.  基板を保持する基板保持部と、
     前記基板を研磨するための、請求項1乃至7のいずれか一項に記載の研磨ヘッドを備えている、研磨装置。
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JPS5021197U (ja) * 1973-06-19 1975-03-10
JP2018195853A (ja) * 2018-08-31 2018-12-06 株式会社荏原製作所 研磨方法

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