TWI764216B

TWI764216B - 連續鑄造鑄片的二次冷卻裝置及二次冷卻方法

Info

Publication number: TWI764216B
Application number: TW109125992A
Authority: TW
Inventors: 大須賀顕一; 杉原広和; 上岡悟史
Original assignee: 日商Ｊｆｅ鋼鐵股份有限公司
Priority date: 2019-08-02
Filing date: 2020-07-31
Publication date: 2022-05-11
Also published as: KR102629986B1; WO2021024920A1; KR20220025027A; JP7131707B2; TW202112467A; CN114173958A; JPWO2021024920A1

Abstract

獲得一種抑制設備投資或營運成本，即便在設備限制嚴峻的環境仍能夠適用，且具有較高之冷卻能力控制性的鋼之連續鑄造中的冷卻裝置及方法。本發明之連續鑄造鑄片的二次冷卻裝置(1)，係在連續鑄造機的二次冷卻帶中，以單流體水噴霧來冷卻藉由導輥(3)所支撐導引的鑄片(5)，且具備：二種類以上之水霧噴嘴(7)，其流量特性不同；及複數個水供應線路(9)，其是能夠調整地供應與各個水霧噴嘴(7)之流量特性相應的流量之水；以及切換閥(11、13、15)，其是切換所使用的水供應線路(9)；前述流量特性不同的二種類以上之水霧噴嘴(7)是在前述導輥間之間隙，具有在與導輥(3)平行的方向上排成一列所設置的冷卻區域。

Description

連續鑄造鑄片的二次冷卻裝置及二次冷卻方法

本發明係關於一種連續鑄造鑄片的二次冷卻裝置及二次冷卻方法。

列舉垂直彎曲型的連續鑄造設備為例並根據圖4來說明一般之連續鑄造鑄片的製造方法。

從鋼液分配器(tundish)(未圖示)注入至鑄模21後的熔融鋼，係在鑄模21進行一次冷卻，且成為已形成凝固殼(solidified shell)的平板狀之鑄片5並以平板狀往下落在垂直帶23且朝向彎曲帶27前進。然後在彎曲帶27之輸入側的彎曲部25中，鑄片5係以保持固定之曲率半徑的方式一邊以複數個輥子(未圖示)來導引且一邊予以彎曲。

之後，在矯正部29中一邊依次加大曲率半徑且一邊向後彎(矯正)，且剛離開矯正部29時鑄片5會再次成為平板狀並朝向水平帶31前進。在水平帶31完成凝固之後，鑄片5係藉由已設置於連續鑄造機輸出側的氣割機(gas cutting machine)33來切斷成既定的長度。

鑄片5係在離開鑄模21之後，為了從垂直帶23朝向水平帶31使凝固完成至中心部為止而實施使用了水噴霧(water spray)(水單流體噴霧或水-空氣雙流體混合噴霧(mist spray))的二次冷卻。

通常，二次冷卻係藉由在鑄模21正下方的垂直帶23中噴射大流量的水來實施強冷卻以確保殼的強度。在彎曲帶27以後反而減弱冷卻，且藉由來自內部之高溫部的熱傳導來使表面溫度上升(復熱)。然後在矯正部29中進行調整以使表面溫度成為脆化溫度區以上，且迴避橫向裂紋之產生。

開始連續鑄造之後直至鑄造速度達到最高速度為止的期間、或停止熔融鋼往鑄模注入且結束連續鑄造的期間，鑄造速度會大幅地變化。此時，必須將二次冷卻帶的冷卻條件配合鑄造速度的變化來加以控制。

在冷卻條件之控制非為適當的情況下，例如，若在垂直帶中成為冷卻過度，則通過矯正部時會產生因鋼的III區域脆化(從γ低溫區域至γ/α變態溫度區的鋼之脆化現象)所引起的表面裂紋(橫向裂紋)。

在鑄片之溫度過度降低的情況下，在連續鑄造機輸出側進行氣體切斷時會招致切斷不良與伴隨該切斷不良而來之鑄造速度調整等的問題。

另一方面，也有採取以下的方法：為了提升生產效率之目的使鑄造速度增加，在鑄片中心部未凝固的狀態下進行矯正，且在連續鑄造製程之最後階段的水平帶實施強冷卻，藉此使凝固完成。如此方法的適用可否會因鋼種而不同，為了防止冷卻之過度與不足而必須藉由鑄片之厚度或速度來控制強冷卻帶之範圍或冷卻水之水量。

如以上，在連續鑄造中之鑄片的二次冷卻中，係有必要使冷卻條件大幅地變化。作為與此對應的方法，例如在專利文獻1中，係有提出以下的技術：即便是在水量因藉由水與壓縮空氣所為之雙流體噴霧而大幅地變化的情況下，仍能獲得穩定的噴射狀態。

在專利文獻2中，係有提出以下的技術：以水單流體之冷卻，將獨立地控制壓力或流量後的雙系統之冷卻水導入至單一的噴射口，且按照冷卻條件使冷卻水之供應流量大幅地變化。

在專利文獻3中，係有提出以下的技術：因應水量區而分開使用水單流體噴霧與水空氣雙流體噴霧，藉此來使冷卻水之供應流量變化。

更且，在專利文獻4中，係有提出以下的技術：在輥子間設置二列的水單流體噴霧，且因應鑄造速度之變化以單方或雙方來切換噴射水的列並予以冷卻。 [先前技術文獻] [專利文獻]

專利文獻1：日本特開2016-7602號公報專利文獻2：日本特開平5-220550號公報專利文獻3：日本特開2004-58117號公報專利文獻4：日本特開昭52-128836號公報

[發明所欲解決之課題]

在專利文獻1的技術中，雖然能以單一的噴嘴(nozzle)在寬幅的冷卻水之水量範圍內獲得穩定的噴射分布，但是由於有必要使冷卻水之供應壓力大幅地變化，所以特別在大流量條件下壓力損失會變大。在此情況下，由於需要大量的壓縮空氣，所以有必要設置大容量的空氣壓縮機(compressor)且設備成本與營運成本會變大。

在專利文獻2的技術中，係不需要壓縮空氣，而是藉由供應壓力與流量不同之雙系統的冷卻水來擴展來自噴嘴的噴射水量之控制範圍。

在水單流體噴霧的情況下，雖然噴射水量係可以藉由水往噴嘴之供應壓力來控制，但是一般所知噴射水量係與壓力的平方根成正比。在加大調節比(turndown ratio)時係有必要加大壓力比。例如，為了實現40倍的調節比會使最小與最大的壓力比成為1600倍且超過泵浦(bump)的控制能力。

又，在降低供應壓力來減小水量的情況下會有水的噴射角度成為比設計值更小的危險。結果，有以下的問題：碰撞於冷卻面的水之流量分布會成為不均一且發生冷卻不均，且會發生藉由起因於表面溫度不均之熱應力所致的表面裂紋(縱向裂紋)。

另一方面，在專利文獻3的技術中，係與藉由僅在低流量區使用雙流體噴霧來抑制空氣之消耗量的專利文獻1同樣地在設備與營運成本上有問題。雖然藉由使用二種類的配管與噴嘴來抑制壓力損失且確保噴射分布之穩定性，但是必須將水雙系統與空氣單系統的配管配置於相同的輥子間之空間，且會增加連鑄機的設計負荷及製造成本。

在專利文獻4的技術中，雖然設計係藉由設成水單流體雙系統而簡化，但是由於在輥子間配置二列的噴霧器，所以要減小輥子間隔變得困難。無法減小輥子間隔，此將不利於鑄片寬度中央部因鑄片中心部之未凝固熔融鋼的靜壓而膨脹的鼓脹(bulging)之抑制，且會招致鑄片之內部品質不良。

如以上，有期望開發出以下的二次冷卻裝置及二次冷卻方法：不需要較大的設備投資或營運成本且具有較高的冷卻能力控制性，能對應鑄造速度之較大的變化而穩定地實現高速鑄造，進而獲得優異的表面性狀或內部品質。

於是，本發明係有鑑於上述的問題，其目的在於獲得一種抑制設備投資或營運成本，即便在設備限制之嚴峻的環境中仍能夠應用，且具有較高之冷卻能力控制性的鋼之連續鑄造中的二次冷卻裝置及方法。 [解決課題之手段]

(1)一種連續鑄造鑄片的二次冷卻裝置，係在連續鑄造機的二次冷卻帶中，以單流體水噴霧來冷卻藉由複數個導輥所支撐導引的鑄片之連續鑄造鑄片的二次冷卻裝置，其特徵為，具備：二種類以上之水霧噴嘴(water spray nozzle)，其流量特性不同；及複數個水供應線路(water supplyLine)，其是供應與各個水霧噴嘴之流量特性相應的流量之水；以及切換裝置，其是切換所使用的水供應線路；前述流量特性不同的二種類以上之水霧噴嘴，是在前述導輥間之間隙，具有在與前述導輥之旋轉軸平行的方向上排成一列所設置的冷卻區域。 (2)如(1)所述之連續鑄造鑄片的二次冷卻裝置，其中，前述水供應線路之數目，係與前述水霧噴嘴之種類相同數目。 (3)如(1)或(2)所述之連續鑄造鑄片的二次冷卻裝置，其中，前述二種類以上的水霧噴嘴之中，藉由噴射流量最多之噴霧噴嘴所噴射的水之水量密度，為藉由噴射流量最少之噴霧噴嘴所噴射的水之水量密度的20倍以上。 (4)如(1)至(3)中任一項所述之連續鑄造鑄片的二次冷卻裝置，其中，前述二種類以上的水霧噴嘴之中，藉由噴射流量最多之噴霧噴嘴所噴射的水之水量密度為500L/(m² ×min)以上且2000L/(m² ×min)以下，而藉由噴射流量最少之噴霧噴嘴所噴射的水之水量密度為50L/(m² ×min)以上且未滿500L/(m² ×min)。 (5)如(1)至(4)中任一項所述之連續鑄造鑄片的二次冷卻裝置，其中，在從鑄造方向上游側，以垂直帶、彎曲部、彎曲帶、矯正部、水平帶之順序所構成的前述連續鑄造機之二次冷卻帶中，前述冷卻區域，是在前述水平帶內設置有一個區域以上。 (6)一種連續鑄造鑄片的二次冷卻方法，係使用(5)所述之連續鑄造鑄片的二次冷卻裝置來對鑄片進行二次冷卻之連續鑄造鑄片的冷卻方法，其特徵為：將前述水平帶中的鑄造方向上游側區間作為強水冷區間，該強水冷區間是以所噴射的水在鑄片表面成為核狀沸騰狀態的條件下來噴射水而將鑄片冷卻；且將在比前述強水冷區間還靠鑄造方向下游側到達前述水平帶末端為止的區間作為，該弱水冷區間是使水量密度比前述強水冷區間更低，且將鑄片表面上的冷卻液之沸騰狀態維持於核狀沸騰。 [發明效果]

在本發明中，係具備：二種類以上之水霧噴嘴，其流量特性不同；及複數個水供應線路，其是供應與各個水霧噴嘴之流量特性相應的流量之水；以及切換裝置，其是切換所使用的水供應線路；流量特性不同的二種類以上之水霧噴嘴是導輥(guide roller)間之間隙，在與該導輥之旋轉軸平行的方向上排成一列所設置，藉此不用加大導輥間之間隙，而具有較高的冷卻能力控制性，即便是在鑄造速度已變化的情況下仍不會招致品質降低或問題，可以穩定地製造鑄片。

[實施形態1]

圖1係說明本發明之實施形態的二次冷卻裝置之主要部分的說明圖。圖2係說明本發明之實施形態的二次冷卻裝置中的水霧噴嘴之配置及噴射模式的說明圖。

如圖1、圖2所示，本實施形態之連續鑄造鑄片的二次冷卻裝置1，係在連續鑄造機的二次冷卻帶中，以單流體水噴霧來冷卻藉由複數個導輥3所支撐、導引的鑄片5。二次冷卻裝置1，係具備：二種類以上(本實施形態中為四種類)之水霧噴嘴7A、7B、7C、7D，其作為流量特性的噴射流量不同；及複數個(本實施形態中為與水霧噴嘴7之種類相同數目的四個)之水供應線路9a、9b、9c、9d，其是供應與各個水霧噴嘴7之流量特性相應的流量之水；以及作為切換裝置的第一切換閥11、第二切換閥13、第三切換閥15之三個，其是切換所使用的水供應線路9。水霧噴嘴7A、7B、7C、7D是在導輥3間之間隙，在與導輥3平行的方向上排成一列所設置並構成冷卻區域。

導輥3，係上下包夾鑄片5而旋轉，藉此對鑄片5提供往鑄造方向之拔出力。在一個區段(segment)以既定之間隔配設有複數個導輥3。在鑄造方向鄰接的導輥3間，係設置有既定的間隙，且在該間隙設置有水霧噴嘴7。雖然也會取決於設備的規模，但是例如在水平帶上，係朝向鑄造方向以既定之間隔配設有接近100個的導輥3，複數個(例如10支)導輥3係構成作為一個區段並能夠作為一個單元來進行流量控制。在水平帶，例如是設置有10個區段。

如圖2所示，四種類的水霧噴嘴7A、7B、7C、7D(水霧噴嘴群)，係在導輥3之間隙，在與導輥3之旋轉軸平行的方向上排成一列所設置。將藉由此等水霧噴嘴群所冷卻的區域稱為冷卻區域。在水平帶，係設置有一個區域以上的該冷卻區域。在圖1、圖2中，水霧噴嘴7A是圖示有二個，水霧噴嘴7B是圖示有三個，水霧噴嘴7C是圖示有二個，水霧噴嘴7D是圖示有四個。然而，此等的個數並非全部顯示所設置的噴嘴數，而是省略一部分，實際上，即便是水霧噴嘴7之哪個已被選擇的情況下，仍以可以覆蓋鑄片5的寬度方向之全寬的方式來設定各個水霧噴嘴7之數目。

在本實施形態中，由於是將流量特性不同之複數種類的水霧噴嘴7配置成一列，所以配置於鑄片5之寬度方向的位置會依每一種類而不同。如圖2所示，即便在不同配置之哪個種類的水霧噴嘴7已被選擇的情況下仍以可以在鑄片5之寬度方向無間隙地覆蓋的方式，使水霧噴嘴7之噴射角度不同。

使用的水霧噴嘴7，較佳是使用所噴射的水會擴展成扇形或是全圓錐形或全角錐形，且被冷卻面(由二支導輥3所包夾的鑄片之上下表面)的水量密度分布之均一性較高的噴嘴。因此，為了可以對水霧噴嘴7之列所承受的被冷卻面均一地噴射冷卻水，從水霧噴嘴7所噴射的水，較佳是以不干涉到從其他之水霧噴嘴7所噴射的水之方式來調整各個水霧噴嘴7。例如，在使用了水擴展成扇形的水霧噴嘴7的情況下，較佳是以水霧噴嘴7之噴射面不排列於直線上的方式調整噴射方向。例如，在使用了所噴射的水成為全圓錐形或全角錐形的水霧噴嘴7的情況下，較佳是以從水霧噴嘴7所噴射的水與從其他之水霧噴嘴7所噴射的水之干涉成為最小的方式，來調整各個水霧噴嘴7之配置間隔。

圖3係說明本發明之實施形態的二次冷卻裝置中的水量密度之控制範圍的圖表。使用圖3來說明四種類的水霧噴嘴7之每一種類的流量特性。圖3的縱軸為水量密度(L/(m² ×min))，橫軸為供應壓力(MPa)。所謂水量密度，係指水霧噴嘴7之列所承受的被冷卻面之面積(m² )除以從水霧噴嘴7之列所噴射的水之總水量(L/min)而算出的值。

若假設水霧噴嘴7之每一種類、例如水霧噴嘴7A設置有三個，則圖3所示的水量密度就為三個的平均之水量密度。水霧噴嘴7A、7B、7C、7D之水量密度，係在供應壓力0.1至0.5(MPa)之範圍內，分別為A：50至150 (L/(m² ×min))、B：150至370(L/(m² ×min))、C：370至880 (L/(m² ×min))、D：880至2000(L/(m² ×min))。

從而，在選擇水霧噴嘴7A並將供應壓力設為0.1(MPa)的情況下係成為最小的水量密度50(L/(m² ×min))，在選擇水霧噴嘴7D並將供應壓力設為0.5(MPa)的情況下係成為最大的水量密度2000(L/(m² ×min))。亦即，本實施形態的水霧噴嘴7，其壓力比為5倍且可以將調節比設成40倍。

水供應線路9，係為了供應與水霧噴嘴7A、7B、7C、7D之四種類的流量特性相應的流量之水，而在本實施形態中設置有四種類。

例如，對水霧噴嘴7A供應水的水供應線路9a，係具備：頭部9a1，其是直接或間接地連接於主供應線路17；以及複數個分歧管9a2，其基端連接於頭部9a1且在前端連接有水霧噴嘴7A。然後，頭部9a1及各個分歧管9a2係按照水霧噴嘴7A之流量特性而設定頭部9a1之容量及分歧管9a2之直徑。有關對水霧噴嘴7B、7C、7D供應水的水供應線路9b、9c、9d也為同樣。

在對各個水供應線路9供應水的主供應線路17係連接有未圖示的供應泵。通常，從供應泵，係以能夠針對水霧噴嘴7A、7B、7C、7D之四種類，分別以能夠噴射最大流量的壓力以上之固定壓力來供應冷卻水。然後，控制已設置於對水霧噴嘴7A、7B、7C、7D供應水的水供應線路9a、9b、9c、9d內的閥之開啟度來變更供應至各個水霧噴嘴7的冷卻水之壓力。也可藉由變更供應泵之吐出壓力，來變更供應水之壓力。

由於所需要的供應壓力是依所選出的水霧噴嘴7之種類、與所需要的水量密度而不同，所以可以藉由已將之設置於水供應線路9a、9b、9c、9d內的閥之開啟度控制、或供應泵之驅動控制來變更。

第一切換閥11至第三切換閥15，係指切換使水流動至哪個水供應線路9的閥，且藉由四通閥所構成。藉由以四通閥來構成，就可以以僅對一個水供應線路9供應水，而不對其他之三個水供應線路9供應水的方式來切換流路。

在如上述所構成的本實施形態中，已配置於導輥3之各個間隙的水霧噴嘴7A、7B、7C、7D，係按照冷卻條件、亦即所需要的水量密度，而選擇一種類，且從供應泵經由水供應線路9a、9b、9c、9d供應有與所選出的水霧噴嘴7相應的流量之水。

例如，在所需要的水量密度為50(L/(m² ×min))的情況下，0.1(MPa)之壓力的冷卻水會供應至水供應線路9a，且從水霧噴嘴7A吐出。冷卻水係從供應泵以吐出壓力0.5(MPa)供應至水供應線路9a，且進行縮小已設置於水供應線路9a內的閥(未圖示)之開啟度的控制，減壓至0.1(MPa)並供應至水霧噴嘴7A。第一切換閥11至第三切換閥15之操作，係以手動或自動來進行。在以自動來進行的情況下，係只要藉由未圖示的控制部之控制信號，使未圖示的致動器(actuator)作動，並按照鑄造速度來操作第一切換閥11至第三切換閥15即可。

依據本實施形態，即便鑄造速度變化，仍可以藉由將從弱冷條件至強冷條件，如圖3之供應壓力與水量密度的關係所示地對水霧噴嘴7A至7D進行切換，來一邊將壓力比抑制在5倍且一邊實現調節比40倍。藉此，就不需要較大的設備投資或營運成本，而能穩定地實現高速鑄造，進而獲得鑄片5之優異的表面性狀或內部品質。

在上述的說明中，雖然已針對設置於導輥3與導輥3之一個間隙的水霧噴嘴7A至7D及水供應線路9a至9d之構成加以說明，但是為了有效率地進行連續鑄造機之整備，各個區段的設計較佳為共通。為此，被要求一種可以以同一構成控制在較寬之水量密度範圍的二次冷卻裝置，換句話說，能夠控制冷卻水之水量密度的最小值與最大值之比(調節比)較大的二次冷卻裝置。

於是，例如，較佳是針對構成水平帶的全部之區段設成共通的規格，即便是在哪個區段仍可以以較大的調節比進行冷卻，且即便是在鑄造方向之哪個位置，仍可以同樣地進行冷卻控制。

通過發明人的檢討明白能夠與如上述之寬幅的冷卻條件對應的調節比較佳是20倍以上(50至1000(L/(m² ×min))，更佳是40倍左右(50至2000(L/(m² ×min))。 [實施形態2] 其次，針對使用了在上述之實施形態1所說明的二次冷卻裝置1的二次冷卻方法加以說明。

雖然藉由使用在實施形態1所說明的二次冷卻裝置1，即便在鑄造速度變化的情況下，仍可以實現較佳的二次冷卻方法，但是可以藉由使用二次冷卻裝置1來更進一步一邊減低冷卻水量同時一邊提高鑄造速度。以下針對此點加以說明。

如在先前技術所說明，鑄片5係在離開鑄模之後，為了從垂直帶23朝向水平帶31使凝固完成至中心部為止而實施使用了水噴霧(水單流體噴霧或水-空氣雙流體混合噴霧)的二次冷卻。二次冷卻係從鑄模正下方進入彎曲帶27為止的垂直帶23中噴射大流量的水來實施強冷卻，藉此確保殼的強度。在彎曲帶27以後反而減弱冷卻，且藉由來自內部之高溫部的熱傳導來使表面溫度上升(復熱)。然後在矯正部中進行調整以使表面溫度成為脆化溫度區以上，且迴避橫向裂紋之產生。

另一方面，有關中心部當為了提升生產性而提高鑄造速度時就會在未凝固的狀態下通過矯正部29。因此，在更進一步增加鑄造速度時，為了在水平帶使之確實地凝固而有必要使水平帶31前段的水量增加並以強冷卻條件來冷卻。

特別是，為了實現穩定後的強冷卻條件而較佳是在鑄片5之表面使冷卻水處於核狀沸騰狀態。在此，所謂核狀沸騰，係指氣泡以發泡點為核心來產生，且冷卻液可以從冷卻對象奪走非常高的熱之沸騰狀態。將未到達核狀沸騰的沸騰狀態稱為膜沸騰。膜沸騰，係指在冷卻液與冷卻對象之邊界產生蒸氣的膜，該蒸氣的膜會成為絕熱層，而冷卻液可以從冷卻對象奪走的熱量較小的沸騰狀態。

發明人係檢討了鑄片5進入強冷卻帶並迅速地實現核狀沸騰狀態用的水量密度，結果明白需要500L/(m² ×min)以上。也明白在核狀沸騰狀態下因冷卻能力之流量依存性會變小，故而沒有必要過度地加大冷卻水之供應能力，而只要設為水量密度2000L/(m² ×min)以下即可。

更且，只要能以大流量之冷卻水暫時實現核狀沸騰狀態且使鑄片表面溫度降低，則即便不噴射大量的冷卻水仍可以維持核狀沸騰。為此，在連續鑄造機整體可以使用的冷卻水之總量上有限制等的情況下，也可將強冷卻帶之後段的水量密度縮減水量成未滿500L/(m² ×min)。但是，發明人等的檢討結果，也明白只要水量密度不是50L/(m² ×min)以上就無法穩定地維持核狀沸騰狀態。

如此，在水平帶31中於其前段上以大流量進行核狀沸騰狀態下的強冷卻，於後段進行維持核狀沸騰的程度之小流量的強冷卻，藉此就可以一邊減低冷卻水量且一邊增大鑄造速度。

亦即，本實施形態之連續鑄造鑄片的二次冷卻方法，係指在從鑄造方向上游側，以垂直帶23、彎曲部25、彎曲帶27、矯正部29、水平帶31的順序所構成之連續鑄造機的二次冷卻帶中，使用實施形態1所記載之連續鑄造鑄片的二次冷卻裝置1來對鑄片5進行二次冷卻之連續鑄造鑄片的冷卻方法。二次冷卻帶之水平帶31中的鑄造方向上游側區間，係指以所噴射的冷卻水在鑄片表面成為核狀沸騰狀態之條件下來噴射冷卻水而將鑄片5冷卻的強水冷區間，且比該強水冷區間更靠鑄造方向下游側且到達水平帶31之末端為止的區間，係指使冷卻水之水量密度降低，且將鑄片表面上的冷卻液之沸騰狀態維持於核狀沸騰的弱水冷區間。藉由如此地設定強水冷區間及弱水冷區間，就可以一邊減低冷卻水量同時一邊提高鑄造速度。

作為實現核狀沸騰的強水冷區間，只要在水平帶31之最上游部有一個可以個別地控制水量密度之最小的水量控制區間即可。核狀沸騰若實現，則在其以後的區間，只要以用以維持核狀沸騰之最小限的水量密度來冷卻即可，藉此可以穩定地進行藉由核狀沸騰所致的冷卻。

當冷卻水接觸到鑄片表面而沸騰時，就會氣化並成為水蒸氣。可觀察到該水蒸氣在空氣中凝結後的熱氣(水霧)。在此，在核狀沸騰狀態下，由於已接觸到鑄片表面的冷卻水會劇烈地發泡，並產生大量的水蒸氣，所以水霧的產生量會變多。相對於此，在膜沸騰狀態下，由於沸騰的冷卻水之發泡較少，所以水蒸氣及水霧之產生量也變少。

於是，在各個區間設置攝影機(camera)，且利用藉由目視所為的觀測或藉由透射計(transmissometer)所為的計測來監視水霧之產生量。事先藉由實驗來求出區別核狀沸騰與膜沸騰的水煙之產生量的臨限值，且確認該水霧之產生量是否超過臨限值，藉此可以確認核狀沸騰狀態是否可以在既定之區間達成。然後，在核狀沸騰狀態無法達成的情況下進行調整以便增加冷卻水之水量。藉此，可以確實地達成及維持核狀沸騰狀態。

在包含沸騰在內的對流熱傳遞中，流體溫度與固體溫度係在兩者接觸之點局部性地成為相等。由於液體狀態之水的溫度係在大氣壓下只會上升至沸點為止，所以可認為只要核狀沸騰實現，鑄片之表面溫度也會成為約100℃。因此，使用具有小型之探針(probe)的接觸式之溫度計來測量鑄片表面與周圍的冷卻水之溫度，且確認該溫度在100℃附近呈穩定狀態，藉此就可以確認核狀沸騰狀態是否可以達成。然後，在核狀沸騰狀態無法達成的情況下進行調整以便增加冷卻水之水量。藉此，可以確實地達成及維持核狀沸騰狀態。

藉由使構成水平帶31的各個區段之設計共通，就可以以同一構成來控制在較寬的噴射水量範圍，且可以更進一步有效率地進行連續鑄造機之整備。

因強水冷區間之範圍，係因鑄片厚度或鋼種而不同，故而較佳是可以在鑄造方向、亦即鑄片5之長邊方向柔軟地進行變更。

為此，如已在實施形態1所說明，取較大之調節比的二次冷卻裝置1，較佳是設置於構成水平帶31的全部之區段。 [實施例]

說明使用將實施形態1的二次冷卻裝置1(參照圖1、圖2)設置於水平帶31的垂直彎曲型之連續鑄造機(參照圖4)來製造鑄片5，並確認了本發明之功效的實施例。

雖然水霧噴嘴7，係設成使用四種類的設計，但是在一部分的實施例中係限定所使用的噴嘴種類。連續鑄造機的機長為45m，機端係設置有測量鑄片表面之溫度分布的溫度計與氣割機33。

使冷卻條件或鑄造速度、平板厚度(slab thickness)變化來製造鑄片5，且評估了冷卻中的溫度不均或鑄造後的表面性狀或內部缺陷、製造成本。

將製造條件與評估顯示於下述的表1。表中，將本發明例之範圍的作為實施例1至5，將脫離發明範圍的作為比較例1至7。

在一部分的比較例中藉由事前之數值分析所為的檢討之結果，實際上會根據成本的問題而不製作設備，且不進行製造。

在比較例1及實施例1、2中，係將235mm厚度的鑄片5分別以先前技術的條件與應用了本發明之技術的條件來製造。

在比較例1中係設定了：以單流體噴霧來冷卻，且為了鑄造速度高速化而途中以大流量條件進行冷卻的區間。將設定水量密度之最小值設為10L/(m² ×min)，將最大值設為100L/(m² ×min)並將目標調節比設為10倍。

然而，在該比較例1中，冷卻水之供應壓力會變成100倍且因壓損而無法實現如同目標的調節。為此，鑄造速度之最高值係被限制在1.8mpm。在大流量條件下噴霧器之冷卻模式會成為不均一，且會因冷卻而在鑄片表面產生溫度不均。結果，在表面產生不均一的熱應力，並在鑄造後檢查表面時確認出表面裂紋。

另一方面，在實施例1中係應用本發明之技術，並使用二種類的水霧噴嘴及水供應線路9，而可以以水之供應壓力比5倍來穩定地實現調節比20倍(最小50L/(m² ×min)至最大1000L/(m² ×min))。藉由穩定地實現比使用先前技術來製造的情況更大流量之強冷卻條件，就可以將鑄造速度之上限從1.8mpm提高至2.7mpm為止。在製造後檢查時並未看到裂紋等的缺陷。此外，因是單流體噴霧，故而不需要空氣壓縮機而可以抑制設備之導入成本、營運成本。

在實施例2中，係使用四種類的噴嘴及配管，且可以以水之供應壓力比5倍來穩定地實現調節比40倍(最小50L/(m² ×min)至最大2000L/(m² ×min))。藉由穩定地實現比使用先前技術來製造的情況更大流量之強冷卻條件，就可以將鑄造速度之上限從1.8mpm更進一步提高至3.0mpm為止。在製造後檢查時並未看到裂紋等的缺陷。

比較例2、3及實施例3、4係分別以與比較例1及實施例2同樣的冷卻條件將平板厚度變更成200mm與260mm之例。

在已將平板厚度從235mm減薄至200mm的情況下，雖然可以提升鑄造速度，但是在比較例2中係與比較例1同樣地因冷卻不均而產生了表面裂紋。另一方面，在實施形態3中係不產生缺陷，鑄造速度也成為最高3.3mpm，可以比比較例2之最高2.3mpm更增速。

在已將平板厚度從235mm加厚至260mm的情況下，最高鑄造速度會受到限制，而且在比較例3中會與比較例1同樣地因冷卻不均而產生了表面裂紋。

另一方面，在實施例4中最高鑄造速度係成為2.8mpm，能夠比比較例3之最高1.3mpm更高速地進行鑄造，且可以不產生缺陷地進行製造。

比較例4係使用了一種類之雙流體噴霧的情況之檢討結果。在噴嘴之能力評估的階段中，已明白可以以冷卻水之供應壓力比30倍來實現調節比成為20倍(最小10L/(m² ×min)至最大200L/(m² ×min))，且與比較例1至3相較可以以較小的壓力比來實現高調節。

但是，由於有需要供應高壓、大流量的壓縮空氣，且空氣壓縮機之導入成本與運用中的能量成本會成為比僅使用了單流體噴霧的實施例1等更大，所以延緩了設備導入。

另一方面，比較例5為切換單流體噴霧與雙流體噴霧來使用的方法，雖然可以以比比較例4更低的壓力比(5倍)來實現較高的調節比(20倍)，但是在此情況下由於在成本方面仍比實施例還差所以延緩了設備導入。

比較例6係使用二種類之單流體噴嘴並以壓力比5倍來實現調節比20倍(最小50L/(m² ×min)至最大1000L/(m² ×min))之例。在此例中，係擴展導輥之間隔，且與輥子平行地配置二列之二種類的噴嘴。僅在二次冷卻帶之內求得高調節比的一部分之區段導入該冷卻裝置並進行了實驗。雖然水量密度之範圍與調節比係與實施例1相等，但是以二列來配置噴霧噴嘴的結果，輥子間隔會變寬且鼓脹量會變大。因此，在檢查鑄造後的鑄片5時可看到內部裂紋，且中心偏析的程度也惡化了。

實施例5係使用二種類之單流體噴嘴並以壓力比2倍來將調節比設為40倍(最小50L/(m² ×min)至最大2000L/(m² ×min))之例。但是，在此例中，由於是將冷卻能力之控制範圍限定在弱冷卻與強冷卻之二個水準，所以可以藉由縮小各個水霧噴嘴之流量控制範圍來將供應壓力比從5倍更縮小至2倍。

另一方面，冷卻裝置整體的流量之控制範圍係成為斷斷續續的。在此例中，與實施例1或實施例2相較，雖然冷卻能力相對於鑄造速度之變動的控制性較差，但是能夠進行同程度的高速鑄造，且在製造後的鑄片5上也看不到缺陷。

實施例6係使用二種類之單流體噴霧噴嘴並以壓力比2倍來將調節比設為11倍(最小50L/(m² ×min)至最大550L/(m² ×min))之例。

在此例中，由於是將最大之水量密度縮小在可以維持核狀沸騰的範圍，所以鑄造速度之上限會成為2.5mpm，且與平板厚度相同之235mm的實施例1、2及5相較，鑄造速度上升量已變少。沒有操作上的問題，且在製造後的鑄片5上也看不到缺陷。

實施例7係使用二種類之單流體噴霧噴嘴並以壓力比5倍來將調節比設為5倍(最小400L/(m² ×min)至最大2000L/(m² ×min))之例。

在此例中，由於是加大了最小之水量密度，所以鑄片之冷卻較快，鑄造速度之上限係成為3.0mpm，且在比弱水冷區間更靠基端側停止了冷卻水之噴射。沒有操作上的問題，且在製造後的鑄片5上也看不到缺陷。

實施例8係使用二種類之單流體噴霧噴嘴並以壓力比5倍來將調節比設為20倍(最小45L/(m² ×min)至最大900L/(m² ×min))之例。在此例中，由於是減小了最小之水量密度，所以無法迅速地實現核狀沸騰，且在鑄片之寬度方向產生了溫度偏差。因此，雖然在鑄片上產生了輕微的表面裂紋但是鑄造速度之上限已成為2.6mpm。

如以上，已實證藉由使用可以取較大之調節比的二次冷卻裝置1，二次冷卻相對於鑄造速度之變動的控制性就會變高，且雖然加大鑄造速度卻可以實現高品質的鑄片5之製造。雖然在上述實施例中已顯示將本發明應用於水平帶31之例，但是也可應用於比水平帶31更上游側的其他之冷卻帶，也可橫跨應用於複數個冷卻帶。

1:二次冷卻裝置 3:導輥 5:鑄片 7A~7D:水霧噴嘴 9a~9d:水供應線路 9a1~9d1:頭部 9a2~9d2:分歧管 11:第一切換閥 13:第二切換閥 15:第三切換閥 17:主供應線路 21:鑄模 23:垂直帶 25:彎曲部 27:彎曲帶 29:矯正部 31:水平帶 33:氣割機

[圖1]係說明本發明之實施形態的二次冷卻裝置之主要部分的說明圖。 [圖2]係說明本發明之實施形態的二次冷卻裝置中的水霧噴嘴之配置及噴射模式的說明圖。 [圖3]係說明本發明之實施形態的二次冷卻裝置中的水量密度之控制範圍的圖表。 [圖4]係說明一般的連續鑄造設備之概要的說明圖。

1:二次冷卻裝置

5:鑄片

7A~7D:水霧噴嘴

9a~9d:水供應線路

9a1~9d1:頭部

9a2~9d2:分歧管

11:第一切換閥

13:第二切換閥

15:第三切換閥

17:主供應線路

Claims

一種連續鑄造鑄片的二次冷卻裝置，係在連續鑄造機的二次冷卻帶中，以單流體水噴霧來冷卻藉由複數個導輥所支撐導引的鑄片之連續鑄造鑄片的二次冷卻裝置，其特徵為，具備：二種類以上之水霧噴嘴，其流量特性不同；及複數個水供應線路，其是供應與從各個水霧噴嘴所噴射的水之流量特性相應的流量之水，該流量特性，是從在鑄片表面成為核狀沸騰狀態的條件下將鑄片冷卻的強冷卻條件至使水量密度比前述強冷卻條件更低且將鑄片表面上的冷卻液之沸騰狀態維持於核狀沸騰的弱冷卻條件為止；以及切換裝置，其是切換所使用的水供應線路；前述流量特性不同的二種類以上之水霧噴嘴，是在前述導輥間之間隙，具有在與前述導輥之旋轉軸平行的方向上排成一列所設置的冷卻區域。
如請求項1之連續鑄造鑄片的二次冷卻裝置，其中，前述水供應線路之數目，係與前述水霧噴嘴之種類相同數目。
如請求項1或2之連續鑄造鑄片的二次冷卻裝置，其中，前述二種類以上的水霧噴嘴之中，藉由噴射流量最多之噴霧噴嘴所噴射的水之水量密度，為藉由噴射流量最少之噴霧噴嘴所噴射的水之水量密度的20倍以上。
如請求項1或2之連續鑄造鑄片的二次冷卻裝置，其中，前述二種類以上的水霧噴嘴之中，藉由噴射流量最多之噴霧噴嘴所噴射的水之水量密度為500L/(m²×min)以上且2000L/(m²×min)以下，而藉由噴射流量最少之噴霧噴嘴所噴射的水之水量密度為50L/(m²×min)以上且未滿500L/(m²×min)。
如請求項1或2之連續鑄造鑄片的二次冷卻裝置，其中，在從鑄造方向上游側，以垂直帶、彎曲部、彎曲帶、矯正部、水平帶之順序所構成的前述連續鑄造機之二次冷卻帶中，前述冷卻區域，是在前述水平帶內設置有一個區域以上。
一種連續鑄造鑄片的二次冷卻方法，係使用請求項5所述之連續鑄造鑄片的二次冷卻裝置來對鑄片進行二次冷卻之連續鑄造鑄片的冷卻方法，其特徵為：將前述水平帶中的鑄造方向上游側區間作為強水冷區間，該強水冷區間是以所噴射的水在鑄片表面成為核狀沸騰狀態的條件下來噴射水而將鑄片冷卻；且將在比前述強水冷區間還靠鑄造方向下游側到前述水平帶末端為止的區間作為弱水冷區間，該弱水冷區間是使水量密度比前述強水冷區間更低，且將鑄片表面上的冷卻液之沸騰狀態維持於核狀沸騰。