KR870007451A - 마이크로겔을 함유하는 광감성 조성물, 물품 및 광감성 필름을 기질에 적충시키는 방법 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (39)
- (a) 첨가중합 가능한 에틸렌적 불포화 단량체.(b) 화학 방사선에 의해 활성화되는 개시계,(c) 선형성된 거대분다 중합체 결합제 및(d) 마이크로겔로 구성되며, 여기에서 광감성 조성물이 고체이고(i) 중합체 결합제와 마이크로겔이 유안으로 보았을 때 실질적으로 하나의 상을 형성하거나(ii) 중합체 결합제와 마이크로겔이 50℃ 이상으로 차이나지 않는 유리 전이도를 가지고 마이크로겔이 약 25℃ 이상의 유리 전이온도를 갖는 것 중 적어도 하나의 성질이 존재하는 광감성 조성물.
- 제1항에 있어서, 성질 (i)과 (ii)가 존재하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 실질적으로 하나의 상이 존재하고 10배 확대 후에 관찰가능한 조성물.
- 제2항에 있어서, 실질적으로 하나의 상이 존재하고 100배 확대 후에 관찰가능한 조성물.
- 제1항에 있어서, 종합체 결합제와 마이크로겔의 유리전이도가 25℃ 이상으로 차이나지 않는 조성물.
- 제1항에 있어서, 마이크로겔이 다음중 적어도 하나의 용매내에서 적어도 10% 팽윤하는 조성물 : n-헵탄, 사염화탄소, 톨루엔, 염화메틸렌, 에틸아세테이트, 아세톤, 아세토니트릴, 아세트산, 디메틸설폭사이드, 디메틸포름아미드, 포름아미드, 물, 중량 10%까지의 암모니아를 함유하는 수산화암모늄수용액, 중량 10%까지의 수산화 칼륨을 함유하는 수산화칼륨 수용액, 중량 92% 염화메틸렌과 8% 메탄올을 함유하는 염화메틸렌-메탄올 용액 및 중량 1%의 탄산나트륨을 함유하는 탄산나트륨 수용액.
- 제6항에 있어서, 마이크로겔이 적어도 하나의 용매내에서 적오도 50% 팽윤하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 적어도 20매가포아스의 크리이프 점도를 갖는 조성물.
- 제8항에 있어서, 적어도 40매가포아스의 크리이프 점도를 갖는 조성물.
- 광감성 조성물이(a) 첨가 중합가능한 에틸렌적 불포화 단량체,(b) 화학 방사선에 의해 활성화되는 개시계,(c) 선형성된 거대분자 중합체 결합제 및(d) 마이크로겔로 구성되며, 여기에서 광감성 조성물이 고체이고(ⅰ) 중합체 결합제와 마이크로겔이 육안으로 보았을 대 실질적으로 하나의 상을 형성하거나(ⅱ) 중합체 결합제와 마이크로겔이 50℃ 이상으로 차이나지 않는 유리전이온도를 가지고 마이크로겔이 약 25℃ 이상의 유리전이온도를 갖는 것 중 적어도 하나의 성질이 존재하는, 물품이 로울에 감겨지고 유연성 필름에 의해 지지되는 저장안정성 광감성 조성물로 구성되는 물품.
- 제10항에 있어서, 성질 (ⅰ)과 (ⅱ)가 존재하는 물품.
- 제10항에 있어서, 실질적으로 하나의 상이 존재하고 10배 확대 후에 관찰가능한 물품.
- 제12항에 있어서, 실질적으로 하나의 상이 존재하고 100배 확대 후에 관찰가능한 물품.
- 제10항에 있어서, 중합체 결합제와 마이크로겔의 유리전이온도가 25℃ 이상으로 차이나지 않는 물품.
- 제10항에 있어서, 마이크로겔이 다음중 적어도 하나의 용매내에서 적어도 10% 팽윤하는 물품 : n-헵탄, 사염화탄소, 틀루엔, 염화메틸렌, 에틸아세테이트, 아세톤, 아세토니트릴, 아세트산, 디메틸설폭사이드, 디메틸포름아마드, 포름아미드, 물, 중량 10%까지의 암모니아를 함유하는 수산화암모늄 수용액, 중량 10%까지의 수산화칼륨을 함유하는 수산화칼륨수용액, 중량 92% 염화메틸렌과 8% 메탄올을 함유하는 염화메틸렌-메탄올용액 및 중량 1%의 탄산나트륨을 함유하는 탄산나트륨 수용액.
- 제15항에 있어서, 마이크로겔이 적어도 하나의 용매내에서 적어도 50% 팽윤하는 물품.
- 제10항에 있어서, 적어도 20 메가포아스의 크리이프 점도를 갖는 물품.
- 제17항에 있어서, 적어도 40 메가포아스의 크리이프 점도를 갖는 물품.
- 광감성 조성물이(a) 첨가중합가능한 에틸렌적 불포화 단량체,(b) 화학 방사선에 의해 활성화되는 개시계 및(c) 마이크로겔로 구성되며, 여기에서 광감성 조성물이 고체이고 단, 광감성 조성물은 어떤한 선형성된 거대분자 중합체 결합제도 실질적으로 갖지 않는, 물품이 로울에 감겨지고 유연성 필름에 의해 지지되는 저장안정 광감성 조성물로 구성되는 물품.
- 제19항에 있어서, 마이크로겔이 다음중 적어도 하나의 용매내에서 적어도 10% 팽윤하는 물품 : n-헵탄, 사염화탄소, 톨루엔, 염화메틸렌, 에틸아세테이트, 아세톤, 아세토니트릴, 아세트산, 디메틸설폭사이드, 디메틸포름아미드, 포름아미드, 물, 중량 10%까지의 암모니아를 함유하는 수산화암모늄 수용액, 중량 10%까지의 수산화칼륨을 함유하는 수산화칼륨수용액, 중량 92% 염화메틸렌과 8% 메탄올을 함유하는 염화메틸렌-메탄올용액 및 중량 1%의 탄산나트륨을 함유하는 탄산나트륨 수용액.
- 제20항에 있어서, 마이크로겔이 적어도 하나의 용매 내에서 적어도 50% 팽윤하는 물품.
- 제19항에 있어서, 적어도 20메가포아스의 크리이프 점도를 갖는 물품.
- 제22항에 있어서, 적어도 40 메가포아스의 크리이프 점도를 갖는 물품.
- 광감성 필름이(a) 첨가중합 가능한 에틸렌적 불포화 단량체,(b) 화학 방사선에 의해 활성화되는 개시계,(c) 선형성된 거대분자 중합체 결합제 및(d) 마이크로겔을 함유하며,여기에서 광감성 조성물이 고체이고,(i) 중합체 결합제와 마이크로겔이 육안으로 보았을 때, 실질적으로 하나의 상을 형성하거나(ii) 중합체 결합체와 마이크로겔이 50℃ 이상으로 차이나지 않는 유리전이온도를 가지고 마이크로겔이 약 20℃ 이상의 유리전이온도를 갖는 것중 적어도 하나의 성질이 존재하는 것으로 구성되는 개선점을 갖는,(a) 지지된 고체 광감성 필름을 기질에 적층하고,(b) 모양이 생기도록 하는 방식으로 층을 화학방사선에 노출시키고,(c) 노출되지 않은 층의 부위를 제거하여 저지제 부위를 형성하고,(d) 저지제 부위에 의해 비보호된 기질의 부위를 기질의 부식에 의해 또는 물질을 기질위에 부착시키는 것에 의해 영구변형시키는 것으로 구성되는, 광감성 필름을 기질에 적층시키는 방법.
- 제24항에 있어서, (d)단계 후에 지지제 부위를 기질로부터 제거하는 방법.
- 제24항에 있어서, 성질(i)과 (ii)가 존재하는 방법
- 제26항에 있어서, 실질적으로 하나의 상이 존재하고 10배 확대 후에 관찰가능한 방법.
- 제27항에 있어서, 실질적으로 하나의 상이 존재하고 100배 확대 후에 관찰가능한 방법.
- 제26항에 있어서, 중합체 결합제와 마이크로겔의 유리전이온도가 25℃ 이상으로 차이나지 않는 방법.
- 제26항에 있어서, 마이크로겔이 다음중 적어도 하나의 용매내에서 적어도 10% 팽윤하는 방법 : n-헵탄, 사염화탄소, 톨루엔, 염화메틸렌, 에틸아세테이트, 아세톤, 아세토니트릴, 아세트산, 디메틸설폭사이드, 디메틸포름아미드, 포름아미드, 물, 중량 10%까지의 암모니아를 함유하는 수산화암모늄 수용액, 중량10%까지의 수산화칼륨을 함유하는 수산화칼륨수용액, 중량 92% 염화메틸렌과 8% 메탄올을 함유하는 염화메틸렌-메탄올용액 및 중량 1%의 탄산나트륨을 함유하는 탄산나트륨 수용액.
- 제30항에 있어서, 마이크로겔이 적어도 하나의 용매내에서 적어도 50% 팽윤하는 방법.
- 제26항에 있어서, 적어도 20메가포아스의 크리이프 점도를 갖는 방법.
- 제32항에 있어서, 적어도 40메가포아스의 크리이프 점도를 갖는 방법.
- 광감성 필름이(a) 첨가중합 가능한 에틸렌적 불포화 단량체,(b) 화학 방사선에 의해 활성화되는 개시계 및(c) 마이크로겔을 함유하며,여기에서 광감성 조성물이 고체이고 단, 광감성 조성물은 어떠한 선형성된 거대분자 중합체 결합제도 실질적으로 갖지 않는 것으로 구성되는 개선점을 갖는,(a) 지지된 고체 광감성 필름을 기질에 적층하고,(b) 모양이 생기도록 하는 방식으로 층을 화학 방사선에 노출시키고,(c) 노출되지 않은 층의 부위를 제거하여 저지제 부위를 형성하고,(d) 저지제 부위에 의해 비보호된 기질의 부위를 기질의 부식에 의해 또는 물질을 기질위에 부착시키는 것에 의해 영구변형시키는 것으로 구성되는, 광감성 조성물을 기질에 적층시키는 방법.
- 제34항에 있어서, (d)단계 후에 저지제 부위를 기질로부터 제거하는 방법.
- 제34항에 있어서, 마이크로겔이 다음중 적어도 하나의 용매내에서 적어도 10% 팽윤하는 방법 :n-헵탄, 사염화탄소, 톨루엔, 염화메틸렌, 에틸아세테이트, 아세톤, 아세토니트릴, 아세트산, 디메틸설폭사이드, 디메틸포름아미드, 포름아미드, 물, 중량 10%까지의 암모니아를 함유하는 수산화암모늄 수용액 및 중량 10%까지의 수산화칼륨을 함유하는 수산화칼륨 수용액 ,중량 92% 염화메틸렌과 8% 메탄올을 함유하는 염화메틸렌-메탄올 용액 및 중량 1%의 탄산나트륨을 함유하는 탄산나트륨 수용액.
- 제36항에 있어서, 마이크로겔이 적어도 하나의 용매내에서 적어도 50% 팽윤하는 방법.
- 제34항에 있어서, 적어도 20메가포아스의 크리이프 점도를 갖는 방법.
- 제38항에 있어서, 적어도 40메가포아스의 크리이프 점도를 갖는 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Families Citing this family (71)
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DE3706561A1 (de) * | 1987-02-28 | 1988-09-08 | Basf Ag | Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial mit erhoehter flexibilitaet |
JP2582089B2 (ja) * | 1987-09-23 | 1997-02-19 | 千秋 東 | 感光性ミクロゲル超微粒子 |
US5886101A (en) | 1988-03-02 | 1999-03-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Solvent dispersible interpenetrating polymer networks |
US5075192A (en) * | 1988-08-30 | 1991-12-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous processible photosensitive compositions containing core shell microgels |
US4956252A (en) * | 1988-08-30 | 1990-09-11 | E. I. Dupont De Nemours And Company | Aqueous processible photosensitive compositions containing core shell microgels |
US4894315A (en) * | 1988-08-30 | 1990-01-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for making flexographic printing plates with increased flexibility |
US5229434A (en) * | 1988-12-20 | 1993-07-20 | Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. | Process for the production of reactive microgel and resin composition containing the microgel |
US5002854A (en) * | 1989-04-21 | 1991-03-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Solid imaging method using compositions containing core-shell polymers |
EP0405582A3 (en) * | 1989-06-30 | 1992-07-08 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Method for making optically readable media containing embossed information |
US5279689A (en) * | 1989-06-30 | 1994-01-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for replicating holographic optical elements |
US5171655A (en) * | 1989-08-03 | 1992-12-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photohardenable light-sensitive composition |
US4970037A (en) * | 1989-10-31 | 1990-11-13 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for the manufacture of photosensitive materials having a low heat history |
DE3941446C1 (ko) * | 1989-12-15 | 1990-12-20 | Du Pont De Nemours (Deutschland) Gmbh, 6380 Bad Homburg, De | |
US5210001A (en) * | 1989-12-15 | 1993-05-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for the preparation of images on tonable, light-sensitive layers |
US5292622A (en) * | 1989-12-15 | 1994-03-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparation of images on tonable light-sensitive layers |
US5135837A (en) * | 1990-09-05 | 1992-08-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive elastomeric element having improved solvent resistance |
CA2061877A1 (en) * | 1991-02-28 | 1992-08-29 | Eugene G. Sommerfeld | Solvent dispersible interpenetrating polymer networks |
JPH04274428A (ja) * | 1991-03-01 | 1992-09-30 | Nippon Paint Co Ltd | オフセット印刷用感光性組成物 |
JP2629120B2 (ja) * | 1991-08-09 | 1997-07-09 | 東洋インキ製造株式会社 | 感光性樹脂組成物、その製造方法及びフレキソ印刷用原版 |
EP0556403A4 (en) * | 1991-08-09 | 1996-02-28 | Toyo Ink Mfg Co | Photosensitive resin composition, production thereof, and flexographic plate material |
WO1994023341A1 (en) * | 1993-03-31 | 1994-10-13 | Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. | Reactive microgel, photosensitive resin composition containing the same, and flexographic plate material |
US6210854B1 (en) | 1993-08-27 | 2001-04-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous developable flexographic printing plate |
US5798019A (en) | 1995-09-29 | 1998-08-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Methods and apparatus for forming cylindrical photosensitive elements |
US5721088A (en) * | 1995-12-20 | 1998-02-24 | Ppg Industries, Inc. | Electrodepositable photoimageable compositions with improved edge coverage |
US5811220A (en) * | 1996-10-10 | 1998-09-22 | Polaroid Corporation | On-press lithographic development methodology facilitated by the use of a disperse hydrophilic microgel |
KR100609364B1 (ko) * | 1997-03-25 | 2006-08-08 | 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 | 디스플레이 패널용 필드 이미터 캐소드 배면판 구조물, 그제조 방법, 및 그를 포함하는 디스플레이 패널 |
WO2000000546A1 (en) | 1998-06-29 | 2000-01-06 | Shell Internationale Research Maatschappij B.V. | Photo-curable polymer composition and flexographic printing plates containing the same |
US20060208621A1 (en) * | 1999-09-21 | 2006-09-21 | Amey Daniel I Jr | Field emitter cathode backplate structures for display panels |
US7183450B2 (en) * | 2002-07-22 | 2007-02-27 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Olefin oligomerization |
US7398812B2 (en) * | 2003-12-31 | 2008-07-15 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Apparatus for thermal development having a removable support member |
US7682775B2 (en) * | 2004-03-05 | 2010-03-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing a flexographic printing plate |
US8142987B2 (en) | 2004-04-10 | 2012-03-27 | Eastman Kodak Company | Method of producing a relief image for printing |
JP4342373B2 (ja) * | 2004-04-30 | 2009-10-14 | 東京応化工業株式会社 | 凸版印刷用感光性印刷原版、凸版印刷版の製造方法、および該製造方法用遮光インク |
JP2006003570A (ja) * | 2004-06-16 | 2006-01-05 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 印刷版製造用感光性組成物、並びに、これを用いた感光性印刷原版積層体および印刷版 |
US20060027113A1 (en) | 2004-08-03 | 2006-02-09 | Hackler Mark A | Method and apparatus for thermal development with supporting surface for a development medium |
US7503258B2 (en) | 2004-08-03 | 2009-03-17 | E. I. Du Pont De Nemours & Company | Method and apparatus for thermal development with development medium remover |
US20060154180A1 (en) | 2005-01-07 | 2006-07-13 | Kannurpatti Anandkumar R | Imaging element for use as a recording element and process of using the imaging element |
US20060234152A1 (en) | 2005-04-19 | 2006-10-19 | Hackler Mark A | Method for thermal development of a photosensitive element using an oriented development medium |
JP2007015147A (ja) * | 2005-07-05 | 2007-01-25 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 凸版印刷用感光性積層印刷原版の製造方法、凸版印刷用感光性積層印刷原版、および凸版印刷版の製造方法 |
US7358026B2 (en) * | 2005-09-15 | 2008-04-15 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for thermal development of a photosensitive element using a development medium having a support |
JP2007224093A (ja) * | 2006-02-21 | 2007-09-06 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 接着層形成用組成物、及びこれを用いた凸版印刷版、並びに凸版印刷版の製造方法 |
US7846639B2 (en) | 2006-06-30 | 2010-12-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Imaging element having a photoluminescent tag and process of using the imaging element to form a recording element |
DE602007013085D1 (de) | 2006-11-15 | 2011-04-21 | 3M Innovative Properties Co | Flexodruck mit härtung während der übertragung auf ein substrat |
WO2008060875A1 (en) * | 2006-11-15 | 2008-05-22 | 3M Innovative Properties Company | Solvent removal assisted material transfer for flexographic printing |
US7691550B2 (en) | 2007-06-20 | 2010-04-06 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Method for making a relief printing form |
EP2026132B1 (en) | 2007-08-16 | 2013-03-13 | E. I. Du Pont de Nemours and Company | Process for making a cylindrically-shaped photosensitive element for use as a printing form |
US8470518B2 (en) | 2007-09-14 | 2013-06-25 | E I Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive element having reinforcing particles and method for preparing a printing form from the element |
US8236479B2 (en) | 2008-01-23 | 2012-08-07 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method for printing a pattern on a substrate |
US8241835B2 (en) * | 2008-01-30 | 2012-08-14 | E I Du Pont De Nemours And Company | Device and method for preparing relief printing form |
EP2085820B1 (en) | 2008-01-30 | 2015-02-25 | E. I. du Pont de Nemours and Company | Apparatus and method for preparing relief printing form |
US9057958B2 (en) | 2008-03-31 | 2015-06-16 | E I Du Pont De Nemours And Company | Apparatus for thermal development with a conformable support |
US8492073B2 (en) * | 2008-03-31 | 2013-07-23 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method for thermal development with a conformable support |
EP2112556B1 (en) | 2008-03-31 | 2015-04-29 | E.I. Dupont De Nemours And Company | Method and apparatus for thermal development with a conformable support |
EP2154572B1 (en) | 2008-08-15 | 2017-05-03 | E. I. du Pont de Nemours and Company | Process for making a cylindrically-shaped photosensitive element for use as a printing form |
US8465904B2 (en) | 2008-10-31 | 2013-06-18 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method for preparing a printing form from a photopolymerizable element |
WO2011002967A1 (en) | 2009-07-02 | 2011-01-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for printing a material onto a substrate |
JP6133866B2 (ja) | 2011-08-26 | 2017-05-24 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニーE.I.Du Pont De Nemours And Company | 凸版印刷フォームの調製方法 |
US8895228B2 (en) | 2011-11-02 | 2014-11-25 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method for thermal treatment of relief surface for a relief printing form |
US8985020B2 (en) | 2011-11-02 | 2015-03-24 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method and apparatus for thermal treatment of printing surface in relief printing |
US9032877B2 (en) | 2011-11-02 | 2015-05-19 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method and an apparatus having a compressible collar for thermally treating a photosensitive precursor |
US20130139714A1 (en) | 2011-12-02 | 2013-06-06 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Method for making flexographic printing forms by welding edges of photosensitive elements with microwave energy |
US9134612B2 (en) | 2012-03-27 | 2015-09-15 | E I Du Pont De Nemours And Company | Printing form precursor having elastomeric cap layer and a method of preparing a printing form from the precursor |
US9097974B2 (en) | 2012-08-23 | 2015-08-04 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method for preparing a relief printing form |
EP3169372B1 (en) | 2014-07-17 | 2024-09-04 | The Regents of The University of California | Controllable self-annealing microgel particles for biomedical applications |
WO2016126801A1 (en) | 2015-02-04 | 2016-08-11 | E I Du Pont De Nemours And Company | Conductive paste composition and semiconductor devices made therewith |
US10591821B2 (en) | 2015-06-17 | 2020-03-17 | Agfa Nv | Flexographic printing precursor and magnetic development of the same |
US11931480B2 (en) | 2016-02-16 | 2024-03-19 | The Regents Of The University Of California | Microporous annealed particle gels and methods of use |
WO2018136205A1 (en) | 2016-12-29 | 2018-07-26 | Tempo Therapeutics, Inc. | Methods and systems for treating a site of a medical implant |
EP3354477A1 (en) | 2017-01-25 | 2018-08-01 | Anheuser-Busch Inbev Sa/Nv | Printing process for a beverage container |
US11822246B2 (en) | 2017-10-10 | 2023-11-21 | Flint Group Germany Gmbh | Relief precursor having low cupping and fluting |
CN115353849A (zh) * | 2022-08-05 | 2022-11-18 | Tcl华星光电技术有限公司 | 一种封装材料、显示面板及其封装方法 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3615448A (en) * | 1969-01-14 | 1971-10-26 | Grace W R & Co | Lithographic printing plate and method of preparation |
US3895082A (en) * | 1971-05-27 | 1975-07-15 | Du Pont | Polymer composition |
JPS603170B2 (ja) * | 1976-03-24 | 1985-01-26 | 三井東圧化学株式会社 | 凸版用感光性樹脂組成物 |
GB1591924A (en) * | 1976-10-25 | 1981-07-01 | Berger Jenson & Nicholson Ltd | Polymer aggregates |
JPS6037455B2 (ja) * | 1976-11-22 | 1985-08-26 | 三井東圧化学株式会社 | 感光性樹脂版材 |
US4125700A (en) * | 1977-03-22 | 1978-11-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Preparation of methyl methacrylate polymer powders for use in plastisols |
US4188223A (en) * | 1977-12-30 | 1980-02-12 | Monsanto Company | Amino-functional photopolymer compositions and photo-oxidation imaging processes employing same |
DE2849280A1 (de) * | 1978-11-14 | 1980-05-29 | Bayer Ag | Polymerisate aus viskosen dimethacrylaten in form von perlen |
US4294739A (en) * | 1979-04-26 | 1981-10-13 | Eastman Kodak Company | Antistatic compositions comprising crosslinkable latex binders |
JPS5626263A (en) * | 1979-08-10 | 1981-03-13 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Detecting system for extreme value of analog signal |
IL64757A0 (en) * | 1981-01-21 | 1982-03-31 | Dentsply Int Inc | Hardenable polymer compositions and production of shaped articles therefrom |
US4542088A (en) * | 1982-03-18 | 1985-09-17 | Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. | Photopolymerizable compositions and image-forming materials using said compositions |
DE3374450D1 (en) * | 1982-04-22 | 1987-12-17 | Du Pont | Photosensitive coatings containing crosslinked beads |
US4601970A (en) * | 1982-04-22 | 1986-07-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Dry photosensitive film containing crosslinked beads |
US4414278A (en) * | 1982-04-22 | 1983-11-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Crosslinked triacrylate polymer beads |
US4551415A (en) * | 1982-04-22 | 1985-11-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive coatings containing crosslinked beads |
US4518472A (en) * | 1982-09-10 | 1985-05-21 | Mitsubishi Rayon Company Ltd. | Delustering coating composition excellent in abrasion resistance |
JPS603170A (ja) * | 1983-06-21 | 1985-01-09 | Mitsubishi Electric Corp | 無声放電式ガスレ−ザ装置 |
-
1986
- 1986-01-22 US US06/821,330 patent/US4753865A/en not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-01-13 CA CA000527204A patent/CA1288538C/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-01-17 EP EP87100568A patent/EP0230936B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-01-17 DE DE8787100568T patent/DE3765643D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-01-20 BR BR8700222A patent/BR8700222A/pt unknown
- 1987-01-21 JP JP62010147A patent/JPH0711700B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1987-01-21 KR KR870000462A patent/KR870007451A/ko not_active Application Discontinuation
- 1987-01-22 CN CN87100720A patent/CN1016467B/zh not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0230936B1 (en) | 1990-10-24 |
CN1016467B (zh) | 1992-04-29 |
JPH0711700B2 (ja) | 1995-02-08 |
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