KR20230047163A - Reinforcing film, optical member and electronic member - Google Patents
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Abstract
피착체에 첩부한 초기에 있어서는 경박리성을 나타내고, 그 후, 점착력을 크게 상승시키는 것이 가능하고, 또한 굴곡 회복성 및 굴곡 유지력을 갖는 보강용 필름을 제공한다. 보강용 필름은 점착제층을 구비한다. 상기 점착제층은, 폴리머(A)와, 폴리머(B)를 포함한다. 상기 폴리머(B)는, 폴리오르가노실록산 골격을 갖는 모노머 단위와, (메트)아크릴계 모노머 단위를 포함한다. 또한, 상기 점착제층은, 23℃에서의 표면 탄성률이 1 내지 20㎪이다. 또한, 상기 폴리머(B)의 유리 전이 온도 TB가 -20℃ 내지 5℃이다.Provided is a reinforcing film that exhibits easy peelability in the initial stage of sticking to an adherend, can greatly increase the adhesive force thereafter, and has bending recovery and bending holding power. The reinforcing film includes an adhesive layer. The pressure-sensitive adhesive layer contains a polymer (A) and a polymer (B). The polymer (B) includes a monomer unit having a polyorganosiloxane backbone and a (meth)acrylic monomer unit. Further, the pressure-sensitive adhesive layer has a surface modulus of elasticity of 1 to 20 kPa at 23°C. In addition, the glass transition temperature T B of the polymer (B) is -20°C to 5°C.
Description
본 발명은, 보강용 필름, 그리고 해당 보강용 필름이 접착된 광학 부재 및 전자 부재에 관한 것이다. 본 출원은, 2020년 8월 6일에 출원된 일본 특허 출원 제2020-134188호에 기초하는 우선권을 주장하고 있고, 그 출원의 전체 내용은 본 명세서 중에 참조로서 포함되어 있다.The present invention relates to a reinforcing film and an optical member and an electronic member to which the reinforcing film is bonded. This application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2020-134188 filed on August 6, 2020, the entire content of the application is incorporated herein by reference.
점착제는, 점착 시트의 형태로, 피착체끼리의 접착이나, 피착체에 대한 물품의 고정 등의 목적으로, 휴대 전화, 스마트폰, 태블릿형 퍼스컴 등의 휴대 전자 기기 그 밖의 전자 기기 등의 각종 용도에 널리 사용되고 있다. 예를 들어, 상기 기기를 구성하는 광학 부재나 전자 부재 등에 강성이나 내충격성을 부여하는 보강재(보강용 필름)로서 점착 시트는 이용되고 있다. 이러한 종류의 종래 기술을 개시하는 문헌으로서 특허문헌 1 및 2를 들 수 있다.The adhesive is in the form of an adhesive sheet, for the purpose of bonding between adherends or fixing articles to adherends, various uses such as portable electronic devices such as mobile phones, smartphones, tablet personal computers, and other electronic devices is widely used in For example, an adhesive sheet is used as a reinforcing material (reinforcing film) that imparts rigidity and impact resistance to an optical member or an electronic member constituting the device.
또한, 근년, 꺾어 구부리거나 둥글게 하거나 할 수 있는 휴대 전자 기기가 주목받고 있고, 그와 같은 전자 기기에 내장되는 플렉시블 디바이스(전형적으로는, 유기 EL이나 액정 표시 장치 등의 화상 표시 장치)의 고정 등에 사용할 수 있는 점착 시트의 개발이 진행되고 있다(특허문헌 3 내지 6).In recent years, portable electronic devices that can be bent or rounded have been attracting attention, and flexible devices (typically, image display devices such as organic EL and liquid crystal displays) incorporated in such electronic devices are fixed, etc. Development of usable adhesive sheets is progressing (
한편, 점착제의 성능에 눈을 돌리면, 최근, 피착체에 대한 첩부 초기에는 낮은 점착력을 나타내고, 그 후, 점착력을 크게 상승시킬 수 있는 점착 시트가 제안되어 있다(특허문헌 7). 이와 같은 특성을 갖는 점착 시트에 의하면, 점착력의 상승 전에는 점착 시트의 부착 오류나 부착 손상에 의한 수율 저하의 억제에 유용한 재부착성(리워크성)을 발휘하고, 또한 점착력의 상승 후에는 점착 시트의 본래 사용 목적에 적합한 강점착성을 발휘할 수 있다.On the other hand, when focusing on the performance of the adhesive, recently, a pressure-sensitive adhesive sheet that exhibits low adhesive strength in the initial stage of sticking to an adherend and can greatly increase the adhesive strength thereafter has been proposed (Patent Document 7). According to the PSA sheet having such characteristics, before the increase in the adhesive strength, it exhibits re-stickability (rework property) useful for suppressing yield reduction due to adhesion failure or damage to the PSA sheet, and after the increase in the adhesive strength, the PSA sheet It is possible to exhibit strong adhesiveness suitable for the original purpose of use.
보강용 필름은, 상기 플렉시블 디바이스에도 사용될 수 있다. 예를 들어, 상기 플렉시블 디바이스의 제조에서는, 당해 디바이스를 구성하는 부재가 얇은 두께인 것이 많기 때문에, 점착 시트를 보강용 필름으로서 첩부하여 보강하여, 디바이스의 변형을 원인으로 하는 문제를 방지하거나, 취급성을 높이는 것이 바람직하다. 플렉시블 디바이스는, 반복하여 꺾여 구부러지거나, 굴곡될 수 있기 때문에, 플렉시블 디바이스에 사용되는 보강용 필름에는, 반복하여 굴곡된 경우라도, 정상적으로 형상을 회복하는 특성(굴곡 회복성)을 갖고, 또한 박리 등의 문제가 발생하지 않는 특성(굴곡 유지력)을 가질 것이 요구된다. 그와 같은 굴곡 회복성 및 굴곡 유지력을 갖는 보강용 필름은, 플렉시블 디바이스를 포함하는 각종 용도에 사용할 수 있으므로, 적용 범위의 제한이 적어 유용하다.A reinforcing film may also be used for the flexible device. For example, in the manufacture of the above-mentioned flexible device, since many of the members constituting the device are thin, an adhesive sheet is applied as a reinforcing film to reinforce it, thereby preventing problems caused by deformation of the device or handling It is desirable to raise the castle. Since a flexible device can be repeatedly bent, bent, or bent, the reinforcing film used for the flexible device has a characteristic of recovering its normal shape even when repeatedly bent (bending recovery property), and also exhibits peeling, etc. It is required to have a characteristic (bending holding force) that does not cause the problem of. Since such a reinforcing film having bending recovery and bending holding power can be used for various applications including flexible devices, it is useful because the application range is limited.
예를 들어, 특허문헌 7에서 제안되어 있는 바와 같은, 첩부 초기에는 저점착력을 나타내고, 그 후, 점착력이 크게 상승하도록 구성된 점착제에 대해서도, 보강용 필름으로서 사용하는 경우에는, 굴곡 회복성 및 굴곡 유지력을 갖는 것이 바람직하다. 굴곡 유지력을 개선하는 한 방법으로서, 예를 들어 점착제의 저장 탄성률을 적절하게 설정하는 방법을 생각할 수 있다. 그러나, 상기와 같이 점착력이 상승하도록 설계된 점착제에 있어서, 저장 탄성률을 변화시키면, 초기의 저점착력 및 상승 후 점착력의 양쪽이 영향을 받는다. 또한, 굴곡 유지력에 더하여, 굴곡 회복성을 고려하면, 그것들의 특성을 모두 만족시키는 것은 용이하지 않다. 첩부 초기에는 저점착력을 나타내고, 그 후, 점착력이 크게 상승하는 점착제에 대하여, 굴곡 회복성 및 굴곡 유지력을 개선할 수 있으면, 실용상 유익하다.For example, as proposed in Patent Document 7, even for an adhesive configured to exhibit low adhesive force at the initial stage of sticking and then greatly increase the adhesive force, when used as a reinforcing film, bending recovery and bending holding power It is desirable to have As one method of improving the bending holding force, for example, a method of appropriately setting the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive can be considered. However, in the pressure-sensitive adhesive designed to increase the adhesive force as described above, when the storage elastic modulus is changed, both the initial low adhesive force and the increased adhesive force are affected. In addition, considering the bending recovery in addition to the bending holding force, it is not easy to satisfy all of these characteristics. It is useful for practical use if the bending recovery and bending holding power can be improved with respect to the adhesive which shows low adhesive force at the initial stage of sticking and whose adhesive force greatly increases thereafter.
본 발명은, 상기 사정을 감안하여 창출된 것이며, 피착체에 첩부한 초기에 있어서는 경박리성을 나타내고, 그 후, 점착력을 크게 상승시키는 것이 가능하고, 또한 굴곡 회복성 및 굴곡 유지력을 갖는 보강용 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은 또한, 상기 보강용 필름이 접착된 광학 부재 및 전자 부재의 제공을 다른 목적으로 한다.The present invention was created in view of the above circumstances, and exhibits easy peelability in the initial stage of sticking to an adherend, thereafter it is possible to greatly increase the adhesive force, and a reinforcing film having bending recovery and bending holding power. is intended to provide Another object of the present invention is to provide an optical member and an electronic member to which the reinforcing film is adhered.
본 명세서에 의하면, 점착제층을 구비하는 보강용 필름이 제공된다. 상기 점착제층은, 폴리머(A)와, 폴리머(B)를 포함한다. 상기 폴리머(B)는, 폴리오르가노실록산 골격을 갖는 모노머 단위와, (메트)아크릴계 모노머 단위를 포함한다. 또한, 상기 점착제층은, 23℃에서의 표면 탄성률이 1 내지 20㎪이다. 또한, 상기 폴리머(B)의 유리 전이 온도 TB가 -20℃ 내지 5℃이다.According to this specification, the reinforcement film provided with the adhesive layer is provided. The pressure-sensitive adhesive layer contains a polymer (A) and a polymer (B). The polymer (B) includes a monomer unit having a polyorganosiloxane backbone and a (meth)acrylic monomer unit. Further, the pressure-sensitive adhesive layer has a surface modulus of elasticity of 1 to 20 kPa at 23°C. In addition, the glass transition temperature T B of the polymer (B) is -20°C to 5°C.
상기 구성에 의하면, 점착제층은, 폴리머(A)와, 폴리오르가노실록산 골격을 갖는 모노머 단위를 포함하는 폴리머(B)를 포함하므로, 피착체에 첩부한 초기에 있어서는 경박리성을 나타내고, 그 후, 점착력을 크게 상승시키는 것이 가능하다. 또한, 폴리머(B)의 유리 전이 온도(Tg) TB가 -20℃ 이상임으로써, 첩부 초기의 경박리성이 우수한 경향이 있고, 상기 TB가 5℃ 이하임으로써, 점착력 상승성이 우수한 경향이 있다. 또한, 상기 보강용 필름은, 굴곡 회복성 및 굴곡 유지력을 갖는다. 구체적으로는, 점착제층의 23℃에서의 표면 탄성률(23℃ 표면 탄성률)이 1㎪ 이상인 보강 필름은, 상술한 점착 특성을 발휘하면서, 양호한 굴곡 회복성을 갖는다. 또한, 점착제층의 23℃ 표면 탄성률이 20㎪ 이하임으로써, 상기 점착 특성을 발휘하면서, 양호한 굴곡 유지력을 가지므로, 반복하여 꺾여 구부러지는 양태로 사용된 경우라도, 박리 등의 문제가 발생하기 어렵다.According to the above configuration, since the pressure-sensitive adhesive layer contains the polymer (A) and the polymer (B) containing a monomer unit having a polyorganosiloxane backbone, it exhibits easy peelability in the initial stage of sticking to an adherend, and thereafter , it is possible to greatly increase the adhesive force. In addition, when the glass transition temperature (Tg) T B of the polymer (B) is -20 ° C. or higher, the easy peelability at the initial stage of application tends to be excellent, and when the T B is 5 ° C. or lower, the adhesive force increasing tendency tends to be excellent there is. In addition, the reinforcing film has bending recoverability and bending holding power. Specifically, a reinforcement film having a surface modulus of elasticity at 23°C (surface elasticity at 23°C) of the pressure-sensitive adhesive layer of 1 kPa or more exhibits the adhesive properties described above and has good bending recovery properties. In addition, since the 23 ° C. surface modulus of the pressure-sensitive adhesive layer is 20 kPa or less, it exhibits the above adhesive properties and has good bending holding power, so even when used in a manner that is repeatedly bent and bent, problems such as peeling are unlikely to occur. .
여기에 개시되는 기술(보강용 필름, 광학 부재 및 전자 부재를 포함한다. 이하 동일함)의 몇몇 바람직한 양태에서는, 상기 점착제층은, 23℃에서의 벌크 탄성률 G'23이 10 내지 200㎪이다. 이 범위의 벌크 탄성률 G'23을 갖는 점착제에 의하면, 첩부 초기의 점착력이 경박리성이 우수한 적합한 범위로 되기 쉽다. 또한, 가공성이 우수하고, 대체로, 상온역에서의 변형 완화성과 굴곡 회복성을 양립시키기 쉬운 경향이 있다.In some preferred embodiments of the technology disclosed herein (including a reinforcing film, an optical member, and an electronic member. The same applies hereinafter), the pressure-sensitive adhesive layer has a bulk modulus of elasticity G′ 23 at 23° C. of 10 to 200 kPa. According to the adhesive which has bulk elasticity modulus G'23 in this range, the adhesive force of an initial stage of sticking tends to fall into the suitable range excellent in easy peelability. In addition, it is excellent in processability, and generally tends to be easy to achieve both strain relaxation and bending recovery in the normal temperature range.
몇몇 바람직한 양태에서는, 상기 점착제층은, 80℃에서의 벌크 탄성률 G'80이 5 내지 100㎪이다. 이 범위의 벌크 탄성률 G'80을 갖는 점착제는, 대체로, 굴곡 회복성과 굴곡 유지력을 양립시키기 쉽다. 예를 들어, 80℃ 전후의 고온 조건에서 사용된 경우라도, 굴곡 회복에 적합한 탄성을 갖고, 굴곡 유지력을 실현하는 접착 유지력을 갖는 것일 수 있다.In some preferred embodiments, the pressure-sensitive adhesive layer has a bulk modulus of elasticity G' 80 at 80°C of 5 to 100 kPa. An adhesive having a bulk modulus of elasticity G' 80 within this range generally tends to achieve both bending recovery and bending holding power. For example, even when used under high temperature conditions of around 80°C, it may have elasticity suitable for bending recovery and adhesive holding force that realizes bending holding force.
몇몇 바람직한 양태에서는, 상기 점착제층은, 80℃에서의 tanδ80이 0.10 내지 0.60이다. 상기 tanδ80(80℃에서의 손실 탄성률 G"80/80℃에서의 저장 탄성률 G'80)이 0.10 이상인 점착제는, 굴곡 유지에 적합한 접착력을 발휘하기 쉽다. 또한, 상기 tanδ80이 0.60 이하임으로써, 점착제의 소성 변형이 억제되어, 양호한 굴곡 회복성이 얻어지기 쉽다. 또한, 보강용 필름을 굴곡 상태로 장시간 유지한 경우에도, 피착체로부터 박리가 발생하지 않는 유지력(굴곡 유지력)을 발휘하기 쉽다.In some preferred embodiments, the pressure-sensitive adhesive layer has a tanδ 80 of 0.10 to 0.60 at 80°C. A pressure-sensitive adhesive having tanδ 80 (loss modulus G" at 80 °C/storage modulus G' 80 at 80°C) of 0.10 or more tends to exhibit adhesive strength suitable for bending retention. In addition, when tanδ 80 is 0.60 or less, , Plastic deformation of the pressure-sensitive adhesive is suppressed, and good bending recovery property is easily obtained.In addition, even when the reinforcing film is held in a bent state for a long time, it is easy to exhibit holding force (bending holding force) that does not cause peeling from the adherend. .
상기 폴리머(A)는, 바람직하게는 아크릴계 폴리머이다. 아크릴계 폴리머인 폴리머(A)와, 폴리오르가노실록산 골격을 갖는 모노머 단위를 포함하는 폴리머(B)를 포함하는 점착제층에 의하면, 여기에 개시되는 기술에 의한 효과가 바람직하게 실현된다.The polymer (A) is preferably an acrylic polymer. According to the pressure-sensitive adhesive layer comprising the polymer (A), which is an acrylic polymer, and the polymer (B) containing a monomer unit having a polyorganosiloxane backbone, the effect of the technique disclosed herein is preferably realized.
몇몇 바람직한 양태에서는, 상기 점착제층 중의 상기 폴리머(B)의 함유량은, 상기 폴리머(A) 100중량부에 대하여 0.5 내지 5중량부이다. 폴리머(A) 100중량부에 대한 폴리머(B)의 양을 0.5중량부 이상으로 함으로써, 첩부 초기의 경박리성이 얻어지기 쉽다. 상기 폴리머(B)의 양을 5중량부 이하로 함으로써, 목적으로 하는 점착력 상승을 실현하기 쉽다. 또한, 폴리머(B)의 사용량을 상기 범위로 함으로써, 양호한 굴곡 회복성 및 굴곡 유지력을 실현하기 쉽다.In some preferred embodiments, the content of the polymer (B) in the pressure-sensitive adhesive layer is 0.5 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer (A). When the amount of the polymer (B) relative to 100 parts by weight of the polymer (A) is 0.5 part by weight or more, easy peelability in the initial stage of sticking is easily obtained. By setting the amount of the polymer (B) to 5 parts by weight or less, it is easy to achieve the desired increase in adhesive force. In addition, by setting the usage amount of the polymer (B) within the above range, it is easy to realize good bending recovery and bending holding power.
몇몇 바람직한 양태에서는, 상기 점착제층에 포함되는 이소시아네이트기와 수산기의 몰비([NCO]/[OH])는 0.002 내지 0.03이다. 상기 몰비([NCO]/[OH])가 0.002 이상인 점착제층은, 굴곡 회복성이 우수한 경향이 있고, 가공성도 우수한 경향이 있다. 또한, 상기 몰비([NCO]/[OH])를 0.03 이하로 함으로써, 적합한 점착력 상승을 실현하기 쉬운 경향이 있다. 또한, 점착제층에 있어서, 이소시아네이트기와 수산기는, 그것들의 적어도 일부가 화학적으로 결합(가교)한 상태로 존재할 수 있다. 상기 점착제층은, 예를 들어 가교제를 포함하는 것이며, 이러한 구성에 있어서, 상기 이소시아네이트기는, 예를 들어 가교제의 일부이며, 상기 수산기는, 예를 들어 폴리머(A)의 일부일 수 있다.In some preferred embodiments, the molar ratio ([NCO]/[OH]) of isocyanate groups and hydroxyl groups included in the pressure-sensitive adhesive layer is 0.002 to 0.03. A pressure-sensitive adhesive layer having the molar ratio ([NCO]/[OH]) of 0.002 or more tends to have excellent bending recovery properties and tends to have excellent processability. Further, by setting the molar ratio ([NCO]/[OH]) to 0.03 or less, it tends to be easy to achieve a suitable increase in adhesive strength. Also, in the pressure-sensitive adhesive layer, isocyanate groups and hydroxyl groups may exist in a state in which at least a part thereof is chemically bonded (crosslinked). The pressure-sensitive adhesive layer contains, for example, a crosslinking agent, and in this configuration, the isocyanate group is, for example, a part of the crosslinking agent, and the hydroxyl group may be, for example, a part of the polymer (A).
여기에 개시되는 보강용 필름은, 예를 들어 편광판, 파장판 등의 광학 부재의 가공 시나 반송 시에, 해당 광학 부재에 강성이나 내충격성을 부여하는 보강용 필름으로서 적합하다. 따라서, 본 명세서에 의하면, 여기에 개시되는 어느 보강용 필름이 접착된 광학 부재가 제공된다.The reinforcing film disclosed herein is suitable as a reinforcing film that imparts rigidity and impact resistance to an optical member such as a polarizing plate or a wave plate during processing or conveyance. Therefore, according to the present specification, an optical member to which any of the reinforcing films disclosed herein is bonded is provided.
또한, 여기에 개시되는 보강용 필름은, 예를 들어 휴대 전자 기기 등의 기기의 전자 부재의 보강용 필름으로서도 적합하다. 따라서, 본 명세서에 의하면, 여기에 개시되는 어느 보강용 필름이 접착된 전자 부재가 제공된다.In addition, the reinforcing film disclosed herein is also suitable as a reinforcing film for electronic members of devices such as portable electronic devices, for example. Therefore, according to the present specification, an electronic member to which any of the reinforcing films disclosed herein is bonded is provided.
도 1은 일 실시 형태에 관한 보강용 필름의 구성을 모식적으로 도시하는 단면도이다.
도 2는 다른 일 실시 형태에 관한 보강용 필름의 구성을 모식적으로 도시하는 단면도이다.
도 3은 다른 일 실시 형태에 관한 보강용 필름의 구성을 모식적으로 도시하는 단면도이다.1 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of a reinforcement film according to an embodiment.
Fig. 2 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of a reinforcement film according to another embodiment.
Fig. 3 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of a reinforcement film according to another embodiment.
이하, 본 발명의 바람직한 실시 형태를 설명한다. 본 명세서에 있어서 특별히 언급하고 있는 사항 이외의 사항이며 본 발명의 실시에 필요한 사항은, 본 명세서에 기재된 발명의 실시에 대한 교시와 출원 시의 기술 상식에 기초하여 당업자에게 이해될 수 있다. 본 발명은, 본 명세서에 개시되어 있는 내용과 당해 분야에 있어서의 기술 상식에 기초하여 실시할 수 있다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. Matters other than matters specifically mentioned in this specification and necessary for the practice of the present invention can be understood by those skilled in the art based on the teachings for the practice of the invention described in this specification and common technical knowledge at the time of filing. The present invention can be implemented based on the content disclosed in this specification and common technical knowledge in the field.
또한, 이하의 도면에 있어서, 동일한 작용을 발휘하는 부재ㆍ부위에는 동일한 부호를 붙여 설명하는 경우가 있으며, 중복되는 설명은 생략 또는 간략화되는 경우가 있다. 또한, 도면에 기재된 실시 형태는, 본 발명을 명료하게 설명하기 위해 모식화되어 있으며, 실제로 제공되는 제품의 사이즈나 축척을 반드시 정확하게 나타낸 것은 아니다.Note that in the following drawings, the same reference numerals may be given to members/parts exhibiting the same action, and overlapping explanations may be omitted or simplified. In addition, the embodiments described in the drawings are modeled in order to clearly explain the present invention, and do not necessarily accurately represent the size or scale of products actually provided.
또한, 이 명세서에 있어서 「아크릴계 폴리머」란, (메트)아크릴계 모노머에서 유래되는 모노머 단위를 폴리머 구조 중에 포함하는 중합물을 말하며, 전형적으로는 (메트)아크릴계 모노머에서 유래되는 모노머 단위를 50중량%를 초과하는 비율로 포함하는 중합물을 말한다. 또한, (메트)아크릴계 모노머란, 1분자 중에 적어도 하나의 (메트)아크릴로일기를 갖는 모노머를 말한다. 여기서, 「(메트)아크릴로일기」란, 아크릴로일기 및 메타크릴로일기를 포괄적으로 가리키는 의미이다. 따라서, 여기서 말하는 (메트)아크릴계 모노머의 개념에는, 아크릴로일기를 갖는 모노머(아크릴계 모노머)와 메타크릴로일기를 갖는 모노머(메타크릴계 모노머)의 양쪽이 포함될 수 있다. 마찬가지로, 이 명세서에 있어서 「(메트)아크릴산」이란 아크릴산 및 메타크릴산을, 「(메트)아크릴레이트」란 아크릴레이트 및 메타크릴레이트를, 각각 포괄적으로 가리키는 의미이다.In addition, in this specification, "acrylic polymer" refers to a polymer containing a monomer unit derived from a (meth)acrylic monomer in a polymer structure, typically 50% by weight of a monomer unit derived from a (meth)acrylic monomer. It refers to a polymer containing an excess ratio. In addition, a (meth)acrylic monomer refers to a monomer having at least one (meth)acryloyl group in one molecule. Here, "(meth)acryloyl group" is the meaning which points out an acryloyl group and a methacryloyl group comprehensively. Therefore, the concept of the (meth)acrylic monomer here may include both a monomer having an acryloyl group (acrylic monomer) and a monomer having a methacryloyl group (methacrylic monomer). Similarly, in this specification, "(meth)acrylic acid" means acrylic acid and methacrylic acid, and "(meth)acrylate" comprehensively points out acrylate and methacrylate, respectively.
<보강용 필름의 구조예><Structure example of reinforcing film>
여기에 개시되는 보강용 필름은, 점착제에 의해 형성된 점착면을 갖는 점착 시트의 형태를 갖는다. 보강용 필름으로서 사용되는 점착 시트는, 점착제층을 포함하여 구성되어 있다. 여기에 개시되는 보강용 필름은, 상기 점착제층이 지지 기재의 편면 또는 양면에 적층된 기재 구비 점착 시트의 형태여도 되고, 지지 기재를 갖지 않는 무기재 점착 시트의 형태여도 된다.The reinforcing film disclosed herein has a form of an adhesive sheet having an adhesive face formed by an adhesive. The adhesive sheet used as a reinforcing film is comprised including the adhesive layer. The reinforcing film disclosed herein may be in the form of a pressure-sensitive adhesive sheet having a base material in which the pressure-sensitive adhesive layer is laminated on one side or both sides of a supporting base material, or may be in the form of an inorganic material pressure-sensitive adhesive sheet having no supporting base material.
또한, 본 명세서에 있어서, 「보강용 필름」이란, 후술하는 바와 같이 피착체의 보강에 사용되는 점착 시트(보강용 점착 필름)를 말한다. 보강용 필름은, 예를 들어 무기재 점착 시트의 형태로, 한쪽의 점착면에 지지재 등을 첩부한 후, 다른 쪽의 점착면을, 보강 대상인 피착체에 첩부하여 보강할 수 있으므로, 기재 구비 점착 시트의 형태에 한정되는 것은 아니다. 이 점에서, 기재 구비 점착 시트의 형태를 갖는 후술하는 「보강 필름」보다도 광의의 개념으로서 파악된다.In addition, in this specification, "reinforcement film" means the adhesive sheet (reinforcement adhesive film) used for reinforcement of a to-be-adhered body so that it may mention later. The reinforcing film is, for example, in the form of an inorganic adhesive sheet, and can be reinforced by attaching a support material or the like to one adhesive surface and then attaching the other adhesive surface to an adherend to be reinforced. It is not limited to the shape of the adhesive sheet. In this regard, it is understood as a concept in a broader sense than the later-described "reinforcement film" having the form of an adhesive sheet with a base material.
일 실시 형태에 관한 보강용 필름의 구조를 도 1에 모식적으로 도시한다. 이 보강용 필름(1)은, 제1 면(10A) 및 제2 면(10B)을 갖는 시트 형상의 지지 기재(10)와, 그 제1 면(10A)측에 마련된 점착제층(21)을 구비하는 기재 구비 편면 점착 시트로서 구성되어 있다. 점착제층(21)은, 지지 기재(10)의 제1 면(10A)측에 고착되어 있다. 보강용 필름(1)은, 점착제층(21)을 피착체에 첩부하여 사용된다. 사용 전(즉, 피착체에 대한 첩부 전)의 보강용 필름(1)은, 도 1에 도시한 바와 같이, 점착제층(21)의 표면(점착면)(21A)이, 적어도 점착제층(21)에 대향하는 측이 박리성 표면(박리면)으로 되어 있는 박리 라이너(31)에 맞닿은 형태의 박리 라이너 구비 보강용 필름(100)의 구성 요소일 수 있다. 박리 라이너(31)로서는, 예를 들어 시트 형상의 기재(라이너 기재)의 편면에 박리 처리제에 의한 박리층을 형성함으로써 해당 편면이 박리면이 되도록 구성된 것을 바람직하게 사용할 수 있다. 혹은, 박리 라이너(31)를 생략하고, 제2 면(10B)이 박리면으로 되어 있는 지지 기재(10)를 사용하여, 보강용 필름(1)을 권회함으로써 점착면(21A)을 지지 기재(10)의 제2 면(10B)에 맞닿게 한 형태(롤 형태)여도 된다. 보강용 필름(1)을 피착체에 첩부할 때는, 점착면(21A)으로부터 박리 라이너(31) 또는 지지 기재(10)의 제2 면(10B)을 박리하고, 노출된 점착면(21A)을 피착체에 압착한다.The structure of the reinforcement film concerning one embodiment is schematically shown in FIG. This reinforcing
다른 일 실시 형태에 관한 보강용 필름의 구조를 도 2에 모식적으로 도시한다. 이 보강용 필름(2)은, 제1 면(10A) 및 제2 면(10B)을 갖는 시트 형상의 지지 기재(10)와, 그 제1 면(10A)측에 마련된 점착제층(21)과, 제2 면(10B)측에 마련된 점착제층(22)을 구비하는 기재 구비 양면 점착 시트로서 구성되어 있다. 점착제층(제1 점착제층)(21)은 지지 기재(10)의 제1 면(10A)에, 점착제층(제2 점착제층)(22)은 지지 기재(10)의 제2 면(10B)에, 각각 고착되어 있다. 보강용 필름(2)은, 점착제층(21, 22)을, 피착체의 다른 개소에 첩부하여 사용된다. 점착제층(21, 22)이 첩부되는 개소는, 다른 부재의 각각의 개소여도 되고, 단일의 부재 내의 다른 개소여도 된다. 사용 전의 보강용 필름(2)은, 도 2에 도시한 바와 같이, 점착제층(21)의 표면(제1 점착면)(21A) 및 점착제층(22)의 표면(제2 점착면)(22A)이, 적어도 점착제층(21, 22)에 대향하는 측이 각각 박리면으로 되어 있는 박리 라이너(31, 32)에 맞닿은 형태의 박리 라이너 구비 보강용 필름(200)의 구성 요소일 수 있다. 박리 라이너(31, 32)로서는, 예를 들어 시트 형상의 기재(라이너 기재)의 편면에 박리 처리제에 의한 박리층을 형성함으로써 해당 편면이 박리면으로 되도록 구성된 것을 바람직하게 사용할 수 있다. 혹은, 박리 라이너(32)를 생략하고, 양면이 박리면으로 되어 있는 박리 라이너(31)를 사용하여, 이것과 보강용 필름(2)을 중첩하여 와권형으로 권회함으로써 제2 점착면(22A)이 박리 라이너(31)의 배면에 맞닿은 형태(롤 형태)의 박리 라이너 구비 보강용 필름을 구성하고 있어도 된다.2 schematically shows the structure of a reinforcing film according to another embodiment. This reinforcing
또 다른 일 실시 형태에 관한 보강용 필름의 구조를 도 3에 모식적으로 도시한다. 이 보강용 필름(3)은, 점착제층(21)으로 이루어지는 무기재의 양면 점착 시트로서 구성되어 있다. 보강용 필름(3)은, 점착제층(21)의 한쪽의 표면(제1 면)에 의해 구성된 제1 점착면(21A)과, 점착제층(21)의 다른 쪽의 표면(제2 면)에 의해 구성된 제2 점착면(21B)을 피착체의 다른 개소에 첩부하여 사용된다. 사용 전의 보강용 필름(3)은, 도 3에 도시한 바와 같이, 제1 점착면(21A) 및 제2 점착면(21B)이, 적어도 점착제층(21)에 대향하는 측이 각각 박리면으로 되어 있는 박리 라이너(31, 32)에 맞닿은 형태의 박리 라이너 구비 보강용 필름(300)의 구성 요소일 수 있다. 혹은, 박리 라이너(32)를 생략하고, 양면이 박리면으로 되어 있는 박리 라이너(31)를 사용하여, 이것과 보강용 필름(3)을 중첩하여 와권형으로 권회함으로써 제2 점착면(21B)이 박리 라이너(31)의 배면에 맞닿은 형태(롤 형태)의 박리 라이너 구비 보강용 필름을 구성하고 있어도 된다.3 schematically shows the structure of a reinforcing film according to yet another embodiment. This reinforcing
또한, 보강용 필름은, 롤 형태여도 되고, 매엽 형태여도 되고, 용도나 사용 양태에 따라서 적당한 형상으로 절단, 펀칭 가공 등이 이루어진 것이어도 된다. 여기에 개시되는 기술에 있어서의 점착제층은, 전형적으로는 연속적으로 형성되지만, 이것에 한정되지는 않고, 예를 들어 점 형상, 스트라이프 형상 등의 규칙적 혹은 랜덤한 패턴으로 형성되어 있어도 된다.In addition, the reinforcing film may be in the form of a roll or a single sheet, or may be cut into an appropriate shape depending on the use or mode of use, or may be subjected to punching or the like. The pressure-sensitive adhesive layer in the technique disclosed herein is typically formed continuously, but is not limited to this, and may be formed in a regular or random pattern such as a dot shape or a stripe shape, for example.
<점착제층><Adhesive layer>
여기에 개시되는 보강용 필름은, 폴리머(A)와, 폴리머(B)를 포함하는 점착제층을 구비한다. 이와 같은 점착제층은, 모노머 원료 A의 완전 중합물 또는 부분 중합물인 폴리머(A)와, 폴리머(B)를 함유하는 점착제 조성물로 형성된 것일 수 있다. 점착제 조성물의 형태는 특별히 제한되지는 않고, 예를 들어 용제형, 수분산형, 핫 멜트형, 활성 에너지선 경화형(예를 들어 광경화형) 등의, 각종 형태일 수 있다.The reinforcing film disclosed herein includes a polymer (A) and an adhesive layer containing a polymer (B). Such an adhesive layer may be formed from an adhesive composition containing a polymer (A) that is a complete or partial polymer of the monomer raw material A, and a polymer (B). The form of the pressure-sensitive adhesive composition is not particularly limited, and may be, for example, various forms such as solvent type, water dispersion type, hot melt type, active energy ray curing type (eg photocurable type).
(23℃ 표면 탄성률)(Surface modulus at 23°C)
여기에 개시되는 점착제층은, 그 표면(점착면)의 23℃에서의 표면 탄성률(23℃ 표면 탄성률)이 1 내지 20㎪의 범위 내인 것에 의해 특징지어진다. 상기 23℃ 표면 탄성률이 1㎪ 이상임으로써, 폴리머(A)와 폴리머(B)의 함유에 기초하는 점착 특성을 실현하면서, 양호한 굴곡 회복성을 가질 수 있다. 또한, 상기 표면 탄성률이 20㎪ 이하임으로써, 상기 점착 특성을 실현하면서, 양호한 굴곡 유지력을 발휘할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive layer disclosed herein is characterized by having a surface elastic modulus at 23°C (23°C surface elastic modulus) of the surface (adhesive surface) in the range of 1 to 20 kPa. When the 23°C surface modulus is 1 kPa or more, it is possible to have good bending recovery while realizing adhesive properties based on the inclusion of the polymer (A) and the polymer (B). In addition, when the surface elastic modulus is 20 kPa or less, a good bending holding force can be exhibited while realizing the adhesive properties.
굴곡 회복성 향상의 관점에서, 상기 23℃ 표면 탄성률은, 바람직하게는 2㎪ 이상, 보다 바람직하게는 3㎪ 이상, 더욱 바람직하게는 4㎪ 이상(예를 들어 5㎪ 이상)이며, 8㎪ 이상이어도 되고, 10㎪ 이상이어도 되고, 12㎪ 이상(예를 들어 14㎪ 이상)이어도 된다. 상기 표면 탄성률이 높아질수록, 초기의 경박리성은 우수한 경향이 있다. 또한, 양호한 굴곡 회복성과 굴곡 유지력을 양립시키면서, 점착력 상승을 바람직하게 발현하는 관점에서, 상기 23℃ 표면 탄성률은, 15㎪ 이하가 적당하고, 바람직하게는 12㎪ 이하, 보다 바람직하게는 9㎪ 이하, 더욱 바람직하게는 7㎪ 이하(예를 들어 6㎪ 이하)이며, 4㎪ 이하여도 된다.From the viewpoint of improving bending recovery, the 23°C surface modulus is preferably 2 kPa or more, more preferably 3 kPa or more, still more preferably 4 kPa or more (eg 5 kPa or more), and 8 kPa or more. It may be 10 kPa or more, or 12 kPa or more (for example, 14 kPa or more) may be sufficient. The higher the surface elastic modulus, the better the initial light peelability tends to be. Further, from the viewpoint of favorably exhibiting an increase in adhesive force while achieving both good bending recovery and bending holding power, the 23°C surface elasticity modulus is suitably 15 kPa or less, preferably 12 kPa or less, and more preferably 9 kPa or less. , More preferably, it is 7 kPa or less (for example, 6 kPa or less), and may be 4 kPa or less.
점착제층의 23℃ 표면 탄성률은, 폴리머(A)의 종류나 특성(분자량이나 유리 전이 온도, 분자 구조 등), 폴리머(B)의 종류(화학 구조 등)나 특성(분자량이나 유리 전이 온도 등), 사용량, 가교제의 종류나 사용량 등에 의해 조절할 수 있다. 점착제층의 23℃ 표면 탄성률은 후술하는 실시예에 기재된 방법으로 측정된다.The 23°C surface modulus of elasticity of the pressure-sensitive adhesive layer is the type and characteristics (molecular weight, glass transition temperature, molecular structure, etc.) of polymer (A) and the type (chemical structure, etc.) and characteristics (molecular weight, glass transition temperature, etc.) of polymer (B) , It can be adjusted by the amount used, the type or amount of crosslinking agent, and the like. The 23° C. surface modulus of elasticity of the pressure-sensitive adhesive layer was measured by the method described in Examples below.
(23℃ 벌크 탄성률 G'23)(23℃ bulk modulus G' 23 )
점착제층의 23℃에서의 벌크 탄성률 G'23(23℃ 벌크 탄성률 G'23)은, 상기 23℃ 표면 탄성률의 범위를 만족시키는 범위 내에서 적절하게 설정되고, 특정 범위에 한정되는 것은 아니다. 몇몇 양태에 있어서, 점착제층의 23℃ 벌크 탄성률 G'23은, 10㎪ 이상으로 하는 것이 적당하다. 상기 벌크 탄성률 G'23을 소정값 이상으로 함으로써, 첩부 초기의 점착력이 경박리성이 우수한 적합한 범위가 되기 쉽다. 또한, 가공성이 우수하고, 대체로, 상온역에서의 굴곡 회복성도 우수한 경향이 있다. 상기 벌크 탄성률 G'23은, 바람직하게는 15㎪ 이상, 보다 바람직하게는 20㎪ 이상, 더욱 바람직하게는 25㎪ 이상, 특히 바람직하게는 30㎪ 이상이다. 다른 몇몇 양태에 있어서, 상기 벌크 탄성률 G'23은, 50㎪ 이상이어도 되고, 80㎪ 이상이어도 되고, 100㎪ 이상이어도 된다.The bulk modulus of elasticity G' 23 at 23°C of the pressure-sensitive adhesive layer (bulk modulus of elasticity G' 23 at 23°C) is appropriately set within a range that satisfies the range of the surface elastic modulus at 23°C, and is not limited to a specific range. In some embodiments, the 23°C bulk modulus G' 23 of the pressure-sensitive adhesive layer is suitably 10 kPa or more. By making the said bulk elasticity modulus G'23 more than a predetermined value, the adhesive force of an initial stage of sticking tends to become the suitable range excellent in easy peelability. In addition, it tends to be excellent in processability and generally excellent in bending recovery in a normal temperature range. The bulk modulus G' 23 is preferably 15 kPa or more, more preferably 20 kPa or more, even more preferably 25 kPa or more, and particularly preferably 30 kPa or more. In some other aspects, the bulk modulus G' 23 may be 50 kPa or more, 80 kPa or more, or 100 kPa or more.
몇몇 양태에 있어서, 점착제층의 23℃ 벌크 탄성률 G'23은, 200㎪ 이하로 하는 것이 적당하다. 상기 벌크 탄성률 G'23이 소정값 이하인 점착제는, 대체로, 상온역에서의 변형 완화성이 우수한 경향이 있고, 또한, 점착력 상승을 발현하기 쉽다. 상기 벌크 탄성률 G'23은, 바람직하게는 150㎪ 이하, 보다 바람직하게는 90㎪ 이하이다. 몇몇 바람직한 양태에 있어서, 상기 벌크 탄성률 G'23은, 60㎪ 이하여도 되고, 40㎪ 이하(예를 들어 35㎪ 이하)여도 된다.In some embodiments, the 23°C bulk modulus G' 23 of the pressure-sensitive adhesive layer is suitably 200 kPa or less. The pressure-sensitive adhesive having the bulk modulus G' 23 of a predetermined value or less generally tends to be excellent in strain relief in a normal temperature range and tends to exhibit an increase in adhesive strength. The bulk modulus G' 23 is preferably 150 kPa or less, more preferably 90 kPa or less. In some preferred embodiments, the bulk modulus G′ 23 may be 60 kPa or less, or 40 kPa or less (for example, 35 kPa or less).
(80℃ 벌크 탄성률 G'80)(80℃ bulk modulus G' 80 )
점착제층의 80℃에서의 벌크 탄성률 G'80(80℃ 벌크 탄성률 G'80)은, 상기 23℃ 표면 탄성률의 범위를 만족시키는 범위 내에서 적절하게 설정되고, 특정 범위에 한정되는 것은 아니다. 몇몇 양태에 있어서, 점착제층의 80℃ 벌크 탄성률 G'80은, 5㎪ 이상인 것이 바람직하다. 상기 벌크 탄성률 G'80을 소정값 이상으로 함으로써, 대체로, 굴곡 회복성이 향상되기 쉽고, 고온 조건에서 사용된 경우라도, 굴곡 회복에 적합한 탄성을 갖는 것이 될 수 있다. 몇몇 바람직한 양태에 있어서, 상기 벌크 탄성률 G'80은, 7㎪ 이상이어도 되고, 9㎪ 이상이어도 되고, 10㎪ 이상이어도 된다. 다른 몇몇 양태에 있어서, 상기 벌크 탄성률 G'80은, 15㎪ 이상이어도 되고, 30㎪ 이상이어도 되고, 50㎪ 이상이어도 된다.The bulk modulus of elasticity G' 80 at 80°C of the pressure-sensitive adhesive layer (bulk modulus of elasticity G' 80 at 80°C) is appropriately set within a range satisfying the range of the surface elasticity at 23°C, and is not limited to a specific range. In some embodiments, the 80°C bulk modulus G' 80 of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 5 kPa or more. By setting the bulk elastic modulus G' 80 to a predetermined value or more, the bending recovery property tends to be generally improved, and even when used under high-temperature conditions, it can have elasticity suitable for bending recovery. In some preferred aspects, the bulk modulus G' 80 may be 7 kPa or more, 9 kPa or more, or 10 kPa or more. In some other aspects, the said bulk modulus G' 80 may be 15 kPa or more, 30 kPa or more, or 50 kPa or more.
몇몇 양태에 있어서, 점착제층의 80℃ 벌크 탄성률 G'80은, 100㎪ 이하로 하는 것이 적당하다. 상기 벌크 탄성률 G'80을 소정값 이하로 제한함으로써, 대체로, 양호한 굴곡 유지력을 얻기 쉽고, 굴곡 회복성과 굴곡 유지력을 양립시키기 쉽다. 예를 들어, 고온 조건을 포함하는 다양한 환경에 있어서, 굴곡 회복에 적합한 탄성을 갖고, 굴곡 유지력을 실현하는 접착 유지력을 갖는 것이 될 수 있다. 상기 벌크 탄성률 G'80은, 바람직하게는 90㎪ 이하이고, 보다 바람직하게는 60㎪ 이하이다. 몇몇 양태에 있어서, 상기 벌크 탄성률 G'80은, 20㎪ 이하여도 되고, 16㎪ 이하여도 되고, 14㎪ 이하(예를 들어 12㎪ 이하)여도 된다.In some embodiments, the 80°C bulk modulus G' 80 of the pressure-sensitive adhesive layer is suitably 100 kPa or less. By restricting the bulk modulus G' 80 to a predetermined value or less, it is generally easy to obtain a good bending holding force, and to achieve both bending recovery and bending holding force. For example, in various environments including high-temperature conditions, it may have elasticity suitable for bending recovery and adhesive holding force that realizes bending holding force. The bulk modulus G' 80 is preferably 90 kPa or less, more preferably 60 kPa or less. In some embodiments, the bulk modulus G′ 80 may be 20 kPa or less, 16 kPa or less, or 14 kPa or less (eg 12 kPa or less).
(80℃ tanδ80)(80℃ tanδ 80 )
점착제층의 80℃에서의 tanδ80(80℃ tanδ80)은, 상기 23℃ 표면 탄성률의 범위를 만족시키는 범위 내에서 적절하게 설정되고, 특정 범위에 한정되는 것은 아니다. 몇몇 양태에 있어서, 점착제층의 80℃ tanδ80은, 0.10 이상인 것이 적당하다. 상기 tanδ80이 높을수록, 점착제는, 굴곡 유지에 적합한 접착력을 발휘하기 쉽다. 상기 tanδ80은, 바람직하게는 0.20 이상이다. 몇몇 바람직한 양태에 있어서, 상기 tanδ80은, 0.30 이상이어도 되고, 0.40 이상이어도 되고, 0.45 이상이어도 된다.The tanδ 80 (80°C tanδ 80 ) of the pressure-sensitive adhesive layer at 80°C is appropriately set within a range that satisfies the range of the surface elastic modulus at 23°C, and is not limited to a specific range. In some embodiments, the 80°C tanδ 80 of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 0.10 or more. As the tan δ 80 is higher, the pressure-sensitive adhesive tends to exhibit adhesive strength suitable for bending. The tan δ 80 is preferably 0.20 or more. In some preferred embodiments, the tan δ 80 may be 0.30 or more, 0.40 or more, or 0.45 or more.
몇몇 양태에 있어서, 점착제층의 80℃ tanδ80은, 0.60 이하인 것이 바람직하다. 상기 tanδ80이 0.60 이하임으로써, 점착제의 소성 변형이 억제되어, 양호한 굴곡 회복성이 얻어지기 쉽다. 또한, 보강용 필름을 굴곡 상태에서 장시간 유지한 경우에도, 피착체로부터 박리가 발생하지 않는 유지력을 발휘하기 쉽다. 또한, 점착력 상승도 적합한 범위로 되기 쉽다. 상기 80℃ tanδ80은, 0.55 이하여도 된다. 다른 몇몇 양태에 있어서, 상기 80℃ tanδ80은, 0.50 이하여도 되고, 0.35 이하여도 된다.In some embodiments, the 80°C tanδ 80 of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 0.60 or less. When the tan δ 80 is 0.60 or less, plastic deformation of the pressure-sensitive adhesive is suppressed, and good bending recovery property is easily obtained. In addition, even when the reinforcing film is held in a bent state for a long time, it is easy to exhibit a holding force that does not cause peeling from the adherend. In addition, the increase in adhesive strength tends to fall within a suitable range. The 80°C tan δ 80 may be 0.55 or less. In some other embodiments, the 80°C tan δ 80 may be 0.50 or less, or 0.35 or less.
점착제층의 23℃ 벌크 탄성률 G'23, 80℃ 벌크 탄성률 G'80 및 80℃ tanδ80은, 폴리머(A)의 종류나 특성(분자량이나 유리 전이 온도, 분자 구조 등), 폴리머(B)의 종류(화학 구조 등)나 특성(분자량이나 유리 전이 온도 등), 사용량, 가교제의 종류나 사용량 등에 의해 조절할 수 있다. 점착제층의 23℃ 벌크 탄성률 G'23, 80℃ 벌크 탄성률 G'80 및 80℃ tanδ80은, 후술하는 실시예에 기재된 방법으로 측정된다.The 23°C bulk modulus G' 23 , 80°C bulk modulus G' 80 and 80°C tanδ 80 of the pressure-sensitive adhesive layer depend on the type and characteristics of the polymer (A) (molecular weight, glass transition temperature, molecular structure, etc.) and that of the polymer (B). It can be controlled by the type (chemical structure, etc.), characteristics (molecular weight, glass transition temperature, etc.), amount used, type and amount of crosslinking agent, etc. The 23°C bulk modulus G' 23 , the 80°C bulk elastic modulus G' 80 , and the 80°C tanδ 80 of the pressure-sensitive adhesive layer are measured by the methods described in Examples described later.
(폴리머(A))(Polymer (A))
폴리머(A)로서는, 점착제의 분야에 있어서 공지의 아크릴계 폴리머, 고무계 폴리머, 폴리에스테르계 폴리머, 우레탄계 폴리머, 폴리에테르계 폴리머, 실리콘계 폴리머, 폴리아미드계 폴리머, 불소계 폴리머 등의, 실온역에 있어서 고무 탄성을 나타내는 각종 폴리머의 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다. 여기에 개시되는 보강용 필름에 있어서, 폴리머(A)는, 전형적으로는 점착제층에 포함되는 폴리머 성분의 주성분, 즉 50중량% 초과를 차지하는 성분이며, 예를 들어 상기 폴리머 성분 중 75중량% 이상을 차지하는 성분일 수 있다. 몇몇 양태에 있어서, 상기 폴리머(A)는, 점착제층 전체의 50중량% 초과를 차지하는 성분이며, 70중량% 이상을 차지하는 성분이어도 되고, 80중량% 이상을 차지하는 성분이어도 되고, 90중량% 이상을 차지하는 성분이어도 되고, 95중량% 이상(예를 들어 97중량% 이상)을 차지하는 성분이어도 된다.As the polymer (A), rubber in the room temperature region, such as acrylic polymers, rubber polymers, polyester polymers, urethane polymers, polyether polymers, silicone polymers, polyamide polymers, fluorine polymers, etc. known in the field of pressure-sensitive adhesives One type or two or more types of various polymers exhibiting elasticity can be used. In the reinforcing film disclosed herein, the polymer (A) is typically the main component of the polymer component contained in the pressure-sensitive adhesive layer, that is, a component occupying more than 50% by weight, for example, 75% by weight or more of the polymer component. It may be a component that occupies. In some embodiments, the polymer (A) is a component occupying more than 50% by weight of the entire pressure-sensitive adhesive layer, may be a component occupying 70% by weight or more, may be a component occupying 80% by weight or more, or 90% by weight or more It may be a component occupying 95% by weight or more (for example, 97% by weight or more).
폴리머(A)의 유리 전이 온도 TA는, 특별히 한정되지는 않고, 여기에 개시되는 보강용 필름에 있어서 바람직한 특성이 얻어지도록 선택할 수 있다. 몇몇 양태에 있어서, TA가 0℃ 미만인 폴리머(A)를 바람직하게 채용할 수 있다. 이와 같은 폴리머(A)를 포함하는 점착제는, 적당한 유동성(예를 들어, 해당 점착제에 포함되는 폴리머쇄의 운동성)을 나타내기 때문에, 가열에 의해 점착력이 소정값 이상으로 상승하는 보강용 필름의 실현에 적합하다. 여기에 개시되는 보강용 필름은, TA가 -10℃ 미만, -20℃ 미만, -30℃ 미만 또는 -35℃ 미만인 폴리머(A)를 사용하여 바람직하게 실시될 수 있다. 몇몇 양태에 있어서, TA는, -40℃ 미만이어도 되고, -50℃ 미만이어도 된다. 몇몇 바람직한 양태에서는, TA는, -55℃ 이하이고, 보다 바람직하게는 -58℃ 이하, 더욱 바람직하게는 -62℃ 이하이고, -65℃ 이하(예를 들어 -66℃ 이하)여도 된다. TA의 하한은 특별히 제한되지는 않는다. 재료의 입수 용이성이나 점착제층의 응집력 향상의 관점에서, 통상은, TA가 -80℃ 이상, -70℃ 이상인 폴리머(A)를 바람직하게 채용할 수 있다. 몇몇 양태에 있어서, TA는, 예를 들어 -63℃ 이상이어도 되고, -55℃ 이상이어도 되고, -50℃ 이상이어도 되고, -45℃ 이상이어도 된다.The glass transition temperature T A of the polymer (A) is not particularly limited, and can be selected so as to obtain desirable characteristics in the reinforcing film disclosed herein. In some embodiments, a polymer (A) having a T A of less than 0°C can be preferably employed. Since the adhesive containing such a polymer (A) exhibits appropriate fluidity (for example, the mobility of polymer chains contained in the adhesive), realization of a reinforcing film in which the adhesive force increases to a predetermined value or more by heating. suitable for The reinforcing film disclosed herein can preferably be implemented using a polymer (A) having a T A of less than -10°C, less than -20°C, less than -30°C, or less than -35°C. In some embodiments, T A may be less than -40°C or less than -50°C. In some preferred embodiments, T A is -55°C or lower, more preferably -58°C or lower, even more preferably -62°C or lower, and may be -65°C or lower (eg -66°C or lower). The lower limit of T A is not particularly limited. From the viewpoint of easy availability of the material and improvement of the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive layer, usually, a polymer (A) having a T A of -80°C or higher and -70°C or higher can be preferably employed. In some embodiments, T A may be, for example, -63°C or higher, -55°C or higher, -50°C or higher, or -45°C or higher.
여기서, 이 명세서에 있어서, 폴리머의 유리 전이 온도(Tg)(예를 들어, 폴리머(A), 후술하는 폴리머(B) 등의 유리 전이 온도)란, 문헌이나 카탈로그 등에 기재된 공칭값이거나, 또는 해당 폴리머의 조제에 사용되는 모노머 원료의 조성에 기초하여 Fox 식에 의해 구해지는 Tg를 말한다. Fox 식이란, 이하에 기재하는 바와 같이, 공중합체의 Tg와, 해당 공중합체를 구성하는 모노머의 각각을 단독 중합한 호모 폴리머의 유리 전이 온도 Tgi의 관계식이다.Here, in this specification, the glass transition temperature (Tg) of a polymer (for example, the glass transition temperature of a polymer (A) or a polymer (B) described later) is a nominal value described in literature or catalogs, or a corresponding value. It refers to the Tg calculated by the Fox formula based on the composition of the monomer raw material used in the preparation of the polymer. As described below, the Fox formula is a relational expression between the Tg of the copolymer and the glass transition temperature Tgi of a homopolymer obtained by homopolymerization of each of the monomers constituting the copolymer.
1/Tg=Σ(Wi/Tgi)1/Tg = Σ (Wi/Tgi)
상기 Fox 식에 있어서, Tg는 공중합체의 유리 전이 온도(단위: K), Wi는 해당 공중합체에 있어서의 모노머 i의 중량분율(중량 기준의 공중합 비율), Tgi는 모노머 i의 호모 폴리머의 유리 전이 온도(단위: K)를 나타낸다. Tg의 특정에 관한 대상의 폴리머가 호모 폴리머인 경우, 해당 호모 폴리머의 Tg와 대상의 폴리머의 Tg는 일치한다.In the Fox equation, Tg is the glass transition temperature of the copolymer (unit: K), Wi is the weight fraction of monomer i in the copolymer (copolymerization ratio by weight), and Tgi is the glass transition of the homopolymer of monomer i Indicates the transition temperature (unit: K). When the target polymer related to Tg specification is a homopolymer, the Tg of the homopolymer and the Tg of the target polymer coincide.
Tg의 산출에 사용하는 호모 폴리머의 유리 전이 온도로서는, 공지 자료에 기재된 값을 사용하는 것으로 한다. 구체적으로는, 「Polymer Handbook」(제3판, John Wiley & Sons, Inc., 1989년)에 수치가 예시되어 있다. 상기 Polymer Handbook에 복수 종류의 값이 기재되어 있는 모노머에 대해서는, 가장 높은 값을 채용한다.As the glass transition temperature of the homopolymer used for calculation of Tg, the value described in known materials shall be used. Specifically, numerical values are illustrated in "Polymer Handbook" (3rd edition, John Wiley & Sons, Inc., 1989). For a monomer for which a plurality of types of values are described in the above Polymer Handbook, the highest value is adopted.
상기 Polymer Handbook에 기재가 없는 모노머의 호모 폴리머의 유리 전이 온도로서는, 이하의 측정 방법에 의해 얻어지는 값을 사용하는 것으로 한다.As the glass transition temperature of a homopolymer of a monomer not described in the above Polymer Handbook, a value obtained by the following measuring method shall be used.
구체적으로는, 온도계, 교반기, 질소 도입관 및 환류 냉각관을 구비한 반응기에, 모노머 100중량부, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.2중량부 및 중합 용매로서 아세트산에틸 200중량부를 투입하고, 질소 가스를 유통시키면서 1시간 교반한다. 이와 같이 하여 중합계 내의 산소를 제거한 후, 63℃로 승온하여 10시간 반응시킨다. 이어서, 실온까지 냉각하고, 고형분 농도 33중량%의 호모 폴리머 용액을 얻는다. 이어서, 이 호모 폴리머 용액을 박리 라이너 상에 유연 도포하고, 건조하여 두께 약 2㎜의 시험 샘플(시트 형상의 호모 폴리머)을 제작한다. 이 시험 샘플을 직경 7.9㎜의 원반 형상으로 펀칭하여, 패럴렐 플레이트 사이에 끼워 넣고, 점탄성 시험기(TA 인스트루먼트 재팬사제, 기종명 「ARES」)를 사용하여 주파수 1Hz의 전단 변형을 주면서, 온도 영역 -70℃ 내지 150℃, 5℃/분의 승온 속도로 전단 모드에 의해 점탄성을 측정하고, tanδ의 피크 톱 온도에 상당하는 온도를 호모 폴리머의 Tg로 한다.Specifically, 100 parts by weight of monomer, 0.2 part by weight of 2,2'-azobisisobutyronitrile and 200 parts by weight of ethyl acetate as a polymerization solvent were added to a reactor equipped with a thermometer, stirrer, nitrogen inlet pipe and reflux condenser. and stirred for 1 hour while passing nitrogen gas. After removing oxygen in the polymerization system in this way, the temperature is raised to 63°C and reacted for 10 hours. Next, it cools to room temperature and obtains a homopolymer solution with a solid content concentration of 33% by weight. Next, this homopolymer solution was cast-coated on a release liner and dried to prepare a test sample (sheet-shaped homopolymer) having a thickness of about 2 mm. This test sample was punched into a disk shape with a diameter of 7.9 mm, sandwiched between parallel plates, and subjected to shear deformation at a frequency of 1 Hz using a viscoelasticity tester (manufactured by TA Instruments Japan, model name "ARES"), while giving a temperature range of -70 ° C. Viscoelasticity is measured by shear mode at a heating rate of 5 °C/min to 150 °C, and the temperature corresponding to the peak top temperature of tan δ is taken as the Tg of the homopolymer.
특별히 한정되는 것은 아니지만, 폴리머(A)의 중량 평균 분자량(Mw)은, 통상, 대략 20×104 이상인 것이 적당하다. 이러한 Mw의 폴리머(A)에 의하면, 양호한 응집성을 나타내는 점착제가 얻어지기 쉽다. 보다 높은 응집력을 얻는다는 관점에서, 몇몇 바람직한 양태에 있어서, 폴리머(A)의 Mw는, 예를 들어 30×104 이상이어도 되고, 40×104 이상이어도 되고, 50×104 이상이어도 되고, 60×104 이상이어도 되고, 80×104 이상이어도 된다. 또한, 폴리머(A)의 Mw는, 통상, 대략 500×104 이하인 것이 적당하다. 이러한 Mw의 폴리머(A)는, 적당한 유동성(폴리머쇄의 운동성)을 나타내는 점착제를 형성하기 쉽기 때문에, 첩부 초기의 점착력이 낮고, 또한 점착력 상승이 큰 보강용 필름의 실현에 적합하다. 폴리머(A)의 Mw가 너무 높지 않은 것은, 폴리머(B)와의 상용성 향상의 관점에서도 바람직하다. 몇몇 바람직한 양태에 있어서, 폴리머(A)의 Mw는, 예를 들어 250×104 이하여도 되고, 200×104 이하여도 되고, 150×104 이하여도 되고, 100×104 이하여도 되고, 70×104 이하여도 된다.Although not particularly limited, the weight average molecular weight (Mw) of the polymer (A) is usually preferably approximately 20×10 4 or higher. According to the polymer (A) of such Mw, it is easy to obtain an adhesive exhibiting good cohesiveness. From the viewpoint of obtaining a higher cohesive force, in some preferred embodiments, the Mw of the polymer (A) may be, for example, 30 × 10 4 or more, 40 × 10 4 or more, or 50 × 10 4 or more, It may be 60×10 4 or more, or 80×10 4 or more. In addition, the Mw of the polymer (A) is usually preferably approximately 500×10 4 or less. Since the polymer (A) of such a Mw tends to form an adhesive exhibiting appropriate fluidity (movement of the polymer chain), it is suitable for realization of a reinforcing film having low adhesive force at the initial stage of adhesion and a large increase in adhesive force. It is preferable also from the viewpoint of improving the compatibility with the polymer (B) that the Mw of the polymer (A) is not too high. In some preferred embodiments, the Mw of polymer (A) may be, for example, 250×10 4 or less, 200×10 4 or less, 150×10 4 or less, 100×10 4 or less, or 70 ×10 4 or less may be sufficient.
또한, 이 명세서에 있어서, 폴리머(A) 및 후술하는 폴리머(B)의 Mw는, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 폴리스티렌 환산하여 구할 수 있다. 보다 구체적으로는, 후술하는 실시예에 있어서 기재하는 방법 및 조건에 준하여 Mw를 측정할 수 있다.In this specification, the Mw of the polymer (A) and the polymer (B) described later can be calculated in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC). More specifically, Mw can be measured in accordance with the methods and conditions described in Examples to be described later.
여기에 개시되는 보강용 필름에 있어서의 폴리머(A)로서는, 아크릴계 폴리머를 바람직하게 채용할 수 있다. 폴리머(A)로서 아크릴계 폴리머를 사용하면, 폴리머(B)와의 양호한 상용성이 얻어지기 쉬워지는 경향이 있다. 폴리머(A)와 폴리머(B)의 상용성이 좋은 것은, 점착제층 내에 있어서의 폴리머(B)의 이동성 향상을 통하여, 초기 점착력의 저감 및 가열 후 점착력의 향상에 기여할 수 있으므로 바람직하다. 또한, 분자 설계의 자유도가 높은 아크릴계 폴리머는, 점착 특성, 굴곡 회복성 및 굴곡 유지력을 밸런스 좋게 개선할 수 있는 점착제 재료로서 적합하다.As the polymer (A) in the reinforcing film disclosed herein, an acrylic polymer can be preferably employed. When an acrylic polymer is used as the polymer (A), good compatibility with the polymer (B) tends to be easily obtained. The good compatibility of the polymer (A) and the polymer (B) is preferable because it can contribute to the reduction of the initial adhesive force and the improvement of the adhesive force after heating through the improvement of the mobility of the polymer (B) in the adhesive layer. In addition, an acrylic polymer having a high degree of freedom in molecular design is suitable as an adhesive material capable of improving adhesive properties, bending recovery and bending holding power in a well-balanced manner.
아크릴계 폴리머는, 예를 들어 (메트)아크릴산알킬에스테르에서 유래되는 모노머 단위를 50중량% 이상 함유하는 폴리머, 즉 해당 아크릴계 폴리머를 조제하기 위한 모노머 성분(모노머 원료 A)의 전량 중 50중량% 이상이 (메트)아크릴산알킬에스테르인 폴리머일 수 있다. (메트)아크릴산알킬에스테르로서는, 탄소수 1 내지 20의(즉, C1-20의) 직쇄 또는 분지쇄상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르가 바람직하게 사용될 수 있다. 특성의 균형을 잡기 쉽다는 점에서, 모노머 원료 A 중 (메트)아크릴산 C1-20 알킬에스테르의 비율은, 예를 들어 50중량% 이상이어도 되고, 60중량% 이상이어도 된다. 몇몇 바람직한 양태에서는, 모노머 원료 A 중 (메트)아크릴산 C1-20 알킬에스테르의 비율은, 70중량% 이상이고, 보다 바람직하게는 80중량% 이상, 더욱 바람직하게는 85중량% 이상, 특히 바람직하게는 90중량% 이상이다. 이러한 모노머 조성의 아크릴계 폴리머를 사용함으로써, 점착력 상승과, 굴곡 회복성 및 굴곡 유지력을 밸런스 좋게 양립시키는 점착제가 얻어지기 쉽다. 모노머 원료 A 중 (메트)아크릴산 C1-20 알킬에스테르의 비율은, 예를 들어 99.9중량% 이하여도 되고, 98중량% 이하여도 되고, 95중량% 이하여도 된다. 몇몇 양태에 있어서, 모노머 원료 A 중 (메트)아크릴산 C1-20 알킬에스테르의 비율은, 예를 들어 90중량% 이하여도 되고, 85중량% 이하여도 되고, 80중량% 이하여도 된다.The acrylic polymer is, for example, a polymer containing 50% by weight or more of a monomer unit derived from an alkyl (meth)acrylate, that is, 50% by weight or more of the total amount of the monomer component (monomer raw material A) for preparing the acrylic polymer It may be a polymer that is a (meth)acrylic acid alkyl ester. As the (meth)acrylic acid alkyl ester, a (meth)acrylic acid alkyl ester having a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (ie, C 1-20 ) can be preferably used. From the viewpoint of easy balancing of properties, the ratio of C 1-20 alkyl ester of (meth)acrylic acid in the monomer raw material A may be, for example, 50% by weight or more, or 60% by weight or more. In some preferred embodiments, the proportion of (meth)acrylic acid C 1-20 alkyl ester in the monomer raw material A is 70% by weight or more, more preferably 80% by weight or more, still more preferably 85% by weight or more, particularly preferably is 90% by weight or more. By using an acrylic polymer having such a monomer composition, it is easy to obtain an adhesive that achieves both an increase in adhesive strength, bending recovery and bending holding power in a well-balanced manner. The proportion of the (meth)acrylic acid C 1-20 alkyl ester in the monomer raw material A may be, for example, 99.9% by weight or less, 98% by weight or less, or 95% by weight or less. In some embodiments, the proportion of (meth)acrylic acid C 1-20 alkyl ester in the monomer raw material A may be, for example, 90% by weight or less, 85% by weight or less, or 80% by weight or less.
(메트)아크릴산 C1-20 알킬에스테르의 비한정적인 구체예로서는, (메트)아크릴산메틸, (메트)아크릴산에틸, (메트)아크릴산프로필, (메트)아크릴산이소프로필, (메트)아크릴산n-부틸, (메트)아크릴산이소부틸, (메트)아크릴산s-부틸, (메트)아크릴산t-부틸, (메트)아크릴산펜틸, (메트)아크릴산이소펜틸, (메트)아크릴산헥실, (메트)아크릴산헵틸, (메트)아크릴산옥틸, (메트)아크릴산2-에틸헥실, (메트)아크릴산이소옥틸, (메트)아크릴산노닐, (메트)아크릴산이소노닐, (메트)아크릴산데실, (메트)아크릴산이소데실, (메트)아크릴산운데실, (메트)아크릴산도데실, (메트)아크릴산트리데실, (메트)아크릴산테트라데실, (메트)아크릴산펜타데실, (메트)아크릴산헥사데실, (메트)아크릴산헵타데실, (메트)아크릴산스테아릴, (메트)아크릴산이소스테아릴, (메트)아크릴산노나데실, (메트)아크릴산에이코실 등을 들 수 있다.Non-limiting examples of the (meth)acrylic acid C 1-20 alkyl ester include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, isopropyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, Isobutyl (meth)acrylate, s-butyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, isopentyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, heptyl (meth)acrylate, (meth)acrylate ) Octyl acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, nonyl (meth)acrylate, isononyl (meth)acrylate, decyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate, (meth) Undecyl acrylate, dodecyl (meth)acrylate, tridecyl (meth)acrylate, tetradecyl (meth)acrylate, pentadecyl (meth)acrylate, hexadecyl (meth)acrylate, heptadecyl (meth)acrylate, (meth)acrylic acid stearyl, isostearyl (meth)acrylate, nonadecyl (meth)acrylate, eicosyl (meth)acrylate, and the like.
이들 중 적어도 (메트)아크릴산 C1-18 알킬에스테르를 사용하는 것이 바람직하고, 적어도 (메트)아크릴산 C1-14 알킬에스테르를 사용하는 것이 보다 바람직하다. 몇몇 양태에 있어서, 아크릴계 폴리머는, (메트)아크릴산 C4-12 알킬에스테르(바람직하게는 아크릴산 C4-10 알킬에스테르, 예를 들어 아크릴산 C6-10 알킬에스테르)에서 선택되는 적어도 1종을 모노머 단위로서 함유할 수 있다. 예를 들어, 아크릴산n-부틸(BA) 및 아크릴산2-에틸헥실(2EHA) 중 한쪽 또는 양쪽을 포함하는 아크릴계 폴리머가 바람직하고, 적어도 2EHA를 포함하는 아크릴계 폴리머가 특히 바람직하다.Among these, at least a (meth)acrylic acid C 1-18 alkyl ester is preferably used, and at least a (meth)acrylic acid C 1-14 alkyl ester is more preferably used. In some embodiments, the acrylic polymer is a monomer of at least one selected from (meth)acrylic acid C 4-12 alkyl esters (preferably acrylic acid C 4-10 alkyl esters, for example, acrylic acid C 6-10 alkyl esters). It can be contained as a unit. For example, an acrylic polymer containing one or both of n-butyl (BA) acrylate and 2-ethylhexyl (2EHA) acrylate is preferred, and an acrylic polymer containing at least 2EHA is particularly preferred.
몇몇 바람직한 양태에 있어서, 아크릴계 폴리머를 조제하기 위한 모노머 원료 A 중 아크릴산 C6-10 알킬에스테르(적합하게는 아크릴산 C8-9 알킬에스테르, 전형적으로는 2EHA)의 비율은, 70중량% 이상이며, 보다 바람직하게는 80중량% 이상, 더욱 바람직하게는 85중량% 이상, 특히 바람직하게는 90중량% 이상이다. 이러한 모노머 조성의 아크릴계 폴리머는, 여기에 개시되는 기술에 의한 효과의 실현에 특히 적합하다. 또한, 모노머 원료 A 중 아크릴산 C6-10 알킬에스테르(적합하게는 아크릴산 C8-9 알킬에스테르, 전형적으로는 2EHA)의 비율은, 예를 들어 99.9중량% 이하여도 되고, 초기의 저점착력, 굴곡 회복성 등의 관점에서, 98중량% 이하여도 되고, 95중량% 이하여도 된다.In some preferred embodiments, the proportion of acrylic acid C 6-10 alkyl ester (preferably acrylic acid C 8-9 alkyl ester, typically 2EHA) in the monomer raw material A for preparing the acrylic polymer is 70% by weight or more, More preferably, it is 80 wt% or more, still more preferably 85 wt% or more, and particularly preferably 90 wt% or more. Acrylic polymers of such a monomer composition are particularly suitable for realizing the effect of the technique disclosed herein. In addition, the proportion of C 6-10 alkyl ester of acrylic acid (preferably C 8-9 alkyl ester of acrylic acid, typically 2EHA) in the monomer raw material A may be, for example, 99.9% by weight or less, and the initial low adhesive strength and bending From the standpoint of recoverability or the like, it may be 98% by weight or less, or 95% by weight or less.
또한, 몇몇 바람직한 양태에 있어서, 아크릴계 폴리머를 조제하기 위한 모노머 원료 A 중, (메트)아크릴산 C1-3 알킬에스테르(예를 들어 (메트)아크릴산 C1 알킬에스테르, 전형적으로는 메타크릴산메틸(MMA))의 비율이 제한되어 있는 것이 바람직하다. (메트)아크릴산 C1-3 알킬에스테르(예를 들어 (메트)아크릴산 C1 알킬에스테르, 전형적으로는 MMA)는, Tg가 상대적으로 높은 경향이 있어, 상기 모노머 성분을 사용한 아크릴계 폴리머를 포함하는 점착제는, 응집성이 높아지는 경향이 있다. (메트)아크릴산 C1-3 알킬에스테르의 사용량을 제한함으로써, 점착제의 응집력을 적절하게 저감하여, 굴곡 유지력이나 점착력 상승의 양립에 적합한 탄성률(전형적으로는 표면 탄성률)을 바람직하게 실현할 수 있다. 그와 같은 관점에서, 상기 모노머 원료 A 중 (메트)아크릴산 C1-3 알킬에스테르(예를 들어 (메트)아크릴산 C1 알킬에스테르, 전형적으로는 MMA)의 비율은, 8중량% 이하로 하는 것이 적당하고, 바람직하게는 6중량% 이하, 보다 바람직하게는 3중량% 이하, 더욱 바람직하게는 1중량% 이하(예를 들어 0 내지 0.3중량%)이다.In some preferred embodiments, among the monomer raw materials A for preparing acrylic polymers, (meth)acrylic acid C 1-3 alkyl esters (eg (meth)acrylic acid C 1 alkyl esters, typically methyl methacrylate ( It is preferred that the proportion of MMA)) is limited. (Meth)acrylic acid C 1-3 alkyl ester (for example, (meth)acrylic acid C 1 alkyl ester, typically MMA) tends to have a relatively high Tg, so an adhesive comprising an acrylic polymer using the above monomer component , the cohesiveness tends to increase. By limiting the amount of (meth)acrylic acid C 1-3 alkyl ester used, the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive is appropriately reduced, and the elastic modulus (typically, the surface elastic modulus) suitable for coexistence of flexural holding force and increase in adhesive force can be preferably realized. From such a viewpoint, the proportion of (meth)acrylic acid C 1-3 alkyl ester (for example, (meth)acrylic acid C 1 alkyl ester, typically MMA) in the monomer raw material A is 8% by weight or less. It is suitable, Preferably it is 6 weight% or less, More preferably, it is 3 weight% or less, Still more preferably, it is 1 weight% or less (for example, 0 to 0.3 weight%).
모노머 원료 A는, 주성분으로서의 (메트)아크릴산알킬에스테르와 함께, 필요에 따라서, (메트)아크릴산알킬에스테르와 공중합 가능한 다른 모노머(공중합성 모노머)를 포함하고 있어도 된다. 공중합성 모노머로서는, 극성기(예를 들어, 카르복시기, 수산기, 질소 원자 함유 환 등)를 갖는 모노머를 적합하게 사용할 수 있다. 극성기를 갖는 모노머는, 아크릴계 폴리머에 가교점을 도입하거나, 아크릴계 폴리머의 응집력을 높이거나 하기 위해 도움이 될 수 있다. 공중합성 모노머는, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The monomer raw material A may contain other monomers (copolymerizable monomers) that can be copolymerized with the (meth)acrylic acid alkyl ester as necessary along with the (meth)acrylic acid alkyl ester as the main component. As the copolymerizable monomer, a monomer having a polar group (for example, a carboxyl group, a hydroxyl group, a nitrogen atom-containing ring, etc.) can be suitably used. A monomer having a polar group may be useful for introducing a crosslinking point into the acrylic polymer or increasing the cohesive force of the acrylic polymer. A copolymerizable monomer can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
공중합성 모노머의 비한정적인 구체예로서는, 이하의 것을 들 수 있다.Non-limiting specific examples of the copolymerizable monomer include the following.
수산기 함유 모노머: 예를 들어, (메트)아크릴산2-히드록시에틸, (메트)아크릴산2-히드록시프로필, (메트)아크릴산2-히드록시부틸, (메트)아크릴산3-히드록시프로필, (메트)아크릴산4-히드록시부틸, (메트)아크릴산6-히드록시헥실, (메트)아크릴산8-히드록시옥틸, (메트)아크릴산10-히드록시데실, (메트)아크릴산12-히드록시라우릴, (4-히드록시메틸시클로헥실)메틸(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산히드록시알킬 등.Hydroxyl group-containing monomers: For example, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, (meth)acrylate ) 4-hydroxybutyl acrylate, (meth)acrylate 6-hydroxyhexyl, (meth)acrylate 8-hydroxyoctyl, (meth)acrylate 10-hydroxydecyl, (meth)acrylate 12-hydroxylauryl, ( Hydroxyalkyl (meth)acrylates, such as 4-hydroxymethylcyclohexyl)methyl (meth)acrylate, etc.
질소 원자 함유 환을 갖는 모노머: 예를 들어, N-비닐-2-피롤리돈, N-메틸비닐피롤리돈, N-비닐피리딘, N-비닐피페리돈, N-비닐피리미딘, N-비닐피페라진, N-비닐피라진, N-비닐피롤, N-비닐이미다졸, N-비닐옥사졸, N-(메트)아크릴로일-2-피롤리돈, N-(메트)아크릴로일피페리딘, N-(메트)아크릴로일피롤리딘, N-(메트)아크릴로일모르폴린, N-비닐모르폴린, N-비닐-3-모르폴리논, N-비닐-2-카프로락탐, N-비닐-1,3-옥사진-2-온, N-비닐-3,5-모르폴린디온, N-비닐피라졸, N-비닐이소옥사졸, N-비닐티아졸, N-비닐이소티아졸, N-비닐피리다진 등;Monomers having nitrogen atom-containing rings: e.g., N-vinyl-2-pyrrolidone, N-methylvinylpyrrolidone, N-vinylpyridine, N-vinylpiperidone, N-vinylpyrimidine, N-vinyl Piperazine, N-vinylpyrazine, N-vinylpyrrole, N-vinylimidazole, N-vinyloxazole, N-(meth)acryloyl-2-pyrrolidone, N-(meth)acryloylpiperi Dean, N-(meth)acryloylpyrrolidine, N-(meth)acryloylmorpholine, N-vinylmorpholine, N-vinyl-3-morpholinone, N-vinyl-2-caprolactam, N -Vinyl-1,3-oxazin-2-one, N-vinyl-3,5-morpholindione, N-vinylpyrazole, N-vinylisoxazole, N-vinylthiazole, N-vinylisothiazole , N-vinylpyridazine, etc.;
예를 들어, N-(메트)아크릴로일옥시메틸렌숙신이미드, N-(메트)아크릴로일-6-옥시헥사메틸렌숙신이미드, N-(메트)아크릴로일-8-옥시헥사메틸렌숙신이미드 등의, 숙신이미드 골격을 갖는 모노머;For example, N-(meth)acryloyloxymethylenesuccinimide, N-(meth)acryloyl-6-oxyhexamethylenesuccinimide, N-(meth)acryloyl-8-oxyhexamethylene monomers having a succinimide skeleton such as succinimide;
예를 들어, N-시클로헥실말레이미드, N-이소프로필말레이미드, N-라우릴말레이미드, N-페닐말레이미드 등의, 말레이미드류; 및,For example, maleimides, such as N-cyclohexyl maleimide, N-isopropyl maleimide, N-lauryl maleimide, and N-phenyl maleimide; and,
예를 들어, N-메틸이타콘이미드, N-에틸이타콘이미드, N-부틸이타콘이미드, N-옥틸이타콘이미드, N-2-에틸헥실이타콘이미드, N-시클로헥실이타콘이미드, N-라우릴이타콘이미드 등의, 이타콘이미드류.For example, N-methyl itaconimide, N-ethyl itaconimide, N-butyl itaconimide, N-octyl itaconimide, N-2-ethylhexyl itaconimide, N-cyclo Itaconimides, such as hexyl itaconimide and N-lauryl itaconimide;
카르복시기 함유 모노머: 예를 들어, 아크릴산, 메타크릴산, 카르복시에틸아크릴레이트, 카르복시펜틸아크릴레이트, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 크로톤산, 이소크로톤산 등.Carboxy group-containing monomers: For example, acrylic acid, methacrylic acid, carboxyethyl acrylate, carboxypentyl acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, isocrotonic acid and the like.
산 무수물기 함유 모노머: 예를 들어, 무수 말레산, 무수 이타콘산.Monomers containing acid anhydride groups: eg maleic anhydride, itaconic anhydride.
에폭시기 함유 모노머: 예를 들어, (메트)아크릴산글리시딜이나 (메트)아크릴산-2-에틸글리시딜에테르 등의 에폭시기 함유 아크릴레이트, 알릴글리시딜에테르, (메트)아크릴산글리시딜에테르 등.Epoxy group-containing monomers: For example, epoxy group-containing acrylates such as glycidyl (meth)acrylate and 2-ethylglycidyl ether (meth)acrylate, allyl glycidyl ether, glycidyl (meth)acrylate, etc. .
시아노기 함유 모노머: 예를 들어, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등.Cyano group-containing monomers: eg, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.
이소시아네이트기 함유 모노머: 예를 들어, 2-이소시아나토에틸(메트)아크릴레이트 등.Isocyanate group-containing monomers: For example, 2-isocyanatoethyl (meth)acrylate and the like.
아미드기 함유 모노머: 예를 들어, (메트)아크릴아미드; N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N,N-디에틸(메트)아크릴아미드, N,N-디프로필(메트)아크릴아미드, N,N-디이소프로필(메트)아크릴아미드, N,N-디(n-부틸)(메트)아크릴아미드, N,N-디(t-부틸)(메트)아크릴아미드 등의 N,N-디알킬(메트)아크릴아미드; N-에틸(메트)아크릴아미드, N-이소프로필(메트)아크릴아미드, N-부틸(메트)아크릴아미드, N-n-부틸(메트)아크릴아미드 등의 N-알킬(메트)아크릴아미드; N-비닐아세트아미드 등의 N-비닐카르복실산아미드류; 수산기와 아미드기를 갖는 모노머, 예를 들어 N-(2-히드록시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-히드록시프로필)(메트)아크릴아미드, N-(1-히드록시프로필)(메트)아크릴아미드, N-(3-히드록시프로필)(메트)아크릴아미드, N-(2-히드록시부틸)(메트)아크릴아미드, N-(3-히드록시부틸)(메트)아크릴아미드, N-(4-히드록시부틸)(메트)아크릴아미드 등의 N-히드록시알킬(메트)아크릴아미드; 알콕시기와 아미드기를 갖는 모노머, 예를 들어 N-메톡시메틸(메트)아크릴아미드, N-메톡시에틸(메트)아크릴아미드, N-부톡시메틸(메트)아크릴아미드 등의 N-알콕시알킬(메트)아크릴아미드; 그 밖에, N,N-디메틸아미노프로필(메트)아크릴아미드 등.Amide group-containing monomers: eg (meth)acrylamide; N,N-dimethyl(meth)acrylamide, N,N-diethyl(meth)acrylamide, N,N-dipropyl(meth)acrylamide, N,N-diisopropyl(meth)acrylamide, N, N,N-dialkyl (meth)acrylamides such as N-di(n-butyl)(meth)acrylamide and N,N-di(t-butyl)(meth)acrylamide; N-alkyl (meth)acrylamides such as N-ethyl (meth)acrylamide, N-isopropyl (meth)acrylamide, N-butyl (meth)acrylamide, and N-n-butyl (meth)acrylamide; N-vinyl carboxylic acid amides such as N-vinylacetamide; A monomer having a hydroxyl group and an amide group, such as N-(2-hydroxyethyl)(meth)acrylamide, N-(2-hydroxypropyl)(meth)acrylamide, N-(1-hydroxypropyl)( Meth)acrylamide, N-(3-hydroxypropyl)(meth)acrylamide, N-(2-hydroxybutyl)(meth)acrylamide, N-(3-hydroxybutyl)(meth)acrylamide, N-hydroxyalkyl (meth)acrylamides such as N-(4-hydroxybutyl)(meth)acrylamide; A monomer having an alkoxy group and an amide group, for example, N-alkoxyalkyl (meth)acrylamide such as N-methoxymethyl (meth)acrylamide, N-methoxyethyl (meth)acrylamide, and N-butoxymethyl (meth)acrylamide ) acrylamide; In addition, N,N-dimethylaminopropyl (meth)acrylamide and the like.
(메트)아크릴산아미노알킬류: 예를 들어, (메트)아크릴산아미노에틸, (메트)아크릴산N,N-디메틸아미노에틸, (메트)아크릴산N,N-디에틸아미노에틸, (메트)아크릴산t-부틸아미노에틸.Aminoalkyl (meth)acrylates: For example, aminoethyl (meth)acrylate, N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate, N,N-diethylaminoethyl (meth)acrylate, t- (meth)acrylate Butylaminoethyl.
알콕시기 함유 모노머: 예를 들어, (메트)아크릴산2-메톡시에틸, (메트)아크릴산3-메톡시프로필, (메트)아크릴산2-에톡시에틸, (메트)아크릴산프로폭시에틸, (메트)아크릴산부톡시에틸, (메트)아크릴산에톡시프로필 등의, (메트)아크릴산알콕시알킬류; (메트)아크릴산메톡시에틸렌글리콜, (메트)아크릴산메톡시폴리프로필렌글리콜 등의, (메트)아크릴산알콕시알킬렌글리콜류.Alkoxy group-containing monomers: For example, 2-methoxyethyl (meth)acrylate, 3-methoxypropyl (meth)acrylate, 2-ethoxyethyl (meth)acrylate, propoxyethyl (meth)acrylate, (meth) alkoxyalkyl (meth)acrylates such as butoxyethyl acrylate and ethoxypropyl (meth)acrylate; (meth)acrylate alkoxyalkylene glycols such as methoxyethylene glycol (meth)acrylate and methoxypolypropylene glycol (meth)acrylate.
술폰산기 또는 인산기를 함유하는 모노머: 예를 들어, 스티렌술폰산, 알릴술폰산, 비닐술폰산나트륨, 2-(메트)아크릴아미드-2-메틸프로판술폰산, (메트)아크릴아미도프로판술폰산, 술포프로필(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴로일옥시나프탈렌술폰산, 2-히드록시에틸아크릴로일포스페이트 등.Monomers containing sulfonic acid groups or phosphoric acid groups: For example, styrenesulfonic acid, allylsulfonic acid, sodium vinylsulfonate, 2-(meth)acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid, (meth)acrylamidopropanesulfonic acid, sulfopropyl (meth) ) Acrylates, (meth)acryloyloxynaphthalenesulfonic acid, 2-hydroxyethylacryloylphosphate, etc.
지환식 탄화수소기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르: 예를 들어, 시클로펜틸 (메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트 등.(meth)acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group: For example, cyclopentyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate and the like.
방향족 탄화수소기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르: 예를 들어, 페닐(메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트 등.(meth)acrylic acid ester having an aromatic hydrocarbon group: For example, phenyl (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate and the like.
비닐에테르류: 예를 들어, 메틸비닐에테르나 에틸비닐에테르 등의 비닐알킬에테르.Vinyl ethers: For example, vinyl alkyl ethers such as methyl vinyl ether and ethyl vinyl ether.
비닐에스테르류: 예를 들어, 아세트산비닐, 프로피온산비닐 등.Vinyl esters: For example, vinyl acetate, vinyl propionate, etc.
방향족 비닐 화합물: 예를 들어, 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔 등.Aromatic vinyl compounds: For example, styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene and the like.
올레핀류: 예를 들어, 에틸렌, 부타디엔, 이소프렌, 이소부틸렌 등.Olefins: For example, ethylene, butadiene, isoprene, isobutylene, etc.
그 밖에, (메트)아크릴산테트라히드로푸르푸릴 등의 복소환 함유 (메트)아크릴레이트, 염화비닐이나 불소 원자 함유 (메트)아크릴레이트 등의 할로겐 원자 함유 (메트)아크릴레이트, 실리콘(메트)아크릴레이트 등의 규소 원자 함유 (메트)아크릴레이트, 테르펜 화합물 유도체 알코올에서 얻어지는 (메트)아크릴산에스테르 등.In addition, heterocyclic-containing (meth)acrylates such as tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, halogen atom-containing (meth)acrylates such as vinyl chloride and fluorine atom-containing (meth)acrylates, and silicone (meth)acrylates silicon atom-containing (meth)acrylates such as the like, (meth)acrylic acid esters obtained from terpene compound derivative alcohols, and the like.
이와 같은 공중합성 모노머를 사용하는 경우, 그 사용량은 특별히 한정되지는 않지만, 통상은 모노머 원료 A의 0.01중량% 이상으로 하는 것이 적당하다. 공중합성 모노머의 사용에 의한 효과를 보다 잘 발휘한다는 관점에서, 공중합성 모노머의 사용량을 모노머 원료 A의 0.1중량% 이상으로 해도 되고, 1중량% 이상으로 해도 된다. 몇몇 바람직한 양태에서는, 모노머 원료 A 중의 공중합성 모노머의 함유량은, 3중량% 이상이며, 보다 바람직하게는 5중량% 이상, 더욱 바람직하게는 7중량% 이상(예를 들어 8중량% 이상)이다. 공중합성 모노머의 사용량이 많아질수록, 응집성이 높아져, 굴곡 회복성이 향상되는 경향이 있다. 또한, 공중합성 모노머의 사용량은, 모노머 원료 A의 50중량% 이하로 할 수 있고, 30중량% 이하로 하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 점착제의 응집력이 너무 높아지는 것을 방지하여, 상온(25℃)에서의 태크감을 향상시킬 수 있다. 몇몇 바람직한 양태에 있어서, 공중합성 모노머의 사용량은, 모노머 원료 A의 20중량% 이하이며, 보다 바람직하게는 15중량% 이하(예를 들어 12중량% 이하)이고, 10중량% 이하여도 된다. 공중합성 모노머의 사용량을 제한함으로써, 점착제의 응집력이 저하되고, 탄성률(전형적으로는 표면 탄성률)이 적합한 범위가 되어, 우수한 굴곡 유지력이 얻어지기 쉽고, 점착력 상승을 실현하기 쉽다.When such a copolymerizable monomer is used, the amount used is not particularly limited, but it is usually appropriate to set it as 0.01% by weight or more of the monomer raw material A. From the viewpoint of better exhibiting the effect of using the copolymerizable monomer, the amount of the copolymerizable monomer may be 0.1% by weight or more, or 1% by weight or more of the monomer raw material A. In some preferred embodiments, the content of the copolymerizable monomer in the monomer raw material A is 3% by weight or more, more preferably 5% by weight or more, still more preferably 7% by weight or more (eg 8% by weight or more). As the amount of the copolymerizable monomer increases, the cohesiveness increases and the bending recovery tends to improve. In addition, the usage amount of the copolymerizable monomer can be 50% by weight or less of the monomer raw material A, and it is preferable to be 30% by weight or less. Thereby, it is possible to prevent the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive from being too high, and to improve the tackiness at room temperature (25°C). In some preferred embodiments, the amount of the copolymerizable monomer used is 20% by weight or less of the monomer raw material A, more preferably 15% by weight or less (for example, 12% by weight or less), and may be 10% by weight or less. By limiting the amount of the copolymerizable monomer used, the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive is reduced, the elastic modulus (typically, the surface elastic modulus) is within a suitable range, and excellent bending holding power is easily obtained, and an increase in adhesive force is easy to be realized.
몇몇 양태에 있어서, 모노머 원료 A는, 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머를 포함할 수 있다. 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머의 사용에 의해, 점착제의 응집력이나 극성을 조정하여, 가열 후의 점착력을 적합하게 향상시킬 수 있다. 모노머 원료 A에 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머를 포함시킴으로써, 상기 모노머 원료 A로 형성된 폴리머(A)와, 상기 폴리머(B)의 상용성이 향상되는 경향이 있다. 이에 의해, 가열로 점착력을 크게 상승시킬 수 있는 보강용 필름이 얻어지기 쉬워진다.In some embodiments, the monomer source A may include a monomer having a nitrogen atom-containing ring. By using a monomer having a nitrogen atom-containing ring, the adhesive force after heating can be suitably improved by adjusting the cohesive force and polarity of the pressure-sensitive adhesive. By including a monomer having a nitrogen atom-containing ring in the monomer raw material A, compatibility between the polymer (A) formed from the monomer raw material A and the polymer (B) tends to be improved. Thereby, it becomes easy to obtain the reinforcing film which can raise adhesive force large by heating.
질소 원자 함유 환을 갖는 모노머는, 예를 들어 상기 예시 중에서 적절히 선택하여, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 몇몇 양태에 있어서, 모노머 원료 A는, 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머로서, N-비닐 환상 아미드, 및 (메트)아크릴로일기를 갖는 환상 아미드로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 모노머를 함유하는 것이 바람직하다.The monomers having a nitrogen atom-containing ring can be appropriately selected from the above examples and used singly or in combination of two or more. In some embodiments, the monomer raw material A contains, as a monomer having a nitrogen atom-containing ring, at least one monomer selected from the group consisting of N-vinyl cyclic amides and cyclic amides having a (meth)acryloyl group. it is desirable
N-비닐 환상 아미드의 구체예로서는, N-비닐-2-피롤리돈, N-비닐-2-피페리돈, N-비닐-3-모르폴리논, N-비닐-2-카프로락탐, N-비닐-1,3-옥사진-2-온, N-비닐-3,5-모르폴린디온 등을 들 수 있다. 특히 바람직하게는 N-비닐-2-피롤리돈, N-비닐-2-카프로락탐이다.Specific examples of the N-vinyl cyclic amide include N-vinyl-2-pyrrolidone, N-vinyl-2-piperidone, N-vinyl-3-morpholinone, N-vinyl-2-caprolactam, and N-vinyl -1,3-oxazin-2-one, N-vinyl-3,5-morpholinedione, etc. are mentioned. Particularly preferred are N-vinyl-2-pyrrolidone and N-vinyl-2-caprolactam.
(메트)아크릴로일기를 갖는 환상 아미드의 구체예로서는, N-(메트)아크릴로일-2-피롤리돈, N-(메트)아크릴로일피페리딘, N-(메트)아크릴로일피롤리딘, N-(메트)아크릴로일모르폴린 등을 들 수 있다. 적합예로서는, N-아크릴로일모르폴린(ACMO)을 들 수 있다.Specific examples of the cyclic amide having a (meth)acryloyl group include N-(meth)acryloyl-2-pyrrolidone, N-(meth)acryloylpiperidine, and N-(meth)acryloylpyrrolidine. , N-(meth)acryloylmorpholine, etc. are mentioned. As a suitable example, N-acryloylmorpholine (ACMO) is mentioned.
질소 원자 함유 환을 갖는 모노머의 사용량은, 특별히 제한되지는 않고, 통상, 모노머 원료 A의 40중량% 이하로 하는 것이 적당하고, 30중량% 이하로 해도 되고, 20중량% 이하로 해도 되고, 10중량% 이하로 해도 된다. 몇몇 바람직한 양태에서는, 응집력을 낮추어 탄성률(전형적으로는 표면 탄성률)을 저하시키는 관점에서, 모노머 원료 A 중, 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머의 함유량은, 7중량% 이하이며, 보다 바람직하게는 5중량% 이하, 더욱 바람직하게는 3중량% 이하(예를 들어 1.5중량% 이하)이다. 또한, 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머의 사용량은, 통상, 모노머 원료 A의 0.01중량% 이상(바람직하게는 0.1중량% 이상, 예를 들어 0.5중량% 이상)으로 하는 것이 적당하다. 적당한 응집력, 탄성률을 얻는 관점에서, 몇몇 양태에 있어서, 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머의 사용량은, 모노머 원료 A의 0.8중량% 이상으로 해도 되고, 1.0중량% 이상으로 해도 된다.The amount of the monomer having a nitrogen atom-containing ring is not particularly limited, and is usually suitably 40% by weight or less, 30% by weight or less, or 20% by weight or less of the monomer raw material A, or 10% by weight or less. It is good also as weight% or less. In some preferred embodiments, from the viewpoint of lowering the cohesive force and lowering the elastic modulus (typically, the surface elastic modulus), the content of the monomer having a nitrogen atom-containing ring in the monomer raw material A is 7% by weight or less, more preferably 5% by weight % or less, more preferably 3% by weight or less (for example, 1.5% by weight or less). The amount of the monomer having a nitrogen atom-containing ring is usually suitably 0.01% by weight or more (preferably 0.1% by weight or more, for example 0.5% by weight or more) of the monomer raw material A. From the viewpoint of obtaining appropriate cohesive force and elastic modulus, in some embodiments, the amount of the monomer having a nitrogen atom-containing ring may be 0.8% by weight or more, or 1.0% by weight or more of the monomer raw material A.
몇몇 바람직한 양태에 있어서, 모노머 원료 A는, 수산기 함유 모노머를 포함한다. 수산기 함유 모노머의 사용에 의해, 점착제의 응집력이나 극성, 나아가서는 탄성률(전형적으로는 표면 탄성률)을 조정하여, 여기에 개시되는 기술에 의한 효과를 바람직하게 실현할 수 있다. 또한, 수산기 함유 모노머는, 후술하는 가교제(예를 들어, 이소시아네이트계 가교제)와의 반응점을 제공하고, 가교 반응에 의해 점착제의 응집력을 높일 수 있다.In some preferred embodiments, the monomer raw material A contains a hydroxyl group-containing monomer. By using the hydroxyl group-containing monomer, the cohesive force and polarity of the pressure-sensitive adhesive, as well as the elastic modulus (typically the surface elastic modulus) can be adjusted, and the effect of the technique disclosed herein can be preferably realized. In addition, the hydroxyl group-containing monomer provides a reaction point with a crosslinking agent (for example, an isocyanate-based crosslinking agent) described later, and can increase the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive through a crosslinking reaction.
수산기 함유 모노머로서는, (메트)아크릴산2-히드록시에틸, (메트)아크릴산4-히드록시부틸, (메트)아크릴산6-히드록시헥실, N-(2-히드록시에틸)(메트)아크릴아미드 등을 적합하게 사용할 수 있다. 그 중에서도 바람직한 예로서, 아크릴산2-히드록시에틸(HEA), 아크릴산4-히드록시부틸(4HBA), N-(2-히드록시에틸)아크릴아미드(HEAA)를 들 수 있다. 굴곡 회복성 및 굴곡 유지력에 적합한 응집력을 얻는 관점에서, 4HBA가 특히 바람직하다.As the hydroxyl group-containing monomer, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, N-(2-hydroxyethyl) (meth)acrylamide, etc. can be used suitably. Preferred examples thereof include 2-hydroxyethyl acrylate (HEA), 4-hydroxybutyl acrylate (4HBA), and N-(2-hydroxyethyl)acrylamide (HEAA). From the viewpoint of obtaining cohesive force suitable for bending recovery and bending holding power, 4HBA is particularly preferred.
수산기 함유 모노머의 사용량은, 특별히 제한되지는 않고, 통상, 모노머 원료 A의 40중량% 이하로 하는 것이 적당하고, 30중량% 이하로 해도 되고, 20중량% 이하로 해도 된다. 몇몇 바람직한 양태에서는, 응집력, 나아가서는 탄성률(전형적으로는 표면 탄성률)을 저하시키는 관점에서, 모노머 원료 A 중, 수산기 함유 모노머의 함유량은, 15중량% 이하이며, 보다 바람직하게는 12중량% 이하(예를 들어 10중량% 이하)이다. 수산기 함유 모노머의 사용량을 제한함으로써, 폴리머(B)의 점착제층 내에서의 이동성이 향상되어, 점착력 상승을 실현하기 쉽다. 다른 몇몇 양태에 있어서, 수산기 함유 모노머의 함유량은, 모노머 원료 A의 5중량% 이하로 해도 된다. 또한, 수산기 함유 모노머의 사용량은, 모노머 원료 A의 0.01중량% 이상(바람직하게는 0.1중량% 이상, 예를 들어 0.5중량% 이상)으로 하는 것이 적당하다. 적당한 응집력, 탄성률을 얻는 관점에서, 몇몇 바람직한 양태에 있어서, 수산기 함유 모노머의 사용량은, 모노머 원료 A의 1중량% 이상이며, 보다 바람직하게는 3중량% 이상, 더욱 바람직하게는 5중량% 이상, 특히 바람직하게는 7중량% 이상(예를 들어 8중량% 이상)이다.The amount of the hydroxyl group-containing monomer used is not particularly limited, and is usually suitably 40% by weight or less, 30% by weight or less, or 20% by weight or less of the monomer raw material A. In some preferred embodiments, from the viewpoint of reducing the cohesive force and thus the elastic modulus (typically the surface elastic modulus), the content of the hydroxyl group-containing monomer in the monomer raw material A is 15% by weight or less, more preferably 12% by weight or less ( For example, 10% by weight or less). By limiting the amount of the hydroxyl group-containing monomer used, the mobility of the polymer (B) in the pressure-sensitive adhesive layer is improved, and it is easy to realize an increase in adhesive force. In some other aspects, the content of the hydroxyl group-containing monomer may be 5% by weight or less of the monomer raw material A. In addition, it is appropriate that the amount of the hydroxyl group-containing monomer used is 0.01% by weight or more (preferably 0.1% by weight or more, for example 0.5% by weight or more) of the monomer raw material A. From the viewpoint of obtaining appropriate cohesive force and elastic modulus, in some preferred embodiments, the amount of the hydroxyl group-containing monomer used is 1% by weight or more of the monomer raw material A, more preferably 3% by weight or more, still more preferably 5% by weight or more, Especially preferably, it is 7 weight% or more (for example, 8 weight% or more).
몇몇 양태에 있어서, 공중합성 모노머로서, 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머와 수산기 함유 모노머를 병용할 수 있다. 이 경우, 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머와 수산기 함유 모노머의 합계량은, 예를 들어 모노머 원료 A의 0.1중량% 이상으로 할 수 있고, 바람직하게는 1중량% 이상, 보다 바람직하게는 3중량% 이상, 더욱 바람직하게는 5중량% 이상, 특히 바람직하게는 7중량% 이상(예를 들어 9중량% 이상)이며, 10중량% 이상으로 해도 되고, 15중량% 이상으로 해도 되고, 20중량% 이상으로 해도 되고, 25중량% 이상으로 해도 된다. 또한, 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머와 수산기 함유 모노머의 합계량은, 예를 들어 모노머 원료 A의 50중량% 이하로 할 수 있고, 30중량% 이하로 하는 것이 바람직하다. 몇몇 바람직한 양태에서는, 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머와 수산기 함유 모노머의 합계량은, 모노머 원료 A의 20중량% 이하이며, 보다 바람직하게는 15중량% 이하(예를 들어 12중량% 이하)이다.In some embodiments, as the copolymerizable monomer, a monomer having a nitrogen atom-containing ring and a hydroxyl group-containing monomer may be used in combination. In this case, the total amount of the monomer having a nitrogen atom-containing ring and the monomer containing a hydroxyl group can be, for example, 0.1% by weight or more of the monomer raw material A, preferably 1% by weight or more, more preferably 3% by weight or more. , More preferably 5% by weight or more, particularly preferably 7% by weight or more (for example, 9% by weight or more), may be 10% by weight or more, may be 15% by weight or more, may be 20% by weight or more It may be good, and it is good also as 25 weight% or more. In addition, the total amount of the monomer having a nitrogen atom-containing ring and the monomer containing a hydroxyl group can be, for example, 50% by weight or less, preferably 30% by weight or less, of the monomer raw material A. In some preferred embodiments, the total amount of the monomer having a nitrogen atom-containing ring and the monomer containing a hydroxyl group is 20% by weight or less, more preferably 15% by weight or less (for example, 12% by weight or less) of the monomer raw material A.
모노머 원료 A가 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머와 수산기 함유 모노머를 조합하여 포함하는 양태에 있어서, 해당 모노머 원료 A에 있어서의 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머의 함유량(WN)과 수산기 함유 모노머의 함유량(WOH)의 관계(중량 기준)는, 특별히 한정되지는 않는다. WN/WOH는, 예를 들어 0.01 이상이어도 되고, 통상은 0.05 이상이 적당하고, 0.10 이상이어도 되고, 0.12 이상이어도 된다. 또한, WN/WOH는, 예를 들어 10 이하여도 되고, 통상은 1 이하가 적당하고, 바람직하게는 0.50 이하이며, 0.30 이하여도 되고, 0.20 이하여도 되고, 0.15 이하여도 된다.Monomer raw material A is nitrogen In the aspect comprising a combination of a monomer having an atom-containing ring and a hydroxyl group-containing monomer, the content of the monomer having a nitrogen atom-containing ring in the monomer raw material A (W N ) and the content of the hydroxyl group-containing monomer (W OH ) The relationship (based on weight) is not particularly limited. W N /W OH may be, for example, 0.01 or more, usually 0.05 or more is suitable, 0.10 or more may be sufficient, and 0.12 or more may be sufficient as it. Further, W N /W OH may be, for example, 10 or less, and usually 1 or less is appropriate, preferably 0.50 or less, 0.30 or less, 0.20 or less, or 0.15 or less.
몇몇 양태에 있어서, 모노머 원료 A는, 후술하는 모노머 원료 B의 구성 성분으로서 바람직하게 사용되는 폴리오르가노실록산 골격을 갖는 모노머(모노머 S1)를 포함하지 않거나, 해당 모노머의 함유량이 모노머 원료 A의 10중량% 미만(보다 바람직하게는 5중량% 미만, 예를 들어 2중량% 미만)인 것이 바람직하다. 이와 같은 조성의 모노머 원료 A에 의하면, 초기의 리워크성과, 점착력 상승 후의 강점착성을 적합하게 양립시키는 보강용 필름이 적합하게 실현될 수 있다. 마찬가지의 이유로부터, 다른 몇몇 양태에 있어서, 모노머 원료 A는, 모노머 S1을 함유하지 않거나, 모노머 S1을 함유하는 경우에는 그 함유량(중량 기준)이 모노머 원료 B에 있어서의 모노머 S1의 함유량보다 낮은 것이 바람직하다.In some aspects, the monomer raw material A does not contain a monomer (monomer S1) having a polyorganosiloxane skeleton preferably used as a component of the monomer raw material B described later, or the content of the monomer is 10% of the monomer raw material A It is preferable that it is less than % by weight (more preferably less than 5% by weight, for example less than 2% by weight). According to the monomer raw material A of such a composition, the reinforcing film which satisfies the reworkability of an initial stage and the strong adhesiveness after an adhesive force increase suitably can be implement|achieved suitably. For the same reason, in some other aspects, the monomer raw material A does not contain monomer S1, or when it contains monomer S1, its content (by weight) is lower than the content of monomer S1 in monomer raw material B desirable.
폴리머(A)를 얻는 방법은 특별히 한정되지는 않고, 예를 들어 용액 중합법, 에멀션 중합법, 벌크 중합법, 현탁 중합법, 광중합법 등의, 각종 중합 방법을 적절히 채용할 수 있다. 몇몇 양태에 있어서, 용액 중합법을 바람직하게 채용할 수 있다. 용액 중합을 행할 때의 중합 온도는, 사용하는 모노머 및 용매의 종류, 중합 개시제의 종류 등에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 20℃ 내지 170℃ 정도(전형적으로는 40℃ 내지 140℃ 정도)로 할 수 있다.The method for obtaining the polymer (A) is not particularly limited, and various polymerization methods such as solution polymerization method, emulsion polymerization method, bulk polymerization method, suspension polymerization method, and photopolymerization method can be appropriately employed. In some embodiments, solution polymerization may be preferably employed. The polymerization temperature in solution polymerization can be appropriately selected according to the types of monomers and solvents used, the type of polymerization initiator, etc., and is, for example, about 20°C to 170°C (typically about 40°C to 140°C). can do.
중합에 사용하는 개시제는, 중합 방법에 따라, 종래 공지의 열중합 개시제나 광중합 개시제 등에서 적절하게 선택할 수 있다. 중합 개시제는, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The initiator used for polymerization can be appropriately selected from conventionally known thermal polymerization initiators, photopolymerization initiators, and the like, depending on the polymerization method. A polymerization initiator can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
열중합 개시제로서는, 예를 들어 아조계 중합 개시제(예를 들어, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스-2-메틸부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온산)디메틸, 4,4'-아조비스-4-시아노발레르산, 아조비스이소발레로니트릴, 2,2'-아조비스(2-아미디노프로판)디히드로클로라이드, 2,2'-아조비스[2-(5-메틸-2-이미다졸린-2-일)프로판]디히드로클로라이드, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온아미딘) 이황산염, 2,2'-아조비스(N,N'-디메틸렌이소부틸아미딘)디히드로클로라이드 등); 과황산칼륨 등의 과황산염; 과산화물계 중합 개시제(예를 들어, 디벤조일퍼옥시드, t-부틸퍼말레에이트, 과산화라우로일 등); 산화 환원계 중합 개시제 등을 들 수 있다. 열중합 개시제의 사용량은, 특별히 제한되지는 않지만, 예를 들어 폴리머(A)의 조제에 사용되는 모노머 성분(모노머 원료 A) 100중량부에 대하여 0.01중량부 내지 5중량부, 바람직하게는 0.05중량부 내지 3중량부의 범위 내의 양으로 할 수 있다.As the thermal polymerization initiator, for example, an azo polymerization initiator (eg, 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis-2-methylbutyronitrile, 2,2'-azo Bis(2-methylpropionic acid)dimethyl, 4,4'-azobis-4-cyanovaleric acid, azobisisovaleronitrile, 2,2'-azobis(2-amidinopropane) dihydrochloride, 2 ,2'-azobis[2-(5-methyl-2-imidazolin-2-yl)propane]dihydrochloride, 2,2'-azobis(2-methylpropionamidine) disulfate, 2, 2'-azobis(N,N'-dimethyleneisobutylamidine)dihydrochloride, etc.); persulfates such as potassium persulfate; peroxide polymerization initiators (for example, dibenzoyl peroxide, t-butyl permaleate, lauroyl peroxide, etc.); A redox type polymerization initiator etc. are mentioned. The amount of the thermal polymerization initiator used is not particularly limited, but is, for example, 0.01 to 5 parts by weight, preferably 0.05 parts by weight, based on 100 parts by weight of the monomer component (monomer raw material A) used in the preparation of the polymer (A). It can be set as an amount within the range of parts by weight to 3 parts by weight.
광중합 개시제로서는, 특별히 제한되지는 않지만, 예를 들어 벤조인에테르계 광중합 개시제, 아세토페논계 광중합 개시제, α-케톨계 광중합 개시제, 방향족 술포닐클로라이드계 광중합 개시제, 광 활성 옥심계 광중합 개시제, 벤조인계 광중합 개시제, 벤질계 광중합 개시제, 벤조페논계 광중합 개시제, 케탈계 광중합 개시제, 티오크산톤계 광중합 개시제, 아실포스핀옥시드계 광중합 개시제 등을 사용할 수 있다. 광중합 개시제의 사용량은, 특별히 제한되지는 않지만, 예를 들어 모노머 원료 A 100중량부에 대하여 0.01중량부 내지 5중량부, 바람직하게는 0.05중량부 내지 3중량부의 범위 내의 양으로 할 수 있다.The photopolymerization initiator is not particularly limited, but examples thereof include benzoin ether photopolymerization initiators, acetophenone photopolymerization initiators, α-ketol photopolymerization initiators, aromatic sulfonyl chloride photopolymerization initiators, photoactive oxime photopolymerization initiators, and benzoin photopolymerization initiators. A photopolymerization initiator, a benzyl-based photopolymerization initiator, a benzophenone-based photopolymerization initiator, a ketal-based photopolymerization initiator, a thioxanthone-based photopolymerization initiator, an acylphosphine oxide-based photopolymerization initiator, and the like can be used. The amount of the photopolymerization initiator used is not particularly limited, but may be, for example, 0.01 part by weight to 5 parts by weight, preferably 0.05 part by weight to 3 parts by weight, based on 100 parts by weight of the monomer raw material A.
몇몇 양태에 있어서, 폴리머(A)는, 상술한 바와 같은 모노머 원료 A에 중합 개시제를 배합한 혼합물에 자외선(UV)을 조사하여 해당 모노머 성분의 일부를 중합시킨 부분 중합물(폴리머 시럽)의 형태로, 점착제층을 형성하기 위한 점착제 조성물에 포함될 수 있다. 이러한 폴리머 시럽을 포함하는 점착제 조성물을 소정의 피 도포체에 도포하고, 자외선을 조사시켜 중합을 완결시킬 수 있다. 즉, 상기 폴리머 시럽은, 폴리머(A)의 전구체로서 파악될 수 있다. 여기에 개시되는 점착제층은, 예를 들어 상기 폴리머 시럽과 폴리머(B)를 포함하는 점착제 조성물을 사용하여 형성될 수 있다.In some embodiments, the polymer (A) is in the form of a partially polymerized product (polymer syrup) obtained by polymerizing a part of the monomer component by irradiating ultraviolet (UV) light to a mixture in which a polymerization initiator is blended with the monomer raw material A as described above. , It may be included in the pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer. Polymerization may be completed by applying the pressure-sensitive adhesive composition including the polymer syrup to a predetermined coating material and irradiating ultraviolet rays. That is, the polymer syrup can be regarded as a precursor of polymer (A). The pressure-sensitive adhesive layer disclosed herein may be formed using, for example, a pressure-sensitive adhesive composition containing the polymer syrup and polymer (B).
(폴리머(B))(Polymer (B))
여기에 개시되는 기술에 있어서의 폴리머(B)는, 폴리오르가노실록산 골격을 갖는 모노머(이하, 「모노머 S1」이라고도 함)와 (메트)아크릴계 모노머를 포함하는 모노머 성분(모노머 원료 B)의 중합물이다. 폴리머(B)는, 모노머 S1과 (메트)아크릴계 모노머의 공중합체라 할 수 있다. 폴리머(B)는, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 폴리머(B)는, 모노머 S1에서 유래되는 폴리오르가노실록산 구조의 저극성 및 운동성에 의해, 피착체에 대한 첩부 초기의 점착력을 억제하고, 또한, 가열에 의해 피착체에 대한 점착력을 상승시키는 점착력 상승 지연제로서 기능할 수 있다. 모노머 S1로서는, 특별히 한정되지는 않고, 폴리오르가노실록산 골격을 함유하는 임의의 모노머를 사용할 수 있다. 모노머 S1은, 그 구조에서 유래되는 낮은 극성에 의해, 사용 전(피착체에 대한 첩부 전)의 보강용 필름에 있어서 폴리머(B)의 점착제층 표면에 대한 편재를 촉진하여, 접합 초기의 경박리성(저점착성)을 발현한다. 모노머 S1로서는, 편말단에 중합성 반응기를 갖는 구조의 것을 바람직하게 사용할 수 있다. 이와 같은 모노머 S1 단위와 (메트)아크릴계 모노머 단위를 포함하는 구성에 의하면, 측쇄에 폴리오르가노실록산 골격을 갖는 폴리머(B)가 형성된다. 이러한 구조의 폴리머(B)는, 측쇄의 운동성 및 이동 용이성에 의해, 초기 점착력이 낮고, 또한 가열 후 점착력이 높은 것으로 되기 쉽다. 또한, 몇몇 양태에 있어서, 모노머 S1로서는, 편말단에 중합성 반응기를 갖고, 또한 다른 말단에 폴리머(A)와 가교 반응을 발생시키는 관능기를 갖지 않는 것을 바람직하게 채용할 수 있다. 이와 같은 구조의 모노머 S1이 공중합된 폴리머(B)는, 모노머 S1에서 유래되는 폴리오르가노실록산 구조의 운동성에 의해, 초기 점착력이 낮고, 또한 가열 후 점착력이 높은 것으로 되기 쉽다.The polymer (B) in the technique disclosed herein is a polymer of a monomer having a polyorganosiloxane skeleton (hereinafter also referred to as "monomer S1") and a monomer component (monomer raw material B) containing a (meth)acrylic monomer. am. Polymer (B) can be said to be a copolymer of monomer S1 and a (meth)acrylic monomer. Polymer (B) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. Polymer (B) suppresses the initial adhesive force to the adherend due to the low polarity and mobility of the polyorganosiloxane structure derived from the monomer S1, and also increases the adhesive force to the adherend by heating. It can function as a rise retardant. It does not specifically limit as monomer S1, Any monomer containing a polyorganosiloxane skeleton can be used. Monomer S1 promotes uneven distribution of the polymer (B) on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer in the reinforcing film before use (before sticking to an adherend) by virtue of the low polarity derived from its structure, and easy peelability at the initial stage of bonding (Low adhesiveness) is expressed. As monomer S1, one of a structure having a polymerizable reactive group at one end can be preferably used. According to the configuration including the monomer S1 unit and the (meth)acrylic monomer unit, a polymer (B) having a polyorganosiloxane skeleton in the side chain is formed. The polymer (B) having such a structure tends to have a low initial adhesive force and a high adhesive force after heating due to the mobility and ease of movement of the side chain. In some embodiments, as the monomer S1, one having a polymerizable reactive group at one end and not having a functional group that causes a crosslinking reaction with the polymer (A) at the other end can be preferably employed. The polymer (B) obtained by copolymerization of monomer S1 having such a structure tends to have low initial adhesive force and high adhesive force after heating due to the mobility of the polyorganosiloxane structure derived from monomer S1.
모노머 S1로서는, 예를 들어 하기 일반식 (1) 또는 (2)로 표시되는 화합물을 사용할 수 있다. 보다 구체적으로는, 신에츠 가가쿠 고교사제의 편말단 반응성 실리콘 오일로서, X-22-174ASX, X-22-2426, X-22-2475, KF-2012 등을 들 수 있다. 모노머 S1은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As monomer S1, a compound represented by the following general formula (1) or (2) can be used, for example. More specifically, X-22-174ASX, X-22-2426, X-22-2475, KF-2012 etc. are mentioned as one-end reactive silicone oil made by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Monomer S1 can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
여기서, 상기 일반식 (1), (2) 중의 R3은 수소 또는 메틸이고, R4는 메틸기 또는 1가의 유기기이고, m 및 n은 0 이상의 정수이다.Here, in the general formulas (1) and (2), R 3 is hydrogen or methyl, R 4 is a methyl group or a monovalent organic group, and m and n are integers greater than or equal to 0.
모노머 S1의 관능기 당량은, 해당 모노머 S1을 사용하여 원하는 효과가 발휘되는 범위에서 적절한 값을 채용할 수 있고, 특정 범위에 한정되지는 않는다. 초기 점착력을 충분히 억제하는 관점에서, 상기 관능기 당량은, 예를 들어 100g/mol 이상 또는 200g/mol 이상이고, 300g/mol 이상(예를 들어 500g/mol 이상)인 것이 적당하고, 800g/mol 이상인 것이 바람직하고, 1500g/mol 이상인 것이 보다 바람직하다. 특히 바람직한 양태에서는, 첩부 초기에 있어서의 저점착성과 가열 후의 점착력 상승의 양립의 관점에서, 상기 관능기 당량은, 2000g/mol 이상이고, 또한 특히 바람직하게는 2500g/mol 이상이며, 3000g/mol 이상이어도 되고, 4000g/mol 이상이어도 되고, 5000g/mol 이상이어도 된다. 다른 몇몇 양태에서는, 상기 관능기 당량은, 9000g/mol 이상이어도 되고, 12000g/mol 이상이어도 되고, 15000g/mol 이상이어도 된다. 모노머 S1의 관능기 당량에 있어서, 상기 관능기란, 중합성 관능기(예를 들어, (메트)아크릴로일기, 비닐기, 알릴기 등의 에틸렌성 불포화기)를 의미한다.The functional group equivalent of monomer S1 can employ an appropriate value within a range in which a desired effect is exhibited using the monomer S1, and is not limited to a specific range. From the viewpoint of sufficiently suppressing the initial adhesive force, the functional group equivalent is, for example, 100 g/mol or more or 200 g/mol or more, suitably 300 g/mol or more (eg 500 g/mol or more), and 800 g/mol or more It is preferable, and it is more preferable that it is 1500 g/mol or more. In a particularly preferred embodiment, from the viewpoint of coexistence of low adhesiveness in the initial stage of application and adhesive strength increase after heating, the functional group equivalent is 2000 g / mol or more, and particularly preferably 2500 g / mol or more, even if it is 3000 g / mol or more It may be 4000 g/mol or more, or 5000 g/mol or more. In some other embodiments, the functional group equivalent may be 9000 g/mol or more, 12000 g/mol or more, or 15000 g/mol or more. In the functional group equivalent of monomer S1, the functional group means a polymerizable functional group (for example, an ethylenically unsaturated group such as a (meth)acryloyl group, a vinyl group, or an allyl group).
점착력을 충분히 상승시키는 관점에서, 상기 관능기 당량은, 예를 들어 30000g/mol 이하인 것이 적당하고, 20000g/mol 이하여도 되고, 15000g/mol 미만이어도 되고, 10000g/mol 미만이어도 된다. 몇몇 바람직한 양태에 있어서, 모노머 S1의 관능기 당량은, 7000g/mol 이하이며, 보다 바람직하게는 5500g/mol 이하, 더욱 바람직하게는 4500g/mol 이하이고, 4200g/mol 이하여도 되고, 3500g/mol 이하여도 된다. 모노머 S1의 관능기 당량이 상기 범위 내이면, 점착제층 내에 있어서의 상용성(예를 들어, 베이스 폴리머와의 상용성)이 양호해지기 쉽고, 또한 폴리머(B)의 폴리오르가노실록산 골격(쇄)의 운동성이 좋고, 또한 폴리머(B)의 이동성을 적당한 범위로 조절하기 쉬워, 초기의 저점착성과 가열 후의 점착력 상승을 양립시키는 점착제층을 실현하기 쉬워진다.From the standpoint of sufficiently increasing the adhesive force, the functional group equivalent is suitably, for example, 30000 g/mol or less, may be 20000 g/mol or less, may be less than 15000 g/mol, or may be less than 10000 g/mol. In some preferred embodiments, the functional group equivalent of monomer S1 is 7000 g/mol or less, more preferably 5500 g/mol or less, even more preferably 4500 g/mol or less, 4200 g/mol or less, or even 3500 g/mol or less. do. When the functional group equivalent of the monomer S1 is within the above range, the compatibility in the pressure-sensitive adhesive layer (for example, compatibility with the base polymer) tends to be good, and the polyorganosiloxane backbone (chain) of the polymer (B) The mobility of the polymer (B) is good, and the mobility of the polymer (B) is easily controlled within an appropriate range, making it easy to realize an adhesive layer that achieves both initial low adhesiveness and increased adhesive force after heating.
여기서, 「관능기 당량」이란, 관능기 1개당 결합하고 있는 주골격(예를 들어 폴리디메틸실록산)의 중량을 의미한다. 표기 단위 g/mol에 관해서는, 관능기 1mol로 환산하고 있다. 모노머 S1의 관능기 당량은, 예를 들어 핵자기 공명(NMR)에 기초하는 1H-NMR(프로톤 NMR)의 스펙트럼 강도로부터 산출할 수 있다. 1H-NMR의 스펙트럼 강도에 기초하는 모노머 S1의 관능기 당량(g/mol)의 산출은, 1H-NMR 스펙트럼 해석에 영향을 미치는 일반적인 구조 해석 방법에 기초하여, 필요하다면 일본 특허 제5951153호 공보의 기재를 참조하여 행할 수 있다.Here, "functional group equivalent" means the weight of the main skeleton (for example, polydimethylsiloxane) bonded per functional group. Regarding the notational unit g/mol, it is converted to 1 mol of the functional group. The functional group equivalent of monomer S1 can be calculated, for example, from the spectral intensity of 1 H-NMR (proton NMR) based on nuclear magnetic resonance (NMR). Calculation of the functional group equivalent (g/mol) of monomer S1 based on the spectrum intensity of 1 H-NMR is based on a general structural analysis method that affects 1 H -NMR spectrum analysis, and, if necessary, Japanese Patent No. 5951153 This can be done by referring to the description of
또한, 모노머 S1로서 관능기 당량이 다른 2종류 이상의 모노머를 사용하는 경우, 모노머 S1의 관능기 당량으로서는, 산술 평균값을 사용할 수 있다. 즉, 관능기 당량이 다른 n종류의 모노머(모노머 S11, 모노머 S12 … 모노머 S1n)를 포함하는 모노머 S1의 관능기 당량은, 하기 식에 의해 계산할 수 있다.In addition, when using two or more types of monomers from which functional group equivalents differ as monomer S1, an arithmetic average value can be used as a functional group equivalent of monomer S1. That is, the functional group equivalent of monomer S1 containing n types of monomers (monomer S1 1 , monomer S1 2 ... monomer S1 n ) with different functional group equivalents can be calculated by the following formula.
모노머 S1의 관능기 당량(g/mol)=(모노머 S11의 관능기 당량×모노머 S11의 배합량+모노머 S12의 관능기 당량×모노머 S12의 배합량+ … +모노머 S1n의 관능기 당량×모노머 S1n의 배합량)/(모노머 S11의 배합량+모노머 S12의 배합량+ … +모노머 S1n의 배합량)Functional group equivalent of monomer S1 (g/mol) = (functional group equivalent of monomer S1 1 × compounding amount of monomer S1 1 + functional group equivalent of monomer S1 2 × compounding amount of monomer S1 2 + … + functional group equivalent of monomer S1 n × monomer S1 n compounding amount)/(blending amount of monomer S1 1 + compounding amount of monomer S1 2 + ... + compounding amount of monomer S1 n )
모노머 S1의 함유량은, 해당 모노머 S1을 사용하여 원하는 효과가 발휘되는 범위에서 적절한 값을 채용할 수 있고, 특정 범위에 한정되지는 않는다. 초기 점착력을 충분히 억제하는 관점에서, 몇몇 양태에 있어서, 폴리머(B)를 조제하기 위한 모노머 성분(모노머 원료 B)의 전량 중, 모노머 S1의 함유량은, 예를 들어 5중량% 이상이어도 되고, 점착력 상승 지연제로서의 효과를 보다 잘 발휘하는 관점에서 10중량% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 12중량% 이상, 더욱 바람직하게는 15중량% 이상, 특히 바람직하게는 18중량% 이상이며, 20중량% 이상으로 해도 된다. 또한, 모노머 원료 B에 있어서의 모노머 S1의 함유량은, 중합 반응성이나 상용성의 관점에서, 예를 들어 80중량% 이하여도 되고, 60중량% 이하로 하는 것이 적당하고, 바람직하게는 50중량% 이하, 보다 바람직하게는 40중량% 이하, 더욱 바람직하게는 30중량% 이하로 해도 된다. 모노머 S1의 중합 비율을 적당한 범위로 함으로써, 점착력의 상승을 적합하게 발현할 수 있다.The content of the monomer S1 can be an appropriate value within a range in which desired effects are exhibited using the monomer S1, and is not limited to a specific range. From the viewpoint of sufficiently suppressing the initial adhesive force, in some embodiments, the content of the monomer S1 in the total amount of the monomer component (monomer raw material B) for preparing the polymer (B) may be, for example, 5% by weight or more, and the adhesive force From the viewpoint of exhibiting the effect as a rise retardant better, it is preferably 10% by weight or more, more preferably 12% by weight or more, still more preferably 15% by weight or more, particularly preferably 18% by weight or more, It is good also as 20 weight% or more. Further, the content of the monomer S1 in the monomer raw material B may be, for example, 80% by weight or less, suitably 60% by weight or less, preferably 50% by weight or less, from the viewpoint of polymerization reactivity or compatibility, It is more preferably 40% by weight or less, and even more preferably 30% by weight or less. By setting the polymerization ratio of monomer S1 within a suitable range, an increase in adhesive force can be suitably expressed.
모노머 원료 B는, 모노머 S1에 추가하여, 모노머 S1과 공중합 가능한 (메트)아크릴계 모노머를 포함한다. 1종 또는 2종 이상의 (메트)아크릴계 모노머를 사용함으로써, 점착제층 내에 있어서의 폴리머(B)의 이동성을 적합하게 조절할 수 있다. 또한, 폴리머(B)와 폴리머(A)의 상용성의 개선에도 도움이 될 수 있다. (메트)아크릴계 모노머 단위를 포함하는 폴리머(B)는, 아크릴계 폴리머에 양호하게 상용할 수 있으므로, 점착제층 내에 있어서의 폴리머(B)의 이동성 향상을 통해, 초기 점착력의 저감 및 가열 후 점착력의 향상을 실현하기 쉽다.The monomer raw material B contains, in addition to monomer S1, a (meth)acrylic monomer copolymerizable with monomer S1. By using one or two or more (meth)acrylic monomers, the mobility of the polymer (B) in the pressure-sensitive adhesive layer can be suitably adjusted. In addition, it may be helpful to improve the compatibility of polymer (B) and polymer (A). Since the polymer (B) containing the (meth)acrylic monomer unit is compatible with the acrylic polymer, the initial adhesive strength is reduced and the adhesive strength after heating is improved by improving the mobility of the polymer (B) in the pressure-sensitive adhesive layer. is easy to realize.
여기에 개시되는 기술에서 사용되는 폴리머(B)에 있어서, 모노머 원료 B에 포함되는 (메트)아크릴계 모노머의 조성은, 폴리머(B)의 유리 전이 온도 TB가 -20℃ 내지 5℃가 되는 범위에서 적절하게 설정될 수 있다. 상기 (메트)아크릴계 모노머의 조성에 기초하는 유리 전이 온도 TB1도, 상기 TB를 만족시키는 범위에서 적절하게 설정되고, 특정 범위에 한정되지는 않는다. 전형적으로는, TB1은, 폴리머(A)의 유리 전이 온도 TA보다도 높아지도록 설정되어 있는 것이 바람직하다. TB1은, 예를 들어 0℃보다 높아지도록 설정할 수 있다. 여기서, (메트)아크릴계 모노머의 조성에 기초하는 유리 전이 온도 TB1이란, 폴리머(B)의 조제에 사용되는 모노머 성분 중 (메트)아크릴계 모노머만의 조성에 기초하여, Fox의 식에 의해 구해지는 Tg를 말한다. TB1은, 폴리머(B)의 조제에 사용되는 모노머 성분 중 (메트)아크릴계 모노머만을 대상으로 하여, 상술한 Fox의 식을 적용하여, 각 (메트)아크릴계 모노머의 호모 폴리머 유리 전이 온도와, 해당 (메트)아크릴계 모노머의 합계량에 차지하는 각 (메트)아크릴계 모노머 중량 분율로부터 산출할 수 있다. 유리 전이 온도 TB1이 상대적으로 높은(전형적으로는 0℃보다 높은) 폴리머(B)에 의하면, 초기 점착력이 억제되기 쉽다. 또한, 유리 전이 온도 TB1이 상대적으로 높은(전형적으로는 0℃보다 높은) 폴리머(B)에 의하면, 점착력 상승비가 큰 보강용 필름이 얻어지기 쉽다.In the polymer (B) used in the technology disclosed herein, the composition of the (meth)acrylic monomer contained in the monomer raw material B is such that the glass transition temperature T B of the polymer (B) is -20°C to 5°C. can be set appropriately in The glass transition temperature T B1 based on the composition of the (meth)acrylic monomer is also appropriately set within a range satisfying the above T B , and is not limited to a specific range. Typically, T B1 is preferably set higher than the glass transition temperature T A of the polymer (A). T B1 can be set to be higher than 0°C, for example. Here, the glass transition temperature T B1 based on the composition of the (meth)acrylic monomer is determined by Fox's formula based on the composition of only the (meth)acrylic monomer among the monomer components used in the preparation of the polymer (B). say Tg. T B1 is the homopolymer glass transition temperature of each (meth)acrylic monomer and the corresponding It can be calculated from the weight fraction of each (meth)acrylic monomer in the total amount of the (meth)acrylic monomer. According to the polymer (B) having a relatively high glass transition temperature T B1 (typically higher than 0°C), the initial adhesive strength tends to be suppressed. Further, according to the polymer (B) having a relatively high glass transition temperature T B1 (typically higher than 0°C), a reinforcing film with a large adhesive strength increase ratio is easily obtained.
몇몇 바람직한 양태에 있어서, TB1은, 10℃ 이상이고, 보다 바람직하게는 30℃ 이상, 더욱 바람직하게는 40℃ 이상이고, 45℃ 이상이어도 된다. TB1이 높아지면, 첩부 초기의 점착력은, 대체로, 보다 잘 억제되는 경향이 있다. 이것은, TB1이 소정 온도 이상인 폴리머(B)에 의하면, 실온 혹은 실온보다도 어느 정도의 고온 영역까지의 온도 상승에 수반되는 폴리오르가노실록산 구조 부분의 운동성이나 이동성의 향상이, 폴리머(B)에 포함되는 (메트)아크릴계 모노머 유래의 모노머 단위에 의해 효과적으로 억제되어, 상기 폴리오르가노실록산 구조 부분의 존재에 기인하는 저점착성을 보다 잘 유지할 수 있기 때문이라고 생각된다. 첩부 초기의 저점착성을 보다 안정성 좋게 유지하는 관점에서, 몇몇 양태에 있어서, TB1은, 예를 들어 50℃ 이상이어도 되고, 55℃ 이상이어도 되고, 60℃ 이상이어도 된다. 또한, TB1은, 예를 들어 120℃ 이하여도 되고, 100℃ 이하여도 된다. TB1이 낮아지면, 가열에 의한 점착력 상승이 용이화되는 경향이 있다. 몇몇 바람직한 양태에 있어서, TB1은, 예를 들어 90℃ 이하이고, 보다 바람직하게는 70℃ 이하, 더욱 바람직하게는 60℃ 이하, 특히 바람직하게는 55℃ 이하(예를 들어 50℃ 이하)이다.In some preferred embodiments, T B1 is 10°C or higher, more preferably 30°C or higher, still more preferably 40°C or higher, and may be 45°C or higher. When T B1 is high, the adhesive force at the initial stage of sticking tends to be better suppressed in general. This is because, according to the polymer (B) having T B1 equal to or higher than a predetermined temperature, the improvement in the mobility and mobility of the polyorganosiloxane structural part accompanying the temperature rise to room temperature or a temperature range to a certain degree higher than room temperature is achieved in the polymer (B). It is thought that this is because it is effectively suppressed by the contained monomer unit derived from the (meth)acrylic monomer, and the low tackiness due to the presence of the polyorganosiloxane structure portion can be better maintained. From the viewpoint of maintaining the low tackiness at the initial stage of sticking more stably, in some embodiments, T B1 may be, for example, 50°C or higher, 55°C or higher, or 60°C or higher. Further, T B1 may be, for example, 120°C or less, or 100°C or less. When T B1 is lowered, the increase in adhesive force by heating tends to be facilitated. In some preferred embodiments, T B1 is, for example, 90 °C or less, more preferably 70 °C or less, even more preferably 60 °C or less, particularly preferably 55 °C or less (eg 50 °C or less) .
TB1을 적절하게 설정하는 것에 의한 효과를 발휘하기 쉽게 하는 관점에서, 폴리머(B)를 조제하기 위한 전체 모노머 성분에 차지하는 모노머 S1과 (메트)아크릴계 모노머의 합계량은, 예를 들어 50중량% 이상이어도 되고, 70중량% 이상이어도 되고, 85중량% 이상이어도 되고, 90중량% 이상이어도 되고, 95중량% 이상이어도 되고, 실질적으로 100중량%여도 된다.From the viewpoint of making it easy to exhibit the effect by appropriately setting T B1 , the total amount of monomer S1 and (meth)acrylic monomers in all monomer components for preparing polymer (B) is, for example, 50% by weight or more It may be 70% by weight or more, may be 85% by weight or more, may be 90% by weight or more, may be 95% by weight or more, or may be substantially 100% by weight.
여기에 개시되는 기술에서 사용되는 폴리머(B)의 유리 전이 온도 TB는, -20℃ 내지 5℃의 범위 내이다. 폴리머(B)의 TB가 5℃ 이하임으로써, 폴리머(B)의 이동성(전형적으로는 감온 운동성)이 향상되어, 점착력을 크게 상승시킬 수 있다. 몇몇 바람직한 양태에서는, 폴리머(B)의 TB는, 0℃ 미만이어도 되고, -5℃ 이하여도 되고, -10℃ 이하여도 된다. 또한, TB가 -20℃ 이상임으로써, 피착체에 대한 첩부 시에 점착제층 표면측에 편재되는 폴리머(B)가 초기 점착력 저하에 기여하여, 첩부 초기의 경박리성이 우수한 경향이 있다. 몇몇 바람직한 양태에서는, 폴리머(B)의 TB는, -15℃ 이상이어도 된다. TB를 적당한 범위로 설정함으로써, 첩부 초기의 경박리성과 가열 후의 점착력 상승을 바람직한 범위로 제어할 수 있다.The glass transition temperature T B of the polymer (B) used in the technique disclosed herein is within the range of -20°C to 5°C. When T B of the polymer (B) is 5° C. or lower, the mobility (typically, thermal sensitivity) of the polymer (B) is improved, and the adhesive force can be greatly increased. In some preferred embodiments, the T B of the polymer (B) may be less than 0°C, -5°C or less, or -10°C or less. In addition, when T B is -20°C or higher, the polymer (B) unevenly distributed on the surface side of the pressure-sensitive adhesive layer at the time of sticking to the adherend contributes to a decrease in initial adhesive force, and there is a tendency for easy peelability at the initial stage of sticking. In some preferred embodiments, T B of the polymer (B) may be -15°C or higher. By setting T B to an appropriate range, the easy peelability at the initial stage of sticking and the increase in adhesive force after heating can be controlled within a preferable range.
몇몇 양태에 있어서, 폴리머(B)를 조제하기 위한 모노머 성분의 조성은, TB1이 TB보다 높아지도록, 즉 TB1-TB가 0℃보다 커지도록 설정할 수 있다. 이와 같은 조성에 의하면, 상기 모노머 성분에 포함되는 (메트)아크릴계 모노머의 조성에 의해 폴리머(B)의 이동성을 조절하는 효과가 적합하게 발휘되기 쉽다. TB1-TB는, 예를 들어 40℃ 내지 100℃ 정도여도 되고, 50℃ 내지 90℃ 정도여도 된다. 몇몇 바람직한 양태에서는, TB1-TB는, 45℃ 이상이고, 보다 바람직하게는 50℃ 이상, 더욱 바람직하게는 55℃ 이상(예를 들어 58℃ 이상)이다. 또한, 폴리머(B) 함유의 효과를 적합하게 발현시키는 관점에서, TB1-TB는, 80℃ 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 70℃ 이하, 더욱 바람직하게는 65℃ 이하(예를 들어 62℃ 이하)이다.In some embodiments, the composition of the monomer components for preparing polymer (B) can be set such that T B1 is higher than T B , that is, T B1 -T B is greater than 0°C. According to such a composition, the effect of adjusting the mobility of the polymer (B) can be suitably exhibited by the composition of the (meth)acrylic monomer included in the monomer component. T B1 -T B may be, for example, about 40°C to 100°C, or about 50°C to 90°C. In some preferred embodiments, T B1 -T B is 45°C or higher, more preferably 50°C or higher, still more preferably 55°C or higher (eg 58°C or higher). Further, from the viewpoint of appropriately expressing the effect of containing the polymer (B), T B1 -T B is preferably 80°C or lower, more preferably 70°C or lower, still more preferably 65°C or lower (for example 62 ° C or less).
점착제층 내에 있어서의 폴리머(B)의 이동성을 제어하기 쉽게 하는 관점에서, 몇몇 양태에 있어서, 폴리머(B)를 조제하기 위한 모노머 성분의 조성은, 폴리머(A)의 유리 전이 온도 TA와의 관계에서, TB가 TA보다 20℃ 이상 높아지도록, 즉 TB-TA가 20℃ 이상이 되도록 설정할 수 있다. 몇몇 바람직한 양태에 있어서, TB-TA는, 예를 들어 30℃ 이상이고, 보다 바람직하게는 40℃ 이상, 더욱 바람직하게는 50℃ 이상이고, 60℃ 이상이어도 되고, 70℃ 이상이어도 된다. 또한, 점착력 상승의 관점에서, TB-TA는, 예를 들어 130℃ 이하여도 되고, 120℃ 이하여도 되고, 바람직하게는 100℃ 이하, 보다 바람직하게는 80℃ 이하, 더욱 바람직하게는 65℃ 이하이고, 55℃ 이하여도 되고, 45℃ 이하여도 된다.From the viewpoint of making it easy to control the mobility of the polymer (B) in the pressure-sensitive adhesive layer, in some embodiments, the composition of the monomer component for preparing the polymer (B) is related to the glass transition temperature T A of the polymer (A) In , T B can be set to be higher than T A by 20°C or more, that is, T B -T A can be set to be 20°C or more. In some preferred embodiments, T B -T A is, for example, 30°C or higher, more preferably 40°C or higher, even more preferably 50°C or higher, may be 60°C or higher, or may be 70°C or higher. Further, from the viewpoint of increasing the adhesive force, T B -T A may be, for example, 130°C or less, or 120°C or less, preferably 100°C or less, more preferably 80°C or less, still more preferably 65°C or less. °C or lower, may be 55 °C or lower, or may be 45 °C or lower.
모노머 원료 B에 사용할 수 있는 (메트)아크릴계 모노머로서는, 예를 들어 (메트)아크릴산알킬에스테르를 들 수 있다. 여기에서 말하는 「알킬」은, 쇄상(직쇄상, 분지쇄상을 포함함)의 알킬(기)을 말하고, 후술하는 지환식 탄화수소기를 포함하지 않는다. 예를 들어, 폴리머(A)에 사용될 수 있는 (메트)아크릴산알킬에스테르로서 상기에서 예시한 모노머의 1종 또는 2종 이상을, 모노머 원료 B의 구성 성분으로서 사용할 수 있다. 몇몇의 바람직한 양태에 있어서, 모노머 원료 B는, (메트)아크릴산 C4-12 알킬에스테르(바람직하게는 (메트)아크릴산 C4-10 알킬에스테르, 예를 들어 (메트)아크릴산 C6-10 알킬에스테르)의 적어도 1종을 함유할 수 있다. 다른 몇몇 양태에 있어서, 모노머 원료 B는, 메타크릴산 C1-18 알킬에스테르(바람직하게는 메타크릴산 C1-14 알킬에스테르, 예를 들어 메타크릴산 C1-10 알킬에스테르)의 적어도 1종을 함유할 수 있다. 모노머 원료 B는, (메트)아크릴계 모노머로서, 예를 들어 MMA, 메타크릴산n-부틸(nBMA) 및 메타크릴산2-에틸헥실(2EHMA)에서 선택되는 1종 또는 2종 이상을 포함할 수 있다.Examples of the (meth)acrylic monomer that can be used for the monomer raw material B include (meth)acrylic acid alkyl esters. "Alkyl" here refers to a chain (including straight-chain and branched-chain) alkyl (group), and does not contain an alicyclic hydrocarbon group described later. For example, as the (meth)acrylic acid alkyl ester that can be used for the polymer (A), one or two or more of the monomers exemplified above can be used as the constituent of the monomer raw material B. In some preferred embodiments, the monomer raw material B is (meth)acrylic acid C 4-12 alkyl ester (preferably (meth)acrylic acid C 4-10 alkyl ester, for example (meth)acrylic acid C 6-10 alkyl ester ) may contain at least one of them. In some other aspects, the monomer raw material B is at least one of methacrylic acid C 1-18 alkyl esters (preferably methacrylic acid C 1-14 alkyl esters, for example, methacrylic acid C 1-10 alkyl esters). may contain species. The monomer raw material B may include, for example, one or two or more selected from MMA, n-butyl methacrylate (nBMA), and 2-ethylhexyl methacrylate (2EHMA) as a (meth)acrylic monomer. there is.
상기 (메트)아크릴계 모노머의 다른 예로서, 지환식 탄화수소기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르를 들 수 있다. 예를 들어, 시클로펜틸(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 1-아다만틸(메트)아크릴레이트 등을 사용할 수 있다. 몇몇 양태에 있어서, 모노머 원료 B는, (메트)아크릴계 모노머로서, 디시클로펜타닐메타크릴레이트, 이소보르닐메타크릴레이트 및 시클로헥실메타크릴레이트에서 선택되는 적어도 1종을 함유할 수 있다.Other examples of the above (meth)acrylic monomers include (meth)acrylic acid esters having an alicyclic hydrocarbon group. For example, cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, 1-adamantyl (meth) acrylate, etc. can be used In some embodiments, the monomer raw material B may contain at least one selected from dicyclopentanyl methacrylate, isobornyl methacrylate and cyclohexyl methacrylate as a (meth)acrylic monomer.
모노머 원료 B에 있어서의 상기 (메트)아크릴산알킬에스테르 및 상기 지환식 탄화수소기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르의 함유량은, 예를 들어 10중량% 이상 95중량% 이하여도 되고, 20중량% 이상 95중량% 이하여도 되고, 30중량% 이상 90중량% 이하여도 되고, 40중량% 이상 90중량% 이하여도 되고, 50중량% 이상 85중량% 이하여도 된다. 가열에 의한 점착력의 상승 용이성의 관점에서, (메트)아크릴산알킬에스테르의 사용이 유리해질 수 있다. 몇몇 양태에 있어서, 지환식 탄화수소기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르의 함유량은, 모노머 원료 B의 50중량% 미만이어도 되고, 30중량% 미만이어도 되고, 15중량% 미만이어도 되고, 10중량% 미만이어도 되고, 5중량% 미만이어도 된다. 지환식 탄화수소기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르를 사용하지 않아도 된다.The content of the alkyl (meth)acrylic acid ester and the (meth)acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group in the monomer raw material B may be, for example, 10% by weight or more and 95% by weight or less, and 20% by weight or more and 95% by weight. It may be below, 30 weight% or more and 90 weight% or less may be sufficient, 40 weight% or more and 90 weight% or less may be sufficient, and 50 weight% or more and 85 weight% or less may be sufficient. From the viewpoint of the ease of increasing the adhesive force by heating, the use of a (meth)acrylic acid alkyl ester may be advantageous. In some embodiments, the content of (meth)acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group may be less than 50% by weight, less than 30% by weight, less than 15% by weight, or less than 10% by weight of the monomer raw material B. , may be less than 5% by weight. It is not necessary to use a (meth)acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group.
몇몇 바람직한 양태에 있어서, 모노머 원료 B의 구성 성분인 상기 (메트)아크릴계 모노머는, 호모 폴리머의 Tg가 50℃ 이상인 모노머 M2를 포함할 수 있다. 폴리머(B)에 있어서, 모노머 S1과 모노머 M2를 공중합시킴으로써, 온도 상승에 수반하는 폴리오르가노실록산 구조 부분의 운동성이나 이동성이 적합하게 제어되어, 초기 경박리성(리워크성)과 가열 후의 점착력 상승의 양립을 실현하기 쉽다. 몇몇 양태에 있어서, 모노머 M2의 호모 폴리머 Tg는, 60℃ 이상이어도 되고, 70℃ 이상이어도 되고, 80℃ 이상이어도 되고, 90℃ 이상이어도 된다. 또한, 모노머 M2의 호모 폴리머 Tg의 상한은 특별히 제한되지는 않지만, 폴리머(B)의 합성 용이성 등의 관점에서, 통상은 200℃ 이하인 것이 적당하다. 몇몇 양태에 있어서, 모노머 M2의 호모 폴리머 Tg는, 예를 들어 180℃ 이하여도 되고, 150℃ 이하여도 되고, 120℃ 이하여도 된다.In some preferred embodiments, the (meth)acrylic monomer, which is a component of the monomer raw material B, may include a monomer M2 having a homopolymer Tg of 50°C or higher. In the polymer (B), by copolymerizing the monomer S1 and the monomer M2, the mobility and mobility of the polyorganosiloxane structural portion accompanying the temperature rise are appropriately controlled, and the initial easy peelability (reworkability) and the increase in adhesive force after heating It is easy to realize the compatibility of In some embodiments, the homopolymer Tg of the monomer M2 may be 60°C or higher, 70°C or higher, 80°C or higher, or 90°C or higher. The upper limit of the Tg of the homopolymer of the monomer M2 is not particularly limited, but is usually preferably 200°C or less from the viewpoint of the ease of synthesis of the polymer (B). In some embodiments, the homopolymer Tg of monomer M2 may be, for example, 180°C or less, 150°C or less, or 120°C or less.
모노머 M2로서는, 예를 들어 상기에서 예시한 (메트)아크릴계 모노머 중에서, 호모 폴리머의 Tg가 조건을 충족하는 것을 사용할 수 있다. 예를 들어, (메트)아크릴산알킬에스테르 및 지환식 탄화수소기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 모노머를 사용할 수 있다. (메트)아크릴산알킬에스테르로서는, 알킬기의 탄소 원자수가 1 내지 4의 범위에 있는 메타크릴산알킬에스테르를 바람직하게 채용할 수 있다.As the monomer M2, among the (meth)acrylic monomers exemplified above, those whose homopolymer Tg satisfies the conditions can be used. For example, one or two or more monomers selected from the group consisting of (meth)acrylic acid alkyl esters and (meth)acrylic acid esters having an alicyclic hydrocarbon group can be used. As the (meth)acrylic acid alkyl ester, a methacrylic acid alkyl ester in which the number of carbon atoms in the alkyl group is in the range of 1 to 4 is preferably employable.
모노머 원료 B가 모노머 M2를 포함하는 양태에 있어서, 모노머 M2의 함유량은, 예를 들어 모노머 원료 B의 5중량% 이상이어도 되고, 10중량% 이상이어도 되고, 15중량% 이상이어도 되고, 20중량% 이상이어도 되고, 25중량% 이상이어도 되고, 30중량% 이상이어도 된다. 몇몇 양태에 있어서, 상기 모노머 M2의 함유량은, 모노머 원료 B의 35중량% 이상이어도 되고, 40중량% 이상이어도 되고, 45중량% 이상이어도 되고, 50중량% 이상이어도 되고, 55중량% 이상이어도 된다. 또한, 상기 모노머 M2의 함유량은, 예를 들어 90중량% 이하여도 되고, 통상은 80중량% 이하인 것이 적당하고, 75중량% 이하가 바람직하고, 70중량% 이하여도 되고, 65중량% 이하여도 된다. 몇몇 바람직한 양태에 있어서, 모노머 M2의 함유량은 60중량% 이하(예를 들어 50중량% 이하, 전형적으로는 42중량% 이하)이다. 폴리머(B)에 있어서, Tg50℃ 이상의 모노머 M2의 공중합 비율이 소정값 이하로 제한되어 있음으로써, 50℃ 부근에서의 폴리머(B)의 이동성에 기초하여, 가열 후의 점착력 상승을 바람직하게 실현할 수 있다. 마찬가지의 관점에서, 모노머 원료 B에 있어서의 모노머 M2의 함유량은 35중량% 이하여도 되고, 25중량% 이하여도 되고, 15중량% 이하(예를 들어 5중량% 이하)여도 된다.In the aspect in which the monomer raw material B contains the monomer M2, the content of the monomer M2 may be, for example, 5% by weight or more, 10% by weight or more, 15% by weight or more, or 20% by weight of the monomer raw material B. It may be greater than or equal to 25% by weight or greater than or equal to 30% by weight. In some embodiments, the content of the monomer M2 may be 35% by weight or more, 40% by weight or more, 45% by weight or more, 50% by weight or more, or 55% by weight or more of the monomer raw material B. . The content of the monomer M2 may be, for example, 90% by weight or less, usually suitably 80% by weight or less, preferably 75% by weight or less, 70% by weight or less, or 65% by weight or less. . In some preferred embodiments, the content of monomer M2 is 60% by weight or less (eg 50% by weight or less, typically 42% by weight or less). In the polymer (B), the copolymerization ratio of the monomer M2 of Tg50 ° C. or higher is limited to a predetermined value or less, so that the adhesive force increase after heating can be preferably realized based on the mobility of the polymer (B) around 50 ° C. . From the same point of view, the content of the monomer M2 in the monomer raw material B may be 35% by weight or less, 25% by weight or less, or 15% by weight or less (for example, 5% by weight or less).
상기 모노머 M2의 함유량은, 예를 들어 모노머 M2가 (메트)아크릴산알킬에스테르 및 상기 지환식 탄화수소기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 모노머를 포함하는 양태나, 모노머 M2가 (메트)아크릴산알킬에스테르(예를 들어, 메타크릴산알킬에스테르)에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 모노머를 포함하는 양태에 있어서 바람직하게 적용될 수 있다. 이러한 양태의 일 적합예로서, 상기 모노머 M2가 MMA를 포함하는 양태를 들 수 있다.The content of the monomer M2 is, for example, an aspect in which the monomer M2 includes one or two or more monomers selected from the group consisting of (meth)acrylic acid alkyl esters and (meth)acrylic acid esters having the alicyclic hydrocarbon group, In an embodiment in which the monomer M2 includes one or two or more monomers selected from (meth)acrylic acid alkyl esters (eg, methacrylic acid alkyl esters), it can be preferably applied. As one suitable example of this embodiment, an embodiment in which the monomer M2 includes MMA may be mentioned.
몇몇 양태에 있어서, 상기 (메트)아크릴계 모노머는, 호모 폴리머의 Tg가 50℃ 미만(전형적으로는 -20℃ 이상 50℃ 미만)인 모노머 M3을 포함하고 있어도 된다. 모노머 M3의 사용에 의해, 점착력 상승 후에 있어서 점착력과 응집력을 밸런스 좋게 양립시키는 보강용 필름이 얻어지기 쉬워진다. 이러한 효과를 발휘하기 쉽게 한다는 관점에서, 모노머 M3은, 모노머 M2와 조합하여 사용하는 것이 바람직하다.In some embodiments, the (meth)acrylic monomer may contain monomer M3 having a homopolymer Tg of less than 50°C (typically -20°C or more and less than 50°C). By use of monomer M3, it becomes easy to obtain the film for reinforcement which makes adhesive force and cohesive force compatible with a well-balanced after adhesive force increase. It is preferable to use monomer M3 in combination with monomer M2 from the viewpoint of making it easy to exert such an effect.
모노머 M3으로서는, 예를 들어 상기에서 예시한 (메트)아크릴계 모노머 중 으로부터, 호모 폴리머의 Tg가 조건을 충족하는 것을 사용할 수 있다. 예를 들어, (메트)아크릴산알킬에스테르로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 모노머를 사용할 수 있다.As the monomer M3, among the (meth)acrylic monomers exemplified above, those whose homopolymer Tg satisfies the conditions can be used. For example, one or two or more monomers selected from the group consisting of (meth)acrylic acid alkyl esters can be used.
모노머 원료 B가 모노머 M3을 포함하는 양태에 있어서, 모노머 M3의 함유량은, 예를 들어 모노머 원료 B의 5중량% 이상이어도 되고, 10중량% 이상이어도 되고, 15중량% 이상이어도 되고, 20중량% 이상이어도 되고, 25중량% 이상이어도 되고, 30중량% 이상이어도 되고, 35중량% 이상이어도 된다. 또한, 모노머 M3의 함유량은, 통상, 모노머 원료 B의 70중량% 이하로 하는 것이 적당하고, 60중량% 이하여도 되고, 50중량% 이하여도 된다. 상기 모노머 M3의 함유량은, 예를 들어 모노머 M3이 (메트)아크릴산알킬에스테르(예를 들어, 메타크릴산알킬에스테르)에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 모노머로 이루어지는 양태에 있어서 바람직하게 적용될 수 있다.In the aspect in which the monomer raw material B contains the monomer M3, the content of the monomer M3 may be, for example, 5% by weight or more, 10% by weight or more, 15% by weight or more, or 20% by weight of the monomer raw material B. It may be greater than or equal to 25% by weight, greater than or equal to 30% by weight, or greater than or equal to 35% by weight. In addition, the content of the monomer M3 is usually suitably 70% by weight or less, 60% by weight or less, or 50% by weight or less of the monomer raw material B. The content of the monomer M3 may be suitably applied in an embodiment in which the monomer M3 is composed of one or two or more monomers selected from (meth)acrylic acid alkyl esters (eg, methacrylic acid alkyl esters), for example. .
여기에 개시되는 보강용 필름의 몇몇 양태에 있어서, 모노머 원료 B는, 호모 폴리머의 Tg가 170℃보다 높은 모노머의 함유량이 30중량% 이하인 것이 바람직하다. 여기서, 본 명세서에 있어서 모노머의 함유량이 X중량% 이하이다란, 특기하지 않는 경우, 해당 모노머의 함유량이 0중량%인 양태, 즉 해당 모노머를 실질적으로 포함하지 않는 양태를 포함하는 개념이다. 또한, 실질적으로 포함하지 않는다란, 적어도 의도적으로는 상기 모노머가 사용되고 있지 않은 것을 말한다. 호모 폴리머의 Tg가 170℃보다 높은 모노머의 공중합 비율이 높아지면, 폴리머(B)의 이동성이 부족해지기 쉬워져, 50℃보다 높은 온도 영역으로의 가열에 의한 점착력의 상승이 곤란해지는 경우가 있을 수 있다.In some aspects of the reinforcing film disclosed herein, it is preferable that the content of a monomer having a homopolymer Tg higher than 170°C in the monomer raw material B is 30% by weight or less. Here, in the present specification, the content of a monomer is X weight% or less is a concept including an aspect in which the content of the monomer is 0 wt%, that is, an aspect that does not substantially contain the monomer, unless otherwise specified. In addition, not containing substantially means that the said monomer is not used at least intentionally. If the copolymerization ratio of the monomer having a homopolymer Tg higher than 170°C increases, the mobility of the polymer (B) tends to be insufficient, and it may be difficult to increase the adhesive force by heating to a temperature range higher than 50°C. there is.
몇몇 양태에 있어서, 모노머 원료 B는, (메트)아크릴계 모노머로서, 적어도 MMA를 포함하는 것이 바람직하다. MMA가 공중합된 폴리머(B)에 의하면, 가열 후 점착력이 큰 보강용 필름이 얻어지기 쉽다. 모노머 원료 B에 포함되는 (메트)아크릴계 모노머의 합계량에 차지하는 MMA의 비율은, 예를 들어 5중량% 이상이어도 되고, 10중량% 이상이어도 되고, 20중량% 이상이어도 되고, 30중량% 이상이어도 되고, 40중량% 이상이어도 된다. 또한, 모노머 원료 B의 합계량에 차지하는 MMA의 비율은, 통상 95중량% 이하가 적당하고, 몇몇 바람직한 양태에 있어서, 모노머 원료 B의 합계량에 차지하는 MMA의 비율은, 가열 후의 점착력 상승의 관점에서, 75중량% 이하여도 되고, 65중량% 이하여도 되고, 60중량% 이하여도 되고, 55중량% 이하(예를 들어 50중량% 이하)여도 된다.In some embodiments, the monomer raw material B preferably contains at least MMA as a (meth)acrylic monomer. According to the polymer (B) in which MMA was copolymerized, it is easy to obtain a reinforcing film having high adhesive strength after heating. The ratio of MMA to the total amount of (meth)acrylic monomers contained in the monomer raw material B may be, for example, 5% by weight or more, 10% by weight or more, 20% by weight or more, or 30% by weight or more. , 40% by weight or more may be sufficient. In addition, the ratio of MMA to the total amount of monomer raw material B is usually 95% by weight or less, and in some preferred embodiments, the ratio of MMA to the total amount of monomer raw material B is 75% from the viewpoint of increasing the adhesive strength after heating. It may be 65% by weight or less, 60% by weight or less, or 55% by weight or less (for example, 50% by weight or less).
폴리머(B)를 구성하는 모노머 단위로서 모노머 S1과 함께 포함될 수 있는 모노머의 다른 예로서, 폴리머(A)에 사용될 수 있는 모노머로서 상기에서 예시한 카르복실기 함유 모노머, 산 무수물기 함유 모노머, 수산기 함유 모노머, 에폭시기 함유 모노머, 시아노기 함유 모노머, 이소시아네이트기 함유 모노머, 아미드기 함유 모노머, 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머(N-비닐 환상 아미드, (메트)아크릴로일기를 갖는 환상 아미드, 숙신이미드 골격을 갖는 모노머, 말레이미드류, 이타콘이미드류 등), (메트)아크릴산아미노알킬류, 비닐에스테르류, 비닐에테르류, 올레핀류, 방향족 탄화수소기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르, 복소환 함유 (메트)아크릴레이트, 할로겐 원자 함유 (메트)아크릴레이트, 테르펜 화합물 유도체 알코올에서 얻어지는 (메트)아크릴산에스테르 등을 들 수 있다.As other examples of the monomers that can be included together with the monomer S1 as the monomer unit constituting the polymer (B), the carboxyl group-containing monomers, acid anhydride group-containing monomers, and hydroxyl group-containing monomers exemplified above as monomers that can be used for the polymer (A) , an epoxy group-containing monomer, a cyano group-containing monomer, an isocyanate group-containing monomer, an amide group-containing monomer, a monomer having a nitrogen atom-containing ring (N-vinyl cyclic amide, a cyclic amide having a (meth)acryloyl group, and a succinimide skeleton) monomers, maleimides, itaconimides, etc.), (meth)acrylic acid aminoalkyls, vinyl esters, vinyl ethers, olefins, (meth)acrylic acid esters having an aromatic hydrocarbon group, and heterocycle-containing (meth)acrylic acid and (meth)acrylic acid esters obtained from alcohols derived from terpene compound derivatives.
폴리머(B)를 구성하는 모노머 단위로서 모노머 S1과 함께 포함될 수 있는 모노머의 또 다른 예로서, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 옥시알킬렌디(메트)아크릴레이트; 폴리옥시알킬렌 골격을 갖는 모노머, 예를 들어 폴리에틸렌글리콜이나 폴리프로필렌글리콜 등의 폴리옥시알킬렌쇄의 한쪽 말단에 (메트)아크릴로일기, 비닐기, 알릴기 등의 중합성 관능기를 갖고, 다른 쪽 말단에 에테르 구조(알킬에테르, 아릴에테르, 아릴알킬에테르 등)를 갖는 중합성 폴리옥시알킬렌에테르; (메트)아크릴산메톡시에틸, (메트)아크릴산에톡시에틸, (메트)아크릴산프로폭시에틸, (메트)아크릴산부톡시에틸, (메트)아크릴산에톡시프로필 등의 (메트)아크릴산알콕시알킬; (메트)아크릴산알칼리 금속염 등의 염; 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴산에스테르 등의 다가 (메트)아크릴레이트: 염화비닐리덴, (메트)아크릴산-2-클로로에틸 등의 할로겐화 비닐 화합물; 2-비닐-2-옥사졸린, 2-비닐-5-메틸-2-옥사졸린, 2-이소프로페닐-2-옥사졸린 등의 옥사졸린기 함유 모노머; (메트)아크릴로일아지리딘, (메트)아크릴산-2-아지리디닐에틸 등의 아지리딘기 함유 모노머; (메트)아크릴산-2-히드록시에틸, (메트)아크릴산-2-히드록시프로필, 락톤류와 (메트)아크릴산-2-히드록시에틸의 부가물 등의 수산기 함유 비닐 모노머; 불소 치환 (메트)아크릴산알킬에스테르 등의 불소 함유 비닐 모노머; 2-클로로에틸비닐에테르, 모노클로로아세트산비닐 등의 반응성 할로겐 함유 비닐 모노머; 비닐트리메톡시실란, γ-(메트)아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 알릴트리메톡시실란, 트리메톡시실릴프로필알릴아민, 2-메톡시에톡시트리메톡시실란과 같은 유기 규소 함유 비닐 모노머; 그 밖에, 비닐기를 중합한 모노머 말단에 라디칼 중합성 비닐기를 갖는 매크로 모노머류; 등을 들 수 있다. 이들은, 1종을 단독으로 혹은 2종 이상을 조합하여 모노머 S1과 공중합시킬 수 있다.As another example of a monomer that can be included together with the monomer S1 as a monomer unit constituting the polymer (B), ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth) Oxyalkylene di(meth)acrylates such as acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, propylene glycol di(meth)acrylate, dipropylene glycol di(meth)acrylate, and tripropylene glycol di(meth)acrylate ; A monomer having a polyoxyalkylene skeleton, for example, having a polymerizable functional group such as a (meth)acryloyl group, a vinyl group, or an allyl group at one end of a polyoxyalkylene chain such as polyethylene glycol or polypropylene glycol, and the other end Polymerizable polyoxyalkylene ether which has an ether structure (alkyl ether, aryl ether, arylalkyl ether, etc.) at the terminal; alkoxyalkyl (meth)acrylates such as methoxyethyl (meth)acrylate, ethoxyethyl (meth)acrylate, propoxyethyl (meth)acrylate, butoxyethyl (meth)acrylate, and ethoxypropyl (meth)acrylate; salts such as alkali metal (meth)acrylate; polyhydric (meth)acrylates such as trimethylolpropane tri(meth)acrylic acid ester; halogenated vinyl compounds such as vinylidene chloride and 2-chloroethyl (meth)acrylate; oxazoline group-containing monomers such as 2-vinyl-2-oxazoline, 2-vinyl-5-methyl-2-oxazoline, and 2-isopropenyl-2-oxazoline; aziridine group-containing monomers such as (meth)acryloyl aziridine and (meth)acryloyl-2-aziridinylethyl; hydroxyl group-containing vinyl monomers such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, and adducts of lactones and 2-hydroxyethyl (meth)acrylate; fluorine-containing vinyl monomers such as fluorine-substituted (meth)acrylic acid alkyl esters; reactive halogen-containing vinyl monomers such as 2-chloroethyl vinyl ether and monochlorovinyl acetate; Organosilicon-containing vinyl monomers such as vinyltrimethoxysilane, γ-(meth)acryloxypropyltrimethoxysilane, allyltrimethoxysilane, trimethoxysilylpropylallylamine, 2-methoxyethoxytrimethoxysilane ; In addition, macromonomers having a radically polymerizable vinyl group at the end of a monomer obtained by polymerizing a vinyl group; etc. can be mentioned. These can be copolymerized with monomer S1 individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
몇몇 양태에 있어서, 폴리머(B)로서는, 폴리머(A)와 가교 반응을 발생시키는 관능기를 갖지 않는 것을 바람직하게 채용할 수 있다. 바꾸어 말하면, 폴리머(B)는, 폴리머(A)와 화학 결합하고 있지 않은 형태로 점착제층에 포함되어 있는 것이 바람직하다. 이와 같은 형태로 폴리머(B)를 포함하는 점착제층은, 가열 시에 있어서의 폴리머(B)의 이동성이 좋아, 점착력 상승비의 향상에 적합하다. 폴리머(A)와 가교 반응을 발생시키는 관능기는, 해당 폴리머(A)가 갖는 관능기의 종류에 따라 다를 수 있지만, 예를 들어 에폭시기, 이소시아네이트기, 카르복시기, 알콕시실릴기, 아미노기 등일 수 있다.In some embodiments, as the polymer (B), one having no functional group that causes a crosslinking reaction with the polymer (A) can be preferably employed. In other words, the polymer (B) is preferably contained in the pressure-sensitive adhesive layer in a form that is not chemically bonded to the polymer (A). The pressure-sensitive adhesive layer containing the polymer (B) in such a form has good mobility of the polymer (B) during heating, and is suitable for improving the adhesive force increasing ratio. The functional group causing the crosslinking reaction with the polymer (A) may vary depending on the type of functional group possessed by the polymer (A), but may be, for example, an epoxy group, an isocyanate group, a carboxy group, an alkoxysilyl group, an amino group, or the like.
폴리머(B)의 Mw는 특별히 한정되지는 않는다. 폴리머(B)의 Mw는, 예를 들어 1000 이상이어도 되고, 5000 이상이어도 된다. 몇몇 바람직한 양태에 있어서, 폴리머(B)의 Mw는, 가열 후의 점착력 상승을 적합하게 발현하는 관점에서, 10,000 이상이며, 보다 바람직하게는 12,000 이상이며, 15,000 이상이어도 되고, 20,000 이상이어도 되고, 22,000 이상이어도 되고, 25,000 이상이어도 된다. 다른 몇몇 양태에서는, 폴리머(B)의 Mw는, 30,000 이상이어도 되고, 50,000 이상이어도 되고, 70,000 이상이어도 된다. 폴리머(B)의 Mw의 상한은, 예를 들어 500,000 이하이며, 350,000 이하여도 되고, 200,000 이하여도 되고, 150,000 이하여도 된다. 점착제층 내에 있어서의 상용성이나 이동성을 적당한 범위로 조절하여, 첩부 초기에 있어서의 저점착성을 적합하게 발현하는 관점에서, 몇몇 바람직한 양태에 있어서, 폴리머(B)의 Mw는, 100,000 이하이며, 보다 바람직하게는 80,000 이하, 더욱 바람직하게는 60,000 이하, 특히 바람직하게는 40,000 이하(예를 들어 30,000 이하)이고, 25,000 이하여도 되고, 나아가 20,000 이하여도 된다. 폴리머(B)의 Mw를 적당한 범위로 설정함으로써, 첩부 초기의 경박리성과 점착력 상승성의 양립이 우수한 점착제가 얻어지기 쉽다.Mw of the polymer (B) is not particularly limited. Mw of the polymer (B) may be, for example, 1000 or more, or 5000 or more. In some preferred embodiments, the Mw of the polymer (B) is 10,000 or more, more preferably 12,000 or more, may be 15,000 or more, may be 20,000 or more, may be 22,000 or more, from the viewpoint of suitably exhibiting an increase in adhesive strength after heating. It may be 25,000 or more. In some other aspects, the Mw of the polymer (B) may be 30,000 or more, 50,000 or more, or 70,000 or more. The upper limit of Mw of the polymer (B) is, for example, 500,000 or less, 350,000 or less, 200,000 or less, or 150,000 or less. From the viewpoint of adjusting the compatibility and mobility in the pressure-sensitive adhesive layer to an appropriate range and suitably expressing the low-adhesion property in the initial stage of sticking, in some preferred embodiments, the Mw of the polymer (B) is 100,000 or less, and more It is preferably 80,000 or less, more preferably 60,000 or less, particularly preferably 40,000 or less (for example, 30,000 or less), 25,000 or less, or even 20,000 or less. By setting the Mw of the polymer (B) in an appropriate range, it is easy to obtain a pressure-sensitive adhesive excellent in coexistence of easy peelability in the initial stage of sticking and adhesive force increasing property.
몇몇 바람직한 양태에 있어서, 폴리머(B)의 Mw는, 폴리머(A)의 Mw보다 낮은 것이 바람직하다. 이에 의해, 첩부 초기의 양호한 리워크성과 가열 후의 점착력 상승을 양립시키는 보강용 필름을 실현하기 쉬워진다. 몇몇 양태에 있어서, 폴리머(B)의 Mw는, 예를 들어 폴리머(A)의 Mw의 0.8배 이하여도 되고, 0.75배 이하여도 되고, 0.5배 이하여도 되고, 0.3배 이하여도 된다. 몇몇 바람직한 양태에 있어서, 폴리머(A)의 MwA에 대한 폴리머(B)의 MwB의 비(MwB/MwA)는 0.3 이하이며, 보다 바람직하게는 0.2 이하, 더욱 바람직하게는 0.1 이하, 특히 바람직하게는 0.06 이하(예를 들어 0.05 이하)이다. 또한, 비(MwB/MwA)는, 예를 들어 0.010 이상이 적당하고, 바람직하게는 0.020 이상, 보다 바람직하게는 0.03 이상, 더욱 바람직하게는 0.04 이상이다. 폴리머(A)의 Mw와 폴리머(B)의 Mw를 적당한 범위로 설정함으로써, 여기에 개시되는 기술에 의한 효과가 보다 잘 실현될 수 있다. 다른 몇몇 양태에 있어서, 폴리머(B)의 Mw는, 폴리머(A)의 Mw의 0.03배 이하(예를 들어 0.02배 이하)여도 된다.In some preferred embodiments, the Mw of polymer (B) is preferably lower than the Mw of polymer (A). Thereby, it becomes easy to implement|achieve the film for reinforcement which makes favorable reworkability in the initial stage of sticking and the adhesive force raise after heating compatible. In some embodiments, the Mw of polymer (B) may be, for example, 0.8 times or less, 0.75 times or less, 0.5 times or less, or 0.3 times or less of the Mw of polymer (A). In some preferred embodiments, the ratio of Mw B of polymer (B) to Mw A of polymer (A) (Mw B /Mw A ) is 0.3 or less, more preferably 0.2 or less, still more preferably 0.1 or less; Especially preferably, it is 0.06 or less (for example, 0.05 or less). The ratio (Mw B /Mw A ) is, for example, preferably 0.010 or more, preferably 0.020 or more, more preferably 0.03 or more, still more preferably 0.04 or more. By setting the Mw of polymer (A) and the Mw of polymer (B) in appropriate ranges, the effect of the technique disclosed herein can be better realized. In some other embodiments, the Mw of the polymer (B) may be 0.03 times or less (for example, 0.02 times or less) of the Mw of the polymer (A).
폴리머(B)는, 예를 들어 상술한 모노머를, 용액 중합법, 에멀션 중합법, 벌크 중합법, 현탁 중합법, 광중합법 등의 공지의 방법에 의해 중합시킴으로써 제작 할 수 있다.The polymer (B) can be produced, for example, by polymerizing the above-mentioned monomers by a known method such as solution polymerization, emulsion polymerization, bulk polymerization, suspension polymerization, or photopolymerization.
폴리머(B)의 분자량을 조정하기 위해, 필요에 따라서 연쇄 이동제를 사용할 수 있다. 사용하는 연쇄 이동제의 예로서는, 옥틸머캅탄, 라우릴머캅탄, t-노닐머캅탄, t-도데실머캅탄, 머캅토에탄올, α-티오글리세롤 등의 머캅토기를 갖는 화합물; 티오글리콜산, 티오글리콜산메틸, 티오글리콜산에틸, 티오글리콜산프로필, 티오글리콜산부틸, 티오글리콜산t-부틸, 티오글리콜산2-에틸헥실, 티오글리콜산옥틸, 티오글리콜산이소옥틸, 티오글리콜산데실, 티오글리콜산도데실, 에틸렌글리콜의 티오글리콜산에스테르, 네오펜틸글리콜의 티오글리콜산에스테르, 펜타에리트리톨의 티오글리콜산에스테르 등의 티오글리콜산에스테르류; α-메틸스티렌다이머; 등을 들 수 있다.In order to adjust the molecular weight of polymer (B), a chain transfer agent can be used as needed. Examples of the chain transfer agent to be used include compounds having a mercapto group such as octyl mercaptan, lauryl mercaptan, t-nonyl mercaptan, t-dodecyl mercaptan, mercaptoethanol, and α-thioglycerol; Thioglycolic acid, methyl thioglycolate, ethyl thioglycolate, propyl thioglycolate, butyl thioglycolate, t-butyl thioglycolate, 2-ethylhexyl thioglycolate, octyl thioglycolate, isooctyl thioglycolate, thioglycolic acid esters such as decyl thioglycolate, dodecyl thioglycolate, thioglycolic acid ester of ethylene glycol, thioglycolic acid ester of neopentyl glycol, and thioglycolic acid ester of pentaerythritol; α-methylstyrene dimer; etc. can be mentioned.
연쇄 이동제의 사용량으로서는, 특별히 제한되지는 않지만, 통상 모노머 100중량부에 대하여, 연쇄 이동제를 0.05중량부 내지 20중량부, 바람직하게는 0.1중량부 내지 15중량부, 더욱 바람직하게는 0.2중량부 내지 10중량부 함유한다. 이와 같이 연쇄 이동제의 첨가량을 조정함으로써, 적합한 분자량의 폴리머(B)를 얻을 수 있다. 연쇄 이동제는, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The amount of the chain transfer agent used is not particularly limited, but is usually 0.05 part by weight to 20 parts by weight, preferably 0.1 part by weight to 15 parts by weight, more preferably 0.2 part by weight to 100 parts by weight of the monomer. Contains 10 parts by weight. By adjusting the addition amount of the chain transfer agent in this way, a polymer (B) having a suitable molecular weight can be obtained. A chain transfer agent can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
폴리머(B)의 분자량을 조정하는 수단으로서는, 상기 연쇄 이동제의 사용을 포함하는 종래 공지의 각종 수단을, 단독으로 또는 적절히 조합하여 사용할 수 있다. 폴리머(A)의 분자량에 대해서도 마찬가지이다. 그와 같은 수단의 비한정적인 예에는, 중합 방법의 선택, 중합 개시제의 종류나 사용량의 선택, 중합 온도의 선택, 용액 중합법에 있어서의 중합 용매의 종류나 사용량의 선택, 광중합법에 있어서의 광 조사 강도의 선택 등이 포함된다. 당업자라면, 후술하는 구체예를 포함하는 본원 명세서의 기재 및 본원 출원 시의 기술 상식에 기초하여, 원하는 분자량을 갖는 폴리머를 어떻게 하면 얻을 수 있는지에 대하여 이해할 수 있다.As a means for adjusting the molecular weight of the polymer (B), conventionally known various means including the use of the chain transfer agent can be used alone or in appropriate combination. The same applies to the molecular weight of the polymer (A). Non-limiting examples of such means include selection of polymerization method, selection of type or amount of polymerization initiator, selection of polymerization temperature, selection of type or amount of polymerization solvent in solution polymerization method, selection of amount in photopolymerization method selection of light irradiation intensity; and the like. A person skilled in the art can understand how to obtain a polymer having a desired molecular weight based on the description of the present specification including specific examples to be described later and the common technical knowledge at the time of filing the present application.
여기에 개시되는 보강용 필름에 있어서, 폴리머(A)의 사용량 100중량부에 대한 폴리머(B)의 사용량은, 예를 들어 0.1중량부 이상으로 할 수 있고, 보다 높은 효과(적합하게는, 첩부 초기의 경박리성)를 얻는 관점에서 0.5중량부 이상이 바람직하고, 1중량부 이상이 보다 바람직하고, 1.5중량부 이상이 더욱 바람직하고, 2중량부 이상으로 해도 된다. 몇몇 양태에 있어서, 리워크성 향상 등의 관점에서, 상기 폴리머(B)의 사용량은, 예를 들어 3중량부 이상으로 할 수 있고, 4중량부 이상으로 해도 되고, 5중량부 이상으로 해도 된다. 또한, 폴리머(A)의 사용량 100중량부에 대한 폴리머(B)의 사용량은, 예를 들어 75중량부 이하여도 되고, 30중량부 이하여도 되고, 10중량부 이하여도 되고, 8중량부 이하여도 된다. 목적으로 하는 점착력 상승을 적합하게 실현하는 관점에서, 몇몇 바람직한 양태에 있어서, 폴리머(A) 100중량부에 대한 폴리머(B)의 사용량은, 5중량부 이하이며, 보다 바람직하게는 4중량부 이하, 더욱 바람직하게는 3중량부 이하, 특히 바람직하게는 2.5중량부 이하이다. 다른 몇몇 바람직한 양태에서는, 폴리머(A) 100중량부에 대한 폴리머(B)의 사용량은, 1.5중량부 이하(예를 들어 1.2 중량부 이하)이다. 폴리머(B)의 사용량을 상기 범위로 함으로써, 양호한 굴곡 회복성 및 굴곡 유지력을 실현하기 쉽다. 또한, 첩부 초기의 경박리성과 점착력 상승성을 보다 잘 양립시킬 수 있다.In the reinforcing film disclosed herein, the amount of polymer (B) used per 100 parts by weight of polymer (A) can be, for example, 0.1 part by weight or more, resulting in a higher effect (preferably, adhesion 0.5 parts by weight or more is preferable, 1 part by weight or more is more preferable, 1.5 parts by weight or more is still more preferable, and it is good also as 2 parts by weight or more from the viewpoint of obtaining initial light peelability). In some embodiments, from the viewpoint of improving reworkability, etc., the amount of the polymer (B) used can be, for example, 3 parts by weight or more, 4 parts by weight or more, or 5 parts by weight or more. . The amount of polymer (B) used per 100 parts by weight of polymer (A) may be, for example, 75 parts by weight or less, 30 parts by weight or less, 10 parts by weight or less, or 8 parts by weight or less. do. From the viewpoint of suitably realizing the desired increase in adhesive strength, in some preferred embodiments, the amount of the polymer (B) relative to 100 parts by weight of the polymer (A) is 5 parts by weight or less, more preferably 4 parts by weight or less. , More preferably 3 parts by weight or less, particularly preferably 2.5 parts by weight or less. In some other preferred embodiments, the amount of polymer (B) used per 100 parts by weight of polymer (A) is 1.5 parts by weight or less (for example, 1.2 parts by weight or less). By setting the usage amount of the polymer (B) within the above range, it is easy to realize good bending recovery and bending holding power. Moreover, the easy peeling property of the initial stage of sticking and the adhesive force increasing property can be made compatible more well.
점착제층은, 여기에 개시되는 보강용 필름의 성능을 크게 손상시키지 않는 범위에서, 폴리머(A) 및 폴리머(B) 이외의 폴리머(임의 폴리머)를 필요에 따라서 함유할 수 있다. 그와 같은 임의 폴리머의 사용량은, 통상, 점착제층에 포함되는 폴리머 성분 전체의 20중량% 이하로 하는 것이 적당하고, 15중량% 이하여도 되고, 10중량% 이하여도 된다. 몇몇 양태에 있어서, 상기 임의 폴리머의 사용량은, 상기 폴리머 성분 전체의 5중량% 이하여도 되고, 3중량% 이하여도 되고, 1중량% 이하여도 된다. 폴리머(A) 및 폴리머(B) 이외의 폴리머를 실질적으로 함유하지 않는 점착제층이어도 된다.The pressure-sensitive adhesive layer may contain polymers (arbitrary polymers) other than the polymer (A) and the polymer (B) as needed within a range that does not significantly impair the performance of the reinforcing film disclosed herein. The amount of such an arbitrary polymer used is usually suitably 20% by weight or less, 15% by weight or less, or 10% by weight or less of the total polymer components included in the pressure-sensitive adhesive layer. In some embodiments, the amount of the optional polymer used may be 5% by weight or less, 3% by weight or less, or 1% by weight or less of the total amount of the polymer component. It may be a pressure-sensitive adhesive layer that does not substantially contain polymers other than the polymer (A) and the polymer (B).
(가교제)(crosslinking agent)
점착제층에는, 응집력의 조정 등의 목적으로, 필요에 따라서 가교제가 사용될 수 있다. 가교제로서는, 점착제의 분야에 있어서 공지의 가교제를 사용할 수 있고, 예를 들어 에폭시계 가교제, 이소시아네이트계 가교제, 실리콘계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 아지리딘계 가교제, 실란계 가교제, 알킬에테르화 멜라민계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제 등을 들 수 있다. 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제를 적합하게 사용할 수 있다. 굴곡 회복성과 굴곡 유지력을 적합하게 양립시키는 가교제로서, 이소시아네이트계 가교제를 바람직하게 사용할 수 있다. 가교제는, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.A crosslinking agent may be used in the pressure-sensitive adhesive layer as needed for the purpose of adjusting the cohesive force or the like. As the crosslinking agent, a crosslinking agent known in the field of pressure-sensitive adhesives can be used, and examples thereof include an epoxy crosslinking agent, an isocyanate crosslinking agent, a silicone crosslinking agent, an oxazoline crosslinking agent, an aziridine crosslinking agent, a silane crosslinking agent, an alkyl etherified melamine crosslinking agent, A metal chelate type crosslinking agent etc. are mentioned. An isocyanate-type crosslinking agent, an epoxy-type crosslinking agent, and a metal chelate-type crosslinking agent can be suitably used. As a crosslinking agent that satisfies both bending recovery and bending holding power, an isocyanate-based crosslinking agent can be preferably used. A crosslinking agent can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
이소시아네이트계 가교제로서는, 다관능 이소시아네이트(1분자당 평균 2개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 화합물을 말하고, 이소시아누레이트 구조를 갖는 것을 포함함)가 바람직하게 사용될 수 있다. 이소시아네이트계 가교제는, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As the isocyanate-based crosslinking agent, polyfunctional isocyanates (referring to compounds having an average of two or more isocyanate groups per molecule, including those having an isocyanurate structure) can be preferably used. An isocyanate type crosslinking agent can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
다관능 이소시아네이트의 예로서, 지방족 폴리이소시아네이트류, 지환족 폴리이소시아네이트류, 방향족 폴리이소시아네이트류 등을 들 수 있다.Examples of polyfunctional isocyanates include aliphatic polyisocyanates, alicyclic polyisocyanates, and aromatic polyisocyanates.
지방족 폴리이소시아네이트류의 구체예로서는, 1,2-에틸렌디이소시아네이트; 1,2-테트라메틸렌디이소시아네이트, 1,3-테트라메틸렌디이소시아네이트, 1,4-테트라메틸렌디이소시아네이트 등의 테트라메틸렌디이소시아네이트; 1,2-헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,3-헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,4-헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,5-헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,5-헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 헥사메틸렌디이소시아네이트; 2-메틸-1,5-펜탄디이소시아네이트, 3-메틸-1,5-펜탄디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트 등을 들 수 있다.Specific examples of aliphatic polyisocyanates include 1,2-ethylene diisocyanate; tetramethylene diisocyanates such as 1,2-tetramethylene diisocyanate, 1,3-tetramethylene diisocyanate, and 1,4-tetramethylene diisocyanate; 1,2-hexamethylene diisocyanate, 1,3-hexamethylene diisocyanate, 1,4-hexamethylene diisocyanate, 1,5-hexamethylene diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, 2,5-hexa hexamethylene diisocyanates such as methylene diisocyanate; 2-methyl-1,5-pentane diisocyanate, 3-methyl-1,5-pentane diisocyanate, and lysine diisocyanate.
지환족 폴리이소시아네이트류의 구체예로서는, 이소포론디이소시아네이트; 1,2-시클로헥실디이소시아네이트, 1,3-시클로헥실디이소시아네이트, 1,4-시클로헥실디이소시아네이트 등의 시클로헥실디이소시아네이트; 1,2-시클로펜틸디이소시아네이트, 1,3-시클로펜틸디이소시아네이트 등의 시클로펜틸디이소시아네이트; 수소 첨가 크실릴렌디이소시아네이트, 수소 첨가 톨릴렌디이소시아네이트, 수소 첨가 디페닐메탄디이소시아네이트, 수소 첨가 테트라메틸크실렌디이소시아네이트, 4,4'-디시클로헥실메탄디이소시아네이트 등을 들 수 있다.Specific examples of alicyclic polyisocyanates include isophorone diisocyanate; cyclohexyl diisocyanates such as 1,2-cyclohexyl diisocyanate, 1,3-cyclohexyl diisocyanate, and 1,4-cyclohexyl diisocyanate; cyclopentyl diisocyanates such as 1,2-cyclopentyl diisocyanate and 1,3-cyclopentyl diisocyanate; Hydrogenated xylylene diisocyanate, hydrogenated tolylene diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated tetramethylxylene diisocyanate, 4,4'-dicyclohexylmethane diisocyanate, etc. are mentioned.
방향족 폴리이소시아네이트류의 구체예로서는, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 2,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 2,2'-디페닐메탄디이소시아네이트, 4,4'-디페닐에테르디이소시아네이트, 2-니트로디페닐-4,4'-디이소시아네이트, 2,2'-디페닐프로판-4,4'-디이소시아네이트, 3,3'-디메틸디페닐메탄-4,4'-디이소시아네이트, 4,4'-디페닐프로판디이소시아네이트, m-페닐렌디이소시아네이트, p-페닐렌디이소시아네이트, 나프틸렌-1,4-디이소시아네이트, 나프틸렌-1,5-디이소시아네이트, 3,3'-디메톡시디페닐-4,4'-디이소시아네이트, 크실릴렌-1,4-디이소시아네이트, 크실릴렌-1,3-디이소시아네이트 등을 들 수 있다.As specific examples of aromatic polyisocyanates, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 2,4'-diphenylmethane diisocyanate, 2,2' -Diphenylmethane diisocyanate, 4,4'-diphenyl ether diisocyanate, 2-nitrodiphenyl-4,4'-diisocyanate, 2,2'-diphenylpropane-4,4'-diisocyanate, 3 ,3'-dimethyldiphenylmethane-4,4'-diisocyanate, 4,4'-diphenylpropane diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, naphthylene-1,4-diisocyanate, Naphthylene-1,5-diisocyanate, 3,3'-dimethoxydiphenyl-4,4'-diisocyanate, xylylene-1,4-diisocyanate, xylylene-1,3-diisocyanate, etc. can be heard
바람직한 다관능 이소시아네이트로서, 1분자당 평균하여 3개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 다관능 이소시아네이트가 예시된다. 이러한 3관능 이상의 이소시아네이트는, 2관능 또는 3관능 이상의 이소시아네이트의 다량체(예를 들어, 2량체 또는 3량체), 유도체(예를 들어, 다가 알코올과 2분자 이상의 다관능 이소시아네이트의 부가 반응 생성물), 중합물 등일 수 있다. 예를 들어, 디페닐메탄디이소시아네이트의 2량체나 3량체, 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체(이소시아누레이트 구조의 3량체 부가물), 트리메틸올프로판과 톨릴렌디이소시아네이트의 반응 생성물, 트리메틸올프로판과 헥사메틸렌디이소시아네이트의 반응 생성물, 크실릴렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 부가물, 이소포론디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 부가물, 헥사메틸렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 부가물, 폴리메틸렌폴리페닐이소시아네이트, 폴리에테르폴리이소시아네이트, 폴리에스테르폴리이소시아네이트, 그리고 이들과 각종 폴리올의 부가물, 이소시아누레이트 결합, 뷰렛 결합, 알로파네이트 결합 등으로 다관능화한 폴리이소시아네이트 등의 다관능 이소시아네이트를 들 수 있다.As a preferable polyfunctional isocyanate, the polyfunctional isocyanate which has 3 or more isocyanate groups on average per molecule is illustrated. Such trifunctional or higher than trifunctional isocyanate is a multimer (for example, a dimer or trimer), a derivative (for example, an addition reaction product of a polyhydric alcohol and two or more molecules of polyfunctional isocyanate), polymers and the like. For example, a dimer or trimer of diphenylmethane diisocyanate, an isocyanurate compound of hexamethylene diisocyanate (a trimer adduct of an isocyanurate structure), a reaction product of trimethylolpropane and tolylene diisocyanate, Reaction product of trimethylolpropane and hexamethylene diisocyanate, trimethylolpropane adduct of xylylene diisocyanate, trimethylolpropane adduct of isophorone diisocyanate, trimethylolpropane adduct of hexamethylene diisocyanate, polymethylene polyphenylisocyanate , polyether polyisocyanates, polyester polyisocyanates, and polyfunctional isocyanates such as polyisocyanates polyisocyanates polyfunctionalized with adducts of these and various polyols, isocyanurate bonds, biuret bonds, allophanate bonds, and the like.
상기 다관능 이소시아네이트의 시판품으로서는, 아사히 가세이 케미컬즈사제의 상품명 「듀라네이트 TPA-100」, 도소사제의 상품명 「코로네이트 L」, 동 「코로네이트 HL」, 동 「코로네이트 HK」, 동 「코로네이트 HX」, 동 「코로네이트(2096)」, 미쓰이 가가쿠사제의 상품명 「타케네이트 D110N」, 동 「타케네이트 D120N」, 동 「타케네이트 D140N」, 동 「타케네이트 D160N」 등을 들 수 있다.Commercially available products of the polyfunctional isocyanate include "Duranate TPA-100", a trade name manufactured by Asahi Kasei Chemicals, "Coronate L", "Coronate HL", "Coronate HK" and "Coronate TPA-100" manufactured by Tosoh Corporation. Nate HX", the same "Coronate (2096)", the trade name "Takenate D110N" made by Mitsui Chemicals, the same "Takenate D120N", the same "Takenate D140N", the same "Takenate D160N", etc. are mentioned. .
에폭시계 가교제로서는, 비스페놀 A, 에피클로로히드린형 에폭시계 수지, 에틸렌글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 글리세린디글리시딜에테르, 글리세린트리글리시딜에테르, 1,6-헥산디올글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, 디글리시딜아닐린, 디아민글리시딜아민, N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-크실릴렌디아민 및 1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노메틸)시클로헥산 등을 들 수 있다. 이들은 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As the epoxy crosslinking agent, bisphenol A, epichlorohydrin type epoxy resin, ethylene glycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, 1,6-hexanediol Glycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, diglycidylaniline, diamineglycidylamine, N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xylylenediamine and 1,3 -Bis(N,N-diglycidylaminomethyl)cyclohexane etc. are mentioned. These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
금속 킬레이트 화합물로서는, 금속 성분으로서 알루미늄, 철, 주석, 티타늄, 니켈 등, 킬레이트 성분으로서 아세틸렌, 아세토아세트산메틸, 락트산에틸 등을 들 수 있다. 이들은 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As a metal chelate compound, aluminum, iron, tin, titanium, nickel etc. are mentioned as a metal component, Acetylene, methyl acetoacetate, ethyl lactate, etc. are mentioned as a chelate component. These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
가교제를 사용하는 경우에 있어서의 사용량은, 특별히 한정되지는 않고, 예를 들어 폴리머(A) 100중량부에 대하여 0중량부를 초과하는 양으로 할 수 있다. 또한, 가교제의 사용량은, 폴리머(A) 100중량부에 대하여, 예를 들어 0.01중량부 이상으로 할 수 있고, 0.05중량부 이상으로 하는 것이 바람직하다. 가교제의 사용량의 증대에 의해, 첩부 초기의 점착력이 억제되어, 리워크성이 향상되는 경향이 있다. 굴곡 회복성, 가공성이 우수한 경향이 있다. 몇몇 양태에 있어서, 폴리머(A) 100중량부에 대한 가교제의 사용량은, 0.1중량부 이상이어도 되고, 0.5중량부 이상이어도 되고, 0.8중량부 이상이어도 된다. 한편, 폴리머(B)의 이동성을 적절하게 허용하여 가열 후의 점착력 상승을 얻는 관점에서, 폴리머(A) 100중량부에 대한 가교제의 사용량은, 통상, 15중량부 이하로 하는 것이 적당하고, 10중량부 이하로 해도 되고, 5중량부 이하로 해도 된다.The usage amount in the case of using a crosslinking agent is not particularly limited, and may be, for example, an amount exceeding 0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polymer (A). The amount of the crosslinking agent can be, for example, 0.01 part by weight or more, preferably 0.05 part by weight or more, based on 100 parts by weight of the polymer (A). An increase in the amount of the crosslinking agent tends to suppress the adhesive force at the initial stage of application and improve the reworkability. It tends to have excellent bending recovery and workability. In some embodiments, the amount of the crosslinking agent used per 100 parts by weight of the polymer (A) may be 0.1 parts by weight or more, 0.5 parts by weight or more, or 0.8 parts by weight or more. On the other hand, from the viewpoint of appropriately permitting the mobility of the polymer (B) and obtaining an increase in the adhesive strength after heating, the amount of the crosslinking agent per 100 parts by weight of the polymer (A) is usually suitably 15 parts by weight or less, and 10 parts by weight It may be 5 parts or less, or 5 parts by weight or less.
여기에 개시되는 기술은, 가교제로서 적어도 이소시아네이트계 가교제를 사용하는 양태로 바람직하게 실시될 수 있다. 첩부 초기의 양호한 리워크성과 가열 후의 점착력 상승을 양립시키는 관점에서, 몇몇 양태에 있어서, 폴리머(A) 100중량부에 대한 이소시아네이트계 가교제의 사용량은, 예를 들어 0.01중량부 이상으로 할 수 있고, 바람직하게는 0.05중량부 이상, 보다 바람직하게는 0.07중량부 이상이며, 0.10중량부 이상으로 해도 되고, 0.15중량부 이상(예를 들어 0.20중량부 이상)으로 해도 된다. 이소시아네이트계 가교제의 사용량의 증대에 의해, 적당한 응집력, 탄성률이 얻어지고, 굴곡 회복성, 가공성도 우수한 경향이 있다. 또한, 폴리머(A) 100중량부에 대한 이소시아네이트계 가교제의 사용량은, 예를 들어 5중량부 이하로 할 수 있고, 바람직하게는 1.0중량부 미만, 보다 바람직하게는 0.5중량부 미만, 더욱 바람직하게는 0.3중량부 미만, 특히 바람직하게는 0.2중량부 미만(예를 들어 0.15중량부 이하)이다. 이에 의해, 점착제의 응집력, 나아가서는 탄성률(전형적으로는 표면 탄성률)이 적절하게 저하되어, 양호한 굴곡 유지력이 얻어지고, 또한 가열 후 점착력 상승도 얻어지기 쉽다.The technology disclosed herein can be preferably carried out in an aspect using at least an isocyanate-based crosslinking agent as a crosslinking agent. From the viewpoint of achieving both good reworkability at the initial stage of application and increase in adhesive strength after heating, in some embodiments, the amount of isocyanate-based crosslinking agent relative to 100 parts by weight of polymer (A) is, for example, 0.01 part by weight or more, It is preferably 0.05 parts by weight or more, more preferably 0.07 parts by weight or more, and may be 0.10 parts by weight or more, or 0.15 parts by weight or more (for example, 0.20 parts by weight or more). By increasing the amount of isocyanate-based crosslinking agent used, appropriate cohesive force and elastic modulus are obtained, and there is a tendency for bending recovery and workability to be excellent. The amount of isocyanate-based crosslinking agent used per 100 parts by weight of the polymer (A) can be, for example, 5 parts by weight or less, preferably less than 1.0 parts by weight, more preferably less than 0.5 parts by weight, still more preferably. is less than 0.3 parts by weight, particularly preferably less than 0.2 parts by weight (for example, 0.15 parts by weight or less). As a result, the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive and thus the modulus of elasticity (typically, the modulus of elasticity of the surface) are appropriately lowered, and a good bending holding force is obtained, and an increase in the adhesive force after heating is also easily obtained.
특별히 한정되는 것은 아니지만, 점착제층이 모노머 단위로서 수산기 함유 모노머를 포함하는 구성에 있어서 이소시아네이트계 가교제를 사용하는 경우, 점착제층에 포함되는 이소시아네이트기와 수산기의 몰비([NCO]/[OH])는, 예를 들어 0.001 이상으로 할 수 있다. 이와 같이 수산기 함유 모노머에 대한 이소시아네이트계 가교제의 사용량을 많게 함으로써, 점착제의 탄성률(전형적으로는 표면 탄성률)이 적합한 범위가 되어, 굴곡 회복성이 향상되는 경향이 있다. 또한, 가공성도 우수한 경향이 있다. 몇몇 바람직한 양태에 있어서, 상기 몰비([NCO]/[OH])는, 0.002 이상이며, 보다 바람직하게는 0.004 이상, 더욱 바람직하게는 0.006 이상(예를 들어 0.007 이상)이고, 0.010 이상이어도 되고, 0.020 이상이어도 되고, 0.030 이상이어도 된다. 또한, 상기 몰비([NCO]/[OH])는, 예를 들어 1.0 이하로 할 수 있고, 0.10 이하여도 된다. 상기 몰비를 소정값 이하로 제한함으로써, 첩부 초기의 점착력에 대하여 가열 후 점착력을 크게 상승시키기 위해 적합한 가교 구조가 바람직하게 형성될 수 있다. 몇몇 바람직한 양태에 있어서, 상기 몰비([NCO]/[OH])는 0.030 이하이며, 보다 바람직하게는 0.015 이하, 더욱 바람직하게는 0.012 이하(예를 들어 0.009 이하)이고, 0.005 이하여도 된다. 또한, 점착제층에 있어서, 이소시아네이트기와 수산기는, 그것들 중 적어도 일부가 화학적으로 결합(가교)한 상태로 존재할 수 있다. 보다 구체적으로는, 상기 이소시아네이트기는 상기 수산기와 화학적으로 결합(가교)한 상태로 존재할 수 있다. 한편, 상기 수산기는, 그 일부가 이소시아네이트기와 화학적으로 결합하고, 다른 일부는 상기 이소시아네이트기와 화학적으로 결합(가교)하지 않은 상태로 존재할 수 있다.Although not particularly limited, when an isocyanate-based crosslinking agent is used in a configuration in which the pressure-sensitive adhesive layer contains a hydroxyl group-containing monomer as a monomer unit, the molar ratio of isocyanate groups and hydroxyl groups contained in the pressure-sensitive adhesive layer ([NCO] / [OH]), For example, it can be set to 0.001 or more. Thus, by increasing the amount of the isocyanate-based crosslinking agent relative to the hydroxyl group-containing monomer, the elastic modulus (typically, the surface elastic modulus) of the pressure-sensitive adhesive tends to be within a suitable range, and the bending recovery property tends to be improved. Also, processability tends to be excellent. In some preferred embodiments, the molar ratio ([NCO]/[OH]) is 0.002 or more, more preferably 0.004 or more, still more preferably 0.006 or more (eg 0.007 or more), may be 0.010 or more, 0.020 or more may be sufficient, and 0.030 or more may be sufficient. In addition, the said molar ratio ([NCO]/[OH]) can be 1.0 or less, for example, and may be 0.10 or less. By limiting the molar ratio to a predetermined value or less, a crosslinked structure suitable for greatly increasing the adhesive force after heating with respect to the adhesive force in the initial stage of attachment can be preferably formed. In some preferred embodiments, the molar ratio ([NCO]/[OH]) is 0.030 or less, more preferably 0.015 or less, even more preferably 0.012 or less (eg 0.009 or less), and may be 0.005 or less. Also, in the pressure-sensitive adhesive layer, isocyanate groups and hydroxyl groups may exist in a state in which at least some of them are chemically bonded (crosslinked). More specifically, the isocyanate group may exist in a chemically bonded (crosslinked) state with the hydroxyl group. Meanwhile, a part of the hydroxyl group may be chemically bonded to the isocyanate group, and the other part may exist in a state in which it is not chemically bonded (crosslinked) to the isocyanate group.
몇몇 바람직한 양태에 있어서, 점착제층은 촉매를 포함한다. 촉매는, 점착제층 형성 시에 점착제층의 경화를 촉진할 목적, 전형적으로는, 상술한 어느 가교 반응을 보다 효과적으로 진행시킬 목적으로 첨가될 수 있다. 따라서, 상기 촉매는, 경화 촉매 또는 가교 촉매라고도 한다. 촉매를 첨가함으로써, 초기 경화가 촉진되어, 점착제층 표면의 기포 발생의 원인이 되는 부반응을 억제할 수 있다. 촉매로서는, 철계 촉매, 주석계 촉매, 티타늄계 촉매, 지르코늄계 촉매, 납계 촉매, 코발트계 촉매, 아연계 촉매 등의 유기 금속계 화합물, 3급 아민 화합물 등을 들 수 있다. 이들은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 그 중에서도, 반응 속도와 포트 라이프의 밸런스로부터, 철계 촉매, 주석계 촉매가 바람직하고, 철계 촉매가 특히 바람직하다.In some preferred embodiments, the pressure sensitive adhesive layer includes a catalyst. The catalyst may be added for the purpose of accelerating the curing of the pressure-sensitive adhesive layer during formation of the pressure-sensitive adhesive layer, typically, for the purpose of more effectively advancing any of the above-described crosslinking reactions. Therefore, the said catalyst is also called a curing catalyst or a crosslinking catalyst. By adding a catalyst, initial curing is accelerated, and side reactions that cause bubbles on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer can be suppressed. Examples of the catalyst include organometallic compounds such as iron-based catalysts, tin-based catalysts, titanium-based catalysts, zirconium-based catalysts, lead-based catalysts, cobalt-based catalysts, and zinc-based catalysts, tertiary amine compounds, and the like. These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. Especially, from the balance of a reaction rate and a pot life, an iron-type catalyst and a tin-type catalyst are preferable, and an iron-type catalyst is especially preferable.
철계 촉매로서는, 예를 들어 철아세틸아세토네이트, 2-에틸헥산산철 등을 들 수 있다. 철계 촉매는, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As an iron-type catalyst, iron acetylacetonate, iron 2-ethylhexanoate, etc. are mentioned, for example. An iron-type catalyst can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
주석계 촉매로서는, 예를 들어 디부틸주석디클로라이드, 디부틸주석옥시드, 디부틸주석디브로마이드, 디부틸주석말레에이트, 디부틸주석디라우레이트, 디부틸주석디아세테이트, 디부틸주석술피드, 트리부틸주석메톡시드, 트리부틸주석아세테이트, 트리에틸주석에톡시드, 트리부틸주석에톡시드, 디옥틸주석옥시드, 디옥틸주석디라우레이트, 트리부틸주석클로라이드, 트리부틸주석트리클로로아세테이트, 2-에틸헥산산주석 등을 들 수 있다. 주석계 촉매는, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Examples of the tin catalyst include dibutyltin dichloride, dibutyltin oxide, dibutyltin dibromide, dibutyltin maleate, dibutyltin dilaurate, dibutyltin diacetate, dibutyltin sulfide, Tributyltin methoxide, tributyltin acetate, triethyltin ethoxide, tributyltin ethoxide, dioctyltin oxide, dioctyltindilaurate, tributyltin chloride, tributyltintrichloroacetate, 2 -Ethyl hexanoate tin etc. are mentioned. Tin-type catalysts can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
촉매의 사용량은, 특별히 제한되지는 않고, 폴리머(A) 100중량부에 대하여, 예를 들어 0.0001중량부 이상으로 할 수 있고, 바람직하게는 0.001중량부 이상, 보다 바람직하게는 0.003중량부 이상, 더욱 바람직하게는 0.006중량부 이상, 특히 바람직하게는 0.008중량부 이상이다. 촉매를 적량 사용함으로써, 점착제층으로부터의 기포 발생이 억제되어, 평활한 점착면이 얻어지기 쉽다. 또한, 폴리머(A) 100중량부에 대한 촉매의 사용량은, 예를 들어 1중량부 이하로 할 수 있고, 0.1중량부 이하여도 된다. 몇몇 바람직한 양태에서는, 폴리머(A) 100중량부에 대한 촉매의 사용량은, 0.03중량부 이하이며, 보다 바람직하게는 0.02중량부 이하, 더욱 바람직하게는 0.01중량부 이하이고, 0.005중량부 이하여도 된다. 폴리머(A) 100중량부에 대한 촉매의 함유량을 적절하게 제한함으로써, 적합한 점착력 상승을 실현하기 쉽다.The amount of the catalyst used is not particularly limited, and can be, for example, 0.0001 part by weight or more, preferably 0.001 part by weight or more, more preferably 0.003 part by weight or more, based on 100 parts by weight of the polymer (A). More preferably, it is 0.006 parts by weight or more, and particularly preferably 0.008 parts by weight or more. By using an appropriate amount of the catalyst, the generation of air bubbles from the pressure-sensitive adhesive layer is suppressed, and a smooth pressure-sensitive adhesive surface is easily obtained. The amount of catalyst used per 100 parts by weight of the polymer (A) can be, for example, 1 part by weight or less, and may be 0.1 part by weight or less. In some preferred embodiments, the amount of the catalyst used per 100 parts by weight of the polymer (A) is 0.03 parts by weight or less, more preferably 0.02 parts by weight or less, still more preferably 0.01 parts by weight or less, and may be 0.005 parts by weight or less. . By appropriately limiting the content of the catalyst with respect to 100 parts by weight of the polymer (A), it is easy to realize a suitable increase in adhesive strength.
특별히 한정되는 것은 아니지만, 점착제층이 모노머 단위로서 수산기 함유 모노머를 포함하는 구성에 있어서 촉매를 사용하는 경우, 촉매의 사용량은, 점착제층에 포함되는 촉매와 수산기의 몰비([촉매]/[OH])가, 예를 들어 1.0×10-6 이상이 되는 양으로 할 수 있고, 바람직하게는 1.0×10-5 이상, 보다 바람직하게는 1.0×10-4 이상, 더욱 바람직하게는 2.0×10-4 이상, 특히 바람직하게는 3.0×10-4 이상이 되는 양이다. 촉매를 적량 사용함으로써 점착제층으로부터의 기포 발생이 억제되어, 평활한 점착면이 얻어지기 쉽다. 또한, 상기 몰비([촉매]/[OH])는, 예를 들어 5.0×10-2 이하로 할 수 있고, 5.0×10-3 이하여도 된다. 몇몇 바람직한 양태에서는, 상기 몰비([촉매]/[OH])는, 3.0×10-3 이하이고, 보다 바람직하게는 1.0×10-3 이하, 더욱 바람직하게는 5.0×10-4 이하이며, 3.0×10-4 이하여도 된다. 촉매의 함유량을 적절하게 제한함으로써, 적합한 점착력 상승을 실현하기 쉽다.Although not particularly limited, when a catalyst is used in a configuration in which the pressure-sensitive adhesive layer contains a hydroxyl group-containing monomer as a monomer unit, the amount of the catalyst used is the molar ratio between the catalyst and the hydroxyl group contained in the pressure-sensitive adhesive layer ([catalyst]/[OH] ) is, for example, 1.0 × 10 -6 or more, preferably 1.0 × 10 -5 or more, more preferably 1.0 × 10 -4 or more, still more preferably 2.0 × 10 -4 above, particularly preferably at least 3.0 × 10 -4 . By using an appropriate amount of the catalyst, the generation of air bubbles from the pressure-sensitive adhesive layer is suppressed, and a smooth pressure-sensitive adhesive surface is easily obtained. The molar ratio ([catalyst]/[OH]) can be, for example, 5.0 × 10 -2 or less, and may be 5.0 × 10 -3 or less. In some preferred embodiments, the molar ratio ([catalyst]/[OH]) is 3.0×10 −3 or less, more preferably 1.0×10 −3 or less, still more preferably 5.0×10 −4 or less, and 3.0 It may be 10 -4 or less. By limiting the content of the catalyst appropriately, it is easy to realize a suitable increase in adhesive force.
(점착 부여 수지)(tackifying resin)
점착제층에는, 필요에 따라서 점착 부여 수지를 포함시킬 수 있다. 점착 부여 수지로서는, 특별히 제한되지는 않지만, 예를 들어 로진계 점착 부여 수지, 테르펜계 점착 부여 수지, 페놀계 점착 부여 수지, 탄화수소계 점착 부여 수지, 케톤계 점착 부여 수지, 폴리아미드계 점착 부여 수지, 에폭시계 점착 부여 수지, 엘라스토머계 점착 부여 수지 등을 들 수 있다. 점착 부여 수지는, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Tackifying resin can be included in an adhesive layer as needed. The tackifying resin is not particularly limited, but examples thereof include rosin-based tackifying resins, terpene-based tackifying resins, phenol-based tackifying resins, hydrocarbon-based tackifying resins, ketone-based tackifying resins, and polyamide-based tackifying resins. , epoxy-based tackifying resins, elastomer-based tackifying resins, and the like. Tackifying resin can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
점착 부여 수지의 함유량은 특별히 한정되지는 않고, 목적이나 용도에 따라서 적절한 점착 성능이 발휘되도록 설정할 수 있다. 폴리머(A) 100중량부에 대한 점착 부여 수지의 함유량(2종 이상의 점착 부여 수지를 포함하는 경우에는, 그것들의 합계량)은, 예를 들어 5 내지 500중량부 정도로 할 수 있다. 또한, 여기에 개시되는 기술은, 점착 부여 수지의 사용량이 제한된 양태로 바람직하게 실시할 수 있다. 예를 들어, 폴리머(A) 100중량부에 대한 점착 부여 수지의 함유량은, 20중량부 미만으로 할 수 있고, 10중량부 미만이어도 되고, 3중량부 미만이어도 되고, 1중량부 미만(0중량부 내지 1중량부 미만)이어도 되고, 몇몇 양태에 있어서는, 점착제층이 점착 부여 수지를 실질적으로 함유하지 않는다.The content of the tackifying resin is not particularly limited, and can be set so that appropriate adhesion performance is exhibited according to the purpose or use. The content of the tackifying resin relative to 100 parts by weight of the polymer (A) (when two or more kinds of tackifying resins are included, the total amount thereof) can be, for example, about 5 to 500 parts by weight. In addition, the technology disclosed herein can be preferably implemented in an aspect in which the amount of tackifying resin is limited. For example, the content of the tackifying resin relative to 100 parts by weight of the polymer (A) can be less than 20 parts by weight, may be less than 10 parts by weight, may be less than 3 parts by weight, or may be less than 1 part by weight (0 parts by weight). part to less than 1 part by weight), and in some embodiments, the pressure-sensitive adhesive layer is substantially free of tackifying resin.
그 밖에, 여기에 개시되는 기술에 있어서의 점착제층은, 본 발명 의 효과가 현저하게 방해되지 않는 범위에서, 레벨링제, 가소제, 연화제, 착색제(염료, 안료 등), 충전제, 대전 방지제, 노화 방지제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 광안정제, 방부제 등의, 점착제에 사용될 수 있는 공지의 첨가제를 필요에 따라서 포함하고 있어도 된다.In addition, the pressure-sensitive adhesive layer in the technique disclosed herein is a leveling agent, a plasticizer, a softener, a colorant (dyes, pigments, etc.), a filler, an antistatic agent, an antiaging agent, to the extent that the effects of the present invention are not significantly hindered. , Known additives that can be used for an adhesive, such as a ultraviolet absorber, an antioxidant, a light stabilizer, and an antiseptic, may be included as needed.
여기에 개시되는 보강용 필름을 구성하는 점착제층은, 점착제 조성물의 경화층일 수 있다. 즉, 해당 점착제층은, 수분산형, 용제형, 광경화형, 핫 멜트형 등의 점착제 조성물을 적당한 표면에 부여(예를 들어 도포)한 후, 경화 처리를 적절하게 실시함으로써 형성될 수 있다. 2종 이상의 경화 처리(건조, 가교, 중합, 냉각 등)를 행하는 경우, 이들은, 동시에 또는 다단계에 걸쳐 행할 수 있다. 모노머 원료의 부분 중합물(폴리머 시럽)을 사용한 점착제 조성물에서는, 전형적으로는, 상기 경화 처리로서, 최종적인 공중합 반응이 행해진다. 즉, 부분 중합물을 한층 더한 공중합 반응에 제공하여 완전 중합물을 형성한다. 예를 들어, 광경화성 점착제 조성물이라면, 광 조사가 실시된다. 필요에 따라서, 가교, 건조 등의 경화 처리가 실시되어도 된다. 예를 들어, 광경화성 점착제 조성물로 건조시킬 필요가 있는 경우에는, 건조 후에 광경화를 행하면 된다. 완전 중합물을 사용한 점착제 조성물에서는, 전형적으로는, 상기 경화 처리로서, 필요에 따라서 건조(가열 건조), 가교 등의 처리가 실시된다.The pressure-sensitive adhesive layer constituting the reinforcing film disclosed herein may be a cured layer of the pressure-sensitive adhesive composition. That is, the pressure-sensitive adhesive layer can be formed by applying (for example, coating) a pressure-sensitive adhesive composition such as a water dispersion type, solvent type, photocurable type, or hot melt type to an appropriate surface and then appropriately performing a curing treatment. When two or more types of curing treatments (drying, crosslinking, polymerization, cooling, etc.) are performed, these can be performed simultaneously or in multiple stages. In an adhesive composition using a partially polymerized monomer material (polymer syrup), a final copolymerization reaction is typically performed as the curing treatment. That is, the partially polymerized product is subjected to a further copolymerization reaction to form a complete polymerized product. For example, if it is a photocurable adhesive composition, light irradiation is performed. If necessary, curing treatment such as crosslinking and drying may be performed. For example, what is necessary is just to perform photocuring after drying, when it is necessary to dry with a photocurable adhesive composition. In the pressure-sensitive adhesive composition using a completely polymerized product, typically, as the curing treatment, treatment such as drying (drying by heating) or crosslinking is performed as necessary.
점착제 조성물의 도포는, 예를 들어 그라비아 롤 코터, 리버스 롤 코터, 키스 롤 코터, 딥 롤 코터, 바 코터, 나이프 코터, 스프레이 코터 등의 관용의 코터를 사용하여 실시할 수 있다.Application of the pressure-sensitive adhesive composition can be performed using a conventional coater such as a gravure roll coater, a reverse roll coater, a kiss roll coater, a dip roll coater, a bar coater, a knife coater, or a spray coater, for example.
점착제층의 두께는 특별히 한정되지는 않고, 예를 들어 6㎛ 이상으로 할 수 있다. 몇몇 양태에 있어서, 점착제층의 두께는, 8㎛ 이상이어도 되고, 10㎛ 이상이어도 되고, 15㎛ 이상이어도 되고, 20㎛ 이상 또는 20㎛ 초과여도 된다. 점착제층의 두께의 증대에 의해, 가열 후 점착력이 상승하는 경향이 있다. 또한, 몇몇 양태에 있어서, 점착제층의 두께는, 예를 들어 300㎛ 이하여도 되고, 200㎛ 이하여도 되고, 150㎛ 이하여도 되고, 100㎛ 이하여도 되고, 70㎛ 이하여도 되고, 50㎛ 이하여도 되고, 40㎛ 이하여도 된다. 점착제층의 두께가 너무 크지 않다는 것은, 보강용 필름의 박형화나 점착제층의 응집 파괴 방지 등의 관점에서 유리해질 수 있다. 두께가 상술한 범위 내인 점착제층을 갖는 보강용 필름은, 점착력 등의 점착 특성이나 굴곡 회복성, 굴곡 유지력의 균형이 잡힌 것이 될 수 있다. 또한, 기재의 제1 면 및 제2 면에 제1 점착제층 및 제2 점착제층을 갖는 보강용 필름의 경우, 상술한 점착제층의 두께는, 적어도 제1 점착제층의 두께에 적용될 수 있다. 제2 점착제층의 두께도 마찬가지의 범위에서 선택될 수 있다. 또한, 무기재의 보강용 필름의 경우, 해당 보강용 필름의 두께는 점착제층의 두께와 일치한다.The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, and may be, for example, 6 μm or more. In some embodiments, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer may be 8 μm or more, 10 μm or more, 15 μm or more, 20 μm or more, or more than 20 μm. As the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer increases, the adhesive force after heating tends to increase. In some embodiments, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer may be, for example, 300 μm or less, 200 μm or less, 150 μm or less, 100 μm or less, 70 μm or less, or 50 μm or less. , and may be 40 μm or less. The fact that the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is not too large can be advantageous from the viewpoint of reducing the thickness of the reinforcing film or preventing cohesive failure of the pressure-sensitive adhesive layer. A reinforcing film having a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness within the above-mentioned range can be a well-balanced adhesive property such as adhesive strength, bending recovery property, and bending holding power. In addition, in the case of a reinforcing film having a first pressure-sensitive adhesive layer and a second pressure-sensitive adhesive layer on the first and second surfaces of the substrate, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer described above may be applied to at least the thickness of the first pressure-sensitive adhesive layer. The thickness of the second pressure-sensitive adhesive layer may also be selected within the same range. In the case of an inorganic reinforcing film, the thickness of the reinforcing film coincides with the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer.
<지지 기재><Support Substrate>
몇몇 양태에 관한 보강용 필름은, 지지 기재의 편면 또는 양면에 점착제층을 구비하는 기재 구비 점착 시트의 형태일 수 있다. 지지 기재의 재질은 특별히 한정되지는 않고, 보강용 필름의 사용 목적이나 사용 양태 등에 따라서 적절히 선택할 수 있다. 사용할 수 있는 기재의 비한정적인 예로서는, 플라스틱 필름 등의 수지 필름; 폴리우레탄 폼, 폴리에틸렌 폼, 폴리클로로프렌 폼 등의 발포체를 포함하는 발포체 시트; 각종 섬유상 물질(마, 면 등의 천연 섬유, 폴리에스테르, 비닐론 등의 합성 섬유, 아세테이트 등의 반합성 섬유 등일 수 있음)의 단독 또는 혼방 등에 의한 직포 및 부직포; 일본 종이, 상질지, 크라프트지, 크레이프지 등의 종이류; 알루미늄박, 구리박 등의 금속박; 등을 들 수 있다. 이들을 복합한 구성의 기재여도 된다. 이와 같은 복합 기재의 예로서, 예를 들어 금속박과 상기 플라스틱 필름이 적층된 구조의 기재, 유리 클로스 등의 무기 섬유로 강화된 플라스틱 기재 등을 들 수 있다.The reinforcing film according to some embodiments may be in the form of an adhesive sheet with a substrate having an adhesive layer on one side or both sides of the supporting substrate. The material of the supporting substrate is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose of use of the reinforcing film or the mode of use. Non-limiting examples of substrates that can be used include resin films such as plastic films; foam sheets including foams such as polyurethane foam, polyethylene foam, and polychloroprene foam; woven fabrics and non-woven fabrics of various fibrous materials (natural fibers such as hemp and cotton, synthetic fibers such as polyester and vinylon, and semi-synthetic fibers such as acetate) alone or blended; papers such as Japanese paper, fine paper, kraft paper, and crepe paper; metal foils such as aluminum foil and copper foil; etc. can be mentioned. A base material having a structure in which these are compounded may be used. Examples of such a composite substrate include, for example, a substrate having a structure in which metal foil and the aforementioned plastic film are laminated, and a plastic substrate reinforced with inorganic fibers such as glass cloth.
여기에 개시되는 보강용 필름의 기재로서는, 각종 필름 기재를 바람직하게 사용할 수 있다. 상기 필름 기재는, 발포체 필름이나 부직포 시트 등과 같이 다공질의 기재여도 되고, 비다공질의 기재여도 되고, 다공질의 층과 비다공질의 층이 적층된 구조의 기재여도 된다. 몇몇 양태에 있어서, 상기 필름 기재로서는, 독립적으로 형상 유지 가능한(자립형의, 혹은 비의존성의) 수지 필름을 베이스 필름으로서 포함하는 것을 바람직하게 사용할 수 있다. 여기서 「수지 필름」이란, 비다공질의 구조이며, 전형적으로는 실질적으로 기포를 포함하지 않는(보이드리스의) 수지 필름을 의미한다. 따라서, 상기 수지 필름은, 발포체 필름이나 부직포와는 구별되는 개념이다. 상기 수지 필름으로서는, 독립적으로 형상 유지 가능한(자립형의, 혹은 비의존성의) 것이 바람직하게 사용될 수 있다. 상기 수지 필름은, 단층 구조여도 되고, 2층 이상의 다층 구조(예를 들어, 3층 구조)여도 된다.As the substrate of the reinforcing film disclosed herein, various film substrates can be preferably used. The film substrate may be a porous substrate, such as a foam film or a non-woven fabric sheet, or a non-porous substrate, or a substrate having a structure in which a porous layer and a non-porous layer are laminated. In some embodiments, as the film substrate, a resin film capable of independently maintaining its shape (self-supporting or independent) can be preferably used as a base film. Here, the "resin film" has a non-porous structure and typically means a resin film substantially free of air bubbles (voidless). Therefore, the resin film is a concept different from a foam film or a nonwoven fabric. As the resin film, one capable of independently maintaining its shape (self-supporting or independent) can be preferably used. The resin film may have a single-layer structure or a multilayer structure of two or more layers (for example, a three-layer structure).
수지 필름을 구성하는 수지 재료로서는, 예를 들어 폴리에스테르, 폴리올레핀, 나일론 6, 나일론 66, 부분 방향족 폴리아미드 등의 폴리아미드(PA), 폴리이미드(PI), 폴리아미드이미드(PAI), 폴리에테르에테르케톤(PEEK), 폴리에테르술폰(PES), 폴리페닐렌술파이드(PPS), 폴리카르보네이트(PC), 폴리우레탄(PU), 에틸렌-아세트산비닐 공중합체(EVA), 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 등의 불소 수지, 아크릴 수지, 폴리아크릴레이트, 폴리스티렌, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴 등의 수지를 사용할 수 있다. 상기 수지 필름은, 이러한 수지의 1종을 단독으로 포함하는 수지 재료를 사용하여 형성된 것이어도 되고, 2종 이상이 블렌드된 수지 재료를 사용하여 형성된 것이어도 된다. 상기 수지 필름은, 무연신이어도 되고, 연신(예를 들어 1축 연신 또는 2축 연신)된 것이어도 된다.As the resin material constituting the resin film, for example, polyester, polyolefin, nylon 6, nylon 66, polyamide (PA) such as partially aromatic polyamide, polyimide (PI), polyamideimide (PAI), polyether Ether ketone (PEEK), polyether sulfone (PES), polyphenylene sulfide (PPS), polycarbonate (PC), polyurethane (PU), ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), polytetrafluoroethylene Resins, such as fluorine resins, such as (PTFE), acrylic resins, polyacrylates, polystyrene, polyvinyl chloride, and polyvinylidene chloride, can be used. The resin film may be formed using a resin material containing one type of these resins alone, or may be formed using a resin material in which two or more types are blended. The resin film may be unstretched or stretched (for example, uniaxial stretching or biaxial stretching).
수지 필름을 구성하는 수지 재료의 적합예로서, 폴리이미드계 수지, 폴리에스테르계 수지, PPS 수지 및 폴리올레핀계 수지를 들 수 있다. 여기서, 폴리이미드계 수지란, 폴리이미드를 50중량%를 초과하는 비율로 함유하는 수지를 말한다. 마찬가지로, 폴리에스테르계 수지란, 폴리에스테르를 50중량%를 초과하는 비율로 함유하는 수지를 말하고, PPS 수지란 PPS를 50중량%를 초과하는 비율로 함유하는 수지를 말하고, 폴리올레핀계 수지란 폴리올레핀을 50중량%를 초과하는 비율로 함유하는 수지를 말한다.Preferred examples of the resin material constituting the resin film include polyimide-based resins, polyester-based resins, PPS resins, and polyolefin-based resins. Here, the polyimide-based resin refers to a resin containing polyimide in a proportion exceeding 50% by weight. Similarly, polyester-based resin refers to a resin containing polyester in a proportion exceeding 50% by weight, PPS resin refers to a resin containing PPS in a proportion exceeding 50% by weight, and polyolefin-based resin refers to a polyolefin It refers to a resin contained in a proportion exceeding 50% by weight.
폴리에스테르계 수지의 구체예로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트(PBT), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리부틸렌나프탈레이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the polyester-based resin include polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene naphthalate (PEN), and polybutylene naphthalate.
폴리올레핀 수지로서는, 1종의 폴리올레핀을 단독으로, 또는 2종 이상의 폴리올레핀을 조합하여 사용할 수 있다. 해당 폴리올레핀은, 예를 들어 α-올레핀의 호모 폴리머, 2종 이상의 α-올레핀의 공중합체, 1종 또는 2종 이상의 α-올레핀과 다른 비닐 모노머의 공중합체 등일 수 있다. 구체예로서는, 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP), 폴리-1-부텐, 폴리-4-메틸-1-펜텐, 에틸렌프로필렌 고무(EPR) 등의 에틸렌-프로필렌 공중합체, 에틸렌-프로필렌-부텐 공중합체, 에틸렌-부텐 공중합체, 에틸렌-비닐알코올 공중합체, 에틸렌-에틸아크릴레이트 공중합체 등을 들 수 있다. 저밀도(LD) 폴리올레핀 및 고밀도(HD) 폴리올레핀 모두 사용 가능하다. 폴리올레핀 수지 필름의 예로서는, 무연신 폴리프로필렌(CPP) 필름, 2축 연신 폴리프로필렌(OPP) 필름, 저밀도 폴리에틸렌(LDPE) 필름, 직쇄상 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE) 필름, 중밀도 폴리에틸렌(MDPE) 필름, 고밀도 폴리에틸렌(HDPE) 필름, 2종 이상의 폴리에틸렌(PE)을 블렌드한 폴리에틸렌(PE) 필름, 폴리프로필렌(PP)과 폴리에틸렌(PE)을 블렌드한 PP/PE 블렌드 필름 등을 들 수 있다.As polyolefin resin, 1 type of polyolefin can be used individually or in combination of 2 or more types of polyolefin. The polyolefin may be, for example, an α-olefin homopolymer, a copolymer of two or more kinds of α-olefins, a copolymer of one or two or more kinds of α-olefins and other vinyl monomers, and the like. Specific examples include polyethylene (PE), polypropylene (PP), poly-1-butene, poly-4-methyl-1-pentene, ethylene-propylene copolymers such as ethylene propylene rubber (EPR), and ethylene-propylene-butene copolymers. polymers, ethylene-butene copolymers, ethylene-vinyl alcohol copolymers, ethylene-ethyl acrylate copolymers, and the like. Both low density (LD) polyolefins and high density (HD) polyolefins may be used. Examples of the polyolefin resin film include a non-oriented polypropylene (CPP) film, a biaxially oriented polypropylene (OPP) film, a low density polyethylene (LDPE) film, a linear low density polyethylene (LLDPE) film, a medium density polyethylene (MDPE) film, and a high density polyethylene film. A polyethylene (HDPE) film, a polyethylene (PE) film obtained by blending two or more types of polyethylene (PE), and a PP/PE blend film obtained by blending polypropylene (PP) and polyethylene (PE).
여기에 개시되는 보강용 필름의 베이스 필름으로서 바람직하게 이용할 수 있는 수지 필름의 구체예로서, PI 필름, PET 필름, PEN 필름, PPS 필름, PEEK 필름, CPP 필름 및 OPP 필름을 들 수 있다.Specific examples of the resin film that can be preferably used as a base film of the reinforcing film disclosed herein include a PI film, a PET film, a PEN film, a PPS film, a PEEK film, a CPP film, and an OPP film.
수지 필름에는, 본 발명 의 효과가 현저하게 저해되지 않는 범위에서, 광안정제, 산화 방지제, 대전 방지제, 착색제(염료, 안료 등), 충전재, 슬립제, 안티 블로킹제 등의 공지의 첨가제를, 필요에 따라서 배합할 수 있다. 첨가제의 배합량은 특별히 한정되지는 않고, 목적 등에 따라서 적절히 설정할 수 있다.In the resin film, known additives such as light stabilizers, antioxidants, antistatic agents, colorants (dyes, pigments, etc.), fillers, slip agents, and antiblocking agents are necessary as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. can be combined according to The blending amount of the additive is not particularly limited and can be appropriately set according to the purpose or the like.
수지 필름의 제조 방법은 특별히 한정되지는 않는다. 예를 들어, 압출 성형, 인플레이션 성형, T 다이 캐스트 성형, 캘린더 롤 성형 등의, 종래 공지의 일반적인 수지 필름 성형 방법을 적절하게 채용할 수 있다.The manufacturing method of a resin film is not specifically limited. For example, conventionally known general resin film forming methods such as extrusion molding, inflation molding, T-die cast molding, and calender roll molding can be appropriately employed.
상기 기재는, 이러한 베이스 필름으로 실질적으로 구성된 것일 수 있다. 혹은, 상기 기재는, 상기 베이스 필름 외에, 보조적인 층을 포함하는 것이어도 된다. 상기 보조적인 층의 예로서는, 광학 특성 조정층(예를 들어 착색층, 반사 방지층), 기재에 원하는 외관을 부여하기 위한 인쇄층이나 라미네이트층, 대전 방지층, 하도층, 박리층 등의 표면 처리층을 들 수 있다.The substrate may be substantially composed of such a base film. Alternatively, the substrate may include an auxiliary layer in addition to the base film. Examples of the auxiliary layer include an optical property adjustment layer (e.g., a coloring layer, an antireflection layer), a printed layer for imparting a desired appearance to the base material, a laminate layer, an antistatic layer, an undercoat layer, and a surface treatment layer such as a release layer. can be heard
기재의 두께는, 특별히 한정되지는 않고, 보강용 필름의 사용 목적이나 사용 양태 등에 따라서 선택할 수 있다. 기재의 두께는, 예를 들어 1000㎛ 이하일 수 있다. 몇몇 양태에 있어서, 보강용 필름의 취급성이나 가공성의 관점에서, 기재의 두께는, 예를 들어 500㎛ 이하여도 되고, 300㎛ 이하여도 되고, 250㎛ 이하여도 되고, 200㎛ 이하여도 된다. 보강용 필름이 적용되는 제품의 소형화나 경량화의 관점에서, 몇몇 양태에 있어서, 기재의 두께는, 예를 들어 160㎛ 이하여도 되고, 130㎛ 이하여도 되고, 100㎛ 이하여도 되고, 90㎛ 이하여도 되고, 80㎛ 이하여도 되고, 60㎛ 이하여도 되고, 50㎛ 이하여도 되고, 25㎛ 이하여도 되고, 10㎛ 이하여도 되고, 5㎛ 이하여도 된다. 기재의 두께가 작아지면, 보강용 필름의 유연성이나 피착체의 표면 형상에 대한 추종성이 향상되는 경향이 있다. 또한, 취급성이나 가공성 등의 관점에서, 기재의 두께는, 예를 들어 2㎛ 이상이어도 되고, 5㎛ 이상이어도 되고, 10㎛ 이상이어도 되고, 20㎛ 이상이어도 되고, 25㎛ 이상 또는 25㎛ 초과여도 된다. 몇몇 양태에 있어서, 기재의 두께는, 예를 들어 30㎛ 이상이어도 되고, 35㎛ 이상이어도 되고, 55㎛ 이상이어도 되고, 70㎛ 이상이어도 되고, 75㎛ 이상이어도 되고, 90㎛ 이상이어도 되고, 120㎛ 이상이어도 된다. 예를 들어, 보강용 필름에 있어서, 두께 30㎛ 이상의 기재를 바람직하게 채용할 수 있다.The thickness of the substrate is not particularly limited, and can be selected according to the purpose of use of the reinforcing film, the mode of use, and the like. The thickness of the substrate may be, for example, 1000 μm or less. In some embodiments, from the viewpoint of handleability and processability of the reinforcing film, the thickness of the substrate may be, for example, 500 μm or less, 300 μm or less, 250 μm or less, or 200 μm or less. From the viewpoint of miniaturization or weight reduction of products to which the reinforcing film is applied, in some embodiments, the thickness of the substrate may be, for example, 160 μm or less, 130 μm or less, 100 μm or less, or 90 μm or less. 80 μm or less, 60 μm or less, 50 μm or less, 25 μm or less, 10 μm or less, or 5 μm or less. When the thickness of the substrate is reduced, the flexibility of the reinforcing film and the followability to the surface shape of the adherend tend to be improved. Further, from the viewpoint of handleability and workability, the thickness of the substrate may be, for example, 2 μm or more, 5 μm or more, 10 μm or more, 20 μm or more, 25 μm or more, or more than 25 μm. may be In some embodiments, the thickness of the substrate may be, for example, 30 μm or greater, 35 μm or greater, 55 μm or greater, 70 μm or greater, 75 μm or greater, 90 μm or greater, 120 μm or greater It may be more than μm. For example, in the reinforcing film, a substrate having a thickness of 30 μm or more can be preferably employed.
기재의 제1 면에는, 필요에 따라서, 코로나 방전 처리, 플라스마 처리, 자외선 조사 처리, 산 처리, 알칼리 처리, 하도제(프라이머)의 도포에 의한 하도층의 형성 등의, 종래 공지의 표면 처리가 실시되어도 된다. 이와 같은 표면 처리는, 점착제층의 기재에 대한 투묘성을 향상시키기 위한 처리일 수 있다. 예를 들어, 수지 필름을 베이스 필름으로서 포함하는 기재를 구비한 보강용 필름에 있어서, 이러한 투묘성 향상 처리가 실시된 기재를 바람직하게 채용할 수 있다. 상기 표면 처리는, 단독으로 또는 조합하여 적용할 수 있다. 하도층의 형성에 사용하는 프라이머의 조성은 특별히 한정되지는 않고, 공지의 것에서 적절하게 선택할 수 있다. 하도층의 두께는 특별히 제한되지는 않지만, 통상, 0.01㎛ 내지 1㎛ 정도가 적당하며, 0.1㎛ 내지 1㎛ 정도가 바람직하다. 필요에 따라서 기재의 제1 면에 실시될 수 있는 다른 처리로서, 대전 방지층 형성 처리, 착색층 형성 처리, 인쇄 처리 등을 들 수 있다.On the first surface of the substrate, if necessary, a conventionally known surface treatment such as corona discharge treatment, plasma treatment, ultraviolet irradiation treatment, acid treatment, alkali treatment, formation of an undercoat layer by application of a primer (primer), etc. may be carried out. Such surface treatment may be a treatment for improving anchoring properties of the pressure-sensitive adhesive layer to the base material. For example, in a reinforcing film provided with a base material containing a resin film as a base film, a base material subjected to such an anchoring property improvement treatment can be preferably employed. The above surface treatment can be applied alone or in combination. The composition of the primer used for forming the undercoat layer is not particularly limited, and can be appropriately selected from known ones. The thickness of the undercoating layer is not particularly limited, but is usually about 0.01 μm to 1 μm, preferably about 0.1 μm to 1 μm. Other treatments that can be applied to the first surface of the substrate as necessary include antistatic layer formation treatment, colored layer formation treatment, printing treatment, and the like.
여기에 개시되는 보강용 필름이 기재의 제1 면에만 점착제층을 갖는 편면 점착 시트의 형태인 경우, 기재의 제2 면에는, 필요에 따라서, 박리 처리나 대전 방지 처리 등의, 종래 공지의 표면 처리가 실시되어도 된다. 예를 들어, 기재의 배면을 박리 처리제로 표면 처리함으로써(전형적으로는, 박리 처리제에 의한 박리층을 형성함으로써), 롤 형상으로 권회된 형태의 보강용 필름의 되감기력을 가볍게 할 수 있다. 박리 처리제로서는, 실리콘계 박리 처리제, 장쇄 알킬계 박리 처리제, 올레핀계 박리 처리제, 불소계 박리 처리제, 지방산 아미드계 박리 처리제, 황화몰리브덴, 실리카분 등을 사용할 수 있다. 또한, 인자성의 향상, 광반사성의 저감, 겹쳐 붙임성 향상 등의 목적으로, 기재의 제2 면에 코로나 방전 처리, 플라스마 처리, 자외선 조사 처리, 산 처리, 알칼리 처리 등의 처리가 실시되어도 된다. 또한, 양면 점착 시트의 경우, 기재의 제2 면에는, 필요에 따라서, 기재의 제1 면에 실시될 수 있는 표면 처리로서 상기에서 예시한 것과 마찬가지의 표면 처리가 실시되어도 된다. 또한, 기재의 제1 면에 실시되는 표면 처리와 제2 면에 실시되는 표면 처리는, 동일해도 되고 상이해도 된다.When the reinforcing film disclosed herein is in the form of a single-sided pressure-sensitive adhesive sheet having an adhesive layer only on the first surface of the substrate, a conventionally known surface such as peeling treatment or antistatic treatment is applied to the second surface of the substrate, if necessary. Processing may be performed. For example, by surface-treating the back surface of the base material with a release agent (typically, forming a release layer using the release agent), the rewinding force of the reinforcing film wound in a roll shape can be reduced. As the peeling agent, a silicone-based peeling agent, a long-chain alkyl-based peeling agent, an olefin-based peeling agent, a fluorine-based peeling agent, a fatty acid amide-based peeling agent, molybdenum sulfide, silica powder, or the like can be used. In addition, corona discharge treatment, plasma treatment, ultraviolet irradiation treatment, acid treatment, alkali treatment, etc. may be performed on the second surface of the base material for the purpose of improving printability, reducing light reflectivity, and improving overlapping properties. In the case of the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet, the second side of the substrate may be subjected to the same surface treatment as exemplified above as the surface treatment that can be applied to the first side of the substrate, if necessary. In addition, the surface treatment given to the 1st surface of a base material and the surface treatment given to the 2nd surface may be the same or different.
<보강용 필름의 특성><Characteristics of Reinforcing Film>
여기에 개시되는 보강용 필름은, 스테인리스 강판에 접합하여 23℃에 30분간 유지한 후에 측정되는 초기 점착력 N23이 소정값 이하로 제한되어 있는 것이 바람직하다. 몇몇 양태에 있어서, 점착력 N23은, 예를 들어 500gf/25㎜ 미만인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 400gf/25㎜ 미만, 더욱 바람직하게는 300gf/25㎜ 미만, 특히 바람직하게는 250gf/25㎜ 이하(예를 들어 200gf/25㎜ 이하)이며, 150gf/25㎜ 이하여도 된다. 점착력 N23이 낮은 것은, 리워크성의 관점에서 바람직하다. 점착력 N23의 하한은 특별히 제한되지는 않고, 예를 들어 1gf/25㎜ 이상일 수 있다. 피착체에 대한 첩부 작업성이나, 점착력 상승 전에 있어서의 위치 어긋남 방지 등의 관점에서, 점착력 N23은, 통상 10gf/25㎜ 이상인 것이 적당하다. 가열 후 점착력의 향상 등의 관점에서, 몇몇 양태에 있어서, 점착력 N23은, 예를 들어 20gf/25㎜ 이상이어도 되고, 50gf/25㎜ 이상이어도 되고, 80gf/25㎜ 이상이어도 되고, 100gf/25㎜ 이상(예를 들어 150gf/25㎜ 이상)이어도 된다.It is preferable that the initial adhesive strength N 23 measured after the reinforcing film disclosed herein is bonded to a stainless steel sheet and maintained at 23° C. for 30 minutes is limited to a predetermined value or less. In some embodiments, the adhesion N 23 is, for example, preferably less than 500 gf/25 mm, more preferably less than 400 gf/25 mm, still more preferably less than 300 gf/25 mm, and particularly preferably less than 250 gf/25 mm. It is below (for example, 200 gf/25 mm or less), and 150 gf/25 mm or less may be sufficient. A low adhesive force N 23 is preferable from the viewpoint of reworkability. The lower limit of the adhesive force N 23 is not particularly limited, and may be, for example, 1 gf/25 mm or more. From the standpoint of affixing workability to adherends, prevention of misalignment before the increase in adhesive strength, etc., the adhesive force N 23 is usually preferably 10 gf/25 mm or more. From the viewpoint of improving the adhesive force after heating, etc., in some embodiments, the adhesive force N 23 may be, for example, 20 gf/25 mm or more, 50 gf/25 mm or more, 80 gf/25 mm or more, or 100 gf/25 mm or more. It may be mm or more (for example, 150 gf/25 mm or more).
점착력 N23[gf/25㎜]은, 피착체로서의 스테인리스강(SUS)판에 압착하여 23℃, 50%RH의 환경에서 30분간 방치한 후, 동 환경에 있어서(즉, 23℃에 있어서), 박리 각도 180도, 인장 속도 300㎜/분의 조건에서 180° 박리 점착력을 측정함으로써 파악된다. 피착체로서는, SUS304BA판이 사용된다. 측정에 있어서는, 필요에 따라서, 측정 대상의 보강용 필름에 적절한 배접재(예를 들어, 두께 25㎛ 정도의 PET 필름)를 첩부하여 보강할 수 있다. 점착력 N23은, 보다 구체적으로는, 후술하는 실시예에 기재된 초기 점착력의 측정 방법에 준하여 측정할 수 있다.Adhesion N 23 [gf / 25 mm] is obtained after bonding to a stainless steel (SUS) plate as an adherend and leaving it for 30 minutes in an environment of 23 ° C. and 50% RH, and then in the same environment (ie, at 23 ° C.) , Peel angle of 180 degrees, under the conditions of a tensile speed of 300 mm / min, it is understood by measuring the 180 ° peel adhesive force. As the adherend, a SUS304BA board is used. In the measurement, if necessary, an appropriate bonding material (for example, a PET film having a thickness of about 25 µm) may be affixed to the reinforcing film to be measured for reinforcement. More specifically, the adhesive force N 23 can be measured according to the method for measuring the initial adhesive force described in Examples described later.
여기에 개시되는 보강용 필름은, 가열에 의해 점착력이 상승하는 것이며, 예를 들어 300gf/25㎜ 이상의 점착력 N60, 즉 스테인리스 강판에 접합하여 60℃로 60분간 유지한 후에 23℃에 있어서 측정되는 점착력을 나타내는 것일 수 있다. 몇몇 양태에 있어서, 점착력 N60은 400gf/25㎜ 이상이며, 500gf/25㎜ 이상인 것이 적당하다. 이 특성을 만족시키는 보강용 필름은, 피착체에 첩부한 후, 가열에 의해 점착력이 소정값 이상으로 상승한다. 여기에 개시되는 기술에 의하면, 가열로 강점착력을 얻는 것이 가능하다. 몇몇 바람직한 양태에 있어서, 점착력 N60은, 600gf/25㎜ 이상이며, 보다 바람직하게는 700gf/25㎜ 이상이고, 800gf/25㎜ 이상이어도 되고, 900gf/25㎜ 이상이어도 된다. 점착력 N60의 상한은 특별히 제한되지는 않는다. 보강용 필름의 제조 용이성이나 경제성의 관점에서, 몇몇 양태에 있어서, 점착력 N60은, 예를 들어 3000gf/25㎜ 이하여도 되고, 1500gf/25㎜ 이하여도 되고, 1000gf/25㎜ 이하여도 된다.The reinforcing film disclosed herein increases adhesive strength by heating, and, for example, adhesive strength N 60 of 300 gf/25 mm or more, that is, bonded to a stainless steel sheet and held at 60° C. for 60 minutes, then measured at 23° C. It may indicate adhesion. In some embodiments, the adhesion N 60 is greater than 400 gf/25 mm, preferably greater than 500 gf/25 mm. After the reinforcing film that satisfies this characteristic is affixed to an adherend, the adhesive force increases to a predetermined value or more by heating. According to the technique disclosed herein, it is possible to obtain strong adhesion by heating. In some preferred aspects, the adhesive force N 60 is 600 gf/25 mm or more, more preferably 700 gf/25 mm or more, may be 800 gf/25 mm or more, or may be 900 gf/25 mm or more. The upper limit of the adhesive force N 60 is not particularly limited. From the viewpoint of ease of manufacture or economic efficiency of the reinforcing film, in some embodiments, the adhesive force N 60 may be, for example, 3000 gf/25 mm or less, 1500 gf/25 mm or less, or 1000 gf/25 mm or less.
점착력 N60[gf/25㎜]은, 피착체로서의 SUS판에 압착하여 60℃의 환경에 60분간 유지하고, 이어서 23℃, 50%RH의 환경에 30분간 방치한 후에, 동 환경에 있어서, 박리 각도 180도, 인장 속도 300㎜/분의 조건에서 180° 박리 점착력을 측정함으로써 파악된다. 피착체로서는, 점착력 N23과 마찬가지로, SUS304BA판이 사용된다. 측정에 있어서는, 필요에 따라서, 측정 대상의 보강용 필름에 적절한 배접재(예를 들어, 두께 25㎛ 정도의 PET 필름)를 첩부하여 보강할 수 있다. 점착력 N60은, 보다 구체적으로는, 후술하는 실시예에 기재된 가열 후 점착력의 측정 방법에 준하여 측정할 수 있다.Adhesion force N 60 [gf / 25 mm] is bonded to a SUS plate as an adherend, held in an environment of 60 ° C. for 60 minutes, and then left in an environment of 23 ° C. and 50% RH for 30 minutes. In the same environment, It is understood by measuring the 180° peel adhesive force under conditions of a peel angle of 180 degrees and a tensile speed of 300 mm/min. As the adherend, a SUS304BA board is used similarly to the adhesive strength N 23 . In the measurement, if necessary, an appropriate bonding material (for example, a PET film having a thickness of about 25 µm) may be affixed to the reinforcing film to be measured for reinforcement. More specifically, the adhesive force N 60 can be measured according to the method for measuring the adhesive force after heating described in Examples described later.
점착력 N23[gf/25㎜]에 대한 점착력 N60[gf/25㎜]의 비, 즉 점착력 상승비 N60/N23은, 특별히 한정되지는 않고, 몇몇 양태에 있어서, N60/N23은 1.5 이상인 것이 적당하고, 바람직하게는 2.0 이상이며, 보다 바람직하게는 2.5 이상이고, 더욱 바람직하게는 3.0 이상(예를 들어 3.5 이상)이며, 5.0 초과(예를 들어 7.0 초과)여도 된다. N60/N23이 큰 보강용 필름에 의하면, 첩부 초기에는 양호한 리워크성을 나타내고, 또한 그 후의 가열 등에 의해 점착력을 크게 상승시킬 수 있다. N60/N23의 상한은 특별히 한정되지는 않고, 통상적으로 100 이하이며, 보강용 필름의 제조 용이성이나 경제성의 관점에서, 30 이하여도 되고, 15 이하여도 되고, 10 이하여도 된다. 몇몇 양태에 있어서, N60/N23은, 예를 들어 5 이하여도 되고, 3 이하여도 되고, 2 이하여도 된다.The ratio of the adhesive force N 60 [gf / 25 mm] to the adhesive force N 23 [gf / 25 mm], that is, the adhesive strength increase ratio N 60 /N 23 is not particularly limited, and in some embodiments, N 60 /N 23 is suitably 1.5 or more, preferably 2.0 or more, more preferably 2.5 or more, still more preferably 3.0 or more (eg 3.5 or more), may be more than 5.0 (eg more than 7.0). According to the reinforcement|reinforcement film with large N60 / N23 , favorable reworkability is shown in the initial stage of sticking, and adhesive force can be raised greatly by subsequent heating etc. The upper limit of N 60 /N 23 is not particularly limited, and is usually 100 or less, and may be 30 or less, 15 or less, or 10 or less from the viewpoint of ease of manufacture of the reinforcing film or economical efficiency. In some embodiments, N 60 /N 23 may be, for example, 5 or less, 3 or less, or 2 or less.
또한, 여기에 개시되는 보강용 필름의 가열 후 점착력은, 해당 보강용 필름의 일 특성을 나타내는 것이며, 이 보강용 필름의 사용 양태를 한정하는 것은 아니다. 바꾸어 말하면, 여기에 개시되는 보강용 필름의 사용 양태는, 60℃에서 60분간의 가열을 행하는 양태에 한정되지는 않고, 예를 들어 실온역(통상적으로는 20℃ 내지 30℃, 전형적으로는 23℃ 내지 25℃) 이상으로 가열하는 처리를 특별히 행하지 않는 양태로도 사용할 수 있다. 이러한 사용 양태에 있어서도 장기적으로 점착력이 상승하여, 강고한 접합을 실현할 수 있다. 또한, 여기에 개시되는 보강용 필름은, 첩부 후의 임의의 타이밍에 30℃ 초과(예를 들어 50 내지 70℃ 정도) 또는 60℃보다 높은 온도에서 가열 처리를 행함으로써 점착력의 상승을 촉진할 수 있다. 이러한 가열 처리에 있어서의 가열 온도는, 특별히 한정되지는 않고, 작업성, 경제성, 보강용 필름의 기재나 피착체의 내열성 등을 고려하여 설정할 수 있다. 상기 가열 온도는, 예를 들어 150℃ 미만이어도 되고, 120℃ 이하여도 되고, 100℃ 이하여도 되고, 80℃ 이하여도 되고, 70℃ 이하여도 된다. 또한, 상기 가열 온도는, 예를 들어 40℃ 이상, 45℃ 이상, 50℃ 이상, 55℃ 이상, 60℃ 이상 또는 70℃ 이상으로 할 수 있고, 80℃ 이상으로 해도 되고, 100℃ 이상으로 해도 된다. 가열 시간은 특별히 한정되지는 않고, 예를 들어 3시간 이하여도 되고, 1시간 이하여도 되고, 30분 이하여도 되고, 10분 이하여도 된다. 또한, 가열 시간은, 예를 들어 1분 이상이어도 되고, 15분 이상이어도 되고, 30분 이상이어도 되고, 1시간 이상이어도 된다. 혹은, 보강용 필름이나 피착체에 현저한 열열화가 발생하지 않는 한도에서, 보다 장기간의 가열 처리를 행해도 된다. 또한, 가열 처리는, 한 번에 행해도 되고, 복수회로 나누어 행해도 된다.In addition, the adhesive strength after heating of the reinforcing film disclosed herein represents one characteristic of the reinforcing film, and does not limit the usage mode of the reinforcing film. In other words, the use mode of the reinforcing film disclosed herein is not limited to the mode of heating at 60°C for 60 minutes, and is, for example, in the room temperature range (usually 20°C to 30°C, typically 23°C). °C to 25 °C) or higher can also be used in an aspect in which no particular treatment is performed. Also in such a mode of use, the adhesive strength increases over a long period of time, and strong bonding can be realized. In addition, the reinforcing film disclosed herein can promote an increase in adhesive force by performing heat treatment at a temperature higher than 30 ° C. (for example, about 50 to 70 ° C.) or higher than 60 ° C. at any timing after sticking. . The heating temperature in this heat treatment is not particularly limited, and can be set in consideration of workability, economy, and heat resistance of the base material of the reinforcing film or adherend. The heating temperature may be, for example, less than 150°C, 120°C or less, 100°C or less, 80°C or less, or 70°C or less. The heating temperature may be, for example, 40°C or higher, 45°C or higher, 50°C or higher, 55°C or higher, 60°C or higher, or 70°C or higher, may be 80°C or higher, or 100°C or higher. do. The heating time is not particularly limited, and may be, for example, 3 hours or less, 1 hour or less, 30 minutes or less, or 10 minutes or less. In addition, the heating time may be, for example, 1 minute or longer, 15 minutes or longer, 30 minutes or longer, or 1 hour or longer. Alternatively, a heat treatment for a longer period of time may be performed as long as the reinforcing film or adherend does not undergo significant thermal deterioration. In addition, the heat treatment may be performed at one time or may be divided into a plurality of times.
<기재 구비 보강용 필름><Reinforcing film with substrate>
여기에 개시되는 보강용 필름이 기재 구비 점착 시트의 형태인 경우, 해당 보강용 필름의 두께는, 예를 들어 1000㎛ 이하여도 되고, 600㎛ 이하여도 되고, 350㎛ 이하여도 되고, 250㎛ 이하여도 된다. 보강용 필름이 적용되는 제품의 소형화, 경량화, 박형화 등의 관점에서, 몇몇 양태에 있어서, 보강용 필름의 두께는, 예를 들어 200㎛ 이하여도 되고, 175㎛ 이하여도 되고, 140㎛ 이하여도 되고, 120㎛ 이하여도 되고, 100㎛ 이하(예를 들어 100㎛ 미만)여도 된다. 또한, 보강용 필름의 두께는, 취급성 등의 관점에서, 예를 들어 5㎛ 이상이어도 되고, 10㎛ 이상이어도 되고, 15㎛ 이상이어도 되고, 20㎛ 이상이어도 되고, 25㎛ 이상이어도 되고, 30㎛ 이상이어도 된다. 몇몇 양태에 있어서, 보강용 필름의 두께는, 예를 들어 50㎛ 이상이어도 되고, 60㎛ 이상이어도 되고, 80㎛ 이상이어도 되고, 100㎛ 이상이어도 되고, 120㎛ 이상이어도 된다. 보강용 필름의 두께의 상한은 특별히 한정되지는 않는다.When the reinforcing film disclosed herein is in the form of an adhesive sheet with a substrate, the thickness of the reinforcing film may be, for example, 1000 μm or less, 600 μm or less, 350 μm or less, or 250 μm or less. do. From the viewpoint of miniaturization, weight reduction, and thinning of products to which the reinforcing film is applied, in some embodiments, the thickness of the reinforcing film may be, for example, 200 μm or less, 175 μm or less, or 140 μm or less. , 120 μm or less may be sufficient, and 100 μm or less (for example, less than 100 μm) may be sufficient. In addition, the thickness of the reinforcing film may be, for example, 5 μm or more, 10 μm or more, 15 μm or more, 20 μm or more, 25 μm or more, or 30 μm or more, from the viewpoint of handleability or the like. It may be more than μm. In some embodiments, the thickness of the reinforcing film may be, for example, 50 μm or more, 60 μm or more, 80 μm or more, 100 μm or more, or 120 μm or more. The upper limit of the thickness of the reinforcing film is not particularly limited.
또한, 보강용 필름의 두께란, 피착체에 첩부되는 부분의 두께를 말한다. 예를 들어 도 1에 도시한 구성의 보강용 필름(1)에서는, 보강용 필름(1)의 점착면(21A)으로부터 기재(10)의 제2 면(10B)까지의 두께를 가리키며, 박리 라이너(31)의 두께는 포함하지 않는다.In addition, the thickness of a reinforcing film means the thickness of the part affixed to the to-be-adhered body. For example, in the
여기에 개시되는 보강용 필름은, 예를 들어 지지 기재의 두께 Ts가 점착제층의 두께 Ta보다 큰 양태, 즉 Ts/Ta가 1보다 큰 양태로 적합하게 실시될 수 있다. 특별히 한정되는 것은 아니지만, Ts/Ta는, 예를 들어 1.1 이상이어도 되고, 1.2 이상이어도 되고, 1.5 이상이어도 되고, 1.7 이상이어도 된다. 예를 들어, Ts/Ta의 증대에 의해, 보강용 필름을 박형화해도 양호한 효과가 발휘되기 쉬워지는 경향이 있다. 몇몇 양태에 있어서, Ts/Ta는, 2 이상(예를 들어 2보다 큼)이어도 되고, 2.5 이상이어도 되고, 2.8 이상이어도 된다. 또한, Ts/Ta는, 예를 들어 50 이하여도 되고, 20 이하여도 된다. 보강용 필름을 박형화해도 높은 가열 후 점착력을 발휘하기 쉽게 하는 관점에서, Ts/Ta는, 예를 들어 10 이하여도 되고, 8 이하여도 되고, 5 이하여도 된다.The reinforcing film disclosed herein may be suitably implemented in an aspect in which the thickness Ts of the supporting substrate is greater than the thickness Ta of the pressure-sensitive adhesive layer, that is, an aspect in which Ts/Ta is greater than 1, for example. Although not particularly limited, Ts/Ta may be, for example, 1.1 or more, 1.2 or more, 1.5 or more, or 1.7 or more. For example, by increasing Ts/Ta, even if the film for reinforcement is reduced in thickness, favorable effects tend to be more likely to be exhibited. In some embodiments, Ts/Ta may be 2 or more (eg greater than 2), 2.5 or more, or 2.8 or more. Also, Ts/Ta may be, for example, 50 or less, or 20 or less. Ts/Ta may be, for example, 10 or less, 8 or less, or 5 or less from the viewpoint of making it easy to exert high adhesive force after heating even if the reinforcing film is reduced in thickness.
상기 점착제층은, 지지 기재에 고착되어 있는 것이 바람직하다. 여기서 고착이란, 피착체에 대한 첩부 후에 점착력이 상승한 보강용 필름에 있어서, 해당 보강용 필름의 피착체로부터의 박리 시에 점착제층과 지지 기재의 계면에서의 박리가 발생하지 않을 정도로, 점착제층이 지지 기재에 대하여 충분한 투묘성을 나타내는 것을 말한다. 점착제층이 지지 기재에 고착되어 있는 기재 구비 보강용 필름에 의하면, 피착체와 지지 기재를 강고하게 일체화할 수 있다. 점착제층이 기재에 고착되어 있는 보강용 필름의 일 적합예로서, 상술한 가열 후 점착력의 측정 시에, 점착제층과 지지 기재 사이에서의 박리(투묘 파괴)가 발생하지 않는 보강용 필름을 들 수 있다. 가열 후 점착력의 측정 시에 투묘 파괴가 발생하지 않는 보강용 필름은, 점착제층이 기재에 고착되어 있는 보강용 필름에 해당하는 일 적합예이다.It is preferable that the said adhesive layer adheres to the support base material. Adhesion here means that, in a reinforcing film whose adhesive strength has increased after sticking to an adherend, the adhesive layer is to such an extent that peeling does not occur at the interface between the adhesive layer and the supporting base material at the time of peeling of the reinforcing film from the adherend. It means showing sufficient anchoring property with respect to a support base material. According to the reinforcement film with a base material in which the adhesive layer is adhered to the supporting base material, the adherend and the supporting base material can be firmly integrated. As a preferred example of the reinforcement film in which the pressure-sensitive adhesive layer is adhered to the substrate, a reinforcement film in which peeling (anchoring destruction) between the pressure-sensitive adhesive layer and the supporting substrate does not occur when the adhesive force is measured after heating described above can be cited. there is. A reinforcing film in which anchoring destruction does not occur upon measurement of adhesive force after heating is a suitable example corresponding to a reinforcing film in which an adhesive layer is adhered to a base material.
여기에 개시되는 보강용 필름은, 예를 들어 액상의 점착제 조성물을 기재의 제1 면에 접촉시키는 것과, 해당 제1 면 상에서 상기 점착제 조성물을 경화시켜 점착제층을 형성하는 것을 이 순으로 포함하는 방법에 의해 바람직하게 제조될 수 있다. 상기 점착제 조성물의 경화는, 해당 점착제 조성물의 건조, 가교, 중합, 냉각 등의 1 또는 2 이상을 수반할 수 있다. 이와 같이 액상의 점착제 조성물을 기재의 제1 면 상에서 경화시켜 점착제층을 형성하는 방법에 의하면, 경화 후의 점착제층을 기재의 제1 면에 접합함으로써 해당 제1 면 상에 점착제층을 배치하는 방법에 비해, 점착제층의 기재에 대한 투묘성을 높일 수 있다. 이것을 이용하여, 점착제층이 기재에 고착된 보강용 필름을 적합하게 제조할 수 있다.The method for the reinforcement film disclosed herein includes, for example, bringing a liquid pressure-sensitive adhesive composition into contact with a first surface of a substrate, and forming a pressure-sensitive adhesive layer by curing the pressure-sensitive adhesive composition on the first surface, in this order. It can be preferably prepared by Curing of the pressure-sensitive adhesive composition may be accompanied by one or more of drying, crosslinking, polymerization, and cooling of the pressure-sensitive adhesive composition. Thus, according to the method of curing the liquid pressure-sensitive adhesive composition on the first surface of the substrate to form the pressure-sensitive adhesive layer, the method of disposing the pressure-sensitive adhesive layer on the first surface of the substrate by bonding the pressure-sensitive adhesive layer after curing to the first surface of the substrate In comparison, the anchoring property of the pressure-sensitive adhesive layer to the base material can be improved. Using this, it is possible to suitably manufacture a reinforcing film in which the pressure-sensitive adhesive layer is adhered to the base material.
몇몇 양태에 있어서, 기재의 제1 면에 액상의 점착제 조성물을 접촉시키는 방법으로서는, 상기 점착제 조성물을 기재의 제1 면에 직접 도포하는 방법을 채용할 수 있다. 기재의 제1 면 상에서 경화시킨 점착제층의 제1 면(점착면)을 박리면에 맞닿게 함으로써, 해당 점착제층의 제2 면이 기재의 제1 면에 고착되고, 또한 해당 점착제층의 제1 면이 박리면에 맞닿은 구성의 보강용 필름을 얻을 수 있다. 상기 박리면으로서는, 박리 라이너의 표면이나, 박리 처리된 기재 배면 등을 이용할 수 있다.In some embodiments, as a method of bringing the liquid pressure-sensitive adhesive composition into contact with the first surface of the substrate, a method of directly applying the pressure-sensitive adhesive composition to the first surface of the substrate may be employed. By bringing the first surface (adhesive surface) of the pressure-sensitive adhesive layer cured on the first surface of the base material into contact with the release surface, the second surface of the pressure-sensitive adhesive layer adheres to the first surface of the base material, and the first surface of the pressure-sensitive adhesive layer A reinforcing film having a configuration in which the surface is in contact with the peeling surface can be obtained. As the peeling surface, the surface of a peeling liner, the back surface of a base material subjected to peeling treatment, and the like can be used.
또한, 예를 들어 모노머 원료의 부분 중합물(폴리머 시럽)을 사용한 광경화형 점착제 조성물의 경우, 예를 들어 해당 점착제 조성물을 박리면에 도포한 후, 그 도포된 점착제 조성물에 기재의 제1 면을 덮음으로써 미경화의 상기 점착제 조성물에 기재의 제1 면을 접촉시키고, 그 상태에서, 기재의 제1 면과 박리면 사이에 끼워진 점착제 조성물에 광 조사를 행하여 경화시킴으로써 점착제층을 형성해도 된다.In addition, for example, in the case of a photocurable pressure-sensitive adhesive composition using a partial polymerization of monomer raw materials (polymer syrup), for example, after applying the pressure-sensitive adhesive composition to the release surface, the first surface of the substrate is covered with the applied pressure-sensitive adhesive composition In this way, the first surface of the substrate is brought into contact with the uncured pressure-sensitive adhesive composition, and in that state, the pressure-sensitive adhesive composition sandwiched between the first surface of the substrate and the peeling surface is irradiated with light to cure, thereby forming an adhesive layer.
또한, 상기에서 예시한 방법은, 여기에 개시되는 보강용 필름의 제조 방법을 한정하는 것은 아니다. 여기에 개시되는 보강용 필름의 제조 시에는, 기재의 제1 면에 점착제층을 고착시킬 수 있는 적절한 방법을, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 그와 같은 방법의 예에는, 상술한 바와 같이 액상의 점착제 조성물을 기재의 제1 면 상에서 경화시켜 점착제층을 형성하는 방법이나, 기재의 제1 면에 점착제층의 투묘성을 높이는 표면 처리를 실시하는 방법 등을 들 수 있다. 예를 들어, 기재의 제1 면에 하도층을 마련하는 등의 방법에 의해 점착제층의 기재에 대한 투묘성을 충분히 향상시킬 수 있는 경우에는, 경화 후의 점착제층을 기재의 제1 면에 접합하는 방법으로 보강용 필름을 제조해도 된다. 또한, 기재의 재질의 선택이나, 점착제의 조성의 선택에 의해서도, 점착제층의 기재에 대한 투묘성을 향상시킬 수 있다. 또한, 기재의 제1 면 상에 점착제층을 갖는 보강용 필름에 실온보다 높은 온도를 적용함으로써, 해당 점착제층의 기재에 대한 투묘성을 높일 수 있다. 투묘성을 높이기 위해 적용하는 온도는, 예를 들어 35℃ 내지 80℃ 정도여도 되고, 40℃ 내지 70℃ 이상 정도여도 되고, 45℃ 내지 60℃ 정도여도 된다.In addition, the method illustrated above does not limit the manufacturing method of the reinforcement film disclosed here. In the case of manufacturing the reinforcing film disclosed herein, an appropriate method capable of adhering the pressure-sensitive adhesive layer to the first surface of the base material may be used alone or in combination of two or more. Examples of such a method include a method of forming a pressure-sensitive adhesive layer by curing the liquid pressure-sensitive adhesive composition on the first surface of the substrate as described above, or surface treatment to improve the anchoring property of the pressure-sensitive adhesive layer on the first surface of the substrate. how to do it, etc. For example, when the anchoring property of the pressure-sensitive adhesive layer to the base material can be sufficiently improved by a method such as providing an undercoating layer on the first surface of the base material, bonding the pressure-sensitive adhesive layer after curing to the first surface of the base material. You may manufacture the film for reinforcement by the method. In addition, the anchoring property of the pressure-sensitive adhesive layer to the substrate can be improved also by selecting the material of the substrate or the composition of the pressure-sensitive adhesive. In addition, by applying a temperature higher than room temperature to the reinforcing film having the pressure-sensitive adhesive layer on the first surface of the base material, the anchoring property of the pressure-sensitive adhesive layer to the base material can be improved. The temperature applied to improve anchoring properties may be, for example, about 35°C to 80°C, about 40°C to 70°C or higher, or about 45°C to 60°C.
여기에 개시되는 보강용 필름이, 기재의 제1 면에 마련된 제1 점착제층과, 해당 기재의 제2 면에 마련된 제2 점착제층을 갖는 점착 시트(즉, 양면 접착성의 기재 구비 점착 시트)의 형태인 경우, 제1 점착제층과 제2 점착제층은, 동일한 구성이어도 되고, 다른 구성이어도 된다. 제1 점착제층과 제2 점착제층의 구성이 다른 경우, 그 상이는, 예를 들어 조성의 차이나 구조(두께, 표면 거칠기, 형성 범위, 형성 패턴 등)의 차이일 수 있다. 예를 들어, 제2 점착제층은, 폴리머(B)를 함유하지 않는 점착제층이어도 된다. 또한, 제2 점착제층의 표면(제2 점착면)은, 23℃에서의 표면 탄성률이 1 내지 20㎪의 범위 외(예를 들어 20㎪ 초과)여도 되고, 30㎪ 이상이어도 된다.The reinforcing film disclosed herein is a pressure-sensitive adhesive sheet having a first pressure-sensitive adhesive layer provided on the first surface of a substrate and a second pressure-sensitive adhesive layer provided on the second surface of the substrate (ie, a pressure-sensitive adhesive sheet with a double-sided adhesive substrate) In the case of the shape, the 1st adhesive layer and the 2nd adhesive layer may have the same structure, and may have different structures. When the configurations of the first pressure-sensitive adhesive layer and the second pressure-sensitive adhesive layer are different, the difference may be, for example, a difference in composition or a difference in structure (thickness, surface roughness, formation range, formation pattern, etc.). For example, the second pressure-sensitive adhesive layer may be a pressure-sensitive adhesive layer containing no polymer (B). In addition, the surface elastic modulus at 23 degreeC of the surface of the 2nd adhesive layer (2nd adhesive surface) may be outside the range of 1-20 kPa (for example, more than 20 kPa), and may be 30 kPa or more.
<박리 라이너 구비 보강용 필름><Reinforcing film with release liner>
여기에 개시되는 보강용 필름은, 점착제층의 표면(점착면)을 박리 라이너의 박리면에 맞닿게 한 점착 제품의 형태를 취할 수 있다. 따라서, 이 명세서에 의해, 여기에 개시되는 어느 보강용 필름과, 해당 보강용 필름의 점착면에 맞닿는 박리면을 갖는 박리 라이너를 포함하는 박리 라이너 구비 보강용 필름이 제공될 수 있다.The reinforcing film disclosed herein may take the form of an adhesive product in which the surface (adhesive surface) of the pressure-sensitive adhesive layer is brought into contact with the release surface of the release liner. Therefore, according to this specification, a reinforcing film with a peeling liner can be provided which includes any of the reinforcing films disclosed herein and a peeling liner having a peeling surface in contact with the adhesive surface of the reinforcing film.
박리 라이너의 두께는, 특별히 한정되지는 않지만, 통상은 5㎛ 내지 200㎛ 정도가 적당하다. 박리 라이너의 두께가 상기 범위 내에 있으면, 점착제층에 대한 접합 작업성과 점착제층으로부터의 박리 작업성이 우수하기 때문에 바람직하다. 몇몇 양태에 있어서, 박리 라이너의 두께는, 예를 들어 10㎛ 이상이어도 되고, 20㎛ 이상이어도 되고, 30㎛ 이상이어도 되고, 40㎛ 이상이어도 된다. 또한, 박리 라이너의 두께는, 점착제층으로부터의 박리를 용이화한다는 관점에서, 예를 들어 100㎛ 이하여도 되고, 80㎛ 이하여도 된다. 박리 라이너에는, 필요에 따라서, 도포형, 반죽형, 증착형 등의, 공지의 대전 방지 처리가 실시되어도 된다.The thickness of the release liner is not particularly limited, but is usually about 5 µm to 200 µm. When the thickness of the peeling liner is within the above range, it is preferable because bonding workability to the pressure-sensitive adhesive layer and peeling workability from the pressure-sensitive adhesive layer are excellent. In some embodiments, the release liner may have a thickness of, for example, 10 μm or more, 20 μm or more, 30 μm or more, or 40 μm or more. In addition, the thickness of the peeling liner may be, for example, 100 µm or less, or 80 µm or less, from the viewpoint of facilitating peeling from the pressure-sensitive adhesive layer. The release liner may be subjected to a known antistatic treatment such as coating type, kneading type, vapor deposition type, etc., as needed.
박리 라이너로서는, 특별히 한정되지는 않으며, 예를 들어, 수지 필름이나 종이(폴리에틸렌 등의 수지가 라미네이트된 종이일 수 있음) 등의 라이너 기재의 표면에 박리층을 갖는 박리 라이너나, 불소계 폴리머(폴리테트라플루오로에틸렌 등)나 폴리올레핀계 수지(폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등)와 같은 저접착성 재료로 형성된 수지 필름을 포함하는 박리 라이너 등을 사용할 수 있다. 표면 평활성이 우수하다는 점에서, 라이너 기재로서의 수지 필름의 표면에 박리층을 갖는 박리 라이너나, 저접착성 재료로 형성된 수지 필름을 포함하는 박리 라이너를 바람직하게 채용할 수 있다. 수지 필름으로서는, 점착제층을 보호할 수 있는 필름이라면 특별히 한정되지는 않으며, 예를 들어 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리부텐 필름, 폴리부타디엔 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리염화비닐 필름, 염화비닐 공중합체 필름, 폴리에스테르 필름(PET 필름, PBT 필름 등), 폴리우레탄 필름, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 필름 등을 들 수 있다. 상기 박리층의 형성에는, 예를 들어 실리콘계 박리 처리제, 장쇄 알킬계 박리 처리제, 올레핀계 박리 처리제, 불소계 박리 처리제, 지방산 아미드계 박리 처리제, 황화몰리브덴, 실리카분 등의, 공지의 박리 처리제를 사용할 수 있다. 실리콘계 박리 처리제의 사용이 특히 바람직하다.The release liner is not particularly limited, and examples thereof include a release liner having a release layer on the surface of a liner substrate such as a resin film or paper (which may be paper laminated with a resin such as polyethylene) or a fluorine-based polymer (polyethylene). A release liner comprising a resin film formed of a low-adhesive material such as tetrafluoroethylene or the like) or a polyolefin-based resin (polyethylene, polypropylene, or the like) can be used. In terms of surface smoothness, a release liner having a release layer on the surface of a resin film as a liner base material or a release liner made of a resin film formed of a low-adhesive material can be preferably employed. The resin film is not particularly limited as long as it can protect the pressure-sensitive adhesive layer, and examples include polyethylene film, polypropylene film, polybutene film, polybutadiene film, polymethylpentene film, polyvinyl chloride film, and vinyl chloride air. A composite film, a polyester film (PET film, PBT film, etc.), a polyurethane film, an ethylene-vinyl acetate copolymer film, etc. are mentioned. For the formation of the release layer, known release agents such as silicone-based release agents, long-chain alkyl-based release agents, olefin-based release agents, fluorine-based release agents, fatty acid amide-based release agents, molybdenum sulfide, and silica powder can be used. there is. The use of a silicone-based release treatment agent is particularly preferred.
박리층의 두께는 특별히 제한되지는 않지만, 통상은 0.01㎛ 내지 1㎛ 정도가 적당하며, 0.1㎛ 내지 1㎛ 정도가 바람직하다. 박리층의 형성 방법은 특별히 한정되지는 않으며, 사용하는 박리 처리제의 종류 등에 따른 공지의 방법을 적절하게 채용할 수 있다.The thickness of the release layer is not particularly limited, but is usually about 0.01 μm to 1 μm, and preferably about 0.1 μm to 1 μm. The method for forming the release layer is not particularly limited, and a known method depending on the type of release treatment agent to be used and the like can be appropriately employed.
<용도><Use>
이 명세서에 의해 제공되는 보강용 필름은, 예를 들어 피착체에 접합한 초기에 있어서는 양호한 리워크성을 발휘하는 것이 가능하므로, 수율 저하의 억제나 해당 보강용 필름을 포함하는 제품의 고품질화에 공헌할 수 있다. 그리고, 상기 보강용 필름은, 피착체에 첩부한 후, 에이징이나 가열에 의해 점착력을 크게 상승시킬 수 있다. 예를 들어, 피착체에 대한 첩부 후의 적당한 타이밍에 가열함으로써, 보강용 필름을 피착체에 강고하게 접착시킬 수 있다. 이와 같은 특징을 살려, 여기에 개시되는 보강용 필름은, 다양한 분야에 있어서, 각종 제품에 포함되는 부재의 보강 목적으로 바람직하게 사용될 수 있다.Since the reinforcing film provided by this specification can exhibit good reworkability in the initial stage of being bonded to an adherend, for example, it contributes to suppression of yield reduction and improvement in quality of products containing the reinforcing film. can do. And after sticking the said reinforcing film to a to-be-adhered body, adhesive force can be raised large by aging or heating. For example, a reinforcing film can be firmly adhered to an adherend by heating at an appropriate timing after sticking to an adherend. Taking advantage of such characteristics, the reinforcing film disclosed herein can be preferably used for the purpose of reinforcing members included in various products in various fields.
여기에 개시되는 보강용 필름은, 예를 들어, 제1 면 및 제2 면을 갖는 필름 형상 기재의 적어도 제1 면에 점착제층이 형성된 기재 구비 점착 시트의 형태로, 피착체에 첩부되어 해당 피착체를 보강하는 보강 필름으로서 바람직하게 사용될 수 있다. 이러한 보강 필름에 있어서, 상기 필름 기재로서는, 수지 필름을 베이스 필름으로서 포함하는 것을 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 보강 성능을 높인다는 관점에서, 상기 점착제층은 필름 형상 기재의 제1 면에 고착되어 있는 것이 바람직하다.The reinforcing film disclosed herein is, for example, in the form of a pressure-sensitive adhesive sheet with a base material in which an adhesive layer is formed on at least a first surface of a film-shaped base material having a first surface and a second surface, and is adhered to an adherend to It can be preferably used as a reinforcing film reinforcing the complex. In such a reinforcing film, as the film base material, one containing a resin film as a base film can be preferably used. Further, from the viewpoint of enhancing the reinforcing performance, the pressure-sensitive adhesive layer is preferably adhered to the first surface of the film-like substrate.
예를 들어, 광학 제품에 사용되는 광학 부재나, 전자 제품에 사용되는 전자 부재에서는, 고도의 집적화, 소형 경량화, 박형화가 진행되고 있으며, 선팽창 계수나 두께가 상이한 복수의 얇은 광학 부재/전자 부재가 적층될 수 있다. 이러한 부재에 상기와 같은 보강 필름을 첩부함으로써, 상기 광학 부재/전자 부재에 적당한 강성을 부여할 수 있다. 이에 의해, 제조 프로세스 및/또는 제조 후의 제품에 있어서, 상기 선팽창 계수나 두께가 상이한 복수의 부재간에 발생할 수 있는 응력에 기인하는 컬이나 만곡을 억제할 수 있다.For example, in optical members used in optical products and electronic members used in electronic products, a high degree of integration, size reduction, and thinning are progressing, and a plurality of thin optical members/electronic members having different linear expansion coefficients and thicknesses are in progress. can be layered. Appropriate rigidity can be provided to the said optical member/electronic member by attaching the said reinforcement film to such a member. Thereby, in a manufacturing process and/or a product after manufacture, curl and curvature resulting from stress that may occur between a plurality of members having different linear expansion coefficients and thicknesses can be suppressed.
또한, 광학 제품/전자 제품의 제조 프로세스에 있어서, 상술한 바와 같이 얇은 광학 부재/전자 부재에 절단 가공 등의 형상 가공 처리를 행하는 국면에 있어서, 해당 부재에 보강 필름을 첩부하여 처리함으로써, 가공에 수반하는 광학 부재/전자 부재에 대한 국소적인 응력 집중을 완화하고, 크랙, 균열, 적층 부재의 박리 등의 리스크를 저감할 수 있다. 광학 부재/전자 부재에 보강 부재를 첩부하여 취급하는 것은, 해당 부재의 반송, 적층, 회전 등일 때에 있어서의 국소적인 응력 집중의 완화나, 해당 부재의 자중에 의한 꺾임이나 만곡의 억제 등에도 도움이 될 수 있다.In addition, in the manufacturing process of optical products/electronic products, in the aspect of performing shape processing such as cutting processing on a thin optical member/electronic member as described above, by attaching a reinforcing film to the member and processing, The accompanying local stress concentration on the optical member/electronic member can be alleviated, and risks such as cracks, cracks, peeling of laminated members, and the like can be reduced. Attaching and handling a reinforcing member to an optical member/electronic member is helpful in relieving local stress concentration during transport, stacking, rotation, etc. of the member, and suppressing bending or curvature due to the member's own weight. It can be.
또한, 상기 보강 필름을 포함하는 광학 제품이나 전자 제품 등의 디바이스는, 시장에 있어서 소비자에게 사용되는 단계에 있어서, 해당 디바이스가 낙하한 경우, 중량물 밑에 놓인 경우, 날아오는 물건이 충돌하는 경우 등, 비의도적인 응력이 부여된 경우에도, 해당 디바이스에 보강 필름이 포함되어 있음으로써, 디바이스에 걸리는 스트레스를 완화할 수 있다. 따라서, 상기 디바이스에 보강 필름이 포함됨으로써, 해당 디바이스의 내구성을 향상시킬 수 있다.In addition, when devices such as optical products or electronic products including the reinforcing film are used by consumers in the market, when the device is dropped, placed under a heavy object, or when a flying object collides, Even when unintentional stress is applied, the stress applied to the device can be alleviated by including the reinforcing film in the device. Therefore, by including the reinforcing film in the device, durability of the device can be improved.
또한, 여기에 개시되는 보강용 필름은, 예를 들어 각종 휴대 기기(포터블 기기)를 구성하는 부재에 첩부되는 양태로 바람직하게 사용될 수 있다. 여기서 「휴대」란, 단순히 휴대하는 것이 가능하기만 해서는 충분하지 않으며, 개인(표준적인 성인)이 상대적으로 용이하게 운반 가능한 레벨의 휴대성을 가짐을 의미하는 것으로 본다. 또한, 여기서 말하는 휴대 기기의 예에는, 휴대 전화, 스마트폰, 태블릿형 퍼스널 컴퓨터, 노트북 컴퓨터, 각종 웨어러블 기기, 디지털 카메라, 디지털 비디오 카메라, 음향 기기(휴대 음악 플레이어, IC 리코더 등), 계산기(전자식 탁상 계산기 등), 휴대용 게임 기기, 전자 사전, 전자 수첩, 전자 서적, 차량 탑재용 정보 기기, 휴대용 라디오, 휴대용 TV, 휴대용 프린터, 휴대용 스캐너, 휴대용 모뎀 등의 휴대 전자 기기 외에, 기계식 손목시계나 회중시계, 회중전등, 손거울 등이 포함될 수 있다. 상기 휴대 전자 기기를 구성하는 부재의 예에는, 액정 디스플레이 등의 박층 디스플레이나 필름 형상 디스플레이 등과 같은 화상 표시 장치에 사용되는 광학 필름이나 표시 패널 등이 포함될 수 있다. 여기에 개시되는 보강용 필름은, 자동차, 가전 제품 등에 있어서의 각종 부재에 첩부되는 양태로도 바람직하게 사용될 수 있다.In addition, the reinforcing film disclosed herein can be suitably used, for example, in an aspect of being affixed to members constituting various portable devices (portable devices). Here, "carrying" is not sufficient simply to be able to carry, and is considered to mean having a level of portability that can be carried relatively easily by an individual (standard adult). In addition, examples of the mobile device referred to herein include mobile phones, smartphones, tablet personal computers, notebook computers, various wearable devices, digital cameras, digital video cameras, sound devices (portable music players, IC recorders, etc.), calculators (electronic desktop calculators, etc.), portable game devices, electronic dictionaries, electronic notebooks, electronic books, vehicle-mounted information devices, portable radios, portable TVs, portable printers, portable scanners, portable modems, etc., as well as mechanical wristwatches and flashlights. Watches, flashlights, hand mirrors, etc. may be included. Examples of the member constituting the portable electronic device may include an optical film or a display panel used in an image display device such as a thin layer display such as a liquid crystal display or a film display. The reinforcing film disclosed herein can be suitably used also in an aspect attached to various members in automobiles, home appliances, and the like.
또한, 여기에 개시되는 보강용 필름은, 굴곡 회복성 및 굴곡 유지력을 갖기 때문에, 그 특장을 살려, 굴곡 가능한 요소(예를 들어, 플렉시블 디스플레이 등의 플렉시블 디바이스. 롤러블 디바이스나 폴더블 디바이스라고도 칭해질 수 있음)를 구비한 기기를 구성하는 부재에 첩부되는 양태로 바람직하게 사용될 수 있다. 그와 같은 기기로서, 예를 들어 상술한 각종 휴대 기기(포터블 기기)를 들 수 있다. 상기 휴대 전자 기기를 구성하는 부재의 예에는, 액정 디스플레이나 유기 EL(일렉트로루미네센스) 디스플레이 등의 화상 표시 장치에 사용되는 광학 필름이나 표시 패널 등이 포함될 수 있다. 여기에 개시되는 보강용 필름은, 이와 같은 휴대 전자 기기에 있어서, 해당 기기를 구성하는 부재(전형적으로는, 플렉시블 디바이스 또는 폴더블 디바이스라 칭해지는 화상 표시 장치 등)의 보강 용도에 바람직하게 사용될 수 있다.In addition, since the reinforcing film disclosed herein has bending recovery properties and bending holding power, its features are utilized and bendable elements (for example, flexible devices such as flexible displays. Also referred to as rollable devices and foldable devices) can be detached) can be preferably used in an aspect attached to a member constituting a device equipped with. As such a device, for example, various types of portable devices (portable devices) described above are exemplified. Examples of the member constituting the portable electronic device may include an optical film or a display panel used in an image display device such as a liquid crystal display or an organic EL (electroluminescence) display. The reinforcing film disclosed herein can be preferably used for reinforcing a member constituting the device (typically, an image display device called a flexible device or a foldable device, etc.) in such a portable electronic device. there is.
또한, 여기에 개시되는 보강용 필름은, 예를 들어 액정 디스플레이 패널, 플라스마 디스플레이 패널(PDP), 유기 EL 디스플레이 등의 구성 요소로서 사용되는 광학 부재의 제조 시, 반송 시 등에 해당 광학 부재를 보강하는 용도에 적합하다. 액정 디스플레이 패널용의 편광판(편광 필름), 파장판, 위상차판, 광학 보상 필름, 휘도 향상 필름, 광 확산 시트, 반사 시트 등의 광학 부재에 적용되는 보강용 필름으로서 유용하다.In addition, the reinforcing film disclosed herein reinforces the optical member used as a component of, for example, a liquid crystal display panel, a plasma display panel (PDP), an organic EL display, etc. during manufacture and transport. suitable for use It is useful as a reinforcing film applied to optical members such as polarizing plates (polarizing films) for liquid crystal display panels, wave plates, retardation plates, optical compensation films, brightness enhancing films, light diffusion sheets, and reflective sheets.
또한, 여기에 개시되는 보강용 필름의 용도로서는, 특별히 한정되지는 않고, 강성이나 내충격성의 부여 등을 목적으로 하는 각종 용도에 이용될 수 있다. 여기에 개시되는 보강용 필름은, 상기와 같이 플렉시블 디바이스 용도에 바람직하게 사용할 수 있을 뿐만 아니라, 플렉시블 디바이스를 포함하지 않는 다른 용도에 사용할 수 있다. 보강용 필름이 굴곡 회복성 및 굴곡 유지력을 갖는 것은, 당해 보강용 필름의 적용 범위의 제한이 적은 것을 의미하고, 이것의 실용상의 이점은 크다.In addition, the use of the reinforcing film disclosed herein is not particularly limited, and can be used for various applications aimed at imparting rigidity or impact resistance. The reinforcing film disclosed herein can be preferably used for flexible device applications as described above, and can also be used for other applications that do not include flexible devices. The fact that the reinforcing film has bending recovery and bending holding power means that the application range of the reinforcing film is less limited, and its practical advantages are great.
실시예Example
이하, 본 발명에 관한 몇몇 실시예를 설명하지만, 본 발명을 이러한 구체예로 나타내는 것에 한정하는 것을 의도한 것은 아니다. 또한, 이하의 설명 중의 「부」 및 「%」는, 특별히 정함이 없는 한 중량 기준이다.Some embodiments of the present invention will be described below, but it is not intended to limit the present invention to those shown in these specific examples. In addition, "part" and "%" in the following description are based on weight unless otherwise specified.
[폴리머(A)의 합성][Synthesis of Polymer (A)]
(합성예 A1)(Synthesis Example A1)
교반 블레이드, 온도계, 질소 가스 도입관 및 냉각기를 구비한 4구 플라스크에, 아크릴산2-에틸헥실(2EHA) 90.2부, 아크릴산4-히드록시부틸(4HBA) 8.6부, N-아크릴로일모르폴린(ACMO) 1.2부, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴(AIBN) 0.2부, 및 중합 용매로서 아세트산에틸을 투입하고, 완만하게 교반하면서 질소 가스를 도입하고, 플라스크 내의 액온을 65℃ 부근으로 유지하여 6시간 중합 반응을 행하여, 폴리머 농도가 35%인 아크릴계 폴리머 A1 용액을 조제하였다. 아크릴계 폴리머 A1의 중량 평균 분자량(Mw)은 54만이었다.90.2 parts of 2-ethylhexyl acrylate (2EHA), 8.6 parts of 4-hydroxybutyl acrylate (4HBA), N-acryloylmorpholine ( ACMO) 1.2 parts, 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN) 0.2 parts as a polymerization initiator, and ethyl acetate as a polymerization solvent were introduced, nitrogen gas was introduced while gently stirring, the liquid temperature in the flask was 65 A polymerization reaction was performed for 6 hours while maintaining at around °C to prepare an acrylic polymer A1 solution having a polymer concentration of 35%. The weight average molecular weight (Mw) of acrylic polymer A1 was 540,000.
(합성예 A2) (Synthesis Example A2)
모노머 조성을, 2EHA/4HBA/ACMO/아크릴산부틸(BA)=86.1부/9.7부/1.8부/2.4부로 변경한 것 외에는 합성예 A1과 마찬가지로 하여 용액 중합을 행함으로써, 아크릴계 폴리머 A2의 용액을 얻었다.A solution of acrylic polymer A2 was obtained by carrying out solution polymerization in the same manner as in Synthesis Example A1 except that the monomer composition was changed to 2EHA/4HBA/ACMO/butyl acrylate (BA) = 86.1 parts/9.7 parts/1.8 parts/2.4 parts.
(합성예 A3)(Synthesis Example A3)
모노머 조성을, BA/4HBA=96부/4부로 변경한 것 외에는 합성예 A1과 마찬가지로 하여 용액 중합을 행함으로써, 아크릴계 폴리머 A3의 용액을 얻었다.A solution of acrylic polymer A3 was obtained by performing solution polymerization in the same manner as in Synthesis Example A1 except that the monomer composition was changed to BA/4HBA=96 parts/4 parts.
(합성예 A4)(Synthesis Example A4)
모노머 조성을, 2EHA/아크릴산2-히드록시에틸(HEA)/메타크릴산메틸(MMA)/N-비닐-2-피롤리돈(NVP)=65부/15부/7부/13부로 변경한 것 외에는 합성예 A1과 마찬가지로 하여 용액 중합을 행함으로써, 아크릴계 폴리머 A4의 용액을 얻었다.The monomer composition was changed to 2EHA / 2-hydroxyethyl acrylate (HEA) / methyl methacrylate (MMA) / N-vinyl-2-pyrrolidone (NVP) = 65 parts / 15 parts / 7 parts / 13 parts Other than that, a solution of acrylic polymer A4 was obtained by solution polymerization in the same manner as in Synthesis Example A1.
[폴리머(B)의 합성][Synthesis of Polymer (B)]
(합성예 B1)(Synthesis Example B1)
아세트산에틸 101.15부, MMA 40부, n-부틸메타크릴레이트((nBMA) 20부, 2-에틸헥실메타크릴레이트(2EHMA) 20부, 관능기 당량이 900g/mol인 폴리오르가노실록산 골격 함유 메타크릴레이트 모노머(상품명: X-22-174ASX, 신에츠 가가쿠 고교사제) 8.7부, 관능기 당량이 4600g/mol인 폴리오르가노실록산 골격 함유 메타크릴레이트 모노머(상품명: KF-2012, 신에츠 가가쿠 고교사제) 11.3부, 및 연쇄 이동제로서 티오글리세롤 0.8부를, 교반 블레이드, 온도계, 질소 가스 도입관, 냉각기 및 적하 깔때기를 구비한 4구 플라스크에 투입하였다. 그리고, 70℃에서 질소 분위기 하에서 30분 교반한 후, 열중합 개시제로서 AIBN 0.2부를 투입하고, 70℃에서 3시간 반응시켰다. 계속해서 80℃에서 30분 교반한 후, AIBN 0.1부를 더 투입하고, 80℃에서 2시간 반응시켰다. 그 후, AIBN 0.05부를 더 투입하고, 80℃에서 2시간 반응시켜, 폴리머 B1을 얻었다. 얻어진 폴리머 B1의 Mw는 20000이며, Tg(TB)는 -13.8℃였다.101.15 parts of ethyl acetate, 40 parts of MMA, n-butyl methacrylate ((nBMA) 20 parts, 2-ethylhexyl methacrylate (2EHMA) 20 parts, polyorganosiloxane skeleton-containing methacrylic acid having a functional group equivalent of 900 g/mol Late monomer (trade name: X-22-174ASX, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 8.7 parts, polyorganosiloxane backbone-containing methacrylate monomer having a functional group equivalent of 4600 g/mol (trade name: KF-2012, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 11.3 parts and 0.8 parts of thioglycerol as a chain transfer agent were put into a four-necked flask equipped with a stirring blade, a thermometer, a nitrogen gas inlet tube, a condenser and a dropping funnel, and stirred at 70 ° C. under a nitrogen atmosphere for 30 minutes, As a thermal polymerization initiator, 0.2 part of AIBN was introduced and reacted at 70 ° C. for 3 hours. Subsequently, after stirring at 80 ° C. for 30 minutes, 0.1 part of AIBN was further added and reacted at 80 ° C. for 2 hours. Thereafter, 0.05 part of AIBN was added. It was further added and reacted at 80° C. for 2 hours to obtain polymer B1. The obtained polymer B1 had a Mw of 20000 and a Tg (T B ) of -13.8° C.
(합성예 B2 내지 B6)(Synthesis Examples B2 to B6)
모노머 성분의 조성을 표 1에 나타내는 바와 같이 변경한 것 외에는 폴리머 B1의 조제와 마찬가지로 하여 폴리머 B2 내지 B6을 조제하였다. 각 폴리머의 Tg(TB)는, 폴리머 B2가 -8.4℃, 폴리머 B3이 -7.2℃, 폴리머 B4가 -0.6℃, 폴리머 B5가 -25.1℃, 폴리머 B6이 9.4℃였다. 표 1 중, MMA는 메틸메타크릴레이트(Tg105℃)를, nBMA는 n-부틸메타크릴레이트(Tg20℃)를, 2EHMA는 2-에틸헥실메타크릴레이트(Tg-10℃)를, iBMA는 이소부틸메타크릴레이트(Tg48℃)를, CHMA는 시클로헥실메타크릴레이트(Tg66℃)를, X-22-174ASX는 폴리오르가노실록산 골격 함유 메타크릴레이트 모노머(상품명: X-22-174ASX, 신에츠 가가쿠 고교사제, 관능기 당량 900g/mol)를, KF-2012는 폴리오르가노실록산 골격 함유 메타크릴레이트 모노머(상품명: KF-2012, 신에츠 가가쿠 고교사제, 관능기 당량 4600g/mol)를, 각각 나타낸다.Polymers B2 to B6 were prepared in the same manner as in the preparation of polymer B1, except that the composition of the monomer components was changed as shown in Table 1. The Tg (T B ) of each polymer was -8.4°C for polymer B2, -7.2°C for polymer B3, -0.6°C for polymer B4, -25.1°C for polymer B5, and 9.4°C for polymer B6. In Table 1, MMA is methyl methacrylate (Tg105 ℃), nBMA is n-butyl methacrylate (Tg20 ℃), 2EHMA is 2-ethylhexyl methacrylate (Tg-10 ℃), iBMA is iso Butyl methacrylate (Tg48 ℃), CHMA is cyclohexyl methacrylate (Tg66 ℃), X-22-174ASX is a methacrylate monomer containing a polyorganosiloxane skeleton (trade name: X-22-174ASX, Shin-Etsu Kaga) Ku Kogyo Co., Ltd., functional group equivalent weight 900 g / mol), KF-2012 represents a polyorganosiloxane backbone-containing methacrylate monomer (trade name: KF-2012, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., functional group equivalent weight 4600 g / mol), respectively.
폴리머 B1 내지 B6의 조제에 사용한 모노머 성분의 조성 및 폴리머 B1 내지 B6의 Tg(TB)를, 표 1에 통합하여 나타낸다.Table 1 shows the compositions of the monomer components used for preparing the polymers B1 to B6 and the Tg (T B ) of the polymers B1 to B6.
또한, 상술한 각 폴리머의 Mw는, GPC 장치(도소사제, HLC-8220GPC)를 사용하여 하기의 조건에서 측정을 행하여, 폴리스티렌 환산에 의해 구하였다.In addition, Mw of each polymer mentioned above was measured under the following conditions using a GPC apparatus (HLC-8220GPC, manufactured by Tosoh Corporation), and was determined by polystyrene conversion.
[GPC 조건][GPC conditions]
ㆍ샘플 농도: 0.2wt%(테트라히드로푸란(THF) 용액)ㆍSample concentration: 0.2wt% (tetrahydrofuran (THF) solution)
ㆍ샘플 주입량: 10μlㆍSample Injection Amount: 10μl
ㆍ용리액: THFㆍEluent: THF
ㆍ유속: 0.6㎖/minㆍFlow rate: 0.6㎖/min
ㆍ측정 온도: 40℃ㆍMeasurement temperature: 40℃
ㆍ칼럼:ㆍColumn:
샘플 칼럼; TSKguardcolumn SuperHZ-H(1개)+TSKgel SuperHZM-H(2개)sample column; TSKguardcolumn SuperHZ-H (1 pc)+TSKgel SuperHZM-H (2 pcs)
레퍼런스 칼럼; TSKgel SuperH-RC(1개)reference column; TSKgel SuperH-RC (1 piece)
ㆍ검출기: 시차 굴절계(RI)ㆍDetector: Differential Refractometer (RI)
[보강용 필름의 제작][Production of Reinforcing Film]
<실시예 1><Example 1>
아크릴계 폴리머 A1을 100부, 폴리머 B1을 2.0부, 가교제로서 이소시아네이트 화합물 C1(상품명 「코로네이트 HX」, 도소사제)을 고형분 환산으로 0.10부 첨가하고, 전체의 고형분이 30%가 되도록 아세트산에틸로 희석하여, 본 예에 관한 아크릴계 점착제 용액을 얻었다.Add 100 parts of acrylic polymer A1, 2.0 parts of polymer B1, and 0.10 part of isocyanate compound C1 (trade name "Coronate HX", manufactured by Tosoh Corporation) as a crosslinking agent in terms of solid content, and dilute with ethyl acetate so that the total solid content is 30% Thus, an acrylic pressure-sensitive adhesive solution according to this example was obtained.
편면에 실리콘 처리를 실시한 두께 75㎛의 폴리에스테르 수지로 이루어지는 박리 라이너(상품명 「다이어포일 MRF75」, 미쓰비시 케미컬사제)를 준비하고, 그 실리콘 처리면에, 상기에서 얻은 아크릴계 점착제 용액을 도포하고, 130℃에서 1분간의 조건에서 건조시킴으로써, 두께 25㎛의 점착제층을 형성하였다.A release liner made of a polyester resin having a thickness of 75 μm (trade name “Diafoil MRF75”, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) having one side treated with silicon was prepared, and the acrylic adhesive solution obtained above was applied to the siliconized side, By drying under conditions of 1 minute at °C, a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 25 μm was formed.
이어서, 얻어진 점착제층의 표면에, 두께 50㎛의 폴리이미드 기재(상품명 「유필렉스 50S」, 우베 고산사제)를 접합하여 본 예에 관한 보강용 필름을 얻었다. 이 보강용 필름은, 기재의 편면에 점착제층을 갖고, 그 점착면에 박리 라이너의 박리면이 맞닿은 박리 라이너 구비 점착 시트의 형태를 갖는다.Next, a polyimide base material (trade name "Upilex 50S", manufactured by Ube Industries, Ltd.) having a thickness of 50 µm was bonded to the surface of the obtained pressure-sensitive adhesive layer to obtain a reinforcing film according to this example. This reinforcing film has a pressure-sensitive adhesive layer on one side of a base material, and has a form of a pressure-sensitive adhesive sheet with a release liner in which a release surface of a release liner is in contact with the adhesive surface.
또한, 본 예의 보강용 필름에 대해, 점착제층 중의 OH양(아크릴계 폴리머 A1 중의 수산기의 몰수)과 NCO양(이소시아네이트 화합물의 이소시아네이트기 몰수)으로부터, 몰비([NCO]/[OH])를 산출한바, 0.008이었다.Further, for the reinforcing film of this example, the molar ratio ([NCO]/[OH]) was calculated from the amount of OH (the number of moles of hydroxyl groups in the acrylic polymer A1) and the amount of NCO (the number of moles of isocyanate groups in the isocyanate compound) in the pressure-sensitive adhesive layer. , which was 0.008.
<실시예 2 내지 3><Examples 2 to 3>
폴리머 B1 대신에, 폴리머 B2(실시예 2), 폴리머 B3(실시예 3)을 사용한 것 외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 각 예에 관한 아크릴계 점착제 용액을 얻었다. 이들 아크릴계 점착제 용액을 각각 사용한 것 외에는 실시예 1에 관한 보강용 필름의 제작과 마찬가지로 하여, 각 예에 관한 보강용 필름을 제작하였다.Instead of Polymer B1, polymer B2 (Example 2) and Polymer B3 (Example 3) were used, but the same procedure as in Example 1 was performed to obtain an acrylic pressure-sensitive adhesive solution according to each example. Except for using each of these acrylic pressure-sensitive adhesive solutions, it was carried out similarly to preparation of the reinforcement film concerning Example 1, and the reinforcement film concerning each example was produced.
<실시예 4 내지 7><Examples 4 to 7>
이소시아네이트 화합물 C1의 사용량을, 표 2에 나타내는 바와 같이, 아크릴계 폴리머 A1 100부에 대하여 고형분 환산으로 0.015부(실시예 4), 0.05부(실시예 5), 0.20부(실시예 6), 0.60부(실시예 7)로 변경한 것 외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 각 예에 관한 아크릴계 점착제 용액을 얻었다. 이들 아크릴계 점착제 용액을 각각 사용한 것 외에는 실시예 1에 관한 보강용 필름의 제작과 마찬가지로 하여, 각 예에 관한 보강용 필름을 제작하였다.As shown in Table 2, the amount of isocyanate compound C1 used was 0.015 part (Example 4), 0.05 part (Example 5), 0.20 part (Example 6), 0.60 part in terms of solid content with respect to 100 parts of acrylic polymer A1. Except having changed to (Example 7), it carried out similarly to Example 1, and obtained the acrylic adhesive solution concerning each case. Except for using each of these acrylic pressure-sensitive adhesive solutions, it was carried out similarly to preparation of the reinforcement film concerning Example 1, and the reinforcement film concerning each example was produced.
<실시예 8 내지 10><Examples 8 to 10>
폴리머 B1의 사용량을, 표 2에 나타내는 바와 같이, 아크릴계 폴리머 A1 100부에 대하여 1.0부(실시예 8), 3.0부(실시예 9), 6.0부(실시예 10)로 변경한 것 외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 각 예에 관한 아크릴계 점착제 용액을 얻었다. 이들 아크릴계 점착제 용액을 각각 사용한 것 외에는 실시예 1에 관한 보강용 필름의 제작과 마찬가지로 하여, 각 예에 관한 보강용 필름을 제작하였다.As shown in Table 2, the amount of polymer B1 used was changed to 1.0 part (Example 8), 3.0 part (Example 9), and 6.0 part (Example 10) with respect to 100 parts of acrylic polymer A1. It carried out similarly to 1, and the acrylic adhesive solution concerning each case was obtained. Except for using each of these acrylic pressure-sensitive adhesive solutions, it was carried out similarly to preparation of the reinforcement film concerning Example 1, and the reinforcement film concerning each example was produced.
<실시예 11><Example 11>
아크릴계 폴리머 A1 대신에 아크릴계 폴리머 A2를 사용한 것 외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 본 예에 관한 아크릴계 점착제 용액을 얻었다. 얻어진 아크릴계 점착제 용액을 사용한 것 외에는 실시예 1에 관한 보강용 필름의 제작과 마찬가지로 하여, 본 예에 관한 보강용 필름을 제작하였다.An acrylic adhesive solution according to this example was obtained in the same manner as in Example 1 except that acrylic polymer A2 was used instead of acrylic polymer A1. A reinforcement film according to this example was produced in the same manner as in the preparation of the reinforcement film according to Example 1 except that the obtained acrylic pressure-sensitive adhesive solution was used.
<실시예 12><Example 12>
아크릴계 폴리머 A1 대신에 아크릴계 폴리머 A3을 사용하고, 가교제로서, 이소시아네이트 화합물 C2(상품명 「타케네이트 D110N」, 미쓰이 가가쿠사제)를, 아크릴계 폴리머 A3 100부에 대하여 고형분 환산으로 0.07부 사용한 것 외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 본 예에 관한 아크릴계 점착제 용액을 얻었다. 얻어진 아크릴계 점착제 용액을 사용한 것 외에는 실시예 1에 관한 보강용 필름의 제작과 마찬가지로 하여, 본 예에 관한 보강용 필름을 제작하였다.Example except that acrylic polymer A3 was used instead of acrylic polymer A1, and 0.07 part of isocyanate compound C2 (trade name "Takenate D110N", manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) was used as a crosslinking agent in terms of solid content with respect to 100 parts of acrylic polymer A3. In the same manner as in 1, an acrylic pressure-sensitive adhesive solution according to this example was obtained. A reinforcement film according to this example was produced in the same manner as in the preparation of the reinforcement film according to Example 1 except that the obtained acrylic pressure-sensitive adhesive solution was used.
<실시예 13><Example 13>
이소시아네이트 화합물 C2의 사용량을, 표 2에 나타내는 바와 같이, 아크릴계 폴리머 A3 100부에 대하여 고형분 환산으로 0.09부로 변경한 것 외에는 실시예 12와 마찬가지로 하여, 본 예에 관한 아크릴계 점착제 용액을 얻었다. 얻어진 아크릴계 점착제 용액을 사용한 것 외에는 실시예 1에 관한 보강용 필름의 제작과 마찬가지로 하여, 본 예에 관한 보강용 필름을 제작하였다.As shown in Table 2, the amount of isocyanate compound C2 used was changed to 0.09 part in terms of solid content with respect to 100 parts of acrylic polymer A3, and the acrylic adhesive solution according to this example was obtained in the same manner as in Example 12. A reinforcement film according to this example was produced in the same manner as in the preparation of the reinforcement film according to Example 1 except that the obtained acrylic pressure-sensitive adhesive solution was used.
<비교예 1 내지 2><Comparative Examples 1 to 2>
폴리머 B1 대신에 폴리머 B5(비교예 1), 폴리머 B6(비교예 2)을 사용한 것 외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 각 예에 관한 아크릴계 점착제 용액을 얻었다. 이들 아크릴계 점착제 용액을 각각 사용한 것 외에는 실시예 1에 관한 보강용 필름의 제작과 마찬가지로 하여, 각 예에 관한 보강용 필름을 제작하였다.Except for using Polymer B5 (Comparative Example 1) and Polymer B6 (Comparative Example 2) instead of Polymer B1, acrylic adhesive solutions related to each example were obtained in the same manner as in Example 1. Except for using each of these acrylic pressure-sensitive adhesive solutions, it was carried out similarly to preparation of the reinforcement film concerning Example 1, and the reinforcement film concerning each example was produced.
<비교예 3><Comparative Example 3>
아크릴계 폴리머 A1 대신에 아크릴계 폴리머 A4를 사용하고, 가교제로서, 이소시아네이트 화합물 C2(상품명 「타케네이트 D110N」, 미쓰이 가가쿠사제)를, 아크릴계 폴리머 A4 100부에 대하여 고형분 환산으로 0.50부 사용한 것 외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 본 예에 관한 아크릴계 점착제 용액을 얻었다. 얻어진 아크릴계 점착제 용액을 사용한 것 외에는 실시예 1에 관한 보강용 필름의 제작과 마찬가지로 하여, 본 예에 관한 보강용 필름을 제작하였다.Example except that acrylic polymer A4 was used instead of acrylic polymer A1, and 0.50 part of isocyanate compound C2 (trade name "Takenate D110N", manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) was used as a crosslinking agent in terms of solid content with respect to 100 parts of acrylic polymer A4. In the same manner as in 1, an acrylic pressure-sensitive adhesive solution according to this example was obtained. A reinforcement film according to this example was produced in the same manner as in the preparation of the reinforcement film according to Example 1 except that the obtained acrylic pressure-sensitive adhesive solution was used.
<비교예 4 내지 5><Comparative Examples 4 to 5>
이소시아네이트 화합물 C2의 사용량을, 표 2에 나타내는 바와 같이, 아크릴계 폴리머 A4 100부에 대하여 고형분 환산으로 1.10부(비교예 4), 2.50부(비교예 5)로 변경한 것 외에는 비교예 3과 마찬가지로 하여, 각 예에 관한 아크릴계 점착제 용액을 얻었다. 이들 아크릴계 점착제 용액을 각각 사용한 것 외에는 실시예 1에 관한 보강용 필름의 제작과 마찬가지로 하여, 각 예에 관한 보강용 필름을 제작하였다.As shown in Table 2, the amount of isocyanate compound C2 used was changed to 1.10 parts (Comparative Example 4) and 2.50 parts (Comparative Example 5) in terms of solid content with respect to 100 parts of acrylic polymer A4. , The acrylic pressure-sensitive adhesive solution for each case was obtained. Except for using each of these acrylic pressure-sensitive adhesive solutions, it was carried out similarly to preparation of the reinforcement film concerning Example 1, and the reinforcement film concerning each example was produced.
<실시예 14><Example 14>
폴리머 B1 대신에 폴리머 B4를 사용한 것 외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 본 예에 관한 아크릴계 점착제 용액을 얻었다. 얻어진 아크릴계 점착제 용액을 사용한 것 외에는 실시예 1에 관한 보강용 필름의 제작과 마찬가지로 하여, 본 예에 관한 보강용 필름을 제작하였다.Except having used polymer B4 instead of polymer B1, it carried out similarly to Example 1, and obtained the acrylic adhesive solution concerning this example. A reinforcement film according to this example was produced in the same manner as in the preparation of the reinforcement film according to Example 1 except that the obtained acrylic pressure-sensitive adhesive solution was used.
<평가><evaluation>
[표면 탄성률][Surface elastic modulus]
각 예에 관한 보강용 필름에 대해, 50℃에서 1일간 에이징을 행하여, 표면 탄성률의 측정을 실시하였다. 점착면을 보호하는 박리 라이너를 박리하고, 나노인덴터 장치(Hysitron Inc.제 Triboindenter)를 사용하여, 점착제층 표면에, 압입 깊이 6㎛까지 압자를 압입하고, 상기 나노인덴터에 의한 측정에 의해 최대 하중(Pmax)[GPa/㎜2]을 얻었다. 이것을, 식:About the reinforcing film concerning each case, aging was performed at 50 degreeC for 1 day, and the surface elastic modulus was measured. The release liner protecting the adhesive surface is peeled off, and an indenter is pushed into the surface of the adhesive layer to a depth of 6 μm using a nanoindenter device (Triboindenter manufactured by Hysitron Inc.). The maximum load (Pmax) [GPa/mm 2 ] was obtained. To this, the expression:
표면 경도[㎬]=Pmax/ASurface hardness [㎬]=Pmax/A
에 대입하여, 표면 경도를 산출하고, [㎪] 단위로 환산하여, 23℃에서의 표면 탄성률(23℃ 표면 탄성률)로서 기록하였다. 측정 조건은 하기와 같다. 또한, 상기 식 중, A는 압자의 접촉 투영 면적[㎜2]이다., the surface hardness was calculated, converted into [kPa] units, and recorded as the surface elastic modulus at 23°C (surface elastic modulus at 23°C). Measurement conditions are as follows. In addition, in the said formula, A is the contact projected area [ mm2 ] of an indenter.
(측정 조건)(Measuring conditions)
압자 어프로치 속도: 5㎛/sIndenter approach speed: 5 μm/s
최대 변위: 6㎛Maximum displacement: 6㎛
압입 속도: 5㎛/sIndentation speed: 5 μm/s
빼기 속도: 5㎛/sSubtraction speed: 5 μm/s
사용 압자: Conical(구형 압자: 곡률 반경 10㎛)Used indenter: Conical (spherical indenter:
측정 방법: 단일 압입 측정Measurement method: single indentation measurement
측정 온도: 실온(23℃)Measurement temperature: room temperature (23 ° C)
[벌크 탄성률 G' 및 tanδ][Bulk modulus G' and tanδ]
편면에 실리콘 처리를 실시한 두께 75㎛의 폴리에스테르 수지로 이루어지는 박리 라이너 R1(상품명 「다이어포일 MRF75」, 미쓰비시 케미컬사제)을 준비하고, 그 실리콘 처리면에, 각 예에 관한 아크릴계 점착제 용액을 도포하고, 130℃에서 1분간의 조건에서 건조시킴으로써, 두께 25㎛의 점착제층을 형성하였다. 이어서, 얻어진 점착제층의 표면에, 편면에 실리콘 처리를 실시한 두께 75㎛의 폴리에스테르 수지로 이루어지는 박리 라이너 R2(상품명 「다이어포일 MRE75」, 미쓰비시 케미컬사제)를, 그 실리콘 처리면이 점착제층측이 되도록 하여 피복하고, 50℃에서 1일간 에이징을 행하였다.A release liner R1 made of a polyester resin having a thickness of 75 μm and having one side treated with silicon was prepared (trade name “Diafoil MRF75”, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), and the acrylic adhesive solution according to each example was applied to the siliconized side. , by drying under conditions of 130 ° C. for 1 minute, a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 25 μm was formed. Next, release liner R2 (trade name "Diafoil MRE75", manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) made of a polyester resin having a thickness of 75 μm subjected to silicone treatment on one side was applied to the surface of the obtained pressure-sensitive adhesive layer, so that the silicone-treated surface was on the pressure-sensitive adhesive layer side. and coated, and aged at 50°C for 1 day.
얻어진 점착제층만을 빼내고, 적층하여 약 1㎜의 두께로 하고, 이것을 φ8㎜로 펀칭하여, 원주상의 펠릿을 제작하여 측정용 샘플로 하였다.Only the obtained pressure-sensitive adhesive layer was taken out and laminated to a thickness of about 1 mm, and this was punched out to φ 8 mm to prepare a cylindrical pellet, which was used as a sample for measurement.
상기 측정 샘플을 φ8㎜ 패럴렐 플레이트의 지그에 고정하고, 동적 점탄성 측정 장치(티·에이·인스트루먼트사제 「ARES」)에 의해, 이하의 조건에서 저장 탄성률 G', 손실 탄성률 G" 및 손실 정접 tanδ를 측정하고, 23℃에서의 저장 탄성률 G'23[㎪], 80℃에서의 저장 탄성률 G'80[㎪] 및 80℃에서의 tanδ(80℃에서의 손실 탄성률 G"80/80℃에서의 저장 탄성률 G'80)를 구하였다.The measurement sample was fixed to a jig of a φ8 mm parallel plate, and the storage modulus G', loss modulus G" and loss tangent tanδ were measured under the following conditions by a dynamic viscoelasticity measuring device ("ARES" manufactured by TA Instruments). Measured, storage modulus G' 23 [㎪] at 23 ° C, storage modulus G' 80 [㎪] at 80 ° C, and tanδ (loss modulus G at 80 ° C) storage at 80 / 80 ° C Elastic modulus G' 80 ) was obtained.
·측정 모드: 전단 모드・Measurement Mode: Shear Mode
·온도 범위: -70℃ 내지 200℃Temperature range: -70°C to 200°C
·승온 속도: 5℃/min・Temperature increase rate: 5℃/min
·주파수: 1Hz・Frequency: 1Hz
또한, 저장 탄성률 G'는, 재료가 변형될 때 탄성 에너지로서 저장되는 부분에 상당하고, 경도의 정도를 나타내는 지표이다. 손실 탄성률 G"는, 재료가 변형될 때 내부 마찰 등에 의해 산일되는 손실 에너지 부분에 상당하고, 점성의 정도를 나타낸다.Further, the storage modulus G' corresponds to a portion that is stored as elastic energy when the material is deformed, and is an index indicating the degree of hardness. The loss elastic modulus G" corresponds to the portion of energy lost due to internal friction or the like when the material is deformed, and indicates the degree of viscosity.
[초기 점착력][Initial Adhesion]
각 예에 관한 보강용 필름에 대해, 50℃에서 1일간 에이징을 행하고, 박리 라이너째 폭 25㎜×길이 140㎜로 커트한 것을 측정 샘플로 하였다. 상기 측정 샘플로부터 박리 라이너를 박리하여 점착면을 노출시키고, 피착체로서의 스테인리스 강판(SUS304BA판)에 2kg 핸드 롤러를 1왕복시켜 압착하였다. 이와 같이 하여 피착체에 압착한 측정 샘플을, 23℃의 환경 온도 하에 30분간 방치한 후, 인장 시험기(시마즈 세이사쿠쇼사제, 상품명 「오토그래프 AG-Xplus HS 6000㎜/min 고속 모델(AG-50NX plus)」)를 사용하여, 박리 각도 180도, 박리 속도(인장 속도) 300㎜/분의 조건에서, 상기 피착체로부터 보강용 필름을 박리하였을 때의 하중을 측정하고, 측정 시의 평균 하중을 초기 점착력[gf/25㎜]으로서 기록하였다.About the reinforcing film concerning each case, aging was performed at 50 degreeC for 1 day, and what cut to the peeling liner width 25mm x length 140mm was made into the measurement sample. The release liner was peeled off from the measurement sample to expose the adhesive surface, and a 2 kg hand roller was reciprocated once to compress the stainless steel plate (SUS304BA plate) as an adherend. After the measurement sample pressed against the adherend in this way was left at an environmental temperature of 23° C. for 30 minutes, a tensile tester (manufactured by Shimadzu Corporation, trade name “Autograph AG-Xplus HS 6000 mm/min high-speed model (AG- 50NX plus)"), under the conditions of a peeling angle of 180 degrees and a peeling speed (tensile speed) of 300 mm/min, the load when the reinforcing film was peeled from the adherend was measured, and the average load at the time of measurement was measured. was recorded as the initial tack [gf/25 mm].
[가열 후 점착력][Adhesion after heating]
각 예에 관한 보강용 필름에 대해, 상기 초기 점착력 측정과 마찬가지로 하여, 측정 샘플을 준비하여, 피착체에 압착하였다. 그리고, 상기 피착체에 압착한 측정 샘플을 60℃의 환경 온도 하에서 60분간 가열하였다. 그 후, 23℃의 환경 온도 하에 30분간 방치하고, 인장 시험기(시마즈 세이사쿠쇼사제, 상품명 「오토그래프 AG-Xplus HS 6000㎜/min 고속 모델(AG-50NX plus)」)를 사용하여, 박리 각도 180도, 박리 속도(인장 속도) 300㎜/분의 조건에서, 상기 피착체로부터 보강용 필름을 박리하였을 때의 하중을 측정하고, 측정 시의 평균 하중을 가열 후 점착력[gf/25㎜]으로서 기록하였다.About the reinforcing film concerning each case, it carried out similarly to the said initial adhesive force measurement, prepared the measurement sample, and crimped|bonded to the adherend. Then, the measurement sample pressed against the adherend was heated for 60 minutes at an environmental temperature of 60°C. After that, it was allowed to stand for 30 minutes at an environmental temperature of 23 ° C., and peeling was performed using a tensile tester (manufactured by Shimadzu Corporation, trade name “Autograph AG-Xplus HS 6000 mm/min high-speed model (AG-50NX plus)”) Under conditions of an angle of 180 degrees and a peeling speed (tensile speed) of 300 mm/min, the load when the reinforcing film was peeled off from the adherend was measured, and the average load at the time of measurement was measured as adhesive strength after heating [gf/25 mm]. recorded as
[굴곡 유지 시험][Bending retention test]
각 예에 관한 보강용 필름에 대해, 50℃에서 1일간 에이징을 행한 후, 박리 라이너를 박리하고, 노출된 점착면에, 두께 25㎛의 폴리이미드 기재(상품명 「유필렉스 25S」, 우베 고산사제)를 접합하고, 60℃에서 60분간 가열하여, 밀착시켰다. 이어서, 얻어진 측정 샘플(적층체)을, 25㎛ 기재측을 내측으로 하여 φ6㎜가 되도록 꺾어 구부린 상태에서 고정하고, 80℃에서 15시간의 가열을 행하였다. 그리고, 실온(23℃)에 방치하고, 충분히 식은 것을 확인하고 나서, 상기 측정 샘플의 꺾어 구부림 상태의 고정을 해제하고, 고정 해제로부터 10분 이내에, 분도기를 사용하여, 꺾여 구부러진 상기 측정 샘플의 굴곡 각도[°]를 측정하여, 굴곡 회복성을 평가하였다. 또한, 굴곡 각도는, 측정 샘플의 개방 각도(꺾여 구부러진 상태로부터 측정 샘플이 개방되는 측의 각도)이며, 180°에 가까울수록 우수한 굴곡 회복성을 갖고, 굴곡 각도가 0°에 가까울수록 굴곡 회복성은 떨어진다.The reinforcing film according to each case was aged at 50°C for one day, then the release liner was peeled off, and a polyimide base material having a thickness of 25 μm (trade name “Upilex 25S” manufactured by Ube Kosan Co., Ltd.) was applied to the exposed adhesive surface. ) were bonded and heated at 60°C for 60 minutes to bring them into close contact. Next, the obtained measurement sample (laminated body) was fixed with the 25 μm substrate side inside, bent so as to be φ 6 mm, and heated at 80° C. for 15 hours. And, after leaving it at room temperature (23 ° C.) and confirming that it has sufficiently cooled, the measurement sample is released from the bending state, and within 10 minutes from release, using a protractor, the bending of the measurement sample bent The angle [°] was measured to evaluate bending recovery. In addition, the bending angle is the opening angle of the measurement sample (the angle on the side where the measurement sample is opened from the bent state), and the closer to 180 °, the better the bending recovery, and the closer the bending angle is to 0 °, the better the bending recovery It falls.
계속해서, 굴곡 유지력의 평가로서, 측정 샘플의 굴곡부에 있어서의 「박리」의 유무를 눈으로 보아 확인하고, 「박리」가 보이지 않은 경우를 「○」로 평가하고, 「박리」가 보인 경우를 「×」로 평가하였다.Subsequently, as evaluation of the bending holding force, the presence or absence of "peeling" in the bent portion of the measurement sample was visually confirmed, the case where "peeling" was not observed was evaluated as "○", and the case where "peeling" was observed was evaluated. It was evaluated as "x".
실시예 1 내지 13, 비교예 1 내지 5에 관한 보강용 필름에 대한 평가 결과를 표 2에 나타낸다. 표 2에는, 각 예에 관한 점착제층의 조성의 개략도 아울러 나타낸다.Table 2 shows the evaluation results of the reinforcing films of Examples 1 to 13 and Comparative Examples 1 to 5. In Table 2, the outline of the composition of the adhesive layer concerning each case is also shown together.
또한, 실시예 14에 관한 보강용 필름에 관한 굴곡 회복성 및 회복 유지력의 평가 결과를, 실시예 14의 개략(점착제층의 조성, 특성)과 함께 표 3에 나타낸다.Table 3 shows the evaluation results of the bending recovery and recovery holding power of the reinforcing film according to Example 14 together with the outline of Example 14 (composition and characteristics of the pressure-sensitive adhesive layer).
표 2에 나타내어지는 바와 같이, 실시예 1 내지 13에 관한 점착제는, 폴리머(A)와 폴리머(B)를 포함하는 것이며, 상기 폴리머(B)의 Tg가 -20℃ 내지 5℃의 범위 내였다. 이들 예에 관한 보강용 필름은, 폴리머(B)의 Tg가 -20℃ 내지 5℃의 범위 외였던 비교예 1 내지 2와 비교하여, 낮은 초기 점착력과 가열 후 점착력 상승을 보다 잘 양립시키는 것이었다. 또한, 실시예 1 내지 13에 관한 보강용 필름은, 점착제층의 23℃ 표면 탄성률이 1 내지 20㎪의 범위 내이며, 굴곡 회복성 및 굴곡 유지력이 양호하였다. 한편, 상기 23℃ 표면 탄성률이 1 내지 20㎪의 범위 외였던 비교예 3 내지 5에서는, 굴곡 유지 시험에 있어서 박리가 보였다.As shown in Table 2, the pressure-sensitive adhesives according to Examples 1 to 13 contained polymer (A) and polymer (B), and the Tg of the polymer (B) was within the range of -20 ° C to 5 ° C. . The reinforcing films related to these examples better compatible the low initial adhesive force and the increase in adhesive force after heating, compared to Comparative Examples 1 and 2 in which the Tg of the polymer (B) was outside the range of -20 ° C to 5 ° C. Further, the reinforcing films according to Examples 1 to 13 had a 23°C surface elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer in the range of 1 to 20 kPa, and had good bending recovery and bending holding power. On the other hand, in Comparative Examples 3 to 5 in which the 23°C surface modulus was out of the range of 1 to 20 kPa, peeling was observed in the bending holding test.
보다 구체적으로는, 실시예 1 내지 3의 대비로부터, 폴리머(B)의 Tg가 -20℃ 내지 5℃의 범위에서 높을수록, 가열 후 점착력 상승을 실현하면서, 초기 점착력이 낮아져, 초기의 경박리성이 개선되는 경향이었다. 한편, 폴리머(B)의 Tg가 -20℃ 미만이었던 비교예 1에서는, 초기 점착력이 높아, 경박리성이 떨어졌다. 또한, 폴리머(B)의 Tg가 5℃ 초과였던 비교예 2에서는, 가열 후의 점착력 상승량이 작았다. 또한, 실시예 4 내지 7의 대비로부터, 점착제층의 23℃ 표면 탄성률이 1 내지 20㎪의 범위에서 높을수록, 굴곡 회복성은 개선되는 경향이 확인되고, 초기 점착력 및 가열 후 점착력은 낮아지는 경향이었다. 실시예 5 내지 7은, 실시예 4보다도 굴곡 회복성이 우수하고, 23℃ 표면 탄성률은 2㎪ 이상이며, 80℃에서의 tanδ80이 0.10 내지 0.60의 범위 내였다. 또한, 실시예 7에서는, 표면 탄성률, 벌크 탄성률 모두 높은 값이 되어, 가열 후 점착력 상승이 실시예 4 내지 6과 비교하여 상대적으로 낮은 결과가 되었다. 또한, 실시예 4 내지 6에 있어서, 점착제층의 23℃ 벌크 탄성률 G'23의 차는 보이지 않았다. 또한, 실시예 1 내지 3, 5에 있어서의 80℃ 벌크 탄성률 G'80은 동등하였다. 실시예 1 내지 7에 관하여, 23℃ 표면 탄성률은, 벌크 탄성률보다도 굴곡 회복성과 높은 상관 관계였다고 할 수 있다. 또한, 실시예 1 내지 7에 있어서, 초기 점착력, 가열 후 점착력, 굴곡 회복성 및 굴곡 유지력이 보다 밸런스 좋게 개선된 실시예 1 내지 3, 5 내지 6의 점착제층에 있어서의 이소시아네이트기와 수산기의 몰비([NCO]/[OH])는 0.002 내지 0.03의 범위 내였다.More specifically, from the comparison with Examples 1 to 3, the higher the Tg of the polymer (B) in the range of -20 ° C to 5 ° C, the lower the initial adhesive force while realizing the adhesive force increase after heating, and the initial easy peelability There was a tendency for this to improve. On the other hand, in Comparative Example 1 in which the Tg of the polymer (B) was less than -20°C, the initial adhesive force was high and the easy peelability was poor. Further, in Comparative Example 2 in which the Tg of the polymer (B) was more than 5°C, the increase in adhesive force after heating was small. In addition, from the comparison of Examples 4 to 7, the higher the 23 ° C. surface modulus of the pressure-sensitive adhesive layer was in the range of 1 to 20 kPa, the bending recovery tended to improve, and the initial adhesive force and the adhesive force after heating tended to decrease. . Examples 5 to 7 were superior in bending recovery properties to Example 4, the 23°C surface modulus was 2 kPa or more, and the tanδ 80 at 80°C was in the range of 0.10 to 0.60. Further, in Example 7, both the surface modulus and the bulk modulus became high values, resulting in a relatively low increase in adhesive force after heating compared to Examples 4 to 6. In Examples 4 to 6, no difference was found in the 23°C bulk modulus G' 23 of the pressure-sensitive adhesive layer. In addition, the 80 degreeC bulk modulus G'80 in Examples 1-3 and 5 was the same. Regarding Examples 1 to 7, it can be said that the 23°C surface modulus had a higher correlation with the bending recovery than the bulk modulus. Further, in Examples 1 to 7, the molar ratio of isocyanate groups and hydroxyl groups in the pressure-sensitive adhesive layers of Examples 1 to 3 and 5 to 6 in which the initial adhesive force, the adhesive force after heating, the bending recovery and the bending holding force were improved in a more balanced manner ( [NCO]/[OH]) was in the range of 0.002 to 0.03.
또한, 실시예 8 내지 10의 대비로부터, 폴리머(B)의 사용량이 증가할수록, 점착력이 저하되는 경향이 확인되었다. 폴리머(B)의 사용량이, 폴리머(A) 100부에 대하여 0.5 내지 5부의 범위 내였던 실시예 8 내지 9에서는, 초기 점착력이 400gf/25㎜ 미만, 또한 가열 후 점착력이 500gf/25㎜ 이상이며, 첩부 초기의 경박리성과 가열 후 점착력 상승을 보다 잘 양립시켰다. 또한, 폴리머(B)의 사용량이 많아지면, 23℃ 표면 탄성률이 높아져, 굴곡 회복성이 저하되는 경향이었다. 또한, 실시예 11 내지 13의 결과로부터, 점착제의 폴리머(A)의 종류나 가교제종을 변경해도, 원하는 효과가 달성되는 것이 확인되었다.In addition, from the comparison of Examples 8 to 10, it was confirmed that the adhesive strength decreased as the amount of polymer (B) increased. In Examples 8 to 9 in which the amount of polymer (B) used was within the range of 0.5 to 5 parts per 100 parts of polymer (A), the initial adhesive force was less than 400 gf/25 mm and the adhesive force after heating was 500 gf/25 mm or more. , The easy peelability at the initial stage of attachment and the increase in adhesive strength after heating were more compatible. In addition, as the amount of polymer (B) used increased, the 23°C surface elastic modulus increased and the bending recovery tended to decrease. In addition, from the results of Examples 11 to 13, it was confirmed that the desired effect was achieved even if the type of polymer (A) or crosslinking agent type of the pressure-sensitive adhesive was changed.
또한, 표 3에 나타내어지는 바와 같이, 점착제층의 23℃ 표면 탄성률이 1 내지 20㎪의 범위 내이며, Tg가 -1.6℃인 폴리머(B)를 사용한 실시예 14에 있어서도, 굴곡 회복성 및 굴곡 유지력이 양립되는 것이 확인되었다. 표 중에는 특별히 나타내지는 않지만, 실시예 14에 관한 보강용 필름은, 초기 점착력이 400gf/25㎜ 미만(구체적으로는 200gf/25㎜ 미만)이며, 가열 후 점착력의 상승량(점착력 상승비N60/N23)이 7(배)이며, 여기에 개시되는 기술의 효과를 실현하는 것이었다.Further, as shown in Table 3, even in Example 14 using the polymer (B) having a surface modulus of elasticity at 23°C of the pressure-sensitive adhesive layer in the range of 1 to 20 kPa and a Tg of -1.6°C, bending recovery and bending It was confirmed that the holding force was compatible. Although not shown in particular in the table, the reinforcing film according to Example 14 had an initial adhesive force of less than 400 gf/25 mm (specifically, less than 200 gf/25 mm), and an increase in adhesive force after heating (adhesive force increase ratio N 60 /N 23 ) is 7 (times), and the effect of the technique disclosed herein was realized.
이상, 본 발명의 구체예를 상세하게 설명하였지만, 이들은 예시에 지나지 않고, 청구범위를 한정하는 것은 아니다. 청구범위에 기재된 기술에는, 이상에 예시한 구체예를 다양하게 변형, 변경한 것이 포함된다.As mentioned above, although the specific example of this invention was demonstrated in detail, these are only examples and do not limit the claim. The technology described in the claims includes various modifications and changes of the specific examples exemplified above.
1, 2, 3: 보강용 필름
10: 지지 기재
10A: 제1 면
10B: 제2 면
21: 점착제층(제1 점착제층)
21A: 점착면(제1 점착면)
21B: 점착면(제2 점착면)
22: 점착제층(제2 점착제층)
22A: 점착면(제2 점착면)
31, 32: 박리 라이너
100, 200, 300: 박리 라이너 구비 보강용 필름1, 2, 3: reinforcement film
10: supporting substrate
10A: first side
10B: second side
21: pressure-sensitive adhesive layer (first pressure-sensitive adhesive layer)
21A: adhesive surface (first adhesive surface)
21B: adhesive surface (second adhesive surface)
22: pressure-sensitive adhesive layer (second pressure-sensitive adhesive layer)
22A: adhesive surface (second adhesive surface)
31, 32: release liner
100, 200, 300: Reinforcing film with release liner
Claims (7)
상기 점착제층은, 폴리머(A)와, 폴리머(B)를 포함하고,
상기 폴리머(B)는, 폴리오르가노실록산 골격을 갖는 모노머 단위와, (메트)아크릴계 모노머 단위를 포함하고,
상기 점착제층은, 23℃에서의 표면 탄성률이 1 내지 20㎪이고,
상기 폴리머(B)의 유리 전이 온도 TB가 -20℃ 내지 5℃인, 보강용 필름.A reinforcing film having an adhesive layer,
The pressure-sensitive adhesive layer includes a polymer (A) and a polymer (B),
The polymer (B) includes a monomer unit having a polyorganosiloxane skeleton and a (meth)acrylic monomer unit,
The pressure-sensitive adhesive layer has a surface modulus of elasticity of 1 to 20 kPa at 23 ° C,
The glass transition temperature T B of the polymer (B) is -20 ° C to 5 ° C, a reinforcing film.
상기 점착제층은, 23℃에서의 벌크 탄성률 G'23이 10 내지 200㎪이고, 80℃에서의 벌크 탄성률 G'80이 5 내지 100㎪이며, 또한 80℃에서의 tanδ80이 0.10 내지 0.60인, 보강용 필름.According to claim 1,
The pressure-sensitive adhesive layer has a bulk modulus of elasticity G' 23 at 23 ° C. of 10 to 200 kPa, a bulk modulus of elasticity G' 80 at 80 ° C. of 5 to 100 kPa, and tan δ 80 at 80 ° C. of 0.10 to 0.60, reinforcement film.
상기 폴리머(A)는 아크릴계 폴리머인, 보강용 필름.According to claim 1 or 2,
The polymer (A) is an acrylic polymer, a reinforcing film.
상기 점착제층 중의 상기 폴리머(B)의 함유량은, 상기 폴리머(A) 100중량부에 대하여 0.5 내지 5중량부인, 보강용 필름.According to any one of claims 1 to 3,
The content of the polymer (B) in the pressure-sensitive adhesive layer is 0.5 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer (A).
상기 점착제층에 포함되는 이소시아네이트기와 수산기의 몰비([NCO]/[OH])는 0.002 내지 0.03인, 보강용 필름.According to any one of claims 1 to 4,
The molar ratio ([NCO]/[OH]) of the isocyanate group and the hydroxyl group included in the pressure-sensitive adhesive layer is 0.002 to 0.03, a reinforcing film.
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Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6366199B2 (en) | 1981-03-31 | 1988-12-20 | Snow Brand Milk Prod Co Ltd | |
JPS6366200B2 (en) | 1981-11-06 | 1988-12-20 | Sankyo Kk | |
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JP2017095659A (en) | 2015-11-27 | 2017-06-01 | 三星エスディアイ株式会社Samsung SDI Co., Ltd. | Adhesive composition, adhesive sheet and image display device |
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Family Cites Families (8)
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---|---|---|---|---|
JP4919730B2 (en) * | 2006-08-16 | 2012-04-18 | 日東電工株式会社 | Double-sided adhesive tape or sheet and liquid crystal display device |
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JP6496066B1 (en) * | 2017-11-20 | 2019-04-03 | 日東電工株式会社 | Reinforcement film |
KR20200094082A (en) * | 2017-12-28 | 2020-08-06 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | Manufacturing method of laminate |
JP7208782B2 (en) * | 2018-12-14 | 2023-01-19 | 日東電工株式会社 | Polarizing film with adhesive layer |
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6366199B2 (en) | 1981-03-31 | 1988-12-20 | Snow Brand Milk Prod Co Ltd | |
JPS6366200B2 (en) | 1981-11-06 | 1988-12-20 | Sankyo Kk | |
JP6373458B2 (en) | 2013-04-15 | 2018-08-15 | 日東電工株式会社 | Adhesive composition, adhesive layer, and adhesive sheet |
JP2016108555A (en) | 2014-11-28 | 2016-06-20 | 三星エスディアイ株式会社Samsung SDI Co., Ltd. | Adhesive for optical film, adhesive layer for optical film, optical member and image display device |
JP2017095657A (en) | 2015-11-27 | 2017-06-01 | 三星エスディアイ株式会社Samsung SDI Co., Ltd. | Adhesive composition, adhesive layer, adhesive sheet and image display device |
JP2017095659A (en) | 2015-11-27 | 2017-06-01 | 三星エスディアイ株式会社Samsung SDI Co., Ltd. | Adhesive composition, adhesive sheet and image display device |
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