KR20150146179A - Manufacturing method of touch panel sensor - Google Patents

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KR20150146179A
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Abstract

A manufacturing method of a touch panel sensor, which is arranged in an upper part of a display and detects a contact position of an object, comprises the following steps: forming a transparent conductive layer on an insulating substrate using a conductive fiber solution; forming a transparent insulating pattern corresponding to a transparent conductive pattern formed from the transparent conductive layer on the transparent conductive layer; and ionizing a conductive fiber of an area excluding a part protected by the transparent insulating pattern to electrically separate from each other by using the transparent insulating pattern as a mask, and forming the transparent conductive pattern from the transparent conductive layer of the part protected by the transparent insulating pattern.

Description

터치패널센서의 제조방법{MANUFACTURING METHOD OF TOUCH PANEL SENSOR}Technical Field [0001] The present invention relates to a manufacturing method of a touch panel sensor,

본 발명은 디스플레이 상에 접근하는 대상체의 접촉 위치를 감지할 수 있는 터치패널센서의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a touch panel sensor capable of sensing a contact position of an object approaching a display.

도 1은 종래의 정전용량 방식의 터치패널센서를 설명하기 위한 사시도이다. 1 is a perspective view illustrating a conventional capacitive touch panel sensor.

도 1을 참조하면, 종래의 터치패널센서는 하부 절연시트(10) 및 상부 절연시트(20)가 접합된다. 하부 절연시트(10)의 상면과 상부 절연시트(20)의 저면에는 각각 하부 ITO전극(30)과 상부 ITO전극(40)이 상호 수직하게 배열되어 있다.Referring to FIG. 1, a conventional touch panel sensor has a lower insulating sheet 10 and an upper insulating sheet 20 bonded to each other. The lower ITO electrode 30 and the upper ITO electrode 40 are vertically arranged on the upper surface of the lower insulating sheet 10 and the lower surface of the upper insulating sheet 20, respectively.

상술한 터치패널센서는 하부 ITO전극(30) 및 상부 ITO전극(40)의 각 교차지점마다 각 교차지점의 면적에 대응하는 커패시턴스 값이 존재하는데, 신체 일부가 근접하면 상부에 배치된 상부 ITO전극(40)의 면적에 신체 일부의 면적이 더해져 커패시턴스 값이 변경될 수 있다. In the above-described touch panel sensor, there is a capacitance value corresponding to the area of each intersection point at each intersection of the lower ITO electrode 30 and the upper ITO electrode 40. When a part of the body is close to the intersection, The area of the body part is added to the area of the body 40, and the capacitance value can be changed.

또한, 상부 ITO전극(40)과 외부의 회로기판(50)의 전극(52)을 전기적으로 연결하는 금속 재질의 연결선(48)이 상부 ITO전극(40)의 단부로부터 상부 절연시트(20)의 하부까지 연장되어 있으며, 하부 ITO전극(30) 또한 별도의 연결선에 의해서 회로기판(50)과 연결된다.A connection line 48 made of a metal material for electrically connecting the upper ITO electrode 40 and the electrode 52 of the external circuit board 50 extends from the end of the upper ITO electrode 40 to the upper surface of the upper insulating sheet 20 And the lower ITO electrode 30 is connected to the circuit board 50 by a separate connection line.

일반적으로 금속으로 제공되는 연결선(48)은 빛이 통과하지 않아 투명한 상부 절연시트(20)의 상부에서 육안으로 확인될 수 있고, 종래에는 연결선(48) 및 회로기판(50)이 육안으로 확인되지 않도록 액자 형상의 윈도우 데코레이션(65)을 갖는 별도의 강화기판(60)을 상부 절연시트(20) 상부에 배치한다.In general, the connecting line 48 provided with a metal can be visually recognized from the top of the transparent upper insulating sheet 20 because no light passes through the connecting line 48 and the circuit board 50 can be visually confirmed A separate reinforcing substrate 60 having a window decoration 65 in the form of a frame is disposed on the upper insulating sheet 20.

종래의 방법에 따르면, ITO전극(40)은 절연시트(20) 상에 ITO 박막을 형성하고, ITO 박막 상에 포토레지스트 등의 방법으로 패턴을 위한 마스크를 형성하고, 그 마스크를 이용하여 ITO 박막을 패터닝하고, 마스크를 제거함으로써 ITO 전극(40)을 형성하는 과정을 거친다. 이 과정에서 여러 번의 성막, 에칭, 세정 등의 과정을 거쳐야 하는 번거로움이 있다. According to the conventional method, the ITO electrode 40 is formed by forming an ITO thin film on the insulating sheet 20, forming a mask for the pattern on the ITO thin film by a method such as photoresist, And the ITO electrode 40 is formed by removing the mask. In this process, it is troublesome to carry out processes such as film-forming, etching, and cleaning several times.

이 후에도 번거로운 과정은 계속될 수 있다. ITO 전극(40)을 형성한 후, 다시 금속 연결선(48)을 형성하는 과정이 필요하다. 이를 위해서 역시 ITO 전극(40)이 형성된 절연기판(20) 상에 스퍼터링이나 증착 등의 방법으로 금속 박막을 형성하고, 다시 연결선(48)을 패터닝하기 위해 포토레지스트 등의 방법으로 패턴을 위한 마스크를 형성하고, 그 마스크를 이용하여 금속 박막을 패터닝하고, 다시 마스크를 제거함으로써 연결선(48)을 형성하는 과정을 거칠 수 있다.After this, the cumbersome process can continue. A process of forming the metal connecting line 48 again after forming the ITO electrode 40 is necessary. For this, a metal thin film is formed on the insulating substrate 20 on which the ITO electrode 40 is formed by a method such as sputtering or vapor deposition, and a mask for patterning is formed by photoresist or the like to pattern the connecting line 48 The metal thin film is patterned by using the mask, and the mask is removed to form the connecting line 48. In this case,

이와 같이, 매번 마스크 형성, 패터닝, 에칭, 세정 및 마스크 제거 등의 방법을 수 차례 거치게 되면, 전체적인 제조과정이 길어지는 것은 물론, 많은 과정을 거치기 때문에 불량이 발생할 확률도 같이 높아지게 된다.If the mask formation, patterning, etching, cleaning, and mask removal are performed a number of times each time, the overall manufacturing process is extended, and the probability of failure is increased because the process is performed in a lot of steps.

본 발명은 도전패턴 및 와이어패턴 형성 과정을 단순화할 수 있는 터치패널센서의 제조방법을 제공한다. The present invention provides a method of manufacturing a touch panel sensor capable of simplifying a process of forming a conductive pattern and a wire pattern.

본 발명은 얇고 균일한 두께로 도전패턴을 형성할 수 있는 터치패널센서의 제조방법을 제공한다. The present invention provides a method of manufacturing a touch panel sensor capable of forming a conductive pattern with a thin and uniform thickness.

본 발명의 예시적인 일 실시예에 따르면, 디스플레이 상부에 배치되어 대상체의 접촉위치를 감지하는 터치패널센서의 제조방법은, 도전섬유용액을 이용하여 절연기판 상에 투명 도전막을 형성하는 단계, 투명 도전막 상에 투명 도전막으로부터 형성되는 투명 도전패턴에 대응하는 투명 절연패턴을 형성하는 단계, 및 투명 절연패턴을 마스크로 이용하여 투명 절연패턴에 의해서 보호된 부분을 제외한 영역의 도전섬유가 상호 전기적으로 분리되도록 해리시키며, 투명 절연패턴에 의해서 보호된 부분의 투명 도전막으로부터 투명 도전패턴을 형성하는 단계를 포함할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a touch panel sensor disposed on a display and sensing a contact position of a target object, the method comprising: forming a transparent conductive film on an insulating substrate using a conductive fiber solution; A step of forming a transparent insulating pattern corresponding to a transparent conductive pattern formed from a transparent conductive film on the film, and a step of forming a transparent insulating pattern corresponding to the transparent conductive pattern, And forming a transparent conductive pattern from the transparent conductive film of the portion protected by the transparent insulating pattern.

또한, 투명 절연패턴을 와이어패턴보다 선행하여 형성할 수 있고, 와이어패턴을 투명 절연패턴보다 선행해서 형성하는 것도 가능하다. 구체적으로, 투명 절연패턴을 형성한 후, 투명 도전막을 그대로 유지하면서 투명 도전막 상에 투명 도전패턴과 외부와의 전기적 연결을 위한 와이어패턴을 제공할 수 있고, 투명 도전막을 그대로 유지하면서 투명 도전막 상에 투명 도전패턴과 외부와의 전기적 연결을 위한 와이어패턴을 제공한 후, 투명 절연패턴을 형성할 수도 있다. 어느 경우던지, 투명 절연패턴과 와이어패턴을 형성하고 나서 에칭이나 해리 과정을 통해서 투명 도전막으로부터 투명 도전패턴을 형성할 수 있다. Further, the transparent insulation pattern can be formed before the wire pattern, and the wire pattern can be formed before the transparent insulation pattern. Specifically, after forming the transparent insulating pattern, it is possible to provide a wire pattern for electrically connecting the transparent conductive pattern to the outside on the transparent conductive film while maintaining the transparent conductive film as it is, It is also possible to form a transparent insulating pattern after providing a transparent conductive pattern and a wire pattern for electrical connection with the outside. In either case, a transparent conductive pattern can be formed from the transparent conductive film by forming a transparent insulating pattern and a wire pattern, followed by etching or dissociation.

와이어패턴은 실버페이스트를 이용한 인쇄 방법을 통해서 제공할 수도 있지만, 특히 투명 절연패턴이 이미 형성되어 있는 상황에서는 에칭을 통해서도 와이어패턴을 제공할 수 있다. 구체적으로, 투명 도전막 및 그 상에 형성되는 투명 절연패턴을 전체적으로 덮도록 와이어층을 형성하고 나서, 설계된 와이어패턴을 위한 에칭 과정을 거쳐서 와이어패턴을 완성시킬 수 있다. 에칭 과정에서 투명 절연패턴의 하부의 투명 도전막은 그대로 보호될 수 있다. 또한, 와이어층은 도포나 인쇄 등의 방법부터 스퍼터링(sputtering)을 이용한 방법을 두루 적용할 수 있다. The wire pattern can be provided through a printing method using a silver paste, but a wire pattern can be provided through etching even in a situation where a transparent insulation pattern is already formed. Specifically, a wire layer may be formed so as to cover the transparent conductive film and the transparent insulating pattern formed thereon, and then the wire pattern may be completed through an etching process for the designed wire pattern. The transparent conductive film under the transparent insulating pattern in the etching process can be protected as it is. In addition, the wire layer can be applied by a method such as coating or printing, or a method using sputtering.

특히, 본 발명에서는 투명 도전패턴을 위하여 절연기판 상에 전체적으로 투명 도전막을 형성하기 때문에 어떠한 재질을 사용하던 균일한 두께의 투명 도전패턴을 형성할 수가 있다. 참고로, 한국등록특허 제10-1192645호에 은나노와이어를 이용하여 투명전극을 형성하는 내용이 공개되어 있으나, 은나노 섬유로 약 0.1 내지 0.5㎛ 두께의 투명 도전패턴을 형성하는 과정에서 금속섬유용액을 약 20㎛ 이상의 두께로 도포하게 되는데, 이 경우 금속섬유용액의 표면장력 등으로 인해 균일한 두께의 투명 도전패턴을 형성하는 것이 쉽지 않을 수가 있다. Particularly, in the present invention, since a transparent conductive film is entirely formed on an insulating substrate for a transparent conductive pattern, a transparent conductive pattern having a uniform thickness can be formed regardless of the material used. Korean Patent No. 10-1192645 discloses the formation of a transparent electrode using silver nano wire. However, in the process of forming a transparent conductive pattern having a thickness of about 0.1 to 0.5 탆 using silver nano fibers, It is difficult to form a transparent conductive pattern having a uniform thickness due to the surface tension of the metal fiber solution.

또한, 투명 도전패턴을 형성하기 위해서 에칭도 가능하지만 본 발명에서는 화학적 해리 방법을 사용할 수 있다. 예를 들어, 투명 도전막을 도전섬유용액을 이용하여 제공한 경우, 투명 절연패턴에 의해서 보호된 부분을 제외한 영역의 도전섬유를 상호 해리시켜 상기 투명 절연패턴에 의해서 보호된 부분을 상기 투명 도전패턴으로 형성할 수가 있다. 일 예로, 투명 절연패턴에 의해서 부분적으로 보호되는 투명 도전막을 고농도 수지 용액에 침전시킬 수 있으며, 고농도 수지 용액이 노출된 부분의 금속섬유를 해리시킬 수가 있다. 이 과정에서 투명 절연패턴 하부의 투명 도전막은 보호될 수 있고, 투명 절연패턴은 마스크로 이용될 수 있다. In addition, although etching can be performed to form a transparent conductive pattern, a chemical dissociation method can be used in the present invention. For example, when the transparent conductive film is provided by using the conductive fiber solution, the conductive fibers in the region except for the portion protected by the transparent insulating pattern are mutually dissociated to form a portion protected by the transparent insulating pattern as the transparent conductive pattern Can be formed. For example, the transparent conductive film partially protected by the transparent insulating pattern can be deposited in the high-concentration resin solution, and the metal fiber at the exposed portion of the high-concentration resin solution can be dissociated. In this process, the transparent conductive film under the transparent insulating pattern can be protected, and the transparent insulating pattern can be used as a mask.

또한, 와이어패턴을 통해서 투명 도전패턴과 외부와의 전기적 연결을 구현할 수 있는데, 투명 도전막을 그대로 유지하면서 와이어패턴을 형성한 후에 해리를 통한 투명 도전패턴을 형성하면, 와이어패턴 하부의 투명 도전막도 보호될 수 있다. When a transparent conductive pattern is formed through dissociation after forming a wire pattern while maintaining the transparent conductive film intact, a transparent conductive film under the wire pattern is also formed. Can be protected.

와이어패턴 및 투명 절연패턴이 투명 도전막 상에 형성되어 마스크로 기능을 하는 경우, 투명 절연패턴은 물론 와이어패턴의 하부에도 투명 도전막의 일부가 패턴 형상으로 잔류할 수 있으나, 여기서 투명 절연패턴 하부에 있는 투명 도전막의 일부를 전극패턴으로 정의할 수 있다. 투명 도전패턴은 요구되는 패턴의 방식에 따라 직선, 다이아몬드, 사각형, 삼각형, 그물형 등 다양한 모양으로 제공될 수 있으며, 패턴의 형상, 배열, 크기 등에 의해서 본 발명이 제한되지 않는다.When a wire pattern and a transparent insulating pattern are formed on a transparent conductive film to function as a mask, a part of the transparent conductive film may remain in a pattern shape in a lower part of the wire pattern as well as in the transparent insulating pattern, A part of the transparent conductive film having the shape of the electrode can be defined as an electrode pattern. The transparent conductive pattern may be provided in various shapes such as a linear shape, a diamond shape, a square shape, a triangle shape, a net shape, and the like, depending on the desired pattern pattern.

한편, 투명 도전막은 카본 파이버, 카본 파우더, 금속을 이용한 파우더, 도전성 잉크, 도전성 유기물질, PEDOT(폴리에틸렌디옥시티오펜), ITO, IZO, AZO(Al-doped zinc oxide), 은나노 와이어, CNT(탄소나노튜브), 그래핀(graphene), 및 카본 파우더(carbon powder) 중 적어도 어느 하나를 포함할 수도 있고, 도전섬유용액을 이용할 수도 있다. 도전섬유용액은 은나노 와이어와 같은 금속 나노 와이어(metal nano wire)에 합성수지 및 휘발성 용매(또는 물) 등을 포함하여 제공될 수 있다. On the other hand, the transparent conductive film may be formed of at least one selected from the group consisting of carbon fiber, carbon powder, powder using metal, conductive ink, conductive organic material, PEDOT (polyethylene dioxythiophene), ITO, IZO, Al-doped zinc oxide, Nanotube), graphene, and carbon powder, or a conductive fiber solution may be used. The conductive fiber solution may be provided in a metal nano wire such as a silver nanowire including a synthetic resin and a volatile solvent (or water).

참고로, 본 발명에서 도전섬유라 함은, 앞서 언급한 은(Ag) 나노 섬유 외의 섬유 상의 여타의 금속(Al, Ag, Au, Cu, W)들을 포함하는 금속섬유를 포함할 수 있고, 나아가 금속으로 구성되지는 않더라도 카본섬유와 같이 도전성을 갖는 섬유상의 비금속 섬유형상의 재질을 포함할 수 있다. For reference, the conductive fiber in the present invention may include metal fibers including other metals (Al, Ag, Au, Cu, W) on the fibers other than the above-mentioned silver (Ag) And may include a fibrous non-metal fiber-like material having electrical conductivity, such as carbon fiber, although it is not made of metal.

또한, 본 명세서에서 사용되는 해리는 단순하게 녹이거나 용해(dissolver)시키는 것을 의미할 수 있지만, 보다 구체적으로 해리는 투명 도전막 내에 내포된 도전섬유들이 서로 엉겨 붙어 있는 상태가 해지되어 전기적인 통전 능력을 상실하도록 풀려서 서로 충분히 떨어져 있는 상태를 유지하게 하는 것을 해리라 지칭할 수 있다. The dissociation used in the present specification may mean simply dissolving or dissolving. However, more specifically, dissociation is terminated when the conductive fibers contained in the transparent conductive film are clumped to each other, So that they remain sufficiently separated from each other can be referred to as Harry.

또한, 도전섬유용액은 도전섬유, 수용성 바인더, 및 수용성 바인더의 용해를 위한 수용성 용매를 포함하고, 수용성 용매가 휘발되면서 도전섬유가 수용성 바인더에 의해서 절연기판 상에 고착되어 투명 도전막을 형성하며, 투명 절연패턴은 액상의 유성 수지를 단독으로 사용하거나 유성 수지의 용해를 위한 유성 용매를 유성 수지와 혼합하여, 투명 도전막 상에서 유성 수지를 경화시켜 형성하며, 투명 도전패턴을 형성하는 단계에서 수용성 바인더를 용해시키는 해리용 수지용액을 이용하여 도전섬유를 해리시킬 수 있다. The conductive fiber solution includes a conductive fiber, a water-soluble binder, and a water-soluble solvent for dissolving the water-soluble binder. The water-soluble solvent is volatilized, and the conductive fiber is fixed on the insulating substrate by the water-soluble binder to form a transparent conductive film. The insulating pattern is formed by using a liquid oil-based resin alone or by mixing an oil-based solvent for dissolving the oil-based resin with an oil-based resin and curing the oil-based resin on the transparent conductive film. In the step of forming the transparent conductive pattern, The dissolving resin solution for dissolution can be used to dissociate the conductive fibers.

투명 절연패턴의 유성 수지는 우레탄(urethane), 에폭시 아크릴레이트(epoxy acrylate), 폴리에스터 아크릴레이트(polyester acrylate) 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있고, 투명 절연패턴의 유성 용매는 아세톤(acetone), 메틸이소부틸케톤(MIBK; Methyl isobutyl ketone), 메틸에틸케톤(MEK; methyl ethyl ketone), 사이클로헥산(Cyclohexane), 톨루엔(toluene), 에틸레이트(ethylate), 아세트산에틸(ethyl acetate), 부틸 아세테이트(butyl acetate) 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. The oil-insulating resin of the transparent insulation pattern may include at least one of urethane, epoxy acrylate and polyester acrylate. The oil-based solvent of the transparent insulation pattern may be acetone, Methyl isobutyl ketone (MIBK), methyl ethyl ketone (MEK), cyclohexane, toluene, ethyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate butyl acetate).

또한, 도전섬유용액의 수용성 바인더는 에틸셀룰로스(ethyl cellulose)를 포함하며, 도전섬유용액의 수용성 용매는 물 또는 알코올계(alcohol meter)를 포함할 수 있다. Further, the water soluble binder of the conductive fiber solution includes ethyl cellulose, and the water soluble solvent of the conductive fiber solution may include water or an alcohol meter.

한편, 도전섬유용액의 수용성 바인더, 투명 절연패턴의 유성 수지 및 유성 용매들의 구체적인 재료들을 앞에서 나열했지만, 도전섬유용액의 수용성 바인더는 추후 해리용 수지용액에 의해서 용해가 가능한 다른 수용성을 갖는 합성수지를 포함할 수 있음은 자명하며, 투명 절연패턴의 유성 수지 및 유성 용매들 또한 해리용 수지용액에 의해서 용해되지 않는 다른 유성(또는 지용성)의 합성수지를 포함할 수 있다. On the other hand, although specific materials of the water-soluble binder of the conductive fiber solution, the oil-based resin of the transparent insulation pattern and the oil-based solvent are listed above, the water-soluble binder of the conductive fiber solution contains synthetic resin having other water- And the oil-based resin and the oil-based solvent of the transparent insulation pattern may also include other oil-based (or oil-soluble) synthetic resin which is not dissolved by the dissolving resin solution.

투명 도전패턴에 의해서 보호된 부분을 제외한 영역의 도전섬유가 해리용 수지용액 내에서 고르게 구배되어 해리된 상태에서 그대로 해리용 수지용액이 경화됨으로써, 투명 도전패턴에 의해서 보호된 부분을 제외한 영역에서 투명 도전막은 전기 도전성을 상실할 수 있다. The conductive resin in the region excluding the portion protected by the transparent conductive pattern is hardly evenly distributed in the resin solution for dissolution so that the dissolution resin solution is cured as it is, The conductive film may lose electrical conductivity.

특히, 금속섬유가 상기 제외한 영역 상부에 배치되는 해리용 수지용액 내에서 고르게 구배되고, 해리된 상태에서 그대로 해리용 수지용액을 경화시키는 경우, 투명 도전패턴에 의해서 보호된 부분을 제외한 영역 및 투명 도전패턴에 의해서 보호된 부분에서 금속섬유에 의한 광 투과도 저하는 동일할 수 있다. Particularly, in the case where the metal fiber is uniformly distributed in the resin solution for dissolution which is disposed above the region except for the above-mentioned region, and the dissolution resin solution is cured as it is in the dissociated state, the region excluding the portion protected by the transparent conductive pattern, The lowering of the light transmittance by the metal fiber in the portion protected by the pattern may be the same.

해리용 수지용액은 수용성 수지 및 수용성 수지의 용해를 위한 수용성 용매를 포함할 수 있으며, 수용성 수지는 수용성 광경화 수지, 수용성 자연건조 수지, 및 수용성 열경화 수지 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 또한, 수용성 용매는 물 또는 알코올계(alcohol meter)를 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다. The dissolving resin solution may contain a water-soluble resin and a water-soluble solvent for dissolving the water-soluble resin, and the water-soluble resin may include at least one of a water-soluble photocurable resin, a water-soluble natural dry resin, and a water-soluble thermosetting resin. The water-soluble solvent can be used alone or in combination with water or an alcohol meter.

절연기판 상에는 하나의 터치패널센서만 형성할 수도 있지만, 터치패널센서를 하나의 셀로 정의하고 하나의 절연기판에 복수 셀의 터치패널센서를 동시에 형성하는 것도 가능하다. 복수 셀의 터치패널센서를 동시에 형성한 후, 각 셀을 재단하여 각각 터치패널센서의 도전패턴필름으로 사용이 가능하다. Although only one touch panel sensor may be formed on an insulating substrate, it is also possible to define a touch panel sensor as one cell and simultaneously form a plurality of cell touch panel sensors on one insulating substrate. After forming the touch panel sensors of a plurality of cells at the same time, each cell can be cut and used as a conductive pattern film of a touch panel sensor.

또한, 투명 도전패턴을 형성한 후, 보호 코팅층을 형성할 수 있다. Further, after forming the transparent conductive pattern, a protective coating layer can be formed.

본 발명의 터치패널센서의 제조방법은 투명 도전패턴을 형성하되 종래와 같이 여러 번 마스크 패턴을 형성하고, 에칭으로 투명 도전패턴을 형성하고, 와이어패턴을 형성하기 전에 마스크 패턴을 제거하고, 그 다음 와이어패턴을 형성하는 과정을 단순화할 수 있으며, 공정의 수를 줄임으로써 공정상 발생하는 불량을 줄일 수가 있다. A method of manufacturing a touch panel sensor of the present invention includes forming a transparent conductive pattern, forming a mask pattern many times as in the conventional method, forming a transparent conductive pattern by etching, removing the mask pattern before forming the wire pattern, The process of forming the wire pattern can be simplified, and the number of processes can be reduced, thereby reducing defects occurring in the process.

본 발명의 터치패널센서의 제조방법은 얇고 전면적으로 투명 도전막을 형성하고, 이를 이용하여 투명 도전패턴을 형성하기 때문에 투명 도전패턴 자체도 균일한 두께로 형성할 수 있다. The method of manufacturing a touch panel sensor of the present invention forms a thin transparent conductive film on the entire surface, and forms a transparent conductive pattern using the transparent conductive film. Therefore, the transparent conductive pattern itself can be formed with a uniform thickness.

본 발명의 터치패널센서의 제조방법은 투명 도전패턴을 형성하되 롤 필름을 이용한 자동화 공정을 통해서 대량생산을 할 수 있기 때문에 하나의 셀 단위로 제작하는 종래의 기술에 비해 생산 속도 및 정확도, 수율을 높일 수가 있다.Since the method of manufacturing the touch panel sensor of the present invention can form a transparent conductive pattern and can be mass-produced through an automated process using a roll film, the production speed, accuracy, and yield .

도 1은 종래의 터치패널센서를 설명하기 위한 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널센서의 분해 사시도이다.
도 3 내지 도 6은 도 2에 도시되는 상부시트를 제조하는 공정을 설명하기 위한 평면도 및 단면도들이다.
도 7 및 도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치패널센서의 상부시트를 제조하는 공정을 설명하기 위한 평면도 및 단면도들이다.
1 is a perspective view illustrating a conventional touch panel sensor.
2 is an exploded perspective view of a touch panel sensor according to an embodiment of the present invention.
3 to 6 are a plan view and a sectional view for explaining the process of manufacturing the top sheet shown in Fig.
7 and 8 are a plan view and a cross-sectional view for explaining a process of manufacturing an upper sheet of a touch panel sensor according to another embodiment of the present invention.

이하 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세하게 설명하지만, 본 발명이 실시예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 참고로, 본 설명에서 동일한 번호는 실질적으로 동일한 요소를 지칭하며, 이러한 규칙 하에서 다른 도면에 기재된 내용을 인용하여 설명할 수 있고, 당업자에게 자명하다고 판단되거나 반복되는 내용은 생략될 수 있다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Reference will now be made in detail to embodiments of the present invention, examples of which are illustrated in the accompanying drawings, wherein like reference numerals refer to the like elements throughout. For reference, the same numbers in this description refer to substantially the same elements and can be described with reference to the contents described in the other drawings under these rules, and the contents which are judged to be obvious to the person skilled in the art or repeated can be omitted.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널센서의 분해 사시도이며, 도 3 내지 도 6은 도 2에 도시되는 상부시트를 제조하는 공정을 설명하기 위한 평면도 및 단면도들이다.FIG. 2 is an exploded perspective view of a touch panel sensor according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 3 to 6 are a plan view and a sectional view for explaining a process of manufacturing the upper sheet shown in FIG.

도 2를 참조하면, 본 실시예에 따른 터치패널센서(100)는 상부커버기판(110), 상부시트(120), 하부시트(130), 및 연성회로기판(140)을 포함한다. Referring to FIG. 2, the touch panel sensor 100 includes an upper cover substrate 110, an upper sheet 120, a lower sheet 130, and a flexible circuit board 140.

상부시트(120)는 상부 절연기판(122), 상부 도전패턴(126), 상부 와이어패턴(128), 및 상부 도전성 단자(129)를 포함한다. 그리고, 하부시트(130) 역시 하부 절연기판(132), 하부 도전패턴(136), 하부 와이어패턴(138), 및 하부 도전성 단자(139)를 포함한다. 참고로, 도전패턴들은 정전용량방식 터치패널센서를 위한 것으로서, 하부 도전패턴(136)은 트랜스미터(transmitter)로 작동을 하며, 상부 도전패턴(126)은 리시버(receiver)로 작동할 수가 있다.The top sheet 120 includes an upper insulating substrate 122, an upper conductive pattern 126, an upper wire pattern 128, and an upper conductive terminal 129. The lower sheet 130 also includes a lower insulating substrate 132, a lower conductive pattern 136, a lower wire pattern 138, and a lower conductive terminal 139. For reference, the conductive patterns are for a capacitive touch panel sensor. The lower conductive pattern 136 may operate as a transmitter, and the upper conductive pattern 126 may operate as a receiver.

상부 절연기판(122) 상에는 상부 도전패턴(126) 및 상부 와이어패턴(128)이 배치될 수 있고, 하부 절연기판(132) 상에는 하부 도전패턴(136) 및 하부 와이어패턴(138)이 배치된다. 그리고, 상부 도전패턴(126)은 도 2를 기준으로 상부 절연기판(122) 상에서 종방향으로 배치되며, 하부 도전패턴(136)은 하부 절연기판(132) 상에서 횡방향으로 배치되어 상부 도전패턴(126)과 서로 교차하는 영역을 형성할 수 있다. The upper conductive pattern 126 and the upper wire pattern 128 may be disposed on the upper insulating substrate 122 and the lower conductive pattern 136 and the lower wire pattern 138 may be disposed on the lower insulating substrate 132. The upper conductive pattern 126 is disposed on the upper insulating substrate 122 in the longitudinal direction and the lower conductive pattern 136 is disposed on the lower insulating substrate 132 in the transverse direction, 126 may be formed.

상부커버기판(110)은 신체 일부가 직접 터치되는 관계로 강도가 뛰어나 쉽게 굴절되지 않는 강성 유리 기판을 사용하거나, 강도가 뛰어나 쉽게 굴절되지 않는 폴리카보네이트(polycarbonate)와 같은 투광성 강화플라스틱을 사용할 수 있다. Since the upper cover substrate 110 is directly touched by a part of the body, a rigid glass substrate which is excellent in strength and can not be easily refracted can be used, or a translucent reinforced plastic such as polycarbonate which is not easily refracted due to its strength can be used .

또한, 상부커버기판(110)의 저면에는 액자 형상의 윈도우 데코레이션(112)이 제공되는데, 윈도우 데코레이션(112)은 그 하부에 배치되는 투명하지 못한 구성요소, 예를 들면, 상부 절연기판(122)과 하부 절연기판(132)의 가장자리에 배치되는 상부 및 하부 와이어패턴(128, 138) 및 연성회로기판(140)을 가리는 용도로서 제공될 수 있다. 경우에 따라서는 상부커버기판이 절연기판으로 기능을 하여, 상부 도전패턴이 상부커버기판의 저면에 바로 형성될 수도 있고, 터치패널센서의 구조에 따라 하부 도전패턴도 상부커버기판에 형성될 수도 있다. 즉, 도면과 같이, 유리기판-상부 필름-하부 필름의 구조로 제공되는 것 외에도, 유리기판-필름의 구조로 제공되어 유리기판의 저면 및 필름의 상면에 각각 도전패턴이 형성될 수도 있고, 필름의 상면 및 저면 모두 도전 패턴이 형성될 수도 있다. 이에 대해서는 종래의 적층 구조를 참조할 수 있으며, 도전패턴과 와이어패턴, 절연패턴 간의 관계를 제외한 기판, 필름 등의 적층구조는 본 발명을 제한하지 않는다. The bottom cover of the upper cover substrate 110 is also provided with a frame-shaped window decoration 112 which is made of a transparent material, such as an upper insulating substrate 122, And the upper and lower wire patterns 128 and 138 and the flexible circuit board 140 disposed at the edges of the lower insulating substrate 132. [ In some cases, the upper cover substrate functions as an insulating substrate, the upper conductive pattern may be formed directly on the bottom surface of the upper cover substrate, or the lower conductive pattern may be formed on the upper cover substrate according to the structure of the touch panel sensor . That is, in addition to being provided as a structure of a glass substrate-an upper film-a lower film as shown in the drawing, a conductive pattern may be formed on the bottom surface of the glass substrate and the upper surface of the film, A conductive pattern may be formed on both the upper surface and the lower surface. For this, a conventional laminated structure can be referred to, and the laminated structure of a substrate, a film or the like excluding the relation between the conductive pattern, the wire pattern and the insulating pattern does not limit the present invention.

참고로, 상부 및 하부 절연기판(122, 132)은 폴리에틸렌(polyethylene), 폴리프로필렌(polypropylene), 아크릴(acryloyl), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 등의 플라스틱 및 유리 등의 소재를 두루 이용할 수 있다. For reference, the upper and lower insulating substrates 122 and 132 may include materials such as polyethylene, polypropylene, acryloyl, polyethylene terephthalate (PET), and plastic and glass.

한편, 상부커버기판(110), 상부시트(120), 및 하부시트(130) 사이 사이에는 광학접착층이 개재되어 상호 접합될 수 있고, 광학접착층은 빛이 잘 투과되어 광학적으로도 우수한 광학접착필름 또는 OCA(Optically Clear Adhesive)필름, UV 경화제 등을 이용할 수 있다. On the other hand, an optical adhesive layer may be interposed between the upper cover substrate 110, the upper sheet 120, and the lower sheet 130, and the optical adhesive layer may be bonded to the upper sheet substrate 110, Or an OCA (Optically Clear Adhesive) film, a UV curing agent, or the like.

또한, 연성회로기판(140)에는 상부 절연기판(122) 및 하부 절연기판(132)에 형성되는 상부 및 하부 와이어패턴(128, 138)과 전기적으로 접합되는 단자가 배치될 수 있다. 따라서, 상부커버기판(110) 표면에 대상체가 접근하면 상부 도전패턴(126) 및 하부 도전패턴(136)이 상호 작용하여 발생하는 커패시턴스 값의 변화가 상부 및 하부 와이어패턴(128, 138)을 따라서 외부장치에 전송될 수 있고, 여기서 외부장치에 해당하는 제어부에서는 상기 값의 변화를 이용하여 터치 위치를 계산할 수 있다. The flexible circuit board 140 may be provided with a terminal electrically connected to the upper and lower wire patterns 128 and 138 formed on the upper insulating substrate 122 and the lower insulating substrate 132. Therefore, when the object approaches the surface of the upper cover substrate 110, a change in capacitance value caused by mutual action of the upper conductive pattern 126 and the lower conductive pattern 136 is generated along the upper and lower wire patterns 128 and 138 And the control unit corresponding to the external device can calculate the touch position using the change of the value.

이상 본 발명에 따른 터치패널센서의 개략적인 구성 및 그 구성요소에 대하여 언급하였으며, 이하 상기 터치패널센서 특히, 대상체의 접근에 의한 전기신호를 발생시키는 상부 및 하부시트의 제조 과정을 중점적으로 설명하되, 하부시트에 대한 설명은 상부시트에 대한 설명으로 대체할 수 있다. Hereinafter, a schematic configuration and components of the touch panel sensor according to the present invention will be described. In particular, the manufacturing process of the upper and lower sheets for generating the electric signal by the approach of the touch panel sensor, , The description of the lower sheet can be replaced with the description of the upper sheet.

이하, 도 3 내지 도 6을 참조하면서 상부시트(120)의 제조과정을 설명한다. 후술하겠지만, 아래의 과정은 패턴만 달리하여 하부시트(130)의 제조과정에서도 적용될 수 있으며, 하나의 절연기판 상하면에 상부 도전패턴 및 하부 도전패턴을 형성하는 경우에도 적용될 수 있다. Hereinafter, the manufacturing process of the upper sheet 120 will be described with reference to FIGS. As will be described later, the following process may be applied to the manufacturing process of the lower sheet 130 by different patterns, and may be applied to forming the upper conductive pattern and the lower conductive pattern on one insulating substrate.

또한, 상부시트(120)는 원래 하나의 절연기판 원지에 복수 셀로 동시에 형성될 수 있으며, 이러한 과정에 이하 도면과 같이 진행될 수 있다. 또한, 이러한 과정을 롤러를 통과하는 과정을 통해서 대량생산에 유리하게 쉽게 변경될 수도 있다. In addition, the upper sheet 120 may be formed in a plurality of cells at the same time on one original insulating substrate, and the process may be performed as follows. In addition, this process can easily be changed in favor of mass production through the process of passing the rollers.

도 3을 참조하면, 복수 셀의 터치패널센서를 위한 롤 형태의 절연원판(121)이 제공된다. 절연원판(121)의 상면에는 투명 도전막(124)이 전면적으로 도포되어 제공된다. Referring to FIG. 3, a roll-shaped insulating plate 121 for a touch panel sensor of a plurality of cells is provided. A transparent conductive film 124 is applied over the entire surface of the insulating base plate 121.

상기 투명 도전막(124)은 도전섬유용액을 이용한 도전막으로 제공될 수 있으며, 이는 종래의 방법에 따라 현장에서 형성되거나 이미 형성된 상태로 외부 업체에서 제공받을 수가 있다. The transparent conductive film 124 may be provided as a conductive film using a conductive fiber solution, which may be formed on site in accordance with a conventional method or may be provided from an external company in a state where the conductive film is already formed.

도 4를 참조하면, 투명 도전막(124)을 그대로 유지한 채로 와이어패턴(128)을 그 위에 제공한다. 와이어패턴(128)은 추후 연성회로기판(140)의 단자와 전기적으로 연결되어 투명 도전패턴(126)과 외부와의 전기적 연결을 위한 것으로, 본 실시예에서는 와이어패턴(128)이 투명 절연패턴(156)보다 선행하여 제공되나, 본 발명의 다른 실시예에서는 와이어패턴이 투명 절연패턴보다 나중에 형성된다. Referring to FIG. 4, a wire pattern 128 is provided thereon while the transparent conductive film 124 remains. The wire pattern 128 is electrically connected to the terminal of the flexible circuit board 140 to electrically connect the transparent conductive pattern 126 to the outside. In this embodiment, the wire pattern 128 is a transparent insulation pattern 156, but in another embodiment of the present invention the wire pattern is formed later than the transparent insulation pattern.

와이어패턴(128)은 실버페이스트 실크인쇄, 실버잉크를 포함하는 도전성 잉크의 그라비아 인쇄, 플렉소 인쇄 등의 인쇄 방법, 금속박막 형성과 에칭 등 다양한 방법으로 형성될 수가 있다. 와이어패턴(128)을 형성할 때에는 투명 도전패턴(126)이 형성되지 않았으므로, 대략적으로 투명 도전패턴(126)의 형성 위치에 대응하여 와이어패턴(128)을 미리 형성할 수가 있다. The wire pattern 128 can be formed by various methods such as silver paste silk printing, printing methods such as gravure printing of conductive ink including silver ink, flexo printing, metal thin film formation and etching. Since the transparent conductive pattern 126 is not formed when the wire pattern 128 is formed, the wire pattern 128 can be formed in advance corresponding to the position where the transparent conductive pattern 126 is formed.

도 5를 참조하면, 투명 도전패턴(126) 형상에 대응하여 투명 도전막(124) 상에 투명 절연패턴(156)을 형성한다. 투명 절연패턴(156)은 상하로 길게 연장된 직사각형의 외형을 가지며, 내부로는 균일한 간격으로 형성된 사각형 홀을 포함한다. 따라서 투명 절연패턴(156)에는 상부 및 하부가 연결되어 있으며 균일한 폭 및 간격으로 형성된 3개의 직선 패턴이 제공된다. 3개의 직선 패턴이 하나의 그룹을 형성하며, 6개의 투명 절연패턴(156)이 균일한 간격으로 평행하게 배치된다. 참고로, 위의 구조는 투명 도전패턴으로 가능한 일 예로서, 터치센서의 종류에 따라 다이아몬드 구조 등 다양한 구조로 형성될 수가 있다.Referring to FIG. 5, a transparent insulating pattern 156 is formed on the transparent conductive film 124 corresponding to the shape of the transparent conductive pattern 126. The transparent insulation pattern 156 has a rectangular outer shape extending upward and downward, and includes a square hole formed at uniform intervals inside. Thus, the transparent insulation pattern 156 is provided with three linear patterns connected at the top and bottom and formed at uniform widths and intervals. Three linear patterns form one group, and six transparent insulating patterns 156 are arranged in parallel at uniform intervals. For reference, the above structure is an example of a transparent conductive pattern, and may be formed in various structures such as a diamond structure depending on the type of the touch sensor.

도 5의 (a)에는 투명 도전막(124) 상에 투명 절연패턴(156)이 균일 간격으로 형성되어 있으며, 도 5의 (b)에는 투명 도전막(124) 상에 와이어패턴(128)의 단부가 위치하며, 그 위로 투명 절연패턴(156)이 형성되어 있다. 5A, transparent insulating patterns 156 are formed at uniform intervals on the transparent conductive film 124. In FIG. 5B, a transparent conductive film 124 is formed on the transparent conductive film 124, And a transparent insulating pattern 156 is formed thereon.

이하, 도 6을 참조하여, 해리를 통해 투명 도전막(124)으로부터 투명 도전패턴(126)을 형성하는 과정을 상세하게 설명한다. Hereinafter, the process of forming the transparent conductive pattern 126 from the transparent conductive film 124 through dissociation will be described in detail with reference to FIG.

도 6을 참조하면, 앞서 설명했듯이 절연원판(121) 상에는 투명 도전막(124)이 형성되어 있는데, 본 실시예의 투명 도전막(124)은 도전섬유, 수용성 바인더, 및 수용성 바인더의 용해를 위한 수용성 용매가 혼합된 도전섬유용액을 이용하여 형성된다. 수용성 용매는 물이나 알코올계를 사용하여 휘발되어 사라지고, 실질적으로 도전섬유는 수용성 바인더를 통해서 절연원판(121)상에 안정적으로 부착된다. 이 상태에서는 도전섬유가 서로 얽혀 있기 때문에 비록 중간에 수용성 바인더가 끼어 들어 있더라도 투명 도전막(124)은 도전성을 가진다. 본 실시예에서 도전섬유용액의 수용성 바인더로 에틸셀룰로스(ethyl cellulose)를 사용할 수 있고, 수용성 용매로는 물 또는 알코올계 재료를 사용할 수 있다. 본 실시예에서 도전섬유라 함은, 앞서 언급한 은(Ag) 나노 섬유 외의 섬유 상의 여타의 금속(Al, Ag, Au, Cu, W)들을 포함하는 금속섬유를 포함할 수 있고, 나아가 금속으로 구성되지는 않더라도 카본섬유와 같이 도전성을 갖는 섬유상의 비금속 섬유형상의 재질을 포함할 수 있다.6, the transparent conductive film 124 is formed on the insulating base plate 121. The transparent conductive film 124 of the present embodiment is a water-soluble binder for dissolving the conductive fibers, the water-soluble binder, Is formed using a conductive fiber solution mixed with a solvent. The water-soluble solvent is volatilized and disappears using water or an alcohol system, and substantially the conductive fibers are stably attached on the insulating plate 121 through the water-soluble binder. In this state, since the conductive fibers are entangled with each other, the transparent conductive film 124 has conductivity even if the water-soluble binder is interposed in the middle. In this embodiment, ethyl cellulose may be used as a water-soluble binder of the conductive fiber solution, and water or an alcohol-based material may be used as a water-soluble solvent. In the present embodiment, the conductive fiber may include metal fibers including other metals (Al, Ag, Au, Cu, W) on the fibers other than the above-mentioned silver (Ag) A non-metallic fiber-like material having electrical conductivity such as carbon fiber may be included.

상술한 투명 도전막(124) 상에 와이어패턴(128)과 원하는 투명 도전패턴(126) 형상에 대응하는 투명 절연패턴(156)이 차례로 적층되어 있다. A wire pattern 128 and a transparent insulating pattern 156 corresponding to a desired shape of the transparent conductive pattern 126 are sequentially stacked on the transparent conductive film 124 described above.

투명 절연패턴(156)은 액상의 유성 수지를 단독으로 사용할 수도 있지만, 유성 수지의 용해를 위한 유성 용매를 유성 수지와 혼합하여, 투명 도전막(124) 상에서 유성 수지를 경화시켜 형성할 수 있다. The transparent insulating pattern 156 may be formed by using a liquid oily resin alone or by mixing an oily solvent for dissolving the oily resin with the oily resin and curing the oily resin on the transparent conductive film 124. [

투명 절연패턴의 유성 수지는 우레탄(urethane), 에폭시 아크릴레이트(epoxy acrylate), 폴리에스터 아크릴레이트(polyester acrylate) 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있고, 투명 절연패턴의 유성 용매는 아세톤(acetone), 메틸이소부틸케톤(MIBK; Methyl isobutyl ketone), 메틸에틸케톤(MEK; methyl ethyl ketone), 사이클로헥산(Cyclohexane), 톨루엔(toluene), 에틸레이트(ethylate), 아세트산에틸(ethyl acetate), 부틸 아세테이트(butyl acetate) 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. The oil-insulating resin of the transparent insulation pattern may include at least one of urethane, epoxy acrylate and polyester acrylate. The oil-based solvent of the transparent insulation pattern may be acetone, Methyl isobutyl ketone (MIBK), methyl ethyl ketone (MEK), cyclohexane, toluene, ethyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate butyl acetate).

다시 도 5를 참조하면, 도 5의 (a)에는 투명 도전막(124) 상에 투명 절연패턴(156)이 균일 간격으로 형성되어 있으며, 도 5의 (b)에는 투명 도전막(124) 상에 와이어패턴(128)의 단부가 위치하고, 그 위로 투명 절연패턴(156)이 형성되어 있다. 5A, transparent insulating patterns 156 are formed at uniform intervals on the transparent conductive film 124, and FIG. 5B is a cross-sectional view of the transparent conductive film 124, And a transparent insulating pattern 156 is formed thereon.

도 5에 도시되는 바와 같이 제공된 투명 도전막(124)으로부터 투명 절연패턴(156)을 마스크로 이용하여, 투명 절연패턴(156)에 의해서 보호되지 않은 부분의 투명 도전막(124) 내의 도전섬유가 도전성을 상실하도록 해리시킬 수 있다. 이 과정은 도 6을 참조할 수 있다. 여기서, 해리는 단순하게 용해(dissolver)시키는 의미를 내포할 수도 있지만, 보다 구체적으로 투명 도전막(324) 내에 내포된 도전섬유들이 서로 엉겨 붙어 있는 상태가 풀려서 해지되어 전기적인 통전 능력을 상실하도록 서로 충분히 떨어져 있는 상태로 변화시키는 의미를 가질 수 있다. The conductive fiber 124 in the portion not protected by the transparent insulating pattern 156 is removed from the transparent conductive film 124 provided as shown in Fig. It can be dissociated to lose conductivity. This process can be referred to FIG. Here, the dissociation may have a merely dissolving effect, but more specifically, the conductive fibers contained in the transparent conductive film 324 are separated from each other to be loosened, It may have the meaning of changing the state to a sufficiently far apart state.

도 6을 참조하면, 절연원판(121) 상에 투명 절연패턴(156)이 충분히 덮이도록 해리용 수지용액(160)을 도포한다. Referring to FIG. 6, a dissolving resin solution 160 is applied so that the transparent insulation pattern 156 is sufficiently covered on the insulation plate 121.

여기서, 해리용 수지용액(160)의 높이는 투명 도전막(124) 내에 내포된 도전섬유들이 전기 도전성을 상실하게 충분히 이격될 수 있는 공간을 줄 수 있는 범위 내에서 얼마든지 조절 가능하다. Here, the height of the dissolving resin solution 160 is adjustable within a range that allows the conductive fibers contained in the transparent conductive film 124 to be spaced sufficiently apart to lose electrical conductivity.

또한, 해리용 수지용액(160)은 수용성 수지 및 수용성 수지의 용해를 위한 수용성 용매를 포함하는데, 해리용 수지용액(160)을 경화시키는 과정에서 수용성 용매는 휘발될 수 있고, 따라서, 해리용 수지용액(160)의 경화 후(실질적으로는 수용성 수지를 경화하는 것임), 해리용 수지용액(160)의 높이는 다소 줄어들 수 있지만, 앞서 언급했듯이 줄어들어 변화한 해리용 수지용액(160)의 높이는 투명 도전막(124) 내에 내포된 도전섬유들이 전기 도전성을 상실하게 충분히 이격될 수 있는 범위 내에서 조절되어야 한다. In addition, the dissolving resin solution 160 includes a water-soluble solvent for dissolving the water-soluble resin and the water-soluble resin. In the course of curing the dissolving resin solution 160, the water-soluble solvent may volatilize, The height of the dissolving resin solution 160 may be somewhat reduced after the curing of the solution 160 (substantially curing the water-soluble resin). However, as mentioned above, the height of the dissolving resin solution 160, The conductive fibers contained in the film 124 should be adjusted to such a degree that they can be sufficiently separated to lose electrical conductivity.

여하튼, 해리용 수지용액(160) 중 수용성 용매가 휘발된 후에 남아 있는 수용성 수지가 그대로 굳어 지면, 수용성 수지 내에 해리되어 서로 풀어져 떨어진 상태를 유지하고 있던 도전섬유는 자연스럽게 더 이상 전기를 통전시킬 수 없게 되고, 해리용 수지용액(160)에 노출되는 즉, 투명 절연패턴(156)에 의해서 보호되지 않은 부분(127)의 투명 도전막(124)은 전기 도전성을 상실할 수 있다. If the water-soluble resin remaining after volatilization of the water-soluble solvent in the dissolving resin solution 160 solidifies as it is, the conductive fibers, which have dissociated in the water-soluble resin and remain in a loosened state, can not naturally conduct electricity any more And the transparent conductive film 124 of the portion 127 exposed by the dissolving resin solution 160, that is, the portion 127 not protected by the transparent insulating pattern 156, may lose electrical conductivity.

특히, 금속섬유가 상기 제외한 영역 상부에 배치되는 해리용 수지용액 내에서 고르게 구배되고, 해리된 상태에서 그대로 해리용 수지용액을 경화시키는 경우, 투명 도전패턴에 의해서 보호된 부분을 제외한 영역 및 투명 도전패턴에 의해서 보호된 부분에서 금속섬유에 의한 광 투과도 저하는 동일할 수 있다. 따라서, 본 제조방법으로 제조된 터치패널센서를 상부에서 바라보면 투명 도전패턴의 경계부분이 사실상 모호해 육안으로 확인되지 않는 효과를 제공할 수 있다. Particularly, in the case where the metal fiber is uniformly distributed in the resin solution for dissolution which is disposed above the region except for the above-mentioned region, and the dissolution resin solution is cured as it is in the dissociated state, the region excluding the portion protected by the transparent conductive pattern, The lowering of the light transmittance by the metal fiber in the portion protected by the pattern may be the same. Therefore, when the touch panel sensor manufactured by the present manufacturing method is viewed from above, the boundary portion of the transparent conductive pattern is virtually blurred and can be visually confirmed.

또한, 해리용 수지용액(160)의 수용성 수지는 수용성 광경화 수지, 수용성 자연건조 수지, 및 수용성 열경화 수지 중 적어도 어느 하나를 수용성 용매에 용해시켜 사용할 수 있으며, 해리용 수지용액(160)은 사용된 수용성 수지의 성향에 따라서 경화 과정이 바뀔 수 있다. 예를 들어, Alberdingk Boley사의 LUX 계열 제품은 대표적인 물에 용해 가능한 수용성 광경화 수지이며, LUX 220, 250, 255 등의 제품들은 자외선에 의해서 경화된다. The water-soluble resin of the dissolution resin solution 160 may be used by dissolving at least one of water-soluble photo-curable resin, water-soluble natural dry resin, and water-soluble thermosetting resin in a water-soluble solvent, Depending on the nature of the water-soluble resin used, the curing process can be changed. For example, Alberdingk Boley's LUX family of products is a representative water-soluble, water-soluble photocurable resin, and products such as LUX 220, 250, and 255 are cured by ultraviolet light.

따라서, Alberdingk Boley사의 LUX 계열 제품을 수용성 수지로 사용하면, 수용성 용매는 일반적인 물만을 사용할 수 있고, 경우에 따라서 알코올에 용해되는 수용성 수지를 선택한 경우, 알코올계 재료를 수용성 용매로 사용할 수 있다. 참고로, 수용성 수지는 도전섬유용액의 수용성 바인더와 같은 재질로 제공하는 것도 무방하다. Therefore, when the LUX series product of Alberdingk Boley is used as a water-soluble resin, only general water can be used as a water-soluble solvent, and if a water-soluble resin soluble in alcohol is selected in some cases, an alcohol-based material can be used as a water-soluble solvent. For reference, the water-soluble resin may be provided in the same material as the water-soluble binder of the conductive fiber solution.

정리하면, 투명 절연패턴(156)에 보호되지 않는 부분은 해리되어 실질적으로 제거되지는 않지만, 마치 물리적으로 제거되는 것과 같이 동일하게 전기 도전성을 상실시키는 효과를 구현할 수 있으며, 실제로 투명 도전막(124)의 해리된 패턴(127)을 제외한 부분이 투명 도전패턴(126)으로 정의된다.In summary, the unprotected portion of the transparent insulating pattern 156 is dissociated and is not substantially removed, but it is possible to realize the same effect of losing electrical conductivity as if it is physically removed, ) Is defined as a transparent conductive pattern 126. The transparent conductive pattern 126 is a transparent conductive pattern.

본 실시예에서는 투명 도전패턴(126)을 형성한 후에 그 위로 보호 코팅층을 더 형성할 수도 있겠지만, 경화된 해리용 수지용액(160)이 사실상 보호 코팅층의 역할을 할 수 있다. In this embodiment, after the transparent conductive pattern 126 is formed, a protective coating layer may be further formed thereon, but the hardened dissolving resin solution 160 may substantially serve as a protective coating layer.

특히, 본 실시예에서는 해리용 수지용액(160)이 경화되어 그 표면이 매끄럽게 제공되어 추후 상하부시트간의 접합 시 사용되는 광학접착층과 시트 사이에 기포가 끼어들어 발생하는 불량률을 크게 낮출 수 있다. Particularly, in this embodiment, the dissolving resin solution 160 is hardened and its surface is smoothly provided, so that the defect rate in which air bubbles are generated between the optical adhesive layer and the sheet, which are used in joining between the upper and lower sheets, can be greatly reduced.

도 7 및 도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치패널센서의 상부시트를 제조하는 공정을 설명하기 위한 평면도 및 단면도들이다. 참고로, 절연원판, 투명 절연패턴, 투명 도전막에 대한 설명 및 이를 형성하는 과정에 대해서는 상술한 설명을 참조할 수 있다.7 and 8 are a plan view and a cross-sectional view for explaining a process of manufacturing an upper sheet of a touch panel sensor according to another embodiment of the present invention. For reference, the explanation of the insulating disc, the transparent insulating pattern, and the transparent conductive film and the process of forming the transparent insulating film can be referred to the above description.

도 7을 참조하면, 투명 도전막(224) 상에 설계된 투명 도전패턴(226)의 형상에 대응하는 투명 절연패턴(256)이 형성되어 있다. Referring to FIG. 7, a transparent insulating pattern 256 corresponding to the shape of the transparent conductive pattern 226 designed on the transparent conductive film 224 is formed.

그 후에 투명 도전막(224)은 그대로 둔 상태에서, 그 위에 와이어패턴(228)을 형성한다. Thereafter, the transparent conductive film 224 is left as it is, and a wire pattern 228 is formed thereon.

와이어패턴은 투명 도전막 위에 전면적으로 깔리는 와이어층으로부터 에칭을 통해서 제공될 수도 있다. 와이어층은 도포나 인쇄 등의 방법부터 스퍼터링(sputtering)을 이용한 방법을 두루 적용할 수 있다. 이 경우, 설계된 데로 형성되는 와이어패턴(228) 하부의 투명 도전막(224)은 그대로 보호될 수 있다. 이는 본 실시예에서 투명 절연패턴(256)을 먼저 형성하고, 와이어패턴(228)을 형성하기 때문에 와이어패턴(228)을 와이어층(227)의 에칭 공정을 통해서도 형성할 수 있다. The wire pattern may be provided through etching from a wire layer overlying the transparent conductive film. The wire layer can be applied from a method such as coating or printing to a method using sputtering. In this case, the transparent conductive film 224 under the wire pattern 228 formed as designed can be protected as it is. In this embodiment, since the transparent insulating pattern 256 is formed first and the wire pattern 228 is formed, the wire pattern 228 can be formed through the etching process of the wire layer 227. [

다만, 본 실시예에서는 와이어패턴(228)을 실버페이스트 실크인쇄, 실버잉크를 포함하는 도전성 잉크의 그라비아 인쇄, 플렉소 인쇄 등의 인쇄 방법 등을 이용한 인쇄 방법을 통해서 제공할 수 있다. 이렇게 형성된 와이어패턴(228)은 처음부터 별도의 에칭 없이 설계된 그대로의 형상으로 제공될 수 있고, 추후 연성회로기판의 단자와 전기적으로 연결될 수 있다. However, in this embodiment, the wire pattern 228 can be provided through a printing method using a printing method such as silver paste silk printing, gravure printing of conductive ink including silver ink, and flexo printing. The wire pattern 228 thus formed can be provided in a shape as originally designed without any separate etching, and can be electrically connected to the terminal of the flexible circuit board at a later time.

도 7에 도시된 바와 같이, 투명 도전막(224), 투명 절연패턴(256), 및 와이어패턴(228)을 순차적으로 형성하고 나서, 투명 도전막(224)의 해리 과정을 통해서 투명 도전패턴(226)을 형성한다. 7, a transparent conductive film 224, a transparent insulating pattern 256, and a wire pattern 228 are sequentially formed, and then a transparent conductive film 224 is formed through dissociation of the transparent conductive film 224, 226).

투명 도전막(224)의 해리 과정은 앞선 실시예에서 이미 설명하였지만, 도 8을 참고하여 다시 설명한다. The dissociation process of the transparent conductive film 224 has been described in the previous embodiment, but will be described again with reference to FIG.

도 8을 참조하면, 앞서 설명했듯이 절연원판(221) 상에 투명 도전막(224), 투명 절연패턴(256), 및 와이어패턴(228)이 순차적으로 형성되어 있다. 8, a transparent conductive film 224, a transparent insulating pattern 256, and a wire pattern 228 are sequentially formed on the insulating base plate 221, as described above.

투명 도전막(224)은 도전섬유, 수용성 바인더, 및 수용성 바인더의 용해를 위한 수용성 용매가 혼합된 도전섬유용액을 이용하여 형성된다. 투명 도전막(224)은 해리되기 전에는 도전섬유가 서로 얽혀 있기 때문에 비록 중간에 수용성 바인더가 끼어 들어 있더라도 투명 도전막(124)은 도전성을 가진다. The transparent conductive film 224 is formed using a conductive fiber solution in which conductive fibers, a water-soluble binder, and a water-soluble solvent for dissolving the water-soluble binder are mixed. Since the transparent conductive film 224 is entangled with the conductive fibers before dissociation, the transparent conductive film 124 has conductivity even though the water-soluble binder is interposed in the middle.

도 8에 도시되는 바와 같이 제공된 투명 도전막(224)으로부터 투명 절연패턴(256)을 마스크로 이용하여, 투명 절연패턴(256)에 의해서 보호되지 않은 부분(227)의 투명 도전막(224) 내의 도전섬유가 도전성을 상실하도록 해리시킬 수 있다. The transparent conductive film 224 of the portion 227 not protected by the transparent insulating pattern 256 is removed from the transparent conductive film 224 provided as shown in Fig. The conductive fibers can be dissociated to lose conductivity.

도 8을 참조하면, 절연원판(221) 상에 투명 절연패턴(256)이 충분히 덮이도록 해리용 수지용액(260)을 도포한다. Referring to FIG. 8, a dissolving resin solution 260 is applied so that the transparent insulation pattern 256 is sufficiently covered on the insulation plate 221.

여기서, 해리용 수지용액(260)의 높이는 투명 도전막(224) 내에 내포된 도전섬유들이 전기 도전성을 상실하게 충분히 이격될 수 있는 공간을 줄 수 있는 범위 내에서 얼마든지 조절 가능하다. Here, the height of the dissolving resin solution 260 is adjustable within a range that allows the conductive fibers contained in the transparent conductive film 224 to be spaced sufficiently apart to lose electrical conductivity.

또한, 해리용 수지용액(260)은 수용성 수지 및 수용성 수지의 용해를 위한 수용성 용매를 포함하는데, 해리용 수지용액(260)을 경화시키는 과정에서 수용성 용매는 휘발될 수 있고, 따라서, 해리용 수지용액(260)의 경화 후, 해리용 수지용액(260)의 높이는 다소 줄어들 수 있지만, 앞서 언급했듯이 줄어들어 변화한 해리용 수지용액(260)의 높이는 투명 도전막(224) 내에 내포된 도전섬유들이 전기 도전성을 상실하게 충분히 이격될 수 있는 범위 내에서 조절되어야 한다. The dissolving resin solution 260 includes a water-soluble solvent and a water-soluble solvent for dissolving the water-soluble resin. In the course of curing the dissolving resin solution 260, the water-soluble solvent can be volatilized, After the curing of the solution 260, the height of the dissolving resin solution 260 may be somewhat reduced. However, as described above, the height of the dissolving resin solution 260, which has been reduced and changed, It should be controlled within a range that can be sufficiently separated to lose conductivity.

여하튼, 해리용 수지용액(260) 중 수용성 용매가 휘발된 후에 남아 있는 수용성 수지가 그대로 굳어 지면, 수용성 수지 내에 해리되어 서로 풀어져 떨어진 상태를 유지하고 있던 도전섬유는 자연스럽게 더 이상 전기를 통전시킬 수 없게 되고, 해리용 수지용액(260)에 노출되는 즉, 투명 절연패턴(256)에 의해서 보호되지 않은 부분(227)의 투명 도전막(224)은 전기 도전성을 상실할 수 있다. In any case, if the water-soluble resin remaining after volatilization of the water-soluble solvent in the dissolving resin solution 260 solidifies as it is, the conductive fibers, which are dissociated in the water-soluble resin and kept in a loosened state, can not naturally conduct electricity any more And the transparent conductive film 224 of the portion 227 exposed to the dissolving resin solution 260, that is, the portion not covered by the transparent insulating pattern 256, may lose electrical conductivity.

정리하면, 투명 절연패턴(256)에 보호되지 않는 부분은 해리되어 실질적으로 제거되지는 않지만, 마치 물리적으로 제거되는 것과 같이 동일하게 전기 도전성을 상실시키는 효과를 구현할 수 있으며, 실제로 투명 도전막(224)의 해리된 패턴(227)을 제외한 부분이 투명 도전패턴(226)으로 정의된다.In summary, the unprotected portion of the transparent insulating pattern 256 is dissociated and is not substantially removed, but it is possible to realize the same effect of losing electrical conductivity as if it is physically removed, Is defined as a transparent conductive pattern 226. The transparent conductive pattern 226 is a transparent conductive pattern.

투명 도전패턴(226)을 형성한 후에 그 위로 보호 코팅층을 더 형성할 수도 있지만, 경화된 해리용 수지용액(260)이 사실상 보호 코팅층의 역할을 하여 생략할 수 있다. After forming the transparent conductive pattern 226, a protective coating layer may be further formed thereon, but the cured dissolving resin solution 260 may substantially act as a protective coating layer and may be omitted.

특히, 해리용 수지용액(260)이 경화되어 그 표면이 매끄럽게 제공되어 추후 상하부시트간의 접합 시 사용되는 광학접착층과 시트 사이에 기포가 끼어들어 발생하는 불량률을 크게 낮출 수 있다. In particular, the dissolving resin solution 260 is cured to smoothly provide the surface thereof, so that the defective rate at which air bubbles are generated between the optical adhesive layer and the sheet to be used in joining the upper and lower sheets later can be greatly reduced.

상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만 해당 기술분야의 숙련된 당업자라면 하기의 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although the present invention has been described with reference to the preferred embodiments thereof, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit and scope of the invention as defined in the following claims. It can be understood that

100:터치패널센서 110:상부커버기판
112: 윈도우 데코레이션 120:상부시트
121:상부 절연원판 122:상부 절연기판
126:상부 도전패턴 128:상부 와이어패턴
125:상부 보호 코팅층 129:상부 도전성 단자
130:하부시트
100: touch panel sensor 110: upper cover substrate
112: window decoration 120: top sheet
121: upper insulating plate 122: upper insulating substrate
126: upper conductive pattern 128: upper wire pattern
125: upper protective coating layer 129: upper conductive terminal
130: Lower sheet

Claims (14)

디스플레이 상부에 배치되어 대상체의 접촉위치를 감지하는 터치패널센서의 제조방법에 있어서,
도전섬유용액을 이용하여 절연기판 상에 투명 도전막을 형성하는 단계;
상기 투명 도전막 상에 상기 투명 도전막으로부터 형성되는 투명 도전패턴에 대응하는 투명 절연패턴을 형성하는 단계; 및
상기 투명 절연패턴을 마스크로 이용하여 상기 투명 절연패턴에 의해서 보호된 부분을 제외한 영역의 도전섬유가 상호 전기적으로 분리되도록 해리시키며, 상기 투명 절연패턴에 의해서 보호된 부분의 상기 투명 도전막으로부터 상기 투명 도전패턴을 형성하는 단계;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널센서의 제조방법.
1. A method of manufacturing a touch panel sensor disposed on an upper surface of a display,
Forming a transparent conductive film on an insulating substrate using a conductive fiber solution;
Forming a transparent insulating pattern corresponding to a transparent conductive pattern formed from the transparent conductive film on the transparent conductive film; And
Wherein the transparent conductive pattern of the portion protected by the transparent insulating pattern is electrically connected to the transparent conductive pattern by using the transparent insulating pattern as a mask to dissociate the conductive fibers of the region excluding the portion protected by the transparent insulating pattern, Forming a conductive pattern;
The method of claim 1,
제1항에 있어서,
상기 투명 절연패턴을 형성한 후,
상기 투명 도전막을 그대로 유지하면서 상기 투명 도전막 상에 상기 투명 도전패턴과 외부와의 전기적 연결을 위한 와이어패턴을 제공하는 것을 특징으로 하는 터치패널센서의 제조방법.
The method according to claim 1,
After forming the transparent insulation pattern,
Wherein a wire pattern for electrically connecting the transparent conductive pattern to the outside is provided on the transparent conductive film while maintaining the transparent conductive film as it is.
제1항에 있어서,
상기 투명 도전막을 그대로 유지하면서 상기 투명 도전막 상에 상기 투명 도전패턴과 외부와의 전기적 연결을 위한 와이어패턴을 제공한 후,
상기 투명 절연패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 터치패널센서의 제조방법.
The method according to claim 1,
After providing the wire pattern for electrical connection between the transparent conductive pattern and the outside on the transparent conductive film while keeping the transparent conductive film intact,
And forming the transparent insulating pattern.
제1항에 있어서,
상기 도전섬유용액은 상기 도전섬유, 수용성 바인더, 및 상기 수용성 바인더의 용해를 위한 수용성 용매를 포함하고, 상기 수용성 용매가 휘발되면서 상기 도전섬유가 상기 수용성 바인더에 의해서 상기 절연기판 상에 고착되어 상기 투명 도전막을 형성하며,
상기 투명 절연패턴은 액상의 유성 수지를 단독으로 사용하거나 상기 유성 수지의 용해를 위한 유성 용매를 상기 유성 수지와 혼합하여, 상기 투명 도전막 상에서 상기 유성 수지를 경화시켜 형성하며,
상기 투명 도전패턴을 형성하는 단계에서 상기 수용성 바인더를 용해시키는 해리용 수지용액을 이용하여 상기 도전섬유를 해리시키는 것을 특징으로 하는 터치패널센서의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the conductive fiber solution comprises a conductive solvent, a water-soluble binder, and a water-soluble solvent for dissolving the water-soluble binder, wherein the water-soluble solvent is volatilized and the conductive fiber is fixed on the insulating substrate by the water- Forming a conductive film,
Wherein the transparent insulating pattern is formed by using a liquid oily resin alone or by mixing an oily solvent for dissolving the oily resin with the oily resin and curing the oily resin on the transparent conductive film,
Wherein the conductive fiber is dissociated using a dissolution resin solution for dissolving the water-soluble binder in the step of forming the transparent conductive pattern.
제4항에 있어서,
상기 투명 절연패턴의 상기 유성 수지는 우레탄(urethane), 에폭시 아크릴레이트(epoxy acrylate), 및 폴리에스터 아크릴레이트(polyester acrylate) 중 적어도 어느 하나를 포함하며,
상기 투명 절연패턴의 상기 유성 용매는 아세톤(acetone), 메틸이소부틸케톤(MIBK; Methyl isobutyl ketone), 메틸에틸케톤(MEK; methyl ethyl ketone), 사이클로헥산(Cyclohexane), 톨루엔(toluene), 에틸레이트(ethylate), 아세트산에틸(ethyl acetate), 및 부틸 아세테이트(butyl acetate) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널센서의 제조방법.
5. The method of claim 4,
Wherein the oil-based resin of the transparent insulation pattern comprises at least one of urethane, epoxy acrylate, and polyester acrylate,
The oily solvent of the transparent insulating pattern may be at least one selected from the group consisting of acetone, methyl isobutyl ketone (MIBK), methyl ethyl ketone (MEK), cyclohexane, toluene, wherein the adhesive layer comprises at least one of ethyl acetate, ethyl acetate, and butyl acetate.
제4항에 있어서,
상기 도전섬유용액의 상기 수용성 바인더는 에틸셀룰로스(ethyl cellulose)를 포함하며,
상기 도전섬유용액의 상기 수용성 용매는 물 또는 알코올계(alcohol meter)를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널센서의 제조방법.
5. The method of claim 4,
Wherein the water soluble binder of the conductive fiber solution comprises ethyl cellulose,
Wherein the water soluble solvent of the conductive fiber solution comprises water or an alcohol meter.
제4항에 있어서,
상기 투명 도전패턴에 의해서 보호된 부분을 제외한 영역의 상기 도전섬유가 상기 해리용 수지용액 내에서 고르게 구배되어 해리된 상태에서 그대로 상기 해리용 수지용액이 경화됨으로써,
상기 투명 도전패턴에 의해서 보호된 부분을 제외한 영역에서 상기 투명 도전막은 전기 도전성을 상실하는 것을 특징으로 하는 터치패널센서의 제조방법.
5. The method of claim 4,
The conductive resin in the region excluding the portion protected by the transparent conductive pattern is hardly evenly distributed in the dissolution resin solution and hardened,
Wherein the transparent conductive film loses electrical conductivity in a region excluding the portion protected by the transparent conductive pattern.
제4항에 있어서,
상기 해리용 수지용액은 수용성 수지 및 상기 수용성 수지의 용해를 위한 수용성 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널센서의 제조방법.
5. The method of claim 4,
Wherein the dissolving resin solution comprises a water-soluble resin and a water-soluble solvent for dissolving the water-soluble resin.
제8항에 있어서,
상기 수용성 수지는 수용성 광경화 수지, 수용성 자연건조 수지, 및 수용성 열경화 수지 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널센서의 제조방법.
9. The method of claim 8,
Wherein the water-soluble resin comprises at least one of a water-soluble photo-curable resin, a water-soluble naturally-drying resin, and a water-soluble thermosetting resin.
제8항에 있어서,
상기 수용성 용매는 물 또는 알코올계(alcohol meter)를 단독 또는 혼합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 터치패널센서의 제조방법.
9. The method of claim 8,
Wherein the water-soluble solvent is water or alcohol meter alone or in combination.
제1항에 있어서,
상기 와이어패턴은 상기 투명 도전막 전체를 덮도록 제공되는 와이어층을 에칭하여 제공되며, 상기 투명 절연패턴의 하부의 상기 투명 도전막은 에칭 과정에서 보호되는 것을 특징으로 하는 터치패널센서의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the wire pattern is provided by etching a wire layer provided so as to cover the entire transparent conductive film, and the transparent conductive film under the transparent insulating pattern is protected in an etching process.
제11항에 있어서,
상기 와이어층은 스퍼터링을 이용하여 제공하는 것을 특징으로 하는 터치패널센서의 제조방법.
12. The method of claim 11,
Wherein the wire layer is provided by sputtering.
제1항에 있어서,
상기 투명 도전패턴을 형성한 후, 보호 코팅층을 형성하는 것을 특징으로 하는 터치패널센서의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the protective coating layer is formed after forming the transparent conductive pattern.
제1항에 있어서,
상기 절연기판 상에 하나 또는 복수개의 터치패널센서를 위한 셀이 동시에 형성되며, 상기 절연기판은 평판 필름 또는 롤 필름 형태로 제공되는 것을 특징으로 하는 터치패널센서의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein a cell for one or a plurality of touch panel sensors is simultaneously formed on the insulating substrate, and the insulating substrate is provided in the form of a flat film or a roll film.
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