KR102557337B1 - Zero stiffness pad for transferring device, method of manufacturing the same and zero stiffness pad group including zero stiffness pad for transferring device - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일실시예는 소자가 전사될 타깃기판과 소자 사이에 균일한 접촉압력이 제공되도록 하는 소자 전사용 무강성 패드, 소자 전사용 무강성 패드의 제조방법 및 소자 전사용 무강성 패드를 포함하는 소자 전사용 무강성 패드군을 제공한다. 여기서, 소자 전사용 무강성 패드는 베이스판 그리고 베이스판의 일면에 일단부가 연결되고 돌출 형성되어 외력이 가해지면 굽힘 변형되는 복수의 기둥을 포함하고, 타깃기판에 전사될 복수의 소자가 점착된 전사필름과, 복수의 소자가 타깃기판에 전사되도록 가압력을 제공하는 가압부의 사이에 배치되고, 가압부의 가압력이 제공되면 굽힘 변형되어 복수의 소자와 타깃기판 사이에 균일한 접촉압력이 제공되도록 한다.An embodiment of the present invention includes a non-rigid pad for element transfer, a method for manufacturing a non-rigid pad for element transfer, and a non-rigid pad for element transfer, which provide a uniform contact pressure between a target substrate to which an element is to be transferred and an element. To provide a non-rigid pad group for element transfer. Here, the non-rigid pad for element transfer includes a base plate and a plurality of pillars, one end of which is connected to and protrudes from one surface of the base plate and is bent and deformed when an external force is applied, and a transfer to which a plurality of elements to be transferred to the target substrate are adhered It is disposed between the film and a pressing part that provides a pressing force so that the plurality of elements are transferred to the target substrate, and when the pressing force of the pressing part is provided, it is bent and deformed so that a uniform contact pressure is provided between the plurality of elements and the target substrate.

Description

소자 전사용 무강성 패드, 소자 전사용 무강성 패드의 제조방법 및 소자 전사용 무강성 패드를 포함하는 소자 전사용 무강성 패드군{ZERO STIFFNESS PAD FOR TRANSFERRING DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME AND ZERO STIFFNESS PAD GROUP INCLUDING ZERO STIFFNESS PAD FOR TRANSFERRING DEVICE}ZERO STIFFNESS PAD FOR TRANSFERRING DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME AND ZERO STIFFNESS PAD GROUP INCLUDING ZERO STIFFNESS PAD FOR TRANSFERRING DEVICE}

본 발명은 소자 전사용 무강성 패드, 소자 전사용 무강성 패드의 제조방법 및 소자 전사용 무강성 패드를 포함하는 소자 전사용 무강성 패드군에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 소자가 전사될 타깃기판과 소자 사이에 균일한 접촉압력이 제공되도록 하는 소자 전사용 무강성 패드, 소자 전사용 무강성 패드의 제조방법 및 소자 전사용 무강성 패드를 포함하는 소자 전사용 무강성 패드군에 관한 것이다.The present invention relates to a non-rigid pad for element transfer, a method for manufacturing the non-rigid pad for element transfer, and a group of non-rigid pads for element transfer including the non-rigid pad for element transfer, and more particularly, to a target substrate on which elements are to be transferred. It relates to an element transfer non-rigid pad for providing a uniform contact pressure between a device and an element, a method for manufacturing the element transfer non-rigid pad, and an element transfer non-rigid pad group including the element transfer non-rigid pad.

반도체 공정, 유연전자제품 공정, 디스플레이 공정, MEMS 공정, LED 공정, 태양전지 공정 등에서 사용되는 생산 장비에는 박막 형태의 소자를 전사하는 장치가 필요하다. Production equipment used in the semiconductor process, flexible electronics process, display process, MEMS process, LED process, solar cell process, etc. requires a device that transfers thin film elements.

기존의 두께가 두꺼운 소자들은 진공척(vacuum chuck) 기술을 이용하여 피킹(picking) 또는 플레이싱(placing) 하는 전사 공정을 진행하였으나, 진공척 기술은 두께가 얇은 소자에 적용할 경우 진공척에서 발생하는 압력으로 인해 소자가 파손되기 때문에, 일반적으로 5 micron 이하의 박막 소자에는 적용이 불가능하다. 다른 방법으로 정전척(electrostatic chuck) 기술을 이용하여 소자를 이송하는 방법이 있지만, 두께가 얇은 소자에 적용할 경우 정전기에 의한 소자 파손이 발생될 수 있다.Existing thick-walled devices have undergone a transfer process of picking or placing using vacuum chuck technology, but when vacuum chuck technology is applied to thin-walled devices, vacuum chuck technology generates Since the device is damaged due to the pressure applied, it is generally not applicable to thin film devices of 5 microns or less. As another method, there is a method of transferring an element using an electrostatic chuck technology, but when applied to a thin element, damage to the element may occur due to static electricity.

위와 같은 이유로 두께가 매우 얇은 박막 형태의 소자는 나노 스케일에서 작용하는 반데르발스 힘(van der Waals force)을 이용하여 점착 또는 이송할 수 있는 기술이 공지된 바 있으며, 이러한 반데르발스 힘을 제어할 수 있는 이송 장치를 이용하여 박막 소자를 이송할 수 있다. 이때, 이송 장치의 표면이 매우 딱딱한 경우에는 소자 간의 미소한 두께 차이나 모재(substrate)에 존재하는 곡률 등에 의해 이송 장치와 소자가 서로 접촉이 잘 되지 않기 때문에 박막 소자를 점착하여 이송할 수가 없게 된다. 따라서 이러한 박막 소자의 이송을 위해서는 매우 탄성 계수가 작은 소재, 폴리머나 고무 소재를 이용한 전사장치가 사용되고 있으며, 일 예로, 유연 스탬프가 널리 사용되고 있다.For the above reasons, there is a known technology for attaching or transporting a thin film element having a very thin thickness using van der Waals force acting at the nanoscale, and controlling such van der Waals force It is possible to transfer the thin film element using a transfer device capable of At this time, if the surface of the transfer device is very hard, the thin film device cannot be adhered and transferred because the transfer device and the device do not come into good contact with each other due to a slight difference in thickness between the devices or curvature existing in the substrate. Therefore, in order to transfer such a thin film element, a transfer device using a material having a very low modulus of elasticity, a polymer or rubber material is used. For example, a flexible stamp is widely used.

통상적으로, 전사장치는 롤 타입과 플레이트 타입으로 이루어질 수 있다.Typically, the transfer device may be of a roll type and a plate type.

롤 타입의 전사장치에서는 기판의 상부에 롤러가 위치되고, 롤러의 외주면에 점착층이 마련되어 마이크로 소자가 점착되도록 함으로써 마이크로 소자의 전사가 이루어질 수 있다. In the roll-type transfer device, a roller is positioned on a substrate, and an adhesive layer is provided on an outer circumferential surface of the roller to adhere micro devices, so that micro devices can be transferred.

플레이트 타입의 전사장치에서 기판의 상부에 위치되는 가압플레이트의 하면에 마련되는 점착층이 마련되어 마이크로 소자가 점착되도록 함으로써 마이크로 소자의 전사가 이루어질 수 있다. In the plate-type transfer device, micro devices may be transferred by providing an adhesive layer provided on the lower surface of a pressure plate positioned above a substrate to adhere the micro devices.

한편, 롤 타입의 전사장치 또는 플레이트 타입의 전사장치에서 복수의 마이크로 소자가 소스기판으로부터 점착층으로 피킹되거나, 점착층에 점착된 복수의 마이크로 소자가 타깃기판으로 플레이싱되기 위해서는 복수의 마이크로 소자와 점착층 간에 균일한 접촉압력이 가해지는 것이 중요하다. Meanwhile, in a roll-type transfer device or a plate-type transfer device, in order for a plurality of micro devices to be picked from a source substrate to an adhesive layer or to place a plurality of micro devices adhered to an adhesive layer to a target substrate, a plurality of micro devices and It is important that a uniform contact pressure is applied between the adhesive layers.

그러나, 롤러 또는 가압플레이트의 가공 오차 및 조립 공차 등과 같은 전사장치에서의 공차와, 마이크로 소자의 높이 불균일이나 기판의 휨 등과 같은 요인으로 인해 점착층과 마이크로 소자 간에 균일한 접촉압력이 발생하지 못하는 문제점이 존재하게 된다. However, due to tolerances in the transfer device, such as processing errors and assembly tolerances of rollers or pressure plates, and factors such as uneven height of micro devices or warpage of the substrate, uniform contact pressure between the adhesive layer and the micro devices is not generated. this comes into existence

도 1은 종래의 롤 타입의 전사 공정의 문제점을 설명하기 위한 예시도이다.1 is an exemplary diagram for explaining problems of a conventional roll-type transfer process.

도 1의 (a)에서 보는 바와 같이, 타깃기판(10)이 휜 경우, 타깃기판(10)의 전극(11,12)에 소자(20,21)의 단자가 각각 가접착된 상태가 되면 타깃기판(10)의 휨에 대응되어 전사필름(30)도 휘게 된다. 그리고 이 상태에서 롤러와 같은 가압부(40)가 전사필름(30)을 가압하게 되면(도 1의 (b) 참조) 중앙부분의 소자(20)와 전극(11)사이에는 원하는 접촉압력이 발생하게 되지만, 가장자리 부분의 소자(21)와 전극(12)사이에는 접촉압력이 작거나 거의 발생하지 않게 된다. 따라서, 도 1의 (c)에서 보는 바와 같이, 전사필름(30)의 가장자리 부분의 소자(21)는 타깃기판(10)에 전사되지 못하게 될 수 있는 문제점이 있다.As shown in (a) of FIG. 1, when the target substrate 10 is bent, when the terminals of the elements 20 and 21 are temporarily bonded to the electrodes 11 and 12 of the target substrate 10, the target Corresponding to the bending of the substrate 10, the transfer film 30 is also bent. In this state, when the pressing part 40 such as a roller presses the transfer film 30 (see FIG. 1(b)), a desired contact pressure is generated between the element 20 and the electrode 11 in the central part. However, little or no contact pressure is generated between the element 21 and the electrode 12 at the edge. Therefore, as shown in (c) of FIG. 1 , there is a problem in that the element 21 at the edge of the transfer film 30 may not be transferred to the target substrate 10 .

그리고 만일, 가장자리 부분의 소자(21)를 타깃기판(10)에 전사하기 위해 가압부(40)의 가압력을 증가시키게 되면, 가장자리 부분의 소자(21)는 타깃기판(10)에 전사되더라도, 중앙부분에는 너무 큰 접촉압력이 제공되기 때문에 중앙부분의 소자(20)가 눌려 손상이 발생할 수 있다.And, if the pressing force of the pressing unit 40 is increased to transfer the edge element 21 to the target substrate 10, even if the edge element 21 is transferred to the target substrate 10, the center Since an excessively large contact pressure is applied to the portion, the element 20 in the central portion may be pressed and damaged.

따라서, 각종 오차에 기인하는 소자와 타깃기판 사이의 접촉압력의 불균일을 극복할 수 있는 기술이 요구된다.Therefore, there is a need for a technique capable of overcoming non-uniformity of contact pressure between a device and a target substrate caused by various errors.

대한민국 등록특허공보 제1241964호(2013.03.11. 공고)Republic of Korea Patent Registration No. 1241964 (Announced on March 11, 2013)

상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 소자가 전사될 타깃기판과 소자 사이에 균일한 접촉압력이 제공되도록 하는 소자 전사용 무강성 패드, 소자 전사용 무강성 패드의 제조방법 및 소자 전사용 무강성 패드를 포함하는 소자 전사용 무강성 패드군을 제공하는 것이다.In order to solve the above problems, a technical problem to be achieved by the present invention is to manufacture a non-rigid pad for device transfer and a non-rigid pad for device transfer so that a uniform contact pressure is provided between the target substrate and the device to which the device is transferred. An object of the present invention is to provide a non-rigid pad group for element transfer including a method and a non-rigid pad for element transfer.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The technical problem to be achieved by the present invention is not limited to the above-mentioned technical problem, and other technical problems not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the description below. There will be.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예는 베이스판; 그리고 상기 베이스판의 일면에 일단부가 연결되고 돌출 형성되어 외력이 가해지면 굽힘 변형되는 복수의 기둥을 포함하고, 타깃기판에 전사될 복수의 소자가 점착된 전사필름과, 상기 복수의 소자가 상기 타깃기판에 전사되도록 가압력을 제공하는 가압부의 사이에 배치되고, 상기 가압부의 가압력이 제공되면 굽힘 변형되어 상기 복수의 소자와 상기 타깃기판 사이에 균일한 접촉압력이 제공되도록 하는 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드를 제공한다.In order to achieve the above technical problem, one embodiment of the present invention is a base plate; And a transfer film including a plurality of pillars, one end of which is connected to one surface of the base plate and protrudes and is bent and deformed when an external force is applied, and a plurality of elements to be transferred to a target substrate are adhered to the transfer film, and the plurality of elements are attached to the target Disposed between pressing parts that provide a pressing force to be transferred to a substrate, and when the pressing force of the pressing part is provided, it is bent and deformed so that a uniform contact pressure is provided between the plurality of elements and the target substrate. A non-rigid pad is provided.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 베이스판은 상기 전사필름에 밀착되고, 상기 기둥의 타단부는 상기 가압부에 대향되도록 배치될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the base plate may be in close contact with the transfer film, and the other end of the pillar may be disposed to face the pressing part.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 기둥의 타단부는 상기 전사필름에 밀착되고, 상기 베이스판은 상기 가압부에 대향되도록 배치될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the other end of the pillar may be in close contact with the transfer film, and the base plate may be disposed to face the pressing part.

한편, 상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예는 베이스판; 그리고 상기 베이스판의 일면에 일단부가 연결되고 돌출 형성되어 외력이 가해지면 굽힘 변형되는 복수의 기둥을 포함하고, 타깃기판의 하부에 배치되고, 전사필름에 점착된 복수의 소자가 상기 타깃기판에 전사되도록 가압부의 가압력이 제공되면 굽힘 변형되어 상기 복수의 소자와 상기 타깃기판 사이에 균일한 접촉압력이 제공되도록 하는 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드를 제공한다.On the other hand, in order to achieve the above technical problem, one embodiment of the present invention is a base plate; And a plurality of pillars, one end of which is connected to one surface of the base plate and protrudes to be bent and deformed when an external force is applied, disposed below the target substrate, and a plurality of elements adhered to the transfer film are transferred to the target substrate Provided is a non-rigid pad for element transfer, characterized in that, when the pressing force of the pressing part is provided, the bending deformation is applied so that a uniform contact pressure is provided between the plurality of elements and the target substrate.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 베이스판은 상기 타깃기판에 밀착될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the base plate may adhere to the target substrate.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 기둥의 타단부는 상기 타깃기판에 밀착될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the other end of the pillar may be in close contact with the target substrate.

한편, 상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예는 베이스판; 그리고 상기 베이스판의 일면에 일단부가 연결되고 돌출 형성되어 외력이 가해지면 굽힘 변형되는 복수의 기둥을 포함하고, 타깃기판에 전사될 복수의 소자가 점착된 전사필름 및 상기 복수의 소자가 상기 타깃기판에 전사되도록 가압력을 제공하는 가압부의 사이와, 상기 타깃기판의 하부에 각각 배치되며, 상기 가압부의 가압력이 제공되면 굽힘 변형되어 상기 복수의 소자와 상기 타깃기판 사이에 균일한 접촉압력이 제공되도록 하는 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드를 제공한다.On the other hand, in order to achieve the above technical problem, one embodiment of the present invention is a base plate; In addition, a transfer film having one end connected to one side of the base plate and protruding to include a plurality of pillars that are bent and deformed when an external force is applied, and a plurality of elements to be transferred to a target substrate are adhered, and the plurality of elements are attached to the target substrate It is disposed between a pressing part that provides a pressing force to be transferred to and a lower portion of the target substrate, and is bent and deformed when the pressing force of the pressing part is provided so that a uniform contact pressure is provided between the plurality of elements and the target substrate It provides a non-rigid pad for element transfer, characterized in that.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 소자 전사용 무강성 패드는 2개가 적층되어 배치될 수 있다.In an embodiment of the present invention, two of the element transfer non-rigid pads may be stacked.

본 발명의 실시예에 있어서, 적층되어 배치되는 각각의 상기 소자 전사용 무강성 패드는 모두 상기 베이스판 및 상기 기둥의 상대위치가 동일할 수 있다.In an exemplary embodiment of the present invention, each of the element transfer non-rigid pads stacked and disposed may have the same relative positions of the base plate and the pillar.

본 발명의 실시예에 있어서, 적층되어 배치되는 각각의 상기 소자 전사용 무강성 패드 중 어느 하나의 상기 소자 전사용 무강성 패드의 상기 베이스판 및 상기 기둥의 상대위치는 나머지 소자 전사용 무강성 패드의 베이스판 및 기둥과 서로 반대일 수 있다.In an embodiment of the present invention, the relative positions of the base plate and the column of any one of the element transfer non-rigid pads among the element transfer non-rigid pads that are stacked and arranged are the other element transfer non-rigid pads. It may be opposite to the base plate and the column of.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 베이스판 및 상기 기둥은 실리콘 고무, 우레탄 고무, 불소 고무, EPDM(ethylene propylene diene rubber), NBR(Nitrile-butadiene rubber) 및 PMMA(polymethyl methacrylate) 중 적어도 어느 하나로 형성될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the base plate and the pillar are formed of at least one of silicone rubber, urethane rubber, fluororubber, EPDM (ethylene propylene diene rubber), NBR (nitrile-butadiene rubber), and PMMA (polymethyl methacrylate) It can be.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 기둥은 축방향에 수직한 단면 형상이 비대칭으로 형성되어 상기 기둥의 굽힘 변형 방향이 제어될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the cross-sectional shape of the pillar perpendicular to the axial direction is formed asymmetrically so that the direction of bending deformation of the pillar can be controlled.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 기둥은 복수개가 그룹핑되어 기둥 그룹을 형성하고, 각각의 상기 기둥 그룹에 속하는 기둥은 굽힘 변형 방향이 서로 대칭이 되도록 배치될 수 있다.In an embodiment of the present invention, a plurality of pillars may be grouped to form a pillar group, and pillars belonging to each of the pillar groups may be disposed such that bending deformation directions are symmetrical to each other.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 가압부는 롤러이고, 상기 가압부의 이동방향을 기준으로 상기 베이스판의 중앙에서부터 전단부분과 후단부분으로 갈수록 상기 기둥은 높은 기둥 밀도로 배치될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the pressing unit is a roller, and the pillars may be disposed at a high column density from the center of the base plate to the front and rear ends of the base plate based on the moving direction of the pressing unit.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 기둥은 일방향으로 휘어져 편심된 형상으로 형성되고, 상기 기둥에 외력이 가해지면 상기 기둥은 초기에 휘어져 편심된 방향으로 굽힘 변형될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the pillar is bent in one direction to form an eccentric shape, and when an external force is applied to the pillar, the pillar may be initially bent and bent in the eccentric direction.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 기둥은 상기 기둥의 일단부에서부터 축방향을 따라 형성되는 제1직선부와, 상기 제1직선부에 일단부가 연결되고 일방향으로 휘어져 편심되게 형성되는 굽힘부와, 상기 굽힘부의 타단부에 연결되고 축방향을 따라 형성되는 제2직선부를 가질 수 있다.In an embodiment of the present invention, the pillar has a first straight portion formed along the axial direction from one end of the pillar, and a bent portion formed eccentrically by being bent in one direction and connected to one end of the first straight line portion; It may have a second straight portion connected to the other end of the bent portion and formed along an axial direction.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 기둥은 상기 기둥의 일단부에서부터 일방향으로 경사지게 연장되는 제1연장부와, 상기 제1연장부와 일단부가 연결되고 상기 제1연장부와 반대방향으로 경사지게 연장되는 제2연장부를 가질 수 있다.In an embodiment of the present invention, the pillar has a first extension extending obliquely in one direction from one end of the pillar, and one end connected to the first extension and extending obliquely in the opposite direction to the first extension It may have a second extension part.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 제2연장부의 타단부는 곡면 형성될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the other end of the second extension part may be formed with a curved surface.

한편, 상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예는 소자 전사용 무강성 패드의 제조방법으로서, 3D 프린터 공정 또는 LIGA 공정을 이용하여 소자 전사용 무강성 패드에 대응되는 형상의 몰드를 제작하는 몰드 제작단계; 그리고 상기 몰드에 성형액을 투입하고 경화시켜 소자 전사용 무강성 패드를 성형하는 성형단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드의 제조방법을 제공한다.On the other hand, in order to achieve the above technical problem, one embodiment of the present invention is a method of manufacturing a non-rigid pad for element transfer, using a 3D printer process or a LIGA process to form a mold corresponding to the non-rigid pad for element transfer. Mold manufacturing step to manufacture; And it provides a method of manufacturing a non-rigid pad for element transfer, characterized in that it comprises a molding step of molding a non-rigid pad for element transfer by injecting a molding liquid into the mold and curing it.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 성형액은 실리콘 고무, 우레탄 고무, 불소 고무, EPDM(ethylene propylene diene rubber) 및 NBR(Nitrile-butadiene rubber) 중 적어도 어느 하나의 소재이고, 상기 성형액은 실온 경화(Room Temperature Vulcanization) 또는 고온 경화(High Temperature Vulcanization)될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the molding liquid is at least one of silicone rubber, urethane rubber, fluororubber, EPDM (ethylene propylene diene rubber) and NBR (Nitrile-butadiene rubber), and the molding liquid is cured at room temperature (Room Temperature Vulcanization) or high temperature curing (High Temperature Vulcanization).

한편, 상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예는 베이스판과, 상기 베이스판의 일면에 일단부가 연결되고 돌출 형성되어 외력이 가해지면 굽힘 변형되는 복수의 기둥을 가지는 소자 전사용 무강성 패드를 포함하고, 상기 소자 전사용 무강성 패드는 타깃기판에 전사될 복수의 소자가 점착된 전사필름과, 상기 복수의 소자가 상기 타깃기판에 전사되도록 가압력을 제공하는 가압부의 사이에 3개 이상이 적층되어 배치되고, 상기 가압부의 가압력이 제공되면 1차 굽힘 변형되어 상기 복수의 소자와 상기 타깃기판 사이에 균일한 제1접촉압력이 제공되도록 하고, 상기 가압부의 가압력이 증가하여 제공되면 2차 굽힘 변형되어 상기 복수의 소자와 상기 타깃기판 사이에 상기 제1접촉압력보다 큰 제2접촉압력이 균일하게 제공되도록 하는 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드군을 제공한다.On the other hand, in order to achieve the above technical problem, an embodiment of the present invention is an element transfer device having a base plate and a plurality of pillars that are bent and deformed when an external force is applied by protruding and connecting one end to one surface of the base plate. A rigid pad is included, and the non-rigid pad for element transfer is formed between a transfer film on which a plurality of elements to be transferred to a target substrate are adhered, and a pressing part providing a pressing force so that the plurality of elements are transferred to the target substrate. The above are stacked and arranged, and when the pressing force of the pressing part is provided, the first bending deformation occurs so that a uniform first contact pressure is provided between the plurality of elements and the target substrate, and when the pressing force of the pressing part increases and is provided, 2 It provides a non-rigid pad group for element transfer, characterized in that the second contact pressure greater than the first contact pressure is uniformly provided between the plurality of elements and the target substrate through secondary bending deformation.

한편, 상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예는 베이스판과, 상기 베이스판의 일면에 일단부가 연결되고 돌출 형성되어 외력이 가해지면 굽힘 변형되는 복수의 기둥을 가지는 소자 전사용 무강성 패드를 포함하고, 상기 소자 전사용 무강성 패드는 전사필름에 점착된 복수의 소자가 전사될 타깃기판의 하부에 3개 이상이 적층되어 배치되고, 상기 복수의 소자가 상기 타깃기판에 전사되도록 가압부의 가압력이 제공되면 1차 굽힘 변형되어 상기 복수의 소자와 상기 타깃기판 사이에 균일한 제1접촉압력이 제공되도록 하고, 상기 가압부의 가압력이 증가하여 제공되면 2차 굽힘 변형되어 상기 복수의 소자와 상기 타깃기판 사이에 상기 제1접촉압력보다 큰 제2접촉압력이 균일하게 제공되도록 하는 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드군을 제공한다.On the other hand, in order to achieve the above technical problem, an embodiment of the present invention is an element transfer device having a base plate and a plurality of pillars that are bent and deformed when an external force is applied by protruding and connecting one end to one surface of the base plate. A rigid pad is included, and three or more of the non-rigid pads for element transfer are stacked and disposed under a target substrate to which a plurality of elements attached to a transfer film are to be transferred, and the plurality of elements are transferred to the target substrate. When the pressing force of the pressing unit is provided, a first bending deformation is performed so that a uniform first contact pressure is provided between the plurality of elements and the target substrate, and when the pressing force of the pressing unit is increased and provided, a second bending deformation is performed to provide a uniform first contact pressure between the plurality of elements. It provides a non-rigid pad group for element transfer characterized in that a second contact pressure greater than the first contact pressure is uniformly provided between the and the target substrate.

본 발명의 실시예에 따르면, 소자 전사용 무강성 패드가 특정 변형구간에서 특정 하중이 발생하는 무강성(Zero Stiffness)영역을 가짐으로써, 여러 가지 오차 요인으로 인해 가압부가 균일한 가압력을 제공하지 못하더라도, 소자 전사용 무강성 패드가 소자 및 타깃기판 사이에 균일한 접촉압력이 가해지도록 할 수 있으며, 이를 통해, 소자의 전사가 더욱 안정적이고 효과적으로 이루어질 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the non-stiffness pad for element transfer has a zero stiffness region where a specific load occurs in a specific deformation section, so that the pressing part cannot provide a uniform pressing force due to various error factors. However, the non-rigid pad for element transfer can apply a uniform contact pressure between the element and the target substrate, and through this, the element can be transferred more stably and effectively.

본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.The effects of the present invention are not limited to the above effects, and should be understood to include all effects that can be inferred from the detailed description of the present invention or the configuration of the invention described in the claims.

도 1의 종래의 롤 타입의 전사 공정의 문제점을 설명하기 위한 예시도이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 소자 전사용 무강성 패드를 나타낸 사시도이다.
도 3은 도 2의 소자 전사용 무강성 패드의 형상 변형 및 이에 따른 변위-하중 관계를 나타낸 그래프이다.
도 4는 도 2의 소자 전사용 무강성 패드의 제1적용예를 나타낸 예시도이다.
도 5는 도 2의 기둥의 단면 형상에 따른 관성모멘트, 단면적, 임계하중 및 임계변위를 나타낸 예시도이다.
도 6은 도 2의 소자 전사용 무강성 패드의 기둥의 다른 형태 및 이에 따른 변위-하중 관계를 나타낸 그래프이다.
도 7은 도 2의 소자 전사용 무강성 패드의 기둥의 다른 형태를 나타낸 사시도이다.
도 8은 도 7의 소자 전사용 무강성 패드의 굽힘 변형 방향을 설명하기 위한 예시도이다.
도 9는 도 7의 소자 전사용 무강성 패드의 형상 변형에 따른 변위-하중 관계를 나타낸 그래프이다.
도 10은 본 발명의 일실시예에 따른 소자 전사용 무강성 패드의 기둥의 또 다른 형태에 따른 굽힘 변형 방향을 설명하기 위한 예시도이다.
도 11은 도 2의 소자 전사용 무강성 패드의 기둥의 또 다른 형태에 따른 굽힘 변형 방향을 설명하기 위한 다른 예시도이다.
도 12는 도 2의 소자 전사용 무강성 패드의 기둥의 배치 형태를 설명하기 위한 예시도이다.
도 13은 도 2의 소자 전사용 무강성 패드의 기둥의 배치 형태를 설명하기 위한 예시도이다.
도 14는 도 13의 소자 전사용 무강성 패드의 작업예를 설명하기 위한 예시도이다.
도 15는 도 2의 소자 전사용 무강성 패드의 제1적용예의 다른 예 및 이에 따른 변위-하중 관계를 나타낸 그래프이다.
도 16은 도 2의 소자 전사용 무강성 패드의 제2적용예를 나타낸 예시도이다.
도 17은 도 2의 소자 전사용 무강성 패드의 제3적용예를 나타낸 예시도이다.
도 18은 도 2의 소자 전사용 무강성 패드로 이루어지는 소자 전사용 무강성 패드군의 적용예 및 이에 따른 변위-하중 관계를 나타낸 그래프이다.
It is an exemplary diagram for explaining problems of the conventional roll-type transfer process of FIG. 1 .
2 is a perspective view showing a non-rigid pad for element transfer according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a graph showing the shape deformation of the non-rigid pad for element transfer of FIG. 2 and the resultant displacement-load relationship.
FIG. 4 is an exemplary view showing a first application example of the non-rigid pad for element transfer of FIG. 2 .
5 is an exemplary view showing a moment of inertia, a cross-sectional area, a critical load, and a critical displacement according to the cross-sectional shape of the column of FIG.
FIG. 6 is a graph showing another shape of a column of the non-rigid pad for element transfer of FIG. 2 and a displacement-load relationship according thereto.
FIG. 7 is a perspective view illustrating another shape of a pillar of the non-rigid pad for element transfer of FIG. 2 .
FIG. 8 is an exemplary diagram for explaining a bending deformation direction of the element transfer non-rigid pad of FIG. 7 .
9 is a graph showing a displacement-load relationship according to shape deformation of the non-rigid pad for element transfer of FIG. 7 .
10 is an exemplary diagram for explaining a bending deformation direction according to another shape of a pillar of a non-rigid pad for element transfer according to an embodiment of the present invention.
FIG. 11 is another exemplary view for explaining a bending deformation direction according to another shape of a pillar of the non-rigid pad for element transfer of FIG. 2 .
FIG. 12 is an exemplary diagram for explaining the arrangement of pillars of the non-rigid pad for element transfer of FIG. 2 .
FIG. 13 is an exemplary diagram for explaining the arrangement of pillars of the non-rigid pad for element transfer of FIG. 2 .
FIG. 14 is an exemplary diagram for explaining a working example of the non-rigid pad for element transfer of FIG. 13 .
FIG. 15 is a graph showing another example of the first application example of the non-rigid pad for element transfer of FIG. 2 and the resulting displacement-load relationship.
FIG. 16 is an exemplary view showing a second application example of the non-rigid pad for element transfer of FIG. 2 .
FIG. 17 is an exemplary view showing a third application example of the non-rigid pad for element transfer of FIG. 2 .
FIG. 18 is a graph showing an application example of an element transfer non-rigid pad group composed of the element transfer non-rigid pad of FIG. 2 and a displacement-load relationship according thereto.

이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 따라서 여기에서 설명하는 실시예로 한정되는 것은 아니다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, the present invention may be embodied in many different forms and, therefore, is not limited to the embodiments described herein. And in order to clearly explain the present invention in the drawings, parts irrelevant to the description are omitted, and similar reference numerals are attached to similar parts throughout the specification.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 “연결(접속, 접촉, 결합)”되어 있다고 할 때, 이는 “직접적으로 연결”되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 “간접적으로 연결”되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 “포함”한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part is said to be “connected (connected, contacted, combined)” with another part, it is not only “directly connected”, but also “indirectly connected” with another member in between. ”Including cases where it is. In addition, when a certain component is said to "include", this means that it may further include other components without excluding other components unless otherwise stated.

본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, “포함하다” 또는 “가지다” 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.Terms used in this specification are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this specification, terms such as “include” or “have” are intended to designate that there is a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification, but one or more other features It should be understood that the presence or addition of numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof is not precluded.

이하 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 소자 전사용 무강성 패드를 나타낸 사시도이고, 도 3은 도 2의 소자 전사용 무강성 패드의 형상 변형 및 이에 따른 변위-하중 관계를 나타낸 그래프이다.2 is a perspective view showing a non-rigid pad for element transfer according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a graph showing shape deformation of the non-rigid pad for element transfer of FIG. 2 and displacement-load relationship accordingly.

도 2 및 도 3에서 보는 바와 같이, 소자 전사용 무강성 패드(100)는 베이스판(110) 그리고 기둥(120)을 포함할 수 있다.As shown in FIGS. 2 and 3 , the element transfer non-rigid pad 100 may include a base plate 110 and a pillar 120 .

베이스판(110)은 편평하게 형성될 수 있으며, 기둥(120)은 일단부(121)가 베이스판(110)의 일면에 연결되고 돌출 형성될 수 있다. 기둥(120)은 외력이 가해지면 굽힘 변형될 수 있으며, 외력은 기둥(120)의 타단부(122)로 제공될 수 있다. 여기서, 기둥(120)의 굽힘 변형은 좌굴(Buckling)을 포함하는 의미일 수 있다.The base plate 110 may be formed flat, and the pole 120 may have one end 121 connected to one surface of the base plate 110 and protruded. The pillar 120 may be bent and deformed when an external force is applied, and the external force may be provided to the other end 122 of the pillar 120 . Here, the bending deformation of the column 120 may mean including buckling.

베이스판(110) 및 기둥(120)은 실리콘 고무, 우레탄 고무, 불소 고무, EPDM(ethylene propylene diene rubber), NBR(Nitrile-butadiene rubber), PMMA(polymethyl methacrylate) 및 에폭시 기반 네거티브 포토레지스트 중 적어도 어느 하나로 형성될 수 있다.The base plate 110 and the pillar 120 may include at least one of silicone rubber, urethane rubber, fluororubber, ethylene propylene diene rubber (EPDM), nitrile-butadiene rubber (NBR), polymethyl methacrylate (PMMA), and epoxy-based negative photoresist. can be formed into one.

소자 전사용 무강성 패드의 제조방법은 UV 광원을 이용한 포토리소그래피 공정, 3D 프린터 공정 또는 X-선을 이용한 LIGA공정으로 직접 소자 전사용 무강성 패드를 제조할 수 있다. 이때, 소자 전사용 무강성 패드의 소재는 실리콘 고무, PMMA 및 에폭시 기반 네거티브 포토레지스트 중 적어도 어느 하나의 소재가 사용될 수 있다.The method of manufacturing the non-rigid pad for device transfer may directly manufacture the non-rigid pad for device transfer using a photolithography process using a UV light source, a 3D printer process, or a LIGA process using X-rays. In this case, at least one of silicon rubber, PMMA, and epoxy-based negative photoresist may be used as the material of the non-rigid pad for device transfer.

또 다른 방법으로, 소자 전사용 무강성 패드의 제조방법은 3D 프린터 공정 또는 LIGA 공정을 이용하여 소자 전사용 무강성 패드에 대응되는 형상의 몰드를 제작하는 몰드 제작단계와, 몰드에 성형액을 투입하고 경화시켜 소자 전사용 무강성 패드를 성형하는 성형단계를 포함할 수 있다.As another method, a method for manufacturing a non-rigid pad for element transfer includes a mold manufacturing step of manufacturing a mold having a shape corresponding to the non-rigid pad for element transfer using a 3D printer process or a LIGA process, and injecting a molding liquid into the mold and curing to form a non-rigid pad for device transfer.

몰드에 투입되는 성형액은 실리콘 고무, 우레탄 고무, 불소 고무, EPDM 및 NBR 중 적어도 어느 하나의 소재이고, 성형액은 실온 경화(Room Temperature Vulcanization) 또는 고온 경화(High Temperature Vulcanization)될 수 있다.The molding fluid injected into the mold is at least one of silicone rubber, urethane rubber, fluororubber, EPDM, and NBR, and the molding fluid may be room temperature vulcanization or high temperature vulcanization.

본 발명에 따른 소자 전사용 무강성 패드(100)에서는 도 3에서 보는 바와 같이 기둥(120)이 제1변위(d1)만큼 굽힘 변형된 후, 제1변위(d1)보다 큰 제2변위(d2)만큼 굽힘 변형되더라도 제1변위(d1) 및 제2변위(d2) 구간에서 동일한 하중(F)이 발생될 수 있다. 즉, 제1변위(d1) 및 제2변위(d2) 구간에서 동일한 하중(F)이 유지되는 무강성(Zero Stiffness) 영역을 가질 수 있다. In the element transfer non-rigid pad 100 according to the present invention, as shown in FIG. 3, after the pillar 120 is bent by the first displacement d1, the second displacement d2 greater than the first displacement d1. ), the same load (F) can be generated in the first displacement (d1) and second displacement (d2) sections. That is, it may have a zero stiffness region in which the same load (F) is maintained in the first displacement (d1) and second displacement (d2) sections.

다시 말하면, 소자 전사용 무강성 패드(100)는 외부에서 가해지는 힘에 의해 압축 변형되는 중에 특정한 변위 구간에서는 하중이 증가하지 않게 된다. 이는, 소자 전사용 무강성 패드(100)가 특정한 변형구간 내에서 변형되도록 가압부에서 적절한 크기의 힘을 제공하면, 소자와 타깃기판 사이에는 접촉압력이 일정하게 가해질 수 있음을 의미한다.In other words, while the non-rigid pad 100 for element transfer is compressed and deformed by an external force, the load does not increase in a specific displacement section. This means that contact pressure can be constantly applied between the element and the target substrate if an appropriate amount of force is provided from the pressing part so that the element transfer non-rigid pad 100 is deformed within a specific deformation range.

따라서, 가압부와 같이 전사 필름에 가압력을 제공하는 구성의 가공 오차, 전사 필름의 두께 오차, 가압부 등을 포함하는 각종 구성간의 조립 오차, 또는 소자에 가해지는 가압력을 제어하는 과정에서 발생할 수 있는 하중제어 오차 등에 의해 전사 필름에 균일한 가압력이 제공되지 못하게 되더라도, 소자 전사용 무강성 패드(100)가 마련되고, 소자 전사용 무강성 패드(100)가 특정 변위 구간 내에서 변형되도록 적절하게 가압력을 제공하게 되면, 소자 및 타깃기판 사이에는 균일한 접촉압력이 발생되도록 할 수 있다. 가압부(40)는 롤러, 또는 평판형상의 스탬프를 포함할 수 있으며, 이하에서는 설명의 편의상 가압부(40)가 롤러인 경우를 예로 한다.Therefore, in the process of controlling the processing error of the configuration that provides the pressing force to the transfer film, the thickness error of the transfer film, the assembly error between various components including the pressing unit, or the pressing force applied to the device, such as the pressing unit Even if a uniform pressing force is not provided to the transfer film due to a load control error, etc., a non-rigid pad 100 for element transfer is provided and an appropriate pressing force so that the non-rigid pad 100 for element transfer is deformed within a specific displacement range. When providing, a uniform contact pressure can be generated between the device and the target substrate. The pressing unit 40 may include a roller or a flat plate-shaped stamp. Hereinafter, for convenience of description, a case in which the pressing unit 40 is a roller is taken as an example.

도 4는 도 2의 소자 전사용 무강성 패드의 제1적용예를 나타낸 예시도이다.FIG. 4 is an exemplary view showing a first application example of the non-rigid pad for element transfer of FIG. 2 .

도 4에서 보는 바와 같이, 소자 전사용 무강성 패드(100)는 타깃기판(10)의 전극(11)에 전사될 복수의 소자(20)가 점착된 전사필름(30)과, 복수의 소자(20)가 타깃기판(10)에 전사되도록 가압력을 제공하는 가압부(40)의 사이에 배치될 수 있다.As shown in FIG. 4, the element transfer non-rigid pad 100 includes a transfer film 30 to which a plurality of elements 20 to be transferred to the electrode 11 of the target substrate 10 are adhered, and a plurality of elements ( 20) may be disposed between the pressing parts 40 that provide pressing force to be transferred to the target substrate 10.

이렇게 배치되는 소자 전사용 무강성 패드(100)는 가압부(40)의 가압력이 제공되면 굽힘 변형되어 복수의 소자(20)와 타깃기판(10) 사이에 균일한 접촉압력이 제공되도록 할 수 있다.The element transfer non-rigid pad 100 arranged in this way is bent and deformed when the pressing force of the pressing unit 40 is applied so that a uniform contact pressure can be provided between the plurality of elements 20 and the target substrate 10. .

도 4의 (a) 및 (b)에서 보는 바와 같이, 소자 전사용 무강성 패드(100)는 기둥(120)의 타단부가 전사필름(30)에 밀착되고, 베이스판(110)은 가압부(40)에 대향되도록 배치될 수 있다. 이러한 배치는 타깃기판(10)의 하부에 소자 전사용 무강성 패드(100)를 배치하기가 곤란한 경우에 적용될 수 있다.As shown in (a) and (b) of FIG. 4, in the non-rigid pad 100 for element transfer, the other end of the pillar 120 is in close contact with the transfer film 30, and the base plate 110 is the pressing portion. (40). This arrangement may be applied when it is difficult to place the element transfer non-rigid pad 100 under the target substrate 10 .

소자 전사용 무강성 패드(100)는 도시된 바와 같이 전사필름(30)의 상부에 배치된 상태에서 가압부(40)에 가압되거나, 또는 가압부(40)의 외주면을 감싸도록 마련될 수도 있다.As shown in the drawing, the non-rigid pad 100 for element transfer may be pressed by the pressing part 40 in a state disposed on the transfer film 30, or may be provided to cover the outer circumferential surface of the pressing part 40. .

그리고, 도 4의 (a’) 및 (b’)에서 보는 바와 같이, 소자 전사용 무강성 패드(100)는 베이스판(110)이 전사필름(30)에 밀착되고, 기둥(120)의 타단부는 가압부(40)에 대향되도록 배치될 수 있다.And, as shown in (a') and (b') of FIG. 4, in the non-rigid pad 100 for element transfer, the base plate 110 adheres to the transfer film 30, and the other side of the pillar 120 The end may be disposed to face the pressing part 40 .

한편, 소자 전사용 무강성 패드(100)의 기둥(120)과 기둥(120) 사이의 피치(P1)는 소자(20)와 소자(20) 사이의 피치(P2)보다 작은 것이 바람직하다. 또한, 소자 전사용 무강성 패드(100)의 기둥(120)의 단면적은 소자(20)와 소자(20) 사이의 피치(P2)보다 작은 것이 바람직하다.Meanwhile, it is preferable that the pitch P1 between the pillars 120 of the non-rigid pad 100 for element transfer is smaller than the pitch P2 between the elements 20 and 20 . In addition, it is preferable that the cross-sectional area of the pillars 120 of the non-rigid pad 100 for element transfer is smaller than the pitch P2 between elements 20 and 20 .

그리고, 소자 전사용 무강성 패드(100)는 기둥(120)의 단면적이 넓을수록, 기둥(120)의 길이가 짧을수록, 또는 기둥(120)의 탄성계수가 클수록 굽힘 변형 발생을 위해 요구되는 힘이 커질 수 있다. 따라서, 기둥(120)의 단면적을 조정하거나, 기둥(120)의 길이를 조정하거나, 기둥(120)의 소재 변경을 통해 탄성계수를 조정함으로써, 기둥(120)의 굽힘 변형이 발생하는 임계변위와, 임계하중이 조절되도록 할 수 있다. In addition, the element transfer non-rigid pad 100 has a force required to generate bending deformation as the cross-sectional area of the pillar 120 is wide, the length of the pillar 120 is short, or the modulus of elasticity of the pillar 120 is large. this can grow Therefore, by adjusting the cross-sectional area of the column 120, adjusting the length of the column 120, or adjusting the modulus of elasticity by changing the material of the column 120, the critical displacement and , the critical load can be controlled.

도 5는 도 2의 기둥의 단면 형상에 따른 관성모멘트, 단면적, 임계하중 및 임계변위를 나타낸 예시도이다.5 is an exemplary view showing a moment of inertia, a cross-sectional area, a critical load, and a critical displacement according to the cross-sectional shape of the column of FIG.

도 5의 (a)에는 기둥의 단면이 직사각형 형상인 경우의 관성모멘트(I), 단면적(A), 임계하중(Pcr) 및 임계변위(Dcr)를 나타내고 있고, 도 5의 (b)에서는 기둥의 단면이 타원 형상인 경우의 관성모멘트, 단면적, 임계하중 및 임계변위를 나타내고 있으며, 도 5의 (c)에서는 기둥의 단면이 마름모 형상인 경우의 관성모멘트, 단면적, 임계하중 및 임계변위를 나타내고 있다.5 (a) shows the moment of inertia (I), cross-sectional area (A), critical load (Pcr), and critical displacement (Dcr) when the cross section of the column is rectangular, and in (b) of FIG. 5, the column The moment of inertia, cross-sectional area, critical load, and critical displacement are shown when the cross-section of is an ellipse, and in (c) of FIG. there is.

이에 따르면, 기둥(120) 단면의 가로 길이(b) 및 세로 길이(h)가 동일한 경우, 기둥(120)의 단면 형상에 따른 관성모멘트(moment of inertial, I)를 단면적(A)으로 나눈 값(I/A)이 작을수록 임계변위는 감소될 수 있다. 즉, 임계변위 계수는 직사각형, 타원, 마름모 순서로 각각 1/12, 1/16, 1/24 로 작아짐을 알 수 있다.According to this, when the horizontal length (b) and vertical length (h) of the cross section of the pillar 120 are the same, the value obtained by dividing the moment of inertial (I) according to the cross-sectional shape of the pillar 120 by the cross-sectional area (A) As (I/A) is smaller, the critical displacement can be reduced. That is, it can be seen that the critical displacement coefficients decrease to 1/12, 1/16, and 1/24 in the order of rectangle, ellipse, and rhombus, respectively.

또한, 기둥(120) 단면의 가로 길이(b) 및 세로 길이(h)가 동일한 경우, 관성모멘트(I)에 따라 임계하중이 결정됨을 알 수 있다. 즉, 임계하중 계수는 직사각형, 타원, 마름모 순서로 각각 π2/12, π3/64, π2/48 로 작아짐을 알 수 있다. In addition, when the horizontal length (b) and the vertical length (h) of the cross section of the column 120 are the same, it can be seen that the critical load is determined according to the moment of inertia (I). That is, it can be seen that the critical load coefficients decrease to π 2 /12, π 3 /64, and π 2 /48 in the order of rectangle, ellipse, and rhombus, respectively.

따라서, 기둥(120)의 단면 형상을 적절하게 선정함으로써 기둥(120)의 굽힘 변형이 발생하는 임계변위와, 임계하중이 조절되도록 할 수 있다.Therefore, by appropriately selecting the cross-sectional shape of the pillar 120, the critical displacement and critical load resulting from the bending deformation of the pillar 120 can be controlled.

한편, E는 기둥(120) 소재의 탄성계수, AR은 종횡비(Aspect Ratio)로서 기둥(120)의 길이(L)에 대한 단면의 세로 길이(h)의 비(L/h), K는 기둥 유효 길이 계수(Column Effective Length Factor)이다.On the other hand, E is the elastic modulus of the material of the column 120, AR is the aspect ratio (Aspect Ratio), the ratio (L / h) of the vertical length (h) of the cross section to the length (L) of the column 120, K is the column is the Column Effective Length Factor.

또한, 기둥(120)의 종횡비(AR)가 커질수록 굽힘 변형이 발생하는 임계변위와, 임계하중이 작아질 수 있다.In addition, as the aspect ratio AR of the pillar 120 increases, the critical displacement and critical load at which bending deformation occurs may decrease.

도 6은 도 2의 소자 전사용 무강성 패드의 기둥의 다른 형태 및 이에 따른 변위-하중 관계를 나타낸 그래프인데, 도 6의 (a)의 기둥(120a)은 50㎛의 편심을 가지고, 도 6의 (b)의 기둥(120b)은 100㎛의 편심을 가지고, 도 6의 (c)의 기둥(120c)은 200㎛의 편심을 가질 수 있다.6 is a graph showing another shape of the column of the non-rigid pad for element transfer of FIG. 2 and the resulting displacement-load relationship, wherein the column 120a in (a) of FIG. 6 has an eccentricity of 50 μm, The pillar 120b of (b) may have an eccentricity of 100 μm, and the pillar 120c of FIG. 6 (c) may have an eccentricity of 200 μm.

도 6에서 보는 바와 같이, 각 기둥(120a,120b,120c)의 타단부(122)는 모두 동일하게 볼록한 형태로 형성될 수 있다. 이와 같이, 각 기둥(120a,120b,120c)의 타단부(122)가 모두 동일하게 볼록한 형태로 형성되는 경우, 각 기둥(120a,120b,120c)의 편심의 정도에 기인하는 구속이 작아 거의 비슷한 무강성 구간을 가질 수 있다.As shown in FIG. 6 , the other ends 122 of each of the pillars 120a, 120b, and 120c may all be formed in the same convex shape. In this way, when the other ends 122 of each of the pillars 120a, 120b, and 120c are formed in the same convex shape, the restraint due to the degree of eccentricity of each of the pillars 120a, 120b, and 120c is small and almost similar. It can have a no-stiffness section.

도 7은 도 2의 소자 전사용 무강성 패드의 기둥의 다른 형태를 나타낸 사시도이고, 도 8은 도 7의 소자 전사용 무강성 패드의 굽힘 변형 방향을 설명하기 위한 예시도이다.FIG. 7 is a perspective view showing another shape of a pillar of the non-rigid pad for element transfer of FIG. 2 , and FIG. 8 is an exemplary view for explaining a direction of bending deformation of the non-rigid pad for element transfer of FIG. 7 .

도 7 및 도 8에서 보는 바와 같이, 기둥(120)은 초기 상태가 일방향으로 휘어져 편심된 형상으로 형성될 수 있다.As shown in FIGS. 7 and 8 , the initial state of the pillar 120 may be bent in one direction to form an eccentric shape.

그리고, 기둥(120)은 제1직선부(125), 제2직선부(126) 및 굽힘부(127)를 가질 수 있다.Also, the pillar 120 may have a first straight portion 125 , a second straight portion 126 , and a bent portion 127 .

제1직선부(125)는 기둥(120)의 일단부(121)에서부터 기둥(120)의 축방향을 따라 형성될 수 있다.The first straight portion 125 may be formed along the axial direction of the pillar 120 from one end 121 of the pillar 120 .

굽힘부(127)는 일단부가 제1직선부(125)에 연결되고 일방향으로 휘어져 편심되게 형성될 수 있다.The bent portion 127 may be formed eccentrically by having one end connected to the first straight portion 125 and bent in one direction.

제2직선부(127)는 굽힘부(127)의 타단부에 연결될 수 있으며, 축방향을 따라 형성될 수 있다. 제2직선부(126)는 제1직선부(15)와 동일한 중심축 상에 형성될 수 있다. 이에 따라, 굽힘부(127)는 제1직선부(125) 및 제2직선부(126)의 사이에서 일방향으로 휘어지게 형성될 수 있으며, 일방향으로 편심되게 형성될 수 있다.The second straight portion 127 may be connected to the other end of the bent portion 127 and may be formed along the axial direction. The second straight portion 126 may be formed on the same central axis as the first straight portion 15 . Accordingly, the bent portion 127 may be formed to be bent in one direction between the first straight portion 125 and the second straight portion 126, and may be formed to be eccentric in one direction.

기둥(120)은 중심(C)을 기준으로 서로 대칭되도록 형성될 수 있다. 즉, 굽힘부(127)는 중심(C)을 기준으로 대칭으로 형성될 수 있고, 제1직선부(125) 및 제2직선부(126)는 동일한 길이로 형성될 수 있다. 그러나, 기둥(120)이 반드시 중심(C)을 기준으로 서로 대칭되게 형성되도록 한정되는 것은 아니다.The pillars 120 may be formed to be symmetrical to each other with respect to the center (C). That is, the bent portion 127 may be formed symmetrically with respect to the center C, and the first straight portion 125 and the second straight portion 126 may be formed to have the same length. However, the pillars 120 are not necessarily limited to be formed symmetrically with respect to the center (C).

기둥(120)에 하중(F)이 가해지면 기둥(120)은 초기에 휘어져 편심된 방향으로 굽힘 변형될 수 있으며, 이를 이용하여 기둥(120)의 굽힘 변형 방향(B)이 제어될 수 있다. 즉, 굽힘부(127)가 일방향으로 편심되게 형성되는 경우, 가압부(40)에 의해 하중(F)이 가해지게 되면 굽힘부(127)는 초기에 편심된 방향으로 굽힘 변형될 수 있고, 이를 통해 전체적으로 보았을 때 기둥(120)은 일방향으로 굽힘 변형될 수 있다. 즉, 도 7에서 보는 같이, 초기에 기둥(120)이 우측으로 편심 형성된 경우, 하중(F)이 가해지면 기둥(120)은 우측 방향으로 굽힘 변형될 수 있다.When a load F is applied to the pillar 120, the pillar 120 may initially be bent and bent in an eccentric direction, and the bending direction B of the pillar 120 may be controlled using this. That is, when the bent part 127 is formed to be eccentric in one direction, when the load F is applied by the pressing part 40, the bent part 127 may be bent and deformed in the initially eccentric direction. When viewed as a whole through the column 120 may be bent in one direction. That is, as shown in FIG. 7 , when the pillar 120 is initially formed eccentrically to the right, when a load F is applied, the pillar 120 may be bent in the right direction.

또한, 기둥(120)은 일방향으로 휘어져 편심된 형상으로 형성되기 때문에, 굽힘 변형이 천천히 진행될 수 있으며, 음의 강성 구간이 나타나지 않으면서 안정적으로 무강성 특성이 구현될 수 있다.In addition, since the pillar 120 is bent in one direction and formed in an eccentric shape, bending deformation may proceed slowly, and a non-rigidity characteristic may be stably implemented without a negative stiffness section appearing.

도 9는 도 7의 소자 전사용 무강성 패드의 형상 변형에 따른 변위-하중 관계를 나타낸 그래프이다. 도 9는 상온 경화형(RTV) 실리콘 고무로 제조되고, 8.21도의 커브(Cs1)로 형성되는 굽힘부 및 8.27도의 커브(Cs2)로 형성되는 굽힘부를 가지는 각각의 기둥에 수직 하중을 가했을 때, 각 기둥의 변위 및 하중 관계를 나타낸 것이다.9 is a graph showing a displacement-load relationship according to shape deformation of the non-rigid pad for element transfer of FIG. 7 . 9 is made of room temperature curing type (RTV) silicone rubber, and when a vertical load is applied to each pillar having a bent part formed with a curve (Cs1) of 8.21 degrees and a bent part formed with a curve (Cs2) of 8.27 degrees, each pillar It shows the displacement and load relationship of

도 9에서 보는 바와 같이, 8.21도의 커브(Cs1)로 형성되는 굽힘부를 가지는 기둥 및 8.27도의 커브(Cs2)로 형성되는 굽힘부를 가지는 기둥 모두 0.6 mm의 변위 근방 이후에서부터는 음의 강성 구간이 없이 균일한 하중을 발생하는 무강성 특성이 나타나고 있음을 알 수 있다.As shown in FIG. 9, both the column having a bent portion formed by a curve Cs1 of 8.21 degrees and the column having a bent portion formed by a curve Cs2 of 8.27 degrees are uniform without a negative stiffness section after the displacement of 0.6 mm. It can be seen that there is a non-stiffness characteristic that generates a single load.

도 10은 본 발명의 일실시예에 따른 소자 전사용 무강성 패드의 기둥의 또 다른 형태에 따른 굽힘 변형 방향을 설명하기 위한 예시도이다.10 is an exemplary view for explaining a bending deformation direction according to another shape of a pillar of a non-rigid pad for element transfer according to an embodiment of the present invention.

도 10에서 보는 바와 같이, 기둥(120)은 제1연장부(128) 및 제2연장부(129)를 가질 수 있다.As shown in FIG. 10 , the pillar 120 may have a first extension 128 and a second extension 129 .

제1연장부(128)는 기둥(120)의 일단부에서부터 일방향으로 경사지게 연장될 수 있다. The first extension part 128 may obliquely extend in one direction from one end of the pillar 120 .

제2연장부(129)는 일단부가 제1연장부(128)와 연결될 수 있으며, 제1연장부(128)와 반대방향으로 경사지게 연장 형성될 수 있다. 본 실시예의 기둥(120)에서는 도 7의 기둥에서 제1직선부 및 제2직선부가 생략된 형태일 수 있다. 이렇게 되면, 기둥(120)의 전체 높이가 좀 더 낮아질 수 있고, 굽힘 변형이 더욱 천천히 진행될 수 있어 무강성 특성이 좀 더 안정적으로 구현될 수 있다. 제1연장부(128) 및 제2연장부(129)는 서로 대칭으로 형성되고 동일한 길이로 형성될 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.The second extension part 129 may have one end connected to the first extension part 128 and may be formed to obliquely extend in the opposite direction to the first extension part 128 . In the pillar 120 of this embodiment, the first straight part and the second straight part may be omitted from the pillar of FIG. 7 . In this case, the total height of the column 120 can be lowered, and the bending deformation can proceed more slowly, so that the non-rigidity characteristic can be implemented more stably. The first extension part 128 and the second extension part 129 may be formed symmetrically with each other and have the same length, but are not necessarily limited thereto.

본 실시예에서도 기둥(120)은 처음부터 편심되게 형성됨으로써 굽힘 변형 방향(B)이 제어될 수 있다. 즉, 도 10의 (a)에서 보는 바와 같이, 기둥(120)이 일방향으로 편심되게 형성되는 경우, 하중(F)이 가해지게 되면 기둥(120)은 초기에 편심된 방향으로 굽힘 변형될 수 있다. 즉, 도 10의 (a)에서와 같이 초기에 기둥(120)이 우측으로 편심 형성된 경우, 하중(F)이 가해지면 기둥(120)은 우측 방향으로 굽힘 변형될 수 있다(도 10의 (a’) 참조).Even in this embodiment, since the pillar 120 is formed eccentrically from the beginning, the bending deformation direction B can be controlled. That is, as shown in (a) of FIG. 10, when the pillar 120 is formed to be eccentric in one direction, when the load F is applied, the pillar 120 may initially be bent in the eccentric direction. . That is, when the pillar 120 is initially formed eccentrically to the right as in (a) of FIG. 10, when a load F is applied, the pillar 120 may be bent in the right direction ((a) of FIG. 10). ') reference).

마찬가지로, 도 10의 (b)에서와 같이 초기에 기둥(120)이 좌측으로 편심 형성된 경우, 하중(F)이 가해지면 기둥(120)은 좌측으로 굽힘 변형될 수 있다(도 10의 (b’) 참조). Similarly, when the post 120 is initially formed eccentrically to the left as in (b) of FIG. 10, when a load F is applied, the post 120 may be bent to the left ((b' of FIG. 10). ) reference).

그리고, 도 10의 (c)에서 보는 바와 같이, 기둥(120a,120b,120c,120d)은 축방향에 수직한 단면 형상이 비대칭으로 형성됨으로써, 굽힘 변형 방향(B)이 제어될 수도 있다. 기둥의 단면 형상은 반타원, 사각형, 삼각형 및 사다리꼴 중 어느 하나 이상의 형상을 가감하여 비대칭으로 형성될 수 있다.And, as shown in (c) of FIG. 10, the pillars 120a, 120b, 120c, and 120d have an asymmetric cross-sectional shape perpendicular to the axial direction, so that the bending deformation direction B may be controlled. The cross-sectional shape of the pillar may be formed asymmetrically by adding or subtracting any one or more of a semi-ellipse, a quadrangle, a triangle, and a trapezoid.

또한, 제2연장부(129)의 타단부는 곡면으로 형성될 수 있다. 이를 통해, 기둥(120)의 종횡비(AR)가 작더라도 음의 강성구간이 발생하지 않으면서 안정적으로 무강성이 구현될 수 있다.In addition, the other end of the second extension part 129 may be formed as a curved surface. Through this, even if the aspect ratio (AR) of the pillar 120 is small, no stiffness can be stably implemented without generating a negative stiffness section.

도 11은 도 2의 소자 전사용 무강성 패드의 기둥의 또 다른 형태에 따른 굽힘 변형 방향을 설명하기 위한 다른 예시도이다.FIG. 11 is another exemplary view for explaining a direction of bending deformation according to another shape of a pillar of the non-rigid pad for element transfer of FIG. 2 .

도 11에서 보는 바와 같이, 기둥(120)의 일단부에는 경사면(123)이 형성될 수 있으며, 경사면(123)의 형성 방향을 통해 기둥(120)의 굽힘 변형 방향(B)이 제어되도록 할 수 있다.As shown in FIG. 11, an inclined surface 123 may be formed at one end of the pillar 120, and the bending deformation direction B of the pillar 120 may be controlled through the formation direction of the inclined surface 123. there is.

즉, 도 11의 (a)에서 보는 바와 같이, 기둥(120)의 일단부에 형성되는 경사면(123)이 일방향으로 경사지게 형성되는 경우, 하중(F)이 가해지게 되면 기둥(120)은 경사면(123)의 반대면 방향으로 굽힘 변형될 수 있다. 즉, 도 11의 (a)에서와 같이 경사면(123)이 우측방향으로 경사지게 형성된 경우, 하중(F)이 가해지면 기둥(120)은 좌측 방향으로 굽힘 변형될 수 있다(도 11의 (a’) 참조).That is, as shown in (a) of FIG. 11, when the inclined surface 123 formed at one end of the pillar 120 is inclined in one direction, when the load F is applied, the pillar 120 is inclined to the inclined surface ( 123) may be bent and deformed in the opposite direction. That is, when the inclined surface 123 is formed inclined in the right direction as shown in (a) of FIG. 11, when a load F is applied, the pillar 120 may be bent and deformed in the left direction ((a' in FIG. 11). ) reference).

마찬가지로, 도 11의 (b)에서와 같이 경사면(123)이 좌측방향으로 경사지게 형성된 경우, 하중(F)이 가해지면 기둥(120)은 우측 방향으로 굽힘 변형될 수 있다(도 11의 (b’) 참조).Similarly, when the inclined surface 123 is formed inclined in the left direction as shown in (b) of FIG. 11, when a load F is applied, the pillar 120 may be bent in the right direction ((b' in FIG. 11). ) reference).

도 12는 도 2의 소자 전사용 무강성 패드의 기둥의 배치 형태를 설명하기 위한 예시도이다.FIG. 12 is an exemplary diagram for explaining the arrangement of pillars of the non-rigid pad for element transfer of FIG. 2 .

도 12의 (a)에서 보는 바와 같이, 소자 전사용 무강성 패드(100)의 기둥은 복수개가 그룹핑되어 기둥 그룹(G1)을 형성할 수 있다. 그리고, 각 기둥 그룹(G1)에 속하는 기둥(120a,120b)은 굽힘 변형 방향(Ba,Bb)이 서로 대칭이 되도록 배치될 수 있다. As shown in (a) of FIG. 12 , a plurality of pillars of the non-rigid pad 100 for element transfer may be grouped to form a pillar group G1. In addition, the pillars 120a and 120b belonging to each pillar group G1 may be arranged such that bending deformation directions Ba and Bb are symmetrical to each other.

만일 소자 전사용 무강성 패드(100)에 마련되는 기둥(120)이 모두 동일한 방향으로 굽힘 변형되면, 가압부(40)가 롤러의 형태이고 일방향(41)으로 이동하면서 소자 전사용 무강성 패드(100)를 순차적으로 가압하는 경우뿐만 아니라, 가압부가 평판 형태의 스탬프인 경우에도 소자 전사용 무강성 패드(100)에 의해 전사필름(30)에는 동일한 평면 방향으로 미는 힘이 발생될 수 있고, 이에 따라, 전사필름(30)에 평면 방향 변위가 발생할 수 있다.If the pillars 120 provided on the element transfer non-rigid pad 100 are all bent and deformed in the same direction, the pressing part 40 is in the form of a roller and moves in one direction 41 while the element transfer non-rigid pad ( 100), as well as when the pressing part is a stamp in the form of a flat plate, a pushing force can be generated in the transfer film 30 in the same plane direction by the non-rigid pad 100 for element transfer. Accordingly, displacement in the plane direction may occur in the transfer film 30 .

그러나, 각 기둥 그룹(G1)의 기둥(120a,120b)이 굽힘 변형 방향(Ba,Bb)이 서로 대칭이 되도록 배치되면 각 기둥(120a,120b)의 굽힘 변형에 의해 발생하는 평면 방향 변위가 상쇄될 수 있기 때문에, 전사필름(30)에 평면 방향 변위 발생이 방지될 수 있다.However, when the pillars 120a and 120b of each pillar group G1 are arranged so that the bending deformation directions Ba and Bb are symmetrical to each other, the displacement in the plane direction caused by the bending deformation of each pillar 120a and 120b is offset. Since it can be, the displacement of the transfer film 30 in the plane direction can be prevented.

기둥 그룹에 포함되는 기둥의 개수는 특정하게 한정되지 않으며, 다양한 변형이 가능할 수 있다.The number of pillars included in the pillar group is not particularly limited, and various modifications may be possible.

즉, 도 12의 (b)에서 보는 바와 같이, 기둥 그룹(G2)은 4개의 기둥(120a,120b,120c,120d)을 가질 수도 있으며, 이 경우, 각 기둥(120a,120b,120c,120d)의 굽힘 변형에 의한 평면 방향 변위가 상쇄되도록 각 기둥(120a,120b,120c,120d)은 굽힘 변형 방향(Ba,Bb,Bc,Bd)이 서로 대칭이 되도록 배치될 수 있다.That is, as shown in (b) of FIG. 12, the pillar group G2 may have four pillars 120a, 120b, 120c, and 120d, and in this case, each pillar 120a, 120b, 120c, and 120d The pillars 120a, 120b, 120c, and 120d may be arranged such that the bending deformation directions Ba, Bb, Bc, and Bd are symmetrical to each other so that displacement in the plane direction due to bending deformation of the columns 120a, 120b, 120c, and 120d is offset.

도 13은 도 2의 소자 전사용 무강성 패드의 기둥의 배치 형태를 설명하기 위한 예시도이고, 도 14는 도 13의 소자 전사용 무강성 패드의 작업예를 설명하기 위한 예시도이다.FIG. 13 is an exemplary view for explaining the arrangement of pillars of the element transfer non-rigid pad of FIG. 2 , and FIG. 14 is an example view for explaining a working example of the element transfer non-rigid pad of FIG. 13 .

도 13에서 보는 바와 같이, 가압부(40)가 롤러의 형태이고, 일방향(41)으로 이동하면서 소자 전사용 무강성 패드(100)를 순차적으로 가압하는 경우, 소자 전사용 무강성 패드(100)는 가압부(40)의 이동방향을 기준으로 전단부분(E1)과 후단부분(E2)으로 갈수록 높은 기둥 밀도를 가질 수 있다. 다시 말하면, 가압부(40)의 이동방향을 기준으로 베이스판(110)의 중앙에서부터 소자 전사용 무강성 패드(100)의 전단부분(E1)과 후단부분(E2)으로 갈수록 기둥은 높은 기둥 밀도로 배치될 수 있다. 즉 기둥(120c)에서 기둥(120b) 및 기둥(120a)로 갈수록 좀더 촘촘하게 형성될 수 있다.As shown in FIG. 13, when the pressing unit 40 is in the form of a roller and sequentially presses the element transfer non-rigid pad 100 while moving in one direction 41, the element transfer non-rigid pad 100 may have a higher pillar density toward the front end part E1 and the rear end part E2 based on the moving direction of the pressing unit 40. In other words, in the moving direction of the pressing unit 40, the columns have a high column density from the center of the base plate 110 toward the front and rear ends E1 and E2 of the non-rigid pad 100 for element transfer. can be placed as That is, the columns 120c may be formed more densely as they go from the columns 120b to the columns 120a.

전술한 바와 같이, 기둥의 단면 형상은 반타원, 사각형, 삼각형 및 사다리꼴 중 어느 하나 이상의 형상을 가감하여 비대칭으로 형성될 수 있으며, 이를 통해 굽힘 변형 방향이 대칭이 되도록 배치된 기둥그룹이 형성될 수 있다.As described above, the cross-sectional shape of the column can be formed asymmetrically by adding or subtracting any one or more of a semi-ellipse, a rectangle, a triangle, and a trapezoid, and through this, a column group arranged so that the bending deformation direction is symmetrical can be formed. there is.

도 14의 (a) 및 (a’)는 기둥(120)의 간격이 일정한 소자 전사용 무강성 패드(100a)를 이용하는 경우의 작업예를 나타낸 것이다. 기둥(120)의 간격이 일정한 소자 전사용 무강성 패드(100a)를 이용하는 경우, 가압부(40)의 진행이 시작되는 순간에는 가압부(40)의 가압력에 의해 전단부분(E1)의 기둥(120)이 눌려 전사필름(30) 및 타깃기판(10)의 후단부가 들리게 될 수 있고(도 14의 (a) 참조), 가압부(40)의 진행이 끝나는 순간에는 후단부분(E2)의 기둥(120)이 눌려 전사필름(30) 및 타깃기판(10)의 전단부가 들리게 될 수 있다(도 14의 (a’) 참조). 이렇게 되면, 소자 전사용 무강성 패드(100a)의 기능이 제대로 구현되지 않을 수 있다. 14(a) and (a′) show a working example in the case of using a non-rigid pad 100a for element transfer with constant intervals between pillars 120. In the case of using the element-transferring non-rigid pad 100a with constant spacing between the pillars 120, at the moment when the pressing part 40 starts to advance, the pressing force of the pressing part 40 causes the pillar ( 120) is pressed so that the rear end of the transfer film 30 and the target substrate 10 can be lifted (see FIG. 14(a)), and at the moment when the progress of the pressing unit 40 ends, the column of the rear end E2 The front end of the transfer film 30 and the target substrate 10 can be lifted by pressing the 120 (see FIG. 14(a')). In this case, the function of the non-rigid pad 100a for element transfer may not be properly implemented.

그러나, 도 13에서와 같은 기둥 밀도를 가지는 소자 전사용 무강성 패드(100)를 이용하는 경우, 가압부(40)의 진행이 시작되는 순간에는 가압부(40)의 가압력에 의해 전단부분(E1)의 기둥(120)이 많이 눌리지 않고, 가압부(40)의 진행이 끝나는 순간에도 후단부분(E2)의 기둥(120)이 많이 눌리지 않아 전사필름(30) 및 타깃기판(10)의 전단부 또는 후단부가 들리게 않게 될 수 있으며, 이를 통해, 소자 전사용 무강성 패드(100)의 기능이 제대로 구현될 수 있다. (도 14의 (b) 및 (b’) 참조).However, in the case of using the non-rigid pad 100 for element transfer having the pillar density as shown in FIG. 13, the pressing force of the pressing unit 40 at the moment when the pressing unit 40 starts moving causes the shear part E1 to The column 120 of the column 120 is not pressed much, and even at the moment when the progress of the pressing part 40 ends, the column 120 of the rear end portion E2 is not pressed much, so the front end of the transfer film 30 and the target substrate 10 or The rear end may not be lifted, and through this, the function of the non-rigid pad 100 for element transfer may be properly implemented. (See Fig. 14 (b) and (b')).

한편, 소자 전사용 무강성 패드는 2개가 적층되어 2개의 레이어를 이루도록 배치될 수 있다. 소자 전사용 무강성 패드가 적층되어 배치되는 경우, 기둥(120)의 길이를 길게 했을 때와 유사한 효과가 발생될 수 있다.Meanwhile, two non-rigid pads for device transfer may be stacked to form two layers. When the element transfer non-rigid pads are stacked and disposed, an effect similar to that obtained when the length of the pillar 120 is increased may occur.

도 15는 도 2의 소자 전사용 무강성 패드의 제1적용예의 다른 예 및 이에 따른 변위-하중 관계를 나타낸 그래프이다.FIG. 15 is a graph showing another example of the first application example of the non-rigid pad for element transfer of FIG. 2 and the resulting displacement-load relationship.

도 15의 (a) 및 (b)는 2개의 소자 전사용 무강성 패드(100a,100b)가 모두 베이스판(110a,110b) 및 기둥(120a,120b)의 상대위치가 동일하게 적층되는 경우로써, 이 경우에도 제1변위(d1) 및 제2변위(d2)의 변위 구간 내에서는 제1하중(F1)이 발생됨을 알 수 있다.15(a) and (b) show a case in which the two element transfer non-rigid pads 100a and 100b are stacked in the same relative positions of the base plates 110a and 110b and the pillars 120a and 120b. , it can be seen that, even in this case, the first load F1 is generated within the displacement range of the first displacement d1 and the second displacement d2.

그리고, 도 15의 (a’) 및 (b’)에서와 같이 2개의 소자 전사용 무강성 패드(100a,100b) 중 어느 하나의 소자 전사용 무강성 패드(100a)의 베이스판(110a) 및 기둥(120a)의 상대위치가 나머지 소자 전사용 무강성 패드(100b)의 베이스판(110b)및 기둥(120b)과 서로 반대인 경우에도, 제1변위(d1) 및 제2변위(d2)의 변위 구간 내에서는 제1하중(F1)이 발생됨을 알 수 있다.And, as shown in (a') and (b') of FIG. 15, the base plate 110a of any one element transfer non-rigid pad 100a among the two element transfer non-rigid pads 100a and 100b, and Even when the relative position of the pillar 120a is opposite to that of the base plate 110b and the pillar 120b of the element transfer non-rigid pad 100b, the first displacement d1 and the second displacement d2 It can be seen that the first load (F1) is generated within the displacement section.

도 15의 (b’)의 제1변위(d1), 제2변위(d2) 및 제1하중(F1)은 도 15의 (b)의 제1변위(d1), 제2변위(d2) 및 제1하중(F1)과 거의 유사함을 할 수 있으며, 이를 통해, 적층된 2개의 소자 전사용 무강성 패드(100a,100b)의 적층 형태는 변형구간 및 하중의 크기에 크게 영향을 끼치지 않음을 알 수 있다.The first displacement (d1), the second displacement (d2) and the first load (F1) in (b') of FIG. 15 are the first displacement (d1), the second displacement (d2) and It can be almost similar to the first load (F1), and through this, the laminated form of the two stacked element transfer non-rigid pads (100a, 100b) does not greatly affect the deformation range and the size of the load can know

도 16은 도 2의 소자 전사용 무강성 패드의 제2적용예를 나타낸 예시도이다.본 실시예에서는 소자 전사용 무강성 패드의 배치 위치가 전술한 제1실시예와 다를 수 있으며, 다른 내용은 동일하므로 반복되는 내용은 가급적 설명을 생략한다.16 is an exemplary diagram illustrating a second application example of the element transfer non-rigid pad of FIG. 2 . In this embodiment, the arrangement position of the element transfer non-rigid pad may be different from that of the first embodiment described above, and other details are the same, so the repeated contents are omitted as much as possible.

도 16에서 보는 바와 같이, 본 실시예에서는 소자 전사용 무강성 패드(100)가 전사필름(30)에 점착된 복수의 소자(20)가 전사될 타깃기판(10)의 하부에 배치될 수 있다. 복수의 소자(20)가 타깃기판(10)에 전사되도록 가압부(40)의 가압력이 제공되면 소자 전사용 무강성 패드(100)는 굽힘 변형되어 복수의 소자(20)와 타깃기판(10) 사이에 균일한 접촉압력이 제공되도록 할 수 있다.As shown in FIG. 16, in this embodiment, a plurality of devices 20 to which the non-rigid pad 100 for device transfer is adhered to the transfer film 30 may be disposed under the target substrate 10 to be transferred. . When the pressing force of the pressing unit 40 is provided so that the plurality of elements 20 are transferred to the target substrate 10, the element transfer non-rigid pad 100 is bent and deformed so that the plurality of elements 20 and the target substrate 10 A uniform contact pressure can be provided between them.

이러한 배치는 가압부(40)의 지름이 작아서 가압부(40)의 외주면에 소자 전사용 무강성 패드(100)를 부착하기 어렵거나, 가압부(40)와 전사필름(30) 사이에 소자 전사용 무강성 패드(100)를 적용하기 곤란한 경우에 적용될 수 있다.In this arrangement, it is difficult to attach the non-rigid pad 100 for element transfer to the outer circumferential surface of the pressing part 40 because the diameter of the pressing part 40 is small, or it is difficult to attach the element transfer device between the pressing part 40 and the transfer film 30. It can be applied when it is difficult to apply the non-rigid pad 100 used.

본 실시예에서도, 소자 전사용 무강성 패드(100)는 베이스판(110)이 타깃기판(10)에 밀착되거나, 또는 기둥(120)의 타단부가 타깃기판(10)에 밀착되도록 배치될 수 있고, 2개가 적층되어 배치될 수도 있다.Also in this embodiment, the non-rigid pad 100 for element transfer may be disposed such that the base plate 110 adheres to the target substrate 10 or the other end of the pillar 120 adheres to the target substrate 10. And, the two may be stacked and arranged.

도 17은 도 2의 소자 전사용 무강성 패드의 제3적용예를 나타낸 예시도이다.본 실시예에서는 전술한 제1실시예 및 제2실시예에서 소자 전사용 무강성 패드의 배치위치가 혼합된 형태로 적용될 수 있다.17 is an exemplary view showing a third application example of the element transfer non-rigid pad of FIG. 2 . In this embodiment, the arrangement positions of the element transfer non-rigid pads in the above-described first and second embodiments are mixed. can be applied in the form of

도 17에서 보는 바와 같이, 본 실시예에서는 소자 전사용 무강성 패드가 타깃기판(10)의 하부와, 전사필름(30) 및 가압부(40)의 사이에 각각 배치될 수 있으며, 가압부(40)의 가압력이 제공되면 굽힘 변형되어 복수의 소자(20)와 타깃기판(10) 사이에 균일한 접촉압력이 제공되도록 할 수 있다.As shown in FIG. 17, in this embodiment, a non-rigid pad for device transfer may be disposed between the lower portion of the target substrate 10, the transfer film 30, and the pressing unit 40, respectively, and the pressing unit ( When the pressing force of 40) is provided, it is bent and deformed so that a uniform contact pressure can be provided between the plurality of elements 20 and the target substrate 10.

각각의 소자 전사용 무강성 패드(100a,100b)가 동일한 변위 구간에서 동일한 하중을 발생하는 경우, 가압부(40)에 의해 가압력이 제공되면, 소자 전사용 무강성 패드(100a,100b)는 동시에 굽힘 변형될 수 있다.When the element transfer non-rigid pads 100a and 100b generate the same load in the same displacement section and a pressing force is provided by the pressing unit 40, the element transfer non-rigid pads 100a and 100b simultaneously Bending can be deformed.

그리고, 각각의 소자 전사용 무강성 패드(100a,100b)가 서로 다른 변위 구간에서 동일한 하중을 발생하는 경우, 가압부(40)에 의해 가압력이 제공되면, 소자 전사용 무강성 패드(100a,100b)는 순차적으로 굽힘 변형될 수 있다. 예를 들어, 타깃기판(10)의 하부에 마련되는 소자 전사용 무강성 패드(100a)가 상대적으로 더 작은 변형범위에서 굽힘 변형되는 경우, 도시된 바와 같이, 타깃기판(10)의 하부에 마련되는 소자 전사용 무강성 패드(100a)의 기둥(120a)이 먼저 굽힘 변형되고 이후 가압부(40) 및 전사필름(30) 사이에 배치되는 소자 전사용 무강성 패드(100b)의 기둥(120b)이 굽힘 변형될 수 있다. 본 실시예에서는 각각의 소자 전사용 무강성 패드(100a,100b)에서 서로 다른 무강성 영역이 나타날 수 있으므로, 무강성 영역 범위가 넓어질 수 있는 효과가 있다. In addition, when the element transfer non-rigid pads 100a and 100b generate the same load in different displacement sections and a pressing force is provided by the pressing unit 40, the element transfer non-rigid pads 100a and 100b ) can be sequentially subjected to bending deformation. For example, when the element transfer non-rigid pad 100a provided on the lower part of the target substrate 10 is subjected to bending deformation in a relatively smaller deformation range, as shown, it is provided on the lower part of the target substrate 10. The column 120a of the element transfer non-rigid pad 100a is first bent and deformed, and then the column 120b of the element transfer non-rigid pad 100b disposed between the pressing part 40 and the transfer film 30 This bending can be deformed. In this embodiment, since different non-rigid regions may appear in the respective element-transfer-use non-rigid pads 100a and 100b, there is an effect that the range of the non-rigid region can be widened.

본 실시예에서도, 각각의 소자 전사용 무강성 패드(100a,100b)는 베이스판 또는 기둥의 위치가 반대가 되도록 배치될 수 있고, 2개가 적층되어 배치될 수도 있다.In this embodiment as well, the element transfer non-rigid pads 100a and 100b may be disposed such that the positions of the base plates or pillars are reversed, or two may be stacked.

도 18은 도 2의 소자 전사용 무강성 패드로 이루어지는 소자 전사용 무강성 패드군의 적용예 및 이에 따른 변위-하중 관계를 나타낸 그래프이다.FIG. 18 is a graph showing an application example of an element transfer non-rigid pad group composed of the element transfer non-rigid pad of FIG. 2 and a displacement-load relationship according thereto.

소자 전사용 무강성 패드군은 복수의 소자 전사용 무강성 패드를 포함할 수 있다. 도 18에서는 4개의 소자 전사용 무강성 패드(100a,100b,100c,100d)를 가지는 4레이어의 소자 전사용 무강성 패드군이 도시되고 있으나, 이는 예시를 위한 것이며, 소자 전사용 무강성 패드군은 3개 이상의 소자 전사용 무강성 패드가 적층되는 형태를 이룰 수 있다.The element transfer non-rigid pad group may include a plurality of element transfer non-rigid pads. In FIG. 18, a four-layer non-rigid pad group for element transfer having four element transfer non-rigid pads 100a, 100b, 100c, and 100d is shown, but this is for illustrative purposes only, and the element transfer non-rigid pad group In this case, three or more device transfer non-rigid pads may be stacked.

도 18에서 보는 바와 같이, 소자 전사용 무강성 패드군이 포함하는 소자 전사용 무강성 패드(100a,100b,100c,100d)는 각각의 베이스판(110a,110b,110c,110d) 및 각각의 기둥(120a,120b,120c,120d)이 서로 동일한 방향으로 배치될 수 있으나, 이에 한정되지 않고, 베이스판(110a,110b,110c,110d) 및 기둥(120a,120b,120c,120d)의 상대위치가 다르게 배치될 수도 있다.As shown in FIG. 18, the element transfer non-rigid pads 100a, 100b, 100c, and 100d included in the element transfer non-rigid pad group include base plates 110a, 110b, 110c, and 110d and respective pillars. (120a, 120b, 120c, 120d) may be disposed in the same direction, but are not limited thereto, and the relative positions of the base plates (110a, 110b, 110c, 110d) and pillars (120a, 120b, 120c, 120d) They may be arranged differently.

소자 전사용 무강성 패드군은 외력이 제공되면 복수의 레이어 중 일부 레이어의 소자 전사용 무강성 패드가 1차 굽힘 변형되어 제1변위(d1) 및 제1변위(d2) 사이의 변형구간에서 제1하중(F1)이 발생할 수 있다. 이후, 외력이 증가하게 되면, 다른 레이어의 소자 전사용 무강성 패드가 2차 굽힘 변형되어 제3변위(d3) 및 제4변위(d4) 사이의 변형구간에서 제3하중(F3)이 발생될 수 있다. In the element transfer non-rigid pad group, when an external force is applied, element transfer non-rigid pads of some of the plurality of layers are subjected to primary bending deformation, and in the deformation section between the first displacement (d1) and the first displacement (d2). 1 load (F1) may occur. Thereafter, when the external force increases, the element transfer non-rigid pad of the other layer is subjected to secondary bending and a third load F3 is generated in the deformation section between the third displacement d3 and the fourth displacement d4. can

이미 알려져 있는 바와 같이, 기둥의 양단부의 구속조건이 약할수록 굽힘 변형 하중은 작아지고, 구속조건이 강할수록 굽힘 변형 하중은 커진다. 소자 전사용 무강성 패드군이 서로 다른 변위 구간에서 서로 다른 하중이 발생되는 복수의 무강성 영역을 가지는 이유는 멀티 레이어를 이루는 각 소자 전사용 무강성 패드 간에 서로 밀착되는 기둥부와 베이스판, 또는 서로 밀착되는 베이스판 사이의 마찰력의 차이로 인해 기둥의 단부의 구속조건이 달라질 수 있고, 이에 따라 굽힘 변형 하중이 달라질 수 있는 것에 기인할 수 있다.As is already known, the weaker the constraint condition of both ends of the column, the smaller the bending deformation load, and the stronger the constraint condition, the greater the bending deformation load. The reason why the element transfer non-rigid pad group has a plurality of non-rigid areas in which different loads are generated in different displacement ranges is the pillar part and the base plate that are in close contact between each element transfer non-rigid pad forming a multi-layer, or This may be due to the fact that the constraint condition of the end of the column may be changed due to the difference in frictional force between the base plates that are in close contact with each other, and thus the bending deformation load may be changed.

소자 전사용 무강성 패드군은 전사필름과 가압부의 사이에 배치되거나, 또는 타깃기판의 하부에 배치되거나, 또는 전사필름 및 가압부의 사이, 그리고 타깃기판의 하부에 모두 배치될 수 있다.The device transfer non-rigid pad group may be disposed between the transfer film and the pressurizing unit, or disposed below the target substrate, or disposed between the transfer film and the pressurizing unit, and both below the target substrate.

소자 전사용 무강성 패드군이 위와 같이 배치된 상태에서, 가압부의 가압력이 제공되면 일부 레이어의 소자 전사용 무강성 패드가 1차 굽힘 변형되어 소자와 타깃기판 사이에 균일한 제1접촉압력이 제공되도록 할 수 있다. 그리고, 가압부의 가압력이 증가하여 제공되면 다른 레이어의 소자 전사용 무강성 패드가 2차 굽힘 변형되어 소자와 타깃기판 사이에 제1접촉압력보다 큰 제2접촉압력이 균일하게 제공되도록 할 수 있다. 이를 이용하면, 복수의 소자 중 일부의 소자를 선택적으로 타깃기판에 전사되도록 할 수 있다.In the state in which the element transfer non-rigid pad group is arranged as above, when the pressing force of the pressing part is applied, the element transfer non-rigid pads of some layers are subjected to primary bending deformation to provide a uniform first contact pressure between the element and the target substrate. can be made In addition, when the pressing force of the pressing part increases and is provided, the element transfer non-rigid pad of the other layer is subjected to secondary bending deformation so that the second contact pressure greater than the first contact pressure can be uniformly provided between the element and the target substrate. If this is used, some of the plurality of elements can be selectively transferred to the target substrate.

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.The above description of the present invention is for illustrative purposes, and those skilled in the art can understand that it can be easily modified into other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. will be. Therefore, the embodiments described above should be understood as illustrative in all respects and not limiting. For example, each component described as a single type may be implemented in a distributed manner, and similarly, components described as distributed may be implemented in a combined form.

본 발명의 범위는 후술하는 청구범위에 의하여 나타내어지며, 청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is indicated by the following claims, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and equivalent concepts should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

10: 타깃기판
20: 소자
30: 전사필름
40: 가압부
100: 소자 전사용 무강성 패드
110: 베이스판
120: 기둥
10: target substrate
20: element
30: transfer film
40: pressing part
100: non-rigid pad for element transfer
110: base plate
120: column

Claims (22)

베이스판; 그리고
상기 베이스판의 일면에 일단부가 연결되고 돌출 형성되어 외력이 가해지면 굽힘 변형되는 복수의 기둥을 포함하고,
타깃기판에 전사될 복수의 소자가 점착된 전사필름과, 상기 복수의 소자가 상기 타깃기판에 전사되도록 가압력을 제공하는 가압부의 사이에 배치되고,
상기 가압부의 가압력이 제공되면 굽힘 변형되어 상기 복수의 소자와 상기 타깃기판 사이에 균일한 접촉압력이 제공되도록 하는 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드.
base plate; and
It includes a plurality of pillars, one end of which is connected to one surface of the base plate and is formed to protrude and is bent and deformed when an external force is applied,
It is disposed between a transfer film on which a plurality of elements to be transferred to a target substrate are adhered, and a pressing unit that provides a pressing force so that the plurality of elements are transferred to the target substrate,
The element transfer non-rigid pad, characterized in that when the pressing force of the pressing part is provided, it is bent and deformed so that a uniform contact pressure is provided between the plurality of elements and the target substrate.
제1항에 있어서,
상기 베이스판은 상기 전사필름에 밀착되고, 상기 기둥의 타단부는 상기 가압부에 대향되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드.
According to claim 1,
The base plate is in close contact with the transfer film, and the other end of the pillar is disposed to face the pressing part.
제1항에 있어서,
상기 기둥의 타단부는 상기 전사필름에 밀착되고, 상기 베이스판은 상기 가압부에 대향되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드.
According to claim 1,
The non-rigid pad for element transfer, characterized in that the other end of the pillar is in close contact with the transfer film, and the base plate is disposed to face the pressing part.
베이스판; 그리고
상기 베이스판의 일면에 일단부가 연결되고 돌출 형성되어 외력이 가해지면 굽힘 변형되는 복수의 기둥을 포함하며,
소자가 전사될 타깃기판의 하부에 배치되고,
전사필름에 점착된 복수의 소자가 상기 타깃기판에 전사되도록 가압부의 가압력이 제공되면 굽힘 변형되어 상기 복수의 소자와 상기 타깃기판 사이에 균일한 접촉압력이 제공되도록 하는 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드.
base plate; and
It includes a plurality of pillars, one end of which is connected to one surface of the base plate and is formed to protrude and bend when an external force is applied.
The element is disposed under the target substrate to be transferred,
When the pressing force of the pressing unit is provided so that the plurality of elements adhered to the transfer film are transferred to the target substrate, they are bent and deformed so that a uniform contact pressure is provided between the plurality of elements and the target substrate. stiff pad.
제4항에 있어서,
상기 베이스판은 상기 타깃기판에 밀착되는 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드.
According to claim 4,
The base plate is a non-rigid pad for element transfer, characterized in that in close contact with the target substrate.
제4항에 있어서,
상기 기둥의 타단부는 상기 타깃기판에 밀착되는 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드.
According to claim 4,
The non-rigid pad for element transfer, characterized in that the other end of the pillar is in close contact with the target substrate.
베이스판; 그리고
상기 베이스판의 일면에 일단부가 연결되고 돌출 형성되어 외력이 가해지면 굽힘 변형되는 복수의 기둥을 포함하고,
타깃기판에 전사될 복수의 소자가 점착된 전사필름 및 상기 복수의 소자가 상기 타깃기판에 전사되도록 가압력을 제공하는 가압부의 사이와, 상기 타깃기판의 하부에 각각 배치되며,
상기 가압부의 가압력이 제공되면 굽힘 변형되어 상기 복수의 소자와 상기 타깃기판 사이에 균일한 접촉압력이 제공되도록 하는 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드.
base plate; and
It includes a plurality of pillars, one end of which is connected to one surface of the base plate and is formed to protrude and is bent and deformed when an external force is applied,
It is disposed between a transfer film on which a plurality of elements to be transferred to a target substrate are adhered and a pressing unit providing a pressing force so that the plurality of elements are transferred to the target substrate, and at a lower portion of the target substrate,
The element transfer non-rigid pad, characterized in that when the pressing force of the pressing part is provided, it is bent and deformed so that a uniform contact pressure is provided between the plurality of elements and the target substrate.
제1항, 제4항 및 제7항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 소자 전사용 무강성 패드는 2개가 적층되어 배치되는 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드.
The method of any one of claims 1, 4 and 7,
The element transfer non-rigid pad, characterized in that two elements transfer non-rigid pads are stacked and disposed.
제8항에 있어서,
적층되어 배치되는 각각의 상기 소자 전사용 무강성 패드는 모두 상기 베이스판 및 상기 기둥의 상대위치가 동일한 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드.
According to claim 8,
The element transfer non-rigid pads, characterized in that the relative positions of the base plate and the pillar are the same in each of the element transfer non-rigid pads that are stacked and arranged.
제8항에 있어서,
적층되어 배치되는 각각의 상기 소자 전사용 무강성 패드 중 어느 하나의 상기 소자 전사용 무강성 패드의 상기 베이스판 및 상기 기둥의 상대위치는 나머지 소자 전사용 무강성 패드의 베이스판 및 기둥과 서로 반대인 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드.
According to claim 8,
The relative position of the base plate and the pillar of any one of the element transfer non-rigid pads among the element transfer non-rigid pads that are stacked is opposite to that of the base plate and pillar of the other element transfer non-rigid pads. A non-rigid pad for device transfer, characterized in that.
제1항, 제4항 및 제7항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 베이스판 및 상기 기둥은 실리콘 고무, 우레탄 고무, 불소 고무, EPDM(ethylene propylene diene rubber), NBR(Nitrile-butadiene rubber) 및 PMMA(polymethyl methacrylate) 중 적어도 어느 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드.
The method of any one of claims 1, 4 and 7,
The base plate and the pillar are formed of at least one of silicone rubber, urethane rubber, fluorine rubber, EPDM (ethylene propylene diene rubber), NBR (Nitrile-butadiene rubber) and PMMA (polymethyl methacrylate) For element transfer, characterized in that formed non-rigid pad.
제1항, 제4항 및 제7항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 기둥은 축방향에 수직한 단면 형상이 비대칭으로 형성되어 상기 기둥의 굽힘 변형 방향이 제어되는 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드.
The method of any one of claims 1, 4 and 7,
The element transfer non-rigid pad, characterized in that the cross-sectional shape perpendicular to the axial direction of the pillar is formed asymmetrically to control the direction of bending deformation of the pillar.
제1항, 제4항 및 제7항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 기둥은 복수개가 그룹핑되어 기둥 그룹을 형성하고, 각각의 상기 기둥 그룹에 속하는 기둥은 굽힘 변형 방향이 서로 대칭이 되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드.
The method of any one of claims 1, 4 and 7,
A plurality of the pillars are grouped to form a pillar group, and the pillars belonging to each pillar group are arranged so that bending deformation directions are symmetrical to each other.
제1항, 제4항 및 제7항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 가압부는 롤러이고, 상기 가압부의 이동방향을 기준으로 상기 베이스판의 중앙에서부터 전단부분과 후단부분으로 갈수록 상기 기둥은 높은 기둥 밀도로 배치되는 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드.
The method of any one of claims 1, 4 and 7,
The element transfer non-rigid pad, characterized in that the pressing part is a roller, and the pillars are arranged with a high pillar density from the center of the base plate to the front and rear ends based on the moving direction of the pressing part.
제1항, 제4항 및 제7항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 기둥은 일방향으로 휘어져 편심된 형상으로 형성되고, 상기 기둥에 외력이 가해지면 상기 기둥은 초기에 휘어져 편심된 방향으로 굽힘 변형되는 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드.
The method of any one of claims 1, 4 and 7,
The element transfer non-rigid pad, characterized in that the pillar is bent in one direction and formed in an eccentric shape, and when an external force is applied to the pillar, the pillar is initially bent and bent in the eccentric direction.
제15항에 있어서,
상기 기둥은
상기 기둥의 일단부에서부터 축방향을 따라 형성되는 제1직선부와,
상기 제1직선부에 일단부가 연결되고 일방향으로 휘어져 편심되게 형성되는 굽힘부와,
상기 굽힘부의 타단부에 연결되고 축방향을 따라 형성되는 제2직선부를 가지는 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드.
According to claim 15,
the pillar
A first straight portion formed along the axial direction from one end of the pillar;
A bending portion having one end connected to the first straight line portion and bent in one direction to be eccentrically formed;
A non-rigid pad for element transfer, characterized in that it has a second straight portion connected to the other end of the bent portion and formed along an axial direction.
제15항에 있어서,
상기 기둥은
상기 기둥의 일단부에서부터 일방향으로 경사지게 연장되는 제1연장부와,
상기 제1연장부와 일단부가 연결되고 상기 제1연장부와 반대방향으로 경사지게 연장되는 제2연장부를 가지는 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드.
According to claim 15,
the pillar
A first extension part obliquely extending in one direction from one end of the pillar;
An element transfer non-rigid pad, characterized in that it has a second extension portion connected to the first extension portion and one end thereof and extending obliquely in an opposite direction to the first extension portion.
제17항에 있어서,
상기 제2연장부의 타단부는 곡면 형성되는 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드.
According to claim 17,
The element transfer non-rigid pad, characterized in that the other end of the second extension portion is formed with a curved surface.
제1항, 제4항 및 제7항 중 어느 하나의 항에 기재된 소자 전사용 무강성 패드의 제조방법으로서,
3D 프린터 공정 또는 LIGA 공정을 이용하여 소자 전사용 무강성 패드에 대응되는 형상의 몰드를 제작하는 몰드 제작단계; 그리고
상기 몰드에 성형액을 투입하고 경화시켜 소자 전사용 무강성 패드를 성형하는 성형단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드의 제조방법.
A method of manufacturing the non-rigid pad for element transfer according to any one of claims 1, 4 and 7,
A mold manufacturing step of manufacturing a mold having a shape corresponding to the non-rigid pad for element transfer using a 3D printer process or a LIGA process; and
A method of manufacturing a non-rigid pad for element transfer, characterized in that it comprises a molding step of molding a non-rigid pad for element transfer by injecting a molding liquid into the mold and curing it.
제19항에 있어서,
상기 성형액은 실리콘 고무, 우레탄 고무, 불소 고무, EPDM(ethylene propylene diene rubber) 및 NBR(Nitrile-butadiene rubber) 중 적어도 어느 하나의 소재이고,
상기 성형액은 실온 경화(Room Temperature Vulcanization) 또는 고온 경화(High Temperature Vulcanization)되는 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드의 제조방법.
According to claim 19,
The molding liquid is at least one material of silicone rubber, urethane rubber, fluororubber, EPDM (ethylene propylene diene rubber), and NBR (Nitrile-butadiene rubber),
The method of manufacturing a rigid pad for element transfer, characterized in that the molding liquid is room temperature curing (Room Temperature Vulcanization) or high temperature curing (High Temperature Vulcanization).
베이스판과, 상기 베이스판의 일면에 일단부가 연결되고 돌출 형성되어 외력이 가해지면 굽힘 변형되는 복수의 기둥을 가지는 소자 전사용 무강성 패드를 포함하고,
상기 소자 전사용 무강성 패드는 타깃기판에 전사될 복수의 소자가 점착된 전사필름과, 상기 복수의 소자가 상기 타깃기판에 전사되도록 가압력을 제공하는 가압부의 사이에 3개 이상이 적층되어 배치되고,
상기 가압부의 가압력이 제공되면 1차 굽힘 변형되어 상기 복수의 소자와 상기 타깃기판 사이에 균일한 제1접촉압력이 제공되도록 하고, 상기 가압부의 가압력이 증가하여 제공되면 2차 굽힘 변형되어 상기 복수의 소자와 상기 타깃기판 사이에 상기 제1접촉압력보다 큰 제2접촉압력이 균일하게 제공되도록 하는 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드군.
A non-rigid pad for element transfer having a base plate and a plurality of pillars that are bent and deformed when an external force is applied, one end of which is connected to and protrudes from one surface of the base plate,
At least three non-rigid pads for element transfer are stacked and disposed between a transfer film on which a plurality of elements to be transferred to a target substrate are adhered, and a pressing part that provides a pressing force so that the plurality of elements are transferred to the target substrate. ,
When the pressing force of the pressing unit is provided, a first bending deformation is performed so that a uniform first contact pressure is provided between the plurality of elements and the target substrate, and when the pressing force of the pressing unit is increased and provided, a second bending deformation is performed to achieve the plurality of A non-rigid pad group for element transfer, characterized in that a second contact pressure greater than the first contact pressure is uniformly provided between the element and the target substrate.
베이스판과, 상기 베이스판의 일면에 일단부가 연결되고 돌출 형성되어 외력이 가해지면 굽힘 변형되는 복수의 기둥을 가지는 소자 전사용 무강성 패드를 포함하고,
상기 소자 전사용 무강성 패드는 전사필름에 점착된 복수의 소자가 전사될 타깃기판의 하부에 3개 이상이 적층되어 배치되고,
상기 복수의 소자가 상기 타깃기판에 전사되도록 가압부의 가압력이 제공되면 1차 굽힘 변형되어 상기 복수의 소자와 상기 타깃기판 사이에 균일한 제1접촉압력이 제공되도록 하고, 상기 가압부의 가압력이 증가하여 제공되면 2차 굽힘 변형되어 상기 복수의 소자와 상기 타깃기판 사이에 상기 제1접촉압력보다 큰 제2접촉압력이 균일하게 제공되도록 하는 것을 특징으로 하는 소자 전사용 무강성 패드군.
A non-rigid pad for element transfer having a base plate and a plurality of pillars that are bent and deformed when an external force is applied, one end of which is connected to and protrudes from one surface of the base plate,
Three or more non-rigid pads for element transfer are stacked and disposed under a target substrate on which a plurality of elements adhered to a transfer film are to be transferred,
When the pressing force of the pressing unit is provided so that the plurality of elements are transferred to the target substrate, a first bending deformation is performed so that a uniform first contact pressure is provided between the plurality of elements and the target substrate, and the pressing force of the pressing unit increases. If provided, it is subjected to secondary bending deformation so that a second contact pressure greater than the first contact pressure is uniformly provided between the plurality of elements and the target substrate.
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