KR100903767B1 - Photosensitive resin composition for black color resist of lcd - Google Patents
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Abstract
본 발명은 알칼리 수용액에서 현상이 가능한 안료를 포함하는 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 빛에 의해 경화될 수 있는 산변성 비스페놀 에폭시 아크릴레이트 수지를 포함하여 감도가 뛰어나고 현상 마진 및 내열성이 우수한 흑색 컬러 레지스트용 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a photosensitive resin composition comprising a pigment that can be developed in an aqueous alkali solution, and more particularly to an acid-modified bisphenol epoxy acrylate resin that can be cured by light, and has excellent sensitivity and excellent development margin and heat resistance. It relates to the photosensitive resin composition for black color resists.
산변성 비스페놀 에폭시 아크릴레이트 수지, 현상성, 보관안정성, 패턴 직진성Acid-modified bisphenol epoxy acrylate resin, developability, storage stability, pattern straightness
Description
도 1은 본 발명의 조성물을 이용하여 얻은 광학밀도 값 2.0 이상에서의 스트라이프 패턴(stripe pattern)을 나타낸 것이고,1 illustrates a stripe pattern at an optical density value of 2.0 or more obtained using the composition of the present invention.
도 2는 본 발명의 조성물을 이용하여 얻은 패턴 슬로프(pattern slope)를 나타내는 것이고,2 shows a pattern slope obtained using the composition of the present invention,
도 3은 본 발명의 조성물을 이용하여 얻은 패턴에서의 잔류물(residue) 상태를 나타낸 것이다.Figure 3 shows the residue state in the pattern obtained using the composition of the present invention.
본 발명은 액정 디스플레이의 컬러 필터를 제조시 적색, 녹색, 파란색의 색간섭을 막기 위해 사용되는 흑색 컬러 레지스트를 구성하는 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 감도가 뛰어나고 현상 마진 및 내열성이 뛰어난 흑색 컬러 레지스트용 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a photosensitive resin composition constituting a black color resist used to prevent color interference of red, green, and blue when manufacturing a color filter of a liquid crystal display, and more particularly, has excellent sensitivity, excellent development margin and heat resistance. It relates to the photosensitive resin composition for black color resists.
액정 디스플레이의 흑색 컬러 필터를 형성시키는 방법으로 크롬 산화막을 강산을 이용하여 에칭하는 방법이 주로 사용되었으나, 환경 친화형의 기술개발과 공 정 단순화를 위해 최근에는 흑색 안료를 레지스트에 분산시켜 원하는 패턴을 형성하는 방법이 활발하게 연구되어지고 있다. 그러나, 흑색안료의 사용으로 인해 레지스트에 충분한 빛이 전달되지 못하기 때문에 원하는 패턴 형성을 위해 기존의 레지스트에 비해 기판에 대한 높은 접착력과 고감도를 갖는 레지스트 조성물 개발의 필요성이 대두되었다.As a method of forming a black color filter of a liquid crystal display, a method of etching a chromium oxide film using a strong acid has been mainly used.However, in order to develop an environmentally friendly technology and simplify the process, recently, black pigments are dispersed in a resist to form a desired pattern. Formation methods are being actively studied. However, since the use of the black pigment is not enough light is transmitted to the resist, there is a need for the development of a resist composition having a high adhesion and high sensitivity to the substrate compared to the conventional resist to form a desired pattern.
종래 기술의 감광성 수지 조성물은 일반적으로 가) 알칼리 수용액에 용해되는 바인더, 나) 적어도 2개 이상의 에틸렌계 이중 결합을 갖는 가교성 모노머, 다) 안료, 라) 광중합 개시제, 및 마) 용제로 이루어져 있으며, 필요에 따라 기판과의 접착력 향상제, 보관 안정성을 위한 안정제, 안료와의 분산성을 향상시키기 위한 분산제등의 첨가제를 함유한다. 이러한 감광성 수지 조성물은 일반적으로 빛(UV)에 의해 생성된 광중합 개시제의 라디칼에 의해서 가교성 모노머와 교구조를 만들어 현상과정에 현상액에 대한 용해력을 저지시킨다. 하지만, 이러한 구조는 흑색 안료 함량이 많아짐에 따라 레지스트의 광감응성이 저하되어 패턴을 형성시키는데 있어 현상액과의 반응성 및 공정 마진 측면에서 상당한 문제점으로 제기 되었다.The photosensitive resin composition of the prior art generally comprises a) a binder dissolved in an aqueous alkali solution, b) a crosslinkable monomer having at least two or more ethylenic double bonds, c) a pigment, d) a photopolymerization initiator, and e) a solvent. And additives such as an adhesive improving agent to the substrate, a stabilizer for storage stability, and a dispersant for improving dispersibility with the pigment, as necessary. Such photosensitive resin compositions generally form cross-linkable monomers and crosslinks by radicals of photopolymerization initiators generated by light (UV), thereby inhibiting the dissolving ability of the developer during development. However, this structure has caused a significant problem in terms of reactivity with the developer and process margin in forming a pattern due to a decrease in the photoresponsiveness of the resist as the black pigment content increases.
본 발명은 상기 종래 기술에서의 문제점을 해결하기 위하여, 빛(UV)에 의한 경화 능력이 우수하고 기판에 대한 접착력이 우수한 산변성 비스페놀 에폭시 아크릴레이트 수지를 이용하여 적은 노광량으로도 패턴 형성능이 우수하고 현상성이 뛰어나며 보관안정성도 우수한 LCD 흑색 컬러 레지스트용 감광성 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention, in order to solve the problems in the prior art, by using an acid-modified bisphenol epoxy acrylate resin excellent in curing ability by light (UV) and excellent adhesion to the substrate and excellent pattern formation ability at a small exposure amount An object of the present invention is to provide a photosensitive resin composition for LCD black color resist that is excellent in developability and excellent in storage stability.
본 발명의 다른 목적은 상기 알칼리 가용성 감광성 수지 조성물을 포함하여 제조되는 액정표시장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a liquid crystal display device comprising the alkali-soluble photosensitive resin composition.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되며 중량평균분자량이 8000 내지 40000인 알칼리 수용액에 용해되는 산변성 비스페놀 에폭시 아크릴레이트 수지 2 내지 10 중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 알칼리 가용성 LCD 흑색 컬러 레지스트용 감광성 수지 조성물을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention is an alkali soluble represented by the formula (1) and comprises 2 to 10% by weight acid-modified bisphenol epoxy acrylate resin dissolved in an aqueous alkali solution having a weight average molecular weight of 8000 to 40000 It provides the photosensitive resin composition for LCD black color resists.
[화학식 1][Formula 1]
(상기 화학식 1에서,(In Formula 1,
R1은 하기 화학식 2로 표시되며,R 1 is represented by the following formula (2),
[화학식 2][Formula 2]
CH2=CHC(O)ORCH2-CH 2 = CHC (O) ORCH 2-
상기 화학식 2에서, R은 히드록시기를 포함하거나 포함하지 않은 탄소수 1 내지 4의 알킬기, 또는 에폭시 변성 알킬기이며;In Formula 2, R is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms with or without a hydroxy group, or an epoxy-modified alkyl group;
R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 또는 동시에 수소 또는 메틸기이다.) R 2 , R 3 and R 4 are each independently or simultaneously hydrogen or a methyl group.)
상기 조성물은 가) 상기 화학식 1로 표시되는 알칼리 수용액에 용해되는 산 변성 비스페놀 에폭시 아크릴레이트 수지 2 내지 10 중량%; 나) 적어도 2개 이상의 에틸렌계 이중 결합을 갖는 가교성 모노머 5 내지 30 중량%; 다) 흑색 안료 4 내지 10 중량%; 라) 광중합 개시제 0.5 내지 10 중량%; 및 마) 잔량의 용제를 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 조성물은 바) 아크릴레이트 고분자 수지 1 내지 5 중량%를 더욱 포함할 수 있다. 또한, 상기 조성물은 사) 분산제 및 첨가제 최대 1 중량%를 더욱 포함할 수 있다.The composition is a) 2 to 10% by weight of acid-modified bisphenol epoxy acrylate resin dissolved in the aqueous alkali solution represented by the formula (1); B) 5 to 30% by weight of a crosslinkable monomer having at least two ethylenic double bonds; C) 4 to 10 weight percent of a black pigment; D) 0.5 to 10 wt% of a photopolymerization initiator; And e) a residual amount of solvent. In addition, the composition may further comprise 1) to 5% by weight of the acrylate polymer resin. In addition, the composition may further comprise a maximum 1% by weight of the dispersant and additives.
또한, 본 발명은 상기 기재의 알칼리 가용성 감광성 수지 조성물을 포함하여 제조되는 액정표시장치를 제공한다.The present invention also provides a liquid crystal display device comprising the alkali-soluble photosensitive resin composition described above.
이하에서 본 발명을 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.
본 발명은 빛(UV)에 의한 경화 능력이 우수하고 기판에 대한 접착력이 우수한 산변성 비스페놀 에폭시 아크릴레이트 수지를 이용한 알칼리 수용액에 현상이 가능한 감광성 수지 조성물을 제공하는 특징이 있다.The present invention is characterized by providing a photosensitive resin composition capable of developing in an aqueous alkali solution using an acid-modified bisphenol epoxy acrylate resin having excellent curing ability by light (UV) and excellent adhesion to a substrate.
본 발명의 알칼리 가용성 감광성 수지 조성물에 있어서, 상기 가) 알칼리 수용액에 용해되는 산변성 비스페놀 에폭시 아크릴레이트 수지는 상기 화학식 1로 표시되며, 이는 비스페놀 에폭시 수지에 알카리 가용성을 위한 무수프탈산과 광민감도를 높이기 위한 불포화 이중결합을 부분적으로 도입하여 제조된 화합물이다. 이러한 상기 화학식 1의 산변성 비스페놀 에폭시 아크릴레이트 수지는 중량평균분자량이 8000 내지 40000인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 15000 내지 25000이다. 상기 화학식 1의 중량평균분자량이 8000 미만이면 패턴 형성능이 떨어지며, 40000을 초과하면 알칼리에 대한 현상능이 떨어지는 문제가 있다. In the alkali-soluble photosensitive resin composition of the present invention, the a) acid-modified bisphenol epoxy acrylate resin dissolved in an aqueous alkali solution is represented by the formula (1), which increases the phthalic anhydride and photosensitivity for alkali solubility in the bisphenol epoxy resin. Compound prepared by partially introducing an unsaturated double bond. The acid-modified bisphenol epoxy acrylate resin of the formula (1) is preferably a weight average molecular weight of 8000 to 40000, more preferably 15000 to 25000. If the weight average molecular weight of the formula (1) is less than 8000, the pattern-forming ability is lowered, and if it exceeds 40000, there is a problem that developability for alkali is lowered.
상기 화학식 1로 표시되는 알칼리 수용액에 용해되는 산변성 비스페놀 에폭시 아크릴레이트 수지의 함량은 전체 수지 조성물에 대하여 2 내지 10 중량%로 사용하는 것이 바람직하며, 그 함량이 2 중량% 미만이면 패턴의 접착력이 약화되고 광민감도가 저하되는 문제가 있고, 10 중량%를 초과하면 패턴의 뜯김 현상이 생기고 흑색 안료의 상대적 감소로 인해 빛의 투과도가 높아져 광학밀도(optical density)가 감소하는 문제가 있다.The content of the acid-modified bisphenol epoxy acrylate resin dissolved in the aqueous alkali solution represented by Chemical Formula 1 is preferably used in an amount of 2 to 10% by weight based on the total resin composition, and when the content is less than 2% by weight, the adhesion of the pattern may be There is a problem of weakening and a decrease in photosensitivity, and when it exceeds 10% by weight, tearing of the pattern occurs and light transmittance is increased due to the relative decrease of the black pigment, thereby reducing the optical density.
본 발명의 감광성 수지 조성물에 있어서, 상기 나) 적어도 2개 이상의 에틸렌계 이중 결합을 갖는 가교성 모노머로는 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 디펜타에리스리톨디아크릴레이트, 솔비톨트리아크릴레이트, 비스페놀 A 디아클릴레이트 유도체, 트리메틸프로판트리아크릴레이트, 디펜타에리스리톨폴리아크릴레이트, 및 그것의 메타크릴레이트류 등이 있다. 상기 적어도 2개 이상의 에틸렌계 이중 결합을 갖는 가교성 모노머의 함량은 전체 감광성 수지 조성물에 대하여 5 내지 30 중량%가 바람직하며, 보다 바람직하게는 5 내지 20 중량%가 좋다. 상기 가교성 모노머의 함량이 5 중량% 미만이면 감광성수지와의 낮은 경화도에 의해서 패턴 구현이 어렵고, 30 중량%를 초과하면 높은 경화도로 인해 현상시 패턴의 뜯김 현상이 심해지고 패턴의 직진성이 나빠진다.In the photosensitive resin composition of the present invention, b) 1,4-butanediol diacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate, and ethylene glycol di are mentioned as the crosslinkable monomer having at least two or more ethylenic double bonds. Acrylate, pentaerythritol tetraacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, dipentaerythritol diacrylate, sorbitol triacrylate, bisphenol A diacrylate derivative, trimethyl propane triacrylate, dipenta Erythritol polyacrylate, methacrylates thereof, and the like. The content of the crosslinkable monomer having at least two or more ethylenic double bonds is preferably 5 to 30% by weight, more preferably 5 to 20% by weight based on the total photosensitive resin composition. When the content of the crosslinkable monomer is less than 5% by weight, it is difficult to realize the pattern due to the low degree of curing with the photosensitive resin. When the content of the crosslinkable monomer exceeds 30% by weight, the pattern is severely broken due to the high degree of curing, and the straightness of the pattern becomes worse. .
본 발명의 감광성 수지 조성물에 있어서, 다) 흑색안료는 칼라 필터의 용도에 따라서 적절하게 선정할 수 있고, 무기 및 유기안료 모두 사용 가능하다. 본 발명에서 사용되는 흑색안료로는 발색성이 높고, 내열성이 높은 안료가 바람직하고, 특히 카본 블랙 혹은 다른 종류의 조합이 바람직하다. 본 발명에 사용되는 카본 블랙의 예로는 SAF, SAF-HS, ISAF, ISAF-HF, HAF, HAF-LS, HAF-LS, NAF, FEF, FEF-HS, SRF, SRF-LM, SRF-LS, GPF, ECF, N-339, N-351 등의 퍼네이스(furnace) 블랙; FT, MT 등의 써멀(thermal) 블랙; 아세틸렌 블랙 등이 있다. 이들 카본 블랙은 단독 혹은 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 또한, 본 발명은 상기 카본 블랙 이외의 흑색 무기 안료로서 티탄블랙, Cu-Fe-Mn계 산화물, 합성철 블랙 등의 금속 산화물 등을 사용할 수 있다.In the photosensitive resin composition of this invention, c) black pigment can be suitably selected according to the use of a color filter, and both inorganic and organic pigment can be used. As the black pigment used in the present invention, a pigment having high color development and high heat resistance is preferable, and carbon black or another type of combination is particularly preferable. Examples of carbon blacks used in the present invention include SAF, SAF-HS, ISAF, ISAF-HF, HAF, HAF-LS, HAF-LS, NAF, FEF, FEF-HS, SRF, SRF-LM, SRF-LS, Furnace blacks such as GPF, ECF, N-339, and N-351; Thermal blacks such as FT, MT, etc .; Acetylene black and the like. These carbon blacks can be used individually or in mixture of 2 or more types. In the present invention, metal oxides such as titanium black, Cu—Fe—Mn-based oxide, and synthetic iron black may be used as black inorganic pigments other than the carbon black.
상기 흑색안료의 함량은 전체 감광성 수지 조성물에 대하여 4 내지 10 중량%가 바람직하다. 상기 흑색안료는 분말상태로 사용시는 용매에 희석하여 사용하는 것이 바람직하다. 상기 흑색안료의 함량이 4 중량% 미만이면 빛의 차단이 어려워져 광학밀도(optical density)가 감소하는 문제가 있고, 10 중량%를 초과하면 UV가 감광성 조성물에 전달되지 못해 패턴 형성에 문제가 있다.The content of the black pigment is preferably 4 to 10% by weight based on the total photosensitive resin composition. The black pigment is preferably used diluted in a solvent when used in a powder state. When the content of the black pigment is less than 4% by weight, it is difficult to block light, thereby reducing the optical density. When the content of the black pigment is more than 10% by weight, UV is not transmitted to the photosensitive composition. .
본 발명의 감광성 수지 조성물에 있어서, 상기 라) 광중합 개시제로는 트리아진계, 벤조인, 아세토페논계, 이미다졸계, 트산톤계 등의 화합물들을 1 종 이상 혼합 사용할 수 있으며, 구체적인 예로는 2,4-비스트리클로로메틸-6-p-메톡시스티릴-s-트리아진, 2-p-메톡시스티릴-4,6-비스트리클로로메틸-s-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-6-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-4-메틸나프틸-6-트리아진, 벤조페논, p-(디에틸아미노)벤조페논, 2,2-디클로로-4-페녹시아세토페논, 2,2 -디에톡시아세토페논, 2,2 -디부톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸프로리오페논, p-t-부틸트리클 로로아세토페논, 2-메틸티오크산톤, 2-이소부틸티오크산톤, 2-도데실티오크산톤, 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,2 -비스-2-클로로페닐-4,5,4 ,5 -테트라페닐-2 -1,2 -비이미다졸 화합물 등이 있다.In the photosensitive resin composition of the present invention, as the photopolymerization initiator (d), one or more compounds such as triazine-based, benzoin, acetophenone-based, imidazole-based, and thanthone-based compounds may be mixed and used. Bistrichloromethyl-6-p-methoxystyryl-s-triazine, 2-p-methoxystyryl-4,6-bistrichloromethyl-s-triazine, 2,4-trichloromethyl -6-triazine, 2,4-trichloromethyl-4-methylnaphthyl-6-triazine, benzophenone, p- (diethylamino) benzophenone, 2,2-dichloro-4-phenoxycetophenone , 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dibutoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methylproriophenone, pt-butyl trichloroacetophenone, 2-methylthioxanthone, 2-isobutyl Thioxanthone, 2-dodecyl thioxanthone, 2,4-dimethyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2,2-bis-2-chlorophenyl-4,5,4,5-tetra Phenyl-2-1,2-biimidazole compounds and the like. .
상기 광중합 개시제의 함량은 전체 조성물에 대하여 0.5 내지 10 중량%로 사용하는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 2 내지 5 중량%로 사용한다. 상기 광중합 개시제의 함량이 0.5 중량% 미만이면 낮은 감도로 인해 정상적인 패턴 구현이 힘들어지고 패턴의 직진성에도 좋지 않고, 10 중량%를 초과하면 보존안정성에 문제가 발생할 수 있으며 높은 경화도로 인해 현상시 패턴의 뜯김이 심해질 수 있다.The content of the photopolymerization initiator is preferably used in 0.5 to 10% by weight, more preferably 2 to 5% by weight based on the total composition. If the content of the photopolymerization initiator is less than 0.5% by weight, it is difficult to implement a normal pattern due to low sensitivity, and it is not good for the straightness of the pattern. If the content of the photopolymerization initiator exceeds 10% by weight, there may be a problem in storage stability. Tearing can be severe.
본 발명의 감광성 수지 조성물에 있어서, 상기 마) 용제는 용해성 및 안료 분산성, 및 코팅성에 의해서 선택되어지며, 예들 들면 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 시클로헥사논, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸 등이 바람직하며, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용 가능하다. 상기 용제의 함량은 전체 감광성 수지 조성물에 대하여 잔량으로 포함될 수 있다.In the photosensitive resin composition of the present invention, the e) solvent is selected by solubility and pigment dispersibility and coating property, for example, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol methyl ether acetate, propylene Glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, cyclohexanone, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate and the like are preferred. Or it can mix and use 2 or more types. The amount of the solvent may be included in the remaining amount relative to the entire photosensitive resin composition.
또한, 본 발명의 조성물은 바) 아크릴레이트 고분자 수지를 더욱 포함할 수 있으며, 상기 아크릴레이트 고분자 수지는 에틸렌계 산성그룹을 갖는 단량체(A)와 에틸렌계 산성그룹을 갖지 않는 단량체(B)의 공중합체인 것이 바람직하다.In addition, the composition of the present invention may further comprise a) acrylate polymer resin, the acrylate polymer resin is a copolymerization of a monomer (A) having an ethylene-based acidic group and a monomer (B) having no ethylene-based acidic group It is preferable to chain.
상기 산성그룹을 갖는 단량체(A)는 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 말레인 산, 푸마르산, 비닐초산 또는 이들의 산 무수물 형태, 또는 2-아크릴로옥시에틸히드로겐프탈레이트, 2-아크릴로옥시프로필히드로겐프탈레이트, 2-아크릴로옥시프로필헥사히드로겐프탈레이트 등이 있다. 상기 산성그룹을 갖는 단량체의 함량은 10 내지 40 중량%가 바람직하며, 보다 바람직하게는 20 내지 30 중량%이다. 상기 산성그룹을 갖는 단량체의 함량이 10 중량% 미만이면 감광성 수지 조성물의 알칼리 현상액에 대한 용해성이 저하되는 경향이 있고, 40 중량%를 초과하면 알칼리 현상액에 의한 현상시 패턴의 탈락 및 뜯김현상이 발생된다.The monomer (A) having the acidic group may be in the form of acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, vinyl acetic acid or an acid anhydride thereof, or 2-acrylooxyethylhydrogenphthalate, 2-acrylooxy Propyl hydrogenphthalate, 2-acrylooxypropyl hexahydro phthalate, and the like. The content of the monomer having an acidic group is preferably 10 to 40% by weight, more preferably 20 to 30% by weight. When the content of the monomer having an acidic group is less than 10% by weight, the solubility of the photosensitive resin composition in the alkali developer tends to be lowered. When the content of the monomer having an acidic group exceeds 40% by weight, dropping and tearing of the pattern occurs during development by the alkaline developer. do.
상기 산성그룹을 갖지 않는 단량체(B)의 예로는 이소부틸아크릴레이트, tert-부틸아크릴레이트, 라우릴아크릴레이트, 알킬아크릴레이트, 스테아크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 이소보닐아크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 2-히드록시아크릴레이트, 트리메톡시부틸아크릴레이트, 에틸카르비돌아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-아크릴옥시에틸2-히드록시프로필프탈레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트 및 그것의 메타크릴레이트류, 3-플루오로에틸아크릴레이트, 4-플루오로프로필아크릴레이트와 같은 할로겐화합물을 포함하는 아크릴레이트 및 이의 메타크릴레이트류, 트리에틸실록실에틸아크릴레이트와 같은 실록산기를 포함하는 아크릴레이트 및 이의 메타크릴레이트류 등이 있다. 상기 산성그룹을 갖지 않는 단량체의 함량은 고분자 조성 중 60 내지 90 중량%인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 70 내지 80 중량%인 것이 좋다. 이러한 단량체의 함량이 60 중량% 미만이면 현상공정시 유리면과의 밀착성이 떨어져 패턴 뜯김 현상이 심해지고 형성된 패턴의 직진성이 악화되며, 90 중량%를 초과하면 현상시 현상시간이 길어진다.Examples of the monomer (B) having no acidic group include isobutyl acrylate, tert-butyl acrylate, lauryl acrylate, alkyl acrylate, steacrylate, cyclohexyl acrylate, isobornyl acrylate and benzyl acrylate. , 2-hydroxyacrylate, trimethoxybutyl acrylate, ethyl carbidol acrylate, phenoxyethyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, phenoxy polyethylene glycol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate , 2-hydroxypropyl acrylate, 2-acryloxyethyl 2-hydroxypropyl phthalate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate and its methacrylates, 3-fluoroethyl acrylate, 4 Acrylates and their methacrylates containing halogen compounds such as -fluoropropyl acrylate, triethylsiloxane ethyl acryl Acrylates containing siloxane groups such as rate, and methacrylates thereof. The content of the monomer having no acidic group is preferably 60 to 90% by weight of the polymer composition, more preferably 70 to 80% by weight. If the content of such monomer is less than 60% by weight, the adhesion to the glass surface is poor during the developing process, the pattern tearing phenomenon is severe, and the straightness of the formed pattern is deteriorated. If the content is more than 90% by weight, the developing time is long.
상기 아크릴레이트 고분자 수지의 중량평균분자량은 10,000 내지 40,000인 것이 바람직하며, 더욱 바람직한 아크릴레이트 고분자의 중량 평균 분자량은 15,000내지 35,000이다. 이때, 상기 아크릴레이트 고분자 수지의 중량평균분자량이 10,000 미만이면 현상과정에서 현상마진이 없게 되며, 40,000을 초과하면 현상과정에서 현상시간이 느려지고 잔막이 생긴다.The weight average molecular weight of the acrylate polymer resin is preferably 10,000 to 40,000, and more preferably the weight average molecular weight of the acrylate polymer is 15,000 to 35,000. At this time, if the weight average molecular weight of the acrylate polymer resin is less than 10,000, there is no development margin in the development process, and if it exceeds 40,000, the development time is slowed and the residual film is generated in the development process.
상기 바) 아크릴레이트 고분자 수지의 함량은 전체 수지 조성물에 대하여 1 내지 5 중량%로 사용하는 것이 바람직하며, 그 함량이 1 중량% 미만이면 조성물에 대한 흑색 안료의 분산성에 문제가 발생할 수 있고, 5 중량%를 초과하면 조성물의 접착력 약화가 발생할 수 있다.Bar) The content of the acrylate polymer resin is preferably used in 1 to 5% by weight based on the total resin composition, if the content is less than 1% by weight may cause problems in the dispersibility of the black pigment to the composition, 5 Exceeding the weight percent may result in weakening of the adhesion of the composition.
또한, 본 발명의 감광성 수지 조성물은 사) 안료와의 분산성을 향상시키기 위한 분산제 및 코팅성 향상을 위한 첨가제를 더욱 포함할 수 있다. 상기 분산제로는 폴리에스테르계, 폴리우레탄계 분산제 등이 있으며, 상기 코팅성 향상을 위한 첨가제로는 실리콘계 및 불소계 등의 계면활성제 등이 있으며, 이들은 전체 감광성 수지 조성물에 대하여 최대 1 중량%까지 사용할 수 있다.In addition, the photosensitive resin composition of the present invention may further include a dispersant for improving dispersibility with the pigment and additives for improving the coatability. The dispersant may include a polyester-based or polyurethane-based dispersant, and the additives for improving the coating property may include surfactants such as silicone and fluorine, and they may be used up to 1 wt% based on the total photosensitive resin composition. .
이와 같이, 본 발명의 감광성 수지조성물은 광학 밀도(OD, optical density) 값이 2.0 이상에서 최대 해상도 10 ㎛ 이하와 패턴 직진성이 우수하여 LCD 컬러필터를 제조하기에 적합하다. 따라서, 본 발명은 통상적인 방법으로 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 감도가 뛰어나고 현상 마진 및 패턴직진성이 우수한 반도체 소자, 바람직하게는 액정표시소자를 제공할 수 있다.As described above, the photosensitive resin composition of the present invention has an optical density (OD) value of 2.0 or more and a maximum resolution of 10 μm or less and excellent pattern straightness, which is suitable for manufacturing an LCD color filter. Accordingly, the present invention can provide a semiconductor device, preferably a liquid crystal display device, having excellent sensitivity and excellent development margin and pattern straightness using the photosensitive resin composition in a conventional manner.
이하, 본 발명을 실시예를 통해 더욱 상세히 설명하나, 본 발명의 범위가 하기 실시예로 한정되는 것은 아니다. 하기 실시예에 있어서 별도의 언급이 없으면 백분율 및 혼합비는 중량을 기준으로 한 것이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the scope of the present invention is not limited to the following Examples. In the following examples, unless stated otherwise, percentages and mixing ratios are by weight.
[실시예 1]Example 1
가) 알칼리 가용성 산변성 비스페놀 에폭시 아크릴레이트 수지 6 중량부, 나) 적어도 2개 이상의 에틸렌계 이중 결합을 갖는 가교성 모노머로서 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 5 중량부, 다) 안료로서 CF 블랙 DJBK-01 (Mikuni색료 제조) 27 중량부, 라) 광중합 개시제로서 Irgacure 369(시바스페셜티케미칼 제조) 4 중량부와 4,4 -비스디에틸아미노베조페논 1 중량부, 마) 용제로서 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 40 중량부와 시클로헥사논 22 중량부를 혼합하여 액상의 조성물을 제조하였다.A) 6 parts by weight of alkali-soluble acid-modified bisphenol epoxy acrylate resin, b) 5 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate as a crosslinkable monomer having at least two or more ethylenic double bonds, and c) CF black DJBK-01 as a pigment. (Manufactured by Mikuni pigment) 27 parts by weight, d) 4 parts by weight of Irgacure 369 (manufactured by Ciba Specialty Chemical) and 1 part by weight of 4,4-bisdiethylaminobezophenone as a photopolymerization initiator, e) propylene glycol methyl ether acetate as a solvent. A liquid composition was prepared by mixing 40 parts by weight and 22 parts by weight of cyclohexanone.
[실시예 2]Example 2
가) 알칼리 가용성 산변성 비스페놀 에폭시 아크릴레이트 수지 4 중량부, 나) 적어도 2개 이상의 에틸렌계 이중 결합을 갖는 가교성 모노머로서 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 5 중량부, 다) 안료 CF 블랙 DJBK-01 (Mikuni색료 제조) 27 중량부, 라) 광중합 개시제로서 Irgacure 369(시바스페셜티케미칼 제조) 4 중량부와 4,4 -비스디에틸아미노베조페논 1 중량부, 마) 용제로서 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 40 중량부와 시클로헥사논 20 중량부, 및 바) 아크릴레이트계 고분자 수지(벤질메타크릴레이트/메타크릴산/히드록시에틸 메타크릴레이트 = 60/20/20, 중량평균분자량 = 30,000인 중합체) 2 중량부를 혼합하여 액상의 조성물을 제조하였다.A) 4 parts by weight of alkali-soluble acid-modified bisphenol epoxy acrylate resin, b) 5 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate as a crosslinkable monomer having at least two or more ethylenic double bonds, and c) Pigment CF Black DJBK-01 ( 27 parts by weight of Mikuni pigment, d) 4 parts by weight of Irgacure 369 (manufactured by Ciba Specialty Chemical) and 1 part by weight of 4,4-bisdiethylaminobezophenone as a photopolymerization initiator, e) propylene glycol methyl ether acetate 40 as a solvent. Parts by weight and 20 parts by weight of cyclohexanone, and f) acrylate polymer resin (benzyl methacrylate / methacrylic acid / hydroxyethyl methacrylate = 60/20/20, weight average molecular weight = 30,000 polymer) 2 Mixing parts by weight to prepare a liquid composition.
[실시예 3]Example 3
가) 알칼리 가용성 산변성 비스페놀 에폭시 아크릴레이트 수지 4 중량부, 나) 적어도 2개 이상의 에틸렌계 이중 결합을 갖는 가교성 모노머로서 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 5 중량부, 다) 안료 CF 블랙 DJBK-01 (Mikuni색료 제조) 27 중량부, 라) 광중합 개시제로서 Irgacure 369(시바스페셜티케미칼 제조) 4 중량부와 4,4 -비스디에틸아미노베조페논 1 중량부, 마) 용제로서 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 40 중량부와 시클로헥사논 20 중량부, 및 바) 아크릴레이트계 고분자 수지 (벤질메타크릴레이트/메타크릴산/메틸 메타크릴레이트 = 60/20/20, 중량 평균 분자량 = 30,000인 중합체) 2 중량부를 혼합하여 액상의 조성물을 제조하였다.A) 4 parts by weight of alkali-soluble acid-modified bisphenol epoxy acrylate resin, b) 5 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate as a crosslinkable monomer having at least two or more ethylenic double bonds, and c) Pigment CF Black DJBK-01 ( 27 parts by weight of Mikuni pigment, d) 4 parts by weight of Irgacure 369 (manufactured by Ciba Specialty Chemical) and 1 part by weight of 4,4-bisdiethylaminobezophenone as a photopolymerization initiator, e) propylene glycol methyl ether acetate 40 as a solvent. Parts by weight and 20 parts by weight of cyclohexanone, and f) 2 parts by weight of an acrylate polymer resin (benzyl methacrylate / methacrylic acid / methyl methacrylate = 60/20/20, a polymer having a weight average molecular weight = 30,000) Mixing to prepare a liquid composition.
[실시예 4]Example 4
가) 알칼리 가용성 산변성 비스페놀 에폭시 아크릴레이트 수지 4 중량부, 나) 적어도 2개 이상의 에틸렌계 이중 결합을 갖는 가교성 모노머로서 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 5 중량부, 다) 안료 CF 블랙 DJBK-01 (Mikuni색료 제조) 27 중량부, 라) 광중합 개시제로서 Irgacure 369(시바스페셜티케미칼 제조) 4 중량부와 4,4 -비스디에틸아미노베조페논 1 중량부, 마)용제로서 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 40 중량부와 시클로헥사논 20 중량부, 및 바) 아크릴레이트계 고분자 수지 (벤질메타크릴레이트/메타크릴산/t-부틸 메타크릴레이트 = 60/20/20, 중량 평균 분자량 = 30,000인 중합체) 2 중량부를 혼합하여 액상의 조성물을 제조하였다.A) 4 parts by weight of alkali-soluble acid-modified bisphenol epoxy acrylate resin, b) 5 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate as a crosslinkable monomer having at least two or more ethylenic double bonds, and c) Pigment CF Black DJBK-01 ( 27 parts by weight of Mikuni pigment, d) 4 parts by weight of Irgacure 369 (manufactured by Ciba Specialty Chemical) and 1 part by weight of 4,4-bisdiethylaminobezophenone, e) propylene glycol methyl ether acetate as a photopolymerization initiator 40 Parts by weight and 20 parts by weight of cyclohexanone, and f) acrylate polymer resin (benzyl methacrylate / methacrylic acid / t-butyl methacrylate = 60/20/20, weight average molecular weight = 30,000 polymer) 2 Mixing parts by weight to prepare a liquid composition.
[비교예 1]Comparative Example 1
가) 알칼리 수용액에 용해되는 감광성 아크릴레이트 수지 (벤질메타크릴레이트/메타크릴산/히드록시페닐찰콘아크릴레이트 = 60/20/20, 중량 평균 분자량 = 30,000인 중합체) 6 중량부, 나) 적어도 2개 이상의 에틸렌계 이중 결합을 갖는 가교성 모노머로서 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 2 중량부, 다) 안료 CF 블랙 DJBK-01 (Mikuni색료 제조) 27 중량부, 라) 광중합 개시제로서 Irgacure 369(시바스페셜티케미칼 제조) 4 중량부와 4,4 -비스디에틸아미노베조페논 1 중량부, 마) 용제로서 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 40 중량부와 시클로헥사논 20 중량부를 혼합하여 액상의 조성물을 제조하였다.A) 6 parts by weight of a photosensitive acrylate resin (a polymer having benzyl methacrylate / methacrylic acid / hydroxyphenylchalconacrylate = 60/20/20, weight average molecular weight = 30,000) dissolved in an aqueous alkali solution, b) at least 2 2 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate as a crosslinkable monomer having two or more ethylenic double bonds, c) Pigment CF Black DJBK-01 (manufactured by Mikuni) 27 parts by weight, d) Irgacure 369 (Ciba Specialty Chemical) as a photopolymerization initiator. Preparation) 4 parts by weight, 1 part by weight of 4,4-bisdiethylaminobezophenone, e) 40 parts by weight of propylene glycol methyl ether acetate and 20 parts by weight of cyclohexanone were mixed to prepare a liquid composition.
[비교예 2]Comparative Example 2
가) 알칼리 수용액에 용해되는 아크릴레이트 수지 (벤질메타크릴레이트/메타크릴산/히드록시에틸 메타아크릴레이트 = 60/20/20, 중량평균분자량 = 30,000인 중합체) 6 중량부, 나) 적어도 2개 이상의 에틸렌계 이중 결합을 갖는 가교성 모노머로서 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 2 중량부, 다) 안료 CF 블랙 DJBK-01 (Mikuni색료 제조) 27 중량부, 라) 광중합 개시제로서 Irgacure 369(시바스페셜티케미칼 제조) 4 중량부와 4,4 -비스디에틸아미노베조페논 1 중량부, 마) 용제로서 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 40 중량부와 시클로헥사논 20 중량부를 혼합하여 액상의 조성물을 제조하였다.A) 6 parts by weight of an acrylate resin (benzyl methacrylate / methacrylic acid / hydroxyethyl methacrylate = 60/20/20, polymer having a weight average molecular weight = 30,000) dissolved in an aqueous alkali solution, b) at least two 2 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate as the crosslinkable monomer having an ethylene-based double bond, c) Pigment CF Black DJBK-01 (manufactured by Mikuni) 27 parts by weight, d) Irgacure 369 (produced by Shiva Specialty Chemical) as a photopolymerization initiator 4 parts by weight, 1 part by weight of 4,4-bisdiethylaminobezophenone, e) 40 parts by weight of propylene glycol methyl ether acetate and 20 parts by weight of cyclohexanone were mixed to prepare a liquid composition.
[비교예 3]Comparative Example 3
가) 알칼리 수용액에 용해되는 아크릴레이트 수지 (벤질메타크릴레이트/메타크릴산/메틸 메타크릴레이트 = 60/20/20, 중량평균분자량 = 30,000인 중합체) 6 중량부, 다) 적어도 2개 이상의 에틸렌계 이중 결합을 갖는 가교성 모노머로서 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 2 중량부, 라) 안료 CF 블랙 DJBK-01 (Mikuni색료 제조) 27 중량부, 마) 광중합 개시제로서 Irgacure 369(시바스페셜티케미칼 제조) 4 중량부와 4,4 -비스디에틸아미노베조페논 1 중량부, 바) 용제로서 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 40 중량부와 시클로헥사논 20 중량부를 혼합하여 액상의 조성물을 제조하였다.A) 6 parts by weight of an acrylate resin (benzyl methacrylate / methacrylic acid / methyl methacrylate = 60/20/20, polymer having a weight average molecular weight = 30,000) dissolved in an aqueous alkali solution, c) at least two or more ethylenes 2 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate as a crosslinkable monomer having a double bond, d) Pigment CF Black DJBK-01 (manufactured by Mikuni) 27 parts by weight, e) Irgacure 369 (manufactured by Ciba Specialty Chemical) as a photopolymerization initiator 4 By weight, 1 part by weight of 4,4-bisdiethylaminobezophenone, f) 40 parts by weight of propylene glycol methyl ether acetate and 20 parts by weight of cyclohexanone were mixed to prepare a liquid composition.
상기 아크릴레이트 수지 함량 및 조성 변화에 따라 얻어진 감광성 산변성 비스페놀 에폭시 아크릴레이트를 함유하고 있는 실시예 1 내지 4의 조성물과, 아크릴레이트를 전혀 함유하고 있지 않고 비교예 1 내지 3의 조성물에 대하여 하기와 같은 방법으로 현상 특성 및 패턴의 직진성을 평가하였다.The composition of Examples 1 to 4 containing the photosensitive acid-modified bisphenol epoxy acrylate obtained according to the acrylate resin content and composition change, and the composition of Comparative Examples 1 to 3 without containing acrylate at all In the same manner, the development characteristics and the straightness of the pattern were evaluated.
가) 현상 특성 평가A) Evaluation of development characteristics
상기 실시예와 비교예를 통해서 얻어진 감광성 조성물을 유리면 위에 막두께가 2 ㎛의 두께로 스핀 코팅을 한 후, 80 ℃의 핫플레이트 위에서 2분 동안 건조하여 코팅 막을 얻었다.The photosensitive compositions obtained through the above Examples and Comparative Examples were spin coated onto a glass surface with a thickness of 2 μm, and then dried on a hot plate at 80 ° C. for 2 minutes to obtain a coating film.
그리고 포토마스크를 얻어진 막위에 위치한 후 200 nm에서 400 nm의 파장을 내는 초고압 수은등을 이용하여 365 nm를 기준으로 약 200 mJ/㎠가 되도록 일정 시간 동안 노광을 하고 KOH 현상액(동진쎄미켐제조, DCD-260CF)을 이용하여 일정시간 스프레이 노즐을 통해 현상을 시켰다. 현상되어진 미세 패턴의 정도와 패턴 말단 부분의 직진성을 통해서 현상성을 평가하였고, 실험 결과는 아래의 표 1과 같다.After the photomask was placed on the obtained film, an ultrahigh pressure mercury lamp having a wavelength of 200 nm to 400 nm was exposed for a predetermined time to be about 200 mJ / cm2 based on 365 nm, followed by KOH developer (Dongjin Semichem Co., DCD- 260CF) using a spray nozzle for a certain time. The developability was evaluated through the degree of the developed fine pattern and the straightness of the end portion of the pattern, and the experimental results are shown in Table 1 below.
주) 상기 표 1에서, ○는 패턴 말단 부분의 직진성이 우수한 경우, △는 직진성이 불량한 경우, ×는 패턴이 현상액에 의해서 제거된 경우를 나타낸다.Note) In Table 1, (circle) represents a case where the pattern end portion is excellent in straightness, Δ represents a case where the straightness is poor, and x represents a case where the pattern is removed by a developer.
나) 보관 안정성 평가B) storage stability evaluation
상기 실시예와 비교예를 통해서 얻어진 감광성 조성물을 40 ℃의 밀폐된 오븐에 방치한 후 10일 동안 2일 간격으로 꺼내어 코팅 후 두께 및 현상 후 50 ㎛ 패턴의 직진성을 평가하였으며, 실험 결과는 아래의 표 2와 같다.After leaving the photosensitive composition obtained through the above Examples and Comparative Examples in a closed oven at 40 ℃ and taken out at intervals of 2 days for 10 days to evaluate the thickness and the straightness of the 50 ㎛ pattern after development, the experimental results are as follows Table 2 is as follows.
주) 상기 표 2에서, ○는 초기 상태와 변화 없는 경우, △는 코팅후 두께는 변하였으나 현상후 패턴의 직진성은 양호한 경우, ×는 코팅후 두께가 변하였고 패턴의 직진성이 나빠진 경우를 나타낸다.Note) In the above Table 2, ○ indicates the case where the initial state and no change, △ changed the thickness after coating, but the straightness of the pattern after development is good, × indicates that the thickness after coating changed and the straightness of the pattern worsened.
상기 표 1 및 2의 결과에서 보면, 본 발명의 실시예 1 내지 4의 조성물은 블 랙안료를 고농도로 포함한 경우에 있어서 접착력이 우수하고 감광성이 우수한 산변성 비스페놀 에폭시 아크릴레이트 수지를 도입함으로써 낮은 노광량에서도 우수한 현상성과 해상도를 나타내었으며, 보관안정성에서도 기존의 아크릴레이트 수지만을 사용한 경우와 비슷하거나 우수한 결과를 나타내었다.In the results of Tables 1 and 2, the compositions of Examples 1 to 4 of the present invention have a low exposure dose by introducing an acid-modified bisphenol epoxy acrylate resin having excellent adhesive strength and excellent photosensitivity when a black pigment is contained at a high concentration. In addition, it showed excellent developability and resolution, and the storage stability showed similar or superior results to the case of using only the existing acrylate resin.
또한, 본 발명의 실시예 1의 조성물을 LCD 블랙 매트릭스용 레지스트로 이용하여 패턴을 형성한 경우에 광학밀도(OD, Optical density) 값 2.0 이상에서의 스트라이프 패턴(stripe pattern), 패턴 슬로프(pattern slope) 및 패턴에서의 잔류물(residue) 상태를 도 1 내지 3에 나타내었다.In addition, when the pattern is formed using the composition of Example 1 of the present invention as a resist for LCD black matrix, a stripe pattern and a pattern slope at an optical density (OD) value of 2.0 or more are obtained. ) And residue states in the pattern are shown in FIGS.
도 1 내지 3의 결과에서 보듯이, 본 발명의 감광성 조성물은 광학밀도(OD, Optical density) 값 2.0 이상에서 최대 10 ㎛ 이하와 패턴 직진성이 우수하였다.As shown in the results of FIGS. 1 to 3, the photosensitive composition of the present invention was excellent in pattern straightness up to 10 μm or less at an optical density (OD) value of 2.0 or more.
상기한 바와 같이, 본 발명에 따른 감광성 수지 조성물은 빛에 의해 경화될 수 있는 알칼리 수용액에 용해되는 산변성 비스페놀 에폭시 아크릴레이트 수지를 이용하여 감도가 뛰어나고 현상 마진 및 내열성이 우수하므로 액정표시장치의 컬러 필터를 제조시 적색, 녹색, 파란색의 색간섭을 유용하게 막을 수 있다.As described above, the photosensitive resin composition according to the present invention has excellent sensitivity and excellent development margin and heat resistance using an acid-modified bisphenol epoxy acrylate resin dissolved in an aqueous alkali solution that can be cured by light. Red, green, and blue color interference can be usefully prevented when manufacturing filters.
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Citations (4)
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| US20020169226A1 (en) | 1997-11-28 | 2002-11-14 | Kuniaki Sato | Photo-cured film, and photosensitive element, printed wiring board and semiconductor package using such film |
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2003
- 2003-04-25 KR KR1020030026517A patent/KR100903767B1/en active IP Right Grant
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