KR100561647B1 - Method of Fabricating Liquid Crystal Display Panel - Google Patents

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Abstract

본 발명은 스페이서 형성 불량을 방지함과 아울러 원하는 위치에 스페이서를 형성할 수 있는 액정표시패널의 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to a method of manufacturing a liquid crystal display panel which can prevent spacer formation and can form a spacer at a desired position.

본 발명은 기판 상에 블랙 매트릭스 및 컬러필터를 형성하는 단계와; 상기 블랙 매트릭스 및 컬러필터 상에 평탄화층을 형성하는 단계와; 상기 평탄화층에 홈을 갖는 몰드를 접촉시켜 상기 평탄화층의 표면을 부분적으로 표면처리하는 단계와; 상기 표면처리영역 및 상기 표면처리영역을 제외한 나머지 영역 중 어느 한 영역에 스페이서물질을 분사하여 스페이서를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention includes forming a black matrix and a color filter on a substrate; Forming a planarization layer on the black matrix and the color filter; Contacting the mold having a groove with the planarization layer to partially surface-treat the surface of the planarization layer; And forming a spacer by injecting a spacer material into any one of the surface treatment region and the remaining regions other than the surface treatment region.

Description

액정표시패널의 제조방법{Method of Fabricating Liquid Crystal Display Panel} Manufacturing method of liquid crystal display panel {Method of Fabricating Liquid Crystal Display Panel}

도 1는 종래 IPS모드의 액정표시패널을 나타내는 단면도이다. 1 is a cross-sectional view showing a liquid crystal display panel of a conventional IPS mode.

도 2a 내지 2e는 도 1에 도시된 액정표시패널의 상판의 제조방법을 단계적으로 나타내는 단면도이다. 2A through 2E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a top plate of the liquid crystal display panel illustrated in FIG. 1.

도 3은 종래의 평탄화층의 소수화처리를 나타내는 도면이다. 3 is a view showing a hydrophobization treatment of a conventional planarization layer.

도 4a 내지 도 4e는 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정표시패널의 상부기판의 제조방법을 나타내는 도면이다. 4A to 4E illustrate a method of manufacturing an upper substrate of a liquid crystal display panel according to a first embodiment of the present invention.

도 5a 내지 도 5d는 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정표시패널의 상부기판의 제조방법을 나타내는 도면이다. 5A to 5D illustrate a method of manufacturing an upper substrate of a liquid crystal display panel according to a second exemplary embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명에 실시예에 따른 스페이서의 정위치를 나타내는 도면이다. 6 is a view showing the exact position of the spacer according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>         <Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

2,102 : 상부기판 4,104 : 블랙 매트릭스 2,102: upper substrate 4,104: black matrix

6,106 : 컬러필터 32 : 하부기판 6,106: color filter 32: lower substrate

12,52 : 배향막 80,180 : 잉크젯 분사장치 12,52: alignment layer 80,180: inkjet jetting apparatus

90 : 몰드 90 mold

본 발명은 액정표시패널에 관한 것으로, 특히 스페이서 형성 불량을 방지함과 아울러 원하는 위치에 스페이서를 형성할 수 있는 액정표시패널의 제조방법에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display panel, and more particularly, to a method of manufacturing a liquid crystal display panel which can prevent spacer formation defects and can form a spacer at a desired position.

통상적으로, 액정표시장치(Liquid Crystal Display; LCD)는 비디오신호에 따라 액정셀들의 광투과율을 조절함으로써 액정셀들이 매트릭스 형태로 배열되어진 액정표시패널에 비디오신호에 해당하는 화상을 표시하게 된다. 이를 위하여, 액정표시장치는 액정셀들이 액티브 매트릭스(Active Matrix) 형태로 배열된 액정표시패널과, 액정표시패널을 구동하기 위한 구동회로들을 포함하게 된다. In general, a liquid crystal display (LCD) displays an image corresponding to a video signal on a liquid crystal display panel in which liquid crystal cells are arranged in a matrix form by adjusting light transmittance of liquid crystal cells according to a video signal. To this end, the liquid crystal display device includes a liquid crystal display panel in which liquid crystal cells are arranged in an active matrix form, and driving circuits for driving the liquid crystal display panel.

이러한 액정표시장치는 액정을 구동시키는 전계방향에 따라 수직방향 전계를 이용하는 TN(Twisted Nematic)모드와 수평방향 전계를 이용하는 IPS(In plan Switch)모드로 대별된다. The liquid crystal display is roughly classified into a twisted nematic (TN) mode using a vertical electric field and an in plan switch (IPS) mode using a horizontal electric field according to the electric field driving the liquid crystal.

TN모드는 상부기판에 대항하게 배치된 화소전극과 공통전극간의 수직전계에 의해 액정을 구동하는 모드로 개구율이 큰 장점을 가지는 반면에 시야각이 좁은 단점을 가진다. IPS모드는 하부기판상에 나란하게 배치된 화소전극,공통전극간의 수평전계에 의해 액정을 구동하는 모드로 시야각이 큰 장점이 있는 반면에 개구율이 작은 단점이 있다. The TN mode is a mode in which a liquid crystal is driven by a vertical electric field between a pixel electrode and a common electrode disposed to face the upper substrate. The TN mode has a large aperture ratio and a narrow viewing angle. The IPS mode is a mode in which a liquid crystal is driven by a horizontal electric field between a pixel electrode and a common electrode disposed side by side on a lower substrate, and has a large viewing angle, but a small aperture ratio.

도 1은 종래 IPS모드의 액정표시패널을 나타내는 단면도이다. 1 is a cross-sectional view showing a liquid crystal display panel of a conventional IPS mode.

도 1을 참조하면, IPS모드의 액정표시패널은 이면에 정전기 등을 방지하기 위한 투명전극성 물질이(도시하지 않음) 있는 상부기판(2) 상에 순차적으로 형성된 블랙 매트릭스(4), 컬러필터(6), 평탄화층(8), 스페이서(13), 상부 배향막(12)으로 구성되는 컬러필터 어레이 기판과, 하부기판(32)상에 형성된 박막 트랜지스터(이하"TFT" 라고 한다), 공통전극(10), 화소전극(56) 및 하부 배향막(52)으로 구성되는 박막 트랜지스터 어레이 기판과, 컬러필터 어레이 기판 및 박막 트랜지스터 어레이 기판 사이의 내부공간에 주입되는 액정(도시되지 않음)을 구비한다. Referring to FIG. 1, a liquid crystal display panel in an IPS mode includes a black matrix 4 and a color filter sequentially formed on an upper substrate 2 having a transparent electrode material (not shown) to prevent static electricity or the like on the back side thereof. (6), the color filter array substrate consisting of the planarization layer 8, the spacer 13, and the upper alignment layer 12, the thin film transistor (hereinafter referred to as "TFT") formed on the lower substrate 32, and the common electrode 10, a thin film transistor array substrate composed of a pixel electrode 56 and a lower alignment layer 52, and a liquid crystal (not shown) injected into an internal space between the color filter array substrate and the thin film transistor array substrate.

컬러필터 어레이 기판에 있어서, 블랙 매트릭스(4)는 하부기판(32)의 TFT 영역과 도시하지 않은 게이트라인들 및 데이터라인들 영역과 중첩되게 형성되며 컬러필터(6)가 형성될 셀영역을 구획한다. 블랙 매트릭스(4)는 빛샘을 방지함과 아울러 외부광을 흡수하여 콘트라스트를 높이는 역할을 한다. 컬러필터(6)는 상기 블랙 매트릭스(4)에 의해 분리된 셀영역 및 블랙 매트릭스(4)에 걸쳐 형성된다. 이 컬러필터(6)는 R,G,B 별로 형성되어 R, G, B 색상을 구현한다. 평탄화층(8)은 컬러필터(6)를 덮도록 형성되어 상부기판(2)을 평탄화한다. 스페이서(13)는 상부기판(2)과 하부기판(32)사이에 셀 갭을 유지하는 역할을 한다. In the color filter array substrate, the black matrix 4 is formed to overlap the TFT region of the lower substrate 32 with the gate line and data line regions (not shown) and partitions the cell region where the color filter 6 is to be formed. do. The black matrix 4 prevents light leakage and absorbs external light to increase contrast. The color filter 6 is formed over the cell region separated by the black matrix 4 and the black matrix 4. The color filter 6 is formed for each of R, G, and B to implement R, G, and B colors. The planarization layer 8 is formed to cover the color filter 6 to planarize the upper substrate 2. The spacer 13 serves to maintain a cell gap between the upper substrate 2 and the lower substrate 32.

박막 트랜지스터 어레이 기판에 있어서, TFT는 게이트라인(도시하지 않음)과 함께 하부기판(32)위에 형성되는 게이트전극(38)과, 이 게이트전극(38)과 게이트 절연막(34)을 사이에 두고 중첩되는 반도체층(92,93)과, 반도체층(92,93)을 사이에 두고 데이터라인(도시하지 않음)과 함께 형성되는 소스/드레인전극(46,48)을 구비한다. 이러한 TFT는 게이트라인으로 부터의 스캔신호에 응답하여 데이터라인으로부터 화소신호를 화소전극(56)에 공급한다. 화소전극(56)은 광투과율이 높은 투명전도성 물질로 보호막(50)을 사이에 두고 TFT의 드레인 전극(48)과 접촉된다. 공통전극(10)은 화소전극(56)과 교번되도록 스트라입형태로 형성된다. 공통전극(10)은 액정구동시 기준이 되는 공통전압이 공급된다. 이 공통전압과 화소전극(56)에 공급되는 화소전압과의 수평전계에 의해 액정은 수평방향을 기준으로 회전하게 된다. In the thin film transistor array substrate, the TFT overlaps the gate electrode 38 formed on the lower substrate 32 together with the gate line (not shown), with the gate electrode 38 and the gate insulating film 34 interposed therebetween. Semiconductor layers 92 and 93 and source / drain electrodes 46 and 48 formed together with data lines (not shown) with the semiconductor layers 92 and 93 interposed therebetween. This TFT supplies the pixel signal from the data line to the pixel electrode 56 in response to the scan signal from the gate line. The pixel electrode 56 is a transparent conductive material having a high light transmittance and is in contact with the drain electrode 48 of the TFT with the protective film 50 therebetween. The common electrode 10 is formed in a stripe shape so as to alternate with the pixel electrode 56. The common electrode 10 is supplied with a common voltage which is a reference when driving the liquid crystal. The liquid crystal rotates with respect to the horizontal direction by the horizontal electric field between the common voltage and the pixel voltage supplied to the pixel electrode 56.

액정배향을 위한 상/하부 배향막(12,52)은 폴리이미드 등과 같은 배향물질을 도포한 후 러빙공정을 수행함으로써 형성된다. The upper and lower alignment layers 12 and 52 for liquid crystal alignment are formed by applying an alignment material such as polyimide and then performing a rubbing process.

도 2a 내지 도 2e는 종래 IPS모드의 상부기판의 제조방법을 단계적으로 나타내는 단면도이다. 2A through 2E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an upper substrate in the conventional IPS mode.

상부기판(2)에 불투명 물질 예를 들어, 크롬(Cr)이 증착된 후 마스크를 이용한 포토리쏘그래피 공정과 식각공정에 의해 불투명 물질이 패터닝됨으로써 도 2a에 도시된 바와 같이 블랙 매트릭스(4)가 형성된다. After the opaque material, for example, chromium (Cr) is deposited on the upper substrate 2, the opaque material is patterned by a photolithography process and an etching process using a mask, thereby forming a black matrix 4 as shown in FIG. 2A. Is formed.

블랙 매트릭스(4)가 형성된 상부기판(2) 상에 적색수지가 증착된 후 마스크를 이용한 포토리쏘그래피 공정과 식각공정에 의해 적색수지가 패터닝됨으로써 적색 컬러필터(R)가 형성된다. 적색 컬러필터(R)가 형성된 상부기판(2)상에 녹색수지가 증착된 후 마스크를 이용한 포토리쏘그래피 공정과 식각공정에 의해 녹색수지(G)가 패터닝됨으로써 녹색 컬러필터(G)가 형성된다. 녹색 컬러필터(G)가 형성된 상부기판(2)상에 청색수지가 증착된 후 마스크를 이용한 포토리쏘그래피 공 정과 식각공정에 의해 청색수지가 패터닝됨으로써 도 2b에 도시된 바와 같이 청색 컬러필터(B)가 형성된다. After the red resin is deposited on the upper substrate 2 on which the black matrix 4 is formed, the red resin is patterned by a photolithography process and an etching process using a mask to form a red color filter R. After the green resin is deposited on the upper substrate 2 on which the red color filter R is formed, the green resin G is patterned by a photolithography process and an etching process using a mask to form the green color filter G. . After the blue resin is deposited on the upper substrate 2 on which the green color filter G is formed, the blue resin is patterned by a photolithography process and an etching process using a mask, and thus the blue color filter B is illustrated in FIG. 2B. ) Is formed.

적, 녹, 청색 컬러필터(6)가 형성된 상부기판(2) 상에 평탄화 물질이 전면 증착됨으로써 도 2c에 도시된 바와 같이 평탄화층(8)이 형성한다. The planarization layer 8 is formed as shown in FIG. 2C by depositing the planarization material on the upper substrate 2 on which the red, green, and blue color filters 6 are formed.

이어서, 블랙 매트릭스(4)의 형성위치와 중첩되게 평탄화층(8)이 형성된 상부기판(2) 상에는 도 2d에 도시된 바와 같이 잉크젯 분사장치(80)가 정렬된 후 그 잉크젯 분사장치(80)를 이용하여 스페이서 물질(13a)이 평탄화층(8) 상에 분사된다. 여기서, 스페이서물질(13a)로는 유기물질이 이용된다. 이렇게 잉크젯 분사장치(80)를 이용하여 형성된 스페이서(13)는 도 2e에 도시된 바와 같이 광원(59)으로 부터 출사된 자외선에 노출되거나 열에 의한 소성과정을 거쳐 일정폭(W)과 높이(H)를 갖게 된다. Subsequently, on the upper substrate 2 on which the planarization layer 8 is formed to overlap with the formation position of the black matrix 4, as shown in FIG. 2D, the ink jet ejection apparatus 80 is aligned, and then the ink jet ejection apparatus 80 is formed. The spacer material 13a is sprayed onto the planarization layer 8 using. Here, an organic material is used as the spacer material 13a. The spacer 13 formed by using the inkjet injection apparatus 80 is exposed to ultraviolet rays emitted from the light source 59 or is fired by heat by a predetermined width (W) and height (H) as shown in FIG. 2E. )

한편, 이러한 잉크젯 방식으로 형성되는 스페이서(13)는 점도가 낮은 상태에서 평탄화층(8)으로 떨어지면서 중력을 받게 된다. 이에 따라, 블랙매트릭스(4)와 중첩되게 형성되어야 하는 스페이서(13)가 평탄화층(8) 상에 안착될 때 넓게 퍼지게 된다. 이로써, 스페이서(13)가 블랙 매트릭스(4)와 중첩되지 않는 표시영역에 형성되므로 실제 원하는 위치에 스페이서(13)가 형성되지 않는 문제가 빈번히 발생된다. 이러한 문제를 방지하기 위해 도 3에 도시된 바와 같이 CF4 플라즈마를 이용하여 평탄화층 전면을 표면처리하여 소수화된 표면 상태를 형성함으로써 스페이서가 평탄화층(8) 상에 안착될 때 넓게 퍼지지 않게 된다. On the other hand, the spacer 13 formed by the inkjet method is subjected to gravity while falling to the planarization layer 8 in a state of low viscosity. Accordingly, the spacer 13, which should be formed to overlap with the black matrix 4, is spread widely when it is seated on the planarization layer 8. As a result, since the spacer 13 is formed in the display area not overlapping with the black matrix 4, a problem that the spacer 13 is not formed at a desired position frequently occurs. In order to prevent such a problem, as shown in FIG. 3, the entire surface of the planarization layer is surface-treated using CF4 plasma to form a hydrophobized surface state so that the spacer does not spread widely when it is seated on the planarization layer 8.

그러나, 이와 같이 평탄화층(8)이 표면처리됨에 따라 스페이서물질(113a)이 퍼지는 것을 방지할 수 있지만, 스페이서물질(13)과 평탄화층(8) 간의 접촉면적이 좁아지게 됨과 아울러 평탄화층(8)상의 소수화된 표면의 불균일 등에 의해 발생된 스페이서물질(13)과의 계면에너지 차이에 의해 스페이서(13)의 평탄화층(8)에 대한 점착력이 약해지게 된다. 그 결과, 세정공정, 액정배열을 위한 러빙공정시 또는 액정패널에 가해질 수 있는 작은 충격 등에 의해 스페이서(13)가 평탄화층(8)에서 분리되는 문제가 발생된다. However, as the planarization layer 8 is surface-treated as described above, the spacer material 113a can be prevented from spreading, but the contact area between the spacer material 13 and the planarization layer 8 becomes narrow and the planarization layer 8 The adhesion force to the planarization layer 8 of the spacer 13 is weakened by the difference in the interfacial energy with the spacer material 13 generated due to the nonuniformity of the hydrophobized surface of the () phase. As a result, a problem arises in that the spacer 13 is separated from the planarization layer 8 by a cleaning process, a rubbing process for liquid crystal array, or a small impact that may be applied to the liquid crystal panel.

따라서, 본 발명의 목적은 스페이서 형성 불량을 방지함과 아울러 원하는 위치에 스페이서를 형성할 수 있는 액정표시패널의 제조방법을 제공하는데 있다.
Accordingly, an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a liquid crystal display panel which can prevent spacer formation defects and can form a spacer at a desired position.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시패널의 제조방법은 기판 상에 블랙 매트릭스 및 컬러필터를 형성하는 단계와; 상기 블랙 매트릭스 및 컬러필터 상에 평탄화층을 형성하는 단계와; 상기 평탄화층에 홈을 갖는 몰드를 접촉시켜 상기 평탄화층의 표면을 부분적으로 표면처리하는 단계와; 상기 표면처리영역 및 상기 표면처리영역을 제외한 나머지 영역 중 어느 한 영역에 스페이서물질을 분사하여 스페이서를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 몰드의 홈은 상기 표면처리영역을 제외한 나머지 영역과 대응되는 것을 특징으로 한다.
상기 평탄화층에서 상기 표면처리된 영역은 소수성영역이고, 상기 표면처리영역을 제외한 나머지 영역은 친수성영역인 것을 특징으로 한다.
상기 스페이서는 상기 친수성영역에 형성되는 것을 특징으로 한다.
상기 몰드는 폴리 디메틸실옥산을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 액정표시패널의 제조방법은 기판 상에 블랙 매트릭스 및 컬러필터를 형성하는 단계와; 상기 블랙 매트릭스 및 컬러필터 상에 평탄화층을 형성하는 단계와; 몰드를 상기 평탄화층에 접촉시켜 상기 평탄화층 전면을 제1 표면처리하는 단계와; 마스크를 이용하여 상기 제1 표면처리된 평탄화층 상의 소정 영역을 제2 표면처리하는 단계와; 상기 평탄화층의 제2 표면처리 영역에 스페이서 물질을 분사하여 스페이서를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 평탄화층에서 제1 표면처리되는 영역은 소수성영역으로 상기 제2 표면처리되는 영역은 친수성영역으로 표면처리되는 것을 특징으로 한다.
상기 스페이서는 상기 친수성영역에 형성되는 것을 특징으로 한다.
상기 제2 표면처리는 산소 플라즈마, 자외선 및 오존 중 적어도 어느 하나를 이용하는 것을 특징으로 한다.
상기 몰드는 폴리 디메틸실옥산을 포함하는 것을 특징으로 한다.
In order to achieve the above object, a method of manufacturing a liquid crystal display panel according to an embodiment of the present invention comprises the steps of forming a black matrix and a color filter on a substrate; Forming a planarization layer on the black matrix and the color filter; Contacting the mold having a groove with the planarization layer to partially surface-treat the surface of the planarization layer; And forming a spacer by injecting a spacer material into any one of the surface treatment region and the remaining regions other than the surface treatment region.
The groove of the mold is characterized in that it corresponds to the remaining area except the surface treatment area.
In the planarization layer, the surface treated region is a hydrophobic region, and the remaining region except for the surface treatment region is a hydrophilic region.
The spacer is formed in the hydrophilic region.
The mold is characterized in that it comprises poly dimethylsiloxane.
A method of manufacturing a liquid crystal display panel according to the present invention includes forming a black matrix and a color filter on a substrate; Forming a planarization layer on the black matrix and the color filter; Contacting the mold with the planarization layer to first surface treat the entire surface of the planarization layer; Second surface treating a predetermined area on the first surface-treated planarization layer using a mask; Spraying a spacer material on the second surface treatment region of the planarization layer to form a spacer.
The first surface-treated region of the planarization layer is a hydrophobic region, and the second surface-treated region is surface-treated with a hydrophilic region.
The spacer is formed in the hydrophilic region.
The second surface treatment is characterized by using at least one of oxygen plasma, ultraviolet light and ozone.
The mold is characterized in that it comprises poly dimethylsiloxane.

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상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부도면을 참조한 실시예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.Other objects and features of the present invention in addition to the above objects will become apparent from the description of the embodiments with reference to the accompanying drawings.

이하, 도 4 내지 도 6을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 설명하기로 한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 to 6.

도 4a 내지 도 4e는 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정표시패널의 제조방법을 단계적으로 나타내는 단면도이다. 4A through 4E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display panel according to a first embodiment of the present invention.

상부기판(102)에 불투명 물질 예를 들어, 크롬(Cr)이 증착된 후 마스크를 이용한 포토리쏘그래피 공정과 식각공정에 의해 불투명 물질이 패터닝됨으로써 도 4a에 도시된 바와 같이 블랙 매트릭스(104)가 형성된다. After the opaque material, for example, chromium (Cr) is deposited on the upper substrate 102, the opaque material is patterned by a photolithography process and an etching process using a mask, thereby forming a black matrix 104 as shown in FIG. 4A. Is formed.

블랙 매트릭스(104)가 형성된 상부기판(102) 상에 적색수지가 증착된 후 마스크를 이용한 포토리쏘그래피 공정과 식각공정에 의해 적색수지가 패터닝됨으로써 적색 컬러필터(R)가 형성된다. 적색 컬러필터(R)가 형성된 상부기판(102)상에 녹색수지가 증착된 후 마스크를 이용한 포토리쏘그래피 공정과 식각공정에 의해 녹색수지(G)가 패터닝됨으로써 녹색 컬러필터(G)가 형성된다. 녹색 컬러필터(G)가 형성된 상부기판(102)상에 청색수지가 증착된 후 마스크를 이용한 포토리쏘그래피 공정과 식각공정에 의해 청색수지가 패터닝됨으로써 도 4b에 도시된 바와 같이 청색 컬러필터(B)가 형성된다. After the red resin is deposited on the upper substrate 102 on which the black matrix 104 is formed, the red resin is patterned by a photolithography process and an etching process using a mask to form a red color filter R. After the green resin is deposited on the upper substrate 102 on which the red color filter R is formed, the green color filter G is formed by patterning the green resin G by a photolithography process and an etching process using a mask. . After the blue resin is deposited on the upper substrate 102 on which the green color filter G is formed, the blue resin is patterned by a photolithography process and an etching process using a mask, so that the blue color filter B is illustrated in FIG. 4B. ) Is formed.

적, 녹, 청색 컬러필터(106)가 형성된 상부기판(102) 상에 평탄화 물질이 전면 증착됨으로써 도 4c에 도시된 바와 같이 평탄화층(108)이 형성된다. The planarization layer 108 is formed as shown in FIG. 4C by depositing the planarization material on the upper substrate 102 on which the red, green, and blue color filters 106 are formed.

이어서, 평탄화층(108) 상에 도 4d에 도시된 바와 같은 홈(90a)이 형성된 몰드(90)를 접촉시켜 평탄화층(8)의 표면을 소수영역(A)과 친수영역(B)으로 표면처리한다. 여기서, 몰드(90)는 선출원된 특허출원번호 제2003-0046760에서 제안된 폴리 디메틸 실옥산(Poly-dimethyl Siloxane : 이하 "PDMS" 라고 한다.)을 포함하는 열경화성물질로써 별도의 공정에 의해 제작된다. Subsequently, the mold 90 having the groove 90a as shown in FIG. 4D is brought into contact with the planarization layer 108 to surface the surface of the planarization layer 8 into a hydrophobic region A and a hydrophilic region B. FIG. Process. Here, the mold 90 is manufactured by a separate process as a thermosetting material containing a poly dimethyl siloxane (Poly-dimethyl Siloxane: hereinafter referred to as "PDMS") proposed in the patent application No. 2003-0046760 .

구체적으로, PDMS가 포함된 몰드(90)를 평탄화층(108)에 가압시키면 몰드(90)와 접촉된 영역은 그 표면의 말단기의 -OH기가 떨어져 나가 소수영역(A)으 로 바뀌게 된다. 즉, 평탄화층(108)의 소수영역(A)은 몰드(90)와 접촉된 영역이며, 평탄화층(108)의 친수영역(B)은 몰드(90)의 홈(90a))과 대응되는 영역이다. 이로써, 평탄화층(108)은 소수영역(A)과 친수영역(B)으로 나뉘게 된다. Specifically, when the mold 90 including the PDMS is pressed against the planarization layer 108, the region in contact with the mold 90 is separated from the -OH group of the terminal group on the surface thereof to be changed to the minority region (A). That is, the minority area A of the planarization layer 108 is an area in contact with the mold 90, and the hydrophilic area B of the planarization layer 108 is an area corresponding to the groove 90a of the mold 90. to be. As a result, the planarization layer 108 is divided into a minority region A and a hydrophilic region B. FIG.

이어서, 블랙 매트릭스(104)의 형성위치와 중첩되게 평탄화층(108)이 형성된 상부기판(102) 상에 도 4e에 도시된 바와 같이 잉크젯 분사장치(180)가 정렬된 후 그 잉크젯 분사장치(180)를 이용하여 스페이서 물질(113a)이 평탄화층(108) 상의 친수영역(B)에 분사된 후 소성과정을 거쳐 일정폭과 높이를 갖는 스페이서(113)가 형성된다. 여기서, 스페이서(113)는 그 표면이 균일한 친수영역(B)에 형성됨으로써 평탄화층(108)과의 접착력이 향상된다. 다시 말해서, 스페이서(113)가 종래의 표면이 불균일한 소수영역(A)에 비해 그 표면이 균일한 친수영역(B)에 형성됨으로써 세정공정, 러빙공정 및 패널에 가해지는 충격에도 평탄화층에서 분리되지 않게 된다. 또한, 스페이서물질(113a)은 친수영역(B)에 분사되고 표면 상태가 다른 소수영역(A)으로 퍼지지 않게 됨으로써 원하는 위치에 원하는 형태의 스페이서(113)를 형성할 수 있게 된다. 이 결과, 스페이서(113)의 형성불량을 방지함과 아울러 원하는 위치에 스페이서(113)를 용이하게 형성할 수 있게 된다. Subsequently, as shown in FIG. 4E, the inkjet ejection apparatus 180 is aligned on the upper substrate 102 on which the planarization layer 108 is formed to overlap with the formation position of the black matrix 104, and then the inkjet ejection apparatus 180. The spacer material 113a is sprayed onto the hydrophilic region B on the planarization layer 108 by using a s) and then fired to form a spacer 113 having a predetermined width and height. Herein, the spacer 113 is formed in the hydrophilic region B having a uniform surface, thereby improving adhesion to the planarization layer 108. In other words, the spacer 113 is formed in the hydrophilic region B whose surface is uniform compared to the hydrophobic region A where the surface is uneven, so that the spacer 113 is separated from the flattening layer even in the cleaning process, the rubbing process and the impact applied to the panel. Will not be. In addition, the spacer material 113a is sprayed onto the hydrophilic region B and does not spread to other hydrophobic regions A so that the spacer 113 having a desired shape can be formed at a desired position. As a result, it is possible to prevent the formation of the spacer 113 and to easily form the spacer 113 at a desired position.

도 5a 내지 도 5d는 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정표시패널의 제조방법을 단계적으로 나타내는 단면도이다. 5A through 5D are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display panel according to a second exemplary embodiment of the present invention.

블랙 매트릭스(104), 컬러필터(106) 및 평탄화층(108)이 형성된 상부기판(102) 상에 도 5a에 도시된 바와 같이 CF4 플라즈마를 이용하여 평탄화층(108) 전면을 소수영역(A)으로 표면처리한다. 또는 도 5b에 도시된 바와 같이 PDMS를 포함하는 몰드(90)를 평탄화층(108)에 접촉시켜 평탄화층(108) 전면을 소수영역(A)으로 표면처리한다. 이후, 도 5c에 도시된 바와 같이 전면이 소수화된 평탄화층(108) 상에 투과부(100a)와 차단부(100b)를 갖는 마스크(100)가 정렬된다. 이어서, 산소(O2)플라즈마, 자외선(UV) 및 오존(O3) 중 적어도 어느 하나를 마스크(100)의 투과부(100a)를 통해 평탄화층(108) 상의 스페이서(113)가 형성될 영역을 친수영역(B)으로 표면처리하게 된다. On the upper substrate 102 on which the black matrix 104, the color filter 106, and the planarization layer 108 are formed, as shown in FIG. 5A, the front surface of the planarization layer 108 is removed using a CF4 plasma. Surface treatment with Alternatively, as shown in FIG. 5B, the mold 90 including the PDMS is brought into contact with the planarization layer 108 to surface-treat the entire surface of the planarization layer 108 into the minority region A. FIG. Subsequently, as illustrated in FIG. 5C, the mask 100 having the transmissive part 100a and the blocking part 100b is aligned on the planarization layer 108 in which the entire surface is hydrophobic. Subsequently, at least one of oxygen (O 2 ) plasma, ultraviolet (UV), and ozone (O 3 ) may be formed in the region where the spacer 113 on the planarization layer 108 is to be formed through the transmission part 100a of the mask 100. Surface treatment is performed to the hydrophilic region (B).

이어서, 블랙 매트릭스(104)의 형성위치와 중첩되게 평탄화층(108)이 형성된 상부기판(102) 상에는 도 5d에 도시된 바와 같이 잉크젯 분사장치(180)가 정렬된 후 그 잉크젯 분사장치(180)를 이용하여 스페이서 물질(113a)이 평탄화층(108)의 친수영역(B)에 분사된다. 여기서, 스페이서물질(113a)로는 유기물질이 이용된다. 이렇게 잉크젯 분사장치(180)를 이용하여 형성된 스페이서(113)는 광원으로 부터 출사된 자외선에 노출되거나 열에 의한 소성과정을 거쳐 일정폭과 높이를 갖게 된다. Subsequently, the inkjet jetting apparatus 180 is aligned on the upper substrate 102 on which the planarization layer 108 is formed to overlap the formation position of the black matrix 104, as shown in FIG. 5D. The spacer material 113a is sprayed onto the hydrophilic region B of the planarization layer 108 by using the. Here, an organic material is used as the spacer material 113a. The spacer 113 formed by using the inkjet injection apparatus 180 may have a predetermined width and height through exposure to ultraviolet rays emitted from a light source or through a baking process by heat.

여기서, 스페이서(113)는 그 표면이 균일한 친수영역(B)에 형성됨으로써 평탄화층(8)과의 접착력이 향상된다. 즉, 스페이서(113)가 종래의 표면이 불균일한 소수영역(A)에 비해 그 표면이 균일한 친수영역(B)에 형성됨으로써 세정공정, 러빙공정 및 패널에 가해지는 충격에도 평탄화층(108)에서 분리되지 않게 된다. 또한, 도 6에 도시된 바와 같이 스페이서물질(113a)은 친수영역(B)에 분사되고 표면 상태가 다른 소수영역(A)으로 퍼지지 않게 됨으로써 원하는 위치에 원하는 형태의 스페 이서(113)를 형성할 수 있게 된다. 이 결과, 스페이서의 형성불량을 방지함과 아울러 원하는 위치에 스페이서(113)를 용이하게 형성할 수 있게 된다. In this case, the spacer 113 is formed in the hydrophilic region B having a uniform surface, thereby improving adhesion to the planarization layer 8. That is, since the spacer 113 is formed in the hydrophilic region B having a uniform surface compared to the minority region A having a nonuniform surface, the planarization layer 108 is subjected to the cleaning process, the rubbing process, and the impact applied to the panel. Will not be separated from. In addition, as shown in FIG. 6, the spacer material 113a is sprayed onto the hydrophilic region B and does not spread to other hydrophobic regions A so as to form a spacer 113 of a desired shape at a desired position. It becomes possible. As a result, it is possible to prevent the formation of the spacer and to easily form the spacer 113 at a desired position.

이와 같이, 본 발명에 따른 액정표시패널의 제조방법은 PDMS를 포함하는 몰드(90)를 이용하여 평탄화층(108)의 표면을 소수영역(A) 및 친수영역(B)으로 구분되도록 표면처리 한 후, 그 표면 상태가 양호함과 아울러 균일한 친수영역(B)에 스페이서(113)를 형성한다. 이에 따라, 스페이서(113)는 평탄화층(108)과의 점착력이 향상됨으로써 세정공정, 러빙공정 및 패널에 가해지는 충격에도 평탄화층(108)에서 분리되지 않게 된다. 또한, 스페이서물질(113a)은 친수영역(B)에 분사되고 표면 상태가 다른 소수영역(A)으로 퍼지지 않게 됨으로써 원하는 위치에 원하는 형태의 스페이서(113)를 형성할 수 있게 된다. 이 결과, 스페이서(113)가 평탄화층(108)에서 분리되는 등의 불량을 방지함과 아울러 원하는 위치에 스페이서(113)를 용이하게 형성할 수 있게 된다. As described above, in the method of manufacturing the liquid crystal display panel according to the present invention, the surface of the planarization layer 108 is surface-treated to be divided into the hydrophobic region (A) and the hydrophilic region (B) using the mold 90 including PDMS. Subsequently, the surface 113 is satisfactory and the spacer 113 is formed in the uniform hydrophilic region (B). Accordingly, the spacer 113 is not separated from the planarization layer 108 even when the adhesive force with the planarization layer 108 is improved, even in the cleaning process, the rubbing process, and the impact applied to the panel. In addition, the spacer material 113a is sprayed onto the hydrophilic region B and does not spread to other hydrophobic regions A so that the spacer 113 having a desired shape can be formed at a desired position. As a result, defects such as separation of the spacer 113 from the planarization layer 108 can be prevented and the spacer 113 can be easily formed at a desired position.

이와 같이, PDMS를 포함하는 몰드를 이용하여 평탄화층을 표면처리하여 스페이서를 형성하는 방식은 IPS(In-Plane-Switching)모드 뿐만 아니라, TN(Twisted Nematic)모드 및 VA(Vertical Alignment)모드의 액정표시패널에도 용이하게 적용될 수 있다. As such, a method of forming a spacer by surface-treating the planarization layer using a mold including PDMS includes liquid crystals of not only an in-plane-switching (IPS) mode but also a twisted nematic (TN) mode and a vertical alignment (VA) mode. It can also be easily applied to the display panel.

상술한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시패널의 제조방법은 PDMS를 포함하는 몰드를 이용하여 평탄화층의 표면을 소수영역 및 친수영역으로 표 면처리하고 그 표면 상태가 양호한 친수영역에 스페이서를 형성한다. 이에 따라, 세정, 러빙공정 등에 의해 스페이서가 평탄화층에 분리되는 불량이 방지됨과 아울러 스페이서물질이 친수영역에 분사되고 표면 상태가 다른 소수영역으로 퍼지지 않게 됨으로써 원하는 위치에 원하는 형태의 스페이서를 형성할 수 있게 된다. As described above, in the method of manufacturing the liquid crystal display panel according to the embodiment of the present invention, the surface of the planarization layer is treated with a hydrophobic region and a hydrophilic region by using a mold including PDMS, and the hydrophilic region having a good surface state. Form a spacer. Accordingly, a defect in which the spacer is separated from the planarization layer by the cleaning and rubbing process is prevented, and the spacer material is sprayed into the hydrophilic region and the surface state is not spread to other hydrophobic regions, thereby forming a spacer having a desired shape at a desired position. Will be.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.

Claims (10)

기판 상에 블랙 매트릭스 및 컬러필터를 형성하는 단계와;Forming a black matrix and a color filter on the substrate; 상기 블랙 매트릭스 및 컬러필터 상에 평탄화층을 형성하는 단계와; Forming a planarization layer on the black matrix and the color filter; 상기 평탄화층에 홈을 갖는 몰드를 접촉시켜 상기 평탄화층의 표면을 부분적으로 표면처리하는 단계와;Contacting the mold having a groove with the planarization layer to partially surface-treat the surface of the planarization layer; 상기 표면처리영역 및 상기 표면처리영역을 제외한 나머지 영역 중 어느 한 영역에 스페이서물질을 분사하여 스페이서를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조방법. And forming a spacer by injecting a spacer material into any one of the surface treatment region and the remaining regions other than the surface treatment region. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 몰드의 홈은 상기 표면처리영역을 제외한 나머지 영역과 대응되는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조방법.And the groove of the mold corresponds to the remaining area except for the surface treatment area. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 평탄화층에서 상기 표면처리된 영역은 소수성영역이고, 상기 표면처리영역을 제외한 나머지 영역은 친수성영역인 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조방법. And the surface treated region of the planarization layer is a hydrophobic region, and the remaining region except for the surface treatment region is a hydrophilic region. 제 3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 스페이서는 상기 친수성영역에 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조방법. And said spacers are formed in said hydrophilic region. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 몰드는 폴리 디메틸실옥산을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조방법.The mold is a manufacturing method of the liquid crystal display panel, characterized in that the poly dimethyl siloxane. 기판 상에 블랙 매트릭스 및 컬러필터를 형성하는 단계와;Forming a black matrix and a color filter on the substrate; 상기 블랙 매트릭스 및 컬러필터 상에 평탄화층을 형성하는 단계와; Forming a planarization layer on the black matrix and the color filter; 몰드를 상기 평탄화층에 접촉시켜 상기 평탄화층 전면을 제1 표면처리하는 단계와; Contacting the mold with the planarization layer to first surface treat the entire surface of the planarization layer; 마스크를 이용하여 상기 제1 표면처리된 평탄화층 상의 소정 영역을 제2 표면처리하는 단계와; Second surface treating a predetermined area on the first surface-treated planarization layer using a mask; 상기 평탄화층의 제2 표면처리 영역에 스페이서 물질을 분사하여 스페이서를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조방법. And forming a spacer by injecting a spacer material into the second surface treatment region of the planarization layer. 제 6 항에 있어서, The method of claim 6, 상기 평탄화층에서 제1 표면처리되는 영역은 소수성영역으로 상기 제2 표면처리되는 영역은 친수성영역으로 표면처리되는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조방법. And a region of the first surface treated in the planarization layer is a hydrophobic region, and a region of the second surface treated with a hydrophilic region. 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 스페이서는 상기 친수성영역에 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조방법. And said spacers are formed in said hydrophilic region. 제 6 항에 있어서, The method of claim 6, 상기 제2 표면처리는 산소 플라즈마, 자외선 및 오존 중 적어도 어느 하나를 이용하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조방법. And the second surface treatment uses at least one of oxygen plasma, ultraviolet light and ozone. 제 6 항에 있어서, The method of claim 6, 상기 몰드는 폴리 디메틸실옥산을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시 패널의 제조방법. The mold comprises a poly dimethyl siloxane, the manufacturing method of the liquid crystal display panel.
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