JPS6226618A - Thin film magnetic head - Google Patents

Thin film magnetic head

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JPS6226618A
JPS6226618A JP16619985A JP16619985A JPS6226618A JP S6226618 A JPS6226618 A JP S6226618A JP 16619985 A JP16619985 A JP 16619985A JP 16619985 A JP16619985 A JP 16619985A JP S6226618 A JPS6226618 A JP S6226618A
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JP
Japan
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depth
film
groove
marker
thin film
Prior art date
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JP16619985A
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Japanese (ja)
Inventor
Narikazu Ishii
成和 石井
Toshimitsu Takano
高野 敏光
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Publication of JPS6226618A publication Critical patent/JPS6226618A/en
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/31Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
    • G11B5/3103Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/31Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
    • G11B5/3163Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
    • G11B5/3166Testing or indicating in relation thereto, e.g. before the fabrication is completed

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

PURPOSE:To permit easy and accurate grooving by forming a marker film for assuring the depth accuracy of grooving on a lower magnetic material. CONSTITUTION:The 1st insulating layer 2 consisting of SiO2, etc. is formed on one plane of the lower magnetic material 1 except the front gap part and back gap part thereof. The 1st coil conductors 3 consisting of a metallic Cu or Al conductor are formed by spiral pattern etching at prescribed intervals on the 1st insulating layer 2. The conductors 3 are etched by a photolithographic technique in such a manner that the marker film 4 having the width within the permissible error of the groove depth remains in the patterning etching of the conductors. The working accuracy for grooving to control the width of the opposite contact with a magnetic recording medium is remarkably improved by providing the marker film 4.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、P CM (Pulse Code Mod
ulation)記録再生装置等に用いられる薄膜磁気
ヘッドに関し、特に溝加工工程で溝の深さを確認するた
めのマーカー膜に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention is based on PCM (Pulse Code Mod
The present invention relates to a thin film magnetic head used in a recording/reproducing device and the like, and particularly to a marker film for checking the depth of a groove in a groove processing process.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は、薄膜磁気ヘッドの溝加工工程で溝の深さを確
認するに際し、 下部磁性体上に上記溝加工の深さ精度を確保するための
マーカー膜を形成することにより、容易に、かつ精度良
く溝加工を行おうとするものである。
According to the present invention, when confirming the depth of the groove in the groove processing process of a thin film magnetic head, a marker film is formed on the lower magnetic body to ensure the depth accuracy of the groove processing. The purpose is to perform groove machining with high precision.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

一般に、薄膜磁気ヘッドは、ヘッドを構成する下部磁性
体、コイル導体及び上部磁性体等がスパッタリング等の
真空薄膜形成技術で形成されるため、量産性に優れ、か
つ特性の均一なヘッドが得られるとともに、フォトリソ
グラフィ技術でパターンニングを行っているため、狭ト
ランク、狭ギャップ等の微小寸法化が容易である。
In general, in thin-film magnetic heads, the lower magnetic material, coil conductor, upper magnetic material, etc. that make up the head are formed by vacuum thin film forming technology such as sputtering, which makes it easy to mass produce and provides heads with uniform characteristics. In addition, since patterning is performed using photolithography technology, miniaturization of narrow trunks, narrow gaps, etc. is easy.

このため、上記薄膜磁気ヘッドは、記録に関与するヘッ
ド磁界が急峻となり、高記録密度の記録が可能となると
ともに、高分解能の記録ができ、さらに小型化が可能で
ある。
Therefore, in the thin-film magnetic head, the head magnetic field involved in recording becomes steep, making it possible to perform high-density recording, high-resolution recording, and further miniaturization.

この種の薄膜磁気ヘッドは、磁気記録媒体との当たりを
確保するために磁気記録媒体との対接幅を狭くする必要
があり、磁気記録媒体対接面の近傍に溝を形成して、磁
気記録媒体との対接幅を規制している。
This type of thin-film magnetic head requires a narrow width of contact with the magnetic recording medium to ensure contact with the magnetic recording medium, so grooves are formed near the surface facing the magnetic recording medium to The width of contact with the recording medium is regulated.

また、上記薄膜磁気ヘッドは、その構造上コイル導体の
巻回数を増やすことが困難である。したがって、磁路形
成部分では、コイル導体の形成を微細なスペースに集束
形成しデプス長を小さくしてヘッドの記録効率を上げる
とともに、他の部分では、コイル導体の電気的特性を向
上するためにある程度広いスペースに亘って形成してい
る。このため、上記コイル導体は上記溝の近傍まで広が
る如く形成されることになる。
Further, in the thin film magnetic head, it is difficult to increase the number of turns of the coil conductor due to its structure. Therefore, in the magnetic path forming part, the formation of the coil conductor is concentrated into a minute space to reduce the depth length and increase the recording efficiency of the head, and in other parts, the coil conductor is formed in a focused manner to improve the electrical characteristics of the coil conductor. It is formed over a fairly wide space. Therefore, the coil conductor is formed so as to extend to the vicinity of the groove.

ところが、上記溝を深く形成しすぎるとコイル導体をも
切断してしまい、逆に浅過ぎると磁気記録媒体のうねり
等で磁気記録媒体にキズを付けてしまう。そこで、この
溝深さの許容誤差範囲は、±5μm〜±10μmと極め
て小さな値にせざるを得なくなっている。
However, if the grooves are formed too deep, the coil conductor will also be cut, and if the grooves are too shallow, the magnetic recording medium will be scratched by waviness or the like. Therefore, the permissible error range for this groove depth must be set to an extremely small value of ±5 μm to ±10 μm.

したがって、この種の薄119 磁気ヘッドにおいては
、上記溝加工工程で、所定の溝深さとなるように上記溝
加工を施すことが重要な課題となちている。
Therefore, in this type of thin 119 magnetic head, it is an important issue to process the grooves so that the grooves have a predetermined depth in the groove processing step.

そこで従来は、溝加工をした後、ヘッドを加工機から取
り外し顕微鏡で深さを確認する方法が採られている。し
かし、この方法では、一度取り外したヘッドを再び加工
機にセットして溝加工を施さなければならず、このため
セット誤差が生じ易いという問題がある。
Conventionally, after cutting the groove, the head is removed from the processing machine and the depth is checked using a microscope. However, with this method, the head that has been removed must be set back into the processing machine to machine the grooves, and therefore there is a problem in that setting errors are likely to occur.

あるいは、予め所定の溝深さを有するダミーを形成して
おき、このダミーと比較することにより溝深さを確認す
るという方法もあるが、この場合には、ダミーを作成す
るために余分な手間を要するという欠点がある。
Alternatively, there is a method of forming a dummy with a predetermined groove depth in advance and checking the groove depth by comparing it with this dummy, but in this case, extra labor is required to create the dummy. The disadvantage is that it requires

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

このように、従来の薄膜磁気ヘッドでは、溝加工の途中
で溝の深さを確認しようとすると、非常に手間を要する
とともに、精度良く確認できないという問題があった。
As described above, in the conventional thin film magnetic head, when attempting to check the depth of the groove during groove machining, it is very time consuming and there is a problem in that accurate confirmation cannot be achieved.

そこで、本発明は上述の実情に鑑みて提案されたもので
あって、上記溝加工が容易、かつ精度良く行えるような
薄膜磁気ヘッドを提案すること目的とする。
Therefore, the present invention has been proposed in view of the above-mentioned circumstances, and an object of the present invention is to propose a thin-film magnetic head in which the above-mentioned groove processing can be easily and accurately performed.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

この目的を達成するために、本発明の薄膜磁気ヘッドは
、基板上にコイル導体及び上部磁性体が絶縁層を介して
積層され、磁気記録媒体との対接幅を規制するための溝
加工が施されてなる薄膜磁気へノドにおいて、上記下部
磁性体上に上記溝加工の深さ精度を確保するためのマー
カー膜が形成されていることを特徴とするものである。
In order to achieve this object, the thin film magnetic head of the present invention has a coil conductor and an upper magnetic body laminated on a substrate with an insulating layer interposed therebetween, and grooves are formed to regulate the contact width with the magnetic recording medium. The thin film magnetic nodule formed by the above method is characterized in that a marker film is formed on the lower magnetic body to ensure the depth accuracy of the groove processing.

〔作用〕[Effect]

このように、下部磁性体上に溝加工の深さ精度を確保す
るための(上記溝加工法さの許容誤差以内の幅を有する
)マーカー膜を形成することにより、溝加工を上記マー
カー膜のを無を確認するだけで、上記a深さが許容誤差
以内にあることが確認できる。
In this way, by forming a marker film (having a width within the tolerance of the above-mentioned groove processing method) to ensure the depth accuracy of groove processing on the lower magnetic material, the groove processing can be performed using the marker film. By simply checking that the depth a is within the allowable error range, it is possible to confirm that the depth a is within the allowable error.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明を適用した薄膜磁気ヘッドの一実施例につ
いて図面を参照しながら説明する。
An embodiment of a thin film magnetic head to which the present invention is applied will be described below with reference to the drawings.

本発明の薄膜磁気ヘッドにおいては、第1図(A)及び
第1図(B)に示すように、下部磁性体(1)の一平面
上にフロントギャップ部Gやバンクギャップ部G′を除
いて5iOz等よりなる第1絶縁N(2)が形成されて
いる。
In the thin film magnetic head of the present invention, as shown in FIG. 1(A) and FIG. 1(B), there is no front gap portion G or bank gap portion G' on one plane of the lower magnetic body (1). A first insulator N(2) made of 5 iOz or the like is formed.

上記下部磁性体(1)としては、M n −Z n系フ
ェライトやNi−Zn系フェライト等の強磁性酸化物基
板、または、セラミック等の非磁性基板上にFe−Ni
系合金(パーマロイ)やFe−Affi−3i系合金(
センダスト)等の強磁性金属材料を積層した複合基板、
あるいは上記強磁性酸化物基板上にパーマロイやセンダ
スト等の強磁性金属材料を積層した複合基板、等が使用
される。
The lower magnetic body (1) may be a ferromagnetic oxide substrate such as Mn-Zn ferrite or Ni-Zn ferrite, or Fe-Ni on a non-magnetic substrate such as ceramic.
system alloy (permalloy) and Fe-Affi-3i system alloy (
Composite substrates laminated with ferromagnetic metal materials such as Sendust),
Alternatively, a composite substrate in which a ferromagnetic metal material such as Permalloy or Sendust is laminated on the ferromagnetic oxide substrate is used.

また、上記第1絶縁層(2)上にはCuあるいはA1等
の金属導体よりなる第1コイル導体(3)が所定の間隔
をもって渦巻状(本実施例では4ターン)にパターンエ
ツチングされている。
Further, on the first insulating layer (2), a first coil conductor (3) made of a metal conductor such as Cu or A1 is pattern-etched in a spiral shape (four turns in this example) at predetermined intervals. .

ここで、本発明においては、上記第1コイル導体(3)
のパターンエツチング時に、溝深さの許容誤差以内の幅
を有するマーカー膜(4)が残存する如くフォトリソグ
ラフィ技術によりエツチングが施されている。
Here, in the present invention, the first coil conductor (3)
At the time of pattern etching, the etching is carried out using photolithography technology so that a marker film (4) having a width within the permissible error in groove depth remains.

さらに、上記第1コイル導体(3)を被覆するように第
2絶縁層(7)が被着形成され、上記第1コイル導体(
3)と同一の巻回方向を有し、上記第2絶縁層(7)に
形成されたコンタクト窓部(8)を介して、上記第1コ
イル導体(3)と電気的に接続される渦巻状(本実施例
では3ターン)の第2コイル導体(9)が形成されてい
る。すなわち、本実施例のコイル導体はスパイラル2層
重ね7ターンの巻線構造となる。また、この第2コイル
導体(9)上には、後述の上部磁性体(12)との絶縁
を図るために第3絶縁層(10)が形成されている。
Further, a second insulating layer (7) is formed to cover the first coil conductor (3), and a second insulating layer (7) is formed to cover the first coil conductor (3).
A spiral coil having the same winding direction as 3) and electrically connected to the first coil conductor (3) through a contact window (8) formed in the second insulating layer (7). A second coil conductor (9) having a shape (three turns in this embodiment) is formed. In other words, the coil conductor of this embodiment has a spiral two-layer, seven-turn winding structure. Further, a third insulating layer (10) is formed on the second coil conductor (9) in order to insulate it from an upper magnetic body (12), which will be described later.

上記コイル導体(3) 、 (9)としては、スパイラ
ル多層型に限られず、ヘリカル型あるいはジグザグ型等
如何なるS線構造であっても良い。
The coil conductors (3) and (9) are not limited to the spiral multilayer type, but may have any S-wire structure such as a helical type or a zigzag type.

さらにまた、フロントギャップ部のTa205等よりな
るギャップスペーサ(11)や上記第3絶縁層(10)
を被覆する如くセンダストやパーマロイ等強磁性金属材
料よりなる上部磁性体(12)が所定のトランク幅とな
るように形成されている。したがって、上記コイル導体
(3) 、 (9)に駆動電流を供給することにより、
下部磁性体と上部磁性体(12)との共働により磁気回
路を構成し、記録・再生が行われるように構成されてい
る。
Furthermore, a gap spacer (11) made of Ta205 or the like in the front gap portion and the third insulating layer (10)
An upper magnetic body (12) made of a ferromagnetic metal material such as sendust or permalloy is formed to cover the trunk and have a predetermined trunk width. Therefore, by supplying drive current to the coil conductors (3) and (9),
The lower magnetic body and the upper magnetic body (12) cooperate to form a magnetic circuit, and are configured to perform recording and reproduction.

さらにまた、図示してないが、上記上部磁性体(12)
等を覆うように、5i02等よりなる保護膜が形成され
、この保護膜上にガラス等の接着材を溶融充填すること
により手用化され、さらに、デプスの摩耗対策としてセ
ラミ、りの非磁性材よりなる保護板が上記接着材上に融
着接合されている。
Furthermore, although not shown, the upper magnetic body (12)
A protective film made of 5i02 etc. is formed so as to cover the surface, etc., and this protective film is made by melting and filling an adhesive material such as glass. A protective plate made of material is fused and bonded onto the adhesive.

このように構成される薄I!2M気ヘッドにおいては、
上記マーカー膜(4)を設けることにより、磁気記録媒
体との対接幅を規制する溝加工の加工精度が大幅に向上
する。
Thin I configured like this! In the 2M Ki head,
By providing the marker film (4), the processing accuracy of groove processing for regulating the contact width with the magnetic recording medium is greatly improved.

以下、本発明の薄膜磁気ヘッドに形成されるマーカー膜
(4)について詳述する。
The marker film (4) formed in the thin film magnetic head of the present invention will be described in detail below.

上記マーカー膜(4)は、第2図に示すように、例えば
長方形形状をなし、この相対向する辺(4a) 。
As shown in FIG. 2, the marker film (4) has a rectangular shape, for example, and has opposing sides (4a).

(4b)がデプス後端位置(Ib) (デプス長pp=
0)ラインと平行となるように形成されている。
(4b) is the depth rear end position (Ib) (depth length pp=
0) It is formed parallel to the line.

また、溝深さをaとし、溝深さ位置(5a) (所定の
溝深さaとなるような位置)の許容誤差範囲を8bとじ
巷だ場合、上記マーカー膜(4)の中心線(b=o)が
所定の溝深さaと一致し、このマーカー膜(4)の磁気
記録媒体封接面方向Xの長さが上記許容誤差±b以内と
なるように形成されている。なお、上記マーカー膜(4
)の形状は長方形に限られることはなく、一対の平行な
辺を有する形状であれば、台形、正方形、平行四辺形等
如何なる形状であっても良い。
Further, if the groove depth is a and the tolerance range of the groove depth position (5a) (the position where the predetermined groove depth a is achieved) is 8b, then the center line of the marker film (4) ( b=o) matches the predetermined groove depth a, and the length of the marker film (4) in the direction X of the magnetic recording medium sealing surface is within the above-mentioned tolerance ±b. In addition, the above marker film (4
) is not limited to a rectangle, and may be any shape such as a trapezoid, square, or parallelogram as long as it has a pair of parallel sides.

したがって、砥石等で溝加工を施し、この加工面に上記
マーカー膜(4)の−辺(4b)が露出したときがa深
さaの下限となり、さらに溝加工を続けて上記マーカー
膜(4)の−辺(4a)が見えなくなるときが上記マー
カー膜(4)の上限となる。すなわち、上記溝加工工程
で、加工面にマーカー膜(4)が露出していれば、/#
深さaは許容誤差±b以内にあることが確認される。
Therefore, the lower limit of the depth a is reached when the - side (4b) of the marker film (4) is exposed on the processed surface by cutting a groove with a grindstone or the like. ) becomes the upper limit of the marker film (4) when the - side (4a) becomes invisible. That is, if the marker film (4) is exposed on the processed surface in the groove processing step, /#
It is confirmed that the depth a is within the tolerance ±b.

一膜を形成しておき、溝加工後にこの加工面に露出する
上記マーカー膜の長さを測定して、絶対的も な溝深さを検出する方法が考えられ一牛件る。しかしな
がら、通常、この溝加工には砥石を使用しているので、
加工面が滑らかにはならない。したがって、上記マーカ
ー膜の長さの測定に誤差を生し易く、上記溝深さを精度
良く検出することができない。さらに、加工機上で上記
マーカー膜の長さを測定しようとすると、溝深さの設定
値を変える必要があり、逆に溝加工精度を低下する虞れ
かある。
One possible method is to form a single film and measure the length of the marker film exposed on the machined surface after groove processing to detect the absolute groove depth. However, since a grindstone is usually used for this groove processing,
The machined surface will not be smooth. Therefore, errors tend to occur in measuring the length of the marker film, and the groove depth cannot be detected with high accuracy. Furthermore, when attempting to measure the length of the marker film on a processing machine, it is necessary to change the set value of the groove depth, which may conversely reduce the groove processing accuracy.

このように、斉加工精度を要する上記溝加工において、
本発明の薄膜磁気ヘッドは、加工面に露出するマーカー
膜(4)の有無を確認するだけで、溝深さが許容誤差以
内にあるか否かを判定することができる。したがって、
上記溝加工は、薄膜磁気ヘッドを溝加工機に取り付けた
状態でこの深さを精度良く確認することができる。また
、マーカー膜(4)の有無を確認するだけで良いので、
高倍率の顕微鏡を使用しなくても良い。特に、複数の薄
膜磁気ヘッド素子を有するブロック片を研磨する場合に
は本発明のマーカー膜(4)は有効である。
In this way, in the groove machining that requires simultaneous machining precision,
In the thin film magnetic head of the present invention, it is possible to determine whether the groove depth is within the tolerance by simply checking the presence or absence of the marker film (4) exposed on the processed surface. therefore,
In the groove machining described above, the depth can be checked with high accuracy with the thin film magnetic head attached to the groove machining machine. Also, you only need to check the presence or absence of the marker film (4), so
There is no need to use a high-magnification microscope. In particular, the marker film (4) of the present invention is effective when polishing a block piece having a plurality of thin film magnetic head elements.

なお、本実施例では上記マーカー膜(4)を第1コイル
導体(3)の形成と同時に形成したが、第2コイル導体
(9)と同時に形成してもよいことはいうまでもない。
In this example, the marker film (4) was formed simultaneously with the formation of the first coil conductor (3), but it goes without saying that it may be formed simultaneously with the formation of the second coil conductor (9).

また、本発明は上述の実施例に限定されるものではなく
、本発明の主旨を逸脱することなく種々の構造が取り得
ることはいうまでもない。
Furthermore, it goes without saying that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and that various structures can be adopted without departing from the spirit of the present invention.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上の説明から明らかなように、本発明の薄膜磁気ヘッ
ドにおいては、下部磁性体上に磁気記録媒体との対接幅
を規制する溝の深さ精度を確保するためのマーカー膜が
形成されており、上記対接幅を規制する溝加工は、加工
面に露出する上記マーカー膜の有無を確認しながら行う
ことができる。
As is clear from the above description, in the thin film magnetic head of the present invention, a marker film is formed on the lower magnetic body to ensure the accuracy of the depth of the groove that regulates the contact width with the magnetic recording medium. Therefore, the groove processing for regulating the contact width can be performed while checking the presence or absence of the marker film exposed on the processed surface.

したがって、上記溝加工は、容易に、かつ精度良く行え
る。
Therefore, the groove machining described above can be performed easily and with high precision.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図(A)は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの一例を示
す概略的な平面図、第1図(B)は第1図(A)のa−
a線における断面図である。 第2図はマーカー膜近傍を拡大して示す平面図である。 l・・・・下部磁性体 3・・・・第1コイル導体 4・・・・マーカー膜 9・・・・第2コイル導体 12・・・上部磁性体
FIG. 1(A) is a schematic plan view showing an example of a thin film magnetic head according to the present invention, and FIG. 1(B) is a-a of FIG. 1(A).
It is a cross-sectional view taken along the a line. FIG. 2 is an enlarged plan view showing the vicinity of the marker membrane. l... Lower magnetic body 3... First coil conductor 4... Marker film 9... Second coil conductor 12... Upper magnetic body

Claims (1)

【特許請求の範囲】 基板上にコイル導体及び上部磁性体が絶縁層を介して積
層され、磁気記録媒体との対接幅を規制するための溝加
工が施されてなる薄膜磁気ヘッドにおいて、 上記下部磁性体上に上記溝加工の深さ精度を確保するた
めのマーカー膜が形成されていることを特徴とする薄膜
磁気ヘッド。
[Claims] A thin film magnetic head in which a coil conductor and an upper magnetic body are laminated on a substrate with an insulating layer interposed therebetween, and grooves are formed to regulate the contact width with a magnetic recording medium. A thin film magnetic head characterized in that a marker film is formed on the lower magnetic body to ensure the depth accuracy of the groove processing.
JP16619985A 1985-07-27 1985-07-27 Thin film magnetic head Pending JPS6226618A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11291357B2 (en) 2011-12-13 2022-04-05 Endochoice, Inc. Removable tip endoscope

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