JPS594379B2 - 硫酸カルシウムのスケ−ル形成を低減する方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は硫酸カルシウムの形成・特に燐酸製造時におけ
る硫酸カルシウムスケールの形成を低減する方法に関す
る。

湿式法により燐酸を製造する際には硫酸カルシウムが析
出され、それはＰ：ｉＭＩ程で生成燐酸から分離される
。

得られた沖塊は捕捉された燐酸を含有するため、それを
通常多段階で水及び／又は希燐酸で洗浄してその燐酸を
回収する。

しかしながら、硫酸カルシウムが無水塩又は半水塩の形
態である場合には、瀘塊の洗浄中に硫酸カルシウムの三
水塩（石膏）が析出して濾過器及び関連する管壁上にス
ケールが形成され、それによって濾過器の効率的操業が
著しく損われる。

その結果スケールを除去するためにプラントの操業を停
止することが必要となる。

スケール形成を少なくするために、濾過すべき燐酸中の
結晶スラリーにあるいは燐酸から分離した後の結晶を洗
浄するために使用される洗浄液に陰イオン系又は非イオ
ン系表面活性剤の如きスケール形成防止剤を添力ｐする
ことが提案されている。

今般本発明者等はかかる防止剤の添カロ時点がスケール
形成の防止効果に影響を及ぼすことを知見した。

すなわち、スケール形成防止剤を洗浄工程の間に結晶か
ら分離された液に分離後できるだけ早い時期に添加した
場合には、形成されるスケールの量は、一般に、防止剤
を洗浄液に添加した場合に形成されるスケールの量に比
べて低減され、それによって濾過器又は他の分離装置に
ついて脱スケール操作を行うことが必要となるまでの操
業時間を延長させることができる。

従って本発明は、硫酸カルシウムの無水塩及び／又は半
水塩の結晶をスケール形成防止剤を含有する循環液で洗
浄するに当り、該スケール形成防止剤をｐ過装置中で該
循環液が該結晶から分離された後であって力１つ該循環
液を再循環のために捕集する前の時点で該循環液を添加
することを特徴とする硫酸カルシウムの前記結晶の洗浄
に際して硫酸カルシウムのスケール形成を低減する方法
を提供するものである。

スケール形成防止剤は循環液が結晶から分離された直後
に添加することが好ましい。

本発明は種々の供給源からの硫酸カルシウムの無水塩及
び／又は半水塩の結晶の洗浄中におけるスケール形成を
低減するために適用できるが、特に、英国特許第１１３
５９５１号明細書に記載される如き半水塩法による燐酸
の製造の際に得られる結晶の洗浄中におけるスケール形
成を低減するのに有用である。

従って本発明は更に、その一実施態様として、湿式法に
よる燐酸の製造の際に形成される硫酸カルシウムの半水
塩及び／又は無水塩結晶の燐酸中のスラリーから該結晶
を分離し、その結晶をスケール形成防止剤を含む循環液
で洗浄する際、スケール形成防止剤を該循環液が該結晶
から分離される時点と該循環液を再循環のため捕集する
時点との間に該循環液に添加することを特徴とする燐酸
の湿式製造法を提供する。

洗浄は洗浄液を濾過器、好ましくは減圧濾過器上の結晶
の沢塊に通送することによって行うことが好ましく、便
宜上以下本発明をこの好ましい実施態様により記載する
。

減圧濾過器においては、涙液（即ち、結晶から分離され
た液）が再循環のため捕集されるとみなされる場所が密
閉室（シールボックス）である。

本発明の方法ではスケール形成防止剤はろ液が結晶を去
った後できるだけ早く泥液に添加される。

これは、防止剤を泥液が濾過器の密閉室に向う途中で通
過する回転皿型濾過器の濾過器の下にある中央バルブに
設けられる口に添加することによって達成できる。

この場合泥液は該密閉室中に捕集され、ついでそこから
再循環されて濾過器上のより前段の洗浄工程用の洗浄液
として作用する。

この添加はＰ２Ｏ５を低濃度、即ちＰ２Ｏ５を３０重量
％以下含有するろ液にのみなされることが好ましい。

従って、３段階洗浄沖過では防止剤は前記の中央バルブ
の口を通じて最後の二つの洗浄段階からの泥液に添加さ
れるであろう。

別法として、防止剤は濾過器と中央バイブとの間の泥液
排出管にあるいは中央バルブから密閉室までの下降管に
添加することもできる。

回転皿型濾過器、その構成及び使用法は当業者には周知
であり、種々の型のものが市販されている。

防止剤の添力ｐに必要な変更を力口えることは容易であ
る。

中央バルブに添加する場合には通常必要となることは、
防止剤を処理すべき泥液を搬送するバルブ中の通過に添
加せしめるためにバルブの固定部分の壁を穿孔すること
たけである。

防止剤の添加は好都合には投与ポンプにより行われる。

中央バルブに設けられた各日への防止剤の導入速度を調
節するために、例えば幾つかの涙液への添力ロ速度を個
々別々に変える必要がある場合には、さらにバルブ装置
を設けることもできる。

結晶の洗浄に他の型の濾過器を使用できることは理解さ
れよう。

例えば、本発明の方法をベルト式濾過器、例えばランド
スクローナ型沢過器に適用することもでき、この場合防
止剤は例えば沖網の下の濾過器中に又は真空ボックス中
に投入される。

また本発明の方法はドラム型の濾過器に適用することも
できる。

スケール形成の防止度は一般に防止剤の使用量によって
直接変化し、その度合は防止剤を密閉室にあるいはそれ
より後の時点で添加した場合に達成される度合の２倍ま
でであり得るが、上限は種種の商業的要因により決定さ
れるであろう。

防止剤は処理すべきろ液の重量に基づき１％以下、例え
ば０．０００５〜０．２％、好ましくは０．Ｏｏ５〜ｏ
、ｏｓ％の濃度で使用するのが好適である。

泥液への適当な添書口濃度は０．００５〜０．１００重
量％ある。

一連の洗浄段階への防止剤の特定な一添加例は、３段階
又は４段階からなる洗浄工程の最後の２段階に対しこれ
ら２段階の洗浄からの泥液中にそれぞれ防止剤を０．０
０５〜０．１重量％与えるように作用する中央バルブ内
の通路に防止剤を添カロすることである。

防止剤は好都合には水性濃縮液の形、例えば活性成分を
３０重量％以上含有する水性濃縮液の形テ沖液に添力ρ
される。

防止剤を泥液が得られた後できるだけ早くろ液に添加す
ることによって洗浄系全体に亘るスケール形成の防止が
助長され、かくして脱スケール作業を行うことが・必要
となるまでの操業期間が延長され、泥液中の防止剤の分
布が均一となり、かっ同程度のスケール形成の防止を達
成せしめるのに必要な防止剤の量が防止剤をｐ液が得ら
れた後かなり経過してから添加する場合、例えば洗浄液
の密閉室に添加する場合よりも少なくなる。

防止剤の使用は別にして結晶の洗浄は既知の方法で行わ
れるが、本発明における洗浄工程では従来法よりも広範
囲の温度、例えば２０〜９０℃、好ましくは５０〜８０
°Ｃを用いることができる。

使用されるスケール形成防止剤は陰イオン及び／又は非
イオン表面活性剤を包含する。

適当な陰イオン表面活性剤はアルカリールスルホン酸塩
型のものである。

用いられるアルカリールスルホン酸はモノ−又はポリベ
ンゼノイド化合物、例えばアルキルベンゼン又はアルキ
ルナフタリン化合物から誘導できかつ１個、２個もしく
はそれ以上のアルキル基を有することができる。

これらのアルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でもよく、好
ましくは８個以上、例えば８〜１８個の炭素原子を有す
る。

例えばアルキル基はオレフィン、例えば４モル割合のプ
ロピレンの縮合から誘導できるしあるいは直鎖のもの、
例えばラウリル基であり得る。

アルキル基がオレフィン縮合物から誘導される場合のよ
うに、アルキル基が所望の平均鎖長近辺の鎖長を有する
アルキルアリールスルホネートの混合物を使用すること
もできる。

異なるスルホン酸の混合物を用いることもできる。

使用される好ましいスルホン酸はモノアルキルベンセン
スルホン酸、例えばオクチル−、ノニル、デシル−、ド
デシル−及びヘキサデシル−ベンゼンスルホン酸を包含
する。

スルホン酸は遊離酸としであるいはその誘導体、例えば
そのアミド又は低級アルキルエステル（例えばメチル又
はエチルエステル）として使用し得るが、その塩の形、
例えばアルキル金属塩、特にナトリウム又はカリウム塩
、あるいはアンモニウム塩又はアミン塩、例えばトリエ
タノールアミン塩の形で使用することが好ましい。

好ましいスルホン酸塩は商品名 ティーポール（Ｔｅｅ
ｐｏｌ ）５１４ 及び ナンサ（Ｎａｎ５ａ）Ｓ ４
０／Ｓ として市販されているものである。

他の適当な陰イオン表面活性剤は一般式；％式％） （式中、Ｒ１はアルキル又はアラルキル基であり、ｎは
３又は４であり、Ｒ２はｎが３の場合には水素であり、
ｎが４の場合にはＲ１又は水素である）の化合物及びそ
の誘導体である。

一般式Ｉの化合物は少くとも１個の基Ｒ１を有する。

この基はヒドロキシル、カルボニル酸素又はスルホン酸
基の如き置換基を有し得る直鎖状又は分岐鎖状のアルキ
ル基である。

このアルキル鎖は１個もしくは２個以上のエチレン性結
合又はエーテル結合を含んでいてもよい。

別の場合としてＲ１はベンジル又はアルキルベンジル基
の如きアラルキル基であり得る。

このアラルキル基のアリール部分はアルキル基が８〜１
８個の炭素原子を有するアルキルフェニル基、特にノニ
ルフェニル基であることが好ましい。

基Ｒ２はｎの値に応じて水素又は基Ｒ１であり得る。

従って、使用される式Ｉの化合物は次のものを包含する
ニー （ａ） モノ−及びジ−アルキル硫酸エステル：（ｂ
） アルキレンオキシドとアルコール、グリコール又
はアルキルフェノールとの縮合物の硫酸エステル； （ｃ）アルカンスルホネート；及び （ｄ）これらの混合物 使用されるアルキル硫酸エステルは１個又は２個のアル
キル基を有し得る。

このアルキル基は直鎖状又は分岐鎖状でもよく、飽和又
は不飽和でもよく、好ましくは８個以上、例えば８〜１
８個の炭素原子を有する。

またアルキル基はオレフィン、例えば４モル割合のプロ
ピレンの縮合から誘導されるものでもよい。

適当なアルキル基の特定の例は、２−エチル−ヘキシル
、ラウリル、プロピレン匹量体などの基である。

アルキル基がオレフィンの縮合物から誘導される場合の
ように、アルキル基が所望の平均鎖長近辺の鎖長を有す
るアルキル硫酸エステルの混合物を使用することもでき
る。

臼型的なアルキル硫酸エステルはモノ−又はジ−オクチ
ル−、ノニル、デシル−、ドデシル−及びヘキサデシル
硫酸エステルを包含する。

使用されるアルキレンオキシド縮合物の硫酸エステルは
アルキレンオキシド縮合物の硫酸モノエステル型の非イ
オン表面活性剤、特にアルキレンオキシドとアルカノー
ル又はアルキルフェノールとの縮合物を包含する。

好ましいアルキレンオキシドはエチレン、プロピレン又
はプチレンオキシド又はこれらの混合物である。

これらのオキシドと縮合されるアルコールは好ましくは
２個又は３個のヒドロキシル基を含む一価又は多価アル
コールであることができ、かつアルキル基が好ましくは
８個以上、例えば８〜１８個、なるべく１２〜１５個の
炭素原子を有する直鎖状又は分岐鎖状の第１級又は第２
級アルカノールである。

アルキル基がオレフィンの縮合物から誘導される場合の
ように、アルキル基が所望の平均長近辺の鎖長を有する
アルコール類又はグリコール類の混合物を使用すること
もできる。

アルキレンオキシドと縮合されるアルキルフェノールは
前記の型のアルキル基を１個又はそれ以上有し得る。

このフェノール部分は１個又はそれ以上のフェノール性
ＯＨ基（これらＯＨ基のそれぞれもしくは幾つかだけが
アルキレンオキシド部分と縮合されている）を含有した
ものであり得る。

異なる非イオン表面活性剤の混合物を用いることもでき
る。

硫酸エステルの形で使用することが適当な非イオン表面
活性剤の例はポリアルキレンエーテルアルコール、例え
ばエチレンオキシド４〜１４モル及び炭素数８〜１４個
のアルコールから誘導されたものあるいはエチレンオキ
シド３〜３０モル割合と縮合されたオクチル−又はノニ
ルフェノールを包含する。

使用されるアルカンスルホネートは下記の一般式をもつ
ものを包含するニー ■ Ｒ３ＣＨ−ＣＨ（ＣＨ２）ｐＳ０３Ｈ２ＩＩＩ
Ｒ” ＣＨ２ＣＨＯＨ（ＣＨ２） ｐ Ｓ ０３Ｈ
。

■Ｒ３ＣＨＯＨＣＨ２（ＣＨ２）ｐＳＯ３Ｈ２及び ■
Ｒ３５Ｏ３Ｈ 上記式中 Ｒ３は随意に１個はそれ以上のエチレン性結
合及び／又はエーテル結合を含みかつ随意に１個又はそ
れ以上のヒドロキシル、カルボニル酸素又は−５Ｏ３Ｈ
基置換基を有するアルキル鎖であり、ｐはＯ〜１１の数
値である。

−８Ｏ３Ｈが結合されるアルキル基は５〜２１個特に１
１〜１８個の炭素原子を含むことが好ましい。

更に、−８０３Ｈ基は連鎖の末端炭素原子に結合される
必要はなく、側鎖部分を形成してもよい○例えば一般式
■の化合物は飽和炭化水素をクロルスルホン化しついで
力ロ水分解して典型的一般式：（式中、Ｒ４はアルキル
２基であり、Ｒ５は水素又は基Ｒ４である）の生成物を
得ることによって製造できる。

一方、α−オレフィンをスルホン化する場合にはカ日水
分解後の生成物は一般式■、■及び■（これらの式中、
−８０３Ｈ基は末端炭素原子に結合される）の化合物の
混合物となるであろう。

好ましいアルカンスルホネートは炭素数１４〜１８個の
α−オレフィンのスルホン化又は８〜１８個、特に１２
〜１４個の炭素原子からなる平均鎖長をもつ実質的に直
鎖状のアルカン類の混合物のスルホン化によって得られ
る生成物である。

一般式■の化合物はその誘導体の形で、例えばアルカリ
金属塩、特にナトリウム又はカリウム塩あるいはそのア
ンモニウム塩として、例えはスルホン酸のすｌ−ＩＪウ
ム塩又は硫酸モノエステルのナトリウム塩としても使用
できることは理解されよう。

使用される適当な非イオン表面活性剤１オエチレン、プ
ロピレン又はブチレンオキシド又はこれらの混合物の縮
合物を包含する。

これらと縮合されるアルコールは、一価アルコール又は
好ましくは２個又は３個のヒドロキシル基を含む多価ア
ルコールであることができ、たとえばアルキル基が好ま
しくは８個以上、例えば８〜１８個、なるべく１２〜１
５個の炭素原子を有する直鎖状又は分枝鎖状である第１
級又は第２級アルカノールであるかあるいは１種又はそ
れ以上のアルキレンオキシドとアルコール又はグリコー
ルとの縮合から得られるポリアルキレンエーテル グリ
コールであるこのアルキル基はオレフィン、例えば４モ
ル割合のプロピレンの縮合から誘導されるものでもよく
あるいは直鎖基、例えばラウリル基である。

アルキル基がオレフィンの縮合物から誘導される場合の
ように、アルキル基が所望の平均鎖長近辺の鎖長をもつ
アルコール又はグリコールの混合物を使用することもで
きる。

アルキノンオキシドと縮合されるアルキルフェノールは
前記の型のアルキル基を１個又はそれ以上含有し得る。

このフェノール部分は１個又はそれ以上のフェノール性
ＯＨ基（これらＯＨ基のそれぞれもしくは幾つかだけが
アルキレンオキシド部分と縮合されている）を含有し得
る。

異なる非イオン表面活性剤の混合物を使用することもで
きる。

使用される非イオン表面活性剤の例はポリアルキレンエ
ーテル アルカノール、例工ばエチレンオキシド４〜１
４モル及び炭素数８〜１２個のアルコールから誘導され
るもの及び５〜１５モル割合のエチレンオキシドと縮合
されたオクチル−又はノニルフェノールを包含する。

非イオン表面活性剤は遊離ＯＨ基を有していてもよく、
これらはその誘導体、例えばその酢酸エステルの如きエ
ステルの形であってもよい。

またこれらはそのアルカリ金属、例えばナトリウム又は
カリウム塩の形であってもよい。

陰イオン表面活性剤と非イオン表面活性剤との混合物を
使用することもでき、事実この使用は該混合物により相
乗効果が奏せられるのでしはしば有利であることが認め
られた。

アルキルベンゼンスルホネートとエチレンオキシド／ア
ルキルフェノール縮合物との陰イオン系５０〜８０％対
非イオン系５０〜２０％の重量割合における混合物が好
ましい。

特に好ましいものは１種又はそれ以上の直鎖モノ−ノニ
ル、ウンデシル又はドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム及び七ノーオクチル又はノニルフェノールと８〜１
４モル、例えば９モル割合のエチレンオキシドとの縮合
物の混合物あるいは１種又はそれ以上のかかるベンゼン
スルホン酸ナトリウム及びエチレンオキシドと長鎖（炭
素数１２〜１５個）第２級アルコールとの縮合物の混合
物である。

これらの混合物は陰イオン系及び非イオン系成分を７：
３〜６：４の重量比で含有することが望ましい。

本発明で使用される他の適当なスケール形成防止剤はあ
る種の凝集剤及びピロ燐酸ナトリウム、メタ燐酸ナトリ
ウム又はトリポリ燐酸すｌ−ＩＪウムの如きＭ２０／
Ｐ２Ｏ５（ここでＭは水素又はアルカリ金属、特にカリ
ウム又はナトリウムである）のモル比が２：１以下、好
ましくは１．５：１〜１：１、例えば１．０：１〜１．
２：１、特に約１．１：１である縮合ホスフェートを包
含する。

使用される凝集剤は１５％Ｐ２Ｏ５の燐酸中で５０°Ｃ
において５分間に認め得る程には分解されないものであ
り、それは燐酸に対するこの程度の安定性を有する物質
から選択し得る。

凝集剤は主として非イオン性もしくは陰イオン性でかつ
中性もしくは酸性のものが好ましく、例えば凝集剤の１
０％溶液は３〜８のｐＨ値をもつことが好ましい。

好ましい凝集剤は高分子量重合体、例えばポリアクリル
アミド及びその誘導体を包含する。

混和性凝集剤の混合物を用いることもできる。

本発明で使用されるスケール形成防止剤は公知の物質で
あり、その多くは商業的に入手し得る物質である。

こからの商業的に入手し得る物質はそのままの形態及び
純度で使用できる。

従って、前述した防止剤の使用量は活性成分に基づいて
与えられる量である。

前記の通り、本発明は燐酸の湿式製造法における半水塩
のｐ塊を洗浄する際の石膏スケールの析出を少なくする
のに特に有用であるが、半水塩の洗浄中に硫酸カルシウ
ムのスケールが形成される他の方法にも適用できること
は勿論である。

かような場合に半水塩結晶の洗浄は実質的に前記の通り
行われるであろう。

本発明に従って、防止剤をバルブを通過するＰ液流中に
投入せしめるためにバルブ壁を穿孔することによって変
形された回転皿型の減圧濾過器で使用される中央バルブ
は新規のものであると考えられる。

従って本発明は更に、バルブの縦方向に通ずる孔を有し
かつその側壁に口を設けることによって防止剤を前記の
孔に供給せしめ得るように変形された中央バルブブロッ
クを備えた回転皿型の濾過器を使用する方法をその実施
態様として包含するものである。

次に本発明を実施例によって更に説明する。

実施例中、部及び係は指示しない限りすべて重量による
ものである。

実施例 １ トーゴー土（Ｔｏｇｏ ｒｏｃｋ ）からの燐酸の製造
中に得られた半水塩のｐ塊の試料を一連の洗浄液で洗浄
し、各洗浄液からのＰ液を捕集することによってスケー
ル形成を試験器具中で測定した。

各Ｐ液を４時間放置してスケールを析出せしめ、スケー
ル形成の程度をこの時間内に析出された固体の乾燥重量
により評価した。

洗浄条件を商業的方法における濾過器の多段階連続洗浄
操作の際に使用されるであろう洗浄条件にできるたけ近
似させるために、各段の沢塊洗浄挾の燐酸濃度を順次低
下させて三段階で洗浄した（最終段階は水洗浄）。

試験法の詳細は以下のとおりである。

半水塩１８４部を燐酸（３４５部、６２．５％Ｐ２Ｏ５
）、硫酸（９，２部、１００％Ｈ２Ｓ０４）及び水（８
２部、９５℃に力ｐ熱）中に混入することによって室温
でスラリーを形成させた。

このスラリーを真空沢過し、涙液を廃棄した。

ついでＰ塊を５５℃の燐酸（１８％Ｐ２Ｏ５）１２３部
で洗浄し、涙液を再度廃棄した。

ついで？塊を５５℃の１０％Ｐ２Ｏ５燐酸１３５部で洗
浄し、その涙液を洗浄液１として捕集した。

最後に炉塊を５５℃の水９２部で洗浄し、その涙液を洗
浄液２として捕集した。

個々の涙液を蓋をしたビーカー中で室温で４時間放置し
てスケールを析出せしめた。

この時間の終りにスケールをビーカーからかき集めてア
セトン中で洗浄し、空気乾燥し、秤量した。

前記の試験を、まず防止剤を洗浄液に添加して行ない（
試験Ａ）、ついで防止剤を各洗浄液から得られたろ液に
添加することにより沖過器の中央バルブへの添力１に近
似させて行った（試験Ｂ）。

試験は下記のスケール防止剤１ａ、ｌｂ及び１ｃについ
て及びスケール防止剤無添加の場合について行なった。

試験結果を第１表（１０％Ｐ２Ｏ５燐酸洗浄液及び同波
数に防止剤をそれぞれ添加した場合；それぞれ記号Ａ１
及びＢ１で示す）及び第２表（水洗浄液及び同波数に防
止剤をそれぞれ添加した場合；それぞれ記号Ａ２及びＢ
２で示す）に示す。

スケール防止剤： １ａ＝１００ｐＩ）ＩＩＩ（重量）のドデシルベンゼン
スルホン酸ナトリウム １ｂ＝１００ｐｐｍ（重量）のコンブロツクス（Ｃｏｍ
ｐｒｏｘ） （ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウ ム及びエチレンオキシド９モルと縮合さ れたノニルフェノールの７０：３０重ｉ 比の混合物） １ｃ＝１００１）ＩＭＩ＋（重量）のティーホール（Ｔ
ｅｅｐｏｌ ） ＣＨ５３ （ラウリルベンゼンスルホン酸ナトリウ ム及びエチレンオキシド８〜９モルと縮 実施例 ２ 実施例１の方法を、ただし異なる量のスケール防止剤を
用いて、反復した。

使用したスケール防止剤はつぎのとおりである。

２ ａ ＝ ｓ ｏｐｐｍ（重量）のドデシルベンゼン
スルホン酸ナトリウム ２ｂ＝２０ｐｐｍ（重量）しティーボールＣＩ（５３２
Ｃ＝５０ｐＩ）Ｉｌｌ（重量）のコンブロツクス２ｄ＝
２００１）１Ｎ＋１（重量）のコンブロツクス試験結果
を実施例１と全く同じ表示法で第３表（添加時期Ａ１及
びＢｌ）及び第４表（添加時期Ａ２及びＢ２）に示す。

実施例 ３ 実施例１の方法を、たたし下記の種々の別のスケール防
止剤を用いて反復した。

スケール防止剤： ３ａ＝２００ｐ１Ｍｎ（重量）ノキシレンスルホン酸ナ
トリウム ３ｂ−１００ｐｐ１１１（重量）のオクチルスルホン酸
ナトリウム ３ｃ二２０ｏｐｐｍ（重量）のティーポール（Ｔｅｅｐ
ｏｌ ） ６１０ （ジアルキル硫酸エステル） ３ｄ＝５０ｐｐｍ（重量）のラウリル硫酸ナトリウム ３ｅ：２００ｐｐｍ（重量）のＮ ａ ２０ ：Ｐ ２
０５のモル比１．１：１の縮合ホスフェート ３ ｆ＝２ｃｌＯｐ声（重量）ノニルフェノールと９モ
ルのエチレンオキシドとの縮合物 ３ ｇ＝ ２０ ｏｐｐｍ（重量）の第２級アルコール
と９モルのエチレンオキシドとの縮合物 （商品名 ＮｌＮＩＤ１ｏｏＯ Ｂ）３ｈ＝２００ｐｐ重量）のエチレンオキシド約８．
５モルさ縮合したアルキルフェノールの硫酸エステルの
ナトリウム塩 （商品名 ソルミン（Ｓｏｌｕｍｉｎ）ＦＰ８５５Ｄ）
３１＝２００ｐｐｍ（重量）の非イオン性アミド基で変
性されたポリアクリレート （商品名 ポリブ吊ツクス（Ｐｏ１ｙｆｌｏｘ）８ＮＰ
） 試験結果を実施例１と全く同じ表示法で第５表（添書［
１時期Ａ１及びＢｌ）及び第６表（添加時期Ａ２及びＢ
２に示す。

実施例１〜３の試験結果から、すべての場合に試験Ｂで
形成されたスケールの重量は試験Ａで形成されたスケー
ルの重量に比べて著しく少ないことが認められる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 硫酸カルシウムの無水塩及び／又は半水塩の結晶を
   スケース形成防止剤を含有する循環液で洗浄するに当り
   、該スケール形成防止剤をｐ過装置中で該循環液が該結
   晶から分離された後であってかつ該循環液を再循環のた
   めに捕集する前の時点で該循環液に添カ目することを特
   徴とする硫酸カルシウムの前記結晶の洗浄に際して硫酸
   カルシウムのスケール形成を低減する方法。