JPH11189423A - Production of glass base plate - Google Patents

Production of glass base plate

Info

Publication number
JPH11189423A
JPH11189423A JP9361398A JP36139897A JPH11189423A JP H11189423 A JPH11189423 A JP H11189423A JP 9361398 A JP9361398 A JP 9361398A JP 36139897 A JP36139897 A JP 36139897A JP H11189423 A JPH11189423 A JP H11189423A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass substrate
press
glass
shape
producing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP9361398A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takehiro Kajiwara
健弘 梶原
Takashi Ota
隆 太田
Akio Enomoto
明夫 榎本
Hideto Sandaiji
秀人 三大寺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NGK Insulators Ltd
Original Assignee
NGK Insulators Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NGK Insulators Ltd filed Critical NGK Insulators Ltd
Priority to JP9361398A priority Critical patent/JPH11189423A/en
Publication of JPH11189423A publication Critical patent/JPH11189423A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B11/00Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
    • C03B11/06Construction of plunger or mould
    • C03B11/08Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2215/00Press-moulding glass
    • C03B2215/40Product characteristics
    • C03B2215/45Ring or doughnut disc products or their preforms

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production process for glass base plates that can shorten the production steps and can inexpensively provide glass base plate of high dimensional accuracy by increasing the forming accuracy of the glass base plate. SOLUTION: In a production process for glass base plate by pressing molten glass into plates, the press-forming step comprises the direct press step where the molten glass is molded and solidified to a prescribed shape and the repressing step where the glass base plate from the direct press step is repressed under heating conditions to effect fine adjustment of the shape or deformation.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】 本発明は、主にコンピュー
タの情報記録媒体として使用されるハードディスク用の
基板として用いられるガラス基板の作製方法に関し、特
に、ガラス基板の成形精度を向上させることにより、製
造工程の短縮を可能ならしめるガラス基板の作製方法に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a glass substrate used as a substrate for a hard disk mainly used as an information recording medium for a computer, and more particularly to a method for manufacturing a glass substrate by improving the molding accuracy of the glass substrate. The present invention relates to a method for manufacturing a glass substrate capable of shortening a process.

【0002】[0002]

【従来の技術】 近年、コンピュータの普及が急激に進
み、コンピュータの操作性を左右するオペレーションシ
ステム等のOSソフトや、OS上で作動する種々のプロ
グラムソフト等のソフトウェアが高容量化する傾向にあ
り、さらに、これらのプログラムを用いて作成されるデ
ータも、高容量化する傾向にある。
2. Description of the Related Art In recent years, the spread of computers has rapidly advanced, and the capacity of OS software such as an operation system which affects the operability of the computer and various kinds of program software operating on the OS tend to be increased. In addition, data created by using these programs also tends to have a high capacity.

【0003】 これに伴い、このような大量の情報を高
速に記録/読出することのできる情報記録媒体としての
ハードディスクの開発においては、従来のアルミニウム
金属を用いた基板に変えて、硬度や平滑性に優れるガラ
ス基板、特に結晶化ガラスを用いたガラス基板を用いる
動きが活発になっている。
Accordingly, in the development of a hard disk as an information recording medium capable of recording / reading such a large amount of information at a high speed, hardness and smoothness have been changed in place of a conventional substrate using aluminum metal. There is an increasing movement to use glass substrates that are excellent in quality, particularly glass substrates using crystallized glass.

【0004】 一般的に、ガラス基板の作製方法は、図
10のフローチャートに示されるように、ブランク工程
とサブストレート工程とに分けられる。ここで、ブラン
ク工程においては、まず、特定の組成に調合されたガラ
ス材料を溶融したものをプレス型に流し込んでプレス成
形する。
Generally, a method for manufacturing a glass substrate is divided into a blanking process and a substrate process, as shown in a flowchart of FIG. Here, in the blanking step, first, a molten glass material prepared to have a specific composition is poured into a press mold and press-molded.

【0005】 このプレス成形においては、図11に示
すように、ノズル51から押し出された溶融ガラス52
を一定量ほどシャー53で切断して、周囲を胴型54の
円筒壁で囲まれた下型55上へ落とし、上型56で胴型
54の上面を蓋した後に下型55を押し上げて、上型5
6と下型55および胴型54によって囲まれた空間に溶
融ガラス52が密に充填され、ディスク状のガラス基板
57が作製される方法が採られる。
In this press molding, as shown in FIG. 11, molten glass 52 extruded from nozzle 51
Is cut by a certain amount with a shear 53, and the periphery is dropped onto a lower mold 55 surrounded by a cylindrical wall of a trunk mold 54. After the upper mold 56 covers the upper surface of the trunk mold 54, the lower mold 55 is pushed up. Upper mold 5
6, a space surrounded by the lower mold 55 and the body mold 54 is densely filled with the molten glass 52 to produce a disk-shaped glass substrate 57.

【0006】 こうして、得られたガラス基板を結晶化
処理し、その後にガラス基板の内孔部を切断して内孔を
開け、欠けや割れ等の表面欠陥の有無を検査する。こう
して作製されたガラス基板はブランクと呼ばれる。
The glass substrate thus obtained is subjected to a crystallization treatment, and thereafter, the inner hole of the glass substrate is cut to open an inner hole, and the presence or absence of a surface defect such as a chip or a crack is inspected. The glass substrate thus manufactured is called a blank.

【0007】 次に、サブストレート工程においては、
ブランクの表面をSiC微粉等の研磨剤によりラッピン
グ(一次ラッピング)した後、内外径を所定寸法・所定
形状に加工(チャンファリング)し、さらに、表面をラ
ッピング(二次ラッピング)して洗浄する。こうして得
られたブランクを、酸化セリウム微粉を用いて研磨し、
所定の平滑度に仕上げた後、超音波洗浄、IPA洗浄を
施し、最後に表面欠陥等の有無を検査する。以上の工程
を経たブランクをサブストレートという。こうして得ら
れたサブストレートに磁気記録膜を施膜することによ
り、ガラスディスクが作製される。
Next, in the substrate process,
After lapping (primary lapping) the surface of the blank with an abrasive such as SiC fine powder, the inner and outer diameters are processed into a predetermined size and a predetermined shape (chamfering), and the surface is further wrapped (secondary lapping) and washed. The blank thus obtained is polished using cerium oxide fine powder,
After finishing to a predetermined smoothness, ultrasonic cleaning and IPA cleaning are performed, and finally, the presence or absence of a surface defect or the like is inspected. The blank that has gone through the above steps is called a substrate. By applying a magnetic recording film to the substrate thus obtained, a glass disk is manufactured.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】 上述のように、従来
のガラス基板(サブストレート)の作製方法は、多くの
工程から成り立ち、しかも、ラッピングや研磨といった
長い加工時間を要し、しかも加工設備費および加工消耗
材料費の高くつく工程を多く含むために、加工コストが
高くつく問題があった。また、ラッピング等により除去
される無駄な部分が多いために、ガラス基板の成形に必
要とする原材料費が嵩むという問題もあった。
As described above, the conventional method for manufacturing a glass substrate (substrate) is composed of many steps, and requires a long processing time such as lapping and polishing. In addition, there is a problem that the processing cost is high because the method includes many steps that require high processing consumable material cost. In addition, there is also a problem that the cost of raw materials required for forming the glass substrate increases because there are many useless portions removed by lapping or the like.

【0009】 さらに、溶融ガラスが常に一定量ほどプ
レス型に供給されるように、作業環境、すなわち、溶融
ガラスの押し出し量や、押し出された溶融ガラスの切断
のタイミング、あるいは溶融ガラスの粘度調節(温度管
理)といった条件を一定としなれば、都度、異なる厚さ
のガラス基板が成形されることとなる。
Further, the working environment, that is, the amount of the molten glass extruded, the timing of cutting the extruded molten glass, or the adjustment of the viscosity of the molten glass (so that the molten glass is always supplied to the press die by a certain amount) ( If conditions such as (temperature control) are not constant, glass substrates having different thicknesses are formed each time.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】 本発明は上述した従来
技術の問題点に鑑みてなされたものであり、すなわち、
本発明によれば、溶融ガラスを板状にプレス成形する工
程を含むガラス基板の作製方法において、当該プレス成
形工程が、溶融ガラスを所定形状に固化成形するダイレ
クトプレス工程と、当該ダイレクトプレス工程により得
られたガラス基板を、加熱条件下で再プレスすることに
より、形状の微調整もしくは変形を行うリヒートプレス
工程と、からなることを特徴とするガラス基板の作製方
法、が提供される。
Means for Solving the Problems The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the related art, that is,
According to the present invention, in a method for producing a glass substrate including a step of press-molding molten glass into a plate shape, the press-forming step includes a direct press step of solidifying and molding the molten glass into a predetermined shape, and the direct press step. A method for manufacturing a glass substrate, comprising: a reheat pressing step of finely adjusting or deforming the shape by repressing the obtained glass substrate under heating conditions.

【0011】 本発明のガラス基板の作製方法において
は、プレス成形工程において、被加工ガラスを介せず、
直接に合わせられる接触部分を有するプレス用上下型を
用いることが好ましい。また、プレス成形工程において
は、被加工ガラスの余剰体積部を、被加工ガラスの外周
部に押し出す空間部を有するプレス用上下型を用いるこ
とが好ましい。さらに、プレス成形工程において、内孔
部および/または外周部とガラス基板部との境界部に、
チャンファーを形成することが好ましい。
In the method for manufacturing a glass substrate of the present invention, in the press forming step,
It is preferable to use a press upper and lower mold having a contact portion that can be directly fitted. In the press forming step, it is preferable to use an upper and lower press die having a space for extruding the surplus volume of the glass to be processed to the outer periphery of the glass to be processed. Further, in the press molding step, at the boundary between the inner hole and / or the outer periphery and the glass substrate,
Preferably, a chamfer is formed.

【0012】 さらに、本発明のガラス基板の作製方法
におけるリヒートプレス工程後に得られるガラス基板に
あっては、そのガラス基板における内孔部および/また
は外周部の厚さを、ガラス基板部よりも薄くした台形形
状とすることが好ましい。あるいは、リヒートプレス工
程後に得られるガラス基板を、そのガラス基板における
内孔部および/または外周部とガラス基板部との境界部
にノッチを入れた楔形状とすることもまた、好ましく、
台形形状と楔形状とを組み合わせた形状も好適に採用さ
れる。
Further, in the glass substrate obtained after the reheat pressing step in the method for manufacturing a glass substrate of the present invention, the thickness of the inner hole portion and / or the outer peripheral portion of the glass substrate is smaller than that of the glass substrate portion. A trapezoidal shape is preferred. Alternatively, it is also preferable that the glass substrate obtained after the reheat pressing step has a wedge shape in which a notch is formed at a boundary portion between the inner hole portion and / or the outer peripheral portion and the glass substrate portion in the glass substrate,
A shape combining a trapezoidal shape and a wedge shape is also suitably adopted.

【0013】 なお、ダイレクトプレス工程であるかリ
ヒートプレス工程であるかにかかわらず、使用されるプ
レス用上下型は、共に台形型であるか、もしくは共に楔
型であるか、または一方が台形型であり他方が楔型であ
るかのいずれかの組み合わせが好適に採用される。な
お、このとき、上型と下型とでいずれの形状の型を用い
るかについての制限はない。また、ダイレクトプレス工
程と、その後のリヒートプレス工程に用いられるプレス
用上下型の組み合わせが、平板型に対して台形型もしく
は楔型、または台形型に対して台形型もしくは平板型、
または楔形に対して楔形のいずれかであることが好まし
い。
[0013] Regardless of whether the process is a direct press process or a reheat press process, the upper and lower press dies used are either trapezoidal, or both wedge-shaped, or one of them is trapezoidal. And the other is wedge-shaped. At this time, there is no restriction as to which shape of the upper die and the lower die to use. In addition, the combination of the direct press process and the upper and lower press dies used in the subsequent reheat press process is trapezoidal or wedge-shaped for a flat plate, or trapezoidal or flat for a trapezoid,
Alternatively, it is preferable to use either a wedge shape or a wedge shape.

【0014】 上述した種々のプレス用上下型を用いた
場合であっても、リヒートプレス工程においてガラス基
板にノッチを形成した場合には、ノッチに熱衝撃を加え
ることにより、そのノッチおいて内孔部および/または
外周部を、ガラス基板部から離隔すると、簡単に、製品
として不要な部分を除去することができるために好まし
い。なお、ガラス基板としては、SiO2−Al23
Li2O系の結晶化ガラスが好適に用いられる。
Even when the above various press upper and lower dies are used, when a notch is formed in the glass substrate in the reheat press step, a thermal shock is applied to the notch, so that the inner hole is formed in the notch. It is preferable that the part and / or the outer peripheral part be separated from the glass substrate part because unnecessary parts as a product can be easily removed. In addition, as the glass substrate, SiO 2 —Al 2 O 3
Li 2 O-based crystallized glass is preferably used.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】 上述の通り、本発明のガラス基
板の作製方法によれば、特に、ガラス基板の成形段階に
おける成形精度を向上させることで、後加工工程が大幅
に短縮化され、簡便化される。したがって、生産効率が
向上し、ガラス基板を安価に供給することが可能とな
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION As described above, according to the method for manufacturing a glass substrate of the present invention, the post-processing step is greatly shortened, and the convenience is improved, particularly by improving the forming accuracy in the forming step of the glass substrate. Be transformed into Therefore, the production efficiency is improved, and the glass substrate can be supplied at low cost.

【0016】 なお、本発明によるガラス基板の作製方
法は、上述したハードディスク用のガラス基板の作製に
限定されず、その他種々のガラス基板の作製に用いるこ
とができることはいうまでもないが、以下、ハードディ
スク用等のガラス基板として用いられる平板リング状の
形状を有するガラス基板の作製を主な例として説明する
こととする。
The method for manufacturing a glass substrate according to the present invention is not limited to the above-described method for manufacturing a glass substrate for a hard disk, and it goes without saying that the method can be used for manufacturing various other glass substrates. Production of a glass substrate having a flat ring shape used as a glass substrate for a hard disk or the like will be mainly described.

【0017】 図1は、本発明のガラス基板の作製方法
におけるガラス基板の成形方法を示す説明図である。ま
ず最初に、溶融ガラス2をノズル4からダイレクトプレ
ス用下型1へ向かって押し出しまたは滴下し、一定量が
供給されるようにシャー3により溶融ガラスを切断した
後、ダイレクトプレス用上型5をダイレクトプレス用下
型1に押し当ててプレスし、所定形状のガラス基板11
を作製する。このプレス工程をダイレクトプレス工程と
呼び、このようなプレス加工をダイレクトプレスと呼ぶ
こととする。
FIG. 1 is an explanatory view showing a method for forming a glass substrate in the method for manufacturing a glass substrate of the present invention. First, the molten glass 2 is extruded or dropped from the nozzle 4 toward the lower die 1 for direct press, and the molten glass is cut by the shear 3 so that a fixed amount is supplied. The glass substrate 11 having a predetermined shape is pressed by being pressed against the lower die 1 for direct press.
Is prepared. This press step is called a direct press step, and such press processing is called a direct press.

【0018】 次に、固化・成形されたガラス基板11
は、搬送アーム7の端部に配設された吸引盤6により吸
着され、リヒートプレス用下型8へと搬送される。そし
て、リヒートプレス用上型9をリヒートプレス用下型8
へ押し当ててプレスすることにより、所定形状へ変形等
させる。このときのプレス工程をリヒートプレス工程と
呼び、このようなプレス加工をリヒートプレスと呼ぶこ
ととする。続いて、リヒートプレスにより所定形状に作
製されたガラス基板12は、搬送アーム10により次工
程へと搬送される。
Next, the solidified and formed glass substrate 11
Is sucked by the suction plate 6 disposed at the end of the transfer arm 7 and transferred to the lower die 8 for reheat press. Then, the upper die 9 for reheat press is replaced with the lower die 8 for reheat press.
By pressing against and deforming to a predetermined shape. The pressing process at this time is called a reheat pressing process, and such press working is called a reheat pressing. Subsequently, the glass substrate 12 formed into a predetermined shape by the reheat press is transferred by the transfer arm 10 to the next step.

【0019】 上述の通り、本発明にあっては、溶融ガ
ラスを板状にプレス成形する工程を含むガラス基板の作
製方法において、プレス成形工程が、溶融ガラスを所定
形状に固化・成形するダイレクトプレス工程と、ダイレ
クトプレス工程により得られたガラス基板を、加熱条件
下で再プレスすることにより、形状の微調整もしくは変
形を行うリヒートプレス工程とからなる。以下、このプ
レス成形工程について詳述する。
As described above, according to the present invention, in the method for producing a glass substrate including the step of press-forming molten glass into a plate shape, the press-forming step includes a step of solidifying and forming the molten glass into a predetermined shape. And a reheat press step of performing fine adjustment or deformation of the shape by repressing the glass substrate obtained by the direct press step under heating conditions. Hereinafter, the press forming step will be described in detail.

【0020】 まず、溶融ガラス2の作製にあっては、
所定の原料粉末を所定組成に調合・混合したもの、ある
いは予め合成されたガラスの粉末やペレット等が、溶融
原料として好適に用いられる。さらに、後述する後加工
により一旦成形されたガラス基板から離隔された内孔部
や外周部といった部分を再利用することも可能である。
なお、使用されるガラスの種類や組成に特に限定はない
が、ハードディスク用ガラス基板としては、SiO2
Al23−Li2O系の結晶化ガラスが好適に用いられ
る。
First, in producing the molten glass 2,
A mixture of predetermined raw material powders having a predetermined composition, or a pre-synthesized glass powder or pellets is suitably used as a molten raw material. Furthermore, it is also possible to reuse a portion such as an inner hole portion and an outer peripheral portion separated from the glass substrate once formed by post-processing described later.
The type and composition of the glass used are not particularly limited. However, as the glass substrate for a hard disk, SiO 2
Al 2 O 3 -Li 2 O system crystallized glass is preferably used.

【0021】 溶融ガラス2は、ノズル4から押し出さ
れるかもしくは滴下されるようにしてダイレクトプレス
用下型1へと供給される。ここで、ダイレクトプレス用
下型1は、溶融ガラス2の急速な冷却・固化およびこれ
に伴う大きな熱応力の発生を防止するために、溶融ガラ
ス2のガラス転移点等を考慮して、適度な温度に保持さ
れていることが好ましい。そして、ダイレクトプレス用
下型1と同等の温度に保持されたダイレクトプレス用上
型5をダイレクトプレス用下型1に押し当てて溶融ガラ
ス2をプレスし、所定形状に成形する。なお、ダイレク
トプレス用上下型1・5の形状設計に関しては、後述し
て説明することとする。
The molten glass 2 is supplied to the direct press lower mold 1 as being extruded or dropped from the nozzle 4. Here, in order to prevent rapid cooling and solidification of the molten glass 2 and occurrence of a large thermal stress accompanying the rapid cooling and solidification of the molten glass 2, the lower die 1 for direct pressing has an appropriate glass transition point and the like of the molten glass 2. It is preferred that the temperature be maintained. Then, the upper mold 5 for direct press, which is maintained at the same temperature as the lower mold 1 for direct press, is pressed against the lower mold 1 for direct press to press the molten glass 2 to be formed into a predetermined shape. The shape design of the upper and lower dies 1 and 5 for direct press will be described later.

【0022】 図2(a)〜(c)は、このダイレクト
プレスにより作製されるガラス基板11の形状の種々の
実施形態を示す径方向の断面図であるが、平板形状もし
くは台形形状あるいは楔形状が代表的な例として挙げら
れる。ここで、いずれの形状のガラス基板11も、最終
的なガラス基板となるべきガラス基板部11Aと、供給
された溶融ガラス2のうち、余剰に供給されたガラスが
外周に押し出されて形成された外周部11Cとからな
り、平板リング状等の内孔を有する形状のガラス基板を
作製する場合には、内孔部11Bをガラス基板に設ける
ことが好ましい。
FIGS. 2A to 2C are radial cross-sectional views showing various embodiments of the shape of the glass substrate 11 produced by the direct press. Is a typical example. Here, the glass substrate 11 having any shape is formed by extruding the glass substrate portion 11A to be the final glass substrate and the surplus supplied glass of the supplied molten glass 2 to the outer periphery. When producing a glass substrate having an outer peripheral portion 11C and having a shape such as a flat ring shape having an inner hole, it is preferable to provide the inner hole portion 11B in the glass substrate.

【0023】 図2(a)の平板形状は、平板リング状
等の内孔を形成する必要のないガラス基板のみならず、
次工程であるリヒートプレス工程との組合せにより、平
板リング状等の種々の形状のガラス基板の作製にも適し
た前駆体形状として広く用いられる。また、ここで、外
周部11Cを後加工工程においてガラス基板部11Aか
ら離隔するときの加工負荷を低減するために、外周部1
1Cはガラス基板部11Aよりも薄く成形されるよう
に、ダイレクトプレス用上下型1・5の形状および溶融
ガラス2の供給量が調整されることが好ましい。
The flat plate shape shown in FIG. 2A is not only a glass substrate having no need to form inner holes such as a flat ring shape, but also a flat plate shape.
It is widely used as a precursor shape suitable for producing glass substrates of various shapes such as a flat ring shape by a combination with a reheat press process as a next process. Here, in order to reduce the processing load when the outer peripheral portion 11C is separated from the glass substrate portion 11A in the post-processing step, the outer peripheral portion 1C is removed.
It is preferable that the shape of the upper and lower dies 1.5 for direct press and the supply amount of the molten glass 2 are adjusted so that 1C is formed thinner than the glass substrate portion 11A.

【0024】 図2(b)の台形形状は、内孔を形成す
る平板リング状のガラス基板の作製に好適な形状の一実
施形態であり、内孔部11Bは、前述した平板形状にお
ける外周部11Cと同様に後加工による離隔加工を容易
ならしめるために、ガラス基板部11Aよりも薄くなる
ように設定されていることが好ましい。
The trapezoidal shape shown in FIG. 2B is an embodiment suitable for producing a flat ring-shaped glass substrate having an inner hole, and the inner hole portion 11 B has an outer peripheral portion in the above-described flat plate shape. As in the case of 11C, it is preferable that the thickness is set to be thinner than the glass substrate portion 11A in order to facilitate separation processing by post-processing.

【0025】 さらに、図2(c)の楔形状において
は、内孔部11Bおよび/または外周部11Cとガラス
基板部11Aとの境界部にノッチ13が形成されてお
り、後述するように、このノッチ13に熱衝撃を加える
ことによって、容易にノッチ13の部分において、内孔
部11Bと外周部11Cをガラス基板部11Aから離隔
することが可能である。
Further, in the wedge shape shown in FIG. 2C, a notch 13 is formed at a boundary between the inner hole 11B and / or the outer peripheral portion 11C and the glass substrate 11A. By applying a thermal shock to the notch 13, the inner hole 11B and the outer peripheral portion 11C can be easily separated from the glass substrate 11A at the notch 13.

【0026】 図2に例示したガラス基板11の形状に
おいては、内孔部11Bおよび/または外周部11Cと
ガラス基板部11Aとの境界部に、チャンファー14、
すなわち、面取り部が設けられている。このようなチャ
ンファー14は、製品たるガラス基板(以下、「製品」
と記す。)の欠けを防止し、機械的な強度を保つ意味で
重要であるが、本発明においては、従来技術によるガラ
ス基板の作製方法において必要不可欠とされるチャンフ
ァー加工工程を省略する意味での重要度が非常に高い。
すなわち、ダイレクトプレスの状態で、ある程度の加工
精度を有するチャンファー14を形成することで、さら
には後工程であるリヒートプレスによりその加工精度を
より高め、内孔部11Bおよび/または外周部11Cを
ガラス基板部11Aから離隔することにより、実質的に
チャンファー加工(チャンファリング)工程を省くこと
が可能となる。
In the shape of the glass substrate 11 illustrated in FIG. 2, a chamfer 14 and a chamfer 14 are formed at the boundary between the inner hole 11B and / or the outer periphery 11C and the glass substrate 11A.
That is, a chamfer is provided. Such a chamfer 14 is used as a product glass substrate (hereinafter, “product”).
It is written. ) Is important in preventing chipping and maintaining mechanical strength, but in the present invention, it is important in omitting a chamfering step which is indispensable in a method of manufacturing a glass substrate according to the prior art. Very high degree.
That is, by forming the chamfer 14 having a certain degree of processing accuracy in a direct press state, the processing accuracy is further increased by a reheat press as a post-process, and the inner hole portion 11B and / or the outer peripheral portion 11C are formed. By separating from the glass substrate portion 11A, it is possible to substantially omit the chamfering (chamfering) step.

【0027】 このようにしてダイレクトプレスにより
作製されたガラス基板11は、次いで、リヒートプレス
にかけられる。ここで、平板リング状のガラス基板を作
製する場合、リヒートプレスによりガラス基板11は、
たとえば、図2(a)の平板形状または(b)の台形形
状から図3(a)の台形形状に、あるいは、図2(a)
の平板形状または(c)の楔形状から図3(b)の楔形
状にそれぞれ、変形ないし高精度化されるようにプレス
加工され、ガラス基板12となる。
The glass substrate 11 thus produced by the direct press is then subjected to a reheat press. Here, when manufacturing a flat ring-shaped glass substrate, the glass substrate 11 is
For example, from the flat plate shape of FIG. 2A or the trapezoidal shape of FIG. 2B to the trapezoidal shape of FIG.
3B is pressed from the flat plate shape or the wedge shape of FIG. 3C to the wedge shape of FIG.

【0028】 なお、図2(a)の平板形状から、同様
の平板形状へと寸法精度を高めるリヒートプレスも好適
に採用されることはいうまでもなく、後述する図7に示
すように、図2(b)に示した台形形状のガラス基板1
1における内孔部11Bおよび外周部11Cとガラス基
板部11Aとの境界に、ノッチ13を形成したような台
形楔形状とすることも、また、好ましい。こうして、ガ
ラス基板12においても、ガラス基板11と同様に、ガ
ラス基板部12A、内孔部12B、外周部12C、ノッ
チ13、チャンファー14が形成される。
It is needless to say that a reheat press for improving dimensional accuracy from the flat plate shape of FIG. 2A to a similar flat plate shape is also suitably adopted, and as shown in FIG. The trapezoidal glass substrate 1 shown in FIG.
It is also preferable to form a trapezoidal wedge having a notch 13 at the boundary between the inner hole 11B and the outer peripheral portion 11C and the glass substrate 11A in FIG. Thus, similarly to the glass substrate 11, the glass substrate 12A, the inner hole portion 12B, the outer peripheral portion 12C, the notch 13, and the chamfer 14 are formed on the glass substrate 12.

【0029】 ここで、リヒートプレスに使用される上
下型8・9は、一旦ダイレクトプレスにより成形された
ガラス基板11がリヒートプレス加工圧力下で変形する
程度に軟化する程度に高い温度に加熱維持される必要が
ある。このため、リヒートプレス工程においては、所定
のリヒートプレス温度に維持されたリヒートプレス用下
型8上に処理すべきガラス基板11を載置し、同じく所
定温度に保持されたリヒートプレス用上型9を押し当て
てガラス基板11をプレス処理した後、成形されたガラ
ス基板12を搬送アーム10を用いて所定位置まで移動
させて徐冷する方法が好適に採用される。
Here, the upper and lower dies 8 and 9 used in the reheat press are heated and maintained at a temperature high enough to soften the glass substrate 11 once formed by the direct press under the pressure of the reheat press. Need to be For this reason, in the reheat press step, the glass substrate 11 to be treated is placed on the lower die 8 for reheat press maintained at a predetermined reheat press temperature, and the upper die 9 for reheat press also maintained at a predetermined temperature. Is pressed to press the glass substrate 11, and then the formed glass substrate 12 is moved to a predetermined position using the transfer arm 10 to be gradually cooled.

【0030】 さて、上述した図2および図3に示した
種々の形状のガラス基板11・12を成形するにあたっ
て使用されるプレス上下型は、ダイレクトプレス工程で
あるかリヒートプレス工程であるかにかかわらず、とも
に台形型であるか、もしくは共に楔型であるか、または
一方が台形型であり他方が楔型であるか、のいずれかの
組み合わせが好適に採用される。したがって、例えば、
ガラス基板の一方の面を台形型とし、他方の面を楔型と
してもかまわず、上型と下型とでいずれの形状の型を用
いるかについての制限もない。
The upper and lower press dies used for forming the glass substrates 11 and 12 having various shapes shown in FIGS. 2 and 3 described above may be either a direct press process or a reheat press process. Instead, either a trapezoidal shape or a wedge shape, or one of the trapezoidal shapes and the other is a wedge shape is suitably adopted. So, for example,
One surface of the glass substrate may be trapezoidal, and the other surface may be wedge-shaped, and there is no restriction on which shape of the upper and lower molds is used.

【0031】 なお、プレス用上下型における台形型と
は、台形形状のガラス基板11・12の作製に使用され
るものであり、そのプレス面の形状は、台形形状のガラ
ス基板11・12と相補するものであることはいうまで
もない。したがって、台形型のプレス面は、台形形状の
ガラス基板11・12におけるガラス基板部11A・1
2Aを形成するための深い溝部と、内孔部11B・12
Bおよび外周部11C・12Cを形成する浅い溝部、お
よびこれらの溝部の間にチャンファー14が形成される
部分を有する。
The trapezoidal mold in the press upper and lower molds is used for producing the trapezoidal glass substrates 11 and 12, and the shape of the press surface is complementary to the trapezoidal glass substrates 11 and 12. Needless to say, Therefore, the trapezoidal press surface is formed by the glass substrate portions 11A and 1A of the trapezoidal glass substrates 11 and 12.
2A and a deep groove for forming the inner holes 11B and 12B.
B and shallow groove portions forming the outer peripheral portions 11C and 12C, and a portion where the chamfer 14 is formed between these groove portions.

【0032】 プレス用上下型における平板型および楔
型においても、台形型と同様に定義され、したがって、
平板型のプレス面は、ガラス基板部11A・12Aを形
成する深い溝部と外周部11C・12Cを形成する浅い
溝部、およびこれらの溝部の間にチャンファー14が形
成される部分を有し、また、楔型のプレス面は、ガラス
基板部11A・12Aや内孔部11B・12B、外周部
11C・12Cを形成する溝部において、ガラス基板部
11A・12Aと内孔部11B・12Bとの間およびガ
ラス基板部11A・12Aと外周部11C・12Cとの
間にノッチ13を形成する凸部を有する。
The flat plate type and the wedge type in the press upper and lower molds are also defined in the same manner as the trapezoidal mold, and therefore,
The flat press surface has a deep groove forming the glass substrate portions 11A and 12A, a shallow groove forming the outer peripheral portions 11C and 12C, and a portion where the chamfer 14 is formed between these grooves. The wedge-shaped press surfaces are formed between the glass substrate portions 11A and 12A and the inner hole portions 11B and 12B in the grooves forming the glass substrate portions 11A and 12A, the inner hole portions 11B and 12B, and the outer peripheral portions 11C and 12C. There is a convex portion that forms a notch 13 between the glass substrate portions 11A and 12A and the outer peripheral portions 11C and 12C.

【0033】 また、ダイレクトプレス工程と、これに
続いて行われるリヒートプレス工程に用いられるプレス
用上下型の組み合わせとしては、表1に示す種々のもの
が挙げられるが、このうち、特に、ダイレクトプレス工
程にあっては平板型でリヒートプレス工程にあっては台
形型もしくは楔型、またはダイレクトプレス工程にあっ
ては台形型でリヒートプレス工程にあっては台形型もし
くは平板型、またはダイレクトプレス工程にあっては楔
形でリヒートプレス工程にあっても楔形のいずれかであ
ることが、特に好ましい。
As the combination of the upper and lower press dies used in the direct press step and the subsequent reheat press step, various combinations shown in Table 1 can be mentioned. In the process, it is a flat plate type, in a reheat press process, in a trapezoidal shape or a wedge shape, or in a direct press process, in a trapezoidal shape, in a reheat press process, in a trapezoidal shape or a flat plate type, or in a direct press process. In particular, it is particularly preferable that the shape is wedge-shaped even in the reheat press step.

【0034】[0034]

【表1】 [Table 1]

【0035】 なお、上述したダイレクトプレス用上下
型1・5およびリヒートプレス用上下型8・9として
は、好適には、熱伝導性が良好な炭化タングステンや金
属炭化物もしくは金属窒化物等のセラミック製のものが
好適に用いられる。また、ハードディスク用ガラス基板
には、現状、製品として厚みが0.645mm±0.0
03mm、平行度が6μm以下、平坦度が5μm以下お
よび面粗度がRaで0.1μm以下の形状が要求されて
いるが、上述したダイレクトプレス工程とリヒートプレ
ス工程との組合せにより、ダイレクトプレス工程後に、
厚みが0.9mm±0.02mm、平行度が20μm以
下、平坦度が100μm以下および面粗度がRaで0.
5μm以下の形状が得られ、さらに、リヒートプレス後
においては、厚みが0.7mm±0.01mm、平行度
が10μm以下、平坦度が10μm以下および面粗度が
Raで0.2μm以下のガラス基板を得ることが可能と
なる。
The upper and lower dies 1 and 5 for direct press and the upper and lower dies 8 and 9 for reheat press are preferably made of ceramics such as tungsten carbide or metal carbide or metal nitride having good thermal conductivity. Is preferably used. At present, the thickness of the glass substrate for hard disks is 0.645 mm ± 0.0% as a product.
It is required to have a shape of 03 mm, a parallelism of 6 μm or less, a flatness of 5 μm or less, and a surface roughness of 0.1 μm or less in Ra. later,
The thickness is 0.9 mm ± 0.02 mm, the parallelism is 20 μm or less, the flatness is 100 μm or less, and the surface roughness Ra is 0.
A glass having a shape of 5 μm or less and a thickness of 0.7 mm ± 0.01 mm, a parallelism of 10 μm or less, a flatness of 10 μm or less, and a surface roughness of 0.2 μm or less in Ra after reheat pressing. A substrate can be obtained.

【0036】 さらに、ガラス基板の結晶化処理を70
0℃〜800℃程度の範囲で、約3時間から12時間の
範囲で行うことにより、厚みが0.69mm±0.01
mm、平行度が10μm以下、平坦度が5μm以下およ
び面粗度がRaで0.2μm以下の形状を有するガラス
基板が得られる。最後に、製品として要求される厚み
0.645mm±0.003mm、平行度が6μm以
下、平坦度が5μm以下および面粗度がRaで0.1以
下の仕様が満たされない場合は、#600のレジン砥石
で精研磨することにより、前記の製品に対する要求形状
を満足するガラス基板を得ることが可能となる。
Further, the crystallization treatment of the glass substrate
By performing in a range of about 0 ° C. to 800 ° C. in a range of about 3 hours to 12 hours, the thickness becomes 0.69 mm ± 0.01.
Thus, a glass substrate having a shape with a parallelism of 10 μm or less, a flatness of 5 μm or less, and a surface roughness Ra of 0.2 μm or less can be obtained. Finally, if the specifications required for the product are 0.645 mm ± 0.003 mm, the parallelism is 6 μm or less, the flatness is 5 μm or less, and the surface roughness is Ra and 0.1 or less, the rating of # 600 is satisfied. By precision polishing with a resin grindstone, it becomes possible to obtain a glass substrate that satisfies the required shape for the product.

【0037】 このように、本発明のガラス基板の作製
方法にあっては、ガラス基板のプレス成形段階におい
て、製品形状に極めて近い厚みや平行度等が得られるこ
とから、基本的に従来のガラス基板の作製方法に必要不
可欠であり、しかも製品のコスト高の大きな原因となっ
ていたガラス基板面のラッピング工程を省くことが可能
となり、また、最終研磨工程における研磨代を従来より
浅くすることができることから、加工時間の短縮と設備
コストの低減が図られる。
As described above, in the method for manufacturing a glass substrate of the present invention, a thickness and a degree of parallelism very close to the product shape can be obtained in the press forming step of the glass substrate. The lapping process of the glass substrate surface, which was indispensable for the method of manufacturing the substrate and was a major cause of the high cost of the product, can be omitted, and the polishing allowance in the final polishing process can be made shallower than before. As a result, the processing time and the equipment cost can be reduced.

【0038】 上述したダイレクトプレスとリヒートプ
レスを用いる本方法によるガラス基板の成形方法および
これに使用するプレス用上下型1・5・8・9と、これ
により成形されるガラス基板11・12の形状は、ガラ
ス基板部11A・12Aより離隔すべき、内孔部11B
・12Bおよび/または外周部11C・12Cの離隔方
法と密接な関係を有する。
The method of forming a glass substrate according to the present method using the direct press and the reheat press described above, the upper and lower press dies 1.5, 8.9, and 9 used for the method, and the shapes of the glass substrates 11 and 12 formed thereby Is an inner hole portion 11B to be separated from the glass substrate portions 11A and 12A.
It has a close relationship with the separation method of 12B and / or the outer peripheral portions 11C and 12C.

【0039】 平板リング状のガラス基板の作製におけ
る内孔部と外周部の離隔、すなわち、内径加工と外形加
工の方法としては、内外径同芯カップ砥石を使用する方
法もしくは別々の内径加工用砥石と外径加工用砥石を用
いる方法、あるいはチルカットによる方法のいずれかを
用いることが好ましく、前者の砥石による方法を用いる
場合には、リヒートプレス工程においてガラス基板は好
ましくは図3(a)の台形形状に成形され、後者の方法
を用いる場合には、ガラス基板は好ましくは図3(b)
の楔形状に成形される。以下、これら各場合について説
明する。
As the method of separating the inner hole portion and the outer peripheral portion in the production of the flat ring-shaped glass substrate, that is, the method of processing the inner diameter and the outer shape, a method using an inner / outer diameter concentric cup whetstone or a separate whetstone for inner diameter processing It is preferable to use either a method using a grinding wheel for external diameter processing or a method using chill cutting. In the case of using the former method using a grinding stone, the glass substrate is preferably trapezoidal in FIG. When the glass substrate is formed into a shape and the latter method is used, the glass substrate is preferably formed as shown in FIG.
In the shape of a wedge. Hereinafter, each of these cases will be described.

【0040】 図4は、台形形状のガラス基板21を、
内外径同芯カップ砥石22(以下、単に「カップ砥石」
という。)を用いて加工する状態を示す説明図である。
カップ砥石22においては、内径砥石22Aと外径砥石
22Bとが、同芯円状に配置されており、カップ砥石2
2を回転させながらガラス基板21に押し当てること
で、ガラス基板21における内孔部21Bおよび外周部
21Cが、ガラス基板部21Aから切断される。
FIG. 4 shows a trapezoidal glass substrate 21.
Inner and outer diameter concentric cup grindstone 22 (hereinafter simply referred to as “cup grindstone”)
That. It is explanatory drawing which shows the state processed using ().
In the cup grindstone 22, the inner grindstone 22A and the outer grindstone 22B are arranged concentrically.
2 is pressed against the glass substrate 21 while rotating, whereby the inner hole portion 21B and the outer peripheral portion 21C of the glass substrate 21 are cut from the glass substrate portion 21A.

【0041】 ここで、内孔部21Bおよび外周部21
Cは、ガラス基板部21Aよりも薄く成形されているの
で、平坦な一枚板状のガラス基板を切断するよりも、切
断代が少ない分だけ加工時間が短縮され、カップ砥石2
2の摩耗も少なくなり、加工コストを抑えることが可能
となる。また、内孔部21Bおよび外周部21Cとガラ
ス基板部21Aとの境界にはチャンファー23が形成さ
れているので、内外径加工後に、改めてチャンファリン
グを行う必要がない。さらに、ガラス基板部21Aから
離隔された内孔部21Bと外周部21Cは、ガラスの塊
の状態で得られることから、これらを分離・洗浄するこ
とは容易であり、したがって、ガラス基板を作製する際
の溶融原料として再利用することも可能である。
Here, the inner hole portion 21 B and the outer peripheral portion 21
Since C is formed thinner than the glass substrate portion 21A, the processing time is shortened by a smaller cutting margin than when a single flat glass substrate is cut.
The wear of No. 2 is also reduced, and the processing cost can be suppressed. Further, since the chamfer 23 is formed at the boundary between the inner hole portion 21B and the outer peripheral portion 21C and the glass substrate portion 21A, it is not necessary to perform the chamfering again after the inner and outer diameter processing. Further, since the inner hole 21B and the outer peripheral portion 21C separated from the glass substrate 21A are obtained in a state of a lump of glass, they can be easily separated and washed, and therefore, a glass substrate is manufactured. It can be reused as a raw material at the time.

【0042】 このようなカップ砥石22による内外径
加工を可能ならしめるために、台形形状のガラス基板2
1の成形に使用されるダイレクトプレス用もしくはリヒ
ートプレス用の上下型31の詳細な形状について図5に
示す。ここで、上下型31は、図11に示したものとは
異なり、それぞれがガラス基板21となる被加工ガラ
ス、すなわち溶融ガラス2もしくはダイレクトプレス後
のガラス基板11を介せず、直接に合わせられる部分、
すなわち接触部分32を有している。
In order to enable inner / outer diameter processing with such a cup grindstone 22, a trapezoidal glass substrate 2
FIG. 5 shows the detailed shape of the upper and lower dies 31 for direct press or reheat press used in the molding of No. 1. Here, unlike the one shown in FIG. 11, the upper and lower dies 31 are directly fitted without using the glass to be processed, that is, the molten glass 2 or the glass substrate 11 after direct pressing, respectively. part,
That is, it has a contact portion 32.

【0043】 つまり、従来のプレス成形においては、
図11に示したように、プレス用の上下型55・56が
被加工ガラス(溶融ガラス52)を介して接するため
に、プレス後のガラス基板57の厚みは、上下型55・
56に充填されたガラス量に依存し、そのため、下型5
5へ供給される溶融ガラス52の重量管理を厳重に行う
ことが必要とされる。これに対し、本方法においては、
上下型31の接触により常に一定厚みのガラス基板21
を作製することができ、余剰に供給された溶融ガラスも
しくはリヒートプレスによる変形により生じた余剰体積
分のガラスは空間部33に押し出され、しかも、空間部
33に押し出されたガラスにより形成される外周部21
Cも一定厚みに成形される。
That is, in the conventional press molding,
As shown in FIG. 11, since the upper and lower molds 55 and 56 for pressing are in contact with each other via the glass to be processed (molten glass 52), the thickness of the glass substrate 57 after pressing is reduced.
56 depends on the amount of glass filled, and
It is necessary to strictly control the weight of the molten glass 52 supplied to the glass 5. In contrast, in the present method,
The glass substrate 21 having a constant thickness by the contact of the upper and lower dies 31
The molten glass supplied excessively or the glass of the excess volume generated by the deformation by the reheat press is extruded into the space 33, and the outer periphery formed by the glass extruded into the space 33 Part 21
C is also formed to a constant thickness.

【0044】 なお、供給された溶融ガラスの量が多す
ぎたときのダイレクトプレス、および供給された溶融ガ
ラスの量が多すぎたために外周部が大きく形成されたガ
ラス基板のリヒートプレスにあっても、接触部分32に
余剰のガラスが浸入しないように、空間部33は完全に
充填されず、ある程度の空間が残る大きさに設定されて
いることが好ましい。
It is to be noted that the direct press when the amount of the supplied molten glass is too large and the reheat press of the glass substrate having a large outer peripheral portion due to the excessive amount of the supplied molten glass are also applicable. It is preferable that the space portion 33 is not completely filled so that surplus glass does not enter the contact portion 32, and is set to have a size in which a certain amount of space remains.

【0045】 こうして、本方法においては、上下型3
1の形状精度に応じた高いプレス加工精度を有するガラ
ス基板21が得られる利点がある。これにより、後工程
において成形されたガラス基板21の厚みを研磨する工
程を省くことができるか、もしくは研磨を行うとしても
その研磨代を極めて薄くすることが可能となり、加工コ
ストを低減することが可能となる。
Thus, in the present method, the upper and lower dies 3
There is an advantage that a glass substrate 21 having high press working accuracy according to the shape accuracy of 1 can be obtained. As a result, the step of polishing the thickness of the glass substrate 21 formed in the subsequent step can be omitted, or even if polishing is performed, the polishing allowance can be made extremely thin, and the processing cost can be reduced. It becomes possible.

【0046】 次に、上下型31の各部の寸法設定につ
いて説明する。まず、最終的なチャンファー23の勾配
θは、一般的には45゜であるが、これに限定されな
い。また、ガラス基板部21Aの厚みは、製品の厚さ
と、後加工に研磨工程を含む場合は加工代を考慮して決
定される。さらに、内孔部21Bおよび外周部21Cの
厚みは、製品に要求されるチャンファー寸法の許容幅と
上述したカップ砥石22を用いた内外径加工精度により
決定され、その説明図を図6に示した。
Next, the setting of the dimensions of each part of the upper and lower molds 31 will be described. First, the final gradient θ of the chamfer 23 is generally 45 °, but is not limited thereto. The thickness of the glass substrate 21A is determined in consideration of the thickness of the product and the processing allowance when the post-processing includes a polishing step. Further, the thickness of the inner hole 21B and the outer peripheral portion 21C is determined by the allowable width of the chamfer dimension required for the product and the inner and outer diameter machining accuracy using the cup grindstone 22 described above. Was.

【0047】 図6(a)、(b)においては、勾配部
の勾配θは45゜に設定されている。ここで、図6
(a)において、内孔部21Bもしくは外周部21Cと
ガラス基板部21Aとの境界である線AA’を基準線と
して、勾配部をほとんど加工しない位置、すなわち、勾
配部を最小限に削除する位置と基準線AA’との距離を
加工の最小値Amin、一方、勾配部を多く削除する位
置と基準線AA’との距離を加工の最大値Amaxとす
る。これに対し、図6(b)に示されるように、ガラス
基板部21Aにおける勾配部と平板部との境界線BB’
を基準線として、製品として要求されるチャンファーの
許容寸法のうち、最も短いチャンファー規格位置と基準
線BB’との距離をCmin、一方、最も長いチャンフ
ァー規格位置と基準線BB’との距離をCmaxとす
る。
In FIGS. 6A and 6B, the gradient θ of the gradient portion is set to 45 °. Here, FIG.
In (a), a position where the gradient portion is hardly processed, that is, a position where the gradient portion is deleted to a minimum, using a line AA ′ which is a boundary between the inner hole portion 21B or the outer peripheral portion 21C and the glass substrate portion 21A as a reference line. The distance between the reference line AA ′ and the reference line AA ′ is defined as the minimum value Amin of the processing, and the distance between the position where a large portion of the slope is deleted and the reference line AA ′ is defined as the maximum value Amax of the processing. On the other hand, as shown in FIG. 6B, a boundary line BB ′ between the inclined portion and the flat portion in the glass substrate portion 21A.
, The distance between the shortest chamfer standard position and the reference line BB ′ among the allowable dimensions of the chamfer required as a product is Cmin, while the distance between the longest chamfer standard position and the reference line BB ′ is Let the distance be Cmax.

【0048】 内孔部21Bもしくは外周部21Cの厚
みをTh、チャンファー部の最大厚み、すなわち平板部
の厚みをTcとすると、 (Tc−Th)/2=Cmax+Amin=Cmin+
Amax の関係が成り立ち、ここで、上下型31それぞれの型に
おける内孔部21Bおよび外周部21Cの厚みをT2と
すると、 Th=2×T2 であるので、 T2=Tc/2−(Cmax+Amin) =Tc/2−(Cmin+Amax) となり、すなわち、T2が製品のチャンファー寸法許容
幅と内外径加工精度に依存して決まることとなる。
Assuming that the thickness of the inner hole portion 21B or the outer peripheral portion 21C is Th and the maximum thickness of the chamfer portion, that is, the thickness of the flat plate portion is Tc, (Tc−Th) / 2 = Cmax + Amin = Cmin +
Amax holds. Here, when the thickness of the inner hole portion 21B and the outer peripheral portion 21C in each of the upper and lower dies 31 is T2, Th = 2 × T2, so that T2 = Tc / 2− (Cmax + Amin) = Tc / 2− (Cmin + Amax), that is, T2 is determined depending on the allowable width of the chamfer dimension of the product and the machining accuracy of the inner and outer diameters.

【0049】 ガラス基板21の半径および内径を決定
する上下型31の寸法R2およびR3は、製品の規格寸
法により定められ、上下型31においてガラスで充填す
ることの可能な部分の外側半径R1は、上下型31に供
給されるガラス量のばらつきによって定まる。すなわ
ち、空間部33の容積は、 (ガラス供給量の最大値)−(ガラス供給量の最小値)
/ガラス密度< 2×(R12−R22)×π×T2 の関係を満たさなければならず、これにより、外側半径
R1を求めることができる。なお、これにより空間部3
3の径方向の長さEは、R1とR2との差により求めら
れる。
The dimensions R 2 and R 3 of the upper and lower molds 31 that determine the radius and the inner diameter of the glass substrate 21 are determined by the standard dimensions of the product. The outer radius R 1 of the portion of the upper and lower molds 31 that can be filled with glass is It is determined by the variation in the amount of glass supplied to the upper and lower dies 31. That is, the volume of the space 33 is (the maximum value of the glass supply amount) − (the minimum value of the glass supply amount).
/ Glass density <2 × (R1 2 −R2 2 ) × π × T2, whereby the outer radius R1 can be determined. In this case, the space 3
The radial length E of No. 3 is obtained from the difference between R1 and R2.

【0050】 続いて、図7に、楔形状のガラス基板2
4を、チルカットにより加工する状態を示す説明図を示
す。ここで、図7は、ガラス基板24の径方向における
断面図であり、ガラス基板24は、上述した台形形状の
ガラス基板21において、ノッチ25を形成した台形楔
形状のものである。なお、ガラス基板24においてもチ
ャンファー26が形成されている。
Subsequently, FIG. 7 shows a wedge-shaped glass substrate 2.
4 is an explanatory diagram showing a state in which No. 4 is processed by chill cut. Here, FIG. 7 is a cross-sectional view in the radial direction of the glass substrate 24. The glass substrate 24 has a trapezoidal wedge shape in which a notch 25 is formed in the trapezoidal glass substrate 21 described above. Note that the chamfer 26 is also formed on the glass substrate 24.

【0051】 チルカットとは、高温に熱したガラス基
板に、冷却した金属等を接触させ、そこに生じる熱歪み
を利用して、所定の寸法にガラスを切断する方法であ
り、前述したカップ砥石22を用いる内外径加工方法に
比べて、短時間で加工を行うことができる利点がある。
こうして、図7においては、ガラス基板24に設けられ
たノッチ25において、冷却された同心円の内径加工刃
27Aと外径加工刃27Bを有する金属治具27を接触
させてノッチ25に熱衝撃を加え、ノッチ25において
クラックを発生せしめて、内孔部24Bおよび外周部2
4Cをガラス基板部24Aから離隔する。したがって、
チルカットを行う方法は、ガラス基板24が加熱されて
いる状態で行う必要があるため、ダイレクトプレスの
後、もしくはリヒートプレスの後、あるいはリヒートプ
レス後の徐冷工程の途中のいずれかの段階で行うことが
できる。
The chill cut is a method in which a cooled metal or the like is brought into contact with a glass substrate heated to a high temperature, and the glass is cut into a predetermined size by utilizing thermal strain generated there. There is an advantage that machining can be performed in a short time as compared with the inner / outer diameter machining method using.
Thus, in FIG. 7, at the notch 25 provided on the glass substrate 24, the metal jig 27 having the cooled concentric inner diameter processing blade 27 </ b> A and the outer diameter processing blade 27 </ b> B is brought into contact to apply a thermal shock to the notch 25. , Notches 25, causing cracks in inner hole 24 </ b> B and outer peripheral portion 2.
4C is separated from the glass substrate 24A. Therefore,
Since the method of performing chill cutting needs to be performed while the glass substrate 24 is being heated, it is performed at any stage after the direct press, after the reheat press, or during the slow cooling step after the reheat press. be able to.

【0052】 ガラス基板24のように、チルカットに
適した形状のガラス基板を作製するにあたって使用され
る上下型35の例を図8に示した。上下型35は、それ
ぞれ同じ形状のものを対向させて用いることが一般的で
あり、また、好ましいが、図2あるいは図3に示した種
々のガラス基板の形状を与える型、たとえば、ガラス基
板24の一面を平板とするような形状の型や、これらの
型の形状を組み合わせた型を用いても構わない。
FIG. 8 shows an example of the upper and lower molds 35 used for producing a glass substrate having a shape suitable for chill cutting, such as the glass substrate 24. As the upper and lower molds 35, it is common to use those having the same shape facing each other, and it is preferable that the upper and lower molds 35 have various glass substrate shapes shown in FIG. 2 or FIG. A mold having a shape in which one surface is a flat plate, or a mold in which the shapes of these molds are combined may be used.

【0053】 上下型35は、前述した図5に示した台
形形状のガラス基板21の作製に使用された上下型31
と同様の特徴を有している。さらに、上下型35は、そ
れぞれがガラス基板24を介せずに接する接触部分36
を有するため、ガラス基板24の両面に形成される対向
するノッチ25の深部間の厚さGを一定とする加工精度
が保たれることから、チルカットにおける内外径加工形
状をも一定に制御することが可能となる。
The upper and lower molds 35 are the upper and lower molds 31 used for manufacturing the trapezoidal glass substrate 21 shown in FIG.
It has the same features as. Further, the upper and lower molds 35 are provided with contact portions 36 which are in contact with each other without the glass substrate 24 interposed therebetween.
Therefore, since the processing accuracy for keeping the thickness G between the deep portions of the opposed notches 25 formed on both surfaces of the glass substrate 24 constant is maintained, the inner and outer diameter processing shapes in the chill cut are also controlled to be constant. Becomes possible.

【0054】 こうして、上述したカップ砥石22また
はチルカットによる内外径加工を終了したガラス基板に
ついては、ガラス基板材料が結晶化ガラスである場合に
は、続いて結晶化処理が行われる。この結晶化処理によ
りガラス基板には若干の体積変化が生ずることから、こ
の体積変化によって次工程である最終的なガラス基板の
内外径の同芯度加工(以下、「同芯度加工」という。)
における加工代が多くならないように、カップ砥石22
またはチルカットによる内外径加工位置を設定すること
が好ましい。なお、ガラス基板材料が結晶化処理を必要
としないものの場合には、内外径加工後に同芯度加工が
行われる。
As described above, for the glass substrate on which the inner and outer diameter processing by the cup grindstone 22 or the chill cut is completed, if the glass substrate material is crystallized glass, a crystallization process is subsequently performed. Since the crystallization process causes a slight change in the volume of the glass substrate, the volume change causes the concentricity processing of the inner and outer diameters of the final glass substrate (hereinafter referred to as “concentricity processing”). )
In order not to increase the machining allowance in
Alternatively, it is preferable to set inner and outer diameter processing positions by chill cut. If the glass substrate material does not require crystallization, concentricity processing is performed after inner and outer diameter processing.

【0055】 同芯度加工は、カップ砥石22またはチ
ルカットにより形成された加工端面のエッジが立たない
ように、細かい砥石で研削しながら、同芯度をより高精
度に仕上げる工程であり、必要に応じて酸化セリウムを
研磨材といてナイロンブラシにより端面研磨工程が付加
される。そして最後に、製品に要求されるガラス基板特
性に満足するように、ガラス基板の両表面に微浅な精研
磨が施され、製品たるガラス基板、即ち、サブストレー
トが作製される。なお、精研磨の方法としては、#60
0のレジン砥石を用い、1000rpmから5000r
pmの回転数で行うものが好ましい。
The concentricity processing is a step of finishing the concentricity with higher precision while grinding with a fine grindstone so that the edge of the processing end face formed by the cup grindstone 22 or the chill cut does not stand. Accordingly, an end surface polishing step is added by a nylon brush using cerium oxide as an abrasive. Finally, both surfaces of the glass substrate are finely polished so as to satisfy the glass substrate characteristics required for the product, thereby producing a glass substrate as a product, that is, a substrate. As a method of fine polishing, # 60
Using a 0 resin whetstone, 1000 rpm to 5000 r
It is preferable that the rotation is performed at a rotation speed of pm.

【0056】 上述した本発明によるガラス基板の作製
方法をフローチャートで示すと図9のように表され、製
品たるサブストレートの完成までの工程は、図10と比
較して極端に短縮される。しかも、ガラス基板の作製工
程中、最も加工時間が長くかかり、設備コストの嵩むラ
ッピング工程が省略される。以下、本発明を実施例によ
り説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。
FIG. 9 is a flowchart showing the above-described method for manufacturing a glass substrate according to the present invention, and the process up to the completion of a substrate as a product is extremely shortened as compared with FIG. In addition, the processing time is the longest during the manufacturing process of the glass substrate, and the lapping process which increases the equipment cost is omitted. Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0057】[0057]

【実施例】 (実施例1)溶融ガラスとして、SiO2
が77wt%、Al23が5wt%、Li2Oが5wt
%で、残部が微量成分からなるSiO2−Al23−L
2O系ガラスを用いた。このガラスをガラス溶融炉に
て1400℃にて溶融し、1300℃に保持されたノズ
ルより、600℃に予熱された図5に示した台形形状の
ガラス基板を与えるダイレクトプレス用下型に押し出し
た。このとき、下型に供給される溶融ガラスの重量が約
15gとなるように、ノズル端部近くに配設されたシャ
ーにより押し出された溶融ガラスを切断した。
(Example 1) SiO 2 was used as molten glass.
There 77wt%, Al 2 O 3 is 5wt%, Li 2 O is 5wt
%, The balance being SiO 2 —Al 2 O 3 —L
i 2 O-based glass was used. This glass was melted at 1400 ° C. in a glass melting furnace, and was extruded from a nozzle held at 1300 ° C. into a lower die for direct press which gave a trapezoidal glass substrate shown in FIG. 5 preheated to 600 ° C. . At this time, the molten glass extruded by the shear provided near the nozzle end was cut so that the weight of the molten glass supplied to the lower mold became about 15 g.

【0058】 続いて、600℃に予熱されたダイレク
トプレス用上型により、溶融ガラスを120kg/cm
2で1秒間ほど加圧し、ダイレクトプレスを行った。通
常、ダイレクトプレス後のガラス基板は冷却することな
く、次工程であるリヒートプレス工程に送られるが、別
試験により、この段階で、成形されたガラス基板は、厚
みが0.9mm±0.02mm、平行度が20μm以下
に仕上がっていることを確認した。
Subsequently, the molten glass was heated to 120 kg / cm by an upper die for direct press preheated to 600 ° C.
Pressing was performed for about 1 second at 2 , and a direct press was performed. Usually, the glass substrate after direct pressing is sent to the next step, a reheat pressing step, without cooling, but according to another test, the glass substrate formed at this stage has a thickness of 0.9 mm ± 0.02 mm. It was confirmed that the parallelism was finished to 20 μm or less.

【0059】 次に、ダイレクトプレス後、上型を成形
されたガラス基板から外し、ガラス基板は、搬送アーム
によりリヒートプレス用下型へと移される。ここで、リ
ヒートプレス用下型としても、ダイレクトプレス用上下
型と同様に、台形形状のガラス基板を与える形状のもの
を用いて、その予熱温度を700℃とし、同様に700
℃に予熱されたリヒートプレス用上型により、ガラス基
板に、30kg/cm2の圧力で9秒間のプレス成形を
施した。
Next, after direct pressing, the upper die is removed from the formed glass substrate, and the glass substrate is transferred to the lower die for reheat pressing by the transfer arm. Here, as the lower die for the reheat press, similarly to the upper and lower dies for the direct press, one having a shape that gives a trapezoidal glass substrate is used, the preheating temperature is set to 700 ° C., and similarly, 700 ° C.
The glass substrate was subjected to press molding at a pressure of 30 kg / cm 2 for 9 seconds using an upper mold for reheat press preheated to ° C.

【0060】 リヒートプレス後のガラス基板を、上型
を外した後に搬送用アームにより、リヒートプレス用下
型から450℃に設定された徐冷炉に移した。こうし
て、徐冷の終了したガラス基板は、この段階で、厚みが
0.7mm±0.01mm、平行度が10μm以下に仕
上がった。次いでこのガラス基板を内外径同芯カップ砥
石により、内外径加工を行い、内孔部および外周部を離
隔し、内径が23.8mm±0.15mm、外径が8
5.2mm±0.15mmに仕上げた。
After removing the upper mold, the glass substrate after the reheat press was transferred from the lower mold for the reheat press to the annealing furnace set at 450 ° C. by the transfer arm. In this way, the glass substrate which has been gradually cooled has a thickness of 0.7 mm ± 0.01 mm and a parallelism of 10 μm or less at this stage. Next, the glass substrate is subjected to inner and outer diameter processing using an inner and outer diameter concentric cup grindstone to separate an inner hole portion and an outer peripheral portion, and has an inner diameter of 23.8 mm ± 0.15 mm and an outer diameter of 8 mm.
Finished to 5.2 mm ± 0.15 mm.

【0061】 さらに、ガラス基板の結晶化処理を、窒
素雰囲気下、770℃で4時間行い、厚みが0.68m
m±0.01mm、平行度が7μm、平坦度が5μm、
面粗度がRaで0.02μm以下のガラス基板を得、次
いで同芯度加工を行い同芯度を7μm以下とし、最後
に、#600のレジン砥石で精研磨することにより、厚
みが0.645mm±0.003mm、平行度が5μ
m、平坦度が4μm、面粗度がRaで0.08μmとい
う、製品としての要求規格を満足するガラス基板(サブ
ストレート)が得られた。
Further, the glass substrate is crystallized at 770 ° C. for 4 hours in a nitrogen atmosphere to have a thickness of 0.68 m.
m ± 0.01 mm, parallelism 7 μm, flatness 5 μm,
A glass substrate having a surface roughness Ra of 0.02 μm or less was obtained, and concentricity processing was performed to reduce the concentricity to 7 μm or less. Finally, the thickness was reduced to 0. 645mm ± 0.003mm, parallelism is 5μ
m, a flatness of 4 μm, and a surface roughness of 0.08 μm in Ra, satisfying the required standard as a product were obtained.

【0062】(実施例2)実施例1と同様にして、溶融
ガラスを、図8に示した楔形状のガラス基板の形状を与
えるダイレクトプレス用下型に所定量ほど押し出した。
このときの下型の予熱温度は600℃である。続いて、
600℃に予熱された下型と同形状を有するダイレクト
プレス用上型により、溶融ガラスを20kg/cm2
1秒間ほど加圧し、ダイレクトプレスを行った。
(Example 2) In the same manner as in Example 1, the molten glass was extruded by a predetermined amount into a lower die for direct press which gives the shape of a wedge-shaped glass substrate shown in FIG.
At this time, the preheating temperature of the lower mold is 600 ° C. continue,
The molten glass was pressed at 20 kg / cm 2 for about 1 second by an upper die for direct press having the same shape as the lower die preheated to 600 ° C. to perform direct press.

【0063】 ダイレクトプレス後のガラス基板を、ダ
イレクトプレスと同様の楔形状のガラス基板の与えるリ
ヒートプレス用上下型により、さらに、30kg/cm
2の圧力で9秒間ほどプレス成形し、450℃に設定さ
れた徐冷炉に移した。この徐冷の途中で、冷却した金属
治具によるチルカットを、ガラス基板に形成されたノッ
チに施し、内孔部と外交部の離隔、すなわち内外径加工
を施した。こうして徐冷が終了したガラス基板の各部の
寸法は、厚みが0.645mm±0.002mm、平行
度が5μm以下、平坦度が5μm以下および面粗度がR
aで0.05であった。
The glass substrate after the direct press is further subjected to 30 kg / cm by the upper and lower dies for reheat press provided by the same wedge-shaped glass substrate as in the direct press.
Press molding was performed for about 9 seconds at a pressure of 2 and then transferred to a slow cooling furnace set at 450 ° C. During the slow cooling, a chill cut by a cooled metal jig was applied to a notch formed in the glass substrate, and a separation between an inner hole portion and a diplomatic portion, that is, inner and outer diameter processing was performed. The dimensions of each part of the glass substrate after the slow cooling is 0.645 mm ± 0.002 mm, the parallelism is 5 μm or less, the flatness is 5 μm or less, and the surface roughness is R.
a was 0.05.

【0064】[0064]

【発明の効果】 上述の通り、本発明のガラス基板の作
製方法によれば、従来よりも高精度にガラス基板が成形
されるため、後加工工程が短縮され、これにより、原材
料費、加工設備費、加工消耗材料費、加工時間等の大幅
な節減が可能となり、結果として、ガラス基板の製品価
格を大幅に低減することが可能となる優れた効果を奏す
る。
As described above, according to the method for manufacturing a glass substrate of the present invention, the glass substrate is formed with higher precision than before, so that the post-processing step is shortened. The cost, processing consumable material cost, processing time, and the like can be greatly reduced, and as a result, an excellent effect can be achieved in that the product price of the glass substrate can be significantly reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明のガラス基板の作製方法におけるガラ
ス基板の成形方法の説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram of a method for forming a glass substrate in a method for manufacturing a glass substrate of the present invention.

【図2】 本発明のガラス基板の作製方法におけるダイ
レクトプレスにより成形されるガラス基板の形状の一実
施形態を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing one embodiment of a shape of a glass substrate formed by direct press in the method for manufacturing a glass substrate of the present invention.

【図3】 本発明のガラス基板の作製方法におけるリヒ
ートプレスにより成形されるガラス基板の形状の一実施
形態を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing one embodiment of a shape of a glass substrate formed by reheat pressing in the method for manufacturing a glass substrate of the present invention.

【図4】 本発明のガラス基板の作製方法に使用される
カップ砥石によるガラス基板の内外径加工の説明図であ
る。
FIG. 4 is an explanatory diagram of inner and outer diameter processing of a glass substrate using a cup grindstone used in the method of manufacturing a glass substrate of the present invention.

【図5】 本発明のガラス基板の作製方法に使用される
プレス用上下型の形状設計に関する説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram relating to the shape design of the upper and lower press dies used in the method for producing a glass substrate of the present invention.

【図6】 本発明のガラス基板の作製方法によるガラス
基板のチャンファーの形状設計に関する説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram related to the design of the shape of the glass substrate chamfer according to the glass substrate manufacturing method of the present invention.

【図7】 本発明のガラス基板の作製方法におけるチル
カットの説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram of chill cut in the method for manufacturing a glass substrate of the present invention.

【図8】 本発明のガラス基板の作製方法に使用される
プレス用上下型の形状設計に関する別の説明図である。
FIG. 8 is another explanatory diagram related to the shape design of the upper and lower press dies used in the method for producing a glass substrate of the present invention.

【図9】 本発明のガラス基板の作製方法を示すフロー
チャートである。
FIG. 9 is a flowchart showing a method for manufacturing a glass substrate of the present invention.

【図10】 従来のガラス基板の作製方法を示すフロー
チャートである。
FIG. 10 is a flowchart showing a conventional method for manufacturing a glass substrate.

【図11】 従来のガラス基板の成形方法を示す説明図
である。
FIG. 11 is an explanatory view showing a conventional glass substrate forming method.

【符号の説明】 1…ダイレクトプレス用下型、2…溶融ガラス、3…シ
ャー、4…ノズル、5…ダイレクトプレス用上型、6…
吸引盤、7…搬送アーム、8…リヒートプレス用下型、
9…リヒートプレス用上型、10…搬送アーム、11・
12…ガラス基板、11A・12A…ガラス基板部、1
1B・12B…内孔部、11C・12C…外周部、13
…ノッチ、14…チャンファー、21…ガラス基板、2
1A…ガラス基板部、21B…内孔部、21C…外周
部、22…内外径同芯カップ砥石(カップ砥石)、22
A…内径砥石、22B…外径砥石、23…チャンファ
ー、24…ガラス基板、24A…ガラス基板部、24B
…内孔部、24C…外周部、25…ノッチ、26…チャ
ンファー、27…金属治具、27A…内径加工刃、27
B…外径加工刃、31…上下型、32…接触部分、33
…空間部、35…上下型、36…接触部分、51…ノズ
ル、52…溶融ガラス、53…シャー、54…胴型、5
5…下型、56…上型、57…ガラス基板。
[Description of Signs] 1 ... Lower mold for direct press, 2 ... Molten glass, 3 ... Shear, 4 ... Nozzle, 5 ... Upper mold for direct press, 6 ...
Suction board, 7: transport arm, 8: lower die for reheat press,
9: Upper die for reheat press, 10: Transfer arm, 11
12: glass substrate, 11A, 12A: glass substrate part, 1
1B / 12B: inner hole, 11C / 12C: outer peripheral, 13
... Notch, 14 ... Chamfer, 21 ... Glass substrate, 2
1A: glass substrate portion, 21B: inner hole portion, 21C: outer peripheral portion, 22: inner and outer diameter concentric cup grindstone (cup grindstone), 22
A: inner diameter whetstone, 22B: outer diameter whetstone, 23: chamfer, 24: glass substrate, 24A: glass substrate part, 24B
... inner hole, 24C ... outer peripheral part, 25 ... notch, 26 ... chamfer, 27 ... metal jig, 27A ... inner diameter processing blade, 27
B: Outer diameter processing blade, 31: Vertical type, 32: Contact part, 33
... space part, 35 ... vertical type, 36 ... contact part, 51 ... nozzle, 52 ... molten glass, 53 ... shear, 54 ... body type, 5
5 lower mold, 56 upper mold, 57 glass substrate.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三大寺 秀人 愛知県名古屋市瑞穂区須田町2番56号 日 本碍子株式会社内 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Hideto Sandaiji 2-56 Sudacho, Mizuho-ku, Nagoya-shi, Aichi Japan Inside Nihon Insulator Co., Ltd.

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 溶融ガラスを板状にプレス成形する工程
を含むガラス基板の作製方法において、 当該プレス成形工程が、 溶融ガラスを所定形状に固化成形するダイレクトプレス
工程と、 当該ダイレクトプレス工程により得られたガラス基板
を、加熱条件下で再プレスすることにより、形状の微調
整もしくは変形を行うリヒートプレス工程と、 からなることを特徴とするガラス基板の作製方法。
1. A method for producing a glass substrate, comprising a step of press-forming molten glass into a plate shape, wherein the press-forming step is obtained by a direct pressing step of solidifying and forming the molten glass into a predetermined shape; A method for producing a glass substrate, comprising: re-pressing the obtained glass substrate under heating conditions to fine-tune or deform the shape.
【請求項2】 当該プレス成形工程において、 被加工ガラスを介せず、直接に合わせられる接触部分を
有するプレス用上下型を用いることを特徴とする請求項
1記載のガラス基板の作製方法。
2. The method of manufacturing a glass substrate according to claim 1, wherein in the press forming step, an upper and lower press die having a contact portion that can be directly fitted without using a glass to be processed is used.
【請求項3】 当該プレス成形工程において、 被加工ガラスの余剰体積部を、当該被加工ガラスの外周
部に押し出す空間部を有するプレス用上下型を用いるこ
とを特徴とする請求項1または2記載のガラス基板の作
製方法。
3. The press forming step comprises using an upper and lower press die having a space for extruding an excess volume of the glass to be processed to an outer peripheral portion of the glass to be processed. Method for producing a glass substrate.
【請求項4】 当該プレス成形工程において、 内孔部および/または外周部とガラス基板部との境界部
に、チャンファーを形成することを特徴とする請求項1
〜3のいずれか一項に記載のガラス基板の作製方法。
4. The press forming step, wherein a chamfer is formed at a boundary portion between the inner hole portion and / or the outer peripheral portion and the glass substrate portion.
4. The method for producing a glass substrate according to any one of items 3 to 3.
【請求項5】 当該リヒートプレス工程後に得られるガ
ラス基板を、 当該ガラス基板における内孔部および/または外周部の
厚さをガラス基板部よりも薄くした台形形状とすること
を特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載のガラ
ス基板の作製方法。
5. The glass substrate obtained after the reheat pressing step has a trapezoidal shape in which the thickness of an inner hole portion and / or an outer peripheral portion of the glass substrate is smaller than that of the glass substrate portion. The method for producing a glass substrate according to any one of claims 1 to 4.
【請求項6】 当該リヒートプレス工程後に得られるガ
ラス基板を、 当該ガラス基板における内孔部および/または外周部と
ガラス基板部との境界部にノッチを入れた楔形状とする
ことを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の
ガラス基板の作製方法。
6. The glass substrate obtained after the reheat pressing step is formed in a wedge shape in which a notch is formed at a boundary portion between an inner hole portion and / or an outer peripheral portion of the glass substrate and the glass substrate portion. A method for producing the glass substrate according to claim 1.
【請求項7】 当該プレス用上下型が、共に台形型、も
しくは共に楔型、または一方が台形型で他方が楔型のい
ずれかの組み合わせで用いられることを特徴とする請求
項1〜6のいずれか一項に記載のガラス基板の作製方
法。
7. The method according to claim 1, wherein the upper and lower molds for pressing are used in any of a trapezoidal shape, a wedge shape, or a combination of one of a trapezoidal shape and the other being a wedge shape. The method for producing a glass substrate according to any one of the preceding claims.
【請求項8】 当該ダイレクトプレス工程と、その後の
当該リヒートプレス工程に用いられるプレス用上下型の
組み合わせが、平板型に対して当該台形型もしくは当該
楔型、または当該台形型に対して当該台形型もしくは当
該平板型、または当該楔形に対して当該楔形のいずれか
であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に
記載のガラス基板の作製方法。
8. The combination of the upper and lower press dies used in the direct press step and the subsequent reheat press step is such that the trapezoidal or wedge type for the flat type, or the trapezoidal shape for the trapezoidal type. The method for producing a glass substrate according to any one of claims 1 to 7, wherein the shape is one of a mold, the flat plate shape, and the wedge shape with respect to the wedge shape.
【請求項9】 当該ノッチに熱衝撃を加えることによ
り、当該ノッチにおいて当該内孔部および/または当該
外周部を、当該ガラス基板部から離隔することを特徴と
する請求項6〜8のいずか一項に記載のガラス基板の作
製方法。
9. The method according to claim 6, wherein a thermal shock is applied to the notch to separate the inner hole and / or the outer peripheral portion from the glass substrate at the notch. The method for producing a glass substrate according to any one of the preceding claims.
【請求項10】 ガラス基板として、SiO2−Al2
3−Li2O系の結晶化ガラスを用いることを特徴とする
請求項1〜9のいずれか一項に記載のガラス基板の作製
方法。
10. A glass substrate comprising SiO 2 —Al 2 O
3 -Li 2 O system a method for manufacturing a glass substrate according to any one of claims 1-9, characterized by using a crystallized glass.
JP9361398A 1997-12-26 1997-12-26 Production of glass base plate Withdrawn JPH11189423A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9361398A JPH11189423A (en) 1997-12-26 1997-12-26 Production of glass base plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9361398A JPH11189423A (en) 1997-12-26 1997-12-26 Production of glass base plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11189423A true JPH11189423A (en) 1999-07-13

Family

ID=18473419

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9361398A Withdrawn JPH11189423A (en) 1997-12-26 1997-12-26 Production of glass base plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11189423A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102625782A (en) * 2009-09-16 2012-08-01 Hoya株式会社 Glass blank, glass blank manufacturing method, manufacturing method for substrate for information recording medium, and manufacturing method for information recording medium
JP2012190541A (en) * 2009-09-30 2012-10-04 Hoya Corp Glass blank for magnetic disc
US8931308B2 (en) 2011-02-10 2015-01-13 Hoya Corporation Method of producing glass blank for substrate of information recording medium, substrate for information recording medium, and information recording medium; and manufacturing apparatus for glass blank for substrate of information recording medium

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102625782A (en) * 2009-09-16 2012-08-01 Hoya株式会社 Glass blank, glass blank manufacturing method, manufacturing method for substrate for information recording medium, and manufacturing method for information recording medium
JP2012190541A (en) * 2009-09-30 2012-10-04 Hoya Corp Glass blank for magnetic disc
US8931308B2 (en) 2011-02-10 2015-01-13 Hoya Corporation Method of producing glass blank for substrate of information recording medium, substrate for information recording medium, and information recording medium; and manufacturing apparatus for glass blank for substrate of information recording medium

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4380379B2 (en) Manufacturing method of glass substrate for information recording medium
US7845192B2 (en) Methods for producing substrate blank
JP2003054965A (en) Method for press-molding glass and method for manufacturing glass substrate for hard disk using the same method
JP2000072489A (en) Manufacture of glass substrate
JPH11189423A (en) Production of glass base plate
JP2968156B2 (en) Press forming method for disk-shaped glass products
JPH11228150A (en) Manufacture of glass substrate
JPH11228149A (en) Manufacture of glass substrate
JPH11217226A (en) Production of glass substrate
JP3286956B2 (en) Method for manufacturing thin plate glass, method for manufacturing glass substrate for information recording medium, and magnetic recording medium
JP2000015546A (en) Manufacture of glass substrate
JP4482246B2 (en) Manufacturing method of glass molded body, manufacturing method of substrate, and manufacturing method of information recording medium
JP2866646B1 (en) Glass substrate manufacturing method
JP4133309B2 (en) Glass blank, information recording medium substrate, and information recording medium manufacturing method
JPH11228152A (en) Method and device for forming glass substrate
JP3681103B2 (en) Glass substrate manufacturing method and glass substrate manufacturing apparatus
JP4857571B2 (en) Method for manufacturing glass substrate for magnetic recording medium
JP4186443B2 (en) Manufacturing method of glass substrate for hard disk with central hole
CN108779013B (en) Glass material, method for producing glass material, and method for producing glass substrate for magnetic disk
JPH11268919A (en) Preparation of glass substrate
JP4249477B2 (en) Glass blank and method for manufacturing the same, method for manufacturing substrate for information recording medium, method for manufacturing information recording medium
JP2001010831A (en) Molding mold for glass optical element and production of glass optical element using the same
JP2000053431A (en) Glass substrate intermediate, its press-forming die, and inner and outer diameter working device
JP4926898B2 (en) Disc glass, information recording medium substrate, and information recording medium manufacturing method
JP4134925B2 (en) Manufacturing method of glass substrate for information recording medium

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20050301