JPH11102995A - 配線基板の製造方法 - Google Patents
配線基板の製造方法Info
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- JPH11102995A JPH11102995A JP26240597A JP26240597A JPH11102995A JP H11102995 A JPH11102995 A JP H11102995A JP 26240597 A JP26240597 A JP 26240597A JP 26240597 A JP26240597 A JP 26240597A JP H11102995 A JPH11102995 A JP H11102995A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 配線導体のエポキシ樹脂を多くして絶縁基板
への被着強度を強いものとすると、配線導体の電気抵抗
が大きいものとなってしまう。 【解決手段】 ビスマレイミドトリアジン樹脂の前駆体
に無機絶縁物粉末および加熱により硬化剤と反応して硬
化するエポキシ樹脂主剤を添加混合して前駆体シート11
a・11b・11cを準備し、次にこの前駆体シート11a・
11b・11cに金属粉末および前記エポキシ樹脂主剤と反
応する硬化剤を混合して成る金属ペースト12を所定パタ
ーンに印刷し、次に金属ペースト12が印刷された前駆体
シート11a・11b・11cを加熱して、無機絶縁物粉末を
熱硬化したビスマレイミドトリアジン樹脂で結合して成
る絶縁基板に、金属ペースト12の金属粉末を前駆体シー
ト11a・11b・11cのエポキシ樹脂主剤と金属ペースト
12の硬化剤とを反応させて硬化させたエポキシ樹脂で結
合して成る配線導体を被着させる。
への被着強度を強いものとすると、配線導体の電気抵抗
が大きいものとなってしまう。 【解決手段】 ビスマレイミドトリアジン樹脂の前駆体
に無機絶縁物粉末および加熱により硬化剤と反応して硬
化するエポキシ樹脂主剤を添加混合して前駆体シート11
a・11b・11cを準備し、次にこの前駆体シート11a・
11b・11cに金属粉末および前記エポキシ樹脂主剤と反
応する硬化剤を混合して成る金属ペースト12を所定パタ
ーンに印刷し、次に金属ペースト12が印刷された前駆体
シート11a・11b・11cを加熱して、無機絶縁物粉末を
熱硬化したビスマレイミドトリアジン樹脂で結合して成
る絶縁基板に、金属ペースト12の金属粉末を前駆体シー
ト11a・11b・11cのエポキシ樹脂主剤と金属ペースト
12の硬化剤とを反応させて硬化させたエポキシ樹脂で結
合して成る配線導体を被着させる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体素子を収容す
るための半導体素子収納用パッケージや混成集積回路基
板等に用いられる配線基板に関するものである。
るための半導体素子収納用パッケージや混成集積回路基
板等に用いられる配線基板に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、配線基板、例えば半導体素子を収
容する半導体素子収納用パッケージに使用される配線基
板は、酸化アルミニウム質焼結体等のセラミックスより
成り、その上面中央部に半導体素子を収容するための凹
部を有する絶縁基体と、この絶縁基体の凹部周辺から下
面にかけて導出されたタングステンやモリブデン等の高
融点金属粉末から成る配線導体とから構成されており、
絶縁基体の凹部底面に半導体素子をガラスや樹脂・ロウ
材等の接着剤を介して接着固定するとともに半導体素子
の各電極を例えばボンディングワイヤ等の電気的接続手
段を介して配線導体に電気的に接続し、しかる後、絶縁
基体の上面に金属やセラミックス等から成る蓋体を絶縁
基体の凹部を塞ぐようにしてガラスや樹脂・ロウ材等の
封止材を介して接合させ、絶縁基体の凹部内に半導体素
子を気密に収容することによって製品としての半導体装
置となる。そして、配線導体の絶縁基体下面に導出した
部位を外部の電気回路基板の配線導体に半田等の電気的
接続手段を介して接続することにより収容する半導体素
子が外部電気回路基板に電気的に接続されることとな
る。
容する半導体素子収納用パッケージに使用される配線基
板は、酸化アルミニウム質焼結体等のセラミックスより
成り、その上面中央部に半導体素子を収容するための凹
部を有する絶縁基体と、この絶縁基体の凹部周辺から下
面にかけて導出されたタングステンやモリブデン等の高
融点金属粉末から成る配線導体とから構成されており、
絶縁基体の凹部底面に半導体素子をガラスや樹脂・ロウ
材等の接着剤を介して接着固定するとともに半導体素子
の各電極を例えばボンディングワイヤ等の電気的接続手
段を介して配線導体に電気的に接続し、しかる後、絶縁
基体の上面に金属やセラミックス等から成る蓋体を絶縁
基体の凹部を塞ぐようにしてガラスや樹脂・ロウ材等の
封止材を介して接合させ、絶縁基体の凹部内に半導体素
子を気密に収容することによって製品としての半導体装
置となる。そして、配線導体の絶縁基体下面に導出した
部位を外部の電気回路基板の配線導体に半田等の電気的
接続手段を介して接続することにより収容する半導体素
子が外部電気回路基板に電気的に接続されることとな
る。
【0003】この従来の配線基板はセラミックグリーン
シート積層法によって製作され、具体的には、酸化アル
ミニウム・酸化珪素・酸化マグネシウム・酸化カルシウ
ム等のセラミック原料粉末に適当な有機バインダ・溶剤
等を添加混合して泥漿状となすとともにこれを従来周知
のドクターブレード法を採用してシート状とすることに
よって複数のセラミックグリーンシートを得、しかる
後、これらのセラミックグリーンシートに適当な打ち抜
き加工を施すとともに配線導体となる金属ペーストを所
定の配線導体のパターンに印刷塗布し、最後にこれらの
セラミックグリーンシートを所定の順に上下に積層して
生セラミック成形体となすとともにこれを還元雰囲気中
約1600℃の高温で焼成することによって製作される。
シート積層法によって製作され、具体的には、酸化アル
ミニウム・酸化珪素・酸化マグネシウム・酸化カルシウ
ム等のセラミック原料粉末に適当な有機バインダ・溶剤
等を添加混合して泥漿状となすとともにこれを従来周知
のドクターブレード法を採用してシート状とすることに
よって複数のセラミックグリーンシートを得、しかる
後、これらのセラミックグリーンシートに適当な打ち抜
き加工を施すとともに配線導体となる金属ペーストを所
定の配線導体のパターンに印刷塗布し、最後にこれらの
セラミックグリーンシートを所定の順に上下に積層して
生セラミック成形体となすとともにこれを還元雰囲気中
約1600℃の高温で焼成することによって製作される。
【0004】しかしながら、この従来の配線基板は、絶
縁基体を構成する酸化アルミニウム質焼結体等のセラミ
ックスが硬くて脆い性質を有するため、搬送工程や半導
体装置製作の自動ライン等において配線基板同士が、あ
るいは配線基板と半導体装置製作自動ラインの一部とが
激しく衝突することにより絶縁基体に欠けや割れ・クラ
ック等が発生し、その結果、配線導体に断線を生じたり
半導体素子を気密に収容することができなくなったりし
て、半導体素子を長期間にわたり正常かつ安定に作動さ
せることができなくなるという欠点を有していた。
縁基体を構成する酸化アルミニウム質焼結体等のセラミ
ックスが硬くて脆い性質を有するため、搬送工程や半導
体装置製作の自動ライン等において配線基板同士が、あ
るいは配線基板と半導体装置製作自動ラインの一部とが
激しく衝突することにより絶縁基体に欠けや割れ・クラ
ック等が発生し、その結果、配線導体に断線を生じたり
半導体素子を気密に収容することができなくなったりし
て、半導体素子を長期間にわたり正常かつ安定に作動さ
せることができなくなるという欠点を有していた。
【0005】また、この従来の配線基板の製造方法によ
れば、生セラミック成形体を焼成する際に不均一な焼成
収縮が発生することによりその焼成後に得られる配線基
板に反り等の変形や寸法のばらつきが発生し、その結
果、半導体素子と配線導体とを電気的に正確かつ確実に
接続することが困難であるという欠点を有していた。
れば、生セラミック成形体を焼成する際に不均一な焼成
収縮が発生することによりその焼成後に得られる配線基
板に反り等の変形や寸法のばらつきが発生し、その結
果、半導体素子と配線導体とを電気的に正確かつ確実に
接続することが困難であるという欠点を有していた。
【0006】そこで、配線基板の絶縁基体を、従来のセ
ラミックスに代えて無機絶縁物粉末を熱硬化性樹脂によ
り結合した材料からなる絶縁基板を積層することで形成
し、また配線導体を、従来のタングステンやモリブデン
等の高融点金属メタライズに代えて銅等の金属粉末を熱
硬化性樹脂により結合して成る材料で形成した配線基板
が提案されている。
ラミックスに代えて無機絶縁物粉末を熱硬化性樹脂によ
り結合した材料からなる絶縁基板を積層することで形成
し、また配線導体を、従来のタングステンやモリブデン
等の高融点金属メタライズに代えて銅等の金属粉末を熱
硬化性樹脂により結合して成る材料で形成した配線基板
が提案されている。
【0007】この無機絶縁物粉末を熱硬化性樹脂で結合
して成る絶縁基板と金属粉末を熱硬化性樹脂で結合して
成る配線導体とから成る配線基板は、熱硬化性樹脂の前
駆体と無機絶縁物粉末とを混合して成る半硬化状態の前
駆体シートを準備するとともにこれに適当な打ち抜き加
工を施し、次にこの前駆体シートに熱硬化性樹脂前駆体
と金属粉末とを混合して成る金属ペーストを所定パター
ンに印刷塗布し、最後に金属ペーストが印刷塗布された
前駆体シートを積層するとともにこれを約150〜300 ℃
の温度および約4〜100 kgf/cm2 の圧力でホット
プレスして熱硬化させることによって製作される。
して成る絶縁基板と金属粉末を熱硬化性樹脂で結合して
成る配線導体とから成る配線基板は、熱硬化性樹脂の前
駆体と無機絶縁物粉末とを混合して成る半硬化状態の前
駆体シートを準備するとともにこれに適当な打ち抜き加
工を施し、次にこの前駆体シートに熱硬化性樹脂前駆体
と金属粉末とを混合して成る金属ペーストを所定パター
ンに印刷塗布し、最後に金属ペーストが印刷塗布された
前駆体シートを積層するとともにこれを約150〜300 ℃
の温度および約4〜100 kgf/cm2 の圧力でホット
プレスして熱硬化させることによって製作される。
【0008】この配線基板によれば、絶縁基板となる無
機絶縁物粉末ならびに配線導体となる金属粉末をそれぞ
れ靭性に優れる熱硬化樹脂により結合して成ることか
ら、配線基板同士あるいは配線基板と半導体装置製作自
動ラインの一部とが激しく衝突しても絶縁基体に欠けや
割れ・クラック等が発生することは一切ない。
機絶縁物粉末ならびに配線導体となる金属粉末をそれぞ
れ靭性に優れる熱硬化樹脂により結合して成ることか
ら、配線基板同士あるいは配線基板と半導体装置製作自
動ラインの一部とが激しく衝突しても絶縁基体に欠けや
割れ・クラック等が発生することは一切ない。
【0009】またこの配線基板の製造方法によれば、絶
縁基板および配線導体に含有される熱硬化性樹脂を熱硬
化させることにより製作されることから、焼成に伴う不
均一な収縮による変形や寸法のばらつきが発生すること
はない。
縁基板および配線導体に含有される熱硬化性樹脂を熱硬
化させることにより製作されることから、焼成に伴う不
均一な収縮による変形や寸法のばらつきが発生すること
はない。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この無
機絶縁物粉末を熱硬化性樹脂で結合して成る絶縁基板と
金属粉末を熱硬化性樹脂で結合して成る配線導体とから
成る配線基板によれば、配線導体の被着強度が配線導体
中の熱硬化性樹脂の量に依存し、配線導体を絶縁基板に
強固に被着させるためには配線導体に含有される熱硬化
性樹脂の量を多くする必要があるが、強固に被着させる
ために配線導体となる金属ペースト中の熱硬化性樹脂前
駆体の含有量を多いものとすると、絶縁基板となる前駆
体シートに配線導体となる金属ペーストを印刷塗布して
これを熱硬化させる際に金属ペースト中に含まれる熱硬
化性樹脂前駆体が金属ペースト中の金属粉末同士の接触
界面に多量に入り込んで熱硬化するため、金属粉末同士
の良好な接触を阻害することとなり、その結果、配線導
体の電気抵抗が大きなものとなってしまうという欠点を
有していた。
機絶縁物粉末を熱硬化性樹脂で結合して成る絶縁基板と
金属粉末を熱硬化性樹脂で結合して成る配線導体とから
成る配線基板によれば、配線導体の被着強度が配線導体
中の熱硬化性樹脂の量に依存し、配線導体を絶縁基板に
強固に被着させるためには配線導体に含有される熱硬化
性樹脂の量を多くする必要があるが、強固に被着させる
ために配線導体となる金属ペースト中の熱硬化性樹脂前
駆体の含有量を多いものとすると、絶縁基板となる前駆
体シートに配線導体となる金属ペーストを印刷塗布して
これを熱硬化させる際に金属ペースト中に含まれる熱硬
化性樹脂前駆体が金属ペースト中の金属粉末同士の接触
界面に多量に入り込んで熱硬化するため、金属粉末同士
の良好な接触を阻害することとなり、その結果、配線導
体の電気抵抗が大きなものとなってしまうという欠点を
有していた。
【0011】本発明は上記事情に鑑みて案出されたもの
であり、その目的は、無機絶縁物粉末を熱硬化性樹脂で
結合して成る絶縁基板と金属粉末を熱硬化性樹脂で結合
して成る配線導体とから成る配線基板について、配線導
体中の金属粉末同士の接触を良好として配線導体の電気
抵抗を低いものとするとともに、金属粉末同士を強固に
結合し配線導体を絶縁基板に強固に被着させることがで
きる配線基板の製造方法を提供することにある。
であり、その目的は、無機絶縁物粉末を熱硬化性樹脂で
結合して成る絶縁基板と金属粉末を熱硬化性樹脂で結合
して成る配線導体とから成る配線基板について、配線導
体中の金属粉末同士の接触を良好として配線導体の電気
抵抗を低いものとするとともに、金属粉末同士を強固に
結合し配線導体を絶縁基板に強固に被着させることがで
きる配線基板の製造方法を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明の配線基板の製造
方法は、ビスマレイミドトリアジン樹脂の前駆体に無機
絶縁物粉末および加熱により硬化剤と反応して硬化する
エポキシ樹脂主剤を添加混合して前駆体シートを準備す
る工程と、この前駆体シートに、金属粉末および前記エ
ポキシ樹脂主剤と反応する硬化剤を混合して成る金属ペ
ーストを所定パターンに印刷する工程と、この金属ペー
ストが印刷された前駆体シートを加熱して、前記無機絶
縁物粉末を熱硬化したビスマレイミドトリアジン樹脂で
結合して成る絶縁基板に、前記金属ペーストの金属粉末
を前記前駆体シートのエポキシ樹脂主剤と前記金属ペー
ストの硬化剤とを反応させて硬化させたエポキシ樹脂で
結合して成る配線導体を被着させる工程とを具備するこ
とを特徴とするものである。
方法は、ビスマレイミドトリアジン樹脂の前駆体に無機
絶縁物粉末および加熱により硬化剤と反応して硬化する
エポキシ樹脂主剤を添加混合して前駆体シートを準備す
る工程と、この前駆体シートに、金属粉末および前記エ
ポキシ樹脂主剤と反応する硬化剤を混合して成る金属ペ
ーストを所定パターンに印刷する工程と、この金属ペー
ストが印刷された前駆体シートを加熱して、前記無機絶
縁物粉末を熱硬化したビスマレイミドトリアジン樹脂で
結合して成る絶縁基板に、前記金属ペーストの金属粉末
を前記前駆体シートのエポキシ樹脂主剤と前記金属ペー
ストの硬化剤とを反応させて硬化させたエポキシ樹脂で
結合して成る配線導体を被着させる工程とを具備するこ
とを特徴とするものである。
【0013】本発明の配線基板の製造方法によれば、金
属ペースト中の金属粉末を結合して配線導体を形成する
エポキシ樹脂は前駆体シート内部のエポキシ樹脂主剤と
その前駆体シートに印刷された金属ペースト中の硬化剤
との反応によりエポキシ樹脂主剤が硬化されることによ
り形成され、配線導体を形成するエポキシ樹脂となるエ
ポキシ樹脂主剤が前駆体シートから供給されることから
金属ペースト中に多量のエポキシ樹脂主剤を含有させる
必要はなく、このため金属ペースト中の金属粉末同士の
接触界面にエポキシ樹脂主剤が多量に入り込んで熱硬化
することがなくなって金属粉末同士の接触が良好となる
とともに、前駆体シート内部のエポキシ樹脂主剤と金属
ペースト中の硬化剤との反応により硬化して形成された
エポキシ樹脂により配線導体が絶縁基板に強固に被着さ
れることとなる。
属ペースト中の金属粉末を結合して配線導体を形成する
エポキシ樹脂は前駆体シート内部のエポキシ樹脂主剤と
その前駆体シートに印刷された金属ペースト中の硬化剤
との反応によりエポキシ樹脂主剤が硬化されることによ
り形成され、配線導体を形成するエポキシ樹脂となるエ
ポキシ樹脂主剤が前駆体シートから供給されることから
金属ペースト中に多量のエポキシ樹脂主剤を含有させる
必要はなく、このため金属ペースト中の金属粉末同士の
接触界面にエポキシ樹脂主剤が多量に入り込んで熱硬化
することがなくなって金属粉末同士の接触が良好となる
とともに、前駆体シート内部のエポキシ樹脂主剤と金属
ペースト中の硬化剤との反応により硬化して形成された
エポキシ樹脂により配線導体が絶縁基板に強固に被着さ
れることとなる。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明を添付の図面に基づ
き詳細に説明する。図1は本発明の配線基板の製造方法
により製造される配線基板を半導体素子収納用パッケー
ジに適用した場合の一例を示す断面図であり、1は絶縁
基体、2は配線導体である。
き詳細に説明する。図1は本発明の配線基板の製造方法
により製造される配線基板を半導体素子収納用パッケー
ジに適用した場合の一例を示す断面図であり、1は絶縁
基体、2は配線導体である。
【0015】絶縁基体1は、例えば酸化珪素・酸化アル
ミニウム・窒化アルミニウム・炭化珪素・チタン酸バリ
ウム・ゼオライト等の無機絶縁物粉末をビスマレイミド
トリアジン樹脂により結合した絶縁材料から成る3枚の
絶縁基板1a・1b・1cから構成されている。また本
例ではこの絶縁基体1の上面中央部に階段状の凹部Aを
有しており、凹部Aの底面には半導体素子3が樹脂等の
接着剤を介して接着固定される。
ミニウム・窒化アルミニウム・炭化珪素・チタン酸バリ
ウム・ゼオライト等の無機絶縁物粉末をビスマレイミド
トリアジン樹脂により結合した絶縁材料から成る3枚の
絶縁基板1a・1b・1cから構成されている。また本
例ではこの絶縁基体1の上面中央部に階段状の凹部Aを
有しており、凹部Aの底面には半導体素子3が樹脂等の
接着剤を介して接着固定される。
【0016】絶縁基板1a・1b・1cに含有される無
機絶縁物粉末は、その粒径が0.1 〜100 μm程度であ
り、絶縁基板1a・1b・1cの熱膨張係数を半導体素
子3の熱膨張係数に近いものとする作用を為すとともに
絶縁基板1a・1b・1cに良好な熱伝導性や耐水性、
あるいは所定の比誘電率等を付与する作用を為す。
機絶縁物粉末は、その粒径が0.1 〜100 μm程度であ
り、絶縁基板1a・1b・1cの熱膨張係数を半導体素
子3の熱膨張係数に近いものとする作用を為すとともに
絶縁基板1a・1b・1cに良好な熱伝導性や耐水性、
あるいは所定の比誘電率等を付与する作用を為す。
【0017】一方、絶縁基板1a・1b・1cに含有さ
れる熱硬化樹脂であるビスマレイミドトリアジン樹脂
は、無機絶縁粉末同士を結合して絶縁基板1a・1b・
1cおよび絶縁基体1を所定の形状に保持する作用を為
す。
れる熱硬化樹脂であるビスマレイミドトリアジン樹脂
は、無機絶縁粉末同士を結合して絶縁基板1a・1b・
1cおよび絶縁基体1を所定の形状に保持する作用を為
す。
【0018】このように絶縁基体1は無機絶縁物粉末を
靭性に優れるビスマレイミドトリアジン樹脂により結合
して成る絶縁基板1a・1b・1cにより構成されるこ
とから、配線基板同士が衝突した際等にも絶縁基体1に
欠けや割れ・クラック等が発生することはない。
靭性に優れるビスマレイミドトリアジン樹脂により結合
して成る絶縁基板1a・1b・1cにより構成されるこ
とから、配線基板同士が衝突した際等にも絶縁基体1に
欠けや割れ・クラック等が発生することはない。
【0019】また、絶縁基板1a・1b・1cは、その
中に含有される無機絶縁物粉末の含有量が60重量%未満
であると絶縁基体1の熱膨張係数が半導体素子3の熱膨
張係数と比較して極めて大きなものとなり、半導体素子
3が作動時に発生する熱が半導体素子3と絶縁基体1と
に印加されると両者の熱膨張係数の相違に起因して大き
な熱応力が発生し、半導体素子3に絶縁基体1からの剥
離や割れを発生させやすい傾向にある。他方、無機絶縁
物粉末の含有量が95重量%を超えると無機絶縁物粉末を
ビスマレイミドトリアジン樹脂で強固に結合することが
困難となる傾向にある。従って、絶縁基板1a・1b・
1c中に含有される無機絶縁物粉末の含有量は60〜95重
量%の範囲が好ましい。
中に含有される無機絶縁物粉末の含有量が60重量%未満
であると絶縁基体1の熱膨張係数が半導体素子3の熱膨
張係数と比較して極めて大きなものとなり、半導体素子
3が作動時に発生する熱が半導体素子3と絶縁基体1と
に印加されると両者の熱膨張係数の相違に起因して大き
な熱応力が発生し、半導体素子3に絶縁基体1からの剥
離や割れを発生させやすい傾向にある。他方、無機絶縁
物粉末の含有量が95重量%を超えると無機絶縁物粉末を
ビスマレイミドトリアジン樹脂で強固に結合することが
困難となる傾向にある。従って、絶縁基板1a・1b・
1c中に含有される無機絶縁物粉末の含有量は60〜95重
量%の範囲が好ましい。
【0020】また絶縁基体1には、その凹部A周辺の絶
縁基板1b上面から絶縁基板1b・1cを貫通して絶縁
基板1c下面に導出する、例えば銅・銀・金・表面が銀
で被覆された銅等の金属粉末をエポキシ樹脂により結合
した多数の配線導体2が配設されている。
縁基板1b上面から絶縁基板1b・1cを貫通して絶縁
基板1c下面に導出する、例えば銅・銀・金・表面が銀
で被覆された銅等の金属粉末をエポキシ樹脂により結合
した多数の配線導体2が配設されている。
【0021】配線導体2は、配線基板に搭載し半導体素
子収納用パッケージ内部に収容する半導体素子3を外部
電気回路に電気的に接続する作用を為し、その凹部A周
辺の部位には半導体素子3の各電極がボンディングワイ
ヤ4を介して電気的に接続され、またその絶縁基体1下
面に導出する部位は外部電気回路基板に電気的に接続さ
れる。
子収納用パッケージ内部に収容する半導体素子3を外部
電気回路に電気的に接続する作用を為し、その凹部A周
辺の部位には半導体素子3の各電極がボンディングワイ
ヤ4を介して電気的に接続され、またその絶縁基体1下
面に導出する部位は外部電気回路基板に電気的に接続さ
れる。
【0022】配線導体2に含有される金属粉末は配線導
体2に導電性を付与する作用を為し、配線導体2におけ
る含有量が70重量%未満では配線導体2の導電性が不十
分となる傾向にあり、他方、配線導体2における含有量
が95重量%を超えると金属粉末をエポキシ樹脂で強固に
結合することが困難となる傾向にある。従って、配線導
体2に含有される金属粉末の含有量は70〜95重量%の範
囲が好ましい。
体2に導電性を付与する作用を為し、配線導体2におけ
る含有量が70重量%未満では配線導体2の導電性が不十
分となる傾向にあり、他方、配線導体2における含有量
が95重量%を超えると金属粉末をエポキシ樹脂で強固に
結合することが困難となる傾向にある。従って、配線導
体2に含有される金属粉末の含有量は70〜95重量%の範
囲が好ましい。
【0023】なお、配線導体2に含有される金属粉末
は、その平均粒径が0.5 μm未満であると金属粉末同士
の接触抵抗が増加して配線導体2の電気抵抗が高いもの
となる傾向にあり、他方、50μmを超えると絶縁基体1
に所定パターンの配線導体2を一般に要求される50〜20
0 μmの線幅で形成するのが困難となる傾向にある。従
って、配線導体2に含有される金属粉末は、その平均粒
径を0.5 〜50μmとしておくことが好ましい。
は、その平均粒径が0.5 μm未満であると金属粉末同士
の接触抵抗が増加して配線導体2の電気抵抗が高いもの
となる傾向にあり、他方、50μmを超えると絶縁基体1
に所定パターンの配線導体2を一般に要求される50〜20
0 μmの線幅で形成するのが困難となる傾向にある。従
って、配線導体2に含有される金属粉末は、その平均粒
径を0.5 〜50μmとしておくことが好ましい。
【0024】また、配線導体2に含有されるエポキシ樹
脂は、金属粉末同士を互いに接触させた状態で結合させ
るとともに配線導体2を絶縁基板1a・1b・1cに被
着させる作用を為し、例えばビスフェノールA型エポキ
シ樹脂・ノボラック型エポキシ樹脂・グリシジルエステ
ル型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂から成る。
脂は、金属粉末同士を互いに接触させた状態で結合させ
るとともに配線導体2を絶縁基板1a・1b・1cに被
着させる作用を為し、例えばビスフェノールA型エポキ
シ樹脂・ノボラック型エポキシ樹脂・グリシジルエステ
ル型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂から成る。
【0025】配線導体2に含有されるエポキシ樹脂は、
配線導体2における含有量が5重量%未満では金属粉末
同士を強固に結合できなくなるとともに配線導体2を絶
縁基板1a・1b・1cに強固に被着させることが困難
となる傾向にある。他方、配線導体2における含有量が
30重量%を超えると金属粉末同士を十分に接触させるこ
とが困難となり配線導体2の電気抵抗が大きなものとな
る傾向にある。従って、配線導体2に含有されるエポキ
シ樹脂の含有量は5〜30重量%の範囲が好ましい。
配線導体2における含有量が5重量%未満では金属粉末
同士を強固に結合できなくなるとともに配線導体2を絶
縁基板1a・1b・1cに強固に被着させることが困難
となる傾向にある。他方、配線導体2における含有量が
30重量%を超えると金属粉末同士を十分に接触させるこ
とが困難となり配線導体2の電気抵抗が大きなものとな
る傾向にある。従って、配線導体2に含有されるエポキ
シ樹脂の含有量は5〜30重量%の範囲が好ましい。
【0026】また、配線導体2は、その露出する表面に
ニッケルや金等の耐蝕性に優れかつボンディングワイヤ
4等との接合性に優れる金属をめっき法により1〜20μ
mの厚みに被着させておくと、配線導体2が酸化腐食す
ることを有効に防止することができるとともに配線導体
2とボンディングワイヤ4および外部電気回路基板の配
線導体との接続を容易かつ強固に行なうことができる。
従って、配線導体2はその露出する表面にニッケルや金
等の耐蝕性に優れかつボンディングワイヤ4等との接続
性に優れる金属をめっき法により1〜20μmの厚みに被
着させておくことが好ましい。
ニッケルや金等の耐蝕性に優れかつボンディングワイヤ
4等との接合性に優れる金属をめっき法により1〜20μ
mの厚みに被着させておくと、配線導体2が酸化腐食す
ることを有効に防止することができるとともに配線導体
2とボンディングワイヤ4および外部電気回路基板の配
線導体との接続を容易かつ強固に行なうことができる。
従って、配線導体2はその露出する表面にニッケルや金
等の耐蝕性に優れかつボンディングワイヤ4等との接続
性に優れる金属をめっき法により1〜20μmの厚みに被
着させておくことが好ましい。
【0027】かくして上述の配線基板によれば、絶縁基
体1の凹部A底面に半導体素子3を接着固定するととも
に半導体素子3の各電極をボンディングワイヤ4を介し
て配線導体2に電気的に接続し、最後に絶縁基体1の上
面に蓋体5を封止材を介して接合させることにより製品
としての半導体装置となる。
体1の凹部A底面に半導体素子3を接着固定するととも
に半導体素子3の各電極をボンディングワイヤ4を介し
て配線導体2に電気的に接続し、最後に絶縁基体1の上
面に蓋体5を封止材を介して接合させることにより製品
としての半導体装置となる。
【0028】次に、上述の配線基板の製造方法について
図2に基づいて説明する。図2(a)〜(c)はそれぞ
れ本発明の配線基板の製造方法を説明するための工程毎
の断面図である。
図2に基づいて説明する。図2(a)〜(c)はそれぞ
れ本発明の配線基板の製造方法を説明するための工程毎
の断面図である。
【0029】先ず、図2(a)に示すようにビスマレイ
ミドトリアジン樹脂の前駆体に無機絶縁物粉末および加
熱により硬化剤と反応して硬化するエポキシ樹脂主剤を
添加混合して得た3枚の前駆体シート11a・11b・11c
を準備する。
ミドトリアジン樹脂の前駆体に無機絶縁物粉末および加
熱により硬化剤と反応して硬化するエポキシ樹脂主剤を
添加混合して得た3枚の前駆体シート11a・11b・11c
を準備する。
【0030】前駆体シート11a・11b・11cは、ビスマ
レイミドトリアジン樹脂の前駆体にビスフェノールA型
エポキシ樹脂・ノボラック型エポキシ樹脂・グリシジル
エステル型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂主剤および酸
化珪素・酸化アルミニウム・窒化アルミニウム・炭化珪
素・チタン酸バリウム・ゼオライト等の無機絶縁物粉末
ならびにメチルセルソルブ等の溶剤を添加混合して得た
ペーストを従来周知のドクターブレード法を採用してシ
ート状となすとともに約25〜100 ℃の温度で1〜60分加
熱して、シート内部に含有されるビスマレイミドトリア
ジン樹脂の前駆体を半硬化させることにより製作され
る。
レイミドトリアジン樹脂の前駆体にビスフェノールA型
エポキシ樹脂・ノボラック型エポキシ樹脂・グリシジル
エステル型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂主剤および酸
化珪素・酸化アルミニウム・窒化アルミニウム・炭化珪
素・チタン酸バリウム・ゼオライト等の無機絶縁物粉末
ならびにメチルセルソルブ等の溶剤を添加混合して得た
ペーストを従来周知のドクターブレード法を採用してシ
ート状となすとともに約25〜100 ℃の温度で1〜60分加
熱して、シート内部に含有されるビスマレイミドトリア
ジン樹脂の前駆体を半硬化させることにより製作され
る。
【0031】前駆体シート11a・11b・11cに含有され
るエポキシ樹脂主剤は、後述するように、前駆体シート
11b・11cに配線導体2となる金属ペースト12を印刷塗
布するとともにこの前駆体シート11a・11b・11cを積
層して加熱することにより、絶縁基板1a・1b・1c
となるとともに絶縁基板1a・1b・1cに配線導体2
を被着させる際に金属ペースト12中に滲出して金属ペー
スト12に含有される硬化剤と反応して硬化することによ
り配線導体2中に硬化したエポキシ樹脂を形成する作用
を為す。
るエポキシ樹脂主剤は、後述するように、前駆体シート
11b・11cに配線導体2となる金属ペースト12を印刷塗
布するとともにこの前駆体シート11a・11b・11cを積
層して加熱することにより、絶縁基板1a・1b・1c
となるとともに絶縁基板1a・1b・1cに配線導体2
を被着させる際に金属ペースト12中に滲出して金属ペー
スト12に含有される硬化剤と反応して硬化することによ
り配線導体2中に硬化したエポキシ樹脂を形成する作用
を為す。
【0032】なお、前駆体シート11a・11b・11cに含
有されるエポキシ樹脂主剤は、ビスマレイミドトリアジ
ン樹脂の前駆体とエポキシ樹脂主剤との合計量に対する
含有量が1重量%未満では後述するように前駆体シート
11a・11b・11cに配線導体2となる金属ペースト12を
印刷して積層し、これを加熱して配線導体2が被着され
た絶縁基板1a・1b・1cとなす際に配線基板2中に
エポキシ樹脂が十分に形成されないため、配線導体2を
絶縁基板1a・1b・1cに強固に結合することが困難
となる傾向にある。他方、10重量%を超えると、絶縁基
板1a・1b・1c内に未硬化のエポキシ樹脂主剤が多
量に残存して絶縁基板1a・1b・1cの強度が低いも
のとなる傾向にある。従って前駆体シート11a・11b・
11cに含有されるエポキシ樹脂主剤は、ビスマレイミド
トリアジン樹脂の前駆体とエポキシ樹脂主剤との合計量
に対する含有量が1〜10重量%の範囲が好ましい。
有されるエポキシ樹脂主剤は、ビスマレイミドトリアジ
ン樹脂の前駆体とエポキシ樹脂主剤との合計量に対する
含有量が1重量%未満では後述するように前駆体シート
11a・11b・11cに配線導体2となる金属ペースト12を
印刷して積層し、これを加熱して配線導体2が被着され
た絶縁基板1a・1b・1cとなす際に配線基板2中に
エポキシ樹脂が十分に形成されないため、配線導体2を
絶縁基板1a・1b・1cに強固に結合することが困難
となる傾向にある。他方、10重量%を超えると、絶縁基
板1a・1b・1c内に未硬化のエポキシ樹脂主剤が多
量に残存して絶縁基板1a・1b・1cの強度が低いも
のとなる傾向にある。従って前駆体シート11a・11b・
11cに含有されるエポキシ樹脂主剤は、ビスマレイミド
トリアジン樹脂の前駆体とエポキシ樹脂主剤との合計量
に対する含有量が1〜10重量%の範囲が好ましい。
【0033】次に、図2(b)に示すように、前駆体シ
ート11a・11b・11cのうち2枚の前駆体シート11a・
11bに凹部Aとなる開口A1・A2を、2枚の前駆体シ
ート11b・11cに配線導体2を引き回すための通路とな
る貫通孔B1・B2を各々形成する。
ート11a・11b・11cのうち2枚の前駆体シート11a・
11bに凹部Aとなる開口A1・A2を、2枚の前駆体シ
ート11b・11cに配線導体2を引き回すための通路とな
る貫通孔B1・B2を各々形成する。
【0034】前駆体シート11a・11b・11cに形成され
た開口A1・A2および貫通孔B1・B2は、前駆体シ
ート11a・11b・11cに従来周知のパンチング加工法を
施して前駆体シート11a・11b・11cの各々に所定形状
の孔を穿孔することによって形成される。
た開口A1・A2および貫通孔B1・B2は、前駆体シ
ート11a・11b・11cに従来周知のパンチング加工法を
施して前駆体シート11a・11b・11cの各々に所定形状
の孔を穿孔することによって形成される。
【0035】次に、図2(c)に示すように、前駆体シ
ート11bの上面および前駆体シート11cの上下面、なら
びに前駆体シート11b・11cに形成された貫通孔B1・
B2内に配線導体2となる金属ペースト12を従来周知の
スクリーン印刷法および充填法を採用して所定パターン
に印刷塗布および充填する。
ート11bの上面および前駆体シート11cの上下面、なら
びに前駆体シート11b・11cに形成された貫通孔B1・
B2内に配線導体2となる金属ペースト12を従来周知の
スクリーン印刷法および充填法を採用して所定パターン
に印刷塗布および充填する。
【0036】金属ペースト12は、金属粉末およびエポキ
シ樹脂主剤と反応する硬化剤から成り、例えば粒径が0.
1 〜20μm程度の銅等の金属粉末にアミン系硬化剤・イ
ミダゾール系硬化剤・酸無水物系硬化剤等の硬化剤等を
添加混合しペースト状となしたものが使用される。
シ樹脂主剤と反応する硬化剤から成り、例えば粒径が0.
1 〜20μm程度の銅等の金属粉末にアミン系硬化剤・イ
ミダゾール系硬化剤・酸無水物系硬化剤等の硬化剤等を
添加混合しペースト状となしたものが使用される。
【0037】金属ペースト12に含有される硬化剤は、後
述するように、前駆体シート11a・11b・11cを加熱し
て絶縁基板1a・1b・1cとなすとともに、絶縁基板
1a・1b・1cに配線導体2を被着させる際に前駆体
シート11a・11b・11cに含有されるエポキシ樹脂主剤
を誘導して金属ペースト12中に滲出させるとともにこの
エポキシ樹脂主剤と反応して配線導体2中に硬化したエ
ポキシ樹脂を形成する作用を為す。
述するように、前駆体シート11a・11b・11cを加熱し
て絶縁基板1a・1b・1cとなすとともに、絶縁基板
1a・1b・1cに配線導体2を被着させる際に前駆体
シート11a・11b・11cに含有されるエポキシ樹脂主剤
を誘導して金属ペースト12中に滲出させるとともにこの
エポキシ樹脂主剤と反応して配線導体2中に硬化したエ
ポキシ樹脂を形成する作用を為す。
【0038】後述するように、配線導体2のエポキシ樹
脂となるエポキシ樹脂主剤は前駆体シート11a・11b・
11cから供給されることから、配線導体2となる金属ペ
ースト12中にはその分多量のエポキシ樹脂主剤を含有さ
せておく必要がなく、従って金属ペースト12中の金属粉
末同士がその接触界面にエポキシ樹脂となる成分を多量
に介在させることなく良好に接触し、その結果、配線導
体2の電気抵抗を低いものとすることができる。
脂となるエポキシ樹脂主剤は前駆体シート11a・11b・
11cから供給されることから、配線導体2となる金属ペ
ースト12中にはその分多量のエポキシ樹脂主剤を含有さ
せておく必要がなく、従って金属ペースト12中の金属粉
末同士がその接触界面にエポキシ樹脂となる成分を多量
に介在させることなく良好に接触し、その結果、配線導
体2の電気抵抗を低いものとすることができる。
【0039】なお、金属ペースト12に含有される硬化剤
は、金属粉末100 重量部に対して0.05重量部未満であれ
ば、後述するように、前駆体シート11a・11b・11cを
加熱して絶縁基板1a・1b・1cとなすとともに絶縁
基体1a・1b・1cに配線導体2を被着させる際、配
線導体2を絶縁基板1a・1b・1cに強固に被着させ
るのに十分な量のエポキシ樹脂を配線導体2中に形成す
ることが困難となる傾向にある。他方、10重量部を超え
ると、配線導体2中に未反応の硬化剤が多量に残り、配
線導体2の強度が低いものとなってしまう傾向にある。
従って、金属ペースト12に含有される硬化剤は、金属粉
末100 重量部に対して0.05〜10重量部の範囲としておく
ことが好ましい。
は、金属粉末100 重量部に対して0.05重量部未満であれ
ば、後述するように、前駆体シート11a・11b・11cを
加熱して絶縁基板1a・1b・1cとなすとともに絶縁
基体1a・1b・1cに配線導体2を被着させる際、配
線導体2を絶縁基板1a・1b・1cに強固に被着させ
るのに十分な量のエポキシ樹脂を配線導体2中に形成す
ることが困難となる傾向にある。他方、10重量部を超え
ると、配線導体2中に未反応の硬化剤が多量に残り、配
線導体2の強度が低いものとなってしまう傾向にある。
従って、金属ペースト12に含有される硬化剤は、金属粉
末100 重量部に対して0.05〜10重量部の範囲としておく
ことが好ましい。
【0040】さらに、金属ペースト12に含有される硬化
剤をアミン系の硬化剤とすると、このアミン系硬化剤が
金属ペースト12中の金属粉末表面の酸化膜を除去するこ
とから、配線導体2の電気抵抗を低いものとすることが
できる。従って、金属ペースト12に含有される硬化剤は
アミン系の硬化剤としておくことが好ましい。
剤をアミン系の硬化剤とすると、このアミン系硬化剤が
金属ペースト12中の金属粉末表面の酸化膜を除去するこ
とから、配線導体2の電気抵抗を低いものとすることが
できる。従って、金属ペースト12に含有される硬化剤は
アミン系の硬化剤としておくことが好ましい。
【0041】最後に、前駆体シート11a・11b・11cを
上下に積層して約150 〜300 ℃の温度および約4〜100
kgf/cm2 の圧力でホットプレスするとともにさら
に必要に応じて150 〜300 ℃の温度で加熱し、前駆体シ
ート11a・11b・11cに含有されるビスマレイミドトリ
アジン樹脂の前駆体を十分に硬化させて無機絶縁物粉末
を熱硬化したビスマレイミドトリアジン樹脂で結合した
絶縁基板1a・1b・1cとなすとともに、金属ペース
ト12中の金属粉末を前駆体シート11a・11b・11c内部
のエポキシ樹脂主剤と金属ペースト12中の硬化剤との反
応により形成される硬化したエポキシ樹脂で結合して絶
縁基体1a・1b・1cに配線導体2を被着させること
によって、図1に示すような配線基板が完成する。
上下に積層して約150 〜300 ℃の温度および約4〜100
kgf/cm2 の圧力でホットプレスするとともにさら
に必要に応じて150 〜300 ℃の温度で加熱し、前駆体シ
ート11a・11b・11cに含有されるビスマレイミドトリ
アジン樹脂の前駆体を十分に硬化させて無機絶縁物粉末
を熱硬化したビスマレイミドトリアジン樹脂で結合した
絶縁基板1a・1b・1cとなすとともに、金属ペース
ト12中の金属粉末を前駆体シート11a・11b・11c内部
のエポキシ樹脂主剤と金属ペースト12中の硬化剤との反
応により形成される硬化したエポキシ樹脂で結合して絶
縁基体1a・1b・1cに配線導体2を被着させること
によって、図1に示すような配線基板が完成する。
【0042】この場合、前駆体シート11a・11b・11c
内部に含まれるエポキシ樹脂主剤が金属ペースト12に含
有される硬化剤に誘導されて、金属粉末が互いに良好に
接触した金属ペースト12中に滲出するとともに硬化剤と
反応して硬化したエポキシ樹脂を形成し、この硬化した
エポキシ樹脂により配線導体2が絶縁基板1a・1b・
1cに強固に接合される。
内部に含まれるエポキシ樹脂主剤が金属ペースト12に含
有される硬化剤に誘導されて、金属粉末が互いに良好に
接触した金属ペースト12中に滲出するとともに硬化剤と
反応して硬化したエポキシ樹脂を形成し、この硬化した
エポキシ樹脂により配線導体2が絶縁基板1a・1b・
1cに強固に接合される。
【0043】またこの場合、前駆体シート11a・11b・
11cおよび金属ペースト12は熱硬化時に収縮することが
ほとんどなく、従って、得られる配線基板に変形や寸法
のばらつきが発生することは皆無であり、半導体素子3
と配線導体2とを正確に接続することが可能となる。
11cおよび金属ペースト12は熱硬化時に収縮することが
ほとんどなく、従って、得られる配線基板に変形や寸法
のばらつきが発生することは皆無であり、半導体素子3
と配線導体2とを正確に接続することが可能となる。
【0044】なお、本発明は上述の実施の形態の例に限
定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲
であれば種々の変更は可能である。例えば、上述の実施
の形態の例においては配線導体2となる金属ペースト12
は金属粉末と硬化剤とから成っていたが、金属ペースト
12中における金属粉末同士の接触を大きく阻害しない範
囲であれば、ペーストとしての適当な粘度を得るために
さらに少量の熱可塑性樹脂やエポキシ樹脂主剤を含有し
てもよい。
定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲
であれば種々の変更は可能である。例えば、上述の実施
の形態の例においては配線導体2となる金属ペースト12
は金属粉末と硬化剤とから成っていたが、金属ペースト
12中における金属粉末同士の接触を大きく阻害しない範
囲であれば、ペーストとしての適当な粘度を得るために
さらに少量の熱可塑性樹脂やエポキシ樹脂主剤を含有し
てもよい。
【0045】また、上述の実施の形態の例では本発明の
配線基板を半導体素子を収容する半導体素子収納用パッ
ケージに適用した場合を例にとって説明したが、これを
混成集積回路基板等に用いられる配線基板に適用しても
よい。
配線基板を半導体素子を収容する半導体素子収納用パッ
ケージに適用した場合を例にとって説明したが、これを
混成集積回路基板等に用いられる配線基板に適用しても
よい。
【0046】また、上述の実施の形態の例では、配線基
板は3枚の絶縁基板が積層されることにより形成されて
いたが、配線基板は2枚あるいは4枚以上の絶縁基板が
積層されることにより形成されていてもよい。
板は3枚の絶縁基板が積層されることにより形成されて
いたが、配線基板は2枚あるいは4枚以上の絶縁基板が
積層されることにより形成されていてもよい。
【0047】
【発明の効果】本発明の配線基板の製造方法によれば、
配線導体のエポキシ樹脂となるエポキシ樹脂主剤は絶縁
基板となる前駆体シートから供給されることから、配線
導体となる金属ペースト中に多量のエポキシ樹脂主剤を
含有させておく必要がなく、従って金属ペースト中の金
属粉末同士が良好に接触し、その結果、金属ペーストが
印刷塗布された前駆体シートを加熱して絶縁基板となす
とともに絶縁基板に配線導体を被着させた場合、配線導
体中の金属粉末同士の接触を良好として配線導体の電気
抵抗を低いものとすることができる。
配線導体のエポキシ樹脂となるエポキシ樹脂主剤は絶縁
基板となる前駆体シートから供給されることから、配線
導体となる金属ペースト中に多量のエポキシ樹脂主剤を
含有させておく必要がなく、従って金属ペースト中の金
属粉末同士が良好に接触し、その結果、金属ペーストが
印刷塗布された前駆体シートを加熱して絶縁基板となす
とともに絶縁基板に配線導体を被着させた場合、配線導
体中の金属粉末同士の接触を良好として配線導体の電気
抵抗を低いものとすることができる。
【0048】また本発明の製造方法によれば、前駆体シ
ート内部に含まれるエポキシ樹脂主剤が、金属ペースト
に含有される硬化剤に誘導されて金属粉末同士が互いに
良好に接触した金属ペースト中に滲出するとともに硬化
剤と反応することにより硬化したエポキシ樹脂を形成
し、この硬化したエポキシ樹脂により金属粉末同士が強
固に結合されるとともに配線導体が絶縁基板に強固に被
着される。
ート内部に含まれるエポキシ樹脂主剤が、金属ペースト
に含有される硬化剤に誘導されて金属粉末同士が互いに
良好に接触した金属ペースト中に滲出するとともに硬化
剤と反応することにより硬化したエポキシ樹脂を形成
し、この硬化したエポキシ樹脂により金属粉末同士が強
固に結合されるとともに配線導体が絶縁基板に強固に被
着される。
【0049】以上により、本発明によれば、無機絶縁物
粉末を熱硬化性樹脂で結合して成る絶縁基板と金属粉末
を熱硬化性樹脂で結合して成る配線導体とから成る配線
基板について、配線導体中の金属粉末同士の接触を良好
として配線導体の電気抵抗を低いものとするとともに、
金属粉末同士を強固に結合し配線導体を絶縁基板に強固
に被着させることができる配線基板の製造方法を提供す
ることができた。
粉末を熱硬化性樹脂で結合して成る絶縁基板と金属粉末
を熱硬化性樹脂で結合して成る配線導体とから成る配線
基板について、配線導体中の金属粉末同士の接触を良好
として配線導体の電気抵抗を低いものとするとともに、
金属粉末同士を強固に結合し配線導体を絶縁基板に強固
に被着させることができる配線基板の製造方法を提供す
ることができた。
【図1】本発明の配線基板の製造方法による配線基板を
半導体素子収納用パッケージに適用した例を示す断面図
である。
半導体素子収納用パッケージに適用した例を示す断面図
である。
【図2】(a)〜(c)はそれぞれ図1に示す配線基板
の製造方法を説明するための工程毎の断面図である。
の製造方法を説明するための工程毎の断面図である。
1・・・・・・絶縁基体 1a〜1c・・絶縁基板 2・・・・・・配線導体 3・・・・・・半導体素子 11a〜11c・・前駆体シート 12・・・・・・金属ペースト
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H05K 3/46 H05K 3/46 B T H01L 23/12 N
Claims (1)
- 【請求項1】 ビスマレイミドトリアジン樹脂の前駆体
に無機絶縁物粉末および加熱により硬化剤と反応して硬
化するエポキシ樹脂主剤を添加混合して前駆体シートを
準備する工程と、該前駆体シートに、金属粉末および前
記エポキシ樹脂主剤と反応する硬化剤を混合して成る金
属ペーストを所定パターンに印刷する工程と、該金属ペ
ーストが印刷された前駆体シートを加熱して、前記無機
絶縁物粉末を熱硬化したビスマレイミドトリアジン樹脂
で結合して成る絶縁基板に、前記金属ペーストの金属粉
末を前記前駆体シートのエポキシ樹脂主剤と前記金属ペ
ーストの硬化剤とを反応させて硬化させたエポキシ樹脂
で結合して成る配線導体を被着させる工程とを具備する
ことを特徴とする配線基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26240597A JP3398310B2 (ja) | 1997-09-26 | 1997-09-26 | 配線基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26240597A JP3398310B2 (ja) | 1997-09-26 | 1997-09-26 | 配線基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11102995A true JPH11102995A (ja) | 1999-04-13 |
JP3398310B2 JP3398310B2 (ja) | 2003-04-21 |
Family
ID=17375331
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26240597A Expired - Fee Related JP3398310B2 (ja) | 1997-09-26 | 1997-09-26 | 配線基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3398310B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003048251A1 (en) * | 2001-12-05 | 2003-06-12 | Isola Laminate Systems Corp. | Prepreg and composition of epoxy resin(s), sma copolymers(s) and bis-maleimide triazine resin(s) |
JP2013115184A (ja) * | 2011-11-28 | 2013-06-10 | Kyocera Corp | セラミック多層基板の製造方法 |
-
1997
- 1997-09-26 JP JP26240597A patent/JP3398310B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003048251A1 (en) * | 2001-12-05 | 2003-06-12 | Isola Laminate Systems Corp. | Prepreg and composition of epoxy resin(s), sma copolymers(s) and bis-maleimide triazine resin(s) |
US7521494B2 (en) | 2001-12-05 | 2009-04-21 | Isola Usa Corp. | Epoxy resin, SMA copolymer and bis-maleimidetriazine resin |
JP2013115184A (ja) * | 2011-11-28 | 2013-06-10 | Kyocera Corp | セラミック多層基板の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3398310B2 (ja) | 2003-04-21 |
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