JPH1036375A - 新規なセファロスポリン誘導体またはその塩 - Google Patents
新規なセファロスポリン誘導体またはその塩Info
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- JPH1036375A JPH1036375A JP8213083A JP21308396A JPH1036375A JP H1036375 A JPH1036375 A JP H1036375A JP 8213083 A JP8213083 A JP 8213083A JP 21308396 A JP21308396 A JP 21308396A JP H1036375 A JPH1036375 A JP H1036375A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【解決手段】下記式〔１〕
［式中、Ｒ１は、置換されていてもよいアルキルチオ、
アリール、アリールチオ、アリールオキシまたは複素環
式基；Ａは、保護されていてもよいアミノ、ヒドロキシ
ルもしくはヒドロキシイミノ基またはアルコキシイミノ
基で置換されていてもよいメチレン基；Ｒ２は、ハロゲ
ン原子、シアノ基、アミジノ基などから選ばれる１つ以
上の基で置換されていてもよいピリミジニル、キナゾリ
ニル、プリニル、ピラゾロ［３，４−ｄ］ピリミジニ
ル、ピラゾロ［４，３−ｄ］ピリミジニル、［１，２，
３］トリアゾロ［４，５−ｄ］ピリミジニルまたはプテ
リジニル基；Ｒ３は、保護されていてもよいカルボキシ
ル基またはカルボキシラート基；ｎは、０または１を示
す。］で表されるセファロスポリン誘導体またはその
塩。 【効果】上記化合物は、ＭＲＳＡに対して強い抗菌活性
を有し、抗菌剤として有用である。
アリール、アリールチオ、アリールオキシまたは複素環
式基；Ａは、保護されていてもよいアミノ、ヒドロキシ
ルもしくはヒドロキシイミノ基またはアルコキシイミノ
基で置換されていてもよいメチレン基；Ｒ２は、ハロゲ
ン原子、シアノ基、アミジノ基などから選ばれる１つ以
上の基で置換されていてもよいピリミジニル、キナゾリ
ニル、プリニル、ピラゾロ［３，４−ｄ］ピリミジニ
ル、ピラゾロ［４，３−ｄ］ピリミジニル、［１，２，
３］トリアゾロ［４，５−ｄ］ピリミジニルまたはプテ
リジニル基；Ｒ３は、保護されていてもよいカルボキシ
ル基またはカルボキシラート基；ｎは、０または１を示
す。］で表されるセファロスポリン誘導体またはその
塩。 【効果】上記化合物は、ＭＲＳＡに対して強い抗菌活性
を有し、抗菌剤として有用である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なセファロスポリ
ン誘導体またはその塩に関する。さらに詳しくは、次の
一般式［１］
ン誘導体またはその塩に関する。さらに詳しくは、次の
一般式［１］
【化２】 ［式中、Ｒ1は、置換されていてもよいアルキルチオ、
アリール、アリールチオ、アリールオキシまたは複素環
式基を；Ａは、保護されていてもよいアミノ、ヒドロキ
シルもしくはヒドロキシイミノ基またはアルコキシイミ
ノ基で置換されていてもよいメチレン基を；Ｒ2は、ハ
ロゲン原子、シアノ基、アミジノ基、グアニジノ基、ア
ジド基、ニトロ基、置換されていてもよいアルキル、ア
ルケニル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、ア
リールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキル
アミノ、アシル、カルバモイル、カルバモイルオキシ、
アルコキシイミノ、ウレイド、アルキルスルフィニル、
アルキルスルホニルもしくはスルファモイル基または保
護されていてもよいアミノ、イミノ、ヒドロキシル、ヒ
ドロキシイミノもしくはカルボキシル基から選ばれる１
つ以上の基で置換されていてもよいピリミジニル、キナ
ゾリニル、プリニル、ピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミジ
ニル、ピラゾロ［４,３−ｄ］ピリミジニル、［１,２,
３］トリアゾロ［４,５−ｄ］ピリミジニルまたはプテ
リジニル基を；Ｒ3は、保護されていてもよいカルボキ
シル基またはカルボキシラート基を；ｎは、０または１
をそれぞれ示す。］で表されるセファロスポリン誘導体
またはその塩に関する。
アリール、アリールチオ、アリールオキシまたは複素環
式基を；Ａは、保護されていてもよいアミノ、ヒドロキ
シルもしくはヒドロキシイミノ基またはアルコキシイミ
ノ基で置換されていてもよいメチレン基を；Ｒ2は、ハ
ロゲン原子、シアノ基、アミジノ基、グアニジノ基、ア
ジド基、ニトロ基、置換されていてもよいアルキル、ア
ルケニル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、ア
リールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキル
アミノ、アシル、カルバモイル、カルバモイルオキシ、
アルコキシイミノ、ウレイド、アルキルスルフィニル、
アルキルスルホニルもしくはスルファモイル基または保
護されていてもよいアミノ、イミノ、ヒドロキシル、ヒ
ドロキシイミノもしくはカルボキシル基から選ばれる１
つ以上の基で置換されていてもよいピリミジニル、キナ
ゾリニル、プリニル、ピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミジ
ニル、ピラゾロ［４,３−ｄ］ピリミジニル、［１,２,
３］トリアゾロ［４,５−ｄ］ピリミジニルまたはプテ
リジニル基を；Ｒ3は、保護されていてもよいカルボキ
シル基またはカルボキシラート基を；ｎは、０または１
をそれぞれ示す。］で表されるセファロスポリン誘導体
またはその塩に関する。
【０００２】
【従来の技術】広範囲な抗菌スペクトルと強い抗菌活性
を有するセファロスポリン系抗生物質が多く開発されて
きているが、メチシリン耐性黄色ブドウ球菌（ＭＲＳ
Ａ）に対する抗菌活性についてはいまだ不十分である。
を有するセファロスポリン系抗生物質が多く開発されて
きているが、メチシリン耐性黄色ブドウ球菌（ＭＲＳ
Ａ）に対する抗菌活性についてはいまだ不十分である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このような状況下にお
いて、ＭＲＳＡに対して強い抗菌活性を有するセファロ
スポリン誘導体の開発が望まれていた。
いて、ＭＲＳＡに対して強い抗菌活性を有するセファロ
スポリン誘導体の開発が望まれていた。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため鋭意研究を行った結果、セファロスポリ
ン環の３位に、ピリミジニルチオ、キナゾリニルチオ、
プリニルチオ、ピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミジニルチ
オ、ピラゾロ［４,３−ｄ］ピリミジニルチオ、［１,
２,３］トリアゾロ［４,５−ｄ］ピリミジニルチオまた
はプテリジニルチオ基を有する一般式［１］で表される
新規なセファロスポリン誘導体またはその塩が、ＭＲＳ
Ａに対して強い抗菌活性を有しており、人および動物に
対する医薬品として有用であることを見出し、本発明を
完成するに至った．
を解決するため鋭意研究を行った結果、セファロスポリ
ン環の３位に、ピリミジニルチオ、キナゾリニルチオ、
プリニルチオ、ピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミジニルチ
オ、ピラゾロ［４,３−ｄ］ピリミジニルチオ、［１,
２,３］トリアゾロ［４,５−ｄ］ピリミジニルチオまた
はプテリジニルチオ基を有する一般式［１］で表される
新規なセファロスポリン誘導体またはその塩が、ＭＲＳ
Ａに対して強い抗菌活性を有しており、人および動物に
対する医薬品として有用であることを見出し、本発明を
完成するに至った．
【０００５】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本明細書において、特に断らない限り、ハロゲン原子と
は、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨ
ウ素原子を；アルキル基とは、例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、n-ブチル、sec-ブチル、
イソブチル、tert-ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプ
チル、オクチル、ノニル、デシルおよびウンデシルなど
の直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-12アルキル基を；低級
アルキル基とは、例えば、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、n-ブチル、sec-ブチル、イソブチル、te
rt-ブチルおよびペンチルなどの直鎖状もしくは分枝鎖
状のＣ1 -5アルキル基を；アルケニル基とは、例えば、
ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニ
ル、イソブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニ
ル、オクテニルなどのＣ2-12アルケニル基を；シクロア
ルキル基とは、例えば、シクロプロピル、シクロブチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどのＣ3-6シク
ロアルキル基を；アシル基とは、例えば、ホルミル基、
アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バ
レリルなどのＣ2-5アルカノイル基並びにベンゾイルお
よびナフトイルなどのアロイル基を；アリール基とは、
フェニルおよびナフチル基などを；
本明細書において、特に断らない限り、ハロゲン原子と
は、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨ
ウ素原子を；アルキル基とは、例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、n-ブチル、sec-ブチル、
イソブチル、tert-ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプ
チル、オクチル、ノニル、デシルおよびウンデシルなど
の直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-12アルキル基を；低級
アルキル基とは、例えば、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、n-ブチル、sec-ブチル、イソブチル、te
rt-ブチルおよびペンチルなどの直鎖状もしくは分枝鎖
状のＣ1 -5アルキル基を；アルケニル基とは、例えば、
ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニ
ル、イソブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニ
ル、オクテニルなどのＣ2-12アルケニル基を；シクロア
ルキル基とは、例えば、シクロプロピル、シクロブチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどのＣ3-6シク
ロアルキル基を；アシル基とは、例えば、ホルミル基、
アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バ
レリルなどのＣ2-5アルカノイル基並びにベンゾイルお
よびナフトイルなどのアロイル基を；アリール基とは、
フェニルおよびナフチル基などを；
【０００６】アルコキシ基とは、例えば、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、se
c-ブトキシ、イソブトキシ、tert-ブトキシ、ペンチル
オキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオ
キシ、ノニルオキシ、デシルオキシおよびウンデシルオ
キシなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-12アルキル−
Ｏ−基を；低級アルコキシ基とは、例えば、メトキシ、
エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、
sec-ブトキシ、イソブトキシ、tert-ブトキシおよびペ
ンチルオキシなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-5ア
ルキル−Ｏ−基を；アルキルチオ基とは、例えば、メチ
ルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチ
オ、n-ブチルチオ、sec-ブチルチオ、イソブチルチオ、
tert-ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ、ヘプ
チルチオ、オクチルチオ、ノニルチオ、デシルチオおよ
びウンデシルチオなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ
1-12アルキル−Ｓ−基を；低級アルキルチオ基とは、例
えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプ
ロピルチオ、n-ブチルチオ、sec-ブチルチオ、イソブチ
ルチオ、tert-ブチルチオおよびペンチルチオなどの直
鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1 -5アルキル−Ｓ−基を；ア
ルキルアミノ基とは、例えば、メチルアミノ、エチルア
ミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、n-ブチル
アミノ、sec-ブチルアミノ、イソブチルアミノ、tert-
ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキシルアミノ、ヘプ
チルアミノ、オクチルアミノ、ノニルアミノ、デシルア
ミノ、ウンデシルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルア
ミノ、ジプロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ、メチ
ルエチルアミノ、メチルプロピルアミノおよびエチルブ
チルアミノなどのモノ−またはジ−Ｃ1-12アルキル基で
置換されたアミノ基を；低級アルキルアミノ基とは、例
えば、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、
イソプロピルアミノ、n-ブチルアミノ、sec-ブチルアミ
ノ、イソブチルアミノ、tert-ブチルアミノ、ペンチル
アミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピル
アミノ、ジイソプロピルアミノ、メチルエチルアミノ、
メチルプロピルアミノおよびエチルブチルアミノなどの
モノ−またはジ−Ｃ1-5アルキル基で置換されたアミノ
基を；
トキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、se
c-ブトキシ、イソブトキシ、tert-ブトキシ、ペンチル
オキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオ
キシ、ノニルオキシ、デシルオキシおよびウンデシルオ
キシなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-12アルキル−
Ｏ−基を；低級アルコキシ基とは、例えば、メトキシ、
エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、
sec-ブトキシ、イソブトキシ、tert-ブトキシおよびペ
ンチルオキシなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-5ア
ルキル−Ｏ−基を；アルキルチオ基とは、例えば、メチ
ルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチ
オ、n-ブチルチオ、sec-ブチルチオ、イソブチルチオ、
tert-ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ、ヘプ
チルチオ、オクチルチオ、ノニルチオ、デシルチオおよ
びウンデシルチオなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ
1-12アルキル−Ｓ−基を；低級アルキルチオ基とは、例
えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプ
ロピルチオ、n-ブチルチオ、sec-ブチルチオ、イソブチ
ルチオ、tert-ブチルチオおよびペンチルチオなどの直
鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1 -5アルキル−Ｓ−基を；ア
ルキルアミノ基とは、例えば、メチルアミノ、エチルア
ミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、n-ブチル
アミノ、sec-ブチルアミノ、イソブチルアミノ、tert-
ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキシルアミノ、ヘプ
チルアミノ、オクチルアミノ、ノニルアミノ、デシルア
ミノ、ウンデシルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルア
ミノ、ジプロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ、メチ
ルエチルアミノ、メチルプロピルアミノおよびエチルブ
チルアミノなどのモノ−またはジ−Ｃ1-12アルキル基で
置換されたアミノ基を；低級アルキルアミノ基とは、例
えば、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、
イソプロピルアミノ、n-ブチルアミノ、sec-ブチルアミ
ノ、イソブチルアミノ、tert-ブチルアミノ、ペンチル
アミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピル
アミノ、ジイソプロピルアミノ、メチルエチルアミノ、
メチルプロピルアミノおよびエチルブチルアミノなどの
モノ−またはジ−Ｃ1-5アルキル基で置換されたアミノ
基を；
【０００７】アリールチオ基とは、例えば、フェニルチ
オおよびナフチルチオなどのアリール−Ｓ−基を；アリ
ールオキシ基とは、例えば、フェニルオキシおよびナフ
チルオキシなどのアリール−Ｏ−基を；アルコキシイミ
ノ基とは、例えば、メトキシイミノ、エトキシイミノ、
プロポキシイミノ、イソプロポキシイミノ、n-ブトキシ
イミノ、sec-ブトキシイミノ、イソブトキシイミノ、te
rt-ブトキシイミノ、ペンチルオキシイミノ、ヘキシル
オキシイミノ、ヘプチルオキシイミノ、オクチルオキシ
イミノ、ノニルオキシイミノ、デシルオキシイミノおよ
びウンデシルオキシイミノなどの直鎖状もしくは分枝鎖
状のＣ1-12アルキル−Ｏ−イミノ基を；イミノアルキル
基とは、例えば、イミノメチル、１−イミノエチル、１
−イミノプロピル、２−イミノプロピル、１−イミノブ
チル、２−イミノブチルおよび１−イミノペンチルなど
のイミノ基が置換した直鎖状のＣ1-5アルキル基を；
オおよびナフチルチオなどのアリール−Ｓ−基を；アリ
ールオキシ基とは、例えば、フェニルオキシおよびナフ
チルオキシなどのアリール−Ｏ−基を；アルコキシイミ
ノ基とは、例えば、メトキシイミノ、エトキシイミノ、
プロポキシイミノ、イソプロポキシイミノ、n-ブトキシ
イミノ、sec-ブトキシイミノ、イソブトキシイミノ、te
rt-ブトキシイミノ、ペンチルオキシイミノ、ヘキシル
オキシイミノ、ヘプチルオキシイミノ、オクチルオキシ
イミノ、ノニルオキシイミノ、デシルオキシイミノおよ
びウンデシルオキシイミノなどの直鎖状もしくは分枝鎖
状のＣ1-12アルキル−Ｏ−イミノ基を；イミノアルキル
基とは、例えば、イミノメチル、１−イミノエチル、１
−イミノプロピル、２−イミノプロピル、１−イミノブ
チル、２−イミノブチルおよび１−イミノペンチルなど
のイミノ基が置換した直鎖状のＣ1-5アルキル基を；
【０００８】アルキルスルフィニル基とは、例えば、メ
チルスルフィニル、エチルスルフィニル、プロピルスル
フィニル、イソプロピルスルフィニル、ブチルスルフィ
ニル、ペンチルスルフィニル、ヘキシルスルフィニル、
ヘプチルスルフィニル、オクチルスルフィニル、ノニル
スルフィニル、デカニルスルフィニルおよびウンデカニ
ルスルフィニルなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-12
アルキル−ＳＯ−基を；アルキルスルホニル基とは、例
えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピル
スルホニル、イソプロピルスルホニル、ブチルスルホニ
ル、ペンチルスルホニル、ヘキシルスルホニル、ヘプチ
ルスルホニル、オクチルスルホニル、ノニルスルホニ
ル、デカニルスルホニルおよびウンデカニルスルホニル
などの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-12アルキル−ＳＯ
2−基を；
チルスルフィニル、エチルスルフィニル、プロピルスル
フィニル、イソプロピルスルフィニル、ブチルスルフィ
ニル、ペンチルスルフィニル、ヘキシルスルフィニル、
ヘプチルスルフィニル、オクチルスルフィニル、ノニル
スルフィニル、デカニルスルフィニルおよびウンデカニ
ルスルフィニルなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-12
アルキル−ＳＯ−基を；アルキルスルホニル基とは、例
えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピル
スルホニル、イソプロピルスルホニル、ブチルスルホニ
ル、ペンチルスルホニル、ヘキシルスルホニル、ヘプチ
ルスルホニル、オクチルスルホニル、ノニルスルホニ
ル、デカニルスルホニルおよびウンデカニルスルホニル
などの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-12アルキル−ＳＯ
2−基を；
【０００９】アルコキシカルボニル基とは、例えば、メ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカ
ルボニル、イソプロポキシカルボニル、n-ブトキシカル
ボニル、sec-ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボ
ニル、tert-ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカル
ボニル、ヘキシルオキシカルボニル、ヘプチルオキシカ
ルボニル、オクチルオキシカルボニル、ノニルオキシカ
ルボニル、デシルオキシカルボニルおよびウンデシルオ
キシカルボニルなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1- 12
アルキル−Ｏ−ＣＯ−基を；
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカ
ルボニル、イソプロポキシカルボニル、n-ブトキシカル
ボニル、sec-ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボ
ニル、tert-ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカル
ボニル、ヘキシルオキシカルボニル、ヘプチルオキシカ
ルボニル、オクチルオキシカルボニル、ノニルオキシカ
ルボニル、デシルオキシカルボニルおよびウンデシルオ
キシカルボニルなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1- 12
アルキル−Ｏ−ＣＯ−基を；
【００１０】複素環式基とは、たとえば、アゼチジニ
ル、チエニル、フリル、ピロリル、イミダゾリル、ピラ
ゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、
イソオキサゾリル、フラザニル、ピロリジニル、ピロリ
ニル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル、ピラゾリジ
ニル、ピラゾリニル、１,３,４−オキサジアゾリル、
１,２,３−チアジアゾリル、１,２,４−チアジアゾリ
ル、１,３,４−チアジアゾリル、１,２,３−トリアゾリ
ル、１,２,４−トリアゾリル、テトラゾリル、チアトリ
アゾリル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリ
ダジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、ピラニル、モ
ルホリニル、１,２,４−トリアジニル、ベンゾチエニ
ル、ナフトチエニル、ベンゾフリル、イソベンゾフリ
ル、クロメニル、インドリジニル、イソインドリル、イ
ンドリル、インダゾリル、プルニル、キノリル、イソキ
ノリル、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニ
ル、キナゾリニル、シノリニル、フタリジニル、イソク
ロマニル、クロマニル、インドリニル、イソインドリニ
ル、ベンゾオキサゾリル、トリアゾロピリジル、テトラ
ゾロピリダジニル、テトラゾロピリミジニル、チアゾロ
ピリダジニル、チアジアゾロピリダジニル、トリアゾロ
ピリダジニル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾチアゾリ
ル、１，２，３，４−テトラヒドロキノリル、イミダゾ
［１，２−ｂ］［１，２，４］トリアジニルおよびキヌ
クリジニルなどのような酸素原子、窒素原子および硫黄
原子から選ばれる少なくとも１つの異項原子を含有する
４〜６員複素環式基または縮合複素環式基を；それぞれ
意味する。
ル、チエニル、フリル、ピロリル、イミダゾリル、ピラ
ゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、
イソオキサゾリル、フラザニル、ピロリジニル、ピロリ
ニル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル、ピラゾリジ
ニル、ピラゾリニル、１,３,４−オキサジアゾリル、
１,２,３−チアジアゾリル、１,２,４−チアジアゾリ
ル、１,３,４−チアジアゾリル、１,２,３−トリアゾリ
ル、１,２,４−トリアゾリル、テトラゾリル、チアトリ
アゾリル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリ
ダジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、ピラニル、モ
ルホリニル、１,２,４−トリアジニル、ベンゾチエニ
ル、ナフトチエニル、ベンゾフリル、イソベンゾフリ
ル、クロメニル、インドリジニル、イソインドリル、イ
ンドリル、インダゾリル、プルニル、キノリル、イソキ
ノリル、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニ
ル、キナゾリニル、シノリニル、フタリジニル、イソク
ロマニル、クロマニル、インドリニル、イソインドリニ
ル、ベンゾオキサゾリル、トリアゾロピリジル、テトラ
ゾロピリダジニル、テトラゾロピリミジニル、チアゾロ
ピリダジニル、チアジアゾロピリダジニル、トリアゾロ
ピリダジニル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾチアゾリ
ル、１，２，３，４−テトラヒドロキノリル、イミダゾ
［１，２−ｂ］［１，２，４］トリアジニルおよびキヌ
クリジニルなどのような酸素原子、窒素原子および硫黄
原子から選ばれる少なくとも１つの異項原子を含有する
４〜６員複素環式基または縮合複素環式基を；それぞれ
意味する。
【００１１】以下、一般式［１］の化合物を詳細に説明
する。Ｒ1のアルキルチオ基、低級アルキルチオ基、ア
リール基、アリールチオ基、アリールオキシ基、フェニ
ル基、フェニルオキシ基、複素環式基、チエニル基、チ
アゾリル基およびチアジアゾリル基；Ｒ2のアルキル、
アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、
アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキ
ルアミノ、アシル、カルバモイル、カルバモイルオキ
シ、アルコキシイミノ、ウレイド、アルキルスルフィニ
ル、アルキルスルホニルおよびスルファモイル基の置換
基としては、ハロゲン原子、保護されていてもよいヒド
ロキシル基、保護されていてもよいアミノ基、保護され
ていてもよいイミノ基および低級アルコキシ基が挙げら
れる。
する。Ｒ1のアルキルチオ基、低級アルキルチオ基、ア
リール基、アリールチオ基、アリールオキシ基、フェニ
ル基、フェニルオキシ基、複素環式基、チエニル基、チ
アゾリル基およびチアジアゾリル基；Ｒ2のアルキル、
アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、
アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキ
ルアミノ、アシル、カルバモイル、カルバモイルオキ
シ、アルコキシイミノ、ウレイド、アルキルスルフィニ
ル、アルキルスルホニルおよびスルファモイル基の置換
基としては、ハロゲン原子、保護されていてもよいヒド
ロキシル基、保護されていてもよいアミノ基、保護され
ていてもよいイミノ基および低級アルコキシ基が挙げら
れる。
【００１２】本発明化合物およびその製造中間体が、ア
ミノ基、イミノ基、ヒドロキシル基、ヒドロキシイミノ
基およびカルボキシル基を有する場合に用いられる保護
基としては、従来、セフェム系化合物の分野で通常知ら
れているアミノ保護基、ヒドロキシル保護基およびカル
ボキシル保護基が挙げられる。具体的には、プロテクテ
ィブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス
［Protective Groups in Organic Synthesis セオドラ
・ダブリュー・グリーン(Theodora.W.Green)著、(1981
年)ジョン・ウィリー・アンド・サンズ社(John Wiley &
Sons, Inc.)］および特公昭60-52755号などに記載され
ている以下の様なものが挙げられる。
ミノ基、イミノ基、ヒドロキシル基、ヒドロキシイミノ
基およびカルボキシル基を有する場合に用いられる保護
基としては、従来、セフェム系化合物の分野で通常知ら
れているアミノ保護基、ヒドロキシル保護基およびカル
ボキシル保護基が挙げられる。具体的には、プロテクテ
ィブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス
［Protective Groups in Organic Synthesis セオドラ
・ダブリュー・グリーン(Theodora.W.Green)著、(1981
年)ジョン・ウィリー・アンド・サンズ社(John Wiley &
Sons, Inc.)］および特公昭60-52755号などに記載され
ている以下の様なものが挙げられる。
【００１３】アミノ保護基としては、通常アミノ基の保
護基として使用し得るすべての基を含み、例えば、トリ
クロロエトキシカルボニル、トリブロモエトキシカルボ
ニル、ベンジルオキシカルボニル、p−ニトロベンジル
オキシカルボニル、o−ブロモベンジルオキシカルボニ
ル、（モノ−、ジ−、トリ−）クロロアセチル、トリフ
ルオロアセチル、フェニルアセチル、ホルミル、アセチ
ル、ベンゾイル、tert−アミルオキシカルボニル、tert
−ブトキシカルボニル、p−メトキシベンジルオキシカ
ルボニル、３,４−ジメトキシベンジルオキシカルボニ
ル、４−（フェニルアゾ）ベンジルオキシカルボニル、
２−フルフリルオキシカルボニル、ジフェニルメトキシ
カルボニル、１,１−ジメチルプロポキシカルボニル、
イソプロポキシカルボニル、フタロイル、スクシニル、
アラニル、ロイシル、１−アダマンチルオキシカルボニ
ルおよび８−キノリルオキシカルボニルなどのアシル
基；ベンジル、ジフェニルメチルおよびトリフェニルメ
チルなどのアル−低級アルキル基；２−ニトロフェニル
チオおよび２,４−ジニトロフェニルチオなどのアリー
ルチオ基；メチルスルホニルおよびp−トリルスルホニ
ルなどのアルキル−もしくはアリール−スルホニル基；
Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノメチレンなどのジ低級アルキル
アミノ−低級アルキリデン基；ベンジリデン、２−ヒド
ロキシベンジリデン、２−ヒドロキシ−５−クロロベン
ジリデンおよび２−ヒドロキシ−１−ナフチルメチレン
などのアル−低級アルキリデン基；３−ヒドロキシ−４
−ピリジルメチレンなどの含窒素複素環式アルキリデン
基；シクロヘキシリデン、２−エトキシカルボニルシク
ロヘキシリデン、２−エトキシカルボニルシクロペンチ
リデン、２−アセチルシクロヘキシリデンおよび３,３
−ジメチル−５−オキソシクロヘキシリデンなどのシク
ロアルキリデン基；ジフェニルホスホリルおよびジベン
ジルホスホリルなどのジアリール−もしくはジアル−低
級アルキル−ホスホリル基；５−メチル−２−オキソ−
２Ｈ−１,３−ジオキソール−４−イル−メチルなどの
含酸素複素環式アルキル基並びにトリメチルシリルなど
のアルキル置換シリル基などが挙げられる。
護基として使用し得るすべての基を含み、例えば、トリ
クロロエトキシカルボニル、トリブロモエトキシカルボ
ニル、ベンジルオキシカルボニル、p−ニトロベンジル
オキシカルボニル、o−ブロモベンジルオキシカルボニ
ル、（モノ−、ジ−、トリ−）クロロアセチル、トリフ
ルオロアセチル、フェニルアセチル、ホルミル、アセチ
ル、ベンゾイル、tert−アミルオキシカルボニル、tert
−ブトキシカルボニル、p−メトキシベンジルオキシカ
ルボニル、３,４−ジメトキシベンジルオキシカルボニ
ル、４−（フェニルアゾ）ベンジルオキシカルボニル、
２−フルフリルオキシカルボニル、ジフェニルメトキシ
カルボニル、１,１−ジメチルプロポキシカルボニル、
イソプロポキシカルボニル、フタロイル、スクシニル、
アラニル、ロイシル、１−アダマンチルオキシカルボニ
ルおよび８−キノリルオキシカルボニルなどのアシル
基；ベンジル、ジフェニルメチルおよびトリフェニルメ
チルなどのアル−低級アルキル基；２−ニトロフェニル
チオおよび２,４−ジニトロフェニルチオなどのアリー
ルチオ基；メチルスルホニルおよびp−トリルスルホニ
ルなどのアルキル−もしくはアリール−スルホニル基；
Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノメチレンなどのジ低級アルキル
アミノ−低級アルキリデン基；ベンジリデン、２−ヒド
ロキシベンジリデン、２−ヒドロキシ−５−クロロベン
ジリデンおよび２−ヒドロキシ−１−ナフチルメチレン
などのアル−低級アルキリデン基；３−ヒドロキシ−４
−ピリジルメチレンなどの含窒素複素環式アルキリデン
基；シクロヘキシリデン、２−エトキシカルボニルシク
ロヘキシリデン、２−エトキシカルボニルシクロペンチ
リデン、２−アセチルシクロヘキシリデンおよび３,３
−ジメチル−５−オキソシクロヘキシリデンなどのシク
ロアルキリデン基；ジフェニルホスホリルおよびジベン
ジルホスホリルなどのジアリール−もしくはジアル−低
級アルキル−ホスホリル基；５−メチル−２−オキソ−
２Ｈ−１,３−ジオキソール−４−イル−メチルなどの
含酸素複素環式アルキル基並びにトリメチルシリルなど
のアルキル置換シリル基などが挙げられる。
【００１４】ヒドロキシル保護基としては、通常ヒドロ
キシル基の保護基として使用し得るすべての基を含み、
例えば、ベンジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル、４−ブロモベンジルオキシカルボ
ニル、４−メトキシベンジルオキシカルボニル、３,４
−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、メトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニ
ル、１,１−ジメチルプロポキシカルボニル、イソプロ
ポキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、ジフ
ェニルメトキシカルボニル、２,２,２−トリクロロエト
キシカルボニル、２,２,２−トリブロモエトキシカルボ
ニル、２−(トリメチルシリル)エトキシカルボニル、２
−(フェニルスルホニル)エトキシカルボニル、２−(ト
リフェニルホスホニオ)エトキシカルボニル、２−フル
フリルオキシカルボニル、１−アダマンチルオキシカル
ボニル、ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボ
ニル、Ｓ−ベンジルチオカルボニル、４−エトキシ−１
−ナフチルオキシカルボニル、８−キノリルオキシカル
ボニル、アセチル、ホルミル、クロロアセチル、ジクロ
ロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチ
ル、メトキシアセチル、フェノキシアセチル、ピバロイ
ルおよびベンゾイルなどのアシル基；メチル、tert−ブ
チル、２,２,２−トリクロロエチルおよび２−トリメチ
ルシリルエチルなどの低級アルキル基；アリルなどの低
級アルケニル基；ベンジル、p−メトキシベンジル、３,
４−ジメトキシベンジル、ジフェニルメチルおよびトリ
チルなどのアルアルキル基；テトラヒドロフリル、テト
ラヒドロピラニルおよびテトラヒドロチオピラニルなど
の含酸素および含硫黄複素環式基；メトキシメチル、メ
チルチオメチル、ベンジルオキシメチル、２−メトキシ
エトキシメチル、２,２,２−トリクロロエトキシメチ
ル、２−（トリメチルシリル）エトキシメチルおよび１
−エトキシエチルなどの低級アルコキシ−および低級ア
ルキルチオ−低級アルキル基；メチルスルホニルおよび
p−トリルスルホニルなどのアルキル−もしくはアリー
ル−スルホニル基；トリメチルシリル、トリエチルシリ
ル、トリイソプロピルシリル、ジエチルイソプロピルシ
リル、tert−ブチルジメチルシリル、tert−ブチルジフ
ェニルシリルおよびジフェニルメチルシリルなどの置換
シリル基などが挙げられる。
キシル基の保護基として使用し得るすべての基を含み、
例えば、ベンジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル、４−ブロモベンジルオキシカルボ
ニル、４−メトキシベンジルオキシカルボニル、３,４
−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、メトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニ
ル、１,１−ジメチルプロポキシカルボニル、イソプロ
ポキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、ジフ
ェニルメトキシカルボニル、２,２,２−トリクロロエト
キシカルボニル、２,２,２−トリブロモエトキシカルボ
ニル、２−(トリメチルシリル)エトキシカルボニル、２
−(フェニルスルホニル)エトキシカルボニル、２−(ト
リフェニルホスホニオ)エトキシカルボニル、２−フル
フリルオキシカルボニル、１−アダマンチルオキシカル
ボニル、ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボ
ニル、Ｓ−ベンジルチオカルボニル、４−エトキシ−１
−ナフチルオキシカルボニル、８−キノリルオキシカル
ボニル、アセチル、ホルミル、クロロアセチル、ジクロ
ロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチ
ル、メトキシアセチル、フェノキシアセチル、ピバロイ
ルおよびベンゾイルなどのアシル基；メチル、tert−ブ
チル、２,２,２−トリクロロエチルおよび２−トリメチ
ルシリルエチルなどの低級アルキル基；アリルなどの低
級アルケニル基；ベンジル、p−メトキシベンジル、３,
４−ジメトキシベンジル、ジフェニルメチルおよびトリ
チルなどのアルアルキル基；テトラヒドロフリル、テト
ラヒドロピラニルおよびテトラヒドロチオピラニルなど
の含酸素および含硫黄複素環式基；メトキシメチル、メ
チルチオメチル、ベンジルオキシメチル、２−メトキシ
エトキシメチル、２,２,２−トリクロロエトキシメチ
ル、２−（トリメチルシリル）エトキシメチルおよび１
−エトキシエチルなどの低級アルコキシ−および低級ア
ルキルチオ−低級アルキル基；メチルスルホニルおよび
p−トリルスルホニルなどのアルキル−もしくはアリー
ル−スルホニル基；トリメチルシリル、トリエチルシリ
ル、トリイソプロピルシリル、ジエチルイソプロピルシ
リル、tert−ブチルジメチルシリル、tert−ブチルジフ
ェニルシリルおよびジフェニルメチルシリルなどの置換
シリル基などが挙げられる。
【００１５】カルボキシル保護基としては、通常のカル
ボキシル基の保護基として使用し得るすべての基を含
み、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、iso−プロ
ピル、１,１−ジメチルプロピル、n−ブチルおよびtert
−ブチルなどの低級アルキル基；フェニルおよびナフチ
ルなどのアリール基；ベンジル、ジフェニルメチル、ト
リチル、p−ニトロベンジル、p−メトキシベンジルおよ
びビス(p−メトキシフェニル)メチルなどのアルアルキ
ル基；アセチルメチル，ベンゾイルメチル、p−ニトロ
ベンゾイルメチル、p−ブロモベンゾイルメチルおよびp
−メタンスルホニルベンゾイルメチルなどのアシル低級
アルキル基；２−テトラヒドロピラニルおよび２−テト
ラヒドロフラニルなどの含酸素複素環式基；２,２,２−
トリクロロエチルなどのハロゲノ低級アルキル基；２−
（トリメチルシリル）エチルなどの低級アルキルシリル
アルキル基；アセトキシメチル，プロピオニルオキシメ
チルおよびピバロイルオキシメチルなどのアルキルカル
ボニルオキシアルキル基；フタルイミドメチルおよびス
クシンイミドメチルなどの含窒素複素環式−低級アルキ
ル基；シクロヘキシルなどのシクロアルキル基；メトキ
シメチル、メトキシエトキシメチルおよび２−（トリメ
チルシリル）エトキシメチルなどの低級アルコキシ低級
アルキル基；ベンジルオキシメチルなどのアル−低級ア
ルコキシ低級アルキル基；メチルチオメチルおよび２−
メチルチオエチルなどの低級アルキルチオ低級アルキル
基；フェニルチオメチルなどのアリールチオ低級アルキ
ル基；１,１−ジメチル−２−プロペニル、３−メチル
−３−ブチニルおよびアリルなどの低級アルケニル基並
びにトリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプ
ロピルシリル、ジエチルイソプロピルシリル、tert−ブ
チルジメチルシリル、tert−ブチルジフェニルシリルお
よびジフェニルメチルシリルなどの置換シリル基などが
挙げられる。
ボキシル基の保護基として使用し得るすべての基を含
み、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、iso−プロ
ピル、１,１−ジメチルプロピル、n−ブチルおよびtert
−ブチルなどの低級アルキル基；フェニルおよびナフチ
ルなどのアリール基；ベンジル、ジフェニルメチル、ト
リチル、p−ニトロベンジル、p−メトキシベンジルおよ
びビス(p−メトキシフェニル)メチルなどのアルアルキ
ル基；アセチルメチル，ベンゾイルメチル、p−ニトロ
ベンゾイルメチル、p−ブロモベンゾイルメチルおよびp
−メタンスルホニルベンゾイルメチルなどのアシル低級
アルキル基；２−テトラヒドロピラニルおよび２−テト
ラヒドロフラニルなどの含酸素複素環式基；２,２,２−
トリクロロエチルなどのハロゲノ低級アルキル基；２−
（トリメチルシリル）エチルなどの低級アルキルシリル
アルキル基；アセトキシメチル，プロピオニルオキシメ
チルおよびピバロイルオキシメチルなどのアルキルカル
ボニルオキシアルキル基；フタルイミドメチルおよびス
クシンイミドメチルなどの含窒素複素環式−低級アルキ
ル基；シクロヘキシルなどのシクロアルキル基；メトキ
シメチル、メトキシエトキシメチルおよび２−（トリメ
チルシリル）エトキシメチルなどの低級アルコキシ低級
アルキル基；ベンジルオキシメチルなどのアル−低級ア
ルコキシ低級アルキル基；メチルチオメチルおよび２−
メチルチオエチルなどの低級アルキルチオ低級アルキル
基；フェニルチオメチルなどのアリールチオ低級アルキ
ル基；１,１−ジメチル−２−プロペニル、３−メチル
−３−ブチニルおよびアリルなどの低級アルケニル基並
びにトリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプ
ロピルシリル、ジエチルイソプロピルシリル、tert−ブ
チルジメチルシリル、tert−ブチルジフェニルシリルお
よびジフェニルメチルシリルなどの置換シリル基などが
挙げられる。
【００１６】一般式［１］の化合物の塩としては、通常
知られているアミノ基のような塩基性基またはカルボキ
シル、スルホもしくはヒドロキシル基などの酸性基にお
ける塩または分子内塩が挙げられる。塩基性基における
塩としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸
もしくは硫酸などの鉱酸との塩；ギ酸、トリクロロ酢酸
もしくはトリフルオロ酢酸などの有機カルボン酸との
塩；メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トル
エンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、ナフタレン−
２−スルホン酸もしくはナフタレン−１,５−ジスルホ
ン酸などのスルホン酸類との塩；またはグルタミン酸も
しくはアスパラギン酸などの酸性アミノ酸との塩など
が、また、酸性基における塩としては、例えば、ナトリ
ウムもしくはカリウムなどのアルカリ金属との塩；カル
シウムもしくはマグネシウムなどのアルカリ土類金属と
の塩；アンモニウム塩；トリメチルアミン、トリエチル
アミン、トリブチルアミン、ピリジン、Ｎ,Ｎ−ジメチ
ルアニリン、Ｎ−メチルピペリジンもしくはＮ−メチル
モルホリンなどの含窒素有機塩基との塩；またはリジン
もしくはアルギニンなどの塩基性アミノ酸との塩などが
挙げられる。また、一般式［１］の化合物およびその塩
において、異性体（例えば、光学異性体、幾何異性体、
互変異性体など）が存在する場合、本発明は、それらす
べての異性体を包含し、また、すべての水和物、溶媒和
物および種々の結晶形をも包含するものである。
知られているアミノ基のような塩基性基またはカルボキ
シル、スルホもしくはヒドロキシル基などの酸性基にお
ける塩または分子内塩が挙げられる。塩基性基における
塩としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸
もしくは硫酸などの鉱酸との塩；ギ酸、トリクロロ酢酸
もしくはトリフルオロ酢酸などの有機カルボン酸との
塩；メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トル
エンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、ナフタレン−
２−スルホン酸もしくはナフタレン−１,５−ジスルホ
ン酸などのスルホン酸類との塩；またはグルタミン酸も
しくはアスパラギン酸などの酸性アミノ酸との塩など
が、また、酸性基における塩としては、例えば、ナトリ
ウムもしくはカリウムなどのアルカリ金属との塩；カル
シウムもしくはマグネシウムなどのアルカリ土類金属と
の塩；アンモニウム塩；トリメチルアミン、トリエチル
アミン、トリブチルアミン、ピリジン、Ｎ,Ｎ−ジメチ
ルアニリン、Ｎ−メチルピペリジンもしくはＮ−メチル
モルホリンなどの含窒素有機塩基との塩；またはリジン
もしくはアルギニンなどの塩基性アミノ酸との塩などが
挙げられる。また、一般式［１］の化合物およびその塩
において、異性体（例えば、光学異性体、幾何異性体、
互変異性体など）が存在する場合、本発明は、それらす
べての異性体を包含し、また、すべての水和物、溶媒和
物および種々の結晶形をも包含するものである。
【００１７】本発明化合物のうち、Ｒ1が、ハロゲン原
子で置換されていてもよい低級アルキルチオ、フェニ
ル、フェニルオキシもしくはチエニル基、ハロゲン原子
もしくはアミノ基で置換されていてもよいチアゾリル基
またはアミノ基で置換されていてもよいチアジアゾリル
基；Ａが、保護されていてもよいヒドロキシもしくはヒ
ドロキシイミノ基またはアルコキシイミノ基で置換され
ていてもよいメチレン基；Ｒ2が、シアノ基、置換され
ていてもよいアルキル、アルコキシ、アルキルチオもし
くはアルキルアミノ基または保護されていてもよいアミ
ノもしくはヒドロキシル基から選ばれる１つ以上の基で
置換されていてもよいピリミジニル、キナゾリニル、プ
リニル、ピラゾロ［３，４−ｄ］ピリミジニル、ピラゾ
ロ［４，３−ｄ］ピリミジニル、［１，２，３］トリア
ゾロ［４，５−ｄ］ピリミジニルまたはプテリジニル基
である化合物が好ましく、Ｒ1が、ハロゲン原子で置換
された低級アルキルチオ基、フェニル基またはハロゲン
原子もしくはアミノ基で置換されていてもよいチアゾリ
ル基；Ｒ2が、シアノ基、置換されていてもよい低級ア
ルキルもしくは低級アルキルアミノ基または保護されて
いてもよいアミノもしくはヒドロキシル基から選ばれる
１つ以上の基で置換されていてもよいピリミジニル、キ
ナゾリニル、プリニル、ピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミ
ジニル、［１,２,３］トリアゾロ［４,５−ｄ］ピリミ
ジニルまたはプテリジニル基である化合物がさらに好ま
しい。
子で置換されていてもよい低級アルキルチオ、フェニ
ル、フェニルオキシもしくはチエニル基、ハロゲン原子
もしくはアミノ基で置換されていてもよいチアゾリル基
またはアミノ基で置換されていてもよいチアジアゾリル
基；Ａが、保護されていてもよいヒドロキシもしくはヒ
ドロキシイミノ基またはアルコキシイミノ基で置換され
ていてもよいメチレン基；Ｒ2が、シアノ基、置換され
ていてもよいアルキル、アルコキシ、アルキルチオもし
くはアルキルアミノ基または保護されていてもよいアミ
ノもしくはヒドロキシル基から選ばれる１つ以上の基で
置換されていてもよいピリミジニル、キナゾリニル、プ
リニル、ピラゾロ［３，４−ｄ］ピリミジニル、ピラゾ
ロ［４，３−ｄ］ピリミジニル、［１，２，３］トリア
ゾロ［４，５−ｄ］ピリミジニルまたはプテリジニル基
である化合物が好ましく、Ｒ1が、ハロゲン原子で置換
された低級アルキルチオ基、フェニル基またはハロゲン
原子もしくはアミノ基で置換されていてもよいチアゾリ
ル基；Ｒ2が、シアノ基、置換されていてもよい低級ア
ルキルもしくは低級アルキルアミノ基または保護されて
いてもよいアミノもしくはヒドロキシル基から選ばれる
１つ以上の基で置換されていてもよいピリミジニル、キ
ナゾリニル、プリニル、ピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミ
ジニル、［１,２,３］トリアゾロ［４,５−ｄ］ピリミ
ジニルまたはプテリジニル基である化合物がさらに好ま
しい。
【００１８】・３−（４−アミノピリミジン−２−イル
チオ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４
−カルボン酸ナトリウム ・７−フェニルアセトアミド−３−（ピリミジン−２−
イルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム ・３−（４−メチルピリミジン−２−イルチオ）−７−
フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸
ナトリウム ・３−（４−ヒドロキシピリミジン−２−イルチオ）−
７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ナトリウム ・３−（４−アミノ−６−ヒドロキシピリミジン−２−
イルチオ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム
−４−カルボン酸ナトリウム
チオ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４
−カルボン酸ナトリウム ・７−フェニルアセトアミド−３−（ピリミジン−２−
イルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム ・３−（４−メチルピリミジン−２−イルチオ）−７−
フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸
ナトリウム ・３−（４−ヒドロキシピリミジン−２−イルチオ）−
７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ナトリウム ・３−（４−アミノ−６−ヒドロキシピリミジン−２−
イルチオ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム
−４−カルボン酸ナトリウム
【００１９】・３−（４，６−ジアミノピリミジン−２
−イルチオ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ナトリウム ・３−［４−（１−イミノエチルアミノ）ピリミジン−
２−イルチオ］−７−フェニルアセトアミド−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ナトリウム ・３−（５−シアノピリミジン−４−イルチオ）−７−
フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸
ナトリウム ・７−フェニルアセトアミド−３−（プリン−６−イル
チオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム ・３−（６−アミノプリン−２−イルチオ）−７−フェ
ニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ナト
リウム
−イルチオ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ナトリウム ・３−［４−（１−イミノエチルアミノ）ピリミジン−
２−イルチオ］−７−フェニルアセトアミド−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ナトリウム ・３−（５−シアノピリミジン−４−イルチオ）−７−
フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸
ナトリウム ・７−フェニルアセトアミド−３−（プリン−６−イル
チオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム ・３−（６−アミノプリン−２−イルチオ）−７−フェ
ニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ナト
リウム
【００２０】・３−（２−アミノプリン−６−イルチ
オ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−
カルボン酸ナトリウム ・３−（６−ヒドロキシプリン−２−イルチオ）−７−
フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸
ナトリウム ・３−（２−ヒドロキシプリン−６−イルチオ）−７−
フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸
ナトリウム ・３−（９−アミノプリン−６−イルチオ）−７−フェ
ニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ナト
リウム ・７−フェニルアセトアミド−３−（ピラゾロ［３,４
−ｄ］ピリミジン−４−イルチオ）−３−セフェム−４
−カルボン酸ナトリウム
オ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−
カルボン酸ナトリウム ・３−（６−ヒドロキシプリン−２−イルチオ）−７−
フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸
ナトリウム ・３−（２−ヒドロキシプリン−６−イルチオ）−７−
フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸
ナトリウム ・３−（９−アミノプリン−６−イルチオ）−７−フェ
ニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ナト
リウム ・７−フェニルアセトアミド−３−（ピラゾロ［３,４
−ｄ］ピリミジン−４−イルチオ）−３−セフェム−４
−カルボン酸ナトリウム
【００２１】・３−（４−アミノピラゾロ［３,４−
ｄ］ピリミジン−６−イルチオ）−７−フェニルアセト
アミド−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム ・３−（４−ヒドロキシキナゾリン−２−イルチオ）−
７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ナトリウム ・３−（４−アミノキナゾリン−２−イルチオ）−７−
フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸
ナトリウム ・３−（２−アミノプテリジン−４−イルチオ）−７−
フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸
ナトリウム ・３−（５−アミノ［１,２,３］トリアゾロ［４,５−
ｄ］ピリミジン−７−イルチオ）−７−フェニルアセト
アミド−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム
ｄ］ピリミジン−６−イルチオ）−７−フェニルアセト
アミド−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム ・３−（４−ヒドロキシキナゾリン−２−イルチオ）−
７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ナトリウム ・３−（４−アミノキナゾリン−２−イルチオ）−７−
フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸
ナトリウム ・３−（２−アミノプテリジン−４−イルチオ）−７−
フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸
ナトリウム ・３−（５−アミノ［１,２,３］トリアゾロ［４,５−
ｄ］ピリミジン−７−イルチオ）−７−フェニルアセト
アミド−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム
【００２２】・３−（４−アミノピラゾロ［３,４−
ｄ］ピリミジン−６−イルチオ）−７−（ジフルオロメ
チルチオ）アセトアミド−３−セフェム−４−カルボン
酸ナトリウム ・３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミジン
−６−イルチオ）−７−［（Ｚ）−２−ヒドロキシイミ
ノ−２−フェニルアセトアミド］−３−セフェム−４−
カルボン酸ナトリウム ・３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミジン
−６−イルチオ）−７−［（Ｒ）−２−ヒドロキシ−２
−フェニルアセトアミド］−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ナトリウム ・７−［２−（２−アミノ−５−クロロチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−ヒドロキシイミノアセトアミ
ド］−３−（４−アミノピリミジン−２−イルチオ）−
３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム ・３−（４−アミノピリミジン−２−イルチオ）−７−
［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−
２−メトキシイミノアセトアミド］−３−セフェム−４
−カルボン酸ナトリウム
ｄ］ピリミジン−６−イルチオ）−７−（ジフルオロメ
チルチオ）アセトアミド−３−セフェム−４−カルボン
酸ナトリウム ・３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミジン
−６−イルチオ）−７−［（Ｚ）−２−ヒドロキシイミ
ノ−２−フェニルアセトアミド］−３−セフェム−４−
カルボン酸ナトリウム ・３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミジン
−６−イルチオ）−７−［（Ｒ）−２−ヒドロキシ−２
−フェニルアセトアミド］−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ナトリウム ・７−［２−（２−アミノ−５−クロロチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−ヒドロキシイミノアセトアミ
ド］−３−（４−アミノピリミジン−２−イルチオ）−
３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム ・３−（４−アミノピリミジン−２−イルチオ）−７−
［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−
２−メトキシイミノアセトアミド］−３−セフェム−４
−カルボン酸ナトリウム
【００２３】・３−（４−アミノピラゾロ［３,４−
ｄ］ピリミジン−６−イルチオ）−７−フェニルオキシ
アセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウ
ム ・３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミジン
−６−イルチオ）−７−（チオフェン−２−イル）アセ
トアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム ・７−［２−（２−アミノ−５−クロロチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−ヒドロキシイミノアセトアミ
ド］−３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミ
ジン−６−イルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸
ナトリウム ・３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミジン
−６−イルチオ）−７−［２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトアミ
ド］−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム ・３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミジン
−６−イルチオ）−７−［２−（５−アミノ−１,２,４
−チアジアゾール−３−イル）−（Ｚ）−２−ヒドロキ
シイミノアセトアミド］−３−セフェム−４−カルボン
酸ナトリウム ・３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミジン
−６−イルチオ）−７−［２−（５−アミノ−１,２,４
−チアジアゾール−３−イル）−（Ｚ）−２−メトキシ
イミノアセトアミド］−３−セフェム−４−カルボン酸
ナトリウム
ｄ］ピリミジン−６−イルチオ）−７−フェニルオキシ
アセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウ
ム ・３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミジン
−６−イルチオ）−７−（チオフェン−２−イル）アセ
トアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム ・７−［２−（２−アミノ−５−クロロチアゾール−４
−イル）−（Ｚ）−２−ヒドロキシイミノアセトアミ
ド］−３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミ
ジン−６−イルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸
ナトリウム ・３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミジン
−６−イルチオ）−７−［２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトアミ
ド］−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム ・３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミジン
−６−イルチオ）−７−［２−（５−アミノ−１,２,４
−チアジアゾール−３−イル）−（Ｚ）−２−ヒドロキ
シイミノアセトアミド］−３−セフェム−４−カルボン
酸ナトリウム ・３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミジン
−６−イルチオ）−７−［２−（５−アミノ−１,２,４
−チアジアゾール−３−イル）−（Ｚ）−２−メトキシ
イミノアセトアミド］−３−セフェム−４−カルボン酸
ナトリウム
【００２４】つぎに、本発明化合物の製造法について説
明する。本発明化合物は、例えば、次に示す製造法に従
って合成することができる。
明する。本発明化合物は、例えば、次に示す製造法に従
って合成することができる。
【００２５】
【式１】
【００２６】
【式２】
【００２７】
【式３】
【００２８】［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ａおよびｎは、
それぞれ、前記したと同様の意味を有し、Ｒ4は、水素
原子またはアミノ保護基を；並びにＸは、脱離基を、そ
れぞれ示す。］ Ｒ4のアミノ保護基としては、ＡおよびＲ2で説明したと
同様のアミノ保護基が挙げられる。Ｘの脱離基として
は、ハロゲン原子、メチルスルホニルオキシ、エチルス
ルホニルオキシなどの低級アルキルスルホニルオキシ
基；トリフルオロメチルスルホニルオキシなどのハロゲ
ノ低級アルキルスルホニルオキシ基およびp−トリルス
ルホニルオキシなどのアリールスルホニルオキシ基など
が挙げられる。
それぞれ、前記したと同様の意味を有し、Ｒ4は、水素
原子またはアミノ保護基を；並びにＸは、脱離基を、そ
れぞれ示す。］ Ｒ4のアミノ保護基としては、ＡおよびＲ2で説明したと
同様のアミノ保護基が挙げられる。Ｘの脱離基として
は、ハロゲン原子、メチルスルホニルオキシ、エチルス
ルホニルオキシなどの低級アルキルスルホニルオキシ
基；トリフルオロメチルスルホニルオキシなどのハロゲ
ノ低級アルキルスルホニルオキシ基およびp−トリルス
ルホニルオキシなどのアリールスルホニルオキシ基など
が挙げられる。
【００２９】一般式［１ａ］、［１ｂ］、［２］、
［３］、［４］、［５］および［６］の化合物の塩とし
ては、一般式［１］の化合物の塩で説明したものと同様
の塩が挙げられる。
［３］、［４］、［５］および［６］の化合物の塩とし
ては、一般式［１］の化合物の塩で説明したものと同様
の塩が挙げられる。
【００３０】一般式［４］の化合物またはその塩の反応
性誘導体としては、例えば、トリメチルシラニル、ジメ
チルシランジイル、イソプロピルジメチルシラニル、ト
リメトキシシラニル、ジメトキシメチルシラニル、ジメ
チルメトキシシラニルもしくはジメトキシシランジイル
などの有機シリル基またはジメトキシホスフィニル、
１,３,２−ジオキソホスホラン−２−イル、４−メチル
−１,３,２−ジオキソホスホラン−２−イルもしくは
１,３,２−ジオキソホスホリナン−２−イルなどの有機
リン基が反応部位であるアミノ基に結合した化合物など
が挙げられる。
性誘導体としては、例えば、トリメチルシラニル、ジメ
チルシランジイル、イソプロピルジメチルシラニル、ト
リメトキシシラニル、ジメトキシメチルシラニル、ジメ
チルメトキシシラニルもしくはジメトキシシランジイル
などの有機シリル基またはジメトキシホスフィニル、
１,３,２−ジオキソホスホラン−２−イル、４−メチル
−１,３,２−ジオキソホスホラン−２−イルもしくは
１,３,２−ジオキソホスホリナン−２−イルなどの有機
リン基が反応部位であるアミノ基に結合した化合物など
が挙げられる。
【００３１】一般式［５］の化合物またはその塩の反応
性誘導体としては、例えば、特開昭59-93085号などに記
載の酸ハロゲン化物、酸無水物、混合酸無水物、活性酸
アミド、活性エステル、活性チオロエステルもしくは酸
アジドまたは一般式［５］の化合物とビルスマイヤー試
薬との反応性誘導体などが挙げられる。つぎに、一般式
［１］の化合物またはその塩の製造法について、詳細に
説明する。
性誘導体としては、例えば、特開昭59-93085号などに記
載の酸ハロゲン化物、酸無水物、混合酸無水物、活性酸
アミド、活性エステル、活性チオロエステルもしくは酸
アジドまたは一般式［５］の化合物とビルスマイヤー試
薬との反応性誘導体などが挙げられる。つぎに、一般式
［１］の化合物またはその塩の製造法について、詳細に
説明する。
【００３２】製造法１ 一般式［２］の化合物またはその塩を、塩基もしくは脱
酸剤の存在下または不存在下、一般式［３］の化合物ま
たはその塩と反応させることによって、一般式［１］の
化合物またはその塩を得ることができる。この反応で用
いられる溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒
であれば特に限定されないが、例えば、水；テトラヒド
ロフラン、ジエチルエーテルおよびジオキサンなどのエ
ーテル類；塩化メチレンおよびクロロホルムなどのハロ
ゲン化炭化水素類；メタノールおよびエタノールなどの
アルコール類；Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびＮ,
Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド類；ベンゼンお
よびトルエンなどの芳香族炭化水素類；酢酸エチルおよ
び酢酸ブチルなどのエステル類；アセトンおよびメチル
エチルケトンなどのケトン類；ジメチルスルホキシド；
１,３−ジメチルイミダゾリジノン；ヘキサメチルリン
酸トリアミド；並びにアセトニトリルおよびプロピオニ
トリルなどのニトリル類などが挙げられ、これらの溶媒
を一種または二種以上混合して使用してもよい。この反
応で必要に応じて用いられる塩基としては、例えば、水
酸化アルカリ、炭酸アルカリ、炭酸水素アルカリ、ナト
リウム メトキシド、カリウム tert−ブトキシド、トリ
エチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジ
ン、ジメチルアミノピリジン、２,６−ルチジン、テト
ラメチルグアニジン、リチウムビストリメチルシリルア
ミド、水素化ナトリウム、１,８−ジアザビシクロ［５.
４.０］−７−ウンデセンまたは１,５−ジアザビシクロ
［４.３.０］−５−ノネンなどが挙げられる。
酸剤の存在下または不存在下、一般式［３］の化合物ま
たはその塩と反応させることによって、一般式［１］の
化合物またはその塩を得ることができる。この反応で用
いられる溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒
であれば特に限定されないが、例えば、水；テトラヒド
ロフラン、ジエチルエーテルおよびジオキサンなどのエ
ーテル類；塩化メチレンおよびクロロホルムなどのハロ
ゲン化炭化水素類；メタノールおよびエタノールなどの
アルコール類；Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびＮ,
Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド類；ベンゼンお
よびトルエンなどの芳香族炭化水素類；酢酸エチルおよ
び酢酸ブチルなどのエステル類；アセトンおよびメチル
エチルケトンなどのケトン類；ジメチルスルホキシド；
１,３−ジメチルイミダゾリジノン；ヘキサメチルリン
酸トリアミド；並びにアセトニトリルおよびプロピオニ
トリルなどのニトリル類などが挙げられ、これらの溶媒
を一種または二種以上混合して使用してもよい。この反
応で必要に応じて用いられる塩基としては、例えば、水
酸化アルカリ、炭酸アルカリ、炭酸水素アルカリ、ナト
リウム メトキシド、カリウム tert−ブトキシド、トリ
エチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジ
ン、ジメチルアミノピリジン、２,６−ルチジン、テト
ラメチルグアニジン、リチウムビストリメチルシリルア
ミド、水素化ナトリウム、１,８−ジアザビシクロ［５.
４.０］−７−ウンデセンまたは１,５−ジアザビシクロ
［４.３.０］−５−ノネンなどが挙げられる。
【００３３】また、必要に応じて用いられる脱酸剤とし
ては、例えば、プロピレンオキシドなどが挙げられる。
一般式［３］の化合物またはその塩の使用量は、一般式
［２］の化合物またはその塩に対して、等モル以上であ
る。また、必要に応じて用いられる塩基および脱酸剤の
使用量は、一般式［２］の化合物またはその塩に対し
て、それぞれ、０.５〜２倍モルおよび等モル以上であ
る。また、反応温度および反応時間は、特に限定されな
いが、通常、−２０℃〜１００℃で、５分〜５０時間実
施すればよい．
ては、例えば、プロピレンオキシドなどが挙げられる。
一般式［３］の化合物またはその塩の使用量は、一般式
［２］の化合物またはその塩に対して、等モル以上であ
る。また、必要に応じて用いられる塩基および脱酸剤の
使用量は、一般式［２］の化合物またはその塩に対し
て、それぞれ、０.５〜２倍モルおよび等モル以上であ
る。また、反応温度および反応時間は、特に限定されな
いが、通常、−２０℃〜１００℃で、５分〜５０時間実
施すればよい．
【００３４】製造法２ 一般式［４］の化合物もしくはその塩またはそれらの反
応性誘導体を、塩基の存在下または不存在下、一般式
［５］の化合物もしくはその塩またはそれらの反応性誘
導体と反応させることにより、一般式［１］の化合物ま
たはその塩を得ることができる。この反応で用いられる
溶媒としては、製造法１で説明したと同様の溶媒が挙げ
られる。この反応で必要に応じて用いられる塩基として
は、例えば、酢酸ナトリウム、ナトリウム メトキシ
ド、カリウム tert-ブトキシド、トリエチルアミン、ジ
イソプロピルエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノ
ピリジン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ,Ｎ−ジメチルア
ニリン、Ｎ,Ｎ−ジエチルアニリン、ジシクロヘキシル
アミン、２,６−ルチジン、テトラメチルグアニジン、
リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビストリメチ
ルシリルアミド、１,８−ジアザビシクロ[５．４．０］
−７−ウンデセンおよび１,５−ジアザビシクロ[４.３.
０]−５−ノネンなどの有機塩基；もしくは水素化ナト
リウム、水酸化アルカリ、炭酸アルカリ、炭酸水素ナト
リウムおよび炭酸水素カリウムなどの無機塩基などが挙
げられる。
応性誘導体を、塩基の存在下または不存在下、一般式
［５］の化合物もしくはその塩またはそれらの反応性誘
導体と反応させることにより、一般式［１］の化合物ま
たはその塩を得ることができる。この反応で用いられる
溶媒としては、製造法１で説明したと同様の溶媒が挙げ
られる。この反応で必要に応じて用いられる塩基として
は、例えば、酢酸ナトリウム、ナトリウム メトキシ
ド、カリウム tert-ブトキシド、トリエチルアミン、ジ
イソプロピルエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノ
ピリジン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ,Ｎ−ジメチルア
ニリン、Ｎ,Ｎ−ジエチルアニリン、ジシクロヘキシル
アミン、２,６−ルチジン、テトラメチルグアニジン、
リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビストリメチ
ルシリルアミド、１,８−ジアザビシクロ[５．４．０］
−７−ウンデセンおよび１,５−ジアザビシクロ[４.３.
０]−５−ノネンなどの有機塩基；もしくは水素化ナト
リウム、水酸化アルカリ、炭酸アルカリ、炭酸水素ナト
リウムおよび炭酸水素カリウムなどの無機塩基などが挙
げられる。
【００３５】一般式［５］の化合物を遊離酸またはその
塩の状態で使用するには、適切な縮合剤を用いる。この
ような縮合剤としては、例えば、Ｎ,Ｎ'−ジシクロヘキ
シルカルボジイミドのようなＮ,Ｎ'−ジ置換カルボジイ
ミドが挙げられる。一般式［５］の化合物もしくはその
塩またはそれらの反応性誘導体の使用量は、一般式
［４］の化合物もしくはその塩またはそれらの反応性誘
導体に対して、０.９倍モル以上、好ましくは、０.９〜
１.５倍モルである。必要に応じて用いられる塩基およ
び縮合剤の使用量は、一般式［４］の化合物もしくはそ
の塩またはそれらの反応性誘導体に対して、それぞれ、
0.5〜２倍モルおよび等モル以上である。反応温度およ
び反応時間は、特に限定されないが、通常、−５０〜８
０℃で、５分〜３０時間実施すればよい。
塩の状態で使用するには、適切な縮合剤を用いる。この
ような縮合剤としては、例えば、Ｎ,Ｎ'−ジシクロヘキ
シルカルボジイミドのようなＮ,Ｎ'−ジ置換カルボジイ
ミドが挙げられる。一般式［５］の化合物もしくはその
塩またはそれらの反応性誘導体の使用量は、一般式
［４］の化合物もしくはその塩またはそれらの反応性誘
導体に対して、０.９倍モル以上、好ましくは、０.９〜
１.５倍モルである。必要に応じて用いられる塩基およ
び縮合剤の使用量は、一般式［４］の化合物もしくはそ
の塩またはそれらの反応性誘導体に対して、それぞれ、
0.5〜２倍モルおよび等モル以上である。反応温度およ
び反応時間は、特に限定されないが、通常、−５０〜８
０℃で、５分〜３０時間実施すればよい。
【００３６】製造法３ （１）異性化 一般式［６］の化合物またはその塩を、塩基と反応させ
ることにより、一般式［１ｂ］の化合物またはその塩を
得ることができる．この反応は、例えば、ジャーナル・
オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサエティー（J.A
m.Chem.Soc.）第88巻、第852〜853頁（1966年）に記載
の方法またはそれに準じた方法によって実施することが
できる。
ることにより、一般式［１ｂ］の化合物またはその塩を
得ることができる．この反応は、例えば、ジャーナル・
オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサエティー（J.A
m.Chem.Soc.）第88巻、第852〜853頁（1966年）に記載
の方法またはそれに準じた方法によって実施することが
できる。
【００３７】（２）酸化・還元 また、別法として、一般式［６］の化合物またはその塩
を、従来セフェム系化合物の分野で通常用いられている
酸化反応に付すことによって、一般式［１ａ］の化合物
またはその塩に誘導し、ついで一般式［１ａ］の化合物
またはその塩を、従来セフェム系化合物の分野で通常用
いられている還元反応に付すことにより、一般式［１
ｂ］の化合物またはその塩を得ることもできる。これら
の酸化・還元反応は、例えば、ザ・ジャーナル・オブ・
オーガニック・ケミストリー（J.Org.Chem.）第35巻、
第2430〜2433頁（1970年）、ジャーナル・オブ・ザ・ケ
ミカル・ソサエティー［J.Chem.Soc.(C)］第1142〜1151
頁（1966年） および特開昭52-48683号 などに記載の方
法またはそれらに準じた方法によって実施することがで
きる。
を、従来セフェム系化合物の分野で通常用いられている
酸化反応に付すことによって、一般式［１ａ］の化合物
またはその塩に誘導し、ついで一般式［１ａ］の化合物
またはその塩を、従来セフェム系化合物の分野で通常用
いられている還元反応に付すことにより、一般式［１
ｂ］の化合物またはその塩を得ることもできる。これら
の酸化・還元反応は、例えば、ザ・ジャーナル・オブ・
オーガニック・ケミストリー（J.Org.Chem.）第35巻、
第2430〜2433頁（1970年）、ジャーナル・オブ・ザ・ケ
ミカル・ソサエティー［J.Chem.Soc.(C)］第1142〜1151
頁（1966年） および特開昭52-48683号 などに記載の方
法またはそれらに準じた方法によって実施することがで
きる。
【００３８】上で述べた製造法における一般式［４］ま
たは［５］の化合物もしくはそれらの塩あるいはそれら
の反応性誘導体；および一般式［２］、［３］または
［６］の化合物もしくはそれらの塩において、異性体
（例えば、光学異性体、幾何異性体、互変異性体など）
が存在する場合、これらすべての異性体を使用すること
ができ、また、すべての水和物、溶媒和物および種々の
結晶形を使用することができる。このようにして得られ
た本発明の一般式［１］の化合物もしくはその塩は、抽
出、晶出、再結晶、およびカラムクロマトグラフィーな
どの常法にしたがって単離精製することができる。
たは［５］の化合物もしくはそれらの塩あるいはそれら
の反応性誘導体；および一般式［２］、［３］または
［６］の化合物もしくはそれらの塩において、異性体
（例えば、光学異性体、幾何異性体、互変異性体など）
が存在する場合、これらすべての異性体を使用すること
ができ、また、すべての水和物、溶媒和物および種々の
結晶形を使用することができる。このようにして得られ
た本発明の一般式［１］の化合物もしくはその塩は、抽
出、晶出、再結晶、およびカラムクロマトグラフィーな
どの常法にしたがって単離精製することができる。
【００３９】次いで、本発明の化合物を製造するための
原料である一般式［２］の化合物またはその塩；一般式
［３］の化合物またはその塩；一般式［４］の化合物も
しくはその塩またはそれらの反応性誘導体；および一般
式［６］の化合物またはその塩の製造法について説明す
る。
原料である一般式［２］の化合物またはその塩；一般式
［３］の化合物またはその塩；一般式［４］の化合物も
しくはその塩またはそれらの反応性誘導体；および一般
式［６］の化合物またはその塩の製造法について説明す
る。
【００４０】（イ）製造法１における原料化合物である
一般式［２］の化合物またはその塩は、公知方法または
それらに準じた方法にしたがって製造することができる
が、具体的には、例えば、ザ・ジャーナル・オブ・オー
ガニック・ケミストリー(J.Org.Chem.)第54巻、第4962
〜4966頁（1989年）、同第59巻、第1606〜1607頁（1994
年）、ピュアー・アンド・アプライド・ケミストリー
（Pure Appl.Chem.)第59巻、第1041〜1046頁（1987年）
などに記載の方法またはそれらに準じた方法にしたがっ
て得ることができる。
一般式［２］の化合物またはその塩は、公知方法または
それらに準じた方法にしたがって製造することができる
が、具体的には、例えば、ザ・ジャーナル・オブ・オー
ガニック・ケミストリー(J.Org.Chem.)第54巻、第4962
〜4966頁（1989年）、同第59巻、第1606〜1607頁（1994
年）、ピュアー・アンド・アプライド・ケミストリー
（Pure Appl.Chem.)第59巻、第1041〜1046頁（1987年）
などに記載の方法またはそれらに準じた方法にしたがっ
て得ることができる。
【００４１】（ロ）製造法１における原料化合物である
一般式［３］の化合物またはその塩は、公知方法または
それらに準じた方法にしたがって製造することができる
が、具体的には、例えば、ケミカル・ファルマシューテ
ィカル・ブレティン(Chem.Pharm.Bull.)第25巻、第1811
〜1821頁（1977年）などに記載の方法またはそれらに準
じた方法にしたがって得ることができる。また、これら
の文献に記載の反応の他に、さらに、通常のアルキル化
反応、置換反応、アシル化反応、酸化反応、還元反応な
どを応用し、さらに他の目的の原料化合物へ誘導するこ
とができる。
一般式［３］の化合物またはその塩は、公知方法または
それらに準じた方法にしたがって製造することができる
が、具体的には、例えば、ケミカル・ファルマシューテ
ィカル・ブレティン(Chem.Pharm.Bull.)第25巻、第1811
〜1821頁（1977年）などに記載の方法またはそれらに準
じた方法にしたがって得ることができる。また、これら
の文献に記載の反応の他に、さらに、通常のアルキル化
反応、置換反応、アシル化反応、酸化反応、還元反応な
どを応用し、さらに他の目的の原料化合物へ誘導するこ
とができる。
【００４２】（ハ）製造法２における原料化合物である
一般式［４］もしくはその塩またはそれらの反応性誘導
体；製造法３における原料化合物である一般式［６］の
化合物またはその塩は、製造法１および自体公知の方法
を組み合わせて製造することができる。
一般式［４］もしくはその塩またはそれらの反応性誘導
体；製造法３における原料化合物である一般式［６］の
化合物またはその塩は、製造法１および自体公知の方法
を組み合わせて製造することができる。
【００４３】以上、説明した本発明化合物の製造法およ
び原料化合物の製造法において、反応部位以外に、アミ
ノ基、あるいはヒドロキシル基などの活性基を有する場
合、予めこれらの基を常法にしたがって保護しておき、
反応後に常法にしたがって脱離してもよい。また、反応
終了後、反応目的物は単離することなく、そのままつぎ
の反応に用いることもでき、また、抽出、晶出、再結
晶、およびカラムクロマトグラフィーなどの常法にした
がって単離精製してもよい。
び原料化合物の製造法において、反応部位以外に、アミ
ノ基、あるいはヒドロキシル基などの活性基を有する場
合、予めこれらの基を常法にしたがって保護しておき、
反応後に常法にしたがって脱離してもよい。また、反応
終了後、反応目的物は単離することなく、そのままつぎ
の反応に用いることもでき、また、抽出、晶出、再結
晶、およびカラムクロマトグラフィーなどの常法にした
がって単離精製してもよい。
【００４４】本発明化合物を医薬として用いる場合、通
常製剤化に使用される賦形剤、通常の医薬担体および希
釈剤などの製剤補助剤を適宜混合してもよく、これら
は、常法にしたがって、錠剤、軟もしくは硬カプセル
剤、散剤、シロップ剤、顆粒剤、丸剤、懸濁剤、乳剤、
液剤、粉体製剤、坐剤、軟膏剤または皮下、筋肉、静脈
内もしくは点滴注射剤などの形態で経口または非経口投
与することができる。また、投与方法、投与量および投
与回数は、患者の年齢、体重および症状に応じて適宜選
択することができ、通常成人に対しては、経口または非
経口（例えば、注射、点滴または直腸部位への投与な
ど）投与により、１日当たり0.1〜100mg/kgを１回から
数回に分割して投与すればよい。
常製剤化に使用される賦形剤、通常の医薬担体および希
釈剤などの製剤補助剤を適宜混合してもよく、これら
は、常法にしたがって、錠剤、軟もしくは硬カプセル
剤、散剤、シロップ剤、顆粒剤、丸剤、懸濁剤、乳剤、
液剤、粉体製剤、坐剤、軟膏剤または皮下、筋肉、静脈
内もしくは点滴注射剤などの形態で経口または非経口投
与することができる。また、投与方法、投与量および投
与回数は、患者の年齢、体重および症状に応じて適宜選
択することができ、通常成人に対しては、経口または非
経口（例えば、注射、点滴または直腸部位への投与な
ど）投与により、１日当たり0.1〜100mg/kgを１回から
数回に分割して投与すればよい。
【００４５】次に，本発明の代表的化合物の抗菌作用に
ついて説明する． 試験方法 日本化学療法学会標準法［ケモテラピー(CHEMOTHERAPY)
第29巻、第１号、第76〜79頁(1981年)］に準じ、増殖用
培地で一夜培養した試験菌を106cells/mlに調整し、そ
の１白金耳を、薬剤を含むミュラー ヒントン アガー(M
ueller Hinton agar) 培地（Difco社製）に接種し、37
℃で18〜20時間培養した後、菌の発育の有無を 観察
し、菌の発育が阻止された最小限度の薬剤濃度をもって
ＭＩＣ（μg/ml）とした。その結果を表１に示す。
ついて説明する． 試験方法 日本化学療法学会標準法［ケモテラピー(CHEMOTHERAPY)
第29巻、第１号、第76〜79頁(1981年)］に準じ、増殖用
培地で一夜培養した試験菌を106cells/mlに調整し、そ
の１白金耳を、薬剤を含むミュラー ヒントン アガー(M
ueller Hinton agar) 培地（Difco社製）に接種し、37
℃で18〜20時間培養した後、菌の発育の有無を 観察
し、菌の発育が阻止された最小限度の薬剤濃度をもって
ＭＩＣ（μg/ml）とした。その結果を表１に示す。
【００４６】
【表１】 ＭＩＣ(μg/ml) ─────────────────────────── 実施例No. S.aureus FDA 209P S.aureus F-597* ─────────────────────────── 53 0.2 3.13 57 0.2 3.13 62 0.2 3.13 63 0.2 3.13 68 0.2 1.56 70 0.2 3.13 71 0.2 3.13 74 0.78 6.25 76 0.78 6.25 ─────────────────────────── ＊：ＭＲＳＡ
【００４７】次に，本発明化合物の製造法を、具体的に
参考例および実施例を挙げて説明するが、本発明はこれ
らに限定されるものではない。なお、カラムクロマトグ
ラフィーにおける担体は、シリカゲル（BW-127ZH;富士
シリシア化学社製）を、さらに逆相カラムクロマトグラ
フィーにおける担体は、LC-SORB SP-B-ODS（ケムコ社
製）を、それぞれ用いた。また、溶離液における混合比
は、すべて容量比である。なお、表中の略号は以下の意
味を有する。 Ｐｈ：フェニル
参考例および実施例を挙げて説明するが、本発明はこれ
らに限定されるものではない。なお、カラムクロマトグ
ラフィーにおける担体は、シリカゲル（BW-127ZH;富士
シリシア化学社製）を、さらに逆相カラムクロマトグラ
フィーにおける担体は、LC-SORB SP-B-ODS（ケムコ社
製）を、それぞれ用いた。また、溶離液における混合比
は、すべて容量比である。なお、表中の略号は以下の意
味を有する。 Ｐｈ：フェニル
【００４８】参考例１ ７−フェニルアセトアミド−３−トリフルオロメチルス
ルホニルオキシ−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェ
ニルメチルエステル6.00gを塩化メチレン180mlおよびア
セトニトリル180mlの混合溶媒に懸濁させ、氷冷下m-ク
ロロ過安息香酸(純度70%)2.30gを加えた後、20℃で90分
間攪拌する。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液20
0mlを加え、有機層を分取する。分取した有機層を水お
よび飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物に
ジエチルエーテルを加え、析出結晶を濾取すれば、７−
フェニルアセトアミド−３−トリフルオロメチルスルホ
ニルオキシ−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニル
メチルエステル−１β−オキシド5.70gを得る。 IR(KBr)cm-1；1795,1735,1685
ルホニルオキシ−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェ
ニルメチルエステル6.00gを塩化メチレン180mlおよびア
セトニトリル180mlの混合溶媒に懸濁させ、氷冷下m-ク
ロロ過安息香酸(純度70%)2.30gを加えた後、20℃で90分
間攪拌する。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液20
0mlを加え、有機層を分取する。分取した有機層を水お
よび飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物に
ジエチルエーテルを加え、析出結晶を濾取すれば、７−
フェニルアセトアミド−３−トリフルオロメチルスルホ
ニルオキシ−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニル
メチルエステル−１β−オキシド5.70gを得る。 IR(KBr)cm-1；1795,1735,1685
【００４９】参考例２ ７−フェニルアセトアミド−３−トリフルオロメチルス
ルホニルオキシ−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェ
ニルメチルエステル2.00gを塩化メチレン40mlに懸濁さ
せ、-30℃でピリジン750mgおよび五塩化リン1.32gを加
え、氷冷下１時間攪拌した後、-20℃でメタノール12ml
を加え、氷冷下30分間攪拌する。反応液に水40mlを加
え、有機層を分取する。分取した有機層に水40mlを加
え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH5に調整した
後、有機層を分取する。分取した有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
る。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にテトラヒ
ドロフラン40ml、（ジフルオロメチルチオ）酢酸450m
g、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール480mgおよびジシ
クロヘキシルカルボジイミド650mgを順次加え、20℃で1
3時間攪拌する。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液；ト
ルエン:酢酸エチル＝4:1）で精製すれば、７−（ジフル
オロメチルチオ）アセトアミド−３−トリフルオロメチ
ルスルホニルオキシ−３−セフェム−４−カルボン酸ジ
フェニルメチルエステル1.47gを得る。 IR(KBr)cm-1；1790,1730,1695
ルホニルオキシ−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェ
ニルメチルエステル2.00gを塩化メチレン40mlに懸濁さ
せ、-30℃でピリジン750mgおよび五塩化リン1.32gを加
え、氷冷下１時間攪拌した後、-20℃でメタノール12ml
を加え、氷冷下30分間攪拌する。反応液に水40mlを加
え、有機層を分取する。分取した有機層に水40mlを加
え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH5に調整した
後、有機層を分取する。分取した有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
る。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にテトラヒ
ドロフラン40ml、（ジフルオロメチルチオ）酢酸450m
g、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール480mgおよびジシ
クロヘキシルカルボジイミド650mgを順次加え、20℃で1
3時間攪拌する。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液；ト
ルエン:酢酸エチル＝4:1）で精製すれば、７−（ジフル
オロメチルチオ）アセトアミド−３−トリフルオロメチ
ルスルホニルオキシ−３−セフェム−４−カルボン酸ジ
フェニルメチルエステル1.47gを得る。 IR(KBr)cm-1；1790,1730,1695
【００５０】同様にして以下の化合物を得る。 ・７−［（Ｚ）−２−ヒドロキシイミノ−２−フェニル
アセトアミド］−３−トリフルオロメチルスルホニルオ
キシ−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチル
エステル IR(KBr)cm-1；1780,1735,1680 ・７−［（Ｒ）−２−ホルミルオキシ−２−フェニルア
セトアミド］−３−トリフルオロメチルスルホニルオキ
シ−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエ
ステル IR(KBr)cm-1；1790,1735,1695
アセトアミド］−３−トリフルオロメチルスルホニルオ
キシ−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチル
エステル IR(KBr)cm-1；1780,1735,1680 ・７−［（Ｒ）−２−ホルミルオキシ−２−フェニルア
セトアミド］−３−トリフルオロメチルスルホニルオキ
シ−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエ
ステル IR(KBr)cm-1；1790,1735,1695
【００５１】参考例３ ７−（ジフルオロメチルチオ）アセトアミド−３−トリ
フルオロメチルスルホニルオキシ−３−セフェム−４−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル1.47gを塩化メチ
レン30mlに溶解させ、氷冷下m-クロロ過安息香酸(純度7
0%)500mgを加えた後、同温度で10分間攪拌する。反応液
に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液30mlを加え、有機層を
分取する。分取した有機層を水および飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に
溶媒を留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（溶離液；トルエン:酢酸エチル＝1:1）
で精製すれば、７−（ジフルオロメチルチオ）アセトア
ミド−３−トリフルオロメチルスルホニルオキシ−３−
セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−
１β−オキシド780mgを得る。 IR(KBr)cm-1；1800,1735,1660
フルオロメチルスルホニルオキシ−３−セフェム−４−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル1.47gを塩化メチ
レン30mlに溶解させ、氷冷下m-クロロ過安息香酸(純度7
0%)500mgを加えた後、同温度で10分間攪拌する。反応液
に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液30mlを加え、有機層を
分取する。分取した有機層を水および飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に
溶媒を留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（溶離液；トルエン:酢酸エチル＝1:1）
で精製すれば、７−（ジフルオロメチルチオ）アセトア
ミド−３−トリフルオロメチルスルホニルオキシ−３−
セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−
１β−オキシド780mgを得る。 IR(KBr)cm-1；1800,1735,1660
【００５２】同様にして以下の化合物を得る。 ・７−［（Ｚ）−２−ヒドロキシイミノ−２−フェニル
アセトアミド］−３−トリフルオロメチルスルホニルオ
キシ−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチル
エステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1800,1735,1670 ・７−［（Ｒ）−２−ホルミルオキシ−２−フェニルア
セトアミド］−３−トリフルオロメチルスルホニルオキ
シ−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエ
ステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1805,1730,1675
アセトアミド］−３−トリフルオロメチルスルホニルオ
キシ−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチル
エステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1800,1735,1670 ・７−［（Ｒ）−２−ホルミルオキシ−２−フェニルア
セトアミド］−３−トリフルオロメチルスルホニルオキ
シ−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエ
ステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1805,1730,1675
【００５３】実施例１ ４−アミノピリミジン−２−チオール39mgをメタノール
1mlに懸濁させ、氷冷下28%(W/W)ナトリウムメトキシド
のメタノール溶液59mgを加えた後、同温度で10分間攪拌
する。次いで、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド2mlを加
え、-30℃で７−フェニルアセトアミド−３−トリフル
オロメチルスルホニルオキシ−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシド200m
gを加えた後、-10℃で10分間攪拌する。反応液を酢酸エ
チル20mlおよび水20mlの混合液に加え、2N塩酸でpH5に
調整した後、有機層を分取する。分取した有機層を水お
よび飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物に
ジエチルエーテルを加え、析出晶を濾取すれば、３−
（４−アミノピリミジン−２−イルチオ）−７−フェニ
ルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェ
ニルメチルエステル−１β−オキシド160mgを得る。 IR(KBr)cm-1；1795,1735,1685
1mlに懸濁させ、氷冷下28%(W/W)ナトリウムメトキシド
のメタノール溶液59mgを加えた後、同温度で10分間攪拌
する。次いで、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド2mlを加
え、-30℃で７−フェニルアセトアミド−３−トリフル
オロメチルスルホニルオキシ−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシド200m
gを加えた後、-10℃で10分間攪拌する。反応液を酢酸エ
チル20mlおよび水20mlの混合液に加え、2N塩酸でpH5に
調整した後、有機層を分取する。分取した有機層を水お
よび飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物に
ジエチルエーテルを加え、析出晶を濾取すれば、３−
（４−アミノピリミジン−２−イルチオ）−７−フェニ
ルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェ
ニルメチルエステル−１β−オキシド160mgを得る。 IR(KBr)cm-1；1795,1735,1685
【００５４】実施例２〜２０ 実施例１と同様にして表２〜表４の化合物を得る。
【００５５】
【表２】
【００５６】
【表３】
【００５７】
【表４】
【００５８】以下に表中のNo.2からNo.20の化合物の名
称と物性を示す。 No.２；７−フェニルアセトアミド−３−（ピリミジン
−２−イルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ジフ
ェニルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1790,1710,1660 No.３；３−（４−メチルピリミジン−２−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1785,1720,1650 No.４；３−（４−ヒドロキシピリミジン−２−イルチ
オ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1800,1735,1665 No.５；３−（４−アミノ−６−ヒドロキシピリミジン
−２−イルチオ）−７−フェニルアセトアミド−３−セ
フェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−１
β−オキシド IR(KBr)cm-1；1800,1735,1660 No.６；３−（４，６−ジアミノピリミジン−２−イル
チオ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４
−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシ
ド IR(KBr)cm-1；1800,1735,1685 No.７；３−［４−（１−イミノエチルアミノ）ピリミ
ジン−２−イルチオ］−７−フェニルアセトアミド−３
−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル
−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1800,1735,1670
称と物性を示す。 No.２；７−フェニルアセトアミド−３−（ピリミジン
−２−イルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ジフ
ェニルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1790,1710,1660 No.３；３−（４−メチルピリミジン−２−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1785,1720,1650 No.４；３−（４−ヒドロキシピリミジン−２−イルチ
オ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1800,1735,1665 No.５；３−（４−アミノ−６−ヒドロキシピリミジン
−２−イルチオ）−７−フェニルアセトアミド−３−セ
フェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−１
β−オキシド IR(KBr)cm-1；1800,1735,1660 No.６；３−（４，６−ジアミノピリミジン−２−イル
チオ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４
−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシ
ド IR(KBr)cm-1；1800,1735,1685 No.７；３−［４−（１−イミノエチルアミノ）ピリミ
ジン−２−イルチオ］−７−フェニルアセトアミド−３
−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル
−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1800,1735,1670
【００５９】No.８；３−（５−シアノピリミジン−４
−イルチオ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−
オキシド IR(KBr)cm-1；1790,1735,1655 No.９；７−フェニルアセトアミド−３−（プリン−６
−イルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニ
ルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1800,1735,1685 No.10；３−（６−アミノプリン−２−イルチオ）−７
−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン
酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1795,1735,1655 No.11；３−（２−アミノプリン−６−イルチオ）−７
−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン
酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1795,1675,1635 No.12；３−（６−ヒドロキシプリン−２−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1790,1735,1685 No.13；３−（２−ヒドロキシプリン−６−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1800,1735,1655
−イルチオ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−
オキシド IR(KBr)cm-1；1790,1735,1655 No.９；７−フェニルアセトアミド−３−（プリン−６
−イルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニ
ルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1800,1735,1685 No.10；３−（６−アミノプリン−２−イルチオ）−７
−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン
酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1795,1735,1655 No.11；３−（２−アミノプリン−６−イルチオ）−７
−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン
酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1795,1675,1635 No.12；３−（６−ヒドロキシプリン−２−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1790,1735,1685 No.13；３−（２−ヒドロキシプリン−６−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1800,1735,1655
【００６０】No.14；３−（９−アミノプリン−６−イ
ルチオ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−
４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキ
シド IR(KBr)cm-1；1800,1735,1685 No.15；７−フェニルアセトアミド−３−（ピラゾロ
［３,４−ｄ］ピリミジン−４−イルチオ）−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−１β
−オキシド IR(KBr)cm-1；1795,1735,1655 No.16；３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミ
ジン−６−イルチオ）−７−フェニルアセトアミド−３
−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル
−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1795,1735,1655 No.17；３−（４−ヒドロキシキナゾリン−２−イルチ
オ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1790,1735,1685 No.18；３−（４−アミノキナゾリン−２−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1795,1730,1670 No.19；３−（２−アミノプテリジン−４−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1795,1735,1670 No.20；３−（５−アミノ−［１,２,３］トリアゾロ
［４,５−ｄ］ピリミジン−７−イルチオ）−７−フェ
ニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ジフ
ェニルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1800,1735,1655
ルチオ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−
４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキ
シド IR(KBr)cm-1；1800,1735,1685 No.15；７−フェニルアセトアミド−３−（ピラゾロ
［３,４−ｄ］ピリミジン−４−イルチオ）−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−１β
−オキシド IR(KBr)cm-1；1795,1735,1655 No.16；３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミ
ジン−６−イルチオ）−７−フェニルアセトアミド−３
−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル
−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1795,1735,1655 No.17；３−（４−ヒドロキシキナゾリン−２−イルチ
オ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1790,1735,1685 No.18；３−（４−アミノキナゾリン−２−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1795,1730,1670 No.19；３−（２−アミノプテリジン−４−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1795,1735,1670 No.20；３−（５−アミノ−［１,２,３］トリアゾロ
［４,５−ｄ］ピリミジン−７−イルチオ）−７−フェ
ニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ジフ
ェニルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1800,1735,1655
【００６１】実施例２１ ４−アミノピリミジン−２−チオール63mgをメタノール
2mlに懸濁させ、氷冷下28%(W/W)ナトリウムメトキシド
のメタノール溶液96mgを加えた後、同温で10分間攪拌す
る。次いで、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド4mlおよびテ
トラヒドロフラン1mlを加え、-30℃で７−［２−（２−
t-ブトキシカルボニルアミノ−５−クロロチアゾール−
４−イル）−（Ｚ）−２−トリフェニルメトキシイミノ
アセトアミド］−３−メチルスルホニルオキシ−３−セ
フェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル500m
gを加えた後、20℃で2時間攪拌する。反応液を酢酸エチ
ル20mlおよび水20mlの混合液に加え、2N塩酸でpH2に調
整した後、有機層を分取する。分取した有機層を水およ
び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にジ
イソプロピルエーテルを加え、析出晶を濾取すれば、３
−（４−アミノピリミジン−２−イルチオ）−７−［２
−（２−t-ブトキシカルボニルアミノ−５−クロロチア
ゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−トリフェニルメトキ
シイミノアセトアミド］−３−セフェム−４−カルボン
酸ジフェニルメチルエステルおよび３−（４−アミノピ
リミジン−２−イルチオ）−７−［２−（２−t-ブトキ
シカルボニルアミノ−５−クロロチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−トリフェニルメトキシイミノアセト
アミド］−２−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメ
チルエステルの混合物380mgを得る。 IR(KBr)cm-1；1785,1720
2mlに懸濁させ、氷冷下28%(W/W)ナトリウムメトキシド
のメタノール溶液96mgを加えた後、同温で10分間攪拌す
る。次いで、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド4mlおよびテ
トラヒドロフラン1mlを加え、-30℃で７−［２−（２−
t-ブトキシカルボニルアミノ−５−クロロチアゾール−
４−イル）−（Ｚ）−２−トリフェニルメトキシイミノ
アセトアミド］−３−メチルスルホニルオキシ−３−セ
フェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル500m
gを加えた後、20℃で2時間攪拌する。反応液を酢酸エチ
ル20mlおよび水20mlの混合液に加え、2N塩酸でpH2に調
整した後、有機層を分取する。分取した有機層を水およ
び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にジ
イソプロピルエーテルを加え、析出晶を濾取すれば、３
−（４−アミノピリミジン−２−イルチオ）−７−［２
−（２−t-ブトキシカルボニルアミノ−５−クロロチア
ゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−トリフェニルメトキ
シイミノアセトアミド］−３−セフェム−４−カルボン
酸ジフェニルメチルエステルおよび３−（４−アミノピ
リミジン−２−イルチオ）−７−［２−（２−t-ブトキ
シカルボニルアミノ−５−クロロチアゾール−４−イ
ル）−（Ｚ）−２−トリフェニルメトキシイミノアセト
アミド］−２−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメ
チルエステルの混合物380mgを得る。 IR(KBr)cm-1；1785,1720
【００６２】実施例２２ 実施例２１と同様にして次の化合物を得る。 ３−（４−アミノピリミジン−２−イルチオ）−７−
［２−（２−t-ブトキシカルボニルアミノチアゾール−
４−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトアミ
ド］−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチル
エステルおよび３−（４−アミノピリミジン−２−イル
チオ）−７−［２−（２−t-ブトキシカルボニルアミノ
チアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノ
アセトアミド］−２−セフェム−４−カルボン酸ジフェ
ニルメチルエステルの混合物 IR(KBr)cm-1；1785,1750,1720,1685
［２−（２−t-ブトキシカルボニルアミノチアゾール−
４−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトアミ
ド］−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチル
エステルおよび３−（４−アミノピリミジン−２−イル
チオ）−７−［２−（２−t-ブトキシカルボニルアミノ
チアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノ
アセトアミド］−２−セフェム−４−カルボン酸ジフェ
ニルメチルエステルの混合物 IR(KBr)cm-1；1785,1750,1720,1685
【００６３】実施例２３ ３−（４−アミノピリミジン−２−イルチオ）−７−
［２−（２−t-ブトキシカルボニルアミノ−５−クロロ
チアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−トリフェニルメ
トキシイミノアセトアミド］−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステルおよび３−（４−アミ
ノピリミジン−２−イルチオ）−７−［２−（２−t-ブ
トキシカルボニルアミノ−５−クロロチアゾール−４−
イル）−（Ｚ）−２−トリフェニルメトキシイミノアセ
トアミド］−２−セフェム−４−カルボン酸ジフェニル
メチルエステルの混合物380mgを塩化メチレン5mlに溶解
させ、氷冷下m-クロロ過安息香酸(純度70%)67mgを加え
た後、同温で15分間攪拌する。反応液に飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液10mlを加え、有機層を分取する。分取し
た有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液；酢酸エチル）
で精製すれば、３−（４−アミノピリミジン−２−イル
チオ）−７−［２−（２−t-ブトキシカルボニルアミノ
−５−クロロチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−ト
リフェニルメトキシイミノアセトアミド］−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−
オキシド90mgを得る。 IR(KBr)cm-1；1800,1720
［２−（２−t-ブトキシカルボニルアミノ−５−クロロ
チアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−トリフェニルメ
トキシイミノアセトアミド］−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステルおよび３−（４−アミ
ノピリミジン−２−イルチオ）−７−［２−（２−t-ブ
トキシカルボニルアミノ−５−クロロチアゾール−４−
イル）−（Ｚ）−２−トリフェニルメトキシイミノアセ
トアミド］−２−セフェム−４−カルボン酸ジフェニル
メチルエステルの混合物380mgを塩化メチレン5mlに溶解
させ、氷冷下m-クロロ過安息香酸(純度70%)67mgを加え
た後、同温で15分間攪拌する。反応液に飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液10mlを加え、有機層を分取する。分取し
た有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液；酢酸エチル）
で精製すれば、３−（４−アミノピリミジン−２−イル
チオ）−７−［２−（２−t-ブトキシカルボニルアミノ
−５−クロロチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−ト
リフェニルメトキシイミノアセトアミド］−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−
オキシド90mgを得る。 IR(KBr)cm-1；1800,1720
【００６４】実施例２４ 実施例２３と同様にして次の化合物を得る。 ・３−（４−アミノピリミジン−２−イルチオ）−７−
［２−（２−t-ブトキシカルボニルアミノチアゾール−
４−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトアミ
ド］−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチル
エステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1800,1720,1685
［２−（２−t-ブトキシカルボニルアミノチアゾール−
４−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトアミ
ド］−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチル
エステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1800,1720,1685
【００６５】実施例２５ ４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミジン−６−チ
オール77mgをメタノール2mlに懸濁させ、氷冷下28%(W/
W)ナトリウムメトキシドのメタノール溶液88mgを加えた
後、同温度で10分間攪拌する。次いで、Ｎ,Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド5mlを加え、-30℃で７−（ジフルオロメ
チルチオ）アセトアミド−３−トリフルオロメチルスル
ホニルオキシ−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニ
ルメチルエステル−１β−オキシド300mgを加えた後、-
10℃で10分間攪拌する。反応液を酢酸エチル30mlおよび
水30mlの混合液に加え、2N塩酸でpH5に調整した後、有
機層を分取する。分取した有機層を水および飽和食塩水
で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減
圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にジイソプロピル
エーテルを加え、析出晶を濾取すれば、３−（４−アミ
ノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミジン−６−イルチオ）
−７−（ジフルオロメチルチオ）アセトアミド−３−セ
フェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−１
β−オキシド180mgを得る。 IR(KBr)cm-1；1785,1730,1655
オール77mgをメタノール2mlに懸濁させ、氷冷下28%(W/
W)ナトリウムメトキシドのメタノール溶液88mgを加えた
後、同温度で10分間攪拌する。次いで、Ｎ,Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド5mlを加え、-30℃で７−（ジフルオロメ
チルチオ）アセトアミド−３−トリフルオロメチルスル
ホニルオキシ−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニ
ルメチルエステル−１β−オキシド300mgを加えた後、-
10℃で10分間攪拌する。反応液を酢酸エチル30mlおよび
水30mlの混合液に加え、2N塩酸でpH5に調整した後、有
機層を分取する。分取した有機層を水および飽和食塩水
で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減
圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にジイソプロピル
エーテルを加え、析出晶を濾取すれば、３−（４−アミ
ノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミジン−６−イルチオ）
−７−（ジフルオロメチルチオ）アセトアミド−３−セ
フェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−１
β−オキシド180mgを得る。 IR(KBr)cm-1；1785,1730,1655
【００６６】実施例２６ 実施例２５と同様にして次の化合物を得る。 ・３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミジン
−６−イルチオ）−７−［（Ｚ）−２−ヒドロキシイミ
ノ−２−フェニルアセトアミド］−３−セフェム−４−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1800,1735,1685
−６−イルチオ）−７−［（Ｚ）−２−ヒドロキシイミ
ノ−２−フェニルアセトアミド］−３−セフェム−４−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1800,1735,1685
【００６７】実施例２７ 実施例２５と同様にして次の化合物を得る。 ・３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミジン
−６−イルチオ）−７−［（Ｒ）−２−ホルミルオキシ
−２−フェニルアセトアミド）］−３−セフェム−４−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1800,1730,1635
−６−イルチオ）−７−［（Ｒ）−２−ホルミルオキシ
−２−フェニルアセトアミド）］−３−セフェム−４−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシド IR(KBr)cm-1；1800,1730,1635
【００６８】実施例２８ ３−（４−アミノピリミジン−２−イルチオ）−７−フ
ェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ジ
フェニルメチルエステル−１β−オキシド160mgをＮ,Ｎ
−ジメチルホルムアミド2mlに溶解させ、-30℃で三塩化
リン87mgを加えた後、同温度で１分間攪拌する。反応液
を酢酸エチル20mlおよび水20mlの混合液に加え、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液でpH5に調整した後、有機層を
分取する。分取した有機層を水および飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に
溶媒を留去し、得られた残留物にジエチルエーテルを加
え、析出晶を濾取すれば、３−（４−アミノピリミジン
−２−イルチオ）−７−フェニルアセトアミド−３−セ
フェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル120m
gを得る。 IR(KBr)cm-1；1780,1720,1670
ェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ジ
フェニルメチルエステル−１β−オキシド160mgをＮ,Ｎ
−ジメチルホルムアミド2mlに溶解させ、-30℃で三塩化
リン87mgを加えた後、同温度で１分間攪拌する。反応液
を酢酸エチル20mlおよび水20mlの混合液に加え、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液でpH5に調整した後、有機層を
分取する。分取した有機層を水および飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に
溶媒を留去し、得られた残留物にジエチルエーテルを加
え、析出晶を濾取すれば、３−（４−アミノピリミジン
−２−イルチオ）−７−フェニルアセトアミド−３−セ
フェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル120m
gを得る。 IR(KBr)cm-1；1780,1720,1670
【００６９】実施例２９〜５０ 実施例２８と同様にして表５〜表８の化合物を得る。
【００７０】
【表５】
【００７１】
【表６】
【００７２】
【表７】
【００７３】
【表８】
【００７４】以下に表中のNo.29からNo.50の化合物の名
称と物性を示す。 No.29；７−フェニルアセトアミド−３−（ピリミジン
−２−イルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ジフ
ェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1785,1705,1660 No.30；３−（４−メチルピリミジン−２−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1730,1660 No.31；３−（４−ヒドロキシピリミジン−２−イルチ
オ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1795,1735,1685 No.32；３−（４−アミノ−６−ヒドロキシピリミジン
−２−イルチオ）−７−フェニルアセトアミド−３−セ
フェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1735,1655 No.33；３−（４，６−ジアミノピリミジン−２−イル
チオ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４
−カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1785,1735,1670 No.34；３−［４−（１−イミノエチルアミノ）ピリミ
ジン−２−イルチオ］−７−フェニルアセトアミド−３
−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1740,1685
称と物性を示す。 No.29；７−フェニルアセトアミド−３−（ピリミジン
−２−イルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ジフ
ェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1785,1705,1660 No.30；３−（４−メチルピリミジン−２−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1730,1660 No.31；３−（４−ヒドロキシピリミジン−２−イルチ
オ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1795,1735,1685 No.32；３−（４−アミノ−６−ヒドロキシピリミジン
−２−イルチオ）−７−フェニルアセトアミド−３−セ
フェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1735,1655 No.33；３−（４，６−ジアミノピリミジン−２−イル
チオ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４
−カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1785,1735,1670 No.34；３−［４−（１−イミノエチルアミノ）ピリミ
ジン−２−イルチオ］−７−フェニルアセトアミド−３
−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1740,1685
【００７５】No.35；３−（５−シアノピリミジン−４
−イルチオ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1735,1655 No.36；７−フェニルアセトアミド−３−（プリン−６
−イルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニ
ルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1785,1735,1675 No.37；３−（６−アミノプリン−２−イルチオ）−７
−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン
酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1735,1675 No.38；３−（２−アミノプリン−６−イルチオ）−７
−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン
酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1735,1675 No.39；３−（６−ヒドロキシプリン−２−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1735,1685 No.40；３−（２−ヒドロキシプリン−６−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1735,1650 No.41；３−（９−アミノプリン−６−イルチオ）−７
−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン
酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1735,1670 No.42；７−フェニルアセトアミド−３−（ピラゾロ
［３,４−ｄ］ピリミジン−４−イルチオ）−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1735,1670
−イルチオ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1735,1655 No.36；７−フェニルアセトアミド−３−（プリン−６
−イルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニ
ルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1785,1735,1675 No.37；３−（６−アミノプリン−２−イルチオ）−７
−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン
酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1735,1675 No.38；３−（２−アミノプリン−６−イルチオ）−７
−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン
酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1735,1675 No.39；３−（６−ヒドロキシプリン−２−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1735,1685 No.40；３−（２−ヒドロキシプリン−６−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1735,1650 No.41；３−（９−アミノプリン−６−イルチオ）−７
−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン
酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1735,1670 No.42；７−フェニルアセトアミド−３−（ピラゾロ
［３,４−ｄ］ピリミジン−４−イルチオ）−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1735,1670
【００７６】No.43；３−（４−アミノピラゾロ［３,４
−ｄ］ピリミジン−６−イルチオ）−７−フェニルアセ
トアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメ
チルエステル IR(KBr)cm-1；1785,1735,1660 No.44；３−（４−ヒドロキシキナゾリン−２−イルチ
オ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1795,1735,1685 No.45；３−（４−アミノキナゾリン−２−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1785,1730,1655 No.46；３−（２−アミノプテリジン−４−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1735,1670 No.47；３−（５−アミノ−［１,２,３］トリアゾロ
［４,５−ｄ］ピリミジン−７−イルチオ）−７−フェ
ニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ジフ
ェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1735,1685 No.48；３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミ
ジン−６−イルチオ）−７−（ジフルオロメチルチオ）
アセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニ
ルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1785,1735,1655 No.49；３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミ
ジン−６−イルチオ）−７−［（Ｚ）−２−ヒドロキシ
イミノ−２−フェニルアセトアミド］−３−セフェム−
４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1735,1655 No.50；３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミ
ジン−６−イルチオ）−７−［（Ｒ）−２−ホルミルオ
キシ−２−フェニルアセトアミド］−３−セフェム−４
−カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1730,1635
−ｄ］ピリミジン−６−イルチオ）−７−フェニルアセ
トアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメ
チルエステル IR(KBr)cm-1；1785,1735,1660 No.44；３−（４−ヒドロキシキナゾリン−２−イルチ
オ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1795,1735,1685 No.45；３−（４−アミノキナゾリン−２−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1785,1730,1655 No.46；３−（２−アミノプテリジン−４−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1735,1670 No.47；３−（５−アミノ−［１,２,３］トリアゾロ
［４,５−ｄ］ピリミジン−７−イルチオ）−７−フェ
ニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ジフ
ェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1735,1685 No.48；３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミ
ジン−６−イルチオ）−７−（ジフルオロメチルチオ）
アセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニ
ルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1785,1735,1655 No.49；３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミ
ジン−６−イルチオ）−７−［（Ｚ）−２−ヒドロキシ
イミノ−２−フェニルアセトアミド］−３−セフェム−
４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1735,1655 No.50；３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミ
ジン−６−イルチオ）−７−［（Ｒ）−２−ホルミルオ
キシ−２−フェニルアセトアミド］−３−セフェム−４
−カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1；1790,1730,1635
【００７７】実施例５１ ３−（４−アミノピリミジン−２−イルチオ）−７−
［２−（２−t-ブトキシカルボニルアミノ−５−クロロ
チアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−トリフェニルメ
トキシイミノアセトアミド］−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシド90mg
をＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド2mlに溶解させ、-40℃
で三塩化リン29mgを加えた後、-20℃で30分間攪拌す
る。反応液を酢酸エチル20mlおよび水20mlの混合液に加
え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH5に調整した
後、有機層を分取する。分取した有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
る。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にジイソプ
ロピルエーテルを加え、析出晶を濾取すれば、３−（４
−アミノピリミジン−２−イルチオ）−７−［２−（２
−t-ブトキシカルボニルアミノ−５−クロロチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−トリフェニルメトキシイミ
ノアセトアミド］−３−セフェム−４−カルボン酸ジフ
ェニルメチルエステル90mgを得る。 IR(KBr)cm-1；1790,1715,1655
［２−（２−t-ブトキシカルボニルアミノ−５−クロロ
チアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−トリフェニルメ
トキシイミノアセトアミド］−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル−１β−オキシド90mg
をＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド2mlに溶解させ、-40℃
で三塩化リン29mgを加えた後、-20℃で30分間攪拌す
る。反応液を酢酸エチル20mlおよび水20mlの混合液に加
え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH5に調整した
後、有機層を分取する。分取した有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
る。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にジイソプ
ロピルエーテルを加え、析出晶を濾取すれば、３−（４
−アミノピリミジン−２−イルチオ）−７−［２−（２
−t-ブトキシカルボニルアミノ−５−クロロチアゾール
−４−イル）−（Ｚ）−２−トリフェニルメトキシイミ
ノアセトアミド］−３−セフェム−４−カルボン酸ジフ
ェニルメチルエステル90mgを得る。 IR(KBr)cm-1；1790,1715,1655
【００７８】実施例５２ 実施例５１と同様にして次の化合物を得る。 ・３−（４−アミノピリミジン−２−イルチオ）−７−
［２−（２−t-ブトキシカルボニルアミノチアゾール−
４−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトアミ
ド］−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチル
エステル IR(KBr)cm-1；1785,1720,1655
［２−（２−t-ブトキシカルボニルアミノチアゾール−
４−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトアミ
ド］−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチル
エステル IR(KBr)cm-1；1785,1720,1655
【００７９】実施例５３ ３−（４−アミノピリミジン−２−イルチオ）−７−フ
ェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ジ
フェニルメチルエステル120mgを塩化メチレン2.5mlおよ
びアニソール0.5mlに溶解させ、氷冷下トリフルオロ酢
酸2.5mlを加えた後、同温で10分間攪拌する。減圧下に
反応液を濃縮し、得られた残留物にジエチルエーテル10
mlを加えた後、析出晶を濾取する。この析出晶を10％ア
セトニトリル水溶液20mlに溶解させ、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液でpH７に調整し、減圧下に溶媒を約半量に
濃縮する。濃縮液を逆相カラムクロマトグラフィー（溶
離液；15%アセトニトリル水溶液）で精製すれば、３−
（４−アミノピリミジン−２−イルチオ）−７−フェニ
ルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリ
ウム23mgを得る。 IR(KBr)cm-1；1770,1620 NMR(D2O)δ値；3.54(1H,d,J=17Hz),3.70(2H,s),3.89(1
H,d,J=17Hz),5.21(1H,d,J=5Hz),5.65(1H,d,J=5Hz),6.36
(1H,d,J=6Hz),7.35(5H,s),7.92(1H,d,J=6Hz)
ェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ジ
フェニルメチルエステル120mgを塩化メチレン2.5mlおよ
びアニソール0.5mlに溶解させ、氷冷下トリフルオロ酢
酸2.5mlを加えた後、同温で10分間攪拌する。減圧下に
反応液を濃縮し、得られた残留物にジエチルエーテル10
mlを加えた後、析出晶を濾取する。この析出晶を10％ア
セトニトリル水溶液20mlに溶解させ、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液でpH７に調整し、減圧下に溶媒を約半量に
濃縮する。濃縮液を逆相カラムクロマトグラフィー（溶
離液；15%アセトニトリル水溶液）で精製すれば、３−
（４−アミノピリミジン−２−イルチオ）−７−フェニ
ルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリ
ウム23mgを得る。 IR(KBr)cm-1；1770,1620 NMR(D2O)δ値；3.54(1H,d,J=17Hz),3.70(2H,s),3.89(1
H,d,J=17Hz),5.21(1H,d,J=5Hz),5.65(1H,d,J=5Hz),6.36
(1H,d,J=6Hz),7.35(5H,s),7.92(1H,d,J=6Hz)
【００８０】実施例５４〜７４ 実施例５３と同様にして表９〜表１２の化合物を得る。
【００８１】
【表９】
【００８２】
【表１０】
【００８３】
【表１１】
【００８４】
【表１２】
【００８５】以下に表中のNo.54からNo.74の化合物の名
称と物性を示す。 No.54；７−フェニルアセトアミド−３−（ピリミジン
−２−イルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ナト
リウム IR(KBr)cm-1；1770,1670,1615 NMR(D2O)δ値；3.53(1H,d,J=18Hz),3.70(2H,s),3.85(1
H,d,J=18Hz),5.24(1H,d,J=5Hz),5.67(1H,d,J=5Hz),7.10
〜7.60(6H,m),8.57(2H,d,J=5Hz) No.55；３−（４−メチルピリミジン−２−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1770,1655,1610 NMR(D2O)δ値；2.45(3H,s),3.52(1H,d,J=18Hz),3.70(2
H,s),3.85(1H,d,J=18Hz),5.26(1H,d,J=5Hz),5.66(1H,d,
J=5Hz),7.12(1H,d,J=5Hz),7.37(5H,s),8.37(1H,d,J=5H
z) No.56；３−（４−ヒドロキシピリミジン−２−イルチ
オ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−
カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1770,1660,1615 NMR(D2O)δ値；3.50(1H,d,J=17Hz),3.70(2H,s),3.89(1
H,d,J=17Hz),5.25(1H,d,J=5Hz),5.66(1H,d,J=5Hz),6.26
(1H,d,J=7Hz),7.35(5H,s),7.92(1H,d,J=7Hz) No.57；３−（４−アミノ−６−ヒドロキシピリミジン
−２−イルチオ）−７−フェニルアセトアミド−３−セ
フェム−４−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1775,1630 NMR(D2O)δ値；3.52(1H,d,J=17Hz),3.69(2H,s),3.84(1
H,d,J=17Hz),5.21(1H,d,J=5Hz),5.24(1H,s),5.67(1H,d,
J=5Hz),7.37(5H,s) No.58；３−（４,６−ジアミノピリミジン−２−イルチ
オ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−
カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1765,1620 NMR(D2O)δ値；3.59(1H,d,J=17Hz),3.70(2H,s),3.83(1
H,d,J=17Hz),5.21(1H,d,J=5Hz),5.49(1H,s),5.65(1H,d,
J=5Hz),7.38(5H,s) No.59；３−［４−（１−イミノエチルアミノ）ピリミ
ジン−２−イルチオ］−７−フェニルアセトアミド−３
−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1770,1615 NMR(D2O)δ値；2.23(3H,s),3.43(1H,d,J=17Hz),3.71(2
H,s),3.78(1H,d,J=17Hz),5.19(1H,d,J=5Hz),5.61(1H,d,
J=5Hz),6.78(1H,d,J=6Hz),7.37(5H,s),8.37(1H,d,J=6H
z)
称と物性を示す。 No.54；７−フェニルアセトアミド−３−（ピリミジン
−２−イルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ナト
リウム IR(KBr)cm-1；1770,1670,1615 NMR(D2O)δ値；3.53(1H,d,J=18Hz),3.70(2H,s),3.85(1
H,d,J=18Hz),5.24(1H,d,J=5Hz),5.67(1H,d,J=5Hz),7.10
〜7.60(6H,m),8.57(2H,d,J=5Hz) No.55；３−（４−メチルピリミジン−２−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1770,1655,1610 NMR(D2O)δ値；2.45(3H,s),3.52(1H,d,J=18Hz),3.70(2
H,s),3.85(1H,d,J=18Hz),5.26(1H,d,J=5Hz),5.66(1H,d,
J=5Hz),7.12(1H,d,J=5Hz),7.37(5H,s),8.37(1H,d,J=5H
z) No.56；３−（４−ヒドロキシピリミジン−２−イルチ
オ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−
カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1770,1660,1615 NMR(D2O)δ値；3.50(1H,d,J=17Hz),3.70(2H,s),3.89(1
H,d,J=17Hz),5.25(1H,d,J=5Hz),5.66(1H,d,J=5Hz),6.26
(1H,d,J=7Hz),7.35(5H,s),7.92(1H,d,J=7Hz) No.57；３−（４−アミノ−６−ヒドロキシピリミジン
−２−イルチオ）−７−フェニルアセトアミド−３−セ
フェム−４−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1775,1630 NMR(D2O)δ値；3.52(1H,d,J=17Hz),3.69(2H,s),3.84(1
H,d,J=17Hz),5.21(1H,d,J=5Hz),5.24(1H,s),5.67(1H,d,
J=5Hz),7.37(5H,s) No.58；３−（４,６−ジアミノピリミジン−２−イルチ
オ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−
カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1765,1620 NMR(D2O)δ値；3.59(1H,d,J=17Hz),3.70(2H,s),3.83(1
H,d,J=17Hz),5.21(1H,d,J=5Hz),5.49(1H,s),5.65(1H,d,
J=5Hz),7.38(5H,s) No.59；３−［４−（１−イミノエチルアミノ）ピリミ
ジン−２−イルチオ］−７−フェニルアセトアミド−３
−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1770,1615 NMR(D2O)δ値；2.23(3H,s),3.43(1H,d,J=17Hz),3.71(2
H,s),3.78(1H,d,J=17Hz),5.19(1H,d,J=5Hz),5.61(1H,d,
J=5Hz),6.78(1H,d,J=6Hz),7.37(5H,s),8.37(1H,d,J=6H
z)
【００８６】No.60；３−（５−シアノピリミジン−４
−イルチオ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1775,1670,1655 NMR(D2O)δ値；3.48(1H,d,J=18Hz),3.70(2H,s),3.96(1
H,d,J=18Hz),5.28(1H,d,J=5Hz),5.70(1H,d,J=5Hz),7.37
(5H,s),8.84(1H,s),9.00(1H,s) No.61；７−フェニルアセトアミド−３−（プリン−６
−イルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウ
ム IR(KBr)cm-1；1770,1655 NMR(D2O)δ値；3.46(1H,d,J=18Hz),3.69(2H,s),3.86(1
H,d,J=18Hz),5.29(1H,d,J=5Hz),5.68(1H,d,J=5Hz),7.35
(5H,s),8.41(1H,s),8.67(1H,s) No.62；３−（６−アミノプリン−２−イルチオ）−７
−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン
酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1770,1635 NMR(D2O)δ値；3.59(1H,d,J=17Hz),3.70(2H,s),3.90(1
H,d,J=17Hz),5.25(1H,d,J=5Hz),5.67(1H,d,J=5Hz),7.37
(5H,s),8.05(1H,s) No.63；３−（２−アミノプリン−６−イルチオ）−７
−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン
酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1775,1610 NMR(D2O)δ値；3.45(1H,d,J=17Hz),3.68(2H,s),3.85(1
H,d,J=17Hz),5.24(1H,d,J=5Hz),5.66(1H,d,J=5Hz),7.34
(5H,s),8.03(1H,s) No.64；３−（６−ヒドロキシプリン−２−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1770,1685,1615 NMR(D2O)δ値；3.54(1H,d,J=17Hz),3.69(2H,s),3.86(1
H,d,J=17Hz),5.25(1H,d,J=5Hz),5.67(1H,d,J=5Hz),7.35
(5H,s),8.09(1H,s) No.65；３−（２−ヒドロキシプリン−６−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1770,1615 NMR(D2O)δ値；3.54(1H,d,J=17Hz),3.72(2H,s),3.91(1
H,d,J=17Hz),5.30(1H,d,J=5Hz),5.69(1H,d,J=5Hz),7.38
(5H,s),8.01(1H,s) No.66；３−（９−アミノプリン−６−イルチオ）−７
−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン
酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1770,1635 NMR(D2O)δ値；3.53(1H,d,J=17Hz),3.70(2H,s),3.91(1
H,d,J=17Hz),5.31(1H,d,J=5Hz),5.69(1H,d,J=5Hz),7.37
(5H,s),8.30(1H,s),8.63(1H,s) No.67；７−フェニルアセトアミド−３−（ピラゾロ
［３,４−ｄ］ピリミジン−４−イルチオ）−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1770,1655 NMR(D2O)δ値；3.49(1H,d,J=18Hz),3.71(2H,s),3.89(1
H,d,J=18Hz),5.31(1H,d,J=5Hz),5.70(1H,d,J=5Hz),7.37
(5H,s),8,34(1H,s),8.64(1H,s)
−イルチオ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1775,1670,1655 NMR(D2O)δ値；3.48(1H,d,J=18Hz),3.70(2H,s),3.96(1
H,d,J=18Hz),5.28(1H,d,J=5Hz),5.70(1H,d,J=5Hz),7.37
(5H,s),8.84(1H,s),9.00(1H,s) No.61；７−フェニルアセトアミド−３−（プリン−６
−イルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウ
ム IR(KBr)cm-1；1770,1655 NMR(D2O)δ値；3.46(1H,d,J=18Hz),3.69(2H,s),3.86(1
H,d,J=18Hz),5.29(1H,d,J=5Hz),5.68(1H,d,J=5Hz),7.35
(5H,s),8.41(1H,s),8.67(1H,s) No.62；３−（６−アミノプリン−２−イルチオ）−７
−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン
酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1770,1635 NMR(D2O)δ値；3.59(1H,d,J=17Hz),3.70(2H,s),3.90(1
H,d,J=17Hz),5.25(1H,d,J=5Hz),5.67(1H,d,J=5Hz),7.37
(5H,s),8.05(1H,s) No.63；３−（２−アミノプリン−６−イルチオ）−７
−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン
酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1775,1610 NMR(D2O)δ値；3.45(1H,d,J=17Hz),3.68(2H,s),3.85(1
H,d,J=17Hz),5.24(1H,d,J=5Hz),5.66(1H,d,J=5Hz),7.34
(5H,s),8.03(1H,s) No.64；３−（６−ヒドロキシプリン−２−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1770,1685,1615 NMR(D2O)δ値；3.54(1H,d,J=17Hz),3.69(2H,s),3.86(1
H,d,J=17Hz),5.25(1H,d,J=5Hz),5.67(1H,d,J=5Hz),7.35
(5H,s),8.09(1H,s) No.65；３−（２−ヒドロキシプリン−６−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1770,1615 NMR(D2O)δ値；3.54(1H,d,J=17Hz),3.72(2H,s),3.91(1
H,d,J=17Hz),5.30(1H,d,J=5Hz),5.69(1H,d,J=5Hz),7.38
(5H,s),8.01(1H,s) No.66；３−（９−アミノプリン−６−イルチオ）−７
−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン
酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1770,1635 NMR(D2O)δ値；3.53(1H,d,J=17Hz),3.70(2H,s),3.91(1
H,d,J=17Hz),5.31(1H,d,J=5Hz),5.69(1H,d,J=5Hz),7.37
(5H,s),8.30(1H,s),8.63(1H,s) No.67；７−フェニルアセトアミド−３−（ピラゾロ
［３,４−ｄ］ピリミジン−４−イルチオ）−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1770,1655 NMR(D2O)δ値；3.49(1H,d,J=18Hz),3.71(2H,s),3.89(1
H,d,J=18Hz),5.31(1H,d,J=5Hz),5.70(1H,d,J=5Hz),7.37
(5H,s),8,34(1H,s),8.64(1H,s)
【００８７】No.68；３−（４−アミノピラゾロ［３,４
−ｄ］ピリミジン−６−イルチオ）−７−フェニルアセ
トアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1770,1645 NMR(D2O)δ値；3.57(1H,d,J=18Hz),3.68(2H,s),3.85(1
H,d,J=18Hz),5.23(1H,d,J=5Hz),5.67(1H,d,J=5Hz),7.34
(5H,s),7.98(1H,s) No.69；３−（４−ヒドロキシキナゾリン−２−イルチ
オ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−
カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1770,1665 NMR(D2O)δ値；3.45(1H,d,J=17Hz),3.66(2H,s),3.82(1
H,d,J=17Hz),5.21(1H,d,J=5Hz),5.66(1H,d,J=5Hz),7.20
〜8.10(4H,m),7.32(5H,s) No.70；３−（４−アミノキナゾリン−２−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1770,1665 NMR(D2O)δ値；3.57(1H,d,J=17Hz),3.70(2H,s),3.84(1
H,d,J=17Hz),5.23(1H,d,J=5Hz),5.67(1H,d,J=5Hz),7.20
〜8.10(4H,m),7.37(5H,s) No.71；３−（２−アミノプテリジン−４−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1770,1615 NMR(D2O)δ値；3.59(1H,d,J=17Hz),3.70(2H,s),3.93(1
H,d,J=17Hz),5.30(1H,d,J=5Hz),5.70(1H,d,J=5Hz),7.36
(5H,s),8.45(1H,d,J=2Hz),8.83(1H,d,J=2Hz) No.72；３−（５−アミノ−［１,２,３］トリアゾロ
［４,５−ｄ］ピリミジン−７−イルチオ）−７−フェ
ニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ナト
リウム IR(KBr)cm-1；1770,1670,1655 NMR(D2O)δ値；3.63(1H,d,J=17Hz),3.71(2H,s),3.93(1
H,d,J=17Hz),5.31(1H,d,J=5Hz),5.71(1H,d,J=5Hz),7.38
(5H,s) No.73；３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミ
ジン−６−イルチオ）−７−（ジフルオロメチルチオ）
アセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウ
ム IR(KBr)cm-1；1785,1735,1655 NMR(D2O)δ値；3.64(1H,d,J=17Hz),3.71(2H,s),3.96(1
H,d,J=17Hz),5.32(1H,d,J=5Hz),5.73(1H,d,J=5Hz),6.19
(1H,t,JHF=56Hz),7.12(1H,s) No.74；３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミ
ジン−６−イルチオ）−７−［（Ｚ）−２−ヒドロキシ
イミノ−２−フェニルアセトアミド］−３−セフェム−
４−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1775,1655 NMR(D2O)δ値；3.68(1H,d,J=17Hz),3.98(1H,d,J=17Hz),
5.28(1H,d,J=5Hz),5.81(1H,d,J=5Hz),7.50(5H,s),8.05
(1H,s)
−ｄ］ピリミジン−６−イルチオ）−７−フェニルアセ
トアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1770,1645 NMR(D2O)δ値；3.57(1H,d,J=18Hz),3.68(2H,s),3.85(1
H,d,J=18Hz),5.23(1H,d,J=5Hz),5.67(1H,d,J=5Hz),7.34
(5H,s),7.98(1H,s) No.69；３−（４−ヒドロキシキナゾリン−２−イルチ
オ）−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−
カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1770,1665 NMR(D2O)δ値；3.45(1H,d,J=17Hz),3.66(2H,s),3.82(1
H,d,J=17Hz),5.21(1H,d,J=5Hz),5.66(1H,d,J=5Hz),7.20
〜8.10(4H,m),7.32(5H,s) No.70；３−（４−アミノキナゾリン−２−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1770,1665 NMR(D2O)δ値；3.57(1H,d,J=17Hz),3.70(2H,s),3.84(1
H,d,J=17Hz),5.23(1H,d,J=5Hz),5.67(1H,d,J=5Hz),7.20
〜8.10(4H,m),7.37(5H,s) No.71；３−（２−アミノプテリジン−４−イルチオ）
−７−フェニルアセトアミド−３−セフェム−４−カル
ボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1770,1615 NMR(D2O)δ値；3.59(1H,d,J=17Hz),3.70(2H,s),3.93(1
H,d,J=17Hz),5.30(1H,d,J=5Hz),5.70(1H,d,J=5Hz),7.36
(5H,s),8.45(1H,d,J=2Hz),8.83(1H,d,J=2Hz) No.72；３−（５−アミノ−［１,２,３］トリアゾロ
［４,５−ｄ］ピリミジン−７−イルチオ）−７−フェ
ニルアセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ナト
リウム IR(KBr)cm-1；1770,1670,1655 NMR(D2O)δ値；3.63(1H,d,J=17Hz),3.71(2H,s),3.93(1
H,d,J=17Hz),5.31(1H,d,J=5Hz),5.71(1H,d,J=5Hz),7.38
(5H,s) No.73；３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミ
ジン−６−イルチオ）−７−（ジフルオロメチルチオ）
アセトアミド−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウ
ム IR(KBr)cm-1；1785,1735,1655 NMR(D2O)δ値；3.64(1H,d,J=17Hz),3.71(2H,s),3.96(1
H,d,J=17Hz),5.32(1H,d,J=5Hz),5.73(1H,d,J=5Hz),6.19
(1H,t,JHF=56Hz),7.12(1H,s) No.74；３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミ
ジン−６−イルチオ）−７−［（Ｚ）−２−ヒドロキシ
イミノ−２−フェニルアセトアミド］−３−セフェム−
４−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1；1775,1655 NMR(D2O)δ値；3.68(1H,d,J=17Hz),3.98(1H,d,J=17Hz),
5.28(1H,d,J=5Hz),5.81(1H,d,J=5Hz),7.50(5H,s),8.05
(1H,s)
【００８８】実施例７５ ３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミジン−
６−イルチオ）−７−［（Ｒ）−２−ホルミルオキシ−
２−フェニルアセトアミド］−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル100mgを塩化メチレン
2.5mlおよびアニソール0.5mlに溶解させ、氷冷下トリフ
ルオロ酢酸2.5mlを加えた後、同温で15分間攪拌する。
減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物にメタノール
1mlおよび1N塩酸1mlを加え、20℃で１時間撹拌した後、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH6.5に調整し、減圧
下に溶媒を約半量に濃縮する。濃縮液を逆相カラムクロ
マトグラフィー（溶離液；5%アセトニトリル水溶液）で
精製すれば、３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］
ピリミジン−６−イルチオ）−７−［（Ｒ）−２−ヒド
ロキシ−２−フェニルアセトアミド］−３−セフェム−
４−カルボン酸ナトリウム塩5mgを得る。 IR(KBr)cm-1；1770,1655 NMR(D2O-CD3CN)δ値；3.61(1H,d,J=17Hz),3.89(1H,d,J=
17Hz),5.27(1H,d,J=5Hz),5.28(1H,s),5.69(1H,d,J=5H
z),7.47(5H,s),8.10(1H,s)
６−イルチオ）−７−［（Ｒ）−２−ホルミルオキシ−
２−フェニルアセトアミド］−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル100mgを塩化メチレン
2.5mlおよびアニソール0.5mlに溶解させ、氷冷下トリフ
ルオロ酢酸2.5mlを加えた後、同温で15分間攪拌する。
減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物にメタノール
1mlおよび1N塩酸1mlを加え、20℃で１時間撹拌した後、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH6.5に調整し、減圧
下に溶媒を約半量に濃縮する。濃縮液を逆相カラムクロ
マトグラフィー（溶離液；5%アセトニトリル水溶液）で
精製すれば、３−（４−アミノピラゾロ［３,４−ｄ］
ピリミジン−６−イルチオ）−７−［（Ｒ）−２−ヒド
ロキシ−２−フェニルアセトアミド］−３−セフェム−
４−カルボン酸ナトリウム塩5mgを得る。 IR(KBr)cm-1；1770,1655 NMR(D2O-CD3CN)δ値；3.61(1H,d,J=17Hz),3.89(1H,d,J=
17Hz),5.27(1H,d,J=5Hz),5.28(1H,s),5.69(1H,d,J=5H
z),7.47(5H,s),8.10(1H,s)
【００８９】実施例７６ ３−（４−アミノピリミジン−２−イルチオ）−７−
［２−（２−t-ブトキシカルボニルアミノ−５−クロロ
チアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−トリフェニルメ
トキシイミノアセトアミド］−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル90mgを塩化メチレン2.
5mlおよびアニソール0.5mlに溶解させ、氷冷下トリフル
オロ酢酸2.5mlを加えた後、20℃で30分間攪拌する。減
圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物を90％ギ酸水溶
液に溶解させた後、20℃で１時間攪拌する。減圧下に反
応液を濃縮し、得られた残留物にジエチルエーテル10ml
を加えた後、析出晶を濾取する。この析出晶を10％アセ
トニトリル水溶液20mlに溶解させ、飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液でpH７に調整し、減圧下に溶媒を約半量に濃
縮する。濃縮液を逆相カラムクロマトグラフィー（溶離
液；5%アセトニトリル水溶液）で精製すれば、７−［２
−（２−アミノ−５−クロロチアゾール−４−イル）−
（Ｚ）−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−
（４−アミノピリミジン−２−イルチオ）−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ナトリウム塩29mgを得る。 IR(KBr)cm-1；1765,1665,1620 NMR(D2O)δ値；3.60(1H,d,J=17Hz),3.92(1H,d,J=17Hz),
5.36(1H,d,J=5Hz),5.92(1H,d,J=5Hz),6.35(1H,d,J=6H
z),7.92(1H,d,J=6Hz)
［２−（２−t-ブトキシカルボニルアミノ−５−クロロ
チアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−トリフェニルメ
トキシイミノアセトアミド］−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル90mgを塩化メチレン2.
5mlおよびアニソール0.5mlに溶解させ、氷冷下トリフル
オロ酢酸2.5mlを加えた後、20℃で30分間攪拌する。減
圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物を90％ギ酸水溶
液に溶解させた後、20℃で１時間攪拌する。減圧下に反
応液を濃縮し、得られた残留物にジエチルエーテル10ml
を加えた後、析出晶を濾取する。この析出晶を10％アセ
トニトリル水溶液20mlに溶解させ、飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液でpH７に調整し、減圧下に溶媒を約半量に濃
縮する。濃縮液を逆相カラムクロマトグラフィー（溶離
液；5%アセトニトリル水溶液）で精製すれば、７−［２
−（２−アミノ−５−クロロチアゾール−４−イル）−
（Ｚ）−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−
（４−アミノピリミジン−２−イルチオ）−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ナトリウム塩29mgを得る。 IR(KBr)cm-1；1765,1665,1620 NMR(D2O)δ値；3.60(1H,d,J=17Hz),3.92(1H,d,J=17Hz),
5.36(1H,d,J=5Hz),5.92(1H,d,J=5Hz),6.35(1H,d,J=6H
z),7.92(1H,d,J=6Hz)
【００９０】実施例７７ ３−（４−アミノピリミジン−２−イルチオ）−７−
［２−（２−t-ブトキシカルボニルアミノチアゾール−
４−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトアミ
ド］−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチル
エステル70mgを塩化メチレン1.25mlおよびアニソール0.
25mlに溶解させ、氷冷下トリフルオロ酢酸1.25mlを加え
た後，20℃で１時間攪拌する。減圧下に反応液を濃縮
し、得られた残留物にジエチルエーテル5mlを加えた
後、析出晶を濾取する。この析出晶を10％アセトニトリ
ル水溶液10mlに溶解させ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液でpH７に調整し、減圧下に溶媒を約半量に濃縮する。
濃縮液を逆相カラムクロマトグラフィー（溶離液；5%ア
セトニトリル水溶液）で精製すれば、３−（４−アミノ
ピリミジン−２−イルチオ）−７−［２−（２−アミノ
チアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノ
アセトアミド］−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリ
ウム塩11mgを得る。 IR(KBr)cm-1；1785,1720,1655 NMR(D2O)δ値；3.61(1H,d,J=17Hz),3.96(1H,d,J=17Hz),
3.99(3H,s),5.35(1H,d,J=5Hz),5.84(1H,d,J=5Hz),6.37
(1H,d,J=6Hz),7.03(1H,s),7.92(1H,d,J=6Hz)
［２−（２−t-ブトキシカルボニルアミノチアゾール−
４−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトアミ
ド］−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチル
エステル70mgを塩化メチレン1.25mlおよびアニソール0.
25mlに溶解させ、氷冷下トリフルオロ酢酸1.25mlを加え
た後，20℃で１時間攪拌する。減圧下に反応液を濃縮
し、得られた残留物にジエチルエーテル5mlを加えた
後、析出晶を濾取する。この析出晶を10％アセトニトリ
ル水溶液10mlに溶解させ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液でpH７に調整し、減圧下に溶媒を約半量に濃縮する。
濃縮液を逆相カラムクロマトグラフィー（溶離液；5%ア
セトニトリル水溶液）で精製すれば、３−（４−アミノ
ピリミジン−２−イルチオ）−７−［２−（２−アミノ
チアゾール−４−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノ
アセトアミド］−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリ
ウム塩11mgを得る。 IR(KBr)cm-1；1785,1720,1655 NMR(D2O)δ値；3.61(1H,d,J=17Hz),3.96(1H,d,J=17Hz),
3.99(3H,s),5.35(1H,d,J=5Hz),5.84(1H,d,J=5Hz),6.37
(1H,d,J=6Hz),7.03(1H,s),7.92(1H,d,J=6Hz)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 南 新三郎 富山県富山市東富山寿町３−15−10 (72)発明者 渡辺 泰雄 富山県富山市町村１−247
Claims (6)
- 【請求項１】 【化１】 ［式中、Ｒ1は、置換されていてもよいアルキルチオ、
アリール、アリールチオ、アリールオキシまたは複素環
式基を；Ａは、保護されていてもよいアミノ、ヒドロキ
シルもしくはヒドロキシイミノ基またはアルコキシイミ
ノ基で置換されていてもよいメチレン基を；Ｒ2は、ハ
ロゲン原子、シアノ基、アミジノ基、グアニジノ基、ア
ジド基、ニトロ基、置換されていてもよいアルキル、ア
ルケニル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、ア
リールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキル
アミノ、アシル、カルバモイル、カルバモイルオキシ、
アルコキシイミノ、ウレイド、アルキルスルフィニル、
アルキルスルホニルもしくはスルファモイル基または保
護されていてもよいアミノ、イミノ、ヒドロキシル、ヒ
ドロキシイミノもしくはカルボキシル基から選ばれる１
つ以上の基で置換されていてもよいピリミジニル、キナ
ゾリニル、プリニル、ピラゾロ［３,４−ｄ］ピリミジ
ニル、ピラゾロ［４,３−ｄ］ピリミジニル、［１,２,
３］トリアゾロ［４,５−ｄ］ピリミジニルまたはプテ
リジニル基を；Ｒ3は、保護されていてもよいカルボキ
シル基またはカルボキシラート基を；ｎは、０または１
をそれぞれ示す。］で表されるセファロスポリン誘導体
またはその塩。 - 【請求項２】Ｒ2が、シアノ基、置換されていてもよい
アルキル、アルコキシ、アルキルチオもしくはアルキル
アミノ基または保護されていてもよいアミノもしくはヒ
ドロキシル基から選ばれる１つ以上の基で置換されてい
てもよいピリミジニル、キナゾリニル、プリニル、ピラ
ゾロ［３，４−ｄ］ピリミジニル、ピラゾロ［４，３−
ｄ］ピリミジニル、［１，２，３］トリアゾロ［４，５
−ｄ］ピリミジニルまたはプテリジニル基である請求項
１記載のセファロスポリン誘導体またはその塩。 - 【請求項３】Ｒ1が、ハロゲン原子で置換されていても
よい低級アルキルチオ、フェニル、フェニルオキシもし
くはチエニル基、ハロゲン原子もしくはアミノ基で置換
されていてもよいチアゾリル基またはアミノ基で置換さ
れていてもよいチアジアゾリル基である請求項１または
２記載のセファロスポリン誘導体またはその塩。 - 【請求項４】Ｒ1が、ハロゲン原子で置換された低級ア
ルキルチオ基、フェニル基またはハロゲン原子もしくは
アミノ基で置換されていてもよいチアゾリル基である請
求項３記載のセファロスポリン誘導体またはその塩。 - 【請求項５】Ａが、保護されていてもよいヒドロキシも
しくはヒドロキシイミノ基またはアルコキシイミノ基で
置換されていてもよいメチレン基である請求項１〜４記
載のセファロスポリン誘導体またはその塩。 - 【請求項６】Ｒ2が、シアノ基、置換されていてもよい
低級アルキルもしくは低級アルキルアミノ基または保護
されていてもよいアミノもしくはヒドロキシル基から選
ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいピリミジニ
ル、キナゾリニル、プリニル、ピラゾロ［３,４−ｄ］
ピリミジニル、［１,２,３］トリアゾロ［４,５−ｄ］
ピリミジニルまたはプテリジニル基である請求項１〜５
記載のセファロスポリン誘導体またはその塩。
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|---|---|---|---|
| JP21308396A JP4028607B2 (ja) | 1996-07-24 | 1996-07-24 | 新規なセファロスポリン誘導体またはその塩 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21308396A JP4028607B2 (ja) | 1996-07-24 | 1996-07-24 | 新規なセファロスポリン誘導体またはその塩 |
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|---|---|
| JPH1036375A true JPH1036375A (ja) | 1998-02-10 |
| JP4028607B2 JP4028607B2 (ja) | 2007-12-26 |
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|---|---|
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Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11279180A (ja) * | 1998-01-23 | 1999-10-12 | Toyama Chem Co Ltd | 新規なセファロスポリン誘導体またはその塩並びにそれらを含有する抗菌剤 |
| WO2002004463A1 (en) * | 2000-07-07 | 2002-01-17 | Lg Life Sciences Ltd | Novel cephalosporin compounds and process for preparing the same |
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| WO2002000616A3 (en) * | 2000-06-28 | 2002-06-27 | Lg Chem Investment Ltd | Novel cephalosporin compounds and process for preparing the same |
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| US8017781B2 (en) | 2005-11-15 | 2011-09-13 | Vertex Pharmaceuticals Incorporated | Azaindazoles useful as inhibitors of kinases |
| US8835441B2 (en) | 2005-05-20 | 2014-09-16 | Amgen Inc. | Heterobicyclic metalloprotease inhibitors |
-
1996
- 1996-07-24 JP JP21308396A patent/JP4028607B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| KR100437277B1 (ko) * | 2000-06-28 | 2004-06-23 | 주식회사 엘지생명과학 | 신규 세팔로스포린 화합물 및 그의 제조방법 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
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