JPH103070A - Liquid crystal display panel and liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display panel and liquid crystal display device

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JPH103070A
JPH103070A JP15709396A JP15709396A JPH103070A JP H103070 A JPH103070 A JP H103070A JP 15709396 A JP15709396 A JP 15709396A JP 15709396 A JP15709396 A JP 15709396A JP H103070 A JPH103070 A JP H103070A
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Japan
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pixel electrode
bus lines
substrate
data bus
gate bus
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Kazutaka Hanaoka
一孝 花岡
Yasutoshi Tasaka
泰俊 田坂
Tetsuya Kobayashi
哲也 小林
Ikuo Tomita
生夫 富田
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal panel capable of making the opening ratio larger while suppressing crosstalk and the burning of a screen from being generated. SOLUTION: In this liquid crystal display panel having parallel arranged first and second substrates, gate buss lines and data buss lines formed on the counter surface of the first substrate and pixel electrodes 14 formed on the counter surface of the first substrate, outer circumferential parts of respective pixel electrodes 14 are arranged so as to be overlapped with data buss lines of both sides of them. Then, when the static capacitance between one electrode 14 and adjacent two lines of data buss lines 11 of the pixel electrode and the total capacitance of the capacitance between the one pixel electrode and two lines of gate buss lines 12 of the pixel electrode and the capacitance between two lines of the data buss lines 11 and a common electrode 14 are respectively defined as CPS and CPX, 8CPS<CPX is made to be valid.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示パネル及
び液晶表示装置に関する。
[0001] The present invention relates to a liquid crystal display panel and a liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】薄膜トランジスタ(TFT)を用いたア
クティブマトリクス型液晶表示パネルは、TFTが形成
されたTFT基板とそれに対向する対向基板、及び両基
板の間に挟持された液晶材料とを含んで構成される。
2. Description of the Related Art An active matrix liquid crystal display panel using a thin film transistor (TFT) includes a TFT substrate on which a TFT is formed, a counter substrate facing the TFT substrate, and a liquid crystal material sandwiched between the two substrates. Is done.

【0003】TFT基板の対向面上には、相互に平行に
配置された複数のデータバスラインと、これに交差し、
かつ相互に平行に配置された複数のゲートバスラインが
設けられている。ゲートバスラインには走査信号が印加
され、データバスラインには画像信号が印加される。ゲ
ートバスラインとデータバスラインとに囲まれた領域に
透明画素電極が配置されている。
A plurality of data bus lines arranged in parallel with each other and intersecting the
Further, a plurality of gate bus lines arranged in parallel with each other are provided. A scanning signal is applied to the gate bus line, and an image signal is applied to the data bus line. Transparent pixel electrodes are arranged in a region surrounded by the gate bus lines and the data bus lines.

【0004】各画素電極は、画素電極ごとに設けられた
TFTにより、1本のデータバスラインに接続される。
各TFTのゲート電極は、1本のゲートバスラインに接
続され、当該ゲートバスラインに印加される走査信号に
より導通状態が制御される。
Each pixel electrode is connected to one data bus line by a TFT provided for each pixel electrode.
The gate electrode of each TFT is connected to one gate bus line, and the conduction state is controlled by a scanning signal applied to the gate bus line.

【0005】対向基板の対向面上には、全画素共通の透
明共通電極が設けられている。また、対向基板側から入
射する光によりTFTに励起される光励起電流の発生を
防止するため、及びデータバスライン、ゲートバスライ
ンと画素電極との間からの漏れ光を遮蔽するために対向
基板の対向面上の所定の領域に遮光膜が配置される。
[0005] On the opposing surface of the opposing substrate, a transparent common electrode common to all pixels is provided. Further, in order to prevent generation of a photo-excitation current which is excited in the TFT by light incident from the counter substrate side, and to shield light leakage from between the data bus line, the gate bus line and the pixel electrode, the counter substrate is formed. A light shielding film is arranged in a predetermined area on the facing surface.

【0006】対向基板の遮光膜で覆われていない領域
(開口部)とTFT基板の透明画素電極とを正確に位置
合わせすることにより、透明画素電極が形成された領域
に入射する光のみを透過させ、それ以外の領域に入射す
る光を遮光することができる。実際には、対向基板とT
FT基板との位置合わせ余裕をとるために、遮光膜と透
明画素電極とが数μm〜7μm程度の幅で重なるように
設計される。
By accurately aligning the area (opening) of the counter substrate not covered with the light-shielding film with the transparent pixel electrode of the TFT substrate, only light incident on the area where the transparent pixel electrode is formed is transmitted. And light incident on other areas can be blocked. In practice, the counter substrate and T
In order to allow a margin for alignment with the FT substrate, the light shielding film and the transparent pixel electrode are designed to overlap with a width of about several μm to 7 μm.

【0007】位置合わせ余裕をとる必要があるため、液
晶表示パネルの開口率が低下してしまう。直視型液晶表
示パネルに比べて一画素の面積の小さい投写型液晶表示
パネルにおいて、開口率の低下が特に大きな問題とな
る。光源の輝度を増加させることにより、開口率の低下
を補うことができるが、光源の大きさ、液晶表示パネル
の温度上昇等の問題が生じるため、光源の輝度の増加に
も限界がある。
Since it is necessary to provide a margin for alignment, the aperture ratio of the liquid crystal display panel is reduced. In a projection type liquid crystal display panel having an area of one pixel smaller than that of a direct-view type liquid crystal display panel, a decrease in aperture ratio is a particularly serious problem. Increasing the brightness of the light source can compensate for the decrease in the aperture ratio, but there are problems such as the size of the light source and the rise in temperature of the liquid crystal display panel.

【0008】液晶表示パネルの開口率を高くするため
に、透明画素電極の外縁部をバスラインに重ねて配置す
る構成が提案されている。この構成にすると、透明電極
とバスラインとの間からの漏れ光がなくなるため、この
部分に遮光膜を設ける必要がない。このため、遮光膜と
透明画素電極との重なりによる開口率の低下を防止する
ことができる。
In order to increase the aperture ratio of a liquid crystal display panel, there has been proposed a configuration in which the outer edge of a transparent pixel electrode is arranged so as to overlap a bus line. With this configuration, there is no light leaking from between the transparent electrode and the bus line, and it is not necessary to provide a light-shielding film in this portion. For this reason, it is possible to prevent a decrease in aperture ratio due to the overlap between the light-shielding film and the transparent pixel electrode.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】透明画素電極の外縁部
とデータバスラインとを重ねて配置すると、透明画素電
極とデータバスラインとの間の寄生容量が大きくなる。
この寄生容量により、透明画素電極の電位がデータバス
ラインの電圧変化の影響を受けて変動する。透明画素電
極の電位の変動が一階調分を超えると、クロストークが
生じてしまう。
When the outer edge portion of the transparent pixel electrode and the data bus line are arranged so as to overlap with each other, the parasitic capacitance between the transparent pixel electrode and the data bus line increases.
Due to this parasitic capacitance, the potential of the transparent pixel electrode fluctuates under the influence of the voltage change of the data bus line. If the change in the potential of the transparent pixel electrode exceeds one gradation, crosstalk occurs.

【0010】透明画素電極の外縁部とゲートバスライン
とを重ねて配置すると、透明画素電極とゲートバスライ
ンとの間の寄生容量が大きくなる。ある画素の走査期間
中には、当該画素に対応するゲートバスラインにTFT
のしきい値電圧以上の順バイアス電圧が印加される。当
該画素の走査が終了すると、ゲートバスラインには、T
FTを非導通状態にするのに十分な逆バイアス電圧が印
加される。
When the outer edge of the transparent pixel electrode and the gate bus line are arranged so as to overlap with each other, the parasitic capacitance between the transparent pixel electrode and the gate bus line increases. During a scanning period of a pixel, a TFT is connected to a gate bus line corresponding to the pixel.
A forward bias voltage equal to or higher than the threshold voltage is applied. When the scanning of the pixel is completed, the gate bus line displays T
A reverse bias voltage sufficient to make the FT non-conductive is applied.

【0011】ある画素の走査が終了すると、ゲートバス
ラインに印加される電圧が順バイアス電圧から逆バイア
ス電圧まで低下する。この電圧低下の影響を受けて画素
電極の電位も低下する。従って、画素電極に正電圧が印
加されている場合には、電圧の絶対値が減少し、負電圧
が印加されている場合には電圧の絶対値が増加する。
When the scanning of a certain pixel is completed, the voltage applied to the gate bus line decreases from the forward bias voltage to the reverse bias voltage. Under the influence of this voltage drop, the potential of the pixel electrode also drops. Therefore, when a positive voltage is applied to the pixel electrode, the absolute value of the voltage decreases, and when a negative voltage is applied, the absolute value of the voltage increases.

【0012】フレーム反転駆動を行う場合には、各画素
電極に印加される電圧の極性がフレームごとに反転す
る。上述のように、各画素電極に印加される負電圧の絶
対値が正電圧の絶対値よりも大きくなるため、画素電極
に印加される電圧に負の直流成分が含まれることにな
る。この直流成分は、画面の焼きつきの原因になる。
When performing frame inversion driving, the polarity of the voltage applied to each pixel electrode is inverted for each frame. As described above, since the absolute value of the negative voltage applied to each pixel electrode is larger than the absolute value of the positive voltage, the voltage applied to the pixel electrode includes a negative DC component. This DC component causes screen burn-in.

【0013】本発明の目的は、クロストーク及び画面の
焼きつきの発生を抑制しつつ、開口率を大きくすること
ができる液晶表示パネルを提供することである。
An object of the present invention is to provide a liquid crystal display panel capable of increasing the aperture ratio while suppressing the occurrence of crosstalk and screen burn-in.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明の一観点による
と、対向面を向かい合わせて相互に平行配置された第1
及び第2の基板と、前記第2の基板の対向面上に形成さ
れた共通電極と、前記第1の基板の対向面上に形成さ
れ、相互に平行に配置された複数のゲートバスライン
と、前記第1の基板の対向面上に形成され、前記ゲート
バスラインと交差する方向に延在し、相互に平行に配置
された複数のデータバスラインと、前記第1の基板の対
向面上に形成され、相互に隣り合う2本のゲートバスラ
インと2本のデータバスラインによって囲まれた各領域
に対応して配置された画素電極であって、各画素電極の
外縁部が、その両側のデータバスラインのうち少なくと
も一方に重なるように配置され、1つの画素電極とそれ
に隣接する2本のデータバスラインとの間の静電容量を
DS、1つの画素電極とそれに隣接する2本のゲートバ
スライン、2本のデータバスライン、及び前記共通電極
との間の合計の静電容量をCPXとしたとき、
According to one aspect of the present invention, there are provided first and second parallelly arranged first and second opposing surfaces.
And a second substrate, a common electrode formed on the facing surface of the second substrate, and a plurality of gate bus lines formed on the facing surface of the first substrate and arranged in parallel with each other. A plurality of data bus lines formed on a facing surface of the first substrate, extending in a direction intersecting with the gate bus lines, and arranged in parallel with each other; And a pixel electrode arranged corresponding to each area surrounded by two adjacent gate bus lines and two data bus lines, and the outer edge of each pixel electrode is formed on both sides thereof. , The capacitance between one pixel electrode and two adjacent data bus lines is C DS , and the capacitance between one pixel electrode and one adjacent pixel electrode is two. Gate bus line, two days Tabasurain, and when the total capacitance of between the common electrode and the C PX,

【0015】[0015]

【数4】8CDS<CPX が成り立つ前記画素電極と、前記第1の基板の対向面上
に形成されたスイッチング素子であって、前記画素電極
に対応して設けられ、対応する画素電極と1本のデータ
バスラインとを接続し、1本のゲートバスラインにより
導通状態が制御される前記スイッチング素子とを有する
液晶表示パネルが提供される。
And a switching element formed on the opposing surface of the first substrate, wherein the pixel electrode satisfies 8C DS <C PX , wherein the switching element is provided corresponding to the pixel electrode. There is provided a liquid crystal display panel having the switching element which is connected to one data bus line and whose conduction state is controlled by one gate bus line.

【0016】静電容量CDSの8倍が静電容量CPXよりも
小さくなるようにすると、16階調表示を行う場合に、
データバスラインの電圧が電圧変動範囲の中央から端ま
で変動したときの非走査画素の画素電圧の変動幅を、1
階調に相当する電圧幅以下に抑制することができる。
If eight times the capacitance C DS is made smaller than the capacitance C PX , when displaying 16 gradations,
The variation width of the pixel voltage of the non-scanning pixel when the voltage of the data bus line varies from the center to the end of the voltage variation range is 1
The voltage width can be suppressed to be equal to or less than the voltage width corresponding to the gradation.

【0017】本発明の他の観点によると、対向面を向か
い合わせて相互に平行配置された第1及び第2の基板
と、前記第2の基板の対向面上に形成された共通電極
と、前記第1の基板の対向面上に形成され、相互に平行
に配置された複数のゲートバスラインと、前記第1の基
板の対向面上に形成され、前記ゲートバスラインと交差
する方向に延在し、相互に平行に配置された複数のデー
タバスラインと、前記第1の基板の対向面上に形成さ
れ、相互に隣り合う2本のゲートバスラインと2本のデ
ータバスラインによって囲まれた各領域に対応して配置
された画素電極であって、各画素電極の外縁部が、その
両側のデータバスラインのうち少なくとも一方に重なる
ように配置された前記画素電極と、前記第1の基板の対
向面上に形成されたスイッチング素子であって、前記画
素電極に対応して設けられ、対応する画素電極と1本の
データバスラインとを接続し、1本のゲートバスライン
により導通状態が制御される前記スイッチング素子とを
含んで構成される液晶表示パネルと、前記液晶表示パネ
ルを、階調数がnとなるように駆動するための駆動回路
とを有し、1つの画素電極とそれに隣接する2本のデー
タバスラインとの間の静電容量をCDS、1つの画素電極
とそれに隣接する2本のゲートバスライン、2本のデー
タバスライン、及び前記共通電極との間の合計の静電容
量をCPXとしたとき、
According to another aspect of the present invention, there are provided a first and a second substrate arranged in parallel with the opposing surfaces facing each other, a common electrode formed on the opposing surface of the second substrate, A plurality of gate bus lines formed on the opposing surface of the first substrate and arranged in parallel with each other; and a plurality of gate bus lines formed on the opposing surface of the first substrate and extending in a direction intersecting the gate bus lines. And a plurality of data bus lines arranged in parallel with each other, and formed on an opposing surface of the first substrate and surrounded by two gate bus lines and two data bus lines adjacent to each other. A pixel electrode disposed corresponding to each of the regions, wherein the pixel electrode is disposed such that an outer edge of each pixel electrode overlaps at least one of the data bus lines on both sides thereof; The switch formed on the opposing surface of the substrate A switching element, which is provided corresponding to the pixel electrode, connects the corresponding pixel electrode to one data bus line, and controls the conduction state by one gate bus line. And a driving circuit for driving the liquid crystal display panel so that the number of gradations is n. One pixel electrode and two data bus lines adjacent thereto. and C PX capacitance sum between the capacitance and C DS, 1 single pixel electrode and two gate bus lines adjacent thereto, two data bus lines, and the common electrode between the When

【0018】[0018]

【数5】nCDS<2CPX が成り立つ液晶表示装置が提供される。## EQU5 ## A liquid crystal display device that satisfies nC DS <2C PX is provided.

【0019】静電容量CDSのn倍が静電容量CPXの2倍
よりも小さくなるようにすると、n階調表示を行う場合
に、データバスラインの電圧が電圧変動範囲の中央から
端まで変動したときの非走査画素の画素電圧の変動幅
を、1階調に相当する電圧幅以下に抑制することができ
る。
When n times the capacitance C DS is smaller than twice the capacitance C PX , the voltage of the data bus line is changed from the center to the end of the voltage fluctuation range when displaying n gradations. The fluctuation width of the pixel voltage of the non-scanning pixel when the fluctuation is increased can be suppressed to a voltage width corresponding to one gradation or less.

【0020】本発明の他の観点によると、対向面を向か
い合わせて相互に平行配置された第1及び第2の基板
と、前記第2の基板の対向面上に形成された共通電極
と、前記第1の基板の対向面上に形成され、相互に平行
に配置された複数のゲートバスラインと、前記第1の基
板の対向面上に形成され、前記ゲートバスラインと交差
する方向に延在し、相互に平行に配置された複数のデー
タバスラインと、前記第1の基板の対向面上に形成さ
れ、相互に隣り合う2本のゲートバスラインと2本のデ
ータバスラインによって囲まれた各領域に対応して配置
された画素電極と、前記第1の基板の対向面上に形成さ
れたスイッチング素子であって、前記画素電極に対応し
て設けられ、対応する画素電極と1本のデータバスライ
ンとを接続し、1本のゲートバスラインにより導通状態
が制御される前記スイッチング素子と、前記第1及び第
2の基板間に挟持された液晶層であって、前記画素電極
と前記共通電極との間の電圧の変化に応じて屈折率が変
化し、高屈折率状態と低屈折率状態、及びその中間の屈
折率状態を有する前記液晶層とを有し、各画素電極の外
縁部が、当該画素電極に接続されたスイッチング素子を
制御するゲートバスラインに重なるように配置され、1
つの画素電極と当該画素電極に接続されたスイッチング
素子を制御するゲートバスラインとの間の静電容量をC
GS、1つの画素電極と、それに隣接する2本のゲートバ
スライン、2本のデータバスライン及び前記共通電極と
の間の合計の静電容量であって、高屈折率状態のときの
容量をCPX1低屈折率状態のときの容量をCPX2 、前記
スイッチング素子を導通状態にするためのゲートバスラ
イン電圧と非導通状態にするためのゲートバスライン電
圧との差の絶対値をΔVG としたとき、
According to another aspect of the present invention, there are provided a first and a second substrate arranged in parallel with each other with the opposing surfaces facing each other; a common electrode formed on the opposing surface of the second substrate; A plurality of gate bus lines formed on the opposing surface of the first substrate and arranged in parallel with each other; and a plurality of gate bus lines formed on the opposing surface of the first substrate and extending in a direction intersecting the gate bus lines. And a plurality of data bus lines arranged in parallel with each other, and formed on an opposing surface of the first substrate and surrounded by two gate bus lines and two data bus lines adjacent to each other. And a switching element formed on the opposing surface of the first substrate, wherein the switching element is provided corresponding to the pixel electrode, and one switching element is provided corresponding to the pixel electrode. And one data bus line A liquid crystal layer sandwiched between the first and second substrates, wherein the switching element has a conduction state controlled by a bus line, and the liquid crystal layer is refracted in response to a change in voltage between the pixel electrode and the common electrode. The index changes, the liquid crystal layer having a high refractive index state and a low refractive index state, and the liquid crystal layer having an intermediate refractive index state, the outer edge of each pixel electrode, a switching element connected to the pixel electrode It is arranged so as to overlap with the gate bus line to be controlled.
The capacitance between one pixel electrode and a gate bus line that controls a switching element connected to the pixel electrode is represented by C
GS is the total capacitance between one pixel electrode and two adjacent gate bus lines, two data bus lines, and the common electrode, and the capacitance in a high refractive index state. the capacity when the C PX1 low refractive index state C PX2, the absolute value of the difference between the gate bus line voltage to a non-conducting state and the gate bus line voltage for the switching element to a conducting state and [Delta] V G When

【0021】[0021]

【数6】|(1/CPX1 )−(1/CPX2 )|・CGS
ΔVG <1 が成り立つ前記画素電極とを有する液晶表示パネルが提
供される。
[6] | (1 / C PX1) - (1 / C PX2) | · C GS ·
And a liquid crystal display panel having the pixel electrode satisfying ΔV G <1.

【0022】上記不等式が満足される場合、ゲートバス
ラインの電圧の変動により生ずる画素電極の電圧の直流
成分を1V以下に低減することができる。直流成分が1
V以下の場合、電気的処理により直流成分を比較的容易
に除去することが可能になる。
When the above inequality is satisfied, the DC component of the voltage of the pixel electrode caused by the fluctuation of the voltage of the gate bus line can be reduced to 1 V or less. DC component is 1
In the case of V or less, the DC component can be relatively easily removed by the electric treatment.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】図1及び図2を参照して、従来技
術の課題及び本発明の実施例による課題の解決方法につ
いて説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS With reference to FIGS. 1 and 2, a description will be given of a conventional technique and a method of solving the problem according to an embodiment of the present invention.

【0024】図1(A)は、TFTを用いたアクティブ
マトリクス型液晶表示パネルの一画素分の等価回路及び
駆動回路を示す。相互に平行に配置された複数のデータ
バスライン1と、それに直交する複数のゲートバスライ
ン2との交差箇所に、TFT3が配置されている。各デ
ータバスライン1には、駆動回路5から画像信号が与え
られ、ゲートバスライン2には、駆動回路5から走査信
号が与えられる。TFT3のドレイン端子3Dは、1つ
のデータバスライン1に接続され、ゲート端子3Gは、
1つのゲートバスライン2に接続され、ソース端子3S
は、画素電極4に接続されている。
FIG. 1A shows an equivalent circuit and a driving circuit for one pixel of an active matrix type liquid crystal display panel using TFTs. The TFTs 3 are arranged at intersections between a plurality of data bus lines 1 arranged in parallel with each other and a plurality of gate bus lines 2 orthogonal thereto. Each data bus line 1 is supplied with an image signal from the driving circuit 5, and a gate bus line 2 is supplied with a scanning signal from the driving circuit 5. The drain terminal 3D of the TFT 3 is connected to one data bus line 1, and the gate terminal 3G is
Connected to one gate bus line 2 and a source terminal 3S
Are connected to the pixel electrode 4.

【0025】画素電極4とその両側のデータバスライン
1との間の寄生容量をCDS、画素電極4に接続されたT
FT3を制御するゲートバスライン2と当該画素電極4
との間の寄生容量をCGS、他方のゲートバスライン2と
画素電極4との間の補助容量をCS とする。また、各画
素電極4と、液晶層を挟んでそれに対向する共通電極と
の間の静電容量をCLCとする。後述するように、補助容
量CS ができるだけ大きくなるように設計される。
The parasitic capacitance between the pixel electrode 4 and the data bus lines 1 on both sides thereof is represented by C DS , and the parasitic capacitance between the pixel electrode 4 and the T bus connected to the pixel electrode 4.
The gate bus line 2 for controlling the FT 3 and the pixel electrode 4
C GS , and the auxiliary capacitance between the other gate bus line 2 and the pixel electrode 4 is C S. Further, each pixel electrode 4, the capacitance between the common electrode thereto facing each other across the liquid crystal layer and C LC. As described later, the auxiliary capacitance C S is designed to be as large as possible.

【0026】図1(B)は、液晶表示パネルの光透過率
の電圧依存性を示す。横軸は画素電極と共通電極との間
の電圧(画素電圧)を表し、縦軸は光透過率を表す。画
素電圧がVoff のとき高透過率(白表示)になり、電圧
がVonのとき低透過率(黒表示)になる。電圧VonとV
off との差ΔVの電圧範囲をn等分し、各分割点に対応
する電圧を印加することにより、n階調の表示を行うこ
とができる。電圧Vof f とVonとの平均電圧Vmid にお
いて、光透過率が白表示状態と黒表示状態との平均の値
になり、灰色が表示される。
FIG. 1B shows the voltage dependence of the light transmittance of the liquid crystal display panel. The horizontal axis represents the voltage (pixel voltage) between the pixel electrode and the common electrode, and the vertical axis represents the light transmittance. When the pixel voltage is V off becomes a high transmittance (white display), the voltage becomes low transmittance (black display) when V on. Voltage V on and V
By dividing the voltage range of the difference ΔV from off into n equal parts and applying a voltage corresponding to each division point, it is possible to display n gray scales. In the average voltage V mid with the voltage V of f and V on, the light transmittance becomes the value of the average of the white display and the black display state, gray is displayed.

【0027】図1(C)は、データバスライン1、ゲー
トバスライン2、及び画素電極4の電圧の時間変化の一
例を示す。図中の実線VD 及びVG は、それぞれ着目し
ている画素に対応する1本のデータバスライン1及びゲ
ートバスライン2に印加される電圧、破線VS は、画素
電極4の電圧を表す。
FIG. 1C shows an example of a temporal change of the voltage of the data bus line 1, the gate bus line 2, and the pixel electrode 4. The solid line V D and V G in the figure, one data bus line 1 and the gate voltage applied to the bus line 2 corresponding to the pixel of interest, respectively, a broken line V S represents the voltage of the pixel electrode 4 .

【0028】時刻t1 において、ゲートバスライン2に
パルス電圧が印加され、着目している画素の走査が行わ
れる。電圧VG がハイレベルになっている期間、TFT
が導通状態になる。灰色表示にする場合には、時刻t1
における電圧VD をVmid に等しくしておく。時刻t1
にTFT3が導通状態になるため、画素電圧VS もV
mid に等しくなる。
Time t1At the gate bus line 2
A pulse voltage is applied and the pixel of interest is scanned.
It is. Voltage VGDuring the period when is at the high level, the TFT
Becomes conductive. To display in gray, the time t1
Voltage V atDTo VmidKeep it equal to Time t1
Since the TFT 3 is turned on, the pixel voltage VSAlso V
midIs equal to

【0029】電圧VG が立ち下がると、TFT3が非導
通状態になるため、画素電圧VS は、理想的には、1フ
レーム期間Tが経過して次フレームの走査が開始される
時刻t2 まで一定電圧を維持する。しかし、実際には、
寄生容量CDSの影響を受けて画素電圧VS が以下に説明
するように変動する。
[0029] When the voltage V G falls, since the TFT3 is nonconducting, the pixel voltage V S, ideally, the time t 2 of one frame period T is the scanning of the next frame is started after the lapse Maintain a constant voltage until. But actually,
Parasitic capacitance C DS pixel voltage V S due to the influence of changes as described below.

【0030】着目している画素の走査が終了すると、電
圧VD が、次に走査される画素の表示状態に対応して変
化する。例えば、次に走査される画素を黒表示にする場
合には、図1(C)に示すように電圧VD をVmid から
off まで低下させる。電圧VD が低下すると、寄生容
量CDSの影響を受けて画素電圧VS も低下する。このよ
うに、画素電極に隣接して配置されたデータバスライン
1の電圧変化に応じて画素電圧VS が変動し、クロスト
ークが発生する。
When the scanning of the pixel of interest is completed, the voltage V D changes according to the display state of the pixel to be scanned next. For example, a pixel to be scanned next when the black display causes a voltage V D as shown in FIG. 1 (C) is lowered from V mid to V off. When the voltage V D falls, it drops the pixel voltage V S due to the influence of the parasitic capacitance C DS. Thus, the pixel voltage V S is varied in accordance with the voltage change of the data bus lines 1 disposed adjacent to the pixel electrode, crosstalk occurs.

【0031】フレーム反転駆動する場合には、次フレー
ムの走査開始時刻t2 の直前に、電圧VD を−Vmid
等しくする。このとき、電圧VD の変化に対応して画素
電圧VS も低下する。この電圧低下後の期間は、1フレ
ーム期間Tに比べて極僅かであるため、表示品質に大き
な影響は及ぼさない。
[0031] When the frame inversion drive, just before the scanning start time t 2 of the next frame, to equalize the voltage V D to -V mid. At this time, also decreases the pixel voltage V S corresponding to the change of the voltage V D. Since the period after the voltage drop is very small compared to the one frame period T, the display quality is not significantly affected.

【0032】クロストークの発生を抑制するためには、
走査終了時における画素電圧の変動幅ΔVS を小さくす
ることが好ましい。また、図1(B)に示すように、画
素電圧VS がVmid 近傍で変化するとき透過率の変化率
が最も大きくなる。このため、画素電圧VS がVmid
ほぼ等しい画素においてクロストークが発生しやすい。
画素電圧VS がほぼVmid に等しい画素におけるクロス
トークの発生を抑制するためには、当該画素の走査が終
了した後、データバスライン1の電圧VD がV mid から
off もしくはVonまでΔV/2の幅で変化したときの
画素電圧VS の変動幅ΔVS を1階調分の電圧幅よりも
小さくすることが好ましい。すなわち、画素電圧VS
変動幅ΔVS を、
In order to suppress the occurrence of crosstalk,
Variation width ΔV of pixel voltage at the end of scanningSReduce
Preferably. Also, as shown in FIG.
Elementary voltage VSIs VmidChange rate of transmittance when changing near
Is the largest. Therefore, the pixel voltage VSIs VmidTo
Crosstalk is likely to occur in substantially equal pixels.
Pixel voltage VSIs almost VmidCross at pixel equal to
In order to suppress the occurrence of talk, the scanning of the pixel is terminated.
After completion, the voltage V of the data bus line 1 isDIs V midFrom
VoffOr VonUp to ΔV / 2
Pixel voltage VSFluctuation width ΔVSThan the voltage width for one gradation
It is preferable to make it smaller. That is, the pixel voltage VSof
Fluctuation width ΔVSTo

【0033】[0033]

【数7】 ΔVS <ΔV/n …(1) とすることが好ましい。ここで、nは階調数である。It is preferable that ΔV S <ΔV / n (1). Here, n is the number of gradations.

【0034】画素電圧VS の変動幅ΔVS は、[0034] The fluctuation width ΔV S of the pixel voltage V S,

【0035】[0035]

【数8】 ΔVS =(CDS/CPX)(ΔV/2) …(2) と表せる。ここで、CPXは、画素電極4に関する全容量
DS+CGS+CLC+CSである。
ΔV S = (C DS / C PX ) (ΔV / 2) (2) Here, C PX is the total capacitance C DS + C GS + C LC + C S for the pixel electrode 4.

【0036】式(1)及び(2)から、From equations (1) and (2),

【0037】[0037]

【数9】 nCDS<2CPX …(3) が導かれる。The following equation is derived: nC DS <2C PX (3)

【0038】例えば、8CDS<CPXを満たすようにする
ことにより、16階調表示の液晶表示パネルにおいてク
ロクトークを効果的に抑制することができる。また、3
2C DS<CPXを満たすようにすることにより、64階調
表示の液晶表示パネルにおいてクロクトークを効果的に
抑制することができる。また、128CDS<CPXを満た
すようにすることにより、256階調表示の液晶表示パ
ネルにおいてクロクトークを効果的に抑制することがで
きる。
For example, 8CDS<CPXTo satisfy
As a result, the liquid crystal display panel of 16 gradation display
Locktalk can be effectively suppressed. Also, 3
2C DS<CPX64 gradations by satisfying
Effective crosstalk in display LCD panel
Can be suppressed. Also, 128CDS<CPXSatisfy
In this way, the liquid crystal display
Can effectively suppress the crosstalk in the
Wear.

【0039】図1(C)では、画素電極とデータバスラ
インとの間の寄生容量による表示品質への影響を説明し
た。次に、画素電極とゲートバスラインとの間の寄生容
量による表示品質への影響について説明する。
In FIG. 1C, the influence of the parasitic capacitance between the pixel electrode and the data bus line on the display quality has been described. Next, the effect of the parasitic capacitance between the pixel electrode and the gate bus line on the display quality will be described.

【0040】図2(A)は、図1(A)に示すデータバ
スライン1、ゲートバスライン2、及び画素電極4に印
加される電圧の時間変化の一例を示す。図中の実線VG
はゲートバスライン1の電圧を表し、実線VD (on)及び
D (off) は、それぞれ黒表示状態及び白表示状態の画
素に対応するデータバスライン1の電圧を表し、破線V
S (on)及びVS (off) は、それぞれ黒表示状態及び白表
示状態の画素の画素電圧を表す。
FIG. 2A shows an example of a temporal change of the voltage applied to the data bus line 1, the gate bus line 2, and the pixel electrode 4 shown in FIG. Solid line V G in the figure
Represents the voltage of the gate bus line 1, solid lines V D (on) and V D (off) represent the voltage of the data bus line 1 corresponding to the pixels in the black display state and the white display state, respectively,
S (on) and V S (off) represent the pixel voltages of the pixels in the black display state and the white display state, respectively.

【0041】時刻u1 の走査が終了し、電圧VG が立ち
下がると、図1(A)に示す寄生容量CGSの影響を受け
て画素電圧VS (on)及びVS (off) が低下する。1フレ
ーム期間Tが経過し時刻u2 の走査が終了した時点で
も、同様に画素電圧VS (on)及びVS (off) が低下す
る。図1(C)の場合は、画素電圧VS の正負を問わ
ず、走査終了時の画素電圧VS はその絶対値を減少させ
る向きに変化する。これに対し図2(A)の場合は、画
素電圧VS が正のときはその絶対値を減少させ、負のと
きはその絶対値を増加させる向きに変化する。
The time u 1 of the scanning is finished and falls voltage V G, Figure 1 (A) to indicate the parasitic capacitance C pixel voltage influenced by the GS V S (on) and V S (off) descend. The pixel voltages V S (on) and V S (off) similarly decrease at the time when the scanning at the time u 2 is completed after the lapse of one frame period T. In the case of FIG. 1 (C), regardless of the polarity of the pixel voltage V S, the pixel voltage V S at the end of scan is changed in the direction to reduce its absolute value. On the other hand, in the case of FIG. 2A, when the pixel voltage V S is positive, the absolute value decreases, and when the pixel voltage V S is negative, the absolute value increases.

【0042】画素電圧VS の変化幅ΔVS は、[0042] The change width ΔV S of the pixel voltage V S,

【0043】[0043]

【数10】 ΔVS =(CGS/CPX)ΔVG …(4) と表される。ここで、ΔVG は、ゲートバスライン2に
印加されるパルス電圧のパルス高に相当する電圧であ
る。すなわち、ΔVG は、TFT13を導通状態にする
ためのゲート電圧と非導通状態にするためのゲート電圧
との差に相当する。
ΔV S = (C GS / C PX ) ΔV G (4) Here, [Delta] V G is the voltage corresponding to the pulse height of the pulse voltage applied to the gate bus line 2. That, [Delta] V G corresponds to the difference between the gate voltage to the gate voltage and the non-conductive state to the conductive state TFT 13.

【0044】画素が黒表示状態(VS =VS (on))の時
と、白表示状態(VS =VS (off))の時とで、液晶層
の誘電率が異なるため、液晶層を挟んだ静電容量CLC
異なる。従って、黒表示状態の画素電極の全容量CPX(o
n)と白表示状態の画素電極の全容量CPX(off) とは相互
に異なる。式(4)から、
The pixel is the case of the black display state (V S = V S (on )), as in the white display state (V S = V S (off )), the dielectric constant of the liquid crystal layer is different, the liquid crystal The capacitance CLC across the layers is also different. Therefore, the total capacitance C PX (o
n) and the total capacitance C PX (off) of the pixel electrode in the white display state are different from each other. From equation (4),

【0045】[0045]

【数11】 ΔVS (on) =(CGS/CPX(on) )ΔVG ΔVS (off) =(CGS/CPX(off) )ΔVG …(5) が導き出される。ここで、ΔVS (on) 及びΔVS (of
f) は、それぞれ黒表示状態及び白表示状態の画素の画
素電圧VS の変動幅である。
ΔV S (on) = (C GS / C PX (on)) ΔV G ΔV S (off) = (C GS / C PX (off)) ΔV G (5) is derived. Here, ΔV S (on) and ΔV S (of
f) is the fluctuation width of the pixel voltage V S of the pixel in the black display state and the pixel in the white display state, respectively.

【0046】式(5)に示すように、黒表示状態の画素
と白表示状態の画素において、画素電圧VS の変動幅が
相互に異なる。従って、黒表示状態の画素の画素電圧V
S (on)の振幅の中心値VC (on)と白表示状態の画素の画
素電圧VS (off) の振幅の中心値VC (off) とは、相互
に異なる。
As shown in the equation (5), the variation width of the pixel voltage V S differs between the pixel in the black display state and the pixel in the white display state. Therefore, the pixel voltage V of the pixel in the black display state
The S amplitude central value V C of the center value of the amplitude of (on) V C (on) and the pixel voltage of the pixel in a white display state V S (off) (off) , different from each other.

【0047】共通電極の電位を中心値VC (on)とVC (o
ff) のいずれかに合わせた場合、画素電圧の振幅の中心
値が共通電極の電位と異なる表示状態の画素において、
画素電圧VS に直流成分が残る。この直流成分が画面の
焼きつきの原因になる。
The potential of the common electrode is set at the center values V C (on) and V C (o
ff), when the center value of the amplitude of the pixel voltage is different from the potential of the common electrode,
DC component in the pixel voltage V S remains. This DC component causes screen burn-in.

【0048】図2(B)は、黒表示状態及び白表示状態
の双方の画素において、直流成分を除去するための直流
成分解消回路を、図1(A)の駆動回路5に追加した場
合の電圧変化の一例を示す。図2(A)の場合と異なる
点は、データバスライン1に印加される電圧VD に、黒
表示及び白表示状態の各々に対応した直流バイアス電圧
が与えられていることである。
FIG. 2B shows a case where a DC component eliminating circuit for removing a DC component is added to the driving circuit 5 of FIG. 1A in both the black display state and the white display state pixels. 4 shows an example of a voltage change. For differs from FIG. 2 (A), the voltage V D applied to the data bus line 1 is that the DC bias voltage corresponding to each of the black display and white display is given.

【0049】すなわち、電圧VD (on)には、ΔVS (on)
に相当する直流バイアス電圧、電圧VD (off) には、Δ
S (off) に相当する直流バイアス電圧が、予め与えら
れている。このため、画素電圧VS (on)の振幅の中心値
とVS (off) の振幅の中心値とを一致させることができ
る。この直流バイアス電圧は、駆動回路5内の直流成分
解消回路により与えられる。
That is, the voltage V D (on) is equal to ΔV S (on)
DC bias voltage and voltage V D (off) correspond to Δ
A DC bias voltage corresponding to V S (off) is given in advance. Therefore, the center value of the amplitude of the pixel voltage V S (on) and the center value of the amplitude of V S (off) can be matched. This DC bias voltage is provided by a DC component eliminating circuit in the drive circuit 5.

【0050】このように、データバスライン1に印加す
る電圧に、予め表示状態に応じた直流バイアス電圧を与
えることにより、液晶層に印加される電圧の直流成分を
除去することができる。ただし、直流成分解消回路によ
り画素の表示状態に応じた直流バイアス電圧を与え、十
分な直流成分除去効果を得るためには、画素電圧VS
変動分ΔVS (on)とΔVS (off) との差を1Vより小さ
くすることが好ましい。
As described above, the DC component of the voltage applied to the liquid crystal layer can be removed by applying a DC bias voltage according to the display state to the voltage applied to the data bus line 1 in advance. However, in order to provide a DC bias voltage according to the display state of the pixel by the DC component eliminating circuit and obtain a sufficient DC component removing effect, the variation ΔV S (on) and ΔV S (off) of the pixel voltage V S are required. Is preferably smaller than 1V.

【0051】すなわち、式(5)から、That is, from equation (5),

【0052】[0052]

【数12】 ((1/CPX(off) )−(1/CPX(on)))・CGS・ΔVG <1 …(6) とすることが好ましい。It is preferable that ((1 / C PX (off)) − (1 / C PX (on))) · C GS · ΔV G <1 (6)

【0053】式(3)及び式(6)から、画素電極と各
バスラインとの間の寄生容量CDS及びCGSを小さくし、
全容量CPXを大きくすることが好ましいことがわかる。
全容量CPXを大きくするための1つの方法として、図1
(A)に示す静電容量CS を大きくする方法が採用され
ている。
From equations (3) and (6), the parasitic capacitances C DS and C GS between the pixel electrode and each bus line are reduced,
It can be seen that it is preferable to increase the total capacity CPX .
One method for increasing the total capacity C PX is shown in FIG.
A method of increasing the capacitance C S shown in FIG.

【0054】図2(C)は、静電容量CS の影響による
画素電圧VS の変動を示す。実線V D はデータバスライ
ンに印加される電圧、破線VS は画素G1 の画素電圧V
S を示す。パルスG1 〜G3 は、それぞれデータバスラ
インに沿って連続配置された画素G1 〜G3 の各走査信
号に対応するパルスである。図2(A)及び(B)で説
明したように、パルスG1 が立ち下がると、図1(A)
に示す寄生容量CGSの影響を受けて画素電圧VS が低下
する。
FIG. 2C shows the capacitance CSDepends on
Pixel voltage VSShows the variation of Solid line V DIs the data bus line
Voltage applied to theSIs the pixel G1Pixel voltage V
SIs shown. Pulse G1~ GThreeIs the data bus
Pixels G continuously arranged along the1~ GThreeEach scanning signal
This is a pulse corresponding to the signal. 2 (A) and 2 (B)
As mentioned, the pulse G1Falls, Figure 1 (A)
The parasitic capacitance C shown inGSPixel voltage VSDecreases
I do.

【0055】パルスG2 の立ち上がり及び立ち下がり時
に、それぞれ静電容量CS の影響を受けて、画素電圧V
S が上昇及び低下する。静電容量CS の影響は、パルス
2の立ち上がりと立ち下がりの双方において生ずるた
め、パルスG2 の影響を受ける前後で画素電圧VS は殆
ど変動しない。従って、静電容量CS を積極的に大きく
しても、画素電圧VS に与える影響は少ない。静電容量
S を大きくすることは、画素電圧VS の変動による表
示品質の劣化よりも、式(3)及び(6)の全容量CPX
が大きくなることによる表示品質の改善の効果が大き
い。
When the pulse G 2 rises and falls, the pixel voltage V is affected by the capacitance C S , respectively.
S rises and falls. Electrostatic capacity C S, since occurring in both rising and falling of the pulse G 2, the pixel voltage V S before and after affected by the pulse G 2 is hardly fluctuates. Therefore, even if the capacitance C S is positively increased, the influence on the pixel voltage V S is small. Increasing the capacitance C S is more effective than the degradation of display quality due to the fluctuation of the pixel voltage V S than the total capacitance C PX of Expressions (3) and (6).
Has a large effect of improving display quality.

【0056】次に、図3を参照して、式(3)及び
(6)を満足するための本発明の実施例による液晶表示
パネルの構成について説明する。
Next, a configuration of the liquid crystal display panel according to the embodiment of the present invention for satisfying the expressions (3) and (6) will be described with reference to FIG.

【0057】図3(A)は、実施例による液晶表示パネ
ルの概略を示す平面図である。図3(A)に示すよう
に、相互に平行配置された複数のデータバスライン11
が図の縦方向に延在し、相互に平行配置された複数のゲ
ートバスライン12が図の横方向に延在する。データバ
スライン11とゲートバスライン12との交差箇所に対
応してTFT13が設けられている。TFT13のドレ
イン領域13Dは、対応するデータバスライン11に接
続され、ゲート電極13Gは、対応するゲートバスライ
ン12に連続している。
FIG. 3A is a plan view schematically showing a liquid crystal display panel according to the embodiment. As shown in FIG. 3A, a plurality of data bus lines 11 arranged in parallel with each other.
Extend in the vertical direction of the figure, and a plurality of gate bus lines 12 arranged in parallel to each other extend in the horizontal direction of the figure. A TFT 13 is provided at an intersection of the data bus line 11 and the gate bus line 12. The drain region 13D of the TFT 13 is connected to the corresponding data bus line 11, and the gate electrode 13G is continuous with the corresponding gate bus line 12.

【0058】相互に隣り合う2本のデータバスライン1
1と2本のゲートバスライン12によって囲まれた領域
に対応して画素電極14が配置されている。画素電極1
4は、対応するTFT13のソース領域13Sに接続さ
れている。画素電極14の外縁部のうち、TFT13に
面する部分以外の部分は、バスライン12及び13に重
なっている。TFT13が配置された領域に対応して、
遮光膜16が配置されている。相互に隣り合う2本のゲ
ートバスライン12と2本のデータバスライン11との
囲まれた矩形状の全領域が、遮光膜16及び画素電極1
4のいずれかによって完全に覆われる。
Two data bus lines 1 adjacent to each other
A pixel electrode 14 is arranged corresponding to a region surrounded by one and two gate bus lines 12. Pixel electrode 1
4 is connected to the source region 13S of the corresponding TFT13. Portions of the outer edge of the pixel electrode 14 other than the portion facing the TFT 13 overlap the bus lines 12 and 13. In correspondence with the area where the TFT 13 is arranged,
A light-shielding film 16 is provided. The entire rectangular area surrounded by the two gate bus lines 12 and the two data bus lines 11 adjacent to each other is the light shielding film 16 and the pixel electrode 1.
4 to be completely covered.

【0059】図3(B)は、図3(A)の一点鎖線B3
−B3における断面図を示す。ガラス基板20と30
が、相互に平行に配置されている。ガラス基板20の対
向面上に、クロム(Cr)からなるゲート電極13Gが
形成されている。ゲート電極13Gは、例えばスパッタ
リングによりガラス基板20の対向面上の全領域にCr
膜を堆積した後、このCr膜をパターニングして形成さ
れる。Cr膜のパターニングにより、図3(A)に示す
ゲート電極13Gに連続するゲートバスライン12も同
時に形成される。
FIG. 3B is a dashed line B3 of FIG.
The sectional view in -B3 is shown. Glass substrates 20 and 30
Are arranged parallel to each other. On the facing surface of the glass substrate 20, a gate electrode 13G made of chromium (Cr) is formed. The gate electrode 13G is formed, for example, by sputtering over the entire region on the opposing surface of the glass
After depositing the film, the Cr film is formed by patterning. By patterning the Cr film, a gate bus line 12 continuous to the gate electrode 13G shown in FIG. 3A is also formed at the same time.

【0060】ガラス基板20の対向面上に、ゲート電極
13Gを覆うように、SiNからなる厚さ約330nm
のゲート絶縁膜21が形成されている。ゲート絶縁膜2
1は、例えば化学気相成長(CVD)により形成され
る。ゲート絶縁膜21の表面上の領域のうちTFTを形
成すべき領域に、厚さ約150nmのアモルファスシリ
コン膜13Cが形成されている。
On the opposing surface of the glass substrate 20, a thickness of about 330 nm made of SiN is formed so as to cover the gate electrode 13G.
Of the gate insulating film 21 is formed. Gate insulating film 2
1 is formed by, for example, chemical vapor deposition (CVD). An amorphous silicon film 13C having a thickness of about 150 nm is formed in a region on the surface of the gate insulating film 21 where a TFT is to be formed.

【0061】アモルファスシリコン膜13Cの表面上の
領域のうちソース及びドレインに対応する領域に、それ
ぞれTi/Al/Tiの3層構造を有するソース電極1
3S及びドレイン電極13Dが形成されている。下側T
i層の厚さは約20nm、Al層の厚さは約50nm、
上側Ti層の厚さは約80nmである。ドレイン電極1
3Dは、図3(A)に示すドレイン電極13Dに連続す
るデータバスライン11と同時に形成される。
The source electrode 1 having a three-layered structure of Ti / Al / Ti is formed in a region corresponding to the source and the drain in the region on the surface of the amorphous silicon film 13C.
3S and the drain electrode 13D are formed. Lower T
The thickness of the i layer is about 20 nm, the thickness of the Al layer is about 50 nm,
The thickness of the upper Ti layer is about 80 nm. Drain electrode 1
3D is formed simultaneously with the data bus line 11 that is continuous with the drain electrode 13D shown in FIG.

【0062】アモルファスシリコン膜13Cの堆積は、
例えば原料ガスとしてSiH4 を用いたCVDにより行
い、パターニングは、レジストパターンをマスクとし、
プラズマアッシャーを用いたエッチングにより行う。T
i層、Al層の堆積は、スパッタリングにより行い、パ
ターニングは、レジストパターンをマスクとし、ウェッ
ト処理を用いたエッチングにより行う。
The deposition of the amorphous silicon film 13C is performed as follows.
For example, it is performed by CVD using SiH 4 as a source gas, and patterning is performed using a resist pattern as a mask,
This is performed by etching using a plasma asher. T
The i-layer and the Al layer are deposited by sputtering, and the patterning is performed by etching using a resist pattern as a mask and wet processing.

【0063】ゲート絶縁膜21の表面上に、TFT13
を覆うように厚さ約2μmの層間絶縁膜22が形成され
ている。層間絶縁膜22は、例えば三洋化成製のアクリ
ル系樹脂LC−201を回転塗布することにより形成さ
れる。アクリル系樹脂LC−201の比誘電率は、約3
である。層間絶縁膜22の表面はほぼ平坦になる。
On the surface of the gate insulating film 21, the TFT 13
An interlayer insulating film 22 having a thickness of about 2 μm is formed so as to cover. The interlayer insulating film 22 is formed by, for example, spin-coating an acrylic resin LC-201 manufactured by Sanyo Chemical Industries. The relative permittivity of the acrylic resin LC-201 is about 3
It is. The surface of the interlayer insulating film 22 becomes substantially flat.

【0064】層間絶縁膜22の表面上に、インジウムす
ずオキサイド(ITO)からなる複数の透明画素電極1
4が形成されている。各透明画素電極14は、層間絶縁
膜22に形成されたコンタクトホールを介してTFT1
3のソース電極13Sに接続されている。透明画素電極
14を覆うように、全面に配向膜23が形成されてい
る。
On the surface of the interlayer insulating film 22, a plurality of transparent pixel electrodes 1 made of indium tin oxide (ITO)
4 are formed. Each transparent pixel electrode 14 is connected to the TFT 1 through a contact hole formed in the interlayer insulating film 22.
3 is connected to the third source electrode 13S. An alignment film 23 is formed on the entire surface so as to cover the transparent pixel electrode 14.

【0065】ガラス基板30の対向面上には、TFT1
3が形成された領域に対応して、Crからなる厚さ約1
20nmの遮光膜16が形成されている。遮光膜16
は、例えばスパッタリングにより全面にCr膜を堆積し
た後、ウェット処理を用いたエッチングによりパターニ
ングして形成される。
On the opposing surface of the glass substrate 30, a TFT 1
3 corresponding to the region where Cr.
A 20 nm light-shielding film 16 is formed. Light shielding film 16
Is formed by depositing a Cr film on the entire surface by, for example, sputtering and then patterning by etching using wet processing.

【0066】遮光膜16を覆うように全面にITOから
なる透明な共通電極31が形成され、その表面上に配向
膜32が形成されている。配向膜23と32との間に、
液晶材料40が挟持されている。
A transparent common electrode 31 made of ITO is formed on the entire surface so as to cover the light shielding film 16, and an alignment film 32 is formed on the surface thereof. Between the alignment films 23 and 32,
A liquid crystal material 40 is sandwiched.

【0067】図3(A)に示すデータバスライン11の
幅を6μm、ゲートバスライン12の幅を15μm、両
バスラインのピッチを共に100μm、画素電極14と
その両側のデータバスライン11及び対応するゲートバ
スライン12との重なり幅を共に2μm、データバスラ
イン11とゲートバスライン12によって囲まれた矩形
領域のうち遮光膜16で遮光された部分の面積を約14
00μm2 とした。
The width of the data bus line 11 shown in FIG. 3A is 6 μm, the width of the gate bus line 12 is 15 μm, the pitch of both bus lines is 100 μm, the pixel electrode 14 and the data bus lines 11 on both sides thereof are The overlap width with the gate bus line 12 is 2 μm, and the area of the rectangular area surrounded by the data bus line 11 and the gate bus line 12 which is shielded by the light shielding film 16 is about 14 μm.
It was set to 00 μm 2 .

【0068】なお、画素電極14とその隣の画素に対応
するゲートバスライン12とは、静電容量を大きくする
ために重なり幅を広くしている。さらに、図3(B)に
示すゲート絶縁膜21と層間絶縁膜22との界面に画素
電極14に接続された補助電極を配置することにより、
画素電極14とゲートバスライン間の実質的な距離を短
くしている。
It should be noted that the pixel electrode 14 and the gate bus line 12 corresponding to the adjacent pixel have a large overlapping width in order to increase the capacitance. Furthermore, by disposing an auxiliary electrode connected to the pixel electrode 14 at the interface between the gate insulating film 21 and the interlayer insulating film 22 shown in FIG.
The substantial distance between the pixel electrode 14 and the gate bus line is shortened.

【0069】このとき、図1(A)に示す寄生容量CGS
が27.8fF、寄生容量CDSが6.2fF、静電容量
S が245fF、電圧Voff 印加時の静電容量CLC(o
ff)が150.8fF、電圧Von印加時の静電容量C
LC(on)が307.8fFであった。これらの数値を式
(3)に当てはめると、階調数nが138以下のとき不
等式が成立する。すなわち、クロストークの発生を抑制
しつつ最大138階調の表示を行うことが可能になる。
At this time, the parasitic capacitance C GS shown in FIG.
Is 27.8 fF, the parasitic capacitance C DS is 6.2 fF, the capacitance C S is 245 fF, and the capacitance C LC (o when the voltage V off is applied.
ff) is 150.8 fF, the capacitance C when the voltage V on is applied
LC (on) was 307.8 fF. When these numerical values are applied to Expression (3), the inequality expression is satisfied when the number of gradations n is 138 or less. That is, it is possible to perform display of a maximum of 138 gradations while suppressing occurrence of crosstalk.

【0070】また、これらの数値を式(6)に当てはめ
ると、ΔVG が57.8V以下のときに不等式が成立す
る。すなわち、走査時のゲートバスラインの電圧と非走
査時のゲートバスラインとの電圧の差ΔVG が57.8
V以下になるように駆動すれば、式(6)を満たすこと
になる。通常のTFTのゲート電圧のオンレベルとオフ
レベルとの差は57.8V以下であるため、図3に示す
液晶表示パネルは、式(6)を満足する。
When these numerical values are applied to equation (6), an inequality holds when ΔV G is 57.8 V or less. That is, the difference [Delta] V G voltage of the gate bus line when the voltage and the non-scanning of the gate bus lines during scanning 57.8
Driving to be equal to or less than V satisfies Expression (6). Since the difference between the ON level and the OFF level of the gate voltage of a normal TFT is 57.8 V or less, the liquid crystal display panel shown in FIG. 3 satisfies Expression (6).

【0071】図3(B)に示すように、画素電極14と
データバスライン11、ゲートバスライン12との間
に、比誘電率3、厚さ2μm程度の層間絶縁膜22を形
成することにより、画素電極14とそれに隣接して配置
されたバスライン11、12との間の寄生容量を低減す
ることができる。寄生容量を低減することにより、図1
及び図2で説明したように、式(3)及び(6)が満た
され、クロストーク及び画面の焼きつきの発生を抑制す
ることができる。
As shown in FIG. 3B, an interlayer insulating film 22 having a relative dielectric constant of 3 and a thickness of about 2 μm is formed between the pixel electrode 14 and the data bus line 11 and the gate bus line 12. , The parasitic capacitance between the pixel electrode 14 and the bus lines 11 and 12 disposed adjacent to the pixel electrode 14 can be reduced. By reducing the parasitic capacitance, FIG.
Also, as described with reference to FIG. 2, Expressions (3) and (6) are satisfied, and the occurrence of crosstalk and screen burn-in can be suppressed.

【0072】なお、寄生容量低減の十分な効果を得るた
めには、画素電極14とバスライン11、12との間に
配置される層間絶縁膜の比誘電率を3.5以下、膜厚を
1.5μm以上とすることが好ましい。上記実施例で
は、層間絶縁膜22としてアクリル系樹脂を用いる場合
を説明したが、比誘電率及び膜厚がこの範囲内であれ
ば、その他の材料を用いてもよい。例えば、半導体プロ
セスで用いられる感光性樹脂を用いてもよい。感光性樹
脂を用いると、露光と現像により容易にパターニングす
ることができる。
In order to obtain a sufficient effect of reducing the parasitic capacitance, the relative dielectric constant of the interlayer insulating film disposed between the pixel electrode 14 and the bus lines 11 and 12 is set to 3.5 or less, and the film thickness is reduced. Preferably, the thickness is 1.5 μm or more. In the above embodiment, the case where the acrylic resin is used as the interlayer insulating film 22 has been described, but other materials may be used as long as the relative dielectric constant and the film thickness are within these ranges. For example, a photosensitive resin used in a semiconductor process may be used. When a photosensitive resin is used, patterning can be easily performed by exposure and development.

【0073】次に、図4を参照して、図3に示す液晶表
示パネルの他の効果を説明する。図4(A)は、画素電
極14とゲートバスライン12の相対位置関係を示すた
めの概略断面図である。各構成部分には、図3の対応す
る構成部分と同一の符号が付されている。なお、簡単化
のために、ゲート絶縁膜等の記載を省略している。
Next, another effect of the liquid crystal display panel shown in FIG. 3 will be described with reference to FIG. FIG. 4A is a schematic cross-sectional view showing a relative positional relationship between the pixel electrode 14 and the gate bus line 12. Each component is given the same reference numeral as the corresponding component in FIG. Note that, for simplification, illustration of a gate insulating film and the like is omitted.

【0074】画素電極14とゲートバスライン12との
間の電位差が生じている場合、画素電極14の端部近傍
とゲートバスライン12との間に電界Eが発生する。こ
の電界Eは、ほとんど液晶層に侵入しない。
When a potential difference occurs between the pixel electrode 14 and the gate bus line 12, an electric field E is generated between the vicinity of the end of the pixel electrode 14 and the gate bus line 12. This electric field E hardly penetrates the liquid crystal layer.

【0075】図4(B)は、従来の液晶表示パネルの場
合を示す。図4(A)の層間絶縁膜22の代わりに、よ
り薄い層間絶縁膜22aが形成されている。画素電極1
4は、その外縁部がゲートバスライン12に重ならない
ように配置されている。この場合、画素電極14の端部
とゲートバスライン12との間に横方向に電界Eが発生
する。
FIG. 4B shows a case of a conventional liquid crystal display panel. A thinner interlayer insulating film 22a is formed instead of the interlayer insulating film 22 of FIG. Pixel electrode 1
4 is arranged so that its outer edge does not overlap with the gate bus line 12. In this case, an electric field E is generated in the lateral direction between the end of the pixel electrode 14 and the gate bus line 12.

【0076】横電界Eの一部は、液晶層に侵入する。液
晶層に侵入した横電界Eの影響を受けて、液晶分子の配
列が乱され、配列の乱れが表示品質の劣化の原因にな
る。これに対し、図4(A)の場合は、液晶層内に横電
界が発生しないため、横電界による表示品質の劣化を防
止することができる。
A part of the horizontal electric field E penetrates the liquid crystal layer. Under the influence of the transverse electric field E penetrating the liquid crystal layer, the arrangement of the liquid crystal molecules is disturbed, and the disorder of the arrangement causes deterioration of display quality. On the other hand, in the case of FIG. 4A, since a horizontal electric field is not generated in the liquid crystal layer, it is possible to prevent display quality from deteriorating due to the horizontal electric field.

【0077】また、図4(B)の場合には、ゲートバス
ライン12の近傍において、基板対向表面に凹凸が形成
される。この凹凸が液晶分子の配列を乱す原因になる。
これに対し、図4(A)の場合は、層間絶縁膜22の表
面がほぼ平坦になるため、基板対向表面の凹凸による液
晶分子の配列の乱れを防止することができる。
In the case of FIG. 4B, irregularities are formed on the substrate facing surface in the vicinity of the gate bus line 12. These irregularities cause disturbance of the alignment of the liquid crystal molecules.
On the other hand, in the case of FIG. 4A, since the surface of the interlayer insulating film 22 becomes substantially flat, it is possible to prevent the disorder of the alignment of the liquid crystal molecules due to the unevenness of the surface facing the substrate.

【0078】図3では、遮光膜を対向基板側に設ける場
合を説明したが、TFT基板側に設けてもよい。
Although FIG. 3 illustrates the case where the light-shielding film is provided on the counter substrate side, it may be provided on the TFT substrate side.

【0079】図5は、遮光膜をTFT基板側に設けた液
晶表示パネルの断面図を示す。TFT13を覆うように
黒色樹脂41が形成されている。黒色樹脂41は、図3
(A)に示す遮光膜16とほぼ同様の領域に配置され
る。対向基板側には遮光膜が形成されていない。その他
の構成は、図3(B)の場合と同様である。
FIG. 5 is a sectional view of a liquid crystal display panel in which a light shielding film is provided on the TFT substrate side. A black resin 41 is formed so as to cover the TFT 13. The black resin 41 is shown in FIG.
The light-shielding film 16 shown in FIG. No light-shielding film is formed on the counter substrate side. Other configurations are the same as those in FIG.

【0080】TFT基板側に黒色樹脂を形成すると、T
FT基板と対向基板との貼り合わせ時に、高精度に位置
合わせする必要がなくなる。このため、図3(A)に示
す遮光膜16と画素電極14との重なり部分を少なくす
ることができ、開口率をより大きくすることができる。
When a black resin is formed on the TFT substrate side, T
When bonding the FT substrate and the counter substrate, there is no need to perform high-accuracy alignment. Therefore, the overlap between the light-shielding film 16 and the pixel electrode 14 shown in FIG. 3A can be reduced, and the aperture ratio can be further increased.

【0081】図3及び図4では、画素電極14の外縁部
をその周囲のデータバスライン11及びゲートバスライ
ン12の双方と重ねる場合を示したが、一方のバスライ
ンとのみ重なる構成としてもよい。また、画素電極14
の両側のデータバスライン11のうち、一方のデータバ
スラインとのみ重なる構成としてもよい。この場合、画
素電極14とそれに重ならないゲートバスライン及びデ
ータバスラインとの間の隙間に対応する領域に、遮光膜
を配置する。
FIGS. 3 and 4 show a case where the outer edge of the pixel electrode 14 overlaps both the data bus line 11 and the gate bus line 12 around it, but it may be configured to overlap only one of the bus lines. . Also, the pixel electrode 14
Of the data bus lines 11 on both sides may overlap with only one of the data bus lines. In this case, a light-shielding film is disposed in a region corresponding to a gap between the pixel electrode 14 and a gate bus line and a data bus line which do not overlap with the pixel electrode 14.

【0082】以上実施例に沿って本発明を説明したが、
本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種
々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に
自明であろう。
The present invention has been described in connection with the preferred embodiments.
The present invention is not limited to these. For example, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications, improvements, combinations, and the like can be made.

【0083】[0083]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
画素電極とバスラインとを重ねて配置し開口率を大きく
した場合に、画素電極とバスラインとの間の寄生容量の
増加を抑制し、クロストーク及び画面の焼きつきの発生
を低減することができる。
As described above, according to the present invention,
When the pixel electrode and the bus line are arranged so as to overlap each other to increase the aperture ratio, it is possible to suppress an increase in parasitic capacitance between the pixel electrode and the bus line, and to reduce the occurrence of crosstalk and screen burn-in. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例による課題解決方法を説明する
ための、液晶表示パネルの1画素の等価回路、光透過率
の電圧依存性を示すグラフ、データバスライン、ゲート
バスライン及び画素電極の電圧の時間変化の一例を示す
グラフである。
FIG. 1 is a diagram illustrating an equivalent circuit of one pixel of a liquid crystal display panel, a graph showing voltage dependence of light transmittance, a data bus line, a gate bus line, and a pixel electrode for describing a solution to a problem according to an embodiment of the present invention. 5 is a graph showing an example of a change over time of the voltage of FIG.

【図2】本発明の実施例による課題解決方法を説明する
ための、液晶表示パネルのデータバスライン、ゲートバ
スライン及び画素電極の電圧の時間変化の一例を示すグ
ラフである。
FIG. 2 is a graph illustrating an example of a time change of a voltage of a data bus line, a gate bus line, and a pixel electrode of a liquid crystal display panel, for describing a method of solving a problem according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施例による液晶表示パネルの概略を
示す平面図及び断面図である。
FIG. 3 is a plan view and a cross-sectional view schematically showing a liquid crystal display panel according to an embodiment of the present invention.

【図4】図3に示す液晶表示パネルの効果を説明するた
めのTFT基板の概略を示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a TFT substrate for describing an effect of the liquid crystal display panel shown in FIG.

【図5】本発明の実施例の変形例による液晶表示パネル
の概略を示す平面図及び断面図である。
FIG. 5 is a plan view and a sectional view schematically showing a liquid crystal display panel according to a modification of the embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、11 データバスライン 2、12 ゲートバスライン 3、13 TFT 4、14 画素電極 5 駆動回路 16 遮光膜 20、30 ガラス基板 21 ゲート絶縁膜 22 層間絶縁膜 23、32 配向膜 31 共通電極 40 液晶材料 41 黒色樹脂 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 11 Data bus line 2, 12 Gate bus line 3, 13 TFT 4, 14 Pixel electrode 5 Drive circuit 16 Light shielding film 20, 30 Glass substrate 21 Gate insulating film 22 Interlayer insulating film 23, 32 Alignment film 31 Common electrode 40 Liquid crystal Material 41 Black resin

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小林 哲也 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 富田 生夫 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Tetsuya Kobayashi 4-1-1, Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture Inside Fujitsu Limited (72) Inventor Ikuo Tomita 4-chome, Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa No. 1 in Fujitsu Limited

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 対向面を向かい合わせて相互に平行配置
された第1及び第2の基板と、 前記第2の基板の対向面上に形成された共通電極と、 前記第1の基板の対向面上に形成され、相互に平行に配
置された複数のゲートバスラインと、 前記第1の基板の対向面上に形成され、前記ゲートバス
ラインと交差する方向に延在し、相互に平行に配置され
た複数のデータバスラインと、 前記第1の基板の対向面上に形成され、相互に隣り合う
2本のゲートバスラインと2本のデータバスラインによ
って囲まれた各領域に対応して配置された画素電極であ
って、各画素電極の外縁部が、その両側のデータバスラ
インのうち少なくとも一方に重なるように配置され、1
つの画素電極とそれに隣接する2本のデータバスライン
との間の静電容量をCDS、1つの画素電極とそれに隣接
する2本のゲートバスライン、2本のデータバスライ
ン、及び前記共通電極との間の合計の静電容量をCPX
したとき、 【数1】8CDS<CPX が成り立つ前記画素電極と、 前記第1の基板の対向面上に形成されたスイッチング素
子であって、前記画素電極に対応して設けられ、対応す
る画素電極と1本のデータバスラインとを接続し、1本
のゲートバスラインにより導通状態が制御される前記ス
イッチング素子とを有する液晶表示パネル。
A first substrate and a second substrate arranged in parallel with the opposing surfaces facing each other; a common electrode formed on the opposing surface of the second substrate; A plurality of gate bus lines formed on a surface and arranged in parallel with each other; and a plurality of gate bus lines formed on a facing surface of the first substrate and extending in a direction intersecting with the gate bus lines and parallel to each other. A plurality of data bus lines arranged, and a plurality of data bus lines formed on the opposing surface of the first substrate and corresponding to each region surrounded by two gate bus lines and two data bus lines adjacent to each other. The pixel electrodes are arranged such that the outer edge of each pixel electrode overlaps at least one of the data bus lines on both sides thereof, and
The capacitance between one pixel electrode and two adjacent data bus lines is C DS , one pixel electrode and two adjacent gate bus lines, two data bus lines, and the common electrode. a sum when the capacitance was C PX, Equation 1] 8C DS <and the pixel electrode C PX is true, the switching element formed on a facing surface of the first substrate between the A liquid crystal display panel having a switching element provided corresponding to the pixel electrode, connecting the corresponding pixel electrode to one data bus line, and controlling the conduction state by one gate bus line.
【請求項2】 さらに、前記第1及び第2の基板のうち
少なくと一方の基板の対向面上に形成され、前記スイッ
チング素子の配置された領域に配置された遮光膜を有
し、該遮光膜が、前記画素電極と前記データバスライン
との重なり領域及びその近傍には配置されていない請求
項1に記載の液晶表示パネル。
2. A light-shielding film formed on at least one of the first and second substrates on a facing surface of the first and second substrates and arranged in a region where the switching element is arranged. 2. The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein a film is not disposed in an overlapping region between the pixel electrode and the data bus line and in the vicinity thereof.
【請求項3】 対向面を向かい合わせて相互に平行配置
された第1及び第2の基板と、 前記第2の基板の対向面上に形成された共通電極と、 前記第1の基板の対向面上に形成され、相互に平行に配
置された複数のゲートバスラインと、 前記第1の基板の対向面上に形成され、前記ゲートバス
ラインと交差する方向に延在し、相互に平行に配置され
た複数のデータバスラインと、 前記第1の基板の対向面上に形成され、相互に隣り合う
2本のゲートバスラインと2本のデータバスラインによ
って囲まれた各領域に対応して配置された画素電極であ
って、各画素電極の外縁部が、その両側のデータバスラ
インのうち少なくとも一方に重なるように配置された前
記画素電極と、 前記第1の基板の対向面上に形成されたスイッチング素
子であって、前記画素電極に対応して設けられ、対応す
る画素電極と1本のデータバスラインとを接続し、1本
のゲートバスラインにより導通状態が制御される前記ス
イッチング素子とを含んで構成される液晶表示パネル
と、 前記液晶表示パネルを、階調数がnとなるように駆動す
るための駆動回路とを有し、 1つの画素電極とそれに隣接する2本のデータバスライ
ンとの間の静電容量をCDS、1つの画素電極とそれに隣
接する2本のゲートバスライン、2本のデータバスライ
ン、及び前記共通電極との間の合計の静電容量をCPX
したとき、 【数2】nCDS<2CPX が成り立つ液晶表示装置。
3. A first and a second substrate arranged in parallel with each other with facing surfaces facing each other; a common electrode formed on the facing surface of the second substrate; and a facing of the first substrate. A plurality of gate bus lines formed on a surface and arranged in parallel with each other; and a plurality of gate bus lines formed on a facing surface of the first substrate and extending in a direction intersecting with the gate bus lines and parallel to each other. A plurality of data bus lines arranged, and a plurality of data bus lines formed on the opposing surface of the first substrate and corresponding to each region surrounded by two gate bus lines and two data bus lines adjacent to each other. A pixel electrode disposed, wherein the outer edge of each pixel electrode is disposed so as to overlap at least one of the data bus lines on both sides thereof, and the pixel electrode is formed on a facing surface of the first substrate. Switching element, A liquid crystal configured to include the switching element provided corresponding to the pixel electrode, connecting the corresponding pixel electrode to one data bus line, and controlling the conduction state by one gate bus line; A display panel; and a driving circuit for driving the liquid crystal display panel so that the number of gradations is n. The electrostatic capacitance between one pixel electrode and two data bus lines adjacent thereto is provided. When the capacitance is C DS , the total capacitance between one pixel electrode and two gate bus lines adjacent thereto, two data bus lines, and the common electrode is C PX , A liquid crystal display device which satisfies nC DS <2C PX .
【請求項4】 対向面を向かい合わせて相互に平行配置
された第1及び第2の基板と、 前記第2の基板の対向面上に形成された共通電極と、 前記第1の基板の対向面上に形成され、相互に平行に配
置された複数のゲートバスラインと、 前記第1の基板の対向面上に形成され、前記ゲートバス
ラインと交差する方向に延在し、相互に平行に配置され
た複数のデータバスラインと、 前記第1の基板の対向面上に形成され、相互に隣り合う
2本のゲートバスラインと2本のデータバスラインによ
って囲まれた各領域に対応して配置された画素電極と、 前記第1の基板の対向面上に形成されたスイッチング素
子であって、前記画素電極に対応して設けられ、対応す
る画素電極と1本のデータバスラインとを接続し、1本
のゲートバスラインにより導通状態が制御される前記ス
イッチング素子と、 前記第1及び第2の基板間に挟持された液晶層であっ
て、前記画素電極と前記共通電極との間の電圧の変化に
応じて屈折率が変化し、高屈折率状態と低屈折率状態、
及びその中間の屈折率状態を有する前記液晶層とを有
し、 各画素電極の外縁部が、当該画素電極に接続されたスイ
ッチング素子を制御するゲートバスラインに重なるよう
に配置され、1つの画素電極と当該画素電極に接続され
たスイッチング素子を制御するゲートバスラインとの間
の静電容量をC GS、1つの画素電極と、それに隣接する
2本のゲートバスライン、2本のデータバスライン及び
前記共通電極との間の合計の静電容量であって、高屈折
率状態のときの容量をCPX1 低屈折率状態のときの容量
をCPX2 、前記スイッチング素子を導通状態にするため
のゲートバスライン電圧と非導通状態にするためのゲー
トバスライン電圧との差の絶対値をΔVG としたとき、 【数3】|(1/CPX1 )−(1/CPX2 )|・CGS
ΔVG <1 が成り立つ前記画素電極とを有する液晶表示パネル。
4. A mutually parallel arrangement with the opposing surfaces facing each other.
First and second substrates, a common electrode formed on a facing surface of the second substrate, and a common electrode formed on a facing surface of the first substrate and arranged in parallel with each other.
A plurality of gate bus lines disposed on the first substrate, and a plurality of gate bus lines formed on a facing surface of the first substrate;
Extend in a direction that intersects the lines and are arranged parallel to each other
And a plurality of data bus lines formed on the opposing surface of the first substrate and adjacent to each other
Two gate bus lines and two data bus lines
A pixel electrode arranged corresponding to each of the regions surrounded by
And provided corresponding to the pixel electrode,
Pixel electrode and one data bus line
The gate whose conduction state is controlled by the gate bus line
A switching element; and a liquid crystal layer sandwiched between the first and second substrates.
The change in the voltage between the pixel electrode and the common electrode.
The refractive index changes accordingly, the high refractive index state and the low refractive index state,
And the liquid crystal layer having an intermediate refractive index state.
The outer edge of each pixel electrode is connected to a switch connected to the pixel electrode.
So that it overlaps the gate bus line that controls the switching element
And is connected to one pixel electrode and the pixel electrode.
Between the gate bus line that controls the switching element
The capacitance of C GS, One pixel electrode and adjacent to it
Two gate bus lines, two data bus lines and
The total capacitance between the common electrode and the
The capacity in the rate state is CPX1Capacitance in low refractive index state
To CPX2To make the switching element conductive.
Gate to make the gate bus line voltage non-conductive
The absolute value of the difference from the bus voltage is ΔVGWhere: | (1 / C)PX1)-(1 / CPX2) | ・ CGS
ΔVG<1. A liquid crystal display panel comprising:
【請求項5】 さらに、前記第1及び第2の基板のうち
少なくと一方の基板の対向面上のうち、前記スイッチン
グ素子の配置された領域に形成された遮光膜を有し、該
遮光膜が前記画素電極と前記ゲートバスラインとの重な
り領域及びその近傍には形成されていない請求項4に記
載の液晶表示パネル。
5. A light-shielding film formed in a region where the switching element is arranged on at least one of the first and second substrates on a surface facing the one substrate, wherein the light-shielding film is provided. 5. The liquid crystal display panel according to claim 4, wherein no is formed in an overlapping area between the pixel electrode and the gate bus line and in the vicinity thereof.
【請求項6】 対向面を向かい合わせて相互に平行配置
された第1及び第2の基板と、 前記第2の基板の対向面上に形成された共通電極と、 前記第1の基板の対向面上に形成され、相互に平行に配
置された複数のゲートバスラインと、 前記第1の基板の対向面上に形成され、前記ゲートバス
ラインと交差する方向に延在し、相互に平行に配置され
た複数のデータバスラインと、 前記第1の基板の対向面上に形成され、前記ゲートバス
ライン、データバスライン及びスイッチング素子を被覆
し、前記ゲートバスライン及びデータバスライン上にお
ける膜厚が1.5μm以上、比誘電率が3.5以下であ
る絶縁膜と、 前記絶縁膜の表面上に形成され、相互に隣り合う2本の
ゲートバスラインと2本のデータバスラインによって囲
まれた各領域に対応して配置された画素電極であって、
各画素電極の外縁部が、前記ゲートバスライン及びデー
タバスラインのうち少なくとも一方に重なるように配置
された前記画素電極と、 前記第1の基板の対向面上に形成されたスイッチング素
子であって、前記画素電極に対応して設けられ、対応す
る画素電極と1本のデータバスラインとを接続し、1本
のゲートバスラインにより導通状態が制御される前記ス
イッチング素子とを有する液晶表示パネル。
6. A first and a second substrate arranged in parallel with each other with their opposing surfaces facing each other; a common electrode formed on the opposing surface of the second substrate; A plurality of gate bus lines formed on a surface and arranged in parallel with each other; and a plurality of gate bus lines formed on a facing surface of the first substrate and extending in a direction intersecting with the gate bus lines and parallel to each other. A plurality of data bus lines arranged; and a film formed on the opposing surface of the first substrate, covering the gate bus lines, the data bus lines and the switching elements, and having a film thickness on the gate bus lines and the data bus lines. And an insulating film having a relative dielectric constant of not more than 1.5 μm and a relative dielectric constant of not more than 3.5, and two gate bus lines and two data bus lines which are formed on the surface of the insulating film and are adjacent to each other. Each area A pixel electrode disposed response,
A pixel electrode disposed so that an outer edge of each pixel electrode overlaps at least one of the gate bus line and the data bus line; and a switching element formed on a facing surface of the first substrate. A liquid crystal display panel having a switching element provided corresponding to the pixel electrode, connecting the corresponding pixel electrode to one data bus line, and controlling the conduction state by one gate bus line.
【請求項7】 前記絶縁膜が、アクリル系樹脂または感
光性樹脂により形成されている請求項6に記載の液晶表
示パネル。
7. The liquid crystal display panel according to claim 6, wherein the insulating film is formed of an acrylic resin or a photosensitive resin.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4889551A (en) * 1985-10-29 1989-12-26 Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated Isoxazoline derivatives and plant growth regulators
KR100543026B1 (en) * 1998-03-20 2006-05-09 삼성전자주식회사 Thin film transistor liquid crystal display
KR100552281B1 (en) * 1998-03-12 2006-05-12 삼성전자주식회사 Liquid crystal display device using organic insulating film and its manufacturing method
KR100679975B1 (en) * 2003-03-07 2007-02-08 가시오게산키 가부시키가이샤 Liquid crystal display device

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4889551A (en) * 1985-10-29 1989-12-26 Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated Isoxazoline derivatives and plant growth regulators
KR100552281B1 (en) * 1998-03-12 2006-05-12 삼성전자주식회사 Liquid crystal display device using organic insulating film and its manufacturing method
KR100543026B1 (en) * 1998-03-20 2006-05-09 삼성전자주식회사 Thin film transistor liquid crystal display
KR100679975B1 (en) * 2003-03-07 2007-02-08 가시오게산키 가부시키가이샤 Liquid crystal display device
US7545449B2 (en) 2003-03-07 2009-06-09 Casio Computer Co., Ltd. Liquid crystal display device having auxiliary capacitive electrode

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