JPH08335396A - Non-voltage semiconductor memory - Google Patents

Non-voltage semiconductor memory

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JPH08335396A
JPH08335396A JP14223695A JP14223695A JPH08335396A JP H08335396 A JPH08335396 A JP H08335396A JP 14223695 A JP14223695 A JP 14223695A JP 14223695 A JP14223695 A JP 14223695A JP H08335396 A JPH08335396 A JP H08335396A
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JP
Japan
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data
writing
memory
written
circuit
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JP14223695A
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Japanese (ja)
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Kenshirou Arase
謙士朗 荒瀬
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

PURPOSE: To shorten a writing time for data by injecting electrons into a floating gate of a memory cell with channel hot electrons. CONSTITUTION: Before data is written in a memory array 1, data is successively read out of an external memory circuit 3, the total number of memory cells to which data is to be written is counted by a counter circuit 4. Information whether data writing in the memory array 1 is performed while holding the phase or reversing the phase is sent to a data control circuit 5 depending on this counted result. Data is transferred to a read-out/write-in circuit 2 from the circuit 5, and successively written in the prescribed memory cell in the memory array 1. Finally, phase information from the circuit 4 is sent to the circuit 2, and written in a phase information recording section 1a.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電気的にプログラム可
能な不揮発性メモリ、例えば紫外線消去型EPROM、
フラッシュEEPROMなどの半導体不揮発性記憶装置
に関するものである。
FIELD OF THE INVENTION This invention relates to electrically programmable non-volatile memory, such as UV erase EPROMs,
The present invention relates to a semiconductor nonvolatile memory device such as a flash EEPROM.

【0002】[0002]

【従来の技術】電気的にプログラム可能な半導体不揮発
性記憶装置として、データの書き込みをチャンネルホッ
トエレクトロン(CHE)によりドレイン側よりフロー
ティングゲートの中に電子を注入することにより行う紫
外線消去型EPROM、フラッシュEEPROMなどの
NOR型構造をなす半導体不揮発性記憶装置が知られて
いる。
2. Description of the Related Art As an electrically programmable semiconductor non-volatile memory device, an ultraviolet erasable EPROM or flash in which data is written by injecting electrons from a drain side into a floating gate by channel hot electrons (CHE) A semiconductor nonvolatile memory device having a NOR type structure such as an EEPROM is known.

【0003】以下、NOR型半導体不揮発性記憶装置の
書き込み動作を、図8を参照しながら、簡単に説明す
る。
The write operation of the NOR type semiconductor nonvolatile memory device will be briefly described below with reference to FIG.

【0004】図8において、WLm-1 ,WLm ,WL
m+1 はワード線、BLn-1 ,BLn ,BLn+1 はビット
線、SRLは共通ソース線、MTm-1,n-1 ,M
m-1,n ,MT m-1,n+1 ,MTm,n-1 ,MTm,n ,MT
m,n+1 ,MTm+1,n-1 ,MTm+1,n ,MTm+1,n+1 はメ
モリセルをそれぞれ示している。
In FIG. 8, WLm-1, WLm, WL
m + 1Is the word line, BLn-1, BLn, BLn + 1Is a bit
Line, SRL is common source line, MTm-1, n-1, M
Tm-1, n, MT m-1, n + 1, MTm, n-1, MTm, n, MT
m, n + 1, MTm + 1, n-1, MTm + 1, n, MTm + 1, n + 1Hame
The molycells are shown respectively.

【0005】図8の書き込み例においては、メモリセル
MTm,n にデータ書き込みを行う場合を示している。こ
の場合、選択するワード線WLm に12V、選択するビ
ット線BLn に7Vを印加し、その他のワード線WL
m-1 ,WLm+1 、ビット線BLn-1 ,BLn+1および共
通ソース線SRLに0Vを印加する。その結果、選択さ
れたメモリセルMTm,n にのみ、チャンネルホットエレ
クトロン(CHE)により、フローティングゲート中に
電子が注入されて、しきい値電圧Vthは5V以上にな
る。
The write example of FIG. 8 shows a case where data is written in the memory cell MT m, n . In this case, 12 V is applied to the selected word line WL m , 7 V is applied to the selected bit line BL n , and the other word lines WL
0V is applied to m-1 , WL m + 1 , bit lines BL n-1 , BL n + 1 and common source line SRL. As a result, electrons are injected into the floating gate by channel hot electrons (CHE) only in the selected memory cell MT m, n , and the threshold voltage V th becomes 5 V or higher.

【0006】ここで、NOR型半導体不揮発性記憶装置
の場合、チャンネルホットエレクトロンによりフローテ
ィングゲート中に電子が注入され、しきい値電圧Vth
5V以上であるときに第1のデータ(以下データ1)状
態とし、フローティングゲート中に電子が存在せずにし
きい値電圧Vthが1.5V程度であるときに第2のデー
タ(以下データ0)状態とする。
Here, in the case of a NOR type semiconductor nonvolatile memory device, electrons are injected into the floating gate by channel hot electrons, and when the threshold voltage V th is 5 V or more, the first data (hereinafter referred to as data 1). 2) state and there is no electron in the floating gate and the threshold voltage V th is about 1.5 V, the second data (hereinafter data 0) state is set.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したN
OR型半導体不揮発性記憶装置の書き込み動作で問題と
なるものは、チャンネルホットエレクトロンによるデー
タ書き込みに長時間を要するという問題がある。
By the way, the above-mentioned N
A problem in the write operation of the OR type semiconductor nonvolatile memory device is that it takes a long time to write data by channel hot electrons.

【0008】例えば図8に示す標準的な書き込み動作例
では、書き込みに必要な時間は、およそ10μ秒程度で
ある。
For example, in the standard write operation example shown in FIG. 8, the time required for writing is about 10 μsec.

【0009】しかも、チャンネルホットエレクトロンに
よるデータ書き込みは、1メモリセルあたり、およそ5
00μAものチャンネル電流をドレイン−ソース間に流
す必要があるために、一般的にチャンネルホットエレク
トロンによるデータの書き込みでは、1ビット毎に、あ
るいは多くても4〜8ビット毎に、データ書き込みを行
うのが一般的である。
Moreover, the data writing by the channel hot electrons is about 5 per memory cell.
Since it is necessary to pass a channel current of as much as 00 μA between the drain and the source, generally when writing data by channel hot electrons, data writing is performed every 1 bit, or at most every 4 to 8 bits. Is common.

【0010】したがって、例えば、4Mビットのメモリ
セルを有するNOR型半導体不揮発性記憶装置にデータ
書き込みを行う場合、最大限、1ビット毎にデータ書き
込みを行う場合およそ40秒、4ビット毎にデータ書き
込みを行う場合およそ10秒、8ビット毎にデータ書き
込みを行う場合およそ5秒もの長時間が、データ書き込
みに必要となる。
Therefore, for example, when writing data to a NOR type semiconductor non-volatile memory device having a memory cell of 4 Mbits, when writing data at the maximum by 1 bit, it takes about 40 seconds, and writing data at every 4 bits. The data writing requires about 10 seconds for writing, and about 5 seconds for writing data every 8 bits.

【0011】本発明は、かかる事情に鑑みてなされたも
のであり、その目的は、データ書き込み時間の短縮を図
れ、短時間にデータの書き込みを行うことができる半導
体不揮発性記憶装置を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a semiconductor nonvolatile memory device capable of shortening the data writing time and capable of writing data in a short time. It is in.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の半導体不揮発性記憶装置は、メモリセルの
電荷蓄積部に蓄積された電荷量を制御することにより、
互いに逆相の第1のデータまたは第2のデータのどちら
かのデータが電気的に書き込まれる半導体不揮発性記憶
装置であって、データ書き込み時に、メモリアレイ全体
に書き込まれる第1のデータまたは第2のデータの総数
を計数する計数回路と、上記計数回路の結果に基づい
て、データ書き込み時のデータの位相を正転または反転
させてデータの書き込みを行う書き込み回路と、上記書
き込み回路によるデータの書き込みが行われた位相情報
を記録する記録部とを有する。
In order to achieve the above object, the semiconductor nonvolatile memory device of the present invention controls the amount of charges accumulated in the charge accumulation portion of a memory cell,
A semiconductor nonvolatile memory device in which either first data or second data having opposite phases is electrically written, and the first data or the second data written in the entire memory array at the time of data writing. Circuit for counting the total number of data of the data, a writing circuit for writing data by inverting or inverting the phase of the data at the time of data writing based on the result of the counting circuit, and writing data by the writing circuit. And a recording unit that records the phase information that has been obtained.

【0013】また、本発明では、メモリセルの電荷蓄積
部に蓄積された電荷量を制御することにより、互いに逆
相の第1のデータまたは第2のデータのどちらかのデー
タが電気的に書き込まれる半導体不揮発性記憶装置であ
って、メモリアレイを複数のブロックに分割し、各ブロ
ック毎に上記デ−タ書き込み時の位相情報を記録する記
録部が設けられ、かつ、データ書き込み時に、メモリブ
ロック毎に書き込まれる第1のデータまたは第2のデー
タの総数を計数する計数回路と、上記計数回路の結果に
基づいて、データ書き込み時のデータの位相を正転また
は反転させてデータの書き込みを行う書き込み回路とを
有する。
Further, according to the present invention, by controlling the amount of electric charge accumulated in the electric charge accumulating portion of the memory cell, either the first data or the second data of opposite phases is electrically written. In the semiconductor nonvolatile memory device, a memory array is divided into a plurality of blocks, a recording unit for recording phase information at the time of writing the data is provided for each block, and the memory block is provided at the time of writing the data. A counting circuit that counts the total number of the first data or the second data that is written every time, and the data is written by inverting or inverting the phase of the data when writing the data based on the result of the counting circuit. And a writing circuit.

【0014】また、本発明では、上記書き込み回路は、
上記第1のデータが書き込まれるメモリセルの総数が書
き込み対象のメモリセルの半数以下の場合、書き込み時
のデータの位相を正転状態に保持したままデータの書き
込みを行い、上記第1のデータが書き込まれるメモリセ
ルの総数が書き込み対象のメモリセルの半数以上の場
合、書き込み時のデータの位相を反転させてデータの書
き込みを行う。
According to the present invention, the write circuit is
When the total number of memory cells to which the first data is written is less than half of the memory cells to be written, the data is written while the phase of the data at the time of writing is held in the normal state, and the first data is When the total number of memory cells to be written is more than half of the memory cells to be written, the phase of the data at the time of writing is inverted to write the data.

【0015】また、本発明では、データ読み出し時に、
アドレス指定されたメモリセルからデータを読み出すと
ともに、上記記録部に記録されている当該メモリセルへ
の書き込み時の位相情報を読み出し、当該位相情報に基
づいて読み出しデータの内容を判定する回路を有する。
Further, according to the present invention, when reading data,
The circuit has a circuit for reading data from the addressed memory cell, reading phase information at the time of writing to the memory cell recorded in the recording section, and determining the content of the read data based on the phase information.

【0016】さらにまた、本発明では、上記記録部は上
記メモリアレイ領域内に設けられている。
Furthermore, in the present invention, the recording section is provided in the memory array area.

【0017】[0017]

【作用】本発明の半導体不揮発性記憶装置によれば、例
えば、チャンネルホットエレクロトンによりメモリセル
のフローティングゲートの中に電子を注入することによ
り上記第1のデータが書き込まれるNOR型構造をなす
半導体不揮発性記憶装置において、メモリアレイ全体に
対して、第1のデ−タが書き込まれるメモリセルの総数
が計数回路で計数され、計数結果が全メモリセルの半数
以下の場合、書き込み回路により書き込み時のデータの
位相が正転状態に保持されたままでデータの書き込みが
行われる。また第1のデータが書き込まれるメモリセル
の総数が全メモリセルの半数以上の場合には、書き込み
時のデータの位相が反転されて、データの書き込みが行
われるとともに、デ−タ書き込み時の位相情報が記録部
に記録される。
According to the semiconductor nonvolatile memory device of the present invention, for example, a semiconductor having a NOR type structure in which the first data is written by injecting electrons into the floating gate of the memory cell by channel hot electrocroton. In the nonvolatile memory device, when the total number of memory cells to which the first data is written is counted by the counting circuit in the entire memory array and the counting result is less than half of all the memory cells, when writing by the writing circuit The data is written while the phase of the data is held in the normal state. Further, when the total number of memory cells to which the first data is written is more than half of all the memory cells, the phase of the data at the time of writing is inverted to write the data and the phase at the time of writing the data. Information is recorded in the recording unit.

【0018】また、メモリアレイ領域が複数のメモリブ
ロックに分割されている場合には、デ−タ書き込み時に
位相情報も各ブロック毎に設定されて、デ−タ書き込み
が行われる。
When the memory array area is divided into a plurality of memory blocks, phase information is also set for each block when writing data, and data writing is performed.

【0019】その結果、チャンネルホットエレクトロン
によりメモリセルのフローティングゲートの中に電子を
注入するべきメモリセルの総数が全メモリセルの半数以
下となり、最大時におけるデータ書き込みに要する時間
が、たとえば半分に短縮できる。
As a result, the total number of memory cells into which electrons are to be injected into the floating gates of the memory cells by channel hot electrons is less than half of all the memory cells, and the time required for writing data at the maximum is reduced to, for example, half. it can.

【0020】また、データ読み出し時に、アドレス指定
されたメモリセルからデータが読み出されるとともに、
記録部に記録されている当該メモリセルへの書き込み時
の位相情報が読み出され、当該位相情報に基づいて読み
出しデータの内容が判定される。
When reading data, the data is read from the addressed memory cell, and
The phase information at the time of writing to the memory cell recorded in the recording unit is read, and the content of the read data is determined based on the phase information.

【0021】[0021]

【実施例】図1は、本発明に係る半導体不揮発性記録装
置、具体的にはチャンネルホットエレクトロンによりデ
ータの書き込みが行われるNOR型半導体不揮発性記憶
装置における一実施例を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a semiconductor nonvolatile recording device according to the present invention, specifically, a NOR type semiconductor nonvolatile memory device in which data is written by channel hot electrons.

【0022】図1において、1はメモリアレイ、1aは
メモリアレイ1の中に設けられた、当該メモリアレイの
位相情報記録部、2はセンスアンプを含むメモリアレイ
1の読み出し/書き込み回路、3はメモリアレイ1の中
に書き換えるデータを記憶してある外部データ記憶回
路、4はカウンタ回路、5はデータ制御回路をそれぞれ
示している。また図中D1〜D7はデータの流れを示し
ている。なお、外部データ記憶回路は、たとえばDRA
M、SRAM等の半導体メモリ、あるいは磁気テープ、
磁気ディスク、光ディスク等の記憶装置から構成され
る。
In FIG. 1, 1 is a memory array, 1a is a phase information recording section of the memory array provided in the memory array 1, 2 is a read / write circuit of the memory array 1 including a sense amplifier, and 3 is An external data storage circuit 4 in which data to be rewritten is stored in the memory array 1 is a counter circuit, and 5 is a data control circuit. Further, D1 to D7 in the figure show the flow of data. The external data storage circuit is, for example, a DRA.
Semiconductor memory such as M, SRAM, or magnetic tape,
It is composed of a storage device such as a magnetic disk or an optical disk.

【0023】カウンタ回路4は、外部データ記憶回路3
から順次データを読み出して、当該データのうちで、1
データの総数を計数する。計数結果はカウンタ回路4内
の最上位ビットMSB〜最下位ビットLSBのレジスタ
に記憶する。デ−タ制御回路5は、カウント回路4の計
数結果に基づいて、外部データ記憶回路3から順次デー
タを読み出して、当該データの位相を正転状態に保持し
たまま、あるいは位相を反転させてデータ出力を行う。
The counter circuit 4 includes the external data storage circuit 3
The data is sequentially read from the
Count the total number of data. The counting result is stored in the register of the most significant bit MSB to the least significant bit LSB in the counter circuit 4. The data control circuit 5 sequentially reads out the data from the external data storage circuit 3 based on the counting result of the counting circuit 4, and holds the phase of the data in the normal state or inverts the phase of the data. Output.

【0024】次に、図1のブロック図を参照しながら、
本発明におけるNOR型半導体不揮発性記憶装置のデー
タ書き込み動作について、順を追って、説明する。
Next, referring to the block diagram of FIG.
The data write operation of the NOR type semiconductor nonvolatile memory device in the present invention will be described step by step.

【0025】まず、メモリアレイ1に対するデータ書き
込み動作の前に、カウンタ回路4によりデータの流れD
3にそって、外部データ記憶回路3から順次データが読
み出され、読み出したデータのうち、1データの総数、
すなわち位相正転状態でチャンネルホットエレクトロン
によるデータ書き込みを行うべきメモリセルの総数が計
数される。
First, before the data write operation to the memory array 1, the data flow D by the counter circuit 4 is performed.
3, the data is sequentially read from the external data storage circuit 3, and one of the read data is the total number of data,
That is, the total number of memory cells in which data writing by channel hot electrons should be performed in the normal phase rotation state is counted.

【0026】この計数結果はカウンタ回路4の中のレジ
スタに記憶され、当該レジスタの最上位ビットMSBが
論理1の状態の場合に、1データの総数が全メモリセル
の半数以上であると判断され、最上位ビットMSBが論
理0状態の場合に、1データの総数が全メモリセルの半
数以下であると判断される。
The counting result is stored in the register in the counter circuit 4, and when the most significant bit MSB of the register is in the state of logic 1, it is judged that the total number of 1 data is more than half of all the memory cells. , When the most significant bit MSB is in the logic 0 state, it is determined that the total number of 1 data is less than half of all the memory cells.

【0027】次に、上記判断結果に基づいて、メモリア
レイ1に対するデータ書き込み動作を、位相の正転状態
に保持したまま行うべきか、あるいは位相を反転させて
データの書き込みを行うべきかの位相情報が、データの
流れD4にそって、カウンタ回路4からデータ制御回路
5に送られる。
Next, based on the above judgment result, whether the data write operation to the memory array 1 should be performed while holding the phase forward rotation state, or whether the data should be written by inverting the phase. Information is sent from the counter circuit 4 to the data control circuit 5 along the data stream D4.

【0028】次に、デ−タ制御回路5において、データ
の流れD5にそって、再度外部データ記憶回路3から順
次データが読み出され、上記位相情報に基づいて、読み
出したデータが正転あるいは反転される。引き続き、デ
ータの流れD6にそって、データ制御回路5から読み出
し/書き込み回路2にデータが転送され、順次、データ
の流れD2にそって、メモリアレイ1内のしかるべきメ
モリセルに、データが書き込まれる。
Next, in the data control circuit 5, the data is sequentially read again from the external data storage circuit 3 along the data flow D5, and the read data is rotated normally or based on the phase information. Flipped. Subsequently, the data is transferred from the data control circuit 5 to the read / write circuit 2 along the data flow D6, and the data is sequentially written into appropriate memory cells in the memory array 1 along the data flow D2. Be done.

【0029】最後に、カウンタ回路4からの位相情報
が、データの流れD7にそって、読み出し/書き込み回
路2に送られ、さらにデータの流れD2にそって、位相
情報記録部1aに、当該位相情報が書き込まれる。
Finally, the phase information from the counter circuit 4 is sent to the read / write circuit 2 along the data flow D7, and further to the phase information recording section 1a along the data flow D2. Information is written.

【0030】上述の書き込み動作の結果、チャンネルホ
ットエレクトロンによりフローティングゲートの中に電
子を注入するべきメモリセルの総数が常に全メモリセル
の半数以下となり、最大時におけるデータ書き込みに要
する時間が、半分に短縮できる。
As a result of the above-described write operation, the total number of memory cells into which electrons are to be injected into the floating gate by channel hot electrons is always less than half of all the memory cells, and the time required for data writing at the maximum is halved. Can be shortened.

【0031】図2は、メモリアレイ1内の正規メモリセ
ルおよび位相情報記録部1aの位相メモリセルにおける
しきい値電圧Vthと、メモリアレイ1に対するデータ書
き込みが行われた時の位相関係を示す図である。
FIG. 2 shows the threshold voltage V th in the normal memory cell in the memory array 1 and the phase memory cell of the phase information recording section 1a and the phase relationship when data is written in the memory array 1. It is a figure.

【0032】図2に示すように、位相が正転の場合に
は、通常のNOR型半導体不揮発性記憶装置と同相であ
り、正規メモリセルのしきい値電圧Vthが5V以上でデ
ータ「1」、しきい値電圧Vthが約1.5Vでデータ
「0」であり、位相メモリセルにおけるしきい値電圧V
thは5V以上に設定される。
As shown in FIG. 2, when the phase is normal, it is in phase with a normal NOR type semiconductor non-volatile memory device, the threshold voltage V th of the normal memory cell is 5 V or more, and the data "1". , The threshold voltage V th is about 1.5 V, the data is “0”, and the threshold voltage V in the phase memory cell is
th is set to 5 V or more.

【0033】これに対して、位相が反転の場合には、通
常のNOR型半導体不揮発性記憶装置と逆相であり、正
規メモリセルのしきい値電圧Vthが約1.5Vでデータ
「1」、しきい値電圧Vthが5V以上でデータ「0」で
あり、位相メモリセルにおけるしきい値電圧Vthは約
1.5Vに設定される。
On the other hand, when the phase is inverted, the phase is opposite to that of the normal NOR type semiconductor non-volatile memory device, the threshold voltage V th of the normal memory cell is about 1.5 V, and the data "1". ", The threshold voltage V th is 5 V or more, the data is" 0 ", and the threshold voltage V th in the phase memory cell is set to about 1.5 V.

【0034】また、メモリアレイ1内の正規メモリセル
のデータを読み出す場合においては、データ読み出し時
に、アドレス指定されたメモリセルからデータを読み出
すとともに、位相情報記録部1aに記録されている当該
メモリセルへの書き込み時の位相情報も同時に読み出
し、当該位相情報に基づいて読み出しデータの内容を判
定することにより、データの判別が可能である。
Further, in the case of reading the data of the regular memory cell in the memory array 1, at the time of reading the data, the data is read from the addressed memory cell and the memory cell recorded in the phase information recording section 1a. It is possible to discriminate the data by simultaneously reading the phase information at the time of writing to, and determining the content of the read data based on the phase information.

【0035】図3は、メモリアレイ1内の正規メモリセ
ルおよび位相情報記録部1aの位相メモリセルにおける
しきい値電圧Vthと、当該正規メモリセルにおけるデー
タ判定の関係を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the threshold voltage V th of the normal memory cell in the memory array 1 and the phase memory cell of the phase information recording section 1a and the data judgment in the normal memory cell.

【0036】図3に示すように、正規メモリセルのしき
い値電圧Vthが5V以上で、位相メモリセルにおけるし
きい値電圧Vthが5V以上に設定されている場合には、
正転状態であって、正規メモリセルのデータは「1」と
判定される。正規メモリセルのしきい値電圧Vthが約
1.5Vで、位相メモリセルにおけるしきい値電圧Vth
が5V以上に設定されている場合には、正転状態であっ
て、正規メモリセルのデータは「0」と判定される。正
規メモリセルのしきい値電圧Vthが5V以上で、位相メ
モリセルにおけるしきい値電圧Vthが約1.5に設定さ
れている場合には、反転状態であって、正規メモリセル
のデータは「0」と判定される。正規メモリセルのしき
い値電圧Vthが約1.5Vで、位相メモリセルにおける
しきい値電圧Vthが約1.5Vに設定されている場合に
は、反転状態であって、正規メモリセルのデータは
「1」と判定される。
As shown in FIG. 3, by the threshold voltage V th of the normal memory cell is more than 5V, when the threshold voltage V th in the phase memory cell is set to 5V or more is
In the normal state, the data in the normal memory cell is determined to be "1". By the threshold voltage V th is about 1.5V in the normal memory cell, the threshold voltage V th in the phase memory cell
Is set to 5 V or more, it is in the normal rotation state, and the data of the normal memory cell is determined to be “0”. By the threshold voltage V th of the normal memory cell is more than 5V, when the threshold voltage V th in the phase memory cell is set to about 1.5, an inverted state, the data of normal memory cells Is determined to be "0". By the threshold voltage V th is about 1.5V in the normal memory cell, when the threshold voltage V th in the phase memory cell is set to approximately 1.5V is a reversed state, the normal memory cell Is determined to be "1".

【0037】図4(a)および図4(b)は、メモリア
レイ1の内部に位相情報記録部1aを設ける場合の、2
種類の具体例を示す図である。
4 (a) and 4 (b) show the case where the phase information recording section 1a is provided inside the memory array 1.
It is a figure which shows the specific example of a kind.

【0038】図4(a)は、メモリアレイ1内に設けら
れた位相情報記録部1aが、メモリアレイ1内の通常の
1ワード線に接続されたメモリセルの場合である。図4
(a)において、WL1〜WLNは通常ワード線、BL
1〜BLMはビット線、WLnは通常ワード線内に設け
られた位相情報記録部1aのための1ワード線である。
また、○は通常メモリセルとして用いるメモリセル、●
は位相情報記録部として用いるメモリセルを表してい
る。位相情報記録部として用いるメモリセルは、基本的
にメモリアレイ1内に1個あれば充分なので、他のメモ
リセルにはファイル名、書き換え日時等の情報を記録す
ればよい。
FIG. 4A shows a case where the phase information recording section 1a provided in the memory array 1 is a memory cell connected to a normal one word line in the memory array 1. FIG.
In (a), WL1 to WLN are normal word lines and BL
1 to BLM are bit lines, and WLn is one word line for the phase information recording unit 1a normally provided in the word line.
Also, ○ is a memory cell used as a normal memory cell, ●
Represents a memory cell used as a phase information recording unit. Basically, one memory cell used in the phase information recording unit is sufficient in the memory array 1. Therefore, information such as a file name and rewriting date / time may be recorded in other memory cells.

【0039】図4(b)は、メモリアレイ領域内に設け
られた位相情報記録部1aが、メモリアレイに補助的に
設けられた1ワード線に接続されたメモリセルの場合で
ある。図4(b)において、WL1〜WLNは通常ワー
ド線、BL1〜BLMはビット線、WLCは通常ワード
線外に設けられた位相情報記録部のための補助ワード線
である。また、○は通常メモリセルとして用いるメモリ
セル、●は位相情報記録部として用いるメモリセルを表
している。位相情報記録部として用いるメモリセルは、
基本的にメモリアレイ1内に1個あれば充分なので、他
のメモリセルにはファイル名、書き換え日時等の情報を
記録すればよい。
FIG. 4B shows a case where the phase information recording section 1a provided in the memory array area is a memory cell connected to one word line provided auxiliary to the memory array. In FIG. 4B, WL1 to WLN are normal word lines, BL1 to BLM are bit lines, and WLC is an auxiliary word line provided outside the normal word line for the phase information recording unit. Further, ◯ indicates a memory cell used as a normal memory cell, and ● indicates a memory cell used as a phase information recording unit. The memory cell used as the phase information recording unit is
Basically, one memory cell in the memory array 1 is sufficient, so that information such as a file name and rewriting date / time may be recorded in other memory cells.

【0040】なお、図4(a)および図4(b)は、メ
モリアレイ1の領域内に位相情報記録部を設ける場合の
2種類の具体例であるが、これらに限定されるものでは
なく、その他の各種の態様におよぶことはいうまでもな
い。
4 (a) and 4 (b) are two specific examples of the case where the phase information recording portion is provided in the area of the memory array 1, but the present invention is not limited to these. Needless to say, it extends to various other aspects.

【0041】なお、上述の実施例において、主にメモリ
アレイ1内の全メモリセルにデータ書き込みを行い、デ
ータ書き込み時の位相情報も、当該メモリアレイ1に対
して決定しているが、本発明の応用において、データを
書き込みまたデータ書き込み時の位相情報を決定する単
位は、メモリアレイ1の領域を複数に分割した各ワード
線セクターまたは各ブロック毎に行ってもよい。
In the above-described embodiment, data is mainly written in all the memory cells in the memory array 1, and the phase information at the time of writing the data is also determined in the memory array 1. In the above application, the unit for writing the data or determining the phase information at the time of writing the data may be performed for each word line sector or each block obtained by dividing the region of the memory array 1 into a plurality of regions.

【0042】メモリアレイ1の領域を複数に分割した各
ワード線セクターまたは各ブロック毎に、データを書き
込みまたデータ書き込み時の位相情報を決定することに
より、例えば、ページ書き込み等、データ書き込み単位
が分割されて好適である。
By writing data or determining phase information at the time of writing data for each word line sector or each block obtained by dividing the area of the memory array 1 into a plurality of areas, a data writing unit such as page writing is divided. Is preferred.

【0043】図5は、メモリアレイ1内に設けられた各
ワード線セクター毎に位相情報記録部1aが、それぞれ
のメモリアレイに補助的に設けられた1ビット線に接続
されたメモリセルの場合である。図5において、WL1
〜WLNは通常ワード線、BL1〜BLMはビット線、
BLCは通常ビット線外に設けられた位相情報記録部の
ための補助ビット線である。また、○は通常メモリセル
として用いるメモリセル、●は位相情報記録部として用
いるメモリセルを表している。
FIG. 5 shows a case in which the phase information recording section 1a for each word line sector provided in the memory array 1 is a memory cell connected to a 1-bit line provided auxiliary to each memory array. Is. In FIG. 5, WL1
~ WLN is a normal word line, BL1 to BLM are bit lines,
BLC is an auxiliary bit line for the phase information recording unit which is usually provided outside the bit line. Further, ◯ indicates a memory cell used as a normal memory cell, and ● indicates a memory cell used as a phase information recording unit.

【0044】なお、図5は、メモリアレイ1の領域内の
各ワード線セクター毎に位相情報記録部を設ける場合の
具体例であるが、これに限定されるものではなくて、そ
の他の各種の態様におよぶことはいうまでもない。
FIG. 5 shows a specific example of the case where the phase information recording section is provided for each word line sector in the area of the memory array 1, but the present invention is not limited to this and various other types are provided. It goes without saying that it extends to the embodiments.

【0045】図6は、メモリアレイ1の領域内を複数の
メモリブロックに分割した場合の図を示している。図6
においては、メモリアレイ1はMBLK11,MBLK
12,MBLK21,MBLK22の4ブロックに分割
されている。また、図中、WL11〜WL1N、WL2
1〜WL2Nはワード線、BL11〜BL1M、BL2
1〜BL2Mはビット線を示している。
FIG. 6 shows a case where the area of the memory array 1 is divided into a plurality of memory blocks. Figure 6
, The memory array 1 is MBLK11, MBLK
It is divided into four blocks of 12, MBLK21 and MBLK22. Also, in the figure, WL11 to WL1N, WL2
1 to WL2N are word lines, BL11 to BL1M, BL2
1 to BL2M indicate bit lines.

【0046】図7は、図6のメモリアレイ領域内を複数
のメモリブロックに分割して、各メモリブロック内の一
部、具体的にはメモリブロックMBLK12内の一部
に、位相情報記録部1aを設ける場合の具体例を示す図
である。
In FIG. 7, the memory array area of FIG. 6 is divided into a plurality of memory blocks, and the phase information recording section 1a is formed in a part of each memory block, specifically, a part of the memory block MBLK12. It is a figure which shows the specific example at the time of providing.

【0047】図7においては、メモリブロックMBLK
12内に設けられた位相情報記録部1aが、メモリブロ
ックMBLK12の中の通常の1ワード線に接続された
メモリセルの場合である。図7において、WL11〜W
L1Nは通常ワード線、BL21〜BL2Mは通常ビッ
ト線、WL1nは通常ワード線内に設けられた位相情報
記録部のための1ワード線である。また、○は通常メモ
リセルとして用いるメモリセル、●は位相情報記録部と
して用いるメモリセルを表している。位相情報記録部1
aとして用いるメモリセルは、基本的に各ブロックに1
個あれば充分なので、他のメモリセルには当該ブロック
のファイル名、書き換え日時時の情報を記録すればよ
い。
In FIG. 7, the memory block MBLK
This is a case where the phase information recording unit 1a provided in 12 is a memory cell connected to a normal 1 word line in the memory block MBLK12. In FIG. 7, WL11 to W
L1N is a normal word line, BL21 to BL2M are normal bit lines, and WL1n is a word line for the phase information recording section provided in the normal word line. Further, ◯ indicates a memory cell used as a normal memory cell, and ● indicates a memory cell used as a phase information recording unit. Phase information recording unit 1
The memory cell used as a is basically 1 in each block.
Since the number is sufficient, the file name of the block and information at the time of rewriting may be recorded in other memory cells.

【0048】なお、図7は、各メモリブロックアレイ領
域内の通常の1ワード線に接続されたメモリセルに位相
情報記録部を設ける場合の具体例であるが、これに限定
されるものではなく、その他の各種の態様におよぶこと
はいうまでもない。
FIG. 7 shows a specific example of the case where the phase information recording section is provided in the memory cell connected to the normal one word line in each memory block array area, but the present invention is not limited to this. Needless to say, it extends to various other aspects.

【0049】以上説明したように、本実施例によれば、
チャンネルホットエレクロトンによりフローティングゲ
ートの中に電子を注入するべきメモリセルの総数が全メ
モリセルの半数以下となり、最大時におけるデータ書き
込みに要する時間が、半分に短縮できる。
As described above, according to this embodiment,
The total number of memory cells into which electrons are to be injected into the floating gate is less than half of all the memory cells by the channel hot elecroton, and the time required for data writing at the maximum can be reduced to half.

【0050】[0050]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体不
揮発性記憶装置によれば、データ書き込み時間の短縮を
図れ、短時間にデータの書き込みを行うことができる。
As described above, according to the semiconductor nonvolatile memory device of the present invention, the data writing time can be shortened and the data can be written in a short time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係るNOR型半導体不揮発性記憶装置
の一実施例を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a NOR type semiconductor nonvolatile memory device according to the present invention.

【図2】正規メモリセルおよび位相メモリセルにおける
しきい値電圧Vthと、データ書き込みが行われた時の位
相の関係を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a relationship between a threshold voltage V th in a normal memory cell and a phase memory cell and a phase when data writing is performed.

【図3】正規メモリセルおよび位相メモリセルにおける
しきい値電圧Vthと、正規メモリセルにおけるデータ判
定の関係を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a relationship between threshold voltage V th in a normal memory cell and a phase memory cell and data determination in a normal memory cell.

【図4】メモリアレイ内部に位相情報記録部を設ける場
合の、2種類の具体例を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing two specific examples in the case of providing a phase information recording unit inside a memory array.

【図5】メモリアレイ内の各ワード線セクター毎の位相
情報記録部を、それぞれメモリアレイに補助的に設けら
れた1ビット線に接続されたメモリセルに設ける場合の
具体例を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a specific example in the case where the phase information recording section for each word line sector in the memory array is provided in the memory cell connected to the 1-bit line auxiliary provided in the memory array. .

【図6】メモリアレイ領域内を複数のブロックに分割し
た場合の例を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing an example in which the memory array area is divided into a plurality of blocks.

【図7】メモリアレイ領域内を複数のブロックに分割し
た場合に、各メモリブロック内部に位相情報記録部を設
ける場合の具体例を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a specific example in which a phase information recording unit is provided in each memory block when the memory array area is divided into a plurality of blocks.

【図8】NOR型半導体不揮発性記憶装置の書き込み時
のバイアスを示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a bias at the time of writing in a NOR type semiconductor nonvolatile memory device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 …メモリアレイ 1a…位相情報記録部 2 …読み出し/書き込み回路 3 …外部データ記憶回路 4 …カウンタ回路 5 …データ制御回路 WLm-1 、WLm 、WLm+1 …ワ−ド線 BLn-1 ,BLn ,BLn+1 …ビット線 SRL…共通ソース線 MTm-1,n-1 ,MTm-1,n ,MTm-1,n+1 ,M
m,n-1 ,MTm,n ,MTm,n+ 1 ,MTm+1,n-1 ,MT
m+1,n ,MTm+1,n+1 …メモリセル MBLK11,MBLK12,MBLK21,MBLK
22…メモリブロック
1 ... memory array 1a ... phase information recording unit 2 ... read / write circuit 3 ... external data storage circuit 4 ... counter circuit 5 ... data control circuit WL m-1, WL m, WL m + 1 ... word - word line BL n −1 , BL n , BL n + 1 ... Bit line SRL ... Common source line MT m-1, n-1 , MT m-1, n , MT m-1, n + 1 , M
T m, n-1 , MT m, n , MT m, n + 1 , MT m + 1, n-1 , MT
m + 1, n , MT m + 1, n + 1 ... Memory cells MBLK11, MBLK12, MBLK21, MBLK
22 ... Memory block

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 メモリセルの電荷蓄積部に蓄積された電
荷量を制御することにより、互いに逆相の第1のデータ
または第2のデータのどちらかのデータが電気的に書き
込まれる半導体不揮発性記憶装置であって、 データ書き込み時に、メモリアレイ全体に書き込まれる
第1のデータまたは第2のデータの総数を計数する計数
回路と、 上記計数回路の結果に基づいて、データ書き込み時のデ
ータの位相を正転または反転させてデータの書き込みを
行う書き込み回路と、 上記書き込み回路によるデータの書き込みが行われた位
相情報を記録する記録部とを有する半導体不揮発性記憶
装置。
1. A nonvolatile semiconductor memory in which either the first data or the second data having mutually opposite phases is electrically written by controlling the amount of charge stored in the charge storage portion of the memory cell. A storage device, which counts the total number of first data or second data written to the entire memory array when writing data, and the phase of the data when writing data based on the result of the counting circuit. A semiconductor non-volatile memory device having a write circuit for writing data by reversing or reversing the data, and a recording section for recording phase information in which the data is written by the write circuit.
【請求項2】 メモリセルの電荷蓄積部に蓄積された電
荷量を制御することにより、互いに逆相の第1のデータ
または第2のデータのどちらかのデータが電気的に書き
込まれる半導体不揮発性記憶装置であって、 メモリアレイを複数のブロックに分割し、各ブロック毎
に上記デ−タ書き込み時の位相情報を記録する記録部が
設けられ、かつ、 データ書き込み時に、メモリブロック毎に書き込まれる
第1のデータまたは第2のデータの総数を計数する計数
回路と、 上記計数回路の結果に基づいて、データ書き込み時のデ
ータの位相を正転または反転させてデータの書き込みを
行う書き込み回路とを有する半導体不揮発性記憶装置。
2. A non-volatile semiconductor in which either the first data or the second data of opposite phases is electrically written by controlling the amount of charge accumulated in the charge accumulating portion of the memory cell. A storage device, in which a memory array is divided into a plurality of blocks, a recording unit for recording the phase information at the time of writing the data is provided for each block, and is written for each memory block at the time of writing data. A counting circuit for counting the total number of the first data or the second data and a writing circuit for writing the data by inverting or inverting the phase of the data at the time of writing the data based on the result of the counting circuit. A semiconductor nonvolatile memory device having.
【請求項3】 上記書き込み回路は、上記第1のデータ
が書き込まれるメモリセルの総数が書き込み対象のメモ
リセルの半数以下の場合、書き込み時のデータの位相を
正転状態に保持したままデータの書き込みを行い、上記
第1のデータが書き込まれるメモリセルの総数が書き込
み対象のメモリセルの半数以上の場合、書き込み時のデ
ータの位相を反転させてデータの書き込みを行う請求項
1記載の半導体不揮発性記憶装置。
3. The write circuit, wherein when the total number of memory cells to which the first data is written is less than half of the memory cells to be written, the write circuit retains the phase of the data at the time of writing and stores the data in the normal state. 2. The semiconductor nonvolatile according to claim 1, wherein writing is performed, and when the total number of memory cells to which the first data is written is more than half of the memory cells to be written, the phase of the data at the time of writing is inverted to write the data. Sex memory device.
【請求項4】 データ読み出し時に、アドレス指定され
たメモリセルからデータを読み出すとともに、上記記録
部に記録されている当該メモリセルへの書き込み時の位
相情報を読み出し、当該位相情報に基づいて読み出しデ
ータの内容を判定する回路を有する請求項1記載の半導
体不揮発性記憶装置。
4. When reading data, the data is read from the addressed memory cell, the phase information at the time of writing to the memory cell recorded in the recording section is read, and the read data is read based on the phase information. The semiconductor nonvolatile memory device according to claim 1, further comprising a circuit for determining the contents of
【請求項5】 上記記録部は上記メモリアレイ領域内に
設けられている請求項1記載の半導体不揮発性記憶装
置。
5. The semiconductor nonvolatile memory device according to claim 1, wherein the recording section is provided in the memory array area.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008090451A (en) * 2006-09-29 2008-04-17 Toshiba Corp Storage device
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WO2017018008A1 (en) * 2015-07-24 2017-02-02 ソニー株式会社 Encoding device, memory controller, communication system, and encoding method

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