JPH0820563B2 - Display with diffraction grating pattern - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は、微小な回折格子(グレーティング)をドッ
ト毎に2次元平面に配置することにより形成されるディ
スプレイに関する。The present invention relates to a display formed by arranging minute diffraction gratings (gratings) on a two-dimensional plane for each dot.
<従来の技術> 2光束干渉による回折格子パターンを有するディスプ
レイ及びその作製方法は特開昭60−156004号に開示され
ている。この方法は、2光束干渉による微小な干渉縞
(以下、回折格子とする)をそのピッチ、方向、及び光
強度を変化させて、感光性フィルムに次々と露光するも
のである。<Prior Art> A display having a diffraction grating pattern by two-beam interference and a method for manufacturing the display are disclosed in JP-A-60-156004. In this method, minute interference fringes (hereinafter referred to as a diffraction grating) due to two-beam interference are changed in pitch, direction, and light intensity, and the photosensitive film is successively exposed.
また、電子ビームによる回折格子パターンを有するデ
ィスプレイの作製方法としては、電子ビーム露光装置に
より微小な回折格子をそのピッチ、方向、及び回折格子
の曲率を変化させて、EBレジストに次々と描画するもの
がある。In addition, as a method of manufacturing a display having a diffraction grating pattern by an electron beam, a fine diffraction grating is changed by an electron beam exposure device by changing its pitch, direction, and curvature of the diffraction grating, and sequentially drawing on the EB resist. There is.
<発明が解決しようとする課題> 上記2光束干渉による方法では、微小な回折格子の明
るさを変化させる為には、露光時間を変化させることに
より回折格子の回折効率を変化させていた。しかしなが
ら単純に露光時間を変化させただけの場合、レーザービ
ームの強度分布はガウン分布のため、露光時間を長くす
るとビームの中央部が露光オーバーとなり回折格子がつ
ぶれてしまい十分な回折効率の変化が得られなかった。<Problems to be Solved by the Invention> In the method using the two-beam interference described above, in order to change the brightness of the minute diffraction grating, the diffraction efficiency of the diffraction grating is changed by changing the exposure time. However, if the exposure time is simply changed, the intensity distribution of the laser beam is a gown distribution. Therefore, if the exposure time is lengthened, the central part of the beam will be overexposed and the diffraction grating will collapse, resulting in a sufficient change in diffraction efficiency. I couldn't get it.
また、上記電子ビームの描画による方法では、微小な
回折格子の明るさを変化させることができなかった。そ
の為、上記の2つの方法では、フルカラーの画像を表現
することはできなかった。In addition, the brightness of the minute diffraction grating cannot be changed by the method using the electron beam drawing. Therefore, a full-color image cannot be expressed by the above two methods.
本発明は上記の如くの問題を解決すべくなされたもの
で、回折格子パターンを構成する各ドット毎の面積を変
化させることにより明度を変化させ、フルカラー画像の
表現を可能とすることを目的とする。The present invention has been made to solve the above problems, and it is an object of the present invention to change the lightness by changing the area of each dot forming a diffraction grating pattern, thereby making it possible to express a full-color image. To do.
<課題を解決するための手段> 上記目的を達成すべくなされた本発明は、平面状の基
板と、該基板の表面に形成された回折格子パターンとか
らなるディスプレイであって、該回折格子パターンが回
折格子により形成された複数の微小なドットから構成さ
れ、該ドットの面積が各ドット毎にその明るさに応じて
指定された大きさに変化してなることを特徴とする。<Means for Solving the Problems> The present invention, which has been made to achieve the above object, is a display comprising a flat substrate and a diffraction grating pattern formed on the surface of the substrate, and the diffraction grating pattern is provided. Is composed of a plurality of minute dots formed by a diffraction grating, and the area of each dot changes to a designated size according to the brightness of each dot.
<作用> 本発明のディスプレイでは、回折格子パターンを構成
する各ドットの面積を変化させるため、各ドットの面積
に対応して微小な回折格子による明度の表現ができ、フ
ルカラーの画像を作成することが可能となる。<Operation> In the display of the present invention, since the area of each dot constituting the diffraction grating pattern is changed, the brightness can be expressed by a minute diffraction grating corresponding to the area of each dot, and a full-color image can be created. Is possible.
<実施例> 本発明は、微小な回折格子をドット毎に面積を変化さ
せながら2次元平面上に配置させたディスプレイであ
り、その詳細は第8図に示すようにディスプレイ(1)
は2次元平面上に微小な回折格子のドット(16)が所定
の面積、所定の空間周波数、所定の回折格子の角度を持
って配置されている。回折格子によって回折される1次
の回折光の光量はドットの面積に比例して多くなり、回
折格子によって回折される1次回折光の色は回折格子の
空間周波数によって決定され、回折格子によって回折さ
れる1次回折光の方向は回折格子の角度によって決定さ
れる。その為コンピュータ上のデータに従って、2次元
平面上に配置した微小な回折格子を有するドットは、輝
度の高いドットに相当する位置のドットの面積は大き
く、輝度の低いドットの面積は小さく、ドットの表現す
る色は回折格子の空間周波数を変化させ、さらにドット
の観察されるべき方向から計算された回折格子の角度を
つけることにより、回折格子のドットの明度、色、観察
される方向を任意に変化させることが可能となる。この
ように決められた明度、色、観察される方向に光るドッ
トを2次元平面上に多数配置し、その集合としてディス
プレイのパターンが形成される。ディスプレイは、各ド
ット毎に明度、色、を決定できるためフルカラーの画像
を表現でき、また回折格子の角度が変化することにより
観察者の視点の位置により観察されるパターンが変化す
る画像を表現できるものである。<Example> The present invention is a display in which minute diffraction gratings are arranged on a two-dimensional plane while changing the area of each dot, and details thereof are as shown in FIG.
Has a minute diffraction grating dot (16) arranged on a two-dimensional plane with a predetermined area, a predetermined spatial frequency, and a predetermined diffraction grating angle. The amount of the 1st-order diffracted light diffracted by the diffraction grating increases in proportion to the area of the dot, and the color of the 1st-order diffracted light diffracted by the diffraction grating is determined by the spatial frequency of the diffraction grating and diffracted by the diffraction grating. The direction of the first-order diffracted light is determined by the angle of the diffraction grating. Therefore, according to the data on the computer, a dot having a minute diffraction grating arranged on a two-dimensional plane has a large dot area at a position corresponding to a high brightness dot and a small dot area having a low brightness. The color to be expressed changes the spatial frequency of the diffraction grating, and by setting the angle of the diffraction grating calculated from the direction in which the dots should be observed, the brightness, color, and observation direction of the dots of the diffraction grating can be arbitrarily set. It can be changed. In this way, a large number of dots shining in the brightness, color, and observation direction determined in this way are arranged on a two-dimensional plane, and a pattern of the display is formed as a set thereof. The display can represent a full-color image because the brightness and color can be determined for each dot, and can also represent an image in which the observed pattern changes depending on the position of the observer's viewpoint by changing the angle of the diffraction grating. It is a thing.
2光束のレーザビームを交わらせてグレーティングの
ドットを作製する方法による、回折格子パターンを有す
るディスプレイを第1図乃至第4図を参照して説明す
る。A display having a diffraction grating pattern by a method of forming grating dots by intersecting two laser beams will be described with reference to FIGS. 1 to 4.
第1図に示すように、2本のレーザビームを(10),
(12)を乾板(14)上で交わらせると、ドット(16)に
干渉縞、すなわち回折格子(18)が生じる。このとき2
本のレーザビーム(10),(12)の太さを変化させるこ
とによりドット(16)の面積を変化させることが可能と
なる。また、この回折格子の周期はレーザビーム(1
0),(12)の交わる角度を変えることにより変化させ
ることが可能である。コンピュータの指示にしたがって
X−Yステージ(20)を移動させながら、この回折格子
を有するドット(16)を乾板(14)上に形成する。レー
ザビームの太さは、レーザビームの光路上にレンズを挿
入し、そのレンズの位置を光路に対して平行に移動させ
ることによって変化させる。赤、緑、青の3色を表わす
3種のドット(16)を形成するために、3通りの角度を
有するレーザビームを準備する。このようにしてR,G,B
の3色のスポットをコンピュータの指示にしたがって、
乾板(14)上の所定の位置と所定の面積で形成する。As shown in FIG. 1, two laser beams (10),
When (12) is crossed on the dry plate (14), interference fringes, that is, a diffraction grating (18) are generated in the dot (16). At this time 2
It is possible to change the area of the dot (16) by changing the thickness of the laser beams (10) and (12) of the book. In addition, the period of this diffraction grating is
It can be changed by changing the angle at which 0) and (12) intersect. The dots (16) having this diffraction grating are formed on the dry plate (14) while moving the XY stage (20) according to the instructions of the computer. The thickness of the laser beam is changed by inserting a lens in the optical path of the laser beam and moving the position of the lens parallel to the optical path. Laser beams having three different angles are prepared in order to form three kinds of dots (16) representing three colors of red, green and blue. In this way R, G, B
Follow the computer's instructions for the three color spots
It is formed at a predetermined position and a predetermined area on the dry plate (14).
第2図は乾板上にドットを形成するための光学系を示
している。レーザ(22)より発したレーザビームは全反
射ミラー(24),(26)により光路を変えて、レンズ
(41)に入射する。レンズ(41)はレーザビームと平行
な方向にコンピュータ制御によって移動可能になってお
り、乾板(14)上でのレーザビームの太さを変化させる
ことを可能としている。FIG. 2 shows an optical system for forming dots on the dry plate. The laser beam emitted from the laser (22) changes its optical path by the total reflection mirrors (24) and (26) and enters the lens (41). The lens (41) is movable in a direction parallel to the laser beam by computer control, and it is possible to change the thickness of the laser beam on the dry plate (14).
レンズ(41)を通過したレーザビームはハーフミラー
(32),(34),(36)に入射し、4本のビーム(B
1),(B2),(B3),(B4)に分けられる。この時、
4本のビーム(B1),(B2),(B3),(B4)は等しい
強度を持つように設定される。3本のビーム(B1),
(B2),(B3)はスリット(38)によって1本に選択さ
れ、レンズ(40),ミラー(42)を通って乾板(14)上
に入射される。リファレンス光となるレーザビーム(B
4)はミラー(44),(46)を通って乾板(14)上に入
射される。4本のビーム(B1),(B2),(B3),(B
4)は乾板(14)上で1点に集まるように調整されてい
る。またこれらの4本のビーム(B1),(B2),(B
3),(B4)が乾板(14)に入射する角度は、回折格子
からの回折光がR,G,Bの3色の色を表わすように予め計
算された値に設定されている。乾板(14)は、X−Yス
テージに乗せられていて、コンピュータ制御により移動
できるようになっている。レーザビーム(B1),(B
2),(B3),(B4)は乾板(14)に入射する直前でシ
ャッター(48)を通過するようになっており、シャッタ
ー(48)の開閉により露光、非露光を制御する。シャッ
ター(48)の開閉の時間は、乾板(14)上での単位面積
あたりの露光量が一定になるように、レーザビームの太
さに応じて変化させる。The laser beam that has passed through the lens (41) is incident on the half mirrors (32), (34) and (36), and the four beams (B
It is divided into 1), (B2), (B3), and (B4). This time,
The four beams (B1), (B2), (B3), (B4) are set to have equal intensities. 3 beams (B1),
One of (B2) and (B3) is selected by the slit (38) and is incident on the dry plate (14) through the lens (40) and the mirror (42). Laser beam (B
4) is incident on the dry plate (14) through the mirrors (44) and (46). 4 beams (B1), (B2), (B3), (B
4) is adjusted so that it gathers at one point on the dry plate (14). Also, these four beams (B1), (B2), (B
The angles at which 3) and (B4) are incident on the dry plate (14) are set to values calculated in advance so that the diffracted light from the diffraction grating represents the three colors R, G, and B. The dry plate (14) is placed on an XY stage and can be moved by computer control. Laser beam (B1), (B
2), (B3), and (B4) pass through the shutter (48) immediately before entering the dry plate (14), and the exposure and non-exposure are controlled by opening and closing the shutter (48). The time for opening and closing the shutter (48) is changed according to the thickness of the laser beam so that the exposure amount per unit area on the dry plate (14) becomes constant.
第3図と第4図を参照して、本発明の回折格子パター
ンを有するディスプレイの作製工程を説明する。まず、
ステップAに示すように、画像データをイメージスキャ
ナを用いて読み取り、コンピュータに入力する。この時
入力するデータは原稿の画像の明るさの情報も入力す
る。イメージスキャナで読み取った画像は、原稿として
使用するためには修正を必要とする場合が多いためコン
ピュータ上で修正を行なう。修正を行なった画像データ
は、R,G,Bの各色毎に分解してフロッピーディスク等の
記録媒体に記憶させておく、次に露光する色を指定して
光学系のスリット(38)を移動させ、レーザビーム(B
1),(B2),(B3)のうち指定されたレーザビームだ
けをスリット(38)を通して取り出す(ステップB,
C)。次にステップDでX−Yステージを原点に移動さ
せる。次に露光を行なう場所の露光を行なう色のデータ
を読み取り、露光を行なうか行なわないかの判断をする
(ステップE,F)。露光を行なう場合、レンズ(41)を
移動させ、ドットの明るさに応じてドット(16)の面積
を変化させ(ステップG)、この面積に応じた時間だけ
光学系のシャッター(48)を開き、露光を行なう(ステ
ップH)。この段階で、一つのドットに対して指定され
た色と明るさに対応した回折格子の作製工程は終了す
る。次にX−Yステージを移動させ(ステップI)、指
定した色のデータが終了したかどうかの判断をする(ス
テップJ)。終了していないときはステップEにもど
り、ステップE,F,G,H,I,Jを繰り返し、指定された色に
対応した複数のドット状の回折格子パターンを形成す
る。The manufacturing process of the display having the diffraction grating pattern of the present invention will be described with reference to FIGS. 3 and 4. First,
As shown in step A, image data is read using an image scanner and input to a computer. As the data to be input at this time, information on the brightness of the image of the original is also input. Since an image read by an image scanner often needs correction in order to be used as a document, it is corrected on a computer. The corrected image data is decomposed for each color of R, G, B and stored in a recording medium such as a floppy disk. Then, specify the color to be exposed and move the slit (38) of the optical system. Laser beam (B
Only the designated laser beam of 1), (B2) and (B3) is taken out through the slit (38) (step B,
C). Next, in step D, the XY stage is moved to the origin. Next, the color data to be exposed at the location to be exposed is read, and it is determined whether or not to perform the exposure (steps E and F). When performing exposure, move the lens (41), change the area of the dot (16) according to the brightness of the dot (step G), and open the shutter (48) of the optical system for a time corresponding to this area. , Exposure is performed (step H). At this stage, the manufacturing process of the diffraction grating corresponding to the color and brightness designated for one dot is completed. Next, the XY stage is moved (step I), and it is judged whether or not the data of the designated color is completed (step J). If not completed, the process returns to step E, and steps E, F, G, H, I, and J are repeated to form a plurality of dot-shaped diffraction grating patterns corresponding to the designated color.
指定された色のデータが終了した時にはステップKに
進み、別の色が存在するときにはステップBに戻る。そ
して露光する別の色を指定してステップBからステップ
Jを繰り返す。そして指定する色がなくなると、本発明
の回折格子パターンを有するディスプレイが完成する。When the data of the designated color is completed, the process proceeds to step K, and when another color exists, the process returns to step B. Then, another color to be exposed is designated and steps B to J are repeated. When there are no more designated colors, the display having the diffraction grating pattern of the present invention is completed.
このようにして形成させた回折格子を有する乾板は複
製のための原版として使用できる。複製を行なうために
はよく知られているエンボス法を用いる。The dry plate having the diffraction grating thus formed can be used as an original plate for reproduction. The well-known embossing method is used for reproduction.
電子ビームを用いた回折格子を作製する方法による、
回折格子パターンを有するディスプレイを第5図乃至第
7図を参照して説明する。According to the method of manufacturing a diffraction grating using an electron beam,
A display having a diffraction grating pattern will be described with reference to FIGS.
第5図に示すように電子ビーム露光装置は、電子銃
(50)、アライメント(52)、ブランカー(54)、コン
デンサーレンズ(56)、スティグメータ(58)、ディフ
レクター(60)、対物レンズ(62)、X−Yステージ
(20)からなる。X−Yステージ(20)上にはEBレジス
ト(乾板)(15)が載置されている。ブランカー(5
4)、ディフレクター(60)、及びX−Yステージ(2
0)はコントロールインターフェース(64)を介してコ
ンピュータ(66)に接続されている。As shown in FIG. 5, the electron beam exposure apparatus includes an electron gun (50), alignment (52), blanker (54), condenser lens (56), stigmator (58), deflector (60), objective lens (62). ), An XY stage (20). An EB resist (dry plate) (15) is placed on the XY stage (20). Blanker (5
4), deflector (60), and XY stage (2
0) is connected to the computer (66) via the control interface (64).
電子銃(50)から照射された電子ビームは、コンピュ
ータ(66)に制御され乾板(15)を走査する。The electron beam emitted from the electron gun (50) is controlled by the computer (66) to scan the dry plate (15).
第6図はX−Yステージ(20)上に載置された乾板
(15)を示している。電子銃(50)から発射された電子
ビーム(70)はドット(16)を単位にして回折格子(1
8)を描画する。X−Yステージ(20)を移動させるこ
とにより、次々とドット毎に回折格子(18)を描画し、
回折格子パターン形成する。FIG. 6 shows the dry plate (15) placed on the XY stage (20). The electron beam (70) emitted from the electron gun (50) has a dot (16) as a unit and a diffraction grating (1
8) Draw. By moving the XY stage (20), the diffraction grating (18) is drawn for each dot one after another,
Form a diffraction grating pattern.
以下、第7図を参照して作製工程を説明する。 The manufacturing process will be described below with reference to FIG.
まず、ステップaにおいて、イメージスキャナを用い
て画像データを読み取り、コンピュータに入力する。ま
たは、コンピュータ・グラフィックスの画像データをコ
ンピュータに入力してもよい。この時入力するデータは
原稿の画像の明るさの情報も入力する。イメージスキャ
ナで読み取った画像は、原稿として使用するためには修
正を必要とする場合が多いためコンピュータ上で修正を
行なう(ステップb)。次にステップcにおいて、コン
ピュータに視域データを入力する。この、視域データ
は、入力した画像データをディスプレイとして再生した
時に、そのディスプレイの見える方向及び視域を各ドッ
ト毎に定めるものである。次にステップdにおいて、X
−Yステージを原点に移動させ、ステップeでドットデ
ータをデータファイルからコンピュータに入力する。こ
のドットデータは、修正した画像のうち、一つのドット
の場所、色(空間周波数)、見える方向、見える範囲、
そして明るさに関するデータである。そして、それらの
データを用いてステップf,g,hでグレーティングの形状
を決定する。ステップiでは明るさのデータからコンピ
ュータ上でドットの面積を決定する。この時このドット
の面積を持つためのドットの形状は、印刷物における網
点のようなものでもよいし、ディザ法のようなものを用
いてもよい。なおステップf,g,h,iの順番はこの例に限
られずどの様な順番になってもよい。First, in step a, image data is read using an image scanner and input to a computer. Alternatively, computer graphics image data may be input to the computer. As the data to be input at this time, information on the brightness of the image of the original is also input. The image read by the image scanner is often required to be corrected in order to be used as a document, so the image is corrected on the computer (step b). Next, in step c, the viewing zone data is input to the computer. The viewing area data defines the viewing direction and viewing area of the display for each dot when the input image data is reproduced as a display. Then in step d, X
-Move the Y stage to the origin and input the dot data from the data file to the computer in step e. This dot data consists of the position of one dot, color (spatial frequency), viewing direction, viewing range, and
And it is the data regarding the brightness. Then, using these data, the shape of the grating is determined in steps f, g, and h. In step i, the dot area is determined on the computer from the brightness data. At this time, the shape of the dot for having the area of this dot may be a halftone dot in the printed matter or a dither method. The order of steps f, g, h, i is not limited to this example, and any order may be used.
次にステップjにおいてステップeで入力したドット
の位置までX−Yステージを移動し、ステップkにおい
て、そのドットのグレーティングの描画を行なう。こ
の、一連のステップにより、一つのドットに対応した回
折格子の描画が完了する。次にステップ1において次の
ドットのデータを参照するために、データファイルのア
ドレスを1だけ増す。そしてステップmにおいて、この
アドレスにおける画像データが存在するときには、ステ
ップeに戻り別のドットのデータを入力し、ステップf,
g,h,i,j,k,lを繰り返す。この一連のステップをドット
に対応した画像データがなくなるまで続ける。Next, in step j, the XY stage is moved to the position of the dot input in step e, and in step k, the grating of that dot is drawn. By this series of steps, drawing of the diffraction grating corresponding to one dot is completed. Next, in step 1, the address of the data file is incremented by 1 to refer to the data of the next dot. Then, in step m, when the image data at this address exists, the process returns to step e to input the data of another dot, and step f,
Repeat g, h, i, j, k, l. This series of steps is repeated until there is no image data corresponding to the dot.
このようにして形成させた回折格子パターンを有する
乾板は複製のための原版として使用できる。複製を行な
うためにはよく知られているエンボス法を用いる。The dry plate having the diffraction grating pattern thus formed can be used as an original plate for reproduction. The well-known embossing method is used for reproduction.
<発明の効果> 以上述べたように本発明は、回折格子パターンを有す
るディスプレイにおいて、回折格子から形成されたドッ
トの面積を変化させることによって、そのドットに応じ
た明度の変化が可能となったため、フルカラーの画像を
表現することができる。<Effects of the Invention> As described above, according to the present invention, in a display having a diffraction grating pattern, it is possible to change the brightness according to the dot by changing the area of the dots formed from the diffraction grating. , Can express full-color images.
第1図は本発明にかかる回折格子パターンを有するディ
スプレイの作製に2光束干渉を用いた例の概略図、第2
図は本発明を2光束干渉を用いて作製するための光学系
を示す図、第3図は本発明を2光束干渉を用いて作製す
るための工程の概略を示す図、第4図は本発明を2光束
干渉を用いて作製する工程を示すフローチャート、第5
図は本発明にかかる回折格子パターンを有するディスプ
レイの作製に電子ビームを用いた例の概略図、第6図は
X−Yステージ上に載置されたEBレジストを示す図、第
7図は本発明を電子ビームを用いて作製する工程を示す
フローチャートであり、第8図は本発明の回折格パター
ンを有するディスプレイの平面図である。 10,12……レーザビーム 14……フォトレジスト乾板 15……EBレジスト乾板 16……ドット 18……回折格子 20……X−Yステージ 22……レーザ 38……スリット 48……シャッター 50……電子銃 54……ブランカー 60……ディフレクター 64……コントロールインターフェース 66……コンピュータ 70……電子ビームFIG. 1 is a schematic view of an example in which two-beam interference is used to manufacture a display having a diffraction grating pattern according to the present invention.
FIG. 4 is a diagram showing an optical system for producing the present invention by using two-beam interference, FIG. 3 is a diagram showing an outline of steps for producing the present invention by using two-beam interference, and FIG. Flowchart showing a process for manufacturing the invention using two-beam interference,
FIG. 6 is a schematic view of an example in which an electron beam is used to manufacture a display having a diffraction grating pattern according to the present invention, FIG. 6 is a view showing an EB resist placed on an XY stage, and FIG. FIG. 8 is a flowchart showing a process of manufacturing the invention using an electron beam, and FIG. 8 is a plan view of a display having a diffraction pattern of the invention. 10,12 …… Laser beam 14 …… Photoresist dry plate 15 …… EB resist dry plate 16 …… Dot 18 …… Diffraction grating 20 …… XY stage 22 …… Laser 38 …… Slit 48 …… Shutter 50 …… Electron gun 54 …… Blanker 60 …… Deflector 64 …… Control interface 66 …… Computer 70 …… Electron beam
Claims (1)
た回折格子パターンとからなるディスプレイであって、
該回折格子パターンが回折格子により形成された複数の
微小なドットから構成され、該ドットの面積が各ドット
毎にその明るさに応じて指定された大きさに変化してな
ることを特徴とする回折格子パターンを有するディスプ
レイ。1. A display comprising a flat substrate and a diffraction grating pattern formed on the surface of the substrate,
The diffraction grating pattern is composed of a plurality of minute dots formed by the diffraction grating, and the area of each dot is changed to a designated size according to the brightness of each dot. A display having a diffraction grating pattern.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1174961A JPH0820563B2 (en) | 1989-07-06 | 1989-07-06 | Display with diffraction grating pattern |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1174961A JPH0820563B2 (en) | 1989-07-06 | 1989-07-06 | Display with diffraction grating pattern |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH0339701A JPH0339701A (en) | 1991-02-20 |
JPH0820563B2 true JPH0820563B2 (en) | 1996-03-04 |
Family
ID=15987766
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
JP1174961A Expired - Lifetime JPH0820563B2 (en) | 1989-07-06 | 1989-07-06 | Display with diffraction grating pattern |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0820563B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103497116A (en) * | 2013-09-26 | 2014-01-08 | 江苏亚邦染料股份有限公司 | Synthetic method of 1-amino-anthraquinone |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0812283B2 (en) * | 1987-05-21 | 1996-02-07 | 凸版印刷株式会社 | Diffraction grating exposure device |
-
1989
- 1989-07-06 JP JP1174961A patent/JPH0820563B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103497116A (en) * | 2013-09-26 | 2014-01-08 | 江苏亚邦染料股份有限公司 | Synthetic method of 1-amino-anthraquinone |
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JPH0339701A (en) | 1991-02-20 |
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