JPH07283579A - Shielded type flexible wiring board - Google Patents

Shielded type flexible wiring board

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JPH07283579A
JPH07283579A JP7595494A JP7595494A JPH07283579A JP H07283579 A JPH07283579 A JP H07283579A JP 7595494 A JP7595494 A JP 7595494A JP 7595494 A JP7595494 A JP 7595494A JP H07283579 A JPH07283579 A JP H07283579A
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JP
Japan
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metal thin
thin film
layer
wiring board
film layer
Prior art date
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Application number
JP7595494A
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Japanese (ja)
Inventor
Mitsuru Motogami
満 本上
Yasuhito Owaki
泰人 大脇
Yasufumi Miyake
康文 三宅
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
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Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
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Publication of JPH07283579A publication Critical patent/JPH07283579A/en
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0213Electrical arrangements not otherwise provided for
    • H05K1/0216Reduction of cross-talk, noise or electromagnetic interference
    • H05K1/0218Reduction of cross-talk, noise or electromagnetic interference by printed shielding conductors, ground planes or power plane
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0393Flexible materials

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  • Structure Of Printed Boards (AREA)
  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a shielded type flexible wiring board being excellent in flexibility and properties of preventing a crosstalk and electromagnetic noise radiation. CONSTITUTION:A first insulative film 1 and a second insulative film 7 are provided oppositely with an adhesive layer 4 interlaid and a plurality of conductor circuits 3 are formed at prescribed intervals from each other on the first insulative film 1 surface side. Besides, a metal thin film layer 6 is formed on the second insulative film 7 surface side facing the film surface of the first insulative film 1, and a grounding conductor circuit 31 being an arbitrary circuit part out of the conductor circuits 3 in a plurality is connected electrically with the metal thin film layer 6 by conductive paste 5.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、高周波信号やデジタ
ル信号の伝送に好適なシールド型のフレキシブル配線板
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a shield type flexible wiring board suitable for transmitting high frequency signals and digital signals.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、電子部品が実装されたプリン
ト回路基板同士を接続する場合に、フレキシブルプリン
ト配線板が汎用されている。このようなフレキシブルプ
リント配線板において、一般に、設けられた導体線路が
平行に形成されているため、導体線路間の電磁界結合が
強く、クロストークが発生し、電子機器が誤動作を生起
し易い。また、導体線路を流れるデジタル信号から発生
する高調波成分が、電磁波雑音として放射されることに
より、他の電子機器が誤動作するという問題がある。こ
のような問題を解決するため、例えば、金属箔や導電性
ペースト等のシールド金属層を、プラスチックフィルム
や接着剤層等の絶縁層を介して、導体線路形成面上に接
着し、上記シールド金属層と導体線路を電気的に接続す
ることにより、導体線路間の電磁界結合の低減や電磁波
雑音の放射を防止することが提案されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, flexible printed wiring boards have been widely used for connecting printed circuit boards on which electronic components are mounted. In such a flexible printed wiring board, since the conductor lines provided are generally formed in parallel, electromagnetic field coupling between the conductor lines is strong, crosstalk occurs, and an electronic device easily malfunctions. In addition, there is a problem that a harmonic component generated from a digital signal flowing through the conductor line is radiated as electromagnetic noise, which causes other electronic devices to malfunction. In order to solve such a problem, for example, a shield metal layer such as a metal foil or a conductive paste is adhered to the conductor line formation surface via an insulating layer such as a plastic film or an adhesive layer, and the shield metal is formed. It has been proposed to reduce the electromagnetic field coupling between the conductor lines and prevent the emission of electromagnetic noise by electrically connecting the layers and the conductor lines.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上記提案により構成さ
れたフレキシブルプリント回路基板においては、シール
ド金属層として導体線路と略同等の厚みの金属箔を使用
するため、フレキシブルプリント配線板の最大の特徴で
ある可撓性が低下するという問題が生じる。また、上記
導電性ペーストを用いる場合、上記金属箔と同等の導電
性を得るためには、厚みが厚くなりやはり可撓性が低下
するという問題が生じる。さらに、シールド金属層が電
子機器内の他の電子部品と接触することによる電気的な
短絡事故を防ぐため、上記フレキシブルプリント配線板
の外側に絶縁層を設ける必要から、製造工程が増え、し
かもこの絶縁層の存在によりさらに可撓性が低下すると
いう問題が生じる。
In the flexible printed circuit board constructed according to the above-mentioned proposal, since the metal foil having substantially the same thickness as the conductor line is used as the shield metal layer, the flexible printed circuit board has the greatest feature. The problem arises that some flexibility is reduced. Further, when the conductive paste is used, in order to obtain the same conductivity as that of the metal foil, there is a problem that the thickness becomes large and the flexibility also deteriorates. Further, in order to prevent an electrical short circuit accident due to the shield metal layer coming into contact with other electronic components in the electronic device, it is necessary to provide an insulating layer on the outside of the flexible printed wiring board, which increases the number of manufacturing steps, and The presence of the insulating layer causes a problem that the flexibility is further reduced.

【0004】この発明は、このような事情に鑑みなされ
たもので、可撓性およびクロストークと電磁波雑音放射
の防止性に優れたシールド型フレキシブル配線板の提供
をその目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a shield type flexible wiring board which is excellent in flexibility and crosstalk and prevention of electromagnetic noise emission.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、この発明のシールド型フレキシブル配線板は、第1
の絶縁性フィルムと第2の絶縁性フィルムとが接着剤層
を介して対設され、上記第1の絶縁性フィルム面側に複
数の回路部分が相互に所定間隔を保って形成されている
とともに、上記第1の絶縁性フィルムのフィルム面と対
面する第2の絶縁性フィルム面側に金属薄膜層が形成さ
れ、上記複数の回路部分のうちの任意の回路部分が上記
金属薄膜層と電気的に接続されているという構成をと
る。
In order to achieve the above-mentioned object, the shield type flexible wiring board of the present invention has a first structure.
The insulating film and the second insulating film are opposed to each other via an adhesive layer, and a plurality of circuit portions are formed on the surface of the first insulating film at a predetermined interval from each other. A metal thin film layer is formed on the side of the second insulating film surface facing the film surface of the first insulating film, and any circuit portion of the plurality of circuit portions is electrically connected to the metal thin film layer. Is connected to.

【0006】[0006]

【作用】すなわち、この発明のシールド型フレキシブル
配線板は、第2の絶縁性フィルム面に設けられた金属薄
膜層が、第1の絶縁性フィルム面側に設けられた複数の
回路部分のうちの任意の回路部分と電気的に接続されて
いる。このため、上記金属薄膜層と任意の回路部分とが
同電位となり、複数の回路間の電磁界結合を低減し、ク
ロストークが防止できるとともに、金属薄膜層と接着剤
層の特性インピーダンスが大きく異なっているため、電
磁波雑音の放射も防止することが可能となる。また、上
記金属薄膜層と任意の回路部分の電気的結合によりクロ
ストークと電磁波雑音放射を防止するため、フレキシブ
ル配線板の最大の特徴である可撓性を損なうことがな
い。さらに、上記金属薄膜層の端部を、絶縁性フィルム
の端部からはみ出さないように位置決めすると、フレキ
シブル配線板の表面や端面部分に金属薄膜層が露出せ
ず、電子機器内において他の電子部品等との絶縁性が保
持される。また、第1の絶縁性フィルム面に、第2の金
属薄膜層を形成し上記任意の回路部分と上記第2の金属
薄膜層とを電気的に接続することにより、一層優れたク
ロストークの発生防止と電磁波雑音放射の防止が実現す
る。
That is, in the shielded flexible wiring board of the present invention, the metal thin film layer provided on the second insulating film surface is one of the plurality of circuit portions provided on the first insulating film surface side. It is electrically connected to any circuit part. Therefore, the metal thin film layer and an arbitrary circuit portion have the same potential, electromagnetic field coupling between a plurality of circuits can be reduced, crosstalk can be prevented, and the characteristic impedance of the metal thin film layer and the adhesive layer are significantly different. Therefore, it is possible to prevent the emission of electromagnetic noise. In addition, since the crosstalk and the electromagnetic noise emission are prevented by electrically coupling the metal thin film layer and an arbitrary circuit portion, the flexibility, which is the greatest feature of the flexible wiring board, is not impaired. Furthermore, when the end of the metal thin film layer is positioned so as not to protrude from the end of the insulating film, the metal thin film layer is not exposed on the surface or the end face portion of the flexible wiring board, and other electronic devices in the electronic device are not exposed. Insulation from parts is maintained. Further, by forming a second metal thin film layer on the surface of the first insulating film and electrically connecting the arbitrary circuit part and the second metal thin film layer, more excellent crosstalk is generated. The prevention and the prevention of electromagnetic noise emission are realized.

【0007】つぎに、この発明を実施例に基づいて詳し
く説明する。
Next, the present invention will be described in detail based on embodiments.

【0008】[0008]

【実施例】図1はこの発明のシールド型フレキシブル配
線板の一実施例を示す断面図である。1は第1の絶縁性
フィルムであり、この第1の絶縁性フィルム上に接着剤
層2を介して所定パターンを有する導体回路3が形成さ
れている。そして、上記導体回路3のうちの任意の導体
回路は地導体回路31に設定されている。また、上記第
1の絶縁性フィルム1と対面する第2の絶縁性フィルム
7面上には、金属薄膜層6が形成されている。上記金属
薄膜層6は、他の配線板等と接触して短絡等が生じない
よう、第2の絶縁性フィルム7の端部から金属薄膜層6
の端部がはみ出さないよう位置決めされている。そし
て、上記金属薄膜層6は導電性ペースト5により上記地
導体回路31と接続されている。図において、4は導体
回路3と金属薄膜層6との空間を埋める接着剤層であ
る。
1 is a sectional view showing an embodiment of a shield type flexible wiring board of the present invention. Reference numeral 1 is a first insulating film, and a conductor circuit 3 having a predetermined pattern is formed on the first insulating film via an adhesive layer 2. Any conductor circuit of the conductor circuits 3 is set to the ground conductor circuit 31. A metal thin film layer 6 is formed on the surface of the second insulating film 7 facing the first insulating film 1. The metal thin film layer 6 is formed from the end portion of the second insulating film 7 so that a short circuit or the like does not occur due to contact with another wiring board or the like.
Are positioned so that the ends of the do not protrude. The metal thin film layer 6 is connected to the ground conductor circuit 31 by the conductive paste 5. In the figure, 4 is an adhesive layer that fills the space between the conductor circuit 3 and the metal thin film layer 6.

【0009】上記構成の配線板は、第2の絶縁性フィル
ム7面上に形成された金属薄膜層6と地導体回路31と
が導電性ペースト5により接続されている。このため、
上記金属薄膜層6と地導体回路31とが同電位となり、
複数の回路間の電磁界結合を低減し、クロストークが防
止される。また、上記金属薄膜層6の端部が第2の絶縁
性フィルム7の端部からはみ出さないよう位置決めされ
ているため、他の配線板等と接触して短絡等が生じな
い。
In the wiring board having the above structure, the metal thin film layer 6 formed on the surface of the second insulating film 7 and the ground conductor circuit 31 are connected by the conductive paste 5. For this reason,
The metal thin film layer 6 and the ground conductor circuit 31 have the same potential,
Electromagnetic field coupling between a plurality of circuits is reduced and crosstalk is prevented. Further, since the end portion of the metal thin film layer 6 is positioned so as not to protrude from the end portion of the second insulating film 7, it does not come into contact with another wiring board or the like to cause a short circuit or the like.

【0010】上記第1の絶縁性フィルム1および第2の
絶縁性フィルム7としては、特に限定するものではなく
電気的に絶縁性を有するものであればよい。例えば、ポ
リイミド樹脂系フィルム,ポリエステル樹脂系フィル
ム,フッ素樹脂系フィルム等の可撓性を有する従来公知
のフィルムがあげられる。なお、上記第1の絶縁性フィ
ルム1および第2の絶縁性フィルム7の材質は互いに同
じであっても異なっていてもよい。なかでも、機械的特
性という点から、ポリイミド樹脂系フィルム,ポリエス
テル樹脂系フィルムを用いることが好ましい。さらに、
上記両絶縁性フィルム1,7の厚みは、各々12.5〜
125μmの範囲内に設定することが好ましく、特に好
ましくは25〜100μmである。
The first insulating film 1 and the second insulating film 7 are not particularly limited as long as they are electrically insulating. For example, a conventionally known flexible film such as a polyimide resin film, a polyester resin film, or a fluororesin film can be used. The materials of the first insulating film 1 and the second insulating film 7 may be the same as or different from each other. Of these, a polyimide resin film or a polyester resin film is preferably used from the viewpoint of mechanical properties. further,
The thickness of each of the insulating films 1 and 7 is 12.5 to
The thickness is preferably set in the range of 125 μm, and particularly preferably 25 to 100 μm.

【0011】上記導体回路3(地導体回路31を含む)
を形成する金属材料としては、特に限定するものではな
く、銅,アルミニウム,ニッケル,鉄,金等従来公知の
金属、またはこれら金属の複合系があげられる。なかで
も、導電性という点から、銅,アルミニウムを用いるこ
とが好ましい。さらに、導体回路3の厚みは、1〜75
μmの範囲内に設定することが好ましく、特に好ましく
は12〜35μmである。
The conductor circuit 3 (including the ground conductor circuit 31)
The metal material for forming is not particularly limited, and may be a conventionally known metal such as copper, aluminum, nickel, iron, gold, or a composite system of these metals. Among them, copper and aluminum are preferably used from the viewpoint of conductivity. Furthermore, the thickness of the conductor circuit 3 is 1 to 75.
The thickness is preferably set in the range of μm, particularly preferably 12 to 35 μm.

【0012】上記金属薄膜層6を形成する金属材料とし
ては、特に限定するものではなく、銅,アルミニウム,
ニッケル,鉄,金等従来公知の金属、またはこれら金属
の複合系および金属酸化物があげられる。なかでも、導
電性という点から、銅,アルミニウムを用いることが好
ましい。また、内部の導体回路3を確認する必要がある
場合には、スズをドープした酸化インジユム(ITO)
を用いることが好ましい。さらに、金属薄膜層6の厚み
は、0.1〜10μmの範囲内に設定することが好まし
く、特に好ましくは0.5〜3μmである。
The metal material for forming the metal thin film layer 6 is not particularly limited, and copper, aluminum,
Examples include conventionally known metals such as nickel, iron and gold, or composites of these metals and metal oxides. Among them, copper and aluminum are preferably used from the viewpoint of conductivity. In addition, when it is necessary to check the internal conductor circuit 3, tin-doped indium oxide (ITO) is used.
Is preferably used. Furthermore, the thickness of the metal thin film layer 6 is preferably set within the range of 0.1 to 10 μm, and particularly preferably 0.5 to 3 μm.

【0013】上記接着剤層2,4を形成する接着材料と
しては、上記両絶縁性フィルム1,7と導体回路3、お
よび金属薄膜層6に対して高い接着性を有するものであ
ればよく、例えばポリイミド樹脂系,エポキシ樹脂系,
ポリエステル樹脂系,アクリル樹脂系,フッ素樹脂系等
を主成分とする従来公知の接着剤を用いることができ
る。これらも上記と同様各接着剤層2,4が互いに同じ
接着剤で形成されていてもよいし、異なる接着剤で形成
されていてもよい。なお、接着剤層2の厚みは、5〜5
0μmの範囲内に設定することが好ましく、特に好まし
くは10〜30μmである。また、接着剤層4の厚み
は、5〜100μmの範囲内に設定することが好まし
く、特に好ましくは15〜50μmである。
The adhesive material for forming the adhesive layers 2 and 4 may be any material having high adhesiveness to the insulating films 1 and 7, the conductor circuit 3 and the metal thin film layer 6, For example, polyimide resin type, epoxy resin type,
Conventionally known adhesives containing a polyester resin type, an acrylic resin type, a fluororesin type or the like as a main component can be used. Similarly to the above, each of the adhesive layers 2 and 4 may be formed of the same adhesive or different adhesives. The thickness of the adhesive layer 2 is 5 to 5
The thickness is preferably set in the range of 0 μm, particularly preferably 10 to 30 μm. The thickness of the adhesive layer 4 is preferably set within the range of 5 to 100 μm, particularly preferably 15 to 50 μm.

【0014】上記金属薄膜層6と地導体回路31とを電
気的に接続する導電性ペースト5を形成する導電性材料
としては、ポリイミド樹脂系,エポキシ樹脂系,アクリ
ル樹脂系,ポリエステル樹脂系等をバインダーとして、
銅,銀,カーボン等を分散させたものを用いることが好
ましい。特に、導電性および耐熱性という点から、エポ
キシ樹脂系バインダーに銀を分散させたものを用いるこ
とが好ましい。
As a conductive material for forming the conductive paste 5 for electrically connecting the metal thin film layer 6 and the ground conductor circuit 31, a polyimide resin type, an epoxy resin type, an acrylic resin type, a polyester resin type or the like is used. As a binder
It is preferable to use a material in which copper, silver, carbon, etc. are dispersed. In particular, from the viewpoint of conductivity and heat resistance, it is preferable to use an epoxy resin binder in which silver is dispersed.

【0015】この発明のシールド型フレキシブル配線板
は、例えばつぎのようにして製造される。すなわち、ま
ず、第1の絶縁性フィルム1面上に接着剤を塗布して接
着剤層2を形成し、この接着剤層2上に金属材料を用い
て金属層を形成する。そして、上記金属層を従来公知の
エッチング加工、例えば金属層の不要部分を塩化第二銅
あるいは塩化第二鉄溶液を用いたエッチング加工等によ
り所定の導体回路3(地導体回路31を含む)に形成す
る。一方、第2の絶縁性フィルム7面上に従来公知の方
法、真空蒸着,スパッタリング,めっき等を用いて金属
薄膜を形成し、金属薄膜の不要部分(金属薄膜の周縁端
部)を塩酸溶液等を用い除去することにより金属薄膜層
6を形成する。あるいは、金属薄膜の不要部分にマスク
を施した後、従来公知の方法、真空蒸着,スパッタリン
グ,めっき等を用いて金属薄膜層6を形成してもよい。
ついで、シート状に形成した接着剤層4に貫通孔を形成
し、スクリーン印刷等を用いて上記貫通孔内に導電性ペ
ースト5を充填する。そして、上記第1の絶縁性フィル
ム1面側に形成された導体回路3の上に、導電性ペース
ト5が充填された接着剤層4を積層し、さらにこの接着
剤層4上に、上記導体回路3と金属薄膜層6とが対峙す
るよう上記第2の絶縁性フィルム7を積層する。そし
て、導体回路3のうちの地導体回路31と金属薄膜層6
とが電気的に接続されるよう、すなわち、両者が導電性
ペースト5で接続されるよう位置合わせし、ホットプレ
ス等により接着積層して製造される。
The shield type flexible wiring board of the present invention is manufactured, for example, as follows. That is, first, an adhesive is applied to the surface of the first insulating film 1 to form the adhesive layer 2, and a metal layer is formed on the adhesive layer 2 using a metal material. Then, the metal layer is formed into a predetermined conductor circuit 3 (including the ground conductor circuit 31) by a conventionally known etching process, for example, an unnecessary part of the metal layer is etched using a cupric chloride or ferric chloride solution. Form. On the other hand, a metal thin film is formed on the surface of the second insulating film 7 using a conventionally known method, such as vacuum deposition, sputtering, and plating, and an unnecessary portion of the metal thin film (a peripheral edge of the metal thin film) is treated with hydrochloric acid solution or the like. The metal thin film layer 6 is formed by removing the metal thin film layer 6. Alternatively, after the unnecessary portion of the metal thin film is masked, the metal thin film layer 6 may be formed by using a conventionally known method such as vacuum deposition, sputtering, and plating.
Then, through holes are formed in the adhesive layer 4 formed into a sheet, and the conductive paste 5 is filled in the through holes by screen printing or the like. Then, the adhesive layer 4 filled with the conductive paste 5 is laminated on the conductor circuit 3 formed on the side of the first insulating film 1 side, and the conductor layer 3 is formed on the adhesive layer 4. The second insulating film 7 is laminated so that the circuit 3 and the metal thin film layer 6 face each other. Then, the ground conductor circuit 31 of the conductor circuit 3 and the metal thin film layer 6
Are electrically connected to each other, that is, they are connected to each other by the conductive paste 5, and are laminated by hot pressing or the like.

【0016】なお、接着剤層4の貫通孔に、予め、上記
導電性ペースト5を充填して接着・積層により地導体回
路31と金属薄膜層6とを電気的に接続する方法以外
に、予め、地導体回路31もしくは金属薄膜層6の所定
位置に導電性ペースト5を塗布し、積層時に接着剤層4
の貫通孔内に上記導電性ペースト5を充填し、その結
果、地導体回路31と金属薄膜層6とを電気的に接続さ
せる方法を用いてもよい。また、地導体回路31と金属
薄膜層6の電気的接続位置は、フレキシブル配線板内の
複数箇所に配置してもよいが、シールド型フレキシブル
配線板としての可撓性を要求されない部分(導体回路3
のなかでも末端部分)等に配置することが好ましい。
In addition to the method of electrically connecting the ground conductor circuit 31 and the metal thin film layer 6 by filling the conductive paste 5 in advance in the through holes of the adhesive layer 4 and adhering and laminating, The conductive paste 5 is applied to predetermined positions of the ground conductor circuit 31 or the metal thin film layer 6, and the adhesive layer 4 is applied at the time of stacking.
Alternatively, a method may be used in which the conductive paste 5 is filled in the through-holes, and as a result, the ground conductor circuit 31 and the metal thin film layer 6 are electrically connected. Further, the ground conductor circuit 31 and the metal thin film layer 6 may be electrically connected at a plurality of positions in the flexible wiring board, but a portion that does not require flexibility as a shield-type flexible wiring board (conductor circuit). Three
Among them, it is preferable to dispose it at the end portion).

【0017】さらに、第1の絶縁性フィルム1面上に接
着剤層2を介さず、真空蒸着やめっき等により直接導体
回路3を形成してもよい。
Further, the conductor circuit 3 may be directly formed on the surface of the first insulating film 1 without vacuuming the adhesive layer 2 by vacuum deposition or plating.

【0018】図2はこの発明のシールド型フレキシブル
配線板の他の実施例を示す断面図である。すなわち、こ
のシールド型フレキシブル配線板では、第1の絶縁性フ
ィルム1の片面の所定部分に、従来公知の方法、真空蒸
着,スパッタリング,メッキ等により第2の金属薄膜層
8が形成されている。ついで、接着剤層2を介して金属
層が形成され、例えば、上記金属層を従来公知のエッチ
ング法等により加工し、導体回路3が形成されている。
そして、上記接着剤層2には、所定位置に貫通孔が形成
されており、この貫通孔内には、上記導体回路3のうち
の任意の回路である、地導体回路31と第2の金属薄膜
層8とを電気的に接続するために導電性ペースト5が充
填されている。その他の構成については、図1と同様で
あり同一部分に同一符号を記している。
FIG. 2 is a sectional view showing another embodiment of the shield type flexible wiring board of the present invention. That is, in this shield type flexible wiring board, the second metal thin film layer 8 is formed on a predetermined portion of one surface of the first insulating film 1 by a conventionally known method, such as vacuum deposition, sputtering, and plating. Next, a metal layer is formed via the adhesive layer 2, and the conductor circuit 3 is formed by, for example, processing the metal layer by a conventionally known etching method or the like.
A through hole is formed at a predetermined position in the adhesive layer 2, and a ground conductor circuit 31, which is an arbitrary circuit of the conductor circuit 3, and a second metal are formed in the through hole. A conductive paste 5 is filled to electrically connect to the thin film layer 8. The other parts of the configuration are similar to those of FIG. 1, and the same reference numerals are given to the same parts.

【0019】上記構成のシールド型フレキシブル配線板
では、第1の絶縁性フィルム1面に第2の金属薄膜層8
が形成され、地導体回路31と電気的に接続されている
ため、導体回路3間の下部方向の電磁界結合(破線で示
す)をも低減することが可能となる。このように、上記
構成により一層のクロストークの発生防止がなされ、電
子機器の誤動作等の発生の防止がより効果的となる。
In the shield type flexible wiring board having the above structure, the second metal thin film layer 8 is formed on the surface of the first insulating film 1.
Is formed and is electrically connected to the ground conductor circuit 31, it is possible to reduce the downward electromagnetic field coupling between the conductor circuits 3 (shown by a broken line). As described above, the above-described structure further prevents the occurrence of crosstalk, and more effectively prevents the occurrence of malfunction of the electronic device.

【0020】さらに、上記両金属薄膜層6,8と地導体
回路31の電気的な接続方法としては、上記導電性ペー
スト5の充填に限定するものではなく、従来公知のスル
ーホールめっき等を用いて電気的に接続する方法も用い
ることができる。例えば、導体回路3が形成された第1
の絶縁性フィルム1と、金属薄膜層6が形成された第2
の絶縁性フィルム7を接着剤層4を介して位置合わせし
積層接着した後、所定部分にスルーホールを穿設し、こ
れに金属めっきを施すことにより、金属薄膜層6,8と
地導体回路31とを電気的に接続することができる。
Furthermore, the method of electrically connecting the two metal thin film layers 6 and 8 and the ground conductor circuit 31 is not limited to the filling of the conductive paste 5, but conventionally known through-hole plating or the like is used. It is also possible to use a method of electrically connecting the two. For example, the first with the conductor circuit 3 formed
Second insulating film 1 and second metal thin film layer 6 formed thereon
After the insulating film 7 is aligned with the adhesive layer 4 and laminated and adhered, through holes are formed in predetermined portions, and metal plating is applied to the through holes to form the metal thin film layers 6 and 8 and the ground conductor circuit. 31 can be electrically connected.

【0021】また、上記構成のシールド型フレキシブル
配線板において、導体回路3間の距離(A)と、導体回
路3と両金属薄膜層6,8間の距離(B)との関係にお
いて、A>Bとなるよう設定することが好ましい。この
ように設定することにより、よりクロストークの発生の
防止効果が向上する。また、上記複数の導体回路3の形
成においては、相互に30μm〜2mmの間隔を保つよ
う形成することが好ましい。
In the shielded flexible wiring board having the above-mentioned structure, the relation between the distance (A) between the conductor circuits 3 and the distance (B) between the conductor circuit 3 and both metal thin film layers 6 and 8 is A> It is preferable to set B. By setting in this way, the effect of preventing the occurrence of crosstalk is further improved. Further, in forming the plurality of conductor circuits 3, it is preferable that the conductor circuits 3 be formed so as to keep a distance of 30 μm to 2 mm from each other.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上のように、この発明のシールド型フ
レキシブル配線板は、第2の絶縁性フィルム面に設けら
れた金属薄膜層が、第1の絶縁性フィルム面側に設けら
れた複数の回路部分のうちの任意の回路部分と電気的に
接続されている。このため、上記金属薄膜層と任意の回
路部分とが同電位となり、複数の回路間の電磁界結合を
低減し、クロストークが防止できるとともに、金属薄膜
層と接着剤層の特性インピーダンスが大きく異なってい
るため、電磁波雑音の放射も防止することが可能とな
る。また、上記金属薄膜層と任意の回路部分の電気的結
合によりクロストークと電磁波雑音放射を防止するた
め、フレキシブル配線板の最大の特徴である可撓性を損
なうことがない。さらに、上記金属薄膜層の端部を、絶
縁性フィルムの端部からはみ出さないように位置決めす
ることにより、金属薄膜層がフレキシブル配線板の表面
や端面部分に露出せず、電子機器内において他の電子部
品等との絶縁性が保持されることから、電子機器の高周
波化,高速化,デジタル化,小形化を実現することがで
きる。また、第1の絶縁性フィルム面に、第2の金属薄
膜層を形成し上記任意の回路部分と第2の金属薄膜層と
を電気的に接続することにより、一層優れたクロストー
クの発生防止と電磁波雑音放射の防止が実現する。
As described above, in the shield type flexible wiring board of the present invention, a plurality of metal thin film layers provided on the second insulating film surface are provided on the first insulating film surface side. It is electrically connected to any circuit portion of the circuit portions. Therefore, the metal thin film layer and an arbitrary circuit portion have the same potential, electromagnetic field coupling between a plurality of circuits can be reduced, crosstalk can be prevented, and the characteristic impedance of the metal thin film layer and the adhesive layer are significantly different. Therefore, it is possible to prevent the emission of electromagnetic noise. In addition, since the crosstalk and the electromagnetic noise emission are prevented by electrically coupling the metal thin film layer and an arbitrary circuit portion, the flexibility, which is the greatest feature of the flexible wiring board, is not impaired. Furthermore, by positioning the end portion of the metal thin film layer so that it does not protrude from the end portion of the insulating film, the metal thin film layer is not exposed on the surface or the end face portion of the flexible wiring board, so that other Since the insulating property with respect to the electronic components and the like is maintained, it is possible to realize high frequency, high speed, digitalization, and downsizing of electronic devices. Further, by forming a second metal thin film layer on the surface of the first insulating film and electrically connecting the arbitrary circuit portion and the second metal thin film layer, further excellent prevention of crosstalk is prevented. And the prevention of electromagnetic noise emission is realized.

【0023】つぎに、具体例について比較例と併せて説
明する。
Next, specific examples will be described together with comparative examples.

【0024】[0024]

【具体例1】厚み25μmのポリイミドフィルム面上
に、エポキシ樹脂系接着剤からなる厚み15μmの接着
剤層を形成し、この接着剤層上に厚み18μmの銅箔を
接着し積層した。ついで、この銅箔を塩化第二鉄溶液を
用いたエッチング加工法により、150μm間隔で幅3
00μmの導体回路を4本形成し、図3に示すように、
エポキシ樹脂系接着剤層2を介して4本の導体回路3が
形成された第1のポリイミドフィルム1を作製した。こ
こで、外側の導体回路2本を地導体回路31に、内側の
導体回路2本を信号が流れる導体回路3とした。一方、
厚み25μmのポリイミドフィルム面上に厚み1μmと
なるようアルミニウムを用いて真空蒸着法により金属薄
膜を形成し、不要部分の金属薄膜を塩酸溶液にて除去
し、図4に示すように、金属薄膜層6が形成された第2
のポリイミドフィルム7を作製した。つぎに、図5に示
すように、エポキシ樹脂系接着剤からなる厚み20μm
の接着剤層4の所定部分に直径200μmの貫通孔9を
1個穿設し、スクリーン印刷により銀粉とエポキシ樹脂
系接着剤を主成分とする導電性ペースト5をこの貫通孔
9に充填した。ついで、導体回路3が形成された第1の
ポリイミドフィルム1、貫通孔9に導電性ペースト5が
充填された接着剤層4、金属薄膜層6が形成された第2
のポリイミドフィルム7とを、地導体回路31と金属薄
膜層が対面するよう重ね位置合わせして接着することに
より、図1に示すシールド型フレキシブル配線板を作製
した。なお、導体回路3と金属薄膜層6との距離は15
μmであった。
SPECIFIC EXAMPLE 1 A 15 μm thick adhesive layer made of an epoxy resin adhesive was formed on a 25 μm thick polyimide film surface, and a 18 μm thick copper foil was bonded and laminated on this adhesive layer. Then, the copper foil was etched at a width of 150 μm to a width of 3 by etching using a ferric chloride solution.
Four 00 μm conductor circuits are formed, and as shown in FIG.
A first polyimide film 1 in which four conductor circuits 3 were formed via an epoxy resin adhesive layer 2 was produced. Here, the two outer conductor circuits are used as the ground conductor circuit 31, and the two inner conductor circuits are used as the conductor circuit 3 through which a signal flows. on the other hand,
A metal thin film is formed on the surface of a polyimide film having a thickness of 25 μm by vacuum vapor deposition using aluminum so as to have a thickness of 1 μm, and the unnecessary portion of the metal thin film is removed with a hydrochloric acid solution. As shown in FIG. Second formed 6
The polyimide film 7 of was produced. Next, as shown in FIG. 5, the thickness of the epoxy resin adhesive is 20 μm.
A through hole 9 having a diameter of 200 μm was formed at a predetermined portion of the adhesive layer 4 and the conductive paste 5 containing silver powder and an epoxy resin adhesive as a main component was filled in the through hole 9 by screen printing. Then, the first polyimide film 1 on which the conductor circuit 3 is formed, the adhesive layer 4 in which the through holes 9 are filled with the conductive paste 5, and the second on which the metal thin film layer 6 is formed.
The polyimide film 7 of No. 1 was laminated and bonded so that the ground conductor circuit 31 and the metal thin film layer faced each other, and the shield type flexible wiring board shown in FIG. 1 was produced. The distance between the conductor circuit 3 and the metal thin film layer 6 is 15
was μm.

【0025】このようにして得られたシールド型フレキ
シブル配線板の信号線である導体回路3間のクロストー
ク係数を、パルス発生器とデジタルオシロスコープを用
いて測定したところ0.006であった。
The crosstalk coefficient between the conductor circuits 3 which are the signal lines of the thus obtained shield-type flexible wiring board was measured using a pulse generator and a digital oscilloscope, and it was 0.006.

【0026】[0026]

【具体例2】厚み25μmのポリイミドフィルム面上
に、不要部分に金属薄膜層が生じないようマスクをかけ
厚み1μmとなるようアルミニウムを用いて真空蒸着法
により、金属薄膜層を形成した。ついで、所定部分に直
径200μmの貫通孔を1個穿設したエポキシ樹脂系接
着剤からなる厚み15μmの接着剤層を上記金属薄膜層
上に位置合わせして積層した。つぎに、スクリーン印刷
により銀粉とエポキシ樹脂系接着剤を主成分とする導電
性ペーストをこの貫通孔部分に充填した。ついで、この
接着剤層上に厚み18μmの銅箔を接着・積層し、この
銅箔を塩化第二鉄溶液を用いたエッチング加工法によ
り、150μm間隔で幅300μmの導体回路を4本形
成し、図6に示すように、第2の金属薄膜層8が形成さ
れ、この第2の金属薄膜層8上に、エポキシ樹脂系接着
剤層2を介して4本の導体回路3が形成された第1のポ
リイミドフィルム1を作製した。ここで、外側の導体回
路2本を地導体回路31に、内側の導体回路2本を信号
が流れる導体回路3とした。一方、厚み25μmのポリ
イミドフィルム面上に厚み1μmとなるようアルミニウ
ムを用いて真空蒸着法により金属薄膜を形成し、不要部
分の金属薄膜を塩酸溶液にて除去し、図4に示すよう
に、金属薄膜層6が形成された第2のポリイミドフィル
ム7を作製した。つぎに、図5に示すように、エポキシ
樹脂系接着剤からなる厚み20μmの接着剤層4の所定
部分に直径200μmの貫通孔9を1個穿設し、スクリ
ーン印刷により銀粉とエポキシ樹脂系接着剤を主成分と
する導電性ペースト5をこの貫通孔9に充填した。つい
で、導体回路3が形成された第1のポリイミドフィルム
1、貫通孔9に導電性ペースト5が充填された接着剤層
4、金属薄膜層6が形成された第2のポリイミドフィル
ム7とを、地導体回路31と金属薄膜層が対面するよう
重ね位置合わせして接着することにより、図2に示すシ
ールド型フレキシブル配線板を作製した。なお、導体回
路3と金属薄膜層6との距離は15μmであり、導体回
路3と第2の金属薄膜層8との距離は15μmであっ
た。
Specific Example 2 A metal thin film layer was formed on a polyimide film surface having a thickness of 25 μm by a vacuum deposition method using aluminum so as to have a thickness of 1 μm by masking so that a metal thin film layer was not formed in an unnecessary portion. Then, an adhesive layer having a thickness of 15 μm and made of an epoxy resin adhesive in which one through hole having a diameter of 200 μm was formed in a predetermined portion was aligned and laminated on the metal thin film layer. Next, a conductive paste containing silver powder and an epoxy resin adhesive as a main component was filled in the through hole portion by screen printing. Then, a copper foil having a thickness of 18 μm is adhered and laminated on the adhesive layer, and four conductor circuits having a width of 300 μm are formed at intervals of 150 μm by an etching processing method using a ferric chloride solution. As shown in FIG. 6, the second metal thin film layer 8 is formed, and four conductor circuits 3 are formed on the second metal thin film layer 8 with the epoxy resin adhesive layer 2 interposed therebetween. The polyimide film 1 of No. 1 was produced. Here, the two outer conductor circuits are used as the ground conductor circuit 31, and the two inner conductor circuits are used as the conductor circuit 3 through which a signal flows. On the other hand, a metal thin film was formed on the surface of a polyimide film having a thickness of 25 μm using aluminum so as to have a thickness of 1 μm by a vacuum deposition method, and an unnecessary portion of the metal thin film was removed with a hydrochloric acid solution. A second polyimide film 7 having the thin film layer 6 formed was produced. Next, as shown in FIG. 5, one through-hole 9 having a diameter of 200 μm is formed at a predetermined portion of the adhesive layer 4 made of an epoxy resin adhesive and having a thickness of 20 μm, and silver powder is bonded to the epoxy resin adhesive by screen printing. The through hole 9 was filled with the conductive paste 5 containing the agent as a main component. Then, the first polyimide film 1 on which the conductor circuit 3 is formed, the adhesive layer 4 in which the through holes 9 are filled with the conductive paste 5, and the second polyimide film 7 on which the metal thin film layer 6 is formed, The ground type conductor circuit 31 and the metal thin film layer were overlapped with each other so as to face each other and bonded to each other to fabricate the shield type flexible wiring board shown in FIG. The distance between the conductor circuit 3 and the metal thin film layer 6 was 15 μm, and the distance between the conductor circuit 3 and the second metal thin film layer 8 was 15 μm.

【0027】このようにして得られたシールド型フレキ
シブル配線板の信号線である導体回路3間のクロストー
ク係数を、パルス発生器とデジタルオシロスコープを用
いて測定したところ0.003であった。
The crosstalk coefficient between the conductor circuits 3 which are the signal lines of the thus obtained shield type flexible wiring board was measured using a pulse generator and a digital oscilloscope and was found to be 0.003.

【0028】[0028]

【具体例3】厚み25μmのポリイミドフィルム面上
に、不要部分に金属薄膜層が生じないようマスクをかけ
厚み1μmとなるよう銅を用いて真空蒸着法により、金
属薄膜層を形成した。ついで、上記金属薄膜層上にエポ
キシ樹脂系接着剤からなる厚み15μmの接着剤層を介
して厚み18μmの銅箔を接着・積層した。この銅箔を
塩化第二鉄溶液を用いてエッチング加工法により、15
0μm間隔で幅300μmの導体回路を4本積層した。
ここで、外側の導体回路2本を地導体回路に、内側の導
体回路2本を信号が流れる導体回路とした。一方、厚み
25μmのポリイミドフィルム面上に厚み1μmとなる
よう銅を用いて真空蒸着法により金属薄膜を形成し、不
要部分の金属薄膜を塩化第二鉄溶液にて除去し、金属薄
膜層が形成された第2のポリイミドフィルムを作製し
た。つぎに、導体回路が形成された第1のボリイミドフ
ィルム,エポキシ樹脂系接着剤からなる厚み20μmの
接着剤層、金属薄膜層が形成された第2のポリイミドフ
ィルムとを、地導体回路と金属薄膜層が対面するよう重
ね位置合わせして接着した後、メッキレジストを両ポリ
イミドフィルム1,7面上に形成し、図7に示すよう
に、所定部分に直径300μmの貫通孔9aを1個穿設
して、無電解めっきにより厚み5μmの銅箔10を貫通
孔9aの内周壁面に形成することによりシールド型フレ
キシブル配線板を作製した。なお、導体回路3と金属薄
膜層6との距離は15μmであった。
SPECIFIC EXAMPLE 3 A metal thin film layer was formed on a polyimide film surface having a thickness of 25 μm by a vacuum vapor deposition method using copper so as to have a thickness of 1 μm by masking so that a metal thin film layer was not generated in an unnecessary portion. Then, a copper foil having a thickness of 18 μm was bonded and laminated on the metal thin film layer via an adhesive layer having a thickness of 15 μm made of an epoxy resin adhesive. This copper foil is etched by a ferric chloride solution by an etching method to obtain 15
Four conductor circuits having a width of 300 μm were laminated at intervals of 0 μm.
Here, the two outer conductor circuits are used as ground conductor circuits, and the two inner conductor circuits are used as conductor circuits in which signals flow. On the other hand, a metal thin film is formed on the surface of a polyimide film having a thickness of 25 μm by a vacuum deposition method using copper so as to have a thickness of 1 μm, and an unnecessary portion of the metal thin film is removed with a ferric chloride solution to form a metal thin film layer. The second polyimide film thus prepared was produced. Next, a first polyimide film having a conductor circuit formed thereon, an adhesive layer having a thickness of 20 μm made of an epoxy resin adhesive, and a second polyimide film having a metal thin film layer formed on the ground conductor circuit and the metal. After overlaying and adhering the thin film layers so that they face each other, a plating resist is formed on both polyimide films 1 and 7, and one through hole 9a having a diameter of 300 μm is formed in a predetermined portion as shown in FIG. Then, a shield type flexible wiring board was produced by forming a copper foil 10 having a thickness of 5 μm on the inner peripheral wall surface of the through hole 9a by electroless plating. The distance between the conductor circuit 3 and the metal thin film layer 6 was 15 μm.

【0029】このようにして得られたシールド型フレキ
シブル配線板の信号線である導体回路3間のクロストー
ク係数を、パルス発生器とデジタルオシロスコープを用
いて測定したところ0.003であった。
The crosstalk coefficient between the conductor circuits 3 which are the signal lines of the thus obtained shield type flexible wiring board was measured by using a pulse generator and a digital oscilloscope and was found to be 0.003.

【0030】[0030]

【比較例1】金属薄膜層6を形成しなかった。また、接
着剤層4の貫通孔の穿設および導電性ペーストの充填を
行わなかった。それ以外は具体例1と同様にしてフレキ
シブル配線板を作製した。
Comparative Example 1 The metal thin film layer 6 was not formed. Further, the through holes of the adhesive layer 4 were not formed and the conductive paste was not filled. A flexible wiring board was produced in the same manner as in Example 1 except for the above.

【0031】このようにして得られたシールド型フレキ
シブル配線板の信号線である導体回路間のクロストーク
係数を、パルス発生器とデジタルオシロスコープを用い
て測定したところ0.113であった。
The crosstalk coefficient between the conductor circuits which are the signal lines of the thus obtained shield type flexible wiring board was measured by using a pulse generator and a digital oscilloscope, and it was 0.113.

【0032】[0032]

【比較例2】厚み25μmのポリイミドフィルム面上
に、エポキシ樹脂系接着剤からなる厚み15μmの接着
剤層を形成し、この接着剤層上に厚み18μmの銅箔を
接着し積層した。ついで、この銅箔を塩化第二鉄溶液を
用いたエッチング加工法により、ポリイミドフィルムの
周縁部分から銅箔を除去した。ついで、上記銅箔上にエ
ポキシ樹脂系接着剤からなる厚み20μmの接着剤層を
形成し、この接着剤層上に厚み18μmの銅箔を接着・
積層した。そして、この銅箔を塩化第二鉄溶液を用いた
エッチング加工法により、150μm間隔で幅300μ
mの導体回路を4本形成した。ここで、外側の導体回路
2本を地導体回路に、内側の導体回路2本を信号が流れ
る導体回路とした。一方、厚み25μmのポリイミドフ
ィルム面上に、上記と同様の方法にて厚み18μmの銅
箔を形成し、不要部分の銅箔をエッチング加工法により
除去した。つぎに、導体回路が形成されたポリイミドフ
ィルム、エポキシ樹脂系接着剤からなる厚み20μmの
接着剤層、銅箔が形成されたポリイミドフィルムとを、
地導体回路と銅箔が対面するよう重ね位置合わせして接
着した後、メッキレジストをポリイミドフィルム面上に
形成し、所定部分に直径300μmの貫通孔を1個穿設
し、無電解めっきにより厚み5μmの銅箔を上記貫通孔
の内周壁面に形成することによりシールド型フレキシブ
ル配線板を作製した。なお、導体回路と銅箔との距離は
15μmであった。
Comparative Example 2 A 15 μm-thick adhesive layer made of an epoxy resin adhesive was formed on a 25 μm-thick polyimide film surface, and a 18 μm-thick copper foil was adhered and laminated on this adhesive layer. Then, the copper foil was removed from the peripheral portion of the polyimide film by an etching method using a ferric chloride solution. Then, a 20 μm thick adhesive layer made of an epoxy resin adhesive is formed on the copper foil, and a 18 μm thick copper foil is bonded onto the adhesive layer.
Laminated. Then, this copper foil was etched at a width of 300 μm at 150 μm intervals by an etching method using a ferric chloride solution.
Four conductor circuits of m were formed. Here, the two outer conductor circuits are used as ground conductor circuits, and the two inner conductor circuits are used as conductor circuits in which signals flow. On the other hand, a copper foil having a thickness of 18 μm was formed on the surface of a polyimide film having a thickness of 25 μm by the same method as described above, and unnecessary portions of the copper foil were removed by an etching method. Next, a polyimide film on which a conductor circuit is formed, an adhesive layer having a thickness of 20 μm made of an epoxy resin adhesive, and a polyimide film on which a copper foil is formed,
After overlaying and adhering the ground conductor circuit and the copper foil so that they face each other, a plating resist is formed on the polyimide film surface, and one through hole with a diameter of 300 μm is drilled at a predetermined part and the thickness is obtained by electroless plating. A shield type flexible wiring board was produced by forming a copper foil of 5 μm on the inner wall surface of the through hole. The distance between the conductor circuit and the copper foil was 15 μm.

【0033】このようにして得られたシールド型フレキ
シブル配線板の信号線である導体回路3間のクロストー
ク係数を、パルス発生器とデジタルオシロスコープを用
いて測定したところ0.003であった。
The crosstalk coefficient between the conductor circuits 3 which are the signal lines of the thus obtained shield type flexible wiring board was measured using a pulse generator and a digital oscilloscope, and it was 0.003.

【0034】このようにして得られた各シールド型フレ
キシブル配線板において、具体例1,具体例2,具体例
3および比較例1は同様の可撓性を示したが、比較例2
の可撓性は大幅に低下していた。また、クロストーク係
数の測定結果から、具体例1,具体例2,具体例3およ
び比較例2は低い数値が得られた。これらのことから、
具体例1,具体例2,具体例3は、可撓性が損なわれる
ことなくクロストークの防止効果に優れていることがわ
かる。
In each of the shield-type flexible wiring boards obtained in this way, the concrete example 1, the concrete example 2, the concrete example 3 and the comparative example 1 showed similar flexibility, but the comparative example 2
Had significantly reduced flexibility. In addition, from the measurement results of the crosstalk coefficient, low values were obtained in Example 1, Example 2, Example 3 and Comparative Example 2. from these things,
It can be seen that the specific examples 1, the specific examples 2 and the specific examples 3 are excellent in the crosstalk preventing effect without impairing the flexibility.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明のシールド型フレキシブル配線板の一
実施例を示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a shield type flexible wiring board of the present invention.

【図2】この発明のシールド型フレキシブル配線板の他
の実施例を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing another embodiment of the shield type flexible wiring board of the present invention.

【図3】接着剤層を介して導体回路が形成された第1の
ポリイミドフィルムを示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a first polyimide film on which a conductor circuit is formed via an adhesive layer.

【図4】金属薄膜層が形成された第2のポリイミドフィ
ルムを示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a second polyimide film having a metal thin film layer formed thereon.

【図5】貫通孔内に導電性ペーストが充填された接着剤
層を示す断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing an adhesive layer in which a conductive paste is filled in the through holes.

【図6】第2の金属薄膜層と、接着剤層を介して導体回
路が形成された第1のポリイミドフィルムを示す断面図
である。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a second metal thin film layer and a first polyimide film on which a conductor circuit is formed via an adhesive layer.

【図7】この発明のシールド型フレキシブル配線板のさ
らに他の例を示す断面図である。
FIG. 7 is a sectional view showing still another example of the shield-type flexible wiring board of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 第1の絶縁性フィルム 2,4 接着剤層 3 導体回路 5 導電性ペースト 6 金属薄膜層 7 第2の絶縁性フィルム 31 地導体回路 1 First Insulating Film 2,4 Adhesive Layer 3 Conductor Circuit 5 Conductive Paste 6 Metal Thin Film Layer 7 Second Insulating Film 31 Ground Conductor Circuit

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1の絶縁性フィルムと第2の絶縁性フ
ィルムとが接着剤層を介して対設され、上記第1の絶縁
性フィルム面側に複数の回路部分が相互に所定間隔を保
って形成されているとともに、上記第1の絶縁性フィル
ムのフィルム面と対面する第2の絶縁性フィルム面側に
金属薄膜層が形成され、上記複数の回路部分のうちの任
意の回路部分が上記金属薄膜層と電気的に接続されてい
ることを特徴とするシールド型フレキシブル配線板。
1. A first insulating film and a second insulating film are opposed to each other with an adhesive layer interposed therebetween, and a plurality of circuit portions are arranged at predetermined intervals on the surface of the first insulating film. While being kept, a metal thin film layer is formed on the second insulating film surface side facing the film surface of the first insulating film, and an arbitrary circuit portion of the plurality of circuit portions is formed. A shield type flexible wiring board, which is electrically connected to the metal thin film layer.
【請求項2】 金属薄膜層の端部が、第2の絶縁性フィ
ルムの端部からはみ出さないように位置決めされている
請求項1記載のシールド型フレキシブル配線板。
2. The shield type flexible wiring board according to claim 1, wherein the end portion of the metal thin film layer is positioned so as not to protrude from the end portion of the second insulating film.
【請求項3】 第2の絶縁性フィルムと対面する第1の
絶縁性フィルム面上に第2の金属薄膜層が形成され、こ
の第2の金属薄膜層上に接着剤層を介して複数の回路部
分が形成され、上記複数の回路部分のうちの任意の回路
部分と上記第2の金属薄膜層とが電気的に接続されてい
る請求項1または2記載のシールド型フレキシブル配線
板。
3. A second metal thin film layer is formed on a surface of the first insulating film facing the second insulating film, and a plurality of second metal thin film layers are formed on the second metal thin film layer with an adhesive layer interposed therebetween. 3. The shielded flexible wiring board according to claim 1, wherein a circuit portion is formed, and any circuit portion of the plurality of circuit portions and the second metal thin film layer are electrically connected.
【請求項4】 第2の金属薄膜層が、第1の絶縁性フィ
ルムの端部からはみ出さないように位置決めされている
請求項3記載のシールド型フレキシブル配線板。
4. The shield type flexible wiring board according to claim 3, wherein the second metal thin film layer is positioned so as not to protrude from an end portion of the first insulating film.
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