JPH0372359A - 放射感応化合物及びその製造方法 - Google Patents

放射感応化合物及びその製造方法

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JPH0372359A
JPH0372359A JP2211429A JP21142990A JPH0372359A JP H0372359 A JPH0372359 A JP H0372359A JP 2211429 A JP2211429 A JP 2211429A JP 21142990 A JP21142990 A JP 21142990A JP H0372359 A JPH0372359 A JP H0372359A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は放射感応化合物に係り、特にこれに限られるも
のではないが、リトグラフ印刷版製造用の放射感応化合
物において用いられる可焼水性感光性樹脂である放射感
応化合物に係る。
放射感応組成で被覆された基板より成る放射感応板は、
リトグラフ及び他の形式の印刷版の製造では周知であり
、類似の組成は、光硬化性樹脂のような他の目的に用い
られる。
使用に際して、組成は像の如く、その一部は放射にあた
り一部はそうでないように放射に晒される。放射及び非
放射到達部分は現像液において異なる溶解性を有し、か
くてより溶解性のある部分は、かかる液体の適用により
選択的に除去される。
周知の如く、放射感応化合物は、放射の硬化が化合物の
溶解性を増加するか減少させるかによって、ポジ機能ま
たはネガ機能を有すると考えられる。ネガ機能化合物は
写真架橋結合可能化合物（たとえば桂皮酸塩タイプの材
料）又はいわゆるジアゾ樹脂に基づいている。前者は露
出化合物を焼熱することにより実質的に増大させられる
良好な連続印刷時間を有する印刷版を提供する。それら
はまた、順当な感度を有する。しかし、それにも欠点が
あり、これはますます重大になってきているが、有機溶
媒が現像液として用いられなければならないという点で
ある。ジアゾ樹脂も良好な感度を有するが、連続印刷時
間は実質的に低く、さらに、それは印刷版を焼熱して連
続印刷時間を増大させることができない。その主な利点
は、それが水性の現像液で現像可能なことである。
本発明の目的は、感度を損なうことなく、ジアゾ樹脂の
水性現像度特性と、写真架橋結合可能化合物の（焼熱可
能なことも含めた）連続印刷時間特性とを備えた放射感
応化合物を提供することである。
本発明の一側面によると、複数のアジド置換芳香性エス
テル基と、水性またはアルカリ性媒体における溶解性を
化合物に与えることのできる複数の基とを含む重合体よ
り成る放射感応化合物が提供される。
水性またはアルカリ性媒体において溶解性を与える適当
な基はカルボキシル酸またはスルフォン酸基及びそれら
の塩である。
本発明の別の側面によると、複数のヒドロキシル基及び
随意エポキシド基を含む重合体を設け；アジド置換芳香
性カルボキシル酸又はそのエステル形成誘導体をヒドロ
キシル基の幾つか及び／又は存在するならばエポキシド
基の少なくとも幾つかと反応させ；環式無水カル軍キシ
ル酸又は環式無水スルフオーカルボキシル酸を残りのヒ
ドロキシル基の少なくとも幾つかと反応させて、化合物
にアルカリ性又は水性溶解基を導入することより成る放
射感応化合物の製造方法が提供される。
無水物は重合体バックボーンを含むヒドロキシル基と、
無水物群または無水物中に存在する他の官能基のいずれ
かを介して反応する。
一般に、放射感応化合物はまず中間生成物として光感知
アジド基を含む樹脂を形成することにより作られる。こ
の中間生成物樹脂は必然的に非エステル化されたアジド
化合物の影響を受けずに、単離され洗われる。結果とし
て生じた重合体は次に適当な無水物含有材料と反応させ
られて、重合体連鎖の組となるカルボキシル酸基及び／
又はスルフォン酸基を生成する。第２の単離及び洗浄処
理は残存する不要な単量体材料を除去する。
使用される３クラスの無水物含有材料の適当な例は以下
のとおりである。
■、環式無　カルボキシル酸：無水マレイン酸及びその
誘導体、例えばジメチル無水マレイン酸又はシトラコニ
ック無水物；無水琥珀酸及びその誘導体、例えばメチル
無水琥珀酸；無水グルタル酸及びその誘導体、たとえば
３−メチル無水グルタル酸、３，３−テトラメチレン無
水グルタル酸、または無水ショウノウ酸；３−ｏｘａ−
無水グルタル酸及びその置換生成物、例えば塩素、ニト
ロ、または無水カルボキシフタル酸、一部または全部水
素化合の無水フタル酸例えば無水へキサヒドロフタル酸
または無水シクロヘキセン１．２−ジカルボン酸；無水
ナフタレン−２，３−ジカルボン酸または無水ナフタレ
ン−１，８−ジカルボン酸及びその置換生成物：無水ピ
リジン−〇−ジカルボン酸及びその置換生成物；無水ピ
ラジン−ジカルボン酸及びその置換生成物；無水フラン
−〇−ジカルボン酸または無水フラン−２，５−ジカル
ボン酸、その置換生成物及び一部または全部水素化合さ
れたその誘導体；無水チオフェン−〇−ジカルボン酸ま
たは無水チオフェン−２，５−ジカルボン酸、その置換
生成物及び全部または一部水素化合されたその誘導体；
及びジエンの無水マレイン酸とのディールスアルダー反
応により形成された二環式または多環式の無水物、例え
ばフラン、アントラセン、シクロペンタジェン−１，３
または無水マレイン酸を有するシクロペンタジェンから
の付加生成物。
無水マレイン酸、無水フタル酸、無水琥珀酸、または３
−ｏｘａ−無水グルタル酸から得られる生成物が好まし
い。
２、環式無　スルフオーカルボキシル酸：２一部式無水
スルフォ安息香酸、３．　４．　５゜６−テトラブロモ
−２一環式無水スルフォ安息香酸；無水スルフォ酢酸；
４−スルフオー１，８〜無水ナフタル酸；３〜スルフオ
ー２−ナフトエ酸無水物、３−スルフオフタル酸、及び
４−スルフオフタル酸；及び３〜環式無水スルフォプロ
ピオン酸。
３、他の　１基を４む環式無 ３−無水インシアンフタル酸；４−無水イソシアンフタ
ル酸；塩化無水トリメリティック酸；４−クロロスルフ
ォニル−１，８−無水ナフタル酸；及びソルビン酸と無
水マレイン酸とのディールスアルダー反応生成物。
クラス１の化合物はエステル基を通じてバックボーン重
合体にリンクされる対のカルボキシル酸基を生成する。
クラス２の化合物はエステル基を通じてバックボーン重
合体にリンクされた対のスルフォン酸基を生成する。
クラス３の化合物はエステル又はウレタン基を通じてバ
ックボーン重合体にリンクされた対の無水物群を生成す
る。無水物群は次に反応中にジカルボキシル酸または半
エステルに変換される。
本発明の一側面によると、アルカリ性または水性溶解基
は重合体のバックボーンの一部をなす炭素原子に付着さ
れる次式、 ０　　　　０ Ａは環又は合成環シス テムを形成するのに充分な炭素原子及び又は異原子でで
きた部分であり、Ｒ＋及びＲ２はＨまたは低級アルキル
であり、ただしＲ１及びＲ２のうち少なくとも１つはＨ
である。
この場合溶解基は重合体のヒドロキシル基（及び／又は
もし存在するならエポキシド基）を環式無水群と他の官
能基の両者を含む試薬と反応させることにより導入され
、該他の官能基は無水物群よりも該ヒドロキシル基（及
び／又はもし存在するならエポキシド基）とよく反応し
、変換段階において無水物群をカルボキシル酸基または
カルボキシル酸基及びエステル基に変換することができ
る。
他の官能基はイソシアン酸塩、カルボキシル酸またはそ
の適当な誘導体、またはスルフォン酸またはその適当な
誘導体である。
変換段階は早すぎる架橋結合をなくし、水または第１ア
ルコールを反応混合液に加えることにより実行される。
アルコールの使用は勿論、非焼熱状態において重合体に
一層の油脂吸収性を与えるエステル基を生成する。
特に好ましい重合体は： １、他のビニル単量体を有し少なくとも部分的に鹸化さ
れたビニルアセテートのポリ（ビニルアセテート）また
は共重合体、及びかかる鹸化材量のエステルまたはアセ
タール誘導体。かかる重合体の例は、（重量）８０％か
ら１００％のビニルアルコールユニットと約５０，００
０の分子量を有するポリ（ビニルアルコール）、及び少
なくとも重量１０％のビニルアルコールユニットと２０
゜０００から８０，０００の範囲の分子量を有するポリ
（ビニルブチラール）及び他のポリ（ビニルアセタール
）である。
２、ビスフェノールＡのような芳香性ヒドロキシ化合物
を有するエビクロロヒドリンの凝縮生成物であり９００
から５，０００の範囲の分子量を有するエポキシ樹脂。
３、ポリ（メチル化された）アクリレイトエステルで、
特に２−ヒドロキシエチルメタクリル酸塩から得られる
もの。
４、スチレン−アリルアルコール共重合体のよな自由ヒ
ドロキシル基を含む共重合体。
５、ホルムアルデヒドを有するフェノールまたはクレゾ
ールノ凝縮生成物であるノバラク樹脂。
６、ビニルフェノールから得られた重合体。
好ましい実施例では、アジド置換された芳香性エステル
基は下記の一般式、 Ｎ３−Ｒ−（ＣＲ″＝ＣＲ”）。
（ＣＲ５＝ＣＲ’　）ｂ　−ＣＯＯ− であり、ここでａ及びｂは零またはＩであり、ａ＋ｂは
少なくとも１であり；Ｒは、アジド基に付加された基で
随意に置換された少なくとも１であり；Ｒ２Ｒ４，Ｒ６
Ｒ＠は同一もしくは異なるが、ハロゲン原子、水素原子
、シアン基、アルキル基、アリル基、アルコキシ基、ア
リロキシ基、アラルキル基、アリル基、アルコキシ基で
あり、ただし基Ｒ２−Ｒ６のうち少なくとも１つはハロ
ゲン原子又はシアン基を表す。
かかるアジド置換芳香性エステル基は重合体を式Ｎｓ　
−Ｒ−（ＣＲ３＝ＣＲ’　）、　−（ＣＲ’　＝ＣＲ’
　）ｂ　　Ｃ０ＯＨの対応するアジド置換芳香性カルボ
キシル酸又は酸塩化物またはその無水物で反応させるこ
とにより導入される。
特に好ましいのは、以下の酸から得られたエステル基で
ある： ４−アジド−α−ブロモ−）−クロロシンナミリデン酢
酸、 ４−アジド−α−クロロシンナミリデン酢酸、４−アジ
ド−α−シアン−さ−クロロシンナミリデン酢酸、 ４−アジド−α−シアン−シンナミリデン酢酸、３−ア
ジド−ベンジリデン−α−シアン酢酸、４−アジド−２
−クロロベンジリデン−α−シアン酢酸、 ４−アジド３，５−ジブロモベンジリデン−α−シアン
酢酸、 ３−アジド−４−メチル−ベンジリデン−α−シアン酢
酸、 ３−アジド−４−メトキシベンジリデン−α−シアン酢
酸、 ４−アジド−ベンジリデン−α−プロモーシアン酢酸、 ４−アジドベンジリデン−α−シアン酢酸、及び、４−
アシド−３−クロロベンジリデン−α−シアン酢酸。
以下のようなアジド置換されたＮ−フェニル基アントラ
ニル酸も重要である。
ここで、Ｒ？＝水素、メチル、メトキシ、または塩素で
ある。
重合体はまた、ピロピオン酸、安息香酸、またはオクチ
ル酸のような脂肪族または芳香族のカルボキシル酸を含
む非アジド群から得られるエステル基をそれに付けるこ
とができる。
酸自体がヒドロキシル基及び／又はエポキシド基をエス
テル化するのに用いられ場合、ジ（シクロヘキシル）カ
ルボジイミドはエステル化を促進するのに用いられる。
酸塩化物又は酸無水物が用いられる場合には、ピリジン
、炭酸ナトリウム、又は酢酸ナトリウムのような適当な
酸結合剤または触媒が必要となる。
本発明の化合物は印刷版の製造で使用されたり光硬化性
樹脂として使用されたりする組成の唯一の感応化合物と
して用いられるが、それは他の感応化合物と共に用いら
れることもできる。
従って、本発明の他の側面は、上述の感応化合物、及び
少なくとも１つの他の感応化合物より成る感応組成より
成る。
好ましくは、該他の感応化合物は欧州特許明細書第３０
８６２号に示されたような、またジアゾビフ工二ルアミ
ン及びホルムアルデヒドの凝縮により生成されたような
ジアゾ化合物である。
以下の例は、本発明を説明するものである。
可焼水性感光性樹脂 夏土班 重量７４％のビニルブチラールと、重量２％の酢酸ユニ
ットと、重量２４％のビニルアルコールユニットを含み
、平均分子量約３０，０００を有する４０ｇのポリ（ビ
ニルブチラール）は３５０ｄの無水テトラハイドロフラ
ン（ＴＨＦ）に溶解された。この１Ｍに１０．１ｇのピ
リジン、続いて１００ｄのＴＨＦに溶解された２７ｇの
４−アジドベンジリデン−アルファーシアン酢酸塩化物
溶液が加えられた（後者は周囲温度で２時間以上加えら
れた）。反応は周囲温度でさらに１８時間続けられ、そ
の後生成物は反応混合液を５リツトルの水に吹きかける
ことにより単離された。結果としてできた繊維状沈澱は
ろ過され、３リツトルの１％ｗ／ｗ炭酸カリウム溶液で
２回洗われて遊離した酸を除去し、次に３回再スラリー
された。
最終生成物は次に３５°Ｃで乾燥され重量を一定にした
。
％窒素決定はこの生成物がエステル基を含む１３．３モ
ル％のアジドを含むことを示した。
３０ｇの上記のアジド変形されたポリ（ビニルブチラー
ル）は３００ｃｒｔｆの無水ＴＨＦに再溶解され、この
溶液に５．９２ｇのピリジンが加えられた。この溶液は
次に＝ｌＯ℃まで冷却され、反応温度を−ｌＯ°Ｃに維
持しながら、１５．８ｇのトリメリティック無水塩化物
！２＜１時間以上加えられた。反応は次に−１０°Ｃで
さらに１８時間継続され、その後４０ｃｎｒのメタノー
ルが水滴状に加えられた。反応は周囲温度まで暖められ
、次に周囲温度で２時間攪拌され、その後に温度は４０
’Ｃまで上げられ１２時間維持された。この時以降、生
成物は５リツトルの水に吹きかけることにより単離され
た。結果として生じた繊維状沈澱はろ過され、３リツト
ルの水に３回再スラリーされた。最終生成物は次に３０
℃で乾燥され一定の重量にされた。
０．１モルのＫＯＨ溶液での滴定は、最終生成物は６５
の酸価を有することを示した。
箪１透 エピクロロヒドリンとビスフェノールＡを凝縮すること
により得られ分子量１４００を有する２Ｏｇのエポキシ
樹脂が１００ｃｎｒのジクロロメタンに溶解された。こ
の溶液に１１．４ｇの４−アジドベンジリデン−アルフ
ァーシアン酢酸塩化物と４．３ｇのピリジンが加えられ
、反応は次に還流のために加熱され還流が３時間維持さ
れた。その後、反応は周囲温度まで冷却され、ピリジン
塩酸塩を除去するために遮断され、濾液は２リツトルの
プロパン−２−ｏｌ中に吹きかけられた。結果として生
じた繊維状沈澱は濾過され、さらに２１のプロパン−２
−Ｏ１中で再スラリーされ、周囲温度で濾過・乾燥され
一定の重量とされた。
％窒素決定は生成物がエステル基を含む５８モル％のア
ジドを有することを示した。
２０ｇの上記変形樹脂は１８０ｃｉの無水ＴＨＦに再溶
解され、この溶液は２．２３ｇのピリジンに加えられた
。この溶液は次に一１０℃まで冷却され、５．３ｇのト
リメリティック無水塩化物が＝１０℃で１時間以上加え
られた。反応は一１００Ｃでさらに１８時間維持され、
次に１Ｏａｌの水及び３０ｃＩＩｒのＴＨＦから作られ
た溶液が、温度を−ｌＯ℃に維持しながら反応混合液に
１時間以上滴水された。反応温度は周囲温度まで暖めら
れ、この温度で２時間維持され、次に４０℃まで暖めら
れ、４０℃で１２時間維持された。この後、生成物は５
リツトルの水に吹きかけることにより単離された。結果
として生じた繊維状沈澱は濾過され３リツトルの水中に
３回再スラリーされた。最終生成物は３０℃で乾燥され
一定の重量にされた。
０．１モルのＫＯＨ溶液での滴定は、最終生成物が酸価
９９．５を有することを示した。
星立男 ポリ（ビニルブチラール）は第１例のように、４−アジ
ドベンジリデン−アルファーシアン酢酸塩化物で反応さ
れる。３０ｇのこの単離・乾燥された生成物は次に３０
０ｃｎｒの無水ＴＨＦに溶解され、この溶液に０．０４
ｇの無水炭酸ナトリウム、引続き６．９ｇのスルフォ安
息香性環式無水酸化物が加えられた。反応は周囲温度で
さらに２時間継続され、その後生成物は反応混合液を５
リツトルの水に吹きかけることにより単離された。結果
として生じた繊維状沈澱は濾過され３リツトルの水に３
回再スラリーされた。最終生成物は次に３５℃で乾燥さ
れて一定の重量にされた。
０．１モルのＫＯＨ溶液での滴定は、最終生成物が酸価
２２を有することを示した。
箋土男 第３例からの生成物はさらに２０ｇの乾燥樹脂を２００
ｃｎｒの工業用メチル化主成分（ＩＭＳ）中でスラリー
し、２．８６ｇのセチルトリメチル臭化アンモニウムを
加えることにより変化された。
クオータナリーアンモニウム塩を加えると、溶液が形成
され、樹脂ば反応混合液を５リツトルの水に吹きかけ第
３例のように水で洗うことによりこの溶液から単離され
た。
３５℃で乾燥した後、％Ｎ及び％Ｓ決定はフォータリー
アンモニウム塩はすべての酸化陽子とイオン交換するこ
とを示した。
策１班 エポキシ樹脂は第２例におけるような４−アジドベンジ
リデン−アルファーシアン酢酸塩化物で変化された。２
０ｇのこの単離・乾燥された樹脂は１５０ｃｍの無水Ｔ
ＨＦに再溶解され、この溶液に４．５ｇの無水フタル酸
と、０．０３ｇの無水炭酸ナトリウムと、０．０５ｇの
４−ジメチルアミノピリジンとが加えられた。反応混合
液は次に４５℃まで加熱されて７２時間この温度に維持
され、その後生成物は第２例のように単離された。
０．１モルのＫＯＨ溶液での滴定は最終生成物が酸価５
２を有することを示した。
星工旦 ２７ｇの４−アジドベンシリデイン−アルファーシアン
酢酸塩化物の代わりに３１ｇの３−クロロ−４−アジド
ベンシリデイン−アルファーシアン酢酸塩化物が用いら
れることを除き、第１例と同様に樹脂が作られた。
策工思 最初のポリ（ビニルブチラール）が中間樹脂が１０モル
％のラウロイルエステルを含むようにラウロイル塩化物
と予備反応させられることを除き、樹脂は第１例と同様
に作られた。この単離・乾燥された樹脂は次に４−アジ
ドベンジリデン−４−シアン酢酸塩化物及びトリメリテ
ィック無水塩化物と第１例のように反応させられた。
匙ｌ鮭」皮虹旦り 反応の第１段階が省略されていることを除き、樹脂は第
４例と同様に作られた。すなわち、ポリ（ビニルブチラ
ール）は炭酸ナトリウムの存在下で２−スルフォ安息香
酸環式無水物と反応させられ、その後にセチルトリメチ
ル臭化アンモニウムとのイオン交換がなされた。
及主班 反応の第２段階が省かれていることを除き、樹脂は第２
例と同様に作られる。すなわち、エポキシ樹脂はピリジ
ンの存在下で４−アジドベンジリデン−アルファーシア
ン酢酸塩化物と反応させられる。そしてこの生成物は上
述の如く単離される。
箋±１男 エピクロロヒドリンとビスフェノールＡを凝縮すること
により得られ分子量１４００を有する２０ｇのエポキシ
樹脂が１００ｄのジクロロメタンに溶解された。この溶
液に１３．０ｇの４−アジド−２−クロロベンジリデン
−アルファーシアン酢酸塩化物と４．３ｇのピリジンが
加えられ、反応は次に還流下において加熱され還流が４
時間維持された。その後、反応は周囲温度まで冷却され
、ピリジン塩酸塩を除去するために遮断され、溶液は２
リツトルのプロパン−２−ｏｌ中に吹きかけられた。結
果として生じた繊維状沈澱は濾過され、さらに２１のプ
ロパン−２−ｏ１中で再スラリーされ、周囲温度で濾過
・乾燥され一定の重量とされた。
％窒素決定は生成物がエステル基を含む４７モル％のア
ジドを有することを示した。
２０ｇの上記変形樹脂は１８０ｃｉの無水ＴＨＦに再溶
解され、この溶液に２．３ｇのピリジンが加えられた。
この溶液は次に一１０°Ｃまで冷却され、５．２ｇのト
リメリティック無水塩化物が一１０℃で１時間以上加え
られた。反応は一１０℃でさらに１８時間維持され、次
に１０ｃ＋ｔｆの水及び３０ａ／のＴＨＦから作られた
溶液が、温度を一１０℃に維持しながら反応混合液に１
時間以上滴水された。反応温度は周囲温度まで暖められ
、この温度で２時間維持され、次に４０℃まで暖められ
、４０℃で１２時間維持された。この後、生成物は５リ
ツトルの水に吹きかけることにより単離された。結果と
して生じた繊維状沈澱は濾過され３リツトルの水中に３
回再スラリーされた。最終生成物は３０℃で乾燥され一
定の重量にされた。
０、　１モルのＫＯＨ溶液での滴定は、最終生成物が酸
価１０８．５を有することを示した。
星土土男 ポリ（ビニルブチラール）は第１例のように、４−アジ
ドベンジリデン−アルファーシアン酢酸塩化物で反応さ
れる。３０ｇのこの単離・乾燥された生成物は次に３０
０ｃｎｆの無水ＴＨＦに溶解され、この溶液に０．０４
ｇの無水炭酸ナトリウム、引続き３．７ｇの無水マレイ
ン酸が加えられた。
反応は次に４０℃まで暖められ、この温度でさらに７２
時間維持され、その後生成物は反応混合液を５リツトル
の水に吹きかけることにより単離された。結果として生
じた繊維状沈澱は濾過され３リツトルの水に３回再スラ
リーされた。最終生成物は次に３５°Ｃで乾燥されて一
定の重量にされた。
０．１モルのＫＯＨ溶液での滴定は、最終生成物が酸価
３０を有することを示した。
策±１亘 ポリ（ビニルブチラール）は第１例のように、３３．０
ｇの４−アジドベンジリデン−アルファーブロモ酢酸塩
化物で反応される。３０ｇのこの単離・乾燥された生成
物は次に３００ｃｉの無水ＴＨＦに溶解され、この溶液
に０．０４ｇの無水炭酸ナトリウム、引続き３６７ｇの
無水マレイン酸が加えられた。反応は次に４０℃まで暖
められ、この温度でさらに７２時間維持され、その後生
成物は反応混合液を５リツトルの水に吹きかけることに
より単離された。結果として生じた繊維状沈澱は濾過さ
れ３リツトルの水に３回再スラリーされた。最終生成物
は次に３５℃で乾燥されて一定の重量にされた。
０．１モルのＫＯＨ溶液での滴定は、最終生成物が酸価
３２を有することを示した。
２土ユ亘 ポリ（ビニルブチラール）は第１例のように、４−アジ
ドベンジリデン−アルファーシアン酢酸塩化物で反応さ
れる。３０ｇのこの単離・乾燥された生成物は次に３０
Ｏｃｔ／の無水ＴＨＦに溶解され、この溶液に０．０４
ｇの無水炭酸ナトリウム、引続き１８．８ｇの３．４，
５．６−テトラブロモ−２−サルフオ安息香酸環式無水
物が加えられた。反応は周囲温度でさらに８時間継続さ
れ、その後生成物は反応混合液を５リツトルの水に吹き
かけることにより単離された。結果として生じた繊維状
沈澱は濾過され３リツトルの水に３回再スラリーされた
。最終生成物は次に３０℃で乾燥されて一定の重量にさ
れた。
０．１モルのＫＯＨ溶液での滴定は、最終生成物が酸価
２４を有することを示した。
匙±１男 エビクロロヒドリンとビスフェノールＡを凝縮すること
により得られ分子量１４００を有する２０ｇのエポキシ
樹脂が１００ｃｄのジクロロメタンに溶解された。この
溶液に１６．０ｇの４−アジドベンジリデン−アルファ
ーブロモ酢酸塩化物と４．３ｇのピリジンが加えられ、
反応は次に還流のために加熱され還流が３時間維持され
た。その後、反応は周囲温度まで冷却され、ピリジン塩
酸塩を除去するために遮断され、濾液は２リツトルのプ
ロパン−２−ｏ１中に吹きかけられた。結果として生し
た繊維状沈澱は濾過され、さらに別の２１のプロパン−
２−ｏ１中で再スラリーされ、−周囲温度で濾過・乾燥
され一定の重量とされた。
％窒素決定は生成物がエステル基を含む４０モル％のア
ジドを有することを示した。
２０ｇの上記変形樹脂は１８０ｃｎｆの無水ＴＨＦに再
溶解され、この溶液に２．２３ｇのピリジンが加えられ
た。この溶液は次に一１０℃まで冷却され、５．２ｇの
トリメリティック無水塩化物が一１０℃で１時間以上加
えられた。反応は一１０℃でさらに１８時間維持され、
次に１ｏｃｉの水及び３０ｃｎｒのＴＨＦから作られた
溶液が、温度を一１０℃に維持しながら、反応混合液に
１時間以上滴水された。反応温度は周囲温度まで暖めら
れ、この温度で２時間維持され、次に４０℃まで暖めら
れ、４０℃で１２時間維持された。この後、生成物は５
リツトルの水に吹きかけることにより単離された。結果
として生じた繊維状沈澱は濾過され、３リツトルの水中
に３回再スラリーされた。
最終生成物は３０°Ｃで乾燥され一定の重量にされた。
０、　１モルのＫＯＨ溶液での滴定は、最終生成物が酸
価１１８を有することを示した。
印刷版は多数の上述の放射感応化合物から作られる。印
刷版の製造方法の詳細は以下に述べる。
里慰里史在感 タイプ１ ２．６ｇの放射感応化合物及び０．０６ｇのビクトリア
・ピュア・ブルーＢＯ染料が１００Ｌｉのエチレングリ
コールモノメチルエーテル中に溶解された。固体を除去
するために濾過した後に、溶液はエレクトログレイン及
び陽極酸化されたアルミニウムの薄板に回転被覆されて
、被覆重量は０゜７〜０．９ｇｍ−２となった。
版は露光及び現像され、感度及び現像特性は第１表に示
されている。
タイプ２ １．７ｇの放射感応化合物、欧州特許明細書第３０８６
２号の第１例に示されるような０．９ｇのジアゾ化合物
、及び０．０６ｇのビクトリアピュアブルーＢＯ染料が
１００ｃｎｆのエチレングリコールモノメチルエーテル
に溶解され、その溶液は第１例に示されるような印刷版
の作成に用いられた。
感度及び顕色度特性は第１表に示されている。
タイプ３ ０．７ｇの放射感応化合物、欧州特許明細書第３０８６
２号の第１例に示されるような１．９ｇのジアゾ化合物
、及び０．０６ｇのビクトリアピュアブルーＢＯ染料が
１００ｃｎｆのエチレングリコールモノメチルエーテル
に溶解され、その溶液は第１例に示されるような印刷版
の作成に用いられた。
感度及び顕色度特性は第１表に示されている。
第１表は以下のデータを示す。
策土撮　−「例番号」 これはどの放射感応化合物がテストされているかを示す
。
第２欄　−「印刷版のタイプ」 これはどの印刷版の形成において上述の放射感応化合物
がテストされているかを示す。
第３欄　−「現像液のタイプ」 これは、どのタイプの現像液において上述の印刷版が現
像されているかを示す。以下のタイプが用いられた。
タイプＷ−英国特許明細書第２０６８１３６号の第１例
で示された水性溶液。
タイプＸ＝７％のベンジルアルコールを含む表面活性剤
。
タイプＹ＝英国特許明細書第１２２０８０８号の第８例
に示されたグリコールエステルと表面活性剤の混合液。
匙工遺　−「感度」 感度はインターナショナル・ライト・インコーホレイテ
ッドにより販売されているＩＬ５４０露出計を用いて決
定され、これは印字の後でプレートが連続した色調階段
くさびを通じて露光される際に同色調段階４を生成する
のに必要な放射の量である。
第５欄　−「刷の数」 これは、上述の印刷版が回転ウェブオフセットプレス上
でテストされた際にどれだけの刷が得られたかを示す。
「ベイクド」 これは版が英国特許明細書第１５１３３６８号に示され
た処理に従って１０分間２００℃まで加熱されたことを
示す。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）複数のアジド置換芳香性エステル基と、水性また
    はアルカリ性媒体における溶解性を化合物に与えること
    のできる複数の基とを含む重合体より成る放射感応化合
    物。
  2. （２）溶解性を付与する基はエステル基により重合体に
    リンクされるカルボキシル酸基又はスルフォン酸基であ
    る請求項１記載の放射感応化合物。
  3. （３）溶解性を付与する基は、重合体のバックボーンの
    一部をなす炭素原子に添付される公式、▲数式、化学式
    、表等があります▼ の基であり、ここでＸは▲数式、化学式、表等がありま
    す▼、▲数式、化学式、表等があります▼ または▲数式、化学式、表等があります▼であり、Ａは
    環又は合成環システムを形成するのに充分な炭素原子で
    できた部分であり、Ｒ＾１及びＲ＾２はＨまたは低級ア
    ルキルであり、ただしＲ＾１及びＲ＾２のうち少なくと
    も１つは水素である請求項１記載の放射感応化合物。
  4. （４）複数のヒドロキシル基及び随意エポキシド基を含
    む重合体を設け；アジド置換芳香性カルボキシル酸又は
    そのエステル形成誘導体をヒドロキシル基の幾つか及び
    ／又は存在するならばエポキシド基の少なくとも幾つか
    と反応させ；環式無水カルボキシル酸又は環式無水スル
    フォーカルボキシル酸を残りのヒドロキシル基の少なく
    とも幾つかと反応させて、化合物にアルカリ性又は水性
    溶解基を導入することより成る放射感応化合物の製造方
    法。
  5. （５）環式無水物の無水物基は該残りのヒドロキシル基
    の少なくとも幾つかと反応される請求項４記載の方法。
  6. （６）無水物は２−スルフォ安息香酸環式無水物、無水
    マレイン酸、無水フタル酸、無水琥珀酸または３酸素置
    換無水グルタル酸である請求項５記載の方法。
  7. （７）環式無水物は無水物基の他にさらに官能基を有し
    、これは該残りのヒドロキシル基の少なくとも幾つかと
    反応される請求項４記載の方法。
  8. （８）環式無水物はトリメリティック塩素酸無水物；３
    −イソシアン酸塩無水フタル酸；４−イソシアン酸塩無
    水フタル酸；４−クロロスルフォン−１，８−無水フタ
    ル酸；またはソルビン酸及び無水マレイン酸のディール
    スアルダー反応生成物；である請求項７記載の方法。
  9. （９）アシド置換芳香性カルボキシル酸はアジド置換Ｎ
    フェニル基アントラニル酸すなわち公式、Ｎ＿３−Ｒ−
    （ＣＲ＾３＝ＣＲ＾４）＿ａ −（ＣＲ＾５−ＣＲ＾６）＿ｂ−ＣＯＯＨ を有し、ここで￥ａ￥及び￥ｂ￥は零または１であり、
    ￥ａ￥及び￥ｂ￥は少なくとも１であり；Ｒは芳香基を
    示し；Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｒ＾６は同一もしくは
    異なるが、ハロゲン原子、水素原子、シアン基、アルキ
    ル基、アリル基、アルコキシ基、アリロキシ基、アラル
    キル基、またはアラルコキシ基であり、ただし基Ｒ＾３
    〜Ｒ＾６のうち少なくとも１つはハロゲン原子又はシア
    ン基を表す請求項４乃至８のうちいずれか一項記載の方
    法。
  10. （１０）請求項１乃至３のうちいずれか一項記載の放射
    感応化合物より成る組成で被覆された基板より成る放射
    感応プレート。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4705269B2 (ja) * 2001-06-29 2011-06-22 株式会社ディスコ 加工機械及びこれに使用される保護部材

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69707325T2 (de) 1996-02-26 2002-05-02 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Bilderzeugungsmaterial und Verfahren
US5705309A (en) * 1996-09-24 1998-01-06 Eastman Kodak Company Photosensitive composition and element containing polyazide and an infrared absorber in a photocrosslinkable binder
GB2476275A (en) 2009-12-17 2011-06-22 Dublin Inst Of Technology Photosensitive holographic recording medium comprising glycerol

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE549814A (ja) * 1955-07-29
GB1220808A (en) * 1967-05-18 1971-01-27 Howson Algraphy Ltd Processing of presensitized photolithographic printing plate
JPS4944601B1 (ja) * 1970-05-15 1974-11-29
US3923761A (en) * 1972-07-18 1975-12-02 Western Litho Plate & Supply Photopolymers
US3843603A (en) * 1972-10-25 1974-10-22 Howson Algraphy Ltd Light-sensitive polymeric esters containing azido substituted styryl groups
GB1513368A (en) * 1974-07-08 1978-06-07 Vickers Ltd Processing of radiation-sensitive members
JPS54135525A (en) * 1978-04-12 1979-10-20 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive material
US4229514A (en) * 1978-12-29 1980-10-21 Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. Photosensitive composition
FI71845C (fi) * 1979-12-18 1987-02-09 Vickers Ltd Foerbaettringar angaoende straolningskaensliga material.
DE3162627D1 (en) * 1980-01-29 1984-07-12 Vickers Ltd Developers and methods of processing radiation sensitive plates using the same
FR2572408B1 (fr) * 1984-10-29 1987-02-06 Centre Nat Rech Scient Polymeres photosensibles, leur preparation et compositions filmogenes les contenant pour la photogravure
GB8802314D0 (en) * 1988-02-03 1988-03-02 Vickers Plc Improvements in/relating to radiation-sensitive compounds
GB8827812D0 (en) * 1988-11-29 1988-12-29 Vickers Plc Improvements in/relating to polymeric compounds

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4705269B2 (ja) * 2001-06-29 2011-06-22 株式会社ディスコ 加工機械及びこれに使用される保護部材

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