JPH02110305A - Three-dimensional measuring device - Google Patents

Three-dimensional measuring device

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JPH02110305A
JPH02110305A JP26464288A JP26464288A JPH02110305A JP H02110305 A JPH02110305 A JP H02110305A JP 26464288 A JP26464288 A JP 26464288A JP 26464288 A JP26464288 A JP 26464288A JP H02110305 A JPH02110305 A JP H02110305A
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JP
Japan
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pattern
segments
slit
segment
color
Prior art date
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Application number
JP26464288A
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Japanese (ja)
Inventor
Minoru Maruyama
稔 丸山
Shigeru Abe
茂 阿部
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

PURPOSE:To measure the whole shape of an object only by one pattern projection and one image pickup, by using a pattern wherein a large number of slits formed of segments whose colors are different and whose lengths are varied at random are constructed and disposed so that no segments of the same color are located at the same position. CONSTITUTION:Segments using three colors of R, G and B are disposed on one slit. The length of each segment is decided at random by using a reference length and uniform random numbers. The segments are disposed so that no segments of the same color are located at the same position. The segments in a pattern which have the possibility of corresponding to the image 12 of some segment in an image are checked up in a parallel direction as indicated by broken lines and are limited to the one that has the same color and is located at the same position. In the present case, the segment denoted by 13 corresponds to said segment in the image.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は光パターンの投影により物体の形状を測定す
る3次元計測装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to a three-dimensional measuring device that measures the shape of an object by projecting a light pattern.

[従来の技術] 従来、この種の3次元計測装置としてはi13図に示す
ものがあった。
[Prior Art] Conventionally, there has been a three-dimensional measuring device of this type as shown in Fig. i13.

第13図は日刊工業新聞社1985年発行の手塚慶−北
橋忠宏、小川秀夫著、ディジタル画像処理工学の190
頁に示された従来の光パターンt2影による3次元計測
装置が行なっているスリット光投影法と呼ばれる手法を
示す斜視説明図、第11図は第13図の3次元計測装置
の動作を示すブロック図である。図において、(1)は
投影されるスリットパターン用のマスクパターン、(2
)はスリット位置を変化させるためのマスクパターン駆
動装置、(3)はスリットパターンを物体に投影するパ
ターン投影装置、(4)はスリットパターンを投影され
た物体の画像を読み込むためのテレビカメラ、(5)は
画像データを記憶するための記憶装置、(6)は物体に
投影されたスリットパターンと記憶装置(5)に記憶さ
れたスリットパターンを投影された物体の画像から、ス
リットバターが当っている部分の3次元距離を計測する
演算装置である。
Figure 13 is 190 of Digital Image Processing Engineering, written by Kei Tezuka, Tadahiro Kitahashi, and Hideo Ogawa, published by Nikkan Kogyo Shimbun in 1985.
A perspective explanatory diagram showing a method called slit light projection method performed by a conventional three-dimensional measuring device using light pattern t2 shadow shown on the page, and FIG. 11 is a block diagram showing the operation of the three-dimensional measuring device shown in FIG. 13. It is a diagram. In the figure, (1) is a mask pattern for the projected slit pattern, (2)
) is a mask pattern driving device for changing the slit position, (3) is a pattern projection device for projecting the slit pattern onto an object, (4) is a television camera for reading an image of the object onto which the slit pattern is projected, ( 5) is a storage device for storing image data, and (6) is a slit pattern that is projected onto the object and the slit pattern stored in the storage device (5) is used to calculate the slit pattern from the projected image of the object when the slit butter hits it. This is a calculation device that measures the three-dimensional distance of the area.

第12図は第11図のスリットパターン用マスクパター
ン(1)を示す平面図である。
FIG. 12 is a plan view showing the slit pattern mask pattern (1) of FIG. 11.

次に動作について説明する。スリットパターン投影用マ
スクパターン(1)をマスクパターン駆動装置(2)で
適当な位置に動かし、パターン投影装置(3)によりス
リット状の光パターンを物体に当てる。次いで、テレビ
カメラ(4)でこの画像を読み込み、画像データ記憶装
置(5)に記憶し、演算装置(6)により光が当ワてい
る部分の像を検出する。検出されたスリットパターンの
像と投影に用いたマスクパターン(1)の位置から、3
角測量によって物体上の光が当っている部分までの距離
を測定する。上記動作をマスクパターン駆動装置(2)
を用いて、マスクパターン(1)を移動させて、繰り返
し行うことにより、物体全体の距離の計測を行う。
Next, the operation will be explained. A slit pattern projection mask pattern (1) is moved to an appropriate position by a mask pattern driving device (2), and a slit-shaped light pattern is applied to an object by a pattern projecting device (3). Next, this image is read by a television camera (4) and stored in an image data storage device (5), and an image of the portion illuminated by light is detected by a calculation device (6). From the detected image of the slit pattern and the position of the mask pattern (1) used for projection, 3
Measure the distance to the part of the object that is illuminated by angle measurement. The above operation is carried out by the mask pattern driving device (2).
The distance of the entire object is measured by moving the mask pattern (1) and repeating the measurement using .

[発明が解決しようとする課題] 従来のスリットパターン投影による3次元計測装置は以
上のように構成されていたので、物体全体の形状を測定
するためには順次スリットパターン投影用のマスクパタ
ーンを移動させて画像を撮影し距離を計測しなければな
らず、多くの画像が必要で、また計測に時間がかかるな
どの問題点があった。
[Problems to be Solved by the Invention] Since the conventional three-dimensional measuring device using slit pattern projection is configured as described above, in order to measure the shape of the entire object, the mask pattern for slit pattern projection must be sequentially moved. In order to measure the distance, many images are required, and the measurement takes a long time.

この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、1回のパターン投影、1回の画像撮影だけで
物体全体の形状の測定ができる3次元計測装置を得るこ
とを目的とする。
This invention was made to solve the above-mentioned problems, and its purpose is to provide a three-dimensional measuring device that can measure the shape of an entire object with just one pattern projection and one image capture. do.

[課題を解決するための手段] この発明に係る3次元計測装置はパターン投影用のマス
クパターンとして、異なる色のランダムに変化する長さ
のセグメントから成るスリットを多数本、同一位置に同
じ色のセグメントがないように構成、配置したパターン
を用いるようにしたものである。
[Means for Solving the Problems] The three-dimensional measuring device according to the present invention uses a large number of slits each consisting of randomly changing length segments of different colors as a mask pattern for pattern projection, and slits of the same color at the same position. This uses a pattern configured and arranged so that there are no segments.

[作用] この発明におけるマスクパターンのうち多数本のスリッ
トは1回の画像撮影で物体全体の計測を行うことを可能
にし、ランダムに長さが変動し同じ位置に同じ色がない
ように配置されたセグメントから成るスリットは、画像
上でのスリット像がマスクパターン上のどのスリットに
対応するかの指標を与え、スリット像とマスクパターン
との対応付けを容易にし、1回の画像撮影だけでの物体
全体の3次元距離計測を実現する。
[Function] A large number of slits in the mask pattern of this invention make it possible to measure the entire object with one image capture, and the length varies randomly and the slits are arranged so that no two slits have the same color at the same position. The slit, which is made up of segments, provides an index of which slit on the mask pattern the slit image on the image corresponds to, making it easy to associate the slit image with the mask pattern, and making it possible to easily associate the slit image with the mask pattern. Realizes three-dimensional distance measurement of the entire object.

[実施例] 以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図はこの発明で用いられるスリットパターン投影用のマ
スクパターンの一実施例を示す平面図である。図では、
R(赤)、G(縁)、B (青)の3色を用いた場合を
示す。1本のスリット上にはR−G−Hの3色を用いた
セグメントが配置されている。各セグメントの長さ2は
、基準長さ2゜と、−様乱数εを用いて、2=2゜十ε
のようにランダムに決定される。各セグメントは同じ位
置に同じ色のセグメントが無いように配置する。これを
第2図によって説明する。
[Example] Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to the drawings. 1st
The figure is a plan view showing one embodiment of a mask pattern for slit pattern projection used in the present invention. In the diagram,
A case is shown in which three colors, R (red), G (edge), and B (blue) are used. Segments using the three colors R, G, and H are arranged on one slit. The length 2 of each segment is determined by using the reference length 2° and the −-like random number ε, 2=2°+ε
is randomly determined as. Arrange each segment so that there are no segments of the same color in the same position. This will be explained with reference to FIG.

各セグメントはその長さを乱数によって決めたあと、基
準スリットから順に色を決めていく。基準スリットにお
いては各セグメントの色は上下に隣りあった色と具なる
ように決める。他のスリット中の各セグメントの色の決
め方について、左端のスリットを基準スリットとした例
について第3図によって説明する。いま、i番目のスリ
ットの各セグメントの色は既に決まっているものとする
After determining the length of each segment using random numbers, the color is determined in order from the reference slit. In the reference slit, the color of each segment is determined so as to match the color adjacent above and below. How to determine the color of each segment in the other slits will be explained with reference to FIG. 3, with reference to an example in which the leftmost slit is used as the reference slit. Assume now that the color of each segment of the i-th slit has already been determined.

i+1番目のスリットの(7)で示すセグメントの色は
それまでに決まった1本のスリット中の、第2図の破線
で示すような、(7)と同一位置にセグメントがあるか
どうか調べ、もし、セグメントの両端点が一致している
ものがあるときはそれと異なる色を選ぶ。既に同じ位置
にすべての色の種類のセグメントが存在しているときは
、同じ色のセグメントとのスリット間隔が最大となるよ
うな色を選ぶ。同じ位置に両端点が一致するセグメント
が無い場合は各スリラット中の第2図の破線で示した部
分に占める割合が最大のセグメントをとり、その色を調
べて色を決定する。これについて、第3図で説明する。
The color of the segment shown in (7) of the i+1th slit is determined by checking whether there is a segment in the same position as (7) in the single slit determined so far, as shown by the broken line in Figure 2. If there is a segment whose end points match, choose a different color. If segments of all color types already exist at the same position, select a color that maximizes the slit interval between segments of the same color. If there is no segment whose end points coincide with each other at the same position, the segment that occupies the largest proportion of the portion indicated by the broken line in FIG. 2 in each slilat is selected, and its color is examined to determine the color. This will be explained with reference to FIG.

第2図(7)のセグメントの長さを2とする。j番目の
スリット中でセグメント(7) との交わりが最大のセ
グメントを(8)で示す。セグメント(8)の長さをり
、セグメント(8)の(7)との交わりの長さを2゜と
じ、セグメント(8)の色をCとする。色Cはこの場合
R9G、Bのいづれかである。
The length of the segment in FIG. 2 (7) is assumed to be 2. The segment with the maximum intersection with segment (7) in the j-th slit is indicated by (8). Measure the length of segment (8), set the length of the intersection of segment (8) with (7) by 2°, and set the color of segment (8) to C. Color C is either R9G or B in this case.

る、(7)のセグメントの色は、mR=c−にンm(j
%c)より(7)の色がc(cはR,G、Bのいずれか
)に決める。但し、このときIIIR+ ’M O+ 
” @のうち0となるものがあれば、その色を選ぶ。
The color of the segment in (7) is mR=c−nim(j
%c), the color in (7) is determined to be c (c is either R, G, or B). However, at this time, IIIR+ 'M O+
” If any @ is 0, choose that color.

第4図はこのようにして決められたマスクパターンを用
いたこの発明の3次元計測装置のブロック図であり、(
9)は第1図に示したマスクパターン、(lO)はパタ
ーンを物体に投影するためのパターン投影装置、(11
)は投影された色付きのパターンの投影像を読み込むた
めのカラーカメラ、(12)は画像データを記憶するた
めの記憶装置、(13)は物体に投影されたスリットパ
ターンの像とマスクパターン(9)の対応付けを行ない
、3角測量によって物体までの3次元距離を計測する演
算装置である。パターン投影装置(10)とカラーカメ
ラ(11)は平行に配置されているものとする。
FIG. 4 is a block diagram of the three-dimensional measuring device of the present invention using the mask pattern determined in this way.
9) is the mask pattern shown in FIG. 1, (lO) is a pattern projection device for projecting the pattern onto an object, (11)
) is a color camera for reading the projected image of the projected colored pattern, (12) is a storage device for storing image data, and (13) is the image of the slit pattern projected onto the object and the mask pattern (9). ) and measures the three-dimensional distance to an object by triangulation. It is assumed that the pattern projection device (10) and the color camera (11) are arranged in parallel.

次に作用、動作について説明する。物体にパターンを投
影する前に、パターン中の各セグメントの分類を行なう
。多数本のスリットパターンを物体に投影した場合、物
体に投影された各スリットがパターン中のどのスリット
に対応しているかを決めなければならない。物体に投影
されたスリット像中のセグメントに対応する可能性があ
るパターン中のセグメントは、パターン投影装置(10
)とカラーカメラ(11)が平行に配置されているとき
は、平行方向に探索して行き、合致するものに限定され
る。これを第5図で説明する。画像中のあるセグメント
の像(12)に対応する可能性のあるパターン中のセグ
メントは破線で示すように、平行方向に調べていき、同
じ色同じ位置にあるものに限定される。この場合(13
)が対応するセグメントとなる。このようなセグメント
が2つ以上存在するときはこれだけでは対応を決定する
ことができない、このようなパターンの性質を調べるた
めに、パターンを投影する前に、パターン中のセグメン
トの分類を行なう。これを第6図で説明する。パターン
中のセグメントは3111類に分類される。(a)図は
平行方向に調べても同じ色で、同じ位置にあるセグメン
トが1つもない場合で、かつ、両端点のうち、どちらに
も一致するものがない場合である。(b)図は(a)図
と同様に、同じ色、同じ位置のセグメントは存在しない
が、片方の端点が一致するものが存在している場合であ
る。(C)図は同じ色、同じ位置のセグメントが存在し
ている場合である。このようなパターンの分類は計測の
前に行なっておくことができるので、計測の所要時間に
は何の影響も与えずに済む。パターンの分類後は第7図
に示すフローチャートにおいて、ステップ(14)で第
1図に示すようなパターンを物体に投影する。第1図に
示すようなパターンを投影することにより、物体上には
、RlG、Bの3色のセグメントから成る多数本のスリ
ット像が生成される。これをカラーカメラ(11)によ
り記憶装置(13)に読み込み、ステップ(15)にお
いて物体上のスリットパターンの像を検出し、次いでス
テップ(16)においてスリット像をその色で、R(赤
)、G(縁)、B(青)ごとに分類し、ステップ(17
)において分類された各色ごとに、パターン中のセグメ
ントと、物体上のスリット像の各セグメントとの対応付
けを行なう。
Next, the function and operation will be explained. Before projecting a pattern onto an object, each segment in the pattern is classified. When a large number of slit patterns are projected onto an object, it is necessary to determine which slit in the pattern each slit projected onto the object corresponds to. Segments in the pattern that may correspond to segments in the slit image projected onto the object are detected by a pattern projection device (10
) and the color camera (11) are arranged in parallel, the search is performed in the parallel direction, and the search is limited to those that match. This will be explained with reference to FIG. Segments in the pattern that may correspond to the image (12) of a certain segment in the image are examined in parallel directions, as indicated by broken lines, and are limited to those of the same color and at the same position. In this case (13
) is the corresponding segment. When two or more such segments exist, it is not possible to determine the correspondence by this alone.In order to investigate the nature of such a pattern, the segments in the pattern are classified before projecting the pattern. This will be explained with reference to FIG. The segments in the pattern are classified into the 3111 class. (a) The figure shows a case in which there are no segments with the same color and at the same position even when examined in the parallel direction, and there is no match at either end point. The figure (b) is similar to the figure (a) in that there are no segments with the same color and the same position, but there are segments with the same end point. (C) The figure shows a case where segments of the same color and at the same position exist. Since such pattern classification can be performed before measurement, there is no effect on the time required for measurement. After the patterns are classified, in step (14) in the flowchart shown in FIG. 7, a pattern as shown in FIG. 1 is projected onto the object. By projecting a pattern as shown in FIG. 1, a large number of slit images consisting of segments of three colors, RlG and B, are generated on the object. This is read into the storage device (13) by the color camera (11), the image of the slit pattern on the object is detected in step (15), and then in step (16) the slit image is converted into R (red), R (red), Classify by G (edge) and B (blue) and proceed to step (17
), the segments in the pattern are associated with each segment of the slit image on the object for each color classified.

ステップ(18)においては、°各色ごとの個別の対応
付けからは対応が一意に決まらなかった場合について、
上下や左右のセグメントの色や位置関係などの周辺の整
合性から対応付けを行う、ステップ(19)においては
、ステップ(17) 、 (1g)で得られた対応関係
から、3角測量によって物体までの3次元距離を計算す
る。
In step (18), if the correspondence is not uniquely determined from the individual correspondence for each color,
In step (19), a correspondence is established based on peripheral consistency such as the color and positional relationship of the upper and lower and left and right segments. From the correspondence obtained in steps (17) and (1g), the object is Calculate the 3D distance to.

次に、ステップ(17)における対応付けと、ステップ
(18)における対応付けについて説明する。
Next, the correspondence in step (17) and the correspondence in step (18) will be explained.

第8図はステップ(17)にあける対応付は処理を示す
フローチャートである。ステップ(16)でスリット像
を色別に分類した後、各色ごとに第8図の処理を行なう
、検出されたスリット像からステップ(20)において
、その端点を検出し、ステップ(21)において、平行
方向に探索を行ない、パターン中に両端点が対応するも
のがあるかどうか調べ、そのようなものが1つ存在し、
それの、あらかじめ調べておいたパターンクラスが第6
図(a)のようなものであったとき、ステップ(23)
において、その対応は確定したものとする。そうではな
い場合、すなわち、パターンクラスが第6図(b) 、
 (C)である場合には、ステップ(24)で対応は未
確定とし、得られた対応の候補をステップ(25)で記
憶し、ステップ(18)で周辺の整合性を調べる。両端
点が対応する対゛応候補がない場合には、ステップ(2
C)で片側が対応しているものが存在しているか調べる
。そのようなものが1つ存在しているときには、ステッ
プ(27)においてそのパターンのクラスを調べ(a)
又は(b)である場合には対応は確定したものとする。
FIG. 8 is a flowchart showing the correspondence processing in step (17). After classifying the slit images by color in step (16), the process shown in FIG. Search in the direction, check whether there is a pattern in which both endpoints correspond, and if there is one such pattern,
The pattern class I checked in advance is the 6th one.
When the situation is as shown in figure (a), step (23)
, the response shall be deemed finalized. If not, that is, the pattern class is as shown in Fig. 6(b),
In the case of (C), the correspondence is determined to be undetermined in step (24), the obtained correspondence candidate is stored in step (25), and the consistency of the surroundings is checked in step (18). If there is no correspondence candidate corresponding to both endpoints, step (2)
In C), check to see if there is one that corresponds to one side. If one such pattern exists, check the class of that pattern in step (27) (a)
or (b), the response shall be deemed finalized.

それ以外の場合については対応は未確定とし、ステップ
(18)で周辺の整合性を調べる。次に、ステップ(1
8)の処理について説明する。第9図はステップ(18
)における対応付は処理を示、すフローチャートである
。ステップ(17)の処理により、まだ対応が未確定な
セグメントについて、ステップ(28)においてその左
右両隣がステップ(17)で対応済みかどうか調べ、対
応済みである場合には、ステップ(29)においてその
整合性を調べ、整合性がある場合には、ステップ(30
)で対応は確定したものとする。これを第10図(d)
に例をあげて説明する。この図において、2がいま対応
を探索しているセグメント、その両隣は既に対応が確定
しており、t−1番目のスリット、i÷1番目のスリッ
トである。このとき、2はi番目のスリットであること
がわかる。両隣が対応済でないときは、(31)で上下
のセグメントの対応を調べ、もし、−両方とも対応済で
同じスリット番号である場合には、いま調べているもの
も同じスリットに属するものとする。また、両方が対応
済でなくても、対応候補の中で、色の変化が一致してい
るものが唯一つであるか(32)で調べ、唯一つのとき
は、(33)で対応は確定とする。
In other cases, the correspondence is left undetermined, and the consistency of the surroundings is checked in step (18). Next, step (1
The process 8) will be explained. Figure 9 shows the step (18
) is a flowchart showing the processing. As for the segment whose correspondence has not yet been determined by the processing in step (17), it is checked in step (28) whether or not its left and right neighbors have been dealt with in step (17), and if they have been dealt with, in step (29) Check its consistency, and if it is consistent, step (30)
), the response is considered finalized. This is shown in Figure 10(d).
Let me explain with an example. In this figure, 2 is the segment whose correspondence is currently being searched, and the correspondences have already been determined on both sides of the segment, which is the t-1th slit and the i÷1th slit. At this time, it can be seen that 2 is the i-th slit. If both adjacent segments are not matched, check the correspondence between the upper and lower segments in (31), and if - both are matched and have the same slit number, the one currently being checked is also considered to belong to the same slit. . In addition, even if both are not already supported, check whether the matching color change is the only one among the matching candidates in (32), and if it is the only one, the matching is confirmed in (33). shall be.

これを第1O図(e)で例を挙げて説明する。いま2が
探索しているセグメントであり、その色がR(赤)、x
l 、f’はその上下のセグメントで色はそれぞれB(
青)、G(緑)であるとし、2の対応候補が il 、
j′、nl と3つ存在したとし、その色の様子は第1
O図(e)のようであったとする。このとき、色の整合
性より j′が対応するものとして選ばれる。このよう
にして、長さがランダムに変動する、色によって区分さ
れたセグメントから成る多数本のスリットを投影するこ
とにより、セグメント長さのランダム性から対応の誤ま
りを少なくすることができ、さらに色を用いて符号化し
であることにより、仮に端点が一致していても両隣の色
、上下の色から、対応付けを行うことができる。この−
ようなパターンを投影することにより、1回のパターン
投影、1回の画像撮影で、物体全体の計測ができる。
This will be explained using an example in FIG. 1O(e). 2 is the segment currently being searched, its color is R (red), x
l, f' are the upper and lower segments, and their colors are B(
blue), G (green), and the correspondence candidates for 2 are il,
Suppose that there are three such as j' and nl, and the appearance of the color is the first one.
Suppose that the situation is as shown in Figure O (e). At this time, j' is selected as the corresponding one based on color consistency. In this way, by projecting a large number of slits consisting of color-divided segments whose lengths vary randomly, it is possible to reduce correspondence errors due to the randomness of segment lengths. By encoding using colors, even if the end points match, the correspondence can be made from the colors on both sides and the colors above and below. This-
By projecting such a pattern, the entire object can be measured with one pattern projection and one image capture.

なお、上記実施例では使用する色として、RlG、83
色の場合を示したが、さらに多くの色を用いてもよい。
In addition, in the above example, the colors used are RlG, 83
Although the case of colors is shown, more colors may be used.

また、パターン投影装置(lO)とカラーカメラ(11
)は平行に配置されているとしたが、必ずしも平行でな
くてもよい。
In addition, a pattern projection device (lO) and a color camera (11
) are arranged in parallel, but they do not necessarily have to be parallel.

[発明の効果] 以上のようにこの発明によれば、パターン投影用のマス
クパターンを各スリットを区別できるように、長さがラ
ンダムで同じ位置に同じ色がないように配置されたセグ
メントから成るスリット多数本により構成したので、1
回のパターン投影、画像撮影で、物体の3次元形状の測
定を行うことかでき、少ない画像と短かい計測時間で済
むという効果がある。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, a mask pattern for pattern projection is made up of segments of random length and arranged so that no two slits have the same color at the same position so that each slit can be distinguished. Since it is composed of many slits, 1
It is possible to measure the three-dimensional shape of an object by projecting a pattern and photographing images twice, which has the effect of requiring fewer images and a shorter measurement time.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明で用いられるスリットパターン投影用
のマスクパターンの一実施例を示す平面図、第2図、第
3図は第1図に示すパターンの構成法を示す説明図、第
4図はこの発明の一実施例による3次元計測装置を示す
ブロック図、第5図、第6図、第10図はこの発明の一
実施例による3次元計測装置の動作を説明するためのパ
ターンの説明図、第7図、第8図、第9図はこの発明の
一実施例による3次元計測装置の動作を示すフローチャ
ート、第11図は従来の3次元計測装置の動作を示すブ
ロック図、第12図は従来のスリットパターン投影用の
マスクパターンを示す平面図、第13図は従来の3次元
計測装置の動作を示す斜視説明図である。 図中、 (7) (a) (12) (13)はパターンを示す
。 なお、 図中、 同一符号は同一 または相当部分 を示す。
FIG. 1 is a plan view showing an example of a mask pattern for projecting a slit pattern used in the present invention, FIGS. 2 and 3 are explanatory diagrams showing a method of constructing the pattern shown in FIG. 1, and FIG. is a block diagram showing a three-dimensional measuring device according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 5, 6, and 10 are explanations of patterns for explaining the operation of the three-dimensional measuring device according to an embodiment of the present invention. 7, 8, and 9 are flowcharts showing the operation of a three-dimensional measuring device according to an embodiment of the present invention, FIG. 11 is a block diagram showing the operation of a conventional three-dimensional measuring device, and FIG. 1 is a plan view showing a conventional mask pattern for projecting a slit pattern, and FIG. 13 is a perspective explanatory view showing the operation of a conventional three-dimensional measuring device. In the figure, (7) (a) (12) (13) indicate patterns. In addition, in the figures, the same reference numerals indicate the same or equivalent parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 光パターンを物体に投影して3次元物体の形状を測定す
る能動的計測装置において、色を用いて符号化された多
数本のスリットパターンを投影することにより、1枚の
画像の撮影で物体の3次元測定を行うことを特徴とする
3次元計測装置。
In an active measurement device that measures the shape of a three-dimensional object by projecting a light pattern onto the object, it is possible to measure the shape of the object by capturing a single image by projecting multiple slit patterns encoded using colors. A three-dimensional measurement device characterized by performing three-dimensional measurement.
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