JPH01232214A - エンコーダ - Google Patents
エンコーダInfo
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- JPH01232214A JPH01232214A JP63057865A JP5786588A JPH01232214A JP H01232214 A JPH01232214 A JP H01232214A JP 63057865 A JP63057865 A JP 63057865A JP 5786588 A JP5786588 A JP 5786588A JP H01232214 A JPH01232214 A JP H01232214A
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- JP
- Japan
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- light
- light source
- current
- luminous flux
- diffraction grating
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Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
- G01D5/32—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light
- G01D5/34—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells
- G01D5/36—Forming the light into pulses
- G01D5/38—Forming the light into pulses by diffraction gratings
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optical Transform (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はエンコーダに関し、特に移動物体に取付けた回
折格rに可干渉性光束を入射させ該回折格子からの回折
光を互いに干渉させて干渉縞を形成し、干渉縞の明暗の
縞を計数することによって回折格子の移動量、即ち移動
物体の移動量を測定するロータリーエンコーダやリニア
エンコーダ等のエンコータに関するものである。
折格rに可干渉性光束を入射させ該回折格子からの回折
光を互いに干渉させて干渉縞を形成し、干渉縞の明暗の
縞を計数することによって回折格子の移動量、即ち移動
物体の移動量を測定するロータリーエンコーダやリニア
エンコーダ等のエンコータに関するものである。
(従来の技術)
近年NC工作機械や半導体焼付装置等の鯖密機械におい
ては1μm以下(サブミクロン)の単位て測定すること
のできる績密な測定器が要求されている。
ては1μm以下(サブミクロン)の単位て測定すること
のできる績密な測定器が要求されている。
従来よりサブミクロンの単位で測定することのできる測
定器としては、レーザー等の可干渉性光束を用い移動物
体からの回折光より干渉縞な形成させ、該干渉縞を利用
したロータリーエンコーダやリニアエンコーダが良く知
られている。
定器としては、レーザー等の可干渉性光束を用い移動物
体からの回折光より干渉縞な形成させ、該干渉縞を利用
したロータリーエンコーダやリニアエンコーダが良く知
られている。
特に最近か面述の各種の機器の高績密化により、より高
分割能なエンコーダか要望されている。
分割能なエンコーダか要望されている。
本出願人は先に例えば特開昭62−1!J3922号公
報や特開昭62−193923号公報等で可干渉性光束
と回折格子を用い被測定物体の回転状態や直線移動状態
等を高粒度に検出することのできるエンコーダを提案し
た。
報や特開昭62−193923号公報等で可干渉性光束
と回折格子を用い被測定物体の回転状態や直線移動状態
等を高粒度に検出することのできるエンコーダを提案し
た。
同公報ではレーザー等の光源からの可干渉性光束を複数
に分割し、回転物体や直線移動物体に連結されている回
折格子に入射させている。
に分割し、回転物体や直線移動物体に連結されている回
折格子に入射させている。
そして該回折格子から生ずる複数の回折光を互いに干渉
させることにより干渉縞を形成し、該干渉縞の数を受光
手段により検出することにより、該回折格子の移動状態
を高精度に求めたエンコーダを開示している。
させることにより干渉縞を形成し、該干渉縞の数を受光
手段により検出することにより、該回折格子の移動状態
を高精度に求めたエンコーダを開示している。
この場合、受光手段からの出力信号が常に安定して得ら
れるような構成とすることが高精度な検出を行う為に重
要となっている。
れるような構成とすることが高精度な検出を行う為に重
要となっている。
しかしながら回折格子の製造誤差やレーザーとして例え
ば半導体レーザーを用いたりすると波長が温度により変
化したり、周囲環境変化により出力値が変動したりして
、一般には受光手段から常に安定した出力信号を得るこ
とは大変難しい。
ば半導体レーザーを用いたりすると波長が温度により変
化したり、周囲環境変化により出力値が変動したりして
、一般には受光手段から常に安定した出力信号を得るこ
とは大変難しい。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明は本出願人か先に提案した、例えば前述のエンコ
ーダを更に改良し、回折格子から生ずる複数の回折光を
互いに干渉させて形成した干渉縞の強度分布を高精度に
検出することが出来、被測定物の回転状態や移動状態等
を常に安定して高精度に求めることのできるエンコーダ
の提供を目的とする。
ーダを更に改良し、回折格子から生ずる複数の回折光を
互いに干渉させて形成した干渉縞の強度分布を高精度に
検出することが出来、被測定物の回転状態や移動状態等
を常に安定して高精度に求めることのできるエンコーダ
の提供を目的とする。
(問題点を解決するための手段)
光源からの可干渉光を移動可能な回折格子に導光し、該
回折格子からの複数の回折光を重ね合わせ、該重ね合わ
した光束を受光手段で受光し、該受光手段からの出力信
号を利用して該回折格子の移動状態を検出する際、前記
重ね合わされた光束の少なくとも一部の強度を検出し、
検出結果に応じて得られる信号に基づいて制御手段によ
り前記光源からの出力光量を制御したことである。
回折格子からの複数の回折光を重ね合わせ、該重ね合わ
した光束を受光手段で受光し、該受光手段からの出力信
号を利用して該回折格子の移動状態を検出する際、前記
重ね合わされた光束の少なくとも一部の強度を検出し、
検出結果に応じて得られる信号に基づいて制御手段によ
り前記光源からの出力光量を制御したことである。
(実86例)
第1図は本発明の−・実施例の主要部をブロック化した
概略図、第2図は本発明をロータリーエンコーダに適用
したときの一実施例の光学系の概略図である。
概略図、第2図は本発明をロータリーエンコーダに適用
したときの一実施例の光学系の概略図である。
第1図、第2図においてlは光源(例えば半導体レーザ
ー等の可干渉性を有するレーザー)、2は光源1から出
射する光束を平行光束にするコリメータレンズ、3は2
個の台形プリズム31゜32を貼合わせてなる光学部品
、4は第1光分割手段であり光学部品3の貼合わせ面よ
り成り、偏光ビームスプリッタと同機能の光分割面を行
っている。5及び7は第1光学手段としての反射鏡、6
は被測定回転物体としての回転円板上に設けた放射格子
(回折格子)、8及び10は1/4波長板である。9及
び11は反射手段であり、例えばキャッツアイ光学系か
らなっている。12は174波長板、13は光分割器、
14及び16は偏光板515及び17は第1受光手段と
しての受光素子である。又、0は放射格子6の中心、M
I。
ー等の可干渉性を有するレーザー)、2は光源1から出
射する光束を平行光束にするコリメータレンズ、3は2
個の台形プリズム31゜32を貼合わせてなる光学部品
、4は第1光分割手段であり光学部品3の貼合わせ面よ
り成り、偏光ビームスプリッタと同機能の光分割面を行
っている。5及び7は第1光学手段としての反射鏡、6
は被測定回転物体としての回転円板上に設けた放射格子
(回折格子)、8及び10は1/4波長板である。9及
び11は反射手段であり、例えばキャッツアイ光学系か
らなっている。12は174波長板、13は光分割器、
14及び16は偏光板515及び17は第1受光手段と
しての受光素子である。又、0は放射格子6の中心、M
I。
M2は放射格子6の周囲上の任意の点を示す。
21は回折光干渉手段でコリメータレンズ2から1/4
波長板12までの各要素を1つにまとめてブロック化し
たものである。22は第2光分割手段でありハーフミラ
−から成っている。23は第2受光手段、24は制御手
段である。
波長板12までの各要素を1つにまとめてブロック化し
たものである。22は第2光分割手段でありハーフミラ
−から成っている。23は第2受光手段、24は制御手
段である。
本実施例ては光[1より放射される光束をコリメータレ
ンズ2によって平行光束とし、光学部品3をなす台形プ
リズム3.の斜面で反射させた後、光分割面4へ所定の
角度で入射するように指向する。光分割面4に入射した
光束は略1:1の比率で反射光束と透過光束の2つの直
線偏光光束に分割される。尚、光源1の光束は光分割面
4の直交偏波面に対゛し、所定の方向(通常450)の
直線偏光に設定されている。
ンズ2によって平行光束とし、光学部品3をなす台形プ
リズム3.の斜面で反射させた後、光分割面4へ所定の
角度で入射するように指向する。光分割面4に入射した
光束は略1:1の比率で反射光束と透過光束の2つの直
線偏光光束に分割される。尚、光源1の光束は光分割面
4の直交偏波面に対゛し、所定の方向(通常450)の
直線偏光に設定されている。
分割された2光束は台形プリズム3..32内で各々2
度反射し、光学部品3を出射し反射鏡5又は7により放
射格子6の所定の位置M1及びM2へ所定の入射角で入
射する。放射格子6で回折した透過回折光のうち特定状
°数の回折光を、1/4波長板8、又は10を介して反
射手段9、又は11により反射させ、同一光路を逆行さ
せる。そして、放射格子6の略凹−位置M1及びM2へ
再入射させ、ここで再回折された特定次数の回折光を反
射鏡5、又は7で反射させ同一光路を逆行させ、光学部
品3で内面反射を繰り返し、光分割面4へ導光している
。ここでの光束は反射手段9、又は11で反射される前
後で2度174波長板を通過する為、偏光方位は放射格
子6へ入射する前とは各々90°異なっている。従って
、第2光学手段を兼ねる光分割面4で先に反射側であっ
た光束が今度は透過し、透過側であった光束が今度は反
射して重なり合い干渉縞を形成し光学部品3で内面反射
して174波長板12へ入射される。174波長板12
を通過した光束は同偏光となる。
度反射し、光学部品3を出射し反射鏡5又は7により放
射格子6の所定の位置M1及びM2へ所定の入射角で入
射する。放射格子6で回折した透過回折光のうち特定状
°数の回折光を、1/4波長板8、又は10を介して反
射手段9、又は11により反射させ、同一光路を逆行さ
せる。そして、放射格子6の略凹−位置M1及びM2へ
再入射させ、ここで再回折された特定次数の回折光を反
射鏡5、又は7で反射させ同一光路を逆行させ、光学部
品3で内面反射を繰り返し、光分割面4へ導光している
。ここでの光束は反射手段9、又は11で反射される前
後で2度174波長板を通過する為、偏光方位は放射格
子6へ入射する前とは各々90°異なっている。従って
、第2光学手段を兼ねる光分割面4で先に反射側であっ
た光束が今度は透過し、透過側であった光束が今度は反
射して重なり合い干渉縞を形成し光学部品3で内面反射
して174波長板12へ入射される。174波長板12
を通過した光束は同偏光となる。
この光束のうち一部はハーフミラ−22で反射して第2
受光手段23に入射し、残りの光束は通過する。そして
ハーフミラ−22を通過した光束は光分割器13で2分
割され各々偏光方位を異ならせて配置した偏光板14、
又は16を介し直線偏光として受光素子15、又は17
にて2光束による干渉縞の強度を受光し、偏光板14及
び16の方位に応した位相差をもった2相信号を得てい
る。
受光手段23に入射し、残りの光束は通過する。そして
ハーフミラ−22を通過した光束は光分割器13で2分
割され各々偏光方位を異ならせて配置した偏光板14、
又は16を介し直線偏光として受光素子15、又は17
にて2光束による干渉縞の強度を受光し、偏光板14及
び16の方位に応した位相差をもった2相信号を得てい
る。
本実Mi例において被測定回転物体が放射格子6Q)1
ピッチ分たけ回転するとm次の回折光の位相は2nπだ
け変化する。同様に放射格子6により再回折されたn次
の回折光の位相は2nπだけ変化する。これにより全体
として受光素子15゜17からは(2m−2n)個の正
弦波形が得られる。本実施例ではこのときの正弦波形を
検出することにより放射格子6の回転量を測定している
。
ピッチ分たけ回転するとm次の回折光の位相は2nπだ
け変化する。同様に放射格子6により再回折されたn次
の回折光の位相は2nπだけ変化する。これにより全体
として受光素子15゜17からは(2m−2n)個の正
弦波形が得られる。本実施例ではこのときの正弦波形を
検出することにより放射格子6の回転量を測定している
。
例えば放射格子6のピッチが3.2μm、位置M、及び
M2から得られる回折光として1次及び−1次を利用し
たとすれば回転物体がピッチの3.2μm分だけ回転し
たとき受光素子15.17からは4個の正弦波形が得ら
れる。即ち、正弦波形1個当たりの分解能として回折格
子1ピツチの174の3.2/4 =0.8μmが得ら
れる。
M2から得られる回折光として1次及び−1次を利用し
たとすれば回転物体がピッチの3.2μm分だけ回転し
たとき受光素子15.17からは4個の正弦波形が得ら
れる。即ち、正弦波形1個当たりの分解能として回折格
子1ピツチの174の3.2/4 =0.8μmが得ら
れる。
本実施例では光分割器13により光束を2分割し各々の
光束間に90度の位相差をつけることにより回転物体の
回転方向も判別出来るようにしている。
光束間に90度の位相差をつけることにより回転物体の
回転方向も判別出来るようにしている。
尚、回転量のみを測定するのであれば光分割器13、偏
光板14.16及び一方の受光手段は不要である。又、
正弦波形周波数を計測することにより容易に回転物体の
回転速度を求めることもできる。
光板14.16及び一方の受光手段は不要である。又、
正弦波形周波数を計測することにより容易に回転物体の
回転速度を求めることもできる。
本実施例では回転中心に対して略点対称の2つの位置M
+ 、 M 2からの回折光を利用することにより回
転物体の回転中心と放射格子の中心Oとの偏心による測
定誤差を軽減させている。
+ 、 M 2からの回折光を利用することにより回
転物体の回転中心と放射格子の中心Oとの偏心による測
定誤差を軽減させている。
尚、本実施例に於る構成は略点対称な2点からの回折光
を利用しているわけであるが、略点対称に限らず複数の
位置からの回折光を用いることにより路間等の効果を得
ることが出来る。
を利用しているわけであるが、略点対称に限らず複数の
位置からの回折光を用いることにより路間等の効果を得
ることが出来る。
本実施例に係るロータリーエンコーダでは製造誤差等に
より放射格子6の回折効率が異なってくる場合があり、
又、光源に半導体レーザーな用l/Xだ場合にはその波
長が温度により変化したり、周囲温度の変化に伴って出
力振幅が変動しくる場合がある。そうすると受光素子1
5.17からの出力信号は例えば第3図に示すように変
化してくる。
より放射格子6の回折効率が異なってくる場合があり、
又、光源に半導体レーザーな用l/Xだ場合にはその波
長が温度により変化したり、周囲温度の変化に伴って出
力振幅が変動しくる場合がある。そうすると受光素子1
5.17からの出力信号は例えば第3図に示すように変
化してくる。
そこで本実施例ては光分割器22を介して光束の一部を
モニタ用の受光素子23で受光し、該受光素子23から
の出力信号に基づいて制御手段24により光源1からの
出力光量を制御し、受光素子15.17においては、例
えば第4図に示すように常に安定した状態で出力信号が
得られるようにしている。
モニタ用の受光素子23で受光し、該受光素子23から
の出力信号に基づいて制御手段24により光源1からの
出力光量を制御し、受光素子15.17においては、例
えば第4図に示すように常に安定した状態で出力信号が
得られるようにしている。
次に本実施例に係る制御手段24により光源1の出力光
量を制御する場合の一実施例を説明する。
量を制御する場合の一実施例を説明する。
第5図〜第8図は本発明に係る制御手段により光源から
の出力光はを制御するときの一実施例の回路図である。
の出力光はを制御するときの一実施例の回路図である。
第5図において光源1(例えばレーザーダイオード)に
は電ttlを流して発光させている。そしてこのときの
電流■を上記のモニタ用の受光素子23の光電流の大き
さによって制御している。
は電ttlを流して発光させている。そしてこのときの
電流■を上記のモニタ用の受光素子23の光電流の大き
さによって制御している。
即ち、受光素子23に入射される光量か増加すると電流
Iを低下させて光量を減じ、又、受光素子23に入射さ
れる光量が減少すると電流■を増大させて光量を増すよ
うに構成している。
Iを低下させて光量を減じ、又、受光素子23に入射さ
れる光量が減少すると電流■を増大させて光量を増すよ
うに構成している。
このように構成することによって、受光素子15(17
)の前の偏光板14(16)に入射される光量は常に一
定の強さに保たれ、従って受光素子15 (17)から
は、例えば第4図に示すように振幅の安定した信号を取
出すことができる。
)の前の偏光板14(16)に入射される光量は常に一
定の強さに保たれ、従って受光素子15 (17)から
は、例えば第4図に示すように振幅の安定した信号を取
出すことができる。
第6図は光源1に流れる電流Iを制御するための一実施
例である。同図においてA、、A2は演算増幅器、Q、
はトランジスタ、PD、はモニタ用の受光素子23、L
D、は光源1(レーザーダイオード)、RI〜R4は抵
抗器である。又、VREFは基準電圧、vcoは電源を
示す。受光素子PD、で生じる光電流で抵抗R1に発生
した電圧は演算増幅器A1で増幅される。演算増幅器A
2、トランジスタQ1.抵抗R2,R3は反転増幅器を
構成しており、A、出力を増幅する。モニタ光の光量が
増加すると受光素子PD、の電流が増加しA、出力が上
昇し、逆にA2出力が低下する。
例である。同図においてA、、A2は演算増幅器、Q、
はトランジスタ、PD、はモニタ用の受光素子23、L
D、は光源1(レーザーダイオード)、RI〜R4は抵
抗器である。又、VREFは基準電圧、vcoは電源を
示す。受光素子PD、で生じる光電流で抵抗R1に発生
した電圧は演算増幅器A1で増幅される。演算増幅器A
2、トランジスタQ1.抵抗R2,R3は反転増幅器を
構成しており、A、出力を増幅する。モニタ光の光量が
増加すると受光素子PD、の電流が増加しA、出力が上
昇し、逆にA2出力が低下する。
従って、抵抗R4、光源L D +を流れる電流が減少
し、光h1を減少させる。逆にモニタ光量が減少すると
A2出力が上昇し、光源1を流れる電流を増加させる。
し、光h1を減少させる。逆にモニタ光量が減少すると
A2出力が上昇し、光源1を流れる電流を増加させる。
こうしてモニタ光が常に一定になるよう光源を流れる電
流が制御され、出力波形は第4図にように安定化される
。この例の場合、通常AIの増幅度は非常に大きいので
、A1の非反転入力端子はほぼV REFと同じ電圧で
安定となる。即ち、受光素子PD、の電流がV REP
/ R+となる光量で安定する。従って抵抗R1を可
変としておくことによって光量の調整を行うことができ
る。
流が制御され、出力波形は第4図にように安定化される
。この例の場合、通常AIの増幅度は非常に大きいので
、A1の非反転入力端子はほぼV REFと同じ電圧で
安定となる。即ち、受光素子PD、の電流がV REP
/ R+となる光量で安定する。従って抵抗R1を可
変としておくことによって光量の調整を行うことができ
る。
尚、上記の例では受光素子PD、に入射されるモニタ光
が何らかの理由により遮断されたり、抵抗R1が極端に
小さな値になっていたりすると光源により大きな電流を
流そうとし、光源を破壊してしまう可能性がある。従っ
て、例えば第7図に示すように電圧■1がある値以上に
ならないように保護手段を設けるのが良い。この場合は
電圧■、が定電圧ダイオードZD、のツェナー電圧で制
限される。
が何らかの理由により遮断されたり、抵抗R1が極端に
小さな値になっていたりすると光源により大きな電流を
流そうとし、光源を破壊してしまう可能性がある。従っ
て、例えば第7図に示すように電圧■1がある値以上に
ならないように保護手段を設けるのが良い。この場合は
電圧■、が定電圧ダイオードZD、のツェナー電圧で制
限される。
第8図は第6図の回路に第7図の回路を適用したときの
回路図である。この場合、Qlのエミッタに直接定電圧
ダイオードを接続するとQlから定電圧ダイオードに大
電流が流れるおそれがある為、Qlのペース側で対応し
ている。抵抗R5と定電圧ダイオードZD、がそれであ
り、Q、のベース電圧はZD、のツェナー電圧で制限さ
れ、光源の破壊を防止している。
回路図である。この場合、Qlのエミッタに直接定電圧
ダイオードを接続するとQlから定電圧ダイオードに大
電流が流れるおそれがある為、Qlのペース側で対応し
ている。抵抗R5と定電圧ダイオードZD、がそれであ
り、Q、のベース電圧はZD、のツェナー電圧で制限さ
れ、光源の破壊を防止している。
尚、以上の実施例ではロータリーエンコーダについて説
明したが、本発明の技術的思想はそのままリニアエンコ
ーダに適用することができる。
明したが、本発明の技術的思想はそのままリニアエンコ
ーダに適用することができる。
(発明の効果)
本発明によれば受光手段の前方に光量をモニタする受光
手段を設け、該受光手段からの出力信号を利用し、光源
からの出力光量を制御することにより、回折格子の製造
誤差や光源の温度依存性、波長依存性等から生ずる検出
誤差を極めて少なくした高精度の検出が可能なエンコー
ダを達成することができる。
手段を設け、該受光手段からの出力信号を利用し、光源
からの出力光量を制御することにより、回折格子の製造
誤差や光源の温度依存性、波長依存性等から生ずる検出
誤差を極めて少なくした高精度の検出が可能なエンコー
ダを達成することができる。
第1図は本発明の一実施例の主要部をブロック化した概
略図、第2図は本発明をロータリーエンコータに適用し
たときの一実施例の概略図、第3図は従来のロータリー
エンコーダにおいて得られる出力信号の説明図、第4図
は第2図のロータリーエンコーダにおいて得られる出力
信号の説明図、第5.第6.第7.第8図は本発明に係
る制御手段による光源からの出力光量を制御するときの
一実施例の回路図である。 図中、1は光源、2はコリメータルンズ、3は光学部品
、4は第1光分割手段、5.7は反射鏡、6は放射格子
、8,10.12はI74波長板、9,11は反射手段
、13は光分割器、14.16は偏光板、16,17.
23は受光素子、24は制御手段である。 % 1 図 三カベ3号 夷 4 回 時暦 皐 、2 圏 第 6 回 cc 夷 7 反 第 8 ロ
略図、第2図は本発明をロータリーエンコータに適用し
たときの一実施例の概略図、第3図は従来のロータリー
エンコーダにおいて得られる出力信号の説明図、第4図
は第2図のロータリーエンコーダにおいて得られる出力
信号の説明図、第5.第6.第7.第8図は本発明に係
る制御手段による光源からの出力光量を制御するときの
一実施例の回路図である。 図中、1は光源、2はコリメータルンズ、3は光学部品
、4は第1光分割手段、5.7は反射鏡、6は放射格子
、8,10.12はI74波長板、9,11は反射手段
、13は光分割器、14.16は偏光板、16,17.
23は受光素子、24は制御手段である。 % 1 図 三カベ3号 夷 4 回 時暦 皐 、2 圏 第 6 回 cc 夷 7 反 第 8 ロ
Claims (2)
- (1)光源からの可干渉光を移動可能な回折格子に導光
し、該回折格子からの複数の回折光を重ね合わせ、該重
ね合わした光束を受光手段で受光し、該受光手段からの
出力信号を利用して該回折格子の移動状態を検出する際
、前記重ね合わされた光束の少なくとも一部の強度を検
出し、検出結果に応じて得られる信号に基づいて制御手
段により前記光源からの出力光量を制御したことを特徴
とするエンコーダ。 - (2)前記制御手段は前記光源から出力される光量が予
め設定した値以上にならないようにした保護手段を有し
ていることを特徴とする請求項1記載のエンコーダ。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63057865A JPH01232214A (ja) | 1988-03-11 | 1988-03-11 | エンコーダ |
US07/321,155 US4912320A (en) | 1988-03-11 | 1989-03-09 | Optical type encoder including diffraction grating for producing interference fringes that are processed to measure displacement |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63057865A JPH01232214A (ja) | 1988-03-11 | 1988-03-11 | エンコーダ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01232214A true JPH01232214A (ja) | 1989-09-18 |
Family
ID=13067885
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63057865A Pending JPH01232214A (ja) | 1988-03-11 | 1988-03-11 | エンコーダ |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4912320A (ja) |
JP (1) | JPH01232214A (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2586120B2 (ja) * | 1988-09-22 | 1997-02-26 | キヤノン株式会社 | エンコーダー |
JP2629948B2 (ja) * | 1989-03-03 | 1997-07-16 | キヤノン株式会社 | エンコーダー |
JP2697919B2 (ja) * | 1989-09-29 | 1998-01-19 | キヤノン株式会社 | 信号内挿回路及び該回路を備えた変位測定装置 |
JP2683117B2 (ja) * | 1989-10-31 | 1997-11-26 | キヤノン株式会社 | エンコーダー |
JP3937596B2 (ja) | 1998-06-16 | 2007-06-27 | キヤノン株式会社 | 変位情報測定装置 |
US6188484B1 (en) | 1998-10-29 | 2001-02-13 | Maxtor Corporation | Method and apparatus for measuring angular displacement of an actuator arm relative to a reference position |
CN105758312B (zh) * | 2016-04-07 | 2018-10-19 | 广东工业大学 | 一种绝对式光栅尺及其条纹边界定位方法 |
Citations (4)
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JPS5851211B2 (ja) * | 1976-06-14 | 1983-11-15 | エヌ・テ−・エヌ東洋ベアリング株式会社 | 圧力計用緩衝継手 |
JPS60135818A (ja) * | 1983-12-26 | 1985-07-19 | Toshiba Corp | 光電式検出回路 |
JPS61233305A (ja) * | 1985-04-09 | 1986-10-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 位置検出装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4360730A (en) * | 1980-10-16 | 1982-11-23 | Itek Corporation | Encoder alignment method and apparatus |
JPH0621801B2 (ja) * | 1985-07-03 | 1994-03-23 | キヤノン株式会社 | ロ−タリ−エンコ−ダ− |
JPS6347616A (ja) * | 1986-08-15 | 1988-02-29 | Ricoh Co Ltd | 移動量測定方法 |
-
1988
- 1988-03-11 JP JP63057865A patent/JPH01232214A/ja active Pending
-
1989
- 1989-03-09 US US07/321,155 patent/US4912320A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS5851211B2 (ja) * | 1976-06-14 | 1983-11-15 | エヌ・テ−・エヌ東洋ベアリング株式会社 | 圧力計用緩衝継手 |
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JPS61233305A (ja) * | 1985-04-09 | 1986-10-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 位置検出装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4912320A (en) | 1990-03-27 |
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