JP7151081B2 - liquid crystal display element - Google Patents
liquid crystal display element Download PDFInfo
- Publication number
- JP7151081B2 JP7151081B2 JP2017254522A JP2017254522A JP7151081B2 JP 7151081 B2 JP7151081 B2 JP 7151081B2 JP 2017254522 A JP2017254522 A JP 2017254522A JP 2017254522 A JP2017254522 A JP 2017254522A JP 7151081 B2 JP7151081 B2 JP 7151081B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mass
- less
- group
- formula
- liquid crystal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims description 130
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 458
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 193
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 107
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 77
- -1 amine compound Chemical class 0.000 claims description 58
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 34
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 34
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 33
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 claims description 16
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 12
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 11
- 125000004955 1,4-cyclohexylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[*:2] 0.000 claims description 9
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 9
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 140
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 61
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 42
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 32
- 239000010408 film Substances 0.000 description 31
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 24
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 19
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 19
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 15
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 15
- 230000004044 response Effects 0.000 description 15
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 13
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 12
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 11
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 11
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 9
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 9
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000000876 trifluoromethoxy group Chemical group FC(F)(F)O* 0.000 description 6
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 5
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 5
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000005407 trans-1,4-cyclohexylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])[C@]([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[C@@]1([H])[*:1] 0.000 description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical group 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 3
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 3
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical group CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004206 2,2,2-trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 2
- 125000005449 2-fluoro-1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([*:2])C([H])=C(F)C([*:1])=C1[H] 0.000 description 2
- MGADZUXDNSDTHW-UHFFFAOYSA-N 2H-pyran Chemical compound C1OC=CC=C1 MGADZUXDNSDTHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005653 3,5-difluoro-1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C(F)C([*:2])=C(F)C([H])=C1[*:1] 0.000 description 2
- 125000005451 3-fluoro-1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([*:1])C([H])=C(F)C([*:2])=C1[H] 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- FHKPLLOSJHHKNU-INIZCTEOSA-N [(3S)-3-[8-(1-ethyl-5-methylpyrazol-4-yl)-9-methylpurin-6-yl]oxypyrrolidin-1-yl]-(oxan-4-yl)methanone Chemical compound C(C)N1N=CC(=C1C)C=1N(C2=NC=NC(=C2N=1)O[C@@H]1CN(CC1)C(=O)C1CCOCC1)C FHKPLLOSJHHKNU-INIZCTEOSA-N 0.000 description 2
- JAWMENYCRQKKJY-UHFFFAOYSA-N [3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-ylmethyl)-1-oxa-2,8-diazaspiro[4.5]dec-2-en-8-yl]-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]methanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CC1=NOC2(C1)CCN(CC2)C(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F JAWMENYCRQKKJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 125000004786 difluoromethoxy group Chemical group [H]C(F)(F)O* 0.000 description 2
- 125000004785 fluoromethoxy group Chemical group [H]C([H])(F)O* 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005450 2,3-difluoro-1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([*:2])C(F)=C(F)C([*:1])=C1[H] 0.000 description 1
- DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 6-[3-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperidin-1-yl]-3-oxopropyl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1CCN(CC1)C(CCC1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1)=O DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N N-[1-oxo-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propan-2-yl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(C(C)NC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
Description
本発明は、液晶表示素子に関する。 The present invention relates to liquid crystal display elements.
液晶表示素子の駆動方式の一つとして、IPS(In-Plane Switching)モード、FFS(Fringe Field Switching)モード等の横電界駆動が挙げられる。横電界駆動では、液晶表示素子を構成する基板に対して平行方向の電界を印加することにより、液晶分子にねじれを発生させている。 Horizontal electric field driving such as an IPS (In-Plane Switching) mode, an FFS (Fringe Field Switching) mode, and the like can be cited as one of driving methods for liquid crystal display elements. In horizontal electric field driving, twist is generated in the liquid crystal molecules by applying an electric field in a parallel direction to the substrates constituting the liquid crystal display element.
液晶表示素子には種々の特性が要求されるが、焼き付きの抑制はその要求特性の一つである(例えば特許文献1)。横電界駆動の液晶表示素子においては、焼き付きが発生する原因として、ツイスト角のシフトが挙げられる。つまり、液晶表示素子の駆動に伴って、電界の印加によりねじれた液晶分子が、電界を印加していない状態で初期のツイスト角にまで戻らなくなってしまうことで、焼き付きが発生する。 Liquid crystal display devices are required to have various properties, and suppression of burn-in is one of the required properties (for example, Patent Document 1). In a lateral electric field driven liquid crystal display element, a twist angle shift is one of the causes of burn-in. That is, when the liquid crystal display element is driven, the liquid crystal molecules that are twisted by the application of an electric field do not return to the initial twist angle when no electric field is applied, and burn-in occurs.
本発明者らの検討によれば、ツイスト角のシフトは、液晶表示素子における電極間距離が短いほど顕著に生じることが判明した。具体的には、例えばIPSモードの場合、基板上の同一面内に共通電極及び画素電極が設けられるが、共通電極と画素電極との間の距離が短い(20μm未満である)場合に、ツイスト角のシフトが生じやすい。また、例えばFFSモードの場合、基板上の同一面内に複数の画素電極が設けられるが、画素電極間の距離が短い(20μm未満である)場合に、ツイスト角のシフトが生じやすい。 According to studies by the inventors of the present invention, it has been found that the twist angle shift occurs more remarkably as the distance between the electrodes in the liquid crystal display element becomes shorter. Specifically, for example, in the IPS mode, the common electrode and the pixel electrode are provided in the same plane on the substrate. Angular shift is likely to occur. Further, in the case of the FFS mode, for example, a plurality of pixel electrodes are provided in the same plane on the substrate, and if the distance between the pixel electrodes is short (less than 20 μm), the twist angle tends to shift.
そこで、本発明は、電極間距離が短い液晶表示素子において、ツイスト角のシフトを抑制することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to suppress the shift of the twist angle in a liquid crystal display element having a short inter-electrode distance.
[1] 一対の基板と、一対の基板間に配置された液晶層とを備え、一対の基板の一方の基板上に、複数の共通電極及び画素電極が形成されており、複数の共通電極及び画素電極のうち、一方の基板上の同一面内に形成されている二つの電極間の最短距離が20μm未満であり、液晶層がヒンダードアミン化合物を含む、液晶表示素子。
[2] ヒンダードアミン化合物が、下記式(1)で表される化合物である、[1]に記載の液晶表示素子。
[式中、R1は、水素原子、-O・、-OH、又は炭素原子数1~12のアルキル基を表し、該アルキル基中に存在する1個又は2個以上の-CH2-は、それぞれ独立して、-O-、-S-、-CH=CH-、-C≡C-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-OCF2-、又は-CF2O-に置換されていてもよく、R2、R3、R4及びR5は、それぞれ独立して、炭素原子数1~8のアルキル基を表し、該アルキル基中に存在する1個又は2個以上の-CH2-は、それぞれ独立して、-O-、-S-、-CH=CH-、-C≡C-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-OCF2-、又は-CF2O-に置換されていてもよく、R2及びR3は互いに結合して環を形成していてもよく、R4及びR5は互いに結合して環を形成していてもよく、R6及びR7は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数1~6のアルキル基を表し、該アルキル基中に存在する1個又は2個以上の-CH2-は、それぞれ独立して、-O-、-S-、-CH=CH-、-C≡C-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-OCF2、-又は-CF2O-に置換されていてもよく、R8は、水素原子又は1価の有機基を表し、該1価の有機基はM1に結合して環を形成してもよく、M1は、n価の有機基を表し、mは、0~2の整数を表し、nは、1~6の整数を表し、nが2~6の整数である場合、複数存在するR1~R7は、それぞれ互いに同一であっても異なっていてもよい。]
[3] 液晶層中のヒンダードアミン化合物の濃度が10~2000質量ppmである、[1又は2]に記載の液晶表示素子。
[1] A pair of substrates and a liquid crystal layer disposed between the pair of substrates, wherein a plurality of common electrodes and pixel electrodes are formed on one substrate of the pair of substrates; 1. A liquid crystal display device, wherein the shortest distance between two pixel electrodes formed in the same plane on one substrate is less than 20 μm, and the liquid crystal layer contains a hindered amine compound.
[2] The liquid crystal display element according to [1], wherein the hindered amine compound is a compound represented by the following formula (1).
[In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, -O., -OH, or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and one or more -CH 2 - present in the alkyl group is , -O-, -S-, -CH=CH-, -C≡C-, -CO-, -CO-O-, -O-CO-, -OCF 2 -, or -CF 2 O—, R 2 , R 3 , R 4 and R 5 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and one or two or more —CH 2 — are each independently —O—, —S—, —CH═CH—, —C≡C—, —CO—, —CO—O—, —O—CO -, -OCF 2 -, or -CF 2 O-, R 2 and R 3 may be bonded together to form a ring, and R 4 and R 5 are bonded together A ring may be formed, and R 6 and R 7 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and one or more of -CH 2 - each independently represents -O-, -S-, -CH=CH-, -C≡C-, -CO-, -CO-O-, -O-CO-, -OCF 2 , — or —CF 2 O—, R 8 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and the monovalent organic group may be bonded to M 1 to form a ring. Well, M 1 represents an n-valent organic group, m represents an integer of 0 to 2, n represents an integer of 1 to 6, and when n is an integer of 2 to 6, a plurality of R 1 to R 7 may be the same or different from each other. ]
[3] The liquid crystal display element according to [1 or 2], wherein the concentration of the hindered amine compound in the liquid crystal layer is 10 to 2000 mass ppm.
[4] 液晶層が、下記式(L)で表される化合物を更に含有する、[1]~[3]のいずれかに記載の液晶表示素子。
[式(L)中、RL1及びRL2は、それぞれ独立して炭素原子数1~8のアルキル基を表し、該アルキル基中の1個又は隣接していない2個以上の-CH2-は、それぞれ独立して、-CH=CH-、-C≡C-、-O-、-CO-、-COO-又は-OCO-によって置換されていてもよく、nL1は、0、1、2又は3を表し、AL1、AL2及びAL3は、それぞれ独立して、(a) 1,4-シクロヘキシレン基(この基中に存在する1個の-CH2-又は隣接していない2個以上の-CH2-は-O-に置換されてもよい。)、(b) 1,4-フェニレン基(この基中に存在する1個の-CH=又は隣接していない2個以上の-CH=は-N=に置換されてもよい。)、及び
(c) (c)ナフタレン-2,6-ジイル基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基又はデカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基(ナフタレン-2,6-ジイル基又は1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基中に存在する1個の-CH=又は隣接していない2個以上の-CH=は-N=に置換されてもよい。)からなる群より選ばれる基を表し、の基(a)、基(b)及び基(c)は、それぞれ独立してシアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていてもよく、ZL1及びZL2は、それぞれ独立して、単結合、-CH2CH2-、-(CH2)4-、-OCH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-、-OCF2-、-CF2O-、-CH=N-N=CH-、-CH=CH-、-CF=CF-又は-C≡C-を表し、nL1が2又は3であってAL2が複数存在する場合は、それらは互いに同一であっても異なっていてもよく、nL1が2又は3であってZL2が複数存在する場合は、それらは互いに同一であっても異なっていてもよい。]
[5] 液晶層が、下記式(L-1-3)で表される化合物を更に含有する、[1]~[4]のいずれかに記載の液晶表示素子。
[式中、RL13及びRL14は、それぞれ独立して、炭素原子数1~8のアルキル基、炭素原子数1~8のアルキル基、又は炭素原子数1~8のアルコキシ基を表す。]
[4] The liquid crystal display element according to any one of [1] to [3], wherein the liquid crystal layer further contains a compound represented by the following formula (L).
[In the formula (L), R L1 and R L2 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and one or two or more non-adjacent -CH 2 - are each independently optionally substituted by -CH=CH-, -C≡C-, -O-, -CO-, -COO- or -OCO-, and n L1 is 0, 1, 2 or 3, and A L1 , A L2 and A L3 are each independently (a) a 1,4-cyclohexylene group (one —CH 2 — present in this group or non-adjacent (b) 1,4-phenylene group (one —CH= present in this group or two non-adjacent The above —CH= may be substituted with —N=.), and (c) (c) naphthalene-2,6-diyl group, 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,6-diyl or decahydronaphthalene-2,6-diyl group (one —CH= present in the naphthalene-2,6-diyl group or 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,6-diyl group, or Two or more -CH= that are not adjacent may be substituted with -N=.) represents a group selected from the group consisting of: group (a), group (b) and group (c) each independently optionally substituted with a cyano group, a fluorine atom or a chlorine atom, and Z L1 and Z L2 each independently represent a single bond, —CH 2 CH 2 —, —(CH 2 ) 4 —, -OCH 2 -, -CH 2 O-, -COO-, -OCO-, -OCF 2 -, -CF 2 O-, -CH=N-N=CH-, -CH=CH-, -CF=CF - or -C≡C-, when n L1 is 2 or 3 and there are a plurality of A L2 , they may be the same or different, and n L1 is 2 or 3 When there is more than one Z L2 in , they may be the same or different. ]
[5] The liquid crystal display element according to any one of [1] to [4], wherein the liquid crystal layer further contains a compound represented by the following formula (L-1-3).
[In the formula, R L13 and R L14 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms. ]
[6] 液晶層が、下記式(N-1)、(N-2)、(N-3)又は(N-4)で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物を更に含有する、[1]~[5]のいずれかに記載の液晶表示素子。
[式(N-1)、(N-2)、(N-3)及び(N-4)中、
RN11、RN12、RN21、RN22、RN31、RN32、RN41及びRN42は、それぞれ独立して、炭素原子数1~8のアルキル基を表し、該アルキル基中の1個又は隣接していない2個以上の-CH2-は、それぞれ独立して、-CH=CH-、-C≡C-、-O-、-CO-、-COO-又は-OCO-によって置換されていてもよく、
AN11、AN12、AN21、AN22、AN31、AN32、AN41及びAN42は、それぞれ独立して、
(a) 1,4-シクロヘキシレン基(この基中に存在する1個の-CH2-又は隣接していない2個以上の-CH2-は-O-に置換されていてもよい。)、
(b) 1,4-フェニレン基(この基中に存在する1個の-CH=又は隣接していない2個以上の-CH=は-N=に置換されていてもよい。)、
(c) ナフタレン-2,6-ジイル基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基又はデカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基(ナフタレン-2,6-ジイル基又は1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基中に存在する1個の-CH=又は隣接していない2個以上の-CH=は-N=に置換されていてもよい。)及び
(d) 1,4-シクロヘキセニレン基
からなる群より選ばれる基を表し、基(a)、基(b)、基(c)及び基(d)中の水素原子は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていてもよく、
ZN11、ZN12、ZN21、ZN22、ZN31、ZN32、ZN41及びZN42は、それぞれ独立して、単結合、-CH2CH2-、-(CH2)4-、-OCH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-、-OCF2-、-CF2O-、-CH=N-N=CH-、-CH=CH-、-CF=CF-、又は-C≡C-を表し、
XN21は、水素原子又はフッ素原子を表し、
TN31は、-CH2-又は酸素原子を表し、
XN41は、酸素原子、窒素原子、又は-CH2-を表し、
YN41は、単結合又は-CH2-を表し、
nN11、nN12、nN21、nN22、nN31、nN32、nN41、及びnN42は、それぞれ独立して0~3の整数を表すが、nN11+nN12、nN21+nN22及びnN31+nN32は、それぞれ独立して1、2又は3であり、AN11~AN32及びZN11~ZN32がそれぞれ複数存在する場合は、それらは互いに同一であっても異なっていてもよく、nN41+nN42は0~3の整数を表すが、AN41、AN42、ZN41及びZN42がそれぞれ複数存在する場合は、それらは互いに同一であっても異なっていてもよい。]
[7] 液晶層が、ヒンダードフェノール化合物を含有する、[1]~[6]のいずれかに記載の液晶表示素子。
[6] The liquid crystal layer further contains at least one compound selected from the group consisting of compounds represented by the following formulas (N-1), (N-2), (N-3) or (N-4): The liquid crystal display element according to any one of [1] to [5].
[In the formulas (N-1), (N-2), (N-3) and (N-4),
R N11 , R N12 , R N21 , R N22 , R N31 , R N32 , R N41 and R N42 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and one or two or more —CH 2 — that are not adjacent are each independently substituted with —CH═CH—, —C≡C—, —O—, —CO—, —COO— or —OCO—; may be
A N11 , A N12 , A N21 , A N22 , A N31 , A N32 , A N41 and A N42 are each independently
(a) 1,4-cyclohexylene group (one -CH 2 - present in this group or two or more non-adjacent -CH 2 - may be substituted with -O-); ,
(b) a 1,4-phenylene group (one -CH= or two or more non-adjacent -CH= present in this group may be substituted with -N=),
(c) naphthalene-2,6-diyl group, 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,6-diyl group or decahydronaphthalene-2,6-diyl group (naphthalene-2,6-diyl group or One -CH= or two or more non-adjacent -CH= present in the 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,6-diyl group may be substituted with -N= ) and (d) represents a group selected from the group consisting of 1,4-cyclohexenylene groups, and the hydrogen atoms in group (a), group (b), group (c) and group (d) are each independently optionally substituted with a cyano group, a fluorine atom or a chlorine atom,
Z N11 , Z N12 , Z N21 , Z N22 , Z N31 , Z N32 , Z N41 and Z N42 are each independently a single bond, —CH 2 CH 2 —, —(CH 2 ) 4 —, —OCH 2- , -CH 2 O-, -COO-, -OCO-, -OCF 2 -, -CF 2 O-, -CH=N-N=CH-, -CH=CH-, -CF=CF-, or represents -C≡C-,
X N21 represents a hydrogen atom or a fluorine atom,
T N31 represents —CH 2 — or an oxygen atom,
X N41 represents an oxygen atom, a nitrogen atom, or —CH 2 —;
Y N41 represents a single bond or —CH 2 —;
n N11 , n N12 , n N21 , n N22 , n N31 , n N32 , n N41 and n N42 each independently represent an integer of 0 to 3, but n N11 +n N12 , n N21 + n N22 and n N31 +n N32 are each independently 1, 2 or 3, and when there are a plurality of A N11 to A N32 and Z N11 to Z N32 , they may be the same or different, n N41 +n N42 represents an integer of 0 to 3, and when there are a plurality of each of A N41 , A N42 , Z N41 and Z N42 , they may be the same or different. ]
[7] The liquid crystal display element according to any one of [1] to [6], wherein the liquid crystal layer contains a hindered phenol compound.
[8] 複数の共通電極及び画素電極が、一方の基板上の同一面内に形成されており、共通電極と画素電極との間の最短距離が20μm未満である、[1]~[7]のいずれかに記載の液晶表示素子。
[9] 複数の共通電極が、一方の基板上の第1の面内に形成されており、複数の画素電極が、一方の基板上の第1の面とは異なる第2の面内に形成されており、複数の画素電極間の最短距離が20μm未満である、[1]~[7]のいずれかに記載の液晶表示素子。
[8] A plurality of common electrodes and pixel electrodes are formed in the same plane on one substrate, and the shortest distance between the common electrode and the pixel electrodes is less than 20 μm, [1] to [7] The liquid crystal display element according to any one of 1.
[9] A plurality of common electrodes are formed in a first plane on one substrate, and a plurality of pixel electrodes are formed in a second plane different from the first plane on one substrate. and the shortest distance between the plurality of pixel electrodes is less than 20 μm.
本発明によれば、電極間距離が短い液晶表示素子において、ツイスト角のシフトを抑制することができる。また、本発明によれば、ツイスト角のシフトを抑制すること及び駆動電圧を低く抑えることを両立できる。 According to the present invention, it is possible to suppress the twist angle shift in a liquid crystal display element having a short inter-electrode distance. Further, according to the present invention, it is possible to simultaneously suppress the shift of the twist angle and keep the driving voltage low.
図1は、一実施形態に係る液晶表示素子を示す模式断面図である。図1に示すように、一実施形態に係る液晶表示素子1Aは、第1の基板2及び第2の基板3からなる一対の基板と、一対の基板(第1の基板2及び第2の基板3)間に設けられた液晶層4とを備えている。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a liquid crystal display element according to one embodiment. As shown in FIG. 1, a liquid
第1の基板2の液晶層4と反対側の面には、第1の偏光板5が設けられている。第1の基板2の液晶層4側の面には、第1の基板2に近い順に、カラーフィルタ6と第1の配向膜7とが設けられている。第2の基板3の液晶層4と反対側の面には、第2の偏光板8が設けられている。第2の基板3の液晶層4側の面上(同一面内)には、複数の共通電極9a及び画素電極10aが形成されており、共通電極9a及び画素電極10aを覆うように第2の配向膜11が更に設けられている。
A first polarizing
すなわち、一実施形態に係る液晶表示素子1Aは、第1の偏光板5と、第1の基板2と、カラーフィルタ6と、第1の配向膜7と、液晶層4と、第2の配向膜11と、複数の共通電極9a及び画素電極10aと、第2の基板3と、第2の偏光板8とをこの順で備えている。このような液晶表示素子1Aは、IPSモードの液晶表示素子である。カラーフィルタ6は、第1の基板2と第1の配向膜7との間に設けられる代わりに、第2の基板3と、共通電極9a、画素電極10a及び第2の配向膜11との間(第2の基板3の液晶層4側の面上)に設けられてもよい。
That is, the liquid
第1の基板2及び第2の基板3は、例えばガラス又はプラスチック等の柔軟性をもつ材料で形成されている。第1の基板2及び第2の基板3の少なくとも一方は透明な材料で形成されており、他方は透明な材料で形成されていても、金属やシリコン等の不透明な材料で形成されていてもよい。第1の基板2及び第2の基板3は、周縁領域に配置されたエポキシ系熱硬化性組成物等のシール材及び封止材によって互いに貼り合わされていて、その間には基板間距離を保持するために、例えば、ガラス粒子、プラスチック粒子、アルミナ粒子等の粒状スペーサー、又はフォトリソグラフィー法により形成された樹脂からなるスペーサー柱が配置されていてもよい。
The
第1の偏光板5及び第2の偏光板8は、各偏光板の偏光軸を調整して視野角やコントラストが良好になるように調整することができ、それらの透過軸がノーマリブラックモードで作動するように、互いに直行する透過軸を有することが好ましい。特に、第1の偏光板5及び第2の偏光板8のうちいずれかは、電圧無印加時の液晶分子の配向方向と平行な透過軸を有するように配置されることが好ましい。
The first polarizing
カラーフィルタ6は、光の漏れを防止する観点で、ブラックマトリクスを備えていることが好ましく、薄膜トランジスタに対応する部分にブラックマトリクス(図示せず)を備えていることが好ましい。ブラックマトリクスは、アレイ基板と反対側の基板にカラーフィルタと共に設置されてもよく、アレイ基板側にカラーフィルタと共に設置されてもよく、ブラックマトリクスがアレイ基板に、カラーフィルタがもう一方の基板にそれぞれ別に設置されてもよい。ブラックマトリクスは、カラーフィルタと別に設置されてもよいが、カラーフィルタの各色を重ねることで透過率を低下させるものであってもよい。
From the viewpoint of preventing light leakage, the
第1の配向膜7及び第2の配向膜11は、液晶層4を構成する重合性液晶組成物と直接接してホモジニアス配向を誘起する一対の配向膜を構成している。第1の配向膜7及び第2の配向膜11は、例えばポリイミドで形成されている。
The
共通電極9a及び画素電極10aは、それぞれ、例えばITO等の透明な材料で形成されている。第2の基板3上の同一面内(第2の基板3の液晶層4側の面内)に形成されている共通電極9aと画素電極10aと間の最短距離(以下「電極間距離」ともいう)L1は、20μm未満となっている。共通電極9aと画素電極10aと間の最短距離(電極間距離)L1は、共通電極9aの端部と画素電極10aとを結ぶ直線距離のうち最短の距離として定義される。共通電極9aと画素電極10aと間の最短距離(電極間距離)L1は、ツイスト角のシフトの抑制効果(詳細は後述)がより顕著に得られる観点から、好ましくは、15μm以下又は12μm以下であり、電極間距離L1が長くなると駆動電圧を大きくする必要があるため、駆動電圧とツイスト角シフトとを両立する観点からは、より好ましくは、10μm以下、9μm以下、8μm以下、7μm以下、6μm以下、又は5μm以下であり、また、2μm以上又は3.5μm以上である。
The
図2は、他の一実施形態に係る液晶表示素子を示す模式断面図である。図1に示す液晶表示素子1Aと共通する構成要素については同一の符号を付し、重複する説明は省略する。図2に示すように、他の一実施形態に係る液晶表示素子1Bは、第1の基板2及び第2の基板3からなる一対の基板と、一対の基板(第1の基板2及び第2の基板3)間に設けられた液晶層4とを備えている。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a liquid crystal display element according to another embodiment. Constituent elements common to those of the liquid
第1の基板2の液晶層4と反対側の面には、第1の偏光板5が設けられている。第1の基板2の液晶層4側の面には、第1の基板2に近い順に、カラーフィルタ6と第1の配向膜7とが設けられている。第2の基板3の液晶層4と反対側の面には、第2の偏光板8が設けられている。第2の基板3の液晶層4側の面上には、複数の共通電極9bが形成されており、共通電極9bを覆うように絶縁層12が更に設けられている。第2の基板3上(絶縁層12の面上)には、複数の画素電極10bが更に形成されており、共通電極9bを覆うように第2の配向膜11が更に設けられている。つまり、この液晶表示素子1Bでは、複数の共通電極9bが、第2の基板3上の第1の面内に形成されており、複数の画素電極10bが、第2の基板3上の第1の面とは異なる第2の面内に形成されている。絶縁層12は、例えば図2のように有機絶縁膜で形成されていてよく、又は窒化シリコンなどの無機絶縁膜で形成されていてもよい。
A first
すなわち、他の一実施形態に係る液晶表示素子1Bは、第1の偏光板5と、第1の基板2と、カラーフィルタ6と、第1の配向膜7と、液晶層4と、第2の配向膜11と、複数の画素電極10bと、絶縁層12と、複数の共通電極9bと、第2の基板3と、第2の偏光板8とをこの順で備えている。このような液晶表示素子1Bは、FFSモードの液晶表示素子である。カラーフィルタ6は、第1の基板2と第1の配向膜7との間に設けられる代わりに、第2の基板3と共通電極9bとの間(第2の基板3の液晶層4側の面上)に設けられてもよい。
That is, a liquid
この液晶表示素子1Bでは、第2の基板3上の同一面内(絶縁層12の液晶層4側の面内)に形成されている複数の画素電極10b,10b間の最短距離(以下「電極間距離」ともいう)L2が、20μm未満となっている。画素電極10b,10b間の最短距離(電極間距離)L2は、画素電極10b,10b同士を結ぶ直線距離のうち最短の距離として定義される。画素電極10b,10b間の最短距離(電極間距離)L2は、ツイスト角のシフトの抑制効果(詳細は後述)がより顕著に得られる観点から、好ましくは、15μm以下又は12μm以下であり、電極間距離L2が長くなると駆動電圧を大きくする必要があるため、駆動電圧とツイスト角シフトとを両立する観点からは、より好ましくは、10μm以下、9μm以下、8μm以下、7μm以下、6μm以下、又は5μm以下であり、また、2μm以上又は3.5μm以上である。
In this liquid
以上説明した液晶表示素子1A,1Bではいずれも、共通電極9a,9b及び画素電極10a,10bによって横電界(基板2,3に平行な方向の電界)を発生させることによって、液晶層4内の液晶分子を基板2,3に平行な方向にねじらせている(回転させている)。本発明者らの検討によれば、液晶表示素子1A,1Bにおいて、第2の基板3上の同一面内に形成されている二つの電極間距離L1,L2が20μm未満である場合、電界を印加していない状態で液晶分子が初期のツイスト角にまで戻らなくなってしまう現象(ツイスト角のシフト)が生じやすいことが判明した。そして、本発明者らは、液晶層4にヒンダードアミン化合物を含ませることによって、電極間距離L1,L2が20μm未満である液晶表示素子1A,1Bにおいて、ツイスト角のシフトを抑制できると共に駆動電圧を低く抑えること(低消費電力)が可能になることを見出した。すなわち、液晶層4は、ヒンダードアミン化合物を含有する液晶組成物からなっており、一実施形態において、ヒンダードアミン化合物と、液晶化合物とを含有する液晶組成物からなっている。
In both of the liquid
なお、本明細書において、「ツイスト角のシフト」とは、初期のツイスト角から電圧印加後のツイスト角への変化量を意味する。ツイスト角は、第1の基板2及び第2の基板3の初期の配向容易軸のズレを表す角度である。ツイスト角のシフトが大きいと、パネルの光抜けや階調の変動が発生してしまい、焼き付きが発生し易くなり、表示不良を引き起こす原因になり得る。
In this specification, the term "twist angle shift" means the amount of change from the initial twist angle to the twist angle after voltage application. The twist angle is an angle representing the deviation of the initial easy axis of orientation of the
ヒンダードアミン化合物は、ヒンダードアミン構造を有する化合物であり、例えば下記式(1)で表される化合物である。
R1は、水素原子、-O・、-OH、又は炭素原子数1~12のアルキル基を表し、該アルキル基中に存在する1個又は2個以上の-CH2-は、それぞれ独立して、-O-、-S-、-CH=CH-、-C≡C-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-OCF2-、又は-CF2O-に置換されていてもよい。R1は、好ましくは、水素原子又は炭素原子数1~12の無置換のアルキル基である。該アルキル基の炭素原子数は、好ましくは、1~8、1~4、1~2、又は1である。 R 1 represents a hydrogen atom, —O., —OH, or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and one or more —CH 2 — present in the alkyl group are each independently -O-, -S-, -CH=CH-, -C≡C-, -CO-, -CO-O-, -O-CO-, -OCF 2 -, or -CF 2 O- may be substituted. R 1 is preferably a hydrogen atom or an unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. The number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1-8, 1-4, 1-2, or 1.
R2、R3、R4及びR5は、それぞれ独立して、炭素原子数1~8のアルキル基を表し、該アルキル基中に存在する1個又は2個以上の-CH2-は、それぞれ独立して、-O-、-S-、-CH=CH-、-C≡C-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-OCF2-、又は-CF2O-に置換されていてもよく、R2及びR3は互いに結合して環を形成していてもよく、R4及びR5は互いに結合して環を形成していてもよい。当該アルキル基は、分岐を有していてもよい。R2、R3、R4及びR5は、それぞれ独立して、好ましくは、炭素原子数1~8の無置換のアルキル基である。該アルキル基の炭素原子数は、好ましくは、1~6、1~4、1~2、又は1である。 R 2 , R 3 , R 4 and R 5 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and one or more —CH 2 — present in the alkyl group are each independently -O-, -S-, -CH=CH-, -C≡C-, -CO-, -CO-O-, -O-CO-, -OCF 2 -, or -CF 2 It may be substituted with O—, R 2 and R 3 may combine to form a ring, and R 4 and R 5 may combine to form a ring. The alkyl group may have a branch. R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are each independently preferably an unsubstituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. The number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1-6, 1-4, 1-2, or 1.
R6及びR7は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数1~6のアルキル基を表し、該アルキル基中に存在する1個又は2個以上の-CH2-は、それぞれ独立して、-O-、-S-、-CH=CH-、-C≡C-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-OCF2、-又は-CF2O-に置換されていてもよい。R6及びR7は、それぞれ独立して、好ましくは水素原子又は炭素原子数1~6の無置換のアルキル基であり、より好ましくは水素原子である。 R 6 and R 7 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and one or more —CH 2 — present in the alkyl group each independently -O-, -S-, -CH=CH-, -C≡C-, -CO-, -CO-O-, -O-CO-, -OCF 2 , - or -CF 2 O- may be substituted. R 6 and R 7 are each independently preferably a hydrogen atom or an unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom.
R8は、水素原子又は1価の有機基を表し、該1価の有機基はM1に結合して環を形成してもよい。R8は、好ましくは、水素原子又はM1に結合して環を形成している1価の有機基である。 R 8 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and the monovalent organic group may combine with M 1 to form a ring. R 8 is preferably a hydrogen atom or a monovalent organic group bonded to M 1 to form a ring.
M1は、n価の有機基を表す。M1は、好ましくは、n価の炭化水素基を表し、該炭化水素基中に存在する1個又は2個以上の-CH2-は、それぞれ独立して、-O-、-CO-O-、又は-O-CO-に置換されていてもよく、該炭化水素基中に存在する1個又は2個以上の-Hは、-OHに置換されていてもよい。炭化水素基中に存在する1個又は2個以上の-Hが-OHに置換されている場合、M1は、例えばヒンダードフェノール構造(骨格)を有する基であってよい。 M 1 represents an n-valent organic group. M 1 preferably represents an n-valent hydrocarbon group, and one or more —CH 2 — present in the hydrocarbon group are each independently —O—, —CO—O - or may be substituted with -O-CO-, and one or more -H present in the hydrocarbon group may be substituted with -OH. When one or more —H present in the hydrocarbon group is replaced with —OH, M 1 may be, for example, a group having a hindered phenol structure (skeleton).
mは、0~2の整数を表し、好ましくは0又は1である。nは、1~6の整数を表し、nが2~6の整数である場合、複数存在するR1~R7は、それぞれ互いに同一であっても異なっていてもよい。nは、好ましくは、1、2、3又は4である。 m represents an integer of 0 to 2, preferably 0 or 1; n represents an integer of 1 to 6, and when n is an integer of 2 to 6, a plurality of R 1 to R 7 may be the same or different from each other. n is preferably 1, 2, 3 or 4.
式(1)で表されるヒンダードアミン化合物は、下記式(2-1)で表される化合物であってもよい。
式中、M2Aはn価の有機基を表し、M2Bは-CO-O-又は-O-CO-を表し、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、m及びnは、式(1)中のR1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、m及びnとそれぞれ同義である。
The hindered amine compound represented by Formula (1) may be a compound represented by Formula (2-1) below.
In the formula, M 2A represents an n-valent organic group, M 2B represents -CO-O- or -O-CO-, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , m and n are synonymous with R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , m and n in Formula (1), respectively.
M2Aは、好ましくはn価の炭化水素基を表し、該炭化水素基中に存在する1個又は2個以上の-Hは、-OHに置換されていてもよい。炭化水素基中に存在する1個又は2個以上の-Hが-OHに置換されている場合、M2Aは、例えばヒンダードフェノール構造(骨格)を有する基であってよい。M2Aは、n価の脂肪族炭化水素基であってもよい。該脂肪族炭化水素基は、鎖状であってよく、脂肪族炭化水素環を有していてもよい。該脂肪族炭化水素基は、飽和脂肪族炭化水素基であってよく、不飽和結合を有していてもよい。M2Aで表される基の炭素原子数は、例えば1以上、2以上、又は3以上であってよく、40以下、30以下、又は20以下であってよい。 M2A preferably represents an n-valent hydrocarbon group, and one or more —H present in the hydrocarbon group may be substituted with —OH. When one or more —H present in the hydrocarbon group is replaced with —OH, M2A may be, for example, a group having a hindered phenol structure (skeleton). M2A may be an n-valent aliphatic hydrocarbon group. The aliphatic hydrocarbon group may be linear or have an aliphatic hydrocarbon ring. The aliphatic hydrocarbon group may be a saturated aliphatic hydrocarbon group and may have an unsaturated bond. The number of carbon atoms in the group represented by M2A may be, for example, 1 or more, 2 or more, or 3 or more, and may be 40 or less, 30 or less, or 20 or less.
式(2-1)で表されるヒンダードアミン化合物は、下記式(2-2)又は(2-3)で表される化合物であってもよい。
式中、M2A、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びnは、式(2-1)中のM2A、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びnとそれぞれ同義である。
The hindered amine compound represented by formula (2-1) may be a compound represented by formula (2-2) or (2-3) below.
wherein M 2A , R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and n are M 2A , R 1 , R 2 , R 3 , have the same meanings as R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and n.
式(1)で表されるヒンダードアミン化合物は、下記式(3-1)で表される化合物であってもよい。
式中、M3Aはn価の有機基を表し、R9は水素原子又は炭素原子数1~8のアルキル基を表す。R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びnは、式(1)中のR1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びnとそれぞれ同義である。
The hindered amine compound represented by Formula (1) may be a compound represented by Formula (3-1) below.
In the formula, M 3A represents an n-valent organic group and R 9 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and n are R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 in formula (1) and n are synonymous, respectively.
M3Aは、好ましくは、n価の炭化水素基を表し、該炭化水素基中に存在する1個又は2個以上の-CH2-は、それぞれ独立して、-CO-O-又は-O-CO-に置換されていてもよく、該炭化水素基中に存在する1個又は2個以上の-Hは、-OHに置換されていてもよい。炭化水素基中に存在する1個又は2個以上の-Hが-OHに置換されている場合、M3Aは、例えばヒンダードフェノール構造(骨格)を有する基であってよい。R9で表されるアルキル基の炭素原子数は、1~6、1~4、又は1~2であってもよい。 M 3A preferably represents an n-valent hydrocarbon group, and one or more —CH 2 — present in the hydrocarbon group are each independently —CO—O— or —O It may be substituted with -CO-, and one or more -H present in the hydrocarbon group may be substituted with -OH. When one or more —H present in the hydrocarbon group is replaced with —OH, M3A may be, for example, a group having a hindered phenol structure (skeleton). The number of carbon atoms in the alkyl group represented by R 9 may be 1-6, 1-4, or 1-2.
式(3-1)で表されるヒンダードアミン化合物は、下記式(3-2)で表される化合物であってもよい。
式中、M3A、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R9及びnは、式(3-1)中のM3A、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R9及びnとそれぞれ同義である。
The hindered amine compound represented by formula (3-1) may be a compound represented by formula (3-2) below.
wherein M 3A , R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 9 and n are M 3A , R 1 , R 2 , have the same meanings as R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 9 and n.
液晶層4は、ヒンダードアミン化合物の1種又は2種以上を含有している。液晶層4(液晶組成物)中のヒンダードアミン化合物の濃度(2種以上の場合はそれらの合計の濃度)は、ツイスト角のシフトを更に抑制できる観点から、好ましくは、10質量ppm以上、50質量ppm以上、100質量ppm以上、200質量ppm以上、300質量ppm以上、400質量ppm以上、又は500質量ppm以上である。液晶層4(液晶組成物)中のヒンダードアミン化合物の濃度(2種以上の場合はそれらの合計の濃度)は、例えば2000質量ppm以下、1500質量ppm以下、又は1000質量ppm以下であってよい。液晶層4(液晶組成物)中のヒンダードアミン化合物の濃度(2種以上の場合はそれらの合計の濃度)は、10~2000質量ppm、10~1500質量ppm、10~1000質量ppm、50~2000質量ppm、50~1500質量ppm、50~1000質量ppm、100~2000質量ppm、100~1500質量ppm、100~1000質量ppm、200~2000質量ppm、200~1500質量ppm、200~1000質量ppm、300~2000質量ppm、300~1500質量ppm、300~1000質量ppm、400~2000質量ppm、400~1500質量ppm、400~1000質量ppm、500~2000質量ppm、500~1500質量ppm、又は500~1000質量ppmであってもよい。
The
液晶化合物は、例えば一般式(L):
で表される化合物である。
The liquid crystal compound has, for example, general formula (L):
It is a compound represented by
式(L)中、
RL1及びRL2は、それぞれ独立して炭素原子数1~8のアルキル基を表し、該アルキル基中の1個又は隣接していない2個以上の-CH2-は、それぞれ独立して、-CH=CH-、-C≡C-、-O-、-CO-、-COO-又は-OCO-によって置換されていてもよく、
nL1は、0、1、2又は3を表し、
AL1、AL2及びAL3は、それぞれ独立して、
(a) 1,4-シクロヘキシレン基(この基中に存在する1個の-CH2-又は隣接していない2個以上の-CH2-は-O-に置換されてもよい。)、
(b) 1,4-フェニレン基(この基中に存在する1個の-CH=又は隣接していない2個以上の-CH=は-N=に置換されてもよい。)、及び
(c) (c)ナフタレン-2,6-ジイル基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基又はデカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基(ナフタレン-2,6-ジイル基又は1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基中に存在する1個の-CH=又は隣接していない2個以上の-CH=は-N=に置換されてもよい。)からなる群より選ばれる基を表し、前記の基(a)、基(b)及び基(c)は、それぞれ独立してシアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていてもよく、
ZL1及びZL2は、それぞれ独立して、単結合、-CH2CH2-、-(CH2)4-、-OCH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-、-OCF2-、-CF2O-、-CH=N-N=CH-、-CH=CH-、-CF=CF-又は-C≡C-を表し、
nL1が2又は3であってAL2が複数存在する場合は、それらは互いに同一であっても異なっていてもよく、nL1が2又は3であってZL2が複数存在する場合は、それらは互いに同一であっても異なっていてもよい。
In formula (L),
R L1 and R L2 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and one or more non-adjacent -CH 2 - in the alkyl group are each independently optionally substituted by -CH=CH-, -C≡C-, -O-, -CO-, -COO- or -OCO-,
n L1 represents 0, 1, 2 or 3,
A L1 , A L2 and A L3 are each independently
(a) a 1,4-cyclohexylene group (one —CH 2 — present in this group or two or more non-adjacent —CH 2 — may be substituted with —O—),
(b) a 1,4-phenylene group (one —CH= or two or more non-adjacent —CH= present in this group may be substituted with —N=), and (c ) (c) naphthalene-2,6-diyl group, 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,6-diyl group or decahydronaphthalene-2,6-diyl group (naphthalene-2,6-diyl group Alternatively, one -CH= or two or more non-adjacent -CH= present in the 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,6-diyl group may be substituted with -N= .) represents a group selected from the group consisting of, wherein the groups (a), (b) and (c) are each independently substituted with a cyano group, a fluorine atom or a chlorine atom,
Z L1 and Z L2 are each independently a single bond, -CH 2 CH 2 -, -(CH 2 ) 4 -, -OCH 2 -, -CH 2 O-, -COO-, -OCO-, - OCF 2 -, -CF 2 O-, -CH=N-N=CH-, -CH=CH-, -CF=CF- or -C≡C-,
When n L1 is 2 or 3 and there are a plurality of A L2 , they may be the same or different, and when n L1 is 2 or 3 and there are a plurality of Z L2 , They may be the same or different from each other.
一般式(L)で表される化合物は、誘電的にほぼ中性の化合物(Δεの値が-2~2)に該当する。一般式(L)で表される化合物は単独で用いてもよいが、組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては1種類である。あるいは別の実施形態では2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類であり、6種類であり、7種類であり、8種類であり、9種類であり、10種類以上である。 The compound represented by general formula (L) corresponds to a dielectrically almost neutral compound (Δε value of −2 to 2). The compounds represented by general formula (L) may be used alone, or may be used in combination. Although there is no particular limitation on the types of compounds that can be combined, they are appropriately used in combination according to desired properties such as low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, and birefringence. The type of compound used is, for example, one type as one embodiment. Or in another embodiment, 2 types, 3 types, 4 types, 5 types, 6 types, 7 types, 8 types, 9 types, 10 types or more be.
本実施形態の組成物において、一般式(L)で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。 In the composition of the present embodiment, the content of the compound represented by the general formula (L) includes solubility at low temperature, transition temperature, electrical reliability, birefringence, process suitability, drip marks, and seizure. , dielectric anisotropy, etc., must be appropriately adjusted according to the required performance.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(L)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%以上であり、10質量%以上であり、20質量%以上であり、30質量%以上であり、40質量%以上であり、50質量%以上であり、55質量%以上であり、60質量%以上であり、65質量%以上であり、70質量%以上であり、75質量%以上であり、80質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、95質量%以下であり、85質量%以下であり、75質量%以下であり、65質量%以下であり、55質量%以下であり、45質量%以下であり、35質量%以下であり、25質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (L) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass or more, 10% by mass or more, and 20% by mass or more. , 30% by mass or more, 40% by mass or more, 50% by mass or more, 55% by mass or more, 60% by mass or more, 65% by mass or more, 70% by mass or more, It is 75% by mass or more, and 80% by mass or more. The upper limit of the preferred content is 95% by mass or less, 85% by mass or less, 75% by mass or less, 65% by mass or less, 55% by mass or less, and 45% by mass or less, It is 35% by mass or less, and 25% by mass or less.
本実施形態の組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い組成物が必要な場合は上記の下限値が高く上限値が高いことが好ましい。さらに、本実施形態の組成物のTniを高く保ち、温度安定性のよい組成物が必要な場合は上記の下限値が高く上限値が高いことが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を低く上限値が低いことが好ましい。 When the viscosity of the composition of the present embodiment is kept low and a composition with a high response speed is required, it is preferable that the above lower limit value is high and the upper limit value is high. Furthermore, when the Tni of the composition of the present embodiment is kept high and a composition with good temperature stability is required, it is preferable that the above lower limit value is high and the upper limit value is high. Further, when it is desired to increase the dielectric anisotropy in order to keep the drive voltage low, it is preferable that the lower limit value and the upper limit value are low.
信頼性を重視する場合にはRL1及びRL2はともにアルキル基であることが好ましく、化合物の揮発性を低減させることを重視する場合にはアルコキシ基であることが好ましく、粘性の低下を重視する場合には少なくとも一方はアルケニル基であることが好ましい。 Both R L1 and R L2 are preferably alkyl groups when emphasis is placed on reliability, and preferably alkoxy groups when emphasis is placed on reducing the volatility of the compound, and emphasis is placed on reducing viscosity. At least one of them is preferably an alkenyl group.
分子内に存在するハロゲン原子は0、1、2又は3個が好ましく、0又は1が好ましく、他の液晶分子との相溶性を重視する場合には1が好ましい。 The number of halogen atoms present in the molecule is preferably 0, 1, 2 or 3, preferably 0 or 1, and preferably 1 when compatibility with other liquid crystal molecules is emphasized.
RL1及びRL2は、それが結合する環構造がフェニル基(芳香族)である場合には、直鎖状の炭素原子数1~5のアルキル基、直鎖状の炭素原子数1~4のアルコキシ基及び炭素原子数4~5のアルケニル基が好ましく、それが結合する環構造がシクロヘキサン、ピラン及びジオキサンなどの飽和した環構造の場合には、直鎖状の炭素原子数1~5のアルキル基、直鎖状の炭素原子数1~4のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数2~5のアルケニル基が好ましい。ネマチック相を安定化させるためには炭素原子及び存在する場合酸素原子の合計が5以下であることが好ましく、直鎖状であることが好ましい。 When the ring structure to which R L1 and R L2 are bonded is a phenyl group (aromatic), R L1 and R L2 are a linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a linear C 1 to 4 alkoxy group and alkenyl group having 4 to 5 carbon atoms are preferable, and when the ring structure to which it is bonded is a saturated ring structure such as cyclohexane, pyran and dioxane, a straight chain having 1 to 5 carbon atoms Alkyl groups, linear alkoxy groups having 1 to 4 carbon atoms and linear alkenyl groups having 2 to 5 carbon atoms are preferred. In order to stabilize the nematic phase, the total number of carbon atoms and, if present, oxygen atoms is preferably 5 or less, and is preferably linear.
アルケニル基としては、式(R1)から式(R5)のいずれかで表される基から選ばれることが好ましい(各式中の黒点は結合手を表す。)。
nL1は応答速度を重視する場合には0が好ましく、ネマチック相の上限温度を改善するためには2又は3が好ましく、これらのバランスをとるためには1が好ましい。また、組成物として求められる特性を満たすためには異なる値の化合物を組み合わせることが好ましい。 nL1 is preferably 0 when the response speed is emphasized, 2 or 3 is preferable for improving the upper limit temperature of the nematic phase, and 1 is preferable for balancing these. Moreover, in order to satisfy the properties required for the composition, it is preferable to combine compounds having different values.
AL1、AL2及びAL3はΔnを大きくすることが求められる場合には芳香族であることが好ましく、応答速度を改善するためには脂肪族であることが好ましく、それぞれ独立してトランス-1,4-シクロへキシレン基、1,4-フェニレン基、2-フルオロ-1,4-フェニレン基、3-フルオロ-1,4-フェニレン基、3,5-ジフルオロ-1,4-フェニレン基、1,4-シクロヘキセニレン基、1,4-ビシクロ[2.2.2]オクチレン基、ピペリジン-1,4-ジイル基、ナフタレン-2,6-ジイル基、デカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基又は1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基を表すことが好ましく、下記の構造:
を表すことがより好ましく、トランス-1,4-シクロへキシレン基又は1,4-フェニレン基を表すことがより好ましい。
A L1 , A L2 and A L3 are preferably aromatic when it is desired to increase Δn, preferably aliphatic for improving the response speed, and each independently trans- 1,4-cyclohexylene group, 1,4-phenylene group, 2-fluoro-1,4-phenylene group, 3-fluoro-1,4-phenylene group, 3,5-difluoro-1,4-phenylene group , 1,4-cyclohexenylene group, 1,4-bicyclo[2.2.2]octylene group, piperidine-1,4-diyl group, naphthalene-2,6-diyl group, decahydronaphthalene-2,6 -diyl group or 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,6-diyl group, and has the following structure:
more preferably represents a trans-1,4-cyclohexylene group or a 1,4-phenylene group.
ZL1及びZL2は応答速度を重視する場合には単結合であることが好ましい。 Z L1 and Z L2 are preferably single bonds when the response speed is important.
一般式(L)で表される化合物は分子内のハロゲン原子数が0個又は1個であることが好ましい。 The compound represented by formula (L) preferably has 0 or 1 halogen atoms in the molecule.
一般式(L)で表される化合物は一般式(L-1)~(L-7)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。 The compound represented by general formula (L) is preferably a compound selected from the group of compounds represented by general formulas (L-1) to (L-7).
一般式(L-1)で表される化合物は下記の化合物である。
(式中、RL11及びRL12はそれぞれ独立して、一般式(L)におけるRL1及びRL2と同じ意味を表す。)
The compound represented by general formula (L-1) is the following compound.
(In the formula, R L11 and R L12 each independently have the same meaning as R L1 and R L2 in general formula (L).)
RL11及びRL12は、直鎖状の炭素原子数1~5のアルキル基、直鎖状の炭素原子数1~4のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数2~5のアルケニル基が好ましい。 R L11 and R L12 are preferably linear alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms, linear alkoxy groups having 1 to 4 carbon atoms and linear alkenyl groups having 2 to 5 carbon atoms. .
一般式(L-1)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 The compound represented by general formula (L-1) can be used alone, or two or more compounds can be used in combination. Although there is no particular limitation on the types of compounds that can be combined, they are appropriately used in combination according to the required properties such as low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, and birefringence. The types of compounds to be used are, for example, one type, two types, three types, four types, and five or more types as one embodiment.
好ましい含有量の下限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、1質量%以上であり、2質量%以上であり、3質量%以上であり、5質量%以上であり、7質量%以上であり、10質量%以上であり、15質量%以上であり、20質量%以上であり、25質量%以上であり、30質量%以上であり、35質量%以上であり、40質量%以上であり、45質量%以上であり、50質量%以上であり、55質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、95質量%以下であり、90質量%以下であり、85質量%以下であり、80質量%以下であり、75質量%以下であり、70質量%以下であり、65質量%以下であり、60質量%以下であり、55質量%以下であり、50質量%以下であり、45質量%以下であり、40質量%以下であり、35質量%以下であり、30質量%以下であり、25質量%以下である。 A preferable lower limit of the content is 1% by mass or more, 2% by mass or more, 3% by mass or more, 5% by mass or more, and 7% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. % or more, 10% by mass or more, 15% by mass or more, 20% by mass or more, 25% by mass or more, 30% by mass or more, 35% by mass or more, 40% by mass or more, 45% by mass or more, 50% by mass or more, and 55% by mass or more. The upper limit of the preferable content is 95% by mass or less, 90% by mass or less, 85% by mass or less, 80% by mass or less, and 75% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. % or less, 70% by mass or less, 65% by mass or less, 60% by mass or less, 55% by mass or less, 50% by mass or less, 45% by mass or less, 40% by mass 35% by mass or less, 30% by mass or less, and 25% by mass or less.
本実施形態の組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い組成物が必要な場合は上記の下限値が高く上限値が高いことが好ましい。さらに、本実施形態の組成物のTniを高く保ち、温度安定性のよい組成物が必要な場合は上記の下限値が中庸で上限値が中庸であることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値が低く上限値が低いことが好ましい。 When the viscosity of the composition of the present embodiment is kept low and a composition with a high response speed is required, it is preferable that the above lower limit value is high and the upper limit value is high. Furthermore, when the Tni of the composition of the present invention is kept high and a composition with good temperature stability is required, it is preferable that the lower limit is moderate and the upper limit is moderate. Further, when it is desired to increase the dielectric anisotropy in order to keep the driving voltage low, it is preferable that the lower limit value and the upper limit value are low.
一般式(L-1)で表される化合物は一般式(L-1-1)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
(式中RL12は一般式(L-1)における意味と同じ意味を表す。)
The compound represented by general formula (L-1) is preferably a compound selected from the group of compounds represented by general formula (L-1-1).
(In the formula, R L12 has the same meaning as in general formula (L-1).)
一般式(L-1-1)で表される化合物は、式(L-1-1.1)から式(L-1-1.3)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式(L-1-1.2)又は式(L-1-1.3)で表される化合物であることが好ましく、特に、式(L-1-1.3)で表される化合物であることが好ましい。
本実施形態の組成物の総量に対しての式(L-1-1.3)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%以上であり、2質量%以上であり、3質量%以上であり、5質量%以上であり、7質量%以上であり、10質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、20質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下であり、10質量%以下であり、8質量%以下であり、7質量%以下であり、6質量%以下であり、5質量%以下であり、3質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (L-1-1.3) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass or more, 2% by mass or more, It is 3% by mass or more, 5% by mass or more, 7% by mass or more, and 10% by mass or more. The upper limit of the preferable content is 20% by mass or less, 15% by mass or less, 13% by mass or less, 10% by mass or less, and 8% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. % or less, 7 mass % or less, 6 mass % or less, 5 mass % or less, and 3 mass % or less.
一般式(L-1)で表される化合物は一般式(L-1-2)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
(式中RL12は一般式(L-1)における意味と同じ意味を表す。)
The compound represented by general formula (L-1) is preferably a compound selected from the group of compounds represented by general formula (L-1-2).
(In the formula, R L12 has the same meaning as in general formula (L-1).)
本実施形態の組成物の総量に対しての式(L-1-2)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%以上であり、5質量%以上であり、10質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上であり、23質量%以上であり、25質量%以上であり、27質量%以上であり、30質量%以上であり、35質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、60質量%以下であり、55質量%以下であり、50質量%以下であり、45質量%以下であり、42質量%以下であり、40質量%以下であり、38質量%以下であり、35質量%以下であり、33質量%以下であり、30質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (L-1-2) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass or more, 5% by mass or more, and 10% by mass. % or more, 15% by mass or more, 17% by mass or more, 20% by mass or more, 23% by mass or more, 25% by mass or more, 27% by mass or more, 30% by mass It is more than or equal to 35% by mass or more. The upper limit of the preferable content is 60% by mass or less, 55% by mass or less, 50% by mass or less, 45% by mass or less, and 42% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. %, 40% by mass or less, 38% by mass or less, 35% by mass or less, 33% by mass or less, and 30% by mass or less.
さらに、一般式(L-1-2)で表される化合物は、式(L-1-2.1)から式(L-1-2.4)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式(L-1-2.2)から式(L-1-2.4)で表される化合物であることが好ましい。特に、式(L-1-2.2)で表される化合物は本実施形態の組成物の応答速度を特に改善するため好ましい。また、応答速度よりも高いTniを求めるときは、式(L-1-2.3)又は式(L-1-2.4)で表される化合物を用いることが好ましい。式(L-1-2.3)及び式(L-1-2.4)で表される化合物の含有量は、低温での溶解度をよくするために30質量%以上にすることは好ましくない。
本実施形態の組成物の総量に対しての式(L-1-2.2)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、10質量%以上であり、15質量%以上であり、18質量%以上であり、20質量%以上であり、23質量%以上であり、25質量%以上であり、27質量%以上であり、30質量%以上であり、33質量%以上であり、35質量%以上であり、38質量%以上であり、40質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、60質量%以下であり、55質量%以下であり、50質量%以下であり、45質量%以下であり、43質量%以下であり、40質量%以下であり、38質量%以下であり、35質量%以下であり、32質量%以下であり、30質量%以下であり、27質量%以下であり、25質量%以下であり、22質量%以下である。 The preferred lower limit of the content of the compound represented by formula (L-1-2.2) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 10% by mass or more, 15% by mass or more, 18% by mass or more, 20% by mass or more, 23% by mass or more, 25% by mass or more, 27% by mass or more, 30% by mass or more, 33% by mass or more, 35 % by mass or more, 38% by mass or more, and 40% by mass or more. The upper limit of the preferred content is 60% by mass or less, 55% by mass or less, 50% by mass or less, 45% by mass or less, and 43% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. % or less, 40% by mass or less, 38% by mass or less, 35% by mass or less, 32% by mass or less, 30% by mass or less, 27% by mass or less, and 25% by mass or less and 22% by mass or less.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(L-1-1.3)で表される化合物及び式(L-1-2.2)で表される化合物の合計の好ましい含有量の下限値は、10質量%以上であり、15質量%以上であり、20質量%以上であり、25質量%以上であり、27質量%以上であり、30質量%以上であり、35質量%以上であり、40質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、60質量%以下であり、55質量%以下であり、50質量%以下であり、45質量%以下であり、43質量%以下であり、40質量%以下であり、38質量%以下であり、35質量%以下であり、32質量%以下であり、30質量%以下であり、27質量%以下であり、25質量%以下であり、22質量%以下である。 Preferred total content of the compound represented by the formula (L-1-1.3) and the compound represented by the formula (L-1-2.2) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment The lower limit is 10% by mass or more, 15% by mass or more, 20% by mass or more, 25% by mass or more, 27% by mass or more, 30% by mass or more, and 35% by mass or more. and is 40% by mass or more. The upper limit of the preferred content is 60% by mass or less, 55% by mass or less, 50% by mass or less, 45% by mass or less, and 43% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. % or less, 40% by mass or less, 38% by mass or less, 35% by mass or less, 32% by mass or less, 30% by mass or less, 27% by mass or less, and 25% by mass or less and 22% by mass or less.
一般式(L-1)で表される化合物は一般式(L-1-3)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
(式中、RL13及びRL14は、それぞれ独立して、炭素原子数1~8のアルキル基、炭素原子数1~8のアルキル基、又は炭素原子数1~8のアルコキシ基を表す。)
The compound represented by general formula (L-1) is preferably a compound selected from the group of compounds represented by general formula (L-1-3).
(In the formula, R L13 and R L14 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.)
RL13及びRL14は、好ましくは、炭素原子数2~8のアルキル基、炭素原子数2~8のアルキル基、又は炭素原子数2~8のアルコキシ基であり、より好ましくは、直鎖状の炭素原子数1~5のアルキル基、直鎖状の炭素原子数1~4のアルコキシ基、又は直鎖状の炭素原子数2~5のアルケニル基である。 R L13 and R L14 are preferably an alkyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 2 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 2 to 8 carbon atoms, more preferably linear is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a linear alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or a linear alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(L-1-3)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%以上であり、5質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上であり、23質量%以上であり、25質量%以上であり、30質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、60質量%以下であり、55質量%以下であり、50質量%以下であり、45質量%以下であり、40質量%以下であり、37質量%以下であり、35質量%以下であり、33質量%以下であり、30質量%以下であり、27質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、17質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下であり、10質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (L-1-3) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass or more, 5% by mass or more, and 10% by mass. % or more, 13 mass% or more, 15 mass% or more, 17 mass% or more, 20 mass% or more, 23 mass% or more, 25 mass% or more, 30 mass% That's it. The upper limit of the preferable content is 60% by mass or less, 55% by mass or less, 50% by mass or less, 45% by mass or less, and 40% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. % or less, 37 mass% or less, 35 mass% or less, 33 mass% or less, 30 mass% or less, 27 mass% or less, 25 mass% or less, 23 mass% 20% by mass or less, 17% by mass or less, 15% by mass or less, 13% by mass or less, and 10% by mass or less.
さらに、一般式(L-1-3)で表される化合物は、式(L-1-3.1)から式(L-1-3.13)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式(L-1-3.1)、式(L-1-3.3)又は式(L-1-3.4)で表される化合物であることが好ましい。特に、式(L-1-3.1)で表される化合物は本実施形態の組成物の応答速度を特に改善するため好ましい。また、応答速度よりも高いTniを求めるときは、式(L-1-3.3)、式(L-1-3.4)、式(L-1-3.11)及び式(L-1-3.12)で表される化合物を用いることが好ましい。式(L-1-3.3)、式(L-1-3.4)、式(L-1-3.11)及び式(L-1-3.12)で表される化合物の合計の含有量は、低温での溶解度をよくするために20%以上にすることは好ましくない。
本実施形態の組成物の総量に対しての式(L-1-3.1)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%以上であり、2質量%以上であり、3質量%以上であり、5質量%以上であり、7質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、18質量%以上であり、20質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、20質量%以下であり、17質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下であり、10質量%以下であり、8質量%以下であり、7質量%以下であり、6質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (L-1-3.1) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass or more, 2% by mass or more, 3% by mass or more, 5% by mass or more, 7% by mass or more, 10% by mass or more, 13% by mass or more, 15% by mass or more, 18% by mass or more, 20 % by mass or more. The upper limit of the preferable content is 20% by mass or less, 17% by mass or less, 15% by mass or less, 13% by mass or less, and 10% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. % or less, 8 mass % or less, 7 mass % or less, and 6 mass % or less.
一般式(L-1)で表される化合物は一般式(L-1-4)及び/又は(L-1-5)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
(式中RL15及びRL16はそれぞれ独立して炭素原子数1~8のアルキル基又は炭素原子数1~8のアルコキシ基を表す。)
The compound represented by general formula (L-1) is preferably a compound selected from the group of compounds represented by general formulas (L-1-4) and/or (L-1-5).
(In the formula, R L15 and R L16 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.)
RL15及びRL16は、直鎖状の炭素原子数1~5のアルキル基、直鎖状の炭素原子数1~4のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数2~5のアルケニル基が好ましい。 R L15 and R L16 are preferably linear alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms, linear alkoxy groups having 1 to 4 carbon atoms and linear alkenyl groups having 2 to 5 carbon atoms. .
本実施形態の組成物の総量に対しての式(L-1-4)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%以上であり、5質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、17質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下であり、10質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (L-1-4) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass or more, 5% by mass or more, and 10% by mass. % or more, 13 mass % or more, 15 mass % or more, 17 mass % or more, and 20 mass % or more. The upper limit of the preferable content is 25% by mass or less, 23% by mass or less, 20% by mass or less, 17% by mass or less, and 15% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. % or less, 13 mass % or less, and 10 mass % or less.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(L-1-5)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%以上であり、5質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、17質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下であり、10質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (L-1-5) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass or more, 5% by mass or more, and 10% by mass. % or more, 13 mass % or more, 15 mass % or more, 17 mass % or more, and 20 mass % or more. The upper limit of the preferable content is 25% by mass or less, 23% by mass or less, 20% by mass or less, 17% by mass or less, and 15% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. % or less, 13 mass % or less, and 10 mass % or less.
さらに、一般式(L-1-4)及び(L-1-5)で表される化合物は、式(L-1-4.1)から式(L-1-4.3)及び式(L-1-5.1)から式(L-1-5.3)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式(L-1-4.2)又は式(L-1-5.2)で表される化合物であることが好ましい。
本実施形態の組成物の総量に対しての式(L-1-4.2)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%以上であり、2質量%以上であり、3質量%以上であり、5質量%以上であり、7質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、18質量%以上であり、20質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、20質量%以下であり、17質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下であり、10質量%以下であり、8質量%以下であり、7質量%以下であり、6質量%以下である。 The preferred lower limit of the content of the compound represented by formula (L-1-4.2) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass or more, 2% by mass or more, 3% by mass or more, 5% by mass or more, 7% by mass or more, 10% by mass or more, 13% by mass or more, 15% by mass or more, 18% by mass or more, 20 % by mass or more. The upper limit of the preferable content is 20% by mass or less, 17% by mass or less, 15% by mass or less, 13% by mass or less, and 10% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. % or less, 8 mass % or less, 7 mass % or less, and 6 mass % or less.
式(L-1-1.3)、式(L-1-2.2)、式(L-1-3.1)、式(L-1-3.3)、式(L-1-3.4)、式(L-1-3.11)及び式(L-1-3.12)で表される化合物から選ばれる2種以上の化合物を組み合わせることが好ましく、式(L-1-1.3)、式(L-1-2.2)、式(L-1-3.1)、式(L-1-3.3)、式(L-1-3.4)及び式(L-1-4.2)で表される化合物から選ばれる2種以上の化合物を組み合わせることが好ましい。これら化合物の合計の含有量の好ましい含有量の下限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、1質量%以上であり、2質量%以上であり、3質量%以上であり、5質量%以上であり、7質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、18質量%以上であり、20質量%以上であり、23質量%以上であり、25質量%以上であり、27質量%以上であり、30質量%以上であり、33質量%以上であり、35質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、80質量%以下であり、70質量%以下であり、60質量%以下であり、50質量%以下であり、45質量%以下であり、40質量%以下であり、37質量%以下であり、35質量%以下であり、33質量%以下であり、30質量%以下であり、28質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下である。 Formula (L-1-1.3), Formula (L-1-2.2), Formula (L-1-3.1), Formula (L-1-3.3), Formula (L-1- 3.4), Formula (L-1-3.11) and Formula (L-1-3.12) It is preferable to combine two or more compounds selected from compounds represented by Formula (L-1 -1.3), formula (L-1-2.2), formula (L-1-3.1), formula (L-1-3.3), formula (L-1-3.4) and It is preferable to combine two or more compounds selected from compounds represented by formula (L-1-4.2). The preferred lower limit of the total content of these compounds is 1% by mass or more, 2% by mass or more, 3% by mass or more, and 5% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. % by mass or more, 7% by mass or more, 10% by mass or more, 13% by mass or more, 15% by mass or more, 18% by mass or more, 20% by mass or more, 23% by mass % or more, 25 mass % or more, 27 mass % or more, 30 mass % or more, 33 mass % or more, and 35 mass % or more. The upper limit of the preferred content is 80% by mass or less, 70% by mass or less, 60% by mass or less, 50% by mass or less, and 45% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. % or less, 40% by mass or less, 37% by mass or less, 35% by mass or less, 33% by mass or less, 30% by mass or less, 28% by mass or less, and 25% by mass or less, 23% by mass or less, and 20% by mass or less.
組成物の信頼性を重視する場合には、式(L-1-3.1)、式(L-1-3.3)及び式(L-1-3.4))で表される化合物から選ばれる2種以上の化合物を組み合わせることが好ましく、組成物の応答速度を重視する場合には、式(L-1-1.3)、式(L-1-2.2)で表される化合物から選ばれる2種以上の化合物を組み合わせることが好ましい。 When the reliability of the composition is emphasized, compounds represented by formulas (L-1-3.1), (L-1-3.3) and (L-1-3.4)) It is preferable to combine two or more compounds selected from, and when emphasizing the response speed of the composition, it is represented by formula (L-1-1.3) and formula (L-1-2.2) It is preferable to combine two or more compounds selected from the compounds that
一般式(L-1)で表される化合物は一般式(L-1-6)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
(式中RL17及びRL18はそれぞれ独立してメチル基又は水素原子を表す。)
The compound represented by general formula (L-1) is preferably a compound selected from the group of compounds represented by general formula (L-1-6).
(In the formula, R L17 and R L18 each independently represent a methyl group or a hydrogen atom.)
本実施形態の組成物の総量に対しての式(L-1-6)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%以上であり、5質量%以上であり、10質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上であり、23質量%以上であり、25質量%以上であり、27質量%以上であり、30質量%以上であり、35質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、60質量%以下であり、55質量%以下であり、50質量%以下であり、45質量%以下であり、42質量%以下であり、40質量%以下であり、38質量%以下であり、35質量%以下であり、33質量%以下であり、30質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (L-1-6) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass or more, 5% by mass or more, and 10% by mass. % or more, 15% by mass or more, 17% by mass or more, 20% by mass or more, 23% by mass or more, 25% by mass or more, 27% by mass or more, 30% by mass It is more than or equal to 35% by mass or more. The upper limit of the preferable content is 60% by mass or less, 55% by mass or less, 50% by mass or less, 45% by mass or less, and 42% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. %, 40% by mass or less, 38% by mass or less, 35% by mass or less, 33% by mass or less, and 30% by mass or less.
さらに、一般式(L-1-6)で表される化合物は、式(L-1-6.1)から式(L-1-6.3)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
一般式(L-2)で表される化合物は下記の化合物である。
(式中、RL21及びRL22はそれぞれ独立して、一般式(L)におけるRL1及びRL2と同じ意味を表す。)
The compound represented by general formula (L-2) is the following compound.
(In the formula, R L21 and R L22 each independently have the same meaning as R L1 and R L2 in general formula (L).)
RL21は炭素原子数1~5のアルキル基又は炭素原子数2~5のアルケニル基が好ましく、RL22は炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数4~5のアルケニル基又は炭素原子数1~4のアルコキシ基が好ましい。 R L21 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, and R L22 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 4 to 5 carbon atoms, or a carbon atom Alkoxy groups of numbers 1 to 4 are preferred.
一般式(L-1)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 The compound represented by general formula (L-1) can be used alone, or two or more compounds can be used in combination. Although there is no particular limitation on the types of compounds that can be combined, they are appropriately used in combination according to the required properties such as low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, and birefringence. The types of compounds to be used are, for example, one type, two types, three types, four types, and five or more types as one embodiment.
低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、反対に、応答速度を重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。 If the solubility at low temperature is important, setting the content to a large amount is effective, and conversely, if the response speed is important, setting the content to a small amount is effective. Furthermore, in order to improve drip marks and seizure properties, it is preferable to set the range of the content in the middle.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(L-2)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%以上であり、2質量%以上であり、3質量%以上であり、5質量%以上であり、7質量%以上であり、10質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、20質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下であり、10質量%以下であり、8質量%以下であり、7質量%以下であり、6質量%以下であり、5質量%以下であり、3質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (L-2) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass or more, 2% by mass or more, and 3% by mass or more. , 5% by mass or more, 7% by mass or more, and 10% by mass or more. The upper limit of the preferable content is 20% by mass or less, 15% by mass or less, 13% by mass or less, 10% by mass or less, and 8% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. % or less, 7 mass % or less, 6 mass % or less, 5 mass % or less, and 3 mass % or less.
さらに、一般式(L-2)で表される化合物は、式(L-2.1)から式(L-2.6)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式(L-2.1)、式(L-2.3)、式(L-2.4)及び式(L-2.6)で表される化合物であることが好ましい。
一般式(L-3)で表される化合物は下記の化合物である。
(式中、RL31及びRL32はそれぞれ独立して、一般式(L)におけるRL1及びRL2と同じ意味を表す。)
The compound represented by general formula (L-3) is the following compound.
(In the formula, R L31 and R L32 each independently have the same meaning as R L1 and R L2 in general formula (L).)
RL31及びRL32はそれぞれ独立して炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数4~5のアルケニル基又は炭素原子数1~4のアルコキシ基が好ましい。 R L31 and R L32 are each independently preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 4 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms.
一般式(L-3)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 The compound represented by general formula (L-3) can be used alone, or two or more compounds can be used in combination. Although there is no particular limitation on the types of compounds that can be combined, they are appropriately used in combination according to the required properties such as low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, and birefringence. The types of compounds to be used are, for example, one type, two types, three types, four types, and five or more types as one embodiment.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(L-3)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%以上であり、2質量%以上であり、3質量%以上であり、5質量%以上であり、7質量%以上であり、10質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、20質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下であり、10質量%以下であり、8質量%以下であり、7質量%以下であり、6質量%以下であり、5質量%以下であり、3質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (L-3) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass or more, 2% by mass or more, and 3% by mass or more. , 5% by mass or more, 7% by mass or more, and 10% by mass or more. The upper limit of the preferable content is 20% by mass or less, 15% by mass or less, 13% by mass or less, 10% by mass or less, and 8% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. % or less, 7 mass % or less, 6 mass % or less, 5 mass % or less, and 3 mass % or less.
高い複屈折率を得る場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、反対に、高いTniを重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。 When a high birefringence is to be obtained, setting the content to a large amount is highly effective, and conversely, when emphasizing a high Tni, setting the content to a small amount is highly effective. Furthermore, in order to improve drip marks and seizure properties, it is preferable to set the range of the content in the middle.
さらに、一般式(L-3)で表される化合物は、式(L-3.1)から式(L-3.7)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式(L-3.2)から式(L-3.7)で表される化合物であることが好ましい。
一般式(L-4)で表される化合物は下記の化合物である。
(式中、RL41及びRL42はそれぞれ独立して、一般式(L)におけるRL1及びRL2と同じ意味を表す。)
The compound represented by general formula (L-4) is the following compound.
(In the formula, R L41 and R L42 each independently have the same meaning as R L1 and R L2 in general formula (L).)
RL41は炭素原子数1~5のアルキル基又は炭素原子数2~5のアルケニル基が好ましく、RL42は炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数4~5のアルケニル基又は炭素原子数1~4のアルコキシ基が好ましい。) R L41 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, and R L42 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 4 to 5 carbon atoms, or a carbon atom Alkoxy groups of numbers 1 to 4 are preferred. )
一般式(L-4)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 The compound represented by general formula (L-4) can be used alone, or two or more compounds can be used in combination. Although there is no particular limitation on the types of compounds that can be combined, they are appropriately used in combination according to the required properties such as low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, and birefringence. The types of compounds to be used are, for example, one type, two types, three types, four types, and five or more types as one embodiment.
本実施形態の組成物において、一般式(L-4)で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。 In the composition of the present embodiment, the content of the compound represented by the general formula (L-4) includes solubility at low temperature, transition temperature, electrical reliability, birefringence, process compatibility, drip marks , image sticking, dielectric anisotropy, etc., should be adjusted as appropriate.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(L-4)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%以上であり、2質量%以上であり、3質量%以上であり、5質量%以上であり、7質量%以上であり、10質量%以上であり、14質量%以上であり、16質量%以上であり、20質量%以上であり、23質量%以上であり、26質量%以上であり、30質量%以上であり、35質量%以上であり、40質量%以上である。本実施形態の組成物の総量に対しての式(L-4)で表される化合物の好ましい含有量の上限値は、50質量%以下であり、40質量%以下であり、35質量%以下であり、30質量%以下であり、20質量%以下であり、15質量%以下であり、10質量%以下であり、5質量%以下である。 The preferred lower limit of the content of the compound represented by formula (L-4) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass or more, 2% by mass or more, and 3% by mass or more. is 5% by mass or more, 7% by mass or more, 10% by mass or more, 14% by mass or more, 16% by mass or more, 20% by mass or more, and 23% by mass or more 26% by mass or more, 30% by mass or more, 35% by mass or more, and 40% by mass or more. The upper limit of the preferable content of the compound represented by formula (L-4) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 50% by mass or less, 40% by mass or less, and 35% by mass or less. , 30% by mass or less, 20% by mass or less, 15% by mass or less, 10% by mass or less, and 5% by mass or less.
一般式(L-4)で表される化合物は、例えば式(L-4.1)から式(L-4.3)で表される化合物であることが好ましい。
低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、式(L-4.1)で表される化合物を含有していても、式(L-4.2)で表される化合物を含有していても、式(L-4.1)で表される化合物と式(L-4.2)で表される化合物との両方を含有していてもよいし、式(L-4.1)から式(L-4.3)で表される化合物を全て含んでいてもよい。 Depending on the required performance such as solubility at low temperature, transition temperature, electrical reliability, birefringence, even if it contains the compound represented by formula (L-4.1), -4.2), it contains both the compound represented by formula (L-4.1) and the compound represented by formula (L-4.2) or may contain all of the compounds represented by formulas (L-4.1) to (L-4.3).
本実施形態の組成物の総量に対しての式(L-4.1)又は式(L-4.2)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、3質量%以上であり、5質量%以上であり、7質量%以上であり、9質量%以上であり、11質量%以上であり、12質量%以上であり、13質量%以上であり、18質量%以上であり、21質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、45質量%以下であり、40質量%以下であり、35質量%以下であり、30質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下であり、10質量%以下であり、8質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (L-4.1) or formula (L-4.2) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 3% by mass or more, 5% by mass or more, 7% by mass or more, 9% by mass or more, 11% by mass or more, 12% by mass or more, 13% by mass or more, 18% by mass or more, 21 % by mass or more. The upper limit of the preferred content is 45% by mass or less, 40% by mass or less, 35% by mass or less, 30% by mass or less, 25% by mass or less, and 23% by mass or less, It is 20% by mass or less, 18% by mass or less, 15% by mass or less, 13% by mass or less, 10% by mass or less, and 8% by mass or less.
式(L-4.1)で表される化合物と式(L-4.2)で表される化合物との両方を含有する場合は、本実施形態の組成物の総量に対しての両化合物の好ましい含有量の下限値は、15質量%以上であり、19質量%以上であり、24質量%以上であり、30質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、45質量%以下であり、40質量%以下であり、35質量%以下であり、30質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下である。 When both the compound represented by formula (L-4.1) and the compound represented by formula (L-4.2) are contained, both compounds with respect to the total amount of the composition of this embodiment is preferably 15% by mass or more, 19% by mass or more, 24% by mass or more, and 30% by mass or more. The upper limit of the preferred content is 45% by mass or less, 40% by mass or less, 35% by mass or less, 30% by mass or less, 25% by mass or less, and 23% by mass or less, It is 20% by mass or less, 18% by mass or less, 15% by mass or less, and 13% by mass or less.
一般式(L-4)で表される化合物は、例えば式(L-4.4)から式(L-4.6)で表される化合物であることが好ましく、式(L-4.4)で表される化合物であることが好ましい。
低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、式(L-4.4)で表される化合物を含有していても、式(L-4.5)で表される化合物を含有していても、式(L-4.4)で表される化合物と式(L-4.5)で表される化合物との両方を含有していてもよい。 Depending on the required performance such as low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, and birefringence, even if the compound represented by formula (L-4.4) is contained, formula (L -4.5), it contains both the compound represented by formula (L-4.4) and the compound represented by formula (L-4.5) may be
本実施形態の組成物の総量に対しての式(L-4.4)又は式(L-4.5)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、3質量%以上であり、5質量%以上であり、7質量%以上であり、9質量%以上であり、11質量%以上であり、12質量%以上であり、13質量%以上であり、18質量%以上であり、21質量%以上である。好ましい上限値は、45質量%以下であり、40質量%以下であり、35質量%以下であり、30質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下であり、10質量%以下であり、8質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (L-4.4) or formula (L-4.5) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 3% by mass or more, 5% by mass or more, 7% by mass or more, 9% by mass or more, 11% by mass or more, 12% by mass or more, 13% by mass or more, 18% by mass or more, 21 % by mass or more. A preferable upper limit is 45% by mass or less, 40% by mass or less, 35% by mass or less, 30% by mass or less, 25% by mass or less, 23% by mass or less, and 20% by mass. 18% by mass or less, 15% by mass or less, 13% by mass or less, 10% by mass or less, and 8% by mass or less.
式(L-4.4)で表される化合物と式(L-4.5)で表される化合物との両方を含有する場合は、本実施形態の組成物の総量に対しての両化合物の好ましい含有量の下限値は、15質量%以上であり、19質量%以上であり、24質量%以上であり、30質量%以上であり、好ましい上限値は、45質量%以下であり、40質量%以下であり、35質量%以下であり、30質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下である。 When both the compound represented by formula (L-4.4) and the compound represented by formula (L-4.5) are contained, both compounds with respect to the total amount of the composition of this embodiment The lower limit of the preferred content is 15% by mass or more, 19% by mass or more, 24% by mass or more, and 30% by mass or more, and the preferable upper limit is 45% by mass or less, 40 % by mass or less, 35% by mass or less, 30% by mass or less, 25% by mass or less, 23% by mass or less, 20% by mass or less, 18% by mass or less, and 15% by mass % or less and 13% by mass or less.
一般式(L-4)で表される化合物は、式(L-4.7)から式(L-4.10)で表される化合物であることが好ましく、特に、式(L-4.9)で表される化合物が好ましい。
一般式(L-5)で表される化合物は下記の化合物である。
(式中、RL51及びRL52はそれぞれ独立して、一般式(L)におけるRL1及びRL2と同じ意味を表す。)
The compound represented by general formula (L-5) is the following compound.
(In the formula, R L51 and R L52 each independently have the same meaning as R L1 and R L2 in general formula (L).)
RL51は炭素原子数1~5のアルキル基又は炭素原子数2~5のアルケニル基が好ましく、RL52は炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数4~5のアルケニル基又は炭素原子数1~4のアルコキシ基が好ましい。 R L51 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, and R L52 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 4 to 5 carbon atoms, or a carbon atom Alkoxy groups of numbers 1 to 4 are preferred.
一般式(L-5)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 The compound represented by general formula (L-5) can be used alone, or two or more compounds can be used in combination. Although there is no particular limitation on the types of compounds that can be combined, they are appropriately used in combination according to the required properties such as low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, and birefringence. The types of compounds to be used are, for example, one type, two types, three types, four types, and five or more types as one embodiment.
本実施形態の組成物において、一般式(L-5)で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。 In the composition of the present embodiment, the content of the compound represented by the general formula (L-5) includes solubility at low temperature, transition temperature, electrical reliability, birefringence, process suitability, drip marks , image sticking, dielectric anisotropy, etc., should be adjusted as appropriate.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(L-5)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%以上であり、2質量%以上であり、3質量%以上であり、5質量%以上であり、7質量%以上であり、10質量%以上であり、14質量%以上であり、16質量%以上であり、20質量%以上であり、23質量%以上であり、26質量%以上であり、30質量%以上であり、35質量%以上であり、40質量%以上である。本実施形態の組成物の総量に対しての式(L-5)で表される化合物の好ましい含有量の上限値は、50質量%以下であり、40質量%以下であり、35質量%以下であり、30質量%以下であり、20質量%以下であり、15質量%以下であり、10質量%以下であり、5質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (L-5) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass or more, 2% by mass or more, and 3% by mass or more. is 5% by mass or more, 7% by mass or more, 10% by mass or more, 14% by mass or more, 16% by mass or more, 20% by mass or more, and 23% by mass or more 26% by mass or more, 30% by mass or more, 35% by mass or more, and 40% by mass or more. The upper limit of the preferable content of the compound represented by formula (L-5) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 50% by mass or less, 40% by mass or less, and 35% by mass or less. , 30% by mass or less, 20% by mass or less, 15% by mass or less, 10% by mass or less, and 5% by mass or less.
一般式(L-5)で表される化合物は、式(L-5.1)又は式(L-5.2)で表される化合物であることが好ましく、特に、式(L-5.1)で表される化合物であることが好ましい。
本実施形態の組成物の総量に対してのこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%以上であり、2質量%以上であり、3質量%以上であり、5質量%以上であり、7質量%以上である。これら化合物の好ましい含有量の上限値は、20質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下であり、10質量%以下であり、9質量%以下である。 The lower limits of the preferable content of these compounds with respect to the total amount of the composition of the present embodiment are 1% by mass or more, 2% by mass or more, 3% by mass or more, and 5% by mass or more. , 7% by mass or more. The upper limits of the preferable content of these compounds are 20% by mass or less, 15% by mass or less, 13% by mass or less, 10% by mass or less, and 9% by mass or less.
一般式(L-5)で表される化合物は、式(L-5.3)又は式(L-5.4)で表される化合物であることが好ましい。
本実施形態の組成物の総量に対してのこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%以上であり、2質量%以上であり、3質量%以上であり、5質量%以上であり、7質量%以上である。これら化合物の好ましい含有量の上限値は、20質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下であり、10質量%以下であり、9質量%以下である。 The lower limits of the preferable content of these compounds with respect to the total amount of the composition of the present embodiment are 1% by mass or more, 2% by mass or more, 3% by mass or more, and 5% by mass or more. , 7% by mass or more. The upper limits of the preferable content of these compounds are 20% by mass or less, 15% by mass or less, 13% by mass or less, 10% by mass or less, and 9% by mass or less.
一般式(L-5)で表される化合物は、式(L-5.5)から式(L-5.7)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、特に式(L-5.7)で表される化合物であることが好ましい。
本実施形態の組成物の総量に対してのこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%以上であり、2質量%以上であり、3質量%以上であり、5質量%以上であり、7質量%以上である。これら化合物の好ましい含有量の上限値は、20質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下であり、10質量%以下であり、9質量%以下である。 The lower limits of the preferable content of these compounds with respect to the total amount of the composition of the present embodiment are 1% by mass or more, 2% by mass or more, 3% by mass or more, and 5% by mass or more. , 7% by mass or more. The upper limits of the preferable content of these compounds are 20% by mass or less, 15% by mass or less, 13% by mass or less, 10% by mass or less, and 9% by mass or less.
一般式(L-6)で表される化合物は下記の化合物である。
(式中、RL61及びRL62はそれぞれ独立して、一般式(L)におけるRL1及びRL2と同じ意味を表し、XL61及びXL62はそれぞれ独立して水素原子又はフッ素原子を表す。)
The compound represented by general formula (L-6) is the following compound.
(wherein R L61 and R L62 each independently represent the same meaning as R L1 and R L2 in general formula (L), and X L61 and X L62 each independently represent a hydrogen atom or a fluorine atom. )
RL61及びRL62はそれぞれ独立して炭素原子数1~5のアルキル基又は炭素原子数2~5のアルケニル基が好ましく、XL61及びXL62のうち一方がフッ素原子、他方が水素原子であることが好ましい。 Each of R L61 and R L62 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, and one of X L61 and X L62 is a fluorine atom and the other is a hydrogen atom. is preferred.
一般式(L-6)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 The compounds represented by general formula (L-6) can be used alone, or two or more compounds can be used in combination. Although there is no particular limitation on the types of compounds that can be combined, they are appropriately used in combination according to the required properties such as low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, and birefringence. The types of compounds to be used are, for example, one type, two types, three types, four types, and five or more types as one embodiment.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(L-6)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%以上であり、2質量%以上であり、3質量%以上であり、5質量%以上であり、7質量%以上であり、10質量%以上であり、14質量%以上であり、16質量%以上であり、20質量%以上であり、23質量%以上であり、26質量%以上であり、30質量%以上であり、35質量%以上であり、40質量%以上である。本実施形態の組成物の総量に対しての式(L-6)で表される化合物の好ましい含有量の上限値は、50質量%以下であり、40質量%以下であり、35質量%以下であり、30質量%以下であり、20質量%以下であり、15質量%以下であり、10質量%以下であり、5質量%以下である。Δnを大きくすることに重点を置く場合には含有量を多くした方が好ましく、低温での析出に重点を置いた場合には含有量は少ない方が好ましい。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (L-6) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass or more, 2% by mass or more, and 3% by mass or more. is 5% by mass or more, 7% by mass or more, 10% by mass or more, 14% by mass or more, 16% by mass or more, 20% by mass or more, and 23% by mass or more 26% by mass or more, 30% by mass or more, 35% by mass or more, and 40% by mass or more. The upper limit of the preferable content of the compound represented by formula (L-6) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 50% by mass or less, 40% by mass or less, and 35% by mass or less. , 30% by mass or less, 20% by mass or less, 15% by mass or less, 10% by mass or less, and 5% by mass or less. When emphasis is placed on increasing Δn, it is preferable to increase the content, and when emphasis is placed on precipitation at low temperatures, it is preferable to decrease the content.
一般式(L-6)で表される化合物は、式(L-6.1)から式(L-6.9)で表される化合物であることが好ましい。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から1種~3種類含有することが好ましく、1種~4種類含有することがさらに好ましい。また、選ぶ化合物の分子量分布が広いことも溶解性に有効であるため、例えば、式(L-6.1)又は(L-6.2)で表される化合物から1種類、式(L-6.4)又は(L-6.5)で表される化合物から1種類、式(L-6.6)又は式(L-6.7)で表される化合物から1種類、式(L-6.8)又は(L-6.9)で表される化合物から1種類の化合物を選び、これらを適宜組み合わせることが好ましい。その中でも、式(L-6.1)、式(L-6.3)式(L-6.4)、式(L-6.6)及び式(L-6.9)で表される化合物を含むことが好ましい。 Although there is no particular limitation on the types of compounds that can be combined, it is preferable to contain 1 to 3 types, more preferably 1 to 4 types from among these compounds. In addition, since it is also effective for the solubility that the molecular weight distribution of the selected compound is wide, for example, one kind from the compounds represented by formula (L-6.1) or (L-6.2), 6.4) or one compound represented by (L-6.5), one compound represented by formula (L-6.6) or formula (L-6.7), formula (L -6.8) or (L-6.9), it is preferable to select one compound and combine them appropriately. Among them, represented by formula (L-6.1), formula (L-6.3) formula (L-6.4), formula (L-6.6) and formula (L-6.9) It preferably contains a compound.
さらに、一般式(L-6)で表される化合物は、例えば式(L-6.10)から式(L-6.17)で表される化合物であることが好ましく、その中でも、式(L-6.11)で表される化合物であることが好ましい。
本実施形態の組成物の総量に対してのこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%以上であり、2質量%以上であり、3質量%以上であり、5質量%以上であり、7質量%以上である。これら化合物の好ましい含有量の上限値は、20質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下であり、10質量%以下であり、9質量%以下である。 The lower limits of the preferable content of these compounds with respect to the total amount of the composition of the present embodiment are 1% by mass or more, 2% by mass or more, 3% by mass or more, and 5% by mass or more. , 7% by mass or more. The upper limits of the preferable content of these compounds are 20% by mass or less, 15% by mass or less, 13% by mass or less, 10% by mass or less, and 9% by mass or less.
一般式(L-7)で表される化合物は下記の化合物である。
(式中、RL71及びRL72はそれぞれ独立して一般式(L)におけるRL1及びRL2と同じ意味を表し、AL71及びAL72はそれぞれ独立して一般式(L)におけるAL2及びAL3と同じ意味を表すが、AL71及びAL72上の水素原子はそれぞれ独立してフッ素原子によって置換されていてもよく、ZL71は一般式(L)におけるZL2と同じ意味を表し、XL71及びXL72はそれぞれ独立してフッ素原子又は水素原子を表す。)
The compound represented by general formula (L-7) is the following compound.
(Wherein, R L71 and R L72 each independently represent the same meaning as R L1 and R L2 in general formula (L), A L71 and A L72 each independently represent A L2 and has the same meaning as A L3 , but the hydrogen atoms on A L71 and A L72 may each independently be substituted with a fluorine atom, and Z L71 has the same meaning as Z L2 in general formula (L); XL71 and XL72 each independently represent a fluorine atom or a hydrogen atom.)
式中、RL71及びRL72はそれぞれ独立して炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数2~5のアルケニル基又は炭素原子数1~4のアルコキシ基が好ましく、AL71及びAL72はそれぞれ独立して1,4-シクロヘキシレン基又は1,4-フェニレン基が好ましく、AL71及びAL72上の水素原子はそれぞれ独立してフッ素原子によって置換されていてもよく、ZL71は単結合又はCOO-が好ましく、単結合が好ましく、XL71及びXL72は水素原子が好ましい。 In the formula, R L71 and R L72 are each independently preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and A L71 and A L72 . are each independently preferably a 1,4-cyclohexylene group or a 1,4-phenylene group, hydrogen atoms on A L71 and A L72 may each independently be substituted with a fluorine atom, and Z L71 is a single A bond or COO- is preferred, a single bond is preferred, and X L71 and X L72 are preferably hydrogen atoms.
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類である。 Although there is no particular limitation on the types of compounds that can be combined, they are combined according to the required properties such as low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, and birefringence. The types of compounds to be used are, for example, one type, two types, three types, and four types as one embodiment.
本実施形態の組成物において、一般式(L-7)で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。 In the composition of the present embodiment, the content of the compound represented by general formula (L-7) includes solubility at low temperature, transition temperature, electrical reliability, birefringence, process suitability, drip marks , image sticking, dielectric anisotropy, etc., should be adjusted as appropriate.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(L-7)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%以上であり、2質量%以上であり、3質量%以上であり、5質量%以上であり、7質量%以上であり、10質量%以上であり、14質量%以上であり、16質量%以上であり、20質量%以上である。本実施形態の組成物の総量に対しての式(L-7)で表される化合物の好ましい含有量の上限値は、30質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、10質量%以下であり、5質量%以下である。 The preferred lower limit of the content of the compound represented by formula (L-7) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass or more, 2% by mass or more, and 3% by mass or more. , 5% by mass or more, 7% by mass or more, 10% by mass or more, 14% by mass or more, 16% by mass or more, and 20% by mass or more. The upper limit of the preferable content of the compound represented by formula (L-7) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 30% by mass or less, 25% by mass or less, and 23% by mass or less. , 20% by mass or less, 18% by mass or less, 15% by mass or less, 10% by mass or less, and 5% by mass or less.
本実施形態の組成物が高いTniの実施形態が望まれる場合は式(L-7)で表される化合物の含有量を多めにすることが好ましく、低粘度の実施形態が望まれる場合は含有量を少なめにすることが好ましい。 If a high Tni embodiment of the composition of the present embodiment is desired, it is preferable to increase the content of the compound represented by formula (L-7), and if a low-viscosity embodiment is desired, A small amount is preferred.
さらに、一般式(L-7)で表される化合物は、式(L-7.1)から式(L-7.4)で表される化合物であることが好ましく、式(L-7.2)で表される化合物であることが好ましい。
さらに、一般式(L-7)で表される化合物は、式(L-7.11)から式(L-7.13)で表される化合物であることが好ましく、式(L-7.11)で表される化合物であることが好ましい。
さらに、一般式(L-7)で表される化合物は、式(L-7.21)から式(L-7.23)で表される化合物である。式(L-7.21)で表される化合物であることが好ましい。
さらに、一般式(L-7)で表される化合物は、式(L-7.31)から式(L-7.34)で表される化合物であることが好ましく、式(L-7.31)又は/及び式(L-7.32)で表される化合物であることが好ましい。
さらに、一般式(L-7)で表される化合物は、式(L-7.41)から式(L-7.44)で表される化合物であることが好ましく、式(L-7.41)又は/及び式(L-7.42)で表される化合物であることが好ましい。
さらに、一般式(L-7)で表される化合物は、式(L-7.51)から式(L-7.53)で表される化合物であることが好ましい。
液晶化合物は、下記式(N-1)、(N-2)、(N-3)又は(N-4):
で表される化合物からなる群より選ばれる化合物であってもよい。
The liquid crystal compound has the following formula (N-1), (N-2), (N-3) or (N-4):
It may be a compound selected from the group consisting of compounds represented by.
式(N-1)、(N-2)、(N-3)及び(N-4)中、
RN11、RN12、RN21、RN22、RN31、RN32、RN41及びRN42は、それぞれ独立して、炭素原子数1~8のアルキル基を表し、該アルキル基中の1個又は隣接していない2個以上の-CH2-は、それぞれ独立して、-CH=CH-、-C≡C-、-O-、-CO-、-COO-又は-OCO-によって置換されていてもよく、
AN11、AN12、AN21、AN22、AN31、AN32、AN41及びAN42は、それぞれ独立して、
(a) 1,4-シクロヘキシレン基(この基中に存在する1個の-CH2-又は隣接していない2個以上の-CH2-は-O-に置換されていてもよい。)、
(b) 1,4-フェニレン基(この基中に存在する1個の-CH=又は隣接していない2個以上の-CH=は-N=に置換されていてもよい。)、
(c) ナフタレン-2,6-ジイル基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基又はデカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基(ナフタレン-2,6-ジイル基又は1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基中に存在する1個の-CH=又は隣接していない2個以上の-CH=は-N=に置換されていてもよい。)及び
(d) 1,4-シクロヘキセニレン基
からなる群より選ばれる基を表し、基(a)、基(b)、基(c)及び基(d)中の水素原子は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていてもよく、
ZN11、ZN12、ZN21、ZN22、ZN31、ZN32、ZN41及びZN42は、それぞれ独立して、単結合、-CH2CH2-、-(CH2)4-、-OCH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-、-OCF2-、-CF2O-、-CH=N-N=CH-、-CH=CH-、-CF=CF-、又は-C≡C-を表し、
XN21は、水素原子又はフッ素原子を表し、
TN31は、-CH2-又は酸素原子を表し、
XN41は、酸素原子、窒素原子、又は-CH2-を表し、
YN41は、単結合又は-CH2-を表し、
nN11、nN12、nN21、nN22、nN31、nN32、nN41、及びnN42は、それぞれ独立して0~3の整数を表すが、nN11+nN12、nN21+nN22及びnN31+nN32は、それぞれ独立して1、2又は3であり、AN11~AN32及びZN11~ZN32がそれぞれ複数存在する場合は、それらは互いに同一であっても異なっていてもよく、nN41+nN42は0~3の整数を表すが、AN41、AN42、ZN41及びZN42がそれぞれ複数存在する場合は、それらは互いに同一であっても異なっていてもよい。
ただし、上記一般式(L)で表される化合物を除く。
In formulas (N-1), (N-2), (N-3) and (N-4),
R N11 , R N12 , R N21 , R N22 , R N31 , R N32 , R N41 and R N42 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and one or two or more —CH 2 — that are not adjacent are each independently substituted with —CH═CH—, —C≡C—, —O—, —CO—, —COO— or —OCO—; may be
A N11 , A N12 , A N21 , A N22 , A N31 , A N32 , A N41 and A N42 are each independently
(a) 1,4-cyclohexylene group (one -CH 2 - present in this group or two or more non-adjacent -CH 2 - may be substituted with -O-); ,
(b) a 1,4-phenylene group (one -CH= or two or more non-adjacent -CH= present in this group may be substituted with -N=),
(c) naphthalene-2,6-diyl group, 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,6-diyl group or decahydronaphthalene-2,6-diyl group (naphthalene-2,6-diyl group or One -CH= or two or more non-adjacent -CH= present in the 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,6-diyl group may be substituted with -N= ) and (d) represents a group selected from the group consisting of 1,4-cyclohexenylene groups, and the hydrogen atoms in group (a), group (b), group (c) and group (d) are each independently optionally substituted with a cyano group, a fluorine atom or a chlorine atom,
Z N11 , Z N12 , Z N21 , Z N22 , Z N31 , Z N32 , Z N41 and Z N42 are each independently a single bond, —CH 2 CH 2 —, —(CH 2 ) 4 —, —OCH 2- , -CH 2 O-, -COO-, -OCO-, -OCF 2 -, -CF 2 O-, -CH=N-N=CH-, -CH=CH-, -CF=CF-, or represents -C≡C-,
X N21 represents a hydrogen atom or a fluorine atom,
T N31 represents —CH 2 — or an oxygen atom,
X N41 represents an oxygen atom, a nitrogen atom, or —CH 2 —;
Y N41 represents a single bond or —CH 2 —;
n N11 , n N12 , n N21 , n N22 , n N31 , n N32 , n N41 and n N42 each independently represent an integer of 0 to 3, but n N11 +n N12 , n N21 + n N22 and n N31 +n N32 are each independently 1, 2 or 3, and when there are a plurality of A N11 to A N32 and Z N11 to Z N32 , they may be the same or different, n N41 +n N42 represents an integer of 0 to 3, and when there are a plurality of each of A N41 , A N42 , Z N41 and Z N42 , they may be the same or different.
However, the compound represented by the above general formula (L) is excluded.
一般式(N-1)、(N-2)及び(N-3)のいずれかで表される化合物は、Δεが負でその絶対値が3よりも大きな化合物であることが好ましい。 The compound represented by any one of the general formulas (N-1), (N-2) and (N-3) preferably has a negative Δε and an absolute value of 3 or more.
一般式(N-1)、(N-2)及び(N-3)中、RN11、RN12、RN21、RN22、RN31及びRN32はそれぞれ独立して、炭素原子数1~8のアルキル基、炭素原子数1~8のアルコキシ基、炭素原子数2~8のアルケニル基又は炭素原子数2~8のアルケニルオキシ基が好ましく、炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数1~5のアルコキシ基、炭素原子数2~5のアルケニル基又は炭素原子数2~5のアルケニルオキシ基が好ましく、炭素原子数1~5のアルキル基又は炭素原子数2~5のアルケニル基が更に好ましく、炭素原子数2~5のアルキル基又は炭素原子数2~3のアルケニル基が更に好ましく、炭素原子数3のアルケニル基(プロペニル基)が特に好ましい。 In general formulas (N-1), (N-2) and (N-3), R N11 , R N12 , R N21 , R N22 , R N31 and R N32 each independently has 1 to 8 carbon atoms; is preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms or an alkenyloxy group having 2 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and a number of carbon atoms An alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms or an alkenyloxy group having 2 to 5 carbon atoms is preferable, and an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms is preferable. An alkyl group having 2 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 3 carbon atoms is more preferable, and an alkenyl group having 3 carbon atoms (propenyl group) is particularly preferable.
また、それが結合する環構造がフェニル基(芳香族)である場合には、直鎖状の炭素原子数1~5のアルキル基、直鎖状の炭素原子数1~4のアルコキシ基及び炭素原子数4~5のアルケニル基が好ましく、それが結合する環構造がシクロヘキサン、ピラン及びジオキサンなどの飽和した環構造の場合には、直鎖状の炭素原子数1~5のアルキル基、直鎖状の炭素原子数1~4のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数2~5のアルケニル基が好ましい。ネマチック相を安定化させるためには炭素原子及び存在する場合酸素原子の合計が5以下であることが好ましく、直鎖状であることが好ましい。 Further, when the ring structure to which it is attached is a phenyl group (aromatic), a linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a linear alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms and carbon An alkenyl group having 4 to 5 atoms is preferable, and when the ring structure to which it is bonded is a saturated ring structure such as cyclohexane, pyran and dioxane, a linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a linear A linear alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms and a linear alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms are preferred. In order to stabilize the nematic phase, the total number of carbon atoms and, if present, oxygen atoms is preferably 5 or less, and is preferably linear.
アルケニル基としては、式(R1)から式(R5)のいずれかで表される基から選ばれることが好ましい(各式中の黒点は結合手を表す。)。
AN11、AN12、AN21、AN22、AN31及びAN32はそれぞれ独立してΔnを大きくすることが求められる場合には芳香族であることが好ましく、応答速度を改善するためには脂肪族であることが好ましく、トランス-1,4-シクロへキシレン基、1,4-フェニレン基、2-フルオロ-1,4-フェニレン基、3-フルオロ-1,4-フェニレン基、3,5-ジフルオロ-1,4-フェニレン基、2,3-ジフルオロ-1,4-フェニレン基、1,4-シクロヘキセニレン基、1,4-ビシクロ[2.2.2]オクチレン基、ピペリジン-1,4-ジイル基、ナフタレン-2,6-ジイル基、デカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基又は1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基を表すことが好ましく、下記の構造:
を表すことがより好ましく、トランス-1,4-シクロへキシレン基、1,4-シクロヘキセニレン基又は1,4-フェニレン基を表すことがより好ましい。
A N11 , A N12 , A N21 , A N22 , A N31 and A N32 are preferably aromatic when it is required to independently increase Δn, and are fatty in order to improve the response speed. trans-1,4-cyclohexylene group, 1,4-phenylene group, 2-fluoro-1,4-phenylene group, 3-fluoro-1,4-phenylene group, 3,5 -difluoro-1,4-phenylene group, 2,3-difluoro-1,4-phenylene group, 1,4-cyclohexenylene group, 1,4-bicyclo[2.2.2]octylene group, piperidine-1 ,4-diyl group, naphthalene-2,6-diyl group, decahydronaphthalene-2,6-diyl group or 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,6-diyl group. Structure of :
more preferably represents a trans-1,4-cyclohexylene group, a 1,4-cyclohexenylene group or a 1,4-phenylene group.
ZN11、ZN12、ZN21、ZN22、ZN31及びZN32はそれぞれ独立して-CH2O-、-CF2O-、-CH2CH2-、-CF2CF2-又は単結合を表すことが好ましく、-CH2O-、-CH2CH2-又は単結合が更に好ましく、-CH2O-又は単結合が特に好ましい。 Z N11 , Z N12 , Z N21 , Z N22 , Z N31 and Z N32 are each independently -CH 2 O-, -CF 2 O-, -CH 2 CH 2 -, -CF 2 CF 2 - or a single bond; is preferred, —CH 2 O—, —CH 2 CH 2 — or a single bond is more preferred, and —CH 2 O— or a single bond is particularly preferred.
XN21はフッ素原子が好ましい。 X N21 is preferably a fluorine atom.
TN31は酸素原子が好ましい。 TN31 is preferably an oxygen atom.
nN11+nN12、nN21+nN22及びnN31+nN32は1又は2が好ましく、nN11が1でありnN12が0である組み合わせ、nN11が2でありnN12が0である組み合わせ、nN11が1でありnN12が1である組み合わせ、nN11が2でありnN12が1である組み合わせ、nN21が1でありnN22が0である組み合わせ、nN21が2でありnN22が0である組み合わせ、nN31が1でありnN32が0である組み合わせ、nN31が2でありnN32が0である組み合わせ、が好ましい。 nN11 + nN12 , nN21 + nN22 and nN31 + nN32 are preferably 1 or 2, n a combination where nN11 is 1 and nN12 is 0, n a combination where nN11 is 2 and nN12 is 0, n combinations where N11 is 1 and nN12 is 1, combinations where nN11 is 2 and nN12 is 1, combinations where nN21 is 1 and nN22 is 0, nN21 is 2 and nN22 is A combination of 0, a combination of nN31 of 1 and nN32 of 0, and a combination of nN31 of 2 and nN32 of 0 are preferred.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N-1)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%以上であり、10質量%以上であり、20質量%以上であり、30質量%以上であり、40質量%以上であり、50質量%以上であり、55質量%以上であり、60質量%以上であり、65質量%以上であり、70質量%以上であり、75質量%以上であり、80質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、95質量%以下であり、85質量%以下であり、75質量%以下であり、65質量%以下であり、55質量%以下であり、45質量%以下であり、35質量%以下であり、25質量%以下であり、20質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (N-1) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass or more, 10% by mass or more, and 20% by mass or more. is 30% by mass or more, 40% by mass or more, 50% by mass or more, 55% by mass or more, 60% by mass or more, 65% by mass or more, and 70% by mass or more Yes, 75% by mass or more, and 80% by mass or more. The upper limit of the preferred content is 95% by mass or less, 85% by mass or less, 75% by mass or less, 65% by mass or less, 55% by mass or less, and 45% by mass or less, It is 35% by mass or less, 25% by mass or less, and 20% by mass or less.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N-2)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%以上であり、10質量%以上であり、20質量%以上であり、30質量%以上であり、40質量%以上であり、50質量%以上であり、55質量%以上であり、60質量%以上であり、65質量%以上であり、70質量%以上であり、75質量%以上であり、80質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、95質量%以下であり、85質量%以下であり、75質量%以下であり、65質量%以下であり、55質量%以下であり、45質量%以下であり、35質量%以下であり、25質量%以下であり、20質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (N-2) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass or more, 10% by mass or more, and 20% by mass or more. is 30% by mass or more, 40% by mass or more, 50% by mass or more, 55% by mass or more, 60% by mass or more, 65% by mass or more, and 70% by mass or more Yes, 75% by mass or more, and 80% by mass or more. The upper limit of the preferred content is 95% by mass or less, 85% by mass or less, 75% by mass or less, 65% by mass or less, 55% by mass or less, and 45% by mass or less, It is 35% by mass or less, 25% by mass or less, and 20% by mass or less.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N-3)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%以上であり、10質量%以上であり、20質量%以上であり、30質量%以上であり、40質量%以上であり、50質量%以上であり、55質量%以上であり、60質量%以上であり、65質量%以上であり、70質量%以上であり、75質量%以上であり、80質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、95質量%以下であり、85質量%以下であり、75質量%以下であり、65質量%以下であり、55質量%以下であり、45質量%以下であり、35質量%以下であり、25質量%以下であり、20質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (N-3) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass or more, 10% by mass or more, and 20% by mass or more. is 30% by mass or more, 40% by mass or more, 50% by mass or more, 55% by mass or more, 60% by mass or more, 65% by mass or more, and 70% by mass or more Yes, 75% by mass or more, and 80% by mass or more. The upper limit of the preferred content is 95% by mass or less, 85% by mass or less, 75% by mass or less, 65% by mass or less, 55% by mass or less, and 45% by mass or less, It is 35% by mass or less, 25% by mass or less, and 20% by mass or less.
本実施形態の組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い組成物が必要な場合は上記の下限値が低く上限値が低いことが好ましい。さらに、本実施形態の組成物のTniを高く保ち、温度安定性のよい組成物が必要な場合は上記の下限値が低く上限値が低いことが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を高く上限値が高いことが好ましい。 When the viscosity of the composition of the present embodiment is kept low and a composition with a high response speed is required, it is preferable that the above lower limit value is low and the upper limit value is low. Furthermore, when the Tni of the composition of the present embodiment is kept high and a composition with good temperature stability is required, it is preferable that the above lower limit is low and the upper limit is low. Further, when it is desired to increase the dielectric anisotropy in order to keep the driving voltage low, it is preferable that the lower limit value and the upper limit value are high.
一般式(N-1)で表される化合物として、下記の一般式(N-1a)~(N-1g)で表される化合物群を挙げることができる。
(式中、RN11及びRN12は一般式(N-1)におけるRN11及びRN12と同じ意味を表し、nNa11は0又は1を表し、nNb11は0又は1を表し、nNc11は0又は1を表し、nNd11は0又は1を表し、nNe11は1又は2を表し、nNf11は1又は2を表し、nNg11は1又は2を表し、ANe11はトランス-1,4-シクロへキシレン基又は1,4-フェニレン基を表し、ANg11はトランス-1,4-シクロへキシレン基、1,4-シクロヘキセニレン基又は1,4-フェニレン基を表すが少なくとも1つは1,4-シクロヘキセニレン基を表し、ZNe11は単結合又はエチレンを表すが少なくとも1つはエチレンを表す。)
Examples of the compound represented by the general formula (N-1) include a group of compounds represented by the following general formulas (N-1a) to (N-1g).
(Wherein, R N11 and R N12 have the same meanings as R N11 and R N12 in general formula (N-1), n Na11 represents 0 or 1, n Nb11 represents 0 or 1, and n Nc11 represents represents 0 or 1, n Nd11 represents 0 or 1, n Ne11 represents 1 or 2, n Nf11 represents 1 or 2, n Ng11 represents 1 or 2, A Ne11 represents trans-1,4 - represents a cyclohexylene group or a 1,4-phenylene group, and A Ng11 represents a trans-1,4-cyclohexylene group, a 1,4-cyclohexenylene group or a 1,4-phenylene group, but at least one represents a 1,4-cyclohexenylene group, Z Ne11 represents a single bond or ethylene, but at least one represents ethylene.)
より具体的には、一般式(N-1)で表される化合物は、一般式(N-1-1)~(N-1-21)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。 More specifically, the compound represented by general formula (N-1) is a compound selected from the group of compounds represented by general formulas (N-1-1) to (N-1-21). is preferred.
一般式(N-1-1)で表される化合物は下記の化合物である。
(式中、RN111及びRN112はそれぞれ独立して、一般式(N)におけるRN11及びRN12と同じ意味を表す。)
The compound represented by general formula (N-1-1) is the following compound.
(In the formula, R N111 and R N112 each independently have the same meaning as R N11 and R N12 in general formula (N).)
RN111は炭素原子数1~5のアルキル基又は炭素原子数2~5のアルケニル基が好ましく、プロピル基、ペンチル基又はビニル基が好ましい。RN112は炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数4~5のアルケニル基又は炭素原子数1~4のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基又はブトキシ基が好ましい。 R N111 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, preferably a propyl group, a pentyl group or a vinyl group. R 112 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 4 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and preferably an ethoxy group or a butoxy group.
一般式(N-1-1)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 The compounds represented by general formula (N-1-1) can be used alone, or two or more compounds can be used in combination. Although there is no particular limitation on the types of compounds that can be combined, they are appropriately used in combination according to the required properties such as low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, and birefringence. The types of compounds to be used are, for example, one type, two types, three types, four types, and five or more types as one embodiment.
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、TNIを重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。 When emphasizing the improvement of Δε, it is preferable to set the content higher, when emphasizing the solubility at low temperatures, setting the content a little higher is more effective, It is effective when set to a small value. Furthermore, in order to improve drip marks and seizure properties, it is preferable to set the range of the content in the middle.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N-1-1)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、5質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上であり、23質量%以上であり、25質量%以上であり、27質量%以上であり、30質量%以上であり、33質量%以上であり、35質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、50質量%以下であり、40質量%以下であり、38質量%以下であり、35質量%以下であり、33質量%以下であり、30質量%以下であり、28質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下であり、10質量%以下であり、8質量%以下であり、7質量%以下であり、6質量%以下であり、5質量%以下であり、3質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (N-1-1) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 5% by mass or more, 10% by mass or more, and 13% by mass. % or more, 15% by mass or more, 17% by mass or more, 20% by mass or more, 23% by mass or more, 25% by mass or more, 27% by mass or more, 30% by mass 33% by mass or more, and 35% by mass or more. The upper limit of the preferable content is 50% by mass or less, 40% by mass or less, 38% by mass or less, 35% by mass or less, and 33% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. % or less, 30% by mass or less, 28% by mass or less, 25% by mass or less, 23% by mass or less, 20% by mass or less, 18% by mass or less, 15% by mass or less, 13% by mass or less, 10% by mass or less, 8% by mass or less, 7% by mass or less, 6% by mass or less, 5% by mass or less, and 3% by mass or less is.
さらに、一般式(N-1-1)で表される化合物は、式(N-1-1.1)から式(N-1-1.23)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式(N-1-1.1)~(N-1-1.4)で表される化合物であることが好ましく、式(N-1-1.1)及び式(N-1-1.3)で表される化合物が好ましい。
式(N-1-1.1)~(N-1-1.22)で表される化合物は単独で使用することも、組み合わせて使用することも可能であるが、本実施形態の組成物の総量に対しての単独又はこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、5質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上であり、23質量%以上であり、25質量%以上であり、27質量%以上であり、30質量%以上であり、33質量%以上であり、35質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、50質量%以下であり、40質量%以下であり、38質量%以下であり、35質量%以下であり、33質量%以下であり、30質量%以下であり、28質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下であり、10質量%以下であり、8質量%以下であり、7質量%以下であり、6質量%以下であり、5質量%以下であり、3質量%以下である。 The compounds represented by formulas (N-1-1.1) to (N-1-1.22) can be used alone or in combination, but the composition of the present embodiment The lower limit of the preferred content of these compounds alone or these compounds with respect to the total amount is 5% by mass or more, 10% by mass or more, 13% by mass or more, 15% by mass or more, 17% by mass 20% by mass or more, 23% by mass or more, 25% by mass or more, 27% by mass or more, 30% by mass or more, 33% by mass or more, 35% by mass or more is. The upper limit of the preferable content is 50% by mass or less, 40% by mass or less, 38% by mass or less, 35% by mass or less, and 33% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. % or less, 30% by mass or less, 28% by mass or less, 25% by mass or less, 23% by mass or less, 20% by mass or less, 18% by mass or less, 15% by mass or less, 13% by mass or less, 10% by mass or less, 8% by mass or less, 7% by mass or less, 6% by mass or less, 5% by mass or less, and 3% by mass or less is.
一般式(N-1-2)で表される化合物は下記の化合物である。
(式中、RN121及びRN122はそれぞれ独立して、一般式(N)におけるRN11及びRN12と同じ意味を表す。)
The compound represented by general formula (N-1-2) is the following compound.
(In the formula, R N121 and R N122 each independently have the same meaning as R N11 and R N12 in general formula (N).)
RN121は炭素原子数1~5のアルキル基又は炭素原子数2~5のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基、ブチル基又はペンチル基が好ましい。RN122は炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数4~5のアルケニル基又は炭素原子数1~4のアルコキシ基が好ましく、メチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基又はプロポキシ基が好ましい。 R N121 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, preferably an ethyl group, a propyl group, a butyl group or a pentyl group. R N122 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 4 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and is preferably a methyl group, a propyl group, a methoxy group, an ethoxy group or a propoxy group. preferable.
一般式(N-1-2)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 The compounds represented by general formula (N-1-2) can be used alone, or two or more compounds can be used in combination. Although there is no particular limitation on the types of compounds that can be combined, they are appropriately used in combination according to the required properties such as low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, and birefringence. The types of compounds to be used are, for example, one type, two types, three types, four types, and five or more types as one embodiment.
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高く、TNIを重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。 When emphasizing the improvement of Δε , it is preferable to set the content higher. The effect is high when set to a large amount. Furthermore, in order to improve drip marks and seizure properties, it is preferable to set the range of the content in the middle.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N-1-2)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、5質量%以上であり、7質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上であり、23質量%以上であり、25質量%以上であり、27質量%以上であり、30質量%以上であり、33質量%以上であり、35質量%以上であり、37質量%以上であり、40質量%以上であり、42質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、50質量%以下であり、48質量%以下であり、45質量%以下であり、43質量%以下であり、40質量%以下であり、38質量%以下であり、35質量%以下であり、33質量%以下であり、30質量%以下であり、28質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下であり、10質量%以下であり、8質量%以下であり、7質量%以下であり、6質量%以下であり、5質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (N-1-2) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 5% by mass or more, 7% by mass or more, and 10% by mass. % or more, 13 mass% or more, 15 mass% or more, 17 mass% or more, 20 mass% or more, 23 mass% or more, 25 mass% or more, 27 mass% 30% by mass or more, 33% by mass or more, 35% by mass or more, 37% by mass or more, 40% by mass or more, and 42% by mass or more. The upper limit of the preferable content is 50% by mass or less, 48% by mass or less, 45% by mass or less, 43% by mass or less, and 40% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. % or less, 38% by mass or less, 35% by mass or less, 33% by mass or less, 30% by mass or less, 28% by mass or less, 25% by mass or less, 23% by mass or less, 20% by mass or less, 18% by mass or less, 15% by mass or less, 13% by mass or less, 10% by mass or less, 8% by mass or less, and 7% by mass or less , 6% by mass or less, and 5% by mass or less.
さらに、一般式(N-1-2)で表される化合物は、式(N-1-2.1)から式(N-1-2.22)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式(N-1-2.3)から式(N-1-2.7)、式(N-1-2.10)、式(N-1-2.11)、式(N-1-2.13)及び式(N-1-2.20)で表される化合物であることが好ましく、Δεの改良を重視する場合には式(N-1-2.3)から式(N-1-2.7)で表される化合物が好ましく、TNIの改良を重視する場合には式(N-1-2.10)、式(N-1-2.11)及び式(N-1-2.13)で表される化合物であることが好ましく、応答速度の改良を重視する場合には式(N-1-2.20)で表される化合物であることが好ましい。
式(N-1-2.1)から式(N-1-2.22)で表される化合物は単独で使用することも、組み合わせて使用することも可能であるが、本実施形態の組成物の総量に対しての単独又はこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、5質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上であり、23質量%以上であり、25質量%以上であり、27質量%以上であり、30質量%以上であり、33質量%以上であり、35質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、50質量%以下であり、40質量%以下であり、38質量%以下であり、35質量%以下であり、33質量%以下であり、30質量%以下であり、28質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下であり、10質量%以下であり、8質量%以下であり、7質量%以下であり、6質量%以下であり、5質量%以下であり、3質量%以下である。 The compounds represented by formulas (N-1-2.1) to (N-1-2.22) can be used alone or in combination. The lower limit of the content of these compounds alone or preferably with respect to the total amount of the product is 5% by mass or more, 10% by mass or more, 13% by mass or more, 15% by mass or more, and 17% by mass. % or more, 20% by mass or more, 23% by mass or more, 25% by mass or more, 27% by mass or more, 30% by mass or more, 33% by mass or more, 35% by mass That's it. The upper limit of the preferable content is 50% by mass or less, 40% by mass or less, 38% by mass or less, 35% by mass or less, and 33% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. % or less, 30% by mass or less, 28% by mass or less, 25% by mass or less, 23% by mass or less, 20% by mass or less, 18% by mass or less, 15% by mass or less, 13% by mass or less, 10% by mass or less, 8% by mass or less, 7% by mass or less, 6% by mass or less, 5% by mass or less, and 3% by mass or less is.
一般式(N-1-3)で表される化合物は下記の化合物である。
(式中、RN131及びRN132はそれぞれ独立して、一般式(N)におけるRN11及びRN12と同じ意味を表す。)
The compound represented by general formula (N-1-3) is the following compound.
(In the formula, R N131 and R N132 each independently have the same meaning as R N11 and R N12 in general formula (N).)
RN131は炭素原子数1~5のアルキル基又は炭素原子数2~5のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。RN132は炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数3~5のアルケニル基又は炭素原子数1~4のアルコキシ基が好ましく、1-プロペニル基、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。 R N131 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, preferably an ethyl group, a propyl group or a butyl group. R N132 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and preferably a 1-propenyl group, an ethoxy group, a propoxy group or a butoxy group. .
一般式(N-1-3)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 The compounds represented by general formula (N-1-3) can be used alone, or two or more compounds can be used in combination. Although there is no particular limitation on the types of compounds that can be combined, they are appropriately used in combination according to the required properties such as low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, and birefringence. The types of compounds to be used are, for example, one type, two types, three types, four types, and five or more types as one embodiment.
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、TNIを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。 When emphasizing the improvement of Δε, it is preferable to set the content higher, when emphasizing the solubility at low temperatures, setting the content a little higher is more effective, It is highly effective when set roughly. Furthermore, in order to improve drip marks and seizure properties, it is preferable to set the range of the content in the middle.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N-1-3)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、5質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、35質量%以下であり、30質量%以下であり、28質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (N-1-3) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 5% by mass or more, 10% by mass or more, and 13% by mass. % or more, 15 mass % or more, 17 mass % or more, and 20 mass % or more. The upper limit of the preferable content is 35% by mass or less, 30% by mass or less, 28% by mass or less, 25% by mass or less, and 23% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. %, 20% by mass or less, 18% by mass or less, 15% by mass or less, and 13% by mass or less.
さらに、一般式(N-1-3)で表される化合物は、式(N-1-3.1)から式(N-1-3.21)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式(N-1-3.1)~(N-1-3.7)及び式(N-1-3.21)で表される化合物であることが好ましく、式(N-1-3.1)、式(N-1-3.2)、式(N-1-3.3)、式(N-1-3.4)及び式(N-1-3.6)で表される化合物が好ましい。
式(N-1-3.1)~式(N-1-3.4)、式(N-1-3.6)及び式(N-1-3.21)で表される化合物は単独で使用することも、組み合わせて使用することも可能であるが、式(N-1-3.1)及び式(N-1-3.2)の組み合わせ、式(N-1-3.3)、式(N-1-3.4)及び式(N-1-3.6)から選ばれる2種又は3種の組み合わせが好ましい。本実施形態の組成物の総量に対しての単独又はこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、5質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、35質量%以下であり、30質量%以下であり、28質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下である。 Compounds represented by formulas (N-1-3.1) to (N-1-3.4), formula (N-1-3.6) and formula (N-1-3.21) are alone can be used in combination, but the combination of formula (N-1-3.1) and formula (N-1-3.2), formula (N-1-3.3 ), formulas (N-1-3.4) and formulas (N-1-3.6). The lower limit of the preferable content of these compounds alone or these compounds with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 5% by mass or more, 10% by mass or more, 13% by mass or more, and 15% by mass or more. , 17% by mass or more, and 20% by mass or more. The upper limit of the preferable content is 35% by mass or less, 30% by mass or less, 28% by mass or less, 25% by mass or less, and 23% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. %, 20% by mass or less, 18% by mass or less, 15% by mass or less, and 13% by mass or less.
一般式(N-1-4)で表される化合物は下記の化合物である。
(式中、RN141及びRN142はそれぞれ独立して、一般式(N)におけるRN11及びRN12と同じ意味を表す。)
The compound represented by general formula (N-1-4) is the following compound.
(In the formula, R N141 and R N142 each independently have the same meaning as R N11 and R N12 in general formula (N).)
RN141及びRN142はそれぞれ独立して、炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数4~5のアルケニル基又は炭素原子数1~4のアルコキシ基が好ましく、メチル基、プロピル基、エトキシ基又はブトキシ基が好ましい。 R N141 and R N142 are each independently preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 4 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and are preferably methyl, propyl, ethoxy or butoxy groups are preferred.
一般式(N-1-4)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 The compounds represented by general formula (N-1-4) can be used alone, or two or more compounds can be used in combination. Although there is no particular limitation on the types of compounds that can be combined, they are appropriately used in combination according to the required properties such as low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, and birefringence. The types of compounds to be used are, for example, one type, two types, three types, four types, and five or more types as one embodiment.
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、TNIを重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。 When emphasizing the improvement of Δε, it is preferable to set the content higher, when emphasizing the solubility at low temperatures, setting the content a little higher is more effective, It is effective when set to a small value. Furthermore, in order to improve drip marks and seizure properties, it is preferable to set the range of the content in the middle.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N-1-4)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、3質量%以上であり、5質量%以上であり、7質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、35質量%以下であり、30質量%以下であり、28質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下であり、11質量%以下であり、10質量%以下であり、8質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (N-1-4) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 3% by mass or more, 5% by mass or more, and 7% by mass. % or more, 10 mass % or more, 13 mass % or more, 15 mass % or more, 17 mass % or more, and 20 mass % or more. The upper limit of the preferable content is 35% by mass or less, 30% by mass or less, 28% by mass or less, 25% by mass or less, and 23% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. % or less, 20% by mass or less, 18% by mass or less, 15% by mass or less, 13% by mass or less, 11% by mass or less, 10% by mass or less, 8% by mass It is below.
さらに、一般式(N-1-4)で表される化合物は、式(N-1-4.1)から式(N-1-4.14)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式(N-1-4.1)~(N-1-4.4)で表される化合物であることが好ましく、式(N-1-4.1)、式(N-1-4.2)及び式(N-1-4.4)で表される化合物が好ましい。
式(N-1-4.1)~(N-1-4.14)で表される化合物は単独で使用することも、組み合わせて使用することも可能であるが、本実施形態の組成物の総量に対しての単独又はこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、3質量%以上であり、5質量%以上であり、7質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、35質量%以下であり、30質量%以下であり、28質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下であり、11質量%以下であり、10質量%以下であり、8質量%以下である。 The compounds represented by formulas (N-1-4.1) to (N-1-4.14) can be used alone or in combination, but the composition of the present embodiment The lower limit of the preferred content of these compounds alone or these compounds with respect to the total amount is 3% by mass or more, 5% by mass or more, 7% by mass or more, 10% by mass or more, and 13% by mass. 15% by mass or more, 17% by mass or more, and 20% by mass or more. The upper limit of the preferable content is 35% by mass or less, 30% by mass or less, 28% by mass or less, 25% by mass or less, and 23% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. % or less, 20% by mass or less, 18% by mass or less, 15% by mass or less, 13% by mass or less, 11% by mass or less, 10% by mass or less, 8% by mass It is below.
一般式(N-1-5)で表される化合物は下記の化合物である。
(式中、RN151及びRN152はそれぞれ独立して、一般式(N)におけるRN11及びRN12と同じ意味を表す。)
The compound represented by general formula (N-1-5) is the following compound.
(In the formula, R N151 and R N152 each independently have the same meaning as R N11 and R N12 in general formula (N).)
RN151及びRN152はそれぞれ独立して、炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数4~5のアルケニル基又は炭素原子数1~4のアルコキシ基が好ましくエチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。 R N151 and R N152 are each independently an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 4 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, preferably an ethyl group, a propyl group or a butyl group. is preferred.
一般式(N-1-5)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 The compound represented by general formula (N-1-5) can be used alone, or two or more compounds can be used in combination. Although there is no particular limitation on the types of compounds that can be combined, they are appropriately used in combination according to the required properties such as low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, and birefringence. The types of compounds to be used are, for example, one type, two types, three types, four types, and five or more types as one embodiment.
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高く、TNIを重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。 When emphasizing the improvement of Δε , it is preferable to set the content higher. The effect is high when set to a large amount. Furthermore, in order to improve drip marks and seizure properties, it is preferable to set the range of the content in the middle.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N-1-5)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、5質量%以上であり、8質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、35質量%以下であり、33質量%以下であり、30質量%以下であり、28質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (N-1-5) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 5% by mass or more, 8% by mass or more, and 10% by mass. % or more, 13 mass % or more, 15 mass % or more, 17 mass % or more, and 20 mass % or more. The upper limit of the preferable content is 35% by mass or less, 33% by mass or less, 30% by mass or less, 28% by mass or less, and 25% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. % or less, 23 mass % or less, 20 mass % or less, 18 mass % or less, 15 mass % or less, and 13 mass % or less.
さらに、一般式(N-1-5)で表される化合物は、式(N-1-5.1)から式(N-1-5.6)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式(N-1-5.1)、式(N-1-5.2)及び式(N-1-5.4)で表される化合物が好ましい。
式(N-1-5.1)、式(N-1-5.2)及び式(N-1-5.4)で表される化合物は単独で使用することも、組み合わせて使用することも可能であるが、本実施形態の組成物の総量に対しての単独又はこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、5質量%以上であり、8質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、35質量%以下であり、33質量%以下であり、30質量%以下であり、28質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下である。 Compounds represented by formula (N-1-5.1), formula (N-1-5.2) and formula (N-1-5.4) can be used alone or in combination is also possible, but the lower limit of the preferred content of these compounds alone or these compounds with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 5% by mass or more, 8% by mass or more, and 10% by mass or more. 13% by mass or more, 15% by mass or more, 17% by mass or more, and 20% by mass or more. The upper limit of the preferable content is 35% by mass or less, 33% by mass or less, 30% by mass or less, 28% by mass or less, and 25% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. % or less, 23 mass % or less, 20 mass % or less, 18 mass % or less, 15 mass % or less, and 13 mass % or less.
一般式(N-1-10)で表される化合物は下記の化合物である。
(式中、RN1101及びRN1102はそれぞれ独立して、一般式(N)におけるRN11及びRN12と同じ意味を表す。)
The compound represented by general formula (N-1-10) is the following compound.
(In the formula, R N1101 and R N1102 each independently have the same meaning as R N11 and R N12 in general formula (N).)
RN1101は炭素原子数1~5のアルキル基又は炭素原子数2~5のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基、ブチル基、ビニル基又は1-プロペニル基が好ましい。RN1102は炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数4~5のアルケニル基又は炭素原子数1~4のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。 R N1101 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, preferably an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a vinyl group or a 1-propenyl group. R 1102 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 4 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and preferably an ethoxy group, a propoxy group or a butoxy group.
一般式(N-1-10)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本実施形態の一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 The compounds represented by general formula (N-1-10) can be used alone, or two or more compounds can be used in combination. Although there is no particular limitation on the types of compounds that can be combined, they are appropriately used in combination according to the required properties such as low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, and birefringence. The types of compounds to be used are, for example, one type, two types, three types, four types, and five types or more as one embodiment of the present embodiment.
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を高めに設定すると効果が高く、TNIを重視する場合は含有量を高めに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。 When emphasizing the improvement of Δε, it is preferable to set the content higher, when emphasizing solubility at low temperatures, setting the content higher is more effective, and when emphasizing TNI , the content A higher setting is more effective. Furthermore, in order to improve drip marks and seizure properties, it is preferable to set the range of the content in the middle.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N-1-10)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、5質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、35質量%以下であり、30質量%以下であり、28質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (N-1-10) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 5% by mass or more, 10% by mass or more, and 13% by mass. % or more, 15 mass % or more, 17 mass % or more, and 20 mass % or more. The upper limit of the preferable content is 35% by mass or less, 30% by mass or less, 28% by mass or less, 25% by mass or less, and 23% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. %, 20% by mass or less, 18% by mass or less, 15% by mass or less, and 13% by mass or less.
さらに、一般式(N-1-10)で表される化合物は、式(N-1-10.1)から式(N-1-10.21)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式(N-1-10.1)~(N-1-10.5)式(N-1-10.20)及び式(N-1-10.21)で表される化合物であることが好ましく、式(N-1-10.1)、式(N-1-10.2)、式(N-1-10.20)及び式(N-1-10.21)で表される化合物が好ましい。
式(N-1-10.1)、式(N-1-10.2)、式(N-1-10.20)及び式(N-1-10.21)で表される化合物は単独で使用することも、組み合わせて使用することも可能であるが、本実施形態の組成物の総量に対しての単独又はこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、5質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、35質量%以下であり、30質量%以下であり、28質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下である。 Compounds represented by formula (N-1-10.1), formula (N-1-10.2), formula (N-1-10.20) and formula (N-1-10.21) are It is also possible to use it in combination, but the lower limit of the preferable content of these compounds alone or with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 5% by mass or more, and 10 % by mass or more, 13% by mass or more, 15% by mass or more, 17% by mass or more, and 20% by mass or more. The upper limit of the preferable content is 35% by mass or less, 30% by mass or less, 28% by mass or less, 25% by mass or less, and 23% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. %, 20% by mass or less, 18% by mass or less, 15% by mass or less, and 13% by mass or less.
一般式(N-1-11)で表される化合物は下記の化合物である。
(式中、RN1111及びRN1112はそれぞれ独立して、一般式(N)におけるRN11及びRN12と同じ意味を表す。)
The compound represented by general formula (N-1-11) is the following compound.
(In the formula, R N1111 and R N1112 each independently have the same meaning as R N11 and R N12 in general formula (N).)
RN1111は炭素原子数1~5のアルキル基又は炭素原子数2~5のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基、ブチル基、ビニル基又は1-プロペニル基が好ましい。RN1112は炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数4~5のアルケニル基又は炭素原子数1~4のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。 R N1111 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, preferably an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a vinyl group or a 1-propenyl group. R N1112 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 4 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and preferably an ethoxy group, a propoxy group or a butoxy group.
一般式(N-1-11)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 The compounds represented by general formula (N-1-11) can be used alone, or two or more compounds can be used in combination. Although there is no particular limitation on the types of compounds that can be combined, they are appropriately used in combination according to the required properties such as low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, and birefringence. The types of compounds to be used are, for example, one type, two types, three types, four types, and five or more types as one embodiment.
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を低めに設定すると効果が高く、TNIを重視する場合は含有量を高めに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。 When emphasizing the improvement of Δε, it is preferable to set the content higher, when emphasizing solubility at low temperatures, setting the content lower is more effective, and when emphasizing TNI , the content A higher setting is more effective. Furthermore, in order to improve drip marks and seizure properties, it is preferable to set the range of the content in the middle.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N-1-11)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、5質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、35質量%以下であり、30質量%以下であり、28質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (N-1-11) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 5% by mass or more, 10% by mass or more, and 13% by mass. % or more, 15 mass % or more, 17 mass % or more, and 20 mass % or more. The upper limit of the preferable content is 35% by mass or less, 30% by mass or less, 28% by mass or less, 25% by mass or less, and 23% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. %, 20% by mass or less, 18% by mass or less, 15% by mass or less, and 13% by mass or less.
さらに、一般式(N-1-11)で表される化合物は、式(N-1-11.1)から式(N-1-11.15)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式(N-1-11.1)~(N-1-11.15)で表される化合物であることが好ましく、式(N-1-11.2及び式(N-1-11.4)で表される化合物が好ましい。
式(N-1-11.2)及び式(N-1-11.4)で表される化合物は単独で使用することも、組み合わせて使用することも可能であるが、本実施形態の組成物の総量に対しての単独又はこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、5質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、35質量%以下であり、30質量%以下であり、28質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下である。 The compounds represented by formulas (N-1-11.2) and (N-1-11.4) can be used alone or in combination, but the composition of the present embodiment The lower limit of the content of these compounds alone or preferably with respect to the total amount of the product is 5% by mass or more, 10% by mass or more, 13% by mass or more, 15% by mass or more, and 17% by mass. % or more and 20% by mass or more. The upper limit of the preferable content is 35% by mass or less, 30% by mass or less, 28% by mass or less, 25% by mass or less, and 23% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. %, 20% by mass or less, 18% by mass or less, 15% by mass or less, and 13% by mass or less.
一般式(N-1-12)で表される化合物は下記の化合物である。
(式中、RN1121及びRN1122はそれぞれ独立して、一般式(N)におけるRN11及びRN12と同じ意味を表す。)
The compound represented by general formula (N-1-12) is the following compound.
(In the formula, R N1121 and R N1122 each independently have the same meaning as R N11 and R N12 in general formula (N).)
RN1121は炭素原子数1~5のアルキル基又は炭素原子数2~5のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。RN1122は炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数4~5のアルケニル基又は炭素原子数1~4のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。 R N1121 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, preferably an ethyl group, a propyl group or a butyl group. R 1122 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 4 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and preferably an ethoxy group, a propoxy group or a butoxy group.
一般式(N-1-12)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 The compound represented by general formula (N-1-12) can be used alone, or two or more compounds can be used in combination. Although there is no particular limitation on the types of compounds that can be combined, they are appropriately used in combination according to the required properties such as low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, and birefringence. The types of compounds to be used are, for example, one type, two types, three types, four types, and five or more types as one embodiment.
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、TNIを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。 When emphasizing the improvement of Δε, it is preferable to set the content higher, when emphasizing the solubility at low temperatures, setting the content a little higher is more effective, It is highly effective when set roughly. Furthermore, in order to improve drip marks and seizure properties, it is preferable to set the range of the content in the middle.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N-1-12)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、5質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、35質量%以下であり、30質量%以下であり、28質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (N-1-12) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 5% by mass or more, 10% by mass or more, and 13% by mass. % or more, 15 mass % or more, 17 mass % or more, and 20 mass % or more. The upper limit of the preferable content is 35% by mass or less, 30% by mass or less, 28% by mass or less, 25% by mass or less, and 23% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. %, 20% by mass or less, 18% by mass or less, 15% by mass or less, and 13% by mass or less.
一般式(N-1-13)で表される化合物は下記の化合物である。
(式中、RN1131及びRN1132はそれぞれ独立して、一般式(N)におけるRN11及びRN12と同じ意味を表す。)
The compound represented by general formula (N-1-13) is the following compound.
(In the formula, R N1131 and R N1132 each independently have the same meaning as R N11 and R N12 in general formula (N).)
RN1131は炭素原子数1~5のアルキル基又は炭素原子数2~5のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。RN1132は炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数4~5のアルケニル基又は炭素原子数1~4のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。 R N1131 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, preferably an ethyl group, a propyl group or a butyl group. R 1132 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 4 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and preferably an ethoxy group, a propoxy group or a butoxy group.
一般式(N-1-13)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 The compounds represented by general formula (N-1-13) can be used alone, or two or more compounds can be used in combination. Although there is no particular limitation on the types of compounds that can be combined, they are appropriately used in combination according to the required properties such as low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, and birefringence. The types of compounds to be used are, for example, one type, two types, three types, four types, and five or more types as one embodiment.
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、TNIを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。 When emphasizing the improvement of Δε, it is preferable to set the content higher, when emphasizing the solubility at low temperatures, setting the content a little higher is more effective, It is highly effective when set roughly. Furthermore, in order to improve drip marks and seizure properties, it is preferable to set the range of the content in the middle.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N-1-13)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、5質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、35質量%以下であり、30質量%以下であり、28質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (N-1-13) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 5% by mass or more, 10% by mass or more, and 13% by mass. % or more, 15 mass % or more, 17 mass % or more, and 20 mass % or more. The upper limit of the preferable content is 35% by mass or less, 30% by mass or less, 28% by mass or less, 25% by mass or less, and 23% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. %, 20% by mass or less, 18% by mass or less, 15% by mass or less, and 13% by mass or less.
一般式(N-1-14)で表される化合物は下記の化合物である。
(式中、RN1141及びRN1142はそれぞれ独立して、一般式(N)におけるRN11及びRN12と同じ意味を表す。)
The compound represented by general formula (N-1-14) is the following compound.
(In the formula, R N1141 and R N1142 each independently have the same meaning as R N11 and R N12 in general formula (N).)
RN1141は炭素原子数1~5のアルキル基又は炭素原子数2~5のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。RN1142は炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数4~5のアルケニル基又は炭素原子数1~4のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。 R N1141 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, preferably an ethyl group, a propyl group or a butyl group. R 1142 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 4 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and preferably an ethoxy group, a propoxy group or a butoxy group.
一般式(N-1-14)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本実施形態の一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 The compounds represented by general formula (N-1-14) can be used alone, or two or more compounds can be used in combination. Although there is no particular limitation on the types of compounds that can be combined, they are appropriately used in combination according to the required properties such as low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, and birefringence. The types of compounds to be used are, for example, one type, two types, three types, four types, and five types or more as one embodiment of the present embodiment.
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、TNIを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。 When emphasizing the improvement of Δε, it is preferable to set the content higher, when emphasizing the solubility at low temperatures, setting the content a little higher is more effective, It is highly effective when set roughly. Furthermore, in order to improve drip marks and seizure properties, it is preferable to set the range of the content in the middle.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N-1-14)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、5質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、35質量%以下であり、30質量%以下であり、28質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (N-1-14) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 5% by mass or more, 10% by mass or more, and 13% by mass. % or more, 15 mass % or more, 17 mass % or more, and 20 mass % or more. The upper limit of the preferable content is 35% by mass or less, 30% by mass or less, 28% by mass or less, 25% by mass or less, and 23% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. %, 20% by mass or less, 18% by mass or less, 15% by mass or less, and 13% by mass or less.
一般式(N-1-15)で表される化合物は下記の化合物である。
(式中、RN1151及びRN1152はそれぞれ独立して、一般式(N)におけるRN11及びRN12と同じ意味を表す。)
The compound represented by general formula (N-1-15) is the following compound.
(In the formula, R N1151 and R N1152 each independently have the same meaning as R N11 and R N12 in general formula (N).)
RN1151は炭素原子数1~5のアルキル基又は炭素原子数2~5のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。RN1152は炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数4~5のアルケニル基又は炭素原子数1~4のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。 R N1151 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, preferably an ethyl group, a propyl group or a butyl group. R 1152 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 4 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and preferably an ethoxy group, a propoxy group or a butoxy group.
一般式(N-1-15)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 The compound represented by general formula (N-1-15) can be used alone, or two or more compounds can be used in combination. Although there is no particular limitation on the types of compounds that can be combined, they are appropriately used in combination according to the required properties such as low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, and birefringence. The types of compounds to be used are, for example, one type, two types, three types, four types, and five or more types as one embodiment.
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、TNIを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。 When emphasizing the improvement of Δε , it is preferable to set the content higher. It is highly effective when set roughly. Furthermore, in order to improve drip marks and seizure properties, it is preferable to set the range of the content in the middle.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N-1-15)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、5質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、35質量%以下であり、30質量%以下であり、28質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (N-1-15) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 5% by mass or more, 10% by mass or more, and 13% by mass. % or more, 15 mass % or more, 17 mass % or more, and 20 mass % or more. The upper limit of the preferable content is 35% by mass or less, 30% by mass or less, 28% by mass or less, 25% by mass or less, and 23% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. %, 20% by mass or less, 18% by mass or less, 15% by mass or less, and 13% by mass or less.
一般式(N-1-16)で表される化合物は下記の化合物である。
(式中、RN1161及びRN1162はそれぞれ独立して、一般式(N)におけるRN11及びRN12と同じ意味を表す。)
The compound represented by general formula (N-1-16) is the following compound.
(In the formula, R N1161 and R N1162 each independently have the same meaning as R N11 and R N12 in general formula (N).)
RN1161は炭素原子数1~5のアルキル基又は炭素原子数2~5のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。RN1162は炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数4~5のアルケニル基又は炭素原子数1~4のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。 R N1161 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, preferably an ethyl group, a propyl group or a butyl group. R 1162 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 4 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and preferably an ethoxy group, a propoxy group or a butoxy group.
一般式(N-1-16)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 The compound represented by general formula (N-1-16) can be used alone, or two or more compounds can be used in combination. Although there is no particular limitation on the types of compounds that can be combined, they are appropriately used in combination according to the required properties such as low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, and birefringence. The types of compounds to be used are, for example, one type, two types, three types, four types, and five or more types as one embodiment.
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、TNIを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。 When emphasizing the improvement of Δε, it is preferable to set the content higher, when emphasizing the solubility at low temperatures, setting the content a little higher is more effective, It is highly effective when set roughly. Furthermore, in order to improve drip marks and seizure properties, it is preferable to set the range of the content in the middle.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N-1-16)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、5質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、35質量%以下であり、30質量%以下であり、28質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (N-1-16) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 5% by mass or more, 10% by mass or more, and 13% by mass. % or more, 15 mass % or more, 17 mass % or more, and 20 mass % or more. The upper limit of the preferable content is 35% by mass or less, 30% by mass or less, 28% by mass or less, 25% by mass or less, and 23% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. %, 20% by mass or less, 18% by mass or less, 15% by mass or less, and 13% by mass or less.
一般式(N-1-17)で表される化合物は下記の化合物である。
(式中、RN1171及びRN1172はそれぞれ独立して、一般式(N)におけるRN11及びRN12と同じ意味を表す。)
The compound represented by general formula (N-1-17) is the following compound.
(In the formula, R N1171 and R N1172 each independently have the same meaning as R N11 and R N12 in general formula (N).)
RN1171は炭素原子数1~5のアルキル基又は炭素原子数2~5のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。RN1172は炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数4~5のアルケニル基又は炭素原子数1~4のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。 R N1171 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, preferably an ethyl group, a propyl group or a butyl group. R 1172 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 4 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and preferably an ethoxy group, a propoxy group or a butoxy group.
一般式(N-1-17)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 The compounds represented by general formula (N-1-17) can be used alone, or two or more compounds can be used in combination. Although there is no particular limitation on the types of compounds that can be combined, they are appropriately used in combination according to the required properties such as low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, and birefringence. The types of compounds to be used are, for example, one type, two types, three types, four types, and five or more types as one embodiment.
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、TNIを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。 When emphasizing the improvement of Δε, it is preferable to set the content higher, when emphasizing the solubility at low temperatures, setting the content a little higher is more effective, It is highly effective when set roughly. Furthermore, in order to improve drip marks and seizure properties, it is preferable to set the range of the content in the middle.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N-1-17)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、5質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、35質量%以下であり、30質量%以下であり、28質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (N-1-17) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 5% by mass or more, 10% by mass or more, and 13% by mass. % or more, 15 mass % or more, 17 mass % or more, and 20 mass % or more. The upper limit of the preferable content is 35% by mass or less, 30% by mass or less, 28% by mass or less, 25% by mass or less, and 23% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. %, 20% by mass or less, 18% by mass or less, 15% by mass or less, and 13% by mass or less.
一般式(N-1-18)で表される化合物は下記の化合物である。
(式中、RN1181及びRN1182はそれぞれ独立して、一般式(N)におけるRN11及びRN12と同じ意味を表す。)
The compound represented by general formula (N-1-18) is the following compound.
(In the formula, R N1181 and R N1182 each independently have the same meaning as R N11 and R N12 in general formula (N).)
RN1181は炭素原子数1~5のアルキル基又は炭素原子数2~5のアルケニル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。RN1182は炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数4~5のアルケニル基又は炭素原子数1~4のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。 R N1181 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group. R 1182 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 4 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and preferably an ethoxy group, a propoxy group or a butoxy group.
一般式(N-1-18)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 The compound represented by general formula (N-1-18) can be used alone, or two or more compounds can be used in combination. Although there is no particular limitation on the types of compounds that can be combined, they are appropriately used in combination according to the required properties such as low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, and birefringence. The types of compounds to be used are, for example, one type, two types, three types, four types, and five or more types as one embodiment.
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、TNIを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。 When emphasizing the improvement of Δε, it is preferable to set the content higher, when emphasizing the solubility at low temperatures, setting the content a little higher is more effective, It is highly effective when set roughly. Furthermore, in order to improve drip marks and seizure properties, it is preferable to set the range of the content in the middle.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N-1-18)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、5質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、35質量%以下であり、30質量%以下であり、28質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (N-1-18) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 5% by mass or more, 10% by mass or more, and 13% by mass. % or more, 15 mass % or more, 17 mass % or more, and 20 mass % or more. The upper limit of the preferable content is 35% by mass or less, 30% by mass or less, 28% by mass or less, 25% by mass or less, and 23% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. %, 20% by mass or less, 18% by mass or less, 15% by mass or less, and 13% by mass or less.
さらに、一般式(N-1-18)で表される化合物は、式(N-1-18.1)から式(N-1-18.5)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式(N-1-18.1)~(N-1-11.3)で表される化合物であることが好ましく、式(N-1-18.2及び式(N-1-18.3)で表される化合物が好ましい。
一般式(N-1-20)で表される化合物は下記の化合物である。
(式中、RN1201及びRN1202はそれぞれ独立して、一般式(N)におけるRN11及びRN12と同じ意味を表す。)
The compound represented by general formula (N-1-20) is the following compound.
(In the formula, R N1201 and R N1202 each independently have the same meaning as R N11 and R N12 in general formula (N).)
RN1201及びRN1202はそれぞれ独立して、炭素原子数1~5のアルキル基又は炭素原子数2~5のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。 R N1201 and R N1202 are each independently preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, preferably an ethyl group, a propyl group or a butyl group.
一般式(N-1-20)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 The compounds represented by general formula (N-1-20) can be used alone, or two or more compounds can be used in combination. Although there is no particular limitation on the types of compounds that can be combined, they are appropriately used in combination according to the required properties such as low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, and birefringence. The types of compounds to be used are, for example, one type, two types, three types, four types, and five or more types as one embodiment.
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、TNIを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。 When emphasizing the improvement of Δε, it is preferable to set the content higher, when emphasizing the solubility at low temperatures, setting the content a little higher is more effective, It is highly effective when set roughly. Furthermore, in order to improve drip marks and seizure properties, it is preferable to set the range of the content in the middle.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N-1-20)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、5質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、35質量%以下であり、30質量%以下であり、28質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (N-1-20) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 5% by mass or more, 10% by mass or more, and 13% by mass. % or more, 15 mass % or more, 17 mass % or more, and 20 mass % or more. The upper limit of the preferable content is 35% by mass or less, 30% by mass or less, 28% by mass or less, 25% by mass or less, and 23% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. %, 20% by mass or less, 18% by mass or less, 15% by mass or less, and 13% by mass or less.
一般式(N-1-21)で表される化合物は下記の化合物である。
(式中、RN1211及びRN1212はそれぞれ独立して、一般式(N)におけるRN11及びRN12と同じ意味を表す。)
The compound represented by general formula (N-1-21) is the following compound.
(In the formula, R N1211 and R N1212 each independently have the same meaning as R N11 and R N12 in general formula (N).)
RN1211及びRN1212はそれぞれ独立して、炭素原子数1~5のアルキル基又は炭素原子数2~5のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。 R N1211 and R N1212 are each independently preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, preferably an ethyl group, a propyl group or a butyl group.
一般式(N-1-21)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 The compounds represented by general formula (N-1-21) can be used alone, or two or more compounds can be used in combination. Although there is no particular limitation on the types of compounds that can be combined, they are appropriately used in combination according to the required properties such as low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, and birefringence. The types of compounds to be used are, for example, one type, two types, three types, four types, and five or more types as one embodiment.
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、TNIを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。 When emphasizing the improvement of Δε, it is preferable to set the content higher, when emphasizing the solubility at low temperatures, setting the content a little higher is more effective, It is highly effective when set roughly. Furthermore, in order to improve drip marks and seizure properties, it is preferable to set the range of the content in the middle.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N-1-21)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、5質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、35質量%以下であり、30質量%以下であり、28質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (N-1-21) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 5% by mass or more, 10% by mass or more, and 13% by mass. % or more, 15 mass % or more, 17 mass % or more, and 20 mass % or more. The upper limit of the preferable content is 35% by mass or less, 30% by mass or less, 28% by mass or less, 25% by mass or less, and 23% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. %, 20% by mass or less, 18% by mass or less, 15% by mass or less, and 13% by mass or less.
一般式(N-1-22)で表される化合物は下記の化合物である。
(式中、RN1221及びRN1222はそれぞれ独立して、一般式(N)におけるRN11及びRN12と同じ意味を表す。)
The compound represented by general formula (N-1-22) is the following compound.
(In the formula, R N1221 and R N1222 each independently have the same meaning as R N11 and R N12 in general formula (N).)
RN1221及びRN1222はそれぞれ独立して、炭素原子数1~5のアルキル基又は炭素原子数2~5のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。 R 1221 and R 1222 are each independently preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, preferably an ethyl group, a propyl group or a butyl group.
一般式(N-1-22)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 The compounds represented by general formula (N-1-22) can be used alone, or two or more compounds can be used in combination. Although there is no particular limitation on the types of compounds that can be combined, they are appropriately used in combination according to the required properties such as low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, and birefringence. The types of compounds to be used are, for example, one type, two types, three types, four types, and five or more types as one embodiment.
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、TNIを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。 When emphasizing the improvement of Δε, it is preferable to set the content higher, when emphasizing the solubility at low temperatures, setting the content a little higher is more effective, It is highly effective when set roughly. Furthermore, in order to improve drip marks and seizure properties, it is preferable to set the range of the content in the middle.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N-1-21)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%以上であり、5質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり20質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、35質量%以下であり、30質量%以下であり、28質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下であり、10質量%以下であり、5質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (N-1-21) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass or more, 5% by mass or more, and 10% by mass. % or more, 13 mass % or more, 15 mass % or more, 17 mass % or more, and 20 mass % or more. The upper limit of the preferable content is 35% by mass or less, 30% by mass or less, 28% by mass or less, 25% by mass or less, and 23% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. %, 20% by mass or less, 18% by mass or less, 15% by mass or less, 13% by mass or less, 10% by mass or less, and 5% by mass or less.
さらに、一般式(N-1-22)で表される化合物は、式(N-1-22.1)から式(N-1-22.12)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式(N-1-22.1)~(N-1-22.5)で表される化合物であることが好ましく、式(N-1-22.1)~(N-1-22.4)で表される化合物が好ましい。
一般式(N-3)で表される化合物は一般式(N-3-2)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
(式中、RN321及びRN322はそれぞれ独立して、一般式(N)におけるRN11及びRN12と同じ意味を表す。)
The compound represented by general formula (N-3) is preferably a compound selected from the group of compounds represented by general formula (N-3-2).
(In the formula, R N321 and R N322 each independently have the same meaning as R N11 and R N12 in general formula (N).)
RN321及びRN322は炭素原子数1~5のアルキル基又は炭素原子数2~5のアルケニル基が好ましく、プロピル基又はペンチル基が好ましい。 R 321 and R 322 are preferably alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms or alkenyl groups having 2 to 5 carbon atoms, and preferably propyl or pentyl groups.
一般式(N-3-2)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 The compound represented by general formula (N-3-2) can be used alone, or two or more compounds can be used in combination. Although there is no particular limitation on the types of compounds that can be combined, they are appropriately used in combination according to the required properties such as low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, and birefringence. The types of compounds to be used are, for example, one type, two types, three types, four types, and five or more types as one embodiment.
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、TNIを重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。 When emphasizing the improvement of Δε, it is preferable to set the content higher, when emphasizing the solubility at low temperatures, setting the content a little higher is more effective, It is effective when set to a small value. Furthermore, in order to improve drip marks and seizure properties, it is preferable to set the range of the content in the middle.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N-3-2)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、3質量%以上であり、5質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上であり、23質量%以上であり、25質量%以上であり、27質量%以上であり、30質量%以上であり、33質量%以上であり、35質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、50質量%以下であり、40質量%以下であり、38質量%以下であり、35質量%以下であり、33質量%以下であり、30質量%以下であり、28質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下であり、10質量%以下であり、8質量%以下であり、7質量%以下であり、6質量%以下であり、5質量%以下である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by formula (N-3-2) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 3% by mass or more, 5% by mass or more, and 10% by mass. % or more, 13 mass% or more, 15 mass% or more, 17 mass% or more, 20 mass% or more, 23 mass% or more, 25 mass% or more, 27 mass% 30% by mass or more, 33% by mass or more, and 35% by mass or more. The upper limit of the preferable content is 50% by mass or less, 40% by mass or less, 38% by mass or less, 35% by mass or less, and 33% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. % or less, 30% by mass or less, 28% by mass or less, 25% by mass or less, 23% by mass or less, 20% by mass or less, 18% by mass or less, 15% by mass 13% by mass or less, 10% by mass or less, 8% by mass or less, 7% by mass or less, 6% by mass or less, and 5% by mass or less.
さらに、一般式(N-3-2)で表される化合物は、式(N-3-2.1)から式(N-3-2.3)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
上記一般式(N-4)で表される化合物は、以下の一般式(N-4-1)で表される化合物が好ましい。
(式中、RN41及びRN42はそれぞれ独立して炭素原子数1~8のアルキル基を表すが、該アルキル基中の1個又は非隣接の2個以上の-CH2-はそれぞれ独立して-CH=CH-、-C≡C-、-O-、-CO-、-COO-又は-OCO-によって置換されていてもよい。)
The compound represented by the above general formula (N-4) is preferably a compound represented by the following general formula (N-4-1).
(In the formula, R 1 N41 and R 1 N42 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and one or two or more non-adjacent —CH 2 — in the alkyl group are each independently may be substituted by -CH=CH-, -C≡C-, -O-, -CO-, -COO- or -OCO-.)
一般式(N-4-1)において、RN41及びRN42は、それぞれ独立して1個又は非隣接の2個以上の-CH2-がそれぞれ独立して-O-、-COO-又は-OCO-によって置換されていてもよい炭素原子数1~8のアルキル基を表すことが好ましく、炭素原子数1~8のアルキル基又アルコキシ基であることが好ましい。特に優れた誘電率異方性を示すために、アルコキシ基である事が好ましい。 In general formula (N-4-1), R N41 and R N42 are each independently one or two or more non-adjacent —CH 2 — are each independently —O—, —COO— or — It preferably represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may be substituted by OCO—, preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an alkoxy group. An alkoxy group is preferred in order to exhibit particularly excellent dielectric anisotropy.
一般式(N-4-1)で表される化合物は、具体的には、式(N-4-1.1)から式(N-4-1.9)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式(N-4-1.1)から式(N-4-1.5)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式(N-4-1.3)の化合物であることが好ましい。式(N-4-1.1)から式(N-4-1.9)で表される化合物は、液晶組成物の低温保存性を向上する観点から、2種以上を併用することが好ましい。
液晶化合物は、下記式(J):
で表される化合物からなる群より選ばれる化合物であってもよい。上記式(J)で表される化合物は、誘電的に正の化合物(Δεが2より大きい。)に該当する。
The liquid crystal compound has the following formula (J):
It may be a compound selected from the group consisting of compounds represented by. The compound represented by the above formula (J) corresponds to a dielectrically positive compound (Δε is greater than 2).
上記式(J)中、
RJ1は、炭素原子数1~8のアルキル基を表し、該アルキル基中の1個又は隣接していない2個以上の-CH2-は、それぞれ独立して、-CH=CH-、-C≡C-、-O-、-CO-、-COO-又は-OCO-によって置換されていてもよく、
nJ1は、0、1、2、3又は4を表し、
AJ1、AJ2及びAJ3は、それぞれ独立して、
(a) 1,4-シクロヘキシレン基(この基中に存在する1個の-CH2-又は隣接していない2個以上の-CH2-は-O-に置換されていてもよい。)、
(b) 1,4-フェニレン基(この基中に存在する1個の-CH=又は隣接していない2個以上の-CH=は-N=に置換されていてもよい。)及び
(c) ナフタレン-2,6-ジイル基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基又はデカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基(ナフタレン-2,6-ジイル基又は1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基中に存在する1個の-CH=又は隣接していない2個以上の-CH=は-N=に置換されていてもよい。)
からなる群より選ばれる基を表し、基(a)、基(b)及び基(c)中の水素原子は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基又はトリフルオロメトキシ基で置換されていてもよく、
ZJ1及びZJ2は、それぞれ独立して、単結合、-CH2CH2-、-(CH2)4-、-OCH2-、-CH2O-、-OCF2-、-CF2O-、-COO-、-OCO-又は-C≡C-を表し、
nJ1が2、3又は4であってAJ2が複数存在する場合は、それらは互いに同一であっても異なっていてもよく、nJ1が2、3又は4であってZJ1が複数存在する場合は、それらは互いに同一であっても異なっていてもよく、
XJ1は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基又は2,2,2-トリフルオロエチル基を表す。
ただし、上記一般式(L)で表される化合物を除く。
In the above formula (J),
R J1 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and one or two or more non-adjacent -CH 2 - in the alkyl group are each independently -CH=CH-, - optionally substituted by C≡C-, -O-, -CO-, -COO- or -OCO-,
n J1 represents 0, 1, 2, 3 or 4;
A J1 , A J2 and A J3 are each independently
(a) 1,4-cyclohexylene group (one -CH 2 - present in this group or two or more non-adjacent -CH 2 - may be substituted with -O-); ,
(b) 1,4-phenylene group (one —CH= or two or more non-adjacent —CH= present in this group may be substituted with —N=) and (c ) naphthalene-2,6-diyl group, 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,6-diyl group or decahydronaphthalene-2,6-diyl group (naphthalene-2,6-diyl group or 1, One —CH= or two or more non-adjacent —CH= present in the 2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,6-diyl group may be substituted with —N=.)
represents a group selected from the group consisting of, hydrogen atoms in the group (a), the group (b) and the group (c) are each independently a cyano group, a fluorine atom, a chlorine atom, a methyl group, a trifluoromethyl optionally substituted with a group or a trifluoromethoxy group,
Z J1 and Z J2 are each independently a single bond, -CH 2 CH 2 -, -(CH 2 ) 4 -, -OCH 2 -, -CH 2 O-, -OCF 2 -, -CF 2 O -, -COO-, -OCO- or -C≡C-,
When n J1 is 2, 3 or 4 and there are a plurality of A J2 , they may be the same or different, and when n J1 is 2, 3 or 4 and there are a plurality of Z J1 , they may be the same or different from each other, and
X J1 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a cyano group, a trifluoromethyl group, a fluoromethoxy group, a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group or a 2,2,2-trifluoroethyl group.
However, the compound represented by the above general formula (L) is excluded.
非重合性液晶化合物は、式(J)で表される化合物として、一般式(M)で表される化合物を1種類又は2種類以上含有することが好ましい。
(式中、RM1は炭素原子数1~8のアルキル基を表し、該アルキル基中の1個又は非隣接の2個以上の-CH2-はそれぞれ独立して-CH=CH-、-C≡C-、-O-、-CO-、-COO-又は-OCO-によって置換されていてもよく、
nM1は、0、1、2、3又は4を表し、
AM1及びAM2はそれぞれ独立して、
(a) 1,4-シクロヘキシレン基(この基中に存在する1個の-CH2-又は隣接していない2個以上の-CH2-は-O-又は-S-に置き換えられてもよい。)及び
(b) 1,4-フェニレン基(この基中に存在する1個の-CH=又は隣接していない2個以上の-CH=は-N=に置き換えられてもよい。)
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基(a)及び基(b)上の水素原子はそれぞれ独立してシアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていてもよく、
ZM1及びZM2はそれぞれ独立して単結合、-CH2CH2-、-(CH2)4-、-OCH2-、-CH2O-、-OCF2-、-CF2O-、-COO-、-OCO-又は-C≡C-を表し、
nM1が2、3又は4であってAM2が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、nM1が2、3又は4であってZM1が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、
XM1及びXM3はそれぞれ独立して水素原子、塩素原子又はフッ素原子を表し、
XM2は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基又は2,2,2-トリフルオロエチル基を表す。)
上記一般式(J)で表される化合物は、以下の式(M-1)~(M-18)で表される化合物であることが好ましい。
(上記式中、XM11~XM186はそれぞれ独立して、水素原子又はフッ素原子を表し、RJ1~RJ181はそれぞれ独立し、炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数2~5のアルケニル基又は炭素原子数1~4のアルコキシ基を表し、XJ11~XJ181ははフッ素原子、塩素原子又はOCF3を表し、
AM81及びAM82はそれぞれ独立して、1,4-シクロヘキシレン基、1,4-フェニレン基又は
を表すが、1,4-フェニレン基上の水素原子はフッ素原子によって置換されていてもよく、WM101~WM172はそれぞれ独立して、-CH2-又は-O-を表す。)
The non-polymerizable liquid crystal compound preferably contains one or more compounds represented by the general formula (M) as the compound represented by the formula (J).
(In the formula, R M1 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and one or two or more non-adjacent —CH 2 — in the alkyl group are each independently —CH═CH—, — optionally substituted by C≡C-, -O-, -CO-, -COO- or -OCO-,
n M1 represents 0, 1, 2, 3 or 4;
A M1 and A M2 are each independently
(a) 1,4-cyclohexylene group (one —CH 2 — present in this group or two or more non-adjacent —CH 2 — may be replaced with —O— or —S—; and (b) a 1,4-phenylene group (one —CH= or two or more non-adjacent —CH= present in this group may be replaced with —N=).
represents a group selected from the group consisting of, hydrogen atoms on the above groups (a) and (b) may be independently substituted with a cyano group, a fluorine atom or a chlorine atom,
Z M1 and Z M2 are each independently a single bond, -CH 2 CH 2 -, -(CH 2 ) 4 -, -OCH 2 -, -CH 2 O-, -OCF 2 -, -CF 2 O-, -COO-, -OCO- or -C≡C-,
When nM1 is 2, 3 or 4 and there are a plurality of A M2 , they may be the same or different, and nM1 is 2, 3 or 4 and there are a plurality of ZM1 they may be the same or different, and
X M1 and X M3 each independently represent a hydrogen atom, a chlorine atom or a fluorine atom;
XM2 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a cyano group, a trifluoromethyl group, a fluoromethoxy group, a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group or a 2,2,2-trifluoroethyl group. )
The compound represented by the general formula (J) is preferably a compound represented by the following formulas (M-1) to (M-18).
(In the above formula, X M11 to X M186 each independently represent a hydrogen atom or a fluorine atom; R J1 to R J181 each independently represent an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms; represents an alkenyl group or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and X J11 to X J181 represent a fluorine atom, a chlorine atom or OCF 3 ,
A M81 and A M82 are each independently a 1,4-cyclohexylene group, a 1,4-phenylene group, or
However, the hydrogen atoms on the 1,4-phenylene group may be substituted with fluorine atoms, and W M101 to W M172 each independently represent —CH 2 — or —O—. )
上記一般式(J)で表される化合物は、以下の式(K-1)~(K-6)で表される化合物であることが好ましい。 The compound represented by the general formula (J) is preferably a compound represented by the following formulas (K-1) to (K-6).
(式中、RK11は炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数2~5のアルケニル基又は炭素原子数1~4のアルコキシ基を表し、XK11~XK14はそれぞれ独立して水素原子又はフッ素原子を表し、YK11はフッ素原子又はOCF3を表す。)
(wherein R K11 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and X K11 to X K14 are each independently hydrogen represents an atom or a fluorine atom, and YK11 represents a fluorine atom or OCF3 .)
(式中、RK21は炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数2~5のアルケニル基又は炭素原子数1~4のアルコキシ基を表し、XK21~XK24はそれぞれ独立して水素原子又はフッ素原子を表し、YK21はフッ素原子又はOCF3を表す。)
(wherein R K21 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and X K21 to X K24 are each independently hydrogen represents an atom or a fluorine atom, and YK21 represents a fluorine atom or OCF3 .)
(式中、RK31は炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数2~5のアルケニル基又は炭素原子数1~4のアルコキシ基を表し、XK31~XK36はそれぞれ独立して水素原子又はフッ素原子を表し、YK31はフッ素原子又はOCF3を表す。)
(In the formula, R K31 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and X K31 to X K36 each independently represent a hydrogen represents an atom or a fluorine atom, and YK31 represents a fluorine atom or OCF3 .)
(式中、RK41は炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数2~5のアルケニル基又は炭素原子数1~4のアルコキシ基を表し、XK41~XK46はそれぞれ独立して水素原子又はフッ素原子を表し、YK41はフッ素原子又はOCF3を表し、ZK41は-OCH2-、-CH2O-、-OCF2-又は-CF2O-を表す。)
(Wherein, R K41 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and X K41 to X K46 each independently represent a hydrogen represents an atom or a fluorine atom, Y K41 represents a fluorine atom or OCF 3 , and Z K41 represents -OCH 2 -, -CH 2 O-, -OCF 2 - or -CF 2 O-.)
(式中、RK51は炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数2~5のアルケニル基又は炭素原子数1~4のアルコキシ基を表し、XK51~XK56はそれぞれ独立して水素原子又はフッ素原子を表し、YK51はフッ素原子又はOCF3を表し、ZK51は-OCH2-、-CH2O-、-OCF2-又は-CF2O-を表す。)
(Wherein, R K51 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and X K51 to X K56 each independently represent a hydrogen represents an atom or a fluorine atom, Y K51 represents a fluorine atom or OCF 3 , and Z K51 represents -OCH 2 -, -CH 2 O-, -OCF 2 - or -CF 2 O-.)
(式中、RK61は炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数2~5のアルケニル基又は炭素原子数1~4のアルコキシ基を表し、XK61~XK68はそれぞれ独立して水素原子又はフッ素原子を表し、YK61はフッ素原子又はOCF3を表し、ZK61は-OCH2-、-CH2O-、-OCF2-又は-CF2O-を表す。)
(Wherein, R K61 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and X K61 to X K68 each independently represent a hydrogen represents an atom or a fluorine atom, Y K61 represents a fluorine atom or OCF 3 , and Z K61 represents -OCH 2 -, -CH 2 O-, -OCF 2 - or -CF 2 O-.)
上記一般式(M)で表される化合物は、具体的には、以下の式(M-1.1)から式(M-5.1)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。これらの化合物は、液晶組成物の応答速度を向上させながら保存安定性を維持する観点から、2種以上を併用することが好ましい。
(上記式中、RMはそれぞれ独立して、炭素原子数1~8のアルキル基を表し、該アルキル基中の1個又は隣接していない2個以上の-CH2-は、それぞれ独立して、-CH=CH-、-C≡C-、-O-、-CO-、-COO-又は-OCO-によって置換されていてもよい。)
Specifically, the compound represented by the general formula (M) is a compound selected from the group of compounds represented by the following formulas (M-1.1) to (M-5.1). is preferred. These compounds are preferably used in combination of two or more from the viewpoint of improving the response speed of the liquid crystal composition while maintaining storage stability.
(In the above formula, each R 1 M independently represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and one or more non-adjacent -CH 2 - in the alkyl group each independently may be substituted by -CH=CH-, -C≡C-, -O-, -CO-, -COO- or -OCO-.)
液晶層4は、ヒンダードフェノール化合物を含有していてもよい。ヒンダードフェノール化合物は、上述したヒンダードアミン化合物に該当する化合物(すなわち、ヒンダードアミン構造(骨格)及びヒンダードフェノール構造(骨格)の両方を有する化合物)であってよく、上述したヒンダードアミン化合物には該当しない化合物(すなわち、ヒンダードアミン構造(骨格)は有さず、ヒンダードフェノール構造(骨格)を有する化合物)であってもよい。
The
以下、実施例に基づいて本発明を更に具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described in more detail based on examples below, but the present invention is not limited to the following examples.
表1~3に示される液晶組成A~F(単位:質量%)を有する組成物、及び、表4に示されるヒンダードアミン化合物をそれぞれ準備した。 Compositions having liquid crystal compositions A to F (unit: % by mass) shown in Tables 1 to 3 and hindered amine compounds shown in Table 4 were prepared.
<実施例1-1~1-17>
液晶組成Aを有する組成物に、表4に示す種類のヒンダードアミン化合物を表4に示す濃度(質量ppm)となるように添加し、n型液晶組成物をそれぞれ調製した。次に、液晶の水平配向が得られるように、ポリイミド配向膜Sが塗布され、櫛歯電極(共通電極及び画素電極)の長手方向からプレツイスト角が5°になるようにラビング配向処理が施されたITO付きのラビング配向のガラスセル(セルギャップ:3.5μm)を用意した。櫛歯電極(共通電極及び画素電極)の電極間距離は3.5μmであった。続いて、真空注入法によりガラスセル内に各n型液晶組成物を注入した後、ガラスセルを取り出し、注入口を封口剤3026B((株)スリーボンド製)で封止し、IPSモードの液晶表示素子を得た。
<Examples 1-1 to 1-17>
Hindered amine compounds of the types shown in Table 4 were added to the composition having the liquid crystal composition A so as to have concentrations (mass ppm) shown in Table 4 to prepare n-type liquid crystal compositions. Next, a polyimide alignment film S is applied so as to obtain horizontal alignment of the liquid crystal, and a rubbing alignment treatment is applied so that the pre-twist angle is 5° from the longitudinal direction of the comb-shaped electrodes (common electrode and pixel electrode). A rubbing-oriented glass cell (cell gap: 3.5 μm) with ITO was prepared. The inter-electrode distance of the comb-shaped electrodes (common electrode and pixel electrode) was 3.5 μm. Subsequently, after each n-type liquid crystal composition was injected into the glass cell by a vacuum injection method, the glass cell was taken out, and the injection port was sealed with a sealing agent 3026B (manufactured by ThreeBond Co., Ltd.) to obtain an IPS mode liquid crystal display. I got the device.
得られた液晶表示素子について、オプチプロ((株)シンテック製)を用いてツイスト角(初期)を測定した。次いで、±30V60Hzの矩形波を150分間印加した後、ツイスト角(駆動後)を再度測定した。得られたツイスト角から、下記式に従ってツイスト角のシフトを算出した。
ツイスト角のシフト(°)=ツイスト角(駆動後)-ツイスト角(初期)
ツイスト角のシフトは、小さいほど焼き付きが小さく良好である。結果を表5に示す。
The twist angle (initial) of the obtained liquid crystal display device was measured using Optipro (manufactured by Shintech Co., Ltd.). After applying a square wave of ±30 V, 60 Hz for 150 minutes, the twist angle (after driving) was measured again. From the obtained twist angle, the twist angle shift was calculated according to the following formula.
Twist angle shift (°) = Twist angle (after driving) - Twist angle (initial)
The smaller the twist angle shift, the smaller the image sticking and the better. Table 5 shows the results.
<比較例1-1>
ヒンダードアミン化合物を添加しなかった以外は実施例1-1と同様にして、液晶表示素子の作製及びツイスト角のシフトの測定を行った。結果を表5に示す。
<Comparative Example 1-1>
A liquid crystal display device was produced and the twist angle shift was measured in the same manner as in Example 1-1, except that no hindered amine compound was added. Table 5 shows the results.
実施例1-1~1-17のツイスト角シフトは、比較例1-1のツイスト角のシフトと比較して小さく良好な値を示した。 The twist angle shifts of Examples 1-1 to 1-17 were small compared to the twist angle shift of Comparative Example 1-1, and showed favorable values.
<実施例1-18~1-21>
電極間距離を表6のとおりに変更した以外はそれぞれ実施例1-3,1-7と同様にして、液晶表示素子の作製及びツイスト角のシフトの測定を行った。結果を表6に示す。
<Examples 1-18 to 1-21>
A liquid crystal display device was fabricated and the twist angle shift was measured in the same manner as in Examples 1-3 and 1-7, except that the distance between the electrodes was changed as shown in Table 6. Table 6 shows the results.
実施例1-18~1-19のツイスト角シフトは良好な値を示した。実施例1-20~1-21のツイスト角シフトは良好な値を示した。 The twist angle shifts of Examples 1-18 to 1-19 showed good values. The twist angle shifts of Examples 1-20 to 1-21 showed good values.
<実施例1-22~1-32及び比較例1-4~1-6>
液晶組成を表7のとおりに変更した以外はそれぞれ実施例1-1,1-3,1-7,1-8又は比較例1-1と同様にして、液晶表示素子の作製及びツイスト角のシフトの測定を行った。結果を表7に示す。
<Examples 1-22 to 1-32 and Comparative Examples 1-4 to 1-6>
Except for changing the liquid crystal composition as shown in Table 7, in the same manner as in Examples 1-1, 1-3, 1-7, 1-8 or Comparative Example 1-1, a liquid crystal display element was produced and the twist angle was measured. Shift measurements were taken. Table 7 shows the results.
実施例1-22~1-24のツイスト角シフトは、比較例1-4のツイスト角のシフトと比較して小さく良好な値を示した。実施例1-25~1-27のツイスト角シフトは、比較例1-5のツイスト角のシフトと比較して小さく良好な値を示した。実施例1-28~1-30のツイスト角シフトは、比較例1-6のツイスト角のシフトと比較して小さく良好な値を示した。 The twist angle shifts of Examples 1-22 to 1-24 were small compared to the twist angle shift of Comparative Example 1-4, and showed favorable values. The twist angle shifts of Examples 1-25 to 1-27 were smaller than the twist angle shift of Comparative Example 1-5, and showed good values. The twist angle shifts of Examples 1-28 to 1-30 were small compared to the twist angle shift of Comparative Example 1-6, and showed favorable values.
<実施例1-33~1-34及び比較例1-7>
ポリイミド配向膜Sに代えて、よりイミド化率の高いポリイミド配向膜Aを用いた以外はそれぞれ実施例1-3,1-7又は比較例1-1と同様にして、液晶表示素子の作製及びツイスト角のシフトの測定を行った。結果を表8に示す。
<Examples 1-33 to 1-34 and Comparative Example 1-7>
A liquid crystal display element was produced and manufactured in the same manner as in Examples 1-3 and 1-7 or Comparative Example 1-1, respectively, except that the polyimide alignment film A having a higher imidization rate was used instead of the polyimide alignment film S. Twist angle shift measurements were taken. Table 8 shows the results.
<実施例1-35~1-36及び比較例1-8>
ラビング配向処理に代えて、254nmの偏光UVを300mJ/cm2照射した(これにより得られた配向膜をポリイミド配向膜Pとする)以外はそれぞれ実施例1-3,1-7又は比較例1-1と同様にして、液晶表示素子の作製及びツイスト角のシフトの測定を行った。結果を表8に示す。
<Examples 1-35 to 1-36 and Comparative Example 1-8>
Instead of the rubbing alignment treatment, 300 mJ/cm 2 of polarized UV of 254 nm was irradiated (the alignment film obtained by this was referred to as polyimide alignment film P). In the same manner as in -1, a liquid crystal display element was produced and the twist angle shift was measured. Table 8 shows the results.
実施例1-33~1-34のツイスト角シフトは、比較例1-7のツイスト角のシフトと比較して小さく良好な値を示した。実施例1-35~1-36のツイスト角シフトは、比較例1-8のツイスト角のシフトと比較して小さく良好な値を示した。 The twist angle shifts of Examples 1-33 to 1-34 were small compared to the twist angle shift of Comparative Example 1-7, and showed favorable values. The twist angle shifts of Examples 1-35 to 1-36 were smaller than the twist angle shift of Comparative Example 1-8 and showed good values.
<参考例1-1>
電極間距離を20μmに変更した以外はそれぞれ実施例1-3と同様にして、液晶表示素子の作製及びツイスト角のシフトの測定を行った。結果を表9に示す。
A liquid crystal display device was fabricated and the twist angle shift was measured in the same manner as in Examples 1-3, except that the distance between the electrodes was changed to 20 μm. Table 9 shows the results.
<実施例1-37>
実施例1-1.1-18.1-20及び参考例1-1のセルを用いて駆動電圧を測定したところ、電極間距離の短い実施例1-1が最も駆動電圧が低かった。そのため、ツイスト角のシフトと駆動電圧との関係を考慮すると、電極間距離は3.5~10μmが好適であると考えられる。
<Example 1-37>
When the driving voltage was measured using the cells of Examples 1-1.1-18.1-20 and Reference Example 1-1, the driving voltage of Example 1-1 with the short distance between the electrodes was the lowest. Therefore, considering the relationship between the twist angle shift and the driving voltage, it is considered that the distance between the electrodes is preferably 3.5 to 10 μm.
<実施例2-1~2-17>
液晶組成Aを有する組成物に、表10に示す種類のヒンダードアミン化合物を表10に示す濃度(質量ppm)となるように添加し、n型液晶組成物をそれぞれ調製した。次に、液晶の水平配向が得られるように、ポリイミド配向膜Sが塗布され、電極スリット(画素電極)の長手方向からプレツイスト角が85°になるようにラビング配向処理が施された、ITO電極及び絶縁層を有する基板と対向基板とからなるガラスセル(セルギャップ:3.5μm)を用意した。スリット電極(画素電極)の電極間距離は3.5μmであった。続いて、真空注入法によりガラスセル内に各n型液晶組成物を注入した後、ガラスセルを取り出し、注入口を封口剤3026B((株)スリーボンド製)で封止し、FFSモードの液晶表示素子を得た。得られた液晶表示素子について、実施例1-1と同様にして、ツイスト角のシフトを測定した。結果を表10に示す。
<Examples 2-1 to 2-17>
Hindered amine compounds of the types shown in Table 10 were added to the composition having the liquid crystal composition A so as to have concentrations (mass ppm) shown in Table 10, thereby preparing n-type liquid crystal compositions. Next, a polyimide alignment film S is applied so as to obtain horizontal alignment of the liquid crystal, and the ITO is subjected to a rubbing alignment treatment so that the pre-twist angle is 85° from the longitudinal direction of the electrode slit (pixel electrode). A glass cell (cell gap: 3.5 μm) consisting of a substrate having an electrode and an insulating layer and a counter substrate was prepared. The inter-electrode distance of the slit electrodes (pixel electrodes) was 3.5 μm. Subsequently, after each n-type liquid crystal composition was injected into the glass cell by a vacuum injection method, the glass cell was taken out, and the injection port was sealed with a sealing agent 3026B (manufactured by ThreeBond Co., Ltd.) to obtain an FFS mode liquid crystal display. I got the device. The twist angle shift of the obtained liquid crystal display element was measured in the same manner as in Example 1-1. Table 10 shows the results.
<比較例2-1>
ヒンダードアミン化合物を添加しなかった以外は実施例2-1と同様にして、液晶表示素子の作製及びツイスト角のシフトの測定を行った。結果を表10に示す。
<Comparative Example 2-1>
A liquid crystal display device was produced and the twist angle shift was measured in the same manner as in Example 2-1, except that no hindered amine compound was added. Table 10 shows the results.
実施例2-1~2-17のツイスト角シフトは、比較例2-1のツイスト角のシフトと比較して小さく良好な値を示した。 The twist angle shifts of Examples 2-1 to 2-17 were small compared to the twist angle shift of Comparative Example 2-1, and showed favorable values.
<実施例2-18~2-21>
電極間距離を表10のとおりに変更した以外はそれぞれ実施例2-3,2-7と同様にして、液晶表示素子の作製及びツイスト角のシフトの測定を行った。結果を表11に示す。
<Examples 2-18 to 2-21>
A liquid crystal display device was fabricated and the twist angle shift was measured in the same manner as in Examples 2-3 and 2-7, respectively, except that the distance between the electrodes was changed as shown in Table 10. Table 11 shows the results.
実施例2-18~2-19のツイスト角シフトは良好な値を示した。実施例2-20~2-21のツイスト角シフトは良好な値を示した。 The twist angle shifts of Examples 2-18 to 2-19 showed good values. The twist angle shifts of Examples 2-20 to 2-21 showed good values.
<実施例2-22~2-32及び比較例2-4~2-6>
液晶組成を表12のとおりに変更した以外はそれぞれ実施例2-1,2-3,2-7,2-8又は比較例2-1と同様にして、液晶表示素子の作製及びツイスト角のシフトの測定を行った。結果を表12に示す。
<Examples 2-22 to 2-32 and Comparative Examples 2-4 to 2-6>
Except for changing the liquid crystal composition as shown in Table 12, in the same manner as in Examples 2-1, 2-3, 2-7, 2-8 or Comparative Example 2-1, a liquid crystal display element was produced and the twist angle was measured. Shift measurements were taken. Table 12 shows the results.
実施例2-22~2-24のツイスト角シフトは、比較例2-4のツイスト角のシフトと比較して小さく良好な値を示した。実施例2-25~2-27のツイスト角シフトは、比較例2-5のツイスト角のシフトと比較して小さく良好な値を示した。実施例2-28~2-30のツイスト角シフトは、比較例2-6のツイスト角のシフトと比較して小さく良好な値を示した。 The twist angle shifts of Examples 2-22 to 2-24 were smaller than the twist angle shift of Comparative Example 2-4, and showed good values. The twist angle shifts of Examples 2-25 to 2-27 were smaller than the twist angle shift of Comparative Example 2-5, and showed good values. The twist angle shifts of Examples 2-28 to 2-30 were smaller than the twist angle shift of Comparative Example 2-6, and showed good values.
<実施例2-33~2-34及び比較例2-7>
ポリイミド配向膜Sに代えて、よりイミド化率の高いポリイミド配向膜Aを用いた以外はそれぞれ実施例2-3,2-7又は比較例2-1と同様にして、液晶表示素子の作製及びツイスト角のシフトの測定を行った。結果を表13に示す。
<Examples 2-33 to 2-34 and Comparative Example 2-7>
A liquid crystal display element was fabricated and manufactured in the same manner as in Examples 2-3 and 2-7 or Comparative Example 2-1, respectively, except that the polyimide alignment film A having a higher imidization rate was used instead of the polyimide alignment film S. Twist angle shift measurements were taken. The results are shown in Table 13.
<実施例2-35~2-36及び比較例2-8>
ラビング配向処理に代えて、254nmの偏光UVを300mJ/cm2照射した(これにより得られた配向膜をポリイミド配向膜Pとする)以外はそれぞれ実施例2-3,2-7又は比較例2-1と同様にして、液晶表示素子の作製及びツイスト角のシフトの測定を行った。結果を表13に示す。
<Examples 2-35 to 2-36 and Comparative Example 2-8>
Instead of the rubbing alignment treatment, 300 mJ/cm 2 of polarized UV of 254 nm was irradiated (the alignment film obtained by this was referred to as polyimide alignment film P). In the same manner as in -1, a liquid crystal display element was produced and the twist angle shift was measured. The results are shown in Table 13.
実施例2-32~2-33のツイスト角シフトは、比較例2-7のツイスト角のシフトと比較して小さく良好な値を示した。実施例2-34~2-35のツイスト角シフトは、比較例2-8のツイスト角のシフトと比較して小さく良好な値を示した。 The twist angle shifts of Examples 2-32 to 2-33 were smaller than the twist angle shift of Comparative Example 2-7 and showed good values. The twist angle shifts of Examples 2-34 to 2-35 were smaller than the twist angle shift of Comparative Example 2-8, and showed good values.
<参考例2-1>
電極間距離を20μmに変更した以外はそれぞれ実施例2-3と同様にして、液晶表示素子の作製及びツイスト角のシフトの測定を行った。結果を表14に示す。
<Reference example 2-1>
A liquid crystal display device was fabricated and the twist angle shift was measured in the same manner as in Example 2-3, except that the distance between the electrodes was changed to 20 μm. The results are shown in Table 14.
<実施例2-37>
実施例2-1,2-18,2-20及び参考例2-1のセルを用いて駆動電圧を測定したところ、実施例1-37と同様の傾向を示し、電極間距離の短い実施例2-1が最も駆動電圧が低かった。そのため、ツイスト角シフトと駆動電圧の関係を考慮すると、電極間距離は3.5~10μmが好適であると考えられる。
<Example 2-37>
When the driving voltage was measured using the cells of Examples 2-1, 2-18, 2-20 and Reference Example 2-1, the same tendency as in Example 1-37 was shown, indicating that the distance between the electrodes was short. 2-1 had the lowest driving voltage. Therefore, considering the relationship between the twist angle shift and the drive voltage, it is considered that the distance between the electrodes is preferably 3.5 to 10 μm.
1A,1B…液晶表示素子、2…第1の基板、3…第2の基板、4…液晶層、5…第1の偏光板、6…カラーフィルタ、7…第1の配向膜、8…第2の偏光板、9a,9b…共通電極、10a,10b…画素電極、11…第2の配向膜、12…絶縁層。
DESCRIPTION OF
Claims (6)
前記一対の基板の一方の基板上に、複数の共通電極及び画素電極が形成されており、
前記複数の共通電極及び画素電極のうち、前記一方の基板上の同一面内に形成されている二つの電極間の最短距離が20μm未満であり、
前記液晶層がヒンダードアミン化合物を含む、液晶表示素子であって、
前記液晶表示素子がFFSモードの液晶表示素子であり、
前記ヒンダードアミン化合物が、下記式(1)
[式中、
R1は、水素原子又は炭素原子数1~12のアルキル基を表し、
該アルキル基中に存在する1個又は2個以上の-CH2-は、それぞれ独立して、-S-、-CH=CH-、-C≡C-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-OCF2-、又は-CF2O-に置換されていてもよく、
R2、R3、R4及びR5は、それぞれ独立して、炭素原子数1~8のアルキル基を表し、
該アルキル基中に存在する1個又は2個以上の-CH2-は、それぞれ独立して、-O-、-S-、-CH=CH-、-C≡C-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-OCF2-、又は-CF2O-に置換されていてもよく、
R2及びR3は互いに結合して環を形成していてもよく、
R4及びR5は互いに結合して環を形成していてもよく、
R6及びR7は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数1~6のアルキル基を表し、
該アルキル基中に存在する1個又は2個以上の-CH2-は、それぞれ独立して、-O-、-S-、-CH=CH-、-C≡C-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-OCF2、-又は-CF2O-に置換されていてもよく、
R8は、水素原子又は1価の有機基を表し、
該1価の有機基はM1に結合して環を形成してもよく、
M1は、n価の有機基を表し、
mは、0~2の整数を表し、
nは、1~6の整数を表し、
nが2~6の整数である場合、複数存在するR1~R7は、それぞれ互いに同一であっても異なっていてもよい。]
で表される化合物であり、
前記液晶層が、下記式(L-1)
[式中、
R L11 及びR L12 はそれぞれ独立して、炭素原子数1~8のアルキル基を表し、該アルキル基中の1個又は隣接していない2個以上の-CH 2 -は、それぞれ独立して、-CH=CH-、-C≡C-、-O-、-CO-、-COO-又は-OCO-によって置換されていてもよい。]
で表される化合物を更に含有する、液晶表示素子。 comprising a pair of substrates and a liquid crystal layer disposed between the pair of substrates,
a plurality of common electrodes and pixel electrodes are formed on one substrate of the pair of substrates;
Among the plurality of common electrodes and pixel electrodes, the shortest distance between two electrodes formed in the same plane on the one substrate is less than 20 μm,
A liquid crystal display element, wherein the liquid crystal layer contains a hindered amine compound,
The liquid crystal display element is an FFS mode liquid crystal display element,
The hindered amine compound has the following formula (1)
[In the formula,
R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms,
One or more —CH 2 — present in the alkyl group are each independently —S—, —CH═CH—, —C≡C—, —CO—, —CO—O— , —O—CO—, —OCF 2 —, or —CF 2 O—,
R 2 , R 3 , R 4 and R 5 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms,
One or more —CH 2 — present in the alkyl group are each independently —O—, —S—, —CH═CH—, —C≡C—, —CO—, — optionally substituted with CO—O—, —O—CO—, —OCF 2 —, or —CF 2 O—;
R 2 and R 3 may combine with each other to form a ring,
R 4 and R 5 may combine with each other to form a ring,
R 6 and R 7 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms,
One or more —CH 2 — present in the alkyl group are each independently —O—, —S—, —CH═CH—, —C≡C—, —CO—, — optionally substituted with CO—O—, —O—CO—, —OCF 2 , — or —CF 2 O—,
R 8 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group,
the monovalent organic group may be bonded to M 1 to form a ring;
M 1 represents an n-valent organic group,
m represents an integer from 0 to 2,
n represents an integer from 1 to 6,
When n is an integer of 2 to 6, multiple R 1 to R 7 may be the same or different. ]
is a compound represented by
The liquid crystal layer has the following formula (L-1)
[In the formula,
R L11 and R L12 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and one or more non-adjacent -CH 2 - in the alkyl group are each independently optionally substituted by -CH=CH-, -C≡C-, -O-, -CO-, -COO- or -OCO-. ]
Further containing a compound represented by, a liquid crystal display element.
[式(N-1)、(N-2)、(N-3)及び(N-4)中、
RN11、RN12、RN21、RN22、RN31、RN32、RN41及びRN42は、それぞれ独立して、炭素原子数1~8のアルキル基を表し、該アルキル基中の1個又は隣接していない2個以上の-CH2-は、それぞれ独立して、-CH=CH-、-C≡C-、-O-、-CO-、-COO-又は-OCO-によって置換されていてもよく、
AN11、AN12、AN21、AN22、AN31、AN32、AN41及びAN42は、それぞれ独立して、
(a) 1,4-シクロヘキシレン基(この基中に存在する1個の-CH2-又は隣接していない2個以上の-CH2-は-O-に置換されていてもよい。)、
(b) 1,4-フェニレン基(この基中に存在する1個の-CH=又は隣接していない2個以上の-CH=は-N=に置換されていてもよい。)、
(c) ナフタレン-2,6-ジイル基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基又はデカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基(ナフタレン-2,6-ジイル基又は1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基中に存在する1個の-CH=又は隣接していない2個以上の-CH=は-N=に置換されていてもよい。)及び
(d) 1,4-シクロヘキセニレン基
からなる群より選ばれる基を表し、基(a)、基(b)、基(c)及び基(d)中の水素原子は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていてもよく、
ZN11、ZN12、ZN21、ZN22、ZN31、ZN32、ZN41及びZN42は、それぞれ独立して、単結合、-CH2CH2-、-(CH2)4-、-OCH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-、-OCF2-、-CF2O-、-CH=N-N=CH-、-CH=CH-、-CF=CF-、又は-C≡C-を表し、
XN21は、水素原子又はフッ素原子を表し、
TN31は、-CH2-又は酸素原子を表し、
XN41は、酸素原子、窒素原子、又は-CH2-を表し、
YN41は、単結合又は-CH2-を表し、
nN11、nN12、nN21、nN22、nN31、nN32、nN41、及びnN42は、それぞれ独立して0~3の整数を表すが、nN11+nN12、nN21+nN22及びnN31+nN32は、それぞれ独立して1、2又は3であり、AN11~AN32及びZN11~ZN32がそれぞれ複数存在する場合は、それらは互いに同一であっても異なっていてもよく、nN41+nN42は0~3の整数を表すが、AN41、AN42、ZN41及びZN42がそれぞれ複数存在する場合は、それらは互いに同一であっても異なっていてもよい。] The liquid crystal layer further contains at least one compound selected from the group consisting of compounds represented by the following formulas (N-1), (N-2), (N-3) and (N-4). The liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 3 .
[In the formulas (N-1), (N-2), (N-3) and (N-4),
R N11 , R N12 , R N21 , R N22 , R N31 , R N32 , R N41 and R N42 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and one or two or more —CH 2 — that are not adjacent are each independently substituted with —CH═CH—, —C≡C—, —O—, —CO—, —COO— or —OCO—; may be
A N11 , A N12 , A N21 , A N22 , A N31 , A N32 , A N41 and A N42 are each independently
(a) 1,4-cyclohexylene group (one -CH 2 - present in this group or two or more non-adjacent -CH 2 - may be substituted with -O-); ,
(b) a 1,4-phenylene group (one -CH= or two or more non-adjacent -CH= present in this group may be substituted with -N=),
(c) naphthalene-2,6-diyl group, 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,6-diyl group or decahydronaphthalene-2,6-diyl group (naphthalene-2,6-diyl group or One -CH= or two or more non-adjacent -CH= present in the 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,6-diyl group may be substituted with -N= ) and (d) represents a group selected from the group consisting of 1,4-cyclohexenylene groups, and the hydrogen atoms in group (a), group (b), group (c) and group (d) are each independently optionally substituted with a cyano group, a fluorine atom or a chlorine atom,
Z N11 , Z N12 , Z N21 , Z N22 , Z N31 , Z N32 , Z N41 and Z N42 are each independently a single bond, —CH 2 CH 2 —, —(CH 2 ) 4 —, —OCH 2- , -CH 2 O-, -COO-, -OCO-, -OCF 2 -, -CF 2 O-, -CH=N-N=CH-, -CH=CH-, -CF=CF-, or represents -C≡C-,
X N21 represents a hydrogen atom or a fluorine atom,
T N31 represents —CH 2 — or an oxygen atom,
X N41 represents an oxygen atom, a nitrogen atom, or —CH 2 —;
Y N41 represents a single bond or —CH 2 —;
n N11 , n N12 , n N21 , n N22 , n N31 , n N32 , n N41 and n N42 each independently represent an integer of 0 to 3, but n N11 +n N12 , n N21 + n N22 and n N31 +n N32 are each independently 1, 2 or 3, and when there are a plurality of A N11 to A N32 and Z N11 to Z N32 , they may be the same or different, n N41 +n N42 represents an integer of 0 to 3, and when there are a plurality of each of A N41 , A N42 , Z N41 and Z N42 , they may be the same or different. ]
前記複数の画素電極が、前記一方の基板上の前記第1の面とは異なる第2の面内に形成されており、
前記複数の画素電極間の最短距離が20μm未満である、請求項1~5のいずれか一項に記載の液晶表示素子。
The plurality of common electrodes are formed in a first plane on the one substrate,
the plurality of pixel electrodes are formed in a second plane different from the first plane on the one substrate;
6. The liquid crystal display element according to claim 1 , wherein the shortest distance between the plurality of pixel electrodes is less than 20 μm.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017254522A JP7151081B2 (en) | 2017-12-28 | 2017-12-28 | liquid crystal display element |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017254522A JP7151081B2 (en) | 2017-12-28 | 2017-12-28 | liquid crystal display element |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019120753A JP2019120753A (en) | 2019-07-22 |
JP7151081B2 true JP7151081B2 (en) | 2022-10-12 |
Family
ID=67306299
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017254522A Active JP7151081B2 (en) | 2017-12-28 | 2017-12-28 | liquid crystal display element |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7151081B2 (en) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7380136B2 (en) * | 2019-11-27 | 2023-11-15 | Dic株式会社 | Liquid crystal composition and liquid crystal display device using the same |
JP2021084948A (en) * | 2019-11-27 | 2021-06-03 | Dic株式会社 | Polymerizable liquid crystal composition and liquid crystal display element including the same |
JP7363414B2 (en) * | 2019-11-27 | 2023-10-18 | Dic株式会社 | Stabilizer compounds, liquid crystal compositions and display elements |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006350278A (en) | 2005-06-14 | 2006-12-28 | Boe Hydis Technology Co Ltd | Fringe field switching mode liquid crystal display having high transmittance |
JP2014084462A (en) | 2012-10-18 | 2014-05-12 | Merck Patent Gmbh | Liquid crystal medium, stabilization method thereof and liquid crystal display |
US20150070646A1 (en) | 2013-09-12 | 2015-03-12 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal composition and liquid crystal display device including the same |
WO2016017521A1 (en) | 2014-07-29 | 2016-02-04 | Dic株式会社 | Liquid-crystal display element |
US20160103342A1 (en) | 2014-10-10 | 2016-04-14 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal display panel |
JP2017031428A (en) | 2014-09-05 | 2017-02-09 | Dic株式会社 | Liquid crystal composition and liquid crystal element using the same |
WO2017078456A1 (en) | 2015-11-06 | 2017-05-11 | 주식회사 동진쎄미켐 | Liquid crystal display device and liquid crystal composition included therein |
JP2017105915A (en) | 2015-12-09 | 2017-06-15 | Dic株式会社 | Liquid crystal composition and liquid crystal display element using the same |
WO2017098954A1 (en) | 2015-12-07 | 2017-06-15 | Dic株式会社 | Liquid crystal display element |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101899935B1 (en) * | 2011-11-03 | 2018-11-05 | 엘지디스플레이 주식회사 | Array substrate for fringe field switching mode liquid crystal display device and method for fabricating the same |
KR101947001B1 (en) * | 2012-04-27 | 2019-02-12 | 엘지디스플레이 주식회사 | Liquid Crystal Display Device |
-
2017
- 2017-12-28 JP JP2017254522A patent/JP7151081B2/en active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006350278A (en) | 2005-06-14 | 2006-12-28 | Boe Hydis Technology Co Ltd | Fringe field switching mode liquid crystal display having high transmittance |
JP2014084462A (en) | 2012-10-18 | 2014-05-12 | Merck Patent Gmbh | Liquid crystal medium, stabilization method thereof and liquid crystal display |
US20150070646A1 (en) | 2013-09-12 | 2015-03-12 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal composition and liquid crystal display device including the same |
WO2016017521A1 (en) | 2014-07-29 | 2016-02-04 | Dic株式会社 | Liquid-crystal display element |
JP2017031428A (en) | 2014-09-05 | 2017-02-09 | Dic株式会社 | Liquid crystal composition and liquid crystal element using the same |
US20160103342A1 (en) | 2014-10-10 | 2016-04-14 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal display panel |
WO2017078456A1 (en) | 2015-11-06 | 2017-05-11 | 주식회사 동진쎄미켐 | Liquid crystal display device and liquid crystal composition included therein |
WO2017098954A1 (en) | 2015-12-07 | 2017-06-15 | Dic株式会社 | Liquid crystal display element |
JP2017105915A (en) | 2015-12-09 | 2017-06-15 | Dic株式会社 | Liquid crystal composition and liquid crystal display element using the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019120753A (en) | 2019-07-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6308412B2 (en) | Composition and liquid crystal display device using the same | |
WO2018193859A1 (en) | Liquid crystal display device | |
JP6555450B1 (en) | Liquid crystal display element | |
WO2014061366A1 (en) | Nematic liquid crystal composition | |
JP6660574B2 (en) | Liquid crystal display device | |
JPWO2019003936A1 (en) | Spontaneous alignment aid for liquid crystal compositions | |
JP7151081B2 (en) | liquid crystal display element | |
JP6670458B1 (en) | Liquid crystal display device | |
JP2020076012A (en) | Liquid crystal composition and liquid crystal display element | |
JP2020052305A (en) | Method for manufacturing liquid crystal display element | |
JP6465255B2 (en) | Liquid crystal composition and liquid crystal display device | |
WO2019216233A1 (en) | Liquid crystal display device | |
JP6252707B2 (en) | Liquid crystal composition and liquid crystal display device using the same | |
JP6565648B2 (en) | Liquid crystal display element | |
JP2020076826A (en) | Liquid crystal display element | |
JP6485723B2 (en) | Liquid crystal display device | |
WO2018043144A1 (en) | Liquid crystal display element | |
JP7271880B2 (en) | liquid crystal display element | |
JPWO2017195585A1 (en) | Liquid crystal display element | |
JP6409995B2 (en) | Liquid crystal display element | |
JP2017095630A (en) | Composition and liquid crystal display element using the same | |
WO2018105378A1 (en) | Liquid crystal composition, liquid crystal display element and liquid crystal display | |
JP2020063324A (en) | Nematic liquid crystal composition and liquid crystal display using the same | |
JP7472469B2 (en) | Liquid crystal composition and liquid crystal display device | |
WO2018207247A1 (en) | Liquid crystal display element |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20201009 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210727 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210922 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220222 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220413 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220830 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220912 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7151081 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
R154 | Certificate of patent or utility model (reissue) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R154 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |