JP6712508B2 - Method of manufacturing illuminance adjustment filter, illuminance adjustment filter, illumination optical system, and exposure apparatus - Google Patents
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Description
本発明は、照度調整フィルタの製造方法、照度調整フィルタ、照明光学系、及び露光装置に関し、より詳細には、露光面での照度分布のばらつきを、照度調整フィルタにより抑制することができる照度調整フィルタの製造方法、照度調整フィルタ、照明光学系、及び露光装置に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing an illuminance adjustment filter, an illuminance adjustment filter, an illumination optical system, and an exposure apparatus, and more specifically, an illuminance adjustment filter that can suppress variations in illuminance distribution on an exposure surface. The present invention relates to a filter manufacturing method, an illuminance adjustment filter, an illumination optical system, and an exposure apparatus.
露光装置の照明光学系としては、光源、複数のレンズ素子がマトリックス状に配列されたフライアイレンズ、光路の向きを変える複数の反射鏡などを備えて、光源からの光を、フライアイレンズ、複数の反射鏡を介して、パターンが形成されたマスクに照射し、ワーク上にパターンを露光転写する。 The illumination optical system of the exposure apparatus includes a light source, a fly-eye lens in which a plurality of lens elements are arranged in a matrix, a plurality of reflecting mirrors that change the direction of the optical path, and the like. The mask on which the pattern is formed is irradiated through a plurality of reflecting mirrors, and the pattern is exposed and transferred onto the work.
また、特許文献1に記載の露光装置では、光学系の経時的な劣化に対応するため、複数の液晶セルを具備した照度分布補正フィルタを備え、各液晶セルを制御して照度分布補正フィルタの光透過率分布を補正し、フライアイレンズの複数のレンズ素子に照射される光の照度分布を迅速に更新し、レチクルに照射される光の照度分布を均一にすることが開示されている。 Further, the exposure apparatus described in Patent Document 1 includes an illuminance distribution correction filter including a plurality of liquid crystal cells in order to cope with deterioration of the optical system over time, and controls each liquid crystal cell to control the illuminance distribution correction filter. It is disclosed that the light transmittance distribution is corrected, the illuminance distribution of the light radiated to the plurality of lens elements of the fly-eye lens is rapidly updated, and the illuminance distribution of the light radiated to the reticle is made uniform.
ところで、反射鏡の製作誤差など、照明光学系の構成要素に起因して、照度分布のばらつきが不可避的に存在し、さらなる高精度での露光には、対策が要望されていた。特許文献1では、複数の液晶セルを制御することで照度分布補正フィルタの光透過率分布を補正しているが、液晶セルの制御には複雑な制御装置を要し、照度分布補正フィルタの製作コストが嵩む問題があった。 By the way, variations in the illuminance distribution inevitably occur due to constituent elements of the illumination optical system, such as manufacturing errors of the reflecting mirror, and countermeasures have been demanded for exposure with even higher precision. In Patent Document 1, the light transmittance distribution of the illuminance distribution correction filter is corrected by controlling a plurality of liquid crystal cells, but a complicated control device is required to control the liquid crystal cells, and the illuminance distribution correction filter is manufactured. There was a problem of increased costs.
本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、照明光学系の構成要素に起因する露光面での照度分布のばらつきを抑制して、照度分布を均一にすることができる照度調整フィルタの製造方法、照度調整フィルタ、照明光学系、及び露光装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object thereof is to suppress variations in the illuminance distribution on the exposure surface due to the constituent elements of the illumination optical system and to make the illuminance distribution uniform. An object of the present invention is to provide a method of manufacturing an illuminance adjustment filter, an illuminance adjustment filter, an illumination optical system, and an exposure apparatus which can be performed.
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
(1) 光源からの光が、p行、q列(p,qは、整数)のマトリックス状に配列された複数のレンズ素子を有するフライアイレンズと、前記フライアイレンズから出射する前記光を反射する反射鏡と、を有する光路を介して照射される露光面における照度分布を均一化するため、前記光路内に配置され、前記複数のレンズ素子のそれぞれに対応するp行、q列の照度調整部を備える照度調整フィルタの製造方法であって、
前記光路内に、前記照度調整フィルタを配置しない状態で、前記露光面上における任意の点i(iは、整数)の照度I(i)を測定する工程と、
前記露光面上において測定された前記各点の照度I(i)に基づいて、前記各照度調整部の光透過率分布を算出する工程と、
該算出された光透過率分布に対応するパターンをそれぞれ備えた前記照度調整部を含む前記照度調整フィルタを形成する工程と、
を備えることを特徴とする照度調整フィルタの製造方法。
(2) 前記算出工程は、
前記露光面上において測定された各点の照度I(i)の最低照度Iminを求める工程と、
前記露光面上の各測定点に対応する前記照度調整部上の各点の光透過率を、1−(I(i)−Imin)/I(i)とする工程と、
を備えることを特徴とする(1)に記載の照度調整フィルタの製造方法。
(3) 前記算出工程は、
前記露光面上において測定された各点の照度I(i)の平均値Iaveを算出する工程と、
前記露光面上の各測定点に対応する前記照度調整部上の各点の光透過率を、1−(I(i)−Iave)/I(i)とする工程と、
を備えることを特徴とする(1)に記載の照度調整フィルタの製造方法。
(4) 前記照度調整フィルタは、
p行、q列のマトリックス状に配列された前記照度調整部である複数のセルを備え、光源と前記フライアイレンズとの間に配置される光学フィルタであることを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載の照度調整フィルタの製造方法。
(5) 前記パターンは、光学フィルタの基板にクロムを蒸着することで与えられることを特徴とする(4)に記載の照度調整フィルタの製造方法。
(6) 前記照度調整フィルタは、
それぞれ互いに平行に配置された複数本の線材から構成される2組のワイヤ群を備え、
前記2組のワイヤ群の前記線材は、互いに直交して、前記フライアイレンズのマトリックスに沿ってそれぞれ配設されてなり、
前記各ワイヤ群の前記線材は、それぞれ前記光の光軸及び前記線材の長手方向に対して直交する方向に移動可能なワイヤフィルタであることを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載の照度調整フィルタの製造方法。
(7) 前記露光面の露光エリアの中心と、前記各レンズ素子から照射される各照射エリアの中心とのズレ量に応じて、前記照度調整フィルタの前記各照度調整部のパターンは、その中心を、前記各照度調整部の中心に対してオフセットさせて形成されることを特徴とする(1)〜(6)のいずれかに記載の照度調整フィルタの製造方法。
(8) 前記p、qは、奇数であり、
前記照度調整部の各辺の長さをLx,Ly、前記照度調整部による前記露光面上における照射エリアの各辺の長さをDx,Dyとし、且つ、
前記複数のレンズ素子のうち、中央に位置する前記レンズ素子を基準レンズとし、前記基準レンズからm行、n列ズレて位置する前記他のレンズ素子に対応する前記照度調整部の前記パターンの中心は、前記各照度調整部の中心に対して、m×Lx2/Dx、n×Ly2/Dyだけオフセットさせて形成されることを特徴とする(7)に記載の照度調整フィルタの製造方法。
(9) 光源からの光が、p行、q列(p,qは、整数)のマトリックス状に配列された複数のレンズ素子を有するフライアイレンズと、前記フライアイレンズから出射する前記光を反射する反射鏡と、を有する光路を介して照射される露光面における照度分布を均一化するため、前記光路内に配置され、前記複数のレンズ素子のそれぞれに対応するp行、q列の照度調整部を備える照度調整フィルタであって、
前記照度調整部は、前記光路内に、前記照度調整フィルタを配置しない状態での前記露光面上における任意の点i(iは、整数)の照度I(i)に基づいた光透過率分布に対応するパターンをそれぞれ備えることを特徴とする照度調整フィルタ。
(10) 光源と、p行、q列(p,qは、整数)のマトリックス状に配列された複数のレンズ素子を有するフライアイレンズと、前記フライアイレンズから出射する前記光を反射する反射鏡と、(9)に記載の照度調整フィルタと、を備えることを特徴とする照明光学系。
(11) マスクを支持するマスク支持部と、ワークを支持するワーク支持部と、(10)に記載の照明光学系と、を備え、
前記照明光学系からの光を、露光パターンが形成された前記マスクを介して前記ワークに照射して、前記マスクの露光パターンを前記ワークに露光転写することを特徴とする露光装置。
The above object of the present invention is achieved by the following configurations.
(1) Light emitted from a light source includes a fly-eye lens having a plurality of lens elements arranged in a matrix of p rows and q columns (p and q are integers), and the light emitted from the fly-eye lens. In order to make the illuminance distribution on the exposure surface irradiated through the optical path having a reflecting mirror uniform, the illuminance of p rows and q columns arranged in the optical path and corresponding to each of the plurality of lens elements. A method of manufacturing an illuminance adjustment filter including an adjustment unit,
Measuring the illuminance I(i) of an arbitrary point i (i is an integer) on the exposure surface without disposing the illuminance adjustment filter in the optical path;
Calculating a light transmittance distribution of each of the illuminance adjusting units based on the illuminance I(i) of each of the points measured on the exposed surface;
A step of forming the illuminance adjustment filter including the illuminance adjustment section each provided with a pattern corresponding to the calculated light transmittance distribution;
A method for manufacturing an illuminance adjustment filter, comprising:
(2) The calculation step is
Determining a minimum illuminance Imin of the illuminance I(i) of each point measured on the exposed surface,
A step of setting the light transmittance of each point on the illuminance adjusting section corresponding to each measurement point on the exposed surface to 1-(I(i)-Imin)/I(i),
The manufacturing method of the illuminance adjustment filter as described in (1) characterized by including.
(3) The calculation step is
Calculating an average value Iave of the illuminance I(i) measured at each point on the exposed surface;
A step of setting the light transmittance of each point on the illuminance adjusting section corresponding to each measurement point on the exposure surface to 1-(I(i)-Iave)/I(i),
The manufacturing method of the illuminance adjustment filter as described in (1) characterized by including.
(4) The illuminance adjustment filter is
An optical filter provided with a plurality of cells which are the illuminance adjusting sections arranged in a matrix of p rows and q columns, and is an optical filter arranged between a light source and the fly-eye lens. The method for manufacturing the illuminance adjustment filter according to any one of (3).
(5) The method for manufacturing an illuminance adjustment filter according to (4), wherein the pattern is provided by depositing chromium on the substrate of the optical filter.
(6) The illuminance adjustment filter is
It is equipped with two sets of wire groups each consisting of a plurality of wire rods arranged in parallel with each other,
The wire rods of the two wire groups are arranged at right angles to each other along the matrix of the fly-eye lens,
The wire member of each wire group is a wire filter that is movable in a direction orthogonal to the optical axis of the light and the longitudinal direction of the wire member (1) to (3). A method for manufacturing the illuminance adjustment filter according to.
(7) The pattern of each illuminance adjustment section of the illuminance adjustment filter has its center depending on the amount of deviation between the center of the exposure area of the exposure surface and the center of each irradiation area emitted from each lens element. Is formed so as to be offset with respect to the center of each of the illuminance adjustment sections, and the method for producing an illuminance adjustment filter according to any one of (1) to (6).
(8) p and q are odd numbers,
The length of each side of the illuminance adjustment unit is Lx, Ly, the length of each side of the irradiation area on the exposure surface by the illuminance adjustment unit is Dx, Dy, and
Of the plurality of lens elements, the center of the pattern of the illuminance adjusting section corresponding to the other lens element positioned m rows and n columns from the reference lens is the lens element located at the center as a reference lens. Is formed by offsetting m×Lx 2 /Dx and n×Ly 2 /Dy with respect to the center of each of the illuminance adjustment sections. (7) Manufacturing method of illuminance adjustment filter according to (7), ..
(9) The light from the light source includes a fly-eye lens having a plurality of lens elements arranged in a matrix of p rows and q columns (p and q are integers), and the light emitted from the fly-eye lens. In order to make the illuminance distribution on the exposure surface irradiated through the optical path having a reflecting mirror uniform, the illuminance of p rows and q columns arranged in the optical path and corresponding to each of the plurality of lens elements. An illuminance adjustment filter including an adjustment unit,
The illuminance adjuster calculates a light transmittance distribution based on the illuminance I(i) of an arbitrary point i (i is an integer) on the exposure surface in a state where the illuminance adjustment filter is not arranged in the optical path. An illuminance adjustment filter, which is provided with respective corresponding patterns.
(10) A fly eye lens having a light source, a plurality of lens elements arranged in a matrix of p rows and q columns (p and q are integers), and reflection for reflecting the light emitted from the fly eye lens. An illumination optical system comprising: a mirror; and the illuminance adjustment filter according to (9).
(11) A mask support part for supporting the mask, a work support part for supporting the work, and the illumination optical system according to (10),
An exposure apparatus which irradiates the work with the light from the illumination optical system through the mask on which the exposure pattern is formed, and transfers the exposure pattern of the mask onto the work.
本発明の照度調整フィルタの製造方法によれば、光路内に照度調整フィルタを配置しない状態で露光面上における任意の点i(iは、整数)の照度I(i)を測定し、測定された各点の照度I(i)に基づいて、各照度調整部の光透過率分布を算出した後、算出された光透過率分布に対応するパターンをそれぞれ備えた照度調整部を含む照度調整フィルタを形成するので、照明光学系の構成要素に起因する露光面での照度分布のばらつきを抑制して、露光面上での照度分布を均一にすることができる。 According to the method for manufacturing an illuminance adjustment filter of the present invention, the illuminance I(i) at an arbitrary point i (i is an integer) on the exposure surface is measured and measured without disposing the illuminance adjustment filter in the optical path. After calculating the light transmittance distribution of each illuminance adjusting section based on the illuminance I(i) of each point, an illuminance adjusting filter including an illuminance adjusting section having a pattern corresponding to the calculated light transmittance distribution. Therefore, it is possible to suppress the variation in the illuminance distribution on the exposure surface due to the constituent elements of the illumination optical system and make the illuminance distribution uniform on the exposure surface.
また、本発明の照度調整フィルタによれば、前記照度調整部は、前記光路内に、前記照度調整フィルタを配置しない状態での前記露光面上における任意の点i(iは、整数)の照度I(i)に基づいた光透過率分布に対応するパターンをそれぞれ備えるので、照明光学系の構成要素に起因する露光面での照度分布のばらつきを抑制して、露光面上での照度分布を均一にすることができる。 Further, according to the illuminance adjusting filter of the present invention, the illuminance adjusting section allows the illuminance of an arbitrary point i (i is an integer) on the exposure surface in a state where the illuminance adjusting filter is not arranged in the optical path. Since each pattern corresponding to the light transmittance distribution based on I(i) is provided, the variation of the illuminance distribution on the exposure surface due to the components of the illumination optical system is suppressed, and the illuminance distribution on the exposure surface is reduced. Can be uniform.
さらに、本発明の照明光学系によれば、上述した照度調整フィルタを備えることで、露光面上での照度分布がより均一化されたユニットを提供することができる。
また、本発明の露光装置によれば、上述した照度調整フィルタを備えた照明光学系を用いることで、より高精度な露光結果が得られる。
Further, according to the illumination optical system of the present invention, by including the illuminance adjustment filter described above, it is possible to provide a unit in which the illuminance distribution on the exposure surface is made more uniform.
Moreover, according to the exposure apparatus of the present invention, a more accurate exposure result can be obtained by using the illumination optical system including the above-mentioned illuminance adjustment filter.
(第1実施形態)
以下、本発明に係る露光装置の第1実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。図1に示すように、近接露光装置PEは、被露光材としてのワークWより小さいマスクMを用い、マスクMをマスクステージ(マスク支持部)1で保持すると共に、ワークWをワークステージ(ワーク支持部)2で保持し、マスクMとワークWとを近接させて所定の露光ギャップで対向配置した状態で、照明装置3からパターン露光用の光をマスクMに向けて照射することにより、マスクMのパターンをワークW上に露光転写する。また、ワークステージ2をマスクMに対してX軸方向とY軸方向の二軸方向にステップ移動させて、ステップ毎に露光転写が行われる。
(First embodiment)
Hereinafter, a first embodiment of an exposure apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, the proximity exposure apparatus PE uses a mask M smaller than a work W as a material to be exposed, holds the mask M on a mask stage (mask support portion) 1, and holds the work W on a work stage (workpiece). The mask M and the work W are held in close proximity to each other and faced with a predetermined exposure gap so that the mask M is irradiated with light for pattern exposure from the illumination device 3. The pattern of M is transferred onto the work W by exposure. Further, the work stage 2 is moved stepwise in the biaxial directions of the X-axis direction and the Y-axis direction with respect to the mask M, and the exposure transfer is performed for each step.
ワークステージ2をX軸方向にステップ移動させるため、装置ベース4上には、X軸送り台5aをX軸方向にステップ移動させるX軸ステージ送り機構5が設置されている。X軸ステージ送り機構5のX軸送り台5a上には、ワークステージ2をY軸方向にステップ移動させるため、Y軸送り台6aをY軸方向にステップ移動させるY軸ステージ送り機構6が設置されている。Y軸ステージ送り機構6のY軸送り台6a上には、ワークステージ2が設置されている。ワークステージ2の上面には、ワークWがワークチャック等で真空吸引された状態で保持される。また、ワークステージ2の側部には、マスクMの下面高さを測定するための基板側変位センサ15が配設されている。従って、基板側変位センサ15は、ワークステージ2と共にX、Y軸方向に移動可能である。 In order to move the work stage 2 stepwise in the X-axis direction, an X-axis stage feed mechanism 5 for moving the X-axis feed table 5a stepwise in the X-axis direction is installed on the apparatus base 4. On the X-axis feed table 5a of the X-axis stage feed mechanism 5, a Y-axis stage feed mechanism 6 for step-moving the Y-axis feed table 6a in order to move the work stage 2 in the Y-axis direction is installed. Has been done. The work stage 2 is installed on the Y-axis feed table 6 a of the Y-axis stage feed mechanism 6. The work W is held on the upper surface of the work stage 2 in a state of being vacuum-sucked by a work chuck or the like. A substrate side displacement sensor 15 for measuring the height of the lower surface of the mask M is arranged on the side of the work stage 2. Therefore, the substrate side displacement sensor 15 is movable in the X and Y axis directions together with the work stage 2.
装置ベース4上には、複数(図に示す実施形態では4本)のX軸リニアガイドのガイドレール51がX軸方向に配置され、それぞれのガイドレール51には、X軸送り台5aの下面に固定されたスライダ52が跨架されている。これにより、X軸送り台5aは、X軸ステージ送り機構5の第1リニアモータ20で駆動され、ガイドレール51に沿ってX軸方向に往復移動可能である。また、X軸送り台5a上には、複数のY軸リニアガイドのガイドレール53がY軸方向に配置され、それぞれのガイドレール53には、Y軸送り台6aの下面に固定されたスライダ54が跨架されている。これにより、Y軸送り台6aは、Y軸ステージ送り機構6の第2リニアモータ21で駆動され、ガイドレール53に沿ってY軸方向に往復移動可能である。 A plurality of (four in the illustrated embodiment) X-axis linear guide guide rails 51 are arranged on the device base 4 in the X-axis direction, and each guide rail 51 has a lower surface of the X-axis feed table 5a. A slider 52 fixed to the above is straddled. As a result, the X-axis feed table 5a is driven by the first linear motor 20 of the X-axis stage feed mechanism 5 and can reciprocate in the X-axis direction along the guide rails 51. A plurality of guide rails 53 of Y-axis linear guides are arranged in the Y-axis direction on the X-axis feed table 5a, and sliders 54 fixed to the lower surface of the Y-axis feed table 6a are provided on the respective guide rails 53. Is straddled. As a result, the Y-axis feed table 6 a is driven by the second linear motor 21 of the Y-axis stage feed mechanism 6 and can reciprocate in the Y-axis direction along the guide rail 53.
Y軸ステージ送り機構6とワークステージ2の間には、ワークステージ2を上下方向に移動させるため、比較的位置決め分解能は粗いが移動ストローク及び移動速度が大きな上下粗動装置7と、上下粗動装置7と比べて高分解能での位置決めが可能でワークステージ2を上下に微動させてマスクMとワークWとの対向面間のギャップを所定量に微調整する上下微動装置8が設置されている。 Between the Y-axis stage feed mechanism 6 and the work stage 2, since the work stage 2 is moved in the vertical direction, the vertical coarse movement device 7 and the vertical coarse movement device 7 having relatively large positioning resolution but large movement stroke and movement speed, and the vertical coarse movement. A vertical fine movement device 8 is provided which can perform positioning with a higher resolution than the device 7 and finely moves the work stage 2 up and down to finely adjust the gap between the facing surfaces of the mask M and the work W to a predetermined amount. ..
上下粗動装置7は後述の微動ステージ6bに設けられた適宜の駆動機構によりワークステージ2を微動ステージ6bに対して上下動させる。ワークステージ2の底面の4箇所に固定されたステージ粗動軸14は、微動ステージ6bに固定された直動ベアリング14aに係合し、微動ステージ6bに対し上下方向に案内される。なお、上下粗動装置7は、分解能が低くても、繰り返し位置決め精度が高いことが望ましい。 The vertical coarse movement device 7 moves the work stage 2 up and down with respect to the fine movement stage 6b by an appropriate drive mechanism provided on the fine movement stage 6b described later. The stage coarse movement shafts 14 fixed at four positions on the bottom surface of the work stage 2 are engaged with the linear motion bearings 14a fixed to the fine movement stage 6b, and are guided in the vertical direction with respect to the fine movement stage 6b. It should be noted that the vertical coarse movement device 7 preferably has high repetitive positioning accuracy even if the resolution is low.
上下微動装置8は、Y軸送り台6aに固定された固定台9と、固定台9にその内端側を斜め下方に傾斜させた状態で取り付けられたリニアガイドの案内レール10とを備えており、該案内レール10に跨架されたスライダ11を介して案内レール10に沿って往復移動するスライド体12にボールねじのナット(図示せず)が連結されると共に、スライド体12の上端面は微動ステージ6bに固定されたフランジ12aに対して水平方向に摺動自在に接している。 The vertical fine movement device 8 is provided with a fixed base 9 fixed to the Y-axis feed base 6a, and a guide rail 10 of a linear guide attached to the fixed base 9 with its inner end side inclined obliquely downward. A nut (not shown) of a ball screw is connected to a slide body 12 that reciprocates along the guide rail 10 via a slider 11 that is bridged over the guide rail 10, and the upper end surface of the slide body 12 is Is slidably in contact with the flange 12a fixed to the fine movement stage 6b in the horizontal direction.
そして、固定台9に取り付けられたモータ17によってボールねじのねじ軸を回転駆動させると、ナット、スライダ11及びスライド体12が一体となって案内レール10に沿って斜め方向に移動し、これにより、フランジ12aが上下微動する。
なお、上下微動装置8は、モータ17とボールねじによってスライド体12を駆動する代わりに、リニアモータによってスライド体12を駆動するようにしてもよい。
Then, when the screw shaft of the ball screw is rotationally driven by the motor 17 attached to the fixed base 9, the nut, the slider 11 and the slide body 12 are integrally moved in an oblique direction along the guide rail 10, and thereby, The flange 12a slightly moves up and down.
The vertical fine movement device 8 may drive the slide body 12 by a linear motor instead of driving the slide body 12 by the motor 17 and the ball screw.
この上下微動装置8は、Z軸送り台6aのY軸方向の一端側(図1の左端側)に1台、他端側に2台、合計3台設置されてそれぞれが独立に駆動制御されるようになっている。これにより、上下微動装置8は、ギャップセンサ27による複数箇所でのマスクMとワークWとのギャップ量の計測結果に基づき、3箇所のフランジ12aの高さを独立に微調整してワークステージ2の高さ及び傾きを微調整する。
なお、上下微動装置8によってワークステージ2の高さを十分に調整できる場合には、上下粗動装置7を省略してもよい。
The vertical fine movement device 8 is installed at one end side (left end side in FIG. 1) in the Y-axis direction of the Z-axis feed table 6a, and two at the other end side, a total of three units, each of which is independently driven and controlled. It has become so. As a result, the vertical fine movement device 8 independently finely adjusts the heights of the flanges 12a at the three positions based on the measurement results of the gap amounts between the mask M and the work W at the plurality of positions by the gap sensor 27, and the work stage 2 Finely adjust the height and inclination of.
If the height of the work stage 2 can be sufficiently adjusted by the fine vertical movement device 8, the vertical coarse movement device 7 may be omitted.
また、Y軸送り台6a上には、ワークステージ2のY方向の位置を検出するY軸レーザ干渉計18に対向するバーミラー19と、ワークステージ2のX軸方向の位置を検出するX軸レーザ干渉計に対向するバーミラー(共に図示せず)とが設置されている。Y軸レーザ干渉計18に対向するバーミラー19は、Y軸送り台6aの一側でX軸方向に沿って配置されており、X軸レーザ干渉計に対向するバーミラーは、Y軸送り台6aの一端側でY軸方向に沿って配置されている。 Further, on the Y-axis feed table 6a, a bar mirror 19 that faces the Y-axis laser interferometer 18 that detects the position of the work stage 2 in the Y direction, and an X-axis laser that detects the position of the work stage 2 in the X-axis direction. A bar mirror (both not shown) facing the interferometer is installed. The bar mirror 19 facing the Y-axis laser interferometer 18 is arranged along the X-axis direction on one side of the Y-axis feed base 6a, and the bar mirror facing the X-axis laser interferometer is of the Y-axis feed base 6a. It is arranged along the Y-axis direction at one end side.
Y軸レーザ干渉計18及びX軸レーザ干渉計は、それぞれ常に対応するバーミラーに対向するように配置されて装置ベース4に支持されている。なお、Y軸レーザ干渉計18は、X軸方向に離間して2台設置されている。2台のY軸レーザ干渉計18により、バーミラー19を介してY軸送り台6a、ひいてはワークステージ2のY軸方向の位置及びヨーイング誤差を検出する。また、X軸レーザ干渉計により、対向するバーミラーを介してX軸送り台5a、ひいてはワークステージ2のX軸方向の位置を検出する。 The Y-axis laser interferometer 18 and the X-axis laser interferometer are always arranged so as to face the corresponding bar mirrors, and are supported by the apparatus base 4. Two Y-axis laser interferometers 18 are installed apart from each other in the X-axis direction. The two Y-axis laser interferometers 18 detect the Y-axis position and the yawing error of the Y-axis feed table 6a and by extension, the work stage 2 via the bar mirror 19. Further, the X-axis laser interferometer detects the position in the X-axis direction of the X-axis feed table 5a and eventually the work stage 2 via the facing bar mirror.
マスクステージ1は、略長方形状の枠体からなるマスク基枠24と、該マスク基枠24の中央部開口にギャップを介して挿入されてX,Y,θ方向(X,Y平面内)に移動可能に支持されたマスクフレーム25とを備えており、マスク基枠24は装置ベース4から突設された支柱4aによってワークステージ2の上方の定位置に保持されている。 The mask stage 1 is inserted into a mask base frame 24 formed of a substantially rectangular frame body and a central opening of the mask base frame 24 through a gap, and is inserted in the X, Y, and θ directions (in the X, Y plane). The mask base frame 24 is movably supported, and the mask base frame 24 is held at a fixed position above the work stage 2 by a column 4a protruding from the apparatus base 4.
マスクフレーム25の中央部開口の下面には、枠状のマスクホルダ26が設けられている。即ち、マスクフレーム25の下面には、図示しない真空式吸着装置に接続される複数のマスクホルダ吸着溝が設けられており、マスクホルダ26が複数のマスクホルダ吸着溝を介してマスクフレーム25に吸着保持される。 A frame-shaped mask holder 26 is provided on the lower surface of the central opening of the mask frame 25. That is, a plurality of mask holder suction grooves connected to a vacuum suction device (not shown) are provided on the lower surface of the mask frame 25, and the mask holder 26 sucks the mask frame 25 through the plurality of mask holder suction grooves. Retained.
マスクホルダ26の下面には、マスクMのマスクパターンが描かれていない周縁部を吸着するための複数のマスク吸着溝(図示せず)が開設されており、マスクMは、マスク吸着溝を介して図示しない真空式吸着装置によりマスクホルダ26の下面に着脱自在に保持される。 On the lower surface of the mask holder 26, a plurality of mask suction grooves (not shown) for sucking the peripheral portion of the mask M on which the mask pattern is not drawn are formed, and the mask M passes through the mask suction grooves. It is detachably held on the lower surface of the mask holder 26 by a vacuum suction device (not shown).
図2に示すように、本実施形態の露光装置PEの照明装置3は、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ61、及びこの高圧水銀ランプ61から照射された光を集光するリフレクタ62をそれぞれ有する複数のランプユニット60と、光路ELの向きを変えるための平面ミラー63と、平面ミラー63の下流側に配置され、複数のセル91を備える照度調整フィルタとしての光学フィルタ90と、照射光路を開閉制御する露光制御用シャッターユニット64と、露光制御用シャッターユニット64の下流側に配置され、p行、q列のマトリックス状に配列された複数のレンズ素子65aを備えるフライアイレンズ65と、フライアイレンズ65から出射された光路ELの向きを変えるための平面ミラー66と、高圧水銀ランプ61からの光を平行光として照射するコリメーションミラー67と、該平行光をマスクMに向けて照射する平面ミラー68と、を備える。 As shown in FIG. 2, the illumination device 3 of the exposure apparatus PE of the present embodiment is, for example, a high-pressure mercury lamp 61 that is a light source for irradiating ultraviolet rays, and a reflector 62 that condenses the light emitted from the high-pressure mercury lamp 61. A plurality of lamp units 60 each having an optical path EL, a plane mirror 63 for changing the direction of the optical path EL, an optical filter 90 provided on the downstream side of the plane mirror 63 and including a plurality of cells 91 as an illuminance adjustment filter, and an irradiation unit. An exposure control shutter unit 64 for controlling the opening and closing of the optical path, and a fly-eye lens 65 provided on the downstream side of the exposure control shutter unit 64 and provided with a plurality of lens elements 65a arranged in a matrix of p rows and q columns. , A plane mirror 66 for changing the direction of the optical path EL emitted from the fly-eye lens 65, a collimation mirror 67 for irradiating the light from the high-pressure mercury lamp 61 as parallel light, and irradiating the parallel light toward the mask M. And a plane mirror 68 for
照明装置3では、露光時に露光制御用シャッターユニット64が開制御されると、高圧水銀ランプ61から照射された光が、平面ミラー63で反射されて、光学フィルタ90を介してフライアイレンズ65の入射面に入射される。フライアイレンズ65は、入射した光を照射面においてできるだけ均一な照度分布とするために使用される。そして、フライアイレンズ65の出射面から発せられた光は、平面ミラー66、コリメーションミラー67、及び平面ミラー68によってその進行方向が変えられるとともに平行光に変換される。そして、この平行光は、マスクステージ1に保持されるマスクM、さらにはワークステージ2に保持されるワークWの表面に対して略垂直にパターン露光用の光として照射され、マスクMのパターンがワークW上に露光転写される。 In the illumination device 3, when the exposure control shutter unit 64 is open-controlled during exposure, the light emitted from the high-pressure mercury lamp 61 is reflected by the plane mirror 63 and passes through the optical filter 90 to the fly-eye lens 65. It is incident on the incident surface. The fly-eye lens 65 is used to make the incident light an illuminance distribution as uniform as possible on the irradiation surface. Then, the light emitted from the exit surface of the fly-eye lens 65 has its traveling direction changed by the plane mirror 66, the collimation mirror 67, and the plane mirror 68, and is converted into parallel light. Then, the parallel light is irradiated as light for pattern exposure substantially perpendicularly to the surface of the mask M held by the mask stage 1 and further the surface of the work W held by the work stage 2, and the pattern of the mask M is changed. It is exposed and transferred onto the work W.
ここで、平面ミラー66、コリメーションミラー67、及び平面ミラー68などの照明光学系の構成要素のばらつきを完全にゼロにして製作することは困難であり、露光面上における照度には、照明装置3ごとに特有のばらつきが不可避的に存在する。このため、本実施形態の光学フィルタ90は、この照度のばらつき(照度分布)を補正するために使用される。 Here, it is difficult to manufacture the flat mirror 66, the collimation mirror 67, the flat mirror 68, and the like with the components of the illumination optical system being completely zero, and it is difficult to manufacture the illumination device 3 with respect to the illuminance on the exposure surface. There are unavoidable variations peculiar to each. Therefore, the optical filter 90 of the present embodiment is used to correct this illuminance variation (illuminance distribution).
具体的に、光学フィルタ90の各セル(照度調整部)91は、フライアイレンズ65のレンズ素子65aと同様に、p行、q列(例えば、図3では、3行、3列)のマトリックス状に配列されている。各セル91の大きさは、各レンズ素子65aと略同じ大きさである。また、フライアイレンズ65のレンズ素子65aと光学フィルタ90のセル91とは、互いの行と列の方向がそれぞれ一致するように対向して配置されている。また、光学フィルタ90の各セル91には、同一の光透過率分布を有するパターン93が形成されている(図5参照)。 Specifically, each cell (illuminance adjuster) 91 of the optical filter 90 has a matrix of p rows and q columns (for example, 3 rows and 3 columns in FIG. 3), similar to the lens element 65a of the fly-eye lens 65. Arranged in a shape. The size of each cell 91 is substantially the same as each lens element 65a. Further, the lens element 65a of the fly-eye lens 65 and the cell 91 of the optical filter 90 are arranged so as to face each other so that their row and column directions are the same. A pattern 93 having the same light transmittance distribution is formed in each cell 91 of the optical filter 90 (see FIG. 5).
そして、図3に示すように、各セル91のパターン93を通った光が、フライアイレンズ65の各レンズ素子65aを通って重なり合うことで露光面での一部の照度分布が変化し、露光面における照度の高い部分の照度を低下させて照度分布を改善することができる。 Then, as shown in FIG. 3, the light passing through the pattern 93 of each cell 91 overlaps through each lens element 65a of the fly-eye lens 65 to change a part of the illuminance distribution on the exposure surface, resulting in exposure. It is possible to improve the illuminance distribution by lowering the illuminance of a high illuminance portion on the surface.
なお、光学フィルタ90のセル91のピッチは、一定としているが、ランプユニット60からの光が平行光ではなく、わずかに集光しながら、あるいは拡散しながら光学フィルタ90を通ってフライアイレンズ65に入射するような場合は、平行光と光路との角度に合わせて、光学フィルタ90の各セル91のピッチをずらしてもよい。したがって、光学フィルタ90のセルのサイズは、各レンズ素子65aと略同じ大きさに限らず、ピッチに応じて変更可能である。 The pitch of the cells 91 of the optical filter 90 is constant, but the light from the lamp unit 60 is not parallel light, and is slightly converged or diffused and passes through the optical filter 90 to fly-eye lens 65. In such a case, the pitch of each cell 91 of the optical filter 90 may be shifted according to the angle between the parallel light and the optical path. Therefore, the size of the cell of the optical filter 90 is not limited to the substantially same size as each lens element 65a, and can be changed according to the pitch.
以下、露光面上における照度を調節する各セル91のパターン93の設計手順について説明する。 The design procedure of the pattern 93 of each cell 91 for adjusting the illuminance on the exposed surface will be described below.
まず、光路EL内に光学フィルタ90を配置しない状態で、露光面上における任意の点i(iは、整数)の照度I(i)を測定する。そして、測定された各点の照度I(i)に基づいて、セル91の光透過率分布を算出する。さらに、算出された光透過率分布に対応するパターン93をそれぞれ備えたセル91を含む光学フィルタ90を形成する。 First, the illuminance I(i) at an arbitrary point i (i is an integer) on the exposure surface is measured without the optical filter 90 being arranged in the optical path EL. Then, the light transmittance distribution of the cell 91 is calculated based on the measured illuminance I(i) at each point. Further, the optical filter 90 including the cells 91 each having the pattern 93 corresponding to the calculated light transmittance distribution is formed.
具体的には、露光面上における任意の点iの照度I(i)を測定し、照度I(i)の最低照度Iminを求める。次いで、露光面上の各測定点iに対応するセル91上の各点の光透過率を、1−(I(i)−Imin)/I(i)として光透過率分布を求める。これにより、最低照度Iminより明るい部分に対応するセル91上の各点の光透過率が低下して、露光面上の各点の照度が最低照度Iminに合わせられ、全体として照度の均一化が図られる。 Specifically, the illuminance I(i) at an arbitrary point i on the exposed surface is measured to obtain the minimum illuminance Imin of the illuminance I(i). Next, the light transmittance distribution of each point on the cell 91 corresponding to each measurement point i on the exposed surface is calculated as 1-(I(i)-Imin)/I(i). As a result, the light transmittance of each point on the cell 91 corresponding to a portion brighter than the minimum illuminance Imin is reduced, and the illuminance at each point on the exposure surface is adjusted to the minimum illuminance Imin, so that the illuminance becomes uniform as a whole. Planned.
光透過率分布は、光学フィルタ90の石英基板にクロムのドットパターンを蒸着するものや、蒸着多層膜により透過率が変化する濃度フィルタなどによって設けることができる。光透過率は、ドットパターンの大きさや密度を変えることで任意に設定することができる。なお、光学フィルタ90の材料は、石英基板が望ましいが、ソーダガラスであってもよい。 The light transmittance distribution can be provided by depositing a chrome dot pattern on the quartz substrate of the optical filter 90, a density filter whose transmittance changes due to a deposited multilayer film, or the like. The light transmittance can be arbitrarily set by changing the size and density of the dot pattern. The material of the optical filter 90 is preferably a quartz substrate, but may be soda glass.
なお、フライアイレンズ65のマトリックス配置されたレンズ素子65aの数(目の数)が多くなると平均化されて露光面での照度分布の変化も小さくなる。レンズ素子65aは、縦方向に3個以上、横方向に3個以上で並ぶように配置されるものから適宜設定されればよく、光学フィルタ90のセル91の数も、フライアイレンズ65のレンズ素子65aの数に応じて適宜設計される。 Note that when the number of lens elements 65a (the number of eyes) arranged in a matrix of the fly-eye lens 65 increases, they are averaged and the change in the illuminance distribution on the exposure surface also decreases. The lens elements 65a may be appropriately set from three or more arranged in the vertical direction and three or more in the horizontal direction, and the number of cells 91 of the optical filter 90 may be the same as that of the fly-eye lens 65. It is appropriately designed according to the number of the elements 65a.
また、光学フィルタ90は、必要に応じて、不図示のノズルから冷却空気を吹き付けて光学フィルタ90を冷却することもできる。 Further, the optical filter 90 can also cool the optical filter 90 by blowing cooling air from a nozzle (not shown), if necessary.
その他、照明装置3では、高圧水銀ランプ61は、単一のランプであってもよく、或いは、LEDによって構成されてもよい。また、光学フィルタ90と露光制御用シャッターユニット64の設置順は、逆であってもよい。さらに、フライアイレンズ65と露光面との間には、DUVカットフィルタ、偏光フィルタ、バンドパスフィルタが配置されてもよい。 In addition, in the lighting device 3, the high pressure mercury lamp 61 may be a single lamp or may be configured by an LED. The installation order of the optical filter 90 and the exposure control shutter unit 64 may be reversed. Furthermore, a DUV cut filter, a polarization filter, and a bandpass filter may be arranged between the fly-eye lens 65 and the exposure surface.
次に、図4〜図7を参照して、7行、7列のフライアイレンズに対応して、7行、7列の光学フィルタ90を用いて照度分布を均一に補正したシミュレーション結果について説明する。 Next, with reference to FIGS. 4 to 7, description will be given of simulation results in which the illuminance distribution is uniformly corrected by using the optical filter 90 in 7 rows and 7 columns corresponding to the fly-eye lens in 7 rows and 7 columns. To do.
例えば、図4(a)は、平面ミラー68の製作誤差などの照明光学系の構成要素に起因して、露光面(ワークW上)における露光光の最大照度が44.0mW/cm2、最小照度が39.4mW/cm2、平均照度が42.1mW/cm2、均一性が5.52%となっており、略中央部の照度が低下した、ばらつきのある照度分布となっている。このような照度分布の補正は、図5及び図6に示すように、露光面上の照度が最低照度Iminの部分に対応するセル91上の点の光透過率を100%とし、最低照度Iminより照度が高い、その他の部分の光透過率を、最低照度Iminとの照度差に比例して低下させたパターン93のセル91を有する光学フィルタ90により調整している。 For example, in FIG. 4A, the maximum illuminance of the exposure light on the exposure surface (on the work W) is 44.0 mW/cm 2 , and the minimum is due to the components of the illumination optical system such as the manufacturing error of the plane mirror 68. The illuminance is 39.4 mW/cm 2 , the average illuminance is 42.1 mW/cm 2 , and the uniformity is 5.52%, and the illuminance in the approximately central portion is reduced, and the illuminance distribution has variations. As shown in FIGS. 5 and 6, such correction of the illuminance distribution is performed by setting the light transmittance of a point on the cell 91 corresponding to a portion where the illuminance on the exposed surface is the minimum illuminance Imin to 100%, and determining the minimum illuminance Imin. The light transmittance of the other portion where the illuminance is higher is adjusted by the optical filter 90 having the cells 91 of the pattern 93 in which the light transmittance is reduced in proportion to the illuminance difference from the minimum illuminance Imin.
これにより、調整後の露光面における照度分布は、図7(a)に示すように、照度が高い部分の照度が低下し、最大照度が39.6mW/cm2、最小照度が39.2mW/cm2、平均照度が39.4mW/cm2となり、均一性が0.52%に改善されて、全体として照度が略均一化されている。これにより、露光精度が向上する。 As a result, in the illuminance distribution on the exposed surface after adjustment, as shown in FIG. 7A, the illuminance in the high illuminance portion decreases, the maximum illuminance is 39.6 mW/cm 2 , and the minimum illuminance is 39.2 mW/ cm 2 , the average illuminance was 39.4 mW/cm 2 , the uniformity was improved to 0.52%, and the illuminance was substantially uniform as a whole. This improves the exposure accuracy.
なお、必要に応じて、光学フィルタ90を光路ELに沿って移動させることで、露光光の強度を調節可能である。具体的には、光学フィルタ90をフライアイレンズ65に接近させるほど、露光面における照度が低下する。 The intensity of the exposure light can be adjusted by moving the optical filter 90 along the optical path EL as needed. Specifically, the closer the optical filter 90 is to the fly-eye lens 65, the lower the illuminance on the exposure surface.
以上説明したように、本実施形態の光学フィルタの製造方法、及び光学フィルタ90によれば、光路EL内に光学フィルタ90を配置しない状態で露光面上における任意の点i(iは、整数)の照度I(i)を測定し、測定された各点の照度I(i)に基づいて、各セル91の光透過率分布を算出した後、算出された光透過率分布に対応するパターン93をそれぞれ備えたセル91を含む光学フィルタ90を形成する。このような光学フィルタ90を利用することで、照明光学系の構成要素に起因する露光面での照度分布のばらつきを抑制して、露光面上での照度分布を均一にすることができる。 As described above, according to the optical filter manufacturing method and the optical filter 90 of the present embodiment, an arbitrary point i (i is an integer) on the exposure surface in a state where the optical filter 90 is not arranged in the optical path EL. The illuminance I(i) of each cell 91 is calculated, the light transmittance distribution of each cell 91 is calculated based on the measured illuminance I(i) of each point, and then the pattern 93 corresponding to the calculated light transmittance distribution is calculated. An optical filter 90 including cells 91 each of which is provided is formed. By using such an optical filter 90, it is possible to suppress the variation of the illuminance distribution on the exposure surface due to the constituent elements of the illumination optical system and make the illuminance distribution on the exposure surface uniform.
また、光透過率分布の算出は、測定された各点の照度I(i)の最低照度Iminを求め、露光面上の各測定点に対応するセル91上の各点の光透過率を、1−(I(i)−Imin)/I(i)とするので、最低照度Iminより明るい部分の照度が、最低照度Iminに合わせて抑制され、露光面上での照度分布を均一にすることができる。 Further, the light transmittance distribution is calculated by obtaining the minimum illuminance Imin of the measured illuminance I(i) at each point, and calculating the light transmittance at each point on the cell 91 corresponding to each measurement point on the exposure surface, Since 1-(I(i)-Imin)/I(i), the illuminance of a portion brighter than the minimum illuminance Imin is suppressed according to the minimum illuminance Imin, and the illuminance distribution on the exposure surface is made uniform. You can
また、p行、q列のマトリックス状に配列された複数のセル91を備え、ランプユニット60とフライアイレンズ65との間に配置される光学フィルタ90は、照度調整フィルタとして、比較的安価に製作することができる。 Further, the optical filter 90 provided with a plurality of cells 91 arranged in a matrix of p rows and q columns and arranged between the lamp unit 60 and the fly-eye lens 65 is relatively inexpensive as an illuminance adjustment filter. Can be manufactured.
また、パターン93は、光学フィルタ90の基板にクロムを蒸着することで与えられるので、セル91の任意の点の光透過率を、任意の大きさに設定することができる。 Further, since the pattern 93 is provided by depositing chromium on the substrate of the optical filter 90, the light transmittance at any point of the cell 91 can be set to any size.
また、本実施形態の照明装置3によれば、ランプユニット60と、p行、q列(p,qは、整数)のマトリックス状に配列された複数のレンズ素子65aを有するフライアイレンズ65と、フライアイレンズ65から出射する光を反射する平面ミラー66、コリメーションミラー67、及び平面ミラー68と、光学フィルタ90と、を備えるので、露光面上での照度分布がより均一化されたユニットを提供することができる。 Further, according to the illumination device 3 of the present embodiment, the lamp unit 60 and the fly-eye lens 65 having a plurality of lens elements 65a arranged in a matrix of p rows and q columns (p and q are integers). Since the flat mirror 66 that reflects the light emitted from the fly-eye lens 65, the collimation mirror 67, and the flat mirror 68, and the optical filter 90 are provided, a unit having a more uniform illuminance distribution on the exposure surface can be provided. Can be provided.
また、本実施形態の露光装置PEによれば、マスクステージ1で支持されるマスクMと、ワークステージ2で支持されるワークWと、上記照明装置30と、を備えることで、光学フィルタ90で照度が補正されたランプユニット60からの露光光を、マスクMを介してワークWに照射して露光パターンをワークWに露光転写するので、より高精度な露光結果が得られる。 Further, according to the exposure apparatus PE of the present embodiment, the mask M supported by the mask stage 1, the work W supported by the work stage 2, and the illumination device 30 are provided, and thus the optical filter 90 is provided. Since the exposure light from the lamp unit 60 whose illuminance is corrected is applied to the work W through the mask M to expose and transfer the exposure pattern onto the work W, a more accurate exposure result can be obtained.
なお、上記実施形態の光学フィルタ90は、露光面における最低照度Iminに合わせて、パターン93を設計しているが、本実施形態の変形例として、測定された各点の照度I(i)の平均照度Iaveを用いて、パターン93を設計してもよい。 Although the optical filter 90 of the above-described embodiment designs the pattern 93 according to the minimum illuminance Imin on the exposure surface, as a modified example of the present embodiment, the measured illuminance I(i) of each point is The pattern 93 may be designed using the average illuminance Iave.
即ち、該変形例の光学フィルタ90の製造方法は、露光面上における各点の照度I(i)の平均値をベースに照度の調整を行う。具体的には、露光面上における各点の照度I(i)を測定し、測定された各点の照度I(i)の平均照度Iaveを算出する。次いで、露光面上の各測定点に対応するセル91上の各点の光透過率を、1−(I(i)−Iave)/I(i)としている。但し、各点の光透過率の値が1を超える場合は、1とする。 That is, in the manufacturing method of the optical filter 90 of the modified example, the illuminance is adjusted based on the average value of the illuminance I(i) at each point on the exposure surface. Specifically, the illuminance I(i) at each point on the exposed surface is measured, and the average illuminance Iave of the measured illuminance I(i) at each point is calculated. Next, the light transmittance of each point on the cell 91 corresponding to each measurement point on the exposed surface is set to 1-(I(i)-Iave)/I(i). However, when the value of the light transmittance of each point exceeds 1, it is set to 1.
これにより、平均照度Iaveより明るい部分に対応するセル91上の各点の光透過率が低下し、露光面上の各点の照度、厳密には、平均照度Iaveより明るい部分の照度が、平均照度Iaveに合わせられる。従って、第1実施形態の光学フィルタ90よりも全体として明るくなり、照度と照度分布均一化とのバランスを重視した調整となる。 As a result, the light transmittance of each point on the cell 91 corresponding to a portion brighter than the average illuminance Iave decreases, and the illuminance of each point on the exposed surface, strictly speaking, the illuminance of the portion brighter than the average illuminance Iave is averaged. It is adjusted to the illuminance Iave. Therefore, it becomes brighter as a whole than the optical filter 90 of the first embodiment, and the adjustment is performed with emphasis on the balance between the illuminance and the uniform illuminance distribution.
(第2実施形態)
次に、第2実施形態の光学フィルタ90aの製造方法について、図8を参照して説明する。
第2実施形態の光学フィルタ90aでは、セル91の中心C2に対するパターン93の中心C1が、セル91ごとにオフセット量を変えて形成されている。
図8に示すように、フライアイレンズ65の各レンズ素子65aから出射する光の露光面上における照射エリアの大きさは実質的に同じである。一方、各レンズ素子65aから出射する光の露光面上における照射エリアの位置は、レンズ素子65aの位置によって、それぞれ僅かに異なっている。
(Second embodiment)
Next, a method of manufacturing the optical filter 90a according to the second embodiment will be described with reference to FIG.
In the optical filter 90 a of the second embodiment, the center C 1 of the pattern 93 with respect to the center C 2 of the cell 91 is formed by changing the offset amount for each cell 91.
As shown in FIG. 8, the size of the irradiation area on the exposure surface of the light emitted from each lens element 65a of the fly-eye lens 65 is substantially the same. On the other hand, the position of the irradiation area on the exposure surface of the light emitted from each lens element 65a is slightly different depending on the position of the lens element 65a.
具体的には、図8に示すように、マトリックス状に配列された複数(図に示す実施例では9個)のレンズ素子65aの内の、例えば、中央のレンズ素子A(65a)から出射する光は、露光面上に、図8に点線で示す照射エリアBを形成し、レンズ素子Aの中心Oを通る光は、照射エリアBの中心O1に照射される。 Specifically, as shown in FIG. 8, the light is emitted from, for example, the central lens element A (65a) among a plurality (nine in the illustrated embodiment) of lens elements 65a arranged in a matrix. The light forms an irradiation area B shown by a dotted line in FIG. 8 on the exposure surface, and the light passing through the center O of the lens element A is irradiated to the center O 1 of the irradiation area B.
一方、中心のレンズ素子Aの、例えば、右上のレンズ素子Cから出射する光は、露光面上に照射エリアD(図8に一点鎖線で示す)を形成する。照射エリアDは、照射エリアBから右上方にオフセットしている。また、レンズ素子Cの中心Pを通る光は、照射エリアDの中心P1に照射される。この中心P1は、照射エリアBの中心O1から右上方にδだけオフセットしている。 On the other hand, the light emitted from, for example, the upper right lens element C of the central lens element A forms an irradiation area D (shown by a chain line in FIG. 8) on the exposure surface. The irradiation area D is offset to the upper right from the irradiation area B. Further, the light passing through the center P of the lens element C is applied to the center P 1 of the irradiation area D. The center P 1 is offset by δ to the right upward from the center O 1 of the irradiation area B.
同様に、レンズ素子Aの周囲に位置する各レンズ素子65aから出射する光も、露光面上に照射エリアBからそれぞれ左右、上下方向にオフセットした照射エリアを形成し、各レンズ素子65aの中心を通る光は、中心O1からそれぞれ左右、上下方向にオフセットした位置に照射される。このオフセット方向及びオフセット量δは、各レンズ素子65aのレンズ素子Aに対する位置に従って決定される。 Similarly, the light emitted from each lens element 65a located around the lens element A also forms an irradiation area on the exposure surface which is offset from the irradiation area B in the left and right directions and in the vertical direction, and the center of each lens element 65a is formed. The light passing therethrough is applied to positions offset from the center O1 in the left-right and up-down directions, respectively. The offset direction and the offset amount δ are determined according to the position of each lens element 65a with respect to the lens element A.
このように、各レンズ素子65aにより露光面上に照射される照射エリアB,D,・・・は、互いにオフセットしており、ワークWの露光に使用される露光エリアとしては、全てのレンズ素子65aからの光が重なって照射される中央照射エリアE(図8に示す最小の矩形エリア)を用いている。図8中、フライアイレンズ65の一点鎖線で示した部分を通過する光が中央照射エリアEを照射している。 As described above, the irradiation areas B, D,... Irradiated on the exposure surface by the respective lens elements 65a are offset from each other, and all the lens elements are used as the exposure areas used for exposing the work W. The central irradiation area E (minimum rectangular area shown in FIG. 8) where the lights from 65a are overlapped and irradiated is used. In FIG. 8, the light passing through the portion indicated by the alternate long and short dash line of the fly-eye lens 65 illuminates the central irradiation area E.
このように、露光面上では、各レンズ素子65aによる各照射エリアB,D,・・・が互いにオフセットしているため、光学フィルタ90の各セル91に同一のパターン93が形成されている場合(図5に示す第1実施形態の光学フィルタ参照)、フライアイレンズ65の各レンズ素子65aから出射して露光面上に形成されるそれぞれのパターン93の照射パターンは、レンズ素子Aによる照射エリアBの照射パターンとは完全に重ならず、それぞれ上下、左右方向に僅かにオフセットした位置に形成される。 In this way, on the exposed surface, the irradiation areas B, D,... By the lens elements 65a are offset from each other, so that the same pattern 93 is formed in each cell 91 of the optical filter 90. (Refer to the optical filter of the first embodiment shown in FIG. 5), the irradiation pattern of each pattern 93 emitted from each lens element 65a of the fly-eye lens 65 and formed on the exposure surface is an irradiation area by the lens element A. It does not completely overlap the irradiation pattern of B and is formed at positions slightly offset in the vertical and horizontal directions, respectively.
この露光面上における各セル91の照射パターンのズレは、露光面の露光エリア(中央照射エリアE)の中心O1と、各レンズ素子65aから照射される各照射エリアの中心(例えば、P1)とのオフセット量δに応じて、各セル91におけるパターン93の中心C1が、それぞれのセル91の中心C2に対してオフセットするように形成することで調整することができる。 The deviation of the irradiation pattern of each cell 91 on the exposure surface is caused by the center O 1 of the exposure area (center irradiation area E) of the exposure surface and the center of each irradiation area irradiated from each lens element 65a (for example, P 1 The center C 1 of the pattern 93 in each cell 91 is offset from the center C 2 of each cell 91 in accordance with the offset amount δ of
具体的には、図8に示すように、光学フィルタ90aが、奇数行、奇数列の複数のセル91で形成される場合、セル91の各辺の長さをLx,Ly、セル91による露光面上における照射エリアの各辺の長さをDx,Dyとし、且つ、中央に位置するレンズ素子65aを基準レンズAとし、基準レンズAからm行、n列ズレて位置する他のレンズ素子65aに対応するセル91のパターン93の中心C1は、セル91の中心C2に対して、m×Lx2/Dx、n×Ly2/Dyだけオフセットさせて形成する。 Specifically, as shown in FIG. 8, when the optical filter 90a is formed of a plurality of cells 91 in odd rows and odd columns, the length of each side of the cells 91 is Lx, Ly, and the exposure by the cells 91 is performed. The lengths of the sides of the irradiation area on the surface are Dx and Dy, and the lens element 65a located at the center is the reference lens A, and another lens element 65a is located m rows and n columns away from the reference lens A. The center C 1 of the pattern 93 of the cell 91 corresponding to is formed by offsetting the center C 2 of the cell 91 by m×Lx 2 /Dx and n×Ly 2 /Dy.
即ち、基準レンズA以外のレンズ素子65aのパターン93は、それぞれ各セル91の中心C2より基準レンズAの中心O方向に偏って形成される。これにより、各セル91のパターン93の露光面上における照射パターンが一致し、照度分布が均一化される。 That is, the patterns 93 of the lens elements 65 a other than the reference lens A are formed deviated from the center C 2 of each cell 91 toward the center O of the reference lens A. As a result, the irradiation pattern of the pattern 93 of each cell 91 on the exposed surface is matched, and the illuminance distribution is made uniform.
以上説明したように、露光面の露光エリアの中心O1と、各レンズ素子65aから照射される各照射エリアの中心(P1)とのオフセット量δに応じて、セル91のパターン93は、その中心C1を、各セル91の中心C2に対してオフセットさせて形成されるので、各パターン93によるそれぞれの照射パターンが一致し、照度分布の調整精度が向上する。 As described above, according to the offset amount δ between the center O 1 of the exposure area on the exposure surface and the center (P 1 ) of each irradiation area irradiated from each lens element 65a, the pattern 93 of the cell 91 is Since the center C 1 is formed to be offset with respect to the center C 2 of each cell 91, the irradiation patterns of the patterns 93 coincide with each other, and the adjustment accuracy of the illuminance distribution is improved.
また、p、qは奇数であり、セル91の各辺の長さをLx,Ly、セル91による照射エリアの各辺の長さをDx,Dyとし、且つ、複数のレンズ素子65aのうち、中央に位置するレンズ素子65aを基準レンズAとし、基準レンズAからm行、n列ズレて位置する他のレンズ素子65aに対応するセル91のパターン93の中心C1は、セル91の中心C2に対して、m×Lx2/Dx、n×Ly2/Dyだけオフセットさせて形成されるので、奇数行、奇数列のセル91を有する光学フィルタ90aにおいても、各パターン93によるそれぞれの照射パターンが一致し、照度分布の調整精度が向上する。 Further, p and q are odd numbers, the length of each side of the cell 91 is Lx, Ly, the length of each side of the irradiation area by the cell 91 is Dx, Dy, and among the plurality of lens elements 65a, The center C 1 of the pattern 93 of the cell 91 corresponding to another lens element 65a positioned m rows and n columns away from the reference lens A is the center C of the cell 91. Since it is formed by offsetting m×Lx 2 /Dx and n×Ly 2 /Dy with respect to 2 , even in the optical filter 90a having cells 91 in odd rows and columns, irradiation by each pattern 93 is performed. The patterns match and the adjustment accuracy of the illuminance distribution is improved.
(第3実施形態)
上記第1及び第2実施形態では、照度調整フィルタは、光学フィルタ90として説明したが、ワイヤフィルタ100で構成することもできる。図9に示すように、ワイヤフィルタ100は、複数本の線材102Xが互いに平行にX方向に配置されてなる第1のワイヤ群101Xと、複数本の線材102Yが互いに平行にY方向に配置されてなる第2のワイヤ群101Yと、から構成されている。第1のワイヤ群101Xの線材102Xと、第2のワイヤ群101Yの線材102Yは、互いに直交するように配置されて、p行、q列のマトリックス状に配列されたフライアイレンズ65の複数のレンズ素子65aに沿って配設されている。線材102X,102Yは、ワイヤや、細長く形成された板材などが適用可能であり、その断面形状は、円形、半円形、楕円形、三角形、四角形、その他多角形など、特に限定されない。
(Third Embodiment)
Although the illuminance adjustment filter is described as the optical filter 90 in the first and second embodiments, the illuminance adjustment filter may be configured by the wire filter 100. As shown in FIG. 9, in the wire filter 100, a first wire group 101X in which a plurality of wires 102X are arranged in parallel to each other in the X direction and a plurality of wires 102Y are arranged in parallel to each other in the Y direction. And a second wire group 101Y. The wire rods 102X of the first wire group 101X and the wire rods 102Y of the second wire group 101Y are arranged so as to be orthogonal to each other, and a plurality of fly-eye lenses 65 arranged in a matrix of p rows and q columns are provided. It is arranged along the lens element 65a. The wires 102X and 102Y may be wires or elongated plate materials, and the cross-sectional shape thereof is not particularly limited, such as circular, semicircular, elliptical, triangular, quadrangular, and other polygonal shapes.
更に、第1のワイヤ群101Xの各線材102Xは、それぞれの線材102Xの端部(例えば、図9の左端)に設けられた、例えばバイメタルやピエゾ素子などの駆動機構103Xにより、それぞれ独立してY方向に移動可能となっている。また、第2のワイヤ群101Yの各線材102Yは、それぞれの線材102Yの端部(例えば、図9の上端)に設けられた、例えばバイメタルやピエゾ素子などの駆動機構103Yにより、それぞれ独立してX方向に移動可能となっている。 Further, each wire rod 102X of the first wire group 101X is independently driven by a driving mechanism 103X such as a bimetal or a piezo element, which is provided at an end portion (for example, the left end of FIG. 9) of each wire rod 102X. It is movable in the Y direction. Further, each wire 102Y of the second wire group 101Y is independently driven by a driving mechanism 103Y such as a bimetal or a piezo element provided at an end portion (for example, an upper end in FIG. 9) of each wire 102Y. It is movable in the X direction.
そして、ワイヤフィルタ100の2組のワイヤ群101X,101Yの線材102X、102Yを、それぞれ光軸EL及び線材102X、102Yの長手方向に対して直交する方向に移動させて、複数の線材102Xで構成されるパターンPx、及び複数の線材102Yで構成されるパターンPyを変更することでワイヤフィルタ100の光透過率を変えて、露光面における照度分布のばらつきを調整する。1つのパターンPxと1つのパターンPyとが重なる領域の大きさは、フライアイレンズ65のレンズ素子65aの大きさと略同じ大きさとなっている。 Then, the wire rods 102X and 102Y of the two wire groups 101X and 101Y of the wire filter 100 are moved in the directions orthogonal to the longitudinal direction of the optical axis EL and the wire rods 102X and 102Y, respectively, to form a plurality of wire rods 102X. By changing the pattern Px to be formed and the pattern Py composed of the plurality of wires 102Y, the light transmittance of the wire filter 100 is changed to adjust the variation of the illuminance distribution on the exposure surface. The size of the area where one pattern Px and one pattern Py overlap is approximately the same as the size of the lens element 65a of the fly-eye lens 65.
なお、ワイヤフィルタ100による調整においても、露光面における照度の低い部分に合わせて明るい部分の照度をワイヤフィルタ100で低下させて、照度分布のばらつきを調整する方法は、光学フィルタ90と同様である。 Also in the adjustment by the wire filter 100, the method of reducing the illuminance of the bright portion by the wire filter 100 according to the low illuminance portion on the exposure surface and adjusting the variation of the illuminance distribution is the same as that of the optical filter 90. ..
以上説明したように、本実施形態の照度調整フィルタの製造方法によれば、照度調整フィルタは、それぞれ互いに平行に配置された複数本の線材102X、102Yから構成される2組のワイヤ群101X,101Yを備え、2組のワイヤ群101X,101Yの線材102X、102Yは、互いに直交して、フライアイレンズ65のマトリックスに沿ってそれぞれ配設されてなり、各線材102X、102Yは、それぞれ光軸EL及び線材102X、102Yの長手方向に対して直交する方向に移動可能なワイヤフィルタ100であるので、ワイヤフィルタ100の2組のワイヤ群101X,101Yの線材102X、102Yを、光路EL及び線材102X、102Yの長手方向に対して直交する方向に移動させることで、露光面における照度分布のばらつきを調整することができる。
また、ワイヤフィルタ100は、使用する照明装置3に応じて、パターンPx,Pyを調整することで、複数の照明装置3で使用することができる。
As described above, according to the method for manufacturing the illuminance adjustment filter of the present embodiment, the illuminance adjustment filter has two sets of wire groups 101X and 102X, each of which includes a plurality of wires 102X and 102Y arranged in parallel with each other. The wire rods 102X and 102Y of the two wire groups 101X and 101Y are arranged orthogonal to each other along the matrix of the fly-eye lens 65, and the wire rods 102X and 102Y respectively have optical axes. Since the wire filter 100 is movable in the direction orthogonal to the longitudinal direction of the EL and the wire rods 102X and 102Y, the wire rods 102X and 102Y of the two wire groups 101X and 101Y of the wire filter 100 are connected to the optical path EL and the wire rod 102X. , 102Y in a direction orthogonal to the longitudinal direction, it is possible to adjust the variation in the illuminance distribution on the exposure surface.
Further, the wire filter 100 can be used in a plurality of lighting devices 3 by adjusting the patterns Px and Py according to the lighting device 3 used.
尚、本発明は、前述した各実施形態及び実施例に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。 It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiments and examples, and various modifications and improvements can be made as appropriate.
1 マスクステージ(マスク支持部)
2 ワークステージ(ワーク支持部)
60 ランプユニット(光源)
63 平面ミラー(反射鏡)
65 フライアイレンズ
65a レンズ素子
66 平面ミラー(反射鏡)
67 コリメーションミラー(反射鏡)
68 平面ミラー(反射鏡)
90 光学フィルタ(照度調整フィルタ)
91 セル(照度調整部)
93 パターン
100 ワイヤフィルタ
101X 第1のワイヤ群(ワイヤ群)
101Y 第2のワイヤ群(ワイヤ群)
102X,102Y 線材
A 中心のレンズ素子(基準レンズ)
Dx,Dy 照射エリアの各辺の長さ
EL 光路、光軸
I 照度
i 露光面上における任意の点(測定点)
Iave 平均照度(平均値)
Imin 最低照度
Lx,Ly 照度調整部の各辺の長さ
M マスク
O1 照射エリアBの中心(露光エリアの中心)
P1 照射エリアDの中心
PE 近接露光装置
W ワーク
δ オフセット量(ズレ量)
1 Mask stage (mask support)
2 work stage (work support part)
60 lamp unit (light source)
63 Plane mirror (Reflector)
65 fly-eye lens 65a lens element 66 plane mirror (reflecting mirror)
67 Collimation mirror
68 Plane mirror (reflection mirror)
90 Optical filter (illuminance adjustment filter)
91 cells (illuminance adjuster)
93 pattern 100 wire filter 101X first wire group (wire group)
101Y Second wire group (wire group)
102X, 102Y Wire rod A Center lens element (reference lens)
Dx, Dy Length of each side of irradiation area EL Optical path, optical axis I Illuminance i Arbitrary point (measurement point) on exposure surface
Iave average illuminance (average value)
Imin Minimum illuminance Lx, Ly Length of each side of illuminance adjusting section M Mask O 1 Center of irradiation area B (center of exposure area)
P 1 Center of irradiation area D PE Proximity exposure device W Work δ Offset amount (deviation amount)
Claims (10)
前記光路内に、前記照度調整フィルタを配置しない状態で、前記露光面上における任意の点i(iは、整数)の照度I(i)を測定する工程と、
前記露光面上において測定された前記各点の照度I(i)に基づいて、前記各照度調整部の光透過率分布を算出する工程と、
該算出された光透過率分布に対応するパターンをそれぞれ備えた前記照度調整部を含む前記照度調整フィルタを形成する工程と、
を備え、
前記露光面の露光エリアの中心と、前記各レンズ素子から照射される各照射エリアの中心とのズレ量に応じて、前記照度調整フィルタの前記各照度調整部のパターンは、その中心を、前記各照度調整部の中心に対してオフセットさせて形成されることを特徴とする照度調整フィルタの製造方法。 Reflection of light from a light source, the fly-eye lens having a plurality of lens elements arranged in a matrix of p rows and q columns (p and q are integers) and the light emitted from the fly-eye lens. In order to uniformize the illuminance distribution on the exposure surface irradiated through the optical path having a mirror, an illuminance adjusting unit arranged in the optical path and having p rows and q columns corresponding to each of the plurality of lens elements is provided. A method of manufacturing an illuminance adjustment filter, comprising:
Measuring the illuminance I(i) of an arbitrary point i (i is an integer) on the exposure surface without disposing the illuminance adjustment filter in the optical path;
Calculating a light transmittance distribution of each of the illuminance adjusting units based on the illuminance I(i) of each of the points measured on the exposed surface;
A step of forming the illuminance adjustment filter including the illuminance adjustment section each provided with a pattern corresponding to the calculated light transmittance distribution;
Equipped with
Depending on the amount of deviation between the center of the exposure area of the exposure surface and the center of each irradiation area irradiated from each lens element, the pattern of each illuminance adjustment section of the illuminance adjustment filter is the center thereof, A method for manufacturing an illuminance adjustment filter, which is formed by being offset from the center of each illuminance adjustment section .
前記露光面上において測定された各点の照度I(i)の最低照度Iminを求める工程と、
前記露光面上の各測定点に対応する前記照度調整部上の各点の光透過率を、1−(I(i)−Imin)/I(i)とする工程と、
を備えることを特徴とする請求項1に記載の照度調整フィルタの製造方法。 The calculation step is
Determining a minimum illuminance Imin of the illuminance I(i) of each point measured on the exposed surface,
A step of setting the light transmittance of each point on the illuminance adjusting section corresponding to each measurement point on the exposed surface to 1-(I(i)-Imin)/I(i),
The manufacturing method of the illuminance adjustment filter according to claim 1, further comprising:
前記露光面上において測定された各点の照度I(i)の平均値Iaveを算出する工程と、
前記露光面上の各測定点に対応する前記照度調整部上の各点の光透過率を、1−(I(i)−Iave)/I(i)とする工程と、
を備えることを特徴とする請求項1に記載の照度調整フィルタの製造方法。 The calculation step is
Calculating an average value Iave of the illuminance I(i) measured at each point on the exposed surface;
A step of setting the light transmittance of each point on the illuminance adjusting section corresponding to each measurement point on the exposure surface to 1-(I(i)-Iave)/I(i),
The manufacturing method of the illuminance adjustment filter according to claim 1, further comprising:
p行、q列のマトリックス状に配列された前記照度調整部である複数のセルを備え、光源と前記フライアイレンズとの間に配置される光学フィルタであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の照度調整フィルタの製造方法。 The illuminance adjustment filter,
An optical filter comprising a plurality of cells which are the illuminance adjusting sections arranged in a matrix of p rows and q columns, and which is an optical filter arranged between a light source and the fly-eye lens. 4. The method for manufacturing the illuminance adjustment filter according to any one of 3 above.
それぞれ互いに平行に配置された複数本の線材から構成される2組のワイヤ群を備え、
前記2組のワイヤ群の前記線材は、互いに直交して、前記フライアイレンズのマトリックスに沿ってそれぞれ配設されてなり、
前記各ワイヤ群の前記線材は、それぞれ前記光の光軸及び前記線材の長手方向に対して直交する方向に移動可能なワイヤフィルタであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の照度調整フィルタの製造方法。 The illuminance adjustment filter,
It is equipped with two sets of wire groups each consisting of a plurality of wire rods arranged in parallel with each other,
The wire rods of the two wire groups are arranged at right angles to each other along the matrix of the fly-eye lens,
4. The wire rod of each wire group is a wire filter that is movable in a direction orthogonal to the optical axis of the light and the longitudinal direction of the wire rod, respectively. A method for manufacturing the illuminance adjustment filter according to.
前記照度調整部の各辺の長さをLx,Ly、前記照度調整部による前記露光面上における照射エリアの各辺の長さをDx,Dyとし、且つ、
前記複数のレンズ素子のうち、中央に位置する前記レンズ素子を基準レンズとし、前記基準レンズからm行、n列ズレて位置する前記他のレンズ素子に対応する前記照度調整部の前記パターンの中心は、前記各照度調整部の中心に対して、m×Lx2/Dx、n×Ly2/Dyだけオフセットさせて形成されることを特徴とする請求項1に記載の照度調整
フィルタの製造方法。 The p and q are odd numbers,
The length of each side of the illuminance adjustment unit is Lx, Ly, the length of each side of the irradiation area on the exposure surface by the illuminance adjustment unit is Dx, Dy, and
Of the plurality of lens elements, the center of the pattern of the illuminance adjusting section corresponding to the other lens element positioned m rows and n columns from the reference lens is the lens element located at the center as a reference lens. , the relative center of each illumination adjusting unit, m × Lx 2 / Dx, the manufacturing method of the illuminance adjusting filter according to claim 1 which is offset by n × Ly 2 / Dy, characterized in that it is formed by ..
前記照度調整部は、前記光路内に、前記照度調整フィルタを配置しない状態での前記露光面上における任意の点i(iは、整数)の照度I(i)に基づいた光透過率分布に対応するパターンをそれぞれ備え、
前記露光面の露光エリアの中心と、前記各レンズ素子から照射される各照射エリアの中心とのズレ量に応じて、前記照度調整フィルタの前記各照度調整部のパターンは、その中心を、前記各照度調整部の中心に対してオフセットさせて形成されていることを特徴とする照度調整フィルタ。 Reflection of light from a light source, the fly-eye lens having a plurality of lens elements arranged in a matrix of p rows and q columns (p and q are integers) and the light emitted from the fly-eye lens. In order to uniformize the illuminance distribution on the exposure surface irradiated through the optical path having a mirror, an illuminance adjusting unit arranged in the optical path and having p rows and q columns corresponding to each of the plurality of lens elements is provided. An illuminance adjustment filter provided,
The illuminance adjuster calculates a light transmittance distribution based on the illuminance I(i) of an arbitrary point i (i is an integer) on the exposure surface in a state where the illuminance adjustment filter is not arranged in the optical path. Each has a corresponding pattern,
Depending on the amount of deviation between the center of the exposure area of the exposure surface and the center of each irradiation area irradiated from each lens element, the pattern of each illuminance adjustment section of the illuminance adjustment filter is the center thereof, An illuminance adjustment filter, which is formed to be offset with respect to the center of each illuminance adjustment unit .
前記照明光学系からの光を、露光パターンが形成された前記マスクを介して前記ワークに照射して、前記マスクの露光パターンを前記ワークに露光転写することを特徴とする露光装置。 A mask support part for supporting the mask; a work support part for supporting the work; and the illumination optical system according to claim 9 .
An exposure apparatus which irradiates the work with the light from the illumination optical system through the mask on which the exposure pattern is formed, and transfers the exposure pattern of the mask onto the work.
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