JP6643226B2

JP6643226B2 - 第１の微細構造層及びコーティングを含む微細構造化拡散体、光学積層体、並びに方法

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Description

様々なマットフィルム（アンチグレアフィルムとも記載される）及び微細構造化拡散体が、記載されている。

例えば、国際特許第ＷＯ２０１２／１３８４９６号は、多くのプリズムフィルムを結合するために利用される、光学接着剤組成物を記載する。一実施形態において、接着剤組成物はポリマービーズを含む。接着剤層中のビーズの存在は、光線を拡散する接着剤表面に質感を提供する。

マットフィルムを得るためのいくつかの手法が存在する。

例えば、米国特許第６，７７８，２４０号に記載されているように、マット粒子を加えることによりマットコーティングを調製することができる。

更に別の手法では、アンチグレアフィルムの表面を粗面化又は非平坦化して、マット表面を提供することができる。米国特許第５，８２０，９５７号によれば、反射防止フィルムの非平坦な表面は、多数の非平坦化材料、表面又は方法のいずれかにより付与することができる。非平坦化材料又は表面の非限定的な例としては、マット仕上げを有するフィルム若しくはライナ、マイクロエンボス加工フィルム、所望の非平坦化パターン若しくは型板を含む微細複製工具、スリーブ若しくはベルト、金属若しくはゴムロールなどのロール、又はゴム被覆ロールが挙げられる。

国際特許第ＷＯ２０１０／１４１３４５号、同第ＷＯ２０１０／１４１２６１号、及び同第ＷＯ２０１１／１４００１８号は、工具表面と接触する重合性樹脂を注型成形して硬化させることによって、工具からの微細複製体を使用して作製される、アンチグレア及び反射防止フィルムを記載する。

一実施形態において、複数の山及び谷を有する、第１の微細構造化表面を含む光透過性フィルムを含む、微細構造化拡散体が記載されている。コーティングは、第１の微細構造化表面上に配設される。コーティングは谷を部分的に満たして、第１の微細構造化表面と実質的に異なる第２の微細構造化表面を形成する。

第１及び第２微細構造化表面はそれぞれ、ヘイズ若しくは透明度などの少なくとも１つの光学特性によって、又は補集合的累積傾き大きさ、表面粗さ（例えば、Ｒａ、Ｒｚ）若しくは平均高さなどの少なくとも１つの物理的特性によって、特徴付けられることができる。第１及び第２の微細構造化表面間の１つ以上の光学又は物理的特性の差は、少なくとも１０％の絶対値を有する。

別の実施形態では、複数の山及び谷を有する、第１の微細構造化表面を含む光透過性フィルムを含む、微細構造化拡散体が記載されている。コーティングは第１の微細構造化表面上に配設されており、前記コーティングは谷を部分的に満たして、１．５マイクロメートル〜７．５マイクロメートルの範囲のＲｚを有する第２の微細構造化表面を形成する。山は、埋め込まれたマット粒子を含まない。

別の実施形態では、複数の山及び谷を有する、第１の微細構造化表面を含む光透過性フィルムを含む、微細構造化拡散体が記載されている。コーティングは第１の微細構造化表面上に配設されており、前記コーティングは谷を部分的に満たして、第２の微細構造化表面を形成する。第２の微細構造化表面は、０．７５マイクロメートル〜４マイクロメートルの範囲の平均高さを有する。

別の実施形態では、複数の山及び谷を有する、第１の微細構造化表面を含む光透過性フィルムを含む、微細構造化拡散体が記載されている。コーティングは第１の微細構造化表面上に配設されており、前記コーティングは谷を部分的に満たして、第２の微細構造化表面を形成する。コーティングは、少なくとも０．５マイクロメートルの平均厚さを有する。

本明細書に記載される微細構造化拡散体を含む光学フィルム積層体、及び微細構造物品を製作する方法もまた記載されている。

第１の微細構造化表面の概略側面図である。第２の微細構造化表面を形成するコーティングを更に含む、第１の微細構造化表面の概略側面図である。微細構造の陥没部の概略側面図である。微細構造の突出部の概略側面図である。規則的に配置された微細構造の概略平面図である。不規則に配置された微細構造の概略平面図である。微細構造の概略側面図である。埋め込まれたマット粒子を含む微細構造部分を有する、光学フィルムの概略側面図である。切削工具システムの概略側面図である。様々なカッターの概略側面図である。様々なカッターの概略側面図である。様々なカッターの概略側面図である。様々なカッターの概略側面図である。具現化された工具表面から作製される、様々な微細構造化表面の光学顕微鏡画像である。具現化された工具表面から作製される、様々な微細構造化表面の光学顕微鏡画像である。具現化された工具表面から作製される、様々な微細構造化表面の光学顕微鏡画像である。具現化された工具表面から作製される、様々な微細構造化表面の光学顕微鏡画像である。別の具現化された工具表面から作製される、様々な微細構造化表面の光学顕微鏡画像である。別の具現化された工具表面から作製される、様々な微細構造化表面の光学顕微鏡画像である。別の具現化された工具表面から作製される、様々な微細構造化表面の光学顕微鏡画像である。別の具現化された工具表面から作製される、様々な微細構造化表面の光学顕微鏡画像である。図８Ａ〜図８Ｄの微細構造化表面の補集合的累積傾き大きさ分布のグラフである。図９Ａ〜図９Ｄの微細構造化表面の補集合的累積傾き大きさ分布のグラフである。微細構造化拡散体を含む光方向転換フィルムの概略側面図である。別の光方向転換フィルムの概略側面図である。光学積層体の概略側面図である。別の具現化された工具表面から作製される、様々な微細構造化表面の光学顕微鏡画像である。別の具現化された工具表面から作製される、様々な微細構造化表面の光学顕微鏡画像である。別の具現化された工具表面から作製される、様々な微細構造化表面の光学顕微鏡画像である。別の具現化された工具表面から作製される、様々な微細構造化表面の光学顕微鏡画像である。図１５Ａ及び図１５Ｂ、図１６Ａ及び図１６Ｂの微細構造化表面の補集合的累積傾き大きさ分布のグラフである。図１５Ａ及び図１５Ｂ、図１６Ａ及び図１６Ｂの微細構造化表面の補集合的累積ｘ勾配傾き大きさ分布のグラフである。図１５Ａ及び図１５Ｂ、図１６Ａ及び図１６Ｂの微細構造化表面の補集合的累積ｙ勾配傾き大きさ分布のグラフである。

ここでは、微細構造化拡散体について述べる。いくつかの実施形態では、微細構造化拡散体が、アンチグレアフィルム（マットフィルムとも記載される）としての使用に適することができる。図１Ａを参照すると、微細構造化拡散体１００は、通常光透過性（すなわち、透明）基材５０上に配設された、第１の微細構造化表面層６０を含む。第１の微細構造化表面層は、複数の山（例えば７０）及び谷を含む。図１Ｂに関して、コーティング８０は第１の微細構造化表面上に配設される。コーティングは谷を部分的に満たして、第２の微細構造化表面を形成する。

基材５０及び微細構造化拡散体は一般に、少なくとも８５％又は９０％、いくつかの実施形態では少なくとも９１％、９２％、９３％以上の透過率を有する。

透明基材は、フィルムであってもよい。（例えば、フィルム）基材の厚さは通常、目的とする用途に左右される。ほとんどの用途について、基材の厚さは好ましくは約０．５ｍｍ未満、及びより好ましくは約０．０２〜約０．２ｍｍである。あるいは、透明フィルム基材は、文字、図又は他の情報を示すことができる、光学（例えば、照光の）ディスプレイでもよい。透明基材は、ガラスなどの多種多様な非ポリマー材料、又はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、（例えばビスフェノールＡ）ポリカーボネート、酢酸セルロース、ポリ（メチルメタクリレート）、及び二軸延伸ポリプロピレンなどのポリオレフィンのような、様々な熱可塑性並びに架橋ポリマー材料のいずれかを含む、又はからなることができ、これらは一般に様々な光学装置で使用される。基材を、例えば、化学処理（プライマーなど）、空気若しくは窒素コロナなどのコロナ処理、プラズマ、火炎、又は化学放射線によって処理して、接着性を向上させることができる。

微細構造化拡散体は通常、比較的厚い微細構造化表面層を有する。微細構造層は通常、少なくとも０．５マイクロメートル、好ましくは少なくとも１マイクロメートル、及び、より好ましくは少なくとも２又は３マイクロメートルの平均厚さ（「ｔ」）を有する。微細構造層は通常、１５、１４、１３、１２、１１、又は１０マイクロメートル以下の平均厚さを有する。

いくつかの実施形態において、微細構造は、谷部分とも称される、陥没部であってもよい。例えば、図２Ａは、陥没した微細構造３２０又は微細構造くぼみを含む、微細構造層３１０の概略側面図である。微細構造化表面を形成する工具表面は一般に、複数の陥没部を含む。微細構造化拡散体の微細構造は通常、山部分とも称される、突出部である。例えば、図２Ｂは、突出した微細構造３４０を含む微細構造層３３０の概略側面図である。図８Ａ〜図９Ｄ及び図１５Ａ〜図１６Ｂは、複数の山及び山を囲む谷を含む例示の微細構造化表面の、様々な光学顕微鏡画像を示す。

いくつかの実施形態において、微細構造は規則的なパターンを形成し得る。例えば、図３Ａは、主表面４１５に規則的なパターンを形成する、微細構造４１０の概略平面図である。しかし、通常微細構造は不規則なパターンを形成する。例えば、図３Ｂは、不規則なパターンを形成する微細構造４２０の概略平面図である。場合によっては、微細構造は、ランダムに見える擬似ランダムパターンを形成し得る。

（例えば、個別の）微細構造は、傾きにより特徴付けられることができる。図４は、微細構造層１４０の一部の概略側面図である。特に、図４は主表面１２０内の微細構造１６０、及び対向する主表面１４２を示している。微細構造１６０は、微細構造の表面全体に亘る傾き分布を有する。例えば、微細構造は、位置５１０に傾きθを有し、θは、位置５１０における微細構造化表面に直交する法線５２０（α＝９０度）と、同一位置における微細構造化表面に対して正接となる接線５３０との間の角度である。傾きθは、接線５３０とマット層の主表面１４２との間の角度でもある。

いくつかの実施形態において、微細構造は実質的に（例えば、無機酸化物又はポリマー）マット粒子を含まない。しかし、マット粒子の不在下でも、微細構造７０は、図１に示すように、（例えば、ジルコニア又はシリカ）ナノ粒子３０を含む。

ナノ粒子のサイズは、可視光線の顕著な光散乱を防止するように選択される。光学又は材料特性を最適化するため、及び全般的な組成物コストを低下させるために、複数の種類の無機酸化物粒子の混合物を用いることが望ましい場合がある。表面修飾コロイド状ナノ粒子は、少なくとも１ｎｍ又は５ｎｍの（例えば非会合の）一次粒径又は会合粒径を有する無機酸化物粒子であり得る。一次又は会合粒径は一般に、１００ｎｍ未満、７５ｎｍ未満、又は５０ｎｍ未満である。通常は、一次又は会合粒径は、４０ｎｍ未満、３０ｎｍ未満、又は２０ｎｍ未満である。ナノ粒子は、非会合であることが好ましい。これらの測定値は、透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）に基づくことができる。表面修飾コロイド状ナノ粒子は、実質的に完全に凝縮可能である。

完全凝縮ナノ粒子（シリカを除き）は通常、５５％超、好ましくは６０％超、より好ましくは７０％超の結晶化度（独立金属酸化物粒子として測定した場合）を有する。例えば、結晶化度は、約８６％以上の範囲であり得る。結晶化度は、Ｘ線回折法によって測定することができる。凝縮結晶性の（例えば、ジルコニア）ナノ粒子は、高い屈折率を有するが、非晶質ナノ粒子は通常、より低い屈折率を有する。

ナノ粒子のサイズが実質的に小さいという理由から、このようなナノ粒子は微細構造を形成しない。むしろ、微細構造は、複数のナノ粒子を含む。

他の実施形態において、微細構造の一部分は、埋め込まれたマット粒子を含み得る。

マット粒子は通常、約０．２５マイクロメートル（２５０ナノメートル）越、又は約０．５マイクロメートル越、又は約０．７５マイクロメートル越、又は約１マイクロメートル越、又は約１．２５マイクロメートル越、又は約１．５マイクロメートル越、又は約１．７５マイクロメートル越、又は約２マイクロメートル越の、平均サイズを有する。より小さいマット粒子は、比較的薄い微細構造層を含むマットフィルムにおいて、一般的である。しかしながら、微細構造層がより厚い実施形態では、マット粒子は、５マイクロメートル又は１０マイクロメートルまでの平均サイズを有し得る。マット粒子の濃度は、少なくとも１又は２重量％〜約５、６、７、８、９、又は１０重量％以上の範囲であり得る。

図５は、基材８５０上に配設された微細構造層８６０を含む、光学フィルム８００の概略側面図である。微細構造層８６０は、基材８５０に付着された第１の主表面８１０と、ポリマー結合剤８４０中に分散された複数のマット粒子８３０及び／又はマット粒子凝集体とを含む。いくつかの好ましい実施形態において、微細構造８７０のうちのかなりの部分、例えば少なくとも約５０％、又は少なくとも約６０％、又は少なくとも約７０％、又は少なくとも約８０％、又は少なくとも約９０％には、マット粒子８３０又はマット粒子凝集体８８０が存在しない。すなわち、山の５０％、４０％、３０％、２０％、１０％以下は、埋め込まれたマット粒子を含む。（例えば、シリカ又はＣａＣＯ_３）マット粒子の存在は、以下に記載するように、これらのマット粒子の存在が所望の透明度、及びヘイズ特性を提供するのに不十分であったとしても、改善された耐久性を提供し得ることが推定される。しかしながら、マット粒子のサイズが比較的大きいため、コーティング組成物中に均一に分散されたマット粒子を維持することは困難であり得る。このことは、適用されたマット粒子の濃度に変動を生じる場合があり（特にウェブコーティングの場合）、これは次に（例えば、光学的）特性に変動を生じる。いくつかの実施形態では、実質的に微細構造化表面のすべての山は、（例えば、埋め込まれた）マット粒子を含まない。

微細構造の少なくとも一部分が埋め込まれたマット粒子又は凝集マット粒子を含む実施形態では、マット粒子の平均サイズは通常、微細構造の平均サイズよりも十分小さく（例えば、少なくとも約２以上の因数により）、したがって図５に示すように、マット粒子が微細構造層の重合性樹脂組成物で包囲される。

マット層が埋め込まれたマット粒子を含む場合、マット層は通常、粒子の平均サイズよりも少なくとも約０．５マイクロメートル、又は少なくとも約１マイクロメートル、又は少なくとも約１．５マイクロメートル、又は少なくとも約２マイクロメートル、又は少なくとも約２．５マイクロメートル、又は少なくとも約３マイクロメートル大きい平均厚さ「ｔ」を有する。

微細構造化表面は、任意の好適な作製方法により作製することができる。微細構造は通常、米国特許第５，１７５，０３０号（Ｌｕら）及び同第５，１８３，５９７号（Ｌｕ）に記載されているように、重合性樹脂組成物を工具表面と接触させて注型成型及び硬化させることにより、製作される。工具は、任意の利用可能な製作方法、例えば彫刻又はダイヤモンド切削を用いることにより製作することができる。例示的なダイヤモンド切削システム及び方法は、例えば、その開示が参照により本明細書に組み込まれる、国際出願公開第ＷＯ００／４８０３７号、並びに米国特許第７，３５０，４４２号及び同第７，３２８，６３８号に記載されている、高速工具サーボ（ＦＴＳ）を含み及び使用し得る。

図６は、第１の微細構造化表面６０を製造するために微細複製されることができる、工具の切削に使用可能な切削工具システム１０００の概略側面図である。切削工具システム１０００はねじ切り旋盤回転プロセスを用いたものであり、駆動装置１０３０によって中心軸１０２０を中心として回転及び／又は中心軸１０２０に沿って移動可能なロール１０１０、及びロール材料を切削するためのカッター１０４０を有している。カッターは、サーボ１０５０に装着され、駆動装置１０６０によってｘ方向に沿ってロールの中に、及び／又はロール沿いに移動させることができる。一般に、カッター１０４０はロール及び中心軸１０２０に対して垂直に取り付けられ、ロールが中心軸を中心として回転している間、ロール１０１０の彫刻可能な材料内に押し進められる。次いでカッターは中心軸に平行に送られて、ねじ切りが形成される。カッター１０４０は、高周波かつ低変位で同時に作動可能であり、微細複製時に微細構造をもたらす形体がロール内に製造される。

サーボ１０５０は高速工具サーボ装置（ＦＴＳ）であり、しばしばＰＺＴスタックと呼ばれる、カッター１０４０の位置を速やかに調節する固体圧電（ＰＺＴ）装置を有している。ＦＴＳ１０５０により、カッター１０４０のｘ方向、ｙ方向、及び／若しくはｚ方向、又は軸外方向での高精度かつ高速での動作が可能になる。サーボ１０５０は、静止位置に対して制御された運動を生じさせることが可能な任意の高品質変位サーボであってよい。場合によっては、サーボ１０５０は、約０．１マイクロメートル以上の分解能で、０〜約２０マイクロメートルの範囲の変位を繰り返し与えることが可能である。

駆動装置１０６０は、カッター１０４０をｘ方向に沿って中心軸１０２０に平行に移動させることができる。場合によっては、駆動装置１０６０の変位分解能は約０．１マイクロメートルを上回り、又は約０．０１マイクロメートルを上回る。駆動装置１０３０によって生ずる回転運動が駆動装置１０６０によって生ずる並進運動と同期することによって、得られる微細構造の形状が正確に制御される。

ロール１０１０の彫刻可能な材料は、カッター１０４０によって彫刻可能な任意の材料であってよい。例示のロール材料には、銅などの金属、様々なポリマー、及び様々なガラス材料が挙げられる。

カッター１０４０は任意の種類のカッターでよく、特定の用途において望ましい任意の形状を有し得る。例えば、図７Ａは、半径「Ｒ」の弓形切削チップ１１１５を有するカッター１１１０の概略側面図である。場合によっては、切削チップ１１１５の半径Ｒは、少なくとも約１００マイクロメートル、又は少なくとも約１５０マイクロメートル、又は少なくとも約２００マイクロメートルである。いくつかの実施形態において、切削チップの半径Ｒは、又は少なくとも約３００マイクロメートル、又は少なくとも約４００マイクロメートル、又は少なくとも約５００マイクロメートル、又は少なくとも約１０００マイクロメートル、又は少なくとも約１５００マイクロメートル、又は少なくとも約２０００マイクロメートル、又は少なくとも約２５００マイクロメートル、又は少なくとも約３０００マイクロメートルである。

あるいは、工具の微細構造化表面は、図７Ｂに示すようなＶ形切削チップ１１２５を有するカッター１１２０、図７Ｃに示すような、部分的に直線状の切削チップ１１３５を有するカッター１１３０、又は７Ｄに示すような湾曲切削チップ１１４５を有するカッター１１４０を使用して、形成されてもよい。一実施形態において、少なくとも約１７８度以上の頂角βを有するＶ形切削チップを使用した。

再び図６を参照すると、ロール材料の切削中に、ロール１０１０が中心軸１０２０に沿って回転し、カッター１０４０がｘ方向に沿って移動することにより、中心軸に沿ってピッチＰ_１を有するねじ経路がロールの周囲に画定される。カッターがロール表面に垂直な方向に沿って移動してロール材料を切削するにつれて、カッターによって切削される材料の幅が、カッターの内外への移動又は突入と共に変化する。例えば図７Ａを参照すると、カッターによる最大侵入深さは、カッターにより切削される最大幅Ｐ_２に対応する。一般に、比Ｐ_２／Ｐ_１は約２〜約４の範囲内にある。

あるいは、工具は、電着によって作製され得る。一実施形態において、第１の平均粗さを有する第１層の第１主表面をもたらす第１の電気メッキ工程を使用して金属を電着させることによって、金属の第１層を形成することと；第１の平均粗さより小さい第２の平均粗さを有する第２層の第２主表面をもたらす第２の電気メッキ工程を使用して第１主表面に金属を電着させることによって、金属の第２層を第１層の第１主表面上に形成することと；によって、工具は提供されて、これは国際特許第ＷＯ２０１４／０８１６９３号に記載されており、この開示は参照により本明細書に組み込まれる。

いくつかの微細構造化拡散体は、４つの異なる工具の表面を微細複製することによって製造された。微細構造化表面は、工具表面の正確な複製物であったため、微細構造化表面層に関する今後の説明は、逆の工具表面の説明でもある。

図８Ａ、９Ａ、１５Ａ、及び１６Ａは、４つの異なる工具（すなわち工具１〜工具４それぞれ）から生成される第１の微細構造化表面の共焦点スキャンレーザ顕微鏡画像（５０倍対物レンズ）を示す。

第１の微細構造化表面を有する基材は、コーティングを第１の微細構造化表面に配設することによって、微細構造（例えば拡散体）物品を作製するための中間物品として、適切である。例えば、図８Ｂ〜８Ｄは、第１の微細構造化表面に配設された様々な厚みのコーティングを有する、図８Ａの第１の微細構造化表面（工具１から形成される）を示す。図９Ｂ〜９Ｄは、第１の微細構造化表面に配設された様々な厚みのコーティングを有する、図９Ａの第１の微細構造化表面（工具２から形成される）を示す。図１５Ｂは、第１の微細構造化表面に配設された（例えば、３．３マイクロメートルの）コーティングを有する、図１５Ａの第１の微細構造化表面（工具３から形成される）を示す。図１６Ｂは、第１の微細構造化表面に配設された（例えば、３．３マイクロメートルの）コーティングを有する、図１６Ａの第１の微細構造化表面（工具３から形成される）を示す。

通常の実施形態において、コーティングは、山を被覆して、谷を部分的に満たす。しかしコーティングの粘度が十分低いとき、コーティングは谷を部分的に満たすと共に、一部の山だけを被覆できる。例えば、第１の微細構造化表面の最も高い山は、コーティングによって被覆できない。谷のこの部分的な充填が、第２の微細構造化表面を形成し、それも複数の山及び谷を有しており、コーティングと合わせて第１の微細構造化表面のトポグラフィから形成される。

コーティングの厚さは、第１の微細構造化表面及び所望される最終的な特性によって変化する。コーティングの厚さは通常、１／４波長の光学的厚さより大きい。国際特許第ＷＯ２０１１／１４００１８号に記載のとおり、コーティングが１／４波長の光学的厚さを有するとき、物理的及び光学特性の実質的な変化が得られないように、コーティングは一般に、下にある第１の微細構造化表面に均一に適合する。（すなわち、乾燥した）コーティングの平均厚さは通常、少なくとも０．５、０．６、０．７、０．８、０．９、又は１マイクロメートルである。いくつかの実施形態では、（すなわち、乾燥した）コーティングの平均厚さは、少なくとも１．５、２、２．５、３、３．５、４、４．５、又は５マイクロメートルである。通常の実施形態において、コーティングの厚さは、約２０、１５、又は１０マイクロメートル以下である。

第１及び第２の微細構造化表面は、少なくとも１つの光学又は物理的特性によって、それぞれ特徴付けられることが可能である。第１及び第２の微細構造化表面間の光学又は物理的な特性の差が、少なくとも１０％の絶対値を有するとき、第２の微細構造化表面は、第１の微細構造化表面と実質的に異なると考えることができる。いくつかの実施形態では、物理的特性は、微細構造の補集合的累積傾き大きさ分布（すなわちＦｃｃ）、表面粗さ又は平均山高さであり得る。他の実施形態において、光学特性は、ヘイズ又は透明度であり得る。いくつかの実施形態では、第１及び第２の微細構造化表面間の光学又は物理的特性の差が、少なくとも１５％又は２０％以上の絶対値を有する。

第１の微細構造化表面及び第２の微細構造化表面の代表的な部分は、第１の微細構造化表面に配設されたコーティングを更に含み、共焦点スキャンレーザ顕微鏡（５０倍対物レンズ）を使用して画定される。

Ｆ_ｃｃ（θ）は、傾きの大きさの補足的累積分布であり、以下の式により定義されて、式中、Ｎ_Ｇ（ｑ）は、ｑ番目のアングルビンの画素数であり、各アングルビンは０．０１度のサイズを有する。

特定の角度（θ）のＦ_ｃｃは、絶対値が指定された角度θより大きい傾きの割合である。割合は、総量のパーセンテージとして表されることもできる。例えば、割合１．０は１００％であり、及び、割合０．４５は４５％である。

様々な例示の第１及び第２の微細構造層のＦ_ｃｃ（θ）は、図１０、図１１及び図１７に示されており、及び以下の表Ａ〜Ｄで明らかにされる。各表Ａ〜Ｄにおいて、括弧内の値は、第１の微細構造化表面（すなわち対照）と第２の微細構造化表面の差である。

表Ａ〜Ｄの例示的実施形態に関して、０．１度超、０．３度超、０．７度超及び１．３度超の傾きの大きさでの第１の微細構造化表面の補集合的累積傾き大きさ分布は、少なくとも９５、９６、９７、９８、９９、又は１００％であり得る。０．１度超又は０．３度超の傾きの大きさでの第２の微細構造化表面の補集合的累積傾き大きさ分布は、少なくとも９５、９６、９７、９８、９９、又は１００％であり得る。いくつかの実施形態では、０．７度超の傾きの大きさでの第２の微細構造化表面の補集合的累積傾き大きさ分布は、少なくとも９５、９６、９７、９８、９９、又は１００％であり得、又は、それは、少なくとも８５又は９０％などわずかに低いこともあり得る。１．３度超の傾きの大きさでの第２の微細構造化表面の補集合的累積傾き大きさ分布は、少なくとも６５、７０、７５、８０、８５、又は約９０％であり得る。

２．１度超又は４．１度超の傾きの大きさでの第１及び第２の微細構造化表面間の補集合的累積傾き大きさ分布の差は、少なくとも１０％、１１％、１２％、１３％、１４％、又は１５％である。更にいくつかの実施形態では、２．１度超又は４．１度超の傾きの大きさでの第１及び第２の微細構造化表面間の補集合的累積傾き大きさ分布の差は、少なくとも２０％、３０％、４０％、５０％、６０％、又は７０％である。

第１の微細構造化表面は、２．１度超の傾きの大きさでの補集合的累積傾き大きさ分布を少なくとも９０％、９１％、９２％、９３％、９４％、９５％、又は９６％有することができる。しかしながら、第２の微細構造化表面は、８０％以下の、及びいくつかの実施形態では、７５、７０、６５、６０、５５、５０、又は４５％以下の、２．１度超の傾きの大きさでの補集合的累積傾き大きさ分布を有することができる。

第１の微細構造化表面は、４．１度超の傾きの大きさでの補集合的累積傾き大きさ分布を少なくとも６０％、６５％、７０％、又は７５％有することができる。しかしながら、第２の微細構造化表面は、４．１度超の傾きの大きさでの補集合的累積傾き大きさ分布を５０、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５、又は１０％以下有することができる。

図１０、図１１及び図１７の例示的実施形態に関して、第１の微細構造化表面は、１０度超の傾きの大きさでの補集合的累積傾き大きさ分布を少なくとも１０％、２０％、３０％、４０％、又は５０％有することができる。更に、第１の微細構造化表面は、１５度超の傾きの大きさでの補集合的累積傾き大きさ分布を少なくとも５％、１０％、１５％、又は２０％有することができる。しかし、第２の微細構造化表面は、１０度超又は１５度超の傾きの大きさでの補集合的累積傾き大きさ分布を４０％、３０％、又は２０％未満、及びいくつかの実施形態では、１０％、９％、８％、７％、６％、５％、４％、３％、２％、１％、又は０未満有することができる。更に、第１の微細構造化表面は、５度超の傾きの大きさでの補集合的累積傾き大きさ分布を少なくとも５０％、６０％、７０％、８０％、又は８５％有することができる。しかし、第２の微細構造化表面は、５度超の傾きの大きさでの補集合的累積傾き大きさ分布を４０％未満、及びいくつかの実施形態では、３５％、３０％、２５％、２０％、１５％、１０％、又は５％未満有することができる。

補集合的累積傾き大きさ分布は、全体の補集合的累積傾き大きさ分布の構成要素である、ｘ傾き及びｙ傾き大きさ分布に関して、表されることもできる。本明細書で使用する場合、「補集合的累積傾き大きさ分布」とは、特に明記しない限り、全体に関する。微細構造化表面の微細構造が幾何学的に対称であるとき、補集合的累積ｘ傾き大きさ分布は、補集合的累積ｙ傾き大きさ分布と実質的に同じである。図１８及び図１９の例示的実施形態に関して、例示の工具４から提供される第１の微細構造化表面は、補集合的累積ｙ傾き傾き大きさ分布（Ｙｃｃ）と実質的に同じである補集合的累積ｘ勾配傾き大きさ分布（Ｘｃｃ）を有するとして示される。それに対し、例示の工具３から提供される第１の微細構造化表面は非対称の微細構造を有し、したがって、ｘ勾配及びｙ勾配分布は異なる。例えば、例示の工具３の５度超の工具３のＹｃｃは約７０％であるが、Ｘｃｃは、１０、９、８、７、６、又は５％未満である。更に、例示の工具３について４．１度超の工具３のＹｃｃは７０％超であるが、４．１度超のＸｃｃは、６０、５０、４０、３０、２０、１０、又は５％未満である。

第１及び第２の微細構造化表面は、平均高さ及び表面粗さ（例えばＲａ、Ｒｚ）を含む他の物理的特性に従って画定されることができる。Ｒａは、測定された領域全体にわたって計算された平均粗さであり、Ｒｚは、評価領域の１０つの最大の山〜谷距離の平均最高表面高さである。例示の第１及び第２の微細構造層のＲａ及びＲｚは、以下の表Ｅ〜Ｈに記載される。各表Ｅ〜Ｈにおいて、括弧の値は、第１の微細構造化表面（すなわち対照）と第２の微細構造化表面の差であり、このような差は、パーセンテージ（例えば、Ｒｚ（第１）−Ｒｚ（第２）／Ｒｚ（第１））として表される。各表Ｅ〜Ｈで報告されるＲｚ及び平均高さは、表面分析技術を利用して測定されるが、Ｒｚは、コーティングされた第１の微細構造化表面の断面の走査電子顕微鏡から測定されることもできる。断面分析が利用されるとき、十分な数の断面が分析されて、第１及び第２の微細構造化表面全体を代表する統計学的に有意な結果を得る。

表Ｅ〜Ｈの実施形態に関して、第１の微細構造化表面に配設されたコーティングは、少なくとも１０％の第２の微細構造化表面のＲｚ及び／又はＲａを低減できる。更に、いくつかの実施形態では、第１及び第２の微細構造化表面間のＲｚ及び／又はＲａの差は、少なくとも−２０％、−３０％、−４０％、−５０％、又は−６０％であり得る。

第２の微細構造化表面のＲｚは通常、少なくとも１．３、１．４、又は１．５マイクロメートル及び約５マイクロメートル以下であるが、第１の微細構造化表面は、第２の微細構造化表面より大きなＲｚを有する。いくつかの実施形態では、第２の微細構造化表面のＲｚは、少なくとも１．６、１．７、１．８、１．９、又は２マイクロメートルである。いくつかの実施形態において、第１の微細構造化表面のＲｚは、少なくとも４．５、５．０、５．５、６．０、６．５、７．０、７．５、８．０、８．５、９．０、９．５、又は１０マイクロメートルであり得る。いくつかの実施形態では、第２の微細構造化表面のＲｚは、７．５、７．０、６．５、６．０、５．５、５．０、又は４．５マイクロメートル以下である。第２の微細構造化表面のＲａは通常、少なくとも０．１５、０．１６、０．１７、０．１８、０．１９、又は０．２０マイクロメートル及び約１マイクロメートル以下であるが、第１の微細構造化表面は、第２の微細構造化表面より大きなＲａを有する。いくつかの実施形態では、第２の微細構造化表面のＲａは、０．９５、０．９０、０．８５、０．８０、又は０．７５以下である。

表Ｅ〜Ｈの実施形態に関して、第１の微細構造化表面に配設されたコーティングは、少なくとも１０％の第２の微細構造化表面の平均高さを低減できる。更に、いくつかの実施形態では、第１及び第２の微細構造化表面間の平均高さの差は、少なくとも−２０％、−３０％、−４０％、−５０％、又は−６０％であり得る。

第２の微細構造化表面の平均高さは通常、少なくとも０．７５、０．８０、０．８５、０．９０、０．９５、又は１．００マイクロメートルである。いくつかの実施形態では、第２の微細構造化表面の平均高さは、少なくとも１．５、又は２．０マイクロメートルである。第２の微細構造化表面の平均高さは通常、約４マイクロメートル以下であり、及びいくつかの実施形態では、３．５又は３マイクロメートル以下である。第１の微細構造化表面は、第２の微細構造化表面より大きい平均高さを有する。いくつかの実施形態では、第１の微細構造化表面の平均高さは、少なくとも２．５、３、３．５、４、又は５マイクロメートルである。

第１及び第２の微細構造化表面のヘイズ及び透明度は、実施例に記載されている試験方法に従って測定できる。様々な例示の第１及び第２の微細構造層のヘイズ及び透明度が、以下の表Ｉ〜Ｊに記載される。各表Ｉ〜Ｊにおいて、括弧内の値は、第１の微細構造化表面（すなわち対照）と第２の微細構造化表面の差である。補集合的累積傾き大きさ分布は、第１の微細構造化表面を作製するために利用される重合性樹脂の選択に影響を受けないが、重合性樹脂の選択はヘイズ及び透明度に影響を及ぼすことができる。２つの異なる重合性樹脂が、第１の微細構造化表面を作製するために利用され、以下の表Ｉ〜Ｊに示すように、１つが１．５６の屈折率（ＲＩ）を有し、残りの１つが１．６５の屈折率を有する。

表Ｉ〜Ｊの例示的実施形態に関して、第１及び第２の微細構造化表面間のヘイズの差は、少なくとも１０％であり得る。更に、いくつかの実施形態では、第１及び第２の微細構造化表面間のヘイズの差は、少なくとも２０％、３０％、４０％、５０％、６０％、又は７０％であり得る。

第１の微細構造化表面は、少なくとも６０、７０、８０、又は９０％のヘイズを有することができる。しかし、第２の微細構造化表面は、５０、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５、又は１０％以下のヘイズを有することができる。いくつかの実施形態では、ヘイズは、１０、９、８、７、６、５、４、３、又は２％未満である。

表Ｉ〜Ｊの例示的実施形態に関して、第１及び第２の微細構造化表面間の透明度の差は、少なくとも−１０％であり得る。更に、第１及び第２の微細構造化表面間の透明度の差は、少なくとも−２０％、−２５％、−３０％、−３５％、又は−４０％であり得る。

第１の微細構造化表面は、少なくとも１０、９、８、７、６、又は５％の透明度を有することができる。しかし、第２の微細構造化表面は、少なくとも１５、２０、２５、３０、３５、４０、又は４５％の透明度を有することができる。

第１の微細構造化表面に配設されたコーティングを含む微細構造化拡散体は、様々な光学フィルムで利用できる。

いくつかの実施形態では、微細構造化拡散体は更に、図１２で示すように、第１及び第２の微細構造化表面層に対向する主表面上のプリズム構造を含む。すなわち、（例えば第１の）微細構造化表面は、基材とプリズム層との間に埋め込まれない。しかし、別の実施形態では、第１の微細構造化表面に配設されたコーティングを含む微細構造化拡散体は、基材とプリズム層との間に埋め込まれることが可能であり、これは国際特許第ＷＯ２０１３／１５８４７５号に記載されており、この開示は参照により本明細書に組み込まれる。

微細構造（例えば拡散体）層の微細構造は、主に光学利得を提供するように設計された光学フィルムの（例えばプリズム）構造とは、異なる。一態様では、微細構造（例えば拡散体）層の微細構造は、ランダムに見える不規則なパターン、又は擬似ランダムパターンを形成する。それに対し、光学フィルムの（例えばプリズム）構造は一般に、表面上規則的なパターンを有する。別の態様において、微細構造（例えば拡散体）層の微細構造は通常、光学フィルムの（例えばプリズム）構造より小さい。例えば、微細構造（例えば拡散体）層の微細構造は通常、８マイクロメートル以下の山〜谷の平均高さを有するが、（例えばプリズム）構造は通常、８、９、又は１０マイクロメートル超の山〜谷の平均高さを有する。別の態様においては、光学フィルムの（例えばプリズム）構造は、実質的に同じ傾き（例えば約９０度の頂角）を有するが、微細構造（例えば拡散体）層は、前述したように傾きの異なる大きさを有する微細構造を有する。多くの実施形態において、微細構造化拡散体の微細構造の少なくとも９０％は、２０又は１５度未満の傾きの大きさを有する。

図１２は、入射光線を所望の方向に方向転換するための、光方向転換フィルム１００の概略側面図である。光方向転換フィルム１００は、ｙ方向に沿って延在する複数の微細構造１５０を含む、第１の主表面１１０を含む。微細構造１５０がプリズムであるとき、前記微細構造層はプリズム層と言われることができる。光方向転換フィルム１００は、第１の主表面１１０と反対側の第２の主要面１２０も含み、及び、第１の微細構造層６０と、第１の微細構造化表面に配設されたコーティングとを含み、前記コーティングが谷を部分的に満たして、第２の微細構造化表面１２２を形成する。

また、光方向転換フィルム１００は、対応する第１の主表面１１０と第２の主表面１２０との間に配設され、第１の主表面１７２と、反対側にある第２の主表面１７４と、を含む基材層１７０を含む。また、光方向転換フィルム１００は、基材層の第１の主表面１７２に配設され、光方向転換フィルムの第１の主表面１１０を含むプリズム層１３０と、基材層の第２の主表面１７４に配設され、光方向転換フィルムの第２の主表面１７４を含むマット層１４０と、を含む。マット層は、主表面１２０の反対側にある主表面１４２を有する。

例示の光方向転換フィルム１００は、３つの層１３０、１７０、及び１４０を含む。一般に、光方向転換フィルムは１つ以上の層を有してよい。例えば、場合によっては、光方向転換フィルムは、対応する第１の主表面１１０と、第２の主表面１２０と、を含む単一層を有してよい。別の例としては、場合によっては、光方向転換フィルムは多数の層を有してよい。例えば、かかる場合、基材１７０は多数の層を有してよい。

微細構造１５０は、主として光方向転換フィルムの主表面１２０への入射光線を、正のｚ方向に沿うなど所望の方向に沿って方向転換するように設計されている。例示の光方向転換フィルム１００では、微小構造１５０はプリズム線状構造である。一般に、微小構造１５０は、例えば、入射光線の一部を屈折させ、入射光線の別の一部を再利用することによって光を方向転換できる任意の種類の微小構造であってよい。例えば、微小構造１５０の断面形状は、湾曲部及び／若しくは部分的線状部である、又はこれらを含んでよい。例えば、場合によっては、微細構造１５０は、ｙ方向に沿って延在する、線状円柱レンズであってよい。

各線状プリズム微細構造１５０は、頂角１５２と、例えば主平面１７２などの共通基準面から測定された高さ１５４と、を含む。光結合若しくはウェットアウトを低減させること、及び／又は光方向転換フィルムの耐久性を向上させることが望ましいなど、場合によっては、プリズム微細構造１５０の高さは、ｙ方向に沿って変化してよい。例えば、プリズム線状微細構造１５１のプリズム高さは、ｙ方向に沿って変化する。かかる場合、プリズム微細構造１５１は、ｙ方向に沿って変化する局所的高さと、最大高さ１５５と、平均高さと、を有する。場合によっては、線状微細構造１５３などプリズム線状微細構造は、ｙ方向に沿って一定高さを有する。かかる場合、微細構造は、最大高さ及び平均高さと等しい、一定の局所的高さを有する。

実効透過率（ＥＴ）は、図２に示す光学系を使用して測定することができ、参照により本明細書に組み込まれる国際特許第ＷＯ２０１０／１４１２６２号に記載される。

光結合又はウェットアウトを低減させることが望ましいなど場合によっては、一部の線状微細構造は低く、一部の線状微細構造は高い。例えば、線状微細構造１５３の高さ１５６は、線状微細構造１５７の高さ１５８よりも小さい。

頂角、つまり二面角１５２は、用途において望ましい可能性がある任意の値を有することができる。例えば、場合によっては、頂角１５２は、約７０度〜約１１０度、又は約８０度〜約１００度、又は約８５度〜約９５度の範囲であってよい。場合によっては、微細構造１５０は等しい頂角を有してよく、これは、例えば、約８８度又は８９度〜９０度など約９２度又は９１度の範囲であってよい。

プリズム層１３０は、特定の用途において望ましい任意の屈折率を有し得る。例えば場合によっては、プリズム層の屈折率は、約１．４〜約１．８、又は約１．５〜約１．８、又は約１．５〜約１．７の範囲である。場合によっては、プリズム層の屈折率は、約１．５以上、又は約１．５５以上、又は約１．６以上、又は約１．６５以上、又は約１．７以上である。

光方向転換フィルム１００が液晶ディスプレイシステムで用いられるなど場合によっては、光方向転換フィルム１００は、ディスプレイの輝度を増大させる、つまり向上させることができる。こうした場合では、光方向転換フィルムは、１よりも大きな実効透過率又は相対利得を有する。本明細書で使用する場合、実効透過率とは、フィルムが所定位置にないディスプレイの輝度に対する、フィルムがディスプレイシステムの定位置に配されたディスプレイシステムの輝度の比のことである。

光方向転換フィルム１００が、輝度を増大させるためにディスプレイシステムで用いられ、線状プリズムが約１．６を超える屈折率を有するなど場合によっては、光方向転換フィルムの平均実効透過率（ＥＴＡ）は、約１．５以上、又は約１．５５以上、又は約１．６以上、又は約１．６５以上、又は約１．７以上、又は約１．７５以上、又は約１．８以上、又は約１．８５以上である。

他の場合では、２つの光方向転換フィルムの積層体が輝度を増加させるためにディスプレイシステムで用いられるとき（例えば図１４に示される）など、平均実効透過率（ＥＴＡ）は少なくとも１．９、２．０、又は２．１であり得、２．４、２．５、又は２．６まで変動できる。

第２の微細構造化表面１２２は、主として、光方向転換フィルムによる光の方向転換機能及び輝度向上機能に悪影響を及ぼさない、又はほとんど及ぼさずに、望ましくない物理的欠陥（例えば、キズなど）及び／又は光学的欠陥（例えば、ディスプレイ若しくは照明システムのランプによる、望ましくない輝点、つまり「ホット」スポット、又は、しばしばモアレと呼ばれるパターンの特別な干渉）を隠蔽することを目的として設計される。

本明細書に記載されるように、微細構造化拡散体を含む光学フィルムは、種々の光学フィルム積層体で利用できる。いくつかの実施形態では、光学フィルム積層体は、利得及び非プリズム微細構造化拡散体を増加させるように設計された、単一の光配向（例えばプリズム）フィルムを含む。他の実施態様において、光学積層体は、利得を増加させるように設計された、少なくとも２つの光配向（例えばプリズム）フィルムを含む。プリズムフィルムは通常、第１のプリズムフィルムの頂点が第２のプリズムフィルムの頂点と直交するように、積み重ねられる。一実施形態において、光学フィルム又は光学フィルム積層体は、光学不活性結合部分を含み、これは例えば、国際特許第ＷＯ２０１１／１３０１５５号、同第ＷＯ２０１１／１３０１４４号、同第ＷＯ２０１１／１３０１５１号、及び同第ＷＯ２０１３／１３８４９５に記載されている。

光学不活性結合部分を含む１つの例示の光学フィルムが、図１３に示される。光配向フィルム４４００は、第１の複数の線状対称な一体型個別構造４４２０と、第２の複数の線状対称な個別構造４４６０とを含む。構造４４２０及び４４６０をｙ方向に沿って延在させ、基材４４１０上に配設した。基材４４１０は、厚さ約２９マイクロメートル及び屈折率約１．６５のＰＥＴで作製した。硬化済み構造４４２０及び４４６０の屈折率は、約１．５６であった。各一体型個別構造に、主に光配向フィルムを表面に結合するように設計される結合部分４４３０を備え、主に光を方向付け、再利用するように設計される光配向部分４４４０上に配設した。個別構造４４６０は任意の結合部分を含まず、主に光を方向付け、再利用するように設計された。一体型個別構造４４２０を個別構造４４６０と交互に配設した。

各結合部分４４３０は、ｘｙ平面（光配向フィルムの平面）と、約８０〜８５度である角度ω_１をなした２つの対向する側部小平面４４３２を含む。各結合部分は、最小基部寸法ｔ２が約１．５（±０．５）マイクロメートルで、最大高さｔ１が約４（±０．５）マイクロメートルの基部４４３４を有した。各結合部分は、最小上面寸法ｔ３が約０．２（±０．２）マイクロメートルの湾曲した又は丸形の上面も備えた。各光配向部分４４２０は、ｘｙ平面（光配向フィルムの平面）と約４５度の角度ω２をなした２つの対向する側部小面４４４２を備えた。各光配向部分は、最小基部寸法ｔ５が約２４マイクロメートルで、最大高さｔ４が約１２マイクロメートルの基部４４４４を有した。一体型個別構造４４２０の結合部分４４３０の頂部と、個別構造４４６０の頂部との間のｚ軸オフセット高さの差は、２．６マイクロメートルであった。光配向フィルム４４００の平均実効透過率ＥＴＡは、約１．６３であった。

光学不活性結合部分を含む他の適切な例示の光学フィルムは、国際特許第ＷＯ２０１２／１３８４９５号に記載されており、この開示は参照により本明細書に組み込まれる。

図１３の光学フィルムは、図１４に示すように光学フィルム積層体に含まれることができ、図１４は、光配向フィルム（例えばプリズム）２０１０上に任意追加的に配設される、本明細書に記載される第１及び第２の微細構造化表面２０９０を含む光学フィルムを含有する光学積層体２０００の概略側面図である。光配向フィルム２０１０は、第１の構造主表面２０２０と、対向する第２の主表面２０２５とを含む。第１の構造主表面２０２０は、基材２００５上に配設される複数の一体型個別構造２０３０を含む。少なくとも一部の一体型個別構造はそれぞれ、主に光を方向付けするための光配向部分２０４０と、主に光配向フィルムを光学フィルム２０９０に結合するための結合部分２０５０とを備える。代表的な光学積層体２０００の場合などのいくつかの場合において、光配向フィルム２０１０少なくとも一部の結合部分２０５０の少なくとも一部分が、光学フィルム２０９０に貫入し、光配向フィルム２０１０の少なくとも一部の光配向部分２０４０の少なくとも一部分は、光学フィルム２０９０に貫入しない。そのような場合、光学積層体２０００は、光配向フィルム２０１０と光学フィルム２０９０との間に複数の未充填空隙２０１５を含み、ここで未充填空隙は、空気及び／又はガスを含んでよい。場合によっては、複数の未充填空隙２０１５のうち少なくとも一部はそれぞれ、光学フィルム２０９０、及び２つ以上の隣接する一体型個別構造２０３０の部分によって画定される領域（一体型個別構造２０３０は光学フィルムに貫入せず、この領域を直接取り巻く）を実質的に占める。例えば、そのような場合、未充填空隙は、光学フィルム２０９０、及び光学フィルムに貫入しない２つ以上の隣接する一体型個別構造２０３０の部分によって画定される領域の少なくとも５０％、又は少なくとも６０％、又は少なくとも７０％、又は少なくとも８０％、又は少なくとも９０％を占める。例えば、線状一体型個別構造２０３０の場合、未充填空隙２０１５は、光学フィルム２０９０の上面、線状一体型個別構造２０３０Ａの、光学フィルムに貫入していない右側部分２０２１、線状一体型個別構造２０３０Ｂの、光学フィルムに貫入していない左側部分２０２２によって画定される領域を実質的に占める。

光学フィルム２０９０は、任意追加的に（例えばプリズム）光学層２０７０を更に含む光透過性基材、任意追加的に光透過性基材２０７０に配設されるプライマー層２０７５、及び任意追加的のプライマー層２０７５に配設されたコーティング（例えば光学接着剤）層２０６０を含む。プライマー層が存在しないとき、コーティング２０６０は、直接光学フィルム２０９０の第１の微細構造化表面２０７６に配設される。光配向フィルム２０１０の結合部分２０５０の、光学フィルムに貫入する一部は、コーティング（例えば光学接着剤）層に貫入する。コーティング（例えば光学接着剤）層２０６０は、大気環境又は光配向部分２０４０の周囲環境を実質的に維持しながら、光配向フィルム２０１０を光学層２０７０又は光学層２０７０の主表面２０７１に付着又は結合する。場合によっては、結合部分２０５０が高いアスペクト比を有し、光学フィルム２０９０と光配向フィルム２０１０との間に強い結合をもたらすことができる。

光学接着剤層に貫入する結合部分２０５０は、平均最大高さｈ_{２，ａｖｇ}を有するが、これは、光学接着剤層に貫入した個々の結合部分の最大高さｈ_２の平均である。場合によっては、ｈ_{２，ａｖｇ}は、光学接着剤層２０６０の平均厚さｈ_３よりも大きい。例えば、そのような場合、ｈ_{２，ａｖｇ}は、ｈ_３よりも少なくとも０．２マイクロメートル、又は少なくとも０．３マイクロメートル、又は少なくとも０．４マイクロメートル、又は少なくとも０．５マイクロメートル、又は少なくとも０．７マイクロメートル、又は少なくとも１マイクロメートル、又は少なくとも１．２マイクロメートル、又は少なくとも１．５マイクロメートル、又は少なくとも１．７マイクロメートル、又は少なくとも２マイクロメートル大きい。

個々の結合部分の平均高さがコーティング（例えば光学接着剤）層の平均厚さｈ_３よりも大きいとき、結合部分の高さによって、構造体の光学活性部分と接着剤層との間に物理的隔離部が生じ得る。この隔離部又は空気界面は維持される又は実質的に不変であるが、ただし、積層体の通常使用間に接着剤組成物が流動しない、又は「クリープ変形」しないことを条件とする。このような使用は、高温における、所望により高湿と組み合わせる経年変化試験の利用によってシミュレーションできる。

あるいは、個々の結合部分の平均高さがコーティング（光学接着剤）層の平均厚さｈ_３より小さいとき、貫入深さ、及び積層体の通常使用間にかかる貫入率を維持することによって、構造体の光学活性分と接着剤層との間に隔離部を設ける。

一実施形態において、コーティング（例えば光学接着剤）層は、約３〜６マイクロメートルの平均厚さｈ_３を有し、結合部分は、約４マイクロメートルの平均最大高さｈ_{２，ａｖｇ}を有する。

一般に、光学フィルム基材２０７０は任意の光学層を含み、及び、ある用途に所望され得る任意の機能を提供し得る。例えば、場合によっては、基材は、主に他の層の支持体を提供してよい。別の例として、開示される基材は、例えば、反射偏光子若しくは吸収偏光子を備えて偏光する、光学拡散体を備えて光を拡散する、光配向フィルムを備えて光を方向付ける、又は向きを変えることができる。

第１の微細構造化表面層は通常、重合性樹脂の反応生成物などのポリマー材料を含む。様々なフリーラジカル重合性（例えば（メタ）アクリレート）モノマー、オリゴマー、ポリマー、及びこれらの混合物を、第１の微細構造化表面層の有機材料中に用いることができる。いくつかの実施形態では、重合性樹脂は更に、無機酸化物ナノ粒子を含む。

第１の微細構造層の重合性組成物は通常、２つの（メタ）アクリレート基（すなわち、ジ（メタ）アクリレートモノマー）を有する、少なくとも１つの芳香族（メタ）アクリレートモノマーを含む。芳香族ジ（メタ）アクリレートモノマーの量は通常、少なくとも５重量％であり、及び８０重量％以下である。重合性樹脂が無機酸化物ナノ粒子を含まないとき、芳香族ジ（メタ）アクリレートモノマーの量は通常、少なくとも１０、１５、２０、又は２５重量％以上である。重合性樹脂が更に無機酸化物ナノ粒子を含むとき、芳香族ジ（メタ）アクリレートモノマーの量は、２５重量％を超えない。

いくつかの実施形態では、ジ（メタ）アクリレートモノマーは、ビスフェノールＡから誘導される。１つの代表的なビスフェノールＡエトキシル化ジアクリレートモノマーは、Ｓａｒｔｏｍｅｒより、商標名「ＳＲ６０２」（２０℃で６１０ｃｐｓの粘度、及び２℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有すると報告されている）で市販されている。別の代表的なビスフェノールＡエトキシル化ジアクリレートモノマーは、Ｓａｒｔｏｍｅｒから商標名「ＳＲ６０１」（２０℃において、粘度１０８０ｃｐｓ、及びＴｇ６０℃を有すると報告されている）にて市販されている。米国特許第７，２８２，２７２号に記載されているものなど、様々な他のビスフェノールＡモノマーが当技術分野にて記載されている。

他の実施態様において、重合性組成物は、ビスフェノールＡから誘導されるモノマーを含まない。１つの好適な二官能性芳香族（メタ）アクリレートモノマーは、ビフェニルジ（メタ）アクリレートモノマーであり、これは米国特許第２００８／０２２１２９１号に記載されていて、この開示は参照により本明細書に組み込まれる。ビフェニルジ（メタ）アクリレートモノマーは、以下の一般式を有し得る。

式中、各Ｒ１は独立してＨ又はメチルであり、
各Ｒ２は独立してＢｒであり、
ｍは、０〜４の範囲であり、
各Ｑは独立してＯ又はＳであり、
ｎは０〜１０の範囲であり、
Ｌは、１つ以上のヒドロキシル基で任意追加的に置換されたＣ２〜Ｃ１２のアルキレン基であり、
ｚは、芳香環であり、及び、
ｔは独立して０又は１である。

−Ｑ［Ｌ−Ｏ］ｎＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ１）＝ＣＨ_２基の少なくとも一方、好ましくは両方は、モノマーが２５℃で液体であるように、オルト又はメタ位で置換されている。

いくつかの実施形態において、二官能性芳香族（メタ）アクリレートモノマーは、４５０ｇ／モル未満の分子量を有し、かつ少なくとも１．５０、１．５１、１．５２、１．５３、１．５４、１．５５、１．５６、１．５７、又は１．５８の屈折率を有する芳香族モノ（メタ）アクリレートモノマーと組み合わされる。前記反応性希釈剤は通常、フェニル、ビフェニル、又はナフチル基を含む。更に、このような反応性希釈剤は、ハロゲン化されてもよく、又は非ハロゲン化（例えば非臭素化）されてもよい。反応性希釈剤の含有により、有機成分の屈折率の上昇、及び粘度の低減による重合性組成物の加工性の改善が、同時に可能になる。

芳香族モノ（メタ）アクリレート反応性希釈剤の濃度は通常、少なくとも５、６、７、８、９、又は１０重量％である。いくつかの実施形態では、芳香族モノ（メタ）アクリレート反応性希釈剤の濃度は、重合性樹脂組成物の５０、４０、又は３０重量％以下である。

好適な反応希釈剤としては、国際特許ＷＯ２００８／１１２４５１号に記載のとおり、例えば、種々のビフェニル（メタ）アクリレートモノマーが含まれ、該開示は参照により本明細書に組み込まれる。他の好適な反応性希釈剤としては、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ−２−メチルエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニルチオエチルアクリレート、２−ナフチルチオエチルアクリレート、１−ナフチルチオエチルアクリレート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチルアクリレート、２，４−ジブロモフェノキシエチルアクリレート、２−ブロモフェノキシエチルアクリレート、１−ナフチルオキシエチルアクリレート、２−ナフチルオキシエチルアクリレート、フェノキシ−２−メチルエチルアクリレート、フェノキシエトキシエチルアクリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２，４−ジブロモ−６−ｓｅｃ−ブチルフェニルアクリレート、２，４−ジブロモ−６−イソプロピルフェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、フェニルアクリレート、２，４，６−トリブロモフェニルアクリレートが挙げられる。ペンタブロモベンジルアクリレート及びペンタブロモフェニルアクリレートなどの、他の高屈折率モノマーもまた用いることができる。

第１の微細構造層は、通常低屈折率（例えば１．５０未満）を有するシリカなど、無機ナノ粒子を任意追加的に含むことができる。シリカは、ＮａｌｃｏＣｈｅｍｉｃａｌＣｏ（Ｎａｐｅｒｖｉｌｌｅ、Ｉｌｌ）から、製品１０４０、１０４２、１０５０、１０６０、２３２７及び２３２９など商品名「ＮａｌｃｏＣｏｌｌｏｉｄａｌＳｉｌｉｃａｓ」で市販されている。ヒュームドシリカも、市販品として入手可能である。

第１の微細構造層、単独で又は組み合わせて、ジルコニア（「ＺｒＯ_２」）、チタニア（「ＴｉＯ_２」）、酸化アンチモン、アルミナ、酸化スズなどの各種の高屈折率粒子を任意追加的に含むことができる。混合金属酸化物を用いてもよい。高屈折率層中で使用するジルコニアは、「ＮａｌｃｏＯＯＳＳＯＯ８」の商標名でＮａｌｃｏＣｈｅｍｉｃａｌＣｏ．から、及び「ＢｕｈｌｅｒｚｉｒｃｏｎｉａＺ−ＷＯｓｏｌ」の商標名でＢｕｈｌｅｒＡＧＵｚｗｉｌ，Ｓｗｉｔｚｅｒｌａｎｄから、入手可能である。ジルコニアナノ粒子はまた、米国特許第７，２４１，４３７号及び同第６，３７６，５９０号に記載されているように調製されてもよい。マット層の最大屈折率は、架橋有機材料中に分散された高屈折率無機（例えば、ジルコニア）ナノ粒子を有するコーティングについては、通常約１．７５以下である。

第１の微細構造化表面層の（例えば、ジルコニア）無機ナノ粒子の濃度は通常、少なくとも２５重量％又は３０重量％である。（例えば、ジルコニア）無機ナノ粒子の濃度は通常、少なくとも４０重量％、及び約７０、６０、又は５０重量％以下である。

無機ナノ粒子は、好ましくは表面処理剤で処理される。様々な表面処理が知られており、そのいくつかは、米国特許第２００７／０２８６９９４号に記載されている。

シリカに対してはシランが好ましく、シリカ系充填剤に対しては他のものが好ましい。ジルコニアなどの金属酸化物に対しては、シラン及びカルボン酸が好ましい。高屈折率（例えば、ジルコニア）ナノ粒子は、参照により本明細書に組み込まれる国際出願第ＷＯ２０１０／０７４８６２号に記載されているように、カルボン酸末端基及びＣ_３〜Ｃ_８エステル繰り返し単位又は少なくとも１つのＣ_６〜Ｃ_１６エステル単位を含む化合物を含有する表面処理剤で表面処理されてもよい。

注型成形及び硬化によって光配向（例えばプリズム）構造を作製するために記載される様々な重合性樹脂は、第１の微細構造層の作製に適している。いくつかの好適な重合性樹脂組成物は、米国特許第２００９／００１７２５６号及び米国特許第８，２６３，８６３号に記載されており、この開示は参照により本明細書に組み込まれる。

いくつかの実施形態では、第１の微細構造層の重合性樹脂の屈折率は、それが光透過性基材と適合する屈折率であるように選択される。このような実施形態において、第１の微細構造層の重合性樹脂と光透過性基材との間の屈折率の差は、０．０５、０．０４、０．０３、０．０２、又は０．０１以下である。他の実施態様において、第１の微細構造層の重合性樹脂と光透過性基材との間の屈折率の差は、少なくとも０．１０、０．１５、又は０．２０である。

いくつかの実施形態において、第１の微細構造層は、少なくとも１．６０以上の高屈折率を有する。いくつかの実施形態において、屈折率は、少なくとも１．６２又は少なくとも１．６３又は少なくとも１．６４又は少なくとも１．６５である。他の実施形態において、第１の微細構造層は、１．６０未満の屈折率を有する。例えば、微細構造層は、約１．４０〜約１．６０の範囲の屈折率を有し得る。いくつかの実施形態において、微細構造層の屈折率は、少なくとも約１．４９、１．５０、１．５１、１．５２、１．５３、又は１．５４である。

本明細書に記載されるように微細構造物品の製造方法は一般に、第１の微細構造化表面を含む基材を提供することであり、第１の微細構造化表面は複数の山及び谷を含む。第１の微細構造化表面は好ましくは、上述したように、工具表面と接触する重合性樹脂組成物を注型成形して硬化させることによって、作製される。前記方法は、第１の微細構造化表面をコーティングすることを更に含み、それによってコーティングが谷を部分的に満たして、第２の微細構造化表面を形成する。

無低粘度溶媒コーティングが、第１の微細構造化表面をコーティングするためも用いられることができるが、通常の実施形態において、コーティング組成物は有機溶媒を含む、希釈コーティング溶液である。いくつかの実施形態では、コーティング組成物は、少なくとも５０、６０、７０、８０、又は９０重量％以上の揮発性有機溶媒を含む。代表的な溶媒として、アセトン、メチル−エチル−ケトン、エチルアセテート、ヘプタン、トルエン、シクロペンタノン、メチルセロソルブアセテート、塩化メチレン、ニトロメタン、ギ酸メチル、γ−ブチロラクトン、プロピレンカーボネート、及び１，２−ジメトキシエタン（グリム）が挙げられる。

希薄溶液としてコーティングを提供することにより、空洞又は気泡を形成することなく、第１の微細構造化表面の谷を満たしやすくなる。通常の工程では、乾燥によって溶媒が除去され、薄く乾燥して及び好ましくは硬化したコーティングが得られる。溶媒の蒸発により、塗布されたコーティング厚さを下回る、乾燥コーティング厚さが生じる。例えば、コーティング組成物が９０重量％の揮発性溶剤を含んで、３マイクロメートルの厚さで塗布されるとき、乾燥コーティングは約０．３マイクロメートルの平均厚さを有する。すなわち上述したように、希薄コーティング溶液としてコーティングを提供することにより、薄い乾燥平均コーティング厚さを提供しやすくなる。

コーティングは、グラビアコーティング、カーテンコーティング、スロットコーティング、スピンコーティング、スクリーンコーティング、ブラシコーティング又はローラーコーティングなどを含む、任意の従来の適用方法によって適用されてよいが、これらに限定されない。

溶媒は通常、熱を使用して蒸発する。例えば、コーティングされた第１の微細構造化表面は、約１３０〜１６０°Ｆの範囲の温度を有するオーブンを通って運搬されることができる。熱可塑性ポリマー及び他の重合性成分は通常、温度上昇でより低い粘度を示す。したがってコーティングが高温で乾燥されるとき、熱可塑性ポリマー又は他の重合性成分は直ちに流れて、山から降りて、これにより谷のコーティング厚さが増加する。このように、コーティングは第１の微細構造化表面全体に適用されることができるものの、乾燥コーティングは通常、谷より山で薄い厚さを有する。

いくつかの実施形態では、コーティングは（例えば希釈）重合性樹脂組成物であり、それは、第１の微細構造層の提供に用いるのに好適な、上述の重合性樹脂組成物などである。

他の実施形態において、コーティングは、（例えば光学）接着剤である。種々の（例えば希釈）光学接着剤は、当該技術分野において周知のように、コーティングとしての用途に適している。（例えば、米国特許２００６／００２７３２１号及び２０１３年３月１３日出願の米国特許出願第６１／７７８，６７９号参照）。

コーティングは、予備形成された熱可塑性ポリマーを含むことができる。例えばコーティングは、ポリアクリレート、あるいはアクリルポリマーとして知られる、を含むことができる。熱可塑性ポリマーは、重合性モノマー、有機溶剤又はこれらの組み合わせに溶解されることができる。コーティングが重合性モノマーを含むとき、コーティングは通常、硬化する。コーティングの硬化は、第１の微細構造化表面上に形成される第２の微細構造化表面を保持するために、有益であり得る。いくつかの実施形態では、コーティングは、（例えば紫外）線へ暴露することで硬化する、フリーラジカル重合性（例えば（メタ）アクリレート）モノマー、オリゴマー、ポリマー、及びこれらの混合物を含む。他の実施形態において、コーティングは、（例えばコーティングから溶媒を蒸発させると共に）カチオン硬化したエポキシ樹脂を含む。

光学積層体が形成される実施形態の場合、前記方法は、硬化前に別の光学フィルムの表面に（例えば乾燥）コーティングを接触させることを更に含むことができる。いくつかの実施形態では、プリズム構造又はプリズムの頂点から伸びている支柱は、コーティングを部分的に貫通できる。

一実施形態において、第１の微細構造化表面に配設されたコーティングは、ポリアクリレートと、官能基及び官能基当たり１５０ｇ／モル未満の分子量を有する重合性モノマーとの反応生成物を含む。重合性モノマーは、上述の国際特許第ＷＯ２０１２／１３８４９５号に記載されるように、フリーラジカル重合性（メタ）アクリレートモノマー又はエポキシ樹脂でもよい。

いくつかの実施形態では、コーティングは、同じ組成物の単一層である。他の実施態様において、コーティングは、複数の層（例えば異なる組成物）を含む。例えば、コーティングは、プライマー層及び（例えば光学）接着剤層を含むことができる。プライマー層は、第１の微細構造化表面層と（例えば光学接着剤）コーティングとの間に配設されることができ、これは２０１３年１０月２日出願の米国特許仮出願第６１／８８５７６０号に記載されており、これは参照により本明細書に組み込まれる。プライマーは、ポリアクリレート（例えば感圧性接着剤）を含むことができる。いくつかの実施形態では、プライマー層は、窒素含有ポリマーを更に含む。

いくつかの実施形態では、硬化させたコーティングは、（実施例に更に記載されているように）動的機械分析を用いて、特徴付けられることが可能である。硬化済み接着剤の弾性率は通常、少なくとも１００ＭＰａである。いくつかの実施形態では、弾性率は、少なくとも２００ＭＰａ、又は３００ＭＰａ、又は４００ＭＰａ、又は５００ＭＰａである。弾性率は通常、２０００ＭＰａ以下である。第２の微細構造化表面の光学及び物理的特性が実質的に老化によって変化しないように、２５℃の弾性率（Ｅ’）は、少なくともある程度は、充填された谷で保持されるコーティングに関して推定される。弾性率は、少なくともある程度は、経年変化による光学積層体の、保持した輝度及び／又は貫入に関連して推測される。

いくつかの実施形態では、コーティングの屈折率は、光透過性基材と適合する屈折率であるように選択される、第１の微細構造層と適合する屈折率であり得る。このような実施形態において、第１の微細構造層（例えば、その重合性樹脂）とコーティングとの間の屈折率の差は、０．０５、０．０４、０．０３、０．０２、又は０．０１以下である。

微細構造化表面の特性
ｘ及びｙ位置の関数として表面の高さを与える表面プロファイルデータは、５０倍対物レンズを備えた共焦点スキャンレーザ顕微鏡（ＣＳＬＭ）によって得られた。フィルムの代表的な領域（例えば約５００×５００マイクロメートル）が、画像分析のために使われた。

傾き分析
表面プロファイルデータは、表面の高さをｘ及びｙ位置の関数として与える。このデータは、関数Ｈ（ｘ、ｙ）として表される。画像のｘ方向は、画像の水平方向である。画像のｙ方向は、画像の垂直方向である。

ＭＡＴＬＡＢを使用して、以下を計算した。
１．勾配ベクトル

２．勾配ベクトルの傾きの大きさ（度）

３．ｘ勾配（度）

４．ｙ勾配（度）

５．Ｆ_ＣＣ（θ）−傾き分布の補足的累積分布

Ｆ_ＣＣ（θ）は累積傾き分布の補集合であり、指定された角度よりも大きい傾き比を与える。Ｎ_Ｇ（ｑ）は、ｑ番目のアングルビンの画素数であり、各アングルビンは、０．０１°の大きさを有する。（このように、第１のアングルビンは、０°より大きく０．０１°までの傾きを有する画素数の割合であり、第２のアングルビンは、０．０１°より大きく０．０２°までの傾きを有する画素数の割合であるなど）。ｘ勾配及びｙ勾配に関する累積傾き分布の補集合は、同様に定められる。

画像処理ツールボックスを有するＭＡＴＬＡＢを使用して、高さプロファイルを解析し、表面の傾きを計算した。以下の順序により、使用したＭＡＴＬＡＢコードの工程の概略を提供する。

１．画素数＞＝１００１^＊１００１の場合、画素数を減少させる
−ｎｓｋｉｐ＝ｆｉｘ（ｎａ^＊ｎｂ／１００１／１００１）＋１を計算する。
ここで、元の画像のサイズはｎａＸｎｂ画素である。
−ｎｓｋｉｐ＞１の場合、（２^＊ｆｉｘ（ｎｓｋｉｐ／２）＋１）×（２^＊ｆｉｘ（ｎｓｋｉｐ／２）＋１）メジアン平均を実行する
■ｆｉｘは、端数を切り捨てて一番近似の整数とする関数である。
−全部のｎｓｋｉｐ画素を各方向に保つ新しい画像を形成する（例えば、ｎｓｋｉｐ＝３の場合、行及び列１、４、８、１１．．．を保つ）
２．ｒ＝ｒｏｕｎｄ（Δｘ／ｐｉｘ）
−Δｘは、傾きの計算で使用する刻み幅である。
−ｐｉｘは画素サイズである。
−ｒは、画素の最も近い整数に四捨五入されたΔｘである。
３．Δｘ（及びΔｙ）は、傾きの全計算において０．８２５である。
４．ウィンドサイズ（２^＊ｒｏｕｎｄ（ｆ_ＭＸ ^＊ｒ）＋１）を画素（２^＊ｒｏｕｎｄ（ｆ_ＭＹ ^＊ｒ）＋１）で割って、メジアン平均を出す。ｆ_ＭＸ及びｆ_ＭＹ両方とも、本計算では０．５だった。
５．傾きを除去する。
−プロファイル全域にて、全方向における平均傾きを効果的にゼロに等しくする。
６．前述したように傾きプロファイルを計算する。

粗さの評価基準
Ｒａ−測定されたアレイ全体にわたって計算された平均粗さ。

式中、Ｚ_ｊｋ＝各画素の測定された高さとアレイの平均高さの差である。

Ｒｚは、評価範囲内の１０つの最大の山〜谷距離の平均最大表面高さである。

式中、Ｈは山高さであり、Ｌは谷高さであり、Ｈ及びＬは、共通の基準面を有する。

補集合的累積傾き大きさ分布に関して報告されたそれぞれの値、山寸法、及び粗さは、２つの範囲の平均に基づいていた。

ヘイズ及び透明度の測定：
本明細書に開示されるヘイズ及び透明度は、ＡＳＴＭＤ１００３に述べられる方法に従って、Ｈａｚｅ−ＧａｒｄＰｌｕｓヘイズメータ（ＢＹＫ−Ｇａｒｄｉｎｅｒ（ＳｉｌｖｅｒＳｐｒｉｎｇｓ，Ｍｄ．））を使用して測定した。本明細書で使用する場合、光学ヘイズとは、垂直方向から４°よりも大きく逸れた透過光の、全透過光に対する比として定義される。光学的透明度は、Ｔ_１が法線方向から０〜０．７度外れた透過光であり、Ｔ_２が法線方向から１．６〜２度の間にある透過光であるときの、（Ｔ_１−Ｔ_２）／（Ｔ_１＋Ｔ_２）と定義される。すべての場合において、コーティング面又は微細構造化表面を光源に向けた状態で、光学フィルムを測定した。

光学利得の測定：
各フィルム又はフィルム積層体を、拡散透過性の中空の光箱の上部に置いた。光箱の拡散透過及び拡散反射は、おおよそランベルト型であった。光箱は、約０．６ｍｍの厚さの拡散ＰＴＦＥ板から作製された、１２．５ｃｍ×１２．５ｃｍ×１１．５ｃｍの寸法の六面中空矩形立体であった。箱の１つの面をサンプル表面として指定した。中空光箱は、サンプル表面で測定し、４００〜７００ｎｍの波長範囲全体にわたり平均したとき、約０．８３％の拡散反射率を有した。利得試験中、箱の、サンプル表面の反対側の表面にある直径約１ｃｍの円孔を介して、サンプル表面に向けて方向付けた光で内部から箱を照射した。この照明は、光を方向付けるために用いられる光ファイバーバンドルに取り付けられている安定化広帯域白熱光源（ＳｃｈｏｔｔＮｏｒｔｈＡｍｅｒｉｃａ（ＳｏｕｔｈｂｒｉｄｇｅＭＡ）から、直径１ｃｍのファイバーバンドル延長部付きＦｏｓｔｅｃＤＣＲ−ＩＩＩとして入手可能）によって提供された。線状吸収偏光子（ＣＶＩＭｅｌｌｅｓＧｒｉｏｔ（ＡｌｂｕｑｕｅｒｑｕｅＮＭ）からＭｅｌｌｅｓＧｒｉｏｔ０３ＦＰＧ００７として入手可能）を、ロータリーステージ（Ａｅｒｏｔｅｃｈ，（Ｐｉｔｔｓｂｕｒｇｈ、ＰＡ）からＡＲＴ３１０−ＵＡ−Ｇ５４−ＢＭＳ−９ＤＵ−ＨＣとして入手可能）上に取り付け、サンプルとカメラとの間に置いた。カメラの焦点を、０．２８ｍの距離にある光箱のサンプル表面に合わせ、吸収偏光子をカメラレンズから約１．３ｃｍに配設した。偏光子を適所に置き、サンプルフィルムなしで測定した、照射された光箱の輝度は、１５０ｃｄ／ｍ^２超であった。サンプル輝度は、Ｖｉｓ−ＮＩＲ光ファイバケーブル（ＳｔｅｌｌａｒＮｅｔＩｎｃ（Ｔａｍｐａ、ＦＬ）製Ｆ１０００−Ｖｉｓ−ＮＩＲとして入手可能）を介して、コリメートレンズに接続しているＥＰＰ２０００分光計（ＳｔｅｌｌａｒＮｅｔＩｎｃ（Ｔａｍｐａ、ＦＬ）から入手可能）で測定されており、分光計は、サンプルフィルムがサンプル表面に配設されるとき、ボックスサンプル表面の平面への法線入射で配向される。コリメートレンズは、鏡筒（Ｔｈｏｒｌａｂｓ（Ｎｅｗｔｏｎ，ＮＪ）からＳＭ１Ｌ３０として入手可能）及び平凸レンズ（Ｔｈｏｒｌａｂｓ（Ｎｅｗｔｏｎ，ＮＪ）からＬＡ１１３１として入手可能）からなり、この構成を組み立てて、検出器において５ｍｍの焦点スポットサイズを得た。光学利得は、サンプルフィルムを適所に置いたときの輝度の、サンプルが存在しないときの光箱の輝度に対する比として測定した。すべてのフィルムについて、サンプルの向きに対して０、４５、及び９０度の偏光子角度で光学利得を測定した。０及び９０度で測定した平均光学利得値を報告する。

（実施例１〜６）
微細構造層は、０．０２９ｍｍ（１．１４ｍｉｌ）のＰＥＴフィルムの下塗りされた面に注型成形されて、硬化した。下塗りされた面のプライマー組成物は、アクリル系ポリマー結合剤（ＤｏｗＣｈｅｍｉｃａｌＣｏｍｐａｎｙ（Ｍｉｄｌａｎｄ、ＭＩ）から入手可能なＲｈｏｐｌｅｘ３２０８）、及び、メラミン系硬化樹脂（Ａｌｌｎｅｘ（Ａｎｄｅｒｌｅｃｈｔ、Ｂｅｌｇｉｕｍ）から入手可能なＣｙｍｅｌ３２７）を含んだ。メラミン硬化樹脂は通常、４５０ｇ／モルの数平均分子量（Ｍｎ）によって特徴付けられる。プライマー厚さは９０ｎｍであり、全体のプライマー固形分の３．５％のメラミンを含んだ。

２つの異なるＵＶ重合性アクリレート樹脂、１つは屈折率（ＲＩ）１．５６を有し（米国特許第２００９／００１７２５６号の樹脂Ｒ８）及びもう１つは屈折率１．６５有する（米国特許ＵＳ８，２８２，８６３号の実施例２）が、工具表面と接触して、注型成形されて硬化して、工具表面と反対の微細構造化表面を有する層を形成した。

２つの工具（工具Ｉ及び工具２）は、微細構造化表面を提供するために利用された。工具は、上述したように高速工具サーボ（ＦＴＳ）を利用する、ダイヤモンド旋削システムを使用して提供された。

各実施例において、粘着剤溶液は、毎分２６フィート（毎分７．９２メートル）のラインスピードで溶媒コータを使用して、微細構造化表面上にコーティングされた（３、４又は５マイクロメートルの（乾燥）コーティング厚さみが生じる）。接着剤は、二色性反射鏡を備えた１００％出力で作動するＵＶ−Ｄ球、及び６０°Ｆ（１５．６℃）で設定されるＵＶバックアップロールによって、硬化した。

硬化した接着剤は、以下の成分の反応生成物を含んだ。

接着剤コーティング溶液は、接着剤濃度１０固形分重量％の有機溶剤に分散された、記載される成分を含む。

「対照」の場合、接着剤は塗布されなかった。すなわち対照は、（例えば接着剤）コーティングの不在下での第１の微細構造化表面である。

微細構造化表面の共焦点スキャンレーザ顕微鏡画像は、上述のとおり作成された。工具１から作製した微細構造化表面が図８Ａ〜図８Ｄに示されており、工具２から作製した微細構造化表面が図９Ａ〜図９Ｄに示される。

所定角度より大きい傾きのパーセンテージを示す、累積表面勾配大きさの補集合（Ｆｃｃ）が、図１０及び１１に示される。表形式のこの同一データは、上述した表Ａ及びＢに報告される。１．５６ＲＩ樹脂から作製した第１の微細構造化表面層が、表面粗さ、平均高さ及びＦｃｃデータを生成するために用いられたが、硬化した樹脂が工具表面の正確な複製を提供することができる場合、Ｆｃｃは樹脂に関わらず、同一であると考えられている。

得られたフィルムのヘイズ及び透明度が、上述した表Ｉ及びＪに報告されているように測定された。

（実施例７〜１８）
第１のプリズムフィルム
同じ工具（すなわち工具１及び２）を用いて、微細構造化拡散体が、１．１４ｍｉｌ（０．０２９ｍｍ）ＰＥＴフィルムの下塗りされた面に、注型成形されて硬化され、該ＰＥＴフィルムの対向する主要表面は、米国特許第２００９／００４１５５３号に記載され方法に従って製造されたマスター工具を用いて、米国特許第５，１７５，０３０号及び同第５，１８３，５９７号に記載されている方法に従って、注型成型されて硬化したプリズム構造を有した。プリズム構造は、約２４マイクロメートルの隣接する頂点間の平均距離を備えた、プリズム面の斜面により定義される鋭い９０°頂角を有した。

第１及び第２のプリズムフィルムの積層体
第１のプリズムフィルムの微細構造化拡散体層は、上述したように接着剤でコーティングされており、第２のプリズムフィルム（国際特許第ＷＯ２０１２／１３８４９５号に記載のフィルムＤ）の光学不活性結合部分（例えばプリズム頂点から伸びている支柱構造）に結合された。プリズムフィルムは、第２のプリズムフィルムの頂点が第１のプリズムフィルムの頂点と直交するように、結合された。

すべての以下の実施例は、低反射モアレを有した。得られたフィルム積層体の実効透過率（ＥＴ）は、以下のとおりである。

工具３及び工具４は、１．５６のＲＩを有するＵＶ重合性アクリレート樹脂から微細構造化表面を提供するために、利用された。工具３は非対称の微細構造を有しており、上述したように高速工具サーボ（ＦＴＳ）を利用する、ダイヤモンド旋削システムを使用して提供された。工具４は対称の構造を有しており、２０１２年１１月２１出願の米国特許出願第６１／７２８，８６８号に従って提供された。

微細構造化表面の共焦点スキャンレーザ顕微鏡画像は、上述のように作成された。作製した微細構造化表面は、図１５Ａ及び図１６Ａに示される。

補集合的累積傾き大きさ分布（Ｆｃｃ）は、図１７に示される。表形式のこの同一データは、上述した表Ｃ及びＤに報告される。

工具３及び４は、実施例７〜１５と同様に「第１の」プリズムフィルム、並びに第１及び第２のプリズムフィルム積層体を提供するため使用された。実施例１６及び１７の平均実効透過率（ＥＴ）は、２．２４だった。本発明の実施態様の一部を以下の項目［１］−［４２］に記載する。
［項目１］
複数の山及び谷を有する、第１の微細構造化表面を含む光透過性フィルムと、
前記第１の微細構造化表面上に配設されたコーティングと、を含み、前記コーティングが前記谷を部分的に満たして、前記第１の微細構造化表面と実質的に異なる第２の微細構造化表面を形成する、微細構造化拡散体。
［項目２］
前記第１及び前記第２の微細構造化表面が、少なくとも１つの光学又は物理的特性によってそれぞれ特徴付けられて、及び、前記第１及び前記第２の微細構造化表面間の光学又は物理的特性の差が、少なくとも１０％の絶対値を有する、項目１に記載の微細構造化拡散体。
［項目３］
前記第１及び前記第２の微細構造化表面間の光学又は物理的特性の差が、少なくとも１５％又は２０％の絶対値を有する、項目２に記載の微細構造化拡散体。
［項目４］
前記第１及び前記第２の微細構造化表面のそれぞれが補集合的累積傾き大きさ分布を有し、前記第１及び前記第２の微細構造化表面間の２．１度超又は４．１度超の傾きの大きさの差が、少なくとも１０％である、項目１〜３のいずれか一項に記載の微細構造化拡散体。
［項目５］
前記第１及び前記第２の微細構造化表面間の２．１度超又は４．１度超の傾きの大きさの差が、少なくとも２０％、３０％、４０％、５０％、６０％、又は７０％である、項目４に記載の微細構造化拡散体。
［項目６］
前記差が４．１度超の傾きの大きさである、項目４又は５に記載の微細構造化拡散体。
［項目７］
前記第１及び前記第２の微細構造化表面のそれぞれがヘイズを有し、前記第１及び前記第２の微細構造化表面間のヘイズの差が、少なくとも１０％である、項目１〜６のいずれか一項に記載の微細構造化拡散体。
［項目８］
前記第１及び前記第２の微細構造化表面間のヘイズの差が、少なくとも２０％、３０％、４０％、５０％、６０％、又は７０％である、項目７に記載の微細構造化拡散体。
［項目９］
前記第１及び前記第２の微細構造化表面層のそれぞれが透明度を有し、前記第１及び前記第２の微細構造化表面間の透明度の差が、少なくとも−１０％である、項目１〜８のいずれか一項に記載の微細構造化拡散体。
［項目１０］
前記第１及び前記第２の微細構造化表面間の透明度の差が、少なくとも−２０％、−２５％、−３０％、−３５％、又は−４０％である、項目９に記載の微細構造化拡散体。
［項目１１］
前記山の５０％以下が埋め込まれたマット粒子を含む、項目１〜１０のいずれか一項に記載の微細構造化拡散体。
［項目１２］
前記山がマット粒子を含まない、項目１〜１０のいずれか一項に記載の微細構造化拡散体。
［項目１３］
前記第１の微細構造化表面が、工具表面と接触する重合性樹脂組成物を注型成形して硬化させることによって作製される、項目１〜１２のいずれか一項に記載の微細構造化拡散体。
［項目１４］
前記第１の微細構造化表面が、２．１度超の傾きの大きさで補集合的累積傾き大きさ分布を少なくとも９０％有し、前記第２の微細構造化表面が、２．１度超の傾きの大きさで補集合的累積傾き大きさ分布を８０、７５、７０、６５、６０、５５、５０、又は４５％以下有する、項目１〜１３のいずれか一項に記載の微細構造化拡散体。
［項目１５］
前記第１の微細構造化表面が、４．１度超の傾きの大きさで補集合的累積傾き大きさ分布を少なくとも６０％、６５％、７０％、又は７５％有し、前記第２の微細構造化表面が、４．１度超の傾きの大きさで補集合的累積傾き大きさ分布を５０、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５、又は１０％以下有する、項目１〜１４のいずれか一項に記載の微細構造化拡散体。
［項目１６］
前記第１の微細構造化表面が、少なくとも５０、６０、７０、８０、又は９０％のヘイズを有し、前記第２の微細構造化表面が、４０、３５、３０、２５、２０、１５、又は１０％以下のヘイズを有する、項目１〜１５のいずれか一項に記載の微細構造化拡散体。
［項目１７］
前記第１の微細構造化表面が、１０、９、８、７、６、又は５％未満の透明度を有し、前記第２の微細構造化表面が、少なくとも１５、２０、２５、３０、３５、４０、又は４５％の透明度を有する、項目１〜１６のいずれか一項に記載の微細構造化拡散体。
［項目１８］
前記微細構造化拡散体が、幾何学的に対称又は幾何学的に非対称の微細構造を含む、項目１〜１７のいずれか一項に記載の微細構造化拡散体。
［項目１９］
前記光透過性フィルムが、前記第１及び前記第２の微細構造化表面層に対向する、主表面上のプリズム構造を更に含む、項目１〜１８のいずれか一項に記載の微細構造化拡散体。
［項目２０］
前記第１の微細構造化表面が、１つ以上のフリーラジカル重合性モノマー、オリゴマー、ポリマー、又はこれらの混合物の反応生成物、任意追加的に、無機酸化物ナノ粒子との組み合わせ、を含む、項目１〜１９のいずれか一項に記載の微細構造化拡散体。
［項目２１］
前記コーティングが、１つ以上のフリーラジカル重合性モノマー、オリゴマー、ポリマー、又はこれらの混合物の反応生成物、任意追加的に、無機酸化物ナノ粒子との組み合わせ、を含む、項目１〜２０のいずれか一項に記載の微細構造化拡散体。
［項目２２］
前記コーティングが、ポリアクリレートと、官能基及び前記官能基当たり１５０ｇ／モル未満の分子量を有する重合性モノマーと、の反応生成物を含む、項目２１に記載の微細構造化拡散体。
［項目２３］
前記重合性モノマーがエポキシ樹脂である、項目２２に記載の微細構造化拡散体。
［項目２４］
前記第１の微細構造化表面層と前記コーティングとの間に配設されたプライマー層を更に含む、項目１〜２３のいずれか一項に記載の微細構造化拡散体。
［項目２５］
前記プライマー層がポリアクリレートを含む、項目２４に記載の微細構造化拡散体。
［項目２６］
前記プライマー層が窒素含有ポリマーを含む、項目２５に記載の微細構造化拡散体。
［項目２７］
複数の山及び谷を有する、第１の微細構造化表面を含む光透過性フィルムと、
前記第１の微細構造化表面上に配設されたコーティングと、を含み、前記コーティングが前記谷を部分的に満たして、１．５マイクロメートル〜７．５マイクロメートルの範囲のＲｚを有する第２の微細構造化表面を形成し、及び、前記山が、埋め込まれたマット粒子を含まない、微細構造化拡散体。
［項目２８］
前記第２の微細構造化表面が、０．７５マイクロメートル〜４マイクロメートルの範囲の平均高さを有する、項目２７に記載の微細構造化拡散体。
［項目２９］
前記コーティングが、少なくとも０．５マイクロメートルの平均厚さを有する、項目２７又は２８に記載の微細構造化拡散体。
［項目３０］
複数の山及び谷を有する、第１の微細構造化表面を含む光透過性フィルムと、
前記第１の微細構造化表面上に配設されたコーティングと、を含み、前記コーティングが前記谷を部分的に満たして、０．７５マイクロメートル〜４マイクロメートルの範囲の平均高さを有する第２の微細構造化表面を形成する、微細構造化拡散体。
［項目３１］
前記第２の微細構造化表面が、１．５マイクロメートル〜７．５マイクロメートルの範囲のＲｚを有する、項目３０に記載の微細構造化拡散体。
［項目３２］
前記山が、埋め込まれたマット粒子を含まない、項目３０又は３１に記載の微細構造化拡散体。
［項目３３］
前記コーティングが、少なくとも０．５マイクロメートルの平均厚さを有する、項目３０〜３２のいずれか一項に記載の微細構造化拡散体。
［項目３４］
複数の山及び谷を有する、第１の微細構造化表面を含む光透過性フィルムと、
前記第１の微細構造化表面上に配設されたコーティングと、を含み、前記コーティングが前記谷を部分的に満たし、及び少なくとも０．５マイクロメートルの平均厚さを有する、微細構造化拡散体。
［項目３５］
項目１〜２６のいずれか一項又は組み合わせによって更に特徴付けられる、項目２７〜３４のいずれか一項に記載の微細構造化拡散体。
［項目３６］
項目１〜３５のいずれか一項に記載の微細構造化拡散体の接着剤層を備えた第２の微細構造化表面に結合した第１表面上に、主に光学利得を提供するように設計された光学活性部分を有する、複数の構造を含む第１の光学フィルムを含む光学積層体であって、前記構造の一部が前記接着剤層に貫入して、前記硬化した接着剤層と前記第１表面との間に分離が設けられるようにする、光学積層体。
［項目３７］
前記構造がプリズム微細構造を含む、項目３６に記載の光学積層体。
［項目３８］
前記プリズムの少なくとも一部が、前記プリズムの頂部から延びて、光学不活性結合部分として機能する柱を含む、項目３７に記載の光学積層体。
［項目３９］
複数の山及び谷を有する、第１の微細構造化表面を含む基材を提供することと、
前記第１の微細構造化表面上にコーティングを提供することであって、前記コーティングが前記谷を部分的に満たして、第２の微細構造化表面を形成し、前記第２の微細構造化表面が前記第１の微細構造化表面と実質的に異なるようにする、コーティングを提供することと、を含む、微細構造物品の作製方法。
［項目４０］
前記コーティングが、ポリマー及び／又は重合性樹脂、並びに溶媒を含む、項目３９に記載の方法。
［項目４１］
前記コーティングを乾燥して、前記溶媒を除去することを更に含む、項目４０に記載の方法。
［項目４２］
前記第１及び第２の微細構造化表面又は前記コーティングが、項目２〜３５のいずれか一項又はこれらの組み合わせにより特徴付けられる、項目３９〜４１のいずれか一項に記載の方法。

Claims

複数の山及び谷を有する、第１の微細構造化表面を含む光透過性フィルムであって、前記第１の微細構造化表面の少なくとも９０％は、２０度未満の傾きの大きさを有する、光透過性フィルムと、
前記第１の微細構造化表面上に配設されたコーティングと、を含み、
前記コーティングが前記谷を部分的に満たして、前記第１の微細構造化表面の表面プロファイルと異なる第２の微細構造化表面の表面プロファイルを形成し、
前記第１及び前記第２の微細構造化表面のそれぞれが補集合的累積傾き大きさ分布を有し、４．１度超の傾きの大きさでの前記第１及び前記第２の微細構造化表面間の補集合的累積傾き大きさ分布の差が、少なくとも１０％であり、
前記コーティングが、接着剤であり、
前記第２の微細構造化表面が、１．５マイクロメートル〜７．５マイクロメートルの範囲のＲｚを有する、微細構造化拡散体。
４．１度超の傾きの大きさでの前記第１及び前記第２の微細構造化表面間の補集合的累積傾き大きさ分布の差が、少なくとも３０％である、請求項１に記載の微細構造化拡散体。
前記第１及び前記第２の微細構造化表面のそれぞれがヘイズを有し、前記第１及び前記第２の微細構造化表面間のヘイズの差が、少なくとも１０％である、請求項１〜２のいずれか一項に記載の微細構造化拡散体。
前記第１及び前記第２の微細構造化表面層のそれぞれが透明度を有し、前記第１及び前記第２の微細構造化表面間の透明度の差が、少なくとも−１０％である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の微細構造化拡散体。
前記山がマット粒子を含まない、請求項１〜４のいずれか一項に記載の微細構造化拡散体。
前記第１の微細構造化表面が、少なくとも５０％のヘイズを有し、前記第２の微細構造化表面が、４０％以下のヘイズを有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の微細構造化拡散体。
前記第１の微細構造化表面が、１０％未満の透明度を有し、前記第２の微細構造化表面が、少なくとも１５％の透明度を有する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の微細構造化拡散体。
前記微細構造化拡散体が、幾何学的に対称又は幾何学的に非対称の微細構造を含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の微細構造化拡散体。
前記光透過性フィルムが、前記第１及び前記第２の微細構造化表面層の反対側の主表面上にプリズム構造を更に含む、請求項１に記載の微細構造化拡散体。
請求項１〜９のいずれか一項に記載の微細構造化拡散体、及び
前記接着剤を備えた前記微細構造化拡散体に結合した第１表面上に、主に光学利得を提供するように設計された光学活性部分を有する、複数の構造を含む第１の光学フィルムを含む光学積層体であって、前記構造の一部が前記接着剤に貫入して、前記接着剤と前記第１表面との間に分離が設けられるようにする、光学積層体。