JP6566313B2 - Display device and light emitting device - Google Patents

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Description

本開示は、表示装置および発光装置に関し、特に、フォトルミネッセンス層を有する発光素子を備えた表示装置および発光装置に関する。   The present disclosure relates to a display device and a light-emitting device, and particularly relates to a display device and a light-emitting device including a light-emitting element having a photoluminescence layer.

照明器具、ディスプレイ、プロジェクターといった光学デバイスでは、多くの用途において、必要な方向に光を出射することが求められる。蛍光灯、白色LEDなどで使用されるフォトルミネッセンス材料は等方的に発光する。よって、このような材料は、特定の方向のみに光を出射させるために、リフレクターやレンズなどの光学部品とともに用いられる。例えば、特許文献1は、配光板および補助反射板を用いて指向性を確保した照明システムを開示している。   Optical devices such as lighting fixtures, displays, and projectors are required to emit light in a necessary direction in many applications. Photoluminescent materials used in fluorescent lamps, white LEDs and the like emit isotropically. Therefore, such a material is used together with optical components such as a reflector and a lens in order to emit light only in a specific direction. For example, Patent Document 1 discloses an illumination system that secures directivity using a light distribution plate and an auxiliary reflector.

特開2010−231941号公報JP 2010-231941 A

光学デバイスにおいて、特定の方向に光を出射するためにリフレクターやレンズなどの光学部品を配置すると、そのスペースを確保するために、光学デバイス自身のサイズを大きくする必要がある。これらの光学部品は無くすか、少しでも小型化することが望ましい。   In an optical device, when optical components such as a reflector and a lens are arranged to emit light in a specific direction, it is necessary to increase the size of the optical device itself in order to secure the space. It is desirable to eliminate these optical components or to reduce the size as much as possible.

本開示は、フォトルミネッセンス材料を利用する新規な構造を有する発光装置を提供する。   The present disclosure provides a light emitting device having a novel structure that utilizes a photoluminescent material.

本開示の一態様に係る表示装置は、励起光源と、発光素子と、光学シャッタまたは導光板と、を備え、前記発光素子は、起光を受けて空気中の波長がλaの第1の光を含む光を発するフォトルミネッセンス層と、前記フォトルミネッセンス層および透光層の少なくとも一方の表面に形成された表面構造と、を有し、前記表面構造は、複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方を含み、空気中の波長がλaの前記第1の光の指向角を制限する。 The display device according to one embodiment of the present disclosure, an excitation light source, a light emitting element, comprising an optical shutter or light guide plate, wherein the light-emitting element includes the first wavelength in the air by receiving excitation Okoshiko is lambda a And a surface structure formed on at least one surface of the photoluminescence layer and the light-transmitting layer, and the surface structure includes a plurality of convex portions and a plurality of concave portions. And restricts the directivity angle of the first light having a wavelength in air of λa.

上記の包括的または具体的な態様は、素子、装置、システム、方法、またはこれらの任意の組み合わせで実現されてもよい。   The generic or specific aspects described above may be implemented by elements, devices, systems, methods, or any combination thereof.

本開示のある実施形態によれば、フォトルミネッセンス材料を利用する新規な構造を有する発光装置を提供することができる。   According to an embodiment of the present disclosure, it is possible to provide a light emitting device having a novel structure using a photoluminescent material.

ある実施形態による発光素子の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the light emitting element by a certain embodiment. 図1Aに示す発光素子の部分断面図である。It is a fragmentary sectional view of the light emitting element shown to FIG. 1A. 他の実施形態による発光素子の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the light emitting element by other embodiment. 図1Cに示す発光素子の部分断面図である。It is a fragmentary sectional view of the light emitting element shown to FIG. 1C. 発光波長および周期構造の高さをそれぞれ変えて、正面方向に出射する光の増強度を計算した結果を示す図である。It is a figure which shows the result of having calculated the increase | augmentation intensity | strength of the light radiate | emitted in a front direction, changing the light emission wavelength and the height of a periodic structure, respectively. 式(10)におけるm=1およびm=3の条件を図示したグラフである。It is the graph which illustrated the conditions of m = 1 and m = 3 in Formula (10). 発光波長およびフォトルミネッセンス層の厚さtを変えて正面方向に出力する光の増強度を計算した結果を示す図である。It is a figure which shows the result of having calculated the increase | augmentation intensity | strength of the light output to a front direction by changing the light emission wavelength and the thickness t of a photo-luminescence layer. 厚さt=238nmのときに、x方向に導波するモードの電場分布を計算した結果を示す図である。It is a figure which shows the result of having calculated the electric field distribution of the mode guided to x direction when thickness t = 238 nm. 厚さt=539nmのときに、x方向に導波するモードの電場分布を計算した結果を示す図である。It is a figure which shows the result of having calculated the electric field distribution of the mode guided to x direction when thickness t = 539 nm. 厚さt=300nmのときに、x方向に導波するモードの電場分布を計算した結果を示す図である。It is a figure which shows the result of having calculated the electric field distribution of the mode guided to x direction when thickness t = 300nm. 図2の計算と同じ条件で、光の偏光がy方向に垂直な電場成分を有するTEモードである場合について光の増強度を計算した結果を示す図である。It is a figure which shows the result of having calculated the light increase intensity | strength about the case where the polarization of light is a TE mode which has an electric field component perpendicular | vertical to ay direction on the same conditions as the calculation of FIG. 2次元の周期構造の例を示す平面図である。It is a top view which shows the example of a two-dimensional periodic structure. 2次元周期構造に関して図2と同様の計算を行った結果を示す図である。It is a figure which shows the result of having performed the calculation similar to FIG. 2 regarding the two-dimensional periodic structure. 発光波長および周期構造の屈折率を変えて正面方向に出力する光の増強度を計算した結果を示す図である。It is a figure which shows the result of having calculated the intensification of the light which changes the light emission wavelength and the refractive index of a periodic structure, and outputs it to a front direction. 図8と同様の条件でフォトルミネッセンス層の膜厚を1000nmにした場合の結果を示す図である。It is a figure which shows the result at the time of setting the film thickness of a photo-luminescence layer to 1000 nm on the conditions similar to FIG. 発光波長および周期構造の高さを変えて正面方向に出力する光の増強度を計算した結果を示す図である。It is a figure which shows the result of having calculated the increase | augmentation intensity | strength of the light which changes the light emission wavelength and the height of a periodic structure, and outputs it to a front direction. 図10と同様の条件で、周期構造の屈折率をnp=2.0とした場合の計算結果を示す図である。It is a figure which shows the calculation result when the refractive index of a periodic structure is set to np = 2.0 on the conditions similar to FIG. 光の偏光がy方向に垂直な電場成分を有するTEモードであるものとして図9に示す計算と同様の計算を行った結果を示す図である。It is a figure which shows the result of having performed the calculation similar to the calculation shown in FIG. 9, assuming that the polarization of light is a TE mode having an electric field component perpendicular to the y direction. 図9に示す計算と同様の条件で、フォトルミネッセンス層の屈折率nwavを1.5に変更した場合の結果を示す図である。It is a figure which shows the result at the time of changing the refractive index nwav of a photo-luminescence layer to 1.5 on the conditions similar to the calculation shown in FIG. 屈折率が1.5の透明基板の上に、図2に示す計算と同じ条件のフォトルミネッセンス層および周期構造を設けた場合の計算結果を示す図である。It is a figure which shows the calculation result at the time of providing the photo-luminescence layer and periodic structure of the same conditions as the calculation shown in FIG. 2 on the transparent substrate whose refractive index is 1.5. 式(15)の条件を図示したグラフである。It is a graph which illustrated the conditions of Formula (15). 図1A、1Bに示す発光素子100と、励起光をフォトルミネッセンス層110に入射させる光源180とを備える発光装置200の構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of the light-emitting device 200 provided with the light emitting element 100 shown to FIG. 1A and 1B and the light source 180 which makes excitation light inject into the photo-luminescence layer 110. FIG. x方向の周期pxを有する1次元周期構造を示す図である。It is a diagram showing a one-dimensional periodic structure having the x direction of the period p x. x方向の周期px、y方向の周期pyを有する2次元周期構造を示す図である。x-direction period p x, illustrates a two-dimensional periodic structure having a period p y in the y direction. 図17Aの構成における光の吸収率の波長依存性を示す図である。It is a figure which shows the wavelength dependence of the light absorption factor in the structure of FIG. 17A. 図17Bの構成における光の吸収率の波長依存性を示す図である。It is a figure which shows the wavelength dependence of the light absorption factor in the structure of FIG. 17B. 2次元周期構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a two-dimensional periodic structure. 2次元周期構造の他の例を示す図である。It is a figure which shows the other example of a two-dimensional periodic structure. 透明基板上に周期構造を形成した変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification which formed the periodic structure on the transparent substrate. 透明基板上に周期構造を形成した他の変形例を示す図である。It is a figure which shows the other modification which formed the periodic structure on the transparent substrate. 図19Aの構成において、発光波長および周期構造の周期を変えて正面方向に出力する光の増強度を計算した結果を示す図である。FIG. 19B is a diagram illustrating a result of calculating the enhancement of light output in the front direction by changing the emission wavelength and the period of the periodic structure in the configuration of FIG. 19A. 複数の粉末状の発光素子を混ぜた構成を示す図である。It is a figure which shows the structure which mixed several powdery light emitting element. フォトルミネッセンス層の上に周期の異なる複数の周期構造を2次元に配列した例を示す平面図である。It is a top view which shows the example which arranged the several periodic structure from which a period differs on the photo-luminescence layer in two dimensions. 表面に凹凸構造が形成された複数のフォトルミネッセンス層110が積層された構造を有する発光素子の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the light emitting element which has the structure where the several photo-luminescence layer 110 in which the uneven structure was formed on the surface was laminated | stacked. フォトルミネッセンス層110と周期構造120との間に保護層150を設けた構成例を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a configuration example in which a protective layer 150 is provided between a photoluminescence layer 110 and a periodic structure 120. フォトルミネッセンス層110の一部のみを加工することによって周期構造120を形成した例を示す図である。It is a figure which shows the example which formed the periodic structure 120 by processing only a part of photo-luminescence layer 110. FIG. 周期構造を有するガラス基板上に形成されたフォトルミネッセンス層の断面TEM像を示す図である。It is a figure which shows the cross-sectional TEM image of the photo-luminescence layer formed on the glass substrate which has a periodic structure. 試作した発光素子の出射光の正面方向のスペクトルを測定した結果を示すグラフである。It is a graph which shows the result of having measured the spectrum of the front direction of the emitted light of the light emitting element made as an experiment. TMモードの直線偏光を出射する発光素子を、1次元周期構造120のライン方向と平行な軸を回転軸として回転させている状況を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a situation where a light emitting element that emits TM mode linearly polarized light is rotated about an axis parallel to the line direction of the one-dimensional periodic structure 120 as a rotation axis. 試作した発光素子を図27Aに示すように回転させたときの出射光の角度依存性を測定した結果を示すグラフである。It is a graph which shows the result of having measured the angle dependence of the emitted light when rotating the prototype light emitting element as shown to FIG. 27A. 試作した発光素子を図27Aに示すように回転させたときの出射光の角度依存性を計算した結果を示すグラフである。It is a graph which shows the result of having calculated the angle dependence of the emitted light when rotating the prototype light emitting element as shown to FIG. 27A. TEモードの直線偏光を出射する発光素子を、1次元周期構造120のライン方向と平行な軸を回転軸として回転させている状況を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a situation where a light emitting element that emits TE mode linearly polarized light is rotated about an axis parallel to the line direction of the one-dimensional periodic structure 120 as a rotation axis. 試作した発光素子を図27Dに示すように回転させたときの出射光の角度依存性を測定した結果を示すグラフである。It is a graph which shows the result of having measured the angle dependence of the emitted light when rotating the prototype light emitting element as shown to FIG. 27D. 試作した発光素子を図27Dに示すように回転させたときの出射光の角度依存性を計算した結果を示すグラフである。It is a graph which shows the result of having calculated the angle dependence of the emitted light when rotating the prototype light emitting element as shown to FIG. 27D. TEモードの直線偏光を出射する発光素子を、1次元周期構造120のライン方向に垂直な軸を回転軸として回転させている状況を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a situation where a light emitting element that emits TE mode linearly polarized light is rotated about an axis perpendicular to the line direction of the one-dimensional periodic structure 120 as a rotation axis. 試作した発光素子を図28Aに示すように回転させたときの出射光の角度依存性を測定した結果を示すグラフである。It is a graph which shows the result of having measured the angle dependence of the emitted light when rotating the prototype light emitting element as shown to FIG. 28A. 試作した発光素子を図28Aに示すように回転させたときの出射光の角度依存性を計算した結果を示すグラフである。It is a graph which shows the result of having calculated the angle dependence of the emitted light when rotating the prototype light emitting element as shown to FIG. 28A. TMモードの直線偏光を出射する発光素子を、1次元周期構造120のライン方向と垂直な軸を回転軸として回転させている状況を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a situation where a light emitting element that emits TM mode linearly polarized light is rotated about an axis perpendicular to the line direction of the one-dimensional periodic structure 120 as a rotation axis. 試作した発光素子を図28Dに示すように回転させたときの出射光の角度依存性を測定した結果を示すグラフである。It is a graph which shows the result of having measured the angle dependence of the emitted light when rotating the prototype light emitting element as shown to FIG. 28D. 試作した発光素子を図28Dに示すように回転させたときの出射光の角度依存性を計算した結果を示すグラフである。It is a graph which shows the result of having calculated the angle dependence of the emitted light when rotating the prototype light emitting element as shown to FIG. 28D. 試作した発光素子の出射光(波長610nm)の角度依存性を測定した結果を示すグラフである。It is a graph which shows the result of having measured the angle dependence of the emitted light (wavelength 610nm) of the light emitting element made as an experiment. スラブ型導波路の一例を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows typically an example of a slab type | mold waveguide. フォトルミネッセンス層110上に周期構造120を有する発光素子における発光増強効果を受ける光の波長および出射方向との関係を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for explaining the relationship between the wavelength of light that receives the light emission enhancement effect and the emission direction in a light emitting device having a periodic structure 120 on the photoluminescence layer. 発光増強効果を示す波長が異なる複数の周期構造を配列した構成の例を示す模式的な平面図である。It is a typical top view which shows the example of the structure which arranged the several periodic structure from which the wavelength which shows the light emission enhancing effect differs. 一次元周期構造の凸部が延びる方位が異なる複数の周期構造を配列した構成の例を示す模式的な平面図である。It is a typical top view which shows the example of the structure which arranged the some periodic structure from which the direction where the convex part of a one-dimensional periodic structure extends differs. 複数の2次元周期構造を配列した構成の例を示す模式的な平面図である。It is a typical top view showing an example of composition which arranged a plurality of two-dimensional periodic structures. マイクロレンズを備える発光素子の模式的な断面図である。It is typical sectional drawing of a light emitting element provided with a micro lens. 発光波長が異なる複数のフォトルミネッセンス層を有する発光素子の模式的な断面図である。It is typical sectional drawing of the light emitting element which has several photo-luminescence layer from which light emission wavelengths differ. 発光波長が異なる複数のフォトルミネッセンス層を有する他の発光素子の模式的な断面図である。It is typical sectional drawing of the other light emitting element which has several photo-luminescence layer from which light emission wavelength differs. フォトルミネッセンス層の下に拡散防止層(バリア層)を有する発光素子の一例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows an example of the light emitting element which has a diffusion prevention layer (barrier layer) under a photo-luminescence layer. フォトルミネッセンス層の下に拡散防止層(バリア層)を有する発光素子の他の例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the other example of the light emitting element which has a diffusion prevention layer (barrier layer) under a photo-luminescence layer. フォトルミネッセンス層の下に拡散防止層(バリア層)を有する発光素子の他の例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the other example of the light emitting element which has a diffusion prevention layer (barrier layer) under a photo-luminescence layer. フォトルミネッセンス層の下に拡散防止層(バリア層)を有する発光素子の他の例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the other example of the light emitting element which has a diffusion prevention layer (barrier layer) under a photo-luminescence layer. フォトルミネッセンス層の下に、結晶成長層(シード層)を有する発光素子の一例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows an example of the light emitting element which has a crystal growth layer (seed layer) under a photo-luminescence layer. フォトルミネッセンス層の下に、結晶成長層(シード層)を有する発光素子の他の例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the other example of the light emitting element which has a crystal growth layer (seed layer) under a photo-luminescence layer. フォトルミネッセンス層の下に、結晶成長層(シード層)を有する発光素子の他の例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the other example of the light emitting element which has a crystal growth layer (seed layer) under a photo-luminescence layer. 周期構造を保護するための表面保護層を有する発光素子の一例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows an example of the light emitting element which has a surface protective layer for protecting a periodic structure. 周期構造を保護するための表面保護層を有する発光素子の他の例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the other example of the light emitting element which has a surface protective layer for protecting a periodic structure. 透明高熱伝導層を有する発光素子の一例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows an example of the light emitting element which has a transparent high heat conductive layer. 透明高熱伝導層を有する発光素子の他の例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the other example of the light emitting element which has a transparent high heat conductive layer. 透明高熱伝導層を有する発光素子の他の例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the other example of the light emitting element which has a transparent high heat conductive layer. 透明高熱伝導層を有する発光素子の他の例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the other example of the light emitting element which has a transparent high heat conductive layer. 放熱特性が改善された発光装置の一例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows an example of the light-emitting device with which the thermal radiation characteristic was improved. 放熱特性が改善された発光装置の他の例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the other example of the light-emitting device by which the thermal radiation characteristic was improved. 放熱特性が改善された発光装置の他の例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the other example of the light-emitting device by which the thermal radiation characteristic was improved. 放熱特性が改善された発光装置の他の例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the other example of the light-emitting device by which the thermal radiation characteristic was improved. 高熱伝導部材を有する発光素子の一例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows an example of the light emitting element which has a high heat conductive member. 図40Aに示す発光素子の平面図である。It is a top view of the light emitting element shown to FIG. 40A. 高熱伝導部材を有する発光素子の他の例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the other example of the light emitting element which has a high heat conductive member. 図40Cに示す発光素子の平面図である。It is a top view of the light emitting element shown to FIG. 40C. タイリングされた複数の発光素子における高熱伝導部材の配置の例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the example of arrangement | positioning of the high heat conductive member in the several light emitting element by which it was tiled. 図41Aに示す発光素子の平面図である。FIG. 41B is a plan view of the light emitting element shown in FIG. 41A. インターロック回路を備える発光装置の例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the example of a light-emitting device provided with an interlock circuit. インターロック回路を備える発光装置の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of a light-emitting device provided with an interlock circuit. ビーズを用いたサブミクロン構造の形成方法を説明するための第1の図である。It is a 1st figure for demonstrating the formation method of the submicron structure using a bead. ビーズを用いたサブミクロン構造の形成方法を説明するための第2の図である。It is the 2nd figure for demonstrating the formation method of the submicron structure using bead. ビーズの充填状態の一例を模式的に示す図と、この充填状態のビーズから得られる光散乱のパターンを示す図である。It is a figure which shows typically an example of the filling state of a bead, and the figure which shows the pattern of the light scattering obtained from the bead of this filling state. ビーズの充填状態の他の例を模式的に示す図と、この充填状態のビーズから得られる光散乱のパターンを示す図である。It is a figure which shows typically the other example of the filling state of a bead, and the figure which shows the pattern of the light scattering obtained from the bead of this filling state. ビーズの充填状態の他の例を模式的に示す図と、この充填状態のビーズから得られる光散乱のパターンを示す図である。It is a figure which shows typically the other example of the filling state of a bead, and the figure which shows the pattern of the light scattering obtained from the bead of this filling state. ビーズの充填状態の他の例を模式的に示す図と、この充填状態のビーズから得られる光散乱のパターンを示す図である。It is a figure which shows typically the other example of the filling state of a bead, and the figure which shows the pattern of the light scattering obtained from the bead of this filling state. ある実施形態における表示装置を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows typically the display apparatus in a certain embodiment. 液晶モジュールによって実現される光学シャッタ350を有する表示装置300aの構成を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the structure of the display apparatus 300a which has the optical shutter 350 implement | achieved by the liquid crystal module. タッチスクリーン370をさらに備えた表示装置300bの一例を示す模式斜視図である。It is a model perspective view which shows an example of the display apparatus 300b further provided with the touch screen 370. FIG. 導光板330が、励起光源310からの励起光をフォトルミネッセンス層321に伝播させるように配置された表示装置300cの構成の一部を示す模式断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing a part of the configuration of a display device 300c in which a light guide plate 330 is arranged to propagate excitation light from an excitation light source 310 to a photoluminescence layer 321. 表示装置のさらに他の実施形態を示す模式斜視図である。It is a model perspective view which shows other embodiment of a display apparatus. 表示装置のさらに他の実施形態の一部を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows a part of other embodiment of a display apparatus. ある実施形態における照明装置を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows typically the illuminating device in a certain embodiment. 他の実施形態における照明装置を模式的に示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows typically the illuminating device in other embodiment. さらに他の実施形態における照明装置を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the illuminating device in other embodiment. 複数の発光素子を有する照明装置の構成例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structural example of the illuminating device which has a some light emitting element. マイクロミラーによる配光制御が可能な照明装置(ヘッドライト)の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the illuminating device (headlight) in which light distribution control by a micromirror is possible. 回転機構およびホイール状の発光素子320を有する発光装置の一例を簡略化して示す図である。It is a figure which simplifies and shows an example of the light-emitting device which has a rotation mechanism and a wheel-shaped light emitting element. 発光素子320を軸方向から見た場合の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure at the time of seeing the light emitting element 320 from an axial direction. 本開示の可視光通信システムの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the visible light communication system of this indication. 本開示の発光素子をスクリーンとして備える透明ディスプレイの構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of a transparent display provided with the light emitting element of this indication as a screen. 信号機への応用例を示す図である。It is a figure which shows the example of application to a traffic signal. 信号機のより詳細な構成を示す図である。It is a figure which shows the more detailed structure of a traffic light. 植物用光源装置への応用例を示す図である。It is a figure which shows the example of application to the light source device for plants. 距離センサーへの応用例を示す図である。It is a figure which shows the example of application to a distance sensor. 距離センサーにおける発光装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the light-emitting device in a distance sensor. 制御回路820によるパルス光の発生を説明するための図である。6 is a diagram for explaining generation of pulsed light by a control circuit 820. FIG. 駆動信号および受光信号の時間変化の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the time change of a drive signal and a light reception signal. 発光素子840の光出射側に、光学シャッタ850を配置した変形例を示す図である。FIG. 10 is a view showing a modification in which an optical shutter 850 is disposed on the light emitting side of the light emitting element 840. 図64Aに示す構成におけるパルス光の発生を説明するための図である。It is a figure for demonstrating generation | occurrence | production of the pulsed light in the structure shown to FIG. 64A. 発光素子840と光学シャッタ850との間、および光学シャッタ850の光出射側にレンズ860a、860bを設けた例を示す図である。6 is a diagram illustrating an example in which lenses 860a and 860b are provided between the light emitting element 840 and the optical shutter 850 and on the light emission side of the optical shutter 850. 複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方を有する表面構造の一例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows an example of the surface structure which has at least one of a some convex part and a some recessed part.

[1.本開示の実施形態の概要]
本開示は、以下の項目に記載の発光素子、発光装置、表示装置、信号機、植物用発光装置、および距離センサーを含む。
[1. Outline of Embodiment of Present Disclosure]
The present disclosure includes a light-emitting element, a light-emitting device, a display device, a traffic light, a plant light-emitting device, and a distance sensor described in the following items.

[項目1]
フォトルミネッセンス層と、
前記フォトルミネッセンス層に近接して配置された透光層と、
前記フォトルミネッセンス層および前記透光層の少なくとも一方に形成され、前記フォトルミネッセンス層または前記透光層の面内に広がるサブミクロン構造と、を有し、
前記サブミクロン構造は、複数の凸部または複数の凹部を含み、
前記フォトルミネッセンス層が発する光は、空気中の波長がλaの第1の光を含み、
隣接する凸部間または凹部間の距離をDintとし、前記第1の光に対する前記フォトルミネッセンス層の屈折率をnwav-aとすると、λa/nwav-a<Dint<λaの関係が成り立つ、発光素子。
[Item 1]
A photoluminescence layer;
A translucent layer disposed proximate to the photoluminescence layer;
A submicron structure formed on at least one of the photoluminescence layer and the light transmissive layer and extending in the plane of the photoluminescence layer or the light transmissive layer,
The submicron structure includes a plurality of convex portions or a plurality of concave portions,
The light emitted by the photoluminescence layer includes first light having a wavelength λ a in the air,
When the distance between adjacent convex portions or concave portions is D int and the refractive index of the photoluminescence layer with respect to the first light is n wav-a , λ a / n wav-a <D inta A light-emitting element in which the relationship is established.

[項目2]
前記サブミクロン構造は、前記複数の凸部または前記複数の凹部によって形成された少なくとも1つの周期構造を含み、前記少なくとも1つの周期構造は、周期をpaとすると
、λa/nwav-a<pa<λaの関係が成り立つ第1周期構造を含む、項目1に記載の発光素子。
[Item 2]
The submicron structures, the comprising a plurality of at least one periodic structure formed by the projections or the plurality of recesses, said at least one periodic structure, when the period as p a, λ a / n wav -a <p a <lambda relationship a comprises a first periodic structure holds the light-emitting device according to claim 1.

[項目3]
前記第1の光に対する前記透光層の屈折率nt-aは、前記第1の光に対する前記フォトルミネッセンス層の屈折率nwav-aよりも小さい、項目1または2に記載の発光素子。
[Item 3]
Item 3. The light-emitting element according to Item 1 or 2, wherein a refractive index n ta of the light transmitting layer with respect to the first light is smaller than a refractive index n wav-a of the photoluminescence layer with respect to the first light.

[項目4]
前記第1の光は、前記サブミクロン構造によって予め決められた第1の方向において強度が最大になる、項目1から3のいずれかに記載の発光素子。
[Item 4]
The light emitting device according to any one of items 1 to 3, wherein the first light has a maximum intensity in a first direction predetermined by the submicron structure.

[項目5]
前記第1の方向は、前記フォトルミネッセンス層の法線方向である、項目4に記載の発光素子。
[Item 5]
Item 5. The light-emitting element according to Item 4, wherein the first direction is a normal direction of the photoluminescence layer.

[項目6]
前記第1の方向に出射された前記第1の光は、直線偏光である、項目4または5に記載の発光素子。
[Item 6]
Item 6. The light-emitting element according to Item 4 or 5, wherein the first light emitted in the first direction is linearly polarized light.

[項目7]
前記第1の光の前記第1の方向を基準としたときの指向角は、15°未満である、項目4から6のいずれかに記載の発光素子。
[Item 7]
7. The light emitting element according to any one of items 4 to 6, wherein a directivity angle when the first light is based on the first direction is less than 15 °.

[項目8]
前記第1の光の波長λaと異なる波長λbを有する第2の光は、前記第1の方向と異なる第2の方向において強度が最大となる、項目4から7のいずれかに記載の発光素子。
[Item 8]
The second light having a wavelength λ b different from the wavelength λ a of the first light has a maximum intensity in a second direction different from the first direction, according to any one of items 4 to 7 Light emitting element.

[項目9]
前記透光層が前記サブミクロン構造を有する、項目1から8のいずれかに記載の発光素子。
[Item 9]
Item 9. The light emitting device according to any one of items 1 to 8, wherein the light transmitting layer has the submicron structure.

[項目10]
前記フォトルミネッセンス層が前記サブミクロン構造を有する、項目1から9のいずれかに記載の発光素子。
[Item 10]
10. The light emitting device according to any one of items 1 to 9, wherein the photoluminescence layer has the submicron structure.

[項目11]
前記フォトルミネッセンス層は、平坦な主面を有し、
前記透光層は前記フォトルミネッセンス層の前記平坦な主面上に形成されており、かつ、前記サブミクロン構造を有する、項目1から8のいずれかに記載の発光素子。
[Item 11]
The photoluminescence layer has a flat main surface,
9. The light emitting device according to any one of items 1 to 8, wherein the light transmitting layer is formed on the flat main surface of the photoluminescence layer and has the submicron structure.

[項目12]
前記フォトルミネッセンス層は、透明基板に支持されている、項目11に記載の発光素子。
[Item 12]
Item 12. The light emitting device according to Item 11, wherein the photoluminescence layer is supported on a transparent substrate.

[項目13]
前記透光層は、前記サブミクロン構造を一方の主面に有する透明基板であって、
前記フォトルミネッセンス層は、前記サブミクロン構造の上に形成されている、項目1から8のいずれかに記載の発光素子。
[Item 13]
The translucent layer is a transparent substrate having the submicron structure on one main surface,
9. The light emitting device according to any one of items 1 to 8, wherein the photoluminescence layer is formed on the submicron structure.

[項目14]
前記第1の光に対する前記透光層の屈折率nt-aは、前記第1の光に対する前記フォトルミネッセンス層の屈折率nwav-a以上であって、前記サブミクロン構造が有する前記複数の凸部の高さまたは前記複数の凹部の深さは150nm以下である、項目1または2に記載の発光素子。
[Item 14]
The refractive index n ta of the translucent layer with respect to the first light is equal to or higher than the refractive index n wav-a of the photoluminescence layer with respect to the first light, and the plurality of convex portions of the submicron structure Item 3. The light emitting device according to Item 1 or 2, wherein the height of each of the plurality of recesses is 150 nm or less.

[項目15]
前記サブミクロン構造は、前記複数の凸部または前記複数の凹部によって形成された少なくとも1つの周期構造を含み、前記少なくとも1つの周期構造は、周期をpaとすると
、λa/nwav-a<pa<λaの関係が成り立つ第1周期構造を含み、
前記第1周期構造は、1次元周期構造である、項目1および3から14のいずれかに記載の発光素子。
[Item 15]
The submicron structures, the comprising a plurality of at least one periodic structure formed by the projections or the plurality of recesses, said at least one periodic structure, when the period as p a, λ a / n wav -a <include p a <lambda first periodic structure relationship holds for a,
Item 15. The light-emitting element according to any one of Items 1 and 3 to 14, wherein the first periodic structure is a one-dimensional periodic structure.

[項目16]
前記フォトルミネッセンス層が発する光は、空気中の波長がλaと異なるλbの第2の光を含み、前記第2の光に対する前記フォトルミネッセンス層の屈折率をnwav-bとすると、
前記少なくとも1つの周期構造は、周期をpbとすると、λb/nwav-b<pb<λbの関係が成り立つ第2周期構造をさらに含み、
前記第2周期構造は、1次元周期構造である、項目15に記載の発光素子。
[Item 16]
The light emitted from the photoluminescence layer includes second light having a wavelength λ b different from λ a in the air, and the refractive index of the photoluminescence layer with respect to the second light is n wav-b .
Wherein at least one of the periodic structure, when the period as p b, further comprising a λ b / n wav-b < p b <λ b second periodic structure relationship holds for,
Item 16. The light-emitting element according to Item 15, wherein the second periodic structure is a one-dimensional periodic structure.

[項目17]
前記サブミクロン構造は、前記複数の凸部または前記複数の凹部によって形成された少なくとも2つの周期構造を含み、前記少なくとも2つの周期構造は、互いに異なる方向に周期性を有する2次元周期構造を含む、項目1および3から14のいずれかに記載の発光素子。
[Item 17]
The submicron structure includes at least two periodic structures formed by the plurality of convex portions or the plurality of concave portions, and the at least two periodic structures include a two-dimensional periodic structure having periodicity in different directions. The light emitting device according to any one of items 1 and 3 to 14.

[項目18]
前記サブミクロン構造は、前記複数の凸部または前記複数の凹部によって形成された複数の周期構造を含み、
前記複数の周期構造は、マトリクス状に配列された複数の周期構造を含む、項目1および3から14のいずれかに記載の発光素子。
[Item 18]
The submicron structure includes a plurality of periodic structures formed by the plurality of convex portions or the plurality of concave portions,
Item 15. The light-emitting element according to any one of Items 1 and 3 to 14, wherein the plurality of periodic structures include a plurality of periodic structures arranged in a matrix.

[項目19]
前記サブミクロン構造は、前記複数の凸部または前記複数の凹部によって形成された複数の周期構造を含み、
前記フォトルミネッセンス層が有するフォトルミネッセンス材料の励起光の空気中における波長をλexとし、前記励起光に対する前記フォトルミネッセンス層の屈折率をnwav-exとすると、
前記複数の周期構造は、周期pexが、λex/nwav-ex<pex<λexの関係が成り立つ周期構造を含む、項目1および3から14のいずれかに記載の発光素子。
[Item 19]
The submicron structure includes a plurality of periodic structures formed by the plurality of convex portions or the plurality of concave portions,
When the wavelength of the excitation light of the photoluminescence material of the photoluminescence layer in air is λ ex and the refractive index of the photoluminescence layer with respect to the excitation light is n wav-ex ,
Item 15. The light-emitting element according to any one of Items 1 and 3 to 14, wherein the plurality of periodic structures include a periodic structure in which a period p ex satisfies a relationship of λ ex / n wav-ex <p exex .

[項目20]
複数のフォトルミネッセンス層と、複数の透光層とを有し、
前記複数のフォトルミネッセンス層の少なくとも2つと前記複数の透光層の少なくとも2つとは、それぞれ独立に、項目1から19のいずれかに記載の前記フォトルミネッセンス層と前記透光層とにそれぞれ該当する、発光素子。
[Item 20]
Having a plurality of photoluminescence layers and a plurality of light-transmitting layers;
20. At least two of the plurality of photoluminescence layers and at least two of the plurality of light transmission layers respectively independently correspond to the photoluminescence layer and the light transmission layer according to any one of items 1 to 19, respectively. , Light emitting element.

[項目21]
前記複数のフォトルミネッセンス層と前記複数の透光層は、積層されている、項目20に記載の発光素子。
[Item 21]
Item 21. The light-emitting element according to Item 20, wherein the plurality of photoluminescence layers and the plurality of light-transmitting layers are laminated.

[項目22]
フォトルミネッセンス層と、
前記フォトルミネッセンス層に近接して配置された透光層と、
前記フォトルミネッセンス層および前記透光層の少なくとも一方に形成され、前記フォトルミネッセンス層または前記透光層の面内に広がるサブミクロン構造と、を有し、
前記フォトルミネッセンス層および前記透光層の内部に擬似導波モードを形成する光を出射する、発光素子。
[Item 22]
A photoluminescence layer;
A translucent layer disposed proximate to the photoluminescence layer;
A submicron structure formed on at least one of the photoluminescence layer and the light transmissive layer and extending in the plane of the photoluminescence layer or the light transmissive layer,
The light emitting element which radiate | emits the light which forms a pseudo waveguide mode inside the said photo-luminescence layer and the said translucent layer.

[項目23]
光が導波することができる導波層と、
前記導波層に近接して配置された周期構造と
を備え、
前記導波層はフォトルミネッセンス材料を有し、
前記導波層において、前記フォトルミネッセンス材料から発せられた光が前記周期構造と作用しながら導波する擬似導波モードが存在する、発光素子。
[Item 23]
A waveguiding layer through which light can be guided;
A periodic structure disposed in proximity to the waveguide layer;
The waveguiding layer comprises a photoluminescent material;
The light emitting device, wherein the waveguide layer has a pseudo waveguide mode in which light emitted from the photoluminescent material is guided while acting on the periodic structure.

[項目24]
フォトルミネッセンス層と、
前記フォトルミネッセンス層に近接して配置された透光層と、
前記フォトルミネッセンス層および前記透光層の少なくとも一方に形成され、前記フォトルミネッセンス層または前記透光層の面内に広がるサブミクロン構造と、を有し、
前記サブミクロン構造は、複数の凸部または複数の凹部を含み、
隣接する凸部間または凹部間の距離をDintとし、前記フォトルミネッセンス層が有するフォトルミネッセンス材料の励起光の空気中における波長をλexとし、前記励起光に対する前記フォトルミネッセンス層または前記透光層に至る光路に存在する媒質の内で最も屈折率が大きい媒質の屈折率をnwav-exとすると、λex/nwav-ex<Dint<λexの関係
が成り立つ、発光素子。
[Item 24]
A photoluminescence layer;
A translucent layer disposed proximate to the photoluminescence layer;
A submicron structure formed on at least one of the photoluminescence layer and the light transmissive layer and extending in the plane of the photoluminescence layer or the light transmissive layer,
The submicron structure includes a plurality of convex portions or a plurality of concave portions,
The distance between adjacent convex portions or concave portions is D int , the wavelength of the excitation light of the photoluminescence material of the photoluminescence layer in air is λ ex, and the photoluminescence layer or the translucent layer for the excitation light A light - emitting element in which the relationship of λ ex / n wav-ex <D intex is established, where n wav-ex is the refractive index of the medium having the largest refractive index among the media existing in the optical path leading to.

[項目25]
前記サブミクロン構造は、前記複数の凸部または前記複数の凹部によって形成された少なくとも1つの周期構造を含み、前記少なくとも1つの周期構造は、周期をpexとすると、λex/nwav-ex<pex<λexの関係が成り立つ第1周期構造を含む、項目24に記載の発光素子。
[Item 25]
The submicron structures, the comprising a plurality of at least one periodic structure formed by the projections or the plurality of recesses, said at least one periodic structure, when the period as p ex, λ ex / n wav -ex Item 25. The light-emitting element according to Item 24, including a first periodic structure in which a relationship of < pex < λex is satisfied.

[項目26]
透光層と、
前記透光層に形成され、前記透光層の面内に広がるサブミクロン構造と、
前記サブミクロン構造に近接して配置されたフォトルミネッセンス層と、を有し、
前記サブミクロン構造は、複数の凸部または複数の凹部を含み、
前記フォトルミネッセンス層が発する光は、空気中の波長がλaの第1の光を含み、
前記サブミクロン構造は、前記複数の凸部または前記複数の凹部によって形成された少なくとも1つの周期構造を含み、
前記第1の光に対する前記フォトルミネッセンス層の屈折率をnwav-aとし、前記少なくとも1つの周期構造の周期をpaとすると、λa/nwav-a<pa<λaの関係が成り立つ、発光素子。
[Item 26]
A translucent layer;
A submicron structure formed in the light transmissive layer and extending in a plane of the light transmissive layer;
A photoluminescence layer disposed proximate to the submicron structure;
The submicron structure includes a plurality of convex portions or a plurality of concave portions,
The light emitted by the photoluminescence layer includes first light having a wavelength λ a in the air,
The submicron structure includes at least one periodic structure formed by the plurality of convex portions or the plurality of concave portions,
The refractive index of the photoluminescence layer for said first light and n wav-a, wherein when the period of at least one periodic structure and p a, the relationship λ a / n wav-a < p a <λ a A light-emitting element that holds.

[項目27]
フォトルミネッセンス層と、
前記フォトルミネッセンス層よりも高い屈折率を有する透光層と、
前記透光層に形成され、前記透光層の面内に広がるサブミクロン構造と、を有し、
前記サブミクロン構造は、複数の凸部または複数の凹部を含み、
前記フォトルミネッセンス層が発する光は、空気中の波長がλaの第1の光を含み、
前記サブミクロン構造は、前記複数の凸部または前記複数の凹部によって形成された少なくとも1つの周期構造を含み、
前記第1の光に対する前記フォトルミネッセンス層の屈折率をnwav-aとし、前記少な
くとも1つの周期構造の周期をpaとすると、λa/nwav-a<pa<λaの関係が成り立つ、発光素子。
[Item 27]
A photoluminescence layer;
A translucent layer having a higher refractive index than the photoluminescent layer;
A submicron structure formed in the light-transmitting layer and extending in the plane of the light-transmitting layer;
The submicron structure includes a plurality of convex portions or a plurality of concave portions,
The light emitted by the photoluminescence layer includes first light having a wavelength λ a in the air,
The submicron structure includes at least one periodic structure formed by the plurality of convex portions or the plurality of concave portions,
The refractive index of the photoluminescence layer for said first light and n wav-a, wherein when the period of at least one periodic structure and p a, the relationship λ a / n wav-a < p a <λ a A light-emitting element that holds.

[項目28]
フォトルミネッセンス層と、
前記フォトルミネッセンス層に形成され、前記フォトルミネッセンス層の面内に広がるサブミクロン構造と、を有し、
前記サブミクロン構造は、複数の凸部または複数の凹部を含み、
前記フォトルミネッセンス層が発する光は、空気中の波長がλaの第1の光を含み、
前記サブミクロン構造は、前記複数の凸部または前記複数の凹部によって形成された少なくとも1つの周期構造を含み、
前記第1の光に対する前記フォトルミネッセンス層の屈折率をnwav-aとし、前記少な
くとも1つの周期構造の周期をpaとすると、λa/nwav-a<pa<λaの関係が成り立つ、発光素子。
[Item 28]
A photoluminescence layer;
A submicron structure formed in the photoluminescence layer and extending in the plane of the photoluminescence layer,
The submicron structure includes a plurality of convex portions or a plurality of concave portions,
The light emitted by the photoluminescence layer includes first light having a wavelength λ a in the air,
The submicron structure includes at least one periodic structure formed by the plurality of convex portions or the plurality of concave portions,
The refractive index of the photoluminescence layer for said first light and n wav-a, wherein when the period of at least one periodic structure and p a, the relationship λ a / n wav-a < p a <λ a A light-emitting element that holds.

[項目29]
前記サブミクロン構造は、前記複数の凸部と前記複数の凹部との双方を含む、項目1から21、24から28のいずれかに記載の発光素子。
[Item 29]
29. The light emitting device according to any one of items 1 to 21, and 24 to 28, wherein the submicron structure includes both the plurality of convex portions and the plurality of concave portions.

[項目30]
前記フォトルミネッセンス層と前記透光層とが互いに接している、項目1から22、24から27のいずれかに記載の発光素子。
[Item 30]
28. The light emitting device according to any one of items 1 to 22, and 24 to 27, wherein the photoluminescence layer and the light transmitting layer are in contact with each other.

[項目31]
前記導波層と前記周期構造とが互いに接している、項目23に記載の発光素子。
[Item 31]
Item 24. The light emitting device according to Item 23, wherein the waveguide layer and the periodic structure are in contact with each other.

[項目32]
項目1から31のいずれかに記載の発光素子と、
前記フォトルミネッセンス層に励起光を照射する、励起光源と、
を備える発光装置。
[Item 32]
The light emitting device according to any one of items 1 to 31,
An excitation light source that irradiates the photoluminescence layer with excitation light;
A light emitting device comprising:

[項目33]
励起光源と、
前記励起光源からの励起光の光路上に位置する発光素子と、
前記発光素子からの光の光路上に位置する光学シャッタと、を備え、
前記発光素子は、
前記励起光を受けて空気中の波長がλaの第1の光を含む光を発するフォトルミネッセンス層と、
前記フォトルミネッセンス層に近接して配置された透光層と、
前記フォトルミネッセンス層および前記透光層の少なくとも一方の表面に形成された表面構造と、を有し、
前記表面構造は、複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方を含み、空気中の波長がλaの前記第1の光の指向角を制限する、
表示装置。
[Item 33]
An excitation light source;
A light emitting element located on an optical path of excitation light from the excitation light source;
An optical shutter positioned on an optical path of light from the light emitting element,
The light emitting element is
A photoluminescence layer that receives the excitation light and emits light including first light having a wavelength of λ a in air;
A translucent layer disposed proximate to the photoluminescence layer;
A surface structure formed on at least one surface of the photoluminescence layer and the translucent layer, and
The surface structure includes at least one of a plurality of convex portions and a plurality of concave portions, and restricts a directivity angle of the first light having a wavelength in air of λa.
Display device.

[項目34]
前記フォトルミネッセンス層と前記透光層とが互いに接している、項目33に記載の表示装置。
[Item 34]
Item 34. The display device according to Item 33, wherein the photoluminescence layer and the light transmitting layer are in contact with each other.

[項目35]
励起光源と、
前記励起光源からの励起光の光路上に位置する発光素子と、
前記発光素子からの光の光路上に位置する光学シャッタと、を備え、
前記発光素子は、
前記励起光を受けて空気中の波長がλaの第1の光を含む光を発するフォトルミネッセンス層と、
前記フォトルミネッセンス層の表面に設けられた表面構造と、を有し、
前記表面構造は、複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方を含み、空気中の波長がλaの前記第1の光の指向角を制限する、
表示装置。
[Item 35]
An excitation light source;
A light emitting element located on an optical path of excitation light from the excitation light source;
An optical shutter positioned on an optical path of light from the light emitting element,
The light emitting element is
A photoluminescence layer that receives the excitation light and emits light including first light having a wavelength of λ a in air;
A surface structure provided on the surface of the photoluminescence layer,
The surface structure includes at least one of a plurality of convex portions and a plurality of concave portions, and restricts a directivity angle of the first light having a wavelength in air of λa.
Display device.

[項目36]
前記表面構造における隣接する2つの凸部または隣接する2つの凹部の中心間距離をDintとし、前記第1の光に対する前記フォトルミネッセンス層の屈折率をnwav-aとすると、λa/nwav-a<Dint<λaの関係が成り立つ、項目33から35のいずれかに記載の表示装置。
[Item 36]
If the distance between the centers of two adjacent convex portions or two adjacent concave portions in the surface structure is D int and the refractive index of the photoluminescence layer with respect to the first light is n wav-a , λ a / n The display device according to any one of items 33 to 35, wherein a relationship of wav-a < Dint <λa is established.

[項目37]
前記光学シャッタにおける前記発光素子からの光が入射する側または前記光が出射する側に、透過波長帯域の異なる複数のカラーフィルタを含むカラーフィルタアレイをさらに備える、項目33から36のいずれかに記載の表示装置。
[Item 37]
The item according to any one of items 33 to 36, further comprising a color filter array including a plurality of color filters having different transmission wavelength bands on a side where light from the light emitting element is incident or a side where the light is emitted in the optical shutter. Display device.

[項目38]
前記発光素子からの光を前記光学シャッタに伝播させる導光板をさらに備える、項目33から37のいずれかに記載の表示装置。
[Item 38]
38. The display device according to any of items 33 to 37, further comprising a light guide plate that propagates light from the light emitting element to the optical shutter.

[項目39]
前記励起光源からの前記励起光を前記フォトルミネッセンス層に伝播させる導光板をさらに備える、項目33から37のいずれかに記載の表示装置。
[Item 39]
The display device according to any one of items 33 to 37, further comprising a light guide plate for propagating the excitation light from the excitation light source to the photoluminescence layer.

[項目40]
前記光学シャッタを画像信号に応じて駆動する駆動回路をさらに備える、項目33から39のいずれかに記載の表示装置。
[Item 40]
40. The display device according to any one of items 33 to 39, further comprising a drive circuit that drives the optical shutter according to an image signal.

[項目41]
前記光学シャッタにおける前記発光素子からの光が出射する側に、タッチスクリーンをさらに備える、項目40に記載の表示装置。
[Item 41]
Item 41. The display device according to Item 40, further comprising a touch screen on a side where light from the light emitting element is emitted in the optical shutter.

[項目42]
前記表面構造は、少なくとも1つの周期構造を含み、前記少なくとも1つの周期構造は、周期をpaとすると、λa/nwav-a<pa<λaの関係が成り立つ第1周期構造を含む、
項目33から41のいずれかに記載の表示装置。
[Item 42]
The surface structure comprises at least one periodic structure, wherein the at least one periodic structure, when the period as p a, a λ a / n wav-a < p a <λ first periodic structure relationship holds for a Including,
Item 42. The display device according to any one of items 33 to 41.

[項目43]
前記フォトルミネッセンス層が発する光は、空気中の波長がλaと異なるλbの第2の光を含み、前記第2の光に対する前記フォトルミネッセンス層の屈折率をnwav-bとするとき、
前記少なくとも1つの周期構造は、周期をpbとすると、λb/nwav-b<pb<λbの関係が成り立つ第2周期構造をさらに含み、
前記波長λaは、赤色の波長帯域に属し、
前記波長λbは、緑色の波長帯域に属する、
項目42に記載の表示装置。
[Item 43]
The light emitted from the photoluminescence layer includes second light having a wavelength λ b different from λ a in the air, and the refractive index of the photoluminescence layer with respect to the second light is n wav-b ,
Wherein at least one of the periodic structure, when the period as p b, further comprising a λ b / n wav-b < p b <λ b second periodic structure relationship holds for,
The wavelength λ a belongs to the red wavelength band,
The wavelength λ b belongs to the green wavelength band,
Item 43. The display device according to Item 42.

[項目44]
空気中の波長がλaおよびλbと異なるλcの第3の光に対する前記フォトルミネッセンス層の屈折率をnwav-cとするとき、
前記少なくとも1つの周期構造は、周期をpcとすると、λc/nwav-c<pc<λcの関係が成り立つ第3周期構造をさらに含み、
前記波長λcは、青色の波長帯域に属する、
項目43に記載の表示装置。
[Item 44]
When the refractive index of the photoluminescence layer for the third light having a wavelength λ c different from λ a and λ b in the air is n wav-c ,
Wherein at least one of the periodic structure, when the period as p c, further comprises a third periodic structure relationship holds for λ c / n wav-c < p c <λ c,
The wavelength λ c belongs to the blue wavelength band,
Item 44. The display device according to Item 43.

[項目45]
前記励起光源は、青色の波長帯域の光を発する、項目43または44に記載の表示装置。
[Item 45]
Item 45. The display device according to Item 43 or 44, wherein the excitation light source emits light in a blue wavelength band.

[項目46]
励起光源と、
前記励起光源からの励起光の光路上に位置する発光素子と、
前記発光素子からの光を取り込み、外部に出射するように配置された導光板と、を備え、
前記発光素子は、
前記励起光を受けて空気中の波長がλaの第1の光を含む光を発するフォトルミネッセンス層と、
前記フォトルミネッセンス層に近接して配置された透光層と、
前記フォトルミネッセンス層および前記透光層の少なくとも一方の表面に形成された表面構造と、を有し、
前記表面構造は、複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方を含み、空気中の波長がλaの前記第1の光の指向角を制限する、
発光装置。
[Item 46]
An excitation light source;
A light emitting element located on an optical path of excitation light from the excitation light source;
A light guide plate arranged to take in light from the light emitting element and emit it to the outside,
The light emitting element is
A photoluminescence layer that receives the excitation light and emits light including first light having a wavelength of λ a in air;
A translucent layer disposed proximate to the photoluminescence layer;
A surface structure formed on at least one surface of the photoluminescence layer and the translucent layer, and
The surface structure includes at least one of a plurality of convex portions and a plurality of concave portions, and restricts a directivity angle of the first light having a wavelength in air of λa.
Light emitting device.

[項目47]
励起光源と、
前記励起光源からの励起光を取り込み、外部に出射するように配置された導光板と、
前記導光板から出射された前記励起光の光路上に位置する発光素子と、を備え、
前記発光素子は、
前記励起光を受けて空気中の波長がλaの第1の光を含む光を発するフォトルミネッセンス層と、
前記フォトルミネッセンス層に近接して配置された透光層と、
前記フォトルミネッセンス層および前記透光層の少なくとも一方の表面に形成された表面構造と、を有し、
前記表面構造は、複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方を含み、空気中の波長がλaの前記第1の光の指向角を制限する、
発光装置。
[Item 47]
An excitation light source;
A light guide plate arranged to take in the excitation light from the excitation light source and emit it to the outside;
A light emitting element located on the optical path of the excitation light emitted from the light guide plate,
The light emitting element is
A photoluminescence layer that receives the excitation light and emits light including first light having a wavelength of λ a in air;
A translucent layer disposed proximate to the photoluminescence layer;
A surface structure formed on at least one surface of the photoluminescence layer and the translucent layer, and
The surface structure includes at least one of a plurality of convex portions and a plurality of concave portions, and restricts a directivity angle of the first light having a wavelength in air of λa.
Light emitting device.

[項目48]
前記フォトルミネッセンス層と前記透光層とが互いに接している、項目46または47に記載の発光装置。
[Item 48]
48. The light-emitting device according to item 46 or 47, wherein the photoluminescence layer and the translucent layer are in contact with each other.

[項目49]
励起光源と、
前記励起光源からの励起光の光路上に位置する発光素子と、
前記発光素子からの光を取り込み、外部に出射するように配置された導光板と、を備え、
前記発光素子は、
前記励起光を受けて空気中の波長がλaの第1の光を含む光を発するフォトルミネッセンス層と、
前記フォトルミネッセンス層の表面に形成された表面構造と、を有し、
前記表面構造は、複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方を含み、空気中の波長がλaの前記第1の光の指向角を制限する、
発光装置。
[Item 49]
An excitation light source;
A light emitting element located on an optical path of excitation light from the excitation light source;
A light guide plate arranged to take in light from the light emitting element and emit it to the outside,
The light emitting element is
A photoluminescence layer that receives the excitation light and emits light including first light having a wavelength of λ a in air;
A surface structure formed on the surface of the photoluminescence layer,
The surface structure includes at least one of a plurality of convex portions and a plurality of concave portions, and restricts a directivity angle of the first light having a wavelength in air of λa.
Light emitting device.

[項目50]
励起光源と、
前記励起光源からの励起光を取り込み、外部に出射するように配置された導光板と、
前記導光板から出射された前記励起光の光路上に位置する発光素子と、を備え、
前記発光素子は、
前記励起光を受けて空気中の波長がλaの第1の光を含む光を発するフォトルミネッセンス層と、
前記フォトルミネッセンス層の表面に形成された表面構造と、を有し、
前記表面構造は、複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方を含み、空気中の波長がλaの前記第1の光の指向角を制限する、
発光装置。
[Item 50]
An excitation light source;
A light guide plate arranged to take in the excitation light from the excitation light source and emit it to the outside;
A light emitting element located on the optical path of the excitation light emitted from the light guide plate,
The light emitting element is
A photoluminescence layer that receives the excitation light and emits light including first light having a wavelength of λ a in air;
A surface structure formed on the surface of the photoluminescence layer,
The surface structure includes at least one of a plurality of convex portions and a plurality of concave portions, and restricts a directivity angle of the first light having a wavelength in air of λa.
Light emitting device.

[項目51]
前記表面構造における隣接する2つの凸部または隣接する2つの凹部の中心間距離をDintとし、前記第1の光に対する前記フォトルミネッセンス層の屈折率をnwav-aとすると、λa/nwav-a<Dint<λaの関係が成り立つ、項目46から50のいずれかに記載の発光装置。
[Item 51]
If the distance between the centers of two adjacent convex portions or two adjacent concave portions in the surface structure is D int and the refractive index of the photoluminescence layer with respect to the first light is n wav-a , λ a / n 51. The light emitting device according to any one of items 46 to 50, wherein a relationship of wav-a <D int <λa is established.

[項目52]
前記表面構造は、少なくとも1つの周期構造を含み、前記少なくとも1つの周期構造は、周期をpaとすると、λa/nwav-a<pa<λaの関係が成り立つ第1周期構造を含む、
項目46から51のいずれかに記載の発光装置。
[Item 52]
The surface structure comprises at least one periodic structure, wherein the at least one periodic structure, when the period as p a, a λ a / n wav-a < p a <λ first periodic structure relationship holds for a Including,
Item 52. The light emitting device according to any one of Items 46 to 51.

[項目53]
前記フォトルミネッセンス層が発する光は、空気中の波長がλaと異なるλbの第2の光を含み、前記第2の光に対する前記フォトルミネッセンス層の屈折率をnwav-bとするとき、
前記少なくとも1つの周期構造は、周期をpbとすると、λb/nwav-b<pb<λbの関係が成り立つ第2周期構造をさらに含み、
前記波長λaは、赤色の波長帯域に属し、
前記波長λbは、緑色の波長帯域に属する、
項目52に記載の発光装置。
[Item 53]
The light emitted from the photoluminescence layer includes second light having a wavelength λ b different from λ a in the air, and the refractive index of the photoluminescence layer with respect to the second light is n wav-b ,
Wherein at least one of the periodic structure, when the period as p b, further comprising a λ b / n wav-b < p b <λ b second periodic structure relationship holds for,
The wavelength λ a belongs to the red wavelength band,
The wavelength λ b belongs to the green wavelength band,
Item 53. The light emitting device according to Item 52.

[項目54]
空気中の波長がλaおよびλbと異なるλcの第3の光に対する前記フォトルミネッセンス層の屈折率をnwav-cとするとき、
前記少なくとも1つの周期構造は、周期をpcとすると、λc/nwav-c<pc<λcの関係が成り立つ第3周期構造をさらに含み、
前記波長λcは、青色または黄色の波長帯域に属する、
項目53に記載の発光装置。
[Item 54]
When the refractive index of the photoluminescence layer for the third light having a wavelength λ c different from λ a and λ b in the air is n wav-c ,
Wherein at least one of the periodic structure, when the period as p c, further comprises a third periodic structure relationship holds for λ c / n wav-c < p c <λ c,
The wavelength λ c belongs to a blue or yellow wavelength band,
Item 54. The light emitting device according to Item 53.

[項目55]
前記励起光源は、青色の波長帯域の光を発する、項目53または54に記載の発光装置。
[Item 55]
Item 55. The light emitting device according to Item 53 or 54, wherein the excitation light source emits light in a blue wavelength band.

[項目56]
項目5に記載の発光装置と、
前記発光装置を収納する筐体と、
を備え、
前記波長λ c は、黄色の波長帯域に属する、
信号機。
[Item 56]
Item 54, a light-emitting device according to item 4 , and
A housing for housing the light emitting device;
With
The wavelength λ c belongs to a yellow wavelength band,
traffic lights.

[項目57]
励起光源と、
前記励起光源からの励起光の光路上に位置する発光素子と、
前記発光素子からの光の光路上に位置する光学シャッタと、を備え、
前記発光素子は、
透光層と、
前記透光層の表面に形成され、複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方を含む表面構造と、
前記表面構造に近接して配置され、前記励起光を受けて空気中の波長がλaの第1の光を含む光を発するフォトルミネッセンス層と、を有し、
前記表面構造は、空気中の波長がλaの前記第1の光の指向角を制限する、
表示装置。
[Item 57]
An excitation light source;
A light emitting element located on an optical path of excitation light from the excitation light source;
An optical shutter positioned on an optical path of light from the light emitting element,
The light emitting element is
A translucent layer;
A surface structure formed on the surface of the light-transmitting layer and including at least one of a plurality of convex portions and a plurality of concave portions;
A photoluminescence layer that is disposed in proximity to the surface structure and emits light including first light having a wavelength of λ a in the air upon receiving the excitation light;
The surface structure limits a directivity angle of the first light having a wavelength λ a in the air;
Display device.

[項目58]
励起光源と、
前記励起光源からの励起光の光路上に位置する発光素子と、
前記発光素子からの光の光路上に位置する光学シャッタと、を備え、
前記発光素子は、
前記励起光を受けて空気中の波長がλaの第1の光を含む光を発するフォトルミネッセンス層と、
前記フォトルミネッセンス層よりも高い屈折率を有する透光層と、
前記透光層の表面に形成され、複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方を含む表面構造と、を有し、
前記表面構造は、空気中の波長がλaの前記第1の光の指向角を制限する、
表示装置。
[Item 58]
An excitation light source;
A light emitting element located on an optical path of excitation light from the excitation light source;
An optical shutter positioned on an optical path of light from the light emitting element,
The light emitting element is
A photoluminescence layer that receives the excitation light and emits light including first light having a wavelength of λ a in air;
A translucent layer having a higher refractive index than the photoluminescent layer;
A surface structure formed on the surface of the translucent layer and including at least one of a plurality of convex portions and a plurality of concave portions, and
The surface structure limits a directivity angle of the first light having a wavelength λ a in the air;
Display device.

[項目59]
前記フォトルミネッセンス層と前記透光層とが互いに接している、項目57または58に記載の表示装置。
[Item 59]
59. A display device according to item 57 or 58, wherein the photoluminescence layer and the translucent layer are in contact with each other.

[項目60]
前記表面構造における隣接する2つの凸部または隣接する2つの凹部の中心間距離をDintとし、前記第1の光に対する前記フォトルミネッセンス層の屈折率をnwav-aとすると、λa/nwav-a<Dint<λaの関係が成り立つ、項目57から59のいずれかに記載の表示装置。
[Item 60]
If the distance between the centers of two adjacent convex portions or two adjacent concave portions in the surface structure is D int and the refractive index of the photoluminescence layer with respect to the first light is n wav-a , λ a / n The display device according to any one of items 57 to 59, wherein a relationship of wav-a < Dint <λa is established.

[項目61]
前記表面構造は、少なくとも1つの周期構造を含み、前記少なくとも1つの周期構造は、周期をpaとすると、λa/nwav-a<pa<λaの関係が成り立つ第1周期構造を含む、
項目57から59のいずれかに記載の表示装置。
[Item 61]
The surface structure comprises at least one periodic structure, wherein the at least one periodic structure, when the period as p a, a λ a / n wav-a < p a <λ first periodic structure relationship holds for a Including,
Item 60. The display device according to any one of Items 57 to 59.

[項目62]
励起光源と、
前記励起光源からの励起光の光路上に位置する発光素子と、
前記発光素子からの光を取り込み、外部に出射するように配置された導光板と、を備え、
前記発光素子は、
透光層と、
前記透光層の表面に形成され、複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方を含む表面構造と、
前記表面構造に近接して配置され、前記励起光を受けて空気中の波長がλaの第1の光を含む光を発するフォトルミネッセンス層と、を有し、
前記表面構造は、空気中の波長がλaの前記第1の光の指向角を制限する、
発光装置。
[Item 62]
An excitation light source;
A light emitting element located on an optical path of excitation light from the excitation light source;
A light guide plate arranged to take in light from the light emitting element and emit it to the outside,
The light emitting element is
A translucent layer;
A surface structure formed on the surface of the light-transmitting layer and including at least one of a plurality of convex portions and a plurality of concave portions;
A photoluminescence layer that is disposed in proximity to the surface structure and emits light including first light having a wavelength of λ a in the air upon receiving the excitation light;
The surface structure limits a directivity angle of the first light having a wavelength λ a in the air;
Light emitting device.

[項目63]
励起光源と、
前記励起光源からの励起光の光路上に位置する発光素子と、
前記発光素子からの光を取り込み、外部に出射するように配置された導光板と、を備え、
前記発光素子は、
前記励起光を受けて空気中の波長がλaの第1の光を含む光を発するフォトルミネッセンス層と、
前記フォトルミネッセンス層よりも高い屈折率を有する透光層と、
前記透光層の表面に形成され、複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方を含む表面構造と、を有し、
前記表面構造は、空気中の波長がλaの前記第1の光の指向角を制限する、
発光装置。
[Item 63]
An excitation light source;
A light emitting element located on an optical path of excitation light from the excitation light source;
A light guide plate arranged to take in light from the light emitting element and emit it to the outside,
The light emitting element is
A photoluminescence layer that receives the excitation light and emits light including first light having a wavelength of λ a in air;
A translucent layer having a higher refractive index than the photoluminescent layer;
A surface structure formed on the surface of the translucent layer and including at least one of a plurality of convex portions and a plurality of concave portions, and
The surface structure limits a directivity angle of the first light having a wavelength λ a in the air;
Light emitting device.

[項目64]
励起光源と、
前記励起光源からの励起光を取り込み、外部に出射するように配置された導光板と、
前記導光板から出射された前記励起光の光路上に位置する発光素子と、を備え、
前記発光素子は、
透光層と、
前記透光層の表面に形成され、複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方を含む表面構造と、
前記表面構造に近接して配置され、前記励起光を受けて空気中の波長がλaの第1の光を含む光を発するフォトルミネッセンス層と、を有し、
前記表面構造は、空気中の波長がλaの前記第1の光の指向角を制限する、
発光装置。
[Item 64]
An excitation light source;
A light guide plate arranged to take in the excitation light from the excitation light source and emit it to the outside;
A light emitting element located on the optical path of the excitation light emitted from the light guide plate,
The light emitting element is
A translucent layer;
A surface structure formed on the surface of the light-transmitting layer and including at least one of a plurality of convex portions and a plurality of concave portions;
A photoluminescence layer that is disposed in proximity to the surface structure and emits light including first light having a wavelength of λ a in the air upon receiving the excitation light;
The surface structure limits a directivity angle of the first light having a wavelength λ a in the air;
Light emitting device.

[項目65]
励起光源と、
前記励起光源からの励起光を取り込み、外部に出射するように配置された導光板と、
前記導光板から出射された前記励起光の光路上に位置する発光素子と、を備え、
前記発光素子は、
前記励起光を受けて空気中の波長がλaの第1の光を含む光を発するフォトルミネッセ
ンス層と、
前記フォトルミネッセンス層よりも高い屈折率を有する透光層と、
前記透光層の表面に形成され、複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方を含む表面構造と、を有し、
前記表面構造は、空気中の波長がλaの前記第1の光の指向角を制限する、
発光装置。
[Item 65]
An excitation light source;
A light guide plate arranged to take in the excitation light from the excitation light source and emit it to the outside;
A light emitting element located on the optical path of the excitation light emitted from the light guide plate,
The light emitting element is
A photoluminescence layer that receives the excitation light and emits light including first light having a wavelength of λ a in air;
A translucent layer having a higher refractive index than the photoluminescent layer;
A surface structure formed on the surface of the translucent layer and including at least one of a plurality of convex portions and a plurality of concave portions, and
The surface structure limits a directivity angle of the first light having a wavelength λ a in the air;
Light emitting device.

[項目66]
前記フォトルミネッセンス層と前記透光層とが互いに接している、項目62から65のいずれかに記載の発光装置。
[Item 66]
66. The light emitting device according to any one of items 62 to 65, wherein the photoluminescence layer and the translucent layer are in contact with each other.

[項目67]
励起光源と、
前記励起光源からの励起光の光路上に位置する発光素子と、
前記発光素子からの光の光路上に位置する反射ミラーと、を備え、
前記発光素子は、
前記励起光を受けて空気中の波長がλaの第1の光を含む光を発するフォトルミネッ
センス層と、
前記フォトルミネッセンス層に近接して配置された透光層と、
前記フォトルミネッセンス層および前記透光層の少なくとも一方の表面に形成された表面構造と、を有し、
前記表面構造は、複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方を含み、空気中の波長がλaの前記第1の光の指向角を制限する、
発光装置。
[Item 67]
An excitation light source;
A light emitting element located on an optical path of excitation light from the excitation light source;
A reflection mirror located on the optical path of the light from the light emitting element,
The light emitting element is
A photoluminescence layer that receives the excitation light and emits light including first light having a wavelength of λ a in air;
A translucent layer disposed proximate to the photoluminescence layer;
A surface structure formed on at least one surface of the photoluminescence layer and the translucent layer, and
The surface structure includes at least one of a plurality of convex portions and a plurality of concave portions, and restricts a directivity angle of the first light having a wavelength in air of λa.
Light emitting device.

[項目68]
励起光源と、
前記励起光源からの励起光の光路上に位置するマイクロミラーと、
前記マイクロミラーによって反射された前記励起光の光路上に位置する発光素子と、を備え、
前記発光素子は、
前記励起光を受けて空気中の波長がλaの第1の光を含む光を発するフォトルミネッ
センス層と、
前記フォトルミネッセンス層に近接して配置された透光層と、
前記フォトルミネッセンス層および前記透光層の少なくとも一方の表面に形成された表面構造と、を有し、
前記表面構造は、複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方を含み、空気中の波長がλaの前記第1の光の指向角を制限する、
発光装置。
[Item 68]
An excitation light source;
A micromirror located on the optical path of the excitation light from the excitation light source;
A light emitting element positioned on the optical path of the excitation light reflected by the micromirror,
The light emitting element is
A photoluminescence layer that receives the excitation light and emits light including first light having a wavelength of λ a in air;
A translucent layer disposed proximate to the photoluminescence layer;
A surface structure formed on at least one surface of the photoluminescence layer and the translucent layer, and
The surface structure includes at least one of a plurality of convex portions and a plurality of concave portions, and restricts a directivity angle of the first light having a wavelength in air of λa.
Light emitting device.

[項目69]
前記表面構造における隣接する2つの凸部または隣接する2つの凹部の中心間距離をDintとし、前記第1の光に対する前記フォトルミネッセンス層の屈折率をnwav-aとすると、λa/nwav-a<Dint<λaの関係が成り立つ、項目62から68のいずれかに記載の発光装置。
[Item 69]
If the distance between the centers of two adjacent convex portions or two adjacent concave portions in the surface structure is D int and the refractive index of the photoluminescence layer with respect to the first light is n wav-a , λ a / n 69. The light emitting device according to any one of items 62 to 68, wherein a relationship of wav-a < Dint <λa is established.

[項目70]
前記表面構造は、少なくとも1つの周期構造を含み、前記少なくとも1つの周期構造は、周期をpaとすると、λa/nwav-a<pa<λaの関係が成り立つ第1周期構造を含む、
項目62から68のいずれかに記載の発光装置。
[Item 70]
The surface structure comprises at least one periodic structure, wherein the at least one periodic structure, when the period as p a, a λ a / n wav-a < p a <λ first periodic structure relationship holds for a Including,
Item 69. The light emitting device according to any one of Items 62 to 68.

[項目71]
励起光源と、
前記励起光源からの励起光の光路上に位置する発光素子と、
前記発光素子を回転させる機構と、を備え、
前記発光素子は、
前記機構に連結された中心部と、
前記中心部の周囲に位置する第1から第3の領域と、を有し、
前記第1および第2の領域の各々は、
前記励起光によって発光するフォトルミネッセンス層と、
前記フォトルミネッセンス層に近接して配置された透光層と、
前記フォトルミネッセンス層および前記透光層の少なくとも一方に形成された少なくとも1つの周期構造と、を有し、
前記周期構造は、複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方を含み、
前記第1の領域における前記フォトルミネッセンス層が発する光は、空気中の波長がλaの第1の光を含み、前記第1の領域における隣接する凸部間または凹部間の距離をDint-aとし、前記第1の光に対する前記フォトルミネッセンス層の屈折率をnwav-aとすると
、λa/nwav-a<Dint-a<λaの関係が成り立ち、
前記第2の領域における前記フォトルミネッセンス層が発する光は、空気中の波長がλbの第2の光を含み、前記第2の領域における隣接する凸部間または凹部間の距離をDint-bとし、前記第2の光に対する前記フォトルミネッセンス層の屈折率をnwav-bとすると
、λb/nwav-b<Dint-b<λbの関係が成り立ち、
前記第3の領域は、透明領域であり、
前記励起光源は、前記機構が前記発光素子を回転させているとき、前記第1から第3の領域に前記励起光を順次入射させる、
照明装置。
[Item 71]
An excitation light source;
A light emitting element located on an optical path of excitation light from the excitation light source;
A mechanism for rotating the light emitting element,
The light emitting element is
A central portion coupled to the mechanism;
First to third regions located around the central portion,
Each of the first and second regions is
A photoluminescence layer that emits light by the excitation light;
A translucent layer disposed proximate to the photoluminescence layer;
And at least one periodic structure formed on at least one of the photoluminescence layer and the translucent layer,
The periodic structure includes at least one of a plurality of convex portions and a plurality of concave portions,
The light emitted from the photoluminescence layer in the first region includes first light having a wavelength λ a in the air, and the distance between adjacent convex portions or concave portions in the first region is expressed as D int− a and the refractive index of the photoluminescence layer with respect to the first light is n wav-a , the relationship of λ a / n wav-a <D int-aa holds.
The light emitted from the photoluminescence layer in the second region includes second light having a wavelength λ b in the air, and the distance between adjacent convex portions or concave portions in the second region is expressed as D int−. b and the refractive index of the photoluminescence layer with respect to the second light is n wav-b , the relationship of λ b / n wav-b <D int-bb holds,
The third region is a transparent region;
The excitation light source sequentially enters the excitation light into the first to third regions when the mechanism rotates the light emitting element.
Lighting device.

[項目72]
前記波長λaは、赤の波長帯域に含まれ、
前記波長λbは、緑の波長帯域に含まれ、
前記励起光は、青の波長帯域の光を出射する、
項目71に記載の照明装置。
[Item 72]
The wavelength λ a is included in the red wavelength band,
The wavelength λ b is included in the green wavelength band,
The excitation light emits light in a blue wavelength band.
72. The lighting device according to item 71.

[項目73]
一列に配列された第1から第3の発光領域を有するフォトルミネッセンス層と、
前記フォトルミネッセンス層に近接して配置された透光層と、
前記フォトルミネッセンス層および前記透光層の少なくとも一方の表面に形成され、複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方を含む表面構造と、
を有し、
前記第1の発光領域は、励起光を受けて空気中の波長がλaの第1の光を発生させ、
前記第2の発光領域は、励起光を受けて空気中の波長がλbの第2の光を発生させ、
前記第3の発光領域は、励起光を受けて空気中の波長がλcの第3の光を発生させ、
前記表面構造は、前記第1の発光領域から生じた前記第1の光の指向角を制限する第1の部分と、前記第2の発光領域から生じた前記第2の光の指向角を制限する第2の部分と、前記第3の発光領域から生じた前記第3の光の指向角を制限する第3の部分と、を有し、
前記波長λaは、赤の波長帯域に含まれ、
前記波長λbは、緑の波長帯域に含まれ、
前記波長λcは、黄の波長帯域に含まれる、
信号機。
[Item 73]
A photoluminescent layer having first to third light emitting regions arranged in a row;
A translucent layer disposed proximate to the photoluminescence layer;
A surface structure formed on at least one surface of the photoluminescence layer and the translucent layer and including at least one of a plurality of convex portions and a plurality of concave portions;
Have
The first light emitting region receives excitation light and generates first light having a wavelength λ a in the air,
The second light emitting region receives excitation light and generates second light having a wavelength λ b in the air,
The third light emitting region receives excitation light and generates third light having a wavelength λ c in the air,
The surface structure limits a directivity angle of the first light generated from the first light emission region and a directivity angle of the second light generated from the second light emission region. And a third part for limiting a directivity angle of the third light generated from the third light emitting region, and
The wavelength λ a is included in the red wavelength band,
The wavelength λ b is included in the green wavelength band,
The wavelength λ c is included in the yellow wavelength band,
traffic lights.

[項目74]
一列に配列された第1および第2の発光領域を有するフォトルミネッセンス層と、
前記フォトルミネッセンス層に近接して配置された透光層と、
前記フォトルミネッセンス層および前記透光層の少なくとも一方の表面に形成され、複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方を含む表面構造と、
を有し、
前記第1の発光領域は、励起光を受けて空気中の波長がλaの第1の光を発生させ、
前記第2の発光領域は、励起光を受けて空気中の波長がλbの第2の光を発生させ、
前記表面構造は、前記第1の発光領域から生じた前記第1の光の指向角を制限する第1の部分と、前記第2の発光領域から生じた前記第2の光の指向角を制限する第2の部分と、を有し、
前記波長λaは、赤の波長帯域に含まれ、
前記波長λbは、緑の波長帯域に含まれる、
信号機。
[Item 74]
A photoluminescent layer having first and second light emitting regions arranged in a row;
A translucent layer disposed proximate to the photoluminescence layer;
A surface structure formed on at least one surface of the photoluminescence layer and the translucent layer and including at least one of a plurality of convex portions and a plurality of concave portions;
Have
The first light emitting region receives excitation light and generates first light having a wavelength λ a in the air,
The second light emitting region receives excitation light and generates second light having a wavelength λ b in the air,
The surface structure limits a directivity angle of the first light generated from the first light emission region and a directivity angle of the second light generated from the second light emission region. A second part to be
The wavelength λ a is included in the red wavelength band,
The wavelength λ b is included in the green wavelength band.
traffic lights.

[項目75]
植物を載置する載置台と、
前記植物に向けて光を照射する発光素子と、
を備え、
前記発光素子は、
空気中の波長がλaの光を発するフォトルミネッセンス層と、
前記フォトルミネッセンス層に近接して配置された透光層と、
前記フォトルミネッセンス層および前記透光層の少なくとも一方の表面に形成された表面構造であって、複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方を含み、空気中の波長がλaの前記光の指向角を制限する表面構造と、
を有する、
植物用発光装置。
[Item 75]
A mounting table for mounting plants;
A light emitting element that emits light toward the plant;
With
The light emitting element is
A photoluminescence layer that emits light having a wavelength λ a in air;
A translucent layer disposed proximate to the photoluminescence layer;
A surface structure formed on at least one surface of the photoluminescence layer and the light-transmitting layer, including at least one of a plurality of convex portions and a plurality of concave portions, and directing the light having a wavelength of λ a in the air A surface structure that limits the corners;
Having
Light emitting device for plants.

[項目76]
植物を載置する載置台と、
前記植物に向けて第1の光を照射する第1の発光素子と、
前記植物に向けて第2の光を照射する第2の発光素子と、
を備え、
前記第1の発光素子は、
空気中の波長がλaの光を発する第1のフォトルミネッセンス層と、
前記第1のフォトルミネッセンス層に近接して配置された第1の透光層と、
前記第1のフォトルミネッセンス層および前記第1の透光層の少なくとも一方の表面に形成された第1の表面構造であって、複数の第1凸部および複数の第1凹部の少なくとも一方を含み、空気中の波長がλaの前記光の指向角を制限する第1の表面構造と、
を有し、
前記第2の発光素子は、
空気中の波長がλaとは異なるλbの光を発する第2のフォトルミネッセンス層と、
前記第2のフォトルミネッセンス層に近接して配置された第2の透光層と、
前記第2のフォトルミネッセンス層および前記第2の透光層の少なくとも一方の表面に形成された第2の表面構造であって、複数の第2凸部および複数の第2凹部の少なくとも一方を含み、空気中の波長がλ b の前記光の指向角を制限する第2の表面構造と、
を有する、
植物用発光装置。
[Item 76]
A mounting table for mounting plants;
A first light emitting element that emits a first light toward the plant;
A second light emitting element that emits second light toward the plant;
With
The first light emitting element includes:
A first photoluminescence layer emitting light having a wavelength λ a in air;
A first light transmissive layer disposed proximate to the first photoluminescence layer;
A first surface structure formed on at least one surface of the first photoluminescence layer and the first light-transmitting layer, including at least one of a plurality of first protrusions and a plurality of first recesses. A first surface structure that limits a directivity angle of the light having a wavelength λ a in the air;
Have
The second light emitting element is:
A second photoluminescence layer that emits light having a wavelength λ b different from λ a in air;
A second light transmissive layer disposed proximate to the second photoluminescence layer;
A second surface structure formed on at least one surface of the second photoluminescence layer and the second light-transmitting layer, including at least one of a plurality of second convex portions and a plurality of second concave portions. A second surface structure that limits a directivity angle of the light having a wavelength of λ b in the air;
Having
Light emitting device for plants.

[項目77]
発光装置と、
イメージセンサーと、
前記発光装置および前記イメージセンサーを制御する制御回路と、
を備え、
前記発光装置は、
空気中の波長がλaの光を発するフォトルミネッセンス層と、
前記フォトルミネッセンス層に近接して配置された透光層と、
前記フォトルミネッセンス層および前記透光層の少なくとも一方の表面に形成された表面構造であって、複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方を含み、空気中の波長がλaの前記光の指向角を制限する表面構造と、
を有し、
前記制御回路は、前記発光装置に前記波長λaを含む波長帯域のパルス光を出射させな
がら、前記イメージセンサーに撮像させ、前記発光装置から出射された前記パルス光と、前記パルス光が対象物で反射されて前記イメージセンサーで検出された光との間の位相差に基づいて、前記対象物までの距離を検出する、
距離センサー。
[Item 77]
A light emitting device;
An image sensor,
A control circuit for controlling the light emitting device and the image sensor;
With
The light emitting device
A photoluminescence layer that emits light having a wavelength λ a in air;
A translucent layer disposed proximate to the photoluminescence layer;
A surface structure formed on at least one surface of the photoluminescence layer and the light-transmitting layer, including at least one of a plurality of convex portions and a plurality of concave portions, and directing the light having a wavelength of λ a in the air A surface structure that limits the corners;
Have
Wherein the control circuit, while emitting pulse light in the wavelength band including the wavelength lambda a to the light emitting device, the image sensor is captured, and the pulsed light emitted from the light emitting device, the pulsed light object Detecting a distance to the object based on a phase difference between the light reflected by the image sensor and detected by the image sensor;
Distance sensor.

[項目78]
前記波長λaは、近赤外線の波長帯域に属する、項目77に記載の距離センサー。
[Item 78]
The distance sensor according to Item 77, wherein the wavelength λ a belongs to a wavelength band of near infrared rays.

本開示の実施形態による発光素子は、前記励起光を受けて空気中の波長がλaの光を発するフォトルミネッセンス層と、前記フォトルミネッセンス層に近接して配置された透光層と、前記フォトルミネッセンス層および前記透光層の少なくとも一方の表面に形成され、複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方を含む表面構造と、を有し、前記表面構造は、前記フォトルミネッセンス層が発する空気中の波長がλaの前記光の指向角を制限する。波長λaは、例えば、可視光の波長範囲内(例えば、380nm以上780nm以下)にある。赤外線を利用する用途では、波長λaは、780nmを超える場合もあり得る。一方、紫外線を利用する用途では、波長λaは、380nm未満の場合もあり得る。
本開示では、赤外線および紫外線を含めた電磁波全般を、便宜上「光」と表現する。
A light emitting device according to an embodiment of the present disclosure includes a photoluminescence layer that receives the excitation light and emits light having a wavelength of λa in the air, a translucent layer disposed in proximity to the photoluminescence layer, and the photoluminescence layer. A surface structure including at least one of a plurality of protrusions and a plurality of recesses formed on at least one surface of the luminescence layer and the light-transmitting layer, and the surface structure is in the air emitted by the photoluminescence layer Restricts the directivity angle of the light whose wavelength is λ a . The wavelength λ a is, for example, in the wavelength range of visible light (for example, 380 nm to 780 nm). In applications that use infrared, the wavelength λ a may exceed 780 nm. On the other hand, in applications using ultraviolet light, the wavelength λ a may be less than 380 nm.
In this disclosure, electromagnetic waves in general including infrared rays and ultraviolet rays are expressed as “light” for convenience.

フォトルミネッセンス層は、フォトルミネッセンス材料を含む。フォトルミネッセンス材料は、励起光を受けて発光する材料を意味する。フォトルミネッセンス材料は、狭義の蛍光材料および燐光材料を包含し、無機材料だけなく、有機材料(例えば色素)を包含し、さらには、量子ドット(即ち、半導体微粒子)を包含する。フォトルミネッセンス層は、フォトルミネッセンス材料に加えて、マトリクス材料(即ち、ホスト材料)を含んでもよい。マトリクス材料は、例えば、ガラスや酸化物などの無機材料や樹脂である。   The photoluminescent layer includes a photoluminescent material. The photoluminescent material means a material that emits light upon receiving excitation light. The photoluminescent material includes a fluorescent material and a phosphorescent material in a narrow sense, includes not only an inorganic material but also an organic material (for example, a dye), and further includes a quantum dot (that is, a semiconductor fine particle). The photoluminescent layer may include a matrix material (ie, host material) in addition to the photoluminescent material. The matrix material is, for example, an inorganic material such as glass or oxide, or a resin.

フォトルミネッセンス層に近接して配置される透光層は、フォトルミネッセンス層が発する光に対して透過率が高い材料、例えば、無機材料や樹脂で形成される。透光層は、例えば誘電体(特に、光の吸収が少ない絶縁体)で形成され得る。透光層は、例えば、フォトルミネッセンス層を支持する基板であってよい。フォトルミネッセンス層の空気側の表面がサブミクロン構造を有する場合、空気層が透光層となり得る。   The light-transmitting layer disposed in the vicinity of the photoluminescence layer is formed of a material having a high transmittance with respect to light emitted from the photoluminescence layer, for example, an inorganic material or a resin. The light transmitting layer can be formed of, for example, a dielectric (particularly, an insulator that absorbs little light). The light transmissive layer may be, for example, a substrate that supports the photoluminescence layer. When the air-side surface of the photoluminescence layer has a submicron structure, the air layer can be a light-transmitting layer.

フォトルミネッセンス層および透光層の少なくとも一方の表面には、複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方を含む表面構造が形成される。ここで「表面」とは、他の物質と接している部分(即ち界面)を意味する。透光層が空気等の気体の層である場合は、その気体の層と他の物質(例えばフォトルミネッセンス層)との間の界面が、透光層の表面である。この表面構造は、「凹凸構造」と称することもできる。表面構造は、典型的には、複数の凸部または複数の凹部が一次元または二次元に周期的に配列された部分を含む。そのような表面構造は、「周期構造」と称することができる。複数の凸部および複数の凹部は、互いに接する2つの屈折率の異なる部材(または媒質)の境界に形成される。したがって、「周期構造」は、ある方向に屈折率が周期的に変動する部分を含む構造といえる。ここで「周期的」とは、厳密に周期的である態様に限定されず、近似的に周期的であるといえる態様を含む。本明細書において、連続する複数の凸部または凹部のうち、隣接する2つの中心間の距離(以下、「中心間隔」と称することがある。)が、いずれの2つの隣接する凸部または凹部についても、ある値pの±15%以内の範囲に収まっているとき、その部分は、周期pを有する周期構造であると考える。   A surface structure including at least one of a plurality of convex portions and a plurality of concave portions is formed on at least one surface of the photoluminescence layer and the light transmitting layer. Here, the “surface” means a portion in contact with another substance (that is, an interface). When the light-transmitting layer is a gas layer such as air, the interface between the gas layer and another substance (for example, a photoluminescence layer) is the surface of the light-transmitting layer. This surface structure can also be referred to as an “uneven structure”. The surface structure typically includes a portion in which a plurality of convex portions or a plurality of concave portions are periodically arranged in one or two dimensions. Such a surface structure can be referred to as a “periodic structure”. The plurality of convex portions and the plurality of concave portions are formed at the boundary between two members (or media) having different refractive indexes that are in contact with each other. Therefore, it can be said that the “periodic structure” includes a portion in which the refractive index periodically varies in a certain direction. Here, the term “periodic” is not limited to an aspect that is strictly periodic, but includes an aspect that can be said to be approximately periodic. In this specification, among a plurality of continuous convex portions or concave portions, a distance between two adjacent centers (hereinafter sometimes referred to as “center interval”) is any two adjacent convex portions or concave portions. Is also considered to be a periodic structure having a period p when it falls within a range of ± 15% of a certain value p.

本明細書において「凸部」は、基準の高さの部分に対して盛り上がった部分を意味する。「凹部」は、基準の高さの部分に対して窪んだ部分を意味する。凸部および凹部の形状、サイズ、分布によっては、いずれが凸部でいずれが凹部かが容易に判断できない場合があり得る。例えば、図65に示す断面図では、部材610が凹部を有し、部材620が凸部を有していると解釈することもできれば、その逆の解釈も可能である。どのように解釈したとしても、部材610および部材620の各々が、複数の凸部および凹部の少なくとも一方を有するといえることには変わりはない。   In the present specification, the “convex portion” means a raised portion with respect to a reference height portion. The “recessed portion” means a recessed portion with respect to a reference height portion. Depending on the shape, size, and distribution of the convex and concave portions, it may not be easy to determine which is the convex portion and which is the concave portion. For example, in the cross-sectional view shown in FIG. 65, it can be interpreted that the member 610 has a concave portion and the member 620 has a convex portion, or vice versa. Whatever the interpretation, it can be said that each of the member 610 and the member 620 has at least one of a plurality of convex portions and concave portions.

表面構造における隣接する2つの凸部または隣接する2つの凹部の中心間の距離(周期構造においては周期p)は、典型的にはフォトルミネッセンス層が発する光の空気中における波長λaよりも短い。フォトルミネッセンス層から発せられる光が可視光、短波長の近赤外線、または紫外線の場合、その距離はマイクロメートルのオーダー(即ちミクロンオーダー)よりも短い。よって、そのような表面構造を、「サブミクロン構造」と称することがある。「サブミクロン構造」が一部に1マイクロメートル(μm)を超える中心間隔または周期を有する部分を含んでいてもよい。以下の説明では、可視光を発するフォトルミネッセンス層を主に想定し、表面構造を意味する用語として「サブミクロン構造」の用語を主に用いる。しかし、サブミクロンオーダーを超える微細構造(例えば、赤外線を利用する用途で使用されるミクロンオーダーの微細構造)を有する表面構造についても、以下の議論は全く同様に成立する。 The distance between the centers of two adjacent convex portions or two adjacent concave portions in the surface structure (period p in the periodic structure) is typically shorter than the wavelength λ a of the light emitted from the photoluminescence layer in the air. . When the light emitted from the photoluminescence layer is visible light, short-wavelength near infrared light, or ultraviolet light, the distance is shorter than the order of micrometers (that is, the order of microns). Therefore, such a surface structure may be referred to as a “submicron structure”. A “submicron structure” may include a portion having a central interval or period exceeding 1 micrometer (μm) in part. In the following description, a photoluminescence layer that emits visible light is mainly assumed, and the term “submicron structure” is mainly used as a term meaning a surface structure. However, the following discussion holds true for the surface structure having a fine structure exceeding the sub-micron order (for example, a fine structure of the micron order used in applications using infrared rays).

本開示の実施形態による発光素子においては、後に計算結果および実験結果を参照して詳述するように、フォトルミネッセンス層および透光層の内部に、ユニークな電場分布を形成する。これは、導波光がサブミクロン構造(即ち表面構造)と相互作用して形成される。このような電場分布を形成する光のモードを「擬似導波モード」と表現することができる。この擬似導波モードを活用することで、以下で説明するように、フォトルミネッセンスの発光効率の増大、指向性の向上、偏光の選択性の効果を得ることができる。なお、以下の説明において、擬似導波モードという用語を使って、本発明者らが見出した、新規な構成および/または新規なメカニズムを説明することがある。その説明は、1つの例示的な説明に過ぎず、本開示をいかなる意味においても限定するものではない。   In the light emitting device according to the embodiment of the present disclosure, a unique electric field distribution is formed inside the photoluminescence layer and the light transmitting layer, as will be described in detail later with reference to calculation results and experimental results. This is formed by the guided light interacting with the submicron structure (ie, the surface structure). The mode of light forming such an electric field distribution can be expressed as a “pseudo-waveguide mode”. By utilizing this pseudo waveguide mode, as described below, it is possible to obtain the effects of increased photoluminescence emission efficiency, improved directivity, and polarization selectivity. In the following description, the term pseudo-waveguide mode may be used to describe a new configuration and / or a new mechanism found by the present inventors. The description is merely one illustrative description and should not limit the present disclosure in any way.

サブミクロン構造は、例えば複数の凸部を含み、隣接する凸部間の中心間距離をDintとすると、λa/nwav-a<Dint<λaの関係を満足し得る。サブミクロン構造は、複数の凸部に代えて複数の凹部を含んでもよい。以下では、簡単のために、サブミクロン構造が複数の凸部を有するものとして説明する。λは光の波長を表し、λaは空気中での光の波長であることを表現する。nwavはフォトルミネッセンス層の屈折率である。フォトルミネッセンス層が複数の材料を混合した媒質である場合、各材料の屈折率をそれぞれの体積比率で重み付けした平均屈折率をnwavとする。一般に屈折率nは波長に依存するので、λaの光に対する屈折率であることをnwav-aと明示することが望ましいが、簡単のために省略することがある。nwavは基本的にフォトルミネッセンス層の屈折率であるが、フォトルミネッセンス層に隣接する層の屈折率がフォトルミネッセンス層の屈折率よりも大きい場合、当該屈折率が大きい層の屈折率およびフォトルミネッセンス層の屈折率をそれぞれの体積比率で重み付けした平均屈折率をnwavとする。この場合は、光学的には、フォトルミネッセンス層が複数の異なる材料の層で構成されている場合と等価であるからである。 The submicron structure includes, for example, a plurality of convex portions, and can satisfy the relationship of λ a / n wav−a <D inta where D int is the distance between the centers of adjacent convex portions. The submicron structure may include a plurality of concave portions instead of the plurality of convex portions. Hereinafter, for the sake of simplicity, the submicron structure will be described as having a plurality of convex portions. λ represents the wavelength of light, and λ a represents the wavelength of light in the air. n wav is the refractive index of the photoluminescence layer. When the photoluminescence layer is a medium in which a plurality of materials are mixed, the average refractive index obtained by weighting the refractive index of each material by the respective volume ratio is defined as n wav . Since generally the refractive index n depends on the wavelength, that is a refractive index to light of lambda a it is desirable to express the n wav-a, may be omitted for simplicity. n wav is basically the refractive index of the photoluminescence layer. When the refractive index of the layer adjacent to the photoluminescence layer is larger than the refractive index of the photoluminescence layer, the refractive index and the photoluminescence of the layer having the larger refractive index are used. Let n wav be the average refractive index obtained by weighting the refractive indices of the layers by their respective volume ratios. This is because this is optically equivalent to the case where the photoluminescence layer is composed of a plurality of layers of different materials.

擬似導波モードの光に対する媒質の有効屈折率をneffとすると、na<neff<nwavを満たす。ここで、naは空気の屈折率である。擬似導波モードの光を、フォトルミネッセンス層の内部を入射角θで全反射しながら伝搬する光であると考えると、有効屈折率neffは、neff=nwavsinθと書ける。また、有効屈折率neffは、擬似導波モードの電場が分布する領域に存在する媒質の屈折率によって決まるので、例えば、サブミクロン構造が透光層に形成されている場合、フォトルミネッセンス層の屈折率だけでなく、透光層の屈折率にも依存する。また、擬似導波モードの偏光方向(TEモードとTMモード)により、電場の分布は異なるので、TEモードとTMモードとでは有効屈折率neffは異なり得る。 When the effective refractive index of the medium with respect to the light in the pseudo waveguide mode is n eff , n a <n eff <n wav is satisfied. Here, n a is the refractive index of air. Considering that the light in the quasi-waveguide mode propagates while totally reflecting inside the photoluminescence layer at the incident angle θ, the effective refractive index n eff can be written as n eff = n wav sin θ. Further, since the effective refractive index n eff is determined by the refractive index of the medium existing in the region where the electric field of the pseudo waveguide mode is distributed, for example, when the submicron structure is formed in the light transmitting layer, the photoluminescence layer It depends not only on the refractive index but also on the refractive index of the translucent layer. In addition, since the electric field distribution varies depending on the polarization direction of the pseudo waveguide mode (TE mode and TM mode), the effective refractive index n eff may be different between the TE mode and the TM mode.

サブミクロン構造は、フォトルミネッセンス層および透光層の少なくとも一方に形成される。フォトルミネッセンス層と透光層とが互いに接するとき、フォトルミネッセンス層と透光層との界面にサブミクロン構造が形成されてもよい。このとき、フォトルミネッセンス層および透光層がサブミクロン構造を有する。フォトルミネッセンス層はサブミクロン構造を有さなくてもよい。このとき、サブミクロン構造を有する透光層がフォトルミネッセンス層に近接して配置される。ここで、透光層(またはそのサブミクロン構造)がフォトルミネッセンス層に近接するとは、典型的には、これらの間の距離が、波長λaの半
分以下であることをいう。これにより、導波モードの電場がサブミクロン構造に到達し、擬似導波モードが形成される。ただし、透光層の屈折率がフォトルミネッセンス層の屈折率よりも大きいときには上記の関係を満足しなくても透光層まで光が到達するため、透光層のサブミクロン構造とフォトルミネッセンス層との間の距離は、波長λaの半分超であってもよい。本明細書では、フォトルミネッセンス層と透光層とが、導波モードの電場がサブミクロン構造に到達し、擬似導波モードが形成されるような配置関係にあるとき、両者が互いに関連付けられていると表現することがある。
The submicron structure is formed in at least one of the photoluminescence layer and the light transmission layer. When the photoluminescence layer and the light transmission layer are in contact with each other, a submicron structure may be formed at the interface between the photoluminescence layer and the light transmission layer. At this time, the photoluminescence layer and the translucent layer have a submicron structure. The photoluminescent layer may not have a submicron structure. At this time, the light-transmitting layer having a submicron structure is disposed in the vicinity of the photoluminescence layer. Here, the phrase “the light-transmitting layer (or its submicron structure) is close to the photoluminescence layer” typically means that the distance between them is not more than half the wavelength λ a . As a result, the electric field of the waveguide mode reaches the submicron structure, and the pseudo waveguide mode is formed. However, when the refractive index of the light-transmitting layer is larger than the refractive index of the photoluminescent layer, the light reaches the light-transmitting layer even if the above relationship is not satisfied. Therefore, the submicron structure of the light-transmitting layer and the photoluminescent layer the distance between the may be more than half of the wavelength lambda a. In this specification, when the photoluminescence layer and the light-transmitting layer are in a positional relationship such that the electric field of the guided mode reaches a submicron structure and a pseudo-guided mode is formed, the two are associated with each other. Sometimes expressed.

サブミクロン構造が、上記のように、λa/nwav-a<Dint<λaの関係を満足するとき、可視光を利用する用途では、サブミクロンオーダーの大きさで特徴づけられる。サブミクロン構造は、例えば、以下に詳細に説明する実施形態の発光素子におけるように、少なくとも1つの周期構造を含み得る。少なくとも1つの周期構造は、周期をpaとすると、λa/nwav-a<pa<λaの関係が成り立つ。すなわち、サブミクロン構造は、隣接する凸部間の距離Dintがpaで一定の周期構造を含み得る。サブミクロン構造がこのような周期構造を含むと、擬似導波モードの光は、伝搬しながら周期構造と相互作用を繰り返すことにより、サブミクロン構造によって回折される。これは、自由空間を伝播する光が周期構造により回折する現象とは異なり、光が導波しながら(即ち、全反射を繰り返しながら)周期構造と作用する現象である。したがって、周期構造による位相シフトが小さくても(即ち、周期構造の高さが小さくても)効率よく光の回折を起こすことができる。 As described above, when the submicron structure satisfies the relationship of λ a / n wav-a <D inta , the submicron structure is characterized by a size on the order of submicron in applications using visible light. The submicron structure may include at least one periodic structure, for example, in the light emitting device of the embodiment described in detail below. At least one of the periodic structure, when the period as p a, λ a / n wav -a <p a <λ relationship a holds. That is, the sub-micron structures, the distance D int between adjacent convex portions may comprise constant of the periodic structure in the p a. When the submicron structure includes such a periodic structure, the light in the pseudo waveguide mode is diffracted by the submicron structure by repeating the interaction with the periodic structure while propagating. This is different from the phenomenon in which light propagating in free space is diffracted by the periodic structure, and is a phenomenon in which light acts on the periodic structure while being guided (that is, repeating total reflection). Therefore, even if the phase shift due to the periodic structure is small (that is, the height of the periodic structure is small), light can be efficiently diffracted.

以上のようなメカニズムを利用すれば、擬似導波モードにより電場が増強される効果によって、フォトルミネッセンスの発光効率が増大するとともに、発生した光が擬似導波モードに結合する。擬似導波モードの光は、周期構造で規定される回折角度だけ進行角度が曲げられる。これを利用することによって、特定の波長の光を特定の方向に出射することができる。すなわち、周期構造が存在しない場合と比較して、指向性が顕著に向上する。さらに、TEモードとTMモードとで有効屈折率neff(=nwavsinθ)が異なるので、高い偏光の選択性を同時に得ることもできる。例えば、後に実験例を示すように、特定の波長(例えば610nm)の直線偏光(例えばTMモード)を正面方向に強く出射する発光素子を得ることができる。このとき、正面方向に出射する光の指向角は例えば15°未満である。ここで「指向角」とは、出射する特定の波長の直線偏光について、強度が最大である方向と、強度が最大強度の50%になる方向との間の角度と定義される。すなわち、指向角は強度が最大である方向を0°とした場合の片側の角度である。このように、本開示の実施形態における周期構造(即ち表面構造)は、特定の波長λaの光の指向角を制限する。言い換えれば、当該波長λaの光の配光を、周期構造がない場合と比較して狭角にする。このような、周期構造が存在しない場合と比較して指向角が低減された配光を、「狭角配光」と称することがある。本開示の実施形態における周期構造は、波長λaの光の指向角を制限するが、波長λaの光の全てを狭角に出射するのではない。例えば後述する図29に示す例では、強度が最大になる方向から離れた角度(例えば20°〜70°)の方向にも波長λaの光が僅かに出射する。しかし、全体的には、波長λaの出射光が0°〜20°の範囲に集中しており、指向角が制限されている。 If the mechanism as described above is used, the luminous efficiency of photoluminescence increases due to the effect of the electric field being enhanced by the pseudo waveguide mode, and the generated light is coupled to the pseudo waveguide mode. The light of the quasi-waveguide mode is bent at a traveling angle by a diffraction angle defined by the periodic structure. By utilizing this, light of a specific wavelength can be emitted in a specific direction. That is, the directivity is remarkably improved as compared with the case where no periodic structure is present. Further, since the effective refractive index n eff (= n wav sin θ) is different between the TE mode and the TM mode, high polarization selectivity can be obtained at the same time. For example, as shown in an experimental example later, it is possible to obtain a light emitting element that emits linearly polarized light (for example, TM mode) having a specific wavelength (for example, 610 nm) strongly in the front direction. At this time, the directivity angle of the light emitted in the front direction is, for example, less than 15 °. Here, “directivity angle” is defined as an angle between the direction in which the intensity is maximum and the direction in which the intensity is 50% of the maximum intensity with respect to the linearly polarized light having a specific wavelength to be emitted. That is, the directivity angle is an angle on one side when the direction in which the intensity is maximum is 0 °. Thus, the periodic structure (that is, the surface structure) in the embodiment of the present disclosure limits the directivity angle of light having a specific wavelength λa. In other words, the distribution of light of the wavelength lambda a, to narrow angle as compared to when there is no periodic structure. Such a light distribution in which the directivity angle is reduced as compared with the case where there is no periodic structure may be referred to as “narrow angle light distribution”. The periodic structure of the embodiment of the present disclosure, limits the directivity angle of light of wavelength lambda a, but the embodiment is not emit any light of the wavelength lambda a narrow angle. For example, in the example shown in FIG. 29 described later, light having a wavelength λa is slightly emitted also in a direction away from the direction in which the intensity is maximum (for example, 20 ° to 70 °). Overall, however, the emitted light having a wavelength lambda a is concentrated in the range of 0 ° to 20 °, the orientation angle is limited.

なお、本開示の典型的な実施形態における周期構造は、一般的な回折格子とは異なり、光の波長λaよりも短い周期を有する。一般的な回折格子は、光の波長λaよりも十分に長い周期を有し、その結果、特定の波長の光を0次光(即ち透過光)、±1次回折光などの複数の回折光に分けて出射させる。そのような回折格子は、高次の回折光が0次光の両側に発生する。回折格子における、0次光の両側に発生する高次の回折光は、狭角配光の実現を困難にする。言い換えれば、従来の回折格子は、光の指向角を所定の角度(例えば15°程度)に制限するという本開示の実施形態に特有の効果を奏しない。この点で、本開示の実施形態における周期構造は、従来の回折格子とは顕著に異なる性質を有する。 Note that the periodic structure in the exemplary embodiment of the present disclosure has a period shorter than the wavelength λ a of light, unlike a general diffraction grating. A general diffraction grating has a period sufficiently longer than the wavelength λ a of light, and as a result, a specific wavelength of light is a plurality of diffracted lights such as 0th order light (ie, transmitted light), ± 1st order diffracted light, and the like The light is emitted separately. In such a diffraction grating, high-order diffracted light is generated on both sides of zero-order light. High-order diffracted light generated on both sides of zero-order light in the diffraction grating makes it difficult to realize narrow-angle light distribution. In other words, the conventional diffraction grating does not have an effect peculiar to the embodiment of the present disclosure in which the directivity angle of light is limited to a predetermined angle (for example, about 15 °). In this regard, the periodic structure according to the embodiment of the present disclosure has properties that are significantly different from those of conventional diffraction gratings.

サブミクロン構造の周期性が低くなると、指向性、発光効率、偏光度および波長選択性が弱くなる。必要に応じて、サブミクロン構造の周期性を調整すればよい。周期構造は、偏光の選択性が高い1次元周期構造であってもよいし、偏光度を小さくできる2次元周期構造であってもよい。   When the periodicity of the submicron structure is lowered, the directivity, light emission efficiency, polarization degree, and wavelength selectivity are weakened. What is necessary is just to adjust the periodicity of a submicron structure as needed. The periodic structure may be a one-dimensional periodic structure with high polarization selectivity or a two-dimensional periodic structure capable of reducing the degree of polarization.

サブミクロン構造は、複数の周期構造を含み得る。複数の周期構造は、例えば、周期(ピッチ)が互いに異なる。あるいは、複数の周期構造は、例えば、周期性を有する方向(軸)が互いに異なる。複数の周期構造は、同一面内に形成されてもよいし、積層されてもよい。もちろん、発光素子は、複数のフォトルミネッセンス層と複数の透光層とを有し、これらが複数のサブミクロン構造を有してもよい。   The submicron structure can include a plurality of periodic structures. The plurality of periodic structures have different periods (pitch), for example. Alternatively, the plurality of periodic structures are different from each other in the direction (axis) having periodicity, for example. The plurality of periodic structures may be formed in the same plane or may be stacked. Of course, the light-emitting element has a plurality of photoluminescence layers and a plurality of light-transmitting layers, and these may have a plurality of submicron structures.

サブミクロン構造は、フォトルミネッセンス層が発する光を制御するためだけでなく、励起光を効率よくフォトルミネッセンス層に導くためにも用いることができる。すなわち、励起光がサブミクロン構造により回折されフォトルミネッセンス層および透光層を導波する擬似導波モードに結合することで、効率よくフォトルミネッセンス層を励起することができる。フォトルミネッセンス材料を励起する光の空気中における波長をλexとし、この励起光に対するフォトルミネッセンス層の屈折率をnwav-exとすると、λex/nwav-ex<Dint<λexの関係が成り立つサブミクロン構造を用いればよい。nwav-exはフォトルミネッセンス材料の励起波長における屈折率である。周期をpexとすると、λex/nwav-ex<pex<λexの関係が成り立つ周期構造を有するサブミクロン構造を用いてもよい。励起光の波長λexは、例えば、450nmであるが、可視光よりも短波長であってもよい。励起光の波長が可視光の範囲内にある場合、フォトルミネッセンス層が発する光とともに、励起光を出射するようにしてもよい。 The submicron structure can be used not only to control the light emitted from the photoluminescence layer, but also to efficiently guide the excitation light to the photoluminescence layer. That is, the excitation light is diffracted by the submicron structure and coupled to the pseudo-waveguide mode in which the excitation light is guided through the photoluminescence layer and the light transmission layer, so that the photoluminescence layer can be efficiently excited. Λ ex / n wav-ex <D intex , where λ ex is the wavelength of light in the air that excites the photoluminescent material, and n wav-ex is the refractive index of the photoluminescence layer for this excitation light. A sub-micron structure in which is satisfied may be used. n wav-ex is the refractive index at the excitation wavelength of the photoluminescent material. If the period is p ex , a submicron structure having a periodic structure in which the relationship of λ ex / n wav-ex <p exex may be used. The wavelength λ ex of the excitation light is, for example, 450 nm, but may be shorter than visible light. When the wavelength of the excitation light is within the range of visible light, the excitation light may be emitted together with the light emitted from the photoluminescence layer.

[2.本開示の基礎となった知見]
本開示の具体的な実施形態を説明する前に、まず、本開示の基礎となった知見を説明する。上述のように、蛍光灯、白色LEDなどで使われるフォトルミネッセンス材料は等方的に発光する。特定の方向を光で照らすためには、リフレクターやレンズなどの光学部品が必要である。しかしながら、もしフォトルミネッセンス層自身が指向性をもって発光すれば、上記のような光学部品は不要になる(若しくは小さくできる)。これにより、光学デバイスや器具の大きさを大幅に小さくすることができる。本発明者らは、このような着想に基づき、指向性発光を得るために、フォトルミネッセンス層の構成を詳細に検討した。
[2. Knowledge underlying this disclosure]
Before describing specific embodiments of the present disclosure, first, knowledge that is the basis of the present disclosure will be described. As described above, photoluminescent materials used in fluorescent lamps, white LEDs, and the like emit light isotropically. In order to illuminate a specific direction with light, optical components such as a reflector and a lens are required. However, if the photoluminescence layer itself emits light with directivity, the optical component as described above becomes unnecessary (or can be reduced). Thereby, the magnitude | size of an optical device or an instrument can be reduced significantly. Based on such an idea, the present inventors have studied in detail the configuration of the photoluminescence layer in order to obtain directional light emission.

本発明者らは、まず、フォトルミネッセンス層からの光が特定の方向に偏るようにするため、発光自体に特定の方向性をもたせることを考えた。発光を特徴付ける指標である発光レートΓは、フェルミの黄金則により、以下の式(1)で表される。

Figure 0006566313
The inventors of the present invention first considered that the light emission itself has a specific directionality so that light from the photoluminescence layer is biased in a specific direction. The light emission rate Γ, which is an index characterizing light emission, is expressed by the following formula (1) according to Fermi's golden rule.
Figure 0006566313

式(1)において、rは位置を表すベクトル、λは光の波長、dは双極子ベクトル、Eは電場ベクトル、ρは状態密度である。一部の結晶性物質を除く多くの物質では、双極子ベクトルdはランダムな方向性を有している。また、フォトルミネッセンス層のサイズと厚さが光の波長よりも十分に大きい場合、電場Eの大きさも向きに依らずほとんど一定である。よって、ほとんどの場合、<(d・E(r))>2の値は方向に依らない。即ち、発光レートΓは方向に依らず一定である。このため、ほとんどの場合においてフォトルミネッセンス層は等方的に発光する。 In equation (1), r is a position vector, λ is the wavelength of light, d is a dipole vector, E is an electric field vector, and ρ is a density of states. In many materials except some crystalline materials, the dipole vector d has a random orientation. Further, when the size and thickness of the photoluminescence layer are sufficiently larger than the wavelength of light, the magnitude of the electric field E is almost constant regardless of the direction. Therefore, in most cases, the value of <(d · E (r))> 2 does not depend on the direction. That is, the light emission rate Γ is constant regardless of the direction. For this reason, in most cases, the photoluminescence layer emits isotropically.

一方、式(1)から、異方的な発光を得るためには、双極子ベクトルdを特定の方向に揃えるか、電場ベクトルの特定方向の成分を増強するかのいずれかの工夫が必要である。これらのいずれかの工夫を行うことで、指向性発光を実現できる。本開示の実施形態では、フォトルミネッセンス層へ光を閉じ込める効果により、特定方向の電場成分が増強された擬似導波モードを利用する。そのための構成について検討し、詳細に分析した結果を以下に説明する。   On the other hand, in order to obtain anisotropic light emission from the formula (1), it is necessary to devise either a dipole vector d aligned in a specific direction or a component in a specific direction of the electric field vector to be enhanced. is there. Directional emission can be realized by any one of these devices. In an embodiment of the present disclosure, a pseudo waveguide mode in which an electric field component in a specific direction is enhanced due to the effect of confining light in the photoluminescence layer is used. The structure for that purpose is examined and the result analyzed in detail is demonstrated below.

[3.特定の方向の電場のみを強くする構成]
本願発明者らは、電場が強い導波モードを用いて、発光の制御を行うことを考えた。導波構造自体がフォトルミネッセンス材料を含む構成とすることで、発生した光を導波モードに結合させることができる。しかし、ただ単にフォトルミネッセンス材料を用いて導波構造を形成しただけでは、発せられた光が導波モードとなるため、正面方向へはほとんど光は出てこない。そこで、本願発明者らは、フォトルミネッセンス材料を含む導波路と周期構造とを組み合わせることを考えた。導波路に周期構造が近接し、光の電場が周期構造と重なりながら導波する場合、周期構造の作用により擬似導波モードが存在する。つまり、この擬似導波モードは、周期構造により制限された導波モードであり、電場振幅の腹が周期構造の周期と同じ周期で発生することを特徴とする。このモードは、光が導波構造に閉じ込められることにより特定方向への電場が強められたモードである。さらに、このモードは周期構造と相互作用することで、回折効果により特定方向の伝播光へと変換されるため、導波路外部へと光を出射することができる。さらに、擬似導波モード以外の光は導波路内に閉じ込められる効果が小さいため、電場は増強されない。よって、発光のほとんどは大きな電場成分を有する擬似導波モードへと結合することになる。
[3. Configuration to strengthen only the electric field in a specific direction]
The inventors of the present application considered controlling light emission by using a waveguide mode with a strong electric field. When the waveguide structure itself includes a photoluminescence material, the generated light can be coupled to the waveguide mode. However, if the waveguide structure is simply formed using a photoluminescence material, the emitted light becomes a waveguide mode, so that almost no light is emitted in the front direction. Therefore, the inventors of the present application considered combining a waveguide including a photoluminescent material with a periodic structure. When the periodic structure is close to the waveguide and the light is guided while overlapping the periodic structure, a pseudo waveguide mode exists due to the action of the periodic structure. That is, this pseudo waveguide mode is a waveguide mode limited by the periodic structure, and is characterized in that the antinodes of the electric field amplitude are generated in the same period as the period of the periodic structure. This mode is a mode in which the electric field in a specific direction is strengthened by confining light in the waveguide structure. Furthermore, since this mode interacts with the periodic structure and is converted into propagating light in a specific direction by the diffraction effect, light can be emitted to the outside of the waveguide. Furthermore, since the light other than the pseudo waveguide mode has a small effect of being confined in the waveguide, the electric field is not enhanced. Therefore, most of the light emission is coupled to the pseudo waveguide mode having a large electric field component.

つまり、本願発明者らは、周期構造が近接して設けられた導波路を、フォトルミネッセンス材料を含むフォトルミネッセンス層(あるいはフォトルミネッセンス層を有する導波層)によって構成することで、発生した光を、特定方向の伝播光に変換される擬似導波モードに結合させ、指向性のある光源を実現することを考えた。   In other words, the inventors of the present application configure a waveguide having a periodic structure close thereto by a photoluminescence layer containing a photoluminescence material (or a waveguide layer having a photoluminescence layer), thereby generating generated light. We considered to realize a directional light source by coupling to a quasi-guided mode that is converted into propagating light in a specific direction.

導波構造の簡便な構成として、スラブ型導波路に着目した。スラブ型導波路とは、光の導波部分が平板構造を有する導波路のことである。図30は、スラブ型導波路110Sの一例を模式的に示す斜視図である。導波路110Sの屈折率が導波路110Sを支持する透明基板140の屈折率よりも高いとき、導波路110S内を伝播する光のモードが存在する。このようなスラブ型導波路をフォトルミネッセンス層を含む構成とすることで、発光点から生じた光の電場が導波モードの電場と大きく重なるので、フォトルミネッセンス層で生じた光の大部分を導波モードに結合させることができる。さらに、フォトルミネッセンス層の厚さを光の波長程度とすることにより、電場振幅の大きい導波モードのみが存在する状況を作り出すことができる。   As a simple structure of the waveguide structure, attention was paid to a slab type waveguide. The slab type waveguide is a waveguide in which a light guiding portion has a flat plate structure. FIG. 30 is a perspective view schematically showing an example of the slab waveguide 110S. When the refractive index of the waveguide 110S is higher than the refractive index of the transparent substrate 140 that supports the waveguide 110S, there is a mode of light propagating in the waveguide 110S. By constructing such a slab-type waveguide including a photoluminescence layer, the electric field of light generated from the light emitting point greatly overlaps the electric field of the waveguide mode, so that most of the light generated in the photoluminescence layer is guided. Can be coupled to wave mode. Furthermore, by setting the thickness of the photoluminescence layer to be approximately the wavelength of light, it is possible to create a situation in which only a waveguide mode having a large electric field amplitude exists.

さらに、フォトルミネッセンス層に周期構造が近接する場合には、導波モードの電場が周期構造と相互作用することで擬似導波モードが形成される。フォトルミネッセンス層が複数の層で構成されている場合でも、導波モードの電場が周期構造に達していれば、擬似導波モードが形成されることになる。フォトルミネッセンス層の全てがフォトルミネッセンス材料である必要はなく、その少なくとも一部の領域が発光する機能を有していればよい。   Further, when the periodic structure is close to the photoluminescence layer, the pseudo-waveguide mode is formed by the electric field of the waveguide mode interacting with the periodic structure. Even when the photoluminescence layer is composed of a plurality of layers, if the electric field of the waveguide mode reaches the periodic structure, a pseudo waveguide mode is formed. It is not necessary for all of the photoluminescence layer to be a photoluminescence material, and it is sufficient that at least a part of the photoluminescence layer has a function of emitting light.

周期構造を金属で形成した場合には、導波モードとプラズモン共鳴の効果によるモードが形成される。このモードは、上で述べた擬似導波モードとは異なる性質を有する。また、このモードは金属による吸収が大きいためロスが大きくなり、発光増強の効果は小さくなる。したがって、周期構造としては、吸収の少ない誘電体を用いるのが望ましい。   When the periodic structure is formed of a metal, a mode based on the waveguide mode and the effect of plasmon resonance is formed. This mode has different properties from the quasi-guided mode described above. In addition, in this mode, since the absorption by the metal is large, the loss becomes large and the effect of enhancing the light emission becomes small. Therefore, it is desirable to use a dielectric material with low absorption as the periodic structure.

本発明者らは、まずこのような導波路の表面に、周期構造を形成することで、特定の角度方向の伝播光として出射することのできる擬似導波モードに、発生した光を結合させることを検討した。図1Aは、そのような導波路(例えば、フォトルミネッセンス層)110と周期構造(例えば、透光層の一部)120とを有する発光素子100の一例を模式的に示す斜視図である。以下、透光層が周期構造を有している場合(即ち、透光層に周期的なサブミクロン構造が形成されている場合)、周期構造120を透光層120ということがある。この例では、周期構造120は、各々がy方向に延びるストライプ状の複数の凸部がx方向に等間隔に並んだ1次元周期構造である。図1Bは、この発光素子100をxz面に平行な平面で切断したときの断面図である。導波路110に接するように周期pの周期構造120を設けると、面内方向の波数kwavをもつ擬似導波モードは、導波路外の伝播光へと変換され、その波数koutは以下の式(2)で表すことができる。

Figure 0006566313
First, the present inventors form a periodic structure on the surface of such a waveguide to couple the generated light to a pseudo-waveguide mode that can be emitted as propagating light in a specific angular direction. It was investigated. FIG. 1A is a perspective view schematically showing an example of a light emitting device 100 having such a waveguide (for example, a photoluminescence layer) 110 and a periodic structure (for example, a part of a light transmitting layer) 120. Hereinafter, when the light transmitting layer has a periodic structure (that is, when a periodic submicron structure is formed in the light transmitting layer), the periodic structure 120 may be referred to as the light transmitting layer 120. In this example, the periodic structure 120 is a one-dimensional periodic structure in which a plurality of stripe-shaped convex portions each extending in the y direction are arranged at equal intervals in the x direction. FIG. 1B is a cross-sectional view of the light emitting device 100 taken along a plane parallel to the xz plane. When the periodic structure 120 having a period p is provided so as to be in contact with the waveguide 110, the pseudo-waveguide mode having the wave number k wav in the in-plane direction is converted into propagating light outside the waveguide, and the wave number k out is It can be represented by Formula (2).
Figure 0006566313

式(2)におけるmは整数であり、回折の次数を表す。   M in Formula (2) is an integer and represents the order of diffraction.

ここで、簡単のため、近似的に導波路内を導波する光を角度θwavで伝播する光線であると考え、以下の式(3)および(4)が成立するとする。

Figure 0006566313
Figure 0006566313
Here, for the sake of simplicity, it is assumed that the light guided in the waveguide approximately is a light beam propagating at an angle θ wav , and the following equations (3) and (4) hold.
Figure 0006566313
Figure 0006566313

これらの式において、λ0は光の空気中の波長、nwavは導波路の屈折率、noutは出射側の媒質の屈折率、θoutは光が導波路外の基板または空気に出射するときの出射角度である。式(2)〜(4)から、出射角度θoutは、以下の式(5)で表すことができる。

Figure 0006566313
In these equations, λ 0 is the wavelength of light in the air, n wav is the refractive index of the waveguide, n out is the refractive index of the medium on the exit side, and θ out is the light emitted to the substrate or air outside the waveguide. Is the exit angle. From the equations (2) to (4), the emission angle θ out can be expressed by the following equation (5).
Figure 0006566313

式(5)より、nwavsinθwav=mλ0/pが成立するとき、θout=0となり、導波路の面に垂直な方向(即ち、正面)に光を出射させることができることがわかる。 From equation (5), it can be seen that when n wav sin θ wav = mλ 0 / p holds, θ out = 0, and light can be emitted in a direction perpendicular to the plane of the waveguide (ie, the front).

以上のような原理に基づけば、発生した光を特定の擬似導波モードに結合させ、さらに周期構造を利用して特定の出射角度の光に変換することにより、その方向に強い光を出射させることができると考えられる。   Based on the above principle, the generated light is coupled to a specific quasi-waveguide mode, and further converted into light having a specific emission angle using a periodic structure, thereby emitting strong light in that direction. It is considered possible.

上記のような状況を実現するためには、いくつかの制約条件がある。まず、擬似導波モードが存在するためには、導波路内で伝播する光が全反射することが必要である。このための条件は、以下の式(6)で表される。

Figure 0006566313
In order to realize the above situation, there are some constraints. First, in order for the pseudo waveguide mode to exist, it is necessary that the light propagating in the waveguide is totally reflected. The condition for this is expressed by the following formula (6).
Figure 0006566313

この擬似導波モードを周期構造によって回折させて導波路外に光を出射させるためには、式(5)において−1<sinθout<1である必要がある。よって、以下の式(7)を満足する必要がある。

Figure 0006566313
In order to diffract this pseudo waveguide mode by the periodic structure and to emit light outside the waveguide, it is necessary to satisfy −1 <sin θ out <1 in the equation (5). Therefore, it is necessary to satisfy the following formula (7).
Figure 0006566313

これに対し、式(6)を考慮すると、以下の式(8)が成立すればよいことがわかる。

Figure 0006566313
On the other hand, considering the equation (6), it can be seen that the following equation (8) should be satisfied.
Figure 0006566313

さらに、導波路110から出射される光の方向を正面方向(θout=0)にするためには、式(5)から、以下の式(9)が必要であることがわかる。

Figure 0006566313
Further, in order to make the direction of the light emitted from the waveguide 110 the front direction (θ out = 0), it can be seen from the equation (5) that the following equation (9) is necessary.
Figure 0006566313

式(9)および式(6)から、必要な条件は、以下の式(10)であることがわかる。

Figure 0006566313
From formula (9) and formula (6), it can be seen that the necessary condition is the following formula (10).
Figure 0006566313

なお、図1Aおよび図1Bに示すような周期構造を設けた場合には、mが2以上の高次の回折効率は低いため、m=1である1次の回折光を主眼に設計すると良い。このため、本実施形態における周期構造では、m=1として、式(10)を変形した以下の式(11)を満足するように周期pが決定される。

Figure 0006566313
When the periodic structure as shown in FIGS. 1A and 1B is provided, the first-order diffracted light with m = 1 should be designed mainly because the high-order diffraction efficiency with m = 2 or higher is low. . For this reason, in the periodic structure in the present embodiment, m = 1 and the period p is determined so as to satisfy the following expression (11) obtained by modifying expression (10).
Figure 0006566313

図1Aおよび図1Bに示すように、導波路(フォトルミネッセンス層)110が透明基板に接していない場合には、noutは空気の屈折率(約1.0)となるため、以下の式(12)を満足するように周期pを決定すればよい。

Figure 0006566313
As shown in FIG. 1A and FIG. 1B, when the waveguide (photoluminescence layer) 110 is not in contact with the transparent substrate, n out becomes the refractive index of air (about 1.0). The period p may be determined so as to satisfy 12).
Figure 0006566313

一方、図1Cおよび図1Dに例示するような透明基板140上にフォトルミネッセンス層110および周期構造120を形成した構造を採用してもよい。この場合には、透明基板140の屈折率nsが空気の屈折率よりも大きいことから、式(11)においてnout=nsとした次式(13)を満足するように周期pを決定すればよい。

Figure 0006566313
On the other hand, a structure in which the photoluminescence layer 110 and the periodic structure 120 are formed on the transparent substrate 140 as illustrated in FIGS. 1C and 1D may be employed. In this case, determined from the refractive index n s of the transparent substrate 140 is larger than the refractive index of air, the following equation was n out = n s in equation (11) the period p to satisfy (13) do it.
Figure 0006566313

なお、式(12)、(13)では、式(10)においてm=1の場合を想定したが、m≧2であってもよい。すなわち、図1Aおよび図1Bに示すように発光素子100の両面が空気層に接している場合には、mを1以上の整数として、以下の式(14)を満足するように周期pが設定されていればよい。

Figure 0006566313
In equations (12) and (13), it is assumed that m = 1 in equation (10), but m ≧ 2 may be satisfied. That is, when both surfaces of the light emitting element 100 are in contact with the air layer as shown in FIGS. 1A and 1B, the period p is set so that m is an integer of 1 or more and the following expression (14) is satisfied. It only has to be done.
Figure 0006566313

同様に、図1Cおよび図1Dに示す発光素子100aのようにフォトルミネッセンス層110が透明基板140上に形成されている場合には、以下の式(15)を満足するように周期pが設定されていればよい。

Figure 0006566313
Similarly, when the photoluminescence layer 110 is formed on the transparent substrate 140 as in the light emitting element 100a shown in FIGS. 1C and 1D, the period p is set so as to satisfy the following formula (15). It only has to be.
Figure 0006566313

以上の不等式を満足するように周期構造の周期pを決定することにより、フォトルミネッセンス層110から発生した光を正面方向に出射させることができるため、指向性を有する発光装置を実現できる。   By determining the period p of the periodic structure so as to satisfy the above inequality, light generated from the photoluminescence layer 110 can be emitted in the front direction, so that a light emitting device having directivity can be realized.

[4.計算による検証]
[4−1.周期、波長依存性]
本発明者らは、以上のような特定方向への光の出射が実際に可能であるかを光学解析によって検証した。光学解析は、サイバネット社のDiffractMODを用いた計算によって行った。これらの計算では、発光素子に対して外部から垂直に光を入射したときに、フォトルミネッセンス層における光の吸収の増減を計算することで、外部へ垂直に出射する光の増強度を求めた。外部から入射した光が擬似導波モードに結合しフォトルミネッセンス層で吸収されるという過程は、フォトルミネッセンス層における発光が擬似導波モードへと結合し、外部へ垂直に出射する伝播光へと変換される過程と逆の過程を計算していることに対応する。また、擬似導波モードの電場分布の計算においても、同様に外部から光を入射した場合における電場を計算した。
[4. Verification by calculation]
[4-1. Period, wavelength dependence]
The present inventors have verified by optical analysis whether light can be emitted in a specific direction as described above. The optical analysis was carried out by calculation using the Cybernet DiffractMOD. In these calculations, when light is vertically incident on the light emitting element from the outside, the increase or decrease in light absorption in the photoluminescence layer is calculated, thereby obtaining the enhancement of the light emitted vertically to the outside. The process in which light incident from the outside is coupled to the quasi-waveguide mode and absorbed by the photoluminescence layer is converted into propagating light that is emitted from the photoluminescence layer to the quasi-waveguide mode and exits perpendicularly to the outside. This corresponds to the calculation of the opposite process. Further, in the calculation of the electric field distribution in the pseudo waveguide mode, the electric field when light is incident from the outside was calculated in the same manner.

フォトルミネッセンス層の膜厚を1μm、フォトルミネッセンス層の屈折率をnwav=1.8、周期構造の高さを50nm、周期構造の屈折率を1.5とし、発光波長および周期構造の周期をそれぞれ変えて、正面方向に出射する光の増強度を計算した結果を図2に示す。計算モデルは、図1Aに示すように、y方向には均一な1次元周期構造とし、光の偏光はy方向に平行な電場成分を有するTMモードであるとして計算を行った。図2の結果から、増強度のピークが、ある特定の波長と周期との組み合わせにおいて存在することがわかる。なお、図2において、増強度の大きさは色の濃淡で表されており、濃い(即ち黒い)方が増強度が大きく、淡い(即ち白い)方が増強度が小さい。 The film thickness of the photoluminescence layer is 1 μm, the refractive index of the photoluminescence layer is n wav = 1.8, the height of the periodic structure is 50 nm, the refractive index of the periodic structure is 1.5, the emission wavelength and the period of the periodic structure are FIG. 2 shows the result of calculating the intensities of the light emitted in the front direction while changing each. As shown in FIG. 1A, the calculation model was calculated with a uniform one-dimensional periodic structure in the y direction, and the polarization of light was a TM mode having an electric field component parallel to the y direction. From the result of FIG. 2, it can be seen that a peak of enhancement exists at a certain combination of wavelength and period. In FIG. 2, the magnitude of the enhancement is represented by the shade of the color, and the darker (that is, black) has a larger enhancement and the lighter (that is, white) has a smaller enhancement.

上記の計算において、周期構造の断面は、図1Bに示すような矩形であるものとしている。式(10)におけるm=1およびm=3の条件を図示したグラフを図3に示す。図2と図3とを比較すると、図2におけるピーク位置はm=1とm=3に対応するところに存在することがわかる。m=1の方が強度が強いのは、3次以上の高次の回折光よりも1次の回折光の回折効率の方が高いからである。m=2のピークが存在しないのは、周期構造における回折効率が低いためである。   In the above calculation, the cross section of the periodic structure is assumed to be rectangular as shown in FIG. 1B. A graph illustrating the conditions of m = 1 and m = 3 in equation (10) is shown in FIG. Comparing FIG. 2 and FIG. 3, it can be seen that the peak positions in FIG. 2 exist at locations corresponding to m = 1 and m = 3. The reason why m = 1 is stronger is that the diffraction efficiency of the first-order diffracted light is higher than that of the third-order or higher-order diffracted light. The reason why the peak of m = 2 does not exist is that the diffraction efficiency in the periodic structure is low.

図3で示したm=1およびm=3のそれぞれに対応する領域内において、図2では複数のラインが存在することが確認できる。これは、擬似導波モードが複数存在するからであると考えられる。   In the region corresponding to each of m = 1 and m = 3 shown in FIG. 3, it can be confirmed that there are a plurality of lines in FIG. This is considered to be because there are a plurality of pseudo waveguide modes.

[4−2.厚さ依存性]
図4は、フォトルミネッセンス層の屈折率をnwav=1.8、周期構造の周期を400nm、高さを50nm、屈折率を1.5とし、発光波長およびフォトルミネッセンス層の厚さtを変えて正面方向に出力する光の増強度を計算した結果を示す図である。フォトルミネッセンス層の厚さtが特定の値であるときに光の増強度がピークに達することがわかる。
[4-2. Thickness dependence]
In FIG. 4, the refractive index of the photoluminescence layer is n wav = 1.8, the period of the periodic structure is 400 nm, the height is 50 nm, the refractive index is 1.5, and the emission wavelength and the thickness t of the photoluminescence layer are changed. It is a figure which shows the result of having calculated the intensification of the light output in a front direction. It can be seen that the light intensity reaches a peak when the thickness t of the photoluminescence layer is a specific value.

図4においてピークが存在する波長600nm、厚さt=238nm、539nmのときに、x方向に導波するモードの電場分布を計算した結果を図5Aおよび図5Bにそれぞれ示す。比較のため、ピークが存在しないt=300nmの場合について同様の計算を行った結果を図5Cに示す。計算モデルは、上記と同様、y方向に均一な1次元周期構造であるとした。各図において、黒い領域ほど電場強度が高く、白い領域ほど電場強度が低いことを表している。t=238nm、539nmの場合には高い電場強度の分布があるのに対して、t=300nmでは全体的に電場強度が低い。これは、t=238nm、539nmの場合には、導波モードが存在し、光が強く閉じ込められているからである。さらに、凸部または凸部の直下に電場が最も強い部分(腹)が必ず存在しており、周期構造120と相関のある電場が発生している特徴が見て取れる。つまり、周期構造120の配置に従って、導波するモードが得られていることがわかる。また、t=238nmの場合とt=539nmの場合とを比較すると、z方向の電場の節(白い部分)の数が1つだけ異なるモードであることが分かる。   FIG. 5A and FIG. 5B show the results of calculating the electric field distribution of the mode guided in the x direction when the wavelength where the peak exists in FIG. 4 is 600 nm and the thickness is t = 238 nm and 539 nm. For comparison, FIG. 5C shows the result of the same calculation performed when t = 300 nm where no peak exists. The calculation model was assumed to be a one-dimensional periodic structure uniform in the y direction, as described above. In each figure, the black region indicates that the electric field strength is high, and the white region indicates that the electric field strength is low. In the case of t = 238 nm and 539 nm, there is a high electric field intensity distribution, whereas in the case of t = 300 nm, the electric field intensity is low overall. This is because when t = 238 nm and 539 nm, a waveguide mode exists and light is strongly confined. Furthermore, there is always a convex portion or a portion (antinode) where the electric field is strongest immediately below the convex portion, and it can be seen that the electric field correlated with the periodic structure 120 is generated. That is, it can be seen that a guided mode is obtained according to the arrangement of the periodic structure 120. Further, comparing the case of t = 238 nm with the case of t = 539 nm, it can be seen that the mode is different in the number of nodes (white portions) in the z direction by one.

[4−3.偏光依存性]
次に偏光依存性を確認するために、図2の計算と同じ条件で、光の偏光がy方向に垂直な電場成分を有するTEモードである場合について光の増強度の計算を行った。本計算の結果を図6に示す。TMモードのとき(図2)に比べ、ピーク位置は多少変化しているものの、図3で示した領域内にピーク位置が納まっている。よって、本実施形態の構成は、TMモード、TEモードのいずれの偏光についても有効であることが確認できた。
[4-3. Polarization dependence]
Next, in order to confirm the polarization dependence, the light enhancement was calculated for the case where the polarization of the light is a TE mode having an electric field component perpendicular to the y direction under the same conditions as those in FIG. The result of this calculation is shown in FIG. Compared to the TM mode (FIG. 2), the peak position is slightly changed, but the peak position is within the region shown in FIG. Therefore, it was confirmed that the configuration of this embodiment is effective for both TM mode and TE mode polarization.

[4−4.2次元周期構造]
さらに、2次元の周期構造による効果の検討を行った。図7Aは、x方向およびy方向の両方向に凹部および凸部が配列された2次元の周期構造120’の一部を示す平面図である。図中の黒い領域が凸部、白い領域が凹部を示している。このような2次元周期構造では、x方向とy方向の両方の回折を考慮する必要がある。x方向のみ、あるいはy方向のみの回折に関しては1次元の場合と同様であるが、x、y両方の成分を有する方向(例えば、斜め45°方向)の回折も存在するため、1次元の場合とは異なる結果が得られることが期待できる。このような2次元周期構造に関して光の増強度を計算した結果を図7Bに示す。周期構造以外の計算条件は図2の条件と同じである。図7Bに示すように、図2に示すTMモードのピーク位置に加えて、図6に示すTEモードにおけるピーク位置と一致するピーク位置も観測された。この結果は、2次元周期構造により、TEモードも、回折により変換されて出力されていることを示している。また、2次元周期構造については、x方向およびy方向の両方について、同時に1次の回折条件を満足する回折も考慮する必要がある。このような回折光は、周期pの√2倍(即ち、21/2倍)の周期に対応する角度の方向に出射する。よって、1次元周期構造の場合のピークに加えて、周期pの√2倍の周期についてもピークが発生すると考えられる。図7Bでは、このようなピークも確認できる。
[4-4.2 Two-dimensional periodic structure]
Furthermore, the effect by a two-dimensional periodic structure was examined. FIG. 7A is a plan view showing a part of a two-dimensional periodic structure 120 ′ in which concave and convex portions are arranged in both the x and y directions. The black area in the figure indicates a convex portion, and the white area indicates a concave portion. In such a two-dimensional periodic structure, it is necessary to consider diffraction in both the x and y directions. Diffraction only in the x direction or only in the y direction is the same as in the one-dimensional case, but there is also diffraction in a direction having both x and y components (for example, an oblique 45 ° direction). It can be expected that different results will be obtained. FIG. 7B shows the result of calculating the light enhancement for such a two-dimensional periodic structure. The calculation conditions other than the periodic structure are the same as the conditions in FIG. As shown in FIG. 7B, in addition to the peak position in the TM mode shown in FIG. 2, a peak position that coincides with the peak position in the TE mode shown in FIG. 6 was also observed. This result shows that the TE mode is also converted and output by diffraction due to the two-dimensional periodic structure. In addition, regarding the two-dimensional periodic structure, it is necessary to consider diffraction that satisfies the first-order diffraction conditions simultaneously in both the x direction and the y direction. Such diffracted light is emitted in the direction of an angle corresponding to a period √2 times (that is, 2 1/2 times) the period p. Therefore, in addition to the peak in the case of the one-dimensional periodic structure, it is considered that a peak is generated for a period that is √2 times the period p. In FIG. 7B, such a peak can also be confirmed.

2次元周期構造としては、図7Aに示すようなx方向およびy方向の周期が等しい正方格子の構造に限らず、図18Aおよび図18Bのような六角形や三角形を並べた格子構造であってもよい。また、方位方向によって(例えば、正方格子の場合x方向およびy方向)の周期が異なる構造であってもよい。   The two-dimensional periodic structure is not limited to a square lattice structure having the same period in the x direction and the y direction as shown in FIG. 7A, but is a lattice structure in which hexagons and triangles are arranged as shown in FIGS. 18A and 18B. Also good. Moreover, the structure where the period of a direction differs (for example, x direction and y direction in the case of a square lattice) may be sufficient.

以上のように、本実施形態では、周期構造とフォトルミネッセンス層とによって形成される特徴的な擬似導波モードの光を、周期構造による回折現象を利用して、正面方向にのみ選択的に出射できることが確認できた。このような構成で、フォトルミネッセンス層を紫外線や青色光などの励起光で励起させることにより、指向性を有する発光が得られる。   As described above, in this embodiment, the characteristic pseudo-waveguide mode light formed by the periodic structure and the photoluminescence layer is selectively emitted only in the front direction using the diffraction phenomenon due to the periodic structure. I was able to confirm that it was possible. With such a configuration, light emission having directivity can be obtained by exciting the photoluminescence layer with excitation light such as ultraviolet rays or blue light.

[5.周期構造およびフォトルミネッセンス層の構成の検討]
次に、周期構造およびフォトルミネッセンス層の構成や屈折率などの各種条件を変えたときの効果について説明する。
[5. Study of periodic structure and photoluminescence layer configuration]
Next, the effect when various conditions such as the structure of the periodic structure and the photoluminescence layer and the refractive index are changed will be described.

[5−1.周期構造の屈折率]
まず、周期構造の屈折率に関して検討を行った。フォトルミネッセンス層の膜厚を200nm、フォトルミネッセンス層の屈折率をnwav=1.8、周期構造は図1Aに示すようなy方向に均一な1次元周期構造とし、高さを50nm、周期を400nmとし、光の偏光はy方向に平行な電場成分を有するTMモードであるものとして計算を行った。発光波長および周期構造の屈折率を変えて正面方向に出力する光の増強度を計算した結果を図8に示す。また、同様の条件でフォトルミネッセンス層の膜厚を1000nmにした場合の結果を図9に示す。
[5-1. Refractive index of periodic structure]
First, the refractive index of the periodic structure was examined. The film thickness of the photoluminescence layer is 200 nm, the refractive index of the photoluminescence layer is n wav = 1.8, the periodic structure is a uniform one-dimensional periodic structure in the y direction as shown in FIG. 1A, the height is 50 nm, and the period is The calculation was performed on the assumption that the light polarization was TM mode having an electric field component parallel to the y direction. FIG. 8 shows the result of calculating the enhancement of the light output in the front direction by changing the emission wavelength and the refractive index of the periodic structure. Further, FIG. 9 shows the results when the film thickness of the photoluminescence layer is 1000 nm under the same conditions.

まず、フォトルミネッセンス層の膜厚に着目すると、膜厚が200nmの場合(図8)に比べ、膜厚が1000nmの場合(図9)のほうが、周期構造の屈折率の変化に対する光強度がピークとなる波長(ピーク波長と称する。)のシフトが小さいことがわかる。これは、フォトルミネッセンス層の膜厚が小さいほど、擬似導波モードが周期構造の屈折率の影響を受けやすいからである。即ち、周期構造の屈折率が高いほど、有効屈折率が大きくなり、その分ピーク波長が長波長側にシフトするが、この影響は、膜厚が小さいほど顕著になる。なお、有効屈折率は、擬似導波モードの電場が分布する領域に存在する媒質の屈折率によって決まる。   First, focusing on the thickness of the photoluminescence layer, the light intensity with respect to the change in the refractive index of the periodic structure is more peak when the thickness is 1000 nm (FIG. 9) than when the thickness is 200 nm (FIG. 8). It can be seen that the shift of the wavelength (referred to as the peak wavelength) becomes small. This is because the pseudo-waveguide mode is more susceptible to the refractive index of the periodic structure as the film thickness of the photoluminescence layer is smaller. That is, the higher the refractive index of the periodic structure, the higher the effective refractive index, and the corresponding peak wavelength shifts to the longer wavelength side. This effect becomes more pronounced as the film thickness decreases. The effective refractive index is determined by the refractive index of the medium existing in the region where the electric field of the pseudo waveguide mode is distributed.

次に、周期構造の屈折率の変化に対するピークの変化に着目すると、屈折率が高いほどピークが広がり強度が下がっていることがわかる。これは、周期構造の屈折率が高いほど擬似導波モードの光を外部に放出するレートが高いため、光を閉じ込める効果が減少する、すなわちQ値が低くなることが原因である。ピーク強度を高く保つためには、光を閉じ込める効果が高い(即ちQ値が高い)擬似導波モードを利用して、適度に光を外部に放出する構成にすればよい。これを実現するためには、屈折率がフォトルミネッセンス層の屈折率に比べて大き過ぎる材料を周期構造に用いるのは望ましくないことがわかる。したがって、ピーク強度およびQ値をある程度高くするためには、周期構造を構成する誘電体(即ち、透光層)の屈折率を、フォトルミネッセンス層の屈折率と同等以下にすればよい。フォトルミネッセンス層がフォトルミネッセンス材料以外の材料を含むときも同様である。   Next, paying attention to the change in the peak with respect to the change in the refractive index of the periodic structure, it can be seen that the higher the refractive index, the wider the peak and the lower the intensity. This is because the higher the refractive index of the periodic structure, the higher the rate at which the light in the pseudo waveguide mode is emitted to the outside, so that the effect of confining the light decreases, that is, the Q value decreases. In order to keep the peak intensity high, a configuration in which light is appropriately emitted to the outside by using a pseudo-waveguide mode having a high light confinement effect (that is, a high Q value) may be used. In order to realize this, it is understood that it is not desirable to use a material having a refractive index that is too large compared to the refractive index of the photoluminescence layer for the periodic structure. Therefore, in order to increase the peak intensity and the Q value to some extent, the refractive index of the dielectric (that is, the translucent layer) constituting the periodic structure may be made equal to or less than the refractive index of the photoluminescence layer. The same applies when the photoluminescence layer contains a material other than the photoluminescence material.

[5−2.周期構造の高さ]
次に、周期構造の高さに関して検討を行った。フォトルミネッセンス層の膜厚を1000nm、フォトルミネッセンス層の屈折率をnwav=1.8、周期構造は図1Aに示すようなy方向に均一な1次元周期構造で屈折率をnp=1.5、周期を400nmとし、光の偏光はy方向に平行な電場成分を有するTMモードであるものとして計算を行った。発光波長および周期構造の高さを変えて正面方向に出力する光の増強度を計算した結果を図10に示す。同様の条件で、周期構造の屈折率をnp=2.0とした場合の計算結果を図11に示す。図10に示す結果では、ある程度以上の高さではピーク強度やQ値(即ち、ピークの線幅)が変化していないのに対して、図11に示す結果では、周期構造の高さが大きいほどピーク強度およびQ値が低下していることがわかる。これは、フォトルミネッセンス層の屈折率nwavが周期構造の屈折率npよりも高い場合(図10)には、光が全反射するので、擬似導波モードの電場の染み出し(エバネッセント)部分のみが周期構造と相互作用することに起因する。電場のエバネッセント部分と周期構造との相互作用の影響は、周期構造の高さが十分大きい場合には、それ以上高さが変化しても一定である。一方、フォトルミネッセンス層の屈折率nwavが周期構造の屈折率npよりも低い場合(図11)は、全反射せずに周期構造の表面にまで光が到達するので、周期構造の高さが大きいほどその影響を受ける。図11を見る限り、高さは100nm程度あれば十分であり、150nmを超える領域ではピーク強度およびQ値が低下していることがわかる。したがって、フォトルミネッセンス層の屈折率nwavが周期構造の屈折率npよりも低い場合に、ピーク強度およびQ値をある程度高くするためには、周期構造の高さを150nm以下に設定すればよい。
[5-2. Periodic structure height]
Next, the height of the periodic structure was examined. The film thickness of the photoluminescence layer is 1000 nm, the refractive index of the photoluminescence layer is n wav = 1.8, the periodic structure is a uniform one-dimensional periodic structure in the y direction as shown in FIG. 1A, and the refractive index is n p = 1. 5. Calculation was performed assuming that the period was 400 nm and the polarization of light was TM mode having an electric field component parallel to the y direction. FIG. 10 shows the result of calculating the enhancement of the light output in the front direction by changing the emission wavelength and the height of the periodic structure. FIG. 11 shows the calculation result when the refractive index of the periodic structure is n p = 2.0 under the same conditions. In the result shown in FIG. 10, the peak intensity and the Q value (that is, the line width of the peak) do not change at a height above a certain level, whereas in the result shown in FIG. 11, the height of the periodic structure is large. It can be seen that the peak intensity and the Q value are lowered. This is because, when the refractive index n wav of the photoluminescence layer is higher than the refractive index n p of the periodic structure (FIG. 10), the light is totally reflected, so that the electric field bleeds out (evanescent) in the pseudo waveguide mode. Only due to the interaction with the periodic structure. When the height of the periodic structure is sufficiently large, the influence of the interaction between the evanescent part of the electric field and the periodic structure is constant even if the height changes further. On the other hand, when the refractive index n wav of the photoluminescence layer is lower than the refractive index n p of the periodic structure (FIG. 11), the light reaches the surface of the periodic structure without being totally reflected, so the height of the periodic structure The larger the is, the more affected. As can be seen from FIG. 11, it is sufficient that the height is about 100 nm, and the peak intensity and the Q value are lowered in the region exceeding 150 nm. Therefore, when the refractive index n wav of the photoluminescence layer is lower than the refractive index n p of the periodic structure, the height of the periodic structure may be set to 150 nm or less in order to increase the peak intensity and the Q value to some extent. .

[5−3.偏光方向]
次に、偏光方向に関して検討を行った。図9に示す計算と同じ条件で、光の偏光がy方向に垂直な電場成分を有するTEモードであるものとして計算した結果を図12に示す。TEモードでは、擬似導波モードの電場の染み出しがTMモードに比べて大きいため、周期構造による影響を受けやすい。よって、周期構造の屈折率npがフォトルミネッセンス層の屈折率nwavよりも大きい領域では、ピーク強度およびQ値の低下がTMモードよりも著しい。
[5-3. Polarization direction]
Next, the polarization direction was examined. FIG. 12 shows the result of calculation assuming that the polarization of light is a TE mode having an electric field component perpendicular to the y direction under the same conditions as those shown in FIG. In the TE mode, the electric field of the quasi-guided mode is larger than that in the TM mode, so that it is easily affected by the periodic structure. Therefore, in the region where the refractive index n p of the periodic structure is larger than the refractive index n wav of the photoluminescence layer, the peak intensity and the Q value are significantly decreased as compared with the TM mode.

[5−4.フォトルミネッセンス層の屈折率]
次に、フォトルミネッセンス層の屈折率に関して検討を行った。図9に示す計算と同様の条件で、フォトルミネッセンス層の屈折率nwavを1.5に変更した場合の結果を図13に示す。フォトルミネッセンス層の屈折率nwavが1.5の場合においても概ね図9と同様の効果が得られていることがわかる。ただし、波長が600nm以上の光は正面方向に出射していないことがわかる。これは、式(10)より、λ0<nwav×p/m=1.5×400nm/1=600nmとなるからである。
[5-4. Refractive index of photoluminescence layer]
Next, the refractive index of the photoluminescence layer was examined. FIG. 13 shows the result when the refractive index n wav of the photoluminescence layer is changed to 1.5 under the same conditions as the calculation shown in FIG. It can be seen that the same effect as in FIG. 9 is obtained even when the refractive index n wav of the photoluminescence layer is 1.5. However, it can be seen that light having a wavelength of 600 nm or more is not emitted in the front direction. This is because λ 0 <n wav × p / m = 1.5 × 400 nm / 1 = 600 nm from Equation (10).

以上の分析から、周期構造の屈折率はフォトルミネッセンス層の屈折率と同等以下にするか、周期構造の屈折率がフォトルミネッセンス層の屈折率以上の場合には、高さを150nm以下にすれば、ピーク強度およびQ値を高くできることがわかる。   From the above analysis, if the refractive index of the periodic structure is less than or equal to the refractive index of the photoluminescence layer, or if the refractive index of the periodic structure is greater than or equal to the refractive index of the photoluminescence layer, the height should be 150 nm or less. It can be seen that the peak intensity and the Q value can be increased.

[6.変形例]
以下、本実施形態の変形例を説明する。
[6. Modified example]
Hereinafter, modifications of the present embodiment will be described.

[6−1.基板を有する構成]
上述のように、発光素子は、図1Cおよび図1Dに示すように、透明基板140の上にフォトルミネッセンス層110および周期構造120が形成された構造を有していてもよい。このような発光素子100aを作製するには、まず、透明基板140上にフォトルミネッセンス層110を構成するフォトルミネッセンス材料(必要に応じて、マトリクス材料を含む、以下同じ。)で薄膜を形成し、その上に周期構造120を形成する方法が考えられる。このような構成において、フォトルミネッセンス層110と周期構造120とにより、光を特定の方向に出射する機能をもたせるためには、透明基板140の屈折率nsはフォトルミネッセンス層の屈折率nwav以下にする必要がある。透明基板140をフォトルミネッセンス層110に接するように設けた場合、式(10)における出射媒質の屈折率noutをnsとした式(15)を満足するように周期pを設定する必要がある。
[6-1. Configuration with substrate]
As described above, the light-emitting element may have a structure in which the photoluminescence layer 110 and the periodic structure 120 are formed on the transparent substrate 140 as illustrated in FIGS. 1C and 1D. In order to manufacture such a light-emitting element 100a, first, a thin film is formed on a transparent substrate 140 with a photoluminescent material (including a matrix material, if necessary, the same applies below) constituting the photoluminescent layer 110, A method of forming the periodic structure 120 thereon can be considered. In such a configuration, in order for the photoluminescence layer 110 and the periodic structure 120 to have a function of emitting light in a specific direction, the refractive index n s of the transparent substrate 140 is less than the refractive index n wav of the photoluminescence layer. It is necessary to. When the transparent substrate 140 is provided so as to be in contact with the photoluminescence layer 110, it is necessary to set the period p so as to satisfy the equation (15) where the refractive index n out of the emission medium in the equation (10) is n s. .

このことを確認するために、屈折率が1.5の透明基板140の上に、図2に示す計算と同じ条件のフォトルミネッセンス層110および周期構造120を設けた場合の計算を行った。本計算の結果を図14に示す。図2の結果と同様、波長ごとに特定の周期において光強度のピークが現れることが確認できるが、ピークが現れる周期の範囲が図2の結果とは異なることがわかる。これに対して、式(10)の条件をnout=nsとした式(15)の条件を図15に示す。図14において、図15に示される範囲に対応する領域内に、光強度のピークが現れていることがわかる。 In order to confirm this, a calculation was performed when the photoluminescence layer 110 and the periodic structure 120 having the same conditions as the calculation shown in FIG. 2 were provided on the transparent substrate 140 having a refractive index of 1.5. The result of this calculation is shown in FIG. As in the result of FIG. 2, it can be confirmed that a peak of light intensity appears in a specific period for each wavelength, but it can be seen that the range of the period in which the peak appears is different from the result of FIG. In contrast, shows the condition of the expression condition of (10) was n out = n s equation (15) in FIG. 15. In FIG. 14, it can be seen that the peak of the light intensity appears in the region corresponding to the range shown in FIG.

したがって、透明基板140上にフォトルミネッセンス層110と周期構造120とを設けた発光素子100aでは、式(15)を満足する周期pの範囲において効果が得られ、式(13)を満足する周期pの範囲において特に顕著な効果が得られる。   Therefore, in the light emitting element 100a in which the photoluminescence layer 110 and the periodic structure 120 are provided on the transparent substrate 140, an effect is obtained in the range of the period p that satisfies the expression (15), and the period p that satisfies the expression (13). In particular, a remarkable effect can be obtained in this range.

[6−2.励起光源を有する発光装置]
図16は、図1A、1Bに示す発光素子100と、励起光をフォトルミネッセンス層110に入射させる光源180とを備える発光装置200の構成例を示す図である。上述のように、本開示の構成では、フォトルミネッセンス層を紫外線や青色光などの励起光で励起させることにより、指向性をもつ発光が得られる。そのような励起光を出射するように構成された光源180を設けることにより、指向性をもつ発光装置200を実現できる。光源180から出射される励起光の波長は、典型的には紫外または青色領域の波長であるが、これらに限らず、フォトルミネッセンス層110を構成するフォトルミネッセンス材料に応じて適宜決定される。なお、図16では、光源180がフォトルミネッセンス層110の下面から励起光を入射させるように配置されているが、このような例に限定されず、例えば、フォトルミネッセンス層110の上面から励起光を入射させてもよい。励起光は、フォトルミネッセンス層110の主面(即ち、上面または下面)に垂直な方向に対して傾斜した方向から(即ち、斜めに)入射させてもよい。励起光を、フォトルミネッセンス層110内で全反射が生じる角度で斜めに入射させることにより、より効率的に発光させることができる。
[6-2. Light emitting device having excitation light source]
FIG. 16 is a diagram illustrating a configuration example of a light-emitting device 200 including the light-emitting element 100 illustrated in FIGS. 1A and 1B and a light source 180 that causes excitation light to enter the photoluminescence layer 110. As described above, in the configuration of the present disclosure, light emission having directivity can be obtained by exciting the photoluminescence layer with excitation light such as ultraviolet light or blue light. By providing the light source 180 configured to emit such excitation light, the light emitting device 200 having directivity can be realized. The wavelength of the excitation light emitted from the light source 180 is typically a wavelength in the ultraviolet or blue region, but is not limited thereto, and is appropriately determined according to the photoluminescent material constituting the photoluminescent layer 110. In FIG. 16, the light source 180 is arranged so that the excitation light is incident from the lower surface of the photoluminescence layer 110. However, the present invention is not limited to such an example. For example, the excitation light is emitted from the upper surface of the photoluminescence layer 110. It may be incident. The excitation light may be incident from a direction inclined (ie, obliquely) with respect to a direction perpendicular to the main surface (ie, upper surface or lower surface) of the photoluminescence layer 110. By making the excitation light incident obliquely at an angle at which total reflection occurs in the photoluminescence layer 110, light can be emitted more efficiently.

励起光を擬似導波モードに結合させることで、効率よく光を出射させる方法もある。図17Aから図17Dは、そのような方法を説明するための図である。この例では、図1C、1Dに示す構成と同様、透明基板140上にフォトルミネッセンス層110および周期構造120が形成されている。まず、図17Aに示すように、発光増強のためにx方向の周期pxを決定し、続いて、図17Bに示すように、励起光を擬似導波モードに結合させるためにy方向の周期pyを決定する。周期pxは、式(10)においてpをpxに置き換えた条件を満足するように決定される。一方、周期pyは、mを1以上の整数、励起光の波長をλex、フォトルミネッセンス層110に接する媒質のうち、周期構造120を除く最も屈折率の高い媒質の屈折率をnoutとして、以下の式(16)を満足するように決定される。

Figure 0006566313
There is also a method for efficiently emitting light by coupling excitation light into a pseudo-guide mode. 17A to 17D are diagrams for explaining such a method. In this example, the photoluminescence layer 110 and the periodic structure 120 are formed on the transparent substrate 140 as in the configuration shown in FIGS. 1C and 1D. First, as shown in FIG. 17A, the period p x in the x direction is determined for light emission enhancement, and then, the period in the y direction is used to couple the excitation light to the pseudo waveguide mode as shown in FIG. 17B. to determine the p y. The period p x is determined so as to satisfy the condition in which p is replaced with p x in Equation (10). On the other hand, in the period py , m is an integer equal to or larger than 1, the wavelength of the excitation light is λ ex , and the medium having the highest refractive index excluding the periodic structure 120 out of the medium in contact with the photoluminescence layer 110 is n out. The following equation (16) is satisfied.
Figure 0006566313

ここで、noutは、図17Bの例では透明基板140のnsであるが、図16のように透明基板140を設けない構成では、空気の屈折率(約1.0)である。 Here, n out is n s of the transparent substrate 140 in the example of FIG. 17B, but in the configuration in which the transparent substrate 140 is not provided as in FIG. 16, it is the refractive index of air (about 1.0).

特に、m=1として、次の式(17)を満足するように周期pyを決定すれば、励起光を擬似導波モードに変換する効果をより高くすることができる。

Figure 0006566313
In particular, if m = 1 and the period py is determined so as to satisfy the following expression (17), the effect of converting the excitation light into the pseudo-waveguide mode can be further enhanced.
Figure 0006566313

このように、式(16)の条件(特に式(17)の条件)を満足するように周期pyを設定することで、励起光を擬似導波モードに変換することができる。その結果、フォトルミネッセンス層110に効率的に波長λexの励起光を吸収させることができる。 In this way, by setting the period p y so as to satisfy the condition (in particular the condition of equation (17)) of formula (16) can be converted excitation light to the pseudo guided mode. As a result, the photoluminescence layer 110 can efficiently absorb the excitation light having the wavelength λ ex .

図17Cおよび図17Dは、それぞれ、図17Aおよび図17Bに示す構造に対して光を入射したときに光が吸収される割合を波長ごとに計算した結果を示す図である。この計算では、px=365nm、py=265nmとし、フォトルミネッセンス層110からの発光波長λを約600nm、励起光の波長λexを約450nm、フォトルミネッセンス層110の消衰係数を0.003としている。図17Dに示すように、フォトルミネッセンス層110から生じた光だけでなく、励起光である約450nmの光に対して高い吸収率を示している。これは、入射した光が効果的に擬似導波モードに変換されることで、フォトルミネッセンス層に吸収される割合を増大させることができているためである。また、発光波長である約600nmに対しても吸収率が増大しているが、これは、もし約600nmの波長の光をこの構造に入射した場合には、同様に効果的に擬似導波モードに変換されるということである。このように、図17Bに示す周期構造120は、x方向およびy方向のそれぞれに周期の異なる構造(周期成分と称する。)を有する2次元周期構造である。このように、複数の周期成分を有する2次元周期構造を用いることにより、励起効率を高めつつ、出射強度を高めることが可能になる。なお、図17A、17Bでは励起光を基板140側から入射させているが、周期構造120側から入射させても同じ効果が得られる。 FIG. 17C and FIG. 17D are diagrams showing the results of calculating the ratio of light absorption for each wavelength when light is incident on the structure shown in FIG. 17A and FIG. 17B, respectively. In this calculation, p x = 365 nm and p y = 265 nm, the emission wavelength λ from the photoluminescence layer 110 is about 600 nm, the wavelength λ ex of the excitation light is about 450 nm, and the extinction coefficient of the photoluminescence layer 110 is 0.003. It is said. As shown in FIG. 17D, not only the light generated from the photoluminescence layer 110 but also light having a wavelength of about 450 nm that is excitation light is shown. This is because the incident light is effectively converted into the pseudo-waveguide mode, so that the proportion absorbed by the photoluminescence layer can be increased. In addition, the absorptance is increased with respect to the emission wavelength of about 600 nm. This is because if the light having a wavelength of about 600 nm is incident on this structure, the pseudo-waveguide mode can be effectively effectively applied. Is converted to. As described above, the periodic structure 120 illustrated in FIG. 17B is a two-dimensional periodic structure having structures with different periods (referred to as periodic components) in each of the x direction and the y direction. Thus, by using a two-dimensional periodic structure having a plurality of periodic components, it is possible to increase the emission intensity while increasing the excitation efficiency. In FIGS. 17A and 17B, the excitation light is incident from the substrate 140 side, but the same effect can be obtained even if it is incident from the periodic structure 120 side.

さらに、複数の周期成分を有する2次元周期構造としては、図18Aまたは図18Bに示すような構成を採用してもよい。図18Aに示すように六角形の平面形状を有する複数の凸部または凹部を周期的に並べた構成や、図18Bに示すように三角形の平面形状を有する複数の凸部または凹部を周期的に並べた構成とすることにより、周期とみなすことのできる複数の主軸(図の例では軸1〜3)を定めることができる。このため、それぞれの軸方向について異なる周期を割り当てることができる。これらの周期の各々を、複数の波長の光の指向性を高めるために設定してもよいし、励起光を効率よく吸収させるために設定してもよい。いずれの場合も、式(10)に相当する条件を満足するように各周期が設定される。   Furthermore, as a two-dimensional periodic structure having a plurality of periodic components, a configuration as shown in FIG. 18A or 18B may be adopted. A configuration in which a plurality of convex portions or concave portions having a hexagonal planar shape are periodically arranged as shown in FIG. 18A, or a plurality of convex portions or concave portions having a triangular planar shape as shown in FIG. 18B are periodically arranged. By arranging them in a line, a plurality of main axes (in the example of the figure, axes 1 to 3) that can be regarded as periods can be determined. For this reason, a different period can be assigned to each axial direction. Each of these periods may be set to increase the directivity of light having a plurality of wavelengths, or may be set to efficiently absorb the excitation light. In any case, each cycle is set so as to satisfy the condition corresponding to the equation (10).

[6−3.透明基板上の周期構造]
図19Aおよび図19Bに示すように、透明基板140上に周期構造120aを形成し、その上にフォトルミネッセンス層110を設けてもよい。図19Aの構成例では、基板140上の凹凸からなる周期構造120aに追従するようにフォトルミネッセンス層110が形成されている。その結果、フォトルミネッセンス層110の表面にも同じ周期の周期構造120bが形成されている。一方、図19Bの構成例では、フォトルミネッセンス層110の表面は平坦になるように処理されている。これらの構成例においても、周期構造120aの周期pを式(15)を満足するように設定することにより、指向性発光を実現できる。
[6-3. Periodic structure on transparent substrate]
As shown in FIGS. 19A and 19B, the periodic structure 120a may be formed on the transparent substrate 140, and the photoluminescence layer 110 may be provided thereon. In the configuration example of FIG. 19A, the photoluminescence layer 110 is formed so as to follow the periodic structure 120 a made of unevenness on the substrate 140. As a result, a periodic structure 120b having the same period is also formed on the surface of the photoluminescence layer 110. On the other hand, in the configuration example of FIG. 19B, the surface of the photoluminescence layer 110 is processed to be flat. Also in these configuration examples, directional light emission can be realized by setting the period p of the periodic structure 120a so as to satisfy Expression (15).

この効果を検証するため、図19Aの構成において、発光波長および周期構造の周期を変えて正面方向に出力する光の増強度を計算した。ここで、フォトルミネッセンス層110の膜厚を1000nm、フォトルミネッセンス層110の屈折率をnwav=1.8、周期構造120aはy方向に均一な1次元周期構造で高さを50nm、屈折率をnp=1.5、周期を400nmとし、光の偏光はy方向に平行な電場成分を有するTMモードであるものとした。本計算の結果を図19Cに示す。本計算においても、式(15)の条件を満足する周期で光強度のピークが観測された。 In order to verify this effect, in the configuration of FIG. 19A, the intensity of light output in the front direction was calculated by changing the emission wavelength and the period of the periodic structure. Here, the film thickness of the photoluminescence layer 110 is 1000 nm, the refractive index of the photoluminescence layer 110 is n wav = 1.8, the periodic structure 120a is a uniform one-dimensional periodic structure in the y direction, the height is 50 nm, and the refractive index is It was assumed that n p = 1.5, the period was 400 nm, and the polarization of light was a TM mode having an electric field component parallel to the y direction. The result of this calculation is shown in FIG. 19C. Also in this calculation, a peak of light intensity was observed at a period satisfying the condition of Expression (15).

[6−4.粉体]
以上の実施形態によれば、周期構造の周期や、フォトルミネッセンス層の膜厚を調整することで任意の波長の発光を強調することができる。例えば、広い帯域で発光するフォトルミネッセンス材料を用いて図1A、1Bのような構成にすれば、ある波長の光のみを強調することが可能である。よって、図1A、1Bのような発光素子100の構成を粉末状にして、蛍光材料として利用してもよい。また、図1A、1Bのような発光素子100を樹脂やガラスなどに埋め込んで利用してもよい。
[6-4. powder]
According to the above embodiment, light emission of an arbitrary wavelength can be emphasized by adjusting the period of the periodic structure and the film thickness of the photoluminescence layer. For example, if a photoluminescent material that emits light in a wide band is used as shown in FIGS. 1A and 1B, only light of a certain wavelength can be emphasized. Therefore, the structure of the light emitting element 100 as shown in FIGS. 1A and 1B may be powdered and used as a fluorescent material. 1A and 1B may be used by being embedded in a resin or glass.

図1A、1Bのような単体の構成では、ある特定の波長しか特定の方向に出射できないため、例えば広い波長域のスペクトルを持つ白色などの発光を実現することは難しい。そこで、図20に示すように周期構造の周期やフォトルミネッセンス層の膜厚などの条件の異なる複数の粉末状の発光素子100を混ぜたものを用いることにより、広い波長域のスペクトルを持つ発光装置を実現できる。この場合、個々の発光素子100の一方向のサイズは、例えば数μm〜数mm程度であり、その中に例えば数周期〜数百周期の1次元または2次元の周期構造を含み得る。   1A and 1B, since only a specific wavelength can be emitted in a specific direction, it is difficult to realize light emission such as white having a spectrum in a wide wavelength range. Therefore, as shown in FIG. 20, by using a mixture of a plurality of powdered light emitting elements 100 having different conditions such as the period of the periodic structure and the film thickness of the photoluminescence layer, a light emitting device having a spectrum in a wide wavelength range Can be realized. In this case, the size of each light emitting element 100 in one direction is, for example, about several μm to several mm, and may include, for example, a one-dimensional or two-dimensional periodic structure of several cycles to several hundred cycles.

[6−5.周期の異なる構造を配列]
図21は、フォトルミネッセンス層の上に周期の異なる複数の周期構造を2次元に配列した例を示す平面図である。この例では、3種類の周期構造120a、120b、120cが隙間なく配列されている。周期構造120a、120b、120cは、例えば、赤、緑、青の波長域の光をそれぞれ正面に出射するように周期が設定されている。このように、フォトルミネッセンス層の上に周期の異なる複数の構造を並べることによっても広い波長域のスペクトルに対し指向性を発揮させることができる。なお、複数の周期構造の構成は、上記のものに限定されず、任意に設定してよい。
[6-5. Arrange structures with different periods]
FIG. 21 is a plan view showing an example in which a plurality of periodic structures having different periods are two-dimensionally arranged on the photoluminescence layer. In this example, three types of periodic structures 120a, 120b, and 120c are arranged without a gap. For example, the periodic structures 120a, 120b, and 120c have a period set so as to emit light in the red, green, and blue wavelength ranges to the front. Thus, directivity can be exhibited with respect to a spectrum in a wide wavelength region by arranging a plurality of structures with different periods on the photoluminescence layer. The configuration of the plurality of periodic structures is not limited to the above, and may be set arbitrarily.

[6−6.積層構造]
図22は、表面に凹凸構造が形成された複数のフォトルミネッセンス層110が積層された構造を有する発光素子の一例を示している。複数のフォトルミネッセンス層110の間には、透明基板140が設けられ、各層のフォトルミネッセンス層110の表面に形成された凹凸構造が上記の周期構造またはサブミクロン構造に相当する。図22に示す例では、3層の周期の異なる周期構造が形成されており、それぞれ、赤、青、緑の波長域の光を正面に出射するように周期が設定されている。また、各周期構造の周期に対応する色の光を発するように各層のフォトルミネッセンス層110の材料が選択されている。このように、周期の異なる複数の周期構造を積層することによっても、広い波長域のスペクトルに対し指向性を発揮させることができる。
[6-6. Laminated structure]
FIG. 22 illustrates an example of a light-emitting element having a structure in which a plurality of photoluminescence layers 110 having an uneven structure formed on the surface are stacked. A transparent substrate 140 is provided between the plurality of photoluminescence layers 110, and the concavo-convex structure formed on the surface of the photoluminescence layer 110 of each layer corresponds to the periodic structure or the submicron structure. In the example shown in FIG. 22, the three-layer periodic structures having different periods are formed, and the periods are set so as to emit light in the red, blue, and green wavelength ranges to the front. Further, the material of the photoluminescence layer 110 of each layer is selected so as to emit light of a color corresponding to the period of each periodic structure. In this way, directivity can be exhibited with respect to a spectrum in a wide wavelength range by laminating a plurality of periodic structures having different periods.

なお、層数や各層のフォトルミネッセンス層110および周期構造の構成は上記のものに限定されず、任意に設定してよい。例えば2層の構成では、透光性の基板を介して第1のフォトルミネッセンス層と第2のフォトルミネッセンス層とが対向するように形成され、第1および第2のフォトルミネッセンス層の表面に、それぞれ第1および第2の周期構造が形成されることになる。この場合、第1のフォトルミネッセンス層および第1の周期構造の対と、第2のフォトルミネッセンス層および第2の周期構造の対のそれぞれについて、式(15)に相当する条件を満足していればよい。3層以上の構成においても同様に、各層におけるフォトルミネッセンス層および周期構造について、式(15)に相当する条件を満足していればよい。フォトルミネッセンス層と周期構造との位置関係が図22に示すものとは逆転していてもよい。図22に示す例では、各層の周期が異なっているが、これらを全て同じ周期にしてもよい。その場合、スペクトルを広くすることはできないが、発光強度を大きくすることができる。   Note that the number of layers, the structure of the photoluminescence layer 110 of each layer, and the periodic structure are not limited to those described above, and may be arbitrarily set. For example, in the structure of two layers, the first photoluminescence layer and the second photoluminescence layer are formed so as to face each other through the light-transmitting substrate, and the surface of the first and second photoluminescence layers is formed on the surface. The first and second periodic structures will be formed respectively. In this case, for each of the first photoluminescence layer and the first periodic structure pair and the second photoluminescence layer and the second periodic structure pair, the condition corresponding to the equation (15) may be satisfied. That's fine. Similarly, in the configuration of three or more layers, the condition corresponding to the formula (15) may be satisfied for the photoluminescence layer and the periodic structure in each layer. The positional relationship between the photoluminescence layer and the periodic structure may be reversed from that shown in FIG. In the example shown in FIG. 22, the period of each layer is different, but they may all be the same period. In that case, the spectrum cannot be widened, but the emission intensity can be increased.

[6−7.保護層を有する構成]
図23は、フォトルミネッセンス層110と周期構造120との間に保護層150を設けた構成例を示す断面図である。このように、フォトルミネッセンス層110を保護するための保護層150を設けても良い。ただし、保護層150の屈折率がフォトルミネッセンス層110の屈折率よりも低い場合は、保護層150の内部に波長の半分程度しか光の電場が染み出さない。よって、保護層150が波長よりも厚い場合には、周期構造120に光が届かない。このため、擬似導波モードが存在せず、光を特定方向に放出する機能を得ることができない。保護層150の屈折率がフォトルミネッセンス層110の屈折率と同程度あるいはそれ以上の場合には、保護層150の内部にまで光が到達する。よって、保護層150に厚さの制約は無い。ただし、その場合でも、光が導波する部分(以下、この部分を「導波層」と呼ぶ。)の大部分をフォトルミネッセンス材料で形成したほうが大きな光の出力が得られる。よって、この場合でも保護層150は薄いほうが望ましい。なお、保護層150を周期構造(透光層)120と同じ材料を用いて形成してもよい。このとき、周期構造を有する透光層が保護層を兼ねる。透光層120の屈折率はフォトルミネッセンス層110よりも小さいことが望ましい。
[6-7. Configuration with protective layer]
FIG. 23 is a cross-sectional view illustrating a configuration example in which a protective layer 150 is provided between the photoluminescence layer 110 and the periodic structure 120. As described above, the protective layer 150 for protecting the photoluminescence layer 110 may be provided. However, when the refractive index of the protective layer 150 is lower than the refractive index of the photoluminescence layer 110, an electric field of light oozes out only about half the wavelength inside the protective layer 150. Therefore, when the protective layer 150 is thicker than the wavelength, light does not reach the periodic structure 120. For this reason, there is no pseudo waveguide mode, and a function of emitting light in a specific direction cannot be obtained. When the refractive index of the protective layer 150 is about the same as or higher than the refractive index of the photoluminescence layer 110, the light reaches the inside of the protective layer 150. Therefore, there is no restriction on the thickness of the protective layer 150. However, even in that case, a larger light output can be obtained by forming most of a portion where light is guided (hereinafter, this portion is referred to as a “waveguide layer”) from a photoluminescent material. Therefore, it is desirable that the protective layer 150 is thin even in this case. Note that the protective layer 150 may be formed using the same material as the periodic structure (translucent layer) 120. At this time, the light-transmitting layer having a periodic structure also serves as a protective layer. The refractive index of the light transmitting layer 120 is preferably smaller than that of the photoluminescent layer 110.

[7.材料]
以上のような条件を満たす材料でフォトルミネッセンス層(あるいは導波層)および周期構造を構成すれば、指向性発光を実現できる。周期構造には任意の材料を用いることができる。しかしながら、フォトルミネッセンス層(あるいは導波層)や周期構造を形成する媒質の光吸収性が高いと、光を閉じ込める効果が低下し、ピーク強度およびQ値が低下する。よって、フォトルミネッセンス層(あるいは導波層)および周期構造を形成する媒質として、光吸収性の比較的低いものが用いられ得る。
[7. material]
If the photoluminescence layer (or waveguide layer) and the periodic structure are made of a material that satisfies the above conditions, directional light emission can be realized. Any material can be used for the periodic structure. However, if the light absorptivity of the medium forming the photoluminescence layer (or waveguide layer) or the periodic structure is high, the effect of confining light is reduced, and the peak intensity and the Q value are reduced. Therefore, a medium having a relatively low light absorption can be used as a medium for forming the photoluminescence layer (or waveguide layer) and the periodic structure.

周期構造の材料としては、例えば、光吸収性の低い誘電体が使用され得る。周期構造の材料の候補としては、例えば、MgF2(フッ化マグネシウム)、LiF(フッ化リチウム)、CaF2(フッ化カルシウム)、SiO2(石英)、ガラス、樹脂、MgO(酸化マグネシウム)、ITO(酸化インジウム錫)、TiO2(酸化チタン)、SiN(窒化シリコン)、Ta25(五酸化タンタル)、ZrO2(ジルコニア)、ZnSe(セレン化亜鉛)、ZnS(硫化亜鉛)などが挙げられる。ただし、前述のとおり周期構造の屈折率をフォトルミネッセンス層の屈折率よりも低くする場合、屈折率が1.3〜1.5程度であるMgF2、LiF、CaF2、SiO2、ガラス、樹脂を用いることができる。 As the material of the periodic structure, for example, a dielectric having low light absorption can be used. Examples of the material of the periodic structure include, for example, MgF 2 (magnesium fluoride), LiF (lithium fluoride), CaF 2 (calcium fluoride), SiO 2 (quartz), glass, resin, MgO (magnesium oxide), ITO (indium tin oxide), TiO 2 (titanium oxide), SiN (silicon nitride), Ta 2 O 5 (tantalum pentoxide), ZrO 2 (zirconia), ZnSe (zinc selenide), ZnS (zinc sulfide), etc. Can be mentioned. However, as described above, when the refractive index of the periodic structure is made lower than the refractive index of the photoluminescence layer, MgF 2 , LiF, CaF 2 , SiO 2 , glass, resin having a refractive index of about 1.3 to 1.5. Can be used.

フォトルミネッセンス材料は、狭義の蛍光材料および燐光材料を包含し、無機材料だけなく、有機材料(例えば色素)を包含し、さらには、量子ドット(即ち、半導体微粒子)を包含する。一般に、無機材料をホストとする蛍光材料は屈折率が高い傾向にある。青色に発光する蛍光材料としては、例えば、M10(PO46Cl2:Eu2+(M=Ba,SrおよびCaから選ばれる少なくとも1種)、BaMgAl1017:Eu2+、M3MgSi28:Eu2+(M=Ba,SrおよびCaから選ばれる少なくとも1種)、M5SiO4Cl6:Eu2+(M=Ba,SrおよびCaから選ばれる少なくとも1種)を用いることができる。緑色に発光する蛍光材料としては、例えば、M2MgSi27:Eu2+(M=Ba,SrおよびCaから選ばれる少なくとも1種)、SrSi5AlO27:Eu2+、SrSi222:Eu2+、BaAl24:Eu2+、BaZrSi39:Eu2+、M2SiO4:Eu2+(M=Ba,SrおよびCaから選ばれる少なくとも1種)、BaSi342:Eu2+ Ca8Mg(SiO44Cl2:Eu2+、Ca3SiO4Cl2:Eu2+、CaSi12-(m+n)Al(m+n)n16-n:Ce3+、β−SiAlON:Eu2+を用いることができる。赤色に発光する蛍光材料としては、例えば、CaAlSiN3:Eu2+、SrAlSi47:Eu2+、M2Si58:Eu2+(M=Ba,SrおよびCaから選ばれる少なくとも1種)、MSiN2:Eu2+(M=Ba,SrおよびCaから選ばれる少なくとも1種)、MSi222:Yb2+(M=SrおよびCaから選ばれる少なくとも1種)、Y22S:Eu3+,Sm3+、La22S:Eu3+,Sm3+、CaWO4:Li1+,Eu3+,Sm3+、M2SiS4:Eu2+(M=Ba,SrおよびCaから選ばれる少なくとも1種)、M3SiO5:Eu2+(M=Ba,SrおよびCaから選ばれる少なくとも1種)を用いることができる。黄色に発光する蛍光材料としては、例えば、Y3Al512:Ce3+、CaSi222:Eu2+、Ca3Sc2Si312:Ce3+、CaSc24:Ce3+、α−SiAlON:Eu2+、MSi222:Eu2+(M=Ba,SrおよびCaから選ばれる少なくとも1種)、M7(SiO36Cl2:Eu2+(M=Ba,SrおよびCaから選ばれる少なくとも1種)を用いることができる。 The photoluminescent material includes a fluorescent material and a phosphorescent material in a narrow sense, includes not only an inorganic material but also an organic material (for example, a dye), and further includes a quantum dot (that is, a semiconductor fine particle). In general, a fluorescent material having an inorganic material as a host tends to have a high refractive index. Examples of fluorescent materials that emit blue light include M 10 (PO 4 ) 6 Cl 2 : Eu 2+ (M = at least one selected from Ba, Sr and Ca), BaMgAl 10 O 17 : Eu 2+ , M 3 MgSi 2 O 8 : Eu 2+ (at least one selected from M = Ba, Sr and Ca), M 5 SiO 4 Cl 6 : Eu 2+ (at least one selected from M = Ba, Sr and Ca) Can be used. Examples of fluorescent materials that emit green light include M 2 MgSi 2 O 7 : Eu 2+ (M = at least one selected from Ba, Sr and Ca), SrSi 5 AlO 2 N 7 : Eu 2+ , SrSi 2. O 2 N 2 : Eu 2+ , BaAl 2 O 4 : Eu 2+ , BaZrSi 3 O 9 : Eu 2+ , M 2 SiO 4 : Eu 2+ (at least one selected from M = Ba, Sr and Ca) BaSi 3 O 4 N 2 : Eu 2+ , Ca 8 Mg (SiO 4 ) 4 Cl 2 : Eu 2+ , Ca 3 SiO 4 Cl 2 : Eu 2+ , CaSi 12-(m + n) Al (m + n) O n N 16-n : Ce 3+ , β-SiAlON: Eu 2+ can be used. Examples of the fluorescent material emitting red light include CaAlSiN 3 : Eu 2+ , SrAlSi 4 O 7 : Eu 2+ , M 2 Si 5 N 8 : Eu 2+ (at least one selected from M = Ba, Sr and Ca). Species), MSiN 2 : Eu 2+ (at least one selected from M = Ba, Sr and Ca), MSi 2 O 2 N 2 : Yb 2+ (at least one selected from M = Sr and Ca), Y 2 O 2 S: Eu 3+ , Sm 3+ , La 2 O 2 S: Eu 3+ , Sm 3+ , CaWO 4 : Li 1+ , Eu 3+ , Sm 3+ , M 2 SiS 4 : Eu 2+ (M = SiO, at least one selected from Ba, Sr and Ca), M 3 SiO 5 : Eu 2+ (M = at least one selected from Ba, Sr and Ca) can be used. Examples of fluorescent materials that emit yellow light include Y 3 Al 5 O 12 : Ce 3+ , CaSi 2 O 2 N 2 : Eu 2+ , Ca 3 Sc 2 Si 3 O 12 : Ce 3+ , and CaSc 2 O 4. : Ce 3+ , α-SiAlON: Eu 2+ , MSi 2 O 2 N 2 : Eu 2+ (at least one selected from M = Ba, Sr and Ca), M 7 (SiO 3 ) 6 Cl 2 : Eu 2+ (M = at least one selected from Ba, Sr and Ca) can be used.

量子ドットについては、例えば、CdS、CdSe、コア・シェル型CdSe/ZnS、合金型CdSSe/ZnSなどの材料を用いることができ、材質によって様々な発光波長を得ることができる。量子ドットのマトリクスとしては、例えば、ガラスや樹脂を用いることができる。   For the quantum dots, for example, materials such as CdS, CdSe, core / shell CdSe / ZnS, and alloy type CdSSe / ZnS can be used, and various emission wavelengths can be obtained depending on the material. As the matrix of quantum dots, for example, glass or resin can be used.

図1C、1Dなどに示す透明基板140は、フォトルミネッセンス層110の屈折率よりも低い透光性材料によって構成される。そのような材料として、例えば、MgF2(フッ化マグネシウム)、LiF(フッ化リチウム)、CaF2(フッ化カルシウム)、SiO2(石英)、ガラス、樹脂が挙げられる。なお、基板140を介さずにフォトルミネッセンス層110に励起光を入射させるような構成においては、基板140が透明であることは必須ではない。基板140は、例えば、BaF2、SrF2、MgO、MgAl24、サファイア(Al23)、SrTiO3、LaAlO3、TiO2、Gd3Ga512、LaSrAlO4、LaSrGaO4、LaTaO3、SrO、YSZ(ZrO2・Y23)、YAG、Tb3Ga512を用いて形成されてもよい。 The transparent substrate 140 shown in FIGS. 1C, 1D, and the like is made of a light-transmitting material having a refractive index lower than that of the photoluminescence layer 110. Examples of such a material include MgF 2 (magnesium fluoride), LiF (lithium fluoride), CaF 2 (calcium fluoride), SiO 2 (quartz), glass, and resin. Note that it is not essential for the substrate 140 to be transparent in a configuration in which excitation light is incident on the photoluminescence layer 110 without passing through the substrate 140. The substrate 140 may be, for example, BaF 2 , SrF 2 , MgO, MgAl 2 O 4 , sapphire (Al 2 O 3 ), SrTiO 3 , LaAlO 3 , TiO 2 , Gd 3 Ga 5 O 12 , LaSrAlO 4 , LaSrGaO 4 , LaTaO. 3 , SrO, YSZ (ZrO 2 .Y 2 O 3 ), YAG, or Tb 3 Ga 5 O 12 may be used.

[8.製造方法]
続いて、製造方法の一例を説明する。
[8. Production method]
Then, an example of a manufacturing method is demonstrated.

図1C、1Dに示す構成を実現する方法として、例えば、透明基板140上に蛍光材料を蒸着、スパッタリング、塗布などの工程によってフォトルミネッセンス層110の薄膜を形成し、その後、誘電体を成膜し、フォトリソグラフィなどの方法によってパターニングすることによって周期構造120を形成する方法がある。上記方法の代わりに、ナノインプリントによって周期構造120を形成してもよい。また、図24に示すように、フォトルミネッセンス層110の一部のみを加工することによって周期構造120を形成してもよい。その場合、周期構造120はフォトルミネッセンス層110と同じ材料で形成されることになる。   As a method of realizing the configuration shown in FIGS. 1C and 1D, for example, a thin film of the photoluminescence layer 110 is formed on the transparent substrate 140 by a process such as vapor deposition, sputtering, and coating, and then a dielectric is formed. There is a method of forming the periodic structure 120 by patterning by a method such as photolithography. Instead of the above method, the periodic structure 120 may be formed by nanoimprinting. Further, as shown in FIG. 24, the periodic structure 120 may be formed by processing only a part of the photoluminescence layer 110. In that case, the periodic structure 120 is formed of the same material as the photoluminescence layer 110.

図1A、1Bに示す発光素子100は、例えば、図1C、1Dに示す発光素子100aを作製した後、基板140からフォトルミネッセンス層110および周期構造120の部分を剥がす工程を行うことで実現可能である。   The light-emitting element 100 illustrated in FIGS. 1A and 1B can be realized by, for example, manufacturing the light-emitting element 100a illustrated in FIGS. 1C and 1D and then performing a process of removing the portions of the photoluminescence layer 110 and the periodic structure 120 from the substrate 140. is there.

図19Aに示す構成は、例えば、透明基板140上に半導体プロセスやナノインプリントなどの方法で周期構造120aを形成した後、その上にフォトルミネッセンス層110を構成する材料を蒸着やスパッタリングなどの方法で形成することによって実現可能である。あるいは、塗布などの方法を用いて周期構造120aの凹部をフォトルミネッセンス層110で埋め込むことによって図19Bに示す構成を実現することもできる。   In the configuration shown in FIG. 19A, for example, after the periodic structure 120a is formed on the transparent substrate 140 by a method such as a semiconductor process or nanoimprint, the material constituting the photoluminescence layer 110 is formed thereon by a method such as vapor deposition or sputtering. This is possible by doing. Alternatively, the structure shown in FIG. 19B can be realized by embedding the concave portion of the periodic structure 120a with the photoluminescence layer 110 using a method such as coating.

なお、上記の製造方法は一例であり、本開示の発光素子は上記の製造方法に限定されない。   In addition, said manufacturing method is an example and the light emitting element of this indication is not limited to said manufacturing method.

[9.実験例]
以下に、本開示の実施形態による発光素子を作製した例を説明する。
[9. Experimental example]
Hereinafter, an example in which a light emitting device according to an embodiment of the present disclosure is manufactured will be described.

図19Aと同様の構成を有する発光素子のサンプルを試作し、特性を評価した。発光素子は以下の様にして作製した。   A sample of a light-emitting element having the same structure as that in FIG. 19A was prototyped, and the characteristics were evaluated. The light emitting element was manufactured as follows.

ガラス基板に、周期400nm、高さ40nmの1次元周期構造(ストライプ状の凸部)を設け、その上からフォトルミネッセンス材料であるYAG:Ceを210nm成膜した。この断面図のTEM像を図25に示し、これを450nmのLEDで励起することでYAG:Ceを発光させたときの、正面方向のスペクトルを測定した結果を図26に示す。図26には、周期構造がない場合の測定結果(ref)と、1次元周期構造に対して平行な偏光成分を持つTMモードと、垂直な偏光成分を持つTEモードを測定した結果について示した。周期構造がある場合は、周期構造がない場合に対して、特定の波長の光が著しく増加していることが見て取れる。また、1次元周期構造に対して平行な偏光成分を持つTMモードの方が、光の増強効果が大きいことが分かる。   A glass substrate was provided with a one-dimensional periodic structure (stripe-shaped convex portion) having a period of 400 nm and a height of 40 nm, and YAG: Ce, which is a photoluminescence material, was formed to a thickness of 210 nm thereon. FIG. 25 shows a TEM image of this cross-sectional view, and FIG. 26 shows the result of measuring the spectrum in the front direction when YAG: Ce is emitted by exciting it with a 450 nm LED. FIG. 26 shows measurement results (ref) in the absence of a periodic structure, results of measuring a TM mode having a polarization component parallel to the one-dimensional periodic structure, and a TE mode having a perpendicular polarization component. . In the case where there is a periodic structure, it can be seen that the light of a specific wavelength is remarkably increased compared to the case where there is no periodic structure. It can also be seen that the TM mode having a polarization component parallel to the one-dimensional periodic structure has a larger light enhancement effect.

さらに、同じサンプルにおいて、出射光強度の角度依存性を測定した結果および計算結果を図27A〜27Fおよび図28A〜28Fに示す。図27Aは、TMモードの直線偏光を出射する発光素子を、1次元周期構造120のライン方向と平行な軸を回転軸として回転させている状況を示している。図27Bおよび図27Cは、このように回転させた場合についての測定結果および計算結果をそれぞれ示している。一方、図27Dは、TEモードの直線偏光を出射する発光素子を、1次元周期構造120のライン方向と平行な軸を回転軸として回転させている状況を示している。図27Eおよび図27Fは、この場合の測定結果および計算結果をそれぞれ示している。図28Aは、TEモードの直線偏光を出射する発光素子を、1次元周期構造120のライン方向に垂直な軸を回転軸として回転させている状況を示している。図28Bおよび図28Cは、この場合の測定結果および計算結果をそれぞれ示している。一方、図28Dは、TMモードの直線偏光を出射する発光素子を、1次元周期構造120のライン方向と垂直な軸を回転軸として回転させている状況を示している。図28Eおよび図28Fは、この場合の測定結果および計算結果をそれぞれ示している。図27A〜27Fおよび図28A〜28Fから明らかなように、TMモードの方が増強される効果が高い。また、増強される光の波長は角度によってシフトすることがわかる。例えば、波長610nmの光については、TMモードでかつ正面方向にしか光が存在しないため、指向性が高くかつ偏光発光していることがわかる。また、図27Bと図27C、図27Eと図27F、図28Bと図28C、図28Eと図28Fのそれぞれの測定結果と計算結果とが整合していることから、上述の計算の妥当性が実験によって裏付けられた。   Furthermore, in the same sample, the results of measuring the angle dependency of the emitted light intensity and the calculation results are shown in FIGS. 27A to 27F and FIGS. 28A to 28F. FIG. 27A shows a state in which a light emitting element that emits TM mode linearly polarized light is rotated about an axis parallel to the line direction of the one-dimensional periodic structure 120 as a rotation axis. FIG. 27B and FIG. 27C respectively show the measurement results and calculation results for the case of rotating in this way. On the other hand, FIG. 27D shows a situation in which the light emitting element that emits TE mode linearly polarized light is rotated about an axis parallel to the line direction of the one-dimensional periodic structure 120 as a rotation axis. FIG. 27E and FIG. 27F show the measurement result and the calculation result in this case, respectively. FIG. 28A shows a state in which a light emitting element that emits TE mode linearly polarized light is rotated about an axis perpendicular to the line direction of the one-dimensional periodic structure 120 as a rotation axis. FIG. 28B and FIG. 28C show measurement results and calculation results in this case, respectively. On the other hand, FIG. 28D shows a situation where the light emitting element that emits TM mode linearly polarized light is rotated about the axis perpendicular to the line direction of the one-dimensional periodic structure 120 as the rotation axis. FIG. 28E and FIG. 28F show the measurement result and the calculation result in this case, respectively. As is clear from FIGS. 27A to 27F and FIGS. 28A to 28F, the TM mode has a higher effect of enhancement. It can also be seen that the wavelength of the enhanced light shifts with angle. For example, it can be seen that light having a wavelength of 610 nm has a high directivity and emits polarized light because the light exists only in the TM mode and in the front direction. 27B and 27C, FIG. 27E and FIG. 27F, FIG. 28B and FIG. 28C, and FIG. 28E and FIG. Supported by.

図29は、波長610nmの光について、図28Dに示すように、ライン方向に対して垂直な方向を回転軸として回転させた場合の強度の角度依存性を示している。正面方向に強い発光増強が起きており、そのほかの角度に対しては、ほとんど光が増強されていない様子がみてとれる。正面方向に出射される光の指向角は15°未満であることがわかる。なお、指向角は、前述のように、強度が最大強度の50%となる角度であり、最大強度の方向を中心に片側の角度で表す。図29に示す結果から、指向性発光が実現していることがわかる。さらに、出射される光は全てTMモードの成分であるため、同時に偏光発光も実現していることがわかる。   FIG. 29 shows the angle dependence of the intensity when light having a wavelength of 610 nm is rotated about a direction perpendicular to the line direction as the rotation axis, as shown in FIG. 28D. There is a strong light emission enhancement in the front direction, and it can be seen that the light is hardly enhanced at other angles. It can be seen that the directivity angle of the light emitted in the front direction is less than 15 °. As described above, the directivity angle is an angle at which the intensity is 50% of the maximum intensity, and is represented by an angle on one side with respect to the direction of the maximum intensity. From the results shown in FIG. 29, it can be seen that directional light emission is realized. Furthermore, since all the emitted light is a TM mode component, it can be seen that polarized light emission is realized at the same time.

以上の検証のための実験は、広帯域の波長帯で発光するYAG:Ceを使って行った。狭帯域の光を発するフォトルミネッセンス材料を用いて同様の構成で実験を行ったとしても、その波長の光に対して高い指向性および偏光発光を実現することができる。さらに、そのようなフォトルミネッセンス材料を用いた場合、他の波長の光は発生しないために他の方向や他の偏光状態の光は発生しない光源を実現することができる。   The verification experiment described above was performed using YAG: Ce that emits light in a wide wavelength band. Even if an experiment is performed with a similar configuration using a photoluminescent material that emits light in a narrow band, high directivity and polarized light emission can be realized for light of that wavelength. Further, when such a photoluminescent material is used, a light source that does not generate light in other directions and in other polarization states can be realized because light of other wavelengths is not generated.

[10.他の変形例]
次に、本開示の発光素子および発光装置の他の変形例を説明する。
[10. Other variations]
Next, another modified example of the light emitting element and the light emitting device of the present disclosure will be described.

上述したように、本開示の発光素子が有するサブミクロン構造によって、発光増強効果を受ける光の波長および出射方向は、サブミクロン構造の構成に依存する。図31に示す、フォトルミネッセンス層110上に周期構造120を有する発光素子を考える。ここでは、周期構造120はフォトルミネッセンス層110と同じ材料で形成されており、図1Aに示した1次元周期構造120を有する場合を例示する。1次元周期構造120によって発光増強を受ける光は、1次元周期構造120の周期p(nm)、フォトルミネッセンス層110の屈折率nwav、光が出射される外部の媒質の屈折率noutとし、1次元周期構造120への入射角をθwav、1次元周期構造120から外部の媒質への出射角をθoutとすると、p×nwav×sinθwav−p×nout×sinθout=mλの関係を満足する(上記の式(5)参照)。ここで、λは空気中における光の波長であり、mは整数である。 As described above, the wavelength and emission direction of light subjected to the light emission enhancement effect by the submicron structure of the light emitting element of the present disclosure depend on the configuration of the submicron structure. Consider a light-emitting element having a periodic structure 120 on a photoluminescence layer 110 shown in FIG. Here, the periodic structure 120 is formed of the same material as that of the photoluminescence layer 110, and the case where the periodic structure 120 includes the one-dimensional periodic structure 120 illustrated in FIG. 1A is illustrated. The light receiving the emission enhancement by the one-dimensional periodic structure 120 is defined as a period p (nm) of the one-dimensional periodic structure 120, a refractive index n wav of the photoluminescence layer 110, and a refractive index n out of an external medium from which the light is emitted, When the incident angle to the one-dimensional periodic structure 120 is θ wav and the exit angle from the one-dimensional periodic structure 120 to the external medium is θ out , p × n wav × sin θ wav −p × n out × sin θ out = mλ The relationship is satisfied (see the above formula (5)). Here, λ is the wavelength of light in the air, and m is an integer.

上記式から、θout=arcsin[(nwav×sinθwav−mλ/p)/nout]が得られる。したがって、一般に、波長λが異なると、発光増強を受けた光の出射角θoutが異なる。その結果、図31に模式的に示すように、観察する方向によって、見える光の色が異なる。 From the above equation, θ out = arcsin [(n wav × sin θ wav −mλ / p) / n out ] is obtained. Therefore, in general, when the wavelength λ is different, the emission angle θ out of the light subjected to the emission enhancement is different. As a result, as schematically shown in FIG. 31, the color of the visible light differs depending on the direction of observation.

この視角依存性を低減させるためには、(nwav×sinθwav−mλ/p)/noutが、波長λによらず一定となるように、nwavおよびnoutを選べばよい。物質の屈折率は、波長分散(波長依存性)を有しているので、(nwav×sinθwav−mλ/p)/noutが波長λに依存しないような、nwavおよびnoutの波長分散性を有する材料を選択すればよい。例えば、外部の媒質が空気の場合、noutは、波長によらずほぼ1.0なので、フォトルミネッセンス層110および一次元周期構造120を形成する材料として、屈折率nwavの波長分散が小さい材料を選択することが望ましい。さらに、屈折率nwavがより短い波長の光に対して屈折率が低くなるような逆分散の材料のほうが望ましい。 In order to reduce the viewing angle dependency, n wav and n out may be selected so that (n wav × sin θ wav −mλ / p) / n out is constant regardless of the wavelength λ. Since the refractive index of the material has wavelength dispersion (wavelength dependence), the wavelength of n wav and n out such that (n wav × sin θ wav −mλ / p) / n out does not depend on the wavelength λ. A material having dispersibility may be selected. For example, when the external medium is air, n out is approximately 1.0 regardless of the wavelength. Therefore, as a material for forming the photoluminescence layer 110 and the one-dimensional periodic structure 120, a material having a small wavelength dispersion of the refractive index n wav. It is desirable to select. Furthermore, a reverse dispersion material is preferable in which the refractive index is low for light having a shorter refractive index n wav .

また、図32Aに示すように、互いに発光増強効果を示す波長が異なる複数の周期構造を配列することによって、白色光を出射できるようにできる。図32Aに示す例では、赤色光(R)を増強できる周期構造120rと、緑色光(G)を増強できる周期構造120gと、青色光(B)を増強できる周期構造120bとがマトリクス状に配列されている。周期構造120r、120gおよび120bは、例えば、1次元周期構造で、それぞれの凸部は互いに平行に配列されている。したがって、偏光特性は、赤、緑、青の全ての色の光について同じである。周期構造120r、120gおよび120bによって、発光増強を受けた三原色の光が出射され、混色される結果、白色光、かつ、直線偏光が得られる。   Also, as shown in FIG. 32A, white light can be emitted by arranging a plurality of periodic structures having different wavelengths that exhibit a light emission enhancement effect. In the example shown in FIG. 32A, a periodic structure 120r that can enhance red light (R), a periodic structure 120g that can enhance green light (G), and a periodic structure 120b that can enhance blue light (B) are arranged in a matrix. Has been. The periodic structures 120r, 120g, and 120b are, for example, one-dimensional periodic structures, and the convex portions are arranged in parallel to each other. Therefore, the polarization characteristics are the same for all colors of red, green, and blue. By the periodic structures 120r, 120g, and 120b, the light of the three primary colors that has received light emission enhancement is emitted and mixed, resulting in white light and linearly polarized light.

マトリクス状に配列された各周期構造120r、120gおよび120bを単位周期構造(または画素)と呼ぶと、単位周期構造の大きさ(即ち、一辺の長さ)は、例えば、周期の3倍以上である。また、混色の効果を得るためには人間の目で単位周期構造が認識されない方が望ましく、例えば、一辺の長さは1mmよりも小さいことが望ましい。ここでは、各単位周期構造を正方形に描いているが、これに限られず、例えば、互いに隣接する周期構造120r、120gおよび120bが長方形、三角形、六角形などの正方形以外の形状でもよい。   When the periodic structures 120r, 120g, and 120b arranged in a matrix are called unit periodic structures (or pixels), the size of the unit periodic structure (that is, the length of one side) is, for example, three times or more of the period. is there. In order to obtain a mixed color effect, it is desirable that the unit periodic structure is not recognized by the human eye. For example, the length of one side is preferably smaller than 1 mm. Here, although each unit periodic structure is drawn in the square, it is not restricted to this, For example, the periodic structures 120r, 120g, and 120b which adjoin each other may be shapes other than squares, such as a rectangle, a triangle, and a hexagon.

また、周期構造120r、120gおよび120bの下に設けられているフォトルミネッセンス層は、周期構造120r、120gおよび120bに共通であってもよいし、それぞれの色の光に対応して異なるフォトルミネッセンス材料を有するフォトルミネッセンス層を設けてもよい。   In addition, the photoluminescence layer provided under the periodic structures 120r, 120g, and 120b may be common to the periodic structures 120r, 120g, and 120b, or different photoluminescence materials corresponding to light of the respective colors. A photoluminescence layer may be provided.

図32Bに示すように、1次元周期構造の凸部が延びる方位が異なる複数の周期構造(周期構造120h、120iおよび120jを含む)を配列してもよい。複数の周期構造が発光増強する光の波長は、同じでもよいし、異なっていてもよい。例えば、同じ周期構造を図32Bのように配列すると、偏光していない光を得ることができる。また、図32Aにおける周期構造120r、120gおよび120bのそれぞれについて、図32Bの配列を適用すると、全体として、非偏光の白色光を得ることができる。   As shown in FIG. 32B, a plurality of periodic structures (including periodic structures 120h, 120i, and 120j) having different orientations in which the convex portions of the one-dimensional periodic structure extend may be arranged. The wavelengths of light with which a plurality of periodic structures enhance light emission may be the same or different. For example, when the same periodic structure is arranged as shown in FIG. 32B, unpolarized light can be obtained. Further, when the arrangement of FIG. 32B is applied to each of the periodic structures 120r, 120g, and 120b in FIG. 32A, unpolarized white light can be obtained as a whole.

もちろん、周期構造は、1次元周期構造に限らず、図32Cに示すように、複数の2次元周期構造(周期構造120k、120mおよび120nを含む)を配列してもよい。このとき、周期構造120k、120mおよび120nの周期や方位は、上述したように、同じでもよいし、異なってもよく、必要に応じて適宜設定され得る。   Of course, the periodic structure is not limited to a one-dimensional periodic structure, and a plurality of two-dimensional periodic structures (including periodic structures 120k, 120m, and 120n) may be arranged as shown in FIG. 32C. At this time, as described above, the periods and orientations of the periodic structures 120k, 120m, and 120n may be the same as or different from each other, and may be set as necessary.

図33に示すように、例えば、発光素子の光の出射側にマイクロレンズ130のアレイを配置してもよい。マイクロレンズ130のアレイにより、斜め方向に出射される光を法線方向に曲げることによって、混色の効果を得ることができる。   As shown in FIG. 33, for example, an array of microlenses 130 may be arranged on the light emission side of the light emitting element. By using the array of microlenses 130 to bend light emitted in an oblique direction in the normal direction, a color mixing effect can be obtained.

図33に示した発光素子は、図32Aにおける周期構造120r、120gおよび120bをそれぞれ有する領域R1、R2およびR3を有する。領域R1においては、周期構造120rによって、赤色光Rが法線方向に出射され、例えば緑色光Gは斜め方向に出射される。マイクロレンズ130の屈折作用によって、斜め方向に出射された緑色光Gは法線方向に曲げられる。その結果、法線方向においては、赤色光Rと緑色光Gとが混色されて観察される。このように、マイクロレンズ130を設けることによって、出射される光の波長が角度によって異なるという現象が抑制される。ここでは、複数の周期構造に対応する複数のマイクロレンズを一体化したマイクロレンズアレイを例示しているが、これに限られない。もちろん、タイリングする周期構造は上記の例に限られず、同じ周期構造をタイリングした場合にも適用できるし、図32Bまたは図32Cに示した構成にも適用できる。   The light-emitting element shown in FIG. 33 has regions R1, R2, and R3 having the periodic structures 120r, 120g, and 120b in FIG. 32A, respectively. In the region R1, the red light R is emitted in the normal direction by the periodic structure 120r, for example, the green light G is emitted in an oblique direction. The green light G emitted in the oblique direction is bent in the normal direction by the refraction action of the microlens 130. As a result, in the normal direction, the red light R and the green light G are mixed and observed. Thus, by providing the microlens 130, the phenomenon that the wavelength of the emitted light differs depending on the angle is suppressed. Here, a microlens array in which a plurality of microlenses corresponding to a plurality of periodic structures are integrated is illustrated, but the present invention is not limited to this. Of course, the periodic structure to be tiled is not limited to the above example, and can be applied to the case where the same periodic structure is tiled, and can also be applied to the configuration shown in FIG. 32B or 32C.

斜め方向に出射される光を曲げる作用を有する光学素子は、マイクロレンズアレイに代えてレンチキュラーレンズであってもよい。また、レンズだけでなく、プリズムを用いることもできる。プリズムのアレイを用いてもよい。周期構造に対応して個々にプリズムを配置してもよい。プリズムの形状は、特に制限されない。例えば、三角プリズムまたはピラミッド型プリズムを用いることができる。   The optical element having an action of bending light emitted in an oblique direction may be a lenticular lens instead of the microlens array. In addition to a lens, a prism can also be used. An array of prisms may be used. You may arrange | position a prism separately corresponding to a periodic structure. The shape of the prism is not particularly limited. For example, a triangular prism or a pyramid prism can be used.

白色光(あるいは、広いスペクトル幅を有する光)を得る方法は、上述の周期構造によるものの他、例えば、図34Aおよび図34Bに示すように、フォトルミネッセンス層によるものもある。図34Aに示すように、発光波長が異なる複数のフォトルミネッセンス層110b、110g、110rを積層することによって、白色光を得ることができる。積層順は図示の例に限らない。また、図34Bに示すように、青色の光を発するフォトルミネッセンス層110bの上に、黄色の光を発するフォトルミネッセンス層110yを積層してもよい。フォトルミネッセンス層110yは、例えばYAGを用いて形成することができる。   A method for obtaining white light (or light having a wide spectral width) is not only based on the above-described periodic structure but also based on a photoluminescence layer as shown in FIGS. 34A and 34B, for example. As shown in FIG. 34A, white light can be obtained by stacking a plurality of photoluminescence layers 110b, 110g, and 110r having different emission wavelengths. The stacking order is not limited to the illustrated example. As shown in FIG. 34B, a photoluminescence layer 110y that emits yellow light may be stacked on the photoluminescence layer 110b that emits blue light. The photoluminescence layer 110y can be formed using, for example, YAG.

この他、蛍光色素などマトリクス(ホスト)材料に混合して用いられるフォトルミネッセンス材料を用いる場合には、発光波長が異なる複数のフォトルミネッセンス材料をマトリクス材料に混合し、単一のフォトルミネッセンス層で、白色光を発光するようにできる。この様な白色光を発光できるフォトルミネッセンス層は、図32A〜図32Cを参照して説明した、単位周期構造をタイリングした構成に用いることができる。   In addition, when using a photoluminescent material that is mixed with a matrix (host) material such as a fluorescent dye, a plurality of photoluminescent materials having different emission wavelengths are mixed with the matrix material, and a single photoluminescent layer is used. White light can be emitted. Such a photoluminescence layer capable of emitting white light can be used in the configuration in which the unit periodic structure is tiled as described with reference to FIGS. 32A to 32C.

フォトルミネッセンス層110を形成する材料として、無機材料(例えばYAG)を用いる場合、その製造過程で、1000℃を超える熱処理を経ることがある。その際、下地(典型的には、基板)から不純物が拡散し、フォトルミネッセンス層110の発光特性を低下させることがある。不純物がフォトルミネッセンス層に拡散するのを防止するために、例えば図35A〜35Dに示すように、フォトルミネッセンス層の下に、拡散防止層(バリア層)108を設けてもよい。図35A〜35Dに示すように、拡散防止層108は、これまで例示した種々の構成において、フォトルミネッセンス層110の下層に形成される。   When an inorganic material (for example, YAG) is used as a material for forming the photoluminescence layer 110, heat treatment exceeding 1000 ° C. may be performed in the manufacturing process. At that time, impurities may diffuse from the base (typically the substrate), and the light emission characteristics of the photoluminescence layer 110 may be deteriorated. In order to prevent impurities from diffusing into the photoluminescence layer, for example, as shown in FIGS. 35A to 35D, a diffusion prevention layer (barrier layer) 108 may be provided under the photoluminescence layer. As shown in FIGS. 35A to 35D, the diffusion prevention layer 108 is formed under the photoluminescence layer 110 in various configurations exemplified so far.

例えば、図35Aに示すように、基板140とフォトルミネッセンス層110との間に拡散防止層108が形成される。また、図35Bに示すように、複数のフォトルミネッセンス層110aおよび110bを有する場合には、フォトルミネッセンス層110aおよび110bのそれぞれの下層に拡散防止層108aまたは108bが形成される。 For example, as illustrated in FIG. 35A, the diffusion prevention layer 108 is formed between the substrate 140 and the photoluminescence layer 110. In addition, as shown in FIG. 35B, in the case of having a plurality of photoluminescence layers 110a and 110b , diffusion preventing layers 108a or 108b are formed in the lower layers of the photoluminescence layers 110a and 110b, respectively.

基板140の屈折率がフォトルミネッセンス層110の屈折率よりも大きい場合には、図35C、図35Dに示すように、基板140上に低屈折率層107を形成すればよい。図35Cに示すように、基板140の上に低屈折率層107を設けた場合、低屈折率層107とフォトルミネッセンス層110との間の拡散防止層108が形成される。さらに、図35Dに示すように、複数のフォトルミネッセンス層110aおよび100bを有する場合には、フォトルミネッセンス層110aおよび110bの下層に拡散防止層108aおよび108bがそれぞれ形成される。   When the refractive index of the substrate 140 is larger than the refractive index of the photoluminescence layer 110, the low refractive index layer 107 may be formed on the substrate 140 as shown in FIGS. 35C and 35D. As shown in FIG. 35C, when the low refractive index layer 107 is provided on the substrate 140, the diffusion preventing layer 108 between the low refractive index layer 107 and the photoluminescence layer 110 is formed. Furthermore, as shown in FIG. 35D, in the case of having a plurality of photoluminescence layers 110a and 100b, diffusion preventing layers 108a and 108b are formed under the photoluminescence layers 110a and 110b, respectively.

なお、低屈折率層107は、基板140の屈折率がフォトルミネッセンス層110の屈折率と同等かそれよりも大きい場合に形成される。低屈折率層107の屈折率は、フォトルミネッセンス層110の屈折率よりも低い。低屈折率層107は、例えば、MgF2
LiF、CaF2、BaF2、SrF2、石英、樹脂、HSQ・SOGなどの常温硬化ガラスを用いて形成される。低屈折率層107の厚さは、光の波長よりも大きいことが望ましい。基板140は、例えば、MgF2、LiF、CaF2、BaF2、SrF2、ガラス、樹脂、MgO、MgAl24、サファイア(Al23)、SrTiO3、LaAlO3、TiO2、Gd3Ga512、LaSrAlO4、LaSrGaO4、LaTaO3、SrO、YSZ(ZrO2・Y23)、YAG、Tb3Ga512を用いて形成される。
The low refractive index layer 107 is formed when the refractive index of the substrate 140 is equal to or larger than the refractive index of the photoluminescence layer 110. The refractive index of the low refractive index layer 107 is lower than the refractive index of the photoluminescence layer 110. The low refractive index layer 107 is, for example, MgF 2 ,
LiF, CaF 2 , BaF 2 , SrF 2 , quartz, resin, and room temperature curable glass such as HSQ · SOG are used. The thickness of the low refractive index layer 107 is desirably larger than the wavelength of light. The substrate 140 is, for example, MgF 2 , LiF, CaF 2 , BaF 2 , SrF 2 , glass, resin, MgO, MgAl 2 O 4 , sapphire (Al 2 O 3 ), SrTiO 3 , LaAlO 3 , TiO 2 , Gd 3. Ga 5 O 12 , LaSrAlO 4 , LaSrGaO 4 , LaTaO 3 , SrO, YSZ (ZrO 2 .Y 2 O 3 ), YAG, Tb 3 Ga 5 O 12 are used.

拡散防止層108、108a、108bは、拡散を防止する対象の元素によって好適に選択されればよく、例えば、共有結合性の強い酸化物結晶や窒化物結晶を用いて形成されることができる。拡散防止層108、108a、108bの厚さは、例えば、50nm以下である。   The diffusion prevention layers 108, 108a, and 108b may be suitably selected depending on the element to be prevented from diffusion, and can be formed using, for example, an oxide crystal or nitride crystal having strong covalent bond. The thickness of the diffusion preventing layers 108, 108a, 108b is, for example, 50 nm or less.

なお、拡散防止層108や後述する結晶成長層106のような、フォトルミネッセンス層110に隣接する層を有する構成においては、隣接する層の屈折率がフォトルミネッセンス層の屈折率よりも大きい場合、当該屈折率が大きい層の屈折率およびフォトルミネッセンス層の屈折率をそれぞれの体積比率で重み付けした平均屈折率をnwavとする。この場合は、光学的には、フォトルミネッセンス層が複数の異なる材料の層で構成されている場合と等価であるからである。 In a structure having a layer adjacent to the photoluminescence layer 110 such as the diffusion prevention layer 108 or the crystal growth layer 106 described later, when the refractive index of the adjacent layer is larger than the refractive index of the photoluminescence layer, Let n wav be the average refractive index obtained by weighting the refractive index of the layer having a large refractive index and the refractive index of the photoluminescence layer by the respective volume ratios. This is because this is optically equivalent to the case where the photoluminescence layer is composed of a plurality of layers of different materials.

また、無機材料を用いて形成されたフォトルミネッセンス層110においては、無機材料の結晶性が低いために、フォトルミネッセンス層110の発光特性が低いことがある。フォトルミネッセンス層110を構成する無機材料の結晶性を高めるために、図36Aに示すように、フォトルミネッセンス層110の下地に、結晶成長層(「シード層」ということもある。)106を形成してもよい。結晶成長層106は、その上に形成されるフォトルミネッセンス層110の結晶と格子整合する材料を用いて形成される。格子整合は、例えば±5%以内であることが望ましい。基板140の屈折率がフォトルミネッセンス層110の屈折率よりも大きい場合、結晶成長層106または106aの屈折率は、フォトルミネッセンス層110の屈折率よりも小さいことが望ましい。   In addition, in the photoluminescence layer 110 formed using an inorganic material, the light emission characteristics of the photoluminescence layer 110 may be low because the crystallinity of the inorganic material is low. In order to enhance the crystallinity of the inorganic material constituting the photoluminescence layer 110, a crystal growth layer (also referred to as “seed layer”) 106 is formed on the base of the photoluminescence layer 110 as shown in FIG. 36A. May be. The crystal growth layer 106 is formed using a material that lattice-matches with the crystal of the photoluminescence layer 110 formed thereon. The lattice matching is desirably within ± 5%, for example. When the refractive index of the substrate 140 is larger than the refractive index of the photoluminescence layer 110, it is desirable that the refractive index of the crystal growth layer 106 or 106 a is smaller than the refractive index of the photoluminescence layer 110.

基板140の屈折率がフォトルミネッセンス層110の屈折率よりも大きい場合には、図36Bに示すように、基板140上に低屈折率層107を形成すればよい。結晶成長層106は、フォトルミネッセンス層110と接するので、基板140上に低屈折率層107が形成される場合には、低屈折率層107上に結晶成長層106が形成される。また、図36Cに示すように、複数のフォトルミネッセンス層110aおよび110bを有する構成においては、複数のフォトルミネッセンス層110aおよび110bのそれぞれに対応する結晶成長層106aまたは106bを形成することが望ましい。結晶成長層106、106aおよび106bの厚さは、例えば、例えば、50nm以下である。   When the refractive index of the substrate 140 is larger than the refractive index of the photoluminescence layer 110, a low refractive index layer 107 may be formed on the substrate 140 as shown in FIG. 36B. Since the crystal growth layer 106 is in contact with the photoluminescence layer 110, when the low refractive index layer 107 is formed on the substrate 140, the crystal growth layer 106 is formed on the low refractive index layer 107. As shown in FIG. 36C, in the configuration having a plurality of photoluminescence layers 110a and 110b, it is desirable to form crystal growth layers 106a or 106b corresponding to the plurality of photoluminescence layers 110a and 110b, respectively. The thickness of the crystal growth layers 106, 106a and 106b is, for example, 50 nm or less.

図37Aおよび図37Bに示すように、周期構造120を保護するために、表面保護層132を設けてもよい。   As shown in FIGS. 37A and 37B, a surface protective layer 132 may be provided to protect the periodic structure 120.

表面保護層132は、図37Aに示すように、基板を有しないタイプのものであっても、図37Bに示すように、基板140を有するタイプのものにも設けられる。また、図37Aに示した基板を有しないタイプの発光素子においては、フォトルミネッセンス層110の下層にも表面保護層を設けてもよい。このように、表面保護層132は、上述したいずれの発光素子の表面に設けてもよい。周期構造120は、図37Aおよび図37Bに例示したものに限られず、上述したいずれのタイプであってもよい。   As shown in FIG. 37A, the surface protective layer 132 is also provided for a type having no substrate, as shown in FIG. 37B. In the light-emitting element that does not include the substrate illustrated in FIG. 37A, a surface protective layer may be provided below the photoluminescence layer 110. Thus, the surface protective layer 132 may be provided on the surface of any of the light-emitting elements described above. The periodic structure 120 is not limited to those illustrated in FIGS. 37A and 37B, and may be any type described above.

表面保護層132は、例えば、樹脂、ハードコート材、SiO2、Al23(アルミナ
)、SiOC、DLCを用いて形成することができる。表面保護層132の厚さは、例えば、100nm〜10μmである。
The surface protective layer 132 can be formed using, for example, a resin, a hard coat material, SiO 2 , Al 2 O 3 (alumina), SiOC, or DLC. The thickness of the surface protective layer 132 is, for example, 100 nm to 10 μm.

表面保護層132を設けることによって、発光素子を外部環境から保護し、発光素子の劣化を抑制することができる。表面保護層132は、発光素子の表面を傷、水分、酸素、酸、アルカリ、または熱から保護する。表面保護層132の材料や厚さは、用途に応じて適宜設定され得る。   By providing the surface protective layer 132, the light-emitting element can be protected from the external environment and deterioration of the light-emitting element can be suppressed. The surface protective layer 132 protects the surface of the light emitting element from scratches, moisture, oxygen, acid, alkali, or heat. The material and thickness of the surface protective layer 132 can be appropriately set according to the application.

また、フォトルミネッセンス材料は熱によって劣化することがある。熱は、主にフォトルミネッセンス層110の非輻射ロスやストークスロスによって生じる。例えば、石英の熱伝導率(1.6W/m・K)は、YAGの熱伝導率(11.4W/m・K)よりも約1桁小さい。したがって、フォトルミネッセンス層(例えばYAG層)110で発生した熱が基板(例えば石英基板)140を通して外部に熱伝導して放熱されにくく、フォトルミネッセンス層110の温度が上昇し、熱劣化を起こすことがある。   In addition, the photoluminescent material may be deteriorated by heat. Heat is generated mainly by non-radiation loss or Stokes loss of the photoluminescence layer 110. For example, the thermal conductivity of quartz (1.6 W / m · K) is about an order of magnitude smaller than that of YAG (11.4 W / m · K). Therefore, heat generated in the photoluminescence layer (for example, YAG layer) 110 is not easily dissipated through heat conduction to the outside through the substrate (for example, quartz substrate) 140, and the temperature of the photoluminescence layer 110 is increased, which may cause thermal degradation. is there.

そこで、図38Aに示すように、フォトルミネッセンス層110と基板140との間に、透明高熱伝導層105を形成することによって、フォトルミネッセンス層110の熱を外部に効率よく伝導させ、温度上昇を防ぐことができる。このとき、透明高熱伝導層105の屈折率は、フォトルミネッセンス層110の屈折率よりも低いことが望ましい。なお、基板140の屈折率がフォトルミネッセンス層110の屈折率よりも低い場合には、透明高熱伝導層105の屈折率は、フォトルミネッセンス層110の屈折率よりも高くてもよい。ただし、この場合には、透明高熱伝導層105は、フォトルミネッセンス層110とともに導波層を形成するので、50nm以下であることが望ましい。図38Bに示すように、フォトルミネッセンス層110と透明高熱伝導層105との間に、低屈折率層107を形成すれば、厚い透明高熱伝導層105を利用できる。   Therefore, as shown in FIG. 38A, by forming the transparent high thermal conductive layer 105 between the photoluminescent layer 110 and the substrate 140, the heat of the photoluminescent layer 110 is efficiently conducted to the outside and the temperature rise is prevented. be able to. At this time, the refractive index of the transparent high thermal conductive layer 105 is desirably lower than the refractive index of the photoluminescence layer 110. When the refractive index of the substrate 140 is lower than the refractive index of the photoluminescence layer 110, the refractive index of the transparent high thermal conductive layer 105 may be higher than the refractive index of the photoluminescence layer 110. However, in this case, since the transparent high thermal conductive layer 105 forms a waveguide layer together with the photoluminescence layer 110, it is desirable that the thickness be 50 nm or less. As shown in FIG. 38B, if the low refractive index layer 107 is formed between the photoluminescence layer 110 and the transparent high thermal conductive layer 105, the thick transparent high thermal conductive layer 105 can be used.

また、図38Cに示すように、周期構造120を高い熱伝導率を有する低屈折率層107で覆ってもよい。さらに、図38Dに示すように、周期構造120を低屈折率層107で覆った上に、透明高熱伝導層105を形成してもよい。この構成においては、低屈折率層107が高い熱伝導率を有する必要はない。   Further, as shown in FIG. 38C, the periodic structure 120 may be covered with a low refractive index layer 107 having high thermal conductivity. Furthermore, as shown in FIG. 38D, the transparent high thermal conductive layer 105 may be formed after the periodic structure 120 is covered with the low refractive index layer 107. In this configuration, the low refractive index layer 107 does not need to have a high thermal conductivity.

透明高熱伝導層105の材料としては、例えば、Al23、MgO、Si34、ZnO、AlN、Y23、ダイヤモンド、グラフェン、CaF2、BaF2を挙げることができる。これらの内、CaF2、BaF2は、屈折率が低いので、低屈折率層107として利用することができる。 Examples of the material for the transparent high thermal conductive layer 105 include Al 2 O 3 , MgO, Si 3 N 4 , ZnO, AlN, Y 2 O 3 , diamond, graphene, CaF 2 , and BaF 2 . Of these, CaF 2 and BaF 2 have a low refractive index and can be used as the low refractive index layer 107.

次に、図39A〜39Dを参照して、発光素子100と光源180とを備える発光装置の放熱特性を高めた構造を説明する。   Next, with reference to FIGS. 39A to 39D, a structure with improved heat dissipation characteristics of a light emitting device including the light emitting element 100 and the light source 180 will be described.

図39Aに示す発光装置は、光源180としてのLEDチップ180と、発光素子100とを有している。発光素子100は、上述のいずれのタイプでもよい。LEDチップ180は、支持基板190上に実装されており、発光素子100は、LEDチップと所定の間隔をあけて配置されている。発光素子100は、LEDチップから出射される励起光を受けて発光する。支持基板190上において、LEDチップ180および発光素子100は、封止部142に覆われている。   The light emitting device illustrated in FIG. 39A includes an LED chip 180 as the light source 180 and the light emitting element 100. The light emitting element 100 may be any type described above. The LED chip 180 is mounted on the support substrate 190, and the light emitting element 100 is disposed at a predetermined interval from the LED chip. The light emitting element 100 receives the excitation light emitted from the LED chip and emits light. On the support substrate 190, the LED chip 180 and the light emitting element 100 are covered with a sealing portion 142.

封止部142は、高熱伝導性と透光性とを備えている。封止部142を形成する材料(「封止材料」ということがある)は、例えば、高熱伝導性のフィラーと樹脂材料とを含む複合材料である。高熱伝導性フィラーとしては、Al23、ZnO、Y23、グラフェンおよびAlNを例示することができる。また、樹脂材料としては、エポキシ樹脂およびシリコーン樹脂を例示することができる。特に、封止材料として、高熱伝導性フィラーのサイズがナノメートルサイズ(即ち、サブミクロンサイズ)を用いたナノコンポジット材料を用いることができる。ナノコンポジット材料を用いると、光の拡散反射(または散乱)を抑制することができる。ナノコンポジット材料としては、フィラーとしてZnOまたはAl23を用い、樹脂として、エポキシ樹脂またはシリコーン樹脂を用いたものを例示することができる。 The sealing portion 142 has high thermal conductivity and translucency. The material for forming the sealing portion 142 (sometimes referred to as “sealing material”) is, for example, a composite material including a highly thermally conductive filler and a resin material. Examples of the high thermal conductive filler include Al 2 O 3 , ZnO, Y 2 O 3 , graphene, and AlN. Moreover, as a resin material, an epoxy resin and a silicone resin can be illustrated. In particular, as the sealing material, a nanocomposite material using a nanometer size (that is, a submicron size) of the high thermal conductive filler can be used. When a nanocomposite material is used, diffuse reflection (or scattering) of light can be suppressed. Examples of the nanocomposite material include those using ZnO or Al 2 O 3 as a filler and an epoxy resin or a silicone resin as a resin.

なお、発光素子100が、図39Aに例示したように、表面に周期構造が露出しているタイプの場合には、周期構造の周りの媒質の屈折率は、周期構造の屈折率よりも低いことが望ましい。すなわち、封止部142の屈折率は、周期構造が透光層によって形成されている場合は、透光層の屈折率よりも低く、周期構造がフォトルミネッセンス層と同じ材料で形成されている場合は、フォトルミネッセンス層の屈折率よりも低いことが望ましい。   When the light emitting element 100 is of a type in which the periodic structure is exposed on the surface as illustrated in FIG. 39A, the refractive index of the medium around the periodic structure is lower than the refractive index of the periodic structure. Is desirable. That is, the refractive index of the sealing portion 142 is lower than the refractive index of the light-transmitting layer when the periodic structure is formed of the light-transmitting layer, and the periodic structure is formed of the same material as the photoluminescence layer. Is preferably lower than the refractive index of the photoluminescence layer.

封止部142は、図39Bに示すように、発光素子100の表面近傍(例えば、周期構造を有する透光層またはフォトルミネッセンス層)を露出するように設けてもよい。このとき、封止部142の屈折率は特に制限されない。   As illustrated in FIG. 39B, the sealing portion 142 may be provided so as to expose the vicinity of the surface of the light-emitting element 100 (for example, a light-transmitting layer or a photoluminescence layer having a periodic structure). At this time, the refractive index of the sealing portion 142 is not particularly limited.

また、図39Cに示すように、発光素子100として、周期構造が低屈折率層107(図38C参照)で覆われているタイプのものを用いる場合にも、封止部142の屈折率は、周期構造の屈折率よりも高くてもよい。このような構成を採用するようことによって、封止部142の材料の選択範囲が広がる。   As shown in FIG. 39C, when the light emitting element 100 is of a type in which the periodic structure is covered with the low refractive index layer 107 (see FIG. 38C), the refractive index of the sealing portion 142 is It may be higher than the refractive index of the periodic structure. By adopting such a configuration, the material selection range of the sealing portion 142 is expanded.

また、図39Dに示すように、発光素子100の周辺を高熱伝導性を有するホルダー152に固定してもよい。ホルダー152は、例えば、金属で形成され得る。例えば、光源として、レーザーダイオード182を用いる場合のように、発光素子100と光源との間に封止材料を充填できない場合に、上記の構造を好適に用いられ得る。例えば、図38A〜38Dに例示した構成を有する発光素子100は、透明高熱伝導層105または高い熱伝導率を有する低屈折率層107を有するので、素子の面内の熱伝導性が高いので、効果的にホルダー152を介して放熱することができる。 Further, as shown in FIG. 39D, the periphery of the light emitting element 100 may be fixed to a holder 152 having high thermal conductivity. The holder 152 can be made of metal, for example. For example, when the sealing material cannot be filled between the light emitting element 100 and the light source as in the case where the laser diode 182 is used as the light source, the above structure can be suitably used. For example, since the light emitting device 100 having the configuration illustrated in FIGS. 38A to 38D includes the transparent high thermal conductive layer 105 or the low refractive index layer 107 having high thermal conductivity, the thermal conductivity in the plane of the device is high. Heat can be radiated through the holder 152 effectively.

図40A〜40Dに示すように、発光素子100の表面に、高熱伝導部材144又は146を配置してもよい。高熱伝導部材144又は146は、例えば、金属で形成される。 As illustrated in FIGS. 40A to 40D, a high thermal conductive member 144 or 146 may be disposed on the surface of the light emitting element 100. The high heat conductive member 144 or 146 is made of metal, for example.

例えば、図40Aに断面図を示し、図40Bに平面図を示すように、発光素子100の周期構造120の一部を覆うように高熱伝導部材144を配置してもよい。図40Aおよび40Bには、1次元周期構造を形成する複数の凸部の1つだけを覆う線状の高熱伝導部材144を示しているが、これに限られない。   For example, as shown in a cross-sectional view in FIG. 40A and a plan view in FIG. 40B, the high thermal conductive member 144 may be disposed so as to cover a part of the periodic structure 120 of the light emitting element 100. Although FIG. 40A and 40B show the linear high heat conductive member 144 that covers only one of the plurality of convex portions forming the one-dimensional periodic structure, the present invention is not limited to this.

また、図40Cに断面図を示し、図40Dに平面図を示すように、発光素子100の周期構造120の両端の凸部およびフォトルミネッセンス層110の端面を覆うように、高熱伝導部材146を形成してもよい。いずれの場合も、周期構造およびフォトルミネッセンス層の、高熱伝導部材146に覆われる部分の面積が大きくなると、発光素子100の特性に影響する恐れがあるので、発光素子100の表面に形成する高熱伝導部材146の面積は小さい方がよい。   Further, as shown in a sectional view in FIG. 40C and a plan view in FIG. 40D, a high thermal conductive member 146 is formed so as to cover the convex portions at both ends of the periodic structure 120 of the light emitting element 100 and the end face of the photoluminescence layer 110 May be. In any case, if the area of the portion covered with the high thermal conductive member 146 in the periodic structure and the photoluminescence layer is increased, the characteristics of the light emitting element 100 may be affected. The area of the member 146 should be small.

また、図41Aに断面図を示し、図41Bに平面図を示すように、異なる構造を有する複数の発光素子100r、100gおよび100bをタイリングする場合、隣接する発光素子の間に、それぞれの発光素子の端部を覆うように、高熱伝導部材148を配置してもよい。例えば、ここで例示するように、赤色光を増強する発光素子100r、緑色光を増強する100gおよび青色光を増強する100bを配列する場合、例えば、金属で形成された高熱伝導部材148を隣接する発光素子間に配置すると、高熱伝導部材148は遮光性を有しているので、混色を抑制することができる。このように、高熱伝導部材148を表示パネルにおけるブラックマトリクスのように使用することもできる。   In addition, as shown in a cross-sectional view in FIG. 41A and a plan view in FIG. 41B, when a plurality of light-emitting elements 100r, 100g, and 100b having different structures are tiled, light emission between adjacent light-emitting elements is performed. The high heat conductive member 148 may be disposed so as to cover the end portion of the element. For example, as illustrated here, when arranging a light emitting element 100r that enhances red light, 100g that enhances green light, and 100b that enhances blue light, for example, a high heat conductive member 148 made of metal is adjacent. When arranged between the light emitting elements, the high thermal conductive member 148 has a light shielding property, so that color mixing can be suppressed. As described above, the high thermal conductivity member 148 can be used like a black matrix in a display panel.

図42Aおよび42Bに、インターロック回路185を備える発光装置の例を示す。図42Aは発光素子100の裏面を示す模式図であり、図42Bは発光素子100の断面図を含む、発光装置の模式図である。図42Aおよび42Bに示すように、発光素子100が有する基板140の裏面に、環状配線172が形成されている。環状配線172は、発光素子100の裏面の外周近傍に形成されており、基板140が破損したら、断線するように形成されている。環状配線172は、例えば金属材料で形成されている。環状配線172の2つの端部は、インターロック回路185のリレー回路に電気的に接続されている。環状配線172に断線が発生した場合、リレー回路は、光源182への電力の供給を遮断する。光源182が、特に、レーザーダイオードのように強度の強い光を発する場合には、安全性等の観点から、インターロック回路185を設けることが望ましい。   42A and 42B show an example of a light emitting device including an interlock circuit 185. FIG. 42A is a schematic diagram illustrating the back surface of the light emitting element 100, and FIG. 42B is a schematic diagram of the light emitting device including a cross-sectional view of the light emitting element 100. FIG. As shown in FIGS. 42A and 42B, an annular wiring 172 is formed on the back surface of the substrate 140 included in the light emitting element 100. The annular wiring 172 is formed in the vicinity of the outer periphery of the back surface of the light emitting element 100, and is formed so as to be disconnected when the substrate 140 is damaged. The annular wiring 172 is made of, for example, a metal material. Two ends of the annular wiring 172 are electrically connected to the relay circuit of the interlock circuit 185. When the disconnection occurs in the annular wiring 172, the relay circuit cuts off the power supply to the light source 182. In particular, when the light source 182 emits strong light such as a laser diode, it is desirable to provide an interlock circuit 185 from the viewpoint of safety and the like.

上述の実施形態の発光素子が有するサブミクロン構造は、例えば周期構造であり、フォトリソグラフィ技術やナノプリント技術を用いて形成され得る。図43A〜43Fを参照して、サブミクロン構造の他の形成方法を説明する。   The submicron structure included in the light emitting element of the above-described embodiment is, for example, a periodic structure, and can be formed using a photolithography technique or a nanoprint technique. With reference to FIGS. 43A to 43F, another method of forming a submicron structure will be described.

図43Aに示すように、基板140に支持されたフォトルミネッセンス層110の表面にビーズ122を配置する。ビーズ122の一部をフォトルミネッセンス層110に均等に埋め込むことで、ビーズ122をフォトルミネッセンス層110に固定することができる。このように、多数のビーズ122のそれぞれの一部がフォトルミネッセンス層110に均等に埋め込まれて、残りの部分がフォトルミネッセンス層110から突き出ている場合、ビーズ122の屈折率は、フォトルミネッセンス層110の屈折率と等しくてもよいし、小さくてもよい。例えば、ビーズ122の屈折率がフォトルミネッセンス層110の屈折率よりも小さい場合、多数のビーズ122によって形成される層(フォトルミネッセンス層110から突き出た部分と埋め込まれた部分の両方)が、サブミクロン構造を有する透光層120として機能する。また、ビーズ122の屈折率がフォトルミネッセンス層110の屈折率と等しい場合、ビーズ122とフォトルミネッセンス層110とは実質的に一体となり、フォトルミネッセンス層110から突き出た部分が、サブミクロン構造を有する透光層120として機能する。   As shown in FIG. 43A, beads 122 are arranged on the surface of the photoluminescence layer 110 supported by the substrate 140. The beads 122 can be fixed to the photoluminescence layer 110 by evenly embedding a part of the beads 122 in the photoluminescence layer 110. In this way, when a part of each of the large number of beads 122 is evenly embedded in the photoluminescence layer 110 and the remaining part protrudes from the photoluminescence layer 110, the refractive index of the beads 122 has the photoluminescence layer 110. The refractive index may be equal to or smaller. For example, when the refractive index of the beads 122 is smaller than the refractive index of the photoluminescence layer 110, a layer formed by a large number of beads 122 (both a portion protruding from the photoluminescence layer 110 and an embedded portion) is submicron. It functions as the light-transmitting layer 120 having a structure. When the refractive index of the bead 122 is equal to the refractive index of the photoluminescence layer 110, the bead 122 and the photoluminescence layer 110 are substantially integrated, and a portion protruding from the photoluminescence layer 110 has a submicron structure. It functions as the optical layer 120.

あるいは、図43Bに示すように、基板140上に、多数のビーズ122を配置した上に、フォトルミネッセンス層110を形成してもよい。このとき、ビーズ122の屈折率は、フォトルミネッセンス層110の屈折率よりも低いことが望ましい。   Alternatively, as shown in FIG. 43B, the photoluminescence layer 110 may be formed on a substrate 140 after arranging a large number of beads 122. At this time, the refractive index of the beads 122 is preferably lower than the refractive index of the photoluminescence layer 110.

ここで、ビーズ122の直径は例えば上述のDintと等しいかそれよりも小さい。ビーズ122が緻密に充填された場合には、ビーズ122の直径がDintとほぼ一致する。隣接するビーズ122の間に間隙が形成される場合、ビーズ122の直径に間隙を加えた長さがDintに対応することになる。 Here, the diameter of the bead 122 is, for example, equal to or smaller than the above-mentioned D int . When the beads 122 are densely packed, the diameter of the beads 122 substantially coincides with Dint . When a gap is formed between adjacent beads 122, the length obtained by adding the gap to the diameter of the bead 122 corresponds to Dint .

また、ビーズ122としては、中空のビーズであっても、中実のビーズであってもよい。   Further, the beads 122 may be hollow beads or solid beads.

図43C〜43Fは、種々のビーズの充填状態を模式的に示す図と、それぞれ充填状態のビーズから得られる光散乱のパターンを示す図である。図43C〜43Fにおいて、黒い部分は中実ビーズまたは中空ビーズ内の中実部分を示し、白い部分は、中空ビーズまたは、中空ビーズ内の空隙部分を示している。   FIGS. 43C to 43F are diagrams schematically showing the filled state of various beads and light scattering patterns obtained from the filled beads. 43C to 43F, black portions indicate solid portions in solid beads or hollow beads, and white portions indicate void portions in hollow beads or hollow beads.

図43Cは、卵形の外形を有する中空ビーズが密に充填されている状態と、その光散乱のパターンを示している。この中空ビーズの空隙部分は、ほぼ球形で、卵の底の位置に形成されている。図43Dは、ほぼ球形の外形を有する中空ビーズが密に充填されている状態と、その光散乱のパターンを示している。この中空ビーズの空隙部分は、ほぼ球形で、外形の球に接するように形成されている。図43Eは、ほぼ球形の外形を有する中空ビーズが密に充填されている状態と、その光散乱のパターンを示している。この中空ビーズの空隙部分は、2つのほぼ球形の空隙を含んでおり、2つの球形の空隙は、外形の球の直径にそって配列されている。図43Fは、ほぼ球形の外形を有する中空ビーズとほぼ球形の外形を有する中実ビーズとが密に充填されている状態と、その光散乱のパターンを示している。中空ビーズおよび中実ビーズはほぼ同じ直径を有しており、ほぼ同じ体積比率で混合されている。また、中空ビーズおよび中実ビーズの配置に規則性はなく、ほぼランダムである。   FIG. 43C shows a state in which hollow beads having an oval outer shape are densely packed and a light scattering pattern thereof. The hollow portion of the hollow bead is substantially spherical and is formed at the bottom of the egg. FIG. 43D shows a state in which hollow beads having a substantially spherical outer shape are closely packed and a light scattering pattern thereof. The hollow portion of the hollow bead is substantially spherical and is formed so as to be in contact with the outer sphere. FIG. 43E shows a state in which hollow beads having a substantially spherical outer shape are closely packed and a light scattering pattern thereof. The void portion of the hollow bead includes two substantially spherical voids, and the two spherical voids are arranged along the diameter of the outer sphere. FIG. 43F shows a state in which hollow beads having a substantially spherical outer shape and solid beads having a substantially spherical outer shape are closely packed, and the light scattering pattern. Hollow beads and solid beads have approximately the same diameter and are mixed in approximately the same volume ratio. Further, the arrangement of the hollow beads and the solid beads is not regular and is almost random.

中空ビーズや中実ビーズは、種々のガラスまたは樹脂で形成されたものが市販されている。ここで例示したビーズは、例えば、研磨材料として広く市販されているアルミナの粉体や日鉄鉱業株式会社の中空シリカなどを用い、得られたビーズに分散剤を添加し、溶媒(例えば水やアルコール類など)に分散し、この分散液を基板140上またはフォトルミネッセンス層110上に付与し、乾燥することによって、多数のビーズが密に充填された層を形成することができる。   As hollow beads and solid beads, those made of various kinds of glass or resin are commercially available. The beads exemplified here are, for example, alumina powder that is widely marketed as an abrasive material, hollow silica manufactured by Nittetsu Mining Co., Ltd., etc., a dispersant is added to the obtained beads, and a solvent (for example, water or In this case, a layer in which a large number of beads are densely packed can be formed by applying the dispersion liquid onto the substrate 140 or the photoluminescence layer 110 and drying the dispersion liquid.

11.応用例]
上述したように、本開示の発光素子およびそれを備える発光装置は、種々の利点を有しているので、種々の光学デバイスに適用することによって、有利な効果を奏し得る。以下に、応用例を挙げる。
[ 11 . Application example]
As described above, the light-emitting element of the present disclosure and the light-emitting device including the light-emitting element have various advantages. Therefore, when applied to various optical devices, advantageous effects can be obtained. Examples of applications are given below.

11−1.表示装置]
本開示の発光素子は、特定の方向に指向性の高い光を出射することができる。この高い指向性は、例えば、液晶表示装置の導光板を利用するエッジライト型のバックライトとして好適に用いられる。従来の指向性の低い光源を用いた表示装置では、光源から出射した光を、反射板および/または拡散材により、導光板へ導入することが必要であった。これに対し、特定方向の指向性が高い本開示の実施形態における光源を用いた表示装置では、これらの光学部品を省略または簡略化しても効率よく導光板へ光を導入することできる。
[11 -1. Display device]
The light-emitting element of the present disclosure can emit light having high directivity in a specific direction. This high directivity is suitably used, for example, as an edge light type backlight using a light guide plate of a liquid crystal display device. In a conventional display device using a light source with low directivity, it is necessary to introduce light emitted from the light source into the light guide plate using a reflector and / or a diffusing material. On the other hand, in the display device using the light source in the embodiment of the present disclosure having high directivity in a specific direction, light can be efficiently introduced into the light guide plate even if these optical components are omitted or simplified.

図44は、そのような表示装置の一例を模式的に示す斜視図である。この表示装置300は、励起光源310と、励起光源310からの励起光の光路上に位置する発光素子320と、発光素子320からの光の光路上に位置する光学シャッタ350とを備える。この実施形態では、表示装置300は、さらに、発光素子320からの光を光学シャッタ350に伝播させる導光板330と、光学シャッタ350における発光素子320からの光が入射する側に配置されたカラーフィルタアレイ340とを備える。 FIG. 44 is a perspective view schematically showing an example of such a display device. The display device 300 includes an excitation light source 310, a light emitting element 320 positioned on the optical path of the excitation light from the excitation light source 310, and an optical shutter 350 positioned on the optical path of the light from the light emitting element 320. In this embodiment, the display device 300 further includes a light guide plate 330 that propagates light from the light emitting element 320 to the optical shutter 350, and a color filter that is disposed on the side of the optical shutter 350 on which light from the light emitting element 320 is incident. And an array 340.

発光素子320は、励起光を受けて、赤、緑、青の波長帯域の光をフォトルミネッセンス層の法線方向にそれぞれ出射する複数の領域(R、G、B)を有する。図44には6個の領域しか描かれていないが、実際にはさらに多くの領域が存在し得る。   The light emitting element 320 has a plurality of regions (R, G, B) that receive excitation light and emit light in the red, green, and blue wavelength bands in the normal direction of the photoluminescence layer. Although only six regions are depicted in FIG. 44, there may actually be more regions.

ここで、赤、緑、青の波長帯域は、それぞれ、赤:600〜750nm、緑:490〜570nm、青:430nm〜470nmとする。   Here, the wavelength bands of red, green, and blue are red: 600 to 750 nm, green: 490 to 570 nm, and blue: 430 nm to 470 nm, respectively.

発光素子320は、上述した各実施形態と同様、励起光によって発光するフォトルミネッセンス層と、フォトルミネッセンス層に近接して配置された透光層と、フォトルミネッセンス層および透光層の少なくとも一方に形成され、フォトルミネッセンス層または透光層の面内に広がるサブミクロン構造とを有する。ここで「近接」とは、直接接することを含む。サブミクロン構造における複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方により、R、G、Bの各領域の周期構造が形成される。   The light-emitting element 320 is formed on at least one of the photoluminescence layer that emits light by excitation light, the light-transmitting layer disposed in the vicinity of the photoluminescence layer, and the photoluminescence layer and the light-transmitting layer, as in the above-described embodiments. And a submicron structure extending in the plane of the photoluminescence layer or the light transmission layer. Here, “proximity” includes direct contact. A periodic structure of each region of R, G, and B is formed by at least one of the plurality of convex portions and the plurality of concave portions in the submicron structure.

フォトルミネッセンス層が発する光は、空気中の波長がλaの第1の光と、空気中の波長がλbの第2の光と、空気中の波長がλcの第3の光とを含む。λa、λb、λcは、それぞれ赤、緑、青の波長帯域に属する。領域Rでは、第1の光に対するフォトルミネッセンス層の屈折率をnwav-aとし、周期構造の周期をpaとすると、λa/nwav-a<pa<λaの関係が成り立つ。領域Gでは、第2の光に対するフォトルミネッセンス層の屈折率をnwav-bとし、周期構造の周期をpbとすると、λb/nwav-b<pb<λbの関係が成り立つ。領域Bでは、第3の光に対するフォトルミネッセンス層の屈折率をnwav-cとし、周期構造の周期をpcとすると、λc/nwav-c<pc<λcの関係が成り立つ。 The light emitted from the photoluminescence layer includes a first light having a wavelength λ a in the air, a second light having a wavelength λ b in the air, and a third light having a wavelength λ c in the air. Including. λ a , λ b , and λ c belong to the red, green, and blue wavelength bands, respectively. In the region R, the refractive index of the photoluminescence layer to the first light and n wav-a, when the period of the periodic structure and p a, λ a / n wav -a <p a <λ relationship a holds. In the region G, the relationship of λ b / n wav-b <p bb is established, where n wav-b is the refractive index of the photoluminescence layer for the second light and p b is the period of the periodic structure. In the region B, when the refractive index of the photoluminescence layer with respect to the third light is n wav-c and the period of the periodic structure is p c , the relationship of λ c / n wav-c <p cc is established.

導光板330は、その側面に発光素子320からの光が入射するように配置される。導光板330は、エッジライト方式のバックライトにおいて用いられる一般的な導光板と同様の構成を有する。例えば、特開平8−234200号公報に開示された導光板の構成を採用することができる。そのような構成では、導光板330の一方の面に反射板が設けられ、他方の面に拡散板が設けられる。導光板330中を光が伝播しながら、拡散板側の面から光がほぼ一様に出射する。   The light guide plate 330 is disposed so that light from the light emitting element 320 is incident on a side surface thereof. The light guide plate 330 has the same configuration as a general light guide plate used in an edge light type backlight. For example, the configuration of the light guide plate disclosed in JP-A-8-234200 can be employed. In such a configuration, a reflection plate is provided on one surface of the light guide plate 330 and a diffusion plate is provided on the other surface. While light propagates through the light guide plate 330, the light is emitted almost uniformly from the surface on the diffusion plate side.

カラーフィルタアレイ340は、2次元に配列された複数のカラーフィルタを有する。複数のカラーフィルタは、赤、緑、青の光をそれぞれ選択的に透過させる3種類のカラーフィルタを含む。互いに近接して配置された赤、緑、青の3つのカラーフィルタの集合は、格子状に配列されている。これらの集合は、1つの画素に対応し、1つのカラーフィルタはサブ画素に対応する。なお、カラーフィルタアレイ340は、光学シャッタ350における光の入射側に限らず、出射側に設けられていてもよい。後述する例のように、カラーフィルタアレイ340が光学シャッタ350の内部に設けられていてもよい。   The color filter array 340 has a plurality of color filters arranged two-dimensionally. The plurality of color filters include three types of color filters that selectively transmit red, green, and blue light, respectively. A set of three color filters of red, green, and blue arranged close to each other is arranged in a lattice pattern. These sets correspond to one pixel, and one color filter corresponds to a sub-pixel. Note that the color filter array 340 is not limited to the light incident side of the optical shutter 350, and may be provided on the emission side. As in the example described later, the color filter array 340 may be provided inside the optical shutter 350.

光学シャッタ350は、各々がサブ画素に対応する複数の単位領域に分割されている。単位領域ごとに光の透過率を変化させることができる。光学シャッタ350は、例えば液晶モジュールによって実現され得る。   The optical shutter 350 is divided into a plurality of unit areas each corresponding to a sub-pixel. The light transmittance can be changed for each unit region. The optical shutter 350 can be realized by a liquid crystal module, for example.

以下、液晶を用いた光学シャッタ350の例を説明する。以下の例では、カラーフィルタアレイ340が、光学シャッタ350(即ち、液晶モジュール)の内部に設けられている。   Hereinafter, an example of the optical shutter 350 using liquid crystal will be described. In the following example, the color filter array 340 is provided inside the optical shutter 350 (that is, the liquid crystal module).

図45は、液晶モジュールによって実現される光学シャッタ350を有する表示装置300aの構成を模式的に示す断面図である。なお、図4における各層の厚さおよび相互の間隔は、現実の厚さおよび間隔を反映していない。他の図についても同様である。この表示装置300aは、光学シャッタ350を画像信号に応じて駆動する駆動回路360をさらに備える。この例における光学シャッタ350は、偏光フィルタ351、透明基板352、透明電極353、液晶層355、透明電極356、カラーフィルタアレイ340、透明基板357、および偏光フィルタ358が、この順に形成された構造を有する。導光板330に近い偏光フィルタ351と、導光板330から遠い偏光フィルタ358とでは、偏光透過軸の方向が90度ずれている。2つの透明電極353、356は、駆動回路360に電気的に接続される。駆動回路360が2つの透明電極353、356に印加する電圧を、サブ画素ごとに変化させることにより、液晶層355における液晶分子の配向を変化させる。これにより、サブ画素ごとに光透過率を変化させる。 FIG. 45 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a display device 300a having an optical shutter 350 realized by a liquid crystal module. The thickness and the mutual distance of each layer in FIG. 4. 5, it does not reflect the thickness and spacing of the reality. The same applies to other figures. The display device 300a further includes a drive circuit 360 that drives the optical shutter 350 according to an image signal. The optical shutter 350 in this example has a structure in which a polarizing filter 351, a transparent substrate 352, a transparent electrode 353, a liquid crystal layer 355, a transparent electrode 356, a color filter array 340, a transparent substrate 357, and a polarizing filter 358 are formed in this order. Have. The polarization transmission axis direction of the polarizing filter 351 close to the light guide plate 330 and the polarizing filter 358 far from the light guide plate 330 are shifted by 90 degrees. The two transparent electrodes 353 and 356 are electrically connected to the drive circuit 360. The voltage applied to the two transparent electrodes 353 and 356 by the drive circuit 360 is changed for each subpixel, thereby changing the orientation of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 355. Thereby, the light transmittance is changed for each sub-pixel.

なお、導光板330から出射する光が直線偏光である場合には、偏光フィルタ351を省略することができる。液晶層355の両側には、配向層が設けられていてもよい。配向層は、液晶層355に電圧が印加されない場合に液晶分子を特定の方向に整列させる。   If the light emitted from the light guide plate 330 is linearly polarized light, the polarizing filter 351 can be omitted. An alignment layer may be provided on both sides of the liquid crystal layer 355. The alignment layer aligns liquid crystal molecules in a specific direction when no voltage is applied to the liquid crystal layer 355.

次に、本実施形態における動作を説明する。   Next, the operation in this embodiment will be described.

励起光源310から出射した励起光は、発光素子320におけるフォトルミネッセンス層に入射する。フォトルミネッセンス層は、励起光を受けて、赤、緑、青の波長帯域の光を発生させる。赤、緑、青の光は、それぞれ、領域R、G、Bにおける周期構造をほぼ垂直に出射して導光板330に導入される。導光板330に導入された光は、導光板330の内部で反射を繰り返しながら導光する間に、混ざり合い、導光板330の一方の面からほぼ均一な白色光として出射する。導光板330からの出射光は、光学シャッタ350によってサブ画素ごとに強度が変調され、外部に出射される。これにより、駆動回路360に入力された画像信号に応じた画像が表示される。   Excitation light emitted from the excitation light source 310 enters the photoluminescence layer in the light emitting element 320. The photoluminescence layer receives excitation light and generates light in the wavelength bands of red, green, and blue. The red, green, and blue lights are emitted from the periodic structures in the regions R, G, and B substantially perpendicularly and introduced into the light guide plate 330. The light introduced into the light guide plate 330 is mixed while being guided while being repeatedly reflected inside the light guide plate 330, and is emitted from one surface of the light guide plate 330 as substantially uniform white light. The light emitted from the light guide plate 330 is modulated in intensity for each sub-pixel by the optical shutter 350 and is emitted to the outside. As a result, an image corresponding to the image signal input to the drive circuit 360 is displayed.

本実施形態における表示装置は、例えば、テレビ、PC用モニタ、スマートフォン、タブレット端末などの機器に利用され得る。スマートフォンまたはタブレット端末のような、タッチによる入力操作が可能な機器に利用される場合、表示装置は、タッチスクリーン(またはタッチパネル)をさらに備える。   The display device in the present embodiment can be used for devices such as a television, a PC monitor, a smartphone, and a tablet terminal. When used for a device capable of touch input operation, such as a smartphone or a tablet terminal, the display device further includes a touch screen (or touch panel).

図46は、タッチスクリーン370をさらに備えた表示装置300bの一例を示す模式斜視図である。タッチスクリーン370は、光学シャッタ350の光出射面側に設けられる。タッチスクリーン370は、例えば静電容量方式などの公知の方式によって指などの接触を検出する。   FIG. 46 is a schematic perspective view showing an example of a display device 300b further provided with a touch screen 370. FIG. The touch screen 370 is provided on the light exit surface side of the optical shutter 350. The touch screen 370 detects contact of a finger or the like by a known method such as a capacitance method.

次に、表示装置の他の実施形態を説明する。   Next, another embodiment of the display device will be described.

図47は、導光板330が、励起光源310からの励起光をフォトルミネッセンス層321に伝播させるように配置された表示装置300cの構成の一部を示す模式断面図である。この表示装置300cでは、励起光源310から出射された励起光は、導光板330内を伝播しながら、フォトルミネッセンス層321にほぼ均一に入射する。フォトルミネッセンス層321、およびその表面に形成されたサブミクロン構造322は、白色光をフォトルミネッセンス層321とほぼ垂直に出射させるように設計されている。このため、サブミクロン構造322は、例えば図31〜図33を参照しながら説明したいずれかの構造を有する。例えば、複数の単位周期構造をタイリングした構造、またはR、G、Bの3色にそれぞれ対応した3つのフォトルミネッセンス層を積層した構造などを有する。複数の単位周期構造をタイリングした構造においては、各単位周期構造のサイズは、サブ画素のサイズよりも小さい。   FIG. 47 is a schematic cross-sectional view showing a part of the configuration of the display device 300 c in which the light guide plate 330 is arranged to propagate the excitation light from the excitation light source 310 to the photoluminescence layer 321. In the display device 300 c, the excitation light emitted from the excitation light source 310 is incident on the photoluminescence layer 321 substantially uniformly while propagating through the light guide plate 330. The photoluminescence layer 321 and the submicron structure 322 formed on the surface thereof are designed to emit white light substantially perpendicular to the photoluminescence layer 321. For this reason, the submicron structure 322 has one of the structures described with reference to FIGS. For example, it has a structure in which a plurality of unit periodic structures are tiling, or a structure in which three photoluminescence layers respectively corresponding to three colors of R, G, and B are stacked. In a structure in which a plurality of unit periodic structures are tiled, the size of each unit periodic structure is smaller than the size of the sub-pixel.

本実施形態では、光学シャッタ350と偏光フィルタ358との間にカラーフィルタアレイ340が設けられている。前述のように、カラーフィルタアレイ340は、光学シャッタ350の光が入射する側、または光学シャッタ350の内部に設けられていてもよい。   In the present embodiment, a color filter array 340 is provided between the optical shutter 350 and the polarizing filter 358. As described above, the color filter array 340 may be provided on the light incident side of the optical shutter 350 or inside the optical shutter 350.

本実施形態におけるサブミクロン構造322は1次元周期構造である。よって、各単位周期構造から出射される光は直線偏光である。このため、発光素子320と光学シャッタ350との間には偏光フィルタが設けられていない。サブミクロン構造322が2次元周期構造である場合には、偏光フィルタが必要である。   The submicron structure 322 in the present embodiment is a one-dimensional periodic structure. Therefore, the light emitted from each unit periodic structure is linearly polarized light. For this reason, a polarizing filter is not provided between the light emitting element 320 and the optical shutter 350. When the submicron structure 322 is a two-dimensional periodic structure, a polarizing filter is necessary.

発光素子320から出射した白色光は、光学シャッタ350、カラーフィルタアレイ340、および偏光フィルタ358を透過する。前述の実施形態と同様、光学シャッタ350は、画像信号に応じてサブ画素ごとに光の透過率を変化させる。これにより、画像を表示する。   White light emitted from the light emitting element 320 passes through the optical shutter 350, the color filter array 340, and the polarization filter 358. As in the previous embodiment, the optical shutter 350 changes the light transmittance for each sub-pixel according to the image signal. Thereby, an image is displayed.

図48は、表示装置のさらに他の実施形態を示す模式斜視図である。この表示装置300dは、図44に示す実施形態から、カラーフィルタアレイ340を除去した構造を有する。この実施形態では、発光素子320から出射された各色の光は、導光板330を他の色の光と混ざり合わないように伝播し、伝播方向の位置に関わらずほぼ均一に光学シャッタ350に入射する。図48では簡略化して表されているが、R、G、Bの各領域(即ち、単位周期構造)は微細であり、各領域の数は、表示される画像の一方向の画素数(例えば、数十〜数万)と同程度であり得る。1つの単位周期構造のサイズが例えば100μmで、画像の一方向の画素数が例えば1000である場合、全ての単位周期構造の配列の長さは、0.3m(=100μm×3×1000)程度であり得る。発光素子320におけるR、G、Bの各領域のサイズおよび数は、この例に限らず、表示される画像の精細度および製造の難易度に応じて適宜決定される。光学シャッタ350は、先に説明した実施形態と同様、画像信号に応じてサブ画素ごとに光の透過率を変化させる。これにより、カラーフィルタアレイ340を用いることなく、カラー画像を表示することができる。   FIG. 48 is a schematic perspective view showing still another embodiment of the display device. The display device 300d has a structure in which the color filter array 340 is removed from the embodiment shown in FIG. In this embodiment, light of each color emitted from the light emitting element 320 propagates through the light guide plate 330 so as not to be mixed with light of other colors, and enters the optical shutter 350 almost uniformly regardless of the position in the propagation direction. To do. Although simplified in FIG. 48, each region of R, G, and B (that is, a unit periodic structure) is fine, and the number of each region is the number of pixels in one direction of the displayed image (for example, Tens to tens of thousands). When the size of one unit periodic structure is, for example, 100 μm and the number of pixels in one direction of the image is, for example, 1000, the length of the arrangement of all unit periodic structures is about 0.3 m (= 100 μm × 3 × 1000). It can be. The size and number of the R, G, and B regions in the light-emitting element 320 are not limited to this example, and are appropriately determined according to the definition of the displayed image and the difficulty level of manufacturing. The optical shutter 350 changes the light transmittance for each sub-pixel according to the image signal, as in the embodiment described above. Thereby, a color image can be displayed without using the color filter array 340.

図49は、表示装置のさらに他の実施形態の一部を示す模式断面図である。この実施形態における表示装置300eは、図47に示す表示装置300cから、カラーフィルタアレイ340を除去した構造を有する。さらに、サブミクロン構造322が、赤の波長帯域の光をほぼ垂直方向に出射する周期構造322Rと、緑の波長帯域の光をほぼ垂直方向に出射する周期構造322Gと、青の波長帯域の光をほぼ垂直方向に出射する周期構造322Bとを有する。3種類の周期構造322R、322G、322Bは、一方向に順に繰り返し配列されている。近接する3つの周期構造322R、322G、322Bの領域が、1つの画素に対応し、各周期構造の領域が1つのサブ画素に対応する。   FIG. 49 is a schematic cross-sectional view showing a part of still another embodiment of the display device. The display device 300e in this embodiment has a structure in which the color filter array 340 is removed from the display device 300c shown in FIG. Further, the submicron structure 322 includes a periodic structure 322R that emits light in the red wavelength band in a substantially vertical direction, a periodic structure 322G that emits light in the green wavelength band in a substantially vertical direction, and light in the blue wavelength band. And a periodic structure 322B that emits substantially vertically. The three types of periodic structures 322R, 322G, and 322B are repeatedly arranged in order in one direction. The adjacent regions of the three periodic structures 322R, 322G, and 322B correspond to one pixel, and the region of each periodic structure corresponds to one subpixel.

光学シャッタ350は、サブ画素ごとに光の透過率を変化させることにより、各サブ画素から発する光の強度を変化させる。このような構造により、カラーフィルタアレイ340を設けることなく、図47に示す表示装置300cと同様のカラー表示が可能である。   The optical shutter 350 changes the intensity of light emitted from each sub-pixel by changing the light transmittance for each sub-pixel. With such a structure, the same color display as that of the display device 300c shown in FIG. 47 can be performed without providing the color filter array 340.

この実施形態では、フォトルミネッセンス層321は、周期構造322Rに対応する領域では赤色の光を出射し、周期構造322Gに対応する領域では緑色の光を出射し、周期構造322Bに対応する領域では青色の光を出射するようにしてもよい。即ち、これらの領域ごとに発光材料を変えてもよい。励起光源310が青の波長帯域の励起光を出射する場合には、フォトルミネッセンス層321には、赤および緑(即ち黄)の波長帯域の光を出射する発光材料を用いることもできる。そのような発光材料には、例えばY3Al512:Ce3+などのYAGが挙げられる。 In this embodiment, the photoluminescence layer 321 emits red light in the region corresponding to the periodic structure 322R, emits green light in the region corresponding to the periodic structure 322G, and blue in the region corresponding to the periodic structure 322B. The light may be emitted. That is, the light emitting material may be changed for each of these regions. In the case where the excitation light source 310 emits excitation light in the blue wavelength band, the photoluminescence layer 321 may be made of a light emitting material that emits light in the red and green (that is, yellow) wavelength bands. Examples of such a light emitting material include YAG such as Y 3 Al 5 O 12 : Ce 3+ .

以上のような表示装置によれば、従来の指向性の低い光源を用いた場合に必要な反射板または拡散材などの光学部品を省略または簡略化できる。また、従来のカラーフィルタは、白色の光から不要な光を吸収することによって、所望の青、緑、赤の光を透過させるため、ロスが生じる。一方、本方式は、必要な色の光のみを発生させるので、ロスを減らすことができる。これにより、表示装置の小型化、省電力化が可能である。   According to the display device as described above, it is possible to omit or simplify an optical component such as a reflector or a diffusing material required when a conventional light source with low directivity is used. In addition, the conventional color filter absorbs unnecessary light from white light, thereby transmitting desired blue, green, and red light, resulting in loss. On the other hand, since this method generates only the light of the necessary color, the loss can be reduced. As a result, it is possible to reduce the size and power consumption of the display device.

11−2.照明(発光)装置]
本開示の発光素子は、照明(または発光)装置に用いることもできる。従来の照明器具は、等方的に発せられた光を所望の方向に導くために、レンズおよび/または反射板を含む光学部品が用いられる。これに対して、本開示の発光素子を用いることによって、これらを省略することが可能となる。あるいは、等方的な光に対する複雑な設計を、指向性の高い光に対する単純な設計に置き換えることができる。その結果、照明器具を小型化、あるいは、設計工程を簡略化することができる。以下、そのような照明装置の例を説明する。
[11 -2. Lighting (light emission) device]
The light-emitting element of the present disclosure can also be used for an illumination (or light-emitting) device. Conventional lighting fixtures use optical components including lenses and / or reflectors to guide isotropically emitted light in a desired direction. On the other hand, these can be omitted by using the light emitting element of the present disclosure. Alternatively, a complicated design for isotropic light can be replaced with a simple design for light with high directivity. As a result, the luminaire can be downsized or the design process can be simplified. Hereinafter, an example of such an illumination device will be described.

図50は、照明装置の一例を模式的に示す斜視図である。この照明装置400は、励起光源310と、励起光源310からの励起光の光路上に位置する発光素子320と、発光素子320からの光を取り込み、外部に放射する導光板330とを備える。導光板330は、その側面に、発光素子320から出射される光が入射するように配置される。   FIG. 50 is a perspective view schematically showing an example of a lighting device. The illumination device 400 includes an excitation light source 310, a light emitting element 320 positioned on the optical path of excitation light from the excitation light source 310, and a light guide plate 330 that takes in the light from the light emitting element 320 and radiates it to the outside. The light guide plate 330 is arranged so that the light emitted from the light emitting element 320 is incident on the side surface thereof.

発光素子320は、既に説明したように、赤、緑、青の各波長帯域の光を出射する複数の領域を有する。図50では簡略化しているが、実際には、各領域は微細であり、巨視的にほぼ白色光が出射するように設計され得る。白色光を出射するための構成として、積層構造などの前述した他の構成を採用してもよい。あるいは、フォトルミネッセンス層またはサブミクロン構造の構成を変更することにより、白以外の色(例えば、赤、緑、または青)の光を出射するようにしてもよい。狭帯域の単色光のみをフォトルミネッセンス層に垂直な方向に出射する用途では、サブミクロン構造は、1つの周期構造のみを有していてもよい。導光板330の構成は、既に説明したものと同じである。   As already described, the light emitting element 320 has a plurality of regions that emit light of each wavelength band of red, green, and blue. Although simplified in FIG. 50, each region is actually fine and can be designed to emit almost white light macroscopically. As the configuration for emitting white light, the above-described other configuration such as a laminated structure may be adopted. Or you may make it radiate | emit the light of colors other than white (for example, red, green, or blue) by changing the structure of a photo-luminescence layer or a submicron structure. In an application in which only narrow-band monochromatic light is emitted in a direction perpendicular to the photoluminescence layer, the submicron structure may have only one periodic structure. The structure of the light guide plate 330 is the same as that already described.

発光素子320から出射した光は、導光板330内を伝播しながら、一方の面から出射される。この出射光を照明として利用できる。   Light emitted from the light emitting element 320 is emitted from one surface while propagating through the light guide plate 330. This emitted light can be used as illumination.

図51は、照明装置の他の例を模式的に示す部分断面図である。この照明装置400aは、励起光源310と、励起光源310からの励起光を取り込み、外部に出射するように配置された導光板330と、導光板330から出射された励起光の光路上に位置する発光素子320とを備える。   FIG. 51 is a partial cross-sectional view schematically showing another example of the illumination device. The illuminating device 400a is positioned on the optical path of the excitation light source 310, the light guide plate 330 that is arranged to take in the excitation light from the excitation light source 310 and emit it to the outside, and the excitation light emitted from the light guide plate 330. A light emitting element 320.

励起光源310から出射された励起光は、導光板330内を伝播しながら、その一方の面からほぼ均一に出射する。出射した励起光は、フォトルミネッセンス層321に入射する。発光素子320におけるフォトルミネッセンス層321は、励起光によって発光する。フォトルミネッセンス層321およびサブミクロン構造322は、前述のいずれかの構成により、白色光を出射させる。この出射光を照明として利用できる。本実施形態でも、フォトルミネッセンス層またはサブミクロン構造の構成を変更することにより、白以外の色(例えば、赤、緑、または青)の光を出射するようにしてもよい。   The excitation light emitted from the excitation light source 310 is emitted almost uniformly from one surface of the light guide plate 330 while propagating through the light guide plate 330. The emitted excitation light is incident on the photoluminescence layer 321. The photoluminescence layer 321 in the light emitting element 320 emits light by excitation light. The photoluminescence layer 321 and the submicron structure 322 emit white light with any of the above-described configurations. This emitted light can be used as illumination. Also in this embodiment, light of a color other than white (for example, red, green, or blue) may be emitted by changing the configuration of the photoluminescence layer or the submicron structure.

図52は、本開示における照明装置の他の例を示す断面図である。この照明装置400bは、放熱基板420と、放熱基板420に固定された2つの発光素子320と、発光素子320を取り囲む反射ミラー410とを備える。2つの発光素子320の各々は、上述したいずれかの実施形態における発光素子と同様の構成を有する。放熱基板420は、発光素子320および反射ミラー410を支持するとともに、発光素子320から生じる熱を外部に放出する。   FIG. 52 is a cross-sectional view illustrating another example of the lighting device according to the present disclosure. The illumination device 400b includes a heat dissipation substrate 420, two light emitting elements 320 fixed to the heat dissipation substrate 420, and a reflection mirror 410 surrounding the light emitting element 320. Each of the two light emitting elements 320 has the same configuration as the light emitting element in any of the embodiments described above. The heat dissipation substrate 420 supports the light emitting element 320 and the reflection mirror 410 and releases heat generated from the light emitting element 320 to the outside.

2つの発光素子320から生じた光は、凹面を有する反射ミラー410で反射され、外部に出射される。このように、発光素子320と反射ミラー410とを組み合わせてもよい。   The light generated from the two light emitting elements 320 is reflected by the reflecting mirror 410 having a concave surface and emitted to the outside. As described above, the light emitting element 320 and the reflection mirror 410 may be combined.

反射ミラーを用いた発光装置の構成は、上述のものに限定されない。発光素子からの発光が指向性を持つことにより、反射ミラーの面積を小さくすることができる。例えば、特表2013−533583号公報、特表2009−535775号公報、または特表2005−537665号公報に開示された他の反射ミラーの構成を採用してもよい。   The configuration of the light-emitting device using the reflection mirror is not limited to the above. Since the light emitted from the light emitting element has directivity, the area of the reflecting mirror can be reduced. For example, you may employ | adopt the structure of the other reflective mirror disclosed by the special table 2013-533583 gazette, the special table 2009-535775 gazette, or the special table 2005-537665 gazette.

発光素子320から生じた熱を外部に放出する放熱機構は、上記の構成以外にも、様々な構成が可能である。例えば、特開2014−146509号公報に開示されているように、発光素子の周囲に設けられた反射ミラーの一部を覆うように設けられた放熱部材を用いてもよい。   The heat dissipation mechanism that releases heat generated from the light emitting element 320 to the outside can have various configurations other than the above configuration. For example, as disclosed in JP 2014-146509 A, a heat dissipating member provided so as to cover a part of a reflecting mirror provided around the light emitting element may be used.

本開示における照明装置の光源は、プリント基板上に実装されてもよい。例えば、特表2010−537437号公報に開示されているLEDケーシングにおけるLEDチップの代わりに、本開示の発光素子を用いてもよい。あるいは、特開2014−183192号公報に開示されている偏光LEDモジュールにおけるLED素子の代わりに、本開示の発光素子を用いてもよい。   The light source of the illumination device according to the present disclosure may be mounted on a printed board. For example, the light emitting element of the present disclosure may be used instead of the LED chip in the LED casing disclosed in JP 2010-537437 A. Or you may use the light emitting element of this indication instead of the LED element in the polarized LED module currently disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-183192.

複数個の発光素子を並べて高輝度の照明を実現することもできる。例えば、特開2011−181429号公報に開示されている、10以上のLEDを設けた照明装置のように、10以上の発光素子を並べて高輝度の照明を実現してもよい。   A plurality of light emitting elements can be arranged to realize high-luminance illumination. For example, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-181429, an illumination device provided with 10 or more LEDs may be used to realize illumination with high luminance by arranging 10 or more light emitting elements.

図53は、そのような照明装置400cの構成例を示す断面図である。この照明装置400cは、回路基板430と、その上に形成された複数の発光素子320と、凹面形状の反射ミラー410と、反射ミラー410の内部に形成された拡散板440と、反射ミラー410の外縁部に設けられたレンズ450とを備える。複数の発光素子320の各々は、上記のいずれかの発光素子と同様の構成を有する。一般に、レンズは中心軸付近に入射する光は、入射角度が小さく設計が容易である。指向性の発光により、発光した光を中心軸付近にすることができるので、光学設計を容易にすることができる。   FIG. 53 is a cross-sectional view showing a configuration example of such an illumination device 400c. The illumination device 400 c includes a circuit board 430, a plurality of light emitting elements 320 formed thereon, a concave reflecting mirror 410, a diffusion plate 440 formed inside the reflecting mirror 410, and the reflecting mirror 410. And a lens 450 provided at the outer edge. Each of the plurality of light emitting elements 320 has the same configuration as any of the light emitting elements described above. In general, the light incident on the lens near the central axis has a small incident angle and is easy to design. Since the emitted light can be made near the central axis by the directional light emission, the optical design can be facilitated.

複数の発光素子320から出射された光は、拡散板440によって拡散され、レンズ450に到達する。レンズ450は、レンズに到達した光を屈折させ、広範囲に光を出射させる。   Light emitted from the plurality of light emitting elements 320 is diffused by the diffusion plate 440 and reaches the lens 450. The lens 450 refracts the light reaching the lens and emits the light over a wide range.

なお、レンズを用いた構成は、上記の他にも、例えば特許第4632899号公報に開示された構成を採用してもよい。特開2012−059575号公報に開示されているように、複数のレンズを組み合わせてもよい。特許第4523100号公報に開示されているように、反射板とレンズとを組み合わせた他の構成を採用してもよい。   In addition to the above, the configuration using the lens may employ, for example, the configuration disclosed in Japanese Patent No. 4632899. A plurality of lenses may be combined as disclosed in JP 2012-059575 A. As disclosed in Japanese Patent No. 4523100, another configuration in which a reflector and a lens are combined may be employed.

本開示の発光素子は、車両用のヘッドライトにも適用できる。例えば、特表2013−526759号公報に開示されているような、マイクロミラーによる配光制御が可能なヘッドライトに適用できる。   The light emitting element of this indication is applicable also to a headlight for vehicles. For example, the present invention can be applied to a headlight capable of light distribution control by a micromirror as disclosed in JP 2013-526759 A.

図54は、そのような照明装置(ヘッドライト)400dの概略構成を示す図である。この照明装置400dは、励起光源310と、発光素子320と、レンズ450と、マイクロミラー460とを備えている。マイクロミラー460には、不図示の駆動回路が接続される。   FIG. 54 is a diagram showing a schematic configuration of such an illumination device (headlight) 400d. The illumination device 400d includes an excitation light source 310, a light emitting element 320, a lens 450, and a micromirror 460. A driving circuit (not shown) is connected to the micromirror 460.

励起光源310から出射した励起光は、マイクロミラー460によって反射され、発光素子320の特定の位置に入射する。発光素子320のその位置では、発光が生じ、特定の色の光がフォトルミネッセンス層に垂直な方向に出射する。この光は、レンズ450によって集束され、外部を照射する。   Excitation light emitted from the excitation light source 310 is reflected by the micromirror 460 and enters a specific position of the light emitting element 320. At that position of the light emitting element 320, light emission occurs, and light of a specific color is emitted in a direction perpendicular to the photoluminescence layer. This light is focused by the lens 450 and illuminates the outside.

マイクロミラー460は、駆動回路により、特定の軸(例えば水平軸)を中心に回転することができる。この回転により、励起光が到達する発光素子320の位置を変化させることができる。   The micromirror 460 can be rotated around a specific axis (for example, a horizontal axis) by a drive circuit. By this rotation, the position of the light emitting element 320 to which the excitation light reaches can be changed.

本実施形態の構成は、例えばハイビームとロービームとの切り替えに利用できる。不図示のセンサーと組み合わせれば、例えば前方に人または車両が存在しない場合はハイビームにし、前方に人または車両が存在する場合にはロービームに切り替えるといった制御を自動で行うこともできる。あるいは、前方に人がいる場合には励起光源310を自動で停止させて照明をオフにするといった制御も可能である。   The configuration of this embodiment can be used for switching between a high beam and a low beam, for example. When combined with a sensor (not shown), for example, it is possible to automatically perform control such as switching to a high beam when no person or vehicle is present ahead, and switching to a low beam when a person or vehicle is present ahead. Alternatively, when there is a person in front, it is possible to control the excitation light source 310 to automatically stop and turn off the illumination.

以上のように、本開示の照明装置によれば、等方的に発せられた光を所望の方向に導くための光学部品を省略または簡略化できる。このため、照明器具の小型化あるいは設計工程の簡略化が可能である。   As described above, according to the illumination device of the present disclosure, it is possible to omit or simplify an optical component for guiding isotropically emitted light in a desired direction. For this reason, it is possible to reduce the size of the lighting fixture or simplify the design process.

照明の分野では、彩光色照明および美光色照明という技術が開発されている。これらは、照明の対象の色を美しく見せるもので、彩光色照明は例えば野菜などの食品をよりおいしそうに見せる効果があり、美光色照明は、肌をより美しく見せる効果がある。これらは、いずれも光源のスペクトル(即ち、発光する光の波長の強度分布)を対象物に応じて制御することによって行われる。従来は、光学フィルタを用いて光源から出射された光を選択透過させることによって、照明に用いる光のスペクトルを制御していた。すなわち、不要な光を光学フィルタによって吸収させていたので、光の利用効率を低下させていた。これに対し、本開示の発光素子は、特定の波長の光を増強できるので、光学フィルタを必要とせず、その結果、光の利用効率を向上させることができる。   In the field of lighting, techniques of chromatic color illumination and beautiful color illumination have been developed. These make the color of the object to be illuminated beautifully. The chromatic color illumination has an effect of making food such as vegetables look more delicious, and the beautiful color illumination has an effect of making the skin look more beautiful. These are all performed by controlling the spectrum of the light source (that is, the intensity distribution of the wavelength of the emitted light) according to the object. Conventionally, the spectrum of light used for illumination has been controlled by selectively transmitting light emitted from a light source using an optical filter. That is, unnecessary light is absorbed by the optical filter, which reduces the light use efficiency. On the other hand, since the light emitting element of this indication can reinforce the light of a specific wavelength, an optical filter is not required, As a result, the utilization efficiency of light can be improved.

本開示の発光素子は、偏光(直線偏光)を出射することができる。従来、直線偏光は、光源から出射された非偏光を構成する直交する2つの直線偏光の内の一方を偏光フィルタ(「偏光板」ともいわれる。)を用いて吸収させることによって作られていた。したがって、光の利用効率は50%以下であった。本開示の発光素子を偏光光源として用いれば、偏光フィルタを用いる必要がないので、光の利用効率を向上させることができる。偏光照明は、例えば、ショーウィンドウや展望レストランの窓ガラスなど、反射光を低減させたい場合に用いられる。また、皮膚表面の反射特性が偏光に依存することを利用した、洗面・化粧用の照明、さらには、内視鏡による病変部の観察を容易にするために用いられる。   The light-emitting element of the present disclosure can emit polarized light (linearly polarized light). Conventionally, linearly polarized light has been produced by absorbing one of two orthogonal linearly polarized light components constituting non-polarized light emitted from a light source using a polarizing filter (also referred to as “polarizing plate”). Therefore, the utilization efficiency of light was 50% or less. If the light-emitting element of the present disclosure is used as a polarized light source, it is not necessary to use a polarizing filter, so that the light use efficiency can be improved. Polarized illumination is used, for example, when it is desired to reduce reflected light, such as a show window or a window glass of an observation restaurant. Further, it is used for facilitating observation of a lesioned part with an endoscope, and also for illumination for washing and makeup utilizing the fact that the reflection characteristic of the skin surface depends on polarization.

11−3.プロジェクター用光源]
種々の光学デバイスにおいて、光源からの光を所定の方向に効率よく導く必要がある。そのために、前述のように、例えば、レンズ、プリズムまたは反射板が用いられることが多い。例えば、プロジェクターにおいては、光源からの光を表示パネルに導くために、ライトガイドを用いる構成が知られている(例えば、特開2010−156929号公報)。本開示の発光素子を光源に用いることによって、ライトガイドを省略することができる。
[11 -3. Projector light source]
In various optical devices, it is necessary to efficiently guide light from a light source in a predetermined direction. Therefore, as described above, for example, a lens, a prism, or a reflector is often used. For example, in a projector, a configuration in which a light guide is used to guide light from a light source to a display panel is known (for example, JP 2010-156929 A). By using the light emitting element of the present disclosure as a light source, the light guide can be omitted.

偏光光源は、液晶プロジェクターの光源にも用いられ得る。液晶プロジェクターの光源として用いる場合には、上述の波長選択性と組み合わせて、3原色の偏光を出射できる光源を構成することができる。例えば、赤色の直線偏光を出射する発光素子と、緑色の直線偏光を出射する発光素子と、青色の直線偏光を出射する発光素子とをつなぎあわせて円盤を形成し、この円盤に励起光を照射しながら、円盤を回転させることによって、時系列に赤、緑、青の三原色の偏光を出射する光源を実現することができる。このような円盤は、蛍光体ホイールと呼ばれる。   The polarized light source can also be used as a light source for a liquid crystal projector. When used as a light source of a liquid crystal projector, a light source capable of emitting polarized light of three primary colors can be configured in combination with the above-described wavelength selectivity. For example, a light emitting element that emits red linearly polarized light, a light emitting element that emits green linearly polarized light, and a light emitting element that emits blue linearly polarized light are connected to form a disk, and this disk is irradiated with excitation light. However, a light source that emits polarized light of the three primary colors of red, green, and blue in time series can be realized by rotating the disk. Such a disk is called a phosphor wheel.

このように、本開示の発光素子は、プロジェクターに用いられる蛍光体ホイールにも用いられ得る。例えば、特開2012−8177号公報または特開2014−191003号公報に開示された蛍光体ホイールにおける蛍光体の代わりに、本開示の発光素子を利用することができる。一例として、特開2014−191003号公報に開示された構成における赤色蛍光体層および緑色蛍光体層の代わりに、赤色の光をフォトルミネッセンス層にほぼ垂直に出射する発光素子、および緑色の光をフォトルミネッセンス層にほぼ垂直に出射する発光素子を用いてもよい。   Thus, the light emitting element of this indication can be used also for the phosphor wheel used for a projector. For example, the light-emitting element of the present disclosure can be used in place of the phosphor in the phosphor wheel disclosed in JP2012-8177A or JP2014-191003A. As an example, instead of the red phosphor layer and the green phosphor layer in the configuration disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-191003, a light emitting element that emits red light substantially perpendicularly to the photoluminescence layer, and green light A light emitting element that emits light almost perpendicularly to the photoluminescence layer may be used.

図55は、そのような発光装置の一例を簡略化して示す図である。この発光装置500は、励起光源310と、ホイール状の発光素子320と、回転機構510とを備える。発光装置500は、他にも拡散板、レンズ、ミラー、制御回路などの構成要素を含み得るが、これらの構成要素の説明は省略する。   FIG. 55 is a diagram schematically illustrating an example of such a light-emitting device. The light emitting device 500 includes an excitation light source 310, a wheel-shaped light emitting element 320, and a rotation mechanism 510. The light emitting device 500 may include other components such as a diffusion plate, a lens, a mirror, and a control circuit, but description of these components is omitted.

発光素子320は、円板状(またはドーナツ状)であり、中心部が回転機構510に連結している。発光素子320の周辺部に励起光源310からの励起光が入射するように配置されている。回転機構510は、発光素子320を、その中心を軸として一方向又は双方向に回転させるためのモータを含む。回転機構510は、例えば、1/60秒に1回転の角速度で発光素子320を回転させる。   The light emitting element 320 has a disk shape (or donut shape), and a central portion is connected to the rotation mechanism 510. It arrange | positions so that the excitation light from the excitation light source 310 may inject into the peripheral part of the light emitting element 320. FIG. The rotation mechanism 510 includes a motor for rotating the light emitting element 320 in one direction or both directions around the center thereof. For example, the rotation mechanism 510 rotates the light emitting element 320 at an angular velocity of one rotation per 1/60 seconds.

図56は、発光素子320を軸方向から見た場合の構成を示す図である。発光素子320は、赤色の波長帯域の光をフォトルミネッセンス層にほぼ垂直な方向に出射させる領域320Rと、緑色の波長帯域の光をフォトルミネッセンス層にほぼ垂直な方向に出射させる領域320Gと、透明領域320Tとを有する。励起光が例えば青色の波長帯域の光である場合、透明領域320Tからは青色の光が出射する。   FIG. 56 is a diagram showing a configuration when the light emitting element 320 is viewed from the axial direction. The light emitting element 320 includes a region 320R for emitting light in the red wavelength band in a direction substantially perpendicular to the photoluminescence layer, a region 320G for emitting light in the green wavelength band in a direction substantially perpendicular to the photoluminescence layer, and a transparent And a region 320T. For example, when the excitation light is light in a blue wavelength band, blue light is emitted from the transparent region 320T.

回転機構510が発光素子320を回転させながら励起光源310が励起光を出射することにより、時系列に赤、緑、青の三原色の光を出射することができる。このような構成により、例えば回転機構510および励起光源310に接続された制御回路が、回転機構510のモータを回転させながら励起光源310の出力を調整することにより、プロジェクターから出射する光の色を変化させることができる。   The excitation light source 310 emits excitation light while the rotation mechanism 510 rotates the light emitting element 320, so that light of three primary colors of red, green, and blue can be emitted in time series. With such a configuration, for example, the control circuit connected to the rotation mechanism 510 and the excitation light source 310 adjusts the output of the excitation light source 310 while rotating the motor of the rotation mechanism 510, thereby changing the color of light emitted from the projector. Can be changed.

11−4.狭帯域イメージング]
本開示の発光素子は、特定の波長の光だけを増強することができる。したがって、必要とされる波長だけを出射する光源を容易に実現できる。また、フォトルミネッセンス層の材料を変えずに、周期構造を変更するだけで、出射される光の波長を変えることができる。さらに、周期構造に対する角度によって、異なる波長の光を出射させることもできる。このような波長選択性は、例えば、狭帯域イメージング(narrow band imaging:NBI、登録商標)という技術に用いられ得る。狭帯域イメージングは、青および緑の2つの狭帯域の波長の光を粘膜に照射することにより、粘膜表層の毛細血管および微細な模様を観察する技術である。狭帯域イメージングにより、内視鏡による病変部の観察を容易にすることができる。
[11 -4. Narrowband imaging]
The light emitting device of the present disclosure can enhance only light of a specific wavelength. Therefore, a light source that emits only the required wavelength can be easily realized. Moreover, the wavelength of the emitted light can be changed only by changing the periodic structure without changing the material of the photoluminescence layer. Furthermore, it is possible to emit light having different wavelengths depending on the angle with respect to the periodic structure. Such wavelength selectivity can be used, for example, for a technique called narrow band imaging (NBI). Narrow band imaging is a technique for observing capillaries and fine patterns on the mucosal surface layer by irradiating the mucous membrane with light of two narrow band wavelengths, blue and green. Narrow-band imaging can facilitate observation of a lesion with an endoscope.

11−5.可視光通信]
本開示の発光素子は、可視光通信にも用いることができる。可視光通信は、照明光の強度を変調することによって信号を送信する技術である。そのような照明装置からの信号は、フォトダイオードまたは汎用のイメージセンサーを備えた受信器によって受信される。これにより、照明装置から受信装置に情報を送信することができる。可視光通信は、例えば特許第5179260号公報または特開2014−135716号公報などに開示されている。可視光通信システムでは、通常、光源として発光ダイオード(LED)が用いられる。LEDの代わりに、本開示における発光素子を利用することができる。
[11 -5. Visible light communication]
The light-emitting element of the present disclosure can also be used for visible light communication. Visible light communication is a technique for transmitting a signal by modulating the intensity of illumination light. The signal from such a lighting device is received by a receiver with a photodiode or a general purpose image sensor. Accordingly, information can be transmitted from the lighting device to the receiving device. Visible light communication is disclosed in, for example, Japanese Patent No. 5179260 or Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-135716. In a visible light communication system, a light emitting diode (LED) is usually used as a light source. Instead of the LED, the light emitting device in the present disclosure can be used.

図57は、そのような可視光通信システムの一例を示す図である。この可視光通信システム600は、照明装置610と、受信装置620とを備える。照明装置610は、変調回路612と、励起光源310と、発光素子320とを備える。変調回路612は、受信装置620に送信する信号に応じて励起光源310から出射する励起光の強度を高い周波数で変調させる。これにより、発光素子320から出射される光の強度も、信号に応じて変調する。この光強度の変化を受信装置620が備えるイメージセンサーなどで検出することにより、信号を受信できる。   FIG. 57 is a diagram showing an example of such a visible light communication system. The visible light communication system 600 includes a lighting device 610 and a receiving device 620. The illumination device 610 includes a modulation circuit 612, an excitation light source 310, and a light emitting element 320. The modulation circuit 612 modulates the intensity of the excitation light emitted from the excitation light source 310 at a high frequency in accordance with the signal transmitted to the receiving device 620. Thereby, the intensity of the light emitted from the light emitting element 320 is also modulated according to the signal. A signal can be received by detecting this change in light intensity with an image sensor or the like included in the receiving device 620.

このようなシステムにおいては発光素子に指向性を持たせることにより、受光素子に効率的に光を届けることができる。   In such a system, by providing directivity to the light emitting element, light can be efficiently delivered to the light receiving element.

11−6.透明表示装置]
本開示の発光素子は、図58に模式的に示すように、透明表示装置のスクリーン100Sとして用いることもできる。
[11 -6. Transparent display device]
The light emitting element of this indication can also be used as the screen 100S of a transparent display apparatus, as typically shown in FIG.

スクリーン100Sは、例えば、赤色光(R)を増強する発光素子と、緑色光(G)を増強する発光素子と、青色光(B)を増強する発光素子とで構成される画素がマトリクス状に配列されている。これらの発光素子は、励起光源180S1から対応する励起光(例えば紫外線)が照射されたときにだけ所定の色光を発光し、画像を表示することができる。各発光素子は、可視光を透過するので、観察者は、スクリーン100Sを介して、背景を観察することができる。スクリーン100Sに励起光が照射されないときは、透明な窓のように見える。励起光源180S1として、レーザーダイオードを用い画像データに合わせて、出力を変えながらスキャンさせることによって、高解像度の表示が可能となる。また、レーザー光はコヒーレント光であるので、周期構造と干渉させることによって、励起効率も高めることができる。また、紫外線などの好ましくない波長の光を励起光として用いる場合には、励起光源をスクリーン100Sの観察者と反対側に設置し、スクリーン100Sの観察者側に励起光をカットするフィルタを設けることによって、不要な光の漏洩を防止することができる。   The screen 100S has, for example, pixels formed of a light emitting element that enhances red light (R), a light emitting element that enhances green light (G), and a light emitting element that enhances blue light (B) in a matrix. It is arranged. These light emitting elements can emit predetermined color light and display an image only when the corresponding excitation light (for example, ultraviolet rays) is irradiated from the excitation light source 180S1. Since each light emitting element transmits visible light, the observer can observe the background through the screen 100S. When the screen 100S is not irradiated with excitation light, it looks like a transparent window. By using a laser diode as the excitation light source 180S1 and scanning while changing the output according to the image data, high-resolution display is possible. Further, since the laser light is coherent light, the excitation efficiency can be increased by causing interference with the periodic structure. When light having an unfavorable wavelength such as ultraviolet rays is used as excitation light, an excitation light source is installed on the side opposite to the viewer of the screen 100S, and a filter for cutting the excitation light is provided on the viewer side of the screen 100S. Therefore, unnecessary light leakage can be prevented.

スクリーン100Sは、高い指向性を有し得るので、例えば、所定の方から観察する人だけが画像を観察できるように構成することができる。   Since the screen 100S can have high directivity, for example, only the person who observes from a predetermined direction can observe the image.

励起光源180S1に代えて、励起光源180S2を用いることができる。このとき、スクリーン100Sの背面(即ち、観察者側とは反対側)に、導光シートSを配置し、導光シートSに励起光源180S2から励起光を照射する。導光シートSに入射した励起光は、導光シートS内を伝播しながら、スクリーン100Sを裏面から照射する。この時、表示したい画像の部分に合わせて光素子を配置すると任意の画像をアクティブに表示することはできないが、励起光が照射されていない場合は、窓のように透明であり、励起光が照射された時にのみ画像あるいは図形や文字などが表示される表示機器を構成することができる。 Instead of the excitation light source 180S1, an excitation light source 180S2 can be used. At this time, the light guide sheet S is arranged on the back surface of the screen 100S (that is, the side opposite to the observer side), and the light guide sheet S is irradiated with excitation light from the excitation light source 180S2. The excitation light incident on the light guide sheet S irradiates the screen 100S from the back surface while propagating through the light guide sheet S. In this case, disposing the light emission element in accordance with the portion of the image to be displayed, can not be displayed in the active any image, when the excitation light is not irradiated is transparent as a window, the excitation A display device in which an image, a graphic, a character, or the like is displayed only when light is irradiated can be configured.

11−7.センサー]
本開示の発光素子では、例えば図8および図9を参照して上述したように、周期構造の屈折率が変化すると、増強される光の波長が変化し、増強される光の出射方向も変化する。フォトルミネッセンス層の屈折率によっても、増強される光の波長および出射方向が変化する。したがって、発光素子から出射される光の波長および出射方向の少なくとも一方に基づいて、発光素子の近傍の媒質の屈折率変化を容易に感度良く検知することができる。
[11 -7. sensor]
In the light emitting device of the present disclosure, for example, as described above with reference to FIGS. 8 and 9, when the refractive index of the periodic structure changes, the wavelength of the enhanced light changes, and the emission direction of the enhanced light also changes. To do. Also depending on the refractive index of the photoluminescence layer, the wavelength of the enhanced light and the emission direction change. Therefore, it is possible to easily detect the change in the refractive index of the medium in the vicinity of the light emitting element with high sensitivity based on at least one of the wavelength and the emission direction of the light emitted from the light emitting element.

例えば、以下の様にして、本開示の発光素子を用いて、様々な物質を検出するセンサーを構成することができる。   For example, a sensor that detects various substances can be configured using the light-emitting element of the present disclosure as follows.

本開示の発光素子の周期構造に近接して、測定対象の物質(タンパク質や匂い分子、ウィルスなど)と選択的に結合する物質(酵素など)を配置しておく。測定対象の物質が結合すると、発光素子の近傍の媒質の屈折率が変化する。この屈折率の変化を、上述の増強される光の波長または出射方向の変化に基づいて検出することによって、様々な物質の存在を検知することができる。   In the vicinity of the periodic structure of the light emitting element of the present disclosure, a substance (such as an enzyme) that selectively binds to a substance to be measured (such as a protein, odor molecule, or virus) is disposed. When the substance to be measured is bonded, the refractive index of the medium near the light emitting element changes. The presence of various substances can be detected by detecting the change in the refractive index based on the above-described change in the wavelength of the enhanced light or the emission direction.

11−8.信号機]
本開示の発光素子は、特定の方向に指向性の高い光を出射することができる。この高い指向性は、例えば、交通信号機や公共の表示装置のような特定の方向からの交通車両または人物にのみ限定して情報を提供する表示装置にも好適に用いられる。例えば、従来の指向性の低い光源を用いた場合には、光源から出射した光が側方にも射出されるため、側方から信号機や表示装置が視認され、誤認が生じる可能性があった。その為、特に誤認が生じると不具合がある信号機等の安全性に関わる表示装置には、例えば、登録実用新案公報第3014799号に開示されているような、側方への射出を防止する遮蔽部品(ルーバ)が用いられていた。本開示における発光装置のように特定方向の指向性が高い光源を用いた場合、所定の方向の交通車両または人物に情報を効率よく提供することができるため、これらの遮蔽部品を省略することができる。さらに、表示装置を小さくすることができるため、風雪から受ける力を小さくすることができる。よって、信号機等の表示装置を支持する構造を簡素化することができる。
[11 -8. traffic lights]
The light-emitting element of the present disclosure can emit light having high directivity in a specific direction. This high directivity is also preferably used for a display device that provides information only to a traffic vehicle or a person from a specific direction such as a traffic signal or a public display device. For example, when a conventional light source with low directivity is used, the light emitted from the light source is also emitted to the side, so that a traffic light or a display device can be visually recognized from the side, which may cause misidentification. . For this reason, a display device related to the safety of a traffic light or the like that has a problem especially when misidentification occurs, such as a shielding component that prevents lateral injection as disclosed in registered utility model publication No. 3014799, for example. (Louver) was used. When a light source having high directivity in a specific direction is used, such as the light emitting device in the present disclosure, information can be efficiently provided to a traffic vehicle or a person in a predetermined direction. it can. Furthermore, since the display device can be made smaller, the force received from wind and snow can be reduced. Therefore, a structure for supporting a display device such as a traffic light can be simplified.

図59は、そのような指向性表示装置の一例である交通用の信号機700を模式的に示す図である。図示される信号機700は、赤、黄色、緑(または青)の波長帯域の光をそれぞれ出射する3つの表示部710r、710y、710gを含む発光装置710と、発光装置710を収納する筐体740とを有する。信号機700は、2本のアーム750およびポール760によって支持される。信号機700は、ケーブル720を介して、ポール760に固定された表示制御装置730内の制御回路732に接続されている。制御回路732によって表示部710r、710y、710gにおける発光が制御される。 FIG. 59 is a diagram schematically showing a traffic signal 700 that is an example of such a directional display device. The illustrated signal device 700 includes a light emitting device 710 including three display portions 710r, 710y, and 710g that respectively emit light in the red, yellow, and green (or blue) wavelength bands, and a housing 740 that houses the light emitting device 710. And have. The traffic light 700 is supported by two arms 750 and a pole 760. The traffic light 700 is connected to a control circuit 732 in the display control device 730 fixed to the pole 760 via a cable 720. The control circuit 732 controls light emission in the display portions 710r , 710y, and 710g.

図60は、信号機700のより詳細な構成の例を示す模式図である。この例では、信号機700は、さらに、3つの励起光源180と、励起光源180からの励起光を表示部710r、710y、710gにそれぞれ導く3つの導光330とを備える。励起光は、透明基板140を介して表示部710r、710y、710gにおけるフォトルミネッセンス層110r、110y、110gに入射する。フォトルミネッセンス層110r、110y、110gは、励起光を受けて、それぞれ、赤(R)、黄(Y)、緑(G)の波長帯域に属する光を出射する。フォトルミネッセンス層110r、110y、110gの表面にそれぞれ形成された表面構造120r、120y、120gは、それぞれ、赤、黄、緑の波長帯域に属する光を、所定の方向に狭角に出射する。制御回路732は、3つの励起光源180に接続されており、これらのオンおよびオフの制御を行う制御信号を供給する。これにより、表示部710r、710y、710gを順次点灯させたり、黄色の表示部710yを点滅させたりすることができる。 FIG. 60 is a schematic diagram illustrating an example of a more detailed configuration of the traffic light 700. In this example, the traffic light 700 further includes three excitation light sources 180 and three light guide plates 330 that guide the excitation light from the excitation light source 180 to the display units 710r, 710y, and 710g, respectively. Excitation light is incident on the photoluminescence layers 110r, 110y, and 110g in the display portions 710r, 710y, and 710g through the transparent substrate 140. The photoluminescence layers 110r, 110y, and 110g receive excitation light and emit light belonging to the red (R), yellow (Y), and green (G) wavelength bands, respectively. The surface structures 120r, 120y, and 120g formed on the surfaces of the photoluminescence layers 110r, 110y, and 110g respectively emit light belonging to the red, yellow, and green wavelength bands at a narrow angle in a predetermined direction. The control circuit 732 is connected to the three excitation light sources 180 and supplies a control signal for controlling these on and off. Thereby, the display units 710r, 710y, and 710g can be sequentially turned on, and the yellow display unit 710y can be blinked.

前述のように、本明細書では、赤、緑、青の波長帯域は、それぞれ、赤:600〜750nm、緑:490〜570nm、青:430nm〜470nmとする。黄色の波長帯域は、赤と緑の間の波長帯域である570nm〜600nmとする。表示部710rは、例えば中心波長が642nmの光を所定の方向に出射するように設計され得る。表示部710yは、例えば中心波長が595nmの光を所定の方向に出射するように設計され得る。表示部710gは、例えば中心波長が500nmの光を所定の方向に出射するように設計され得る。   As described above, in this specification, the wavelength bands of red, green, and blue are red: 600 to 750 nm, green: 490 to 570 nm, and blue: 430 nm to 470 nm, respectively. The yellow wavelength band is 570 nm to 600 nm, which is the wavelength band between red and green. The display unit 710r can be designed to emit light having a center wavelength of 642 nm in a predetermined direction, for example. The display unit 710y can be designed to emit light having a central wavelength of 595 nm, for example, in a predetermined direction. The display unit 710g may be designed to emit light having a center wavelength of 500 nm in a predetermined direction, for example.

このように、表示部710r、710y、710gは、交通表示装置として求められる赤、黄、緑の光を高い指向性で出射するように設計される。表示制御装置730により、フォトルミネッセンス層110r、110y、110gのうちの特定の1つを指向性をもって発光させることができる。これにより、特定の方向からのみ視認できる信号装置を実現できる。特定の方向からのみ視認できることにより、運転者による信号の誤認の可能性を低減させることができる。   In this way, the display units 710r, 710y, and 710g are designed to emit red, yellow, and green light required as a traffic display device with high directivity. The display control device 730 can emit specific one of the photoluminescence layers 110r, 110y, and 110g with directivity. Thereby, the signal apparatus which can be visually recognized only from a specific direction is realizable. By being visible only from a specific direction, it is possible to reduce the possibility of signal misrecognition by the driver.

なお、図59、60に示す構成は一例であり、多様な変形が可能である。例えば、各表示部710r、710y、710gは、図60に示す構造に限らず、既に説明した他の発光素子の構造を有していてもよい。また、励起光源180を制御回路732の近傍に配置し、励起光源180から各表示部に光ファイバー等のライトガイドを介して励起光を供給してもよい。さらに、導光板330は、不要であれば省略してもよい。   The configurations shown in FIGS. 59 and 60 are examples, and various modifications are possible. For example, the display units 710r, 710y, and 710g are not limited to the structure illustrated in FIG. 60, and may have the structure of another light-emitting element already described. Further, the excitation light source 180 may be disposed in the vicinity of the control circuit 732, and excitation light may be supplied from the excitation light source 180 to each display unit via a light guide such as an optical fiber. Further, the light guide plate 330 may be omitted if unnecessary.

上記の例では、赤、黄、緑の3色の光を発する信号機700を説明したが、例えば赤および緑(または青)の2色の光を発する歩行者用の信号機にも同様の構成を適用できる。   In the above example, the traffic light 700 that emits light of three colors of red, yellow, and green has been described. For example, a traffic light for pedestrians that emit light of two colors of red and green (or blue) has the same configuration. Applicable.

このような交通表示装置は、例えば画像によって交差点への侵入の可否を示す運転支援システムに適用することもできる。そのようなシステムは、例えば特開2013−114557に開示されている。そのようなシステムに上記交通表示装置を適用することにより、運転者の認識の精度を高めることができるため、安全性が向上する。   Such a traffic display device can also be applied to, for example, a driving support system that indicates whether or not an intersection can be entered by an image. Such a system is disclosed in, for example, JP2013-114557A. By applying the traffic display device to such a system, the driver's recognition accuracy can be increased, so that safety is improved.

11−9.植物工場用光源]
本開示における発光素子は、植物工場における光源としても利用され得る。植物工場では、植物の健全な生育のために、様々な波長帯域の光を植物に照射することが行われている。例えば、光合成による成長には、640nm〜690nmの光が主に用いられる。葉の正常な形態形成(種子発芽、花芽分化、開花、子葉の展開、葉緑素合成、節間伸長などの植物の質的な変化)には、420nm〜470nmの光が主に用いられる。植物工場における光源には、比較的狭帯域の光を出射することが要求される。
[11 -9. Light source for plant factories]
The light emitting device in the present disclosure can also be used as a light source in a plant factory. In plant factories, plants are irradiated with light of various wavelength bands for the healthy growth of plants. For example, light of 640 nm to 690 nm is mainly used for growth by photosynthesis. For normal leaf morphogenesis (plant germination, flower bud differentiation, flowering, cotyledon development, chlorophyll synthesis, internode elongation, and other plant qualitative changes), light of 420 nm to 470 nm is mainly used. A light source in a plant factory is required to emit light having a relatively narrow band.

従来の植物工場では、例えば蛍光灯、高圧ナトリウムランプ、LED等の光源が用いられていた。これらの光源は、線幅(即ち、波長の範囲)が広いので、光の利用効率が低いという課題がある。これらの光源に代えて、本開示における高い指向性の発光素子を利用することにより、光の利用効率を向上させることができる。   In conventional plant factories, light sources such as fluorescent lamps, high-pressure sodium lamps, and LEDs have been used. Since these light sources have a wide line width (that is, a wavelength range), there is a problem that the light use efficiency is low. The use efficiency of light can be improved by using the highly directional light emitting element in the present disclosure instead of these light sources.

植物工場において用いられる光源の例が、例えば特開2011−97900号公報に開示されている。この文献に開示されている光源の代わりに、本開示における発光素子を利用することができる。   An example of a light source used in a plant factory is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-97900. Instead of the light source disclosed in this document, the light emitting element in the present disclosure can be used.

図61は、上記文献の図12と同様の構成を有する植物工場用の光源装置を示す図である。この光源装置は、植物を載置する載置台30と、植物の上方に設置された主光源ユニット10と、複数の補助光源ユニット20とを備える。主光源ユニット10は、例えば、赤色および青色の波長帯域の光を出射するように構成され得る。補助光源ユニット20は、例えば近赤外線、近紫外線、緑色、または黄色の波長帯域の光を出射するように構成され得る。ここで、近赤外線の波長帯域は、およそ700nm〜2500nmであり、近紫外線の波長帯域は、およそ200nm〜380nmである。主光源ユニット10および補助光源ユニット20を、本開示におけるいずれかの発光素子を用いて構成することにより、光を効率よく植物に照射することができる。なお、本開示における発光素子は、図61に示す例に限らず、任意の植物工場用光源に利用できる。使用される発光素子の数、配置、および発光波長についても任意に決定してよい。   FIG. 61 is a diagram showing a light source device for a plant factory having the same configuration as FIG. 12 of the above document. The light source device includes a mounting table 30 on which a plant is mounted, a main light source unit 10 installed above the plant, and a plurality of auxiliary light source units 20. The main light source unit 10 may be configured to emit light in red and blue wavelength bands, for example. The auxiliary light source unit 20 may be configured to emit light in the near-infrared, near-ultraviolet, green, or yellow wavelength band, for example. Here, the near-infrared wavelength band is approximately 700 nm to 2500 nm, and the near-ultraviolet wavelength band is approximately 200 nm to 380 nm. By configuring the main light source unit 10 and the auxiliary light source unit 20 using any one of the light emitting elements in the present disclosure, light can be efficiently irradiated onto a plant. In addition, the light emitting element in this indication is not restricted to the example shown in FIG. 61, It can utilize for arbitrary light sources for plant factories. The number, arrangement, and emission wavelength of the light emitting elements used may be arbitrarily determined.

11−10.光線力学治療]
本開示の発光素子の高い指向性は、光を用いて皮膚の疾患(例えば癌の病巣)を治療する光線力学治療にも有用である。例えば、表面近傍の皮膚疾患の治療には、400nm付近の光が用いられる。また、深部の皮膚疾患の治療には、600nm付近の光が用いられる。このような光線力学治療を行う際に、従来はランプ光源から特定の光をフィルタで取り出して利用していたため、光の損失を招いていた。これに対し、本開示における指向性の高い発光素子を光源に用いるようにすれば、光の利用効率を向上させることができる。本開示の発光素子は、光線力学的治療の他、光を用いてニキビの改善、肌の赤みの改善、発毛の促進などを行う用途にも利用され得る。
[11 -10. Photodynamic therapy]
The high directivity of the light-emitting element of the present disclosure is also useful for photodynamic therapy in which light is used to treat skin diseases (for example, cancer lesions). For example, light near 400 nm is used for the treatment of skin diseases near the surface. Further, light of around 600 nm is used for the treatment of deep skin diseases. In performing such photodynamic therapy, conventionally, a specific light from a lamp light source is extracted by a filter and used, which causes a loss of light. On the other hand, if the light emitting element with high directivity according to the present disclosure is used as a light source, the light use efficiency can be improved. In addition to photodynamic treatment, the light-emitting element of the present disclosure can also be used for uses such as light to improve acne, improve skin redness, and promote hair growth.

11−11.距離センサー]
本開示における発光素子は、距離センサーにも適用できる。距離センサーは、光源からパルス光を出射し、対象物から反射してきたパルス光を検出して、それらのパルス光の位相差に基づいて対象物までの距離を検出するセンサーである。距離センサーは、例えば撮影範囲全体の距離画像を生成する距離画像センサーまたは撮影範囲内の主要被写体の動きを検出するモーションセンサーに利用することができる。そのような距離センサーでは、従来、LED光源が主に用いられてきた。LED光源に代えて、本開示における高い指向性の発光素子を用いることができる。
[11 -11. Distance sensor]
The light emitting element in the present disclosure can also be applied to a distance sensor. The distance sensor is a sensor that emits pulsed light from a light source, detects pulsed light reflected from an object, and detects a distance to the object based on a phase difference of the pulsed light. The distance sensor can be used as, for example, a distance image sensor that generates a distance image of the entire shooting range or a motion sensor that detects the movement of a main subject within the shooting range. Conventionally, LED light sources have been mainly used in such distance sensors. Instead of the LED light source, the highly directional light-emitting element in the present disclosure can be used.

図62は、本開示における発光素子を用いた距離センサーの構成例を示す模式図である。この距離センサーは、発光装置800と、イメージセンサー810と、これらを制御する制御回路820とを備えている。   FIG. 62 is a schematic diagram illustrating a configuration example of a distance sensor using the light emitting element according to the present disclosure. This distance sensor includes a light emitting device 800, an image sensor 810, and a control circuit 820 for controlling them.

図63Aは、発光装置800の概略構成を示す図である。発光装置800は、すでに説明したいずれかの構造を有する発光素子840と、励起光源830とを有する。発光素子840は、近赤外線または可視光を角に出射する表面構造を備えている。発光装置800は、制御回路820からの制御信号に応じて励起光源830を駆動し、近赤外線または可視光のパルス光を出射する。イメージセンサー810は、複数の光検出セルを有し、発光装置800から出射され、対象物から反射されたパルス光を検出する。制御回路820は、例えばマイクロコントローラ(マイコン)などの集積回路であり得る。制御回路820は、CPU等のプロセッサと、デジタルシグナルプロセッサ(DSP)等の画像処理回路との組み合わせであってもよい。制御回路820は、発光装置800の発光のタイミングとイメージセンサー810の信号電荷の蓄積および読出しのタイミングとを制御する。制御回路820は、さらに、発光装置800が出射するパルス光の位相と、イメージセンサー810が検出したパルス光の位相との差分に基づいて、対象物までの距離を計測する。 FIG. 63A is a diagram showing a schematic configuration of the light emitting device 800. The light-emitting device 800 includes a light-emitting element 840 having any of the structures described above and an excitation light source 830. The light-emitting element 840 has a surface structure that emits near-infrared light or visible light at a narrow angle. The light emitting device 800 drives the excitation light source 830 in accordance with a control signal from the control circuit 820, and emits near-infrared or visible pulsed light. The image sensor 810 includes a plurality of light detection cells, and detects pulsed light emitted from the light emitting device 800 and reflected from the object. The control circuit 820 may be an integrated circuit such as a microcontroller (microcomputer). The control circuit 820 may be a combination of a processor such as a CPU and an image processing circuit such as a digital signal processor (DSP). The control circuit 820 controls light emission timing of the light emitting device 800 and signal charge accumulation and readout timing of the image sensor 810. The control circuit 820 further measures the distance to the object based on the difference between the phase of the pulsed light emitted from the light emitting device 800 and the phase of the pulsed light detected by the image sensor 810.

図63Bは、制御回路820によるパルス光の発生を説明するための図である。制御回路820は、励起光源830に、パルス信号である駆動信号を入力する。励起光源830は、駆動信号に応答して、パルス的に強度が変化する励起光を発光素子840に入射させる。これに応じて、発光素子840から、励起光と同じ周期で強度が変化する光(パルス光と称する)が出射される。出射されたパルス光は、対象物で反射され、イメージセンサー810に入射する。イメージセンサー810は、複数の光検出セルによって、その反射光を検出し、光検出セル(画素ともいう)ごとに、受けた光の強度(受光量ともいう)に応じた電気信号を出力する。この電気信号を、受光信号と呼ぶ。   FIG. 63B is a diagram for explaining generation of pulsed light by the control circuit 820. The control circuit 820 inputs a drive signal that is a pulse signal to the excitation light source 830. The excitation light source 830 makes the excitation light whose intensity changes in a pulse manner incident on the light emitting element 840 in response to the drive signal. In response to this, light (referred to as pulsed light) whose intensity changes with the same period as the excitation light is emitted from the light emitting element 840. The emitted pulsed light is reflected by the object and enters the image sensor 810. The image sensor 810 detects reflected light using a plurality of light detection cells, and outputs an electrical signal corresponding to the intensity of received light (also referred to as a received light amount) for each light detection cell (also referred to as a pixel). This electric signal is called a light reception signal.

図63Cは、駆動信号および受光信号の時間変化の一例を示す図である。制御回路820は、画素ごとに、駆動信号と受光信号との間の遅延時間Δtに基づき、対象物までの距離Lを測定する。距離Lは、次の式に基づいて計算される。
L=光速c×遅延時間Δt/2
FIG. 63C is a diagram illustrating an example of temporal changes in the drive signal and the light reception signal. The control circuit 820 measures the distance L to the object based on the delay time Δt between the drive signal and the light reception signal for each pixel. The distance L is calculated based on the following formula.
L = light speed c × delay time Δt / 2

制御回路820は、距離Lを画素ごとに求め、その値に応じて輝度が異なる画像を距離画像として生成することができる。この例における距離センサーは、高速撮影が可能なイメージセンサー810を使用し、パルス光の周波数を十分に高くすることにより、モーションセンサーとして利用することも可能である。   The control circuit 820 can obtain the distance L for each pixel, and can generate an image having different luminance as the distance image according to the value. The distance sensor in this example can be used as a motion sensor by using an image sensor 810 capable of high-speed shooting and sufficiently increasing the frequency of pulsed light.

上記の例では、制御回路820が励起光源830を駆動することによってパルス光を発生させているが、他の方法を用いてもよい。例えば、図64Aに示すように、発光素子840の光出射側に、光学シャッタ850を配置し、制御回路820が光学シャッタ850の光透過率を制御することによってパルス光を発生させてもよい。光学シャッタ850は、例えば液晶層とその両側の電極層とを含み、駆動信号の印加によって光を透過させる状態(透光状態と呼ぶ)と、光を遮光する状態(遮光状態と呼ぶ)とを切り替えることができる。図64Bに示すように、制御回路820が光学シャッタ850にパルス状の駆動信号を入力し、それに応じて透光状態と遮光状態とが切り替わる。これにより、光学シャッタ850からパルス光が出射される。   In the above example, the control circuit 820 generates the pulsed light by driving the excitation light source 830, but other methods may be used. For example, as shown in FIG. 64A, an optical shutter 850 may be disposed on the light emitting side of the light emitting element 840, and the control circuit 820 may control the light transmittance of the optical shutter 850 to generate pulsed light. The optical shutter 850 includes, for example, a liquid crystal layer and electrode layers on both sides thereof. The optical shutter 850 has a state where light is transmitted by application of a drive signal (referred to as a light-transmitting state) and a state where light is blocked (referred to as a light-blocking state). Can be switched. As shown in FIG. 64B, the control circuit 820 inputs a pulsed drive signal to the optical shutter 850, and the light transmitting state and the light shielding state are switched accordingly. As a result, pulsed light is emitted from the optical shutter 850.

図64Cに示すように、発光素子840と光学シャッタ850との間、および光学シャッタ850の光出射側にレンズ860a、860bを設けてもよい。レンズ860aによって発光素子840からの光が結像する位置に光学シャッタ850を配置することにより、光学シャッタ850を小型にでき、より高速に透光状態と遮光状態とを切り替えることができる。このような小型のシャッタは、例えばMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)によって実現することができる。 本開示における発光素子を用いることにより、特定の波長の近赤外線または可視光を正面方向に出射し、その周辺の波長の近赤外線をその周辺方向に出射できる。これらの波長帯域の光をイメージセンサー810が受光することにより、対象物までの距離を計測できる。 As shown in FIG. 64C, lenses 860a and 860b may be provided between the light emitting element 840 and the optical shutter 850 and on the light emission side of the optical shutter 850. By disposing the optical shutter 850 at a position where the light from the light emitting element 840 is imaged by the lens 860a, the optical shutter 850 can be reduced in size and can be switched between the light transmitting state and the light shielding state at a higher speed. Such a small shutter can be realized by, for example, MEMS (Micro Electro Mechanical Systems). By using the light emitting element according to the present disclosure, it is possible to emit near-infrared light or visible light having a specific wavelength in the front direction and emit near-infrared light having a wavelength around it in the peripheral direction. When the image sensor 810 receives light in these wavelength bands, the distance to the object can be measured.

本開示の発光素子の応用例は上記に限られず、種々の光学デバイスに適用され得る。   Application examples of the light-emitting element of the present disclosure are not limited to the above, and can be applied to various optical devices.

以上の説明において引用した全ての特許文献の開示内容全体は、本願明細書に援用される。   The entire disclosure of all patent documents cited in the above description is incorporated herein by reference.

本開示の発光素子および発光装置は、照明器具、ディスプレイ、プロジェクターをはじめ、種々の光学デバイスに適用され得る。   The light-emitting element and the light-emitting device of the present disclosure can be applied to various optical devices such as a lighting fixture, a display, and a projector.

10 主光源ユニット
20 補助光源ユニット
30 載置台
100、100a 発光素子
110 フォトルミネッセンス層(導波層)
120、120’、120a、120b、120c 透光層(周期構造、サブミクロン構造)
140 透明基板
150 保護層
180 光源
200 発光装置
300、300a、300b、300c、300d、300e 表示装置
310 励起光源
320 発光素子
321 フォトルミネッセンス層
322 サブミクロン構造(周期構造)
330 導光板
340 カラーフィルタアレイ
350 光学シャッタ
351 偏光フィルタ
352 透明基板
353 透明電極
355 液晶層
357 透明基板
358 偏光フィルタ
360 駆動回路
370 タッチスクリーン
400 照明装置
410 凹面反射鏡
420 放熱基板
430 回路基板
440 拡散板
450 レンズ
460 マイクロミラー
500 発光装置
510 回転機構
600 可視光通信システム
610 照明装置
612 変調回路
620 受信装置
700 信号機
710r、710y、710b 表示部
720 ケーブル
730 表示制御装置
732 制御回路
740 筐体
750 アーム
760 ポール
800 発光装置
810 イメージセンサー
820 制御回路
830 励起光源
840 発光素子
850 光学シャッタ
860a、860b レンズ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Main light source unit 20 Auxiliary light source unit 30 Mounting stand 100, 100a Light emitting element 110 Photoluminescence layer (waveguide layer)
120, 120 ′, 120a, 120b, 120c Translucent layer (periodic structure, submicron structure)
140 Transparent substrate 150 Protective layer 180 Light source 200 Light emitting device 300, 300a, 300b, 300c, 300d, 300e Display device 310 Excitation light source 320 Light emitting element 321 Photoluminescence layer 322 Submicron structure (periodic structure)
330 Light Guide Plate 340 Color Filter Array 350 Optical Shutter 351 Polarization Filter 352 Transparent Substrate 353 Transparent Electrode 355 Liquid Crystal Layer 357 Transparent Substrate 358 Polarization Filter 360 Drive Circuit 370 Touch Screen 400 Illumination Device 410 Concave Reflector 420 Heat Dissipation Substrate 430 Circuit Substrate 440 Diffusion Plate 450 Lens 460 Micromirror 500 Light emitting device 510 Rotating mechanism 600 Visible light communication system 610 Illuminating device 612 Modulating circuit 620 Receiving device 700 Traffic light 710r, 710y, 710b Display unit 720 Cable 730 Display control device 732 Control circuit 740 Housing 750 Pole Arm 760 Pole 800 Light Emitting Device 810 Image Sensor 820 Control Circuit 830 Excitation Light Source 840 Light Emitting Element 850 Optical Shutter 860a, 860 b Lens

Claims (16)

励起光源と、
前記励起光源からの励起光の光路上に位置する発光素子と、
前記発光素子からの光の光路上に位置する光学シャッタと、を備え、
前記発光素子は、
前記励起光を受けて空気中の波長がλaの第1の光を含む光を発するフォトルミネッ
センス層と、
前記フォトルミネッセンス層に近接して配置された透光層と、
前記フォトルミネッセンス層および前記透光層の少なくとも一方の表面に形成された表面構造と、を有し、
前記表面構造は、複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方を含み、
前記表面構造における隣接する2つの凸部または隣接する2つの凹部の中心間距離をDintとし、前記第1の光に対する前記フォトルミネッセンス層の屈折率をnwav-aとすると、λa/nwav-a<Dint<λaの関係が成り立つ、
表示装置。
An excitation light source;
A light emitting element located on an optical path of excitation light from the excitation light source;
An optical shutter positioned on an optical path of light from the light emitting element,
The light emitting element is
A photoluminescence layer that receives the excitation light and emits light including first light having a wavelength of λ a in air;
A translucent layer disposed proximate to the photoluminescence layer;
A surface structure formed on at least one surface of the photoluminescence layer and the translucent layer, and
The surface structure includes at least one of a plurality of convex portions and a plurality of concave portions,
If the distance between the centers of two adjacent convex portions or two adjacent concave portions in the surface structure is D int and the refractive index of the photoluminescence layer with respect to the first light is n wav-a , λ a / n The relationship wav-a <D inta holds,
Display device.
前記フォトルミネッセンス層と前記透光層とが互いに接している、請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the photoluminescence layer and the translucent layer are in contact with each other. 励起光源と、
前記励起光源からの励起光の光路上に位置する発光素子と、
前記発光素子からの光の光路上に位置する光学シャッタと、を備え、
前記発光素子は、
前記励起光を受けて空気中の波長がλaの第1の光を含む光を発するフォトルミネッ
センス層と、
前記フォトルミネッセンス層の表面に設けられた表面構造と、を有し、
前記表面構造は、複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方を含み、
前記表面構造における隣接する2つの凸部または隣接する2つの凹部の中心間距離をDintとし、前記第1の光に対する前記フォトルミネッセンス層の屈折率をnwav-aとすると、λa/nwav-a<Dint<λaの関係が成り立つ、
表示装置。
An excitation light source;
A light emitting element located on an optical path of excitation light from the excitation light source;
An optical shutter positioned on an optical path of light from the light emitting element,
The light emitting element is
A photoluminescence layer that receives the excitation light and emits light including first light having a wavelength of λ a in air;
A surface structure provided on the surface of the photoluminescence layer,
The surface structure includes at least one of a plurality of convex portions and a plurality of concave portions,
If the distance between the centers of two adjacent convex portions or two adjacent concave portions in the surface structure is D int and the refractive index of the photoluminescence layer with respect to the first light is n wav-a , λ a / n The relationship wav-a <D inta holds,
Display device.
前記光学シャッタにおける前記発光素子からの光が入射する側または前記光が出射する側に、透過波長帯域の異なる複数のカラーフィルタを含むカラーフィルタアレイをさらに備える、請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, further comprising a color filter array including a plurality of color filters having different transmission wavelength bands on a side where light from the light emitting element is incident or a side where the light is emitted in the optical shutter. 前記発光素子からの光を前記光学シャッタに伝播させる導光板をさらに備える、請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, further comprising a light guide plate for propagating light from the light emitting element to the optical shutter. 前記励起光源からの前記励起光を前記フォトルミネッセンス層に伝播させる導光板をさらに備える、請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, further comprising a light guide plate that propagates the excitation light from the excitation light source to the photoluminescence layer. 前記光学シャッタを画像信号に応じて駆動する駆動回路をさらに備える、請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, further comprising a drive circuit that drives the optical shutter according to an image signal. 前記光学シャッタにおける前記発光素子からの光が出射する側に、タッチスクリーンをさらに備える、請求項7に記載の表示装置。   The display device according to claim 7, further comprising a touch screen on a side of the optical shutter from which light from the light emitting element is emitted. 前記表面構造は、少なくとも1つの周期構造を含み、前記少なくとも1つの周期構造は、周期をpaとし、前記第1の光に対する前記フォトルミネッセンス層の屈折率をnwav-aとすると、λa/nwav-a<pa<λaの関係が成り立つ第1周期構造を含む、
請求項1から8のいずれかに記載の表示装置。
The surface structure comprises at least one periodic structure, wherein the at least one periodic structure, the periodic and p a, and the refractive index of the photoluminescence layer for said first light and n wav-a, λ a / including n wav-a <p a < λ first periodic structure relationship holds for a,
The display device according to claim 1.
前記フォトルミネッセンス層が発する光は、空気中の波長がλaと異なるλbの第2の光を含み、前記第2の光に対する前記フォトルミネッセンス層の屈折率をnwav-bとすると
き、
前記少なくとも1つの周期構造は、周期をpbとすると、λb/nwav-b<pb<λbの関
係が成り立つ第2周期構造をさらに含み、
前記波長λaは、赤色の波長帯域に属し、
前記波長λbは、緑色の波長帯域に属する、
請求項9に記載の表示装置。
The light emitted from the photoluminescence layer includes second light having a wavelength λ b different from λ a in the air, and the refractive index of the photoluminescence layer with respect to the second light is n wav-b ,
Wherein at least one of the periodic structure, when the period as p b, further comprising a λ b / n wav-b < p b <λ b second periodic structure relationship holds for,
The wavelength λ a belongs to the red wavelength band,
The wavelength λ b belongs to the green wavelength band,
The display device according to claim 9.
空気中の波長がλaおよびλbと異なるλcの第3の光に対する前記フォトルミネッセン
ス層の屈折率をnwav-cとするとき、
前記少なくとも1つの周期構造は、周期をpcとすると、λc/nwav-c<pc<λcの関
係が成り立つ第3周期構造をさらに含み、
前記波長λcは、青色の波長帯域に属する、
請求項10に記載の表示装置。
When the refractive index of the photoluminescence layer for the third light having a wavelength λ c different from λ a and λ b in the air is n wav-c ,
Wherein at least one of the periodic structure, when the period as p c, further comprises a third periodic structure relationship holds for λ c / n wav-c < p c <λ c,
The wavelength λ c belongs to the blue wavelength band,
The display device according to claim 10.
前記励起光源は、青色の波長帯域の光を発する、請求項10に記載の表示装置。   The display device according to claim 10, wherein the excitation light source emits light in a blue wavelength band. 前記表面構造は、少なくとも1つの周期構造を含み、前記少なくとも1つの周期構造の周期は、前記フォトルミネッセンス層内部の電場振幅の最大値の周期と同じである請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the surface structure includes at least one periodic structure, and a period of the at least one periodic structure is the same as a period of a maximum value of an electric field amplitude inside the photoluminescence layer. 前記表面構造は、少なくとも1つの周期構造を含み、前記少なくとも1つの周期構造の周期は、前記フォトルミネッセンス層内部の電場振幅の最大値の周期と同じである請求項3に記載の表示装置。   The display device according to claim 3, wherein the surface structure includes at least one periodic structure, and a period of the at least one periodic structure is the same as a period of a maximum value of an electric field amplitude inside the photoluminescence layer. 前記フォトルミネッセンス層は、当該フォトルミネッセンス層内に擬似導波モードを発生させる厚みを有する請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the photoluminescence layer has a thickness that generates a pseudo waveguide mode in the photoluminescence layer. 前記フォトルミネッセンス層は、当該フォトルミネッセンス層内に擬似導波モードを発生させる厚みを有する請求項3に記載の表示装置。   The display device according to claim 3, wherein the photoluminescence layer has a thickness for generating a pseudo waveguide mode in the photoluminescence layer.
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