JP5383206B2 - ベンゾフェノンイミン類の製造方法 - Google Patents
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- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 title claims abstract description 60
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 46
- -1 benzophenone imines Chemical class 0.000 title claims description 10
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 137
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims abstract description 54
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 48
- SXZIXHOMFPUIRK-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanimine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=N)C1=CC=CC=C1 SXZIXHOMFPUIRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 24
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 11
- 230000009466 transformation Effects 0.000 claims description 8
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 4
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 3
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 3
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 claims description 3
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 3
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims description 2
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IAJNXBNRYMEYAZ-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-cyano-3,3-diphenylprop-2-enoate Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=C(C#N)C(=O)OCC)C1=CC=CC=C1 IAJNXBNRYMEYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 2
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 abstract description 10
- 230000004048 modification Effects 0.000 abstract description 10
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 35
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 9
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 9
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 8
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 3
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 3
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- VVRQVWSVLMGPRN-UHFFFAOYSA-N oxotungsten Chemical class [W]=O VVRQVWSVLMGPRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 238000000844 transformation Methods 0.000 description 2
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006057 Non-nutritive feed additive Substances 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- DIVGJYVPMOCBKD-UHFFFAOYSA-N [V].[Zr] Chemical compound [V].[Zr] DIVGJYVPMOCBKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003292 diminished effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000007542 hardness measurement Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000009740 moulding (composite fabrication) Methods 0.000 description 1
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical class [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000005453 pelletization Methods 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000002459 porosimetry Methods 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C249/00—Preparation of compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Description
成形プロセスにより得られる二酸化チタン成形体の大きさは、次に記載された乾燥工程及び/又はか焼工程後に、好ましくは0.5〜最大10mm、特に好ましくは1〜5mmであるべきである。
一般式IIのベンゾフェノン類は、溶融物中で又は溶液で、好ましくは溶融物中で使用されることができる。
R1及びR2は、次のものを表すことができる:
・C1〜C4−アルコキシ、例えばメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、s−ブトキシ又はt−ブトキシ、好ましくはメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、n−ブトキシ、特に好ましくはメトキシ、エトキシ、
・C1〜C2−アルキルアミン、例えばメチルアミン又はエチルアミン、好ましくはメチルアミン、
・C1〜C4−ジアルキルアミン、例えばジメチルアミン又はジエチルアミン、好ましくはジメチルアミン。
以下に示される典型的な触媒負荷の範囲は、触媒の負荷能力の厳密な限定としてではなく、むしろ例えば反応条件及び反応器ジオメトリーにより影響を受けうる経験値として理解されるべきである。最大の触媒負荷は、しかし当業者により、試験によって容易に確定されることができる。ベンゾフェノンイミン95質量%の最小濃度は、特に好ましいとして挙げられる反応条件の場合に、例えば触媒キログラムあたり及び毎時BP少なくとも0.1kg(kg BP/(kg触媒・h))、例えば触媒キログラムあたり及び毎時BP 0.2〜3kg(kg BP/(kg触媒・h))、好ましくは0.5〜2.5kg BP/(kg触媒・h)及び特に好ましくは0.7〜2.0kg BP/(kg触媒・h)の負荷で得られることができる。
A(BPI)=F%(BPI)
ベンゾフェノンイミンの選択率S(BPI)は、ベンゾフェノンイミン収率及びベンゾフェノン転化率の商として計算される:
切断硬度の測定を、Zwick-Roell社製の型式BZ 2.5/TS1Sの装置を用いて行った。初期荷重は0.5Nであり、初期荷重速度は10mm/minであり、かつ試験速度は1.6mm/minであった。使用されるナイフの刃の幅は0.6mmであった。示された測定値は、押出物形を有する30の触媒成形体の試験からの平均値である。
管形反応器を、1.5mmの直径を有する触媒成形体(押出物)500mlで充填した。触媒成形体中の二酸化チタンの割合の尺度として、チタン含量を決定した。触媒成形体は、純粋な二酸化チタンからなっていた。この二酸化チタンは、99%を上回る割合がアナターゼ変態で存在していた。反応を120℃の温度及び200バールの圧力で実施した。反応器を、0.3kg BP/(kg触媒・h)〜1.2kg BP/(kg触媒・h)の異なる負荷で操作した(第1表参照)。アンモニア対ベンゾフェノンのモル装入物質比は38:1であった。DIN 66,131に従って測定されるBET表面積は100m2/gであった。DIN 66133による水銀ポロシメトリーを用いて測定される細孔容積は0.33mL/gであった。切断硬度は10NMであった。
Claims (9)
- 置換基を有さず、かつm及びnがゼロの値を有する式IIのベンゾフェノンを使用する、請求項1記載の方法。
- 二酸化チタンの一部が、元素ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、リン、ヒ素、アンチモン、ビスマス、スカンジウム、イットリウム、ジルコニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル及びタングステンからなる群からの少なくとも1つの酸化物及び/又は複合酸化物により置き換えられる、請求項1から2までのいずれか1項記載の方法。
- 二酸化チタンが0.5mm〜10mmのサイズを有する成形体として使用される、請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。
- ベンゾフェノンイミン類の製造を連続的に行う、請求項1から4までのいずれか1項記載の方法。
- 二酸化チタンを粉末として反応に使用する、請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。
- 不連続に撹拌オートクレーブ中で実施する、請求項6記載の方法。
- 請求項2から7までのいずれか1項記載の方法によりベンゾフェノンイミンを製造し、次いで、前記ベンゾフェノンイミン(BPI)から光安定剤を製造する方法。
- 光安定剤が、2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリル酸−エチルエステルである請求項8記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP06110980 | 2006-03-10 | ||
EP06110980.7 | 2006-03-10 | ||
PCT/EP2007/051931 WO2007104650A1 (de) | 2006-03-10 | 2007-03-01 | Verfahren zur herstellung von benzophenoniminen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009529564A JP2009529564A (ja) | 2009-08-20 |
JP5383206B2 true JP5383206B2 (ja) | 2014-01-08 |
Family
ID=38008283
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008558766A Expired - Fee Related JP5383206B2 (ja) | 2006-03-10 | 2007-03-01 | ベンゾフェノンイミン類の製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7683214B2 (ja) |
EP (1) | EP1996543B1 (ja) |
JP (1) | JP5383206B2 (ja) |
CN (1) | CN101400645B (ja) |
AT (1) | ATE517078T1 (ja) |
WO (1) | WO2007104650A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010086314A1 (de) | 2009-01-28 | 2010-08-05 | Basf Se | Verfahren zur herstellung von reinem cyclododecanon |
US8962508B2 (en) | 2012-08-22 | 2015-02-24 | Basf Se | Process for treating shaped catalyst bodies and shaped catalyst bodies having increased mechanical strength |
JP6143867B2 (ja) | 2012-08-22 | 2017-06-07 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | 触媒成形体を処理する方法および高められた機械的強度を有する触媒成形体 |
CN112321458B (zh) * | 2020-10-26 | 2023-04-07 | 宿迁科思化学有限公司 | 一种防晒剂中间体依托立林的制备方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5371032A (en) * | 1976-12-02 | 1978-06-24 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | Preparation of imino cpds. |
FR2481145A1 (fr) | 1980-04-23 | 1981-10-30 | Rhone Poulenc Ind | Procede de fabrication de catalyseurs ou de supports de catalyseurs faconnes a base d'oxyde de titane et leurs applications a la catalyse claus |
JPS5771032A (en) * | 1980-10-22 | 1982-05-01 | Nec Corp | Priority controlling circuit |
DE4010227A1 (de) * | 1990-03-30 | 1991-10-02 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von 3-aminomethyl-3,5,5-trimethyl-cyclohexylamin |
DE4421928A1 (de) | 1994-06-23 | 1996-01-04 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von aliphatischen und cycloaliphatischen Oximen |
DE4442138A1 (de) * | 1994-11-26 | 1996-05-30 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Benzophenonimin |
DE19642541A1 (de) * | 1996-10-15 | 1998-04-16 | Basf Ag | Verfahren zur Entfernung von Wasser und Ammoniak aus Benzophenonimin-Reaktionsausträgen |
JP2001270855A (ja) * | 2000-03-24 | 2001-10-02 | Nippon Fine Chem Co Ltd | 有機アミドの製造方法 |
-
2007
- 2007-03-01 EP EP07726567A patent/EP1996543B1/de active Active
- 2007-03-01 CN CN2007800086208A patent/CN101400645B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-03-01 US US12/282,277 patent/US7683214B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-03-01 WO PCT/EP2007/051931 patent/WO2007104650A1/de active Application Filing
- 2007-03-01 AT AT07726567T patent/ATE517078T1/de active
- 2007-03-01 JP JP2008558766A patent/JP5383206B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1996543A1 (de) | 2008-12-03 |
CN101400645A (zh) | 2009-04-01 |
WO2007104650A1 (de) | 2007-09-20 |
US7683214B2 (en) | 2010-03-23 |
EP1996543B1 (de) | 2011-07-20 |
CN101400645B (zh) | 2013-11-13 |
US20090093654A1 (en) | 2009-04-09 |
JP2009529564A (ja) | 2009-08-20 |
ATE517078T1 (de) | 2011-08-15 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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