JP5344276B2 - Embossing device, embossing roll, uneven pattern, processed product, and method for manufacturing processed product - Google Patents

Embossing device, embossing roll, uneven pattern, processed product, and method for manufacturing processed product Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an embossing apparatus which can efficiently form an uneven pattern at a high operation rate on a rolled web. <P>SOLUTION: The embossing apparatus 10 has an embossing roll 20 having an embossing mold surface 30 facing the rolled web 70, and a backup roll 13 arranged opposite to the embossing roll 20. The rolled web is pressed between the embossing roll 20 and the backup roll 13. The embossing mold surface of the embossing roll has an uneven part 35 having an uneven shape corresponding to the uneven pattern 85 to be formed on the rolled web and an uneven pattern 40 which is formed at a position deviated from the uneven part along the axis of rotation L1 of the embossing roll and has an uneven shape different from the uneven part. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、原反に凹凸柄を形成するエンボス装置に係り、とりわけ、高い稼働率で効率的に原反に凹凸柄を形成することができるエンボス装置に関する。   The present invention relates to an embossing device that forms an uneven pattern on an original fabric, and more particularly to an embossing device that can efficiently form an uneven pattern on an original fabric at a high operating rate.

また、本発明は、原反に凹凸柄を形成するエンボスロールに係り、とりわけ、高い稼働率で効率的に原反に凹凸柄を形成することができるエンボスロールに関する。   The present invention also relates to an embossing roll that forms an uneven pattern on an original fabric, and more particularly, to an embossing roll that can efficiently form an uneven pattern on an original fabric at a high operating rate.

さらに、本発明は、原反に凹凸柄を形成するためのエンボス型面に、形成すべき凹凸柄に対応した凹凸形状を有する凹凸部とともに、形成される凹凸パターンに関する。   Furthermore, this invention relates to the uneven | corrugated pattern formed with the uneven | corrugated | grooved part which has the uneven | corrugated shape corresponding to the uneven | corrugated pattern which should be formed in the embossing type | mold surface for forming an uneven | corrugated pattern in an original fabric.

さらに、本発明は、エンボス加工を施された加工品であって、とりわけ、高効率で加工され得る加工品に関する。   Furthermore, the present invention relates to a processed product that has been embossed, and more particularly to a processed product that can be processed with high efficiency.

さらに、本発明は、原反に凹凸柄を形成して加工品を製造する製造方法に係り、とりわけ、高い稼働率で効率的に加工品を製造することができる加工品の製造方法に関する。   Furthermore, the present invention relates to a manufacturing method for manufacturing a processed product by forming a concavo-convex pattern on an original fabric, and more particularly to a manufacturing method for a processed product capable of manufacturing a processed product efficiently at a high operating rate.

今般、例えば特許文献1に示すように、エンボス加工は広く普及した加工方法となっている。特許文献1には、原反にエンボス加工を施すことにより、離型紙(加工品)を製造する方法が開示されている。この離型紙は、合皮製品、化粧シート、内装材等のシート状材料を作製するための型紙として用いられる。   Recently, as shown in Patent Document 1, for example, embossing is a widely used processing method. Patent Document 1 discloses a method for producing a release paper (processed product) by embossing an original fabric. This release paper is used as a paper pattern for producing sheet-like materials such as synthetic leather products, decorative sheets, and interior materials.

一般的に、とりわけ原反のような比較的に薄い被加工体にエンボス加工を施す場合に、原反にエンボス加工を施す際に用いられるエンボス装置は、エンボス型面を有したエンボスロールと、エンボスロールに対向して配置されたバックアップロールと、を備えている。
特開2002−205311号公報
In general, when embossing a relatively thin workpiece such as an original fabric, an embossing device used when embossing the original fabric includes an embossing roll having an embossed mold surface, And a backup roll disposed to face the embossing roll.
JP 2002-205311 A

通常、エンボス型面によって押圧されるようになるバックアップロールの表面層は、エンボス型面上に形成された凹凸形状に対応して変形可能であり、かつ、一時的に変形状態を維持することができるように構成されている。そして、原反に対してエンボス加工を施す前に、エンボスロールおよびバックアップロールが空運転(空転)させられ、エンボス型面の凹凸形状に対応した凹凸形状がバックアップロールの外周面に転写される。このようにしてバックアップロールにメス型を作製しておくことにより、加工圧を大幅に上昇させることなく、原反に凹凸形状を精度良く転写することができるようになる。   Usually, the surface layer of the backup roll that is pressed by the embossed mold surface can be deformed corresponding to the uneven shape formed on the embossed mold surface, and can temporarily maintain the deformed state. It is configured to be able to. Then, before embossing the original fabric, the embossing roll and the backup roll are idled (idling), and the concavo-convex shape corresponding to the concavo-convex shape of the embossed mold surface is transferred to the outer peripheral surface of the backup roll. By producing a female die on the backup roll in this way, it is possible to accurately transfer the concavo-convex shape to the original fabric without significantly increasing the processing pressure.

ところが、バックアップロールに予め形成された凹凸形状は、加工時間の経過にともなって次第に平坦化されていく。バックアップロールの凹凸形状が平坦化されると、原反に転写される凹凸柄も平坦化してしまう。   However, the concavo-convex shape formed in advance on the backup roll is gradually flattened as the processing time elapses. When the uneven shape of the backup roll is flattened, the uneven pattern transferred to the original fabric is also flattened.

この不都合を回避するためには、エンボス加工を施された加工品の品質を都度確認しなければならない。また、加工品の凹凸形状が平坦化し過ぎている場合には、エンボスロールおよびバックアップロールを空運転し、バックアップロールの表面に凹凸形状を再形成(型入れ)しなければならない。しかしながら、加工品の検査は、柄が複雑であれば、極めて煩雑であり、長時間(例えば1時間)を要する。このため、エンボス加工を施された加工品の品質を現場で確認することなく、安全を見て、早目に、例えば4時間おきに定期的に型入れ作業を行うようにすることもある。   In order to avoid this inconvenience, the quality of the embossed workpiece must be confirmed each time. Further, when the uneven shape of the processed product is excessively flattened, the embossing roll and the backup roll must be idled, and the uneven shape must be re-formed (molded) on the surface of the backup roll. However, the inspection of a processed product is extremely complicated if the pattern is complicated, and requires a long time (for example, 1 hour). For this reason, without confirming the quality of the embossed processed product on-site, the mold insertion operation may be performed periodically, for example, every 4 hours, in view of safety.

すなわち、現状では、汎用のバックアップロールを用いたエンボス装置を優れた稼働率で稼働させ、原反に凹凸柄を形成して十分な生産効率で加工品を製造することができていない。本発明は、このような点を考慮してなされたものであって、原反に凹凸柄を形成するエンボス装置であって、とりわけ、高い稼働率で効率的に原反に凹凸柄を形成することができるエンボス装置を提供することを目的とする。また、本発明は、原反に凹凸柄を形成するエンボスロールであって、とりわけ、高い稼働率で効率的に原反に凹凸柄を形成することができるエンボスロールを提供することを目的とする。さらに、本発明は、原反に凹凸柄を形成するためのエンボス型面に、形成すべき凹凸柄に対応した凹凸形状を有する凹凸部とともに、形成される凹凸パターンであって、とりわけ、高い稼働率で効率的にエンボス加工を行うことを可能にする凹凸パターンを提供することを目的とする。さらに、本発明は、エンボス加工を施されてなる加工品であって、とりわけ、高効率で加工され得る加工品を提供することを目的とする。さらに、本発明は、原反に凹凸柄を形成して加工品を製造する製造方法であって、とりわけ、効率的に加工品を製造することができる加工品の製造方法を提供することを目的とする。   That is, at present, an embossing device using a general-purpose backup roll is operated at an excellent operation rate, and a processed product cannot be manufactured with sufficient production efficiency by forming an uneven pattern on the original fabric. The present invention has been made in consideration of the above points, and is an embossing device that forms a concavo-convex pattern on an original fabric, and in particular, efficiently forms an concavo-convex pattern on an original fabric at a high operating rate. It is an object of the present invention to provide an embossing device that can perform such a process. Another object of the present invention is to provide an embossing roll capable of forming an uneven pattern on an original fabric, and in particular, an embossing roll capable of efficiently forming an uneven pattern on an original fabric at a high operating rate. . Furthermore, the present invention is a concavo-convex pattern formed on an embossed surface for forming a concavo-convex pattern on a raw fabric, together with a concavo-convex portion having a concavo-convex shape corresponding to the concavo-convex pattern to be formed, and particularly high operation. It is an object to provide a concavo-convex pattern that enables efficient embossing at a high rate. Furthermore, an object of the present invention is to provide a processed product that has been embossed and, in particular, can be processed with high efficiency. Furthermore, the present invention is a manufacturing method for manufacturing a processed product by forming a concavo-convex pattern on an original fabric, and in particular, an object of the present invention is to provide a manufacturing method for a processed product capable of manufacturing a processed product efficiently. And

本発明によるエンボス装置は、原反に凹凸柄を形成するエンボス装置であって、前記原反に対面するようになるエンボス型面を、有するエンボスロールと、前記エンボスロールに対向して配置され、前記エンボスロールとの間で前記原反を圧するようになるバックアップロールと、を備え、前記エンボスロールのエンボス型面は、前記原反に形成すべき凹凸柄に対応した凹凸形状を有する凹凸部と、前記エンボスロールの回転軸線に沿って前記凹凸部からずれた位置に形成され、前記凹凸部とは異なる凹凸形状を有する凹凸パターンと、を有することを特徴とする。   An embossing device according to the present invention is an embossing device for forming a concavo-convex pattern on an original fabric, and an embossing roll having an embossing mold surface that comes to face the original fabric, and an embossing roll arranged opposite to the embossing roll, A backup roll that presses the original fabric with the embossing roll, and the embossing mold surface of the embossing roll has an uneven portion corresponding to an uneven pattern to be formed on the original fabric, And a concavo-convex pattern formed at a position shifted from the concavo-convex portion along the rotation axis of the embossing roll and having a concavo-convex shape different from the concavo-convex portion.

本発明によるエンボス装置が、前記エンボスロールおよび前記バックアップロールの下流側に配置され、前記凹凸パターンを転写されてなる原反のパターンに関する情報を非接触状態で測定するセンサを、さらに備えるようにしてもよい。このような本発明によるエンボス装置において、前記センサは光沢度計であるようにしてもよい。あるいは、このような本発明によるエンボス装置において、前記センサは変位測定器であるようにしてもよい。また、このような本発明によるエンボス装置が、前記センサに接続された制御装置であって、前記センサによる測定値に基づいて原反に形成された前記パターンを検査する制御装置を、さらに備え、前記制御装置は、前記原反に形成された前記パターンが、予め設定された程度を越えて平坦化しているか否か、あるいは、予め設定された程度以上に平坦化しているか否か、を判定するようになっていてもよい。   The embossing device according to the present invention further includes a sensor that is arranged on the downstream side of the embossing roll and the backup roll and that measures information on a pattern of the original fabric formed by transferring the concavo-convex pattern in a non-contact state. Also good. In such an embossing device according to the present invention, the sensor may be a gloss meter. Alternatively, in such an embossing device according to the present invention, the sensor may be a displacement measuring device. Further, the embossing device according to the present invention is a control device connected to the sensor, further comprising a control device for inspecting the pattern formed on the original fabric based on a measurement value by the sensor, The control device determines whether or not the pattern formed on the original fabric is flattened beyond a preset level, or whether or not the pattern is flattened beyond a preset level. It may be like this.

また、本発明によるエンボス装置において、前記エンボス型面の前記凹凸パターンは、前記エンボスロールの円周方向に沿って並べて配置された複数の凸部を有するようにしてもよい。   Moreover, the embossing apparatus by this invention WHEREIN: The said uneven | corrugated pattern of the said embossing type | mold surface may have a some convex part arrange | positioned along with the circumferential direction of the said embossing roll.

このような本発明によるエンボス装置において、各凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面において三角形状であるようにしてもよい。   In such an embossing device according to the present invention, each convex portion may have a triangular shape in a cross section perpendicular to the rotation axis of the embossing roll.

また、このような本発明によるエンボス装置において、前記凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に沿って延びているようにしてもよい。   In the embossing device according to the present invention, the convex portion may extend along the rotation axis of the embossing roll.

さらに、このような本発明によるエンボス装置において、前記エンボス型面の前記凹凸パターンは、前記エンボスロールの円周方向に沿って並べて配置された複数のパターン部を有し、各パターン部は複数の前記凸部を含み、各パターン部内において前記複数の凸部は同一形状を有し、異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面における凸部の形状は互いに異なるようにしてもよい。このようなエンボス装置において、各凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面において三角形状であり、異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における高さは互いに異なるようにしてもよい。あるいは、このようなエンボス装置において、各凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面において三角形状であり、異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における高さは互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに異なるようにしてもよい。   Furthermore, in such an embossing device according to the present invention, the concavo-convex pattern on the embossing mold surface has a plurality of pattern portions arranged side by side along the circumferential direction of the embossing roll, and each pattern portion includes a plurality of pattern portions. The plurality of convex portions have the same shape in each pattern portion, and the shape of the convex portions in the cross section perpendicular to the rotation axis of the embossing roll is mutually between the convex portions included in different pattern portions. It may be different. In such an embossing device, each convex portion has a triangular shape in a cross section orthogonal to the rotation axis of the embossing roll, and the length of the base in the cross sectional triangle of the convex portion between the convex portions included in different pattern portions. The ratio of the height to the height may be the same, and the heights of the convex sections in the cross-sectional triangle may be different from each other. Alternatively, in such an embossing device, each convex portion has a triangular shape in a cross section orthogonal to the rotation axis of the embossing roll, and the height of the convex portion in the cross sectional triangle between the convex portions included in different pattern portions. May be the same, and the ratio of the height to the length of the base in the cross-sectional triangle of the convex portion may be different from each other.

さらに、このような本発明によるエンボス装置において、前記エンボス型面の前記凹凸パターンは、前記エンボスロールの円周方向に沿って並べて配置された複数のパターン部をそれぞれ含む第1のパターン部群および第2のパターン部群を有し、前記第1のパターン部群および前記第2のパターン部群は、前記エンボスロールの回転軸線に沿って互いからずれた位置に配置され、前記第1のパターン部群および前記第2のパターン部群に含まれる各パターン部は複数の前記凸部を含み、各パターン部内において前記複数の凸部は同一形状を有し、各凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面において三角形状であり、前記第1のパターン部群内の異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における高さは互いに異なり、前記第2のパターン部群内の異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における高さは互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに異なるようにしてもよい。   Furthermore, in such an embossing device according to the present invention, the concavo-convex pattern of the embossing mold surface includes a first pattern portion group each including a plurality of pattern portions arranged side by side along the circumferential direction of the embossing roll, and A second pattern portion group, and the first pattern portion group and the second pattern portion group are arranged at positions shifted from each other along a rotation axis of the embossing roll, and the first pattern Each pattern part included in the part group and the second pattern part group includes a plurality of the convex parts, and in each pattern part, the plurality of convex parts have the same shape, and each convex part is formed on the embossing roll. It is triangular in the cross section orthogonal to the rotational axis, and the bottom of the cross section of the convex portion is between the convex portions included in different pattern portions in the first pattern portion group. The ratio of the height to the length of the convex portions is the same, the heights of the convex portions in the cross-sectional triangles are different from each other, and the convex portions are arranged between the convex portions included in different pattern portions in the second pattern portion group. The heights of the cross-sectional triangles may be the same, and the ratio of the height to the length of the base in the cross-sectional triangle of the protrusion may be different from each other.

このような本発明によるエンボス装置において、前記凹凸部は複数の凸部を有し、前記凹凸パターンに含まれた前記凸部の高さの最大値は、前記凹凸部に含まれた前記凸部の高さの最大値と同一であるようにしてもよい。   In such an embossing device according to the present invention, the concavo-convex portion has a plurality of convex portions, and the maximum height of the convex portion included in the concavo-convex pattern is the convex portion included in the concavo-convex portion. It may be the same as the maximum value of the height.

また、このような本発明によるエンボス装置において、前記凹凸部は、断面において三角形状となっている複数の凸部を有し、前記凹凸パターンに含まれた前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比の最大値は、前記凹凸部に含まれた前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比の最大値と同一であるようにしてもよい。   In the embossing device according to the present invention, the concavo-convex portion has a plurality of convex portions that are triangular in cross section, and the length of the base in the cross-sectional triangle of the convex portion included in the concavo-convex pattern. The maximum value of the ratio of the height to the height may be the same as the maximum value of the ratio of the height to the length of the base in the cross-sectional triangle of the convex part included in the concavo-convex part.

さらに、このような本発明によるエンボス装置において、各パターン部の近傍には、それぞれ、当該パターン部に含まれる凸部の特徴を示す印が付されていてもよい。   Furthermore, in such an embossing device according to the present invention, a mark indicating the feature of the convex portion included in the pattern portion may be attached in the vicinity of each pattern portion.

さらに、本発明によるエンボス装置において、前記エンボス型面は、前記凹凸パターンの位置を特定するための見当マーク部をさらに有するようにしてもよい。   Furthermore, in the embossing device according to the present invention, the embossing mold surface may further include a register mark portion for specifying the position of the uneven pattern.

本発明によるエンボスロールは、原反に凹凸柄を形成するためのエンボスロールであって、前記原反に対面するようになるエンボス型面を備え、前記エンボス型面は、前記原反に形成すべき凹凸柄に対応した凹凸形状を有する凹凸部と、前記エンボスロールの回転軸線に沿って前記凹凸部からずれた位置に形成され、前記凹凸部とは異なる凹凸形状を有する凹凸パターンと、を有することを特徴とする。   The embossing roll according to the present invention is an embossing roll for forming a concavo-convex pattern on an original fabric, and includes an embossing die surface that comes to face the original fabric, and the embossing die surface is formed on the original fabric. A concavo-convex portion having a concavo-convex shape corresponding to the concavo-convex pattern to be formed, and a concavo-convex pattern formed at a position shifted from the concavo-convex portion along the rotation axis of the embossing roll and having a concavo-convex shape different from the concavo-convex portion. It is characterized by that.

本発明によるエンボスロールにおいて、前記エンボス型面の前記凹凸パターンは、前記エンボスロールの円周方向に沿って並べて配置された複数の凸部を有するようにしてもよい。   The embossing roll by this invention WHEREIN: You may make it the said uneven | corrugated pattern of the said embossing type | mold surface have a some convex part arrange | positioned along with the circumferential direction of the said embossing roll.

このような本発明によるエンボスロールにおいて、各凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面において三角形状であるようにしてもよい。   In such an embossing roll according to the present invention, each convex portion may have a triangular shape in a cross section orthogonal to the rotation axis of the embossing roll.

また、このような本発明によるエンボスロールにおいて、前記凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に沿って延びているようにしてもよい。   In the embossing roll according to the present invention, the convex portion may extend along the rotation axis of the embossing roll.

さらに、このような本発明によるエンボスロールにおいて、前記エンボス型面の前記凹凸パターンは、前記エンボスロールの円周方向に沿って並べて配置された複数のパターン部を有し、各パターン部は複数の前記凸部を含み、各パターン部内において前記複数の凸部は同一形状を有し、異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面における凸部の形状は互いに異なるようにしてもよい。このようなエンボスロールにおいて、各凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面において三角形状であり、異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における高さは互いに異なるようにしてもよい。あるいは、このようなエンボスロールにおいて、各凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面において三角形状であり、異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における高さは互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに異なるようにしてもよい。   Furthermore, in such an embossing roll according to the present invention, the concavo-convex pattern of the embossing mold surface has a plurality of pattern portions arranged side by side along the circumferential direction of the embossing roll, and each pattern portion includes a plurality of pattern portions. The plurality of convex portions have the same shape in each pattern portion, and the shape of the convex portions in the cross section perpendicular to the rotation axis of the embossing roll is mutually between the convex portions included in different pattern portions. It may be different. In such an embossing roll, each convex portion has a triangular shape in a cross section orthogonal to the rotation axis of the embossing roll, and the length of the base in the cross sectional triangle of the convex portion between the convex portions included in different pattern portions. The ratio of the height to the height may be the same, and the heights of the convex sections in the cross-sectional triangle may be different from each other. Alternatively, in such an embossing roll, each convex portion has a triangular shape in a cross section orthogonal to the rotation axis of the embossing roll, and the height of the convex portion in the cross-sectional triangle between the convex portions included in different pattern portions. May be the same, and the ratio of the height to the length of the base in the cross-sectional triangle of the convex portion may be different from each other.

さらに、このような本発明によるエンボスロールにおいて、前記エンボス型面の前記凹凸パターンは、前記エンボスロールの円周方向に沿って並べて配置された複数のパターン部をそれぞれ含む第1のパターン部群および第2のパターン部群を有し、前記第1のパターン部群および前記第2のパターン部群は、前記エンボスロールの回転軸線に沿って互いからずれた位置に配置され、前記第1のパターン部群および前記第2のパターン部群に含まれる各パターン部は複数の前記凸部を含み、各パターン部内において前記複数の凸部は同一形状を有し、各凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面において三角形状であり、前記第1のパターン部群内の異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における高さは互いに異なり、前記第2のパターン部群内の異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における高さは互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに異なるようにしてもよい。   Furthermore, in such an embossing roll according to the present invention, the concavo-convex pattern of the embossing mold surface includes a first pattern portion group each including a plurality of pattern portions arranged side by side along the circumferential direction of the embossing roll, and A second pattern portion group, and the first pattern portion group and the second pattern portion group are arranged at positions shifted from each other along a rotation axis of the embossing roll, and the first pattern Each pattern part included in the part group and the second pattern part group includes a plurality of the convex parts, and in each pattern part, the plurality of convex parts have the same shape, and each convex part is formed on the embossing roll. In the cross section orthogonal to the rotation axis, the cross section is triangular, and between the convex portions included in different pattern portions in the first pattern portion group, The ratio of the height to the side length is the same, the heights of the convex portions in the cross-sectional triangle are different from each other, and the convex portions are included in the different pattern portions in the second pattern portion group. The heights of the cross-sectional triangles of the portions may be the same, and the ratio of the height to the length of the base in the cross-sectional triangle of the convex portion may be different from each other.

このような本発明によるエンボスロールにおいて、前記凹凸部は複数の凸部を有し、前記凹凸パターンに含まれた前記凸部の高さの最大値は、前記凹凸部に含まれた前記凸部の高さの最大値と同一であるようにしてもよい。   In such an embossing roll according to the present invention, the concavo-convex portion has a plurality of convex portions, and the maximum height of the convex portion included in the concavo-convex pattern is the convex portion included in the concavo-convex portion. It may be the same as the maximum value of the height.

また、このような本発明によるエンボスロールにおいて、前記凹凸部は、断面において三角形状となっている複数の凸部を有し、前記凹凸パターンに含まれた前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比の最大値は、前記凹凸部に含まれた前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比の最大値と同一であるようにしてもよい。   In the embossing roll according to the present invention, the uneven portion has a plurality of convex portions that are triangular in cross section, and the length of the base in the cross sectional triangle of the convex portion included in the uneven pattern. The maximum value of the ratio of the height to the height may be the same as the maximum value of the ratio of the height to the length of the base in the cross-sectional triangle of the convex part included in the concavo-convex part.

さらに、このような本発明によるエンボスロールにおいて、各パターン部の近傍には、それぞれ、当該パターン部に含まれる凸部の特徴を示す印が付されていてもよい。   Furthermore, in such an embossing roll according to the present invention, a mark indicating the characteristics of the convex portion included in the pattern portion may be attached in the vicinity of each pattern portion.

さらに、本発明によるエンボスロールにおいて、前記エンボス型面は、前記凹凸パターンの位置を特定するための見当マーク部をさらに有するようにしてもよい。   Furthermore, the embossing roll by this invention WHEREIN: You may make it the said embossing type | mold surface further have a registration mark part for pinpointing the position of the said uneven | corrugated pattern.

本発明による凹凸パターンは、原反に凹凸柄を形成するためのエンボス型面に、形成すべき前記凹凸柄に対応した凹凸形状を有する凹凸部とともに形成される凹凸パターンであって、前記エンボス型面上の一方向に沿って前記凹凸部からずれた位置に形成され、前記凹凸部とは異なる凹凸形状を有し、前記凹凸部によって前記原反に形成される凹凸柄を検査するために用いられる検査用凹凸パターンを、前記原反に形成するようになることを特徴とする。   The concavo-convex pattern according to the present invention is a concavo-convex pattern formed on an embossed mold surface for forming a concavo-convex pattern on an original fabric together with a concavo-convex portion having a concavo-convex shape corresponding to the concavo-convex pattern to be formed, Used to inspect a concavo-convex pattern formed at a position shifted from the concavo-convex portion along one direction on the surface, having a concavo-convex shape different from the concavo-convex portion, and formed on the original fabric by the concavo-convex portion. An uneven pattern for inspection to be formed is formed on the original fabric.

本発明による凹凸パターンは、前記一方向と直交する前記エンボス型面上の他方向に沿って並べて配列され前記凹凸部とは異なる前記凹凸形状を構成する複数の凸部を有するようにしてもよい。このような本発明による凹凸パターンにおいて、各凸部は、前記エンボス型面上の前記一方向に直交する断面において三角形状であるようにしてもよい。また、このような本発明による凹凸パターンにおいて、前記凸部は、前記エンボス型面上の前記一方向に沿って延びているようにしてもよい。   The concavo-convex pattern according to the present invention may have a plurality of convex portions that are arranged side by side along the other direction on the embossed mold surface orthogonal to the one direction and constitute the concavo-convex shape different from the concavo-convex portion. . In such a concavo-convex pattern according to the present invention, each convex portion may have a triangular shape in a cross section orthogonal to the one direction on the embossed surface. In the concavo-convex pattern according to the present invention, the convex portion may extend along the one direction on the embossed mold surface.

また、本発明による凹凸パターンが、前記エンボス型面上の前記他方向に沿って並べて配置された複数のパターン部を有し、各パターン部は複数の前記凸部を含み、各パターン部内において前記複数の凸部は同一形状を有し、異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記エンボス型面上の前記一方向に直交する断面における凸部の形状は互いに異なるようにしてもよい。このような本発明による凹凸パターンにおいて、各凸部は、前記エンボス型面上の前記一方向に直交する断面において三角形状であり、異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における高さは互いに異なるようにしてもよい。あるいは、このような本発明による凹凸パターンにおいて、各凸部は、前記エンボス型面上の前記一方向に直交する断面において三角形状であり、異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における高さは互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに異なるようにしてもよい。   Further, the uneven pattern according to the present invention has a plurality of pattern portions arranged side by side along the other direction on the embossed mold surface, and each pattern portion includes a plurality of the convex portions, The plurality of convex portions may have the same shape, and the convex portions in the cross section orthogonal to the one direction on the embossed mold surface may be different between the convex portions included in different pattern portions. In such a concavo-convex pattern according to the present invention, each convex portion has a triangular shape in a cross section orthogonal to the one direction on the embossed mold surface, and a cross section of the convex portion between the convex portions included in different pattern portions. The ratio of the height to the length of the base in the triangle may be the same, and the heights of the cross-sectional triangles of the convex portions may be different from each other. Alternatively, in such a concavo-convex pattern according to the present invention, each convex portion has a triangular shape in a cross section orthogonal to the one direction on the embossed mold surface, and the convex portions are included between the convex portions included in different pattern portions. The heights of the cross-sectional triangles may be the same, and the ratio of the height to the length of the base in the cross-sectional triangle of the protrusion may be different from each other.

さらに、本発明による凹凸パターンが、前記エンボス型面上の前記他方向に沿って並べて配置された複数のパターン部をそれぞれ含む第1のパターン部群および第2のパターン部群を有し、前記第1のパターン部群および前記第2のパターン部群は、前記エンボス型面上の前記一方向に沿って互いからずれた位置に配置され、前記第1のパターン部群および前記第2のパターン部群に含まれる各パターン部は複数の前記凸部を含み、各パターン部内において前記複数の凸部は同一形状を有し、各凸部は、前記エンボス型面上の前記一方向に直交する断面において三角形状であり、前記第1のパターン部群内の異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における高さは互いに異なり、前記第2のパターン部群内の異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における高さは互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに異なるようにしてもよい。   Furthermore, the concavo-convex pattern according to the present invention has a first pattern portion group and a second pattern portion group each including a plurality of pattern portions arranged side by side along the other direction on the embossed mold surface, The first pattern portion group and the second pattern portion group are arranged at positions shifted from each other along the one direction on the embossed mold surface, and the first pattern portion group and the second pattern Each pattern part included in the part group includes a plurality of the convex parts, and within each pattern part, the plurality of convex parts have the same shape, and each convex part is orthogonal to the one direction on the embossed mold surface. Between the convex portions included in different pattern portions in the first pattern portion group having a triangular shape in cross section, the ratio of the height to the length of the base in the cross sectional triangle of the convex portions is the same, and The heights of the cross-sectional triangles of the convex portions are different from each other, and the heights of the cross-sectional triangles of the convex portions are the same between the convex portions included in different pattern portions in the second pattern portion group. The ratio of the height to the length of the base in the cross-sectional triangle may be different from each other.

このような本発明による凹凸パターンにおいて、前記凹凸部は複数の凸部を有しており、前記凹凸パターンに含まれた前記凸部の高さの最大値は、前記凹凸部に含まれた前記凸部の高さの最大値と同一であるようにしてもよい。   In such a concavo-convex pattern according to the present invention, the concavo-convex portion has a plurality of convex portions, and a maximum value of the height of the convex portion included in the concavo-convex pattern is included in the concavo-convex portion. You may make it be the same as the maximum value of the height of a convex part.

また、このような本発明による凹凸パターンにおいて、前記凹凸部は、断面において三角形状となっている複数の凸部を有しており、前記凹凸パターンに含まれた前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比の最大値は、前記凹凸部に含まれた前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比の最大値と同一であるようにしてもよい。   Further, in such a concavo-convex pattern according to the present invention, the concavo-convex portion has a plurality of convex portions that are triangular in cross section, and the base in the cross-sectional triangle of the convex portion included in the concavo-convex pattern. The maximum value of the ratio of the height to the length of the convex portion may be the same as the maximum value of the ratio of the height to the length of the base in the cross-sectional triangle of the convex portion included in the concavo-convex portion.

本発明による加工品は、エンボス加工を施された加工品であって、エンボス加工によって凹凸形状を転写された原反を備え、前記原反は、エンボス加工によって形成された凹凸柄と、前記原反上の一方向に沿って前記凹凸柄からずれた位置に配置され、エンボス加工によって形成された検査用凹凸パターンと、を有し、前記検査用凹凸パターンは、前記凹凸柄とは異なる凹凸形状を有し、前記検査用凹凸パターンは、エンボス加工によって形成された前記凹凸柄を検査するために用いられることを特徴とする。   The processed product according to the present invention is a processed product that has been embossed, and includes an original fabric having a concavo-convex shape transferred by embossing, and the original fabric includes an concavo-convex pattern formed by embossing, and the original An uneven pattern for inspection, which is disposed at a position shifted from the uneven pattern along one direction on the opposite side and formed by embossing, and the uneven pattern for inspection is an uneven pattern different from the uneven pattern The concavo-convex pattern for inspection is used for inspecting the concavo-convex pattern formed by embossing.

本発明による加工品において、前記検査用凹凸パターンは、前記一方向と直交する前記原反上の他方向に沿って並べて配列された複数の凹部であって、前記凹凸部とは異なる前記凹凸形状を構成する複数の凹部を、有するようにしてもよい。このような本発明による加工品において、各凹部は、前記原反上の前記一方向に直交する断面において三角形状のへこみとなっているようにしてもよい。また、このような本発明による加工品において、前記凹部は、前記原反上の前記一方向に沿って溝状に延びていてもよい。   In the processed product according to the present invention, the concave / convex pattern for inspection is a plurality of concave portions arranged side by side along the other direction on the raw material orthogonal to the one direction, and the concave / convex shape different from the concave / convex portion. You may make it have several recessed part which comprises. In such a processed product according to the present invention, each recess may have a triangular recess in a cross section perpendicular to the one direction on the original fabric. In the processed product according to the present invention, the concave portion may extend in a groove shape along the one direction on the original fabric.

また、本発明による加工品において、前記検査用凹凸パターンは、前記原反上の前記他方向に沿って並べて配置された複数の検査用パターン部を有し、各検査用パターン部は複数の前記凹部を含み、各検査用パターン部内において前記複数の凹部は同一形状を有し、異なる検査用パターン部に含まれる凹部間において、前記原反上の前記一方向に直交する断面における凹部の形状は互いに異なるようにしてもよい。このような本発明による加工品において、各凹部は、前記原反上の前記一方向に直交する断面において三角形状のへこみとなっており、異なる検査用パターン部に含まれる凹部間において、前記凹部の断面三角形における幅に対する深さの比は互いに同一であり、前記凹部の断面三角形における深さは互いに異なるようにしてもよい。また、このような本発明による加工品において、各凹部は、前記原反上の前記一方向に直交する断面において三角形状のへこみとなっており、異なる検査用パターン部に含まれる凹部間において、前記凹部の断面三角形における深さは互いに同一であり、前記凹部の断面三角形における幅に対する深さの比は互いに異なるようにしてもよい。   In the processed product according to the present invention, the inspection uneven pattern has a plurality of inspection pattern portions arranged along the other direction on the original fabric, and each inspection pattern portion includes a plurality of the inspection pattern portions. In each inspection pattern portion, the plurality of recesses have the same shape, and between the recesses included in different inspection pattern portions, the shape of the recess in the cross section orthogonal to the one direction on the original fabric is They may be different from each other. In such a processed product according to the present invention, each recess has a triangular recess in a cross section perpendicular to the one direction on the original fabric, and the recess is between the recesses included in different inspection pattern portions. The ratio of the depth to the width in the cross-sectional triangle may be the same, and the depth in the cross-sectional triangle of the recess may be different from each other. Further, in such a processed product according to the present invention, each recess has a triangular recess in a cross section orthogonal to the one direction on the original fabric, and between the recesses included in different inspection pattern portions, The depths of the cross-sectional triangles of the recesses may be the same, and the ratio of the depth to the width of the cross-sectional triangle of the recesses may be different from each other.

さらに、本発明による加工品において、前記検査用凹凸パターンは、前記原反上の前記他方向に沿って並べて配置された複数の検査用パターン部をそれぞれ含む第1の検査用パターン部群および第2の検査用パターン部群を有し、前記第1の検査用パターン部群および前記第2の検査用パターン部群は、前記エンボス型面上の前記一方向に沿って互いからずれた位置に配置され、前記第1の検査用パターン部群および前記第2の検査用パターン部群に含まれる各パターン部は複数の前記凹部を含み、各検査用パターン部内において前記複数の凹部は同一形状を有し、各凹部は、前記原反上の前記一方向に直交する断面において三角形状のへこみとなっており、前記第1の検査用パターン部群内の異なる検査用パターン部に含まれる凹部間において、前記凹部の断面三角形における幅に対する深さの比は互いに同一であり、前記凹部の断面三角形における深さは互いに異なり、前記第2の検査用パターン部群内の異なる検査用パターン部に含まれる凹部間において、前記凹部の断面三角形における深さは互いに同一であり、前記凹部の断面三角形における幅に対する深さの比は互いに異なるようにしてもよい。   Furthermore, in the processed product according to the present invention, the inspection uneven pattern includes a first inspection pattern portion group and a plurality of inspection pattern portions each including a plurality of inspection pattern portions arranged along the other direction on the original fabric. Two test pattern part groups, and the first test pattern part group and the second test pattern part group are shifted from each other along the one direction on the embossed mold surface. Each of the pattern portions arranged and included in the first inspection pattern portion group and the second inspection pattern portion group includes a plurality of recesses, and the plurality of recesses have the same shape in each of the inspection pattern portions. Each recess has a triangular recess in a cross section orthogonal to the one direction on the original fabric, and between the recesses included in different inspection pattern portions in the first inspection pattern portion group In The ratio of the depth to the width in the cross-sectional triangle of the recess is the same, the depth in the cross-sectional triangle of the recess is different from each other, and included in different inspection pattern portions in the second inspection pattern portion group The depths in the cross-sectional triangles of the concave portions may be the same between the concave portions, and the ratio of the depth to the width in the cross-sectional triangle of the concave portions may be different from each other.

このような本発明による加工品において、前記凹凸柄は、その凹凸形状を構成する複数の凹部を有しており、前記検査用凹凸パターンに含まれた前記凹部の深さの最大値は、前記凹凸柄に含まれた前記凹部の深さの最大値と同一であるようにしてもよい。   In such a processed product according to the present invention, the concave / convex pattern has a plurality of concave portions constituting the concave / convex shape, and the maximum value of the depth of the concave portion included in the concave / convex pattern for inspection is You may make it be the same as the maximum value of the depth of the said recessed part contained in the uneven | corrugated pattern.

また、このような本発明による加工品において、前記凹凸柄は、断面において三角形状となっている凹部を有しており、前記検査用凹凸パターンに含まれた前記凹部の断面三角形における幅に対する深さの比の最大値は、前記凹凸柄に含まれた前記凹部の断面三角形における幅に対する深さの比の最大値と同一であるようにしてもよい。   Further, in such a processed product according to the present invention, the concavo-convex pattern has a concave portion having a triangular shape in cross section, and the depth with respect to the width in the cross sectional triangle of the concave portion included in the concavo-convex pattern for inspection. The maximum value of the ratio of the height may be the same as the maximum value of the ratio of the depth to the width in the cross-sectional triangle of the concave portion included in the concave / convex pattern.

さらに、本発明による加工品において、前記検査用凹凸パターンの位置を特定するための見当マークが設けられているようにしてもよい。   Furthermore, in the processed product according to the present invention, a register mark for specifying the position of the inspection uneven pattern may be provided.

本発明による製造方法は、上述したいずれかの本発明によるエンボス装置を用いて原反に凹凸柄を形成し、加工品を製造する製造方法であって、前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを空運転させ、前記エンボスロールのエンボス型面に形成された凹凸部および凹凸パターンに対応した凹凸形状を、前記バックアップロールの外周面に形成する第1空運転工程と、前記第1空運転工程後に実施される工程であって、前記原反を間に挟んだ状態で前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを回転させ、前記凹凸部に対応した前記凹凸柄を前記原反に形成するとともに、前記凹凸パターンに対応した検査用凹凸パターンを前記原反に形成していく第1エンボス加工工程と、前記第1エンボス加工工程後に実施される工程であって、前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを空運転させ、前記エンボス型面の凹凸部および凹凸パターンに対応した凹凸形状を、前記バックアップロールの外周面に再形成する第2空運転工程と、を備え、前記第1エンボス加工工程中に、前記原反に形成されていく検査用凹凸パターンを検査し、検査結果が不良と判定された場合に、前記第1エンボス加工工程を終了して前記第2空運転工程を開始することを特徴とする。   The manufacturing method according to the present invention is a manufacturing method for manufacturing a processed product by forming a concavo-convex pattern on an original fabric using any of the embossing devices according to the present invention described above, wherein the embossing roll and the backup roll are idled. A first idle operation step of forming an uneven shape corresponding to the uneven portion and the uneven pattern formed on the embossing mold surface of the embossing roll on the outer peripheral surface of the backup roll, and after the first empty operation step. The embossing roll and the backup roll are rotated in a state where the original fabric is sandwiched therebetween, and the concave / convex pattern corresponding to the concave / convex portion is formed on the raw fabric and also corresponds to the concave / convex pattern. A first embossing process for forming the inspection uneven pattern on the original fabric, and a process performed after the first embossing process A second idle operation step of causing the embossing roll and the backup roll to be idled and re-forming the irregularities corresponding to the irregularities and the irregularity pattern of the embossed mold surface on the outer peripheral surface of the backup roll. During the first embossing process, the inspection unevenness pattern formed on the original fabric is inspected, and when the inspection result is determined to be defective, the first embossing process is terminated and the second embossing process is completed. The idling operation process is started.

本発明による製造方法において、前記第2空運転工程後に実施される工程であって、前記原反を間に挟んだ状態で前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを回転させ、前記凹凸部に対応した前記凹凸柄を前記原反に形成するとともに、前記凹凸パターンに対応した前記検査用凹凸パターンを前記原反に形成していく第2エンボス加工工程と、前記第2エンボス加工工程後に実施される工程であって、前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを空運転させ、前記エンボス型面の凹凸部および凹凸パターンに対応した凹凸形状を、前記バックアップロールの外周面に再形成する第3空運転工程と、をさらに備え、前記第2エンボス加工工程中に、前記原反に形成されていく検査用凹凸パターンを検査し、検査結果が不良と判定された場合に、前記第2エンボス加工工程を終了して前記第3空運転工程を開始するようにしてもよい。   In the manufacturing method according to the present invention, the step is performed after the second idling operation step, the embossing roll and the backup roll are rotated in a state where the original fabric is sandwiched therebetween, and the corrugated portion corresponding to the uneven portion A second embossing step of forming a concavo-convex pattern on the original fabric and forming the inspection concave-convex pattern corresponding to the concavo-convex pattern on the original fabric, and a step performed after the second embossing step A third idle operation step of causing the embossing roll and the backup roll to idle, and re-forming the irregularities corresponding to the irregularities and the irregularity pattern of the embossed mold surface on the outer peripheral surface of the backup roll, In addition, during the second embossing process, the inspection concave / convex pattern formed on the original fabric is inspected, and the inspection result is judged to be defective. If it is, it exits the second embossing step may be started the third idling process.

また、本発明による製造方法において、前記エンボス加工工程中における検査用凹凸パターンについての検査は、検査対象となる原反に対して非接触の状態で実施されるようにしてもよい。このような本発明による製造方法において、光沢度計を用い、前記原反の前記検査用凹凸パターンが形成された部分の光沢度を非接触で測定することにより、前記検査用凹凸パターンの検査を行い、測定された光沢度が予め設定された光沢度以上となった場合、あるいは、測定された光沢度が予め設定された光沢度よりも大きくなった場合に、不良と判定されるようになっていてもよい。あるいは、このような本発明による製造方法において、非接触式センサを用い、前記原反に形成された前記検査用凹凸パターンの凹凸形状を非接触で測定することにより、前記検査用凹凸パターンの検査を行い、測定された凹凸形状が予め設定された程度を越えて平坦化している場合、あるいは、測定された凹凸形状が予め設定された程度以上に平坦化している場合に、不良と判定されるようになっていてもよい。   Further, in the manufacturing method according to the present invention, the inspection of the inspection uneven pattern during the embossing process may be performed in a non-contact state with respect to the raw material to be inspected. In such a manufacturing method according to the present invention, by using a gloss meter, the glossiness of the portion of the original fabric where the concave / convex pattern for inspection is formed is measured in a non-contact manner, thereby inspecting the concave / convex pattern for inspection. If the measured glossiness is greater than or equal to the preset glossiness, or if the measured glossiness is greater than the preset glossiness, it will be determined as defective. It may be. Alternatively, in such a manufacturing method according to the present invention, by using a non-contact type sensor and measuring the concavo-convex shape of the concavo-convex pattern for inspection formed on the original fabric in a non-contact manner, the inspection of the concavo-convex pattern for inspection is performed. When the measured uneven shape is flattened beyond a preset level, or when the measured uneven shape is flattened more than a preset level, it is determined as defective. It may be like this.

さらに、本発明による製造方法が、前記検査用凹凸パターンの良否の判定基準を設定する工程を、さらに備え、前記判定基準を設定する工程は、前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを空運転させ、前記エンボスロールのエンボス型面に形成された凹凸部および凹凸パターンに対応した凹凸形状を、前記バックアップロールの外周面に形成する予備空運転工程と、前記予備空運転工程後に実施される工程であって、前記原反を間に挟んだ状態で前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを回転させ、前記凹凸部に対応した前記凹凸柄を前記原反に形成するとともに、前記凹凸パターンに対応した検査用凹凸パターンを前記原反に形成していく試験エンボス加工工程と、前記試験エンボス加工工程において原反に作製されていった凹凸柄を検査して、前記凹凸柄が検査良から検査不良に移行する部分を調査し、当該部分と同時期に形成された検査用凹凸パターンに基づいて前記検査用凹凸パターンの良否の判定基準を決定する判定基準決定工程と、を有するようにしてもよい。   Furthermore, the manufacturing method according to the present invention further includes a step of setting a determination criterion for pass / fail of the inspection concavo-convex pattern, and the step of setting the determination criterion causes the embossing roll and the backup roll to run idle, A preliminary empty operation step of forming an uneven shape corresponding to the uneven portion and the uneven pattern formed on the embossing mold surface of the emboss roll on the outer peripheral surface of the backup roll, and a step performed after the preliminary empty operation step. The embossing roll and the backup roll are rotated in a state where the original fabric is sandwiched therebetween, and the concave / convex pattern corresponding to the concave / convex portion is formed on the raw fabric, and the concave / convex pattern for inspection corresponding to the concave / convex pattern In the original embossing process and the test embossing process. Inspecting the concavo-convex pattern, investigate the portion where the concavo-convex pattern transitions from good inspection to poor inspection, and whether the concavo-convex pattern for inspection is good or bad based on the concavo-convex pattern for inspection formed at the same time as the portion A determination criterion determination step for determining a determination criterion.

本発明によれば、優れた効率で原反にエンボス加工を行うことができる。これにより、加工費用を低下させることも可能となる。   According to the present invention, it is possible to emboss an original fabric with excellent efficiency. As a result, the processing cost can be reduced.

発明を実施するための形態BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings attached to the present specification, for the sake of illustration and ease of understanding, the scale, the vertical / horizontal dimension ratio, and the like are appropriately changed and exaggerated from those of the actual product.

図1乃至図11は本発明による一実施の形態を説明するための図である。このうちまず、図1乃至図5を参照して、原反に凹凸柄を形成して加工品を製造するエンボス装置について説明する。ここで、図1はエンボス装置およびエンボス装置による加工品の製造方法を説明するための斜視図であり、図2は図1のエンボス装置を示す上面図であり、図3は図1のエンボス装置に組み込まれたエンボスロールの凹凸パターンを示す図であり、図4は図2のIV−IV線に沿った断面図であり、図5は図2のV−V線に沿った断面図である。   1 to 11 are diagrams for explaining an embodiment according to the present invention. First of all, an embossing device for manufacturing a processed product by forming an uneven pattern on an original fabric will be described with reference to FIGS. Here, FIG. 1 is a perspective view for explaining an embossing device and a method of manufacturing a workpiece by the embossing device, FIG. 2 is a top view showing the embossing device of FIG. 1, and FIG. 3 is an embossing device of FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV in FIG. 2, and FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line V-V in FIG. .

図1に示すように、エンボス装置10は、エンボスロール20と、エンボスロール20に対向して配置され、エンボスロール20との間で原反70を圧するようになるバックアップロール13と、を備えている。また、エンボス装置10は、エンボスロール20およびバックアップロール13の間に向けて原反70を供給する原反供給装置(図示せず)をさらに備えている。   As shown in FIG. 1, the embossing device 10 includes an embossing roll 20 and a backup roll 13 that is disposed to face the embossing roll 20 and presses the original fabric 70 between the embossing roll 20. Yes. The embossing device 10 further includes a raw material supply device (not shown) that supplies the raw material 70 between the embossing roll 20 and the backup roll 13.

図1に示すように、エンボスロール20およびバックアップロール13は、それぞれ、円柱状または円筒状に形成されている。エンボスロール20およびバックアップロール13は、それぞれの外周面が対向するように配置されている。また、エンボスロール20およびバックアップロール13は、それぞれの中心軸線L1,L2が平行となるように配置されている。エンボスロール20およびバックアップロール13は、それぞれの中心軸線L1,L2を中心として回転可能となっている。   As shown in FIG. 1, the embossing roll 20 and the backup roll 13 are each formed in a columnar shape or a cylindrical shape. The embossing roll 20 and the backup roll 13 are disposed so that their outer peripheral surfaces face each other. Moreover, the embossing roll 20 and the backup roll 13 are arrange | positioned so that each center axis line L1, L2 may become parallel. The embossing roll 20 and the backup roll 13 are rotatable around their respective central axes L1 and L2.

エンボスロール20は、その外周面上に形成された凹凸形状を含むエンボス型面30を有している。エンボス型面30は、図1に示すように、原反供給装置から供給される原反70に当接するようになる。図1および図2に示すように、エンボス型面30は、原反70に形成すべき凹凸柄85に対応した凹凸形状を有する凹凸部35と、凹凸部35とは異なる凹凸形状を有する凹凸パターン40と、を含んでいる。凹凸パターン40は、エンボス型面30上の一方向に沿って、図示する例ではエンボスロール20の回転軸線L1に沿って、凹凸部35からずれた位置に形成されている。凹凸部35は、製造される加工品の用途に応じ、種々の粗さや深さを含んだ凹凸形状として構成される。一例として、製造されるべき加工品80が合成皮革用の離型紙(型紙)である場合には、凹凸部35は、原反70に皮模様を付与し得るように構成される。   The embossing roll 20 has an embossing type surface 30 including an uneven shape formed on the outer peripheral surface thereof. As shown in FIG. 1, the embossing mold surface 30 comes into contact with the original fabric 70 supplied from the original fabric supply device. As shown in FIGS. 1 and 2, the embossed mold surface 30 has an uneven portion 35 having an uneven shape corresponding to the uneven pattern 85 to be formed on the original fabric 70, and an uneven pattern having an uneven shape different from the uneven portion 35. 40. The concavo-convex pattern 40 is formed at a position shifted from the concavo-convex portion 35 along one direction on the embossing mold surface 30, and along the rotation axis L <b> 1 of the embossing roll 20 in the illustrated example. The concavo-convex portion 35 is configured as a concavo-convex shape including various roughnesses and depths depending on the application of the manufactured product to be manufactured. As an example, when the processed product 80 to be manufactured is a release paper (pattern paper) for synthetic leather, the concavo-convex portion 35 is configured to be able to impart a leather pattern to the original fabric 70.

一方、凹凸パターン40は、加工品の一部として加工品の用途に応じて有効に機能するのではなく、加工品を製造する上で機能する凹凸形状である。より具体的には、凹凸パターン40は、凹凸部35によって原反70に形成される凹凸柄85を検査するために用いられ得る検査用凹凸パターン90を、原反70に形成するようになる。   On the other hand, the concavo-convex pattern 40 does not function effectively according to the use of the processed product as a part of the processed product, but is an uneven shape that functions in manufacturing the processed product. More specifically, the concavo-convex pattern 40 forms an inspection concavo-convex pattern 90 on the original fabric 70 that can be used to inspect the concavo-convex pattern 85 formed on the original fabric 70 by the concavo-convex portion 35.

以下、主に図3乃至図5を参照して、原反70に凹凸柄85を形成するためのエンボス型面30に凹凸部35とともに形成された凹凸パターン40について詳述する。ここで図3は、円周面として形成されたエンボス型面30のうちの凹凸パターン40の周辺を、当該エンボス型面30を切り開いた平面として、示している。   Hereinafter, the uneven pattern 40 formed along with the uneven portion 35 on the embossed mold surface 30 for forming the uneven pattern 85 on the original fabric 70 will be described in detail with reference mainly to FIGS. Here, FIG. 3 shows the periphery of the concavo-convex pattern 40 in the embossed mold surface 30 formed as a circumferential surface as a plane obtained by cutting the embossed mold surface 30.

本実施の形態において、凹凸パターン40は、エンボス型面30上の前記一方向(本例ではエンボスロール20の回転軸線L1)に沿って互いからずれた位置に配置された第1のパターン部群42および第2のパターン部群46を有している。第1のパターン部群42および第2のパターン部群46は、前記一方向と直交するエンボス型面30上の他方向に沿って、図示する例ではエンボスロール20の回転軸線L1に直交するエンボスロール20の円周方向に沿って、並べて配置された複数のパターン部43,47をそれぞれ含んでいる。   In the present embodiment, the concavo-convex pattern 40 is a first pattern portion group arranged at a position shifted from each other along the one direction on the embossing mold surface 30 (in this example, the rotation axis L1 of the embossing roll 20). 42 and a second pattern portion group 46. The first pattern portion group 42 and the second pattern portion group 46 are embossed along the other direction on the embossing mold surface 30 orthogonal to the one direction, in the illustrated example, orthogonal to the rotation axis L1 of the embossing roll 20. A plurality of pattern portions 43 and 47 arranged side by side along the circumferential direction of the roll 20 are included.

図4および図5に示すように、第1のパターン部群42および第2のパターン部群46に含まれる各パターン部43,47は複数の凸部43a,47aを含んでいる。この凸部43a,47aによって、凹凸部35とは異なる凹凸パターン40の凹凸形状が、構成されている。   As shown in FIGS. 4 and 5, the pattern portions 43 and 47 included in the first pattern portion group 42 and the second pattern portion group 46 include a plurality of convex portions 43 a and 47 a. The concavo-convex shape of the concavo-convex pattern 40 different from the concavo-convex portion 35 is configured by the convex portions 43a and 47a.

凸部43a,47aは、エンボス型面30上の他方向(本例ではエンボスロール20の回転軸線L1に直交するエンボスロール20の円周方向)に沿って並べて配列されている。各凸部43a,47aは、エンボス型面30上の一方向に直交する断面(本例ではエンボスロール20の回転軸線L1に直交する断面)において三角形状(厳密には二等辺三角形)となっている。さらに、図1、図5および図6に示すように、各凸部43a,47aは、エンボス型面30上の前記一方向に沿って延びており、したがって、三角柱状に形成されている。   The convex portions 43a and 47a are arranged side by side along the other direction on the embossing mold surface 30 (in this example, the circumferential direction of the embossing roll 20 perpendicular to the rotation axis L1 of the embossing roll 20). Each of the convex portions 43a and 47a has a triangular shape (strictly an isosceles triangle) in a cross section orthogonal to one direction on the embossing mold surface 30 (in this example, a cross section orthogonal to the rotation axis L1 of the embossing roll 20). Yes. Further, as shown in FIGS. 1, 5 and 6, each of the convex portions 43a and 47a extends along the one direction on the embossed mold surface 30, and is thus formed in a triangular prism shape.

図5および図6に示すように、各パターン部43,47内において、複数の凸部43a,47aは同一形状を有し、異なるパターン部43,47間において、凸部43a,47aは異なる形状を有している。   As shown in FIGS. 5 and 6, in each pattern portion 43, 47, the plurality of convex portions 43 a, 47 a have the same shape, and between the different pattern portions 43, 47, the convex portions 43 a, 47 a have different shapes. have.

図4に示すように、第1のパターン部群42内の異なるパターン部43に含まれる凸部43a間において、凸部43の断面三角形における底辺の長さwaに対する高さhaの比(ha/wa、以下において単に「凸部のアスペクト比」とも呼ぶ)は互いに同一であり、凸部43の断面三角形における高さhaは互いに異なっている。とりわけ、図3に示すように、第1のパターン部群42は10のパターン部43を有しており、この結果、第1のパターン部群42内には、10種類の異なる高さhaを有する凸部43aが含まれている。また、第1のパターン部群42に含まれた凸部43aの高さhaの最大値は、凹凸部35の凹凸形状を構成する凸部の高さのうちの最大値と同一となっている。具体例として、製造される加工品80が合成皮革用の離型紙(型紙)である場合、第1のパターン部群42に含まれる凸部43aの高さの最大値は、例えば50μmとすることができる。   As shown in FIG. 4, the ratio of the height ha to the length wa of the base in the cross-sectional triangle of the convex portion 43 (ha /) between the convex portions 43a included in different pattern portions 43 in the first pattern portion group 42. wa, hereinafter simply referred to as “aspect ratio of the convex portion”) is the same, and the heights ha of the cross-sectional triangles of the convex portion 43 are different from each other. In particular, as shown in FIG. 3, the first pattern portion group 42 has ten pattern portions 43. As a result, the first pattern portion group 42 has ten different heights ha. The convex part 43a which has is included. Moreover, the maximum value of the height ha of the convex portion 43a included in the first pattern portion group 42 is the same as the maximum value of the heights of the convex portions constituting the concave-convex shape of the concave-convex portion 35. . As a specific example, when the processed product 80 to be manufactured is a release paper (pattern paper) for synthetic leather, the maximum height of the convex portion 43a included in the first pattern portion group 42 is, for example, 50 μm. Can do.

一方、図5に示すように、第2のパターン部群46内の異なるパターン部47に含まれる凸部47a間において、凸部47aの断面三角形における高さhaは互いに同一であり、凸部47aの断面三角形における底辺の長さwaに対する高さhaの比(凸部のアスペクト比(ha/wa))は互いに異なっている。とりわけ、図3に示すように、第2のパターン部群46は10のパターン部47を有しており、この結果、第2のパターン部群46内には、10種類の異なるアスペクト比(ha/wa)を有する凸部47aが含まれている。また、第2のパターン部群46に含まれた凸部47aの断面三角形における底辺の長さwaに対する高さhaの比の最大値は、凹凸部35に含まれた断面三角形状の凸部のアスペクト比のうちの最大値と同一となっている。具体例として、製造される加工品80が合成皮革用の離型紙(型紙)である場合、第2のパターン部群46に含まれる凸部47aのアスペクト比の最大値は、例えば1.0とすることができる。   On the other hand, as shown in FIG. 5, the heights ha of the cross-sectional triangles of the convex portions 47a are the same between the convex portions 47a included in the different pattern portions 47 in the second pattern portion group 46, and the convex portions 47a. The ratio of the height ha to the base length wa (the aspect ratio (ha / wa) of the protrusions) in the cross-sectional triangle of FIG. In particular, as shown in FIG. 3, the second pattern portion group 46 includes ten pattern portions 47. As a result, the second pattern portion group 46 includes ten different aspect ratios (ha). A convex portion 47a having / wa) is included. In addition, the maximum value of the ratio of the height ha to the base length wa in the cross-sectional triangle of the convex portion 47 a included in the second pattern portion group 46 is that of the convex portion having a triangular cross-section included in the concave-convex portion 35. It is the same as the maximum aspect ratio. As a specific example, when the manufactured product 80 to be manufactured is a release paper (pattern paper) for synthetic leather, the maximum value of the aspect ratio of the convex portion 47a included in the second pattern portion group 46 is, for example, 1.0. can do.

なお、第1のパターン部群42に含まれた凸部43aのアスペクト比(ha/wa)は、上述のように、一定である。ここで、第1のパターン部群42に含まれた凸部43aのアスペクト比は、例えば、凹凸部35の凹凸形状を構成する凸部のアスペクト比のうちの最大値の半分の値や、凹凸部35の凹凸形状を構成する凸部のアスペクト比の略平均値等に設定することができる。また、第2のパターン部群46に含まれた凸部47aの高さhaは、上述のように、一定である。ここで、第2のパターン部群46に含まれた凸部47aの高さは、例えば、凹凸部35の凹凸形状を構成する凸部の高さのうちの最大値の半分の値や、凹凸部35の凹凸形状を構成する凸部の高さの略平均値等に設定することができる。   The aspect ratio (ha / wa) of the convex portions 43a included in the first pattern portion group 42 is constant as described above. Here, the aspect ratio of the convex portion 43a included in the first pattern portion group 42 is, for example, a half value of the maximum value of the aspect ratio of the convex portion constituting the concave-convex shape of the concave-convex portion 35, or the concave-convex portion. It can be set to an approximately average value of the aspect ratio of the convex portions constituting the concave-convex shape of the portion 35. Further, the height ha of the convex portion 47a included in the second pattern portion group 46 is constant as described above. Here, the height of the convex portion 47a included in the second pattern portion group 46 is, for example, a value that is half the maximum value of the height of the convex portion constituting the concave-convex shape of the concave-convex portion 35, or the concave-convex portion. It can be set to a substantially average value or the like of the height of the convex portion constituting the concave-convex shape of the portion 35.

エンボス型面30における凸部の高さhaおよび凸部のアスペクト比(ha/wa)は、原反70への凹凸形状の転写効率に対して重大な影響を与え得る二つのパラメータである。そして、凹凸パターン40は、凹凸部35の凹凸形状に含まれ得る種々の高さと、凹凸部35の凹凸形状に含まれ得る種々のアスペクト比と、を含んだ凹凸形状を有している。すなわち、凹凸パターン40によって原反70に形成される検査用凹凸パターン90は、凹凸部35によって原反70に形成される凹凸柄85の凹凸形状と、非常に関連性の高い凹凸形状を有するようになる。そして、凹凸パターン40が検査用凹凸パターン90として原反70に転写される際の転写効率は、凹凸部35が凹凸柄85として原反70に転写される際の転写効率と強い相関性を有するようになる。このため、凹凸パターン40によって原反70に形成される検査用凹凸パターン90を検査することにより、凹凸部35によって原反70に形成され複雑な凹凸形状を有する凹凸柄85の凹凸形状を精度良く確認することが可能となる。   The height ha of the convex portion and the aspect ratio (ha / wa) of the convex portion on the embossed mold surface 30 are two parameters that can have a significant influence on the transfer efficiency of the concave and convex shape to the original fabric 70. The uneven pattern 40 has an uneven shape including various heights that can be included in the uneven shape of the uneven portion 35 and various aspect ratios that can be included in the uneven shape of the uneven portion 35. That is, the inspection concavo-convex pattern 90 formed on the original fabric 70 by the concavo-convex pattern 40 has a concavo-convex shape of the concavo-convex pattern 85 formed on the original fabric 70 by the concavo-convex portion 35 and a concavo-convex shape that is very relevant. become. The transfer efficiency when the concavo-convex pattern 40 is transferred as the inspection concavo-convex pattern 90 to the original fabric 70 has a strong correlation with the transfer efficiency when the concavo-convex portion 35 is transferred as the concavo-convex pattern 85 to the original fabric 70. It becomes like this. Therefore, by inspecting the inspection concavo-convex pattern 90 formed on the original fabric 70 by the concavo-convex pattern 40, the concavo-convex shape of the concavo-convex pattern 85 formed on the original fabric 70 by the concavo-convex portion 35 and having a complicated concavo-convex shape can be accurately obtained. It becomes possible to confirm.

なお、エンボス型面30に形成された凹凸形状の種々の点について詳細に説明してきたが、上述した形状に関する種々の点、例えば、凸部の断面形状(三角形状等)、凸部の高さ、凸部のアスペクト比等は、必ずしも厳密性を要するものではなく、おおよそのものとして考えれば十分である。例えば、製造誤差等に起因した上述の説明からのずれ等を当然に無視してもよい。   In addition, although the various points of the uneven | corrugated shape formed in the embossing type | mold surface 30 have been demonstrated in detail, the various points regarding the shape mentioned above, for example, cross-sectional shape (triangle shape etc.) of a convex part, the height of a convex part, are mentioned. The aspect ratio or the like of the convex portion does not necessarily require strictness, and it is sufficient to consider it as an approximate one. For example, a deviation from the above description due to a manufacturing error or the like may naturally be ignored.

また、図3に示すように、エンボス型面30の各パターン部43,47の近傍には、それぞれ、当該パターン部43,47に含まれる凸部43a,47aの形状の特徴を示す印39a,39bが付されている。さらに、図3および図2に示すように、エンボス型面30は、凹凸パターン40の位置を特定するための見当マーク部37をさらに有している。見当マーク部37は、例えば図3に示すように、十字状の突出部として構成することができる。図示する例において、見当マーク部37は、第1のパターン部群42に含まれる複数のパターン部43および第2のパターン部群46に含まれる複数のパターン部47と、エンボスロール20の円周方向に並べて配列されている。これらの印39a,39bおよび見当マーク部37により、第1のパターン部群42に含まれる複数のパターン部43および第2のパターン部群46に含まれる複数のパターン部47の位置を特定しやすくなる。これにともなって、凹凸パターン40によって原反70に形成される検査用凹凸パターン90の位置も特定しやすくなる。これにより、凹凸パターン40の取り扱い、並びに、凹凸パターン40によって原反70に形成される検査用凹凸パターン90の取り扱いを容易にすることができる。   Further, as shown in FIG. 3, in the vicinity of the pattern portions 43 and 47 of the embossing mold surface 30, marks 39 a and 39 a that indicate the characteristics of the shapes of the convex portions 43 a and 47 a included in the pattern portions 43 and 47, respectively. 39b is attached. Further, as shown in FIGS. 3 and 2, the embossing mold surface 30 further has a register mark portion 37 for specifying the position of the concave / convex pattern 40. For example, as shown in FIG. 3, the register mark portion 37 can be configured as a cross-shaped protrusion. In the example shown in the drawing, the registration mark portion 37 includes a plurality of pattern portions 43 included in the first pattern portion group 42 and a plurality of pattern portions 47 included in the second pattern portion group 46, and the circumference of the embossing roll 20. Arranged side by side. These marks 39a and 39b and the register mark portion 37 make it easy to specify the positions of the plurality of pattern portions 43 included in the first pattern portion group 42 and the plurality of pattern portions 47 included in the second pattern portion group 46. Become. Accordingly, the position of the inspection concave / convex pattern 90 formed on the original fabric 70 by the concave / convex pattern 40 can be easily specified. Thereby, handling of the uneven pattern 40 and handling of the inspection uneven pattern 90 formed on the original fabric 70 by the uneven pattern 40 can be facilitated.

次に、エンボスロール20に対向して配置されたバックアップロール13について説明する。バックアップロール13は、エンボスロール20と略同一の径を有している。バックアップロール13は、エンボスロール20と同期して、エンボスロール20の周速度と略同一の周速度で回転することができるように構成されている。   Next, the backup roll 13 disposed to face the embossing roll 20 will be described. The backup roll 13 has substantially the same diameter as the embossing roll 20. The backup roll 13 is configured to be synchronized with the embossing roll 20 and to rotate at a circumferential speed substantially the same as the circumferential speed of the embossing roll 20.

また、バックアップロール13は、エンボス型面30に押圧されて、エンボス型面30上に形成された凹凸形状に対応して変形可能であり、かつ、変形状態を少なくとも一定の期間維持し得る表面層を有している。すなわち、バックアップロール13は、エンボス型面30として種々の凹凸形状を有したエンボスロール20に対し、汎用性を有したメス型として機能するようになる。このようなバックアップロール13として、例えばペーパーロールと呼ばれるロール状部材が広く普及している。ペーパーロールの表面層は、羊毛や紙等の繊維を押し固めて形成されている。   Further, the backup roll 13 is a surface layer that is pressed by the embossing mold surface 30 and can be deformed corresponding to the uneven shape formed on the embossing mold surface 30 and can maintain the deformed state for at least a certain period. have. That is, the backup roll 13 functions as a female type having versatility with respect to the embossing roll 20 having various uneven shapes as the embossing mold surface 30. As such a backup roll 13, for example, a roll-shaped member called a paper roll is widely used. The surface layer of the paper roll is formed by pressing and solidifying fibers such as wool and paper.

ところで、図1および図2に示すように、エンボス装置10は、エンボスロール20およびバックアップロール13の下流側に配置され、凹凸パターン40を転写されてなる原反70の検査用凹凸パターン90に関する情報を非接触状態で測定するセンサ15を、さらに備えている。本実施の形態において、センサ15は、検査対象物上での鏡面反射率に基づいて、検査対象物の光沢度を測定することができる光沢度計によって構成されている。なお、本件における「光沢度」とは、JISS6007に準拠して測定される光沢度のことである。   By the way, as shown in FIGS. 1 and 2, the embossing device 10 is arranged on the downstream side of the embossing roll 20 and the backup roll 13, and information on the inspection uneven pattern 90 of the original fabric 70 to which the uneven pattern 40 is transferred. The sensor 15 is further provided for measuring in a non-contact state. In the present embodiment, the sensor 15 is configured by a gloss meter that can measure the glossiness of the inspection object based on the specular reflectance on the inspection object. The “glossiness” in this case is a glossiness measured in accordance with JIS 6007.

具体的には、図6および図7に示すように、センサ15は、光を照射する発光部15aと、光を受ける受光部15bと、を有している。発光部15aおよび受光部15bは、発光部15aからの光が、原反70の検査用凹凸パターン90上で鏡面反射した場合に、受光部15bに入射するように、位置決めされている。これにより、図6に示すように、原反70の検査用凹凸パターン90の粗度が粗い場合、発光部15aからの光は検査用凹凸パターン90上で比較的に強く散乱反射し、受光部15bに入射する光の量は減少する。この場合、光沢度計により測定される光沢度は低い数値を取るようになる。一方、図7に示すように、原反70の検査用凹凸パターン90が平坦化されている場合、発光部15aからの光の多くは検査用凹凸パターン90上で鏡面反射し、受光部15bに入射する光の量は増大する。この場合、光沢度計により測定される光沢度は高い数値を取るようになる。すなわち、センサ15によって測定される検査用凹凸パターン90の光沢度は、検査用凹凸パターン90の粗さの度合い(例えば面粗度や凹凸深さ等)と関連して変動するようになる。例えば、図8に示すように、光沢度計としてのセンサ15によって測定された光沢度と、検査対象物の粗面の粗さ(JISB0401に準拠して測定された十点平均粗さRz)と、は強い相関性を有している。したがって、光沢度計からなるセンサ15によって、検査用凹凸パターン90の粗さの度合い(平坦化の程度)に関する情報を非接触状態で精度良く測定することができる。   Specifically, as shown in FIGS. 6 and 7, the sensor 15 has a light emitting unit 15a that emits light and a light receiving unit 15b that receives light. The light emitting unit 15 a and the light receiving unit 15 b are positioned so that the light from the light emitting unit 15 a is incident on the light receiving unit 15 b when it is specularly reflected on the inspection uneven pattern 90 of the original fabric 70. As a result, as shown in FIG. 6, when the roughness of the inspection uneven pattern 90 of the original fabric 70 is rough, the light from the light emitting portion 15a is scattered and reflected relatively strongly on the inspection uneven pattern 90, and the light receiving portion The amount of light incident on 15b decreases. In this case, the glossiness measured by the glossmeter takes a low numerical value. On the other hand, as shown in FIG. 7, when the inspection concavo-convex pattern 90 of the original fabric 70 is flattened, most of the light from the light emitting portion 15a is specularly reflected on the inspection concavo-convex pattern 90 and enters the light receiving portion 15b. The amount of incident light increases. In this case, the glossiness measured by the glossmeter takes a high numerical value. That is, the glossiness of the inspection uneven pattern 90 measured by the sensor 15 varies in relation to the degree of roughness of the inspection uneven pattern 90 (for example, surface roughness and uneven depth). For example, as shown in FIG. 8, the glossiness measured by the sensor 15 as a glossmeter, and the roughness of the rough surface of the inspection object (10-point average roughness Rz measured according to JISB0401) , Has a strong correlation. Therefore, it is possible to accurately measure information on the degree of roughness (degree of flattening) of the inspection concave-convex pattern 90 by the sensor 15 including a gloss meter in a non-contact state.

また、図2に示すように、エンボス装置10は、センサ15に接続された制御装置11であって、センサ15による測定値に基づいて原反70に形成された検査用凹凸パターン90を検査する制御装置11を、さらに備えている。制御装置11は、原反70に形成された検査用凹凸パターン90が、予め設定された程度を越えて平坦化しているか否か、あるいは、予め設定された程度以上に平坦化しているか否か、を判定するようになっている。また、制御装置11は、エンボスロール20の回転駆動機構、バックアップロール13の回転駆動機構および原反供給装置にも接続されている。そして、制御装置11は、センサ15による測定値に基づき、エンボスロール20の回転、バックアップロール13の回転、原反70の供給等を制御することができる。   As shown in FIG. 2, the embossing device 10 is a control device 11 connected to the sensor 15, and inspects the inspection concave / convex pattern 90 formed on the original fabric 70 based on the measurement value by the sensor 15. A control device 11 is further provided. The control device 11 determines whether or not the inspection unevenness pattern 90 formed on the original fabric 70 is flattened beyond a preset level, or whether or not it is flattened beyond a preset level. It comes to judge. The control device 11 is also connected to a rotational drive mechanism of the embossing roll 20, a rotational drive mechanism of the backup roll 13, and an original fabric supply device. And the control apparatus 11 can control rotation of the embossing roll 20, rotation of the backup roll 13, supply of the original fabric 70, etc. based on the measured value by the sensor 15.

次に、以上のような構成からなるエンボス装置10によって製造され得る加工品80について、説明する。   Next, the processed product 80 that can be manufactured by the embossing device 10 having the above-described configuration will be described.

上述したように、加工品80は、エンボスロール20およびバックアップロール13の間で原反70を挟圧し、原反70の表面に凹凸形状を形成することにより作製される。すなわち、加工品80は、エンボス加工によってエンボス型面30の凹凸形状を転写された原反70を備えている。原反70は、例えば、紙、より具体的には、80g/m2〜200g/m2程度の坪量を有したクラフト紙から構成され得る。原反70の厚みは、数百μm、より具体的には25μm〜500μm程度とすることができる。 As described above, the processed product 80 is manufactured by sandwiching the original fabric 70 between the embossing roll 20 and the backup roll 13 and forming an uneven shape on the surface of the original fabric 70. That is, the processed product 80 includes the original fabric 70 to which the uneven shape of the embossing mold surface 30 is transferred by embossing. Raw 70 is, for example, paper, and more specifically, may be composed of kraft paper having a 80g / m 2 ~200g / m 2 about basis weight. The thickness of the original fabric 70 can be set to several hundred μm, more specifically, about 25 μm to 500 μm.

原反70は、凹凸柄85と、原反70上の一方向に沿って凹凸柄85からずれた位置に配置された検査用凹凸パターン90と、を有している。この検査用凹凸パターン90は、上述したように、凹凸柄35の凹凸の程度を検査するために用いられる。   The original fabric 70 has an uneven pattern 85 and an inspection uneven pattern 90 arranged at a position shifted from the uneven pattern 85 along one direction on the original fabric 70. As described above, the inspection uneven pattern 90 is used to inspect the unevenness of the uneven pattern 35.

上述してきたように、凹凸柄85は、エンボス型面30の凹凸部35を転写されることによって形成されている。したがって、凹凸柄85は、上述したエンボス型面30の凹凸部35の凹凸形状に対応した凹凸形状を有するようになる。一例として、製造される加工品が合成皮革用の離型紙(型紙)である場合には、凹凸柄85は皮模様を有するように構成される。同様に、検査用凹凸パターン90は、エンボス型面30の凹凸パターン40を転写されることによって形成されている。したがって、検査用凹凸パターン90は、上述したエンボス型面30の凹凸パターン40の凹凸形状に対応した凹凸形状を有するようになり、凹凸柄35とは異なる凹凸形状を有する。   As described above, the concavo-convex pattern 85 is formed by transferring the concavo-convex portion 35 of the embossed mold surface 30. Therefore, the uneven pattern 85 has an uneven shape corresponding to the uneven shape of the uneven portion 35 of the embossed mold surface 30 described above. As an example, when the processed product to be manufactured is a release paper (pattern paper) for synthetic leather, the uneven pattern 85 is configured to have a leather pattern. Similarly, the inspection uneven pattern 90 is formed by transferring the uneven pattern 40 on the embossing mold surface 30. Therefore, the inspection concave / convex pattern 90 has a concave / convex shape corresponding to the concave / convex shape of the concave / convex pattern 40 of the embossing mold surface 30 described above, and has a concave / convex shape different from the concave / convex pattern 35.

以下、図1、図2、図4および図5を主に参照して、検査用凹凸パターン90について詳述するが、いずれも、エンボス型面30の凹凸パターン40に対応した凹凸形状であることが容易に理解されるだろう。また、本件で説明する加工品80の凹凸は、原反70のエンボス型面30に対面する側の面を基準として「凸」および「凹」を用いる。   Hereinafter, the inspection concave / convex pattern 90 will be described in detail mainly with reference to FIGS. 1, 2, 4, and 5, and all of them have a concave / convex shape corresponding to the concave / convex pattern 40 of the embossing mold surface 30. Will be easily understood. Further, as the unevenness of the processed product 80 described in the present case, “convex” and “concave” are used with reference to the surface of the original fabric 70 facing the embossed mold surface 30.

図1および図2に示すように、検査用凹凸パターン30は、原反70上の前記一方向(本例では、原反70の長手方向に直交する幅方向)に沿って互いからずれた位置に配置された第1の検査用パターン部群92および第2の検査用パターン部群96を有している。第1の検査用パターン部群92および第2の検査用パターン部群96は、前記一方向と直交する原反70上の他方向(本例では、原反70の長手方向)に沿って並べて配列された複数の検査用パターン部93,97をそれぞれ含んでいる。   As shown in FIGS. 1 and 2, the inspection concavo-convex pattern 30 is shifted from each other along the one direction (in this example, the width direction orthogonal to the longitudinal direction of the original fabric 70) on the original fabric 70. The first inspection pattern portion group 92 and the second inspection pattern portion group 96 are arranged in the first and second inspection pattern portions. The first inspection pattern portion group 92 and the second inspection pattern portion group 96 are arranged along the other direction (in this example, the longitudinal direction of the original fabric 70) on the original fabric 70 orthogonal to the one direction. A plurality of inspection pattern portions 93 and 97 are arranged, respectively.

図4および図5に示すように、第1の検査用パターン部群92および第2の検査用パターン部群96に含まれる各検査用パターン部93,97は複数の凹部93a,97aを含んでいる。この凹部93a,97aによって、検査用凹凸パターン90の凹凸形状が構成されている。   As shown in FIGS. 4 and 5, each of the inspection pattern portions 93 and 97 included in the first inspection pattern portion group 92 and the second inspection pattern portion group 96 includes a plurality of recesses 93a and 97a. Yes. The concave / convex shape of the inspection concave / convex pattern 90 is constituted by the concave portions 93a and 97a.

凹部93a,97aは、原反70上の他方向(原反の長手方向)に沿って並べて配列されている。各凹部93a,97aは、原反70上の一方向(原反の幅方向)に直交する断面において三角形状(厳密には二等辺三角形)のへこみとなっている。さらに、図1、図5および図6に示すように、各凹部93a,97aは、原反70上の前記一方向に沿って溝状に延びている。   The recesses 93a and 97a are arranged side by side along the other direction (the longitudinal direction of the original fabric) on the original fabric 70. Each of the recesses 93a and 97a has a concave shape in a triangular shape (strictly, an isosceles triangle) in a cross section orthogonal to one direction on the original fabric 70 (width direction of the original fabric). Further, as shown in FIGS. 1, 5, and 6, the recesses 93 a and 97 a extend in a groove shape along the one direction on the original fabric 70.

図5および図6に示すように、各検査用パターン部93,97内において、複数の凹部93a,97aは同一形状を有し、異なる検査用パターン部93,97間において、凹部93a,97aは異なる形状を有している。   As shown in FIGS. 5 and 6, in each of the inspection pattern portions 93 and 97, the plurality of concave portions 93a and 97a have the same shape, and the concave portions 93a and 97a are between the different inspection pattern portions 93 and 97. Have different shapes.

図4に示すように、第1の検査用パターン部群92内の異なる検査用パターン部93に含まれる凹部93a間において、凹部93の断面三角形における幅wbに対する深さhbの比(hb/wb、以下において単に「凹部のアスペクト比」とも呼ぶ)は互いに同一であり、凹部93の断面三角形における深さhbは互いに異なっている。とりわけ、図3に示すように、エンボス型面30の第1のパターン部群42は10のパターン部43を有しており、この結果、第1の検査用パターン部群92内には、10種類の異なる深さhbを有する凹部93aが含まれている。また、第1の検査用パターン部群92に含まれた凹部93aの深さhbの最大値は、凹凸柄85の凹凸形状を構成する凹部の深さのうちの最大値と同一となっている。   As shown in FIG. 4, the ratio of the depth hb to the width wb in the cross-sectional triangle of the concave portion 93 (hb / wb) between the concave portions 93a included in different inspection pattern portions 93 in the first inspection pattern portion group 92. In the following description, they are also simply referred to as “aspect ratio of the recesses”), and the depths hb in the cross-sectional triangles of the recesses 93 are different from each other. In particular, as shown in FIG. 3, the first pattern portion group 42 of the embossing mold surface 30 has ten pattern portions 43. As a result, the first pattern portion for inspection 92 has 10 A recess 93a having different types of depth hb is included. Further, the maximum value of the depth hb of the concave portion 93a included in the first inspection pattern portion group 92 is the same as the maximum value of the depths of the concave portions constituting the concave / convex shape of the concave / convex pattern 85. .

一方、図5に示すように、第2の検査用パターン部群96内の異なる検査用パターン部97に含まれる凹部97a間において、凹部97aの断面三角形における深さhbは互いに同一であり、凹部97aの断面三角形における幅wbに対する深さhbの比(凹部のアスペクト比(hb/wb))は互いに異なっている。とりわけ、図3に示すように、エンボス型面30の第2のパターン部群46は10のパターン部47を有しており、この結果、第2の検査用パターン部群96内には、10種類の異なるアスペクト比(hb/wb)を有する凹部97aが含まれている。また、第2の検査用パターン部群96に含まれた凹部97aの断面三角形における幅wbに対する深さhbの比の最大値は、凹凸柄85に含まれた断面三角形状の凹部のアスペクト比のうちの最大値と同一となっている。   On the other hand, as shown in FIG. 5, the depth hb in the cross-sectional triangle of the recess 97a is the same between the recesses 97a included in different test pattern portions 97 in the second test pattern portion group 96, The ratio of the depth hb to the width wb (the aspect ratio of the recess (hb / wb)) in the cross-sectional triangle of 97a is different from each other. In particular, as shown in FIG. 3, the second pattern portion group 46 of the embossing mold surface 30 has ten pattern portions 47, and as a result, the second inspection pattern portion group 96 includes 10 pattern portions 47. Concave portions 97a having different types of aspect ratios (hb / wb) are included. In addition, the maximum value of the ratio of the depth hb to the width wb in the cross-sectional triangle of the concave portion 97a included in the second inspection pattern portion group 96 is the aspect ratio of the concave portion having a triangular cross-section included in the concave / convex pattern 85. It is the same as the maximum value.

なお、第1の検査用パターン部群92に含まれた凹部93aのアスペクト比は、例えば、凹凸柄85の凹凸形状を構成する凹部のアスペクト比のうちの最大値の半分の値や、凹凸柄85の凹凸形状を構成する凹部のアスペクト比の略平均値等に設定することができる。また、第2の検査用パターン部群96に含まれた凹部97aの深さは、例えば、凹凸柄85の凹凸形状を構成する凹部の深さのうちの最大値の半分の値や、凹凸柄85の凹凸形状を構成する凹部の深さの略平均値等に設定することができる。   The aspect ratio of the concave portion 93a included in the first inspection pattern portion group 92 is, for example, a half value of the maximum value of the aspect ratio of the concave portion constituting the concave / convex shape of the concave / convex pattern 85, or the concave / convex pattern. It can be set to a substantially average value or the like of the aspect ratio of the concave portions constituting the concave / convex shape of 85. In addition, the depth of the concave portion 97a included in the second inspection pattern portion group 96 is, for example, a value that is half of the maximum value of the depth of the concave portion constituting the concave / convex shape of the concave / convex pattern 85, or the concave / convex pattern. It can be set to a substantially average value or the like of the depths of the recesses constituting the 85 uneven shape.

転写されるべき凹凸形状の凹部の深さhbおよび凹部のアスペクト比(hb/wb)は、原反70への凹凸形状の転写効率に対して重大な影響を与え得る二つのパラメータである。そして、検査用凹凸パターン90は、凹凸柄85の凹凸形状に含まれ得る種々の深さおよびアスペクト比を含んだ凹凸形状を有している。すなわち、凹凸パターン40によって原反70に形成された検査用凹凸パターン90は、凹凸部35によって原反70に形成された凹凸柄85の凹凸形状と、非常に関連性の高い凹凸形状を有している。そして、凹凸パターン40が検査用凹凸パターン90として原反70に転写される際の転写効率は、凹凸部35が凹凸柄85として原反70に転写される際の転写効率と強い相関性を有するようになる。このため、凹凸パターン40によって原反70に形成される検査用凹凸パターン90を検査することにより、凹凸部35によって原反70に形成され複雑な凹凸形状を有する凹凸柄85の凹凸形状を精度良く確認することが可能となる。   The depth hb of the concave and convex portions to be transferred and the aspect ratio (hb / wb) of the concave portions are two parameters that can have a significant influence on the transfer efficiency of the concave and convex shapes to the original fabric 70. The inspection concave / convex pattern 90 has an uneven shape including various depths and aspect ratios that can be included in the uneven shape of the uneven pattern 85. That is, the inspection concave / convex pattern 90 formed on the raw fabric 70 by the concave / convex pattern 40 has a concave / convex shape very highly related to the concave / convex shape of the concave / convex pattern 85 formed on the raw fabric 70 by the concave / convex portion 35. ing. The transfer efficiency when the concavo-convex pattern 40 is transferred as the inspection concavo-convex pattern 90 to the original fabric 70 has a strong correlation with the transfer efficiency when the concavo-convex portion 35 is transferred as the concavo-convex pattern 85 to the original fabric 70. It becomes like this. Therefore, by inspecting the inspection concavo-convex pattern 90 formed on the original fabric 70 by the concavo-convex pattern 40, the concavo-convex shape of the concavo-convex pattern 85 formed on the original fabric 70 by the concavo-convex portion 35 and having a complicated concavo-convex shape can be accurately obtained. It becomes possible to confirm.

なお、原反70に形成される凹凸形状の種々の点について詳細に説明してきたが、上述した形状に関する種々の点、例えば、凹部の断面形状(三角形状等)、凹部の深さ、凹部のアスペクト比等は、必ずしも厳密性を要するものではなく、おおよそのものとして考えれば十分である。例えば、加工誤差等に起因した上述の説明からのずれ等を当然に無視してもよい。   In addition, although the various points of the uneven | corrugated shape formed in the original fabric 70 have been demonstrated in detail, various points regarding the above-described shape, for example, the cross-sectional shape of the recess (such as a triangular shape), the depth of the recess, The aspect ratio and the like do not necessarily require strictness, but it is sufficient to consider them as approximate ones. For example, a deviation from the above description due to a processing error or the like may be ignored.

また、図2に示すように、エンボス型面30上において凹凸パターン40に対して所定の位置に位置決めされて形成された見当マーク部37によって、加工品80には、検査用凹凸パターン90の位置を特定するための見当マーク87が転写されている。見当マーク87は、第1の検査用パターン部群92に含まれる複数の検査用パターン部93および第2の検査用パターン部群96に含まれる複数の検査用パターン部97と、原反70上の他方向(原反の長手方向)に並べて配列されている。この見当マーク87により、第1の検査用パターン部群92に含まれる複数の検査用パターン部93および第2の検査用パターン部群96に含まれる複数の検査用パターン部97の位置を特定しやすくすることができる。これにより、検査用凹凸パターン90の取り扱いを容易にすることができる。   In addition, as shown in FIG. 2, the registration mark portion 37 formed at a predetermined position with respect to the concavo-convex pattern 40 on the embossed mold surface 30 causes the processed product 80 to have a position of the concavo-convex pattern 90 for inspection. A registration mark 87 for identifying the image is transferred. The registration mark 87 includes a plurality of inspection pattern portions 93 included in the first inspection pattern portion group 92 and a plurality of inspection pattern portions 97 included in the second inspection pattern portion group 96, and the original fabric 70. Are arranged side by side in the other direction (longitudinal direction of the original fabric). The registration marks 87 identify the positions of the plurality of inspection pattern portions 93 included in the first inspection pattern portion group 92 and the plurality of inspection pattern portions 97 included in the second inspection pattern portion group 96. It can be made easier. Thereby, handling of the inspection uneven pattern 90 can be facilitated.

次に、上述した構成のエンボス装置10を用いて原反70に凹凸柄85を形成し、加工品80を製造する方法の一例について説明する。   Next, an example of a method for manufacturing the processed product 80 by forming the uneven pattern 85 on the original fabric 70 using the embossing device 10 having the above-described configuration will be described.

まず、検査用凹凸パターン90の良否の判定基準を設定する工程が実施される。この工程では、エンボスロール20およびバックアップロール13を空運転させる予備空運転工程と、原反70に凹凸形状を形成する試験エンボス加工工程と、検査用凹凸パターン90の良否の判定基準を決定する判定基準決定工程と、が順に行われていく。   First, a step of setting a quality criterion for the inspection uneven pattern 90 is performed. In this process, a preliminary idle operation process in which the embossing roll 20 and the backup roll 13 are idly operated, a test embossing process in which a concavo-convex shape is formed on the original fabric 70, and a determination for determining a quality criterion for the inspection concavo-convex pattern 90 The standard determination process is sequentially performed.

このうち、予備空運転工程では、図9に示すようにして、エンボスロール20およびバックアップロール13が空運転させられる。ここで、「空運転(空転)」とは、エンボスロール20およびバックアップロール13との間に原反70が供給されることなく、エンボスロール20およびバックアップロール13が回転させられることである。この空運転中、エンボスロール20のエンボス型面30がバックアップロール13の外周面に当接し、エンボス型面30の凹凸形状の凸部がバックアップロール13の外周面を押圧するようになる。このとき、エンボスロール20およびバックアップロール13の位置関係は、原反70に対して実際にエンボス加工を行う場合と概ね同様の条件に設定されていることが好ましい。   Of these, in the preliminary idle operation step, the embossing roll 20 and the backup roll 13 are idled as shown in FIG. Here, “idle operation (idling)” means that the embossing roll 20 and the backup roll 13 are rotated without the raw fabric 70 being supplied between the embossing roll 20 and the backup roll 13. During the idling operation, the embossing mold surface 30 of the embossing roll 20 comes into contact with the outer peripheral surface of the backup roll 13, and the uneven convex portion of the embossing mold surface 30 presses the outer peripheral surface of the backup roll 13. At this time, it is preferable that the positional relationship between the embossing roll 20 and the backup roll 13 is set to substantially the same conditions as when embossing is actually performed on the original fabric 70.

上述したように、バックアップロール13の表面層は変形可能に構成され、かつ、変形状態を少なくとも一定期間維持し得るように構成されている。このため、この予備空運転工程では、エンボス型面30の凹凸部35の凹凸形状および凹凸パターン40の凹凸形状が、バックアップロール13の表面層(外周面)へしだいに転写されていく。そして、この工程は、バックアップロール13の表面層の変形が概ね飽和し、バックアップロール13の表面層が略一定の形状を保つようになるまで実施される。   As described above, the surface layer of the backup roll 13 is configured to be deformable and configured to maintain the deformed state for at least a certain period. For this reason, in this preliminary idle operation step, the uneven shape of the uneven portion 35 of the emboss mold surface 30 and the uneven shape of the uneven pattern 40 are gradually transferred to the surface layer (outer peripheral surface) of the backup roll 13. This process is performed until the deformation of the surface layer of the backup roll 13 is substantially saturated and the surface layer of the backup roll 13 maintains a substantially constant shape.

次に、試験エンボス加工工程について説明する。この工程では、図10に示すように、エンボスロール20およびバックアップロール13を回転させたままの状態で、原反70が、エンボスロール20およびバックアップロール13との間に原反供給装置(図示せず)から供給される。この結果、エンボス型面30の凹凸部35に対応した凹凸柄85が原反70に形成されるとともに、エンボス型面30の凹凸パターン40に対応した検査用凹凸パターン90が原反70に形成され、試験加工品81が形成されていく。   Next, the test embossing process will be described. In this step, as shown in FIG. 10, the original fabric 70 is placed between the embossing roll 20 and the backup roll 13 while the embossing roll 20 and the backup roll 13 are rotated. )). As a result, a concavo-convex pattern 85 corresponding to the concavo-convex portion 35 of the embossing mold surface 30 is formed on the original fabric 70, and an inspection concavo-convex pattern 90 corresponding to the concavo-convex pattern 40 of the embossing mold surface 30 is formed on the original fabric 70. Then, the test processed product 81 is formed.

なお、この試験エンボス工程中、エンボスロール20およびバックアップロール13の下流側に配置されたセンサ15によって、連続的に製造されていく試験加工品81の検査用凹凸パターン90の凹凸の度合いに関する情報が収集されていく。上述したように、センサ15は非接触式の光沢度計として構成されている。したがって、エンボス装置10による原反70への連続的な加工を中断させることなく、検査用凹凸パターン90の情報を収集することができる。とりわけ、センサ15は光沢度計であって、試験加工品81の検査用凹凸パターン90の部分における光沢度を瞬時に測定することができる。したがって、検査用凹凸パターン90の情報を連続的に収集することができ、これにより、第1の検査用パターン部群92および第2の検査用パターン部群96に含まれ、順次形成されていく各検査用パターン部93,97の情報を採取していくことができる。また、見当マーク87が原反70に設けられていることから、センサ15によって得られた測定結果が、どの検査用パターン部93,97に対応しているかを、正確に特定することも可能である。   During the test embossing process, information on the degree of unevenness of the inspection unevenness pattern 90 of the test workpiece 81 continuously manufactured by the sensor 15 disposed downstream of the embossing roll 20 and the backup roll 13 is provided. It will be collected. As described above, the sensor 15 is configured as a non-contact type gloss meter. Therefore, it is possible to collect information on the inspection concave / convex pattern 90 without interrupting continuous processing of the original fabric 70 by the embossing device 10. In particular, the sensor 15 is a gloss meter, and can instantaneously measure the gloss level of the test unevenness portion 90 of the test workpiece 81. Therefore, the information of the inspection uneven pattern 90 can be continuously collected, and thereby included in the first inspection pattern portion group 92 and the second inspection pattern portion group 96 and sequentially formed. Information on each of the inspection pattern portions 93 and 97 can be collected. In addition, since the register mark 87 is provided on the original fabric 70, it is also possible to accurately identify which inspection pattern portions 93 and 97 the measurement result obtained by the sensor 15 corresponds to. is there.

ところで、試験エンボス加工工程では、エンボスロール20およびバックアップロール13の間にある程度の厚みを有した原反70が位置している。したがって、バックアップロール13の外周面(表面層)にエンボスロール20のエンボス型面30から試験エンボス工程中に付加される圧力は、空運転工程よりも、平均化されている。このため、試験エンボス加工工程が進行していくにつれて、空運転工程中にバックアップロール13の外周面(表面層)に形成されたエンボス型面30の凹凸形状に対応した凹凸形状は、しだいに平坦化されてなだらかになっていく。また、メス型として機能するバックアップロール13の外周面の凹凸形状の平坦化にともなって、エンボス型面30の凹凸部35および凹凸パターン40を精度よく原反70に転写していくことができなくなる。すなわち、試験エンボス加工工程の進行にともない、原反70に形成された凹凸柄85の凹凸形状および検査用凹凸パターン90の凹凸形状はしだいに平坦化されていく。   By the way, in the test embossing process, an original fabric 70 having a certain thickness is located between the embossing roll 20 and the backup roll 13. Therefore, the pressure applied to the outer peripheral surface (surface layer) of the backup roll 13 from the embossing mold surface 30 of the embossing roll 20 during the test embossing process is averaged as compared with the idle operation process. For this reason, as the test embossing process proceeds, the uneven shape corresponding to the uneven shape of the embossing mold surface 30 formed on the outer peripheral surface (surface layer) of the backup roll 13 during the idling operation step is gradually flattened. It becomes gentle and becomes gentle. Further, along with the flattening of the concavo-convex shape of the outer peripheral surface of the backup roll 13 that functions as a female mold, the concavo-convex portion 35 and the concavo-convex pattern 40 of the embossed mold surface 30 cannot be accurately transferred to the original fabric 70. . That is, as the test embossing process proceeds, the uneven shape of the uneven pattern 85 and the uneven shape of the inspection uneven pattern 90 formed on the original fabric 70 are gradually flattened.

このためセンサ15によって測定される検査用凹凸パターン90の部分での光沢度の値も、試験エンボス加工工程の進行にともなって変化していく。具体的には、検査用凹凸パターン90の部分についてセンサ15によって測定される光沢度の値は、試験エンボス加工工程の進行にともなって、大きくなっていく。一例として、図11には、第1の検査用パターン部群92に含まれる各パターン部93での光沢度の測定値の変化を示す。   Therefore, the value of the glossiness at the portion of the inspection uneven pattern 90 measured by the sensor 15 also changes as the test embossing process proceeds. Specifically, the gloss value measured by the sensor 15 for the inspection uneven pattern 90 increases with the progress of the test embossing process. As an example, FIG. 11 shows changes in the measured value of the glossiness at each pattern portion 93 included in the first inspection pattern portion group 92.

次に、検査用凹凸パターン90の良否の判定基準を決定する工程について説明する。この工程では、製造された試験加工品81の凹凸柄85の凹凸形状を実際に検査する。上述したように、原反70に形成される凹凸柄85の凹凸形状は、試験エンボス加工工程の進行にともなって平坦化されていく。最終的には、加工品80の用途に応じて種々設定される規格を満足できない程度にまで、凹凸柄85の凹凸形状が平坦化されるようになる。ここでは、試験エンボス加工工程において原反70に作製されていった凹凸柄85を検査して、凹凸柄85が品質良の状態から品質不良に移行する部分を調査し、当該部分と同時期に形成された検査用凹凸パターン90の凹凸形状の状況を特定する。   Next, the process of determining the quality criteria for the inspection uneven pattern 90 will be described. In this step, the uneven shape of the uneven pattern 85 of the manufactured test work 81 is actually inspected. As described above, the concavo-convex shape of the concavo-convex pattern 85 formed on the original fabric 70 is flattened as the test embossing process proceeds. Eventually, the concavo-convex shape of the concavo-convex pattern 85 is flattened to such an extent that standards set in accordance with the application of the processed product 80 cannot be satisfied. Here, the concavo-convex pattern 85 produced on the original fabric 70 in the test embossing process is inspected, and a portion where the concavo-convex pattern 85 shifts from a good quality state to a poor quality is investigated. The state of the uneven shape of the formed inspection uneven pattern 90 is specified.

上述したように、凹凸形状の凹凸のギャップ(深さ、高さ)および凹凸のアスペクト比について、検査用凹凸パターン90は、凹凸柄85が有している範囲と同一範囲を有している。そして、そして、凹凸形状の転写効率は、転写されるべき凹凸形状の凹凸のギャップ(深さ、高さ)および凹凸のアスペクト比に大きく依存する。したがって、エンボス加工工程の進行にともなった検査用凹凸パターン90の平坦化の進行は、凹凸柄85の平坦化の進行と強い相関性を有して進む。また、上述したように、センサ15によって測定される光沢度は、粗さの程度(平坦化の程度)と強い相関性を有している(図8参照)。このため、エンボス加工工程の進行にともなった凹凸柄85の平坦化の進行と、エンボス加工工程の進行にともなった検査用凹凸パターン90の光沢度の変化と、の関係を調査しておけば、形成されていく検査用凹凸パターン90の光沢度を測定していくことにより、凹凸柄85の凹凸形状の平坦化の度合い(粗さの程度)を特定することができるようになる。   As described above, the inspection concave / convex pattern 90 has the same range as the concave / convex pattern 85 with respect to the concave / convex gap (depth, height) and concave / convex aspect ratio. The transfer efficiency of the concavo-convex shape greatly depends on the gap (depth, height) of the concavo-convex shape to be transferred and the aspect ratio of the concavo-convex shape. Therefore, the progress of the flattening of the inspection concave / convex pattern 90 accompanying the progress of the embossing process proceeds with a strong correlation with the progress of the flattening of the concave / convex pattern 85. Further, as described above, the gloss level measured by the sensor 15 has a strong correlation with the degree of roughness (the degree of flattening) (see FIG. 8). For this reason, if the relationship between the progress of flattening of the concavo-convex pattern 85 accompanying the progress of the embossing process and the change in the glossiness of the inspection concavo-convex pattern 90 accompanying the progress of the embossing process is investigated, By measuring the glossiness of the concavo-convex pattern for inspection 90 to be formed, it becomes possible to specify the degree of flatness (degree of roughness) of the concavo-convex shape of the concavo-convex pattern 85.

ここではさらに、凹凸柄85が要求されている品質基準を満たさなくなる際の検査用凹凸パターン90の光沢度の値を、凹凸柄85の検査を行う代わりに実施される検査用凹凸パターン90の検査における、検査用凹凸パターン90の良否の判定基準として決定する。一例として、エンボス加工工程を開始してから6時間以降に形成された凹凸柄85が品質不良となる場合に、仮に検査用凹凸パターン90の光沢度がエンボス加工工程の進行にともなって図11に示すように変化するならば、検査用凹凸パターン90の良否の判定基準として、エンボス加工工程を開始してから6時間後に形成された検査用凹凸パターン90の各検査用パターン部93a,97aの光沢度の値を、当該各検査用パターン部93a,97aに対する判定基準とすることができる。   Here, furthermore, the value of the glossiness of the inspection concave / convex pattern 90 when the concave / convex pattern 85 does not satisfy the required quality standard is used to inspect the inspection concave / convex pattern 90 that is performed instead of performing the inspection of the concave / convex pattern 85. Is determined as a criterion for the quality of the inspection uneven pattern 90. As an example, when the concavo-convex pattern 85 formed after 6 hours from the start of the embossing process becomes poor in quality, the glossiness of the concavo-convex pattern for inspection 90 is assumed to be as shown in FIG. 11 as the embossing process proceeds. If it changes as shown, the gloss of each inspection pattern portion 93a, 97a of the inspection uneven pattern 90 formed 6 hours after the start of the embossing process is used as a criterion for determining the quality of the inspection uneven pattern 90. The degree value can be used as a determination criterion for each of the inspection pattern portions 93a and 97a.

このようにして、所定の品質基準を満たさなくなる凹凸柄85と同時期に作製された検査用凹凸パターン90の光沢度が特定され、検査用凹凸パターン90の良否の判定基準として制御装置11に設定される。   In this way, the glossiness of the inspection concave / convex pattern 90 produced at the same time as the concave / convex pattern 85 that does not satisfy the predetermined quality standard is specified, and is set in the control device 11 as a criterion for determining whether the inspection concave / convex pattern 90 is good or bad. Is done.

以上のようにして、検査用凹凸パターン90の良否の判定基準が設定された後、エンボスロール20およびバックアップロール13を空運転させる第1空運転工程と、原反70に凹凸形状を形成する第1エンボス加工工程と、エンボスロール20およびバックアップロール13を空運転させる第2空運転工程と、が順に行われていく。   As described above, after the determination criteria for pass / fail of the inspection concave / convex pattern 90 is set, the first empty operation process in which the embossing roll 20 and the backup roll 13 are operated in an idle state, and the unevenness shape is formed on the original fabric 70. The first embossing process and the second idle operation process in which the embossing roll 20 and the backup roll 13 are idled are sequentially performed.

第1空運転工程では、エンボスロール20およびバックアップロール13が空運転させられ、エンボスロール20のエンボス型面30に形成された凹凸部35および凹凸パターン40に対応した凹凸形状が、バックアップロール13の外周面に再び形成される。具体的には、図9に示すように、エンボスロール20およびバックアップロール13との間に原反70が供給されることなく、エンボスロール20およびバックアップロール13が空運転させられる。したがって、エンボスロール20のエンボス型面30がバックアップロール13の外周面に当接し、エンボス型面30の凹凸形状の凸部がバックアップロール13の外周面を押圧するようになる。これにより、エンボス型面30の凹凸部35の凹凸形状および凹凸パターン40の凹凸形状が、バックアップロール13の表面層(外周面)へしだいに転写されていく。そして、この第1空運転工程は、バックアップロール13の表面層の変形が概ね飽和し、バックアップロール13の表面層が略一定の形状を維持し得るようになるまで実施される。   In the first idling operation step, the embossing roll 20 and the backup roll 13 are idling, and the irregular shape corresponding to the irregularities 35 and the irregular pattern 40 formed on the embossing mold surface 30 of the embossing roll 20 It is formed again on the outer peripheral surface. Specifically, as shown in FIG. 9, the embossing roll 20 and the backup roll 13 are idled without being supplied with the raw fabric 70 between the embossing roll 20 and the backup roll 13. Accordingly, the embossing mold surface 30 of the embossing roll 20 comes into contact with the outer peripheral surface of the backup roll 13, and the convex and concave portions of the embossing mold surface 30 press the outer peripheral surface of the backup roll 13. Thereby, the uneven shape of the uneven portion 35 of the emboss mold surface 30 and the uneven shape of the uneven pattern 40 are gradually transferred to the surface layer (outer peripheral surface) of the backup roll 13. And this 1st idle operation process is implemented until the deformation | transformation of the surface layer of the backup roll 13 becomes substantially saturated, and the surface layer of the backup roll 13 can maintain a substantially constant shape.

次に、第1エンボス加工工程では、図10に示すように、エンボスロール20およびバックアップロール13を回転させたままの状態で、原反供給装置(図示せず)から原反70をエンボスロール20およびバックアップロール13との間に供給する。この結果、エンボス型面30の凹凸部35に対応した凹凸柄85が原反70に形成されるとともに、エンボス型面30の凹凸パターン40に対応した検査用凹凸パターン90が原反70に形成され、加工品80が形成されていく。   Next, in the first embossing process, as shown in FIG. 10, the embossing roll 20 is removed from the original fabric supply device (not shown) while the embossing roll 20 and the backup roll 13 are rotated. And supplied to the backup roll 13. As a result, a concavo-convex pattern 85 corresponding to the concavo-convex portion 35 of the embossing mold surface 30 is formed on the original fabric 70, and an inspection concavo-convex pattern 90 corresponding to the concavo-convex pattern 40 of the embossing mold surface 30 is formed on the original fabric 70. The processed product 80 is formed.

なお、この試験エンボス工程中、エンボスロール20およびバックアップロール13の下流側に配置されたセンサ15によって、連続的に製造されていく加工品80の検査用凹凸パターン90が検査されていく。具体的には、センサ15を用いて、加工品80の検査用凹凸パターン90の部分での光沢度が測定されていく。上述したように、センサ15は非接触式の光沢度計として構成されている。したがって、エンボス装置10による原反70への連続的な加工を中断させることなく、検査用凹凸パターン90の情報を収集することができる。とりわけ、光沢度計からなるセンサ15によれば、検査用凹凸パターン90の情報を連続的に収集していくことができる。これにより、第1の検査用パターン部群92および第2の検査用パターン部群96に含まれ、順次形成されていく各検査用パターン部93,97の情報を連続的に採取していくことができる。また、見当マーク87が原反70に設けられていることから、センサ15によって得られた測定結果が、どの検査用パターン部93,97に対応しているかを、正確に特定することができる。   During the test embossing process, the inspection concave / convex pattern 90 of the workpiece 80 continuously manufactured is inspected by the sensor 15 disposed on the downstream side of the embossing roll 20 and the backup roll 13. Specifically, using the sensor 15, the glossiness at the portion of the inspection uneven pattern 90 of the processed product 80 is measured. As described above, the sensor 15 is configured as a non-contact type gloss meter. Therefore, it is possible to collect information on the inspection concave / convex pattern 90 without interrupting continuous processing of the original fabric 70 by the embossing device 10. In particular, according to the sensor 15 comprising a gloss meter, information on the inspection uneven pattern 90 can be continuously collected. As a result, information of each of the inspection pattern portions 93 and 97 included in the first inspection pattern portion group 92 and the second inspection pattern portion group 96 and sequentially formed is continuously collected. Can do. Further, since the register mark 87 is provided on the original fabric 70, it is possible to accurately identify which inspection pattern portions 93 and 97 the measurement result obtained by the sensor 15 corresponds to.

光沢度の測定値はセンサ15から制御装置11に送信される。上述したように、光沢度の測定値は、エンボス加工工程の進行にともなって変化し、しだいに大きくなっていく。制御装置11は、測定された光沢度の値を、予め設定された検査用凹凸パターン90の良否の判定基準の値と比較する。制御装置11は、判定基準が検査用凹凸パターン90の許容最大値として設定されている場合には、順次測定されていく検査用凹凸パターン90の光沢度の値が判定基準を超えているか否かを判断する。そして、検査用凹凸パターン90の光沢度の値が判定基準を超えていると判断した場合には、第1エンボス加工工程を終了する。同様に、制御装置11は、判定基準が検査用凹凸パターン90の許容外最小値として設定されている場合には、順次測定されていく検査用凹凸パターン90の光沢度の値が判定基準以上であるか否かを判断する。そして、検査用凹凸パターン90の光沢度の値が判定基準以上であると判断した場合には、第1エンボス加工工程を終了する。   The measured value of the glossiness is transmitted from the sensor 15 to the control device 11. As described above, the measured value of the glossiness changes with the progress of the embossing process and gradually increases. The control device 11 compares the measured glossiness value with a predetermined criterion value for the quality of the inspection uneven pattern 90. When the determination criterion is set as the allowable maximum value of the inspection concave / convex pattern 90, the control device 11 determines whether the gloss value of the inspection concave / convex pattern 90 that is sequentially measured exceeds the determination criterion. Judging. When it is determined that the gloss value of the inspection uneven pattern 90 exceeds the determination criterion, the first embossing process is terminated. Similarly, when the determination criterion is set as an unacceptable minimum value of the inspection concave / convex pattern 90, the controller 11 determines that the gloss value of the inspection concave / convex pattern 90 that is sequentially measured is equal to or greater than the determination criterion. Judge whether there is. When it is determined that the gloss value of the inspection uneven pattern 90 is greater than or equal to the criterion, the first embossing process is terminated.

すなわち、検査用凹凸パターン90の凹凸形状の状態を検査することにより、加工品80の凹凸柄85が品質基準を満たさない程度にまで平坦化されているか否かを判断する。そして、加工品80の凹凸柄85が品質基準を満たさないと考えられる場合、言い換えると、メス型として機能するバックアップロール13の外周面の凹凸形状が平坦化し過ぎていると考えられる場合には、第1エンボス加工工程が終了し、第2空運転工程が開始される。   In other words, by inspecting the state of the concavo-convex shape of the inspection concavo-convex pattern 90, it is determined whether or not the concavo-convex pattern 85 of the processed product 80 has been flattened to an extent that does not satisfy the quality standard. And, when it is considered that the uneven pattern 85 of the processed product 80 does not satisfy the quality standard, in other words, when the uneven shape of the outer peripheral surface of the backup roll 13 functioning as a female mold is considered to be too flat, The first embossing process is finished, and the second idling process is started.

第2空運転工程では、エンボスロール20およびバックアップロール13が空運転させられ、バックアップロール13の外周面(表面層)へ再びメス型の型入れが行われる。すなわち、エンボスロール20のエンボス型面30に形成された凹凸部35および凹凸パターン40に対応した凹凸形状が、バックアップロール13の外周面に再び形成される。この工程は、バックアップロール13の表面層の変形が概ね飽和し、バックアップロール13の表面層が概ね一定の形状を維持し得るようになるまで実施される。   In the second idling operation step, the embossing roll 20 and the backup roll 13 are idly operated, and a female mold is put into the outer peripheral surface (surface layer) of the backup roll 13 again. That is, the concavo-convex shape corresponding to the concavo-convex portion 35 and the concavo-convex pattern 40 formed on the embossing mold surface 30 of the embossing roll 20 is formed again on the outer peripheral surface of the backup roll 13. This step is performed until the deformation of the surface layer of the backup roll 13 is substantially saturated and the surface layer of the backup roll 13 can maintain a substantially constant shape.

その後、上述した方法と同様の方法で第2エンボス加工工程および第3空運転工程、並びに、任意でさらなるエンボス加工工程および空運転工程が実施される。以降のエンボス加工工程中、上述した第1エンボス加工工程と同様に、原反70に形成されていく検査用凹凸パターン90が検査される。検査用凹凸パターン90の検査結果が不良と判定された場合、当該エンボス加工工程が終了する。そして、空運転工程が実施され、エンボス型面30の凹凸形状に対応した凹凸形状がバックアップロール13の外周面(表面層)へ再び形成されていく。   Thereafter, a second embossing step and a third idle operation step, and optionally a further embossing step and an idle operation step are performed in the same manner as described above. During the subsequent embossing process, the inspection concave / convex pattern 90 formed on the original fabric 70 is inspected in the same manner as the first embossing process described above. When it is determined that the inspection result of the inspection uneven pattern 90 is defective, the embossing process ends. Then, the idle operation step is performed, and the uneven shape corresponding to the uneven shape of the embossed mold surface 30 is formed again on the outer peripheral surface (surface layer) of the backup roll 13.

以上のような本実施の形態によれば、エンボス加工時間の経過にともなった凹凸柄85の凹凸形状の変化と、検査用凹凸パターン90の凹凸形状の変化と、の関連性を予め調査しておく。そして、この調査結果に基づき、検査用凹凸パターン90の凹凸形状を検査することによって、凹凸柄85の凹凸形状を確認することが可能となる。これにより、原反70に形成されていく検査用凹凸パターン90を検査することにより、凹凸柄85の平坦化の原因となるバックアップロール13に形成された凹凸形状の平坦化の進行を、確認することができる。すなわち、複雑な凹凸形状を有することがあり、その検査が極めて煩雑で長時間を要するようになり得る凹凸柄85の検査を行うことなく、バックアップロール13の平坦化を確認することができる。また、検査用凹凸パターン90の凹凸形状は、原反70に形成される凹凸柄85とは異なり、単純化されたパターンとすることができる。したがって、検査用凹凸パターン90の検査、および、これにともなってバックアップロール13に形成された凹凸形状の検査を、精度良く容易に行うことが可能となる。これにより、バックアップロール13への型入れが必要な状況を正確に検出し、不必要なエンボス装置10の稼働停止を回避することができる。したがって、エンボス装置10を高い稼働率で稼働させて、優れた加工効率で原反70にエンボス加工を施していくことができる。また、所望の凹凸形状を有する凹凸柄85が形成された加工品80を安定して製造することができる。   According to the present embodiment as described above, the relationship between the change in the concavo-convex shape of the concavo-convex pattern 85 with the passage of the embossing time and the change in the concavo-convex shape of the test concavo-convex pattern 90 is investigated in advance. deep. And based on this investigation result, it becomes possible to confirm the uneven shape of the uneven pattern 85 by inspecting the uneven shape of the inspection uneven pattern 90. Thereby, by inspecting the inspection concave / convex pattern 90 formed on the original fabric 70, the progress of the flattening of the concave / convex shape formed on the backup roll 13 that causes the flattening of the concave / convex pattern 85 is confirmed. be able to. That is, the flatness of the backup roll 13 can be confirmed without inspecting the uneven pattern 85 that may have a complicated uneven shape and the inspection is extremely complicated and may take a long time. Further, unlike the concave / convex pattern 85 formed on the original fabric 70, the concave / convex pattern of the inspection concave / convex pattern 90 can be a simplified pattern. Therefore, the inspection of the inspection uneven pattern 90 and the inspection of the uneven shape formed on the backup roll 13 can be performed easily with high accuracy. As a result, it is possible to accurately detect the situation that requires the insertion into the backup roll 13 and to avoid unnecessary operation stop of the embossing device 10. Therefore, the embossing device 10 can be operated at a high operation rate, and the original fabric 70 can be embossed with excellent processing efficiency. Moreover, the processed product 80 in which the uneven pattern 85 having a desired uneven shape is formed can be stably manufactured.

また、本実施の形態によれば、検査用凹凸パターン90の検査は非接触で行われる。したがって、検査用凹凸パターン90を検査するためにエンボス装置10を停止させる必要がない。さらには、インラインで検査用凹凸パターン90を検査し、バックアップロール13に形成された凹凸形状の平坦化を確認することができる。これにより、エンボス装置10を極めて高い稼働率で稼働させて、極めて優れた加工効率で原反70にエンボス加工を施していくことができる。   Further, according to the present embodiment, the inspection concave / convex pattern 90 is inspected in a non-contact manner. Therefore, it is not necessary to stop the embossing device 10 in order to inspect the inspection uneven pattern 90. Furthermore, the inspection uneven pattern 90 can be inspected in-line to confirm the flattening of the uneven shape formed on the backup roll 13. Thereby, the embossing apparatus 10 can be operated at a very high operation rate, and the original fabric 70 can be embossed with extremely excellent processing efficiency.

さらに、本実施の形態によれば、光沢度計により検査用凹凸パターン90の光沢度を非接触で検査して、バックアップロール13に形成された凹凸形状の平坦化の有無を確認するようになっている。このような方法によれば、帯状に延びる原反70に順次形成されていく検査用凹凸パターン90を、連続的に検査していくことができる。これにより、バックアップロール13に形成された凹凸形状の変化を連続的に確認することができる。このため、バックアップロール13への型入れが必要な場合を極めて正確に検出し、エンボス装置10を極めて高い稼働率で稼働させることができる。   Furthermore, according to the present embodiment, the glossiness of the inspection concave / convex pattern 90 is inspected in a non-contact manner with a gloss meter, and the presence / absence of flattening of the concave / convex shape formed on the backup roll 13 is confirmed. ing. According to such a method, it is possible to continuously inspect the inspection concave / convex pattern 90 which is sequentially formed on the original fabric 70 extending in a strip shape. Thereby, the change of the uneven | corrugated shape formed in the backup roll 13 can be confirmed continuously. For this reason, it is possible to detect the case where it is necessary to mold into the backup roll 13 very accurately, and to operate the embossing device 10 at an extremely high operation rate.

さらに、本実施の形態において、エンボス型面30の凹凸パターン40は、エンボスロール20の円周方向に沿って並べて配置された複数の凸部43a,47aを有している。また、凸部43a,47aは、エンボスロール20の回転軸線L1に直交する断面において三角形状を有している。さらに、凸部43a,47aは、エンボスロール20の回転軸線L1に沿って延びている。これらのような凸部43a,47aを有する凹凸パターン40によって原反70に形成される検査用凹凸パターン90は、極めて単純化された凹凸形状を有するようになる。したがって、原反70に形成された検査用凹凸パターン90の凹凸形状の平坦化を、種々の方法により、容易かつ正確に確認することができる。これにより、バックアップロール13への型入れが必要な場合を極めて正確に検出し、エンボス装置10を極めて高い稼働率で稼働させることができる。   Further, in the present embodiment, the concave / convex pattern 40 of the embossing mold surface 30 has a plurality of convex portions 43 a and 47 a arranged side by side along the circumferential direction of the embossing roll 20. Further, the convex portions 43 a and 47 a have a triangular shape in a cross section orthogonal to the rotation axis L <b> 1 of the embossing roll 20. Further, the convex portions 43 a and 47 a extend along the rotation axis L <b> 1 of the embossing roll 20. The inspection concavo-convex pattern 90 formed on the original fabric 70 by the concavo-convex pattern 40 having the convex portions 43a and 47a has a very simplified concavo-convex shape. Therefore, the flattening of the uneven shape of the inspection uneven pattern 90 formed on the original fabric 70 can be easily and accurately confirmed by various methods. As a result, it is possible to detect the case where it is necessary to mold into the backup roll 13 very accurately, and to operate the embossing device 10 at an extremely high operation rate.

さらに、本実施の形態によれば、原反70に形成される検査用凹凸パターン90は、原反70に凹凸柄85として形成された種々のアスペクト比の凹凸形状ならびに原反70に凹凸柄85として形成された種々の深さの凹凸形状に対応した凹凸形状を含むようになる。凹凸形状のアスペクト比および凹凸形状の深さは、エンボス型面30の凹凸形状がどの程度の正確さで原反70に転写されるかを支配する最も重要な二つのパラメータとされている。したがって、検査用凹凸パターン90の凹凸形状を検査することにより、凹凸柄85が所望の凹凸形状を有しているか否かを極めて正確に判断することができる。これにより、バックアップロール13への型入れが必要な場合を極めて正確に検出し、エンボス装置10を極めて高い稼働率で稼働させることができる。   Furthermore, according to the present embodiment, the inspection concavo-convex pattern 90 formed on the original fabric 70 includes the concavo-convex shapes of various aspect ratios formed on the original fabric 70 as the concavo-convex pattern 85 and the concavo-convex pattern 85 on the original fabric 70. The concavo-convex shapes corresponding to the concavo-convex shapes of various depths formed as described above are included. The aspect ratio of the concavo-convex shape and the depth of the concavo-convex shape are the two most important parameters governing how accurately the concavo-convex shape of the embossed mold surface 30 is transferred to the original fabric 70. Therefore, by inspecting the concavo-convex shape of the inspection concavo-convex pattern 90, it can be determined very accurately whether the concavo-convex pattern 85 has a desired concavo-convex shape. As a result, it is possible to detect the case where it is necessary to mold into the backup roll 13 very accurately, and to operate the embossing device 10 at an extremely high operation rate.

なお、上述した実施の形態に関し、本発明の要旨の範囲内で種々の変更が可能である。   Various modifications can be made to the above-described embodiment within the scope of the present invention.

例えば、上述した実施の形態において、凹凸パターン40の第1のパターン部群42および第2のパターン部群46が、エンボス型面30上の一方向に沿って隣接して配置されている例を示したが、これに限られない。例えば、エンボス型面30上の一方向に沿って、第1群のパターン部群42および第2のパターン部群46の間に凹凸部35が配置されていてもよい。この場合、第1群のパターン部群42に対応して形成される第1の検査用パターン部群92と、第2のパターン部群46に対応して形成される第2の検査用パターン部群96と、が原反70上の一方向に沿って離間して配置されるようになる。   For example, in the embodiment described above, an example in which the first pattern portion group 42 and the second pattern portion group 46 of the concavo-convex pattern 40 are adjacently disposed along one direction on the embossing mold surface 30. Although shown, it is not limited to this. For example, the uneven portion 35 may be arranged between the first group of pattern portions 42 and the second pattern portion group 46 along one direction on the embossed mold surface 30. In this case, a first inspection pattern portion group 92 formed corresponding to the first pattern portion group 42 and a second inspection pattern portion formed corresponding to the second pattern portion group 46. The group 96 is arranged so as to be separated along one direction on the original fabric 70.

また、上述した実施の形態において、エンボス型面20の凹凸パターン40が、それぞれ複数のパターン部を有している第1群のパターン部42および第2のパターン部46を含んでいる例を示したが、これに限られない。   In the above-described embodiment, an example in which the uneven pattern 40 of the embossed mold surface 20 includes a first group of pattern portions 42 and a second pattern portion 46 each having a plurality of pattern portions is shown. However, it is not limited to this.

例えば、エンボス型面20の凹凸パターン40が、エンボス型面20の他方向(エンボスロール20の円周方向)に沿って一列に並べて配置された複数のパターン部のみからなるようにしてもよい。この例において、各パターン部は複数の凸部を含み、各パターン部内において前記複数の凸部は同一形状を有する一方で、異なるパターン部間において凸部が異なる形状を有するようにしてもよい。この場合、異なるパターン部に含まれる凸部間において、凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比(凸部のアスペクト比)が互いに同一であり、凸部の断面三角形における高さが互いに異なるようにしてもよい。あるいは、異なるパターン部に含まれる凸部間において、凸部の断面三角形における高さが互いに同一であり、凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比(凸部のアスペクト比)が互いに異なるようにしてもよい。   For example, the concavo-convex pattern 40 of the embossing mold surface 20 may be composed of only a plurality of pattern portions arranged in a line along the other direction of the embossing mold surface 20 (circumferential direction of the embossing roll 20). In this example, each pattern portion may include a plurality of convex portions, and the plurality of convex portions may have the same shape in each pattern portion, while the convex portions may have different shapes between different pattern portions. In this case, between the convex parts included in different pattern parts, the ratio of the height to the base length in the sectional triangle of the convex part (the aspect ratio of the convex part) is the same, and the height in the sectional triangle of the convex part May be different from each other. Alternatively, between the convex portions included in different pattern portions, the heights of the convex cross-section triangles are the same, and the ratio of the height to the base length in the convex cross-sectional triangle (the aspect ratio of the convex portions) is They may be different from each other.

このように凹凸パターンの変形例に対応して、原反70に形成される検査用凹凸パターン90は、原反70上の他方向(原反の長手方向)に沿って一列に並べて配置された複数の検査用パターン部のみからなるようになる。また、各検査用パターン部は複数の凹部を含み、各検査用パターン部内において複数の凹部は同一形状を有する一方で、異なるパターン部間において凸部が異なる形状を有するようにしてもよい。この場合、異なる検査用パターン部に含まれる凹部間において、凹部の断面三角形における幅に対する深さの比(凹部のアスペクト比)が互いに同一であり、凹部の断面三角形における深さが互いに異なるようにしてもよい。あるいは、異なる検査用パターン部に含まれる凹部間において、凹部の断面三角形における深さが互いに同一であり、凹部の断面三角形における幅に対する深さの比(凹部のアスペクト比)が互いに異なるようにしてもよい。   In this way, the inspection uneven pattern 90 formed on the original fabric 70 is arranged in a line along the other direction (the longitudinal direction of the original fabric) on the original fabric 70 in accordance with the modification of the uneven pattern. It consists of only a plurality of inspection pattern portions. Each inspection pattern portion may include a plurality of recesses, and the plurality of recesses in each inspection pattern portion may have the same shape, while the protrusions may have different shapes between different pattern portions. In this case, the ratio of the depth to the width in the cross-sectional triangle of the concave portion (the aspect ratio of the concave portion) is the same between the concave portions included in different inspection pattern portions, and the depth in the cross-sectional triangle of the concave portion is different from each other. May be. Alternatively, between the recesses included in different inspection pattern portions, the depths of the cross-sectional triangles of the recesses are the same, and the ratio of the depth to the width (the aspect ratio of the recesses) in the cross-sectional triangle of the recesses is different from each other. Also good.

このような変形例においても、加工品80の検査用凹凸パターン90の凹凸形状を検査することにより、加工品80の凹凸柄85が所望の凹凸形状を有しているか否かを極めて正確に判断することができる。これにより、バックアップロール13への型入れが必要な場合を極めて正確に検出し、エンボス装置10を極めて高い稼働率で稼働させることができる。   Even in such a modified example, it is very accurately determined whether or not the uneven pattern 85 of the processed product 80 has the desired uneven shape by inspecting the uneven shape of the inspection uneven pattern 90 of the processed product 80. can do. As a result, it is possible to detect the case where it is necessary to mold into the backup roll 13 very accurately, and to operate the embossing device 10 at an extremely high operation rate.

さらに、上述した実施の形態において、エンボス型面30の凹凸パターン部40が、互いに異なる凹凸形状を有した複数のパターン部43,47を有する例を示したが、これに限られない。エンボス型面30の凹凸パターン部40は、例えば、同一の形状の凸部を一定間隔で並べて構成されるようにしてもよい。この場合、原反70に形成される検査用凹凸パターン90は、同一の形状の凹部を一定間隔で並べてなる凹凸形状を有するようになる。   Furthermore, although the uneven pattern part 40 of the embossing type | mold surface 30 showed the example which has several pattern parts 43 and 47 which have mutually different uneven | corrugated shape in embodiment mentioned above, it is not restricted to this. The concavo-convex pattern portion 40 of the embossed mold surface 30 may be configured, for example, by arranging convex portions having the same shape at regular intervals. In this case, the inspection concave / convex pattern 90 formed on the original fabric 70 has a concave / convex shape in which concave portions having the same shape are arranged at regular intervals.

さらに、上述した実施の形態において、センサ15が、光沢度計として構成され検査用凹凸パターン90の光沢度を測定するように構成されている例を示したが、これに限られない。例えば、センサが、変位測定器、とりわけレーザ変位測定器として構成されていてもよい。変位測定器からなるセンサによれば、原反に形成された検査用凹凸パターンの凹凸形状を非接触で測定することにより、前記検査用凹凸パターンの検査を行うことができる。そして、制御装置11は、測定された凹凸形状が予め設定された程度を越えて平坦化している場合、あるいは、測定された凹凸形状が予め設定された程度以上に平坦化している場合に、検査用凹凸パターンを不良と判定することができる。   Further, in the above-described embodiment, the example in which the sensor 15 is configured as a gloss meter and configured to measure the gloss level of the inspection concave / convex pattern 90 has been described, but the present invention is not limited thereto. For example, the sensor may be configured as a displacement measuring device, in particular as a laser displacement measuring device. According to the sensor composed of the displacement measuring device, the inspection concave / convex pattern can be inspected by measuring the concave / convex shape of the inspection concave / convex pattern formed on the original fabric in a non-contact manner. The control device 11 performs inspection when the measured uneven shape is flattened beyond a preset level, or when the measured uneven shape is flattened beyond a preset level. The uneven pattern for use can be determined to be defective.

なお、変位測定器からなるセンサによっても、帯状に延びる原反70に連続的に形成されていく検査用凹凸パターン90を連続的に検査していくことができる。したがって、バックアップロール13に形成された凹凸形状の変化を連続的に確認することができる。これにより、バックアップロール13への型入れが必要な場合を極めて正確に検出し、エンボス装置10を極めて高い稼働率で稼働させることができる。   Note that the inspection concave / convex pattern 90 continuously formed on the original fabric 70 extending in a belt shape can also be inspected continuously by a sensor comprising a displacement measuring device. Therefore, it is possible to continuously check the change in the uneven shape formed on the backup roll 13. As a result, it is possible to detect the case where it is necessary to mold into the backup roll 13 very accurately, and to operate the embossing device 10 at an extremely high operation rate.

さらに、上述した実施の形態において説明した検査用凹凸パターンの良否の判定基準の設定方法は単なる例示にすぎず、他の方法で検査用凹凸パターンの良否の判定基準を設定するようにしてもよい。   Furthermore, the method for setting the quality determination criteria for the inspection concave / convex pattern described in the above embodiment is merely an example, and other methods may be used to set the quality determination criteria for the inspection concave / convex pattern. .

さらに、上述した実施の形態において、合成皮革用の離型紙を加工品80として製造する例を挙げたが、これに限られず、その他の用途に用いられる加工品80を製造することも当然に可能である。   Furthermore, in the above-described embodiment, an example in which a release paper for synthetic leather is manufactured as the processed product 80 has been described. However, the present invention is not limited thereto, and it is naturally possible to manufacture the processed product 80 used for other purposes. It is.

図1は、本発明による一実施の形態を説明するための図であり、エンボス装置およびエンボス装置による加工品の製造方法を示す斜視図である。FIG. 1 is a diagram for explaining an embodiment according to the present invention, and is a perspective view showing an embossing device and a method of manufacturing a processed product using the embossing device. 図2は、図1のエンボス装置を示す上面図である。FIG. 2 is a top view showing the embossing device of FIG. 図3は、図1のエンボス装置に組み込まれたエンボスロールの凹凸パターンを説明するための図である。FIG. 3 is a view for explaining an uneven pattern of an embossing roll incorporated in the embossing device of FIG. 図4は、図2のIV−IV線に沿った断面図である。4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV in FIG. 図5は、図2のV−V線に沿った断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line VV in FIG. 図6は、図1のエンボス装置に組み込まれたセンサの作用を説明するための図である。FIG. 6 is a diagram for explaining the operation of the sensor incorporated in the embossing device of FIG. 図7は、図1のエンボス装置に組み込まれたセンサの作用を説明するための図である。FIG. 7 is a diagram for explaining the operation of the sensor incorporated in the embossing device of FIG. 図8は、光沢度と表面粗さとの関係を示すグラフである。FIG. 8 is a graph showing the relationship between glossiness and surface roughness. 図9は、空運転工程を説明するための図である。FIG. 9 is a diagram for explaining the idling operation process. 図10は、エンボス加工工程を説明するための図である。FIG. 10 is a diagram for explaining the embossing process. 図11は、エンボス加工工程の経過にともなった検査用凹凸パターンの光沢度の変化を示すグラフである。FIG. 11 is a graph showing a change in the glossiness of the inspection unevenness pattern as the embossing process progresses.

符号の説明Explanation of symbols

10 エンボス装置
11 制御装置
13 バックアップロール
15 センサ
20 エンボスロール
30 エンボス型面
35 凹凸部
37 見当マーク部
39a,39b 印
40 凹凸パターン
42 第1のパターン部群
43 パターン部
43a 凸部
46 第2のパターン部群
47 パターン部
47a 凸部
70 原反
80 加工品
85 凹凸柄
87 見当マーク部
90 検査用凹凸パターン
92 第1の検査用パターン部群
93 検査用パターン部
93a 凹部
96 第2の検査用パターン部群
97 検査用パターン部
97a 凹部
L1 回転軸線
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Embossing apparatus 11 Control apparatus 13 Backup roll 15 Sensor 20 Embossing roll 30 Embossing type | mold surface 35 Uneven part 37 Register mark part 39a, 39b Mark 40 Uneven pattern 42 First pattern part group 43 Pattern part 43a Convex part 46 2nd pattern Part group 47 Pattern part 47a Convex part 70 Raw fabric 80 Work product 85 Concave pattern 87 Register mark part 90 Inspection concave / convex pattern 92 First inspection pattern part group 93 Inspection pattern part 93a Concave part 96 Second inspection pattern part Group 97 Pattern portion 97a for inspection Recess L1 Rotation axis

Claims (42)

原反に凹凸柄を形成するエンボス装置であって、
前記原反に対面するようになるエンボス型面を、有するエンボスロールと、
前記エンボスロールに対向して配置され、前記エンボスロールとの間で前記原反を圧するようになるバックアップロールと、
前記エンボスロールおよび前記バックアップロールの下流側に配置されたセンサと、
を備え、
前記エンボスロールのエンボス型面は、前記原反に形成すべき凹凸柄に対応した凹凸形状を有する凹凸部と、前記エンボスロールの回転軸線に沿って前記凹凸部からずれた位置に形成され、前記凹凸部とは異なる凹凸形状を有する凹凸パターンと、を有し、
前記センサは、前記凹凸パターンを転写されてなる原反のパターンに関する情報を非接触状態で測定する
ことを特徴とするエンボス装置。
An embossing device for forming an uneven pattern on a raw fabric,
An embossing roll having an embossing mold surface that comes to face the original fabric,
A backup roll that is arranged opposite to the embossing roll and that presses the original fabric with the embossing roll;
A sensor disposed downstream of the embossing roll and the backup roll;
With
The embossing type surface of the embossing roll is formed at a position displaced from the concavo-convex part along the rotational axis of the embossing roll, and an concavo-convex part having a concavo-convex shape corresponding to the concavo-convex pattern to be formed on the original fabric, possess a concavo-convex pattern having a different irregular shape and uneven portion,
The embossing apparatus , wherein the sensor measures in a non-contact state information on a pattern of the original fabric formed by transferring the uneven pattern .
前記センサは光沢度計である
ことを特徴とする請求項に記載のエンボス装置。
The embossing device according to claim 1 , wherein the sensor is a gloss meter.
前記センサは変位測定器である
ことを特徴とする請求項に記載のエンボス装置。
The embossing device according to claim 1 , wherein the sensor is a displacement measuring device.
前記センサに接続された制御装置であって、前記センサによる測定値に基づいて原反に形成された前記パターンを検査する制御装置を、さらに備え、
前記制御装置は、前記原反に形成された前記パターンが、予め設定された程度を越えて平坦化しているか否か、あるいは、予め設定された程度以上に平坦化しているか否か、を判定するようになっている
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のエンボス装置。
A control device connected to the sensor, further comprising a control device for inspecting the pattern formed on the original fabric based on a measurement value by the sensor;
The control device determines whether or not the pattern formed on the original fabric is flattened beyond a preset level, or whether or not the pattern is flattened beyond a preset level. The embossing device according to any one of claims 1 to 3 , wherein the embossing device is configured as described above.
前記エンボス型面の前記凹凸パターンは、前記エンボスロールの円周方向に沿って並べて配置された複数の凸部を有する
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載のエンボス装置。
The embossing device according to any one of claims 1 to 4 , wherein the uneven pattern on the embossed mold surface has a plurality of convex portions arranged side by side along a circumferential direction of the embossing roll. .
各凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面において三角形状である
ことを特徴とする請求項に記載のエンボス装置。
6. The embossing device according to claim 5 , wherein each convex portion has a triangular shape in a cross section orthogonal to the rotation axis of the embossing roll.
前記凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に沿って延びている
ことを特徴とする請求項5または6に記載のエンボス装置。
The embossing device according to claim 5 or 6 , wherein the convex part extends along a rotation axis of the embossing roll.
前記エンボス型面の前記凹凸パターンは、前記エンボスロールの円周方向に沿って並べて配置された複数のパターン部を有し、
各パターン部は複数の前記凸部を含み、各パターン部内において前記複数の凸部は同一形状を有し、
異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面における凸部の形状は互いに異なる
ことを特徴とする請求項5乃至7のいずれか一項に記載のエンボス装置。
The concavo-convex pattern of the embossing mold surface has a plurality of pattern portions arranged side by side along the circumferential direction of the embossing roll,
Each pattern portion includes a plurality of the convex portions, and within each pattern portion, the plurality of convex portions have the same shape,
The embossing device according to any one of claims 5 to 7 , wherein the shape of the convex portion in a cross section perpendicular to the rotation axis of the embossing roll is different between the convex portions included in different pattern portions.
各凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面において三角形状であり、
異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における高さは互いに異なる
ことを特徴とする請求項に記載のエンボス装置。
Each convex portion has a triangular shape in a cross section orthogonal to the rotation axis of the embossing roll,
The ratio of the height to the length of the base in the cross-sectional triangle of the convex part is the same between the convex parts included in different pattern parts, and the height in the cross-sectional triangle of the convex part is different from each other The embossing device according to claim 8 .
各凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面において三角形状であり、
異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における高さは互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに異なる
ことを特徴とする請求項に記載のエンボス装置。
Each convex portion has a triangular shape in a cross section orthogonal to the rotation axis of the embossing roll,
Between the convex parts included in different pattern parts, the heights of the cross-sectional triangles of the convex parts are the same, and the ratio of the height to the length of the base in the cross-sectional triangle of the convex parts is different from each other The embossing device according to claim 8 .
前記エンボス型面の前記凹凸パターンは、前記エンボスロールの円周方向に沿って並べて配置された複数のパターン部をそれぞれ含む第1のパターン部群および第2のパターン部群を有し、
前記第1のパターン部群および前記第2のパターン部群は、前記エンボスロールの回転軸線に沿って互いからずれた位置に配置され、
前記第1のパターン部群および前記第2のパターン部群に含まれる各パターン部は複数の前記凸部を含み、各パターン部内において前記複数の凸部は同一形状を有し、
各凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面において三角形状であり、
前記第1のパターン部群内の異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における高さは互いに異なり、
前記第2のパターン部群内の異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における高さは互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに異なる
ことを特徴とする請求項5乃至7のいずれか一項に記載のエンボス装置。
The concavo-convex pattern of the embossing mold surface has a first pattern portion group and a second pattern portion group each including a plurality of pattern portions arranged side by side along the circumferential direction of the embossing roll,
The first pattern portion group and the second pattern portion group are arranged at positions shifted from each other along the rotation axis of the embossing roll,
Each pattern part included in the first pattern part group and the second pattern part group includes a plurality of convex parts, and the plurality of convex parts have the same shape in each pattern part,
Each convex portion has a triangular shape in a cross section orthogonal to the rotation axis of the embossing roll,
Between the convex portions included in different pattern portions in the first pattern portion group, the ratio of the height to the base length in the cross-sectional triangle of the convex portion is the same, and the height in the cross-sectional triangle of the convex portion is the same. Are different from each other,
Between the convex portions included in different pattern portions in the second pattern portion group, the heights of the cross-sectional triangles of the convex portions are the same, and the height relative to the length of the base in the cross-sectional triangle of the convex portions is The embossing device according to any one of claims 5 to 7 , wherein the ratios are different from each other.
前記凹凸部は複数の凸部を有し、
前記凹凸パターンに含まれた前記凸部の高さの最大値は、前記凹凸部に含まれた前記凸部の高さの最大値と同一である
ことを特徴とする請求項9または11に記載のエンボス装置。
The uneven portion has a plurality of convex portions,
Maximum value of the height of the convex portion included in the convex-concave pattern, according to claim 9 or 11, characterized in that the same as the maximum height of the convex portion included in the convex-concave portion Embossing device.
前記凹凸部は、断面において三角形状となっている複数の凸部を有し、
前記凹凸パターンに含まれた前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比の最大値は、前記凹凸部に含まれた前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比の最大値と同一である
ことを特徴とする請求項10または11に記載のエンボス装置。
The concavo-convex portion has a plurality of convex portions that are triangular in cross section,
The maximum value of the ratio of the height to the base length in the cross-sectional triangle of the convex part included in the concave-convex pattern is the height of the base in the cross-sectional triangle of the convex part included in the concave-convex part. The embossing device according to claim 10 or 11 , wherein the embossing device is the same as a maximum value of the ratio.
各パターン部の近傍には、それぞれ、当該パターン部に含まれる凸部の特徴を示す印が付されている
ことを特徴とする請求項8乃至13のいずれか一項に記載のエンボス装置。
The embossing device according to any one of claims 8 to 13 , wherein a mark indicating a feature of a convex portion included in the pattern portion is attached in the vicinity of each pattern portion.
前記エンボス型面は、前記凹凸パターンの位置を特定するための見当マーク部をさらに有する
ことを特徴とする請求項1乃至14のいずれか一項に記載のエンボス装置。
The embossing device according to any one of claims 1 to 14 , wherein the embossed mold surface further includes a register mark portion for specifying a position of the uneven pattern.
原反に凹凸柄を形成するためのエンボス型面に、形成すべき前記凹凸柄に対応した凹凸形状を有する凹凸部とともに形成される凹凸パターンであって、
前記エンボス型面上の一方向に沿って前記凹凸部からずれた位置に形成され、前記凹凸部とは異なる凹凸形状を有し、
前記凹凸部によって前記原反に形成される凹凸柄を検査するために用いられる検査用凹凸パターンを、前記原反に形成するようになる
ことを特徴とする凹凸パターン。
An embossed pattern for forming a concavo-convex pattern on the original fabric, is a concavo-convex pattern formed together with a concavo-convex portion having a concavo-convex shape corresponding to the concavo-convex pattern to be formed,
It is formed at a position shifted from the concavo-convex portion along one direction on the embossed mold surface, and has a concavo-convex shape different from the concavo-convex portion,
An uneven pattern for inspection, which is used to inspect an uneven pattern formed on the original fabric by the uneven portion, is formed on the original fabric.
前記一方向と直交する前記エンボス型面上の他方向に沿って並べて配列され、前記凹凸部とは異なる前記凹凸形状を構成する複数の凸部を有する
ことを特徴とする請求項16に記載の凹凸パターン。
Are arranged side by side along the other direction on the embossed surface perpendicular to the one direction, of claim 16, characterized in that it comprises a plurality of convex portions that constitute the different the uneven shape to the concave-convex portion Uneven pattern.
各凸部は、前記エンボス型面上の前記一方向に直交する断面において三角形状である
ことを特徴とする請求項17に記載の凹凸パターン。
18. The uneven pattern according to claim 17 , wherein each convex portion has a triangular shape in a cross section orthogonal to the one direction on the embossed surface.
前記凸部は、前記エンボス型面上の前記一方向に沿って延びている
ことを特徴とする請求項17または18に記載の凹凸パターン。
The concavo-convex pattern according to claim 17 or 18 , wherein the convex part extends along the one direction on the embossed mold surface.
前記エンボス型面上の前記他方向に沿って並べて配置された複数のパターン部を有し、 各パターン部は複数の前記凸部を含み、各パターン部内において前記複数の凸部は同一形状を有し、
異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記エンボス型面上の前記一方向に直交する断面における凸部の形状は互いに異なる
ことを特徴とする請求項17乃至19のいずれか一項に記載の凹凸パターン。
A plurality of pattern portions arranged side by side along the other direction on the embossed mold surface, each pattern portion including a plurality of convex portions, and the plurality of convex portions within each pattern portion have the same shape; And
The shape of the convex part in the cross section orthogonal to the said one direction on the said embossing type | mold surface differs between the convex parts contained in a different pattern part, Each of Claim 17 thru | or 19 characterized by the above-mentioned. Uneven pattern.
各凸部は、前記エンボス型面上の前記一方向に直交する断面において三角形状であり、 異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における高さは互いに異なる
ことを特徴とする請求項20に記載の凹凸パターン。
Each convex part has a triangular shape in a cross section orthogonal to the one direction on the embossed mold surface, and between the convex parts included in different pattern parts, the height of the base in the cross sectional triangle of the convex part is The concavo-convex pattern according to claim 20 , wherein the ratios are the same, and the heights of the convex portions in the cross-sectional triangle are different from each other.
各凸部は、前記エンボス型面上の前記一方向に直交する断面において三角形状であり、 異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における高さは互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに異なる
ことを特徴とする請求項20に記載の凹凸パターン。
Each convex portion has a triangular shape in a cross section orthogonal to the one direction on the embossed mold surface, and between the convex portions included in different pattern portions, the heights of the cross sectional triangles of the convex portions are the same. The concavo-convex pattern according to claim 20 , wherein the ratio of the height to the length of the base in the cross-sectional triangle of the convex portion is different from each other.
前記エンボス型面上の前記他方向に沿って並べて配置された複数のパターン部をそれぞれ含む第1のパターン部群および第2のパターン部群を有し、
前記第1のパターン部群および前記第2のパターン部群は、前記エンボス型面上の前記一方向に沿って互いからずれた位置に配置され、
前記第1のパターン部群および前記第2のパターン部群に含まれる各パターン部は複数の前記凸部を含み、各パターン部内において前記複数の凸部は同一形状を有し、
各凸部は、前記エンボス型面上の前記一方向に直交する断面において三角形状であり、 前記第1のパターン部群内の異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における高さは互いに異なり、
前記第2のパターン部群内の異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における高さは互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに異なる
ことを特徴とする請求項17乃至19のいずれか一項に記載の凹凸パターン。
A first pattern portion group and a second pattern portion group each including a plurality of pattern portions arranged side by side along the other direction on the embossed mold surface;
The first pattern portion group and the second pattern portion group are arranged at positions shifted from each other along the one direction on the embossed mold surface,
Each pattern part included in the first pattern part group and the second pattern part group includes a plurality of convex parts, and the plurality of convex parts have the same shape in each pattern part,
Each convex portion has a triangular shape in a cross section orthogonal to the one direction on the embossed mold surface, and a cross section triangle of the convex portion between the convex portions included in different pattern portions in the first pattern portion group. The ratio of the height to the length of the base at the same is the same, the height of the convex section in the cross-sectional triangle is different from each other,
Between the convex portions included in different pattern portions in the second pattern portion group, the heights of the cross-sectional triangles of the convex portions are the same, and the height relative to the length of the base in the cross-sectional triangle of the convex portions is The uneven pattern according to claim 17 , wherein the ratios are different from each other.
前記凹凸部は複数の凸部を有しており、
前記凹凸パターンに含まれた前記凸部の高さの最大値は、前記凹凸部に含まれた前記凸部の高さの最大値と同一である
ことを特徴とする請求項21または23に記載の凹凸パターン。
The concavo-convex part has a plurality of convex parts,
Maximum value of the height of the convex portion included in the convex-concave pattern, according to claim 21 or 23, characterized in that the same as the maximum height of the convex portion included in the convex-concave portion Concavo-convex pattern.
前記凹凸部は、断面において三角形状となっている複数の凸部を有しており、
前記凹凸パターンに含まれた前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比の最大値は、前記凹凸部に含まれた前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比の最大値と同一である
ことを特徴とする請求項22または23に記載の凹凸パターン。
The concavo-convex portion has a plurality of convex portions that are triangular in cross section,
The maximum value of the ratio of the height to the base length in the cross-sectional triangle of the convex part included in the concave-convex pattern is the height of the base in the cross-sectional triangle of the convex part included in the concave-convex part. The concavo-convex pattern according to claim 22 , wherein the concavo-convex pattern is the same as a maximum value of the ratio.
エンボス加工を施された加工品であって、
エンボス加工によって凹凸形状を転写された原反を備え、
前記原反は、エンボス加工によって形成された凹凸柄と、前記原反上の一方向に沿って前記凹凸柄からずれた位置に配置され、エンボス加工によって形成された検査用凹凸パターンと、を有し、
前記検査用凹凸パターンは、前記凹凸柄とは異なる凹凸形状を有し、
前記検査用凹凸パターンは、エンボス加工によって形成された前記凹凸柄を検査するために用いられる
ことを特徴とする加工品。
An embossed processed product,
Equipped with a raw material with concavo-convex shape transferred by embossing,
The original fabric has a concavo-convex pattern formed by embossing and an inspection concavo-convex pattern formed by embossing that is disposed at a position displaced from the concavo-convex pattern along one direction on the original fabric. And
The inspection uneven pattern has an uneven shape different from the uneven pattern,
The inspected uneven pattern is used for inspecting the uneven pattern formed by embossing.
前記検査用凹凸パターンは、前記一方向と直交する前記原反上の他方向に沿って並べて配列された複数の凹部であって、前記凹凸部とは異なる前記凹凸形状を構成する複数の凹部を、有する
ことを特徴とする請求項26に記載の加工品。
The inspection concavo-convex pattern is a plurality of concave portions arranged side by side along the other direction on the raw material orthogonal to the one direction, and a plurality of concave portions constituting the concavo-convex shape different from the concavo-convex portion. 27. The processed product according to claim 26 , comprising:
各凹部は、前記原反上の前記一方向に直交する断面において三角形状のへこみとなっている
ことを特徴とする請求項27に記載の加工品。
28. The processed product according to claim 27 , wherein each recess has a triangular recess in a cross section orthogonal to the one direction on the original fabric.
前記凹部は、前記原反上の前記一方向に沿って溝状に延びている
ことを特徴とする請求項27または28に記載の加工品。
29. The processed product according to claim 27 or 28 , wherein the concave portion extends in a groove shape along the one direction on the original fabric.
前記検査用凹凸パターンは、前記原反上の前記他方向に沿って並べて配置された複数の検査用パターン部を有し、
各検査用パターン部は複数の前記凹部を含み、各検査用パターン部内において前記複数の凹部は同一形状を有し、
異なる検査用パターン部に含まれる凹部間において、前記原反上の前記一方向に直交する断面における凹部の形状は互いに異なる
ことを特徴とする請求項27乃至29のいずれか一項に記載の加工品。
The concavo-convex pattern for inspection has a plurality of inspection pattern portions arranged side by side along the other direction on the original fabric,
Each inspection pattern portion includes a plurality of the recesses, and the plurality of recesses have the same shape in each inspection pattern portion,
The processing according to any one of claims 27 to 29 , wherein the shape of the recesses in the cross section perpendicular to the one direction on the original fabric is different between the recesses included in different inspection pattern portions. Goods.
各凹部は、前記原反上の前記一方向に直交する断面において三角形状のへこみとなっており、
異なる検査用パターン部に含まれる凹部間において、前記凹部の断面三角形における幅に対する深さの比は互いに同一であり、前記凹部の断面三角形における深さは互いに異なる
ことを特徴とする請求項30に記載の加工品。
Each recess has a triangular recess in a cross section perpendicular to the one direction on the original fabric,
Between recesses included in the inspection pattern portion different, the ratio of depth to width of triangular section of the recess are identical to each other, to claim 30, characterized in that the depth of the triangular section of the recess are different from each other The processed product described.
各凹部は、前記原反上の前記一方向に直交する断面において三角形状のへこみとなっており、
異なる検査用パターン部に含まれる凹部間において、前記凹部の断面三角形における深さは互いに同一であり、前記凹部の断面三角形における幅に対する深さの比は互いに異なる
ことを特徴とする請求項30に記載の加工品。
Each recess has a triangular recess in a cross section perpendicular to the one direction on the original fabric,
Between recesses included in the inspection pattern portion different depths in the triangular section of the recess are identical to each other, to claim 30 the ratio of depth to width of triangular cross section of the recess, wherein different from each other The processed product described.
前記検査用凹凸パターンは、前記原反上の前記他方向に沿って並べて配置された複数の検査用パターン部をそれぞれ含む第1の検査用パターン部群および第2の検査用パターン部群を有し、
前記第1の検査用パターン部群および前記第2の検査用パターン部群は、前記エンボス型面上の前記一方向に沿って互いからずれた位置に配置され、
前記第1の検査用パターン部群および前記第2の検査用パターン部群に含まれる各パターン部は複数の前記凹部を含み、各検査用パターン部内において前記複数の凹部は同一形状を有し、
各凹部は、前記原反上の前記一方向に直交する断面において三角形状のへこみとなっており、
前記第1の検査用パターン部群内の異なる検査用パターン部に含まれる凹部間において、前記凹部の断面三角形における幅に対する深さの比は互いに同一であり、前記凹部の断面三角形における深さは互いに異なり、
前記第2の検査用パターン部群内の異なる検査用パターン部に含まれる凹部間において、前記凹部の断面三角形における深さは互いに同一であり、前記凹部の断面三角形における幅に対する深さの比は互いに異なる
ことを特徴とする請求項27乃至29のいずれか一項に記載の加工品。
The inspection concavo-convex pattern has a first inspection pattern portion group and a second inspection pattern portion group each including a plurality of inspection pattern portions arranged side by side along the other direction on the original fabric. And
The first inspection pattern portion group and the second inspection pattern portion group are arranged at positions shifted from each other along the one direction on the embossing mold surface,
Each pattern portion included in the first inspection pattern portion group and the second inspection pattern portion group includes a plurality of recesses, and the plurality of recesses in each inspection pattern portion have the same shape,
Each recess has a triangular recess in a cross section perpendicular to the one direction on the original fabric,
Between the concave portions included in different test pattern portions in the first test pattern portion group, the ratio of the depth to the width in the cross-sectional triangle of the concave portion is the same, and the depth in the cross-sectional triangle of the concave portion is Different from each other
Between the concave portions included in different test pattern portions in the second test pattern portion group, the depths of the cross-sectional triangles of the concave portions are the same, and the ratio of the depth to the width of the cross-sectional triangle of the concave portions is 30. The processed product according to any one of claims 27 to 29 , which is different from each other.
前記凹凸柄は、その凹凸形状を構成する複数の凹部を有しており、
前記検査用凹凸パターンに含まれた前記凹部の深さの最大値は、前記凹凸柄に含まれた前記凹部の深さの最大値と同一である
ことを特徴とする請求項31または33に記載の加工品。
The concavo-convex pattern has a plurality of recesses constituting the concavo-convex shape,
Maximum depth of the recess included in the inspection uneven pattern according to claim 31 or 33, characterized in that is the same as the maximum depth of the recess included in the convex-concave pattern Processed products.
前記凹凸柄は、断面において三角形状となっている凹部を有しており、
前記検査用凹凸パターンに含まれた前記凹部の断面三角形における幅に対する深さの比の最大値は、前記凹凸柄に含まれた前記凹部の断面三角形における幅に対する深さの比の最大値と同一である
ことを特徴とする請求項32または33に記載の加工品。
The concavo-convex pattern has a concave portion that is triangular in cross section,
The maximum ratio of the depth to the width in the cross-sectional triangle of the concave portion included in the concave / convex pattern for inspection is the same as the maximum ratio of the depth to the width in the cross-sectional triangle of the concave portion included in the concave / convex pattern. The processed product according to claim 32 or 33 , wherein:
前記検査用凹凸パターンの位置を特定するための見当マークが設けられている
ことを特徴とする請求項26乃至35のいずれか一項に記載の加工品。
36. The processed product according to any one of claims 26 to 35 , wherein a registration mark for specifying a position of the inspection uneven pattern is provided.
請求項1乃至15のいずれか一項に記載されたエンボス装置を用いて原反に凹凸柄を形成し、加工品を製造する製造方法であって、
前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを空運転させ、前記エンボスロールのエンボス型面に形成された凹凸部および凹凸パターンに対応した凹凸形状を、前記バックアップロールの外周面に形成する第1空運転工程と、
前記第1空運転工程後に実施される工程であって、前記原反を間に挟んだ状態で前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを回転させ、前記凹凸部に対応した前記凹凸柄を前記原反に形成するとともに、前記凹凸パターンに対応した検査用凹凸パターンを前記原反に形成していく第1エンボス加工工程と、
前記第1エンボス加工工程後に実施される工程であって、前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを空運転させ、前記エンボス型面の凹凸部および凹凸パターンに対応した凹凸形状を、前記バックアップロールの外周面に再形成する第2空運転工程と、を備え、
前記第1エンボス加工工程中に、前記原反に形成されていく検査用凹凸パターンを検査し、検査結果が不良と判定された場合に、前記第1エンボス加工工程を終了して前記第2空運転工程を開始する
ことを特徴とする製造方法。
A manufacturing method for manufacturing a processed product by forming an uneven pattern on an original fabric using the embossing device according to any one of claims 1 to 15 ,
A first idle operation step of causing the embossing roll and the backup roll to run idle, and forming an uneven shape corresponding to the uneven portion and the uneven pattern formed on the embossing mold surface of the embossing roll on the outer peripheral surface of the backup roll; ,
The step performed after the first idle operation step, the embossing roll and the backup roll are rotated with the original fabric sandwiched therebetween, and the concave / convex pattern corresponding to the concave / convex portion is turned into the original fabric. A first embossing step of forming an inspection concavo-convex pattern corresponding to the concavo-convex pattern on the original fabric,
A step performed after the first embossing step, wherein the embossing roll and the backup roll are idled, and the concave and convex shape corresponding to the concave and convex portions and the concave and convex pattern of the embossing mold surface is formed on the outer peripheral surface of the backup roll. A second idle operation step to re-form
During the first embossing process, the inspection unevenness pattern formed on the original fabric is inspected, and when the inspection result is determined to be defective, the first embossing process is finished and the second embossing process is completed. A manufacturing method characterized by starting an operation process.
前記第2空運転工程後に実施される工程であって、前記原反を間に挟んだ状態で前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを回転させ、前記凹凸部に対応した前記凹凸柄を前記原反に形成するとともに、前記凹凸パターンに対応した前記検査用凹凸パターンを前記原反に形成していく第2エンボス加工工程と、
前記第2エンボス加工工程後に実施される工程であって、前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを空運転させ、前記エンボス型面の凹凸部および凹凸パターンに対応した凹凸形状を、前記バックアップロールの外周面に再形成する第3空運転工程と、をさらに備え、
前記第2エンボス加工工程中に、前記原反に形成されていく検査用凹凸パターンを検査し、検査結果が不良と判定された場合に、前記第2エンボス加工工程を終了して前記第3空運転工程を開始する
ことを特徴とする請求項37に記載の製造方法。
It is a step performed after the second idling operation step, the embossing roll and the backup roll are rotated with the original fabric sandwiched therebetween, and the concave / convex pattern corresponding to the concave / convex portion is made to the original fabric. A second embossing step of forming the inspection concave / convex pattern corresponding to the concave / convex pattern on the original fabric,
The step performed after the second embossing step, wherein the embossing roll and the backup roll are idled, and the concave and convex shape corresponding to the concave and convex portions and the concave and convex pattern of the embossing mold surface is formed on the outer peripheral surface of the backup roll. A third idling operation step to re-form to
During the second embossing process, the inspection unevenness pattern formed on the original fabric is inspected, and when the inspection result is determined to be defective, the second embossing process is ended and the third empty pattern is finished. The manufacturing method according to claim 37 , wherein an operation process is started.
前記エンボス加工工程中における検査用凹凸パターンについての検査は、検査対象となる原反に対して非接触の状態で実施される
ことを特徴とする請求項37または38に記載の製造方法。
39. The manufacturing method according to claim 37 or 38 , wherein the inspection of the inspection concavo-convex pattern during the embossing step is performed in a non-contact state with respect to the raw material to be inspected.
光沢度計を用い、前記原反の前記検査用凹凸パターンが形成された部分の光沢度を非接触で測定することにより、前記検査用凹凸パターンの検査を行い、
測定された光沢度が予め設定された光沢度以上となった場合、あるいは、測定された光沢度が予め設定された光沢度よりも大きくなった場合に、不良と判定されるようになっている
ことを特徴とする請求項39に記載の製造方法。
Using a gloss meter, inspecting the uneven pattern for inspection by measuring the glossiness of the portion of the original fabric where the uneven pattern for inspection is formed in a non-contact manner,
When the measured glossiness is equal to or higher than the preset glossiness, or when the measured glossiness is greater than the preset glossiness, it is determined as defective. 40. The manufacturing method according to claim 39 .
非接触式センサを用い、前記原反に形成された前記検査用凹凸パターンの凹凸形状を非接触で測定することにより、前記検査用凹凸パターンの検査を行い、
測定された凹凸形状が予め設定された程度を越えて平坦化している場合、あるいは、測定された凹凸形状が予め設定された程度以上に平坦化している場合に、不良と判定されるようになっている
ことを特徴とする請求項39に記載の製造方法。
By using a non-contact type sensor and measuring the uneven shape of the inspection uneven pattern formed on the raw material in a non-contact manner, the inspection uneven pattern is inspected,
When the measured uneven shape is flattened beyond a preset level, or when the measured uneven shape is flattened more than a preset level, it is determined as defective. 40. The manufacturing method according to claim 39 .
前記検査用凹凸パターンの良否の判定基準を設定する工程を、さらに備え、
前記判定基準を設定する工程は、
前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを空運転させ、前記エンボスロールのエンボス型面に形成された凹凸部および凹凸パターンに対応した凹凸形状を、前記バックアップロールの外周面に形成する予備空運転工程と、
前記予備空運転工程後に実施される工程であって、前記原反を間に挟んだ状態で前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを回転させ、前記凹凸部に対応した前記凹凸柄を前記原反に形成するとともに、前記凹凸パターンに対応した検査用凹凸パターンを前記原反に形成していく試験エンボス加工工程と、
前記試験エンボス加工工程において原反に作製されていった凹凸柄を検査して、前記凹凸柄が検査良から検査不良に移行する部分を調査し、当該部分と同時期に形成された検査用凹凸パターンに基づいて前記検査用凹凸パターンの良否の判定基準を決定する判定基準決定工程と、を有する
ことを特徴とする請求項37乃至41のいずれか一項に記載の製造方法。
Further comprising the step of setting a quality criterion for the inspection uneven pattern,
The step of setting the criterion is
A preliminary empty operation step of causing the embossing roll and the backup roll to run idle, and forming an uneven shape corresponding to the uneven portion and the uneven pattern formed on the embossed mold surface of the embossing roll on the outer peripheral surface of the backup roll;
The step performed after the preliminary idle operation step, the embossing roll and the backup roll are rotated with the original fabric sandwiched therebetween, and the concave / convex pattern corresponding to the concave / convex portion is formed on the original fabric. And a test embossing process for forming a concavo-convex pattern for inspection corresponding to the concavo-convex pattern on the original fabric,
Inspect the uneven pattern produced on the original fabric in the test embossing process, investigate the part where the uneven pattern shifts from good inspection to poor inspection, and the inspection unevenness formed at the same time as the part The manufacturing method according to any one of claims 37 to 41 , further comprising: a determination criterion determination step that determines a criterion for determining whether the inspection uneven pattern is good or bad based on a pattern.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2012206012A (en) * 2011-03-29 2012-10-25 Fujifilm Corp Roll and roll cleaning method
JP5323882B2 (en) * 2011-04-08 2013-10-23 株式会社日立産機システム Pattern transfer apparatus and pattern transfer method
JP2015020353A (en) * 2013-07-19 2015-02-02 大日本印刷株式会社 Sheet manufacturing system and sheet manufacturing method

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5856820A (en) * 1981-09-30 1983-04-04 Matsushita Electric Works Ltd Embossing method
JPS6144607A (en) * 1984-08-10 1986-03-04 Toyoda Gosei Co Ltd Embossed product and manufacture thereof
JPH0725134B2 (en) * 1986-04-24 1995-03-22 大日本印刷株式会社 Embossing method
JP3248168B2 (en) * 1999-05-31 2002-01-21 東京都光沢化工紙協同組合 Film-adhered printed matter and method for producing the same
JP2001179695A (en) * 1999-12-27 2001-07-03 Mitsuo Fujisawa Rolled die material
JP2002321094A (en) * 2000-04-03 2002-11-05 Takao Nishifuji Ruggedness imparting device and product

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