JP4797803B2 - Integrated circuit device and electronic apparatus - Google Patents

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Description

本発明は、集積回路装置及び電子機器に関する。   The present invention relates to an integrated circuit device and an electronic apparatus.

液晶パネルなどの表示パネルを駆動する集積回路装置として表示ドライバ(LCDドライバ)がある。この表示ドライバでは、低コスト化のためにチップサイズの縮小が要求される。   There is a display driver (LCD driver) as an integrated circuit device for driving a display panel such as a liquid crystal panel. This display driver is required to reduce the chip size in order to reduce the cost.

しかしながら、携帯電話機などに組み込まれる表示パネルの大きさはほぼ一定である。従って、微細プロセスを採用し、表示ドライバの集積回路装置を単純にシュリンクしてチップサイズを縮小しようとすると、実装が困難になるなどの問題を招く。
特開2001−222249号公報
However, the size of a display panel incorporated in a mobile phone or the like is almost constant. Therefore, if a fine process is adopted and the integrated circuit device of the display driver is simply shrunk to reduce the chip size, problems such as difficulty in mounting are caused.
JP 2001-222249 A

本発明は、以上のような技術的課題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、回路面積の縮小化を実現できる集積回路装置及びこれを含む電子機器を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above technical problems, and an object of the present invention is to provide an integrated circuit device capable of reducing the circuit area and an electronic apparatus including the integrated circuit device. .

本発明は、集積回路装置の短辺である第1の辺から対向する第3の辺へと向かう方向を第1の方向とし、集積回路装置の長辺である第2の辺から対向する第4の辺へと向かう方向を第2の方向とした場合に、前記第1の方向に沿って配置される第1〜第Nの回路ブロック(Nは2以上の整数)を含み、前記第1〜第Nの回路ブロックは、階調特性の調整データの設定を行うロジック回路ブロックと、設定された前記調整データに基づいて階調電圧を生成する階調電圧生成回路ブロックと、前記階調電圧生成回路ブロックからの階調電圧を受け、データ線を駆動するための少なくとも1つのデータドライバブロックと、電源電圧を生成する電源回路ブロックとを含み、少なくとも1つの前記データドライバブロックは、前記ロジック回路ブロック及び前記階調電圧生成回路ブロックと、前記電源回路ブロックとの間に配置される集積回路装置に関係する。   In the present invention, the direction from the first side, which is the short side of the integrated circuit device, to the third side facing the first side is the first direction, and the second side, which is the long side of the integrated circuit device, faces the second side. 4 includes first to Nth circuit blocks (N is an integer greater than or equal to 2) arranged along the first direction, where the direction toward the side 4 is the second direction. The Nth circuit block includes a logic circuit block for setting gradation characteristic adjustment data, a gradation voltage generation circuit block for generating a gradation voltage based on the set adjustment data, and the gradation voltage. And at least one data driver block for driving a data line and receiving a gradation voltage from the generation circuit block; and a power supply circuit block for generating a power supply voltage, wherein the at least one data driver block includes the logic circuit. Bro And said gradation voltage generating circuit blocks related to the integrated circuit device is disposed between the power supply circuit block.

本発明では、第1〜第Nの回路ブロックが第1の方向に沿って配置され、この第1〜第Nの回路ブロックが、ロジック回路ブロックと階調電圧生成回路ブロックとデータドライバブロックと電源回路ブロックを含む。そして本発明ではデータドライバブロックが、ロジック回路ブロック及び階調電圧生成回路ブロックと、電源回路ブロックとの間に配置される。従って、ロジック回路ブロックや電源回路ブロックの第2の方向側又はその反対方向の第4の方向側での空きスペースを利用した配線やトランジスタ配置が可能になり、配線・配置効率を向上できる。またデータドライバブロックを集積回路装置の中央付近に集中して配置できるようになるため、データドライバブロックからのデータ信号の出力線等を、効率良くシンプルに配線できる。これにより、集積回路装置の第2の方向での幅を小さくでき、スリムな細長の集積回路装置を提供することが可能になる。   In the present invention, the first to Nth circuit blocks are arranged along the first direction, and the first to Nth circuit blocks include a logic circuit block, a gradation voltage generation circuit block, a data driver block, and a power supply. Includes circuit blocks. In the present invention, the data driver block is disposed between the logic circuit block and the gradation voltage generation circuit block and the power supply circuit block. Therefore, wiring and transistors can be arranged using an empty space on the second direction side of the logic circuit block and the power circuit block or on the fourth direction side opposite to the logic circuit block and the power circuit block, and wiring / placement efficiency can be improved. Further, since the data driver block can be concentrated and arranged near the center of the integrated circuit device, the output line of the data signal from the data driver block can be wired efficiently and simply. Accordingly, the width of the integrated circuit device in the second direction can be reduced, and a slim and elongated integrated circuit device can be provided.

また本発明では、前記ロジック回路ブロックと前記階調電圧生成回路ブロックは、前記第1の方向に沿って隣接して配置されるようにしてもよい。   In the present invention, the logic circuit block and the gradation voltage generation circuit block may be arranged adjacent to each other along the first direction.

このようにすれば、ロジック回路ブロックと階調電圧生成回路ブロックを第2の方向に沿って配置する手法に比べて、集積回路装置の第2の方向での幅を小さくでき、スリムな細長の集積回路装置を提供できる。またロジック回路ブロック、階調電圧生成回路ブロックのうちの一方の回路ブロックの回路構成等が変化した場合にも、その影響が他方の回路ブロックに及ぶのを防止でき、設計を効率化できる。   In this way, the width of the integrated circuit device in the second direction can be reduced compared to the technique in which the logic circuit block and the gradation voltage generation circuit block are arranged along the second direction, and the slim and slender shape can be reduced. An integrated circuit device can be provided. Further, even when the circuit configuration or the like of one of the logic circuit block and the gradation voltage generation circuit block changes, the influence can be prevented from reaching the other circuit block, and the design can be made more efficient.

また本発明では、前記階調電圧生成回路ブロックは、前記データドライバブロックと前記ロジック回路ブロックの間に配置されるようにしてもよい。   In the present invention, the gradation voltage generation circuit block may be disposed between the data driver block and the logic circuit block.

このようにすれば、調整データの信号線や階調電圧の出力線を効率良く配線できるようになり、配線効率を向上できる。   In this way, the adjustment data signal line and the gradation voltage output line can be efficiently wired, and the wiring efficiency can be improved.

また本発明では、前記第1〜第Nの回路ブロックは、画像データを記憶する少なくとも1つのメモリブロックを含み、前記メモリブロックと前記データドライバブロックは前記第1の方向に沿って隣接して配置されるようにしてもよい。   In the present invention, the first to Nth circuit blocks include at least one memory block for storing image data, and the memory block and the data driver block are arranged adjacent to each other along the first direction. You may be made to do.

このようにすれば、メモリブロックとデータドライバブロックを第2の方向に沿って配置する手法に比べて、集積回路装置の第2の方向での幅を小さくでき、スリムな細長の集積回路装置を提供できる。またメモリブロックやデータドライバブロックの構成等が変わった場合に、他の回路ブロックに及ぶ影響を最小限に抑えることができる。   In this way, the width of the integrated circuit device in the second direction can be reduced compared with the method of arranging the memory block and the data driver block along the second direction, and a slim and slender integrated circuit device can be obtained. Can be provided. Further, when the configuration of the memory block or the data driver block is changed, the influence on other circuit blocks can be minimized.

また本発明では、前記第1〜第Nの回路ブロックは、第1〜第Iのメモリブロック(Iは2以上の整数)と、前記第1〜第Iのメモリブロックの各々に対して、前記第1の方向に沿ってその各々が隣接して配置される第1〜第Iのデータドライバブロックとを含むようにしてもよい。   In the present invention, the first to N-th circuit blocks may include the first to I-th memory blocks (I is an integer of 2 or more) and the first to I-th memory blocks, respectively. You may make it include the 1st-1st I data driver block each arrange | positioned adjacently along a 1st direction.

このようにすれば、記憶すべき画像データのビット数等に応じた最適なブロック数の第1〜第Iのメモリブロックとそれに対応する第1〜第Iのデータドライバブロックを、配置することが可能になる。また集積回路装置の第2の方向での幅や第1の方向での長さを、ブロック数により調整することも可能になり、特に第2の方向での幅の縮小が可能になる。   In this way, it is possible to arrange the first to I-th memory blocks having the optimal number of blocks according to the number of bits of image data to be stored and the corresponding first to I-th data driver blocks. It becomes possible. In addition, the width in the second direction and the length in the first direction of the integrated circuit device can be adjusted by the number of blocks, and the width in the second direction can be particularly reduced.

また本発明では、前記データドライバブロックは、画像データを受け、前記データ線を駆動するデータドライバと、前記ロジック回路ブロックからのドライバ制御信号をバッファリングして前記データドライバに出力するバッファ回路とを含み、前記ロジック回路ブロックからのドライバ制御信号を前記データドライバブロックに供給するためのドライバ用グローバル線が、前記ロジック回路ブロックと前記データドライバブロックの間に介在する回路ブロック上を前記第1の方向に沿って配線され、前記バッファ回路は、前記ドライバ用グローバル線からのドライバ制御信号をバッファリングして前記データドライバに出力してもよい。   In the present invention, the data driver block includes a data driver that receives image data and drives the data line, and a buffer circuit that buffers a driver control signal from the logic circuit block and outputs the driver control signal to the data driver. And a driver global line for supplying a driver control signal from the logic circuit block to the data driver block on the circuit block interposed between the logic circuit block and the data driver block in the first direction. The buffer circuit may buffer a driver control signal from the driver global line and output the driver control signal to the data driver.

このようなバッファ回路を設ければ、ロジック回路ブロックからのドライバ制御信号の波形が鈍ってしまう事態を防止できる。また、ロジック回路ブロックとデータドライバブロックの間に他の回路ブロックが介在する場合にも、この他の回路ブロック上を通るドライバ用グローバル線を用いて、ロジック回路ブロックによりデータドライバブロックを制御できる。   Providing such a buffer circuit can prevent the waveform of the driver control signal from the logic circuit block from becoming dull. In addition, even when another circuit block is interposed between the logic circuit block and the data driver block, the data driver block can be controlled by the logic circuit block using a driver global line passing through the other circuit block.

また本発明では、前記データドライバブロックは、その各々が1サブピクセル分の画像データに対応するデータ信号を出力する複数のサブピクセルドライバセルを含み、前記複数のサブピクセルドライバセルの各サブピクセルドライバセルは、第1の電圧レベルの電源で動作する回路が配置される第1の回路領域と、前記第1の電圧レベルよりも高い第2の電圧レベルの電源で動作する回路が配置される第2の回路領域とを有し、前記バッファ回路は、前記ロジック回路ブロックからの第1の電圧レベルのドライバ制御信号を受けてバッファリングし、前記サブピクセルドライバセルの前記第1の回路領域の回路に対して出力する第1のバッファと、前記ロジック回路ブロックからの第1の電圧レベルのドライバ制御信号を受け、レベルシフタにより第2の電圧レベルに変換してバッファリングし、前記サブピクセルドライバセルの前記第2の回路領域の回路に対して出力する第2のバッファとを含むようにしてもよい。   In the present invention, the data driver block includes a plurality of subpixel driver cells each outputting a data signal corresponding to image data for one subpixel, and each subpixel driver of the plurality of subpixel driver cells. The cell includes a first circuit region in which a circuit that operates with a power source having a first voltage level is disposed, and a circuit that operates with a power source with a second voltage level higher than the first voltage level. And the buffer circuit receives and buffers a driver control signal having a first voltage level from the logic circuit block, and the circuit in the first circuit area of the subpixel driver cell. Receiving a first buffer for outputting to the driver and a driver control signal having a first voltage level from the logic circuit block. By converting to a second voltage level to buffer, it may include a second buffer to be output to the circuit of the second circuit region of the subpixel driver cells.

このようにすれば、サブピクセルドライバセルの第1、第2の回路領域の回路に対して適正な電圧レベルの信号を供給できると共に、配線効率の向上も図れる。   This makes it possible to supply signals with appropriate voltage levels to the circuits in the first and second circuit regions of the subpixel driver cell, and to improve the wiring efficiency.

また本発明では、前記複数のサブピクセルドライバセルは、各サブピクセルドライバセルの前記第2の回路領域同士又は前記第1の回路領域同士が前記第1の方向に沿って隣接するように配置されてもよい。   In the present invention, the plurality of subpixel driver cells are arranged such that the second circuit regions of the subpixel driver cells or the first circuit regions are adjacent to each other along the first direction. May be.

このようにすれば、第1の回路領域と第2の回路領域を隣接させる手法に比べて、データドライバブロックの第1の方向での幅を小さくでき、集積回路装置の小面積化を図れる。   In this way, the width of the data driver block in the first direction can be reduced as compared with the technique in which the first circuit region and the second circuit region are adjacent to each other, and the area of the integrated circuit device can be reduced.

また本発明では、前記データドライバブロックは、その各々が1サブピクセル分の画像データに対応するデータ信号を出力する複数のサブピクセルドライバセルを含み、前記サブピクセルドライバセルは、階調電圧を用いて、画像データのD/A変換を行うD/A変換器を含み、前記階調電圧生成回路ブロックからの階調電圧を前記データドライバブロックに供給するための階調用グローバル線が、前記階調電圧生成回路ブロックと前記データドライバブロックの間に介在する回路ブロック上を前記第1の方向に沿って配線され、前記D/A変換器に前記階調電圧を供給するための階調電圧供給線が、複数の前記サブピクセルドライバセルにまたがって前記第2の方向に沿って配線されてもよい。   In the present invention, the data driver block includes a plurality of subpixel driver cells each outputting a data signal corresponding to image data for one subpixel, and the subpixel driver cell uses a gradation voltage. A gradation global line for supplying a gradation voltage from the gradation voltage generation circuit block to the data driver block, including a D / A converter that performs D / A conversion of the image data. A gradation voltage supply line that is wired along the first direction on a circuit block that is interposed between a voltage generation circuit block and the data driver block, and that supplies the gradation voltage to the D / A converter. May be wired along the second direction across a plurality of the subpixel driver cells.

このようにすれば、第2の方向に沿って配置される複数のサブピクセルドライバセルのD/A変換器に対して、第2の方向に沿って配線される階調電圧供給線により、階調電圧を効率的に供給でき、レイアウト効率を向上できる。   According to this configuration, the gradation voltage supply line wired along the second direction is used for the D / A converters of the plurality of subpixel driver cells arranged along the second direction. The regulated voltage can be supplied efficiently and the layout efficiency can be improved.

また本発明では、前記サブピクセルドライバセルの前記D/A変換器の配置領域では、前記第2の方向に沿ってN型トランジスタ領域、P型トランジスタ領域が配置され、前記サブピクセルドライバセルの前記D/A変換器以外の回路の配置領域では、前記第1の方向に沿ってN型トランジスタ領域、P型トランジスタ領域が配置されてもよい。   In the present invention, in the arrangement region of the D / A converter of the subpixel driver cell, an N-type transistor region and a P-type transistor region are arranged along the second direction, and the subpixel driver cell In the arrangement area of circuits other than the D / A converter, an N-type transistor area and a P-type transistor area may be arranged along the first direction.

このようにすれば、第2の方向に沿って配置されるN型トランジスタ領域のN型トランジスタとP型トランジスタ領域のP型トランジスタに対して、階調電圧供給線を共通接続できるようになり、レイアウト効率を向上できる。一方、D/A変換器以外の回路のN型トランジスタ領域、P型トランジスタ領域を第1の方向に沿って並べて配置すれば、信号の流れに沿った効率的なレイアウトが可能になる。   In this way, the gradation voltage supply line can be commonly connected to the N-type transistor in the N-type transistor region and the P-type transistor in the P-type transistor region arranged along the second direction. Layout efficiency can be improved. On the other hand, if the N-type transistor region and the P-type transistor region of the circuit other than the D / A converter are arranged along the first direction, an efficient layout along the signal flow becomes possible.

また本発明では、前記D/A変換器の前記配置領域のN型トランジスタ領域、P型トランジスタ領域に配置されるN型トランジスタ、P型トランジスタにより、前記D/A変換器の電圧セレクタのトランスファーゲートが構成されてもよい。   According to the present invention, the transfer gate of the voltage selector of the D / A converter includes the N-type transistor region in the arrangement region of the D / A converter, the N-type transistor and the P-type transistor arranged in the P-type transistor region. May be configured.

このようにすれば、トランスファーゲートを構成するN型、P型トランジスタに対して、第2の方向に沿って配線される階調電圧供給線の共通接続等が可能になり、レイアウト効率を向上できる。   This makes it possible to connect the gradation voltage supply lines wired along the second direction to the N-type and P-type transistors constituting the transfer gate, thereby improving the layout efficiency. .

また本発明では、前記階調電圧生成回路ブロックは、電源電圧に基づいて選択用電圧を出力する選択用電圧生成回路と、前記ロジック回路ブロックにより設定された前記調整データと、前記選択用電圧に基づいて、階調電圧を選択して出力する階調電圧選択回路とを含むようにしてもよい。   In the present invention, the gradation voltage generation circuit block includes a selection voltage generation circuit that outputs a selection voltage based on a power supply voltage, the adjustment data set by the logic circuit block, and the selection voltage. Based on this, a gradation voltage selection circuit that selects and outputs a gradation voltage may be included.

また本発明では、前記選択用電圧生成回路は、前記階調電圧選択回路の前記第2の方向側又は前記第2の方向の反対方向である第4の方向側に配置されるようにしてもよい。   In the present invention, the selection voltage generation circuit may be arranged on the second direction side of the gradation voltage selection circuit or on the fourth direction side opposite to the second direction. Good.

このようにすれば、調整データや選択用電圧の信号線の効率的な配線が可能になる。   In this way, efficient wiring of adjustment data and selection voltage signal lines becomes possible.

また本発明では、前記階調電圧選択回路は、前記データドライバブロックと前記ロジック回路ブロックの間に配置されるようにしてもよい。   In the present invention, the gradation voltage selection circuit may be disposed between the data driver block and the logic circuit block.

このようにすれば、調整データや選択用電圧や階調電圧の信号線の効率的な配線が可能になる。   In this way, efficient wiring of the adjustment data, selection voltage, and gradation voltage signal lines becomes possible.

また本発明では、前記階調電圧生成回路ブロックからの階調電圧が出力される階調電圧出力線が、前記第1〜第Nの回路ブロック上で前記第1の方向に沿って配線されるようにしてもよい。   In the present invention, a gradation voltage output line for outputting a gradation voltage from the gradation voltage generation circuit block is wired along the first direction on the first to Nth circuit blocks. You may do it.

このようにすれば、第1〜第Nの回路ブロックの領域を有効利用して、階調電圧の出力線を配線できるようになり、配線効率を向上できる。   In this way, it becomes possible to route the output line of the gradation voltage by effectively using the areas of the first to Nth circuit blocks, and the wiring efficiency can be improved.

また本発明では、前記第1〜第Nの回路ブロックは、画像データを記憶する少なくとも1つのメモリブロックを含み、前記メモリブロックでは、ビット線の上層にシールド線が配線され、前記シールド線の上層に、前記階調電圧生成回路ブロックからの階調電圧が出力される階調電圧出力線が配線されるようにしてもよい。   In the present invention, the first to Nth circuit blocks include at least one memory block for storing image data, and in the memory block, a shield line is wired above the bit line, and the upper layer of the shield line Further, a gradation voltage output line for outputting a gradation voltage from the gradation voltage generation circuit block may be wired.

このようにすれば、カップリング容量によりビット線の電圧レベルが誤って変化してしまう事態を効果的に防止できる。   In this way, it is possible to effectively prevent a situation in which the voltage level of the bit line is erroneously changed due to the coupling capacitance.

また本発明では、前記メモリブロックでは、前記ビット線が前記第1の方向に沿って配線され、前記シールド線が前記ビット線にオーバラップして前記第1の方向に沿って配線されるようにしてもよい。   According to the present invention, in the memory block, the bit line is wired along the first direction, and the shield line overlaps the bit line and is wired along the first direction. May be.

このようにすれば、ビット線の効果的なシールドが可能になる。   This makes it possible to effectively shield the bit line.

また本発明では、前記第1〜第Nの回路ブロックは、走査線を駆動するための走査ドライバブロックを含み、前記走査ドライバブロックの出力線と前記走査線とを電気的に接続するための走査ドライバ用パッドが、前記ロジック回路ブロックの前記第2の方向側に配置され、前記走査ドライバブロックの出力線である走査ドライバ用グローバル線が、前記ロジック回路ブロック上を、前記走査ドライバブロックから前記走査ドライバ用パッドに対して配線されてもよい。   In the present invention, the first to Nth circuit blocks include a scanning driver block for driving a scanning line, and scanning for electrically connecting an output line of the scanning driver block and the scanning line. A driver pad is disposed on the second direction side of the logic circuit block, and a scan driver global line, which is an output line of the scan driver block, is scanned from the scan driver block onto the logic circuit block. It may be wired to the driver pad.

このようにすれば、ロジック回路ブロックの領域を有効活用して、走査ドライバ用グローバル線を配線でき、集積回路装置の第2の方向での幅を小さくできる。   In this case, the scan driver global line can be wired by effectively utilizing the area of the logic circuit block, and the width of the integrated circuit device in the second direction can be reduced.

また本発明では、前記ロジック回路ブロックでは、前記走査ドライバ用グローバル線の下層にシールド線が配線されてもよい。   In the present invention, in the logic circuit block, a shield line may be wired under the scan driver global line.

このようにすれば、走査ドライバ用グローバル線からのノイズをシールド線で除去できるため、グローバル線の下層のロジック回路ブロック内の回路の誤動作等を防止できる。   In this way, since noise from the scan driver global line can be removed by the shield line, malfunction of the circuit in the logic circuit block below the global line can be prevented.

また本発明では、前記第1〜第Nの回路ブロックの前記第2の方向側に前記第4の辺に沿って設けられる第1のインターフェース領域と、前記第2の方向の反対方向を第4の方向とした場合に、前記第1〜第Nの回路ブロックの前記第4の方向側に前記第2の辺に沿って設けられる第2のインターフェース領域とを含むようにしてもよい。   According to the present invention, a first interface region provided along the fourth side on the second direction side of the first to Nth circuit blocks and a direction opposite to the second direction are set to a fourth direction. And the second interface region provided along the second side on the fourth direction side of the first to Nth circuit blocks.

また本発明は、上記のいずれかに記載の集積回路装置と、前記集積回路装置により駆動される表示パネルと含む電子機器に関係する。   The present invention also relates to an electronic device including any one of the above integrated circuit devices and a display panel driven by the integrated circuit device.

以下、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお以下に説明する本実施形態は特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではなく、本実施形態で説明される構成の全てが本発明の解決手段として必須であるとは限らない。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail. The present embodiment described below does not unduly limit the contents of the present invention described in the claims, and all the configurations described in the present embodiment are indispensable as means for solving the present invention. Not necessarily.

1.比較例
図1(A)に本実施形態の比較例となる集積回路装置500を示す。図1(A)の集積回路装置500はメモリブロックMB(表示データRAM)とデータドライバブロックDBを含む。そしてメモリブロックMBとデータドライバブロックDBはD2方向に沿って配置されている。またメモリブロックMB、データドライバブロックDBは、D1方向に沿った長さがD2方向での幅に比べて長い超扁平なブロックになっている。
1. Comparative Example FIG. 1A shows an integrated circuit device 500 as a comparative example of the present embodiment. The integrated circuit device 500 of FIG. 1A includes a memory block MB (display data RAM) and a data driver block DB. The memory block MB and the data driver block DB are arranged along the direction D2. Further, the memory block MB and the data driver block DB are ultra flat blocks whose length along the D1 direction is longer than the width in the D2 direction.

ホスト側からの画像データはメモリブロックMBに書き込まれる。そしてデータドライバブロックDBは、メモリブロックMBに書き込まれたデジタルの画像データをアナログのデータ電圧に変換して、表示パネルのデータ線を駆動する。このように図1(A)において画像データの信号の流れはD2方向である。このため、図1(A)の比較例では、この信号の流れに合わせて、メモリブロックMBとデータドライバブロックDBをD2方向に沿って配置している。このようにすることで、入力と出力の間がショートパスになり、信号遅延を最適化でき、効率の良い信号伝達が可能になる。   Image data from the host side is written in the memory block MB. The data driver block DB converts the digital image data written in the memory block MB into an analog data voltage and drives the data lines of the display panel. Thus, in FIG. 1A, the signal flow of the image data is in the direction D2. For this reason, in the comparative example of FIG. 1A, the memory block MB and the data driver block DB are arranged along the direction D2 in accordance with the flow of this signal. By doing so, a short path is formed between the input and the output, the signal delay can be optimized, and efficient signal transmission becomes possible.

ところが図1(A)の比較例では以下のような課題がある。   However, the comparative example of FIG. 1A has the following problems.

第1に、表示ドライバなどの集積回路装置では、低コスト化のためにチップサイズの縮小が要求される。ところが、微細プロセスを採用し、集積回路装置500を単純にシュリンクしてチップサイズを縮小すると、短辺方向のみならず長辺方向も縮小されてしまう。従って図2(A)に示すように実装の困難化の問題を招く。即ち出力ピッチは、例えば22μm以上であることが望ましいが、図2(A)のような単純シュリンクでは例えば17μmピッチになってしまい、狭ピッチのために実装が困難になる。また表示パネルのガラスの額縁が広くなり、ガラスの取れ数が減少し、コスト増を招く。   First, in an integrated circuit device such as a display driver, a reduction in chip size is required for cost reduction. However, when a fine process is employed and the integrated circuit device 500 is simply shrunk to reduce the chip size, not only the short side direction but also the long side direction is reduced. Therefore, as shown in FIG. 2A, there is a problem of difficulty in mounting. That is, the output pitch is desirably 22 μm or more, for example, but a simple shrink as shown in FIG. 2A has a pitch of 17 μm, for example, which makes mounting difficult due to the narrow pitch. Moreover, the frame of the glass of the display panel is widened, the number of pieces of glass is reduced, and the cost is increased.

第2に、表示ドライバでは、表示パネルの種類(アモルファスTFT、低温ポリシリコンTFT)や画素数(QCIF、QVGA、VGA)や製品の仕様などに応じて、メモリやデータドライバの構成が変わる。従って図1(A)の比較例では、ある製品では図1(B)のように、パッドピッチとメモリのセルピッチとデータドライバのセルピチが一致していたとしても、メモリやデータドライバの構成が変わると、図1(C)に示すようにこれらのピッチが一致しなくなる。そして図1(C)のようにピッチが一致しなくなると、回路ブロック間に、ピッチの不一致を吸収するための無駄な配線領域を形成しなければならなくなる。特にD1方向にブロックが扁平している図1(A)の比較例では、ピッチの不一致を吸収するための無駄な配線領域が大きくなる。この結果、集積回路装置500のD2方向での幅Wが大きくなり、チップ面積が増加し、コスト増を招く。   Secondly, in the display driver, the configuration of the memory and data driver varies depending on the type of display panel (amorphous TFT, low-temperature polysilicon TFT), the number of pixels (QCIF, QVGA, VGA), product specifications, and the like. Therefore, in the comparative example of FIG. 1A, in some products, as shown in FIG. 1B, even if the pad pitch, the memory cell pitch, and the data driver cell pitch match, the configuration of the memory and data driver changes. As shown in FIG. 1C, these pitches do not match. If the pitches do not match as shown in FIG. 1C, a useless wiring region for absorbing the pitch mismatch must be formed between the circuit blocks. In particular, in the comparative example of FIG. 1A in which the block is flat in the D1 direction, a useless wiring area for absorbing the pitch mismatch becomes large. As a result, the width W of the integrated circuit device 500 in the D2 direction is increased, the chip area is increased, and the cost is increased.

一方、このような事態を避けるために、パッドピッチとセルピッチが揃うようにメモリやデータドライバのレイアウトを変更すると、開発期間が長期化し、結局、コスト増を招く。即ち図1(A)の比較例では、各回路ブロックの回路構成やレイアウトを個別設計し、その後にピッチ等を合わせるという作業を行うため、無駄な空き領域が生じたり、設計が非効率化するなどの問題が生じる。   On the other hand, in order to avoid such a situation, if the layout of the memory or data driver is changed so that the pad pitch and the cell pitch are aligned, the development period becomes longer, resulting in an increase in cost. That is, in the comparative example of FIG. 1A, the circuit configuration and layout of each circuit block are individually designed, and then the pitch and the like are adjusted, resulting in useless empty areas and inefficient design. Problems arise.

2.集積回路装置の構成
以上のような問題を解決できる本実施形態の集積回路装置10の構成例を図3に示す。本実施形態では、集積回路装置10の短辺である第1の辺SD1から対向する第3の辺SD3へと向かう方向を第1の方向D1とし、D1の反対方向を第3の方向D3としている。また集積回路装置10の長辺である第2の辺SD2から対向する第4の辺SD4へと向かう方向を第2の方向D2とし、D2の反対方向を第4の方向D4としている。なお、図3では集積回路装置10の左辺が第1の辺SD1で、右辺が第3の辺SD3になっているが、左辺が第3の辺SD3で、右辺が第1の辺SD1であってもよい。
2. Configuration of Integrated Circuit Device FIG. 3 shows a configuration example of the integrated circuit device 10 of the present embodiment that can solve the above problems. In the present embodiment, the direction from the first side SD1 which is the short side of the integrated circuit device 10 to the third side SD3 facing the first direction D1 is defined as a first direction D1, and the opposite direction of D1 is defined as a third direction D3. Yes. The direction from the second side SD2 which is the long side of the integrated circuit device 10 to the fourth side SD4 facing the second side D2 is a second direction D2, and the opposite direction of D2 is a fourth direction D4. In FIG. 3, the left side of the integrated circuit device 10 is the first side SD1 and the right side is the third side SD3. However, the left side is the third side SD3 and the right side is the first side SD1. May be.

図3に示すように本実施形態の集積回路装置10は、D1方向に沿って配置される第1〜第Nの回路ブロックCB1〜CBN(Nは2以上の整数)を含む。即ち、図1(A)の比較例では回路ブロックがD2方向に並んでいるが、本実施形態では回路ブロックCB1〜CBNがD1方向に並んでいる。また各回路ブロックは、図1(A)の比較例のような超扁平なブロックになっておらず、比較的スクウェアなブロックになっている。   As shown in FIG. 3, the integrated circuit device 10 of this embodiment includes first to Nth circuit blocks CB1 to CBN (N is an integer of 2 or more) arranged along the direction D1. That is, in the comparative example of FIG. 1A, the circuit blocks are arranged in the D2 direction, but in this embodiment, the circuit blocks CB1 to CBN are arranged in the D1 direction. Further, each circuit block is not a very flat block as in the comparative example of FIG. 1A, but is a relatively square block.

また集積回路装置10は、第1〜第Nの回路ブロックCB1〜CBNのD2方向側に辺SD4に沿って設けられる出力側I/F領域12(広義には第1のインターフェース領域)を含む。また第1〜第Nの回路ブロックCB1〜CBNのD4方向側に辺SD2に沿って設けられる入力側I/F領域14(広義には第2のインターフェース領域)を含む。より具体的には、出力側I/F領域12(第1のI/O領域)は、回路ブロックCB1〜CBNのD2方向側に、例えば他の回路ブロック等を介さずに配置される。また入力側I/F領域14(第2のI/O領域)は、回路ブロックCB1〜CBNのD4方向側に、例えば他の回路ブロック等を介さずに配置される。即ち少なくともデータドライバブロックが存在する部分において、D2方向において1つの回路ブロック(データドライバブロック)だけが存在する。なお集積回路装置10をIP(Intellectual Property)コアとして用いて他の集積回路装置に組み込む場合等には、I/F領域12、14の少なくとも一方を設けない構成とすることもできる。   The integrated circuit device 10 also includes an output-side I / F region 12 (first interface region in a broad sense) provided along the side SD4 on the D2 direction side of the first to Nth circuit blocks CB1 to CBN. Further, it includes an input-side I / F area 14 (second interface area in a broad sense) provided along the side SD2 on the D4 direction side of the first to Nth circuit blocks CB1 to CBN. More specifically, the output-side I / F region 12 (first I / O region) is arranged on the D2 direction side of the circuit blocks CB1 to CBN without using, for example, other circuit blocks. The input-side I / F area 14 (second I / O area) is arranged on the D4 direction side of the circuit blocks CB1 to CBN, for example, without passing through other circuit blocks. That is, at least in the portion where the data driver block exists, there is only one circuit block (data driver block) in the direction D2. When the integrated circuit device 10 is used as an IP (Intellectual Property) core and incorporated in another integrated circuit device, etc., it may be configured such that at least one of the I / F regions 12 and 14 is not provided.

出力側(表示パネル側)I/F領域12は、表示パネルとのインターフェースとなる領域であり、パッドや、パッドに接続される出力用トランジスタ、保護素子などの種々の素子を含む。具体的には、データ線へのデータ信号や走査線への走査信号を出力するための出力用トランジスタなどを含む。なお表示パネルがタッチパネルである場合等には、入力用トランジスタを含んでもよい。   The output side (display panel side) I / F area 12 is an area serving as an interface with the display panel, and includes various elements such as a pad, an output transistor connected to the pad, and a protection element. Specifically, it includes an output transistor for outputting a data signal to the data line and a scanning signal to the scanning line. In the case where the display panel is a touch panel, an input transistor may be included.

入力側(ホスト側)I/F領域14は、ホスト(MPU、画像処理コントローラ、ベースバンドエンジン)とのインターフェースとなる領域であり、パッドや、パッドに接続される入力用(入出力用)トランジスタ、出力用トランジスタ、保護素子などの種々の素子を含むことができる。具体的には、ホストからの信号(デジタル信号)を入力するための入力用トランジスタやホストへの信号を出力するための出力用トランジスタなどを含む。   The input side (host side) I / F area 14 is an area serving as an interface with a host (MPU, image processing controller, baseband engine), and is a pad or an input (input / output) transistor connected to the pad. Various elements such as an output transistor and a protection element can be included. Specifically, an input transistor for inputting a signal (digital signal) from the host, an output transistor for outputting a signal to the host, and the like are included.

なお、短辺である辺SD1、SD3に沿った出力側又は入力側I/F領域を設けるようにしてもよい。また外部接続端子となるバンプ等は、I/F(インターフェース)領域12、14に設けてもよいし、それ以外の領域(第1〜第Nの回路ブロックCB1〜CBN)に設けてもよい。I/F領域12、14以外の領域に設ける場合には、金バンプ以外の小型バンプ技術(樹脂をコアとするバンプ技術など)を用いることで実現される。   Note that an output-side or input-side I / F area along the short sides SD1 and SD3 may be provided. Further, bumps or the like serving as external connection terminals may be provided in the I / F (interface) regions 12 and 14, or may be provided in other regions (first to Nth circuit blocks CB1 to CBN). In the case where it is provided in a region other than the I / F regions 12 and 14, it is realized by using a small bump technology (such as a bump technology using a resin as a core) other than the gold bump.

また第1〜第Nの回路ブロックCB1〜CBNは、少なくとも2つ(或いは3つ)の異なる回路ブロック(異なる機能を持つ回路ブロック)を含むことができる。集積回路装置10が表示ドライバである場合を例にとれば、回路ブロックCB1〜CBNは、データドライバ、メモリ、走査ドライバ、ロジック回路、階調電圧生成回路、電源回路のブロックの少なくとも2つを含むことができる。更に具体的には回路ブロックCB1〜CBNは、少なくともデータドライバ、ロジック回路のブロックを含むことができ、更に階調電圧生成回路のブロックを含むことができる。またメモリ内蔵タイプの場合には更にメモリのブロックを含むことができる。   The first to Nth circuit blocks CB1 to CBN can include at least two (or three) different circuit blocks (circuit blocks having different functions). Taking the case where the integrated circuit device 10 is a display driver as an example, the circuit blocks CB1 to CBN include at least two blocks of a data driver, a memory, a scan driver, a logic circuit, a gradation voltage generation circuit, and a power supply circuit. be able to. More specifically, the circuit blocks CB1 to CBN can include at least a data driver block and a logic circuit block, and can further include a grayscale voltage generation circuit block. In the case of a built-in memory type, a memory block can be further included.

例えば図4に種々のタイプの表示ドライバとそれが内蔵する回路ブロックの例を示す。メモリ(RAM)内蔵のアモルファスTFT(Thin Film Transistor)パネル用表示ドライバでは、回路ブロックCB1〜CBNは、メモリ、データドライバ(ソースドライバ)、走査ドライバ(ゲートドライバ)、ロジック回路(ゲートアレイ回路)、階調電圧生成回路(γ補正回路)、電源回路のブロックを含む。一方、メモリ内蔵の低温ポリシリコン(LTPS)TFTパネル用表示ドライバでは、走査ドライバをガラス基板に形成できるため、走査ドライバのブロックを省略できる。またメモリ非内蔵のアモルファスTFTパネル用では、メモリのブロックを省略でき、メモリ非内蔵の低温ポリシリコンTFTパネル用では、メモリ及び走査ドライバのブロックを省略できる。またCSTN(Color Super Twisted Nematic)パネル、TFD(Thin Film Diode)パネル用では、階調電圧生成回路のブロックを省略できる。   For example, FIG. 4 shows examples of various types of display drivers and circuit blocks incorporated therein. In a display driver for an amorphous TFT (Thin Film Transistor) panel with a built-in memory (RAM), circuit blocks CB1 to CBN include a memory, a data driver (source driver), a scanning driver (gate driver), a logic circuit (gate array circuit), It includes a gradation voltage generation circuit (γ correction circuit) and a power supply circuit block. On the other hand, in a display driver for a low-temperature polysilicon (LTPS) TFT panel with a built-in memory, the scanning driver can be formed on a glass substrate, so that the scanning driver block can be omitted. Also, the memory block can be omitted for an amorphous TFT panel without a memory, and the memory and scan driver blocks can be omitted for a low-temperature polysilicon TFT panel without a memory. Further, for a color super twisted nematic (CSTN) panel and a thin film diode (TFD) panel, the block of the gradation voltage generation circuit can be omitted.

図5(A)(B)に本実施形態の表示ドライバの集積回路装置10の平面レイアウトの例を示す。図5(A)(B)は、メモリ内蔵のアモルファスTFTパネル用の例であり、図5(A)は例えばQCIF、32階調用の表示ドライバをターゲットとし、図5(B)はQVGA、64階調用の表示ドライバをターゲットとしている。   FIGS. 5A and 5B show examples of a planar layout of the integrated circuit device 10 of the display driver of this embodiment. 5A and 5B are examples for an amorphous TFT panel with a built-in memory. FIG. 5A targets, for example, a display driver for QCIF and 32 gradations, and FIG. The display driver for gradation is targeted.

図5(A)(B)では、第1〜第Nの回路ブロックCB1〜CBNは、第1〜第4のメモリブロックMB1〜MB4(広義には第1〜第Iのメモリブロック。Iは2以上の整数)を含む。また第1〜第4のメモリブロックMB1〜MB4の各々に対して、D1方向に沿ってその各々が隣接して配置される第1〜第4のデータドライバブロックDB1〜DB4(広義には第1〜第Iのデータドライバブロック)を含む。具体的にはメモリブロックMB1とデータドライバブロックDB1がD1方向に沿って隣接して配置され、メモリブロックMB2とデータドライバブロックDB2がD1方向に沿って隣接して配置される。そしてデータドライバブロックDB1がデータ線を駆動するために用いる画像データ(表示データ)は、隣接するメモリブロックMB1が記憶し、データドライバブロックDB2がデータ線を駆動するために用いる画像データは、隣接するメモリブロックMB2が記憶する。   5A and 5B, the first to Nth circuit blocks CB1 to CBN are first to fourth memory blocks MB1 to MB4 (first to Ith memory blocks in a broad sense. I is 2). Including the above integer). The first to fourth data driver blocks DB1 to DB4 (first in a broad sense, the first to fourth memory blocks MB1 to MB4) are arranged adjacent to each other along the direction D1. To I-th data driver block). Specifically, the memory block MB1 and the data driver block DB1 are arranged adjacently along the D1 direction, and the memory block MB2 and the data driver block DB2 are arranged adjacently along the D1 direction. The image data (display data) used by the data driver block DB1 to drive the data lines is stored in the adjacent memory block MB1, and the image data used by the data driver block DB2 to drive the data lines is adjacent. Memory block MB2 stores it.

また図5(A)では、メモリブロックMB1〜MB4のうちのMB1(広義には第Jのメモリブロック。1≦J<I)のD3方向側に、データドライバブロックDB1〜DB4のうちのDB1(広義には第Jのデータドライバブロック)が隣接して配置される。またメモリブロックMB1のD1方向側に、メモリブロックMB2(広義には第J+1のメモリブロック)が隣接して配置される。そしてメモリブロックMB2のD1方向側に、データドライバブロックDB2(広義には第J+1のデータドライバブロック)が隣接して配置される。メモリブロックMB3、MB4、データドライバブロックDB3、DB4の配置も同様である。このように図5(A)では、MB1、MB2の境界線に対して線対称にMB1、DB1とMB2、DB2が配置され、MB3、MB4の境界線に対して線対称にMB3、DB3とMB4、DB4とが配置される。なお図5(A)では、DB2とDB3が隣接して配置されているが、これらを隣接させずに、その間に他の回路ブロックを配置してもよい。   In FIG. 5A, MB1 of the memory blocks MB1 to MB4 (Jth memory block in a broad sense, 1 ≦ J <I) is placed on the D3 direction side of the data driver blocks DB1 to DB4. In a broad sense, the Jth data driver block) is arranged adjacent to each other. Further, a memory block MB2 (J + 1th memory block in a broad sense) is arranged adjacent to the D1 direction side of the memory block MB1. A data driver block DB2 (J + 1th data driver block in a broad sense) is arranged adjacent to the D1 direction side of the memory block MB2. The arrangement of the memory blocks MB3 and MB4 and the data driver blocks DB3 and DB4 is the same. In this way, in FIG. 5A, MB1, DB1, and MB2, DB2 are arranged symmetrically with respect to the boundary lines of MB1 and MB2, and MB3, DB3, and MB4 are arranged symmetrically with respect to the boundary lines of MB3 and MB4. , DB4 are arranged. In FIG. 5A, DB2 and DB3 are arranged adjacent to each other, but other circuit blocks may be arranged between them without adjoining them.

一方、図5(B)では、メモリブロックMB1〜MB4のうちのMB1(第Jのメモリブロック)のD3方向側に、データドライバブロックDB1〜DB4のうちのDB1(第Jのデータドライバブロック)が隣接して配置される。またMB1のD1方向側にDB2(第J+1のデータドライバブロック)が配置される。またDB2のD1方向側にMB2(第J+1のメモリブロック)が配置される。DB3、MB3、DB4、MB4も同様に配置される。なお図5(B)では、MB1とDB2、MB2とDB3、MB3とDB4が、各々、隣接して配置されているが、これらを隣接させずに、その間に他の回路ブロックを配置してもよい。   On the other hand, in FIG. 5B, DB1 (Jth data driver block) of the data driver blocks DB1 to DB4 is on the D3 direction side of MB1 (Jth memory block) of the memory blocks MB1 to MB4. Adjacent to each other. Further, DB2 (J + 1th data driver block) is arranged on the D1 direction side of MB1. MB2 (J + 1th memory block) is arranged on the D1 direction side of DB2. DB3, MB3, DB4, and MB4 are similarly arranged. In FIG. 5B, MB1 and DB2, MB2 and DB3, and MB3 and DB4 are arranged adjacent to each other, but other circuit blocks may be arranged between them without being adjacent to each other. Good.

図5(A)のレイアウト配置によれば、メモリブロックMB1とMB2や、MB3とMB4の間で(第J、第J+1のメモリブロックの間で)、カラムアドレスデコーダを共用できるという利点がある。一方、図5(B)のレイアウト配置によれば、データドライバブロックDB1〜DB4から出力側I/F領域12へのデータ信号出力線の配線ピッチを均一化でき、配線効率を向上できるという利点がある。   5A has an advantage that the column address decoder can be shared between the memory blocks MB1 and MB2 and between the MB3 and MB4 (between the Jth and J + 1th memory blocks). On the other hand, according to the layout arrangement of FIG. 5B, there is an advantage that the wiring pitch of the data signal output lines from the data driver blocks DB1 to DB4 to the output side I / F region 12 can be made uniform, and the wiring efficiency can be improved. is there.

なお本実施形態の集積回路装置10のレイアウト配置は図5(A)(B)に限定されない。例えばメモリブロックやデータドライバブロックのブロック数を2、3或いは5以上にしてもよいし、メモリブロックやデータドライバブロックをブロック分割しない構成にしてもよい。またメモリブロックとデータドライバブロックが隣接しないようにする変形実施も可能である。またメモリブロック、走査ドライバブロック、電源回路ブロック又は階調電圧生成回路ブロックなどを設けない構成としてもよい。また回路ブロックCB1〜CBNと出力側I/F領域12や入力側I/F領域14の間に、D2方向での幅が極めて狭い回路ブロック(WB以下の細長回路ブロック)を設けてもよい。また回路ブロックCB1〜CBNが、異なる回路ブロックがD2方向に多段に並んだ回路ブロックを含んでもよい。例えば走査ドライバ回路と電源回路を1つの回路ブロックとした構成としてもよい。   The layout arrangement of the integrated circuit device 10 of the present embodiment is not limited to FIGS. For example, the number of memory blocks or data driver blocks may be 2, 3 or 5 or more, or the memory block or data driver block may be configured not to be divided into blocks. Further, a modification can be made so that the memory block and the data driver block are not adjacent to each other. In addition, a configuration in which a memory block, a scan driver block, a power supply circuit block, a gradation voltage generation circuit block, or the like is not provided may be employed. Further, a circuit block having a very narrow width in the D2 direction (elongated circuit block of WB or less) may be provided between the circuit blocks CB1 to CBN and the output-side I / F region 12 or the input-side I / F region 14. The circuit blocks CB1 to CBN may include circuit blocks in which different circuit blocks are arranged in multiple stages in the D2 direction. For example, the scan driver circuit and the power supply circuit may be configured as one circuit block.

図6(A)に本実施形態の集積回路装置10のD2方向に沿った断面図の例を示す。ここでW1、WB、W2は、各々、出力側I/F領域12、回路ブロックCB1〜CBN、入力側I/F領域14のD2方向での幅である。またWは集積回路装置10のD2方向での幅である。   FIG. 6A shows an example of a cross-sectional view along the direction D2 of the integrated circuit device 10 of the present embodiment. Here, W1, WB, and W2 are the widths in the D2 direction of the output side I / F region 12, the circuit blocks CB1 to CBN, and the input side I / F region 14, respectively. W is the width of the integrated circuit device 10 in the direction D2.

本実施形態では図6(A)に示すように、D2方向において、回路ブロックCB1〜CBN(データドライバブロックDB)と出力側、入力側I/F領域12、14との間に他の回路ブロックが介在しない構成にできる。従って、W1+WB+W2≦W<W1+2×WB+W2とすることができ、細長の集積回路装置を実現できる。具体的には、D2方向での幅Wは、W<2mmとすることができ、更に具体的にはW<1.5mmとすることができる。なおチップの検査やマウンティングを考慮すると、W>0.9mmであることが望ましい。また長辺方向での長さLDは、15mm<LD<27mmとすることができる。またチップ形状比SP=LD/Wは、SP>10とすることができ、更に具体的にはSP>12とすることができる。   In this embodiment, as shown in FIG. 6A, in the direction D2, other circuit blocks are arranged between the circuit blocks CB1 to CBN (data driver block DB) and the output side and input side I / F regions 12 and 14. Can be configured without intervening. Therefore, W1 + WB + W2 ≦ W <W1 + 2 × WB + W2 can be satisfied, and a narrow integrated circuit device can be realized. Specifically, the width W in the D2 direction can be set to W <2 mm, and more specifically, W <1.5 mm. In consideration of chip inspection and mounting, it is desirable that W> 0.9 mm. The length LD in the long side direction can be 15 mm <LD <27 mm. The chip shape ratio SP = LD / W can be set to SP> 10, and more specifically, SP> 12.

なお図6(A)の幅W1、WB、W2は、各々、出力側I/F領域12、回路ブロックCB1〜CBN、入力側I/F領域14のトランジスタ形成領域(バルク領域、アクティブ領域)の幅である。即ちI/F領域12、14には、出力用トランジスタ、入力用トランジスタ、入出力用トランジスタ、静電保護素子のトランジスタなどが形成される。また回路ブロックCB1〜CBNには、回路を構成するトランジスタが形成される。そしてW1、WB、W2は、このようなトランジスタが形成されるウェル領域や拡散領域などを基準に決められる。例えば、よりスリムな細長の集積回路装置を実現するためには、回路ブロックCB1〜CBNのトランジスタの上にもバンプ(能動面バンプ)を形成することが望ましい。具体的には、そのコアが樹脂で形成され、樹脂の表面に金属層が形成された樹脂コアバンプなどをトランジスタ(アクティブ領域)上に形成する。そしてこのバンプ(外部接続端子)は、I/F領域12、14に配置されるパッドに、金属配線により接続される。本実施形態のW1、WB、W2は、このようなバンプの形成領域の幅ではなく、バンプの下に形成されるトランジスタ形成領域の幅である。   The widths W1, WB, and W2 in FIG. 6A are respectively the transistor formation regions (bulk region and active region) of the output side I / F region 12, circuit blocks CB1 to CBN, and input side I / F region 14. Width. That is, in the I / F regions 12 and 14, an output transistor, an input transistor, an input / output transistor, a transistor of an electrostatic protection element, and the like are formed. In the circuit blocks CB1 to CBN, transistors constituting the circuit are formed. W1, WB, and W2 are determined based on a well region, a diffusion region, or the like where such a transistor is formed. For example, in order to realize a slimmer integrated circuit device, it is desirable to form bumps (active surface bumps) also on the transistors of the circuit blocks CB1 to CBN. Specifically, a resin core bump having a core formed of a resin and a metal layer formed on the surface of the resin is formed on the transistor (active region). The bumps (external connection terminals) are connected to pads arranged in the I / F regions 12 and 14 by metal wiring. In the present embodiment, W1, WB, and W2 are not the width of the bump formation region but the width of the transistor formation region formed under the bump.

また回路ブロックCB1〜CBNの各々のD2方向での幅は、例えば同じ幅に統一できる。この場合、各回路ブロックの幅は、実質的に同じであればよく、例えば数μm〜20μm(数十μm)程度の違いは許容範囲内である。また回路ブロックCB1〜CBNの中に、幅が異なる回路ブロックが存在する場合には、幅WBは、回路ブロックCB1〜CBNの幅の中の最大幅とすることができる。この場合の最大幅は、例えばデータドライバブロックのD2方向での幅とすることができる。或いはメモリ内蔵の集積回路装置の場合にはメモリブロックのD2方向での幅とすることができる。なお回路ブロックCB1〜CBNとI/F領域12、14の間には、例えば20〜30μm程度の幅の空き領域を設けることができる。   The widths of the circuit blocks CB1 to CBN in the D2 direction can be unified to the same width, for example. In this case, the widths of the circuit blocks may be substantially the same. For example, a difference of about several μm to 20 μm (several tens μm) is within an allowable range. When circuit blocks having different widths exist in the circuit blocks CB1 to CBN, the width WB can be the maximum width among the circuit blocks CB1 to CBN. The maximum width in this case can be, for example, the width of the data driver block in the D2 direction. Alternatively, in the case of an integrated circuit device with a built-in memory, the width in the direction D2 of the memory block can be set. An empty area with a width of about 20 to 30 μm can be provided between the circuit blocks CB1 to CBN and the I / F areas 12 and 14, for example.

また本実施形態では、出力側I/F領域12にはD2方向での段数が1段又は複数段となるパッドを配置できる。従ってパッド幅(例えば0.1mm)やパッドピッチを考慮すると、出力側I/F領域12のD2方向での幅W1は、0.13mm≦W1≦0.4mmとすることができる。また入力側I/F領域14には、D2方向での段数が1段となるパッドを配置できるため、入力側I/F領域14の幅W2は、0.1mm≦W2≦0.2mmとすることができる。また細長の集積回路装置を実現するためには、回路ブロックCB1〜CBN上に、ロジック回路ブロックからのロジック信号や、階調電圧生成回路ブロックからの階調電圧信号や、電源配線を、グローバル配線により形成する必要があり、これらの配線幅は合計で例えば0.8〜0.9mm程度になる。従って、これらを考慮すると、回路ブロックCB1〜CBNの幅WBは、0.65mm≦WB≦1.2mmとすることできる。   In the present embodiment, the output-side I / F region 12 can be provided with pads having one or more stages in the D2 direction. Therefore, considering the pad width (for example, 0.1 mm) and the pad pitch, the width W1 in the D2 direction of the output I / F region 12 can be 0.13 mm ≦ W1 ≦ 0.4 mm. In addition, since a pad having one step in the D2 direction can be arranged in the input side I / F region 14, the width W2 of the input side I / F region 14 is set to 0.1 mm ≦ W2 ≦ 0.2 mm. be able to. In order to realize an elongated integrated circuit device, a logic signal from the logic circuit block, a gradation voltage signal from the gradation voltage generation circuit block, and a power supply wiring are arranged on the circuit blocks CB1 to CBN. These wiring widths are, for example, about 0.8 to 0.9 mm in total. Therefore, in consideration of these, the width WB of the circuit blocks CB1 to CBN can be set to 0.65 mm ≦ WB ≦ 1.2 mm.

そしてW1=0.4mm、W2=0.2mmであったとしても、0.65mm≦WB≦1.2mmであるため、WB>W1+W2が成り立つ。またW1、WB、W2が最も小さい値である場合には、W1=0.13mm、WB=0.65mm、W2=0.1mmとなり、集積回路装置の幅はW=0.88mm程度になる。従って、W=0.88mm<2×WB=1.3mmが成り立つ。またW1、WB、W2が最も大きい値である場合には、W1=0.4mm、WB=1.2mm、W2=0.2mmとなり、集積回路装置の幅はW=1.8mm程度になる。従って、W=1.8mm<2×WB=2.4mmが成り立つ。従ってW<2×WBの関係式が成り立ち、細長の集積回路装置を実現できる。   Even if W1 = 0.4 mm and W2 = 0.2 mm, since 0.65 mm ≦ WB ≦ 1.2 mm, WB> W1 + W2 holds. When W1, WB, and W2 are the smallest values, W1 = 0.13 mm, WB = 0.65 mm, and W2 = 0.1 mm, and the width of the integrated circuit device is about W = 0.88 mm. Therefore, W = 0.88 mm <2 × WB = 1.3 mm holds. When W1, WB, and W2 are the largest values, W1 = 0.4 mm, WB = 1.2 mm, and W2 = 0.2 mm, and the width of the integrated circuit device is about W = 1.8 mm. Therefore, W = 1.8 mm <2 × WB = 2.4 mm holds. Therefore, a relational expression of W <2 × WB is established, and an elongated integrated circuit device can be realized.

図1(A)の比較例では、図6(B)に示すように2以上の複数の回路ブロックがD2方向に沿って配置される。またD2方向において、回路ブロック間や、回路ブロックとI/F領域の間に配線領域が形成される。従って集積回路装置500のD2方向(短辺方向)での幅Wが大きくなり、スリムな細長チップを実現できない。従って微細プロセスを利用してチップをシュリンクしても、図2(A)に示すようにD1方向(長辺方向)での長さLDも短くなってしまい、出力ピッチが狭ピッチになるため、実装の困難化を招く。   In the comparative example of FIG. 1A, as shown in FIG. 6B, two or more circuit blocks are arranged along the direction D2. In the D2 direction, a wiring region is formed between the circuit blocks or between the circuit block and the I / F region. Therefore, the width W of the integrated circuit device 500 in the D2 direction (short side direction) becomes large, and a slim elongated chip cannot be realized. Therefore, even if the chip is shrunk using a fine process, the length LD in the D1 direction (long side direction) is also shortened as shown in FIG. Incurs difficulty in implementation.

これに対して本実施形態では図3、図5(A)(B)に示すように複数の回路ブロックCB1〜CBNがD1方向に沿って配置される。また図6(A)に示すように、パッド(バンプ)の下にトランジスタ(回路素子)を配置できる(能動面バンプ)。また回路ブロック内の配線であるローカル配線よりも上層(パッドよりも下層)で形成されるグローバル配線により、回路ブロック間や、回路ブロックとI/F領域間等での信号線を形成できる。従って図2(B)に示すように、集積回路装置10のD1方向での長さLDを維持したままで、D2方向での幅Wを狭くでき、超スリムな細長チップを実現できる。この結果、出力ピッチを例えば22μm以上に維持することができ、実装を容易化できる。   On the other hand, in this embodiment, as shown in FIGS. 3, 5A and 5B, a plurality of circuit blocks CB1 to CBN are arranged along the direction D1. Further, as shown in FIG. 6A, a transistor (circuit element) can be disposed under the pad (bump) (active surface bump). In addition, signal lines between circuit blocks, between circuit blocks and I / F regions, and the like can be formed by global wiring formed in a layer above the local wiring (lower layer than the pad) that is a wiring in the circuit block. Therefore, as shown in FIG. 2B, the width W in the D2 direction can be narrowed while maintaining the length LD in the D1 direction of the integrated circuit device 10, and an ultra slim slim chip can be realized. As a result, the output pitch can be maintained at, for example, 22 μm or more, and mounting can be facilitated.

また本実施形態では複数の回路ブロックCB1〜CBNがD1方向に沿って配置されるため、製品の仕様変更等に容易に対応できる。即ち共通のプラットフォームを用いて様々な仕様の製品を設計できるため、設計効率を向上できる。例えば図5(A)(B)において、表示パネルの画素数や階調数が増減した場合にも、メモリブロックやデータドライバブロックのブロック数や、1水平走査期間での画像データの読み出し回数等を増減するだけで対応できる。また図5(A)(B)はメモリ内蔵のアモルファスTFTパネル用の例であるが、メモリ内蔵の低温ポリシリコンTFTパネル用の製品を開発する場合には、回路ブロックCB1〜CBNの中から走査ドライバブロックを取り除くだけで済む。またメモリ非内蔵の製品を開発する場合には、メモリブロックを取り除けば済む。そしてこのように仕様に合わせて回路ブロックを取り除いても、本実施形態では、それが他の回路ブロックに及ぼす影響が最小限に抑えられるため、設計効率を向上できる。   In the present embodiment, since the plurality of circuit blocks CB1 to CBN are arranged along the direction D1, it is possible to easily cope with a change in product specifications and the like. In other words, since it is possible to design products with various specifications using a common platform, the design efficiency can be improved. For example, in FIGS. 5A and 5B, even when the number of pixels and the number of gradations of the display panel increase or decrease, the number of memory blocks and data driver blocks, the number of times image data is read out in one horizontal scanning period, etc. Just increase or decrease the number. FIGS. 5A and 5B are examples for an amorphous TFT panel with a built-in memory. When developing a product for a low-temperature polysilicon TFT panel with a built-in memory, scanning is performed from among the circuit blocks CB1 to CBN. Just remove the driver block. When developing a product without a memory, the memory block can be removed. Even if the circuit block is removed in accordance with the specifications as described above, in this embodiment, the influence of the circuit block on the other circuit blocks can be minimized, so that the design efficiency can be improved.

また本実施形態では、各回路ブロックCB1〜CBNのD2方向での幅(高さ)を、例えばデータドライバブロックやメモリブロックの幅(高さ)に統一できる。そして各回路ブロックのトランジスタ数が増減した場合には、各回路ブロックのD1方向での長さを増減することで調整できるため、設計を更に効率化できる。例えば図5(A)(B)において、階調電圧生成回路ブロックや電源回路ブロックの構成が変更になり、トランジスタ数が増減した場合にも、階調電圧生成回路ブロックや電源回路ブロックのD1方向での長さを増減することで対応できる。   In the present embodiment, the width (height) of each circuit block CB1 to CBN in the D2 direction can be unified with, for example, the width (height) of the data driver block and the memory block. When the number of transistors in each circuit block increases / decreases, the design can be made more efficient because it can be adjusted by increasing / decreasing the length of each circuit block in the D1 direction. For example, in FIGS. 5A and 5B, even when the configuration of the gradation voltage generation circuit block or the power supply circuit block is changed and the number of transistors is increased or decreased, the direction of the gradation voltage generation circuit block or the power supply circuit block in the direction D1 This can be dealt with by increasing or decreasing the length.

なお第2の比較例として、例えばデータドライバブロックをD1方向に細長に配置し、データドライバブロックのD4方向側に、メモリブロックなどの他の複数の回路ブロックをD1方向に沿って配置する手法も考えられる。しかしながらこの第2の比較例では、メモリブロックなどの他の回路ブロックと出力側I/F領域との間に、幅の大きなデータドライバブロックが介在するようになるため、集積回路装置のD2方向での幅Wが大きくなり、スリムな細長チップの実現が困難になる。またデータドライバブロックとメモリブロックの間に無駄な配線領域が生じてしまい、幅Wが更に大きくなってしまう。またデータドライバブロックやメモリブロックの構成が変わった場合には、図1(B)(C)で説明したピッチの不一致の問題が生じ、設計効率を向上できない。   As a second comparative example, there is also a method in which, for example, the data driver block is elongated in the D1 direction, and other circuit blocks such as a memory block are arranged along the D1 direction on the D4 direction side of the data driver block. Conceivable. However, in the second comparative example, a data driver block having a large width is interposed between another circuit block such as a memory block and the output-side I / F region. Therefore, in the D2 direction of the integrated circuit device. The width W becomes larger, and it becomes difficult to realize a slim elongated chip. In addition, a useless wiring area is generated between the data driver block and the memory block, and the width W is further increased. Further, when the configuration of the data driver block or the memory block is changed, the pitch mismatch problem described with reference to FIGS. 1B and 1C occurs, and the design efficiency cannot be improved.

また本実施形態の第3の比較例として、同一機能の回路ブロック(例えばデータドライバブロック)だけをブロック分割して、D1方向に並べて配置する手法も考えられる。しかしながら、この第3の比較例では、集積回路装置に同一機能(例えばデータドライバの機能)だけしか持たせることができないため、多様な製品展開を実現できない。これに対して本実施形態では、回路ブロックCB1〜CBNは、少なくとも2つの異なる機能を有する回路ブロックを含む。従って図4、図5(A)(B)に示すように、様々なタイプの表示パネルに対応した多様な機種の集積回路装置を提供できるという利点がある。   Further, as a third comparative example of the present embodiment, a method in which only circuit blocks having the same function (for example, data driver blocks) are divided into blocks and arranged in the D1 direction is also conceivable. However, in the third comparative example, since the integrated circuit device can have only the same function (for example, the function of the data driver), various product development cannot be realized. On the other hand, in the present embodiment, the circuit blocks CB1 to CBN include circuit blocks having at least two different functions. Accordingly, as shown in FIGS. 4, 5A and 5B, there is an advantage that various types of integrated circuit devices corresponding to various types of display panels can be provided.

3.回路構成
図7に集積回路装置10の回路構成例を示す。なお集積回路装置10の回路構成は図7に限定されるものではなく、種々の変形実施が可能である。メモリ20(表示データRAM)は画像データを記憶する。メモリセルアレイ22は複数のメモリセルを含み、少なくとも1フレーム(1画面)分の画像データ(表示データ)を記憶する。この場合、1画素は例えばR、G、Bの3サブピクセル(3ドット)で構成され、各サブピクセルについて例えば6ビット(kビット)の画像データが記憶される。ローアドレスデコーダ24(MPU/LCDローアドレスデコーダ)はローアドレスについてのデコード処理を行い、メモリセルアレイ22のワード線の選択処理を行う。カラムアドレスデコーダ26(MPUカラムアドレスデコーダ)はカラムアドレスについてのデコード処理を行い、メモリセルアレイ22のビット線の選択処理を行う。ライト/リード回路28(MPUライト/リード回路)はメモリセルアレイ22への画像データのライト処理や、メモリセルアレイ22からの画像データのリード処理を行う。なおメモリセルアレイ22のアクセス領域は、例えばスタートアドレスとエンドアドレスを対頂点とする矩形で定義される。即ちスタートアドレスのカラムアドレス及びローアドレスと、エンドアドレスのカラムアドレス及びローアドレスでアクセス領域が定義され、メモリアクセスが行われる。
3. Circuit Configuration FIG. 7 shows a circuit configuration example of the integrated circuit device 10. The circuit configuration of the integrated circuit device 10 is not limited to that shown in FIG. 7, and various modifications can be made. The memory 20 (display data RAM) stores image data. The memory cell array 22 includes a plurality of memory cells and stores image data (display data) for at least one frame (one screen). In this case, one pixel is composed of, for example, three subpixels (3 dots) of R, G, and B, and image data of, for example, 6 bits (k bits) is stored for each subpixel. The row address decoder 24 (MPU / LCD row address decoder) performs a decoding process on the row address and performs a word line selection process of the memory cell array 22. A column address decoder 26 (MPU column address decoder) performs a decoding process on the column address and performs a selection process of a bit line of the memory cell array 22. The write / read circuit 28 (MPU write / read circuit) performs image data write processing to the memory cell array 22 and image data read processing from the memory cell array 22. The access area of the memory cell array 22 is defined by, for example, a rectangle having a start address and an end address as a vertex. That is, an access area is defined by the column address and row address of the start address and the column address and row address of the end address, and memory access is performed.

ロジック回路40(例えば自動配置配線回路)は、表示タイミングを制御するための制御信号やデータ処理タイミングを制御するための制御信号などを生成する。このロジック回路40は例えばゲートアレイ(G/A)などの自動配置配線により形成できる。制御回路42は各種制御信号を生成したり、装置全体の制御を行う。具体的には階調電圧生成回路110に階調特性(γ特性)の調整データ(γ補正データ)を出力したり、電源回路90の電圧生成を制御する。またローアドレスデコーダ24、カラムアドレスデコーダ26、ライト/リード回路28を用いたメモリへのライト/リード処理を制御する。表示タイミング制御回路44は表示タイミングを制御するための各種の制御信号を生成し、メモリから表示パネル側への画像データの読み出しを制御する。ホスト(MPU)インターフェース回路46は、ホストからのアクセス毎に内部パルスを発生してメモリにアクセスするホストインターフェースを実現する。RGBインターフェース回路48は、ドットクロックにより動画のRGBデータをメモリに書き込むRGBインターフェースを実現する。なおホストインターフェース回路46、RGBインターフェース回路48のいずれか一方のみを設ける構成としてもよい。   The logic circuit 40 (for example, an automatic placement and routing circuit) generates a control signal for controlling display timing, a control signal for controlling data processing timing, and the like. The logic circuit 40 can be formed by automatic placement and routing such as a gate array (G / A). The control circuit 42 generates various control signals and controls the entire apparatus. Specifically, gradation characteristic (γ characteristic) adjustment data (γ correction data) is output to the gradation voltage generation circuit 110 and voltage generation of the power supply circuit 90 is controlled. Further, it controls the write / read processing to the memory using the row address decoder 24, the column address decoder 26, and the write / read circuit 28. The display timing control circuit 44 generates various control signals for controlling the display timing, and controls reading of image data from the memory to the display panel side. The host (MPU) interface circuit 46 implements a host interface that generates an internal pulse for each access from the host and accesses the memory. The RGB interface circuit 48 realizes an RGB interface that writes moving image RGB data to a memory using a dot clock. Note that only one of the host interface circuit 46 and the RGB interface circuit 48 may be provided.

図7において、ホストインターフェース回路46、RGBインターフェース回路48からは1画素単位でメモリ20へのアクセスが行われる。一方、データドライバ50へは、ホストインターフェース回路46、RGBインターフェース回路48とは独立した内部表示タイミングにより、ライン周期毎に、ラインアドレスで指定されライン単位で読み出された画像データが送られる。   In FIG. 7, the host interface circuit 46 and the RGB interface circuit 48 access the memory 20 in units of pixels. On the other hand, to the data driver 50, image data designated by a line address and read in units of lines is sent for each line period at an internal display timing independent of the host interface circuit 46 and the RGB interface circuit 48.

データドライバ50は表示パネルのデータ線を駆動するための回路であり、図8(A)にその構成例を示す。データラッチ回路52は、メモリ20からのデジタルの画像データをラッチする。D/A変換回路54(電圧選択回路)は、データラッチ回路52にラッチされたデジタルの画像データのD/A変換を行い、アナログのデータ電圧を生成する。具体的には階調電圧生成回路110から複数(例えば64段階)の階調電圧(基準電圧)を受け、これらの複数の階調電圧の中から、デジタルの画像データに対応する電圧を選択して、データ電圧として出力する。出力回路56(駆動回路、バッファ回路)は、D/A変換回路54からのデータ電圧をバッファリングして表示パネルのデータ線に出力し、データ線を駆動する。なお、出力回路56の一部(例えば演算増幅器の出力段)をデータドライバ50には含ませずに、他の領域に配置する構成としてもよい。   The data driver 50 is a circuit for driving the data lines of the display panel, and FIG. 8A shows a configuration example thereof. The data latch circuit 52 latches digital image data from the memory 20. The D / A conversion circuit 54 (voltage selection circuit) performs D / A conversion of the digital image data latched by the data latch circuit 52 and generates an analog data voltage. Specifically, a plurality of (for example, 64 levels) gradation voltages (reference voltages) are received from the gradation voltage generation circuit 110, and a voltage corresponding to digital image data is selected from the plurality of gradation voltages. And output as a data voltage. The output circuit 56 (drive circuit, buffer circuit) buffers the data voltage from the D / A conversion circuit 54 and outputs it to the data line of the display panel to drive the data line. Note that a part of the output circuit 56 (for example, an output stage of an operational amplifier) may not be included in the data driver 50 but may be arranged in another region.

走査ドライバ70は表示パネルの走査線を駆動するための回路であり、図8(B)にその構成例を示す。シフトレジスタ72は順次接続された複数のフリップフロップを含み、シフトクロック信号SCKに同期してイネーブル入出力信号EIOを順次シフトする。レベルシフタ76は、シフトレジスタ72からの信号の電圧レベルを、走査線選択のための高電圧レベルに変換する。出力回路78は、レベルシフタ76により変換されて出力された走査電圧をバッファリングして表示パネルの走査線に出力し、走査線を選択駆動する。なお走査ドライバ70は図8(C)に示す構成であってもよい。図8(C)では、走査アドレス生成回路73が走査アドレスを生成して出力し、アドレスデコーダが走査アドレスのデコード処理を行う。そしてこのデコード処理により特定された走査線に対して、レベルシフタ76、出力回路78を介して走査電圧が出力される。   The scan driver 70 is a circuit for driving the scan lines of the display panel, and FIG. 8B shows a configuration example thereof. The shift register 72 includes a plurality of flip-flops sequentially connected, and sequentially shifts the enable input / output signal EIO in synchronization with the shift clock signal SCK. The level shifter 76 converts the voltage level of the signal from the shift register 72 into a high voltage level for scanning line selection. The output circuit 78 buffers the scanning voltage converted and output by the level shifter 76 and outputs it to the scanning line of the display panel to selectively drive the scanning line. Note that the scan driver 70 may have the configuration shown in FIG. In FIG. 8C, the scan address generation circuit 73 generates and outputs a scan address, and the address decoder performs a scan address decoding process. A scanning voltage is output via the level shifter 76 and the output circuit 78 to the scanning line specified by this decoding process.

電源回路90は各種の電源電圧を生成する回路であり、図9(A)にその構成例を示す。昇圧回路92は、入力電源電圧や内部電源電圧を、昇圧用キャパシタや昇圧用トランジスタを用いてチャージポンプ方式で昇圧し、昇圧電圧を生成する回路であり、1次〜4次昇圧回路などを含むことができる。この昇圧回路92により、走査ドライバ70や階調電圧生成回路110が使用する高電圧を生成できる。レギュレータ回路94は、昇圧回路92により生成された昇圧電圧のレベル調整を行う。VCOM生成回路96は、表示パネルの対向電極に供給するVCOM電圧を生成して出力する。制御回路98は電源回路90の制御を行うものであり、各種の制御レジスタなどを含む。   The power supply circuit 90 is a circuit that generates various power supply voltages, and FIG. The booster circuit 92 is a circuit that boosts the input power supply voltage and the internal power supply voltage by a charge pump method using a boosting capacitor and a boosting transistor, and generates a boosted voltage, and includes primary to quaternary boosting circuits and the like. be able to. The booster circuit 92 can generate a high voltage used by the scan driver 70 and the gradation voltage generation circuit 110. The regulator circuit 94 adjusts the level of the boosted voltage generated by the booster circuit 92. The VCOM generation circuit 96 generates and outputs a VCOM voltage supplied to the counter electrode of the display panel. The control circuit 98 controls the power supply circuit 90 and includes various control registers.

階調電圧生成回路(γ補正回路)110は階調電圧を生成する回路であり、図9(B)にその構成例を示す。選択用電圧生成回路112(電圧分割回路)は、電源回路90で生成された高電圧の電源電圧VDDH、VSSHに基づいて、選択用電圧VS0〜VS255(広義にはR個の選択用電圧)を出力する。具体的には選択用電圧生成回路112は、直列に接続された複数の抵抗素子を有するラダー抵抗回路を含む。そしてVDDH、VSSHを、このラダー抵抗回路により分割した電圧を、選択用電圧VS0〜VS255として出力する。階調電圧選択回路114は、ロジック回路40により調整レジスタ116に設定された階調特性の調整データに基づいて、選択用電圧VS0〜VS255の中から、例えば64階調の場合には64個(広義にはS個。R>S)の電圧を選択して、階調電圧V0〜V63として出力する。このようにすれば表示パネルに応じた最適な階調特性(γ補正特性)の階調電圧を生成できる。なお極性反転駆動の場合には、正極性用のラダー抵抗回路と負極性用のラダー抵抗回路を選択用電圧生成回路112に設けてもよい。またラダー抵抗回路の各抵抗素子の抵抗値を、調整レジスタ116に設定された調整データに基づいて変更できるようにしてもよい。また選択用電圧生成回路112や階調電圧選択回路114に、インピーダンス変換回路(ボルテージフォロワ接続の演算増幅器)を設ける構成にしてもよい。   A gradation voltage generation circuit (γ correction circuit) 110 is a circuit that generates a gradation voltage, and FIG. 9B shows a configuration example thereof. The selection voltage generation circuit 112 (voltage division circuit) generates selection voltages VS0 to VS255 (R selection voltages in a broad sense) based on the high voltage power supply voltages VDDH and VSSH generated by the power supply circuit 90. Output. Specifically, the selection voltage generation circuit 112 includes a ladder resistor circuit having a plurality of resistor elements connected in series. Then, voltages obtained by dividing VDDH and VSSH by the ladder resistor circuit are output as selection voltages VS0 to VS255. Based on the gradation characteristic adjustment data set in the adjustment register 116 by the logic circuit 40, the gradation voltage selection circuit 114 is selected from among the selection voltages VS0 to VS255, for example, 64 in the case of 64 gradations ( In a broad sense, S voltages (R> S) are selected and output as gradation voltages V0 to V63. In this way, it is possible to generate a gradation voltage having an optimum gradation characteristic (γ correction characteristic) according to the display panel. In the case of polarity inversion driving, a positive ladder resistance circuit and a negative ladder resistance circuit may be provided in the selection voltage generation circuit 112. Further, the resistance value of each resistance element of the ladder resistor circuit may be changed based on the adjustment data set in the adjustment register 116. Further, the selection voltage generation circuit 112 and the gradation voltage selection circuit 114 may be provided with an impedance conversion circuit (an operational amplifier having a voltage follower connection).

図10(A)に、図8(A)のD/A変換回路54が含む各DAC(Digital Analog Converter)の構成例を示す。図10(A)の各DACは、例えばサブピクセル毎(或いは画素毎)に設けることができ、ROMデコーダ等により構成される。そしてメモリ20からの6ビットのデジタルの画像データD0〜D5とその反転データXD0〜XD5に基づいて、階調電圧生成回路110からの階調電圧V0〜V63のいずれかを選択することで、画像データD0〜D5をアナログ電圧に変換する。そして得られたアナログ電圧の信号DAQ(DAQR、DAQG、DAQB)を出力回路56に出力する。   FIG. 10A shows a configuration example of each DAC (Digital Analog Converter) included in the D / A conversion circuit 54 of FIG. Each DAC in FIG. 10A can be provided, for example, for each subpixel (or for each pixel), and is configured by a ROM decoder or the like. Then, based on the 6-bit digital image data D0 to D5 from the memory 20 and the inverted data XD0 to XD5, any one of the gradation voltages V0 to V63 from the gradation voltage generation circuit 110 is selected. Data D0 to D5 are converted into analog voltages. The obtained analog voltage signal DAQ (DAQR, DAQG, DAQB) is output to the output circuit 56.

なお低温ポリシリコンTFT用の表示ドライバ等で、R用、G用、B用のデータ信号をマルチプレクスして表示ドライバに送る場合(図10(C)の場合)には、R用、G用、B用の画像データを、1つの共用のDACを用いてD/A変換することもできる。この場合には図10(A)の各DACは画素毎に設けられる。   In addition, when the data signals for R, G, and B are multiplexed and sent to the display driver by the display driver for the low-temperature polysilicon TFT (in the case of FIG. 10C), for R and G , B image data can also be D / A converted using one common DAC. In this case, each DAC in FIG. 10A is provided for each pixel.

図10(B)に、図8(A)の出力回路56が含む各出力部SQの構成例を示す。図10(B)の各出力部SQは画素毎に設けることができる。各出力部SQは、R(赤)用、G(緑)用、B(青)用のインピーダンス変換回路OPR、OPG、OPB(ボルテージフォロワ接続の演算増幅器)を含み、DACからの信号DAQR、DAQG、DAQBのインピーダンス変換を行って、データ信号DATAR、DATAG、DATABをR、G、B用のデータ信号出力線に出力する。なお例えば低温ポリシリコンTFTパネルの場合には、図10(C)に示すようなスイッチ素子(スイッチ用トランジスタ)SWR、SWG、SWBを設け、R用、G用、B用のデータ信号が多重化されたデータ信号DATAを、インピーダンス変換回路OPが出力するようにしてもよい。またデータ信号の多重化を複数画素に亘って行うようにしてもよい。また出力部SQに、図10(B)(C)のようなインピーダンス変換回路を設けずに、スイッチ素子等だけを設ける構成にしてもよい。   FIG. 10B shows a configuration example of each output unit SQ included in the output circuit 56 of FIG. Each output unit SQ in FIG. 10B can be provided for each pixel. Each output unit SQ includes impedance conversion circuits OPR, OPG, and OPB (voltage follower-connected operational amplifiers) for R (red), G (green), and B (blue), and signals DAQR and DAQQ from the DAC , DAQB impedance conversion is performed, and data signals DATAR, DATAG, and DATAB are output to the R, G, and B data signal output lines. For example, in the case of a low-temperature polysilicon TFT panel, switch elements (switch transistors) SWR, SWG, and SWB as shown in FIG. 10C are provided, and data signals for R, G, and B are multiplexed. The impedance conversion circuit OP may output the data signal DATA that has been processed. Further, the data signal may be multiplexed over a plurality of pixels. Further, the output unit SQ may be provided with only a switch element or the like without providing the impedance conversion circuit as shown in FIGS.

4.ロジック回路、階調電圧生成回路、データドライバ、電源回路のブロックの配置
4.1 データドライバブロックの配置
本実施形態では図11に示すように、回路ブロックCB1〜CBNが、階調特性の調整データの設定を行うロジック回路ブロックLBと、設定された調整データに基づいて階調電圧を生成する階調電圧生成回路ブロックGBを含む。また階調電圧生成回路ブロックGBからの階調電圧を受け、データ線を駆動するためのデータドライバブロックDB1〜DB4(広義には少なくとも1つのデータドライバブロック)と、電源電圧を生成する電源回路ブロックPBを含む。そして本実施形態では、データドライバブロックDB1〜DB4が、ロジック回路ブロックLB及び階調電圧生成回路ブロックGBと、電源回路ブロックPBとの間に配置されている。
4). Arrangement of Logic Circuit, Gradation Voltage Generation Circuit, Data Driver, and Power Supply Block 4.1 Arrangement of Data Driver Block In this embodiment, as shown in FIG. 11, circuit blocks CB1 to CBN are provided with gradation characteristic adjustment data. A logic circuit block LB that performs the setting, and a gradation voltage generation circuit block GB that generates a gradation voltage based on the set adjustment data. In addition, the data driver blocks DB1 to DB4 (at least one data driver block in a broad sense) for receiving the grayscale voltage from the grayscale voltage generation circuit block GB and driving the data lines, and the power supply circuit block for generating the power supply voltage Includes PB. In this embodiment, the data driver blocks DB1 to DB4 are arranged between the logic circuit block LB and the gradation voltage generation circuit block GB and the power supply circuit block PB.

図11の配置によれば、回路面積が比較的大きいロジック回路ブロックLB及び階調電圧生成回路ブロックGBや電源回路ブロックPBが、データドライバブロックDB1〜DB4の両側に配置されるようになる。従って、ロジック回路ブロックLB及び階調電圧生成回路ブロックGBのD4方向側の空きスペース(C1に示すスペース)を利用して、ロジック回路用パッドやそのパッド下に形成される入力用トランジスタ等を配置できるようになる。また電源回路ブロックPBのD4方向側の空きスペース(C2に示すスペース)を利用して、トランジスタサイズが大きい電源回路の昇圧用トランジスタ等を配置できるようになる。また図11の配置によれば、データドライバブロックDB1〜DB4を集積回路装置の中央付近に集中して配置できるようになるため、DB1〜DB4からのデータ信号の出力線を、出力側I/F領域12において効率良くシンプルに配線できる。従って、出力側I/F領域12や入力側I/F領域14での配線効率や配置効率を向上でき、集積回路装置のD2方向での幅Wを小さくでき、スリムな細長の集積回路装置を実現できる。   According to the arrangement of FIG. 11, the logic circuit block LB, the gradation voltage generation circuit block GB, and the power supply circuit block PB having a relatively large circuit area are arranged on both sides of the data driver blocks DB1 to DB4. Therefore, using the empty space (space shown by C1) on the D4 direction side of the logic circuit block LB and the gradation voltage generating circuit block GB, the logic circuit pads and the input transistors formed under the pads are arranged. become able to. Further, by using the empty space (space indicated by C2) on the D4 direction side of the power supply circuit block PB, it becomes possible to arrange boosting transistors and the like of the power supply circuit having a large transistor size. Further, according to the arrangement shown in FIG. 11, the data driver blocks DB1 to DB4 can be concentrated and arranged near the center of the integrated circuit device. Therefore, the output lines of the data signals from DB1 to DB4 are connected to the output side I / F. In the area 12, wiring can be performed efficiently and simply. Therefore, the wiring efficiency and the placement efficiency in the output I / F region 12 and the input I / F region 14 can be improved, the width W in the D2 direction of the integrated circuit device can be reduced, and a slim elongated integrated circuit device can be obtained. realizable.

また図11の配置によれば、ロジック回路ブロックLBからの調整データに基づき階調電圧生成回路ブロックGBにより生成された階調電圧の出力線を、グローバル線等を利用して効率良く配線してデータドライバブロックDB1〜DB4に接続できる。従って、配線効率を向上でき、回路ブロックCB1〜CBNのD2方向での幅を小さくでき、スリムな細長の集積回路装置を実現できる。   Further, according to the arrangement of FIG. 11, the output line of the gradation voltage generated by the gradation voltage generation circuit block GB based on the adjustment data from the logic circuit block LB is efficiently wired using a global line or the like. The data driver blocks DB1 to DB4 can be connected. Therefore, the wiring efficiency can be improved, the width of the circuit blocks CB1 to CBN in the D2 direction can be reduced, and a slim and slender integrated circuit device can be realized.

また図11では、ロジック回路ブロックLBと階調電圧生成回路ブロックGBを、D1方向に沿って隣接して配置している。その理由は以下の通りである。   In FIG. 11, the logic circuit block LB and the gradation voltage generation circuit block GB are arranged adjacent to each other along the direction D1. The reason is as follows.

例えば図12に、階調電圧生成回路ブロックGBの詳細な回路構成例を示す。なお図12には正極性用の回路を示しているが、負極性用の回路も同様の構成で実現できる。振幅調整レジスタ300、傾き調整レジスタ302、微調整レジスタ304には、階調特性の調整データが設定される。この調整データの設定(書き込み)はロジック回路ブロックLBにより行われる。例えば振幅調整レジスタ300に調整データを設定することで、図13(A)のB1、B2に示すように電源電圧VDDH、VSSHの電圧レベルが変化し、階調電圧の振幅調整が可能になる。また傾き調整レジスタ302に調整データを設定することで、図13(B)のB3〜B6に示すように、階調レベルの4ポイントにおける階調電圧が変化し、階調特性の傾き調整が可能になる。即ち傾き調整レジスタ302に設定される4ビットの調整データVRP3に基づいて、ラダー抵抗を構成する抵抗素子RL12の抵抗値が変化し、B3に示すような傾き調整が可能になる。VRP2〜VRP0についても同様である。また微調整レジスタ304に調整データを設定することで、図13(C)のB7〜B14に示すように、階調レベルの8ポイントにおける階調電圧が変化し、階調特性の微調整が可能になる。即ち微調整レジスタ304に設定される3ビットの調整データVP8に基づいて、8to1セレクタ318が、抵抗素子RL11の8個のタップのうちから1つのタップを選択し、選択されたタップの電圧をVOP8として出力する。これにより図13(C)のB7に示すような微調整が可能になる。VP7〜VP1についても同様である。   For example, FIG. 12 shows a detailed circuit configuration example of the gradation voltage generation circuit block GB. Although FIG. 12 shows a circuit for positive polarity, a circuit for negative polarity can be realized with the same configuration. In the amplitude adjustment register 300, the inclination adjustment register 302, and the fine adjustment register 304, gradation characteristic adjustment data is set. This adjustment data is set (written) by the logic circuit block LB. For example, by setting adjustment data in the amplitude adjustment register 300, the voltage levels of the power supply voltages VDDH and VSSH change as shown by B1 and B2 in FIG. 13A, and the amplitude of the gradation voltage can be adjusted. Further, by setting adjustment data in the inclination adjustment register 302, as shown in B3 to B6 in FIG. 13B, the gradation voltage at the four points of the gradation level changes, and the inclination of the gradation characteristics can be adjusted. become. That is, based on the 4-bit adjustment data VRP3 set in the inclination adjustment register 302, the resistance value of the resistance element RL12 constituting the ladder resistor changes, and the inclination adjustment as shown in B3 becomes possible. The same applies to VRP2 to VRP0. Further, by setting adjustment data in the fine adjustment register 304, as shown in B7 to B14 of FIG. 13C, the gradation voltage at 8 points of the gradation level changes, and the gradation characteristics can be finely adjusted. become. That is, based on the 3-bit adjustment data VP8 set in the fine adjustment register 304, the 8to1 selector 318 selects one tap from the eight taps of the resistance element RL11, and sets the voltage of the selected tap to VOP8. Output as. As a result, fine adjustment as indicated by B7 in FIG. The same applies to VP7 to VP1.

階調アンプ部320は、8to1セレクタ311〜318の出力VOP1〜VOP8やVDDH、VSSHに基づいて、階調電圧V0〜V63を出力する。具体的には階調アンプ部320は、VOP1〜VPOP8が入力される第1〜第8のインピーダンス変換回路(ボルテージフォロワ接続された演算増幅器)を含む。そして例えば第1〜第8のインピーダンス変換回路のうちの隣り合うインピーダンス変換回路の出力電圧を抵抗分割することで、階調電圧V1〜V62が生成される。   The gradation amplifier unit 320 outputs gradation voltages V0 to V63 based on the outputs VOP1 to VOP8 of the 8to1 selectors 311 to 318, VDDH, and VSSH. Specifically, the gradation amplifier unit 320 includes first to eighth impedance conversion circuits (operational amplifiers connected to voltage followers) to which VOP1 to VPOP8 are input. Then, for example, by dividing the output voltage of the adjacent impedance conversion circuit among the first to eighth impedance conversion circuits by resistance, the gradation voltages V1 to V62 are generated.

以上のような調整を行えば、表示パネルの種類に応じた最適な階調特性(γ特性)を得ることができ、表示品質を向上できる。   By performing the adjustment as described above, it is possible to obtain the optimum gradation characteristic (γ characteristic) according to the type of the display panel, and to improve the display quality.

しかしながら、このような調整を行うための調整データのビット数は図12に示すように多い。このため、ロジック回路ブロックLBから階調電圧生成回路ブロックGBへの調整データの信号線の本数も多い。従ってロジック回路ブロックLBと階調電圧生成回路ブロックGBを隣接して配置しないと、調整データの信号線のための配線領域が原因となってチップ面積が増加するおそれがある。   However, the number of bits of adjustment data for performing such adjustment is large as shown in FIG. Therefore, the number of adjustment data signal lines from the logic circuit block LB to the gradation voltage generation circuit block GB is also large. Therefore, if the logic circuit block LB and the gradation voltage generation circuit block GB are not disposed adjacent to each other, there is a possibility that the chip area may increase due to a wiring region for the adjustment data signal line.

そこで本実施形態では図11に示すようにロジック回路ブロックLBと階調電圧生成回路ブロックGBをD1方向に沿って隣接して配置させている。このようにすれば、ロジック回路ブロックLBからの調整データの信号線をショートパスで階調電圧生成回路ブロックGBに接続できるため、配線領域を原因とするチップ面積の増加を防止できる。   Therefore, in this embodiment, as shown in FIG. 11, the logic circuit block LB and the gradation voltage generation circuit block GB are arranged adjacent to each other along the direction D1. In this way, the adjustment data signal line from the logic circuit block LB can be connected to the gradation voltage generation circuit block GB through a short path, and thus an increase in chip area due to the wiring region can be prevented.

なお本実施形態の比較例として、階調電圧生成回路ブロックGBとロジック回路ブロックLBをD2方向に沿って隣接して配置する手法も考えられる。しかしながら、この比較例の手法によると、D2方向で2つの回路ブロックがスタックされて配置されるようになるため、その分だけD2方向での集積回路装置の幅が大きくなってしまう。また表示パネルの種類や画素数、表示ドライバの仕様等に応じて、D2方向にスタックされた回路ブロックのうちの一方の回路ブロックの回路構成が変化し、一方の回路ブロックのD2方向での幅やD1方向での長さが変化すると、その影響が他方の回路ブロックに及んでしまい、設計が非効率化する。   As a comparative example of the present embodiment, a method of arranging the gradation voltage generation circuit block GB and the logic circuit block LB adjacent to each other along the direction D2 is also conceivable. However, according to the method of this comparative example, since two circuit blocks are stacked and arranged in the D2 direction, the width of the integrated circuit device in the D2 direction is increased accordingly. In addition, the circuit configuration of one of the circuit blocks stacked in the D2 direction changes depending on the type of display panel, the number of pixels, the display driver specifications, and the like, and the width of the one circuit block in the D2 direction. If the length in the D1 direction is changed, the influence is exerted on the other circuit block, and the design becomes inefficient.

これに対して本実施形態では、階調電圧生成回路ブロックGBとロジック回路ブロックLBがD1方向に沿って配置される。従って、D2方向での集積回路装置の幅Wを小さくでき、図2(B)に示すようなスリムな細長チップを実現できる。また表示パネルの種類等に応じて、隣り合う回路ブロックのうちの一方の回路ブロックの回路構成が変化した場合には、その一方の回路ブロックのD1方向での長さ等を調整するだけで済む。従って、一方の回路ブロックの影響が他方の回路ブロックに及ぶのを防止でき、設計を効率化できる。   On the other hand, in the present embodiment, the gradation voltage generation circuit block GB and the logic circuit block LB are arranged along the direction D1. Therefore, the width W of the integrated circuit device in the direction D2 can be reduced, and a slim and slender chip as shown in FIG. 2B can be realized. Further, when the circuit configuration of one of the adjacent circuit blocks changes depending on the type of the display panel, it is only necessary to adjust the length of the one circuit block in the D1 direction. . Therefore, the influence of one circuit block can be prevented from affecting the other circuit block, and the design can be made more efficient.

また図11では、階調電圧生成回路ブロックGBは、データドライバブロックDB1〜DB4とロジック回路ブロックLBの間に配置される。   In FIG. 11, the gradation voltage generation circuit block GB is disposed between the data driver blocks DB1 to DB4 and the logic circuit block LB.

即ち図11において、階調電圧生成回路ブロックGBとロジック回路ブロックLBの間には、調整データの信号線が配線され、その本数は図12で説明したように多い。また階調電圧生成回路ブロックGBは、データドライバブロックDBに対して階調電圧を出力する必要があり、その階調電圧出力線の本数も非常に多い。従って図11において、階調電圧生成回路ブロックGBを、データドライバブロックDBとロジック回路ブロックLBの間に配置せずに、LBのD1方向側に配置すると、GBとLBの間において、調整データの信号線のみならず階調電圧出力線も配線する必要が生じる。従ってGBとLBの間において、他の信号線や電源線をグローバル線等で配線することが難しくなり、配線効率が低下する。   That is, in FIG. 11, adjustment data signal lines are wired between the grayscale voltage generation circuit block GB and the logic circuit block LB, and the number thereof is large as described with reference to FIG. The gradation voltage generation circuit block GB needs to output gradation voltages to the data driver block DB, and the number of gradation voltage output lines is very large. Accordingly, in FIG. 11, if the gradation voltage generation circuit block GB is not disposed between the data driver block DB and the logic circuit block LB but disposed on the D1 direction side of the LB, the adjustment data between the GB and LB is not generated. It is necessary to wire not only the signal line but also the gradation voltage output line. Therefore, it becomes difficult to wire other signal lines and power supply lines between GB and LB with global lines or the like, and the wiring efficiency is lowered.

これに対して図11では、階調電圧生成回路ブロックGBは、データドライバブロックDBとロジック回路ブロックLBの間に配置されるため、GBとLBの間には、階調電圧出力線を配線しなくても済むようになる。従って、GBとLBの間において、他の信号線や電源線をグローバル線等により配線できるようになり、配線効率を向上できる。   On the other hand, in FIG. 11, the grayscale voltage generation circuit block GB is arranged between the data driver block DB and the logic circuit block LB, and therefore, a grayscale voltage output line is wired between GB and LB. You don't have to. Therefore, other signal lines and power supply lines can be wired between the GB and the LB by a global line or the like, and the wiring efficiency can be improved.

なお本実施形態では図11に示すように、データドライバブロックDBからのデータ信号の出力線DQLを、DB内においてはD2方向に沿って配線している。一方、データ信号出力線DQLを、出力側I/F領域12(第1のインターフェース領域)内においてはD1(D3)方向に沿って配線している。具体的には、出力側I/F領域12において、パッドよりも下層であり領域内のローカル線(トランジスタ配線)よりも上層のグローバル線を用いて、データ信号出力線DQLをD1方向に沿って配線している。このようにすれば図11に示すように、調整データ、階調電圧、データ信号の信号線を無駄なく配線して、データドライバブロックDBからのデータ信号をパッドを介して表示パネルに適正に出力できるようになる。またデータ信号出力線DQLを図11のように配線すれば、データ信号出力線DQLを出力側I/F領域12を利用してパッド等に接続することが可能になり、集積回路装置のD2方向での幅Wの増加を防止できる。   In this embodiment, as shown in FIG. 11, the output line DQL of the data signal from the data driver block DB is wired along the direction D2 in the DB. On the other hand, the data signal output line DQL is wired along the direction D1 (D3) in the output-side I / F region 12 (first interface region). Specifically, in the output-side I / F region 12, the data signal output line DQL is arranged along the direction D1 using a global line that is lower than the pad and higher than the local line (transistor wiring) in the region. Wiring. In this way, as shown in FIG. 11, the signal lines of the adjustment data, the gradation voltage, and the data signal are wired without waste, and the data signal from the data driver block DB is appropriately output to the display panel via the pad. become able to. If the data signal output line DQL is wired as shown in FIG. 11, the data signal output line DQL can be connected to a pad or the like using the output side I / F region 12, and the integrated circuit device in the D2 direction. It is possible to prevent the width W from increasing.

なお図11ではロジック回路ブロックLBと階調電圧生成回路ブロックGBを隣接して配置しているが、これらを隣接させない変形実施も可能である。また階調電圧生成回路ブロックGBをロジック回路ブロックLBとデータドライバブロックDB1〜DB4の間に配置しない変形実施も可能である。また階調電圧生成回路ブロックGBとデータドライバブロックDB4は、隣接させて配置してもよいし、隣接させずに配置してもよい。また電源回路ブロックPBとデータドライバブロックDB1も、隣接させて配置してもよいし、隣接させずに配置してもよい。   In FIG. 11, the logic circuit block LB and the gradation voltage generation circuit block GB are arranged adjacent to each other, but a modification in which these are not adjacent is also possible. Further, a modification is possible in which the gradation voltage generation circuit block GB is not disposed between the logic circuit block LB and the data driver blocks DB1 to DB4. Further, the gradation voltage generation circuit block GB and the data driver block DB4 may be disposed adjacent to each other or may not be disposed adjacent to each other. Further, the power supply circuit block PB and the data driver block DB1 may be disposed adjacent to each other or may not be disposed adjacent to each other.

4.2 走査ドライバブロックの配置
図14(A)では、回路ブロックCB1〜CBNが、走査線を駆動するための第1の走査ドライバブロックSB1と第2の走査ドライバブロックSB2を含む。具体的には回路ブロックCB1〜CBNのうちの第1の回路ブロックCB1(辺SD1側の回路ブロック)として第1の走査ドライバブロックSB1が配置される。またCB1〜CBNのうちの第Nの回路ブロックCBN(辺SD3側の回路ブロック)として第2の走査ドライバブロックSB2が配置される。
4.2 Arrangement of Scan Driver Block In FIG. 14A, circuit blocks CB1 to CBN include a first scan driver block SB1 and a second scan driver block SB2 for driving scan lines. Specifically, the first scan driver block SB1 is arranged as the first circuit block CB1 (circuit block on the side SD1 side) among the circuit blocks CB1 to CBN. A second scan driver block SB2 is arranged as the Nth circuit block CBN (circuit block on the side SD3 side) among the CB1 to CBN.

そして図14(A)では走査ドライバブロックSB1とデータドライバブロックDB1〜DB4の間に、電源回路ブロックPBが配置される。また走査ドライバブロックSB2とデータドライバブロックDB1〜DB4の間に、ロジック回路ブロックLB及び階調電圧生成回路ブロックGBが配置される。   In FIG. 14A, the power supply circuit block PB is arranged between the scan driver block SB1 and the data driver blocks DB1 to DB4. A logic circuit block LB and a gradation voltage generation circuit block GB are arranged between the scan driver block SB2 and the data driver blocks DB1 to DB4.

図14(A)に示すように、集積回路装置10の両端に位置する回路ブロックCB1、CBNとして走査ドライバブロックSB1、SB2を配置すれば、SB1からの第1の走査信号群を表示パネルの例えば左側から入力し、SB2からの第2の走査信号群を表示パネルの例えば右側から入力することが可能になる。こうすることで、効率的な実装や表示パネルの櫛歯駆動等を実現できる。   As shown in FIG. 14A, if the scan driver blocks SB1 and SB2 are arranged as the circuit blocks CB1 and CBN located at both ends of the integrated circuit device 10, the first scan signal group from SB1 is displayed on the display panel, for example. It is possible to input from the left side and input the second scanning signal group from SB2 from, for example, the right side of the display panel. By doing so, it is possible to realize efficient mounting, comb drive of the display panel, and the like.

そして図14(A)に示すように集積回路装置10の両端に走査ドライバブロックSB1、SB2を配置した場合、走査信号の出力パッドについても出力側I/F領域12の両端に配置することが、配線効率を考慮すると望ましい。一方、図14(A)では、データドライバブロックDB1〜DB4は集積回路装置10の中央付近に配置される。従ってデータ信号の出力パッドについても、出力側I/F領域12の中央付近に配置することが、配線効率を考慮すると望ましい。   14A, when the scan driver blocks SB1 and SB2 are arranged at both ends of the integrated circuit device 10, the scan signal output pads may be arranged at both ends of the output I / F region 12. It is desirable considering the wiring efficiency. On the other hand, in FIG. 14A, the data driver blocks DB 1 to DB 4 are arranged near the center of the integrated circuit device 10. Therefore, it is desirable to arrange the output pad for the data signal near the center of the output-side I / F region 12 in consideration of the wiring efficiency.

そして図14(A)に示すように、回路面積が比較的大きい電源回路ブロックPBやロジック回路ブロックLBを、データドライバブロックDB1〜DB4の両側に配置すれば、これらのPBやLBのD2方向側の空きスペース(C3、C4に示すスペース)を利用して、走査信号の出力パッドやそのパッド下に形成される出力用トランジスタを配置できるようになる。従って、出力側I/F領域12での配線効率を向上でき、集積回路装置10のD2方向での幅Wを小さくでき、スリムな細長の集積回路装置10を実現できる。   As shown in FIG. 14A, if the power supply circuit block PB and the logic circuit block LB having a relatively large circuit area are arranged on both sides of the data driver blocks DB1 to DB4, these PB and LB are on the D2 direction side. By using the empty space (spaces indicated by C3 and C4), the output pad for the scanning signal and the output transistor formed under the pad can be arranged. Accordingly, the wiring efficiency in the output-side I / F region 12 can be improved, the width W of the integrated circuit device 10 in the D2 direction can be reduced, and a slim and slender integrated circuit device 10 can be realized.

なお図14(A)では、ロジック回路ブロックLBと走査ドライバブロックSB2はD1方向に沿って隣接して配置される。即ちCB1〜CBNのうち走査ドライバブロックSB2との間で信号線が接続される回路ブロックは、ロジック回路ブロックLBだけであるため、このようにLBとSB2を隣接させている。但しLBとSB2を隣接させない変形実施も可能である。また図14(A)において、電源回路ブロックPBで生成された高電圧電源(20V、−20V)は、出力側I/F領域12上でD1方向に沿って形成される配線を用いて、走査ドライバブロックSB2に供給することが望ましい。こうすれば、高電圧電源の配線が他の回路ブロックに及ぼす悪影響を最小限に抑えることができる。   In FIG. 14A, the logic circuit block LB and the scan driver block SB2 are adjacently disposed along the direction D1. That is, the circuit block to which the signal line is connected to the scan driver block SB2 among the CB1 to CBN is only the logic circuit block LB, and thus LB and SB2 are adjacent to each other. However, it is possible to perform a modification in which LB and SB2 are not adjacent to each other. In FIG. 14A, the high voltage power supply (20V, −20V) generated by the power supply circuit block PB is scanned using wiring formed along the D1 direction on the output I / F region 12. It is desirable to supply the driver block SB2. By so doing, it is possible to minimize the adverse effects of the wiring of the high voltage power supply on other circuit blocks.

一方、図14(B)では、回路ブロックCB1〜CBNは走査線を駆動するための走査ドライバブロックSBを含む。具体的には回路ブロックCB1〜CBNのうちの第1の回路ブロックCB1として走査ドライバブロックSBが配置される。また図14(B)では、走査ドライバブロックSBとデータドライバブロックDBの間に、電源回路ブロックPBが配置される。なお本実施形態のD1方向は右方向には限定されず、左方向であってもよい。また第1の回路ブロックCB1(走査ドライバブロックSB)は、集積回路装置10の左端の回路ブロックには限定されず、右端の回路ブロックであってもよい。   On the other hand, in FIG. 14B, the circuit blocks CB1 to CBN include scan driver blocks SB for driving the scan lines. Specifically, the scan driver block SB is arranged as the first circuit block CB1 among the circuit blocks CB1 to CBN. In FIG. 14B, the power supply circuit block PB is arranged between the scan driver block SB and the data driver block DB. Note that the D1 direction of the present embodiment is not limited to the right direction, and may be the left direction. The first circuit block CB1 (scan driver block SB) is not limited to the leftmost circuit block of the integrated circuit device 10, and may be the rightmost circuit block.

回路面積が比較的大きい電源回路ブロックPB等を図14(B)に示すように配置すれば、PB等のD2方向側の空きスペース(C5に示すスペース)を利用して、走査信号の出力パッドやそのパッド下に形成される出力用トランジスタを配置できるようになる。従って、出力側I/F領域12での配線効率を向上でき、集積回路装置10のD2方向での幅Wを小さくでき、スリムな細長の集積回路装置10を実現できる。   When the power supply circuit block PB having a relatively large circuit area is arranged as shown in FIG. 14B, an output pad for the scanning signal is used by utilizing an empty space (space shown by C5) on the D2 direction side such as PB. And an output transistor formed under the pad can be arranged. Accordingly, the wiring efficiency in the output-side I / F region 12 can be improved, the width W of the integrated circuit device 10 in the D2 direction can be reduced, and a slim and slender integrated circuit device 10 can be realized.

なお図14(B)では走査ドライバブロックSBと電源回路ブロックPBをD1方向に沿って隣接させて配置している。即ち走査ドライバブロックSBに対しては、電源回路ブロックPB(昇圧回路)により生成された高電圧(例えば20V、−20V)の電源を供給する必要がある。そして走査ドライバブロックSB(SB1)と電源回路ブロックPBを隣接して配置すれば、この高電圧電源の配線をショートパスで接続することができ、高電圧電源の配線から発生するノイズの悪影響を最小限に抑えることができる。   In FIG. 14B, the scanning driver block SB and the power supply circuit block PB are arranged adjacent to each other along the direction D1. That is, it is necessary to supply the scan driver block SB with a high voltage (for example, 20 V, −20 V) power generated by the power supply circuit block PB (boost circuit). If the scanning driver block SB (SB1) and the power supply circuit block PB are arranged adjacent to each other, the wiring of the high voltage power supply can be connected by a short path, and the adverse effect of noise generated from the wiring of the high voltage power supply is minimized. To the limit.

また走査ドライバブロックSBと他の回路ブロック(例えば電源回路ブロックPB、ロジック回路ブロックLB)との間を接続する配線の本数は少ないが、走査ドライバブロックSBと出力側I/F領域12との間の配線の本数は非常に多い。即ち走査ドライバブロックSBからの多数の出力信号線を、出力側I/F領域12のパッド又はパッド下に形成される出力用トランジスタに接続する必要がある。従って、走査ドライバブロックSBと電源回路ブロックPBをD1方向に沿って隣接して配置すれば、PBのD2方向側の出力側I/F領域12に存在する空きスペース(C5に示すスペース)に、走査信号の出力パッドを配置できる。そしてパッド又はパッド下に形成される出力用トランジスタに対して、走査ドライバブロックSBからの多数の出力信号線を接続できる。従って、出力側I/F領域12での配線効率を向上でき、集積回路装置10のD2方向での幅Wを小さくでき、スリムな細長の集積回路装置10を実現できる。   Further, although the number of wirings connecting the scan driver block SB and other circuit blocks (for example, the power supply circuit block PB and the logic circuit block LB) is small, it is between the scan driver block SB and the output side I / F area 12. The number of wires is very large. That is, it is necessary to connect a large number of output signal lines from the scan driver block SB to the output transistors formed under the pads in the output side I / F region 12 or under the pads. Therefore, if the scan driver block SB and the power supply circuit block PB are arranged adjacent to each other along the direction D1, the empty space (space indicated by C5) existing in the output side I / F area 12 on the D2 direction side of PB An output pad for scanning signals can be arranged. A large number of output signal lines from the scan driver block SB can be connected to the output transistor formed at or below the pad. Accordingly, the wiring efficiency in the output-side I / F region 12 can be improved, the width W of the integrated circuit device 10 in the D2 direction can be reduced, and a slim and slender integrated circuit device 10 can be realized.

なお走査ドライバブロックSB(SB1)と電源回路ブロックPBの間に他の回路ブロックを挿入する変形実施も可能である。この場合には電源回路ブロックPBは、少なくとも走査ドライバブロックSB(SB1)と階調電圧生成回路ブロックGB及びロジック回路ブロックLB(データドライバブロック)との間に配置されればよい。   It should be noted that a modification is possible in which another circuit block is inserted between the scan driver block SB (SB1) and the power supply circuit block PB. In this case, the power supply circuit block PB may be disposed at least between the scan driver block SB (SB1), the gradation voltage generation circuit block GB, and the logic circuit block LB (data driver block).

4.3 階調電圧生成回路ブロックの配置の詳細
図15(A)に示すように、階調電圧生成回路ブロックGBは、電源電圧に基づいて選択用電圧(分割電圧)を出力する選択用電圧生成回路SVG(電圧分割回路)を含む。また、ロジック回路ブロックLBにより設定された調整データと、選択用電圧に基づいて、階調電圧を選択して出力する階調電圧選択回路GVSを含む。また調整データを設定するための調整レジスタARを含む。なお調整レジスタARはロジック回路ブロックLBに含ませてもよい。
4.3 Details of Arrangement of Grayscale Voltage Generation Circuit Block As shown in FIG. 15A, the grayscale voltage generation circuit block GB is a selection voltage that outputs a selection voltage (divided voltage) based on the power supply voltage. A generation circuit SVG (voltage division circuit) is included. Further, a gradation voltage selection circuit GVS that selects and outputs a gradation voltage based on the adjustment data set by the logic circuit block LB and the selection voltage is included. An adjustment register AR for setting adjustment data is also included. The adjustment register AR may be included in the logic circuit block LB.

そして図15(A)では、選択用電圧生成回路SVGは、階調電圧選択回路GVSのD4方向側に配置される。なおSVGをGVSのD2方向側に配置してもよい。また階調電圧選択回路GVSは、データドライバブロックDBとロジック回路ブロックLBの間に配置される。   In FIG. 15A, the selection voltage generation circuit SVG is disposed on the D4 direction side of the gradation voltage selection circuit GVS. SVG may be arranged on the D2 direction side of GVS. The gradation voltage selection circuit GVS is arranged between the data driver block DB and the logic circuit block LB.

図15(A)の配置によれば、階調電圧選択回路GVSは、D1方向側に配置されるロジック回路ブロックLBから調整レジスタARを介して調整データを受ける。またD4方向側に配置される選択用電圧生成回路SVGから選択用電圧を受ける。そして、これらの調整データと選択用電圧に基づき生成された階調電圧を、D3方向側に配置されるデータドライバブロックDBに出力する。従って、これらの調整データ、選択用電圧、階調電圧の信号の流れに無駄が無く、信号線がクロスしてしまう部分を最小限に抑えることができる。また調整データ、選択用電圧、階調電圧の信号線をグローバル線等を利用して効率良く配線できるため、配線効率を向上できる。   According to the arrangement of FIG. 15A, the gradation voltage selection circuit GVS receives adjustment data from the logic circuit block LB arranged on the D1 direction side via the adjustment register AR. A selection voltage is received from a selection voltage generation circuit SVG arranged on the D4 direction side. Then, the gradation voltage generated based on the adjustment data and the selection voltage is output to the data driver block DB arranged on the D3 direction side. Therefore, there is no waste in the flow of these adjustment data, selection voltage, and gradation voltage signals, and the portion where the signal lines cross can be minimized. Further, since the adjustment data, selection voltage, and gradation voltage signal lines can be efficiently wired using a global line or the like, the wiring efficiency can be improved.

図15(B)に、集積回路装置がメモリを内蔵する場合の詳細な配置例を示す。図15(B)では、メモリブロックMBとデータドライバブロックDBがD1方向に沿って隣接して配置されている。またメモリブロックMBは、データドライバブロックDBと階調電圧生成回路ブロックGBの間に配置される。   FIG. 15B shows a detailed arrangement example in the case where the integrated circuit device incorporates a memory. In FIG. 15B, the memory block MB and the data driver block DB are adjacently disposed along the direction D1. The memory block MB is arranged between the data driver block DB and the gradation voltage generation circuit block GB.

例えば図1(A)の比較例では、メモリブロックMBとデータドライバブロックDBは、信号の流れに合わせて、短辺方向であるD2方向に沿って配置される。このためD2方向での集積回路装置の幅が大きくなり、スリムな細長チップの実現が難しい。また表示パネルの画素数、表示ドライバの仕様、メモリセルの構成等が変化し、メモリブロックMBやデータドライバブロックDBのD2方向での幅やD1方向での長さが変化すると、その影響が他の回路ブロックにも及んでしまい、設計が非効率化する。   For example, in the comparative example of FIG. 1A, the memory block MB and the data driver block DB are arranged along the D2 direction, which is the short side direction, in accordance with the signal flow. For this reason, the width of the integrated circuit device in the D2 direction is increased, and it is difficult to realize a slim and slender chip. In addition, if the number of pixels of the display panel, display driver specifications, memory cell configuration, etc. change, and the width in the D2 direction and the length in the D1 direction of the memory block MB and data driver block DB change, the effect will be different. The design block becomes inefficient.

これに対して図15(B)では、データドライバブロックDBとメモリブロックMBがD1方向に沿って配置されるため、D2方向での集積回路装置の幅Wを小さくでき、図2(B)に示すようなスリムな細長チップを実現できる。また表示パネルの画素数等が変化した場合には、メモリブロックを分割することなどで、これに対応できるため、設計を効率化できる。   On the other hand, in FIG. 15B, since the data driver block DB and the memory block MB are arranged along the direction D1, the width W of the integrated circuit device in the direction D2 can be reduced. A slim and slender chip as shown can be realized. In addition, when the number of pixels of the display panel changes, it is possible to cope with this by dividing the memory block, so that the design can be made more efficient.

また図1(A)の比較例では、ワード線WLが長辺方向であるD1方向に沿って配置されるため、ワード線WLでの信号遅延が大きくなり、画像データの読み出し速度が遅くなる。特にメモリセルに接続されるワード線WLはポリシリコン層により形成されるため、この信号遅延の問題は深刻である。この場合、この信号遅延を低減するために、メモリセルアレイ間にバッファ回路を設ける手法もある。しかしながら、この手法を採用するとその分だけ回路規模が大きくなり、コスト増を招く。   Further, in the comparative example of FIG. 1A, since the word line WL is arranged along the direction D1, which is the long side direction, the signal delay in the word line WL is increased, and the image data reading speed is decreased. In particular, since the word line WL connected to the memory cell is formed of a polysilicon layer, this signal delay problem is serious. In this case, there is a method of providing a buffer circuit between the memory cell arrays in order to reduce the signal delay. However, when this method is adopted, the circuit scale increases correspondingly, resulting in an increase in cost.

これに対して図15(B)では、メモリブロックMB内において、ワード線WLは短辺方向であるD2方向に沿って配線され、ビット線BLは長辺方向であるD1方向に沿って配置される。また本実施形態ではD2方向での集積回路装置の幅Wは短い。従ってメモリブロックMB内でのワード線WLの長さを短くでき、WLでの信号遅延を図1(A)の比較例に比べて格段に小さくできる。またメモリセルアレイ間にバッファ回路を設けなくても済むため、回路面積も小さくできる。また図1(A)の比較例では、ホストからメモリの一部のアクセス領域にアクセスされた時においても、D1方向に長く寄生容量の大きいワード線WLが選択されてしまうため、消費電力が大きくなる。これに対して本実施形態のようにD1方向にメモリをブロック分割する手法を採用すれば、ホストアクセス時(ホスト側からのアクセス時)に、アクセス領域に対応するメモリブロック(第Jのメモリブロック)のワード線WLだけが選択されるようになるため、低消費電力化を実現できる。   On the other hand, in FIG. 15B, in the memory block MB, the word line WL is wired along the D2 direction which is the short side direction, and the bit line BL is arranged along the D1 direction which is the long side direction. The In this embodiment, the width W of the integrated circuit device in the direction D2 is short. Therefore, the length of the word line WL in the memory block MB can be shortened, and the signal delay at WL can be remarkably reduced as compared with the comparative example of FIG. Further, since it is not necessary to provide a buffer circuit between the memory cell arrays, the circuit area can be reduced. In the comparative example of FIG. 1A, even when a part of the access area of the memory is accessed from the host, the word line WL that is long in the D1 direction and has a large parasitic capacitance is selected. Become. On the other hand, if the technique of dividing the memory in the direction D1 as in the present embodiment is adopted, the memory block (Jth memory block) corresponding to the access area at the time of host access (access from the host side) ) Is selected, so that low power consumption can be realized.

なお図15(B)のWLは、メモリブロックMBのメモリセル(転送トランジスタ)に接続されるワード線である。一方、図15(B)のBLは、メモリブロックMBに記憶される画像データがデータドライバブロックDBに対して出力されるビット線である。   Note that WL in FIG. 15B is a word line connected to the memory cell (transfer transistor) of the memory block MB. On the other hand, BL in FIG. 15B is a bit line through which image data stored in the memory block MB is output to the data driver block DB.

5.メモリブロック、データドライバブロックの詳細
5.1 ブロック分割
図16(A)に示すように表示パネルが、垂直走査方向(データ線方向)での画素数がVPN=320であり、水平走査方向(走査線方向)での画素数がHPN=240であるQVGAのパネルであったとする。また1画素分の画像(表示)データのビット数PDBが、R、G、Bの各々が6ビットであり、PDB=18ビットであったとする。この場合には、表示パネルの1フレーム分の表示に必要な画像データのビット数は、VPN×HPN×PDB=320×240×18ビットになる。従って集積回路装置のメモリは、少なくとも320×240×18ビット分の画像データを記憶することになる。またデータドライバは、1水平走査期間毎(1本の走査線が走査される期間毎)に、HPN=240本分のデータ信号(240×18ビット分の画像データに対応するデータ信号)を表示パネルに対して出力する。
5. Details of Memory Block and Data Driver Block 5.1 Block Division As shown in FIG. 16A, the display panel has VPN = 320 pixels in the vertical scanning direction (data line direction) and the horizontal scanning direction (scanning). Assume that the QVGA panel has HPN = 240 pixels in the line direction. Further, it is assumed that the bit number PDB of image (display) data for one pixel is 6 bits for each of R, G, and B, and PDB = 18 bits. In this case, the number of bits of image data necessary for displaying one frame of the display panel is VPN × HPN × PDB = 320 × 240 × 18 bits. Therefore, the memory of the integrated circuit device stores image data for at least 320 × 240 × 18 bits. Further, the data driver displays HPN = 240 data signals (data signals corresponding to 240 × 18 bits of image data) every horizontal scanning period (every period during which one scanning line is scanned). Output to the panel.

そして図16(B)では、データドライバは、DBN=4個のデータドライバブロックDB1〜DB4に分割される。またメモリも、MBN=DBN=4個のメモリブロックMB1〜MB4に分割される。従って、各データドライバブロックDB1〜DB4は、1水平走査期間毎にHPN/DBN=240/4=60本分のデータ信号を表示パネルに出力する。また各メモリブロックMB1〜MB4は、(VPN×HPN×PDB)/MBN=(320×240×18)/4ビット分の画像データを記憶する。なお図16(B)では、メモリブロックMB1とMB2でカラムアドレスデコーダCD12を共用し、メモリブロックMB3とMB4でカラムアドレスデコーダCD34を共用している。   In FIG. 16B, the data driver is divided into DBN = 4 data driver blocks DB1 to DB4. The memory is also divided into MBN = DBN = 4 memory blocks MB1 to MB4. Accordingly, each data driver block DB1 to DB4 outputs HPN / DBN = 240/4 = 60 data signals to the display panel every horizontal scanning period. Each of the memory blocks MB1 to MB4 stores (VPN × HPN × PDB) / MBN = (320 × 240 × 18) / 4 bits of image data. In FIG. 16B, the memory block MB1 and MB2 share the column address decoder CD12, and the memory block MB3 and MB4 share the column address decoder CD34.

5.2 1水平走査期間に複数回読み出し
図16(B)では、各データドライバブロックDB1〜DB4は、1水平走査期間に60本分のデータ信号を出力する。従ってDB1〜DB4に対応するメモリブロックMB1〜MB4からは、1水平走査期間毎に240本分のデータ信号に対応する画像データを読み出す必要がある。
5.2 Reading Multiple Times in One Horizontal Scan Period In FIG. 16B, each data driver block DB1 to DB4 outputs 60 data signals in one horizontal scan period. Therefore, it is necessary to read image data corresponding to 240 data signals for each horizontal scanning period from the memory blocks MB1 to MB4 corresponding to DB1 to DB4.

しかしながら、1水平走査期間毎に読み出す画像データのビット数が増えると、D2方向に並ぶメモリセル(センスアンプ)の個数を多くする必要が生じる。この結果、集積回路装置のD2方向での幅Wが大きくなり、チップのスリム化が妨げられる。またワード線WLが長くなり、WLの信号遅延の問題も招く。   However, if the number of bits of image data to be read for each horizontal scanning period increases, it is necessary to increase the number of memory cells (sense amplifiers) arranged in the D2 direction. As a result, the width W in the direction D2 of the integrated circuit device is increased, and the slimming of the chip is prevented. In addition, the word line WL becomes long, which causes a problem of WL signal delay.

そこで本実施形態では、各メモリブロックMB1〜MB4から各データドライバブロックDB1〜DB4に対して、各メモリブロックMB1〜MB4に記憶される画像データを1水平走査期間において複数回(RN回)読み出す手法を採用している。   Therefore, in the present embodiment, a method of reading image data stored in each of the memory blocks MB1 to MB4 from the memory blocks MB1 to MB4 a plurality of times (RN times) for each data driver block DB1 to DB4 in one horizontal scanning period. Is adopted.

例えば図17ではA1、A2に示すように、1水平走査期間においてRN=2回だけメモリアクセス信号MACS(ワード選択信号)がアクティブ(ハイレベル)になる。これにより各メモリブロックから各データドライバブロックに対して画像データが1水平走査期間においてRN=2回読み出される。すると、データドライバブロック内に設けられた図18の第1、第2のデータドライバDRa、DRbが含むデータラッチ回路が、A3、A4に示すラッチ信号LATa、LATbに基づいて、読み出された画像データをラッチする。そして第1、第2のデータドライバDRa、DRbが含むD/A変換回路が、ラッチされた画像データのD/A変換を行い、DRa、DRbが含む出力回路が、D/A変換により得られたデータ信号DATAa、DATAbをA5、A6に示すようにデータ信号出力線に出力する。その後、A7に示すように、表示パネルの各画素のTFTのゲートに入力される走査信号SCSELがアクティブになり、データ信号が表示パネルの各画素に入力されて保持される。   For example, in FIG. 17, as indicated by A1 and A2, the memory access signal MACS (word selection signal) becomes active (high level) only RN = 2 times in one horizontal scanning period. Thus, image data is read from each memory block to each data driver block RN = 2 times in one horizontal scanning period. Then, the data latch circuits included in the first and second data drivers DRa and DRb of FIG. 18 provided in the data driver block read the image based on the latch signals LATa and LATb indicated by A3 and A4. Latch data. A D / A conversion circuit included in the first and second data drivers DRa and DRb performs D / A conversion of the latched image data, and an output circuit included in DRa and DRb is obtained by D / A conversion. The data signals DATAa and DATAb are output to the data signal output lines as indicated by A5 and A6. Thereafter, as shown at A7, the scanning signal SCSEL inputted to the gate of the TFT of each pixel of the display panel becomes active, and the data signal is inputted and held in each pixel of the display panel.

なお図17では第1の水平走査期間で画像データを2回読み出し、同じ第1の水平走査期間においてデータ信号DATAa、DATAbをデータ信号出力線に出力している。しかしながら、第1の水平走査期間で画像データを2回読み出してラッチしておき、次の第2の水平走査期間で、ラッチされた画像データに対応するデータ信号DATAa、DATAbをデータ信号出力線に出力してもよい。また図17では、読み出し回数RN=2である場合を示しているが、RN≧3であってもよい。   In FIG. 17, the image data is read twice in the first horizontal scanning period, and the data signals DATAa and DATAb are output to the data signal output line in the same first horizontal scanning period. However, the image data is read and latched twice in the first horizontal scanning period, and the data signals DATAa and DATAb corresponding to the latched image data are supplied to the data signal output lines in the next second horizontal scanning period. It may be output. FIG. 17 shows the case where the number of times of reading RN = 2, but RN ≧ 3 may be possible.

図17の手法によれば、図18に示すように、各メモリブロックから30本分のデータ信号に対応する画像データが読み出され、各データドライバDRa、DRbが30本分のデータ信号を出力する。これにより各データドライバブロックからは60本分のデータ信号が出力される。このように図17では、各メモリブロックからは、1回の読み出しにおいて30本分のデータ信号に対応する画像データを読み出せば済むようになる。従って1水平走査期間に1回だけ読み出す手法に比べて、図18のD2方向でのメモリセル、センスアンプの個数を少なくすることが可能になる。この結果、集積回路装置のD2方向での幅を小さくでき、図2(B)に示すような超スリムな細長チップの実現が可能になる。特に1水平走査期間の長さは、QVGAの場合は52μsec程度である。一方、メモリの読み出し時間は例えば40nsec程度であり、52μsecに比べて十分に短い。従って、1水平走査期間での読み出し回数を1回から複数回に増やしたとしても、表示特性に与える影響はそれほど大きくない。   According to the method of FIG. 17, as shown in FIG. 18, image data corresponding to 30 data signals is read from each memory block, and each data driver DRa, DRb outputs 30 data signals. To do. As a result, 60 data signals are output from each data driver block. As described above, in FIG. 17, it is only necessary to read image data corresponding to 30 data signals from each memory block in one reading. Therefore, the number of memory cells and sense amplifiers in the direction D2 in FIG. 18 can be reduced as compared with the method of reading only once in one horizontal scanning period. As a result, the width of the integrated circuit device in the D2 direction can be reduced, and an ultra slim slim chip as shown in FIG. 2B can be realized. In particular, the length of one horizontal scanning period is about 52 μsec in the case of QVGA. On the other hand, the memory read time is, for example, about 40 nsec, which is sufficiently shorter than 52 μsec. Therefore, even if the number of readings in one horizontal scanning period is increased from one to a plurality of times, the influence on the display characteristics is not so great.

また図16(A)はQVGA(320×240)の表示パネルであるが、1水平走査期間での読み出し回数を例えばRN=4にすれば、VGA(640×480)の表示パネルに対応することも可能になり、設計の自由度を増すことができる。   FIG. 16A shows a QVGA (320 × 240) display panel. If the number of readings in one horizontal scanning period is set to RN = 4, for example, the display panel corresponds to a VGA (640 × 480) display panel. It is also possible to increase the degree of design freedom.

なお1水平走査期間での複数回読み出しは、各メモリブロック内で異なる複数のワード線をローアドレスデコーダ(ワード線選択回路)が1水平走査期間において選択する第1の手法で実現してもよいし、各メモリブロック内で同じワード線をローアドレスデコーダ(ワード線選択回路)が1水平走査期間において複数回選択する第2の手法で実現してもよい。或いは第1、第2の手法の両方の組み合わせにより実現してもよい。   The plurality of readings in one horizontal scanning period may be realized by a first method in which a row address decoder (word line selection circuit) selects a plurality of different word lines in each memory block in one horizontal scanning period. Alternatively, the same word line in each memory block may be realized by a second method in which a row address decoder (word line selection circuit) selects a plurality of times in one horizontal scanning period. Alternatively, it may be realized by a combination of both the first and second methods.

5.3 データドライバ、ドライバセルの配置
図18にデータドライバと、データドライバが含むドライバセルの配置例を示す。図18に示すように、データドライバブロックは、D1方向に沿ってスタック配置される複数のデータドライバDRa、DRb(第1〜第mのデータドライバ)を含む。また各データドライバDRa、DRbは、複数の30個(広義にはQ個)のドライバセルDRC1〜DRC30を含む。
5.3 Arrangement of Data Driver and Driver Cell FIG. 18 shows an arrangement example of the data driver and the driver cell included in the data driver. As shown in FIG. 18, the data driver block includes a plurality of data drivers DRa and DRb (first to mth data drivers) arranged in a stack along the direction D1. Each data driver DRa, DRb includes a plurality of 30 (Q in a broad sense) driver cells DRC1 to DRC30.

第1のデータドライバDRaは、メモリブロックのワード線WL1aが選択され、図17のA1に示すように1回目の画像データがメモリブロックから読み出されると、A3に示すラッチ信号LATaに基づいて、読み出された画像データをラッチする。そしてラッチされた画像データのD/A変換を行い、1回目の読み出し画像データに対応するデータ信号DATAaを、A5に示すようにデータ信号出力線に出力する。   When the word line WL1a of the memory block is selected and the first image data is read from the memory block as shown by A1 in FIG. 17, the first data driver DRa reads based on the latch signal LATa shown by A3. The output image data is latched. Then, D / A conversion of the latched image data is performed, and a data signal DATAa corresponding to the first read image data is output to the data signal output line as indicated by A5.

一方、第2のデータドライバDRbは、メモリブロックのワード線WL1bが選択され、図17のA2に示すように2回目の画像データがメモリブロックから読み出されると、A4に示すラッチ信号LATbに基づいて、読み出された画像データをラッチする。そしてラッチされた画像データのD/A変換を行い、2回目の読み出し画像データに対応するデータ信号DATAbを、A6に示すようにデータ信号出力線に出力する。   On the other hand, when the word line WL1b of the memory block is selected and the second image data is read from the memory block as shown in A2 of FIG. 17, the second data driver DRb is based on the latch signal LATb shown in A4. The read image data is latched. Then, the latched image data is D / A converted, and a data signal DATAb corresponding to the second read image data is output to the data signal output line as indicated by A6.

このようにして、各データドライバDRa、DRbが30個の画素に対応する30本分のデータ信号を出力することで、合計で60個の画素に対応する60本分のデータ信号が出力されるようになる。   In this way, each data driver DRa, DRb outputs 30 data signals corresponding to 30 pixels, so that 60 data signals corresponding to 60 pixels in total are output. It becomes like this.

図18のように、複数のデータドライバDRa、DRbをD1方向に沿って配置(スタック)するようにすれば、データドライバの規模の大きさが原因になって集積回路装置のD2方向での幅Wが大きくなってしまう事態を防止できる。またデータドライバは、表示パネルのタイプに応じて種々の構成が採用される。この場合にも、複数のデータドライバをD1方向に沿って配置する手法によれば、種々の構成のデータドライバを効率良くレイアウトすることが可能になる。なお図18ではD1方向でのデータドライバの配置数が2個である場合を示しているが、配置数は3個以上でもよい。   As shown in FIG. 18, if a plurality of data drivers DRa and DRb are arranged (stacked) along the direction D1, the width of the integrated circuit device in the direction D2 due to the size of the data driver. The situation where W becomes large can be prevented. The data driver has various configurations depending on the type of the display panel. Also in this case, according to the method of arranging a plurality of data drivers along the direction D1, data drivers having various configurations can be efficiently laid out. 18 shows a case where the number of data drivers arranged in the direction D1 is two, the number of arranged data drivers may be three or more.

また図18では、各データドライバDRa、DRbは、D2方向に沿って並んで配置される30個(Q個)のドライバセルDRC1〜DRC30を含む。ここでドライバセルDRC1〜DRC30の各々は、1画素分の画像データを受ける。そして1画素分の画像データのD/A変換を行い、1画素分の画像データに対応するデータ信号を出力する。このドライバセルDRC1〜DRC30の各々は、データラッチ回路や、図10(A)のDAC(1画素分のDAC)や、図10(B)(C)の出力部SQを含むことができる。   In FIG. 18, each data driver DRa, DRb includes 30 (Q) driver cells DRC1 to DRC30 arranged side by side along the direction D2. Here, each of driver cells DRC1 to DRC30 receives image data for one pixel. Then, D / A conversion of the image data for one pixel is performed, and a data signal corresponding to the image data for one pixel is output. Each of the driver cells DRC1 to DRC30 can include a data latch circuit, a DAC of FIG. 10A (DAC for one pixel), and an output unit SQ of FIGS. 10B and 10C.

そして図18において、表示パネルの水平走査方向の画素数(複数の集積回路装置により分担して表示パネルのデータ線を駆動する場合には、各集積回路装置が受け持つ水平走査方向の画素数)をHPNとし、データドライバブロックのブロック数(ブロック分割数)をDBNとし、ドライバセルに対して1水平走査期間に入力される画像データの入力回数をINとしたとする。なおINは、図17で説明した1水平走査期間での画像データの読み出し回数RNと等しくなる。この場合に、D2方向に沿って並ぶドライバセルDRC1〜DRC30の個数Qは、Q=HPN/(DBN×IN)と表すことができる。図18の場合には、HPN=240、DBN=4、IN=2であるため、Q=240/(4×2)=30個になる。   In FIG. 18, the number of pixels in the horizontal scanning direction of the display panel (when the data lines of the display panel are driven by sharing with a plurality of integrated circuit devices), the number of pixels in the horizontal scanning direction of each integrated circuit device is shown. It is assumed that HPN is used, the number of blocks of the data driver block (number of block divisions) is DBN, and the number of input image data input to the driver cell in one horizontal scanning period is IN. Note that IN is equal to the number of read times RN of the image data in one horizontal scanning period described with reference to FIG. In this case, the number Q of driver cells DRC1 to DRC30 arranged along the direction D2 can be expressed as Q = HPN / (DBN × IN). In the case of FIG. 18, since HPN = 240, DBN = 4, and IN = 2, Q = 240 / (4 × 2) = 30.

なおドライバセルDRC1〜DR30のD2方向での幅(ピッチ)をWDとし、データドライバブロックDBが含む周辺回路部分であるバッファ回路BF1等のD2方向での幅をWPCBとした場合に、第1〜第Nの回路ブロックCB1〜CBNのD2方向での幅WB(最大幅)は、Q×WD≦WB<(Q+1)×WD+WPCBと表すことができる。またメモリブロックが含む周辺回路部分(ローアドレスデコーダRD、配線領域等)のD2方向での幅をWPCとした場合には、Q×WD≦WB<(Q+1)×WD+WPCと表すことができる。   When the width (pitch) in the D2 direction of the driver cells DRC1 to DR30 is WD, and the width in the D2 direction of the buffer circuit BF1 or the like that is a peripheral circuit portion included in the data driver block DB is WPCB, The width WB (maximum width) in the D2 direction of the Nth circuit blocks CB1 to CBN can be expressed as Q × WD ≦ WB <(Q + 1) × WD + WPCB. Further, when the width in the D2 direction of the peripheral circuit portion (row address decoder RD, wiring area, etc.) included in the memory block is WPC, it can be expressed as Q × WD ≦ WB <(Q + 1) × WD + WPC.

また表示パネルの水平走査方向の画素数をHPNとし、1画素分の画像データのビット数をPDBとし、メモリブロックのブロック数をMBN(=DBN)とし、1水平走査期間においてメモリブロックから読み出される画像データの読み出し回数をRNとしたとする。この場合に、センスアンプブロックSABにおいてD2方向に沿って並ぶセンスアンプ(1ビット分の画像データを出力するセンスアンプ)の個数Pは、P=(HPN×PDB)/(MBN×RN)と表すことができる。図18の場合には、HPN=240、PDB=18、MBN=4、RN=2であるため、P=(240×18)/(4×2)=540個になる。なお個数Pは、有効メモリセル数に対応する有効センスアンプ数であり、ダミーメモリセル用のセンスアンプ等の有効ではないセンスアンプの個数は含まない。   Further, the number of pixels in the horizontal scanning direction of the display panel is HPN, the number of bits of image data for one pixel is PDB, the number of memory blocks is MBN (= DBN), and data is read from the memory block in one horizontal scanning period. Assume that the number of times of reading image data is RN. In this case, the number P of sense amplifiers (sense amplifiers that output 1-bit image data) arranged in the direction D2 in the sense amplifier block SAB is expressed as P = (HPN × PDB) / (MBN × RN). be able to. In the case of FIG. 18, since HPN = 240, PDB = 18, MBN = 4, and RN = 2, P = (240 × 18) / (4 × 2) = 540. Note that the number P is the number of effective sense amplifiers corresponding to the number of effective memory cells, and does not include the number of ineffective sense amplifiers such as sense amplifiers for dummy memory cells.

またセンスアンプブロックSABが含む各センスアンプのD2方向での幅(ピッチ)をWSとした場合には、センスアンプブロックSAB(メモリブロック)のD2方向での幅WSABは、WSAB=P×WSと表すことができる。そして、回路ブロックCB1〜CBNのD2方向での幅WB(最大幅)は、メモリブロックが含む周辺回路部分のD2方向での幅をWPCとした場合には、P×WS≦WB<(P+PDB)×WS+WPCと表すこともできる。   When the width (pitch) in the D2 direction of each sense amplifier included in the sense amplifier block SAB is WS, the width WSAB in the D2 direction of the sense amplifier block SAB (memory block) is WSAB = P × WS. Can be represented. The width WB (maximum width) in the D2 direction of the circuit blocks CB1 to CBN is P × WS ≦ WB <(P + PDB) when the width in the D2 direction of the peripheral circuit portion included in the memory block is WPC. It can also be expressed as × WS + WPC.

5.4 メモリセル
図19(A)にメモリブロックが含むメモリセル(SRAM)の構成例を示す。このメモリセルは、転送トランジスタTRA1、TRA2と、負荷トランジスタTRA3、TRA4と、駆動トランジスタTRA5、TRA6を含む。ワード線WLがアクティブになると、転送トランジスタTRA1、TRA2がオンになり、ノードNA1、NA2への画像データの書き込みや、ノードNA1、NA2からの画像データの読み出しが可能になる。また書き込まれた画像データは、トランジスタTRA3〜TRA6により構成されるフリップフロップ回路によりノードNA1、NA2に保持される。なお本実施形態のメモリセルは図19(A)の構成に限定されず、例えば負荷トランジスタTRA3、TRA4として抵抗素子を使用したり、他のトランジスタを追加するなどの変形実施が可能である。
5.4 Memory Cell FIG. 19A shows a structural example of a memory cell (SRAM) included in a memory block. This memory cell includes transfer transistors TRA1 and TRA2, load transistors TRA3 and TRA4, and drive transistors TRA5 and TRA6. When the word line WL becomes active, the transfer transistors TRA1 and TRA2 are turned on, and image data can be written to the nodes NA1 and NA2 and image data can be read from the nodes NA1 and NA2. The written image data is held in the nodes NA1 and NA2 by a flip-flop circuit composed of transistors TRA3 to TRA6. Note that the memory cell of this embodiment is not limited to the configuration shown in FIG. 19A, and modifications such as using resistive elements as the load transistors TRA3 and TRA4 and adding other transistors are possible.

図19(B)(C)にメモリセルのレイアウト例を示す。図19(B)は横型セルのレイアウト例であり、図19(C)は縦型セルのレイアウト例である。ここで横型セルは図19(B)に示すように、各メモリセル内においてワード線WLの方がビット線BL、XBLよりも長いセルである。一方、縦型セルは図19(C)に示すように、各メモリセル内においてビット線BL、XBLの方がワード線WLよりも長いセルである。なお図19(C)のWLは、ポリシリコン層で形成され転送トランジスタTRA1、TRA2に接続されるローカルなワード線であるが、WLの信号遅延防止、電位安定化のためのメタル層のワード線を更に設けてもよい。   FIGS. 19B and 19C show layout examples of memory cells. FIG. 19B shows a layout example of a horizontal cell, and FIG. 19C shows a layout example of a vertical cell. Here, as shown in FIG. 19B, the horizontal cell is a cell in which the word line WL is longer than the bit lines BL and XBL in each memory cell. On the other hand, as shown in FIG. 19C, the vertical cell is a cell in which the bit lines BL and XBL are longer than the word line WL in each memory cell. Note that WL in FIG. 19C is a local word line formed of a polysilicon layer and connected to the transfer transistors TRA1 and TRA2, but the word line of the metal layer for preventing signal delay of WL and stabilizing the potential. May be further provided.

図20に、メモリセルとして図19(B)に示す横型セルを用いた場合のメモリブロック、ドライバセルの配置例を示す。なお図20は、ドライバセル、メモリブロックのうち1画素に対応する部分を詳細に示している。   FIG. 20 shows an arrangement example of memory blocks and driver cells when the horizontal cell shown in FIG. 19B is used as the memory cell. FIG. 20 shows in detail a portion corresponding to one pixel in the driver cell and the memory block.

図20に示すように1画素分の画像データを受けるドライバセルDRCは、R(赤)用、G(緑)用、B(青)用のデータラッチ回路DLATR、DLATG、DLATBを含む。各データラッチ回路DLATR、DLATG、DLATBはラッチ信号LAT(LATa、LATb)がアクティブになると画像データをラッチする。またドライバセルDRCは、図10(A)で説明したR用、G用、B用のDACR、DACG、DACBを含む。また図10(B)(C)で説明した出力部SQを含む。   As shown in FIG. 20, the driver cell DRC that receives image data for one pixel includes data latch circuits DLATR, DLATG, and DLATB for R (red), G (green), and B (blue). Each data latch circuit DLATR, DLATG, DLATB latches image data when a latch signal LAT (LATa, LATb) becomes active. The driver cell DRC includes the R, G, and B DACR, DACG, and DACB described with reference to FIG. The output unit SQ described with reference to FIGS. 10B and 10C is also included.

センスアンプブロックSABのうち1画素に対応する部分は、R用のセンスアンプSAR0〜SAR5と、G用のセンスアンプSAG0〜SAG5と、B用のセンスアンプSAB0〜SAB5を含む。そしてセンスアンプSAR0のD1方向側にD1方向に沿って並ぶメモリセルMCのビット線BL、XBLは、SAR0に接続される。またセンスアンプSAR1のD1方向側にD1方向に沿って並ぶメモリセルMCのビット線BL、XBLは、SAR1に接続される。他のセンスアンプとメモリセルの関係についても同様である。   The portion corresponding to one pixel in the sense amplifier block SAB includes R sense amplifiers SAR0 to SAR5, G sense amplifiers SAG0 to SAG5, and B sense amplifiers SAB0 to SAB5. The bit lines BL and XBL of the memory cells MC arranged along the D1 direction on the D1 direction side of the sense amplifier SAR0 are connected to SAR0. In addition, the bit lines BL and XBL of the memory cells MC arranged along the D1 direction on the D1 direction side of the sense amplifier SAR1 are connected to the SAR1. The same applies to the relationship between other sense amplifiers and memory cells.

ワード線WL1aが選択されると、WL1aに転送トランジスタのゲートが接続されるメモリセルMCからビット線BL、XBLに対して、画像データが読み出され、センスアンプSAR0〜SAR5、SAG0〜SAG5、SAB0〜SAB5が信号の増幅動作を行う。そしてDLATRが、SAR0〜SAR5からの6ビットのR用の画像データD0R〜D5Rをラッチし、DACRが、ラッチされた画像データのD/A変換を行い、出力部SQがデータ信号DATARを出力する。またDLATGが、SAG0〜SAG5からの6ビットのG用の画像データD0G〜D5Gをラッチし、DACGが、ラッチされた画像データのD/A変換を行い、出力部SQがデータ信号DATAGを出力する。またDLATBが、SAB0〜SAB5からの6ビットのB用の画像データD0B〜D5Bをラッチし、DACBが、ラッチされた画像データのD/A変換を行い、出力部SQがデータ信号DATABを出力する。   When the word line WL1a is selected, image data is read from the memory cell MC to which the gate of the transfer transistor is connected to WL1a to the bit lines BL and XBL, and sense amplifiers SAR0 to SAR5, SAG0 to SAG5, and SAB0. ... SAB5 performs signal amplification operation. DLATR latches 6-bit R image data D0R to D5R from SAR0 to SAR5, DACR performs D / A conversion of the latched image data, and output unit SQ outputs a data signal DATAR. . DLATG latches 6-bit G image data D0G to D5G from SAG0 to SAG5, DACG performs D / A conversion of the latched image data, and output unit SQ outputs a data signal DATAT. . DLATB latches 6-bit B image data D0B to D5B from SAB0 to SAB5, DACB performs D / A conversion of the latched image data, and output unit SQ outputs data signal DATAB. .

そして図20の構成の場合には、図17に示す1水平走査期間での画像データの複数回読み出しは、次のようにして実現できる。即ち第1の水平走査期間(第1の走査線の選択期間)においては、まずワード線WL1aを選択して画像データの1回目の読み出しを行い、図17のA5に示すように1回目のデータ信号DATAaを出力する。次に、同じ第1の水平走査期間においてワード線WL1bを選択して画像データの2回目の読み出しを行い、図17のA6に示すように2回目のデータ信号DATAbを出力する。また次の第2の水平走査期間(第2の走査線の選択期間)においては、まずワード線WL2aを選択して画像データの1回目の読み出しを行い、1回目のデータ信号DATAaを出力する。次に、同じ第2の水平走査期間においてワード線WL2bを選択して画像データの2回目の読み出しを行い、2回目のデータ信号DATAbを出力する。このように横型セルを用いる場合には、メモリブロック内において異なる複数のワード線(WL1a、WL1b)を1水平走査期間において選択することで、1水平走査期間での複数回読み出しを実現できる。   In the case of the configuration shown in FIG. 20, the image data can be read a plurality of times in one horizontal scanning period shown in FIG. 17 as follows. That is, in the first horizontal scanning period (first scanning line selection period), first, the word line WL1a is selected to read the image data for the first time, and the first data is displayed as indicated by A5 in FIG. The signal DATAa is output. Next, in the same first horizontal scanning period, the word line WL1b is selected, the image data is read for the second time, and the second data signal DATAb is output as indicated by A6 in FIG. In the next second horizontal scanning period (second scanning line selection period), the word line WL2a is first selected to read the image data for the first time, and the first data signal DATAa is output. Next, in the same second horizontal scanning period, the word line WL2b is selected, the image data is read for the second time, and the second data signal DATAb is output. When horizontal cells are used in this way, a plurality of different word lines (WL1a, WL1b) in the memory block are selected in one horizontal scanning period, so that multiple readings in one horizontal scanning period can be realized.

図21に、メモリセルとして図19(C)に示す縦型セルを用いた場合のメモリブロック、ドライバセルの配置例を示す。縦型セルでは、D2方向での幅を横型セルに比べて短くできる。従ってD2方向でのメモリセルの個数を横型セルに比べて2倍にすることができる。そして縦型セルでは、カラム選択信号COLa、COLbを用いて、各センスアンプに接続するメモリセルの列を切り替える。   FIG. 21 shows an arrangement example of memory blocks and driver cells when the vertical cell shown in FIG. 19C is used as the memory cell. In the vertical cell, the width in the D2 direction can be made shorter than that in the horizontal cell. Therefore, the number of memory cells in the D2 direction can be doubled as compared with the horizontal cells. In the vertical cell, the column of memory cells connected to each sense amplifier is switched using column selection signals COLa and COLb.

例えば図21において、カラム選択信号COLaがアクティブになると、センスアンプSAR0〜SAR5のD1方向側にあるメモリセルMCのうち、カラムCa側のメモリセルMCが選択されて、センスアンプSAR0〜SAR5に接続される。そしてこれらの選択されたメモリセルMCに記憶された画像データの信号が増幅されて、D0R〜D5Rとして出力される。一方、カラム選択信号COLbがアクティブになると、センスアンプSAR0〜SAR5のD1方向側にあるメモリセルMCのうち、カラムCb側のメモリセルMCが選択されて、センスアンプSAR0〜SAR5に接続される。そしてこれらの選択されたメモリセルMCに記憶された画像データの信号が増幅されて、D0R〜D5Rとして出力される。他のセンスアンプに接続されるメモリセルの画像データの読み出しも同様である。   For example, in FIG. 21, when the column selection signal COLa becomes active, the memory cell MC on the column Ca side among the memory cells MC on the D1 direction side of the sense amplifiers SAR0 to SAR5 is selected and connected to the sense amplifiers SAR0 to SAR5. Is done. The signals of the image data stored in these selected memory cells MC are amplified and output as D0R to D5R. On the other hand, when the column selection signal COLb becomes active, the memory cell MC on the column Cb side among the memory cells MC on the D1 direction side of the sense amplifiers SAR0 to SAR5 is selected and connected to the sense amplifiers SAR0 to SAR5. The signals of the image data stored in these selected memory cells MC are amplified and output as D0R to D5R. The same applies to reading of image data of memory cells connected to other sense amplifiers.

そして図21の構成の場合には、図17に示す1水平走査期間での画像データの複数回読み出しは、次のようにして実現できる。即ち第1の水平走査期間においては、まずワード線WL1を選択し、カラム選択信号COLaをアクティブにして、画像データの1回目の読み出しを行い、図17のA5に示すように1回目のデータ信号DATAaを出力する。次に、同じ第1の水平走査期間において同じワード線WL1を選択し、カラム選択信号COLbをアクティブにして、画像データの2回目の読み出しを行い、図17のA6に示すように2回目のデータ信号DATAbを出力する。また次の第2の水平走査期間においては、ワード線WL2を選択し、カラム選択信号COLaをアクティブにして、画像データの1回目の読み出しを行い、1回目のデータ信号DATAaを出力する。次に、同じ第2の水平走査期間において同じワード線WL2を選択し、カラム選択信号COLbをアクティブにして、画像データの2回目の読み出しを行い、2回目のデータ信号DATAbを出力する。このように縦型セルの場合には、メモリブロック内において同じワード線を1水平走査期間において複数回選択することで、1水平走査期間での複数回読み出しを実現できる。   In the case of the configuration shown in FIG. 21, the image data can be read a plurality of times in one horizontal scanning period shown in FIG. 17 as follows. That is, in the first horizontal scanning period, first, the word line WL1 is selected, the column selection signal COLa is activated, the first reading of the image data is performed, and the first data signal is displayed as indicated by A5 in FIG. DATAa is output. Next, the same word line WL1 is selected in the same first horizontal scanning period, the column selection signal COLb is activated, and the second reading of the image data is performed. As shown in A6 of FIG. 17, the second data is read. The signal DATAb is output. In the next second horizontal scanning period, the word line WL2 is selected, the column selection signal COLa is activated, the image data is read for the first time, and the first data signal DATAa is output. Next, the same word line WL2 is selected in the same second horizontal scanning period, the column selection signal COLb is activated, the image data is read a second time, and the second data signal DATAb is output. As described above, in the case of a vertical cell, the same word line in the memory block is selected a plurality of times in one horizontal scanning period, so that reading can be performed a plurality of times in one horizontal scanning period.

なおドライバセルDRCの構成、配置は図20、図21に限定されず、種々の変形実施が可能である。例えば低温ポリシリコンTFT用の表示ドライバ等で、図10(C)のようにR用、G用、B用のデータ信号をマルチプレクスして表示パネルに送る場合には、1つの共用のDACを用いて、R用、G用、B用の画像データ(1画素分の画像データ)のD/A変換を行うことができる。従ってこの場合には、ドライバセルDRCは、図10(A)の構成の共用のDACを1つ含めばよい。また図20、図21では、R用の回路(DLATR、DACR)、G用の回路(DLATG、DACG)、B用の回路(DLATB、DACB)が、D2(D4)方向に沿って配置されている。しかしながら、R用、G用、B用の回路を、D1(D3)方向に沿って配置するようにしてもよい。   The configuration and arrangement of the driver cell DRC are not limited to those shown in FIGS. 20 and 21, and various modifications can be made. For example, when a data driver for R, G, and B is multiplexed and sent to a display panel as shown in FIG. 10C by a display driver for a low-temperature polysilicon TFT, one common DAC is used. It is possible to perform D / A conversion of image data for R, G, and B (image data for one pixel). Therefore, in this case, the driver cell DRC may include one shared DAC having the configuration shown in FIG. 20 and 21, the R circuit (DLATR, DACR), the G circuit (DLATG, DACG), and the B circuit (DLATB, DACB) are arranged along the direction D2 (D4). Yes. However, the R, G, and B circuits may be arranged along the direction D1 (D3).

5.5 階調電圧出力線の配線、ビット線のシールド
図22(A)に示すように本実施形態では、階調電圧生成回路ブロックGBからの階調電圧が出力される階調電圧出力線が、回路ブロックCB1〜CBN上でD1方向に沿って配線される。具体的には、この階調電圧出力線は、回路ブロック内のローカル線よりも上層のグローバル線GLで形成される。
5.5 Grayscale Voltage Output Line Wiring, Bit Line Shielding As shown in FIG. 22A, in this embodiment, the grayscale voltage output line from which the grayscale voltage from the grayscale voltage generation circuit block GB is output. Are wired along the direction D1 on the circuit blocks CB1 to CBN. Specifically, the gradation voltage output line is formed by a global line GL that is an upper layer than the local line in the circuit block.

即ち図22(A)に示すように、階調電圧生成回路ブロックGBからの階調電圧は、D1方向に沿って並ぶデータドライバブロックDB1〜DB4に対して供給する必要がある。そして階調電圧出力線をI/F領域12、14上に配線すると、これらのI/F領域12、14において、他の信号線や電源線をグローバル線で配線することが難しくなる。従って、I/F領域12、14での配線効率が低下し、I/F領域12、14のD2方向での幅を広くしなければならなくなる事態が生じる。特に出力側I/F領域12では、データドライバブロックからの多数のデータ信号出力線や走査ドライバブロックからの多数の走査信号出力線を配線する必要があるため、階調電圧出力線を出力側I/F領域12上に配線することは望ましくない。   That is, as shown in FIG. 22A, the gradation voltage from the gradation voltage generation circuit block GB needs to be supplied to the data driver blocks DB1 to DB4 arranged along the direction D1. When the gradation voltage output line is wired on the I / F regions 12 and 14, it is difficult to wire other signal lines and power supply lines with global lines in these I / F regions 12 and 14. Therefore, the wiring efficiency in the I / F regions 12 and 14 is lowered, and a situation occurs in which the width of the I / F regions 12 and 14 in the D2 direction must be increased. Particularly in the output-side I / F region 12, since it is necessary to wire a large number of data signal output lines from the data driver block and a large number of scanning signal output lines from the scan driver block, the gradation voltage output line is connected to the output side I / F. Wiring on the / F region 12 is not desirable.

この点、図22(A)では、階調電圧生成回路ブロックGBからの階調電圧出力線が回路ブロックCB1〜CBN上でD1方向に沿って配線される。従って、I/F領域12、14のグローバル線を、階調電圧出力線以外の信号線や電源線の配線に使用でき、配線効率を向上できる。   In this regard, in FIG. 22A, the grayscale voltage output line from the grayscale voltage generation circuit block GB is wired along the D1 direction on the circuit blocks CB1 to CBN. Accordingly, the global lines in the I / F regions 12 and 14 can be used for wiring of signal lines and power supply lines other than the gradation voltage output line, and wiring efficiency can be improved.

しかしながら、階調電圧出力線などのグローバル線GLを、メモリブロックMB1〜MB4上に配線すると、次のような問題が生じるおそれがある。例えば図22(B)では、ワード線WLがアクティブになり、ビット線BLの電圧レベルの方がビット線XBLの電圧レベルよりも高くなることで、センスアンプの出力SAQが、正常な論理「1」を出力している。   However, if the global line GL such as the gradation voltage output line is wired on the memory blocks MB1 to MB4, the following problem may occur. For example, in FIG. 22B, the word line WL becomes active and the voltage level of the bit line BL becomes higher than the voltage level of the bit line XBL, so that the output SAQ of the sense amplifier has a normal logic “1”. Is output.

これに対して図22(C)では、グローバル線GLの電圧レベルが変化することで、GLとその下層のビット線XBLとの間のカップリング容量によりXBLの電圧レベルが変化してしまう。これによりセンスアンプの出力SAQが、異常な論理「0」を出力するおそれがある。   In contrast, in FIG. 22C, when the voltage level of the global line GL changes, the voltage level of XBL changes due to the coupling capacitance between the GL and the bit line XBL below it. As a result, the output SAQ of the sense amplifier may output an abnormal logic “0”.

そこで本実施形態では、図22(A)のメモリブロックMB1〜MB4において、ビット線の上層にシールド線を配線し、シールド線の上層に、階調電圧生成回路ブロックGBからの階調電圧出力線を配線している。   Therefore, in the present embodiment, in the memory blocks MB1 to MB4 in FIG. 22A, a shield line is wired above the bit line, and the gradation voltage output line from the gradation voltage generation circuit block GB is formed above the shield line. Wiring.

例えば図23(A)に横型セルの場合のシールド線SDLの配線例を示す。図23(A)では、最下層の第1の金属配線ME1はノード接続に使用され、その上層の第2の金属配線ME2は、ビット線BL、XBLと、VDD(広義には第2の電源)の電源線に使用される。また第3の金属配線ME3は、ワード線WLと、VSS(広義には第1の電源)の電源線に使用され、第4の金属配線ME4は、VSSに接続されるシールド線SDLに使用される。また最上層の第5の金属配線ME5は、階調電圧出力線などのグローバル線GLに使用される。   For example, FIG. 23A shows a wiring example of the shield line SDL in the case of a horizontal cell. In FIG. 23A, the first metal wiring ME1 in the lowermost layer is used for node connection, and the second metal wiring ME2 in the upper layer is connected to the bit lines BL, XBL, VDD (second power supply in a broad sense). ) Used for power lines. The third metal wiring ME3 is used for the power line of the word line WL and VSS (first power supply in a broad sense), and the fourth metal wiring ME4 is used for the shield line SDL connected to VSS. The The uppermost fifth metal wiring ME5 is used for a global line GL such as a gradation voltage output line.

また図23(B)に縦型セルの場合のシールド線SDLの配線例を示す。図23(B)では、金属配線ME1はノード接続に使用され、金属配線ME2はワード線WLとVDD電源線に使用される。また金属配線ME3は、ビット線BL、XBLとVSS電源線に使用され、金属配線ME4は、シールド線SDLに使用される。また金属配線ME5は、階調電圧出力線などのグローバル線GLに使用される。   FIG. 23B shows a wiring example of the shield line SDL in the case of a vertical cell. In FIG. 23B, the metal wiring ME1 is used for node connection, and the metal wiring ME2 is used for the word line WL and the VDD power supply line. The metal wiring ME3 is used for the bit lines BL and XBL and the VSS power supply line, and the metal wiring ME4 is used for the shield line SDL. The metal wiring ME5 is used for a global line GL such as a gradation voltage output line.

そして図23(A)(B)では共に、ビット線BL、XBLがD1方向(集積回路装置の長辺方向)に沿って配線され、シールド線SDLがビット線BL、XBLにオーバラップするようにD1方向に配線される。即ちシールド線SDLがビット線BL、XBLを覆うようにBL、XBLの上層に形成される。   In FIGS. 23A and 23B, the bit lines BL and XBL are wired along the direction D1 (the long side direction of the integrated circuit device), and the shield line SDL overlaps the bit lines BL and XBL. Wired in the D1 direction. That is, the shield line SDL is formed in the upper layer of BL and XBL so as to cover the bit lines BL and XBL.

このようにすれば、階調電圧出力線などのグローバル線GLの電圧レベルの変化がカップリング容量によりビット線BL、XBLに伝わるのをシールドできる。従って、図22(C)に示すようにビット線BL、XBLの電圧レベルが変化してセンスアンプが誤出力してしまう事態を効果的に防止できる。   In this way, it is possible to shield the change in the voltage level of the global line GL such as the gradation voltage output line from being transmitted to the bit lines BL and XBL by the coupling capacitance. Therefore, as shown in FIG. 22C, a situation where the voltage level of the bit lines BL and XBL changes and the sense amplifier erroneously outputs can be effectively prevented.

なお図23(A)(B)に示すようにシールド線SDLを各メモリセルに配線すれば、シールド線SDLがベタ配線にならず、シールド線間にスリットが形成されるようになる。このようなスリットが形成されることで、金属層と絶縁膜の間の脱ガスが可能になり、信頼性や歩留まりの向上を図れる。   If the shield line SDL is wired to each memory cell as shown in FIGS. 23A and 23B, the shield line SDL is not a solid line, and a slit is formed between the shield lines. By forming such slits, degassing between the metal layer and the insulating film is possible, and reliability and yield can be improved.

また図23(B)では、隣り合うシールド線SDLの間のスリットの場所に、VSS電源線が配線される。このようにすれば、上方向のシールドはシールド線SDLにより実現し、横方向のシールドはVSS電源線により実現できるようになり、効果的なシールドが可能になる。   In FIG. 23B, a VSS power supply line is wired at a slit between adjacent shield lines SDL. In this way, the upper shield can be realized by the shield line SDL, and the horizontal shield can be realized by the VSS power supply line, thereby enabling effective shielding.

6.電子機器
図24(A)(B)に本実施形態の集積回路装置10を含む電子機器(電気光学装置)の例を示す。なお電子機器は図24(A)(B)に示されるもの以外の構成要素(例えばカメラ、操作部又は電源等)を含んでもよい。また本実施形態の電子機器は携帯電話機には限定されず、デジタルカメラ、PDA、電子手帳、電子辞書、プロジェクタ、リアプロジェクションテレビ、或いは携帯型情報端末などであってもよい。
6). Electronic Device FIGS. 24A and 24B show examples of electronic devices (electro-optical devices) including the integrated circuit device 10 of the present embodiment. Note that the electronic apparatus may include components (for example, a camera, an operation unit, a power supply, or the like) other than those illustrated in FIGS. The electronic device according to the present embodiment is not limited to a mobile phone, and may be a digital camera, a PDA, an electronic notebook, an electronic dictionary, a projector, a rear projection television, a portable information terminal, or the like.

図24(A)(B)においてホストデバイス410は、例えばMPU(Micro Processor Unit)、ベースバンドエンジン(ベースバンドプロセッサ)などである。このホストデバイス410は、表示ドライバである集積回路装置10の制御を行う。或いはアプリケーションエンジンやベースバンドエンジンとしての処理や、圧縮、伸長、サイジングなどのグラフィックエンジンとしての処理を行うこともできる。また図24(B)の画像処理コントローラ(表示コントローラ)420は、ホストデバイス410に代行して、圧縮、伸長、サイジングなどのグラフィックエンジンとしての処理を行う。   24A and 24B, the host device 410 is, for example, an MPU (Micro Processor Unit), a baseband engine (baseband processor), or the like. The host device 410 controls the integrated circuit device 10 that is a display driver. Alternatively, processing as an application engine or baseband engine, or processing as a graphic engine such as compression, decompression, or sizing can be performed. In addition, the image processing controller (display controller) 420 in FIG. 24B performs processing as a graphic engine such as compression, decompression, and sizing on behalf of the host device 410.

表示パネル400は、複数のデータ線(ソース線)と、複数の走査線(ゲート線)と、データ線及び走査線により特定される複数の画素を有する。そして、各画素領域における電気光学素子(狭義には、液晶素子)の光学特性を変化させることで、表示動作を実現する。この表示パネル400は、TFT、TFDなどのスイッチング素子を用いたアクティブマトリクス方式のパネルにより構成できる。なお表示パネル400は、アクティブマトリクス方式以外のパネルであってもよいし、液晶パネル以外のパネルであってもよい。   The display panel 400 includes a plurality of data lines (source lines), a plurality of scanning lines (gate lines), and a plurality of pixels specified by the data lines and the scanning lines. A display operation is realized by changing the optical characteristics of the electro-optical element (in a narrow sense, a liquid crystal element) in each pixel region. The display panel 400 can be constituted by an active matrix panel using switching elements such as TFTs and TFDs. Note that the display panel 400 may be a panel other than the active matrix method, or may be a panel other than the liquid crystal panel.

図24(A)の場合には、集積回路装置10としてメモリ内蔵のものを用いることができる。即ちこの場合には集積回路装置10は、ホストデバイス410からの画像データを、一旦内蔵メモリに書き込み、書き込まれた画像データを内蔵メモリから読み出して、表示パネルを駆動する。一方、図24(B)の場合には、集積回路装置10としてメモリ非内蔵のものを用いることができる。即ちこの場合には、ホストデバイス410からの画像データは、画像処理コントローラ420の内蔵メモリに書き込まれる。そして集積回路装置10は、画像処理コントローラ420の制御の下で、表示パネル400を駆動する。   In the case of FIG. 24A, the integrated circuit device 10 having a built-in memory can be used. That is, in this case, the integrated circuit device 10 once writes the image data from the host device 410 into the built-in memory, reads the written image data from the built-in memory, and drives the display panel. On the other hand, in the case of FIG. 24B, an integrated circuit device 10 without a memory can be used. That is, in this case, the image data from the host device 410 is written into the built-in memory of the image processing controller 420. The integrated circuit device 10 drives the display panel 400 under the control of the image processing controller 420.

7.変形例
7.1 グローバル配線手法
集積回路装置のD2方向での幅を小さくするためには、D1方向に沿って配置される回路ブロック間の信号線、電源線を、効率良く配線する必要がある。そこで本実施形態では、グローバル配線手法により回路ブロック間の信号線、電源線を配線している。具体的にはこのグローバル配線手法では、図3の第1〜第Nの回路ブロックCB1〜CBNのうちの隣接する回路ブロック間では、第I(Iは3以上の整数)の層よりも下層の配線層(例えば第1〜第4のアルミ配線層ALA、ALB、ALC、ALD)で形成されるローカル線が、信号線又は電源線として配線される。一方、第1〜第Nの回路ブロックCB1〜CBNのうちの隣接しない回路ブロック間では、第Iの層以上の配線層(例えば第5のアルミ配線層ALE)で形成されるグローバル線が、信号線又は電源線として、隣接しない回路ブロックの間に介在する回路ブロック上をD1方向に沿って配線される。
7). Modified Example 7.1 Global Wiring Method In order to reduce the width of the integrated circuit device in the D2 direction, it is necessary to efficiently wire signal lines and power supply lines between circuit blocks arranged along the D1 direction. . Therefore, in the present embodiment, signal lines and power supply lines between circuit blocks are wired by a global wiring method. Specifically, in this global wiring method, a lower layer than the I-th (I is an integer of 3 or more) layer between adjacent circuit blocks among the first to N-th circuit blocks CB1 to CBN in FIG. Local lines formed of wiring layers (for example, first to fourth aluminum wiring layers ALA, ALB, ALC, ALD) are wired as signal lines or power supply lines. On the other hand, between non-adjacent circuit blocks among the first to Nth circuit blocks CB1 to CBN, a global line formed of a wiring layer (for example, the fifth aluminum wiring layer ALE) of the Ith layer or higher is connected to the signal line. As a line or a power supply line, a circuit block interposed between non-adjacent circuit blocks is wired along the direction D1.

図25にグローバル線の配線例を示す。図25では、ロジック回路ブロックLBからのドライバ制御信号をデータドライバブロックDB1〜DB3に供給するためのドライバ用グローバル線GLDが、LBとDB1〜DB3の間に介在する回路ブロック上をD1方向に沿って配線される。具体的には、トップメタルである第5のアルミ配線層ALEで形成されるドライバ用グローバル線GLDが、ロジック回路ブロックLBからバッファ回路BF1〜BF3及びローアドレスデコーダRD1〜RD3上を、D1方向に沿ってほぼ一直線に配線される。そしてこれらのドライバ用グローバル線GLDにより供給されるドライバ制御信号が、バッファ回路BF1〜BF3にてバッファリングされて、バッファ回路BF1〜BF3のD2方向側に配置されるデータドライバDR1〜DR3に入力される。即ちバッファ回路BF1〜BF3は、ドライバ用グローバル線からのドライバ制御信号をバッファリングしてデータドライバDR1〜DR3に出力する。   FIG. 25 shows an example of global line wiring. In FIG. 25, a driver global line GLD for supplying a driver control signal from the logic circuit block LB to the data driver blocks DB1 to DB3 extends along the direction D1 on the circuit block interposed between LB and DB1 to DB3. Wired. Specifically, the driver global line GLD formed of the fifth aluminum wiring layer ALE, which is the top metal, extends from the logic circuit block LB to the buffer circuits BF1 to BF3 and the row address decoders RD1 to RD3 in the D1 direction. It is wired almost straight along. The driver control signals supplied by these driver global lines GLD are buffered by the buffer circuits BF1 to BF3 and input to the data drivers DR1 to DR3 arranged on the D2 direction side of the buffer circuits BF1 to BF3. The That is, the buffer circuits BF1 to BF3 buffer the driver control signal from the driver global line and output it to the data drivers DR1 to DR3.

また図25では、ロジック回路ブロックLBからの少なくともライトデータ信号(或いは、アドレス信号、メモリ制御信号)をメモリブロックMB1〜MB3に供給するためのメモリ用グローバル線GLMが、ロジック回路ブロックLBとメモリブロックMB1〜MB3の間に介在する回路ブロック上をD1方向に沿って配線される。例えば第5のアルミ配線層ALEで形成されるメモリ用グローバル線GLMが、ロジック回路ブロックLBからD1方向に沿って配線される。   In FIG. 25, a memory global line GLM for supplying at least a write data signal (or an address signal, a memory control signal) from the logic circuit block LB to the memory blocks MB1 to MB3 includes the logic circuit block LB and the memory block. A circuit block interposed between MB1 and MB3 is wired along the direction D1. For example, the memory global line GLM formed of the fifth aluminum wiring layer ALE is wired from the logic circuit block LB along the direction D1.

より具体的には図25では、メモリブロックMB1〜MB3に対応してリピータブロックRP1〜RP3が配置される。これらのリピータブロックRP1〜RP3は、ロジック回路ブロックLBからの少なくともライトデータ信号(或いはアドレス信号、メモリ制御信号)をバッファリングしてメモリブロックMB1〜MB3に対して出力するバッファを含む。そして図25に示すように、メモリブロックMB1〜MB3とリピータブロックRP1〜RP3は、D1方向に沿って隣接配置される。   More specifically, in FIG. 25, repeater blocks RP1 to RP3 are arranged corresponding to the memory blocks MB1 to MB3. These repeater blocks RP1 to RP3 include a buffer that buffers at least a write data signal (or an address signal or a memory control signal) from the logic circuit block LB and outputs the buffered data to the memory blocks MB1 to MB3. As shown in FIG. 25, the memory blocks MB1 to MB3 and the repeater blocks RP1 to RP3 are adjacently arranged along the direction D1.

例えばロジック回路ブロックLBからのライトデータ信号、アドレス信号、メモリ制御信号を、メモリ用グローバル線GLMを用いてメモリブロックMB1〜MB3に供給する場合に、これらの信号をバッファリングしないと、信号の立ち上がり波形や立ち下がり波形が鈍る。この結果、メモリブロックMB1〜MB3へのデータの書き込み時間が長くなったり、書き込みエラーが生じるおそれがある。   For example, when a write data signal, an address signal, and a memory control signal from the logic circuit block LB are supplied to the memory blocks MB1 to MB3 using the memory global line GLM, if these signals are not buffered, the signal rises. Waveform and falling waveform are dull. As a result, there is a possibility that the data writing time to the memory blocks MB1 to MB3 becomes long or a writing error occurs.

この点、図25のようなリピータブロックRP1〜RP3を各メモリブロックMB1〜MB3の例えばD1方向側に隣接して配置すれば、これらのライトデータ信号、アドレス信号、メモリ制御信号がリピータブロックRP1〜RP3によりバッファリングされて各メモリブロックMB1〜MB3に入力されるようになる。この結果、信号の立ち上がり波形や立ち下がり波形が鈍るのを低減でき、メモリブロックMB1〜MB3への適正なデータ書き込みを実現できる。   In this regard, if repeater blocks RP1 to RP3 as shown in FIG. 25 are arranged adjacent to each memory block MB1 to MB3, for example, on the D1 direction side, these write data signals, address signals, and memory control signals are transmitted to repeater blocks RP1 to RP1. The data is buffered by RP3 and input to each of the memory blocks MB1 to MB3. As a result, it is possible to reduce the dullness of the rising waveform and falling waveform of the signal, and it is possible to realize proper data writing to the memory blocks MB1 to MB3.

また図25では階調電圧生成回路ブロックGBからの階調電圧をデータドライバブロックDB1〜DB3に供給するための階調用グローバル線GLGが、GBとDB1〜DB3の間に介在する回路ブロック上をD1方向に沿って配線される。例えば第5のアルミ配線層ALEで形成される階調用グローバル線GLGが、ロジック回路ブロックLBからD1方向に沿って配線される。そして階調電圧生成回路ブロックGBとロジック回路ブロックLBはD1方向に沿って隣接して配置され、ロジック回路ブロックLBと階調電圧生成回路ブロックGBの間には、LBが階調の調整データをGBに供給するためのローカル線LLGが配線される。   In FIG. 25, the global line for gradation GLG for supplying the gradation voltage from the gradation voltage generation circuit block GB to the data driver blocks DB1 to DB3 is D1 on the circuit block interposed between GB and DB1 to DB3. Wired along the direction. For example, the gradation global line GLG formed of the fifth aluminum wiring layer ALE is wired from the logic circuit block LB along the direction D1. The gradation voltage generation circuit block GB and the logic circuit block LB are arranged adjacent to each other along the direction D1, and the adjustment data of gradation is transferred between the logic circuit block LB and the gradation voltage generation circuit block GB. A local line LLG for wiring to GB is wired.

また階調用グローバル線GLGからの階調電圧をデータドライバDR1〜DR3に供給するための階調電圧供給線GSL1〜GSL3が、各データドライバDR1〜DR3においてD2方向に沿って配線される。具体的には、階調電圧供給線GSL1〜GSL3は、後述する複数のサブピクセルドライバセルにまたがって、各サブピクセルドライバセルのD/A変換器上をD2方向に沿って配線される。   Further, gradation voltage supply lines GSL1 to GSL3 for supplying gradation voltages from the gradation global line GLG to the data drivers DR1 to DR3 are wired along the direction D2 in each of the data drivers DR1 to DR3. Specifically, the gradation voltage supply lines GSL1 to GSL3 are wired along the D2 direction on the D / A converter of each subpixel driver cell across a plurality of subpixel driver cells described later.

そして更に本実施形態では図25に示すように、メモリ用グローバル線GLMが、階調用グローバル線GLGとドライバ用グローバル線GLDの間にD1方向に沿って配線される。   Further, in this embodiment, as shown in FIG. 25, the memory global line GLM is wired between the grayscale global line GLG and the driver global line GLD along the direction D1.

即ち図25では、バッファ回路BF1〜BF3とローアドレスデコーダRD1〜RD3がD1方向に沿って配置される。そしてロジック回路ブロックLBから、これらのバッファ回路BF1〜BF3、ローアドレスデコーダRD1〜RD3上を通って、ドライバ用グローバル線GLDをD1方向に沿って配線することで、配線効率を大幅に向上できる。   That is, in FIG. 25, the buffer circuits BF1 to BF3 and the row address decoders RD1 to RD3 are arranged along the direction D1. By wiring the driver global line GLD along the D1 direction from the logic circuit block LB through the buffer circuits BF1 to BF3 and the row address decoders RD1 to RD3, the wiring efficiency can be greatly improved.

また、データドライバDR1〜DR3に対しては、階調電圧生成回路ブロックGBからの階調電圧を供給する必要があり、このために、階調用グローバル線GLGがD1方向に沿って配線される。   Further, it is necessary to supply the grayscale voltage from the grayscale voltage generation circuit block GB to the data drivers DR1 to DR3. For this purpose, the grayscale global line GLG is wired along the direction D1.

一方、ローアドレスデコーダRD1〜RD3に対しては、メモリ用グローバル線GLMによりアドレス信号、メモリ制御信号等が供給される。従って、メモリ用グローバル線GLMは、ローアドレスデコーダRD1〜RD3の近くに配線することが望ましい。   On the other hand, address signals, memory control signals, and the like are supplied to the row address decoders RD1 to RD3 through the memory global line GLM. Therefore, the memory global line GLM is preferably wired near the row address decoders RD1 to RD3.

この点、図25では、メモリ用グローバル線GLMが、階調用グローバル線GLGとドライバ用グローバル線GLDの間に配線される。従って、メモリ用グローバル線GLMからのアドレス信号、メモリ制御信号等を、ローアドレスデコーダRD1〜RD3にショートパスで供給することができる。また階調用グローバル線GLGは、このメモリ用グローバル線GLMの上側にD1方向に沿ってほぼ一直線に配線できる。従って、1つの層のアルミ配線層ALEを用いて、グローバル線GLG、GLM、GLDを交差することなく配線できるようになり、配線効率を向上できる。   In this regard, in FIG. 25, the memory global line GLM is wired between the gradation global line GLG and the driver global line GLD. Accordingly, an address signal, a memory control signal, and the like from the memory global line GLM can be supplied to the row address decoders RD1 to RD3 through a short path. Further, the gradation global line GLG can be arranged substantially straight along the direction D1 above the memory global line GLM. Accordingly, it is possible to perform wiring without crossing the global lines GLG, GLM, and GLD by using a single aluminum wiring layer ALE, and wiring efficiency can be improved.

また図25では、ロジック回路ブロックLBと階調電圧生成回路ブロックGBや、データドライバブロックDB1〜DB3とメモリブロックMB1〜MB3のように、回路ブロック間に配線される信号線の本数が多い回路ブロックについては、隣接配置している。そして、これらの隣接回路ブロック間には、グローバル線の配線層よりも下層の配線層で形成されるローカル線を配線している。こうすることで、これらの隣接回路ブロック間がショートパスで接続されるようになり、配線領域を原因とするチップ面積の増加を防止できる。   In FIG. 25, a circuit block having a large number of signal lines wired between circuit blocks, such as a logic circuit block LB and a gradation voltage generation circuit block GB, and data driver blocks DB1 to DB3 and memory blocks MB1 to MB3. About adjoining. And between these adjacent circuit blocks, the local line formed in the wiring layer below the wiring layer of the global line is wired. By doing so, these adjacent circuit blocks are connected by a short path, and an increase in chip area caused by the wiring region can be prevented.

また図25では、ロジック回路ブロックLBと、データドライバブロックDB1〜DB3やメモリブロックMB1〜MB3の間については、ローカル線よりも上層の配線層で形成されるグローバル線GLD、GLM、GLGを配線している。このようにすれば、隣接回路ブロック間に配線されるローカル線の配線本数が非常に多い場合にも、これらのローカル線の上層に、グローバル線GLD、GLM、GLGを配線できる。従って、グローバル線により多くの信号線を配線できるようになるため、回路ブロックを迂回して出力側I/F領域12や入力側I/F領域14に配線する信号線の本数を減らすことができる。これにより、集積回路装置のD2方向での幅Wを小さくでき、スリムな細長チップを実現できる。   In FIG. 25, global lines GLD, GLM, and GLG formed with a wiring layer above the local line are wired between the logic circuit block LB and the data driver blocks DB1 to DB3 and the memory blocks MB1 to MB3. ing. In this way, even when the number of local lines wired between adjacent circuit blocks is very large, the global lines GLD, GLM, and GLG can be wired above these local lines. Accordingly, since more signal lines can be wired on the global line, the number of signal lines that are routed to the output-side I / F area 12 and the input-side I / F area 14 by bypassing the circuit block can be reduced. . Thereby, the width W in the direction D2 of the integrated circuit device can be reduced, and a slim and slender chip can be realized.

7.2 リピータブロック
図26にリピータブロックの構成例を示す。図26において、ロジック回路ブロックLBからのライトデータ信号(WD0、WD1・・・)は、2つのインバータから構成されるバッファBFA1、BFA2・・・によりバッファリングされて、次段のリピータブロックに出力される。具体的には図5(B)において、メモリブロックMB4のD1方向側に配置されるリピータブロックから、メモリブロックMB3のD1方向側に配置される次段のリピータブロックに対して、バッファリングされた信号が出力される。またロジック回路ブロックLBからのライトデータ信号は、バッファBFB1、BFB2・・・によりバッファリングされて、メモリブロックに出力される。具体的には図5(B)において、メモリブロックMB4のD1方向側に配置されるリピータブロックからメモリブロックMB4に対して、バッファリングされた信号が出力される。このように本実施形態では、ライトデータ信号については、次段のメモリブロックへの出力用のバッファBFA1、BFA2・・・のみならず、各メモリブロック用のバッファBFB1、BFB2・・・が設けられている。このようにすることで、メモリブロックのメモリセルの寄生容量が原因でライトデータ信号の波形が鈍り、書き込み時間の長期化や書き込みエラーが生じるのを効果的に防止できる。
7.2 Repeater Block FIG. 26 shows a configuration example of a repeater block. 26, the write data signals (WD0, WD1,...) From the logic circuit block LB are buffered by buffers BFA1, BFA2,... Composed of two inverters, and output to the repeater block at the next stage. Is done. Specifically, in FIG. 5B, buffering is performed from the repeater block arranged on the D1 direction side of the memory block MB4 to the next-stage repeater block arranged on the D1 direction side of the memory block MB3. A signal is output. The write data signal from the logic circuit block LB is buffered by the buffers BFB1, BFB2,... And output to the memory block. Specifically, in FIG. 5B, a buffered signal is output to the memory block MB4 from a repeater block arranged on the D1 direction side of the memory block MB4. As described above, in this embodiment, the write data signal is provided not only with the buffers BFA1, BFA2,... For output to the memory block at the next stage, but also with the buffers BFB1, BFB2. ing. By doing so, it is possible to effectively prevent the write data signal waveform from becoming dull due to the parasitic capacitance of the memory cells of the memory block, and to prolong the write time and cause a write error.

またロジック回路ブロックLBからのアドレス信号(CPUカラムアドレス、CPUローアドレス、LCDローアドレス等)は、バッファBFC1・・・によりバッファリングされて、メモリブロック及び次段のリピータブロックに出力される。またロジック回路ブロックLBからのメモリ制御信号(リード/ライト切替信号、CPUイネーブル信号、バンク選択信号等)は、バッファBFD1・・・によりバッファリングされて、メモリブロック及び次段のリピータブロックに出力される。   Address signals (CPU column address, CPU row address, LCD row address, etc.) from the logic circuit block LB are buffered by the buffers BFC1... And output to the memory block and the next repeater block. Memory control signals (read / write switching signal, CPU enable signal, bank selection signal, etc.) from the logic circuit block LB are buffered by the buffers BFD1... And output to the memory block and the next-stage repeater block. The

また図26のリピータブロックには、メモリブロックからのリードデータ信号用のバッファも設けられている。具体的にはバンク選択信号BANKMがアクティブ(Hレベル)になり、そのメモリブロック(第1〜第Iのメモリブロックのうちの第Jのメモリブロック)が選択された場合には、そのメモリブロック(第Jのメモリブロック)からのリードデータ信号が、そのメモリブロックに対応するリピータブロックのバッファBFE1、BFE2・・・によりバッファリングされてリードデータ線RD0L、RD1L・・・に出力される。一方、バンク選択信号BANKMが非アクティブ(Lレベル)になり、そのメモリブロック(第Jのメモリブロック)が非選択になった場合には、そのメモリブロックに対応するリピータブロックのバッファBFE1、BFE2・・・の出力状態がハイインピーダンス状態に設定される。これにより、バンク選択信号がアクティブになった他のメモリブロックからのリードデータ信号を、ロジック回路ブロックLBに適正に出力できるようになる。なお本実施形態では、ホスト側からのアクセス時に、アクセス領域に対応するメモリブロックが選択され、そのメモリブロックのワード線WLだけが選択される。これにより、選択されたメモリブロックからリピータブロックを介して、リードデータ信号がリードデータ線RD0L、RD1L・・・に出力されるようになる。   The repeater block of FIG. 26 is also provided with a buffer for read data signals from the memory block. Specifically, when the bank selection signal BANKM becomes active (H level) and the memory block (the Jth memory block among the first to Ith memory blocks) is selected, the memory block ( Read data signals from the Jth memory block) are buffered by the repeater block buffers BFE1, BFE2,... Corresponding to the memory block and output to the read data lines RD0L, RD1L,. On the other hand, when the bank selection signal BANKM becomes inactive (L level) and the memory block (Jth memory block) is not selected, the repeater block buffers BFE1, BFE2,. • The output state is set to the high impedance state. As a result, the read data signal from another memory block in which the bank selection signal is activated can be appropriately output to the logic circuit block LB. In this embodiment, when accessing from the host side, the memory block corresponding to the access area is selected, and only the word line WL of the memory block is selected. As a result, the read data signal is output from the selected memory block to the read data lines RD0L, RD1L,... Via the repeater block.

7.3 シールド線
図27に、走査ドライバブロックSB1とロジック回路ブロックLBの付近の詳細なレイアウトを示す。図27では、走査ドライバブロックSB1の出力線と走査線とを電気的に接続するための走査ドライバ用パッドが、ロジック回路ブロックLBのD2方向側に配置される。そして走査ドライバブロックSB1の出力線である走査ドライバ用グローバル線GLS1が、ロジック回路ブロックLB上(或いは電源回路ブロック上)を、走査ドライバブロックSB1から、出力側I/F領域12の走査ドライバ用パッドに対して配線される。
7.3 Shield Line FIG. 27 shows a detailed layout in the vicinity of the scan driver block SB1 and the logic circuit block LB. In FIG. 27, a scan driver pad for electrically connecting the output line of the scan driver block SB1 and the scan line is disposed on the D2 direction side of the logic circuit block LB. Then, the scan driver global line GLS1, which is the output line of the scan driver block SB1, passes from the scan driver block SB1 to the scan driver pad in the output I / F area 12 on the logic circuit block LB (or on the power supply circuit block). Is wired against.

図27において、走査ドライバ用パッドの個数は多く、走査ドライバブロックSB1の出力線の本数も多い。このため走査ドライバ用グローバル線GLS1の配線領域の占有面積も大きくなる。この結果、図27では、ロジック回路ブロックLB上に、走査ドライバ用グローバル線GLS1の配線領域が広く形成される。   In FIG. 27, the number of scan driver pads is large, and the number of output lines of the scan driver block SB1 is also large. For this reason, the area occupied by the wiring area of the scan driver global line GLS1 also increases. As a result, in FIG. 27, a wide wiring area of the scan driver global line GLS1 is formed on the logic circuit block LB.

そして走査ドライバブロックSB1の出力トランジスタは、例えば30Vというような高い電源電圧(HV)で動作する。従って、走査ドライバ用グローバル線GLS1が、図27のようにロジック回路ブロックLB上に配線されると、走査ドライバ用グローバル線GLS1の電圧レベルの変化によるノイズが、寄生のカップリング容量を介してロジック回路ブロックLB内の回路や信号線に伝達される。この結果、回路が誤動作するなどの問題が生じるおそれがある。   The output transistor of the scan driver block SB1 operates at a high power supply voltage (HV) such as 30V. Therefore, when the scan driver global line GLS1 is wired on the logic circuit block LB as shown in FIG. 27, noise due to a change in the voltage level of the scan driver global line GLS1 is caused by logic via the parasitic coupling capacitance. The signal is transmitted to circuits and signal lines in the circuit block LB. As a result, problems such as malfunction of the circuit may occur.

そこで本実施形態では、ロジック回路ブロックLB(或いは電源回路ブロック)において、走査ドライバ用グローバル線GLS1の下層に、シールド線を配線している。具体的には、走査ドライバ用グローバル線GLS1が第5のアルミ配線層ALEで形成される場合には、その下層の第4のアルミ配線層ALD等で形成されるシールド線を配線する。   Therefore, in the present embodiment, in the logic circuit block LB (or power supply circuit block), a shield line is wired below the scan driver global line GLS1. Specifically, when the scan driver global line GLS1 is formed by the fifth aluminum wiring layer ALE, a shield line formed by the fourth aluminum wiring layer ALD or the like below is wired.

図28にシールド線のレイアウト例を示す。図28において、走査ドライバブロックSB1からの走査ドライバ用グローバル線GLS1は、ロジック回路ブロックLB上を通って、走査ドライバ用パッドPn、Pn+1、Pn+2・・・に配線される。そしてロジック回路ブロックLBでは、これらの走査ドライバ用グローバル線GLS1の下層に、シールド線SDL1、SDL2、SDL3・・・・が配線される。このようなシールド線を配線すれば、走査ドライバ用グローバル線GLS1の電圧レベルの変化によるノイズが、カップリング容量によりロジック回路ブロックLB内の回路や信号線に伝達するのが防止される。この結果、これらの回路の誤動作を防止できる。   FIG. 28 shows a layout example of the shield line. In FIG. 28, the scan driver global line GLS1 from the scan driver block SB1 passes over the logic circuit block LB and is wired to the scan driver pads Pn, Pn + 1, Pn + 2,. In the logic circuit block LB, shield lines SDL1, SDL2, SDL3,... Are wired below these scan driver global lines GLS1. By wiring such a shield line, it is possible to prevent noise due to a change in voltage level of the scan driver global line GLS1 from being transmitted to the circuits and signal lines in the logic circuit block LB by the coupling capacitance. As a result, malfunction of these circuits can be prevented.

7.4 サブピクセルドライバセルの配置
図29にサブピクセルドライバセルの配置例を示す。図29では、データドライバブロックは、その各々が1サブピクセル分の画像データに対応するデータ信号を出力する複数のサブピクセルドライバセルSDC1〜SDC180を含む。即ちD1方向(サブピクセルドライバセルの長辺に沿った方向)に沿って複数のサブピクセルドライバセルが配置されると共にD1方向に直交するD2方向に沿って複数のサブピクセルドライバセルが配置される。そしてデータドライバブロックの出力線と表示パネルのデータ線とを電気的に接続するためのデータドライバ用パッドが、データドライバブロックのD2方向側に配置される。またデータドライバ用パッドがメモリブロックのD2方向側にも配置される。
7.4 Subpixel Driver Cell Arrangement FIG. 29 shows an arrangement example of subpixel driver cells. In FIG. 29, the data driver block includes a plurality of subpixel driver cells SDC1 to SDC180, each of which outputs a data signal corresponding to image data for one subpixel. That is, a plurality of subpixel driver cells are arranged along the D1 direction (a direction along the long side of the subpixel driver cell), and a plurality of subpixel driver cells are arranged along the D2 direction orthogonal to the D1 direction. . A data driver pad for electrically connecting the output line of the data driver block and the data line of the display panel is disposed on the D2 direction side of the data driver block. Data driver pads are also arranged on the D2 direction side of the memory block.

例えば図18のデータドライバDRaのドライバセルDRC1は、図29のサブピクセルドライバセルSDC1、SDC2、SDC3により構成できる。ここでSDC1、SDC2、SDC3は、各々、R(赤)用、G(緑)用、B(青)用のサブピクセルドライバセルであり、1本目のデータ信号に対応するR、G、Bの画像データ(R1、G1、B1)がメモリブロックから入力される。そしてサブピクセルドライバセルSDC1、SDC2、SDC3は、これらの画像データ(R1、G1、B1)のD/A変換を行い、1本目のR、G、Bのデータ信号(データ電圧)を、1本目のデータ線に対応するR、G、B用のパッドに出力する。   For example, the driver cell DRC1 of the data driver DRa in FIG. 18 can be configured by the subpixel driver cells SDC1, SDC2, and SDC3 in FIG. Here, SDC1, SDC2, and SDC3 are subpixel driver cells for R (red), G (green), and B (blue), respectively, and R, G, and B corresponding to the first data signal. Image data (R1, G1, B1) is input from the memory block. The subpixel driver cells SDC1, SDC2, and SDC3 perform D / A conversion of these image data (R1, G1, and B1), and the first R, G, and B data signals (data voltages) are converted to the first data. Are output to the R, G, and B pads corresponding to the data lines.

同様にドライバセルDRC2は、R用、G用、B用のサブピクセルドライバセルSDC4、SDC5、SDC6により構成され、2本目のデータ信号に対応するR、G、Bの画像データ(R2、G2、B2)がメモリブロックから入力される。そしてサブピクセルドライバセルSDC4、SDC5、SDC6は、これらの画像データ(R2、G2、B2)のD/A変換を行い、2本目のR、G、Bのデータ信号(データ電圧)を、2本目のデータ線に対応するR、G、B用のパッドに出力する。他のサブピクセルドライバセルも同様である。   Similarly, the driver cell DRC2 includes R, G, and B subpixel driver cells SDC4, SDC5, and SDC6, and R, G, and B image data (R2, G2,. B2) is input from the memory block. Then, the subpixel driver cells SDC4, SDC5, and SDC6 perform D / A conversion of these image data (R2, G2, and B2), and the second R, G, and B data signals (data voltages) are the second. Are output to the R, G, and B pads corresponding to the data lines. The same applies to the other subpixel driver cells.

なおサブピクセルの数は3個に限定されず、4個以上であってもよい。またサブピクセルドライバセルの配置も図29に限定されず、R用、G用、B用のサブピクセルドライバセルを例えばD2方向に沿ってスタック配置してもよい。   Note that the number of subpixels is not limited to three, and may be four or more. Also, the arrangement of the subpixel driver cells is not limited to that shown in FIG. 29, and the R, G, and B subpixel driver cells may be stacked along the direction D2, for example.

7.5 センスアンプ、メモリセルの配置
図30にセンスアンプ、メモリセルの配置例を示す。センスアンプブロックのうち1画素に対応する部分は、R用のセンスアンプSAR0〜SAR5と、G用のセンスアンプSAG0〜SAG5と、B用のセンスアンプSAB0〜SAB5を含む。また図30では、2個(広義には複数)のセンスアンプ(及びバッファ)がD1方向にスタック配置される。そしてスタック配置された第1、第2のセンスアンプSAR0、SAR1のD1方向側にD1方向に沿って並ぶ2行のメモリセル列(縦型セル)のうち、上側の行のメモリセル列のビット線は例えば第1のセンスアップSAR0に接続され、下側の行のメモリセル列のビット線は例えば第2のセンスアンプSAR1に接続される。そして第1、第2のセンスアップSAR0、SAR1は、メモリセルから読み出された画像データの信号増幅を行い、これによりSAR0、SAR1から2ビットの画像データが出力されるようになる。他のセンスアンプとメモリセルの関係についても同様である。
7.5 Arrangement of Sense Amplifier and Memory Cell FIG. 30 shows an arrangement example of the sense amplifier and the memory cell. The portion corresponding to one pixel in the sense amplifier block includes R sense amplifiers SAR0 to SAR5, G sense amplifiers SAG0 to SAG5, and B sense amplifiers SAB0 to SAB5. In FIG. 30, two (a plurality in a broad sense) sense amplifiers (and buffers) are stacked in the D1 direction. Of the two memory cell columns (vertical cells) arranged along the D1 direction on the D1 direction side of the stacked first and second sense amplifiers SAR0 and SAR1, the bit of the memory cell column in the upper row For example, the line is connected to the first sense-up SAR0, and the bit line of the memory cell column in the lower row is connected to the second sense amplifier SAR1, for example. Then, the first and second sense-up SAR0 and SAR1 perform signal amplification of the image data read from the memory cell, whereby 2-bit image data is output from SAR0 and SAR1. The same applies to the relationship between other sense amplifiers and memory cells.

図30の場合には、1水平走査期間での画像データの複数回読み出しは次のようにして実現できる。即ち第1の水平走査期間(第1の走査線の選択期間)においては、まずワード線WL1aを選択して画像データの1回目の読み出しを行い、1回目のデータ信号DATAaを出力する。この場合にはセンスアンプSAR0〜SAR5、SAG0〜SAG5、SAB0〜SAB5からのR、G、Bの画像データは、各々、サブピクセルドライバセルSDC1、SDC2、SDC3に入力される。次に、同じ第1の水平走査期間においてワード線WL1bを選択して画像データの2回目の読み出しを行い、2回目のデータ信号DATAbを出力する。この場合にはセンスアンプSAR0〜SAR5、SAG0〜SAG5、SAB0〜SAB5からのR、G、Bの画像データは、各々、サブピクセルドライバセルSDC91、SDC92、SDC93に入力される。   In the case of FIG. 30, readout of image data a plurality of times in one horizontal scanning period can be realized as follows. That is, in the first horizontal scanning period (first scanning line selection period), first, the word line WL1a is selected, the image data is read for the first time, and the first data signal DATAa is output. In this case, R, G, and B image data from the sense amplifiers SAR0 to SAR5, SAG0 to SAG5, and SAB0 to SAB5 are input to the subpixel driver cells SDC1, SDC2, and SDC3, respectively. Next, in the same first horizontal scanning period, the word line WL1b is selected, the image data is read for the second time, and the second data signal DATAb is output. In this case, R, G, and B image data from the sense amplifiers SAR0 to SAR5, SAG0 to SAG5, and SAB0 to SAB5 are input to the subpixel driver cells SDC91, SDC92, and SDC93, respectively.

7.6 サブピクセルドライバセルのレイアウト
図31にサブピクセルドライバセルの詳細なレイアウト例を示す。図31に示すように各サブピクセルドライバセルSDC1〜SDC180は、ラッチ回路LAT、レベルシフタL/S、D/A変換器DAC、出力部SSQを含む。なおラッチ回路LATとレベルシフタL/Sの間に、階調制御のためのFRC(Frame Rate Control)回路などの他のロジック回路を設けてもよい。
7.6 Layout of Subpixel Driver Cell FIG. 31 shows a detailed layout example of the subpixel driver cell. As shown in FIG. 31, each of the subpixel driver cells SDC1 to SDC180 includes a latch circuit LAT, a level shifter L / S, a D / A converter DAC, and an output unit SSQ. Note that another logic circuit such as an FRC (Frame Rate Control) circuit for gradation control may be provided between the latch circuit LAT and the level shifter L / S.

各サブピクセルドライバセルが含むラッチ回路LATは、メモリブロックMB1からの1サブピクセル分である6ビットの画像データをラッチする。レベルシフタL/Sは、ラッチ回路LATからの6ビットの画像データ信号の電圧レベルを変換する。D/A変換器DACは、階調電圧を用いて、6ビットの画像データのD/A変換を行う。出力部SSQは、D/A変換器DACの出力信号のインピーダンス変換を行う演算増幅器OP(ボルテージフォロワ接続)を有し、1サブピクセルに対応する1本のデータ線を駆動する。なお出力部SSQは、演算増幅器OP以外にも、ディスチャージ用、8色表示用、DAC駆動用のトランジスタ(スイッチ素子)を含むことができる。   A latch circuit LAT included in each subpixel driver cell latches 6-bit image data corresponding to one subpixel from the memory block MB1. The level shifter L / S converts the voltage level of the 6-bit image data signal from the latch circuit LAT. The D / A converter DAC performs D / A conversion of 6-bit image data using the gradation voltage. The output unit SSQ includes an operational amplifier OP (voltage follower connection) that performs impedance conversion of the output signal of the D / A converter DAC, and drives one data line corresponding to one subpixel. In addition to the operational amplifier OP, the output unit SSQ can include transistors for discharge, 8-color display, and DAC drive (switch elements).

そして図31に示すように各サブピクセルドライバセル(第1、第2のデータドライバDRa、DRb)は、LV(Low Voltage)の電圧レベル(広義には第1の電圧レベル)の電源で動作する回路が配置されるLV領域(広義には第1の回路領域)と、LVよりも高いMV(Middle Voltage)の電圧レベル(広義には第2の電圧レベル)の電源で動作する回路が配置されるMV領域(広義には第2の回路領域)を有する。ここでLVは、ロジック回路ブロックLB、メモリブロックMB等の動作電圧である。またMVは、D/A変換器、演算増幅器、電源回路等の動作電圧である。なお走査ドライバの出力トランジスタは、HV(High Voltage)の電圧レベル(広義には第3の電圧レベル)の電源が供給されて走査線を駆動する。   As shown in FIG. 31, each subpixel driver cell (first and second data drivers DRa and DRb) operates with a power supply having a voltage level of LV (Low Voltage) (first voltage level in a broad sense). A circuit that operates with a power supply of an LV region (first circuit region in a broad sense) in which a circuit is disposed and a voltage level (second voltage level in a broad sense) of MV (Middle Voltage) higher than LV is disposed. MV region (second circuit region in a broad sense). Here, LV is an operating voltage of the logic circuit block LB, the memory block MB, and the like. MV is an operating voltage of a D / A converter, an operational amplifier, a power supply circuit, and the like. Note that an output transistor of the scan driver is supplied with power at an HV (High Voltage) voltage level (third voltage level in a broad sense) to drive the scan line.

例えばサブピクセルドライバセルのLV領域(第1の回路領域)には、ラッチ回路LAT(或いはその他のロジック回路)が配置される。またMV領域(第2の回路領域)にはD/A変換器DACや、演算増幅器OPを有する出力部SSQが配置される。そしてレベルシフタL/Sが、LVの電圧レベルの信号をMVの電圧レベルの信号に変換する。   For example, a latch circuit LAT (or other logic circuit) is arranged in the LV region (first circuit region) of the subpixel driver cell. In the MV region (second circuit region), a D / A converter DAC and an output unit SSQ having an operational amplifier OP are arranged. The level shifter L / S converts the LV voltage level signal into an MV voltage level signal.

なお図31ではサブピクセルドライバセルSDC1〜SDC180のD4方向側にバッファ回路BF1が設けられている。このバッファ回路BF1は、ロジック回路ブロックLBからのドライバ制御信号をバッファリングして、サブピクセルドライバセルSDC1〜SDC180に出力する。別の言い方をすれば、ドライバ制御信号のリピータブロックとして機能する。   In FIG. 31, a buffer circuit BF1 is provided on the D4 direction side of the subpixel driver cells SDC1 to SDC180. The buffer circuit BF1 buffers the driver control signal from the logic circuit block LB and outputs it to the subpixel driver cells SDC1 to SDC180. In other words, it functions as a repeater block for driver control signals.

具体的にはバッファ回路BF1は、LV領域に配置されるLVバッファ(広義には第1のバッファ)と、MV領域に配置されるMVバッファ(広義には第2のバッファ)を含む。そしてLVバッファは、ロジック回路ブロックLBからのLVの電圧レベル(第1の電圧レベル)のドライバ制御信号(ラッチ信号等)を受けてバッファリングし、そのD2方向側に配置されるサブピクセルドライバセルのLV領域(第1の回路領域)の回路(LAT)に対して出力する。またMVバッファは、ロジック回路ブロックLBからのLVの電圧レベルのドライバ制御信号(DAC制御信号、出力制御信号等)を受け、レベルシフタによりMVの電圧レベル(第2の電圧レベル)に変換してバッファリングし、そのD2方向側に配置されるサブピクセルドライバセルのMV領域(第2の回路領域)の回路(DAC、SSQ)に対して出力する。   Specifically, the buffer circuit BF1 includes an LV buffer (first buffer in a broad sense) arranged in the LV area and an MV buffer (second buffer in a broad sense) arranged in the MV area. The LV buffer receives and buffers a driver control signal (latch signal or the like) of the LV voltage level (first voltage level) from the logic circuit block LB, and sub-pixel driver cells arranged on the D2 direction side thereof. Output to the circuit (LAT) in the LV region (first circuit region). The MV buffer receives a driver control signal (DAC control signal, output control signal, etc.) having a voltage level of LV from the logic circuit block LB, and converts it to a voltage level of MV (second voltage level) by a level shifter. And outputs to the circuits (DAC, SSQ) in the MV region (second circuit region) of the subpixel driver cell arranged on the D2 direction side.

そして本実施形態では図31に示すように、各サブピクセルドライバセルのMV領域同士(又はLV領域同士)がD1方向に沿って隣接するようにサブピクセルドライバセルSDC1〜SDC180が配置される。即ち隣接するサブピクセルドライバセルがD2方向に沿った隣接境界を挟んでミラー配置される。例えばサブピクセルドライバセルSDC1とSDC2はMV領域が隣接するように配置される。またサブピクセルドライバセルSDC3とSDC91もMV領域が隣接するように配置される。なおサブピクセルドライバセルSDC2とSDC3はLV領域同士が隣接するように配置される。   In this embodiment, as shown in FIG. 31, the subpixel driver cells SDC1 to SDC180 are arranged so that the MV regions (or LV regions) of the subpixel driver cells are adjacent to each other along the D1 direction. That is, adjacent subpixel driver cells are mirror-arranged with an adjacent boundary along the direction D2. For example, the subpixel driver cells SDC1 and SDC2 are arranged so that the MV regions are adjacent to each other. The subpixel driver cells SDC3 and SDC91 are also arranged so that the MV regions are adjacent to each other. The subpixel driver cells SDC2 and SDC3 are arranged so that the LV regions are adjacent to each other.

図31のようにMV領域が隣接するように配置すれば、サブピクセルドライバセル間にガードリング等を設ける必要がなくなる。従ってMV領域とLV領域を隣接させる手法に比べて、データドライバブロックのD1方向での幅を小さくでき、集積回路装置の小面積化を図れる。   If the MV regions are arranged adjacent to each other as shown in FIG. 31, it is not necessary to provide a guard ring or the like between the subpixel driver cells. Therefore, the width of the data driver block in the direction D1 can be reduced compared with the method in which the MV region and the LV region are adjacent to each other, and the area of the integrated circuit device can be reduced.

また図31の配置手法によれば、隣接するサブピクセルドライバセル(ドライバセル)のMV領域を、サブピクセルドライバセル(ドライバセル)の出力信号の取り出し線の配線領域として有効利用でき、レイアウト効率を向上できる。   In addition, according to the arrangement method of FIG. 31, the MV area of the adjacent subpixel driver cell (driver cell) can be effectively used as the wiring area of the output line for the output signal of the subpixel driver cell (driver cell), thereby improving the layout efficiency. It can be improved.

また図29、図31に示すように本実施形態では、第1、第2のデータドライバDRa、DRbが、そのMV領域(第2の回路領域)同士が隣接するように配置される。また第1のデータドライバDRaのLV領域(第1の回路領域)が第1のメモリブロックMB1(第Jのメモリブロック)に隣接し、第2のデータドライバDRbのLV領域(第1の回路領域)が第2のメモリブロックMB2(第J+1のメモリブロック)に隣接するように配置される。例えば図29、図31において、第1のメモリブロックMB1は、第1のデータドライバDRaのサブピクセルドライバセルSDC1、SDC4、SDC7・・・SDC88のLV領域に隣接して配置される。また第2のメモリブロックMB2は、第2のデータドライバDRbのサブピクセルドライバセルSDC93、SDC96、SDC99・・・SDC180のLV領域に隣接して配置される。そしてメモリブロックMB1、MB2はLVの電圧レベルの電源で動作する。従って、このようにサブピクセルドライバセルのLV領域をメモリブロックに隣接して配置すれば、データドライバブロック及びメモリブロックにより構成されるドライバマクロセルのD1方向での幅を小さくでき、集積回路装置の小面積化を図れる。   Further, as shown in FIGS. 29 and 31, in the present embodiment, the first and second data drivers DRa and DRb are arranged so that their MV regions (second circuit regions) are adjacent to each other. The LV region (first circuit region) of the first data driver DRa is adjacent to the first memory block MB1 (Jth memory block), and the LV region (first circuit region) of the second data driver DRb. ) Are arranged adjacent to the second memory block MB2 (J + 1th memory block). For example, in FIGS. 29 and 31, the first memory block MB1 is disposed adjacent to the LV region of the subpixel driver cells SDC1, SDC4, SDC7... SDC88 of the first data driver DRa. The second memory block MB2 is arranged adjacent to the LV region of the subpixel driver cells SDC93, SDC96, SDC99... SDC180 of the second data driver DRb. The memory blocks MB1 and MB2 operate with a power supply having a voltage level of LV. Therefore, if the LV region of the subpixel driver cell is arranged adjacent to the memory block in this way, the width of the driver macrocell constituted by the data driver block and the memory block in the direction D1 can be reduced, and the integrated circuit device can be reduced. The area can be increased.

7.7 D/A変換器
図32にサブピクセルドライバセルが含むD/A変換器(DAC)の詳細な構成例を示す。このD/A変換器はいわゆるトーナメント方式のD/A変換を行う回路であり、階調電圧セレクタSLN1〜SLN11、SLP1〜SLP11とプリデコーダ120を含む。
7.7 D / A Converter FIG. 32 shows a detailed configuration example of the D / A converter (DAC) included in the subpixel driver cell. This D / A converter is a circuit that performs so-called tournament D / A conversion, and includes gradation voltage selectors SLN1 to SLN11, SLP1 to SLP11, and a predecoder 120.

ここで階調電圧セレクタSLN1〜SLN11はN型(広義には第1導電型)のトランジスタで構成されるセレクタであり、階調電圧セレクタSLP1〜SLP11はP型(広義には第2導電型)のトランジスタで構成されるセレクタであり、これらのN型、P型のトランジスタがペアとなってトランスファーゲートが構成される。例えばSLN1を構成するN型トランジスタとSLP1を構成するP型トランジスタがペアとなって、トランスファーゲートが構成される。   Here, the gradation voltage selectors SLN1 to SLN11 are selectors formed of N-type (first conductivity type in a broad sense) transistors, and the gradation voltage selectors SLP1 to SLP11 are P-type (second conductivity type in a broad sense). These N-type and P-type transistors are paired to form a transfer gate. For example, an N-type transistor constituting SLN1 and a P-type transistor constituting SLP1 are paired to constitute a transfer gate.

階調電圧セレクタSLN1〜SLN8、SLP1〜SLP8の入力端子には、各々、V0〜V3、V4〜V7、V8〜V11、V12〜V15、V16〜V19、V20〜V23、V24〜V27、V28〜V31の階調電圧供給線が接続される。そしてプリデコーダ120は、画像データD0〜D5が入力されて、図33(A)の真理値表に示すようなデコード処理を行う。そして選択信号S1〜S4、XS1〜XS4を、各々、階調電圧セレクタSLN1〜SLN8、SLP1〜SLP9に出力する。また選択信号S5〜S8、XS5〜XS8を、各々、SLN9及びSLN10、SLP9及びSLP10に出力し、S9〜S12、XS9〜XS12を、各々、SLN11、SLP11に出力する。   The input terminals of the gradation voltage selectors SLN1 to SLN8 and SLP1 to SLP8 are V0 to V3, V4 to V7, V8 to V11, V12 to V15, V16 to V19, V20 to V23, V24 to V27, V28 to V31, respectively. Grayscale voltage supply lines are connected. The predecoder 120 receives the image data D0 to D5 and performs a decoding process as shown in the truth table of FIG. The selection signals S1 to S4 and XS1 to XS4 are output to the gradation voltage selectors SLN1 to SLN8 and SLP1 to SLP9, respectively. The selection signals S5 to S8 and XS5 to XS8 are output to SLN9 and SLN10, SLP9 and SLP10, respectively, and S9 to S12 and XS9 to XS12 are output to SLN11 and SLP11, respectively.

例えば画像データD0〜D5が(100000)の場合には、図33(A)の真理値表に示すように、選択信号S2、S5、S9(XS2、XS5、XS9)がアクティブになる。これにより階調電圧セレクタSLN1、SLP1が階調電圧V1を選択し、SLN9、SLP9がSLN1、SLP1の出力を選択し、SLN11、SLP11がSLN9、SLP9の出力を選択する。従って出力部SSQには階調電圧V1が出力される。同様に画像データD0〜D5が(010000)の場合には、選択信号S3(XS3)がアクティブになるため、階調電圧セレクタSLN1、SLP1が階調電圧V2を選択し、出力部SSQには階調電圧V2が出力される。また画像データD0〜D5が(001000)の場合には、選択信号S1、S6、S9(XS1、XS6、XS9)がアクティブになる。従って階調電圧セレクタSLN2、SLP2が階調電圧V4を選択し、SLN9、SLP9がSLN2、SLP2の出力を選択し、SLN11、SLP11がSLN9、SLP9の出力を選択する。従って出力部SSQには階調電圧V4が出力される。   For example, when the image data D0 to D5 is (100000), the selection signals S2, S5, and S9 (XS2, XS5, and XS9) become active as shown in the truth table of FIG. Thus, the gradation voltage selectors SLN1 and SLP1 select the gradation voltage V1, SLN9 and SLP9 select the outputs of SLN1 and SLP1, and SLN11 and SLP11 select the outputs of SLN9 and SLP9. Therefore, the gradation voltage V1 is output to the output unit SSQ. Similarly, when the image data D0 to D5 are (010000), the selection signal S3 (XS3) becomes active, so that the gradation voltage selectors SLN1 and SLP1 select the gradation voltage V2, and the output unit SSQ has a level. A regulated voltage V2 is output. When the image data D0 to D5 are (001000), the selection signals S1, S6, S9 (XS1, XS6, XS9) are activated. Therefore, the gradation voltage selectors SLN2 and SLP2 select the gradation voltage V4, SLN9 and SLP9 select the outputs of SLN2 and SLP2, and SLN11 and SLP11 select the outputs of SLN9 and SLP9. Therefore, the gradation voltage V4 is output to the output unit SSQ.

そして本実施形態では図33(B)(C)に示すように、図32のD/A変換器に階調電圧V0〜V31を供給するための階調電圧供給線が、複数のサブピクセルドライバセルにまたがってD2(D4)方向に沿って配線される。例えば図33(B)では、D2方向に沿って並ぶサブピクセルドライバセルSDC1、SDC4、SDC7にまたがって、階調電圧供給線がD2方向に配線される。またこれらの階調電圧供給線は、図33(B)(C)に示すようにD/A変換器(階調電圧セレクタ)の配置領域上に配線される。   In this embodiment, as shown in FIGS. 33B and 33C, the gradation voltage supply line for supplying the gradation voltages V0 to V31 to the D / A converter of FIG. 32 includes a plurality of subpixel drivers. Wiring is performed along the D2 (D4) direction across the cells. For example, in FIG. 33B, the grayscale voltage supply line is wired in the D2 direction across the subpixel driver cells SDC1, SDC4, and SDC7 arranged in the D2 direction. Further, these gradation voltage supply lines are wired on the arrangement area of the D / A converter (gradation voltage selector) as shown in FIGS.

更に具体的には図33(B)に示すように、サブピクセルドライバセルのD/A変換器の配置領域では、D2方向に沿ってN型トランジスタ領域(P型ウェル)、P型トランジスタ領域(N型ウェル)が配置される。一方、サブピクセルドライバセルのD/A変換器以外の回路(出力部、レベルシフタ、ラッチ回路)の配置領域では、D2方向に直交するD1方向に沿ってN型トランジスタ領域(P型ウェル)、P型トランジスタ領域(N型ウェル)が配置される。別の言い方をすれば、D2方向に沿って隣接するサブピクセルドライバセルは、D1方向に沿った隣接境界を挟んでミラー配置される。例えばドライバセルSDC1とSDC4は、その隣接境界を挟んでミラー配置され、SDC4とSDC7は、その隣接境界を挟んでミラー配置される。   More specifically, as shown in FIG. 33B, in the D / A converter arrangement region of the subpixel driver cell, an N-type transistor region (P-type well), a P-type transistor region ( N-type well) is arranged. On the other hand, in the arrangement region of circuits (output unit, level shifter, latch circuit) other than the D / A converter of the subpixel driver cell, an N-type transistor region (P-type well), P along the D1 direction orthogonal to the D2 direction. A type transistor region (N type well) is disposed. In other words, the subpixel driver cells adjacent along the D2 direction are mirror-arranged with an adjacent boundary along the D1 direction. For example, the driver cells SDC1 and SDC4 are mirror-arranged with the adjacent boundary therebetween, and SDC4 and SDC7 are mirror-arranged with the adjacent boundary interposed therebetween.

例えばサブピクセルドライバセルSDC1のD/A変換器の階調電圧セレクタSLN1〜SLN11を構成するN型トランジスタは、図33(B)に示すサブピクセルドライバセルのN型トランジスタ領域NTR1に形成され、階調電圧セレクタSLP1〜SLP11を構成するP型トランジスタはP型トランジスタ領域PTR1に形成される。具体的には図33(C)に示すように、階調電圧セレクタSLN11を構成するN型トランジスタTRF1、TRF2や、階調電圧セレクタSLN9、SLN10を構成するN型トランジスタTRF3、TRF4は、N型トランジスタ領域NTR1に形成される。一方、階調電圧セレクタSLP11を構成するP型トランジスタTRF5、TRF6や、階調電圧セレクタSLP9、SLP10を構成するP型トランジスタTRF7、TRF8は、P型トランジスタ領域PTR1に形成される。そして、サブピクセルドライバセルの他の回路のN型トランジスタ領域、P型トランジスタ領域はD1方向に沿って配置されるのに対して、N型トランジスタ領域NTR1、P型トランジスタ領域PTR1はD2方向に沿って配置される。   For example, the N-type transistors constituting the gradation voltage selectors SLN1 to SLN11 of the D / A converter of the subpixel driver cell SDC1 are formed in the N-type transistor region NTR1 of the subpixel driver cell shown in FIG. P-type transistors constituting the voltage regulator selectors SLP1 to SLP11 are formed in the P-type transistor region PTR1. Specifically, as shown in FIG. 33C, the N-type transistors TRF1 and TRF2 constituting the gradation voltage selector SLN11 and the N-type transistors TRF3 and TRF4 constituting the gradation voltage selectors SLN9 and SLN10 are N-type. It is formed in transistor region NTR1. On the other hand, the P-type transistors TRF5 and TRF6 constituting the gradation voltage selector SLP11 and the P-type transistors TRF7 and TRF8 constituting the gradation voltage selectors SLP9 and SLP10 are formed in the P-type transistor region PTR1. The N-type transistor region and the P-type transistor region of other circuits of the subpixel driver cell are arranged along the direction D1, whereas the N-type transistor region NTR1 and the P-type transistor region PTR1 are arranged along the direction D2. Arranged.

図32のD/A変換器では、例えば階調電圧セレクタSLN1を構成するN型トランジスタと、階調電圧セレクタSLP1を構成するP型トランジスタは、ペアとなってトランスファーゲートを構成する。従って、階調電圧供給線をD2方向に沿って配線すれば、これらのP型、N型トランジスタに対して階調電圧供給線を共通接続でき、トランスファーゲートを容易に構成できるようになり、レイアウト効率を向上できる。   In the D / A converter of FIG. 32, for example, an N-type transistor constituting the gradation voltage selector SLN1 and a P-type transistor constituting the gradation voltage selector SLP1 form a pair to form a transfer gate. Therefore, if the gradation voltage supply line is wired along the D2 direction, the gradation voltage supply line can be commonly connected to these P-type and N-type transistors, and the transfer gate can be easily configured, and the layout can be realized. Efficiency can be improved.

一方、D/A変換器以外の回路、例えばラッチ回路に対しては、メモリブロックからの画像データを入力する必要がある。そして図33(B)に示すように、この画像データはD1方向に沿って配線された画像データ供給線により供給される。また図31のレイアウトから明らかなように、サブピクセルドライバセル内での信号の流れの方向はD1方向である。従ってD/A変換器以外の回路のN型トランジスタ領域、P型トランジスタ領域を図33(B)のようにD1方向に沿って並べて配置すれば、信号の流れに沿った効率的なレイアウトが可能になる。従って、図33(B)のようなトランジスタ領域の配列は、図31のように配置されるサブピクセルドライバセルに最適なレイアウトになる。   On the other hand, it is necessary to input image data from a memory block to a circuit other than the D / A converter, for example, a latch circuit. Then, as shown in FIG. 33B, this image data is supplied by an image data supply line wired along the direction D1. As is clear from the layout of FIG. 31, the direction of signal flow in the subpixel driver cell is the D1 direction. Therefore, if the N-type transistor region and the P-type transistor region of the circuit other than the D / A converter are arranged side by side along the D1 direction as shown in FIG. 33B, an efficient layout along the signal flow is possible. become. Therefore, the arrangement of the transistor regions as shown in FIG. 33B is an optimal layout for the subpixel driver cells arranged as shown in FIG.

なお、上記のように本実施形態について詳細に説明したが、本発明の新規事項および効果から実体的に逸脱しない多くの変形が可能であることは当業者には容易に理解できるであろう。従って、このような変形例はすべて本発明の範囲に含まれるものとする。例えば、明細書又は図面において、少なくとも一度、より広義または同義な異なる用語(第1のインターフェース領域、第2のインターフェース領域等)と共に記載された用語(出力側I/F領域、入力側I/F領域等)は、明細書又は図面のいかなる箇所においても、その異なる用語に置き換えることができる。また集積回路装置や電子機器の構成、配置、動作も本実施形態で説明したものに限定に限定されず、種々の変形実施が可能である。   Although the present embodiment has been described in detail as described above, it will be easily understood by those skilled in the art that many modifications can be made without departing from the novel matters and effects of the present invention. Accordingly, all such modifications are intended to be included in the scope of the present invention. For example, in the specification or drawings, terms (output-side I / F region, input-side I / F) described at least once together with different terms having a broader meaning or the same meaning (first interface region, second interface region, etc.) (Area, etc.) can be replaced with the different terms anywhere in the specification or drawings. Further, the configuration, arrangement, and operation of the integrated circuit device and the electronic device are not limited to those described in this embodiment, and various modifications can be made.

図1(A)(B)(C)は本実施形態の比較例の説明図。1A, 1B, and 1C are explanatory diagrams of a comparative example of the present embodiment. 図2(A)(B)は集積回路装置の実装についての説明図。FIGS. 2A and 2B are explanatory views for mounting an integrated circuit device. 本実施形態の集積回路装置の構成例。1 is a configuration example of an integrated circuit device according to an embodiment. 種々のタイプの表示ドライバとそれが内蔵する回路ブロックの例。Examples of various types of display drivers and the circuit blocks they contain. 図5(A)(B)は本実施形態の集積回路装置の平面レイアウト例。5A and 5B are plan layout examples of the integrated circuit device of this embodiment. 図6(A)(B)は集積回路装置の断面図の例。6A and 6B are examples of cross-sectional views of the integrated circuit device. 集積回路装置の回路構成例。6 is a circuit configuration example of an integrated circuit device. 図8(A)(B)(C)はデータドライバ、走査ドライバの構成例。8A, 8B, and 8C are configuration examples of a data driver and a scan driver. 図9(A)(B)は電源回路、階調電圧生成回路の構成例。9A and 9B are configuration examples of a power supply circuit and a gradation voltage generation circuit. 図10(A)(B)(C)はD/A変換回路、出力回路の構成例。10A, 10B, and 10C are configuration examples of a D / A conversion circuit and an output circuit. ロジック回路、階調電圧生成回路、電源回路、データドライバのブロックの配置手法の説明図。FIG. 5 is an explanatory diagram of a block arrangement method of a logic circuit, a gradation voltage generation circuit, a power supply circuit, and a data driver. 階調電圧生成回路ブロックの詳細な回路構成例。3 is a detailed circuit configuration example of a gradation voltage generation circuit block. 図13(A)(B)(C)は階調特性の調整についての説明図。13A, 13B, and 13C are explanatory diagrams for adjustment of the gradation characteristics. 図14(A)(B)は走査ドライバブロックの配置例。14A and 14B show examples of arrangement of scan driver blocks. 図15(A)(B)は階調電圧生成回路ブロックの詳細な配置例。15A and 15B show detailed arrangement examples of the gradation voltage generation circuit block. 図16(A)(B)はメモリブロック、データドライバブロックの配置の説明図。16A and 16B are explanatory diagrams of the arrangement of memory blocks and data driver blocks. 1水平走査期間に画像データを複数回読み出す手法の説明図。Explanatory drawing of the method of reading image data in multiple times in 1 horizontal scanning period. データドライバ、ドライバセルの配置例。Data driver and driver cell arrangement example. 図19(A)(B)(C)はメモリセルの構成例。19A, 19B, and 19C are configuration examples of memory cells. 横型セルの場合のメモリブロック、ドライバセルの配置例。An arrangement example of memory blocks and driver cells in the case of a horizontal cell. 縦型セルの場合のメモリブロック、ドライバセルの配置例。An arrangement example of memory blocks and driver cells in the case of a vertical cell. 図22(A)(B)(C)は階調電圧出力線の配線手法の説明図。22A, 22B, and 22C are explanatory diagrams of the wiring method of the gradation voltage output line. 図23(A)(B)はシールド線の形成手法の説明図。FIGS. 23A and 23B are explanatory diagrams of a method for forming a shield wire. 図24(A)(B)は電子機器の構成例。24A and 24B are configuration examples of electronic devices. グローバル線の配線例。Example of global wiring. リピータブロックの構成例。The structural example of a repeater block. ロジック回路ブロック、走査ドライバブロックのレイアウト例。An example layout of a logic circuit block and a scan driver block. グローバル線のシールド手法の説明図。Explanatory drawing of the global line shielding technique. サブピクセルドライバセルの配置例。An arrangement example of subpixel driver cells. センスアンプ、メモリセルの配置例。An example of arrangement of sense amplifiers and memory cells. サブピクセルドライバセルの構成例。2 shows a configuration example of a subpixel driver cell. D/A変換器の構成例。The structural example of a D / A converter. 図33(A)(B)(C)は、D/A変換器のサブデコーダの真理値表と、D/A変換器のレイアウトの説明図。FIGS. 33A, 33B, and 33C are a truth table of a sub-decoder of a D / A converter and an explanatory diagram of a layout of the D / A converter.

符号の説明Explanation of symbols

CB1〜CBN 第1〜第Nの回路ブロック、10 集積回路装置、
12 出力側I/F領域、14 入力側I/F領域、20 メモリ、
22 メモリセルアレイ、24 ローアドレスデコーダ、
26 カラムアドレスデコーダ、28 ライト/リード回路、
40 ロジック回路、42 制御回路、44 表示タイミング制御回路、
46 ホストインターフェース回路、48 RGBインターフェース回路、
50 データドライバ、52 データラッチ回路、54 D/A変換回路、
56 出力回路、70 走査ドライバ、72 シフトレジスタ、
73 走査アドレス生成回路、74 アドレスデコーダ、76 レベルシフタ、
78 出力回路、90 電源回路、92 昇圧回路、94 レギュレータ回路、
96 VCOM生成回路、98 制御回路、110 階調電圧生成回路、
112 選択用電圧生成回路、114 階調電圧選択回路、116 調整レジスタ
CB1 to CBN 1st to Nth circuit blocks, 10 integrated circuit devices,
12 output side I / F area, 14 input side I / F area, 20 memory,
22 memory cell array, 24 row address decoder,
26 column address decoder, 28 write / read circuit,
40 logic circuit, 42 control circuit, 44 display timing control circuit,
46 host interface circuit, 48 RGB interface circuit,
50 data drivers, 52 data latch circuits, 54 D / A conversion circuits,
56 output circuit, 70 scan driver, 72 shift register,
73 scanning address generation circuit, 74 address decoder, 76 level shifter,
78 output circuit, 90 power supply circuit, 92 booster circuit, 94 regulator circuit,
96 VCOM generation circuit, 98 control circuit, 110 gradation voltage generation circuit,
112 selection voltage generation circuit, 114 gradation voltage selection circuit, 116 adjustment register

Claims (19)

表示パネルを駆動する集積回路装置であって、
前記集積回路装置の短辺である第1の辺から対向する第3の辺へと向かう方向を第1の方向とし、前記集積回路装置の長辺である第2の辺から対向する第4の辺へと向かう方向を第2の方向とした場合に、前記第1の方向に沿って配置される第1〜第Nの回路ブロック(Nは2以上の整数)を含み、
前記第1〜第Nの回路ブロックは、
階調特性の調整データの設定を行うロジック回路ブロックと、
設定された前記調整データに基づいて、前記表示パネルに表示される画像の画像データにより選択される階調電圧を生成する階調電圧生成回路ブロックと、
前記階調電圧生成回路ブロックからの階調電圧を受け、前記表示パネルのデータ線を駆動するための少なくとも1つのデータドライバブロックと、
電源電圧を生成する電源回路ブロックとを含み、
少なくとも1つの前記データドライバブロックは、
前記ロジック回路ブロック及び前記階調電圧生成回路ブロックと、前記電源回路ブロックとの間に配置されることを特徴とする集積回路装置。
An integrated circuit device for driving a display panel,
A direction toward a third side opposite the first side which is the short side of the integrated circuit device to the first direction, said integrated circuit device a long side which is the fourth to an opposing second side of the When the direction toward the side is the second direction, the first to Nth circuit blocks (N is an integer of 2 or more) arranged along the first direction,
The first to Nth circuit blocks are:
A logic circuit block for setting gradation characteristic adjustment data;
A gradation voltage generation circuit block for generating a gradation voltage selected by image data of an image displayed on the display panel based on the set adjustment data;
At least one data driver block for receiving a gradation voltage from the gradation voltage generating circuit block and driving a data line of the display panel ;
A power supply circuit block for generating a power supply voltage,
At least one of the data driver blocks is
An integrated circuit device, wherein the integrated circuit device is disposed between the logic circuit block, the gradation voltage generation circuit block, and the power supply circuit block.
請求項1において、
前記ロジック回路ブロックと前記階調電圧生成回路ブロックは、前記第1の方向に沿って隣接して配置されることを特徴とする集積回路装置。
In claim 1,
The integrated circuit device, wherein the logic circuit block and the gradation voltage generation circuit block are arranged adjacent to each other along the first direction.
請求項1又は2において、
前記階調電圧生成回路ブロックは、前記データドライバブロックと前記ロジック回路ブロックの間に配置されることを特徴とする集積回路装置。
In claim 1 or 2,
2. The integrated circuit device according to claim 1, wherein the gradation voltage generation circuit block is disposed between the data driver block and the logic circuit block.
請求項1乃至3のいずれかにおいて、
前記第1〜第Nの回路ブロックは、
前記画像データを記憶する少なくとも1つのメモリブロックを含み、
前記メモリブロックと、前記メモリブロックに接続され、前記メモリブロックに記憶される前記画像データにより前記データ線を駆動する前記データドライバブロックは前記第1の方向に沿って隣接して配置されることを特徴とする集積回路装置。
In any one of Claims 1 thru | or 3,
The first to Nth circuit blocks are:
Includes at least one memory block for storing the image data,
Said memory blocks, coupled to the memory block, the data driver block for driving the data lines by the image data stored in said memory block, to be adjacently disposed along the first direction An integrated circuit device.
請求項4において、
前記第1〜第Nの回路ブロックは、
第1〜第Iのメモリブロック(Iは2以上の整数)と、
前記第1〜第Iのメモリブロックの各々に対して、前記第1の方向に沿ってその各々が隣接して配置される第1〜第Iのデータドライバブロックとを含むことを特徴とする集積回路装置。
In claim 4,
The first to Nth circuit blocks are:
First to I-th memory blocks (I is an integer of 2 or more);
An integrated circuit comprising: a first to a first data driver block arranged adjacent to each of the first to I-th memory blocks along the first direction; Circuit device.
請求項1乃至5のいずれかにおいて、
前記データドライバブロックは、
画像データを受け、前記データ線を駆動するデータドライバと、
前記ロジック回路ブロックからのドライバ制御信号をバッファリングして前記データドライバに出力するバッファ回路とを含み、
前記ロジック回路ブロックからのドライバ制御信号を前記データドライバブロックに供給するためのドライバ用グローバル線が、前記ロジック回路ブロックと前記データドライバブロックの間に介在する回路ブロック上を前記第1の方向に沿って配線され、
前記バッファ回路は、
前記ドライバ用グローバル線からのドライバ制御信号をバッファリングして前記データドライバに出力することを特徴とする集積回路装置。
In any one of Claims 1 thru | or 5,
The data driver block is:
A data driver that receives the image data and drives the data line;
A buffer circuit that buffers a driver control signal from the logic circuit block and outputs the buffer control signal to the data driver;
A driver global line for supplying a driver control signal from the logic circuit block to the data driver block extends along the first direction on the circuit block interposed between the logic circuit block and the data driver block. Wired
The buffer circuit is
An integrated circuit device, wherein a driver control signal from the driver global line is buffered and output to the data driver.
請求項6において、
前記データドライバブロックは、
その各々が1サブピクセル分の画像データに対応するデータ信号を出力する複数のサブピクセルドライバセルを含み、
前記複数のサブピクセルドライバセルの各サブピクセルドライバセルは、
第1の電圧レベルの電源で動作する回路が配置される第1の回路領域と、
前記第1の電圧レベルよりも高い第2の電圧レベルの電源で動作する回路が配置される第2の回路領域とを有し、
前記バッファ回路は、
前記ロジック回路ブロックからの第1の電圧レベルのドライバ制御信号を受けてバッファリングし、前記サブピクセルドライバセルの前記第1の回路領域の回路に対して出力する第1のバッファと、
前記ロジック回路ブロックからの第1の電圧レベルのドライバ制御信号を受け、レベルシフタにより第2の電圧レベルに変換してバッファリングし、前記サブピクセルドライバセルの前記第2の回路領域の回路に対して出力する第2のバッファとを含むことを特徴とする集積回路装置。
In claim 6,
The data driver block is:
Each including a plurality of subpixel driver cells that output data signals corresponding to image data for one subpixel;
Each subpixel driver cell of the plurality of subpixel driver cells is
A first circuit region in which a circuit operating with a power supply of a first voltage level is disposed;
A second circuit region in which a circuit operating with a power supply of a second voltage level higher than the first voltage level is disposed;
The buffer circuit is
A first buffer for receiving and buffering a driver control signal of a first voltage level from the logic circuit block and outputting it to a circuit in the first circuit region of the subpixel driver cell;
A first voltage level driver control signal from the logic circuit block is received, converted to a second voltage level by a level shifter and buffered, and the circuit in the second circuit region of the subpixel driver cell is An integrated circuit device comprising: a second buffer for outputting.
請求項7において、
前記複数のサブピクセルドライバセルは、
各サブピクセルドライバセルの前記第2の回路領域同士又は前記第1の回路領域同士が前記第1の方向に沿って隣接するように配置されることを特徴とする集積回路装置。
In claim 7,
The plurality of subpixel driver cells include:
An integrated circuit device, wherein the second circuit regions or the first circuit regions of each subpixel driver cell are arranged adjacent to each other along the first direction.
請求項1乃至8のいずれかにおいて、
前記データドライバブロックは、
その各々が1サブピクセル分の画像データに対応するデータ信号を出力する複数のサブピクセルドライバセルを含み、
前記サブピクセルドライバセルは、
階調電圧を用いて、画像データのD/A変換を行うD/A変換器を含み、
前記階調電圧生成回路ブロックからの階調電圧を前記データドライバブロックに供給するための階調用グローバル線が、前記階調電圧生成回路ブロックと前記データドライバブロックの間に介在する回路ブロック上を前記第1の方向に沿って配線され、
前記D/A変換器に前記階調電圧を供給するための階調電圧供給線が、複数の前記サブピクセルドライバセルにまたがって前記第2の方向に沿って配線されることを特徴とする集積回路装置。
In any one of Claims 1 thru | or 8.
The data driver block is:
Each including a plurality of subpixel driver cells that output data signals corresponding to image data for one subpixel;
The subpixel driver cell includes:
A D / A converter that performs D / A conversion of image data using gradation voltages;
A gradation global line for supplying a gradation voltage from the gradation voltage generation circuit block to the data driver block is on the circuit block interposed between the gradation voltage generation circuit block and the data driver block. Wired along the first direction,
A grayscale voltage supply line for supplying the grayscale voltage to the D / A converter is wired along the second direction across a plurality of the subpixel driver cells. Circuit device.
請求項9において、
前記サブピクセルドライバセルの前記D/A変換器の配置領域では、前記第2の方向に沿ってN型トランジスタ領域、P型トランジスタ領域が配置され、
前記サブピクセルドライバセルの前記D/A変換器以外の回路の配置領域では、前記第1の方向に沿ってN型トランジスタ領域、P型トランジスタ領域が配置されることを特徴とする集積回路装置。
In claim 9,
In the arrangement area of the D / A converter of the subpixel driver cell, an N-type transistor area and a P-type transistor area are arranged along the second direction,
An integrated circuit device, wherein an N-type transistor region and a P-type transistor region are arranged along the first direction in an arrangement region of a circuit other than the D / A converter of the subpixel driver cell.
請求項10において、
前記D/A変換器の前記配置領域のN型トランジスタ領域、P型トランジスタ領域に配置されるN型トランジスタ、P型トランジスタにより、前記D/A変換器の電圧セレクタのトランスファーゲートが構成されることを特徴とする集積回路装置。
In claim 10,
A transfer gate of a voltage selector of the D / A converter is configured by the N-type transistor region, the N-type transistor, and the P-type transistor arranged in the arrangement region of the D / A converter. An integrated circuit device.
請求項1乃至11のいずれかにおいて、
前記階調電圧生成回路ブロックは、
電源電圧に基づいて選択用電圧を出力する選択用電圧生成回路と、
前記ロジック回路ブロックにより設定された前記調整データと、前記選択用電圧に基づいて、階調電圧を選択して出力する階調電圧選択回路とを含むことを特徴とする集積回路装置。
In any one of Claims 1 thru | or 11,
The gradation voltage generation circuit block includes:
A selection voltage generation circuit that outputs a selection voltage based on a power supply voltage;
An integrated circuit device, comprising: the adjustment data set by the logic circuit block; and a gradation voltage selection circuit that selects and outputs a gradation voltage based on the selection voltage.
請求項12において、
前記選択用電圧生成回路は、前記階調電圧選択回路の前記第2の方向側又は前記第2の方向の反対方向である第4の方向側に配置されることを特徴とする集積回路装置。
In claim 12,
The integrated circuit device, wherein the selection voltage generation circuit is arranged on the second direction side of the gradation voltage selection circuit or on a fourth direction side opposite to the second direction.
請求項12又は13において、
前記階調電圧選択回路は、前記データドライバブロックと前記ロジック回路ブロックの間に配置されることを特徴とする集積回路装置。
In claim 12 or 13,
The integrated circuit device, wherein the gradation voltage selection circuit is arranged between the data driver block and the logic circuit block.
請求項1乃至14のいずれかにおいて、
前記階調電圧生成回路ブロックからの階調電圧が出力される階調電圧出力線が、前記第1〜第Nの回路ブロック上で前記第1の方向に沿って配線されることを特徴とする集積回路装置。
In any one of Claims 1 thru | or 14.
A grayscale voltage output line for outputting a grayscale voltage from the grayscale voltage generation circuit block is wired along the first direction on the first to Nth circuit blocks. Integrated circuit device.
請求項1乃至15のいずれかにおいて、
前記第1〜第Nの回路ブロックは、
画像データを記憶する少なくとも1つのメモリブロックを含み、
前記メモリブロックでは、
ビット線の上層にシールド線が配線され、前記シールド線の上層に、前記階調電圧生成回路ブロックからの階調電圧が出力される階調電圧出力線が配線されることを特徴とする集積回路装置。
In any one of Claims 1 thru | or 15,
The first to Nth circuit blocks are:
Including at least one memory block for storing image data;
In the memory block,
An integrated circuit characterized in that a shield line is wired above the bit line, and a gradation voltage output line for outputting a gradation voltage from the gradation voltage generation circuit block is wired above the shield line. apparatus.
請求項16において、
前記メモリブロックでは、
前記ビット線が前記第1の方向に沿って配線され、前記シールド線が前記ビット線にオーバラップして前記第1の方向に沿って配線されることを特徴とする集積回路装置。
In claim 16,
In the memory block,
The integrated circuit device, wherein the bit line is wired along the first direction, and the shield line is wired along the first direction so as to overlap the bit line.
請求項1乃至17のいずれかにおいて、
前記第1〜第Nの回路ブロックの前記第2の方向側に前記第4の辺に沿って設けられる第1のインターフェース領域と、
前記第2の方向の反対方向を第4の方向とした場合に、前記第1〜第Nの回路ブロックの前記第4の方向側に前記第2の辺に沿って設けられる第2のインターフェース領域とを含むことを特徴とする集積回路装置。
In any one of Claims 1 thru | or 17 ,
A first interface region provided along the fourth side on the second direction side of the first to Nth circuit blocks;
A second interface region provided along the second side on the fourth direction side of the first to Nth circuit blocks when a direction opposite to the second direction is a fourth direction. And an integrated circuit device.
請求項1乃至18のいずれかに記載の集積回路装置と、
前記集積回路装置により駆動される前記表示パネルと、
を含むことを特徴とする電子機器。
An integrated circuit device according to any one of claims 1 to 18 ,
And the display panel driven by the integrated circuit device,
An electronic device comprising:
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