JP4755525B2 - Thermogravimetry equipment - Google Patents

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JP4755525B2 JP2006112451A JP2006112451A JP4755525B2 JP 4755525 B2 JP4755525 B2 JP 4755525B2 JP 2006112451 A JP2006112451 A JP 2006112451A JP 2006112451 A JP2006112451 A JP 2006112451A JP 4755525 B2 JP4755525 B2 JP 4755525B2
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Description

この発明は、被処理物の加熱中の重量を測定器によって測定し、加熱後の被処理物を焼入することができるようにした熱重量測定装置に関する。   The present invention relates to a thermogravimetric measuring apparatus that measures the weight of a workpiece to be processed with a measuring instrument and can quench the workpiece after heating.

被処理物に対する熱処理の内容を決定するために、熱処理の前後における被処理物の重量が実験的に測定される。この実験には、熱重量測定装置が用いられる。被処理物に対する熱処理として、化学的に活性な反応ガスを炉内に導入して被処理物を加熱する浸炭、浸炭窒化、窒化等の処理がある。   In order to determine the content of the heat treatment on the workpiece, the weight of the workpiece before and after the heat treatment is experimentally measured. In this experiment, a thermogravimetric apparatus is used. As the heat treatment for the object to be processed, there are processes such as carburizing, carbonitriding, and nitriding in which a chemically active reaction gas is introduced into a furnace to heat the object to be processed.

反応ガス中での熱処理時に被処理物の重量を測定する場合、測定器が熱及び反応ガスに晒されると、故障や腐食を生じる。   When measuring the weight of an object to be processed during heat treatment in a reaction gas, if the measuring device is exposed to heat and reaction gas, failure or corrosion occurs.

そこで、従来の熱重量測定装置では、被処理物を収納するとともに反応ガスが導入される密閉容器の重量を測定器で測定するようにしたものがある(例えば、特許文献1参照。)。この装置では、密閉容器自体で密閉容器と測定器とが隔絶され、測定器は熱及び反応ガスに晒されることはない。   Therefore, there is a conventional thermogravimetric measuring apparatus that measures the weight of an airtight container into which a reaction gas is introduced while accommodating an object to be processed (see, for example, Patent Document 1). In this apparatus, the sealed container and the measuring device are isolated from each other by the sealed container itself, and the measuring device is not exposed to heat and reaction gas.

特開昭59−54944号公報JP 59-54944 A

しかしながら、被処理物には加熱中の重量を測定した後、引き続いて焼入すると非常に好都合な場合もあるが、特許文献1に示した従来の熱重量測定装置では、被処理物を密閉容器内に収納しているため、加熱後の被処理物を焼入することができない問題がある。   However, in some cases, it is very convenient to measure the weight of the object to be processed and then quench it. However, in the conventional thermogravimetric measuring apparatus shown in Patent Document 1, the object to be processed is sealed in a sealed container. Since it is housed inside, there is a problem that the object to be treated after heating cannot be quenched.

この発明の目的は、加熱中の被処理物の重量を直接測定した後に、被処理物を焼入することができる熱重量測定装置を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a thermogravimetric measuring apparatus capable of quenching a workpiece after directly measuring the weight of the workpiece to be heated.

この発明の熱処理炉装置は、測定器、測定器室、装入室、処理室、加熱室、取出室を備えている。測定器は、本体、本体から垂下した測定用ワイヤ、上端部が測定用ワイヤの下端に回転自在に取り付けられるとともに下端部に掛止部を備えたフック、上端が掛止部に係止されて下端に被処理物が装着される装着用ワイヤを含み、測定用ワイヤに作用する被処理物の重量を測定する。測定器室は、測定器を収納するとともに、測定用ワイヤが下面を貫通する。装入室は、測定器室の下方に位置し、開閉扉及び操作部材を備えており、測定用ワイヤが上面を貫通するとともに装着用ワイヤが下面を貫通し、内部にフックが非接触状態で位置する。処理室は、装入室の下面から装入室の内部に連通した上端を装着用ワイヤが貫通するとともに、内部の中間部分に被処理物が非接触状態で位置する。加熱室は、処理室の外周部の中間部分に対向したヒータを収納する。取出室は、上面で処理室の下端と連通し、内部に焼入油を貯留している。操作部材は、動作時にフックを揺動させて掛止部における装着用ワイヤの上端部の係止を解除する。   The heat treatment furnace apparatus of the present invention includes a measuring instrument, a measuring instrument chamber, a charging chamber, a processing chamber, a heating chamber, and a take-out chamber. The measuring instrument has a main body, a measurement wire hanging from the main body, an upper end rotatably attached to the lower end of the measurement wire and a hook provided with a hook at the lower end, and an upper end locked to the hook. A mounting wire on which the workpiece is mounted at the lower end, and the weight of the workpiece acting on the measuring wire is measured. The measuring instrument chamber houses the measuring instrument, and the measuring wire penetrates the lower surface. The charging chamber is located below the measuring instrument chamber and includes an open / close door and an operation member. The measuring wire penetrates the upper surface, the mounting wire penetrates the lower surface, and the hook is in a non-contact state inside. To position. In the processing chamber, the mounting wire passes through the upper end communicating with the inside of the charging chamber from the lower surface of the charging chamber, and the object to be processed is positioned in a non-contact state at an intermediate portion inside. The heating chamber houses a heater that faces an intermediate portion of the outer peripheral portion of the processing chamber. The extraction chamber communicates with the lower end of the processing chamber on the upper surface, and stores quenching oil therein. The operating member swings the hook during operation to release the locking of the upper end portion of the mounting wire at the hooking portion.

この構成では、処理室の内部に収納された被処理物をヒータによって加熱した後に操作部材を動作させると、フックが揺動して掛止部における装着用ワイヤの上端部の係止が解除され、装着用ワイヤは被処理物とともに下方に落下する。被処理物が収納されている処理室の下端は、焼入油を貯留した取出室の内部に連通している。処理室の中間部分から落下した被処理物は、焼入油に浸漬されて焼入される。 In this configuration, when the operation member is operated after the workpiece stored in the processing chamber is heated by the heater, the hook swings and the upper end of the mounting wire at the latching portion is released. The mounting wire falls downward together with the object to be processed. The lower end of the processing chamber in which the workpiece is stored communicates with the inside of the take-out chamber that stores the quenching oil. The object to be processed dropped from the middle part of the processing chamber is immersed in quenching oil and quenched.

また、操作部材は、動作時にフックの中間部に当接するものとすることができる。   Further, the operation member can be brought into contact with the intermediate portion of the hook during operation.

この構成では、操作部材を動作させるとフックの中間部に当接し、フックは上端部を支点に揺動し、掛止部における装着用ワイヤの上端部の係止が確実に解除される。 In this configuration, when the operating member is operated, it comes into contact with the intermediate portion of the hook, the hook swings about the upper end portion as a fulcrum, and the locking of the upper end portion of the mounting wire at the latching portion is reliably released.

さらに、取出室は、底部に緩衝部材を備えたものとすることができる。 Furthermore, the take-out chamber may be provided with a buffer member at the bottom.

この構成では、取出室内に落下した被処理物が緩衝部材に衝突する。落下による衝撃が緩衝部材によって吸収され、被処理物に損傷を与えることがない。 In this configuration, the object to be processed that has fallen into the take-out chamber collides with the buffer member. The impact due to the drop is absorbed by the buffer member, and the object to be processed is not damaged.

この発明の熱重量測定装置によれば、処理室の内部に収納された被処理物をヒータによって加熱した後に操作部材を動作させることにより、フックを揺動させて掛止部における装着用ワイヤの上端部の係止を解除し、装着用ワイヤを被処理物とともに下方に落下させ、取出室に貯留された焼入油によって被処理物を確実に焼入することができる。   According to the thermogravimetric measurement apparatus of the present invention, the workpiece stored in the processing chamber is heated by the heater and then the operating member is operated to swing the hook so that the mounting wire in the latching portion is The upper end is unlocked, the mounting wire is dropped together with the object to be processed, and the object to be processed can be surely quenched by the quenching oil stored in the take-out chamber.

図1は、この発明の実施形態に係る熱重量測定装置10の構成を示す概略の断面図である。熱重量測定装置10は、測定器1、測定器室2、装入室3、処理管4、加熱室5、取出室6、フレーム7を備えている。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a configuration of a thermogravimetric measurement apparatus 10 according to an embodiment of the present invention. The thermogravimetric measurement apparatus 10 includes a measuring instrument 1, a measuring instrument chamber 2, a charging chamber 3, a processing tube 4, a heating chamber 5, an extraction chamber 6, and a frame 7.

フレーム7の上面に測定器室2が支持、固定されており、フレーム7の下面に取出室6が固定されている。フレーム7の内側で測定器室2の下面に装入室3の上面が気密状態で固定されている。装入室3の下面には処理管4の上端が気密状態で固定されている。処理管4の下端は、取出室6の上面に気密状態で固定されている。加熱室5は、断熱層5Aの内周表面にヒータ8が設けられており、処理管4の周面の中間部に対向する位置でフレーム7に固定されている。
フレーム7によって、測定器室2、装入室3、処理管4、取出室6が、上下方向にこの順に配置されている。
The measuring instrument chamber 2 is supported and fixed on the upper surface of the frame 7, and the take-out chamber 6 is fixed on the lower surface of the frame 7. The upper surface of the charging chamber 3 is fixed in an airtight manner to the lower surface of the measuring instrument chamber 2 inside the frame 7. The upper end of the processing tube 4 is fixed to the lower surface of the charging chamber 3 in an airtight state. The lower end of the processing tube 4 is fixed to the upper surface of the extraction chamber 6 in an airtight state. The heating chamber 5 is provided with a heater 8 on the inner peripheral surface of the heat insulating layer 5 </ b> A, and is fixed to the frame 7 at a position facing an intermediate portion of the peripheral surface of the processing tube 4.
The measuring chamber 2, the charging chamber 3, the processing tube 4, and the take-out chamber 6 are arranged in this order in the vertical direction by the frame 7.

熱重量測定装置10は、また、測定器室用ガス導入手段である不活性ガス供給源21及びバルブ22、装入室用ガス導入手段である反応ガス供給源31及びバルブ32、装入室用排出手段である真空ポンプ34及びバルブ33、処理管用ガス導入手段である反応ガス供給源41及びバルブ42、処理管用排出手段である真空ポンプ44及びバルブ43、加熱室用ガス導入手段である不活性ガス供給源51及びバルブ52を備えている。   The thermogravimetric measurement apparatus 10 also includes an inert gas supply source 21 and a valve 22 which are gas introduction means for a measuring instrument chamber, a reaction gas supply source 31 and a valve 32 which are gas introduction means for a charging chamber, and a charging chamber. Vacuum pump 34 and valve 33 as exhaust means, reaction gas supply source 41 and valve 42 as gas introduction means for processing tube, vacuum pump 44 and valve 43 as exhaust means for processing tube, and inertness as gas introduction means for heating chamber A gas supply source 51 and a valve 52 are provided.

熱重量測定装置10は、さらに、第1の遮熱板9A及び第2の遮熱板9Bを備えている。   The thermogravimetric measurement apparatus 10 further includes a first heat shield plate 9A and a second heat shield plate 9B.

測定器1は、本体11、測定用ワイヤ12、フック13、装着用ワイヤ14を含む。測定用ワイヤ12は、本体11から垂下している。フック13は、測定用ワイヤ12の下端に取り付けられている。装着用ワイヤ14は、上端がフック13に着脱自在に係止されて下端に被処理物20が装着される。本体11には、測定用ワイヤ12に作用する被処理物20の重量を測定する機器が収納されている。   The measuring instrument 1 includes a main body 11, a measuring wire 12, a hook 13, and a mounting wire 14. The measurement wire 12 is suspended from the main body 11. The hook 13 is attached to the lower end of the measurement wire 12. An upper end of the mounting wire 14 is detachably locked to the hook 13, and the workpiece 20 is mounted on the lower end. In the main body 11, a device for measuring the weight of the workpiece 20 acting on the measurement wire 12 is accommodated.

測定器室2は、水冷ジャケット構造とされ、測定器1の本体11を収納するとともに測定用ワイヤ12が下面を貫通する。不活性ガス供給源21は、バルブ22を介して測定器室2内に不活性ガスを導入する。   The measuring instrument chamber 2 has a water-cooled jacket structure, and houses the main body 11 of the measuring instrument 1 and the measuring wire 12 penetrates the lower surface. The inert gas supply source 21 introduces an inert gas into the measuring instrument chamber 2 via the valve 22.

装入室3は、開閉扉3Aを備え、測定用ワイヤ12が上面を貫通し、フック13を非接触状態にして収納する。この構造により、被処理物20の装着が容易に行える。反応ガス供給源31は、バルブ32を介して装入室3内に反応ガスを導入する。真空ポンプ34は、バルブ33を介して装入室3内の気体を排出する。   The charging chamber 3 includes an opening / closing door 3A, and the measuring wire 12 penetrates the upper surface thereof and stores the hook 13 in a non-contact state. With this structure, the workpiece 20 can be easily mounted. The reactive gas supply source 31 introduces a reactive gas into the charging chamber 3 via the valve 32. The vacuum pump 34 discharges the gas in the charging chamber 3 through the valve 33.

処理管4は、この発明の処理室に相当するものであり、一例として、上下端が開放した石英管又は耐熱鋼管である。処理管4の上端は、装入室3内に連通している。処理管4の下端は、取出室6内に連通している。処理管4内には、上端から装着用ワイヤ14が挿入されており、中間部に被処理物20を非接触状態にして収納する。なお、この発明の処理室は、管状に限定されるものではなく、被処理物20を非接触状態にして収納できるものであれば形状を問わない。   The processing tube 4 corresponds to the processing chamber of the present invention. As an example, the processing tube 4 is a quartz tube or a heat-resistant steel tube whose upper and lower ends are open. The upper end of the processing tube 4 communicates with the charging chamber 3. The lower end of the processing tube 4 communicates with the take-out chamber 6. A mounting wire 14 is inserted into the processing tube 4 from the upper end, and the workpiece 20 is stored in a non-contact state in the intermediate portion. The processing chamber of the present invention is not limited to a tubular shape, and any shape can be used as long as the processing object 20 can be stored in a non-contact state.

反応ガス供給源41は、バルブ42を介して処理管4の下端から処理管4内に反応ガスを導入する。真空ポンプ44は、バルブ43を介して処理管4の下端から処理管4内の気体を排出する。反応ガス供給源41によって処理管4内に導入される反応ガス、及び、真空ポンプ44によって処理管4内から排出される気体は、取出室6内を経由する。 The reactive gas supply source 41 introduces reactive gas into the processing tube 4 from the lower end of the processing tube 4 via the valve 42. The vacuum pump 44 discharges the gas in the processing tube 4 from the lower end of the processing tube 4 through the valve 43. The reaction gas introduced into the processing tube 4 by the reaction gas supply source 41 and the gas discharged from the processing tube 4 by the vacuum pump 44 pass through the inside of the extraction chamber 6.

加熱室5は、断熱層5Aによって断熱構造とされ、処理管4の周面の中間部分に対向したヒータ8を収納する。不活性ガス供給源51は、バルブ52を介して加熱室5に不活性ガスを導入する。   The heating chamber 5 has a heat insulating structure by the heat insulating layer 5 </ b> A, and houses the heater 8 facing the intermediate portion of the peripheral surface of the processing tube 4. The inert gas supply source 51 introduces an inert gas into the heating chamber 5 via the valve 52.

不活性ガス供給源21及び不活性ガス供給源51が導入する不活性ガスは、一例として、窒素ガスである。反応ガス供給源31及び反応ガス供給源41が導入する反応ガスは、一例として、被処理物20の浸炭や窒化に使用される炭化水素ガス、RXガス、アルコール蒸気、アンモニアガス等、又はこれらを任意に組み合わせたガスである。   As an example, the inert gas introduced by the inert gas supply source 21 and the inert gas supply source 51 is nitrogen gas. The reaction gas introduced by the reaction gas supply source 31 and the reaction gas supply source 41 is, for example, a hydrocarbon gas, RX gas, alcohol vapor, ammonia gas, or the like used for carburizing or nitriding the workpiece 20 or the like. Any combination of gases.

取出室6は、上面において処理管4の下端に連通しており、内部に焼入油を貯留している。取出室6の上部には、遮熱シャッタ6Aが設けられている。遮熱シャッタ6Aは、処理管4の下端部を閉鎖する位置と開放する位置(図1中に符号6a′で示す。)との間に移動自在にされている。 The extraction chamber 6 communicates with the lower end of the processing tube 4 on the upper surface, and stores quenching oil therein. A heat shield shutter 6 </ b> A is provided in the upper portion of the take-out chamber 6. The heat shield shutter 6A is movable between a position where the lower end of the processing tube 4 is closed and a position where it is opened (indicated by reference numeral 6a 'in FIG. 1).

測定器室2、装入室3、処理管4、取出室6は、測定用ワイヤ12及び装着用ワイヤ14を中心にして上下方向に配置されている。被処理物20が処理管4内の中間部分に配置された状態で、測定用ワイヤ12、フック13、装着用ワイヤ14及び被処理物20は、測定器室2、装入室3及び処理管4のいずれにも接触しない。   The measuring instrument chamber 2, the charging chamber 3, the processing tube 4 and the take-out chamber 6 are arranged in the vertical direction with the measuring wire 12 and the mounting wire 14 as the center. In a state where the object to be processed 20 is disposed in an intermediate portion in the processing tube 4, the measuring wire 12, the hook 13, the mounting wire 14 and the object to be processed 20 are the measuring instrument chamber 2, the charging chamber 3 and the processing tube. It does not touch any of 4.

第1の遮熱板9Aは、測定器室2の下面と装入室3の上面との間に配置されている。第2の遮熱板9Bは、装入室3の下面からヒータ5の上端までの範囲における処理管4の内部の全体に配置されている。但し、必ずしもこの範囲の全体に配置する必要はなく、少なくともこの範囲の一部に配置されていればよい。処理管4は、加熱室5内で断熱層5Aを貫通しており、少なくとも加熱室5の内部で処理管4が上部の断熱層5Aを貫通している部分には、第2の遮熱板9Bを配置してもよい。   The first heat shield plate 9 </ b> A is disposed between the lower surface of the measuring instrument chamber 2 and the upper surface of the charging chamber 3. The second heat shield 9 </ b> B is disposed throughout the interior of the processing tube 4 in the range from the lower surface of the charging chamber 3 to the upper end of the heater 5. However, it is not always necessary to arrange the entire area, and it is sufficient that the element is disposed at least part of the range. The processing tube 4 penetrates the heat insulating layer 5A in the heating chamber 5, and a second heat shield plate is provided at least in a portion of the heating chamber 5 where the processing tube 4 penetrates the upper heat insulating layer 5A. 9B may be arranged.

なお、これらの遮蔽板は、使用個所の温度条件により、ステンレス板、耐熱鋼板、インコネル板等の材料が適宜選択して用いられる。   These shielding plates are appropriately selected from materials such as a stainless steel plate, a heat-resistant steel plate, and an Inconel plate depending on the temperature conditions at the place of use.

不活性ガス供給源21は、バルブ22を介して測定器室1の内部に連通している。反応ガス供給源31は、バルブ32を介して、装入室3の内部に連通している。真空ポンプ34は、バルブ33を介して装入室3の内部に連通している。反応ガス供給源41は、バルブ42及び取出室6を介して処理管4の内部に連通している。真空ポンプ44は、バルブ43及び取出室6を介して処理管4の内部に連通している。不活性ガス供給源51は、バルブ52を介して加熱室5内のヒータ8と処理管4との間の空間に連通している。   The inert gas supply source 21 communicates with the inside of the measuring instrument chamber 1 through a valve 22. The reactive gas supply source 31 communicates with the inside of the charging chamber 3 through a valve 32. The vacuum pump 34 communicates with the inside of the charging chamber 3 through the valve 33. The reactive gas supply source 41 communicates with the inside of the processing tube 4 through the valve 42 and the extraction chamber 6. The vacuum pump 44 communicates with the inside of the processing tube 4 through the valve 43 and the extraction chamber 6. The inert gas supply source 51 communicates with a space between the heater 8 in the heating chamber 5 and the processing tube 4 through a valve 52.

図2及び図3は、熱重量測定装置10のガス浸炭処理時の使用状態の一例を示す図である。ガス浸炭処理では、キャリアガスであるRXガスに少量の炭化水素ガスをエンリッチガスとして添加したガスを反応ガスとして用いる。この処理は、略大気圧で行われるため、真空ポンプ34,44は使用しない。排気系ダクト(常時負圧を供給する。)がこれに代わる。   2 and 3 are diagrams showing an example of the usage state of the thermogravimetric measurement apparatus 10 during the gas carburizing process. In the gas carburizing treatment, a gas obtained by adding a small amount of a hydrocarbon gas as an enriched gas to the RX gas as a carrier gas is used as a reaction gas. Since this process is performed at substantially atmospheric pressure, the vacuum pumps 34 and 44 are not used. An exhaust system duct (which always supplies negative pressure) replaces this.

この処理において、不活性ガスとしての窒素ガスは、反応ガスの測定器室2への流入を防止するとともに測定器1を補助的に冷却する第1の目的、昇温時に被処理物20を保護する第2の目的、及び、反応ガスをパージ(掃出)する第3の目的を有する。 In this process, nitrogen gas as an inert gas prevents the reaction gas from flowing into the measuring instrument chamber 2 and protects the workpiece 20 at the time of temperature rise, which is the first purpose of auxiliary cooling of the measuring instrument 1. And a third purpose for purging the reaction gas.

窒素ガスは測定器室2から供給し、反応ガスは処理管4の下端から供給する。窒素ガスの第2及び第3の目的を達成するためには、窒素ガスを測定器室2から供給する必要はなく、処理管4内に他の位置から別途供給することもできる。 Nitrogen gas is supplied from the measuring instrument chamber 2, and reaction gas is supplied from the lower end of the processing tube 4. In order to achieve the second and third objects of the nitrogen gas, it is not necessary to supply the nitrogen gas from the measuring instrument chamber 2, and it can be separately supplied into the processing tube 4 from another position.

窒素ガスを処理管4内に流入させる際には、処理管4の下方から排気する。反応ガスを処理管4内に流入させる際には、処理管4の上方から排気する。 When nitrogen gas is allowed to flow into the processing tube 4, it is exhausted from below the processing tube 4. When the reaction gas flows into the processing tube 4, the reaction gas is exhausted from above the processing tube 4.

具体的には、先ず、常温で、装入室3の開閉扉3Aを開いて下端に被処理物20を装着した装着用ワイヤ14の上端をフック13に係止し、開閉扉3Aを閉じる。次いで、図2に示すように、測定器室2に不活性ガス供給源21からバルブ22を介して窒素ガスを供給するとともに、処理管4内の気体をバルブ43を介して排出する。また、加熱室5内に、不活性ガス供給源51からバルブ52を介して窒素ガスを導入する。 Specifically, first, the open / close door 3A of the charging chamber 3 is opened at normal temperature, the upper end of the mounting wire 14 with the workpiece 20 attached to the lower end is locked to the hook 13, and the open / close door 3A is closed. Next, as shown in FIG. 2, nitrogen gas is supplied from the inert gas supply source 21 to the measuring instrument chamber 2 through the valve 22, and the gas in the processing tube 4 is discharged through the valve 43. Further, nitrogen gas is introduced into the heating chamber 5 from the inert gas supply source 51 through the valve 52.

この状態で、ヒータ8をオンし、処理管4内を800℃まで昇温する。この後、図3に示すように、反応ガス供給源41からバルブ42を介して処理管4内にRXガスを供給するとともに、処理管4内の気体をバルブ33を介して排出する。 In this state, the heater 8 is turned on and the temperature inside the processing tube 4 is raised to 800 ° C. Thereafter, as shown in FIG. 3, RX gas is supplied from the reaction gas supply source 41 through the valve 42 into the processing tube 4 and the gas in the processing tube 4 is discharged through the valve 33.

この状態で、ヒータ8によって処理管4内を930℃まで昇温し、第1の所定時間にわたって炭化水素ガスをRXガスに添加して反応ガス供給源41からバルブ42を介して処理管4内に供給する(浸炭工程)。第1の所定時間が経過すると、炭化水素ガスの添加を停止して第2の所定時間にわたって保持した後(拡散工程)、焼入温度である850℃まで降温して第3の所定時間にわたって保持する(均熱工程)。 In this state, the inside of the processing tube 4 is heated to 930 ° C. by the heater 8, and a hydrocarbon gas is added to the RX gas over a first predetermined time, and the inside of the processing tube 4 is passed from the reaction gas supply source 41 through the valve 42. (Carburization process). When the first predetermined time elapses, the addition of the hydrocarbon gas is stopped and held for the second predetermined time (diffusion process), and then the temperature is lowered to the quenching temperature of 850 ° C. and held for the third predetermined time. (Soaking process)

第3の所定時間が経過すると、遮熱シャッタ6Aを開いて被処理物20を取出室6内の焼入油内に落下させる(焼入工程)。ここで、RXガスの供給を停止してヒータ8をオフし、バルブ43を介して処理管4内を排気する。所定の冷却時間が経過した後、取出室6から被処理物20を取り出す。   When the third predetermined time has elapsed, the heat shield shutter 6A is opened and the workpiece 20 is dropped into the quenching oil in the extraction chamber 6 (quenching process). Here, the supply of RX gas is stopped, the heater 8 is turned off, and the inside of the processing tube 4 is exhausted through the valve 43. After a predetermined cooling time has elapsed, the workpiece 20 is taken out from the take-out chamber 6.

取出室6から供給された反応ガスが処理管4内を経由して装入室3から排気される間に、測定器室2には不活性ガスが導入されているため、反応ガスが測定器室2内に流入することはない。測定器室2内に収納された測定器1は、反応ガスに晒されて腐食することがなく、反応ガスから生成する煤によって汚損することもない。また、ヒータ8によって加熱された処理管4の熱は、遮熱板9A,9Bによって遮蔽され、上方の測定器室2に伝導及び輻射することがない。このため、測定器室2内に収納された測定器1は、高温に晒されて故障することがない。 While the reactive gas supplied from the take-out chamber 6 is exhausted from the charging chamber 3 via the inside of the processing tube 4, the inert gas is introduced into the measuring instrument chamber 2, so that the reactive gas is measured by the measuring instrument. It does not flow into the chamber 2. The measuring instrument 1 accommodated in the measuring instrument chamber 2 is not corroded by being exposed to the reaction gas, and is not fouled by soot generated from the reaction gas. Further, the heat of the processing tube 4 heated by the heater 8 is shielded by the heat shield plates 9A and 9B, and is not conducted and radiated to the upper measuring instrument chamber 2. For this reason, the measuring instrument 1 accommodated in the measuring instrument chamber 2 is not exposed to high temperatures and fails.

図4〜図7は、熱重量測定装置10の真空浸炭処理時の使用状態の一例を示す図である。真空浸炭処理時には、一般に、反応ガスとして炭化水素ガスのみを用い、キャリアガスとしてのRXガスを使用しない。この処理では、真空ポンプ34,44を使用する。第2の使用状態では、処理管4内に下端から反応ガスを導入する。   4-7 is a figure which shows an example of the use condition at the time of the vacuum carburizing process of the thermogravimetry apparatus 10. FIG. In the vacuum carburizing process, generally, only a hydrocarbon gas is used as a reaction gas, and RX gas as a carrier gas is not used. In this process, vacuum pumps 34 and 44 are used. In the second use state, the reaction gas is introduced into the processing tube 4 from the lower end.

この処理において、不活性ガスとしての窒素ガスは、反応ガスの測定器室2への流入を防止するとともに測定器1を補助的に冷却する第1の目的、被処理物20を急冷する第2の目的、及び、処理管4内の圧力を復元する第3の目的を有する。 In this process, the nitrogen gas as the inert gas prevents the reaction gas from flowing into the measuring device chamber 2 and is used for the first purpose of cooling the measuring device 1 as an auxiliary, second for rapidly cooling the workpiece 20. And a third object for restoring the pressure in the processing tube 4.

窒素ガスは測定器室2から供給し、反応ガスは処理管4の下端から供給する。窒素ガスの第2及び第3の目的を達成するためには、窒素ガスを測定器室2から供給する必要はなく、処理管4内に他の位置から別途供給することもできる。 Nitrogen gas is supplied from the measuring instrument chamber 2, and reaction gas is supplied from the lower end of the processing tube 4. In order to achieve the second and third objects of the nitrogen gas, it is not necessary to supply the nitrogen gas from the measuring instrument chamber 2, and it can be separately supplied into the processing tube 4 from another position.

反応ガスの供給中は処理管4の上方から排気し、急冷時にのみ処理管4の下方から排気する。 During the supply of the reaction gas, exhaust is performed from above the processing tube 4 and exhausted from below the processing tube 4 only during rapid cooling.

具体的には、先ず、常温で、装入室3の開閉扉3Aを開いて下端に被処理物20を装着した装着用ワイヤ14の上端をフック13に係止し、開閉扉3Aを閉じる。次いで、図4に示すように、測定器室2に不活性ガス供給源21からバルブ22を介して少量の窒素ガスを供給しつつ、バルブ43を介して真空ポンプ44によって排気し、処理管4内を所定圧力に減圧する。少量の窒素ガスの供給は省略することもできる。また、加熱室5内に、不活性ガス供給源51からバルブ52を介して窒素ガスを導入する。 Specifically, first, the open / close door 3A of the charging chamber 3 is opened at normal temperature, the upper end of the mounting wire 14 with the workpiece 20 attached to the lower end is locked to the hook 13, and the open / close door 3A is closed. Next, as shown in FIG. 4, a small amount of nitrogen gas is supplied from the inert gas supply source 21 to the measuring instrument chamber 2 through the valve 22, while being exhausted by the vacuum pump 44 through the valve 43. The inside is reduced to a predetermined pressure. The supply of a small amount of nitrogen gas can be omitted. Further, nitrogen gas is introduced into the heating chamber 5 from the inert gas supply source 51 through the valve 52.

この状態で、ヒータ8をオンし、処理管4内を1000℃まで昇温する。次に、バルブ33を介して真空ポンプによって排気し、さらにバルブ43を閉じて真空排気系の切換を行う。この後、図5に示すように、第1の所定時間にわたって処理管4内に反応ガス供給源41からバルブ42を介して炭化水素ガスを供給しつつ、バルブ33を介して真空ポンプ34によって排気し、処理管4内を第2の所定圧力にする(浸炭工程)。炭化水素ガスは、連続して又は間欠的に供給することができる。 In this state, the heater 8 is turned on and the temperature inside the processing tube 4 is raised to 1000 ° C. Next, evacuation is performed by the vacuum pump through the valve 33, and the valve 43 is closed to switch the evacuation system. Thereafter, as shown in FIG. 5, the hydrocarbon gas is supplied from the reaction gas supply source 41 through the valve 42 into the processing tube 4 over the first predetermined time, and exhausted by the vacuum pump 34 through the valve 33. Then, the inside of the processing tube 4 is set to a second predetermined pressure (carburizing step). The hydrocarbon gas can be supplied continuously or intermittently.

第1の所定時間が経過すると、炭化水素ガスの供給を停止し、第2の所定時間にわたって保持する(拡散工程)。第2の所定時間が経過すると、バルブ43を介して真空ポンプ44によって処理管4内を排気し、さらにバルブ33を閉じて真空排気系の切換を行う。次いで、ヒータ8をオフし、図6に示すように、不活性ガス供給源21からバルブ22を介して多量の窒素ガスを供給し、被処理物20を急冷する(ガス冷却工程)。 When the first predetermined time has elapsed, the supply of hydrocarbon gas is stopped and held for a second predetermined time (diffusion process). When the second predetermined time has elapsed, the inside of the processing tube 4 is evacuated by the vacuum pump 44 via the valve 43, and the valve 33 is closed to switch the evacuation system. Next, the heater 8 is turned off, and as shown in FIG. 6, a large amount of nitrogen gas is supplied from the inert gas supply source 21 through the valve 22 to rapidly cool the workpiece 20 (gas cooling step).

さらに、図7に示すように、不活性ガス供給源21からの窒素ガスの供給量を元の状態に戻し、上記と同様に真空排気系の切換を行って、バルブ33を介して真空ポンプ34によって処理管4内を排気する。この後、再度ヒータ8をオンして処理管4内を所定の焼入温度(850度)まで昇温し、第3の所定時間にわたって保持する(均熱工程)。   Further, as shown in FIG. 7, the supply amount of nitrogen gas from the inert gas supply source 21 is returned to the original state, the evacuation system is switched in the same manner as described above, and the vacuum pump 34 is connected via the valve 33. To exhaust the inside of the processing tube 4. Thereafter, the heater 8 is turned on again to raise the temperature in the processing tube 4 to a predetermined quenching temperature (850 degrees) and hold for a third predetermined time (a soaking step).

第3の所定時間が経過すると、遮熱シャッタ6Aを開き、被処理物20を取出室6内の焼入油内に落下させる(焼入工程)。ここで、ヒータ8をオフして充分に降温させた後、真空ポンプ34による真空排気を停止し、大気圧まで復圧した後に不活性ガス供給源21からの窒素ガスの供給も停止する。所定の冷却時間が経過した後、取出室6から被処理物20を取り出す。   When the third predetermined time has elapsed, the heat shield shutter 6A is opened, and the workpiece 20 is dropped into the quenching oil in the extraction chamber 6 (quenching process). Here, after the heater 8 is turned off and the temperature is sufficiently lowered, evacuation by the vacuum pump 34 is stopped, and after returning to atmospheric pressure, the supply of nitrogen gas from the inert gas supply source 21 is also stopped. After a predetermined cooling time has elapsed, the workpiece 20 is taken out from the take-out chamber 6.

取出室6から供給された反応ガスが処理管4内を経由して装入室3から排気される間に、測定器室2には不活性ガスが導入されているため、反応ガスが測定器室2内に流入することはない。測定器室2内に収納された測定器1は、反応ガスに晒されて腐食することがなく、反応ガスから生成する煤によって汚損することもない。また、ヒータ8によって加熱された処理管4の熱は、遮熱板9A,9Bによって遮蔽され、上方の測定器室2に伝導及び輻射することがない。このため、測定器室2内に収納された測定器1は、高温に晒されて故障することがない。 While the reactive gas supplied from the take-out chamber 6 is exhausted from the charging chamber 3 via the inside of the processing tube 4, the inert gas is introduced into the measuring instrument chamber 2, so that the reactive gas is measured by the measuring instrument. It does not flow into the chamber 2. The measuring instrument 1 accommodated in the measuring instrument chamber 2 is not corroded by being exposed to the reaction gas, and is not fouled by soot generated from the reaction gas. Further, the heat of the processing tube 4 heated by the heater 8 is shielded by the heat shield plates 9A and 9B, and is not conducted and radiated to the upper measuring instrument chamber 2. For this reason, the measuring instrument 1 accommodated in the measuring instrument chamber 2 is not exposed to high temperatures and fails.

上記ガス浸炭処理及び真空浸炭処理の何れにおいても、最上部に位置する測定器室2に収納された測定器1の本体11から垂下した測定用ワイヤ12に、フック13及び装着用ワイヤ14を介して吊り下げられた被処理物20に対する浸炭処理が施される。この浸炭処理中に、測定用ワイヤ12、フック13、装着用ワイヤ14及び被処理物20は、測定器室2、装入室3及び処理管4のいずれにも被触しない。測定器1は、浸炭処理の開始から終了までの間に測定用ワイヤ12に作用する被処理物20の重量の変化を正確に測定できる。   In both of the gas carburizing process and the vacuum carburizing process, a measuring wire 12 suspended from the main body 11 of the measuring instrument 1 housed in the measuring instrument chamber 2 located at the uppermost part is connected via a hook 13 and a mounting wire 14. The carburizing process is performed on the workpiece 20 that is suspended. During the carburizing process, the measuring wire 12, the hook 13, the mounting wire 14, and the workpiece 20 do not touch any of the measuring instrument chamber 2, the charging chamber 3, and the processing tube 4. The measuring device 1 can accurately measure the change in the weight of the workpiece 20 acting on the measuring wire 12 from the start to the end of the carburizing process.

処理管4の周面の中間部分に対向するヒータ8を収納する加熱室5内には不活性ガスが導入されるため、処理管4が被損した場合でもヒータ8の損傷を最小限に抑えることができる。また、処理管4内に導入される可燃性ガスと空気との接触による爆発の危険性を回避できる。   Since an inert gas is introduced into the heating chamber 5 that houses the heater 8 facing the middle portion of the peripheral surface of the processing tube 4, even if the processing tube 4 is damaged, damage to the heater 8 is minimized. be able to. Moreover, the danger of the explosion by contact with the combustible gas introduce | transduced in the processing pipe | tube 4 and air can be avoided.

なお、測定器室2と装入室3との間、装入室3と処理管4との間、処理管4と取出室6との間は、気密状態にされている。このため、処理管4内に反応ガスを導入して所要の雰囲気とすることができ、大気圧浸炭処理や真空浸炭処理等の表面硬化熱処理を行うこともできる。   In addition, the space between the measuring instrument chamber 2 and the charging chamber 3, the space between the charging chamber 3 and the processing tube 4, and the space between the processing tube 4 and the extraction chamber 6 are airtight. For this reason, reaction gas can be introduce | transduced in the process pipe | tube 4 and it can be set as a required atmosphere, and surface hardening heat processing, such as an atmospheric-pressure carburizing process and a vacuum carburizing process, can also be performed.

図8は、装入室3の内部の構成を示す断面図である。挿入室3の内部には、測定器1の本体11から垂下した測定用ワイヤ12の下端部が位置している。この測定用ワイヤ12の下端部には、装入室3に取り付けられたピン15に対してフック13が揺動自在に取り付けられている。フック13の下端部には、切欠き13Aが形成されている。切欠き13Aには、装着用ワイヤ14の上端が掛止されている。   FIG. 8 is a cross-sectional view showing an internal configuration of the charging chamber 3. Inside the insertion chamber 3, the lower end portion of the measuring wire 12 hanging from the main body 11 of the measuring instrument 1 is located. A hook 13 is swingably attached to a pin 15 attached to the charging chamber 3 at the lower end of the measurement wire 12. A notch 13 </ b> A is formed at the lower end of the hook 13. The upper end of the mounting wire 14 is hooked on the notch 13A.

挿入室3には、操作部材3Bが備えられている。操作部材3Bは、一例としてエアシリンダーであり、アクチュエータ3Cがフック13の中間部分に水平方向に対向している。操作部材3Bを駆動すると、アクチュエータ3Cがフック13の中間部に水平方向に当接し、フック13が図8中二点鎖線で示すようにピン15を中心として揺動する。これによって、切欠き13Aから装着用ワイヤ14の上端が外れ、装着用ワイヤ14は被処理物20とともに下方に落下する。   The insertion chamber 3 is provided with an operation member 3B. The operation member 3B is an air cylinder as an example, and the actuator 3C faces the intermediate portion of the hook 13 in the horizontal direction. When the operation member 3B is driven, the actuator 3C comes into contact with the intermediate portion of the hook 13 in the horizontal direction, and the hook 13 swings around the pin 15 as indicated by a two-dot chain line in FIG. As a result, the upper end of the mounting wire 14 is removed from the notch 13 </ b> A, and the mounting wire 14 falls downward together with the workpiece 20.

図9は、取出室6の内部の構成を示す断面図である。被処理物20が収納されている処理管4の下端は取出室6の内部に連通しており、取出室6は内部に焼入油62を貯留している。装着用ワイヤ14の上端が切欠き13Aから外れることにより、被処理物20は装着用ワイヤ14とともに下方に落下する。被処理物20は、取出室6内で焼入油62に浸漬されて急冷され、焼入処理される。 FIG. 9 is a cross-sectional view showing an internal configuration of the take-out chamber 6. The lower end of the processing tube 4 in which the workpiece 20 is accommodated communicates with the inside of the extraction chamber 6, and the extraction chamber 6 stores quenching oil 62 therein. When the upper end of the mounting wire 14 is removed from the notch 13 </ b> A, the workpiece 20 drops downward together with the mounting wire 14. The workpiece 20 is immersed in the quenching oil 62 in the take-out chamber 6 and rapidly cooled to be quenched.

取出室6の内部の底面には、緩衝部材61が配置されている。緩衝部材61は、被処理物20の落下時の衝撃を吸収し、被処理物20の損傷を防止する。また、衝撃音を緩和する。緩衝部材61として、例えばスポンジシートを用いることができる。   A buffer member 61 is disposed on the bottom surface inside the take-out chamber 6. The buffer member 61 absorbs an impact when the workpiece 20 is dropped, and prevents the workpiece 20 from being damaged. It also reduces the impact sound. As the buffer member 61, for example, a sponge sheet can be used.

なお、上記の構成において、反応ガス供給源31及びバルブ32、真空ポンプ34及びバルブ33、反応ガス供給源41及びバルブ42、真空ポンプ44及びバルブ43の全てが必須である訳ではない。切換弁及び接続管を備えることで、真空ポンプ34と真空ポンプ44とを共用することもできる。給排気位置も、同じ目的を達成しうる範囲で変更できる。また、加熱室5内に不活性ガスを導入する必要がない場合には、窒素ガス供給源51及びバルブ52を省略することもできる。   In the above configuration, the reaction gas supply source 31 and the valve 32, the vacuum pump 34 and the valve 33, the reaction gas supply source 41 and the valve 42, the vacuum pump 44 and the valve 43 are not necessarily essential. By providing the switching valve and the connecting pipe, the vacuum pump 34 and the vacuum pump 44 can be shared. The supply / exhaust position can also be changed within a range in which the same purpose can be achieved. Further, when it is not necessary to introduce an inert gas into the heating chamber 5, the nitrogen gas supply source 51 and the valve 52 can be omitted.

この発明の実施形態に係る熱重量測定装置10の構成を示す概略の断面図である。1 is a schematic cross-sectional view showing a configuration of a thermogravimetric measurement apparatus 10 according to an embodiment of the present invention. 熱重量測定装置10のガス浸炭処理時の使用状態の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the use condition at the time of the gas carburizing process of the thermogravimetry apparatus. 同ガス浸炭処理時の使用状態を示す図である。It is a figure which shows the use condition at the time of the gas carburizing process. 熱重量測定装置10の真空浸炭処理時の使用状態の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the use condition at the time of the vacuum carburizing process of the thermogravimetry apparatus. 同真空浸炭処理時の使用状態を示す図である。It is a figure which shows the use condition at the time of the vacuum carburizing process. 同真空浸炭処理時の使用状態を示す図である。It is a figure which shows the use condition at the time of the vacuum carburizing process. 同真空浸炭処理時の使用状態を示す図である。It is a figure which shows the use condition at the time of the vacuum carburizing process. 装入室3の内部の構成を示す断面図である。3 is a cross-sectional view showing an internal configuration of a charging chamber 3. FIG. 取出室6の内部の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure inside the extraction chamber.

符号の説明Explanation of symbols

1 測定器
2 測定器室
3 装入室
3B 操作部材
4 処理管(処理室)
5 加熱室
6 取出室
10 熱重量測定装置
11 本体
12 測定用ワイヤ
13 フック
13A 切欠き(掛止部)
14 装着用ワイヤ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Measuring device 2 Measuring device room 3 Loading chamber 3B Operation member 4 Processing pipe (processing chamber)
5 Heating chamber 6 Unloading chamber 10 Thermogravimetric measuring device 11 Main body 12 Measuring wire 13 Hook 13A Notch (holding part)
14 Wire for mounting

Claims (3)

本体、前記本体から垂下した測定用ワイヤ、上端部が前記測定用ワイヤの下端に回転自在に取り付けられるとともに下端部に掛止部を備えたフック、上端が前記掛止部に係止されて下端に被処理物が装着される装着用ワイヤを含み、前記測定用ワイヤに作用する前記被処理物の重量を測定する測定器と、
前記測定器を収納するとともに、前記測定用ワイヤが下面を貫通する測定器室と、
前記測定器室の下方に位置し、開閉扉及び操作部材を備えており、前記測定用ワイヤが上面を貫通するとともに前記装着用ワイヤが下面を貫通し、内部に前記フックが非接触状態で位置する装入室と、
前記装入室の下面から前記装入室の内部に連通した上端を前記装着用ワイヤが貫通するとともに、内部の中間部分に前記被処理物が非接触状態で位置する処理室と、
前記処理室の外周部の中間部分に対向したヒータを収納する加熱室と、
上面に前記処理室の下端が連通し、内部に焼入油を貯留した取出室と、を備え、
前記操作部材は、動作時に前記フックを揺動させて前記掛止部における前記装着用ワイヤの上端部の係止を解除することを特徴とする熱重量測定装置。
A main body, a measurement wire hanging from the main body, an upper end rotatably attached to the lower end of the measurement wire and having a hook at the lower end, and an upper end locked to the hook at the lower end A measuring instrument for measuring the weight of the object to be processed acting on the measuring wire,
While storing the measuring instrument, a measuring instrument chamber through which the measuring wire penetrates the lower surface,
Located below the measuring instrument chamber and provided with an open / close door and an operating member, the measuring wire penetrates the upper surface, the mounting wire penetrates the lower surface, and the hook is located in a non-contact state inside. A charging room,
The mounting wire passes through the upper end communicating with the inside of the charging chamber from the lower surface of the charging chamber, and the processing chamber in which the object to be processed is positioned in a non-contact state in the inner middle portion;
A heating chamber that houses a heater facing an intermediate portion of the outer peripheral portion of the processing chamber;
A lower end of the processing chamber communicates with the upper surface, and an extraction chamber storing quenching oil therein,
The thermogravimetric measuring apparatus, wherein the operating member swings the hook during operation to release the locking of the upper end portion of the mounting wire at the hooking portion.
前記操作部材は、動作時に前記フックの中間部に当接することを特徴とする請求項1に記載の熱重量測定装置。   The thermogravimetric measurement apparatus according to claim 1, wherein the operation member abuts against an intermediate portion of the hook during operation. 前記取出室は、底部に緩衝部材を備えたことを特徴とする請求項1又は2に記載の熱重量測定装置。   The thermogravimetric measurement apparatus according to claim 1, wherein the take-out chamber includes a buffer member at a bottom portion.
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