JP2803340B2 - ジクロロペンタフルオロプロパン系共沸組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、プリント基板、IC等の電子部品、精密機械
部品、ガラス基板、セラミック、フィルム等のフラック
ス洗浄や離型剤除去洗浄、油、グリース等の洗浄等に用
いられる新規なジクロロペンタフルオロプロパン系共沸
組成物組成物に関するものである。

［従来の技術］ フラックス洗浄や離型剤除去洗浄、油、グリース等の
洗浄には、不燃性、低毒性、安定性に優れる等の特徴を
有する1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフルオロプロパ
ン（以下R113という）とジクロロメタンとの共沸混合溶
剤組成物が使用されている。さらに、R113は金属、プラ
スチック、エラストマー等の基材を侵さず、各種の汚れ
を選択的に溶解する特徴を有するため、金属、プラスチ
ック、エラストマー等からなる各種電子部品を実装した
プリント基板のフラックス洗浄等には最適であった。

［発明が解決しようとする課題］ 従来使用されていたR113は、種々の利点を有するにも
かかわらず、化学的に特に安定なため、対流圏内での寿
命が長く、拡散して成層圏に達し、ここで太陽光線によ
り分解して発生する塩素ラジカルがオゾンと連鎖反応を
起こし、オゾン層を破壊するとのことから、その使用規
制が実施されることとなった。このため、従来のR113に
替わり、オゾン層を破壊しにくい代替溶剤の探索が活発
に行なわれている。

本発明は、従来のR113が有している優れた特性を満足
しながら代替溶剤として使用できる新規な共沸組成物を
提供することを目的とするものである。

［課題を解決するための手段］ 本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであ
り、3,3−ジクロロ−1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパ
ン（R225ca）38重量％及びジクロロメタン62重量％から
なるジクロロペンタフルオロプロパン系共沸組成物並び
に1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパン
（R225cb）28重量％及びジクロロメタン72重量％からな
るジクロロペンタフルオロプロパン系共沸組成物を提供
するものである。本発明の組成物は共沸組成を有してお
り、特に洗浄溶剤として従来のR113/ジクロロメタン共
沸系と同程度の洗浄力を有するため、R113/ジクロロメ
タン共沸系代替として極めて有用なものである。

更に、リサイクルしても組成の変動がないこと、又従
来のR113/ジクロロメタン共沸系と同じ使い方ができ、
従来技術の大幅な変更を要しないこと等の利点がある。

本発明の組成物には、用途に応じてその他の成分を更
に添加混合することができる。例えば、溶剤としての用
途においては、ペンタン、イソペンタン、ヘキサン、イ
ソヘキサン、ネオヘキサン、ヘプタン、イソヘプタン、
2,3−ジメチルブタン、シクロペンタン等の炭化水素
類、ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパン等の
ニトロアルカン類、ジエチルアミン、トリエチルアミ
ン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、イソブチルア
ミン等のアミン類、メタノール、エタノール、ｎ−プロ
ピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブタノ
ール、ｉ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノー
ル等のアルコール類、メチルセロソルブ、テトラヒドロ
フラン、1,4−ジオキサン等のエーテル類、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルブチルケトン等のケトン
類、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステ
ル類、trans−1,2−ジクロロエチレン、cis−1,2−ジク
ロロエチレン、２−ブロモプロパン等のハロゲン化炭化
水素類、その他、1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフル
オロエタン、1,1−ジクロロ−１−フルオロエタン、1,
1,2−トリクロロ−2,2−ジフルオロエタン、1,1−ジク
ロロ−2,2,2−トリフルオロエタン、1,1−ジクロロ−1,
2,2,3,3−ペンタフルオロプロパン、1,2−ジクロロ−1,
1,3,3,3−ペンタフルオロプロパン、1,1−ジクロロ−2,
3,3,3−テトラフルオロプロペン−１、trans−３−クロ
ロ−1,1,1,2,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンテン−２、c
is−３−クロロ−1,1,1,2,4,4,5,5,5−ノナフルオロペ
ンテン−２、1,1,1,2,2,5,5,6,6,6−デカフルオロヘキ
サン等のフッ素化炭化水素類等を適宜添加することがで
きる。

R225ca又はR225cbとジクロロメタンからなる本発明の
共沸は、従来のR113と同様、各種洗浄溶剤等の用途に使
用でき、R113/ジクロロメタン共沸系の代替として用い
た場合、好適である。溶剤の他、フェノールフォームや
ウレタンフォーム等のプラスチックフォーム用発泡剤、
プロペラント等としても使用し得る。溶剤の具体的な用
途としては、フラックス、グリース、油、ワックス、イ
ンキ等の除去剤、塗料用溶剤、抽出剤、ガラス、セラミ
ックス、プラスチック、ゴム、金属製各種物品、特にIC
部品、電気機器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤や水
切り剤等を挙げることができる。洗浄方法としては、手
抜き、浸漬、スプレー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等
を採用すればよい。

［実施例］ 以下に本発明の実施例を示す。

実施例 １ 下記の組成からなる溶剤組成物1000gを蒸留フラスコ
に入れ、理論段数20段の精留塔を用い、大気圧下で蒸留
を行なった。

（組成） （重量％） R225ca（沸点51.1℃） 50 ジクロロメタン（沸点39.8℃） 50 その結果、37.6℃において留分520gを得た。このもの
をガスクロマトグラフで測定した結果、次の組成であっ
た。

（組成） （重量％） R225ca 38 ジクロロメタン 62 実施例 ２ 実施例１の組成物（R225ca/ジクロロメタン＝38重量
％/62重量％）を用いてフラックスの洗浄試験を行なっ
た。

プリント基板全面にフラックス（タムラ製作所製 タ
ムラ−AL−４）を塗布し、250℃の電気炉で２分間焼成
後、本発明の前記組成物に１分間浸漬した。その結果、
フラックスは良好に除去できることが確認された。

実施例 ３ 実施例１の組成物（R225ca/ジクロロメタン＝38重量
％/62重量％）についてタグ式測定方（JIS−K2265）に
従って測定したところ引火点がなく不燃であることが確
認された。

実施例 ４ 下記の組成からなる溶剤組成物1000gを蒸留フラスコ
に入れ、理論段数20段の精留塔を用い、大気圧下で蒸留
を行なった。

（組成） （重量％） R225cb（沸点56.1℃） 40 ジクロロメタン（沸点39.8℃） 60 その結果、38.6℃において留分330gを得た。このもの
をガスクロマトグラフで測定した結果、次の組成であっ
た。

（組成） （重量％） R225cb 28 ジクロロメタン 72 実施例 ５ 実施例４の組成物（R225cb/ジクロロメタン＝28重量
％/72重量％）を用いてフラックスの洗浄試験を行なっ
た。プリント基板全面にフラックス（タムラ製作所製
タムラ−AL−４）を塗布し、200℃の電気炉で２分間焼
成後、本発明の前記組成物に１分間浸漬した。その結
果、フラックスは良好に除去できることが確認された。

実施例 ６ 実施例４の組成物（R225cb/ジクロロメタン＝28重量
％/72重量％）についてタグ式測定法（JIS−K2265）に
従って測定したところ引火点がなく不燃であることが確
認された。

［発明の効果］ 本発明のジクロロペンタフルオロプロパン系組成物
は、不燃性で従来のフロン類が有している優れた特性と
同等以上の特性を有する。又、共沸点が存在するため、
リサイクル時に組成変動がなく、従来のR113/ジクロロ
メタン共沸系と同じ使い方でき、従来技術の大幅な変更
を必要とせず、そのまま適用できる等の利点がある。特
に、フラックスや油等の溶解除去性に優れるためR113/
ジクロロメタン共沸系に替わる洗浄溶剤として好適であ
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｈ０５Ｋ 3/26 Ｈ０５Ｋ 3/26

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】3,3−ジクロロ−1,1,1,2,2−ペンタフルオ
   ロプロパン38重量％及びジクロロメタン62重量％からな
   るジクロロペンタフルオロプロパン系共沸組成物。
2. 【請求項２】1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオ
   ロプロパン28重量％及びジクロロメタン72重量％からな
   るジクロロペンタフルオロプロパン系共沸組成物。