JP2020168701A - 研削装置 - Google Patents

研削装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2020168701A
JP2020168701A JP2019072603A JP2019072603A JP2020168701A JP 2020168701 A JP2020168701 A JP 2020168701A JP 2019072603 A JP2019072603 A JP 2019072603A JP 2019072603 A JP2019072603 A JP 2019072603A JP 2020168701 A JP2020168701 A JP 2020168701A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
grinding
sectional shape
cross
axis
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2019072603A
Other languages
English (en)
Other versions
JP7417362B2 (ja
Inventor
壮一 松原
Soichi Matsubara
壮一 松原
徹雄 久保
Tetsuo Kubo
徹雄 久保
山下 真司
Shinji Yamashita
真司 山下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Abrasive Systems Ltd filed Critical Disco Abrasive Systems Ltd
Priority to JP2019072603A priority Critical patent/JP7417362B2/ja
Priority to US16/829,282 priority patent/US11524386B2/en
Priority to CN202010223030.4A priority patent/CN111805374B/zh
Priority to ATA50286/2020A priority patent/AT522399B1/de
Priority to DE102020204370.1A priority patent/DE102020204370A1/de
Priority to FI20205350A priority patent/FI20205350A1/en
Priority to CZ2020-194A priority patent/CZ2020194A3/cs
Publication of JP2020168701A publication Critical patent/JP2020168701A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7417362B2 publication Critical patent/JP7417362B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • H01L21/304Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B7/00Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor
    • B24B7/20Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground
    • B24B7/22Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
    • B24B7/228Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain for grinding thin, brittle parts, e.g. semiconductors, wafers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B27/00Other grinding machines or devices
    • B24B27/0023Other grinding machines or devices grinding machines with a plurality of working posts
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B1/00Processes of grinding or polishing; Use of auxiliary equipment in connection with such processes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B27/00Other grinding machines or devices
    • B24B27/0069Other grinding machines or devices with means for feeding the work-pieces to the grinding tool, e.g. turntables, transfer means
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/27Work carriers
    • B24B37/30Work carriers for single side lapping of plane surfaces
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B41/00Component parts such as frames, beds, carriages, headstocks
    • B24B41/005Feeding or manipulating devices specially adapted to grinding machines
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B41/00Component parts such as frames, beds, carriages, headstocks
    • B24B41/06Work supports, e.g. adjustable steadies
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B41/00Component parts such as frames, beds, carriages, headstocks
    • B24B41/06Work supports, e.g. adjustable steadies
    • B24B41/068Table-like supports for panels, sheets or the like
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B47/00Drives or gearings; Equipment therefor
    • B24B47/22Equipment for exact control of the position of the grinding tool or work at the start of the grinding operation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B49/00Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation
    • B24B49/02Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation according to the instantaneous size and required size of the workpiece acted upon, the measuring or gauging being continuous or intermittent
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B49/00Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation
    • B24B49/02Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation according to the instantaneous size and required size of the workpiece acted upon, the measuring or gauging being continuous or intermittent
    • B24B49/04Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation according to the instantaneous size and required size of the workpiece acted upon, the measuring or gauging being continuous or intermittent involving measurement of the workpiece at the place of grinding during grinding operation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B5/00Machines or devices designed for grinding surfaces of revolution on work, including those which also grind adjacent plane surfaces; Accessories therefor
    • B24B5/50Machines or devices designed for grinding surfaces of revolution on work, including those which also grind adjacent plane surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground, e.g. strings
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B51/00Arrangements for automatic control of a series of individual steps in grinding a workpiece

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)

Abstract

【課題】チャックテーブルの回転軸と研削ホイールの回転軸との間の傾きの調整作業を容易にする。【解決手段】研削装置に備えたタッチパネルに、目標とするウェーハの断面形状を設定する設定部122と、テーブル回転軸の現状の傾きの下で研削されたウェーハの断面形状を入力する入力部121とを備え、制御部が、設定部122に設定したウェーハの断面形状と入力部121に入力したウェーハの断面形状とを比較し、ウェーハを目標とする形状に研削できるように傾き調整手段を制御しテーブル回転軸の傾きを変更する。【選択図】図6

Description

本発明は、研削砥石を用いてウェーハを研削する研削装置に関する。
研削砥石を用いてウェーハを研削する研削装置は、環状に研削砥石が配設された研削ホイールを回転させるとともに、保持面においてウェーハを保持したチャックテーブルを回転させ、保持面に保持されたウェーハの中心を研削砥石が通過するようにウェーハの上方に研削ホイールを位置付け、ウェーハの半径エリアに研削砥石を接触させてウェーハを研削している。そのため、保持面の半径エリアが研削砥石の研削面と平行になるように、チャックテーブルの回転軸の傾きと研削ホイールの回転軸の傾きとの関係が調整されている(例えば、特許文献1参照)。
また、研削加工後は、ウェーハの抗折強度を強化するために研磨加工を実施し、研削加工によって形成された研削痕を除去している。研磨加工は、研磨パッドがウェーハを覆った状態でウェーハに対して研磨パッドを押しつけて実施されるため、ウェーハの中心部分が多く研磨されるという傾向がある。そのため、平坦に研削されたウェーハを研磨すると、研磨加工後のウェーハは、中央が薄く外周側が厚い中凹形状になる。そこで、研磨加工後のウェーハを平坦にするために、研削の段階で、ウェーハを中央部分が厚く外周側が薄い中凸形状に仕上げる技術が提案されている(例えば、特許文献2参照)。
特開2015−009295号公報 特開2013−004726号公報
しかし、研磨パッドや研磨砥粒などの研磨部材、被加工物の材質、ウェーハに研磨パッドを押しつけている時間や押しつける際の荷重などの研磨加工条件によって、ウェーハの中心と外周との間で研磨除去量は異なる。すなわち、研磨加工条件によって、研磨加工後のウェーハの中凹具合が異なる。そのため、研磨加工条件に応じて、研削後の中凸ウェーハの中央と外周側との厚み差を変え、中凸具合を調整する必要がある。
中凸具合の調整は、チャックテーブルの回転軸と研削ホイールの回転軸との間の傾きを変更することにより行う。しかし、この傾きの調整作業は、研削加工及び研磨加工とウェーハの厚み測定とを交互に繰り返し行うことが必要となるため、時間がかかるという問題がある。本発明が解決しようとする課題は、チャックテーブルの回転軸と研削ホイールの回転軸との間の傾きの調整作業を容易にすることにある。
本発明は、ウェーハを保持する保持面を有するチャックテーブルを、該保持面の中心を通るテーブル回転軸を軸として回転させる保持手段と、研削砥石が環状に配設された研削ホイールを下端に装着したスピンドルを回転させることによって回転する該研削砥石によって該チャックテーブルに保持されたウェーハを研削する研削手段と、該テーブル回転軸を、該スピンドルの回転軸と平行な方向に対して僅かに傾ける傾き調整手段と、タッチパネルと、を備え、該保持面の中心から外周に至る半径エリアを研削領域として、該研削砥石が該チャックテーブルに保持されたウェーハを研削する研削装置であって、該タッチパネルには、目標とするウェーハの断面形状を設定する設定部と、該テーブル回転軸の現状の傾きの下で研削されたウェーハの断面形状を入力する入力部とを備え、該設定部に設定したウェーハの断面形状と該入力部に入力したウェーハの断面形状とを比較し、ウェーハを目標とする断面形状に研削できるように該傾き調整手段を制御し該テーブル回転軸の傾きを変更する制御部を備える。
上記研削装置は、該保持手段を複数備え、複数の該保持手段のうちの1つを該研削砥石が研削する研削加工位置に位置付ける位置付け手段を備える場合は、該タッチパネルには、該複数の該保持手段のうちの1つを選択する選択部を備え、該制御部は、該選択部によって選択された該保持手段の該テーブル回転軸の傾きを変更することが望ましい。
また、上記研削装置においては、ウェーハを加工するために設定される加工条件毎に、該設定部と該入力部とを少なくとも備えることが望ましい。
本発明では、タッチパネル上において、目標とするウェーハの断面形状を設定することが可能となる。そして、設定したウェーハの目標とする断面形状と入力部に入力したウェーハの現状の断面形状とに基づき、ウェーハを目標とする断面形状に研削できるように傾き調整手段を制御してテーブル回転軸の傾きを変更することができる。
複数の保持手段を備え、複数の保持手段のうちの1つを選択する選択部をタッチパネルに備えることにより、テーブル回転軸の傾きを調整する対象の保持手段をタッチパネル上で選択することが可能となる。
ウェーハを加工するために設定される加工条件毎に、設定部と入力部とを少なくとも備えることにより、1つの研削装置において断面形状の異なるウェーハを形成することができる。
研削装置の例を示す斜視図である。 保持手段及び研削手段を側面側から示す断面図である。 ウェーハを研削する様子を側面側から示す断面図である。 研削後にウェーハの厚みを測定する様子を側面側から示す断面図である。 (a)は、中凸型のウェーハを示す断面図であり、(b)は、中凹型のウェーハを示す断面図であり、(c)は、かもめ型のウェーハを示す断面図であり、(d)は、逆かもめ型のウェーハを示す断面図であり、(e)は、均一型のウェーハを示す断面図である。 タッチパネルに表示される条件設定画面の例を示す説明図である。 チャックテーブルとウェーハと研削砥石の軌道との関係並びに微調整軸及び固定軸の位置を示す平面図である。 タッチパネルに表示される条件設定画面において、ウェーハの現在断面形状及び目標断面形状が入力され、微調整軸の移動量が表示された状態を示す説明図である。 タッチパネルに表示される条件設定画面において、条件を記憶する対象のチャックテーブルを選択するためのプルダウンメニューが表示された状態を示す説明図である。 タッチパネルに表示される条件設定画面において、微調整軸の移動が終了し、微調整軸の現在位置が更新されて表示された状態を示す説明図である。
図1に示す研削装置1は、第1研削手段30と第2研削手段31と研磨手段4とを備える研削装置であり、チャックテーブルCTA〜CTD上に保持されたウェーハを、第1研削手段30及び第2研削手段31により研削し、研磨手段4により研磨する装置である。研削装置1は、例えば、第1の装置ベース10の後方(+Y方向側)に第2の装置ベース11が連結されて構成されている。第1の装置ベース10上は、ウェーハの搬出入等が行われる領域である搬出入領域Aを構成している。一方、第2の装置ベース11上は、第1研削手段30、第2研削手段31又は研磨手段4によってチャックテーブルCTA〜CTD上に保持されたウェーハの加工が行われる領域である加工領域Bを構成している。
第1の装置ベース10の正面側(−Y方向側)には、第1のカセット載置部150及び第2のカセット載置部151が設けられており、第1のカセット載置部150には加工前のウェーハが収容される第1のカセット150aが載置され、第2のカセット載置部151には加工後のウェーハを収容する第2のカセット151aが載置される。
第1のカセット150aの後方(+Y方向側)には、第1のカセット150aから加工前のウェーハを搬出するとともに加工後のウェーハを第2のカセット151aに搬入するロボット155が配設されている。ロボット155に隣接する位置には、仮置き領域152が設けられており、仮置き領域152には位置合わせ手段153が配設されている。位置合わせ手段153は、第1のカセット150aから搬出され仮置き領域152に載置されたウェーハを所定の位置に位置合わせする。
位置合わせ手段153に隣接する位置には、ウェーハを保持した状態で旋回する第1搬送手段154aが配置されている。第1搬送手段154aは、位置合わせ手段153において位置合わせされたウェーハを保持し、そのウェーハを加工領域B内に配設されているいずれかのチャックテーブルへ搬送する。第1搬送手段154aの隣には、加工後のウェーハを保持した状態で旋回する第2搬送手段154bが設けられている。第2搬送手段154bに近接する位置には、第2搬送手段154bにより搬送された加工後のウェーハを洗浄する洗浄手段156が配置されており、第2搬送手段154bに保持されたウェーハは、いずれかのチャックテーブルから洗浄手段156に搬送される。また、洗浄手段156により洗浄されたウェーハは、ロボット155により第2のカセット151aに搬入される。
第2の装置ベース11上の後方(+Y方向側)には第1のコラム12が立設されており、第1のコラム12の−Y方向側の側面には研削送り手段20が配設されている。研削送り手段20は、鉛直方向(Z軸方向)の軸心を有するボールネジ200と、ボールネジ200と平行に配設された一対のガイドレール201と、ボールネジ200に連結されボールネジ200を回動させるモータ202と、内部のナットがボールネジ200に螺合し側部がガイドレール201に摺接する昇降板203とから構成され、モータ202がボールネジ200を回動させると、これに伴い昇降板203がガイドレール201にガイドされてZ軸方向に往復移動し、昇降板203上に配設された第1研削手段30がZ軸方向に研削送りされる。
第1研削手段30は、軸方向が鉛直方向(Z軸方向)であるスピンドル300と、スピンドル300を回転可能に支持するハウジング301と、スピンドル300を回転駆動するモータ302と、スピンドル300の下端に装着された円形状のマウント303と、マウント303の下面に着脱可能に装着された研削ホイール304とを備える。研削ホイール304は、ホイール基台304aと、ホイール基台304aの底面に環状に配設された略直方体形状の複数の研削砥石304bとを備える。研削砥石304bは、例えば、粗研削に用いられる砥石であり、砥石中に含まれる砥粒が比較的大きな砥石である。すなわち、第1研削手段30は、ウェーハに対して粗研削を施すための粗研削手段として機能する。第1研削手段30は、昇降板203に取り付けられたホルダ261により保持された状態で配設されている。
また、第2の装置ベース11上の後方(+Y方向側)には、第2のコラム13が第1のコラム12に対してX軸方向に並列に立設されており、第2のコラム13の−Y方向側の側面には研削送り手段20が配設されている。第2のコラム13に配設された研削送り手段20は、第2研削手段31をZ軸方向に研削送りする。第2研削手段31は、軸方向が鉛直方向(Z軸方向)であるスピンドル310と、スピンドル310を回転可能に支持するハウジング311と、スピンドル310を回転駆動するモータ312と、スピンドル310の下端に接続された円形状のマウント313と、マウント313の下面に着脱可能に接続された研削ホイール314とを備える。研削ホイール314は、ホイール基台314aと、ホイール基台314aの底面に環状に配設された略直方体形状の複数の研削砥石314bとを備える。研削砥石314bは、例えば、仕上げ研削に用いられる砥石であり、砥石中に含まれる砥粒が比較的小さな砥石である。すなわち、第2研削手段31は、ウェーハに対して仕上げ研削を施すための仕上げ研削手段として機能する。
第2の装置ベース11上の左方(−X方向側)には、第3のコラム14が立設されており、第3のコラム14の+X方向側の側面には、Y軸方向移動手段24が配設されている。Y軸方向移動手段24は、Y軸方向の軸心を有するボールネジ240と、ボールネジ240と平行に配設された一対のガイドレール241と、ボールネジ240を回動させるモータ242と、内部のナットがボールネジ240に螺合し側部がガイドレール241に摺接する可動板243とから構成される。そして、モータ242がボールネジ240を回動させると、これに伴い可動板243がガイドレール241にガイドされてY軸方向に移動し、可動板243上に配設された研磨手段4が可動板243の移動に伴いY軸方向に移動する。
可動板243上には、研磨手段4をチャックテーブルに対して接近および離反する方向に昇降させる研磨送り手段25が配設されている。研磨送り手段25は、鉛直方向(Z軸方向)の軸心を有するボールネジ250と、ボールネジ250と平行に配設された一対のガイドレール251と、ボールネジ250に連結しボールネジ250を回動させるモータ252と、内部のナットがボールネジ250に螺合し側部がガイドレール251に摺接する昇降板253とから構成され、モータ252がボールネジ250を回動させると、これに伴い昇降板253がガイドレール251にガイドされてZ軸方向に往復移動し、昇降板253に配設された研磨手段4がチャックテーブルに対して接近及び離反するZ軸方向に昇降する。
研磨手段4は、例えば、軸方向が鉛直方向(Z軸方向)であるスピンドル40と、スピンドル40を回転可能に支持するハウジング41と、スピンドル40を回転駆動するモータ42と、スピンドル40の下端に接続されチャックテーブルに保持されるウェーハを研磨する研磨パッド43とを少なくとも備える。研磨パッド43は、スピンドル40の下端に接続されたマウント44に固定されている。研磨手段4は、昇降板253に取り付けられたホルダ263により保持された状態で配設されている。
図1に示すように、第2の装置ベース11上には回転可能なターンテーブル6が配設され、ターンテーブル6の上面6aには、例えば4つのチャックテーブルCTA、CTB、CTC、CTDが周方向に等間隔に配設されている、ターンテーブル6の中心には、ターンテーブル6を自転させるための図示しない回転軸が配設されており、回転軸を中心としてターンテーブル6を自転させることができる。ターンテーブル6が自転することで、4つのチャックテーブルCTA、CTB、CTC、CTDを公転させ、仮置き領域152の近傍から、第1研削手段30の下方、第2研削手段31の下方、研磨手段4の下方へと順次移動させることができる。すなわち、ターンテーブル6は、チャックテーブルCTA、CTB、CTC、CTDを研削加工位置や研磨加工位置に位置付ける位置付け手段として機能する。
図2に示すように、第1研削手段30及び第2研削手段31のスピンドル300、310は、鉛直方向(Z軸方向)のスピンドル回転軸300a、310aをそれぞれ有しており、研削ホイール304、314は、スピンドル回転軸300a、310aを軸としてそれぞれ回転する。
チャックテーブルCTA、CTB、CTC、CTDは、ポーラス部材等からなりウェーハを吸着する吸着部510と、吸着部510を支持する枠体511とを備えている、チャックテーブルCTA、CTB、CTC、CTDの下方には、モータ512を備え、モータ512は、テーブル回転軸513を軸としてチャックテーブルCTA、CTB、CTC、CTDを回転させる。それぞれのチャックテーブルと、モータ512と、テーブル回転軸513とで、保持手段51が構成されている。吸着部510は、図示しない吸引源に連通し、吸引源により生み出された吸引力が吸着部510の露出面である保持面510aに伝達されることで、保持面510a上においてウェーハを吸引保持する。
チャックテーブルCTA、CTB、CTC、CTDは、保持面510aの中心を通るテーブル回転軸513の傾きを調節する傾き調整手段56によって支持されている。傾き調整手段56は、少なくとも3つの支持部により構成され、そのうちの少なくとも2つが可動支持部52、53であり、例えば1つが固定支持部54であり、これらが枠体511の底面側に周方向に一定の間隔をおいて配設されている。なお、可動支持部が3つ配設され、固定支持部がなく、すべてを可動支持部とする構成としてもよい。また、可動支持部と固定支持部とが合わせて4つ以上配設されていてもよい。
可動支持部52は、研削装置1の内部の基台55に配設されたモータ520と、モータ520に連結され回転可能な微調整軸521と、微調整軸521を回転可能に支持する支持部522と、枠体511の下部から下方に突出し微調整軸521を収容する収容部523とから構成されている。モータ520は、制御部60と接続されており、制御部60による制御の下で動作する。また、制御部60は、研削装置1を構成する各部位の動作を統括する。
微調整軸521の先端には雄ねじ521aが形成され、収容部523の内側面には、雄ねじ521aに螺合する雌ねじ523aが形成されている。また、収容部523の内側面には、微調整軸521の先端の位置を検出する原点センサ523bが配設されている。制御部60は、微調整軸521の先端の位置を、原点センサ523bに対する相対的な関係において認識する。
一方、固定支持部54は、下端が基台55の上に固定されるとともに上端が枠体511の下部に固定された固定軸541を備えている。
可動支持部52においては、制御部60による制御の下でモータ520が微調整軸521を回転させることにより、雄ねじ521aが雌ねじ523aに対して進退して収容部523が昇降し、基台55に対する枠体511の相対的な高さが変化する。可動支持部53についても同様である。一方、固定支持部54おいては、基台55に対する枠体511の高さ位置が変化しない。したがって、収容部523に対する微調整軸521の高さが収容部523に対して昇降し、又は、収容部533に対する微調整軸531の高さが収容部533に対して昇降することにより、スピンドル回転軸300aに対するテーブル回転軸513の傾きが変化する。
保持面510aは、円錐面となっており、傾き調整手段56によって、その円錐面の一部の半径エリアと、研削砥石304b、314bの下面(研削面)とが平行になるように調整される。
図1に示すように、研削装置1には、加工条件の入力、加工状態の表示等を行うタッチパネル70を備えている。タッチパネル70は、目標とするウェーハの断面形状を設定し記憶する設定部71と、テーブル回転軸513の現状の傾きの関係の下でウェーハを研削した場合のウェーハの断面形状を入力する入力部72と、複数の保持手段51をそれぞれ構成するチャックテーブルCTA、CTB、CTC、CTDのうちのいずれかを選択する選択部73とを備えている。なお、設定部71で設定されるウェーハの断面形状及び入力部72で入力されるウェーハの断面形状は、ともに、ウェーハの中心を通り厚さ方向に切断した際の縦断面の形状である。
次に、研削装置1の動作について、工程別に説明する。
1 準備工程
本工程では、粗研削、仕上げ研削及び研磨に関する加工条件が、タッチパネル70から入力される。そして、実際の加工時には、制御部60が、入力された加工条件を読み出すことにより、制御部60による制御の下で、各加工が行われる。また、研削対象のウェーハの目標とする断面形状に応じて、タッチパネル70に入力された内容に基づき、図2に示した傾き調整手段56を制御して、各研削手段のスピンドル回転軸300a、310aと平行な方向に対する各チャックテーブルのテーブル回転軸513の傾きを調整する。当該調整の詳細については後述する。
2 研削工程
タッチパネル70からの加工条件の入力が行われた後、ロボット155が第1のカセット150aから研削加工前のウェーハを取り出し、位置合わせ手段153に搬送する。そして、ウェーハが一定の位置に位置合わせされた後、第1搬送手段154aによって、チャックテーブルCTA〜CTDのうち最も近い位置にあるものに搬送される。ここでは、ウェーハがチャックテーブルCTAに搬送され保持されることとする。
図3に示すように、ウェーハWの下面Wbには保護テープTが貼着されており、保護テープT側がチャックテーブルCTAの保持面510aにおいて保持される。そして、ターンテーブル6が所定角度回転し、ウェーハが第1研削手段30の下方に移動する。その後、回転軸513を軸としてチャックテーブルCTAを回転させるとともに、スピンドル回転軸300aを軸とするスピンドル300の回転により研削ホイール304が回転しながら研削送り手段20が第1研削手段30を下方(−Z方向)に研削送りすることにより、回転する研削砥石304bがウェーハWの上面Waに接触して粗研削が行われる。このとき、研削砥石304bは、ウェーハWの上面Waの半径部分に接触する。
図示していないが、研削装置1には、保持面510aの高さを測定する保持面ゲージと、ウェーハWの上面Waの高さを測定するウェーハゲージとを備え、保持面ゲージとウェーハゲージとの高さの差からウェーハWの厚みを測定する厚み測定手段を備えており、ウェーハWが所定の厚みに形成されると、研削送り手段20が第1研削手段30を上方(+Z方向)に退避させ、粗研削を終了する。
次に、図1に示したターンテーブル6が所定角度回転し、ウェーハWが第2研削手段31の下方に移動する。そして、図3に示すように、回転軸513を軸としてチャックテーブルCTAを回転させるとともに、スピンドル回転軸310aを軸とするスピンドル310の回転により研削ホイール314が回転しながら研削送り手段20が第2研削手段31を下方(−Z方向)に研削送りすることにより、回転する研削砥石314bがウェーハの上面に接触して仕上げ研削が行われる。そして、ウェーハが所定の厚みに形成されると、研削送り手段20が第2研削手段31を上方(+Z方向)に退避させ、仕上げ研削を終了する。
図4に示すように、第2研削手段31の近傍には、3つの厚み測定手段320、321、322を備えている。厚み測定手段320は仕上げ研削されたウェーハWの中央部Woの厚みを測定し、厚み測定手段322は仕上げ研削されたウェーハWの外周部Weの厚みを測定し、厚み測定手段321は仕上げ研削されたウェーハWの中央部Woと外周部Weとの間の中間部Wmの厚みを計測することができる。制御部60は、この3つの厚み測定手段320、321、322がそれぞれ測定した厚みを読み出すことができる。なお、1つの厚み測定手段がウェーハWの径方向に移動する構成とし、当該1つの厚み測定手段のみで、ウェーハWの中央部Wo、中間部Wm及び外周部Weの厚みをそれぞれ測定するようにしてもよい。
ウェーハWの断面形状は、図5(a)に示すように中央部Woが厚く外周部Weが薄く形成された中凸型、図5(b)に示すように中央部Woが薄く外周部Weが厚く形成された中凹型、図5(c)に示すように中間部Wmが中央部Wo及び外周部Weよりも厚く形成されたかもめ型、図5(d)に示すように中間部Wmが中央部Wo及び外周部Weよりも薄く形成された逆かもめ型、図5(e)に示すように中央部Wo、中間部Wm、外周部Weの厚みが均一な均一型のいずれかに属する。厚み測定手段320、321、322は、測定した3箇所の厚みにより、ウェーハWの断面形状がいずれのタイプに属するかを判断することができる。
なお、図4においては、実線で示したウェーハWの断面形状は、均一型であるが、研磨手段4においてはウェーハWの中央部がより研磨されやすいため、研磨後におけるウェーハWの断面形状を均一型にするために、仕上げ研削終了時における理想的な断面形状は、二点鎖線で示す中凸型である。
3 研磨工程
仕上げ研削の終了後、ターンテーブル6が所定角度回転し、ウェーハWが研磨手段4の下方に移動する。そして、チャックテーブルCTAが回転するとともに、スピンドル40の回転により研磨パッド43が回転しながら研磨送り手段25が研磨手段4を下方(−Z方向)に研削送りすることにより、回転する研磨パッド43がウェーハの上面Waに接触して研磨が行われる。そして、ウェーハが所定の厚みに形成されると、研磨送り手段25が研磨手段4を上方(+Z方向)に退避させ、研磨を終了する。
研磨の終了後は、第2搬送手段154bが研磨後のウェーハを保持して洗浄手段156に搬送する。そして、洗浄手段156に搬送されたウェーハは、洗浄された後、ロボット155によって第2のカセット151aに収容される。
4 準備工程における加工条件の設定
上記準備工程において、仕上げ研削工程の加工条件設定に関しては、例えば図6に示す条件設定画面100がタッチパネル70に表示される。条件設定画面100は、微調整軸記憶位置表示欄110と、Z2加工時ウェーハ形状調整量入力欄120と、位置記憶欄130とを有している。ここで、条件設定画面100におけるZ2とは、図1に示した第2研削手段31を意味している。
図7に示すように、2つの可動支持部52、53及び1つの固定支持部54は、チャックテーブルCTA−CTDの外周において、保持面510aの中心を重心とした正三角形を構成するように配置されており、正三角形の頂点の直下において、各チャックテーブルと図2に示した基台55との間に配設されている。図6に示した条件設定画面100においては、可動支持部52の微調整軸521をL軸、可動支持部53の微調整軸531をR軸と称している。図7に示すように、L軸、R軸及び固定支持部の固定軸541を通る円の中心は、チャックテーブルCTA−CTDの保持面510aの中心Oであり、保持面510aの直径をDとする。
なお、この保持面510aの外周の直下に固定軸541、微調整軸521、531が等間隔で配設されている。
ウェーハWは、保持面510aよりも小径に形成されており、その半径をRとする。また、上記研削工程における仕上げ研削に用いられる研削砥石314bの回転軌道の半径をrとする。なお、研削砥石314bには幅があるため、例えばその幅の中央の軌道の半径をrとする。
図2に示したように、保持面510aは円錐面に形成されており、研削砥石314bは、図7におけるウェーハWの半径エリアである研削領域WRにおいて、ウェーハWの上面Waと接触する。この研削領域WRは、保持面510aの中心Oから固定軸541に向けて延びている。また、中心Oから研削領域WRの中間部Wmまでの距離は、ウェーハWの半径Rの半分(R/2)である。
図6に示した条件設定画面100において、微調整軸記憶位置表示欄110は、図2に示した傾き調整手段56の2つの可動支持部52、53におけるそれぞれの微調整軸521、531、すなわち図7におけるL軸及びR軸のZ方向の現在位置を示している。また、CTAはチャックテーブルCTAを、CTBはチャックテーブルCTBを、CTCはチャックテーブルCTCを、CTDはチャックテーブルCTDを、それぞれ指している。CTA〜CTDにおける「L軸」及び「R軸」の値は、可動支持部52、53における図2に示した微調整軸521、531の先端と原点センサ523b、533bとの間の距離を示している。値が−となっているのは、微調整軸521、531の先端が原点センサ523b、533bよりも下方に位置していることを意味している。
図6に示した条件設定画面100において、Z2加工時ウェーハ形状調整量入力欄120は、現在形状入力欄121と、目標形状入力欄122と、微調整軸移動量表示欄123とを備えている。
現在形状入力欄121は、第2研削手段31によるテスト仕上げ研削後に測定された実際のウェーハの断面形状が入力される欄であり、図4に示した3つの厚み測定手段320、321、322によって測定された厚みの値がそれぞれ入力される。「中心高さ(基準)」の値は厚み測定手段320による測定値であり、「R/2高さ」の値は厚み測定手段321による測定値であり、「R高さ」の値は厚み測定手段322による測定値である。現在形状入力欄121は、現状のウェーハの断面形状を入力するための入力部121として機能する。
目標形状入力欄122は、研磨手段4による研磨後の目標とするウェーハの断面形状が入力される欄であり、「中心高さ(基準)」はウェーハWの中央部Woの高さの値の目標値であり、「R/2高さ」はウェーハWの中間部Wmの高さの目標値であり、「R高さ」はウェーハWの外周部Weの高さの目標値である。目標形状入力欄122は、ウェーハWの目標とする断面形状を入力し設定するための設定部122として機能する。
入力部121及び設定部122は、ウェーハWを加工するために設定される加工条件ごとに、値を設定する。
Z2加工時ウェーハ形状調整量入力欄120の下部の微調整軸移動量表示欄123は、図2に示した2つの微調整軸521、531であるL軸及びR軸について、ウェーハWを目標とする断面形状に形成するためのL軸及びR軸のそれぞれの高さの調整量を表示する欄であり、現在形状入力欄121及び目標形状入力欄122の値に応じて制御部60において算出され、微調整軸L軸及びR軸を上方に移動させる場合は+、下方に移動させる場合は−の値が表示される。
位置記憶欄130は、4つのチャックテーブルCTA−CTDのうち、微調整軸移動量表示欄123に表示されるL軸及びR軸の調整量を適用しようとするいずれかのチャックテーブルを選択する選択部131と、その調整量を保存する際にタッチされる保存ボタン132とを備えている。選択部131においては、「対象CT」の欄をタッチすることにより、プルダウンメニューが表示され、チャックテーブルCTA−CTDのいずれかを選択することができる。図6の例では、CTAが選択された状態となっている。
図1に示した制御部60は、設定部122に設定された目標とするウェーハの断面形状に関するデータと、入力部121に入力された現在のウェーハの断面形状に関するデータとを読み出す。そして、中央部Wo、中間部Wm、外周部Weの3箇所における両値、すなわち入力部121に入力された中心高さ(基準)、R/2高さ、R高さの値と、設定部122に設定された中心高さ(基準)、R/2高さ、R高さの値とに基づき、研磨後のウェーハが設定部122に設定された目標の断面形状に形成されるように、可動支持部52、53を制御する。
図6の条件設定画面100は、初期画面であるため、微調整軸記憶位置表示欄110に、チャックテーブルCTA−CTDのL軸及びR軸の現在位置が表示されているが、Z2加工時ウェーハ形状調整量入力欄120のそれぞれの値はいずれも0となっている。この状態から、オペレータは、図8の条件設定画面100aに示すように、最初にZ2加工時ウェーハ形状調整量入力欄120の現在形状入力欄121に、テスト研削したウェーハの3箇所における測定値を入力する。ここで、入力する値は、中心高さを0とし、R/2高さ及びR高さについては、中心高さを基準とする相対値とする。中心高さは中央部Woの高さであり、R/2高さは中間部Wmの高さであり、R高さは外周部Weの高さである。
図8の例における現在形状入力欄121には、テスト研削したウェーハWにおける測定値として、中心高さ(基準)が0.00μm、R/2高さが0.50μm、R高さが1.00μmと入力されている。すなわち、テスト研削したウェーハWは、中凸型である。一方、研磨後に目標とするウェーハWの断面形状は、厚さが均一な断面形状であるため、目標形状入力欄には、中心高さ(基準)の値として0、R/2高さ及びR高さについても、値を0としている。
このようにして現在形状及び目標形状が入力されると、制御部60は、設定部122に設定したウェーハの断面形状と、入力部121に入力した現在のウェーハの断面形状とを比較し、微調整軸移動量表示欄123に、現在形状及び目標形状に応じた値を表示する。そして、ウェーハを目標とする断面形状に研削できるように、傾き調整手段56を制御し、テーブル回転軸513の傾きを変更する。その具体的な処理は、以下のとおりである。
一例として、チャックテーブルCTAの微調整軸521(L軸)及び微調整軸531(R軸)並びに固定軸541について、それぞれの軸の先端の原点センサ523b、533bからのZ方向の距離の現在値及び目標値が以下の表1に示す値である場合について説明する。なお、微調整軸521(L軸)及び微調整軸531(R軸)の原点センサに対する相対的なZ位置は、微調整軸記憶位置表示欄110に表示されている。

(表1)
制御部60は、
設定部122に設定された値を読み出す。そして、以下の式(1)により、L軸の調整時のZ方向の移動量MLを算出する。

ML=(ZL0−ZF0)−(ZL1−ZF1)・・・式(1)
=(-0.32-0.60)−(0-0)=-0.92
また、制御部60は、以下の式(2)により、R軸の調整時のZ方向の移動量MRを算出する。
MR=(ZR0−ZF0)−(ZR1−ZF1)・・・式(2)
=(-0.28-0.60)−(0-0)=-0.88
制御部60は、上記の算出されたML及びMRの値を、図8の条件設定画面100aの微調整軸移動量表示欄123にそれぞれ表示する。
その後、図9の条件設定画面100bに示すように、オペレータが、選択部131の「対象CT」をタッチしてプルダウンメニュー131aを表示させ、「CTA」をタッチして選択する。そして、保存ボタン132をタッチすることにより、CTAのL軸及びR軸に関する微調整軸移動量が保存される。
こうしてCTAのL軸及びR軸に関する微調整軸移動量の値が保存されると、制御部60は、図2に示した可動支持部52、53のモータ520、530をそれぞれ駆動し、微調整軸521(L軸)及び微調整軸531(R軸)を、その調整量だけ移動させる。そして、その移動が終了すると、制御部60は、L軸及びR軸の現在位置に、算出した微調整軸移動量の値を加算する。すなわち、以下の計算を行う。
-0.32+(-0.92)=-1.24
-0.28+(-0.88)=-1.16
制御部60は、この算出結果を、図10の条件設定画面100cに示すように、微調整軸記憶位置表示欄110におけるCTAのL軸及びR軸の欄にそれぞれ表示する。そして、微調整軸移動量表示欄123の値を0に戻す。
CTB、CTC、CTDについても、同様に、目標形状の入力を行うと、各チャックテーブルのL軸及びR軸の調整量が算出される。そして、その値を保存すると、それぞれの保持手段に備える可動支持部52、53による実際の高さ調整が行われ、調整後の値が微調整軸記憶位置表示欄110に表示される。
以上のようにしてチャックテーブルCTA、CTB、CTC、CTDの高さを調整することにより、各保持手段51のテーブル回転軸513の傾きを変更することができる。そして、各テーブル回転軸513の傾きを変更した状態において前記研磨工程を行うことにより、ウェーハを均一な厚さに仕上げることができる。
なお、実際には、一度の調整によってウェーハを均一な厚さに仕上げることは困難であるため、調整後の条件にて研削を行い、仕上げ研削後の断面形状が、現在形状入力欄に入力した値にならなかった場合には、微調整軸521、531の移動量を再調整する。そして、調整後に再び研削及び研磨を行うといった作業を繰り返す。これにより、ウェーハWを均一な厚さに形成することが可能となる。
以上のようにして、仕上げ研削後のウェーハを所望の中凸形状とし、その後、研磨手段4を用いてウェーハの上面Waを研磨すると、ウェーハを均一な厚さに形成することができる。
なお、ウェーハの目標断面形状は、チャックテーブルごとに異なっていてもよい。また、本実施形態では、保持手段が4つの場合について説明したが、保持手段は1つでもよいし、2つ以上の任意の数でもよい。
また、本実施形態では、研磨手段を備えた研削装置を例に挙げて説明したが、研削装置は、研磨装置を備えていなくても良い。また、研削装置は、研削手段を1つのみ備えたものであってもよい。
1:研削装置
10:第1の装置ベース 11:第2の装置ベース
12:第1のコラム 13:第2のコラム 14:第3のコラム
20:研削送り手段
200:ボールネジ 201:ガイドレール 202:モータ 203:昇降板
24:Y軸方向移動手段
240:ボールネジ 241:ガイドレール 242:モータ 243:可動板
25:研磨送り手段
250:ボールネジ 251:ガイドレール 252:モータ 253:昇降板
261:ホルダ 263:ホルダ
30:第1研削手段
300:スピンドル 300a:スピンドル回転軸 301:ハウジング
302:モータ 303:マウント
304:研削ホイール 304a:ホイール基台 304b:研削砥石
31:第2研削手段
310:スピンドル 310a:スピンドル回転軸 311:ハウジング
312:モータ 313:マウント
314:研削ホイール 314a:ホイール基台 314b:研削砥石
4:研磨手段
40:スピンドル 41:ハウジング 42:モータ 43:研磨パッド
44:マウント
51:保持手段 52,53:可動支持部 54:固定支持部
55:基台 56:傾き調整手段
CTA、CTB、CTC、CTD:チャックテーブル
6:ターンテーブル 6a:上面
60:制御部
70:タッチパネル
100、100a、100b、100c:条件設定画面
110:微調整軸記憶位置表示欄 120:Z2加工時ウェーハ形状調整量入力欄
121:現在形状入力欄(入力部) 122:目標形状入力欄(設定部)
123:微調整軸移動量表示欄
130:位置記憶欄 131:選択部 131a:プルダウンメニュー
132:保存ボタン
150:第1のカセット載置部 150a:第1のカセット
151:第2のカセット載置部 151a:第2のカセット
152:仮置き領域 153:位置合わせ手段
154a:第1搬送手段 154b:第2搬送手段 155:ロボット
156:洗浄手段
320、321、322:厚み測定手段
510:吸着部 510a:保持面 511:枠体 512:モータ
513:テーブル回転軸
520:モータ 521:微調整軸 521a:雄ねじ 522:支持部
523:収容部 523a:雌ねじ 523b:原点センサ
530:モータ 531:微調整軸 533:収容部 533b:原点センサ
541:固定軸
A:搬出入領域 B:加工領域
W:ウェーハ T:保護テープ
WR:研削領域 Wa:上面 Wb:下面
We:外周部 Wm:中間部 Wo:中央部

Claims (3)

  1. ウェーハを保持する保持面を有するチャックテーブルを、該保持面の中心を通るテーブル回転軸を軸として回転させる保持手段と、
    研削砥石が環状に配設された研削ホイールを下端に装着したスピンドルを回転させることによって回転する該研削砥石によって該チャックテーブルに保持されたウェーハを研削する研削手段と、
    該テーブル回転軸を、該スピンドルの回転軸と平行な方向に対して僅かに傾ける傾き調整手段と、
    タッチパネルと、
    を備え、
    該保持面の中心から外周に至る半径エリアを研削領域として、該研削砥石が該チャックテーブルに保持されたウェーハを研削する研削装置であって、
    該タッチパネルには、
    目標とするウェーハの断面形状を設定する設定部と、
    該テーブル回転軸の現状の傾きの下で研削されたウェーハの断面形状を入力する入力部とを備え、
    該設定部に設定したウェーハの断面形状と該入力部に入力したウェーハの断面形状とを比較し、ウェーハを目標とする断面形状に研削できるように該傾き調整手段を制御し該テーブル回転軸の傾きを変更する制御部
    を備えた研削装置。
  2. 該保持手段を複数備え、複数の該保持手段のうちの1つを該研削砥石が研削する研削加工位置に位置付ける位置付け手段を備え、
    該タッチパネルには、
    該複数の該保持手段のうちの1つを選択する選択部を備え、
    該制御部は、
    該選択部によって選択された該保持手段の該テーブル回転軸の傾きを変更する
    請求項1記載の研削装置。
  3. ウェーハを加工するために設定される加工条件毎に、該設定部と該入力部とを少なくとも備える
    請求項1記載の研削装置。
JP2019072603A 2019-04-05 2019-04-05 研削装置 Active JP7417362B2 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019072603A JP7417362B2 (ja) 2019-04-05 2019-04-05 研削装置
US16/829,282 US11524386B2 (en) 2019-04-05 2020-03-25 Grinding apparatus
CN202010223030.4A CN111805374B (zh) 2019-04-05 2020-03-26 磨削装置
DE102020204370.1A DE102020204370A1 (de) 2019-04-05 2020-04-03 Schleifvorrichtung
ATA50286/2020A AT522399B1 (de) 2019-04-05 2020-04-03 Schleifvorrichtung
FI20205350A FI20205350A1 (en) 2019-04-05 2020-04-03 Grinding equipment
CZ2020-194A CZ2020194A3 (cs) 2019-04-05 2020-04-03 Brusné zařízení

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019072603A JP7417362B2 (ja) 2019-04-05 2019-04-05 研削装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020168701A true JP2020168701A (ja) 2020-10-15
JP7417362B2 JP7417362B2 (ja) 2024-01-18

Family

ID=72518772

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019072603A Active JP7417362B2 (ja) 2019-04-05 2019-04-05 研削装置

Country Status (7)

Country Link
US (1) US11524386B2 (ja)
JP (1) JP7417362B2 (ja)
CN (1) CN111805374B (ja)
AT (1) AT522399B1 (ja)
CZ (1) CZ2020194A3 (ja)
DE (1) DE102020204370A1 (ja)
FI (1) FI20205350A1 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220034162A (ko) * 2019-07-17 2022-03-17 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 기판 가공 장치, 기판 처리 시스템 및 기판 처리 방법
JP7451043B2 (ja) * 2020-06-05 2024-03-18 株式会社ディスコ 被加工物の研削方法及び研削装置
JP2022168720A (ja) * 2021-04-26 2022-11-08 株式会社ディスコ 加工方法
CN113305732B (zh) * 2021-06-22 2022-05-03 北京中电科电子装备有限公司 一种用于半导体设备的多工位全自动减薄磨削方法
CN114473858A (zh) * 2022-02-11 2022-05-13 贵州航天控制技术有限公司 一种用于对斜盘进行高精度自适应研磨的装置
CN115365922B (zh) * 2022-10-24 2023-02-28 西安奕斯伟材料科技有限公司 研磨轮、研磨设备及硅片

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62181862A (ja) * 1986-02-07 1987-08-10 Hitachi Seiko Ltd 平面研削装置
JPS63185574A (ja) * 1987-01-27 1988-08-01 Kyushu Denshi Kinzoku Kk 半導体ウエハの研磨制御装置
JP2008264913A (ja) * 2007-04-18 2008-11-06 Disco Abrasive Syst Ltd 研削加工装置
JP2016155204A (ja) * 2015-02-26 2016-09-01 株式会社東京精密 研削加工装置
JP2019022920A (ja) * 2017-07-24 2019-02-14 株式会社ディスコ ウエーハの加工方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4335980C2 (de) * 1993-10-21 1998-09-10 Wacker Siltronic Halbleitermat Verfahren zum Positionieren einer Werkstückhalterung
JP4913517B2 (ja) * 2006-09-26 2012-04-11 株式会社ディスコ ウエーハの研削加工方法
JP5336054B2 (ja) * 2007-07-18 2013-11-06 浜松ホトニクス株式会社 加工情報供給装置を備える加工情報供給システム
JP2011245610A (ja) * 2010-05-31 2011-12-08 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置の製造方法
JP2013004726A (ja) 2011-06-16 2013-01-07 Disco Abrasive Syst Ltd 板状物の加工方法
US9393669B2 (en) * 2011-10-21 2016-07-19 Strasbaugh Systems and methods of processing substrates
JP2013193156A (ja) * 2012-03-19 2013-09-30 Disco Corp 研削装置、及び、研削方法
JP6147587B2 (ja) 2013-06-27 2017-06-14 株式会社ディスコ 研削装置及び研削方法
JP2015160260A (ja) * 2014-02-26 2015-09-07 株式会社東芝 研削装置及び研削方法
US9656370B2 (en) * 2015-10-06 2017-05-23 Disco Corporation Grinding method
JP6710138B2 (ja) * 2016-10-07 2020-06-17 株式会社ディスコ フレーム固定治具
JP6752367B2 (ja) * 2017-06-21 2020-09-09 東京エレクトロン株式会社 基板処理システム、基板処理方法及びコンピュータ記憶媒体
JP7089136B2 (ja) * 2018-03-22 2022-06-22 株式会社デンソー ウエーハの研削方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62181862A (ja) * 1986-02-07 1987-08-10 Hitachi Seiko Ltd 平面研削装置
JPS63185574A (ja) * 1987-01-27 1988-08-01 Kyushu Denshi Kinzoku Kk 半導体ウエハの研磨制御装置
JP2008264913A (ja) * 2007-04-18 2008-11-06 Disco Abrasive Syst Ltd 研削加工装置
JP2016155204A (ja) * 2015-02-26 2016-09-01 株式会社東京精密 研削加工装置
JP2019022920A (ja) * 2017-07-24 2019-02-14 株式会社ディスコ ウエーハの加工方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP7417362B2 (ja) 2024-01-18
FI20205350A1 (en) 2020-10-06
CN111805374B (zh) 2024-06-25
US20200316750A1 (en) 2020-10-08
AT522399A2 (de) 2020-10-15
AT522399B1 (de) 2023-05-15
DE102020204370A1 (de) 2020-10-08
CZ2020194A3 (cs) 2020-10-14
US11524386B2 (en) 2022-12-13
AT522399A3 (de) 2021-03-15
CN111805374A (zh) 2020-10-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2020168701A (ja) 研削装置
JP5788304B2 (ja) 研削装置
KR20230016590A (ko) 경질 웨이퍼의 연삭 방법
JP6082654B2 (ja) 研削方法
KR102507675B1 (ko) 웨이퍼의 가공 방법
TWI728181B (zh) 磨削磨石的修整方法
JP7046573B2 (ja) 被加工物の加工方法
JP6157229B2 (ja) 研削装置及び研削方法
US11400563B2 (en) Processing method for disk-shaped workpiece
JP5743817B2 (ja) 加工装置
TW202039154A (zh) 保持面形成方法
JP2016201422A (ja) ワーク加工装置
JP6424081B2 (ja) 研削方法
JP2554432B2 (ja) 半導体ウエーハの外周面加工装置
JP6574373B2 (ja) 円板状ワークの研削方法
JP2022032755A (ja) 加工システム及び加工方法
WO2022034808A1 (ja) 加工システム、傾き調整方法及びコンピュータ記憶媒体
JP6487790B2 (ja) 加工装置
JP2022072120A (ja) ウェーハの研削方法
JP2023171984A (ja) 研削装置及びウェーハの研削方法
JP2022178739A (ja) 研削装置
JP2024031191A (ja) 研削装置
TW202133240A (zh) 加工裝置
JP2022012798A (ja) 治具
JP2022187701A (ja) 補正率算出方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220218

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20221221

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230110

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230313

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230627

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230828

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20231212

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20240105

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7417362

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150